JP7021887B2 - Optical film manufacturing method - Google Patents

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Description

本発明は、光学フィルム及びその製造方法、並びにフレキシブルデバイスに関する。 The present invention relates to an optical film, a method for producing the same, and a flexible device.

従来、太陽電池やディスプレイ等の各種表示部材の基材及び前面板等の透明部材の材料として、ガラスが用いられてきた。しかしながら、ガラスは、割れやすい、重いといった欠点があった。また、近年のディスプレイの薄型化及び軽量化や、フレキシブル化の要求に対して、充分な材質を有していなかった。そのため、ガラスに代わるフレキシブルデバイスの透明部材として、各種フィルム(光学フィルム)が検討されている。 Conventionally, glass has been used as a material for a base material of various display members such as solar cells and displays and a transparent member such as a front plate. However, glass has drawbacks such as being fragile and heavy. In addition, it did not have sufficient materials to meet the recent demands for thinner and lighter displays and more flexible displays. Therefore, various films (optical films) are being studied as transparent members for flexible devices instead of glass.

例えば、特許文献1には、ポリイミド樹脂組成物を用いて形成された、透明性、フレキシブル性及び耐折性等に優れたポリイミドフィルムが開示されている。 For example, Patent Document 1 discloses a polyimide film formed by using a polyimide resin composition and having excellent transparency, flexibility, folding resistance and the like.

特開2009-215412号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2009-2154412

光学フィルムは、曲面を有するディスプレイや折りたたみ可能なデバイス、丸めることが可能なディスプレイ等に用いた場合、丸められた状態(ロール状に巻かれた状態)や屈曲した状態等の変形した状態で保管されることがある。しかしながら、従来のポリイミド系フィルムは、ロール状に巻いた状態や屈曲させた状態等の変形させた状態で高温高湿環境下に保管した場合、端部にクラックが発生しやすいという問題がある。 When used for displays with curved surfaces, foldable devices, rollable displays, etc., the optical film is stored in a deformed state such as a rolled state (rolled state) or a bent state. May be done. However, the conventional polyimide-based film has a problem that cracks are likely to occur at the end when it is stored in a high-temperature and high-humidity environment in a deformed state such as a rolled state or a bent state.

本発明は、上記従来技術の有する課題に鑑みてなされたものであり、変形させた状態で高温高湿環境下に保管しても端部にクラックが発生しにくい光学フィルムを提供することを目的とする。本発明はまた、上記光学フィルムの製造方法、並びに上記光学フィルムを用いたフレキシブルデバイス用前面板及びフレキシブルデバイスを提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above-mentioned problems of the prior art, and an object of the present invention is to provide an optical film in which cracks are less likely to occur at the edges even when stored in a deformed state in a high temperature and high humidity environment. And. It is also an object of the present invention to provide a method for manufacturing an optical film, and a front plate for a flexible device and a flexible device using the optical film.

上記目的を達成するために、本発明は、分子内にフッ素原子を含むポリイミド系高分子を含有する光学フィルムであって、上記光学フィルムの端面においてX線光電子分光法で測定されるフッ素原子の炭素原子に対する原子比(F/C)が、上記光学フィルムの上記端面から1mm内側を切断した断面においてX線光電子分光法で測定されるフッ素原子の炭素原子に対する原子比(F/C)よりも大きい、光学フィルムを提供する。 In order to achieve the above object, the present invention is an optical film containing a polyimide-based polymer containing a fluorine atom in the molecule, and the fluorine atom measured by X-ray photoelectron spectroscopy on the end face of the optical film. The atomic ratio (F / C) to carbon atoms is higher than the atomic ratio (F / C) of fluorine atoms to carbon atoms measured by X-ray photoelectron spectroscopy in a cross section cut 1 mm inside from the end face of the optical film. Provides a large, optical film.

上記光学フィルムによれば、端面における上記原子比(F/C)が、当該端面から1mm内側を切断した断面における上記原子比(F/C)よりも大きいことにより、光学フィルムをロール状に巻いたり屈曲させたりすること等により上記端面を変形させた状態で高温高湿(例えば、85℃、85%RH)環境下に保管した場合でも、上記端面からのクラックの発生を抑制することができる。変形させた状態で高温高湿環境下に保管すると、巻いたり屈曲させたりすることによる変形に加え、熱膨脹、吸湿膨張で端部周辺に複雑な応力が発生するためにクラックが発生すると考えているが、端面のフッ素原子がフィルム内部よりも相対的に多いフィルムでは、その複雑な応力を抑制できると考えられる。 According to the optical film, the optical film is rolled into a roll because the atomic ratio (F / C) on the end face is larger than the atomic ratio (F / C) on the cross section cut 1 mm inside from the end face. Even when the end face is deformed by bending or bending and stored in a high temperature and high humidity (for example, 85 ° C., 85% RH) environment, the generation of cracks from the end face can be suppressed. .. When stored in a high-temperature and high-humidity environment in a deformed state, it is thought that cracks will occur due to complex stress around the edges due to thermal expansion and hygroscopic expansion, in addition to deformation due to winding and bending. However, in a film in which the number of fluorine atoms on the end face is relatively larger than that inside the film, it is considered that the complicated stress can be suppressed.

上記光学フィルムは、上記光学フィルムの端面においてX線光電子分光法で測定されるフッ素原子の炭素原子に対する原子比(F/C)と、上記光学フィルムの上記端面から1mm内側を切断した断面においてX線光電子分光法で測定されるフッ素原子の炭素原子に対する原子比(F/C)との比(F/C)/(F/C)が1.1~10であってもよい。 The optical film has an atomic ratio ( FE / CE ) of a fluorine atom to a carbon atom measured by X-ray photoelectron spectroscopy on the end face of the optical film, and a cross section cut 1 mm inside from the end face of the optical film. The ratio ( FE / CE ) / ( FC / CC ) of the fluorine atom to the carbon atom of the fluorine atom measured by X - ray photoelectron spectroscopy is 1.1 to 10. There may be.

本発明はまた、分子内にフッ素原子を含むポリイミド系高分子を含有する光学フィルムであって、上記光学フィルムの端面においてX線光電子分光法で測定されるフッ素原子の酸素原子に対する原子比(F/O)が、上記光学フィルムの上記端面から1mm内側を切断した断面においてX線光電子分光法で測定されるフッ素原子の酸素原子に対する原子比(F/O)よりも大きい、光学フィルムを提供する。 The present invention is also an optical film containing a polyimide polymer containing a fluorine atom in the molecule, and the atomic ratio (F) of the fluorine atom to the oxygen atom measured by X-ray photoelectron spectroscopy on the end face of the optical film. / O) provides an optical film in which the ratio of fluorine atoms to oxygen atoms (F / O) measured by X-ray photoelectron spectroscopy in a cross section cut 1 mm inside from the end face of the optical film is larger than the atomic ratio (F / O). ..

上記光学フィルムによれば、端面における上記原子比(F/O)が、当該端面から1mm内側を切断した断面における上記原子比(F/O)よりも大きいことにより、光学フィルムをロール状に巻いたり屈曲させたりすること等により上記端面を変形させた状態で高温高湿(例えば、85℃、85%RH)環境下に保管した場合でも、上記端面からのクラックの発生を抑制することができる。変形させた状態で高温高湿環境下に保管すると、巻いたり屈曲させたりすることによる変形に加え、熱膨脹、吸湿膨張で端部周辺に複雑な応力が発生するためにクラックが発生すると考えているが、端面のフッ素原子がフィルム内部よりも相対的に多いフィルムでは、その複雑な応力を抑制できると考えられる。 According to the optical film, the optical film is rolled into a roll because the atomic ratio (F / O) on the end face is larger than the atomic ratio (F / O) on the cross section cut 1 mm inside from the end face. Even when the end face is deformed by bending or bending and stored in a high temperature and high humidity (for example, 85 ° C., 85% RH) environment, the generation of cracks from the end face can be suppressed. .. When stored in a high-temperature and high-humidity environment in a deformed state, it is thought that cracks will occur due to complex stress around the edges due to thermal expansion and hygroscopic expansion, in addition to deformation due to winding and bending. However, in a film in which the number of fluorine atoms on the end face is relatively larger than that inside the film, it is considered that the complicated stress can be suppressed.

上記光学フィルムは、上記光学フィルムの端面においてX線光電子分光法で測定されるフッ素原子の酸素原子に対する原子比(F/O)と、上記光学フィルムの上記端面から1mm内側を切断した断面においてX線光電子分光法で測定されるフッ素原子の酸素原子に対する原子比(F/O)との比(F/O)/(F/O)が1.1~10であってもよい。 The optical film has an atomic ratio ( FE / OE ) of a fluorine atom to an oxygen atom measured by X-ray photoelectron spectroscopy on the end face of the optical film, and a cross section cut 1 mm inside from the end face of the optical film. The ratio ( FE / OE ) / ( FC / OC ) of the fluorine atom to the oxygen atom measured by X - ray photoelectron spectroscopy is 1.1 to 10. There may be.

上記光学フィルムは、シリカ粒子を更に含有していてもよい。 The optical film may further contain silica particles.

本発明はまた、分子内にフッ素原子を含むポリイミド系高分子を含有する光学フィルムの製造方法であって、端面を酸化することにより、上記光学フィルムの上記端面においてX線光電子分光法で測定されるフッ素原子の炭素原子に対する原子比(F/C)を、上記光学フィルムの上記端面から1mm内側を切断した断面においてX線光電子分光法で測定されるフッ素原子の炭素原子に対する原子比(F/C)よりも大きくする工程を有する、光学フィルムの製造方法を提供する。 The present invention is also a method for producing an optical film containing a polyimide-based polymer containing a fluorine atom in the molecule, which is measured by X-ray photoelectron spectroscopy on the end face of the optical film by oxidizing the end face. The atomic ratio (F / C) of a fluorine atom to a carbon atom is measured by X-ray photoelectron spectroscopy in a cross section cut 1 mm inside from the end face of the optical film (F / C). C) Provided is a method for manufacturing an optical film, which has a step of making it larger than C).

上記製造方法により、変形させた状態で高温高湿環境下に保管しても端部にクラックが発生しにくい光学フィルムを製造することができる。 By the above manufacturing method, it is possible to manufacture an optical film in which cracks are less likely to occur at the edges even when the film is stored in a high temperature and high humidity environment in a deformed state.

本発明はまた、分子内にフッ素原子を含むポリイミド系高分子を含有する光学フィルムの製造方法であって、上記光学フィルムの端面を、レーザー照射によりフィルム原反を切断することで形成することで、上記光学フィルムの上記端面においてX線光電子分光法で測定されるフッ素原子の炭素原子に対する原子比(F/C)を、上記光学フィルムの上記端面から1mm内側を切断した断面においてX線光電子分光法で測定されるフッ素原子の炭素原子に対する原子比(F/C)よりも大きくする工程を有する、光学フィルムの製造方法を提供する。 The present invention is also a method for producing an optical film containing a polyimide-based polymer containing a fluorine atom in the molecule, wherein the end face of the optical film is formed by cutting the original fabric of the film by laser irradiation. The atomic ratio (F / C) of fluorine atoms to carbon atoms measured by X-ray photoelectron spectroscopy on the end face of the optical film is measured by X-ray photoelectron spectroscopy in a cross section cut 1 mm inside from the end face of the optical film. Provided is a method for producing an optical film, which comprises a step of increasing the atomic ratio (F / C) of a fluorine atom to a carbon atom measured by the method.

上記製造方法により、変形させた状態で高温高湿環境下に保管しても端部にクラックが発生しにくい光学フィルムを製造することができる。 By the above manufacturing method, it is possible to manufacture an optical film in which cracks are less likely to occur at the edges even when the film is stored in a high temperature and high humidity environment in a deformed state.

本発明はまた、分子内にフッ素原子を含むポリイミド系高分子を含有する光学フィルムの製造方法であって、端面を酸化することにより、上記光学フィルムの上記端面においてX線光電子分光法で測定されるフッ素原子の酸素原子に対する原子比(F/O)を、上記光学フィルムの上記端面から1mm内側を切断した断面においてX線光電子分光法で測定されるフッ素原子の酸素原子に対する原子比(F/O)よりも大きくする工程を有する、光学フィルムの製造方法を提供する。 The present invention is also a method for producing an optical film containing a polyimide-based polymer containing a fluorine atom in the molecule, which is measured by X-ray photoelectron spectroscopy on the end face of the optical film by oxidizing the end face. The atomic ratio (F / O) of a fluorine atom to an oxygen atom is measured by X-ray photoelectron spectroscopy in a cross section cut 1 mm inside from the end face of the optical film (F / O). O) Provided is a method for manufacturing an optical film, which has a step of making it larger than O).

上記製造方法により、変形させた状態で高温高湿環境下に保管しても端部にクラックが発生しにくい光学フィルムを製造することができる。 By the above manufacturing method, it is possible to manufacture an optical film in which cracks are less likely to occur at the edges even when the film is stored in a high temperature and high humidity environment in a deformed state.

本発明はまた、分子内にフッ素原子を含むポリイミド系高分子を含有する光学フィルムの製造方法であって、上記光学フィルムの端面を、レーザー照射によりフィルム原反を切断することで形成することで、上記光学フィルムの上記端面においてX線光電子分光法で測定されるフッ素原子の酸素原子に対する原子比(F/O)を、上記光学フィルムの上記端面から1mm内側を切断した断面においてX線光電子分光法で測定されるフッ素原子の酸素原子に対する原子比(F/O)よりも大きくする工程を有する、光学フィルムの製造方法を提供する。 The present invention is also a method for producing an optical film containing a polyimide-based polymer containing a fluorine atom in the molecule, wherein the end face of the optical film is formed by cutting the original fabric of the film by laser irradiation. The atomic ratio (F / O) of a fluorine atom to an oxygen atom measured by X-ray photoelectron spectroscopy on the end face of the optical film is measured by X-ray photoelectron spectroscopy in a cross section cut 1 mm inside from the end face of the optical film. Provided is a method for producing an optical film, which comprises a step of increasing the atomic ratio (F / O) of a fluorine atom to an oxygen atom measured by a method.

上記製造方法により、変形させた状態で高温高湿環境下に保管しても端部にクラックが発生しにくい光学フィルムを製造することができる。 By the above manufacturing method, it is possible to manufacture an optical film in which cracks are less likely to occur at the edges even when the film is stored in a high temperature and high humidity environment in a deformed state.

本発明はまた、上記本発明の光学フィルムを有するフレキシブルデバイス用前面板を提供する。 The present invention also provides a front plate for a flexible device having the above-mentioned optical film of the present invention.

本発明は更に、フレキシブル機能層と、上記本発明の光学フィルムと、を有するフレキシブルデバイスを提供する。 The present invention further provides a flexible device having a flexible functional layer and the above-mentioned optical film of the present invention.

本発明によれば、変形させた状態で高温高湿環境下に保管しても端部にクラックが発生しにくい光学フィルム及びその製造方法、並びに上記光学フィルムを用いたフレキシブルデバイス用前面板及びフレキシブルデバイスを提供することができる。
を得ることができる。
According to the present invention, an optical film in which cracks are less likely to occur at the edges even when stored in a deformed state in a high temperature and high humidity environment, a method for manufacturing the same, and a front plate and a flexible device for a flexible device using the above optical film. Devices can be provided.
Can be obtained.

図1は、本発明の実施形態に係る光学フィルムの1例を示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view showing an example of an optical film according to an embodiment of the present invention. 図2は、本発明の実施形態に係るフレキシブルディスプレイの1例を示す斜視図である。FIG. 2 is a perspective view showing an example of a flexible display according to an embodiment of the present invention.

以下、場合により図面を参照しつつ本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。
なお、図面中、同一又は相当部分には同一符号を付し、重複する説明は省略する。また、図面の寸法比率は図示の比率に限られるものではない。
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings as the case may be.
In the drawings, the same or corresponding parts are designated by the same reference numerals, and duplicate description will be omitted. Further, the dimensional ratios in the drawings are not limited to the ratios shown in the drawings.

本実施形態の光学フィルムは、分子内にフッ素原子を含むポリイミド系高分子を含有するものであって、下記条件(1)又は(2)の一方又は両方を満たすものである。
条件(1):上記光学フィルムの端面においてX線光電子分光法で測定されるフッ素原子の炭素原子に対する原子比(F/C)が、上記光学フィルムの上記端面から1mm内側を切断した断面においてX線光電子分光法で測定されるフッ素原子の炭素原子に対する原子比(F/C)よりも大きい。
条件(2):上記光学フィルムの端面においてX線光電子分光法で測定されるフッ素原子の酸素原子に対する原子比(F/O)が、上記光学フィルムの上記端面から1mm内側を切断した断面においてX線光電子分光法で測定されるフッ素原子の酸素原子に対する原子比(F/O)よりも大きい。
The optical film of the present embodiment contains a polyimide-based polymer containing a fluorine atom in the molecule, and satisfies one or both of the following conditions (1) and (2).
Condition (1): The atomic ratio (F / C) of the fluorine atom to the carbon atom measured by X-ray photoelectron spectroscopy on the end face of the optical film is X in the cross section cut 1 mm inside from the end face of the optical film. It is larger than the atomic ratio (F / C) of the fluorine atom to the carbon atom measured by photoelectron spectroscopy.
Condition (2): The atomic ratio (F / O) of the fluorine atom to the oxygen atom measured by X-ray photoelectron spectroscopy on the end face of the optical film is X in the cross section cut 1 mm inside from the end face of the optical film. It is larger than the atomic ratio (F / O) of the fluorine atom to the oxygen atom measured by photoelectron spectroscopy.

図1は、本実施形態に係る光学フィルムの1例を示す斜視図である。図1に示した光学フィルム10は、矩形(長方形)の平面形状を有しており、短手方向において互いに対向する二辺(矩形を形成する互いに平行な2つの長辺)の端面E1及びE2、並びに、長手方向において互いに対向する二辺(矩形を形成する互いに平行な2つの短辺)の端面E3及びE4を有する。光学フィルム10は、端面E1,E2,E3及びE4から1mm内側を切断した切断面をそれぞれ断面C1,C2,C3及びC4とした場合、上記端面E1~E4及び上記断面C1~C4のそれぞれにおいてX線光電子分光法(XPS)で測定されるフッ素原子の炭素原子に対する原子比(F/C)が、端面の全体又は一部において、F/CがF/Cよりも大きい、及び/又は、上記端面E1~E4及び上記断面C1~C4のそれぞれにおいてX線光電子分光法(XPS)で測定されるフッ素原子の酸素原子に対する原子比(F/O)が、端面の全体又は一部において、F/OがF/Oよりも大きい。なお、端面においてXPSで測定されるフッ素原子の炭素原子に対する原子比をF/Cとし、断面においてXPSで測定されるフッ素原子の炭素原子に対する原子比をF/Cとし、端面においてXPSで測定されるフッ素原子の酸素原子に対する原子比をF/Oとし、断面においてXPSで測定されるフッ素原子の酸素原子に対する原子比をF/Oとする。四角形のディスプレイを有するフォールダブルデバイス向けの光学フィルムとしては、以下の(I)、(II)のいずれかの条件を満たすと好ましく、両方を満たすとさらに好ましい。
(I)端面E1,E2において、F/CがF/Cよりも大きい、及び/又は、F/OがF/Oよりも大きい。
(II)端面E3,E4において、F/CがF/Cよりも大きい、及び/又は、F/OがF/Oよりも大きい。
FIG. 1 is a perspective view showing an example of an optical film according to the present embodiment. The optical film 10 shown in FIG. 1 has a rectangular (rectangular) planar shape, and has end faces E1 and E2 of two sides facing each other (two long sides parallel to each other forming a rectangle) in the lateral direction. , And the end faces E3 and E4 of two sides facing each other in the longitudinal direction (two short sides parallel to each other forming a rectangle). In the optical film 10, when the cut surfaces cut 1 mm inside from the end faces E1, E2, E3 and E4 are the cross sections C1, C2, C3 and C4, respectively, X in the end faces E1 to E4 and the cross sections C1 to C4, respectively. The atomic ratio ( F / C ) of fluorine atoms to carbon atoms measured by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) is greater than FC / CC in FE / CE on all or part of the end face, and / Or, the atomic ratio (F / O) of the fluorine atom to the oxygen atom measured by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) in each of the end faces E1 to E4 and the cross sections C1 to C4 is the whole or a part of the end face. In, FE / OE is larger than FC / OC . The atomic ratio of the fluorine atom measured by XPS to the carbon atom on the end face is set to FE / CE , and the atomic ratio of the fluorine atom measured by XPS to the carbon atom on the cross section is set to FC / CC . Let FE / OE be the atomic ratio of the fluorine atom to the oxygen atom measured by XPS, and let FC / OC be the atomic ratio of the fluorine atom to the oxygen atom measured by XPS in the cross section. As an optical film for a foldable device having a rectangular display, it is preferable that any one of the following conditions (I) and (II) is satisfied, and it is more preferable that both conditions are satisfied.
(I) In the end faces E1 and E2 , FE / CE is larger than FC / CC and / or FE / OE is larger than FC / OC .
(II) At the end faces E3 and E4, FE / CE is larger than FC / CC and / or FE / OE is larger than FC / OC .

光学フィルム10が上記の条件を満たすこと、すなわち、端面においてF/CがF/Cよりも大きい、及び/又は、F/OがF/Oよりも大きいことにより、光学フィルム10を変形させた状態で高温高湿環境下に保管しても、端面からのクラックの発生を抑制することができる。全ての端面からのクラックの発生を抑制できる観点から、光学フィルム10は上記(I)及び(II)の条件の両方を満たすことが好ましい。 The optical film 10 satisfies the above conditions, that is, FE / CE is larger than FC / CC and / or FE / OE is larger than FC / OC at the end face. Even if the optical film 10 is stored in a high-temperature and high-humidity environment in a deformed state, the generation of cracks from the end face can be suppressed. From the viewpoint of suppressing the generation of cracks from all the end faces, it is preferable that the optical film 10 satisfies both the above conditions (I) and (II).

クラックは変形が生じている端面から発生しやすいため、かかるクラックを効率的に防ぐ観点から、F/CがF/Cよりも大きい、及び/又は、F/OがF/Oよりも大きい端面を、光学フィルムに屈曲が生じる場合(例えば保管時や使用時など)に屈曲等の変形が生じる面とすることができる。例えば、矩形の平面形状を有する光学フィルムを、光学フィルムの短手方向を軸として屈曲させて又はロール状に巻いて保管する場合、短手方向において互いに対向する二辺の端面(例えば図1に示した光学フィルム10の場合は端面E1及びE2)に屈曲による変形が生じる。このような場合には、少なくとも光学フィルムの短手方向において互いに対向する二辺の端面において、フッ素原子がフィルム内部よりも高濃度で存在していることが好ましい。 Since cracks are likely to occur from the deformed end face, FE / CE is larger than FC / CC and / or FE / OE is F from the viewpoint of efficiently preventing such cracks. An end surface larger than C / OC can be a surface that undergoes deformation such as bending when the optical film is bent (for example, during storage or use). For example, when an optical film having a rectangular planar shape is bent around the lateral direction of the optical film or rolled into a roll and stored, the end faces of two sides facing each other in the lateral direction (for example, in FIG. 1). In the case of the optical film 10 shown, the end faces E1 and E2) are deformed by bending. In such a case, it is preferable that fluorine atoms are present at a higher concentration than inside the film, at least on the end faces of the two sides facing each other in the lateral direction of the optical film.

光学フィルムをフレキシブルディスプレイの部材として用いる場合、ディスプレイの内部でフィルムが変形する箇所の端部が、F/CがF/Cよりも大きい、及び/又は、F/OがF/Oよりも大きい端面となっていることによって、端部からのクラックによる劣化が抑制され、より高い信頼性を得ることができる。例えば、曲面を有するディスプレイの場合には、曲率を持つ端部が、F/CがF/Cよりも大きい、及び/又は、F/OがF/Oよりも大きい端面となっていると本発明の効果を得やすい傾向がある。また、折りたたみ可能なデバイスの場合、折りたたみによって曲げられる側の端部が、F/CがF/Cよりも大きい、及び/又は、F/OがF/Oよりも大きい端面となっていると本発明の効果を得やすい傾向がある。丸めることが可能なディスプレイの場合には、丸めることによって曲率を持つ端部が、F/CがF/Cよりも大きい、及び/又は、F/OがF/Oよりも大きい端面となっていると本発明の効果を得やすい傾向がある。 When an optical film is used as a member of a flexible display, the edge of the part where the film is deformed inside the display has FE / CE larger than FC / CC and / or FE / OE . Since the end face is larger than the FC / OC , deterioration due to cracks from the end portion is suppressed, and higher reliability can be obtained. For example, in the case of a curved display, the edges with curvature have FE / CE greater than FC / CC and / or FE / OE greater than FC / OC . If the end face is large, the effect of the present invention tends to be easily obtained. Also, in the case of a foldable device, the end on the side bent by folding is FE / CE larger than FC / CC and / or FE / OE is greater than FC / OC . If the end face is large, the effect of the present invention tends to be easily obtained. In the case of a rollable display, the edges that have a curvature by rolling are FE / CE greater than FC / CC and / or FE / OE is FC / O. If the end face is larger than C , the effect of the present invention tends to be easily obtained.

光学フィルムの端面及び断面のXPS測定は、以下の条件で行うことができる。また、XPS測定は、光学フィルムの端面又は断面に対して垂直方向からX線を照射し、45°方向から光電子を検出することで行うことができる。 XPS measurement of the end face and the cross section of the optical film can be performed under the following conditions. Further, the XPS measurement can be performed by irradiating X-rays from the direction perpendicular to the end face or the cross section of the optical film and detecting photoelectrons from the direction of 45 °.

<XPS測定条件>
装置:Quantera SXM(ULVAC PHI社製)
X線:AlKα線(1486.6eV)
X線スポット径:50μm
中和条件:中和電子(1eV)、低速Arイオン(10eV)
<XPS measurement conditions>
Equipment: Quantera SXM (manufactured by ULVAC-PHI)
X-ray: AlKα ray (1486.6 eV)
X-ray spot diameter: 50 μm
Neutralization conditions: Neutralizing electron (1eV), slow Ar ion (10eV)

XPSで測定されるフッ素原子の炭素原子に対する原子比(F/C)、及び/又は、フッ素原子の酸素原子に対する原子比(F/O)は、XPSスペクトルのC1s、O1s及びF1sピークの面積から求めることができる。 The atomic ratio of a fluorine atom to a carbon atom (F / C) and / or the atomic ratio of a fluorine atom to an oxygen atom (F / O) measured by XPS is determined from the area of C1s, O1s and F1s peaks in the XPS spectrum. Can be asked.

XPS測定を行う断面(光学フィルム10における断面C1~C4)を形成する際の光学フィルムの切断は、切断面の原子組成が変化せず、切断面に歪みが生じない方法で行う。切断は、例えば、カミソリを用いて行うことができる。 The optical film is cut when forming a cross section (cross sections C1 to C4 in the optical film 10) for XPS measurement by a method in which the atomic composition of the cut surface does not change and the cut surface is not distorted. Cutting can be done, for example, using a razor.

本発明の一実施形態に係る光学フィルム10の端面において、(F/C)/(F/C)の値は、1より大きい値であることが必要であるが、1.1~10であることが好ましく、1.5~8であることがより好ましく、2~5であることが更に好ましい。この値が1.1以上であると、フィルム端面におけるフッ素原子の濃度がフィルム断面(フィルム内部)におけるフッ素原子の濃度よりも充分に高く、当該端面からのクラックの発生をより充分に抑制することができる傾向がある。 In the end face of the optical film 10 according to the embodiment of the present invention, the value of ( FE / CE ) / ( FC / CC ) needs to be larger than 1, but 1.1. It is preferably from 10 to 10, more preferably 1.5 to 8, and even more preferably 2 to 5. When this value is 1.1 or more, the concentration of fluorine atoms on the end face of the film is sufficiently higher than the concentration of fluorine atoms on the cross section of the film (inside the film), and the generation of cracks from the end face is more sufficiently suppressed. Tend to be able to.

光学フィルム10において、(F/C)/(F/C)の値が1より大きい端面におけるF/Cの値は、0.03以上であることが好ましく、0.04以上であることがより好ましく、0.05以上であることが更に好ましい。端面のF/Cの値が0.03以上であると、当該端面からのクラックの発生をより充分に抑制することができる傾向がある。 In the optical film 10, the value of FE / CE at the end face where the value of ( FE / CE ) / ( FC / CC ) is larger than 1 is preferably 0.03 or more, preferably 0.04. The above is more preferable, and 0.05 or more is further preferable. When the FE / CE value of the end face is 0.03 or more, the generation of cracks from the end face tends to be more sufficiently suppressed.

(F/C)/(F/C)の値が1より大きい端面は、レーザー切断により形成することができる。上記方法で形成された端面は、(F/C)/(F/C)の値が1よりも大きくなりやすく、当該端面からのクラックの発生をより充分に抑制することができる傾向がある。 End faces with a value of ( FE / CE ) / ( FC / CC ) greater than 1 can be formed by laser cutting. The end face formed by the above method tends to have a value of ( FE / CE ) / ( FC / CC ) larger than 1, and the generation of cracks from the end face can be more sufficiently suppressed. Tend.

本発明の他の一実施形態に係る光学フィルム10の端面において、(F/O)/(F/O)の値は、1より大きい値であることが必要であるが、1.1~10であることが好ましく、1.3~8であることがより好ましく、1.5~5であることが更に好ましい。この値が1.1以上であると、フィルム端面におけるフッ素原子の濃度がフィルム断面(フィルム内部)におけるフッ素原子の濃度よりも充分に高く、当該端面からのクラックの発生をより充分に抑制することができる傾向がある。 In the end face of the optical film 10 according to another embodiment of the present invention, the value of ( FE / OE ) / ( FC / OC ) needs to be larger than 1, but 1 It is preferably 1 to 10, more preferably 1.3 to 8, and even more preferably 1.5 to 5. When this value is 1.1 or more, the concentration of fluorine atoms on the end face of the film is sufficiently higher than the concentration of fluorine atoms on the cross section of the film (inside the film), and the generation of cracks from the end face is more sufficiently suppressed. Tend to be able to.

光学フィルム10において、(F/O)/(F/O)の値が1より大きい端面におけるF/Oの値は、0.2以上であることが好ましい。端面のF/Oの値が0.2以上であると、当該端面からのクラックの発生をより充分に抑制することができる傾向がある。 In the optical film 10, the FE / OE value of the end face having a value of ( FE / OE ) / ( FC / OC ) larger than 1 is preferably 0.2 or more. When the FE / OE value of the end face is 0.2 or more, the generation of cracks from the end face tends to be more sufficiently suppressed.

(F/O)/(F/O)の値が1より大きい端面は、レーザー切断により形成することができる。上記方法で形成された端面は、(F/O)/(F/O)の値が1よりも大きくなりやすく、当該端面からのクラックの発生をより充分に抑制することができる傾向がある。 End faces with a value of ( FE / O E ) / ( FC / OC ) greater than 1 can be formed by laser cutting. The end face formed by the above method tends to have a value of ( FE / O E ) / ( FC / OC ) larger than 1, and the generation of cracks from the end face can be more sufficiently suppressed. Tend.

上記の光学フィルム10は、屈折率が通常、1.45~1.70であり、好ましくは1.50~1.66である。 The optical film 10 has a refractive index of usually 1.45 to 1.70, preferably 1.50 to 1.66.

光学フィルム10の厚さは、フレキシブルデバイスの種類等に応じて適宜調整されるが、通常、10~500μmであり、15~200μmであることが好ましく、20~100μmであることがより好ましい。 The thickness of the optical film 10 is appropriately adjusted depending on the type of the flexible device and the like, but is usually 10 to 500 μm, preferably 15 to 200 μm, and more preferably 20 to 100 μm.

光学フィルム10は、通常、透明である。光学フィルム10は、JIS K 7105:1981に準拠した全光線透過率が、通常、85%以上であり、好ましくは90%以上である。 The optical film 10 is usually transparent. The optical film 10 has a total light transmittance of usually 85% or more, preferably 90% or more, in accordance with JIS K 7105: 1981.

光学フィルム10は、JIS K 7105:1981に準拠したHazeが1以下であることができ、0.9以下であることもできる。 The optical film 10 can have a Haze according to JIS K 7105: 1981 of 1 or less, and can also be 0.9 or less.

なお、屈折率、全光線透過率、及び、Hazeは、光学フィルムの厚み方向において測定する値である。 The refractive index, total light transmittance, and Haze are values measured in the thickness direction of the optical film.

光学フィルム10の大きさは、使用されるフレキシブルデバイスの大きさに応じて適宜調節することができる。光学フィルム10の平面形状は、通常、矩形又は正方形であるが、台形、平行四辺形等の他の四角形であってもよい。また、光学フィルム10の平面形状は、角が丸められた四角形であってもよい。 The size of the optical film 10 can be appropriately adjusted according to the size of the flexible device used. The planar shape of the optical film 10 is usually a rectangle or a square, but it may be another quadrangle such as a trapezoid or a parallelogram. Further, the planar shape of the optical film 10 may be a quadrangle with rounded corners.

(フィルムの材質)
(透明樹脂)
上記光学フィルムは、分子内にフッ素原子を含むポリイミド系高分子などの透明樹脂を含む。
(Film material)
(Transparent resin)
The optical film contains a transparent resin such as a polyimide polymer containing a fluorine atom in the molecule.

(ポリイミド系高分子)
本明細書において、ポリイミドとは、イミド基を含む繰返し構造単位を含有する重合体であり、ポリアミドとは、アミド基を含む繰返し構造単位を含有する重合体である。ポリイミド系高分子とは、ポリイミド並びにイミド基及びアミド基の両方を含む繰返し構造単位を含有する重合体を示す。
(Polyimide-based polymer)
As used herein, polyimide is a polymer containing a repeating structural unit containing an imide group, and polyamide is a polymer containing a repeating structural unit containing an amide group. The polyimide-based polymer refers to a polymer containing a polyimide and a repeating structural unit containing both an imide group and an amide group.

本実施形態に係るポリイミド系高分子は、後述するテトラカルボン酸化合物とジアミン化合物とを主な原料として製造することができ、式(10)で表される繰り返し構造単位を有する。ここで、Gは4価の有機基であり、Aは2価の有機基である。G及び/又はAが異なる、2種類以上の式(10)で表される構造を含んでいてもよい。 The polyimide-based polymer according to the present embodiment can be produced using a tetracarboxylic acid compound and a diamine compound, which will be described later, as main raw materials, and has a repeating structural unit represented by the formula (10). Here, G is a tetravalent organic group and A is a divalent organic group. It may contain two or more kinds of structures represented by the formula (10) in which G and / or A are different.

また、本実施形態に係るポリイミド系高分子は、得られるポリイミド系高分子フィルムの各種物性を損なわない範囲で、式(11)~式(13)のいずれかで表される構造を含んでいてもよい。 Further, the polyimide-based polymer according to the present embodiment includes a structure represented by any of the formulas (11) to (13) as long as the various physical properties of the obtained polyimide-based polymer film are not impaired. May be good.

Figure 0007021887000001
Figure 0007021887000001

Figure 0007021887000002
Figure 0007021887000002

Figure 0007021887000003
Figure 0007021887000003

Figure 0007021887000004
Figure 0007021887000004

G及びGは4価の有機基であり、好ましくは炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよい有機基であり、式(20)~式(29)で表される基並びに4価の炭素数6以下の鎖式炭化水素基が例示される。式中の*は結合手を表し、Zは、単結合、-O-、-CH-、-CH-CH-、-CH(CH)-、-C(CH-、-C(CF-、-Ar-、-SO-、-CO-、-O-Ar-O-、-Ar-O-Ar-、-Ar-CH-Ar-、-Ar-C(CH-Ar-又は-Ar-SO-Ar-を表す。Arはフッ素原子で置換されていてもよい炭素数6~20のアリーレン基を表し、具体例としてはフェニレン基が挙げられる。得られるフィルムの黄色度を抑制しやすいことから、G及びGは、式(20)~式(27)で表される基が好ましい。 G and G 1 are tetravalent organic groups, preferably organic groups which may be substituted with a hydrocarbon group or a hydrocarbon group substituted with fluorine, and are represented by the formulas (20) to (29). Examples thereof include a tetravalent group having 6 or less carbon atoms and a chain hydrocarbon group having 4 or less carbon atoms. * In the formula represents a bond, Z is a single bond, -O-, -CH 2-, -CH 2 - CH 2- , -CH (CH 3 )-, -C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2- , -Ar-, -SO 2- , -CO-, -O-Ar-O-, -Ar-O-Ar-, -Ar-CH 2 -Ar-, -Ar- Represents C (CH 3 ) 2 -Ar- or -Ar-SO 2 -Ar-. Ar represents an arylene group having 6 to 20 carbon atoms which may be substituted with a fluorine atom, and specific examples thereof include a phenylene group. G and G 1 are preferably groups represented by the formulas (20) to (27) because the yellowness of the obtained film can be easily suppressed.

Figure 0007021887000005
Figure 0007021887000005

は3価の有機基であり、好ましくは炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよい有機基であり、式(20)~式(29)で表される基の結合手のいずれか1つが水素原子に置き換わった基並びに3価の炭素数6以下の鎖式炭化水素基が例示される。 G 2 is a trivalent organic group, preferably an organic group that may be substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group, and is a group represented by the formulas (20) to (29). Examples thereof include a group in which any one of the bonds of the above is replaced with a hydrogen atom, and a chain hydrocarbon group having a trivalent carbon number of 6 or less.

は2価の有機基であり、好ましくは炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよい有機基であり、式(20)~式(29)で表される基の結合手のうち、隣接しない2つが水素原子に置き換わった基及び炭素数6以下の鎖式炭化水素基が例示される。 G 3 is a divalent organic group, preferably an organic group optionally substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group, and is a group represented by the formulas (20) to (29). Examples thereof include a group in which two non-adjacent bonds are replaced with hydrogen atoms and a chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms.

A、A~Aはいずれも2価の有機基であり、好ましくは炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよい有機基であり、式(30)~式(38)で表される基;それらがメチル基、フルオロ基、クロロ基もしくはトリフルオロメチル基で置換された基並びに炭素数6以下の鎖式炭化水素基が例示される。式中の*は結合手を表し、Z、Z及びZは、それぞれ独立して、単結合、-O-、-CH-、-CH-CH-、-CH(CH)-、-C(CH-、-C(CF-、-SO-又は-CO-を表す。1つの例は、Z及びZが-O-であり、かつ、Zが-CH-、-C(CH-、-C(CF-又は-SO-である。ZとZ、及び、ZとZは、それぞれ、各環に対してメタ位又はパラ位であることが好ましい。 A and A 1 to A 3 are all divalent organic groups, preferably an organic group optionally substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group, and formulas (30) to (30). 38); Examples thereof include a group in which they are substituted with a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group, and a chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms. * In the formula represents a bond, and Z 1 , Z 2 and Z 3 are independent, single bond, -O-, -CH 2-, -CH 2 - CH 2- , -CH (CH 3 ). )-, -C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2- , -SO 2- or -CO-. One example is that Z 1 and Z 3 are -O- and Z 2 is -CH 2- , -C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2- or -SO 2- . be. It is preferable that Z 1 and Z 2 and Z 2 and Z 3 are in the meta-position or the para-position for each ring, respectively.

Figure 0007021887000006
Figure 0007021887000006

上記光学フィルムは、ポリアミドを含んでいてもよい。本実施形態に係るポリアミドは、式(13)で表される繰り返し構造単位を主とする重合体である。好ましい例及び具体例は、ポリイミド系高分子におけるG及びAと同じである。G及び/又はAが異なる、2種類以上の式(13)で表される構造を含んでいてもよい。 The optical film may contain polyamide. The polyamide according to this embodiment is a polymer mainly composed of a repeating structural unit represented by the formula (13). Preferred examples and specific examples are the same as G3 and A3 in the polyimide - based polymer. It may contain two or more kinds of structures represented by the formula (13) in which G 3 and / or A 3 are different.

ポリイミド系高分子は、例えば、ジアミンとテトラカルボン酸化合物(テトラカルボン酸二無水物等)との重縮合によって得られ、例えば特開2006-199945号公報又は特開2008-163107号公報に記載されている方法にしたがって合成することができる。ポリイミドの市販品としては、三菱ガス化学(株)製ネオプリム、河村産業(株)製KPI-MX300Fなどを挙げることができる。 The polyimide-based polymer is obtained, for example, by polycondensation of a diamine and a tetracarboxylic acid compound (tetracarboxylic acid dianhydride, etc.), and is described in, for example, JP-A-2006-199945 or JP-A-2008-163107. It can be synthesized according to the above method. Examples of commercially available polyimide products include Neoprim manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc., KPI-MX300F manufactured by Kawamura Sangyo Co., Ltd., and the like.

ポリイミド系高分子の合成に用いられるテトラカルボン酸化合物としては、芳香族テトラカルボン酸二無水物等の芳香族テトラカルボン酸化合物及び脂肪族テトラカルボン酸二無水物等の脂肪族テトラカルボン酸化合物が挙げられる。テトラカルボン酸化合物は、単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。テトラカルボン酸化合物は、二無水物の他、酸クロライド化合物等のテトラカルボン酸化合物類縁体であってもよい。 Examples of the tetracarboxylic acid compound used for synthesizing a polyimide polymer include aromatic tetracarboxylic acid compounds such as aromatic tetracarboxylic acid dianhydride and aliphatic tetracarboxylic acid compounds such as aliphatic tetracarboxylic acid dianhydride. Can be mentioned. The tetracarboxylic acid compound may be used alone or in combination of two or more. The tetracarboxylic acid compound may be an analog of a tetracarboxylic acid compound such as an acid chloride compound in addition to dianhydride.

芳香族テトラカルボン酸二無水物の具体例としては、4,4’-オキシジフタル酸二無水物、3,3’,4,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、2,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2-ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェノキシフェニル)プロパン二無水物、4,4’-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物、1,2-ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,1-ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,1-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、4,4’-(p-フェニレンジオキシ)ジフタル酸二無水物、4,4’-(m-フェニレンジオキシ)ジフタル酸二無水物及び2,3,6,7-ナフタレンテトラカルボン酸二無水物が挙げられ、好ましくは4,4’-オキシジフタル酸二無水物、3,3’,4,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、2,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2-ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェノキシフェニル)プロパン二無水物、4,4’-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物、1,2-ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,1-ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,1-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、4,4’-(p-フェニレンジオキシ)ジフタル酸二無水物及び4,4’-(m-フェニレンジオキシ)ジフタル酸二無水物が挙げられる。これらは単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。 Specific examples of the aromatic tetracarboxylic acid dianhydride include 4,4'-oxydiphthalic acid dianhydride, 3,3', 4,4'-benzophenone tetracarboxylic acid dianhydride, 2,2', 3,. 3'-Benzophenone tetracarboxylic acid dianhydride, 3,3', 4,4'-biphenyltetracarboxylic acid dianhydride, 2,2', 3,3'-biphenyltetracarboxylic acid dianhydride, 3,3 ', 4,4'-Diphenylsulfone tetracarboxylic acid dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) propane Dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenoxyphenyl) propane dianhydride, 4,4'-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic acid dianhydride, 1,2-bis (2,3) -Dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,1-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1, 1-bis (3,4-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, 4,4 ''-(P-Phenylenidooxy) diphthalic acid dianhydride, 4,4'-(m-Phenylenidooxy) diphthalic acid dianhydride and 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic acid dianhydride. , Preferably 4,4'-oxydiphthalic acid dianhydride, 3,3', 4,4'-benzophenone tetracarboxylic acid dianhydride, 2,2', 3,3'-benzophenone tetracarboxylic acid dianhydride. , 3,3', 4,4'-biphenyltetracarboxylic acid dianhydride, 2,2', 3,3'-biphenyltetracarboxylic acid dianhydride, 3,3', 4,4'-diphenylsulfone tetra Carboxydic dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2-bis ( 3,4-dicarboxyphenoxyphenyl) propane dianhydride, 4,4'-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic acid dianhydride, 1,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,1-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,1-bis (3,4-dicarboxyphenyl) Phenyl) ethane dianhydride , Bis (3,4-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, 4,4'-(p-phenylenedioxy) diphthalic acid dianhydride and 4 , 4'-(m-phenylenedioxy) diphthalic acid dianhydride. These can be used alone or in combination of two or more.

脂肪族テトラカルボン酸二無水物としては、環式又は非環式の脂肪族テトラカルボン酸二無水物が挙げられる。環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物とは、脂環式炭化水素構造を有するテトラカルボン酸二無水物であり、その具体例としては、1,2,4,5-シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4-シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4-シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物等のシクロアルカンテトラカルボン酸二無水物、ビシクロ[2.2.2]オクト-7-エン-2,3,5,6-テトラカルボン酸二無水物、ジシクロヘキシル3,3’-4,4’-テトラカルボン酸二無水物及びこれらの位置異性体が挙げられる。これらは単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。非環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物の具体例としては、1,2,3,4-ブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4-ペンタンテトラカルボン酸二無水物等が挙げられ、これらは単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。 Examples of the aliphatic tetracarboxylic dianhydride include cyclic or acyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride. The cyclic aliphatic tetracarboxylic acid dianhydride is a tetracarboxylic acid dianhydride having an alicyclic hydrocarbon structure, and specific examples thereof include 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic acid dianhydride. , 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic acid dianhydride, cycloalkhantetracarboxylic acid dianhydride such as 1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic acid dianhydride, Bicyclo [2.2] .2] Oct-7-ene-2,3,5,6-tetracarboxylic acid dianhydride, dicyclohexyl3,3'-4,4'-tetracarboxylic acid dianhydride and their positional isomers can be mentioned. .. These can be used alone or in combination of two or more. Specific examples of the acyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride include 1,2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-pentanetetracarboxylic dianhydride and the like. These can be used alone or in combination of two or more.

上記テトラカルボン酸二無水物の中でも、高透明性及び低着色性の観点から、1,2,4,5-シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、ビシクロ[2.2.2]オクト-7-エン-2,3,5,6-テトラカルボン酸二無水物及び4,4’-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物が好ましい。 Among the above tetracarboxylic dianhydrides, 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride, bicyclo [2.2.2] octo-7-ene, from the viewpoint of high transparency and low colorability. -2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride and 4,4'-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic acid dianhydride are preferred.

なお、本実施形態に係るポリイミド系高分子は、得られるポリイミド系高分子フィルムの各種物性を損なわない範囲で、上記のポリイミド合成に用いられるテトラカルボン酸の無水物に加えて、テトラカルボン酸、トリカルボン酸及びジカルボン酸並びにそれらの無水物及び誘導体を更に反応させたものであってもよい。 The polyimide-based polymer according to the present embodiment includes tetracarboxylic acid, in addition to the tetracarboxylic acid anhydride used in the above-mentioned polyimide synthesis, as long as the various physical properties of the obtained polyimide-based polymer film are not impaired. It may be a reaction of a tricarboxylic acid and a dicarboxylic acid and their anhydrides and derivatives.

トリカルボン酸化合物としては、芳香族トリカルボン酸、脂肪族トリカルボン酸及びそれらの類縁の酸クロライド化合物、酸無水物等が挙げられ、2種以上を併用してもよい。
具体例としては、1,2,4-ベンゼントリカルボン酸の無水物;2,3,6-ナフタレントリカルボン酸-2,3-無水物;フタル酸無水物と安息香酸とが単結合、-CH-、-C(CH-、-C(CF-、-SO-もしくはフェニレン基で連結された化合物が挙げられる。
Examples of the tricarboxylic acid compound include aromatic tricarboxylic acids, aliphatic tricarboxylic acids, acid chloride compounds related thereto, acid anhydrides, and the like, and two or more thereof may be used in combination.
Specific examples include anhydrate of 1,2,4-benzenetricarboxylic acid; 2,3,6-naphthalentricarboxylic acid-2,3-anhydride; a single bond between phthalic anhydride and benzoic acid, -CH 2 . -, -C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2- , -SO 2- or a compound linked with a phenylene group can be mentioned.

ジカルボン酸化合物としては、芳香族ジカルボン酸、脂肪族ジカルボン酸及びそれらの類縁の酸クロライド化合物、酸無水物等が挙げられ、2種以上を併用してもよい。具体例としては、テレフタル酸;イソフタル酸;ナフタレンジカルボン酸;4,4’-ビフェニルジカルボン酸;3,3’-ビフェニルジカルボン酸;炭素数8以下である鎖式炭化水素、のジカルボン酸化合物及び2つの安息香酸が単結合、-CH-、-C(CH-、-C(CF-、-SO-もしくはフェニレン基で連結された化合物が挙げられる。 Examples of the dicarboxylic acid compound include aromatic dicarboxylic acids, aliphatic dicarboxylic acids, acid chloride compounds related thereto, acid anhydrides, and the like, and two or more of them may be used in combination. Specific examples include a dicarboxylic acid compound of terephthalic acid; isophthalic acid; naphthalenedicarboxylic acid; 4,4'-biphenyldicarboxylic acid; 3,3'-biphenyldicarboxylic acid; a chain hydrocarbon having 8 or less carbon atoms, and 2 Examples thereof include compounds in which one benzoic acid is linked by a single bond, -CH 2- , -C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2- , -SO 2- or a phenylene group.

ポリイミド系高分子の合成に用いられるジアミンとしては、脂肪族ジアミン、芳香族ジアミン又はそれらの混合物でもよい。なお、本実施形態において「芳香族ジアミン」とは、アミノ基が芳香環に直接結合しているジアミンを表し、その構造の一部に脂肪族基又はその他の置換基を含んでいてもよい。芳香環は単環でも縮合環でもよく、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環及びフルオレン環等が例示されるが、これらに限定されるわけではない。これらの中でも、好ましくはベンゼン環である。また「脂肪族ジアミン」とは、アミノ基が脂肪族基に直接結合しているジアミンを表し、その構造の一部に芳香環やその他の置換基を含んでいてもよい。 The diamine used for synthesizing the polyimide polymer may be an aliphatic diamine, an aromatic diamine, or a mixture thereof. In addition, in this embodiment, "aromatic diamine" represents a diamine in which an amino group is directly bonded to an aromatic ring, and an aliphatic group or another substituent may be contained in a part of the structure thereof. The aromatic ring may be a monocyclic ring or a condensed ring, and examples thereof include a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring, and a fluorene ring, but the aromatic ring is not limited thereto. Among these, a benzene ring is preferable. Further, the "aliphatic diamine" represents a diamine in which an amino group is directly bonded to an aliphatic group, and an aromatic ring or other substituent may be contained as a part of the structure thereof.

脂肪族ジアミンとしては、例えば、ヘキサメチレンジアミン等の非環式脂肪族ジアミン及び1,3-ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、1,4-ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、ノルボルナンジアミン、4,4’-ジアミノジシクロヘキシルメタン等の環式脂肪族ジアミン等が挙げられ、これらは単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。 Examples of the aliphatic diamine include an acyclic aliphatic diamine such as hexamethylenediamine, 1,3-bis (aminomethyl) cyclohexane, 1,4-bis (aminomethyl) cyclohexane, norbornanediamine, and 4,4'-. Examples thereof include cyclic aliphatic diamines such as diaminodicyclohexylmethane, which can be used alone or in combination of two or more.

芳香族ジアミンとしては、例えば、p-フェニレンジアミン、m-フェニレンジアミン、2,4-トルエンジアミン、m-キシリレンジアミン、p-キシリレンジアミン、1,5-ジアミノナフタレン、2,6-ジアミノナフタレン等の、芳香環を1つ有する芳香族ジアミン、4,4’-ジアミノジフェニルメタン、4,4’-ジアミノジフェニルプロパン、4,4’-ジアミノジフェニルエーテル、3,4’-ジアミノジフェニルエーテル、3,3’-ジアミノジフェニルエーテル、4,4’-ジアミノジフェニルスルホン、3,4’-ジアミノジフェニルスルホン、3,3’-ジアミノジフェニルスルホン、1,4-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4’-ジアミノジフェニルスルホン、ビス〔4-(4-アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、ビス〔4-(3-アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、2,2-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2-ビス[4-(3-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2’-ジメチルベンジジン、2,2’-ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン、4,4’-ビス(4-アミノフェノキシ)ビフェニル、4,4’-ジアミノジフェニルエーテル、3,4’-ジアミノジフェニルエーテル、4,4’-ジアミノジフェニルメタン、9,9-ビス(4-アミノフェニル)フルオレン、9,9-ビス(4-アミノ-3-メチルフェニル)フルオレン、9,9-ビス(4-アミノ-3-クロロフェニル)フルオレン、9,9-ビス(4-アミノ-3-フルオロフェニル)フルオレン等の、芳香環を2つ以上有する芳香族ジアミンが挙げられ、これらは単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。 Examples of the aromatic diamine include p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, 2,4-toluenediamine, m-xylylene diamine, p-xylylene diamine, 1,5-diaminonaphthalene and 2,6-diaminonaphthalene. Aromatic diamine having one aromatic ring, such as 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'. -Diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone, 3,4'-diaminodiphenyl sulfone, 3,3'-diaminodiphenyl sulfone, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis ( 4-Aminophenoxy) benzene, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfone, 2,2-bis [ 4- (4-Aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine , 4,4'-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 9,9-bis (4-aminophenyl) Fluorene, 9,9-bis (4-amino-3-methylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-amino-3-chlorophenyl) fluorene, 9,9-bis (4-amino-3-fluorophenyl) Examples thereof include aromatic diamines having two or more aromatic rings, such as fluorene, which can be used alone or in combination of two or more.

上記ジアミンの中でも、高透明性及び低着色性の観点からは、ビフェニル構造を有する芳香族ジアミンからなる群から選ばれる1種以上を用いることが好ましい。2,2’-ジメチルベンジジン、2,2’-ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン、4,4’-ビス(4-アミノフェノキシ)ビフェニル及び4,4’-ジアミノジフェニルエーテルからなる群から選ばれる1種以上を用いることがさらに好ましく、2,2’-ビス(トリフルオロメチル)ベンジジンが含まれることがよりさらに好ましい。 Among the above diamines, from the viewpoint of high transparency and low coloring property, it is preferable to use one or more selected from the group consisting of aromatic diamines having a biphenyl structure. One selected from the group consisting of 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine, 4,4'-bis (4-aminophenoxy) biphenyl and 4,4'-diaminodiphenyl ether. It is more preferable to use the above, and it is even more preferable to contain 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine.

式(10)~式(13)のいずれかで表される繰り返し構造単位を少なくとも1種含む重合体であるポリイミド系高分子及びポリアミドは、ジアミンと、テトラカルボン酸化合物(酸クロライド化合物、テトラカルボン酸二無水物等のテトラカルボン酸化合物類縁体)、トリカルボン酸化合物(酸クロライド化合物、トリカルボン酸無水物等のトリカルボン酸化合物類縁体)及びジカルボン酸化合物(酸クロライド化合物等のジカルボン酸化合物類縁体)からなる群に含まれる少なくとも1種類の化合物との重縮合生成物である縮合型高分子である。出発原料としては、これらに加えて、さらにジカルボン酸化合物(酸クロライド化合物等の類縁体を含む)を用いることもある。式(11)で表される繰り返し構造単位は、通常、ジアミン類及びテトラカルボン酸化合物から誘導される。式(12)で表される繰り返し構造単位は、通常、ジアミン及びトリカルボン酸化合物から誘導される。式(13)で表される繰り返し構造単位は、通常、ジアミン及びジカルボン酸化合物から誘導される。ジアミン及びテトラカルボン酸化合物の具体例は、上述のとおりである。 The polyimide-based polymer and polyamide, which are polymers containing at least one repeating structural unit represented by any of the formulas (10) to (13), include diamine and a tetracarboxylic acid compound (acid chloride compound, tetracarboxylic). Tetracarboxylic acid compound analogs such as acid dianhydride), tricarboxylic acid compounds (tricarboxylic acid compound analogs such as acid chloride compounds and tricarboxylic acid anhydrides) and dicarboxylic acid compounds (dicarboxylic acid compound analogs such as acid chloride compounds) It is a condensation type polymer which is a polycondensation product with at least one kind of compound contained in the group consisting of. In addition to these, a dicarboxylic acid compound (including an analog such as an acid chloride compound) may be used as a starting material. The repeating structural unit represented by the formula (11) is usually derived from diamines and tetracarboxylic acid compounds. The repeating structural unit represented by the formula (12) is usually derived from a diamine and a tricarboxylic acid compound. The repeating structural unit represented by the formula (13) is usually derived from a diamine and a dicarboxylic acid compound. Specific examples of the diamine and the tetracarboxylic acid compound are as described above.

本実施形態に係るポリイミド系高分子及びポリアミドの標準ポリスチレン換算重量平均分子量は、通常、10,000~500,000であり、好ましくは50,000~500,000であり、さらに好ましくは100,000~400,000である。ポリイミド系高分子及びポリアミドの重量平均分子量が大きいほどフィルム化した際に高い耐屈曲性を発現しやすい傾向があるが、ポリイミド系高分子の重量平均分子量が大きすぎると、ワニスの粘度が高くなり、加工性が低下する傾向がある。 The standard polystyrene-equivalent weight average molecular weight of the polyimide-based polymer and the polyamide according to the present embodiment is usually 10,000 to 500,000, preferably 50,000 to 500,000, and more preferably 100,000. ~ 400,000. The larger the weight average molecular weight of the polyimide polymer and the polyamide, the more likely it is to develop high bending resistance when filmed. However, if the weight average molecular weight of the polyimide polymer is too large, the viscosity of the varnish becomes high. , Workability tends to decrease.

ポリイミド系高分子及びポリアミドは、含フッ素置換基を含むことにより、フィルム化した際の弾性率が向上するとともに、YI値が低減され、透明性も向上する傾向がある。
フィルムの弾性率が高いと、キズ及びシワ等の発生が抑制される傾向がある。また、分子内にフッ素原子を含むポリイミド系高分子は、上述した(F/C)/(F/C)の値、及び/又は、(F/O)/(F/O)の値が1より大きい端面を有することで、変形させた状態で高温高湿環境下に保管しても、当該端部からのクラックの発生を充分に抑制することができる。含フッ素置換基の具体例としては、フルオロ基及びトリフルオロメチル基が挙げられる。
By containing a fluorine-containing substituent, the polyimide-based polymer and the polyamide tend to improve the elastic modulus when formed into a film, reduce the YI value, and improve the transparency.
When the elastic modulus of the film is high, the occurrence of scratches and wrinkles tends to be suppressed. Further, the polyimide-based polymer containing a fluorine atom in the molecule has the above - mentioned ( FE / CE ) / (FC / CC ) values and / or ( FE / OE ) / ( FC ). By having an end face having a value of / OC ) greater than 1, it is possible to sufficiently suppress the generation of cracks from the end portion even when stored in a high temperature and high humidity environment in a deformed state. Specific examples of the fluorine-containing substituent include a fluoro group and a trifluoromethyl group.

(分子内にフッ素原子を含むポリイミド系高分子)
分子内にフッ素原子を含むポリイミド系高分子は、ポリイミド系高分子の分子構造中のG、G~G、A、A~A及びArのうちの少なくとも一つに、フッ素置換された基を有する。分子内にフッ素原子を含むポリイミド系高分子におけるフッ素原子の含有量は、ポリイミド系高分子の質量を基準として、好ましくは1質量%以上40質量%以下であり、さらに好ましくは5質量%以上40質量%以下である。フッ素原子の含有量が1質量%以上であると、フィルム化した際の弾性率をより向上し、YI値をより低減し、透明性をより向上できる傾向がある。フッ素原子の含有量が40質量%以下であると、コストや合成時の反応性が有利になる傾向がある。
(Polyimide-based polymer containing a fluorine atom in the molecule)
The polyimide polymer containing a fluorine atom in the molecule is substituted with fluorine by at least one of G , G1 to G3, A , A1 to A3 and Ar in the molecular structure of the polyimide polymer. Has a matrix. The content of fluorine atoms in the polyimide polymer containing fluorine atoms in the molecule is preferably 1% by mass or more and 40% by mass or less, more preferably 5% by mass or more and 40, based on the mass of the polyimide polymer. It is less than mass%. When the content of the fluorine atom is 1% by mass or more, the elastic modulus at the time of film formation tends to be further improved, the YI value can be further reduced, and the transparency can be further improved. When the content of the fluorine atom is 40% by mass or less, the cost and the reactivity at the time of synthesis tend to be advantageous.

本実施形態に係る光学フィルムにおいて、ポリイミド系高分子の含有量は、光学フィルムの全質量を基準として、通常、30質量%以上であり、好ましくは40質量%以上であり、さらに好ましくは50質量%以上である。ポリイミド系高分子の含有量が30質量%以上であると、フィルムの耐屈曲性が有利になる傾向がある。 In the optical film according to the present embodiment, the content of the polyimide-based polymer is usually 30% by mass or more, preferably 40% by mass or more, more preferably 50% by mass, based on the total mass of the optical film. % Or more. When the content of the polyimide-based polymer is 30% by mass or more, the bending resistance of the film tends to be advantageous.

(無機粒子)
本実施形態に係る光学フィルムは、上記のポリイミド系高分子に加えて、無機粒子等の無機材料を更に含有していてもよい。
(Inorganic particles)
The optical film according to this embodiment may further contain an inorganic material such as inorganic particles in addition to the above-mentioned polyimide-based polymer.

無機材料として好ましくは、シリカ粒子、オルトケイ酸テトラエチル(TEOS)等の4級アルコキシシラン等のケイ素化合物が挙げられ、ワニス安定性の観点から、シリカ粒子が好ましい。 Preferred examples of the inorganic material include silica particles and silicon compounds such as quaternary alkoxysilane such as tetraethyl orthosilicate (TEOS), and silica particles are preferable from the viewpoint of varnish stability.

シリカ粒子の平均一次粒子径は、好ましくは10~100nm、さらに好ましくは20~80nmである。シリカ粒子の平均一次粒子径が100nm以下であると透明性が向上する傾向がある。シリカ粒子の平均一次粒子径が10nm以上であると、シリカ粒子の凝集力が弱まるために取り扱い易くなる傾向がある。 The average primary particle size of the silica particles is preferably 10 to 100 nm, more preferably 20 to 80 nm. When the average primary particle diameter of the silica particles is 100 nm or less, the transparency tends to be improved. When the average primary particle diameter of the silica particles is 10 nm or more, the cohesive force of the silica particles is weakened, so that the silica particles tend to be easy to handle.

本実施形態に係るシリカ微粒子は、有機溶剤等にシリカ粒子を分散させたシリカゾルであっても、気相法で製造したシリカ微粒子粉末を用いてもよいが、ハンドリングが容易であることからシリカゾルであることが好ましい。 The silica fine particles according to the present embodiment may be a silica sol in which silica particles are dispersed in an organic solvent or the like, or a silica fine particle powder produced by a vapor phase method may be used, but the silica sol is easy to handle. It is preferable to have.

光学フィルム中のシリカ粒子の(平均)一次粒子径は、透過型電子顕微鏡(TEM)による観察で求めることができる。光学フィルムを形成する前のシリカ粒子の粒度分布は、市販のレーザー回折式粒度分布計により求めることができる。 The (average) primary particle size of the silica particles in the optical film can be determined by observation with a transmission electron microscope (TEM). The particle size distribution of the silica particles before forming the optical film can be obtained by a commercially available laser diffraction type particle size distribution meter.

本実施形態に係る光学フィルムにおいて、無機材料の含有量は、光学フィルムの全質量を基準として、通常、0質量%以上70質量%以下であり、好ましくは0質量%以上60質量%以下であり、さらに好ましくは0質量%以上50質量%以下である。無機材料(ケイ素材料)の含有量が上記の範囲内であると、光学フィルムの透明性及び機械的強度を両立させやすい傾向がある。 In the optical film according to the present embodiment, the content of the inorganic material is usually 0% by mass or more and 70% by mass or less, preferably 0% by mass or more and 60% by mass or less, based on the total mass of the optical film. More preferably, it is 0% by mass or more and 50% by mass or less. When the content of the inorganic material (silicon material) is within the above range, it tends to be easy to achieve both transparency and mechanical strength of the optical film.

本実施形態に係る光学フィルムは、以上説明した成分に加えて、更に添加剤を含有していてもよい。上記添加剤としては、例えば、pH調整剤、シリカ分散剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、離型剤、安定剤、ブルーイング剤等の着色剤、難燃剤、滑剤及びレベリング剤が挙げられる。 The optical film according to the present embodiment may further contain an additive in addition to the components described above. Examples of the additive include pH adjusters, silica dispersants, ultraviolet absorbers, antioxidants, mold release agents, stabilizers, colorants such as bluing agents, flame retardants, lubricants and leveling agents.

樹脂成分及び無機材料以外の成分の含有量は、光学フィルムの全質量を基準として、好ましくは0質量%以上20質量%以下であり、さらに好ましくは0質量%超10質量%以下である。 The content of the components other than the resin component and the inorganic material is preferably 0% by mass or more and 20% by mass or less, and more preferably more than 0% by mass and 10% by mass or less, based on the total mass of the optical film.

(光学フィルムの製造方法)
次に、本実施形態の光学フィルムの製造方法の一例を説明する。
(Manufacturing method of optical film)
Next, an example of the method for manufacturing the optical film of the present embodiment will be described.

本実施形態に係る光学フィルムの作製に用いるワニスは、例えば、上記テトラカルボン酸化合物、上記ジアミン及び上記のその他の原料から選択して反応させて得られる、ポリイミド系高分子の反応液、溶媒並びに必要に応じて用いられる上記添加剤を混合、攪拌することにより調製することができる。ポリイミド系高分子等の反応液に変えて、購入したポリイミド系高分子等の溶液や、購入した固体のポリイミド系高分子等の溶液を用いてもよい。 The varnish used for producing the optical film according to the present embodiment is, for example, a reaction solution of a polyimide polymer, a solvent, and a reaction solution of a polyimide polymer obtained by selecting and reacting with the above tetracarboxylic acid compound, the above diamine, and the above other raw materials. It can be prepared by mixing and stirring the above-mentioned additives used as needed. Instead of the reaction solution of the polyimide-based polymer or the like, a purchased solution of the polyimide-based polymer or the like or a solution of the purchased solid polyimide-based polymer or the like may be used.

上記ワニスに含まれる溶媒は、ポリイミド系高分子を溶解可能であればよい。溶媒としては、例えば、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミドなどのアミド系溶媒、γ-ブチロラクトン、γ-バレロラクトン等のラクトン系溶媒、ジメチルスルホン、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の含硫黄系溶剤、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等のカーボネート系溶媒を用いることができる。これらの溶媒の中でも、アミド系溶剤又はラクトン系溶媒が好ましい。また、これら溶媒は単独で又は2種以上混合して用いてもよい。 The solvent contained in the varnish may be any as long as it can dissolve the polyimide polymer. Examples of the solvent include amide solvents such as N, N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide, lactone solvents such as γ-butyrolactone and γ-valerolactone, and sulfur-containing solvents such as dimethyl sulfoxide, dimethyl sulfoxide and sulfolane. A carbonate solvent such as a system solvent, ethylene carbonate, or propylene carbonate can be used. Among these solvents, an amide solvent or a lactone solvent is preferable. Further, these solvents may be used alone or in combination of two or more.

次いで、公知のロール・ツー・ロールやバッチ方式により、樹脂基材、ステンテレス鋼ベルト、又はガラス基材上に、上記のワニスを塗布して塗膜を形成し、その塗膜を乾燥して、基材から剥離することによって、ポリイミド系高分子を含むフィルムを得る。剥離後に更にフィルムの乾燥を行ってもよい。 Next, the above varnish is applied onto a resin substrate, a stainless steel belt, or a glass substrate to form a coating film by a known roll-to-roll or batch method, and the coating film is dried. By peeling from the substrate, a film containing a polyimide-based polymer is obtained. After peeling, the film may be further dried.

塗膜の乾燥は、温度50~350℃にて溶媒を蒸発させることにより行う。乾燥は、大気下、不活性雰囲気下、あるいは減圧下で行ってもよい。 The coating film is dried by evaporating the solvent at a temperature of 50 to 350 ° C. Drying may be carried out under an atmosphere, an inert atmosphere, or a reduced pressure.

樹脂基材の例としては、PET、PEN、ポリイミド、ポリアミドイミドなどが挙げられる。中でも、耐熱性に優れた樹脂が好ましい。特に、PET基材がフィルムとの密着性及びコストの観点で好ましい。 Examples of the resin base material include PET, PEN, polyimide, polyamide-imide and the like. Of these, a resin having excellent heat resistance is preferable. In particular, the PET base material is preferable from the viewpoint of adhesion to the film and cost.

続いて、フィルムの端面に対し、当該端面についてXPSで測定されるフッ素原子の炭素原子に対する原子比(F/C)、及び/又は、フッ素原子の酸素原子に対する原子比(F/O)が、当該端面から1mm内側を剃刀で切断した断面についてXPSで測定されるフッ素原子の炭素原子に対する原子比(F/C)、及び/又は、フッ素原子の酸素原子に対する原子比(F/O)よりも大きくなるように処理を施す。 Subsequently, with respect to the end face of the film, the atomic ratio of the fluorine atom to the carbon atom ( FE / CE ) measured by XPS for the end face and / or the atomic ratio of the fluorine atom to the oxygen atom ( FE / O). E ) is the atomic ratio of the fluorine atom to the carbon atom (FC / CC) and / or the atomic ratio of the fluorine atom to the oxygen atom (FC / CC ) measured by XPS for the cross section cut 1 mm inside from the end face with a sword. Process so that it is larger than FE / OE ).

また、本発明はポリイミド系高分子を含む光学フィルムの端面を酸化する方法、レーザーを照射する方法を含む。これらの方法によって、変形された状態で高温高湿環境下に保管しても端部にクラックが発生しにくいポリイミド系高分子を含むフィルムを得ることができる。 The present invention also includes a method of oxidizing the end face of an optical film containing a polyimide-based polymer and a method of irradiating a laser. By these methods, it is possible to obtain a film containing a polyimide-based polymer in which cracks are less likely to occur at the edges even when the film is stored in a deformed state in a high temperature and high humidity environment.

レーザー照射に用いることができるレーザーとしては特に限定されず、任意のレーザーを用いることができる。使用可能なレーザーとして具体的には、COレーザー、エキシマレーザー等の気体レーザー;YAGレーザー等の固体レーザー;半導体レーザーなどが挙げられる。レーザー照射に用いることができる好適なレーザーはCOレーザーである。具体的には、ポリイミド系高分子フィルム原反を所望の大きさにCOレーザーで切断することにより、変形された状態で高温高湿環境下に保管しても端部にクラックが発生しにくいポリイミド系高分子を含むフィルムを容易に得ることができる。端面の酸化はレーザー照射によって行ってもよい。 The laser that can be used for laser irradiation is not particularly limited, and any laser can be used. Specific examples of the lasers that can be used include gas lasers such as CO 2 lasers and excimer lasers; solid-state lasers such as YAG lasers; and semiconductor lasers. A suitable laser that can be used for laser irradiation is a CO 2 laser. Specifically, by cutting the raw fabric of the polyimide-based polymer film to the desired size with a CO 2 laser, cracks are less likely to occur at the edges even if it is stored in a high-temperature and high-humidity environment in a deformed state. A film containing a polyimide-based polymer can be easily obtained. Oxidation of the end face may be performed by laser irradiation.

レーザー照射は、フィルム端面の原子比(F/C)をフィルム内部の原子比(F/C)よりも容易に且つ充分に高くする、及び/又は、フィルム端面の原子比(F/O)をフィルム内部の原子比(F/O)よりも容易に且つ充分に高くする観点から、以下の条件で行うことが好ましい。すなわち、レーザーはCOレーザーが好ましく、10μm以下の波長であるとさらに好ましい。出力はフィルムを切断可能な条件であると、切断と同時に端部のフッ素量を増加することができるので、好ましい。出力は10W以上が好ましく、12W以上がさらに好ましい。レーザーによる加工速度は50mm/sec以上であることが好ましく、100mm/sec以上であるとさらに好ましい。端部に複数回レーザーを照射してもよい。 Laser irradiation makes the atomic ratio (FE / CE ) of the end face of the film easier and sufficiently higher than the atomic ratio ( FC / CC ) inside the film, and / or the atomic ratio of the end face of the film ( F ). From the viewpoint of making E / O E ) easier and sufficiently higher than the atomic ratio ( FC / OC ) inside the film, it is preferable to carry out under the following conditions. That is, the laser is preferably a CO 2 laser, and more preferably a wavelength of 10 μm or less. If the output is a condition that can cut the film, the amount of fluorine at the end can be increased at the same time as cutting, which is preferable. The output is preferably 10 W or more, and more preferably 12 W or more. The processing speed by the laser is preferably 50 mm / sec or more, and more preferably 100 mm / sec or more. The end may be irradiated with the laser multiple times.

得られた光学フィルムは、例えば、曲面を有するディスプレイや折りたたみ可能なデバイス、丸めることが可能なディスプレイ等に用いる場合、丸められた状態(ロール状に巻かれた状態)や屈曲した状態等の変形した状態で保管されることがある。このとき、光学フィルムの端面は変形した状態となる。また、変形した状態の光学フィルムは、保管時には高温高湿環境下に置かれることがある。このように光学フィルムを変形させた状態で高温高湿環境下に保管した場合、従来の光学フィルムでは端部にクラックが発生しやすい問題があったが、本実施形態の光学フィルムによれば、端面においてF/CがF/Cよりも高い、及び/又は、F/OがF/Oよりも高いことで、端部にクラックが発生することを抑制することができる。 When the obtained optical film is used for, for example, a display having a curved surface, a foldable device, a rollable display, or the like, the obtained optical film is deformed in a rolled state (rolled state) or in a bent state. It may be stored in a closed state. At this time, the end face of the optical film is in a deformed state. In addition, the deformed optical film may be placed in a high temperature and high humidity environment during storage. When the optical film is stored in a high-temperature and high-humidity environment in such a deformed state, there is a problem that cracks are likely to occur at the edges of the conventional optical film, but according to the optical film of the present embodiment, there is a problem. Suppressing cracks at the ends by having FE / C E higher than FC / C C and / or FE / OE higher than FC / OC at the end face. Can be done.

(用途)
このような光学フィルムは、フレキシブルデバイスの前面板として好適に使用することができる。本実施形態に係るフレキシブルデバイスは、フレキシブル機能層と、フレキシブル機能層に重ねられて前面板として機能する上記の光学フィルムとを有する。すなわち、フレキシブルデバイスの前面板は、フレキシブル機能層の上の視認側に配置される。この前面板は、フレキシブル機能層を保護する機能を有する。
(Use)
Such an optical film can be suitably used as a front plate of a flexible device. The flexible device according to the present embodiment has a flexible functional layer and the above-mentioned optical film which is superposed on the flexible functional layer and functions as a front plate. That is, the front plate of the flexible device is arranged on the visible side above the flexible functional layer. This front plate has a function of protecting the flexible functional layer.

フレキシブルデバイスの例としては、画像表示装置(フレキシブルディスプレイ、電子ペーパーなど)、太陽電池などが挙げられる。例えば、ディスプレイ機能層、太陽電池機能層がフレキシブル機能層となる。 Examples of flexible devices include image display devices (flexible displays, electronic paper, etc.), solar cells, and the like. For example, the display functional layer and the solar cell functional layer are flexible functional layers.

フレキシブルディスプレイの1例を図2に示す。このフレキシブルディスプレイ100は、表面側(視認側)から順に、前面板110/偏光板保護フィルム120B/偏光子120A/偏光板保護フィルム120B/タッチセンサーフィルム130/有機EL素子層140/TFT基板150という構成を有する。フレキシブルディスプレイ100における前面板110以外の層がフレキシブル機能層190である。偏光板保護フィルム120B/偏光子120A/偏光板保護フィルム120Bは偏光板120を構成する。各層の表面及び各層間に、ハードコート層、粘着層、接着層、位相差層などを含んでもよい。前面板110として、上記の光学フィルム10を使用できる。かかるフレキシブルディスプレイは、タブレットPC、スマートフォン、携帯ゲーム機などの画像表示部として用いることができる。 An example of a flexible display is shown in FIG. The flexible display 100 is referred to as a front plate 110 / polarizing plate protective film 120B / polarizing element 120A / polarizing plate protective film 120B / touch sensor film 130 / organic EL element layer 140 / TFT substrate 150 in order from the front surface side (visual recognition side). Has a configuration. The layer other than the front plate 110 in the flexible display 100 is the flexible functional layer 190. The polarizing plate protective film 120B / polarizing element 120A / polarizing plate protective film 120B constitutes the polarizing plate 120. A hard coat layer, an adhesive layer, an adhesive layer, a retardation layer, and the like may be included on the surface of each layer and between each layer. The above optical film 10 can be used as the front plate 110. Such a flexible display can be used as an image display unit of a tablet PC, a smartphone, a portable game machine, or the like.

本実施形態にかかるフレキシブルデバイスによれば、前面板110として上記の光学フィルム10を用いている。光学フィルム10は端面からのクラックの発生が抑制されているため、信頼性の向上が可能となる。 According to the flexible device according to the present embodiment, the above-mentioned optical film 10 is used as the front plate 110. Since the optical film 10 suppresses the generation of cracks from the end face, it is possible to improve the reliability.

なお、この光学フィルムの表面に、紫外線吸収層、ハードコート層、粘着層、色相調整層、屈折率調整層などの種々の機能層を付加した積層体とすることもできる。 It should be noted that the surface of this optical film may be laminated with various functional layers such as an ultraviolet absorbing layer, a hard coat layer, an adhesive layer, a hue adjusting layer, and a refractive index adjusting layer.

以下、実施例及び比較例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on Examples and Comparative Examples, but the present invention is not limited to the following Examples.

(実施例1)
ポリイミド系高分子である三菱ガス化学社製「ネオプリムC6A20」(γ-ブチロラクトン溶媒、22質量%)、γ-ブチロラクトンに固形分濃度30質量%のシリカ粒子を分散した溶液、アミノ基を有するアルコキシシランのジメチルアセトアミド溶液、及び、水を混合し、30分間攪拌した。ここで、シリカとポリイミドの質量比を30:70、アミノ基を有するアルコキシシランの量をシリカ及びポリイミドの合計100質量部に対して1.67質量部、水をシリカ及びポリイミドの合計100質量部に対して10質量部とした。
(Example 1)
"Neoprim C6A20" (γ-butyrolactone solvent, 22% by mass) manufactured by Mitsubishi Gas Chemicals, a polyimide-based polymer, a solution in which silica particles having a solid content concentration of 30% by mass are dispersed in γ-butyrolactone, an alkoxysilane having an amino group. The dimethylacetamide solution and water were mixed and stirred for 30 minutes. Here, the mass ratio of silica to polyimide is 30:70, the amount of alkoxysilane having an amino group is 1.67 parts by mass with respect to the total of 100 parts by mass of silica and polyimide, and the total mass of water is 100 parts by mass of silica and polyimide. It was set to 10 parts by mass.

得られた混合溶液を、ガラス基板に塗布し、50℃で30分、140℃で10分加熱して溶媒を乾燥した。その後、フィルムをガラス基板から剥離し、金属枠を取り付けて210℃で1時間加熱することで厚み50μmの透明ポリイミド系フィルム原反を得た。フィルム原反の屈折率は1.57であった。 The obtained mixed solution was applied to a glass substrate and heated at 50 ° C. for 30 minutes and 140 ° C. for 10 minutes to dry the solvent. Then, the film was peeled off from the glass substrate, a metal frame was attached, and the film was heated at 210 ° C. for 1 hour to obtain a transparent polyimide film raw fabric having a thickness of 50 μm. The refractive index of the original film was 1.57.

COレーザー照射を以下の条件にて実施することにより、フィルムの切断と端部の改質を行った。
装置:キーエンス社製ML-Z9510T
波長:9.3μm
出力:80%
加工速度:150mm/秒
加工サイズ:5cm×5cm
By performing CO 2 laser irradiation under the following conditions, the film was cut and the edges were modified.
Equipment: ML-Z9510T manufactured by KEYENCE
Wavelength: 9.3 μm
Output: 80%
Processing speed: 150 mm / sec Processing size: 5 cm x 5 cm

(比較例1)
実施例1と同様の方法でポリイミド系高分子フィルム原反を得た。得られたフィルム原反からシェアー刃で矩形(5cm×5cm)の領域を切り出して光学フィルムを得た。
(Comparative Example 1)
A polyimide polymer film raw fabric was obtained in the same manner as in Example 1. An optical film was obtained by cutting out a rectangular (5 cm × 5 cm) region from the obtained film raw fabric with a shear blade.

<XPS測定>
実施例及び比較例で得られた光学フィルムの端部について、以下のステップ1及び2でX線光電子分光法(XPS)測定を行った。XPS測定条件は以下の通りである。
装置:Quantera SXM(ULVAC PHI社製)
X線:AlKα線(1486.6eV)
X線スポット径:50μm
中和条件:中和電子(1eV)、低速Arイオン(10eV)
<XPS measurement>
X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) measurements were performed on the edges of the optical films obtained in Examples and Comparative Examples in steps 1 and 2 below. The XPS measurement conditions are as follows.
Equipment: Quantera SXM (manufactured by ULVAC-PHI)
X-ray: AlKα ray (1486.6 eV)
X-ray spot diameter: 50 μm
Neutralization conditions: Neutralizing electron (1eV), slow Ar ion (10eV)

(ステップ1)
光学フィルムを金属ブロックに貼り付けて、フィルム端面が上を向いた状態に固定し、上方(垂直方向)からフィルム端面にX線を照射し、45°方向から光電子を検出してフィルム端面を評価した。得られたXPSスペクトルのC1s及びF1sピークの面積からF/Cを算出した。フィルムの一辺の端面について等間隔に離れた3点を測定してF/Cを算出し、それらの平均値を当該端面のF/Cとした。また、同様にして、F/Oを求めた。
(Step 1)
The optical film is attached to a metal block, fixed with the film end face facing up, the film end face is irradiated with X-rays from above (vertical direction), and photoelectrons are detected from the 45 ° direction to evaluate the film end face. did. F / C was calculated from the areas of C1s and F1s peaks in the obtained XPS spectrum. The F / C was calculated by measuring three points at equal intervals on the end faces of one side of the film, and the average value thereof was taken as the F / C of the end faces. Further, the F / O was obtained in the same manner.

(ステップ2)
次に、フィルム端面から内側に1mm離れた箇所を、カミソリ(PERSONNA社製、Single Edge、ステンレススチール、3-Facet .009”/.23mm)で押し切って切断した。カミソリでの切断面について、ステップ1と同じ条件でXPS測定し、フィルム断面(フィルム内部)のF/Cとした。また、同様にして、F/Oを求めた。
(Step 2)
Next, a portion 1 mm inward from the end face of the film was cut by pushing it off with a razor (Single Edge, stainless steel, 3-Facet .009 "/. 23 mm manufactured by PERSONNA". The cut surface with the razor was stepped. XPS measurement was performed under the same conditions as in No. 1, and the F / C of the film cross section (inside the film) was used. In the same manner, the F / O was determined.

上記XPS測定は、まず、実施例及び比較例で得られた光学フィルムの対向する二辺の端部(それぞれ第一端部及び第二端部という)について行った。結果を表1に示す。なお、実施例及び比較例で得られた光学フィルムについては、4辺ともに第一端部及び第二端部と同等のXPS測定結果であった。 The XPS measurement was first performed on the two opposite end portions (referred to as the first end portion and the second end portion, respectively) of the optical films obtained in Examples and Comparative Examples. The results are shown in Table 1. Regarding the optical films obtained in Examples and Comparative Examples, the XPS measurement results were equivalent to those of the first end portion and the second end portion on all four sides.

<耐クラック性の評価>
実施例及び比較例で得られた5cm×5cmの光学フィルムを、5mm径のSUS棒に巻きつけ、85℃、85%RH環境下で15時間保管した。巻き付けは、第一端部、第二端部の二辺がSUS棒に垂直に巻き取られる方向に行った。保管後の光学フィルムの第一端部及び第二端部を観察し、発生したクラックを光学顕微鏡にて確認した。第一端部及び第二端部の幅5cmあたりの、100μmを超える長さのクラック数を数え、両端部のクラック数の平均値を求めた。結果を表1に示す。
<Evaluation of crack resistance>
The 5 cm × 5 cm optical films obtained in Examples and Comparative Examples were wrapped around a 5 mm diameter SUS rod and stored at 85 ° C. in an 85% RH environment for 15 hours. The winding was performed in a direction in which the two sides of the first end and the second end were wound perpendicularly to the SUS rod. The first end and the second end of the optical film after storage were observed, and the generated cracks were confirmed with an optical microscope. The number of cracks having a length exceeding 100 μm per width of 5 cm at the first end and the second end was counted, and the average value of the cracks at both ends was obtained. The results are shown in Table 1.

Figure 0007021887000007
Figure 0007021887000007

表1に示した結果から、実施例1のフィルム端面は酸素原子が増加していて酸化されていることがわかる。また、表1に示した結果から明らかなように、フィルム内部よりも端面の方がF/Cの値が大きい実施例1の光学フィルムによれば、変形させた状態で高温高湿環境下に保管しても端部にクラックが発生しにくいことが確認された。また、フィルム内部よりも端面の方がF/Oの値が大きい実施例1の光学フィルムによれば、変形させた状態で高温高湿環境下に保管しても端部にクラックが発生しにくいことが確認された。 From the results shown in Table 1, it can be seen that the end face of the film of Example 1 is oxidized due to an increase in oxygen atoms. Further, as is clear from the results shown in Table 1, according to the optical film of Example 1 in which the end face has a larger F / C value than the inside of the film, the film is in a deformed state under a high temperature and high humidity environment. It was confirmed that cracks are unlikely to occur at the edges even when stored. Further, according to the optical film of Example 1, in which the end face has a larger F / O value than the inside of the film, cracks are less likely to occur at the end even if the film is stored in a deformed state in a high temperature and high humidity environment. It was confirmed that.

10…光学フィルム、100…フレキシブルディスプレイ。 10 ... Optical film, 100 ... Flexible display.

Claims (4)

分子内にフッ素原子を含むポリイミド系高分子を含有する、フレキシブルデバイスの前面板用光学フィルムの製造方法であって、
CO レーザー照射により、前記フレキシブルデバイスの前面板用光学フィルムの端面においてX線光電子分光法で測定されるフッ素原子の炭素原子に対する原子比(F/C)を、前記フレキシブルデバイスの前面板用光学フィルムの前記端面から1mm内側を切断した断面においてX線光電子分光法で測定されるフッ素原子の炭素原子に対する原子比(F/C)よりも大きくする工程を有する、フレキシブルデバイスの前面板用光学フィルムの製造方法。
A method for manufacturing an optical film for a front plate of a flexible device, which contains a polyimide polymer containing a fluorine atom in the molecule.
By CO 2 laser irradiation , the atomic ratio (F / C) of the fluorine atom to the carbon atom measured by X-ray photoelectron spectroscopy on the end face of the optical film for the front plate of the flexible device is determined for the front plate of the flexible device. Optics for the front plate of a flexible device, comprising a step of increasing the atomic ratio (F / C) of a fluorine atom to a carbon atom measured by X-ray photoelectron spectroscopy in a cross section cut 1 mm inside from the end face of the optical film. How to make a film.
分子内にフッ素原子を含むポリイミド系高分子を含有する、フレキシブルデバイスの前面板用光学フィルムの製造方法であって、
前記フレキシブルデバイスの前面板用光学フィルムの端面を、10μm以下の波長のCO レーザーによるレーザー照射によりフィルム原反を切断することで形成、前記フレキシブルデバイスの前面板用光学フィルムの前記端面においてX線光電子分光法で測定されるフッ素原子の炭素原子に対する原子比(F/C)を、前記フレキシブルデバイスの前面板用光学フィルムの前記端面から1mm内側を切断した断面においてX線光電子分光法で測定されるフッ素原子の炭素原子に対する原子比(F/C)よりも大きくする工程を有する、フレキシブルデバイスの前面板用光学フィルムの製造方法。
A method for manufacturing an optical film for a front plate of a flexible device, which contains a polyimide polymer containing a fluorine atom in the molecule.
The end face of the optical film for the front plate of the flexible device is formed by cutting the original fabric of the film by laser irradiation with a CO 2 laser having a wavelength of 10 μm or less , and X is formed on the end face of the optical film for the front plate of the flexible device. The atomic ratio (F / C) of a fluorine atom to a carbon atom measured by photoelectron spectroscopy is measured by X-ray photoelectron spectroscopy in a cross section cut 1 mm inside from the end face of the optical film for the front plate of the flexible device. A method for manufacturing an optical film for a front plate of a flexible device, which comprises a step of increasing the atomic ratio (F / C) of the fluorine atom to the carbon atom.
分子内にフッ素原子を含むポリイミド系高分子を含有する、フレキシブルデバイスの前面板用光学フィルムの製造方法であって、
CO レーザー照射により、前記フレキシブルデバイスの前面板用光学フィルムの端面においてX線光電子分光法で測定されるフッ素原子の酸素原子に対する原子比(F/O)を、前記フレキシブルデバイスの前面板用光学フィルムの前記端面から1mm内側を切断した断面においてX線光電子分光法で測定されるフッ素原子の酸素原子に対する原子比(F/O)よりも大きくする工程を有する、フレキシブルデバイスの前面板用光学フィルムの製造方法。
A method for manufacturing an optical film for a front plate of a flexible device, which contains a polyimide polymer containing a fluorine atom in the molecule.
By CO 2 laser irradiation , the atomic ratio (F / O) of the fluorine atom to the oxygen atom measured by X-ray photoelectron spectroscopy on the end face of the optical film for the front plate of the flexible device is determined for the front plate of the flexible device. Optics for the front plate of a flexible device, comprising a step of increasing the atomic ratio (F / O) of a fluorine atom to an oxygen atom measured by X-ray photoelectron spectroscopy in a cross section cut 1 mm inside from the end face of the optical film. How to make a film.
分子内にフッ素原子を含むポリイミド系高分子を含有する、フレキシブルデバイスの前面板用光学フィルムの製造方法であって、
前記フレキシブルデバイスの前面板用光学フィルムの端面を、10μm以下の波長のCO レーザーによるレーザー照射によりフィルム原反を切断することで形成、前記フレキシブルデバイスの前面板用光学フィルムの前記端面においてX線光電子分光法で測定されるフッ素原子の酸素原子に対する原子比(F/O)を、前記フレキシブルデバイスの前面板用光学フィルムの前記端面から1mm内側を切断した断面においてX線光電子分光法で測定されるフッ素原子の酸素原子に対する原子比(F/O)よりも大きくする工程を有する、フレキシブルデバイスの前面板用光学フィルムの製造方法。
A method for manufacturing an optical film for a front plate of a flexible device, which contains a polyimide polymer containing a fluorine atom in the molecule.
The end face of the optical film for the front plate of the flexible device is formed by cutting the original fabric of the film by laser irradiation with a CO 2 laser having a wavelength of 10 μm or less , and X is formed on the end face of the optical film for the front plate of the flexible device. The atomic ratio (F / O) of a fluorine atom to an oxygen atom measured by line-of-sight electron spectroscopy is measured by X-ray photoelectron spectroscopy in a cross section cut 1 mm inside from the end face of the optical film for the front plate of the flexible device. A method for manufacturing an optical film for a front plate of a flexible device, which comprises a step of increasing the atomic ratio (F / O) of the fluorine atom to the oxygen atom.
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