JP2014025066A - Composite composition of a polyimide copolymer and inorganic particles, method for manufacturing the same, molded artifact including the same, and display device having the molded artifact - Google Patents

Composite composition of a polyimide copolymer and inorganic particles, method for manufacturing the same, molded artifact including the same, and display device having the molded artifact Download PDF

Info

Publication number
JP2014025066A
JP2014025066A JP2013157038A JP2013157038A JP2014025066A JP 2014025066 A JP2014025066 A JP 2014025066A JP 2013157038 A JP2013157038 A JP 2013157038A JP 2013157038 A JP2013157038 A JP 2013157038A JP 2014025066 A JP2014025066 A JP 2014025066A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
general formula
repeating unit
substituted
unsubstituted
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2013157038A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP6093264B2 (en
Inventor
Chung-Kun Cho
重 根 趙
Mikhail Kovalev
コバレフ ミハイル
Fedosya Kalinina
カリーニナ ペドシア
Androsov Domitry
アンドロソフ ドミトリ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Samsung Electronics Co Ltd
Original Assignee
Samsung Electronics Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Samsung Electronics Co Ltd filed Critical Samsung Electronics Co Ltd
Publication of JP2014025066A publication Critical patent/JP2014025066A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6093264B2 publication Critical patent/JP6093264B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L79/00Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon only, not provided for in groups C08L61/00 - C08L77/00
    • C08L79/04Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain; Polyhydrazides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08L79/08Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/34Silicon-containing compounds
    • C08K3/36Silica
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08G73/1067Wholly aromatic polyimides, i.e. having both tetracarboxylic and diamino moieties aromatically bound
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G73/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
    • C08G73/06Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
    • C08G73/10Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • C08G73/14Polyamide-imides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J5/00Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/18Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
    • C08K3/20Oxides; Hydroxides
    • C08K3/22Oxides; Hydroxides of metals
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/54Silicon-containing compounds
    • C08K5/541Silicon-containing compounds containing oxygen
    • C08K5/5415Silicon-containing compounds containing oxygen containing at least one Si—O bond
    • C08K5/5419Silicon-containing compounds containing oxygen containing at least one Si—O bond containing at least one Si—C bond
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/56Organo-metallic compounds, i.e. organic compounds containing a metal-to-carbon bond
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/18Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
    • C08K3/20Oxides; Hydroxides
    • C08K3/22Oxides; Hydroxides of metals
    • C08K2003/2237Oxides; Hydroxides of metals of titanium
    • C08K2003/2241Titanium dioxide

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a composite composition of a polyimide copolymer and inorganic particles which has, apart from being excellent in terms of solvent solubility, workability, and optical characteristics and being capable of attenuating the thermal expansion coefficient, a high heat resistance and excellent mechanical strengths and which can be used favorably for manufacturing molded artifacts, above all for manufacturing films for display devices demanded to meet advanced heat resistance and transparency standards, a method for manufacturing the same, a molded artifact including the same, and a display device having the molded artifact.SOLUTION: Provided is a composite composition of a polyimide copolymer and inorganic particles including, as a copolymer comprising first repeating units or second repeating units including imide repeating units or amic acid repeating units forming imide repeating units as a result of imidation and third repeating units including amide repeating units, a copolymer in which at least one terminal thereof has been substituted with a substituted or un substituted siloxane or silanol group; and inorganic particles or precursors thereof.

Description

本発明は、ポリイミドコポリマーと無機粒子との複合体組成物、この製造方法、これを含む成形品及び前記成形品を備えるディスプレイ装置に関する。   The present invention relates to a composite composition of a polyimide copolymer and inorganic particles, a production method thereof, a molded article including the same, and a display device including the molded article.

無色透明材料は、光学レンズ、機能性光学フィルム、ディスク基板など種々の用途に応じて種々研究されているが、情報機器の急速な小型軽量化または表示素子の高精細化が進むに伴い、材料そのものに求められる機能及び性能も次第に高精細化するとともに、高度化しつつある。   Colorless and transparent materials have been studied in various ways depending on various applications such as optical lenses, functional optical films, and disk substrates. However, as information devices are rapidly becoming smaller and lighter and display elements are becoming more precise, The functions and performance required of the device itself are gradually becoming higher and more sophisticated.

したがって、現在、透明性、耐熱性、機械的強度及び柔軟性に優れた無色透明材料に関する研究が盛んになされている(例えば、特許文献1〜6参照)。   Therefore, studies on colorless and transparent materials excellent in transparency, heat resistance, mechanical strength, and flexibility are being actively conducted (see, for example, Patent Documents 1 to 6).

特開2005−187768号公報JP 2005-187768 A 韓国公開特許第2003−0027249号公報Korean Published Patent No. 2003-0027249 韓国公開特許第2005−0072182号公報Korean Published Patent No. 2005-0072182 特開平8−104749号公報JP-A-8-104749 特開2010−180292号公報JP 2010-180292 A 特開平3−207717号公報Japanese Patent Laid-Open No. 3-207717

本発明の目的は、透明性、耐熱性、機械的強度及び柔軟性に優れたポリイミドコポリマーと無機粒子との複合体組成物を提供することである。   An object of the present invention is to provide a composite composition of a polyimide copolymer and inorganic particles that are excellent in transparency, heat resistance, mechanical strength and flexibility.

本発明の他の目的は、透明性、耐熱性、機械的強度及び柔軟性に優れたポリ(アミド−イミド)コポリマーと無機粒子との複合体組成物を提供することである。   Another object of the present invention is to provide a composite composition of poly (amide-imide) copolymer and inorganic particles having excellent transparency, heat resistance, mechanical strength and flexibility.

本発明のさらに他の目的は、前記ポリイミドコポリマーと無機粒子との複合体組成物または前記ポリ(アミド−イミド)コポリマーと無機粒子との複合体組成物を含む成形品を提供することである。   Still another object of the present invention is to provide a molded article comprising a composite composition of the polyimide copolymer and inorganic particles or a composite composition of the poly (amide-imide) copolymer and inorganic particles.

本発明のさらに他の目的は、前記成形品を備えるディスプレイ装置を提供することである。   Still another object of the present invention is to provide a display device including the molded product.

本発明の一実施形態によれば、下記一般式3で表わされるイミド繰り返し単位、イミド化によって上記一般式3のイミド繰り返し単位を形成するアミド酸繰り返し単位、またはこれらの繰り返し単位の組み合わせを含む第1の繰り返し単位と、下記一般式4で表わされるイミド繰り返し単位、イミド化によって上記一般式4で表わされるイミド繰り返し単位を形成するアミド酸繰り返し単位、またはこれらの繰り返し単位の組み合わせを含む第2の繰り返し単位とのうちの一つ以上と、下記一般式1で表わされる繰り返し単位、下記一般式2で表わされる繰り返し単位、またはこれらの繰り返し単位の組み合わせを含む第3の繰り返し単位とを含むコポリマーであって、前記コポリマーの少なくとも一方の末端は、置換若しくは非置換のシロキサンまたはシラノール基によって置換されたコポリマーと、無機粒子またはその前駆体と、を含む、コポリマーと無機粒子との複合体組成物が提供される。アミド酸繰り返し単位は、ポリイミドの前駆体である“ポリアミド酸(ポリアミック酸)を構成する繰り返し単位”を意味する。   According to one embodiment of the present invention, an imide repeating unit represented by the following general formula 3, an amic acid repeating unit that forms the imide repeating unit of the above general formula 3 by imidization, or a combination of these repeating units. A second repeating unit comprising a repeating unit of 1 and an imide repeating unit represented by the following general formula 4, an amic acid repeating unit that forms an imide repeating unit represented by the above general formula 4 by imidization, or a combination of these repeating units A copolymer comprising one or more repeating units and a repeating unit represented by the following general formula 1, a repeating unit represented by the following general formula 2, or a third repeating unit including a combination of these repeating units. And at least one end of the copolymer has a substituted or unsubstituted silo. A copolymer which is substituted by an acid or a silanol group, comprising the inorganic particles or a precursor thereof, a composite composition of copolymer and the inorganic particles is provided. The amic acid repeating unit means “a repeating unit constituting polyamic acid” which is a precursor of polyimide.

上記一般式3または一般式4において、
10は、それぞれの繰り返し単位において同一または異なり、それぞれ独立して、置換若しくは非置換のC1〜C30の脂肪族有機基、置換若しくは非置換のC3〜C30脂環族有機基、置換若しくは非置換のC6〜C30の芳香族有機基、または置換若しくは非置換のC2〜C30のヘテロ環基であり、
11は、それぞれの繰り返し単位において同一または異なり、それぞれ独立して、置換若しくは非置換のC6〜C30の芳香族有機基を含み、前記芳香族有機基は、一つの芳香族環であるか、2以上の芳香族環が互いに接合されて縮合環を形成するか、または、2以上の芳香族環が単一結合、またはフルオレニレン基、−O−、−S−、−C(=O)−、−CH(OH)−、−S(=O)−、−Si(CH−、−(CH−(ここで、1≦p≦10)、−(CF−(ここで、1≦q≦10)、−C(CH−、−C(CF−または−C(=O)NH−の官能基によって連結されており、
12及びR13は、同一または異なり、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、エーテル基(−OR208、ここで、R208は、C1〜C10の脂肪族有機基である)、シリル基(−SiR209210211、ここで、R209、R210及びR211は、同一または異なり、それぞれ独立して、水素原子、C1〜C10の脂肪族有機基である)、置換若しくは非置換のC1〜C10の脂肪族有機基、またはC6〜C20の芳香族有機基であり、
n7及びn8は、それぞれ独立して、0〜3の整数である。
In the above general formula 3 or general formula 4,
R 10 is the same or different in each repeating unit, and each independently represents a substituted or unsubstituted C1-C30 aliphatic organic group, a substituted or unsubstituted C3-C30 alicyclic organic group, a substituted or unsubstituted A C6-C30 aromatic organic group, or a substituted or unsubstituted C2-C30 heterocyclic group,
R 11 is the same or different in each repeating unit, and each independently includes a substituted or unsubstituted C6-C30 aromatic organic group, and the aromatic organic group is one aromatic ring, Two or more aromatic rings are bonded to each other to form a condensed ring, or two or more aromatic rings are a single bond, or a fluorenylene group, -O-, -S-, -C (= O)- , —CH (OH) —, —S (═O) 2 —, —Si (CH 3 ) 2 —, — (CH 2 ) p — (where 1 ≦ p ≦ 10), — (CF 2 ) q -(Where 1 ≦ q ≦ 10), —C (CH 3 ) 2 —, —C (CF 3 ) 2 — or —C (═O) NH—
R 12 and R 13 are the same or different and are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxy group, an ether group (—OR 208 , where R 208 is a C1-C10 aliphatic organic group). , A silyl group (—SiR 209 R 210 R 211 , wherein R 209 , R 210 and R 211 are the same or different and are each independently a hydrogen atom or a C1-C10 aliphatic organic group), substitution Or an unsubstituted C1-C10 aliphatic organic group, or a C6-C20 aromatic organic group,
n7 and n8 are each independently an integer of 0 to 3.

上記一般式1において、
は、それぞれの繰り返し単位において同一または異なり、それぞれ独立して、置換若しくは非置換のC3〜C30脂環族有機基、置換若しくは非置換のC6〜C30の芳香族有機基、または置換若しくは非置換のC2〜C30のヘテロ環基を含み、
は、それぞれの繰り返し単位において同一または異なり、それぞれ独立して、置換若しくは非置換のC6〜C30の芳香族有機基であり、
及びRは、同一または異なり、それぞれ独立して、水素元素、ハロゲン元素、ヒドロキシ基、エーテル基(−OR200、ここで、R200は、C1〜C10の脂肪族有機基である)、シリル基(−SiR201202203、ここで、R201、R202及びR203は、同一または異なり、それぞれ独立して、水素原子、C1〜C10の脂肪族有機基である)、置換若しくは非置換のC1〜C10の脂肪族有機基、またはC6〜C20の芳香族有機基であり、
n1及びn2は、それぞれ独立して、0〜4の整数である。
In the above general formula 1,
R 1 is the same or different in each repeating unit, and each independently represents a substituted or unsubstituted C3-C30 alicyclic organic group, a substituted or unsubstituted C6-C30 aromatic organic group, or a substituted or non-substituted group. Containing a substituted C2-C30 heterocyclic group,
R 2 is the same or different in each repeating unit, and each independently represents a substituted or unsubstituted C6-C30 aromatic organic group;
R 3 and R 4 are the same or different and are each independently a hydrogen element, a halogen element, a hydroxy group, or an ether group (—OR 200 , where R 200 is a C1-C10 aliphatic organic group). , A silyl group (—SiR 201 R 202 R 203 , wherein R 201 , R 202 and R 203 are the same or different and are each independently a hydrogen atom or a C1-C10 aliphatic organic group), substitution Or an unsubstituted C1-C10 aliphatic organic group, or a C6-C20 aromatic organic group,
n1 and n2 are each independently an integer of 0 to 4.

上記一般式2において、
は、それぞれの繰り返し単位において同一または異なり、それぞれ独立して、置換若しくは非置換のC6〜C30の芳香族有機基であり、
及びRは、同一または異なり、それぞれ独立して、電子吸引基であり、
及びRは、同一または異なり、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、エーテル基(−OR204、ここで、R204はC1〜C10の脂肪族有機基である)、シリル基(−SiR205206207、ここで、R205、R206及びR207は、同一または異なり、それぞれ独立して、水素原子、C1〜C10の脂肪族有機基である)、置換若しくは非置換のC1〜C10の脂肪族有機基、またはC6〜C20の芳香族有機基であり、
n3は、1〜4の整数であり、n5は、0〜3の整数であり、n3+n5は、4以下の整数であり、
n4は、1〜4の整数であり、n6は、0〜3の整数であり、n4+n6は、4以下の整数である。
In the above general formula 2,
R 5 is the same or different in each repeating unit, each independently a substituted or unsubstituted C6-C30 aromatic organic group,
R 6 and R 7 are the same or different and are each independently an electron withdrawing group;
R 8 and R 9 are the same or different and are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxy group, an ether group (—OR 204 , where R 204 is a C1-C10 aliphatic organic group), A silyl group (—SiR 205 R 206 R 207 , wherein R 205 , R 206 and R 207 are the same or different and are each independently a hydrogen atom or a C1-C10 aliphatic organic group), substituted or An unsubstituted C1-C10 aliphatic organic group, or a C6-C20 aromatic organic group,
n3 is an integer of 1 to 4, n5 is an integer of 0 to 3, n3 + n5 is an integer of 4 or less,
n4 is an integer of 1 to 4, n6 is an integer of 0 to 3, and n4 + n6 is an integer of 4 or less.

上記一般式3で表わされる繰り返し単位は、下記一般式5で表わされるイミド繰り返し単位、またはイミド化によって上記一般式5で表わされるイミド繰り返し単位を形成しうるアミド酸繰り返し単位を含んでいてもよい。   The repeating unit represented by the above general formula 3 may include an imide repeating unit represented by the following general formula 5 or an amic acid repeating unit capable of forming an imide repeating unit represented by the above general formula 5 by imidization. .

上記一般式5において、
11、R12、R13、n7及びn8は、前記上記一般式3における説明と同様である。
In the above general formula 5,
R 11 , R 12 , R 13 , n7 and n8 are the same as described in the general formula 3.

具体的に、上記一般式1において、前記Rは、下記一般式で表わされる群から選ばれうる。 Specifically, in the above general formula 1, R 1 may be selected from the group represented by the following general formula.

具体的に、上記一般式2において、前記R及びRは、同一または異なり、それぞれ独立して、−CF、−CCl、−CBr、−CI、−F、−Cl、−Br、−I、−NO、−CN、−COCHまたは−COであってもよい。 Specifically, in the general formula 2, wherein R 6 and R 7 are the same or different and are independently, -CF 3, -CCl 3, -CBr 3, -CI 3, -F, -Cl, - br, -I, -NO 2, -CN , or may be a -COCH 3 or -CO 2 C 2 H 5.

具体的に、上記一般式1及び一般式2において、前記R及びRは、同一または異なり、それぞれ独立して、下記一般式で表わされる群から選ばれうる。 Specifically, in the general formula 1 and the general formula 2, the R 2 and R 5 are the same or different and can be independently selected from the group represented by the following general formula.

上記一般式において、
18〜R29は同一または異なり、それぞれ独立して、水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、置換若しくは非置換のC1〜C10の脂肪族有機基、または置換若しくは非置換のC6〜C20の芳香族有機基であり、
n11及びn14〜n20は、それぞれ独立して、0〜4の整数であり、
n12及びn13は、それぞれ独立して、0〜3の整数である。
In the above general formula:
R 18 to R 29 are the same or different and are each independently a hydrogen atom, a deuterium atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted C1-C10 aliphatic organic group, or a substituted or unsubstituted C6-C20 aromatic. Group organic group,
n11 and n14 to n20 are each independently an integer of 0 to 4,
n12 and n13 are each independently an integer of 0 to 3.

さらに具体的に、前記R及びRは、同一または異なり、それぞれ独立して、下記一般式で表わされる群から選ばれうる。 More specifically, R 2 and R 5 may be the same or different and may be independently selected from the group represented by the following general formula.

一方、前記第3の繰り返し単位は、下記一般式6で表わされる繰り返し単位をさらに含んでいてもよい。   On the other hand, the third repeating unit may further include a repeating unit represented by the following general formula 6.

上記一般式6において、
14は、それぞれの繰り返し単位において同一または異なり、それぞれ独立して、−O−、−S−、−C(=O)−、−CH(OH)−、−S(=O)−、−Si(CH−、−(CH−(ここで、1≦p≦10)、−(CF−(ここで、1≦q≦10)、−C(CH−、−C(CF−、−C(=O)NH−、または置換若しくは非置換のC6〜C30の芳香族有機基を含み、前記芳香族有機基は、一つの芳香族環であるか、2以上の芳香族環が互いに接合されて縮合環を形成するか、または、2以上の芳香族環が単一結合、またはフルオレニレン基、−O−、−S−、−C(=O)−、−CH(OH)−、−S(=O)−、−Si(CH−、−(CH−(ここで、1≦p≦10)、−(CF−(ここで、1≦q≦10)、−C(CH−、−C(CF−または−C(=O)NH−の官能基によって連結されており、
15は、それぞれの繰り返し単位において同一または異なり、それぞれ独立して、置換若しくは非置換のC6〜C30の芳香族有機基であり、
16及びR17は、同一または異なり、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、エーテル基(−OR212、ここで、R212は、C1〜C10の脂肪族有機基である)、シリル基(−SiR213214215、ここで、R213、R214及びR215は、同一または異なり、それぞれ独立して、水素原子、C1〜C10の脂肪族有機基である)、置換若しくは非置換のC1〜C10の脂肪族有機基、またはC6〜C20の芳香族有機基であり、
n9及びn10は、それぞれ独立して、0〜4の整数である。
In the above general formula 6,
R 14 is the same or different in each repeating unit, and each independently represents —O—, —S—, —C (═O) —, —CH (OH) —, —S (═O) 2 —, —Si (CH 3 ) 2 —, — (CH 2 ) p — (where 1 ≦ p ≦ 10), — (CF 2 ) q — (where 1 ≦ q ≦ 10), —C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2- , -C (= O) NH-, or a substituted or unsubstituted C6-C30 aromatic organic group, wherein the aromatic organic group is one aromatic Or two or more aromatic rings are bonded to each other to form a condensed ring, or two or more aromatic rings are a single bond or a fluorenylene group, -O-, -S-, -C (= O) -, - CH (OH) -, - S (= O) 2 -, - Si (CH 3) 2 -, - (CH 2) p - ( wherein, ≦ p ≦ 10), - ( CF 2) q - ( wherein, 1 ≦ q ≦ 10), - C (CH 3) 2 -, - C (CF 3) 2 - or -C (= O) NH- Connected by a functional group of
R 15 is the same or different in each repeating unit, each independently a substituted or unsubstituted C6-C30 aromatic organic group;
R 16 and R 17 are the same or different and are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxy group, or an ether group (—OR 212 , where R 212 is a C1-C10 aliphatic organic group). A silyl group (—SiR 213 R 214 R 215 , wherein R 213 , R 214 and R 215 are the same or different and are each independently a hydrogen atom or a C1-C10 aliphatic organic group), substitution Or an unsubstituted C1-C10 aliphatic organic group, or a C6-C20 aromatic organic group,
n9 and n10 are each independently an integer of 0 to 4.

前記コポリマーは、同一または互いに異なる上記一般式3で表わされる繰り返し単位、イミド化によって上記一般式3の繰り返し単位を形成するアミド酸繰り返し単位、またはこれらの繰り返し単位の組み合わせを含む第1の繰り返し単位を1個〜1,000個含んでいてもよい。   The copolymer is a first repeating unit including a repeating unit represented by the above general formula 3 that is the same or different from each other, an amic acid repeating unit that forms a repeating unit of the above general formula 3 by imidization, or a combination of these repeating units. 1 to 1,000 may be included.

前記コポリマーは、同一または互いに異なる上記一般式4で表わされる繰り返し単位、イミド化によって上記一般式4の繰り返し単位を形成するアミド酸繰り返し単位、またはこれらの繰り返し単位の組み合わせを含む第2の繰り返し単位を1個〜1,000個含んでいてもよい。   The copolymer may be the same or different from each other, the second repeating unit including the repeating unit represented by the above general formula 4, the amic acid repeating unit that forms the repeating unit of the above general formula 4 by imidization, or a combination of these repeating units. 1 to 1,000 may be included.

前記コポリマーは、それぞれ約500g/mol〜約200,000g/molの重量平均分子量を有していてもよい。   Each of the copolymers may have a weight average molecular weight of about 500 g / mol to about 200,000 g / mol.

前記コポリマーにおいて、上記一般式3で表わされる繰り返し単位、イミド化によって上記一般式3の繰り返し単位を形成するアミド酸繰り返し単位、またはこれらの繰り返し単位の組み合わせを含む第1の繰り返し単位の全モル数と、上記一般式4で表わされる繰り返し単位、イミド化によって上記一般式4の繰り返し単位を形成するアミド酸繰り返し単位、またはこれらの繰り返し単位の組み合わせを含む第2の繰り返し単位の全モル数は、約99:1〜約1:99のモル比を有していてもよい。   In the copolymer, the total number of moles of the first repeating unit including the repeating unit represented by the general formula 3, the amic acid repeating unit that forms the repeating unit of the general formula 3 by imidization, or a combination of these repeating units. And the total number of moles of the repeating unit represented by the general formula 4, the amic acid repeating unit that forms the repeating unit of the general formula 4 by imidization, or the second repeating unit including a combination of these repeating units, It may have a molar ratio of about 99: 1 to about 1:99.

前記コポリマーは、同一または互いに異なる上記一般式1で表わされる繰り返し単位、上記一般式2で表わされる繰り返し単位、またはこれらの繰り返し単位の組み合わせを含む第3の繰り返し単位を1個〜1,000個含んでいてもよい。   The copolymer has 1 to 1,000 third repeating units including the same or different repeating units represented by the above general formula 1, the repeating units represented by the above general formula 2, or a combination of these repeating units. May be included.

前記コポリマーは、上記一般式3または一般式4で表わされる繰り返し単位、イミド化によって上記一般式3または一般式4の繰り返し単位を形成するアミド酸繰り返し単位、またはこれらの繰り返し単位の組み合わせを含む第1の繰り返し単位と第2の繰り返し単位の全モル数と、上記一般式1で表わされる繰り返し単位、上記一般式2で表わされる繰り返し単位、またはこれらの繰り返し単位の組み合わせを含む第3の繰り返し単位の全モル数は、約95:5〜約5:95のモル比を有していてもよい。   The copolymer includes a repeating unit represented by the above general formula 3 or 4 or an amic acid repeating unit that forms a repeating unit of the above general formula 3 or 4 by imidization, or a combination of these repeating units. 3rd repeating unit containing the total number of moles of 1 repeating unit and 2nd repeating unit, the repeating unit represented by the said General formula 1, the repeating unit represented by the said General formula 2, or a combination of these repeating units The total number of moles of may have a molar ratio of about 95: 5 to about 5:95.

上記一般式1で表わされる繰り返し単位は、下記一般式7〜9で表わされる繰り返し単位を含んでいてもよく、上記一般式2で表わされる繰り返し単位は、下記一般式10〜12で表わされる繰り返し単位を含んでいてもよく、上記一般式3で表わされる繰り返し単位は、下記一般式13で表わされる繰り返し単位を含んでいてもよく、上記一般式4で表わされる繰り返し単位は、下記一般式14で表わされる繰り返し単位を含んでいてもよく、上記一般式6で表わされる繰り返し単位は、下記一般式15〜17で表わされる繰り返し単位を含んでいてもよい。   The repeating unit represented by the general formula 1 may include a repeating unit represented by the following general formulas 7 to 9, and the repeating unit represented by the general formula 2 is a repeating unit represented by the following general formulas 10 to 12. The repeating unit represented by the general formula 3 may include a repeating unit represented by the following general formula 13, and the repeating unit represented by the general formula 4 may be represented by the following general formula 14: The repeating unit represented by the general formula 6 may include a repeating unit represented by the following general formulas 15 to 17.

前記コポリマーは、上記一般式10で表わされる繰り返し単位と、上記一般式13で表わされる繰り返し単位と、上記一般式14で表わされる繰り返し単位と、を含んでいてもよい。   The copolymer may contain a repeating unit represented by the general formula 10, a repeating unit represented by the general formula 13 and a repeating unit represented by the general formula 14.

前記実施形態に係るコポリマーと無機粒子との複合体組成物は、コポリマーの少なくとも一方の末端に、置換または非置換のシロキサンまたはシラノール基が置換される。   In the composite composition of the copolymer and inorganic particles according to the embodiment, at least one terminal of the copolymer is substituted with a substituted or unsubstituted siloxane or silanol group.

前記コポリマーの少なくとも一方の末端に置換される、置換または非置換のシロキサンまたはシラノール基は、下記一般式20で表わされるシロキサンまたはシラノール基である:   The substituted or unsubstituted siloxane or silanol group substituted at at least one terminal of the copolymer is a siloxane or silanol group represented by the following general formula 20:

上記一般式20において、
Raは、置換若しくは非置換のアルキル基(アルキレン基)、置換若しくは非置換のアルケニル基(アルケニレン基)、置換若しくは非置換のアルキニル基(アルキニレン基)、置換若しくは非置換のシクロアルキル基(シクロアルキレン基)、置換若しくは非置換のシクロアルケニル基(シクロアルケニレン基)、置換若しくは非置換のシクロアルキニル基(シクロアルキニレン基)、置換若しくは非置換のアリール基(アリーレン基)、または置換若しくは非置換のアラルキル基(アラルキレン基)であってもよく、
前記Rb〜Rdは、同一または異なり、それぞれ独立して、水素原子、C1〜C20のアルキル基、C2〜C20のアルケニル基、C2〜C20のアルキニル基、C3〜C20のシクロアルキル基、またはC6〜C18のアリール基であってもよい。
In the general formula 20,
Ra is a substituted or unsubstituted alkyl group (alkylene group), a substituted or unsubstituted alkenyl group (alkenylene group), a substituted or unsubstituted alkynyl group (alkynylene group), a substituted or unsubstituted cycloalkyl group (cycloalkylene). Group), substituted or unsubstituted cycloalkenyl group (cycloalkenylene group), substituted or unsubstituted cycloalkynyl group (cycloalkynylene group), substituted or unsubstituted aryl group (arylene group), or substituted or unsubstituted It may be an aralkyl group (aralkylene group),
Rb to Rd are the same or different and are each independently a hydrogen atom, a C1-C20 alkyl group, a C2-C20 alkenyl group, a C2-C20 alkynyl group, a C3-C20 cycloalkyl group, or a C6-C It may be a C18 aryl group.

具体的に、上記一般式20は、下記一般式で表わされる群から選ばれてもよい。   Specifically, the general formula 20 may be selected from the group represented by the following general formula.

上記一般式において、Re〜Rgは、同一または異なり、それぞれ独立して、C1〜C20のアルキル基、C2〜C20のアルケニル基、C2〜C20のアルキニル基、C3〜C20のシクロアルキル基、またはC6〜C18のアリール基であってもよい。   In the above general formula, Re to Rg are the same or different and are each independently a C1 to C20 alkyl group, a C2 to C20 alkenyl group, a C2 to C20 alkynyl group, a C3 to C20 cycloalkyl group, or a C6. It may be a C18 aryl group.

前記コポリマーと無機粒子との複合体組成物に含まれる無機粒子またはその前駆体は、Ti、Si、Al、Zr、Sn、B及びCeよりなる群から選ばれる1以上の元素の酸化物または水酸化物、あるいは、前記酸化物または水酸化物を形成しうる前駆体であってもよい。   The inorganic particles or precursors thereof contained in the composite composition of the copolymer and inorganic particles are oxides or water of one or more elements selected from the group consisting of Ti, Si, Al, Zr, Sn, B, and Ce. It may be an oxide or a precursor capable of forming the oxide or hydroxide.

具体的に、前記Ti、Si、Al、Zr、Sn、BまたはCe元素の酸化物または水酸化物を形成しうる前駆体化合物は、前記元素のアルコキシド、エステル、アセチルアセトナート、またはハライド(halide;ハロゲン化物)であってもよい。   Specifically, the precursor compound capable of forming an oxide or hydroxide of the Ti, Si, Al, Zr, Sn, B, or Ce element is an alkoxide, ester, acetylacetonate, or halide of the element. A halide).

具体的に、前記無機粒子は、シリカ(SiO)またはTiOであってもよい。 Specifically, the inorganic particles may be silica (SiO 2 ) or TiO 2 .

前記シリカの前駆体としては、有機シリカ前駆体または無機シリカ前駆体を含んでいてもよく、有機シリカ前駆体は、下記一般式で表わされる化合物を用いてもよい。   The silica precursor may contain an organic silica precursor or an inorganic silica precursor, and the organic silica precursor may be a compound represented by the following general formula.

上記一般式において、
Rh〜Rmは、同一または異なり、それぞれ独立して、C1〜C20のアルキル基、C2〜C20のアルケニル基、C2〜C20のアルキニル基、C3〜C20のシクロアルキル基、またはC6〜C18のアリール基であってもよい。
In the above general formula:
Rh to Rm are the same or different and are each independently a C1-C20 alkyl group, a C2-C20 alkenyl group, a C2-C20 alkynyl group, a C3-C20 cycloalkyl group, or a C6-C18 aryl group. It may be.

無機シリカ前駆体は、テトラエチルオルソシリケート(テトラエトキシシラン;テオス(TEOS))を含んでいてもよい。   The inorganic silica precursor may contain tetraethylorthosilicate (tetraethoxysilane; TEOS).

TiOの前駆体としては、オルトチタン酸テトライソプロピルを用いてもよい。 As the TiO 2 precursor, tetraisopropyl orthotitanate may be used.

前記無機粒子または無機粒子の前駆体は、前記コポリマーの重量に対して、約5重量%〜約95重量%の無機粒子を提供するのに十分な含量で含まれてもよい。具体的に、前記無機粒子または無機粒子の前駆体は、前記コポリマーの重量に対して、約10重量%〜約90重量%、より具体的には、前記コポリマーの重量に対して、約15重量%〜約80重量%の無機粒子を提供するのに十分な含量で含まれてもよい。   The inorganic particles or inorganic particle precursors may be included in a content sufficient to provide about 5 wt% to about 95 wt% inorganic particles based on the weight of the copolymer. Specifically, the inorganic particles or inorganic particle precursor is about 10 wt% to about 90 wt%, more specifically about 15 wt% based on the weight of the copolymer. % To about 80% by weight of inorganic particles may be included.

本発明の他の実施形態によれば、前記ポリイミドコポリマーと無機粒子との複合体組成物を含む成形品を提供する。   According to another embodiment of the present invention, a molded article including a composite composition of the polyimide copolymer and inorganic particles is provided.

具体的には、前記成形品は、フィルム、ファイバ、コート材、または接着剤であってもよい。   Specifically, the molded article may be a film, a fiber, a coating material, or an adhesive.

前記成形品は、360nm〜700nmの波長範囲における総光線透過率が約70%以上であってもよく、430nm波長の光に対する光線透過率が約55%以上であってもよい。   The molded article may have a total light transmittance of about 70% or more in a wavelength range of 360 nm to 700 nm, or a light transmittance of about 55% or more with respect to light having a wavelength of 430 nm.

前記成形品は、約50℃〜約400℃の温度範囲において約30ppm/℃以下の平均熱膨張係数(CTE:Coefficient of thermal expansion)を有していてもよい。   The molded article may have an average coefficient of thermal expansion (CTE) of about 30 ppm / ° C. or less in a temperature range of about 50 ° C. to about 400 ° C.

前記成形品は、約7%以下のヘイズを有していてもよい。   The molded article may have a haze of about 7% or less.

前記成形品は、約20%以下の黄色度(YI)を有していてもよい。   The molded article may have a yellowness (YI) of about 20% or less.

前記成形品は、約400℃以上のガラス転移温度(Tg)を有していてもよい。   The molded article may have a glass transition temperature (Tg) of about 400 ° C. or higher.

本発明のさらに他の実施形態によれば、前記成形品を備えるディスプレイ装置を提供する。   According to still another embodiment of the present invention, a display device including the molded product is provided.

その他の本発明の実施形態の具体的な事項は、以下の詳細な説明に含まれている。   Specific details of other embodiments of the present invention are included in the following detailed description.

本発明の一実施形態に係るコポリマーと無機粒子との複合体組成物は、溶媒への可溶性、加工性及び光学的な特性に優れており、熱膨張係数を下げることができる他、高い耐熱性及び機械的強度を有していることから、成形品の製造、特に、高い耐熱性と透明性が求められるディスプレイ装置用のフィルムの製造に好適に用いられる。   The composite composition of a copolymer and inorganic particles according to an embodiment of the present invention is excellent in solubility in a solvent, processability, and optical characteristics, and can have a low thermal expansion coefficient and high heat resistance. In addition, since it has mechanical strength, it is suitably used for the production of molded products, particularly for the production of films for display devices that require high heat resistance and transparency.

本発明の一実施形態に係る液晶表示装置の断面図である。It is sectional drawing of the liquid crystal display device which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態に係る有機発光ダイオードの断面図である。It is sectional drawing of the organic light emitting diode which concerns on one Embodiment of this invention. 本発明の一実施形態により、一方の末端にシラノール基が置換されたポリ(アミド−アミド酸)コポリマーを製造する反応式を概略的に示すものである。1 schematically illustrates a reaction scheme for preparing a poly (amide-amide acid) copolymer having a silanol group substituted at one end according to an embodiment of the present invention. 本発明の一実施形態により、一方の末端にシラノール基が置換されたポリ(アミド−アミド酸)コポリマーに無機粒子前駆体を混合してナノ複合体溶液を製造し、これをスピンコートした後、乾燥及びイミド化してナノ複合体フィルムを製造する過程を概略的に示すものである。According to an embodiment of the present invention, after preparing a nanocomposite solution by mixing an inorganic particle precursor with a poly (amide-amide acid) copolymer having a silanol group substituted at one end, and spin-coating it, 1 schematically shows a process of producing a nanocomposite film by drying and imidization. 合成例2に従い製造されたナノ複合体フィルムの、シリカの含量による波長別の透光度を測定して示すグラフである。It is a graph which measures and shows the light transmittance according to wavelength by the content of silica of the nanocomposite film manufactured according to the synthesis example 2. FIG. シリカの含量を40重量%、50重量%及び60重量%に調節しながら、波長による透光度を測定して示すグラフである。It is a graph which measures and shows the transmittance | permeability by a wavelength, adjusting the content of a silica to 40 weight%, 50 weight%, and 60 weight%. 合成例2に従い製造された各ナノ複合体フィルムのシリカの含量に対する430nmにおける透光度を示すグラフである。It is a graph which shows the light transmittance in 430 nm with respect to the content of the silica of each nanocomposite film manufactured according to the synthesis example 2. 合成例2に従い製造された各ナノ複合体フィルムの温度による寸法変化を測定して示すグラフである。It is a graph which measures and shows the dimensional change with temperature of each nanocomposite film manufactured according to the synthesis example 2. FIG.

以下、本発明の実施形態を詳述する。ただし、これは単なる例示に過ぎず、これによって本発明が制限されることはなく、本発明は、後述する請求項の範囲によって定義されるだけである。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. However, this is merely an example, and the present invention is not limited thereby, and the present invention is only defined by the scope of the claims to be described later.

この明細書において、特に断りのない限り、「置換」とは、本発明の官能基のうちの1以上の水素原子がハロゲン原子(F、Br、ClまたはI)、ヒドロキシ基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基(NH、NH(R100)またはN(R101)(R102)であり、ここで、R100、R101及びR102は同一または異なり、それぞれ独立して、C1〜C10のアルキル基である)、アミジノ基、ヒドラジン基、ヒドラゾン基、カルボキシル基、エステル基、ケトン基、置換若しくは非置換のアルキル基、置換若しくは非置換の脂環族有機基、置換若しくは非置換のアリール基、置換若しくは非置換のアルケニル基、置換若しくは非置換のアルキニル基、置換若しくは非置換のヘテロアリール基、及び置換若しくは非置換のヘテロ環基よりなる群から選ばれる1種以上の置換基で置換されたものを意味し、前記置換基は、互いに連結されて環を形成することができる。 In this specification, unless otherwise specified, “substituted” means that one or more hydrogen atoms in the functional group of the present invention are a halogen atom (F, Br, Cl or I), a hydroxy group, a nitro group, a cyano group. Group, amino group (NH 2 , NH (R 100 ) or N (R 101 ) (R 102 ), wherein R 100 , R 101 and R 102 are the same or different and are each independently C1 to C10 Amidino group, hydrazine group, hydrazone group, carboxyl group, ester group, ketone group, substituted or unsubstituted alkyl group, substituted or unsubstituted alicyclic organic group, substituted or unsubstituted aryl Groups, substituted or unsubstituted alkenyl groups, substituted or unsubstituted alkynyl groups, substituted or unsubstituted heteroaryl groups, and substituted or unsubstituted Means those substituted with one or more substituents selected from the group consisting of heterocyclic group, the substituent may form a ring are connected to each other.

この明細書において、特に断りのない限り、「アルキル基」とは、C1〜C30のアルキル基を意味し、具体的には、C1〜C15のアルキル基を意味し、「シクロアルキル基」とは、C3〜C30のシクロアルキル基を意味し、具体的には、C3〜C18のシクロアルキル基を意味し、「アルコキシ基」とは、C1〜C30アルコキシ基を意味し、具体的には、C1〜C18のアルコキシ基を意味し、「エステル基」とは、C2〜C30のエステル基を意味し、具体的には、C2〜C18のエステル基を意味し、「ケトン基」とは、C2〜C30のケトン基を意味し、具体的には、C2〜C18のケトン基を意味し、「アリール基」とは、C6〜C30のアリール基を意味し、具体的には、C6〜C18のアリール基を意味し、「アルケニル基」とは、C2〜C30のアルケニル基を意味し、具体的には、C2〜C18のアルケニル基を意味し、「アルキニル基」とは、C2〜C30のアルキニル基、特にC2〜C18のアルキニル基を意味し、「アルキレン基」とは、C1〜C30のアルキレン基を意味し、具体的には、C1〜C18のアルキレン基を意味し、「アリーレン基」とは、C6〜C30のアリーレン基を意味し、具体的には、C6〜C16のアリーレン基を意味する。   In this specification, unless otherwise specified, the “alkyl group” means a C1-C30 alkyl group, specifically, a C1-C15 alkyl group, and the “cycloalkyl group” means , C3-C30 cycloalkyl group, specifically, C3-C18 cycloalkyl group, "alkoxy group" means C1-C30 alkoxy group, specifically, C1 -C18 alkoxy group means "ester group" means C2-C30 ester group, specifically means C2-C18 ester group, and "ketone group" means C2-C18 ester group. Means a C30 ketone group, specifically a C2-C18 ketone group, and an “aryl group” means a C6-C30 aryl group, specifically a C6-C18 aryl group. Means the group `` Arkeni "Group" means a C2-C30 alkenyl group, specifically, a C2-C18 alkenyl group, and "Alkynyl group" means a C2-C30 alkynyl group, especially a C2-C18 alkynyl group. Group means an "alkylene group" means a C1-C30 alkylene group, specifically, a C1-C18 alkylene group, and an "arylene group" means a C6-C30 arylene group. Specifically, it means a C6-C16 arylene group.

また、この明細書において、特に断りのない限り、「脂肪族有機基」とは、C1〜C30のアルキル基、C2〜C30のアルケニル基、C2〜C30のアルキニル基、C1〜C30のアルキレン基、C2〜C30のアルケニレン基、またはC2〜C30のアルキニレン基を意味し、具体的には、C1〜C15のアルキル基、C2〜C15のアルケニル基、C2〜C15のアルキニル基、C1〜C15のアルキレン基、C2〜C15のアルケニレン基、またはC2〜C15のアルキニレン基を意味し、「脂環族有機基」とは、C3〜C30のシクロアルキル基、C3〜C30のシクロアルケニル基、C3〜C30のシクロアルキニル基、C3〜C30のシクロアルキレン基、C3〜C30のシクロアルケニレン基、またはC3〜C30のシクロアルキニレン基を意味し、具体的には、C3〜C15のシクロアルキル基、C3〜C15のシクロアルケニル基、C3〜C15のシクロアルキニル基、C3〜C15のシクロアルキレン基、C3〜C15のシクロアルケニレン基、またはC3〜C15のシクロアルキニレン基を意味し、「芳香族有機基」とは、一つの芳香族環、2以上の芳香族環がともに縮合環をなすもの、または2以上の芳香族環が単一結合、または、フルオレニレン基、−O−、−S−、−C(=O)−、−CH(OH)−、−S(=O)−、−Si(CH−、−(CH−(ここで、pの範囲は、1≦p≦10である)、−(CF−(ここで、qの範囲は、1≦q≦10である)、−C(CH−、−C(CF−、及び−C(=O)NH−から選ばれる官能基、特に、−S(=O)−で連結されたものを含む、C6〜C30グループ、例えば、C6〜C30のアリール基、またはC6〜C30のアリーレン基を意味し、具体的には、C6〜C16のアリール基、またはフェニレン基などのC6〜C16のアリーレン基を意味し、「ヘテロ環基」とは、O、S、N、P、Si及びこれらの組み合わせよりなる群から選ばれるヘテロ原子を一つの環内に1個〜3個含有するC2〜C30のシクロアルキル基、C2〜C30のシクロアルキレン基、C2〜C30のシクロアルケニル基、C2〜C30のシクロアルケニレン基、C2〜C30のシクロアルキニル基、C2〜C30のシクロアルキニレン基、C2〜C30のヘテロアリール基、またはC2〜C30のヘテロアリーレン基を意味し、具体的には、O、S、N、P、Si及びこれらの組み合わせよりなる群から選ばれるヘテロ原子を一つの環内に1個〜3個含有するC2〜C15のシクロアルキル基、C2〜C15のシクロアルキレン基、C2〜C15のシクロアルケニル基、C2〜C15のシクロアルケニレン基、C2〜C15のシクロアルキニル基、C2〜C15のシクロアルキニレン基、C2〜C15のヘテロアリール基、またはC2〜C15のヘテロアリーレン基を意味する。 Further, in this specification, unless otherwise specified, the “aliphatic organic group” means a C1-C30 alkyl group, a C2-C30 alkenyl group, a C2-C30 alkynyl group, a C1-C30 alkylene group, C2-C30 alkenylene group or C2-C30 alkynylene group means, specifically, C1-C15 alkyl group, C2-C15 alkenyl group, C2-C15 alkynyl group, C1-C15 alkylene group. , C2-C15 alkenylene group, or C2-C15 alkynylene group, and "alicyclic organic group" means C3-C30 cycloalkyl group, C3-C30 cycloalkenyl group, C3-C30 cyclohexane. Alkynyl, C3-C30 cycloalkylene, C3-C30 cycloalkenylene, or C3-C30 cyclo A alkynylene group means a C3-C15 cycloalkyl group, a C3-C15 cycloalkenyl group, a C3-C15 cycloalkynyl group, a C3-C15 cycloalkylene group, a C3-C15 cycloalkenylene group. Or a C3-C15 cycloalkynylene group, and the “aromatic organic group” means one aromatic ring, two or more aromatic rings together forming a condensed ring, or two or more aromatic rings Is a single bond, or a fluorenylene group, —O—, —S—, —C (═O) —, —CH (OH) —, —S (═O) 2 —, —Si (CH 3 ) 2 —. , — (CH 2 ) p — (where p is in the range 1 ≦ p ≦ 10), — (CF 2 ) q — (where q is in the range 1 ≦ q ≦ 10) , -C (CH 3) 2 - , - C (CF 3) 2 -, and - (= O) functional group selected from NH-, especially, -S (= O) 2 - including those linked by, C6 to C30 groups, for example, aryl groups C6 to C30 or arylene of C6 to C30, Group, specifically, a C6-C16 aryl group or a C6-C16 arylene group such as a phenylene group, and "heterocyclic group" means O, S, N, P, Si and C2-C30 cycloalkyl group, C2-C30 cycloalkylene group, C2-C30 cycloalkenyl group, C2-C30 containing 1 to 3 heteroatoms selected from the group consisting of these combinations in one ring A C30 cycloalkenylene group, a C2-C30 cycloalkynyl group, a C2-C30 cycloalkynylene group, a C2-C30 heteroaryl group, or a C2-C30 heterocycle A lower arylene group, specifically, a C2-C15 cyclohexane containing 1 to 3 heteroatoms selected from the group consisting of O, S, N, P, Si and combinations thereof in one ring. Alkyl group, C2-C15 cycloalkylene group, C2-C15 cycloalkenyl group, C2-C15 cycloalkenylene group, C2-C15 cycloalkynyl group, C2-C15 cycloalkynylene group, C2-C15 heteroaryl Group or a C2-C15 heteroarylene group.

この明細書において、特に断りのない限り、「組み合わせ」とは、混合または共重合を意味する。   In this specification, unless otherwise specified, “combination” means mixing or copolymerization.

さらに、この明細書において、「*」は、他の原子と連結される部分を意味する。   Furthermore, in this specification, “*” means a moiety linked to another atom.

本発明の一実施形態は、下記一般式3で表わされるイミド繰り返し単位、イミド化によって上記一般式3のイミド繰り返し単位を形成するアミド酸繰り返し単位、またはこれらの繰り返し単位の組み合わせを含む第1の繰り返し単位と、下記一般式4で表わされるイミド繰り返し単位、イミド化によって上記一般式4で表わされるイミド繰り返し単位を形成するアミド酸繰り返し単位、またはこれらの繰り返し単位の組み合わせを含む第2の繰り返し単位とのうちの一つ以上と、下記一般式1で表わされる繰り返し単位、下記一般式2で表わされる繰り返し単位、またはこれらの繰り返し単位の組み合わせを含む第3の繰り返し単位とを含むコポリマーであって、前記コポリマーの少なくとも一方の末端は、置換若しくは非置換のシロキサンまたはシラノール基によって置換されたコポリマーと、
無機粒子またはその前駆体と、
を含むコポリマーと無機粒子との複合体組成物を提供する:
One embodiment of the present invention includes a first imide repeating unit represented by the following general formula 3, an amic acid repeating unit that forms the imide repeating unit of the above general formula 3 by imidization, or a combination of these repeating units. A second repeating unit containing a repeating unit, an imide repeating unit represented by the following general formula 4, an amic acid repeating unit that forms an imide repeating unit represented by the above general formula 4 by imidization, or a combination of these repeating units A repeating unit represented by the following general formula 1, a repeating unit represented by the following general formula 2, or a third repeating unit containing a combination of these repeating units. And at least one end of the copolymer is substituted or unsubstituted siloxane. A copolymer others substituted by silanol groups,
Inorganic particles or precursors thereof;
A composite composition of copolymer and inorganic particles comprising:

上記一般式3または一般式4において、
10は、それぞれの繰り返し単位において同一または異なり、それぞれ独立して、置換若しくは非置換のC1〜C30の脂肪族有機基、置換若しくは非置換のC3〜C30の脂環族有機基、置換若しくは非置換のC6〜C30の芳香族有機基、または置換若しくは非置換のC2〜C30のヘテロ環基であり、具体的には、置換若しくは非置換のC1〜C10の脂肪族有機基であってもよく、さらに具体的には、−C(CF−であってもよい。
In the above general formula 3 or general formula 4,
R 10 is the same or different in each repeating unit, and each independently represents a substituted or unsubstituted C1-C30 aliphatic organic group, a substituted or unsubstituted C3-C30 alicyclic organic group, substituted or non-substituted. A substituted C6-C30 aromatic organic group, or a substituted or unsubstituted C2-C30 heterocyclic group, specifically, a substituted or unsubstituted C1-C10 aliphatic organic group. , more specifically, -C (CF 3) 2 - may be.

11は、それぞれの繰り返し単位において同一または異なり、それぞれ独立して、置換若しくは非置換のC6〜C30の芳香族有機基を含み、前記芳香族有機基は一つの芳香族環であるか、2以上の芳香族環が互いに接合されて縮合環を形成するか、または2以上の芳香族環が単一結合、またはフルオレニレン基、−O−、−S−、−C(=O)−、−CH(OH)−、−S(=O)−、−Si(CH−、−(CH−(ここで、1≦p≦10)、−(CF−(ここで、1≦q≦10)、−C(CH−、−C(CF−または−C(=O)NH−の官能基によって連結されており、具体的には、前記芳香族有機基の少なくとも一つの水素原子は、電子吸引基で置換されていてもよい。このとき、前記電子吸引基は、−CF、−CCl、−CBr、−CI、−F、−Cl、−Br、−I、−NO、−CN、−COCHまたは−COであってもよいが、これに限定されない。 R 11 is the same or different in each repeating unit, and each independently includes a substituted or unsubstituted C 6 -C 30 aromatic organic group, and the aromatic organic group is a single aromatic ring, or 2 The above aromatic rings are bonded to each other to form a condensed ring, or two or more aromatic rings are a single bond, or a fluorenylene group, —O—, —S—, —C (═O) —, — CH (OH) -, - S (= O) 2 -, - Si (CH 3) 2 -, - (CH 2) p - ( wherein, 1 ≦ p ≦ 10), - (CF 2) q - ( Here, it is connected by a functional group of 1 ≦ q ≦ 10), —C (CH 3 ) 2 —, —C (CF 3 ) 2 — or —C (═O) NH—, specifically, At least one hydrogen atom of the aromatic organic group may be substituted with an electron withdrawing group. In this case, the electron-withdrawing group, -CF 3, -CCl 3, -CBr 3, -CI 3, -F, -Cl, -Br, -I, -NO 2, -CN, -COCH 3 or -CO Although it may be 2 C 2 H 5 , it is not limited to this.

12及びR13は、同一または異なり、それぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、エーテル基(−OR208、ここで、R208は、C1〜C10の脂肪族有機基である)、シリル基(−SiR209210211、ここで、R209、R210及びR211は、同一または異なり、それぞれ独立して、水素原子、C1〜C10の脂肪族有機基である)、置換若しくは非置換のC1〜C10の脂肪族有機基、またはC6〜C20の芳香族有機基である。 R 12 and R 13 are the same or different and are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxy group, an ether group (—OR 208 , where R 208 is a C1-C10 aliphatic organic group), A silyl group (—SiR 209 R 210 R 211 , wherein R 209 , R 210 and R 211 are the same or different and are each independently a hydrogen atom or a C1-C10 aliphatic organic group), substituted or An unsubstituted C1-C10 aliphatic organic group or a C6-C20 aromatic organic group.

n7及びn8は、それぞれ独立して、0〜3の整数である。   n7 and n8 are each independently an integer of 0 to 3.

上記一般式1において、
は、それぞれの繰り返し単位において同一または異なり、それぞれ独立して、置換若しくは非置換のC3〜C30の脂環族有機基、置換若しくは非置換のC6〜C30の芳香族有機基、または置換若しくは非置換のC2〜C30のヘテロ環基、または置換若しくは非置換のC13〜C20のフルオレニレン基である。
In the above general formula 1,
R 1 is the same or different in each repeating unit, and each independently represents a substituted or unsubstituted C3-C30 alicyclic organic group, a substituted or unsubstituted C6-C30 aromatic organic group, or substituted or unsubstituted An unsubstituted C2-C30 heterocyclic group, or a substituted or unsubstituted C13-C20 fluorenylene group.

は、それぞれの繰り返し単位において同一または異なり、それぞれ独立して、置換若しくは非置換のC6〜C30の芳香族有機基であり、具体的には、フェニレン基またはビフェニレン基であってもよい。 R 2 is the same or different in each repeating unit, and is independently a substituted or unsubstituted C6-C30 aromatic organic group, and may be specifically a phenylene group or a biphenylene group.

及びRは、同一または異なり、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、エーテル基(−OR200、ここで、R200は、C1〜C10の脂肪族有機基である)、シリル基(−SiR201202203、ここで、R201、R202及びR203は、同一または異なり、それぞれ独立して、水素原子、C1〜C10の脂肪族有機基である)、置換若しくは非置換のC1〜C10の脂肪族有機基、またはC6〜C20の芳香族有機基であり、具体的には、水素原子であってもよい。 R 3 and R 4 are the same or different and are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxy group, or an ether group (—OR 200 , where R 200 is a C1-C10 aliphatic organic group). , A silyl group (—SiR 201 R 202 R 203 , wherein R 201 , R 202 and R 203 are the same or different and are each independently a hydrogen atom or a C1-C10 aliphatic organic group), substitution Or it is an unsubstituted C1-C10 aliphatic organic group, or a C6-C20 aromatic organic group, and specifically, a hydrogen atom may be sufficient.

n1及びn2は、それぞれ独立して、0〜4の整数である。   n1 and n2 are each independently an integer of 0 to 4.

具体的には、前記Rは、それぞれの繰り返し単位において同一または異なり、それぞれ独立して、下記一般式で表わされる群から選ばれてもよいが、これに限定されるものではない。 Specifically, R 1 may be the same or different in each repeating unit, and may be independently selected from the group represented by the following general formula, but is not limited thereto.

具体的には、前記Rは、それぞれの繰り返し単位において同一または異なり、それぞれ独立して、下記一般式で表わされる群から選ばれてもよいが、これに限定されるものではない。 Specifically, R 2 may be the same or different in each repeating unit, and may be independently selected from the group represented by the following general formula, but is not limited thereto.

上記一般式において、
18〜R29は、同一または異なり、それぞれ独立して、水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、置換若しくは非置換のC1〜C10の脂肪族有機基、または置換若しくは非置換のC6〜C20の芳香族有機基であり、
n11及びn14〜n20は、それぞれ独立して、0〜4の整数であり、
n12及びn13は、それぞれ独立して、0〜3の整数である。
In the above general formula:
R 18 to R 29 are the same or different and each independently represents a hydrogen atom, a deuterium atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted C1-C10 aliphatic organic group, or a substituted or unsubstituted C6-C20. An aromatic organic group,
n11 and n14 to n20 are each independently an integer of 0 to 4,
n12 and n13 are each independently an integer of 0 to 3.

さらに具体的には、前記Rは、同一または異なり、それぞれ独立して、下記一般式で表わされる群から選ばれてもよいが、これに限定されるものではない。 More specifically, the R 2 may be the same or different and may be independently selected from the group represented by the following general formula, but is not limited thereto.

上記一般式2において、
はそれぞれの繰り返し単位において同一または異なり、それぞれ独立して、置換若しくは非置換のC6〜C30の芳香族有機基であり、具体的には、フェニレン基またはビフェニレン基であってもよい。
In the above general formula 2,
R 5 is the same or different in each repeating unit, and each independently represents a substituted or unsubstituted C6-C30 aromatic organic group, and specifically, may be a phenylene group or a biphenylene group.

及びRは、同一または異なり、それぞれ独立して、電子吸引基である。 R 6 and R 7 are the same or different and are each independently an electron withdrawing group.

及びRは、同一または異なり、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、エーテル基(−OR204、ここで、R204は、C1〜C10の脂肪族有機基である)、シリル基(−SiR205206207、ここで、R205、R206及びR207は、同一または異なり、それぞれ独立して、水素原子、C1〜C10の脂肪族有機基である)、置換若しくは非置換のC1〜C10の脂肪族有機基、またはC6〜C20の芳香族有機基である。 R 8 and R 9 are the same or different and are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxy group, or an ether group (—OR 204 , where R 204 is a C1-C10 aliphatic organic group). , A silyl group (—SiR 205 R 206 R 207 , wherein R 205 , R 206 and R 207 are the same or different and are each independently a hydrogen atom or a C1-C10 aliphatic organic group), substitution Alternatively, it is an unsubstituted C1-C10 aliphatic organic group or a C6-C20 aromatic organic group.

n3は、1〜4の整数であり、n5は、0〜3の整数であり、n3+n5は、4以下の整数であり、
n4は、1〜4の整数であり、n6は、0〜3の整数であり、n4+n6は、4以下の整数である。
n3 is an integer of 1 to 4, n5 is an integer of 0 to 3, n3 + n5 is an integer of 4 or less,
n4 is an integer of 1 to 4, n6 is an integer of 0 to 3, and n4 + n6 is an integer of 4 or less.

具体的に、前記Rは、同一または異なり、それぞれ独立して、下記一般式で表わされる群から選ばれてもよいが、これに限定されるものではない。 Specifically, R 5 may be the same or different and may be independently selected from the group represented by the following general formula, but is not limited thereto.

上記一般式において、
18〜R29、n11〜n20についての説明は、前記Rにおける説明と同様である。
In the above general formula:
The description of R 18 to R 29 and n11 to n20 is the same as the description for R 2 .

具体的には、前記R及びRは、電子吸引基であり、前記電子吸引基は、−CF、−CCl、−CBr、−CI、−F、−Cl、−Br、−I、−NO、−CN、−COCHまたは−COであってもよいが、これに限定されるものではない。 Specifically, the R 6 and R 7 is an electron withdrawing group, the electron withdrawing group, -CF 3, -CCl 3, -CBr 3, -CI 3, -F, -Cl, -Br, -I, -NO 2, -CN, or it is also a -COCH 3 or -CO 2 C 2 H 5, but is not limited thereto.

さらに具体的には、Rは、同一または異なり、それぞれ独立して、下記一般式で表わされる群から選ばれてもよい。 More specifically, R 5 may be the same or different and may be independently selected from the group represented by the following general formula.

上記一般式1で表わされる繰り返し単位、上記一般式2で表わされる繰り返し単位またはこれらの繰り返し単位の組み合わせはアミド繰り返し単位であって、これらの繰り返し単位を含む場合、溶媒への可溶性、加工性、柔軟性及び光学的特性に優れており、熱膨張係数を下げることができる。これにより、前記繰り返し単位を含むコポリマーは、優れた光学的特性、例えば、透明性を有することができ、優れた加工性及び柔軟性を有することができ、低い熱膨張係数を有することができる。   The repeating unit represented by the above general formula 1, the repeating unit represented by the above general formula 2, or a combination of these repeating units is an amide repeating unit, and when these repeating units are included, solubility in a solvent, processability, It has excellent flexibility and optical properties, and can reduce the coefficient of thermal expansion. Accordingly, the copolymer including the repeating unit can have excellent optical characteristics, for example, transparency, excellent workability and flexibility, and a low thermal expansion coefficient.

前記コポリマーは、同一または互いに異なる上記一般式1で表わされる繰り返し単位、上記一般式2で表わされる繰り返し単位、またはこれらの繰り返し単位の組み合わせを含む第3の繰り返し単位を1個〜1,000個含んでいてもよい。前記コポリマーが前記繰り返し単位を前記範囲で含む場合、これを含むコポリマーの光学的特性、加工性及び柔軟性を効果的に改善することができる。具体的には、前記コポリマーは、同一または互いに異なる上記一般式1で表わされる繰り返し単位、上記一般式2で表わされる繰り返し単位、またはこれらの繰り返し単位の組み合わせを含む第3の繰り返し単位を1個〜100個、さらに具体的には、1個〜20個含んでいてもよい。   The copolymer has 1 to 1,000 third repeating units including the same or different repeating units represented by the above general formula 1, the repeating units represented by the above general formula 2, or a combination of these repeating units. May be included. When the copolymer contains the repeating unit within the above range, the optical properties, processability and flexibility of the copolymer containing the repeating unit can be effectively improved. Specifically, the copolymer includes one third repeating unit including the same or different repeating unit represented by the above general formula 1, the repeating unit represented by the above general formula 2, or a combination of these repeating units. ~ 100, more specifically 1-20 may be included.

一方、前記第3の繰り返し単位は、下記一般式6で表わされる繰り返し単位をさらに含んでいてもよい。   On the other hand, the third repeating unit may further include a repeating unit represented by the following general formula 6.

上記一般式6において、
14は、それぞれの繰り返し単位において同一または異なり、それぞれ独立して、−O−、−S−、−C(=O)−、−CH(OH)−、−S(=O)−、−Si(CH−、−(CH−(ここで、1≦p≦10)、−(CF−(ここで、1≦q≦10)、−C(CH−、−C(CF−、−C(=O)NH−、または置換若しくは非置換のC6〜C30の芳香族有機基を含み、前記芳香族有機基は一つの芳香族環であるか、2以上の芳香族環が互いに接合されて縮合環を形成するか、2以上の芳香族環が単一結合、またはフルオレニレン基、−O−、−S−、−C(=O)−、−CH(OH)−、−S(=O)−、−Si(CH−、−(CH−(ここで、1≦p≦10)、−(CF−(ここで、1≦q≦10)、−C(CH−、−C(CF−または−C(=O)NH−の官能基によって連結されており、具体的には−S(=O)−によって連結されていてもよい。
In the above general formula 6,
R 14 is the same or different in each repeating unit, and each independently represents —O—, —S—, —C (═O) —, —CH (OH) —, —S (═O) 2 —, —Si (CH 3 ) 2 —, — (CH 2 ) p — (where 1 ≦ p ≦ 10), — (CF 2 ) q — (where 1 ≦ q ≦ 10), —C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2- , -C (= O) NH-, or a substituted or unsubstituted C6-C30 aromatic organic group, wherein the aromatic organic group is a single aromatic ring Or two or more aromatic rings are bonded to each other to form a condensed ring, or two or more aromatic rings are a single bond, or a fluorenylene group, -O-, -S-, -C (= O ) -, - CH (OH) -, - S (= O) 2 -, - Si (CH 3) 2 -, - (CH 2) p - ( wherein, 1 ≦ p ≦ 1 ), - (CF 2) q - ( wherein, 1 ≦ q ≦ 10), - C (CH 3) 2 -, - or by -C (= O) NH- functional group - C (CF 3) 2 Specifically, they may be linked by —S (═O) 2 —.

15は、それぞれの繰り返し単位において同一または異なり、それぞれ独立して、置換若しくは非置換のC6〜C30の芳香族有機基であり、具体的には、フェニレン基またはビフェニレン基であってもよい。 R 15 is the same or different in each repeating unit, and each independently represents a substituted or unsubstituted C6-C30 aromatic organic group, and specifically, may be a phenylene group or a biphenylene group.

16及びR17は、同一または異なり、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、エーテル基(−OR212、ここで、R212は、C1〜C10の脂肪族有機基である)、シリル基(−SiR213214215、ここで、R213、R214及びR215は、同一または異なり、それぞれ独立して、水素原子、C1〜C10の脂肪族有機基である)、置換若しくは非置換のC1〜C10の脂肪族有機基、またはC6〜C20の芳香族有機基である。 R 16 and R 17 are the same or different and are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxy group, or an ether group (—OR 212 , where R 212 is a C1-C10 aliphatic organic group). A silyl group (—SiR 213 R 214 R 215 , wherein R 213 , R 214 and R 215 are the same or different and are each independently a hydrogen atom or a C1-C10 aliphatic organic group), substitution Alternatively, it is an unsubstituted C1-C10 aliphatic organic group or a C6-C20 aromatic organic group.

n9及びn10は、それぞれ独立して、0〜4の整数である。   n9 and n10 are each independently an integer of 0 to 4.

前記コポリマーが上記一般式6で表わされる繰り返し単位をさらに含む場合、コポリマーの透光度を改善することができる。   When the copolymer further includes a repeating unit represented by the general formula 6, the translucency of the copolymer can be improved.

上記一般式3または一般式4で表わされるイミド繰り返し単位、またはイミド化によって上記一般式3または一般式4で表わされるイミド繰り返し単位を形成するアミド酸繰り返し単位は、耐熱性及び機械的強度に優れており、成形品の製造時に耐溶剤性に優れており、延伸時に結晶の生成を抑えることができる。これにより、前記第1の繰り返し単位及び/又は第2の繰り返し単位を含むコポリマーは、優れた熱的特性及び機械的強度を有することができる。   The imide repeating unit represented by the above general formula 3 or 4 or the amic acid repeating unit that forms the imide repeating unit represented by the above general formula 3 or 4 by imidation is excellent in heat resistance and mechanical strength. It is excellent in solvent resistance during the production of a molded product, and can suppress the formation of crystals during stretching. Accordingly, the copolymer including the first repeating unit and / or the second repeating unit can have excellent thermal characteristics and mechanical strength.

前記コポリマーは、同一または互いに異なる上記一般式3で表わされるイミド繰り返し単位、イミド化によって上記一般式3のイミド繰り返し単位を形成するアミド酸繰り返し単位、またはこれらの繰り返し単位の組み合わせを含む第1の繰り返し単位を1個〜1,000個含んでいてもよい。具体的には、第1の繰り返し単位を1個〜100個、さらに具体的には、1個〜20個含んでいてもよい。   The copolymer includes a imide repeating unit represented by the above general formula 3 that is the same or different from each other, an amic acid repeating unit that forms an imide repeating unit of the above general formula 3 by imidization, or a combination of these repeating units. 1 to 1,000 repeating units may be included. Specifically, it may contain 1 to 100 first repeating units, more specifically 1 to 20 first repeating units.

前記コポリマーは、同一または互いに異なる上記一般式4で表わされるイミド繰り返し単位、イミド化によって上記一般式4のイミド繰り返し単位を形成するアミド酸繰り返し単位、またはこれらの繰り返し単位の組み合わせを含む第2の繰り返し単位を1個〜1,000個含んでいてもよい。具体的には、第2の繰り返し単位を1個〜100個、さらに具体的には、1個〜20個含んでいてもよい。   The copolymer includes a second imide repeating unit represented by the above general formula 4 that is the same or different from each other, an amic acid repeating unit that forms an imide repeating unit of the above general formula 4 by imidization, or a combination of these repeating units. 1 to 1,000 repeating units may be included. Specifically, 1 to 100, more specifically 1 to 20 second repeating units may be included.

前記繰り返し単位が前記範囲として含まれる場合、前記コポリマーの熱的特性及び機械的強度を効果的に改善することができ、また、光学的な特性も改善することができる。具体的には、同一または互いに異なる上記一般式3または一般式4で表わされるイミド繰り返し単位、またはイミド化によって上記一般式3のイミド繰り返し単位または一般式4のイミド繰り返し単位を形成するアミド酸繰り返し単位は1個〜100個、さらに具体的には、1個〜20個含まれてもよい。   When the repeating unit is included as the range, the thermal properties and mechanical strength of the copolymer can be effectively improved, and the optical properties can also be improved. Specifically, the imide repeating unit represented by general formula 3 or general formula 4 which is the same or different from each other, or the amide acid repeating unit which forms the imide repeating unit of general formula 3 or the imide repeating unit of general formula 4 by imidization. The unit may be 1 to 100, more specifically 1 to 20 units.

前記コポリマーは約500g/mol〜約200,000g/molの重量平均分子量を有することができる。前記コポリマーの重量平均分子量が前記範囲内である場合、前記コポリマーの熱的特性及び機械的強度を効果的に改善することができ、また、光学的な特性も改善することができる。具体的には、前記コポリマーは約5,000g/mol〜約100,000g/molの重量平均分子量を有することができる。   The copolymer can have a weight average molecular weight of about 500 g / mol to about 200,000 g / mol. When the weight average molecular weight of the copolymer is within the above range, the thermal properties and mechanical strength of the copolymer can be effectively improved, and the optical properties can also be improved. Specifically, the copolymer can have a weight average molecular weight of about 5,000 g / mol to about 100,000 g / mol.

一方、上記一般式3で表わされる繰り返し単位は、下記一般式5で表わされるイミド繰り返し単位、またはイミド化によって上記一般式5で表わされるイミド繰り返し単位を形成しうるアミド酸繰り返し単位を含んでいてもよい:   On the other hand, the repeating unit represented by the general formula 3 includes an imide repeating unit represented by the following general formula 5 or an amic acid repeating unit capable of forming an imide repeating unit represented by the general formula 5 by imidization. Also good:

上記一般式5において、
11、R12、R13、n7及びn8についての説明は、上記一般式3における説明と同様である。
In the above general formula 5,
The description of R 11 , R 12 , R 13 , n7 and n8 is the same as the description in the general formula 3.

上記一般式3の繰り返し単位が上記一般式5で表わされる繰り返し単位を含む場合、前記コポリマーにおいて、上記一般式3および/または一般式5で表わされる繰り返し単位、および/またはイミド化によって上記一般式3および/または一般式5の繰り返し単位を形成するアミド酸繰り返し単位の全モル数と、上記一般式4で表わされる繰り返し単位、および/またはイミド化によって上記一般式4の繰り返し単位を形成するアミド酸繰り返し単位の全モル数は、約99:1〜約1:99のモル比を有することができる。この場合、前記コポリマーは、優れた耐熱性、機械的強度及び柔軟性を有することができ、優れた光学的特性、具体的には、透光度を有することができる。   When the repeating unit of the above general formula 3 includes the repeating unit represented by the above general formula 5, in the copolymer, the repeating unit represented by the above general formula 3 and / or the general formula 5 and / or the above general formula is represented by imidization. 3 and / or the total number of moles of the amic acid repeating unit forming the repeating unit of the general formula 5, the repeating unit represented by the general formula 4 and / or the amide forming the repeating unit of the general formula 4 by imidization The total number of moles of acid repeat units can have a molar ratio of about 99: 1 to about 1:99. In this case, the copolymer may have excellent heat resistance, mechanical strength, and flexibility, and may have excellent optical properties, specifically, translucency.

前記コポリマーにおいて、前記第1の繰り返し単位に含まれる全繰り返し単位と前記第2の繰り返し単位に含まれる全繰り返し単位は、約99:1〜約1:99のモル比を有することができる。   In the copolymer, all repeating units included in the first repeating unit and all repeating units included in the second repeating unit may have a molar ratio of about 99: 1 to about 1:99.

前記コポリマーは、同一または互いに異なる上記一般式1で表わされる繰り返し単位、上記一般式2で表わされる繰り返し単位、上記一般式6で表わされる繰り返し単位を、それぞれ1個〜1,000個含んでいてもよい。   The copolymer includes 1 to 1,000 repeating units represented by the above general formula 1, the repeating unit represented by the above general formula 2, and the repeating unit represented by the above general formula 6 which are the same or different from each other. Also good.

前記コポリマーは、前記第1の繰り返し単位と前記第2の繰り返し単位に含まれる全繰り返し単位と、前記第3の繰り返し単位に含まれる全繰り返し単位は、約95:5〜約5:95のモル比、具体的には、約90:10〜約10:90のモル比を有することができる。   The copolymer has a molar ratio of about 95: 5 to about 5:95, wherein all the repeating units contained in the first repeating unit and the second repeating unit and all the repeating units contained in the third repeating unit are from about 95: 5 to about 5:95. Ratio, specifically, a molar ratio of about 90:10 to about 10:90.

前記コポリマーに含まれる全繰り返し単位の数、及び全繰り返し単位のモル比が前記範囲内である場合、前記コポリマーは、優れた光学的特性、耐熱性、機械的強度及び柔軟性を有することができる。   When the number of all repeating units contained in the copolymer and the molar ratio of all repeating units are within the above ranges, the copolymer can have excellent optical properties, heat resistance, mechanical strength and flexibility. .

上記一般式1で表わされる繰り返し単位は、下記一般式7〜9で表わされる繰り返し単位を含んでいてもよく、上記一般式2で表わされる繰り返し単位は、下記一般式10〜12で表わされる繰り返し単位を含んでいてもよく、上記一般式3(または一般式5)で表わされる繰り返し単位は、下記一般式13で表わされる繰り返し単位を含んでいてもよく、上記一般式4で表わされる繰り返し単位は、下記一般式14で表わされる繰り返し単位を含んでいてもよく、上記一般式6で表わされる繰り返し単位は、下記一般式15〜17で表わされる繰り返し単位を含んでいてもよいが、これに限定されるものではない。   The repeating unit represented by the general formula 1 may include a repeating unit represented by the following general formulas 7 to 9, and the repeating unit represented by the general formula 2 is a repeating unit represented by the following general formulas 10 to 12. The repeating unit represented by the above general formula 3 (or general formula 5) may include a repeating unit represented by the following general formula 13, or the repeating unit represented by the above general formula 4. May contain a repeating unit represented by the following general formula 14, and the repeating unit represented by the above general formula 6 may contain a repeating unit represented by the following general formulas 15 to 17, It is not limited.

前記実施形態に係るコポリマーと無機粒子との複合体組成物は、コポリマーの少なくとも一方の末端に、置換若しくは非置換のシロキサンまたはシラノール基が置換される。   In the composite composition of the copolymer and inorganic particles according to the embodiment, at least one terminal of the copolymer is substituted with a substituted or unsubstituted siloxane or silanol group.

前記コポリマーの少なくとも一方の末端に置換される、置換若しくは非置換のシロキサンまたはシラノール基は、下記一般式20で表わされるシロキサンまたはシラノール基である:   The substituted or unsubstituted siloxane or silanol group substituted on at least one terminal of the copolymer is a siloxane or silanol group represented by the following general formula 20:

上記一般式20において、
Raは、置換若しくは非置換のアルキル基(アルキレン基)、置換若しくは非置換のアルケニル基(アルケニレン基)、置換若しくは非置換のアルキニル基(アルキニレン基)、置換若しくは非置換のシクロアルキル基(シクロアルキレン基)、置換若しくは非置換のシクロアルケニル基(シクロアルケニレン基)、置換若しくは非置換のシクロアルキニル基(シクロアルキニレン基)、置換若しくは非置換のアリール基(アリーレン基)、または置換若しくは非置換のアラルキル基(アラルキレン基)であってもよく、
前記Rb〜Rdは、同一または異なり、それぞれ独立して、水素原子、C1〜C20のアルキル基、C2〜C20のアルケニル基、C2〜C20のアルキニル基、C3〜C20のシクロアルキル基、またはC6〜C18のアリール基であってもよい。
In the general formula 20,
Ra is a substituted or unsubstituted alkyl group (alkylene group), a substituted or unsubstituted alkenyl group (alkenylene group), a substituted or unsubstituted alkynyl group (alkynylene group), a substituted or unsubstituted cycloalkyl group (cycloalkylene). Group), substituted or unsubstituted cycloalkenyl group (cycloalkenylene group), substituted or unsubstituted cycloalkynyl group (cycloalkynylene group), substituted or unsubstituted aryl group (arylene group), or substituted or unsubstituted It may be an aralkyl group (aralkylene group),
Rb to Rd are the same or different and are each independently a hydrogen atom, a C1-C20 alkyl group, a C2-C20 alkenyl group, a C2-C20 alkynyl group, a C3-C20 cycloalkyl group, or a C6-C It may be a C18 aryl group.

具体的に、上記一般式20は、下記一般式で表わされる群から選ばれてもよく、これに限定されない。   Specifically, the general formula 20 may be selected from the group represented by the following general formula, and is not limited thereto.

上記一般式において、Re〜Rgは、同一または異なり、それぞれ独立して、C1〜C20のアルキル基、C2〜C20のアルケニル基、C2〜C20のアルキニル基、C3〜C20のシクロアルキル基、またはC6〜C18のアリール基であってもよい。   In the above general formula, Re to Rg are the same or different and are each independently a C1 to C20 alkyl group, a C2 to C20 alkenyl group, a C2 to C20 alkynyl group, a C3 to C20 cycloalkyl group, or a C6. It may be a C18 aryl group.

前記コポリマーの一方の末端に前記シロキサンまたはシラノール基を置換することにより、後述するように、前記コポリマーと無機粒子または無機粒子の前駆体が混合されて組成物を形成する場合、前記無機粒子または無機粒子の前駆体は、前記コポリマーのシロキサンまたはシラノールの末端と結合することによって組成物内において凝集することなく、均等に分散してコポリマーとよく混合され、これにより、前記コポリマーと無機粒子または無機粒子の前駆体を含む組成物が高い耐熱性及び優れた光学特性を示すことになる。   When the siloxane or silanol group is substituted on one end of the copolymer to form a composition by mixing the copolymer and a precursor of inorganic particles or inorganic particles as described later, the inorganic particles or inorganic particles The precursors of the particles are evenly dispersed and well mixed with the copolymer without agglomerating within the composition by bonding to the siloxane or silanol ends of the copolymer, whereby the copolymer and the inorganic or inorganic particles The composition containing this precursor will exhibit high heat resistance and excellent optical properties.

前記コポリマーの一方の末端に置換されたシロキサンまたはシラノール基は、以後、前記組成物を乾燥及び加熱して成形品を製造する過程において、前記無機粒子または無機粒子の前駆体と加水分解による架橋結合を形成し、これにより、前記コポリマーは、フィルムなどに成形される場合に、コポリマーの間に架橋結合が形成されることにより、より高い機械的強度、耐熱性、及び光学特性を実現することができる。以上のように、本発明の組成物は、前記コポリマーの末端の前記シロキサンまたはシラノール基と無機粒子が、混合時、水素結合などによって結合して無機粒子の均等な分散を助ける状態で存在する。よって、必ずしも一体化した形態であるとはいえない。しかしながら、この組成物を乾燥、加熱して成形する場合には、コポリマーの末端の前記シロキサンまたはシラノール基と無機粒子との間の架橋結合が起きて一体化する形態となる。   The siloxane or silanol group substituted at one terminal of the copolymer is subsequently crosslinked by hydrolysis with the inorganic particles or the precursor of the inorganic particles in the process of drying and heating the composition to produce a molded product. As a result, when the copolymer is formed into a film or the like, a cross-linking bond is formed between the copolymers, thereby realizing higher mechanical strength, heat resistance, and optical properties. it can. As described above, in the composition of the present invention, the siloxane or silanol group at the terminal of the copolymer and the inorganic particles are present in a state of helping the uniform dispersion of the inorganic particles by bonding by hydrogen bonding or the like at the time of mixing. Therefore, it cannot necessarily be said that it is an integrated form. However, when this composition is dried and heated to be molded, a cross-linking bond between the siloxane or silanol group at the terminal of the copolymer and the inorganic particles occurs to form an integral form.

前記コポリマーと無機粒子との複合体組成物に含まれる無機粒子またはその前駆体は、Ti、Si、Al、Zr、Sn、B及びCeよりなる群から選ばれる1以上の元素の酸化物または水酸化物、あるいは、前記酸化物または水酸化物を形成しうる前駆体を含む。   The inorganic particles or precursors thereof contained in the composite composition of the copolymer and inorganic particles are oxides or water of one or more elements selected from the group consisting of Ti, Si, Al, Zr, Sn, B, and Ce. An oxide or a precursor capable of forming the oxide or hydroxide is included.

具体的に、前記Ti、Si、Al、Zr、Sn、B、またはCe元素の酸化物または水酸化物を形成しうる前駆体化合物は、前記元素のアルコキシド、エステル、アセチルアセトナート、またはハライド(halide;ハロゲン化物)であってもよく、これに限定されない。   Specifically, the precursor compound capable of forming an oxide or hydroxide of the Ti, Si, Al, Zr, Sn, B, or Ce element is an alkoxide, ester, acetylacetonate, or halide (of the element). (halide; halide) may be used, but is not limited thereto.

具体的に、前記無機粒子は、シリカ(SiO)またはTiOである。 Specifically, the inorganic particles are silica (SiO 2 ) or TiO 2 .

シリカの前駆体としては、有機シリカ前駆体または無機シリカ前駆体を含んでいてもよく、有機シリカ前駆体は、下記一般式で表わされる化合物を用いてもよいが、これらに限定されない:   The silica precursor may contain an organic silica precursor or an inorganic silica precursor, and the organic silica precursor may be a compound represented by the following general formula, but is not limited thereto:

上記一般式において、
Rh〜Rmは、同一または異なり、それぞれ独立して、C1〜C20のアルキル基、C2〜C20のアルケニル基、C2〜C20のアルキニル基、C3〜C20のシクロアルキル基、またはC6〜C18のアリール基であってもよい。
In the above general formula:
Rh to Rm are the same or different and are each independently a C1-C20 alkyl group, a C2-C20 alkenyl group, a C2-C20 alkynyl group, a C3-C20 cycloalkyl group, or a C6-C18 aryl group. It may be.

無機シリカ前駆体は、テトラエチルオルソシリケート(テトラエトキシシラン;テオス(TEOS))を含んでいてもよく、これに限定されない。   The inorganic silica precursor may include, but is not limited to, tetraethylorthosilicate (tetraethoxysilane; TEOS).

TiOの前駆体としては、オルトチタン酸テトライソプロピルを用いてもよく、これに限定されない。 As a precursor of TiO 2 , tetraisopropyl orthotitanate may be used, but is not limited thereto.

前記無機粒子または無機粒子の前駆体は、前記コポリマーの重量に対して、約5重量%〜約95重量%の無機粒子を提供するのに十分な含量で含まれうる。具体的に、前記無機粒子または無機粒子の前駆体は、前記コポリマーの重量に対して、約10重量%〜約90重量%、さらに具体的には、前記コポリマーの重量に対して、約15重量%〜約80重量%の無機粒子を提供するのに十分な含量で含まれうる。   The inorganic particles or inorganic particle precursors may be included in a content sufficient to provide from about 5 wt% to about 95 wt% inorganic particles based on the weight of the copolymer. Specifically, the inorganic particles or inorganic particle precursor is about 10 wt% to about 90 wt% based on the weight of the copolymer, more specifically about 15 wt% based on the weight of the copolymer. % To about 80% by weight of inorganic particles may be included.

前記含量範囲で前記無機粒子または無機粒子の前駆体を含む場合、ポリイミド共重合体のみを用いる場合に比べて、高い光学特性を維持しながらも、優れた耐熱性及び低い熱膨張係数(CTE)を実現することができる。   When the content range includes the inorganic particles or inorganic particle precursors, excellent heat resistance and a low coefficient of thermal expansion (CTE) are maintained while maintaining high optical properties as compared with the case of using only a polyimide copolymer. Can be realized.

前記コポリマーが前記無機粒子または無機粒子の前駆体を含む場合、前記コポリマーと前記無機粒子または無機粒子の前駆体を含む複合体組成物は、高い機械的強度、耐熱性、及び優れた光学特性が実現され、熱膨張係数(CTE)を下げることができ、加工性も一層改善される。   When the copolymer includes the inorganic particles or inorganic particle precursor, the composite composition including the copolymer and the inorganic particles or inorganic particle precursor has high mechanical strength, heat resistance, and excellent optical properties. Realized, the coefficient of thermal expansion (CTE) can be lowered, and the workability is further improved.

ディスプレイ用プラスチック基板には、高い透光度、耐溶媒性、低い熱膨張係数(CTE)、耐熱性などが求められ、特に、有機発光ダイオード(OLED)向けプラスチック基板の場合、酸化物薄膜トランジスター(oxide TFT)またはポリシリコン薄膜トランジスター(polysilicon TFT)の形成に際して400℃以上の高温に晒される(露出される)ため、高い耐熱性と、高温における無色、透明性の維持が必要である。   Plastic substrates for displays are required to have high light transmittance, solvent resistance, low coefficient of thermal expansion (CTE), heat resistance, and the like. In particular, in the case of plastic substrates for organic light emitting diodes (OLED), oxide thin film transistors ( Oxide TFTs) or polysilicon thin film transistors (polysilicon TFTs) are exposed to (exposed to) a high temperature of 400 ° C. or higher. Therefore, it is necessary to maintain high heat resistance and colorlessness and transparency at high temperatures.

しかしながら、ほとんどのポリマーの場合、400℃以上の温度に晒される(露出される)場合に黄変によってOLED向け基板として用い難い場合が多い。一般に多用されるポリイミドの場合、光学的特性を改善するために、バルキーな側鎖基、またはキンク(kink)構造を導入したり、フルオリン化合物を用いたりする場合が多いが、この場合、熱膨張係数(CTE)が高くなるという問題がある。なお、脂環族化合物を導入したポリマーの場合、透光度及び低い熱膨張係数(CTE)を達成することができるが、熱的安定性が不足して高温における酸化による変色の問題が深刻である。   However, in the case of most polymers, when exposed to a temperature of 400 ° C. or higher (exposed), it is often difficult to use as a substrate for OLED due to yellowing. In the case of polyimide which is generally used frequently, in order to improve the optical characteristics, a bulky side chain group or a kink structure is often introduced, or a fluorin compound is often used. There is a problem that the coefficient (CTE) becomes high. In the case of a polymer in which an alicyclic compound is introduced, it is possible to achieve translucency and a low coefficient of thermal expansion (CTE), but the thermal stability is insufficient and the problem of discoloration due to oxidation at high temperature is serious. is there.

しかしながら、前記実施形態に係るコポリマーと無機粒子またはこの前駆体を含む複合体組成物は、透明、無色の特徴を示すポリイミドまたはポリ(イミド−アミド)コポリマーを基本とし、ここにシリカまたはTiOなどの無機粒子またはこれらの前駆体を含む複合体組成物を形成することにより、前記無機粒子または無機粒子の前駆体による高い耐熱性、機械的強度、及び低い熱膨張係数(CTE)が実現される。特に、前記組成物は、フィルムの形成に際して即座に前記コポリマーと前記無機粒子または無機粒子の前駆体が架橋結合を形成することにより、より高い機械的強度、耐熱性、及び優れた光学的特性が実現される。 However, the composite composition including the copolymer and the inorganic particles or the precursor thereof according to the above embodiment is based on a polyimide or poly (imide-amide) copolymer having transparent and colorless characteristics, and silica or TiO 2 is used here. By forming a composite composition containing inorganic particles or precursors thereof, high heat resistance, mechanical strength, and a low coefficient of thermal expansion (CTE) due to the inorganic particles or inorganic particle precursors are realized. . In particular, the composition has higher mechanical strength, heat resistance, and excellent optical properties by forming a crosslink between the copolymer and the inorganic particles or the precursor of the inorganic particles immediately upon forming the film. Realized.

さらに、上述したように、無機物の高充填による相分離の問題を解消するためにオリゴマー末端にシロキサンまたはシラノール基を置換することにより、これらのシロキサンまたはシラノール末端は、前記無機粒子または無機粒子の前駆体と前記コポリマーとが架橋結合を形成するようにし、これにより、一層高い機械的強度及び一層高い耐熱性並びに優れた光学特性が実現される。   Further, as described above, by replacing siloxane or silanol groups at the oligomer ends in order to eliminate the problem of phase separation due to high packing of inorganic substances, these siloxane or silanol ends are the precursors of the inorganic particles or inorganic particles. The body and the copolymer form a crosslink, which results in higher mechanical strength and higher heat resistance and superior optical properties.

具体的に、前記ポリイミドコポリマー(ポリアミドコポリマーないしポリ(アミド−イミド)コポリマー)は、約380nm〜約750nmの波長範囲において総光線透過率が約80%以上であってもよく、約400nmの波長の光に対する光線透過率が約55%以上であってもよい。前記ポリイミドコポリマー(ポリアミドコポリマーないしポリ(アミド−イミド)コポリマー)の光に対する光線透過率が前記範囲内である場合に、前記ポリイミドコポリマー(ポリアミドコポリマーないしポリ(アミド−イミド)コポリマー)は、透明性が求められる種々の分野に用いられる成形品の製造のために使用可能であり、優れた色再現性を有することができる。具体的には、前記ポリイミドコポリマー(ポリアミドコポリマーないしポリ(アミド−イミド)コポリマー)は、約380nm〜約750nmの波長範囲において総光線透過率が約80%ないし約95%であってもよく、約400nmの波長の光に対する光線透過率が約55%ないし約90%であってもよい。   Specifically, the polyimide copolymer (polyamide copolymer or poly (amide-imide) copolymer) may have a total light transmittance of about 80% or more in a wavelength range of about 380 nm to about 750 nm, and a wavelength of about 400 nm. The light transmittance for light may be about 55% or more. When the light transmittance of the polyimide copolymer (polyamide copolymer or poly (amide-imide) copolymer) is within the above range, the polyimide copolymer (polyamide copolymer or poly (amide-imide) copolymer) has transparency. It can be used for the production of molded products used in various fields that are required, and can have excellent color reproducibility. Specifically, the polyimide copolymer (polyamide copolymer or poly (amide-imide) copolymer) may have a total light transmittance of about 80% to about 95% in a wavelength range of about 380 nm to about 750 nm, The light transmittance for light having a wavelength of 400 nm may be about 55% to about 90%.

一方、前記組成物内のポリイミドまたはポリ(イミド−アミド)コポリマーは、ブロックコポリマー、ランダムコポリマー、交互コポリマーなど、いずれの形態でもよい。   On the other hand, the polyimide or poly (imide-amide) copolymer in the composition may be in any form such as a block copolymer, a random copolymer, and an alternating copolymer.

以下、前記コポリマーと前記無機粒子またはその前駆体を含む複合体組成物の製造方法について説明する。   Hereinafter, the manufacturing method of the composite composition containing the said copolymer and the said inorganic particle or its precursor is demonstrated.

本発明の一実施形態により、前記第1の繰り返し単位及び/又は前記第2の繰り返し単位と、前記第3の繰り返し単位とを含むコポリマーの製造方法は、ジアミン及びジカルボン酸誘導体から上記一般式1で表わされる繰り返し単位、上記一般式2で表わされる繰り返し単位、またはこれらの繰り返し単位の組み合わせであるモノマーを製造するステップと、前記製造されたモノマーに、上記一般式3で表わされるイミド繰り返し単位、またはイミド化によって上記一般式3のイミドを形成するアミド酸繰り返し単位を製造するためのモノマー、及び/又は上記一般式4で表わされるイミド繰り返し単位、またはイミド化によって上記一般式4のイミドを形成するアミド酸繰り返し単位を製造するためのモノマーを添加して一緒に共重合するステップと、前記共重合されたコポリマーの少なくとも一方の末端に前記置換若しくは非置換のシロキサンまたはシラノール基を置換するステップと、を含む。一実施形態においては、前記コポリマーは両末端の両方において、それぞれ独立して、前記置換若しくは非置換のシロキサンまたはシラノール基で置換されてもよい。   According to an embodiment of the present invention, a method for producing a copolymer including the first repeating unit and / or the second repeating unit and the third repeating unit may be obtained by using the above general formula 1 from a diamine and a dicarboxylic acid derivative. And a step of producing a monomer that is a repeating unit represented by the above general formula 2, or a combination of these repeating units, and an imide repeating unit represented by the above general formula 3 in the produced monomer, Alternatively, a monomer for producing an amic acid repeating unit that forms an imide of the above general formula 3 by imidization, and / or an imide repeating unit represented by the above general formula 4, or an imide of the above general formula 4 by imidization Add monomers to produce amic acid repeating units and copolymerize together Comprising a step, replacing said substituted or unsubstituted siloxane or silanol group at at least one end of the co-polymerized copolymer, a. In one embodiment, the copolymer may be independently substituted with the substituted or unsubstituted siloxane or silanol groups at both ends.

本発明の実施形態に係るコポリマーは、一部特定の方法によってのみ製造することができるわけではなく、当該技術分野において通常の知識を有する者に公知のポリ(イミド−アミド)コポリマーの製造に関する種々の方法を使用して製造することができるということが十分理解できるであろう。   The copolymers according to embodiments of the present invention can not be produced only in part by a specific method, but various related to the production of poly (imide-amide) copolymers known to those having ordinary knowledge in the art. It will be appreciated that the method can be used to manufacture.

上記一般式1及び一般式2の繰り返し単位は、アミド繰り返し単位であって、これらは一般に、例えば、低温溶液重合法、界面重合法、溶融重合法、固相重合法などを用いて製造することができるが、これに限定されるものではない。   The repeating units of the above general formula 1 and general formula 2 are amide repeating units, and these are generally produced using, for example, a low temperature solution polymerization method, an interfacial polymerization method, a melt polymerization method, a solid phase polymerization method, and the like. However, it is not limited to this.

これらのうち、低温溶液重合法を例にとって前記アミド繰り返し単位を製造する方法について説明する。前記低温溶液重合法は、非プロトン性極性溶媒にてカルボキシル酸ジクロライドとジアミンを重合することによりアミド繰り返し単位を製造する。   Among these, a method for producing the amide repeating unit will be described by taking a low temperature solution polymerization method as an example. In the low temperature solution polymerization method, amide repeating units are produced by polymerizing carboxylic acid dichloride and diamine in an aprotic polar solvent.

前記非プロトン性極性溶媒は、例えば、ジメチルスルホキシド、ジエチルスルホキシドなどのスルホキシド系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジエチルホルムアミドなどのホルムアミド系溶媒、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジエチルアセトアミドなどのアセトアミド系溶媒、N−メチル−2−ピロリドン、N−ビニル−2−ピロリドンなどのピロリドン系溶媒、フェノール、o−、m−またはp−クレゾール、キシレノール、ハロゲン化フェノール、カテコールなどのフェノール系溶媒、或いは、ヘキサメチルホスホルアミド(hexamethylphosphoramide)、γ−ブチロラクトンなどが挙げられ、これらを単独でまたは組み合わせて用いることができる。しかしながら、本発明はこれに限定されるものではなく、キシレン、トルエンなどの芳香族炭化水素を用いることもできる。なお、ポリマーの溶解を促すために、前記溶媒に前記溶媒の総量に対して約50重量%以下のアルカリ金属塩またはアルカリ土類金属塩をさらに添加することもできる。   Examples of the aprotic polar solvent include sulfoxide solvents such as dimethyl sulfoxide and diethyl sulfoxide, formamide solvents such as N, N-dimethylformamide and N, N-diethylformamide, N, N-dimethylacetamide, and N, N. -Acetamide solvents such as diethylacetamide, pyrrolidone solvents such as N-methyl-2-pyrrolidone and N-vinyl-2-pyrrolidone, phenol, o-, m- or p-cresol, xylenol, halogenated phenol, catechol, etc. Phenolic solvents, hexamethylphosphoramide, γ-butyrolactone, and the like, which can be used alone or in combination. However, the present invention is not limited to this, and aromatic hydrocarbons such as xylene and toluene can also be used. In order to promote dissolution of the polymer, an alkali metal salt or an alkaline earth metal salt of about 50% by weight or less based on the total amount of the solvent can be further added to the solvent.

上記一般式1または一般式2の繰り返し単位は、前記非プロトン性極性溶媒の存在下、例えば、4,4’−(9−フルオレニリデン)ジアニリン(4,4’−(9−fluorenylidene)dianiline;BAPF)、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン(2,2’−bis(trifluoromethyl)benzidine;TFDB)、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン(4,4’−diaminodiphenyl sulfone;DADPS)、ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)スルホン(bis(4−(4−aminophenoxy)phenyl)sulfone;BAPS)、2,2’,5,5’−テトラクロロベンジジン(2,2’,5,5’−tetrachlorobenzidine)、2,7−ジアミノフルオレン(2,7−diaminofluorene)、1,1−ビス(4−アミノフェニル)シクロヘキサン(1,1−bis(4−aminophenyl)cyclohexane)、4,4’−メチレンビス−(2−メチルシクロヘキシルアミン)(4,4’−methylenebis−(2−methylcyclohexylamine))、4,4−ジアミノオクタフルオロビフェニル(4,4−diaminooctafluorobiphenyl)、3,3’−ジヒドロキシベンジジン(3,3’−dihydroxybenzidine)、1,3−シクロヘキサンジアミン(1,3−cyclohexanediamine)及びこれらの組み合わせよりなる群から選ばれるジアミンと、例えば、トレフタロイルクロライド(terephthaloyl chloride;TPCl)、イソフタロイルクロライド(isophthaloyl chloride;IPCl)、ビフェニルジカルボニルクロライド(biphenyl dicarbonyl chloride;BPCl)、ナフタレンジカルボニルクロライド、テルフェニルジカルボニルクロライド、2−フルオロ−トレフタロイルクロライド及びこれらの組み合わせよりなる群から選ばれるカルボン酸ジクロライドとを混合して反応させることにより得られる。このとき、一般式1の繰り返し単位または一般式2の繰り返し単位の所望の組成に合わせて、前記ジアミンと前記カルボン酸ジクロライドの種類及び量を適切に選択して用いることができるということはいうまでもない。   In the presence of the aprotic polar solvent, for example, 4,4 ′-(9-fluorenylidene) dianiline (4,4 ′-(9-fluorenylidene) dianiline; BAPF ), 2,2′-bis (trifluoromethyl) benzidine (2,2′-bis (trifluoromethyl) benzidine; TFDB), 4,4′-diaminodiphenyl sulfone (DADPS), bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) sulfone (bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) sulfone; BAPS), 2,2 ′, 5,5′-tetrachlorobenzidine (2,2 ′, 5, 5'-tetrac lorobenzidine), 2,7-diaminofluorene, 1,1-bis (4-aminophenyl) cyclohexane (1,1-bis (4-aminophenyl) cyclohexane), 4,4′-methylenebis- (2-methylcyclohexylamine) (4,4′-methylenebis- (2-methylcyclohexylamine)), 4,4-diaminooctafluorobiphenyl, 3,3′-dihydroxybenzidine (3,3 ′ -Dihydroxybenzidine), 1,3-cyclohexanediamine (1,3-cyclohexanediamine) and combinations thereof Diamines selected from the group such as, for example, terephthaloyl chloride (TPCl), isophthaloyl chloride (IPCl), biphenyl dicarbonyl chloride (BPCl), naphthalene diphenyl chloride It can be obtained by mixing and reacting with a carboxylic acid dichloride selected from the group consisting of dicarbonyl chloride, 2-fluoro-trephthaloyl chloride and combinations thereof. At this time, it goes without saying that the types and amounts of the diamine and the carboxylic acid dichloride can be appropriately selected and used in accordance with the desired composition of the repeating unit of the general formula 1 or the repeating unit of the general formula 2. Nor.

一方、上記一般式1の繰り返し単位または一般式2の繰り返し単位の製造に際して、前記ジアミンを前記カルボン酸ジクロライドよりも過剰に用いる場合に、製造された繰り返し単位の末端にアミン基が存在するようにしてもよい。   On the other hand, when the diamine is used in excess of the carboxylic acid dichloride in the production of the repeating unit of the general formula 1 or the repeating unit of the general formula 2, an amine group is present at the terminal of the produced repeating unit. May be.

一方、上記一般式3及び一般式4の繰り返し単位はイミド繰り返し単位であって、これらのイミド(ポリイミド)は、一般に、イミド(ポリイミド)の前駆体であるアミド酸(ポリアミド酸;ポリアミック酸)を製造した後、これをイミド化する通常の方法により製造することができる。例えば、イミド(ポリイミド)の前駆体であるアミド酸(ポリアミド酸;ポリアミック酸)は、テトラカルボン酸二無水物とジアミンを反応させて製造することができ、これを熱的または化学的イミド化によってポリイミドを製造することができる。   On the other hand, the repeating units of the above general formula 3 and general formula 4 are imide repeating units, and these imides (polyimides) are generally amide acids (polyamide acids; polyamic acids) that are precursors of imides (polyimides). After the production, it can be produced by a usual method of imidizing it. For example, amide acid (polyamide acid; polyamic acid), which is a precursor of imide (polyimide), can be produced by reacting tetracarboxylic dianhydride with diamine, and this can be produced by thermal or chemical imidization. Polyimide can be produced.

一例として、前記アミド酸(ポリアミド酸;ポリアミック酸)の製造のためには、例えば、2,2−ビス−(3,4−ジカルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパンジアンハイドライド(2,2−bis−(3,4−dicarboxyphenyl)hexafluoropropane dianhydride;6FDA)、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボキシリックジアンハイドライド(3,3’,4,4’−biphenyltetracarboxylic dianhydride;BPDA)、ベンゾフェノンテトラカルボキシリックジアンハイドライド(benzophenone tetracarboxylic dianhydride;BTDA)、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スルホンジアンハイドライド(bis(3,4−dicarboxyphenyl)sulfone dianhydride)及びこれらの組み合わせよりなる群から選ばれるテトラカルボン酸二無水物と、例えば、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン(2,2’−bis(trifluoromethyl)benzidine;TFDB)、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン(4,4’−diaminodiphenyl sulfone;DADPS)、4,4’−(9−フルオレニリデン)ジアニリン(4,4’−(9−fluorenylidene)dianiline;BAPF)、ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)スルホン(bis(4−(4−aminophenoxy)phenyl)sulfone;BAPS)、2,2’,5,5’−テトラクロロベンジジン(2,2’,5,5’−tetrachlorobenzidine)、2,7−ジアミノフルオレン(2,7−diaminofluorene)、1,1−ビス(4−アミノフェニル)シクロヘキサン(1,1−bis(4−aminophenyl)cyclohexane)、4,4’−メチレンビス−(2−メチルシクロヘキシルアミン)(4,4’−methylenebis−(2−methylcyclohexylamine))、4,4−ジアミノオクタフルオロビフェニル(4,4−diaminooctafluorobiphenyl)、3,3’−ジヒドロキシベンジジン(3,3’−dihydroxybenzidine)、1,3−シクロヘキサンジアミン(1,3−cyclohexanediamine)及びこれらの組み合わせよりなる群から選ばれるジアミンを用いて製造することができる。このとき、所望の組成に合わせて、前記テトラカルボン酸二無水物と前記ジアミンの種類及び量を適切に選択して用いることができるということはいうまでもない。   As an example, for the production of the amic acid (polyamic acid; polyamic acid), for example, 2,2-bis- (3,4-dicarboxyphenyl) hexafluoropropane dianhydride (2,2-bis- ( 3,4-dicarboxylicboxyl) hexafluoropropane dianhydride; 6FDA), 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride (3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride), PD Hydride (benzophenone tetracarboxylic dianhydride; BTDA), bis (3,4-dicarboxyphenyl) sulfo A tetracarboxylic dianhydride selected from the group consisting of bis (3,4-dicboxyphenyl) sulfone dianhydride and combinations thereof, for example, 2,2′-bis (trifluoromethyl) benzidine (2,2 '-Bis (trifluoromethyl) benzidine; TFDB), 4,4'-diaminodiphenyl sulfone (DADPS), 4,4'-(9-fluorenylidene) dianiline (4,4 '-(9 -Fluorenylidene) dianline; BAPF), bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) sulfone (bis (4- (4-aminophenoxy) phenyl) s BAPS), 2,2 ′, 5,5′-tetrachlorobenzidine (2,2 ′, 5,5′-tetrachlorobenzidine), 2,7-diaminofluorene, 1,1- Bis (4-aminophenyl) cyclohexane (1,1-bis (4-aminophenyl) cyclohexane), 4,4′-methylenebis- (2-methylcyclohexylamine) (4,4′-methylenebis- (2-methylcyclohexylamine)) 4,4-diaminooctafluorobiphenyl, 3,3′-dihydroxybenzidine, 1,3, 4,4-diaminooctafluorobiphenyl, 3,3′-dihydroxybenzidine, 1,3 -It can manufacture using the diamine chosen from the group which consists of cyclohexanediamine (1,3-cyclohexaneamine) and these combination. At this time, it goes without saying that the types and amounts of the tetracarboxylic dianhydride and the diamine can be appropriately selected and used according to the desired composition.

一方、前記アミド酸(ポリアミド酸;ポリアミック酸)の製造に際して、前記ジアミンを前記テトラカルボン酸二無水物よりも過剰に用いる場合、製造されるコポリマーの末端にアミン基が存在するようにしてもよい。   On the other hand, when the diamine is used in excess of the tetracarboxylic dianhydride in the production of the amic acid (polyamic acid; polyamic acid), an amine group may be present at the terminal of the produced copolymer. .

上記では、一般式1及び/又は一般式2の繰り返し単位を含むポリアミドの製造方法、及び一般式3及び/又は一般式4の繰り返し単位を含むポリイミドの製造方法をそれぞれ説明したが、本発明の一実施形態に係るポリ(アミド−イミド)コポリマーを製造する場合、前記それぞれの繰り返し単位を形成するモノマーを一緒に混合して重合するか、または、先にアミド繰り返し単位を含むモノマーを製造した後、ここにイミド製造用のモノマーを添加して共重合することによってポリ(アミド−イミド)コポリマーを製造することもできる。   In the above, the production method of the polyamide containing the repeating unit of the general formula 1 and / or the general formula 2 and the production method of the polyimide containing the repeating unit of the general formula 3 and / or the general formula 4 are respectively described. When producing a poly (amide-imide) copolymer according to an embodiment, the monomers forming the respective repeating units are mixed together and polymerized, or after the monomer containing the amide repeating unit is first produced. A poly (amide-imide) copolymer can also be produced by adding a monomer for imide production and copolymerizing it.

上記のようにして製造されたコポリマーの一方の末端にシロキサンまたはシラノール基を置換する。すなわち、前記製造されたポリ(アミド−イミド)コポリマー溶液に、上述した一般式20のシロキサンまたはシラノール基を含む化合物を添加し、これを攪拌、混合することにより、コポリマーの(少なくとも)一方の末端にシロキサンまたはシラノール基が置換されたポリ(アミド−イミド)コポリマーを得られる。   A siloxane or silanol group is substituted at one end of the copolymer prepared as described above. That is, by adding the above-mentioned compound containing a siloxane or silanol group of the general formula 20 to the prepared poly (amide-imide) copolymer solution, and stirring and mixing it, (at least) one end of the copolymer A poly (amide-imide) copolymer substituted with a siloxane or silanol group is obtained.

このように、コポリマーの(少なくとも)一方の末端にシロキサンまたはシラノール基を置換することは、コポリマーの製造後に、前記コポリマーを含む溶液にシロキサンまたはシラノール基を含む化合物を混合するだけで行われる。   Thus, the substitution of the siloxane or silanol group at (at least) one end of the copolymer is performed simply by mixing the compound containing the siloxane or silanol group into the solution containing the copolymer after the production of the copolymer.

以下、前記製造された、(少なくとも)一方の末端にシロキサンまたはシラノール基が置換されたコポリマーと、無機粒子または無機粒子の前駆体を含む複合体組成物の製造方法について説明する。この複合体組成物の製造方法も簡単である。   Hereinafter, a method for producing a composite composition containing the produced copolymer having at least one siloxane or silanol group substituted at one end and inorganic particles or inorganic particle precursors will be described. The manufacturing method of this composite composition is also simple.

すなわち、前記製造された(少なくとも)一方の末端にシロキサンまたはシラノール基が置換されたコポリマーに、無機粒子または無機粒子の前駆体を含む溶液を添加し、これらを混合、攪拌することにより、前記シロキサンまたはシラノール基が置換されたコポリマーと無機粒子またはその前駆体を含む複合体組成物を製造することができる。   That is, a solution containing inorganic particles or a precursor of inorganic particles is added to the produced copolymer having at least one siloxane or silanol group substituted at one end, and these are mixed and stirred to obtain the siloxane. Alternatively, a composite composition comprising a copolymer substituted with silanol groups and inorganic particles or a precursor thereof can be produced.

前記複合体組成物は、これを基板の上にコートして乾燥することにより、無機ナノ粒子を含む有機高分子フィルムに成形可能である。   The composite composition can be formed into an organic polymer film containing inorganic nanoparticles by coating it on a substrate and drying it.

前記実施形態に係るコポリマーは、所望の用途に応じて分子量を適切に調節することにより、オリゴマーまたは高分子量のポリマーとして製造可能である。   The copolymer according to the embodiment can be produced as an oligomer or a high molecular weight polymer by appropriately adjusting the molecular weight according to a desired application.

オリゴマーとして製造する場合に、これは粘度が低くてOLED向け基板の製造に用いられるスピンコートに好適である。すなわち、上述したようにして製造されたオリゴマーと無機粒子との複合体組成物を基板の上にスピンコートし、これを乾燥することにより、直ちにOLED向け透明基板フィルムを容易に製造することができる。オリゴマーを用いて光学フィルムを製造することが容易ではないが、本発明の一実施形態に係るオリゴマーと無機粒子との複合体組成物を用いる場合に、上述したように、前記オリゴマーの(少なくとも)一方の末端に置換されたシロキサンまたはシラノール基と、前記無機粒子または無機粒子前駆体がフィルムの形成と同時にインサイチュにて架橋結合を形成することにより、十分な引っ張り強度と機械的強度、高い耐熱性と低い熱膨張係数(CTE)、及び透明度を維持する光学フィルムとして製造可能である。   When manufactured as an oligomer, it has a low viscosity and is suitable for spin coating used in the manufacture of substrates for OLEDs. That is, a transparent substrate film for OLED can be easily produced immediately by spin-coating the composite composition of oligomer and inorganic particles produced as described above on a substrate and drying it. . Although it is not easy to produce an optical film using an oligomer, when using a composite composition of an oligomer and inorganic particles according to an embodiment of the present invention, as described above, (at least) of the oligomer Sufficient tensile strength, mechanical strength, and high heat resistance are achieved by forming a siloxane or silanol group substituted at one end and the inorganic particle or inorganic particle precursor forms a cross-link bond in situ at the same time as the film is formed. And an optical film that maintains a low coefficient of thermal expansion (CTE) and transparency.

したがって、本発明のさらに他の一実施形態においては、前記コポリマーと無機粒子との複合体を含む成形品を提供する。   Therefore, in still another embodiment of the present invention, a molded article including a composite of the copolymer and inorganic particles is provided.

前記成形品は、フィルム、ファイバ、コート材、接着剤などであってもよいが、これに限定されるものではない。   The molded product may be a film, a fiber, a coating material, an adhesive, or the like, but is not limited thereto.

前記成形品は、前記コポリマーと無機粒子との複合体組成物を用いて、乾湿式法、乾式法、湿式法などにより形成することができるが、これに限定されるものではない。具体的に、上述したように、前記成形品は、光学フィルムであってもよく、この場合、前記コポリマーと無機粒子との複合体組成物は、基板の上にスピンコートなどの方法により適用された後、これを乾燥及び硬化することにより容易に製造可能である。   The molded product may be formed by a dry / wet method, a dry method, a wet method, or the like using a composite composition of the copolymer and inorganic particles, but is not limited thereto. Specifically, as described above, the molded article may be an optical film. In this case, the composite composition of the copolymer and the inorganic particles is applied onto a substrate by a method such as spin coating. After that, it can be easily manufactured by drying and curing.

前記コポリマーと無機粒子との複合体を含む成形品は、360nm〜700nmの波長範囲において総光線透過率が約70%以上、具体的には(好ましくは)、約75%以上であってもよく、430nmの波長の光に対する光線透過率が約55%、具体的には(好ましくは)、約60%以上であってもよい。前記コポリマーと無機粒子との複合体を含む成形品の光に対する光線透過率が前記範囲内である場合に、前記成形品は、優れた色再現性を有することができる。具体的には(好ましくは)、前記成形品は、360nm〜750nmの波長範囲において総光線透過率が約75%〜約95%であってもよく、430nmの波長の光に対する光線透過率が約60%〜約90%であってもよい。   The molded article containing the composite of the copolymer and the inorganic particles may have a total light transmittance of about 70% or more, specifically (preferably) about 75% or more in a wavelength range of 360 nm to 700 nm. The light transmittance for light having a wavelength of 430 nm may be about 55%, specifically (preferably) about 60% or more. When the light transmittance of the molded product containing the composite of the copolymer and inorganic particles is within the above range, the molded product can have excellent color reproducibility. Specifically (preferably), the molded article may have a total light transmittance of about 75% to about 95% in a wavelength range of 360 nm to 750 nm, and a light transmittance of about 430 nm light. It may be 60% to about 90%.

前記成形品は、約30ppm/℃以下の熱膨張係数(CTE)を有することができる。前記成形品の熱膨張係数が前記範囲内である場合、優れた耐熱性を有することができる。具体的には、前記成形品は、約25ppm/℃以下、さらに具体的には、約20ppm/℃以下の熱膨張係数を有することができる。   The molded article may have a coefficient of thermal expansion (CTE) of about 30 ppm / ° C. or less. When the thermal expansion coefficient of the molded product is within the above range, it can have excellent heat resistance. Specifically, the molded article may have a thermal expansion coefficient of about 25 ppm / ° C. or less, more specifically about 20 ppm / ° C. or less.

前記成形品は、約400℃以上のガラス転移温度(Tg)を有する。本発明の一実施形態に係るコポリマーと無機粒子との複合体組成物は、前記無機粒子の導入によって、ガラス転移温度が400℃以上に顕著に向上可能であり、このような高いガラス転移温度は、OLEDの製造などの高温における工程のために非常に重要である。   The molded article has a glass transition temperature (Tg) of about 400 ° C. or higher. The composite composition of a copolymer and inorganic particles according to an embodiment of the present invention can significantly improve the glass transition temperature to 400 ° C. or more by introducing the inorganic particles, and such a high glass transition temperature is It is very important for high temperature processes such as OLED manufacturing.

前記成形品は、約7%以下のヘイズを有することができる。前記成形品のヘイズの範囲が前記範囲内である場合に、前記成形品は十分に透明であるため優れた鮮明度を有することができる。具体的には、前記成形品は、約5%以下、さらに具体的には、約3%以下のヘイズを有することができる。   The molded article may have a haze of about 7% or less. When the haze range of the molded product is within the above range, the molded product is sufficiently transparent, and thus can have excellent sharpness. Specifically, the molded article may have a haze of about 5% or less, more specifically about 3% or less.

前記成形品は、約20%以下の黄色度(yellow index;YI)を有することができる。前記成形品の黄色度が前記範囲内である場合、透明な無色を帯びることがある。   The molded article may have a yellow index (YI) of about 20% or less. When the yellowness of the molded product is within the above range, it may be transparent and colorless.

前記成形品がフィルムである場合、例えば、約0.01μm〜約1,000μmの厚さを有することができるが、これに限定されるものではなく、用途に応じて厚さを適切に調節することができる。   When the molded article is a film, for example, it may have a thickness of about 0.01 μm to about 1,000 μm, but is not limited thereto, and the thickness is appropriately adjusted according to the application. be able to.

前記成形品は、上記の如き透明性、耐熱性、機械的強度、及び低い熱膨張係数(CTE)を有しながらも、コポリマーの柔軟性をそのまま維持することにより、前記成形品は、素子用の基板、ディスプレイ用の基板、光学フィルム、集積回路(integrated circuit;IC)パッケージ、電着フィルム(adhesive film)、多層可撓性プリント回路(flexible printed circuit;FRC)、テープ、タッチパネル、光ディスク用保護フィルムなどの種々の分野において使用可能である。   The molded article has the transparency, heat resistance, mechanical strength, and low coefficient of thermal expansion (CTE) as described above, and maintains the flexibility of the copolymer as it is. Substrate, display substrate, optical film, integrated circuit (IC) package, electrodeposited film, multi-layer flexible printed circuit (FRC), tape, touch panel, optical disk protection It can be used in various fields such as film.

本発明のさらに他の実施形態によれば、前記成形品を備えるディスプレイ装置を提供する。具体的には、前記ディスプレイ装置は、液晶表示装置(liquid cryatal display device;LCD)、有機発光ダイオードなどが挙げられるが、これに限定されるものではない。   According to still another embodiment of the present invention, a display device including the molded product is provided. Specifically, the display device may be a liquid crystal display device (LCD), an organic light emitting diode, or the like, but is not limited thereto.

前記ディスプレイ装置のうち液晶表示装置(LCD)について図1に基づいて説明する。図1は、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置の断面図である。   A liquid crystal display device (LCD) among the display devices will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a cross-sectional view of a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention.

図1を参照すると、前記液晶表示装置は、薄膜トランジスター表示板100と、これと向かい合う共通電極表示板200と、両表示板100、200の間に挟持されている液晶層3と、を備える。   Referring to FIG. 1, the liquid crystal display device includes a thin film transistor display panel 100, a common electrode display panel 200 facing the thin film transistor display panel 100, and a liquid crystal layer 3 sandwiched between the display panels 100 and 200.

先ず、薄膜トランジスター表示板100について説明する。   First, the thin film transistor array panel 100 will be described.

基板110の上に、ゲート電極124と、ゲート絶縁膜140と、半導体154と、複数の抵抗性接触部材163、165と、ソース電極173及びドレイン電極175がこの順に形成されている。ソース電極173及びドレイン電極175は互いに分離されており、ゲート電極124を中心として向かい合う。   On the substrate 110, a gate electrode 124, a gate insulating film 140, a semiconductor 154, a plurality of resistive contact members 163 and 165, a source electrode 173, and a drain electrode 175 are formed in this order. The source electrode 173 and the drain electrode 175 are separated from each other and face each other with the gate electrode 124 as the center.

一つのゲート電極124と、一つのソース電極173及び一つのドレイン電極175は、半導体154とともに一つの薄膜トランジスター(thin film transistor;TFT)をなし、薄膜トランジスターのチャネルは、ソース電極173とドレイン電極175との間の半導体154に形成される。   One gate electrode 124, one source electrode 173, and one drain electrode 175 form one thin film transistor (TFT) together with the semiconductor 154, and the channel of the thin film transistor includes the source electrode 173 and the drain electrode 175. Is formed in the semiconductor 154 therebetween.

ゲート絶縁膜140と、ソース電極173及びドレイン電極175の上には保護膜180が形成されており、保護膜180には、ドレイン電極175を露出する接触口185が形成されている。   A protective film 180 is formed on the gate insulating film 140, the source electrode 173, and the drain electrode 175, and a contact hole 185 that exposes the drain electrode 175 is formed in the protective film 180.

保護膜180の上には、ITOまたはIZOなどの透明な導電物質からなる画素電極191が形成されている。画素電極191は、接触口185を介してドレイン電極175と接続される。   A pixel electrode 191 made of a transparent conductive material such as ITO or IZO is formed on the protective film 180. The pixel electrode 191 is connected to the drain electrode 175 through the contact port 185.

次いで、共通電極表示板200について説明する。   Next, the common electrode panel 200 will be described.

共通電極表示板200は、基板210の上にブラックマトリックスと呼ばれる遮光部材220が形成されており、基板210及び遮光部材220の上にはカラーフィルタ230が形成されており、カラーフィルタ230の上には共通電極270が形成されている。   In the common electrode panel 200, a light shielding member 220 called a black matrix is formed on a substrate 210, and a color filter 230 is formed on the substrate 210 and the light shielding member 220. A common electrode 270 is formed.

このとき、前記基板110、210は、前記ポリ(アミド−イミド)コポリマーと無機粒子の複合体を含む成形品から製作されていてもよい。   At this time, the substrates 110 and 210 may be manufactured from a molded product including a composite of the poly (amide-imide) copolymer and inorganic particles.

一方、前記ディスプレイ装置のうち有機発光ダイオード(OLED)について図2に基づいて説明する。図2は、本発明の一実施形態に係る有機発光ダイオードの断面図である。   Meanwhile, an organic light emitting diode (OLED) in the display device will be described with reference to FIG. FIG. 2 is a cross-sectional view of an organic light emitting diode according to an embodiment of the present invention.

図2を参照すると、基板300の上に薄膜トランジスター320と、キャパシター330及び有機発光素子340が形成されている。薄膜トランジスター320は、ソース電極321と、半導体層323と、ゲート電極325及びドレイン電極322を備え、キャパシター330は、第1のキャパシター331及び第2のキャパシター332を備え、有機発光素子340は、画素電極341と、中間層342及び対向電極343を備える。   Referring to FIG. 2, the thin film transistor 320, the capacitor 330, and the organic light emitting device 340 are formed on the substrate 300. The thin film transistor 320 includes a source electrode 321, a semiconductor layer 323, a gate electrode 325 and a drain electrode 322, the capacitor 330 includes a first capacitor 331 and a second capacitor 332, and the organic light emitting device 340 includes a pixel. An electrode 341, an intermediate layer 342, and a counter electrode 343 are provided.

具体的には、基板300の上に、半導体層323と、ゲート絶縁膜311と、第1のキャパシター331と、ゲート電極325と、層間絶縁膜313と、第2のキャパシター332と、ソース電極321及びドレイン電極322が形成されている。ソース電極321及びドレイン電極322は互いに分離されており、ゲート電極325を中心として向かい合う。   Specifically, the semiconductor layer 323, the gate insulating film 311, the first capacitor 331, the gate electrode 325, the interlayer insulating film 313, the second capacitor 332, and the source electrode 321 are formed on the substrate 300. In addition, a drain electrode 322 is formed. The source electrode 321 and the drain electrode 322 are separated from each other and face each other with the gate electrode 325 as the center.

層間絶縁膜313と、第2のキャパシター332と、ソース電極321及びドレイン電極322の上には平坦化膜317が形成されており、平坦化膜317には、ドレイン電極322を露出する接触口319が形成されている。   A planarization film 317 is formed on the interlayer insulating film 313, the second capacitor 332, the source electrode 321, and the drain electrode 322, and a contact hole 319 exposing the drain electrode 322 is formed in the planarization film 317. Is formed.

平坦化膜317の上には、ITOまたはIZOなどの透明な導電物質からなる画素電極341が形成されている。画素電極341は、接触口319を介してドレイン電極322と接続される。   A pixel electrode 341 made of a transparent conductive material such as ITO or IZO is formed on the planarizing film 317. The pixel electrode 341 is connected to the drain electrode 322 through the contact port 319.

画素電極341の上には、中間層342及び対向電極343がこの順に形成されている。   On the pixel electrode 341, an intermediate layer 342 and a counter electrode 343 are formed in this order.

平坦化膜317の上における、画素電極341と、中間層342及び対向電極343が形成されていない個所に画素限定膜318が形成されている。   A pixel limiting film 318 is formed on the planarizing film 317 at a location where the pixel electrode 341, the intermediate layer 342, and the counter electrode 343 are not formed.

このとき、前記基板300は、前記ポリ(アミド−イミド)コポリマーと無機粒子との複合体を含む成形品から製作されていてもよい。   At this time, the substrate 300 may be manufactured from a molded article including a composite of the poly (amide-imide) copolymer and inorganic particles.

以下、本発明の実施形態について実施例を挙げて説明する。これらの実施例は、本発明の実施形態を説明するためのものであり、これらによって本発明の範囲が制限されることはない。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to examples. These examples are for explaining embodiments of the present invention, and do not limit the scope of the present invention.

実施例
合成例1:シロキサン基で置換されたオリゴ(アミド−アミド酸)の合成
下記反応式1に従い、上記一般式2の繰り返し単位を含むDA119を製造した。
Examples Synthesis Example 1: Synthesis of Oligo (Amido-Amic Acid) Substituted with Siloxane Group According to the following reaction formula 1, DA119 containing the repeating unit of the above general formula 2 was produced.

すなわち、アミド繰り返し単位に相当する前記DA119モノマーは、丸底フラスコに、溶媒としてのN,N−ジメチルアセトアミド(DMCA;N,N−dimethylacetamide)800g内に、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン(2,2’−bis(trifluoromethyl)benzidine;TFDB)2モル当量(0.08モル、25.6192g)とピリジン2.2モル当量(0.088モル、6.96g)を溶かした後、残留しているTFDBを80mlのDMACで洗い取った。ビフェニルジカルボニルクロライド(BPCl)11.1648g(1モル当量、0.04モル)を、4回に分けて、5℃のTFDB溶液に混合し、15分間激しく攪拌した。   That is, the DA119 monomer corresponding to the amide repeating unit is added to 2,2′-bis (trifluoromethyl) in 800 g of N, N-dimethylacetamide (DMCA; N, N-dimethylacetamide) as a solvent in a round bottom flask. ) After dissolving 2 molar equivalents (0.08 mol, 25.6192 g) of benzidine (2,2′-bis (trifluoromethyl) benzidine; TFDB) and 2.2 molar equivalents of pyridine (0.088 mol, 6.96 g). The remaining TFDB was washed with 80 ml of DMAC. Biphenyldicarbonyl chloride (BPCl) 11.648 g (1 molar equivalent, 0.04 mol) was mixed in 4 portions with the TFDB solution at 5 ° C. and stirred vigorously for 15 minutes.

得られた溶液(結果溶液)を窒素雰囲気において2時間攪拌した後、1kgのNaClを含有する7Lの水に入れて0℃まで冷却した。得られた混合物(結果混合物)を12時間かけて0℃まで冷却して有機物の沈殿を完了した。固形物をろ過し、1.5Lの脱イオン水に4回に亘って再懸濁及び再ろ過した。ろ過器上の最終ろ過物を適切に加圧して残存する水を最大限に除去し、所定の重量を有するまで窒素流で乾燥した。予備乾燥された生成物を水酸化ナトリウム及び窒素雰囲気を含む真空デシケータにおいて36時間さらに保持して残存物を除去し、90℃、真空下において乾燥して、前記反応式1に記載の生成物としてモノマーであるDA119を得た。   The resulting solution (resulting solution) was stirred in a nitrogen atmosphere for 2 hours, and then cooled to 0 ° C. in 7 L of water containing 1 kg of NaCl. The resulting mixture (resulting mixture) was cooled to 0 ° C. over 12 hours to complete the organic precipitation. The solid was filtered, resuspended and refiltered 4 times in 1.5 L of deionized water. The final filtrate on the filter was appropriately pressurized to remove the remaining water to the maximum and dried with a stream of nitrogen until it had a predetermined weight. The pre-dried product is further kept for 36 hours in a vacuum desiccator containing sodium hydroxide and nitrogen atmosphere to remove the residue and dried under vacuum at 90 ° C. to obtain the product described in Reaction Scheme 1. DA119 which is a monomer was obtained.

機械攪拌器と窒素流入口が取り付けられた250mlの4口二重壁反応器(4−neck double walled reactor)に、前記製造したDA119 4.4051g(0.0052mol)とTFDB 2.2226g(0.0069mol)を80℃のNMP(N−メチル−2−ピロリドン)39.97gに入れて完全に溶解されるまで攪拌した。温度を20℃まで下げた後、6−FDA(4,4’−ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタリックアンハイドライド)0.5994g(0.0013mol)、BPDA(3,3’−4,4’−ビフェニルテトラカルボキシリックジアンハイドライド)3.5729g(0.0121mol)、及びNMP9.234gを徐々に添加した後、24時間かけて反応させて15重量%の固形分のアンハイドライド−末端オリゴ(アミド−アミド酸)を得た。この溶液に3−アミノプロピルトリエトキシシラン(3−Aminopropyl triethoxysilane(APS))を徐々に添加した後、6時間かけて反応させて、シロキサン基で末端が置換されたオリゴ(アミド−アミド酸(PAD−573)溶液を得た(図3参照)。   In a 250 ml 4-neck double walled reactor equipped with a mechanical stirrer and nitrogen inlet, 4.4119 g (0.0052 mol) of the prepared DA119 and 2.2226 g of TFDB (0.25 g) were added. 0069 mol) was added to 39.97 g of NMP (N-methyl-2-pyrrolidone) at 80 ° C. and stirred until it was completely dissolved. After the temperature was lowered to 20 ° C., 0.5994 g (0.0013 mol) of 6-FDA (4,4′-hexafluoroisopropylidene) diphthalic anhydride), BPDA (3,3′-4,4′-biphenyl) Tetracarboxylic dianhydride) 3.5729 g (0.0121 mol) and NMP 9.234 g were gradually added and reacted for 24 hours to give a solid content of 15 wt% solid hydride-terminated oligo (amide-amide acid). ) 3-Aminopropyltriethoxysilane (APS) was gradually added to this solution, and then reacted over 6 hours to react with oligo (amide-amide acid (PAD) substituted with a siloxane group. -573) A solution was obtained (see FIG. 3).

合成例2:シロキサン基で置換されたオリゴ(アミド−アミド酸)シリカナノ複合体の製造及びこれを用いたフィルムの製造
前記ナノ複合体の製造工程を図4に簡単に示す。
Synthesis Example 2: Production of oligo (amide-amide acid) silica nanocomposite substituted with a siloxane group and production of a film using this nanocomposite production process is simply shown in FIG.

具体的に、前記合成例1において製造されたシロキサン基で末端が置換されたオリゴ(アミド−アミド酸)PAD−573(溶液)5g(18重量%の固形分含量)を20mlのバイアルに入れた。次いで、テトラエチルオルソシリケート(テトラエトキシシラン;テオス(TEOS))(サムチュン・ピュア・ケミカル社製、99%)0.3086gとHO/NMP(4:6(質量比)混合物)0.1308gを前記バイアルに入れた。前記混合物を24時間かけて攪拌し、ガラス基板の上においてスピンキャストした。 Specifically, 5 g (18 wt% solid content) of oligo (amide-amido acid) PAD-573 (solution) terminal-substituted with the siloxane group produced in Synthesis Example 1 was placed in a 20 ml vial. . Next, 0.3086 g of tetraethyl orthosilicate (tetraethoxysilane; TEOS) (manufactured by Samchun Pure Chemical Co., 99%) and 0.1308 g of H 2 O / NMP (4: 6 (mass ratio) mixture) were added. Placed in the vial. The mixture was stirred for 24 hours and spin cast on a glass substrate.

高いシリカの含量を得るために、前記PAD−573の固形分含量対比50重量%及び60重量%のテトラメチルオルトシリケート(TMOS)(アルドリッチ社製、99%)を用いて、上記と同様にして混合物を得、該混合物を24時間かけて攪拌し、ガラス基板の上においてスピンキャストした。   In order to obtain a high silica content, 50% by weight and 60% by weight of tetramethylorthosilicate (TMOS) (manufactured by Aldrich, 99%) relative to the solid content of the PAD-573 was used in the same manner as described above. A mixture was obtained and the mixture was stirred for 24 hours and spin cast on a glass substrate.

詳しくは、前記混合物をガラス基板(5×5cm)に点滴して、800rpmの回転速度にてスピンコートした。スピンコートされた溶液を80℃の熱板の上において1時間かけて予備乾燥して過剰の溶媒を蒸発させた。前記ガラス基板を、窒素雰囲気下において、3℃/分の速度にて320℃まで昇温させた後、1時間かけて320℃において硬化させた。   Specifically, the mixture was instilled onto a glass substrate (5 × 5 cm) and spin-coated at a rotation speed of 800 rpm. The spin-coated solution was pre-dried on a hot plate at 80 ° C. for 1 hour to evaporate excess solvent. The glass substrate was heated to 320 ° C. at a rate of 3 ° C./min in a nitrogen atmosphere, and then cured at 320 ° C. for 1 hour.

製造された全てのフィルムを400℃に加熱された炉に30分間入れて熱安定性テストを行った。   All manufactured films were placed in a furnace heated to 400 ° C. for 30 minutes for thermal stability testing.

製造されたシロキサン基で両末端が置換されたポリイミド−アミド(PIA)フィルムに対する理論的なモル組成を下記表1に示す。PIA10は、SiOの理論的な含量が10重量%であることを意味し、PIA20は、SiOの理論的な含量が20重量%であることを意味する。残りも上記と同様に解釈さるべきである。 The theoretical molar composition for the prepared polyimide-amide (PIA) film substituted at both ends with siloxane groups is shown in Table 1 below. PIA10 means that the theoretical content of SiO 2 is 10% by weight, and PIA20 means that the theoretical content of SiO 2 is 20% by weight. The rest should be interpreted in the same way as above.

実験例:フィルムの性能評価
実験例1:透光度(透過率)
コニカミノルタCM2600d分光光度計の透過opacity/hazeモードを用いて製造されたフィルムの光特性を測定した。360nm〜700nmの波長範囲においてスペクトルを記録した。
Experimental example: film performance evaluation Experimental example 1: Translucency (transmittance)
The optical properties of the films produced using the transmission opaque / haze mode of a Konica Minolta CM 2600d spectrophotometer were measured. Spectra were recorded in the wavelength range of 360 nm to 700 nm.

実験例2:熱膨張係数(CTE)及びガラス転移温度(Tg)
熱膨張係数(CTE)は、TMA Q400(TAインストゥルメンツ社製、USA)を用いて、下記の加熱プログラムにより測定した。測定値としては、2回目のスキャン値を採用し、測定温度区間は、50℃〜300℃であった:
1回目のスキャン条件:5分等温維持→5℃/分の昇温速度にて300℃まで加熱→40℃まで冷却
2回目のスキャン条件:5℃/分の昇温速度にて400℃まで加熱。
Experimental Example 2: Thermal expansion coefficient (CTE) and glass transition temperature (Tg)
The thermal expansion coefficient (CTE) was measured by TMA Q400 (TA Instruments, USA) by the following heating program. As the measurement value, the second scan value was adopted, and the measurement temperature interval was 50 ° C. to 300 ° C .:
First scan condition: 5 minutes isothermal maintenance → Heat to 300 ° C at 5 ° C / min heating rate → Cool to 40 ° C Second scan condition: Heat to 400 ° C at 5 ° C / min heating rate .

合成例2において製造されたフィルムの光学特性を図5及び図6に示す。図5及び図6から明らかなように、シリカの含量が増えるにつれてフィルムの透光度(透過率)が増大した。しかしながら、シリカの含量が50%及び60%以上に増大すれば、シリカの凝集によって透光度(透過率)が減少し、ヘイズも7%以上になることが分かる(下記表2参照)。   The optical characteristics of the film produced in Synthesis Example 2 are shown in FIGS. As is apparent from FIGS. 5 and 6, the light transmittance (transmittance) of the film increased as the silica content increased. However, it can be seen that when the silica content increases to 50% and 60% or more, the light transmittance (transmittance) decreases due to the aggregation of silica, and the haze also becomes 7% or more (see Table 2 below).

図7は、前記フィルムを400℃において30分間加熱した後、430nm及び全体波長範囲(360nm〜740nm)におけるポリマーフィルムの透光度(透過率)を示すものである。PIAナノ複合体フィルムは、純粋な高分子フィルムであるPIAフィルムに比べて高い透過度(透過率)を示す。特に、シリカの含量が40%及び50%である場合に430nmにおけるポリマーフィルムの透光度(透過率)はそれぞれ80.08%及び74.74%であった。   FIG. 7 shows the translucency (transmittance) of the polymer film at 430 nm and the entire wavelength range (360 nm to 740 nm) after the film was heated at 400 ° C. for 30 minutes. The PIA nanocomposite film exhibits higher transmittance (transmittance) than a PIA film that is a pure polymer film. In particular, when the silica content was 40% and 50%, the translucency (transmittance) of the polymer film at 430 nm was 80.08% and 74.74%, respectively.

下記表2は、前記フィルムのシリカの含量による光学特性をまとめたものである。   Table 2 below summarizes the optical characteristics according to the silica content of the film.

実験例3:熱重量分析(TGA)
ナノ複合体の熱的安定性を、TGA Q500熱重量分析器(TAインストゥルメンツ社製、USA)を用いて、窒素雰囲気下(ガス流速:70ml/分)において10℃/分の昇温速度にて、25℃から600℃まで昇温されたAl中においてサンプル10〜15mgに対して測定した。
Experimental Example 3: Thermogravimetric analysis (TGA)
The thermal stability of the nanocomposite was measured using a TGA Q500 thermogravimetric analyzer (TA Instruments, USA) at a heating rate of 10 ° C./min in a nitrogen atmosphere (gas flow rate: 70 ml / min). Then, measurement was performed on samples 10 to 15 mg in Al 2 O 3 heated from 25 ° C. to 600 ° C.

図8は、シリカの含量による前記フィルムの寸法変化を示すグラフである。   FIG. 8 is a graph showing the dimensional change of the film according to the silica content.

図8から明らかなように、純粋なPIAフィルム(シリカの含量;図中の0%のグラフ)の場合、300℃以上において大きさの変化が急激に上昇するが、シリカの含量(10%→40%(いずれも質量%))が増えるにつれて高い温度、例えば、400℃まで昇温しても、フィルムの寸法変化の度合いは弱くなる(図中の10%〜40%のグラフ参照)。   As is clear from FIG. 8, in the case of a pure PIA film (silica content; 0% graph in the figure), the change in size increases rapidly at 300 ° C. or higher, but the silica content (10% → As the temperature increases to 40% (both mass%)), the degree of dimensional change of the film is weakened even if the temperature is raised to a high temperature, for example, 400 ° C. (see the graph of 10% to 40% in the figure).

下記表3は、50℃〜300℃の範囲において測定したTd(熱分解温度)、Tg(ガラス転移温度)、及び熱膨張係数(CTE)をまとめて示すものである。   Table 3 below collectively shows Td (thermal decomposition temperature), Tg (glass transition temperature), and thermal expansion coefficient (CTE) measured in the range of 50 ° C to 300 ° C.

上記表3から明らかなように、シリカを含有する複合体フィルムの場合、50℃〜300℃の範囲における平均熱膨張係数(CTE)値は、14.44〜28.20ppm/℃である。シリカの導入は、ガラス転移温度を400℃以上に昇温させるが、これは、OLEDのような光学フィルムの製造工程において非常に重要な特性である。ナノ複合体フィルムのTgの上昇は、有機高分子鎖がシリカ粒子と架橋結合されたときに現れるものであり、これは、有機高分子と無機粒子との間のより強い相互作用を示す。   As apparent from Table 3 above, in the case of the composite film containing silica, the average coefficient of thermal expansion (CTE) value in the range of 50 ° C to 300 ° C is 14.44 to 28.20 ppm / ° C. The introduction of silica raises the glass transition temperature to 400 ° C. or more, which is a very important characteristic in the production process of an optical film such as an OLED. The increase in the Tg of the nanocomposite film is manifested when the organic polymer chain is cross-linked with the silica particles, indicating a stronger interaction between the organic polymer and the inorganic particles.

実験例4:屈折率の測定及びシリカの含量評価
ナノ複合体の屈折率を、633nmにおいて、プリズムカップラーMetricon MODEL 2010/Mを用いて測定した。シリカの含量は、下記の数式(1)で表わされるローレンツ−ローレンツの式に従い計算した。
Experimental Example 4: Measurement of refractive index and evaluation of silica content The refractive index of the nanocomposite was measured at 633 nm using a prism coupler Metricon MODEL 2010 / M. The content of silica was calculated according to the Lorentz-Lorentz equation represented by the following formula (1).

式中、n、n及びnは、複合体、シリカ及び純粋高分子の屈折率に対して測定し、v及びvは、シリカ及び純粋なポリマーの体積分率を示す。 Where n, n s and n p are measured relative to the refractive index of the composite, silica and pure polymer, and v s and v p denote the volume fraction of silica and pure polymer.

以上述べたように、本発明の実施形態に係るコポリマーと無機粒子との複合体組成物は、コポリマー(ポリイミド−アミド;PIA)が有する柔軟な特性をそのまま維持しながら、無機粒子の導入によって、より高い耐熱性、機械的強度、及び透明性を有し、しかも、より低い熱膨張係数(CTE)を有することにより、400℃以上の高温における工程を必要とする可撓性OLEDディスプレイ装置の基板などの材料として用いて好適な特徴を与えるということが分かる。   As described above, the composite composition of the copolymer and the inorganic particles according to the embodiment of the present invention allows the introduction of the inorganic particles while maintaining the flexible characteristics of the copolymer (polyimide-amide; PIA) as it is. A substrate for a flexible OLED display device that requires a process at a high temperature of 400 ° C. or higher by having higher heat resistance, mechanical strength, and transparency, and having a lower coefficient of thermal expansion (CTE) It can be seen that it provides suitable characteristics when used as a material.

以上、本発明の好適な実施例について詳述したが、本発明はこれに何ら限定されるものではなく、次の特許請求の範囲と発明の詳細な説明及び添付図面の範囲内において種々に変形して実施することが可能であり、これもまた本発明の権利範囲に属するということはいうまでもない。   The preferred embodiments of the present invention have been described in detail above, but the present invention is not limited to these embodiments, and various modifications may be made within the scope of the following claims, the detailed description of the invention, and the accompanying drawings. Needless to say, this is also within the scope of the present invention.

100:薄膜トランジスター表示板、
200:共通電極表示板、
110、210、300:基板、
124:ゲート電極、
140:ゲート絶縁膜、
154:半導体、
163、165:抵抗性接触部材、
173:ソース電極、
175:ドレイン電極、
180:保護膜、
185:接触口、
191:画素電極、
220:遮光部材、
230:カラーフィルタ、
270:共通電極、
311:ゲート絶縁膜、
313:層間絶縁膜、
317:平坦化膜、
318:画素限定膜、
319:接触口、
320:薄膜トランジスター、
321:ソース電極、
322:ドレイン電極、
323:半導体層、
325:ゲート電極、
330:キャパシター、
331:第1のキャパシター、
332:第2のキャパシター、
340:有機発光素子、
341:画素電極、
342:中間層、
343:対向電極。
100: Thin film transistor display panel,
200: Common electrode display board,
110, 210, 300: substrate,
124: a gate electrode,
140: a gate insulating film,
154: Semiconductor,
163, 165: resistive contact members,
173: source electrode,
175: drain electrode,
180: protective film,
185: contact opening,
191: Pixel electrode,
220: a light shielding member,
230: Color filter,
270: Common electrode,
311: gate insulating film,
313: Interlayer insulating film,
317: planarization film,
318: Pixel limiting film,
319: contact port,
320: thin film transistor,
321: source electrode,
322: drain electrode,
323: Semiconductor layer
325: a gate electrode,
330: Capacitor,
331: first capacitor,
332: second capacitor,
340: organic light emitting device,
341: pixel electrode,
342: middle layer,
343: counter electrode.

Claims (15)

下記一般式3で表わされるイミド繰り返し単位、イミド化によって上記一般式3のイミド繰り返し単位を形成するアミド酸繰り返し単位、またはこれらの繰り返し単位の組み合わせを含む第1の繰り返し単位と、一般式4で表わされるイミド繰り返し単位、イミド化によって上記一般式4で表わされるイミド繰り返し単位を形成するアミド酸繰り返し単位、またはこれらの繰り返し単位の組み合わせを含む第2の繰り返し単位とのうちの1つ以上と、下記一般式1で表わされる繰り返し単位、下記一般式2で表わされる繰り返し単位、またはこれらの繰り返し単位の組み合わせを含む第3の繰り返し単位とを含むコポリマーであって、
前記コポリマーの少なくとも一方の末端は、置換若しくは非置換のシロキサンまたはシラノール基によって置換されたコポリマーと、
無機粒子またはその前駆体と、
を含む、複合体組成物:
(上記一般式3または一般式4において、
10は、それぞれの繰り返し単位において同一または異なり、それぞれ独立して、置換若しくは非置換のC1〜C30の脂肪族有機基、置換若しくは非置換のC3〜C30脂環族有機基、置換若しくは非置換のC6〜C30の芳香族有機基、または置換若しくは非置換のC2〜C30のヘテロ環基であり、
11は、それぞれの繰り返し単位において同一または異なり、それぞれ独立して、置換若しくは非置換のC6〜C30の芳香族有機基を含み、前記芳香族有機基は、一つの芳香族環であるか、2以上の芳香族環が互いに接合されて縮合環を形成するか、2以上の芳香族環が単一結合、またはフルオレニレン基、−O−、−S−、−C(=O)−、−CH(OH)−、−S(=O)−、−Si(CH−、−(CH−(ここで、1≦p≦10)、−(CF−(ここで、1≦q≦10)、−C(CH−、−C(CF−または−C(=O)NH−の官能基によって連結されており、
12及びR13は、同一または異なり、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、エーテル基(−OR208、ここで、R208は、C1〜C10の脂肪族有機基である)、シリル基(−SiR209210211、ここで、R209、R210及びR211は、同一または異なり、それぞれ独立して、水素原子、C1〜C10の脂肪族有機基である)、置換若しくは非置換のC1〜C10の脂肪族有機基、またはC6〜C20の芳香族有機基であり、
n7及びn8は、それぞれ独立して、0〜3の整数である。)
(上記一般式1において、
は、それぞれの繰り返し単位において同一または異なり、それぞれ独立して、置換若しくは非置換のC3〜C30脂環族有機基、置換若しくは非置換のC6〜C30の芳香族有機基、または置換若しくは非置換のC2〜C30のヘテロ環基を含み、
は、それぞれの繰り返し単位において同一または異なり、それぞれ独立して、置換若しくは非置換のC6〜C30の芳香族有機基であり、
及びRは、同一または異なり、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、エーテル基(−OR200、ここで、R200は、C1〜C10の脂肪族有機基である)、シリル基(−SiR201202203、ここで、R201、R202及びR203は、同一または異なり、それぞれ独立して、水素原子、C1〜C10の脂肪族有機基である)、置換若しくは非置換のC1〜C10の脂肪族有機基、またはC6〜C20の芳香族有機基であり、
n1及びn2は、それぞれ独立して、0〜4の整数である。)
(上記一般式2において、
は、それぞれの繰り返し単位において同一または異なり、それぞれ独立して、置換若しくは非置換のC6〜C30の芳香族有機基であり、
及びRは、同一または異なり、それぞれ独立して、電子吸引基であり、
及びRは、同一または異なり、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、エーテル基(−OR204、ここで、R204はC1〜C10の脂肪族有機基である)、シリル基(−SiR205206207、ここで、R205、R206及びR207は、同一または異なり、それぞれ独立して、水素原子、C1〜C10の脂肪族有機基である)、置換若しくは非置換のC1〜C10の脂肪族有機基、またはC6〜C20の芳香族有機基であり、
n3は、1〜4の整数であり、n5は、0〜3の整数であり、n3+n5は、4以下の整数であり、
n4は、1〜4の整数であり、n6は、0〜3の整数であり、n4+n6は、4以下の整数である。)
In the general formula 4, an imide repeating unit represented by the following general formula 3, an amic acid repeating unit that forms the imide repeating unit of the general formula 3 by imidization, or a combination of these repeating units; One or more of an imide repeating unit represented, an amic acid repeating unit that forms an imide repeating unit represented by the above general formula 4 by imidization, or a second repeating unit containing a combination of these repeating units; A copolymer comprising a repeating unit represented by the following general formula 1, a repeating unit represented by the following general formula 2, or a third repeating unit including a combination of these repeating units,
At least one end of the copolymer is substituted with a substituted or unsubstituted siloxane or silanol group;
Inorganic particles or precursors thereof;
A composite composition comprising:
(In the above general formula 3 or general formula 4,
R 10 is the same or different in each repeating unit, and each independently represents a substituted or unsubstituted C1-C30 aliphatic organic group, a substituted or unsubstituted C3-C30 alicyclic organic group, a substituted or unsubstituted A C6-C30 aromatic organic group, or a substituted or unsubstituted C2-C30 heterocyclic group,
R 11 is the same or different in each repeating unit, and each independently includes a substituted or unsubstituted C6-C30 aromatic organic group, and the aromatic organic group is one aromatic ring, Two or more aromatic rings are bonded to each other to form a condensed ring, or two or more aromatic rings are a single bond, or a fluorenylene group, -O-, -S-, -C (= O)-,- CH (OH) -, - S (= O) 2 -, - Si (CH 3) 2 -, - (CH 2) p - ( wherein, 1 ≦ p ≦ 10), - (CF 2) q - ( Here, 1 ≦ q ≦ 10), —C (CH 3 ) 2 —, —C (CF 3 ) 2 — or —C (═O) NH— is connected by a functional group,
R 12 and R 13 are the same or different and are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxy group, an ether group (—OR 208 , where R 208 is a C1-C10 aliphatic organic group). , A silyl group (—SiR 209 R 210 R 211 , wherein R 209 , R 210 and R 211 are the same or different and are each independently a hydrogen atom or a C1-C10 aliphatic organic group), substitution Or an unsubstituted C1-C10 aliphatic organic group, or a C6-C20 aromatic organic group,
n7 and n8 are each independently an integer of 0 to 3. )
(In the above general formula 1,
R 1 is the same or different in each repeating unit, and each independently represents a substituted or unsubstituted C3-C30 alicyclic organic group, a substituted or unsubstituted C6-C30 aromatic organic group, or a substituted or non-substituted group. Containing a substituted C2-C30 heterocyclic group,
R 2 is the same or different in each repeating unit, and each independently represents a substituted or unsubstituted C6-C30 aromatic organic group;
R 3 and R 4 are the same or different and are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxy group, or an ether group (—OR 200 , where R 200 is a C1-C10 aliphatic organic group). , A silyl group (—SiR 201 R 202 R 203 , wherein R 201 , R 202 and R 203 are the same or different and are each independently a hydrogen atom or a C1-C10 aliphatic organic group), substitution Or an unsubstituted C1-C10 aliphatic organic group, or a C6-C20 aromatic organic group,
n1 and n2 are each independently an integer of 0 to 4. )
(In the above general formula 2,
R 5 is the same or different in each repeating unit, each independently a substituted or unsubstituted C6-C30 aromatic organic group,
R 6 and R 7 are the same or different and are each independently an electron withdrawing group;
R 8 and R 9 are the same or different and are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxy group, an ether group (—OR 204 , where R 204 is a C1-C10 aliphatic organic group), A silyl group (—SiR 205 R 206 R 207 , wherein R 205 , R 206 and R 207 are the same or different and are each independently a hydrogen atom or a C1-C10 aliphatic organic group), substituted or An unsubstituted C1-C10 aliphatic organic group, or a C6-C20 aromatic organic group,
n3 is an integer of 1 to 4, n5 is an integer of 0 to 3, n3 + n5 is an integer of 4 or less,
n4 is an integer of 1 to 4, n6 is an integer of 0 to 3, and n4 + n6 is an integer of 4 or less. )
前記コポリマーは、前記第1の繰り返し単位、前記第2の繰り返し単位、及び前記第3の繰り返し単位を全て含むものである、請求項1に記載の複合体組成物。   The composite composition according to claim 1, wherein the copolymer includes all of the first repeating unit, the second repeating unit, and the third repeating unit. 上記一般式3で表わされる繰り返し単位は、下記一般式5で表わされる繰り返し単位、またはイミド化によって上記一般式5で表わされる繰り返し単位を形成しうるアミド酸繰り返し単位を含むものである、請求項1または2に記載の複合体組成物:
上記一般式5において、
11、R12、R13、n7及びn8は、前記請求項1の項における説明と同様である。
The repeating unit represented by the above general formula 3 includes a repeating unit represented by the following general formula 5 or an amic acid repeating unit capable of forming a repeating unit represented by the above general formula 5 by imidization. The composite composition according to 2:
In the above general formula 5,
R 11 , R 12 , R 13 , n7 and n8 are the same as described in the section of claim 1.
上記一般式1において、前記Rは、下記一般式で表わされる群から選ばれ、
上記一般式2において、前記R及びRは、同一または異なり、それぞれ独立して、−CF、−CCl、−CBr、−CI、−F、−Cl、−Br、−I、−NO、−CN、−COCHまたは−COであり、
上記一般式1及び上記一般式2において、前記R及びRは、同一または異なり、それぞれ独立して、下記一般式で表わされる群から選ばれる、請求項1乃至請求項3のうちのいずれか一項に記載の複合体組成物:
上記一般式において、
18〜R29は同一または異なり、それぞれ独立して、水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、置換若しくは非置換のC1〜C10の脂肪族有機基、または置換若しくは非置換のC6〜C20の芳香族有機基であり、
n11及びn14〜n20は、それぞれ独立して、0〜4の整数であり、
n12及びn13は、それぞれ独立して、0〜3の整数である。
In the general formula 1, the R 1 is selected from the group represented by the following general formula:
In the general formula 2, wherein R 6 and R 7 are the same or different and are independently, -CF 3, -CCl 3, -CBr 3, -CI 3, -F, -Cl, -Br, -I , -NO 2, -CN, a -COCH 3 or -CO 2 C 2 H 5,
In said general formula 1 and said general formula 2, said R < 2 > and R < 5 > are the same or different, and are each independently selected from the group represented by the following general formula, Any one of Claims 1 thru | or 3 The composite composition according to claim 1:
In the above general formula:
R 18 to R 29 are the same or different and are each independently a hydrogen atom, a deuterium atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted C1-C10 aliphatic organic group, or a substituted or unsubstituted C6-C20 aromatic. Group organic group,
n11 and n14 to n20 are each independently an integer of 0 to 4,
n12 and n13 are each independently an integer of 0 to 3.
前記R及びRは、同一または異なり、それぞれ独立して、下記一般式で表わされる群から選ばれる、請求項4に記載の複合体組成物:
The composite composition according to claim 4, wherein R 2 and R 5 are the same or different and are each independently selected from the group represented by the following general formula:
前記第3の繰り返し単位は、下記一般式6で表わされる繰り返し単位をさらに含む、請求項1乃至請求項5のうちのいずれか一項に記載の複合体組成物:
上記一般式6において、
14は、それぞれの繰り返し単位において同一または異なり、それぞれ独立して、−O−、−S−、−C(=O)−、−CH(OH)−、−S(=O)−、−Si(CH−、−(CH−(ここで、1≦p≦10)、−(CF−(ここで、1≦q≦10)、−C(CH−、−C(CF−、−C(=O)NH−、または置換若しくは非置換のC6〜C30の芳香族有機基を含み、前記芳香族有機基は、一つの芳香族環であるか、2以上の芳香族環が互いに接合されて縮合環を形成するか、2以上の芳香族環が単一結合、またはフルオレニレン基、−O−、−S−、−C(=O)−、−CH(OH)−、−S(=O)−、−Si(CH−、−(CH−(ここで、1≦p≦10)、−(CF−(ここで、1≦q≦10)、−C(CH−、−C(CF−または−C(=O)NH−の官能基によって連結されており、
15は、それぞれの繰り返し単位において同一または異なり、それぞれ独立して、置換若しくは非置換のC6〜C30の芳香族有機基であり、
16及びR17は、同一または異なり、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、エーテル基(−OR212、ここで、R212は、C1〜C10の脂肪族有機基である)、シリル基(−SiR213214215、ここで、R213、R214及びR215は、同一または異なり、それぞれ独立して、水素原子、C1〜C10の脂肪族有機基である)、置換若しくは非置換のC1〜C10の脂肪族有機基、またはC6〜C20の芳香族有機基であり、
n9及びn10は、それぞれ独立して、0〜4の整数である。
The composite composition according to any one of claims 1 to 5, wherein the third repeating unit further includes a repeating unit represented by the following general formula 6.
In the above general formula 6,
R 14 is the same or different in each repeating unit, and each independently represents —O—, —S—, —C (═O) —, —CH (OH) —, —S (═O) 2 —, —Si (CH 3 ) 2 —, — (CH 2 ) p — (where 1 ≦ p ≦ 10), — (CF 2 ) q — (where 1 ≦ q ≦ 10), —C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2- , -C (= O) NH-, or a substituted or unsubstituted C6-C30 aromatic organic group, wherein the aromatic organic group is one aromatic Or two or more aromatic rings are bonded to each other to form a condensed ring, or two or more aromatic rings are a single bond, or a fluorenylene group, -O-, -S-, -C (= O) -, - CH (OH ) -, - S (= O) 2 -, - Si (CH 3) 2 -, - (CH 2) p - ( wherein, 1 ≦ p ≦ 0), - (CF 2) q - ( wherein, 1 ≦ q ≦ 10), - C (CH 3) 2 -, - C (CF 3) 2 - or -C (= O) NH- functional groups Connected by
R 15 is the same or different in each repeating unit, each independently a substituted or unsubstituted C6-C30 aromatic organic group;
R 16 and R 17 are the same or different and are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxy group, or an ether group (—OR 212 , where R 212 is a C1-C10 aliphatic organic group). A silyl group (—SiR 213 R 214 R 215 , wherein R 213 , R 214 and R 215 are the same or different and are each independently a hydrogen atom or a C1-C10 aliphatic organic group), substitution Or an unsubstituted C1-C10 aliphatic organic group, or a C6-C20 aromatic organic group,
n9 and n10 are each independently an integer of 0 to 4.
上記一般式1で表わされる繰り返し単位は、下記一般式7〜9で表わされる繰り返し単位を含み、
上記一般式2で表わされる繰り返し単位は、下記一般式10〜12で表わされる繰り返し単位を含み、
上記一般式3で表わされる繰り返し単位は、下記一般式13で表わされる繰り返し単位を含み、
上記一般式4で表わされる繰り返し単位は、下記一般式14で表わされる繰り返し単位を含み、
上記一般式6で表わされる繰り返し単位は、下記一般式15〜17で表わされる繰り返し単位を含む、請求項6に記載の複合体組成物:
The repeating unit represented by the general formula 1 includes a repeating unit represented by the following general formulas 7 to 9,
The repeating unit represented by the general formula 2 includes a repeating unit represented by the following general formulas 10 to 12,
The repeating unit represented by the general formula 3 includes a repeating unit represented by the following general formula 13,
The repeating unit represented by the general formula 4 includes a repeating unit represented by the following general formula 14,
The complex composition according to claim 6, wherein the repeating unit represented by the general formula 6 includes a repeating unit represented by the following general formulas 15 to 17:
前記コポリマーは、
下記一般式10で表わされる繰り返し単位と、
下記一般式13で表わされる繰り返し単位と、
下記一般式14で表わされる繰り返し単位と、
を含む、請求項1乃至請求項7のうちのいずれか一項に記載の複合体組成物:
The copolymer is
A repeating unit represented by the following general formula 10;
A repeating unit represented by the following general formula 13;
A repeating unit represented by the following general formula 14;
The composite composition according to any one of claims 1 to 7, comprising:
前記シロキサンまたはシラノール基は、下記一般式20で表わされるものである、請求項1乃至請求項8のうちのいずれか一項に記載の複合体組成物:
上記一般式20において、
Raは、置換若しくは非置換のアルキル基ないしアルキレン基、置換若しくは非置換のアルケニル基ないしアルケニレン基、置換若しくは非置換のアルキニル基ないしアルキニレン基、置換若しくは非置換のシクロアルキル基ないしシクロアルキレン基、置換若しくは非置換のシクロアルケニル基ないしシクロアルケニレン基、置換若しくは非置換のシクロアルキニル基ないしシクロアルキニレン基、置換若しくは非置換のアリール基ないしアリーレン基、または置換若しくは非置換のアラルキル基ないしアラルキレン基であり、
前記Rb〜Rdは、同一または異なり、それぞれ独立して、水素原子、C1〜C20のアルキル基、C2〜C20のアルケニル基、C2〜C20のアルキニル基、C3〜C20のシクロアルキル基、またはC6〜C18のアリール基である。
The composite composition according to any one of claims 1 to 8, wherein the siloxane or silanol group is represented by the following general formula 20.
In the general formula 20,
Ra is a substituted or unsubstituted alkyl group or alkylene group, a substituted or unsubstituted alkenyl group or alkenylene group, a substituted or unsubstituted alkynyl group or alkynylene group, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group or cycloalkylene group, substituted Or an unsubstituted cycloalkenyl group or cycloalkenylene group, a substituted or unsubstituted cycloalkynyl group or cycloalkynylene group, a substituted or unsubstituted aryl group or arylene group, or a substituted or unsubstituted aralkyl group or aralkylene group. ,
Rb to Rd are the same or different and are each independently a hydrogen atom, a C1-C20 alkyl group, a C2-C20 alkenyl group, a C2-C20 alkynyl group, a C3-C20 cycloalkyl group, or a C6-C C18 aryl group.
上記一般式20は、下記一般式で表わされる群から選ばれる、請求項9に記載の複合体組成物:
上記一般式において、Re〜Rgは、同一または異なり、それぞれ独立して、C1〜C20のアルキル基、C2〜C20のアルケニル基、C2〜C20のアルキニル基、C3〜C20のシクロアルキル基、またはC6〜C18のアリール基である。
The composite composition according to claim 9, wherein the general formula 20 is selected from the group represented by the following general formula:
In the above general formula, Re to Rg are the same or different and are each independently a C1 to C20 alkyl group, a C2 to C20 alkenyl group, a C2 to C20 alkynyl group, a C3 to C20 cycloalkyl group, or a C6. Is a C18 aryl group.
前記複合体組成物に含まれる無機粒子またはその前駆体は、Ti、Si、Al、Zr、Sn、B及びCeよりなる群から選ばれる1以上の元素の酸化物または水酸化物、あるいは、前記酸化物または水酸化物を形成しうる前駆体である、請求項1乃至請求項10のうちのいずれか一項に記載の複合体組成物。   The inorganic particles contained in the composite composition or precursors thereof are oxides or hydroxides of one or more elements selected from the group consisting of Ti, Si, Al, Zr, Sn, B and Ce, or The composite composition according to any one of claims 1 to 10, which is a precursor capable of forming an oxide or a hydroxide. 前記無機粒子は、シリカ(SiO)またはTiOである、請求項1乃至請求項11のうちのいずれか一項に記載の複合体組成物。 The composite composition according to any one of claims 1 to 11, wherein the inorganic particles are silica (SiO 2 ) or TiO 2 . 前記TiOの前駆体として、オルトチタン酸テトライソプロピルを含むか、または前記シリカの前駆体として、テトラエチルオルソシリケート(TEOS)または下記一般式で表わされる化合物を含む、請求項12に記載の複合体組成物:
上記一般式において、
Rh〜Rmは、同一または異なり、それぞれ独立して、C1〜C20のアルキル基、C2〜C20のアルケニル基、C2〜C20のアルキニル基、C3〜C20のシクロアルキル基、またはC6〜C18のアリール基である。
The composite according to claim 12, comprising tetraisopropyl orthotitanate as the precursor of TiO 2 , or comprising tetraethyl orthosilicate (TEOS) or a compound represented by the following general formula as the precursor of the silica. Composition:
In the above general formula:
Rh to Rm are the same or different and are each independently a C1-C20 alkyl group, a C2-C20 alkenyl group, a C2-C20 alkynyl group, a C3-C20 cycloalkyl group, or a C6-C18 aryl group. It is.
前記無機粒子または無機粒子の前駆体は、前記コポリマーの重量に対して、約5重量%〜約95重量%の無機粒子を提供するのに十分な含量で含まれる、請求項1乃至請求項13のうちのいずれか一項に記載の複合体組成物。   14. The inorganic particle or inorganic particle precursor is included in a content sufficient to provide from about 5 wt% to about 95 wt% inorganic particles, based on the weight of the copolymer. The composite composition according to any one of the above. 請求項1乃至請求項14のうちのいずれか一項に記載の複合体組成物を含む、成形品。   A molded article comprising the composite composition according to any one of claims 1 to 14.
JP2013157038A 2012-07-27 2013-07-29 COMPOSITE COMPOSITION OF POLYIMIDE COPOLYMER AND INORGANIC PARTICLES, MANUFACTURING METHOD THEREOF, MOLDED ARTICLE INCLUDING THE SAME, AND DISPLAY DEVICE PROVIDED WITH THE MOLDED ARTICLE Active JP6093264B2 (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR20120082468 2012-07-27
KR10-2012-0082468 2012-07-27

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2014025066A true JP2014025066A (en) 2014-02-06
JP6093264B2 JP6093264B2 (en) 2017-03-08

Family

ID=48917354

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013157038A Active JP6093264B2 (en) 2012-07-27 2013-07-29 COMPOSITE COMPOSITION OF POLYIMIDE COPOLYMER AND INORGANIC PARTICLES, MANUFACTURING METHOD THEREOF, MOLDED ARTICLE INCLUDING THE SAME, AND DISPLAY DEVICE PROVIDED WITH THE MOLDED ARTICLE

Country Status (5)

Country Link
US (1) US9365694B2 (en)
EP (1) EP2690124B1 (en)
JP (1) JP6093264B2 (en)
KR (1) KR102074954B1 (en)
CN (1) CN103571190B (en)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016089142A (en) * 2014-10-29 2016-05-23 達勝科技股▲ふん▼有限公司 Polyimide-containing polymer, polyimide film having the same and polyimide laminated sheet
JP2017075309A (en) * 2015-10-13 2017-04-20 三星電子株式会社Samsung Electronics Co., Ltd. Poly(imide-amide) copolymer, method of producing poly(imide-amide) copolymer, formed article containing poly(imide-amide) copolymer, and electronic device including that formed article
JP2017095709A (en) * 2015-11-23 2017-06-01 三星電子株式会社Samsung Electronics Co., Ltd. Composition for producing organic/inorganic hybrid copolymer
JP2018059070A (en) * 2016-09-30 2018-04-12 住友化学株式会社 Optical film and production method of the same
JP2018535175A (en) * 2015-10-30 2018-11-29 コーニング インコーポレイテッド Glass article with mixed coating of polymer and metal oxide
JP2019085549A (en) * 2017-11-09 2019-06-06 住友化学株式会社 Optical film
WO2021065509A1 (en) * 2019-09-30 2021-04-08 三菱瓦斯化学株式会社 Polyimide resin composition, polyimide varnish, polyimide film
WO2023228613A1 (en) * 2022-05-24 2023-11-30 パナソニックIpマネジメント株式会社 Polyimide, method for producing imide compound, and method for producing recycled polyimide

Families Citing this family (35)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10737973B2 (en) 2012-02-28 2020-08-11 Corning Incorporated Pharmaceutical glass coating for achieving particle reduction
SG11201405220WA (en) 2012-02-28 2014-09-26 Corning Inc Glass articles with low-friction coatings
US11497681B2 (en) 2012-02-28 2022-11-15 Corning Incorporated Glass articles with low-friction coatings
US10273048B2 (en) 2012-06-07 2019-04-30 Corning Incorporated Delamination resistant glass containers with heat-tolerant coatings
US9034442B2 (en) 2012-11-30 2015-05-19 Corning Incorporated Strengthened borosilicate glass containers with improved damage tolerance
KR101618683B1 (en) * 2013-05-16 2016-05-09 제일모직 주식회사 Organic compound and organic optoelectric device and display device
KR20140139367A (en) * 2013-05-27 2014-12-05 삼성전자주식회사 Method of preparing an optical film, and optical film prepared using same
WO2014197532A1 (en) * 2013-06-07 2014-12-11 Solidia Technologies, Inc. Rapid curing of thin composite material sections
KR101928598B1 (en) * 2013-09-30 2018-12-12 주식회사 엘지화학 Polyimide film and process for preparing same
KR102225510B1 (en) * 2014-06-16 2021-03-08 삼성전자주식회사 Composition for preparing polyimide-inorganic composite material, and article prepared by using same
MX2017002898A (en) 2014-09-05 2017-10-11 Corning Inc Glass articles and methods for improving the reliability of glass articles.
EP3002310B1 (en) * 2014-10-02 2020-11-25 Samsung Electronics Co., Ltd. Composition for preparing polyimide-inorganic particle composite, polyimide-inorganic particle composite, article, and optical device
CN105482113B (en) * 2014-10-02 2019-10-01 三星电子株式会社 Prepare polyimides-inorganic particle compound composition, polyimides-inorganic particle compound, product and optical device
KR102232009B1 (en) * 2014-12-30 2021-03-25 코오롱인더스트리 주식회사 Polyamide-imide precursor composition, polyamide-imide film and display device
KR102227672B1 (en) * 2014-12-31 2021-03-16 코오롱인더스트리 주식회사 Polyamide-imide precursor composition, polyamide-imide film and display device
KR102304105B1 (en) * 2015-02-04 2021-09-23 삼성전자주식회사 Poly(imide-amide)copolymer, article contatining poly(imide-amide)copolymer, and display device including same
WO2016209060A1 (en) * 2015-06-26 2016-12-29 코오롱인더스트리 주식회사 Polyamide-imide precursor, polyamide-imide film, and display device comprising same
KR102339037B1 (en) 2015-06-26 2021-12-14 코오롱인더스트리 주식회사 Polyamide-imide precursor composition, polyamide-imide film and display device
EP3150564B1 (en) 2015-09-30 2018-12-05 Corning Incorporated Halogenated polyimide siloxane chemical compositions and glass articles with halogenated polylmide siloxane low-friction coatings
EP3750941A1 (en) * 2015-11-02 2020-12-16 Samsung Electronics Co., Ltd. Poly(imide-amide) copolymer, a method for preparing a poly(imide-amide) copolymer, and an article including a poly(imide-amide) copolymer
KR102497848B1 (en) * 2015-11-09 2023-02-08 삼성전자주식회사 Poly(amide-imide) copolymer, method of preparing poly(amide-imede) copolymer, and article including poly(amide-imide)copolymer
KR102529151B1 (en) * 2016-01-27 2023-05-08 삼성전자주식회사 Composition for preparing article including polyimide or poly(amide-imide) copolymer, article obtained therefrom, and display device including same
KR101854771B1 (en) 2016-06-30 2018-05-04 주식회사 엘지화학 Polyimide-based block copolymers and polyimide-based film comprising the same
KR102053932B1 (en) 2016-09-13 2019-12-09 주식회사 엘지화학 Polyimide-based block copolymers and polyimide-based film comprising the same
KR101796875B1 (en) * 2016-09-23 2017-11-10 주식회사 엘지화학 Polyimide precursor solution and preparation method thereof
CN107976830B (en) 2016-10-21 2022-05-24 三星电子株式会社 Plastic substrate and display device including the same
KR101959046B1 (en) 2016-11-17 2019-03-18 주식회사 엘지화학 Polyimide-based block copolymer film
KR102067225B1 (en) * 2016-12-15 2020-01-16 주식회사 엘지화학 Polyimide-based block copolymers and polyimide-based film comprising the same
KR20180071007A (en) * 2016-12-19 2018-06-27 주식회사 두산 Colorless polyimide film
KR102462940B1 (en) 2017-11-03 2022-11-04 삼성전자주식회사 Polyimide, composition for preparing polyimide, article including polyimide, and display device including the article
KR102140287B1 (en) 2017-12-11 2020-07-31 주식회사 엘지화학 Polyamide-imide copolymers and polyamide-imide film comprising the same
KR102522013B1 (en) * 2018-04-04 2023-04-14 삼성전자주식회사 Composition comprising polyimer and inorganic particles, polyimide-inorganic particles composite, article including the composite, and optical device including the article
KR20200040137A (en) 2018-10-08 2020-04-17 삼성전자주식회사 Laminated film, and display device including same
US20200407521A1 (en) * 2019-06-28 2020-12-31 Skc Co., Ltd. Polyamide-imide film, preparation method thereof, and display front plate and display device comprising same
TWI773937B (en) 2019-10-29 2022-08-11 達興材料股份有限公司 Poly(imide-ester-amide) copolymer and optical film

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04227635A (en) * 1991-04-04 1992-08-17 Mitsui Toatsu Chem Inc Production of aromatic polyamide-polyimide copolymer
JPH07165915A (en) * 1993-12-13 1995-06-27 Toray Ind Inc Aromatic polyamide-imide-based film
JPH08104749A (en) * 1994-09-14 1996-04-23 Sunkyong Ind Ltd Polyimide/silica composite and production of film thereof
JPH11293109A (en) * 1997-11-20 1999-10-26 Kureha Chem Ind Co Ltd Thermoplastic resin composition
JP2000143984A (en) * 1998-11-05 2000-05-26 Showa Denko Kk Fluorinated polyimide resin composition and its production
US20050048297A1 (en) * 2003-08-27 2005-03-03 Mitsui Chemicals, Inc. Polyimide metal laminate
JP2005068347A (en) * 2003-08-27 2005-03-17 Mitsui Chemicals Inc Polyimide composition, method for producing the same and use thereof
JP2005105158A (en) * 2003-09-30 2005-04-21 Choshun Jinzo Jushisho Kofun Yugenkoshi Organic-inorganic hybrid film material and method for producing the same
JP2005290184A (en) * 2004-03-31 2005-10-20 Arakawa Chem Ind Co Ltd Polyamide imide resin, methoxysilyl group-containing silane-modified polyamide imide resin, polyamide imide resin composition, cured film, and metal foil laminate
US20120183730A1 (en) * 2011-01-19 2012-07-19 Canon Kabushiki Kaisha Optical member and method of producing the same

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03207717A (en) 1990-01-09 1991-09-11 Tomoegawa Paper Co Ltd Polyamide imide resin
WO2003005127A1 (en) * 2001-07-03 2003-01-16 Hitachi Chemical Co., Ltd. Photosensitive resin composition, process of forming patterns with the same, and electronic components
KR100435528B1 (en) 2001-09-28 2004-06-10 한국화학연구원 Polyamic acid and polyimide dielectrics having alkoxy silane groups
TWI320046B (en) 2002-02-26 2010-02-01 Polyamide-imide resin, flexible metal-clad laminate and flexible print substrate
JP4367622B2 (en) 2003-12-26 2009-11-18 三菱瓦斯化学株式会社 Method for producing polyimide / inorganic composite material
KR20050072182A (en) 2004-01-06 2005-07-11 한학수 Synthesis of high functional organic-inorganic hybrid
CN100573628C (en) 2004-06-25 2009-12-23 住友化学株式会社 Substrate for flexible display
US20060240275A1 (en) 2005-04-25 2006-10-26 Gadkaree Kishor P Flexible display substrates
JP2008101195A (en) 2006-09-19 2008-05-01 Nitta Ind Corp Imide-modified elastomer
US8222365B2 (en) 2006-12-12 2012-07-17 Toyo Boseki Kabushiki Kaisha Polyamideimide resin, as well as a colorless and transparent flexible metal-clad laminate and circuit board obtained therefrom
JP2009229507A (en) 2008-03-19 2009-10-08 Hitachi Chem Co Ltd Sealing film
KR20100134114A (en) 2008-05-16 2010-12-22 신닛테츠 마테리알즈 가부시키가이샤 Stainless steel foil for a flexible display
JP2010180292A (en) 2009-02-04 2010-08-19 Jsr Corp Aromatic diamine compound, polyimide material, film, and method for producing the same
KR20100105182A (en) * 2009-03-20 2010-09-29 김진우 Process for making imide and aramid function containing novel polymer and application
KR101523730B1 (en) * 2011-05-18 2015-05-29 삼성전자 주식회사 Poly(amide-imide) block copolymer, article including same, and display device including the article
KR101459178B1 (en) * 2011-09-30 2014-11-07 코오롱인더스트리 주식회사 Co-polymerized polyamide-imide film and method of producing the co-polmerized polyamide-imide
KR101961115B1 (en) * 2012-02-07 2019-03-26 삼성전자주식회사 Article, method of preparing same, and display device including the article

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04227635A (en) * 1991-04-04 1992-08-17 Mitsui Toatsu Chem Inc Production of aromatic polyamide-polyimide copolymer
JPH07165915A (en) * 1993-12-13 1995-06-27 Toray Ind Inc Aromatic polyamide-imide-based film
JPH08104749A (en) * 1994-09-14 1996-04-23 Sunkyong Ind Ltd Polyimide/silica composite and production of film thereof
JPH11293109A (en) * 1997-11-20 1999-10-26 Kureha Chem Ind Co Ltd Thermoplastic resin composition
US20020107335A1 (en) * 1997-11-20 2002-08-08 Naomitsu Nishihata Thermoplastic resin composition
JP2000143984A (en) * 1998-11-05 2000-05-26 Showa Denko Kk Fluorinated polyimide resin composition and its production
US20050048297A1 (en) * 2003-08-27 2005-03-03 Mitsui Chemicals, Inc. Polyimide metal laminate
JP2005068347A (en) * 2003-08-27 2005-03-17 Mitsui Chemicals Inc Polyimide composition, method for producing the same and use thereof
JP2005105158A (en) * 2003-09-30 2005-04-21 Choshun Jinzo Jushisho Kofun Yugenkoshi Organic-inorganic hybrid film material and method for producing the same
JP2005290184A (en) * 2004-03-31 2005-10-20 Arakawa Chem Ind Co Ltd Polyamide imide resin, methoxysilyl group-containing silane-modified polyamide imide resin, polyamide imide resin composition, cured film, and metal foil laminate
US20120183730A1 (en) * 2011-01-19 2012-07-19 Canon Kabushiki Kaisha Optical member and method of producing the same

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016089142A (en) * 2014-10-29 2016-05-23 達勝科技股▲ふん▼有限公司 Polyimide-containing polymer, polyimide film having the same and polyimide laminated sheet
JP2017075309A (en) * 2015-10-13 2017-04-20 三星電子株式会社Samsung Electronics Co., Ltd. Poly(imide-amide) copolymer, method of producing poly(imide-amide) copolymer, formed article containing poly(imide-amide) copolymer, and electronic device including that formed article
JP2018535175A (en) * 2015-10-30 2018-11-29 コーニング インコーポレイテッド Glass article with mixed coating of polymer and metal oxide
JP6993964B2 (en) 2015-10-30 2022-01-14 コーニング インコーポレイテッド Glass articles with mixed coatings of polymers and metal oxides
JP2017095709A (en) * 2015-11-23 2017-06-01 三星電子株式会社Samsung Electronics Co., Ltd. Composition for producing organic/inorganic hybrid copolymer
JP2018059070A (en) * 2016-09-30 2018-04-12 住友化学株式会社 Optical film and production method of the same
JP7021887B2 (en) 2016-09-30 2022-02-17 住友化学株式会社 Optical film manufacturing method
JP2019085549A (en) * 2017-11-09 2019-06-06 住友化学株式会社 Optical film
JP7083272B2 (en) 2017-11-09 2022-06-10 住友化学株式会社 Optical film
WO2021065509A1 (en) * 2019-09-30 2021-04-08 三菱瓦斯化学株式会社 Polyimide resin composition, polyimide varnish, polyimide film
WO2023228613A1 (en) * 2022-05-24 2023-11-30 パナソニックIpマネジメント株式会社 Polyimide, method for producing imide compound, and method for producing recycled polyimide

Also Published As

Publication number Publication date
JP6093264B2 (en) 2017-03-08
EP2690124B1 (en) 2015-09-16
EP2690124A2 (en) 2014-01-29
CN103571190A (en) 2014-02-12
KR102074954B1 (en) 2020-02-07
EP2690124A3 (en) 2014-05-21
US9365694B2 (en) 2016-06-14
CN103571190B (en) 2016-12-28
KR20140016199A (en) 2014-02-07
US20140031499A1 (en) 2014-01-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6093264B2 (en) COMPOSITE COMPOSITION OF POLYIMIDE COPOLYMER AND INORGANIC PARTICLES, MANUFACTURING METHOD THEREOF, MOLDED ARTICLE INCLUDING THE SAME, AND DISPLAY DEVICE PROVIDED WITH THE MOLDED ARTICLE
KR101968258B1 (en) Poly(amide-imide) block copolymer, article including same, and display device including the article
KR101961115B1 (en) Article, method of preparing same, and display device including the article
KR101523730B1 (en) Poly(amide-imide) block copolymer, article including same, and display device including the article
CN106928706B (en) Compositions for making polyimide or poly (imide-amide) copolymer articles, and display devices including the same
CN111892708B (en) Resin precursor, resin composition containing the same, resin film and method for producing the same, and laminate and method for producing the same
JP2021102770A (en) Polyamic acid composition with improved adhesive strength and polyimide film comprising the same
KR102529151B1 (en) Composition for preparing article including polyimide or poly(amide-imide) copolymer, article obtained therefrom, and display device including same
KR102111093B1 (en) Poly(amide-imide) copolymer, method of preparing poly(amide-imede) copolymer, and article including poly(amide-imide)copolymer
KR102304105B1 (en) Poly(imide-amide)copolymer, article contatining poly(imide-amide)copolymer, and display device including same
KR102164314B1 (en) Polyimide film, and display device including the film
EP3176219B1 (en) Transparent polymer film and electronic device including the same
JP6644464B2 (en) Composition for producing polyimide, polyimide, molded article containing the polyimide, and optical device containing the molded article
TWI722786B (en) Polyimide-based resin film, substrate for display device, and optical device
KR102470600B1 (en) Transparent polymer film and electronic device including the same
KR101961894B1 (en) Copolymer, article including same, and display device including the article
KR102276288B1 (en) Composition of preparing polyimide, polyimide, article includong same, and display device
KR102225509B1 (en) Composition of preparing polyimide-inorganic particle composite, polyimide-inorganic particle composite, and article includong polyimide-inorganic particle composite
KR102276656B1 (en) Composition of preparing poly(imide-benzoxasole)copolymer, poly(imide-benzoxasole)copolymer, article contatining poly(imide-benzoxasole)copolymer, and display device including same
TWI795142B (en) Optical film with improved optical properties, display apparatus comprising the same and manufacturing method thereof
TWI806308B (en) Optical film having improved visibility and display device comprising the same
KR102427760B1 (en) Polyimide-based polymer film, substrate for display device, and optical device using the same
US20230374219A1 (en) Optical film including polymer resin having excellent degree of polymerization, and display device including same
KR20220097263A (en) Optical film comprising polymer resin with improved degree of polymerization and display apparatus comprising the same

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20160202

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20161017

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20161025

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20170124

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20170207

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20170210

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6093264

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250