KR20200095406A - Optical film, flexible display device and resin composition - Google Patents

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히로코 스기야마
다카시 아리무라
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스미또모 가가꾸 가부시키가이샤
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Abstract

Provided is an optical film having high abrasion resistance and a high elastic modulus. The optical film contains at least one type of resin selected from a group consisting of a polyimide-based resin and a polyamide-based resin, and a ratio of ionic strength of K (I_K) to ionic strength of CH_3 (I_CH3), obtained by time-of-flight secondary ion mass spectrometry, in the optical film (I_K/I_CH3) is 0.2 or more.

Description

광학 필름, 플렉시블 표시 장치, 및 수지 조성물{OPTICAL FILM, FLEXIBLE DISPLAY DEVICE AND RESIN COMPOSITION}An optical film, a flexible display device, and a resin composition TECHNICAL FIELD [OPTICAL FILM, FLEXIBLE DISPLAY DEVICE AND RESIN COMPOSITION}

본 발명은 광학 필름, 플렉시블 표시 장치, 및 수지 조성물에 관한 것이다.The present invention relates to an optical film, a flexible display device, and a resin composition.

현재, 액정 표시 장치나 유기 EL 표시 장치 등의 화상 표시 장치는, 휴대전화나 스마트 워치와 같은 여러 가지 용도로 널리 활용되고 있다. 이와 같은 화상 표시 장치의 전면판으로서는 유리가 이용되어 왔지만, 유리는 매우 강직하여, 깨지기 쉽기 때문에, 예를 들면, 플렉시블 표시 장치의 전면판 재료로서의 이용은 어렵다. 그 때문에, 유리를 대신하는 재료 중 하나로서 고분자 재료의 활용이 검토되고, 예를 들면, 폴리이미드계 수지를 이용하는 광학 필름이 검토되고 있다(예를 들면, 특허문헌 1).Currently, image display devices such as a liquid crystal display device and an organic EL display device are widely used for various purposes such as mobile phones and smart watches. Although glass has been used as the front plate of such an image display device, since the glass is very rigid and fragile, it is difficult to use, for example, a front plate material of a flexible display device. Therefore, utilization of a polymer material as one of the materials instead of glass has been studied, and an optical film using, for example, a polyimide resin has been studied (for example, Patent Document 1).

일본 공개특허 특개2018-119132호 공보Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2018-119132

광학 필름을 포함하는 플렉시블 표시 장치를 제조할 때에는, 광학 필름에 보호 필름을 맞붙이는 것, 광학 필름을 롤 형상으로 권회하는 것, 광학 필름을 수송하는 것 등이 행해지고 있다. 이들에 있어서는, 광학 필름과 보호 필름 및/또는 포장 필름이 서로 문질러지는 경우가 있어, 마찰에 의해 광학 필름의 표면에 미세한 흠집이 생기는 경우가 있었다. 또, 폴리이미드계 수지 및 폴리아미드계 수지 등을 포함하는 광학 필름을 플렉시블 표시 장치 등에 있어서 사용하는 경우, 굴곡이나 외부 요인과의 접촉에 기인하여, 광학 필름에 흠집, 주름 등의 결함이 생기는 경우가 있어, 이들을 방지하는 관점에서, 광학 필름의 탄성률을 높이고, 내충격성을 향상시키는 것도 요구되고 있다.When manufacturing a flexible display device containing an optical film, attaching a protective film to an optical film, winding an optical film in a roll shape, conveying an optical film, etc. are performed. In these cases, the optical film and the protective film and/or the packaging film may be rubbed against each other, and fine scratches may occur on the surface of the optical film due to friction. In addition, when an optical film containing a polyimide resin, a polyamide resin, etc. is used in a flexible display device, etc., when defects such as scratches and wrinkles occur in the optical film due to bending or contact with external factors. In addition, from the viewpoint of preventing these, it is also required to increase the elastic modulus of the optical film and improve the impact resistance.

그 때문에 본 발명은, 높은 내찰과성 및 높은 탄성률을 갖는 광학 필름을 제공하는 것을 과제로 한다.Therefore, the present invention makes it a subject to provide an optical film having high abrasion resistance and high elastic modulus.

본 발명자들은, 상기 과제를 해결하기 위하여, 수지 필름 중에 포함되는 성분의 종류와 양에 착안하여, 예의 검토를 행하였다. 그 결과, 광학 필름에 있어서의, 비행시간형 2차 이온 질량분석법에 의해 얻어지는 CH3의 이온 강도(ICH3)에 대한 K의 이온 강도(IK)의 비율(IK/ICH3)이 0.2 이상인 경우, 놀랍게도, 광학 필름의 내찰과성 및 탄성률을 높이기 쉽다는 것을 찾아내고, 본 발명을 완성시키기에 이르렀다.In order to solve the above problems, the inventors of the present invention have conducted intensive examinations, paying attention to the types and amounts of components contained in the resin film. As a result, the ratio of the ionic strength of K (I K ) to the ionic strength of CH 3 (I CH3 ) obtained by the time-of-flight secondary ion mass spectrometry in the optical film (I K / I CH3 ) was 0.2 In the above case, surprisingly, it was found that the abrasion resistance and the elastic modulus of the optical film were easily improved, and the present invention was completed.

즉, 본 발명은, 이하의 적합한 태양을 포함한다.That is, the present invention includes the following suitable aspects.

〔1〕 폴리이미드계 수지 및 폴리아미드계 수지로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 수지를 포함하는 광학 필름으로서, 당해 광학 필름의 비행시간형 2차 이온 질량분석법에 의해 얻어지는 CH3의 이온 강도(ICH3)에 대한 K의 이온 강도(IK)의 비율(IK/ICH3)이 0.2 이상인, 광학 필름.[1] An optical film comprising at least one resin selected from the group consisting of a polyimide resin and a polyamide resin, the ionic strength of CH 3 obtained by a time-of-flight secondary ion mass spectrometry method of the optical film The optical film, wherein the ratio of the ionic strength (I K ) of K to (I CH3 ) (I K /I CH3 ) is 0.2 or more.

〔2〕 폴리이미드계 수지 및 폴리아미드계 수지는 방향족계의 수지인, 상기 〔1〕에 기재된 광학 필름.[2] The optical film according to [1], wherein the polyimide-based resin and the polyamide-based resin are aromatic resins.

〔3〕 폴리이미드계 수지 및 폴리아미드계 수지에 있어서의 전체 구성 단위에 대한 방향족계 모노머에 유래하는 구성 단위의 비율이 60 몰% 이상인, 상기 〔1〕또는 〔2〕에 기재된 광학 필름.[3] The optical film according to [1] or [2], wherein the ratio of the constitutional units derived from the aromatic monomer to all constitutional units in the polyimide resin and the polyamide resin is 60 mol% or more.

〔4〕 두께가 10∼100 ㎛이고, 전(全)광선투과율이 80% 이상인, 상기 〔1〕∼〔3〕 중 어느 것에 기재된 광학 필름.[4] The optical film according to any one of [1] to [3], wherein the thickness is 10 to 100 µm, and the total light transmittance is 80% or more.

〔5〕 폴리이미드계 수지 및 폴리아미드계 수지의 중량평균 분자량이 200,000 이상인, 상기 〔1〕∼〔4〕 중 어느 것에 기재된 광학 필름.[5] The optical film according to any one of [1] to [4], wherein the weight average molecular weight of the polyimide resin and the polyamide resin is 200,000 or more.

〔6〕 폴리이미드계 수지는 폴리아미드이미드 수지인, 상기 〔1〕∼〔5〕 중 어느 것에 기재된 광학 필름.[6] The optical film according to any one of [1] to [5], wherein the polyimide resin is a polyamideimide resin.

〔7〕 폴리이미드계 수지 및 폴리아미드계 수지는 테레프탈산에 유래하는 구성 단위를 포함하는, 상기 〔1〕∼〔6〕 중 어느 것에 기재된 광학 필름.[7] The optical film according to any one of [1] to [6], wherein the polyimide resin and the polyamide resin contain a structural unit derived from terephthalic acid.

〔8〕 탄성률이 5.0 ㎬ 이상인, 상기 〔1〕∼〔7〕 중 어느 것에 기재된 광학 필름.[8] The optical film according to any one of [1] to [7], wherein the elastic modulus is 5.0 GPa or more.

〔9〕 플렉시블 표시 장치의 전면판용의 필름인, 상기 〔1〕∼〔8〕 중 어느 것에 기재된 광학 필름.[9] The optical film according to any one of [1] to [8], which is a film for a front plate of a flexible display device.

〔10〕 상기 〔1〕∼〔9〕 중 어느 것에 기재된 광학 필름을 구비하는 플렉시블 표시 장치.[10] A flexible display device comprising the optical film according to any one of [1] to [9].

〔11〕 터치 센서를 추가로 구비하는, 상기 〔10〕에 기재된 플렉시블 표시 장치.[11] The flexible display device according to [10], further comprising a touch sensor.

〔12〕 편광판을 추가로 구비하는, 상기 〔10〕또는 〔11〕에 기재된 플렉시블 표시 장치.[12] The flexible display device according to [10] or [11], further comprising a polarizing plate.

〔13〕 폴리이미드계 수지 및 폴리아미드계 수지로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 수지와, 칼륨 원자를 포함하는 화합물, 칼륨 및 칼륨 이온으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 칼륨 함유 성분과, 용매를 적어도 포함하는, 수지 조성물.(13) at least one resin selected from the group consisting of polyimide resins and polyamide resins, a compound containing potassium atoms, at least one potassium-containing component selected from the group consisting of potassium and potassium ions, and , A resin composition containing at least a solvent.

본 발명의 광학 필름은 높은 내찰과성 및 높은 탄성률을 갖는다.The optical film of the present invention has high abrasion resistance and high elastic modulus.

도 1은 찰과성 시험의 시험 방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 2는 찰과성 시험의 시험 방법을 설명하기 위한 도면이다.
도 3은 찰과성 시험의 시험 방법을 설명하기 위한 도면이다.
1 is a diagram for explaining a test method of an abrasion test.
It is a figure for demonstrating the test method of the abrasion test.
3 is a diagram for explaining a test method of an abrasion test.

이하에, 본 발명의 실시 형태에 대하여 상세하게 설명한다. 또한, 본 발명의 범위는 여기에서 설명하는 실시 형태에 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 취지를 일탈하지 않는 범위에서 여러 가지 변경을 할 수 있다.Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described in detail. In addition, the scope of the present invention is not limited to the embodiments described herein, and various changes can be made without departing from the spirit of the present invention.

본 발명의 광학 필름은, 폴리이미드계 수지 및 폴리아미드계 수지로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 수지를 포함하는 광학 필름으로서, 당해 광학 필름의 비행시간형 2차 이온 질량분석법(TOF-SIMS)에 의해 얻어지는 CH3의 이온 강도(ICH3)에 대한 K의 이온 강도(IK)의 비율(IK/ICH3)이 0.2 이상이다.The optical film of the present invention is an optical film containing at least one resin selected from the group consisting of a polyimide resin and a polyamide resin, and the time-of-flight secondary ion mass spectrometry (TOF-SIMS) of the optical film The ratio of the ionic strength of K (I K ) to the ionic strength of CH 3 (I CH3 ) obtained by) (I K /I CH3 ) is 0.2 or more.

본 발명의 광학 필름에 있어서, CH3의 이온 강도(ICH3)에 대한 K의 이온 강도(IK)의 비율(IK/ICH3)은, 비행시간형 2차 이온 질량분석법(Time-of-Flight Secondary Ion Mass Spectrometry: 본 명세서에 있어서 「TOF-SIMS」라고도 칭함)에 의해, 광학 필름의 CH3의 이온 강도(ICH3) 및 K의 이온 강도(IK)를 측정하고, IK를 ICH3으로 나눔으로써 산출된다. 또한, 본 명세서에 있어서, 비행시간형 2차 이온 질량분석법에 의해 측정되는 CH3의 이온 강도(ICH3) 및 K의 이온 강도(IK)는, 측정 데이터에 있어서 CH3 이온에 귀속되는 피크의 적분값을 CH3의 이온 강도(ICH3)라고 하고, K 이온에 귀속되는 피크의 적분값을 K의 이온 강도(IK)라고 한다.In the optical film of the present invention, the ratio of the ionic strength of K (I K ) to the ionic strength of CH 3 (I CH3 ) (I K / I CH3 ) is the time-of-flight secondary ion mass spectrometry (Time-of -Flight Secondary Ion Mass Spectrometry: In this specification, also referred to as ``TOF-SIMS''), the ionic strength of CH 3 (I CH3 ) and the ionic strength of K (I K ) of the optical film were measured, and I K It is calculated by dividing by I CH3 . In addition, in this specification, the ionic strength of CH 3 (I CH3 ) and the ionic strength of K (I K ) measured by the time-of-flight secondary ion mass spectrometry are peaks attributed to CH 3 ions in the measurement data. The integral value of is called the ionic strength of CH 3 (I CH3 ), and the integral value of the peak attributable to K ions is called the ionic strength of K (I K ).

TOF-SIMS는 질량분석법의 일종이며, TOF-SIMS에 의하면, 시료의 최표면에 존재하는 원소 또는 분자종을 매우 높은 검출 감도로 얻을 수 있고, 또한, 시료의 최표면에 존재하는 원소 또는 분자종의 분포도 조사할 수 있다.TOF-SIMS is a type of mass spectrometry, and according to TOF-SIMS, it is possible to obtain an element or molecular species present on the outermost surface of a sample with very high detection sensitivity, and also, an element or molecular species present on the outermost surface of a sample. The distribution of can also be investigated.

TOF-SIMS는, 고진공 중에서 이온 빔(일차 이온)을 시료에 조사하고, 표면으로부터 방출되는 이온을, 그 비행시간차를 이용하여 질량 분리하는 수법이다. 일차 이온을 조사하면, 정(正) 또는 부(負)의 전하를 띤 이온(2차 이온)이 시료 표면으로부터 방출되지만, 가벼운 이온일수록 빠르고, 무거운 이온일수록 느리게 비행하기 때문에, 2차 이온이 발생하고나서 검출될 때까지의 시간(비행시간)을 측정하면, 발생한 2차 이온의 질량을 계산할 수 있다.TOF-SIMS is a method of irradiating a sample with an ion beam (primary ions) in a high vacuum, and mass-separating the ions emitted from the surface using the flight time difference. When primary ions are irradiated, positive or negatively charged ions (secondary ions) are released from the sample surface, but lighter ions fly faster and heavier ions fly slower, so secondary ions are generated. Then, by measuring the time until detection (flight time), the mass of the generated secondary ions can be calculated.

TOF-SIMS에 의한 측정에 있어서, CH3 이온은 질량 15.02 u 부근에, K 이온은 질량 38.96 u 부근에 검출된다. 또, 이들 이온은, 정(포지티브) 이온 분석과, 부(네가티브) 이온 분석의 어느 쪽에 있어서나 검출되는 이온이다. 본 발명에 있어서, CH3의 이온 강도(ICH3)에 대한 K의 이온 강도(IK)의 비율(IK/ICH3)은, 정 이온 분석에 의해 검출된 비율이어도 되고, 부 이온 분석에 의해 검출된 비율이어도 되며, 상기 비율의 적어도 일방(一方)의 비율이 0.2 이상이면, 본 발명에 있어서의 비율(IK/ICH3)이 0.2 이상이라는 요건을 만족시킨다. 보다 높은 검출 감도가 얻어지는 관점에서는, 정 이온 분석을 이용한 조건이 바람직하다.In the measurement by TOF-SIMS, CH 3 ions are detected in the vicinity of 15.02 u in mass and K ions are detected in the vicinity of 38.96 u in mass. In addition, these ions are ions detected in either positive (positive) ion analysis and negative (negative) ion analysis. In the present invention, the ratio of the ionic strength of K (I K ) to the ionic strength of CH 3 (I CH3 ) (I K / I CH3 ) may be a ratio detected by positive ion analysis, or may be used in negative ion analysis. The ratio detected by this method may be sufficient, and if the ratio of at least one of the above ratios is 0.2 or more, the requirement that the ratio (I K /I CH3 ) in the present invention is 0.2 or more is satisfied. From the viewpoint of obtaining higher detection sensitivity, conditions using positive ion analysis are preferable.

TOF-SIMS에 의한 측정은, 광학 필름에 대하여, 비행시간형 2차 이온 질량분석 장치를 이용하여, 일차 이온이 Bi3++, 일차 이온의 가속 전압이 25 ㎸, 조사 이온 전류가 0.23 ㎀, 측정 범위가 200 ㎛×200 ㎛의 조건으로, 정 이온 분석 또는 부 이온 분석에 의해 실시할 수 있다. TOF-SIMS에 의한 측정은, 예를 들면, 실시예에 기재된 방법에 따라서 행할 수 있다. 광학 필름의 표면 또는 단면의 적어도 일부에 대하여 측정된 상기 비율(IK/ICH3)이 상기 범위 내이면 되지만, 광학 필름 내부의 조성이 광학 필름의 기계적 강도에 의해 영향을 주기 쉽다고 추찰되기 때문에, 광학 필름의 단면에 대하여 측정된 비율(IK/ICH3)이 상기의 범위 내인 것이 바람직하다.Measurement by TOF-SIMS was performed using a time-of-flight secondary ion mass spectrometer for the optical film, where the primary ion was Bi 3++ , the acceleration voltage of the primary ion was 25 kV, and the irradiated ion current was 0.23 kW, It can be carried out by positive ion analysis or negative ion analysis under conditions of a measurement range of 200 μm×200 μm. Measurement by TOF-SIMS can be performed according to the method described in Examples, for example. The ratio (I K / I CH3 ) measured with respect to at least a portion of the surface or cross-section of the optical film should be within the above range, but it is assumed that the composition inside the optical film is likely to be affected by the mechanical strength of the optical film. It is preferable that the ratio (I K /I CH3 ) measured with respect to the cross section of the optical film is within the above range.

비행시간형 2차 이온 질량분석법에 의해 얻어지는 CH3의 이온 강도(ICH3)에 대한 K의 이온 강도(IK)의 비율(IK/ICH3)이 0.2 이상인 본 발명의 광학 필름에 의하면, 놀랍게도, 광학 필름의 내찰과성 및 탄성률을 향상시킬 수 있다. 여기서, 비행시간형 2차 이온 질량분석법에 의해 얻어지는 CH3의 이온 강도(ICH3)와 K의 이온 강도(IK)는, 광학 필름 중에 존재하는 탄소 원자 및/또는 탄소 이온의 양과 칼륨 원자 및/또는 칼륨 이온의 양을 상대적으로 나타내고 있다. 상기 비율이 0.2 이상인 것은, 광학 필름 중에 존재하는 탄소 원자 및/또는 탄소 이온의 총량에 대하여 일정량 이상의 칼륨 원자(K) 및/또는 칼륨 이온의 총량이 존재한다는 것을 나타내고 있다. 또한, 탄소 원자 및 탄소 이온이 CH3 이온으로서 검출되는 이유는, 비행시간형 2차 이온 질량분석법에 있어서, 발생한 각종 2차 이온은 프로톤 부가체의 형태로도 검출된다는 특징이 있고, 탄소 원자에 있어서는 프로톤 부가체로서 CH3 이온이 동시에 발생하기 때문이다.According to the optical film of the present invention in which the ratio of the ionic strength of K (I K ) to the ionic strength of CH 3 (I CH3 ) obtained by time-of-flight secondary ion mass spectrometry (I K / I CH3 ) is 0.2 or more, Surprisingly, it is possible to improve the abrasion resistance and elastic modulus of the optical film. Here, the ionic strength of CH 3 (I CH 3 ) and the ionic strength of K (I K ) obtained by the time-of-flight secondary ion mass spectrometry are the amount of carbon atoms and/or carbon ions present in the optical film, potassium atoms, and /Or the amount of potassium ions is shown relatively. The ratio of 0.2 or more indicates that a certain amount of potassium atoms (K) and/or the total amount of potassium ions is present with respect to the total amount of carbon atoms and/or carbon ions present in the optical film. In addition, the reason why carbon atoms and carbon ions are detected as CH 3 ions is that in the time-of-flight secondary ion mass spectrometry, various secondary ions generated are also detected in the form of proton adducts, and This is because CH 3 ions are generated simultaneously as a proton adduct.

칼륨 원자 및/또는 칼륨 이온이 일정량 이상 존재함으로써, 광학 필름의 내찰과성 및 탄성률이 향상되는 이유는 명백하지 않고, 본 발명은 후술하는 메커니즘에 하등 한정되지 않지만, 예를 들면, 다음과 같은 메커니즘에 의해 내찰과성 및 탄성률이 향상된다고 생각된다. 본 발명의 광학 필름을 제조할 때, 폴리이미드계 수지 및/또는 폴리아미드계 수지를 포함하는 조성물 중에 칼륨 원자를 포함하는 화합물, 칼륨 및/또는 칼륨 이온이 포함됨으로써, 당해 수지에 포함되는 이미드 결합 및/또는 아미드 결합, 바람직하게는 폴리이미드계 수지에 포함되는 이미드 결합과, 칼륨 원자를 포함하는 화합물, 칼륨 및/또는 칼륨 이온과의 사이에, 무엇인가의 상호 작용(예를 들면, 이미드 결합이나 아미드 결합의 카르보닐기와 칼륨 이온간의 정전적인 상호 작용)이 생긴다고 생각된다. 그 결과, 얻어진 광학 필름에 포함되는 폴리이미드계 수지 및/또는 폴리아미드계 수지가, 칼륨 원자를 포함하는 화합물, 칼륨 및/또는 칼륨 이온과 상호 작용한 상태로 필름 중에 존재하고 있거나, 또는, 칼륨 원자를 포함하는 화합물, 칼륨 및/또는 칼륨 이온과 폴리이미드계 수지 및/또는 폴리아미드계 수지와의 상호 작용에 기인하여 당해 수지의 배향 상태가 바뀜으로써, 광학 필름의 내찰과성 및 탄성률이 향상된다고 생각된다. 폴리이미드계 수지 및/또는 폴리아미드계 수지의 이미드 결합 및/또는 아미드 결합과 상호 작용하기 쉽다는 관점에서, 광학 필름 중에 포함되는 칼륨 함유 성분은 이온화한 상태인 것이 바람직하다. 또한, 본 명세서에 있어서는, 광학 필름을 비행시간형 2차 이온 질량분석하였을 때에 K의 이온 강도(IK)로서 검출된다고 생각되는, 광학 필름에 포함될 수 있는 칼륨 원자를 포함하는 화합물, 칼륨 및/또는 칼륨 이온을, 「칼륨 함유 성분」이라고도 칭한다. 또한, 칼륨 원자를 포함하는 화합물이란, 칼륨 원자를 분자의 구성 원자로서 포함하는 화합물이다.The reason why the abrasion resistance and the elastic modulus of the optical film are improved by the presence of potassium atoms and/or potassium ions in a certain amount or more is not clear, and the present invention is not limited at all to the mechanisms described later, for example, the following mechanisms. It is thought that the abrasion resistance and elastic modulus are improved by this. When preparing the optical film of the present invention, the imide contained in the resin by including a compound containing a potassium atom, potassium and/or potassium ions in a composition containing a polyimide resin and/or a polyamide resin A bond and/or an amide bond, preferably an imide bond included in the polyimide resin, and a compound containing a potassium atom, potassium and/or potassium ions, some interaction (for example, It is thought that an electrostatic interaction between the carbonyl group of the imide bond or the amide bond and the potassium ion) occurs. As a result, the polyimide-based resin and/or polyamide-based resin contained in the obtained optical film is present in the film while interacting with a compound containing a potassium atom, potassium and/or potassium ions, or potassium Abrasion resistance and elastic modulus of the optical film are improved by changing the orientation state of the resin due to the interaction of the compound containing an atom, potassium and/or potassium ions with the polyimide resin and/or the polyamide resin. I think it works. From the viewpoint of easy interaction with the polyimide resin and/or the imide bond and/or the amide bond of the polyimide resin and/or the polyamide resin, the potassium-containing component contained in the optical film is preferably in an ionized state. In addition, in the present specification, a compound containing a potassium atom that can be included in the optical film, potassium and/or is considered to be detected as an ionic strength (I K ) of K when the optical film is subjected to time-of-flight secondary ion mass spectrometry. Alternatively, the potassium ion is also referred to as a "potassium-containing component". In addition, the compound containing a potassium atom is a compound containing a potassium atom as a constituent atom of a molecule.

CH3의 이온 강도(ICH3)에 대한 K의 이온 강도(IK)의 비율(IK/ICH3)은, 광학 필름의 내찰과성 및 탄성률을 높이기 쉽다는 관점에서, 바람직하게는 0.95 이상, 보다 바람직하게는 1.0 이상, 더 바람직하게는 1.2 이상, 보다 더 바람직하게는 1.4 이상, 보다 더 바람직하게는 1.5 이상, 보다 더 바람직하게는 3 이상, 특별히 바람직하게는 5 이상, 보다 특별히 바람직하게는 10 이상, 가장 바람직하게는 12 이상이다. 비율(IK/ICH3)의 상한은, 폴리이미드계 수지 및/또는 폴리아미드계 수지를 포함하는 바니시의 성막성을 높이기 쉽고, 광학 필름의 균일성을 높이기 쉽다는 관점에서, 바람직하게는 100 이하, 보다 바람직하게는 50 이하, 더 바람직하게는 30 이하, 보다 더 바람직하게는 25 이하, 특별히 바람직하게는 20 이하이다.The ratio of the ionic strength of K (I K ) to the ionic strength of CH 3 (I CH3 ) (I K /I CH3 ) is preferably 0.95 or more from the viewpoint of easy to increase the abrasion resistance and elastic modulus of the optical film. , More preferably 1.0 or more, more preferably 1.2 or more, even more preferably 1.4 or more, even more preferably 1.5 or more, even more preferably 3 or more, particularly preferably 5 or more, more particularly preferably Is 10 or more, most preferably 12 or more. The upper limit of the ratio (I K /I CH3 ) is preferably 100 from the viewpoint of easy to increase the film-forming properties of a varnish containing a polyimide-based resin and/or a polyamide-based resin, and to increase the uniformity of an optical film. Hereinafter, more preferably 50 or less, still more preferably 30 or less, even more preferably 25 or less, and particularly preferably 20 or less.

비율(IK/ICH3)을 상기의 범위로 조정하는 방법은 특별히 한정되지 않지만, 폴리이미드계 수지 및/또는 폴리아미드계 수지를 포함하는 본 발명의 광학 필름에 있어서의, 칼륨 함유 성분(칼륨 원자를 포함하는 화합물, 칼륨 및/또는 칼륨 이온)의 함유량을 조정하는 방법, 및, 광학 필름에 포함되는 폴리이미드계 수지 및/또는 폴리아미드계 수지의 함유량을 조정하는 방법을 들 수 있다. 구체적으로는, 광학 필름에 있어서의 칼륨 함유 성분의 함유량을 크게 하면, 당해 광학 필름의 TOF-SIMS에 의해 얻어지는 K의 이온 강도(IK)도 커진다. 광학 필름에 포함되는 폴리이미드계 수지 및/또는 폴리아미드계 수지의 함유량을 크게 하면, 당해 광학 필름의 TOF-SIMS에 의해 얻어지는 CH3의 이온 강도(ICH3)도 커진다. 그 때문에, 광학 필름에 있어서의 칼륨 함유 성분의 함유량을 늘리면, 비율(IK/ICH3)의 값은 커지고, 광학 필름에 포함되는 폴리이미드계 수지 및/또는 폴리아미드계 수지의 함유량을 크게 하면, 비율(IK/ICH3)의 값은 작아진다. 상기의 방법에 의해, 비율(IK/ICH3)을 원하는 범위로 조정할 수 있다.The method of adjusting the ratio (I K / I CH3 ) to the above range is not particularly limited, but a potassium-containing component (potassium) in the optical film of the present invention containing a polyimide resin and/or a polyamide resin A method of adjusting the content of the compound containing an atom, potassium and/or potassium ion), and a method of adjusting the content of the polyimide resin and/or polyamide resin included in the optical film are mentioned. Specifically, when the content of the potassium-containing component in the optical film is increased, the ionic strength (I K ) of K obtained by TOF-SIMS of the optical film is also increased. When the content of the polyimide resin and/or the polyamide resin contained in the optical film is increased, the ionic strength (I CH3 ) of CH 3 obtained by TOF-SIMS of the optical film is also increased. Therefore, when the content of the potassium-containing component in the optical film is increased, the value of the ratio (I K / I CH3 ) increases, and when the content of the polyimide resin and/or polyamide resin contained in the optical film is increased , The value of the ratio (I K /I CH3 ) decreases. By the above method, the ratio (I K /I CH3 ) can be adjusted to a desired range.

본 발명의 광학 필름에 있어서, TOF-SIMS에 의한 CH3의 이온 강도(ICH3) 및 K의 이온 강도(IK)는 특별히 한정되지 않고, 비율(IK/ICH3)의 값이 상기의 범위가 되면 되지만, TOF-SIMS에 의한 측정의 정밀도를 확보하기 쉽다는 관점에서, K의 이온 강도(IK)가, 바람직하게는 100 이상, 보다 바람직하게는 300 이상, 더 바람직하게는 500 이상이 되는 조건으로 측정을 행하는 것이 바람직하다.In the optical film of the present invention, the ionic strength of CH 3 (I CH3 ) and the ionic strength of K (I K ) by TOF-SIMS are not particularly limited, and the value of the ratio (I K /I CH3 ) is the above The range is sufficient, but from the viewpoint of easy to secure the accuracy of measurement by TOF-SIMS, the ionic strength (I K ) of K is preferably 100 or more, more preferably 300 or more, and more preferably 500 or more. It is preferable to perform the measurement under the conditions that become.

비율(IK/ICH3)이 0.2 이상인 본 발명의 광학 필름은, 높은 내찰과성을 갖는다. 본 명세서에 있어서, 내찰과성이란, 광학 필름과 보호 필름 및/또는 곤포(梱包) 필름과의 사이에서 마찰이 생기는 경우(예를 들면, 필름 롤의 제조시, 광학 필름의 수송시 등)에, 당해 마찰에 기인하여 광학 필름에 흠집이 생기기 어렵다는 것을 나타낸다. 광학 필름의 내찰과성은, 예를 들면, 실시예에 기재하는 바와 같은 스틸 울 시험기를 사용하여, 500 gf의 하중을 건 상태에서 보호 필름 또는 곤포 필름으로서 사용되는 필름과 광학 필름을 접촉시키면서, 당해 필름과 광학 필름간에 마찰을 생기게 하여, 광학 필름에 흠집이 생길 때까지의 마찰 횟수를 측정하는 찰과성 시험에 의해 평가할 수 있다. 본 발명의 광학 필름에 있어서는, 상기의 찰과성 시험에 있어서 흠집의 발생에 견딜 수 있는 왕복 횟수가, 바람직하게는 400회 이상, 보다 바람직하게는 500회 이상, 더 바람직하게는 550회 이상, 보다 더 바람직하게는 600회 이상이다.The optical film of the present invention having a ratio (I K /I CH3 ) of 0.2 or more has high abrasion resistance. In the present specification, the abrasion resistance means when friction occurs between the optical film and the protective film and/or the packaging film (for example, at the time of manufacturing a film roll, at the time of transporting the optical film, etc.) , It indicates that the optical film is hardly scratched due to the friction. The abrasion resistance of the optical film is, for example, using a steel wool tester as described in Examples, while applying a load of 500 gf, while contacting the film used as a protective film or packaging film and the optical film, the It can be evaluated by the abrasion test in which friction is caused between the film and the optical film, and the number of frictions until the optical film is scratched is measured. In the optical film of the present invention, the number of reciprocations that can withstand the occurrence of scratches in the abrasion test described above is preferably 400 or more, more preferably 500 or more, further preferably 550 or more, Even more preferably, it is 600 or more times.

비율(IK/ICH3)이 0.2 이상인 본 발명의 광학 필름은, 높은 탄성률을 갖는다. 본 발명의 광학 필름의 탄성률은, 바람직하게는 5.0 ㎬ 이상, 보다 바람직하게는 5.1 ㎬ 이상, 더 바람직하게는 5.2 ㎬ 이상이다. 탄성률의 상한은 특별히 한정되지 않지만, 통상 100 ㎬ 이하이다. 또한, 탄성률은, 인장시험기(예를 들면, 척 간 거리 50 ㎜, 인장 속도 10 ㎜/분의 조건)를 이용하여 측정할 수 있고, 예를 들면, 실시예에 기재된 방법에 의해 측정할 수 있다. 광학 필름의 탄성률을 높게 함으로써, 광학 필름의 내충격성이 향상되고, 굴곡 등에 의한 광학 필름의 흠집 내기를 방지하기 쉬워지는 경향이 있지만, 단지 탄성률을 향상시키는 것만으로는 내찰과성이 충분하지 않은 경우도 있다. 그러나, 본 발명의 광학 필름은, 높은 내찰과성을 갖고, 또한, 높은 탄성률을 갖는다. 또, 광학 필름에 포함되는 수지의 중량평균 분자량을 높게 하면, 탄성률이 높아지는 경향이 있지만, 본 발명의 광학 필름에 의하면, 광학 필름에 포함되는 수지의 중량평균 분자량이 비교적 낮은 경우이더라도, 광학 필름의 탄성률을 높일 수 있다.The optical film of the present invention having a ratio (I K /I CH3 ) of 0.2 or more has a high modulus of elasticity. The elastic modulus of the optical film of the present invention is preferably 5.0 GPa or more, more preferably 5.1 GPa or more, and still more preferably 5.2 GPa or more. The upper limit of the elastic modulus is not particularly limited, but is usually 100 GPa or less. In addition, the modulus of elasticity can be measured using a tensile tester (e.g., a chuck distance of 50 mm and a tensile speed of 10 mm/min), and, for example, can be measured by the method described in Examples. . By increasing the elastic modulus of the optical film, the impact resistance of the optical film is improved and it tends to be easy to prevent scratching of the optical film due to bending, etc., but when only improving the elastic modulus is not sufficient abrasion resistance There is also. However, the optical film of the present invention has high abrasion resistance and has a high elastic modulus. In addition, if the weight average molecular weight of the resin contained in the optical film is increased, the elastic modulus tends to increase, but according to the optical film of the present invention, even when the weight average molecular weight of the resin contained in the optical film is relatively low, the optical film The modulus of elasticity can be increased.

본 발명의 광학 필름의 전광선투과율은, 바람직하게는 80% 이상, 보다 바람직하게는 85% 이상, 더 바람직하게는 88% 이상, 보다 더 바람직하게는 90% 이상, 특별히 바람직하게는 91% 이상이고, 통상 100% 이하이다. 전광선투과율이 상기의 하한 이상이면, 광학 필름을, 특히 전면판으로서, 화상 표시 장치에 조립하였을 때에 시인성을 높이기 쉽다. 본 발명의 광학 필름은 통상, 높은 전광선투과율을 나타내므로, 예를 들면, 투과율이 낮은 필름을 이용한 경우와 비교하여, 일정한 밝기를 얻기 위하여 필요한 표시 소자 등의 발광 강도를 억제하는 것이 가능하게 된다. 이 때문에, 소비 전력을 삭감할 수 있다. 예를 들면, 본 발명의 광학 필름을 화상 표시 장치에 조립하는 경우, 백라이트의 광량을 줄이더라도 밝은 표시가 얻어지는 경향이 있어, 에너지의 절약에 공헌할 수 있다. 전광선투과율의 상한은 통상 100% 이하이다. 또한, 전광선투과율은, 예를 들면, JIS K 7105:1981에 준거하여 헤이즈 컴퓨터를 이용하여 측정할 수 있다. 전광선투과율은, 후술하는 광학 필름의 두께의 범위에 있어서의 전광선투과율이어도 된다.The total light transmittance of the optical film of the present invention is preferably 80% or more, more preferably 85% or more, still more preferably 88% or more, even more preferably 90% or more, and particularly preferably 91% or more. , Usually less than 100%. When the total light transmittance is more than the above lower limit, it is easy to increase the visibility when the optical film is assembled to an image display device, particularly as a front plate. Since the optical film of the present invention usually exhibits a high total light transmittance, it becomes possible to suppress the luminous intensity of a display element or the like necessary for obtaining a constant brightness as compared to a case where a film having a low transmittance is used, for example. For this reason, power consumption can be reduced. For example, in the case of assembling the optical film of the present invention in an image display device, a bright display tends to be obtained even if the amount of light of the backlight is reduced, and thus it can contribute to energy saving. The upper limit of the total light transmittance is usually 100% or less. In addition, the total light transmittance can be measured using a haze computer in conformity with JIS K 7105:1981, for example. The total light transmittance may be a total light transmittance in the range of the thickness of the optical film described later.

본 발명의 광학 필름의 헤이즈는, 바람직하게는 1% 이하, 보다 바람직하게는 0.5% 이하, 더 바람직하게는 0.2% 이하, 보다 더 바람직하게는 0.15% 이하, 특별히 바람직하게는 0.14% 이하, 보다 특별히 바람직하게는 0.1% 이하이고, 통상 0.01% 이상이다. 광학 필름의 헤이즈가 상기의 상한 이하이면, 광학 필름을, 특히 전면판으로서, 화상 표시 장치에 조립하였을 때에, 시인성을 높이기 쉽다. 또, 헤이즈의 하한은 통상 0.01% 이상이다. 또한, 헤이즈는, JIS K 7105:1981에 준거하여 헤이즈 컴퓨터를 이용하여 측정할 수 있다.The haze of the optical film of the present invention is preferably 1% or less, more preferably 0.5% or less, even more preferably 0.2% or less, even more preferably 0.15% or less, particularly preferably 0.14% or less, more It is particularly preferably 0.1% or less, and usually 0.01% or more. When the haze of the optical film is less than or equal to the above upper limit, when the optical film is assembled to an image display device, particularly as a front plate, it is easy to increase visibility. Moreover, the lower limit of haze is usually 0.01% or more. In addition, haze can be measured using a haze computer according to JIS K 7105:1981.

본 발명의 광학 필름의 황색도(이하, YI값이라고도 부름)는, 바람직하게는 3.0 이하, 보다 바람직하게는 2.5 이하, 더 바람직하게는 2.2 이하이다. 광학 필름의 YI값이 상기의 상한 이하이면, 투명성이 양호하게 되고, 화상 표시 장치의 전면판에 사용한 경우에, 높은 시인성에 기여할 수 있다. 또, YI값은 통상 -5 이상이고, 바람직하게는 -2 이상이다. 또한, YI값은 자외가시근적외 분광광도계를 이용하여 300∼800 ㎚의 광에 대한 투과율 측정을 행하여, 3 자극값(X, Y, Z)을 구하고, YI=100×(1.2769X-1.0592Z)/Y의 식에 기초하여 산출할 수 있다.The yellowness (hereinafter, also referred to as YI value) of the optical film of the present invention is preferably 3.0 or less, more preferably 2.5 or less, and still more preferably 2.2 or less. When the YI value of the optical film is less than or equal to the above upper limit, transparency becomes good, and when used for the front plate of an image display device, high visibility can be contributed. Moreover, the YI value is usually -5 or more, and preferably -2 or more. In addition, the YI value was measured by measuring the transmittance of light of 300 to 800 nm using an ultraviolet visible near-infrared spectrophotometer to obtain three stimulation values (X, Y, Z), and YI = 100 × (1.2769X-1.0592Z). It can be calculated based on the equation of )/Y.

본 발명의 광학 필름의 두께는, 바람직하게는 10 ㎛ 이상, 보다 바람직하게는 20 ㎛ 이상, 더 바람직하게는 25 ㎛ 이상, 보다 더 바람직하게는 30 ㎛ 이상이고, 바람직하게는 100 ㎛ 이하, 보다 바람직하게는 80 ㎛ 이하, 더 바람직하게는 60 ㎛ 이하이며, 이들 상한과 하한의 조합이어도 된다. 광학 필름의 두께가 상기 범위 내이면, 광학 필름의 내찰과성 및 탄성률을 보다 높이기 쉽다. 또한, 광학 필름의 두께는, 마이크로미터를 이용하여 측정할 수 있고, 예를 들면, 실시예에 기재된 방법에 의해 측정할 수 있다.The thickness of the optical film of the present invention is preferably 10 μm or more, more preferably 20 μm or more, more preferably 25 μm or more, even more preferably 30 μm or more, preferably 100 μm or less, more It is preferably 80 µm or less, more preferably 60 µm or less, and a combination of these upper and lower limits may be used. When the thickness of the optical film is within the above range, it is easy to further increase the abrasion resistance and elastic modulus of the optical film. In addition, the thickness of the optical film can be measured using a micrometer, and for example, can be measured by the method described in Examples.

본 발명의 광학 필름에 있어서의, 내굴곡성 시험에 있어서의 굴곡 횟수(굴곡 반경 R=1 ㎜)는, 바람직하게는 150,000회 이상, 보다 바람직하게는 180,000회 이상, 더 바람직하게는 200,000회 이상이다. 굴곡 횟수가 상기의 하한 이상이면, 플렉시블 표시 장치 등의 전면판 재료로서 충분한 내굴곡성을 갖는다. 또한, 내굴곡성 시험에 있어서의 굴곡 횟수는, 절곡(折曲)시험기를 이용하여, 굴곡 반경(곡률 반경)(R)이 1 ㎜인 조건으로, 광학 필름의 반복 절곡을 행하여, 당해 필름에 깨짐이 생기는 시점까지의 왕복의 절곡 횟수(1 왕복을 1회로 함)를 나타낸다.In the optical film of the present invention, the number of bending (bending radius R = 1 mm) in the bending resistance test is preferably 150,000 or more, more preferably 180,000 or more, and still more preferably 200,000 or more. . When the number of bending is more than the above lower limit, it has sufficient bending resistance as a front plate material for a flexible display device or the like. In addition, the number of bending in the bending resistance test was repeated using a bending tester and bending the optical film repeatedly under the condition that the bending radius (curvature radius) (R) was 1 mm, and the film was broken. It shows the number of reciprocating bends (one reciprocation is referred to as one) until the time when this occurs.

< 폴리이미드계 수지 및 폴리아미드계 수지 ><Polyimide resin and polyamide resin>

본 발명의 광학 필름은, 폴리이미드계 수지 및/또는 폴리아미드계 수지를 포함한다. 본 명세서에 있어서, 폴리이미드계 수지란, 폴리이미드 수지, 폴리아미드이미드 수지, 폴리이미드 전구체 수지, 및, 폴리아미드이미드 전구체 수지로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 수지를 나타낸다. 폴리이미드 수지는, 이미드기를 포함하는 반복 구조 단위를 함유하는 수지이고, 폴리아미드이미드 수지는, 이미드기 및 아미드기의 양방(兩方)을 포함하는 반복 구조 단위를 함유하는 수지이다. 폴리이미드 전구체 수지 및 폴리아미드이미드 전구체 수지는, 각각, 이미드화에 의해 폴리이미드 수지 및 폴리아미드이미드 수지를 부여하는, 이미드화 전의 전구체이고, 폴리아믹산이라고도 불리는 수지이다. 또, 본 명세서에 있어서, 폴리아미드계 수지는, 아미드기를 포함하는 반복 구조 단위를 함유하는 수지이다. 본 발명의 광학 필름은, 1종류의 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지를 포함하고 있어도 되고, 2종 이상의 폴리이미드계 수지 및/또는 폴리아미드계 수지를 조합하여 포함하고 있어도 된다. 본 발명의 광학 필름은, 광학 필름의 화학적 안정성과 고탄성률을 양립하기 쉽다는 관점에서, 폴리이미드계 수지를 포함하는 것이 바람직하고, 당해 폴리이미드계 수지는, 바람직하게는 폴리이미드 수지 또는 폴리아미드이미드 수지이고, 보다 바람직하게는 폴리아미드이미드 수지이다.The optical film of the present invention contains a polyimide resin and/or a polyamide resin. In the present specification, the polyimide resin refers to at least one resin selected from the group consisting of a polyimide resin, a polyamideimide resin, a polyimide precursor resin, and a polyamideimide precursor resin. The polyimide resin is a resin containing a repeating structural unit containing an imide group, and the polyamideimide resin is a resin containing a repeating structural unit containing both an imide group and an amide group (兩方). Each of the polyimide precursor resin and the polyamideimide precursor resin is a precursor before imidization that provides a polyimide resin and a polyamideimide resin by imidization, and is a resin also called polyamic acid. In addition, in this specification, the polyamide resin is a resin containing a repeating structural unit containing an amide group. The optical film of the present invention may contain one type of polyimide type resin or polyamide type resin, or may contain two or more types of polyimide type resin and/or polyamide type resin in combination. The optical film of the present invention preferably contains a polyimide resin, and the polyimide resin is preferably a polyimide resin or a polyamide from the viewpoint of being easy to achieve both chemical stability and high modulus of elasticity of the optical film. It is a mid resin, More preferably, it is a polyamideimide resin.

본 발명의 바람직한 일 실시 형태에 있어서, 광학 필름의 내찰과성 및 탄성률을 보다 높이기 쉽다는 관점에서, 폴리이미드계 수지 및 폴리아미드계 수지는 방향족계의 수지인 것이 바람직하다. 본 명세서에 있어서, 방향족계의 수지란, 폴리이미드계 수지 및 폴리아미드계 수지에 포함되는 구성 단위가 주로 방향족계의 구성 단위인 수지를 나타낸다.In a preferred embodiment of the present invention, it is preferable that the polyimide-based resin and the polyamide-based resin are aromatic resins from the viewpoint of easier to increase the abrasion resistance and elastic modulus of the optical film. In the present specification, the aromatic resin refers to a resin in which the structural units contained in the polyimide resin and the polyamide resin are mainly aromatic structural units.

상기의 바람직한 일 실시 형태에 있어서, 광학 필름의 내찰과성 및 탄성률을 보다 높이기 쉽다는 관점에서, 폴리이미드계 수지 및 폴리아미드계 수지에 포함되는 전체 구성 단위에 대한 방향족계 모노머에 유래하는 구성 단위의 비율은, 바람직하게는 60 몰% 이상, 보다 바람직하게는 70 몰% 이상, 더 바람직하게는 80 몰% 이상, 특별히 바람직하게는 85 몰% 이상이다. 여기서, 방향족계 모노머에 유래하는 구성 단위란, 방향족계의 구조(예를 들면, 방향환)를 적어도 일부에 포함하는 모노머에 유래하고, 방향족계의 구조(예를 들면, 방향환)를 적어도 일부에 포함하는 구성 단위이다. 방향족계 모노머로서는, 예를 들면, 방향족 테트라카르본산 화합물, 방향족 디아민, 방향족 디카르본산 등을 들 수 있다.In the above-described preferred embodiment, from the viewpoint of more easily increasing the abrasion resistance and elastic modulus of the optical film, a structural unit derived from an aromatic monomer with respect to all the structural units contained in the polyimide resin and the polyamide resin The ratio of is preferably 60 mol% or more, more preferably 70 mol% or more, still more preferably 80 mol% or more, and particularly preferably 85 mol% or more. Here, the structural unit derived from an aromatic monomer is derived from a monomer containing at least a part of an aromatic structure (eg, an aromatic ring), and at least a part of the aromatic structure (eg, an aromatic ring) It is a structural unit included in. As an aromatic monomer, an aromatic tetracarboxylic acid compound, an aromatic diamine, an aromatic dicarboxylic acid, etc. are mentioned, for example.

본 발명의 바람직한 일 실시 형태에 있어서, 폴리이미드계 수지는, 식 (1)로 나타내어지는 구성 단위를 갖는 폴리이미드계 수지이거나, 또는, 식 (1)로 나타내어지는 구성 단위 및 식 (2)로 나타내어지는 구성 단위를 갖는 폴리아미드이미드계 수지인 것이 바람직하다. 또, 폴리아미드계 수지는, 식 (2)로 나타내어지는 구성 단위를 갖는 폴리아미드계 수지인 것이 바람직하다. 이하에 있어서 식 (1) 및 식 (2)에 대하여 설명하지만, 식 (1)에 대한 설명은, 폴리이미드계 수지 및 폴리아미드이미드계 수지의 양방에 관한 것이고, 식 (2)에 대한 설명은, 폴리아미드계 수지 및 폴리아미드이미드계 수지의 양방에 관한 것이다.In a preferred embodiment of the present invention, the polyimide resin is a polyimide resin having a structural unit represented by formula (1), or a structural unit represented by formula (1) and formula (2). It is preferable that it is a polyamide-imide resin which has the structural unit shown. Moreover, it is preferable that the polyamide-type resin is a polyamide-type resin which has a structural unit represented by Formula (2). Hereinafter, formulas (1) and (2) will be described, but the description of formula (1) relates to both a polyimide-based resin and a polyamide-imide-based resin, and the description of formula (2) is , To both a polyamide-based resin and a polyamide-imide-based resin.

[화학식 1][Formula 1]

Figure pat00001
Figure pat00001

식 (1)로 나타내어지는 구성 단위는, 테트라카르본산 화합물과 디아민 화합물이 반응하여 형성되는 구성 단위이고, 식 (2)로 나타내어지는 구성 단위는, 디카르본산 화합물과 디아민 화합물이 반응하여 형성되는 구성 단위이다.The structural unit represented by formula (1) is a structural unit formed by reacting a tetracarboxylic acid compound and a diamine compound, and the structural unit represented by formula (2) is a structural unit formed by reacting a dicarboxylic acid compound and a diamine compound. It is a constituent unit.

식 (2)에 있어서, Z는 2가의 유기기이고, 바람직하게는 탄소수 1∼8의 탄화수소기, 불소 치환된 탄소수 1∼8의 탄화수소기, 탄소수 1∼6의 알콕시기, 또는 불소 치환된 탄소수 1∼6의 알콕시기에 의해 치환되어 있어도 되는, 탄소수 4∼40의 2가의 유기기이고, 보다 바람직하게는 탄소수 1∼8의 탄화수소기, 불소 치환된 탄소수 1∼8의 탄화수소기, 탄소수 1∼6의 알콕시기, 또는 불소 치환된 탄소수 1∼6의 알콕시기에 의해 치환되어 있어도 되는, 환상 구조를 갖는 탄소수 4∼40의 2가의 유기기를 나타낸다. 환상 구조로서는 지환, 방향환, 헤테로환 구조를 들 수 있다. Z의 유기기로서, 후술하는 식 (20), 식 (21), 식 (22), 식 (23), 식 (24), 식 (25), 식 (26), 식 (27), 식 (28) 및 식 (29)로 나타내어지는 기의 결합손 중, 인접하지 않는 2개가 수소 원자로 치환된 기 및 탄소수 6 이하의 2가의 쇄식 탄화수소기가 예시되고, Z의 헤테로환 구조로서는 티오펜환 골격을 갖는 기가 예시된다. 광학 필름의 YI값을 저감하기 쉽다는 관점에서, 식 (20)∼식 (29)로 나타내어지는 기, 및, 티오펜환 골격을 갖는 기가 바람직하다. 본 발명의 일 실시 형태에 있어서, 폴리아미드계 수지 및 폴리아미드이미드계 수지는, Z로서 1종류의 유기기를 포함하고 있어도 되고, 2종류 이상의 유기기를 포함하고 있어도 된다.In formula (2), Z is a divalent organic group, preferably a C 1 to C 8 hydrocarbon group, a fluorine-substituted C 1 to C 8 hydrocarbon group, a C 1 to C 6 alkoxy group, or a fluorine-substituted carbon number. It is a C4 to C40 divalent organic group which may be substituted by an alkoxy group of 1 to 6, more preferably a C 1 to C 8 hydrocarbon group, a fluorine substituted C 1 to C 8 hydrocarbon group, or a C 1 to C 6 It represents a C4 to C40 divalent organic group having a cyclic structure which may be substituted with an alkoxy group of or a fluorine-substituted alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms. As a cyclic structure, an alicyclic, an aromatic ring, and a heterocyclic structure are mentioned. As the organic group of Z, formula (20), formula (21), formula (22), formula (23), formula (24), formula (25), formula (26), formula (27), formula ( Among the bond hands of the groups represented by 28) and formula (29), a group in which two non-adjacent groups are substituted with hydrogen atoms and a divalent chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms are exemplified, and the heterocyclic structure of Z is a thiophene ring skeleton. The group to have is illustrated. From the viewpoint of being easy to reduce the YI value of the optical film, a group represented by formulas (20) to (29) and a group having a thiophene ring skeleton are preferred. In one embodiment of the present invention, the polyamide-based resin and the polyamide-imide-based resin may contain one type of organic group as Z, or may contain two or more types of organic groups.

Z의 유기기로서는 식 (20'), 식 (21'), 식 (22'), 식 (23'), 식 (24'), 식 (25'), 식 (26'), 식 (27'), 식 (28') 및 식 (29'):As the organic group of Z, formula (20'), formula (21'), formula (22'), formula (23'), formula (24'), formula (25'), formula (26'), formula (27 '), Equation (28') and Equation (29'):

[화학식 2][Formula 2]

Figure pat00002
Figure pat00002

[식 (20')∼식 (29') 중, W1 및 *은 식 (20)∼식 (29)에 있어서 정의하는 바와 같음][In formulas (20') to (29'), W 1 and * are as defined in formulas (20) to (29)]

로 나타내어지는 2가의 유기기가 보다 바람직하다. 또한, 식 (20)∼식 (29) 및 식 (20')∼식 (29')에 있어서의 환 상의 수소 원자는, 탄소수 1∼8의 탄화수소기, 불소치환된 탄소수 1∼8의 탄화수소기, 탄소수 1∼6의 알콕시기, 불소 치환된 탄소수 1∼6의 알콕시기에 의해 치환되어 있어도 된다.The divalent organic group represented by is more preferable. In addition, the hydrogen atom on the ring in the formulas (20) to (29) and (20') to (29') is a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms or a fluorine-substituted hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms. , An alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms or a fluorine-substituted alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms may be substituted.

폴리아미드계 수지 또는 폴리아미드이미드계 수지가, 식 (b) 중의 Z가 상기의 식 (20')∼식 (29')의 어느 것으로 나타내어지는 구성 단위를 갖는 경우, 폴리아미드계 수지 또는 폴리아미드이미드계 수지는, 당해 구성 단위에 추가하여, 다음의 식 (d1):When the polyamide resin or polyamideimide resin has a structural unit represented by any of the above formulas (20') to (29') in the formula (b), the polyamide resin or polyamide Mid-based resin, in addition to the structural unit, the following formula (d1):

[화학식 3][Formula 3]

Figure pat00003
Figure pat00003

[식 (d1) 중, R24는, 서로 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1∼6의 알킬기, 탄소수 1∼6의 알콕시기 또는 탄소수 6∼12의 아릴기를 나타내고, R25는 R24 또는 -C (= O)-*을 나타내고, *은 결합손을 나타냄][In formula (d1), R 24 represents, independently of each other, a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and R 25 is R 24 Or -C (=O)-*, * represents a bond hand]

로 나타내어지는 카르본산 유래의 구성 단위를 추가로 갖는 것이, 바니시의 성막성을 높이기 쉽고, 얻어지는 광학 필름의 균일성을 얻기 쉽다는 관점에서 바람직하다.It is preferable from the viewpoint that it is easy to improve the film-forming property of a varnish and it is easy to obtain the uniformity of the optical film obtained to further have a structural unit derived from a carboxylic acid represented by.

R24에 있어서, 탄소수 1∼6의 알킬기, 탄소수 1∼6의 알콕시기 및 탄소수 6∼12의 아릴기로서는, 각각, 후술하는 식 (3) 중의 R1∼R8에 관하여 예시한 것을 들 수 있다. 구성 단위 (d1)로서는, 구체적으로는, R24 및 R25가 모두 수소 원자인 구성 단위(디카르본산 화합물에 유래하는 구성 단위), R24가 모두 수소 원자이고, R25가 -C(=O)-*을 나타내는 구성 단위(트리카르본산 화합물에 유래하는 구성 단위) 등을 들 수 있다.In R 24 , examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, and the aryl group having 6 to 12 carbon atoms respectively include those exemplified for R 1 to R 8 in Formula (3) described later. have. As the structural unit (d1), specifically, R 24 and R 25 are both hydrogen atoms (constituent units derived from a dicarboxylic acid compound), R 24 are all hydrogen atoms, and R 25 is -C (= The structural unit (constituent unit derived from a tricarboxylic acid compound) etc. which represent O)-* are mentioned.

본 발명의 일 실시 형태에 있어서, 폴리아미드계 수지 및 폴리아미드이미드계 수지는, 복수 종의 Z를 포함할 수 있고, 복수 종의 Z는 서로 동일해도 되고 달라도 된다. 특히, 본 발명의 광학 필름의 내찰과성 및 탄성률을 높이기 쉽고, 또한, 광학 특성을 높이기 쉽다는 관점에서, Z의 적어도 일부가, 식 (3a):In one embodiment of the present invention, the polyamide-based resin and the polyamide-imide-based resin may contain a plurality of types of Z, and the plurality of types of Z may be the same or different from each other. In particular, from the viewpoint of easy to increase the abrasion resistance and elastic modulus of the optical film of the present invention, and also to increase the optical properties, at least part of Z is represented by Formula (3a):

[화학식 4][Formula 4]

Figure pat00004
Figure pat00004

[식 (3a) 중, Rg 및 Rh는, 서로 독립적으로, 할로겐 원자, 탄소수 1∼6의 알킬기, 탄소수 1∼6의 알콕시기, 또는 탄소수 6∼12의 아릴기를 나타내고, Rg 및 Rh에 포함되는 수소 원자는, 서로 독립적으로, 할로겐 원자에 의해 치환되어 있어도 되고, A, m 및 *은 식 (3) 중의 A, m 및 *과 동일하고, t 및 u는 서로 독립적으로 0∼4의 정수임][In formula (3a), R g and R h each independently represent a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and R g and R The hydrogen atoms contained in h may be each independently substituted by a halogen atom, A, m and * are the same as A, m and * in formula (3), and t and u are each independently 0 to It is an integer of 4]

로 나타내어지는 것이 바람직하고,It is preferably represented by,

식 (3):Equation (3):

[화학식 5][Formula 5]

Figure pat00005
Figure pat00005

[식 (3) 중,[In equation (3),

R1∼R8은, 서로 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1∼6의 알킬기, 탄소수 1∼6의 알콕시기, 또는 탄소수 6∼12의 아릴기를 나타내고, R1∼R8에 포함되는 수소 원자는, 서로 독립적으로, 할로겐 원자에 의해 치환되어 있어도 되고,R 1 to R 8 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and the hydrogen atoms contained in R 1 to R 8 are , Independently of each other, may be substituted with a halogen atom,

A는, 서로 독립적으로, 단결합, -O-, -CH2-, -CH2-CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2-, -S-, -CO- 또는 -N(R9)-를 나타내고, R9는 수소 원자, 할로겐 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 탄소수 1∼12의 1가의 탄화수소기를 나타내고,A is, independently of each other, a single bond, -O-, -CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -, -CH(CH 3 )-, -C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, -SO 2 -, -S-, -CO- or -N(R 9 )-, R 9 represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted by a halogen atom. ,

m은 0∼4의 정수이고,m is an integer from 0 to 4,

*은 결합손을 나타냄]* Indicates a bond hand]

로 나타내어지는 것이 보다 바람직하다.It is more preferable that it is represented by.

식 (3) 및 식 (3a)에 있어서, A는, 서로 독립적으로, 단결합, -O-, -CH2-, -CH2-CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2-, -S-, -CO- 또는 -N(R9)-를 나타내고, 광학 필름의 내굴곡성의 관점에서, 바람직하게는 -O- 또는 -S-를 나타내고, 보다 바람직하게는 -O-를 나타낸다.In formulas (3) and (3a), A is independently a single bond, -O-, -CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -, -CH(CH 3 )-, -C( CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, -SO 2 -, -S-, -CO- or -N(R 9 )-, from the viewpoint of the bending resistance of the optical film, preferably -O- or -S-, more preferably -O-.

R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7 및 R8은, 서로 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1∼6의 알킬기, 탄소수 1∼6의 알콕시기, 또는 탄소수 6∼12의 아릴기를 나타낸다. Rg 및 Rh는, 서로 독립적으로, 할로겐 원자, 탄소수 1∼6의 알킬기, 탄소수 1∼6의 알콕시기, 또는 탄소수 6∼12의 아릴기를 나타낸다. 탄소수 1∼6의 알킬기로서는, 예를 들면, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, 2-메틸-부틸기, 3-메틸부틸기, 2-에틸-프로필기, n-헥실기 등을 들 수 있다. 탄소수 1∼6의 알콕시기로서는, 예를 들면, 메톡시기, 에톡시기, 프로필옥시기, 이소프로필옥시기, 부톡시기, 이소부톡시기, tert-부톡시기, 펜틸옥시기, 헥실옥시기, 시클로헥실옥시기 등을 들 수 있다. 탄소수 6∼12의 아릴기로서는, 예를 들면, 페닐기, 톨릴기, 크실릴기, 나프틸기, 비페닐기 등을 들 수 있다. 광학 필름의 표면경도 및 유연성의 관점에서, R1∼R8은, 서로 독립적으로, 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1∼6의 알킬기를 나타내고, 보다 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1∼3의 알킬기를 나타내고, 더 바람직하게는 수소 원자를 나타낸다. 여기서, R1∼R8, Rg 및 Rh에 포함되는 수소 원자는, 서로 독립적으로, 할로겐 원자에 의해 치환되어 있어도 된다.R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 and R 8 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or 6 It shows the aryl group of -12. R g and R h each independently represent a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, 2-methyl-butyl Group, 3-methylbutyl group, 2-ethyl-propyl group, n-hexyl group, and the like. Examples of the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms include methoxy group, ethoxy group, propyloxy group, isopropyloxy group, butoxy group, isobutoxy group, tert-butoxy group, pentyloxy group, hexyloxy group, and cyclohexyl group. Siloxy groups, etc. are mentioned. As a C6-C12 aryl group, a phenyl group, a tolyl group, a xylyl group, a naphthyl group, a biphenyl group, etc. are mentioned, for example. From the viewpoint of the surface hardness and flexibility of the optical film, R 1 to R 8 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms And more preferably a hydrogen atom. Here, the hydrogen atoms contained in R 1 to R 8 , R g and R h may be independently of each other substituted with a halogen atom.

R9는 수소 원자, 할로겐 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 탄소수 1∼12의 1가의 탄화수소기를 나타낸다. 탄소수 1∼12의 1가의 탄화수소기로서는, 예를 들면, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, 2-메틸-부틸기, 3-메틸부틸기, 2-에틸-프로필기, n-헥실기, n-헵틸기, n-옥틸기, tert-옥틸기, n-노닐기, n-데실기 등을 들 수 있고, 이들은 할로겐 원자에 의해 치환되어 있어도 된다. 상기 할로겐 원자로서는 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자 등을 들 수 있다.R 9 represents a C 1 to C 12 monovalent hydrocarbon group which may be substituted with a hydrogen atom or a halogen atom. As a C1-C12 monovalent hydrocarbon group, for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, 2- Methyl-butyl group, 3-methylbutyl group, 2-ethyl-propyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, tert-octyl group, n-nonyl group, n-decyl group, and the like. And these may be substituted with a halogen atom. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.

식 (3a) 중의 t 및 u는, 서로 독립적으로, 0∼4의 정수이고, 바람직하게는 0∼2의 정수, 보다 바람직하게는 0 또는 1, 보다 더 바람직하게는 0이다.In formula (3a), t and u are each independently an integer of 0 to 4, preferably an integer of 0 to 2, more preferably 0 or 1, and even more preferably 0.

식 (3) 및 식 (3a) 중의 m은 0∼4의 범위의 정수이고, m이 이 범위 내이면, 광학 필름의 내찰과성, 탄성률 및 내굴곡성을 향상하기 쉽다. 식 (3) 및 식 (3a) 중의 m은, 광학 필름의 내찰과성, 탄성률 및 내굴곡성을 보다 향상하기 쉽다는 관점에서, 바람직하게는 0∼3의 범위의 정수, 보다 바람직하게는 0∼2의 범위의 정수, 더 바람직하게는 0 또는 1, 보다 더 바람직하게는 0이다. m이 0인 식 (3) 또는 식 (3a)로 나타내어지는 구성 단위는, 테레프탈산 또는 이소프탈산에 유래하는 구성 단위이고, 당해 구성 단위는 특히, 식 (3) 중의 R5∼R8이 수소 원자이고, m이 0인 구성 단위, 및 식 (3a) 중의 u가 0이고 m이 0인 구성 단위인 것이 바람직하다. 광학 필름의 내찰과성, 탄성률 및 내굴곡성을 향상하기 쉽다는 관점에서, 폴리이미드계 수지 및 폴리아미드계 수지는 테레프탈산에 유래하는 구성 단위를 포함하는 것이 바람직하다. 폴리이미드계 수지 및 폴리아미드계 수지는 Z에 있어서, 식 (3) 또는 식 (3a)로 나타내어지는 구성 단위를 1종 또는 2종류 이상 포함하고 있어도 된다. 광학 필름의 내찰과성, 탄성률 및 내굴곡성의 향상, YI값 저감의 관점에서는, 수지는 Z에 있어서, 식 (3) 또는 식 (3a) 중의 m의 값이 다른 2종류 이상의 구성 단위를 포함하는 것이 바람직하고, 식 (3) 또는 식 (3a) 중의 m의 값이 다른 2종류 또는 3종류의 구성 단위를 포함하는 것이 보다 바람직하다. 이 경우, 광학 필름의 내찰과성, 탄성률 및 내굴곡성을 높이기 쉽다는 관점, 및, 광학 필름의 YI값을 저감하기 쉽다는 관점에서, 수지가 Z에 있어서, m이 0인 식 (3)으로 나타내어지는 구성 단위를 함유하고, 당해 구성 단위에 추가하여 m이 1인 식 (3)으로 나타내어지는 구성 단위를 추가로 함유하는 것이 특별히 바람직하다. 또, m이 0인 식 (3)으로 나타내어지는 Z를 갖는 식 (2)로 나타내어지는 구성 단위에 추가하여, 상기의 식 (d1)로 나타내어지는 구성 단위를 추가로 갖는 것도 바람직하다.In the formulas (3) and (3a), m is an integer in the range of 0 to 4, and when m is within this range, it is easy to improve the abrasion resistance, elastic modulus, and bending resistance of the optical film. In formulas (3) and (3a), m is an integer in the range of preferably 0 to 3, more preferably 0 to from the viewpoint of more easily improving the abrasion resistance, elastic modulus, and bending resistance of the optical film. It is an integer in the range of 2, more preferably 0 or 1, even more preferably 0. The structural unit represented by formula (3) or formula (3a) in which m is 0 is a structural unit derived from terephthalic acid or isophthalic acid, and the structural unit is particularly, wherein R 5 to R 8 in formula (3) are hydrogen atoms And it is preferable that it is a structural unit in which m is 0, and a structural unit in which u is 0 and m is 0 in Formula (3a). From the viewpoint of being easy to improve abrasion resistance, elastic modulus, and bending resistance of an optical film, it is preferable that the polyimide resin and the polyamide resin contain a structural unit derived from terephthalic acid. In Z, the polyimide resin and the polyamide resin may contain one or two or more structural units represented by the formula (3) or (3a). From the viewpoint of improving the abrasion resistance, elastic modulus and flexural resistance of the optical film, and reducing the YI value, the resin includes two or more structural units having different values of m in the formula (3) or (3a) in Z. It is preferable, and it is more preferable that the value of m in Formula (3) or Formula (3a) contains 2 types or 3 types of structural units which differ. In this case, from the viewpoint of being easy to increase the abrasion resistance, elastic modulus, and bending resistance of the optical film, and from the viewpoint of being easy to reduce the YI value of the optical film, the resin is Z, and m is 0. It is particularly preferable to contain the structural unit shown, and to further contain a structural unit represented by formula (3) in which m is 1 in addition to the structural unit. Moreover, it is also preferable to further have a structural unit represented by the said formula (d1) in addition to the structural unit represented by Formula (2) which has Z represented by Formula (3) in which m is 0.

본 발명의 바람직한 일 실시 형태에 있어서, 수지는, 식 (3)으로 나타내어지는 구성 단위로서, m=0이고, 또한 R5∼R8이 수소 원자인 구성 단위를 갖는다. 보다 바람직한 본 발명의 일 실시 형태에 있어서, 수지는, 식 (3)으로 나타내어지는 구성 단위로서, m=0이고, 또한 R5∼R8이 수소 원자인 구성 단위와, 식 (3'):In a preferred embodiment of the present invention, the resin has a structural unit in which m=0 and R 5 to R 8 are hydrogen atoms as a structural unit represented by formula (3). In one more preferred embodiment of the present invention, the resin is a structural unit represented by formula (3), m=0, and a structural unit wherein R 5 to R 8 is a hydrogen atom, and formula (3'):

[화학식 6][Formula 6]

Figure pat00006
Figure pat00006

로 나타내어지는 구성 단위를 갖는다. 이 경우, 광학 필름의 내찰과성, 탄성률 및 내굴곡성을 향상시키기 쉬움과 함께, YI값을 저감하기 쉽다.It has a structural unit represented by In this case, it is easy to improve the abrasion resistance, elastic modulus, and bending resistance of the optical film, and it is easy to reduce the YI value.

광학 필름이 폴리아미드이미드계 수지를 포함하는 본 발명의 바람직한 일 실시 형태에 있어서, 식 (3) 또는 식 (3a)로 나타내어지는 구성 단위의 비율은, 폴리아미드이미드계 수지의 식 (1)로 나타내어지는 구성 단위 및 식 (2)로 나타내어지는 구성 단위의 합계를 100 몰%라고 하였을 때에, 바람직하게는 20 몰% 이상, 보다 바람직하게는 30 몰% 이상, 더 바람직하게는 40 몰% 이상, 보다 더 바람직하게는 50 몰% 이상, 특별히 바람직하게는 60 몰% 이상이고, 바람직하게는 90 몰% 이하, 보다 바람직하게는 85몰% 이하, 더 바람직하게는 80 몰% 이하이다. 식 (3) 또는 식 (3a)로 나타내어지는 구성 단위의 비율이 상기의 하한 이상이면, 광학 필름의 내찰과성, 탄성률 및 내굴곡성을 높이기 쉽다. 식 (3) 또는 식 (3a)로 나타내어지는 구성 단위의 비율이 상기의 상한 이하이면, 식 (3) 또는 식 (3a) 유래의 아미드 결합간 수소 결합에 의한 수지 함유 바니시의 점도 상승을 억제하고, 필름의 가공성을 향상하기 쉽다.In a preferred embodiment of the present invention in which the optical film contains a polyamideimide resin, the ratio of the structural units represented by formula (3) or (3a) is represented by the formula (1) of the polyamideimide resin. When the sum of the structural units represented and the structural units represented by formula (2) is 100 mol%, preferably 20 mol% or more, more preferably 30 mol% or more, further preferably 40 mol% or more, It is still more preferably 50 mol% or more, particularly preferably 60 mol% or more, preferably 90 mol% or less, more preferably 85 mol% or less, and still more preferably 80 mol% or less. When the ratio of the structural unit represented by Formula (3) or Formula (3a) is more than the above lower limit, it is easy to increase the abrasion resistance, elastic modulus, and bending resistance of the optical film. When the ratio of the constituent units represented by formula (3) or formula (3a) is less than or equal to the above upper limit, the viscosity increase of the resin-containing varnish due to hydrogen bonds between amide bonds derived from formula (3) or formula (3a) is suppressed, and , It is easy to improve the processability of the film.

또, 폴리아미드이미드계 수지가 m=1∼4인 식 (3) 또는 식 (3a)로 나타내어지는 구성 단위를 갖는 경우, m이 1∼4인 식 (3) 또는 식 (3a)로 나타내어지는 구성 단위의 비율은, 폴리아미드이미드계 수지의 식 (1)로 나타내어지는 구성 단위 및 식 (2)로 나타내어지는 구성 단위의 합계를 100 몰%라고 하였을 때에, 바람직하게는 3 몰% 이상, 보다 바람직하게는 5 몰% 이상, 더 바람직하게는 7 몰% 이상, 보다 더 바람직하게는 9 몰% 이상이고, 바람직하게는 90 몰% 이하, 보다 바람직하게는 70 몰% 이하, 더 바람직하게는 50 몰% 이하, 보다 더 바람직하게는 30 몰% 이하이다. m이 1∼4인 식 (3) 또는 식 (3a)로 나타내어지는 구성 단위의 비율이 상기의 하한 이상이면, 광학 필름의 내찰과성, 탄성률 및 내굴곡성을 높이기 쉽다. m이 1∼4인 식 (3) 또는 식 (3a)로 나타내어지는 구성 단위의 비율이 상기의 상한 이하이면, 식 (3) 또는 식 (3a)로 나타내어지는 구성 단위 유래의 아미드 결합간 수소 결합에 의한 수지 함유 바니시의 점도 상승을 억제하고, 필름의 가공성을 향상하기 쉽다. 또한, 식 (1), 식 (2), 식 (3) 또는 식 (3a)로 나타내어지는 구성 단위의 비율은, 예를 들면, 1H-NMR을 이용하여 측정할 수 있고, 또는 원료의 도입비로부터 산출할 수도 있다.In addition, when the polyamide-imide resin has a structural unit represented by formula (3) or formula (3a) in which m=1 to 4, m is represented by formula (3) or formula (3a) in which m is 1 to 4 The proportion of the constituent units is preferably 3 mol% or more, when the total of the constituent units represented by formula (1) and the structural units represented by formula (2) of the polyamideimide resin is 100 mol%. Preferably it is 5 mol% or more, more preferably 7 mol% or more, even more preferably 9 mol% or more, preferably 90 mol% or less, more preferably 70 mol% or less, even more preferably 50 It is mol% or less, and even more preferably, it is 30 mol% or less. When the ratio of the structural unit represented by formula (3) or formula (3a) in which m is 1 to 4 is equal to or greater than the above lower limit, it is easy to increase the abrasion resistance, elastic modulus, and bending resistance of the optical film. Hydrogen bonds between amide bonds derived from structural units represented by formula (3) or formula (3a) if the ratio of the structural units represented by formula (3) or formula (3a) in which m is 1 to 4 is less than or equal to the above upper limit It is easy to suppress an increase in viscosity of the resin-containing varnish due to this and improve the workability of the film. In addition, the ratio of the structural unit represented by Formula (1), Formula (2), Formula (3) or Formula (3a) can be measured using, for example, 1 H-NMR, or the introduction ratio of the raw material It can also be calculated from

본 발명의 바람직한 일 실시 형태에 있어서, 상기 폴리아미드계 수지 또는 폴리아미드이미드계 수지 중의 Z의, 바람직하게는 30 몰% 이상, 보다 바람직하게는 40 몰% 이상, 더 바람직하게는 45 몰% 이상, 보다 더 바람직하게는 50 몰% 이상이, m이 0∼4인 식 (3) 또는 식 (3a)로 나타내어지는 구성 단위이다. Z의 상기의 하한 이상이, m이 0∼4인 식 (3) 또는 식 (3a)로 나타내어지는 구성 단위이면, 광학 필름의 내찰과성, 탄성률 및 내굴곡성을 높이기 쉽다. 또, 폴리아미드계 수지 또는 폴리아미드이미드계 수지 중의 Z의 100 몰% 이하가, m이 0∼4인 식 (3) 또는 식 (3a)로 나타내어지는 구성 단위이면 된다. 또한, 수지 중의, m이 0∼4인 식 (3) 또는 식 (3a)로 나타내어지는 구성 단위의 비율은, 예를 들면, 1H-NMR을 이용하여 측정할 수 있고, 또는 원료의 도입비로부터 산출할 수도 있다.In a preferred embodiment of the present invention, of Z in the polyamide-based resin or polyamide-imide-based resin, preferably 30 mol% or more, more preferably 40 mol% or more, still more preferably 45 mol% or more , More preferably, 50 mol% or more is a structural unit represented by formula (3) or formula (3a) wherein m is 0 to 4. If more than the said lower limit of Z is a structural unit represented by Formula (3) or Formula (3a) in which m is 0-4, it is easy to improve the abrasion resistance, elasticity modulus, and bending resistance of an optical film. Further, 100 mol% or less of Z in the polyamide-based resin or polyamide-imide-based resin may be a structural unit represented by formula (3) or formula (3a) in which m is 0 to 4. In addition, the ratio of the structural unit represented by formula (3) or formula (3a) in which m is 0 to 4 in the resin can be measured using, for example, 1 H-NMR, or from the introduction ratio of the raw material. It can also be calculated.

본 발명의 바람직한 일 실시 형태에 있어서, 상기 폴리아미드계 수지 또는 폴리아미드이미드계 수지 중의 Z의, 바람직하게는 5 몰% 이상, 보다 바람직하게는 8 몰% 이상, 더 바람직하게는 10 몰% 이상, 보다 더 바람직하게는 12 몰% 이상이, m이 1∼4인 식 (3) 또는 식 (3a)로 나타내어진다. 폴리아미드이미드계 수지의 Z의 상기의 하한 이상이, m이 1∼4인 식 (3) 또는 식 (3a)로 나타내어지는 경우, 광학 필름의 내찰과성, 탄성률 및 내굴곡성을 높이기 쉽다. 또, Z의, 바람직하게는 90 몰% 이하, 보다 바람직하게는 70 몰% 이하, 더 바람직하게는 50 몰% 이하, 보다 더 바람직하게는 30 몰% 이하가, m이 1∼4인 식 (3) 또는 식 (3a)로 나타내어진다. Z의 상기의 상한 이하가, m이 1∼4인 식 (3) 또는 식 (3a)로 나타내어지는 경우, m이 1∼4인 식 (3) 또는 식 (3a)로 나타내어지는 구성 단위 유래의 아미드 결합간 수소 결합에 의한 수지 함유 바니시의 점도 상승을 억제하고, 필름의 가공성을 향상하기 쉽다. 또한, 수지 중의 m이 1∼4인 식 (3) 또는 식 (3a)로 나타내어지는 구성 단위의 비율은, 예를 들면, 1H-NMR을 이용하여 측정할 수 있고, 또는 원료의 도입비로부터 산출할 수도 있다.In a preferred embodiment of the present invention, Z in the polyamide-based resin or polyamide-imide-based resin is preferably 5 mol% or more, more preferably 8 mol% or more, still more preferably 10 mol% or more. , More preferably, 12 mol% or more is represented by formula (3) or formula (3a) wherein m is 1 to 4. When the above lower limit of Z of the polyamideimide resin is represented by formula (3) or formula (3a) in which m is 1 to 4, the abrasion resistance, elastic modulus, and bending resistance of the optical film are easily improved. Further, of Z, preferably 90 mol% or less, more preferably 70 mol% or less, still more preferably 50 mol% or less, and even more preferably 30 mol% or less, m is 1 to 4 formula ( 3) or formula (3a). When the above upper limit of Z is represented by formula (3) or formula (3a) in which m is 1 to 4, it is derived from a structural unit represented by formula (3) or formula (3a) in which m is 1 to 4 It is easy to suppress an increase in viscosity of the resin-containing varnish due to hydrogen bonds between amide bonds and improve the processability of the film. In addition, the ratio of the structural unit represented by Formula (3) or Formula (3a) in which m in the resin is 1 to 4 can be measured using, for example, 1 H-NMR, or calculated from the introduction ratio of the raw material. You may.

식 (1) 및 식 (2)에 있어서, X는, 서로 독립적으로, 2가의 유기기를 나타내고, 바람직하게는 탄소수 4∼40의 2가의 유기기, 보다 바람직하게는 환상 구조를 갖는 탄소수 4∼40의 2가의 유기기를 나타낸다. 환상 구조로서는, 지환, 방향환, 헤테로환 구조를 들 수 있다. 상기 유기기는, 유기기 중의 수소 원자가 탄화수소기 또는 불소 치환된 탄화수소기에 의해 치환되어 있어도 되고, 그 경우, 탄화수소기 및 불소 치환된 탄화수소기의 탄소수는 바람직하게는 1∼8이다. 본 발명의 일 실시 형태에 있어서, 폴리아미드계 수지, 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드이미드계 수지는, 복수 종의 X를 포함할 수 있고, 복수 종의 X는 서로 동일해도 되고 달라도 된다. X로서는 식 (10), 식 (11), 식 (12), 식 (13), 식 (14), 식 (15), 식 (16), 식 (17) 및 식 (18)로 나타내어지는 기; 당해 식 (10)∼식 (18)로 나타내어지는 기 중의 수소 원자가 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기에 의해 치환된 기; 및 탄소수 6 이하의 쇄식 탄화수소기가 예시된다.In the formulas (1) and (2), X represents, independently of each other, a divalent organic group, preferably a divalent organic group having 4 to 40 carbon atoms, more preferably 4 to 40 carbon atoms having a cyclic structure. Represents a divalent organic group of. As a cyclic structure, an alicyclic, an aromatic ring, and a heterocyclic structure are mentioned. In the organic group, the hydrogen atom in the organic group may be substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group, and in that case, the hydrocarbon group and the fluorine-substituted hydrocarbon group preferably have 1 to 8 carbon atoms. In one embodiment of the present invention, the polyamide resin, polyimide resin, or polyamideimide resin may contain a plurality of types of X, and the plurality of types of X may be the same or different from each other. X is a group represented by formula (10), formula (11), formula (12), formula (13), formula (14), formula (15), formula (16), formula (17) and formula (18) ; A group in which a hydrogen atom in the groups represented by the formulas (10) to (18) is substituted with a methyl group, a fluoro group, a chloro group, or a trifluoromethyl group; And a chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms.

[화학식 7][Formula 7]

Figure pat00007
Figure pat00007

식 (10)∼식 (18) 중,In formulas (10) to (18),

*은 결합손을 나타내고,* Represents a bond hand,

V1, V2 및 V3은, 서로 독립적으로, 단결합, -O-, -S-, -CH2-, -CH2-CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2-, -CO- 또는 -N(Q)-를 나타낸다. 여기서, Q는 할로겐 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 탄소수 1∼12의 1가의 탄화수소기를 나타낸다. 탄소수 1∼12의 1가의 탄화수소기로서는, R9에 대하여 상기에 서술한 기를 들 수 있다.V 1 , V 2 and V 3 are each independently a single bond, -O-, -S-, -CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -, -CH(CH 3 )-, -C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, -SO 2 -, -CO-, or -N(Q)-. Here, Q represents a C1-C12 monovalent hydrocarbon group which may be substituted with a halogen atom. Examples of the monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms include the groups described above for R 9 .

하나의 예는, V1 및 V3이 단결합, -O- 또는 -S-이고, 또한, V2가 -CH2-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2- 또는 -SO2-이다. V1과 V2의 각 환에 대한 결합 위치, 및, V2와 V3의 각 환에 대한 결합 위치는, 서로 독립적으로, 각 환에 대하여 바람직하게는 메타 위치 또는 파라 위치, 보다 바람직하게는 파라 위치이다.In one example, V 1 and V 3 are a single bond, -O- or -S-, and V 2 is -CH 2 -, -C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2- Or -SO 2 -. The bonding positions for each ring of V 1 and V 2 , and the bonding positions for each ring of V 2 and V 3 , are independently of each other, preferably a meta position or a para position with respect to each ring, more preferably It is a para position.

식 (10)∼식 (18)로 나타내어지는 기 중에서도, 광학 필름의 내찰과성, 탄성률 및 내굴곡성을 높이기 쉽다는 관점에서, 식 (13), 식 (14), 식 (15), 식 (16) 및 식 (17)로 나타내어지는 기가 바람직하고, 식 (14), 식 (15) 및 식 (16)으로 나타내어지는 기가 보다 바람직하다. 또, V1, V2 및 V3은, 광학 필름의 내찰과성, 탄성률 및 유연성을 높이기 쉽다는 관점에서, 서로 독립적으로, 바람직하게는 단결합, -O- 또는 -S-, 보다 바람직하게는 단결합 또는 -O-이다.Among the groups represented by formulas (10) to (18), formulas (13), (14), (15), and ( The group represented by 16) and formula (17) is preferable, and the group represented by formula (14), formula (15) and formula (16) is more preferable. In addition, V 1 , V 2 and V 3 are independently of each other, preferably a single bond, -O- or -S-, more preferably, from the viewpoint of easy to increase the abrasion resistance, elastic modulus and flexibility of the optical film. Is a single bond or -O-.

본 발명의 바람직한 일 실시 형태에 있어서, 식 (1) 및 식 (2) 중의 복수의 X의 적어도 일부는, 식 (4):In a preferred embodiment of the present invention, at least a part of a plurality of X in formulas (1) and (2) is formula (4):

[화학식 8][Formula 8]

Figure pat00008
Figure pat00008

[식 (4) 중,[In equation (4),

R10∼R17은, 서로 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1∼6의 알킬기, 탄소수 1∼6의 알콕시기 또는 탄소수 6∼12의 아릴기를 나타내고, R10∼R17에 포함되는 수소 원자는, 서로 독립적으로, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되고,R 10 to R 17 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and the hydrogen atoms contained in R 10 to R 17 are, Independently of each other, they may be substituted with a halogen atom,

*은 결합손을 나타냄]* Indicates a bond hand]

로 나타내어지는 구성 단위이다. 식 (1) 및 식 (2) 중의 복수의 X의 적어도 일부가 식 (4)로 나타내어지는 기이면, 광학 필름의 내찰과성, 탄성률 및 투명성을 높이기 쉽다.It is a structural unit represented by. When at least a part of a plurality of X in formulas (1) and (2) is a group represented by formula (4), it is easy to improve the abrasion resistance, elastic modulus, and transparency of the optical film.

식 (4)에 있어서, R10, R11, R12, R13, R14, R15, R16 및 R17은, 서로 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1∼6의 알킬기, 탄소수 1∼6의 알콕시기, 또는 탄소수 6∼12의 아릴기를 나타낸다. 탄소수 1∼6의 알킬기, 탄소수 1∼6의 알콕시기 또는 탄소수 6∼12의 아릴기로서는, 식 (3)에 있어서의 탄소수 1∼6의 알킬기, 탄소수 1∼6의 알콕시기 또는 탄소수 6∼12의 아릴기로서 예시한 기를 들 수 있다. R10∼R17은, 서로 독립적으로, 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1∼6의 알킬기를 나타내고, 보다 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1∼3의 알킬기를 나타내고, 여기서, R10∼R17에 포함되는 수소 원자는, 서로 독립적으로, 할로겐 원자에 의해 치환되어 있어도 된다. 할로겐 원자로서는, 예를 들면, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자를 들 수 있다. R10∼R17은, 서로 독립적으로, 광학 필름의 내찰과성, 탄성률, 투명성 및 내굴곡성의 관점에서, 더 바람직하게는 수소 원자, 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기를 나타내고, 특별히 바람직하게는 R10, R12, R13, R14, R15 및 R16이 수소 원자, R11 및 R17이 수소 원자, 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기를 나타내고, 특별히 바람직하게는 R11 및 R17이 메틸기 또는 트리플루오로메틸기를 나타낸다.In formula (4), R 10 , R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 , R 16 and R 17 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and 1 to 6 carbon atoms. Represents an alkoxy group of or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. As a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 alkoxy group, or a C6-C12 aryl group, the C1-C6 alkyl group, C1-C6 alkoxy group, or C6-C12 in Formula (3) The groups exemplified as the aryl group of are mentioned. R 10 to R 17 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, wherein R 10 to R 17 The hydrogen atoms contained may be independently of each other and substituted with a halogen atom. As a halogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom are mentioned, for example. R 10 to R 17 each independently represent a hydrogen atom, a methyl group, a fluoro group, a chloro group, or a trifluoromethyl group from the viewpoint of abrasion resistance, elastic modulus, transparency, and bending resistance of the optical film. , Particularly preferably R 10 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 and R 16 represent a hydrogen atom, R 11 and R 17 represent a hydrogen atom, a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group. , Particularly preferably R 11 and R 17 represent a methyl group or a trifluoromethyl group.

본 발명의 바람직한 일 실시 형태에 있어서, 식 (4)로 나타내어지는 구성 단위는 식 (4'):In a preferred embodiment of the present invention, the structural unit represented by formula (4) is formula (4'):

[화학식 9][Formula 9]

Figure pat00009
Figure pat00009

로 나타내어지는 구성 단위이고, 즉, 식 (1) 및 식 (2)로 나타내어지는 복수의 구성 단위 중의 복수의 X의 적어도 일부는, 식 (4')로 나타내어지는 구성 단위이다. 이 경우, 불소 원소를 함유하는 골격에 의해 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지의 용매에의 용해성을 높이고, 당해 수지를 함유하는 바니시의 보관 안정성을 향상하기 쉬움과 함께, 당해 바니시의 점도를 저감하기 쉽고, 광학 필름의 가공성을 향상하기 쉽다. 또, 불소 원소를 함유하는 골격에 의해, 광학 필름의 광학 특성을 향상하기 쉽다.It is a structural unit represented by, that is, at least a part of a plurality of X among the plurality of structural units represented by formulas (1) and (2) is a structural unit represented by formula (4'). In this case, the solubility of the polyimide resin or polyamide resin in the solvent is increased by the skeleton containing the fluorine element, and the viscosity of the varnish is reduced while the storage stability of the varnish containing the resin is easily improved. It is easy to do, and it is easy to improve the workability of an optical film. Moreover, it is easy to improve the optical properties of an optical film by the skeleton containing a fluorine element.

본 발명의 바람직한 일 실시 형태에 있어서, 상기 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지 중의 X의, 바람직하게는 30 몰% 이상, 보다 바람직하게는 50 몰% 이상, 더 바람직하게는 70 몰% 이상이 식 (4), 특별히 식 (4')로 나타내어진다. 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지에 있어서의 상기 범위 내의 X가 식 (4), 특별히 식 (4')로 나타내어지는 경우, 얻어지는 광학 필름은, 불소 원소를 함유하는 골격에 의해 수지의 용매에의 용해성을 높이고, 당해 수지를 함유하는 바니시의 보관 안정성을 향상하기 쉬움과 함께, 당해 바니시의 점도를 저감하기 쉽고, 광학 필름의 가공성을 향상하기 쉽다. 또, 불소 원소를 함유하는 골격에 의해, 광학 필름의 광학 특성도 향상하기 쉽다. 또한, 바람직하게는, 상기 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지 중의 X의 100 몰% 이하가 식 (4), 특별히 식 (4')로 나타내어진다. 상기 수지 중의 X는 식 (4), 특별히 식 (4')여도 된다. 상기 수지 중의 X의 식 (4)로 나타내어지는 구성 단위의 비율은, 예를 들면, 1H-NMR을 이용하여 측정할 수 있고, 또는 원료의 도입비로부터 산출할 수도 있다.In a preferred embodiment of the present invention, X in the polyimide resin or polyamide resin is preferably 30 mol% or more, more preferably 50 mol% or more, even more preferably 70 mol% or more. It is represented by formula (4), especially formula (4'). When X within the above range in a polyimide resin or polyamide resin is represented by formula (4), particularly formula (4'), the resulting optical film is in a resin solvent by a skeleton containing a fluorine element. It is easy to improve the solubility of the resin and improve the storage stability of the varnish containing the resin, it is easy to reduce the viscosity of the varnish, and the workability of the optical film is easily improved. Moreover, the optical properties of the optical film are also easily improved by the skeleton containing the fluorine element. Further, preferably, 100 mol% or less of X in the polyimide resin or polyamide resin is represented by formula (4), particularly formula (4'). X in the said resin may be Formula (4), especially Formula (4'). The ratio of the structural unit represented by the formula (4) of X in the resin can be measured using, for example, 1 H-NMR, or can be calculated from the introduction ratio of the raw material.

식 (1)에 있어서, Y는 4가의 유기기를 나타내고, 바람직하게는 탄소수 4∼40의의 4가의 유기기를 나타내고, 보다 바람직하게는 환상 구조를 갖는 탄소수 4∼40의의 4가의 유기기를 나타낸다. 환상 구조로서는 지환, 방향환, 헤테로환 구조를 들 수 있고, 내찰과성 및 탄성률을 높이기 쉽다는 관점에서는, 바람직하게는 방향환을 들 수 있다. 상기 유기기는, 유기기 중의 수소 원자가 탄화수소기 또는 불소 치환된 탄화수소기에 의해 치환되어 있어도 되는 유기기이고, 그 경우, 탄화수소기 및 불소 치환된 탄화수소기의 탄소수는 바람직하게는 1∼8이다. 본 발명의 일 실시 형태에 있어서, 폴리이미드계 수지는, 복수 종의 Y를 포함할 수 있고, 복수 종의 Y는 서로 동일해도 되고 달라도 된다. Y로서는 이하의 식 (20), 식 (21), 식 (22), 식 (23), 식 (24), 식 (25), 식 (26), 식 (27), 식 (28) 및 식 (29)로 나타내어지는 기; 당해 식 (20)∼식 (29)로 나타내어지는 기 중의 수소 원자가 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기에 의해 치환된 기; 및 4가의 탄소수 6 이하의 쇄식 탄화수소기를 들 수 있다.In the formula (1), Y represents a tetravalent organic group, preferably a tetravalent organic group having 4 to 40 carbon atoms, more preferably a tetravalent organic group having a cyclic structure and having 4 to 40 carbon atoms. Examples of the cyclic structure include an alicyclic, aromatic ring, and heterocyclic structure, and preferably an aromatic ring is used from the viewpoint of easy to increase abrasion resistance and elastic modulus. The organic group is an organic group in which a hydrogen atom in the organic group may be substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group, and in that case, the hydrocarbon group and the fluorine-substituted hydrocarbon group preferably have 1 to 8 carbon atoms. In one embodiment of the present invention, the polyimide resin may contain a plurality of types of Y, and the plurality of types of Y may be the same or different from each other. As Y, the following formula (20), formula (21), formula (22), formula (23), formula (24), formula (25), formula (26), formula (27), formula (28) and formula A group represented by (29); A group in which a hydrogen atom in the groups represented by the formulas (20) to (29) is substituted with a methyl group, a fluoro group, a chloro group, or a trifluoromethyl group; And a tetravalent C6 or less chain hydrocarbon group.

[화학식 10][Formula 10]

Figure pat00010
Figure pat00010

식 (20)∼식 (29) 중, *은 결합손을 나타내고, W1은 단결합, -O-, -CH2-, -CH2-CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -Ar-, -SO2-, -CO-, -O-Ar-O-, -Ar-O-Ar-, -Ar-CH2-Ar-, -Ar-C(CH3)2-Ar- 또는 -Ar-SO2-Ar-를 나타낸다. Ar은, 수소 원자가 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 탄소수 6∼20의 아릴렌기를 나타내고, 구체예로서는 페닐렌기를 들 수 있다.In formulas (20) to (29), * represents a bond, and W 1 represents a single bond, -O-, -CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -, -CH(CH 3 )-,- C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, -Ar-, -SO 2 -, -CO-, -O-Ar-O-, -Ar-O-Ar-, -Ar-CH 2 -Ar-, -Ar-C(CH 3 ) 2 -Ar- or -Ar-SO 2 -Ar-. Ar represents an arylene group having 6 to 20 carbon atoms in which a hydrogen atom may be substituted with a fluorine atom, and a phenylene group is exemplified as a specific example.

식 (20)∼식 (29)로 나타내어지는 기 중에서도, 광학 필름의 내찰과성, 탄성률 및 내굴곡성을 높이기 쉽다는 관점에서, 식 (26), 식 (28) 또는 식 (29)로 나타내어지는 기가 바람직하고, 식 (26)으로 나타내어지는 기가 보다 바람직하다. 또, W1은, 광학 필름의 내찰과성, 탄성률 및 내굴곡성을 높이기 쉬움과 함께, 광학 필름의 YI값을 저감하기 쉽다는 관점에서, 서로 독립적으로, 바람직하게는 단결합, -O-, -CH2-, -CH2-CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2- 또는 -C(CF3)2-, 보다 바람직하게는 단결합, -O-, -CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2- 또는 -C(CF3)2-, 더 바람직하게는 단결합, -C(CH3)2- 또는 -C(CF3)2-이다.Among the groups represented by formulas (20) to (29), from the viewpoint of being easy to increase the abrasion resistance, elastic modulus, and bending resistance of the optical film, it is represented by formula (26), formula (28) or formula (29). A group is preferable, and a group represented by formula (26) is more preferable. In addition, W 1 is independent of each other, preferably a single bond, -O-, from the viewpoint of being easy to increase the abrasion resistance, elastic modulus, and bending resistance of the optical film and easy to reduce the YI value of the optical film. -CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -, -CH(CH 3 )-, -C(CH 3 ) 2 -or -C(CF 3 ) 2 -, more preferably a single bond, -O-, -CH 2 -, -CH(CH 3 )-, -C(CH 3 ) 2 -or -C(CF 3 ) 2 -, more preferably a single bond, -C(CH 3 ) 2 -or -C( CF 3 ) 2 -.

본 발명의 바람직한 일 실시 형태에 있어서, 폴리이미드계 수지 중의 Y의, 바람직하게는 50 몰% 이상, 보다 바람직하게는 60 몰% 이상, 더 바람직하게는 70 몰% 이상이, 식 (26)으로 나타내어진다. 폴리이미드계 수지에 있어서의 상기 범위 내의 Y가 식 (26), 바람직하게는 W1이 단결합, -C(CH3)2- 또는 -C(CF3)2-인 식 (26), 보다 바람직하게는 W1이 단결합 또는 -C(CF3)2-인 식 (26)으로 나타내어지면, 광학 필름의 내찰과성, 탄성률 및 내굴곡성을 높이기 쉬움과 함께, 광학 필름의 YI값을 저감하기 쉽다. 폴리이미드계 수지 중의 Y가 식 (26)으로 나타내어지는 구성 단위의 비율은, 예를 들면, 1H-NMR을 이용하여 측정할 수 있고, 또는 원료의 도입비로부터 산출할 수도 있다.In a preferred embodiment of the present invention, of Y in the polyimide-based resin, preferably 50 mol% or more, more preferably 60 mol% or more, still more preferably 70 mol% or more, by formula (26) Is shown. In the polyimide resin, Y within the above range is formula (26), preferably W 1 is a single bond, -C (CH 3 ) 2 -or -C (CF 3 ) 2- Preferably, when W 1 is represented by a single bond or -C(CF 3 ) 2 -in Equation (26), it is easy to increase the abrasion resistance, elastic modulus, and bending resistance of the optical film, while reducing the YI value of the optical film. easy to do. The ratio of the structural unit in which Y in the polyimide resin is represented by the formula (26) can be measured using, for example, 1 H-NMR, or can be calculated from the introduction ratio of the raw material.

본 발명의 바람직한 일 실시 형태에 있어서, 복수의 식 (1) 중의 Y의 적어도 일부는, 식 (5):In a preferred embodiment of the present invention, at least a part of Y in a plurality of formulas (1) is formula (5):

[화학식 11][Formula 11]

Figure pat00011
Figure pat00011

[식 (5) 중,[In equation (5),

R18∼R25는, 서로 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1∼6의 알킬기, 탄소수 1∼6의 알콕시기 또는 탄소수 6∼12의 아릴기를 나타내고, R18∼R25에 포함되는 수소 원자는, 서로 독립적으로, 할로겐 원자에 의해 치환되어 있어도 되고,R 18 to R 25 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and the hydrogen atoms contained in R 18 to R 25 are, Independently of each other, they may be substituted with a halogen atom,

*은 결합손을 나타냄]* Indicates a bond hand]

및/또는 식 (9)And/or equation (9)

[화학식 12][Formula 12]

Figure pat00012
Figure pat00012

[식 (9) 중, R35∼R40은, 서로 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1∼6의 알킬기 또는 탄소수 6∼12의 아릴기를 나타내고, R35∼R40에 포함되는 수소 원자는, 서로 독립적으로, 할로겐 원자에 의해 치환되어 있어도 되고, *은 결합손을 나타냄][In formula (9), R 35 to R 40 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and the hydrogen atoms contained in R 35 to R 40 are each Independently, it may be substituted with a halogen atom, and * represents a bonding hand]

로 나타내어진다. 복수의 식 (1) 중의 Y의 적어도 일부가 식 (5)로 나타내어지면, 및/또는, 식 (9)로 나타내어지면, 광학 필름의 내찰과성, 탄성률 및 광학 특성을 향상시키기 쉽다.It is represented by When at least a part of Y in a plurality of formulas (1) is represented by formula (5) and/or is represented by formula (9), it is easy to improve the abrasion resistance, elastic modulus, and optical properties of the optical film.

식 (5)에 있어서, R18, R19, R20, R21, R22, R23, R24 및 R25는, 서로 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1∼6의 알킬기, 탄소수 1∼6의 알콕시기 또는 탄소수 6∼12의 아릴기를 나타낸다. 탄소수 1∼6의 알킬기, 탄소수 1∼6의 알콕시기 또는 탄소수 6∼12의 아릴기로서는, 식 (3)에 있어서의 탄소수 1∼6의 알킬기, 탄소수 1∼6의 알콕시기 또는 탄소수 6∼12의 아릴기로서 상기에 예시된 것을 들 수 있다. R18∼R25는, 서로 독립적으로, 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1∼6의 알킬기를 나타내고, 보다 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1∼3의 알킬기를 나타내며, 여기서, R18∼R25에 포함되는 수소 원자는, 서로 독립적으로, 할로겐 원자에 의해 치환되어 있어도 된다. 당해 할로겐 원자로서는 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 및 요오드 원자를 들 수 있다. R18∼R25는, 서로 독립적으로, 광학 필름의 내찰과성, 탄성률 및 내굴곡성을 높이기 쉽다는 관점, 및, 투명성을 높이기 쉬움과 함께, 당해 투명성을 유지하기 쉽다는 관점에서, 더 바람직하게는 수소 원자, 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기이고, 보다 더 바람직하게는 R18, R19, R20, R23, R24 및 R25가 수소 원자, R21 및 R22가 수소 원자, 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기이고, 특별히 바람직하게는 R21 및 R22가 메틸기 또는 트리플루오로메틸기이다.In formula (5), R 18 , R 19 , R 20 , R 21 , R 22 , R 23 , R 24 and R 25 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and 1 to 6 carbon atoms. Represents an alkoxy group or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. As a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 alkoxy group, or a C6-C12 aryl group, the C1-C6 alkyl group, C1-C6 alkoxy group, or C6-C12 in Formula (3) Examples of the aryl group of may include those exemplified above. R 18 to R 25 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, wherein R 18 to R 25 The hydrogen atoms contained may be independently of each other and substituted with a halogen atom. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. R 18 to R 25 are, independently of each other, more preferably from the viewpoint of easy to increase the abrasion resistance, elastic modulus, and bending resistance of the optical film, and from the viewpoint of being easy to increase transparency and easy to maintain the transparency. Is a hydrogen atom, a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group, and even more preferably R 18 , R 19 , R 20 , R 23 , R 24 and R 25 are hydrogen atoms, R 21 and R 22 Is a hydrogen atom, a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group, and particularly preferably R 21 and R 22 are a methyl group or a trifluoromethyl group.

식 (9)에 있어서, 광학 필름의 내찰과성, 탄성률 및 내굴곡성을 높이기 쉽다는 관점, 및, 투명성을 높이기 쉬움과 함께, 당해 투명성을 유지하기 쉽다는 관점에서, R35∼R40은, 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1∼6의 알킬기, 보다 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1∼3의 알킬기, 더 바람직하게는 수소 원자를 나타낸다. 여기서, R35∼R40에 포함되는 수소 원자는, 서로 독립적으로, 할로겐 원자에 의해 치환되어 있어도 되고, 당해 할로겐 원자로서는, 예를 들면, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자를 들 수 있다. R35∼R40에 있어서의 탄소수 1∼6의 알킬기 및 탄소수 6∼12의 아릴기로서는, 각각 상기에 예시한 것을 들 수 있다.In Formula (9), from the viewpoint of easy to increase the abrasion resistance, elastic modulus, and bending resistance of the optical film, and from the viewpoint that the transparency is easily increased and the transparency is easily maintained, R 35 to R 40 are, Preferably, a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and still more preferably a hydrogen atom. Here, the hydrogen atoms contained in R 35 to R 40 may be each independently substituted with a halogen atom, and examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. have. Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and the aryl group having 6 to 12 carbon atoms in R 35 to R 40 are each exemplified above.

본 발명의 바람직한 일 실시 형태에 있어서는, 식 (5)는 식 (5')로 나타내어지고, 식 (9)는 식 (9'):In a preferred embodiment of the present invention, formula (5) is represented by formula (5'), and formula (9) is formula (9'):

[화학식 13][Formula 13]

Figure pat00013
Figure pat00013

로 나타내어진다. 즉, 복수의 Y의 적어도 일부는, 식 (5') 및/또는 식 (9')로 나타내어진다. 이 경우, 광학 필름의 내찰과성, 탄성률 및 내굴곡성을 높이기 쉽다. 또한, 식 (5)가 식 (5')로 나타내어지는 경우, 불소 원소를 함유하는 골격에 의해 폴리이미드계 수지의 용매에의 용해성을 높이고, 당해 수지를 함유하는 바니시의 보관 안정성을 향상하기 쉬움과 함께, 당해 바니시의 점도를 저감하기 쉽고, 광학 필름의 가공성을 향상하기 쉽다. 또, 불소 원소를 함유하는 골격에 의해, 광학 필름의 광학 특성을 향상하기 쉽다.It is represented by That is, at least a part of a plurality of Ys is represented by formula (5') and/or formula (9'). In this case, it is easy to increase the abrasion resistance, elastic modulus, and bending resistance of the optical film. In addition, when the formula (5) is represented by the formula (5'), the solubility of the polyimide resin in the solvent is increased by the skeleton containing the fluorine element, and the storage stability of the varnish containing the resin is easily improved. In addition, the viscosity of the varnish is easily reduced, and the workability of the optical film is easily improved. Moreover, it is easy to improve the optical properties of an optical film by the skeleton containing a fluorine element.

본 발명의 바람직한 일 실시 형태에 있어서, 폴리이미드계 수지 중의 Y의, 바람직하게는 50 몰% 이상, 보다 바람직하게는 60 몰% 이상, 더 바람직하게는 70 몰% 이상이, 식 (5), 특별히 식 (5')로 나타내어진다. 폴리이미드계 수지에 있어서의 상기 범위 내의 Y가 식 (5), 특별히 식 (5')로 나타내어지면, 불소 원소를 함유하는 골격에 의해 폴리이미드계 수지의 용매에의 용해성을 높이고, 당해 수지를 함유하는 바니시의 점도를 저감하기 쉽고, 광학 필름의 가공성을 향상하기 쉽다. 또, 불소 원소를 함유하는 골격에 의해, 광학 필름의 광학 특성을 향상하기 쉽다. 또한, 바람직하게는, 상기 폴리이미드계 수지 중의 Y의 100 몰% 이하가 식 (5), 특별히 식 (5')로 나타내어진다. 폴리이미드계 수지 중의 Y는 식 (5), 특별히 식 (5')여도 된다. 폴리이미드계 수지 중의 Y의 식 (5)로 나타내어지는 구성 단위의 비율은, 예를 들면, 1H-NMR을 이용하여 측정할 수 있고, 또는 원료의 도입비로부터 산출할 수도 있다.In a preferred embodiment of the present invention, of Y in the polyimide resin, preferably 50 mol% or more, more preferably 60 mol% or more, still more preferably 70 mol% or more, formula (5), In particular, it is represented by formula (5'). When Y within the above range in the polyimide resin is represented by formula (5), particularly formula (5'), the solubility of the polyimide resin in the solvent is increased by the skeleton containing a fluorine element, and the resin is It is easy to reduce the viscosity of the varnish to be contained, and it is easy to improve the workability of the optical film. Moreover, it is easy to improve the optical properties of an optical film by the skeleton containing a fluorine element. Further, preferably, 100 mol% or less of Y in the polyimide resin is represented by formula (5), particularly formula (5'). Y in the polyimide resin may be a formula (5), particularly a formula (5'). The ratio of the structural unit represented by the formula (5) of Y in the polyimide resin can be measured using, for example, 1 H-NMR, or can be calculated from the introduction ratio of the raw material.

본 발명의 바람직한 일 실시 형태에 있어서, 식 (1)로 나타내어지는 복수의 구성 단위는 Y가 식 (5)로 나타내어지는 구성 단위에 추가하여, Y가 식 (9)로 나타내어지는 구성 단위를 더 포함하는 것이 바람직하다. Y가 식 (9)로 나타내어지는 구성 단위를 더 포함하는 경우, 광학 필름의 내찰과성 및 탄성률을 더 향상시키기 쉽다.In a preferred embodiment of the present invention, in the plurality of structural units represented by formula (1), Y is further added to the structural unit represented by formula (5), and Y is a structural unit represented by formula (9). It is preferable to include. When Y further contains the structural unit represented by Formula (9), it is easy to further improve the abrasion resistance and elastic modulus of an optical film.

폴리이미드계 수지는, 식 (30)으로 나타내어지는 구성 단위 및/또는 식 (31)로 나타내어지는 구성 단위를 포함하는 것이어도 되고, 또한 식 (1) 및 경우에 따라 식 (2)로 나타내어지는 구성 단위 외에, 식 (30)으로 나타내어지는 구성 단위 및/또는 식 (31)로 나타내어지는 구성 단위를 포함하는 것이어도 된다.The polyimide resin may contain a structural unit represented by formula (30) and/or a structural unit represented by formula (31), and may be represented by formula (1) and optionally formula (2). In addition to the structural unit, the structural unit represented by formula (30) and/or the structural unit represented by formula (31) may be included.

[화학식 14][Formula 14]

Figure pat00014
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식 (30)에 있어서, Y1은 4가의 유기기이고, 바람직하게는 유기기 중의 수소 원자가 탄화수소기 또는 불소 치환된 탄화수소기에 의해 치환되어 있어도 되는 유기기이다. Y1로서는 식 (20), 식 (21), 식 (22), 식 (23), 식 (24), 식 (25), 식 (26), 식 (27), 식 (28) 및 식 (29)로 나타내어지는 기, 당해 식 (20)∼식 (29)로 나타내어지는 기 중의 수소 원자가 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기에 의해 치환된 기, 및 4가의 탄소수 6 이하의 쇄식 탄화수소기가 예시된다. 본 발명의 일 실시 형태에 있어서, 폴리이미드계 수지는, 복수 종의 Y1을 포함할 수 있고, 복수 종의 Y1은 서로 동일해도 되고 달라도 된다.In formula (30), Y 1 is a tetravalent organic group, and preferably, a hydrogen atom in the organic group is an organic group in which a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group may be substituted. As Y 1, formula (20), formula (21), formula (22), formula (23), formula (24), formula (25), formula (26), formula (27), formula (28), and formula ( 29), a group in which a hydrogen atom in the group represented by the formulas (20) to (29) is substituted with a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group, and a tetravalent C6 or less A chain hydrocarbon group is illustrated. In one embodiment of the present invention, a polyimide-based resin may include a plurality of types of Y 1, Y 1 of a plurality of species may be the same or different from each other.

식 (31)에 있어서, Y2는 3가의 유기기이고, 바람직하게는 유기기 중의 수소 원자가 탄화수소기 또는 불소 치환된 탄화수소기에 의해 치환되어 있어도 되는 유기기이다. Y2로서는 상기의 식 (20), 식 (21), 식 (22), 식 (23), 식 (24), 식 (25), 식 (26), 식 (27), 식 (28) 및 식 (29)로 나타내어지는 기의 결합손 중 어느 하나가 수소 원자로 치환된 기, 및 3가의 탄소수 6 이하의 쇄식 탄화수소기가 예시된다. 본 발명의 일 실시 형태에 있어서, 폴리이미드계 수지는, 복수 종의 Y2를 포함할 수 있고, 복수 종의 Y2는 서로 동일해도 되고 달라도 된다.In formula (31), Y 2 is a trivalent organic group, and preferably, a hydrogen atom in the organic group is an organic group in which a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group may be substituted. As Y 2, the above formula (20), formula (21), formula (22), formula (23), formula (24), formula (25), formula (26), formula (27), formula (28) and A group in which any one of the bond hands of the group represented by formula (29) is substituted with a hydrogen atom, and a trivalent chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms are exemplified. In one embodiment of the present invention, a polyimide-based resin may include a plurality of types of Y 2, Y 2 is a plurality of types may be the same or different from each other.

식 (30) 및 식 (31)에 있어서, X1 및 X2는, 서로 독립적으로, 2가의 유기기이고, 바람직하게는 유기기 중의 수소 원자가 탄화수소기 또는 불소 치환된 탄화수소기에 의해 치환되어 있어도 되는 유기기이다. X1 및 X2로서는 상기의 식 (10), 식 (11), 식 (12), 식 (13), 식 (14), 식 (15), 식 (16), 식 (17) 및 식 (18)로 나타내어지는 기; 당해 식 (10)∼식 (18)로 나타내어지는 기 중의 수소 원자가 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기에 의해 치환된 기; 및 탄소수 6 이하의 쇄식 탄화수소기가 예시된다.In formulas (30) and (31), X 1 and X 2 are each independently a divalent organic group, and preferably a hydrogen atom in the organic group may be substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group. It is an organic group. As X 1 and X 2, the above formulas (10), (11), (12), (13), (14), (15), (16), (17), and ( A group represented by 18); A group in which a hydrogen atom in the groups represented by the formulas (10) to (18) is substituted with a methyl group, a fluoro group, a chloro group, or a trifluoromethyl group; And a chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms.

본 발명의 일 실시 형태에 있어서, 폴리이미드계 수지는, 식 (1) 및/또는 식 (2)로 나타내어지는 구성 단위, 및 경우에 따라 식 (30) 및/또는 식 (31)로 나타내어지는 구성 단위로 이루어진다. 또, 광학 필름의 광학 특성, 내찰과성, 탄성률 및 내굴곡성을 높이기 쉽다는 관점에서, 상기 폴리이미드계 수지에 있어서, 식 (1) 및 식 (2)로 나타내어지는 구성 단위의 비율은, 식 (1) 및 식 (2), 및 경우에 따라 식 (30) 및 식 (31)로 나타내어지는 전체 구성 단위에 기초하여, 바람직하게는 80 몰% 이상, 보다 바람직하게는 90 몰% 이상, 더 바람직하게는 95 몰% 이상이다. 또한, 폴리이미드계 수지에 있어서, 식 (1) 및 식 (2)로 나타내어지는 구성 단위의 비율은, 식 (1) 및 식 (2), 및 경우에 따라 식 (30) 및/또는 식 (31)로 나타내어지는 전체 구성 단위에 기초하여, 통상 100% 이하이다. 또한, 상기 비율은, 예를 들면, 1H-NMR을 이용하여 측정할 수 있고, 또는 원료의 도입비로부터 산출할 수도 있다.In one embodiment of the present invention, the polyimide resin is a structural unit represented by formula (1) and/or formula (2), and in some cases, a structural unit represented by formula (30) and/or formula (31). It consists of a constituent unit. In addition, from the viewpoint of being easy to increase the optical properties, abrasion resistance, elastic modulus, and bending resistance of the optical film, in the polyimide resin, the ratio of the structural units represented by formulas (1) and (2) is the formula (1) and formula (2), and in some cases, based on the total structural units represented by formulas (30) and (31), preferably 80 mol% or more, more preferably 90 mol% or more, further It is preferably 95 mol% or more. In addition, in the polyimide resin, the ratio of the structural units represented by formulas (1) and (2) is formula (1) and formula (2), and in some cases, formula (30) and/or formula ( It is usually 100% or less based on all the structural units represented by 31). In addition, the ratio can be measured using, for example, 1 H-NMR, or can be calculated from the introduction ratio of raw materials.

본 발명의 일 실시 형태에 있어서, 광학 필름 중에 있어서의 폴리이미드계 수지 및/또는 폴리아미드계 수지의 함유량은, 광학 필름 100 질량부에 대하여, 바람직하게는 10 질량부 이상, 보다 바람직하게는 30 질량부 이상, 더 바람직하게는 50 질량부 이상이고, 바람직하게는 99.5 질량부 이하, 보다 바람직하게는 95 질량부 이하이다. 폴리이미드계 수지 및/또는 폴리아미드계 수지의 함유량이 상기 범위 내이면, 광학 필름의 광학 특성, 내찰과성 및 탄성률을 향상시키기 쉽다.In one embodiment of the present invention, the content of the polyimide resin and/or polyamide resin in the optical film is preferably 10 parts by mass or more, and more preferably 30 parts by mass per 100 parts by mass of the optical film. It is at least 50 parts by mass, more preferably at least 50 parts by mass, preferably at most 99.5 parts by mass, and more preferably at most 95 parts by mass. When the content of the polyimide resin and/or the polyamide resin is within the above range, it is easy to improve the optical properties, abrasion resistance, and elastic modulus of the optical film.

폴리이미드계 수지 및 폴리아미드계 수지의 중량평균 분자량(Mw)은, 광학 필름의 내찰과성, 탄성률 및 내굴곡성을 높이기 쉽다는 관점에서, 표준 폴리스티렌 환산으로, 바람직하게는 200,000 이상, 보다 바람직하게는 230,000 이상, 더 바람직하게는 250,000 이상, 더 바람직하게는 270,000 이상, 보다 더 바람직하게는 280,000 이상이다. 또, 폴리이미드계 수지 및 폴리아미드계 수지의 중량평균 분자량은, 당해 수지의 용매에 대한 용해성을 향상하기 쉬움과 함께, 광학 필름의 연신성 및 가공성을 향상하기 쉽다는 관점에서, 바람직하게는 1,000,000 이하, 보다 바람직하게는 800,000 이하, 더 바람직하게는 700,000 이하, 보다 더 바람직하게는 500,000 이하이다. 중량평균 분자량은, 예를 들면, GPC 측정을 행하여, 표준 폴리스티렌 환산에 의해서 구할 수 있고, 예를 들면, 실시예에 기재된 방법에 의해 산출해도 된다.The weight average molecular weight (Mw) of the polyimide-based resin and the polyamide-based resin is in terms of standard polystyrene, preferably 200,000 or more, and more preferably from the viewpoint of easy to increase the abrasion resistance, elastic modulus, and flex resistance of the optical film. Is 230,000 or more, more preferably 250,000 or more, still more preferably 270,000 or more, and even more preferably 280,000 or more. In addition, the weight average molecular weight of the polyimide resin and the polyamide resin is preferably 1,000,000 from the viewpoint that the solubility of the resin in the solvent is easily improved and the stretchability and processability of the optical film are easily improved. Below, it is more preferably 800,000 or less, still more preferably 700,000 or less, and even more preferably 500,000 or less. The weight average molecular weight can be obtained by performing GPC measurement, for example, in terms of standard polystyrene, and may be calculated by, for example, a method described in Examples.

폴리아미드이미드계 수지에 있어서, 식 (2)로 나타내어지는 구성 단위의 함유량은, 식 (1)로 나타내어지는 구성 단위 1몰에 대하여, 바람직하게는 0.1 몰 이상, 보다 바람직하게는 0.5 몰 이상, 더 바람직하게는 1.0 몰 이상, 보다 더 바람직하게는 1.5 몰 이상이고, 바람직하게는 6.0 몰 이하, 보다 바람직하게는 5.0 몰 이하, 더 바람직하게는 4.5 몰 이하이다. 식 (2)로 나타내어지는 구성 단위의 함유량이 상기의 하한 이상이면, 광학 필름의 내찰과성 및 탄성률을 높이기 쉽다. 또, 식 (2)로 나타내어지는 구성 단위의 함유량이 상기의 상한 이하이면, 식 (2) 중의 아미드 결합간의 수소 결합에 의한 증점을 억제하고, 광학 필름의 가공성을 향상시키기 쉽다.In the polyamideimide resin, the content of the structural unit represented by formula (2) is preferably 0.1 mol or more, more preferably 0.5 mol or more, per 1 mol of the structural unit represented by formula (1), It is more preferably 1.0 mol or more, even more preferably 1.5 mol or more, preferably 6.0 mol or less, more preferably 5.0 mol or less, and still more preferably 4.5 mol or less. When the content of the structural unit represented by Formula (2) is more than the above lower limit, it is easy to increase the abrasion resistance and elastic modulus of the optical film. Moreover, when the content of the structural unit represented by formula (2) is less than or equal to the above upper limit, thickening due to hydrogen bonds between amide bonds in formula (2) is suppressed, and workability of the optical film is easily improved.

본 발명의 바람직한 일 실시 형태에 있어서, 광학 필름에 포함되는 폴리이미드계 수지 및/또는 폴리아미드계 수지는, 예를 들면, 상기의 함불소 치환기 등에 의해서 도입할 수 있는, 불소 원자 등의 할로겐 원자를 포함해도 된다. 폴리이미드계 수지 및/또는 폴리아미드계 수지가 할로겐 원자를 포함하는 경우, 광학 필름의 탄성률을 향상시키고, 또한 YI값을 저감시키기 쉽다. 광학 필름의 탄성률이 높으면, 당해 필름의 내충격성을 향상하기 쉽고, 흠집 및 주름 등의 발생을 억제하기 쉽다. 또, 광학 필름의 YI값이 낮으면, 당해 필름의 투명성 및 시인성을 향상시키기 쉬워진다. 할로겐 원자는, 바람직하게는 불소 원자이다. 폴리이미드계 수지에 불소 원자를 함유시키기 위하여 바람직한 함불소 치환기로서는, 예를 들면, 플루오로기 및 트리플루오로메틸기를 들 수 있다.In a preferred embodiment of the present invention, the polyimide resin and/or the polyamide resin contained in the optical film is, for example, a halogen atom such as a fluorine atom that can be introduced by the above fluorine-containing substituent. You may include. When the polyimide resin and/or the polyamide resin contains a halogen atom, it is easy to improve the elastic modulus of the optical film and to reduce the YI value. When the elastic modulus of the optical film is high, it is easy to improve the impact resistance of the film and it is easy to suppress the occurrence of scratches and wrinkles. Moreover, when the YI value of an optical film is low, it becomes easy to improve the transparency and visibility of this film. The halogen atom is preferably a fluorine atom. Preferred fluorine-containing substituents in order to contain a fluorine atom in the polyimide resin include, for example, a fluoro group and a trifluoromethyl group.

폴리이미드계 수지 및 폴리아미드계 수지에 있어서의 할로겐 원자의 함유량은, 각각, 폴리이미드계 수지 및 폴리아미드계 수지의 질량을 기준으로 하여, 바람직하게는 1∼40 질량%, 보다 바람직하게는 5∼40 질량%, 더 바람직하게는 5∼30 질량%이다. 할로겐 원자의 함유량이 상기의 하한 이상이면, 광학 필름의 탄성률을 보다 향상시키고, 흡수율을 낮추고, YI값을 보다 저감하여, 투명성 및 시인성을 보다 향상시키기 쉽다. 할로겐 원자의 함유량이 상기의 상한 이하이면, 합성하기 쉬워진다.The content of halogen atoms in the polyimide resin and the polyamide resin is preferably 1 to 40 mass%, more preferably 5, based on the mass of the polyimide resin and the polyamide resin, respectively. It is -40 mass%, More preferably, it is 5-30 mass%. When the content of the halogen atom is more than the above lower limit, the elastic modulus of the optical film is further improved, the absorption rate is lowered, the YI value is further reduced, and transparency and visibility are more easily improved. When the content of the halogen atom is less than or equal to the above upper limit, it becomes easy to synthesize.

폴리이미드계 수지 및 폴리아미드이미드계 수지의 이미드화율은, 바람직하게는 90% 이상, 보다 바람직하게는 93% 이상, 더 바람직하게는 96% 이상이다. 광학 필름의 광학 특성을 높이기 쉽다는 관점에서, 이미드화율이 상기의 하한 이상인 것이 바람직하다. 또, 이미드화율의 상한은 100% 이하이다. 이미드화율은, 폴리이미드계 수지 중의 테트라카르본산 화합물에 유래하는 구성 단위의 몰량의 2배의 값에 대한, 폴리이미드계 수지 중의 이미드 결합의 몰량의 비율을 나타낸다. 또한, 폴리이미드계 수지가 트리카르본산 화합물을 포함하는 경우에는, 폴리이미드계 수지 중의 테트라카르본산 화합물에 유래하는 구성 단위의 몰량의 2배의 값과, 트리카르본산 화합물에 유래하는 구성 단위의 몰량과의 합계에 대한, 폴리이미드계 수지 중의 이미드 결합의 몰량의 비율을 나타낸다. 또, 이미드화율은 IR법, NMR법 등에 의해 구할 수 있다.The imidation ratio of the polyimide resin and the polyamideimide resin is preferably 90% or more, more preferably 93% or more, and still more preferably 96% or more. It is preferable that the imidation ratio is more than the said lower limit from a viewpoint of being easy to improve the optical property of an optical film. Moreover, the upper limit of the imidation ratio is 100% or less. The imidation ratio represents the ratio of the molar amount of imide bonds in the polyimide resin to the value twice the molar amount of the structural unit derived from the tetracarboxylic acid compound in the polyimide resin. In addition, when the polyimide resin contains a tricarboxylic acid compound, the value of twice the molar amount of the constituent unit derived from the tetracarboxylic acid compound in the polyimide resin and the constituent unit derived from the tricarboxylic acid compound The ratio of the molar amount of imide bonds in the polyimide-based resin to the sum of the molar amount is shown. Moreover, the imidation ratio can be calculated|required by IR method, NMR method, etc.

폴리이미드계 수지 및 폴리아미드계 수지로서, 시판품을 사용해도 된다. 폴리이미드계 수지의 시판품으로서는, 예를 들면, 미쓰비시가스화학(주) 제 네오푸림(등록상표), 가와무라산업(주) 제 KPI-MX300F 등을 들 수 있다.As the polyimide resin and the polyamide resin, a commercial item may be used. As a commercial item of a polyimide resin, Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd. Neopurim (registered trademark), Kawamura Industrial Co., Ltd. KPI-MX300F, etc. are mentioned, for example.

본 발명에 있어서, 광학 필름은, 폴리아미드계 수지를 포함하고 있어도 된다. 본 실시 형태에 관련된 폴리아미드계 수지는, 식 (2)로 나타내어지는 반복 구성 단위를 주로 하는 중합체이다. 폴리아미드계 수지에 있어서의 식 (2) 중의 Z의 바람직한 예 및 구체예는, 폴리이미드계 수지에 있어서의 Z의 바람직한 예 및 구체예와 동일하다. 상기 폴리아미드계 수지는, Z가 다른 2종류 이상의 식 (2)로 나타내어지는 반복 구성 단위를 포함하고 있어도 된다.In the present invention, the optical film may contain a polyamide resin. The polyamide-based resin according to the present embodiment is a polymer mainly containing a repeating structural unit represented by formula (2). Preferred examples and specific examples of Z in the formula (2) in the polyamide resin are the same as those of the preferred examples and specific examples of Z in the polyimide resin. The polyamide-based resin may contain a repeating structural unit represented by two or more types of formula (2) in which Z is different.

(수지의 제조 방법)(Resin manufacturing method)

폴리이미드계 수지 및 폴리이미드계 전구체 수지는, 예를 들면, 테트라카르본산 화합물 및 디아민 화합물을 주된 원료로 하여 제조할 수 있고, 폴리아미드이미드계 수지 및 폴리아미드이미드계 전구체 수지는, 예를 들면, 테트라카르본산 화합물, 디카르본산 화합물 및 디아민 화합물을 주된 원료로 하여 제조할 수 있고, 폴리아미드계 수지는, 예를 들면, 디아민 화합물 및 디카르본산 화합물을 주된 원료로 하여 제조할 수 있다. 여기서, 디카르본산 화합물은 적어도 식 (3")로 나타내어지는 화합물을 포함하는 것이 바람직하다.The polyimide resin and the polyimide precursor resin can be produced using, for example, a tetracarboxylic acid compound and a diamine compound as the main raw materials, and the polyamideimide resin and the polyamideimide precursor resin, for example , A tetracarboxylic acid compound, a dicarboxylic acid compound, and a diamine compound as main raw materials, and the polyamide-based resin can be manufactured, for example, using a diamine compound and a dicarboxylic acid compound as the main raw materials. Here, it is preferable that the dicarboxylic acid compound contains at least a compound represented by formula (3").

[화학식 15][Formula 15]

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[식 (3") 중,[In formula (3"),

R1∼R8은, 서로 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1∼6의 알킬기, 탄소수 1∼6의 알콕시기, 또는 탄소수 6∼12의 아릴기를 나타내고, R1∼R8에 포함되는 수소 원자는, 서로 독립적으로, 할로겐 원자에 의해 치환되어 있어도 되고,R 1 to R 8 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and the hydrogen atoms contained in R 1 to R 8 are , Independently of each other, may be substituted with a halogen atom,

A는 단결합, -O-, -CH2-, -CH2-CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2-, -S-, -CO- 또는 -N(R9)-를 나타내고,A is a single bond, -O-, -CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -, -CH(CH 3 )-, -C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, -SO 2 -, -S-, -CO- or -N(R 9 )-,

R9는 수소 원자, 할로겐 원자에 의해 치환되어 있어도 되는 탄소수 1∼12의 1가의 탄화수소기를 나타내고,R 9 represents a hydrogen atom or a C 1 to C 12 monovalent hydrocarbon group which may be substituted by a halogen atom,

m은 0∼4의 정수이고,m is an integer from 0 to 4,

R31 및 R32는, 서로 독립적으로, 히드록실기, 메톡시기, 에톡시기, n-프로폭시기, 이소프로폭시기, n-부톡시기, sec-부톡시기, tert-부톡시기 또는 염소 원자를 나타낸다.]R 31 and R 32 are, independently of each other, a hydroxyl group, a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an isopropoxy group, an n-butoxy group, a sec-butoxy group, a tert-butoxy group or a chlorine atom. Show.]

본 발명의 바람직한 일 실시 형태에 있어서, 디카르본산 화합물은, m이 0인, 식 (3")로 나타내어지는 화합물이다. 디카르본산 화합물로서, m이 0인 식 (3")로 나타내어지는 화합물에 추가하여, A가 산소 원자인 식 (3")로 나타내어지는 화합물을 사용하는 것이 보다 바람직하다. 또, 다른 바람직한 일 실시 형태에 있어서는, 디카르본산 화합물은, R31, R32가 염소 원자인, 식 (3")로 나타내어지는 화합물이다. 또, 디아민 화합물 대신에, 디이소시아네이트 화합물을 이용해도 된다.In a preferred embodiment of the present invention, the dicarboxylic acid compound is a compound represented by formula (3") in which m is 0. As a dicarboxylic acid compound, represented by formula (3") in which m is 0 In addition to the compound, it is more preferable to use a compound represented by the formula (3") in which A is an oxygen atom. Further, in another preferred embodiment, in the dicarboxylic acid compound, R 31 and R 32 are chlorine It is an atom, and is a compound represented by formula (3"). Moreover, you may use a diisocyanate compound instead of a diamine compound.

수지의 제조에 사용되는 디아민 화합물로서는, 예를 들면, 지방족 디아민, 방향족 디아민 및 이들의 혼합물을 들 수 있다. 또한, 본 실시 형태에 있어서 「방향족 디아민」이란, 아미노기가 방향환에 직접 결합해 있는 디아민을 나타내고, 그 구조의 일부에 지방족 기 또는 기타의 치환기를 포함하고 있어도 된다. 이 방향환은 단환이어도 되고 축합환이어도 되며, 벤젠환, 나프탈렌환, 안트라센환 및 플루오렌환 등이 예시되지만, 이들에 한정되는 것은 아니다. 이들 중에서도, 바람직하게는 벤젠환이다. 또, 「지방족 디아민」이란, 아미노기가 지방족 기에 직접 결합해 있는 디아민을 나타내고, 그 구조의 일부에 방향환이나 기타의 치환기를 포함하고 있어도 된다.Examples of the diamine compound used in the production of the resin include aliphatic diamine, aromatic diamine, and mixtures thereof. In addition, in this embodiment, "aromatic diamine" represents a diamine in which an amino group is directly bonded to an aromatic ring, and an aliphatic group or other substituent may be included in a part of the structure. This aromatic ring may be a monocyclic ring or a condensed ring, and a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring, a fluorene ring, etc. are illustrated, but are not limited to these. Among these, preferably, it is a benzene ring. In addition, "aliphatic diamine" represents a diamine in which an amino group is directly bonded to an aliphatic group, and an aromatic ring or other substituent may be included in a part of the structure.

지방족 디아민으로서는, 예를 들면, 헥사메틸렌디아민 등의 비환식 지방족 디아민, 및 1,3-비스(아미노메틸)시클로헥산, 1,4-비스(아미노메틸)시클로헥산, 노르보르난디아민 및 4,4'-디아미노디시클로헥실메탄 등의 환식 지방족 디아민 등을 들 수 있다. 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다.Examples of aliphatic diamines include acyclic aliphatic diamines such as hexamethylenediamine, and 1,3-bis(aminomethyl)cyclohexane, 1,4-bis(aminomethyl)cyclohexane, norbornanediamine and 4, Cyclic aliphatic diamines, such as 4'-diaminodicyclohexylmethane, etc. are mentioned. These can be used alone or in combination of two or more.

방향족 디아민으로서는, 예를 들면, p-페닐렌디아민, m-페닐렌디아민, 2,4-톨루엔디아민, m-크실릴렌디아민, p-크실릴렌디아민, 1,5-디아미노나프탈렌, 2,6-디아미노나프탈렌 등의, 방향환을 1개 갖는 방향족 디아민, 4,4'-디아미노디페닐메탄, 4,4'-디아미노디페닐프로판, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 3,4'-디아미노디페닐에테르, 3,3'-디아미노디페닐에테르, 4,4'-디아미노디페닐술폰, 3,4'-디아미노디페닐술폰, 3,3'-디아미노디페닐술폰, 1,4-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕술폰, 비스〔4-(3-아미노페녹시)페닐〕술폰, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2-비스[4-(3-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2'-디메틸벤지딘, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)-4,4'-디아미노디페닐(TFMB라고 기재하는 경우가 있음), 4,4'-비스(4-아미노페녹시)비페닐, 9,9-비스(4-아미노페닐)플루오렌, 9,9-비스(4-아미노-3-메틸페닐)플루오렌, 9,9-비스(4-아미노-3-클로로페닐)플루오렌, 9,9-비스(4-아미노-3-플루오로페닐)플루오렌 등의, 방향환을 2개 이상 갖는 방향족 디아민을 들 수 있다. 이들은 단독 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.As aromatic diamine, for example, p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, 2,4-toluenediamine, m-xylylenediamine, p-xylylenediamine, 1,5-diaminonaphthalene, 2 Aromatic diamine having one aromatic ring, such as, 6-diaminonaphthalene, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenyl ether , 3,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3'- Diaminodiphenylsulfone, 1,4-bis(4-aminophenoxy)benzene, 1,3-bis(4-aminophenoxy)benzene, bis (4-(4-aminophenoxy)phenyl) sulfone, bis [4-(3-aminophenoxy)phenyl] sulfone, 2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane, 2,2-bis[4-(3-aminophenoxy)phenyl] Propane, 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminodiphenyl (sometimes described as TFMB), 4,4'-bis (4 -Aminophenoxy)biphenyl, 9,9-bis(4-aminophenyl)fluorene, 9,9-bis(4-amino-3-methylphenyl)fluorene, 9,9-bis(4-amino-3 And aromatic diamines having two or more aromatic rings such as -chlorophenyl)fluorene and 9,9-bis(4-amino-3-fluorophenyl)fluorene. These can be used alone or in combination of two or more.

방향족 디아민은, 바람직하게는 4,4'-디아미노디페닐메탄, 4,4'-디아미노디페닐프로판, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 3,3'-디아미노디페닐에테르, 4,4'-디아미노디페닐술폰, 3,3'-디아미노디페닐술폰, 1,4-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕술폰, 비스〔4-(3-아미노페녹시)페닐〕술폰, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2-비스[4-(3-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2'-디메틸벤지딘, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)-4,4'-디아미노디페닐(TFMB), 4,4'-비스(4-아미노페녹시)비페닐이고, 보다 바람직하게는 4,4'-디아미노디페닐메탄, 4,4'-디아미노디페닐프로판, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 4,4'-디아미노디페닐술폰, 1,4-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕술폰, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2'-디메틸벤지딘, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)-4,4'-디아미노디페닐(TFMB), 4,4'-비스(4-아미노페녹시)비페닐이다. 이들은 단독 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.Aromatic diamine is preferably 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-diaminodiphenyl ether , 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3'-diaminodiphenylsulfone, 1,4-bis(4-aminophenoxy)benzene, bis (4-(4-aminophenoxy)phenyl] Sulfone, bis[4-(3-aminophenoxy)phenyl]sulfone, 2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane, 2,2-bis[4-(3-aminophenoxy) ) Phenyl] propane, 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminodiphenyl (TFMB), 4,4'-bis (4-aminophenoxy) Si) biphenyl, more preferably 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diamino Diphenylsulfone, 1,4-bis(4-aminophenoxy)benzene, bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]sulfone, 2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl] Propane, 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminodiphenyl (TFMB), 4,4'-bis (4-aminophenoxy) ratio It is phenyl. These can be used alone or in combination of two or more.

상기 디아민 화합물 중에서도, 광학 필름의 고탄성률, 고투명성, 고유연성, 고굴곡내성 및 저착색성의 관점에서는, 비페닐 구조를 갖는 방향족 디아민으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 이용하는 것이 바람직하다. 2,2'-디메틸벤지딘, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘, 4,4'-비스(4-아미노페녹시)비페닐 및 4,4'-디아미노디페닐에테르로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 이용하는 것이 보다 바람직하고, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)-4,4'-디아미노디페닐(TFMB)을 이용하는 것이 보다 더 바람직하다.Among the diamine compounds, it is preferable to use at least one selected from the group consisting of aromatic diamines having a biphenyl structure from the viewpoint of high elastic modulus, high transparency, high flexibility, high bending resistance and low colorability of the optical film. Consisting of 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis(trifluoromethyl)benzidine, 4,4'-bis(4-aminophenoxy)biphenyl and 4,4'-diaminodiphenyl ether It is more preferable to use one or more selected from the group, and even more preferably 2,2'-bis(trifluoromethyl)-4,4'-diaminodiphenyl (TFMB).

수지의 제조에 이용되는 테트라카르본산 화합물로서는, 방향족 테트라카르본산 2 무수물 등의 방향족 테트라카르본산 화합물; 및 지방족 테트라카르본산 2 무수물 등의 지방족 테트라카르본산 화합물 등을 들 수 있다. 테트라카르본산 화합물은 단독으로 이용해도 되고, 2종 이상을 조합하여 이용해도 된다. 테트라카르본산 화합물은, 2 무수물 외에, 산 클로라이드 화합물 등의 테트라카르본산 화합물 유연체여도 된다.Examples of the tetracarboxylic acid compound used in the production of the resin include aromatic tetracarboxylic acid compounds such as aromatic tetracarboxylic acid dianhydride; And aliphatic tetracarboxylic acid compounds such as aliphatic tetracarboxylic acid dianhydride, and the like. Tetracarboxylic acid compounds may be used alone or in combination of two or more. In addition to dianhydride, the tetracarboxylic acid compound may be a tetracarboxylic acid compound analog such as an acid chloride compound.

방향족 테트라카르본산 2 무수물의 구체예로서는, 비축합 다환식의 방향족 테트라카르본산 2 무수물, 단환식의 방향족 테트라카르본산 2 무수물 및 축합 다환식의 방향족 테트라카르본산 2 무수물을 들 수 있다. 비축합 다환식의 방향족 테트라카르본산 2 무수물로서는, 예를 들면, 4,4'-옥시디프탈산 2 무수물, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르본산 2 무수물, 2,2',3,3'-벤조페논테트라카르본산 2 무수물, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르본산 2 무수물, 2,2',3,3'-비페닐테트라카르본산 2 무수물, 3,3',4,4'-디페닐술폰테트라카르본산 2 무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)프로판 2 무수물, 2,2-비스(2,3-디카르복시페닐)프로판 2 무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페녹시페닐)프로판 2 무수물, 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 2 무수물(6FDA라고 기재하는 경우가 있음), 1,2-비스(2,3-디카르복시페닐)에탄 2 무수물, 1,1-비스(2,3-디카르복시페닐)에탄 2 무수물, 1,2-비스(3,4-디카르복시페닐)에탄 2 무수물, 1,1-비스(3,4-디카르복시페닐)에탄 2 무수물, 비스(3,4-디카르복시페닐)메탄 2 무수물, 비스(2,3-디카르복시페닐)메탄 2 무수물, 4,4'-(p-페닐렌디옥시)디프탈산 2 무수물, 4,4'-(m-페닐렌디옥시)디프탈산 2 무수물을 들 수 있다. 또, 단환식의 방향족 테트라카르본산 2 무수물로서는, 예를 들면, 1,2,4,5-벤젠테트라카르본산 2 무수물을 들 수 있고, 축합 다환식의 방향족 테트라카르본산 2 무수물로서는, 예를 들면, 2,3,6,7-나프탈렌테트라카르본산 2 무수물을 들 수 있다.Specific examples of the aromatic tetracarboxylic dianhydride include non-condensed polycyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride, monocyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride, and condensed polycyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride. As non-condensed polycyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride, for example, 4,4'-oxydiphthalic dianhydride, 3,3',4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 2,2' ,3,3'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2',3,3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,3',4,4'-diphenylsulfonetetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)propane dianhydride, 2,2-bis(2,3-dicarboxyphenyl) ) Propane dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenoxyphenyl) propane dianhydride, 4,4'- (hexafluoroisopropylidene) diphthalic dianhydride (6 FDA) ), 1,2-bis(2,3-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, 1,1-bis(2,3-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, 1,2-bis(3,4-dicarboxy) Phenyl)ethane dianhydride, 1,1-bis(3,4-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, bis(3,4-dicarboxyphenyl)methane dianhydride, bis(2,3-dicarboxyphenyl)methane 2 Anhydride, 4,4'-(p-phenylenedioxy)diphthalic dianhydride, and 4,4'-(m-phenylenedioxy)diphthalic dianhydride. In addition, examples of monocyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride include 1,2,4,5-benzenetetracarboxylic dianhydride, and examples of condensed polycyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride include For example, 2,3,6,7-naphthalene tetracarboxylic dianhydride is mentioned.

이들 중에서도, 바람직하게는 4,4'-옥시디프탈산 2 무수물, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르본산 2 무수물, 2,2',3,3'-벤조페논테트라카르본산 2 무수물, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르본산 2 무수물, 2,2',3,3'-비페닐테트라카르본산 2 무수물, 3,3',4,4'-디페닐술폰테트라카르본산 2 무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)프로판 2 무수물, 2,2-비스(2,3-디카르복시페닐)프로판 2 무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페녹시페닐)프로판 2 무수물, 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 2 무수물(6FDA), 1,2-비스(2,3-디카르복시페닐)에탄 2 무수물, 1,1-비스(2,3-디카르복시페닐)에탄 2 무수물, 1,2-비스(3,4-디카르복시페닐)에탄 2 무수물, 1,1-비스(3,4-디카르복시페닐)에탄 2 무수물, 비스(3,4-디카르복시페닐)메탄 2 무수물, 비스(2,3-디카르복시페닐)메탄 2 무수물, 4,4'-(p-페닐렌디옥시)디프탈산 2 무수물 및 4,4'-(m-페닐렌디옥시)디프탈산 2 무수물을 들 수 있고, 보다 바람직하게는 4,4'-옥시디프탈산 2 무수물, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르본산 2 무수물, 2,2',3,3'-비페닐테트라카르본산 2 무수물, 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 2 무수물(6FDA), 비스(3,4-디카르복시페닐)메탄 2 무수물 및 4,4'-(p-페닐렌디옥시)디프탈산 2 무수물을 들 수 있다. 이들은 단독 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.Among these, preferably 4,4'-oxydiphthalic dianhydride, 3,3',4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 2,2',3,3'-benzophenonetetracarboxylic acid Dianhydride, 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2',3,3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,3',4,4'-di Phenylsulfonetetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)propane dianhydride, 2,2-bis(2,3-dicarboxyphenyl)propane dianhydride, 2,2-bis( 3,4-dicarboxyphenoxyphenyl)propane dianhydride, 4,4'-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic acid dianhydride (6FDA), 1,2-bis(2,3-dicarboxyphenyl)ethane 2 anhydride, 1,1-bis(2,3-dicarboxyphenyl)ethane 2 anhydride, 1,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)ethane 2 anhydride, 1,1-bis(3,4-di Carboxyphenyl)ethane dianhydride, bis(3,4-dicarboxyphenyl)methane dianhydride, bis(2,3-dicarboxyphenyl)methane dianhydride, 4,4'-(p-phenylenedioxy)diphthalic acid 2 Anhydride and 4,4'-(m-phenylenedioxy)diphthalic dianhydride, more preferably 4,4'-oxydiphthalic dianhydride, 3,3',4,4'-biphenyl Tetracarboxylic dianhydride, 2,2',3,3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 4,4'-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic dianhydride (6FDA), bis(3,4) -Dicarboxyphenyl)methane dianhydride and 4,4'-(p-phenylenedioxy)diphthalic dianhydride. These can be used alone or in combination of two or more.

지방족 테트라카르본산 2 무수물로서는, 환식 또는 비환식의 지방족 테트라카르본산 2 무수물을 들 수 있다. 환식 지방족 테트라카르본산 2 무수물이란, 지환식 탄화수소 구조를 갖는 테트라카르본산 2 무수물이고, 그 구체예로서는 1,2,4,5-시클로헥산테트라카르본산 2 무수물, 1,2,3,4-시클로부탄테트라카르본산 2 무수물, 1,2,3,4-시클로펜탄테트라카르본산 2 무수물 등의 시클로알칸테트라카르본산 2 무수물, 비시클로[2.2.2]옥트-7-엔-2,3,5,6-테트라카르본산 2 무수물, 디시클로헥실-3,3',4,4'-테트라카르본산 2 무수물 및 이들의 위치이성체를 들 수 있다. 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다. 비환식 지방족 테트라카르본산 2 무수물의 구체예로서는 1,2,3,4-부탄테트라카르본산 2 무수물, 및 1,2,3,4-펜탄테트라카르본산 2 무수물 등을 들 수 있고, 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다. 또, 환식 지방족 테트라카르본산 2 무수물 및 비환식 지방족 테트라카르본산 2 무수물을 조합하여 이용해도 된다.As aliphatic tetracarboxylic dianhydride, a cyclic or acyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride can be mentioned. Cyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride is tetracarboxylic dianhydride having an alicyclic hydrocarbon structure, and specific examples thereof include 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-cyclo Cycloalkanetetracarboxylic dianhydride, such as butanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic dianhydride, and bicyclo[2.2.2]oct-7-ene-2,3,5 ,6-tetracarboxylic dianhydride, dicyclohexyl-3,3',4,4'-tetracarboxylic dianhydride, and regioisomers thereof. These can be used alone or in combination of two or more. Specific examples of the acyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride include 1,2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride, and 1,2,3,4-pentanetetracarboxylic dianhydride, and the like. Alternatively, it can be used in combination of two or more. Moreover, you may use combining cyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride and acyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride.

상기 테트라카르본산 2 무수물 중에서도, 광학 필름의 고내찰과성, 고탄성률, 고표면경도, 고투명성, 고유연성, 고굴곡내성, 및 저착색성의 관점에서, 4,4'-옥시디프탈산 2 무수물, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르본산 2 무수물, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르본산 2 무수물, 2,2',3,3'-비페닐테트라카르본산 2 무수물, 3,3',4,4'-디페닐술폰테트라카르본산 2 무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)프로판 2 무수물, 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 2 무수물, 및 이들의 혼합물이 바람직하고, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르본산 2 무수물 및 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 2 무수물, 및 이들의 혼합물이 보다 바람직하고, 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 2 무수물(6FDA) 및 3,3',4,4'-비페닐테트라카르본산 2 무수물(BPDA)이 더 바람직하다.Among the tetracarboxylic dianhydrides, 4,4'-oxydiphthalic dianhydride from the viewpoint of high abrasion resistance, high modulus of elasticity, high surface hardness, high transparency, high flexibility, high flexural resistance, and low colorability of the optical film. , 3,3',4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2',3,3'-biphenyltetra Carboxylic dianhydride, 3,3',4,4'-diphenylsulfonetetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)propane dianhydride, 4,4'-(hexafluoro Loisopropylidene)diphthalic dianhydride, and mixtures thereof are preferred, and 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride and 4,4'-(hexafluoroisopropylidene)di Phthalic dianhydride, and mixtures thereof are more preferred, and 4,4'-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic acid dianhydride (6FDA) and 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic acid 2 Anhydride (BPDA) is more preferred.

수지의 제조에 이용되는 디카르본산 화합물로서는, 바람직하게는 테레프탈산, 4,4'-옥시비스안식향산 또는 그들의 산 클로라이드 화합물이 이용된다. 테레프탈산이나 4,4'-옥시비스안식향산 또는 그들의 산 클로라이드 화합물에 추가하여, 기타의 디카르본산 화합물이 이용되어도 된다. 기타의 디카르본산 화합물로서는, 방향족 디카르본산, 지방족 디카르본산 및 그들의 유연의 산 클로라이드 화합물, 산 무수물 등을 들 수 있고, 2종 이상을 조합하여 이용해도 된다. 구체예로서는 이소프탈산; 나프탈렌디카르본산; 4,4'-비페닐디카르본산; 3,3'-비페닐디카르본산; 탄소수 8 이하인 쇄식 탄화수소의 디카르본산 화합물 및 2개의 안식향산이 단결합, -CH2-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2- 또는 페닐렌기에 의해 연결된 화합물 및, 그들의 산 클로라이드 화합물을 들 수 있다. 구체예로서는 4,4'-옥시비스(벤조일클로라이드), 테레프탈로일클로라이드가 바람직하고, 4,4'-옥시비스(벤조일클로라이드)와 테레프탈로일클로라이드를 조합하여 이용하는 것이 더 바람직하다.As the dicarboxylic acid compound used in the production of the resin, terephthalic acid, 4,4'-oxybisbenzoic acid, or their acid chloride compounds are preferably used. In addition to terephthalic acid, 4,4'-oxybisbenzoic acid or their acid chloride compounds, other dicarboxylic acid compounds may be used. Examples of other dicarboxylic acid compounds include aromatic dicarboxylic acids, aliphatic dicarboxylic acids, and their related acid chloride compounds, acid anhydrides, and the like, and may be used in combination of two or more. As a specific example, isophthalic acid; Naphthalenedicarboxylic acid; 4,4'-biphenyldicarboxylic acid; 3,3'-biphenyldicarboxylic acid; A dicarboxylic acid compound of a chain hydrocarbon having 8 or less carbon atoms and two benzoic acids are a single bond, -CH 2 -, -C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, -SO 2 -or a phenylene group. Linked compounds and their acid chloride compounds. As a specific example, 4,4'-oxybis (benzoyl chloride) and terephthaloyl chloride are preferable, and it is more preferable to use a combination of 4,4'-oxybis (benzoyl chloride) and terephthaloyl chloride.

또한, 상기 폴리이미드계 수지는, 광학 필름의 각종 물성을 손상하지 않는 범위에서, 상기 테트라카르본산 화합물에 추가하여, 테트라카르본산 및 트리카르본산 및 그들의 무수물 및 유도체를 추가로 반응시킨 것이어도 된다.In addition, the polyimide-based resin may be obtained by further reacting tetracarboxylic acid and tricarboxylic acid, and anhydrides and derivatives thereof, in addition to the tetracarboxylic acid compound, within a range that does not impair various physical properties of the optical film. .

테트라카르본산으로서는, 상기 테트라카르본산 화합물의 무수물의 수(水)부가체를 들 수 있다.Examples of the tetracarboxylic acid include a water adduct of the anhydride of the tetracarboxylic acid compound.

트리카르본산 화합물로서는 방향족 트리카르본산, 지방족 트리카르본산 및 그들의 유연의 산 클로라이드 화합물, 산 무수물 등을 들 수 있고, 2종 이상을 조합하여 이용해도 된다. 구체예로서는 1,2,4-벤젠트리카르본산의 무수물; 2,3,6-나프탈렌트리카르본산-2,3-무수물; 프탈산 무수물과 안식향산이 단결합, -O-, -CH2-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2- 또는 페닐렌기에 의해 연결된 화합물을 들 수 있다.Examples of the tricarboxylic acid compound include aromatic tricarboxylic acids, aliphatic tricarboxylic acids, and related acid chloride compounds and acid anhydrides thereof, and may be used in combination of two or more. As a specific example, an anhydride of 1,2,4-benzenetricarboxylic acid; 2,3,6-naphthalenetricarboxylic acid-2,3-anhydride; Phthalic anhydride and benzoic acid are linked by a single bond, -O-, -CH 2- , -C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, -SO 2 -, or a phenylene group. .

수지의 제조에 있어서, 디아민 화합물, 테트라카르본산 화합물 및/또는 디카르본산 화합물의 사용량은, 원하는 폴리이미드계 수지의 각 구성 단위의 비율에 따라서 적절히 선택할 수 있다.In the production of the resin, the amount of the diamine compound, the tetracarboxylic acid compound and/or the dicarboxylic acid compound to be used can be appropriately selected according to the ratio of each structural unit of the desired polyimide resin.

수지의 제조에 있어서, 디아민 화합물, 테트라카르본산 화합물 및 디카르본산 화합물의 반응 온도는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 5∼350℃, 바람직하게는 20∼200℃, 보다 바람직하게는 25∼100℃이다. 반응 시간도 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 30분∼10시간 정도이다. 필요에 따라서, 불활성 분위기 또는 감압의 조건 하에 있어서 반응을 행해도 된다. 바람직한 태양에서는, 반응은, 상압(常壓) 및/또는 불활성 가스 분위기 하, 교반하면서 행한다. 또, 반응은, 반응에 불활성인 용매 중에서 행하는 것이 바람직하다. 용매로서는, 반응에 영향을 주지 않는 한 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 물, 메탄올, 에탄올, 에틸렌글리콜, 이소프로필알콜, 프로필렌글리콜, 에틸렌글리콜메틸에테르, 에틸렌글리콜부틸에테르, 1-메톡시-2-프로판올, 2-부톡시에탄올, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 등의 알콜계 용매; 아세트산 에틸, 아세트산 부틸, 에틸렌글리콜메틸에테르아세테이트, γ-부티로락톤, γ-발레로락톤, 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 젖산 에틸 등의 에스테르계 용매; 아세톤, 메틸에틸케톤, 시클로펜탄온, 시클로헥산온, 2-헵탄온, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤계 용매; 펜탄, 헥산, 헵탄 등의 지방족 탄화수소 용매; 에틸시클로헥산 등의 지환식 탄화수소 용매; 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소 용매; 아세토니트릴 등의 니트릴계 용매; 테트라히드로푸란 및 디메톡시에탄 등의 에테르계 용매; 클로로포름 및 클로로벤젠 등의 염소 함유 용매; N,N-디메틸아세트아미드, N,N-디메틸포름아미드 등의 아미드계 용매; 디메틸술폰, 디메틸술폭시드, 술포란 등의 함유황계 용매; 에틸렌카보네이트, 프로필렌카보네이트 등의 카보네이트계 용매; 및 그들의 조합 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 용해성의 관점에서, 아미드계 용매를 적절하게 사용할 수 있다.In the production of the resin, the reaction temperature of the diamine compound, the tetracarboxylic acid compound, and the dicarboxylic acid compound is not particularly limited, but, for example, 5 to 350°C, preferably 20 to 200°C, more preferably 25 It is -100°C. The reaction time is also not particularly limited, but is, for example, about 30 minutes to 10 hours. If necessary, the reaction may be performed under an inert atmosphere or under reduced pressure conditions. In a preferred embodiment, the reaction is carried out while stirring under normal pressure and/or an inert gas atmosphere. Moreover, it is preferable to perform reaction in a solvent inert to reaction. The solvent is not particularly limited as long as it does not affect the reaction. For example, water, methanol, ethanol, ethylene glycol, isopropyl alcohol, propylene glycol, ethylene glycol methyl ether, ethylene glycol butyl ether, 1-methoxy- Alcohol solvents such as 2-propanol, 2-butoxyethanol, and propylene glycol monomethyl ether; Ester solvents such as ethyl acetate, butyl acetate, ethylene glycol methyl ether acetate, γ-butyrolactone, γ-valerolactone, propylene glycol methyl ether acetate, and ethyl lactate; Ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, 2-heptanone, and methyl isobutyl ketone; Aliphatic hydrocarbon solvents such as pentane, hexane, and heptane; Alicyclic hydrocarbon solvents such as ethylcyclohexane; Aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene; Nitrile solvents such as acetonitrile; Ether solvents such as tetrahydrofuran and dimethoxyethane; Chlorine-containing solvents such as chloroform and chlorobenzene; Amide solvents such as N,N-dimethylacetamide and N,N-dimethylformamide; Sulfur-containing solvents such as dimethyl sulfone, dimethyl sulfoxide and sulfolane; Carbonate solvents such as ethylene carbonate and propylene carbonate; And combinations thereof. Among these, from the viewpoint of solubility, an amide solvent can be suitably used.

폴리이미드계 수지의 제조에 있어서의 이미드화 공정에서는, 이미드화 촉매의 존재 하에서, 이미드화할 수 있다. 이미드화 촉매로서는, 예를 들면, 트리프로필아민, 디부틸프로필아민, 에틸디부틸아민 등의 지방족 아민; N-에틸피페리딘, N-프로필피페리딘, N-부틸피롤리딘, N-부틸피페리딘, 및 N-프로필헥사히드로아제핀 등의 지환식 아민(단환식); 아자비시클로[2.2.1]헵탄, 아자비시클로[3.2.1]옥탄, 아자비시클로[2.2.2]옥탄, 및 아자비시클로[3.2.2]노난 등의 지환식 아민(다환식); 및 피리딘, 2-메틸피리딘(2-피콜린), 3-메틸피리딘(3-피콜린), 4-메틸피리딘(4-피콜린), 2-에틸피리딘, 3-에틸피리딘, 4-에틸피리딘, 2,4-디메틸피리딘, 2,4,6-트리메틸피리딘, 3,4-시클로펜테노피리딘, 5,6,7,8-테트라히드로이소퀴놀린, 및 이소퀴놀린 등의 방향족 아민을 들 수 있다. 또, 이미드화 반응을 촉진하기 쉽다는 관점에서, 이미드화 촉매와 함께, 산 무수물을 이용하는 것이 바람직하다. 산 무수물은, 이미드화 반응에 이용되는 관용의 산 무수물 등을 들 수 있고, 그 구체예로서는 무수 아세트산, 무수 프로피온산, 무수 부티르산 등의 지방족 산 무수물, 프탈산 등의 방향족 산 무수물 등을 들 수 있다.In the imidation step in the production of a polyimide resin, imidization can be performed in the presence of an imidization catalyst. Examples of the imidation catalyst include aliphatic amines such as tripropylamine, dibutylpropylamine, and ethyldibutylamine; Alicyclic amines (monocyclic) such as N-ethylpiperidine, N-propylpiperidine, N-butylpyrrolidine, N-butylpiperidine, and N-propylhexahydroazepine; Alicyclic amines (polycyclic) such as azabicyclo[2.2.1]heptane, azabicyclo[3.2.1]octane, azabicyclo[2.2.2]octane, and azabicyclo[3.2.2]nonane; And pyridine, 2-methylpyridine (2-picoline), 3-methylpyridine (3-picoline), 4-methylpyridine (4-picoline), 2-ethylpyridine, 3-ethylpyridine, 4-ethylpyridine , 2,4-dimethylpyridine, 2,4,6-trimethylpyridine, 3,4-cyclopentenopyridine, 5,6,7,8-tetrahydroisoquinoline, and aromatic amines such as isoquinoline. . Moreover, it is preferable to use an acid anhydride together with an imidation catalyst from a viewpoint of being easy to accelerate an imidation reaction. Examples of the acid anhydride include conventional acid anhydrides used in the imidation reaction, and specific examples thereof include aliphatic acid anhydrides such as acetic anhydride, propionic anhydride and butyric anhydride, and aromatic acid anhydrides such as phthalic acid.

폴리이미드계 수지 및 폴리아미드계 수지는, 관용의 방법, 예를 들면, 여과, 농축, 추출, 정석(晶析), 재결정, 컬럼 크로마토그래피 등의 분리 수단이나, 이들을 조합한 분리 수단에 의해 단리해도 되고, 바람직한 태양에서는, 투명 폴리아미드이미드계 수지를 포함하는 반응액에, 다량의 메탄올 등의 알콜을 추가하고, 수지를 석출시키고, 농축, 여과, 건조 등을 행함으로써 단리할 수 있다.Polyimide resins and polyamide resins are isolated by conventional methods, such as separation means such as filtration, concentration, extraction, crystallization, recrystallization, column chromatography, or a combination of these. In a preferred embodiment, it can be isolated by adding a large amount of alcohol such as methanol to a reaction solution containing a transparent polyamide-imide resin, to precipitate the resin, and perform concentration, filtration, drying, or the like.

< 칼륨 함유 성분 ><Ingredients containing potassium>

본 발명의 광학 필름은, 칼륨 원자를 포함하는 화합물, 칼륨 및 칼륨 이온으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 칼륨 함유 성분을 함유한다. 본 발명의 광학 필름에 있어서의 칼륨 함유 성분의 함유량은, 비행시간형 2차 이온 질량분석에 의해 얻어지는 CH3의 이온 강도(ICH3)에 대한 K의 이온 강도(IK)의 비율(IK/ICH3)이 0.2 이상이 되는 것과 같은 양이라면 특별히 한정되지 않고, 광학 필름에 포함되는 폴리이미드계 수지의 종류에 따라서, 상기 비율(IK/ICH3)이 소정의 범위가 되도록 설정하면 된다. 예를 들면, 본 발명의 광학 필름을 제작하기 위한 바니시에 있어서의 칼륨 함유 성분의 함유량은, 광학 필름의 내찰과성 및 탄성률을 높이기 쉽다는 관점에서, 바니시 중에 포함되는 폴리이미드계 수지 및/또는 폴리아미드계 수지의 총량에 대하여, 바람직하게는 0.002 질량% 이상, 보다 바람직하게는 0.005 질량% 이상, 더 바람직하게는 0.015 질량% 이상, 보다 더 바람직하게는 0.03 질량% 이상, 특별히 바람직하게는 0.05 질량% 이상, 보다 특별히 바람직하게는 0.08 질량% 이상이다. 본 발명의 광학 필름을 제작하기 위한 바니시에 있어서의 칼륨 함유 성분의 함유량의 상한은, 균질한 필름을 얻기 쉽다는 관점에서, 바니시 중에 포함되는 폴리이미드계 수지 및/또는 폴리아미드계 수지의 총량에 대하여, 바람직하게는 1 질량% 이하, 보다 바람직하게는 0.5 질량% 이하, 더 바람직하게는 0.3 질량% 이하, 보다 더 바람직하게는 0.2 질량% 이하이다. 또, 본 발명의 광학 필름에 있어서의 칼륨 함유 성분의 함유량은, 광학 필름의 내찰과성 및 탄성률을 높이기 쉽다는 관점에서, 광학 필름 중에 포함되는 폴리이미드계 수지 및/또는 폴리아미드계 수지의 총량에 대하여, 바람직하게는 0.002 질량% 이상, 보다 바람직하게는 0.005 질량% 이상, 더 바람직하게는 0.015 질량% 이상, 보다 더 바람직하게는 0.03 질량% 이상, 특별히 바람직하게는 0.05 질량% 이상, 보다 특별히 바람직하게는 0.08 질량% 이상이다. 본 발명의 광학 필름에 있어서의 칼륨 함유 성분의 함유량의 상한은, 균질한 필름을 얻기 쉽다는 관점에서는, 광학 필름에 포함되는 폴리이미드계 수지 및/또는 폴리아미드계 수지의 총량에 대하여, 바람직하게는 1 질량% 이하, 보다 바람직하게는 0.5 질량% 이하, 더 바람직하게는 0.3 질량% 이하, 보다 더 바람직하게는 0.2 질량% 이하이다. 광학 필름에 포함되는 폴리이미드계 수지 및/또는 폴리아미드계 수지의 총량에 대한, 칼륨 함유 성분의 함유량은, 적외흡수스펙트럼 등의 분광학적 수법에 의해 측정해도 되고, 광학 필름을 제조할 때에 사용한 바니시에 있어서의 함유량을, 광학 필름에 있어서의 함유량으로 해도 된다. 또한, 칼륨 함유 성분으로서 칼륨 원자를 포함하는 화합물을 이용하는 경우, 당해 화합물은, 본 발명의 효과를 손상하지 않는 범위에서, 광학 필름을 제조하는 과정에 있어서 분해 등 하고 있어도 된다.The optical film of the present invention contains a potassium-containing component selected from the group consisting of a compound containing a potassium atom, potassium and potassium ions. The content of the potassium-containing component in the optical film of the present invention is the ratio of the ionic strength of K (I K ) to the ionic strength of CH 3 (I CH3 ) obtained by time-of-flight secondary ion mass spectrometry (I K /I CH3 ) is not particularly limited as long as it is an amount equal to or greater than 0.2, and the ratio (I K /I CH3 ) may be set in a predetermined range according to the type of polyimide resin contained in the optical film. . For example, the content of the potassium-containing component in the varnish for producing the optical film of the present invention is a polyimide resin contained in the varnish and/or from the viewpoint of easy to increase the abrasion resistance and elastic modulus of the optical film. With respect to the total amount of the polyamide resin, preferably 0.002 mass% or more, more preferably 0.005 mass% or more, still more preferably 0.015 mass% or more, even more preferably 0.03 mass% or more, particularly preferably 0.05 It is mass% or more, and more particularly preferably 0.08 mass% or more. The upper limit of the content of the potassium-containing component in the varnish for producing the optical film of the present invention is to the total amount of the polyimide-based resin and/or polyamide-based resin contained in the varnish from the viewpoint of easy obtaining a homogeneous film. On the other hand, it is preferably 1% by mass or less, more preferably 0.5% by mass or less, still more preferably 0.3% by mass or less, and even more preferably 0.2% by mass or less. In addition, the content of the potassium-containing component in the optical film of the present invention is the total amount of the polyimide-based resin and/or polyamide-based resin contained in the optical film from the viewpoint of easy to increase the abrasion resistance and elastic modulus of the optical film. With respect to, preferably 0.002% by mass or more, more preferably 0.005% by mass or more, still more preferably 0.015% by mass or more, even more preferably 0.03% by mass or more, particularly preferably 0.05% by mass or more, more particularly Preferably it is 0.08 mass% or more. The upper limit of the content of the potassium-containing component in the optical film of the present invention is preferably based on the total amount of the polyimide-based resin and/or polyamide-based resin contained in the optical film from the viewpoint of easy obtaining a homogeneous film. Is 1% by mass or less, more preferably 0.5% by mass or less, still more preferably 0.3% by mass or less, and even more preferably 0.2% by mass or less. The content of the potassium-containing component relative to the total amount of the polyimide resin and/or polyamide resin contained in the optical film may be measured by a spectroscopic method such as an infrared absorption spectrum, or the varnish used when manufacturing the optical film. Content in is good also as content in an optical film. In addition, when a compound containing a potassium atom is used as the potassium-containing component, the compound may be decomposed in the process of producing an optical film within a range that does not impair the effects of the present invention.

칼륨 원자를 포함하는 화합물의 종류는 특별히 한정되지 않는다. 폴리이미드계 수지 및/또는 폴리아미드계 수지 및 용매를 적어도 포함하는 수지 조성물(「바니시」라고도 칭함)을 이용하여 광학 필름을 제조하는 경우에는, 당해 성분을 바니시의 용매에 용해시키기 쉽고, 당해 성분을 광학 필름에 함유시키기 쉽다는 관점에서, 칼륨 원자를 포함하는 화합물은, 바람직하게는 유기계 칼륨염이다. 유기계 칼륨염으로서는, 탄소수 1∼6의 칼륨알콕시드 등을 들 수 있다. 또한, 수지 조성물에 첨가한 상기의 칼륨 원자를 포함하는 화합물이, 예를 들면, 유기계 칼륨염 등의 형태인 채로 본 발명의 광학 필름에 함유될 필요는 없고, 예를 들면, 수지 조성물 중에 포함될 수 있는 수분이나 알콜 등과의 가수분해, 기타의 염과의 이온 교환 반응 등에 의해, 최종적인 광학 필름 중에서, 다른 염을 형성하고 있어도 되고, 칼륨 또는 칼륨 이온으로서 포함되어 있어도 된다.The kind of the compound containing a potassium atom is not specifically limited. When producing an optical film using a resin composition (also referred to as ``varnish'') containing at least a polyimide resin and/or a polyamide resin and a solvent, the component is easily dissolved in the solvent of the varnish, and the component From the viewpoint of being easily contained in the optical film, the compound containing a potassium atom is preferably an organic potassium salt. Examples of the organic potassium salt include potassium alkoxide having 1 to 6 carbon atoms. In addition, the compound containing the potassium atom added to the resin composition does not need to be contained in the optical film of the present invention in the form of, for example, an organic potassium salt, and may be included in the resin composition. Other salts may be formed in the final optical film by hydrolysis with existing moisture or alcohol, ion exchange reactions with other salts, or the like, and may be contained as potassium or potassium ions.

< 첨가제 ><Additive>

본 발명의 광학 필름은, 필러를 포함해도 된다. 필러로서는, 예를 들면, 유기 입자, 무기 입자 등을 들 수 있고, 바람직하게는 무기 입자를 들 수 있다. 무기 입자로서는 실리카, 지르코니아, 알루미나, 티타니아, 산화아연, 산화게르마늄, 산화인듐, 산화주석, 인듐주석 산화물(ITO), 산화안티몬, 산화세륨 등의 금속 산화물 입자, 불화마그네슘, 불화칼륨 등의 금속 불화물 입자 등을 들 수 있다. 필러는, 광학 필름의 탄성률을 높이기 쉽고, 광학 필름의 내충격성을 향상하기 쉽다는 관점에서, 바람직하게는 실리카 입자, 지르코니아 입자, 알루미나 입자이고, 보다 바람직하게는 실리카 입자이다. 이들 필러는 단독 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.The optical film of this invention may contain a filler. Examples of the filler include organic particles and inorganic particles, and preferably inorganic particles. As inorganic particles, metal oxide particles such as silica, zirconia, alumina, titania, zinc oxide, germanium oxide, indium oxide, tin oxide, indium tin oxide (ITO), antimony oxide, cerium oxide, and metal fluorides such as magnesium fluoride and potassium fluoride Particles and the like. The filler is preferably silica particles, zirconia particles, and alumina particles, and more preferably silica particles from the viewpoint of easy to increase the elastic modulus of the optical film and easy to improve the impact resistance of the optical film. These fillers can be used alone or in combination of two or more.

필러, 바람직하게는 실리카 입자의 평균 일차 입자 직경은, 1 ㎚ 이상, 바람직하게는 5 ㎚ 이상, 보다 바람직하게는 10 ㎚ 이상, 더 바람직하게는 15 ㎚ 이상, 보다 더 바람직하게는 20 ㎚ 이상이고, 바람직하게는 100 ㎚ 이하, 보다 바람직하게는 90 ㎚ 이하, 더 바람직하게는 80 ㎚ 이하, 보다 더 바람직하게는 70 ㎚ 이하, 특별히 바람직하게는 60 ㎚ 이하, 보다 특별히 바람직하게는 50 ㎚ 이하, 특별히 더 바람직하게는 40 ㎚ 이하이다. 실리카 입자의 평균 일차 입자 직경이 상기 범위 내이면, 실리카 입자의 응집을 억제하고, 얻어지는 광학 필름의 광학 특성을 향상하기 쉽다. 필러의 평균 일차 입자 직경은, BET법에 의해 측정할 수 있다. 또한, 투과형 전자현미경이나 주사형 전자현미경의 화상 해석에 의해, 평균 일차 입자 직경을 측정해도 된다.The average primary particle diameter of the filler, preferably silica particles, is 1 nm or more, preferably 5 nm or more, more preferably 10 nm or more, still more preferably 15 nm or more, and even more preferably 20 nm or more. , Preferably 100 nm or less, more preferably 90 nm or less, still more preferably 80 nm or less, even more preferably 70 nm or less, particularly preferably 60 nm or less, more particularly preferably 50 nm or less, More preferably, it is 40 nm or less. When the average primary particle diameter of the silica particles is within the above range, it is easy to suppress aggregation of the silica particles and improve the optical properties of the resulting optical film. The average primary particle diameter of the filler can be measured by the BET method. Further, the average primary particle diameter may be measured by image analysis of a transmission electron microscope or a scanning electron microscope.

본 발명의 광학 필름이 필러, 바람직하게는 실리카 입자를 함유하는 경우, 필러의 함유량은, 광학 필름 100 질량부에 대하여, 통상 0.1 질량부 이상, 바람직하게는 1 질량부 이상, 보다 바람직하게는 5 질량부 이상, 더 바람직하게는 10 질량부 이상, 보다 더 바람직하게는 20 질량부 이상, 특별히 바람직하게는 30 질량부 이상이고, 바람직하게는 60 질량부 이하이다. 필러의 함유량이 상기의 하한 이상이면, 얻어지는 광학 필름의 탄성률을 향상하기 쉽다. 또, 필러의 함유량이 상기의 상한 이하이면, 광학 필름의 광학 특성을 향상하기 쉽다.When the optical film of the present invention contains a filler, preferably silica particles, the content of the filler is usually 0.1 parts by mass or more, preferably 1 part by mass or more, more preferably 5 parts by mass, based on 100 parts by mass of the optical film. It is at least 10 parts by mass, more preferably at least 10 parts by mass, even more preferably at least 20 parts by mass, particularly preferably at least 30 parts by mass, and preferably at most 60 parts by mass. When the content of the filler is more than the above lower limit, it is easy to improve the elastic modulus of the obtained optical film. Moreover, when the content of the filler is less than or equal to the above upper limit, it is easy to improve the optical properties of the optical film.

본 발명의 광학 필름은, 자외선흡수제를 추가로 함유해도 된다. 자외선흡수제는, 수지 재료의 분야에서 자외선흡수제로서 통상 이용되고 있는 것으로부터, 적절히 선택할 수 있다. 자외선흡수제는, 400 ㎚ 이하의 파장의 광을 흡수하는 화합물을 포함하고 있어도 된다. 자외선흡수제로서는, 예를 들면, 벤조페논계 화합물, 살리실레이트계 화합물, 벤조트리아졸계 화합물, 및 트리아진계 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 화합물을 들 수 있다. 자외선흡수제는 단독 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 광학 필름이 자외선흡수제를 함유함으로써, 수지의 열화가 억제되기 때문에, 얻어지는 광학 필름을 화상 표시 장치 등에 적용한 경우에 시인성을 높일 수 있다. 본 명세서에 있어서, 「계(系) 화합물」이란, 당해 「계 화합물」이 붙여지는 화합물의 유도체를 가리킨다. 예를 들면, 「벤조페논계 화합물」이란, 모체 골격으로서의 벤조페논과, 벤조페논에 결합해 있는 치환기를 갖는 화합물을 가리킨다.The optical film of the present invention may further contain an ultraviolet absorber. The ultraviolet absorber can be appropriately selected from those commonly used as ultraviolet absorbers in the field of resin materials. The ultraviolet absorber may contain a compound that absorbs light with a wavelength of 400 nm or less. Examples of the ultraviolet absorber include at least one compound selected from the group consisting of benzophenone compounds, salicylate compounds, benzotriazole compounds, and triazine compounds. The ultraviolet absorber may be used alone or in combination of two or more. When the optical film contains an ultraviolet absorber, deterioration of the resin is suppressed, and thus visibility can be improved when the obtained optical film is applied to an image display device or the like. In this specification, the "system compound" refers to a derivative of the compound to which the "system compound" is attached. For example, "benzophenone-based compound" refers to a compound having benzophenone as a parent skeleton and a substituent bonded to the benzophenone.

광학 필름이 자외선흡수제를 함유하는 경우, 자외선흡수제의 함유량은, 광학 필름 100 질량부에 대하여, 바람직하게는 1 질량부 이상, 보다 바람직하게는 2 질량부 이상, 더 바람직하게는 3 질량부 이상이고, 바람직하게는 10 질량부 이하, 보다 바람직하게는 8 질량부 이하, 더 바람직하게는 6 질량부 이하이다. 적절한 함유량은 이용하는 자외선흡수제에 따라 다르지만, 400 ㎚의 광선투과율이 20∼60% 정도가 되도록 자외선흡수제의 함유량을 조절하면, 광학 필름의 내광성이 높여짐과 함께, 투명성을 높이기 쉽다.When the optical film contains an ultraviolet absorber, the content of the ultraviolet absorber is preferably 1 part by mass or more, more preferably 2 parts by mass or more, still more preferably 3 parts by mass or more, based on 100 parts by mass of the optical film. , Preferably it is 10 mass parts or less, More preferably, it is 8 mass parts or less, More preferably, it is 6 mass parts or less. The appropriate content varies depending on the ultraviolet absorber to be used, but when the content of the ultraviolet absorber is adjusted so that the light transmittance of 400 nm is about 20 to 60%, the light resistance of the optical film is improved and transparency is easily improved.

본 발명의 광학 필름은, 필러, 자외선흡수제 이외의 기타의 첨가제를 추가로 함유하고 있어도 된다. 기타의 첨가제로서는, 예를 들면, 산화방지제, 이형제, 안정제, 블루잉제, 난연제, pH 조정제, 실리카분산제, 활제(滑劑), 증점제, 및 레벨링제 등을 들 수 있다. 기타의 첨가제를 함유하는 경우, 그 함유량은, 광학 필름 100 질량부에 대하여, 바람직하게는 0.001∼20 질량부, 보다 바람직하게는 0.01∼15 질량부, 더 바람직하게는 0.1∼10 질량부여도 된다.The optical film of the present invention may further contain other additives other than a filler and an ultraviolet absorber. Examples of other additives include antioxidants, mold release agents, stabilizers, bluing agents, flame retardants, pH adjusters, silica dispersants, lubricants, thickeners, and leveling agents. When other additives are contained, the content may be preferably 0.001 to 20 parts by mass, more preferably 0.01 to 15 parts by mass, and still more preferably 0.1 to 10 parts by mass per 100 parts by mass of the optical film. .

(광학 필름의 제조 방법)(Manufacturing method of optical film)

본 발명의 광학 필름의 제조 방법은, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 이하의 공정:The manufacturing method of the optical film of the present invention is not particularly limited, but, for example, the following steps:

(a) 상기 폴리이미드계 수지 및 폴리아미드계 수지로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 수지와, 칼륨 원자를 포함하는 화합물, 칼륨 및 칼륨 이온으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 칼륨 함유 성분과, 용매를 적어도 포함하는 수지 조성물(이하에 있어서, 「바니시」라고도 칭함)을 조제하는 공정(바니시 조제 공정),(a) at least one resin selected from the group consisting of the polyimide-based resin and polyamide-based resin, and at least one potassium-containing component selected from the group consisting of a compound containing a potassium atom, potassium and potassium ions And, the step of preparing a resin composition (hereinafter, also referred to as "varnish") containing at least a solvent (varnish preparation step),

(b) 바니시를 지지재에 도포하여 도막을 형성하는 공정(도포 공정), 및(b) a process of forming a coating film by applying a varnish to a support material (application process), and

(c) 도포된 액(도막)을 건조시켜, 광학 필름을 형성하는 공정(광학 필름 형성 공정)(c) Drying the applied liquid (coating film) to form an optical film (optical film forming process)

을 포함하는 제조 방법이어도 된다. 본 발명은, 본 발명의 광학 필름을 제조하는 데에 적합한, 폴리이미드계 수지 및 폴리아미드계 수지로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 수지와, 칼륨 원자를 포함하는 화합물, 칼륨 및 칼륨 이온으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 칼륨 함유 성분과, 용매를 적어도 포함하는 수지 조성물도 제공한다.It may be a manufacturing method containing. The present invention comprises at least one resin selected from the group consisting of a polyimide resin and a polyamide resin, a compound containing a potassium atom, potassium and potassium ions suitable for producing the optical film of the present invention. A resin composition containing at least one potassium-containing component selected from the group consisting of and a solvent is also provided.

바니시 조제 공정에 있어서, 폴리이미드계 수지 및 폴리아미드계 수지로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 수지와 칼륨 함유 성분을 용매에 용해시키고, 필요에 따라서, 상기 필러, 자외선흡수제 등의 첨가제를 첨가하여 교반 혼합함으로써 바니시를 조제한다. 또한, 필러로서 실리카 입자를 이용하는 경우, 실리카 입자를 포함하는 실리카졸의 분산액을, 상기 수지가 용해 가능한 용매, 예를 들면, 하기의 바니시의 조제에 이용되는 용매에 의해 치환한 실리카졸을 수지에 첨가해도 된다.In the varnish preparation process, at least one resin selected from the group consisting of polyimide resins and polyamide resins and potassium-containing components are dissolved in a solvent, and additives such as the above filler and ultraviolet absorber are added as necessary. Then, the varnish is prepared by stirring and mixing. In the case of using silica particles as a filler, a dispersion of silica sol containing silica particles is substituted with a solvent in which the resin is soluble, for example, a solvent used for preparing the following varnish. You may add it.

칼륨 함유 성분은, 본 발명의 광학 필름 중에 칼륨 원자를 포함하는 화합물, 칼륨 및 칼륨 이온으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 함유시키는 것이 가능한 성분인 한 특별히 한정되지 않지만, 당해 성분을 바니시의 용매에 용해시키기 쉽고, 당해 성분을 광학 필름에 함유시키기 쉽다는 관점에서, 바람직하게는 칼륨 원자를 포함하는 화합물이고, 보다 바람직하게는 유기계 칼륨염이다. 유기계 칼륨염으로서는, 탄소수 1∼6의 칼륨알콕시드 등을 들 수 있다. 바니시에 함유시키는 칼륨 함유 성분은, 1종류의 성분이어도 되고, 2종 이상의 성분을 조합해도 된다.The potassium-containing component is not particularly limited as long as it is a component capable of containing at least one selected from the group consisting of a compound containing a potassium atom, potassium and potassium ions in the optical film of the present invention, but the component is a solvent of the varnish From the viewpoint that it is easy to dissolve in and the component is easily contained in the optical film, it is preferably a compound containing a potassium atom, and more preferably an organic potassium salt. Examples of the organic potassium salt include potassium alkoxide having 1 to 6 carbon atoms. The potassium-containing component to be contained in the varnish may be a single component or a combination of two or more components.

수지 조성물에 포함되는 칼륨 함유 성분의 함유량은, 광학 필름의 내찰과성 및 탄성률을 높이기 쉽다는 관점에서, 수지 조성물에 포함되는 폴리이미드계 수지 및 폴리아미드계 수지로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 수지의 총량에 대하여, 바람직하게는 0.002 질량% 이상, 보다 바람직하게는 0.005 질량% 이상, 더 바람직하게는 0.015 질량% 이상, 보다 더 바람직하게는 0.03 질량% 이상, 특별히 바람직하게는 0.05 질량% 이상, 보다 특별히 바람직하게는 0.08 질량% 이상이다. 본 발명의 수지 조성물에 있어서의 칼륨 함유 성분의 함유량의 상한은, 바니시 점도의 조정성 및 성막성의 관점에서는, 수지 조성물에 포함되는 폴리이미드계 수지 및 폴리아미드계 수지로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 수지의 총량에 대하여, 바람직하게는 1.0 질량% 이하, 보다 바람직하게는 0.5 질량% 이하, 더 바람직하게는 0.1 질량% 이하이다. 칼륨 함유 성분의 함유량이 상기의 상한 이하인 경우에는, 바니시 점도가 너무 높아지는 일이 없고, 바니시 중의 수지 고형분을 높이기 쉽기 때문에, 성막성을 향상시키기 쉽다.The content of the potassium-containing component contained in the resin composition is at least one selected from the group consisting of polyimide-based resins and polyamide-based resins contained in the resin composition from the viewpoint of easy to increase the abrasion resistance and elastic modulus of the optical film. With respect to the total amount of the resin, preferably 0.002% by mass or more, more preferably 0.005% by mass or more, still more preferably 0.015% by mass or more, even more preferably 0.03% by mass or more, particularly preferably 0.05% by mass The above, more particularly preferably 0.08% by mass or more. The upper limit of the content of the potassium-containing component in the resin composition of the present invention is at least 1 selected from the group consisting of polyimide-based resins and polyamide-based resins contained in the resin composition from the viewpoints of adjustability and film-forming properties of the varnish viscosity. It is preferably 1.0 mass% or less, more preferably 0.5 mass% or less, and still more preferably 0.1 mass% or less with respect to the total amount of the type of resin. When the content of the potassium-containing component is less than or equal to the above upper limit, the viscosity of the varnish does not become too high, and the resin solid content in the varnish is easily increased, so that the film-forming properties are easily improved.

바니시의 조제에 이용하는 용매는, 상기 수지를 용해 가능하다면 특별히 한정되지 않는다. 이러한 용매로서는, 예를 들면, N,N-디메틸아세트아미드, N,N-디메틸포름아미드 등의 아미드계 용매; γ-부티로락톤(GBL), γ-발레로락톤 등의 락톤계 용매; 디메틸술폰, 디메틸술폭시드, 술포란 등의 함유황계 용매; 에틸렌카보네이트, 프로필렌카보네이트 등의 카보네이트계 용매; 및 그들의 조합을 들 수 있다. 이들 중에서도 아미드계 용매 또는 락톤계 용매가 바람직하다. 이들 용매는 단독 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다. 이들 중에서도, 용해성의 관점에서, 아미드계 용매를 적절하게 사용할 수 있다. 또, 바니시에는 물, 알콜계 용매, 케톤계 용매, 비환상 에스테르계 용매, 에테르계 용매 등이 포함되어도 된다. 바니시의 고형분 농도는, 바람직하게는 1∼25 질량%, 보다 바람직하게는 5∼20 질량%, 더 바람직하게는 5∼15 질량%이다.The solvent used for preparing the varnish is not particularly limited as long as the resin can be dissolved. Examples of such a solvent include amide solvents such as N,N-dimethylacetamide and N,N-dimethylformamide; lactone solvents such as γ-butyrolactone (GBL) and γ-valerolactone; Sulfur-containing solvents such as dimethyl sulfone, dimethyl sulfoxide and sulfolane; Carbonate solvents such as ethylene carbonate and propylene carbonate; And combinations thereof. Among these, amide solvents or lactone solvents are preferred. These solvents can be used alone or in combination of two or more. Among these, from the viewpoint of solubility, an amide solvent can be suitably used. Further, the varnish may contain water, an alcohol solvent, a ketone solvent, an acyclic ester solvent, an ether solvent, and the like. The solid content concentration of the varnish is preferably 1 to 25 mass%, more preferably 5 to 20 mass%, further preferably 5 to 15 mass%.

도포 공정에 있어서, 공지의 도포 방법에 의해, 지지재 상에 바니시를 도포하여 도막을 형성한다. 공지의 도포 방법으로서는, 예를 들면, 와이어 바 코팅법, 리버스 코팅, 그라비아 코팅 등의 롤 코팅법, 다이 코팅법, 콤마 코팅법, 립 코팅법, 스핀 코팅법, 스크린 코팅법, 파운틴 코팅법, 디핑법, 스프레이법, 유연(流涎) 성형법 등을 들 수 있다.In the coating process, a varnish is applied on the support material by a known coating method to form a coating film. Known coating methods include, for example, wire bar coating, reverse coating, roll coating such as gravure coating, die coating, comma coating, lip coating, spin coating, screen coating, fountain coating, The dipping method, the spray method, the casting (流涎) molding method, etc. are mentioned.

필름 형성 공정에 있어서, 도막을 건조하고, 지지재로부터 박리함으로써, 광학 필름을 형성할 수 있다. 박리 후에 추가로 광학 필름을 건조하는 공정을 마련해도 된다. 도막의 건조는 통상 50∼350℃의 온도에서 행할 수 있다. 필요에 따라서, 불활성 분위기 또는 감압의 조건 하에 있어서 도막의 건조를 행해도 된다.In the film formation process, an optical film can be formed by drying the coating film and peeling it from the support material. After peeling, you may provide the process of drying an optical film further. Drying of the coating film can be performed usually at a temperature of 50 to 350°C. If necessary, the coating film may be dried under conditions of an inert atmosphere or reduced pressure.

지지재의 예로서는, 금속계이면 SUS판, 수지계이면 PET 필름, PEN 필름, 폴리아미드계 수지 필름, 기타의 폴리이미드계 수지 필름, 시클로올레핀계 폴리머(COP) 필름, 아크릴계 필름 등을 들 수 있다. 그 중에서도 평활성, 내열성이 우수하다는 관점에서, PET 필름, COP 필름 등이 바람직하고, 또한 광학 필름과의 밀착성 및 비용의 관점에서, PET 필름이 보다 바람직하다.Examples of the support material include a metal-based SUS plate, a resin-based PET film, a PEN film, a polyamide-based resin film, other polyimide-based resin films, cycloolefin-based polymer (COP) films, and acrylic films. Among them, from the viewpoint of excellent smoothness and heat resistance, a PET film, a COP film, and the like are preferable, and from the viewpoint of adhesion and cost with an optical film, a PET film is more preferable.

(기능층)(Functional layer)

본 발명의 광학 필름의 적어도 일방의 면에는, 1 이상의 기능층이 적층되어 있어도 된다. 기능층으로서는, 예를 들면, 자외선흡수층, 하드 코팅층, 프라이머층, 가스 배리어층, 점착층, 색상 조정층, 굴절률 조정층 등을 들 수 있다. 기능층은 단독 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 광학 필름이 당해 기능층을 갖는 경우에는, 광학 필름의 단면에서 TOF-SIMS에 의한 측정을 행하는 것이 바람직하다.One or more functional layers may be laminated on at least one surface of the optical film of the present invention. Examples of the functional layer include an ultraviolet absorbing layer, a hard coating layer, a primer layer, a gas barrier layer, an adhesive layer, a color adjustment layer, and a refractive index adjustment layer. The functional layer can be used alone or in combination of two or more. When an optical film has the said functional layer, it is preferable to perform measurement by TOF-SIMS on the cross section of an optical film.

본 발명의 광학 필름의 적어도 일방의 면에는, 하드 코팅층이 마련되어 있어도 된다. 하드 코팅층의 두께는 특별히 한정되지 않고, 예를 들면, 2∼100 ㎛여도 된다. 상기 하드 코팅층의 두께가 상기의 범위에 있으면, 충분한 내찰상성을 확보할 수 있고, 또한 내굴곡성이 저하되기 어렵고, 경화 수축에 의한 컬 발생의 문제가 발생하기 어려운 경향이 있다. 하드 코팅층은, 활성 에너지선 조사, 또는 열에너지 부여에 의해 가교 구조를 형성할 수 있는 반응성 재료를 포함하는 하드 코팅 조성물을 경화시켜 형성할 수 있고, 활성 에너지선 조사에 의한 것이 바람직하다. 활성 에너지선은, 활성종을 발생하는 화합물을 분해하여 활성종을 발생시킬 수 있는 에너지선이라고 정의되며, 가시광, 자외선, 적외선, X선, α선, β선, γ선 및 전자선 등을 들 수 있고, 바람직하게는 자외선을 들 수 있다. 상기 하드 코팅 조성물은, 라디칼 중합성 화합물 및 카티온 중합성 화합물의 적어도 1종의 중합물을 함유한다.A hard coating layer may be provided on at least one surface of the optical film of the present invention. The thickness of the hard coating layer is not particularly limited, and may be, for example, 2 to 100 µm. When the thickness of the hard coat layer is within the above range, sufficient scratch resistance can be ensured, and the bending resistance is hardly lowered, and there is a tendency that the problem of curling due to cure shrinkage does not occur. The hard coating layer can be formed by curing a hard coating composition containing a reactive material capable of forming a crosslinked structure by irradiation with active energy rays or imparting thermal energy, and is preferably irradiated with active energy rays. Active energy rays are defined as energy rays capable of generating active species by decomposing compounds that generate active species, and include visible light, ultraviolet rays, infrared rays, X-rays, α rays, β rays, γ rays, and electron rays. And, preferably, ultraviolet rays are used. The hard coating composition contains at least one polymer of a radical polymerizable compound and a cation polymerizable compound.

상기 라디칼 중합성 화합물은, 라디칼 중합성 기를 갖는 화합물이다. 상기 라디칼 중합성 화합물이 갖는 라디칼 중합성 기로서는, 라디칼 중합 반응을 생기게 할 수 있는 관능기이면 되고, 탄소-탄소 불포화 이중 결합을 포함하는 기 등을 들 수 있고, 구체적으로는 비닐기, (메타)아크릴로일기 등을 들 수 있다. 또한, 상기 라디칼 중합성 화합물이 2개 이상의 라디칼 중합성 기를 갖는 경우, 이들 라디칼 중합성 기는 각각 동일해도 되고 달라도 된다. 상기 라디칼 중합성 화합물이 1 분자 중에 갖는 라디칼 중합성 기의 수는, 하드 코팅층의 경도를 향상하는 점에서, 바람직하게는 2 이상이다. 상기 라디칼 중합성 화합물로서는, 반응성의 높이의 점에서, 바람직하게는 (메타)아크릴로일기를 갖는 화합물을 들 수 있고, 구체적으로는 1 분자 중에 2∼6개의 (메타)아크릴로일기를 갖는 다관능 아크릴레이트 모노머라고 불리는 화합물이나 에폭시(메타)아크릴레이트, 우레탄(메타)아크릴레이트, 폴리에스테르(메타)아크릴레이트라고 불리는 분자 내에 수 개의 (메타)아크릴로일기를 갖는 분자량이 수백 내지 수천의 올리고머를 들 수 있고, 바람직하게는 에폭시(메타)아크릴레이트, 우레탄(메타)아크릴레이트 및 폴리에스테르(메타)아크릴레이트로부터 선택된 1종 이상을 들 수 있다.The radical polymerizable compound is a compound having a radical polymerizable group. The radical polymerizable group of the radical polymerizable compound may be a functional group capable of causing a radical polymerization reaction, and examples thereof include a group containing a carbon-carbon unsaturated double bond. Specifically, a vinyl group, (meta) Acryloyl group, etc. are mentioned. Further, when the radical polymerizable compound has two or more radical polymerizable groups, these radical polymerizable groups may be the same or different, respectively. The number of radical polymerizable groups that the radical polymerizable compound has in one molecule is preferably 2 or more from the viewpoint of improving the hardness of the hard coat layer. As the radical polymerizable compound, a compound having a (meth)acryloyl group is preferably exemplified from the viewpoint of high reactivity, and specifically, it has 2 to 6 (meth)acryloyl groups in one molecule. Compounds called functional acrylate monomers or oligomers of hundreds to thousands of molecular weights having several (meth)acryloyl groups in a molecule called epoxy (meth)acrylate, urethane (meth)acrylate, and polyester (meth)acrylate And, preferably, one or more selected from epoxy (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, and polyester (meth) acrylate.

상기 카티온 중합성 화합물은, 에폭시기, 옥세타닐기, 비닐에테르기 등의 카티온 중합성 기를 갖는 화합물이다. 상기 카티온 중합성 화합물이 1 분자 중에 갖는 카티온 중합성 기의 수는, 하드 코팅층의 경도를 향상한다는 점에서, 바람직하게는 2 이상이고, 보다 바람직하게는 3 이상이다.The cation polymerizable compound is a compound having a cation polymerizable group such as an epoxy group, an oxetanyl group, and a vinyl ether group. The number of cation polymerizable groups in one molecule of the cation polymerizable compound is preferably 2 or more, and more preferably 3 or more from the viewpoint of improving the hardness of the hard coat layer.

또, 상기 카티온 중합성 화합물로서는, 그 중에서도, 카티온 중합성 기로서 에폭시기 및 옥세타닐기의 적어도 1종을 갖는 화합물이 바람직하다. 에폭시기, 옥세타닐기 등의 환상 에테르기는, 중합 반응에 따른 수축이 작다는 점에서 바람직하다. 또, 환상 에테르기 중 에폭시기를 갖는 화합물은 다양한 구조의 화합물을 입수하기 쉬워, 얻어진 하드 코팅층의 내구성에 악영향을 주지 않고, 라디칼 중합성 화합물과의 상용성도 컨트롤하기 쉽다는 이점이 있다. 또, 환상 에테르기 중 옥세타닐기는, 에폭시기와 비교하여 중합도가 높아지기 쉽고, 저독성이어서, 얻어진 하드 코팅층의 카티온 중합성 화합물로부터 얻어지는 네트워크 형성 속도를 빠르게 하고, 라디칼 중합성 화합물과 혼재하는 영역에서도 미반응의 모노머를 막 중에 남기지 않고 독립된 네트워크를 형성하는 등의 이점이 있다.Further, as the cation polymerizable compound, a compound having at least one of an epoxy group and an oxetanyl group as a cation polymerizable group is particularly preferable. Cyclic ether groups, such as an epoxy group and an oxetanyl group, are preferable in that the shrinkage due to the polymerization reaction is small. Further, the compound having an epoxy group among the cyclic ether groups has the advantage that it is easy to obtain compounds of various structures, does not adversely affect the durability of the obtained hard coating layer, and is easy to control compatibility with the radical polymerizable compound. In addition, the oxetanyl group among the cyclic ether groups tends to have a higher degree of polymerization compared to the epoxy group, and is less toxic, thereby speeding up the rate of network formation obtained from the cation polymerizable compound of the obtained hard coating layer, and even in a region mixed with the radical polymerizable compound. There is an advantage of forming an independent network without leaving unreacted monomers in the film.

에폭시기를 갖는 카티온 중합성 화합물로서는, 예를 들면, 지환족 환을 갖는 다가 알콜의 폴리글리시딜에테르 또는, 시클로헥센환, 시클로펜텐환 함유 화합물을, 과산화수소, 과산 등의 적당한 산화제에 의해 에폭시화함으로써 얻어지는 지환족 에폭시 수지; 지방족 다가 알콜, 또는 그 알킬렌옥사이드 부가물의 폴리글리시딜에테르, 지방족 장쇄 다염기산의 폴리글리시딜에스테르, 글리시딜(메타)아크릴레이트의 호모 폴리머, 코폴리머 등의 지방족 에폭시 수지; 비스페놀 A, 비스페놀 F나 수첨(水添) 비스페놀 A 등의 비스페놀류, 또는 그들의 알킬렌옥사이드 부가체, 카프로락톤 부가체 등의 유도체와, 에피클로로히드린과의 반응에 의해서 제조되는 글리시딜에테르, 및 노볼락에폭시 수지 등이고 비스페놀류로부터 유도되는 글리시딜에테르형 에폭시 수지 등을 들 수 있다.As a cationic polymerizable compound having an epoxy group, for example, polyglycidyl ether of a polyhydric alcohol having an alicyclic ring or a cyclohexene ring or a cyclopentene ring-containing compound may be used as an epoxy agent using a suitable oxidizing agent such as hydrogen peroxide or peracid. Alicyclic epoxy resin obtained by converting; Aliphatic epoxy resins such as polyglycidyl ether of an aliphatic polyhydric alcohol or an alkylene oxide adduct thereof, polyglycidyl ester of an aliphatic long-chain polybasic acid, homopolymer of glycidyl (meth)acrylate, and a copolymer; Glycidyl ether prepared by reaction of bisphenols such as bisphenol A, bisphenol F or hydrogenated bisphenol A, or derivatives such as alkylene oxide adducts and caprolactone adducts, and epichlorohydrin , And a glycidyl ether type epoxy resin derived from bisphenols, such as novolac epoxy resins.

상기 하드 코팅 조성물은 중합개시제를 더 포함할 수 있다. 중합개시제로서는 라디칼 중합개시제, 카티온 중합개시제, 라디칼 및 카티온 중합개시제 등을 들 수 있고, 적절히 선택하여 이용된다. 이들 중합개시제는, 활성 에너지선 조사 및 가열의 적어도 1종에 의해 분해되어, 라디칼 또는 카티온을 발생하여 라디칼 중합과 카티온 중합을 진행시키는 것이다.The hard coating composition may further include a polymerization initiator. Examples of the polymerization initiator include a radical polymerization initiator, a cation polymerization initiator, a radical and a cation polymerization initiator, and the like, and are appropriately selected and used. These polymerization initiators are decomposed by at least one of active energy ray irradiation and heating to generate radicals or cation to proceed radical polymerization and cation polymerization.

라디칼 중합개시제는, 활성 에너지선 조사 및 가열의 적어도 어느 것에 의해 라디칼 중합을 개시시키는 물질을 방출하는 것이 가능하면 된다. 예를 들면, 열 라디칼 중합개시제로서는 과산화수소, 과안식향산 등의 유기 과산화물, 아조비스부티로니트릴 등의 아조 화합물 등을 들 수 있다.The radical polymerization initiator may be capable of releasing a substance that initiates radical polymerization by at least any of irradiation with active energy rays and heating. For example, examples of the thermal radical polymerization initiator include organic peroxides such as hydrogen peroxide and hyperbenzoic acid, and azo compounds such as azobisbutyronitrile.

활성 에너지선 라디칼 중합개시제로서는, 분자의 분해에 의해 라디칼이 생성되는 Type 1형 라디칼 중합개시제와, 3급 아민과 공존하여 수소인발형 반응에 의해 라디칼을 생성하는 Type 2형 라디칼 중합개시제가 있고, 그들은 단독으로 또는 병용하여 사용된다.As the active energy ray radical polymerization initiator, there are Type 1 type radical polymerization initiators that generate radicals by decomposition of molecules, and Type 2 type radical polymerization initiators that coexist with tertiary amines to generate radicals by hydrogen extraction type reaction, They are used alone or in combination.

카티온 중합개시제는, 활성 에너지선 조사 및 가열의 적어도 어느 것에 의해 카티온 중합을 개시시키는 물질을 방출하는 것이 가능하면 된다. 카티온 중합개시제로서는 방향족 요오도늄염, 방향족 술포늄염, 시클로펜타디에닐 철(II) 착체 등을 사용할 수 있다. 이들은, 구조의 차이에 따라서 활성 에너지선 조사 또는 가열 중 어느 것인가 또는 어느 것이더라도 카티온 중합을 개시할 수 있다.The cation polymerization initiator may be capable of releasing a substance for initiating cation polymerization by at least any of irradiation with active energy rays and heating. As the cation polymerization initiator, an aromatic iodonium salt, an aromatic sulfonium salt, a cyclopentadienyl iron (II) complex, or the like can be used. These can initiate cation polymerization in any or any of irradiation with active energy rays or heating depending on the difference in structure.

상기 중합개시제는, 상기 하드 코팅 조성물 전체 100 질량%에 대하여 바람직하게는 0.1∼10 질량%를 포함할 수 있다. 상기 중합개시제의 함량이 상기의 범위에 있으면, 경화를 충분히 진행시킬 수 있고, 최종적으로 얻어지는 도막의 기계적 물성이나 밀착력을 양호한 범위로 할 수 있고, 또한, 경화 수축에 의한 접착력 불량이나 깨짐 현상 및 컬 현상이 발생하기 어려워지는 경향이 있다.The polymerization initiator may preferably contain 0.1 to 10 mass% with respect to the total 100 mass% of the hard coating composition. If the content of the polymerization initiator is in the above range, curing can be sufficiently advanced, and the mechanical properties and adhesion of the finally obtained coating film can be in a good range, and poor adhesion or cracking due to curing shrinkage and curling. There is a tendency that the phenomenon is less likely to occur.

상기 하드 코팅 조성물은, 용제 및 첨가제로 이루어지는 군으로부터 선택되는 하나 이상을 더 포함할 수 있다.The hard coating composition may further include one or more selected from the group consisting of solvents and additives.

상기 용제는, 상기 중합성 화합물 및 중합개시제를 용해 또는 분산시킬 수 있는 것이고, 본 기술 분야의 하드 코팅 조성물의 용제로서 알려져 있는 용제라면, 본 발명의 효과를 저해하지 않는 범위에서, 사용할 수 있다.The solvent is one capable of dissolving or dispersing the polymerizable compound and the polymerization initiator, and as long as it is a solvent known as a solvent for the hard coating composition in the art, it can be used within a range that does not impair the effects of the present invention.

상기 첨가제는 무기 입자, 레벨링제, 안정제, 계면활성제, 대전방지제, 윤활제, 방오제 등을 더 포함할 수 있다.The additive may further include inorganic particles, leveling agents, stabilizers, surfactants, antistatic agents, lubricants, antifouling agents, and the like.

자외선흡수층은, 자외선 흡수의 기능을 갖는 층이고, 예를 들면, 자외선 경화형의 투명 수지, 전자선 경화형의 투명 수지, 및 열 경화형의 투명 수지로부터 선택되는 주재(主材)와, 이 주재에 분산된 자외선흡수제로 구성된다.The ultraviolet absorbing layer is a layer having a function of absorbing ultraviolet rays, and for example, a main material selected from an ultraviolet curable transparent resin, an electron beam curable transparent resin, and a thermosetting transparent resin, and dispersed in the main material. It consists of an ultraviolet absorber.

점착층은, 점착성의 기능을 갖는 층이고, 광학 필름을 기타의 부재에 접착시키는 기능을 갖는다. 점착층의 형성 재료로서는, 통상 알려진 것을 이용할 수 있다. 예를 들면, 열 경화성 수지 조성물 또는 광경화성 수지 조성물을 이용할 수 있다. 이 경우, 사후적으로 에너지를 공급함으로써 수지 조성물을 고분자화하여 경화시킬 수 있다.The adhesive layer is a layer having an adhesive function and has a function of adhering an optical film to other members. As the material for forming the adhesive layer, a commonly known material can be used. For example, a thermosetting resin composition or a photocurable resin composition can be used. In this case, the resin composition can be polymerized and cured by supplying energy afterwards.

점착층은, 감압형 접착제(Pressure Sensitive Adhesive, PSA)라고 불리는, 가압에 의해 대상물에 첩착(貼着)되는 층이어도 된다. 감압형 접착제는, 「상온에서 점착성을 갖고, 가벼운 압력으로 피착재에 접착되는 물질」(JIS K 6800)인 점착제여도 되고, 「특정 성분을 보호 피막(마이크로캡슐)에 내용(內容)하고, 적당한 수단(압력, 열 등)에 의해서 피막을 파괴할 때까지는 안정성을 보지(保持)할 수 있는 접착제」(JIS K 6800)인 캡슐형 접착제여도 된다.The pressure-sensitive adhesive layer may be a layer that is referred to as a pressure sensitive adhesive (PSA) and adheres to the object by pressure. The pressure-sensitive adhesive may be a pressure-sensitive adhesive that is "a substance that has adhesiveness at room temperature and adheres to an adherend with light pressure" (JIS K 6800), or "a certain component is contained in a protective film (microcapsule), and An adhesive capable of maintaining stability until the film is destroyed by means (pressure, heat, etc.)" (JIS K 6800) may be a capsule adhesive.

색상 조정층은, 색상 조정의 기능을 갖는 층이고, 광학 필름을 포함하는 적층체를 목적으로 하는 색상으로 조정할 수 있는 층이다. 색상 조정층은, 예를 들면, 수지 및 착색제를 함유하는 층이다. 이 착색제로서는, 예를 들면, 산화티탄, 산화아연, 벵갈라, 티타늄옥사이드계 소성 안료, 군청, 알루민산 코발트, 및 카본블랙 등의 무기 안료; 아조계 화합물, 퀴나크리돈계 화합물, 안트라퀴논계 화합물, 페릴렌계 화합물, 이소인돌리논계 화합물, 프탈로시아닌계 화합물, 퀴노프탈론계 화합물, 스렌계 화합물, 및 디케토피롤로피롤계 화합물 등의 유기 안료; 황산 바륨, 및 탄산 칼슘 등의 체질 안료; 및 염기성 염료, 산성 염료, 및 매염 염료 등의 염료를 들 수 있다.The hue adjustment layer is a layer having a color adjustment function, and is a layer capable of adjusting a layered product including an optical film to a target hue. The hue adjustment layer is, for example, a layer containing a resin and a colorant. Examples of the colorant include inorganic pigments such as titanium oxide, zinc oxide, bengala, titanium oxide-based calcined pigments, ultramarine, cobalt aluminate, and carbon black; Organic pigments such as an azo compound, a quinacridone compound, an anthraquinone compound, a perylene compound, an isoindolinone compound, a phthalocyanine compound, a quinophthalone compound, a srene compound, and a diketopyrrolopyrrole compound; Extender pigments such as barium sulfate and calcium carbonate; And dyes such as basic dyes, acid dyes, and mordant dyes.

굴절률 조정층은, 굴절률 조정의 기능을 갖는 층이고, 예를 들면, 광학 필름과는 다른 굴절률을 갖고, 광학적층체에 소정의 굴절률을 부여할 수 있는 층이다. 굴절률 조정층은, 예를 들면, 적절히 선택된 수지, 및 경우에 따라 추가로 안료를 함유하는 수지층이어도 되고, 금속의 박막이어도 된다. 굴절률을 조정하는 안료로서는, 예를 들면, 산화규소, 산화알루미늄, 산화안티몬, 산화주석, 산화티탄, 산화지르코늄 및 산화탄탈을 들 수 있다. 당해 안료의 평균 일차 입자 직경은, 0.1 ㎛ 이하여도 된다. 안료의 평균 일차 입자 직경을 0.1 ㎛ 이하로 함으로써, 굴절률 조정층을 투과하는 광의 난반사를 방지하고, 투명도의 저하를 방지할 수 있다. 굴절률 조정층에 이용되는 금속으로서는, 예를 들면, 산화티탄, 산화탄탈, 산화지르코늄, 산화아연, 산화주석, 산화규소, 산화인듐, 산질화티탄, 질화티탄, 산질화규소, 질화규소 등의 금속 산화물 또는 금속 질화물을 들 수 있다.The refractive index adjusting layer is a layer having a function of adjusting the refractive index, for example, a layer having a refractive index different from that of an optical film and capable of imparting a predetermined refractive index to the optical laminate. The refractive index adjusting layer may be, for example, an appropriately selected resin and, if necessary, a resin layer containing a pigment further, or a thin metal film. As a pigment for adjusting the refractive index, silicon oxide, aluminum oxide, antimony oxide, tin oxide, titanium oxide, zirconium oxide, and tantalum oxide are mentioned, for example. The average primary particle diameter of the pigment may be 0.1 µm or less. By setting the average primary particle diameter of the pigment to 0.1 µm or less, diffuse reflection of light passing through the refractive index adjusting layer can be prevented, and a decrease in transparency can be prevented. Examples of the metal used in the refractive index adjustment layer include metal oxides such as titanium oxide, tantalum oxide, zirconium oxide, zinc oxide, tin oxide, silicon oxide, indium oxide, titanium oxynitride, titanium nitride, silicon oxynitride, and silicon nitride. And metal nitrides.

본 발명의 광학 필름은 단층이어도 되고 적층체여도 되며, 예를 들면, 상기와 같이 하여 제조되는 광학 필름을 그대로 사용해도 되고, 또한 기타의 필름과의 적층체로서 사용해도 된다. 비행시간형 2차 이온 질량분석에 의해 얻어지는 CH3의 이온 강도(ICH3)에 대한 K의 이온 강도(IK)의 비율(IK/ICH3)이 0.2 이상인 본 발명의 광학 필름은, 높은 내찰과성을 가짐과 함께, 탄성률이 우수하기 때문에 내충격성을 갖고, 화상 표시 장치 등에 있어서의 광학 필름으로서 유용한 필름이다.The optical film of the present invention may be a single layer or a laminate, for example, the optical film produced as described above may be used as it is, or may be used as a laminate with other films. The optical film of the present invention in which the ratio of the ionic strength of K (I K ) to the ionic strength of CH 3 (I CH3 ) obtained by time-of-flight secondary ion mass spectrometry (I K / I CH3 ) is 0.2 or more, Since it has abrasion resistance and is excellent in elastic modulus, it has impact resistance, and is a film useful as an optical film in an image display device or the like.

본 발명의 바람직한 일 실시 형태에 있어서, 본 발명의 광학 필름은, 화상 표시 장치의 전면판, 그 중에서도 플렉시블 표시 장치의 전면판(윈도우 필름), 특히 롤러블 디스플레이나 폴더블 디스플레이의 전면판으로서 매우 유용하다. 플렉시블 표시 장치는, 예를 들면, 플렉시블 기능층과, 플렉시블 기능층에 겹쳐져 전면판으로서 기능하는 광학 필름을 갖는다. 즉, 플렉시블 표시 장치의 전면판은, 플렉시블 기능층 위의 시인측에 배치된다. 이 전면판은, 플렉시블 기능층, 예를 들면, 플렉시블 디스플레이 내의 화상 표시 소자를 보호하는 기능을 갖는다.In a preferred embodiment of the present invention, the optical film of the present invention is very suitable as a front plate of an image display device, especially a front plate (window film) of a flexible display device, especially a front plate of a rollable display or a foldable display. useful. The flexible display device has, for example, a flexible functional layer and an optical film that is superimposed on the flexible functional layer and functions as a front plate. That is, the front plate of the flexible display device is disposed on the visible side on the flexible functional layer. This front plate has a function of protecting a flexible functional layer, for example, an image display element in a flexible display.

화상 표시 장치로서는 텔레비전, 스마트 폰, 휴대 전화, 카 네비게이션, 태블릿 PC, 휴대 게임기, 전자 페이퍼, 인디케이터, 게시판, 시계, 및 스마트 워치 등의 웨어러블 디바이스 등을 들 수 있다. 플렉시블 표시 장치로서는, 플렉시블 특성을 갖는 모든 화상 표시 장치를 들 수 있다.Examples of the image display device include a television, a smart phone, a mobile phone, a car navigation system, a tablet PC, a portable game machine, an electronic paper, an indicator, a bulletin board, a watch, and a wearable device such as a smart watch. As a flexible display device, all image display devices which have flexible characteristics are mentioned.

[플렉시블 표시 장치][Flexible display device]

본 발명은, 본 발명의 광학 필름을 구비하는 플렉시블 표시 장치도 제공한다. 본 발명의 광학 필름은, 바람직하게는 플렉시블 표시 장치에 있어서 전면판으로서 이용되고, 당해 전면판은 윈도우 필름이라고 불리는 경우가 있다. 플렉시블 표시 장치는, 플렉시블 표시 장치용 적층체와, 유기 EL 표시 패널로 이루어지고, 유기 EL 표시 패널에 대하여 시인측에 플렉시블 표시 장치용 적층체가 배치되고, 절곡 가능하게 구성되어 있다. 플렉시블 표시 장치용 적층체는, 본 발명의 광학 필름(윈도우 필름), 원 편광판, 터치 센서를 함유하고 있어도 되고, 그들의 적층 순서는 임의이지만, 시인측으로부터 윈도우 필름, 원 편광판, 터치 센서 또는 윈도우 필름, 터치 센서, 원 편광판의 순서로 적층되어 있는 것이 바람직하다. 터치 센서의 시인측에 원 편광판이 존재하면, 터치 센서의 패턴이 시인되기 어려워져 표시 화상의 시인성이 좋아지므로 바람직하다. 각각의 부재는 접착제, 점착제 등을 이용하여 적층할 수 있다. 또, 윈도우 필름, 원 편광판, 터치 센서의 어느 것의 층의 적어도 일면에 형성된 차광 패턴을 구비할 수 있다.The present invention also provides a flexible display device provided with the optical film of the present invention. The optical film of the present invention is preferably used as a front plate in a flexible display device, and the front plate is sometimes called a window film. The flexible display device is composed of a laminate for flexible display devices and an organic EL display panel, and a laminate for flexible display devices is disposed on the viewing side of the organic EL display panel and is bendable. The laminate for a flexible display device may contain the optical film (window film), circular polarizing plate, and touch sensor of the present invention, and the order of lamination thereof is arbitrary, but from the viewing side, the window film, circular polarizing plate, touch sensor, or window film , A touch sensor, and a circular polarizing plate are preferably stacked in this order. If the circular polarizing plate is present on the viewing side of the touch sensor, the pattern of the touch sensor is difficult to be recognized, and the visibility of the displayed image is improved, which is preferable. Each member may be laminated using an adhesive or an adhesive. In addition, a light shielding pattern formed on at least one surface of any layer of a window film, a circular polarizing plate, and a touch sensor may be provided.

[편광판][Polarizing plate]

본 발명의 플렉시블 표시 장치는, 편광판, 바람직하게는 원 편광판을 추가로 구비하고 있어도 된다. 원 편광판은, 직선 편광판에 λ/4 위상차판을 적층함으로써 우원 편광 성분 또는 좌원 편광 성분만을 투과시키는 기능을 갖는 기능층이다. 예를 들면, 외광을 우원 편광으로 변환하여 유기 EL 패널에 의해 반사되어 좌원 편광이 된 외광을 차단하고, 유기 EL의 발광 성분만을 투과시킴으로써 반사광의 영향을 억제하여 화상을 보기 쉽게 하기 위하여 이용된다. 원 편광 기능을 달성하기 위해서는, 직선 편광판의 흡수축과 λ/4 위상차판의 지상(遲相)축은 이론상 45°일 필요가 있지만, 실용적으로는 45±10°이다. 직선 편광판과 λ/4 위상차판은 반드시 인접하여 적층될 필요는 없고, 흡수축과 지상축의 관계가 전술의 범위를 만족하고 있으면 된다. 전체 파장에 있어서 완전한 원 편광을 달성하는 것이 바람직하지만 실용상으로는 반드시 그럴 필요는 없으므로 본 발명에 있어서의 원 편광판은 타원 편광판도 포함한다. 직선 편광판의 시인측에 추가로 λ/4 위상차 필름을 적층하여, 출사광을 원 편광으로 함으로써 편광 선글래스를 한 상태에서의 시인성을 향상시키는 것도 바람직하다.The flexible display device of the present invention may further include a polarizing plate, preferably a circular polarizing plate. The circular polarizing plate is a functional layer having a function of transmitting only the right circularly polarized component or the left circularly polarized component by laminating a λ/4 retardation plate on the linear polarizing plate. For example, it is used for converting external light into right-circular polarized light and blocking external light that is reflected by an organic EL panel to become left-circularly polarized light, and by transmitting only the light-emitting component of the organic EL to suppress the influence of the reflected light to make an image easier to see. In order to achieve the circular polarization function, the absorption axis of the linear polarizing plate and the ground axis of the λ/4 retardation plate need to be 45° in theory, but are 45±10° in practical use. The linear polarizing plate and the λ/4 retardation plate do not necessarily need to be stacked adjacent to each other, and the relationship between the absorption axis and the slow axis may satisfy the above range. It is desirable to achieve complete circular polarization in all wavelengths, but practically, it is not necessary to do so, and thus the circular polarizing plate in the present invention also includes an elliptically polarizing plate. It is also preferable to laminate a λ/4 retardation film on the viewing side of the linear polarizing plate to make the outgoing light circularly polarized, thereby improving the visibility in the state of wearing polarized sunglasses.

직선 편광판은, 투과축 방향으로 진동하고 있는 광은 통과시키지만, 그것과는 수직인 진동 성분의 편광을 차단하는 기능을 갖는 기능층이다. 상기 직선 편광판은, 직선 편광자 단독 또는 직선 편광자 및 그 적어도 일면에 첩부된 보호 필름을 구비한 구성이어도 된다. 상기 직선 편광판의 두께는 200 ㎛ 이하여도 되고, 바람직하게는 0.5∼100 ㎛이다. 두께가 상기의 범위에 있으면 유연성이 저하되기 어려운 경향이 있다.The linear polarizing plate is a functional layer having a function of allowing light vibrating in a transmission axis direction to pass, but blocking polarization of a vibration component perpendicular thereto. The linear polarizing plate may be configured with a linear polarizer alone or a linear polarizer and a protective film attached to at least one surface thereof. The thickness of the linear polarizing plate may be 200 µm or less, and preferably 0.5 to 100 µm. When the thickness is in the above range, the flexibility tends to be difficult to decrease.

상기 직선 편광자는, 폴리비닐알콜(PVA)계 필름을 염색, 연신함으로써 제조되는 필름형 편광자여도 된다. 연신에 의해서 배향한 PVA계 필름에, 요오드 등의 2색성 색소가 흡착, 또는 PVA에 흡착한 상태로 연신됨으로써 2색성 색소가 배향하고, 편광 성능을 발휘한다. 상기 필름형 편광자의 제조에 있어서는, 그 외에 팽윤, 붕산에 의한 가교, 수용액에 의한 세정, 건조 등의 공정을 갖고 있어도 된다. 연신이나 염색 공정은 PVA계 필름 단독으로 행해도 되고, 폴리에틸렌테레프탈레이트와 같은 기타의 필름과 적층된 상태에서 행할 수도 있다. 이용되는 PVA계 필름의 두께는 바람직하게는 10∼100 ㎛이고, 연신 배율은 바람직하게는 2∼10배이다.The linear polarizer may be a film-type polarizer manufactured by dyeing and stretching a polyvinyl alcohol (PVA)-based film. A dichroic dye is oriented to the PVA-based film oriented by stretching, or a dichroic dye such as iodine is adsorbed or stretched in a state adsorbed by PVA, thereby oriented and exhibiting polarization performance. In the production of the film-type polarizer, other steps such as swelling, crosslinking with boric acid, washing with an aqueous solution, and drying may be provided. The stretching or dyeing process may be performed by the PVA-based film alone, or may be performed in a state of being laminated with other films such as polyethylene terephthalate. The thickness of the PVA-based film to be used is preferably 10 to 100 µm, and the draw ratio is preferably 2 to 10 times.

또한 상기 편광자의 기타의 일례로서는, 액정 편광 조성물을 도포하여 형성하는 액정 도포형 편광자여도 된다. 상기 액정 편광 조성물은, 액정성 화합물 및 2색성 색소 화합물을 포함할 수 있다. 상기 액정성 화합물은 액정 상태를 나타내는 성질을 갖고 있으면 되고, 특히 스멕틱상(相) 등의 고차의 배향 상태를 갖고 있으면 높은 편광 성능을 발휘할 수 있기 때문에 바람직하다. 또, 액정성 화합물은 중합성 관능기를 갖고 있는 것도 바람직하다.Further, as another example of the polarizer, a liquid crystal coating type polarizer formed by applying a liquid crystal polarizing composition may be used. The liquid crystal polarizing composition may contain a liquid crystal compound and a dichroic dye compound. The liquid crystal compound should have a property of showing a liquid crystal state, and particularly, if it has a high-order alignment state such as a smectic phase, it is preferable because it can exhibit high polarization performance. Moreover, it is also preferable that a liquid crystal compound has a polymerizable functional group.

상기 2색성 색소는, 상기 액정 화합물과 함께 배향하여 2색성을 나타내는 색소로서, 2색성 색소 자신이 액정성을 갖고 있어도 되고, 중합성 관능기를 갖고 있을 수도 있다. 액정 편광 조성물 중의 어느 것의 화합물은 중합성 관능기를 갖고 있다.The dichroic dye is a dye that is oriented together with the liquid crystal compound to exhibit dichroism, and the dichroic dye itself may have liquid crystal properties or may have a polymerizable functional group. Any compound in the liquid crystal polarizing composition has a polymerizable functional group.

상기 액정 편광 조성물은 추가로 개시제, 용제, 분산제, 레벨링제, 안정제, 계면활성제, 가교제, 실란 커플링제 등을 포함할 수 있다.The liquid crystal polarizing composition may further include an initiator, a solvent, a dispersant, a leveling agent, a stabilizer, a surfactant, a crosslinking agent, a silane coupling agent, and the like.

상기 액정 편광층은, 배향막 상에 액정 편광 조성물을 도포하여 액정 편광층을 형성함으로써 제조된다.The liquid crystal polarizing layer is produced by forming a liquid crystal polarizing layer by applying a liquid crystal polarizing composition on an alignment film.

액정 편광층은, 필름형 편광자에 비하여 두께를 얇게 형성할 수 있다. 상기 액정 편광층의 두께는, 바람직하게는 0.5∼10 ㎛, 보다 바람직하게는 1∼5 ㎛여도 된다.The liquid crystal polarizing layer can be formed to have a thinner thickness compared to the film-type polarizer. The thickness of the liquid crystal polarizing layer may be preferably 0.5 to 10 µm, more preferably 1 to 5 µm.

상기 배향막은, 예를 들면, 기재 상에 배향막 형성 조성물을 도포하고, 러빙, 편광 조사 등에 의해 배향성을 부여함으로써 제조할 수 있다. 상기 배향막 형성 조성물은, 배향제 외에 용제, 가교제, 개시제, 분산제, 레벨링제, 실란 커플링제 등을 포함하고 있어도 된다. 상기 배향제로서는, 예를 들면, 폴리비닐알콜류, 폴리아크릴레이트류, 폴리아믹산류, 폴리이미드류를 사용할 수 있다. 광 배향을 적용하는 경우에는 신나메이트기를 포함하는 배향제를 사용하는 것이 바람직하다. 상기 배향제로서 사용되는 고분자의 중량평균 분자량이 10,000∼1,000,000 정도여도 된다. 상기 배향막의 두께는, 배향 규제력의 관점에서, 바람직하게는 5∼10,000 ㎚, 보다 바람직하게는 10∼500 ㎚이다. 상기 액정 편광층은 기재로부터 박리하여 전사하여 적층할 수도 있고, 상기 기재를 그대로 적층할 수도 있다. 상기 기재가, 보호 필름이나 위상차판, 윈도우 필름의 투명 기재로서의 역할을 하는 것도 바람직하다.The alignment layer can be produced, for example, by applying an alignment layer forming composition on a substrate and imparting alignment by rubbing, polarized light irradiation, or the like. In addition to the alignment agent, the alignment film forming composition may contain a solvent, a crosslinking agent, an initiator, a dispersant, a leveling agent, a silane coupling agent, and the like. As the aligning agent, for example, polyvinyl alcohol, polyacrylates, polyamic acids, and polyimides can be used. When applying photo-alignment, it is preferable to use an aligning agent containing a cinnamate group. The weight average molecular weight of the polymer used as the aligning agent may be about 10,000 to 1,000,000. The thickness of the alignment film is preferably 5 to 10,000 nm, more preferably 10 to 500 nm, from the viewpoint of alignment regulating force. The liquid crystal polarizing layer may be peeled off from the substrate and transferred to be laminated, or the substrate may be laminated as it is. It is also preferable that the substrate serves as a transparent substrate for a protective film, a retardation plate, or a window film.

상기 보호 필름으로서는, 투명한 고분자 필름이면 되며, 구체적으로는, 이용되는 고분자 필름으로서는, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리메틸펜텐, 노르보르넨 또는 시클로올레핀을 포함하는 단량체의 단위를 갖는 시클로올레핀계 유도체 등의 폴리올레핀류, 디아세틸셀룰로스, 트리아세틸셀룰로스, 프로피오닐셀룰로스 등의 (변성)셀룰로스류, 메틸메타크릴레이트 (공)중합체 등의 아크릴류, 스티렌 (공)중합체 등의 폴리스티렌류, 아크릴로니트릴·부타디엔·스티렌 공중합체류, 아크릴로니트릴·스티렌 공중합체류, 에틸렌-아세트산 비닐 공중합체류, 폴리염화비닐류, 폴리염화비닐리덴류, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리카보네이트, 폴리알릴레이트 등의 폴리에스테르류, 나일론 등의 폴리아미드류, 폴리이미드류, 폴리아미드이미드류, 폴리에테르이미드류, 폴리에테르술폰류, 폴리술폰류, 폴리비닐알콜류, 폴리비닐아세탈류, 폴리우레탄류, 에폭시 수지류 등의 필름을 들 수 있고, 투명성 및 내열성이 우수하다는 점에서, 바람직하게는 폴리아미드, 폴리아미드이미드, 폴리이미드, 폴리에스테르, 올레핀, 아크릴 또는 셀룰로스계의 필름을 들 수 있다. 이들 고분자는 각각 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다. 이들 필름은 미연신인 채로, 또는 1축 또는 2축 연신한 필름으로서 사용된다. 셀룰로스계 필름, 올레핀계 필름, 아크릴 필름, 폴리에스테르계 필름이 바람직하다. 에폭시 수지 등의 카티온 경화 조성물이나 아크릴레이트 등의 라디칼 경화 조성물을 도포하여 경화하여 얻어지는 코팅형의 보호 필름이어도 된다. 필요에 따라 가소제, 자외선흡수제, 적외선흡수제, 안료나 염료와 같은 착색제, 형광증백제, 분산제, 열안정제, 광안정제, 대전방지제, 산화방지제, 활제, 용제 등을 포함하고 있어도 된다. 상기 보호 필름의 두께는 200 ㎛ 이하여도 되고, 바람직하게는 1∼100 ㎛이다. 상기 보호 필름의 두께가 상기의 범위에 있으면, 보호 필름의 유연성이 저하되기 어렵다.As the protective film, a transparent polymer film may be used. Specifically, as the polymer film to be used, a cycloolefin derivative having a monomer unit including polyethylene, polypropylene, polymethylpentene, norbornene or a cycloolefin, etc. (Modified) celluloses such as polyolefins, diacetylcellulose, triacetylcellulose, propionylcellulose, etc., acrylics such as methyl methacrylate (co)polymers, polystyrenes such as styrene (co)polymers, acrylonitrile/butadiene Styrene copolymers, acrylonitrile/styrene copolymers, ethylene-vinyl acetate copolymers, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polycarbonate, polyallylate Polyesters such as polyester, polyamides such as nylon, polyimides, polyamideimides, polyetherimides, polyethersulfones, polysulfones, polyvinyl alcohols, polyvinyl acetals, polyurethanes, epoxy Films such as resins may be mentioned, and from the viewpoint of excellent transparency and heat resistance, preferably polyamide, polyamideimide, polyimide, polyester, olefin, acrylic, or cellulose-based films are used. These polymers may be used alone or in combination of two or more. These films are used unstretched or as a uniaxial or biaxially stretched film. A cellulose film, an olefin film, an acrylic film, and a polyester film are preferable. It may be a coating-type protective film obtained by coating and curing a cation curing composition such as an epoxy resin or a radical curing composition such as an acrylate. Plasticizers, ultraviolet absorbers, infrared absorbers, colorants such as pigments or dyes, fluorescent whitening agents, dispersants, thermal stabilizers, light stabilizers, antistatic agents, antioxidants, lubricants, solvents, etc. may be included as needed. The thickness of the protective film may be 200 µm or less, and preferably 1 to 100 µm. When the thickness of the protective film is in the above range, the flexibility of the protective film is difficult to decrease.

상기 λ/4 위상차판은, 입사광의 진행 방향에 직교하는 방향, 환언하면, 필름의 면 내 방향으로, λ/4의 위상차를 부여하는 필름이다. 상기 λ/4 위상차판은, 셀룰로스계 필름, 올레핀계 필름, 폴리카보네이트계 필름 등의 고분자 필름을 연신함으로써 제조되는 연신형 위상차판이어도 된다. 필요에 따라 위상차 조정제, 가소제, 자외선흡수제, 적외선흡수제, 안료나 염료와 같은 착색제, 형광증백제, 분산제, 열안정제, 광안정제, 대전방지제, 산화방지제, 활제, 용제 등을 포함하고 있어도 된다. 상기 연신형 위상차판의 두께는 200 ㎛ 이하여도 되고, 바람직하게는 1∼100 ㎛이다. 두께가 상기의 범위에 있으면 필름의 유연성이 저하되기 어려운 경향이 있다.The λ/4 retardation plate is a film that imparts a phase difference of λ/4 in a direction orthogonal to the advancing direction of incident light, in other words, in the in-plane direction of the film. The λ/4 retardation plate may be a stretched retardation plate manufactured by stretching a polymer film such as a cellulose film, an olefin film, or a polycarbonate film. If necessary, a phase difference adjuster, a plasticizer, an ultraviolet absorber, an infrared absorber, a colorant such as a pigment or dye, a fluorescent whitening agent, a dispersant, a heat stabilizer, a light stabilizer, an antistatic agent, an antioxidant, a lubricant, a solvent, etc. may be included. The thickness of the stretched retardation plate may be 200 μm or less, preferably 1 to 100 μm. When the thickness is in the above range, there is a tendency that the flexibility of the film is difficult to decrease.

또한 상기 λ/4 위상차판의 기타의 일례로서는, 액정 조성물을 도포하여 형성하는 액정 도포형 위상차판이어도 된다. 상기 액정 조성물은 네마틱, 콜레스테릭, 스멕틱 등의 액정 상태를 나타내는 성질을 갖는 액정성 화합물을 포함한다. 액정 조성물 중의 액정성 화합물을 포함하는 어느 것의 화합물은 중합성 관능기를 갖고 있다. 상기 액정 도포형 위상차판은 추가로 개시제, 용제, 분산제, 레벨링제, 안정제, 계면활성제, 가교제, 실란 커플링제 등을 포함할 수 있다. 상기 액정 도포형 위상차판은, 상기 액정 편광층에서의 기재와 마찬가지로 배향막 상에 액정 조성물을 도포 경화하여 액정 위상차층을 형성함으로써 제조할 수 있다. 액정 도포형 위상차판은, 연신형 위상차판에 비하여 두께를 얇게 형성할 수 있다. 상기 액정 편광층의 두께는 통상 0.5∼10 ㎛, 바람직하게는 1∼5 ㎛여도 된다. 상기 액정 도포형 위상차판은 기재로부터 박리하여 전사하여 적층할 수도 있고, 상기 기재를 그대로 적층할 수도 있다. 상기 기재가, 보호 필름이나 위상차판, 윈도우 필름의 투명 기재로서의 역할을 하는 것도 바람직하다.Further, as another example of the λ/4 retardation plate, a liquid crystal coating type retardation plate formed by applying a liquid crystal composition may be used. The liquid crystal composition includes a liquid crystal compound having a liquid crystal state such as nematic, cholesteric, and smectic. Any of the compounds including the liquid crystal compound in the liquid crystal composition has a polymerizable functional group. The liquid crystal coating type retardation plate may further include an initiator, a solvent, a dispersant, a leveling agent, a stabilizer, a surfactant, a crosslinking agent, a silane coupling agent, and the like. The liquid crystal coating type retardation plate can be manufactured by forming a liquid crystal retardation layer by coating and curing a liquid crystal composition on an alignment film, similarly to the substrate in the liquid crystal polarizing layer. The liquid crystal coated retardation plate can be formed to have a thinner thickness compared to the stretched retardation plate. The thickness of the liquid crystal polarizing layer may be usually 0.5 to 10 µm, preferably 1 to 5 µm. The liquid crystal coating type retardation plate may be peeled off from the substrate and transferred to be laminated, or the substrate may be laminated as it is. It is also preferable that the substrate serves as a transparent substrate for a protective film, a retardation plate, or a window film.

일반적으로는, 단파장일수록 복굴절이 크고, 장파장일수록 작은 복굴절을 나타내는 재료가 많다. 이 경우에는 전체 가시광 영역에서 λ/4의 위상차를 달성할 수는 없으므로, 시감도가 높은 560 ㎚ 부근에 대하여 λ/4가 되는 것과 같은 면 내 위상차, 즉 100∼180 ㎚, 바람직하게는 130∼150 ㎚가 되도록 설계되는 경우가 많다. 통상과는 반대의 복굴절률 파장 분산 특성을 갖는 재료를 이용한 역분산 λ/4 위상차판을 이용하는 것은 시인성을 좋게 할 수 있으므로 바람직하다. 이와 같은 재료로서는 연신형 위상차판의 경우는 일본 공개특허 특개2007-232873호 공보 등, 액정 도포형 위상차판의 경우에는 일본 공개특허 특개2010-30979호 공보에 기재되어 있는 것을 이용하는 것도 바람직하다.In general, the shorter the wavelength, the greater the birefringence, and the longer the wavelength, the smaller the number of materials. In this case, since it is not possible to achieve a phase difference of λ/4 in the entire visible light region, the in-plane phase difference equal to λ/4 in the vicinity of 560 nm with high visibility, that is, 100 to 180 nm, preferably 130 to 150 It is often designed to be nm. It is preferable to use an inversely dispersed λ/4 retardation plate using a material having a birefringence wavelength dispersion characteristic opposite to that of usual, since it can improve visibility. As such a material, it is also preferable to use those described in Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2010-30979, such as in the case of an elongated retardation plate, and in the case of a liquid crystal coated retardation plate.

또, 기타의 방법으로서는 λ/2 위상차판과 조합함으로써 광대역 λ/4 위상차판을 얻는 기술도 알려져 있다(일본 공개특허 특개평10-90521호 공보). λ/2 위상차판도 λ/4 위상차판과 마찬가지의 재료 및 방법으로 제조된다. 연신형 위상차판과 액정 도포형 위상차판과의 조합은 임의이지만, 어느 쪽이나 액정 도포형 위상차판을 이용하는 것은 두께를 얇게 할 수 있으므로 바람직하다.In addition, as another method, a technique for obtaining a broadband λ/4 retardation plate by combining with a lambda /2 retardation plate is also known (Japanese Laid-Open Patent Application Laid-Open No. 10-90521). The λ/2 retardation plate is also manufactured by the same material and method as the λ/4 retardation plate. Although the combination of the stretched retardation plate and the liquid crystal coated retardation plate is arbitrary, use of a liquid crystal coated retardation plate in either case is preferable because the thickness can be reduced.

상기 원 편광판에는 비스듬한 방향의 시인성을 높이기 위하여, 정의 C 플레이트를 적층하는 방법도 알려져 있다(일본 공개특허 특개2014-224837호 공보). 정의 C 플레이트도 액정 도포형 위상차판이어도 되고 연신형 위상차판이어도 된다. 두께 방향의 위상차는 통상 -200∼-20 ㎚, 바람직하게는 -140∼-40 ㎚이다.In order to increase visibility in an oblique direction on the circular polarizing plate, a method of laminating a positive C plate is also known (Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2014-224837). The positive C plate may also be a liquid crystal coating type retardation plate or a stretch type retardation plate. The retardation in the thickness direction is usually -200 to -20 nm, preferably -140 to -40 nm.

[터치 센서][Touch sensor]

본 발명의 플렉시블 표시 장치는, 터치 센서를 추가로 구비하고 있어도 된다. 터치 센서는 입력 수단으로서 이용된다. 터치 센서로서는 저항막 방식, 표면탄성파 방식, 적외선 방식, 전자 유도 방식, 정전 용량 방식 등 여러가지 양식이 제안되어 있고, 어느 방식이더라도 상관없다. 그 중에서도 정전 용량 방식이 바람직하다. 정전 용량 방식 터치 센서는 활성 영역 및 상기 활성 영역의 외곽부에 위치하는 비활성 영역으로 구분된다. 활성 영역은 표시 패널에 의해 화면이 표시되는 영역(표시부)에 대응하는 영역으로서, 사용자의 터치가 감지되는 영역이고, 비활성 영역은 표시 장치에 의해 화면이 표시되지 않는 영역(비표시부)에 대응하는 영역이다. 터치 센서는 플렉시블한 특성을 갖는 기판과; 상기 기판의 활성 영역에 형성된 감지 패턴과; 상기 기판의 비활성 영역에 형성되고, 상기 감지 패턴과 패드부를 통하여 외부의 구동 회로와 접속하기 위한 각 센싱 라인을 포함할 수 있다. 플렉시블한 특성을 갖는 기판으로서는, 상기 고분자 필름과 마찬가지의 재료를 사용할 수 있다. 터치 센서의 기판은, 그 인성(靭性)이 2,000 ㎫% 이상인 것이 터치 센서의 크랙 억제의 면에서 바람직하다. 보다 바람직하게는 인성이 2,000∼30,000 ㎫%여도 된다. 여기서, 인성은, 고분자 재료의 인장 실험을 통하여 얻어지는 응력(㎫)-왜곡(%) 곡선(Stress-strain curve)에서 파괴점까지의 곡선의 하부 면적으로서 정의된다.The flexible display device of the present invention may further include a touch sensor. The touch sensor is used as an input means. As a touch sensor, various modes such as a resistive film method, a surface acoustic wave method, an infrared method, an electromagnetic induction method, and a capacitance method have been proposed, and any method may be used. Among them, the electrostatic capacity method is preferable. The capacitive touch sensor is divided into an active area and an inactive area located on an outer portion of the active area. The active area is an area corresponding to an area (display unit) where a screen is displayed by the display panel, and is an area where a user's touch is sensed, and the inactive area corresponds to an area (non-display unit) where the screen is not displayed by the display device. Area. The touch sensor includes a substrate having a flexible characteristic; A sensing pattern formed in the active area of the substrate; Each sensing line may be formed in the non-active region of the substrate and connected to an external driving circuit through the sensing pattern and the pad part. As the substrate having flexible properties, the same material as the polymer film can be used. It is preferable that the substrate of the touch sensor has a toughness of 2,000 MPa% or more in terms of crack suppression of the touch sensor. More preferably, the toughness may be 2,000 to 30,000 MPa%. Here, toughness is defined as the lower area of the curve from the stress-strain curve (%) obtained through the tensile test of the polymer material to the point of failure.

상기 감지 패턴은, 제 1 방향으로 형성된 제 1 패턴 및 제 2 방향으로 형성된 제 2 패턴을 구비할 수 있다. 제 1 패턴과 제 2 패턴은 서로 다른 방향으로 배치된다. 제 1 패턴 및 제 2 패턴은, 동일층에 형성되고, 터치되는 지점을 감지하기 위해서는, 각각의 패턴이 전기적으로 접속되어야 한다. 제 1 패턴은 각 단위 패턴이 이음매를 통하여 서로 접속된 형태이지만, 제 2 패턴은 각 단위 패턴이 아일랜드 형태로 서로 분리된 구조가 되어 있으므로, 제 2 패턴을 전기적으로 접속하기 위해서는 별도의 브리지 전극이 필요하다. 감지 패턴은 주지(周知)의 투명 전극 소재를 적용할 수 있다. 예를 들면, 인듐주석 산화물(ITO), 인듐아연 산화물(IZO), 아연 산화물(ZnO), 인듐아연주석 산화물(IZTO), 인듐갈륨아연 산화물(IGZO), 카드뮴주석 산화물(CTO), PEDOT(poly(3,4-ethylenedioxythiophene)), 탄소 나노 튜브(CNT), 그래핀, 금속 와이어 등을 들 수 있고, 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다. 바람직하게는 ITO를 사용할 수 있다. 금속 와이어에 사용되는 금속은 특별히 한정되지 않고, 예를 들면, 은, 금, 알루미늄, 구리, 철, 니켈, 티탄, 셀레늄, 크롬 등을 들 수 있다. 이들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.The sensing pattern may include a first pattern formed in a first direction and a second pattern formed in a second direction. The first pattern and the second pattern are arranged in different directions. The first pattern and the second pattern are formed on the same layer, and in order to sense a touched point, each pattern must be electrically connected. In the first pattern, each unit pattern is connected to each other through a seam, but in the second pattern, since each unit pattern is separated from each other in an island shape, a separate bridge electrode is required to electrically connect the second pattern. need. As the sensing pattern, a known transparent electrode material can be applied. For example, indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), zinc oxide (ZnO), indium zinc tin oxide (IZTO), indium gallium zinc oxide (IGZO), cadmium tin oxide (CTO), PEDOT (poly (3,4-ethylenedioxythiophene)), carbon nanotubes (CNT), graphene, metal wires, and the like, and these may be used alone or in combination of two or more. Preferably, ITO can be used. The metal used for the metal wire is not particularly limited, and examples thereof include silver, gold, aluminum, copper, iron, nickel, titanium, selenium, and chromium. These may be used alone or in combination of two or more.

브리지 전극은 감지 패턴 상부에 절연층을 개재하여 상기 절연층 상부에 형성할 수 있고, 기판 상에 브리지 전극이 형성되어 있고, 그 위에 절연층 및 감지 패턴을 형성할 수 있다. 상기 브리지 전극은 감지 패턴과 동일한 소재로 형성할 수도 있고, 몰리브덴, 은, 알루미늄, 구리, 팔라듐, 금, 백금, 아연, 주석, 티탄 또는 이들 중 2종 이상의 합금 등의 금속으로 형성할 수도 있다. 제 1 패턴과 제 2 패턴은 전기적으로 절연되어야 하므로, 감지 패턴과 브리지 전극의 사이에는 절연층이 형성된다. 절연층은 제 1 패턴의 이음매와 브리지 전극의 사이에만 형성할 수도 있고, 감지 패턴을 덮는 층의 구조에 형성할 수도 있다. 후자의 경우는, 브리지 전극은 절연층에 형성된 콘택트 홀을 통하여 제 2 패턴을 접속할 수 있다. 상기 터치 센서는 패턴이 형성된 패턴 영역과, 패턴이 형성되어 있지 않은 비패턴 영역간의 투과율의 차, 구체적으로는, 이들 영역에 있어서의 굴절률의 차에 의해서 유발되는 광투과율의 차를 적절하게 보상하기 위한 수단으로서 기판과 전극의 사이에 광학 조절층을 더 포함할 수 있고, 상기 광학 조절층은 무기 절연 물질 또는 유기 절연 물질을 포함할 수 있다. 광학 조절층은 광경화성 유기 바인더 및 용제를 포함하는 광경화 조성물을 기판 상에 코팅하여 형성할 수 있다. 상기 광경화 조성물은 무기 입자를 더 포함할 수 있다. 상기 무기 입자에 의해서 광학 조절층의 굴절률을 상승시킬 수 있다.The bridge electrode may be formed on the insulating layer by interposing an insulating layer on the sensing pattern, a bridge electrode may be formed on a substrate, and an insulating layer and a sensing pattern may be formed thereon. The bridge electrode may be formed of the same material as the sensing pattern, or may be formed of a metal such as molybdenum, silver, aluminum, copper, palladium, gold, platinum, zinc, tin, titanium, or an alloy of two or more of them. Since the first pattern and the second pattern must be electrically insulated, an insulating layer is formed between the sensing pattern and the bridge electrode. The insulating layer may be formed only between the joint of the first pattern and the bridge electrode, or may be formed in the structure of the layer covering the sensing pattern. In the latter case, the bridge electrode may connect the second pattern through a contact hole formed in the insulating layer. The touch sensor appropriately compensates for the difference in transmittance between the patterned area in which the pattern is formed and the non-patterned area in which the pattern is not formed, specifically, the difference in light transmittance caused by the difference in refractive index in these areas. An optical control layer may be further included between the substrate and the electrode as a means, and the optical control layer may include an inorganic insulating material or an organic insulating material. The optical control layer may be formed by coating a photocurable composition including a photocurable organic binder and a solvent on a substrate. The photocurable composition may further include inorganic particles. The refractive index of the optical control layer may be increased by the inorganic particles.

상기 광경화성 유기 바인더는, 예를 들면, 아크릴레이트계 단량체, 스티렌계 단량체, 카르본산계 단량체 등의 각 단량체의 공중합체를 포함할 수 있다. 상기 광경화성 유기 바인더는, 예를 들면, 에폭시기 함유 반복 단위, 아크릴레이트 반복 단위, 카르본산 반복 단위 등의 서로 다른 각 반복 단위를 포함하는 공중합체여도 된다.The photocurable organic binder may include, for example, a copolymer of each monomer such as an acrylate-based monomer, a styrene-based monomer, and a carboxylic acid-based monomer. The photocurable organic binder may be, for example, a copolymer containing different repeating units such as an epoxy group-containing repeating unit, an acrylate repeating unit, and a carboxylic acid repeating unit.

상기 무기 입자는, 예를 들면, 지르코니아 입자, 티타니아 입자, 알루미나 입자 등을 포함할 수 있다. 상기 광경화 조성물은 광중합개시제, 중합성 모노머, 경화 보조제 등의 각 첨가제를 더 포함할 수도 있다.The inorganic particles may include, for example, zirconia particles, titania particles, alumina particles, and the like. The photocurable composition may further include additives such as a photopolymerization initiator, a polymerizable monomer, and a curing aid.

[접착층][Adhesive layer]

상기 플렉시블 표시 장치용 적층체를 형성하는, 윈도우 필름, 원 편광판, 터치 센서 등의 각 층 및 각 층을 구성하는 직선 편광판, λ/4 위상차판 등의 필름 부재는 접착제에 의해서 접착할 수 있다. 접착제로서는 수계 접착제, 유기용제계 접착제, 무용제계 접착제, 고체 접착제, 용제 휘산형 접착제, 수계 용제 휘산형 접착제, 습기경화형 접착제, 가열경화형 접착제, 혐기경화형 접착제, 활성 에너지선 경화형 접착제, 경화제 혼합형 접착제, 열용융형 접착제, 감압형 접착제(점착제), 재습형 접착제 등, 범용적으로 사용되고 있는 것을 사용할 수 있다. 그 중에서도 수계 용제 휘산형 접착제, 활성 에너지선 경화형 접착제, 점착제가 자주 이용된다. 접착층의 두께는, 요구되는 접착력 등에 따라서 적절히 조절할 수 있고, 예를 들면, 0.01∼500 ㎛, 바람직하게는 0.1∼300 ㎛이다. 접착층은, 상기 플렉시블 화상 표시 장치용 적층체에는 복수 존재해도 되지만, 각각의 두께 및 이용되는 접착제의 종류는 동일해도 되고 달라도 된다.Each layer, such as a window film, a circular polarizing plate, and a touch sensor, forming the laminate for a flexible display device, and a film member such as a linear polarizing plate and a λ/4 retardation plate constituting each layer may be bonded with an adhesive. Examples of adhesives include water-based adhesives, organic solvent-based adhesives, solvent-free adhesives, solid adhesives, solvent vaporizing adhesives, water-based solvent vaporizing adhesives, moisture curing adhesives, heat curing adhesives, anaerobic curing adhesives, active energy ray curing adhesives, curing agent mixture adhesives, A heat-melt adhesive, a pressure-sensitive adhesive (adhesive), a rewet-type adhesive, or the like can be used. Among them, water-based solvent volatilization type adhesives, active energy ray-curable adhesives, and pressure-sensitive adhesives are often used. The thickness of the adhesive layer can be appropriately adjusted depending on the required adhesive force, etc., and is, for example, 0.01 to 500 µm, preferably 0.1 to 300 µm. Although a plurality of adhesive layers may be present in the laminate for a flexible image display device, each thickness and the type of adhesive used may be the same or different.

상기 수계 용제 휘산형 접착제로서는 폴리비닐알콜계 폴리머, 전분 등의 수용성 폴리머, 에틸렌-아세트산 비닐계 에멀전, 스티렌-부타디엔계 에멀전 등 물 분산 상태의 폴리머를 주제(主劑) 폴리머로서 사용할 수 있다. 물, 상기 주제 폴리머에 추가하여, 가교제, 실란계 화합물, 이온성 화합물, 가교 촉매, 산화방지제, 염료, 안료, 무기 필러, 유기용제 등을 배합해도 된다. 상기 수계 용제 휘산형 접착제에 의해서 접착하는 경우, 상기 수계 용제 휘산형 접착제를 피접착층간에 주입하여 피착층을 첩합한 후, 건조시킴으로써 접착성을 부여할 수 있다. 상기 수계 용제 휘산형 접착제를 이용하는 경우의 접착층의 두께는 0.01∼10 ㎛, 바람직하게는 0.1∼1 ㎛여도 된다. 상기 수계 용제 휘산형 접착제를 복수 층의 형성에 이용하는 경우, 각각의 층의 두께 및 상기 접착제의 종류는 동일해도 되고 달라도 된다.As the aqueous solvent volatilization adhesive, a water-dispersed polymer such as polyvinyl alcohol-based polymer, water-soluble polymer such as starch, ethylene-vinyl acetate-based emulsion, and styrene-butadiene-based emulsion can be used as the main polymer. In addition to water and the main polymer, a crosslinking agent, a silane compound, an ionic compound, a crosslinking catalyst, an antioxidant, a dye, a pigment, an inorganic filler, an organic solvent, and the like may be blended. In the case of bonding with the water-based solvent vaporizing adhesive, the water-based solvent vaporizing adhesive may be injected between the adherend layers to bond the adhered layers, followed by drying to impart adhesiveness. In the case of using the water-based solvent volatilization type adhesive, the thickness of the adhesive layer may be 0.01 to 10 µm, preferably 0.1 to 1 µm. When the water-based solvent volatilization adhesive is used to form a plurality of layers, the thickness of each layer and the type of the adhesive may be the same or different.

상기 활성 에너지선 경화형 접착제는, 활성 에너지선을 조사하여 접착제층을 형성하는 반응성 재료를 포함하는 활성 에너지선 경화 조성물의 경화에 의해 형성할 수 있다. 상기 활성 에너지선 경화 조성물은, 하드 코팅 조성물과 마찬가지의 라디칼 중합성 화합물 및 카티온 중합성 화합물의 적어도 1종의 중합물을 함유할 수 있다. 상기 라디칼 중합성 화합물이란, 하드 코팅 조성물과 마찬가지이고, 하드 코팅 조성물과 마찬가지의 종류의 것을 사용할 수 있다. 접착층에 이용되는 라디칼 중합성 화합물로서는 아크릴로일기를 갖는 화합물이 바람직하다. 접착제 조성물로서의 점도를 낮추기 위하여 단관능의 화합물을 포함하는 것도 바람직하다.The active energy ray-curable adhesive may be formed by curing an active energy ray-curable composition including a reactive material that forms an adhesive layer by irradiating with an active energy ray. The active energy ray-curable composition may contain at least one polymer of a radical polymerizable compound and a cation polymerizable compound similar to the hard coating composition. The radical polymerizable compound is the same as the hard coating composition, and the same type of the hard coating composition can be used. The radical polymerizable compound used for the adhesive layer is preferably a compound having an acryloyl group. It is also preferable to include a monofunctional compound in order to lower the viscosity as an adhesive composition.

상기 카티온 중합성 화합물은, 하드 코팅 조성물과 마찬가지이고, 하드 코팅 조성물과 마찬가지의 종류의 것을 사용할 수 있다. 활성 에너지선 경화 조성물에 이용되는 카티온 중합성 화합물로서는, 에폭시 화합물이 특별히 바람직하다. 접착제 조성물의 점도를 낮추기 위하여 단관능의 화합물을 반응성 희석제로서 포함하는 것도 바람직하다.The cation polymerizable compound is the same as the hard coating composition, and the same type of the hard coating composition can be used. As the cationic polymerizable compound used in the active energy ray curing composition, an epoxy compound is particularly preferable. It is also preferable to include a monofunctional compound as a reactive diluent in order to lower the viscosity of the adhesive composition.

활성 에너지선 조성물에는 중합개시제를 더 포함할 수 있다. 중합개시제로서는 라디칼 중합개시제, 카티온 중합개시제, 라디칼 및 카티온 중합개시제 등이고, 적절히 선택하여 이용할 수 있다. 이들 중합개시제는, 활성 에너지선 조사 및 가열의 적어도 1종에 의해 분해되어, 라디칼 또는 카티온을 발생하여 라디칼 중합과 카티온 중합을 진행시키는 것이다. 하드 코팅 조성물의 기재 중에서 활성 에너지선 조사에 의해 라디칼 중합 또는 카티온 중합 중의 적어도 어느 것을 개시할 수 있는 개시제를 사용할 수 있다.The active energy ray composition may further include a polymerization initiator. Examples of the polymerization initiator include a radical polymerization initiator, a cation polymerization initiator, a radical and a cation polymerization initiator, and the like, and may be appropriately selected and used. These polymerization initiators are decomposed by at least one of active energy ray irradiation and heating to generate radicals or cation to proceed radical polymerization and cation polymerization. Among the substrates of the hard coating composition, an initiator capable of initiating at least either radical polymerization or cationic polymerization by irradiation with active energy rays can be used.

상기 활성 에너지선 경화 조성물은 추가로, 이온포착제, 산화방지제, 연쇄이동제, 밀착부여제, 열가소성 수지, 충전제, 유동 점도 조정제, 가소제, 소포제 용제, 첨가제, 용제를 포함할 수 있다. 상기 활성 에너지선 경화형 접착제에 의해서 접착하는 경우, 상기 활성 에너지선 경화 조성물을 피접착층의 어느 것 또는 양방에 도포 후 첩합하고, 어느 피착층 또는 양방의 피착층을 통과하게 하여 활성 에너지선을 조사하여 경화시킴으로써 접착할 수 있다. 상기 활성 에너지선 경화형 접착제를 이용하는 경우의 접착층의 두께는, 통상 0.01∼20 ㎛, 바람직하게는 0.1∼10 ㎛여도 된다. 상기 활성 에너지선 경화형 접착제를 복수 층의 형성에 이용하는 경우에는, 각각의 층의 두께 및 이용되는 접착제의 종류는 동일해도 되고 달라도 된다.The active energy ray curing composition may further include an ion trapping agent, an antioxidant, a chain transfer agent, an adhesion-imparting agent, a thermoplastic resin, a filler, a flow viscosity modifier, a plasticizer, an antifoaming agent, an additive, and a solvent. In the case of bonding with the active energy ray-curable adhesive, the active energy ray-curable composition is applied to any or both of the adhered layer and then bonded, and the active energy ray is irradiated by passing through any or both adhered layers. It can be bonded by curing. When using the active energy ray-curable adhesive, the thickness of the adhesive layer may be usually 0.01 to 20 µm, preferably 0.1 to 10 µm. When the active energy ray-curable adhesive is used to form a plurality of layers, the thickness of each layer and the type of adhesive used may be the same or different.

상기 점착제로서는, 주제 폴리머에 따라서, 아크릴계 점착제, 우레탄계 점착제, 고무계 점착제, 실리콘계 점착제 등으로 분류되어 어느 것을 사용할 수도 있다. 점착제에는 주제 폴리머에 추가하여, 가교제, 실란계 화합물, 이온성 화합물, 가교 촉매, 산화방지제, 점착부여제, 가소제, 염료, 안료, 무기 필러 등을 배합해도 된다. 상기 점착제를 구성하는 각 성분을 용제에 용해·분산시켜 점착제 조성물을 얻어, 당해 점착제 조성물을 기재 상에 도포한 후에 건조시킴으로써, 점착층(접착층)이 형성된다. 점착층은 직접 형성되어도 되고, 별도 기재에 형성한 것을 전사할 수도 있다. 접착 전의 점착면을 커버하기 위해서는 이형 필름을 사용하는 것도 바람직하다. 상기 점착제를 이용하는 경우의 접착층의 두께는 통상 1∼500 ㎛, 바람직하게는 2∼300 ㎛여도 된다. 상기 점착제를 복수 층의 형성에 이용하는 경우, 각각의 층의 두께 및 이용되는 점착제의 종류는 동일해도 되고 달라도 된다.As the pressure-sensitive adhesive, it is classified into an acrylic pressure-sensitive adhesive, a urethane-based pressure-sensitive adhesive, a rubber-based pressure-sensitive adhesive, a silicone-based pressure-sensitive adhesive, and the like, depending on the main polymer. In addition to the main polymer, a crosslinking agent, a silane compound, an ionic compound, a crosslinking catalyst, an antioxidant, a tackifier, a plasticizer, a dye, a pigment, an inorganic filler, and the like may be blended in the pressure-sensitive adhesive. Each component constituting the pressure-sensitive adhesive is dissolved and dispersed in a solvent to obtain a pressure-sensitive adhesive composition, and the pressure-sensitive adhesive composition is applied on a substrate and then dried to form an adhesive layer (adhesive layer). The adhesive layer may be formed directly or may be transferred to a separate substrate. It is also preferable to use a release film in order to cover the adhesive surface before adhesion. In the case of using the pressure-sensitive adhesive, the thickness of the adhesive layer may be usually 1 to 500 µm, preferably 2 to 300 µm. When the pressure-sensitive adhesive is used to form a plurality of layers, the thickness of each layer and the type of the pressure-sensitive adhesive used may be the same or different.

[차광 패턴][Shading pattern]

상기 차광 패턴은 상기 플렉시블 화상 표시 장치의 베젤 또는 하우징의 적어도 일부로서 적용할 수 있다. 차광 패턴에 의해서 상기 플렉시블 화상 표시 장치의 변연(邊緣)부에 배치되는 배선이 가려져 시인되기 어렵게 함으로써, 화상의 시인성이 향상된다. 상기 차광 패턴은 단층 또는 복층의 형태여도 된다. 차광 패턴의 컬러는 특별히 제한되는 경우는 없고, 흑색, 백색, 금속색 등의 다양한 컬러를 가질 수 있다. 차광 패턴은 컬러를 구현하기 위한 안료와, 아크릴계 수지, 에스테르계 수지, 에폭시계 수지, 폴리우레탄, 실리콘 등의 고분자로 형성할 수 있다. 이들의 단독 또는 2종류 이상의 혼합물로 사용할 수도 있다. 상기 차광 패턴은 인쇄, 리소그래피, 잉크젯 등 각종의 방법으로 형성할 수 있다. 차광 패턴의 두께는 통상 1∼100 ㎛, 바람직하게는 2∼50 ㎛이다. 또, 차광 패턴의 두께 방향으로 경사 등의 형상을 부여하는 것도 바람직하다.The light blocking pattern may be applied as at least a part of a bezel or a housing of the flexible image display device. The light-shielding pattern hides the wiring arranged at the marginal portion of the flexible image display device and makes it difficult to recognize the image, thereby improving the visibility of the image. The shading pattern may be in the form of a single layer or a multilayer. The color of the shading pattern is not particularly limited, and may have various colors such as black, white, and metallic colors. The shading pattern may be formed of a pigment for realizing color and a polymer such as acrylic resin, ester resin, epoxy resin, polyurethane, and silicone. These may be used alone or in a mixture of two or more. The shading pattern may be formed by various methods such as printing, lithography, and inkjet. The thickness of the shading pattern is usually 1 to 100 µm, preferably 2 to 50 µm. Moreover, it is also preferable to provide a shape such as an inclination in the thickness direction of the light shielding pattern.

[실시예][Example]

이하에, 실시예에 의해 본 발명을 더 상세하게 설명한다. 예 중의 「%」 및 「부(部)」는 특별히 기재하지 않는 한, 각각 질량% 및 질량부를 의미한다. 먼저 처음으로 물성값의 측정 방법을 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail by examples. "%" and "parts" in the examples mean mass% and mass parts, respectively, unless otherwise specified. First, a method of measuring physical property values will be described for the first time.

(중량평균 분자량(Mw)의 측정)(Measurement of weight average molecular weight (Mw))

수지의 중량평균 분자량은, 겔 침투 크로마토그래피(GPC)를 이용하여 측정하였다. 측정 시료의 조제 방법 및 측정 조건은 다음과 같다.The weight average molecular weight of the resin was measured using gel permeation chromatography (GPC). The preparation method and measurement conditions of the measurement sample are as follows.

(1) 시료 조제 방법(1) Sample preparation method

수지를 20 ㎎ 측정하여 넣고, 10 mL의 DMF(10 mmol 브롬화리튬)를 추가하고, 완전히 용해시켰다. 이 용액을 크로마토디스크(구멍 직경 0.45 ㎛)에 의해 여과하여, 시료 용액으로 하였다.20 mg of the resin was measured and added, 10 mL of DMF (10 mmol lithium bromide) was added, and completely dissolved. This solution was filtered through a chromatographic disk (pore diameter of 0.45 µm) to obtain a sample solution.

(2) 측정 조건(2) Measurement conditions

장치: HLC-8020GPCDevice: HLC-8020GPC

컬럼: 가드 컬럼+TSKgelα-M(300 ㎜×7.8 ㎜ 직경)×2개+α-2500(300 ㎜×7.8 ㎜ 직경)×1개Column: Guard column + TSKgelα-M (300 mm x 7.8 mm diameter) x 2 +α-2500 (300 mm x 7.8 mm diameter) x 1

용리액: DMF(10 mmol의 브롬화리튬 첨가)Eluent: DMF (10 mmol of lithium bromide added)

유량: 1.0 mL/분Flow: 1.0 mL/min

검출기: RI 검출기Detector: RI detector

컬럼 온도: 40℃Column temperature: 40℃

주입량: 100 μLInjection volume: 100 μL

분자량 표준: 표준 폴리스티렌Molecular weight standard: standard polystyrene

(찰과성 시험)(Abrasion test)

찰과성 시험은, 스틸 울 시험기((주)다이에이과학정기제작소 제)를 사용하여 행하였다. 구체적인 시험 방법을 도 1∼도 3을 참조하여 설명한다. 먼저, 도 1에 나타내는 광학 필름 시험 시료(3)를 작성하였다. 구체적으로는, 9 ㎝×9 ㎝의 유리판(31)에, 4.5 ㎝×9 ㎝의 광학 필름(1)을 놓고, 테이프(32)(쓰리엠컴퍼니 제, 스카치(등록상표) 테이프)로, 광학 필름(1)이 유리판(31)에 밀착되도록 고정하였다. 여기서, 유리판(31)의 광학 필름(1)의 탑재면과는 반대측의 면의 중앙부에, 사인펜으로, 관찰 위치를 나타내기 위한 1 ㎝×1 ㎝의 정사각형의 마킹(33)을 기재하였다. 다음으로, 도 2에 나타내는 필름 시험 시료(4)를 작성하였다. 도 2에, 필름 시험 시료(4)의 상면도 및 측면도를 나타낸다. 도 2 중의 필름(2)으로서, 2.5 ㎝×2.5 ㎝의 필름((주)생산일본사 제의 유니팩(등록상표), 두께 0.08 ㎜의 폴리에틸렌(PE) 필름)을 이용하여, 당해 필름을 유리판(41)에 양면 테이프(421)로 첩부하였다. 또, 유리판(41)의 필름(2)의 탑재면과는 반대측의 면에도, 도 3 중의 추(51)의 저면(底面)에 필름 시험 시료(4)를 고정하기 위한 양면 테이프(422)를 첩부하였다.The abrasion test was performed using a steel wool tester (manufactured by Daiei Science & Technology Co., Ltd.). A specific test method will be described with reference to FIGS. 1 to 3. First, the optical film test sample 3 shown in FIG. 1 was created. Specifically, a 4.5 cm x 9 cm optical film 1 was placed on a 9 cm x 9 cm glass plate 31, and a tape 32 (manufactured by 3M Company, Scotch (registered trademark) tape) was used as an optical film. (1) was fixed so as to be in close contact with the glass plate 31. Here, a 1 cm x 1 cm square marking 33 for indicating the observation position was described in the center of the surface of the glass plate 31 on the opposite side to the mounting surface of the optical film 1 with a sign pen. Next, the film test sample 4 shown in FIG. 2 was created. In FIG. 2, a top view and a side view of the film test sample 4 are shown. As the film 2 in Fig. 2, a film of 2.5 cm x 2.5 cm (Unipack (registered trademark) manufactured by Japan Co., Ltd., a polyethylene (PE) film having a thickness of 0.08 mm) was used, and the film was formed on a glass plate. It affixed to (41) with double-sided tape 421. In addition, a double-sided tape 422 for fixing the film test sample 4 to the bottom surface of the weight 51 in FIG. 3 on the side opposite to the mounting surface of the film 2 of the glass plate 41 is also provided. Attached.

상기와 같이 하여 제작한 광학 필름 시험 시료(3)를, 도 3에 나타내는 바와 같이, 광학 필름(1)이 상면이 되도록, 측정 장치의 측정대(52)에 고정하였다. 다음으로, 필름 시험 시료(4)를, 필름(2)이 하면이 되도록, 추(51)(500 g)의 저면에 첩부하고, 광학 필름(1)과 필름(2)를, 500 gf의 하중을 걸어 접촉시켰다. 필름 시험 시료(4)를 첩부한 추(51)를, 도 3 중의 화살표의 방향으로 1 왕복/초의 속도로 서로 문질렀다. 또한, 도 3 중의 화살표의 방향은, 도 1 중의 화살표의 방향에 상당하고, 1 왕복의 이동 거리는 5 ㎝였다. 100 왕복마다, 광학현미경((주)기엔스 제, VHX-2000)을 이용하여 30배의 배율로, 광학 필름 상의 마킹(33) 내를 관찰하여, 흠집의 유무를 확인하고, 다음의 1∼5의 평가 기준으로 평가하여, 4 및 5는 양호, 3 이하의 평가는 불량이라고 하였다.The optical film test sample 3 produced as described above was fixed to the measuring table 52 of the measuring device so that the optical film 1 became the upper surface, as shown in FIG. 3. Next, the film test sample 4 was affixed to the bottom surface of the weight 51 (500 g) so that the film 2 is the lower surface, and the optical film 1 and the film 2 were loaded with a load of 500 gf. To make contact. The weights 51 to which the film test sample 4 was attached were rubbed against each other at a speed of 1 reciprocation/second in the direction of the arrow in FIG. 3. In addition, the direction of the arrow in FIG. 3 corresponds to the direction of the arrow in FIG. 1, and the movement distance of one reciprocation was 5 cm. Every 100 round trips, by using an optical microscope (manufactured by Giens Co., Ltd., VHX-2000), at a magnification of 30 times, the inside of the marking 33 on the optical film was observed, and the presence or absence of a scratch was confirmed, and the following 1 to It evaluated by the evaluation criteria of 5, 4 and 5 were said to be good, and the evaluation of 3 or less was said to be poor.

(찰과성 평가)(Abrasion evaluation)

5: 500회의 왕복 후에 흠집이 확인되지 않는다.5: No scratches were observed after 500 round trips.

4: 400회의 왕복 후에는 흠집이 확인되지 않지만 500회의 왕복 후에 흠집이 확인된다.4: After 400 round trips, no scratches were confirmed, but after 500 round trips, scratches were confirmed.

3: 300회의 왕복 후에는 흠집이 확인되지 않지만 400회의 왕복 후에 흠집이 확인된다.3: After 300 round trips, no scratch was confirmed, but after 400 round trips, scratch was confirmed.

2: 200회의 왕복 후에는 흠집이 확인되지 않지만 300회의 왕복 후에 흠집이 확인된다.2: After 200 round trips, no scratches are found, but after 300 round trips, scratches are confirmed.

1: 100회의 왕복 후에는 흠집이 확인되지 않지만 200회의 왕복 후에 흠집이 확인된다.1: After 100 round trips, scratches are not confirmed, but after 200 round trips, scratches are confirmed.

0: 100회의 왕복 후에 흠집이 확인된다.0: A scratch is confirmed after 100 round trips.

(전광선투과율의 측정)(Measurement of total light transmittance)

광학 필름의 전광선투과율은, JIS K 7105:1981에 준거하여, 스가시험기(주) 제의 전자동 직독 헤이즈 컴퓨터 HGM-2DP에 의해 측정하였다.The total light transmittance of the optical film was measured by a fully automatic direct reading haze computer HGM-2DP manufactured by Suga Testing Instruments Co., Ltd. in accordance with JIS K 7105:1981.

(헤이즈의 측정)(Measurement of haze)

광학 필름의 헤이즈는, JIS K 7105:1981에 준거하여, 스가시험기(주) 제의 전자동 직독 헤이즈 컴퓨터 HGM-2DP에 의해 측정하였다.The haze of the optical film was measured by a fully automatic direct reading haze computer HGM-2DP manufactured by Suga Testing Instruments Co., Ltd. in accordance with JIS K 7105:1981.

(탄성률의 측정)(Measurement of modulus of elasticity)

실시예 및 비교예에서 얻어진 광학 필름을, 덤벨 커터를 이용하여 10 ㎜×100 ㎜의 세로가 긴 직사각형 형상(短冊狀)으로 잘라, 시험 샘플을 얻었다. 이 시험 샘플의 탄성률을 (주)시마즈제작소 제 오토그래프 AG-IS를 이용하여, 척 간 거리 50 ㎜, 인장 속도 10 ㎜/분의 조건으로 응력-왜곡 곡선(S-S 곡선)을 측정하여, 응력의 5∼20 ㎫에 있어서의 기울기로부터 광학 필름의 탄성률(㎬)을 산출하였다.The optical films obtained in Examples and Comparative Examples were cut into a 10 mm×100 mm long rectangular shape using a dumbbell cutter to obtain a test sample. The elastic modulus of this test sample was measured by measuring the stress-strain curve (SS curve) under conditions of a distance between chuck of 50 mm and a tensile speed of 10 mm/min using Autograph AG-IS manufactured by Shimadzu Corporation. The elastic modulus (GPa) of the optical film was calculated from the inclination in 5 to 20 MPa.

(두께의 측정)(Measurement of thickness)

실시예 및 비교예에서 얻어진 광학 필름에 대하여, ABS 디지매틱 인디케이터((주)미쯔토요 제, 「ID-C112BS」)를 이용하여, 광학 필름의 두께를 측정하였다.For the optical films obtained in Examples and Comparative Examples, the thickness of the optical film was measured using an ABS Digimatic Indicator (manufactured by Mitsutoyo Co., Ltd., "ID-C112BS").

(비행시간형 2차 이온 질량분석(TOF-SIMS)의 측정)(Measurement of time-of-flight secondary ion mass spectrometry (TOF-SIMS))

라이카 마이크로 시스템즈(주) 제 「울트라 미크로톰 EM UC6」을 이용하여, 광학 필름의 단면을 제작하였다.Using "Ultra Microtome EM UC6" manufactured by Leica Microsystems Co., Ltd., a cross section of an optical film was produced.

제작한 수지 필름의 단면을, TOF-SIMS에 의해 분석하였다. 분석에 이용한 TOF-SIMS 장치와 측정 조건은, 이하와 같다.The cross section of the produced resin film was analyzed by TOF-SIMS. The TOF-SIMS device and measurement conditions used for analysis are as follows.

(1) 장치: ION-TOF사 제 「TOF. SIMS V」(1) Device: ION-TOF's "TOF. SIMS V」

(2) 일차 이온: Bi3++ (2) Primary ion: Bi 3++

(3) 일차 이온의 가속 전압: 25 ㎸(3) Acceleration voltage of primary ions: 25 kV

(4) 조사 이온 전류: 0.23 ㎀(4) Irradiation ion current: 0.23 ㎀

(5) 측정 조건: 번칭(고질량 분해능) 모드로, 정 이온·부 이온을 측정(5) Measurement conditions: In bunching (high mass resolution) mode, positive and negative ions are measured.

(6) 측정 범위: 200 ㎛×200 ㎛(6) Measurement range: 200 μm×200 μm

TOF-SIMS의 데이터 해석은 SurfaceLab을 이용하였다. 측정 데이터의 매스 캘리브레이션을 실시하여, K 이온과 CH3 이온에 귀속되는 피크 각각에 대하여, 피크의 적분값을 산출하였다. K 이온의 피크의 적분값을 K의 이온 강도(IK), CH3 이온의 피크의 적분값을 CH3의 이온 강도(ICH3)라고 하여, 비(IK/ICH3)를 산출하였다.The TOF-SIMS data was analyzed using SurfaceLab. Mass calibration of the measurement data was performed, and the integral value of the peak was calculated for each of the peaks attributed to K ions and CH 3 ions. The ratio (I K /I CH3 ) was calculated by using the integral value of the peak of K ions as the ionic strength of K (I K ) and the integrated value of the peak of CH 3 ions as the ionic strength of CH 3 (I CH3 ).

(점도의 측정)(Measurement of viscosity)

수지 조성물의 점도는, 다음의 조건으로 측정하였다.The viscosity of the resin composition was measured under the following conditions.

장치명: LVDV-II+Pro(브룩필드사 제)Device name: LVDV-II+Pro (manufactured by Brookfield)

측정 온도: 25℃Measurement temperature: 25℃

스핀들: CPE-52Spindle: CPE-52

샘플량: 0.8 mLSample volume: 0.8 mL

로터 회전 속도: 3 rpmRotor rotation speed: 3 rpm

[합성예 1: 폴리아미드이미드 수지 (1)의 제조][Synthesis Example 1: Preparation of polyamideimide resin (1)]

충분히 건조시킨 교반기와 온도계를 구비하는 반응 용기에, 질소를 도통시켜, 용기 내를 질소로 치환하였다. 당해 반응 용기에, 디메틸아세트아미드(DMAc) 1907.2 질량부를 넣고, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘(TFMB) 111.94 질량부와 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 2 무수물(6FDA) 46.84 질량부를 추가하여 반응시켰다.Nitrogen was conducted to a reaction vessel equipped with a sufficiently dried stirrer and thermometer, and the inside of the vessel was replaced with nitrogen. In this reaction vessel, 1907.2 parts by mass of dimethylacetamide (DMAc) was put, and 111.94 parts by mass of 2,2′-bis(trifluoromethyl)benzidine (TFMB) and 4,4′-(hexafluoroisopropylidene) di It was reacted by adding 46.84 parts by mass of phthalic acid dianhydride (6FDA).

이어서, 4,4'-옥시비스(벤조일클로라이드)(OBBC) 10.37 질량부와 테레프탈로일클로라이드(TPC) 42.79 질량부를 추가하여 반응시켰다.Then, 10.37 parts by mass of 4,4'-oxybis(benzoyl chloride) (OBBC) and 42.79 parts by mass of terephthaloyl chloride (TPC) were added and reacted.

이어서, 무수아세트산 37.66 질량부를 추가하고, 15분간 교반한 후, 4-피콜린 11.45 질량부를 추가하고, 반응 용기를 70℃로 승온하고, 추가로 3시간 교반하여, 반응액을 얻었다.Subsequently, 37.66 parts by mass of acetic anhydride was added, and after stirring for 15 minutes, 11.45 parts by mass of 4-picoline was added, the reaction vessel was heated to 70° C., and stirred for an additional 3 hours to obtain a reaction solution.

반응액을 냉각하고, 메탄올 3794.5 질량부를 추가하고, 이어서 이온 교환수를 1419.4 질량부 적하하여, 백색 고체를 석출시켰다. 석출한 백색 고체를 원심 여과에 의해 포집하고, 메탄올로 세정함으로써, 폴리아미드이미드 수지를 포함하는 웨트 케이크를 얻었다. 얻어진 웨트 케이크를 감압 하, 78℃에서 건조시킴으로써 폴리아미드이미드 수지의 분체(粉體)를 얻었다. 얻어진 폴리아미드이미드 수지 (1)의 중량평균 분자량은 466,000이었다.The reaction solution was cooled, 3794.5 parts by mass of methanol was added, and then 1419.4 parts by mass of ion-exchanged water was added dropwise to precipitate a white solid. The precipitated white solid was collected by centrifugal filtration and washed with methanol to obtain a wet cake containing a polyamideimide resin. The obtained wet cake was dried at 78° C. under reduced pressure to obtain a powder of a polyamideimide resin. The weight average molecular weight of the obtained polyamideimide resin (1) was 466,000.

[합성예 2: 폴리아미드이미드 수지 (2)의 제조][Synthesis Example 2: Preparation of polyamideimide resin (2)]

충분히 건조시킨 교반기와 온도계를 구비하는 반응 용기에, 질소를 도통시켜, 용기 내를 질소로 치환하였다. 반응 용기 내에, DMAc 250.00 질량부, TFMB 14.64 질량부를 첨가하고, 실온에서 교반하면서 TFMB를 DMAc에 용해시켰다. 다음으로, 6FDA 6.15 질량부와, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르본산 2 무수물(BPDA) 1.36 질량부를 첨가하고, 실온에서 16시간 교반하였다. 이어서, TPC 2.53 질량부를 첨가하여 10분 교반한 후, 추가로 TPC 2.53 질량부를 첨가하여 20분 교반하였다. DMAc 250.00 질량부를 첨가하고, 10분 교반한 후에, 추가로 TPC 0.56 질량부를 첨가하여 실온에서 2시간 교반하였다.Nitrogen was conducted to a reaction vessel equipped with a sufficiently dried stirrer and thermometer, and the inside of the vessel was replaced with nitrogen. To the reaction vessel, 250.00 parts by mass of DMAc and 14.64 parts by mass of TFMB were added, and TFMB was dissolved in DMAc while stirring at room temperature. Next, 6.15 parts by mass of 6 FDA and 1.36 parts by mass of 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA) were added, followed by stirring at room temperature for 16 hours. Then, 2.53 parts by mass of TPC was added and stirred for 10 minutes, and then 2.53 parts by mass of TPC were further added and stirred for 20 minutes. After adding 250.00 parts by mass of DMAc and stirring for 10 minutes, 0.56 parts by mass of TPC was further added, followed by stirring at room temperature for 2 hours.

이어서, 플라스크에 4-피콜린 2.58 질량부와 무수 아세트산 13.20 질량부를 추가하고, 실온에서 30분간 교반한 후, 반응 용기를 70℃로 승온하고, 추가로 3시간 교반하여, 반응액을 얻었다.Next, 2.58 parts by mass of 4-picoline and 13.20 parts by mass of acetic anhydride were added to the flask, and after stirring at room temperature for 30 minutes, the reaction vessel was heated to 70° C. and stirred for an additional 3 hours to obtain a reaction solution.

반응액을 냉각하고, 40℃ 이하로 내려간 지점에서, 메탄올 888 질량부를 추가하고, 이어서 이온 교환수를 344 질량부 적하하고, 백색 고체를 석출시켰다. 석출한 백색 고체를 감압 여과에 의해 포집하고, 메탄올로 세정함으로써, 폴리아미드이미드 수지를 포함하는 웨트 케이크를 얻었다. 얻어진 웨트 케이크를 감압 하, 75℃에서 건조시킴으로써 폴리아미드이미드 수지의 분체를 얻었다. 얻어진 폴리아미드이미드 수지 (2)의 중량평균 분자량은 290,000이었다.The reaction solution was cooled, and 888 parts by mass of methanol was added at the point where it went down to 40°C or less, and then 344 parts by mass of ion-exchanged water was added dropwise thereto to precipitate a white solid. The precipitated white solid was collected by filtration under reduced pressure and washed with methanol to obtain a wet cake containing a polyamideimide resin. The obtained wet cake was dried at 75°C under reduced pressure to obtain a powder of a polyamideimide resin. The weight average molecular weight of the obtained polyamideimide resin (2) was 290,000.

[t-BuOK 용액의 제조][Preparation of t-BuOK solution]

칼륨 함유 성분으로서, 칼륨 t-부톡시드(이하에 있어서 「t-BuOK」라고도 칭하는, 칼륨 원자를 포함하는 화합물)를 1몰% 포함하는, t-BuOK의 THF 용액(와코쥰야쿠공업(주) 제)을 DMAc로 희석하고, t-BuOK를 0.2 질량%의 농도로 함유하는 용액(이하에 있어서 「t-BuOK 용액」이라고도 칭함)을 조제하였다.A THF solution of t-BuOK (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) containing 1 mol% of potassium t-butoxide (a compound containing a potassium atom hereinafter also referred to as ``t-BuOK'') as a potassium-containing component Agent) was diluted with DMAc, and a solution containing t-BuOK at a concentration of 0.2% by mass (hereinafter also referred to as "t-BuOK solution") was prepared.

[실시예 1][Example 1]

합성예 1에서 얻은 폴리아미드이미드 수지 (1), DMAc, 및 상기와 같이 제조한 t-BuOK 용액을, 수지 조성물에 있어서의 폴리아미드이미드 수지의 함유 비율이 9.0 질량%이고, t-BuOK의 함유 비율이 0.01 질량%가 되는 양으로 혼합하여, 폴리아미드이미드 수지 조성물(성막용의 바니시)을 조제하였다. 얻어진 수지 조성물을, 폴리에스테르 기재(도요보(주) 제, 상품명 「A4100」)의 평활면 상에 자립막의 두께가 55 ㎛가 되도록 애플리케이터를 이용하여 도포하고, 50℃에서 30분간, 이어서 140℃에서 15분간 건조 후, 얻어진 도막을 폴리에스테르 기재로부터 박리하여, 자립막을 얻었다. 자립막을 금속틀에 고정하고, 추가로 대기 하, 200℃에서 40분간 건조하여, 50 ㎛의 두께를 갖는 폴리아미드이미드 수지 필름 (1)을 얻었다.The polyamideimide resin (1), DMAc, and the t-BuOK solution prepared as described above were obtained in Synthesis Example 1, wherein the content ratio of the polyamideimide resin in the resin composition was 9.0% by mass, and t-BuOK was contained. The mixture was mixed in an amount such that the ratio was 0.01% by mass to prepare a polyamideimide resin composition (varnish for film formation). The obtained resin composition was applied using an applicator so that the thickness of the self-supporting film was 55 µm on the smooth surface of a polyester substrate (manufactured by Toyobo Co., Ltd., brand name "A4100"), and then at 50°C for 30 minutes, then 140°C After drying for 15 minutes, the obtained coating film was peeled from the polyester substrate to obtain a self-supporting film. The self-supporting film was fixed to a metal frame, and further dried at 200°C for 40 minutes under air to obtain a polyamideimide resin film (1) having a thickness of 50 μm.

[실시예 2][Example 2]

합성예 1에서 얻은 폴리아미드이미드 수지 (1), DMAc, 및 상기와 같이 제조한 t-BuOK 용액을, 수지 조성물에 있어서의 폴리아미드이미드 수지의 함유 비율이 9.0 질량%이고, t-BuOK의 함유 비율이 0.1 질량%가 되는 양으로 혼합하여, 폴리아미드이미드 수지 조성물을 조제하였다. 이와 같이 하여 얻어진 수지 조성물을 이용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 50 ㎛의 두께를 갖는 폴리아미드이미드 수지 필름 (2)를 얻었다.The polyamideimide resin (1), DMAc, and the t-BuOK solution prepared as described above were obtained in Synthesis Example 1, wherein the content ratio of the polyamideimide resin in the resin composition was 9.0% by mass, and t-BuOK was contained. The mixture was mixed in an amount of 0.1% by mass to prepare a polyamide-imide resin composition. Except having used the resin composition obtained in this way, it carried out similarly to Example 1, and obtained the polyamide-imide resin film (2) which has a thickness of 50 micrometers.

[실시예 3][Example 3]

합성예 2에서 얻은 폴리아미드이미드 수지 (2), DMAc, 및 상기와 같이 제조한 t-BuOK 용액을, 수지 조성물에 있어서의 폴리아미드이미드 수지의 함유 비율이 10.8 질량%이고, t-BuOK의 함유 비율이 0.1 질량%가 되는 양으로 혼합하여, 폴리아미드이미드 수지 조성물을 조제하였다. 이와 같이 하여 얻어진 수지 조성물을 이용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 50 ㎛의 두께를 갖는 폴리아미드이미드 수지 필름 (3)을 얻었다.The polyamideimide resin (2) obtained in Synthesis Example 2, DMAc, and the t-BuOK solution prepared as described above, the content ratio of the polyamideimide resin in the resin composition is 10.8 mass%, and the content of t-BuOK The mixture was mixed in an amount of 0.1% by mass to prepare a polyamide-imide resin composition. Except having used the thus obtained resin composition, it carried out similarly to Example 1, and obtained the polyamideimide resin film (3) which has a thickness of 50 micrometers.

[비교예 1][Comparative Example 1]

합성예 1에서 얻은 폴리아미드이미드 수지 (1) 및 DMAc를, 수지 조성물에 있어서의 폴리아미드이미드 수지의 함유 비율이 9.0 질량%가 되는 양으로 혼합하여, 폴리아미드이미드 수지 조성물을 조제하였다. 이와 같이 하여 얻어진 수지 조성물을 이용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 50 ㎛의 두께를 갖는 폴리아미드이미드 수지 필름 (4)를 얻었다.The polyamideimide resin (1) and DMAc obtained in Synthesis Example 1 were mixed in an amount such that the content ratio of the polyamideimide resin in the resin composition was 9.0% by mass, to prepare a polyamideimide resin composition. Except having used the resin composition obtained in this way, it carried out similarly to Example 1, and obtained the polyamide-imide resin film (4) which has a thickness of 50 micrometers.

실시예 1∼3 및 비교예 1에서 얻은 폴리아미드이미드 수지 필름 (1)∼(4)에 대하여 각종 물성을 측정한 결과를 표 1에 나타낸다.Table 1 shows the results of measuring various physical properties of the polyamideimide resin films (1) to (4) obtained in Examples 1 to 3 and Comparative Example 1.

Figure pat00016
Figure pat00016

[실시예 4 및 5][Examples 4 and 5]

합성예 1에서 얻은 폴리아미드이미드 수지 (1), DMAc, 및 상기와 같이 제조한 t-BuOK 용액을, 수지 조성물에 있어서의 폴리아미드이미드 수지의 함유 비율이 9.0 질량%이고, t-BuOK의 함유 비율이 0.2 질량%(실시예 4) 또는 1 질량%(실시예 5)가 되는 양으로 혼합하여, 폴리아미드이미드 수지 조성물을 조제하였다.The polyamideimide resin (1), DMAc, and the t-BuOK solution prepared as described above were obtained in Synthesis Example 1, wherein the content ratio of the polyamideimide resin in the resin composition was 9.0% by mass, and t-BuOK was contained. The mixture was mixed in an amount of 0.2% by mass (Example 4) or 1% by mass (Example 5) to prepare a polyamideimide resin composition.

실시예 1, 2, 4 및 5, 및 비교예 1에서 얻은 폴리아미드이미드 수지 조성물의 각각에 대하여, 상기의 측정 방법에 따라 점도를 측정하였다. 얻어진 결과를 표 2에 나타낸다.For each of the polyamideimide resin compositions obtained in Examples 1, 2, 4 and 5, and Comparative Example 1, the viscosity was measured according to the above measurement method. Table 2 shows the obtained results.

Figure pat00017
Figure pat00017

표 1에 나타내는 바와 같이, 바니시에 t-BuOK를 첨가한, TOF-SIMS에 의한 이온 강도의 비율(IK/ICH3)이 0.2 이상인 실시예 1∼3의 광학 필름은, 높은 탄성률을 갖고, 또한, 내찰과성이 우수하다는 것이 확인되었다. 한편, 바니시에 t-BuOK를 첨가하지 않은 비교예 1의 광학 필름의 경우에는, 충분한 내찰과성 및 탄성률이 얻어지지 않았다. 또, 표 2에 나타내는 바와 같이, 수지 조성물에 칼륨 함유 성분을 첨가함으로써, 수지 조성물의 점도가 높아지는 경향이 있다는 것이 확인되었다. 칼륨 함유 성분을 첨가함으로써, 수지 조성물의 점도가 높아지는 원인은 명백하지는 않지만, 수지 중의 관능기, 예를 들면, 이미드 결합 및/또는 아미드 결합과, 칼륨 함유 성분(칼륨 원자를 포함하는 화합물, 칼륨 및/또는 칼륨 이온)과의 사이에서 무엇인가의 상호 작용이 생기고 있는 것이 예상된다. 이와 같은 상호 작용에 의해, 얻어지는 광학 필름의 내찰과성의 향상 및 탄성률의 향상이 초래된다고 생각되지만, 당해 고찰은, 본 발명을 하등 한정하는 것은 아니다.As shown in Table 1, the optical films of Examples 1 to 3 in which t-BuOK was added to the varnish and the ionic strength ratio (I K / I CH 3 ) by TOF-SIMS was 0.2 or more had a high elastic modulus, In addition, it was confirmed that the abrasion resistance was excellent. On the other hand, in the case of the optical film of Comparative Example 1 in which t-BuOK was not added to the varnish, sufficient abrasion resistance and elastic modulus were not obtained. Moreover, as shown in Table 2, it was confirmed that the viscosity of the resin composition tends to increase by adding a potassium-containing component to the resin composition. The cause of the increase in the viscosity of the resin composition by adding the potassium-containing component is not clear, but functional groups in the resin, such as imide bonds and/or amide bonds, and potassium-containing components (compounds containing potassium atoms, potassium and / Or potassium ion) and some kind of interaction is expected to occur. It is thought that the improvement of the abrasion resistance and the elasticity modulus of the obtained optical film are brought about by such an interaction, but the said consideration does not limit this invention at all.

1: 광학 필름
2: 필름
3: 광학 필름 시험 시료
31: 유리판
32: 테이프
33: 마킹
4: 필름 시험 시료
41: 유리판
421: 양면 테이프
422: 양면 테이프
51: 추
52: 측정대
1: optical film
2: film
3: Optical film test sample
31: glass plate
32: tape
33: marking
4: Film test sample
41: glass plate
421: double-sided tape
422: double sided tape
51: pendulum
52: measuring table

Claims (13)

폴리이미드계 수지 및 폴리아미드계 수지로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 수지를 포함하는 광학 필름으로서, 당해 광학 필름의 비행시간형 2차 이온 질량분석법에 의해 얻어지는 CH3의 이온 강도(ICH3)에 대한 K의 이온 강도(IK)의 비율(IK/ICH3)이 0.2 이상인, 광학 필름.An optical film comprising at least one resin selected from the group consisting of a polyimide resin and a polyamide resin, the ionic strength of CH 3 obtained by the time-of-flight secondary ion mass spectrometry of the optical film (I CH3 The ratio of the ionic strength (I K ) of K to ) (I K /I CH3 ) is 0.2 or more. 제 1 항에 있어서,
폴리이미드계 수지 및 폴리아미드계 수지는 방향족계의 수지인, 광학 필름.
The method of claim 1,
An optical film in which the polyimide resin and the polyamide resin are aromatic resins.
제 1 항에 있어서,
폴리이미드계 수지 및 폴리아미드계 수지에 있어서의 전체 구성 단위에 대한 방향족계 모노머에 유래하는 구성 단위의 비율이 60 몰% 이상인, 광학 필름.
The method of claim 1,
An optical film in which the ratio of the structural units derived from the aromatic monomer to all the structural units in the polyimide resin and the polyamide resin is 60 mol% or more.
제 1 항에 있어서,
두께가 10∼100 ㎛이고, 전광선투과율이 80% 이상인, 광학 필름.
The method of claim 1,
An optical film having a thickness of 10 to 100 µm and a total light transmittance of 80% or more.
제 1 항에 있어서,
폴리이미드계 수지 및 폴리아미드계 수지의 중량평균 분자량이 200,000 이상인, 광학 필름.
The method of claim 1,
An optical film having a weight average molecular weight of 200,000 or more of a polyimide-based resin and a polyamide-based resin.
제 1 항에 있어서,
폴리이미드계 수지는 폴리아미드이미드 수지인, 광학 필름.
The method of claim 1,
The polyimide resin is an optical film which is a polyamideimide resin.
제 1 항에 있어서,
폴리이미드계 수지 및 폴리아미드계 수지는 테레프탈산에 유래하는 구성 단위를 포함하는, 광학 필름.
The method of claim 1,
An optical film in which the polyimide resin and the polyamide resin contain structural units derived from terephthalic acid.
제 1 항에 있어서,
탄성률이 5.0 ㎬ 이상인, 광학 필름.
The method of claim 1,
An optical film having an elastic modulus of 5.0 GPa or more.
제 1 항에 있어서,
플렉시블 표시 장치의 전면판용의 필름인, 광학 필름.
The method of claim 1,
An optical film which is a film for a front plate of a flexible display device.
제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 기재된 광학 필름을 구비하는 플렉시블 표시 장치.A flexible display device comprising the optical film according to any one of claims 1 to 9. 제 10 항에 있어서,
터치 센서를 추가로 구비하는, 플렉시블 표시 장치.
The method of claim 10,
A flexible display device further comprising a touch sensor.
제 10 항에 있어서,
편광판을 추가로 구비하는, 플렉시블 표시 장치.
The method of claim 10,
A flexible display device further comprising a polarizing plate.
폴리이미드계 수지 및 폴리아미드계 수지로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 수지와, 칼륨 원자를 포함하는 화합물, 칼륨 및 칼륨 이온으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 칼륨 함유 성분과, 용매를 적어도 포함하는, 수지 조성물.At least one resin selected from the group consisting of polyimide resins and polyamide resins, a compound containing potassium atoms, at least one potassium containing component selected from the group consisting of potassium and potassium ions, and a solvent A resin composition containing at least.
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