KR102077639B1 - Optical film - Google Patents

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KR102077639B1
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다카시 아리무라
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스미또모 가가꾸 가부시키가이샤
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Abstract

저황색도(YI값)와 고탄성률을 양립할 수 있는 광학 필름을 제공한다.
폴리아미드이미드계 수지를 포함하고, 필름 단면을 비행 시간형 2차 이온 질량분석법으로 측정했을 때에, 메톡시 이온 강도(A)와 규소 이온 강도(B)의 강도비(A/B)는 0.02 이상인, 광학 필름.
Provided is an optical film capable of achieving low yellowness (YI value) and high elastic modulus.
Including a polyamide-imide-based resin, when the film cross section is measured by the time-of-flight secondary ion mass spectrometry, the intensity ratio (A / B) of methoxy ionic strength (A) and silicon ionic strength (B) is 0.02 or more. , Optical film.

Description

광학 필름{OPTICAL FILM}Optical film {OPTICAL FILM}

본 발명은, 화상 표시장치의 전면판 등으로서 이용되는 광학 필름 및 그 제조 방법과, 당해 광학 필름을 구비하는 플렉시블 화상 표시장치에 관한 것이다.This invention relates to the optical film used as a front plate etc. of an image display apparatus, its manufacturing method, and the flexible image display apparatus provided with the said optical film.

액정 표시장치나 유기 EL 표시장치 등의 화상 표시장치는, 휴대전화나 스마트 워치와 같은 다양한 용도에 널리 활용되고 있다. 이러한 화상 표시장치의 전면판으로서 유리가 이용되어 왔지만, 유리는 매우 강직하고, 깨지기 쉽기 때문에, 예를 들면 플렉시블 디스플레이 등의 전면판 재료로서의 이용은 어렵다. 유리를 대신하는 재료 중 하나로서, 폴리이미드 수지가 있으며, 이러한 수지를 이용한 광학 필름이 검토되고 있다(예를 들면 특허문헌 1).Image display apparatuses, such as a liquid crystal display device and an organic electroluminescence display, are widely utilized for various uses, such as a mobile telephone and a smart watch. Although glass has been used as the front plate of such an image display device, since glass is very rigid and brittle, it is difficult to use it as a front plate material, such as a flexible display, for example. As one of the materials replacing the glass, there is a polyimide resin, and an optical film using such a resin is studied (for example, Patent Document 1).

국제공개 제2017/119450호International Publication No. 2017/119450

이러한 화상 표시장치의 전면판에 사용되는 광학 필름은, 저황색도(YI값) 등의 우수한 광학 특성에 더해 높은 탄성률이 요구된다. 그러나, 본 발명자의 검토에 의하면, 폴리이미드 수지를 포함해 이루어지는 광학 필름은, 저황색도(YI값)와 고탄성률을 양립할 수 없는 경우가 있는 것을 알 수 있었다.The optical film used for the front plate of such an image display apparatus requires a high elastic modulus in addition to the outstanding optical characteristics, such as low yellowness (YI value). However, according to the examination by the present inventors, it turned out that the optical film containing a polyimide resin may not be compatible with low yellowness (YI value) and high elastic modulus.

따라서, 본 발명의 목적은, 저황색도(YI값)와 고탄성률을 양립할 수 있는 광학 필름 및 그 제조 방법과, 당해 광학 필름을 구비하는 플렉시블 화상 표시장치를 제공하는 것에 있다.Therefore, the objective of this invention is providing the optical film which can make low yellowness (YI value) and high elastic modulus compatible, its manufacturing method, and the flexible image display apparatus provided with the said optical film.

본 발명자는, 상기 과제를 해결하기 위해서 예의 검토한 결과, 광학 필름에 폴리아미드이미드계 수지를 포함하고, 당해 필름 단면을 비행 시간형 2차 이온 질량분석법으로 측정했을 때에, 메톡시 이온 강도(A)와 규소 이온 강도(B)의 강도비(A/B)가 0.02 이상이면, 상기 목적이 달성되는 것을 발견하여 본 발명을 완성하기에 이르렀다. 즉, 본 발명에는 이하의 양태가 포함된다.MEANS TO SOLVE THE PROBLEM As a result of earnestly examining in order to solve the said subject, when an optical film contains a polyamide-imide-type resin and measured the said film cross section by time-of-flight type | mold secondary ion mass spectrometry, a methoxy ion intensity (A When the ratio (A / B) of the (I) and the silicon ionic strength (B) is 0.02 or more, it was found that the above object is achieved and the present invention has been completed. That is, the following aspects are included in the present invention.

[1] 폴리아미드이미드계 수지를 포함하는 광학 필름으로서, 당해 필름 단면을 비행 시간형 2차 이온 질량분석법으로 측정했을 때에, 메톡시 이온 강도(A)와 규소 이온 강도(B)의 강도비(A/B)는 0.02 이상인, 광학 필름.[1] An optical film containing a polyamideimide-based resin, wherein when the film cross section is measured by a time-of-flight secondary ion mass spectrometry, an intensity ratio between methoxy ionic strength (A) and silicon ionic strength (B) ( A / B) is 0.02 or more, an optical film.

[2] 실리카 입자를 포함하고, 당해 실리카 입자의 함유량은, 광학 필름의 질량에 대해서 45질량% 이하인, [1]에 기재된 광학 필름.[2] The optical film according to [1], wherein the silica particles are contained and the content of the silica particles is 45% by mass or less with respect to the mass of the optical film.

[3] 막두께는 20μm 이상인, [1] 또는 [2]에 기재된 광학 필름.[3] The optical film according to [1] or [2], wherein the film thickness is 20 µm or more.

[4] 폴리아미드이미드계 수지의 중량 평균 분자량은 100,000~500,000인, [1]~[3] 중 어느 하나에 기재된 광학 필름.[4] The optical film according to any one of [1] to [3], wherein the weight average molecular weight of the polyamide-imide resin is 100,000 to 500,000.

[5] 메탄올 분산 실리카 졸을 용매 치환하는 공정을 포함하는, [1]~[4] 중 어느 하나에 기재된 광학 필름을 제조하는 방법.[5] The method for producing the optical film according to any one of [1] to [4], including a step of solvent-substituting a methanol-dispersed silica sol.

[6] 추가로, 용매 치환된 실리카 졸과 폴리아미드이미드계 수지를 혼합해서 바니쉬를 조제하는 공정을 포함하는, [5]에 기재된 방법.[6] The method according to [5], further comprising a step of preparing a varnish by mixing a solvent-substituted silica sol with a polyamideimide-based resin.

[7] 추가로, 상기 바니쉬를 기재에 도포하여 도막을 형성하는 공정을 포함하는, [6]에 기재된 방법.[7] The method of [6], further comprising the step of applying the varnish to the substrate to form a coating film.

[8] 추가로, 상기 도막을 건조시켜 광학 필름을 형성하는 공정을 포함하는, [7]에 기재된 방법.[8] The method of [7], further comprising a step of drying the coating film to form an optical film.

[9] [1]~[4] 중 어느 하나에 기재된 광학 필름을 구비하는, 플렉시블 화상 표시장치.[9] A flexible image display device comprising the optical film according to any one of [1] to [4].

[10] 추가로 편광판을 함유하는, [9]에 기재된 플렉시블 화상 표시장치.[10] The flexible image display device according to [9], further comprising a polarizing plate.

[11] 추가로 터치 센서를 함유하는, [9] 또는 [10]에 기재된 플렉시블 화상 표시장치.[11] The flexible image display device according to [9] or [10], further comprising a touch sensor.

본 발명의 광학 필름은, 저황색도(YI값)와 고탄성률을 양립할 수 있기 때문에, 화상 표시장치의 전면판 재료로서 사용할 수 있다.Since the low yellowness (YI value) and a high elastic modulus are compatible, the optical film of this invention can be used as a front plate material of an image display apparatus.

이하, 본 발명의 실시형태에 대해 상세하게 설명한다. 또한, 본 발명의 범위는 여기에서 설명하는 실시형태로 한정되는 것은 아니고, 본 발명의 취지를 벗어나지 않는 범위에서 다양한 변경을 할 수 있다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, embodiment of this invention is described in detail. In addition, the scope of the present invention is not limited to embodiment described here, A various change is possible in the range which does not deviate from the meaning of this invention.

[광학 필름][Optical film]

본 발명의 광학 필름은, 폴리아미드이미드계 수지를 포함하고, 당해 필름 단면을 비행 시간형 2차 이온 질량 분석(Time-of-Flight Secondary Ion Mass Spectrometry: TOF-SIMS)법으로 측정했을 때에, 메톡시(MeOH) 이온 강도(A)와 규소(Si) 이온 강도(B)의 강도비(A/B)가 0.02 이상이다.The optical film of this invention contains a polyamide-imide-type resin, and when the said film cross section is measured by time-of-flight secondary ion mass spectrometry (TOF-SIMS) method, The intensity ratio (A / B) of oxy (MeOH) ionic strength (A) and silicon (Si) ionic strength (B) is 0.02 or more.

상기 강도비(A/B)를 산출하기 위해서, TOF-SIMS를 이용하여 광학 필름의 단면을 측정한다. 광학 필름의 단면을 제작하는 방법으로서는, 특별히 한정되지 않고, 예를 들면 이온 빔을 광학 필름에 조사해, 광학 필름 바로 위에 설치한 차폐판의 단부를 따라 평활한 단면을 제작하는 이온 밀링법을 이용해도 되고, 정밀 기계 연마에 의한 가공이나 마이크로톰에 의한 절삭을 이용해도 된다. 수지 필름에 대한 데미지가 낮은 관점에서, 마이크로톰에 의한 절삭을 이용한 단면 제작이 바람직하다.In order to calculate the said intensity ratio A / B, the cross section of an optical film is measured using TOF-SIMS. It does not specifically limit as a method of manufacturing the cross section of an optical film, For example, even if it uses the ion milling method which irradiates an ion beam to an optical film and produces a smooth cross section along the edge part of the shielding plate provided directly on the optical film. Alternatively, processing by precision mechanical polishing or cutting by microtome may be used. From the viewpoint of low damage to the resin film, cross-sectional production using cutting with a microtome is preferable.

TOF-SIMS법은 질량 분석의 일종이며, TOF-SIMS에 의하면, 시료의 최표면에 존재하는 원소 또는 분자종을 매우 높은 검출 감도로 얻을 수 있고, 또, 시료의 최표면에 존재하는 원소 또는 분자종의 분포도 조사할 수 있다.The TOF-SIMS method is a kind of mass spectrometry. According to TOF-SIMS, an element or molecule which exists on the outermost surface of a sample can be obtained with a very high detection sensitivity, and an element or molecule that exists on the outermost surface of the sample. The distribution of species can also be investigated.

TOF-SIMS법은, 고진공 중에서 이온 빔(1차 이온)을 시료에 조사하여, 표면으로부터 방출되는 이온을, 그 비행 시간차를 이용하여 질량 분리하는 수법이다. 1차 이온을 조사하면, 정 또는 부의 전하를 띤 이온(2차 이온)이 시료 표면으로부터 방출되지만, 가벼운 이온일수록 빠르고, 무거운 이온일수록 늦게 비행하기 때문에, 2차 이온이 발생한 후 검출될 때까지의 시간(비행 시간)을 측정하면, 발생한 2차 이온의 질량을 계산할 수 있다.TOF-SIMS method is a method of irradiating an ion beam (primary ion) to a sample in high vacuum, and mass-separating the ion emitted from the surface using the time-of-flight difference. When irradiated with primary ions, positive or negatively charged ions (secondary ions) are released from the surface of the sample, but lighter ones are faster and heavier ones fly later, until secondary ions are detected. By measuring the time (flight time), the mass of the generated secondary ion can be calculated.

TOF-SIMS법에 있어서의 측정에 있어서, 메톡시(CH3O) 이온은 질량 31.02u 부근에, 규소(Si) 이온은 질량 27.98u 부근에 검출된다. 메톡시 이온의 피크의 적분값을 CH3O 이온의 (검출)강도 A, 규소 이온의 피크의 적분값을 Si 이온의 (검출)강도 B로 하여, 상기 강도비(A/B)를 산출할 수 있다. 또, 이들 이온은, 정(포지티브) 이온 분석과 부(네거티브) 이온 분석 중 어느 것에 있어서도 검출되는 이온이다. 본 발명에 있어서의 상기 강도비(A/B)는, 정이온 분석으로 검출된 강도비(A/B)여도 되고, 부이온 분석으로 검출된 강도비(A/B)여도 되며, 적어도 한쪽의 강도비(A/B)가 0.02 이상이면, 본 발명에 있어서의 메톡시 이온 강도(A)와 규소 이온 강도(B)의 강도비(A/B)가 0.02 이상이라는 요건을 충족시킨다.In the measurement in the TOF-SIMS method, methoxy (CH 3 O) ions are detected near 31.02 u in mass and silicon (Si) ions near 27.98 u in mass. The intensity ratio (A / B) can be calculated by setting the integral value of the peak of the methoxy ion as the (detection) intensity A of the CH 3 O ion and the integral value of the peak of the silicon ion as the (detection) intensity B of the Si ion. Can be. Moreover, these ions are ions detected in either positive (positive) analysis or negative (negative) analysis. The intensity ratio (A / B) in the present invention may be an intensity ratio (A / B) detected by positive ion analysis, or an intensity ratio (A / B) detected by negative ion analysis, or at least one of If the intensity ratio (A / B) is 0.02 or more, the requirement that the intensity ratio (A / B) of methoxy ionic strength (A) and silicon ionic strength (B) in the present invention is 0.02 or more is satisfied.

TOF-SIMS법에 따른 측정은, TOF-SIMS 장치를 이용하여, 1차 이온이 Bi3+, 1차 이온의 가속 전압이 25kV, 조사 이온 전류가 0.23pA, 측정 범위가 200μm×200μm의 조건으로, 정이온 분석 또는 부이온 분석에 의해 실시할 수 있다. TOF-SIMS법에 따른 측정은, 예를 들면 실시예에 기재된 방법에 의해 행할 수 있다.The measurement according to the TOF-SIMS method was carried out using a TOF-SIMS apparatus under the conditions that the primary ions were Bi 3+ , the acceleration voltage of the primary ions was 25 kV, the irradiation ion current was 0.23 pA, and the measurement range was 200 μm × 200 μm. And positive ion analysis or negative ion analysis. The measurement by TOF-SIMS method can be performed by the method as described in an Example, for example.

폴리아미드이미드계 수지를 포함하는 광학 필름에 있어서, TOF-SIMS법으로 측정된 MeOH 이온 강도(A)와 Si 이온 강도(B)의 강도비(A/B)가 0.02 이상이면, 의외로, 광학 필름의 황색도(YI값)가 유효하게 저감된다. 이로 인하여, 본 발명의 광학 필름은 저황색도(YI값)를 가질 수 있다. 한편, 상기 강도비(A/B)가 0.02 미만이면, 황색도(YI값)를 유효하게 저감할 수 없는 경향이 있어, 저황색도(YI값)와 고탄성률을 양립할 수 없는 경향이 있다.In the optical film containing polyamide-imide-based resin, an optical film is surprisingly provided that the intensity ratio (A / B) of MeOH ion intensity (A) and Si ion intensity (B) measured by TOF-SIMS method is 0.02 or more. The yellowness (YI value) of is effectively reduced. For this reason, the optical film of the present invention may have a low yellowness (YI value). On the other hand, when the intensity ratio A / B is less than 0.02, yellowness (YI value) tends to be not effectively reduced, and low yellowness (YI value) and high modulus of elasticity tend not to be compatible. .

본 발명의 광학 필름에 있어서, 상기 강도비(A/B)는, 바람직하게는 0.03 이상, 보다 바람직하게는 0.04 이상, 더 바람직하게는 0.05 이상이다. 상기 강도비(A/B)가 상기의 하한 이상이면, 광학 필름의 황색도(YI값)를 보다 유효하게 저감할 수 있어, 보다 낮은 황색도(YI값)를 갖는 광학 필름을 얻을 수 있다. 상기 강도비(A/B)의 상한은 1이다.In the optical film of the present invention, the intensity ratio (A / B) is preferably 0.03 or more, more preferably 0.04 or more, and still more preferably 0.05 or more. When the said intensity ratio (A / B) is more than the said minimum, the yellowness (YI value) of an optical film can be reduced more effectively, and the optical film which has a lower yellowness (YI value) can be obtained. The upper limit of the said strength ratio A / B is 1.

본 발명의 광학 필름의 황색도(YI값)는, 바람직하게는 3.0 이하, 보다 바람직하게는 2.5 이하, 더 바람직하게는 2.2 이하이다. 광학 필름의 황색도가 상기의 상한 이하이면, 투명성이 양호해져, 화상 표시장치의 전면판에 사용한 경우에, 높은 시인성에 기여할 수 있다. 또 황색도는 통상 -5 이상이고, 바람직하게는 -2 이상이다. 또한, 황색도(YI값)는 자외 가시 근적외 분광 광도계를 이용하여 300~800nm의 광에 대한 투과율 측정을 행하여, 3자극값(X, Y, Z)을 구하고, YI=100×(1.2769X-1.0592Z)/Y의 식에 근거하여 산출할 수 있다. 황색도는, 예를 들면 실시예에 기재된 방법에 의해 측정할 수 있다.Yellowness (YI value) of the optical film of this invention becomes like this. Preferably it is 3.0 or less, More preferably, it is 2.5 or less, More preferably, it is 2.2 or less. If yellowness of an optical film is below the said upper limit, transparency will become favorable, and when used for the front plate of an image display apparatus, it can contribute to high visibility. Moreover, yellowness is -5 or more normally, Preferably it is -2 or more. In addition, the yellowness (YI value) is measured using a UV-visible near-infrared spectrophotometer to measure the transmittance for light of 300 to 800 nm, to obtain tristimulus values (X, Y, Z), and YI = 100 × (1.2769X). Can be calculated based on the formula -1.0592Z) / Y. Yellowness can be measured by the method as described in an Example, for example.

본 발명의 광학 필름은, 소정의 폴리아미드이미드계 수지를 포함하기 때문에, 높은 탄성률을 가질 수 있다. 본 발명의 광학 필름의 인장 탄성률은, 바람직하게는 5.5GPa 이상, 보다 바람직하게는 6.0GPa 이상, 더 바람직하게는 6.3GPa 이상이다. 인장 탄성률은 통상 100GPa 이하이다. 또한, 탄성률은, 인장 시험기(척간 거리 500mm, 인장 속도 20mm/min)를 이용하여 측정할 수 있으며, 예를 들면 실시예에 기재된 방법에 의해 측정할 수 있다.Since the optical film of this invention contains predetermined polyamide-imide-type resin, it can have high elasticity modulus. The tensile modulus of the optical film of the present invention is preferably 5.5 GPa or more, more preferably 6.0 GPa or more, still more preferably 6.3 GPa or more. Tensile modulus is usually 100 GPa or less. In addition, an elasticity modulus can be measured using a tensile tester (500 mm between spine distance, 20 mm / min of tensile velocity), and can be measured by the method as described in an Example, for example.

본 발명의 광학 필름은, 저황색도(YI값) 이외의 광학 특성도 우수하다. 본 명세서에 있어서, 광학 특성이란, 예를 들면 황색도(YI값), 전광선(全光線) 투과율, 헤이즈 등의 광학적으로 평가할 수 있는 특성을 나타내고, 광학 특성이 우수하다는 것은, 헤이즈(Haze) 및 황색도(YI값)가 낮은 것, 전광선 투과율이 높은 것 등을 나타낸다.The optical film of this invention is also excellent in optical characteristics other than low yellowness (YI value). In this specification, an optical characteristic shows the optically evaluable characteristics, such as yellowness (YI value), all-light transmittance, and haze, for example, Haze (Haze) The yellowness (YI value) is low, the total light transmittance is high, etc. are shown.

본 발명의 광학 필름에 있어서, 두께 50μm에 있어서의 전광선 투과율은, 바람직하게는 80% 이상, 보다 바람직하게는 85% 이상, 더 바람직하게는 88% 이상, 보다 더 바람직하게는 89% 이상, 특히 바람직하게는 90% 이상이다. 전광선 투과율이 상기의 하한 이상이면, 투명성이 양호해져, 화상 표시장치의 전면판에 사용한 경우에, 높은 시인성에 기여할 수 있다. 또 전광선 투과율의 상한은 통상 100% 이하이다. 또한, 전광선 투과율은, JIS K7361-1:1997에 준거하여 헤이즈 컴퓨터를 이용하여 측정할 수 있으며, 예를 들면 실시예에 기재된 방법에 의해 측정할 수 있다. 또, 본 발명의 광학 필름은 높은 전광선 투과율을 나타내는 것으로부터, 예를 들면, 플렉시블 디바이스에 있어서, 동일한 밝기를 얻는 경우에, 백 라이트 등의 발광 강도를 낮게 할 수 있으므로, 에너지 절약에 기여할 수 있다.In the optical film of the present invention, the total light transmittance at a thickness of 50 μm is preferably 80% or more, more preferably 85% or more, still more preferably 88% or more, even more preferably 89% or more, particularly Preferably it is 90% or more. If total light transmittance is more than the said minimum, transparency will become favorable, and when used for the front plate of an image display apparatus, it can contribute to high visibility. In addition, the upper limit of total light transmittance is 100% or less normally. In addition, total light transmittance can be measured using a haze computer based on JISK7361-1: 1997, For example, it can measure by the method as described in an Example. In addition, since the optical film of the present invention exhibits high total light transmittance, for example, in the flexible device, when the same brightness is obtained, the light emission intensity such as a backlight can be lowered, it can contribute to energy saving. .

본 발명의 광학 필름의 헤이즈는, 바람직하게는 1% 이하, 보다 바람직하게는 0.5% 이하, 더 바람직하게는 0.2% 이하이다. 광학 필름의 헤이즈가 상기의 상한 이하이면, 투명성이 양호해져, 화상 표시장치의 전면판에 사용한 경우에, 높은 시인성에 기여할 수 있다. 또 헤이즈의 하한값은 통상 0.01% 이상이다. 또한, 헤이즈는, JIS K 7136:2000에 준거하여 헤이즈 컴퓨터를 이용하여 측정할 수 있으며, 예를 들면 실시예에 기재된 방법에 의해 측정할 수 있다.Haze of the optical film of this invention becomes like this. Preferably it is 1% or less, More preferably, it is 0.5% or less, More preferably, it is 0.2% or less. If the haze of an optical film is below the said upper limit, transparency will become favorable, and when used for the front plate of an image display apparatus, it can contribute to high visibility. Moreover, the lower limit of haze is 0.01% or more normally. In addition, a haze can be measured using a haze computer based on JISK7136: 2000, For example, it can measure by the method as described in an Example.

본 발명의 광학 필름의 막두께는, 바람직하게는 20μm 이상, 보다 바람직하게는 25μm 이상, 더 바람직하게는 30μm 이상이고, 바람직하게는 100μm 이하, 보다 바람직하게는 80μm 이하, 더 바람직하게는 60μm 이하이며, 이들 상한과 하한의 조합이어도 된다. 광학 필름의 두께가 상기 범위이면, 광학 필름의 탄성률을 향상시키기 쉽다. 또한, 광학 필름의 막두께는, 마이크로미터를 이용하여 측정할 수 있으며, 예를 들면 실시예에 기재된 방법에 의해 측정할 수 있다.The film thickness of the optical film of the present invention is preferably 20 μm or more, more preferably 25 μm or more, even more preferably 30 μm or more, preferably 100 μm or less, more preferably 80 μm or less, even more preferably 60 μm or less. May be a combination of these upper and lower limits. It is easy to improve the elasticity modulus of an optical film as the thickness of an optical film is the said range. In addition, the film thickness of an optical film can be measured using a micrometer, for example, can be measured by the method as described in an Example.

본 발명의 광학 필름은, 우수한 내굴곡성을 갖는다. 본 발명의 광학 필름에 있어서, 내굴곡성 시험에 있어서의 굴곡 횟수(굴곡 반경 R=1mm)는, 바람직하게는 150,000회 이상, 보다 바람직하게는 180,000회 이상, 더 바람직하게는 200,000회 이상이다. 굴곡 횟수가 상기의 하한 이상이면, 플렉시블 디스플레이 등의 전면판 재료로서 충분한 내굴곡성을 갖는다. 또한, 내굴곡성 시험에 있어서의 굴곡 횟수는, 절곡 시험기를 이용하여, 굴곡 반경(곡률 반경) R이 1mm의 조건으로, 광학 필름의 반복 절곡을 행하여, 당해 필름에 균열이 발생하는 시점까지의 왕복 절곡 횟수(1왕복을 1회로 한다)를 나타내고, 예를 들면 실시예에 기재된 방법에 의해 측정할 수 있다.The optical film of this invention has the outstanding bending resistance. In the optical film of the present invention, the number of times of bending (bending radius R = 1mm) in the bending resistance test is preferably 150,000 times or more, more preferably 180,000 times or more, further preferably 200,000 times or more. If the number of times of bending is more than the above lower limit, it has sufficient bending resistance as a front plate material such as a flexible display. In addition, the frequency | count of bending in a bending resistance test is repeated using the bending test machine on condition that bending radius (curvature radius) R is 1 mm, and repeating bending of an optical film, and the reciprocation to the time point which a crack generate | occur | produces in the said film The number of bendings (one reciprocation is performed once) can be measured and measured by, for example, the method described in Examples.

<수지><Resin>

본 발명의 광학 필름은, 폴리아미드이미드계 수지를 포함한다. 폴리아미드이미드계 수지를 포함하면, 탄성률 및 내굴곡성을 향상시킬 수 있다.The optical film of this invention contains polyamide-imide-type resin. When polyamide-imide resin is included, elastic modulus and flex resistance can be improved.

폴리아미드이미드계 수지란, 이미드기를 포함하는 반복 구성 단위와, 아미드기를 포함하는 반복 구조 단위를 함유하는 중합체를 나타낸다. 또한, 본 명세서에 있어서, 반복 구조 단위를 구성 단위라고 하는 경우가 있다.The polyamide-imide resin refers to a polymer containing a repeating structural unit containing an imide group and a repeating structural unit containing an amide group. In addition, in this specification, a repeating structural unit may be called a structural unit.

폴리아미드이미드계 수지는, 식 (10)으로 나타나는 반복 구조 단위와 식 (13)으로 나타나는 반복 구조 단위를 포함하는 것이 바람직하다. 여기에서, G는 4가의 유기기이며, G3은 2가의 유기기이며, A 및 A3은 각각 2가의 유기기이다. 폴리아미드이미드계 수지는, G 및/또는 A가 상이한, 2종류 이상의 식 (10)으로 나타나는 반복 구조 단위, 또는 G3 및/또는 A3이 상이한, 2종류 이상의 식 (13)으로 나타나는 반복 구조 단위를 포함하고 있어도 된다. 폴리아미드이미드계 수지는, 광학 필름의 각종 물성을 해치지 않는 범위에서, 식 (11)로 나타나는 반복 구조 단위 및 식 (12)로 나타나는 반복 구조 단위로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1개 이상을 포함하고 있어도 된다.It is preferable that polyamide-imide-type resin contains the repeating structural unit represented by Formula (10) and the repeating structural unit represented by Formula (13). Herein, G is a tetravalent organic group, G 3 is a divalent organic group, and A and A 3 are each a divalent organic group. The polyamideimide-based resin is a repeating structural unit represented by two or more kinds of formulas (10) in which G and / or A is different, or a repeating structure represented by two or more kinds of formulas (13) in which G 3 and / or A 3 are different. It may contain a unit. Polyamide-imide-based resin may contain one or more selected from the group consisting of a repeating structural unit represented by formula (11) and a repeating structural unit represented by formula (12) within a range that does not impair various physical properties of the optical film. do.

Figure 112019042730864-pat00001
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식 (10) 및 식 (11) 중, G 및 G1은 각각 독립적으로 4가의 유기기이며, 바람직하게는 탄화 수소기 또는 불소 치환된 탄화 수소기로 치환되어 있어도 되는 유기기이다. G 및 G1로서는, 식 (20), 식 (21), 식 (22), 식 (23), 식 (24), 식 (25), 식 (26), 식 (27), 식 (28) 또는 식 (29)로 나타나는 기와, 4가의 탄소수 6 이하의 쇄식 탄화 수소기가 예시된다. 광학 필름의 황색도(YI값)를 저감하기 쉬운 관점에서, 그 중에서도, 식 (20), 식 (21), 식 (22), 식 (23), 식 (24), 식 (25), 식 (26) 또는 식 (27)로 나타나는 기가 바람직하고, 특히 우수한 탄성률을 갖는 광학 필름을 얻기 위해서는, 식 (26)으로 나타나는 기가 바람직하다.In Formulas (10) and (11), G and G 1 are each independently a tetravalent organic group, and preferably an organic group which may be substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group. Examples G and G 1, formula 20, formula 21, formula 22, formula 23, formula 24, formula 25, formula 26, formula 27, formula 28 Or the group represented by Formula (29) and a tetravalent hydrocarbon group of 6 or less carbon atoms are illustrated. From the viewpoint of easy to reduce the yellowness (YI value) of the optical film, among them, formula (20), formula (21), formula (22), formula (23), formula (24), formula (25), formula Group represented by (26) or Formula (27) is preferable, and group represented by Formula (26) is preferable in order to obtain the optical film which has especially the outstanding elasticity modulus.

Figure 112019042730864-pat00002
Figure 112019042730864-pat00002

식 (20)~식 (29) 중,In formulas (20) to (29),

*는 결합손을 나타내고,* Represents a bonding hand,

Z는, 단결합, -O-, -CH2-, -CH2-CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -Ar-, -SO2-, -CO-, -O-Ar-O-, -Ar-O-Ar-, -Ar-CH2-Ar-, -Ar-C(CH3)2-Ar- 또는 -Ar-SO2-Ar-를 나타낸다. Ar은 불소 원자로 치환되어 있어도 되는 탄소수 6~20의 아릴렌기를 나타내고, 구체예로서는 페닐렌기를 들 수 있다.Z is a single bond, -O-, -CH 2- , -CH 2 -CH 2- , -CH (CH 3 )-, -C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2 -,- Ar-, -SO 2- , -CO-, -O-Ar-O-, -Ar-O-Ar-, -Ar-CH 2 -Ar-, -Ar-C (CH 3 ) 2 -Ar- or -Ar-SO 2 -Ar- is represented. Ar represents the C6-C20 arylene group which may be substituted by the fluorine atom, and a phenylene group is mentioned as a specific example.

식 (12) 중, G2는 3가의 유기기이며, 바람직하게는 탄화 수소기 또는 불소 치환된 탄화 수소기(함불소 치환기)로 치환되어 있어도 되는 유기기이다. G2로서는, 식 (20), 식 (21), 식 (22), 식 (23), 식 (24), 식 (25), 식 (26), 식 (27), 식 (28) 또는 식 (29)로 나타나는 기의 결합손 중 어느 1개가 수소 원자로 치환된 기와, 3가의 탄소수 6 이하의 쇄식 탄화 수소기가 예시된다.Equation (12), G 2 is a trivalent organic group, preferably an organic group which may be substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon groups (fluorinated substituent). Examples of G 2, formula 20, formula 21, formula 22, formula 23, formula 24, formula 25, formula 26, formula 27, formula 28 or formula The group by which any one of the bonds of group represented by (29) was substituted by the hydrogen atom, and the trivalent C6 or less chain hydrocarbon group are illustrated.

식 (13) 중, G3은 2가의 유기기이며, 바람직하게는 탄화 수소기 또는 함불소 치환기로 치환되어 있어도 되는 유기기이다. G3으로서는, 식 (20), 식 (21), 식 (22), 식 (23), 식 (24), 식 (25), 식 (26), 식 (27), 식 (28) 또는 식 (29)로 나타나는 기의 결합손 중, 인접하지 않는 2개가 수소 원자로 치환된 기 및 탄소수 6 이하의 쇄식 탄화 수소기가 예시된다.Expression (13) in, G 3 is a divalent organic group, preferably an organic group which may be substituted with a hydrocarbon group or a fluorinated substituent. Examples of G 3, formula 20, formula 21, formula 22, formula 23, formula 24, formula 25, formula 26, formula 27, formula 28 or formula Among the bonds of the group represented by (29), groups in which two non-adjacent groups are substituted with hydrogen atoms and a chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms are exemplified.

식 (10)~식 (13) 중, A, A1, A2 및 A3은 각각 독립적으로 2가의 유기기이며, 바람직하게는 탄화 수소기 또는 함불소 치환기로 치환되어 있어도 되는 유기기이다. A, A1, A2 및 A3으로서는, 식 (30), 식 (31), 식 (32), 식 (33), 식 (34), 식 (35), 식 (36), 식 (37) 또는 식 (38)로 나타나는 기; 그것들이 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기로 치환된 기; 그리고 탄소수 6 이하의 쇄식 탄화 수소기가 예시된다.In Formulas (10) to (13), A, A 1 , A 2 and A 3 each independently represent a divalent organic group, and preferably an organic group which may be substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-containing substituent. As the A, A 1, A 2 and A 3, formula 30, formula 31, formula 32, formula 33, formula 34, formula 35, formula 36, formula (37 ) Or a group represented by formula (38); Groups in which they are substituted with a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group; And a C6 or less chain hydrocarbon group is illustrated.

Figure 112019042730864-pat00003
Figure 112019042730864-pat00003

식 (30)~식 (38) 중,In formula (30)-formula (38),

*는 결합손을 나타내고,* Represents a bonding hand,

Z1, Z2 및 Z3은 각각 독립적으로 단결합, -O-, -CH2-, -CH2-CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2- 또는 -CO-를 나타낸다.Z 1 , Z 2 and Z 3 are each independently a single bond, -O-, -CH 2- , -CH 2 -CH 2- , -CH (CH 3 )-, -C (CH 3 ) 2 -,- C (CF 3 ) 2- , -SO 2 -or -CO-.

1개의 예는, Z1 및 Z3이 -O-이며, 또한, Z2가 -CH2-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2- 또는 -SO2-이다. Z1과 Z2의 각 환에 대한 결합 위치, 및 Z2와 Z3의 각 환에 대한 결합 위치는 각각, 각 환에 대해서 바람직하게는 메타 위치 또는 파라 위치, 보다 바람직하게는 파라 위치이다.One example is that Z 1 and Z 3 are -O-, and Z 2 is -CH 2- , -C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2 -or -SO 2- . The bonding position for each ring of Z 1 and Z 2 and the bonding position for each ring of Z 2 and Z 3 are each preferably a meta position or a para position, more preferably a para position for each ring.

본 발명의 일 실시형태에 있어서, 폴리아미드이미드계 수지는, 복수종의 G3을 포함할 수 있고, 복수종의 G3은, 서로 같아도 되고 달라도 된다. 특히, 얻어지는 광학 필름의 표면 경도 및 내굴곡성 향상과 황색도 저감의 관점에서, G3의 적어도 일부가, 식 (3)In one embodiment of the present invention, the polyamide-imide-based resin may include plural kinds of G 3 , and plural kinds of G 3 may be the same as or different from each other. In particular, from the viewpoint of improving the surface hardness and the flex resistance and decreasing the yellowness of the resulting optical film, at least a part of G 3 is represented by the formula (3):

Figure 112019042730864-pat00004
Figure 112019042730864-pat00004

[식 (3) 중, R1~R8은 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1~6의 알킬기 또는 탄소수 6~12의 아릴기를 나타내며, R1~R8에 포함되는 수소 원자는 각각 독립적으로 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되고,Equation (3) of, R 1 ~ R 8 each independently represent an aryl group of a hydrogen atom, a C 1 -C 6 alkyl group or a C 6 to 12, R 1 ~ hydrogen atoms contained in R 8 is a halogen, each independently May be substituted by an atom,

B는, 단결합, -O-, -CH2-, -CH2-CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2-, -S-, -CO- 또는 -N(R9)-를 나타내며, R9는 수소 원자, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되는 탄소수 1~12의 탄화 수소기를 나타내고,B is a single bond, -O-, -CH 2- , -CH 2 -CH 2- , -CH (CH 3 )-, -C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2 -,- SO 2- , -S-, -CO- or -N (R 9 )-, R 9 represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a hydrogen atom or a halogen atom,

n은 0~4의 정수이며,n is an integer of 0 to 4,

*는 결합손을 나타낸다]* Represents a bonding hand]

로 나타나는 구성 단위인 것이 바람직하다.It is preferable that it is a structural unit represented by.

식 (3)에 있어서, B는 각각 독립적으로 단결합, -O-, -CH2-, -CH2-CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2-, -S-, -CO- 또는 -NR9-를 나타내고, 광학 필름의 내굴곡성 향상의 관점에서, 바람직하게는 -O- 또는 -S-를 나타내며, 보다 바람직하게는 -O-를 나타낸다. R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8은 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1~6의 알킬기 또는 탄소수 6~12의 아릴기를 나타낸다. 탄소수 1~6의 알킬기로서는, 예를 들면 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, 2-메틸-부틸기, 3-메틸부틸기, 2-에틸-프로필기, n-헥실기 등을 들 수 있다. 또, 탄소수 6~12의 아릴기로서는, 예를 들면 페닐기, 톨릴기, 자일릴기, 나프틸기, 비페닐기 등을 들 수 있다. 광학 필름의 표면 경도 및 유연성의 관점에서, R1~R8은 각각 독립적으로 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1~6의 알킬기를 나타내고, 보다 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1~3의 알킬기를 나타내며, 더 바람직하게는 수소 원자를 나타낸다. 여기에서, R1~R8에 포함되는 수소 원자는 각각 독립적으로 할로겐 원자로 치환되어 있어도 된다.In formula (3), B is independently a single bond, -O-, -CH 2- , -CH 2 -CH 2- , -CH (CH 3 )-, -C (CH 3 ) 2 -,- C (CF 3 ) 2- , -SO 2- , -S-, -CO- or -NR 9- , and from the viewpoint of improving the bending resistance of the optical film, preferably -O- or -S-. More preferably, -O- is represented. R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 and R 8 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group and 2-methyl-butyl group , 3-methylbutyl group, 2-ethyl-propyl group, n-hexyl group and the like. Moreover, as a C6-C12 aryl group, a phenyl group, a tolyl group, a xylyl group, a naphthyl group, a biphenyl group etc. are mentioned, for example. From the viewpoint of surface hardness and flexibility of the optical film, R 1 to R 8 each independently preferably represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. More preferably represents a hydrogen atom. Here, the hydrogen atoms contained in R 1 to R 8 may be each independently substituted with a halogen atom.

R9는 수소 원자, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되는 탄소수 1~12의 탄화 수소기를 나타낸다. R9는 수소 원자, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되는 탄소수 1~12의 1가의 탄화 수소기를 나타낸다. 탄소수 1~12의 1가의 탄화 수소기로서는, 예를 들면 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, 2-메틸-부틸기, 3-메틸부틸기, 2-에틸-프로필기, n-헥실기, n-헵틸기, n-옥틸기, tert-옥틸기, n-노닐기, n-데실기 등을 들 수 있고, 이것들은 할로겐 원자로 치환되어 있어도 된다. 상기 할로겐 원자로서는, 불소 원자, 염소 원자, 브로민 원자, 아이오딘 원자 등을 들 수 있다.R <9> represents the C1-C12 hydrocarbon group which may be substituted by the hydrogen atom and the halogen atom. R <9> represents the C1-C12 monovalent hydrocarbon group which may be substituted by the hydrogen atom and the halogen atom. Examples of the monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group and 2- Methyl-butyl group, 3-methylbutyl group, 2-ethyl-propyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, tert-octyl group, n-nonyl group, n-decyl group, etc. are mentioned. These may be substituted by the halogen atom. As said halogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, etc. are mentioned.

식 (3)에 있어서, n은, 0~4의 범위의 정수이며, n이 이 범위 내이면, 광학 필름의 내굴곡성 및 탄성률, 저황색도 등의 광학 특성이 양호하다. 또, 식 (3)에 있어서, n은, 바람직하게는 0~3의 범위의 정수, 보다 바람직하게는 0~2의 범위의 정수, 더 바람직하게는 0 또는 1이며, n이 이 범위 내이면, 광학 필름의 내굴곡성, 탄성률 및 저황색도 등의 광학 특성이 양호함과 동시에, 원료의 입수성이 비교적 양호하다. 또, G3은, 식 (3)으로 나타나는 구성 단위를 1종 또는 2종류 이상 포함하고 있어도 되고, 광학 필름의 탄성률 및 내굴곡성의 향상과, 황색도(YI값) 저감의 관점에서, 특히 n의 값이 다른 2종류 이상의 구성 단위, 바람직하게는 n의 값이 다른 2종류의 구성 단위를 포함하고 있어도 된다. 그 경우, 광학 필름이 높은 탄성률, 내굴곡성, 및 낮은 황색도(YI값)를 발현하기 쉬운 관점에서, n이 0과 1의 구성 단위를 양쪽 모두 포함하는 것이 바람직하다.In Formula (3), n is an integer of the range of 0-4, and if n is in this range, optical characteristics, such as the bending resistance, elastic modulus, and low yellowness of an optical film, are favorable. In formula (3), n is preferably an integer in the range of 0 to 3, more preferably an integer in the range of 0 to 2, still more preferably 0 or 1, and n is within this range. The optical properties such as bending resistance, elastic modulus and low yellowness of the optical film are good, and the availability of the raw material is relatively good. Moreover, G <3> may include the 1 type (s) or 2 or more types of structural units represented by Formula (3), and especially n from a viewpoint of the improvement of the elasticity modulus and bending resistance of an optical film, and reduction of a yellowness (YI value), Two or more types of structural units from which the value of is different may be included, Preferably two types of structural units from which the value of n differs may be included. In that case, it is preferable that n contains both the structural units of 0 and 1 from a viewpoint that an optical film is easy to express high elastic modulus, bending resistance, and low yellowness (YI value).

본 발명의 바람직한 실시형태에 있어서는, 식 (3)은, n=0, R1~R8이 수소 원자인 구성 단위 또는 식 (3'):In a preferred embodiment of the present invention, formula (3) is a structural unit or formula (3 ') wherein n = 0 and R 1 to R 8 are hydrogen atoms:

Figure 112019042730864-pat00005
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로 나타나는 구성 단위이며, 이것들은 병용할 수도 있다. 이 경우, 광학 필름은, 높은 표면 경도를 발휘함과 동시에, 높은 내굴곡성을 가질 수 있고, 황색도를 낮게 할 수 있다.It is a structural unit shown by these, These can also be used together. In this case, an optical film can exhibit high surface hardness, can have high bending resistance, and can make yellowness low.

본 발명의 바람직한 실시형태에 있어서, 폴리아미드이미드계 수지의 식 (10)으로 나타나는 구성 단위 및 식 (13)으로 나타나는 구성 단위의 합계에 대해서, n이 0~4인 경우의 식 (3)으로 나타나는 구성 단위는, 바람직하게는 20몰% 이상, 보다 바람직하게는 30몰% 이상, 더 바람직하게는 40몰% 이상, 특히 바람직하게는 50몰% 이상, 가장 바람직하게는 60몰% 이상이고, 바람직하게는 90몰% 이하, 보다 바람직하게는 85몰% 이하, 더 바람직하게는 80몰% 이하이다. 폴리아미드이미드계 수지 중의 식 (10)으로 나타나는 구성 단위 및 식 (13)으로 나타나는 구성 단위의 합계에 대해서, n이 0~4인 경우의 식 (3)으로 나타나는 구성 단위가 상기의 하한 이상이면, 광학 필름은 높은 표면 경도를 발현할 수 있음과 함께, 내굴곡성이나 탄성률이 우수할 수 있다. 폴리아미드이미드계 수지 중의 식 (10)으로 나타나는 구성 단위 및 식 (13)으로 나타나는 구성 단위의 합계에 대해서, n이 0~4인 경우의 식 (3)으로 나타나는 구성 단위가 상기의 상한 이하이면, 식 (3) 유래의 아미드 결합 간 수소결합에 의한 증점을 억제함으로써, 수지 바니쉬의 점도를 억제할 수 있어, 광학 필름의 가공을 용이하게 할 수 있다.In preferable embodiment of this invention, about the sum total of the structural unit represented by Formula (10) of polyamide-imide-type resin, and the structural unit represented by Formula (13), it is Formula (3) when n is 0-4. The structural unit to be represented is preferably 20 mol% or more, more preferably 30 mol% or more, even more preferably 40 mol% or more, particularly preferably 50 mol% or more, most preferably 60 mol% or more, Preferably it is 90 mol% or less, More preferably, it is 85 mol% or less, More preferably, it is 80 mol% or less. About the sum total of the structural unit represented by Formula (10) in a polyamide-imide-type resin, and the structural unit represented by Formula (13), if n is 0-4, the structural unit represented by Formula (3) is more than the said minimum. The optical film can express high surface hardness and can be excellent in flex resistance and elastic modulus. About the sum total of the structural unit represented by Formula (10) in a polyamide-imide-type resin, and the structural unit represented by Formula (13), if the structural unit represented by Formula (3) when n is 0-4 is less than the said upper limit By suppressing the thickening by the hydrogen bond between the amide bonds derived from Formula (3), the viscosity of the resin varnish can be suppressed and the processing of an optical film can be made easy.

본 발명의 바람직한 실시형태에 있어서, 폴리아미드이미드계 수지의 식 (10)으로 나타나는 구성 단위 및 식 (13)으로 나타나는 구성 단위의 합계에 대해서, 식 (3)의 n이 1~4로 나타나는 구성 단위는, 바람직하게는 3몰% 이상, 보다 바람직하게는 5몰% 이상, 더 바람직하게는 7몰% 이상, 특히 바람직하게는 9몰% 이상이고, 바람직하게는 90몰% 이하, 보다 바람직하게는 70몰% 이하, 더 바람직하게는 50몰% 이하, 특히 바람직하게는 30몰% 이하이다. 폴리아미드이미드계 수지 중의 식 (10)으로 나타나는 구성 단위 및 식 (13)으로 나타나는 구성 단위의 합계에 대해서, 식 (3)의 n이 1~4로 나타나는 구성 단위가 상기의 하한 이상이면, 광학 필름은 높은 표면 경도를 발현할 수 있음과 함께, 내굴곡성이 보다 향상된다. 폴리아미드이미드계 수지 중의 식 (10)으로 나타나는 구성 단위 및 식 (13)으로 나타나는 구성 단위의 합계에 대해서, 식 (3)의 n이 1~4로 나타나는 구성 단위가 상기의 상한 이하이면, 식 (3) 유래의 아미드 결합 간 수소결합에 의한 증점을 억제함으로써, 수지 바니쉬의 점도를 억제할 수 있어, 광학 필름의 가공을 용이하게 할 수 있다. 또한, 식 (3)으로 나타나는 구성 단위의 함유량은, 예를 들면 1H-NMR을 이용하여 측정할 수 있고, 또는 원료의 도입비로부터 산출할 수도 있다.In a preferred embodiment of the present invention, n in formula (3) is represented by 1 to 4 with respect to the sum of the structural units represented by formula (10) of the polyamide-imide-based resin and the structural units represented by formula (13). The unit is preferably 3 mol% or more, more preferably 5 mol% or more, even more preferably 7 mol% or more, particularly preferably 9 mol% or more, preferably 90 mol% or less, and more preferably Is 70 mol% or less, more preferably 50 mol% or less, particularly preferably 30 mol% or less. About the sum total of the structural unit represented by Formula (10) in a polyamide-imide-type resin, and the structural unit represented by Formula (13), if the structural unit represented by n of Formula (3) to 1-4 is more than the said minimum, it is optical. While a film can express high surface hardness, bending resistance improves more. About the sum total of the structural unit represented by Formula (10) in polyamide-imide-type resin, and the structural unit represented by Formula (13), if the structural unit represented by n of Formula (3) to 1-4 is below the said upper limit, a formula (3) By suppressing the thickening due to hydrogen bonding between the amide bonds derived, the viscosity of the resin varnish can be suppressed and the processing of the optical film can be facilitated. The content of the structural unit represented by the formula (3) is, for example, can be measured by using a 1 H-NMR, or may be calculated from the raw material doipbi.

본 발명의 바람직한 실시형태에 있어서, 상기 폴리아미드이미드계 수지의 G3의, 바람직하게는 5몰% 이상, 보다 바람직하게는 8몰% 이상, 더 바람직하게는 10몰% 이상, 특히 바람직하게는 12몰% 이상이, n이 1~4인 경우의 식 (3)으로 나타난다. 폴리아미드이미드계 수지의 G3의 상기의 하한 이상이, n이 1~4인 경우의 식 (3)으로 나타나면, 광학 필름은 높은 표면 경도를 발현함과 동시에, 높은 내굴곡성을 가질 수 있다. 또, 폴리아미드이미드계 수지 중의 G3의, 바람직하게는 90몰% 이하, 보다 바람직하게는 70몰% 이하, 더 바람직하게는 50몰% 이하, 특히 바람직하게는 30몰% 이하가, n이 1~4인 경우의 식 (3)으로 나타나는 것이 바람직하다. 폴리아미드이미드계 수지의 G3의 상기 상한 이하가, n이 1~4인 경우의 식 (3)으로 나타나면, 식 (3) 유래의 아미드 결합 간 수소결합에 의한 증점을 억제함으로써, 수지 바니쉬의 점도를 억제할 수 있어, 광학 필름의 가공을 용이하게 할 수 있다.In a preferred embodiment of the present invention, G 3 of the polyamideimide-based resin, preferably 5 mol% or more, more preferably 8 mol% or more, still more preferably 10 mol% or more, particularly preferably 12 mol% or more is represented by Formula (3) when n is 1-4. When the lower limit or more of G <3> of polyamide-imide-type resin is represented by Formula (3) when n is 1-4, an optical film may express high surface hardness and may have high bending resistance. Further, G 3 in the polyamideimide-based resin is preferably 90 mol% or less, more preferably 70 mol% or less, still more preferably 50 mol% or less, particularly preferably 30 mol% or less. It is preferable to represent by Formula (3) in the case of 1-4. By a polyamide-imide-based resin of the upper limit or less of G 3, n If the formula (3) in the case where the 1 to 4, inhibiting the viscosity by hydrogen bonding between the amide bond of the formula (3) derived from the resin varnish A viscosity can be suppressed and the process of an optical film can be made easy.

본 발명의 바람직한 실시형태에 있어서, 상기 폴리아미드이미드계 수지 중의 G3의, 바람직하게는 30몰% 이상, 보다 바람직하게는 50몰% 이상, 특히 바람직하게는 70몰% 이상이, n이 0~4인 경우의 식 (3)으로 나타난다. 폴리아미드이미드계 수지의 G3의 상기의 하한값 이상이, n이 0~4인 경우의 식 (3)으로 나타나면, 광학 필름은 높은 표면 경도를 발현함과 동시에, 높은 내굴곡성을 가질 수 있다. 또, 폴리아미드이미드계 수지 중의 G3의, 바람직하게는 100몰% 이하가, n이 0~4인 경우의 식 (3)으로 나타나는 것이 바람직하다. 폴리아미드이미드계 수지의 G3의 상기의 상한값 이하가, n이 0~4인 경우의 식 (3)으로 나타나면, 식 (3) 유래의 아미드 결합 간 수소결합에 의한 증점을 억제함으로써, 수지 바니쉬의 점도를 억제할 수 있어, 광학 필름의 가공을 용이하게 할 수 있다. 또한, 폴리아미드이미드계 수지 중의, 식 (3)으로 나타나는 구성 단위의 비율은, 예를 들면 1H-NMR을 이용하여 측정할 수 있고, 또는 원료의 도입비로부터 산출할 수도 있다.In a preferred embodiment of the present invention, G 3 in the polyamideimide-based resin, preferably 30 mol% or more, more preferably 50 mol% or more, particularly preferably 70 mol% or more, n is 0 It is represented by Formula (3) when it is -4. When more than the said lower limit of G <3> of polyamide-imide-type resin is represented by Formula (3) when n is 0-4, an optical film may express high surface hardness and may have high bending resistance. Moreover, it is preferable that 100 mol% or less of G <3> in polyamide-imide-type resin is preferably represented by Formula (3) when n is 0-4. Poly by which the upper limit value or less of a G 3-imide-based resin, n appears in equation (3) when the 0 to 4, and suppress the viscosity by hydrogen bonding between the amide bond of the formula (3) derived from a resin varnish The viscosity of can be suppressed and the processing of an optical film can be made easy. In addition, the polyamide-imide-based content of the constituent unit represented by of the formula (3) resin is, for example, can be measured by using a 1 H-NMR, or may be calculated from the raw material doipbi.

본 발명의 바람직한 실시형태에 있어서, 식 (10) 및 식 (13) 중의 복수의 A 및 A3의 적어도 일부는, 식 (4):In a preferred embodiment of the present invention, at least a part of the plurality of A and A 3 in the formulas (10) and (13) is represented by the formula (4):

Figure 112019042730864-pat00006
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[식 (4) 중, R10~R17은 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1~6의 알킬기 또는 탄소수 6~12의 아릴기를 나타내며, R10~R17에 포함되는 수소 원자는 각각 독립적으로 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되고, *는 결합손을 나타낸다][In formula (4), R <10> -R <17> respectively independently represents a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group, or a C6-C12 aryl group, and the hydrogen atom contained in R <10> -R <17> is each independently halogen May be substituted by an atom, and * represents a bond.]

로 나타나는 구성 단위이다. 식 (10) 및 (13) 중의 복수의 A 및 A3의 적어도 일부가 식 (4)로 나타나는 기이면, 광학 필름은, 높은 표면 경도를 발현할 수 있음과 동시에, 높은 투명성을 가질 수 있다.It is a structural unit represented by. If at least some of A and A <3> in Formula (10) and (13) is group represented by Formula (4), an optical film can express high surface hardness, and can have high transparency.

식 (4)에 있어서, R10, R11, R12, R13, R14, R15, R16, R17은 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1~6의 알킬기 또는 탄소수 6~12의 아릴기를 나타낸다. 탄소수 1~6의 알킬기 또는 탄소수 6~12의 아릴기로서는, 식 (3)에 있어서의 탄소수 1~6의 알킬기 또는 탄소수 6~12의 아릴기로서 예시된 것을 들 수 있다. R10~R17은 각각 독립적으로 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1~6의 알킬기를 나타내고, 보다 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1~3의 알킬기를 나타내며, 여기에서, R10~R17에 포함되는 수소 원자는 각각 독립적으로 할로겐 원자로 치환되어 있어도 된다. 할로겐 원자로서는, 예를 들면 불소 원자, 염소 원자, 브로민 원자, 아이오딘 원자를 들 수 있다. R10~R17은 각각 독립적으로 광학 필름의 표면 경도, 투명성 및 내굴곡성의 관점에서, 더 바람직하게는 수소 원자, 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기이며, 특히 바람직하게는 R10, R12, R13, R14, R15, 및 R16이 수소 원자, R11 및 R17이 수소 원자, 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기이며, 특히 R11 및 R17이 메틸기 또는 트리플루오로메틸기인 것이 바람직하다.In formula (4), R <10> , R <11> , R <12> , R <13> , R <14> , R <15> , R <16> and R <17> are respectively independently a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group, or a C6-C12 aryl Group. As a C1-C6 alkyl group or a C6-C12 aryl group, what was illustrated as a C1-C6 alkyl group or C6-C12 aryl group in Formula (3) is mentioned. R 10 to R 17 each independently preferably represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, which are contained in R 10 to R 17 herein. Each hydrogen atom to be independently may be substituted with a halogen atom. As a halogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom are mentioned, for example. R 10 to R 17 are each independently from the viewpoint of surface hardness, transparency and bend resistance of the optical film, more preferably a hydrogen atom, a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group, and particularly preferably R 10 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 , and R 16 are hydrogen atoms, R 11 and R 17 are hydrogen atoms, methyl groups, fluoro groups, chloro groups or trifluoromethyl groups, in particular R 11 and R It is preferable that 17 is a methyl group or a trifluoromethyl group.

본 발명의 바람직한 실시형태에 있어서는, 식 (4)로 나타나는 구성 단위는 식 (4'):In a preferred embodiment of the present invention, the structural unit represented by formula (4) is represented by formula (4 '):

Figure 112019042730864-pat00007
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로 나타나는 구성 단위이며, 즉, 복수의 A 및 A3의 적어도 일부는, 식 (4')로 나타나는 구성 단위이다. 이 경우, 광학 필름은, 높은 투명성을 발현함과 동시에, 불소 원소를 함유하는 골격에 의해 당해 폴리아미드이미드계 수지의 용매에의 용해성을 향상시키고, 수지 바니쉬의 점도를 낮게 억제할 수 있으며, 광학 필름의 가공을 용이하게 할 수 있다.In other words, at least a part of a plurality of A and A 3 is a structural unit represented by Formula (4 '). In this case, while the optical film expresses high transparency, the solubility to the solvent of the said polyamide-imide-type resin can be improved by the frame | skeleton containing a fluorine element, the viscosity of resin varnish can be suppressed low, and the optical Processing of the film can be facilitated.

본 발명의 바람직한 실시형태에 있어서, 상기 폴리아미드이미드계 중의 A 및 A3의, 바람직하게는 30몰% 이상, 보다 바람직하게는 50몰% 이상, 더 바람직하게는 70몰% 이상이 식 (4), 특히 식 (4')로 나타난다. 상기 폴리아미드이미드계 수지에 있어서의 상기 범위 내의 A 및 A3이 식 (4), 특히 식 (4')로 나타나면, 광학 필름은, 높은 투명성을 발현함과 동시에, 불소 원소를 함유하는 골격에 의해 당해 폴리아미드이미드계 수지의 용매에의 용해성을 향상시키고, 수지 바니쉬의 점도를 낮게 억제할 수 있으며, 또 광학 필름의 가공을 용이하게 할 수 있다. 또한, 바람직하게는, 상기 폴리아미드이미드계 수지 중의 A 및 A3의 100몰% 이하가 식 (4), 특히 식 (4')로 나타난다. 상기 폴리아미드이미드계 수지 중의 A 및 A3은 식 (4), 특히 (4')여도 된다. 상기 폴리아미드이미드계 수지 중의 A 및 A3의 식 (4)로 나타나는 구성 단위의 비율은, 예를 들면 1H-NMR을 이용하여 측정할 수 있고, 또는 원료의 도입비로부터 산출할 수도 있다.In a preferred embodiment of the present invention, A and A 3 in the polyamideimide system, preferably 30 mol% or more, more preferably 50 mol% or more, still more preferably 70 mol% or more are represented by the formula (4 ), In particular formula (4 '). When A and A <3> in the said range in the said polyamide-imide-type resin are represented by Formula (4), especially Formula (4 '), an optical film expresses high transparency and is made to the skeleton containing a fluorine element. As a result, the solubility of the polyamideimide resin in the solvent can be improved, the viscosity of the resin varnish can be suppressed low, and the processing of the optical film can be facilitated. Preferably, the polyamide-imide resin of not more than 100 mol% of A 3 and A is represented by formula (4), particularly formula (4 '). The polyamide-imide-based resin in the A and A 3 can be either formula (4), in particular (4 '). Of the constituent unit represented by the formula and A 4 of the A 3 of the polyamide-imide-based resin it is, for example, can be measured by using a 1 H-NMR, or may be calculated from the raw material doipbi.

본 발명의 바람직한 실시형태에 있어서, 식 (10) 중의 복수의 G의 적어도 일부는, 식 (5):In a preferred embodiment of the present invention, at least a portion of the plurality of G in Formula (10) is represented by Formula (5):

Figure 112019042730864-pat00008
Figure 112019042730864-pat00008

[식 (5) 중, R18~R25는 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1~6의 알킬기 또는 탄소수 6~12의 아릴기를 나타내며, R18~R25에 포함되는 수소 원자는 각각 독립적으로 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되고, *는 결합손을 나타낸다][In formula (5), R <18> -R <25> respectively independently represents a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group, or a C6-C12 aryl group, and the hydrogen atom contained in R <18> -R <25> is each independently halogen May be substituted by an atom, and * represents a bond.]

로 나타나는 구성 단위이다. 식 (10) 중의 복수의 G의 적어도 일부가 식 (5)로 나타나는 기이면, 광학 필름은, 높은 투명성을 발현함과 동시에, 폴리아미드이미드계 수지의 용매에의 용해성을 향상시키고, 수지 바니쉬의 점도를 낮게 억제할 수 있으며, 또 광학 필름의 가공을 용이하게 할 수 있다.It is a structural unit represented by. If at least one part of the some G in Formula (10) is group represented by Formula (5), an optical film will express high transparency, and will improve the solubility to the solvent of polyamide-imide-type resin, A viscosity can be suppressed low and the process of an optical film can be made easy.

식 (5)에 있어서, R18, R19, R20, R21, R22, R23, R24, R25는 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1~6의 알킬기 또는 탄소수 6~12의 아릴기를 나타낸다. 탄소수 1~6의 알킬기 또는 탄소수 6~12의 아릴기로서는, 식 (3)에 있어서의 탄소수 1~6의 알킬기 또는 탄소수 6~12의 아릴기로서 예시된 것을 들 수 있다. R18~R25는 각각 독립적으로 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1~6의 알킬기를 나타내고, 보다 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1~3의 알킬기를 나타내며, 여기에서, R18~R25에 포함되는 수소 원자는 각각 독립적으로 할로겐 원자로 치환되어 있어도 된다. 할로겐 원자로서는, 불소 원자, 염소 원자, 브로민 원자, 아이오딘 원자를 들 수 있다. R18~R25는 각각 독립적으로 광학 필름의 표면 경도, 내굴곡성, 및 투명성을 향상시키기 쉬운 관점에서, 더 바람직하게는 수소 원자, 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기이고, 보다 더 바람직하게는 R18, R19, R20, R23, R24, 및 R25가 수소 원자, R21 및 R22가 수소 원자, 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기이며, 특히 R21 및 R22가 메틸기 또는 트리플루오로메틸기인 것이 바람직하다.In Formula (5), R <18> , R <19> , R <20> , R <21> , R <22> , R <23> , R <24> and R <25> are respectively independently a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group, or a C6-C12 aryl Group. As a C1-C6 alkyl group or a C6-C12 aryl group, what was illustrated as a C1-C6 alkyl group or C6-C12 aryl group in Formula (3) is mentioned. R 18 to R 25 each independently preferably represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, which are contained in R 18 to R 25 herein. Each hydrogen atom to be independently may be substituted with a halogen atom. As a halogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom are mentioned. R 18 to R 25 each independently represent a hydrogen atom, a methyl group, a fluoro group, a chloro group, or a trifluoromethyl group from the viewpoint of improving the surface hardness, the flex resistance, and the transparency of the optical film, more independently. More preferably R 18 , R 19 , R 20 , R 23 , R 24 , and R 25 are hydrogen atoms, R 21 and R 22 are hydrogen atoms, methyl groups, fluoro groups, chloro groups or trifluoromethyl groups, It is particularly preferable that R 21 and R 22 be a methyl group or a trifluoromethyl group.

본 발명의 바람직한 실시형태에 있어서는, 식 (5)로 나타나는 구성 단위는, 식 (5'):In preferable embodiment of this invention, the structural unit represented by Formula (5) is Formula (5 '):

Figure 112019042730864-pat00009
Figure 112019042730864-pat00009

로 나타나는 구성 단위이며, 즉, 복수의 G의 적어도 일부는, 식 (5')로 나타나는 구성 단위이다. 이 경우, 광학 필름은 높은 투명성을 가질 수 있다.In other words, at least a part of the plurality of G's is a structural unit represented by Formula (5 '). In this case, the optical film may have high transparency.

본 발명의 바람직한 실시형태에 있어서, 상기 폴리아미드이미드계 수지 중의 G의, 바람직하게는 50몰% 이상, 보다 바람직하게는 60몰% 이상, 더 바람직하게는 70몰% 이상이 식 (5), 특히 식 (5')로 나타난다. 상기 폴리아미드이미드계 수지에 있어서의 상기 범위 내의 G가 식 (5), 특히 식 (5')로 나타나면, 광학 필름은 높은 투명성을 가질 수 있고, 추가로 불소 원소를 함유하는 골격에 의해 당해 폴리아미드이미드계 수지의 용매에의 용해성을 향상시키고, 수지 바니쉬의 점도를 낮게 억제할 수 있으며, 또 광학 필름의 제조가 용이하다. 또한, 바람직하게는, 상기 폴리아미드이미드계 수지 중의 G의 100몰% 이하가 식 (5), 특히 식 (5')로 나타난다. 상기 폴리아미드이미드계 수지 중의 G는 식 (5), 특히 (5')여도 된다. 상기 폴리아미드이미드계 수지 중의 G의 식 (5)로 나타나는 구성 단위의 비율은, 예를 들면 1H-NMR을 이용하여 측정할 수 있고, 또는 원료의 도입비로부터 산출할 수도 있다.In a preferred embodiment of the present invention, G in the polyamideimide-based resin, preferably 50 mol% or more, more preferably 60 mol% or more, still more preferably 70 mol% or more is represented by the formula (5), In particular, it is represented by Formula (5 '). When G in the said range in the said polyamide-imide-type resin is represented by Formula (5), especially Formula (5 '), an optical film may have high transparency, and the said poly film is further made by the frame | skeleton containing a fluorine element. The solubility of the amidimide-based resin in the solvent can be improved, the viscosity of the resin varnish can be suppressed low, and the production of the optical film is easy. Moreover, Preferably, 100 mol% or less of G in the said polyamide-imide-type resin is represented by Formula (5), especially Formula (5 '). Formula (5), especially (5 ') may be sufficient as G in the said polyamide-imide-type resin. The polyamide-imide-based content of the constituent unit represented by the formula (5) the G of the resin is, for example, can be measured by using a 1 H-NMR, or may be calculated from the raw material doipbi.

본 발명의 일 실시형태에 있어서, 폴리아미드이미드계 수지는, 디아민, 테트라카르복실산 화합물(산 클로라이드 화합물, 테트라카르복실산 이무수물 등의 테트라카르복실산 화합물 유연체(類緣體)) 및 디카르복실산 화합물(산 클로라이드 화합물 등의 디카르복실산 화합물 유연체), 그리고 필요에 따라 트리카르복실산 화합물(산 클로라이드 화합물, 트리카르복실산 무수물 등의 트리카르복실산 화합물 유연체) 등을 반응(중축합)시켜 얻어지는 축합형 고분자이다. 식 (10) 또는 식 (11)로 나타나는 반복 구조 단위는, 통상, 디아민 및 테트라카르복실산 화합물로부터 유도된다. 식 (12)로 나타나는 반복 구조 단위는, 통상, 디아민 및 트리카르복실산 화합물로부터 유도된다. 식 (13)으로 나타나는 반복 구조 단위는, 통상, 디아민 및 디카르복실산 화합물로부터 유도된다.In one embodiment of the present invention, the polyamide-imide resin is a diamine, a tetracarboxylic acid compound (tetracarboxylic acid compound flexible body such as an acid chloride compound, tetracarboxylic dianhydride) and Dicarboxylic acid compounds (dicarboxylic acid compound flexible bodies such as acid chloride compounds) and, if necessary, tricarboxylic acid compounds (tricarboxylic acid compound flexible bodies such as acid chloride compounds and tricarboxylic anhydrides); It is a condensation type polymer obtained by making it react (polycondensation). The repeating structural unit represented by Formula (10) or Formula (11) is usually derived from a diamine and a tetracarboxylic acid compound. The repeating structural unit represented by Formula (12) is usually derived from a diamine and a tricarboxylic acid compound. The repeating structural unit represented by Formula (13) is usually derived from a diamine and a dicarboxylic acid compound.

테트라카르복실산 화합물로서는, 방향족 테트라카르복실산 이무수물 등의 방향족 테트라카르복실산 화합물; 및 지방족 테트라카르복실산 이무수물 등의 지방족 테트라카르복실산 화합물을 들 수 있다. 테트라카르복실산 화합물은, 단독으로 이용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다. 테트라카르복실산 화합물은, 이무수물 이외에, 산 클로라이드 화합물 등의 테트라카르복실산 화합물 유연체여도 된다.As a tetracarboxylic-acid compound, Aromatic tetracarboxylic-acid compounds, such as aromatic tetracarboxylic dianhydride; And aliphatic tetracarboxylic acid compounds such as aliphatic tetracarboxylic dianhydrides. A tetracarboxylic-acid compound may be used independently and may use 2 or more types together. In addition to the dianhydride, the tetracarboxylic-acid compound may be a tetracarboxylic-acid compound flexible body, such as an acid chloride compound.

방향족 테트라카르복실산 이무수물의 구체예로서는, 4,4'-옥시디프탈산 이무수물, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르복실산 이무수물, 2,2',3,3'-벤조페논테트라카르복실산 이무수물, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르복실산 이무수물(BPDA라고 표기하는 경우도 있다), 2,2',3,3'-비페닐테트라카르복실산 이무수물, 3,3',4,4'-디페닐설폰테트라카르복실산 이무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)프로판 이무수물, 2,2-비스(2,3-디카르복시페닐)프로판 이무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페녹시페닐)프로판 이무수물, 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 이무수물(6FDA), 1,2-비스(2,3-디카르복시페닐)에탄 이무수물, 1,1-비스(2,3-디카르복시페닐)에탄 이무수물, 1,2-비스(3,4-디카르복시페닐)에탄 이무수물, 1,1-비스(3,4-디카르복시페닐)에탄 이무수물, 비스(3,4-디카르복시페닐)메탄 이무수물, 비스(2,3-디카르복시페닐)메탄 이무수물 및 4,4'-(p-페닐렌디옥시)디프탈산 이무수물 및 4,4'-(m-페닐렌디옥시)디프탈산 이무수물(6FDA)을 들 수 있다. 이것들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합해서 이용할 수 있다.As a specific example of aromatic tetracarboxylic dianhydride, 4,4'- oxydiphthalic dianhydride, 3,3 ', 4,4'- benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 2,2', 3,3'- Benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (may be referred to as BPDA), 2,2', 3,3'-biphenyltetra Carboxylic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-diphenylsulfontetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2-bis ( 2,3-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenoxyphenyl) propane dianhydride, 4,4 '-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic dianhydride ( 6FDA), 1,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,1-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,2-bis (3,4-di Carboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,1-bis (3,4-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) methane di Water, bis (2,3-dicarboxyphenyl) methane dianhydride and 4,4 '-(p-phenylenedioxy) diphthalic dianhydride and 4,4'-(m-phenylenedioxy) diphthalic dianhydride ( 6FDA). These can be used individually or in combination of 2 or more types.

지방족 테트라카르복실산 이무수물로서는, 환식 또는 비환식의 지방족 테트라카르복실산 이무수물을 들 수 있다. 환식 지방족 테트라카르복실산 이무수물이란, 지환식 탄화 수소 구조를 갖는 테트라카르복실산 이무수물이며, 그 구체예로서는, 1,2,4,5-시클로헥산테트라카르복실산 이무수물, 1,2,3,4-시클로부탄테트라카르복실산 이무수물, 1,2,3,4-시클로펜탄테트라카르복실산 이무수물 등의 시클로알칸테트라카르복실산 이무수물, 비시클로[2.2.2]옥트-7-엔-2,3,5,6-테트라카르복실산 이무수물, 디시클로헥실3,3'-4,4'-테트라카르복실산 이무수물 및 이것들의 위치 이성체를 들 수 있다. 이것들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합해서 이용할 수 있다. 비환식 지방족 테트라카르복실산 이무수물의 구체예로서는, 1,2,3,4-부탄테트라카르복실산 이무수물, 1,2,3,4-펜탄테트라카르복실산 이무수물 등을 들 수 있고, 이것들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합해서 이용할 수 있다. 또, 환식 지방족 테트라카르복실산 이무수물 및 비환식 지방족 테트라카르복실산 이무수물을 조합해서 이용해도 된다.As aliphatic tetracarboxylic dianhydride, a cyclic or acyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride is mentioned. A cyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride is tetracarboxylic dianhydride which has alicyclic hydrocarbon structure, As a specific example, 1,2,4,5-cyclohexane tetracarboxylic dianhydride, 1,2, Cycloalkanetetracarboxylic dianhydride, such as 3, 4- cyclobutane tetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-cyclopentane tetracarboxylic dianhydride, bicyclo [2.2.2] oct-7 -En-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, dicyclohexyl 3,3'-4,4'- tetracarboxylic dianhydride, and these positional isomers are mentioned. These can be used individually or in combination of 2 or more types. Specific examples of the acyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride include 1,2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-pentanetetracarboxylic dianhydride, and the like. Silver can be used individually or in combination of 2 or more types. Moreover, you may use combining a cyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride and an acyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride.

상기 테트라카르복실산 이무수물 중에서도, 황색도를 저감하여, 투명성을 높이기 쉬운 관점에서, 1,2,4,5-시클로헥산테트라카르복실산 이무수물, 비시클로[2.2.2]옥트-7-엔-2,3,5,6-테트라카르복실산 이무수물 및 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 이무수물, 그리고 이것들의 혼합물이 바람직하다. 또, 테트라카르복실산으로서, 상기 테트라카르복실산 화합물의 무수물의 수부가체(水付加體)를 이용해도 된다.Among the tetracarboxylic dianhydrides, 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride and bicyclo [2.2.2] oct-7- from the viewpoint of reducing yellowness and increasing transparency. Preference is given to en-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride and 4,4 '-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic dianhydride, and mixtures thereof. Moreover, you may use the aqueous addition product of the anhydride of the said tetracarboxylic-acid compound as tetracarboxylic acid.

트리카르복실산 화합물로서는, 방향족 트리카르복실산, 지방족 트리카르복실산 및 그것들의 유연의 산 클로라이드 화합물, 산무수물 등을 들 수 있으며, 2종 이상을 병용해도 된다. 구체예로서는, 1,2,4-벤젠트리카르복실산의 무수물; 2,3,6-나프탈렌트리카르복실산-2,3-무수물; 프탈산 무수물과 벤조산이 단결합, -CH2-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2- 또는 페닐렌기로 연결된 화합물을 들 수 있다.As a tricarboxylic acid compound, aromatic tricarboxylic acid, aliphatic tricarboxylic acid, those flexible acid chloride compounds, an acid anhydride, etc. are mentioned, You may use 2 or more types together. Specific examples include anhydrides of 1,2,4-benzenetricarboxylic acid; 2,3,6-naphthalenetricarboxylic acid-2,3- anhydride; And phthalic anhydride and benzoic acid include a single bond, -CH 2- , -C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2- , -SO 2 -or a phenylene group.

디카르복실산 화합물로서는, 방향족 디카르복실산, 지방족 디카르복실산 및 그것들의 유연의 산 클로라이드 화합물, 산무수물 등을 들 수 있고, 그것들을 2종 이상 병용해도 된다. 그것들의 구체예로서는, 테레프탈산 디클로라이드; 이소프탈산 디클로라이드; 나프탈렌디카르복실산 클로라이드; 4,4'-비페닐디카르복실산 클로라이드; 3,3'-비페닐디카르복실산 클로라이드; 4,4'-옥시비스(벤조일클로라이드)(OBBC); 탄소수 8 이하의 쇄식 탄화 수소의 디카르복실산 화합물 및 2개의 벤조산이 단결합, -CH2-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2- 또는 페닐렌기로 연결된 화합물을 들 수 있다. 이들 디카르복실산 화합물 중에서도, 테레프탈로일클로라이드 및 4,4'-옥시비스(벤조일클로라이드)가 보다 바람직하다. 이들 디카르복실산은 단독 또는 2종 이상 조합해서 사용할 수 있다.As a dicarboxylic acid compound, aromatic dicarboxylic acid, aliphatic dicarboxylic acid, those flexible acid chloride compounds, an acid anhydride, etc. are mentioned, You may use together 2 or more types. Specific examples thereof include terephthalic acid dichloride; Isophthalic acid dichloride; Naphthalenedicarboxylic acid chloride; 4,4'-biphenyldicarboxylic acid chloride; 3,3'-biphenyldicarboxylic acid chloride; 4,4'-oxybis (benzoylchloride) (OBBC); Dicarboxylic acid compounds of a chain hydrocarbon having 8 or less carbon atoms and two benzoic acids are a single bond, -CH 2- , -C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2- , -SO 2 -or phenyl The compound connected with the rene group is mentioned. Among these dicarboxylic acid compounds, terephthaloyl chloride and 4,4'-oxybis (benzoyl chloride) are more preferable. These dicarboxylic acids can be used individually or in combination of 2 or more types.

디아민으로서는, 예를 들면, 지방족 디아민, 방향족 디아민 또는 이것들의 혼합물을 들 수 있다. 또한, 본 실시형태에 있어서 「방향족 디아민」이란, 아미노기가 방향환에 직접 결합하고 있는 디아민을 나타내고, 그 구조의 일부에 지방족기 또는 기타 치환기를 포함하고 있어도 된다. 방향환은 단환이어도 되고 축합환이어도 되며, 벤젠환, 나프탈렌환, 안트라센환 및 플루오렌환 등이 예시되지만, 이것들로 한정되는 것은 아니다. 이것들 중에서도, 방향환이 벤젠환인 것이 바람직하다. 또 「지방족 디아민」이란, 아미노기가 지방족기에 직접 결합하고 있는 디아민을 나타내고, 그 구조의 일부에 방향환이나 기타 치환기를 포함하고 있어도 된다.As a diamine, an aliphatic diamine, aromatic diamine, or a mixture thereof is mentioned, for example. In addition, in this embodiment, "aromatic diamine" represents the diamine which the amino group couple | bonded with the aromatic ring directly, and may contain the aliphatic group or other substituent in a part of the structure. The aromatic ring may be monocyclic or condensed, and examples thereof include, but are not limited to, a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring, a fluorene ring, and the like. Among these, it is preferable that an aromatic ring is a benzene ring. Moreover, "aliphatic diamine" shows the diamine which the amino group couple | bonded with the aliphatic group directly, and may contain the aromatic ring and other substituent in a part of the structure.

지방족 디아민으로서는, 예를 들면, 헥사메틸렌디아민 등의 비환식 지방족 디아민 및 1,3-비스(아미노메틸)시클로헥산, 1,4-비스(아미노메틸)시클로헥산, 노르보난디아민, 4,4'-디아미노디시클로헥실메탄 등의 환식 지방족 디아민 등을 들 수 있다. 이것들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합해서 이용할 수 있다.Examples of the aliphatic diamine include acyclic aliphatic diamines such as hexamethylenediamine, 1,3-bis (aminomethyl) cyclohexane, 1,4-bis (aminomethyl) cyclohexane, norbornanediamine, and 4,4 '. Cyclic aliphatic diamines, such as diamino dicyclohexyl methane, etc. are mentioned. These can be used individually or in combination of 2 or more types.

방향족 디아민으로서는, 예를 들면, p-페닐렌디아민, m-페닐렌디아민, 2,4-톨루엔디아민, m-자일릴렌디아민, p-자일릴렌디아민, 1,5-디아미노나프탈렌, 2,6-디아미노나프탈렌 등의, 방향환을 1개 갖는 방향족 디아민; 4,4'-디아미노디페닐메탄, 4,4'-디아미노디페닐프로판, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 3,4'-디아미노디페닐에테르, 3,3'-디아미노디페닐에테르, 4,4'-디아미노디페닐설폰, 3,4'-디아미노디페닐설폰, 3,3'-디아미노디페닐설폰, 1,4-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕설폰, 비스〔4-(3-아미노페녹시)페닐〕설폰, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2-비스[4-(3-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2'-디메틸벤지딘, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘(2,2'-비스(트리플루오로메틸)-4,4'-디아미노디페닐(TFMB)), 4,4'-비스(4-아미노페녹시)비페닐, 9,9-비스(4-아미노페닐)플루오렌, 9,9-비스(4-아미노-3-메틸페닐)플루오렌, 9,9-비스(4-아미노-3-클로로페닐)플루오렌, 9,9-비스(4-아미노-3-플루오로페닐)플루오렌 등의, 방향환을 2개 이상 갖는 방향족 디아민을 들 수 있다. 이것들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합해서 이용할 수 있다. 또, 지방족 디아민과 방향족 디아민을 조합할 수도 있다.As aromatic diamine, p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, 2, 4-toluenediamine, m- xylylenediamine, p- xylylenediamine, 1, 5- diamino naphthalene, 2, 6, for example Aromatic diamines having one aromatic ring such as -diaminonaphthalene; 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenylether, 3,4'-diaminodiphenylether, 3,3'-dia Minodiphenylether, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3'-diaminodiphenylsulfone, 1,4-bis (4-aminophenoxy) Benzene, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfone, 2,2- Bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis (tri Fluoromethyl) benzidine (2,2'-bis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminodiphenyl (TFMB)), 4,4'-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, 9 , 9-bis (4-aminophenyl) fluorene, 9,9-bis (4-amino-3-methylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-amino-3-chlorophenyl) fluorene, 9, Two or more aromatic rings, such as 9-bis (4-amino-3-fluorophenyl) fluorene There may be mentioned aromatic diamine. These can be used individually or in combination of 2 or more types. Moreover, aliphatic diamine and aromatic diamine can also be combined.

상기 디아민 중에서도, 황색도를 저감하여, 투명성을 높이기 쉬운 관점에서, 비페닐 구조를 갖는 방향족 디아민으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 이용하는 것이 바람직하다. 2,2'-디메틸벤지딘, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘, 4,4'-비스(4-아미노페녹시)비페닐 및 4,4'-디아미노디페닐에테르로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 이용하는 것이 더 바람직하고, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘을 이용하는 것이 보다 더 바람직하다.It is preferable to use 1 or more types chosen from the group which consists of aromatic diamine which has a biphenyl structure from a viewpoint of reducing yellowness and improving transparency among the said diamine. Consisting of 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine, 4,4'-bis (4-aminophenoxy) biphenyl and 4,4'-diaminodiphenylether It is more preferable to use at least 1 type selected from the group, and even more preferably to use 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine.

폴리아미드이미드계 수지는, 디아민, 테트라카르복실산 화합물, 및 디카르복실산 화합물, 그리고 필요에 따라 트리카르복실산 화합물 등의 각 원료를 관용의 방법, 예를 들면, 교반 등의 방법에 의해 혼합한 후, 얻어진 중간체를 이미드화 촉매 및 필요에 따라 탈수제의 존재하에서, 이미드화하는 것에 의해 얻을 수 있다.The polyamideimide-based resin is a diamine, a tetracarboxylic acid compound, a dicarboxylic acid compound, and if necessary, each raw material such as a tricarboxylic acid compound by a conventional method, for example, a method such as stirring After mixing, the obtained intermediate can be obtained by imidization in the presence of an imidization catalyst and, if necessary, a dehydrating agent.

이미드화 공정에서 사용되는 이미드화 촉매로서는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 트리프로필아민, 디부틸프로필아민, 에틸디부틸아민 등의 지방족 아민; N-에틸피페리딘, N-프로필피페리딘, N-부틸피롤리딘, N-부틸피페리딘, 및 N-프로필헥사히드로아제핀 등의 지환식 아민(단환식); 아자비시클로[2.2.1]헵탄, 아자비시클로[3.2.1]옥탄, 아자비시클로[2.2.2]옥탄, 및 아자비시클로[3.2.2]노난 등의 지환식 아민(다환식); 그리고 2-메틸피리딘, 3-메틸피리딘, 4-메틸피리딘, 2-에틸피리딘, 3-에틸피리딘, 4-에틸피리딘, 2,4-디메틸피리딘, 2,4,6-트리메틸피리딘, 3,4-시클로펜테노피리딘, 5,6,7,8-테트라히드로이소퀴놀린, 및 이소퀴놀린 등의 방향족 아민을 들 수 있다.Although it does not specifically limit as an imidation catalyst used at an imidation process, For example, Aliphatic amines, such as tripropylamine, dibutylpropylamine, ethyldibutylamine; Alicyclic amines (monocyclic) such as N-ethylpiperidine, N-propylpiperidine, N-butylpyrrolidine, N-butylpiperidine, and N-propylhexahydroazepine; Alicyclic amines (polycyclic) such as azabicyclo [2.2.1] heptane, azabicyclo [3.2.1] octane, azabicyclo [2.2.2] octane, and azabicyclo [3.2.2] nonane; And 2-methylpyridine, 3-methylpyridine, 4-methylpyridine, 2-ethylpyridine, 3-ethylpyridine, 4-ethylpyridine, 2,4-dimethylpyridine, 2,4,6-trimethylpyridine, 3,4 Aromatic amines such as cyclopentenopyridine, 5,6,7,8-tetrahydroisoquinoline, and isoquinoline.

이미드화 공정에서 사용되는 탈수제로서는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 무수 아세트산, 프로피온산 무수물, 이소부티르산 무수물, 피발산 무수물, 부티르산 무수물, 이소발레르산 무수물 등을 들 수 있다.Examples of the dehydrating agent used in the imidation step include, but are not particularly limited to, acetic anhydride, propionic anhydride, isobutyric anhydride, pivalic anhydride, butyric anhydride, isovaleric anhydride, and the like.

각 원료의 혼합 및 이미드화 공정에 있어서, 반응 온도는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 15~350℃, 바람직하게는 20~100℃이다. 반응 시간도 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 10분~10시간 정도이다. 필요에 따라, 불활성 분위기 또는 감압 조건하에 있어서 반응을 행해도 된다. 또, 반응은 용매 중에서 행해도 되고, 용매로서는, 예를 들면 바니쉬의 조제에 사용되는 용매로서 예시된 것을 들 수 있다. 반응 후, 폴리아미드이미드계 수지를 정제한다. 정제 방법으로서는, 예를 들면 반응액에 빈용매를 첨가하여 재침전법에 의해 수지를 석출시키고, 건조시켜 침전물을 취출하고, 필요에 따라 침전물을 메탄올 등의 용매로 세정해 건조시키는 방법 등을 들 수 있다.Although the reaction temperature is not specifically limited in the mixing and imidation process of each raw material, For example, it is 15-350 degreeC, Preferably it is 20-100 degreeC. Although reaction time is not specifically limited, for example, It is about 10 minutes-about 10 hours. If necessary, the reaction may be performed under inert atmosphere or reduced pressure conditions. Moreover, you may perform reaction in a solvent, As a solvent, what was illustrated as a solvent used for preparation of a varnish, for example is mentioned. After the reaction, the polyamideimide resin is purified. As the purification method, for example, a poor solvent is added to the reaction solution to precipitate the resin by reprecipitation, and dried to take out the precipitate, and if necessary, the precipitate is washed with a solvent such as methanol and dried. have.

폴리아미드이미드계 수지의 중량 평균 분자량은, 바람직하게는 100,000 이상, 보다 바람직하게는 150,000 이상, 더 바람직하게는 210,000 이상, 보다 더 바람직하게는 250,000 이상, 특히 바람직하게는 300,000 이상이고, 바람직하게는 500,000 이하, 보다 바람직하게는 450,000 이하, 더 바람직하게는 400,000 이하이다. 폴리아미드이미드계 수지의 중량 평균 분자량이 클수록, 필름화했을 때의 탄성률 및 내굴곡성을 발현하기 쉬운 경향이 있다. 이로 인하여, 광학 필름의 탄성률 및 내굴곡성을 높이기 쉬운 관점에서는, 중량 평균 분자량이 상기의 하한 이상인 것이 바람직하다. 한편, 폴리아미드이미드계 수지의 중량 평균 분자량이 작을 수록, 바니쉬의 점도를 낮게 하기 쉬워, 가공성을 향상시키기 쉬운 경향이 있다. 또, 폴리아미드이미드계 수지의 연신성이 향상되기 쉬운 경향이 있다. 이로 인하여, 가공성 및 연신성의 관점에서는, 중량 평균 분자량이 상기의 상한 이하인 것이 바람직하다. 또한, 본원에 있어서 중량 평균 분자량은, 겔 침투 크로마토그래피(GPC) 측정을 행하여, 표준 폴리스티렌 환산에 의해 구할 수 있으며, 예를 들면 실시예에 기재된 방법에 의해 산출할 수 있다.The weight average molecular weight of the polyamideimide-based resin is preferably 100,000 or more, more preferably 150,000 or more, even more preferably 210,000 or more, even more preferably 250,000 or more, particularly preferably 300,000 or more, preferably 500,000 or less, More preferably, it is 450,000 or less, More preferably, it is 400,000 or less. The larger the weight average molecular weight of the polyamideimide-based resin, the easier it is to express the elastic modulus and the flex resistance when the film is formed. For this reason, it is preferable that a weight average molecular weight is more than the said minimum from a viewpoint of easily increasing the elasticity modulus and bending resistance of an optical film. On the other hand, the smaller the weight average molecular weight of the polyamide-imide-based resin, the easier the viscosity of the varnish is to be, and the tendency is to tend to improve the workability. Moreover, there exists a tendency for the stretchability of polyamide-imide type resin to improve easily. For this reason, from a viewpoint of workability and stretchability, it is preferable that a weight average molecular weight is below the said upper limit. In addition, in this application, a weight average molecular weight can carry out gel permeation chromatography (GPC) measurement, and it can calculate | require by standard polystyrene conversion, For example, it can calculate by the method as described in an Example.

폴리아미드이미드계 수지의 이미드화율은, 바람직하게는 95~100%, 보다 바람직하게는 97~100%, 더 바람직하게는 98~100%, 특히 바람직하게는 100%이다. 바니쉬의 안정성, 얻어지는 광학 필름의 기계 물성의 관점에서는, 이미드화율이 상기의 하한 이상인 것이 바람직하다. 또한, 이미드화율은, IR법, NMR법 등에 의해 구할 수 있다. 상기 관점에서, 바니쉬 중에 포함되는 폴리아미드이미드계 수지의 이미드화율이 상기 범위 내인 것이 바람직하다.The imidation ratio of the polyamide-imide resin is preferably 95 to 100%, more preferably 97 to 100%, still more preferably 98 to 100%, particularly preferably 100%. It is preferable that the imidation ratio is more than the said minimum from a viewpoint of the stability of a varnish and the mechanical physical property of the optical film obtained. In addition, the imidation ratio can be calculated | required by IR method, NMR method, etc. From the said viewpoint, it is preferable that the imidation ratio of the polyamide-imide-type resin contained in a varnish exists in the said range.

본 발명의 바람직한 일 실시형태에 있어서, 본 발명의 광학 필름에 포함되는 폴리아미드이미드계 수지는, 예를 들면 상기의 함불소 치환기 등에 의해 도입할 수 있다. 폴리아미드이미드계 수지가 할로겐 원자를 포함하는 경우, 광학 필름의 탄성률 및 내굴곡성을 고도로 유지하고, 또한 황색도(YI값)를 저감시키기 쉽다. 광학 필름의 탄성률 및 내굴곡성이 높으면 당해 필름에 있어서의 흠집 및 주름 등의 발생을 억제하기 쉽고, 또, 광학 필름의 황색도가 낮으면 당해 필름의 투명성을 향상시키기 쉬워진다. 할로겐 원자는, 바람직하게는 불소 원자이다. 폴리아미드이미드계 수지에 불소 원자를 함유시키기 위해 바람직한 함불소 치환기로서는, 예를 들면 플루오로기 및 트리플루오로메틸기를 들 수 있다.In one preferable embodiment of the present invention, the polyamide-imide resin contained in the optical film of the present invention can be introduced by, for example, the fluorine-containing substituent described above. When the polyamide-imide resin contains a halogen atom, the elastic modulus and the flex resistance of the optical film are maintained at a high level, and yellowness (YI value) is easily reduced. When the elastic modulus and the bending resistance of the optical film are high, it is easy to suppress the occurrence of scratches and wrinkles in the film, and when the yellowness of the optical film is low, the transparency of the film is easily improved. The halogen atom is preferably a fluorine atom. As a preferable fluorine-containing substituent in order to contain a fluorine atom in polyamide-imide-type resin, a fluoro group and a trifluoromethyl group are mentioned, for example.

폴리아미드이미드계 수지가 할로겐 원자를 갖는 경우, 그 함유량은, 폴리아미드이미드계 수지의 질량을 기준으로 하여 바람직하게는 1~40질량%이며, 보다 바람직하게는 5~40질량%이며, 보다 더 바람직하게는 5~30질량%이다. 할로겐 원자의 함유량이 1질량% 이상이면, 필름화했을 때의 탄성률 및 내굴곡성을 보다 향상시키며, 흡수율을 낮춰 황색도(YI값)를 보다 저감하여, 투명성을 보다 향상시키기 쉽다. 할로겐 원자의 함유량이 40질량%를 넘으면, 합성이 곤란하게 되는 경우가 있다.When the polyamideimide resin has a halogen atom, the content thereof is preferably 1 to 40% by mass, more preferably 5 to 40% by mass, and even more, based on the mass of the polyamideimide resin. Preferably it is 5-30 mass%. When content of a halogen atom is 1 mass% or more, the elasticity modulus and bending resistance at the time of film-forming are further improved, water absorption is reduced, yellowness (YI value) is further reduced, and transparency is easy to improve more. When content of a halogen atom exceeds 40 mass%, synthesis may become difficult.

본 발명에 있어서의 폴리아미드이미드계 수지에 있어서, 식 (13)으로 나타나는 구성 단위의 함유량은, 식 (10)으로 나타나는 구성 단위 1몰에 대해서, 바람직하게는 0.1몰 이상, 보다 바람직하게는 0.5몰 이상, 더 바람직하게는 1.0몰 이상, 특히 바람직하게는 1.5몰 이상이고, 바람직하게는 6.0몰 이하, 보다 바람직하게는 5.0몰 이하, 더 바람직하게는 4.5몰 이하이다. 식 (13)으로 나타나는 구성 단위의 함유량이 상기 하한값 이상이면, 광학 필름은, 높은 표면 경도, 내굴곡성 및 저황색도를 발현하기 쉽다. 또, 식 (13)으로 나타나는 구성 단위의 함유량이 상기 상한값 이하이면, 식 (13) 중의 아미드 결합 간의 수소결합에 의한 증점을 억제하여, 수지 바니쉬의 점도를 저감할 수 있어, 광학 필름의 제조가 용이하다.In the polyamideimide-based resin in the present invention, the content of the structural unit represented by Formula (13) is preferably 0.1 mol or more, more preferably 0.5 to 1 mol of the structural unit represented by Formula (10). It is more than 1 mol, More preferably, it is 1.0 mol or more, Especially preferably, it is 1.5 mol or more, Preferably it is 6.0 mol or less, More preferably, it is 5.0 mol or less, More preferably, it is 4.5 mol or less. When content of the structural unit represented by Formula (13) is more than the said minimum, it is easy to express high surface hardness, bending resistance, and low yellowness. Moreover, when content of the structural unit represented by Formula (13) is below the said upper limit, the thickening by the hydrogen bond between the amide bonds in Formula (13) can be suppressed, and the viscosity of a resin varnish can be reduced and manufacture of an optical film It is easy.

본 발명의 일 실시형태에 있어서, 광학 필름 중에 있어서의 폴리아미드이미드계 수지의 함유량은, 광학 필름의 전체 질량을 기준으로 하여 바람직하게는 40질량% 이상이고, 보다 바람직하게는 50질량% 이상이며, 더 바람직하게는 70질량% 이상이다. 폴리아미드이미드계 수지의 함유량이 상기의 하한 이상인 것이, 탄성률 및 내굴곡성 등을 높이기 쉬운 관점에서 바람직하다. 또한, 광학 필름 중에 있어서의 폴리아미드이미드계 수지의 함유량은, 광학 필름의 전체 질량을 기준으로 하여 통상 100질량% 이하이다.In one Embodiment of this invention, content of the polyamide-imide-type resin in an optical film becomes like this. Preferably it is 40 mass% or more, More preferably, it is 50 mass% or more based on the total mass of an optical film. More preferably, it is 70 mass% or more. It is preferable that content of polyamide-imide resin is more than the said minimum from a viewpoint of easy to raise elasticity modulus, flex resistance, etc. In addition, content of polyamide-imide-type resin in an optical film is 100 mass% or less normally on the basis of the total mass of an optical film.

<실리카 입자><Silica Particles>

본 발명의 광학 필름은, 실리카 입자를 포함하는 것이 바람직하다. 실리카 입자를 포함하는 것에 의해 광학 필름의 탄성률이 보다 향상되는 경향이 있다. 또, 광학 필름의 황색도(YI)를 저감하기 쉬운 관점에서, 전체적 또는 부분적으로 메톡시기가 결합(또는 치환)한 실리카 입자(메톡시 수식 실리카 입자라고 부르는 경우가 있다)를 적합하게 사용할 수 있다. 이러한 메톡시 수식 실리카 입자는, 후술하는 광학 필름의 용매 치환 공정에 있어서, 메탄올을 분산매로 하는 실리카 졸(메탄올 분산 실리카 졸이라고 부르는 경우가 있다)을 사용하는 것에 의해, 광학 필름에 함유시킬 수 있다. 또, 메탄올 분산 실리카 졸을 원료로서 사용하여, 메톡시 수식 실리카 입자를 광학 필름에 함유시킴으로써 상기 강도비(A/B)를 0.02 이상으로 조정할 수 있어, 저황색도(YI값)와 고탄성률을 갖는 광학 필름을 얻을 수 있다. 이와 같이 광학 필름의 황색도(YI값)가 저감되는 것은, 광학 필름에 포함되는 실리카 입자의 규소(Si) 원자가, 소정량 이상의 메톡시기로 수식됨으로써, 실리카 입자 표면의 소수성 향상에 기인해 실리카 입자와 폴리아미드이미드계 수지의 친화성이 높아져, 광학 필름 중에서 실리카 입자가 균일하게 분산하기 쉬워지기 때문이라고 추정된다. 또한, TOF-SIMS법으로 측정되는 메톡시 이온 강도(A)는 메톡시기 또는 메탄올에 유래하고, 규소 이온 강도(B)는 규소 원자에 유래하는 것이라고 추정되기 때문에, 상기 강도비의 조정은, 메탄올 분산 실리카를 원료로서 이용하는 조정으로 한정되지 않고, Si원자를 포함하는 화합물, 메톡시기를 포함하는 화합물, 메탄올 등의 함유량을 조정해서 행해도 된다.It is preferable that the optical film of this invention contains a silica particle. It exists in the tendency for the elasticity modulus of an optical film to improve more by containing a silica particle. In addition, from the viewpoint of easily reducing the yellowness (YI) of the optical film, silica particles (may be referred to as methoxy modified silica particles) in which methoxy groups are bonded (or substituted) in whole or in part can be suitably used. . Such a methoxy-modified silica particle can be contained in an optical film by using the silica sol (it may be called methanol dispersion silica sol) which uses methanol as a dispersion medium in the solvent substitution process of the optical film mentioned later. . In addition, by using methanol-dispersed silica sol as a raw material, by containing methoxy-modified silica particles in the optical film, the intensity ratio (A / B) can be adjusted to 0.02 or more, and low yellowness (YI value) and high modulus of elasticity The optical film which has is obtained. The yellowness (YI value) of the optical film is reduced in this way because the silicon (Si) atoms of the silica particles contained in the optical film are modified by a methoxy group of a predetermined amount or more, resulting in the hydrophobicity improvement on the surface of the silica particles. And affinity of polyamide-imide-based resin increase, and it is presumably because silica particles are easily dispersed uniformly in the optical film. In addition, since the methoxy ionic strength (A) measured by the TOF-SIMS method is estimated to be derived from a methoxy group or methanol, and the silicon ionic strength (B) is derived from a silicon atom, the adjustment of the strength ratio is methanol. It is not limited to the adjustment using a dispersion silica as a raw material, You may adjust and adjust content, such as a compound containing a Si atom, a compound containing a methoxy group, methanol.

실리카 입자의 일차 입자경은 바람직하게는 5nm 이상, 보다 바람직하게는 7nm 이상, 더 바람직하게는 10nm 이상이고, 바람직하게는 30nm 이하, 보다 바람직하게는 27nm 이하, 더 바람직하게는 25nm 이하이며, 이들 상한과 하한의 조합이어도 된다. 실리카 입자의 일차 입자가 상기의 하한 이상이면, 실리카 입자의 응집을 억제하여, 황색도(YI값)를 저감하기 쉽고, 또, 내굴곡성도 높아지는 경향이 있다. 상기의 상한 이하이면, 필름의 투명성을 향상시키기 쉽다. 또한, 실리카 입자의 일차 입자경은 BET법에 의해 측정할 수 있다. 또한, 투과형 전자 현미경(TEM)이나 주사형 전자 현미경(SEM)의 화상 해석에 의해, 실리카 입자의 일차 입자경(평균 일차 입자경)을 측정해도 된다.The primary particle diameter of the silica particles is preferably 5 nm or more, more preferably 7 nm or more, even more preferably 10 nm or more, preferably 30 nm or less, more preferably 27 nm or less, even more preferably 25 nm or less, and these upper limits. Combinations of and lower limits may be used. If the primary particle of a silica particle is more than the said minimum, it will tend to suppress aggregation of a silica particle, to reduce a yellowness (YI value), and to have high bending resistance. If it is below the said upper limit, it will be easy to improve transparency of a film. In addition, the primary particle diameter of a silica particle can be measured by BET method. In addition, you may measure the primary particle diameter (average primary particle diameter) of a silica particle by the image analysis of a transmission electron microscope (TEM) and a scanning electron microscope (SEM).

실리카 입자의 함유량은, 광학 필름의 질량에 대해서, 바람직하게는 45질량% 이하, 보다 바람직하게는 40질량% 이하, 더 바람직하게는 35질량% 이하, 특히 바람직하게는 33질량% 이하, 특히 30질량% 이하이며, 바람직하게는 1질량% 이상, 보다 바람직하게는 3질량% 이상, 더 바람직하게는 5질량% 이상, 특히 바람직하게는 10질량% 이상이고, 이들 상한과 하한의 조합이어도 된다. 실리카 입자의 함유량이 상기의 범위이면, 탄성률 및 내굴곡성을 향상시키기 쉽고, 탄성률 및 내굴곡성이 높은 광학 필름이 얻어지기 쉽다. 또한, 실리카 입자의 첨가량을 적절히 조정하여, 상기 강도비(A/B)를 본 발명의 범위로 조정할 수도 있다.The content of the silica particles is preferably 45% by mass or less, more preferably 40% by mass or less, still more preferably 35% by mass or less, particularly preferably 33% by mass or less, particularly 30, based on the mass of the optical film. It is mass% or less, Preferably it is 1 mass% or more, More preferably, it is 3 mass% or more, More preferably, it is 5 mass% or more, Especially preferably, it is 10 mass% or more, The combination of these upper limits and a minimum may be sufficient. If content of a silica particle is the said range, it will be easy to improve elasticity modulus and flex resistance, and the optical film with high elastic modulus and flex resistance will be easy to be obtained. Moreover, the addition amount of a silica particle can be adjusted suitably, and the said intensity ratio (A / B) can also be adjusted in the scope of the present invention.

본 발명의 광학 필름은 필러를 포함하고 있어도 된다. 필러로서는, 예를 들면 유기 입자, 무기 입자 등을 들 수 있고, 특히 무기 입자가 바람직하다. 무기 입자로서는, 지르코니아, 알루미나, 티타니아, 산화 아연, 산화 게르마늄, 산화 인듐, 산화 주석, 인듐 주석 산화물(ITO), 산화 안티모니, 산화 세륨 등의 금속 산화물 입자, 불화 마그네슘, 불화 나트륨 등의 금속 불화물 입자 등을 들 수 있고, 이들 필러는 단독 또는 2종 이상 조합해서 사용할 수 있다.The optical film of this invention may contain the filler. As a filler, organic particle | grains, an inorganic particle, etc. are mentioned, for example, Especially an inorganic particle is preferable. As inorganic particles, metal fluorides such as zirconia, alumina, titania, zinc oxide, germanium oxide, indium oxide, tin oxide, indium tin oxide (ITO), metal oxide particles such as antimony oxide and cerium oxide, magnesium fluoride and sodium fluoride Particles etc. are mentioned, These filler can be used individually or in combination of 2 or more types.

본 발명의 광학 필름은, 상기 폴리아미드이미드계 수지, 상기 실리카 입자, 및 상기 필러 이외의 다른 첨가제를 포함하고 있어도 된다. 다른 첨가제로서는, 예를 들면, 레벨링제, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 블루잉제, 가소제, 계면활성제 등을 들 수 있다. 이들 다른 첨가제는 단독 또는 2종 이상 조합해서 사용할 수 있다. 광학 필름이 다른 첨가제를 포함하는 경우, 다른 첨가제의 함유량은, 광학 필름의 질량에 대해서, 예를 들면 0.01~20질량부, 바람직하게는 0.1~10질량부 정도이면 된다.The optical film of this invention may contain the additive other than the said polyamide-imide-type resin, the said silica particle, and the said filler. As another additive, a leveling agent, antioxidant, a ultraviolet absorber, a bluing agent, a plasticizer, surfactant, etc. are mentioned, for example. These other additives can be used individually or in combination of 2 or more types. When an optical film contains another additive, content of another additive may be 0.01-20 mass parts with respect to the mass of an optical film, for example, Preferably it is about 0.1-10 mass parts.

[광학 필름의 제조 방법][Method of Manufacturing Optical Film]

본 발명의 광학 필름의 제조 방법에 대한 일 실시형태를 이하에 나타낸다.One embodiment about the manufacturing method of the optical film of this invention is shown below.

본 발명의 광학 필름의 제조 방법은, 메탄올 분산 실리카 졸을 용매 치환하는 공정(용매 치환 공정)을 포함할 수 있다. 또, 용매 치환된 실리카 졸과 폴리아미드이미드계 수지를 혼합하는 공정(바니쉬 조제 공정)을 포함할 수 있다. 또한 바니쉬 조제 공정에서 얻어진 상기 바니쉬를 기재에 도포하여 도막을 형성하는 공정(도포 공정)을 포함할 수 있다. 또한 도포된 액(상기 도막)을 건조시켜 광학 필름을 형성하는 공정(광학 필름 형성 공정)을 포함할 수 있다.The manufacturing method of the optical film of this invention can include the process (solvent substitution process) of solvent-substituting a methanol dispersion silica sol. Moreover, the process (varnish preparation process) of mixing a solvent-substituted silica sol and polyamide-imide-type resin may be included. Moreover, the process of apply | coating the said varnish obtained by the varnish preparation process to a base material, and forming a coating film can be included. It may also include a step (optical film forming step) of drying the applied liquid (the coating film) to form an optical film.

용매 치환 공정은, 메탄올 분산 실리카 졸의 분산매인 메탄올을 다른 용매로 용매 치환하는 공정이다. 다른 용매로서는, 메탄올보다 비점이 높은 용매이면 되고, 예를 들면, 후술하는 바니쉬의 조제에 이용되는 용매로서 예시된 것을 들 수 있다. 이것들 중에서도, 용매 치환의 용이성의 관점에서 비점이 100℃ 이상인 용매가 바람직하고, 바니쉬 조제의 용이성의 관점에서, 후술하는 바니쉬 조제에 이용되는 용매와 같은 용매를 사용하는 것이 보다 바람직하다. 또, 메탄올 분산 실리카 졸의 고형분 농도는, 예를 들면 5~50질량%, 바람직하게는 15~40질량%이면 된다.A solvent substitution process is a process of solvent substitution of methanol which is a dispersion medium of methanol dispersion silica sol with another solvent. As another solvent, what is necessary is just a solvent higher boiling point than methanol, For example, what was illustrated as a solvent used for preparation of the varnish mentioned later is mentioned. Among these, the solvent whose boiling point is 100 degreeC or more is preferable from a viewpoint of the ease of solvent substitution, and it is more preferable to use the same solvent as the solvent used for varnish preparation mentioned later from the viewpoint of the ease of varnish preparation. Moreover, solid content concentration of a methanol dispersion silica sol is 5-50 mass%, for example, Preferably it is 15-40 mass%.

원료인 메탄올 분산 실리카 졸은, 수분산된 수성 실리카 졸을 메탄올로 용매 치환해 얻어도 되고, 시판품을 사용해도 된다. 시판품으로서는, 닛산 화학공업(주)(Nissan Chemical Corporation)제의 상품명 「MA-ST-S」(메탄올 분산 실리카 졸), 상품명 「MT-ST」(메탄올 분산 실리카 졸), 상품명 「MA-ST-UP」(메탄올 분산 실리카 졸), 상품명 「MA-ST-M」(메탄올 분산 실리카 졸), 상품명 「MA-ST-L」(메탄올 분산 실리카 졸), 상품명 「MA-ST-G-ML1」(메탄올 분산 실리카 졸) 등을 들 수 있다. 또한, 메탄올 분산 실리카 졸은, 메탄올 이외의 알코올 등의 용매를 포함하고 있어도 된다.Methanol-dispersed silica sol which is a raw material may be obtained by solvent-substituting a water-dispersed aqueous silica sol with methanol, and may use a commercial item. As a commercial item, Nissan Chemical Co., Ltd. brand name "MA-ST-S" (methanol dispersion silica sol), brand name "MT-ST" (methanol dispersion silica sol), brand name "MA-ST- UP "(methanol dispersion silica sol), brand name" MA-ST-M "(methanol dispersion silica sol), brand name" MA-ST-L "(methanol dispersion silica sol), brand name" MA-ST-G-ML1 "( Methanol dispersion silica sol), and the like. In addition, the methanol dispersion silica sol may contain solvents, such as alcohol other than methanol.

용매 치환 공정에서는, 메탄올 분산 실리카 졸에 다른 용매를 첨가하여 또는 첨가하면서, 당해 다른 용매를 증발시킨다. 용매 치환은, 진공하, 감압하 또는 상압하에서 행해도 되고, 상온 또는 가열하에서 행해도 되지만, 실리카 입자의 응집을 억제하여, 실리카 입자가 균일하게 분산한 분산매를 얻기 쉬운 관점에서, 감압하에서, 예를 들면 40~80℃에서 행하는 것이 바람직하다. 용매 치환 공정에 있어서, 메탄올 분산 실리카 졸을 사용하면, 얻어지는 광학 필름의 상기 강도비(A/B)를 0.02 이상으로 조정하기 쉬워, 황색도(YI값)를 저감하기 쉽다. 또, 용매 치환된 실리카 졸의 고형분 농도는, 예를 들면 예를 들면 5~50질량%, 바람직하게는 15~40질량%이면 된다.In the solvent substitution step, the other solvent is evaporated while adding or adding another solvent to the methanol dispersed silica sol. The solvent substitution may be performed under vacuum, under reduced pressure, or under normal pressure, or under normal temperature or heating, but under reduced pressure, from the viewpoint of suppressing aggregation of silica particles and easily obtaining a dispersion medium in which silica particles are uniformly dispersed, For example, it is preferable to carry out at 40-80 degreeC. In a solvent substitution process, when using methanol dispersion silica sol, the said intensity ratio (A / B) of the optical film obtained is easy to adjust to 0.02 or more, and yellowness (YI value) is easy to be reduced. Moreover, solid content concentration of a solvent-substituted silica sol is 5-50 mass%, for example, Preferably it is 15-40 mass%.

바니쉬 조제 공정에서는, 폴리아미드이미드계 수지를 용매에 용해하고, 용매에 용해한 폴리아미드이미드계 수지와, 상기 용매 치환된 실리카 졸 및 필요에 따라 상기 필러나 상기 다른 첨가제를 교반혼합하는 것에 의해 바니쉬를 조제한다.In the varnish preparation step, the varnish is dissolved by dissolving a polyamideimide resin in a solvent and stirring and mixing the polyamideimide resin dissolved in the solvent with the solvent-substituted silica sol and, if necessary, the filler or the other additives. To prepare.

바니쉬의 조제에 이용되는 용매는, 상기 수지를 용해 가능하면 특별히 한정되지 않는다. 이러한 용매로서는, 예를 들면 N,N-디메틸아세트아미드, N,N-디메틸포름아미드 등의 아미드계 용매; γ-부티로락톤, γ-발레로락톤 등의 락톤계 용매; 디메틸설폰, 디메틸설폭시드, 설포란 등의 함황계 용매; 에틸렌카보네이트, 프로필렌카보네이트 등의 카보네이트계 용매; 및 그것들의 조합을 들 수 있다. 이것들 중에서도, 아미드계 용매 또는 락톤계 용매가 바람직하다. 이들 용매는 단독 또는 2종 이상 조합해서 사용할 수 있다. 또, 바니쉬에는 물, 알코올계 용매, 케톤계 용매, 비환상 에스테르계 용매, 에테르계 용매 등이 포함되어도 된다. 바니쉬의 고형분 농도는, 바람직하게는 1~25질량%, 보다 바람직하게는 5~15질량%이다.The solvent used for preparation of the varnish is not particularly limited as long as the resin can be dissolved. As such a solvent, For example, amide solvents, such as N, N- dimethylacetamide and N, N- dimethylformamide; lactone solvents such as γ-butyrolactone and γ-valerolactone; Sulfur-containing solvents such as dimethyl sulfone, dimethyl sulfoxide and sulfolane; Carbonate solvents such as ethylene carbonate and propylene carbonate; And combinations thereof. Among these, an amide solvent or a lactone solvent is preferable. These solvents can be used individually or in combination of 2 or more types. The varnish may include water, an alcohol solvent, a ketone solvent, an acyclic ester solvent, an ether solvent, or the like. Solid content concentration of a varnish becomes like this. Preferably it is 1-25 mass%, More preferably, it is 5-15 mass%.

도포 공정에 있어서, 공지의 도포 방법에 의해, 기재 상에 바니쉬를 도포하여 도막을 형성한다. 공지의 도포 방법으로서는, 예를 들면 와이어 바 코팅법, 리버스 코팅, 그라비어 코팅 등의 롤 코팅법, 다이 코팅법, 콤마 코팅법, 립 코팅법, 스핀 코팅법, 스크린 코팅법, 파운틴 코팅법, 디핑법, 스프레이법, 유연(流涎) 성형법 등을 들 수 있다.In a coating process, a varnish is apply | coated on a base material by a well-known coating method, and a coating film is formed. As a well-known coating method, for example, a roll coating method such as wire bar coating method, reverse coating, gravure coating, die coating method, comma coating method, lip coating method, spin coating method, screen coating method, fountain coating method, A ping method, a spray method, the casting molding method, etc. are mentioned.

광학 필름 형성 공정에 있어서, 도막을 건조시켜, 기재로부터 박리하는 것에 의해, 광학 필름을 형성할 수 있다. 박리 후에 추가로 광학 필름을 건조하는 건조 공정을 행해도 된다. 도막의 건조는, 통상 50~350℃의 온도에서 행할 수 있다. 필요에 따라, 불활성 분위기 또는 감압 조건하에 있어서 도막의 건조를 행해도 된다.In an optical film formation process, an optical film can be formed by drying a coating film and peeling from a base material. You may perform the drying process which dries an optical film further after peeling. Drying of a coating film can be performed at the temperature of 50-350 degreeC normally. As needed, you may dry a coating film in inert atmosphere or pressure-reduced conditions.

기재의 예로서는, PET 필름, PEN 필름, 다른 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지 필름 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 내열성이 우수하다는 관점에서, PET 필름, PEN 필름 등이 바람직하고, 추가로 광학 필름과의 밀착성 및 코스트의 관점에서, PET 필름이 보다 바람직하다.As an example of a base material, a PET film, a PEN film, another polyimide resin, a polyamide resin film, etc. are mentioned. Especially, a PET film, a PEN film, etc. are preferable from a viewpoint of excellent heat resistance, and PET film is more preferable from a viewpoint of adhesiveness with an optical film, and cost.

본 발명의 광학 필름의 용도는 특별히 한정되지 않고, 다양한 용도로 사용해도 된다. 본 발명의 광학 필름은, 상기에 설명했듯이 단층이어도 되며, 복수의 본 발명의 광학 필름을 적층한 적층체여도 된다. 또, 단층의 본 발명의 광학 필름을 그대로 사용해도 되고, 또 다른 필름과의 적층체로서 사용해도 된다. 또한, 광학 필름이 적층체인 경우, 광학 필름의 편면 또는 양면에 적층된 모든 층을 포함해 광학 필름이라고 칭한다.The use of the optical film of this invention is not specifically limited, You may use for various uses. As demonstrated above, the optical film of this invention may be a single | mono layer, and the laminated body which laminated | stacked the some optical film of this invention may be sufficient. Moreover, you may use the optical film of this invention of a single layer as it is, and may use as a laminated body with another film. In addition, when an optical film is a laminated body, all the layers laminated | stacked on the single side | surface or both surfaces of an optical film are called an optical film.

본 발명의 광학 필름이 적층체인 경우, 광학 필름의 적어도 한쪽의 면에 1개 이상의 기능층을 갖는 것이 바람직하다. 기능층으로서는, 예를 들면 자외선 흡수층, 프라이머층, 가스 배리어층, 점착층, 색상 조정층, 굴절률 조정층, 하드 코팅층 등을 들 수 있다. 기능층은 단독 또는 2종 이상 조합해서 사용할 수 있다.When the optical film of this invention is a laminated body, it is preferable to have one or more functional layers in at least one surface of an optical film. As a functional layer, an ultraviolet absorber layer, a primer layer, a gas barrier layer, an adhesion layer, a color adjustment layer, a refractive index adjustment layer, a hard coat layer, etc. are mentioned, for example. A functional layer can be used individually or in combination of 2 or more types.

자외선 흡수층은, 자외선 흡수의 기능을 갖는 층이며, 예를 들면, 자외선 경화형의 투명 수지, 전자선 경화형의 투명 수지, 및 열경화형의 투명 수지로부터 선택되는 주재와, 이 주재에 분산한 자외선 흡수제로 구성된다.The ultraviolet absorbing layer is a layer having a function of absorbing ultraviolet rays, and is composed of, for example, a main material selected from an ultraviolet curable transparent resin, an electron beam curable transparent resin, and a thermosetting transparent resin, and a ultraviolet absorber dispersed in the main material. do.

점착층은, 점착성의 기능을 갖는 층이며, 광학 필름을 다른 부재에 접착시키는 기능을 갖는다. 점착층의 형성 재료로서는, 통상 알려진 것을 이용할 수 있다. 예를 들면, 열경화성 수지 조성물 또는 광경화성 수지 조성물을 이용할 수 있다. 이 경우, 사후적으로 에너지를 공급함으로써 열경화성 수지 조성물 또는 광경화성 수지 조성물을 고분자화해 경화시킬 수 있다.An adhesive layer is a layer which has a sticky function, and has a function which adhere | attaches an optical film to another member. As a formation material of an adhesion layer, a conventionally well-known thing can be used. For example, a thermosetting resin composition or a photocurable resin composition can be used. In this case, the thermosetting resin composition or the photocurable resin composition can be polymerized and cured by supplying energy afterwards.

점착층은, 감압형 접착제(Pressure Sensitive Adhesive, PSA)라고 불리는, 가압에 의해 대상물에 첩착되는 층이어도 된다. 감압형 접착제는, 「상온에서 점착성을 갖고, 가벼운 압력으로 피착재에 접착하는 물질」(JIS K 6800)인 점착제여도 되고, 「특정 성분을 보호 피막(마이크로 캡슐)에 내용해, 적당한 수단(압력, 열 등)에 의해 피막을 파괴할 때까지는 안정성을 보지(保持)할 수 있는 접착제」(JIS K 6800)인 캡슐형 접착제여도 된다.The pressure-sensitive adhesive layer may be a layer adhered to the object by pressure, called a pressure sensitive adhesive (PSA). The pressure-sensitive adhesive may be an adhesive which is "a substance which has adhesiveness at room temperature and adheres to the adherend at light pressure" (JIS K 6800), and "contains a specific component in a protective film (microcapsule), and adopts suitable means (pressure Or an adhesive capable of holding stability until the film is destroyed by heat, or the like '' (JIS K 6800).

색상 조정층은, 색상 조정의 기능을 갖는 층이며, 광학 필름을 목적 색상으로 조정할 수 있는 층이다. 색상 조정층은, 예를 들면, 수지 및 착색제를 함유하는 층이다. 이 착색제로서는, 예를 들면, 산화 티타늄, 산화 아연, 벵갈라, 티타늄 옥사이드계 소성 안료, 군청, 알루민산 코발트, 및 카본 블랙 등의 무기 안료; 아조계 화합물, 퀴나크리돈계 화합물, 안트라퀴논계 화합물, 페릴렌계 화합물, 이소인돌리논계 화합물, 프탈로시아닌계 화합물, 퀴노프탈론계 화합물, 스렌계 화합물, 및 디케토피롤로피롤계 화합물 등의 유기 안료; 황산 바륨, 및 탄산 칼슘 등의 체질 안료; 그리고 염기성 염료, 산성 염료, 및 매염 염료 등의 염료를 들 수 있다.A color adjustment layer is a layer which has a function of color adjustment, and is a layer which can adjust an optical film to a target color. A color adjustment layer is a layer containing resin and a coloring agent, for example. As this coloring agent, For example, inorganic pigments, such as titanium oxide, zinc oxide, a bengalah, a titanium oxide type | system | group baking pigment, ultramarine blue, cobalt aluminate, and carbon black; Organic pigments such as azo compounds, quinacridone compounds, anthraquinone compounds, perylene compounds, isoindolinone compounds, phthalocyanine compounds, quinophthalone compounds, styrene compounds, and diketopyrrolopyrrole compounds; Extender pigments such as barium sulfate and calcium carbonate; And dyes such as basic dyes, acid dyes, and mordant dyes.

굴절률 조정층은, 굴절률 조정의 기능을 갖는 층이며, 예를 들면 단층의 광학 필름과는 다른 굴절률을 갖고, 광학 필름에 소정의 굴절률을 부여할 수 있는 층이다. 굴절률 조정층은, 예를 들면, 적절히 선택된 수지, 및 경우에 따라 추가로 안료를 함유하는 수지층이어도 되고, 금속의 박막이어도 된다. 굴절률을 조정하는 안료로서는, 예를 들면, 산화 규소, 산화 알루미늄, 산화 안티모니, 산화 주석, 산화 티타늄, 산화 지르코늄 및 산화 탄탈럼을 들 수 있다. 당해 안료의 평균 일차 입자경은 0.1μm 이하여도 된다. 안료의 평균 일차 입자경을 0.1μm 이하로 하는 것에 의해, 굴절률 조정층을 투과하는 광의 난반사를 방지해, 투명도의 저하를 방지할 수 있다. 굴절률 조정층에 이용되는 금속으로서는, 예를 들면, 산화 티타늄, 산화 탄탈럼, 산화 지르코늄, 산화 아연, 산화 주석, 산화 규소, 산화 인듐, 산질화 티타늄, 질화 티타늄, 산질화 규소, 질화 규소 등의 금속 산화물 또는 금속 질화물을 들 수 있다.A refractive index adjustment layer is a layer which has a function of refractive index adjustment, for example, is a layer which has a refractive index different from a single optical film, and can give a predetermined refractive index to an optical film. The refractive index adjusting layer may be, for example, a resin that is appropriately selected, and a resin layer further containing a pigment as the case may be, or a thin film of metal. As a pigment which adjusts a refractive index, silicon oxide, aluminum oxide, antimony oxide, tin oxide, titanium oxide, zirconium oxide, and tantalum oxide are mentioned, for example. The average primary particle diameter of the said pigment may be 0.1 micrometer or less. By making the average primary particle diameter of a pigment into 0.1 micrometer or less, the diffuse reflection of the light which permeate | transmits a refractive index adjustment layer can be prevented, and the fall of transparency can be prevented. Examples of the metal used for the refractive index adjusting layer include titanium oxide, tantalum oxide, zirconium oxide, zinc oxide, tin oxide, silicon oxide, indium oxide, titanium oxynitride, titanium nitride, silicon oxynitride, silicon nitride, and the like. Metal oxides or metal nitrides.

하드 코팅층은, 활성 에너지선 조사, 또는 열에너지 부여에 의해 가교 구조를 형성할 수 있는 반응성 재료를 포함하는 하드 코팅 조성물을 경화시켜 형성할 수 있으며, 활성 에너지선 조사에 의한 것이 바람직하다. 활성 에너지선은, 활성종을 발생하는 화합물을 분해하여 활성종을 발생시킬 수 있는 에너지선이라고 정의되며, 가시광, 자외선, 적외선, X선, α선, β선, γ선 및 전자선 등을 들 수 있고, 바람직하게는 자외선을 들 수 있다. 상기 하드 코팅 조성물은, 라디칼 중합성 화합물 및 양이온 중합성 화합물의 적어도 1종의 중합물을 함유한다.The hard coating layer can be formed by curing a hard coating composition containing a reactive material capable of forming a crosslinked structure by active energy ray irradiation or thermal energy application, and preferably by active energy ray irradiation. Active energy rays are defined as energy rays capable of decomposing compounds that generate active species to generate active species, and include visible light, ultraviolet rays, infrared rays, X-rays, α rays, β rays, γ rays, and electron rays. And preferably ultraviolet rays. The hard coating composition contains at least one polymer of a radically polymerizable compound and a cationically polymerizable compound.

상기 라디칼 중합성 화합물은, 라디칼 중합성기를 갖는 화합물이다. 상기 라디칼 중합성 화합물이 갖는 라디칼 중합성기로서는, 라디칼 중합 반응을 발생할 수 있는 관능기이면 되고, 탄소-탄소 불포화 이중 결합을 포함하는 기 등을 들 수 있으며, 구체적으로는, 비닐기, (메트)아크릴로일기 등을 들 수 있다. 또한, 상기 라디칼 중합성 화합물이 2개 이상의 라디칼 중합성기를 갖는 경우, 이들 라디칼 중합성기는 각각 동일해도 되고, 달라도 된다. 상기 라디칼 중합성 화합물이 1분자 중에 갖는 라디칼 중합성기의 수는, 하드 코팅층의 경도를 향상시키는 점으로부터, 바람직하게는 2개 이상이다. 상기 라디칼 중합성 화합물로서는, 반응성의 높음의 점으로부터, 바람직하게는 (메트)아크릴로일기를 갖는 화합물을 들 수 있으며, 구체적으로는 1분자 중에 2~6개의 (메트)아크릴로일기를 갖는 다관능 아크릴레이트 모노머라고 불리는 화합물이나 에폭시(메트)아크릴레이트, 우레탄(메트)아크릴레이트, 폴리에스테르(메트)아크릴레이트라고 불리는 분자 내에 수개의 (메트)아크릴로일기를 갖는 분자량이 수백에서 수천인 올리고머를 들 수 있고, 바람직하게는 에폭시(메트)아크릴레이트, 우레탄(메트)아크릴레이트 및 폴리에스테르(메트)아크릴레이트로부터 선택된 1종 이상을 들 수 있다.The said radically polymerizable compound is a compound which has a radically polymerizable group. As a radically polymerizable group which the said radically polymerizable compound has, what is necessary is just a functional group which can generate | occur | produce a radical polymerization reaction, The group containing a carbon-carbon unsaturated double bond, etc. are mentioned, Specifically, a vinyl group and (meth) acryl Royl group etc. are mentioned. In addition, when the said radically polymerizable compound has two or more radically polymerizable groups, these radically polymerizable groups may be same or different, respectively. The number of radically polymerizable groups which the radically polymerizable compound has in one molecule is preferably two or more in terms of improving the hardness of the hard coat layer. As said radically polymerizable compound, From the point of reactivity high, Preferably, the compound which has a (meth) acryloyl group is mentioned, Specifically, it has 2-6 (meth) acryloyl groups in 1 molecule. Oligomers having a molecular weight of several hundred to several thousand having several (meth) acryloyl groups in a compound called a functional acrylate monomer or a molecule called an epoxy (meth) acrylate, a urethane (meth) acrylate or a polyester (meth) acrylate. These are mentioned, Preferably, 1 or more types chosen from an epoxy (meth) acrylate, a urethane (meth) acrylate, and polyester (meth) acrylate is mentioned.

상기 양이온 중합성 화합물은, 에폭시기, 옥세타닐기, 비닐에테르기 등의 양이온 중합성기를 갖는 화합물이다. 상기 양이온 중합성 화합물이 1분자 중에 갖는 양이온 중합성기의 수는, 하드 코팅층의 경도를 향상시키는 점으로부터, 바람직하게는 2개 이상이고, 보다 바람직하게는 3개 이상이다.The said cationically polymerizable compound is a compound which has cationically polymerizable groups, such as an epoxy group, an oxetanyl group, and a vinyl ether group. The number of the cationically polymerizable groups which the cationically polymerizable compound has in one molecule is preferably 2 or more, more preferably 3 or more, from the point of improving the hardness of the hard coat layer.

또, 상기 양이온 중합성 화합물로서는, 그 중에서도, 양이온 중합성기로서 에폭시기 및 옥세타닐기 중 적어도 1종을 갖는 화합물이 바람직하다. 에폭시기, 옥세타닐기 등의 환상 에테르기는, 중합 반응에 수반하는 수축이 작다는 점에서 바람직하다. 또, 환상 에테르기 중 에폭시기를 갖는 화합물은 다양한 구조의 화합물을 입수하기 쉽고, 얻어진 하드 코팅층의 내구성에 악영향을 주지 않으며, 라디칼 중합성 화합물과의 상용성(相溶性)도 컨트롤하기 쉽다는 이점이 있다. 또, 환상 에테르기 중 옥세타닐기는, 에폭시기와 비교해 중합도가 높아지기 쉽고, 저독성이며, 얻어진 하드 코팅층의 양이온 중합성 화합물로부터 얻어지는 네트워크 형성 속도를 빠르게 하고, 라디칼 중합성 화합물과 혼재하는 영역에서도 미반응의 모노머를 막 내에 남기지 않고 독립적인 네트워크를 형성한다는 등의 이점이 있다.Moreover, as said cationically polymerizable compound, the compound which has at least 1 sort (s) of an epoxy group and an oxetanyl group as a cationically polymerizable group is especially preferable. Cyclic ether groups, such as an epoxy group and an oxetanyl group, are preferable at the point that shrinkage accompanying a polymerization reaction is small. Moreover, the compound which has an epoxy group in a cyclic ether group is easy to acquire the compound of various structures, does not adversely affect the durability of the obtained hard coat layer, and also has the advantage that it is easy to control compatibility with a radically polymerizable compound. have. In addition, the oxetanyl group in the cyclic ether group tends to have a high degree of polymerization compared to the epoxy group, is low toxicity, and speeds up the network formation rate obtained from the cationically polymerizable compound of the obtained hard coat layer, and is unreacted even in a region mixed with the radically polymerizable compound. There is an advantage of forming an independent network without leaving the monomer in the film.

에폭시기를 갖는 양이온 중합성 화합물로서는, 예를 들면, 지환족환을 갖는 다가 알코올의 폴리글리시딜에테르 또는 시클로헥센환, 시클로펜텐환 함유 화합물을, 과산화 수소, 과산 등의 적당한 산화제로 에폭시화하는 것에 의해 얻어지는 지환족 에폭시 수지; 지방족 다가 알코올, 또는 그 알킬렌옥사이드 부가물의 폴리글리시딜에테르, 지방족 장쇄 다염기산의 폴리글리시딜에스테르, 글리시딜(메트)아크릴레이트의 호모폴리머, 코폴리머 등의 지방족 에폭시 수지; 비스페놀 A, 비스페놀 F나 수소 첨가 비스페놀 A 등의 비스페놀류, 또는 그것들의 알킬렌옥사이드 부가체, 카프로락톤 부가체 등의 유도체와, 에피클로로히드린의 반응에 의해 제조되는 글리시딜에테르, 및 노볼락 에폭시 수지 등이며 비스페놀류로부터 유도되는 글리시딜에테르형 에폭시 수지 등을 들 수 있다.As a cationically polymerizable compound which has an epoxy group, for example, the polyglycidyl ether or cyclohexene ring of a polyhydric alcohol which has an alicyclic ring, and a cyclopentene ring containing compound are epoxidized by suitable oxidizing agents, such as hydrogen peroxide and peracid, for example. Alicyclic epoxy resin obtained by; Aliphatic epoxy resins such as polyglycidyl ethers of aliphatic polyhydric alcohols or alkylene oxide adducts thereof, polyglycidyl esters of aliphatic long-chain polybasic acids, homopolymers of glycidyl (meth) acrylates, and copolymers; Glycidyl ether produced by reaction of bisphenols, such as bisphenol A, bisphenol F, hydrogenated bisphenol A, or derivatives, such as alkylene oxide adducts and caprolactone adducts, and epichlorohydrin, and furnace And glycidyl ether type epoxy resins derived from bisphenols.

상기 하드 코팅 조성물은 중합 개시제를 추가로 포함할 수 있다. 중합 개시제로서는, 라디칼 중합 개시제, 양이온 중합 개시제, 라디칼 및 양이온 중합 개시제 등을 들 수 있으며 적절히 선택해 이용된다. 이들 중합 개시제는, 활성 에너지선 조사 및 가열 중 적어도 일종에 의해 분해되어, 라디칼 또는 양이온을 발생시켜 라디칼 중합과 양이온 중합을 진행시키는 것이다.The hard coating composition may further include a polymerization initiator. As a polymerization initiator, a radical polymerization initiator, a cationic polymerization initiator, a radical and a cationic polymerization initiator, etc. are mentioned, It selects suitably and is used. These polymerization initiators are decomposed by at least one of active energy ray irradiation and heating to generate radicals or cations to advance radical polymerization and cationic polymerization.

라디칼 중합 개시제는, 활성 에너지선 조사 및 가열 중 적어도 어느 하나에 의해 라디칼 중합을 개시시키는 물질을 방출하는 것이 가능하면 된다. 예를 들면, 열 라디칼 중합 개시제로서는, 과산화 수소, 과벤조산 등의 유기 과산화물, 아조비스부티로니트릴 등의 아조 화합물 등을 들 수 있다.The radical polymerization initiator should just be able to discharge | release the substance which starts radical polymerization by at least any one of active energy ray irradiation and heating. For example, azo compounds, such as organic peroxides, such as hydrogen peroxide and a perbenzoic acid, azobisbutyronitrile, etc. are mentioned as a thermal radical polymerization initiator.

활성 에너지선 라디칼 중합 개시제로서는, 분자의 분해로 라디칼이 생성되는 Type1형 라디칼 중합 개시제와, 3급 아민과 공존해 수소 인발형 반응으로 라디칼을 생성하는 Type2형 라디칼 중합 개시제가 있으며, 그것들은 단독으로 또는 병용하여 사용된다.As active energy ray radical polymerization initiators, there are Type 1 type radical polymerization initiators in which radicals are generated by the decomposition of molecules, and Type 2 type radical polymerization initiators which coexist with tertiary amines to generate radicals by hydrogen drawing reactions. Or in combination.

양이온 중합 개시제는, 활성 에너지선 조사 및 가열 중 적어도 어느 하나에 의해 양이온 중합을 개시시키는 물질을 방출하는 것이 가능하면 된다. 양이온 중합 개시제로서는, 방향족 아이오도늄염, 방향족 설포늄염, 시클로펜타디에닐 철(II) 착체 등을 사용할 수 있다. 이것들은, 구조의 차이에 따라 활성 에너지선 조사 또는 가열 중 어느 하나 또는 양쪽 모두에 의해 양이온 중합을 개시할 수 있다.The cationic polymerization initiator may be capable of releasing a substance for initiating cationic polymerization by at least one of active energy ray irradiation and heating. As a cationic polymerization initiator, an aromatic iodonium salt, an aromatic sulfonium salt, a cyclopentadienyl iron (II) complex, etc. can be used. These can start cationic polymerization by active energy ray irradiation, heating, or both according to a difference in structure.

상기 중합 개시제의 함유량은, 상기 하드 코팅 조성물 전체 100질량%에 대해서 바람직하게는 0.1~10질량%이다. 상기 중합 개시제의 함량이 상기의 범위에 있으면, 경화를 충분히 진행시킬 수 있어 최종적으로 얻어지는 도막의 기계적 물성이나 밀착력을 양호한 범위로 할 수 있고, 또, 경화 수축에 의한 접착력 불량이나 균열 현상 및 컬 현상이 발생하기 어려워지는 경향이 있다.Content of the said polymerization initiator becomes like this. Preferably it is 0.1-10 mass% with respect to 100 mass% of whole said hard coat compositions. When content of the said polymerization initiator exists in the said range, hardening can fully advance and the mechanical property and adhesive force of the coating film finally obtained can be made into a favorable range, and the adhesive force defect, a crack phenomenon, and a curl phenomenon by hardening shrinkage can be made. This tends to be difficult to occur.

상기 하드 코팅 조성물은 추가로 용제, 첨가제로 이루어지는 군으로부터 선택되는 하나 이상을 더 포함할 수 있다.The hard coating composition may further include one or more selected from the group consisting of a solvent and an additive.

상기 용제는, 상기 중합성 화합물 및 중합 개시제를 용해 또는 분산시킬 수 있는 것으로, 본 기술분야의 하드 코팅 조성물의 용제로서 알려져 있는 용제이면, 본 발명의 효과를 저해하지 않는 범위에서 사용할 수 있다.The said solvent can melt | dissolve or disperse the said polymeric compound and a polymerization initiator, and if it is a solvent known as a solvent of the hard-coating composition of this art, it can be used in the range which does not impair the effect of this invention.

상기 첨가제는, 무기 입자, 레벨링제, 안정제, 계면활성제, 대전 방지제, 윤활제, 방오제 등을 추가로 포함할 수 있다.The additive may further include inorganic particles, leveling agents, stabilizers, surfactants, antistatic agents, lubricants, antifouling agents and the like.

하드 코팅층의 두께는 특별히 한정되지 않고, 예를 들면, 2~100μm여도 된다. 상기 하드 코팅층의 두께가 상기의 범위에 있으면, 충분한 내찰상성을 확보할 수 있고, 또 내굴곡성이 저하되기 어려워, 경화 수축에 의한 컬 발생의 문제가 발생하기 어려운 경향이 있다.The thickness of a hard coat layer is not specifically limited, For example, 2-100 micrometers may be sufficient. When the thickness of the hard coat layer is in the above range, sufficient scratch resistance can be ensured, and the flex resistance is hardly lowered, and the problem of curl generation due to curing shrinkage tends to be less likely to occur.

광학 필름은, 보호 필름을 추가로 포함하고 있어도 된다. 보호 필름은, 광학 필름의 편면 또는 양면에 적층되어 있어도 된다. 광학 필름의 편면에 기능층을 갖는 경우에는, 보호 필름은, 광학 필름측의 표면 또는 기능층측의 표면에 적층되어 있어도 되고, 광학 필름측과 기능층측 양쪽 모두에 적층되어 있어도 된다. 광학 필름의 양면에 기능층을 갖는 경우에는, 보호 필름은, 한쪽의 기능층측의 표면에 적층되어 있어도 되고, 양쪽 기능층측의 표면에 적층되어 있어도 된다. 보호 필름은, 광학 필름 또는 기능층의 표면을 일시적으로 보호하기 위한 필름이며, 광학 필름 또는 기능층의 표면을 보호할 수 있는 박리 가능한 필름인 한 특별히 한정되지 않는다. 보호 필름으로서는, 예를 들면, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르계 수지 필름; 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 필름 등의 폴리올레핀계 수지 필름, 아크릴계 수지 필름 등을 들 수 있으며, 폴리올레핀계 수지 필름, 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지 필름 및 아크릴계 수지 필름으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 것이 바람직하다. 광학 필름이 보호 필름을 2개 갖는 경우, 각 보호 필름은 동일해도 되고 또는 달라도 된다.The optical film may further contain the protective film. The protective film may be laminated on one side or both sides of the optical film. When having a functional layer in the single side | surface of an optical film, a protective film may be laminated | stacked on the surface of the optical film side, or the surface of the functional layer side, and may be laminated | stacked on both the optical film side and the functional layer side. When it has a functional layer on both surfaces of an optical film, a protective film may be laminated | stacked on the surface of one functional layer side, and may be laminated | stacked on the surface of both functional layer sides. A protective film is a film for temporarily protecting the surface of an optical film or a functional layer, and it is not specifically limited as long as it is a peelable film which can protect the surface of an optical film or a functional layer. As a protective film, For example, Polyester-based resin films, such as polyethylene terephthalate, a polybutylene terephthalate, a polyethylene naphthalate; Polyolefin resin films, such as polyethylene and a polypropylene film, an acrylic resin film, etc. are mentioned, It is preferable to select from the group which consists of a polyolefin resin film, a polyethylene terephthalate resin film, and an acrylic resin film. When an optical film has two protective films, each protective film may be same or different.

보호 필름의 두께는, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 통상, 10~100μm, 바람직하게는 10~80μm, 보다 바람직하게는 10~50μm이다. 광학 필름이 보호 필름을 2개 갖는 경우, 각 보호 필름의 두께는 동일해도 되고, 달라도 된다.Although the thickness of a protective film is not specifically limited, Usually, 10-100 micrometers, Preferably it is 10-80 micrometers, More preferably, it is 10-50 micrometers. When an optical film has two protective films, the thickness of each protective film may be same or different.

본 발명의 광학 필름은, 상기 폴리아미드이미드계 수지를 포함하고, 상기 강도비(A/B)가 0.02 이상이기 때문에, 저황색도와 고탄성률을 양립할 수 있다. 이로 인하여, 화상 표시장치 등에 있어서의 광학 필름으로서 적합하게 사용할 수 있다. 본 발명의 광학 필름은, 바람직하게는 화상 표시장치의 전면판, 특히 플렉시블 화상 표시장치(플렉시블 디스플레이)의 전면판(윈도 필름)으로서 유용하다. 플렉시블 디스플레이는, 예를 들면, 플렉시블 기능층과, 플렉시블 기능층에 적층되어 전면판으로서 기능하는 광학 필름을 갖는다. 즉, 플렉시블 디스플레이의 전면판은, 플렉시블 기능층 위의 시인측에 배치된다. 이 전면판은, 플렉시블 기능층을 보호하는 기능을 갖는다.Since the optical film of this invention contains the said polyamide-imide-type resin and the said intensity | strength ratio (A / B) is 0.02 or more, low yellowness and high elastic modulus can be compatible. For this reason, it can use suitably as an optical film in an image display apparatus etc. The optical film of the present invention is preferably useful as a front plate of an image display device, particularly as a front plate (window film) of a flexible image display device (flexible display). The flexible display has, for example, a flexible functional layer and an optical film laminated on the flexible functional layer to function as a front plate. That is, the front panel of the flexible display is arranged on the viewer side on the flexible functional layer. This front plate has a function of protecting the flexible functional layer.

화상 표시장치로서는, 텔레비전, 스마트 폰, 휴대전화, 카 내비게이션, 태블릿 PC, 휴대 게임기, 전자 페이퍼, 인디케이터, 게시판, 시계, 및 스마트 워치 등의 웨어러블 디바이스 등을 들 수 있다. 플렉시블 디스플레이로서는, 플렉시블 특성을 갖는 화상 표시장치 전반이다.Examples of the image display apparatus include wearable devices such as televisions, smartphones, cellular phones, car navigation systems, tablet PCs, portable game machines, electronic papers, indicators, bulletin boards, watches, and smart watches. As a flexible display, it is a general image display apparatus which has a flexible characteristic.

[플렉시블 화상 표시장치][Flexible Image Display]

본 발명은, 본 발명의 광학 필름을 구비하는, 플렉시블 화상 표시장치를 포함한다. 본 발명의 광학 필름은, 상기와 같이, 바람직하게는 플렉시블 화상 표시장치에 있어서 전면판으로서 이용되며, 당해 전면판은 윈도 필름이라고 불리는 경우가 있다. 플렉시블 화상 표시장치는, 플렉시블 화상 표시장치용 적층체와, 유기 EL 표시 패널로 이루어지며, 유기 EL 표시 패널에 대해서 시인측에 플렉시블 화상 표시장치용 적층체가 배치되어, 절곡 가능하게 구성되어 있다. 플렉시블 화상 표시장치용 적층체로서는, 윈도 필름, 편광판, 터치 센서를 함유하고 있어도 되고, 그것들의 적층 순서는 임의이지만, 시인측으로부터 윈도 필름, 편광판, 터치 센서 또는 윈도 필름, 터치 센서, 편광판의 순서로 적층되어 있는 것이 바람직하다. 터치 센서의 시인측에 편광판이 존재하면, 터치 센서의 패턴이 시인되기 어려워져 표시 화상의 시인성이 좋아지므로 바람직하다. 각각의 부재는 접착제, 점착제 등을 이용하여 적층할 수 있다. 또, 상기 윈도 필름, 편광판, 터치 센서 중 어느 한 층의 적어도 일면에 형성된 차광 패턴을 구비할 수 있다.This invention includes the flexible image display apparatus provided with the optical film of this invention. As mentioned above, the optical film of this invention is preferably used as a front plate in a flexible image display apparatus, and the said front plate may be called a window film. The flexible image display device consists of a laminated body for flexible image display apparatuses, and an organic electroluminescent display panel, The flexible image display apparatus laminated body is arrange | positioned at the visual recognition side with respect to an organic electroluminescent display panel, and is comprised so that it is bendable. As a laminated body for flexible image display apparatuses, you may contain the window film, a polarizing plate, and a touch sensor, and the lamination order is arbitrary, but the order of a window film, a polarizing plate, a touch sensor or a window film, a touch sensor, and a polarizing plate from the visual recognition side. It is preferable that it is laminated | stacked. When a polarizing plate exists in the visual recognition side of a touch sensor, since the pattern of a touch sensor becomes difficult to see and the visibility of a display image becomes favorable, it is preferable. Each member can be laminated | stacked using an adhesive agent, an adhesive, etc. The light shielding pattern may be provided on at least one surface of any one of the window film, the polarizing plate, and the touch sensor.

[편광판][Polarizing Plate]

본 발명의 플렉시블 화상 표시장치는, 상기와 같이, 편광판, 바람직하게는 원편광판을 함유한다. 원편광판은, 직선 편광판에 λ/4 위상차판을 적층하는 것에 의해 우원편광 또는 좌원편광 성분만을 투과시키는 기능을 갖는 기능층이다. 예를 들어 외광을 우원편광으로 변환해 유기 EL패널에서 반사되어 좌원편광이 된 외광을 차단하고, 유기 EL의 발광 성분만을 투과시킴으로써 반사광의 영향을 억제해 화상을 보기 쉽게 하기 위해서 이용된다. 원편광 기능을 달성하기 위해서는, 직선 편광판의 흡수축과 λ/4 위상차판의 지상축(遲相軸)은 이론상 45°일 필요가 있지만, 실용적으로는 45±10°이다. 직선 편광판과 λ/4 위상차판은 반드시 인접하게 적층될 필요는 없고, 흡수축과 지상축의 관계가 상기 설명한 범위를 충족시키면 된다. 전파장에 있어서 완전한 원편광을 달성하는 것이 바람직하지만 실용상 반드시 그러할 필요는 없기 때문에 본 발명에 있어서의 원편광판은 타원 편광판도 포함한다. 직선 편광판의 시인측에 추가로 λ/4위상차 필름을 적층하여, 출사광을 원편광으로 하는 것에 의해 편광 선글라스를 걸친 상태에서의 시인성을 향상시키는 것도 바람직하다.The flexible image display device of the present invention contains a polarizing plate, preferably a circular polarizing plate, as described above. The circularly polarizing plate is a functional layer having a function of transmitting only right circularly polarized light or left circularly polarized light component by laminating a? / 4 phase difference plate on a linear polarizing plate. For example, it is used to convert external light into right circularly polarized light to block external light reflected by the organic EL panel and become left circularly polarized light, and to transmit only the light emitting components of the organic EL to suppress the influence of the reflected light to make the image easier to see. In order to achieve the circularly polarized light function, the absorption axis of the linear polarizing plate and the slow axis of the λ / 4 phase difference plate need to be 45 ° in theory, but are practically 45 ± 10 °. The linear polarizer and the λ / 4 retardation plate do not necessarily have to be stacked adjacent to each other, and the relationship between the absorption axis and the slow axis may satisfy the range described above. Although it is preferable to achieve complete circularly polarized light in the electric wave field, the circularly polarized plate in the present invention also includes an elliptical polarizing plate because it is not necessarily necessary. It is also preferable to improve the visibility in the state over polarized sunglasses by laminating | stacking (lambda) / 4 phase (s) difference film further on the visual recognition side of a linear polarizing plate, and making outgoing light circularly polarized.

직선 편광판은, 투과축 방향으로 진동하고 있는 광은 통과시키지만, 그것과는 수직인 진동 성분의 편광은 차단하는 기능을 갖는 기능층이다. 상기 직선 편광판은, 직선 편광자 단독 또는 직선 편광자 및 그 적어도 일면에 부착된 보호 필름을 구비한 구성이어도 된다. 상기 직선 편광판의 두께는, 200μm 이하여도 되고, 바람직하게는 0.5~100μm이다. 두께가 상기의 범위에 있으면 유연성이 저하되기 어려운 경향이 있다.The linear polarizer is a functional layer having a function of passing light that vibrates in the transmission axis direction but blocking polarization of a vibration component perpendicular to the linear polarizer. The linear polarizing plate may be a structure including a linear polarizer alone or a linear polarizer and a protective film attached to at least one surface thereof. The thickness of the linear polarizing plate may be 200 μm or less, and preferably 0.5 to 100 μm. When thickness exists in the said range, it exists in the tendency for flexibility to fall easily.

상기 직선 편광자는, 폴리비닐알코올(PVA)계 필름을 염색, 연신함으로써 제조되는 필름형 편광자여도 된다. 연신에 의해 배향한 PVA계 필름에, 아이오딘 등의 2색성 색소가 흡착, 또는 PVA에 흡착한 상태로 연신됨으로써 2색성 색소가 배향하여, 편광 성능을 발휘한다. 상기 필름형 편광자의 제조에 있어서는, 그 밖에 팽윤, 붕산에 의한 가교, 수용액에 의한 세정, 건조 등의 공정을 갖고 있어도 된다. 연신이나 염색 공정은 PVA계 필름 단독으로 행해도 되고, 폴리에틸렌테레프탈레이트와 같은 다른 필름과 적층된 상태로 행할 수도 있다. 이용되는 PVA계 필름의 두께는 바람직하게는 10~100μm이며, 연신 배율은 바람직하게는 2~10배이다.The linear polarizer may be a film polarizer manufactured by dyeing and stretching a polyvinyl alcohol (PVA) film. A dichroic dye is orientated and exhibits polarization performance by extending | stretching in the state which the dichroic dye, such as iodine, adsorbed or adsorb | sucked to PVA to the PVA system film oriented by extending | stretching. In manufacture of the said film polarizer, you may have other processes, such as swelling, bridge | crosslinking by boric acid, washing | cleaning by aqueous solution, and drying. The stretching or dyeing step may be performed by a PVA film alone, or may be performed in a state of being laminated with other films such as polyethylene terephthalate. Preferably the thickness of the PVA system film used is 10-100 micrometers, and draw ratio is 2-10 times preferably.

또, 상기 편광자의 다른 일례로서는, 액정 편광 조성물을 도포하여 형성하는 액정 도포형 편광자여도 된다. 상기 액정 편광 조성물은, 액정성 화합물 및 2색성 색소 화합물을 포함할 수 있다. 상기 액정성 화합물은 액정 상태를 나타내는 성질을 갖고 있으면 되고, 특히 스멕틱상 등의 고차의 배향 상태를 갖고 있으면 높은 편광 성능을 발휘할 수 있기 때문에 바람직하다. 또, 액정성 화합물은 중합성 관능기를 갖고 있는 것도 바람직하다.Moreover, as another example of the said polarizer, the liquid crystal coating type polarizer formed by apply | coating and forming a liquid crystal polarizing composition may be sufficient. The liquid crystal polarizing composition may include a liquid crystal compound and a dichroic dye compound. The said liquid crystalline compound should just have the property to show a liquid crystal state, and especially since it can exhibit high polarization performance, if it has high order orientation states, such as a smectic phase, it is preferable. Moreover, it is also preferable that a liquid crystalline compound has a polymeric functional group.

상기 2색성 색소는, 상기 액정 화합물과 함께 배향하여 2색성을 나타내는 색소로서, 2색성 색소 자신이 액정성을 갖고 있어도 되고, 중합성 관능기를 갖고 있을 수도 있다. 액정 편광 조성물 중 어떤 화합물은 중합성 관능기를 갖고 있다.The said dichroic dye is a pigment | dye which orientates together with the said liquid crystal compound, and shows dichroism, The dichroic dye itself may have liquid crystallinity, and may have a polymeric functional group. Certain compounds in the liquid crystal polarizing composition have a polymerizable functional group.

상기 액정 편광 조성물은 추가로 개시제, 용제, 분산제, 레벨링제, 안정제, 계면활성제, 가교제, 실란 커플링제 등을 포함할 수 있다.The liquid crystal polarizing composition may further include an initiator, a solvent, a dispersant, a leveling agent, a stabilizer, a surfactant, a crosslinking agent, a silane coupling agent, and the like.

상기 액정 편광층은, 배향막 상에 액정 편광 조성물을 도포하여 액정 편광층을 형성하는 것에 의해 제조된다.The said liquid crystal polarizing layer is manufactured by apply | coating a liquid crystal polarizing composition on an oriented film, and forming a liquid crystal polarizing layer.

액정 편광층은, 필름형 편광자에 비해 두께를 얇게 형성할 수 있다. 상기 액정 편광층의 두께는 바람직하게는 0.5~10μm, 보다 바람직하게는 1~5μm여도 된다.The liquid crystal polarizing layer can be formed thinner than the film type polarizer. Preferably the thickness of the said liquid crystal polarizing layer may be 0.5-10 micrometers, More preferably, 1-5 micrometers may be sufficient.

상기 배향막은, 예를 들면 기재 상에 배향막 형성 조성물을 도포하여, 러빙, 편광 조사 등에 의해 배향성을 부여함으로써 제조할 수 있다. 상기 배향막 형성 조성물은, 배향제 외에 용제, 가교제, 개시제, 분산제, 레벨링제, 실란 커플링제 등을 포함하고 있어도 된다. 상기 배향제로서는, 예를 들면, 폴리비닐알코올류, 폴리아크릴레이트류, 폴리아믹산류, 폴리이미드류를 사용할 수 있다. 광배향을 적용하는 경우에는 신나메이트기를 포함하는 배향제를 사용하는 것이 바람직하다. 상기 배향제로서 사용되는 고분자의 중량 평균 분자량이 10,000~1,000,000 정도여도 된다. 상기 배향막의 두께는, 배향 규제력의 관점에서, 바람직하게는 5~10,000nm, 보다 바람직하게는 10~500nm이다. 상기 액정 편광층은 기재로부터 박리하여 전사해 적층할 수도 있고, 상기 기재를 그대로 적층할 수도 있다. 상기 기재가, 보호 필름이나 위상차판, 윈도의 투명 기재로서의 역할을 하는 것도 바람직하다.The said orientation film can be manufactured by apply | coating an orientation film formation composition on a base material, for example, and providing orientation by rubbing, polarized light irradiation, etc. The alignment film forming composition may contain a solvent, a crosslinking agent, an initiator, a dispersant, a leveling agent, a silane coupling agent, or the like in addition to the alignment agent. As said aligning agent, polyvinyl alcohol, polyacrylates, polyamic acid, polyimide can be used, for example. When applying photo-alignment, it is preferable to use the aligning agent containing a cinnamate group. The weight average molecular weight of the polymer used as the aligning agent may be about 10,000 to 1,000,000. The thickness of the alignment film is preferably 5 to 10,000 nm, more preferably 10 to 500 nm from the viewpoint of the orientation regulation force. The liquid crystal polarizing layer may be peeled off from the substrate, transferred and laminated, or the substrate may be laminated as it is. It is also preferable that the said base material plays a role as a transparent base material of a protective film, a retardation plate, and a window.

상기 보호 필름으로서는, 투명한 고분자 필름이면 되고, 상기 투명 기재에 사용되는 재료, 첨가제를 사용할 수 있다. 셀룰로오스계 필름, 올레핀계 필름, 아크릴 필름, 폴리에스테르계 필름이 바람직하다. 에폭시 수지 등의 양이온 경화 조성물이나 아크릴레이트 등의 라디칼 경화 조성물을 도포하여 경화시켜 얻어지는 코팅형의 보호 필름이어도 된다. 필요에 따라 가소제, 자외선 흡수제, 적외선 흡수제, 안료나 염료와 같은 착색제, 형광 증백제, 분산제, 열안정제, 광안정제, 대전 방지제, 산화 방지제, 활제, 용제 등을 포함하고 있어도 된다. 상기 보호 필름의 두께는, 200μm 이하여도 되고, 바람직하게는, 1~100μm이다. 상기 보호 필름의 두께가 상기의 범위에 있으면, 보호 필름의 유연성이 저하되기 어렵다. 보호 필름은, 윈도의 투명 기재의 역할을 겸할 수도 있다.As said protective film, what is necessary is just a transparent polymer film, and the material and additive used for the said transparent base material can be used. Cellulose films, olefin films, acrylic films and polyester films are preferred. The coating type protective film obtained by apply | coating and hardening radical hardening compositions, such as a cation hardening composition, such as an epoxy resin, and an acrylate, may be sufficient. If necessary, plasticizers, ultraviolet absorbers, infrared absorbers, coloring agents such as pigments and dyes, fluorescent brighteners, dispersants, heat stabilizers, light stabilizers, antistatic agents, antioxidants, lubricants, solvents, and the like may be included. The thickness of the said protective film may be 200 micrometers or less, Preferably it is 1-100 micrometers. When the thickness of the said protective film exists in said range, the flexibility of a protective film will not fall easily. A protective film can also serve as the transparent base material of a window.

상기 λ/4 위상차판은, 입사광의 진행 방향에 직교하는 방향(필름의 면내 방향)으로 λ/4의 위상차를 부여하는 필름이다. 상기 λ/4 위상차판은, 셀룰로오스계 필름, 올레핀계 필름, 폴리카보네이트계 필름 등의 고분자 필름을 연신함으로써 제조되는 연신형 위상차판이어도 된다. 필요에 따라 위상차 조정제, 가소제, 자외선 흡수제, 적외선 흡수제, 안료나 염료와 같은 착색제, 형광 증백제, 분산제, 열안정제, 광안정제, 대전 방지제, 산화 방지제, 활제, 용제 등을 포함하고 있어도 된다. 상기 연신형 위상차판의 두께는, 200μm 이하여도 되고, 바람직하게는 1~100μm이다. 두께가 상기의 범위에 있으면 필름의 유연성이 저하되기 어려운 경향이 있다.The said (lambda) / 4 phase (s) difference plate is a film which gives the phase difference of (lambda) / 4 in the direction orthogonal to the advancing direction of incident light (in-plane direction of a film). The lambda / 4 retardation plate may be a stretchable retardation plate produced by stretching a polymer film such as a cellulose film, an olefin film, a polycarbonate film or the like. If necessary, a phase difference regulator, a plasticizer, an ultraviolet absorber, an infrared absorber, a coloring agent such as a pigment or a dye, a fluorescent brightener, a dispersant, a thermal stabilizer, a light stabilizer, an antistatic agent, an antioxidant, a lubricant, a solvent, and the like may be included. The thickness of the said stretchable phase difference plate may be 200 micrometers or less, Preferably it is 1-100 micrometers. When thickness exists in the said range, there exists a tendency for the flexibility of a film to fall easily.

또, 상기 λ/4 위상차판의 다른 일례로서는, 액정 조성물을 도포하여 형성하는 액정 도포형 위상차판이어도 된다. 상기 액정 조성물은, 네마틱, 콜레스테릭, 스멕틱 등의 액정 상태를 나타내는 성질을 갖는 액정성 화합물을 포함한다. 액정 조성물 중의 액정성 화합물을 포함하는 어떤 화합물은 중합성 관능기를 갖고 있다. 상기 액정 도포형 위상차판은 추가로 개시제, 용제, 분산제, 레벨링제, 안정제, 계면활성제, 가교제, 실란 커플링제 등을 포함할 수 있다. 상기 액정 도포형 위상차판은, 상기 액정 편광층에서의 기재와 마찬가지로 배향막 상에 액정 조성물을 도포 경화시켜 액정 위상차층을 형성함으로써 제조할 수 있다. 액정 도포형 위상차판은, 연신형 위상차판에 비해 두께를 얇게 형성할 수 있다. 상기 액정 편광층의 두께는, 통상 0.5~10μm, 바람직하게는 1~5μm여도 된다. 상기 액정 도포형 위상차판은 기재로부터 박리하여 전사해 적층할 수도 있고, 상기 기재를 그대로 적층할 수도 있다. 상기 기재가, 보호 필름이나 위상차판, 윈도의 투명 기재로서의 역할을 하는 것도 바람직하다.Moreover, as another example of the said (lambda) / 4 phase (s) difference plate, the liquid crystal coating type phase difference plate formed by apply | coating and forming a liquid crystal composition may be sufficient. The said liquid crystal composition contains the liquid crystalline compound which has the property to show liquid crystal states, such as nematic, cholesteric, and smectic. Certain compounds containing the liquid crystalline compound in the liquid crystal composition have a polymerizable functional group. The liquid crystal coating type retardation plate may further include an initiator, a solvent, a dispersant, a leveling agent, a stabilizer, a surfactant, a crosslinking agent, a silane coupling agent, and the like. The said liquid crystal coating type phase difference plate can be manufactured by apply | coating and hardening a liquid crystal composition on an orientation film similarly to the base material in the said liquid crystal polarizing layer, and forming a liquid crystal phase difference layer. The liquid crystal coating retardation plate can be formed thinner than the stretchable retardation plate. The thickness of the liquid crystal polarizing layer is usually 0.5 to 10 m, preferably 1 to 5 m. The liquid crystal coating type retardation plate may be peeled off from the substrate, transferred and laminated, or the substrate may be laminated as it is. It is also preferable that the base material serves as a transparent base material of a protective film, a retardation plate, and a window.

일반적으로는, 단파장일수록 복굴절이 크고 장파장이 될수록 작은 복굴절을 나타내는 재료가 많다. 이 경우에는 전가시광 영역에서 λ/4의 위상차를 달성할 수 없기 때문에, 시감도가 높은 560nm 부근에 대해서 λ/4가 되는 면내 위상차 100~180nm, 바람직하게는 130~150nm가 되도록 설계되는 경우가 많다. 통상과는 반대의 복굴절률 파장 분산 특성을 갖는 재료를 이용한 역분산 λ/4 위상차판을 이용하는 것은 시인성을 양호하게 할 수 있으므로 바람직하다. 이러한 재료로서는 연신형 위상차판의 경우는 일본 공개특허공보 2007-232873호 등, 액정 도포형 위상차판의 경우에는 일본 공개특허공보 2010-30979호에 기재되어 있는 것을 이용하는 것도 바람직하다.In general, the shorter the wavelength, the larger the birefringence, and the longer the wavelength, the more material exhibits the small birefringence. In this case, since the phase difference of λ / 4 cannot be achieved in the full visible region, it is often designed to have an in-plane phase difference of 100 to 180 nm, preferably 130 to 150 nm, which is λ / 4 around 560 nm with high visibility. . It is preferable to use a reverse dispersion lambda / 4 retardation plate using a material having a birefringence wavelength dispersion characteristic opposite to that of normal, since the visibility can be improved. As such a material, it is also preferable to use what is described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2010-30979, such as Unexamined-Japanese-Patent No. 2007-232873 in the case of a stretchable retardation plate.

또, 다른 방법으로서는 λ/2 위상차판과 조합함으로써 광대역 λ/4 위상차판을 얻는 기술도 알려져 있다(일본 공개특허공보 평10-90521호). λ/2 위상차판도 λ/4 위상차판과 마찬가지의 재료 방법으로 제조된다. 연신형 위상차판과 액정 도포형 위상차판의 조합은 임의이지만, 어느쪽도 액정 도포형 위상차판을 이용하는 것은 두께를 얇게 할 수 있으므로 바람직하다.As another method, a technique for obtaining a wideband [lambda] / 4 phase difference plate by combining with a [lambda] / 2 phase difference plate is also known (Japanese Patent Laid-Open No. H10-90521). The lambda / 2 phase difference plate is also manufactured by the same material method as the lambda / 4 phase difference plate. Although the combination of an extending | stretching retardation plate and a liquid crystal coating type retardation plate is arbitrary, it is preferable to use a liquid crystal coating type retardation plate since both can make thickness thin.

상기 원편광판에는 경사 방향의 시인성을 높이기 위해, 정(正)의 C플레이트를 적층하는 방법도 알려져 있다(일본 공개특허공보 2014-224837호). 정의 C플레이트도 액정 도포형 위상차판이어도 되고 연신형 위상차판이어도 된다. 두께 방향의 위상차는 -200~-20nm 바람직하게는 -140~-40nm이다.A method of laminating a positive C plate is also known in the circular polarizing plate in order to increase visibility in an oblique direction (Japanese Patent Laid-Open No. 2014-224837). The positive C plate may be a liquid crystal coating type retardation plate or a stretched retardation plate. The phase difference in the thickness direction is -200 to -20 nm, preferably -140 to -40 nm.

[터치 센서][Touch sensor]

본 발명의 플렉시블 화상 표시장치는, 상기와 같이, 터치 센서를 함유한다. 터치 센서는 입력 수단으로서 이용된다. 터치 센서로서는, 저항막 방식, 표면 탄성파 방식, 적외선 방식, 전자 유도 방식, 정전 용량 방식 등 다양한 양식이 제안되고 있으며, 어떤 방식이어도 상관없다. 그 중에서도 정전 용량 방식이 바람직하다. 정전 용량 방식 터치 센서는 활성 영역 및 상기 활성 영역의 외곽부에 위치하는 비활성 영역으로 구분된다. 활성 영역은 표시 패널에서 화면이 표시되는 영역(표시부)에 대응하는 영역으로서, 사용자의 터치가 감지되는 영역이며, 비활성 영역은 표시장치에서 화면이 표시되지 않는 영역(비표시부)에 대응하는 영역이다. 터치 센서는 플렉시블 특성을 갖는 기판과; 상기 기판의 활성 영역에 형성된 감지 패턴과; 상기 기판의 비활성 영역에 형성되고, 상기 감지 패턴과 패드부를 통하여 외부의 구동 회로와 접속하기 위한 각 센싱 라인을 포함할 수 있다. 플렉시블 특성을 갖는 기판으로서는, 상기 윈도의 투명 기판과 마찬가지의 재료를 사용할 수 있다. 터치 센서의 기판은, 그 인성(靭性)이 2,000MPa% 이상인 것이 터치 센서의 크랙 억제의 면에서 바람직하다. 보다 바람직하게는 인성이 2,000~30,000MPa%여도 된다. 여기에서, 인성은, 고분자 재료의 인장 실험을 통해서 얻어지는 응력(MPa)-변형(%) 곡선(Stress-strain curve)에서 파괴점까지의 곡선의 하부 면적으로서 정의된다.The flexible image display device of the present invention contains a touch sensor as described above. The touch sensor is used as an input means. As a touch sensor, various forms, such as a resistive film type, a surface acoustic wave type, an infrared type, an electromagnetic induction type, and a capacitive type, are proposed, and what kind of method may be used. Especially, the capacitive system is preferable. The capacitive touch sensor is divided into an active region and an inactive region positioned at an outer portion of the active region. The active area is an area corresponding to an area (display) where a screen is displayed on the display panel. The active area is an area where a user's touch is detected. The inactive area is an area corresponding to an area (non-display area) where a screen is not displayed on the display device. . The touch sensor includes a substrate having a flexible characteristic; A sensing pattern formed in an active region of the substrate; Each sensing line may be formed in an inactive region of the substrate and connected to an external driving circuit through the sensing pattern and the pad unit. As a board | substrate which has a flexible characteristic, the material similar to the transparent substrate of the said window can be used. The toughness of the substrate of the touch sensor is preferably 2,000 MPa% or more in view of crack suppression of the touch sensor. More preferably, the toughness may be 2,000 to 30,000 MPa%. Here, toughness is defined as the lower area of the curve from the stress (MPa) -strain (%) curve to the break point obtained through the tensile test of the polymer material.

상기 감지 패턴은, 제1 방향으로 형성된 제1 패턴 및 제2 방향으로 형성된 제2 패턴을 구비할 수 있다. 제1 패턴과 제2 패턴은 서로 다른 방향으로 배치된다. 제1 패턴 및 제2 패턴은 동일층에 형성되며, 터치되는 지점을 감지하기 위해서는, 각각의 패턴이 전기적으로 접속되어야 한다. 제1 패턴은 각 단위 패턴이 이음매를 통하여 서로 접속된 형태이지만, 제2 패턴은 각 단위 패턴이 아일랜드 형태로 서로 분리된 구조로 되어 있으므로, 제2 패턴을 전기적으로 접속하기 위해서는 별도의 브리지 전극이 필요하다. 감지 패턴은 주지의 투명 전극 소재를 적용할 수 있다. 예를 들면, 인듐 주석 산화물(ITO), 인듐 아연 산화물(IZO), 아연 산화물(ZnO), 인듐 아연 주석 산화물(IZTO), 인듐 갈륨 아연 산화물(IGZO), 카드뮴 주석 산화물(CTO), PEDOT(poly(3,4-ethylenedioxythiophene)), 탄소 나노 튜브(CNT), 그래핀, 금속 와이어 등을 들 수 있고, 이것들은 단독 또는 2종 이상 혼합해서 사용할 수 있다. 바람직하게는 ITO를 사용할 수 있다. 금속 와이어에 사용되는 금속은 특별히 한정되지 않고, 예를 들면, 은, 금, 알루미늄, 구리, 철, 니켈, 티타늄, 셀레늄 및 크로뮴 등을 들 수 있다. 이것들은 단독 또는 2종 이상을 혼합해서 사용할 수 있다.The sensing pattern may include a first pattern formed in a first direction and a second pattern formed in a second direction. The first pattern and the second pattern are arranged in different directions. The first pattern and the second pattern are formed on the same layer, and each pattern must be electrically connected to sense a touched point. The first pattern is a form in which each unit pattern is connected to each other through a seam, but the second pattern has a structure in which each unit pattern is separated from each other in an island form. Thus, in order to electrically connect the second pattern, a separate bridge electrode is provided. need. The sensing pattern may apply a well-known transparent electrode material. For example, indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), zinc oxide (ZnO), indium zinc tin oxide (IZTO), indium gallium zinc oxide (IGZO), cadmium tin oxide (CTO), PEDOT (poly (3,4-ethylenedioxythiophene)), a carbon nanotube (CNT), graphene, a metal wire, etc. can be mentioned, These can be used individually or in mixture of 2 or more types. Preferably ITO can be used. The metal used for a metal wire is not specifically limited, For example, silver, gold, aluminum, copper, iron, nickel, titanium, selenium, chromium, etc. are mentioned. These can be used individually or in mixture of 2 or more types.

브리지 전극은 감지 패턴 상부에 절연층을 통하여 상기 절연층 상부에 형성할 수 있으며, 기판 상에 브리지 전극이 형성되어 있고, 그 위에 절연층 및 감지 패턴을 형성할 수 있다. 상기 브리지 전극은 감지 패턴과 같은 소재로 형성할 수도 있으며, 몰리브데넘, 은, 알루미늄, 구리, 팔라듐, 금, 백금, 아연, 주석, 티타늄 또는 이것들 중 2종 이상의 합금 등의 금속으로 형성할 수도 있다. 제1 패턴과 제2 패턴은 전기적으로 절연되어야 하기 때문에, 감지 패턴과 브리지 전극의 사이에는 절연층이 형성된다. 절연층은 제1 패턴의 이음매와 브리지 전극의 사이에만 형성할 수도 있고, 감지 패턴을 덮는 층의 구조로 형성할 수도 있다. 후자의 경우는, 브리지 전극은 절연층에 형성된 컨택트홀을 통하여 제2 패턴을 접속할 수 있다. 상기 터치 센서는 패턴이 형성된 패턴 영역과, 패턴이 형성되어 있지 않은 비패턴 영역 간의 투과율의 차, 구체적으로는, 이들 영역에 있어서의 굴절률의 차에 의해 유발되는 광투과율의 차를 적절히 보상하기 위한 수단으로서 기판과 전극의 사이에 광학 조절층을 추가로 포함할 수 있으며, 상기 광학 조절층은 무기 절연물질 또는 유기 절연물질을 포함할 수 있다. 광학 조절층은 광경화성 유기 바인더 및 용제를 포함하는 광경화 조성물을 기판 상에 코팅하여 형성할 수 있다. 상기 광경화 조성물은 무기 입자를 추가로 포함할 수 있다. 상기 무기 입자에 의해 광학 조절층의 굴절률이 상승할 수 있다.The bridge electrode may be formed on the insulating layer through the insulating layer on the sensing pattern, the bridge electrode is formed on the substrate, and the insulating layer and the sensing pattern may be formed thereon. The bridge electrode may be formed of a material such as a sensing pattern, or may be formed of a metal such as molybdenum, silver, aluminum, copper, palladium, gold, platinum, zinc, tin, titanium, or an alloy of two or more thereof. have. Since the first pattern and the second pattern must be electrically insulated, an insulating layer is formed between the sensing pattern and the bridge electrode. The insulating layer may be formed only between the joint of the first pattern and the bridge electrode, or may be formed in a structure of a layer covering the sensing pattern. In the latter case, the bridge electrode can connect the second pattern through the contact hole formed in the insulating layer. The touch sensor is suitable for properly compensating for the difference in light transmittance caused by the difference in transmittance between the patterned pattern region and the non-patterned region in which the pattern is not formed, specifically, the refractive index difference in these regions. An optical control layer may be further included between the substrate and the electrode as a means, and the optical control layer may include an inorganic insulating material or an organic insulating material. The optical control layer may be formed by coating a photocurable composition including a photocurable organic binder and a solvent on a substrate. The photocurable composition may further include inorganic particles. The inorganic particles may increase the refractive index of the optical control layer.

상기 광경화성 유기 바인더는, 예를 들면, 아크릴레이트계 단량체, 스티렌계 단량체, 카르복실산계 단량체 등의 각 단량체의 공중합체를 포함할 수 있다. 상기 광경화성 유기 바인더는, 예를 들면, 에폭시기 함유 반복 단위, 아크릴레이트 반복 단위, 카르복실산 반복 단위 등의 서로 다른 각 반복 단위를 포함하는 공중합체여도 된다.The photocurable organic binder may include, for example, a copolymer of each monomer such as an acrylate monomer, a styrene monomer, a carboxylic acid monomer, and the like. The said photocurable organic binder may be a copolymer containing each different repeating unit, such as an epoxy group containing repeating unit, an acrylate repeating unit, and a carboxylic acid repeating unit, for example.

상기 무기 입자는, 예를 들면, 지르코니아 입자, 티타니아 입자, 알루미나 입자 등을 포함할 수 있다. 상기 광경화 조성물은, 광중합 개시제, 중합성 모노머, 경화 보조제 등의 각 첨가제를 추가로 포함할 수도 있다.The inorganic particles may include, for example, zirconia particles, titania particles, alumina particles, and the like. The said photocuring composition may further contain each additive, such as a photoinitiator, a polymerizable monomer, and a hardening adjuvant.

[접착층][Adhesive layer]

상기 플렉시블 화상 표시장치용 적층체를 형성하는 각층(윈도, 원편광판, 터치 센서)와, 각층을 구성하는 필름 부재(직선 편광판, λ/4 위상차판 등)는 접착제에 의해 형성할 수 있다. 접착제로서는, 수계 접착제, 수계 용제 휘산형 접착제, 유기 용제계, 무용제계 접착제, 고체 접착제, 용제 휘산형 접착제, 습기 경화형 접착제, 가열 경화형 접착제, 혐기 경화형, 활성 에너지선 경화형 접착제, 경화제 혼합형 접착제, 열용융형 접착제, 감압형 접착제(점착제), 재습형 접착제 등 범용으로 사용되고 있는 것을 사용할 수 있다. 그 중에서도 수계 용제 휘산형 접착제, 활성 에너지선 경화형 접착제, 점착제가 잘 이용된다. 접착제층의 두께는, 요구되는 접착력 등에 따라 적절히 조절할 수 있고, 0.01~500μm, 바람직하게는 0.1~300μm이며, 상기 플렉시블 화상 표시장치용 적층체에는 복수 존재하지만 각각의 두께 및 이용되는 점착제의 종류는 같아도 되고 달라도 된다.Each layer (window, circular polarizing plate, touch sensor) which forms the said laminated body for flexible image display apparatuses, and the film member (linear polarizing plate, (lambda) / 4 phase (s) difference plate, etc.) which comprise each layer can be formed with an adhesive agent. Examples of the adhesive include an aqueous adhesive, an aqueous solvent volatilized adhesive, an organic solvent, a solventless adhesive, a solid adhesive, a solvent volatilized adhesive, a moisture curable adhesive, a heat curable adhesive, an anaerobic curable, an active energy ray curable adhesive, a curing agent mixed adhesive, and a heat. What is used universally can be used, such as a melt adhesive, a pressure-sensitive adhesive (adhesive), and a re-wetting adhesive. Among them, an aqueous solvent volatilized adhesive, an active energy ray curable adhesive, and an adhesive are used well. The thickness of the adhesive layer can be appropriately adjusted according to the required adhesive force and the like, and is 0.01 to 500 μm, preferably 0.1 to 300 μm. Although a plurality exists in the laminate for the flexible image display device, the thickness and the type of the adhesive used are It can be the same or different.

상기 수계 용제 휘산형 접착제로서는 폴리비닐알코올계 폴리머, 전분 등의 수용성 폴리머, 에틸렌-아세트산 비닐계 에멀젼, 스티렌-부타디엔계 에멀젼 등 수분산 상태의 폴리머를 주제 폴리머로서 사용할 수 있다. 물, 상기 주제 폴리머에 더해, 가교제, 실란계 화합물, 이온성 화합물, 가교 촉매, 산화 방지제, 염료, 안료, 무기 필러, 유기 용제 등을 배합해도 된다. 상기 수계 용제 휘산형 접착제에 의해 접착하는 경우, 상기 수계 용제 휘산형 접착제를 피접착층 간에 주입해 피착층을 첩합(貼合)한 후, 건조시킴으로써 접착성을 부여할 수 있다. 상기 수계 용제 휘산형 접착제를 이용하는 경우의 접착층의 두께는 0.01~10μm, 바람직하게는 0.1~1μm여도 된다. 상기 수계 용제 휘산형 접착제를 복수층의 형성에 이용하는 경우, 각각의 층의 두께 및 상기 접착제의 종류는 같아도 되고 달라도 된다.As the aqueous solvent volatilized adhesive, a polymer in an aqueous dispersion state such as a polyvinyl alcohol polymer, a water-soluble polymer such as starch, an ethylene-vinyl acetate emulsion, or a styrene-butadiene emulsion can be used as the main polymer. In addition to water and the said main polymer, you may mix | blend a crosslinking agent, a silane compound, an ionic compound, a crosslinking catalyst, antioxidant, dye, a pigment, an inorganic filler, an organic solvent, etc. In the case of adhering with the aqueous solvent volatilized adhesive, the aqueous solvent volatilized adhesive may be injected between the layers to be bonded and bonded to each other, and then the adhesiveness can be imparted by drying. The thickness of the adhesive layer in the case of using the said aqueous solvent volatilization type adhesive agent may be 0.01-10 micrometers, Preferably 0.1-1 micrometer may be sufficient. When using the aqueous solvent volatilized adhesive for forming a plurality of layers, the thickness of each layer and the kind of the adhesive may be the same or different.

상기 활성 에너지선 경화형 접착제는, 활성 에너지선을 조사하여 접착제층을 형성하는 반응성 재료를 포함하는 활성 에너지선 경화 조성물의 경화에 의해 형성할 수 있다. 상기 활성 에너지선 경화 조성물은, 하드 코팅 조성물과 마찬가지의 라디칼 중합성 화합물 및 양이온 중합성 화합물의 적어도 1종의 중합물을 함유할 수 있다. 상기 라디칼 중합성 화합물이란, 하드 코팅 조성물과 마찬가지이며, 하드 코팅 조성물과 마찬가지의 종류의 것을 사용할 수 있다. 접착층에 이용되는 라디칼 중합성 화합물로서는 아크릴로일기를 갖는 화합물이 바람직하다. 접착제 조성물로서의 점도를 낮추기 위해 단관능의 화합물을 포함하는 것도 바람직하다.The said active energy ray hardening-type adhesive agent can be formed by hardening of the active energy ray hardening composition containing the reactive material which irradiates an active energy ray and forms an adhesive bond layer. The active energy ray-curing composition may contain at least one polymer of a radically polymerizable compound and a cationically polymerizable compound similar to the hard coating composition. The said radically polymerizable compound is the same as that of a hard coating composition, The thing of the same kind as a hard coating composition can be used. As a radically polymerizable compound used for an adhesive layer, the compound which has an acryloyl group is preferable. It is also preferable to include a monofunctional compound in order to lower the viscosity as an adhesive composition.

상기 양이온 중합성 화합물은, 하드 코팅 조성물과 마찬가지이며, 하드 코팅 조성물과 마찬가지의 종류의 것을 사용할 수 있다. 활성 에너지선 경화 조성물에 이용되는 양이온 중합성 화합물로서는, 에폭시 화합물이 특히 바람직하다. 접착제 조성물로서의 점도를 낮추기 위해 단관능의 화합물을 반응성 희석제로서 포함하는 것도 바람직하다.The said cationically polymerizable compound is the same as that of a hard coat composition, The thing of the same kind as a hard coat composition can be used. As a cationically polymerizable compound used for an active energy ray hardening composition, an epoxy compound is especially preferable. It is also preferable to include a monofunctional compound as the reactive diluent in order to lower the viscosity as the adhesive composition.

활성 에너지선 조성물에는 중합 개시제를 추가로 포함할 수 있다. 중합 개시제로서는, 라디칼 중합 개시제, 양이온 중합 개시제, 라디칼 및 양이온 중합 개시제 등이며, 적절히 선택해 이용할 수 있다. 이들 중합 개시제는, 활성 에너지선 조사 및 가열 중 적어도 일종에 의해 분해되어, 라디칼 또는 양이온을 발생시켜 라디칼 중합과 양이온 중합을 진행시키는 것이다. 하드 코팅 조성물의 기재 중에서 활성 에너지선 조사에 의해 라디칼 중합 또는 양이온 중합 중 적어도 어느 하나를 개시할 수 있는 개시제를 사용할 수 있다.The active energy ray composition may further include a polymerization initiator. As a polymerization initiator, it is a radical polymerization initiator, a cationic polymerization initiator, a radical, and a cationic polymerization initiator, etc., and can select suitably and can use. These polymerization initiators are decomposed by at least one of active energy ray irradiation and heating to generate radicals or cations to advance radical polymerization and cationic polymerization. In the substrate of the hard coating composition, an initiator capable of initiating at least one of radical polymerization or cationic polymerization by active energy ray irradiation can be used.

상기 활성 에너지선 경화 조성물은 추가로, 이온 포착제, 산화 방지제, 연쇄 이동제, 밀착 부여제, 열가소성 수지, 충전제, 유동 점도 조정제, 가소제, 소포제 용제, 첨가제, 용제를 포함할 수 있다. 상기 활성 에너지선 경화형 접착제에 의해 접착하는 경우, 상기 활성 에너지선 경화 조성물을 피접착층 중 어느 한쪽 또는 양쪽 모두에 도포 후 첩합해, 어느 한 피착층 또는 양쪽 피착층을 통해 활성 에너지선을 조사하여 경화시킴으로써 접착할 수 있다. 상기 활성 에너지선 경화형 접착제를 이용하는 경우의 접착층의 두께는 0.01~20μm, 바람직하게는 0.1~10μm여도 된다. 상기 활성 에너지선 경화형 접착제를 복수층의 형성에 이용하는 경우에는, 각각의 층의 두께 및 이용되는 접착제의 종류는 같아도 되고 달라도 된다.The active energy ray curing composition may further include an ion trapping agent, an antioxidant, a chain transfer agent, an adhesion agent, a thermoplastic resin, a filler, a flow viscosity modifier, a plasticizer, an antifoaming agent, an additive, and a solvent. In the case of adhering with the active energy ray-curable adhesive, the active energy ray-curing composition is applied to any one or both of the adherend layers and then bonded, and irradiated with an active energy ray through any one or both adherend layers to cure. It can bond by making it. The thickness of the adhesive layer in the case of using the said active energy ray hardening-type adhesive agent may be 0.01-20 micrometers, Preferably 0.1-10 micrometers may be sufficient. When using the said active energy ray hardening-type adhesive agent for formation of multiple layers, the thickness of each layer and the kind of adhesive agent used may be same or different.

상기 점착제로서는, 주제 폴리머에 따라, 아크릴계 점착제, 우레탄계 점착제, 고무계 점착제, 실리콘계 점착제 등으로 분류되며 어느 것을 사용할 수도 있다. 점착제에는 주제 폴리머에 더해, 가교제, 실란계 화합물, 이온성 화합물, 가교 촉매, 산화 방지제, 점착 부여제, 가소제, 염료, 안료, 무기 필러 등을 배합해도 된다. 상기 점착제를 구성하는 각 성분을 용제에 용해·분산시켜 점착제 조성물을 얻어, 당해 점착제 조성물을 기재 상에 도포한 후에 건조시킴으로써, 점착제층 접착층이 형성된다. 점착층은 직접 형성되어도 되고, 별도 기재에 형성한 것을 전사할 수도 있다. 접착 전의 점착면을 커버하기 위해서는 이형 필름을 사용하는 것도 바람직하다. 상기 점착제를 이용하는 경우의 접착층의 두께는 1~500μm, 바람직하게는 2~300μm여도 된다. 상기 점착제를 복수층의 형성에 이용하는 경우, 각각의 층의 두께 및 이용되는 점착제의 종류는 같아도 되고 달라도 된다.As the pressure-sensitive adhesive, depending on the main polymer, it can be classified into acrylic pressure-sensitive adhesives, urethane pressure-sensitive adhesives, rubber pressure-sensitive adhesives, silicone pressure-sensitive adhesives and the like, and any of them can be used. In addition to a main polymer, you may mix | blend a crosslinking agent, a silane compound, an ionic compound, a crosslinking catalyst, antioxidant, a tackifier, a plasticizer, dye, a pigment, an inorganic filler, etc. to an adhesive. The adhesive layer adhesive layer is formed by melt | dissolving and disperse | distributing each component which comprises the said adhesive in a solvent, obtaining an adhesive composition, and apply | coating this adhesive composition on a base material, and drying. The pressure-sensitive adhesive layer may be directly formed or may be transferred to what is formed on a separate substrate. In order to cover the adhesive surface before adhesion, it is also preferable to use a release film. The thickness of the adhesive layer in the case of using the said adhesive is 1-500 micrometers, Preferably it may be 2-300 micrometers. When using the said adhesive for formation of multiple layers, the thickness of each layer and the kind of adhesive used may be same or different.

[차광 패턴][Shading Pattern]

상기 차광 패턴은 상기 플렉시블 화상 표시장치의 베젤 또는 하우징의 적어도 일부로서 적용할 수 있다. 차광 패턴에 의해 상기 플렉시블 화상 표시장치의 변연부(邊緣部)에 배치되는 배선이 가려져 시인되기 어렵게 함으로써, 화상의 시인성이 향상된다. 상기 차광 패턴은 단층 또는 복층의 형태여도 된다. 차광 패턴의 컬러는 특별히 제한되지 않고, 흑색, 백색, 금속색 등의 다양한 컬러를 가질 수 있다. 차광 패턴은 컬러를 구현하기 위한 안료와, 아크릴계 수지, 에스테르계 수지, 에폭시계 수지, 폴리우레탄 및 실리콘 등의 고분자로 형성할 수 있다. 이것들 단독 또는 2종류 이상의 혼합물로 사용할 수도 있다. 상기 차광 패턴은, 인쇄, 리소그래피, 잉크젯 등 각종의 방법으로 형성할 수 있다. 차광 패턴의 두께는, 통상 1~100μm, 바람직하게는 2~50μm이다. 또, 광패턴의 두께 방향으로 경사 등의 형상을 부여하는 것도 바람직하다.The light shielding pattern may be applied as at least part of a bezel or a housing of the flexible image display device. The visibility of an image improves by blocking the wiring arrange | positioned at the margin part of the said flexible image display apparatus by a light shielding pattern, and making it hard to see. The light shielding pattern may be in the form of a single layer or a multilayer. The color of the light shielding pattern is not particularly limited and may have various colors such as black, white, and metal color. The light shielding pattern may be formed of a pigment for realizing color and a polymer such as an acrylic resin, an ester resin, an epoxy resin, polyurethane, and silicone. You may use these individually or in mixture of 2 or more types. The light shielding pattern can be formed by various methods such as printing, lithography, inkjet, and the like. The thickness of a light shielding pattern is 1-100 micrometers normally, Preferably it is 2-50 micrometers. Moreover, it is also preferable to provide shapes, such as an inclination, in the thickness direction of an optical pattern.

실시예Example

이하, 실시예 및 비교예에 근거하여 본 발명을 보다 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이하의 실시예로 한정되는 것은 아니다. 예 중의 「%」 및 「부」는, 특별히 설명하지 않는 한, 질량% 및 질량부를 의미한다. 우선 측정 및 평가방법에 대해 설명한다.Hereinafter, although this invention is demonstrated further more concretely based on an Example and a comparative example, this invention is not limited to a following example. "%" And "part" in an example mean a mass% and a mass part unless there is particular notice. First, the measurement and evaluation method will be described.

<실리카 입자의 일차 입자경><Primary particle diameter of silica particle>

실시예 및 비교예에 있어서의 실리카 입자의 일차 입자경은 BET법으로 측정 평가했다.The primary particle diameter of the silica particle in an Example and a comparative example was measured and evaluated by the BET method.

<헤이즈(Haze)>Haze

JIS K 7136:2000에 준거하여, 실시예 및 비교예에서 얻어진 광학 필름을 30mm×30mm의 크기로 절단하고, 헤이즈 컴퓨터(스가 시험기(주)(Suga Test Instruments Co.,Ltd.)제, 「HGM-2DP」)를 이용하여 헤이즈(%)를 측정했다.In accordance with JIS K 7136: 2000, the optical film obtained by the Example and the comparative example is cut | disconnected to the magnitude | size of 30 mm x 30 mm, and it is made by Haze Computer (Suga Test Instruments Co., Ltd., "HGM -2DP ') and the haze (%) was measured.

<황색도(YI값)>Yellow (YI value)

실시예 및 비교예에서 얻어진 광학 필름의 황색도(Yellow Index: YI값)를, 일본 분광(주)(JASCO Corporation)제의 자외 가시 근적외 분광 광도계 「V-670」을 이용하여 측정했다. 샘플이 없는 상태에서 백그라운드 측정을 행한 후, 광학 필름을 샘플 홀더에 세팅하여, 300~800nm의 광에 대한 투과율 측정을 행하여, 3자극값(X, Y, Z)을 구하고, 하기 식에 근거하여 YI값을 산출했다.The yellowness (Yellow Index: YI value) of the optical film obtained by the Example and the comparative example was measured using the ultraviolet visible near-infrared spectrophotometer "V-670" by the Japan spectrometer. After background measurement in the absence of a sample, the optical film is set in a sample holder, the transmittance measurement for light of 300 to 800 nm is performed, and tristimulus values (X, Y, Z) are obtained. The YI value was calculated.

YI=100×(1.2769X-1.0592Z)/YYI = 100 × (1.2769X-1.0592Z) / Y

<전광선 투과율><Light transmittance>

JIS K7361-1:1997에 준거하여, 실시예 및 비교예에서 얻어진 광학 필름을 30mm×30mm의 크기로 절단하고, 헤이즈 컴퓨터(스가 시험기(주)제, 「HGM-2DP」)를 이용하여, 광학 필름의 두께 50μm에 있어서의 전광선 투과율(%)을 측정했다.In accordance with JIS K7361-1: 1997, the optical film obtained by the Example and the comparative example was cut | disconnected to the magnitude | size of 30 mm x 30 mm, and it used the haze computer (made by Suga Tester Co., Ltd., "HGM-2DP") The total light transmittance (%) in 50 micrometers in thickness of the film was measured.

<탄성률><Elastic rate>

실시예 및 비교예에서 얻어진 광학 필름을, 덤벨 커터를 이용하여 10mm×100mm의 단책형으로 절단하여, 샘플을 얻었다. 이 샘플의 탄성률을 시마즈 제작소(Shimadzu Corporation)제 오토 그래프 AG-IS를 이용하여 척간 거리 500mm, 인장 속도 20mm/min의 조건으로 S-S곡선을 측정해, 그 경사로부터 광학 필름의 탄성률(GPa)을 산출했다.The optical film obtained by the Example and the comparative example was cut | disconnected to 10 mm x 100 mm single-sheet shape using the dumbbell cutter, and the sample was obtained. The elasticity modulus of this sample was measured by the Autograph AG-IS by Shimadzu Corporation, and SS curve was measured on condition of the distance between the chuck to 500 mm and the tensile speed 20 mm / min, and the elastic modulus (GPa) of the optical film was calculated from the inclination. did.

<내굴곡성 평가><Flexibility Evaluation>

유아사(YUASA SYSTEM Co., Ltd.)제 절곡 시험기 DLDM111LH를 이용하여 굴곡 반경(곡률 반경) R=1mm 및 1Hz의 조건으로 반복 절곡 시험을 행했다. 광학 필름에 균열이 생길 때까지의 왕복 절곡 횟수를 측정해, 당해 절곡 횟수를 굴곡 횟수로 했다. 20만회의 절곡으로 균열되지 않은 경우는 20만회 이상으로 했다.Using a bending tester DLDM111LH manufactured by Yuasa System Co., Ltd., a repeated bending test was performed under conditions of a bending radius (curvature radius) R = 1 mm and 1 Hz. The number of reciprocation bends until a crack generate | occur | produced in an optical film was measured, and the said number of bending was made into the number of bendings. If it was not cracked by 200,000 bendings, it was set as 200,000 times or more.

<비행 시간형 2차 이온 질량 분석(TOF-SIMS)법에 의한 측정><Measurement by Time-of-Flight Secondary Ion Mass Spectrometry (TOF-SIMS)>

레이카 마이크로시스템즈 주식회사(Leica Microsystems)제 「울트라 마이크로톰 EM UC6」을 이용하여, 광학 필름의 단면을 제작했다.The cross section of the optical film was produced using "ultra microtome EM UC6" by Leica Microsystems.

제작한 수지 필름의 단면을, TOF-SIMS에 의해 분석했다. 분석에 이용한 TOF-SIMS 장치와 측정 조건은, 이하와 같다.The cross section of the produced resin film was analyzed by TOF-SIMS. The TOF-SIMS apparatus and measurement conditions used for the analysis are as follows.

(1) 장치: ION-TOF 사제 「TOF-SIMS V」,(1) Apparatus: `` TOF-SIMS V '' manufactured by ION-TOF,

(2) 1차 이온: Bi3+ (2) Primary ion: Bi 3+

(3) 1차 이온의 가속 전압: 25kV(3) acceleration voltage of primary ion: 25kV

(4) 조사 이온 전류: 0.23pA(4) irradiation ion current: 0.23pA

(5) 측정 조건: 번칭(고질량 분해능) 모드로 정이온, 부이온을 측정(5) Measurement conditions: Positive and negative ions are measured in bunching (high mass resolution) mode.

(6) 측정 범위: 200μm×200μm.(6) Measurement range: 200 μm × 200 μm.

TOF-SIMS의 데이터 해석은, SurfaceLab을 이용했다. 측정 데이터의 매스 켈리브레이션을 실시해, 메톡시(MeOH) 이온과 규소(Si) 이온에 귀속되는 피크 각각에 대해 피크의 적분값을 산출했다. CH3O 이온의 피크의 적분값을 CH3O 이온의 검출 강도 A, Si 이온의 피크의 적분값을 Si 이온의 검출 강도 B로 하여, 강도비 A/B를 산출했다.SurfaceLab used TOF-SIMS data analysis. Mass calibration of the measurement data was performed, and the integral value of the peak was computed about each peak which belongs to a methoxy (MeOH) ion and a silicon (Si) ion. To the integral of the CH 3 O ion peak of the integral of the peak of the detected intensity A, Si ions of CH 3 O ion in detection strength B of the Si ions, and the strength was calculated a ratio A / B.

<중량 평균 분자량(Mw)><Weight average molecular weight (Mw)>

겔 침투 크로마토그래피(GPC) 측정Gel Permeation Chromatography (GPC) Measurement

·전처리 방법Pretreatment method

실시예 및 비교예에서 얻어진 폴리아미드이미드에 DMF용리액(10mM 브로민화 리튬 용액)을 농도 2mg/mL가 되도록 첨가하여, 80℃에서 30분간 교반하면서 가열하고, 냉각 후, 0.45μm 멤브레인 필터로 여과한 것을 측정 용액으로 했다.To the polyamideimide obtained in the Examples and Comparative Examples, DMF eluent (10 mM lithium bromide solution) was added to a concentration of 2 mg / mL, heated at 80 ° C. for 30 minutes with stirring, cooled, and filtered with a 0.45 μm membrane filter. The measurement solution.

·측정 조건·Measuring conditions

칼럼: TSKgel SuperAWM-H×2+SuperAW2500×1(6.0mm I.D.×150mm×3개)Column: TSKgel SuperAWM-H × 2 + SuperAW2500 × 1 (6.0mm I.D. × 150mm × 3)

용리액: DMF(10mM의 브로민화 리튬 첨가)Eluent: DMF (with 10 mM lithium bromide)

유량: 1.0mL/min.Flow rate: 1.0 mL / min.

검출기: RI검출기Detector: RI Detector

칼럼 온도: 40℃Column temperature: 40 ℃

주입량: 100μLInjection volume: 100 μL

분자량 표준: 표준 폴리스티렌Molecular Weight Standard: Standard Polystyrene

<광학 필름의 두께><Thickness of Optical Film>

실시예 및 비교예에서 얻어진 광학 필름을, ABS 디지메틱 인디케이터((주)미쓰도요(Mitutoyo Corporation)제, 「ID-C112BS」)를 이용하여, 광학 필름의 두께를 측정했다.The thickness of the optical film was measured for the optical film obtained by the Example and the comparative example using ABS digital indicator ("ID-C112BS" by Mitutoyo Corporation).

[실시예 1]Example 1

(실리카 졸의 조제)(Preparation of Silica Sol)

1000mL의 플라스크에 메탄올 분산 실리카 졸(닛산 화학공업(주)(Nissan Chemical Corporation)제의 「MA-ST-M」, 일차 입자경 23nm, 실리카 입자 고형분 40.6%) 517.2g 및 γ-부티로락톤(GBL) 490.9g을 넣고, 진공 이배퍼레이터로 45℃의 탕욕하(湯浴下), 400hPa로 1시간, 250hPa로 1시간 메탄올을 증발시켰다. 추가로 250hPa하에서 70℃까지 승온시켜 30분간 가열하여, γ-부티로락톤 분산 실리카 졸 1(GBL 분산 실리카 졸 1)을 얻었다. 얻어진 GBL 분산 실리카 졸 1의 고형분 농도는 29.8%였다.517.2 g of methanol-dispersed silica sol ("MA-ST-M" manufactured by Nissan Chemical Corporation), primary particle size 23 nm, silica particle solid content 40.6%) in a 1000 mL flask and γ-butyrolactone (GBL) ) 490.9 g was added, and methanol was evaporated for 1 hour at 400 hPa and 250 hPa for 1 hour under a hot water bath at 45 ° C with a vacuum evaporator. Furthermore, it heated up to 70 degreeC under 250 hPa, and heated for 30 minutes, and obtained (gamma) -butyrolactone dispersion silica sol 1 (GBL dispersion silica sol 1). Solid content concentration of obtained GBL dispersion silica sol 1 was 29.8%.

(폴리아미드이미드의 조제)(Preparation of polyamideimide)

질소 가스 분위기하, 교반 날개를 구비한 1L 세퍼러블 플라스크에, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)-4,4'-디아미노디페닐(TFMB) 45g(140.52mmol) 및 N,N-디메틸아세트아미드(DMAc) 768.55g을 첨가하고 실온에서 교반하면서 TFMB를 DMAc에 용해시켰다. 다음으로, 플라스크에 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 이무수물(6FDA) 18.92g(42.58mmol)을 첨가하여, 실온에서 3시간 교반했다. 그 후, 4,4'-옥시비스(벤조일클로라이드)(OBBC) 4.19g(14.19mmol), 이어서 테레프탈로일클로라이드(TPC) 17.29g(85.16mmol)을 플라스크에 첨가하고 실온에서 1시간 교반했다. 이어서, 플라스크에 4-메틸피리딘 4.63g(49.68mmol)과 무수 아세트산 13.04g(127.75mmol)을 첨가하고 실온에서 30분간 교반 후, 오일배스를 이용하여 70℃로 승온시키고, 추가로 3시간 교반하여 반응액을 얻었다.45 g (140.52 mmol) of 2,2'-bis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminodiphenyl (TFMB) and N, N in a 1 L separable flask with a stirring blade under a nitrogen gas atmosphere 768.55 g of dimethylacetamide (DMAc) was added and TFMB dissolved in DMAc with stirring at room temperature. Next, 18.92 g (42.58 mmol) of 4,4 '-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic dianhydride (6FDA) was added to the flask, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. Thereafter, 4.19 g (14.19 mmol) of 4,4'-oxybis (benzoyl chloride) (OBBC) was added to the flask, followed by 17.29 g (85.16 mmol) of terephthaloyl chloride (TPC), followed by stirring at room temperature for 1 hour. Subsequently, 4.63 g (49.68 mmol) of 4-methylpyridine and 13.04 g (127.75 mmol) of acetic anhydride were added to the flask, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes, then heated to 70 ° C. using an oil bath, and further stirred for 3 hours. A reaction solution was obtained.

얻어진 반응액을 실온까지 냉각시키고, 대량의 메탄올 중에 사상(絲狀)으로 투입해, 석출한 침전물을 취출하고, 메탄올에서 6시간 침지 후, 메탄올로 세정했다. 다음으로, 100℃에서 침전물의 감압 건조를 행하고, 폴리아미드이미드 1을 얻었다. 얻어진 폴리아미드이미드 1의 중량 평균 분자량은, 400,000이었다.The obtained reaction liquid was cooled to room temperature, poured into a large amount of methanol at a temperature, and the precipitate which precipitated was taken out, and after immersing in methanol for 6 hours, it wash | cleaned with methanol. Next, the precipitate was dried under reduced pressure at 100 ° C to obtain polyamideimide 1. The weight average molecular weight of the obtained polyamideimide 1 was 400,000.

(광학 필름의 제조)(Manufacture of optical film)

폴리아미드이미드 1을 GBL에 용해하고, 상기의 GBL 분산 실리카 졸 1을 첨가하여 충분히 혼합함으로써, 폴리아미드이미드 1/실리카 입자 혼합 바니쉬를 얻었다. 폴리아미드이미드 1과 실리카 입자의 비율은 70:30이었다. 또, 폴리아미드이미드 1/실리카 입자 농도(바니쉬의 질량에 대한 수지와 실리카 입자의 총질량)가 10질량%가 되도록 조제했다.Polyamideimide 1 was dissolved in GBL, the GBL dispersed silica sol 1 was added, and the mixture was sufficiently mixed to obtain a polyamideimide 1 / silica particle mixed varnish. The ratio of polyamideimide 1 and silica particles was 70:30. Moreover, it prepared so that polyamideimide 1 / silica particle concentration (total mass of resin and a silica particle with respect to the mass of a varnish) may be 10 mass%.

얻어진 혼합 바니쉬를 체눈 사이즈 10마이크로 미터의 필터로 여과한 후, 폴리에스테르 기재(도요보(주)(Toyobo Co., Ltd)제, 상품명 「A4100」)의 평활면 상에 자립막의 막두께가 55μm가 되도록 어플리케이터를 이용하여 도공하고, 50℃에서 30분간, 이어서 140℃에서 15분간 건조시켜, 폴리에스테르 기재를 박리하는 것에 의해, 자립막을 얻었다. 자립막을 금속 프레임에 고정해 200℃에서 건조시켜, 막두께 50μm의 광학 필름 1을 얻었다.After filtering the obtained mixed varnish with the filter of 10 micrometers of the body size, the film thickness of a self-supporting film | membrane is 55 micrometers on the smooth surface of a polyester base material (Toyobo Co., Ltd. brand name "A4100"). It coated using the applicator so that it might become, and it dried for 30 minutes at 50 degreeC, then 15 minutes at 140 degreeC, and peeled the polyester base material, and obtained the self-supporting film. The self-supporting film was fixed to a metal frame and dried at 200 ° C. to obtain an optical film 1 having a film thickness of 50 μm.

[실시예 2]Example 2

메탄올 분산 실리카 졸 「MA-ST-M」 대신에, 메탄올 분산 실리카 졸(닛산 화학공업(주) 제품, 「MA-ST-G-ML1」, 일차 입자경 27nm)을 이용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 광학 필름을 얻었다.Except for using methanol dispersion silica sol (MA-ST-G-ML1, primary particle size 27nm) instead of methanol dispersion silica sol "MA-ST-M" In the same manner, an optical film was obtained.

[실시예 3]Example 3

(폴리아미드이미드의 조제)(Preparation of polyamideimide)

질소 가스 분위기하, 교반 날개를 구비한 1L 세퍼러블 플라스크에, TFMB 53.05g(165.66mmol) 및 DMAc 670.91g을 첨가하고 실온에서 교반하면서 TFMB를 DMAc에 용해시켰다. 다음으로, 플라스크에, 6FDA 22.11g(49.77mmol), 3,3',4,4'-비페닐테트라카르복실산 이무수물(BPDA) 4.88g(16.59mmol)을 첨가하고, 이어서, TPC 20.21g(99.54mmol)을 첨가하여, 실온에서 1시간 교반했다. 이어서, 플라스크에 피리딘 10.53g(133.08mmol)과 무수 아세트산 13.77g(134.83mmol)을 첨가하고 실온에서 30분간 교반 후, 오일배스를 이용하여 70℃로 승온시키고, 추가로 3시간 교반하여 반응액을 얻었다.In a nitrogen gas atmosphere, TFMB 53.05 g (165.66 mmol) and 670.91 g of DMAc were added to a 1 L separable flask equipped with stirring blades, and TFMB was dissolved in DMAc while stirring at room temperature. Next, 22.11 g (49.77 mmol) of 6FDA, 4.88 g (16.59 mmol) of 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA) were added to the flask, followed by 20.21 g of TPC. (99.54 mmol) was added and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. Subsequently, 10.53 g (133.08 mmol) of pyridine and 13.77 g (134.83 mmol) of acetic anhydride were added to the flask, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes, then heated to 70 ° C. using an oil bath, and further stirred for 3 hours. Got it.

얻어진 반응액을 실온까지 냉각시키고, 대량의 메탄올 중에 사상으로 투입해, 석출한 침전물을 취출하고, 메탄올에서 6시간 침지 후, 메탄올로 세정했다. 다음으로, 100℃에서 침전물의 감압 건조를 행하고, 폴리아미드이미드 2를 얻었다. 얻어진 폴리아미드이미드 2의 중량 평균 분자량은, 190,000이었다.The obtained reaction liquid was cooled to room temperature, poured into a large amount of methanol in filament, and the precipitate which precipitated was taken out, and after immersing in methanol for 6 hours, it wash | cleaned with methanol. Next, the precipitate was dried under reduced pressure at 100 ° C to obtain polyamideimide 2. The weight average molecular weight of the obtained polyamideimide 2 was 190,000.

(광학 필름의 제조)(Manufacture of optical film)

폴리아미드이미드로서 상기 폴리아미드이미드 2를 이용하고, GBL 분산 실리카 졸로서 메탄올 분산 실리카 졸 「MA-ST-G-ML1」을 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 광학 필름을 얻었다.The optical film was obtained like Example 1 except having used the said polyamideimide 2 as polyamideimide, and using methanol dispersion silica sol "MA-ST-G-ML1" as a GBL dispersion silica sol.

[비교예 1]Comparative Example 1

메탄올 분산 실리카 졸 대신에, 수분산 실리카 졸(닛산 화학공업(주) 제품, 「ST-O-40, 일차 입자경 23nm)을 이용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 광학 필름을 얻었다.An optical film was obtained in the same manner as in Example 1 except that a water-dispersed silica sol (manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd., “ST-O-40, primary particle diameter 23 nm)) was used instead of the methanol dispersed silica sol.

[비교예 2]Comparative Example 2

폴리아미드이미드 대신에, 폴리이미드(가와무라 산교(주)(Kawamura Sangyo Co., Ltd.)제, 「KPI-MX300F」)를 이용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 광학 필름을 얻었다.An optical film was obtained in the same manner as in Example 1 except that polyimide (manufactured by Kawamura Sangyo Co., Ltd., “KPI-MX300F”) was used instead of the polyamideimide.

[참고예 1]Reference Example 1

폴리아미드이미드와 실리카 입자의 비율을 50:50으로 한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 광학 필름을 얻었다. 당해 광학 필름은 탄성률이 7.5이며, 내굴곡성 시험에 있어서의 굴곡 횟수가 14만회였다.An optical film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the ratio of polyamide-imide and silica particles was 50:50. The optical film had an elasticity modulus of 7.5 and a bending frequency in the bending resistance test was 140,000 times.

실시예 1~3 및 비교예 1,2에서 얻어진 광학 필름에 있어서, 수지의 종류, 실리카 원료, 실리카 함유량, 실리카 입자경, 비행 시간형 2차 이온 질량 분석(TOF-SIMS)법으로 측정했을 때의, 메톡시 이온 강도(A)와 규소 이온 강도(B)의 강도비(A/B), 전광선 투과율, 황색도, 헤이즈, 및 탄성률을 표 1에 나타냈다. 표 1 중, PAI(1)는 폴리아미드이미드 1을 나타내고, PAI(2)는 폴리아미드이미드 2를 나타내고, PI는 폴리아미드를 나타내고, 실리카 함유량은, 광학 필름의 질량(수지와 실리카 입자의 총질량)에 대한 실리카 입자의 질량을 나타낸다.In the optical films obtained in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 and 2, the type of resin, the silica raw material, the silica content, the silica particle diameter, and the time-of-flight type secondary ion mass spectrometry (TOF-SIMS) were measured. , Table 1 shows the intensity ratio (A / B), total light transmittance, yellowness, haze, and elastic modulus of methoxy ionic strength (A) and silicon ionic strength (B). In Table 1, PAI (1) shows polyamideimide 1, PAI (2) shows polyamideimide 2, PI shows polyamide, and silica content is the mass of an optical film (total of resin and a silica particle). Mass of silica particles).

Figure 112019042730864-pat00010
Figure 112019042730864-pat00010

표 1에 나타나는 바와 같이, 비교예 1의 광학 필름은 황색도가 높기 때문에, 저황색도와 고탄성률을 양립할 수 없는 것이 확인되었다. 또, 비교예 2의 광학 필름은 탄성률이 낮기 때문에, 저황색도와 고탄성률을 양립할 수 없는 것이 확인되었다. 이에 비하여, 실시예 1~3의 광학 필름은 황색도가 낮고, 또한 탄성률이 높아, 저황색도와 고탄성률을 양립할 수 있는 것이 확인되었다.As shown in Table 1, since the optical film of Comparative Example 1 had a high yellowness, it was confirmed that low yellowness and high elastic modulus were not compatible. Moreover, since the optical film of the comparative example 2 has a low elasticity modulus, it was confirmed that low yellowness and high elastic modulus are incompatible. On the other hand, it was confirmed that the optical films of Examples 1-3 have low yellowness and high elasticity modulus, and are compatible with low yellowness and high elastic modulus.

Claims (11)

폴리아미드이미드계 수지 및 실리카 입자를 포함하는 광학 필름으로서, 당해 필름 단면을 비행 시간형 2차 이온 질량분석법으로 측정했을 때에, 메톡시 이온 강도(A)와 규소 이온 강도(B)의 강도비(A/B)는 0.02 이상이며,
당해 실리카 입자의 함유량은, 광학 필름의 질량에 대해서 1질량% 이상 45질량% 이하인, 광학 필름.
An optical film comprising a polyamideimide-based resin and silica particles, wherein when the film cross section is measured by a time-of-flight secondary ion mass spectrometry, an intensity ratio between methoxy ionic strength (A) and silicon ionic strength (B) ( A / B) is at least 0.02,
Content of the said silica particle is 1 mass% or more and 45 mass% or less with respect to the mass of an optical film.
제1항에 있어서,
막두께는 20μm 이상인, 광학 필름.
The method of claim 1,
The film thickness is 20 micrometers or more.
제1항에 있어서,
폴리아미드이미드계 수지의 중량 평균 분자량은 100,000~500,000인, 광학 필름.
The method of claim 1,
The optical film whose weight average molecular weights of polyamide-imide resin are 100,000-500,000.
메탄올 분산 실리카 졸을 용매 치환하는 공정을 포함하는, 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 기재된 광학 필름을 제조하는 방법.The method of manufacturing the optical film according to any one of claims 1 to 3, including the step of solvent-substituting a methanol-dispersed silica sol. 제4항에 있어서,
추가로, 용매 치환된 실리카 졸과 폴리아미드이미드계 수지를 혼합해서 바니쉬를 조제하는 공정을 포함하는, 방법.
The method of claim 4, wherein
The method further includes mixing the solvent-substituted silica sol with the polyamideimide-based resin to prepare a varnish.
제5항에 있어서,
추가로, 상기 바니쉬를 기재에 도포하여 도막을 형성하는 공정을 포함하는, 방법.
The method of claim 5,
Further comprising applying the varnish to the substrate to form a coating film.
제6항에 있어서,
추가로, 상기 도막을 건조시켜 광학 필름을 형성하는 공정을 포함하는, 방법.
The method of claim 6,
And drying the coating film to form an optical film.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 기재된 광학 필름을 구비하는, 플렉시블 화상 표시장치.The flexible image display apparatus provided with the optical film as described in any one of Claims 1-3. 제8항에 있어서,
추가로 편광판을 포함하는, 플렉시블 화상 표시장치.
The method of claim 8,
A flexible image display device further comprising a polarizing plate.
제8항에 있어서,
추가로 터치 센서를 포함하는, 플렉시블 화상 표시장치.
The method of claim 8,
A flexible image display device further comprising a touch sensor.
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