KR102625083B1 - Optical film - Google Patents

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요시히사 마나베
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스미또모 가가꾸 가부시키가이샤
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Abstract

물체 충돌의 반복에 의한 광학 특성의 저하를 억제할 수 있는 광학 필름을 제공한다.
폴리이미드계 수지 및 폴리아미드계 수지로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 수지를 포함하고, 내충격성 시험에 있어서의 패임량은 15μm 이하인, 광학 필름.
An optical film capable of suppressing deterioration of optical properties due to repeated object collisions is provided.
An optical film comprising at least one type of resin selected from the group consisting of polyimide resin and polyamide resin, and having a dent amount of 15 μm or less in an impact resistance test.

Description

광학 필름{OPTICAL FILM}Optical film {OPTICAL FILM}

본 발명은, 화상 표시장치의 전면판 등으로서 이용되는 광학 필름, 및 당해 광학 필름을 구비하는 플렉시블 화상 표시장치에 관한 것이다.The present invention relates to an optical film used as a front panel, etc. of an image display device, and a flexible image display device provided with the optical film.

액정 표시장치나 유기 EL 표시장치 등의 화상 표시장치는, 휴대전화나 스마트 워치와 같은 다양한 용도에 널리 활용되고 있다. 이러한 화상 표시장치의 전면판으로서 유리가 이용되어 왔지만, 유리는 매우 강직하고, 깨지기 쉽기 때문에, 예를 들면 플렉시블 디스플레이 등의 전면판 재료로서의 이용은 어렵다. 유리를 대신하는 재료 중 하나로서, 폴리이미드계 수지나 폴리아미드계 수지가 있으며, 이러한 수지를 이용한 광학 필름이 검토되고 있다(예를 들면 특허문헌 1).Image display devices such as liquid crystal displays and organic EL displays are widely used in various applications such as mobile phones and smart watches. Glass has been used as a front panel for such image display devices, but because glass is very rigid and fragile, it is difficult to use it as a front panel material for, for example, flexible displays. As one of the materials that replace glass, there are polyimide resins and polyamide resins, and optical films using these resins are being studied (for example, patent document 1).

일본 공표특허공보 2015-521687호Japanese Patent Publication No. 2015-521687

그러나, 본 발명자의 검토에 의하면, 이러한 화상 표시장치의 전면판 재료로서 이용되는 광학 필름은, 사용자가 직접 만지거나 주위의 물체가 충돌하거나 하기 때문에, 당해 접촉이나 충돌이 반복해서 행해지면, 표면에 패임 등의 흠집이 생겨 광학 특성이 저하되는 경우가 있는 것을 알 수 있었다.However, according to the present inventor's examination, the optical film used as the front panel material of such an image display device is touched directly by the user or collided with surrounding objects, so if the contact or collision is repeated, the optical film is damaged on the surface. It was found that in some cases, optical properties deteriorated due to scratches such as dents.

따라서, 본 발명의 목적은, 물체 충돌의 반복에 의한 광학 특성의 저하를 억제할 수 있는 광학 필름, 및 당해 광학 필름을 구비하는 플렉시블 화상 표시장치를 제공하는 것에 있다.Therefore, an object of the present invention is to provide an optical film capable of suppressing deterioration of optical properties due to repeated object collisions, and a flexible image display device including the optical film.

본 발명자는, 상기 과제를 해결하기 위해서 예의 검토한 결과, 폴리이미드계 수지 및 폴리아미드계 수지로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 수지를 포함하는 광학 필름에 있어서, 내충격성 시험에 있어서의 패임량이 15μm 이하이면, 상기 목적이 달성되는 것을 발견하여 본 발명을 완성하기에 이르렀다. 즉, 본 발명에는 이하의 양태가 포함된다.As a result of intensive studies in order to solve the above problems, the present inventor has found that an optical film containing at least one type of resin selected from the group consisting of polyimide resin and polyamide resin has no dents in an impact resistance test. It was discovered that the above object was achieved when the amount was 15 μm or less, and the present invention was completed. That is, the present invention includes the following aspects.

[1] 폴리이미드계 수지 및 폴리아미드계 수지로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 수지를 포함하고, 내충격성 시험에 있어서의 패임량은 15μm 이하인, 광학 필름.[1] An optical film containing at least one type of resin selected from the group consisting of polyimide resin and polyamide resin, and having a dent amount of 15 μm or less in an impact resistance test.

[2] 헤이즈는 1% 이하인, [1]에 기재된 광학 필름.[2] The optical film according to [1], wherein the haze is 1% or less.

[3] 황색도는 5 이하인, [1] 또는 [2]에 기재된 광학 필름.[3] The optical film according to [1] or [2], wherein the yellowness is 5 or less.

[4] 일차 입자경이 25nm 이하인 필러를 포함하는, [1]~[3] 중 어느 하나에 기재된 광학 필름.[4] The optical film according to any one of [1] to [3], comprising a filler having a primary particle diameter of 25 nm or less.

[5] 막두께는 25~100μm인, [1]~[4] 중 어느 하나에 기재된 광학 필름.[5] The optical film according to any one of [1] to [4], wherein the film thickness is 25 to 100 μm.

[6] [1]~[5] 중 어느 하나에 기재된 광학 필름을 구비하는, 플렉시블 화상 표시장치.[6] A flexible image display device comprising the optical film according to any one of [1] to [5].

[7] 추가로 편광판을 함유하는, [6]에 기재된 플렉시블 화상 표시장치.[7] The flexible image display device according to [6], further comprising a polarizing plate.

[8] 추가로 터치 센서를 함유하는, [6] 또는 [7]에 기재된 플렉시블 화상 표시장치.[8] The flexible image display device according to [6] or [7], further comprising a touch sensor.

본 발명의 광학 필름은, 물체 충돌의 반복에 의한 광학 특성의 저하를 억제할 수 있기 때문에, 화상 표시장치의 전면판 재료로서 사용할 수 있다.Since the optical film of the present invention can suppress deterioration of optical properties due to repeated object collisions, it can be used as a front panel material for an image display device.

이하, 본 발명의 실시형태에 대해 상세하게 설명한다. 또한, 본 발명의 범위는 여기에서 설명하는 실시형태로 한정되는 것은 아니고, 본 발명의 취지를 벗어나지 않는 범위에서 다양한 변경을 할 수 있다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. In addition, the scope of the present invention is not limited to the embodiments described herein, and various changes can be made without departing from the spirit of the present invention.

[광학 필름][Optical film]

본 발명의 광학 필름은, 폴리이미드계 수지 및 폴리아미드계 수지로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 수지를 포함하고, 내충격성 시험에 있어서의 패임량이 15μm 이하이다.The optical film of the present invention contains at least one type of resin selected from the group consisting of polyimide resin and polyamide resin, and has a dent of 15 μm or less in an impact resistance test.

내충격성 시험에 있어서의 패임량은, 내충격성 시험을 5회 행했을 때의 패임 깊이의 평균값을 나타낸다. 내충격성 시험에 있어서의 패임 깊이는, 유리, 점착제층, 및 광학 필름이 이 순서로 적층된 적층체를 제작하고, 추(질량 4.6g, 충돌 개소가 직경 0.75mm의 구형, 스테인리스제)를 10cm의 높이로부터 적층체의 광학 필름면 상에 낙하시켰을 때에, 광간섭 막후계를 이용하여 관찰해 얻어지는 가장 크게 패인 점의 깊이(시험 전의 패이지 않은 상태의 필름 표면으로부터 가장 크게 패인 점까지의 최단 거리)를 나타낸다. 내충격성 시험에 있어서의 패임량은, 예를 들면, 실시예의 <내충격성 시험>의 항에 기재된 방법에 의해 측정할 수 있다. 또한, 내충격성 시험은 낙하 시험기 등을 이용하여 행해도 된다.The amount of dents in the impact resistance test represents the average value of the dent depth when the impact resistance test was performed 5 times. The dent depth in the impact resistance test was determined by manufacturing a laminate in which glass, an adhesive layer, and an optical film were laminated in this order, and using a weight (4.6 g in mass, a sphere with a diameter of 0.75 mm at the impact point, made of stainless steel) at 10 cm. When dropped from a height on the optical film surface of a laminate, the depth of the largest dent obtained by observation using an optical interference film thickness meter (shortest distance from the film surface in the non-dented state before the test to the largest dent point) represents. The amount of dents in the impact resistance test can be measured, for example, by the method described in the section <Impact Resistance Test> of the Examples. Additionally, the impact resistance test may be performed using a drop tester or the like.

상기와 같이, 내충격성 시험에 있어서의 패임량은, 필름 표면에 소정의 추가 충돌했을 때에 패임이 발생하는 정도를 나타내고, 당해 패임량이 작을 수록, 내충격성이 큰, 즉, 광학 필름 표면에 물체가 충돌했을 때에 패임의 발생 또는 필름 표면의 형상 변화를 보다 억제하기 쉽다. 본 발명의 광학 필름은, 내충격성 시험에 있어서의 패임량이 15μm 이하로 작고, 내충격성이 우수하기 때문에, 물체가 필름 표면에 반복해서 충돌하는 것에 의한 광학 특성의 저하를 억제할 수 있다. 또, 당해 패임량이 15μm를 넘으면, 물체의 반복 충돌에 의한 필름 표면의 형상 변화가 비교적 커져, 광학 특성이 크게 저하되는 경향이 있다.As described above, the amount of dents in the impact resistance test indicates the degree to which dents occur when a predetermined weight collides with the film surface. The smaller the amount of dents, the greater the impact resistance, that is, the greater the impact resistance when an object is hit on the surface of the optical film. It is easier to suppress the occurrence of dents or changes in the shape of the film surface in the event of a collision. Since the optical film of the present invention has a small dent of 15 μm or less in the impact resistance test and has excellent impact resistance, it can suppress degradation of optical properties due to objects repeatedly colliding with the film surface. Additionally, when the amount of depression exceeds 15 μm, the shape change of the film surface due to repeated collisions with objects becomes relatively large, and the optical properties tend to deteriorate significantly.

내충격성 시험에 있어서의 패임량은, 바람직하게는 10μm 이하, 보다 바람직하게는 5μm 이하이다. 당해 패임량이 상기의 상한 이하이면, 물체 충돌의 반복에 의한 필름 표면의 형상 변화가 유효하게 억제되어, 광학 특성의 저하를 유효하게 억제할 수 있다.The amount of dent in the impact resistance test is preferably 10 μm or less, more preferably 5 μm or less. If the amount of depression is below the above upper limit, the change in shape of the film surface due to repeated object collisions can be effectively suppressed, and deterioration of optical properties can be effectively suppressed.

본 발명의 광학 필름은, 우수한 광학 특성도 갖는다. 또한, 본 명세서에 있어서, 광학 특성이란, 예를 들면, 반사 a* 및 반사 b*, 전광선(全光線) 투과율, 황색도(YI값), 그리고 헤이즈 등을 나타내고, 광학 특성이 우수하다는 것은, 반사 a* 및 반사 b*가 0에 가까운 것, 헤이즈(Haze) 및 황색도(YI값)가 낮은 것, 그리고 전광선 투과율이 높은 것을 나타낸다. 또, 본 발명의 광학 필름은 우수한 광학 특성, 그 중에서도 높은 전광선 투과율을 나타내는 것으로부터, 예를 들면, 플렉시블 디바이스에 있어서, 동일한 밝기를 얻는 경우에, 백 라이트 등의 발광 강도를 낮게 할 수 있으므로, 에너지 절약에 기여할 수 있다.The optical film of the present invention also has excellent optical properties. In addition, in this specification, optical properties refer to, for example, reflection a* and reflection b*, total light transmittance, yellowness (YI value), and haze, etc., and excellent optical properties mean that It indicates that reflection a* and reflection b* are close to 0, haze and yellowness (YI value) are low, and total light transmittance is high. In addition, the optical film of the present invention exhibits excellent optical properties, especially high total light transmittance, so that, for example, in a flexible device, when obtaining the same brightness, the luminous intensity of the backlight, etc. can be lowered. It can contribute to energy saving.

본 발명의 광학 필름은, 표면 반사 특성이 우수하다. 여기에서, 표면 반사 특성을 나타내는 파라미터로서 예를 들면 반사 a*(SCE) 및 반사 b*(SCE) 등의 반사 색상을 나타내는 파라미터가 있으며, 당해 반사 a*는 0에 가까울수록, 광학 필름의 녹색이나 적색 등의 색미(色味)가 적고, 당해 반사 b*는 0에 가까울수록, 광학 필름의 청색이나 황색 등의 색미가 적어 투명성이 양호한 것을 나타낸다. 광학 필름의 반사 a*(SCE) 및 반사 b*(SCE)는 각각, SCE(Specular Component Excluded: 정반사광을 제외한다) 방식으로 구해지는 광학 필름을 반사한 광의 L*a*b* 표색계에 있어서의 a* 및 b*이며, 본 명세서에 있어서는, 광학 필름 평면의 수직 방향으로부터 소정의 각도 기울인 방향으로부터 입사하는, 파장 380~780nm의 범위에 있어서의 입사광에 대한 반사광 중, 정반사광을 제외한 확산 반사광의 CIE 1976 L*a*b* 표색계의 a*값 및 b*값을 말한다. 본 발명의 광학 필름의 반사 a*(SCE)는 바람직하게는 -1~1이며, 보다 바람직하게는 -0.5~0.5, 더 바람직하게는, -0.3~0.3이며, 반사 b*(SCE)는 바람직하게는 -5~5이며, 보다 바람직하게는 -3~3, 더 바람직하게는 -2~3, 특히 바람직하게는 -2~2이다. 광학 필름의 반사 a*(SCE) 및 반사 b*(SCE)가 상기 범위이면, 투명성이 양호해져, 화상 표시장치의 전면판에 사용한 경우에, 높은 시인성을 발현할 수 있다. 또한, 광학 필름의 반사 a*(SCE) 및 반사 b*(SCE)는 분광 측색계를 이용하여 측정할 수 있으며, 예를 들면, 실시예에 기재된 방법에 의해 측정할 수 있다.The optical film of the present invention has excellent surface reflection properties. Here, as parameters representing surface reflection characteristics, for example, there are parameters representing reflection color such as reflection a*(SCE) and reflection b*(SCE). The closer the reflection a* is to 0, the greener the optical film. The smaller the color taste, such as red or red, and the closer the reflection b* is to 0, the less color taste, such as blue or yellow, in the optical film, indicating that the transparency is good. The reflection a*(SCE) and reflection b*(SCE) of the optical film are each determined by the SCE (Specular Component Excluded) method in the L*a*b* colorimetric system of the light reflected from the optical film. a* and b*, and in this specification, among the reflected light for incident light in the range of wavelength 380 to 780 nm, incident from a direction inclined at a predetermined angle from the vertical direction of the optical film plane, diffuse reflected light excluding regular reflection light. Refers to the a* and b* values of the CIE 1976 L*a*b* color space. The reflection a*(SCE) of the optical film of the present invention is preferably -1 to 1, more preferably -0.5 to 0.5, even more preferably -0.3 to 0.3, and reflection b*(SCE) is preferably. Preferably it is -5 to 5, more preferably -3 to 3, further preferably -2 to 3, especially preferably -2 to 2. If the reflection a*(SCE) and reflection b*(SCE) of the optical film are within the above range, transparency becomes good and high visibility can be achieved when used in the front panel of an image display device. Additionally, reflection a*(SCE) and reflection b*(SCE) of the optical film can be measured using a spectrophotometer, for example, by the method described in the Examples.

본 발명의 광학 필름은, 물체 충돌에 의한 필름 표면의 형상 변화를 억제할 수 있기 때문에, 반복 충돌에 의한 광학 특성의 저하, 예를 들면 필름 표면의 반사 색상의 변화, 예를 들면 반사 a*와 반사 b*(SCE) 양쪽 모두의 변화를 유효하게 억제할 수 있다. 이러한 필름 특성은, 필름면 상의 직경 8mm의 범위 내에, 높이 10cm의 위치로부터 추(질량 4.6g, 충돌 개소가 직경 0.75mm의 구형, 스테인리스제)를 낙하시키는 조작을 20회 반복해서 행하고, 분광 측색계를 이용하여, 당해 조작 전후의 반사 색상(반사 a* 및 b*)을 측정해 평가할 수 있으며, 예를 들면 실시예의 <충격 피로 시험>의 항에 기재된 방법에 의해 측정 평가할 수 있다. 본 발명의 광학 필름에 있어서, 충격 피로 시험 전후의 반사 a*(SCE)의 변화량(절대값)은, 바람직하게는 0.16 이하, 보다 바람직하게는 0.10 이하, 더 바람직하게는 0.05 이하, 보다 더 바람직하게는 0.03 이하, 특히 바람직하게는 0.01 이하이며, 반사 b*(SCE)의 변화량(절대값)은 바람직하게는 0.35 이하, 보다 바람직하게는 0.30 이하, 더 바람직하게는 0.25 이하, 특히 바람직하게는 0.20 이하이다. 또한, 충격 피로 시험은 낙하 시험기 등을 이용하여 행해도 된다.Since the optical film of the present invention can suppress changes in the shape of the film surface due to object collisions, deterioration of optical properties due to repeated collisions, such as changes in the reflection color of the film surface, such as reflection a* and Changes in both reflex b*(SCE) can be effectively suppressed. These film properties were obtained by repeating the operation of dropping a weight (mass 4.6 g, spherical with a diameter of 0.75 mm at the impact point, made of stainless steel) 20 times from a position of 10 cm in height within a range of 8 mm in diameter on the film surface, and spectroscopic measurements were performed. Using a colorimeter, the reflection color (reflection a* and b*) before and after the operation can be measured and evaluated, for example, by the method described in the <Impact Fatigue Test> section of the Examples. In the optical film of the present invention, the amount of change (absolute value) in reflection a*(SCE) before and after the impact fatigue test is preferably 0.16 or less, more preferably 0.10 or less, further preferably 0.05 or less, and even more preferably Preferably it is 0.03 or less, particularly preferably 0.01 or less, and the change (absolute value) of reflection b*(SCE) is preferably 0.35 or less, more preferably 0.30 or less, further preferably 0.25 or less, especially preferably It is less than 0.20. Additionally, the impact fatigue test may be performed using a drop tester or the like.

본 발명의 광학 필름에 있어서, 두께 50μm에 있어서의 전광선 투과율은, 바람직하게는 80% 이상, 보다 바람직하게는 85% 이상, 더 바람직하게는 90% 이상이다. 전광선 투과율이 상기의 하한 이상이면, 투명성이 양호해져, 화상 표시장치의 전면판에 사용한 경우에, 높은 시인성에 기여할 수 있다. 또 전광선 투과율의 상한은 통상 100% 이하이다. 또한, 전광선 투과율은, JIS K 7361-1:1997에 준거하여 헤이즈 컴퓨터를 이용하여 측정할 수 있으며, 예를 들면 실시예에 기재된 방법에 의해 측정할 수 있다.In the optical film of the present invention, the total light transmittance at a thickness of 50 μm is preferably 80% or more, more preferably 85% or more, and still more preferably 90% or more. If the total light transmittance is more than the above lower limit, transparency becomes good and can contribute to high visibility when used in the front panel of an image display device. Additionally, the upper limit of total light transmittance is usually 100% or less. In addition, the total light transmittance can be measured using a haze computer based on JIS K 7361-1:1997, and can be measured, for example, by the method described in the Examples.

본 발명의 광학 필름의 황색도(YI값)는, 바람직하게는 5 이하, 보다 바람직하게는 3 이하, 더 바람직하게는 2.5 이하이다. 광학 필름의 황색도가 상기의 상한 이하이면, 투명성이 양호해져, 화상 표시장치의 전면판에 사용한 경우에, 높은 시인성에 기여할 수 있다. 또 황색도는 통상 -5 이상이고, 바람직하게는 -2 이상이다. 또한, 황색도(YI값)는 자외 가시 근적외 분광 광도계를 이용하여 300~800nm의 광에 대한 투과율 측정을 행하여, 3자극값(X, Y, Z)을 구하고, YI=100×(1.2769X-1.0592Z)/Y의 식에 근거하여 산출할 수 있다. 황색도는, 예를 들면 실시예에 기재된 방법에 의해 측정할 수 있다.The yellowness (YI value) of the optical film of the present invention is preferably 5 or less, more preferably 3 or less, and still more preferably 2.5 or less. If the yellowness of the optical film is below the above upper limit, transparency becomes good and can contribute to high visibility when used in the front panel of an image display device. Moreover, the yellowness is usually -5 or more, preferably -2 or more. In addition, the yellowness (YI value) is measured by measuring the transmittance for light of 300 to 800 nm using an ultraviolet, visible, and near-infrared spectrophotometer, and the three stimulation values (X, Y, Z) are obtained, and YI = 100 × (1.2769 × It can be calculated based on the formula -1.0592Z)/Y. Yellowness can be measured, for example, by the method described in the Examples.

본 발명의 광학 필름의 헤이즈는, 바람직하게는 1% 이하, 보다 바람직하게는 0.5% 이하, 더 바람직하게는 0.2% 이하이다. 광학 필름의 헤이즈가 상기의 상한 이하이면, 투명성이 양호해져, 화상 표시장치의 전면판에 사용한 경우에, 높은 시인성에 기여할 수 있다. 또 헤이즈의 하한값은 통상 0.01% 이상이다. 또한, 헤이즈는 JIS K 7136:2000에 준거하여 헤이즈 컴퓨터를 이용하여 측정할 수 있으며, 예를 들면 실시예에 기재된 방법에 의해 측정할 수 있다.The haze of the optical film of the present invention is preferably 1% or less, more preferably 0.5% or less, and still more preferably 0.2% or less. If the haze of the optical film is below the above upper limit, transparency becomes good and can contribute to high visibility when used in the front panel of an image display device. Additionally, the lower limit of haze is usually 0.01% or more. Additionally, haze can be measured using a haze computer based on JIS K 7136:2000, and can be measured, for example, by the method described in the Examples.

본 발명의 광학 필름의 막두께는, 바람직하게는 25μm 이상, 보다 바람직하게는 30μm 이상이고, 바람직하게는 100μm 이하, 보다 바람직하게는 80μm 이하, 더 바람직하게는 60μm 이하이며, 이들 상한과 하한의 조합이어도 된다. 광학 필름의 두께가 상기 범위이면, 물체의 반복 충돌 후의 광학 특성의 저하를 억제하기 쉽다. 또한, 광학 필름의 막두께는, 마이크로미터를 이용하여 측정할 수 있으며, 예를 들면 실시예에 기재된 방법에 의해 측정할 수 있다.The film thickness of the optical film of the present invention is preferably 25 μm or more, more preferably 30 μm or more, preferably 100 μm or less, more preferably 80 μm or less, and still more preferably 60 μm or less. It may be a combination. If the thickness of the optical film is within the above range, it is easy to suppress deterioration of optical properties after repeated collisions with objects. In addition, the film thickness of the optical film can be measured using a micrometer, for example, by the method described in the Examples.

<수지><Suzy>

본 발명의 광학 필름은, 폴리이미드계 수지 및 폴리아미드계 수지로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 수지를 포함한다.The optical film of the present invention contains at least one type of resin selected from the group consisting of polyimide-based resin and polyamide-based resin.

폴리이미드계 수지란, 이미드기를 포함하는 반복 구조 단위를 함유하는 중합체와, 이미드기 및 아미드기 양쪽 모두를 포함하는 반복 구조 단위를 함유하는 중합체(폴리아미드이미드라고 부르는 경우가 있다)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 중합체를 나타낸다. 또, 폴리아미드계 수지란, 아미드기를 포함하는 반복 구조 단위를 함유하는 중합체를 나타낸다. 또한, 본 명세서에 있어서, 반복 구조 단위를 구성 단위라고 하는 경우가 있다.Polyimide resin is a group consisting of a polymer containing a repeating structural unit containing an imide group and a polymer containing a repeating structural unit containing both an imide group and an amide group (sometimes called polyamidoimide). It represents at least one type of polymer selected from: In addition, polyamide-based resin refers to a polymer containing a repeating structural unit containing an amide group. In addition, in this specification, a repeating structural unit may be referred to as a structural unit.

폴리이미드계 수지는, 식 (10)으로 나타나는 반복 구조 단위를 갖는 것이 바람직하다. 여기에서, G는 4가의 유기기이며, A는 2가의 유기기이다. 폴리이미드계 수지는, G 및/또는 A가 상이한, 2종류 이상의 식 (10)으로 나타나는 반복 구조 단위를 포함하고 있어도 된다.The polyimide resin preferably has a repeating structural unit represented by formula (10). Here, G is a tetravalent organic group, and A is a divalent organic group. The polyimide resin may contain two or more types of repeating structural units represented by formula (10), where G and/or A are different.

폴리이미드계 수지는, 광학 필름의 각종 물성을 해치지 않는 범위에서, 식 (11), 식 (12) 및 식 (13)으로 나타나는 반복 구조 단위로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1개 이상을 포함하고 있어도 된다.The polyimide resin may contain one or more units selected from the group consisting of repeating structural units represented by Formula (11), Formula (12), and Formula (13), as long as they do not impair the various physical properties of the optical film. .

식 (10) 및 식 (11) 중, G 및 G1은 각각 독립적으로 4가의 유기기이며, 바람직하게는 탄화 수소기 또는 불소 치환된 탄화 수소기로 치환되어 있어도 되는 유기기이다. G 및 G1로서는, 식 (20), 식 (21), 식 (22), 식 (23), 식 (24), 식 (25), 식 (26), 식 (27), 식 (28) 또는 식 (29)로 나타나는 기와, 4가의 탄소수 6 이하의 쇄식 탄화 수소기가 예시된다. 광학 필름의 황색도(YI값)를 억제하기 쉬운 점에서, 그 중에서도, 식 (20), 식 (21), 식 (22), 식 (23), 식 (24), 식 (25), 식 (26) 또는 식 (27)로 나타나는 기가 바람직하다.In formulas (10) and (11), G and G 1 are each independently a tetravalent organic group, and are preferably organic groups that may be substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group. As G and G 1 , Equation (20), Equation (21), Equation (22), Equation (23), Equation (24), Equation (25), Equation (26), Equation (27), Equation (28) Alternatively, a group represented by formula (29) and a tetravalent chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms are examples. Since it is easy to suppress the yellowness (YI value) of the optical film, among them, Equation (20), Equation (21), Equation (22), Equation (23), Equation (24), Equation (25), Equation (26) or a group represented by formula (27) is preferable.

식 (20)~식 (29) 중,In equations (20) to (29),

*는 결합손을 나타내고,* represents the bonding hand,

Z는, 단결합, -O-, -CH2-, -CH2-CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -Ar-, -SO2-, -CO-, -O-Ar-O-, -Ar-O-Ar-, -Ar-CH2-Ar-, -Ar-C(CH3)2-Ar- 또는 -Ar-SO2-Ar-를 나타낸다. Ar은 불소 원자로 치환되어 있어도 되는 탄소수 6~20의 아릴렌기를 나타내고, 구체예로서는 페닐렌기를 들 수 있다.Z is a single bond, -O-, -CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -, -CH(CH 3 )-, -C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, - Ar-, -SO 2 -, -CO-, -O-Ar-O-, -Ar-O-Ar-, -Ar-CH 2 -Ar-, -Ar-C(CH 3 ) 2 -Ar- or -Ar-SO 2 represents -Ar-. Ar represents an arylene group having 6 to 20 carbon atoms which may be substituted with a fluorine atom, and a phenylene group is a specific example.

식 (12) 중, G2는 3가의 유기기이며, 바람직하게는 탄화 수소기 또는 불소 치환된 탄화 수소기로 치환되어 있어도 되는 유기기이다. G2로서는, 식 (20), 식 (21), 식 (22), 식 (23), 식 (24), 식 (25), 식 (26), 식 (27), 식 (28) 또는 식 (29)로 나타나는 기의 결합손 중 어느 1개가 수소 원자로 치환된 기와, 3가의 탄소수 6 이하의 쇄식 탄화 수소기가 예시된다.In formula (12), G 2 is a trivalent organic group, and is preferably an organic group that may be substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group. As G 2 , Equation (20), Equation (21), Equation (22), Equation (23), Equation (24), Equation (25), Equation (26), Equation (27), Equation (28) or Equation Examples include a group in which one of the bonding hands of the group represented by (29) is substituted with a hydrogen atom, and a trivalent chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms.

식 (13) 중, G3은 2가의 유기기이며, 바람직하게는 탄화 수소기 또는 불소 치환된 탄화 수소기로 치환되어 있어도 되는 유기기이다. G3으로서는, 식 (20), 식 (21), 식 (22), 식 (23), 식 (24), 식 (25), 식 (26), 식 (27), 식 (28) 또는 식 (29)로 나타나는 기의 결합손 중, 인접하지 않는 2개가 수소 원자로 치환된 기 및 탄소수 6 이하의 쇄식 탄화 수소기가 예시된다.In formula (13), G 3 is a divalent organic group, and is preferably an organic group that may be substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group. As G 3 , Equation (20), Equation (21), Equation (22), Equation (23), Equation (24), Equation (25), Equation (26), Equation (27), Equation (28) or Equation Among the bonds of the group represented by (29), examples include a group in which two non-adjacent bonds are substituted with hydrogen atoms and a chain hydrocarbon group with 6 or less carbon atoms.

식 (10)~식 (13) 중, A, A1, A2 및 A3은 각각 독립적으로 2가의 유기기이며, 바람직하게는 탄화 수소기 또는 불소 치환된 탄화 수소기로 치환되어 있어도 되는 유기기이다. A, A1, A2 및 A3으로서는, 식 (30), 식 (31), 식 (32), 식 (33), 식 (34), 식 (35), 식 (36), 식 (37) 또는 식 (38)로 나타나는 기; 그것들이 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기로 치환된 기; 그리고 탄소수 6 이하의 쇄식 탄화 수소기가 예시된다.In formulas (10) to (13), A, A 1 , A 2 and A 3 are each independently a divalent organic group, and are preferably organic groups that may be substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group. am. As A, A 1 , A 2 and A 3 , Equation (30), Equation (31), Equation (32), Equation (33), Equation (34), Equation (35), Equation (36), Equation (37) ) or a group represented by formula (38); groups in which they are substituted with a methyl group, fluoro group, chloro group or trifluoromethyl group; And a chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms is exemplified.

식 (30)~식 (38) 중,In equations (30) to (38),

*는 결합손을 나타내고,* represents the bonding hand,

Z1, Z2 및 Z3은 각각 독립적으로 단결합, -O-, -CH2-, -CH2-CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2- 또는 -CO-를 나타낸다.Z 1 , Z 2 and Z 3 are each independently a single bond, -O-, -CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -, -CH(CH 3 )-, -C(CH 3 ) 2 -, - It represents C(CF 3 ) 2 -, -SO 2 - or -CO-.

1개의 예는, Z1 및 Z3이 -O-이며, 또한, Z2가 -CH2-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2- 또는 -SO2-이다. Z1과 Z2의 각 환에 대한 결합 위치, 및 Z2와 Z3의 각 환에 대한 결합 위치는 각각, 각 환에 대해서 바람직하게는 메타 위치 또는 파라 위치이다.One example is where Z 1 and Z 3 are -O- and Z 2 is -CH 2 -, -C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 - or -SO 2 -. The bonding positions for each ring of Z 1 and Z 2 and the bonding positions for each ring of Z 2 and Z 3 are preferably meta or para positions for each ring, respectively.

본 발명의 일 실시형태에 있어서, 폴리이미드계 수지는, 내충격성을 향상시키기 쉬운 관점에서, 식 (10)으로 나타나는 반복 구조 단위와 식 (13)으로 나타나는 반복 구조 단위를 적어도 갖는 폴리아미드이미드인 것이 바람직하다. 또, 폴리아미드계 수지는, 식 (13)으로 나타나는 반복 구조 단위를 적어도 갖는 것이 바람직하다.In one embodiment of the present invention, the polyimide resin is a polyamideimide having at least a repeating structural unit represented by formula (10) and a repeating structural unit represented by formula (13) from the viewpoint of easy improvement of impact resistance. It is desirable. Moreover, it is preferable that the polyamide-based resin has at least a repeating structural unit represented by formula (13).

본 발명의 일 실시형태에 있어서, 수지는, 복수종의 G3을 포함할 수 있고, 복수종의 G3은, 서로 같아도 되고 달라도 된다. 특히, 얻어지는 광학 필름의 표면 경도, 내충격성 및 내굴곡성 향상의 관점에서, G3의 적어도 일부가, 식 (3)In one embodiment of the present invention, the resin may contain multiple types of G 3 , and the multiple types of G 3 may be the same or different from each other. In particular, from the viewpoint of improving the surface hardness, impact resistance, and bending resistance of the obtained optical film, at least a part of G 3 is expressed in equation (3)

[식 (3) 중, R1~R8은 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1~6의 알킬기 또는 탄소수 6~12의 아릴기를 나타내며, R1~R8에 포함되는 수소 원자는 각각 독립적으로 할로겐 원자로 치환되어 있어도 된다.[In formula (3), R 1 to R 8 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group with 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group with 6 to 12 carbon atoms, and the hydrogen atoms contained in R 1 to R 8 each independently represent halogen. It may be substituted with an atom.

B는, 단결합, -O-, -CH2-, -CH2-CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2-, -S-, -CO- 또는 -N(R9)-를 나타내며, R9는 수소 원자, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되는 탄소수 1~12의 탄화 수소기를 나타낸다.B is a single bond, -O-, -CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -, -CH(CH 3 )-, -C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, - It represents SO 2 -, -S-, -CO- or -N(R 9 )-, and R 9 represents a hydrocarbon group of 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a hydrogen atom or a halogen atom.

n은 0~4의 정수이며,n is an integer from 0 to 4,

*는 결합손을 나타낸다]* indicates a combined hand]

로 나타나는 구성 단위인 것이 바람직하다.It is preferable that it is a structural unit expressed as .

식 (3)에 있어서, B는 각각 독립적으로 단결합, -O-, -CH2-, -CH2-CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2-, -S-, -CO- 또는 -N(R9)-를 나타내며, 광학 필름의 내충격성 및 내굴곡성 향상의 관점에서, 바람직하게는 -O- 또는 -S-를 나타내고, 보다 바람직하게는 -O-를 나타낸다. R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7 및 R8은 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1~6의 알킬기 또는 탄소수 6~12의 아릴기를 나타낸다. 탄소수 1~6의 알킬기로서는, 예를 들면 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, 2-메틸-부틸기, 3-메틸부틸기, 2-에틸-프로필기, n-헥실기 등을 들 수 있다. 또, 탄소수 6~12의 아릴기로서는, 예를 들면 페닐기, 톨릴기, 자일릴기, 나프틸기, 비페닐기 등을 들 수 있다. 광학 필름의 표면 경도, 내충격성, 및 유연성의 관점에서, R1~R8은 각각 독립적으로 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1~6의 알킬기를 나타내고, 보다 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1~3의 알킬기를 나타내며, 더 바람직하게는 수소 원자를 나타낸다. 여기에서, R1~R8에 포함되는 수소 원자는 각각 독립적으로 할로겐 원자로 치환되어 있어도 된다.In formula (3), B is each independently a single bond, -O-, -CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -, -CH(CH 3 )-, -C(CH 3 ) 2 -, - C(CF 3 ) 2 -, -SO 2 -, -S-, -CO- or -N(R 9 )-, and from the viewpoint of improving the impact resistance and bending resistance of the optical film, preferably -O- Or -S-, and more preferably -O-. R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 and R 8 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group with 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group with 6 to 12 carbon atoms. Examples of alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms include methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, sec-butyl, tert-butyl, n-pentyl, and 2-methyl-butyl. , 3-methylbutyl group, 2-ethyl-propyl group, n-hexyl group, etc. Moreover, examples of the aryl group having 6 to 12 carbon atoms include phenyl group, tolyl group, xylyl group, naphthyl group, and biphenyl group. From the viewpoint of surface hardness, impact resistance, and flexibility of the optical film, R 1 to R 8 each independently preferably represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and more preferably represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. represents an alkyl group, and more preferably represents a hydrogen atom. Here, the hydrogen atoms contained in R 1 to R 8 may each independently be substituted with a halogen atom.

R9는, 수소 원자, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되는 탄소수 1~12의 탄화 수소기를 나타낸다. 탄소수 1~12의 1가의 탄화 수소기로서는, 예를 들면 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, 2-메틸-부틸기, 3-메틸부틸기, 2-에틸-프로필기, n-헥실기, n-헵틸기, n-옥틸기, tert-옥틸기, n-노닐기, n-데실기 등을 들 수 있고, 이것들은 할로겐 원자로 치환되어 있어도 된다. 상기 할로겐 원자로서는, 불소 원자, 염소 원자, 브로민 원자, 아이오딘 원자 등을 들 수 있다.R 9 represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a hydrogen atom or a halogen atom. Monovalent hydrocarbon groups having 1 to 12 carbon atoms include, for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, 2- Methyl-butyl group, 3-methylbutyl group, 2-ethyl-propyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, tert-octyl group, n-nonyl group, n-decyl group, etc. and these may be substituted with halogen atoms. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.

식 (3)에 있어서, n은, 0~4의 범위의 정수이며, n이 이 범위 내이면, 광학 필름의 내충격성, 내굴곡성 및 탄성률이 양호하다. 또, 식 (3)에 있어서, n은, 바람직하게는 0~3의 범위의 정수, 보다 바람직하게는 0~2의 범위의 정수, 더 바람직하게는 0 또는 1이며, n이 이 범위 내이면, 광학 필름의 내충격성, 내굴곡성 및 탄성률이 양호함과 함께, 원료의 입수성이 비교적 양호하다. 또, G3은, 식 (3)으로 나타나는 구성 단위를 1종 또는 2종류 이상 포함하고 있어도 되고, 광학 필름의 내충격성, 탄성률 및 내굴곡성의 향상과, 황색도(YI값) 저감의 관점에서, 특히 n의 값이 다른 2종류 이상의 구성 단위, 바람직하게는 n의 값이 다른 2종류의 구성 단위를 포함하고 있어도 된다. 그 경우, 광학 필름이 높은 탄성률, 내충격성, 내굴곡성, 및 낮은 황색도(YI값)를 발현하기 쉬운 관점에서, n이 0과 1의 구성 단위를 양쪽 모두 포함하는 것이 바람직하다.In Formula (3), n is an integer in the range of 0 to 4, and when n is within this range, the optical film has good impact resistance, bending resistance, and elastic modulus. Moreover, in formula (3), n is preferably an integer in the range of 0 to 3, more preferably an integer in the range of 0 to 2, and still more preferably 0 or 1. If n is within this range, , the optical film has good impact resistance, bending resistance, and elastic modulus, and the availability of raw materials is relatively good. In addition, G 3 may contain one or two or more types of structural units represented by formula (3), from the viewpoint of improving the impact resistance, elastic modulus and bending resistance of the optical film and reducing the yellowness (YI value). , In particular, it may contain two or more types of structural units with different n values, preferably two types of structural units with different n values. In that case, from the viewpoint that the optical film tends to exhibit high elastic modulus, impact resistance, bending resistance, and low yellowness (YI value), it is preferable that n contains both structural units of 0 and 1.

본 발명의 바람직한 실시형태에 있어서는, 식 (3)은, n=0, R1~R8이 수소 원자인 구성 단위 또는 식 (3'):In a preferred embodiment of the present invention, formula (3) is a structural unit where n=0 and R 1 to R 8 are hydrogen atoms, or formula (3'):

로 나타나는 구성 단위이며, 이것들은 병용할 수도 있다. 이 경우, 광학 필름은, 높은 표면 경도 및 내충격성을 발휘함과 동시에, 높은 내굴곡성을 가질 수 있고, 황색도를 낮게 할 수 있다.It is a structural unit represented by , and these can be used together. In this case, the optical film can exhibit high surface hardness and impact resistance, have high bending resistance, and can have a low yellowness.

본 발명의 바람직한 실시형태에 있어서, 폴리이미드계 수지의 식 (10)으로 나타나는 구성 단위 및 식 (13)으로 나타나는 구성 단위의 합계에 대해서, n이 0~4인 경우의 식 (3)으로 나타나는 구성 단위는, 바람직하게는 20몰% 이상, 보다 바람직하게는 30몰% 이상, 더 바람직하게는 40몰% 이상, 특히 바람직하게는 50몰% 이상, 가장 바람직하게는 60몰% 이상이고, 바람직하게는 90몰% 이하, 보다 바람직하게는 85몰% 이하, 더 바람직하게는 80몰% 이하이다. 폴리이미드계 수지 중의 식 (10)으로 나타나는 구성 단위 및 식 (13)으로 나타나는 구성 단위의 합계에 대해서, n이 0~4인 경우의 식 (3)으로 나타나는 구성 단위가 상기의 하한 이상이면, 광학 필름은 높은 표면 경도 및 내충격성을 발현할 수 있음과 함께, 내굴곡성이나 탄성률이 우수할 수 있다. 폴리이미드계 수지 중의 식 (10)으로 나타나는 구성 단위 및 식 (13)으로 나타나는 구성 단위의 합계에 대해서, n이 0~4인 경우의 식 (3)으로 나타나는 구성 단위가 상기의 상한 이하이면, 식 (3) 유래의 아미드 결합 간 수소결합에 의한 증점을 억제함으로써, 폴리이미드계 수지 바니쉬의 점도를 억제할 수 있어, 광학 필름의 가공을 용이하게 할 수 있다.In a preferred embodiment of the present invention, the sum of the structural units represented by formula (10) and the structural units represented by formula (13) of the polyimide resin is expressed by formula (3) when n is 0 to 4. The structural unit is preferably 20 mol% or more, more preferably 30 mol% or more, further preferably 40 mol% or more, particularly preferably 50 mol% or more, most preferably 60 mol% or more, and is preferred. Preferably it is 90 mol% or less, more preferably 85 mol% or less, and even more preferably 80 mol% or less. Regarding the sum of the structural units expressed by formula (10) and the structural units expressed by formula (13) in the polyimide resin, if the structural unit expressed by formula (3) when n is 0 to 4 is more than the above lower limit, Optical films can exhibit high surface hardness and impact resistance, and can also have excellent bending resistance and elastic modulus. Regarding the sum of the structural units expressed by formula (10) and the structural units expressed by formula (13) in the polyimide resin, if the structural unit expressed by formula (3) when n is 0 to 4 is less than or equal to the upper limit above, By suppressing thickening due to hydrogen bonding between amide bonds derived from formula (3), the viscosity of the polyimide resin varnish can be suppressed, and processing of the optical film can be facilitated.

본 발명의 바람직한 실시형태에 있어서, 폴리이미드계 수지의 식 (10)으로 나타나는 구성 단위 및 식 (13)으로 나타나는 구성 단위의 합계에 대해서, 식 (3)의 n이 1~4로 나타나는 구성 단위는, 바람직하게는 3몰% 이상, 보다 바람직하게는 5몰% 이상, 더 바람직하게는 7몰% 이상, 특히 바람직하게는 9몰% 이상이고, 바람직하게는 90몰% 이하, 보다 바람직하게는 70몰% 이하, 더 바람직하게는 50몰% 이하, 특히 바람직하게는 30몰% 이하이다. 폴리이미드계 수지 중의 식 (10)으로 나타나는 구성 단위 및 식 (13)으로 나타나는 구성 단위의 합계에 대해서, 식 (3)의 n이 1~4로 나타나는 구성 단위가 상기의 하한 이상이면, 광학 필름은 높은 표면 경도 및 내충격성을 발현할 수 있음과 함께, 내굴곡성이 보다 향상된다. 폴리이미드계 수지 중의 식 (10)으로 나타나는 구성 단위 및 식 (13)으로 나타나는 구성 단위의 합계에 대해서, 식 (3)의 n이 1~4로 나타나는 구성 단위가 상기의 상한 이하이면, 식 (3) 유래의 아미드 결합 간 수소결합에 의한 증점을 억제함으로써, 폴리이미드계 수지 바니쉬의 점도를 억제할 수 있어, 광학 필름의 가공을 용이하게 할 수 있다. 또한, 식 (3)으로 나타나는 구성 단위의 함유량은, 예를 들면 1H-NMR을 이용하여 측정할 수 있고, 또는 원료의 도입비로부터 산출할 수도 있다.In a preferred embodiment of the present invention, with respect to the sum of the structural units represented by formula (10) and the structural units represented by formula (13) of the polyimide resin, n in formula (3) is a structural unit represented by 1 to 4. is preferably 3 mol% or more, more preferably 5 mol% or more, further preferably 7 mol% or more, particularly preferably 9 mol% or more, preferably 90 mol% or less, more preferably It is 70 mol% or less, more preferably 50 mol% or less, and particularly preferably 30 mol% or less. With respect to the sum of the structural units represented by formula (10) and the structural units represented by formula (13) in the polyimide resin, if n in formula (3) is greater than the lower limit above, the optical film It can exhibit high surface hardness and impact resistance, and its bending resistance is further improved. Regarding the sum of the structural units represented by formula (10) and the structural units represented by formula (13) in the polyimide resin, if n in formula (3) is the structural unit represented by 1 to 4 or less than the upper limit above, the formula ( 3) By suppressing thickening due to hydrogen bonds between amide bonds, the viscosity of the polyimide resin varnish can be suppressed, making processing of the optical film easier. In addition, the content of the structural unit represented by formula (3) can be measured using, for example, 1 H-NMR, or can also be calculated from the introduction ratio of the raw materials.

본 발명의 바람직한 실시형태에 있어서, 상기 폴리이미드계 수지의 G3의, 바람직하게는 5몰% 이상, 보다 바람직하게는 8몰% 이상, 더 바람직하게는 10몰% 이상, 특히 바람직하게는 12몰% 이상이, n이 1~4인 경우의 식 (3)으로 나타난다. 폴리이미드계 수지의 G3의 상기의 하한 이상이, n이 1~4인 경우의 식 (3)으로 나타나면, 광학 필름은 높은 표면 경도 및 내충격성을 발현함과 동시에, 높은 내굴곡성을 가질 수 있다. 또, 폴리이미드계 수지 중의 G3의, 바람직하게는 90몰% 이하, 보다 바람직하게는 70몰% 이하, 더 바람직하게는 50몰% 이하, 특히 바람직하게는 30몰% 이하가, n이 1~4인 경우의 식 (3)으로 나타나는 것이 바람직하다. 폴리이미드계 수지의 G3의 상기 상한 이하가, n이 1~4인 경우의 식 (3)으로 나타나면, 식 (3) 유래의 아미드 결합 간 수소결합에 의한 증점을 억제함으로써, 수지 바니쉬의 점도를 억제할 수 있어, 광학 필름의 가공을 용이하게 할 수 있다.In a preferred embodiment of the present invention, the G 3 of the polyimide resin is preferably 5 mol% or more, more preferably 8 mol% or more, further preferably 10 mol% or more, particularly preferably 12 mol% or more. Mol% or more is expressed in equation (3) when n is 1 to 4. If G 3 of the polyimide resin is more than the above lower limit, expressed by equation (3) when n is 1 to 4, the optical film can exhibit high surface hardness and impact resistance, and have high bending resistance. there is. Moreover, G 3 in the polyimide resin is preferably 90 mol% or less, more preferably 70 mol% or less, further preferably 50 mol% or less, especially preferably 30 mol% or less, and n is 1. It is preferable to express it as equation (3) in the case of ~4. If the above upper limit or less of G 3 of the polyimide resin is expressed by equation (3) when n is 1 to 4, the viscosity of the resin varnish is increased by suppressing thickening due to hydrogen bonding between amide bonds derived from equation (3). can be suppressed, making processing of the optical film easy.

본 발명의 바람직한 실시형태에 있어서, 상기 폴리이미드계 수지 중의 G3의, 바람직하게는 30몰% 이상, 보다 바람직하게는 50몰% 이상, 특히 바람직하게는 70몰% 이상이, n이 0~4인 경우의 식 (3)으로 나타난다. 폴리이미드계 수지의 G3의 상기의 하한값 이상이, n이 0~4인 경우의 식 (3)으로 나타나면, 광학 필름은 높은 표면 경도 및 내충격성을 발현함과 동시에, 높은 내굴곡성을 가질 수 있다. 또, 폴리이미드계 수지 중의 G3의, 바람직하게는 100몰% 이하가, n이 0~4인 경우의 식 (3)으로 나타나는 것이 바람직하다. 폴리이미드계 수지의 G3의 상기의 상한값 이하가, n이 0~4인 경우의 식 (3)으로 나타나면, 식 (3) 유래의 아미드 결합 간 수소결합에 의한 증점을 억제함으로써, 수지 바니쉬의 점도를 억제할 수 있어, 광학 필름의 가공을 용이하게 할 수 있다. 또한, 폴리이미드계 수지 중의, 식 (3)으로 나타나는 구성 단위의 비율은, 예를 들면 1H-NMR을 이용하여 측정할 수 있고, 또는 원료의 도입비로부터 산출할 수도 있다.In a preferred embodiment of the present invention, G 3 in the polyimide resin is preferably 30 mol% or more, more preferably 50 mol% or more, particularly preferably 70 mol% or more, and n is 0 to 70 mol%. In the case of 4, it is expressed as equation (3). If the above lower limit of G 3 of the polyimide resin or more is expressed by equation (3) when n is 0 to 4, the optical film can exhibit high surface hardness and impact resistance, and at the same time have high bending resistance. there is. Moreover, it is preferable that G 3 in the polyimide resin, preferably 100 mol% or less, is represented by formula (3) when n is 0 to 4. If G 3 of the polyimide resin is below the above upper limit, expressed by equation (3) when n is 0 to 4, thickening due to hydrogen bonding between amide bonds derived from equation (3) is suppressed, and the resin varnish Viscosity can be suppressed, making processing of the optical film easy. In addition, the ratio of the structural unit represented by formula (3) in the polyimide resin can be measured using, for example, 1 H-NMR, or can also be calculated from the introduction ratio of the raw materials.

본 발명의 바람직한 실시형태에 있어서, 식 (10) 및 식 (13) 중의 복수의 A 및 A3의 적어도 일부는, 식 (4):In a preferred embodiment of the present invention, at least a portion of the plurality of A and A 3 in formulas (10) and (13) is expressed in formula (4):

[식 (4) 중, R10~R17은 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1~6의 알킬기 또는 탄소수 6~12의 아릴기를 나타내며, R10~R17에 포함되는 수소 원자는 각각 독립적으로 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되고, *는 결합손을 나타낸다][In formula (4), R 10 to R 17 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group with 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group with 6 to 12 carbon atoms, and the hydrogen atoms contained in R 10 to R 17 each independently represent a halogen. It may be substituted with an atom, * indicates a bond]

로 나타나는 구성 단위이다. 식 (10) 및 (13) 중의 복수의 A 및 A3의 적어도 일부가 식 (4)로 나타나는 기이면, 광학 필름은, 높은 표면 경도 및 내충격성을 발현할 수 있음과 동시에, 높은 투명성을 가질 수 있다.It is a structural unit represented by . If at least a portion of A and A 3 in formulas (10) and (13) is a group represented by formula (4), the optical film can exhibit high surface hardness and impact resistance, and has high transparency. You can.

식 (4)에 있어서, R10, R11, R12, R13, R14, R15, R16 및 R17은 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1~6의 알킬기 또는 탄소수 6~12의 아릴기를 나타낸다. 탄소수 1~6의 알킬기 또는 탄소수 6~12의 아릴기로서는, 식 (3)에 있어서의 탄소수 1~6의 알킬기 또는 탄소수 6~12의 아릴기로서 예시된 것을 들 수 있다. R10~R17은 각각 독립적으로 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1~6의 알킬기를 나타내고, 보다 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1~3의 알킬기를 나타내며, 여기에서, R10~R17에 포함되는 수소 원자는 각각 독립적으로 할로겐 원자로 치환되어 있어도 된다. 할로겐 원자로서는, 예를 들면 불소 원자, 염소 원자, 브로민 원자, 아이오딘 원자를 들 수 있다. R10~R17은 각각 독립적으로 광학 필름의 표면 경도, 내충격성, 투명성 및 내굴곡성의 관점에서, 더 바람직하게는 수소 원자, 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기이며, 특히 바람직하게는 R10, R12, R13, R14, R15 및 R16이 수소 원자, R11 및 R17이 수소 원자, 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기이며, 특히 R11 및 R17이 메틸기 또는 트리플루오로메틸기인 것이 바람직하다.In formula (4), R 10 , R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 , R 16 and R 17 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group with 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group with 6 to 12 carbon atoms. It represents energy. Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or the aryl group having 6 to 12 carbon atoms include those exemplified as the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or the aryl group having 6 to 12 carbon atoms in Formula (3). R 10 to R 17 each independently preferably represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and more preferably represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, wherein R 10 to R 17 are included. Each hydrogen atom may be independently substituted with a halogen atom. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. R 10 to R 17 are each independently independently a hydrogen atom, a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group, from the viewpoint of the surface hardness, impact resistance, transparency and bending resistance of the optical film, and are particularly preferred. Specifically, R 10 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 and R 16 are hydrogen atoms, R 11 and R 17 are hydrogen atoms, methyl groups, fluoro groups, chloro groups or trifluoromethyl groups, especially R 11 and R 17 is preferably a methyl group or a trifluoromethyl group.

본 발명의 바람직한 실시형태에 있어서는, 식 (4)로 나타나는 구성 단위는 식 (4'):In a preferred embodiment of the present invention, the structural unit represented by formula (4) is expressed by formula (4'):

로 나타나는 구성 단위이며, 즉, 복수의 A 및 A3의 적어도 일부는, 식 (4')로 나타나는 구성 단위이다. 이 경우, 광학 필름은, 높은 투명성을 발현함과 동시에, 불소 원소를 함유하는 골격에 의해 당해 수지의 용매에의 용해성을 향상시키고, 수지 바니쉬의 점도를 낮게 억제할 수 있으며, 광학 필름의 가공을 용이하게 할 수 있다.It is a structural unit represented by , that is, at least a part of a plurality of A and A 3 is a structural unit represented by formula (4'). In this case, the optical film exhibits high transparency, and at the same time, the solubility of the resin in the solvent is improved by the skeleton containing the fluorine element, the viscosity of the resin varnish can be suppressed low, and the optical film can be processed. It can be done easily.

본 발명의 바람직한 실시형태에 있어서, 상기 수지 중의 A 및 A3의, 바람직하게는 30몰% 이상, 보다 바람직하게는 50몰% 이상, 더 바람직하게는 70몰% 이상이 식 (4), 특히 식 (4')로 나타난다. 상기 수지에 있어서의 상기 범위 내의 A 및 A3이 식 (4), 특히 식 (4')로 나타나면, 광학 필름은, 높은 투명성을 발현함과 동시에, 불소 원소를 함유하는 골격에 의해 당해 수지의 용매에의 용해성을 향상시키고, 수지 바니쉬의 점도를 낮게 억제할 수 있으며, 또 광학 필름의 가공을 용이하게 할 수 있다. 또한, 바람직하게는, 상기 수지 중의 A 및 A3의 100몰% 이하가 식 (4), 특히 식 (4')로 나타난다. 상기 수지 중의 A 및 A3은 식 (4), 특히 식 (4')여도 된다. 상기 수지 중의 A 및 A3의 식 (4)로 나타나는 구성 단위의 비율은, 예를 들면 1H-NMR을 이용하여 측정할 수 있고, 또는 원료의 도입비로부터 산출할 수도 있다.In a preferred embodiment of the present invention, preferably 30 mol% or more, more preferably 50 mol% or more, and still more preferably 70 mol% or more of A and A 3 in the resin are represented by formula (4), especially It appears as equation (4'). When A and A 3 within the above range in the resin are expressed by formula (4), especially formula (4'), the optical film exhibits high transparency and at the same time, the resin has a skeleton containing a fluorine element. The solubility in the solvent can be improved, the viscosity of the resin varnish can be suppressed low, and the processing of the optical film can be facilitated. Also, preferably, 100 mol% or less of A and A 3 in the resin is represented by formula (4), especially formula (4'). A and A 3 in the above resin may be of formula (4), especially formula (4'). The ratio of the structural units represented by the formula (4) of A and A 3 in the resin can be measured, for example, using 1 H-NMR, or calculated from the introduction ratio of the raw materials.

본 발명의 바람직한 실시형태에 있어서, 식 (10) 중의 복수의 G의 적어도 일부는, 식 (5):In a preferred embodiment of the present invention, at least a portion of the plurality of Gs in formula (10) is expressed in formula (5):

[식 (5) 중, R18~R25는 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1~6의 알킬기 또는 탄소수 6~12의 아릴기를 나타내며, R18~R25에 포함되는 수소 원자는 각각 독립적으로 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되고, *는 결합손을 나타낸다][In formula (5), R 18 to R 25 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group with 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group with 6 to 12 carbon atoms, and the hydrogen atoms contained in R 18 to R 25 each independently represent a halogen. It may be substituted with an atom, * indicates a bond]

로 나타나는 구성 단위이다. 식 (10) 중의 복수의 G의 적어도 일부가 식 (5)로 나타나는 기이면, 광학 필름은, 높은 투명성을 발현함과 동시에, 폴리이미드계 수지의 용매에의 용해성을 향상시키고, 수지 바니쉬의 점도를 낮게 억제할 수 있으며, 또 광학 필름의 가공을 용이하게 할 수 있다.It is a structural unit represented by . When at least part of the plurality of Gs in the formula (10) is a group represented by the formula (5), the optical film exhibits high transparency, improves the solubility of the polyimide resin in the solvent, and reduces the viscosity of the resin varnish. can be suppressed to a low level, and processing of the optical film can be facilitated.

식 (5)에 있어서, R18, R19, R20, R21, R22, R23, R24 및 R25는 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소수 1~6의 알킬기 또는 탄소수 6~12의 아릴기를 나타낸다. 탄소수 1~6의 알킬기 또는 탄소수 6~12의 아릴기로서는, 식 (3)에 있어서의 탄소수 1~6의 알킬기 또는 탄소수 6~12의 아릴기로서 예시된 것을 들 수 있다. R18~R25는 각각 독립적으로 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1~6의 알킬기를 나타내고, 보다 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1~3의 알킬기를 나타내며, 여기에서, R18~R25에 포함되는 수소 원자는 각각 독립적으로 할로겐 원자로 치환되어 있어도 된다. 할로겐 원자로서는, 불소 원자, 염소 원자, 브로민 원자, 아이오딘 원자를 들 수 있다. R18~R25는 각각 독립적으로 광학 필름의 표면 경도, 내굴곡성, 및 투명성을 향상시키기 쉬운 관점에서, 더 바람직하게는 수소 원자, 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기이고, 보다 더 바람직하게는 R18, R19, R20, R23, R24 및 R25가 수소 원자, R21 및 R22가 수소 원자, 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기이며, 특히 R21 및 R22가 메틸기 또는 트리플루오로메틸기인 것이 바람직하다.In formula (5), R 18 , R 19 , R 20 , R 21 , R 22 , R 23 , R 24 and R 25 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group with 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group with 6 to 12 carbon atoms. It represents energy. Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or the aryl group having 6 to 12 carbon atoms include those exemplified as the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or the aryl group having 6 to 12 carbon atoms in Formula (3). R 18 to R 25 each independently preferably represent a hydrogen atom or an alkyl group with 1 to 6 carbon atoms, and more preferably represent a hydrogen atom or an alkyl group with 1 to 3 carbon atoms, wherein R 18 to R 25 are included. Each hydrogen atom may be independently substituted with a halogen atom. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. R 18 to R 25 each independently are more preferably a hydrogen atom, a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group, from the viewpoint of easily improving the surface hardness, bending resistance and transparency of the optical film. More preferably, R 18 , R 19 , R 20 , R 23 , R 24 and R 25 are hydrogen atoms, and R 21 and R 22 are hydrogen atoms, methyl groups, fluoro groups, chloro groups or trifluoromethyl groups, especially R 21 and R 22 are preferably methyl or trifluoromethyl.

본 발명의 바람직한 실시형태에 있어서는, 식 (5)로 나타나는 구성 단위는, 식 (5'):In a preferred embodiment of the present invention, the structural unit represented by formula (5) is expressed by formula (5'):

로 나타나는 구성 단위이며, 즉, 복수의 G의 적어도 일부는, 식 (5')로 나타나는 구성 단위이다. 이 경우, 광학 필름은 높은 투명성을 가질 수 있다.It is a structural unit represented by , that is, at least a part of the plurality of Gs is a structural unit represented by formula (5'). In this case, the optical film can have high transparency.

본 발명의 바람직한 실시형태에 있어서, 상기 폴리이미드계 수지 중의 G의, 바람직하게는 50몰% 이상, 보다 바람직하게는 60몰% 이상, 더 바람직하게는 70몰% 이상이 식 (5), 특히 식 (5')로 나타난다. 상기 폴리이미드계 수지에 있어서의 상기 범위 내의 G가 식 (5), 특히 식 (5')로 나타나면, 광학 필름은 높은 투명성을 가질 수 있고, 추가로 불소 원소를 함유하는 골격에 의해 당해 폴리이미드계 수지의 용매에의 용해성을 향상시키고, 수지 바니쉬의 점도를 낮게 억제할 수 있으며, 또 광학 필름의 제조가 용이하다. 또한, 바람직하게는, 상기 폴리이미드계 수지 중의 G의 100몰% 이하가 식 (5), 특히 식 (5')로 나타난다. 상기 폴리이미드계 수지 중의 G는 식 (5), 특히 식 (5')여도 된다. 상기 폴리이미드계 수지 중의 G의 식 (5)로 나타나는 구성 단위의 비율은, 예를 들면 1H-NMR을 이용하여 측정할 수 있고, 또는 원료의 도입비로부터 산출할 수도 있다.In a preferred embodiment of the present invention, G in the polyimide resin is preferably 50 mol% or more, more preferably 60 mol% or more, and still more preferably 70 mol% or more according to formula (5), especially It appears as equation (5'). When G within the above range in the polyimide-based resin is expressed by formula (5), especially formula (5'), the optical film can have high transparency, and the polyimide can further be formed by a skeleton containing a fluorine element. The solubility of the system resin in a solvent can be improved, the viscosity of the resin varnish can be suppressed low, and the production of an optical film is easy. Also, preferably, 100 mol% or less of G in the polyimide resin is represented by formula (5), especially formula (5'). G in the polyimide resin may be of the formula (5), particularly of the formula (5'). The ratio of the structural unit represented by the formula (5) of G in the polyimide resin can be measured using, for example, 1 H-NMR, or can be calculated from the introduction ratio of the raw materials.

본 발명의 일 실시형태에 있어서, 폴리이미드계 수지는, 디아민 및 테트라카르복실산 화합물(산 클로라이드 화합물, 테트라카르복실산 이무수물 등의 테트라카르복실산 화합물 유연체(類緣體))과, 필요에 따라, 디카르복실산 화합물(산 클로라이드 화합물 등의 디카르복실산 화합물 유연체), 트리카르복실산 화합물(산 클로라이드 화합물, 트리카르복실산 무수물 등의 트리카르복실산 화합물 유연체) 등을 반응(중축합)시켜 얻어지는 축합형 고분자이다. 식 (10) 또는 식 (11)로 나타나는 반복 구조 단위는, 통상, 디아민 및 테트라카르복실산 화합물로부터 유도된다. 식 (12)로 나타나는 반복 구조 단위는, 통상, 디아민 및 트리카르복실산 화합물로부터 유도된다. 식 (13)으로 나타나는 반복 구조 단위는, 통상, 디아민 및 디카르복실산 화합물로부터 유도된다.In one embodiment of the present invention, the polyimide resin includes diamine and tetracarboxylic acid compounds (tetracarboxylic acid compound analogs such as acid chloride compounds and tetracarboxylic dianhydride), If necessary, dicarboxylic acid compounds (dicarboxylic acid compound analogs such as acid chloride compounds), tricarboxylic acid compounds (tricarboxylic acid compound analogs such as acid chloride compounds and tricarboxylic acid anhydride), etc. It is a condensation type polymer obtained by reacting (polycondensation) with . The repeating structural unit represented by formula (10) or formula (11) is usually derived from diamine and tetracarboxylic acid compounds. The repeating structural unit represented by formula (12) is usually derived from diamine and tricarboxylic acid compounds. The repeating structural unit represented by formula (13) is usually derived from diamine and dicarboxylic acid compounds.

본 발명의 일 실시형태에 있어서, 폴리아미드계 수지는, 디아민과 디카르복실산 화합물을 반응(중축합)시켜 얻어지는 축합형 고분자이다. 즉, 식 (13)으로 나타나는 반복 구조 단위는, 통상, 디아민 및 디카르복실산 화합물로부터 유도된다.In one embodiment of the present invention, the polyamide-based resin is a condensation type polymer obtained by reacting (polycondensation) a diamine and a dicarboxylic acid compound. That is, the repeating structural unit represented by formula (13) is usually derived from diamine and dicarboxylic acid compounds.

테트라카르복실산 화합물로서는, 방향족 테트라카르복실산 이무수물 등의 방향족 테트라카르복실산 화합물; 및 지방족 테트라카르복실산 이무수물 등의 지방족 테트라카르복실산 화합물을 들 수 있다. 테트라카르복실산 화합물은, 단독으로 이용해도 되고, 2종 이상을 병용해도 된다. 테트라카르복실산 화합물은, 이무수물 이외에, 산 클로라이드 화합물 등의 테트라카르복실산 화합물 유연체여도 된다.Examples of the tetracarboxylic acid compound include aromatic tetracarboxylic acid compounds such as aromatic tetracarboxylic dianhydride; and aliphatic tetracarboxylic acid compounds such as aliphatic tetracarboxylic dianhydride. The tetracarboxylic acid compound may be used individually, or two or more types may be used together. The tetracarboxylic acid compound may be a tetracarboxylic acid compound analog such as an acid chloride compound in addition to a dianhydride.

방향족 테트라카르복실산 이무수물의 구체예로서는, 4,4'-옥시디프탈산 이무수물, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르복실산 이무수물, 2,2',3,3'-벤조페논테트라카르복실산 이무수물, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르복실산 이무수물(BPDA라고 표기하는 경우도 있다), 2,2',3,3'-비페닐테트라카르복실산 이무수물, 3,3',4,4'-디페닐설폰테트라카르복실산 이무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)프로판 이무수물, 2,2-비스(2,3-디카르복시페닐)프로판 이무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페녹시페닐)프로판 이무수물, 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 이무수물(6FDA), 1,2-비스(2,3-디카르복시페닐)에탄 이무수물, 1,1-비스(2,3-디카르복시페닐)에탄 이무수물, 1,2-비스(3,4-디카르복시페닐)에탄 이무수물, 1,1-비스(3,4-디카르복시페닐)에탄 이무수물, 비스(3,4-디카르복시페닐)메탄 이무수물, 비스(2,3-디카르복시페닐)메탄 이무수물 및 4,4'-(p-페닐렌디옥시)디프탈산 이무수물 및 4,4'-(m-페닐렌디옥시)디프탈산 이무수물(6FDA)을 들 수 있다. 이것들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합해서 이용할 수 있다.Specific examples of aromatic tetracarboxylic dianhydride include 4,4'-oxydiphthalic dianhydride, 3,3',4,4'-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 2,2',3,3'- Benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (sometimes written as BPDA), 2,2',3,3'-biphenyltetra Carboxylic dianhydride, 3,3',4,4'-diphenylsulfone tetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)propane dianhydride, 2,2-bis( 2,3-dicarboxyphenyl)propane dianhydride, 2,2-bis(3,4-dicarboxyphenoxyphenyl)propane dianhydride, 4,4'-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic dianhydride ( 6FDA), 1,2-bis(2,3-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, 1,1-bis(2,3-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, 1,2-bis(3,4-di) Carboxyphenyl)ethane dianhydride, 1,1-bis(3,4-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, bis(3,4-dicarboxyphenyl)methane dianhydride, bis(2,3-dicarboxyphenyl)methane dianhydride, 4,4'-(p-phenylenedioxy)diphthalic dianhydride, and 4,4'-(m-phenylenedioxy)diphthalic dianhydride (6FDA). These can be used individually or in combination of two or more types.

지방족 테트라카르복실산 이무수물로서는, 환식 또는 비환식의 지방족 테트라카르복실산 이무수물을 들 수 있다. 환식 지방족 테트라카르복실산 이무수물이란, 지환식 탄화 수소 구조를 갖는 테트라카르복실산 이무수물이며, 그 구체예로서는, 1,2,4,5-시클로헥산테트라카르복실산 이무수물, 1,2,3,4-시클로부탄테트라카르복실산 이무수물, 1,2,3,4-시클로펜탄테트라카르복실산 이무수물 등의 시클로알칸테트라카르복실산 이무수물, 비시클로[2.2.2]옥트-7-엔-2,3,5,6-테트라카르복실산 이무수물, 디시클로헥실-3,3'-4,4'-테트라카르복실산 이무수물 및 이것들의 위치 이성체를 들 수 있다. 이것들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합해서 이용할 수 있다. 비환식 지방족 테트라카르복실산 이무수물의 구체예로서는, 1,2,3,4-부탄테트라카르복실산 이무수물, 1,2,3,4-펜탄테트라카르복실산 이무수물 등을 들 수 있고, 이것들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합해서 이용할 수 있다. 또, 환식 지방족 테트라카르복실산 이무수물 및 비환식 지방족 테트라카르복실산 이무수물을 조합해서 이용해도 된다.Examples of aliphatic tetracarboxylic dianhydride include cyclic or acyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride. Cyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride is tetracarboxylic dianhydride having an alicyclic hydrocarbon structure, and specific examples thereof include 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride, 1,2, Cycloalkane tetracarboxylic dianhydrides such as 3,4-cyclobutane tetracarboxylic dianhydride and 1,2,3,4-cyclopentane tetracarboxylic dianhydride, bicyclo[2.2.2]oct-7 -N-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, dicyclohexyl-3,3'-4,4'-tetracarboxylic dianhydride, and positional isomers thereof. These can be used individually or in combination of two or more types. Specific examples of acyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride include 1,2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-pentanetetracarboxylic dianhydride, and these Can be used alone or in combination of two or more types. Additionally, cyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride and acyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride may be used in combination.

상기 테트라카르복실산 이무수물 중에서도, 고투명성 및 저착색성의 관점에서, 1,2,4,5-시클로헥산테트라카르복실산 이무수물, 비시클로[2.2.2]옥트-7-엔-2,3,5,6-테트라카르복실산 이무수물 및 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 이무수물, 그리고 이것들의 혼합물이 바람직하다. 또, 테트라카르복실산으로서, 상기 테트라카르복실산 화합물의 무수물의 수부가체(水付加體)를 이용해도 된다.Among the tetracarboxylic dianhydrides, from the viewpoint of high transparency and low discoloration, 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride, bicyclo[2.2.2]oct-7-en-2, 3,5,6-tetracarboxylic dianhydride and 4,4'-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic dianhydride, and mixtures thereof are preferred. Moreover, as tetracarboxylic acid, you may use the water adduct of the anhydride of the said tetracarboxylic acid compound.

트리카르복실산 화합물로서는, 방향족 트리카르복실산, 지방족 트리카르복실산 및 그것들의 유연의 산 클로라이드 화합물, 산무수물 등을 들 수 있으며, 2종 이상을 병용해도 된다. 구체예로서는, 1,2,4-벤젠트리카르복실산의 무수물; 2,3,6-나프탈렌트리카르복실산-2,3-무수물; 프탈산 무수물과 벤조산이 단결합, -CH2-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2- 또는 페닐렌기로 연결된 화합물을 들 수 있다.Examples of the tricarboxylic acid compound include aromatic tricarboxylic acid, aliphatic tricarboxylic acid, and their related acid chloride compounds and acid anhydrides. Two or more types may be used in combination. Specific examples include anhydride of 1,2,4-benzenetricarboxylic acid; 2,3,6-naphthalenetricarboxylic acid-2,3-anhydride; Examples include compounds in which phthalic anhydride and benzoic acid are linked by a single bond, -CH 2 -, -C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, -SO 2 -, or a phenylene group.

디카르복실산 화합물로서는, 방향족 디카르복실산, 지방족 디카르복실산 및 그것들의 유연의 산 클로라이드 화합물, 산무수물 등을 들 수 있고, 그것들을 2종 이상 병용해도 된다. 그것들의 구체예로서는, 테레프탈산 디클로라이드; 이소프탈산 디클로라이드; 나프탈렌디카르복실산 클로라이드; 4,4'-비페닐디카르복실산 클로라이드; 3,3'-비페닐디카르복실산 클로라이드; 4,4'-옥시비스(벤조일클로라이드)(OBBC); 탄소수 8 이하의 쇄식 탄화 수소의 디카르복실산 화합물 및 2개의 벤조산이 단결합, -CH2-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2- 또는 페닐렌기로 연결된 화합물을 들 수 있다. 이들 디카르복실산 화합물 중에서도, 테레프탈로일클로라이드 및 4,4'-옥시비스(벤조일클로라이드)가 보다 바람직하다. 이들 디카르복실산은 단독 또는 2종 이상 조합해서 사용할 수 있다.Examples of the dicarboxylic acid compound include aromatic dicarboxylic acid, aliphatic dicarboxylic acid, and their related acid chloride compounds and acid anhydrides, and two or more types thereof may be used in combination. Specific examples thereof include terephthalic acid dichloride; isophthalic acid dichloride; naphthalenedicarboxylic acid chloride; 4,4'-biphenyldicarboxylic acid chloride; 3,3'-biphenyldicarboxylic acid chloride; 4,4'-oxybis(benzoylchloride) (OBBC); A dicarboxylic acid compound of a chain hydrocarbon having 8 or less carbon atoms and two benzoic acids bonded together, -CH 2 -, -C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, -SO 2 -, or phenyl Examples include compounds linked to a ren group. Among these dicarboxylic acid compounds, terephthaloyl chloride and 4,4'-oxybis(benzoyl chloride) are more preferable. These dicarboxylic acids can be used individually or in combination of two or more types.

디아민으로서는, 예를 들면, 지방족 디아민, 방향족 디아민 또는 이것들의 혼합물을 들 수 있다. 또한, 본 실시형태에 있어서 「방향족 디아민」이란, 아미노기가 방향환에 직접 결합하고 있는 디아민을 나타내고, 그 구조의 일부에 지방족기 또는 기타 치환기를 포함하고 있어도 된다. 방향환은 단환이어도 되고 축합환이어도 되며, 벤젠환, 나프탈렌환, 안트라센환 및 플루오렌환 등이 예시되지만, 이것들로 한정되는 것은 아니다. 이것들 중에서도, 방향환이 벤젠환인 것이 바람직하다. 또 「지방족 디아민」이란, 아미노기가 지방족기에 직접 결합하고 있는 디아민을 나타내고, 그 구조의 일부에 방향환이나 기타 치환기를 포함하고 있어도 된다.Examples of diamine include aliphatic diamine, aromatic diamine, and mixtures thereof. In addition, in this embodiment, “aromatic diamine” refers to a diamine in which an amino group is directly bonded to an aromatic ring, and a part of its structure may contain an aliphatic group or other substituent. The aromatic ring may be a single ring or a condensed ring, and examples include, but are not limited to, a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring, and a fluorene ring. Among these, it is preferable that the aromatic ring is a benzene ring. Additionally, “aliphatic diamine” refers to a diamine in which an amino group is directly bonded to an aliphatic group, and a part of its structure may contain an aromatic ring or other substituents.

지방족 디아민으로서는, 예를 들면, 헥사메틸렌디아민 등의 비환식 지방족 디아민 및 1,3-비스(아미노메틸)시클로헥산, 1,4-비스(아미노메틸)시클로헥산, 노르보난디아민, 4,4'-디아미노디시클로헥실메탄 등의 환식 지방족 디아민 등을 들 수 있다. 이것들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합해서 이용할 수 있다.Examples of aliphatic diamine include acyclic aliphatic diamine such as hexamethylenediamine, 1,3-bis(aminomethyl)cyclohexane, 1,4-bis(aminomethyl)cyclohexane, norbornanediamine, 4,4' -Cyclic aliphatic diamines such as diaminodicyclohexylmethane, etc. can be mentioned. These can be used individually or in combination of two or more types.

방향족 디아민으로서는, 예를 들면, p-페닐렌디아민, m-페닐렌디아민, 2,4-톨루엔디아민, m-자일릴렌디아민, p-자일릴렌디아민, 1,5-디아미노나프탈렌, 2,6-디아미노나프탈렌 등의, 방향환을 1개 갖는 방향족 디아민; 4,4'-디아미노디페닐메탄, 4,4'-디아미노디페닐프로판, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 3,4'-디아미노디페닐에테르, 3,3'-디아미노디페닐에테르, 4,4'-디아미노디페닐설폰, 3,4'-디아미노디페닐설폰, 3,3'-디아미노디페닐설폰, 1,4-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕설폰, 비스〔4-(3-아미노페녹시)페닐〕설폰, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2-비스[4-(3-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2'-디메틸벤지딘, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘(2,2'-비스(트리플루오로메틸)-4,4'-디아미노디페닐(TFMB)), 4,4'-비스(4-아미노페녹시)비페닐, 9,9-비스(4-아미노페닐)플루오렌, 9,9-비스(4-아미노-3-메틸페닐)플루오렌, 9,9-비스(4-아미노-3-클로로페닐)플루오렌, 9,9-비스(4-아미노-3-플루오로페닐)플루오렌 등의, 방향환을 2개 이상 갖는 방향족 디아민을 들 수 있다. 이것들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합해서 이용할 수 있다.As aromatic diamine, for example, p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, 2,4-toluenediamine, m-xylylenediamine, p-xylylenediamine, 1,5-diaminonaphthalene, 2,6 -Aromatic diamines having one aromatic ring, such as diaminonaphthalene; 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-dia Minodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3'-diaminodiphenylsulfone, 1,4-bis(4-aminophenoxy) Benzene, 1,3-bis(4-aminophenoxy)benzene, bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]sulfone, bis[4-(3-aminophenoxy)phenyl]sulfone, 2,2- Bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane, 2,2-bis[4-(3-aminophenoxy)phenyl]propane, 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis(tri) Fluoromethyl)benzidine (2,2'-bis(trifluoromethyl)-4,4'-diaminodiphenyl (TFMB)), 4,4'-bis(4-aminophenoxy)biphenyl, 9 ,9-bis(4-aminophenyl)fluorene, 9,9-bis(4-amino-3-methylphenyl)fluorene, 9,9-bis(4-amino-3-chlorophenyl)fluorene, 9, Aromatic diamines having two or more aromatic rings, such as 9-bis(4-amino-3-fluorophenyl)fluorene, can be mentioned. These can be used individually or in combination of two or more types.

상기 디아민 중에서도, 고투명성 및 저착색성의 관점에서는, 비페닐 구조를 갖는 방향족 디아민으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 이용하는 것이 바람직하다. 2,2'-디메틸벤지딘, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘, 4,4'-비스(4-아미노페녹시)비페닐 및 4,4'-디아미노디페닐에테르로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 이용하는 것이 더 바람직하고, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘을 이용하는 것이 보다 더 바람직하다.Among the above diamines, from the viewpoint of high transparency and low discoloration, it is preferable to use at least one type selected from the group consisting of aromatic diamines having a biphenyl structure. Consisting of 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis(trifluoromethyl)benzidine, 4,4'-bis(4-aminophenoxy)biphenyl, and 4,4'-diaminodiphenyl ether. It is more preferable to use one or more types selected from the group, and it is even more preferable to use 2,2'-bis(trifluoromethyl)benzidine.

폴리이미드계 수지는, 상기 디아민, 테트라카르복실산 화합물, 트리카르복실산 화합물, 디카르복실산 화합물 등의 각 원료를 관용의 방법, 예를 들면, 교반 등의 방법에 의해 혼합한 후, 얻어진 중간체를 이미드화 촉매 및 필요에 따라 탈수제의 존재하에서, 이미드화하는 것에 의해 얻을 수 있다. 폴리아미드계 수지는, 상기 디아민, 디카르복실산 화합물 등의 각 원료를 관용의 방법, 예를 들면, 교반 등의 방법에 의해 혼합함으로써 얻을 수 있다.The polyimide resin is obtained by mixing each raw material such as the diamine, tetracarboxylic acid compound, tricarboxylic acid compound, and dicarboxylic acid compound by a conventional method, for example, stirring. The intermediate can be obtained by imidizing the intermediate in the presence of an imidization catalyst and, if necessary, a dehydrating agent. Polyamide-based resin can be obtained by mixing each raw material such as the diamine and dicarboxylic acid compound using a conventional method, for example, stirring.

이미드화 공정에서 사용되는 이미드화 촉매로서는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 트리프로필아민, 디부틸프로필아민, 에틸디부틸아민 등의 지방족 아민; N-에틸피페리딘, N-프로필피페리딘, N-부틸피롤리딘, N-부틸피페리딘, 및 N-프로필헥사히드로아제핀 등의 지환식 아민(단환식); 아자비시클로[2.2.1]헵탄, 아자비시클로[3.2.1]옥탄, 아자비시클로[2.2.2]옥탄, 및 아자비시클로[3.2.2]노난 등의 지환식 아민(다환식); 그리고 2-메틸피리딘, 3-메틸피리딘, 4-메틸피리딘, 2-에틸피리딘, 3-에틸피리딘, 4-에틸피리딘, 2,4-디메틸피리딘, 2,4,6-트리메틸피리딘, 3,4-시클로펜테노피리딘, 5,6,7,8-테트라히드로이소퀴놀린, 및 이소퀴놀린 등의 방향족 아민을 들 수 있다.The imidization catalyst used in the imidization step is not particularly limited, and examples include aliphatic amines such as tripropylamine, dibutylpropylamine, and ethyldibutylamine; Alicyclic amines (monocyclic) such as N-ethylpiperidine, N-propylpiperidine, N-butylpyrrolidine, N-butylpiperidine, and N-propylhexahydroazepine; Alicyclic amines (polycyclic) such as azabicyclo[2.2.1]heptane, azabicyclo[3.2.1]octane, azabicyclo[2.2.2]octane, and azabicyclo[3.2.2]nonane; And 2-methylpyridine, 3-methylpyridine, 4-methylpyridine, 2-ethylpyridine, 3-ethylpyridine, 4-ethylpyridine, 2,4-dimethylpyridine, 2,4,6-trimethylpyridine, 3,4 -Aromatic amines such as cyclopentenopyridine, 5,6,7,8-tetrahydroisoquinoline, and isoquinoline can be mentioned.

이미드화 공정에서 사용되는 탈수제로서는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 무수 아세트산, 프로피온산 무수물, 이소부티르산 무수물, 피발산 무수물, 부티르산 무수물, 이소발레르산 무수물 등을 들 수 있다.The dehydrating agent used in the imidization process is not particularly limited, and examples include acetic anhydride, propionic anhydride, isobutyric anhydride, pivalic anhydride, butyric anhydride, and isovaleric anhydride.

각 원료의 혼합 및 이미드화 공정에 있어서, 반응 온도는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 15~350℃, 바람직하게는 20~100℃이다. 반응 시간도 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 10분~10시간 정도이다. 필요에 따라, 불활성 분위기 또는 감압 조건하에 있어서 반응을 행해도 된다. 또, 반응은 용매 중에서 행해도 되고, 용매로서는, 예를 들면 바니쉬의 조제에 사용되는 용매로서 예시된 것을 들 수 있다. 반응 후, 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지를 정제한다. 정제 방법으로서는, 예를 들면 반응액에 빈용매를 첨가하여 재침전법에 의해 수지를 석출시키고, 건조시켜 침전물을 취출하고, 필요에 따라 침전물을 메탄올 등의 용매로 세정해 건조시키는 방법 등을 들 수 있다.In the mixing and imidization process of each raw material, the reaction temperature is not particularly limited, but is, for example, 15 to 350°C, preferably 20 to 100°C. The reaction time is also not particularly limited, but is, for example, about 10 minutes to 10 hours. If necessary, the reaction may be performed under inert atmosphere or reduced pressure conditions. Additionally, the reaction may be performed in a solvent, and examples of the solvent include those exemplified as solvents used in the preparation of varnish. After the reaction, the polyimide-based resin or polyamide-based resin is purified. As a purification method, for example, a poor solvent is added to the reaction solution, the resin is precipitated by reprecipitation, dried, the precipitate is taken out, and if necessary, the precipitate is washed with a solvent such as methanol and dried. there is.

또한, 폴리이미드계 수지의 제조는, 예를 들면 일본 공개특허공보 2006-199945호 또는 일본 공개특허공보 2008-163107호에 기재된 제조 방법을 참조해도 된다. 또, 폴리이미드계 수지는, 시판품을 사용할 수도 있으며, 그 구체예로서는, 미쓰비시 가스화학(주)(Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.)제 네오프림(등록상표), 가와무라 산교(주)(Kawamura Sangyo Co., Ltd.)제 KPI-MX300F 등을 들 수 있다.In addition, for the production of polyimide-based resin, you may refer to the production method described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-199945 or Japanese Patent Application Publication No. 2008-163107. In addition, commercial products can also be used as the polyimide resin. Specific examples include Neoprem (registered trademark) manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc., Kawamura Sangyo Co., Ltd. Co., Ltd.) KPI-MX300F, etc. can be mentioned.

폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지의 중량 평균 분자량은, 바람직하게는 100,000 이상, 보다 바람직하게는 150,000 이상, 더 바람직하게는 200,000 이상, 보다 더 바람직하게는 250,000 이상, 특히 바람직하게는 300,000 이상이고, 바람직하게는 600,000 이하, 보다 바람직하게는 500,000 이하이다. 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지의 중량 평균 분자량이 클수록, 필름화했을 때의 높은 내충격성 및 내굴곡성을 발현하기 쉬운 경향이 있다. 이로 인하여, 광학 필름의 내충격성 및 내굴곡성을 높이기 쉬운 관점에서는, 중량 평균 분자량이 상기의 하한 이상인 것이 바람직하다. 한편, 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지의 중량 평균 분자량이 작을 수록, 바니쉬의 점도를 낮게 하기 쉬워, 가공성을 향상시키기 쉬운 경향이 있다. 또, 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지의 연신성이 향상되기 쉬운 경향이 있다. 이로 인하여, 가공성 및 연신성의 관점에서는, 중량 평균 분자량이 상기의 상한 이하인 것이 바람직하다. 또한, 본원에 있어서 중량 평균 분자량은, 겔 침투 크로마토그래피(GPC) 측정을 행하여, 표준 폴리스티렌 환산에 의해 구할 수 있으며, 예를 들면 실시예에 기재된 방법에 의해 산출할 수 있다.The weight average molecular weight of the polyimide resin or polyamide resin is preferably 100,000 or more, more preferably 150,000 or more, further preferably 200,000 or more, even more preferably 250,000 or more, especially preferably 300,000 or more. , preferably 600,000 or less, more preferably 500,000 or less. The larger the weight average molecular weight of the polyimide-based resin or polyamide-based resin, the easier it is to develop high impact resistance and bending resistance when formed into a film. For this reason, from the viewpoint of easily improving the impact resistance and bending resistance of the optical film, it is preferable that the weight average molecular weight is more than the above lower limit. On the other hand, the smaller the weight average molecular weight of the polyimide-based resin or polyamide-based resin, the easier it is to lower the viscosity of the varnish and the easier it is to improve processability. Additionally, the stretchability of polyimide-based resin or polyamide-based resin tends to be easily improved. For this reason, from the viewpoint of processability and stretchability, it is preferable that the weight average molecular weight is below the above upper limit. In addition, in this application, the weight average molecular weight can be determined by performing gel permeation chromatography (GPC) measurement and converted to standard polystyrene, and can be calculated, for example, by the method described in the Examples.

폴리이미드계 수지의 이미드화율은, 바람직하게는 95~100%, 보다 바람직하게는 97~100%, 더 바람직하게는 98~100%, 특히 바람직하게는 100%이다. 바니쉬의 안정성, 얻어지는 광학 필름의 기계 물성의 관점에서는, 이미드화율이 상기의 하한 이상인 것이 바람직하다. 또한, 이미드화율은, IR법, NMR법 등에 의해 구할 수 있다. 상기 관점에서, 바니쉬 중에 포함되는 폴리이미드계 수지의 이미드화율이 상기 범위 내인 것이 바람직하다.The imidization rate of the polyimide resin is preferably 95 to 100%, more preferably 97 to 100%, further preferably 98 to 100%, and particularly preferably 100%. From the viewpoint of the stability of the varnish and the mechanical properties of the resulting optical film, it is preferable that the imidization ratio is at least the above lower limit. Additionally, the imidization rate can be determined by IR method, NMR method, etc. From the above viewpoint, it is preferable that the imidation rate of the polyimide-based resin contained in the varnish is within the above range.

본 발명의 바람직한 일 실시형태에 있어서, 본 발명의 광학 필름에 포함되는 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지는, 예를 들면 상기의 함불소 치환기 등에 의해 도입할 수 있는, 불소 원자 등의 할로겐 원자를 포함해도 된다. 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지가 할로겐 원자를 포함하는 경우, 광학 필름의 내충격성 및 탄성률을 향상시키고 또한 황색도(YI값)를 저감시키기 쉽다. 광학 필름의 내충격성 및 탄성률이 높으면 당해 필름에 있어서의 흠집 및 주름 등의 발생을 억제하기 쉽고, 또, 광학 필름의 황색도가 낮으면 당해 필름의 투명성을 향상시키기 쉬워진다. 할로겐 원자는, 바람직하게는 불소 원자이다. 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지에 불소 원자를 함유시키기 위해 바람직한 함불소 치환기로서는, 예를 들면 플루오로기 및 트리플루오로메틸기를 들 수 있다.In a preferred embodiment of the present invention, the polyimide-based resin or polyamide-based resin contained in the optical film of the present invention contains, for example, a halogen atom such as a fluorine atom that can be introduced by the above-mentioned fluorine-containing substituent, etc. You may include . When the polyimide-based resin or polyamide-based resin contains a halogen atom, it is easy to improve the impact resistance and elastic modulus of the optical film and reduce the yellowness (YI value). When the impact resistance and elastic modulus of the optical film are high, it is easy to suppress the occurrence of scratches and wrinkles in the film, and when the yellowness of the optical film is low, it is easy to improve the transparency of the film. The halogen atom is preferably a fluorine atom. Preferred fluorine-containing substituents for making the polyimide resin or polyamide resin contain a fluorine atom include, for example, a fluoro group and a trifluoromethyl group.

폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지에 있어서의 할로겐 원자의 함유량은, 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지의 질량을 기준으로 하여 바람직하게는 1~40질량% 이며, 보다 바람직하게는 5~40질량% 이며, 보다 더 바람직하게는 5~30질량%이다. 할로겐 원자의 함유량이 1질량% 이상이면, 필름화했을 때의 내충격성 및 탄성률을 보다 향상시키며, 흡수율을 낮춰 황색도(YI값)를 보다 저감하여, 투명성을 보다 향상시키기 쉽다. 할로겐 원자의 함유량이 40질량%를 넘으면, 합성이 곤란하게 되는 경우가 있다.The content of halogen atoms in the polyimide resin or polyamide resin is preferably 1 to 40% by mass, more preferably 5 to 40% by mass, based on the mass of the polyimide resin or polyamide resin. % by mass, and more preferably 5 to 30 % by mass. If the halogen atom content is 1% by mass or more, the impact resistance and elastic modulus when formed into a film are further improved, the water absorption is lowered, the yellowness (YI value) is further reduced, and transparency is easily improved. If the halogen atom content exceeds 40% by mass, synthesis may become difficult.

폴리이미드계 수지가 폴리아미드이미드인 경우, 식 (13)으로 나타나는 구성 단위의 함유량은, 식 (10)으로 나타나는 구성 단위 1몰에 대해서, 바람직하게는 0.1몰 이상, 보다 바람직하게는 0.5몰 이상, 더 바람직하게는 1.0몰 이상, 특히 바람직하게는 1.5몰 이상이고, 바람직하게는 6.0몰 이하, 보다 바람직하게는 5.0몰 이하, 더 바람직하게는 4.5몰 이하이다. 식 (13)으로 나타나는 구성 단위의 함유량이 상기 하한값 이상이면, 광학 필름은, 높은 표면 경도, 내충격성 및 내굴곡성을 발현하기 쉽다. 또, 식 (13)으로 나타나는 구성 단위의 함유량이 상기 상한값 이하이면, 식 (13) 중의 아미드 결합 간의 수소결합에 의한 증점을 억제하여, 수지 바니쉬의 점도를 저감할 수 있어, 광학 필름의 제조가 용이하다.When the polyimide resin is polyamideimide, the content of the structural unit represented by formula (13) is preferably 0.1 mol or more, more preferably 0.5 mol or more, per 1 mole of the structural unit represented by formula (10). , more preferably 1.0 mol or more, particularly preferably 1.5 mol or more, preferably 6.0 mol or less, more preferably 5.0 mol or less, further preferably 4.5 mol or less. If the content of the structural unit represented by Formula (13) is more than the above lower limit, the optical film is likely to exhibit high surface hardness, impact resistance, and bending resistance. Additionally, if the content of the structural unit represented by formula (13) is below the above upper limit, thickening due to hydrogen bonding between amide bonds in formula (13) can be suppressed, and the viscosity of the resin varnish can be reduced, making it possible to manufacture an optical film. It's easy.

본 발명의 일 실시형태에 있어서, 광학 필름 중에 있어서의 폴리이미드계 수지 및/또는 폴리아미드계 수지의 함유량은, 광학 필름의 전체 질량을 기준으로 하여 바람직하게는 40질량% 이상이고, 보다 바람직하게는 50질량% 이상이고, 더 바람직하게는 70질량% 이상이다. 폴리이미드계 수지 및/또는 폴리아미드계 수지의 함유량이 상기의 하한 이상인 것이, 내충격성 및 내굴곡성 등을 높이기 쉬운 관점에서 바람직하다. 또한, 광학 필름 중에 있어서의 폴리이미드계 수지 및/또는 폴리아미드계 수지의 함유량은, 광학 필름의 전체 질량을 기준으로 하여 통상 100질량% 이하이다.In one embodiment of the present invention, the content of polyimide resin and/or polyamide resin in the optical film is preferably 40% by mass or more, more preferably, based on the total mass of the optical film. is 50% by mass or more, more preferably 70% by mass or more. It is preferable that the content of polyimide-based resin and/or polyamide-based resin is more than the above lower limit from the viewpoint of easily improving impact resistance, bending resistance, etc. In addition, the content of polyimide-based resin and/or polyamide-based resin in the optical film is usually 100% by mass or less based on the total mass of the optical film.

<필러><Filler>

본 발명의 광학 필름은, 필러를 포함하고 있어도 된다. 필러로서는, 예를 들면 유기 입자, 무기 입자 등을 들 수 있고, 특히 무기 입자가 바람직하다. 무기 입자로서는, 실리카, 지르코니아, 알루미나, 티타니아, 산화 아연, 산화 게르마늄, 산화 인듐, 산화 주석, 인듐 주석 산화물(ITO), 산화 안티모니, 산화 세륨 등의 금속 산화물 입자, 불화 마그네슘, 불화 나트륨 등의 금속 불화물 입자 등을 들 수 있고, 이것들 중에서도, 물체의 반복 충돌에 의한 광학 특성의 저하를 억제하기 쉬운 관점에서, 실리카 입자, 지르코니아 입자, 알루미나 입자가 바람직하고, 실리카 입자가 특히 바람직하다. 이들 필러는 단독 또는 2종 이상 조합해서 사용할 수 있다.The optical film of the present invention may contain a filler. Examples of fillers include organic particles and inorganic particles, and inorganic particles are particularly preferable. Inorganic particles include metal oxide particles such as silica, zirconia, alumina, titania, zinc oxide, germanium oxide, indium oxide, tin oxide, indium tin oxide (ITO), antimony oxide, and cerium oxide, magnesium fluoride, sodium fluoride, etc. Metal fluoride particles, etc. can be mentioned, and among these, silica particles, zirconia particles, and alumina particles are preferable, and silica particles are especially preferable, from the viewpoint of easily suppressing deterioration of optical properties due to repeated collisions with objects. These fillers can be used individually or in combination of two or more types.

필러, 바람직하게는 실리카 입자의 일차 입자경은, 바람직하게는 1nm 이상, 보다 바람직하게는 3nm 이상, 더 바람직하게는 5nm 이상, 특히 바람직하게는 7nm 이상이고, 바람직하게는 25nm 이하, 보다 바람직하게는 20nm 이하, 더 바람직하게는 15nm 이하, 보다 더 바람직하게는 12nm 이하, 특히 바람직하게는 12nm 미만이며, 이들 상한과 하한의 조합이어도 된다. 실리카 입자의 일차 입자경이 상기의 하한 이상이면, 실리카 입자의 응집을 억제하여, 광학 필름의 광학 특성을 향상시키기 쉽고, 상기의 상한 이하이면, 물체의 반복 충돌에 의한 광학 특성의 저하를 억제하기 쉽다. 필러의 일차 입자경은 BET법에 의해 측정할 수 있다. 또한, 투과형 전자 현미경(TEM)이나 주사형 전자 현미경(SEM)의 화상 해석에 의해, 필러의 일차 입자경(평균 일차 입자경)을 측정해도 된다.The primary particle diameter of the filler, preferably silica particles, is preferably 1 nm or more, more preferably 3 nm or more, further preferably 5 nm or more, particularly preferably 7 nm or more, preferably 25 nm or less, more preferably It is 20 nm or less, more preferably 15 nm or less, even more preferably 12 nm or less, particularly preferably less than 12 nm, and a combination of these upper and lower limits may be used. If the primary particle diameter of the silica particles is more than the above lower limit, agglomeration of silica particles is easily suppressed and the optical properties of the optical film are easily improved, and if the primary particle size of the silica particles is less than the above upper limit, it is easy to suppress deterioration of optical properties due to repeated collisions with objects. . The primary particle size of the filler can be measured by the BET method. Additionally, the primary particle diameter (average primary particle diameter) of the filler may be measured by image analysis using a transmission electron microscope (TEM) or scanning electron microscope (SEM).

본 발명의 바람직한 실시형태에 있어서, 광학 필름은 폴리아미드계 수지와, 일차 입자경이 1~25nm인 필러를 포함한다. 또, 본 발명의 바람직한 양태에 있어서, 광학 필름은 폴리이미드계 수지와 일차 입자경이 5~20nm인 필러를 포함한다. 이것들의 바람직한 실시형태에 있어서의 광학 필름은, 물체 충돌의 반복에 의한 광학 특성의 저하를 유효하게 억제할 수 있다.In a preferred embodiment of the present invention, the optical film contains a polyamide-based resin and a filler having a primary particle size of 1 to 25 nm. Additionally, in a preferred embodiment of the present invention, the optical film contains a polyimide resin and a filler having a primary particle size of 5 to 20 nm. The optical film in these preferred embodiments can effectively suppress degradation of optical properties due to repeated object collisions.

필러, 바람직하게는 실리카 입자의 함유량은, 광학 필름의 질량에 대해서, 바람직하게는 1질량% 이상, 보다 바람직하게는 5질량% 이상, 더 바람직하게는 10질량% 이상, 특히 바람직하게는 20질량% 이상이고, 바람직하게는 60질량% 이하, 보다 바람직하게는 50질량% 이하, 더 바람직하게는 45질량% 이하, 특히 바람직하게는 40질량% 이하이며, 이들 상한과 하한의 조합이어도 된다. 필러의 함유량이 상기의 하한 이상이면, 광학 필름의 내충격성을 향상시키기 쉽고, 상기의 상한 이하이면, 광학 필름의 광학 특성을 향상시키기 쉽다. 또한, 광학 필름의 조성, 예를 들면 광학 필름에 포함되는 수지의 반복 구조의 종류나 구성비, 및 광학 필름에 포함되는 필러 등의 종류, 일차 입자경 및 함유량 등을 조정하는 것에 의해, 내충격시험에 있어서의 패임량을 15μm 이하로 조정할 수 있다.The content of the filler, preferably silica particles, is preferably 1% by mass or more, more preferably 5% by mass or more, further preferably 10% by mass or more, particularly preferably 20% by mass, relative to the mass of the optical film. % or more, preferably 60 mass% or less, more preferably 50 mass% or less, further preferably 45 mass% or less, especially preferably 40 mass% or less, and a combination of these upper and lower limits may be used. If the content of the filler is more than the above lower limit, it is easy to improve the impact resistance of the optical film, and if it is less than the above upper limit, it is easy to improve the optical properties of the optical film. In addition, by adjusting the composition of the optical film, for example, the type and composition ratio of the repeating structure of the resin contained in the optical film, and the type, primary particle size and content, etc. of fillers contained in the optical film, the impact resistance test is performed. The amount of indentation can be adjusted to 15μm or less.

본 발명의 광학 필름은, 상기 수지 및 상기 필러 이외의 다른 첨가제를 포함하고 있어도 된다. 다른 첨가제로서는, 예를 들면, 레벨링제, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 블루잉제, 가소제, 계면활성제 등을 들 수 있다. 이들 다른 첨가제는 단독 또는 2종 이상 조합해서 사용할 수 있다. 광학 필름이 다른 첨가제를 포함하는 경우, 다른 첨가제의 함유량은, 광학 필름의 질량에 대해서, 예를 들면 0.01~20질량부, 바람직하게는 0.1~10질량부 정도이면 된다.The optical film of the present invention may contain additives other than the resin and the filler. Other additives include, for example, leveling agents, antioxidants, ultraviolet absorbers, bluing agents, plasticizers, surfactants, etc. These other additives can be used individually or in combination of two or more types. When the optical film contains other additives, the content of the other additives may be, for example, 0.01 to 20 parts by mass, preferably 0.1 to 10 parts by mass, relative to the mass of the optical film.

[광학 필름의 제조 방법][Method for manufacturing optical film]

본 발명의 광학 필름은, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 이하의 공정:The optical film of the present invention is not particularly limited, but for example, the following processes:

(a) 상기 수지와 필요에 따라 상기 필러 및 상기 다른 첨가제를 포함하는 액(바니쉬라고 부르는 경우가 있다)을 조제하는 공정(바니쉬 조제 공정),(a) A process of preparing a liquid (sometimes called varnish) containing the above resin and, if necessary, the above filler and the above other additives (varnish preparation process),

(b) 바니쉬를 기재에 도포하여 도막을 형성하는 공정(도포 공정), 및(b) a process of applying varnish to a substrate to form a coating film (application process), and

(c) 도포된 액(도막)을 건조시켜, 광학 필름을 형성하는 공정(광학 필름 형성 공정)(c) Process of drying the applied liquid (coat film) to form an optical film (optical film formation process)

을 포함하는 방법에 의해 제조할 수 있다.It can be manufactured by a method comprising:

바니쉬 조제 공정에 있어서, 상기 수지를 용매에 용해하고, 상기 필러 및 필요에 따라 다른 첨가제를 첨가하여 교반혼합하는 것에 의해 바니쉬를 조제한다. 또한, 필러로서 실리카 입자를 이용하는 경우, 실리카 입자를 포함하는 실리카 졸의 분산액을, 상기 수지가 용해 가능한 용매, 예를 들면 하기의 바니쉬의 조제에 이용되는 용매로 치환한 실리카 졸을 수지에 첨가해도 된다.In the varnish preparation step, the varnish is prepared by dissolving the resin in a solvent, adding the filler and other additives as necessary, and stirring and mixing. In addition, when using silica particles as a filler, a silica sol dispersion of silica sol containing silica particles may be replaced with a solvent in which the resin can dissolve, for example, a solvent used in the preparation of the varnish below, and added to the resin. do.

바니쉬의 조제에 이용되는 용매는, 상기 수지를 용해 가능하면 특별히 한정되지 않는다. 이러한 용매로서는, 예를 들면 N,N-디메틸아세트아미드, N,N-디메틸포름아미드 등의 아미드계 용매; γ-부티로락톤, γ-발레로락톤 등의 락톤계 용매; 디메틸설폰, 디메틸설폭시드, 설포란 등의 함황계 용매; 에틸렌카보네이트, 프로필렌카보네이트 등의 카보네이트계 용매; 및 그것들의 조합을 들 수 있다. 이것들 중에서도, 아미드계 용매 또는 락톤계 용매가 바람직하다. 이들 용매는 단독 또는 2종 이상 조합해서 사용할 수 있다. 또, 바니쉬에는 물, 알코올계 용매, 케톤계 용매, 비환상 에스테르계 용매, 에테르계 용매 등이 포함되어도 된다. 바니쉬의 고형분 농도는, 바람직하게는 1~25질량%, 보다 바람직하게는 5~15질량%이다.The solvent used to prepare the varnish is not particularly limited as long as it can dissolve the resin. Examples of such solvents include amide-based solvents such as N,N-dimethylacetamide and N,N-dimethylformamide; Lactone-based solvents such as γ-butyrolactone and γ-valerolactone; Sulfur-containing solvents such as dimethyl sulfone, dimethyl sulfoxide, and sulfolane; Carbonate-based solvents such as ethylene carbonate and propylene carbonate; and combinations thereof. Among these, amide-based solvents or lactone-based solvents are preferable. These solvents can be used individually or in combination of two or more types. Additionally, the varnish may contain water, alcohol-based solvent, ketone-based solvent, non-cyclic ester-based solvent, ether-based solvent, etc. The solid content concentration of the varnish is preferably 1 to 25% by mass, more preferably 5 to 15% by mass.

도포 공정에 있어서, 공지의 도포 방법에 의해, 기재 상에 바니쉬를 도포하여 도막을 형성한다. 공지의 도포 방법으로서는, 예를 들면 와이어 바 코팅법, 리버스 코팅, 그라비어 코팅 등의 롤 코팅법, 다이 코팅법, 콤마 코팅법, 립 코팅법, 스핀 코팅법, 스크린 코팅법, 파운틴 코팅법, 디핑법, 스프레이법, 유연(流涎) 성형법 등을 들 수 있다.In the application process, varnish is applied to the substrate using a known application method to form a coating film. Known application methods include, for example, roll coating methods such as wire bar coating method, reverse coating, and gravure coating, die coating method, comma coating method, lip coating method, spin coating method, screen coating method, fountain coating method, and di-coating method. Examples include the spraying method, spraying method, and soft forming method.

광학 필름 형성 공정에 있어서, 도막을 건조시켜, 기재로부터 박리하는 것에 의해, 광학 필름을 형성할 수 있다. 박리 후에 추가로 광학 필름을 건조하는 건조 공정을 행해도 된다. 도막의 건조는, 통상 50~350℃의 온도에서 행할 수 있다. 필요에 따라, 불활성 분위기 또는 감압 조건하에 있어서 도막의 건조를 행해도 된다.In the optical film formation process, the optical film can be formed by drying the coating film and peeling it from the substrate. After peeling, a drying process of additionally drying the optical film may be performed. Drying of the coating film can usually be performed at a temperature of 50 to 350°C. If necessary, the coating film may be dried in an inert atmosphere or under reduced pressure conditions.

기재의 예로서는, PET 필름, PEN 필름, 다른 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지 필름 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 내열성이 우수하다는 관점에서, PET 필름, PEN 필름 등이 바람직하고, 추가로 광학 필름과의 밀착성 및 코스트의 관점에서, PET 필름이 보다 바람직하다.Examples of the substrate include PET film, PEN film, other polyimide resins, or polyamide resin films. Among them, PET film, PEN film, etc. are preferable from the viewpoint of excellent heat resistance, and PET film is more preferable from the viewpoint of adhesion to the optical film and cost.

본 발명의 광학 필름의 용도는 특별히 한정되지 않고, 다양한 용도로 사용해도 된다. 본 발명의 광학 필름은, 상기에 설명했듯이 단층이어도 되고 적층체여도 되며, 본 발명의 광학 필름을 그대로 사용해도 되고, 또 다른 필름과의 적층체로서 사용해도 된다. 또한, 광학 필름이 적층체인 경우, 광학 필름의 편면 또는 양면에 적층된 모든 층을 포함해 광학 필름이라고 칭한다.The use of the optical film of the present invention is not particularly limited, and it may be used for various purposes. As explained above, the optical film of the present invention may be a single layer or a laminated body. The optical film of the present invention may be used as is or may be used as a laminated body with another film. Additionally, when the optical film is a laminated body, all layers laminated on one or both sides of the optical film are referred to as the optical film.

본 발명의 광학 필름이 적층체인 경우, 광학 필름의 적어도 한쪽의 면에 1개 이상의 기능층을 갖는 것이 바람직하다. 기능층으로서는, 예를 들면 자외선 흡수층, 프라이머층, 가스 배리어층, 점착층, 색상 조정층, 굴절률 조정층, 하드 코팅층 등을 들 수 있다. 기능층은 단독 또는 2종 이상 조합해서 사용할 수 있다.When the optical film of the present invention is a laminate, it is preferable to have one or more functional layers on at least one side of the optical film. Examples of the functional layer include an ultraviolet absorbing layer, a primer layer, a gas barrier layer, an adhesive layer, a color adjustment layer, a refractive index adjustment layer, and a hard coating layer. The functional layer can be used alone or in combination of two or more types.

자외선 흡수층은, 자외선 흡수의 기능을 갖는 층이며, 예를 들면, 자외선 경화형의 투명 수지, 전자선 경화형의 투명 수지, 및 열경화형의 투명 수지로부터 선택되는 주재와, 이 주재에 분산한 자외선 흡수제로 구성된다.The ultraviolet absorbing layer is a layer that has the function of absorbing ultraviolet rays, and is composed, for example, of a base selected from ultraviolet curing transparent resin, electron beam curing transparent resin, and thermosetting transparent resin, and an ultraviolet absorber dispersed in this base. do.

점착층은, 점착성의 기능을 갖는 층이며, 광학 필름을 다른 부재에 접착시키는 기능을 갖는다. 점착층의 형성 재료로서는, 통상 알려진 것을 이용할 수 있다. 예를 들면, 열경화성 수지 조성물 또는 광경화성 수지 조성물을 이용할 수 있다. 이 경우, 사후적으로 에너지를 공급함으로써 열경화성 수지 조성물 또는 광경화성 수지 조성물을 고분자화해 경화시킬 수 있다.The adhesive layer is a layer that has an adhesive function and has the function of adhering the optical film to another member. As a forming material for the adhesive layer, commonly known materials can be used. For example, a thermosetting resin composition or a photocurable resin composition can be used. In this case, the thermosetting resin composition or the photo-curable resin composition can be polymerized and cured by supplying energy afterwards.

점착층은, 감압형 접착제(Pressure Sensitive Adhesive, PSA)라고 불리는, 가압에 의해 대상물에 첩착되는 층이어도 된다. 감압형 접착제는, 「상온에서 점착성을 갖고, 가벼운 압력으로 피착재에 접착하는 물질」(JIS K 6800)인 점착제여도 되고, 「특정 성분을 보호 피막(마이크로 캡슐)에 내용해, 적당한 수단(압력, 열 등)에 의해 피막을 파괴할 때까지는 안정성을 보지(保持)할 수 있는 접착제」(JIS K 6800)인 캡슐형 접착제여도 된다.The adhesive layer may be a layer that is adhered to an object by pressure, called a pressure sensitive adhesive (PSA). The pressure-sensitive adhesive may be an adhesive that is “a substance that has tackiness at room temperature and adheres to the adherend under light pressure” (JIS K 6800), or may be an adhesive that contains “specific ingredients in a protective film (microcapsule) and is applied by appropriate means (pressure). , heat, etc.) may be a capsule-type adhesive that is capable of maintaining stability until the film is destroyed (JIS K 6800).

색상 조정층은, 색상 조정의 기능을 갖는 층이며, 광학 필름을 목적 색상으로 조정할 수 있는 층이다. 색상 조정층은, 예를 들면, 수지 및 착색제를 함유하는 층이다. 이 착색제로서는, 예를 들면, 산화 티타늄, 산화 아연, 벵갈라, 티타늄 옥사이드계 소성 안료, 군청, 알루민산 코발트, 및 카본 블랙 등의 무기 안료; 아조계 화합물, 퀴나크리돈계 화합물, 안트라퀴논계 화합물, 페릴렌계 화합물, 이소인돌리논계 화합물, 프탈로시아닌계 화합물, 퀴노프탈론계 화합물, 스렌계 화합물, 및 디케토피롤로피롤계 화합물 등의 유기 안료; 황산 바륨, 및 탄산 칼슘 등의 체질 안료; 그리고 염기성 염료, 산성 염료, 및 매염 염료 등의 염료를 들 수 있다.The color adjustment layer is a layer that has a color adjustment function and is a layer that can adjust the optical film to the target color. The color adjustment layer is a layer containing, for example, a resin and a colorant. Examples of this colorant include inorganic pigments such as titanium oxide, zinc oxide, bengala, titanium oxide-based fired pigments, ultramarine blue, cobalt aluminate, and carbon black; Organic pigments such as azo-based compounds, quinacridone-based compounds, anthraquinone-based compounds, perylene-based compounds, isoindolinone-based compounds, phthalocyanine-based compounds, quinophthalone-based compounds, thyrene-based compounds, and diketopyrrolopyrrole-based compounds; extender pigments such as barium sulfate and calcium carbonate; and dyes such as basic dyes, acid dyes, and mordant dyes.

굴절률 조정층은, 굴절률 조정의 기능을 갖는 층이며, 예를 들면 단층의 광학 필름과는 다른 굴절률을 갖고, 광학 필름에 소정의 굴절률을 부여할 수 있는 층이다. 굴절률 조정층은, 예를 들면, 적절히 선택된 수지, 및 경우에 따라 추가로 안료를 함유하는 수지층이어도 되고, 금속의 박막이어도 된다. 굴절률을 조정하는 안료로서는, 예를 들면, 산화 규소, 산화 알루미늄, 산화 안티모니, 산화 주석, 산화 티타늄, 산화 지르코늄 및 산화 탄탈럼을 들 수 있다. 당해 안료의 평균 일차 입자경은, 0.1μm 이하여도 된다. 안료의 평균 일차 입자경을 0.1μm 이하로 하는 것에 의해, 굴절률 조정층을 투과하는 광의 난반사를 방지해, 투명도의 저하를 방지할 수 있다. 굴절률 조정층에 이용되는 금속으로서는, 예를 들면, 산화 티타늄, 산화 탄탈럼, 산화 지르코늄, 산화 아연, 산화 주석, 산화 규소, 산화 인듐, 산질화 티타늄, 질화 티타늄, 산질화 규소, 질화 규소 등의 금속 산화물 또는 금속 질화물을 들 수 있다.The refractive index adjustment layer is a layer that has the function of adjusting the refractive index. For example, it has a refractive index different from that of a single-layer optical film, and is a layer that can provide a predetermined refractive index to the optical film. The refractive index adjustment layer may be, for example, a resin layer containing an appropriately selected resin and, in some cases, a pigment further, or may be a thin film of metal. Pigments that adjust the refractive index include, for example, silicon oxide, aluminum oxide, antimony oxide, tin oxide, titanium oxide, zirconium oxide, and tantalum oxide. The average primary particle diameter of the pigment may be 0.1 μm or less. By setting the average primary particle diameter of the pigment to 0.1 μm or less, diffuse reflection of light passing through the refractive index adjustment layer can be prevented and a decrease in transparency can be prevented. Metals used in the refractive index adjustment layer include, for example, titanium oxide, tantalum oxide, zirconium oxide, zinc oxide, tin oxide, silicon oxide, indium oxide, titanium oxynitride, titanium nitride, silicon oxynitride, and silicon nitride. Metal oxides or metal nitrides may be mentioned.

하드 코팅층은, 활성 에너지선 조사, 또는 열에너지 부여에 의해 가교 구조를 형성할 수 있는 반응성 재료를 포함하는 하드 코팅 조성물을 경화시켜 형성할 수 있으며, 활성 에너지선 조사에 의한 것이 바람직하다. 활성 에너지선은, 활성종을 발생하는 화합물을 분해하여 활성종을 발생시킬 수 있는 에너지선이라고 정의되며, 가시광, 자외선, 적외선, X선, α선, β선, γ선 및 전자선 등을 들 수 있고, 바람직하게는 자외선을 들 수 있다. 상기 하드 코팅 조성물은, 라디칼 중합성 화합물 및 양이온 중합성 화합물의 적어도 1종의 중합물을 함유한다.The hard coating layer can be formed by curing a hard coating composition containing a reactive material capable of forming a crosslinked structure by irradiation of active energy rays or application of thermal energy, preferably by irradiation of active energy rays. Active energy rays are defined as energy rays that can generate active species by decomposing compounds that generate active species, and include visible light, ultraviolet rays, infrared rays, X-rays, α-rays, β-rays, γ-rays, and electron rays. and, preferably, ultraviolet rays. The hard coating composition contains at least one type of polymer of a radically polymerizable compound and a cationically polymerizable compound.

상기 라디칼 중합성 화합물은, 라디칼 중합성기를 갖는 화합물이다. 상기 라디칼 중합성 화합물이 갖는 라디칼 중합성기로서는, 라디칼 중합 반응을 발생할 수 있는 관능기이면 되고, 탄소-탄소 불포화 이중 결합을 포함하는 기 등을 들 수 있으며, 구체적으로는, 비닐기, (메트)아크릴로일기 등을 들 수 있다. 또한, 상기 라디칼 중합성 화합물이 2개 이상의 라디칼 중합성기를 갖는 경우, 이들 라디칼 중합성기는 각각 동일해도 되고, 달라도 된다. 상기 라디칼 중합성 화합물이 1분자 중에 갖는 라디칼 중합성기의 수는, 하드 코팅층의 경도를 향상시키는 점으로부터, 바람직하게는 2개 이상이다. 상기 라디칼 중합성 화합물로서는, 반응성의 높음의 점으로부터, 바람직하게는 (메트)아크릴로일기를 갖는 화합물을 들 수 있으며, 구체적으로는 1분자 중에 2~6개의 (메트)아크릴로일기를 갖는 다관능 아크릴레이트 모노머라고 불리는 화합물이나 에폭시(메트)아크릴레이트, 우레탄(메트)아크릴레이트, 폴리에스테르(메트)아크릴레이트라고 불리는 분자 내에 수개의 (메트)아크릴로일기를 갖는 분자량이 수백에서 수천인 올리고머를 들 수 있고, 바람직하게는 에폭시(메트)아크릴레이트, 우레탄(메트)아크릴레이트 및 폴리에스테르(메트)아크릴레이트로부터 선택된 1종 이상을 들 수 있다.The radically polymerizable compound is a compound having a radically polymerizable group. The radical polymerizable group possessed by the radical polymerizable compound may be any functional group capable of generating a radical polymerization reaction, and may include a group containing a carbon-carbon unsaturated double bond, and specifically, vinyl group and (meth)acrylic group. Examples include Roilgi and the like. Additionally, when the radically polymerizable compound has two or more radically polymerizable groups, these radically polymerizable groups may be the same or different. The number of radically polymerizable groups that the radically polymerizable compound has in one molecule is preferably two or more from the viewpoint of improving the hardness of the hard coat layer. The radically polymerizable compound is preferably a compound having a (meth)acryloyl group because of its high reactivity, and specifically, it has 2 to 6 (meth)acryloyl groups per molecule. Compounds called functional acrylate monomers, epoxy (meth)acrylates, urethane (meth)acrylates, and polyester (meth)acrylates are oligomers with a molecular weight of hundreds to thousands of (meth)acryloyl groups within the molecule. and, preferably, at least one selected from epoxy (meth)acrylate, urethane (meth)acrylate, and polyester (meth)acrylate.

상기 양이온 중합성 화합물은, 에폭시기, 옥세타닐기, 비닐에테르기 등의 양이온 중합성기를 갖는 화합물이다. 상기 양이온 중합성 화합물이 1분자 중에 갖는 양이온 중합성기의 수는, 하드 코팅층의 경도를 향상시키는 점으로부터, 바람직하게는 2개 이상이고, 보다 바람직하게는 3개 이상이다.The cationically polymerizable compound is a compound having a cationically polymerizable group such as an epoxy group, oxetanyl group, or vinyl ether group. The number of cationic polymerizable groups in one molecule of the cationically polymerizable compound is preferably 2 or more, more preferably 3 or more, from the viewpoint of improving the hardness of the hard coat layer.

또, 상기 양이온 중합성 화합물로서는, 그 중에서도, 양이온 중합성기로서 에폭시기 및 옥세타닐기 중 적어도 1종을 갖는 화합물이 바람직하다. 에폭시기, 옥세타닐기 등의 환상 에테르기는, 중합 반응에 수반하는 수축이 작다는 점에서 바람직하다. 또, 환상 에테르기 중 에폭시기를 갖는 화합물은 다양한 구조의 화합물을 입수하기 쉽고, 얻어진 하드 코팅층의 내구성에 악영향을 주지 않으며, 라디칼 중합성 화합물과의 상용성(相溶性)도 컨트롤하기 쉽다는 이점이 있다. 또, 환상 에테르기 중 옥세타닐기는, 에폭시기와 비교해 중합도가 높아지기 쉽고, 저독성이며, 얻어진 하드 코팅층의 양이온 중합성 화합물로부터 얻어지는 네트워크 형성 속도를 빠르게 하고, 라디칼 중합성 화합물과 혼재하는 영역에서도 미반응의 모노머를 막 내에 남기지 않고 독립적인 네트워크를 형성한다는 등의 이점이 있다.Moreover, as the said cationically polymerizable compound, a compound which has at least 1 type of an epoxy group and an oxetanyl group as a cationic polymerizable group is especially preferable. Cyclic ether groups such as epoxy groups and oxetanyl groups are preferable because shrinkage accompanying the polymerization reaction is small. In addition, the compound having an epoxy group among the cyclic ether groups has the advantage that it is easy to obtain compounds of various structures, does not adversely affect the durability of the obtained hard coating layer, and is easy to control compatibility with radically polymerizable compounds. there is. In addition, the oxetanyl group among the cyclic ether groups tends to have a higher degree of polymerization compared to the epoxy group, has low toxicity, accelerates the rate of network formation from the cationically polymerizable compound in the obtained hard coating layer, and does not react even in the area where it is mixed with the radically polymerizable compound. There are advantages such as forming an independent network without leaving monomers in the film.

에폭시기를 갖는 양이온 중합성 화합물로서는, 예를 들면, 지환족환을 갖는 다가 알코올의 폴리글리시딜에테르 또는 시클로헥센환, 시클로펜텐환 함유 화합물을, 과산화 수소, 과산 등의 적당한 산화제로 에폭시화하는 것에 의해 얻어지는 지환족 에폭시 수지; 지방족 다가 알코올, 또는 그 알킬렌옥사이드 부가물의 폴리글리시딜에테르, 지방족 장쇄 다염기산의 폴리글리시딜에스테르, 글리시딜(메트)아크릴레이트의 호모폴리머, 코폴리머 등의 지방족 에폭시 수지; 비스페놀 A, 비스페놀 F나 수소 첨가 비스페놀 A 등의 비스페놀류, 또는 그것들의 알킬렌옥사이드 부가체, 카프로락톤 부가체 등의 유도체와, 에피클로로히드린의 반응에 의해 제조되는 글리시딜에테르, 및 노볼락 에폭시 수지 등이며 비스페놀류로부터 유도되는 글리시딜에테르형 에폭시 수지 등을 들 수 있다.As a cationically polymerizable compound having an epoxy group, for example, a polyglycidyl ether of a polyhydric alcohol having an alicyclic ring or a cyclohexene ring- or cyclopentene ring-containing compound can be epoxidized with a suitable oxidizing agent such as hydrogen peroxide or peracid. a cycloaliphatic epoxy resin obtained by; Aliphatic epoxy resins such as polyglycidyl ethers of aliphatic polyhydric alcohols or their alkylene oxide adducts, polyglycidyl esters of aliphatic long-chain polybasic acids, and homopolymers and copolymers of glycidyl (meth)acrylate; Glycidyl ether produced by the reaction of bisphenols such as bisphenol A, bisphenol F, and hydrogenated bisphenol A, or their derivatives such as alkylene oxide adducts and caprolactone adducts, and epichlorohydrin, and Examples include rockfish epoxy resins and glycidyl ether type epoxy resins derived from bisphenols.

상기 하드 코팅 조성물은 중합 개시제를 추가로 포함할 수 있다. 중합 개시제로서는, 라디칼 중합 개시제, 양이온 중합 개시제, 라디칼 및 양이온 중합 개시제 등을 들 수 있으며 적절히 선택해 이용된다. 이들 중합 개시제는, 활성 에너지선 조사 및 가열 중 적어도 일종에 의해 분해되어, 라디칼 또는 양이온을 발생시켜 라디칼 중합과 양이온 중합을 진행시키는 것이다.The hard coating composition may further include a polymerization initiator. Examples of the polymerization initiator include radical polymerization initiators, cationic polymerization initiators, radical and cationic polymerization initiators, and are appropriately selected and used. These polymerization initiators are decomposed by at least one of active energy ray irradiation and heating to generate radicals or cations to advance radical polymerization and cationic polymerization.

라디칼 중합 개시제는, 활성 에너지선 조사 및 가열 중 적어도 어느 하나에 의해 라디칼 중합을 개시시키는 물질을 방출하는 것이 가능하면 된다. 예를 들면, 열 라디칼 중합 개시제로서는, 과산화 수소, 과벤조산 등의 유기 과산화물, 아조비스부티로니트릴 등의 아조 화합물 등을 들 수 있다.The radical polymerization initiator may be capable of releasing a substance that initiates radical polymerization by at least one of active energy ray irradiation and heating. For example, examples of the thermal radical polymerization initiator include organic peroxides such as hydrogen peroxide and perbenzoic acid, and azo compounds such as azobisbutyronitrile.

활성 에너지선 라디칼 중합 개시제로서는, 분자의 분해로 라디칼이 생성되는 Type1형 라디칼 중합 개시제와, 3급 아민과 공존해 수소 인발형 반응으로 라디칼을 생성하는 Type2형 라디칼 중합 개시제가 있으며, 그것들은 단독으로 또는 병용하여 사용된다.Active energy ray radical polymerization initiators include Type 1 radical polymerization initiators, which generate radicals by decomposition of molecules, and Type 2 radical polymerization initiators, which coexist with tertiary amines and generate radicals through hydrogen abstraction-type reactions. Or it is used in combination.

양이온 중합 개시제는, 활성 에너지선 조사 및 가열 중 적어도 어느 하나에 의해 양이온 중합을 개시시키는 물질을 방출하는 것이 가능하면 된다. 양이온 중합 개시제로서는, 방향족 아이오도늄염, 방향족 설포늄염, 시클로펜타디에닐 철(II) 착체 등을 사용할 수 있다. 이것들은, 구조의 차이에 따라 활성 에너지선 조사 또는 가열 중 어느 하나 또는 양쪽 모두에 의해 양이온 중합을 개시할 수 있다.The cationic polymerization initiator may be capable of releasing a substance that initiates cationic polymerization by at least one of active energy ray irradiation and heating. As a cationic polymerization initiator, aromatic iodonium salt, aromatic sulfonium salt, cyclopentadienyl iron(II) complex, etc. can be used. Depending on the difference in structure, cationic polymerization can be initiated by either or both irradiation of active energy rays or heating.

상기 중합 개시제의 함유량은, 상기 하드 코팅 조성물 전체 100질량%에 대해서 바람직하게는 0.1~10질량%이다. 상기 중합 개시제의 함량이 상기의 범위에 있으면, 경화를 충분히 진행시킬 수 있어 최종적으로 얻어지는 도막의 기계적 물성이나 밀착력을 양호한 범위로 할 수 있고, 또, 경화 수축에 의한 접착력 불량이나 균열 현상 및 컬 현상이 발생하기 어려워지는 경향이 있다.The content of the polymerization initiator is preferably 0.1 to 10% by mass based on 100% by mass of the total hard coating composition. If the content of the polymerization initiator is within the above range, curing can be sufficiently progressed, and the mechanical properties and adhesion of the finally obtained coating film can be within a good range. In addition, poor adhesion, cracking, and curling phenomenon due to curing shrinkage can be prevented. This tends to become more difficult to occur.

상기 하드 코팅 조성물은 추가로 용제, 첨가제로 이루어지는 군으로부터 선택되는 하나 이상을 더 포함할 수 있다.The hard coating composition may further include one or more selected from the group consisting of solvents and additives.

상기 용제는, 상기 중합성 화합물 및 중합 개시제를 용해 또는 분산시킬 수 있는 것으로, 본 기술분야의 하드 코팅 조성물의 용제로서 알려져 있는 용제이면, 본 발명의 효과를 저해하지 않는 범위에서 사용할 수 있다.The solvent can dissolve or disperse the polymerizable compound and the polymerization initiator, and can be used as long as it is known as a solvent for hard coating compositions in the present technical field, as long as it does not impair the effect of the present invention.

상기 첨가제는, 무기 입자, 레벨링제, 안정제, 계면활성제, 대전 방지제, 윤활제, 방오제 등을 추가로 포함할 수 있다.The additives may further include inorganic particles, leveling agents, stabilizers, surfactants, antistatic agents, lubricants, antifouling agents, etc.

하드 코팅층의 두께는 특별히 한정되지 않고, 예를 들면, 2~100μm여도 된다. 상기 하드 코팅층의 두께가 상기의 범위에 있으면, 충분한 내찰상성을 확보할 수 있고, 또 내굴곡성이 저하되기 어려워, 경화 수축에 의한 컬 발생의 문제가 발생하기 어려운 경향이 있다.The thickness of the hard coating layer is not particularly limited, and may be, for example, 2 to 100 μm. If the thickness of the hard coating layer is within the above range, sufficient scratch resistance can be secured, bending resistance is unlikely to decrease, and the problem of curling due to curing shrinkage tends to be unlikely to occur.

광학 필름은, 보호 필름을 추가로 포함하고 있어도 된다. 보호 필름은, 광학 필름의 편면 또는 양면에 적층되어 있어도 된다. 광학 필름의 편면에 기능층을 갖는 경우에는, 보호 필름은, 광학 필름측의 표면 또는 기능층측의 표면에 적층되어 있어도 되고, 광학 필름측과 기능층측 양쪽 모두에 적층되어 있어도 된다. 광학 필름의 양면에 기능층을 갖는 경우에는, 보호 필름은, 한쪽의 기능층측의 표면에 적층되어 있어도 되고, 양쪽 기능층측의 표면에 적층되어 있어도 된다. 보호 필름은, 광학 필름 또는 기능층의 표면을 일시적으로 보호하기 위한 필름이며, 광학 필름 또는 기능층의 표면을 보호할 수 있는 박리 가능한 필름인 한 특별히 한정되지 않는다. 보호 필름으로서는, 예를 들면, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르계 수지 필름; 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 필름 등의 폴리올레핀계 수지 필름, 아크릴계 수지 필름 등을 들 수 있으며, 폴리올레핀계 수지 필름, 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지 필름 및 아크릴계 수지 필름으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 것이 바람직하다. 광학 필름이 보호 필름을 2개 갖는 경우, 각 보호 필름은 동일해도 되고 또는 달라도 된다.The optical film may further include a protective film. The protective film may be laminated on one side or both sides of the optical film. When the optical film has a functional layer on one side, the protective film may be laminated on the surface on the optical film side or the surface on the functional layer side, or may be laminated on both the optical film side and the functional layer side. When the optical film has functional layers on both surfaces, the protective film may be laminated on the surface on one functional layer side, or may be laminated on the surfaces on both functional layer sides. The protective film is a film for temporarily protecting the surface of the optical film or functional layer, and is not particularly limited as long as it is a peelable film that can protect the surface of the optical film or functional layer. Examples of the protective film include polyester resin films such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate; Examples include polyolefin-based resin films such as polyethylene and polypropylene films, and acrylic-based resin films, and are preferably selected from the group consisting of polyolefin-based resin films, polyethylene terephthalate-based resin films, and acrylic resin films. When the optical film has two protective films, each protective film may be the same or different.

보호 필름의 두께는, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 통상, 10~100μm, 바람직하게는 10~80μm, 보다 바람직하게는 10~50μm이다. 광학 필름이 보호 필름을 2개 갖는 경우, 각 보호 필름의 두께는 동일해도 되고, 달라도 된다.The thickness of the protective film is not particularly limited, but is usually 10 to 100 μm, preferably 10 to 80 μm, and more preferably 10 to 50 μm. When the optical film has two protective films, the thickness of each protective film may be the same or different.

본 발명의 광학 필름은, 물체가 표면에 충돌해도, 우수한 광학 특성을 유지할 수 있기 때문에, 화상 표시장치 등에 있어서의 광학 필름으로서 적합하게 사용할 수 있다. 본 발명의 광학 필름은, 바람직하게는 화상 표시장치의 전면판, 특히 플렉시블 화상 표시장치(플렉시블 디스플레이)의 전면판(윈도 필름)으로서 유용하다. 플렉시블 디스플레이는, 예를 들면, 플렉시블 기능층과, 플렉시블 기능층에 적층되어 전면판으로서 기능하는 광학 필름을 갖는다. 즉, 플렉시블 디스플레이의 전면판은, 플렉시블 기능층 위의 시인측에 배치된다. 이 전면판은, 플렉시블 기능층을 보호하는 기능을 갖는다.Since the optical film of the present invention can maintain excellent optical properties even when an object collides with the surface, it can be suitably used as an optical film in image display devices and the like. The optical film of the present invention is preferably useful as a front panel of an image display device, particularly a front panel (window film) of a flexible image display device (flexible display). A flexible display has, for example, a flexible functional layer and an optical film that is laminated on the flexible functional layer and functions as a front plate. That is, the front plate of the flexible display is disposed on the viewer side above the flexible functional layer. This front plate has the function of protecting the flexible functional layer.

화상 표시장치로서는, 텔레비전, 스마트 폰, 휴대전화, 카 내비게이션, 태블릿 PC, 휴대 게임기, 전자 페이퍼, 인디케이터, 게시판, 시계, 및 스마트 워치 등의 웨어러블 디바이스 등을 들 수 있다. 플렉시블 디스플레이로서는, 플렉시블 특성을 갖는 화상 표시장치 전반이다.Examples of image display devices include televisions, smart phones, mobile phones, car navigation systems, tablet PCs, portable game consoles, electronic papers, indicators, bulletin boards, watches, and wearable devices such as smart watches. Flexible displays are all image display devices that have flexible characteristics.

[플렉시블 화상 표시장치][Flexible image display device]

본 발명은, 본 발명의 광학 필름을 구비하는, 플렉시블 화상 표시장치를 포함한다. 본 발명의 광학 필름은, 상기와 같이, 바람직하게는 플렉시블 화상 표시장치에 있어서 전면판으로서 이용되며, 당해 전면판은 윈도 필름이라고 불리는 경우가 있다. 플렉시블 화상 표시장치는, 플렉시블 화상 표시장치용 적층체와, 유기 EL 표시 패널로 이루어지며, 유기 EL 표시 패널에 대해서 시인측에 플렉시블 화상 표시장치용 적층체가 배치되어, 절곡 가능하게 구성되어 있다. 플렉시블 화상 표시장치용 적층체로서는, 윈도 필름, 편광판, 터치 센서를 함유하고 있어도 되고, 그것들의 적층 순서는 임의이지만, 시인측으로부터 윈도 필름, 편광판, 터치 센서 또는 윈도 필름, 터치 센서, 편광판의 순서로 적층되어 있는 것이 바람직하다. 터치 센서의 시인측에 편광판이 존재하면, 터치 센서의 패턴이 시인되기 어려워져 표시 화상의 시인성이 좋아지므로 바람직하다. 각각의 부재는 접착제, 점착제 등을 이용하여 적층할 수 있다. 또, 상기 윈도 필름, 편광판, 터치 센서 중 어느 한 층의 적어도 일면에 형성된 차광 패턴을 구비할 수 있다.The present invention includes a flexible image display device comprising the optical film of the present invention. As described above, the optical film of the present invention is preferably used as a front plate in a flexible image display device, and the front plate may be called a window film. The flexible image display device is made of a flexible image display device laminate and an organic EL display panel. The flexible image display device laminate is disposed on the viewing side with respect to the organic EL display panel and is configured to be bendable. The laminate for a flexible image display device may contain a window film, a polarizer, and a touch sensor, and the order of stacking them is arbitrary; however, the order of the window film, polarizer, and touch sensor or the window film, touch sensor, and polarizer from the viewing side. It is preferable that they are laminated. The presence of a polarizing plate on the viewing side of the touch sensor is preferable because it makes it difficult for the pattern of the touch sensor to be recognized and visibility of the displayed image improves. Each member can be laminated using adhesives, adhesives, etc. Additionally, a light-shielding pattern may be formed on at least one surface of any one of the window film, polarizer, and touch sensor layers.

[편광판][Polarizer]

본 발명의 플렉시블 화상 표시장치는, 상기와 같이, 편광판, 바람직하게는 원편광판을 함유한다. 원편광판은, 직선 편광판에 λ/4 위상차판을 적층하는 것에 의해 우원편광 또는 좌원편광 성분만을 투과시키는 기능을 갖는 기능층이다. 예를 들어 외광을 우원편광으로 변환해 유기 EL패널에서 반사되어 좌원편광이 된 외광을 차단하고, 유기 EL의 발광 성분만을 투과시킴으로써 반사광의 영향을 억제해 화상을 보기 쉽게 하기 위해서 이용된다. 원편광 기능을 달성하기 위해서는, 직선 편광판의 흡수축과 λ/4 위상차판의 지상축(遲相軸)은 이론상 45°일 필요가 있지만, 실용적으로는 45±10°이다. 직선 편광판과 λ/4 위상차판은 반드시 인접하게 적층될 필요는 없고, 흡수축과 지상축의 관계가 상기 설명한 범위를 충족시키면 된다. 전파장에 있어서 완전한 원편광을 달성하는 것이 바람직하지만 실용상 반드시 그러할 필요는 없기 때문에 본 발명에 있어서의 원편광판은 타원 편광판도 포함한다. 직선 편광판의 시인측에 추가로 λ/4위상차 필름을 적층하여, 출사광을 원편광으로 하는 것에 의해 편광 선글라스를 걸친 상태에서의 시인성을 향상시키는 것도 바람직하다.As described above, the flexible image display device of the present invention contains a polarizing plate, preferably a circularly polarizing plate. The circularly polarizing plate is a functional layer that transmits only right-handed or left-handed circularly polarized light components by laminating a λ/4 retardation plate on a linear polarizing plate. For example, it is used to convert external light into right-circularly polarized light, block left-circularly polarized external light reflected from the organic EL panel, and transmit only the organic EL luminescence component to suppress the influence of reflected light and make images easier to see. In order to achieve the circular polarization function, the absorption axis of the linear polarizer and the slow axis of the λ/4 retardation plate need to be 45° in theory, but in practice, they are 45±10°. The linear polarizer and the λ/4 retardation plate do not necessarily have to be stacked adjacently, and the relationship between the absorption axis and the slow axis just needs to satisfy the range described above. Although it is desirable to achieve complete circular polarization in the radio wave field, in practical terms it is not necessarily necessary, so the circular polarizer in the present invention also includes an elliptically polarizer. It is also preferable to further laminate a λ/4 phase difference film on the viewing side of the linear polarizer to change the emitted light into circularly polarized light to improve visibility when wearing polarized sunglasses.

직선 편광판은, 투과축 방향으로 진동하고 있는 광은 통과시키지만, 그것과는 수직인 진동 성분의 편광은 차단하는 기능을 갖는 기능층이다. 상기 직선 편광판은, 직선 편광자 단독 또는 직선 편광자 및 그 적어도 일면에 부착된 보호 필름을 구비한 구성이어도 된다. 상기 직선 편광판의 두께는, 200μm 이하여도 되고, 바람직하게는, 0.5~100μm이다. 두께가 상기의 범위에 있으면 유연성이 저하되기 어려운 경향이 있다.A linear polarizer is a functional layer that allows light vibrating in the direction of the transmission axis to pass, but blocks polarization of a vibration component perpendicular to it. The linear polarizing plate may be comprised of a linear polarizer alone or a linear polarizer and a protective film attached to at least one surface thereof. The thickness of the linear polarizing plate may be 200 μm or less, and is preferably 0.5 to 100 μm. When the thickness is within the above range, flexibility tends to be difficult to deteriorate.

상기 직선 편광자는, 폴리비닐알코올(PVA)계 필름을 염색, 연신함으로써 제조되는 필름형 편광자여도 된다. 연신에 의해 배향한 PVA계 필름에, 아이오딘 등의 2색성 색소가 흡착, 또는 PVA에 흡착한 상태로 연신됨으로써 2색성 색소가 배향하여, 편광 성능을 발휘한다. 상기 필름형 편광자의 제조에 있어서는, 그 밖에 팽윤, 붕산에 의한 가교, 수용액에 의한 세정, 건조 등의 공정을 갖고 있어도 된다. 연신이나 염색 공정은 PVA계 필름 단독으로 행해도 되고, 폴리에틸렌테레프탈레이트와 같은 다른 필름과 적층된 상태로 행할 수도 있다. 이용되는 PVA계 필름의 두께는 바람직하게는 10~100μm이며, 연신 배율은 바람직하게는 2~10배이다.The linear polarizer may be a film-type polarizer manufactured by dyeing and stretching a polyvinyl alcohol (PVA)-based film. A dichroic dye such as iodine is adsorbed to a PVA-based film oriented by stretching, or is stretched while adsorbed on PVA, so that the dichroic dye is oriented and exhibits polarization performance. In the production of the film-type polarizer, other processes such as swelling, crosslinking with boric acid, washing with an aqueous solution, and drying may be performed. Stretching and dyeing processes may be performed on the PVA-based film alone or in a state where it is laminated with another film such as polyethylene terephthalate. The thickness of the PVA-based film used is preferably 10 to 100 μm, and the stretching ratio is preferably 2 to 10 times.

또, 상기 편광자의 다른 일례로서는, 액정 편광 조성물을 도포하여 형성하는 액정 도포형 편광자여도 된다. 상기 액정 편광 조성물은, 액정성 화합물 및 2색성 색소 화합물을 포함할 수 있다. 상기 액정성 화합물은 액정 상태를 나타내는 성질을 갖고 있으면 되고, 특히 스멕틱상 등의 고차의 배향 상태를 갖고 있으면 높은 편광 성능을 발휘할 수 있기 때문에 바람직하다. 또, 액정성 화합물은 중합성 관능기를 갖고 있는 것도 바람직하다.Additionally, another example of the polarizer may be a liquid crystal application-type polarizer formed by applying a liquid crystal polarizing composition. The liquid crystal polarizing composition may include a liquid crystal compound and a dichroic dye compound. The liquid crystalline compound just needs to have the property of showing a liquid crystal state, and in particular, if it has a high-order alignment state such as a smectic phase, it is preferable because it can exhibit high polarization performance. Moreover, it is preferable that the liquid crystalline compound also has a polymerizable functional group.

상기 2색성 색소는, 상기 액정 화합물과 함께 배향하여 2색성을 나타내는 색소로서, 2색성 색소 자신이 액정성을 갖고 있어도 되고, 중합성 관능기를 갖고 있을 수도 있다. 액정 편광 조성물 중 어떤 화합물은 중합성 관능기를 갖고 있다.The dichroic dye is a dye that exhibits dichroism by aligning with the liquid crystal compound, and the dichroic dye itself may have liquid crystallinity or may have a polymerizable functional group. Some compounds in the liquid crystal polarizing composition have a polymerizable functional group.

상기 액정 편광 조성물은 추가로 개시제, 용제, 분산제, 레벨링제, 안정제, 계면활성제, 가교제, 실란 커플링제 등을 포함할 수 있다.The liquid crystal polarizing composition may further include an initiator, solvent, dispersant, leveling agent, stabilizer, surfactant, crosslinking agent, silane coupling agent, etc.

상기 액정 편광층은, 배향막 상에 액정 편광 조성물을 도포하여 액정 편광층을 형성하는 것에 의해 제조된다.The liquid crystal polarizing layer is manufactured by applying a liquid crystal polarizing composition on an alignment film to form a liquid crystal polarizing layer.

액정 편광층은, 필름형 편광자에 비해 두께를 얇게 형성할 수 있다. 상기 액정 편광층의 두께는 바람직하게는 0.5~10μm, 보다 바람직하게는 1~5μm여도 된다.The liquid crystal polarizing layer can be formed to be thinner than the film-type polarizer. The thickness of the liquid crystal polarizing layer is preferably 0.5 to 10 μm, and more preferably 1 to 5 μm.

상기 배향막은, 예를 들면 기재 상에 배향막 형성 조성물을 도포하여, 러빙, 편광 조사 등에 의해 배향성을 부여함으로써 제조할 수 있다. 상기 배향막 형성 조성물은, 배향제 외에 용제, 가교제, 개시제, 분산제, 레벨링제, 실란 커플링제 등을 포함하고 있어도 된다. 상기 배향제로서는, 예를 들면, 폴리비닐알코올류, 폴리아크릴레이트류, 폴리아믹산류, 폴리이미드류를 사용할 수 있다. 광배향을 적용하는 경우에는 신나메이트기를 포함하는 배향제를 사용하는 것이 바람직하다. 상기 배향제로서 사용되는 고분자의 중량 평균 분자량이 10,000~1,000,000 정도여도 된다. 상기 배향막의 두께는, 배향 규제력의 관점에서, 바람직하게는 5~10,000nm, 보다 바람직하게는 10~500nm이다. 상기 액정 편광층은 기재로부터 박리하여 전사해 적층할 수도 있고, 상기 기재를 그대로 적층할 수도 있다. 상기 기재가, 보호 필름이나 위상차판, 윈도의 투명 기재로서의 역할을 하는 것도 바람직하다.The alignment film can be manufactured, for example, by applying an alignment film-forming composition onto a substrate and imparting orientation by rubbing, polarized light irradiation, etc. The alignment film forming composition may contain a solvent, crosslinking agent, initiator, dispersant, leveling agent, silane coupling agent, etc. in addition to the alignment agent. As the alignment agent, for example, polyvinyl alcohol, polyacrylate, polyamic acid, and polyimide can be used. When applying photo-alignment, it is preferable to use an alignment agent containing a cinnamate group. The weight average molecular weight of the polymer used as the alignment agent may be about 10,000 to 1,000,000. The thickness of the alignment film is preferably 5 to 10,000 nm, more preferably 10 to 500 nm, from the viewpoint of orientation regulation force. The liquid crystal polarizing layer may be peeled from the substrate and transferred and laminated, or may be laminated on the substrate as is. It is also preferable that the substrate serves as a transparent substrate for a protective film, retardation plate, or window.

상기 보호 필름으로서는, 투명한 고분자 필름이면 되고, 상기 투명 기재에 사용되는 재료, 첨가제를 사용할 수 있다. 셀룰로오스계 필름, 올레핀계 필름, 아크릴 필름, 폴리에스테르계 필름이 바람직하다. 에폭시 수지 등의 양이온 경화 조성물이나 아크릴레이트 등의 라디칼 경화 조성물을 도포하여 경화시켜 얻어지는 코팅형의 보호 필름이어도 된다. 필요에 따라 가소제, 자외선 흡수제, 적외선 흡수제, 안료나 염료와 같은 착색제, 형광 증백제, 분산제, 열안정제, 광안정제, 대전 방지제, 산화 방지제, 활제, 용제 등을 포함하고 있어도 된다. 상기 보호 필름의 두께는, 200μm 이하여도 되고, 바람직하게는, 1~100μm이다. 상기 보호 필름의 두께가 상기의 범위에 있으면, 보호 필름의 유연성이 저하되기 어렵다. 보호 필름은, 윈도의 투명 기재의 역할을 겸할 수도 있다.As the protective film, any transparent polymer film can be used, and materials and additives used in the transparent substrate can be used. Cellulose-based films, olefin-based films, acrylic films, and polyester-based films are preferable. It may be a coating-type protective film obtained by applying and curing a cationic curing composition such as an epoxy resin or a radical curing composition such as an acrylate. If necessary, it may contain plasticizers, ultraviolet absorbers, infrared absorbers, colorants such as pigments and dyes, fluorescent whitening agents, dispersants, heat stabilizers, light stabilizers, antistatic agents, antioxidants, lubricants, solvents, etc. The thickness of the protective film may be 200 μm or less, and is preferably 1 to 100 μm. If the thickness of the protective film is within the above range, the flexibility of the protective film is unlikely to decrease. The protective film can also serve as a transparent substrate for the window.

상기 λ/4 위상차판은, 입사광의 진행 방향에 직교하는 방향(필름의 면내 방향)으로 λ/4의 위상차를 부여하는 필름이다. 상기 λ/4 위상차판은, 셀룰로오스계 필름, 올레핀계 필름, 폴리카보네이트계 필름 등의 고분자 필름을 연신함으로써 제조되는 연신형 위상차판이어도 된다. 필요에 따라 위상차 조정제, 가소제, 자외선 흡수제, 적외선 흡수제, 안료나 염료와 같은 착색제, 형광 증백제, 분산제, 열안정제, 광안정제, 대전 방지제, 산화 방지제, 활제, 용제 등을 포함하고 있어도 된다. 상기 연신형 위상차판의 두께는, 200μm 이하여도 되고, 바람직하게는 1~100μm이다. 두께가 상기의 범위에 있으면 필름의 유연성이 저하되기 어려운 경향이 있다.The λ/4 retardation plate is a film that provides a λ/4 phase difference in a direction perpendicular to the direction of travel of incident light (in-plane direction of the film). The λ/4 retardation plate may be a stretched type retardation plate manufactured by stretching a polymer film such as a cellulose-based film, an olefin-based film, or a polycarbonate-based film. If necessary, it may contain a phase difference adjuster, plasticizer, ultraviolet absorber, infrared absorber, colorant such as pigment or dye, fluorescent whitening agent, dispersant, heat stabilizer, light stabilizer, antistatic agent, antioxidant, lubricant, solvent, etc. The thickness of the stretched phase difference plate may be 200 μm or less, and is preferably 1 to 100 μm. When the thickness is within the above range, the flexibility of the film tends to be difficult to deteriorate.

또, 상기 λ/4 위상차판의 다른 일례로서는, 액정 조성물을 도포하여 형성하는 액정 도포형 위상차판이어도 된다. 상기 액정 조성물은, 네마틱, 콜레스테릭, 스멕틱 등의 액정 상태를 나타내는 성질을 갖는 액정성 화합물을 포함한다. 액정 조성물 중의 액정성 화합물을 포함하는 어떤 화합물은 중합성 관능기를 갖고 있다. 상기 액정 도포형 위상차판은 추가로 개시제, 용제, 분산제, 레벨링제, 안정제, 계면활성제, 가교제, 실란 커플링제 등을 포함할 수 있다. 상기 액정 도포형 위상차판은, 상기 액정 편광층에서의 기재와 마찬가지로 배향막 상에 액정 조성물을 도포 경화시켜 액정 위상차층을 형성함으로써 제조할 수 있다. 액정 도포형 위상차판은, 연신형 위상차판에 비해 두께를 얇게 형성할 수 있다. 상기 액정 편광층의 두께는, 통상 0.5~10μm, 바람직하게는 1~5μm여도 된다. 상기 액정 도포형 위상차판은 기재로부터 박리하여 전사해 적층할 수도 있고, 상기 기재를 그대로 적층할 수도 있다. 상기 기재가, 보호 필름이나 위상차판, 윈도의 투명 기재로서의 역할을 하는 것도 바람직하다.Additionally, another example of the above λ/4 retardation plate may be a liquid crystal-coated retardation plate formed by applying a liquid crystal composition. The liquid crystal composition includes a liquid crystal compound having properties that exhibit a liquid crystal state such as nematic, cholesteric, or smectic. Some compounds, including liquid crystal compounds in the liquid crystal composition, have a polymerizable functional group. The liquid crystal coated retardation plate may further include an initiator, solvent, dispersant, leveling agent, stabilizer, surfactant, crosslinking agent, silane coupling agent, etc. The liquid crystal coated retardation plate can be manufactured by applying and curing a liquid crystal composition on an alignment film to form a liquid crystal retardation layer, similar to the substrate for the liquid crystal polarizing layer. A liquid crystal-coated retardation plate can be formed to be thinner than a stretched type retardation plate. The thickness of the liquid crystal polarizing layer is usually 0.5 to 10 μm, preferably 1 to 5 μm. The liquid crystal-coated retardation plate may be peeled from the substrate and transferred and laminated, or may be laminated on the substrate as is. It is also preferable that the substrate serves as a transparent substrate for a protective film, retardation plate, or window.

일반적으로는, 단파장일수록 복굴절이 크고 장파장이 될수록 작은 복굴절을 나타내는 재료가 많다. 이 경우에는 전가시광 영역에서 λ/4의 위상차를 달성할 수 없기 때문에, 시감도가 높은 560nm 부근에 대해서 λ/4가 되는 면내 위상차 100~180nm, 바람직하게는 130~150nm가 되도록 설계되는 경우가 많다. 통상과는 반대의 복굴절률 파장 분산 특성을 갖는 재료를 이용한 역분산 λ/4 위상차판을 이용하는 것은 시인성을 양호하게 할 수 있으므로 바람직하다. 이러한 재료로서는 연신형 위상차판의 경우는 일본 공개특허공보 2007-232873호 등, 액정 도포형 위상차판의 경우에는 일본 공개특허공보 2010-30979호에 기재되어 있는 것을 이용하는 것도 바람직하다.In general, the shorter the wavelength, the greater the birefringence, and the longer the wavelength, the smaller the birefringence. In this case, since a phase difference of λ/4 cannot be achieved in the entire visible light region, it is often designed to have an in-plane phase difference of 100 to 180 nm, preferably 130 to 150 nm, which is λ/4 around 560 nm, where visibility is high. . It is preferable to use an inverse dispersion λ/4 retardation plate using a material with a birefringence wavelength dispersion characteristic opposite to that of usual because it can improve visibility. As such materials, it is also preferable to use those described in Japanese Patent Application Publication No. 2007-232873 for stretched type retardation plates, and those described in Japanese Patent Application Publication No. 2010-30979 for liquid crystal-coated retardation plates.

또, 다른 방법으로서는 λ/2 위상차판과 조합함으로써 광대역 λ/4 위상차판을 얻는 기술도 알려져 있다(일본 공개특허공보 평10-90521호). λ/2 위상차판도 λ/4 위상차판과 마찬가지의 재료 방법으로 제조된다. 연신형 위상차판과 액정 도포형 위상차판의 조합은 임의이지만, 어느쪽도 액정 도포형 위상차판을 이용하는 것은 두께를 얇게 할 수 있으므로 바람직하다.Additionally, as another method, a technique for obtaining a broadband λ/4 retardation plate by combining it with a λ/2 retardation plate is also known (Japanese Patent Publication No. Hei 10-90521). The λ/2 retardation plate is also manufactured using the same material method as the λ/4 retardation plate. The combination of the stretched retardation plate and the liquid crystal-coated retardation plate is arbitrary, but it is preferable to use the liquid crystal-coated retardation plate for both because the thickness can be reduced.

상기 원편광판에는 경사 방향의 시인성을 높이기 위해, 정(正)의 C플레이트를 적층하는 방법도 알려져 있다(일본 공개특허공보 2014-224837호). 정의 C플레이트도 액정 도포형 위상차판이어도 되고 연신형 위상차판이어도 된다. 두께 방향의 위상차는 -200~-20nm 바람직하게는 -140~-40nm이다.There is also a known method of laminating positive C plates on the circular polarizer plate to increase visibility in the oblique direction (Japanese Patent Publication No. 2014-224837). The positive C plate may also be a liquid crystal-coated retardation plate or a stretched type retardation plate. The phase difference in the thickness direction is -200 to -20 nm, preferably -140 to -40 nm.

[터치 센서][Touch sensor]

본 발명의 플렉시블 화상 표시장치는, 상기와 같이, 터치 센서를 함유한다. 터치 센서는 입력 수단으로서 이용된다. 터치 센서로서는, 저항막 방식, 표면 탄성파 방식, 적외선 방식, 전자 유도 방식, 정전 용량 방식 등 다양한 양식이 제안되고 있으며, 어떤 방식이어도 상관없다. 그 중에서도 정전 용량 방식이 바람직하다. 정전 용량 방식 터치 센서는 활성 영역 및 상기 활성 영역의 외곽부에 위치하는 비활성 영역으로 구분된다. 활성 영역은 표시 패널에서 화면이 표시되는 영역(표시부)에 대응하는 영역으로서, 사용자의 터치가 감지되는 영역이며, 비활성 영역은 표시장치에서 화면이 표시되지 않는 영역(비표시부)에 대응하는 영역이다. 터치 센서는 플렉시블 특성을 갖는 기판과; 상기 기판의 활성 영역에 형성된 감지 패턴과; 상기 기판의 비활성 영역에 형성되고, 상기 감지 패턴과 패드부를 통하여 외부의 구동 회로와 접속하기 위한 각 센싱 라인을 포함할 수 있다. 플렉시블 특성을 갖는 기판으로서는, 상기 윈도의 투명 기판과 마찬가지의 재료를 사용할 수 있다. 터치 센서의 기판은, 그 인성(靭性)이 2,000MPa% 이상인 것이 터치 센서의 크랙 억제의 면에서 바람직하다. 보다 바람직하게는 인성이 2,000~30,000MPa%여도 된다. 여기에서, 인성은, 고분자 재료의 인장 실험을 통해서 얻어지는 응력(MPa)-변형(%) 곡선(Stress-strain curve)에서 파괴점까지의 곡선의 하부 면적으로서 정의된다.The flexible image display device of the present invention contains a touch sensor as described above. A touch sensor is used as an input means. As a touch sensor, various styles have been proposed, such as a resistive film type, surface acoustic wave type, infrared type, electromagnetic induction type, and capacitance type, and any type may be used. Among them, the electrostatic capacitance method is preferable. A capacitive touch sensor is divided into an active area and an inactive area located on the outside of the active area. The active area is the area corresponding to the area where the screen is displayed (display area) on the display panel, and is the area where the user's touch is detected, and the inactive area is the area corresponding to the area where the screen is not displayed (non-display area) on the display device. . The touch sensor includes a substrate having flexible characteristics; a sensing pattern formed in an active area of the substrate; It is formed in an inactive area of the substrate and may include each sensing line for connection to an external driving circuit through the sensing pattern and pad portion. As a substrate having flexible characteristics, the same material as the transparent substrate of the window can be used. The substrate of the touch sensor preferably has a toughness of 2,000 MPa% or more from the viewpoint of suppressing cracks in the touch sensor. More preferably, the toughness may be 2,000 to 30,000 MPa%. Here, toughness is defined as the area under the curve from the stress (MPa)-strain (%) curve to the breaking point obtained through tensile testing of polymer materials.

상기 감지 패턴은, 제1 방향으로 형성된 제1 패턴 및 제2 방향으로 형성된 제2 패턴을 구비할 수 있다. 제1 패턴과 제2 패턴은 서로 다른 방향으로 배치된다. 제1 패턴 및 제2 패턴은 동일층에 형성되며, 터치되는 지점을 감지하기 위해서는, 각각의 패턴이 전기적으로 접속되어야 한다. 제1 패턴은 각 단위 패턴이 이음매를 통하여 서로 접속된 형태이지만, 제2 패턴은 각 단위 패턴이 아일랜드 형태로 서로 분리된 구조로 되어 있으므로, 제2 패턴을 전기적으로 접속하기 위해서는 별도의 브리지 전극이 필요하다. 감지 패턴은 주지의 투명 전극 소재를 적용할 수 있다. 예를 들면, 인듐 주석 산화물(ITO), 인듐 아연 산화물(IZO), 아연 산화물(ZnO), 인듐 아연 주석 산화물(IZTO), 인듐 갈륨 아연 산화물(IGZO), 카드뮴 주석 산화물(CTO), PEDOT(poly(3,4-ethylenedioxythiophene)), 탄소 나노 튜브(CNT), 그래핀, 금속 와이어 등을 들 수 있고, 이것들은 단독 또는 2종 이상 혼합해서 사용할 수 있다. 바람직하게는 ITO를 사용할 수 있다. 금속 와이어에 사용되는 금속은 특별히 한정되지 않고, 예를 들면, 은, 금, 알루미늄, 구리, 철, 니켈, 티타늄, 셀레늄, 크로뮴 등을 들 수 있다. 이것들은 단독 또는 2종 이상 혼합해서 사용할 수 있다.The sensing pattern may include a first pattern formed in a first direction and a second pattern formed in a second direction. The first pattern and the second pattern are arranged in different directions. The first pattern and the second pattern are formed on the same layer, and in order to detect a touched point, each pattern must be electrically connected. In the first pattern, each unit pattern is connected to each other through a seam, but in the second pattern, each unit pattern is separated from each other in the form of an island, so a separate bridge electrode is required to electrically connect the second pattern. need. The sensing pattern can be made of a known transparent electrode material. For example, indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), zinc oxide (ZnO), indium zinc tin oxide (IZTO), indium gallium zinc oxide (IGZO), cadmium tin oxide (CTO), PEDOT (poly (3,4-ethylenedioxythiophene)), carbon nanotubes (CNT), graphene, metal wire, etc., and these can be used alone or in a mixture of two or more types. Preferably, ITO can be used. The metal used in the metal wire is not particularly limited, and examples include silver, gold, aluminum, copper, iron, nickel, titanium, selenium, and chromium. These can be used individually or in combination of two or more types.

브리지 전극은 감지 패턴 상부에 절연층을 통하여 상기 절연층 상부에 형성할 수 있으며, 기판 상에 브리지 전극이 형성되어 있고, 그 위에 절연층 및 감지 패턴을 형성할 수 있다. 상기 브리지 전극은 감지 패턴과 같은 소재로 형성할 수도 있으며, 몰리브데넘, 은, 알루미늄, 구리, 팔라듐, 금, 백금, 아연, 주석, 티타늄 또는 이것들 중 2종 이상의 합금 등의 금속으로 형성할 수도 있다. 제1 패턴과 제2 패턴은 전기적으로 절연되어야 하기 때문에, 감지 패턴과 브리지 전극의 사이에는 절연층이 형성된다. 절연층은 제1 패턴의 이음매와 브리지 전극의 사이에만 형성할 수도 있고, 감지 패턴을 덮는 층의 구조로 형성할 수도 있다. 후자의 경우는, 브리지 전극은 절연층에 형성된 컨택트홀을 통하여 제2 패턴을 접속할 수 있다. 상기 터치 센서는 패턴이 형성된 패턴 영역과, 패턴이 형성되어 있지 않은 비패턴 영역 간의 투과율의 차, 구체적으로는, 이들 영역에 있어서의 굴절률의 차에 의해 유발되는 광투과율의 차를 적절히 보상하기 위한 수단으로서 기판과 전극의 사이에 광학 조절층을 추가로 포함할 수 있으며, 상기 광학 조절층은 무기 절연물질 또는 유기 절연물질을 포함할 수 있다. 광학 조절층은 광경화성 유기 바인더 및 용제를 포함하는 광경화 조성물을 기판 상에 코팅하여 형성할 수 있다. 상기 광경화 조성물은 무기 입자를 추가로 포함할 수 있다. 상기 무기 입자에 의해 광학 조절층의 굴절률이 상승할 수 있다.A bridge electrode can be formed on top of the insulating layer through an insulating layer on top of the sensing pattern. The bridge electrode can be formed on a substrate, and the insulating layer and sensing pattern can be formed on it. The bridge electrode may be formed of the same material as the sensing pattern, or may be formed of a metal such as molybdenum, silver, aluminum, copper, palladium, gold, platinum, zinc, tin, titanium, or an alloy of two or more of these. there is. Since the first pattern and the second pattern must be electrically insulated, an insulating layer is formed between the sensing pattern and the bridge electrode. The insulating layer may be formed only between the seam of the first pattern and the bridge electrode, or may be formed as a layer covering the sensing pattern. In the latter case, the bridge electrode can connect the second pattern through a contact hole formed in the insulating layer. The touch sensor is used to properly compensate for the difference in transmittance between the patterned area and the non-patterned area, specifically, the difference in light transmittance caused by the difference in refractive index in these areas. As a means, an optical control layer may be further included between the substrate and the electrode, and the optical control layer may include an inorganic insulating material or an organic insulating material. The optical adjustment layer can be formed by coating a photocurable composition containing a photocurable organic binder and a solvent on a substrate. The photocurable composition may further include inorganic particles. The refractive index of the optical adjustment layer may be increased by the inorganic particles.

상기 광경화성 유기 바인더는, 예를 들면, 아크릴레이트계 단량체, 스티렌계 단량체, 카르복실산계 단량체 등의 각 단량체의 공중합체를 포함할 수 있다. 상기 광경화성 유기 바인더는, 예를 들면, 에폭시기 함유 반복 단위, 아크릴레이트 반복 단위, 카르복실산 반복 단위 등의 서로 다른 각 반복 단위를 포함하는 공중합체여도 된다.The photocurable organic binder may include, for example, a copolymer of each monomer, such as an acrylate-based monomer, a styrene-based monomer, and a carboxylic acid-based monomer. The photocurable organic binder may be, for example, a copolymer containing different repeating units such as an epoxy group-containing repeating unit, an acrylate repeating unit, and a carboxylic acid repeating unit.

상기 무기 입자는, 예를 들면, 지르코니아 입자, 티타니아 입자, 알루미나 입자 등을 포함할 수 있다. 상기 광경화 조성물은, 광중합 개시제, 중합성 모노머, 경화 보조제 등의 각 첨가제를 추가로 포함할 수도 있다.The inorganic particles may include, for example, zirconia particles, titania particles, alumina particles, etc. The photocurable composition may further include additives such as a photopolymerization initiator, polymerizable monomer, and curing aid.

[접착층][Adhesive layer]

상기 플렉시블 화상 표시장치용 적층체를 형성하는 각층(윈도, 원편광판, 터치 센서)와, 각층을 구성하는 필름 부재(직선 편광판, λ/4 위상차판 등)는 접착제에 의해 형성할 수 있다. 접착제로서는, 수계 접착제, 수계 용제 휘산형 접착제, 유기 용제계, 무용제계 접착제, 고체 접착제, 용제 휘산형 접착제, 습기 경화형 접착제, 가열 경화형 접착제, 혐기 경화형, 활성 에너지선 경화형 접착제, 경화제 혼합형 접착제, 열용융형 접착제, 감압형 접착제(점착제), 재습형 접착제 등 범용으로 사용되고 있는 것을 사용할 수 있다. 그 중에서도 수계 용제 휘산형 접착제, 활성 에너지선 경화형 접착제, 점착제가 잘 이용된다. 접착제층의 두께는, 요구되는 접착력 등에 따라 적절히 조절할 수 있고, 0.01~500μm, 바람직하게는 0.1~300μm이며, 상기 플렉시블 화상 표시장치용 적층체에는 복수 존재하지만 각각의 두께 및 이용되는 점착제의 종류는 같아도 되고 달라도 된다.Each layer (window, circular polarizer, touch sensor) forming the laminate for the flexible image display device and the film member (linear polarizer, λ/4 retardation plate, etc.) constituting each layer can be formed with an adhesive. Adhesives include water-based adhesives, water-based solvent volatilizing adhesives, organic solvent-based adhesives, solvent-free adhesives, solid adhesives, solvent volatilizing adhesives, moisture-curing adhesives, heat-curing adhesives, anaerobic curing types, active energy ray-curing adhesives, hardener mixed adhesives, and heat-curing adhesives. General-purpose adhesives such as melt-type adhesives, pressure-sensitive adhesives (adhesives), and rewetting-type adhesives can be used. Among them, water-based solvent vaporizing adhesives, active energy ray curing adhesives, and adhesives are often used. The thickness of the adhesive layer can be appropriately adjusted depending on the required adhesive strength, etc., and is 0.01 to 500 μm, preferably 0.1 to 300 μm. There are multiple layers in the above laminate for a flexible image display device, but each thickness and the type of adhesive used are It can be the same or different.

상기 수계 용제 휘산형 접착제로서는 폴리비닐알코올계 폴리머, 전분 등의 수용성 폴리머, 에틸렌-아세트산 비닐계 에멀젼, 스티렌-부타디엔계 에멀젼 등 수분산 상태의 폴리머를 주제 폴리머로서 사용할 수 있다. 물, 상기 주제 폴리머에 더해, 가교제, 실란계 화합물, 이온성 화합물, 가교 촉매, 산화 방지제, 염료, 안료, 무기 필러, 유기 용제 등을 배합해도 된다. 상기 수계 용제 휘산형 접착제에 의해 접착하는 경우, 상기 수계 용제 휘산형 접착제를 피접착층 간에 주입해 피착층을 첩합(貼合)한 후, 건조시킴으로써 접착성을 부여할 수 있다. 상기 수계 용제 휘산형 접착제를 이용하는 경우의 접착층의 두께는 0.01~10μm, 바람직하게는 0.1~1μm여도 된다. 상기 수계 용제 휘산형 접착제를 복수층의 형성에 이용하는 경우, 각각의 층의 두께 및 상기 접착제의 종류는 같아도 되고 달라도 된다.As the water-based solvent vaporizing adhesive, water-soluble polymers such as polyvinyl alcohol-based polymers and starch, ethylene-vinyl acetate-based emulsions, and styrene-butadiene-based emulsions can be used as the main polymer. In addition to water and the above-described main polymer, cross-linking agents, silane compounds, ionic compounds, cross-linking catalysts, antioxidants, dyes, pigments, inorganic fillers, organic solvents, etc. may be added. In the case of bonding using the water-based solvent volatilizing adhesive, adhesiveness can be imparted by injecting the water-based solvent volatilizing adhesive between the bonded layers, bonding the bonded layers, and then drying them. When using the water-based solvent volatilizing adhesive, the thickness of the adhesive layer may be 0.01 to 10 μm, preferably 0.1 to 1 μm. When the water-based solvent volatilizing adhesive is used to form multiple layers, the thickness of each layer and the type of the adhesive may be the same or different.

상기 활성 에너지선 경화형 접착제는, 활성 에너지선을 조사하여 접착제층을 형성하는 반응성 재료를 포함하는 활성 에너지선 경화 조성물의 경화에 의해 형성할 수 있다. 상기 활성 에너지선 경화 조성물은, 하드 코팅 조성물과 마찬가지의 라디칼 중합성 화합물 및 양이온 중합성 화합물의 적어도 1종의 중합물을 함유할 수 있다. 상기 라디칼 중합성 화합물이란, 하드 코팅 조성물과 마찬가지이며, 하드 코팅 조성물과 마찬가지의 종류의 것을 사용할 수 있다. 접착층에 이용되는 라디칼 중합성 화합물로서는 아크릴로일기를 갖는 화합물이 바람직하다. 접착제 조성물로서의 점도를 낮추기 위해 단관능의 화합물을 포함하는 것도 바람직하다.The active energy ray-curable adhesive can be formed by curing an active energy ray-curable composition containing a reactive material that forms an adhesive layer by irradiating active energy rays. The active energy ray curable composition may contain at least one type of polymer of a radically polymerizable compound and a cationically polymerizable compound similar to the hard coating composition. The radically polymerizable compound is the same as that of the hard coating composition, and the same type of compound as the hard coating composition can be used. As a radically polymerizable compound used in the adhesive layer, a compound having an acryloyl group is preferable. It is also preferable to include a monofunctional compound in order to lower the viscosity of the adhesive composition.

상기 양이온 중합성 화합물은, 하드 코팅 조성물과 마찬가지이며, 하드 코팅 조성물과 마찬가지의 종류의 것을 사용할 수 있다. 활성 에너지선 경화 조성물에 이용되는 양이온 중합성 화합물로서는, 에폭시 화합물이 특히 바람직하다. 접착제 조성물로서의 점도를 낮추기 위해 단관능의 화합물을 반응성 희석제로서 포함하는 것도 바람직하다.The cationically polymerizable compound is the same as that of the hard coating composition, and the same type of compound as the hard coating composition can be used. As a cationically polymerizable compound used in an active energy ray curable composition, an epoxy compound is particularly preferable. In order to lower the viscosity of the adhesive composition, it is also preferable to include a monofunctional compound as a reactive diluent.

활성 에너지선 조성물에는 중합 개시제를 추가로 포함할 수 있다. 중합 개시제로서는, 라디칼 중합 개시제, 양이온 중합 개시제, 라디칼 및 양이온 중합 개시제 등이며, 적절히 선택해 이용할 수 있다. 이들 중합 개시제는, 활성 에너지선 조사 및 가열 중 적어도 일종에 의해 분해되어, 라디칼 또는 양이온을 발생시켜 라디칼 중합과 양이온 중합을 진행시키는 것이다. 하드 코팅 조성물의 기재 중에서 활성 에너지선 조사에 의해 라디칼 중합 또는 양이온 중합 중 적어도 어느 하나를 개시할 수 있는 개시제를 사용할 수 있다.The active energy ray composition may further include a polymerization initiator. Polymerization initiators include radical polymerization initiators, cationic polymerization initiators, radical and cationic polymerization initiators, and can be appropriately selected and used. These polymerization initiators are decomposed by at least one of active energy ray irradiation and heating to generate radicals or cations to advance radical polymerization and cationic polymerization. Among the base materials of the hard coating composition, an initiator capable of initiating at least one of radical polymerization or cationic polymerization by irradiation with active energy rays can be used.

상기 활성 에너지선 경화 조성물은 추가로, 이온 포착제, 산화 방지제, 연쇄 이동제, 밀착 부여제, 열가소성 수지, 충전제, 유동 점도 조정제, 가소제, 소포제 용제, 첨가제, 용제를 포함할 수 있다. 상기 활성 에너지선 경화형 접착제에 의해 접착하는 경우, 상기 활성 에너지선 경화 조성물을 피접착층 중 어느 한쪽 또는 양쪽 모두에 도포 후 첩합해, 어느 한 피착층 또는 양쪽 피착층을 통해 활성 에너지선을 조사하여 경화시킴으로써 접착할 수 있다. 상기 활성 에너지선 경화형 접착제를 이용하는 경우의 접착층의 두께는 0.01~20μm, 바람직하게는 0.1~10μm여도 된다. 상기 활성 에너지선 경화형 접착제를 복수층의 형성에 이용하는 경우에는, 각각의 층의 두께 및 이용되는 접착제의 종류는 같아도 되고 달라도 된다.The active energy ray cured composition may further include an ion trap, antioxidant, chain transfer agent, adhesion imparting agent, thermoplastic resin, filler, flow viscosity modifier, plasticizer, antifoam solvent, additive, and solvent. In the case of bonding with the active energy ray curable adhesive, the active energy ray curable composition is applied to one or both of the adhered layers and then bonded, and cured by irradiating active energy rays through one or both adhered layers. It can be bonded by doing so. When using the active energy ray curable adhesive, the thickness of the adhesive layer may be 0.01 to 20 μm, preferably 0.1 to 10 μm. When the active energy ray-curable adhesive is used to form multiple layers, the thickness of each layer and the type of adhesive used may be the same or different.

상기 점착제로서는, 주제 폴리머에 따라, 아크릴계 점착제, 우레탄계 점착제, 고무계 점착제, 실리콘계 점착제 등으로 분류되며 어느 것을 사용할 수도 있다. 점착제에는 주제 폴리머에 더해, 가교제, 실란계 화합물, 이온성 화합물, 가교 촉매, 산화 방지제, 점착 부여제, 가소제, 염료, 안료, 무기 필러 등을 배합해도 된다. 상기 점착제를 구성하는 각 성분을 용제에 용해·분산시켜 점착제 조성물을 얻어, 당해 점착제 조성물을 기재 상에 도포한 후에 건조시킴으로써, 점착제층 접착층이 형성된다. 점착층은 직접 형성되어도 되고, 별도 기재에 형성한 것을 전사할 수도 있다. 접착 전의 점착면을 커버하기 위해서는 이형 필름을 사용하는 것도 바람직하다. 상기 점착제를 이용하는 경우의 접착층의 두께는 1~500μm, 바람직하게는 2~300μm여도 된다. 상기 점착제를 복수층의 형성에 이용하는 경우, 각각의 층의 두께 및 이용되는 점착제의 종류는 같아도 되고 달라도 된다.The adhesive is classified into acrylic adhesive, urethane adhesive, rubber adhesive, silicone adhesive, etc., depending on the main polymer, and any one can be used. In addition to the main polymer, the adhesive may contain a crosslinking agent, silane compound, ionic compound, crosslinking catalyst, antioxidant, tackifier, plasticizer, dye, pigment, inorganic filler, etc. Each component constituting the adhesive is dissolved and dispersed in a solvent to obtain an adhesive composition, and the adhesive composition is applied to a substrate and then dried to form an adhesive layer. The adhesive layer may be formed directly, or may be formed separately on a substrate and transferred thereto. It is also desirable to use a release film to cover the adhesive surface before adhesion. When using the adhesive, the thickness of the adhesive layer may be 1 to 500 μm, preferably 2 to 300 μm. When the adhesive is used to form multiple layers, the thickness of each layer and the type of adhesive used may be the same or different.

[차광 패턴][Light blocking pattern]

상기 차광 패턴은 상기 플렉시블 화상 표시장치의 베젤 또는 하우징의 적어도 일부로서 적용할 수 있다. 차광 패턴에 의해 상기 플렉시블 화상 표시장치의 변연부(邊緣部)에 배치되는 배선이 가려져 시인되기 어렵게 함으로써, 화상의 시인성이 향상된다. 상기 차광 패턴은 단층 또는 복층의 형태여도 된다. 차광 패턴의 컬러는 특별히 제한되지 않고, 흑색, 백색, 금속색 등의 다양한 컬러를 가질 수 있다. 차광 패턴은 컬러를 구현하기 위한 안료와, 아크릴계 수지, 에스테르계 수지, 에폭시계 수지, 폴리우레탄, 실리콘 등의 고분자로 형성할 수 있다. 이것들 단독 또는 2종류 이상의 혼합물로 사용할 수도 있다. 상기 차광 패턴은, 인쇄, 리소그래피, 잉크젯 등 각종의 방법으로 형성할 수 있다. 차광 패턴의 두께는, 통상 1~100μm, 바람직하게는 2~50μm이다. 또, 광패턴의 두께 방향으로 경사 등의 형상을 부여하는 것도 바람직하다.The light blocking pattern can be applied as at least a part of the bezel or housing of the flexible image display device. The light-shielding pattern obscures the wiring disposed at the edge of the flexible image display device and makes it difficult to see, thereby improving image visibility. The light-shielding pattern may be in the form of a single layer or a double layer. The color of the light-shielding pattern is not particularly limited, and may have various colors such as black, white, and metallic color. The light-shielding pattern can be formed with pigments to implement color and polymers such as acrylic resin, ester resin, epoxy resin, polyurethane, and silicone. These may be used alone or in a mixture of two or more types. The light-shielding pattern can be formed by various methods such as printing, lithography, and inkjet. The thickness of the light-shielding pattern is usually 1 to 100 μm, preferably 2 to 50 μm. Additionally, it is also desirable to provide a shape such as an inclination in the thickness direction of the optical pattern.

실시예Example

이하, 실시예 및 비교예에 근거하여 본 발명을 보다 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이하의 실시예로 한정되는 것은 아니다. 예 중의 「%」 및 「부」는, 특별히 설명하지 않는 한, 질량% 및 질량부를 의미한다. 우선 측정 및 평가방법에 대해 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on examples and comparative examples, but the present invention is not limited to the following examples. “%” and “part” in the examples mean mass% and mass part, unless otherwise specified. First, the measurement and evaluation methods are explained.

<실리카 입자의 일차 입자경><Primary particle size of silica particles>

실시예 및 비교예에 있어서의 실리카 입자의 일차 입자경은 BET법으로 측정 평가했다.The primary particle diameter of the silica particles in the examples and comparative examples was measured and evaluated by the BET method.

<헤이즈(Haze)><Haze>

JIS K 7136:2000에 준거하여, 실시예 및 비교예에서 얻어진 광학 필름을 30mm×30mm의 크기로 절단하고, 헤이즈 컴퓨터(스가 시험기(주)(Suga Test Instruments Co.,Ltd.)제, 「HGM-2DP」)를 이용하여 헤이즈(%)를 측정했다.In accordance with JIS K 7136:2000, the optical films obtained in Examples and Comparative Examples were cut to a size of 30 mm Haze (%) was measured using “-2DP”).

<황색도(YI값)><Yellowness (YI value)>

실시예 및 비교예에서 얻어진 광학 필름의 황색도(Yellow Index: YI값)를, 일본 분광(주)(JASCO Corporation)제의 자외 가시 근적외 분광 광도계 「V-670」을 이용하여 측정했다. 샘플이 없는 상태에서 백그라운드 측정을 행한 후, 광학 필름을 샘플 홀더에 세팅하여, 300~800nm의 광에 대한 투과율 측정을 행하여, 3자극값(X, Y, Z)을 구하고, 하기 식에 근거하여 YI값을 산출했다.The yellowness (Yellow Index: YI value) of the optical films obtained in the examples and comparative examples was measured using an ultraviolet, visible, and near-infrared spectrophotometer "V-670" manufactured by JASCO Corporation. After performing a background measurement in the absence of a sample, the optical film is set in the sample holder, the transmittance for light of 300 to 800 nm is measured, the three stimulus values (X, Y, Z) are obtained, and based on the formula below: YI values were calculated.

YI=100×(1.2769X-1.0592Z)/YYI=100×(1.2769X-1.0592Z)/Y

<전광선 투과율(Tt)><Total light transmittance (Tt)>

JIS K 7361-1:1997에 준거하여, 실시예 및 비교예에서 얻어진 광학 필름을 30mm×30mm의 크기로 절단하고, 헤이즈 컴퓨터(스가 시험기(주)제, 「HGM-2DP」)를 이용하여, 광학 필름의 두께 50μm에 있어서의 전광선 투과율(%)을 측정했다.In accordance with JIS K 7361-1:1997, the optical films obtained in Examples and Comparative Examples were cut to a size of 30 mm × 30 mm, using a Haze computer (Suga Testing Machine Co., Ltd., “HGM-2DP”), The total light transmittance (%) at a thickness of 50 μm of the optical film was measured.

<내충격성 시험><Impact resistance test>

·내충격성 평가용 샘플의 제작· Production of samples for impact resistance evaluation

교반기, 온도계, 환류 냉각기, 적하 장치 및 질소 도입관을 구비한 반응 용기에, 아크릴산 n-부틸 97.0질량부, 아크릴산 1.0질량부, 아크릴산 2-히드록시에틸0.5질량부, 아세트산 에틸 200질량부, 및 2,2'-아조비스이소부티로니트릴 0.08질량부를 도입하여, 상기 반응 용기 내의 공기를 질소 가스로 치환했다. 질소 분위기하에서 교반하면서, 반응 용액을 60℃로 승온시키고, 6시간 반응시킨 후, 실온까지 냉각했다. 얻어진 용액의 일부의 중량 평균 분자량을 측정한 바, 1,800,000의 (메트)아크릴산 에스테르 중합체의 생성을 확인했다.In a reaction vessel equipped with a stirrer, thermometer, reflux condenser, dropping device, and nitrogen introduction tube, 97.0 parts by mass of n-butyl acrylate, 1.0 part by mass of acrylic acid, 0.5 part by mass of 2-hydroxyethyl acrylate, 200 parts by mass of ethyl acetate, and 0.08 parts by mass of 2,2'-azobisisobutyronitrile was introduced, and the air in the reaction vessel was replaced with nitrogen gas. While stirring in a nitrogen atmosphere, the reaction solution was heated to 60°C, reacted for 6 hours, and then cooled to room temperature. The weight average molecular weight of a portion of the obtained solution was measured, and the production of a (meth)acrylic acid ester polymer of 1,800,000 was confirmed.

상기 공정에서 얻어진 (메트)아크릴산 에스테르 중합체 100질량부(고형분 환산값; 이하 동일)와, 이소시아네이트계 가교제로서 트리메틸올프로판 변성 톨릴렌디이소시아네이트(도소(주)(Tosoh Corporation)제, 상품명 「콜로네이트(등록상표) L」) 0.30질량부와, 실란 커플링제로서 3-글리시독시프로필트리메톡시실란(신에쓰 화학 공업(주)(Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)제, 상품명 「KBM403」) 0.30질량부를 혼합하여, 충분히 교반하고, 아세트산 에틸로 희석하는 것에 의해, 점착제 조성물의 도공 용액을 얻었다.100 parts by mass of the (meth)acrylic acid ester polymer obtained in the above process (solid content conversion value; the same below), and trimethylolpropane-modified tolylene diisocyanate (manufactured by Tosoh Corporation, brand name "Colonate ()) as an isocyanate-based crosslinking agent. Registered trademark) L") 0.30 parts by mass, and 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., brand name "KBM403") as a silane coupling agent. ) 0.30 parts by mass was mixed, sufficiently stirred, and diluted with ethyl acetate to obtain a coating solution of the adhesive composition.

세퍼레이터(린텍(주)(LINTEC Corporation)제: SP-PLR382190)의 이형 처리면(박리층면)에, 어플리케이터에 의해, 건조 후의 두께가 25μm가 되도록 상기 도공 용액을 도공한 후, 100℃에서 1분간 건조시켜, 점착제층의 세퍼레이터가 첩합된 면과는 반대면에, 다른 1매의 세퍼레이터(린텍(주)제: SP-PLR381031)를 첩합해, 양면 세퍼레이터를 구비한 점착제층을 얻었다.The above coating solution was applied to the release surface (release layer surface) of the separator (LINTEC Corporation: SP-PLR382190) using an applicator so that the thickness after drying was 25 μm, and then applied at 100°C for 1 minute. After drying, another separator (SP-PLR381031, manufactured by Lintec Co., Ltd.) was bonded to the side opposite to the side of the adhesive layer to which the separator was bonded, to obtain an adhesive layer provided with a double-sided separator.

양면 세퍼레이터를 구비한 점착제층으로부터 점착제층을 유리에 이착(移着)함으로써 점착제층을 형성하고, 당해 점착제층 상에 실시예 및 비교예에서 얻어진 광학 필름을 첩합하여, 유리, 점착제층, 및 광학 필름이 이 순서로 적층된 적층체(내충격성 평가용 샘플)를 얻었다.A pressure-sensitive adhesive layer is formed by transferring the pressure-sensitive adhesive layer to glass from the pressure-sensitive adhesive layer provided with a double-sided separator, and the optical films obtained in Examples and Comparative Examples are bonded on the pressure-sensitive adhesive layer to form glass, pressure-sensitive adhesive layer, and optical film. A laminate (sample for impact resistance evaluation) in which the films were laminated in this order was obtained.

·내충격성 평가·Impact resistance evaluation

내충격성을 평가했다. 구체적으로는, 상기 적층체(내충격성 평가용 샘플)의 광학 필름면 상에 10cm의 높이로부터 추를 낙하시켜 패임을 만들었다. 추는, 질량 4.6g, 당해 광학 필름면에 충돌하는 개소가 직경 0.75mm의 구형으로, 스테인리스제이다. 이어서, 광간섭 막후계((주)료카 시스템사(Ryoka Systems Inc.)제, 「Micromap(MM557N-M100형)」)를 이용하여 광학 필름 표면의 상기 패임의 형상의 관찰을 행하여, 시험 전의 패이지 않은 상태의 필름 표면을 기준으로, 가장 크게 패인 점의 깊이(시험 전의 패이지 않은 상태의 필름 표면으로부터 가장 크게 패인 점까지의 최단 거리)를 계측했다. 측정은 5회 반복해서 행하여, 패임 깊이의 평균값을 내충격성 시험에 있어서의 패임량으로 했다.Impact resistance was evaluated. Specifically, a weight was dropped from a height of 10 cm on the optical film surface of the laminate (sample for impact resistance evaluation) to create a dent. The weight has a mass of 4.6 g, the point where it impacts the optical film surface is a sphere with a diameter of 0.75 mm, and is made of stainless steel. Next, the shape of the depression on the surface of the optical film was observed using an optical interference film thickness meter (“Micromap (MM557N-M100 type)” manufactured by Ryoka Systems Inc.), and the page before the test was observed. The depth of the largest dent (the shortest distance from the undented film surface before the test to the largest dent) was measured based on the undented film surface. The measurement was repeated 5 times, and the average value of the dent depth was taken as the dent amount in the impact resistance test.

<충격 피로 시험><Impact fatigue test>

충격 피로 시험을 행했다. 구체적으로는, 실시예 및 비교예에서 얻어진 광학 필름을 유리기판 상에 설치해, 당해 필름면 상의 직경 8mm의 범위 내에, 높이 10cm의 위치로부터 추를 낙하시키는 조작을 20회 반복해서 실시했다. 추는, 질량 4.6g, 당해 광학 필름면에 충돌하는 개소가 직경 0.75mm의 구형으로, 스테인리스제이다.An impact fatigue test was performed. Specifically, the optical films obtained in the examples and comparative examples were placed on a glass substrate, and the operation of dropping a weight from a position of 10 cm in height within a diameter of 8 mm on the film surface was repeated 20 times. The weight has a mass of 4.6 g, the point where it impacts the optical film surface is a sphere with a diameter of 0.75 mm, and is made of stainless steel.

당해 시험 전후의 광학 필름의 반사 색상(반사 a* 및 b*)을, 코니카 미놀타(주)(Konica Minolta, Inc.)제 분광 측색계(CM3700A)를 이용하여 하기 조건에서 평가를 실시했다.The reflection color (reflection a* and b*) of the optical film before and after the test was evaluated using a spectrophotometer (CM3700A) manufactured by Konica Minolta, Inc. under the following conditions.

·광원: D광원·Light source: D light source

·입사광: 광학 필름에 대해서, 법선 방향으로부터 각도 2°로 조사Incident light: Irradiated at an angle of 2° from the normal direction to the optical film

·검출 모드: 반사 SCE·Detection mode: Reflection SCE

·타겟 마스크: LAV 마스크(측정 범위: 직경 8mm)·Target mask: LAV mask (measurement range: 8mm diameter)

·샘플 측정 조건: 광학 필름을 반사 측정 위치에 설치해, 다크 박스로 가려 측정.·Sample measurement conditions: Install an optical film at the reflection measurement location and measure by covering it with a dark box.

<중량 평균 분자량(Mw)><Weight average molecular weight (Mw)>

겔 침투 크로마토그래피(GPC) 측정Gel permeation chromatography (GPC) measurements

·전처리 방법·Pretreatment method

실시예에서 얻어진 폴리아미드이미드에 DMF용리액(10mM 브로민화 리튬 용액)을 농도 2mg/mL가 되도록 첨가하여, 80℃에서 30분간 교반하면서 가열하고, 냉각 후, 0.45μm 멤브레인 필터로 여과한 것을 측정 용액으로 했다.DMF eluent (10mM lithium bromide solution) was added to the polyamideimide obtained in the example to a concentration of 2 mg/mL, heated with stirring at 80°C for 30 minutes, cooled, and filtered through a 0.45μm membrane filter to serve as the measurement solution. I did it.

·측정 조건·Measuring conditions

칼럼: TSKgel SuperAWM-H×2+SuperAW2500×1(6.0mm I.D.×150mm×3개)Column: TSKgel SuperAWM-H×2+SuperAW2500×1 (6.0mm I.D.×150mm×3)

용리액: DMF(10mM의 브로민화 리튬 첨가)Eluent: DMF (with addition of 10mM lithium bromide)

유량: 1.0mL/min.Flow rate: 1.0mL/min.

검출기: RI검출기Detector: RI detector

칼럼 온도: 40℃Column temperature: 40℃

주입량: 100μLInjection volume: 100μL

분자량 표준: 표준 폴리스티렌Molecular Weight Standard: Standard Polystyrene

<광학 필름의 막두께><Thickness of optical film>

실시예 및 비교예에서 얻어진 광학 필름의 막두께는, (주)미쓰도요(Mitutoyo Corporation)제의 마이크로미터를 이용하여 측정했다.The film thickness of the optical films obtained in the examples and comparative examples was measured using a micrometer manufactured by Mitutoyo Corporation.

[실시예 1][Example 1]

(실리카 졸의 조제)(Preparation of silica sol)

1,000mL의 플라스크에 메탄올 분산 실리카 졸(일차 입자경 11nm, 실리카 입자 고형분 21.0%) 523.8g 및 γ-부티로락톤(GBL) 440.0g을 넣고, 진공 이배퍼레이터로 45℃의 탕욕하(湯浴下), 400hPa로 1시간, 250hPa로 1시간 메탄올을 증발시켰다. 추가로 250hPa하에서 70℃까지 승온시켜 30분간 가열하여, γ-부티로락톤 분산 실리카 졸 1(GBL 분산 실리카 졸 1)을 얻었다. 얻어진 GBL 분산 실리카 졸 1의 고형분 농도는 19.3%였다.523.8 g of methanol-dispersed silica sol (primary particle diameter 11 nm, silica particle solid content 21.0%) and 440.0 g of γ-butyrolactone (GBL) were placed in a 1,000 mL flask, and placed in a water bath at 45°C using a vacuum evaporator. ), methanol was evaporated at 400 hPa for 1 hour and at 250 hPa for 1 hour. Additionally, the temperature was raised to 70°C at 250 hPa and heated for 30 minutes to obtain γ-butyrolactone dispersed silica sol 1 (GBL dispersed silica sol 1). The solid content concentration of the obtained GBL dispersed silica sol 1 was 19.3%.

(폴리아미드이미드의 조제)(Preparation of polyamideimide)

질소 가스 분위기하, 교반 날개를 구비한 1L 세퍼러블 플라스크에, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)-4,4'-디아미노디페닐(TFMB) 45g(140.52mmol) 및 N,N-디메틸아세트아미드(DMAc) 768.55g을 첨가하고 실온에서 교반하면서 TFMB를 DMAc에 용해시켰다. 다음으로, 플라스크에 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 이무수물(6FDA) 18.92g(42.58mmol)을 첨가하여, 실온에서 3시간 교반했다. 그 후, 4,4'-옥시비스(벤조일클로라이드)(OBBC) 4.19g(14.19mmol), 이어서 테레프탈로일클로라이드(TPC) 17.29g(85.16mmol)을 플라스크에 첨가하고 실온에서 1시간 교반했다. 이어서, 플라스크에 4-메틸피리딘 4.63g(49.68mmol)과 무수 아세트산 13.04g(127.75mmol)을 첨가하고 실온에서 30분간 교반 후, 오일배스를 이용하여 70℃로 승온시키고, 추가로 3시간 교반하여 반응액을 얻었다.In a 1 L separable flask equipped with a stirring blade under a nitrogen gas atmosphere, 45 g (140.52 mmol) of 2,2'-bis(trifluoromethyl)-4,4'-diaminodiphenyl (TFMB) and N,N -768.55 g of dimethylacetamide (DMAc) was added and TFMB was dissolved in DMAc while stirring at room temperature. Next, 18.92 g (42.58 mmol) of 4,4'-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic dianhydride (6FDA) was added to the flask, and stirred at room temperature for 3 hours. After that, 4.19 g (14.19 mmol) of 4,4'-oxybis(benzoyl chloride) (OBBC), followed by 17.29 g (85.16 mmol) of terephthaloyl chloride (TPC) were added to the flask and stirred at room temperature for 1 hour. Next, 4.63 g (49.68 mmol) of 4-methylpyridine and 13.04 g (127.75 mmol) of acetic anhydride were added to the flask and stirred at room temperature for 30 minutes, then raised to 70°C using an oil bath and stirred for an additional 3 hours. A reaction solution was obtained.

얻어진 반응액을 실온까지 냉각시키고, 대량의 메탄올 중에 사상(絲狀)으로 투입해, 석출한 침전물을 취출하고, 메탄올에서 6시간 침지 후, 메탄올로 세정했다. 다음으로, 100℃에서 침전물의 감압 건조를 행하여, 폴리아미드이미드 1을 얻었다. 얻어진 폴리아미드이미드 1의 중량 평균 분자량은, 400,000이었다.The obtained reaction liquid was cooled to room temperature, poured into a large amount of methanol as a filament, and the precipitate was taken out, soaked in methanol for 6 hours, and then washed with methanol. Next, the precipitate was dried under reduced pressure at 100°C to obtain polyamidoimide 1. The weight average molecular weight of the obtained polyamidoimide 1 was 400,000.

(광학 필름의 제조)(Manufacture of optical film)

폴리아미드이미드 1을 GBL에 용해하고, 상기의 GBL 분산 실리카 졸 1을 첨가하여 충분히 혼합함으로써, 폴리아미드이미드 1/실리카 입자 혼합 바니쉬를 얻었다. 폴리아미드이미드 1과 실리카 입자의 비율은 70:30이었다. 또, 폴리아미드이미드 1/실리카 입자 농도(바니쉬의 질량에 대한 수지와 실리카 입자의 총질량)가 10질량%가 되도록 조제했다.Polyamidoimide 1 was dissolved in GBL, and the GBL dispersed silica sol 1 described above was added and thoroughly mixed to obtain a polyamidoimide 1/silica particle mixed varnish. The ratio of polyamidoimide 1 and silica particles was 70:30. Additionally, it was adjusted so that the polyamidoimide 1/silica particle concentration (total mass of resin and silica particles relative to the mass of varnish) was 10% by mass.

얻어진 혼합 바니쉬를 체눈 사이즈 10마이크로 미터의 필터로 여과한 후, 폴리에스테르 기재(도요보(주)(Toyobo Co., Ltd)제, 상품명 「A4100」)의 평활면 상에 자립막의 막두께가 55μm가 되도록 어플리케이터를 이용하여 도공하고, 50℃에서 30분간, 이어서 140℃에서 15분간 건조시켜, 폴리에스테르 기재를 박리하는 것에 의해, 자립막을 얻었다. 자립막을 금속 프레임에 고정해 200℃에서 건조시켜, 막두께 50μm의 광학 필름 1을 얻었다.After filtering the obtained mixed varnish through a filter with a sieve size of 10 micrometers, the self-supporting film was spread on the smooth surface of a polyester base (manufactured by Toyobo Co., Ltd., brand name “A4100”) with a film thickness of 55 μm. was applied using an applicator, dried at 50°C for 30 minutes, then dried at 140°C for 15 minutes, and the polyester base material was peeled off to obtain a self-supporting film. The free-standing film was fixed to a metal frame and dried at 200°C to obtain optical film 1 with a film thickness of 50 μm.

[실시예 2][Example 2]

(실리카 졸의 조제)(Preparation of silica sol)

1,000mL의 플라스크에 메탄올 분산 실리카 졸(일차 입자경 12nm, 실리카 고형분 31.1%) 398.5g 및 γ-부티로락톤(GBL) 272.2g을 넣고, 진공 이배퍼레이터로 45℃의 탕욕하, 400hPa로 1시간, 250hPa로 1시간 메탄올을 증발시켰다. 추가로 250hPa하에서 70℃까지 승온시켜 30분간 가열하여, γ-부티로락톤 분산 실리카 졸 2(GBL 분산 실리카 졸 2)를 얻었다. 얻어진 GBL 분산 실리카 졸 2의 고형분 농도는 30.9%였다.398.5 g of methanol-dispersed silica sol (primary particle size 12 nm, silica solid content 31.1%) and 272.2 g of γ-butyrolactone (GBL) were added to a 1,000 mL flask, and evaporated in a vacuum evaporator at 45°C for 1 hour at 400 hPa. , methanol was evaporated at 250 hPa for 1 hour. Additionally, the temperature was raised to 70°C at 250 hPa and heated for 30 minutes to obtain γ-butyrolactone dispersed silica sol 2 (GBL dispersed silica sol 2). The solid content concentration of the obtained GBL dispersed silica sol 2 was 30.9%.

(폴리아미드이미드의 조제 및 광학 필름의 제조)(Preparation of polyamideimide and production of optical film)

GBL 분산 실리카 졸로서 GBL 분산 실리카 졸 2를 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 광학 필름을 얻었다.An optical film was obtained in the same manner as in Example 1, except that GBL dispersed silica sol 2 was used as the GBL dispersed silica sol.

[실시예 3][Example 3]

(실리카 졸의 조제)(Preparation of silica sol)

1,000mL의 플라스크에 메탄올 분산 실리카 졸(일차 입자경 21nm, 실리카 고형분 30.9%) 398.1g 및 GBL 269.9g을 넣고, 진공 이배퍼레이터로 45℃의 탕욕하, 400hPa로 1시간, 250hPa로 1시간 메탄올을 증발시켰다. 추가로 250hPa하에서 70℃까지 승온시켜 30분간 가열하여, γ-부티로락톤 분산 실리카 졸 3(GBL 분산 실리카 졸 3)을 얻었다. 얻어진 GBL 분산 실리카 졸 3의 고형분 농도는 30.3%였다.398.1 g of methanol-dispersed silica sol (primary particle size 21 nm, silica solid content 30.9%) and 269.9 g of GBL were placed in a 1,000 mL flask, and methanol was added for 1 hour at 400 hPa and 1 hour at 250 hPa under a water bath at 45°C in a vacuum evaporator. evaporated. Additionally, the temperature was raised to 70°C at 250 hPa and heated for 30 minutes to obtain γ-butyrolactone dispersed silica sol 3 (GBL dispersed silica sol 3). The solid content concentration of the obtained GBL dispersed silica sol 3 was 30.3%.

(폴리아미드이미드의 조제 및 광학 필름의 제조)(Preparation of polyamideimide and production of optical film)

GBL 분산 실리카 졸로서 GBL 분산 실리카 졸 3을 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 광학 필름을 얻었다.An optical film was obtained in the same manner as in Example 1, except that GBL dispersed silica sol 3 was used as the GBL dispersed silica sol.

[실시예 4][Example 4]

(폴리아미드이미드의 조제)(Preparation of polyamideimide)

질소 가스 분위기하, 교반 날개를 구비한 1L 세퍼러블 플라스크에, TFMB 53.05g(165.66mmol) 및 DMAc 670.91g을 첨가하고 실온에서 교반하면서 TFMB를 DMAc에 용해시켰다. 다음으로, 플라스크에, 6FDA 22.11g(49.77mmol), 3,3',4,4'-비페닐테트라카르복실산 이무수물(BPDA) 4.88g(16.59mmol)을 첨가하고, 이어서, TPC 20.21g(99.54mmol)을 첨가하여, 실온에서 1시간 교반했다. 이어서, 플라스크에 피리딘 10.53g(133.08mmol)과 무수 아세트산 13.77g(134.83mmol)을 첨가하고 실온에서 30분간 교반 후, 오일배스를 이용하여 70℃로 승온시키고, 추가로 3시간 교반하여 반응액을 얻었다.Under a nitrogen gas atmosphere, 53.05 g (165.66 mmol) of TFMB and 670.91 g of DMAc were added to a 1L separable flask equipped with a stirring blade, and TFMB was dissolved in DMAc while stirring at room temperature. Next, 22.11 g (49.77 mmol) of 6FDA and 4.88 g (16.59 mmol) of 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA) were added to the flask, followed by 20.21 g of TPC. (99.54 mmol) was added and stirred at room temperature for 1 hour. Next, 10.53 g (133.08 mmol) of pyridine and 13.77 g (134.83 mmol) of acetic anhydride were added to the flask and stirred at room temperature for 30 minutes. Then, the temperature was raised to 70°C using an oil bath, and the reaction solution was stirred for an additional 3 hours. got it

얻어진 반응액을 실온까지 냉각시키고, 대량의 메탄올 중에 사상으로 투입해, 석출한 침전물을 취출하고, 메탄올에서 6시간 침지 후, 메탄올로 세정했다. 다음으로, 100℃에서 침전물의 감압 건조를 행하여, 폴리아미드이미드 2를 얻었다. 얻어진 폴리아미드이미드 2의 중량 평균 분자량은, 190,000이었다.The obtained reaction liquid was cooled to room temperature, poured into a large amount of methanol, and the precipitate was taken out, immersed in methanol for 6 hours, and then washed with methanol. Next, the precipitate was dried under reduced pressure at 100°C to obtain polyamidoimide 2. The weight average molecular weight of the obtained polyamidoimide 2 was 190,000.

(광학 필름의 제조)(Manufacture of optical film)

폴리아미드이미드로서 폴리아미드이미드 2를 이용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 광학 필름을 얻었다.An optical film was obtained in the same manner as in Example 1, except that polyamideimide 2 was used as the polyamideimide.

[비교예 1][Comparative Example 1]

(실리카 졸의 조제)(Preparation of silica sol)

1000mL의 플라스크에 메탄올 분산 실리카 졸(일차 입자경 27nm, 실리카 입자 고형분 30.5%) 442.6g 및 GBL 301.6g을 넣고, 진공 이배퍼레이터로 45℃의 탕욕하, 400hPa로 1시간, 250hPa로 1시간 메탄올을 증발시켰다. 추가로 250hPa하에서 70℃까지 승온시켜 30분간 가열하여, γ-부티로락톤 분산 실리카 졸 4를 얻었다. 얻어진 γ-부티로락톤 분산 실리카 졸 4의 고형분 농도는 28.9%였다.Put 442.6 g of methanol-dispersed silica sol (primary particle diameter 27 nm, silica particle solid content 30.5%) and 301.6 g of GBL in a 1000 mL flask, and evaporate methanol for 1 hour at 400 hPa and 1 hour at 250 hPa under a water bath at 45°C in a vacuum evaporator. evaporated. Additionally, the temperature was raised to 70°C at 250 hPa and heated for 30 minutes to obtain γ-butyrolactone dispersed silica sol 4. The solid content concentration of the obtained γ-butyrolactone dispersed silica sol 4 was 28.9%.

(폴리아미드이미드의 조제 및 광학 필름의 제조)(Preparation of polyamideimide and production of optical film)

GBL 분산 실리카 졸로서, 실리카 입자의 일차 입자경이 27nm인 상기 GBL 분산 실리카 졸 4를 사용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 광학 필름을 얻었다.An optical film was obtained in the same manner as in Example 1, except that the GBL dispersed silica sol 4 having a primary particle diameter of 27 nm was used as the GBL dispersed silica sol.

[비교예 2][Comparative Example 2]

메탄올 분산 실리카를 사용하지 않고, 폴리아미드이미드 농도(바니쉬의 질량에 대한 폴리아미드이미드의 질량)가 6질량%가 되도록 바니쉬를 조제한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여 광학 필름을 얻었다.An optical film was obtained in the same manner as in Example 1, except that methanol-dispersed silica was not used and the varnish was prepared so that the polyamideimide concentration (mass of polyamideimide relative to the mass of varnish) was 6% by mass.

[비교예 3][Comparative Example 3]

(실리카 졸의 조제)(Preparation of silica sol)

1000mL의 플라스크에 메탄올 분산 실리카 졸(일차 입자경 12nm, 실리카 입자 고형분 20.7%) 502.5g 및 GBL 403.5g을 넣고, 진공 이배퍼레이터로 45℃의 탕욕하, 400hPa로 1시간, 250hPa로 1시간 메탄올을 증발시켰다. 추가로 250hPa하에서 70℃까지 승온시켜 30분간 가열하여, γ-부티로락톤 분산 실리카 졸 5를 얻었다. 얻어진 γ-부티로락톤 분산 실리카 졸 5의 고형분 농도는 20.2%였다.Put 502.5 g of methanol-dispersed silica sol (primary particle diameter 12 nm, silica particle solid content 20.7%) and 403.5 g of GBL in a 1000 mL flask, and evaporate methanol for 1 hour at 400 hPa and 1 hour at 250 hPa under a water bath at 45°C in a vacuum evaporator. evaporated. Additionally, the temperature was raised to 70°C at 250 hPa and heated for 30 minutes to obtain γ-butyrolactone dispersed silica sol 5. The solid content concentration of the obtained γ-butyrolactone dispersed silica sol 5 was 20.2%.

(광학 필름의 제조)(Manufacture of optical film)

폴리이미드계 고분자(가와무라 산교(주)제 「KPI-MX300F(100)」를 GBL에 용해하고, 상기의 GBL 분산 실리카 졸 5를 첨가하여 충분히 혼합함으로써, 폴리이미드/실리카 입자 혼합 바니쉬를 얻었다. 폴리이미드와 실리카 입자의 비율은 70:30이었다. 또, 폴리이미드/실리카 입자 농도(바니쉬의 질량에 대한 수지와 실리카 입자의 총질량)가 16질량%가 되도록 조제했다. 그 이외에는 실시예 1과 마찬가지로 하여 광학 필름을 얻었다.A polyimide-based polymer (“KPI-MX300F (100)” manufactured by Kawamura Sangyo Co., Ltd. was dissolved in GBL, and the GBL dispersed silica sol 5 described above was added and thoroughly mixed to obtain a polyimide/silica particle mixed varnish. The ratio of polyimide and silica particles was 70:30. In addition, the polyimide/silica particle concentration (total mass of resin and silica particles relative to the mass of varnish) was adjusted to 16% by mass. Other than that, Example 1 and An optical film was obtained similarly.

실시예 1~4 및 비교예 1~3에서 얻어진 광학 필름에 있어서, 수지의 종류, 실리카 함유량, 실리카의 일차 입자경, 내충격성 시험에 있어서의 패임량, 전광선 투과율, 황색도, 헤이즈 그리고 충격 피로 시험 전후의 반사 a*, 반사 b* 및 이것들의 변화량을 표 1에 나타냈다. 표 1 중, PAI(1)는 폴리아미드이미드 1을 나타내고, PAI(2)는 폴리아미드이미드 2를 나타내고, PI는 폴리이미드를 나타내고, 실리카 함유량(질량%)은, 광학 필름의 질량(수지와 실리카 입자의 총질량)에 대한 실리카 입자의 질량을 나타낸다.In the optical films obtained in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3, the type of resin, silica content, primary particle size of silica, amount of dents in the impact resistance test, total light transmittance, yellowness, haze, and impact fatigue test. Table 1 shows reflection a*, reflection b*, and their change amounts before and after. In Table 1, PAI(1) represents polyamideimide 1, PAI(2) represents polyamideimide 2, PI represents polyimide, and the silica content (% by mass) is the mass of the optical film (resin and It represents the mass of silica particles relative to the total mass of silica particles.

Figure 112019042726117-pat00011
Figure 112019042726117-pat00011

표 1에 나타나는 바와 같이, 실시예 1~4의 광학 필름은, 비교예 1~3의 광학 필름에 비해, 충격 피로 시험 전후의 반사 a*와 반사 b* 양쪽 모두의 변화량이 적은 것, 즉, 반사 색상의 변화가 현저하게 작은 것이 확인되었다. 즉, 실시예 1~4의 광학 필름은, 물체 충돌의 반복에 의한 광학 특성의 저하를 억제할 수 있는 것이 확인되었다.As shown in Table 1, the optical films of Examples 1 to 4 showed a small amount of change in both reflection a* and reflection b* before and after the impact fatigue test compared to the optical films of Comparative Examples 1 to 3, that is, It was confirmed that the change in reflected color was significantly small. That is, it was confirmed that the optical films of Examples 1 to 4 were able to suppress deterioration of optical properties due to repeated object collisions.

Claims (8)

폴리이미드계 수지 및 폴리아미드계 수지로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 수지를 포함하고, 내충격성 시험에 있어서의 패임량은 15μm 이하이며,
상기 패임량은, 유리, 점착제층 및 광학 필름이 이 순서로 적층된 적층체를 제작하고, 질량 4.6g, 충돌 개소가 직경 0.75mm의 구형이고, 스테인리스제인 추를 10cm의 높이로부터 상기 적층체의 광학 필름면 상에 낙하시켰을 때에, 광간섭 막후계를 이용하여 관찰해 얻어지는 가장 크게 패인 점의 깊이를 5회 측정하였을 때의 평균값인, 광학 필름.
It contains at least one kind of resin selected from the group consisting of polyimide resin and polyamide resin, and the amount of dent in the impact resistance test is 15 μm or less,
The amount of the indentation is determined by manufacturing a laminate in which glass, an adhesive layer, and an optical film are laminated in this order, the mass of which is 4.6 g, the collision point is a sphere with a diameter of 0.75 mm, and a weight made of stainless steel is placed on the laminate from a height of 10 cm. An optical film, which is the average value of five measurements of the depth of the largest depression obtained by observation using an optical interference film thickness meter when dropped on the optical film surface.
제1항에 있어서,
헤이즈는 1% 이하인, 광학 필름.
According to paragraph 1,
An optical film with a haze of 1% or less.
제1항에 있어서,
황색도는 5 이하인, 광학 필름.
According to paragraph 1,
An optical film having a yellowness of 5 or less.
제1항에 있어서,
일차 입자경이 25nm 이하인 필러를 포함하는, 광학 필름.
According to paragraph 1,
An optical film containing a filler with a primary particle diameter of 25 nm or less.
제1항에 있어서,
광학 필름의 막두께는 25~100μm인, 광학 필름.
According to paragraph 1,
An optical film with a film thickness of 25 to 100 μm.
제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 기재된 광학 필름을 구비하는, 플렉시블 화상 표시장치.A flexible image display device comprising the optical film according to any one of claims 1 to 5. 제6항에 있어서,
추가로 편광판을 함유하는, 플렉시블 화상 표시장치.
According to clause 6,
A flexible image display device further comprising a polarizer.
제6항에 있어서,
추가로 터치 센서를 함유하는, 플렉시블 화상 표시장치.
According to clause 6,
A flexible image display device further comprising a touch sensor.
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