JP2022117110A - Optical film and flexible display device provided with optical film - Google Patents

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Nobuyoshi Koshino
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Lennon Chu
クリスティアーン・シュローダー
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Abstract

To provide an optical film having excellent UV blocking properties and gas barrier properties, and a flexible display device having the optical film.SOLUTION: The present invention relates to an optical film which contains a polyimide resin having a structural unit derived from an aliphatic diamine, has a light transmittance of 10% or less at 350 nm, and has a photoelastic coefficient of 50×10-12 Pa-1 or less.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、光学フィルム及び該光学フィルムを備えるフレキシブル表示装置に関する。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to an optical film and a flexible display device having the optical film.

光学フィルムは、液晶や有機EL等の表示装置、タッチセンサ、スピーカー、半導体など、種々の用途に用いられている。例えば、タッチセンサ基板材料としては、寸法安定性等を有するポリイミド系フィルムが知られている(例えば特許文献1及び2)。 Optical films are used in various applications such as display devices such as liquid crystal and organic EL, touch sensors, speakers, and semiconductors. For example, as a touch sensor substrate material, a polyimide film having dimensional stability is known (for example, Patent Documents 1 and 2).

近年、フレキシブル表示装置の開発が急速に進んでおり、そのような最先端のディスプレイ用途に使用する場合、紫外線からだけではなく、酸素や水蒸気からも表示装置を保護するために、紫外線カット性とガスバリア性の両方に優れる光学フィルムが求められている。 In recent years, the development of flexible display devices has progressed rapidly, and when used for such cutting-edge display applications, in order to protect the display device not only from ultraviolet rays but also from oxygen and water vapor, There is a demand for optical films that are excellent in both gas barrier properties.

特開2005-336243号公報JP-A-2005-336243 国際公開第2019/156717号パンフレットInternational Publication No. 2019/156717 Pamphlet

しかし、本発明者らの検討によれば、特許文献1に記載の芳香族ポリイミド系フィルムは必ずしもガスバリア性が高いものではなかった。また、特許文献2に記載の脂肪族ポリイミド系フィルムは、紫外線カット性が低く、吸水率も高い傾向があり、高い紫外線カット性とガスバリア性とを両立することは困難であることが分かった。 However, according to the studies of the present inventors, the aromatic polyimide film described in Patent Document 1 does not necessarily have high gas barrier properties. In addition, the aliphatic polyimide film described in Patent Document 2 tends to have low UV-cutting properties and high water absorption, and it is difficult to achieve both high UV-cutting properties and gas barrier properties.

したがって、本発明の目的は、紫外線カット性及びガスバリア性に優れた光学フィルム、及び該光学フィルムを備えるフレキシブル表示装置を提供することにある。 SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide an optical film excellent in ultraviolet shielding properties and gas barrier properties, and a flexible display device comprising the optical film.

本発明者らは、前記課題を解決するために鋭意検討した結果、光学フィルムにおいて、脂肪族ジアミン由来の構成単位を有するポリイミド系樹脂を含有させ、350nmの光透過率を10%以下、光弾性係数を50×10-12Pa-1以下にすることによって、前記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明には、以下の好適な態様が含まれる。 As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that the optical film contains a polyimide resin having a structural unit derived from an aliphatic diamine, and has a light transmittance at 350 nm of 10% or less and a photoelasticity. The inventors have found that the above problem can be solved by reducing the coefficient to 50×10 −12 Pa −1 or less, and have completed the present invention. That is, the present invention includes the following preferred aspects.

〔1〕脂肪族ジアミン由来の構成単位を有するポリイミド系樹脂を含み、350nmの光透過率は10%以下であり、光弾性係数は50×10-12Pa-1以下である、光学フィルム。
〔2〕湿度膨張係数は10ppmを超える、〔1〕に記載の光学フィルム。
〔3〕60℃における吸水率は、2.5%以下である、〔1〕又は〔2〕に記載の光学フィルム。
〔4〕溶媒含有量は、前記光学フィルムの質量に対して7.0質量%以下である、〔1〕~〔3〕のいずれかに記載の光学フィルム。
〔5〕500nmの光透過率は90%以上である、〔1〕~〔4〕のいずれかに記載の光学フィルム。
〔6〕フィラーを含有する、〔1〕~〔5〕のいずれかに記載の光学フィルム。
〔7〕膜厚は10μm以上100μm以下である、〔1〕~〔6〕のいずれかに記載の光学フィルム。
〔8〕前記ポリイミド系樹脂は、式(1):

Figure 2022117110000001
[式(1)中、Xは2価の有機基を表し、Yは4価の有機基を表し、*は結合手を表す]
で表される構成単位を有し、式(1)で表される構成単位は、Xとして、2価の脂肪族基を含む、〔1〕~〔7〕のいずれかに記載の光学フィルム。
〔9〕前記式(1)で表される構成単位は、Yとして、式(2):
Figure 2022117110000002
[式(2)中、R~Rは、互いに独立に、水素原子、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基又は炭素数6~12のアリール基を表し、R~Rに含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、Vは、単結合、-O-、-CH-、-CH-CH-、-CH(CH)-、-C(CH-、-C(CF-、-SO-、-S-、-CO-又は-N(R)-を表し、Rは、水素原子、又はハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1~12の一価の炭化水素基を表し、*は結合手を表す]
で表される構造を含む、〔8〕に記載の光学フィルム。
〔10〕前記ポリイミド系樹脂はフッ素原子を含有する、〔8〕又は〔9〕に記載の光学フィルム。
〔11〕〔1〕~〔10〕のいずれかに記載の光学フィルムを備える、フレキシブル表示装置。
〔12〕更に偏光板を備える、〔11〕に記載のフレキシブル表示装置。
〔13〕更にタッチセンサを備える、〔11〕又は〔12〕に記載のフレキシブル表示装置。 [1] An optical film comprising a polyimide resin having a structural unit derived from an aliphatic diamine, having a light transmittance at 350 nm of 10% or less and a photoelastic coefficient of 50×10 −12 Pa −1 or less.
[2] The optical film of [1], which has a humidity expansion coefficient of more than 10 ppm.
[3] The optical film of [1] or [2], which has a water absorption rate of 2.5% or less at 60°C.
[4] The optical film according to any one of [1] to [3], wherein the solvent content is 7.0% by mass or less based on the mass of the optical film.
[5] The optical film according to any one of [1] to [4], which has a light transmittance of 90% or more at 500 nm.
[6] The optical film according to any one of [1] to [5], which contains a filler.
[7] The optical film according to any one of [1] to [6], which has a thickness of 10 μm or more and 100 μm or less.
[8] The polyimide resin has the formula (1):
Figure 2022117110000001
[In formula (1), X represents a divalent organic group, Y represents a tetravalent organic group, and * represents a bond]
The optical film according to any one of [1] to [7], wherein the structural unit represented by formula (1) contains a divalent aliphatic group as X.
[9] The structural unit represented by the formula (1) is represented by the formula (2) as Y:
Figure 2022117110000002
[In formula (2), R 2 to R 7 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, The hydrogen atoms contained in R 2 to R 7 may be independently substituted with halogen atoms, and V is a single bond, —O—, —CH 2 —, —CH 2 —CH 2 —, — CH(CH 3 )—, —C(CH 3 ) 2 —, —C(CF 3 ) 2 —, —SO 2 —, —S—, —CO— or —N(R 8 )—, and R 8 represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom, * represents a bond]
The optical film of [8], comprising a structure represented by:
[10] The optical film of [8] or [9], wherein the polyimide resin contains a fluorine atom.
[11] A flexible display device comprising the optical film according to any one of [1] to [10].
[12] The flexible display device according to [11], further comprising a polarizing plate.
[13] The flexible display device according to [11] or [12], further comprising a touch sensor.

本発明によれば、紫外線カット性及びガスバリア性に優れた光学フィルム、及び該光学フィルムを備えるフレキシブル表示装置を提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the flexible display apparatus provided with the optical film excellent in ultraviolet-ray cut property and gas-barrier property, and this optical film can be provided.

本発明の光学フィルムは、脂肪族ジアミン由来の構成単位を有するポリイミド系樹脂を含み、350nmの光透過率は10%以下であり、光弾性係数は50×10-12Pa-1以下である。 The optical film of the present invention contains a polyimide resin having structural units derived from an aliphatic diamine, has a light transmittance at 350 nm of 10% or less, and a photoelastic coefficient of 50×10 −12 Pa −1 or less.

驚くべきことに、本発明者らは脂肪族ジアミン由来の構成単位を有するポリイミド系樹脂を含む光学フィルムにおいて、光弾性係数が50×10-12Pa-1以下である場合に、優れたガスバリア性が達成できることを見出した。なお、本明細書において、ガスバリア性に優れる又はガスバリア性が高いとは、特に明記しない限り、水蒸気透過度及び酸素透過度の両方が低いことを意味し、好ましくは水蒸気透過度が100g/m/24時間/0.1mm以下、酸素透過度が1000cc(NTP)/m/24時間/0.1mm/atmを満たすことを指す。 Surprisingly, the present inventors have found that an optical film containing a polyimide resin having a structural unit derived from an aliphatic diamine exhibits excellent gas barrier properties when the photoelastic coefficient is 50×10 −12 Pa −1 or less. found that can be achieved. In this specification, unless otherwise specified, "excellent gas barrier properties" or "high gas barrier properties" means that both the water vapor permeability and the oxygen permeability are low, and the water vapor permeability is preferably 100 g/m 2 . /24 hours/0.1 mm or less, indicating that the oxygen permeability satisfies 1000 cc (NTP)/m 2 /24 hours/0.1 mm/atm.

[ポリイミド系樹脂]
ポリイミド系樹脂とは、イミド基を含む繰返し構造単位(構成単位ともいう)を含有する重合体を意味し、更にアミド基を含む繰り返し構造単位を含有していてもよい。
[Polyimide resin]
A polyimide resin means a polymer containing a repeating structural unit (also referred to as a structural unit) containing an imide group, and may further contain a repeating structural unit containing an amide group.

本発明において、ポリイミド系樹脂は、脂肪族ジアミン由来の構成単位を含む。脂肪族ジアミンとは、脂肪族基を有するジアミンを表し、その構造の一部にその他の置換基を含んでいてもよいが、芳香環は有しないものである。ポリイミド系樹脂が脂肪族ジアミン由来の構成単位を含むと、光学フィルムの光弾性係数が低減する傾向にあり、その結果、光学フィルムのガスバリア性が高まりやすくなる。脂肪族ジアミンとしては、例えば非環式脂肪族ジアミン、環式脂肪族ジアミン等が挙げられ、光学フィルムのガスバリア性をより高めやすいことから、非環式脂肪族ジアミンが好ましい。非環式脂肪族ジアミンとしては、例えば、1,2-ジアミノエタン、1,3-ジアミノプロパン、1,4-ジアミノブタン、1,5-ジアミノペンタン、1,6-ジアミノヘキンサン、1,2-ジアミノプロパン、1,2-ジアミノブタン、1,3-ジアミノブタン、2-メチル-1,2-ジアミノプロパン、2-メチル-1,3-ジアミノプロパン等の炭素数2~10の直鎖状又は分岐鎖状ジアミノアルカン等が挙げられる。環式脂肪族ジアミンとしては、例えば1,3-ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、1,4-ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、ノルボルナンジアミン及び4,4’-ジアミノジシクロヘキシルメタン等が挙げられる。これらは単独で又は2種以上を組合せて用いることができる。これらの中でも、光学フィルムのガスバリア性をより高めやすいことから、1,2-ジアミノエタン、1,3-ジアミノプロパン、1,4-ジアミノブタン(1,4-DABということがある)、1,5-ジアミノペンタン、1,6-ジアミノヘキサン、1,2-ジアミノプロパン、1,2-ジアミノブタン、1,3-ジアミノブタン、2-メチル-1,2-ジアミノプロパン、2-メチル-1,3-ジアミノプロパン等の炭素数2~10のジアミノアルカンが好ましく、炭素数2~6のジアミノアルカンがより好ましく、1,4-ジアミノブタンが更に好ましい。 In the present invention, the polyimide resin contains structural units derived from an aliphatic diamine. An aliphatic diamine represents a diamine having an aliphatic group, and may contain other substituents in part of its structure, but does not have an aromatic ring. When the polyimide-based resin contains structural units derived from an aliphatic diamine, the photoelastic coefficient of the optical film tends to decrease, and as a result, the gas barrier properties of the optical film tend to increase. Aliphatic diamines include, for example, acyclic aliphatic diamines and cycloaliphatic diamines, and acyclic aliphatic diamines are preferred because they tend to increase the gas barrier properties of the optical film. Acyclic aliphatic diamines include, for example, 1,2-diaminoethane, 1,3-diaminopropane, 1,4-diaminobutane, 1,5-diaminopentane, 1,6-diaminohexane, 1,2 -Diaminopropane, 1,2-diaminobutane, 1,3-diaminobutane, 2-methyl-1,2-diaminopropane, 2-methyl-1,3-diaminopropane, and other linear chain having 2 to 10 carbon atoms or branched diaminoalkanes. Cycloaliphatic diamines include, for example, 1,3-bis(aminomethyl)cyclohexane, 1,4-bis(aminomethyl)cyclohexane, norbornanediamine and 4,4'-diaminodicyclohexylmethane. These can be used alone or in combination of two or more. Among these, 1,2-diaminoethane, 1,3-diaminopropane, 1,4-diaminobutane (sometimes referred to as 1,4-DAB), 1, 1, and 1,2-diaminoethane, 1,3-diaminopropane, 1,4-diaminobutane (sometimes referred to as 1,4-DAB), 1, 5-diaminopentane, 1,6-diaminohexane, 1,2-diaminopropane, 1,2-diaminobutane, 1,3-diaminobutane, 2-methyl-1,2-diaminopropane, 2-methyl-1, Diaminoalkanes having 2 to 10 carbon atoms such as 3-diaminopropane are preferred, diaminoalkanes having 2 to 6 carbon atoms are more preferred, and 1,4-diaminobutane is even more preferred.

ポリイミド系樹脂は、脂肪族ジアミン由来の構成単位の他、芳香族ジアミン由来の構成単位を含んでいてもよい。芳香族ジアミンとは、芳香環を有するジアミンを表し、その構造の一部に脂肪族基又はその他の置換基を含んでいてもよい。この芳香環は単環でも縮合環でもよく、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環及びフルオレン環等が例示されるが、これらに限定されるわけではない。 The polyimide-based resin may contain a structural unit derived from an aromatic diamine in addition to a structural unit derived from an aliphatic diamine. An aromatic diamine represents a diamine having an aromatic ring, and may contain an aliphatic group or other substituents in part of its structure. This aromatic ring may be a single ring or a condensed ring, and examples include, but are not limited to, benzene ring, naphthalene ring, anthracene ring, and fluorene ring.

芳香族ジアミンとしては、例えばp-フェニレンジアミン、m-フェニレンジアミン、2,4-トルエンジアミン、m-キシリレンジアミン、p-キシリレンジアミン、1,5-ジアミノナフタレン、2,6-ジアミノナフタレン等の、芳香環を1つ有する芳香族ジアミン、4,4’-ジアミノジフェニルメタン、4,4’-ジアミノジフェニルプロパン、4,4’-ジアミノジフェニルエーテル、3,4’-ジアミノジフェニルエーテル、3,3’-ジアミノジフェニルエーテル、4,4’-ジアミノジフェニルスルホン、3,4’-ジアミノジフェニルスルホン、3,3’-ジアミノジフェニルスルホン、1,4-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン、ビス〔4-(4-アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、ビス〔4-(3-アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、2,2-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2-ビス[4-(3-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2’-ジメチルベンジジン、2,2’-ビス(トリフルオロメチル)-4,4’-ジアミノジフェニル(TFMBということがある)、4,4’-(ヘキサフルオロプロピリデン)ジアニリン、4,4’-ビス(4-アミノフェノキシ)ビフェニル、9,9-ビス(4-アミノフェニル)フルオレン、9,9-ビス(4-アミノ-3-メチルフェニル)フルオレン、9,9-ビス(4-アミノ-3-クロロフェニル)フルオレン、9,9-ビス(4-アミノ-3-フルオロフェニル)フルオレン等の、芳香環を2つ以上有する芳香族ジアミンが挙げられる。これらは単独又は2種以上を組合せて使用できる。 Examples of aromatic diamines include p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, 2,4-toluenediamine, m-xylylenediamine, p-xylylenediamine, 1,5-diaminonaphthalene and 2,6-diaminonaphthalene. of, an aromatic diamine having one aromatic ring, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'- Diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3'-diaminodiphenylsulfone, 1,4-bis(4-aminophenoxy)benzene, 1,3-bis(4 -aminophenoxy)benzene, bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]sulfone, bis[4-(3-aminophenoxy)phenyl]sulfone, 2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl] Propane, 2,2-bis[4-(3-aminophenoxy)phenyl]propane, 2,2′-dimethylbenzidine, 2,2′-bis(trifluoromethyl)-4,4′-diaminodiphenyl (TFMB) 4,4′-(Hexafluoropropylidene)dianiline, 4,4′-bis(4-aminophenoxy)biphenyl, 9,9-bis(4-aminophenyl)fluorene, 9,9-bis (4-amino-3-methylphenyl) fluorene, 9,9-bis(4-amino-3-chlorophenyl) fluorene, 9,9-bis(4-amino-3-fluorophenyl) fluorene, etc., aromatic rings Aromatic diamines having two or more are mentioned. These can be used singly or in combination of two or more.

ポリイミド系樹脂は、更にテトラカルボン酸化合物由来の構成単位を含むことができる。テトラカルボン酸化合物由来の構成単位を含むと、耐溶剤性、耐熱性、光学特性及び引張強度を向上しやすい。テトラカルボン酸化合物としては、芳香族テトラカルボン酸二無水物等の芳香族テトラカルボン酸化合物;及び脂肪族テトラカルボン酸二無水物等の脂肪族テトラカルボン酸化合物等が挙げられる。テトラカルボン酸化合物は、単独で用いてもよいし、2種以上を組合せて用いてもよい。テトラカルボン酸化合物は、二無水物の他、酸クロリド化合物等のテトラカルボン酸化合物類縁体であってもよい。 The polyimide resin can further contain structural units derived from a tetracarboxylic acid compound. When a structural unit derived from a tetracarboxylic acid compound is contained, solvent resistance, heat resistance, optical properties and tensile strength are likely to be improved. Examples of tetracarboxylic acid compounds include aromatic tetracarboxylic acid compounds such as aromatic tetracarboxylic dianhydride; and aliphatic tetracarboxylic acid compounds such as aliphatic tetracarboxylic dianhydride. A tetracarboxylic acid compound may be used independently and may be used in combination of 2 or more type. The tetracarboxylic acid compound may be a dianhydride or a tetracarboxylic acid compound analog such as an acid chloride compound.

芳香族テトラカルボン酸二無水物の具体例としては、非縮合多環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物、単環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物及び縮合多環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物が挙げられる。非縮合多環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば4,4’-オキシジフタル酸二無水物、3,3’,4,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(BPDAと記載することがある)、2,2’,3,3’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、2,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2-ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェノキシフェニル)プロパン二無水物、4,4’-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物(6FDAと記載することがある)、1,2-ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,1-ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,1-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、4,4’-(p-フェニレンジオキシ)ジフタル酸二無水物、4,4’-(m-フェニレンジオキシ)ジフタル酸二無水物が挙げられる。また、単環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば1,2,4,5-ベンゼンテトラカルボン酸二無水物が挙げられ、縮合多環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば2,3,6,7-ナフタレンテトラカルボン酸二無水物が挙げられる。これらは単独又は2種以上を組合せて使用できる。 Specific examples of aromatic tetracarboxylic dianhydrides include non-condensed polycyclic aromatic tetracarboxylic dianhydrides, monocyclic aromatic tetracarboxylic dianhydrides and condensed polycyclic aromatic tetracarboxylic dianhydrides. Carboxylic acid dianhydrides are mentioned. Non-fused polycyclic aromatic tetracarboxylic dianhydrides include, for example, 4,4′-oxydiphthalic dianhydride, 3,3′,4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 2,2 ',3,3'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (sometimes referred to as BPDA), 2,2',3,3 '-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,3',4,4'-diphenylsulfonetetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)propane dianhydride, 2, 2-bis(2,3-dicarboxyphenyl)propane dianhydride, 2,2-bis(3,4-dicarboxyphenoxyphenyl)propane dianhydride, 4,4'-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic acid Dianhydride (sometimes referred to as 6FDA), 1,2-bis(2,3-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, 1,1-bis(2,3-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride , 1,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, 1,1-bis(3,4-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, bis(3,4-dicarboxyphenyl)methane dianhydride, bis(2,3-dicarboxyphenyl)methane dianhydride, 4,4'-(p-phenylenedioxy)diphthalic dianhydride, 4,4'-(m-phenylenedioxy)diphthalic An acid dianhydride is mentioned. Further, the monocyclic aromatic tetracarboxylic dianhydrides include, for example, 1,2,4,5-benzenetetracarboxylic dianhydrides, and condensed polycyclic aromatic tetracarboxylic dianhydrides. Examples include 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride. These can be used singly or in combination of two or more.

脂肪族テトラカルボン酸二無水物としては、環式又は非環式の脂肪族テトラカルボン酸二無水物が挙げられる。環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物とは、脂環式炭化水素構造を有するテトラカルボン酸二無水物であり、その具体例としては、1,2,4,5-シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4-シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4-シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物等のシクロアルカンテトラカルボン酸二無水物、ビシクロ[2.2.2]オクト-7-エン-2,3,5,6-テトラカルボン酸二無水物、ジシクロヘキシル-3,3’,4,4’-テトラカルボン酸二無水物及びこれらの位置異性体が挙げられる。これらは単独で又は2種以上を組合せて用いることができる。非環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物の具体例としては、1,2,3,4-ブタンテトラカルボン酸二無水物、及び1,2,3,4-ペンタンテトラカルボン酸二無水物等が挙げられ、これらは単独で又は2種以上を組合せて用いることができる。また、環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物及び非環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物を組合せて用いてもよい。 Aliphatic tetracarboxylic dianhydrides include cyclic or acyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydrides. The cyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride is a tetracarboxylic dianhydride having an alicyclic hydrocarbon structure, and specific examples thereof include 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride. 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, cycloalkanetetracarboxylic dianhydride such as 1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic dianhydride, bicyclo[2.2 .2] oct-7-ene-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, dicyclohexyl-3,3′,4,4′-tetracarboxylic dianhydride and positional isomers thereof be done. These can be used alone or in combination of two or more. Specific examples of the acyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride include 1,2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride and 1,2,3,4-pentanetetracarboxylic dianhydride. and these can be used alone or in combination of two or more. A cyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride and an acyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride may also be used in combination.

前記テトラカルボン酸二無水物の中でも、光学フィルムのガスバリア性を高めやすい観点から、4,4’-オキシジフタル酸二無水物、3,3’,4,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、2,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、4,4’-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物、並びにこれらの混合物が好ましく、4,4’-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物(6FDA)がより好ましい。 Among the tetracarboxylic dianhydrides, 4,4'-oxydiphthalic dianhydride, 3,3',4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 3,3′,4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2′,3,3′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,3′,4,4′-diphenylsulfonetetracarboxylic acid acid dianhydride, 2,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)propane dianhydride, 4,4′-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic dianhydride, and mixtures thereof are preferred; 4'-(Hexafluoroisopropylidene)diphthalic dianhydride (6FDA) is more preferred.

本発明の一実施態様において、脂肪族ジアミン由来の構成単位の割合は、ポリイミド系樹脂を構成する全構成単位の総モル量に対して、好ましくは30モル%以上、より好ましくは50モル%以上、更に好ましくは70モル%以上、特に好ましくは90モル%以上であり、好ましくは100モル%以下である。脂肪族ジアミン由来の構成単位の割合が前記の範囲であると、光学フィルムのガスバリア性が高いものとなりやすい。該構成単位の割合は、例えばH-NMRを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。 In one embodiment of the present invention, the ratio of structural units derived from an aliphatic diamine is preferably 30 mol% or more, more preferably 50 mol% or more, relative to the total molar amount of all structural units constituting the polyimide resin. , more preferably 70 mol % or more, particularly preferably 90 mol % or more, and preferably 100 mol % or less. When the ratio of the structural unit derived from the aliphatic diamine is within the above range, the optical film tends to have high gas barrier properties. The ratio of the structural units can be measured using, for example, 1 H-NMR, or can be calculated from the charging ratio of raw materials.

なお、前記ポリイミド系樹脂は、光学フィルムの各種物性を損なわない範囲で、前記のテトラカルボン酸化合物由来の構成単位に加えて、他のテトラカルボン酸由来の構成単位及びトリカルボン酸由来の構成単位並びにそれらの無水物及び誘導体由来の構成単位を更に含んでいてもよい。 The polyimide resin, in addition to the structural units derived from the tetracarboxylic acid compound, other structural units derived from tetracarboxylic acid and structural units derived from tricarboxylic acid, as long as the various physical properties of the optical film are not impaired. It may further contain structural units derived from their anhydrides and derivatives.

他のテトラカルボン酸としては、前記テトラカルボン酸化合物の無水物の水付加体が挙げられる。 Other tetracarboxylic acids include water adducts of the above tetracarboxylic acid compound anhydrides.

トリカルボン酸化合物としては、芳香族トリカルボン酸、脂肪族トリカルボン酸及びそれらの類縁の酸クロリド化合物、酸無水物等が挙げられ、2種以上を組合せて用いてもよい。具体例としては、1,2,4-ベンゼントリカルボン酸の無水物;2,3,6-ナフタレントリカルボン酸-2,3-無水物;フタル酸無水物と安息香酸とが単結合、-O-、-CH-、-C(CH-、-C(CF-、-SO-若しくはフェニレン基で連結された化合物が挙げられる。 Examples of tricarboxylic acid compounds include aromatic tricarboxylic acids, aliphatic tricarboxylic acids, their analogous acid chloride compounds, acid anhydrides, and the like, and two or more of them may be used in combination. Specific examples include anhydride of 1,2,4-benzenetricarboxylic acid; 2,3,6-naphthalenetricarboxylic acid-2,3-anhydride; a single bond between phthalic anhydride and benzoic acid; , —CH 2 —, —C(CH 3 ) 2 —, —C(CF 3 ) 2 —, —SO 2 —, or compounds linked by a phenylene group.

本発明において、ポリイミド樹脂は、式(1):

Figure 2022117110000003
[式(1)中、Xは2価の有機基を表し、Yは4価の有機基を表し、*は結合手を表す]
で表される構成単位を有し、式(1)で表される構成単位は、Xとして、2価の脂肪族基を含むことが好ましい。このようなポリイミド系樹脂を含むと、光学フィルムのガスバリア性が高いものとなりやすい。 In the present invention, the polyimide resin has the formula (1):
Figure 2022117110000003
[In formula (1), X represents a divalent organic group, Y represents a tetravalent organic group, and * represents a bond]
In the structural unit represented by formula (1), X preferably contains a divalent aliphatic group. When such a polyimide resin is included, the optical film tends to have high gas barrier properties.

式(1)中のXは、それぞれ独立に2価の有機基を表し、好ましくは炭素数2~40の2価の有機基を表す。2価の有機基としては、例えば2価の芳香族基、2価の脂肪族基等が挙げられる。なお、本明細書において、2価の芳香族基は芳香族基を有する2価の有機基であり、その構造の一部に脂肪族基又はその他の置換基を含んでいてもよい。また、2価の脂肪族基は脂肪族基を有する2価の有機基であり、その構造の一部にその他の置換基を含んでいてもよいが、芳香族基は含まない。 Each X in formula (1) independently represents a divalent organic group, preferably a divalent organic group having 2 to 40 carbon atoms. Examples of divalent organic groups include divalent aromatic groups and divalent aliphatic groups. In this specification, a divalent aromatic group is a divalent organic group having an aromatic group, and may contain an aliphatic group or other substituents in part of its structure. A divalent aliphatic group is a divalent organic group having an aliphatic group, and may contain other substituents in part of its structure, but does not contain an aromatic group.

式(1)中のXは、2価の脂肪族基を含み、2価の脂肪族基としては、例えば2価の非環式脂肪族基又は2価の環式脂肪族基が挙げられる。これらの中でも、分子同士のスタッキングが少なく密な構造をとりやすく、光学フィルムの光弾性係数を低減しやすい観点から、2価の非環式脂肪族基が好ましい。 X in formula (1) includes a divalent aliphatic group, and examples of the divalent aliphatic group include a divalent acyclic aliphatic group and a divalent cycloaliphatic group. Among these, a divalent acyclic aliphatic group is preferable from the viewpoints of less stacking between molecules, a dense structure, and easy reduction of the photoelastic coefficient of the optical film.

本発明の一実施態様において、式(1)中のXにおける2価の非環式脂肪族基としては、例えば、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、プロピレン基、1,2-ブタンジイル基、1,3-ブタンジイル基、2-メチル-1,2-プロパンジイル基、2-メチル-1,3-プロパンジイル基等の直鎖状又は分岐鎖状アルキレン基などが挙げられる。2価の非環式脂肪族基中の水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよく、炭素原子はヘテロ原子(例えば酸素原子、窒素原子等)で置換されていてもよい。直鎖状又は分岐鎖状アルキレン基の炭素数は、光学フィルムのガスバリア性を高めやすい観点から、好ましくは2以上、より好ましくは3以上、更に好ましくは4以上であり、好ましくは10以下、より好ましくは8以下、更に好ましくは6以下である。前記2価の非環式脂肪族基の中でも、光学フィルムのガスバリア性を高めやすい観点から、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基等の炭素数2~6のアルキレン基が好ましく、テトラメチレン基がより好ましい。 In one embodiment of the present invention, the divalent acyclic aliphatic group for X in formula (1) includes, for example, ethylene group, trimethylene group, tetramethylene group, pentamethylene group, hexamethylene group and propylene group. , 1,2-butanediyl group, 1,3-butanediyl group, 2-methyl-1,2-propanediyl group, 2-methyl-1,3-propanediyl group, and other linear or branched alkylene groups are mentioned. A hydrogen atom in the divalent acyclic aliphatic group may be substituted with a halogen atom, and a carbon atom may be substituted with a heteroatom (eg, oxygen atom, nitrogen atom, etc.). The number of carbon atoms in the linear or branched alkylene group is preferably 2 or more, more preferably 3 or more, still more preferably 4 or more, and preferably 10 or less, from the viewpoint of easily increasing the gas barrier properties of the optical film. It is preferably 8 or less, more preferably 6 or less. Among the divalent acyclic aliphatic groups, alkylene groups having 2 to 6 carbon atoms such as ethylene group, trimethylene group, tetramethylene group, pentamethylene group and hexamethylene group are used from the viewpoint of easily increasing the gas barrier properties of the optical film. groups are preferred, and tetramethylene groups are more preferred.

本発明の一実施態様において、式(1)中のXにおける2価の芳香族基又は2価の環式脂肪族基としては、式(10)、式(11)、式(12)、式(13)、式(14)、式(15)、式(16)、式(17)及び式(18)で表される基;それらの式(10)~式(18)で表される基中の水素原子がメチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基で置換された基;並びに炭素数6以下の鎖式炭化水素基が挙げられる。 In one embodiment of the present invention, the divalent aromatic group or divalent cycloaliphatic group for X in formula (1) includes formula (10), formula (11), formula (12), formula (13), a group represented by formula (14), formula (15), formula (16), formula (17) and formula (18); a group represented by those formulas (10) to (18) groups in which hydrogen atoms therein are substituted with methyl groups, fluoro groups, chloro groups or trifluoromethyl groups; and chain hydrocarbon groups having 6 or less carbon atoms.

Figure 2022117110000004
Figure 2022117110000004

式(10)~式(18)中、
*は結合手を表し、
、V及びVは、互いに独立に、単結合、-O-、-S-、-CH-、-CH-CH-、-CH(CH)-、-C(CH-、-C(CF-、-SO-、-CO-又は-N(Q)-を表す。ここで、Qはハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1~12の1価の炭化水素基を表す。ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1~12の1価の炭化水素基としては、例えばメチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、2-メチル-ブチル基、3-メチルブチル基、2-エチル-プロピル基、n-ヘキシル基、n-ヘプチル基、n-オクチル基、tert-オクチル基、n-ノニル基及びn-デシル基等が挙げられる。前記ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子などが挙げられる。
1つの例は、V及びVが単結合、-O-又は-S-であり、かつ、Vが-CH-、-C(CH-、-C(CF-又は-SO-である。VとVとの各環に対する結合位置、及び、VとVとの各環に対する結合位置は、互いに独立に、各環に対して好ましくはメタ位又はパラ位、より好ましくはパラ位である。なお、式(10)~式(18)における環上の水素原子は、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基又は炭素数6~12のアリール基で置換されていてもよい。炭素数1~6のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、2-メチル-ブチル基、3-メチルブチル基、2-エチル-プロピル基、n-ヘキシル基等が挙げられる。炭素数1~6のアルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、tert-ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基及びシクロヘキシルオキシ基等が挙げられる。炭素数6~12のアリール基としては、例えばフェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基及びビフェニル基等が挙げられる。これらの2価の環式脂肪族基又は2価の芳香族基は、単独又は二種以上組み合わせて使用できる。
In formulas (10) to (18),
* represents a bond,
V 1 , V 2 and V 3 are each independently a single bond, —O—, —S—, —CH 2 —, —CH 2 —CH 2 —, —CH(CH 3 )—, —C(CH 3 ) represents 2- , -C(CF 3 ) 2 -, -SO 2 -, -CO- or -N(Q)-; Here, Q represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom. The monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom includes, for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert -butyl group, n-pentyl group, 2-methyl-butyl group, 3-methylbutyl group, 2-ethyl-propyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, tert-octyl group, n- nonyl group, n-decyl group and the like. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
One example is V 1 and V 3 are a single bond, -O- or -S- and V 2 is -CH 2 -, -C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 - or -SO 2 -. The bonding positions of V 1 and V 2 to each ring and the bonding positions of V 2 and V 3 to each ring independently of each other are preferably meta-position or para-position, more preferably para-position. rank. The hydrogen atoms on the rings in formulas (10) to (18) are substituted with an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. good too. Examples of alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, 2-methyl- butyl group, 3-methylbutyl group, 2-ethyl-propyl group, n-hexyl group and the like. Examples of alkoxy groups having 1 to 6 carbon atoms include methoxy, ethoxy, propyloxy, isopropyloxy, butoxy, isobutoxy, tert-butoxy, pentyloxy, hexyloxy and cyclohexyloxy groups. mentioned. Examples of the aryl group having 6 to 12 carbon atoms include phenyl group, tolyl group, xylyl group, naphthyl group and biphenyl group. These divalent cycloaliphatic groups or divalent aromatic groups can be used alone or in combination of two or more.

本発明において、ポリイミド系樹脂は、複数種のXを含み得、複数種のXは、互いに同一であっても、異なっていてもよい。例えば、式(1)中のXとして、2価の非環式脂肪族基と、2価の芳香族基及び/又は2価の環式脂肪族基とを含んでいてもよい。 In the present invention, the polyimide resin may contain multiple types of X, and the multiple types of X may be the same or different. For example, X in formula (1) may include a divalent acyclic aliphatic group, a divalent aromatic group and/or a divalent cycloaliphatic group.

本発明の一実施態様において、式(1)中のXが2価の脂肪族基、好ましくは2価の非環式脂肪族基である構成単位の割合は、式(1)で表される構成単位の総モル量に対して、好ましくは30モル%以上、より好ましくは50モル%以上、更に好ましくは70モル%以上、特に好ましくは90モル%以上であり、好ましくは100モル%以下である。式(1)中のXが2価の脂肪族基、好ましくは2価の非環式脂肪族基である構成単位の割合が前記の範囲であると、光学フィルムのガスバリア性を高めやすい。該構成単位の割合は、例えばH-NMRを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。 In one embodiment of the present invention, the ratio of structural units in which X in formula (1) is a divalent aliphatic group, preferably a divalent acyclic aliphatic group, is represented by formula (1) It is preferably 30 mol% or more, more preferably 50 mol% or more, still more preferably 70 mol% or more, particularly preferably 90 mol% or more, and preferably 100 mol% or less based on the total molar amount of the structural units. be. When the ratio of structural units in which X in formula (1) is a divalent aliphatic group, preferably a divalent acyclic aliphatic group, is within the above range, the gas barrier properties of the optical film are likely to be enhanced. The ratio of the structural units can be measured using, for example, 1 H-NMR, or can be calculated from the charging ratio of raw materials.

式(1)において、Yは、それぞれ独立に4価の有機基を表し、好ましくは炭素数4~40の4価の有機基を表し、より好ましくは環状構造を有する炭素数4~40の4価の有機基を表す。環状構造としては、脂環、芳香環、ヘテロ環構造が挙げられる。前記有機基は、有機基中の水素原子が炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよい有機基であり、その場合、炭化水素基及びフッ素置換された炭化水素基の炭素数は好ましくは1~8である。本発明のポリイミド系樹脂は、複数種のYを含み得、複数種のYは、互いに同一でよく、異なっていてもよい。Yとしては、以下の式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)及び式(29)で表される基;それらの式(20)~式(29)で表される基中の水素原子がメチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基で置換された基;並びに4価の炭素数6以下の鎖式炭化水素基が挙げられる。 In formula (1), each Y independently represents a tetravalent organic group, preferably a tetravalent organic group having 4 to 40 carbon atoms, more preferably a tetravalent organic group having 4 to 40 carbon atoms and having a cyclic structure. represents a valent organic group. Cyclic structures include alicyclic, aromatic and heterocyclic structures. The organic group is an organic group in which a hydrogen atom may be substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group. The number of carbon atoms is preferably 1-8. The polyimide-based resin of the present invention may contain multiple types of Y, and the multiple types of Y may be the same or different. Y is represented by the following formula (20), formula (21), formula (22), formula (23), formula (24), formula (25), formula (26), formula (27), formula (28) and a group represented by the formula (29); a group in which the hydrogen atoms in the groups represented by the formulas (20) to (29) are substituted with a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group and a tetravalent chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms.

Figure 2022117110000005
Figure 2022117110000005

式(20)~式(29)中、
*は結合手を表し、
は、単結合、-O-、-CH-、-CH-CH-、-CH(CH)-、-C(CH-、-C(CF-、-Ar-、-SO-、-CO-、-O-Ar-O-、-Ar-O-Ar-、-Ar-CH-Ar-、-Ar-C(CH-Ar-又は-Ar-SO-Ar-を表す。Arは、水素原子がフッ素原子で置換されていてもよい炭素数6~20のアリーレン基を表し、具体例としてはフェニレン基が挙げられる。
In formulas (20) to (29),
* represents a bond,
W 1 is a single bond, —O—, —CH 2 —, —CH 2 —CH 2 —, —CH(CH 3 )—, —C(CH 3 ) 2 —, —C(CF 3 ) 2 —, -Ar-, -SO 2 -, -CO-, -O-Ar-O-, -Ar-O-Ar-, -Ar-CH 2 -Ar-, -Ar-C(CH 3 ) 2 -Ar- or -Ar-SO 2 -Ar-. Ar represents an arylene group having 6 to 20 carbon atoms in which a hydrogen atom may be substituted with a fluorine atom, and specific examples thereof include a phenylene group.

式(20)~式(29)で表される基の中でも、光学フィルムのガスバリア性を高めやすいことから、式(26)、式(28)又は式(29)で表される基が好ましく、式(26)で表される基がより好ましい。また、Wは、光学フィルムのガスバリア性を高めやすいことから、それぞれ独立に、単結合、-O-、-CH-、-CH-CH-、-CH(CH)-、-C(CH-又は-C(CF-であることが好ましく、単結合、-O-、-CH-、-CH(CH)-、-C(CH-又は-C(CF-であることがより好ましく、単結合、-C(CH-又は-C(CF-であることが更に好ましい。 Among the groups represented by formulas (20) to (29), the groups represented by formula (26), (28), or (29) are preferable because they tend to increase the gas barrier properties of the optical film. A group represented by formula (26) is more preferred. In addition, since W 1 tends to enhance the gas barrier properties of the optical film, W 1 is each independently a single bond, —O—, —CH 2 —, —CH 2 —CH 2 —, —CH(CH 3 )—, — preferably C(CH 3 ) 2 - or -C(CF 3 ) 2 -, a single bond, -O-, -CH 2 -, -CH(CH 3 )-, -C(CH 3 ) 2 - or -C(CF 3 ) 2 -, more preferably a single bond, -C(CH 3 ) 2 - or -C(CF 3 ) 2 -.

本発明の好適な実施態様において、式(1)で表される構成単位は、Yとして、式(2):

Figure 2022117110000006
[式(2)中、R~Rは、互いに独立に、水素原子、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基又は炭素数6~12のアリール基を表し、R~Rに含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、Vは、単結合、-O-、-CH-、-CH-CH-、-CH(CH)-、-C(CH-、-C(CF-、-SO-、-S-、-CO-又は-N(R)-を表し、Rは、水素原子、又はハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1~12の一価の炭化水素基を表し、*は結合手を表す]
で表される構造を含む。このような実施態様であると、光学フィルムのガスバリア性を高めやすい。なお、式(1)で表される構成単位は、Yとして、式(2)で表される構造を1種又は複数種含んでいてもよい。 In a preferred embodiment of the present invention, the structural unit represented by formula (1) is represented by Y as represented by formula (2):
Figure 2022117110000006
[In formula (2), R 2 to R 7 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, The hydrogen atoms contained in R 2 to R 7 may be independently substituted with halogen atoms, and V is a single bond, —O—, —CH 2 —, —CH 2 —CH 2 —, — CH(CH 3 )—, —C(CH 3 ) 2 —, —C(CF 3 ) 2 —, —SO 2 —, —S—, —CO— or —N(R 8 )—, and R 8 represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom, * represents a bond]
Contains the structure represented by In such an embodiment, the gas barrier properties of the optical film are likely to be enhanced. The structural unit represented by formula (1) may contain, as Y, one or a plurality of structures represented by formula (2).

式(2)において、R、R、R、R、R及びRは、互いに独立に、水素原子、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基又は炭素数6~12のアリール基を表す。炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基及び炭素数6~12のアリール基としてはそれぞれ、前記に例示の炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基及び炭素数6~12のアリール基が挙げられる。R~Rは、互いに独立に、好ましくは水素原子又は炭素数1~6のアルキル基を表し、より好ましくは水素原子又は炭素数1~3のアルキル基を表し、ここで、R~Rに含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよい。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。Vは、単結合、-O-、-CH-、-CH-CH-、-CH(CH)-、-C(CH-、-C(CF-、-SO-、-S-、-CO-又は-N(R)-を表し、Rは、水素原子、又はハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1~12の一価の炭化水素基を表す。ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1~12の一価の炭化水素基としては、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1~12の一価の炭化水素基として前記に例示のものが挙げられる。これらの中でも、光学フィルムのガスバリア性を高めやすいことから、Vは、単結合、-O-、-CH-、-CH(CH)-、-C(CH-又は-C(CF-であることが好ましく、単結合、-C(CH-又は-C(CF-であることがより好ましく、単結合又は-C(CF-であることが更に好ましい。 In formula (2), R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 and R 7 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or It represents an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. The alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, and the aryl group having 6 to 12 carbon atoms are respectively the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms as exemplified above. and aryl groups having 6 to 12 carbon atoms. R 2 to R 7 each independently represent preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, wherein R 2 to Hydrogen atoms contained in R7 may be independently substituted with halogen atoms. Halogen atoms include fluorine, chlorine, bromine and iodine atoms. V is a single bond, -O-, -CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -, -CH(CH 3 )-, -C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, - represents SO 2 -, -S-, -CO- or -N(R 8 )-, where R 8 is a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom; represents a group. As the monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom, the monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom is exemplified above. things are mentioned. Among these, V is a single bond, —O—, —CH 2 —, —CH(CH 3 )—, —C(CH 3 ) 2 — or —C( CF 3 ) 2 — is preferred, and a single bond, —C(CH 3 ) 2 — or —C(CF 3 ) 2 — is more preferred, and a single bond or —C(CF 3 ) 2 — It is even more preferable to have

本発明の好適な実施態様においては、式(2)は、式(2’):

Figure 2022117110000007
[式(2’)中、*は結合手を表す]
で表される。このような実施態様であると、光学フィルムのガスバリア性をより高めやすい。また、フッ素元素を含有する骨格により樹脂の溶媒への溶解性を向上し、ワニスの粘度を低く抑制することができ、光学フィルムの加工を容易にすることができる。 In a preferred embodiment of the present invention, formula (2) is represented by formula (2'):
Figure 2022117110000007
[In formula (2′), * represents a bond]
is represented by In such an embodiment, the gas barrier properties of the optical film can be more easily improved. In addition, the fluorine element-containing skeleton improves the solubility of the resin in a solvent, suppresses the viscosity of the varnish, and facilitates the processing of the optical film.

本発明の一実施態様において、式(1)中のYとして、式(2)で表される構造を含む場合、式(1)中のYが式(2)で表される構成単位の割合は、式(1)で表される構成単位の総モル量に対して、好ましくは30モル%以上、より好ましくは50モル%以上、更に好ましくは70モル%以上、特に好ましくは90モル%以上であり、好ましくは100モル%以下である。式(1)中のYが式(2)で表される構成単位の割合が前記の範囲であると、光学フィルムのガスバリア性を高めやすい。式(1)中のYが式(2)で表される構成単位の割合は、例えばH-NMRを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。 In one embodiment of the present invention, when Y in formula (1) contains a structure represented by formula (2), Y in formula (1) is the proportion of structural units represented by formula (2) is preferably 30 mol% or more, more preferably 50 mol% or more, still more preferably 70 mol% or more, and particularly preferably 90 mol% or more, based on the total molar amount of the structural units represented by formula (1). and preferably 100 mol % or less. When the ratio of the structural unit represented by formula (2) for Y in formula (1) is within the above range, the gas barrier properties of the optical film are likely to be enhanced. The proportion of structural units in which Y in formula (1) is represented by formula (2) can be measured, for example, using 1 H-NMR, or can be calculated from the charging ratio of raw materials.

本発明において、ポリイミド系樹脂は、式(1)で表される構成単位の他に、式(30)で表される構成単位及び/又は式(31)で表される構成単位を含んでいてもよい。

Figure 2022117110000008
In the present invention, the polyimide resin contains a structural unit represented by formula (30) and/or a structural unit represented by formula (31) in addition to the structural unit represented by formula (1). good too.
Figure 2022117110000008

式(30)において、Yは4価の有機基であり、好ましくは有機基中の水素原子が炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよい有機基である。Yとしては、式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)及び式(29)で表される基、それらの式(20)~式(29)で表される基中の水素原子がメチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基で置換された基、並びに4価の炭素数6以下の鎖式炭化水素基が挙げられる。本発明の一実施態様において、ポリイミド系樹脂は、複数種のYを含み得、複数種のYは、互いに同一であっても、異なっていてもよい。 In formula (30), Y 1 is a tetravalent organic group, preferably an organic group in which a hydrogen atom in the organic group may be substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group. Y 1 is represented by formula (20), formula (21), formula (22), formula (23), formula (24), formula (25), formula (26), formula (27), formula (28) and a group represented by the formula (29), a group in which hydrogen atoms in the groups represented by the formulas (20) to (29) are substituted with a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group; and tetravalent chain hydrocarbon groups having 6 or less carbon atoms. In one embodiment of the present invention, the polyimide resin may contain multiple types of Y 1 , and the multiple types of Y 1 may be the same or different.

式(31)において、Yは3価の有機基であり、好ましくは有機基中の水素原子が炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよい有機基である。Yとしては、前記の式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)及び式(29)で表される基の結合手のいずれか1つが水素原子に置き換わった基、及び3価の炭素数6以下の鎖式炭化水素基が挙げられる。本発明の一実施態様において、ポリイミド系樹脂は、複数種のYを含み得、複数種のYは、互いに同一であっても、異なっていてもよい。 In formula (31), Y 2 is a trivalent organic group, preferably an organic group in which a hydrogen atom in the organic group may be substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group. Y 2 is represented by the above formula (20), formula (21), formula (22), formula (23), formula (24), formula (25), formula (26), formula (27), formula (28) ), a group in which one of the bonds of the group represented by formula (29) is replaced with a hydrogen atom, and a trivalent chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms. In one embodiment of the present invention, the polyimide-based resin may contain multiple types of Y 2 , and the multiple types of Y 2 may be the same or different.

式(30)及び式(31)において、X及びXは、互いに独立に、2価の有機基を表し、好ましくは炭素数2~40の2価の有機基を表す。2価の有機基としては、例えば2価の芳香族基、2価の脂肪族基等が挙げられ、2価の脂肪族基としては、例えば2価の非環式脂肪族基又は2価の環式脂肪族基が挙げられる。X及びXにおける2価の環式脂肪族基又は2価の芳香族基としては、前記の式(10)、式(11)、式(12)、式(13)、式(14)、式(15)、式(16)、式(17)及び式(18)で表される基;それらの式(10)~式(18)で表される基中の水素原子がメチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基で置換された基;並びに炭素数6以下の鎖式炭化水素基などが挙げられる。2価の非環式脂肪族基としては、例えば、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、プロピレン基、1,2-ブタンジイル基、1,3-ブタンジイル基、2-メチル-1,2-プロパンジイル基、2-メチル-1,3-プロパンジイル基等の炭素数2~10の直鎖状又は分岐鎖状アルキレン基などが挙げられる。 In formulas (30) and (31), X 1 and X 2 independently represent a divalent organic group, preferably a divalent organic group having 2 to 40 carbon atoms. Examples of the divalent organic group include a divalent aromatic group and a divalent aliphatic group. Examples of the divalent aliphatic group include a divalent acyclic aliphatic group and a divalent Cycloaliphatic groups are included. As the divalent cycloaliphatic group or divalent aromatic group for X 1 and X 2 , the above formula (10), formula (11), formula (12), formula (13), and formula (14) , groups represented by formula (15), formula (16), formula (17) and formula (18); hydrogen atoms in the groups represented by formulas (10) to (18) are methyl groups, a group substituted with a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group; and a chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms. Examples of divalent acyclic aliphatic groups include ethylene, trimethylene, tetramethylene, pentamethylene, hexamethylene, propylene, 1,2-butanediyl, 1,3-butanediyl, 2 -Methyl-1,2-propanediyl group, 2-methyl-1,3-propanediyl group, and the like linear or branched alkylene groups having 2 to 10 carbon atoms.

本発明の一実施態様において、ポリイミド系樹脂は、式(1)で表される構成単位、並びに、場合により式(30)で表される構成単位及び式(31)で表される構成単位から選択される少なくとも1つの構成単位からなる。また、光学フィルムのガスバリア性を高めやすいことから、前記ポリイミド系樹脂において、式(1)で表される構成単位の割合は、ポリイミド系樹脂に含まれる全構成単位、例えば式(1)で表される構成単位、並びに、場合により式(30)で表される構成単位及び式(31)で表される構成単位から選択される少なくとも1つの構成単位の総モル量に基づいて、好ましくは80モル%以上、より好ましくは90モル%以上、更に好ましくは95モル%以上である。なお、ポリイミド系樹脂において、式(1)で表される構成単位の割合の上限は100モル%である。なお、前記割合は、例えば、H-NMRを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。また、本発明におけるポリイミド系樹脂は、光学フィルムのガスバリア性を高めやすいことから、好ましくはポリイミド樹脂である。 In one embodiment of the present invention, the polyimide resin is a structural unit represented by the formula (1), and optionally a structural unit represented by the formula (30) and a structural unit represented by the formula (31) It consists of at least one selected structural unit. Further, since the gas barrier property of the optical film is easily improved, the ratio of the structural units represented by the formula (1) in the polyimide resin is the total structural units contained in the polyimide resin, for example, the ratio represented by the formula (1). and optionally at least one structural unit selected from structural units represented by formula (30) and structural units represented by formula (31), preferably 80 mol % or more, more preferably 90 mol % or more, and still more preferably 95 mol % or more. In addition, in polyimide resin, the upper limit of the ratio of the structural unit represented by Formula (1) is 100 mol%. The ratio can be measured, for example, using 1 H-NMR, or can be calculated from the charging ratio of raw materials. Further, the polyimide-based resin in the present invention is preferably a polyimide resin because it easily enhances the gas barrier properties of the optical film.

本発明の好ましい一実施態様において、前記ポリイミド系樹脂は、例えば前記の含ハロゲン原子置換基等によって導入することができる、ハロゲン原子、好ましくはフッ素原子を含有していてもよい。ポリイミド系樹脂がハロゲン原子、好ましくはフッ素原子を含有する場合、光学フィルムのガスバリア性が高まる傾向にある。ポリイミド系樹脂にフッ素原子を含有させるために好ましい含フッ素置換基としては、例えばフルオロ基及びトリフルオロメチル基が挙げられる。 In a preferred embodiment of the present invention, the polyimide resin may contain a halogen atom, preferably a fluorine atom, which can be introduced by, for example, the halogen-containing substituent group described above. When the polyimide resin contains a halogen atom, preferably a fluorine atom, the gas barrier property of the optical film tends to be enhanced. Preferred fluorine-containing substituents for allowing the polyimide resin to contain fluorine atoms include, for example, a fluoro group and a trifluoromethyl group.

ポリイミド系樹脂におけるハロゲン原子の含有量は、それぞれ、ポリイミド系樹脂の質量を基準として、好ましくは1~40質量%、より好ましくは5~40質量%、更に好ましくは5~30質量%である。ハロゲン原子の含有量が前記下限値以上及び前記上限値以下であると、光学フィルムのガスバリア性が高まる傾向にある。また、合成が容易となる傾向にある。 The content of halogen atoms in the polyimide resin is preferably 1 to 40% by mass, more preferably 5 to 40% by mass, and still more preferably 5 to 30% by mass, based on the mass of the polyimide resin. When the halogen atom content is equal to or more than the lower limit and equal to or less than the upper limit, the gas barrier properties of the optical film tend to increase. In addition, synthesis tends to be easy.

ポリイミド系樹脂のイミド化率は、好ましくは90%以上、より好ましくは93%以上、更に好ましくは95%以上である。光学フィルムのガスバリア性を高めやすいことから、イミド化率が前記の下限以上であることが好ましい。また、イミド化率の上限は100%である。イミド化率は、ポリイミド系樹脂中のテトラカルボン酸化合物に由来する構成単位のモル量の2倍の値に対する、ポリイミド系樹脂中のイミド結合のモル量の割合を示す。なお、ポリイミド系樹脂がトリカルボン酸化合物を含む場合には、ポリイミド系樹脂中のテトラカルボン酸化合物に由来する構成単位のモル量の2倍の値と、トリカルボン酸化合物に由来する構成単位のモル量との合計に対する、ポリイミド系樹脂中のイミド結合のモル量の割合を示す。また、イミド化率は、IR法、NMR法などにより求めることができる。 The imidization rate of the polyimide resin is preferably 90% or higher, more preferably 93% or higher, and still more preferably 95% or higher. The imidization rate is preferably at least the above lower limit because it facilitates enhancing the gas barrier properties of the optical film. Moreover, the upper limit of the imidization rate is 100%. The imidization ratio indicates the ratio of the molar amount of imide bonds in the polyimide resin to twice the molar amount of the structural units derived from the tetracarboxylic acid compound in the polyimide resin. In the case where the polyimide resin contains a tricarboxylic acid compound, a value twice the molar amount of the structural units derived from the tetracarboxylic acid compound in the polyimide resin, and the molar amount of the structural units derived from the tricarboxylic acid compound It shows the ratio of the molar amount of imide bonds in the polyimide resin to the total of . Also, the imidization rate can be determined by IR method, NMR method, or the like.

本発明の一実施態様において、光学フィルムに含まれるポリイミド系樹脂の含有量は、光学フィルムの質量(100質量%)に対して、好ましくは40質量%以上、より好ましくは50質量%以上、更に好ましくは60質量%、特に好ましくは80質量%以上であり、好ましくは100質量%以下である。光学フィルムに含まれるポリイミド系樹脂の含有量が前記範囲内であると、光学フィルムのガスバリア性が高まる傾向にある。 In one embodiment of the present invention, the content of the polyimide resin contained in the optical film is preferably 40% by mass or more, more preferably 50% by mass or more, based on the mass of the optical film (100% by mass). It is preferably 60% by mass, particularly preferably 80% by mass or more, and preferably 100% by mass or less. When the content of the polyimide resin contained in the optical film is within the above range, the gas barrier properties of the optical film tend to increase.

〔ポリイミド系樹脂の製造方法〕
前記ポリイミド系樹脂は、市販品を用いてもよく、慣用の方法により製造してもよい。ポリイミド系樹脂の製造方法は特に限定されないが、例えば、式(1)で表される構成単位を含むポリイミド系樹脂は、ジアミン化合物とテトラカルボン酸化合物とを反応させてポリアミック酸を得る工程、及び該ポリアミック酸をイミド化する工程を含む方法により製造できる。なお、テトラカルボン酸化合物の他に、トリカルボン酸化合物を反応させてもよい。
[Method for producing polyimide resin]
A commercially available product may be used as the polyimide resin, or it may be produced by a conventional method. Although the method for producing the polyimide resin is not particularly limited, for example, the polyimide resin containing the structural unit represented by formula (1) is obtained by reacting a diamine compound and a tetracarboxylic acid compound to obtain a polyamic acid, and It can be produced by a method including a step of imidizing the polyamic acid. In addition to the tetracarboxylic acid compound, a tricarboxylic acid compound may be reacted.

ポリイミド系樹脂の合成に用いられるテトラカルボン酸化合物、ジアミン化合物及びトリカルボン酸化合物はそれぞれ、例えば、〔ポリイミド系樹脂〕の項に記載の前記テトラカルボン酸化合物、前記ジアミン化合物及び前記トリカルボン酸化合物と同様のものを使用できる。 The tetracarboxylic acid compound, the diamine compound and the tricarboxylic acid compound used in the synthesis of the polyimide resin are the same as the tetracarboxylic acid compound, the diamine compound and the tricarboxylic acid compound described in the [Polyimide resin] section, respectively. can be used.

ポリイミド系樹脂の製造において、ジアミン化合物、テトラカルボン酸化合物及びトリカルボン酸化合物の使用量は、所望とする樹脂の各構成単位の比率に応じて適宜選択できる。
本発明の好適な実施態様においては、ジアミン化合物の使用量は、テトラカルボン酸化合物1モルに対して、好ましくは0.94モル以上、より好ましくは0.96モル以上、更に好ましくは0.98モル以上、特に好ましくは0.99モル以上であり、好ましくは1.20モル以下、より好ましくは1.10モル以下、更に好ましくは1.05モル以下、特に好ましくは1.02モル以下である。テトラカルボン酸化合物に対するジアミン化合物の使用量が前記の範囲であると、得られる光学フィルムのガスバリア性が高まる傾向にある。
In the production of the polyimide resin, the amounts of the diamine compound, the tetracarboxylic acid compound and the tricarboxylic acid compound to be used can be appropriately selected according to the desired ratio of each structural unit of the resin.
In a preferred embodiment of the present invention, the amount of the diamine compound used is preferably 0.94 mol or more, more preferably 0.96 mol or more, still more preferably 0.98 mol or more, per 1 mol of the tetracarboxylic acid compound. mol or more, particularly preferably 0.99 mol or more, preferably 1.20 mol or less, more preferably 1.10 mol or less, even more preferably 1.05 mol or less, particularly preferably 1.02 mol or less . When the amount of the diamine compound used relative to the tetracarboxylic acid compound is within the above range, the resulting optical film tends to have enhanced gas barrier properties.

ジアミン化合物とテトラカルボン酸化合物との反応温度は、特に限定されず、例えば5~200℃であってもよく、反応時間も特に限定されず、例えば30分~72時間程度であってもよい。本発明の好適な実施態様においては、反応温度は、好ましくは5~50℃、より好ましくは5~40℃、更に好ましくは5~25℃であり、反応時間は、好ましくは3~24時間、より好ましくは5~20時間である。このような反応温度及び反応時間であると、得られる光学フィルムのガスバリア性が高まる傾向にある。 The reaction temperature of the diamine compound and the tetracarboxylic acid compound is not particularly limited, and may be, for example, 5 to 200° C., and the reaction time is also not particularly limited, and may be, for example, about 30 minutes to 72 hours. In a preferred embodiment of the present invention, the reaction temperature is preferably 5 to 50°C, more preferably 5 to 40°C, still more preferably 5 to 25°C, the reaction time is preferably 3 to 24 hours, More preferably 5 to 20 hours. With such a reaction temperature and reaction time, the resulting optical film tends to have enhanced gas barrier properties.

ジアミン化合物とテトラカルボン酸化合物との反応は、溶媒中で行うことが好ましい。溶媒としては、反応に影響を与えない限り特に限定されないが、例えば、水、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、1-メトキシ-2-プロパノール、2-ブトキシエタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール系溶媒;フェノール、クレゾール等のフェノール系溶媒;酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ-ブチロラクトン、γ-バレロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、乳酸エチル等のエステル系溶媒;アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、2-ヘプタノン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒;ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素溶媒;エチルシクロヘキサン等の脂環式炭化水素溶媒;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒;アセトニトリル等のニトリル系溶媒;テトラヒドロフラン及びジメトキシエタン等のエーテル系溶媒;クロロホルム及びクロロベンゼン等の塩素含有溶媒;N,N-ジメチルアセトアミド、N,N-ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒;ジメチルスルホン、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の含硫黄系溶媒;エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等のカーボネート系溶媒;及びそれらの組合せなどが挙げられる。これらの中でも、溶解性の観点から、フェノール系溶媒、アミド系溶媒を好適に使用できる。
本発明の好適な実施態様においては、反応に使用する溶媒は、水分量を700ppm以下まで厳密に脱水した溶媒であることが好ましい。このような溶媒を用いると、得られる光学フィルムのガスバリア性が高まる傾向にある。
The reaction between the diamine compound and the tetracarboxylic acid compound is preferably carried out in a solvent. The solvent is not particularly limited as long as it does not affect the reaction. Examples include water, methanol, ethanol, ethylene glycol, isopropyl alcohol, propylene glycol, ethylene glycol methyl ether, ethylene glycol butyl ether, 1-methoxy-2-propanol, Alcohol solvents such as 2-butoxyethanol and propylene glycol monomethyl ether; Phenol solvents such as phenol and cresol; Ethyl acetate, butyl acetate, ethylene glycol methyl ether acetate, γ-butyrolactone, γ-valerolactone, propylene glycol methyl ether acetate , ethyl lactate and other ester solvents; acetone, methyl ethyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, 2-heptanone, methyl isobutyl ketone and other ketone solvents; pentane, hexane, heptane and other aliphatic hydrocarbon solvents; cyclic hydrocarbon solvents; aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene; nitrile solvents such as acetonitrile; ether solvents such as tetrahydrofuran and dimethoxyethane; chlorine-containing solvents such as chloroform and chlorobenzene; amide solvents such as N,N-dimethylformamide; sulfur-containing solvents such as dimethylsulfone, dimethylsulfoxide and sulfolane; carbonate solvents such as ethylene carbonate and propylene carbonate; and combinations thereof. Among these, phenol-based solvents and amide-based solvents can be preferably used from the viewpoint of solubility.
In a preferred embodiment of the present invention, the solvent used in the reaction is preferably a solvent that has been rigorously dehydrated to a water content of 700 ppm or less. The use of such a solvent tends to enhance the gas barrier properties of the resulting optical film.

ジアミン化合物とテトラカルボン酸化合物との反応は、必要に応じて、不活性雰囲気(窒素雰囲気、アルゴン雰囲気等)又は減圧の条件下において行ってもよく、不活性雰囲気(窒素雰囲気、アルゴン雰囲気等)下、厳密に制御された脱水溶媒中で撹拌しながら行うことが好ましい。このような条件であると、得られる光学フィルムのガスバリア性が高まる傾向にある。 The reaction between the diamine compound and the tetracarboxylic acid compound may be carried out under conditions of an inert atmosphere (nitrogen atmosphere, argon atmosphere, etc.) or reduced pressure, if necessary, and an inert atmosphere (nitrogen atmosphere, argon atmosphere, etc.). It is preferable to conduct the reaction in a strictly controlled dehydrated solvent while stirring. Under such conditions, the gas barrier properties of the resulting optical film tend to be enhanced.

イミド化工程では、イミド化触媒を用いてイミド化しても、加熱によりイミド化しても、これらを組み合わせてもよい。イミド化工程で使用するイミド化触媒としては、例えばトリプロピルアミン、ジブチルプロピルアミン、エチルジブチルアミン等の脂肪族アミン;N-エチルピペリジン、N-プロピルピペリジン、N-ブチルピロリジン、N-ブチルピペリジン、及びN-プロピルヘキサヒドロアゼピン等の脂環式アミン(単環式);アザビシクロ[2.2.1]ヘプタン、アザビシクロ[3.2.1]オクタン、アザビシクロ[2.2.2]オクタン、及びアザビシクロ[3.2.2]ノナン等の脂環式アミン(多環式);並びにピリジン、2-メチルピリジン(2-ピコリン)、3-メチルピリジン(3-ピコリン)、4-メチルピリジン(4-ピコリン)、2-エチルピリジン、3-エチルピリジン、4-エチルピリジン、2,4-ジメチルピリジン、2,4,6-トリメチルピリジン、3,4-シクロペンテノピリジン、5,6,7,8-テトラヒドロイソキノリン、及びイソキノリン等の芳香族アミンが挙げられる。また、イミド化反応を促進しやすい観点から、イミド化触媒とともに、酸無水物を用いることが好ましい。酸無水物は、イミド化反応に用いられる慣用の酸無水物等が挙げられ、その具体例としては、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸等の脂肪族酸無水物、フタル酸等の芳香族酸無水物などが挙げられる。 In the imidization step, imidization may be performed using an imidization catalyst, imidization by heating, or a combination thereof. Examples of the imidization catalyst used in the imidization step include aliphatic amines such as tripropylamine, dibutylpropylamine and ethyldibutylamine; N-ethylpiperidine, N-propylpiperidine, N-butylpyrrolidine, N-butylpiperidine, and cycloaliphatic amines (monocyclic) such as N-propylhexahydroazepine; azabicyclo[2.2.1]heptane, azabicyclo[3.2.1]octane, azabicyclo[2.2.2]octane, and Alicyclic amines (polycyclic) such as azabicyclo[3.2.2]nonane; and pyridine, 2-methylpyridine (2-picoline), 3-methylpyridine (3-picoline), 4-methylpyridine (4 -picoline), 2-ethylpyridine, 3-ethylpyridine, 4-ethylpyridine, 2,4-dimethylpyridine, 2,4,6-trimethylpyridine, 3,4-cyclopentenopyridine, 5,6,7, Aromatic amines such as 8-tetrahydroisoquinoline and isoquinoline are included. Moreover, from the viewpoint of facilitating the imidization reaction, it is preferable to use an acid anhydride together with the imidization catalyst. Acid anhydrides include conventional acid anhydrides used in imidization reactions, and specific examples thereof include aliphatic acid anhydrides such as acetic anhydride, propionic anhydride and butyric anhydride, and aromatic acid anhydrides such as phthalic acid. and acid anhydrides.

本発明の一実施態様では、イミド化する場合、反応温度は、好ましくは40℃以上、より好ましくは60℃以上、更に好ましくは80℃以上であり、好ましくは190℃以下、より好ましくは170℃以下、更に好ましくは150℃以下である。イミド化工程の反応時間は、好ましくは30分~24時間、より好ましくは1~12時間である。反応温度及び反応時間が前記の範囲にあると、得られる光学フィルムのガスバリア性が高まる傾向にある。 In one embodiment of the present invention, when imidating, the reaction temperature is preferably 40°C or higher, more preferably 60°C or higher, still more preferably 80°C or higher, and preferably 190°C or lower, more preferably 170°C. 150° C. or less, more preferably 150° C. or less. The reaction time for the imidization step is preferably 30 minutes to 24 hours, more preferably 1 to 12 hours. When the reaction temperature and reaction time are within the above ranges, the resulting optical film tends to have enhanced gas barrier properties.

本発明の一実施態様では、ポリイミド系樹脂の重量平均分子量(Mw)は、好ましくは50,000以上、より好ましくは100,000以上、更に好ましくは120,000以上、特に好ましくは150,000以上、非常に特に好ましくは200,000以上であり、好ましくは800,000以下、より好ましくは700,000以下、更に好ましくは600,000以下である。重量平均分子量(Mw)が前記下限以上であると、得られる光学フィルムのガスバリア性が高まる傾向にあり、また前記上限以下であると、フィルムの加工性を向上させやすい。重量平均分子量(Mw)は、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)測定を行い、標準ポリスチレン換算により求めることができ、例えば実施例に記載の方法により算出できる。 In one embodiment of the present invention, the weight average molecular weight (Mw) of the polyimide resin is preferably 50,000 or more, more preferably 100,000 or more, still more preferably 120,000 or more, and particularly preferably 150,000 or more. , very particularly preferably ≧200,000, preferably ≦800,000, more preferably ≦700,000, even more preferably ≦600,000. When the weight-average molecular weight (Mw) is at least the lower limit, the gas barrier properties of the resulting optical film tend to be enhanced, and when it is at most the upper limit, the workability of the film tends to be improved. The weight average molecular weight (Mw) can be obtained by performing gel permeation chromatography (GPC) measurement and converting to standard polystyrene, and can be calculated, for example, by the method described in Examples.

ポリイミド系樹脂は、慣用の方法、例えば、濾過、濃縮、抽出、晶析、再結晶、カラムクロマトグラフィーなどの分離手段や、これらを組合せた分離手段により単離(分離精製)してもよく、好ましい態様では、樹脂を含む反応液に、多量のメタノール等のアルコールを加え、樹脂を析出させ、濃縮、濾過、乾燥等を行うことにより単離することができる。 The polyimide resin may be isolated (separated and purified) by a conventional method such as filtration, concentration, extraction, crystallization, recrystallization, column chromatography or other separation means, or a combination of these separation means. In a preferred embodiment, the resin can be isolated by adding a large amount of alcohol such as methanol to the reaction solution containing the resin to precipitate the resin, followed by concentration, filtration, drying, and the like.

[光学フィルム]
本発明の光学フィルムは、脂肪族ジアミン由来の構成単位を有するポリイミド系樹脂を含み、350nmの光透過率は10%以下であり、光弾性係数は50×10-12Pa-1以下である。本発明の光学フィルムが、脂肪族ジアミン由来の構成単位を有するポリイミド系樹脂を含み、350nmの光透過率が10%以下であり、光弾性係数が50×10-12Pa-1以下であると、紫外線カット性及びガスバリア性に優れる。したがって、本発明の光学フィルムは、紫外線、酸素及び水蒸気に対するバリア性が高いので、可視光下での高い視認性が要求され、水や酸素等で性能が低下しやすいフレキシブル表示装置等に好適に使用できる。
[Optical film]
The optical film of the present invention contains a polyimide resin having structural units derived from an aliphatic diamine, has a light transmittance at 350 nm of 10% or less, and a photoelastic coefficient of 50×10 −12 Pa −1 or less. The optical film of the present invention contains a polyimide resin having a structural unit derived from an aliphatic diamine, has a light transmittance at 350 nm of 10% or less, and has a photoelastic coefficient of 50×10 −12 Pa −1 or less. , excellent UV protection and gas barrier properties. Therefore, since the optical film of the present invention has high barrier properties against ultraviolet rays, oxygen and water vapor, it is required to have high visibility under visible light, and is suitable for flexible display devices and the like whose performance tends to deteriorate due to water, oxygen, and the like. Available.

本発明の光学フィルムの光弾性係数は50×10-12Pa-1以下である。光弾性係数が50×10-12Pa-1以下であると、ガスバリア性に優れる光学フィルムとなる。光弾性係数が50×10-12Pa-1を超えると高いガスバリア性を得ることは難しいことがある。光弾性係数は、好ましくは45×10-12Pa-1以下、より好ましくは35×10-12Pa-1以下、更に好ましくは30×10-12Pa-1以下であり、好ましくは5×10-12Pa-1以上、より好ましくは7.5×10-12Pa-1以上、更に好ましくは10×10-12Pa-1以上、より更に好ましくは12.5×10-12Pa-1以上、特に好ましくは15×10-12Pa-1以上、より特に好ましくは17.5×10-12Pa-1以上、更に特に好ましくは20×10-12Pa-1以上、更に特に好ましくは22.5×10-12Pa-1以上、非常に特に好ましくは25×10-12Pa-1以上である。光弾性係数が前記範囲内であると、光学フィルムのガスバリア性、引張強度、500nmの光透過率およびガラス転移温度が所望の範囲となりやすく、したがって、ガスバリア性、機械的強度、透明性および耐熱性を同時に満足する光学フィルムを得やすい。光弾性係数は、光学フィルムに含まれる樹脂を構成する構成単位の種類や構成比;樹脂の分子量;光学フィルムの溶媒含有量;添加剤の種類や配合量;樹脂の製造条件;光学フィルムの製造条件等を適宜調整することにより前記範囲内に調整することができ、特に光学フィルムに含まれる樹脂を構成する構成単位の種類や構成比;光学フィルムの溶媒含有量;光学フィルムの製造条件等を適宜調整することによって、前記範囲内に調整することができる。光弾性係数は、位相差測定装置を使用して測定することができ、例えば後述の実施例に記載の方法により測定できる。 The optical film of the present invention has a photoelastic coefficient of 50×10 −12 Pa −1 or less. When the photoelastic coefficient is 50×10 −12 Pa −1 or less, the optical film has excellent gas barrier properties. If the photoelastic coefficient exceeds 50×10 −12 Pa −1 , it may be difficult to obtain high gas barrier properties. The photoelastic coefficient is preferably 45×10 −12 Pa −1 or less, more preferably 35×10 −12 Pa −1 or less, still more preferably 30×10 −12 Pa −1 or less, preferably 5×10 −12 Pa −1 or more, more preferably 7.5×10 −12 Pa −1 or more, still more preferably 10×10 −12 Pa −1 or more, still more preferably 12.5×10 −12 Pa −1 or more , particularly preferably 15×10 −12 Pa −1 or more, more preferably 17.5×10 −12 Pa −1 or more, still more preferably 20×10 −12 Pa −1 or more, still more preferably 22.5×10 −12 Pa −1 or more. It is at least 5×10 −12 Pa −1 , very particularly preferably at least 25×10 −12 Pa −1 . When the photoelastic coefficient is within the above range, the gas barrier properties, tensile strength, light transmittance at 500 nm, and glass transition temperature of the optical film tend to be within the desired ranges. It is easy to obtain an optical film that simultaneously satisfies The photoelastic coefficient is the type and composition ratio of the structural units that make up the resin contained in the optical film; the molecular weight of the resin; the solvent content of the optical film; the type and amount of additives; It can be adjusted within the above range by appropriately adjusting conditions, etc. In particular, the type and composition ratio of structural units constituting the resin contained in the optical film; the solvent content of the optical film; the manufacturing conditions of the optical film, etc. It can be adjusted within the above range by appropriate adjustment. The photoelastic coefficient can be measured using a phase difference measuring device, for example, by the method described in Examples below.

本発明の光学フィルムは、350nmの光透過率が10%以下である。350nmの光透過率が10%以下であると、紫外線カット性に優れた光学フィルムとなる。350nmの光透過率が10%を超えると、紫外線カット性が低下する傾向がある。本発明の光学フィルムの350nmにおける光透過率は、好ましくは8%以下、より好ましくは5%以下である。350nmの光透過率が前記上限以下であると、紫外線カット性を向上できる。350nmの光透過率の下限は0%である。350nmの光透過率は、好ましくは本発明の光学フィルムの厚み(膜厚)の範囲における光透過率である。なお、350nmの光透過率は、光学フィルムに含まれる樹脂を構成する構成単位の種類や構成比;光学フィルムの厚さ;光学フィルムの溶媒含有量;添加剤の種類や配合量;樹脂の製造条件やモノマーの純度;光学フィルムの製造条件を適宜調整することにより前記範囲内にすることができ、例えば光学フィルムに含まれる紫外線吸収剤の種類や量を適宜調整することにより前記範囲に調整しやすい。350nmの光透過率は、紫外可視近赤外分光光度計を用いて測定でき、例えば実施例に記載の方法により測定できる。 The optical film of the present invention has a light transmittance of 10% or less at 350 nm. When the light transmittance at 350 nm is 10% or less, the optical film is excellent in ultraviolet shielding properties. If the light transmittance at 350 nm exceeds 10%, the UV shielding property tends to be lowered. The light transmittance of the optical film of the present invention at 350 nm is preferably 8% or less, more preferably 5% or less. When the light transmittance at 350 nm is equal to or less than the upper limit, the ultraviolet shielding property can be improved. The lower limit of light transmittance at 350 nm is 0%. The light transmittance at 350 nm is preferably the light transmittance within the range of thickness (film thickness) of the optical film of the present invention. In addition, the light transmittance at 350 nm is based on the types and composition ratios of structural units that constitute the resin contained in the optical film; the thickness of the optical film; the solvent content of the optical film; the types and amounts of additives; The above range can be achieved by appropriately adjusting the conditions, the purity of the monomer, and the manufacturing conditions of the optical film. Cheap. The light transmittance at 350 nm can be measured using an ultraviolet-visible-near-infrared spectrophotometer, for example, by the method described in Examples.

本発明の光学フィルムの湿度膨張係数(以下、「CME」とも称する)は、好ましくは5ppm以上、より好ましくは10ppm以上、更に好ましくは10ppmを超える、より更に好ましくは20ppm以上、非常に更に好ましくは27ppm以上であり、好ましくは100ppm以下、より好ましくは80ppm以下、更に好ましくは60ppm以下である。湿度膨張係数が前記範囲内であると、光学フィルムのガスバリア性を高めやすい。本発明において、湿度膨張係数は、60℃90%RHの条件下で、後述の実施例に記載の方法で測定した際の値を指す。湿度膨張係数は光学フィルムに含まれる樹脂を構成する構成単位の種類や構成比;光学フィルムの溶媒含有量;添加剤の種類や配合量;樹脂の製造条件;光学フィルムの製造条件等を適宜調整することにより前記範囲内に調整することができる。湿度膨張係数は、熱機械分析装置(TMA)を用いて測定することができ、例えば後述の実施例に記載の方法により測定できる。 The humidity expansion coefficient (hereinafter also referred to as “CME”) of the optical film of the present invention is preferably 5 ppm or more, more preferably 10 ppm or more, still more preferably 10 ppm or more, even more preferably 20 ppm or more, and very preferably It is 27 ppm or more, preferably 100 ppm or less, more preferably 80 ppm or less, and still more preferably 60 ppm or less. When the humidity expansion coefficient is within the above range, the gas barrier properties of the optical film are likely to be enhanced. In the present invention, the coefficient of humidity expansion refers to a value measured by the method described in Examples below under conditions of 60° C. and 90% RH. The humidity expansion coefficient is determined by adjusting the type and composition ratio of the structural units that make up the resin contained in the optical film; the solvent content of the optical film; the type and amount of additives; can be adjusted within the above range. The humidity expansion coefficient can be measured using a thermomechanical analyzer (TMA), for example, by the method described in Examples below.

通常、湿度膨張係数が高いと、水分の影響を受けやすいため、ガスバリア性が低下する傾向にある。しかし、本発明の好ましい一実施態様では、本発明の光学フィルムは、湿度膨張係数が比較的高い、例えば10ppmを超える、好ましくは20ppm以上であっても、優れたガスバリア性を発現できる。本発明の光学フィルムがこのような性質を有することによって、本発明の光学フィルムを表示装置等に使用した際に水蒸気や酸素から表示装置を保護すると同時に、通常の(低湿度環境ではない)クリーンルームでの製膜加工が可能であるため有利である。 Usually, when the humidity expansion coefficient is high, the gas barrier property tends to be lowered because it is easily affected by moisture. However, in a preferred embodiment of the present invention, the optical film of the present invention can exhibit excellent gas barrier properties even when the humidity expansion coefficient is relatively high, for example, over 10 ppm, preferably 20 ppm or more. Since the optical film of the present invention has such properties, when the optical film of the present invention is used in a display device or the like, the display device can be protected from water vapor and oxygen, and at the same time, it can be used in a normal (non-low-humidity environment) clean room. It is advantageous because it is possible to form a film at

本発明の光学フィルムの60℃における吸水率(以下、単に「吸水率」とも称する)は、好ましくは2.5%以下、より好ましくは2.1%以下、更に好ましくは1.9%以下である。吸水率が前記上限以下であると、水蒸気に対するバリア性が優れる傾向にある。なお、吸水率の下限は通常0%である。吸水率は光学フィルムに含まれる樹脂を構成する構成単位の種類や構成比;光学フィルムの溶媒含有量;添加剤の種類や配合量;樹脂の製造条件;光学フィルムの製造条件等を適宜調整することにより前記範囲内に調整することができる。吸水率は、熱分析装置(TG/DTA6200)高温高湿度対応仕様を用いることによって測定することができ、例えば後述の実施例に記載の方法により測定できる。 The water absorption rate of the optical film of the present invention at 60° C. (hereinafter also simply referred to as “water absorption rate”) is preferably 2.5% or less, more preferably 2.1% or less, and still more preferably 1.9% or less. be. When the water absorption is equal to or less than the upper limit, the barrier properties against water vapor tend to be excellent. In addition, the lower limit of the water absorption is usually 0%. The water absorption rate is determined by appropriately adjusting the types and composition ratios of structural units that make up the resin contained in the optical film; the solvent content of the optical film; the types and amounts of additives; the manufacturing conditions for the resin; can be adjusted within the above range. The water absorption can be measured by using a thermal analyzer (TG/DTA6200) with specifications for high temperature and high humidity, and can be measured, for example, by the method described in Examples below.

本発明の光学フィルムは、溶媒含有量(残留溶媒量ともいう)が、光学フィルムの質量に対して、好ましくは7.0質量%以下、より好ましくは3.5質量%以下、更に好ましくは2.5質量%以下、より更に好ましくは1.4質量%以下である。溶媒含有量が前記上限以下であると、光学フィルムのガスバリア性が高まりやすくなる。なお、溶媒含有量の下限は通常0.01質量%である。溶媒含有量は後述の光学フィルム製造工程における、溶媒の種類、基板の種類、乾燥条件(特に乾燥温度や乾燥時間等)等を適宜調整することにより、前記範囲に調整することができる。溶媒含有量は、例えば後述の実施例に記載の方法により測定できる。 In the optical film of the present invention, the solvent content (also referred to as residual solvent content) is preferably 7.0% by mass or less, more preferably 3.5% by mass or less, still more preferably 2% by mass, based on the mass of the optical film. 0.5% by mass or less, more preferably 1.4% by mass or less. When the solvent content is equal to or less than the upper limit, the gas barrier properties of the optical film are likely to be enhanced. In addition, the lower limit of the solvent content is usually 0.01% by mass. The solvent content can be adjusted within the above range by appropriately adjusting the type of solvent, the type of substrate, drying conditions (especially drying temperature, drying time, etc.), etc. in the optical film manufacturing process described below. The solvent content can be measured, for example, by the method described in Examples below.

本発明の光学フィルムの500nmの光透過率は、好ましくは90.0%以上、より好ましくは90.2%以上、更に好ましくは90.3%以上、特に好ましくは90.4%以上である。500nmの光透過率が前記下限以上であると、表示装置等に適用した場合に視認性を高めやすい。500nmの光透過率の上限は100%以下である。そのため、本発明の好適な実施態様では、光学フィルムは紫外領域のカット性だけではなく、可視光領域の透過性も良好なものとできる。500nmの光透過率は、好ましくは本発明の光学フィルムの厚み(膜厚)の範囲における光透過率であり、より好ましくは25μmであるときの光透過率である。なお、500nmの光透過率は、光学フィルムに含まれる樹脂を構成する構成単位の種類や構成比;光学フィルムの厚さ;光学フィルムの溶媒含有量;添加剤の種類や配合量;樹脂の製造条件やモノマーの純度;光学フィルムの製造条件を適宜調整することにより前記範囲内に調整することができる。500nmの光透過率は、紫外可視近赤外分光光度計を用いて測定でき、例えば後述の実施例に記載の方法により測定できる。 The light transmittance of the optical film of the present invention at 500 nm is preferably 90.0% or higher, more preferably 90.2% or higher, even more preferably 90.3% or higher, and particularly preferably 90.4% or higher. When the light transmittance at 500 nm is equal to or higher than the lower limit, visibility can be easily improved when applied to a display device or the like. The upper limit of the light transmittance at 500 nm is 100% or less. Therefore, in a preferred embodiment of the present invention, the optical film can have good transmittance not only in the ultraviolet region but also in the visible light region. The light transmittance at 500 nm is preferably the light transmittance within the range of the thickness (film thickness) of the optical film of the present invention, and more preferably the light transmittance at 25 μm. The light transmittance at 500 nm is based on the types and composition ratios of structural units that constitute the resin contained in the optical film; the thickness of the optical film; the solvent content of the optical film; the types and amounts of additives; It can be adjusted within the above range by appropriately adjusting the conditions, the purity of the monomer, and the manufacturing conditions of the optical film. The light transmittance at 500 nm can be measured using an ultraviolet-visible-near-infrared spectrophotometer, for example, by the method described in Examples below.

本発明の光学フィルムの膜厚(厚さともいう)は、好ましくは10μm以上、より好ましくは20μm以上であり、好ましくは100μm以下、より好ましくは80μm以下である。光学フィルムの膜厚が前記範囲内であると、光学フィルムの光学特性や取り扱い性を向上させやすい。膜厚は、例えば光学フィルムを製造する際の成膜条件を適宜調整することによって、前記範囲内に調整することができる。光学フィルムの膜厚は、デジタル厚み計等を用いて測定することができ、例えば後述の実施例に記載の方法により測定できる。 The film thickness (also referred to as thickness) of the optical film of the present invention is preferably 10 μm or more, more preferably 20 μm or more, and preferably 100 μm or less, more preferably 80 μm or less. When the film thickness of the optical film is within the above range, it is easy to improve the optical properties and handleability of the optical film. The film thickness can be adjusted within the above range, for example, by appropriately adjusting the film forming conditions when producing the optical film. The film thickness of the optical film can be measured using a digital thickness gauge or the like, for example, by the method described in Examples below.

本発明の好ましい一実施態様において、本発明の光学フィルムは、ガラス転移温度(Tgと略すことがある)が好ましくは165℃以上、より好ましくは170℃以上、さらに好ましくは175℃以上、さらにより好ましくは180℃以上、特に好ましくは180℃超、特により好ましくは180.5℃以上、さらに特により好ましくは181℃以上、極めて好ましくは182℃以上であり、好ましくは400℃以下、より好ましくは380℃以下、さらに好ましくは350℃以下、特に好ましくは300℃以下である。ガラス転移温度が上記の下限以上であると、耐熱性及びガスバリア性を高めやすい。ガラス転移温度が上記の上限以下であると、二次加工が容易となる。ガラス転移温度は、DSC(示差走査熱量測定)によるガラス転移温度である。ガラス転移温度は、光学フィルムに含まれる樹脂を構成する構成単位の種類や構成比;光学フィルムの溶媒含有量;添加剤の種類や配合量;樹脂の製造条件やモノマーの純度;光学フィルムの製造条件を適宜調整することにより上記範囲内にすることができ、特に、樹脂を構成する構成単位の種類や構成比として前述の好ましいものを用いること、光学フィルムの溶媒含有量を調整すること、後述の光学フィルム製造工程における乾燥条件を適用すること等により、上記範囲に調整してもよい。ガラス転移温度は、例えば熱分析装置を用いたDSC(示差走査熱量測定)により、測定試料量:5mg、温度域:室温から400℃、昇温速度:10℃/分という条件で測定することができる。 In a preferred embodiment of the present invention, the optical film of the present invention has a glass transition temperature (sometimes abbreviated as Tg) of preferably 165°C or higher, more preferably 170°C or higher, still more preferably 175°C or higher, and even more preferably 175°C or higher. It is preferably 180°C or higher, particularly preferably above 180°C, particularly more preferably 180.5°C or higher, even more preferably 181°C or higher, extremely preferably 182°C or higher, preferably 400°C or lower, more preferably 400°C or lower. 380° C. or lower, more preferably 350° C. or lower, particularly preferably 300° C. or lower. When the glass transition temperature is at least the above lower limit, the heat resistance and gas barrier properties are likely to be improved. When the glass transition temperature is equal to or lower than the above upper limit, secondary processing is facilitated. The glass transition temperature is the glass transition temperature by DSC (differential scanning calorimetry). The glass transition temperature is determined by the type and composition ratio of the structural units that make up the resin contained in the optical film; the solvent content of the optical film; the type and blending amount of additives; The above range can be achieved by appropriately adjusting the conditions. In particular, the type and composition ratio of the structural units constituting the resin are preferably selected as described above, and the solvent content of the optical film is adjusted. It may be adjusted to the above range by applying the drying conditions in the optical film manufacturing process. The glass transition temperature can be measured, for example, by DSC (differential scanning calorimetry) using a thermal analyzer under the following conditions: amount of sample measured: 5 mg; temperature range: room temperature to 400°C; temperature increase rate: 10°C/min. can.

本発明の好適な一実施態様において、本発明の光学フィルムは、引張強度が好ましくは70MPa以上、より好ましくは80MPa以上、さらに好ましくは85MPa以上、さらにより好ましくは86MPa超、特に好ましくは87MPa以上、特により好ましくは89MPa以上、さらに特により好ましくは95MPa以上、極めて好ましくは100MPa以上であり、好ましくは200MPa以下、より好ましくは180MPa以下である。引張強度が上記下限以上であると、光学フィルムの破損等を抑制しやすく、また引張強度が上記の上限以下であると、柔軟性を高めやすい。引張強度は、引張試験機等を用いて、チャック間距離50mm、引張速度20mm/分の条件で測定でき、例えば実施例に記載の方法により測定できる。なお、引張強度は、光学フィルムに含まれる樹脂を構成する構成単位の種類や構成比;光学フィルムの溶媒含有量;樹脂の分子量;添加剤の種類や配合量;樹脂の製造条件やモノマーの純度;光学フィルムの製造条件を適宜調整すること等により上記範囲内にすることができる。 In a preferred embodiment of the present invention, the optical film of the present invention has a tensile strength of preferably 70 MPa or higher, more preferably 80 MPa or higher, still more preferably 85 MPa or higher, even more preferably 86 MPa or higher, and particularly preferably 87 MPa or higher. More preferably 89 MPa or more, still more preferably 95 MPa or more, extremely preferably 100 MPa or more, preferably 200 MPa or less, more preferably 180 MPa or less. When the tensile strength is at least the above lower limit, it is easy to suppress damage to the optical film. The tensile strength can be measured using a tensile tester or the like under the conditions of a distance between chucks of 50 mm and a tensile speed of 20 mm/min. For example, it can be measured by the method described in Examples. In addition, the tensile strength is determined by the type and composition ratio of the structural units that make up the resin contained in the optical film; the solvent content of the optical film; the molecular weight of the resin; the type and amount of additives; it can be set within the above range by appropriately adjusting the manufacturing conditions of the optical film.

本発明の光学フィルムは、紫外線吸収剤を含有してもよい。紫外線吸収剤を含有することによって、紫外線領域の光吸収性を容易に低下させることができる。したがって、光弾性係数が50×10-12Pa-1以下である本発明の光学フィルムにおいて、紫外線カット性とガスバリア性の両方を高めることができる。紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾトリアゾール誘導体(ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤)、1,3,5-トリフェニルトリアジン誘導体等のトリアジン誘導体(トリアジン系紫外線吸収剤)、ベンゾフェノン誘導体(ベンゾフェノン系紫外線吸収剤)、及びサリシレート誘導体(サリシレート系紫外線吸収剤)が挙げられ、これらからなる群から選択される少なくとも1つを用いることができる。300~400nm、好ましくは320~360nm付近の紫外線吸収性を有し、可視光域での透過率を低下させることなく、光学フィルムの紫外線カット性を向上し得る観点から、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤及びトリアジン系紫外線吸収剤からなる群から選ばれる少なくとも1つを用いることが好ましく、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤がより好ましい。 The optical film of the invention may contain an ultraviolet absorber. By containing an ultraviolet absorber, the light absorption in the ultraviolet region can be easily reduced. Therefore, in the optical film of the present invention having a photoelastic coefficient of 50×10 −12 Pa −1 or less, both UV cut property and gas barrier property can be enhanced. Examples of ultraviolet absorbers include benzotriazole derivatives (benzotriazole-based ultraviolet absorbers), triazine derivatives (triazine-based ultraviolet absorbers) such as 1,3,5-triphenyltriazine derivatives (triazine-based ultraviolet absorbers), benzophenone derivatives (benzophenone-based ultraviolet absorbers ), and salicylate derivatives (salicylate-based ultraviolet absorbers), and at least one selected from the group consisting of these can be used. Benzotriazole-based UV absorbers have UV absorbency in the vicinity of 300 to 400 nm, preferably 320 to 360 nm, and can improve the UV cut property of optical films without reducing the transmittance in the visible light region. and triazine-based UV absorbers, preferably benzotriazole-based UV absorbers.

ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の具体例としては、式(I)で表される化合物、住友化学(株)製の商品名:Sumisorb(登録商標) 250(2-[2-ヒドロキシ-3-(3,4,5,6-テトラヒドロフタルイミド-メトジイル)-5-メチルフェニル]ベンゾトリアゾール)、BASFジャパン(株)製の商品名:Tinuvin(登録商標) 360(2,2’-メチレンビス[6-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-tert-オクチルフェノール])及びTinuvin 213(メチル3-[3-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)5-tert-ブチル-4-ヒドロキシフェニル]プロピオネートとPEG300との反応生成物)が挙げられ、これらは単独又は2種以上を組み合わせて用いることができる。式(I)で表される化合物の具体例としては、住友化学(株)製の商品名:Sumisorb 200(2-(2-ヒドロキシ-5-メチルフェニル)ベンゾトリアゾール)、Sumisorb300(2-(3-tert-ブチル-2-ヒドロキシ-5-メチルフェニル)-5-クロロベンゾトリアゾール)、Sumisorb 340(2-(2-ヒドロキシ-5-tert-オクチルフェニル)ベンゾトリアゾール)、Sumisorb 350(2-(2-ヒドロキシ3,5-ジ-tert-ペンチルフェニル)ベンゾトリアゾール)、及びBASFジャパン(株)製の商品名:Tinuvin 327(2-(2’-ヒドロキシ-3’,5’-ジ-tert-ブチルフェニル)-5-クロロベンゾトリアゾール)、Tinuvin 571(2-(2H-ベンゾトリアゾ-2-イル)-6-ドデシル-4-メチル-フェノール)及びTinuvin 234(2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4,6-ビス(1-メチル-1-フェニルエチル)フェノール)及びADEKA(株)の製品名:アデカスタブ(登録商標) LA-31(2,2’-メチレンビス[6-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-(1,1,3,3-テトラメチルブチル)フェノール])が挙げられる。紫外線吸収剤は、好ましくは、式(I)で表される化合物及びTinuvin 213(メチル3-[3-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)5-tert-ブチル-4-ヒドロキシフェニル]プロピオネートとPEG300との反応生成物であり、より好ましくは住友化学(株)製の商品名:Sumisorb 200(2-(2-ヒドロキシ-5-メチルフェニル)ベンゾトリアゾール)、Sumisorb 300(2-(3-tert-ブチル-2-ヒドロキシ-5-メチルフェニル)-5-クロロベンゾトリアゾール)、Sumisorb 340(2-(2-ヒドロキシ-5-tert-オクチルフェニル)ベンゾトリアゾール)、Sumisorb 350(2-(2-ヒドロキシ3,5-ジ-tert-ペンチルフェニル)ベンゾトリアゾール)、(株)ADEKAの製品名:アデカスタブ LA-31(2,2’-メチレンビス[6-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-(1,1,3,3-テトラメチルブチル)フェノール])及びBASFジャパン(株)製の商品名:Tinuvin 327(2-(2’-ヒドロキシ-3’,5’-ジ-tert-ブチルフェニル)-5-クロロベンゾトリアゾール)及びTinuvin 571(2-(2H-ベンゾトリアゾ-2-イル)-6-ドデシル-4-メチル-フェノール)であり、最も好ましくは住友化学(株)製の商品名:Sumisorb 340(2-(2-ヒドロキシ-5-tert-オクチルフェニル)ベンゾトリアゾール)、Sumisorb350(2-(2-ヒドロキシ3,5-ジ-tert-ペンチルフェニル)ベンゾトリアゾール)、及び(株)ADEKAの製品名:アデカスタブ LA-31(2,2’-メチレンビス[6-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4-(1,1,3,3-テトラメチルブチル)フェノール])である。 Specific examples of benzotriazole-based UV absorbers include the compound represented by formula (I), trade name of Sumitomo Chemical Co., Ltd.: Sumisorb (registered trademark) 250 (2-[2-hydroxy-3-(3 ,4,5,6-tetrahydrophthalimido-methodiyl)-5-methylphenyl]benzotriazole), trade name manufactured by BASF Japan Ltd.: Tinuvin (registered trademark) 360 (2,2′-methylenebis[6-(2H -benzotriazol-2-yl)-4-tert-octylphenol]) and Tinuvin 213 (methyl 3-[3-(2H-benzotriazol-2-yl)5-tert-butyl-4-hydroxyphenyl]propionate with PEG300 and reaction products), which can be used alone or in combination of two or more. Specific examples of the compound represented by formula (I) include trade names manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.: Sumisorb 200 (2-(2-hydroxy-5-methylphenyl)benzotriazole), Sumisorb 300 (2-(3 -tert-butyl-2-hydroxy-5-methylphenyl)-5-chlorobenzotriazole), Sumisorb 340 (2-(2-hydroxy-5-tert-octylphenyl)benzotriazole), Sumisorb 350 (2-(2 -Hydroxy 3,5-di-tert-pentylphenyl)benzotriazole) and BASF Japan Ltd. trade name: Tinuvin 327 (2-(2'-hydroxy-3',5'-di-tert-butyl phenyl)-5-chlorobenzotriazole), Tinuvin 571 (2-(2H-benzotriazol-2-yl)-6-dodecyl-4-methyl-phenol) and Tinuvin 234 (2-(2H-benzotriazol-2-yl )-4,6-bis(1-methyl-1-phenylethyl)phenol) and product name of ADEKA Corporation: ADEKA STAB (registered trademark) LA-31 (2,2′-methylenebis[6-(2H-benzo triazol-2-yl)-4-(1,1,3,3-tetramethylbutyl)phenol]). The UV absorber is preferably a compound represented by formula (I) and Tinuvin 213 (methyl 3-[3-(2H-benzotriazol-2-yl) 5-tert-butyl-4-hydroxyphenyl]propionate Reaction products with PEG300, more preferably trade names manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.: Sumisorb 200 (2-(2-hydroxy-5-methylphenyl)benzotriazole), Sumisorb 300 (2-(3-tert -butyl-2-hydroxy-5-methylphenyl)-5-chlorobenzotriazole), Sumisorb 340 (2-(2-hydroxy-5-tert-octylphenyl)benzotriazole), Sumisorb 350 (2-(2-hydroxy 3,5-di-tert-pentylphenyl)benzotriazole), product name of ADEKA Corporation: ADEKA STAB LA-31 (2,2′-methylenebis[6-(2H-benzotriazol-2-yl)-4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl)phenol]) and BASF Japan Ltd. trade name: Tinuvin 327 (2-(2′-hydroxy-3′,5′-di-tert-butylphenyl )-5-chlorobenzotriazole) and Tinuvin 571 (2-(2H-benzotriazol-2-yl)-6-dodecyl-4-methyl-phenol), most preferably manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd. under the trade name: Sumisorb 340 (2-(2-hydroxy-5-tert-octylphenyl)benzotriazole), Sumisorb 350 (2-(2-hydroxy-3,5-di-tert-pentylphenyl)benzotriazole), and ADEKA Corporation Product name: Adekastab LA-31 (2,2′-methylenebis[6-(2H-benzotriazol-2-yl)-4-(1,1,3,3-tetramethylbutyl)phenol]).

Figure 2022117110000009
Figure 2022117110000009

式(I)中、Xは水素原子、フッ素原子、塩素原子、炭素数1~5のアルキル基又は炭素数1~5のアルコキシ基であり、RI1及びRI2はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数1~20の炭化水素基であり、RI1又はRI2のうち少なくともいずれか一方は炭素数1~20の炭化水素基である。 In formula (I), X I is a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, and R I1 and R I2 are each independently a hydrogen atom. or a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and at least one of R 11 and R 12 is a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms.

における炭素数1~5のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、2-メチル-ブチル基、3-メチルブチル基、2-エチル-プロピル基等が挙げられる。
における炭素数1~5のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、イソプロポキシ基、n-ブトキシ基、sec-ブトキシ基、tert-ブトキシ基、n-ペンチルオキシ基、2-メチル-ブトキシ基、3-メチルブトキシ基、2-エチル-プロポキシ基等が挙げられる。
は、好ましくは水素原子、フッ素原子、塩素原子又はメチル基であり、より好ましくは水素原子、フッ素原子又は塩素原子である。
The alkyl group having 1 to 5 carbon atoms in X I includes methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, 2- Examples include methyl-butyl group, 3-methylbutyl group, 2-ethyl-propyl group and the like.
The alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms in X I includes a methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, isopropoxy group, n-butoxy group, sec-butoxy group, tert-butoxy group, n-pentyloxy group, 2-methyl-butoxy group, 3-methylbutoxy group, 2-ethyl-propoxy group and the like.
X I is preferably a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom or a methyl group, more preferably a hydrogen atom, a fluorine atom or a chlorine atom.

I1及びRI2はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数1~20の炭化水素基であり、RI1及びRI2のうち少なくともいずれか一方は炭化水素基である。RI1及びRI2は、それぞれ炭化水素基である場合、好ましくは炭素数1~12の炭化水素基であり、より好ましくは炭素数1~8の炭化水素基である。具体的にはメチル基、tert-ブチル基、tert-ペンチル基及びtert-オクチル基が例示される。 R 11 and R 12 each independently represent a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, and at least one of R 11 and R 12 is a hydrocarbon group. When each of R I1 and R I2 is a hydrocarbon group, it is preferably a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, more preferably a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms. Specific examples include methyl group, tert-butyl group, tert-pentyl group and tert-octyl group.

別の好ましい一態様に係る紫外線吸収剤は、ポリイミド系樹脂を含有する光学フィルムにおいて、トリアジン系紫外線吸収剤が用いられる。トリアジン系紫外線吸収剤としては、下記式(II)で表される化合物が挙げられる。その具体例としては、(株)ADEKAの製品名:アデカスタブ LA-46(2-(4,6-ジフェニル-1,3,5-トリアジン-2-イル)-5-[2-(2-エチルヘキサノイロキシ)エトキシ]フェノール)、BASFジャパン(株)製の商品名:Tinuvin 400(2-[4-[2-ヒドロキシ-3-トリデシロキシプロピル]オキシ]-2-ヒドロキシフェニル]-4,6-ビス(2,4-ジメチルフェニル)-1,3,5-トリアジン)、2-[4-[2-ヒドロキシ-3-ジデシロキシプロピル]オキシ]-2-ヒドロキシフェニル]-4,6-ビス(2,4-ジメチルフェニル)-1,3,5-トリアジン)、Tinuvin 405(2-[4(2-ヒドロキシ-3-(2’-エチル)ヘキシル)オキシ]-2-ヒドロキシフェニル]-4,6-ビス(2,4-ジメチルフェニル)-1,3,5-トリアジン)、Tinuvin 460(2,4-ビス(2-ヒドロキシ-4-ブチロキシフェニル)-6-(2,4-ビス-ブチロキシフェニル)-1,3,5-トリアジン)、Tinuvin 479(ヒドロキシフェニルトリアジン系紫外線吸収剤)、及びケミプロ化成(株)の製品名:KEMISORB(登録商標) 102(2-[4,6-ビス(2,4-ジメチルフェニル)-1,3,5-トリアジン-2-イル]-5-(n-オクチロキシ)フェノール)等が挙げられ、これらは単独又は2種以上を組み合わせて用いることができる。式(II)で表される化合物は、好ましくは、アデカスタブ LA-46(2-(4,6-ジフェニル-1,3,5-トリアジン-2-イル)-5-[2-(2-エチルヘキサノイロキシ)エトキシ]フェノール)である。 As an ultraviolet absorber according to another preferred embodiment, a triazine-based ultraviolet absorber is used in an optical film containing a polyimide resin. Triazine-based UV absorbers include compounds represented by the following formula (II). A specific example thereof is the product name of ADEKA Corporation: ADEKA STAB LA-46 (2-(4,6-diphenyl-1,3,5-triazin-2-yl)-5-[2-(2-ethyl hexanoyloxy)ethoxy]phenol), trade name manufactured by BASF Japan Ltd.: Tinuvin 400 (2-[4-[2-hydroxy-3-tridecyloxypropyl]oxy]-2-hydroxyphenyl]-4,6 -bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazine), 2-[4-[2-hydroxy-3-didecyloxypropyl]oxy]-2-hydroxyphenyl]-4,6-bis (2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazine), Tinuvin 405 (2-[4(2-hydroxy-3-(2′-ethyl)hexyl)oxy]-2-hydroxyphenyl]-4 ,6-bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazine), Tinuvin 460 (2,4-bis(2-hydroxy-4-butyloxyphenyl)-6-(2,4-bis -Butyroxyphenyl)-1,3,5-triazine), Tinuvin 479 (hydroxyphenyltriazine-based UV absorber), and Chemipro Kasei Co., Ltd. product name: KEMISORB (registered trademark) 102 (2-[4,6 -Bis(2,4-dimethylphenyl)-1,3,5-triazin-2-yl]-5-(n-octyloxy)phenol) and the like, which may be used alone or in combination of two or more. can be done. The compound of formula (II) is preferably Adekastab LA-46(2-(4,6-diphenyl-1,3,5-triazin-2-yl)-5-[2-(2-ethyl hexanoyloxy)ethoxy]phenol).

Figure 2022117110000010
Figure 2022117110000010

式(II)中、YI1~YI4は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子、塩素原子、ヒドロキシ基、炭素数1~20のアルキル基又は炭素数1~20のアルコキシ基であり、好ましくは水素原子、炭素数1~12のアルキル基又は炭素数1~12のアルコキシ基であり、より好ましくは水素原子である。 In formula (II), Y I1 to Y I4 are each independently a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a hydroxy group, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, preferably is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom.

式(II)中、RI3は水素原子、炭素数1~20の炭化水素基、含まれる酸素原子が1つである炭素数1~20のアルコキシ基、又は炭素数1~12のアルキルケトオキシ基で置換されている炭素数1~4のアルコキシ基であり、好ましくは1個の酸素原子を含む炭素数1~12のアルコキシ基又は炭素数8~12のアルキルケトオキシ基で置換されている炭素数2~4のアルコキシ基であり、より好ましくは炭素数8~12のアルキルケトオキシ基で置換されている炭素数2~4のアルコキシ基である。 In formula (II), R I3 is a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms containing one oxygen atom, or an alkylketooxy having 1 to 12 carbon atoms. an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms substituted with a group, preferably substituted with an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms containing one oxygen atom or an alkylketooxy group having 8 to 12 carbon atoms. It is an alkoxy group having 2 to 4 carbon atoms, more preferably an alkoxy group having 2 to 4 carbon atoms substituted with an alkylketooxy group having 8 to 12 carbon atoms.

I1~YI4としての炭素数1~20のアルキル基の例としては、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、n-ヘキシル基、n-へプチル基、n-オクチル基、n-ノニル基、n-デシル基、n-ドデシル基、n-ウンデシル基が挙げられる。炭素数1~20のアルコキシ基の例としては、メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、イソプロポキシ基、n-ブトキシ基、sec-ブトキシ基、tert-ブトキシ基、n-ペンチルオキシ基、n-ヘキシルオキシ基、n-へプチルオキシ基、n-オクチルオキシ基、n-ノニルオキシ基、n-デシルオキシ基、n-ドデシルオキシ基、n-ウンデシルオキシ基が挙げられる。 Examples of alkyl groups having 1 to 20 carbon atoms as Y I1 to Y I4 include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n -pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, n-nonyl group, n-decyl group, n-dodecyl group and n-undecyl group. Examples of alkoxy groups having 1 to 20 carbon atoms include methoxy, ethoxy, n-propoxy, isopropoxy, n-butoxy, sec-butoxy, tert-butoxy, n-pentyloxy, n -hexyloxy group, n-heptyloxy group, n-octyloxy group, n-nonyloxy group, n-decyloxy group, n-dodecyloxy group and n-undecyloxy group.

紫外線吸収剤は、300~400nmの光吸収を有するものが好ましく、320~360nmの光吸収を有するものがより好ましく、350nm付近の光吸収を有するものが更に好ましい。 The ultraviolet absorber preferably has a light absorption of 300 to 400 nm, more preferably a light absorption of 320 to 360 nm, and even more preferably a light absorption of around 350 nm.

本発明の光学フィルムが紫外線吸収を含有する場合、紫外線吸収剤の含有量は、ポリイミド系樹脂100質量部に対して、好ましくは0.1質量部以上、より好ましくは0.5質量部以上、更に好ましくは0.8質量部以上、特に好ましくは1質量部以上であり、好ましくは10質量部以下、より好ましくは8質量部以下、更に好ましくは5質量部以下である。紫外線吸収剤の含有量が前記の下限以上であると、光学フィルムの紫外線カット性を向上しやすく、紫外線吸収剤の含有量の前記の上限以下であると、光学フィルムの透明性及び機械特性を高めやすい。 When the optical film of the present invention contains ultraviolet absorption, the content of the ultraviolet absorber is preferably 0.1 parts by mass or more, more preferably 0.5 parts by mass or more, with respect to 100 parts by mass of the polyimide resin. More preferably 0.8 parts by mass or more, particularly preferably 1 part by mass or more, preferably 10 parts by mass or less, more preferably 8 parts by mass or less, and even more preferably 5 parts by mass or less. When the content of the UV absorber is at least the above lower limit, the UV blocking property of the optical film is likely to be improved, and when the content of the UV absorber is below the above upper limit, the transparency and mechanical properties of the optical film are improved. Easy to raise.

本発明の光学フィルムは、少なくとも1種のフィラーを含んでよい。光学フィルムがフィラーを含む場合、光学フィルムのガスバリア性、特に酸素透過率を低減しやすい。フィラーとしては、例えば有機粒子、無機粒子などが挙げられ、好ましくは無機粒子が挙げられる。無機粒子としては、シリカ、ジルコニア、アルミナ、チタニア、酸化亜鉛、酸化ゲルマニウム、酸化インジウム、酸化スズ、インジウムスズ酸化物(ITO)、酸化アンチモン、酸化セリウム等の金属酸化物粒子、フッ化マグネシウム、フッ化ナトリウム等の金属フッ化物粒子などが挙げられ、これらの中でも、光学フィルムのガスバリア性を高めやすい観点から、好ましくはシリカ粒子、ジルコニア粒子、アルミナ粒子が挙げられ、より好ましくはシリカ粒子が挙げられる。これらのフィラーは単独又は2種以上を組合せて使用できる。 The optical film of the present invention may contain at least one filler. When the optical film contains a filler, the gas barrier properties of the optical film, particularly the oxygen permeability, are likely to be reduced. Examples of the filler include organic particles and inorganic particles, preferably inorganic particles. Examples of inorganic particles include metal oxide particles such as silica, zirconia, alumina, titania, zinc oxide, germanium oxide, indium oxide, tin oxide, indium tin oxide (ITO), antimony oxide, and cerium oxide; Examples include metal fluoride particles such as sodium chloride. Among these, silica particles, zirconia particles, and alumina particles are preferred from the viewpoint of easily increasing the gas barrier properties of the optical film, and silica particles are more preferred. . These fillers can be used singly or in combination of two or more.

フィラー、好ましくはシリカ粒子の平均一次粒子径は、通常1nm以上、好ましくは5nm以上、より好ましくは10nm以上、更に好ましくは15nm以上、特に好ましくは20nm以上であり、好ましくは100nm以下、より好ましくは80nm以下、更に好ましくは60nm以下、更により好ましくは40nm以下である。シリカ粒子の平均一次粒子径が前記範囲内であると、シリカ粒子の凝集を抑制し、得られる光学フィルムのガスバリア性を向上しやすい。フィラーの平均一次粒子径は、BET法により測定できる。なお、透過型電子顕微鏡や走査型電子顕微鏡の画像解析により、平均一次粒子径を測定してもよい。 The average primary particle size of the filler, preferably silica particles, is usually 1 nm or more, preferably 5 nm or more, more preferably 10 nm or more, still more preferably 15 nm or more, particularly preferably 20 nm or more, and preferably 100 nm or less, more preferably It is 80 nm or less, more preferably 60 nm or less, still more preferably 40 nm or less. When the average primary particle size of the silica particles is within the above range, aggregation of the silica particles is suppressed, and the gas barrier properties of the resulting optical film are likely to be improved. The average primary particle size of the filler can be measured by the BET method. The average primary particle size may be measured by image analysis using a transmission electron microscope or a scanning electron microscope.

本発明の光学フィルムがフィラー、好ましくはシリカ粒子を含有する場合、フィラーの含有量は、光学フィルムの質量に対して、通常0.1質量%以上、好ましくは1質量%以上、より好ましくは5質量%以上、更に好ましくは10質量%以上であり、好ましくは60質量%以下、より好ましくは50質量%以下、更に好ましくは40質量%以下である。フィラーの含有量が前記の範囲内であると、光学フィルムの透明性を維持しつつ、ガスバリア性を向上しやすい。 When the optical film of the present invention contains a filler, preferably silica particles, the content of the filler is usually 0.1% by mass or more, preferably 1% by mass or more, more preferably 5% by mass, based on the mass of the optical film. % by mass or more, more preferably 10% by mass or more, preferably 60% by mass or less, more preferably 50% by mass or less, and even more preferably 40% by mass or less. When the content of the filler is within the above range, it is easy to improve the gas barrier property while maintaining the transparency of the optical film.

本発明の光学フィルムは、紫外線吸収剤、フィラー以外の他の添加剤を更に含有していてもよい。他の添加剤としては、例えば、酸化防止剤、離型剤、安定剤、ブルーイング剤、難燃剤、pH調整剤、シリカ分散剤、滑剤、増粘剤、及びレベリング剤等が挙げられる。他の添加剤を含有する場合、その含有量は、光学フィルムの質量に対して、好ましくは0.001~20質量%、より好ましくは0.01~15質量%、更に好ましくは0.1~10質量%であってよい。 The optical film of the present invention may further contain additives other than the ultraviolet absorber and filler. Other additives include, for example, antioxidants, release agents, stabilizers, bluing agents, flame retardants, pH adjusters, silica dispersants, lubricants, thickeners, and leveling agents. When other additives are contained, the content thereof is preferably 0.001 to 20% by mass, more preferably 0.01 to 15% by mass, and still more preferably 0.1 to 20% by mass, based on the mass of the optical film. It may be 10% by mass.

本発明の光学フィルムの用途は特に限定されず、種々の用途、例えばタッチセンサ用基板、フレキシブル表示装置用材料、保護フィルム、ベゼル印刷用途フィルム、半導体用途、スピーカー振動板、IRカットフィルターなどに使用してもよい。本発明の光学フィルムは、単層であっても、積層体であってもよく、本発明の光学フィルムをそのまま使用してもよいし、更に他のフィルムとの積層体として使用してもよい。なお、光学フィルムが積層体である場合、光学フィルムの片面又は両面に積層された全ての層を含めて光学フィルムと称する。 Applications of the optical film of the present invention are not particularly limited, and various applications such as substrates for touch sensors, materials for flexible display devices, protective films, films for bezel printing, semiconductor applications, speaker diaphragms, IR cut filters, etc. You may The optical film of the present invention may be a single layer or a laminate. The optical film of the present invention may be used as it is, or may be used as a laminate with another film. . When the optical film is a laminate, the optical film includes all layers laminated on one side or both sides of the optical film.

本発明の光学フィルムが積層体である場合、光学フィルムの少なくとも一方の面に1以上の機能層を有することが好ましい。機能層としては、例えばハードコート層、プライマー層、ガスバリア層、紫外線吸収層、粘着層、色相調整層、屈折率調整層などが挙げられる。機能層は単独又は二種以上組合せて使用できる。 When the optical film of the present invention is a laminate, it preferably has one or more functional layers on at least one surface of the optical film. Examples of functional layers include a hard coat layer, a primer layer, a gas barrier layer, an ultraviolet absorption layer, an adhesive layer, a hue adjustment layer, a refractive index adjustment layer and the like. A functional layer can be used individually or in combination of 2 or more types.

本発明の一実施態様において、光学フィルムは、少なくとも一方の面(片面又は両面)に保護フィルムを有していてもよい。例えば光学フィルムの片面に機能層を有する場合には、保護フィルムは、光学フィルム側の表面又は機能層側の表面に積層されていてもよく、光学フィルム側と機能層側の両方に積層されていてもよい。光学フィルムの両面に機能層を有する場合には、保護フィルムは、片方の機能層側の表面に積層されていてもよく、両方の機能層側の表面に積層されていてもよい。保護フィルムは、光学フィルム又は機能層の表面を一時的に保護するためのフィルムであり、光学フィルム又は機能層の表面を保護できる剥離可能なフィルムである限り特に限定されない。保護フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂フィルム;ポリエチレン、ポリプロピレンフィルムなどのポリオレフィン系樹脂フィルム、アクリル系樹脂フィルム等が挙げられ、ポリオレフィン系樹脂フィルム、ポリエチレンテレフタレート系樹脂フィルム及びアクリル系樹脂フィルムからなる群から選択されることが好ましい。光学フィルムが保護フィルムを2つ有する場合、各保護フィルムは同一又は異なっていてもよい。 In one embodiment of the present invention, the optical film may have a protective film on at least one side (single side or both sides). For example, when the optical film has a functional layer on one side, the protective film may be laminated on the optical film side surface or the functional layer side surface, or may be laminated on both the optical film side and the functional layer side. may When the optical film has functional layers on both sides, the protective film may be laminated on one functional layer side surface, or may be laminated on both functional layer side surfaces. The protective film is a film for temporarily protecting the surface of the optical film or the functional layer, and is not particularly limited as long as it is a peelable film capable of protecting the surface of the optical film or the functional layer. Examples of protective films include polyester resin films such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate; polyolefin resin films such as polyethylene and polypropylene films; acrylic resin films; It is preferably selected from the group consisting of a terephthalate resin film and an acrylic resin film. When the optical film has two protective films, each protective film may be the same or different.

保護フィルムの厚さは、特に限定されるものではないが、通常、10~120μm、好ましくは15~110μm、より好ましくは20~100μmである。光学フィルムが保護フィルムを2つ有する場合、各保護フィルムの厚さは同じであっても、異なっていてもよい。 The thickness of the protective film is not particularly limited, but is usually 10-120 μm, preferably 15-110 μm, more preferably 20-100 μm. When the optical film has two protective films, the thickness of each protective film may be the same or different.

[光学フィルムの製造方法]
本発明において、光学フィルムは、特に限定されないが、例えば以下の工程:
(a)ポリイミド系樹脂を含む液(ワニスと称する場合がある)を調製する工程(ワニス調製工程)、
(b)ワニスを基材に塗布して塗膜を形成する工程(塗布工程)、及び
(c)塗布された液(塗膜)を乾燥させて、光学フィルムを形成する工程(光学フィルム形成工程)
を含む方法によって製造することができる。
[Method for producing optical film]
In the present invention, the optical film is not particularly limited, but for example the following steps:
(a) a step of preparing a liquid (which may be referred to as varnish) containing a polyimide resin (varnish preparation step);
(b) a step of applying a varnish to a substrate to form a coating film (coating step); and (c) a step of drying the applied liquid (coating film) to form an optical film (optical film forming step). )
It can be manufactured by a method comprising

ワニス調製工程において、前記ポリイミド系樹脂を溶媒に溶解し、必要に応じて後述する添加剤を添加して撹拌混合することによりワニスを調製する。 In the varnish preparation step, the varnish is prepared by dissolving the polyimide-based resin in a solvent, adding additives described below as necessary, and stirring and mixing.

ワニスの調製に用いられる溶媒は、前記樹脂を溶解可能であれば特に限定されない。かかる溶媒としては、例えばN,N-ジメチルアセトアミド(DMAc)、N,N-ジメチルホルムアミド(DMF)等のアミド系溶媒;γ-ブチロラクトン(GBL)、γ-バレロラクトン等のラクトン系溶媒;アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、2-ヘプタノン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒;ジメチルスルホン、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の含硫黄系溶媒;エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等のカーボネート系溶媒;及びそれらの組合せが挙げられる。これらの中でも、樹脂の溶解性の観点から、アミド系溶媒、ラクトン系溶媒又はケトン系溶媒が好ましい。これらの溶媒は単独又は二種以上組合せて使用できる。また、ワニスには水、アルコール系溶媒、非環状エステル系溶媒、エーテル系溶媒などが含まれてもよい。 The solvent used for preparing the varnish is not particularly limited as long as it can dissolve the resin. Examples of such solvents include amide solvents such as N,N-dimethylacetamide (DMAc) and N,N-dimethylformamide (DMF); lactone solvents such as γ-butyrolactone (GBL) and γ-valerolactone; ketone solvents such as methyl ethyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, 2-heptanone and methyl isobutyl ketone; sulfur-containing solvents such as dimethylsulfone, dimethylsulfoxide and sulfolane; carbonate solvents such as ethylene carbonate and propylene carbonate; and combinations thereof are mentioned. Among these, amide-based solvents, lactone-based solvents, and ketone-based solvents are preferred from the viewpoint of resin solubility. These solvents can be used alone or in combination of two or more. The varnish may also contain water, alcoholic solvents, acyclic ester solvents, etheric solvents, and the like.

ワニスの固形分濃度は、好ましくは1~30質量%、より好ましくは5~25質量%、更に好ましくは10~20質量%である。なお、本明細書において、ワニスの固形分とは、ワニスから溶媒を除いた成分の合計量を示す。また、ワニスの粘度は、好ましくは5~100Pa・s、より好ましくは10~50Pa・sである。ワニスの粘度が前記の範囲であると、光学フィルムを均一化しやすく、膜厚が均一な光学フィルムが得られやすい。なお、ワニスの粘度は粘度計を用いて測定でき、例えば実施例に記載の方法により測定できる。 The solid content concentration of the varnish is preferably 1 to 30% by mass, more preferably 5 to 25% by mass, still more preferably 10 to 20% by mass. In addition, in this specification, the solid content of the varnish indicates the total amount of the components of the varnish excluding the solvent. Also, the viscosity of the varnish is preferably 5 to 100 Pa·s, more preferably 10 to 50 Pa·s. When the viscosity of the varnish is within the above range, the optical film can be easily made uniform, and an optical film having a uniform thickness can be easily obtained. The viscosity of the varnish can be measured using a viscometer, for example, by the method described in Examples.

塗布工程において、公知の塗布方法により、基材上にワニスを塗布して塗膜を形成する。公知の塗布方法としては、例えばワイヤーバーコーティング法、リバースコーティング、グラビアコーティング等のロールコーティング法、ダイコート法、カンマコート法、リップコート法、スピンコーティング法、スクリーンコーティング法、ファウンテンコーティング法、ディッピング法、スプレー法、流涎成形法等が挙げられる。 In the application step, a coating film is formed by applying the varnish onto the substrate by a known application method. Known coating methods include, for example, wire bar coating, reverse coating, roll coating such as gravure coating, die coating, comma coating, lip coating, spin coating, screen coating, fountain coating, dipping, Examples include a spray method and a casting method.

光学フィルム形成工程において、塗膜を乾燥し、基材から剥離することによって、光学フィルムを形成することができる。剥離後に更に光学フィルムを乾燥する乾燥工程を行ってもよい。塗膜の乾燥は、通常50~350℃、好ましくは50~220℃の温度にて行うことができる。好適な実施態様では、段階的に乾燥を行うことが好ましい。高分子量樹脂を含むワニスは高粘度になりやすく、そのようなワニスから得られる光学フィルムは不均一な厚みを有する傾向にある。そのような光学フィルムでは、局所的にガスバリア性が低下する傾向にある。そこで、段階的に乾燥を行うことにより、高分子量樹脂を含むワニスを均一に乾燥することができ、ガスバリア性に優れた光学フィルムを得やすい。本発明のより好適な実施態様では、100~170℃の比較的低温下で加熱した後、185~220℃で加熱することができる。乾燥(又は加熱時間)は、好ましくは5分~5時間、より好ましくは10分~1時間である。このような範囲で段階的に低温から高温に加熱することにより、均一な厚みを有する光学フィルムとなり、よりガスバリア性の高い光学フィルムが得られやすい。また、光学フィルムの外観がより良好となる傾向にある。必要に応じて、不活性雰囲気条件下において塗膜の乾燥を行ってよい。また、光学フィルムの乾燥を真空条件下で行うと、フィルム中に微小な気泡が発生、残存することがあり、透明性が低下する要因となるため大気圧下で行うことが好ましい。 In the optical film forming step, the optical film can be formed by drying the coating film and peeling it off from the substrate. A drying process for drying the optical film may be performed after the peeling. Drying of the coating film can be carried out at a temperature of usually 50 to 350°C, preferably 50 to 220°C. In a preferred embodiment, the drying is preferably done in stages. Varnishes containing high molecular weight resins tend to have high viscosities, and optical films obtained from such varnishes tend to have non-uniform thicknesses. Such an optical film tends to locally deteriorate in gas barrier properties. Therefore, by performing stepwise drying, the varnish containing the high-molecular-weight resin can be dried uniformly, making it easier to obtain an optical film having excellent gas barrier properties. In a more preferred embodiment of the present invention, after heating at a relatively low temperature of 100-170°C, heating can be performed at 185-220°C. Drying (or heating time) is preferably 5 minutes to 5 hours, more preferably 10 minutes to 1 hour. By stepwise heating from a low temperature to a high temperature within such a range, an optical film having a uniform thickness can be obtained, and an optical film having a higher gas barrier property can be easily obtained. Also, the appearance of the optical film tends to be better. If desired, drying of the coating may be performed under inert atmospheric conditions. Further, if the optical film is dried under vacuum conditions, fine air bubbles may be generated and remain in the film, which may cause deterioration of transparency. Therefore, it is preferable to dry the optical film under atmospheric pressure.

基材の例としては、ガラス基板、PETフィルム、PENフィルム、他のポリイミド系樹脂又はポリアミド系樹脂フィルム等が挙げられる。中でも、耐熱性に優れる観点から、ガラス、PETフィルム、PENフィルム等が好ましく、更にポリイミド系フィルムとの密着性及びコストの観点から、ガラス基板又はPETフィルムがより好ましい。 Examples of substrates include glass substrates, PET films, PEN films, and other polyimide resin or polyamide resin films. Among them, glass, PET film, PEN film and the like are preferred from the viewpoint of excellent heat resistance, and glass substrates and PET films are more preferred from the viewpoint of adhesion to polyimide films and cost.

本発明の光学フィルムは、表示装置、特にタッチセンサ用基板として好適に使用できる。また、表示装置としては、テレビ、スマートフォン、携帯電話、カーナビゲーション、タブレットPC、携帯ゲーム機、電子ペーパー、インジケーター、掲示板、時計、及びスマートウォッチ等のウェアラブルデバイス等が挙げられる。 The optical film of the present invention can be suitably used as a display device, particularly as a touch sensor substrate. Examples of display devices include wearable devices such as televisions, smartphones, mobile phones, car navigation systems, tablet PCs, mobile game machines, electronic paper, indicators, bulletin boards, watches, and smart watches.

[フレキシブル表示装置]
本発明は、本発明の光学フィルムを含むフレキシブル表示装置を包含する。該フレキシブル表示装置としては、フレキシブル特性を有する表示装置、例えばテレビ、スマートフォン、携帯電話、スマートウォッチ等が挙げられる。フレキシブル表示装置の具体的な構成としては、特に限定されないが、例えばフレキシブル表示装置用積層体及び有機EL表示パネルを含んでなる構成が挙げられる。このような本発明のフレキシブル表示装置は、更に偏光板及び/又はタッチセンサを備えることが好ましい。偏光板又はタッチセンサとしては、慣用のものを用いることができ、これらは前記フレキシブル表示装置用積層体に含まれていてよい。偏光板としては、例えば円偏光板が挙げられ、タッチセンサとしては、抵抗膜方式、表面弾性波方式、赤外線方式、電磁誘導方式、静電容量方式等の様々な様式が挙げられる。本発明の好適な実施態様では、本発明の光学フィルムは、前記タッチセンサ用基板(又はタッチセンサ用フィルム)として使用することができる。
また、本発明の一実施態様では、フレキシブル表示装置用積層体は、視認側に、更にウインドウフィルムを含むことが好ましく、例えば、視認側からウインドウフィルム、偏光板、タッチセンサ、又はウインドウフィルム、タッチセンサ、偏光板の順に積層されていてもよい。これらの部材は、接着剤又は粘着剤を用いて積層してもよく、これらの部材以外の他の部材を含むこともできる。
[Flexible display device]
The present invention includes flexible display devices comprising the optical film of the present invention. Examples of the flexible display device include display devices having flexible characteristics, such as televisions, smartphones, mobile phones, and smart watches. A specific configuration of the flexible display device is not particularly limited, but includes, for example, a configuration including a laminate for a flexible display device and an organic EL display panel. Such a flexible display device of the present invention preferably further includes a polarizing plate and/or a touch sensor. Commonly used polarizing plates or touch sensors may be used, and these may be included in the laminate for a flexible display device. Polarizing plates include, for example, circularly polarizing plates, and touch sensors include various modes such as a resistive film system, a surface acoustic wave system, an infrared system, an electromagnetic induction system, and a capacitance system. In a preferred embodiment of the present invention, the optical film of the present invention can be used as the touch sensor substrate (or touch sensor film).
In one embodiment of the present invention, the laminate for a flexible display device preferably further includes a window film on the viewing side. The sensor and the polarizing plate may be laminated in this order. These members may be laminated using an adhesive or pressure-sensitive adhesive, and other members other than these members may be included.

以下、実施例及び比較例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。 EXAMPLES The present invention will be described in more detail below based on examples and comparative examples, but the present invention is not limited to the following examples.

[光弾性係数]
実施例及び比較例で得られた光学フィルムの光弾性係数は、位相差測定装置(王子計測機器社製KOBRA-WRP)の面内位相差測定モード(利用波長は590nm)を利用して求めた。サンプル測定部位に付随の試料引張治具を配置し、15mm×150mmの試験片に対して、荷重変化による位相差変化を測定し、その結果を直線近似して傾きを求めた後、下式によって求めた。
光弾性係数=傾き×1.5×10-9/9.8(cm/dyn)
[Photoelastic coefficient]
The photoelastic coefficients of the optical films obtained in Examples and Comparative Examples were determined using an in-plane retardation measurement mode (using a wavelength of 590 nm) of a retardation measurement device (KOBRA-WRP manufactured by Oji Scientific Instruments Co., Ltd.). . Place the attached sample tensioning jig at the sample measurement site, measure the phase difference change due to the load change for the 15 mm × 150 mm test piece, linearly approximate the result to obtain the slope, then use the following formula asked.
Photoelastic coefficient=Slope×1.5×10 −9 /9.8 (cm 2 /dyn)

[湿度膨張係数(CME)]
実施例及び比較例で得られた光学フィルムの湿度膨張係数は、恒温恒湿槽を有する熱機械分析装置(TMA)を用いて測定した。一対のクランプに試験片を一定荷重(20mN)を加えた状態で保持し、温度プログラムにより恒温恒湿槽内を温度60℃、湿度0%RHから温度60℃、湿度90%RHに変化させ、湿度0%から90%RHの間に変化したクランプ間距離を測定し、その変化量を算出して湿度膨張係数の値とした。
[Coefficient of humidity expansion (CME)]
The humidity expansion coefficients of the optical films obtained in Examples and Comparative Examples were measured using a thermomechanical analyzer (TMA) having a constant temperature and humidity chamber. The test piece is held with a constant load (20 mN) applied to a pair of clamps, and the temperature in the constant temperature and humidity chamber is changed from 60 ° C. and 0% RH to 60 ° C. and 90% RH by the temperature program, The clamp-to-clamp distance that changed between 0% and 90% RH was measured, and the amount of change was calculated as the coefficient of humidity expansion.

[吸水率]
実施例及び比較例で得られた光学フィルムの吸水率は、温湿度を制御したAIR雰囲気下で試料重量を計測し、加湿前の重量との変化量から重量変化率を求めた。測定には、セイコー電子工業(株)製の熱分析装置(TG/DTA6200)高温高湿度対応仕様を用いた。天秤ビームに試料皿を2つ設置し、一方の試料皿へ試験片(約15mm×15mm)をセットした。試料温度は試料温度制御用循環恒温槽で調整し、調湿は温水循環炉内に乾燥空気を100mL/分で流通して行った。測定温度は、25℃、60℃と段階的に制御し、その後、湿度は0%RHから90%RHに変化させて、各温湿度条件で試料重量が安定するまで静置した後、試料重量を計測した。下記の式より吸水率(重量変化)%を算出した。
吸水量(mg)=各湿度での試料重量(mg)-加湿なしの状態の試料重量(mg)
吸水率(%)=吸水量(mg)÷加湿なしの状態の試料重量(mg)×100
上記式より、60℃90%RHでの吸水率を求めた。
[Water absorption]
For the water absorption of the optical films obtained in Examples and Comparative Examples, the weight of the sample was measured in an AIR atmosphere with controlled temperature and humidity, and the weight change rate was obtained from the amount of change from the weight before humidification. For the measurement, a thermal analyzer (TG/DTA6200 manufactured by Seiko Electronics Industries Co., Ltd.) with specifications for high temperature and high humidity was used. Two sample plates were placed on the balance beam, and a test piece (approximately 15 mm×15 mm) was set on one of the sample plates. The sample temperature was adjusted in a circulation constant temperature bath for sample temperature control, and the humidity was adjusted by circulating dry air at 100 mL/min in a warm water circulation furnace. The measurement temperature was controlled stepwise from 25° C. to 60° C., then the humidity was changed from 0% RH to 90% RH, and after standing until the sample weight stabilized under each temperature and humidity condition, the sample weight was measured. was measured. The water absorption (weight change) % was calculated from the following formula.
Water absorption (mg) = sample weight (mg) at each humidity - sample weight (mg) without humidification
Water absorption rate (%) = water absorption amount (mg) / sample weight without humidification (mg) x 100
The water absorption rate at 60° C. and 90% RH was obtained from the above formula.

[溶媒含有量]
(熱重量-示差熱(TG-DTA)測定)
TG-DTAの測定装置(「TG/DTA6300」、日立ハイテクサイエンス社製)を用いて、実施例及び比較例で得られた光学フィルムの残留溶媒(溶媒含有)量を測定した。
該光学フィルムから約20mgの試料を取得した。この試料を、室温から120℃まで10℃/分の昇温速度で昇温し、120℃で5分間保持した後、400℃まで10℃/分の昇温速度で昇温(加熱)しながら、試料の質量変化を測定した。
TG-DTA測定結果から、120℃から250℃にかけての質量減少率S(質量%)
を下記式(1)に従い、算出した。
S(質量%)=100-(W1/W0)×100 (1)
〔式(1)中、W0は120℃で5分間保持した後の試料の質量であり、W1は250
℃における試料の質量である〕
算出された質量減少率Sを、光学フィルム中の残留溶媒量S(質量%)とした。
[Solvent content]
(Thermogravimetric-differential thermal (TG-DTA) measurement)
Using a TG-DTA measuring device (“TG/DTA6300” manufactured by Hitachi High-Tech Science), the amount of residual solvent (solvent content) in the optical films obtained in Examples and Comparative Examples was measured.
About 20 mg of sample was obtained from the optical film. This sample was heated from room temperature to 120° C. at a temperature increase rate of 10° C./minute, held at 120° C. for 5 minutes, and then heated (heated) to 400° C. at a temperature increase rate of 10° C./minute. , measured the mass change of the sample.
From the TG-DTA measurement results, the mass reduction rate S (mass%) from 120 ° C to 250 ° C
was calculated according to the following formula (1).
S (% by mass) = 100 - (W1/W0) x 100 (1)
[In formula (1), W0 is the mass of the sample after being held at 120 ° C. for 5 minutes, and W1 is 250
is the mass of the sample in ° C]
The calculated mass reduction rate S was defined as the residual solvent amount S (% by mass) in the optical film.

[350nm及び500nmの光透過率]
実施例及び比較例で得られた光学フィルムにおける350nm及び500nmの光透過率は、日本分光(株)製の紫外可視近赤外分光光度計V-670を用い、200~800nmの光に対する光透過率を測定することで得られた。
[Light transmittance at 350 nm and 500 nm]
The light transmittance at 350 nm and 500 nm in the optical films obtained in Examples and Comparative Examples was measured using an ultraviolet-visible-near-infrared spectrophotometer V-670 manufactured by JASCO Corporation. obtained by measuring the rate.

[ガラス転移温度の測定]
実施例及び比較例で得られた光学フィルムのDSC(示差走査熱量測定)によるガラス転移温度(Tg)を熱分析装置(「DSC Q200」、TA Instruments製)により測定した。測定条件は、測定試料量:5mg、温度域:室温から400℃、昇温速度:10℃/分であった。
[Measurement of glass transition temperature]
The glass transition temperatures (Tg) of the optical films obtained in Examples and Comparative Examples were measured by DSC (differential scanning calorimetry) using a thermal analyzer (“DSC Q200”, manufactured by TA Instruments). The measurement conditions were as follows: amount of sample to be measured: 5 mg; temperature range: room temperature to 400°C; heating rate: 10°C/min.

[引張強度の測定]
実施例及び比較例で得られた光学フィルムの引張強度は、精密万能試験機(「オートグラフAG-IS」、(株)島津製作所製)を用いて以下のように測定した。
該光学フィルムを幅10mm、長さ100mmにカットし、短冊状の試験片を準備した。次いで、該精密万能試験機を用いて、チャック間距離50mm、引張速度20mm/分の条件で引張試験を行い、光学フィルムの引張強度を測定した。
[Measurement of tensile strength]
The tensile strength of the optical films obtained in Examples and Comparative Examples was measured using a precision universal tester (“Autograph AG-IS” manufactured by Shimadzu Corporation) as follows.
The optical film was cut into a width of 10 mm and a length of 100 mm to prepare a strip-shaped test piece. Next, using the precision universal testing machine, a tensile test was performed under the conditions of a distance between chucks of 50 mm and a tensile speed of 20 mm/min to measure the tensile strength of the optical film.

[膜厚]
実施例及び比較例で得られた光学フィルムの膜厚は、接触式のデジタル厚み計(ミツトヨ社製)を用いて3回測定を行い、3回測定した値の平均値を光学フィルムの膜厚とした。
[Thickness]
The film thickness of the optical films obtained in Examples and Comparative Examples was measured three times using a contact-type digital thickness gauge (manufactured by Mitutoyo Co., Ltd.), and the average value of the three measured values was taken as the film thickness of the optical film. and

[重量平均分子量(Mw)]
合成したポリイミド系樹脂の重量平均分子量(Mw)は、GPCを用いて、以下の条件により測定した。
(GPC条件)
装置:島津LC-20A
カラム:TSKgel GMHHR-M(ミックスカラム、排除限界分子量:400万)
ガードカラム:TSKgel guardcolumn HHR-H
移動相:N-メチル-2-ピロリジノン(NMP) 10mM LiBr添加
※NMPはHPLC用グレード、LiBrは試薬一級(無水物)を使用
流速:1mL/分
測定時間:20分
カラムオーブン:40℃
検出:UV 275nm
洗浄溶媒:NMP
試料濃度:1mg/mL(20重量%反応マスは移動相で5mg/mLに希釈して分析)
分子量較正:ポリマーラボラトリーズ製 標準ポリスチレン(分子量500~400万の17分子量)
[Weight average molecular weight (Mw)]
The weight average molecular weight (Mw) of the synthesized polyimide resin was measured using GPC under the following conditions.
(GPC conditions)
Apparatus: Shimadzu LC-20A
Column: TSKgel GMHHR-M (mix column, exclusion limit molecular weight: 4 million)
Guard column: TSKgel guard column HHR-H
Mobile phase: N-methyl-2-pyrrolidinone (NMP), 10 mM LiBr added * NMP is HPLC grade, LiBr is reagent first grade (anhydride) Flow rate: 1 mL/min Measurement time: 20 minutes Column oven: 40°C
Detection: UV 275nm
Wash solvent: NMP
Sample concentration: 1 mg/mL (20 wt% reaction mass diluted to 5 mg/mL with mobile phase for analysis)
Molecular weight calibration: Standard polystyrene manufactured by Polymer Laboratories (17 molecular weights with a molecular weight of 5-4 million)

[イミド化率]
合成したポリイミド系樹脂のイミド化率は、NMRを用いて以下の条件により測定した。
(NMR条件)
ポリイミド系樹脂10mgを秤量し、重DMSO 0.75mlを添加後、120℃で20分加熱することで溶解した。溶液をNMR管に移し、ブルカー製AV600装置を用いて、100℃でH NMR測定を実施した。H NMRスペクトルよりイミド基由来のプロトンとアミド基由来のプロトンを帰属し、次式を用いてイミド化率を求めた。
イミド化率 = {イミド基積分比/(イミド基積分比+アミド基積分比)}×100
[Imidation rate]
The imidization rate of the synthesized polyimide resin was measured using NMR under the following conditions.
(NMR conditions)
10 mg of polyimide resin was weighed, and after adding 0.75 ml of heavy DMSO, the resin was dissolved by heating at 120° C. for 20 minutes. The solution was transferred to an NMR tube and 1 H NMR measurements were performed at 100° C. using a Bruker AV600 instrument. Protons derived from the imide group and protons derived from the amide group were assigned from the 1 H NMR spectrum, and the imidization rate was determined using the following equation.
Imidation rate = {imido group integral ratio/(imido group integral ratio + amide group integral ratio)} × 100

[粘度]
ワニスの粘度は、E型粘度計(「HBDV-II + P CP」 Brook Field社製)を用いて、ワニス0.6ccを試料として、25℃、回転数3rpmの条件で測定した。
[viscosity]
The viscosity of the varnish was measured using an E-type viscometer (“HBDV-II + P CP”, manufactured by Brook Field) using 0.6 cc of varnish as a sample under the conditions of 25° C. and 3 rpm.

[水蒸気透過度]
Lyssy社製L80シリーズ水蒸気透過度計を用いて、実施例及び比較例で得られた光学フィルムの水蒸気透過度を評価した。測定条件は以下のとおりである。
試験方法:感湿センサ法
温度・湿度条件:25℃、90%RH
測定面積:1.3×10-5
[Water vapor permeability]
Using a Lyssy L80 series water vapor permeability meter, the water vapor permeability of the optical films obtained in Examples and Comparative Examples was evaluated. Measurement conditions are as follows.
Test method: Moisture sensitive sensor method Temperature/humidity conditions: 25°C, 90% RH
Measurement area: 1.3×10 −5 m 2

[酸素透過度]
GTR テック(株)社製差圧式ガス透過率測定装置(GTR-30AS型)を用いて、JIS K 7126-1(差圧法)に準拠して、実施例及び比較例で得られた光学フィルムの酸素透過度を評価した。測定条件は以下のとおりである。
測定温度:30℃
透過面積:15.2cm(φ44mm)
透過ガス:酸素(超高純度)
供給ガス圧:2kgf/cm(差圧:223cmHg)
[Oxygen permeability]
Using a differential pressure type gas permeability measuring device (GTR-30AS type) manufactured by GTR Tech Co., Ltd., the optical films obtained in Examples and Comparative Examples were measured in accordance with JIS K 7126-1 (differential pressure method). Oxygen permeability was evaluated. Measurement conditions are as follows.
Measurement temperature: 30°C
Transmission area: 15.2 cm 2 (φ44 mm)
Permeable gas: Oxygen (ultra-high purity)
Supply gas pressure: 2 kgf/cm 2 (differential pressure: 223 cmHg)

[合成例1]
窒素ガス雰囲気下、撹拌翼を備えた反応容器に、m-クレゾール(本州化学工業(株)製)178.78kg、1,4-DAB(ThermoFisher社製)7.940kg、及び6FDA(八幸通商(株))40.120kgを加え、次に、イソキノリン(富士フィルム和光純薬(株)製)3.428kgを添加した後、158℃に昇温し、5時間撹拌した後、m-クレゾールを74.49kg加え、得られた反応液を50℃まで冷却した。撹拌しながら、Solmix AP-1(日本アルコール販売(株)製)を118.97kg添加し、更に、Solmix AP-1を356.91kg加えた後、ろ過した。ろ過した沈殿物をSolmix AP-1(70.62kg)で洗浄し、更にSolmix AP-1(141.23kg)で4回懸濁ろ過を行い、沈殿物を乾燥機にて70℃で96時間乾燥させることで、ポリイミド系樹脂を39.97kg得た。製造したポリイミド系樹脂の重量平均分子量(Mw)は、252,000であり、イミド化率は99.9%であった。
[Synthesis Example 1]
In a nitrogen gas atmosphere, m-cresol (manufactured by Honshu Chemical Industry Co., Ltd.) 178.78 kg, 1,4-DAB (manufactured by ThermoFisher) 7.940 kg, and 6FDA (Hakko Tsusho) were added to a reaction vessel equipped with a stirring blade. Co., Ltd.) was added, then 3.428 kg of isoquinoline (manufactured by Fujifilm Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added, the temperature was raised to 158 ° C., and after stirring for 5 hours, m-cresol was added. 74.49 kg was added, and the resulting reaction liquid was cooled to 50°C. While stirring, 118.97 kg of Solmix AP-1 (manufactured by Nippon Alcohol Trading Co., Ltd.) was added, and 356.91 kg of Solmix AP-1 was further added, followed by filtration. The filtered precipitate was washed with Solmix AP-1 (70.62 kg), suspended and filtered four times with Solmix AP-1 (141.23 kg), and the precipitate was dried in a dryer at 70°C for 96 hours. 39.97 kg of polyimide-based resin was obtained. The weight average molecular weight (Mw) of the produced polyimide resin was 252,000, and the imidization rate was 99.9%.

(実施例1)
合成例1で得られたポリイミド系樹脂を固形分濃度が15質量%となるようにシクロヘキサノンに溶解し、紫外線吸収剤(UVA)として、Sumisorb340を2phr添加してワニスを調製した。前記ワニスの粘度は26Pa・sであった。次いで、得られたワニスを、ガラス基板に塗布し、140℃で10分加熱した後、更に200℃で30分間加熱し、ガラス基板から剥離することで、厚さ25μmの光学フィルムを得た。得られた光学フィルムの残留溶媒量は、1.2質量%であった。
(Example 1)
A varnish was prepared by dissolving the polyimide resin obtained in Synthesis Example 1 in cyclohexanone so that the solid content concentration was 15% by mass, and adding 2 phr of Sumisorb 340 as an ultraviolet absorber (UVA). The viscosity of the varnish was 26 Pa·s. Next, the obtained varnish was applied to a glass substrate, heated at 140° C. for 10 minutes, further heated at 200° C. for 30 minutes, and peeled off from the glass substrate to obtain an optical film with a thickness of 25 μm. The amount of residual solvent in the obtained optical film was 1.2% by mass.

(実施例2)
合成例1で得られたポリイミド系樹脂を固形分濃度が15質量%となるようにシクロヘキサノンに溶解し、紫外線吸収剤(UVA)として、Sumisorb340を2phr添加した。次に、シリカ(製品名:CHO―ST-M、メーカー名:日産化学株式会社、平均一次粒子径22nm)をポリイミド系樹脂に対して20質量%となるように添加してワニスを調製した。前記ワニスの粘度は10Pa・sであった。得られたワニスを、ガラス基板に塗布し、140℃で10分加熱した後、更に200℃で30分間加熱し、ガラス基板から剥離することで、厚さ25μmの光学フィルムを得た。得られた光学フィルムの残留溶媒量は、1.5質量%であった。なお、シリカの含有量は光学フィルムの質量に対して16.4質量%であった。
(Example 2)
The polyimide resin obtained in Synthesis Example 1 was dissolved in cyclohexanone so that the solid content concentration was 15% by mass, and 2 phr of Sumisorb 340 was added as an ultraviolet absorber (UVA). Next, silica (product name: CHO-ST-M, manufacturer name: Nissan Chemical Industries, Ltd., average primary particle size: 22 nm) was added to 20% by mass relative to the polyimide resin to prepare a varnish. The viscosity of the varnish was 10 Pa·s. The obtained varnish was applied to a glass substrate, heated at 140° C. for 10 minutes, further heated at 200° C. for 30 minutes, and peeled off from the glass substrate to obtain an optical film with a thickness of 25 μm. The amount of residual solvent in the obtained optical film was 1.5% by mass. The content of silica was 16.4% by mass with respect to the mass of the optical film.

(比較例1)
ポリイミド樹脂(以下、PIとも称する)(「KPI―MX300F」、河村産業(株)製)を、固形分濃度が12質量%となるようにDMAcに溶解し、ワニスを調製した。前記ワニスを、ガラス基板に塗布し、140℃で10分加熱した後、更に200℃で20分間加熱し、ガラス基板から剥離することで、厚さ30μmの光学フィルムを得た。得られた光学フィルムの残留溶媒量は、1.5質量%であった。
(Comparative example 1)
Polyimide resin (hereinafter also referred to as PI) ("KPI-MX300F", manufactured by Kawamura Sangyo Co., Ltd.) was dissolved in DMAc so that the solid content concentration was 12% by mass to prepare a varnish. The varnish was applied to a glass substrate, heated at 140° C. for 10 minutes, further heated at 200° C. for 20 minutes, and peeled off from the glass substrate to obtain an optical film with a thickness of 30 μm. The amount of residual solvent in the obtained optical film was 1.5% by mass.

実施例及び比較例で得られた光学フィルムについて、物性およびガスバリア性の評価結果を表1に示す。

Figure 2022117110000011
Table 1 shows the evaluation results of the physical properties and gas barrier properties of the optical films obtained in Examples and Comparative Examples.
Figure 2022117110000011

表1に示される通り、光弾性係数が小さい実施例1および2の光学フィルムは水蒸気透過度及び酸素透過度共に低く、ガスバリア性に優れていた。また、350nmの光透過率が低く、紫外線カット性にも優れていた。したがって、実施例1および2の光学フィルムは紫外線カット性及びガスバリア性の両方に優れた光学フィルムであることが分かった。 As shown in Table 1, the optical films of Examples 1 and 2 having small photoelastic coefficients had low water vapor permeability and low oxygen permeability, and had excellent gas barrier properties. In addition, the light transmittance at 350 nm was low, and the ultraviolet shielding property was also excellent. Therefore, it was found that the optical films of Examples 1 and 2 are excellent in both ultraviolet shielding properties and gas barrier properties.

Claims (13)

脂肪族ジアミン由来の構成単位を有するポリイミド系樹脂を含み、350nmの光透過率は10%以下であり、光弾性係数は50×10-12Pa-1以下である、光学フィルム。 An optical film comprising a polyimide resin having structural units derived from an aliphatic diamine, having a light transmittance at 350 nm of 10% or less and a photoelastic coefficient of 50×10 −12 Pa −1 or less. 湿度膨張係数は10ppmを超える、請求項1に記載の光学フィルム。 2. The optical film of claim 1, wherein the humidity expansion coefficient is greater than 10 ppm. 60℃における吸水率は、2.5%以下である、請求項1又は2に記載の光学フィルム。 The optical film according to claim 1 or 2, wherein the water absorption at 60°C is 2.5% or less. 溶媒含有量は、前記光学フィルムの質量に対して7.0質量%以下である、請求項1~3のいずれかに記載の光学フィルム。 The optical film according to any one of claims 1 to 3, wherein the solvent content is 7.0% by mass or less with respect to the mass of the optical film. 500nmの光透過率は90%以上である、請求項1~4のいずれかに記載の光学フィルム。 5. The optical film according to claim 1, which has a light transmittance of 90% or more at 500 nm. フィラーを含有する、請求項1~5のいずれかに記載の光学フィルム。 6. The optical film according to any one of claims 1 to 5, which contains a filler. 膜厚は10μm以上100μm以下である、請求項1~6のいずれかに記載の光学フィルム。 7. The optical film according to any one of claims 1 to 6, having a film thickness of 10 µm or more and 100 µm or less. 前記ポリイミド系樹脂は、式(1):
Figure 2022117110000012
[式(1)中、Xは2価の有機基を表し、Yは4価の有機基を表し、*は結合手を表す]
で表される構成単位を有し、式(1)で表される構成単位は、Xとして、2価の脂肪族基を含む、請求項1~7のいずれかに記載の光学フィルム。
The polyimide resin has the formula (1):
Figure 2022117110000012
[In formula (1), X represents a divalent organic group, Y represents a tetravalent organic group, and * represents a bond]
8. The optical film according to claim 1, wherein the structural unit represented by formula (1) contains a divalent aliphatic group as X.
前記式(1)で表される構成単位は、Yとして、式(2):
Figure 2022117110000013
[式(2)中、R~Rは、互いに独立に、水素原子、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基又は炭素数6~12のアリール基を表し、R~Rに含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、Vは、単結合、-O-、-CH-、-CH-CH-、-CH(CH)-、-C(CH-、-C(CF-、-SO-、-S-、-CO-又は-N(R)-を表し、Rは、水素原子、又はハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1~12の一価の炭化水素基を表し、*は結合手を表す]
で表される構造を含む、請求項8に記載の光学フィルム。
The structural unit represented by the formula (1) is represented by Y as the formula (2):
Figure 2022117110000013
[In formula (2), R 2 to R 7 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, The hydrogen atoms contained in R 2 to R 7 may be independently substituted with halogen atoms, and V is a single bond, —O—, —CH 2 —, —CH 2 —CH 2 —, — CH(CH 3 )—, —C(CH 3 ) 2 —, —C(CF 3 ) 2 —, —SO 2 —, —S—, —CO— or —N(R 8 )—, and R 8 represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom, * represents a bond]
9. The optical film of claim 8, comprising a structure represented by:
前記ポリイミド系樹脂はフッ素原子を含有する、請求項8又は9に記載の光学フィルム。 10. The optical film according to claim 8, wherein the polyimide resin contains fluorine atoms. 請求項1~10のいずれかに記載の光学フィルムを備える、フレキシブル表示装置。 A flexible display device comprising the optical film according to any one of claims 1 to 10. 更に偏光板を備える、請求項11に記載のフレキシブル表示装置。 12. The flexible display of Claim 11, further comprising a polarizer. 更にタッチセンサを備える、請求項11又は12に記載のフレキシブル表示装置。 13. A flexible display device according to claim 11 or 12, further comprising a touch sensor.
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