JP2023132813A - Method for producing polyimide film - Google Patents

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昭彦 中谷
Akihiko Nakatani
一喜 大松
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Abstract

To provide a method for producing a polyimide film that does not break even when tension is applied under heating.SOLUTION: A method for producing a polyimide film of the present invention includes a process of placing protective films with a melting point of 200°C or higher at an edge on at least one side of a polyimide-based raw material film in two or more opposing zones, and applying tension to the polyimide-based raw material film under heat, in a state in which the polyimide-based raw material film and the protective film are held by a holding member in the zones.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、フレキシブル表示装置の材料等に使用されるポリイミド系フィルムの製造方法に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing a polyimide film used as a material for flexible display devices.

液晶表示装置や有機EL表示装置等の画像表示装置は、携帯電話やスマートウォッチといった種々の用途に広く活用されている。このような画像表示装置の前面板として、ガラスが用いられてきたが、ガラスは非常に剛直であり、割れやすいため、例えばフレキシブルディスプレイ等の前面板材料としての利用は難しい。ガラスに代わるポリイミド系フィルムとして、例えば透明性及び機械的強度等を備えるポリイミド系フィルムが検討されている(例えば特許文献1)。このようなポリイミド系フィルムは硬く伸びにくいことが知られている。 Image display devices such as liquid crystal display devices and organic EL display devices are widely used in various applications such as mobile phones and smart watches. Glass has been used as the front plate of such image display devices, but glass is very rigid and easily broken, so it is difficult to use it as a front plate material for, for example, flexible displays. As a polyimide film to replace glass, a polyimide film having transparency and mechanical strength, for example, is being considered (for example, Patent Document 1). It is known that such polyimide films are hard and difficult to stretch.

特表2014-528490号公報Special Publication No. 2014-528490

しかし、本発明者は、フィルム特性の改善等を検証するために、加熱下においてポリイミド系フィルムに張力を付与したところ、ある程度張力がかかると破断等の不具合が生じ得ることがわかった。 However, in order to verify the improvement of film properties, the present inventor applied tension to a polyimide film under heating and found that problems such as breakage may occur if tension is applied to a certain extent.

したがって、本発明の目的は、加熱下で張力をかけても破断しないポリイミド系フィルムの製造方法を提供することにある。 Therefore, an object of the present invention is to provide a method for producing a polyimide film that does not break even when tension is applied under heating.

本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、ポリイミド系フィルムの製造方法において、ポリイミド系原料フィルムの少なくとも一方の面上の端部において融点が200℃以上の保護フィルムを相対する2つ以上の区域に配置し、前記区域においてポリイミド系原料フィルムと保護フィルムとが把持部材により把持された状態で、ポリイミド系原料フィルムに加熱下で張力をかけると、上記課題を解決できることを見出し、本発明に到達した。すなわち本発明は、以下の好適な形態を提供するものである。 As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have discovered that, in a method for producing a polyimide film, a protective film having a melting point of 200°C or higher is attached to an end portion of at least one surface of a polyimide raw material film. The above problem can be solved by applying tension to the polyimide raw material film under heating while the polyimide raw material film and the protective film are gripped by a gripping member in the area. Heading, we arrived at the present invention. That is, the present invention provides the following preferred embodiments.

[1]ポリイミド系原料フィルムの少なくとも一方の面上の端部において融点が200℃以上の保護フィルムを相対する2つ以上の区域に配置し、前記区域において前記ポリイミド系原料フィルムと前記保護フィルムとが把持部材により把持された状態で、前記ポリイミド系原料フィルムに加熱下で張力をかける工程を含む、ポリイミド系フィルムの製造方法。
[2]加熱温度は、200℃以上である、[1]に記載の方法。
[3]前記保護フィルムは、前記ポリイミド系原料フィルムの両面に配置されている、[1]又は[2]に記載の方法。
[4]前記保護フィルムの融点は250℃以上である、[1]~[3]のいずれかに記載の方法。
[5]前記保護フィルムは、ポリイミド系保護フィルム、ポリテトラフルオロエチレン系保護フィルム及びポリエステル系保護フィルムからなる群より選択される少なくとも1つの樹脂フィルムである、[1]~[4]のいずれかに記載の方法。
[6]前記工程において、延伸により張力をかける、[1]~[5]のいずれかに記載の方法。
[7]前記張力を与える方向におけるポリイミド系原料フィルムの一辺の長さに対する、前記方向におけるポリイミド系フィルムの一辺の長さは、0.7~1.3倍である、[1]~[6]に記載の方法。
[8]前記延伸は、一軸延伸機又は二軸延伸機を用いて行う、[6]又は[7]に記載の方法。
[9]前記把持部材はクリップ、ピンシート及びフィルムチャックからなる群より選択される少なくとも1つを含む、[1]~[8]のいずれかに記載の方法。
[1] A protective film having a melting point of 200° C. or more is placed in two or more opposing areas at the end portion of at least one surface of the polyimide raw material film, and the polyimide raw material film and the protective film are arranged in two or more opposing areas. A method for producing a polyimide film, comprising the step of applying tension to the polyimide raw material film under heating while the polyimide film is held by a gripping member.
[2] The method according to [1], wherein the heating temperature is 200°C or higher.
[3] The method according to [1] or [2], wherein the protective film is disposed on both sides of the polyimide raw material film.
[4] The method according to any one of [1] to [3], wherein the protective film has a melting point of 250°C or higher.
[5] Any one of [1] to [4], wherein the protective film is at least one resin film selected from the group consisting of a polyimide-based protective film, a polytetrafluoroethylene-based protective film, and a polyester-based protective film. The method described in.
[6] The method according to any one of [1] to [5], wherein in the step, tension is applied by stretching.
[7] The length of one side of the polyimide film in the direction in which the tension is applied is 0.7 to 1.3 times the length of one side of the polyimide raw material film in the direction in which the tension is applied, [1] to [6] The method described in ].
[8] The method according to [6] or [7], wherein the stretching is performed using a uniaxial stretching machine or a biaxial stretching machine.
[9] The method according to any one of [1] to [8], wherein the gripping member includes at least one selected from the group consisting of a clip, a pin sheet, and a film chuck.

本発明によれば、加熱下で張力をかけても破断しないポリイミド系フィルムの製造方法を提供できる。 According to the present invention, it is possible to provide a method for producing a polyimide film that does not break even when tension is applied under heating.

本発明の一実施形態におけるポリイミド系フィルムの製造方法の好適な実施形態を模式的に示す概略図である。1 is a schematic diagram schematically showing a preferred embodiment of a method for producing a polyimide film in an embodiment of the present invention. 図1のポリイミド系フィルムと保護フィルムとの積層状態を示す概略断面図である。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing a laminated state of the polyimide film and protective film of FIG. 1. FIG. 図1のポリイミド系フィルムと保護フィルムとを把持部材により把持した状態を示す概略断面図である。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing a state where the polyimide film and protective film of FIG. 1 are gripped by a gripping member. 本発明の一実施形態におけるポリイミド系フィルムの製造方法の好適な実施形態を模式的に示す概略図である。1 is a schematic diagram schematically showing a preferred embodiment of a method for producing a polyimide film in an embodiment of the present invention.

以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。なお、本発明の範囲はここで説明する実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々の変更をすることができる。 Embodiments of the present invention will be described in detail below. Note that the scope of the present invention is not limited to the embodiments described here, and various changes can be made without departing from the spirit of the present invention.

〔ポリイミド系フィルムの製造方法〕
本発明のポリイミド系樹脂の製造方法は、ポリイミド系原料フィルムの少なくとも一方の面上の端部において融点が200℃以上の保護フィルムを相対する2つ以上の区域に配置し、前記区域において前記ポリイミド系原料フィルムと前記保護フィルムとが把持部材により把持された状態で、前記ポリイミド系原料フィルムに加熱下で張力をかける工程(以下、工程(X)と称することがある)を含む。本明細書において、ポリイミド系原料フィルムを単に「原料フィルム」と称することがある。また、原料フィルムと、工程(X)により得られるポリイミド系フィルムとを総称して単に「フィルム」と称することもある。
[Production method of polyimide film]
In the method for producing a polyimide resin of the present invention, protective films having a melting point of 200° C. or more are placed in two or more opposing areas at the end of at least one surface of a polyimide raw material film, and the polyimide resin is The method includes a step (hereinafter sometimes referred to as step (X)) of applying tension to the polyimide-based raw material film under heating while the polyimide-based raw material film and the protective film are held by a gripping member. In this specification, a polyimide-based raw material film may be simply referred to as a "raw material film." Moreover, the raw material film and the polyimide film obtained by step (X) may be collectively referred to simply as a "film".

本発明者は、延伸が困難とされるポリイミド系原料フィルムに対する張力と、フィルムの破断との関係について検討したところ、原料フィルムに加熱下で張力をかける工程において、ポリイミド系原料フィルムを把持部材で把持する際に、原料フィルムの片面又は両面上の端部において、融点200℃以上の保護フィルムを相対する2つ以上の区域に配置して一緒に把持すると、意外なことに、フィルムの破断が生じないことを見出した。理由は定かではないが、保護フィルムが補強材のようになり、微細なクラックやグレーズが原料フィルムの端部に発生しても、それをフィルム内部まで伝播させ得ないからだと推定される。そのため、本発明の製造方法では、例えば搬送しながら張力をかける場合においても安定してフィルムを搬送することができる。 The present inventor investigated the relationship between tension on a polyimide raw material film, which is difficult to stretch, and film breakage, and found that in the process of applying tension to the raw material film under heating, the polyimide raw material film is held by a gripping member. When gripping, unexpectedly, if a protective film with a melting point of 200°C or more is placed in two or more opposing areas at the edges on one or both sides of the raw film and gripped together, the film will not break. We found that this does not occur. Although the reason is not clear, it is presumed that the protective film acts like a reinforcing material, and even if minute cracks or glaze occur at the edges of the raw film, they cannot propagate to the inside of the film. Therefore, in the manufacturing method of the present invention, the film can be stably transported, for example, even when tension is applied while transporting the film.

<保護フィルム>
工程(X)で使用される保護フィルムの融点は200℃以上である。保護フィルムの融点は、好ましくは220℃以上、より好ましくは250℃以上、さらに好ましくは270℃以上、さらにより好ましくは290℃以上、特に好ましくは300℃以上、特により好ましくは320℃以上、極めて好ましくは340℃以上である。保護フィルムの融点が上記の下限以上であると、フィルムの破断及び把持部材への保護フィルムの融着(又は癒着)等の不具合が生じにくい。また、保護フィルムの融点は好ましくは450℃以下であり、より好ましくは400℃以下である。保護フィルムの融点が上記の上限以下であると、保護フィルムが加熱により柔軟になりやすいため、ポリイミド系フィルムを把持しやすくフィルムの破断が生じにくい。なお、本明細書に記載の上限値と下限値は任意に組み合わせることができる。
<Protective film>
The melting point of the protective film used in step (X) is 200°C or higher. The melting point of the protective film is preferably 220°C or higher, more preferably 250°C or higher, even more preferably 270°C or higher, even more preferably 290°C or higher, particularly preferably 300°C or higher, particularly preferably 320°C or higher, and extremely Preferably it is 340°C or higher. When the melting point of the protective film is equal to or higher than the above lower limit, problems such as breakage of the film and fusion (or adhesion) of the protective film to the gripping member are unlikely to occur. Further, the melting point of the protective film is preferably 450°C or lower, more preferably 400°C or lower. When the melting point of the protective film is below the above upper limit, the protective film tends to become flexible when heated, making it easy to grip the polyimide film and making it difficult for the film to break. Note that the upper limit and lower limit described in this specification can be arbitrarily combined.

保護フィルムは、工程(X)において把持部材に融着(又は癒着)しないものが好ましい。保護フィルムは、好ましくは樹脂フィルムであり、該樹脂フィルムの具体例としては、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系保護フィルム;ジアセチルセルロース等のセルロース系保護フィルム;ポリカーボネート系保護フィルム;ポリイミドフィルム、ポリアミドイミド等のポリイミド系保護フィルム;ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)等のフッ素樹脂系保護フィルム;などが挙げられる。これらの保護フィルムは単独又は二種以上組み合わせて使用できる。これらの中でも、フィルムの破断、及び把持部材への融着(又は癒着)等の不具合が生じにくい観点から、保護フィルムは、ポリイミド系保護フィルム、PTFE系保護フィルム及びポリエステル系保護フィルムからなる群より選択される少なくとも1つの樹脂フィルムであることが好ましく、ポリイミド系保護フィルム及び/又はPTFE系保護フィルム、特に、PTFE系保護フィルムであることがより好ましい。 The protective film is preferably one that does not fuse (or adhere) to the gripping member in step (X). The protective film is preferably a resin film, and specific examples of the resin film include polyester protective films such as polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate; cellulose protective films such as diacetyl cellulose; and polycarbonate. Examples include protective films based on polyimide such as polyimide film and polyamideimide; protective films based on fluororesin such as polytetrafluoroethylene (PTFE); and the like. These protective films can be used alone or in combination of two or more. Among these, the protective film is selected from the group consisting of polyimide-based protective film, PTFE-based protective film, and polyester-based protective film, from the viewpoint that defects such as film breakage and fusion (or adhesion) to the gripping member are less likely to occur. At least one selected resin film is preferred, and a polyimide-based protective film and/or a PTFE-based protective film, particularly a PTFE-based protective film, is more preferred.

保護フィルムの厚さは、好ましくは1μm以上、より好ましくは3μm以上、さらに好ましくは5μm以上、さらにより好ましくは10μm以上、特に好ましくは15μm以上、特により好ましくは20μm以上であり、好ましくは100μm以下、より好ましくは90μm以下、さらに好ましくは80μm以下、さらにより好ましくは70μm以下、特に好ましくは60μm以下である。保護フィルムの厚さが上記の下限以上であると、フィルムの破断を抑制しやすく、かつ取り扱い性を高めやすい。保護フィルムの厚さが上記の上限以下であると、把持部材で把持しやすい観点から有利となる。保護フィルムの厚さは膜厚計等により測定でき、例えば実施例に記載の方法により測定できる。 The thickness of the protective film is preferably 1 μm or more, more preferably 3 μm or more, still more preferably 5 μm or more, even more preferably 10 μm or more, particularly preferably 15 μm or more, particularly preferably 20 μm or more, and preferably 100 μm or less. , more preferably 90 μm or less, further preferably 80 μm or less, even more preferably 70 μm or less, particularly preferably 60 μm or less. When the thickness of the protective film is at least the above lower limit, breakage of the film can be easily suppressed and handleability can be easily improved. When the thickness of the protective film is equal to or less than the above upper limit, it is advantageous from the viewpoint of easy gripping with a gripping member. The thickness of the protective film can be measured using a film thickness meter or the like, for example, by the method described in Examples.

保護フィルムは、慣用の方法で製造しても、市販品を使用してもよい。 The protective film may be manufactured by a conventional method or a commercially available product may be used.

<ポリイミド系原料フィルム>
(ポリイミド系樹脂)
工程(X)に使用するポリイミド系原料フィルムは、ポリイミド系樹脂を含む。ポリイミド系樹脂は、ポリイミド系樹脂及びポリアミドイミド樹脂を含む。ポリイミド系樹脂とは、イミド基を含む繰返し構造単位を含有する重合体を示し、ポリアミドイミド樹脂とは、イミド基を含む繰り返し構造単位及びアミド基を含む繰り返し構造単位を含有する重合体を示す。
<Polyimide raw material film>
(Polyimide resin)
The polyimide raw material film used in step (X) contains a polyimide resin. Polyimide resins include polyimide resins and polyamideimide resins. A polyimide resin refers to a polymer containing a repeating structural unit containing an imide group, and a polyamide-imide resin refers to a polymer containing a repeating structural unit containing an imide group and a repeating structural unit containing an amide group.

本発明の好適な実施形態では、ポリイミド樹脂は、張力によるフィルムの破断を抑制しやすく、フィルムの機械的特性及び光学特性を向上しやすい観点から、式(1)で表される構成単位を含み、ポリアミドイミド樹脂は、式(1)で表される構成単位と式(2)で表される構成単位とを含むことが好ましい。 In a preferred embodiment of the present invention, the polyimide resin contains a structural unit represented by formula (1) from the viewpoint of easily suppressing breakage of the film due to tension and easily improving the mechanical properties and optical properties of the film. It is preferable that the polyamide-imide resin contains a structural unit represented by formula (1) and a structural unit represented by formula (2).

Figure 2023132813000002
Figure 2023132813000002

式(1)で表される構成単位は、好ましくはテトラカルボン酸化合物とジアミン化合物とが反応して形成される構成単位であり、式(2)で表される構成単位は、好ましくはジカルボン酸化合物とジアミン化合物とが反応して形成される構成単位である。 The structural unit represented by formula (1) is preferably a structural unit formed by the reaction of a tetracarboxylic acid compound and a diamine compound, and the structural unit represented by formula (2) is preferably formed by a reaction between a dicarboxylic acid compound and a diamine compound. It is a structural unit formed by the reaction between a compound and a diamine compound.

式(1)中のYは、互いに独立に、4価の有機基を表し、好ましくは炭素数4~40の4価の有機基を表す。前記有機基は、有機基中の水素原子が炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよい有機基であり、その場合、炭化水素基及びフッ素置換された炭化水素基の炭素数は好ましくは1~8である。本発明におけるポリイミド系樹脂は、複数種のYを含み得、複数種のYは、互いに同一であっても、異なっていてもよい。Yとしては、式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)又は式(29)で表される基;それらの式(20)~式(29)で表される基中の水素原子がメチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基で置換された基;並びに4価の炭素数6以下の鎖式炭化水素基が例示される。 Y in formula (1) independently represents a tetravalent organic group, preferably a tetravalent organic group having 4 to 40 carbon atoms. The organic group is an organic group in which a hydrogen atom in the organic group may be substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group; The number of carbon atoms is preferably 1 to 8. The polyimide resin in the present invention may contain multiple types of Y, and the multiple types of Y may be the same or different. Y is formula (20), formula (21), formula (22), formula (23), formula (24), formula (25), formula (26), formula (27), formula (28), or formula A group represented by (29); a group in which a hydrogen atom in the groups represented by formulas (20) to (29) is substituted with a methyl group, a fluoro group, a chloro group, or a trifluoromethyl group; and A tetravalent chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms is exemplified.

Figure 2023132813000003
[式(20)~式(29)中、*は結合手を表し、
は、単結合、-O-、-CH-、-CH-CH-、-CH(CH)-、-C(CH-、-C(CF-、-Ar-、-SO-、-CO-、-O-Ar-O-、-Ar-O-Ar-、-Ar-CH-Ar-、-Ar-C(CH-Ar-又は-Ar-SO-Ar-を表す。Arは、水素原子がフッ素原子で置換されていてもよい炭素数6~20のアリーレン基を表し、具体例としてはフェニレン基が挙げられる。]
Figure 2023132813000003
[In formulas (20) to (29), * represents a bond,
W 1 is a single bond, -O-, -CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -, -CH(CH 3 )-, -C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, -Ar-, -SO 2 -, -CO-, -O-Ar-O-, -Ar-O-Ar-, -Ar-CH 2 -Ar-, -Ar-C(CH 3 ) 2 -Ar- Or represents -Ar-SO 2 -Ar-. Ar represents an arylene group having 6 to 20 carbon atoms in which the hydrogen atom may be substituted with a fluorine atom, and a specific example thereof is a phenylene group. ]

式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)及び式(29)で表される基の中でも、フィルムの破断を抑制しやすく、フィルムの機械的特性及び光学特性を高めやすい観点から、式(26)、式(28)又は式(29)で表される基が好ましく、式(26)で表される基がより好ましい。また、Wは、張力によるフィルムの破断を抑制しやすく、フィルムの機械的特性及び光学特性を向上しやすい観点から、互いに独立に、単結合、-O-、-CH-、-CH-CH-、-CH(CH)-、-C(CH-又は-C(CF-であることが好ましく、単結合、-O-、-CH-、-CH(CH)-、-C(CH-又は-C(CF-であることがより好ましく、単結合、-O-、-C(CH-又は-C(CF-であることがさらに好ましく、-O-又は-C(CF-であることがさらにより好ましい。 In formula (20), formula (21), formula (22), formula (23), formula (24), formula (25), formula (26), formula (27), formula (28) and formula (29), Among the groups represented, groups represented by formula (26), formula (28), or formula (29) are preferred from the viewpoint of easily suppressing breakage of the film and easily improving the mechanical properties and optical properties of the film. , a group represented by formula (26) is more preferred. In addition, from the viewpoint of easily suppressing the breakage of the film due to tension and easily improving the mechanical properties and optical properties of the film, W 1 independently includes a single bond, -O-, -CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -, -CH(CH 3 )-, -C(CH 3 ) 2 - or -C(CF 3 ) 2 - is preferable, and a single bond, -O-, -CH 2 -, -CH (CH 3 )-, -C(CH 3 ) 2 - or -C(CF 3 ) 2 - is more preferable, and a single bond, -O-, -C(CH 3 ) 2 - or -C(CF 3 ) 2 - is more preferable, and -O- or -C(CF 3 ) 2 - is even more preferable.

上記形態において、式(1)中の複数のYの少なくとも一部は、式(5)で表される構成単位であることが好ましい。式(1)中の複数のYの少なくとも一部が式(5)で表される基であると、得られるフィルムは高い透明性を発現しやすい。また、メチレン基部分の屈曲性骨格に由来して、ポリイミド系樹脂の溶媒への溶解性を向上し、ポリイミド系樹脂を含むワニスの粘度を低く抑制することができ、またフィルムの加工を容易にすることができる。 In the above embodiment, at least some of the plurality of Y's in formula (1) are preferably structural units represented by formula (5). When at least some of the plurality of Y's in formula (1) are groups represented by formula (5), the resulting film tends to exhibit high transparency. In addition, due to the flexible skeleton of the methylene group, the solubility of polyimide resins in solvents can be improved, the viscosity of varnishes containing polyimide resins can be kept low, and the processing of films can be made easier. can do.

Figure 2023132813000004
[式(5)中、R18~R25は、互いに独立に、水素原子、炭素数1~6のアルキル基又は炭素数6~12のアリール基を表し、R18~R25に含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、
*は結合手を表す。]
Figure 2023132813000004
[In formula (5), R 18 to R 25 independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, and the hydrogen contained in R 18 to R 25 The atoms may be substituted independently of each other with halogen atoms,
* represents a bond. ]

式(5)において、R18、R19、R20、R21、R22、R23、R24、R25は、互いに独立に、水素原子、炭素数1~6のアルキル基又は炭素数6~12のアリール基を表し、好ましくは水素原子又は炭素数1~6のアルキル基を表し、より好ましくは水素原子又は炭素数1~3のアルキル基を表す。炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基及び炭素数6~12のアリール基としては、式(3)における炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基又は炭素数6~12のアリール基として後述するものが挙げられる。ここで、R18~R25に含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよい。R18~R25は、互いに独立に、フィルムの機械的特性及び光学特性を向上しやすい観点から、さらに好ましくは水素原子、メチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基であり、特に好ましくは水素原子又はトリフルオロメチル基である。 In formula (5), R 18 , R 19 , R 20 , R 21 , R 22 , R 23 , R 24 , and R 25 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a C 6 alkyl group. -12 aryl group, preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, and the aryl group having 6 to 6 carbon atoms include the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms in formula (3). Examples of the group or aryl group having 6 to 12 carbon atoms include those mentioned below. Here, the hydrogen atoms contained in R 18 to R 25 may be independently substituted with halogen atoms. From the viewpoint of easily improving the mechanical properties and optical properties of the film, R 18 to R 25 are more preferably a hydrogen atom, a methyl group, a fluoro group, a chloro group, or a trifluoromethyl group, and particularly preferably is a hydrogen atom or a trifluoromethyl group.

本発明の好適な実施形態においては、式(5)で表される構成単位は、式(5’)で表される基であり、すなわち、複数のYの少なくとも一部は、式(5’)で表される構成単位である。この場合、フィルムの機械的特性及び光学特性を向上しやすい。 In a preferred embodiment of the present invention, the structural unit represented by formula (5) is a group represented by formula (5'), that is, at least a part of the plurality of Y's is a group represented by formula (5'). ). In this case, it is easy to improve the mechanical properties and optical properties of the film.

Figure 2023132813000005
[式(5’)中、*は結合手を表す]
Figure 2023132813000005
[In formula (5'), * represents a bond]

本発明の好適な実施形態において、上記ポリイミド系樹脂中のYの、好ましくは50モル%以上、より好ましくは60モル%以上、さらに好ましくは70モル%以上が式(5)、特に式(5’)で表される。ポリイミド系樹脂おける上記範囲内のYが式(5)、特に式(5’)で表されると、フィルムの機械的特性及び光学特性を向上しやすく、さらにフッ素元素を含有する骨格によりポリイミド系樹脂の溶媒への溶解性が向上し、ポリイミド系樹脂を含むワニスの粘度を低く抑制することができる。また、フィルムの製造が容易となる。なお、好ましくは、ポリイミド系樹脂中のYの100モル%以下が式(5)、特に式(5’)で表される。ポリイミド系樹脂中のYは式(5)、特に式(5’)であってもよい。ポリイミド系樹脂中のYの式(5)で表される構成単位の含有率は、例えばH-NMRを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。 In a preferred embodiment of the present invention, preferably 50 mol% or more, more preferably 60 mol% or more, and even more preferably 70 mol% or more of Y in the polyimide resin is represented by formula (5), particularly formula (5). '). When Y within the above range in the polyimide resin is represented by formula (5), especially formula (5'), the mechanical properties and optical properties of the film can be easily improved, and the skeleton containing a fluorine element can improve the polyimide resin. The solubility of the resin in the solvent is improved, and the viscosity of the varnish containing the polyimide resin can be suppressed to a low level. Furthermore, the film can be manufactured easily. Preferably, 100 mol% or less of Y in the polyimide resin is represented by formula (5), particularly formula (5'). Y in the polyimide resin may be represented by formula (5), particularly formula (5'). The content of the structural unit represented by the formula (5) of Y in the polyimide resin can be measured using, for example, 1 H-NMR, or can be calculated from the charging ratio of raw materials.

式(2)中のZは、互いに独立に、2価の有機基を表す。本発明の一実施形態において、ポリイミド系樹脂は、複数種のZを含み得、複数種のZは、互いに同一であっても異なっていてもよい。前記2価の有機基は、好ましくは炭素数4~40の2価の有機基を表す。前記有機基は、炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよく、その場合、炭化水素基及びフッ素置換された炭化水素基の炭素数は好ましくは1~8である。Zの有機基としては、式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)又は式(29)で表される基の結合手のうち、隣接しない2つが水素原子に置き換わった基並びに炭素数6以下の2価の鎖式炭化水素基が例示される。フィルムの光学特性を向上、例えばYI値を低減しやすい観点から、式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)又は式(29)で表される基の結合手のうち、隣接しない2つが水素原子に置き換わった基で表される基が好ましい。本発明の一実施形態において、ポリイミド系樹脂は、Zとして1種類の有機基を含んでいてもよいし、2種類以上の有機基を含んでいてもよい。 Z in formula (2) independently represents a divalent organic group. In one embodiment of the present invention, the polyimide resin may contain multiple types of Z, and the multiple types of Z may be the same or different. The divalent organic group preferably represents a divalent organic group having 4 to 40 carbon atoms. The organic group may be substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group, and in that case, the number of carbon atoms in the hydrocarbon group and the fluorine-substituted hydrocarbon group is preferably 1 to 8. Examples of the organic group of Z include formula (20), formula (21), formula (22), formula (23), formula (24), formula (25), formula (26), formula (27), and formula (28). ) or a group in which two non-adjacent bonds of the group represented by formula (29) are replaced with hydrogen atoms, and a divalent chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms are exemplified. From the viewpoint of improving the optical properties of the film, for example, easily reducing the YI value, formula (20), formula (21), formula (22), formula (23), formula (24), formula (25), formula (26) ), formula (27), formula (28) or formula (29), a group in which two non-adjacent bonds are replaced with hydrogen atoms is preferred. In one embodiment of the present invention, the polyimide resin may contain one type of organic group as Z, or may contain two or more types of organic groups.

Zの有機基としては、式(20’)、式(21’)、式(22’)、式(23’)、式(24’)、式(25’)、式(26’)、式(27’)、式(28’)及び式(29’): Examples of the organic group of Z include formula (20'), formula (21'), formula (22'), formula (23'), formula (24'), formula (25'), formula (26'), and formula (27'), formula (28') and formula (29'):

Figure 2023132813000006
[式(20’)~式(29’)中、W及び*は、式(20)~式(29)において定義する通りである]
で表される2価の有機基がより好ましい。なお、式(20)~式(29)及び式(20’)~式(29’)における環上の水素原子は、炭素数1~8の炭化水素基、フッ素置換された炭素数1~8の炭化水素基、炭素数1~6のアルコキシ基、フッ素置換された炭素数1~6のアルコキシ基で置換されていてもよい。
Figure 2023132813000006
[In formulas (20') to (29'), W 1 and * are as defined in formulas (20) to (29)]
A divalent organic group represented by is more preferred. In addition, the hydrogen atom on the ring in formulas (20) to (29) and formulas (20') to (29') is a hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, or a fluorine-substituted group having 1 to 8 carbon atoms. may be substituted with a hydrocarbon group, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or a fluorine-substituted alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms.

ポリイミド系樹脂が、式(2)中のZが上記の式(20’)~式(29’)のいずれかで表される構成単位を有する場合、ポリイミド系樹脂は、該構成単位に加えて、次の式(d1):

Figure 2023132813000007
[式(d1)中、R24は、互いに独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基又は炭素数6~12のアリール基を表し、R25は、R24又は-C(=O)-*を表し、*は結合手を表す]
で表されるカルボン酸由来の構成単位をさらに有することが、ワニスの粘度を低くしやすく、ワニスの成膜性を高めやすく、得られるフィルムの均一性を高めやすい観点から好ましい。 When the polyimide resin has a structural unit in which Z in formula (2) is represented by any of the above formulas (20') to (29'), the polyimide resin has, in addition to the structural unit, , the following equation (d1):
Figure 2023132813000007
[In formula (d1), R 24 independently represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, R 25 represents R 24 or -C(=O)-*, * represents a bond]
It is preferable to further include a structural unit derived from a carboxylic acid represented by the following from the viewpoints of easily lowering the viscosity of the varnish, easily improving the film-forming properties of the varnish, and easily increasing the uniformity of the obtained film.

24において、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基及び炭素数6~12のアリール基としては、それぞれ、後述する式(3)中のR~Rに関して例示のものが挙げられる。構成単位(d1)としては、具体的には、R24及びR25がいずれも水素原子である構成単位(ジカルボン酸化合物に由来する構成単位)、R24がいずれも水素原子であり、R25が-C(=O)-*を表す構成単位(トリカルボン酸化合物に由来する構成単位)等が挙げられる。 In R 24 , the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, and the aryl group having 6 to 12 carbon atoms are exemplified with respect to R 1 to R 8 in formula (3) described below, respectively. Examples include: Specifically, the structural unit (d1) includes a structural unit in which R 24 and R 25 are both hydrogen atoms (a structural unit derived from a dicarboxylic acid compound), a structural unit in which R 24 is both a hydrogen atom, and R 25 Examples include a structural unit in which -C(=O)-* (a structural unit derived from a tricarboxylic acid compound).

本発明の一実施形態において、ポリイミド系樹脂は、複数種のZを含み得、複数種のZは、互いに同一であっても異なっていてもよい。特に、張力によるフィルムの破断を抑制しやすく、フィルムの機械的特性及び光学特性を向上しやすい観点から、Zの少なくとも一部が、式(3a):

Figure 2023132813000008
[式(3a)中、R及びRは、互いに独立に、ハロゲン原子、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基、又は炭素数6~12のアリール基を表し、R及びRに含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、
A、m及び*は式(3)中のA、m及び*と同じであり、
t及びuは互いに独立に0~4の整数を表す]
で表されることが好ましく、式(3):
Figure 2023132813000009
[式(3)中、R~Rは、互いに独立に、水素原子、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基、又は炭素数6~12のアリール基を表し、R~Rに含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、
Aは、互いに独立に、単結合、-O-、-CH-、-CH-CH-、-CH(CH)-、-C(CH-、-C(CF-、-SO-、-S-、-CO-又は-N(R)-を表し、Rは水素原子又はハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1~12の1価の炭化水素基を表し、
mは0~4の整数を表し、
*は結合手を表す]
で表されることがより好ましい。 In one embodiment of the present invention, the polyimide resin may contain multiple types of Z, and the multiple types of Z may be the same or different. In particular, from the viewpoint of easily suppressing the breakage of the film due to tension and easily improving the mechanical properties and optical properties of the film, at least a part of Z is expressed by the formula (3a):
Figure 2023132813000008
[In formula (3a), R g and R h independently represent a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms; , R g and R h may be independently substituted with a halogen atom,
A, m and * are the same as A, m and * in formula (3),
t and u independently represent integers from 0 to 4]
It is preferably represented by the formula (3):
Figure 2023132813000009
[In formula (3), R 1 to R 8 independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. , the hydrogen atoms contained in R 1 to R 8 may be independently substituted with halogen atoms,
A is, independently of each other, a single bond, -O-, -CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -, -CH(CH 3 )-, -C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, -SO 2 -, -S-, -CO- or -N(R 9 )-, where R 9 is a monovalent group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a hydrogen atom or a halogen atom. represents a hydrocarbon group,
m represents an integer from 0 to 4,
*represents a bond]
It is more preferable to express it as follows.

式(3)及び式(3a)において、Aは、互いに独立に、単結合、-O-、-CH-、-CH-CH-、-CH(CH)-、-C(CH-、-C(CF-、-SO-、-S-、-CO-又は-N(R)-を表し、張力によるフィルムの破断を抑制しやすく、フィルムの機械的特性及び光学特性を向上しやすい観点から、好ましくは-O-又は-S-を表し、より好ましくは-O-を表す。 In formula (3) and formula (3a), A independently represents a single bond, -O-, -CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -, -CH(CH 3 )-, -C(CH 3 ) 2- , -C(CF 3 ) 2 -, -SO 2 -, -S-, -CO- or -N(R 9 )-, easily suppresses film breakage due to tension, and is suitable for film machinery. From the viewpoint of easily improving optical properties and optical properties, it preferably represents -O- or -S-, and more preferably represents -O-.

、R、R、R、R、R、R及びRは、互いに独立に、水素原子、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基、又は炭素数6~12のアリール基を表す。R及びRは、互いに独立に、ハロゲン原子、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基、又は炭素数6~12のアリール基を表す。炭素数1~6のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、2-メチル-ブチル基、3-メチルブチル基、2-エチル-プロピル基、n-ヘキシル基等が挙げられる。炭素数1~6のアルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、tert-ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等が挙げられる。炭素数6~12のアリール基としては、例えばフェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、ビフェニル基等が挙げられる。張力によるフィルムの破断を抑制しやすく、フィルムの機械的特性及び光学特性を向上しやすい観点から、R及びR、並びに、R~Rは、互いに独立に、好ましくは水素原子又は炭素数1~6のアルキル基を表し、より好ましくは水素原子又は炭素数1~3のアルキル基を表し、さらに好ましくは水素原子又はメチル基を表す。ここで、R~R、R及びRに含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよい。 R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 and R 8 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, Or represents an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. R g and R h each independently represent a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, 2-methyl- Examples include butyl group, 3-methylbutyl group, 2-ethyl-propyl group, n-hexyl group, and the like. Examples of the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms include methoxy group, ethoxy group, propyloxy group, isopropyloxy group, butoxy group, isobutoxy group, tert-butoxy group, pentyloxy group, hexyloxy group, cyclohexyloxy group, etc. Can be mentioned. Examples of the aryl group having 6 to 12 carbon atoms include phenyl group, tolyl group, xylyl group, naphthyl group, and biphenyl group. From the viewpoint of easily suppressing the breakage of the film due to tension and easily improving the mechanical properties and optical properties of the film, R g and R h and R 1 to R 8 are preferably hydrogen atoms or carbon atoms, independently of each other. It represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and even more preferably a hydrogen atom or a methyl group. Here, the hydrogen atoms contained in R 1 to R 8 , R g and R h may be independently substituted with a halogen atom.

は水素原子、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1~12の1価の炭化水素基を表す。炭素数1~12の1価の炭化水素基としては、例えばメチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基、n-ペンチル基、2-メチル-ブチル基、3-メチルブチル基、2-エチル-プロピル基、n-ヘキシル、n-ヘプチル基、n-オクチル基、tert-オクチル基、n-ノニル基、n-デシル基等が挙げられ、これらはハロゲン原子で置換されていてもよい。前記ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。ポリイミド系樹脂は、複数種のAを含み得、複数種のAは、互いに同一でよく、異なっていてもよい。 R 9 represents a hydrogen atom or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom. Examples of monovalent hydrocarbon groups having 1 to 12 carbon atoms include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, Examples include 2-methyl-butyl group, 3-methylbutyl group, 2-ethyl-propyl group, n-hexyl, n-heptyl group, n-octyl group, tert-octyl group, n-nonyl group, n-decyl group, etc. and these may be substituted with a halogen atom. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom, and the like. The polyimide resin may contain multiple types of A, and the multiple types of A may be the same or different.

式(3a)中のt及びuは、互いに独立に、0~4の整数を表し、好ましくは0~2の整数、より好ましくは0又は1、さらにより好ましくは0を表す。 t and u in formula (3a) each independently represent an integer of 0 to 4, preferably an integer of 0 to 2, more preferably 0 or 1, and even more preferably 0.

式(3)及び式(3a)において、mは、0~4の範囲の整数であり、mがこの範囲内であると、ワニスの安定性、及び、フィルムの破断を抑制しやすく、フィルムの機械的特性が良好になりやすい。また、式(3)及び式(3a)において、mは、好ましくは0~3の範囲の整数、より好ましくは0~2の範囲の整数、さらに好ましくは0又は1、さらにより好ましくは0である。mがこの範囲内であると、フィルムの破断を抑制しやすく、フィルムの機械的特性を向上させやすい。 In formula (3) and formula (3a), m is an integer in the range of 0 to 4, and when m is within this range, the stability of the varnish and the breakage of the film are easily suppressed, and the film is Mechanical properties tend to be good. Furthermore, in formula (3) and formula (3a), m is preferably an integer in the range of 0 to 3, more preferably an integer in the range of 0 to 2, still more preferably 0 or 1, and even more preferably 0. be. When m is within this range, breakage of the film can be easily suppressed and the mechanical properties of the film can be easily improved.

Zは、式(3)又は式(3a)で表される構成単位を1種又は2種類以上含んでいてもよく、張力によるフィルムの破断を抑制しやすく、フィルムの機械的特性及び光学特性を向上しやすい観点、特にYI値の低減やフィルムの経時的な黄変抑制の観点から、例えばmの値が異なる2種類以上の構成単位、好ましくはmの値の異なる2種類又は3種類の構成単位を含んでいてもよい。その場合、張力によるフィルムの破断を抑制しやすく、フィルムの機械的特性及び光学特性を向上しやすい観点から、樹脂がZにおいて、mが0である式(3)又は式(3a)で表される構成単位を含有することが好ましく、該構成単位に加えてmが1である式(3)又は式(3a)で表される構成単位をさらに含有することがより好ましい。また、mが0である式(3)で表されるZを有する式(2)で表される構成単位に加えて、上記の式(d1)で表される構成単位をさらに有することも好ましい。 Z may contain one or more types of structural units represented by formula (3) or formula (3a), easily suppresses breakage of the film due to tension, and improves the mechanical properties and optical properties of the film. From the viewpoint of easy improvement, especially from the viewpoint of reducing the YI value and suppressing yellowing of the film over time, for example, two or more types of structural units with different m values, preferably two or three types of structural units with different m values. May include units. In that case, from the viewpoint of easily suppressing the breakage of the film due to tension and easily improving the mechanical properties and optical properties of the film, the resin is expressed by formula (3) or formula (3a) where m is 0 at Z. In addition to the structural unit, it is more preferable to further contain a structural unit represented by formula (3) or formula (3a) in which m is 1. Further, in addition to the structural unit represented by formula (2) having Z represented by formula (3) where m is 0, it is also preferable to further have a structural unit represented by formula (d1) above. .

本発明の好ましい一実施形態において、樹脂は、式(3)で表される構成単位として、mが0であり、かつR~Rが水素原子又はメチル基である構成単位を有する。より好ましい本発明の一実施形態において、樹脂は、式(3)で表される構成単位として、mが0であり、かつR~Rが水素原子又はメチル基である構成単位と、式(3’):

Figure 2023132813000010
で表される構成単位を有する。この場合、フィルムの機械的特性及び光学特性を向上しやすい。 In a preferred embodiment of the present invention, the resin has a structural unit represented by formula (3) in which m is 0 and R 5 to R 8 are a hydrogen atom or a methyl group. In a more preferred embodiment of the present invention, the resin includes a structural unit represented by formula (3) in which m is 0 and R 5 to R 8 are a hydrogen atom or a methyl group; (3'):
Figure 2023132813000010
It has the structural unit represented by . In this case, it is easy to improve the mechanical properties and optical properties of the film.

本発明の好ましい一実施形態において、ポリイミド系樹脂の式(1)で表される構成単位及び式(2)で表される構成単位の合計を100モル%としたときに、式(3)又は式(3a)で表される構成単位の割合は、好ましくは20モル%以上、より好ましくは30モル%以上、さらに好ましくは40モル%以上、さらにより好ましくは50モル%以上、とりわけ好ましくは60モル%以上であり、好ましくは90モル%以下、より好ましくは85モル%以下、さらに好ましくは80モル%以下である。式(3)又は式(3a)で表される構成単位の割合が上記の下限以上であると、張力によるフィルムの破断を抑制しやすく、フィルムの機械的特性及び光学特性を向上しやすい。式(3)又は式(3a)で表される構成単位の割合が上記の上限以下であると、式(3)又は式(3a)由来のアミド結合間水素結合による樹脂含有ワニスの粘度上昇を抑制し、フィルムの加工性を向上しやすい。 In a preferred embodiment of the present invention, when the total of the structural units represented by formula (1) and formula (2) of the polyimide resin is 100 mol%, the formula (3) or The proportion of the structural unit represented by formula (3a) is preferably 20 mol% or more, more preferably 30 mol% or more, even more preferably 40 mol% or more, even more preferably 50 mol% or more, particularly preferably 60 mol% or more. It is mol% or more, preferably 90 mol% or less, more preferably 85 mol% or less, still more preferably 80 mol% or less. When the proportion of the structural units represented by formula (3) or formula (3a) is at least the above lower limit, it is easy to suppress breakage of the film due to tension, and it is easy to improve the mechanical properties and optical properties of the film. If the proportion of the structural units represented by formula (3) or formula (3a) is below the above upper limit, the viscosity of the resin-containing varnish will increase due to hydrogen bonding between amide bonds derived from formula (3) or formula (3a). It is easy to control and improve the processability of the film.

また、ポリイミド系樹脂がmが1~4である式(3)又は式(3a)の構成単位を有する場合、ポリイミド系樹脂の式(1)で表される構成単位及び式(2)で表される構成単位の合計を100モル%としたときに、mが1~4である式(3)又は式(3a)の構成単位の割合は、好ましくは2モル%以上、より好ましくは4モル%以上、さらに好ましくは6モル%以上、さらにより好ましくは8モル%以上であり、好ましくは70モル%以下、より好ましくは50モル%以下、さらに好ましくは30モル%以下、さらにより好ましくは15モル%以下、とりわけ好ましくは12モル%以下である。mが1~4である式(3)又は式(3a)の構成単位の割合が上記の下限以上であると、張力によるフィルムの破断を抑制しやすく、フィルムの機械的特性及び光学特性を向上しやすい。mが1~4である式(3)又は式(3a)の構成単位の割合が上記の上限以下であると、式(3)又は式(3a)由来のアミド結合間水素結合による樹脂含有ワニスの粘度上昇を抑制し、フィルムの加工性を向上しやすい。なお、式(1)、式(2)、式(3)又は式(3a)で表される構成単位の含有量は、例えばH-NMRを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。 In addition, when the polyimide resin has a structural unit of formula (3) or formula (3a) where m is 1 to 4, the structural unit of the polyimide resin has a structural unit represented by formula (1) and a structural unit represented by formula (2). The proportion of the structural units of formula (3) or formula (3a) in which m is 1 to 4 is preferably 2 mol% or more, more preferably 4 mol%, when the total of the structural units is 100 mol%. % or more, more preferably 6 mol% or more, even more preferably 8 mol% or more, preferably 70 mol% or less, more preferably 50 mol% or less, still more preferably 30 mol% or less, even more preferably 15 mol% or more. The amount is not more than 12% by mole, particularly preferably not more than 12% by mole. When the proportion of the structural unit of formula (3) or formula (3a) in which m is 1 to 4 is equal to or higher than the above lower limit, it is easy to suppress the breakage of the film due to tension, and the mechanical properties and optical properties of the film are improved. It's easy to do. When the proportion of the structural units of formula (3) or formula (3a) in which m is 1 to 4 is below the above upper limit, resin-containing varnish due to hydrogen bonding between amide bonds derived from formula (3) or formula (3a) This suppresses the increase in viscosity and easily improves the processability of the film. The content of the structural unit represented by formula (1), formula (2), formula (3) or formula (3a) can be measured, for example, using 1 H-NMR, or by It can also be calculated from the ratio.

本発明の好ましい一実施形態において、ポリイミド系樹脂中のZの、好ましくは30モル%以上、より好ましくは40モル%以上、さらに好ましくは45モル%以上、さらにより好ましくは50モル%以上、特に好ましくは70モル%以上が、mが0~4である式(3)又は式(3a)で表される構成単位である。Zの上記の下限以上が、mが0~4である式(3)又は式(3a)で表される構成単位であると、張力によるフィルムの破断を抑制しやすく、フィルムの機械的特性及び光学特性を向上しやすい。また、ポリイミド系樹脂中のZの100モル%以下が、mが0~4である式(3)又は式(3a)で表される構成単位であればよい。なお、樹脂中の、mが0~4である式(3)又は式(3a)で表される構成単位の割合は、例えばH-NMRを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。 In a preferred embodiment of the present invention, Z in the polyimide resin is preferably 30 mol% or more, more preferably 40 mol% or more, even more preferably 45 mol% or more, even more preferably 50 mol% or more, especially Preferably, 70 mol% or more is a structural unit represented by formula (3) or formula (3a), where m is 0 to 4. When the above lower limit or more of Z is a structural unit represented by formula (3) or formula (3a) where m is 0 to 4, it is easy to suppress the breakage of the film due to tension, and the mechanical properties of the film and Easy to improve optical properties. Further, it is sufficient that 100 mol% or less of Z in the polyimide resin is a structural unit represented by formula (3) or formula (3a) where m is 0 to 4. Note that the proportion of the structural unit represented by formula (3) or formula (3a), where m is 0 to 4, in the resin can be measured using, for example, 1 H-NMR, or the proportion of It can also be calculated from the ratio.

本発明の好ましい一実施形態において、ポリイミド系樹脂中のZの、好ましくは5モル%以上、より好ましくは8モル%以上、さらに好ましくは10モル%以上、さらにより好ましくは12モル%以上が、mが1~4である式(3)又は式(3a)で表される。ポリイミド系樹脂のZの上記の下限以上が、mが1~4である式(3)又は式(3a)で表されると、張力によるフィルムの破断を抑制しやすく、フィルムの機械的特性及び光学特性を向上しやすい。また、Zの、好ましくは90モル%以下、より好ましくは70モル%以下、さらに好ましくは50モル%以下、さらにより好ましくは30モル%以下が、mが1~4である式(3)又は式(3a)で表されることが好ましい。Zの上記の上限以下が、mが1~4である式(3)又は式(3a)で表されると、mが1~4である式(3)又は式(3a)由来のアミド結合間水素結合による樹脂含有ワニスの粘度上昇を抑制し、フィルムの加工性を向上しやすい。なお樹脂中のmが1~4である式(3)又は式(3a)で表される構成単位の割合は、例えばH-NMRを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。 In a preferred embodiment of the present invention, Z in the polyimide resin preferably contains 5 mol% or more, more preferably 8 mol% or more, still more preferably 10 mol% or more, and even more preferably 12 mol% or more. It is represented by formula (3) or formula (3a), where m is 1 to 4. When the above lower limit of Z of the polyimide resin is expressed by formula (3) or formula (3a) where m is 1 to 4, it is easy to suppress the breakage of the film due to tension, and the mechanical properties of the film and Easy to improve optical properties. Further, preferably 90 mol% or less, more preferably 70 mol% or less, still more preferably 50 mol% or less, and even more preferably 30 mol% or less of Z is a compound of formula (3) in which m is 1 to 4 or It is preferably represented by formula (3a). When below the above upper limit of Z is represented by formula (3) or formula (3a) where m is 1 to 4, an amide bond derived from formula (3) or formula (3a) where m is 1 to 4 This suppresses the increase in viscosity of resin-containing varnish due to inter-hydrogen bonding, making it easier to improve the processability of the film. Note that the proportion of the structural unit represented by formula (3) or formula (3a) in which m is 1 to 4 in the resin can be measured using, for example, 1 H-NMR, or it can be determined from the charging ratio of raw materials. It can also be calculated.

式(1)及び式(2)において、Xは、互いに独立に、2価の有機基を表し、好ましくは炭素数4~40の2価の有機基、より好ましくは環状構造を有する炭素数4~40の2価の有機基を表す。環状構造としては、脂環、芳香環、ヘテロ環構造が挙げられる。前記有機基は、有機基中の水素原子が炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよく、その場合、炭化水素基及びフッ素置換された炭化水素基の炭素数は好ましくは1~8である。本発明の一実施形態において、ポリイミド系樹脂は、複数種のXを含み得、複数種のXは、互いに同一であっても異なっていてもよい。Xとしては、式(10)、式(11)、式(12)、式(13)、式(14)、式(15)、式(16)、式(17)及び式(18)で表される基;それらの式(10)~式(18)で表される基中の水素原子がメチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基で置換された基;並びに炭素数6以下の鎖式炭化水素基が例示される。 In formula (1) and formula (2), X independently represents a divalent organic group, preferably a divalent organic group having 4 to 40 carbon atoms, more preferably a C4 organic group having a cyclic structure. Represents ~40 divalent organic groups. Examples of the cyclic structure include an alicyclic ring, an aromatic ring, and a heterocyclic structure. In the organic group, a hydrogen atom in the organic group may be substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group, and in that case, the number of carbon atoms in the hydrocarbon group and the fluorine-substituted hydrocarbon group is preferably is 1 to 8. In one embodiment of the present invention, the polyimide resin may contain multiple types of X, and the multiple types of X may be the same or different. X is expressed by formula (10), formula (11), formula (12), formula (13), formula (14), formula (15), formula (16), formula (17), and formula (18). groups in which the hydrogen atom in the groups represented by formulas (10) to (18) is substituted with a methyl group, fluoro group, chloro group or trifluoromethyl group; and groups having 6 or less carbon atoms; A chain hydrocarbon group is exemplified.

Figure 2023132813000011
[式(10)~式(18)中、*は結合手を表し、
、V及びVは、互いに独立に、単結合、-O-、-S-、-CH-、-CH-CH-、-CH(CH)-、-C(CH-、-C(CF-、-SO-、-CO-又は-N(Q)-を表す。ここで、Qはハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1~12の1価の炭化水素基を表す。]
Figure 2023132813000011
[In formulas (10) to (18), * represents a bond,
V 1 , V 2 and V 3 each independently represent a single bond, -O-, -S-, -CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -, -CH(CH 3 )-, -C(CH 3 ) represents 2- , -C(CF 3 ) 2 -, -SO 2 -, -CO- or -N(Q)-. Here, Q represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom. ]

炭素数1~12の1価の炭化水素基としては、Rについて上記に述べた基が挙げられる。
1つの例は、V及びVが単結合、-O-又は-S-であり、かつ、Vが-CH-、-C(CH-、-C(CF-又は-SO-である。VとVとの各環に対する結合位置、及び、VとVとの各環に対する結合位置は、互いに独立に、好ましくは各環に対してメタ位又はパラ位であり、より好ましくはパラ位である。
Examples of the monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms include the groups described above for R 9 .
One example is where V 1 and V 3 are a single bond, -O- or -S-, and V 2 is -CH 2 -, -C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 - or -SO 2 -. The bonding positions of V 1 and V 2 to each ring and the bonding positions of V 2 and V 3 to each ring are independent of each other, preferably meta-position or para-position with respect to each ring, and more preferably is in para position.

式(10)~式(18)で表される基の中でも、張力によるフィルムの破断を抑制しやすく、フィルムの機械的特性及び光学特性を向上しやすい観点から、式(13)、式(14)、式(15)、式(16)及び式(17)で表される基が好ましく、式(14)、式(15)及び式(16)で表される基がより好ましい。また、V、V及びVは、互いに独立に、好ましくは単結合、-O-又は-S-、より好ましくは単結合又は-O-である。 Among the groups represented by formulas (10) to (18), formula (13) and formula (14 ), formula (15), formula (16) and formula (17) are preferable, and groups represented by formula (14), formula (15) and formula (16) are more preferable. Further, V 1 , V 2 and V 3 are each independently preferably a single bond, -O- or -S-, more preferably a single bond or -O-.

本発明の好ましい一実施形態において、式(1)及び式(2)中の複数のXの少なくとも一部は、式(4):

Figure 2023132813000012
[式(4)中、R10~R17は、互いに独立に、水素原子、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基又は炭素数6~12のアリール基を表し、R10~R17に含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、*は結合手を表す]
で表される構成単位である。式(1)及び式(2)中の複数のXの少なくとも一部が式(4)で表される基であると、フィルムの機械的特性及び光学特性を向上しやすい。 In a preferred embodiment of the present invention, at least some of the plurality of Xs in formula (1) and formula (2) are represented by formula (4):
Figure 2023132813000012
[In formula (4), R 10 to R 17 independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, The hydrogen atoms contained in R 10 to R 17 may be independently substituted with halogen atoms, and * represents a bond]
It is a constituent unit expressed as . When at least some of the plurality of Xs in formulas (1) and (2) are groups represented by formula (4), the mechanical properties and optical properties of the film are likely to be improved.

式(4)において、R10、R11、R12、R13、R14、R15、R16及びR17は、互いに独立に、水素原子、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基又は炭素数6~12のアリール基を表す。炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基又は炭素数6~12のアリール基としては、式(3)における炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基又は炭素数6~12のアリール基として例示のものが挙げられる。R10~R17は、互いに独立に、好ましくは水素原子又は炭素数1~6のアルキル基を表し、より好ましくは水素原子又は炭素数1~3のアルキル基を表し、ここで、R10~R17に含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよい。ハロゲン原子としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。R10~R17は、フィルムの機械的特性及び光学特性を向上しやすい観点から、互いに独立に、さらに好ましくは水素原子、メチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基を表し、さらにより好ましくはR10、R12、R13、R14、R15及びR16が水素原子、R11及びR17が水素原子、メチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基を表し、特に好ましくはR11及びR17がメチル基又はトリフルオロメチル基を表す。 In formula (4), R 10 , R 11 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 , R 16 and R 17 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or a carbon number 1 ~6 alkoxy group or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or the aryl group having 6 to 12 carbon atoms include the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms in formula (3). Examples of the group or aryl group having 6 to 12 carbon atoms include those exemplified. R 10 to R 17 independently of each other preferably represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms; The hydrogen atoms contained in R 17 may be independently substituted with halogen atoms. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom. From the viewpoint of easily improving the mechanical properties and optical properties of the film, R 10 to R 17 independently represent a hydrogen atom, a methyl group, a fluoro group, a chloro group, or a trifluoromethyl group, and even more preferably Preferably R 10 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 and R 16 represent a hydrogen atom, and R 11 and R 17 represent a hydrogen atom, a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group, particularly preferably R 11 and R 17 represent a methyl group or a trifluoromethyl group.

本発明の好ましい一実施形態において、式(4)で表される構成単位は式(4’):

Figure 2023132813000013
で表される構成単位であり、すなわち、式(1)及び式(2)で表される複数の構成単位中の複数のXの少なくとも一部は、式(4’)で表される構成単位である。この場合、フッ素元素を含有する骨格によりポリイミド系樹脂の溶媒への溶解性を高めやすい。また、ワニスの粘度を低減しやすく、フィルムの加工性を向上しやすい。また、フッ素元素を含有する骨格により、フィルムの機械的特性及び光学特性を向上しやすい。 In a preferred embodiment of the present invention, the structural unit represented by formula (4) is represented by formula (4'):
Figure 2023132813000013
In other words, at least some of the plurality of X in the plurality of structural units represented by formula (1) and formula (2) are the structural units represented by formula (4'). It is. In this case, the solubility of the polyimide resin in the solvent can be easily increased due to the skeleton containing the fluorine element. In addition, it is easy to reduce the viscosity of the varnish and improve the processability of the film. Furthermore, the skeleton containing the fluorine element tends to improve the mechanical properties and optical properties of the film.

本発明の好ましい一実施形態において、上記ポリイミド系樹脂中のXの、好ましくは30モル%以上、より好ましくは50モル%以上、さらに好ましくは70モル%以上が式(4)、とりわけ式(4’)で表される。ポリイミド系樹脂における上記範囲内のXが式(4)、とりわけ式(4’)で表されると、フッ素元素を含有する骨格によりポリイミド系樹脂の溶媒への溶解性を向上させやすい。また、ワニスの粘度を低減しやすく、ワニスから得られるフィルムの加工性を向上しやすい。さらに、フッ素元素を含有する骨格により、フィルムの機械的特性及び光学特性を向上しやすい。なお、好ましくは、ポリイミド系樹脂中のXの100モル%以下が式(4)、とりわけ式(4’)で表される。ポリイミド系樹脂中のXは式(4)、とりわけ式(4’)であってもよい。上記樹脂中のXの式(4)で表される構成単位の割合は、例えばH-NMRを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。 In a preferred embodiment of the present invention, preferably 30 mol% or more, more preferably 50 mol% or more, still more preferably 70 mol% or more of X in the polyimide resin is represented by formula (4), especially formula (4). '). When X within the above range in the polyimide resin is represented by formula (4), especially formula (4'), the solubility of the polyimide resin in a solvent can be easily improved due to the skeleton containing the fluorine element. Moreover, it is easy to reduce the viscosity of the varnish, and it is easy to improve the processability of the film obtained from the varnish. Furthermore, the skeleton containing the fluorine element tends to improve the mechanical properties and optical properties of the film. Preferably, 100 mol% or less of X in the polyimide resin is represented by formula (4), especially formula (4'). X in the polyimide resin may be the formula (4), especially the formula (4'). The proportion of the structural unit represented by the formula (4) of X in the resin can be measured using, for example, 1 H-NMR, or can be calculated from the charging ratio of raw materials.

ポリイミド系樹脂は、式(30)で表される構成単位及び/又は式(31)で表される構成単位を含むことができ、式(1)及び式(2)で表される構成単位に、式(30)で表される構成単位及び/又は式(31)で表される構成単位を含むものであってもよい。 The polyimide resin can include a structural unit represented by formula (30) and/or a structural unit represented by formula (31), and the structural unit represented by formula (1) and formula (2) , the structural unit represented by formula (30) and/or the structural unit represented by formula (31).

Figure 2023132813000014
Figure 2023132813000014

式(30)において、Yは、互いに独立に、4価の有機基であり、好ましくは有機基中の水素原子が炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよい有機基である。Yとしては、式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)及び式(29)で表される基、それらの式(20)~式(29)で表される基中の水素原子がメチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基で置換された基、並びに4価の炭素数6以下の鎖式炭化水素基が例示される。本発明の一実施形態において、ポリイミド系樹脂は、複数種のYを含み得、複数種のYは、互いに同一であっても異なっていてもよい。 In formula (30), Y 1 is independently a tetravalent organic group, preferably an organic group in which the hydrogen atom in the organic group may be substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group. It is the basis. As Y 1 , formula (20), formula (21), formula (22), formula (23), formula (24), formula (25), formula (26), formula (27), formula (28), and A group represented by formula (29), a group in which the hydrogen atom in the groups represented by formulas (20) to (29) is substituted with a methyl group, fluoro group, chloro group or trifluoromethyl group, Also, a tetravalent chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms is exemplified. In one embodiment of the present invention, the polyimide resin may include multiple types of Y 1 , and the multiple types of Y 1 may be the same or different.

式(31)において、Yは3価の有機基であり、好ましくは有機基中の水素原子が炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよい有機基である。Yとしては、上記の式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)及び式(29)で表される基の結合手のいずれか1つが水素原子に置き換わった基、及び3価の炭素数6以下の鎖式炭化水素基が例示される。本発明の一実施形態において、ポリイミド系樹脂は、複数種のYを含み得、複数種のYは、互いに同一であっても異なっていてもよい。 In formula (31), Y 2 is a trivalent organic group, preferably an organic group in which a hydrogen atom in the organic group may be substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group. As Y2 , the above formula (20), formula (21), formula (22), formula (23), formula (24), formula (25), formula (26), formula (27), formula (28 ) and a group in which one of the bonding hands of the group represented by formula (29) is replaced with a hydrogen atom, and a trivalent chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms are exemplified. In one embodiment of the present invention, the polyimide resin may include multiple types of Y 2 , and the multiple types of Y 2 may be the same or different.

式(30)及び式(31)において、X及びXは、互いに独立に、2価の有機基であり、好ましくは有機基中の水素原子が炭化水素基又はフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよい有機基である。X及びXとしては、上記の式(10)、式(11)、式(12)、式(13)、式(14)、式(15)、式(16)、式(17)及び式(18)で表される基;それら式(10)~式(18)で表される基中の水素原子がメチル基、フルオロ基、クロロ基又はトリフルオロメチル基で置換された基;並びに炭素数6以下の鎖式炭化水素基が例示される。 In formulas (30) and (31), X 1 and X 2 are each independently a divalent organic group, preferably a hydrocarbon group in which the hydrogen atom in the organic group is a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group. is an organic group that may be substituted with As X1 and X2 , the above formula (10), formula (11), formula (12), formula (13), formula (14), formula (15), formula (16), formula (17) and A group represented by formula (18); a group in which the hydrogen atom in the groups represented by formulas (10) to (18) is substituted with a methyl group, fluoro group, chloro group or trifluoromethyl group; and A chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms is exemplified.

本発明の一実施形態において、ポリイミド系樹脂は、式(1)及び/又は式(2)で表される構成単位、並びに場合により式(30)及び/又は式(31)で表される構成単位からなる。また、張力によるフィルムの破断を抑制しやすく、フィルムの機械的特性及び光学特性を向上しやすい観点から、ポリイミド系樹脂において、式(1)及び式(2)で表される構成単位は、式(1)及び式(2)、並びに場合により式(30)及び式(31)で表される全構成単位に基づいて、好ましくは80モル%以上、より好ましくは90モル%以上、さらに好ましくは95モル%以上である。なお、ポリイミド系樹脂において、式(1)及び式(2)で表される構成単位は、式(1)及び式(2)、並びに場合により式(30)及び/又は式(31)で表される全構成単位に基づいて、通常100%以下である。なお、上記割合は、例えば、H-NMRを用いて測定することができ、又は原料の仕込み比から算出することもできる。 In one embodiment of the present invention, the polyimide resin includes a structural unit represented by formula (1) and/or formula (2), and optionally a structure represented by formula (30) and/or formula (31). Consists of units. In addition, from the viewpoint of easily suppressing the breakage of the film due to tension and easily improving the mechanical properties and optical properties of the film, in the polyimide resin, the structural units represented by formulas (1) and (2) are Preferably 80 mol% or more, more preferably 90 mol% or more, even more preferably It is 95 mol% or more. In addition, in the polyimide resin, the structural units represented by formula (1) and formula (2) are represented by formula (1) and formula (2), and in some cases, formula (30) and/or formula (31). Based on all constituent units used, it is usually less than 100%. Note that the above ratio can be measured using, for example, 1 H-NMR, or can also be calculated from the charging ratio of raw materials.

本発明の一実施形態において、本発明のポリイミド系原料フィルム(又はポリイミド系フィルム)中におけるポリイミド系樹脂の含有量は、該フィルム100質量部に対して、好ましくは10質量部以上、より好ましくは30質量部以上、さらに好ましくは50質量部以上、さらにより好ましくは70質量部以上、特に好ましくは80質量部以上であり、好ましくは100質量部以下、99.5質量部以下、より好ましくは95質量部以下である。ポリイミド系樹脂の含有量が上記範囲内であると、張力によるフィルムの破断を抑制しやすく、フィルムの機械的特性及び光学特性を向上しやすい。 In one embodiment of the present invention, the content of the polyimide resin in the polyimide raw material film (or polyimide film) of the present invention is preferably 10 parts by mass or more, more preferably 10 parts by mass or more based on 100 parts by mass of the film. 30 parts by mass or more, more preferably 50 parts by mass or more, even more preferably 70 parts by mass or more, particularly preferably 80 parts by mass or more, preferably 100 parts by mass or less, 99.5 parts by mass or less, more preferably 95 parts by mass or less. Parts by mass or less. When the content of the polyimide resin is within the above range, it is easy to suppress breakage of the film due to tension, and it is easy to improve the mechanical properties and optical properties of the film.

ポリイミド系樹脂において、式(2)で表される構成単位の含有量は、式(1)で表される構成単位1モルに対して、好ましくは0.1モル以上、より好ましくは0.5モル以上、さらに好ましくは1.0モル以上、さらにより好ましくは1.5モル以上であり、好ましくは6.0モル以下、より好ましくは5.0モル以下、さらに好ましくは4.5モル以下である。式(2)で表される構成単位の含有量が上記の下限以上であると、張力によるフィルムの破断を抑制しやすく、フィルムの機械的特性及び光学特性を向上しやすい。また、式(2)で表される構成単位の含有量が上記の上限以下であると、式(2)中のアミド結合間の水素結合による増粘を抑制し、フィルムの加工性を向上させやすい。 In the polyimide resin, the content of the structural unit represented by formula (2) is preferably 0.1 mol or more, more preferably 0.5 mol per 1 mol of the structural unit represented by formula (1). mol or more, more preferably 1.0 mol or more, even more preferably 1.5 mol or more, preferably 6.0 mol or less, more preferably 5.0 mol or less, even more preferably 4.5 mol or less. be. When the content of the structural unit represented by formula (2) is at least the above lower limit, it is easy to suppress breakage of the film due to tension, and it is easy to improve the mechanical properties and optical properties of the film. In addition, when the content of the structural unit represented by formula (2) is below the above upper limit, thickening due to hydrogen bonding between amide bonds in formula (2) is suppressed, and the processability of the film is improved. Cheap.

本発明の好ましい一実施形態において、ポリイミド系樹脂は、例えば上記の含フッ素置換基等によって導入することができる、フッ素原子等のハロゲン原子を含んでよい。ポリイミド系樹脂がハロゲン原子を含む場合、ポリイミド系樹脂を含むフィルムの弾性率を向上させやすく、またYI値を低減させやすい。フィルムの弾性率が高いと、該フィルムを例えばフレキシブル表示装置において使用する際に、該フィルムにおける傷及びシワ等の発生を抑制させやすくなる。また、フィルムのYI値が低いと、該フィルムの透明性及び視認性を向上させやすくなる。ハロゲン原子は、好ましくはフッ素原子である。ポリイミド系樹脂にフッ素原子を含有させるために好ましい含フッ素置換基としては、例えばフルオロ基及びトリフルオロメチル基が挙げられる。 In a preferred embodiment of the present invention, the polyimide resin may contain a halogen atom such as a fluorine atom, which can be introduced, for example, by the above-mentioned fluorine-containing substituent. When the polyimide resin contains a halogen atom, the elastic modulus of the film containing the polyimide resin can be easily improved and the YI value can be easily reduced. When the elastic modulus of the film is high, it becomes easier to suppress the occurrence of scratches, wrinkles, etc. in the film when the film is used, for example, in a flexible display device. Moreover, when the YI value of the film is low, it becomes easier to improve the transparency and visibility of the film. The halogen atom is preferably a fluorine atom. Preferred fluorine-containing substituents for containing fluorine atoms in the polyimide resin include, for example, a fluoro group and a trifluoromethyl group.

ポリイミド系樹脂におけるハロゲン原子の含有量は、ポリイミド系樹脂の質量を基準として、好ましくは1~40質量%、より好ましくは5~40質量%、さらに好ましくは5~30質量%である。ハロゲン原子の含有量が上記の下限以上であると、ポリイミド系樹脂を含むフィルムの弾性率をより向上させ、吸水率を下げ、YI値をより低減し、透明性及び視認性をより向上させやすい。ハロゲン原子の含有量が上記の上限以下であると、樹脂の合成がしやすくなる。 The content of halogen atoms in the polyimide resin is preferably 1 to 40% by mass, more preferably 5 to 40% by mass, and even more preferably 5 to 30% by mass, based on the mass of the polyimide resin. When the content of halogen atoms is at least the above lower limit, the elastic modulus of the film containing polyimide resin can be further improved, the water absorption rate can be lowered, the YI value can be further reduced, and the transparency and visibility can be more easily improved. . When the content of halogen atoms is below the above upper limit, the resin can be easily synthesized.

本発明の好ましい実施形態において、ポリイミド系樹脂のイミド化率は、好ましくは90%以上、より好ましくは93%以上、さらに好ましくは96%以上、さらにより好ましくは98%以上である。該ポリイミド系樹脂を含むフィルムの光学的均質性を高めやすい観点から、イミド化率が上記の下限以上であることが好ましい。また、イミド化率の上限は100%以下である。イミド化率は、ポリイミド系樹脂中のテトラカルボン酸化合物に由来する構成単位のモル量の2倍の値に対する、ポリイミド系樹脂中のイミド結合のモル量の割合を示す。なお、ポリイミド系樹脂がトリカルボン酸化合物を含む場合には、ポリイミド系樹脂中のテトラカルボン酸化合物に由来する構成単位のモル量の2倍の値と、トリカルボン酸化合物に由来する構成単位のモル量との合計に対する、ポリイミド系樹脂中のイミド結合のモル量の割合を示す。
また、イミド化率は、IR法、NMR法などにより求めることができ、例えば、NMR法においては、実施例に記載の方法により測定できる。より具体的には、ポリイミド樹脂のイミド化率をH-NMR測定する場合は、得られたH-NMRスペクトルにおいて、観測されたベンゼンプロトンのうちイミド化前後で変化しない構造に由来するベンゼンプロトンAの積分値をIntA、観測されたポリイミド樹脂中に残存するアミック酸構造に由来するアミドプロトンの積分値をIntBとし、これらの積分値から式:イミド化率(%)=100×(1-IntB/IntA)に基づいてポリイミド樹脂のイミド化率を求めることができる。ポリアミドイミド樹脂のイミド化率をH-NMR測定する場合は、実施例に記載の方法により測定できる。
In a preferred embodiment of the present invention, the imidization rate of the polyimide resin is preferably 90% or more, more preferably 93% or more, still more preferably 96% or more, and even more preferably 98% or more. From the viewpoint of easily improving the optical homogeneity of the film containing the polyimide resin, it is preferable that the imidization rate is equal to or higher than the above lower limit. Further, the upper limit of the imidization rate is 100% or less. The imidization rate indicates the ratio of the molar amount of imide bonds in the polyimide resin to twice the molar amount of the structural unit derived from the tetracarboxylic acid compound in the polyimide resin. In addition, when the polyimide resin contains a tricarboxylic acid compound, the value is twice the molar amount of the structural unit derived from the tetracarboxylic acid compound in the polyimide resin, and the molar amount of the structural unit derived from the tricarboxylic acid compound. It shows the ratio of the molar amount of imide bonds in the polyimide resin to the total of
Further, the imidization rate can be determined by an IR method, an NMR method, or the like. For example, in the NMR method, it can be measured by the method described in Examples. More specifically, when measuring the imidization rate of polyimide resin by 1 H-NMR, in the obtained 1 H-NMR spectrum, among the observed benzene protons, benzene derived from a structure that does not change before and after imidization is The integral value of proton A is IntA, and the integral value of amide protons derived from the amic acid structure remaining in the observed polyimide resin is IntB. From these integral values, the formula: imidization rate (%) = 100 × (1 -IntB/IntA), the imidization rate of the polyimide resin can be determined. When measuring the imidization rate of polyamide-imide resin by 1 H-NMR, it can be measured by the method described in Examples.

本発明のフィルムに含まれるポリイミド系樹脂のポリスチレン換算の重量平均分子量(以下、Mwと記すことがある)は、張力によるフィルムの破断を抑制しやすく、フィルムの機械的特性及び光学特性を向上しやすい観点から、好ましくは50,000以上、より好ましくは100,000以上、さらに好ましくは150,000以上、さらにより好ましくは200,000以上、特に好ましくは250,000以上、特により好ましくは280,000以上である。ポリイミド系樹脂のポリスチレン換算のMwは、ワニスの製造しやすさや、フィルムの成膜性の観点から、好ましくは800,000以下、より好ましくは600,000以下、さらに好ましくは500,000以下、さらにより好ましくは450,000以下である。上記Mwは、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー(以下、GPCと記載することがある)により測定される。測定条件としては、実施例に記載する条件を使用してよい。 The polyimide resin contained in the film of the present invention has a polystyrene-equivalent weight average molecular weight (hereinafter sometimes referred to as Mw) that easily suppresses breakage of the film due to tension and improves the mechanical and optical properties of the film. From a simple viewpoint, preferably 50,000 or more, more preferably 100,000 or more, still more preferably 150,000 or more, even more preferably 200,000 or more, particularly preferably 250,000 or more, particularly more preferably 280, 000 or more. The Mw of the polyimide resin in terms of polystyrene is preferably 800,000 or less, more preferably 600,000 or less, still more preferably 500,000 or less, from the viewpoint of ease of manufacturing varnish and film formability. More preferably, it is 450,000 or less. The above Mw is measured by gel permeation chromatography (hereinafter sometimes referred to as GPC). As the measurement conditions, the conditions described in Examples may be used.

本発明におけるポリイミド系原料フィルムの厚さは、好ましくは5μm以上、より好ましくは10μm以上、さらにより好ましくは20μm以上、特に好ましくは30μm以上、特により好ましくは40μm以上であり、好ましくは1,000μm以下、より好ましくは500μm以下、さらに好ましくは100μm以下、さらにより好ましくは80μm以下、特に好ましくは70μm以下、特により好ましくは60μm以下である。原料フィルムの厚さが上記の下限以上であると、張力によるフィルムの破断を抑制しやすく、得られるフィルムの機械的特性を向上しやすい。また、ポリイミド系原料フィルムの厚さが上記の上限以下であると、得られるフィルムの光学特性を向上しやすい。原料フィルムの厚さは、膜厚計等により測定でき、例えば実施例に記載の方法により測定できる。 The thickness of the polyimide raw material film in the present invention is preferably 5 μm or more, more preferably 10 μm or more, even more preferably 20 μm or more, particularly preferably 30 μm or more, particularly preferably 40 μm or more, and preferably 1,000 μm. The thickness is more preferably 500 μm or less, still more preferably 100 μm or less, even more preferably 80 μm or less, particularly preferably 70 μm or less, particularly preferably 60 μm or less. When the thickness of the raw material film is at least the above lower limit, it is easy to suppress breakage of the film due to tension, and it is easy to improve the mechanical properties of the obtained film. Moreover, when the thickness of the polyimide-based raw material film is below the above-mentioned upper limit, the optical properties of the obtained film are likely to be improved. The thickness of the raw material film can be measured using a film thickness meter or the like, for example, by the method described in Examples.

(ポリイミド系樹脂の製造方法)
ポリイミド樹脂は、例えば、テトラカルボン酸化合物及びジアミン化合物を主な原料として製造でき、ポリアミドイミド樹脂は、例えば、テトラカルボン酸化合物、ジカルボン酸化合物及びジアミン化合物を主な原料として製造できる。ここで、ジカルボン酸化合物は少なくとも式(3”)で表される化合物を含むことが好ましい。

Figure 2023132813000015
[式(3”)中、R~Rは、互いに独立に、水素原子、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基、又は炭素数6~12のアリール基を表し、R~Rに含まれる水素原子は、互いに独立に、ハロゲン原子で置換されていてもよく、
Aは、単結合、-O-、-CH-、-CH-CH-、-CH(CH)-、-C(CH-、-C(CF-、-SO-、-S-、-CO-又は-N(R)-を表し、
は水素原子、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1~12の1価の炭化水素基を表し、
mは0~4の整数であり、
31及びR32は、互いに独立に、ヒドロキシル基、メトキシ基、エトキシ基、n-プロポキシ基、イソプロポキシ基、n-ブトキシ基、sec-ブトキシ基、tert-ブトキシ基又は塩素原子を表す。] (Production method of polyimide resin)
Polyimide resins can be produced, for example, using tetracarboxylic acid compounds and diamine compounds as main raw materials, and polyamide-imide resins can be produced, for example, using tetracarboxylic acid compounds, dicarboxylic acid compounds, and diamine compounds as main raw materials. Here, it is preferable that the dicarboxylic acid compound contains at least a compound represented by formula (3'').
Figure 2023132813000015
[In formula (3''), R 1 to R 8 independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. and the hydrogen atoms contained in R 1 to R 8 may be independently substituted with a halogen atom,
A is a single bond, -O-, -CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -, -CH(CH 3 )-, -C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, - represents SO 2 -, -S-, -CO- or -N(R 9 )-,
R 9 represents a monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a hydrogen atom or a halogen atom,
m is an integer from 0 to 4,
R 31 and R 32 each independently represent a hydroxyl group, a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an isopropoxy group, an n-butoxy group, a sec-butoxy group, a tert-butoxy group, or a chlorine atom. ]

本発明の好ましい一実施形態において、ジカルボン酸化合物は、mが0である、式(3”)で表される化合物である。ジカルボン酸化合物として、mが0である式(3”)で表される化合物に加えて、Aが酸素原子である式(3”)で表される化合物を使用することがより好ましい。また、別の好ましい一実施形態においては、ジカルボン酸化合物は、R31及びR32が塩素原子である、式(3”)で表される化合物である。また、ジアミン化合物に代えて、ジイソシアネート化合物を用いてもよい。 In a preferred embodiment of the present invention, the dicarboxylic acid compound is a compound represented by the formula (3'') where m is 0. The dicarboxylic acid compound is a compound represented by the formula (3'') where m is 0. It is more preferable to use a compound represented by formula (3'') in which A is an oxygen atom in addition to the compound represented by R 31 and This is a compound represented by formula (3'') in which R 32 is a chlorine atom. Further, a diisocyanate compound may be used instead of a diamine compound.

ポリイミド系樹脂の製造に使用されるジアミン化合物としては、例えば、脂肪族ジアミン、芳香族ジアミン及びこれらの混合物が挙げられる。なお、本実施形態において「芳香族ジアミン」とは、アミノ基が芳香環に直接結合しているジアミンを表し、その構造の一部に脂肪族基又はその他の置換基を含んでいてもよい。この芳香環は単環でも縮合環でもよく、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環及びフルオレン環等が例示されるが、これらに限定されるわけではない。これらの中でも、好ましくはベンゼン環である。また「脂肪族ジアミン」とは、アミノ基が脂肪族基に直接結合しているジアミンを表し、その構造の一部に芳香環やその他の置換基を含んでいてもよい。 Examples of diamine compounds used in the production of polyimide resins include aliphatic diamines, aromatic diamines, and mixtures thereof. In addition, in this embodiment, "aromatic diamine" represents a diamine in which an amino group is directly bonded to an aromatic ring, and may include an aliphatic group or other substituent as part of its structure. This aromatic ring may be a single ring or a condensed ring, and examples thereof include, but are not limited to, a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring, and a fluorene ring. Among these, a benzene ring is preferred. Moreover, "aliphatic diamine" refers to a diamine in which an amino group is directly bonded to an aliphatic group, and may include an aromatic ring or other substituents as part of its structure.

脂肪族ジアミンとしては、例えば、ヘキサメチレンジアミン等の非環式脂肪族ジアミン、並びに1,3-ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、1,4-ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、ノルボルナンジアミン及び4,4’-ジアミノジシクロヘキシルメタン等の環式脂肪族ジアミン等が挙げられる。これらは単独で又は2種以上を組合せて用いることができる。 Examples of aliphatic diamines include acyclic aliphatic diamines such as hexamethylene diamine, 1,3-bis(aminomethyl)cyclohexane, 1,4-bis(aminomethyl)cyclohexane, norbornanediamine, and 4,4' - Cycloaliphatic diamines such as diaminodicyclohexylmethane and the like. These can be used alone or in combination of two or more.

芳香族ジアミンとしては、例えばp-フェニレンジアミン、m-フェニレンジアミン、2,4-トルエンジアミン、m-キシリレンジアミン、p-キシリレンジアミン、1,5-ジアミノナフタレン、2,6-ジアミノナフタレン等の、芳香環を1つ有する芳香族ジアミン、4,4’-ジアミノジフェニルメタン、4,4’-ジアミノジフェニルプロパン、4,4’-ジアミノジフェニルエーテル、3,4’-ジアミノジフェニルエーテル、3,3’-ジアミノジフェニルエーテル、4,4’-ジアミノジフェニルスルホン、3,4’-ジアミノジフェニルスルホン、3,3’-ジアミノジフェニルスルホン、1,4-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン、ビス〔4-(4-アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、ビス〔4-(3-アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、2,2-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2-ビス[4-(3-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2’-ジメチルベンジジン、2,2’-ビス(トリフルオロメチル)-4,4’-ジアミノジフェニル(TFMBと記載することがある)、4,4’-ビス(4-アミノフェノキシ)ビフェニル、9,9-ビス(4-アミノフェニル)フルオレン、9,9-ビス(4-アミノ-3-メチルフェニル)フルオレン、9,9-ビス(4-アミノ-3-クロロフェニル)フルオレン、9,9-ビス(4-アミノ-3-フルオロフェニル)フルオレン等の、芳香環を2つ以上有する芳香族ジアミンが挙げられる。これらは単独又は2種以上を組合せて使用できる。 Examples of aromatic diamines include p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, 2,4-toluenediamine, m-xylylenediamine, p-xylylenediamine, 1,5-diaminonaphthalene, 2,6-diaminonaphthalene, etc. Aromatic diamine having one aromatic ring, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'- Diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3'-diaminodiphenylsulfone, 1,4-bis(4-aminophenoxy)benzene, 1,3-bis(4 -aminophenoxy)benzene, bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]sulfone, bis[4-(3-aminophenoxy)phenyl]sulfone, 2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl] Propane, 2,2-bis[4-(3-aminophenoxy)phenyl]propane, 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis(trifluoromethyl)-4,4'-diaminodiphenyl (with TFMB) ), 4,4'-bis(4-aminophenoxy)biphenyl, 9,9-bis(4-aminophenyl)fluorene, 9,9-bis(4-amino-3-methylphenyl)fluorene , 9,9-bis(4-amino-3-chlorophenyl)fluorene, and 9,9-bis(4-amino-3-fluorophenyl)fluorene, which have two or more aromatic rings. These can be used alone or in combination of two or more.

芳香族ジアミンは、好ましくは4,4’-ジアミノジフェニルメタン、4,4’-ジアミノジフェニルプロパン、4,4’-ジアミノジフェニルエーテル、3,3’-ジアミノジフェニルエーテル、4,4’-ジアミノジフェニルスルホン、3,3’-ジアミノジフェニルスルホン、1,4-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン、ビス〔4-(4-アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、ビス〔4-(3-アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、2,2-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2-ビス[4-(3-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2’-ジメチルベンジジン、TFMB、4,4’-ビス(4-アミノフェノキシ)ビフェニルであり、より好ましくは4,4’-ジアミノジフェニルメタン、4,4’-ジアミノジフェニルプロパン、4,4’-ジアミノジフェニルエーテル、4,4’-ジアミノジフェニルスルホン、1,4-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン、ビス〔4-(4-アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、2,2-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2’-ジメチルベンジジン、TFMB、4,4’-ビス(4-アミノフェノキシ)ビフェニルである。これらは単独又は2種以上を組合せて使用できる。 Aromatic diamines are preferably 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3,3'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone, 3 , 3'-diaminodiphenylsulfone, 1,4-bis(4-aminophenoxy)benzene, bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]sulfone, bis[4-(3-aminophenoxy)phenyl]sulfone, 2 , 2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane, 2,2-bis[4-(3-aminophenoxy)phenyl]propane, 2,2'-dimethylbenzidine, TFMB, 4,4'- Bis(4-aminophenoxy)biphenyl, more preferably 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenyl sulfone, 1, 4-bis(4-aminophenoxy)benzene, bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]sulfone, 2,2-bis[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propane, 2,2'-dimethylbenzidine , TFMB, 4,4'-bis(4-aminophenoxy)biphenyl. These can be used alone or in combination of two or more.

上記ジアミン化合物の中でも、フィルムの機械的特性及び光学特性を向上しやすい観点から、ビフェニル構造を有する芳香族ジアミンからなる群から選ばれる1種以上を用いることが好ましい。TFMB、2,2’-ジメチルベンジジン、2,2’-ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン、4,4’-ビス(4-アミノフェノキシ)ビフェニル及び4,4’-ジアミノジフェニルエーテルからなる群から選ばれる1種以上を用いることがより好ましく、TFMBを用いることがよりさらに好ましい。 Among the above diamine compounds, it is preferable to use one or more selected from the group consisting of aromatic diamines having a biphenyl structure from the viewpoint of easily improving the mechanical properties and optical properties of the film. selected from the group consisting of TFMB, 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis(trifluoromethyl)benzidine, 4,4'-bis(4-aminophenoxy)biphenyl and 4,4'-diaminodiphenyl ether It is more preferable to use one or more types, and it is even more preferable to use TFMB.

ポリイミド系樹脂の製造に用いられるテトラカルボン酸化合物としては、芳香族テトラカルボン酸二無水物等の芳香族テトラカルボン酸化合物;及び脂肪族テトラカルボン酸二無水物等の脂肪族テトラカルボン酸化合物等が挙げられる。テトラカルボン酸化合物は、単独で用いてもよいし、2種以上を組合せて用いてもよい。テトラカルボン酸化合物は、二無水物の他、酸クロリド化合物等のテトラカルボン酸化合物類縁体であってもよい。 Examples of the tetracarboxylic acid compounds used in the production of polyimide resins include aromatic tetracarboxylic acid compounds such as aromatic tetracarboxylic dianhydride; and aliphatic tetracarboxylic acid compounds such as aliphatic tetracarboxylic dianhydride. can be mentioned. Tetracarboxylic acid compounds may be used alone or in combination of two or more. The tetracarboxylic acid compound may be a dianhydride or a tetracarboxylic acid compound analog such as an acid chloride compound.

芳香族テトラカルボン酸二無水物の具体例としては、非縮合多環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物、単環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物及び縮合多環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物が挙げられる。非縮合多環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば4,4’-オキシジフタル酸二無水物、3,3’,4,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、2,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2-ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェノキシフェニル)プロパン二無水物、4,4’-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物(6FDAと記載することがある)、1,2-ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,1-ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,1-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、4,4’-(p-フェニレンジオキシ)ジフタル酸二無水物、4,4’-(m-フェニレンジオキシ)ジフタル酸二無水物が挙げられる。また、単環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば1,2,4,5-ベンゼンテトラカルボン酸二無水物が挙げられ、縮合多環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば2,3,6,7-ナフタレンテトラカルボン酸二無水物が挙げられる。 Specific examples of aromatic tetracarboxylic dianhydrides include non-fused polycyclic aromatic tetracarboxylic dianhydrides, monocyclic aromatic tetracarboxylic dianhydrides, and fused polycyclic aromatic tetracarboxylic dianhydrides. Examples include carboxylic dianhydrides. Examples of the non-fused polycyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride include 4,4'-oxydiphthalic dianhydride, 3,3',4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 2,2 ',3,3'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2',3,3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride , 3,3',4,4'-diphenylsulfonetetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)propane dianhydride, 2,2-bis(2,3-dicarboxylic dianhydride) carboxyphenyl)propane dianhydride, 2,2-bis(3,4-dicarboxyphenoxyphenyl)propane dianhydride, 4,4'-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic dianhydride (described as 6FDA) ), 1,2-bis(2,3-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, 1,1-bis(2,3-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, 1,2-bis(3, 4-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, 1,1-bis(3,4-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, bis(3,4-dicarboxyphenyl)methane dianhydride, bis(2,3 -dicarboxyphenyl)methane dianhydride, 4,4'-(p-phenylenedioxy)diphthalic dianhydride, and 4,4'-(m-phenylenedioxy)diphthalic dianhydride. Furthermore, examples of the monocyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride include 1,2,4,5-benzenetetracarboxylic dianhydride, and fused polycyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride. Examples include 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride.

これらの中でも、好ましくは4,4’-オキシジフタル酸二無水物、3,3’,4,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、2,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2-ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェノキシフェニル)プロパン二無水物、6FDA、1,2-ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,1-ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,1-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、4,4’-(p-フェニレンジオキシ)ジフタル酸二無水物及び4,4’-(m-フェニレンジオキシ)ジフタル酸二無水物が挙げられ、より好ましくは4,4’-オキシジフタル酸二無水物、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、6FDA、ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)メタン二無水物及び4,4’-(p-フェニレンジオキシ)ジフタル酸二無水物が挙げられる。これらは単独又は2種以上を組合せて使用できる。 Among these, 4,4'-oxydiphthalic dianhydride, 3,3',4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, and 2,2',3,3'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride are preferable. Anhydride, 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2',3,3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,3',4,4'-diphenyl Sulfone tetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)propane dianhydride, 2,2-bis(2,3-dicarboxyphenyl)propane dianhydride, 2,2- Bis(3,4-dicarboxyphenoxyphenyl)propane dianhydride, 6FDA, 1,2-bis(2,3-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, 1,1-bis(2,3-dicarboxyphenyl) ) Ethane dianhydride, 1,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, 1,1-bis(3,4-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, bis(3,4- dicarboxyphenyl)methane dianhydride, bis(2,3-dicarboxyphenyl)methane dianhydride, 4,4'-(p-phenylenedioxy)diphthalic dianhydride and 4,4'-(m- (phenylenedioxy)diphthalic dianhydride, more preferably 4,4'-oxydiphthalic dianhydride, 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2', Examples include 3,3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 6FDA, bis(3,4-dicarboxyphenyl)methane dianhydride, and 4,4'-(p-phenylenedioxy)diphthalic dianhydride. . These can be used alone or in combination of two or more.

脂肪族テトラカルボン酸二無水物としては、環式又は非環式の脂肪族テトラカルボン酸二無水物が挙げられる。環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物とは、脂環式炭化水素構造を有するテトラカルボン酸二無水物であり、その具体例としては、1,2,4,5-シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4-シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4-シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物等のシクロアルカンテトラカルボン酸二無水物、ビシクロ[2.2.2]オクト-7-エン-2,3,5,6-テトラカルボン酸二無水物、ジシクロヘキシル-3,3’,4,4’-テトラカルボン酸二無水物及びこれらの位置異性体が挙げられる。これらは単独で又は2種以上を組合せて用いることができる。非環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物の具体例としては、1,2,3,4-ブタンテトラカルボン酸二無水物、及び1,2,3,4-ペンタンテトラカルボン酸二無水物等が挙げられ、これらは単独で又は2種以上を組合せて用いることができる。また、環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物及び非環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物を組合せて用いてもよい。 Examples of the aliphatic tetracarboxylic dianhydride include cyclic or acyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride. Cycloaliphatic tetracarboxylic dianhydride is a tetracarboxylic dianhydride having an alicyclic hydrocarbon structure, and specific examples include 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride. dianhydride, cycloalkane tetracarboxylic dianhydride such as 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-cyclopentane tetracarboxylic dianhydride, bicyclo[2.2 .2] Oct-7-ene-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, dicyclohexyl-3,3',4,4'-tetracarboxylic dianhydride and positional isomers thereof. It will be done. These can be used alone or in combination of two or more. Specific examples of the acyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride include 1,2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride and 1,2,3,4-pentanetetracarboxylic dianhydride. These can be used alone or in combination of two or more. Furthermore, a combination of a cycloaliphatic tetracarboxylic dianhydride and an acyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride may be used.

上記テトラカルボン酸二無水物の中でも、フィルムの機械的特性及び光学特性を向上しやすい観点から、4,4’-オキシジフタル酸二無水物、3,3’,4,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、2,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、6FDA、並びにこれらの混合物が好ましく、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物及び6FDA、並びにこれらの混合物がより好ましく、6FDAがさらに好ましい。 Among the above tetracarboxylic dianhydrides, 4,4'-oxydiphthalic dianhydride, 3,3',4,4'-benzophenonetetracarboxylic acid, and Dianhydride, 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2',3,3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,3',4,4'- Diphenylsulfone tetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)propane dianhydride, 6FDA, and mixtures thereof are preferred, and 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride is preferred. Acid dianhydrides, 6FDA, and mixtures thereof are more preferred, and 6FDA is even more preferred.

ポリイミド系樹脂の製造に用いられるジカルボン酸化合物としては、好ましくはテレフタル酸、2-メトキシテレフタル酸、4,4’-オキシビス安息香酸又はそれらの酸クロリド化合物が用いられる。テレフタル酸、2-メトキシテレフタル酸、4,4’-オキシビス安息香酸又はそれらの酸クロリド化合物に加えて、他のジカルボン酸化合物が用いられてもよい。他のジカルボン酸化合物としては、芳香族ジカルボン酸、脂肪族ジカルボン酸及びそれらの類縁の酸クロリド化合物、酸無水物等が挙げられ、2種以上を組合せて用いてもよい。具体例としては、イソフタル酸;ナフタレンジカルボン酸;4,4’-ビフェニルジカルボン酸;3,3’-ビフェニルジカルボン酸;炭素数8以下である鎖式炭化水素、のジカルボン酸化合物及び2つの安息香酸が単結合、-CH-、-C(CH-、-C(CF-、-SO-又はフェニレン基で連結された化合物並びに、それらの酸クロリド化合物が挙げられる。具体例としては、4,4’-オキシビス(ベンゾイルクロリド)、テレフタロイルクロリド、2-メトキシテレフタル酸クロリドが好ましく、4,4’-オキシビス(ベンゾイルクロリド)と、テレフタロイルクロリド又は2-メトキシテレフタル酸クロリドとを組合せて用いることがさらに好ましい。 As the dicarboxylic acid compound used for producing the polyimide resin, preferably terephthalic acid, 2-methoxyterephthalic acid, 4,4'-oxybisbenzoic acid, or acid chloride compounds thereof are used. In addition to terephthalic acid, 2-methoxyterephthalic acid, 4,4'-oxybisbenzoic acid or their acid chloride compounds, other dicarboxylic acid compounds may be used. Other dicarboxylic acid compounds include aromatic dicarboxylic acids, aliphatic dicarboxylic acids, and their analogous acid chloride compounds, acid anhydrides, etc., and two or more types may be used in combination. Specific examples include isophthalic acid; naphthalenedicarboxylic acid; 4,4'-biphenyldicarboxylic acid; 3,3'-biphenyldicarboxylic acid; dicarboxylic acid compounds of chain hydrocarbons having 8 or less carbon atoms, and two benzoic acids. Examples include compounds in which are connected by a single bond, -CH 2 -, -C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, -SO 2 -, or a phenylene group, and acid chloride compounds thereof. As specific examples, 4,4'-oxybis(benzoyl chloride), terephthaloyl chloride, and 2-methoxyterephthalic acid chloride are preferred, and 4,4'-oxybis(benzoyl chloride) and terephthaloyl chloride or 2-methoxy More preferably, it is used in combination with terephthalic acid chloride.

なお、上記ポリイミド系樹脂は、フィルムの各種物性を損なわない範囲で、上記テトラカルボン酸化合物に加えて、テトラカルボン酸及びトリカルボン酸並びにそれらの無水物及び誘導体をさらに反応させたものであってもよい。 The above polyimide resin may be one obtained by further reacting tetracarboxylic acid and tricarboxylic acid, as well as anhydrides and derivatives thereof, in addition to the above tetracarboxylic acid compound, as long as various physical properties of the film are not impaired. good.

テトラカルボン酸としては、上記テトラカルボン酸化合物の無水物の水付加体が挙げられる。 Examples of the tetracarboxylic acid include water adducts of anhydrides of the above-mentioned tetracarboxylic acid compounds.

トリカルボン酸化合物としては、芳香族トリカルボン酸、脂肪族トリカルボン酸及びそれらの類縁の酸クロリド化合物、酸無水物等が挙げられ、2種以上を組合せて用いてもよい。具体例としては、1,2,4-ベンゼントリカルボン酸の無水物;1,3,5-ベンゼントリカルボン酸の酸クロリド化合物;2,3,6-ナフタレントリカルボン酸-2,3-無水物;フタル酸無水物と安息香酸とが単結合、-O-、-CH-、-C(CH-、-C(CF-、-SO-又はフェニレン基で連結された化合物が挙げられる。 Examples of the tricarboxylic acid compound include aromatic tricarboxylic acids, aliphatic tricarboxylic acids, and their analogous acid chloride compounds, acid anhydrides, etc., and two or more types may be used in combination. Specific examples include 1,2,4-benzenetricarboxylic acid anhydride; 1,3,5-benzenetricarboxylic acid chloride compound; 2,3,6-naphthalenetricarboxylic acid-2,3-anhydride; A compound in which an acid anhydride and benzoic acid are connected by a single bond, -O-, -CH 2 -, -C(CH 3 ) 2 -, -C(CF 3 ) 2 -, -SO 2 - or phenylene group can be mentioned.

ポリイミド系樹脂の製造において、ジアミン化合物、テトラカルボン酸化合物及び/又はジカルボン酸化合物の使用量は、所望とする樹脂の各構成単位の比率に応じて適宜選択できる。 In the production of polyimide resin, the amount of diamine compound, tetracarboxylic acid compound and/or dicarboxylic acid compound to be used can be appropriately selected depending on the desired ratio of each constituent unit of the resin.

ポリイミド系樹脂の製造において、ジアミン化合物、テトラカルボン酸化合物及び/又はジカルボン酸化合物の反応温度は、特に限定されないが、例えば5~350℃、好ましくは10~200℃、より好ましくは20~100℃である。反応時間も特に限定されないが、例えば30分~10時間程度である。必要に応じて、不活性雰囲気又は減圧の条件下において反応を行ってよい。好ましい形態では、反応は、常圧及び/又は不活性ガス雰囲気下、撹拌しながら行う。また、反応は、反応に不活性な溶媒中で行うことが好ましい。溶媒としては、反応に影響を与えない限り特に限定されないが、例えば、水、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、1-メトキシ-2-プロパノール、2-ブトキシエタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール系溶媒;酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ-ブチロラクトン(以下、GBLと記載することがある)、γ-バレロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、乳酸エチル等のエステル系溶媒;アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、2-ヘプタノン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒;ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素溶媒;エチルシクロヘキサン等の脂環式炭化水素溶媒;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒;アセトニトリル等のニトリル系溶媒;テトラヒドロフラン及びジメトキシエタン等のエーテル系溶媒;クロロホルム及びクロロベンゼン等の塩素含有溶媒;N,N-ジメチルアセトアミド(以下、DMAcと記載することがある)、N,N-ジメチルホルムアミド(以下、DMFと記載することがある)等のアミド系溶媒;ジメチルスルホン、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の含硫黄系溶媒;エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等のカーボネート系溶媒;及びそれらの組合せなどが挙げられる。これらの中でも、溶解性の観点から、アミド系溶媒を好適に使用できる。 In the production of polyimide resin, the reaction temperature of the diamine compound, tetracarboxylic acid compound and/or dicarboxylic acid compound is not particularly limited, but is, for example, 5 to 350°C, preferably 10 to 200°C, more preferably 20 to 100°C. It is. The reaction time is also not particularly limited, and is, for example, about 30 minutes to 10 hours. If necessary, the reaction may be carried out under an inert atmosphere or under reduced pressure. In a preferred form, the reaction is carried out with stirring under normal pressure and/or an inert gas atmosphere. Further, the reaction is preferably carried out in a solvent inert to the reaction. The solvent is not particularly limited as long as it does not affect the reaction, but examples include water, methanol, ethanol, ethylene glycol, isopropyl alcohol, propylene glycol, ethylene glycol methyl ether, ethylene glycol butyl ether, 1-methoxy-2-propanol, Alcohol solvents such as 2-butoxyethanol and propylene glycol monomethyl ether; ethyl acetate, butyl acetate, ethylene glycol methyl ether acetate, γ-butyrolactone (hereinafter sometimes referred to as GBL), γ-valerolactone, propylene glycol methyl Ester solvents such as ether acetate and ethyl lactate; ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, 2-heptanone, and methyl isobutyl ketone; aliphatic hydrocarbon solvents such as pentane, hexane, and heptane; ethyl cyclohexane, etc. alicyclic hydrocarbon solvents; aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene; nitrile solvents such as acetonitrile; ether solvents such as tetrahydrofuran and dimethoxyethane; chlorine-containing solvents such as chloroform and chlorobenzene; N,N-dimethyl Amide solvents such as acetamide (hereinafter sometimes referred to as DMAc) and N,N-dimethylformamide (hereinafter sometimes referred to as DMF); sulfur-containing solvents such as dimethylsulfone, dimethylsulfoxide, and sulfolane; Examples include carbonate solvents such as ethylene carbonate and propylene carbonate; and combinations thereof. Among these, amide solvents can be preferably used from the viewpoint of solubility.

ポリイミド系樹脂の製造におけるイミド化工程では、イミド化触媒の存在下で、イミド化することができる。イミド化触媒としては、例えばトリプロピルアミン、ジブチルプロピルアミン、エチルジブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の脂肪族アミン;N-エチルピペリジン、N-プロピルピペリジン、N-ブチルピロリジン、N-ブチルピペリジン、及びN-プロピルヘキサヒドロアゼピン等の脂環式アミン(単環式);アザビシクロ[2.2.1]ヘプタン、アザビシクロ[3.2.1]オクタン、アザビシクロ[2.2.2]オクタン、及びアザビシクロ[3.2.2]ノナン等の脂環式アミン(多環式);並びにピリジン、2-メチルピリジン(2-ピコリン)、3-メチルピリジン(3-ピコリン)、4-メチルピリジン(4-ピコリン)、2-エチルピリジン、3-エチルピリジン、4-エチルピリジン、2,4-ジメチルピリジン、2,4,6-トリメチルピリジン、3,4-シクロペンテノピリジン、5,6,7,8-テトラヒドロイソキノリン、及びイソキノリン等の芳香族アミンが挙げられる。また、イミド化反応を促進しやすい観点から、イミド化触媒とともに、酸無水物を用いることが好ましい。酸無水物は、イミド化反応に用いられる慣用の酸無水物等が挙げられ、その具体例としては、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸等の脂肪族酸無水物、フタル酸等の芳香族酸無水物などが挙げられる。 In the imidization step in the production of polyimide resin, imidization can be carried out in the presence of an imidization catalyst. Examples of imidization catalysts include aliphatic amines such as tripropylamine, dibutylpropylamine, ethyldibutylamine, and diisopropylethylamine; N-ethylpiperidine, N-propylpiperidine, N-butylpyrrolidine, N-butylpiperidine, and N- Alicyclic amines (monocyclic) such as propylhexahydroazepine; azabicyclo[2.2.1]heptane, azabicyclo[3.2.1]octane, azabicyclo[2.2.2]octane, and azabicyclo[3 .2.2] Alicyclic amines (polycyclic) such as nonane; and pyridine, 2-methylpyridine (2-picoline), 3-methylpyridine (3-picoline), 4-methylpyridine (4-picoline) , 2-ethylpyridine, 3-ethylpyridine, 4-ethylpyridine, 2,4-dimethylpyridine, 2,4,6-trimethylpyridine, 3,4-cyclopentenopyridine, 5,6,7,8-tetrahydro Aromatic amines such as isoquinoline and isoquinoline are mentioned. Further, from the viewpoint of easily promoting the imidization reaction, it is preferable to use an acid anhydride together with the imidization catalyst. Examples of acid anhydrides include commonly used acid anhydrides used in imidization reactions. Specific examples thereof include aliphatic acid anhydrides such as acetic anhydride, propionic anhydride, and butyric anhydride, and aromatic acid anhydrides such as phthalic acid. Examples include acid anhydrides.

ポリイミド系樹脂は、慣用の方法、例えば、濾過、濃縮、抽出、晶析、再結晶、カラムクロマトグラフィーなどの分離手段や、これらを組合せた分離手段により分離精製して単離してもよく、好ましい形態では、ポリイミド系樹脂を含む反応液に、多量のメタノール等のアルコールを加え、樹脂を析出させ、濃縮、濾過、乾燥等を行うことにより単離することができる。 The polyimide resin may be isolated by separation and purification by a conventional method such as filtration, concentration, extraction, crystallization, recrystallization, column chromatography, or a combination of these methods, and is preferred. In the form, it can be isolated by adding a large amount of alcohol such as methanol to a reaction solution containing a polyimide resin to precipitate the resin, followed by concentration, filtration, drying, etc.

(フィラー)
本発明におけるポリイミド系原料フィルムは、少なくとも1種のフィラーを含んでよい。フィラーとしては、例えば有機粒子、無機粒子などが挙げられ、好ましくは無機粒子が挙げられる。無機粒子としては、シリカ、ジルコニア、アルミナ、チタニア、クレイ、タルク、酸化亜鉛、酸化ゲルマニウム、酸化インジウム、酸化スズ、インジウムスズ酸化物(ITOと記載することがある)、酸化アンチモン、酸化セリウム、二酸化チタン、酸化ジルコニウム等の金属酸化物粒子、フッ化マグネシウム、フッ化ナトリウム等の金属フッ化物粒子、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、硫酸バリウム、水酸化アルミニウム、などが挙げられ、これらの中でも、フィルムの機械的特性及び光学特性を向上しやすい観点から、好ましくはシリカ粒子、ジルコニア粒子、アルミナ粒子が挙げられ、より好ましくはシリカ粒子が挙げられる。これらのフィラーは単独又は2種以上を組合せて使用できる。
(filler)
The polyimide raw material film in the present invention may contain at least one filler. Examples of the filler include organic particles and inorganic particles, preferably inorganic particles. Inorganic particles include silica, zirconia, alumina, titania, clay, talc, zinc oxide, germanium oxide, indium oxide, tin oxide, indium tin oxide (sometimes referred to as ITO), antimony oxide, cerium oxide, and dioxide. Examples include metal oxide particles such as titanium and zirconium oxide, metal fluoride particles such as magnesium fluoride and sodium fluoride, calcium carbonate, magnesium carbonate, barium sulfate, and aluminum hydroxide. From the viewpoint of easily improving physical properties and optical properties, silica particles, zirconia particles, and alumina particles are preferred, and silica particles are more preferred. These fillers can be used alone or in combination of two or more.

フィラー、好ましくはシリカ粒子の平均一次粒子径は、通常1nm以上、好ましくは5nm以上、より好ましくは10nm以上、さらに好ましくは15nm以上、さらにより好ましくは20nm以上であり、好ましくは100nm以下、より好ましくは90nm以下、さらに好ましくは80nm以下、さらにより好ましくは70nm以下、特に好ましくは60nm以下、特により好ましくは50nm以下、特にさらに好ましくは40nm以下である。フィラー、好ましくはシリカ粒子の平均一次粒子径が上記範囲内であると、フィラー、好ましくはシリカ粒子の凝集を抑制し、得られるフィルムの光学特性を向上しやすい。フィラーの平均一次粒子径は、BET法により測定できる。なお、透過型電子顕微鏡や走査型電子顕微鏡の画像解析により、平均一次粒子径を測定してもよい。 The average primary particle diameter of the filler, preferably silica particles, is usually 1 nm or more, preferably 5 nm or more, more preferably 10 nm or more, even more preferably 15 nm or more, even more preferably 20 nm or more, and preferably 100 nm or less, more preferably is 90 nm or less, more preferably 80 nm or less, even more preferably 70 nm or less, particularly preferably 60 nm or less, particularly more preferably 50 nm or less, even more preferably 40 nm or less. When the average primary particle diameter of the filler, preferably silica particles, is within the above range, aggregation of the filler, preferably silica particles, is suppressed and the optical properties of the resulting film are likely to be improved. The average primary particle diameter of the filler can be measured by the BET method. Note that the average primary particle diameter may be measured by image analysis using a transmission electron microscope or a scanning electron microscope.

本発明におけるポリイミド系原料フィルムがフィラー、好ましくはシリカ粒子を含有する場合、フィラー、好ましくはシリカ粒子の含有量は、ポリイミド系原料フィルムの総量に対して、通常0.1質量%以上、好ましくは1質量%以上、より好ましくは5質量%以上、さらに好ましくは10質量%以上、さらにより好ましくは15質量%以上であり、好ましくは60質量%以下、より好ましくは50質量%以下、さらに好ましくは45質量%以下である。フィラーの含有量が上記の下限以上であると、フィルムの機械的特性を向上しやすい。また、フィラーの含有量が上記の上限以下であると、ワニスの保管安定性が向上され、得られるフィルムの光学特性を向上しやすい。 When the polyimide raw material film in the present invention contains a filler, preferably silica particles, the content of the filler, preferably silica particles, is usually 0.1% by mass or more, preferably 0.1% by mass or more, based on the total amount of the polyimide raw material film. 1% by mass or more, more preferably 5% by mass or more, still more preferably 10% by mass or more, even more preferably 15% by mass or more, preferably 60% by mass or less, more preferably 50% by mass or less, even more preferably It is 45% by mass or less. When the filler content is at least the above lower limit, the mechanical properties of the film are likely to be improved. Moreover, when the filler content is below the above upper limit, the storage stability of the varnish is improved, and the optical properties of the resulting film are likely to be improved.

(紫外線吸収剤)
本発明におけるポリイミド系原料フィルムは、紫外線吸収剤を含有していてもよい。紫外線吸収剤は、樹脂材料の分野で紫外線吸収剤として通常用いられているものから、適宜選択することができる。紫外線吸収剤は、400nm以下の波長の光を吸収する化合物を含んでいてもよい。紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾフェノン系化合物、サリシレート系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、及びトリアジン系化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の化合物が挙げられる。本発明におけるポリイミド系原料フィルムが紫外線吸収剤を含有することにより、樹脂の劣化が抑制されるため、フィルムの視認性を高めることができる。
なお、本明細書において、「系化合物」とは、当該「系化合物」が付される化合物の誘導体を指す。例えば、「ベンゾフェノン系化合物」とは、母体骨格としてのベンゾフェノンと、ベンゾフェノンに結合している置換基とを有する化合物を指す。
(Ultraviolet absorber)
The polyimide raw material film in the present invention may contain an ultraviolet absorber. The ultraviolet absorber can be appropriately selected from those commonly used as ultraviolet absorbers in the field of resin materials. The ultraviolet absorber may include a compound that absorbs light with a wavelength of 400 nm or less. Examples of the ultraviolet absorber include at least one compound selected from the group consisting of benzophenone compounds, salicylate compounds, benzotriazole compounds, and triazine compounds. When the polyimide-based raw material film in the present invention contains an ultraviolet absorber, deterioration of the resin is suppressed, so that the visibility of the film can be improved.
In addition, in this specification, a "system compound" refers to the derivative of the compound to which the said "system compound" is attached. For example, a "benzophenone compound" refers to a compound having benzophenone as a parent skeleton and a substituent bonded to benzophenone.

本発明におけるポリイミド系原料フィルムが紫外線吸収剤を含有する場合、紫外線吸収剤の含有量は、ポリイミド系原料フィルムの総量に対して、好ましくは1質量%以上、より好ましくは2質量%以上、さらに好ましくは3質量%以上、さらにより好ましくは4質量%以上であり、好ましくは10質量%以下、より好ましくは8質量%以下、さらに好ましくは6質量%以下である。好適な含有率は用いる紫外線吸収剤により異なるが、400nmの光線透過率が20~60%程度になるように紫外線吸収剤の含有率を調節すると、フィルムの耐光性が高められるとともに、透明性の高いフィルムを得ることができる。 When the polyimide raw material film in the present invention contains a UV absorber, the content of the UV absorber is preferably 1% by mass or more, more preferably 2% by mass or more, based on the total amount of the polyimide raw material film. The content is preferably 3% by mass or more, even more preferably 4% by mass or more, preferably 10% by mass or less, more preferably 8% by mass or less, and still more preferably 6% by mass or less. The preferred content varies depending on the UV absorber used, but if the content of the UV absorber is adjusted so that the light transmittance at 400 nm is about 20 to 60%, the light resistance of the film will be increased and the transparency will be improved. You can get high quality film.

(ブルーイング剤)
本発明におけるポリイミド系原料フィルムはブルーイング剤を含んでいてもよい。ブルーイング剤は、可視光領域のうち、例えば、橙色から黄色などの波長領域の光を吸収し、色相を調整する、染料や顔料などの添加剤であって、例えば、群青、紺青、コバルトブルーなどの無機系の染料や顔料、例えば、フタロシアニン系ブルーイング剤、縮合多環系ブルーイング剤などの有機系の染料や顔料などが挙げられる。ブルーイング剤は、特に限定されないが、耐熱性、耐光性、溶解性の観点からは、縮合多環系ブルーイング剤が好ましく、アントラキノン系ブルーイング剤がより好ましい。縮合多環系ブルーイング剤としては、例えばアントラキノン系ブルーイング剤、インジゴ系ブルーイング剤、フタロシアニン系ブルーイング剤が挙げられる。
(Bluing agent)
The polyimide raw material film in the present invention may contain a bluing agent. A bluing agent is an additive such as a dye or pigment that absorbs light in a wavelength range from orange to yellow in the visible light range and adjusts the hue, such as ultramarine, deep blue, and cobalt blue. For example, organic dyes and pigments such as phthalocyanine blueing agents and condensed polycyclic blueing agents may be mentioned. The bluing agent is not particularly limited, but from the viewpoint of heat resistance, light resistance, and solubility, a condensed polycyclic bluing agent is preferable, and an anthraquinone bluing agent is more preferable. Examples of the condensed polycyclic bluing agent include anthraquinone bluing agents, indigo bluing agents, and phthalocyanine bluing agents.

本発明におけるポリイミド系原料フィルムがブルーイング剤を含有する場合、ブルーイング剤の含有量は、ポリイミド系原料フィルムの質量に対して、好ましくは5ppm以上、より好ましくは8ppm以上であり、好ましくは100ppm以下、より好ましくは80ppm以下、さらに好ましくは60ppm以下である。ブルーイング剤の含有量が上記の下限以上である場合、フィルムの光学特性を向上しやすく、特にYIを低減させやすい。また、ブルーイング剤の含有量が上記の上限以下である場合、光学特性を向上しやすく、特に表示装置に適用した場合に、YI値が低減しすぎることなく、視認性を高めやすい。 When the polyimide raw material film in the present invention contains a bluing agent, the content of the bluing agent is preferably 5 ppm or more, more preferably 8 ppm or more, and preferably 100 ppm, based on the mass of the polyimide raw material film. The content is more preferably 80 ppm or less, and even more preferably 60 ppm or less. When the content of the bluing agent is at least the above-mentioned lower limit, it is easy to improve the optical properties of the film, and in particular, it is easy to reduce YI. Moreover, when the content of the bluing agent is below the above-mentioned upper limit, it is easy to improve the optical properties, and especially when applied to a display device, the visibility is easily improved without reducing the YI value too much.

(添加剤)
本発明におけるポリイミド系原料フィルムは、フィラー、紫外線吸収剤及びブルーイング剤以外の他の添加剤をさらに含有していてもよい。他の添加剤としては、例えば、酸化防止剤、離型剤、安定剤、難燃剤、pH調整剤、シリカ分散剤、滑剤、増粘剤、レベリング剤、界面活性剤、帯電防止剤、潤滑剤、防汚剤等が挙げられる。他の添加剤を含有する場合、その含有量は、ポリイミド系原料フィルムの質量に対して、好ましくは0.001~20質量%、より好ましくは0.01~15質量%、さらに好ましくは0.1~10質量%であってよい。
(Additive)
The polyimide raw material film in the present invention may further contain additives other than fillers, ultraviolet absorbers, and bluing agents. Other additives include, for example, antioxidants, mold release agents, stabilizers, flame retardants, pH adjusters, silica dispersants, lubricants, thickeners, leveling agents, surfactants, antistatic agents, and lubricants. , antifouling agents, etc. When other additives are contained, their content is preferably 0.001 to 20% by mass, more preferably 0.01 to 15% by mass, and even more preferably 0.01% by mass, based on the mass of the polyimide raw material film. It may be 1 to 10% by weight.

<ポリイミド系原料フィルムの製造方法>
本発明におけるポリイミド系原料フィルムの製造方法は、特に限定されないが、例えば以下の工程:
(a)ポリイミド系樹脂及び溶媒を少なくとも含む樹脂組成物を調製するワニス調製工程、
(b)ワニスを基材に塗布して塗膜を形成する塗布工程、及び
(c)前記塗膜を乾燥させてポリイミド系原料フィルムを形成する原料フィルム形成工程
を少なくとも含む製造方法であってよい。
<Production method of polyimide raw material film>
The method for producing the polyimide raw material film in the present invention is not particularly limited, but for example, the following steps:
(a) a varnish preparation step of preparing a resin composition containing at least a polyimide resin and a solvent;
The manufacturing method may include at least (b) a coating step of applying a varnish to a base material to form a coating film, and (c) a raw material film forming step of drying the coating film to form a polyimide-based raw material film. .

ワニス調製工程において、ポリイミド系樹脂を溶媒に溶解させ、必要に応じて、前記フィラー、前記紫外線吸収剤、前記ブルーイング剤等の添加剤を添加して撹拌混合することによりワニスを調製する。なお、フィラーとしてシリカ粒子を用いる場合、シリカ粒子を含むシリカゾルの分散液を、前記ポリイミド系樹脂が溶解可能な溶媒、例えば下記のワニスの調製に用いられる溶媒で置換したシリカゾルを樹脂に添加してもよい。 In the varnish preparation step, a varnish is prepared by dissolving a polyimide resin in a solvent, adding additives such as the filler, the ultraviolet absorber, and the bluing agent as needed, and stirring and mixing. In addition, when using silica particles as a filler, a silica sol dispersion containing silica particles is replaced with a solvent in which the polyimide resin can be dissolved, for example, the solvent used for preparing the varnish described below, and a silica sol is added to the resin. Good too.

ワニスの調製に用いる溶媒は、前記ポリイミド系樹脂を溶解可能であれば特に限定されない。かかる溶媒としては、例えば、DMAc、DMF等のアミド系溶媒;GBL、γ-バレロラクトン等のラクトン系溶媒;ジメチルスルホン、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の含硫黄系溶媒;エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等のカーボネート系溶媒;及びそれらの組合せが挙げられる。これらの中でも、アミド系溶媒又はラクトン系溶媒が好ましい。これらの溶媒は単独又は二種以上組合せて使用できる。また、ワニスには水、アルコール系溶媒、ケトン系溶媒、非環状エステル系溶媒、エーテル系溶媒などが含まれてもよい。ワニスの固形分濃度は、好ましくは1~25質量%、より好ましくは5~20質量%、さらに好ましくは5~15質量%である。 The solvent used for preparing the varnish is not particularly limited as long as it can dissolve the polyimide resin. Examples of such solvents include amide solvents such as DMAc and DMF; lactone solvents such as GBL and γ-valerolactone; sulfur-containing solvents such as dimethylsulfone, dimethylsulfoxide, and sulfolane; carbonates such as ethylene carbonate and propylene carbonate. and combinations thereof. Among these, amide solvents or lactone solvents are preferred. These solvents can be used alone or in combination. Further, the varnish may contain water, an alcohol solvent, a ketone solvent, an acyclic ester solvent, an ether solvent, and the like. The solid content concentration of the varnish is preferably 1 to 25% by weight, more preferably 5 to 20% by weight, and still more preferably 5 to 15% by weight.

塗布工程において、公知の塗布方法により、基材上にワニスを塗布して塗膜を形成する。公知の塗布方法としては、例えばワイヤーバーコーティング法、リバースコーティング法、グラビアコーティング法等のロールコーティング法、ダイコート法、カンマコート法、リップコート法、スピンコーティング法、スクリーンコーティング法、ファウンテンコーティング法、ディッピング法、スプレー法、流涎成形法等が挙げられる。 In the coating step, a varnish is applied onto the base material to form a coating film using a known coating method. Known coating methods include, for example, wire bar coating, reverse coating, roll coating such as gravure coating, die coating, comma coating, lip coating, spin coating, screen coating, fountain coating, and dipping. method, spray method, drool molding method, etc.

原料フィルム形成工程において、塗膜を乾燥し、基材から剥離することによって、ポリイミド系原料フィルムを形成することができる。基材から剥離する前に、ポリイミド系原料フィルムの基材とは反対側の面にプロテクトフィルムを積層した後、基材を剥離してもよい。塗膜の乾燥は、通常50~350℃の温度にて行うことができる。本発明の好ましい実施形態においては、前記塗膜の乾燥は、比較的時間をかけて行うことが好ましい。乾燥温度は、好ましくは50~150℃、より好ましくは60~130℃、さらに好ましくは70~120℃である。乾燥時間は、好ましくは5~60分、より好ましくは10~40分である。塗膜の乾燥は1段階又は多段階の条件で実施されてもよい。多段階の条件は、好ましくは、それぞれの段階において、同一又は異なる温度条件及び/又は乾燥時間で実施することができ、例えば2~10段階、好ましくは3~8段階で乾燥を行ってもよい。ポリイミド系フィルムの機械的特性及び光学特性を向上しやすい観点から、多段階の条件で実施することが好ましい。多段階の場合、その温度プロファイルは降温過程、又は、昇温及び降温過程を含むことが好ましい。降温過程を含む3段階の温度プロファイルを例に挙げると、乾燥温度は、90~130℃(第1の温度)、85~105℃(第2の温度)、及び75~95℃(第3の温度)である。ここで乾燥時間は各段階において、例えば5~30分であってよい。乾燥塗膜の溶媒残存量が、乾燥塗膜の質量に対して、好ましくは5~20質量%、より好ましくは6~15質量%となるように、塗膜の乾燥は実施されることが好ましい。溶媒残存量が上記範囲であると、乾燥塗膜の基材からの剥離性が良好となり、フィルムの光学特性を向上しやすい。また、加熱下で張力をかけてもフィルムの破断を抑制しやすく、保護フィルムと一緒に把持してもフィルムの平滑性を維持しやすい。塗膜の乾燥は、必要に応じて、不活性雰囲気又は減圧の条件下において行ってよい。 In the raw material film forming step, a polyimide raw material film can be formed by drying the coating film and peeling it off from the base material. Before peeling from the base material, a protection film may be laminated on the surface of the polyimide raw material film opposite to the base material, and then the base material may be peeled off. Drying of the coating film can usually be carried out at a temperature of 50 to 350°C. In a preferred embodiment of the present invention, the coating film is preferably dried over a relatively long period of time. The drying temperature is preferably 50 to 150°C, more preferably 60 to 130°C, even more preferably 70 to 120°C. The drying time is preferably 5 to 60 minutes, more preferably 10 to 40 minutes. Drying of the coating film may be carried out in one stage or in multiple stages. Multi-stage conditions can preferably be carried out with the same or different temperature conditions and/or drying times in each stage, for example drying may be carried out in 2 to 10 stages, preferably 3 to 8 stages. . From the viewpoint of easily improving the mechanical properties and optical properties of the polyimide film, it is preferable to carry out the process under multi-step conditions. In the case of multiple stages, the temperature profile preferably includes a temperature-lowering process, or a temperature-raising and temperature-falling process. Taking a three-stage temperature profile including a temperature cooling process as an example, the drying temperatures are 90 to 130°C (first temperature), 85 to 105°C (second temperature), and 75 to 95°C (third temperature). temperature). Here, the drying time may be, for example, 5 to 30 minutes at each stage. Drying of the coating film is preferably carried out such that the residual amount of solvent in the dried coating film is preferably 5 to 20% by mass, more preferably 6 to 15% by mass, based on the mass of the dried coating film. . When the residual amount of the solvent is within the above range, the peelability of the dried coating film from the substrate will be good, and the optical properties of the film will be easily improved. Furthermore, even when tension is applied under heating, the film is easily prevented from breaking, and even when gripped together with a protective film, the smoothness of the film is easily maintained. The coating film may be dried in an inert atmosphere or under reduced pressure, if necessary.

基材の例としては、金属系であれば、SUS板、樹脂系であればPETフィルム、PENフィルム、本発明におけるポリイミド系フィルム以外の他のポリイミドフィルム及びポリアミドイミドフィルム、ポリアミドフィルム、シクロオレフィン系ポリマーフィルム、アクリル系フィルム等が挙げられる。中でも、平滑性、耐熱性に優れる観点から、PETフィルム、シクロオレフィン系ポリマーフィルム等が好ましく、さらに本発明におけるフィルムとの密着性及びコストの観点から、PETフィルムがより好ましい。 Examples of the base material include SUS plate if it is metal-based, PET film, PEN film if it is resin-based, other polyimide films other than the polyimide film in the present invention, polyamide-imide film, polyamide film, and cycloolefin film. Examples include polymer films and acrylic films. Among these, PET film, cycloolefin polymer film, etc. are preferred from the viewpoint of excellent smoothness and heat resistance, and PET film is more preferred from the viewpoint of adhesiveness with the film of the present invention and cost.

<工程(X)>
工程(X)は、前記ポリイミド系原料フィルムと、該ポリイミド系原料フィルムの少なくとも一方の面上の端部における相対する2つ以上の区域に配置された融点が200℃以上の前記保護フィルムとを把持部材により把持した状態で、前記ポリイミド系原料フィルムに加熱下で張力をかける工程である。
<Process (X)>
Step (X) includes the polyimide raw material film and the protective film having a melting point of 200° C. or higher, which is disposed in two or more opposing areas at the end on at least one surface of the polyimide raw material film. This is a step of applying tension to the polyimide raw material film under heating while being held by a holding member.

本発明のポリイミド系フィルムの製造方法は、工程(X)を含むため、フィルムの破断を防止できる。さらに、保護フィルムの把持部材への融着(又は癒着)を抑制しやすい。そのため、例えば工程(X)を搬送しながら行う場合であっても、安定して搬送可能である。 Since the method for producing a polyimide film of the present invention includes step (X), breakage of the film can be prevented. Furthermore, it is easy to suppress the fusion (or adhesion) of the protective film to the gripping member. Therefore, even if step (X) is carried out while being transported, for example, it is possible to transport it stably.

本発明の好適な実施形態では、前記原料フィルム形成工程における前記塗膜の乾燥工程は予備乾燥工程であり、ポリイミド系原料フィルムは、予備乾燥工程後の原料フィルムであることが好ましい。すなわち、ポリイミド系原料フィルムは、ある程度残存溶媒を含んでいることがフィルムの破断等を抑制する観点から好ましく、その溶媒残存量は好ましくは5質量%以上、より好ましくは6質量%以上であり、好ましくは25質量%以下、より好ましくは20質量%以下である。また、本発明の好適な実施形態では、工程(X)は本乾燥工程であることが好ましい。なお、本明細書において、ポリイミド系原料フィルム(原料フィルム)は工程(X)に供する前又は工程(X)に供されている間のフィルムを意味し、工程(X)を複数回行う場合、全ての張力をかける工程が終了する時点より前のフィルムを意味する。 In a preferred embodiment of the present invention, the coating film drying step in the raw material film forming step is a preliminary drying step, and the polyimide raw material film is preferably a raw material film after the preliminary drying step. That is, it is preferable that the polyimide raw material film contains a certain amount of residual solvent from the viewpoint of suppressing breakage of the film, and the residual amount of the solvent is preferably 5% by mass or more, more preferably 6% by mass or more, Preferably it is 25% by mass or less, more preferably 20% by mass or less. Further, in a preferred embodiment of the present invention, step (X) is preferably a main drying step. In addition, in this specification, a polyimide-based raw material film (raw material film) means a film before being subjected to step (X) or while being subjected to step (X), and when performing step (X) multiple times, Refers to the film before the end of all tensioning steps.

保護フィルムは、ポリイミド系原料フィルムの少なくとも一方の面、すなわち、片面又は両面上の端部における相対する2つ以上の区域に配置される。フィルムの破断等を抑制しやすい観点から、保護フィルムは、ポリイミド系原料フィルムの両面に配置されていることが好ましい。上述のように、保護フィルムは、ポリイミド系原料フィルムの少なくとも一方の面に配置された状態で、把持部材により把持されている。 The protective film is arranged in two or more opposing areas at the end portions of at least one surface of the polyimide raw material film, that is, one or both surfaces. From the viewpoint of easily suppressing breakage of the film, the protective film is preferably disposed on both sides of the polyimide raw material film. As described above, the protective film is held by the gripping member while being placed on at least one surface of the polyimide raw material film.

本発明の一実施形態において、フィルムの破断を抑制しやすく、かつ効率的に製造しやすい観点から、ポリイミド系原料フィルムの片面において保護フィルムが配置されている面積は、ポリイミド系原料フィルムの片面の総面積に対して、好ましくは1%以上、より好ましくは2%以上、さらに好ましくは5%、さらにより好ましくは10%以上であり、好ましくは40%以下、より好ましくは35%以下、さらに好ましくは30%以下であってよい。 In one embodiment of the present invention, from the viewpoint of easily suppressing breakage of the film and facilitating efficient production, the area where the protective film is arranged on one side of the polyimide raw material film is Based on the total area, it is preferably 1% or more, more preferably 2% or more, even more preferably 5%, even more preferably 10% or more, preferably 40% or less, more preferably 35% or less, and even more preferably may be 30% or less.

本発明の一実施形態において、原料フィルム及び保護フィルムを把持する把持部材としては、慣用の把持部材、例えばクリップ、ピンシート、フィルムチャック等が挙げられる。フィルムの破断を抑制しやすく、また簡便かつ効率的に製造しやすい観点から、把持部材は、クリップ、ピンシート及びフィルムチャックからなる群より選択される少なくとも1つを含むことが好ましく、クリップがより好ましい。把持部材は1つ又は複数用いることができ、複数用いることが好ましい。 In one embodiment of the present invention, the gripping member for gripping the raw material film and the protective film includes conventional gripping members such as a clip, a pin sheet, and a film chuck. From the viewpoint of easily suppressing breakage of the film and facilitating easy and efficient manufacturing, the gripping member preferably includes at least one selected from the group consisting of a clip, a pin sheet, and a film chuck, and the clip is more preferable. One or more gripping members can be used, and it is preferable to use more than one gripping member.

工程(X)は、原料フィルムを搬送しながら行っても、静止状態で行ってもよいが、簡便かつ効率的にポリイミド系フィルムを製造しやすい観点から、搬送しながら行うことが好ましい。工程(X)を搬送しながら行う場合、一軸延伸機(例えばテンター式乾燥機)等を用いることができる。また、工程(X)を静止状態で行う場合、例えば二軸延伸機等を用いることができる。 Step (X) may be performed while the raw material film is being transported or may be performed in a stationary state, but from the viewpoint of easily and efficiently producing a polyimide film, it is preferable to perform it while being transported. When carrying out step (X) while conveying, a uniaxial stretching machine (for example, a tenter dryer) or the like can be used. Moreover, when performing step (X) in a stationary state, for example, a biaxial stretching machine or the like can be used.

工程(X)を搬送しながら行う場合、ポリイミド系原料フィルムは、長尺状のポリイミド系原料フィルムであることが好ましく、保護フィルムは、長尺状の保護フィルムであることが好ましい。本発明の一実施形態では、原料フィルムの幅方向の長さは、一般に100mm以上、好ましくは300mm以上であり、より好ましくは500mm以上、さらに好ましくは1000mm以上、特に好ましくは1500mm以上であり、2000mm以上であってもよく、上限は特に限定されないが、通常5000mm以下であってよい。原料フィルムの長手方向の長さは、好ましくは100mm以上、より好ましくは100m以上、さらに好ましくは500m以上、さらにより好ましくは1000m以上であり、上限は特に限定されない。保護フィルムの幅方向の長さは、好ましくは1mm以上、より好ましくは5mm以上であり、好ましくは100mm以下、より好ましくは80mm以下、さらに好ましくは60mm以下であり、40mm以下又は30mm以下であってよい。保護フィルムの長手方向の長さは、好ましくは100mm以上、より好ましくは100m以上、さらに好ましくは500m以上、さらにより好ましくは1000m以上であり、上限は特に限定されないが、通常5000mm以下であってよい。なお、保護フィルムの前記幅方向の長さ及び前記長手方向の長さは、それぞれ相対する2つ以上の区域に配置される1つの保護フィルムの長さを示す。 When step (X) is carried out while being transported, the polyimide raw material film is preferably a long polyimide raw material film, and the protective film is preferably a long protective film. In one embodiment of the present invention, the length of the raw material film in the width direction is generally 100 mm or more, preferably 300 mm or more, more preferably 500 mm or more, even more preferably 1000 mm or more, particularly preferably 1500 mm or more, and 2000 mm or more. It may be more than 5000 mm, and the upper limit is not particularly limited, but may be usually 5000 mm or less. The length in the longitudinal direction of the raw material film is preferably 100 mm or more, more preferably 100 m or more, still more preferably 500 m or more, even more preferably 1000 m or more, and the upper limit is not particularly limited. The length in the width direction of the protective film is preferably 1 mm or more, more preferably 5 mm or more, preferably 100 mm or less, more preferably 80 mm or less, even more preferably 60 mm or less, and 40 mm or less or 30 mm or less. good. The length of the protective film in the longitudinal direction is preferably 100 mm or more, more preferably 100 m or more, even more preferably 500 m or more, and even more preferably 1000 m or more, and although the upper limit is not particularly limited, it may usually be 5000 mm or less. . Note that the length in the width direction and the length in the longitudinal direction of the protective film respectively indicate the length of one protective film arranged in two or more opposing areas.

工程(X)において、保護フィルムは、原料フィルムの端部における相対する2つ以上の区域に少なくとも配置されている。ここで、原料フィルムの「端部」とは、好ましくは、原料フィルムの一方向の端(最端部)から、原料フィルムの該一方向の1/5の長さに相当する部分までの範囲を意味し、「相対する2つ以上の区域」とは、端部の範囲内において区切られた2つの相対(又は対向)する領域を意味し、前記「一方向」とは、フィルムの幅方向又は長手方向を示し、フィルムが正方形状である場合は幅方向を示す。フィルムの破断を抑制しやすい観点から、工程(X)を搬送しながら行う場合には、原料フィルムの端部における相対する2つの区域に保護フィルムが配置されていることが好ましく、原料フィルムの幅方向の(又は長手方向に沿った)2つの端部における相対する2つの区域に保護フィルムが配置されていることがより好ましい(例えば図1の形態)。工程(X)を搬送せずに静置して行う場合には、ポリイミド系原料フィルムの4つの端部の相対する各区域に保護フィルムが配置されていることが好ましい(例えば図4の形態)。 In step (X), the protective film is placed at least in two or more opposing areas at the end of the raw material film. Here, the "end" of the raw material film is preferably a range from one end (the end) of the raw material film in one direction to a portion corresponding to 1/5 of the length of the raw material film in the one direction. "Two or more opposing areas" means two opposing (or opposing) areas separated within the range of the edge, and "one direction" refers to the width direction of the film. Or, the longitudinal direction is shown, and if the film is square, the width direction is shown. From the viewpoint of easily suppressing breakage of the film, when carrying out step (X) while conveying, it is preferable that protective films are placed in two opposing areas at the end of the raw material film, and the width of the raw material film is It is more preferable that the protective film is disposed in two opposing areas at two ends in the direction (or along the longitudinal direction) (for example, the form shown in FIG. 1). When step (X) is carried out by standing still without being transported, it is preferable that a protective film is placed in each of the opposing areas of the four ends of the polyimide raw material film (for example, the form shown in FIG. 4). .

本発明の好適な実施形態における製造方法によれば、延伸が困難とされるポリイミド系フィルムであっても破断等することなく延伸できるため、延伸されたポリイミド系フィルムを得ることもできる。また、張力をかける際の加熱温度を比較的高くして張力の倍率を大きくする、好ましくは延伸倍率を大きくすると、一般的にフィルムの破断等が生じやすくなるが、本発明の製造方法では、原料フィルムと一緒に所定の保護フィルムを把持するため、比較的、加熱温度が高くかつ張力が大きくてもフィルムの破断等を有効に抑制できる。 According to the manufacturing method according to a preferred embodiment of the present invention, even a polyimide film that is difficult to stretch can be stretched without breaking, etc., so that a stretched polyimide film can also be obtained. In addition, when the heating temperature when applying tension is relatively high and the tension ratio is increased, preferably when the stretching ratio is increased, the film is generally more likely to break, but in the production method of the present invention, Since a predetermined protective film is held together with the raw material film, breakage of the film can be effectively suppressed even if the heating temperature is relatively high and the tension is large.

工程(X)における加熱温度は、好ましくは200℃以上、より好ましくは220℃以上、さらに好ましくは230℃以上、さらにより好ましくは240℃以上、特に好ましくは250℃以上、特により好ましくは260℃以上、特にさらに好ましくは270℃以上であり、好ましくは400℃以下、より好ましくは380℃以下、さらに好ましくは360℃以下、さらにより好ましくは340℃以下、特に好ましくは320℃以下、特により好ましくは300℃以下である。工程(X)における加熱温度が上記の下限以上であると、フィルムの破断を抑制しやすく、フィルム中の残存溶媒を除去しやすい。また、得られるフィルムの光学特性及び機械的特性を高めやすい。工程(X)における加熱温度が上記の上限以下であると、保護フィルムの把持部材への融着(又は癒着)を抑制しやすい。 The heating temperature in step (X) is preferably 200°C or higher, more preferably 220°C or higher, even more preferably 230°C or higher, even more preferably 240°C or higher, particularly preferably 250°C or higher, particularly more preferably 260°C. Above, particularly preferably 270°C or higher, preferably 400°C or lower, more preferably 380°C or lower, even more preferably 360°C or lower, even more preferably 340°C or lower, particularly preferably 320°C or lower, especially more preferably is below 300°C. When the heating temperature in step (X) is equal to or higher than the above lower limit, breakage of the film can be easily suppressed and residual solvent in the film can be easily removed. Moreover, it is easy to improve the optical properties and mechanical properties of the obtained film. When the heating temperature in step (X) is below the above upper limit, it is easy to suppress the fusion (or adhesion) of the protective film to the gripping member.

本発明の一実施形態において、前記張力を与える方向におけるポリイミド系原料フィルムの一辺の長さに対する、前記方向におけるポリイミド系フィルムの一辺の長さ(張力の倍率ということがある)は、好ましくは0.7倍以上、より好ましくは0.8倍以上、さらに好ましくは0.9倍以上、さらにより好ましくは1.00倍以上、特に好ましくは1.00倍超、特により好ましくは1.01倍以上、極めて好ましくは1.03倍以上、極めてより好ましくは1.05倍以上であり、好ましくは1.30倍以下、より好ましくは1.25倍以下、さらに好ましくは1.20倍以下、さらにより好ましくは1.15倍以下である。張力の倍率が上記の下限以上であると、得られるポリイミド系フィルムの機械的特性及び光学特性を向上しやすい。張力の倍率が上記の上限以下であると、フィルムの破断及び保護フィルムの把持部材への融着(又は癒着)を抑制しやすい。また、前記一辺の長さは、把持部材により把持する部分(把持部分)を除いた長さである。張力の倍率は、張力を与える方向、すなわち、通常幅方向又は長手方向における倍率を示すが、工程(X)を搬送しながら行う場合、張力の倍率は幅方向における倍率であることが好ましい。なお、原料フィルムを把持しながら加熱するとフィルムの収縮が起こるため、張力の倍率は1.00倍以下にも調整できる。また、長手方向における張力が高い場合、幅方向にフィルムが収縮する結果、幅方向における張力の倍率が1.00以下となることがある。幅方向における張力が高い場合、長手方向にフィルムが収縮する結果、長手方向における張力の倍率が1.00以下となることがある。 In one embodiment of the present invention, the length of one side of the polyimide film in the direction (sometimes referred to as the magnification of tension) relative to the length of one side of the polyimide raw material film in the direction in which tension is applied is preferably 0. .7 times or more, more preferably 0.8 times or more, even more preferably 0.9 times or more, even more preferably 1.00 times or more, particularly preferably more than 1.00 times, especially more preferably 1.01 times. Above, it is extremely preferably 1.03 times or more, extremely more preferably 1.05 times or more, preferably 1.30 times or less, more preferably 1.25 times or less, still more preferably 1.20 times or less, and More preferably, it is 1.15 times or less. When the tension magnification is at least the above lower limit, the mechanical properties and optical properties of the resulting polyimide film are likely to be improved. When the tension magnification is below the above upper limit, breakage of the film and fusion (or adhesion) of the protective film to the gripping member can be easily suppressed. Further, the length of one side is the length excluding the portion gripped by the gripping member (gripping portion). The magnification of tension indicates the magnification in the direction in which tension is applied, that is, usually the width direction or the longitudinal direction, but when step (X) is carried out while conveying, the tension magnification is preferably the magnification in the width direction. Note that heating the raw material film while gripping it causes shrinkage of the film, so the tension magnification can be adjusted to 1.00 times or less. Further, when the tension in the longitudinal direction is high, the film shrinks in the width direction, so that the magnification of the tension in the width direction may become 1.00 or less. When the tension in the width direction is high, the film shrinks in the longitudinal direction, so that the magnification of the tension in the longitudinal direction may become 1.00 or less.

本明細書では、張力の倍率が1.00倍を超える場合、その張力を与えることを「延伸」と称し、その張力の倍率を「延伸倍率」ということがある。
本発明の製造方法では、驚くべきことに、通常延伸し難いポリイミド系フィルムをある程度延伸に供しても破断しないため、工程(X)において延伸により張力をかけることが好ましい。延伸は、フィルムの破断を抑制しやすく、フィルムの機械的強度及び光学特性を向上しやすい観点から、一軸延伸機又は二軸延伸機を用いて行うことが好ましい。
In this specification, when the magnification of tension exceeds 1.00 times, applying the tension is referred to as "stretching", and the magnification of the tension is sometimes referred to as "stretching magnification".
In the production method of the present invention, surprisingly, a polyimide film that is normally difficult to stretch does not break even if it is stretched to some extent, so it is preferable to apply tension by stretching in step (X). The stretching is preferably carried out using a uniaxial stretching machine or a biaxial stretching machine from the viewpoint of easily suppressing breakage of the film and easily improving the mechanical strength and optical properties of the film.

図1は、本発明の一実施形態におけるポリイミド系フィルムの製造方法の好適な実施形態を模式的に示す概略図である。図2は、図1のポリイミド系フィルムと保護フィルムとの積層状態を示す概略断面図である。図3は、図1のポリイミド系フィルムと保護フィルムとを把持部材により把持した状態を示す概略断面図である。以下に、図1~図3について説明するが、本発明はこれらの実施形態に限定されない。 FIG. 1 is a schematic view schematically showing a preferred embodiment of a method for producing a polyimide film according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing a laminated state of the polyimide film and protective film of FIG. 1. FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing a state in which the polyimide film and protective film of FIG. 1 are gripped by a gripping member. Although FIGS. 1 to 3 will be described below, the present invention is not limited to these embodiments.

図1の実施形態では、テンター式乾燥機内において長尺状の原料フィルム1をA方向に搬送し、次いで、搬送されている原料フィルム1両面の幅方向の(又は長手方向に沿った)2つの端部における相対する2つの区域にそれぞれ保護フィルム2が配置されるよう、乾燥機入口から長尺状の保護フィルム2を投入する。同時に、所定の長さのエンドレスチェーン4の適切な位置に固定され、かつ方向Bに向かって原料フィルムと同じ速さで移動する複数の把持部材3により、原料フィルム1とその両面に配置された保護フィルム2とを把持し、搬送しながら張力をかけた後、乾燥機出口付近で把持を解除し、巻取等により保護フィルムを回収する。 In the embodiment shown in FIG. 1, a long raw material film 1 is transported in the direction A in a tenter dryer, and then two A long protective film 2 is introduced from the dryer entrance so that the protective film 2 is placed in two opposing areas at the end. At the same time, a plurality of gripping members 3, which are fixed at appropriate positions on an endless chain 4 of a predetermined length and move in the direction B at the same speed as the raw material film, are arranged on the raw material film 1 and both sides thereof. After gripping the protective film 2 and applying tension while conveying it, the grip is released near the exit of the dryer, and the protective film is collected by winding or the like.

テンター式乾燥機において、複数の把持部材3は、搬送される原料フィルム1の幅方向の両側に存在する2つのエンドレスチェーン4に固定され、搬送速度と同じ速さで移動する。互いにフィルム幅方向に対向するように設けられた複数の把持部材3により原料フィルム1の両端を固定する。加熱下で張力をかける工程後、フィルム両端の固定は適時解除されればよく、乾燥機内で行ってもよいし、乾燥機から搬送された後に行ってもよい。 In the tenter dryer, the plurality of gripping members 3 are fixed to two endless chains 4 on both sides in the width direction of the raw material film 1 being transported, and move at the same speed as the transport speed. Both ends of the raw material film 1 are fixed by a plurality of gripping members 3 provided so as to face each other in the film width direction. After the process of applying tension under heating, the fixing of both ends of the film may be released at a suitable time, and this may be done within the dryer or after being conveyed from the dryer.

図1の実施形態では、図2(把持部材3を含まないフィルム幅方向に沿った断面)に示すように原料フィルム1の両面であって各表面における幅方向の2つの端部における相対する2つの区域に保護フィルムが配置されている。また、図3(把持部材3を含むフィルム幅方向に沿った断面の一部)に示すように、把持部材3は、その先端に位置する2つの把持部3aにより、原料フィルム1と保護フィルム2とを把持している。 In the embodiment of FIG. 1, as shown in FIG. 2 (cross section along the width direction of the film not including the gripping member 3), two opposite sides of the raw material film 1 at two ends in the width direction of each surface A protective film is placed in one area. Further, as shown in FIG. 3 (a part of a cross section along the film width direction including the gripping member 3), the gripping member 3 is able to hold the raw material film 1 and the protective film 2 by the two gripping parts 3a located at the tip thereof. I have a grasp of this.

原料フィルムの一方端部に位置する任意の把持部から、原料フィルムの該一方端(先端)までの最短距離L(把持部材の把持幅Lということがある)は、好ましくは1~50mm、より好ましくは10~40mmである。把持部材の把持幅Lが上記の範囲内であると、フィルムの破断を抑制しやすい。なお、把持幅Lの測定において、把持部の基準点は、原料フィルムの前記一方端とは反対側の把持部の端点とする。 The shortest distance L (sometimes referred to as the gripping width L of the gripping member) from any gripping part located at one end of the raw material film to the one end (tip) of the raw material film is preferably 1 to 50 mm, more preferably Preferably it is 10 to 40 mm. When the gripping width L of the gripping member is within the above range, breakage of the film can be easily suppressed. In the measurement of the gripping width L, the reference point of the gripping portion is the end point of the gripping portion opposite to the one end of the raw material film.

複数の把持部材が原料フィルムと保護フィルムとを把持する総面積、すなわち、保護フィルムに接する把持部の総面積(把持面積ということがある)は、保護フィルムの総面積に対して、好ましくは5~95%、より好ましくは10~80%である。把持面積が上記の範囲内であると、フィルムの破断を抑制しやすい。 The total area where the plurality of gripping members grip the raw material film and the protective film, that is, the total area of the gripping parts in contact with the protective film (sometimes referred to as gripping area) is preferably 5% of the total area of the protective film. ~95%, more preferably 10-80%. When the gripping area is within the above range, breakage of the film can be easily suppressed.

乾燥機内の温度は、例えば上記の加熱温度の範囲に調整することが好ましい。乾燥機内で加熱する時間は、通常60秒~2時間、好ましくは5分~1時間、より好ましくは5~40分である。処理時間は、前記の乾燥機の温度、移動速度、熱風の風速及び風量などの条件を考慮して、適宜調整すればよい。 The temperature inside the dryer is preferably adjusted to, for example, the above heating temperature range. The heating time in the dryer is usually 60 seconds to 2 hours, preferably 5 minutes to 1 hour, and more preferably 5 to 40 minutes. The processing time may be adjusted as appropriate in consideration of conditions such as the temperature of the dryer, the moving speed, the speed and volume of hot air.

テンター式乾燥機は、その内部が1つの空間であってもよいし、複数の空間に分けられていてもよいが、本発明の一実施形態では、乾燥機内部が、複数の空間に分けられていることが好ましい。前記空間は、温度条件や風速条件等制御可能な空間であってよく、仕切り板等の物理的な境界を持たなくてもよい。乾燥機の内部が複数の空間に分けられている場合、フィルムの搬送方向と、垂直又は平行に複数の空間に分けられていてもよい。空間の数は、通常2~20個、好ましくは3~18個、より好ましくは4~15個、さらに好ましくは5~10個である。乾燥機の内部構造によらず、乾燥機全体が加熱ゾーンとなってもよいし、内部の一部が加熱ゾーンとなっていてもよい。乾燥機に加え、他の機器としてオーブンを併用してもよい。各空間の温度設定は、同じであっても異なってもよい。 The inside of a tenter dryer may be one space or divided into a plurality of spaces, but in one embodiment of the present invention, the inside of the dryer is divided into a plurality of spaces. It is preferable that The space may be a space whose temperature conditions, wind speed conditions, etc. can be controlled, and may not have a physical boundary such as a partition plate. When the inside of the dryer is divided into a plurality of spaces, the space may be divided into a plurality of spaces perpendicularly or parallel to the film transport direction. The number of spaces is usually 2 to 20, preferably 3 to 18, more preferably 4 to 15, and still more preferably 5 to 10. Regardless of the internal structure of the dryer, the entire dryer may serve as a heating zone, or a portion of the interior thereof may serve as a heating zone. In addition to the dryer, an oven may also be used as another device. The temperature settings for each space may be the same or different.

テンター式乾燥機内の加熱は、熱風処理方式及び/又は輻射線処理方式で行ってよいが、少なくとも熱風処理方式で行うことが好ましい。各空間(又は部屋)の熱風の風速は、好ましくは5~20m/秒、より好ましくは8~15m/秒、さらに好ましくは11~14m/秒である。 Heating in the tenter dryer may be performed by a hot air treatment method and/or a radiation treatment method, but it is preferable to perform at least a hot air treatment method. The speed of hot air in each space (or room) is preferably 5 to 20 m/sec, more preferably 8 to 15 m/sec, and even more preferably 11 to 14 m/sec.

フィルムの搬送速度は、好ましくは0.1~10m/秒、より好ましくは0.5~5m/秒である。 The transport speed of the film is preferably 0.1 to 10 m/sec, more preferably 0.5 to 5 m/sec.

張力の倍率(又は延伸倍率)は、乾燥機内での搬送過程において、幅方向の把持部間距離Nを適宜調整し、フィルムにかかる張力を変えることにより調整できる。例えば、延伸する場合、乾燥機入口における把持部間距離N1に対する乾燥機内での把持部間距離N2の比率(比率Zと称する)を1.00倍を超える所定の値に設定すればよい、逆に張力の倍率を1.00倍以下にする場合、比率Zを1.00倍以下の所定の値に設定すればよい。比率Zは、上記の張力の倍率と同様の範囲から選択できる。 The tension magnification (or stretching magnification) can be adjusted by appropriately adjusting the distance N between the gripping portions in the width direction and changing the tension applied to the film during the transportation process in the dryer. For example, when stretching, the ratio of the distance N2 between the grips inside the dryer to the distance N1 between the grips at the entrance of the dryer (referred to as ratio Z) may be set to a predetermined value exceeding 1.00 times. When the tension magnification is set to 1.00 times or less, the ratio Z may be set to a predetermined value of 1.00 times or less. The ratio Z can be selected from the same range as the tension magnification described above.

工程(X)を経たポリイミド系フィルムが乾燥機を出ると急冷されて収縮し、割れが生じることがある。そのため、乾燥機入口における把持部間距離N1に対する乾燥機内での把持部間距離N2(比率Z)よりも、乾燥機入口における把持部間距離N1に対する乾燥機出口における把持部間距離N3(比率Qと称する)を小さく設定することが好ましい。 When the polyimide film that has undergone step (X) exits the dryer, it is rapidly cooled and shrinks, which may cause cracks. Therefore, the distance between the grips at the dryer outlet N3 (ratio Q ) is preferably set small.

乾燥機からポリイミド系フィルムが出た後、すぐにフィルム端部をスリットすることが好ましい。スリットを行うことにより、フィルム端部における、把持部と把持されていなかった部分との間で生じやすい割れをフィルムから除去することにより、その後フィルムが搬送されてその温度が低下することによるフィルムの割れの広がりをあらかじめ防止できる。 It is preferable to slit the edges of the polyimide film immediately after it comes out of the dryer. By performing slitting, the cracks that tend to occur between the gripping part and the ungripped part at the edge of the film can be removed from the film. The spread of cracks can be prevented in advance.

工程(X)により得られたポリイミド系フィルムは、ロール状に巻き取ってもよい。ロールに巻き取る場合は、他の樹脂フィルム等を積層して巻き取ってもよい。他の樹脂フィルムの厚さは、通常、10~100μm、好ましくは10~80μmである。 The polyimide film obtained in step (X) may be wound up into a roll. When wound up into a roll, another resin film or the like may be laminated and wound up. The thickness of the other resin film is usually 10 to 100 μm, preferably 10 to 80 μm.

図4は、本発明の一実施形態におけるポリイミド系フィルムの製造方法の好適な実施形態を模式的に示す概略図である。図4の形態は、静止状態で工程(X)を行う方法を示し、原料フィルムに対して静止状態で加熱下で張力をかける。具体的には、枚葉状の原料フィルム1’の両面であって各表面における4つの端部の相対する各区域に保護フィルム2’が配置されている。複数の把持部材3’は、図3のような把持部3’により、枚葉状の原料フィルム1’と保護フィルム2’とを把持している。 FIG. 4 is a schematic view schematically showing a preferred embodiment of a method for producing a polyimide film in one embodiment of the present invention. The embodiment of FIG. 4 shows a method of carrying out step (X) in a stationary state, and tension is applied to the raw material film under heating in a stationary state. Specifically, protective films 2' are disposed on both sides of the sheet-shaped raw material film 1' in opposing areas of the four ends of each surface. The plurality of gripping members 3' grip the sheet-shaped raw material film 1' and the protective film 2' by gripping portions 3' as shown in FIG.

工程(X)は、上記テンター式乾燥機等で張力をかけるステップを行った後、さらに一軸延伸を行ってもよく、フィルムの機械的強度、好ましくは後述の耐凹み性を向上しやすい観点から、一軸延伸又は二軸延伸を行ってもよい。該延伸は、例えば一軸延伸機又は二軸延伸機を用いて行うことができる。二軸延伸を行う場合、逐次延伸であってもよいし、同時二軸延伸であっても良い。延伸温度は、上記の加熱温度の範囲から選択でき、延伸倍率も上記に記載の延伸倍率の範囲から選択できる。 In step (X), after performing the step of applying tension using the tenter dryer or the like, further uniaxial stretching may be performed, from the viewpoint of easily improving the mechanical strength of the film, preferably the dent resistance described below. , uniaxial stretching or biaxial stretching may be performed. The stretching can be performed using, for example, a uniaxial stretching machine or a biaxial stretching machine. When biaxial stretching is performed, sequential stretching or simultaneous biaxial stretching may be performed. The stretching temperature can be selected from the range of heating temperatures mentioned above, and the stretching ratio can also be selected from the range of stretching ratios described above.

<ポリイミド系フィルム>
本発明の製造方法により得られるポリイミド系フィルムは、フィルムの破断が生じず、保護フィルムの把持部材への融着(又は癒着)を抑制できるため、外観が良好であり、光学特性及び機械的特性に優れている。なお、ポリイミド系フィルムは、ポリイミド系原料フィルムに所定の張力を付与して得られるものであるため、含まれる成分及びその割合はポリイミド系原料フィルムと同様である。
<Polyimide film>
The polyimide film obtained by the production method of the present invention does not cause film breakage and can suppress the fusion (or adhesion) of the protective film to the gripping member, so it has a good appearance and has good optical and mechanical properties. Excellent. Note that since the polyimide film is obtained by applying a predetermined tension to the polyimide raw material film, the contained components and their ratios are the same as those of the polyimide raw material film.

上記の通り、ポリイミド系フィルムは、硬く伸びにくいことから、通常延伸されない。しかし、本発明者はそのようなポリイミド系フィルムを延伸しようと試みたため、張力と破断等との関係について鋭意検討し、張力が付与された(好ましくは延伸された)ポリイミド系フィルムの新たな製造方法を見出した。さらに、得られるポリイミド系フィルムは、特に耐凹み性が向上されることも見出した。 As mentioned above, polyimide films are hard and difficult to stretch, so they are usually not stretched. However, since the present inventor attempted to stretch such a polyimide film, he conducted a thorough study on the relationship between tension and breakage, and developed a new method for producing a tensioned (preferably stretched) polyimide film. I found a way. Furthermore, it has been found that the resulting polyimide film has particularly improved dent resistance.

耐凹み性は、耐凹み性鉛筆硬度により評価できる。耐凹み性鉛筆硬度の測定は、所定の硬度を有する鉛筆によりフィルム上に凹みを形成した後、23℃、50%RH環境下で24時間経過後に凹みが有るか否かを判断することにより行われ、凹みが無くならず残るときの硬度をそのフィルムの耐凹み鉛筆硬度とすることができる。具体的には、例えばポリイミド基材を有する165μmの樹脂フィルムの上に、25℃において貯蔵弾性率0.1MPa、25μm厚みのOCAを用いて、ポリイミド系フィルムを積層し試験サンプルを作製する。次いで、ポリイミド系フィルム面が表になるように厚み0.7mmのガラス上に載せて23℃50%RH環境下、鉛筆を45°の角度で取り付け、一定の荷重(300g)をかけながら鉛筆速度300mm/minで、耐鉛筆硬度試験器を用いて測定できる。判定は、15mm試験を行い、23℃50%RH環境下で24時間後に目視で凹みが有るか、無いかで行うことができる。本発明の一実施形態において、ポリイミド系フィルムの耐凹み性鉛筆硬度は、好ましくは5B以上、より好ましくは4B以上である。耐凹み性鉛筆硬度が、上記の下限以上であると、ポリイミド系フィルムを表示装置の前面板として使用した場合に表示装置表面の傷付きや凹みを抑制しやすい。また、ポリイミド系フィルムの耐凹み性鉛筆硬度は、通常9H以下である。 The dent resistance can be evaluated by dent resistance pencil hardness. Measurement of dent resistance pencil hardness is performed by forming a dent on the film with a pencil having a predetermined hardness, and then determining whether or not there is a dent after 24 hours in an environment of 23°C and 50% RH. The hardness when the dents do not disappear and remain can be defined as the dent resistance pencil hardness of the film. Specifically, for example, a test sample is prepared by laminating a polyimide film using OCA having a storage elastic modulus of 0.1 MPa and a thickness of 25 μm at 25° C. on a 165 μm resin film having a polyimide base material. Next, the pencil was placed on a 0.7 mm thick glass with the polyimide film side facing up at a 45° angle in an environment of 23°C and 50% RH, and the pencil speed was adjusted while applying a constant load (300 g). It can be measured at 300 mm/min using a pencil hardness tester. Judgment can be made by conducting a 15 mm test and visually observing whether there is a dent or not after 24 hours in a 23° C. 50% RH environment. In one embodiment of the present invention, the dent resistance pencil hardness of the polyimide film is preferably 5B or more, more preferably 4B or more. When the dent resistance pencil hardness is at least the above lower limit, scratches and dents on the surface of the display device can be easily suppressed when the polyimide film is used as a front plate of the display device. Further, the dent resistance pencil hardness of the polyimide film is usually 9H or less.

本発明の一実施形態において、ポリイミド系フィルムの溶媒含有量(又は残存量)は、フィルムの質量を基準として、好ましくは0.001質量%以上、より好ましくは0.01質量%以上、さらに好ましくは0.1質量%以上であり、好ましくは3質量%以下、より好ましくは2質量%以下、さらに好ましくは1.5質量%以下、さらにより好ましくは1.3質量%以下、特に好ましくは1.0質量%以下である。ポリイミド系フィルムの溶媒含有量が上記の範囲内であると、フィルムの機械的特性、光学特性及びフィルム外観が良好となる傾向がある。 In one embodiment of the present invention, the solvent content (or residual amount) of the polyimide film is preferably 0.001% by mass or more, more preferably 0.01% by mass or more, and even more preferably is 0.1% by mass or more, preferably 3% by mass or less, more preferably 2% by mass or less, even more preferably 1.5% by mass or less, even more preferably 1.3% by mass or less, particularly preferably 1 .0% by mass or less. When the solvent content of the polyimide film is within the above range, the mechanical properties, optical properties, and appearance of the film tend to be good.

本発明の一実施形態において、ポリイミド系フィルムの厚さは、好ましくは5μm以上、より好ましくは10μm以上、さらにより好ましくは20μm以上、特に好ましくは30μm以上、特により好ましくは40μm以上であり、好ましくは1,000μm以下、より好ましくは500μm以下、さらに好ましくは100μm以下、さらにより好ましくは80μm以下、特に好ましくは70μm以下、特により好ましくは60μm以下である。ポリイミド系フィルムの厚さが上記の下限以上であると、機械的特性を向上しやすく、上記の上限以下であると、光学特性を向上しやすい。ポリイミド系フィルムの厚さは、膜厚計等により測定でき、例えば実施例に記載の方法により測定できる。
なお、本明細書において、光学特性とは、例えば全光線透過率、YI値、ヘーズ等の光学的に評価し得る特性を意味し、光学特性が向上する又は高まるとは、例えば、全光線透過率が高くなること、YI値が低くなることや、ヘーズが低くなること等を示す。また、機械的特性とは、耐凹み性、耐屈曲性、弾性率等の機械的な特性を意味し、機械的特性が向上する又は高まるとは、例えば、耐凹み性、耐屈曲性や、弾性率等が高くなることを示す。
In one embodiment of the present invention, the thickness of the polyimide film is preferably 5 μm or more, more preferably 10 μm or more, even more preferably 20 μm or more, particularly preferably 30 μm or more, particularly preferably 40 μm or more, and preferably is 1,000 μm or less, more preferably 500 μm or less, even more preferably 100 μm or less, even more preferably 80 μm or less, particularly preferably 70 μm or less, particularly preferably 60 μm or less. When the thickness of the polyimide film is at least the above-mentioned lower limit, mechanical properties are easily improved, and when it is at most the above-mentioned upper limit, optical properties are easily improved. The thickness of the polyimide film can be measured using a film thickness meter or the like, for example, by the method described in Examples.
In this specification, optical properties mean properties that can be evaluated optically, such as total light transmittance, YI value, haze, etc., and improving or increasing optical properties means, for example, total light transmittance, YI value, haze, etc. This indicates that the ratio is higher, the YI value is lower, the haze is lower, etc. In addition, mechanical properties mean mechanical properties such as dent resistance, bending resistance, and elastic modulus, and improving or increasing mechanical properties means, for example, dent resistance, bending resistance, Indicates that the modulus of elasticity, etc. increases.

本発明の製造方法により得られるポリイミド系フィルムは、光学特性に優れるため、好ましくは光学フィルムである。本発明の製造方法では、原料フィルムが光学フィルムであっても、全光線透過率やYI等の光学特性を低下させることなく、ポリイミド系フィルムを製造できる。光学フィルムとは、好ましくは、少なくとも全光線透過率が高いフィルムを意味し、該全光線透過率は、好ましくは80%以上、より好ましくは85%以上、さらに好ましくは90%以上であり、通常100%以下である。ポリイミド系フィルムの全光線透過率が上記の下限以上であると透明性が良好となり、例えば表示装置の前面板に使用した場合に、高い視認性に寄与することができる。なお、全光線透過率は、ポリイミド系フィルムの上記厚さの範囲における全光線透過率であってよい。また、全光線透過率は、JIS K 7105:1981に準拠してヘーズコンピュータを用いて測定でき、例えば実施例に記載の方法により測定できる。 Since the polyimide film obtained by the production method of the present invention has excellent optical properties, it is preferably an optical film. In the production method of the present invention, even if the raw material film is an optical film, a polyimide film can be produced without reducing optical properties such as total light transmittance and YI. The optical film preferably means a film having at least a high total light transmittance, and the total light transmittance is preferably 80% or more, more preferably 85% or more, still more preferably 90% or more, and usually It is 100% or less. When the total light transmittance of the polyimide film is equal to or higher than the above lower limit, the polyimide film has good transparency, and can contribute to high visibility when used for a front panel of a display device, for example. Note that the total light transmittance may be the total light transmittance in the above thickness range of the polyimide film. Further, the total light transmittance can be measured using a haze computer in accordance with JIS K 7105:1981, for example, by the method described in Examples.

本発明の一実施形態において、ポリイミド系フィルムのヘーズは、好ましくは3.0%以下、より好ましくは2.0%以下、さらに好ましくは1.0%以下、さらにより好ましくは0.5%以下、特に好ましくは0.3%以下であり、通常0.01%以上である。ポリイミド系フィルムのヘーズが上記の上限以下であると透明性が良好となり、例えば表示装置の前面板に使用した場合に、高い視認性に寄与することができる。なお、ヘーズは、例えば、JIS K 7136:2000に準拠してヘーズコンピュータを用いて測定できる。 In one embodiment of the present invention, the haze of the polyimide film is preferably 3.0% or less, more preferably 2.0% or less, even more preferably 1.0% or less, even more preferably 0.5% or less. , particularly preferably 0.3% or less, and usually 0.01% or more. When the haze of the polyimide film is less than or equal to the above upper limit, the polyimide film has good transparency, and can contribute to high visibility when used for a front panel of a display device, for example. Note that haze can be measured using a haze computer in accordance with JIS K 7136:2000, for example.

本発明の一実施形態において、ポリイミド系フィルムのYI値(黄色度)は、好ましくは8以下、より好ましくは5以下、さらに好ましくは4以下、さらにより好ましくは3以下、特に好ましくは2以下、特により好ましくは1.7以下であり、通常-5以上であり、好ましくは-2以上である。ポリイミド系フィルムのYI値が上記の上限以下であると透明性が良好となり、例えば表示装置の前面板に使用した場合に、高い視認性に寄与することができる。なお、YI値は、例えば、JIS K 7373:2006に準拠して、紫外可視近赤外分光光度計を用いて300~800nmの光に対する透過率測定を行い、3刺激値(X、Y、Z)を求め、YI=100×(1.2769X-1.0592Z)/Yの式に基づいて算出でき、例えば実施例に記載の方法により測定できる。 In one embodiment of the present invention, the YI value (yellowness) of the polyimide film is preferably 8 or less, more preferably 5 or less, even more preferably 4 or less, even more preferably 3 or less, particularly preferably 2 or less, It is particularly preferably 1.7 or less, usually -5 or more, and preferably -2 or more. When the YI value of the polyimide film is less than or equal to the above upper limit, transparency will be good and, for example, when used for a front panel of a display device, it can contribute to high visibility. The YI value is determined by measuring the transmittance of light in the range of 300 to 800 nm using an ultraviolet-visible near-infrared spectrophotometer in accordance with JIS K 7373:2006, and calculating the tristimulus value (X, Y, Z). ) can be calculated based on the formula YI=100×(1.2769X−1.0592Z)/Y, and can be measured, for example, by the method described in Examples.

本発明の製造方法で得られるポリイミド系フィルムの用途は特に限定されず、種々の用途に使用してよい。ポリイミド系フィルムは、上記に述べたように単層であっても、積層体であってもよく、ポリイミド系フィルムをそのまま使用してもよいし、さらに他のフィルムを積層して他の層との積層体として使用してもよい。なお、ポリイミド系フィルムが積層体である場合、ポリイミド系フィルムの片面又は両面に積層された全ての層を含めてポリイミド系フィルムと称する。 The use of the polyimide film obtained by the production method of the present invention is not particularly limited, and may be used for various purposes. As mentioned above, the polyimide film may be a single layer or a laminate, and the polyimide film may be used as it is, or it may be laminated with other films. It may also be used as a laminate. Note that when the polyimide film is a laminate, all layers laminated on one or both sides of the polyimide film are referred to as the polyimide film.

ポリイミド系フィルムが積層体である場合、ポリイミド系フィルムの少なくとも一方の面に1以上の機能層を有することが好ましい。機能層としては、例えば紫外線吸収層、ハードコート層、プライマー層、ガスバリア層、粘着層、色相調整層、屈折率調整層などが挙げられる。機能層は単独又は二種以上組合せて使用できる。 When the polyimide film is a laminate, it is preferable to have one or more functional layers on at least one surface of the polyimide film. Examples of the functional layer include an ultraviolet absorbing layer, a hard coat layer, a primer layer, a gas barrier layer, an adhesive layer, a hue adjusting layer, and a refractive index adjusting layer. The functional layers can be used alone or in combination.

〔フレキシブル表示装置〕
本発明の製造方法で得られるポリイミド系フィルムは、フレキシブル表示装置に使用してもよい。本発明におけるポリイミド系フィルムは、好ましくはフレキシブル表示装置において前面板として用いられ、該前面板はウインドウフィルムと称されることがある。該フレキシブル表示装置は、フレキシブル表示装置用積層体と、有機EL表示パネルとからなり、有機EL表示パネルに対して視認側にフレキシブル表示装置用積層体が配置され、折り曲げ可能に構成されている。フレキシブル表示装置用積層体としては、さらに偏光板、タッチセンサを含有していてもよく、それらの積層順は任意であるが、視認側からウインドウフィルム、偏光板、タッチセンサ又はウインドウフィルム、タッチセンサ、偏光板の順に積層されていることが好ましい。タッチセンサよりも視認側に偏光板が存在すると、タッチセンサのパターンが視認されにくくなり表示画像の視認性が良くなるので好ましい。それぞれの部材は接着剤、粘着剤等を用いて積層することができる。また、前記ウインドウフィルム、偏光板、タッチセンサのいずれかの層の少なくとも一面に形成された遮光パターンを具備することができる。
[Flexible display device]
The polyimide film obtained by the production method of the present invention may be used for flexible display devices. The polyimide film in the present invention is preferably used as a front plate in a flexible display device, and the front plate is sometimes referred to as a window film. The flexible display device is composed of a flexible display device laminate and an organic EL display panel, and the flexible display device laminate is arranged on the viewing side with respect to the organic EL display panel, and is configured to be foldable. The laminate for a flexible display device may further contain a polarizing plate and a touch sensor, and the order of stacking them is arbitrary. , a polarizing plate are preferably laminated in this order. It is preferable that the polarizing plate is present on the viewing side of the touch sensor because the pattern of the touch sensor becomes less visible and the visibility of the displayed image improves. Each member can be laminated using an adhesive, a pressure-sensitive adhesive, or the like. Further, a light shielding pattern may be provided on at least one surface of any one of the window film, polarizing plate, and touch sensor layer.

〔偏光板〕
前記フレキシブル表示装置は、上記の通り、偏光板、中でも円偏光板をさらに備えることが好ましい。円偏光板は、直線偏光板にλ/4位相差板を積層することにより右円偏光成分又は左円偏光成分のみを透過させる機能を有する機能層である。例えば外光を右円偏光に変換して有機ELパネルで反射されて左円偏光となった外光を遮断し、有機ELの発光成分のみを透過させることで反射光の影響を抑制して画像を見やすくするために用いられる。円偏光機能を達成するためには、直線偏光板の吸収軸とλ/4位相差板の遅相軸は理論上45°である必要があるが、実用的には45±10°である。直線偏光板とλ/4位相差板は必ずしも隣接して積層される必要はなく、吸収軸と遅相軸の関係が前述の範囲を満足していればよい。全波長において完全な円偏光を達成することが好ましいが実用上は必ずしもその必要はないので本発明における円偏光板は楕円偏光板をも包含する。直線偏光板の視認側にさらにλ/4位相差フィルムを積層して、出射光を円偏光とすることで偏光サングラスをかけた状態での視認性を向上させることも好ましい。
〔Polarizer〕
As described above, the flexible display device preferably further includes a polarizing plate, particularly a circularly polarizing plate. A circularly polarizing plate is a functional layer that has a function of transmitting only a right circularly polarized light component or a left circularly polarized light component by laminating a λ/4 retardation plate on a linearly polarizing plate. For example, by converting external light into right-handed circularly polarized light, blocking the left-handed circularly polarized external light that is reflected by the organic EL panel, and transmitting only the organic EL light emitting component, the effect of reflected light is suppressed and the image is imaged. Used to make it easier to see. In order to achieve the circular polarization function, the absorption axis of the linear polarizing plate and the slow axis of the λ/4 retardation plate should theoretically be 45°, but in practice they are 45±10°. The linear polarizing plate and the λ/4 retardation plate do not necessarily need to be stacked adjacent to each other, as long as the relationship between the absorption axis and the slow axis satisfies the above range. Although it is preferable to achieve complete circularly polarized light at all wavelengths, it is not necessary in practice, so the circularly polarizing plate in the present invention also includes an elliptically polarizing plate. It is also preferable to further laminate a λ/4 retardation film on the viewing side of the linearly polarizing plate to make the emitted light circularly polarized, thereby improving visibility when wearing polarized sunglasses.

〔タッチセンサ〕
フレキシブル表示装置は、上記の通り、タッチセンサをさらに備えることが好ましい。タッチセンサは入力手段として用いられる。タッチセンサとしては、抵抗膜方式、表面弾性波方式、赤外線方式、電磁誘導方式、静電容量方式等様々な様式が挙げられ、好ましくは静電容量方式が挙げられる。
静電容量方式タッチセンサは活性領域及び前記活性領域の外郭部に位置する非活性領域に区分される。活性領域は表示パネルで画面が表示される表示部である領域に対応する領域であって、使用者のタッチが感知される領域であり、非活性領域は表示装置で画面が表示されない非表示部である領域に対応する領域である。タッチセンサはフレキシブルな特性を有する基板と、前記基板の活性領域に形成された感知パターンと、前記基板の非活性領域に形成され、前記感知パターンとパッド部を介して外部の駆動回路と接続するための各センシングラインを含むことができる。フレキシブルな特性を有する基板としては、前記ウインドウフィルムの透明基板と同様の材料が使用できる。
[Touch sensor]
As described above, the flexible display device preferably further includes a touch sensor. A touch sensor is used as an input means. As the touch sensor, there are various types such as a resistive film type, a surface acoustic wave type, an infrared type, an electromagnetic induction type, and a capacitance type, and preferably a capacitance type is used.
A capacitive touch sensor is divided into an active area and a non-active area located around the active area. The active area corresponds to the area of the display panel where the screen is displayed, and is the area where the user's touch is sensed, and the inactive area is the non-display area where the screen is not displayed on the display device. This is an area corresponding to an area. The touch sensor includes a flexible substrate, a sensing pattern formed in an active area of the substrate, and a sensing pattern formed in an inactive area of the substrate, and connected to an external driving circuit through the sensing pattern and a pad. Each sensing line can be included. As the flexible substrate, the same material as the transparent substrate of the window film can be used.

〔接着層〕
前記フレキシブル表示装置用積層体を形成する、ウインドウフィルム、円偏光板、タッチセンサなどの各層並びに各層を構成する直線偏光板、λ/4位相差板等のフィルム部材は接着剤によって接合することができる。該接着剤としては、水系接着剤、有機溶剤系、無溶剤系接着剤、固体接着剤、溶剤揮散型接着剤、水系溶剤揮散型接着剤、湿気硬化型接着剤、加熱硬化型接着剤、嫌気硬化型、活性エネルギー線硬化型接着剤、硬化剤混合型接着剤、熱溶融型接着剤、感圧型接着剤、感圧型粘着剤、再湿型接着剤等、通常使用されている接着剤等が使用でき、好ましくは水系溶剤揮散型接着剤、活性エネルギー線硬化型接着剤、粘着剤を使用できる。接着剤層の厚さは、求められる接着力等に応じて適宜調節することができ、好ましくは0.01~500μm、より好ましくは0.1~300μmである。前記フレキシブル表示装置用積層体には、複数の接着層が存在するが、それぞれの厚さや種類は同一であっても異なっていてもよい。
[Adhesive layer]
Each layer such as a window film, a circularly polarizing plate, and a touch sensor forming the laminate for a flexible display device, and film members such as a linearly polarizing plate and a λ/4 retardation plate constituting each layer can be bonded with an adhesive. can. The adhesives include water-based adhesives, organic solvent-based adhesives, solvent-free adhesives, solid adhesives, solvent-vaporizing adhesives, water-based solvent-vaporizing adhesives, moisture-curing adhesives, heat-curing adhesives, and anaerobic adhesives. Commonly used adhesives such as hardening type, active energy ray hardening type adhesive, curing agent mixed type adhesive, hot melt type adhesive, pressure sensitive type adhesive, pressure sensitive adhesive, rewetting type adhesive, etc. Preferably, a water-based solvent volatilization adhesive, an active energy ray curable adhesive, or a pressure-sensitive adhesive can be used. The thickness of the adhesive layer can be adjusted as appropriate depending on the required adhesive strength, and is preferably 0.01 to 500 μm, more preferably 0.1 to 300 μm. A plurality of adhesive layers are present in the laminate for a flexible display device, and the thickness and type of each adhesive layer may be the same or different.

以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。例中の「%」及び「部」は、特記しない限り、それぞれ質量%及び質量部を意味する。まず始めに物性値の測定方法を説明する。 Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples. "%" and "parts" in the examples mean % by mass and parts by mass, respectively, unless otherwise specified. First, a method for measuring physical property values will be explained.

<重量平均分子量の測定>
以下のようにして、実施例及び比較例で使用したポリイミド系樹脂の重量平均分子量を測定した。
ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)測定
(1)前処理方法
ポリイミド系樹脂に下記溶離液をポリイミド系樹脂濃度が2mg/mLとなるように加え、80℃にて30分間撹拌しながら加熱し、冷却後、0.45μmメンブランフィルターろ過したものを測定溶液とした。
(2)測定条件
カラム:東ソー(株)製TSKgel α-2500((7)7.8mm径×300mm)×1本、α-M((13)7.8mm径×300mm)×2本
溶離液:ジメチルホルムアミドDMF(10mmol/Lの臭化リチウム含有)
流量:1.0mL/分
検出器:RI検出器
カラム温度:40℃
注入量:100μL
分子量標準:標準ポリスチレン
<Measurement of weight average molecular weight>
The weight average molecular weights of the polyimide resins used in Examples and Comparative Examples were measured as follows.
Gel permeation chromatography (GPC) measurement (1) Pretreatment method Add the following eluent to polyimide resin so that the polyimide resin concentration is 2 mg/mL, heat at 80 ° C. with stirring for 30 minutes, and after cooling. The solution was filtered through a 0.45 μm membrane filter and used as a measurement solution.
(2) Measurement conditions Column: Tosoh Corporation TSKgel α-2500 ((7) 7.8 mm diameter x 300 mm) x 1, α-M ((13) 7.8 mm diameter x 300 mm) x 2 Eluent : Dimethylformamide DMF (contains 10 mmol/L lithium bromide)
Flow rate: 1.0 mL/min Detector: RI detector Column temperature: 40°C
Injection volume: 100μL
Molecular weight standard: standard polystyrene

<イミド化率の測定>
実施例及び比較例で使用したポリイミド系樹脂のイミド化率は、H-NMR測定により以下のようにして求めた。
(1)前処理方法
ポリイミド系フィルムを重水素化ジメチルスルホキシド(DMSO-d6)に溶解させて、ポリイミド系樹脂濃度2質量%の溶液としたものを測定試料とした。
(2)測定条件
測定装置:JEOL製 400MHz NMR装置 JNM-ECZ400S/L1
標準物質:DMSO-d6(2.5ppm)
試料温度:室温
積算回数:256回
緩和時間:5秒
(3)イミド化率解析方法
(ポリイミド系樹脂のイミド化率)
上記測定により得られたH-NMRスペクトルにおいて、観測されたベンゼンプロトンのうちイミド化前後で変化しない構造に由来し、ポリイミド系樹脂中に残存するアミック酸構造に由来する構造に影響を受けないベンゼンプロトンCの積分値をIntCとした。また、観測されたベンゼンプロトンのうちイミド化前後で変化しない構造に由来し、ポリイミド系樹脂中に残存するアミック酸構造に由来する構造に影響を受けるベンゼンプロトンDの積分値をIntDとした。得られたIntC及びIntDから以下の式によりβ値を求めた。
β=IntD/IntC
次に、複数のポリイミド系樹脂について上記式のβ値を求め、これらの結果から以下の相関式を得た。
イミド化率(%)=k×β+100
上記相関式中、kは定数である。
βを相関式に代入してポリイミド系樹脂のイミド化率(%)を得た。
<Measurement of imidization rate>
The imidization rate of the polyimide resin used in Examples and Comparative Examples was determined by 1 H-NMR measurement as follows.
(1) Pretreatment method A polyimide film was dissolved in deuterated dimethyl sulfoxide (DMSO-d6) to form a solution with a polyimide resin concentration of 2% by mass, which was used as a measurement sample.
(2) Measurement conditions Measuring device: JEOL 400MHz NMR device JNM-ECZ400S/L1
Standard substance: DMSO-d6 (2.5ppm)
Sample temperature: room temperature Accumulation number: 256 times Relaxation time: 5 seconds (3) Imidization rate analysis method (imidization rate of polyimide resin)
In the 1 H-NMR spectrum obtained by the above measurement, the observed benzene protons originate from a structure that does not change before and after imidization, and are not affected by the structure derived from the amic acid structure remaining in the polyimide resin. The integral value of benzene proton C was defined as IntC. Furthermore, among the observed benzene protons, the integral value of benzene proton D, which originates from a structure that does not change before and after imidization and is influenced by the structure derived from the amic acid structure remaining in the polyimide resin, was defined as IntD. The β value was determined from the obtained IntC and IntD using the following formula.
β=IntD/IntC
Next, the β value of the above formula was determined for a plurality of polyimide resins, and the following correlation formula was obtained from these results.
Imidization rate (%)=k×β+100
In the above correlation equation, k is a constant.
By substituting β into the correlation equation, the imidization rate (%) of the polyimide resin was obtained.

<厚さ>
実施例及び比較例で使用した保護フィルムの厚さ及び得られたポリイミド系フィルムの厚さはABSデジマチックインジケーター((株)ミツトヨ製、「ID-C112BS」)を用いて測定した。
<Thickness>
The thickness of the protective film used in the Examples and Comparative Examples and the thickness of the obtained polyimide film were measured using an ABS Digimatic Indicator (manufactured by Mitutoyo Co., Ltd., "ID-C112BS").

<保護フィルムの融点>
実施例及び比較例で使用した保護フィルムの融点は、示差走査熱量計を用いて、JIS K7121に準拠して測定した。
<Melting point of protective film>
The melting points of the protective films used in Examples and Comparative Examples were measured in accordance with JIS K7121 using a differential scanning calorimeter.

<ワニスの粘度>
実施例及び比較例におけるワニスの粘度は、JIS K 8803:2011に準拠して、ブルックフィールド社製E型粘度計DV-II+Proを用いて測定した。測定温度は25℃とした。
<Viscosity of varnish>
The viscosity of the varnishes in Examples and Comparative Examples was measured using an E-type viscometer DV-II+Pro manufactured by Brookfield Co., Ltd. in accordance with JIS K 8803:2011. The measurement temperature was 25°C.

<ポリイミド系フィルムの残存溶媒量>
実施例及び比較例における原料フィルム及びポリイミド系フィルムの溶媒含有量(残存溶媒量)の測定は、熱重量-示差熱(TG-DTA)測定を以下の手順で行うことにより実施し、120℃から250℃にかけての質量減少率S(質量%)を下記式に従い算出した。算出された質量減少率Sを、ポリイミド系フィルム中の残留溶媒量S(質量%)とした。
TG-DTAの測定装置:日立ハイテクサイエンス社製TG/DTA6300
測定条件:約20mgの試料を、室温から120℃まで10℃/分の昇温速度で昇温し、120℃で5分間保持した後、400℃まで10℃/分の昇温速度で昇温(加熱)しながら、試料の質量変化を測定。
S(質量%)=100-(W1/W0)×100
〔式中、W0は120℃で5分間保持した後の試料の質量であり、W1は250℃における試料の質量である〕。
なお、ポリイミド系フィルムの支持体とは反対面にプロテクトフィルムを積層している場合は、プロテクトフィルム及び支持体を剥離して、残留溶媒量を測定した。
<Residual solvent amount of polyimide film>
The solvent content (residual solvent amount) of the raw material films and polyimide films in Examples and Comparative Examples was measured by thermogravimetric-differential thermal (TG-DTA) measurement using the following procedure. The mass reduction rate S (mass %) at 250° C. was calculated according to the following formula. The calculated mass reduction rate S was defined as the residual solvent amount S (mass %) in the polyimide film.
TG-DTA measuring device: TG/DTA6300 manufactured by Hitachi High-Tech Science Co., Ltd.
Measurement conditions: Approximately 20 mg of sample was heated from room temperature to 120°C at a heating rate of 10°C/min, held at 120°C for 5 minutes, and then heated to 400°C at a heating rate of 10°C/min. (heating) while measuring the change in mass of the sample.
S (mass%) = 100 - (W1/W0) x 100
[In the formula, W0 is the mass of the sample after being held at 120°C for 5 minutes, and W1 is the mass of the sample at 250°C].
In addition, when the protect film was laminated|stacked on the side opposite to the support body of a polyimide film, the protect film and support body were peeled, and the residual solvent amount was measured.

<全光線透過率の測定>
JIS K 7105:1981に準拠して、スガ試験機(株)製の全自動直読ヘーズコンピュータHGM-2DPにより、実施例におけるポリイミド系フィルムの全光線透過率を測定した。
<Measurement of total light transmittance>
In accordance with JIS K 7105:1981, the total light transmittance of the polyimide film in the example was measured using a fully automatic direct reading haze computer HGM-2DP manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.

<YI値の測定>
実施例におけるポリイミド系フィルムのYI値(Yellow Index)を、JIS K 7373:2006に準拠して、日本分光(株)製の紫外可視近赤外分光光度計「V-670」を用いて測定した。サンプルがない状態でバックグラウンド測定を行った後、フィルムをサンプルホルダーにセットして、300~800nmの光に対する透過率測定を行い、3刺激値(X、Y、Z)を求め、下記式に基づいてYI値を算出した。
YI=100×(1.2769X-1.0592Z)/Y
<Measurement of YI value>
The YI value (Yellow Index) of the polyimide film in the example was measured in accordance with JIS K 7373:2006 using an ultraviolet-visible-near-infrared spectrophotometer "V-670" manufactured by JASCO Corporation. . After performing background measurement without a sample, set the film on the sample holder and measure the transmittance for light in the range of 300 to 800 nm, calculate the tristimulus values (X, Y, Z), and use the following formula. The YI value was calculated based on this.
YI=100×(1.2769X-1.0592Z)/Y

<製造例1:ポリイミド系樹脂の調製>
窒素ガス雰囲気下、撹拌翼を備えた1Lセパラブルフラスコに、DMAc 313.57gを加え、水分量が700ppmになるようにイオン交換水を必要量投入した。次いで、TFMB 18.53g(57.86mmol)を加え、室温で撹拌しながらTFMBをDMAcに溶解させた。次に、フラスコに6FDA 7.64g(17.19mmol)を添加し、10℃に冷却し、16時間撹拌した。その後、OBBC 1.69g(5.73mmol)、次いでTPC 6.28g(30.93mmol)をフラスコに加え、10℃で30分間撹拌した。次いで、水分量700ppmに調整したDMAc 313.57gを加え、10分間撹拌した後、さらにTPC 0.70g(3.45mmоl)をフラスコに加え、10℃で30分間撹拌した後、さらにTFMB 0.0367g(0.115mmоl)を加え、2時間撹拌した。次いで、フラスコにジイソプロピルエチルアミン 5.18g(40.11)、4-メチルピリジン 3.74g(40.11mmol)及び無水酢酸 12.29g(120.30mmol)を加え、10℃で30分間撹拌した。その後、オイルバスを用いて、10℃から50℃まで30分間、50℃から60℃まで10分間、60℃から65℃まで10分間かけてそれぞれ昇温した後、65℃から70℃まで10分間、70℃から75℃まで10分間かけてそれぞれ、段階的に昇温し、さらに70℃で3時間保温しながら撹拌し、反応液を得た。得られた反応液を室温まで冷却し、大過剰のメタノール中に糸状に投入し、析出した沈殿物をろ過して固形物として取り出し、メタノール中に6時間浸漬した。その後、再度固形物を濾別した後、大過剰量のメタノールで洗浄した。次に、固形物の減圧乾燥を80℃、24時間にて行い、ポリイミド系樹脂(1)を得た。得られたポリイミド系樹脂(1)の重量平均分子量Mwは295,000であり、イミド化率は98.1%であった。
<Production Example 1: Preparation of polyimide resin>
In a nitrogen gas atmosphere, 313.57 g of DMAc was added to a 1 L separable flask equipped with a stirring blade, and the required amount of ion-exchanged water was added so that the water content was 700 ppm. Then, 18.53 g (57.86 mmol) of TFMB was added, and TFMB was dissolved in DMAc with stirring at room temperature. Next, 7.64 g (17.19 mmol) of 6FDA was added to the flask, cooled to 10° C., and stirred for 16 hours. Thereafter, 1.69 g (5.73 mmol) of OBBC and then 6.28 g (30.93 mmol) of TPC were added to the flask and stirred at 10° C. for 30 minutes. Next, 313.57 g of DMAc adjusted to a moisture content of 700 ppm was added, and after stirring for 10 minutes, 0.70 g (3.45 mmol) of TPC was added to the flask, and after stirring at 10°C for 30 minutes, 0.0367 g of TFMB was added. (0.115 mmol) was added and stirred for 2 hours. Next, 5.18 g (40.11) of diisopropylethylamine, 3.74 g (40.11 mmol) of 4-methylpyridine, and 12.29 g (120.30 mmol) of acetic anhydride were added to the flask, and the mixture was stirred at 10° C. for 30 minutes. Then, using an oil bath, the temperature was raised from 10°C to 50°C for 30 minutes, from 50°C to 60°C for 10 minutes, from 60°C to 65°C for 10 minutes, and then from 65°C to 70°C for 10 minutes. The temperature was raised stepwise from 70°C to 75°C over 10 minutes, and the mixture was further stirred while keeping the temperature at 70°C for 3 hours to obtain a reaction solution. The resulting reaction solution was cooled to room temperature, poured into a large excess of methanol in the form of a thread, and the deposited precipitate was filtered and taken out as a solid, which was immersed in methanol for 6 hours. Thereafter, solid matter was filtered out again and washed with a large excess amount of methanol. Next, the solid material was dried under reduced pressure at 80° C. for 24 hours to obtain polyimide resin (1). The weight average molecular weight Mw of the obtained polyimide resin (1) was 295,000, and the imidization rate was 98.1%.

<製造例2:ワニスの調製>
ポリイミド系樹脂(1)をGBLに添加し、室温にて24時間撹拌することで完全に溶解させて、25℃における粘度40,000cps、固形分8.5%のワニス(1)を得た。
<Production Example 2: Preparation of varnish>
Polyimide resin (1) was added to GBL and completely dissolved by stirring at room temperature for 24 hours to obtain varnish (1) with a viscosity of 40,000 cps at 25° C. and a solid content of 8.5%.

<実施例1>
(ポリイミド系フィルムの製造)
厚さ188μmのポリエチレンテレフタレートフィルム基材(東洋紡(株)製:コスモシャイン(登録商標) A4100、以下PET基材と略す)を巻き出して、線速0.30m/分で搬送しながら、該PET基材上に、タンクに入れたワニス(1)をノズルから、幅500mmで流涎成形により塗布した。その後、同じ線速で搬送しながら、乾燥機で、120℃で20分、95℃で10分、85℃で10分加熱し、塗布されたワニスを乾燥して原料フィルム(乾燥塗膜)を得た。続いて、プロテクトフィルム((株)サンエー化研製;NSA-33T)をロールから巻き出して、該原料フィルムのPET基材と接する面とは反対側の面に貼合した後、該原料フィルムからPET基材を剥離してPET基材ロールとして巻き取り、残る積層フィルム(I)を、長さ100mの積層体ロール(I)として得た。原料フィルムの幅方向の長さは40cmであり、長手方向の長さは100mであった。また、原料フィルムの残存溶媒量は15質量%であった。
次に、得られた積層体ロール(I)から、搬送速度2.0m/秒で積層フィルム(I)を巻き出し、該積層フィルム(I)からプロテクトフィルムを剥離してプロテクトフィルムロールとして巻き取り、残る原料フィルムを、以下のようなテンター式乾燥機中において、図1及び2に示すように、原料フィルム1と保護フィルム2とからなる積層体に以下の条件で張力をかけながら乾燥した。なお、図1に示すように、テンター式乾燥機は、クリップを用いてフィルムの両端部を把持する機構を備えている。また、内部はフィルムの入口側から順に第1室~第6室に区分されている(図示せず)。その際、図3に示すようにクリップ3(把持部材3)と原料フィルム1の間(原料フィルムの両面)に保護フィルム2として、ポリイミドフィルムである東レ・デュポン製カプトン(融点≧350℃、50μm)が入るように乾燥機入口から投入し、乾燥機出口で保護フィルム2を巻取回収し、その後、ポリイミド系フィルムを得た。該保護フィルム2は、図1に示すように、原料フィルムの両面の幅方向の(又は長手方向に沿った)2つの端部における相対する2つの区域にそれぞれ配置されている。得られたポリイミド系フィルムは厚さが50μm、残存溶媒量が0.5質量%、全光線透過率が90.0%、及びYI値(黄色度)が1.5であった。また、保護フィルムの幅方向の長さは50mmであり、長手方向の長さは100mであった。
<Example 1>
(Manufacture of polyimide film)
A polyethylene terephthalate film base material (manufactured by Toyobo Co., Ltd.: Cosmoshine (registered trademark) A4100, hereinafter referred to as PET base material) with a thickness of 188 μm is unwound, and the PET is transported at a linear speed of 0.30 m/min. Varnish (1) placed in a tank was applied onto the substrate from a nozzle by drooling to a width of 500 mm. Then, while conveying at the same linear speed, the applied varnish is heated in a dryer at 120°C for 20 minutes, 95°C for 10 minutes, and 85°C for 10 minutes to dry the applied varnish and form a raw material film (dry coating film). Obtained. Next, a protect film (manufactured by San-A Kaken Co., Ltd.; NSA-33T) is unwound from the roll and pasted on the surface of the raw material film opposite to the surface that contacts the PET base material, and then The PET base material was peeled off and wound up as a PET base material roll, and the remaining laminate film (I) was obtained as a laminate roll (I) with a length of 100 m. The length of the raw material film in the width direction was 40 cm, and the length in the longitudinal direction was 100 m. Further, the amount of residual solvent in the raw material film was 15% by mass.
Next, the laminated film (I) is unwound from the obtained laminated body roll (I) at a conveyance speed of 2.0 m/sec, and the protective film is peeled off from the laminated film (I) and wound up as a protective film roll. As shown in FIGS. 1 and 2, the remaining raw material film was dried in a tenter dryer as shown below while applying tension to a laminate consisting of raw material film 1 and protective film 2 under the following conditions. Note that, as shown in FIG. 1, the tenter dryer is equipped with a mechanism for gripping both ends of the film using clips. Further, the interior is divided into a first chamber to a sixth chamber in order from the film entrance side (not shown). At that time, as shown in FIG. 3, a protective film 2 is placed between the clip 3 (gripping member 3) and the raw material film 1 (on both sides of the raw material film) using Kapton (melting point ≧350°C, 50 μm ) was put into the dryer from the inlet, and the protective film 2 was rolled up and collected at the dryer outlet, and then a polyimide film was obtained. As shown in FIG. 1, the protective films 2 are arranged in two opposing areas at two ends in the width direction (or along the longitudinal direction) on both sides of the raw material film. The obtained polyimide film had a thickness of 50 μm, a residual solvent amount of 0.5% by mass, a total light transmittance of 90.0%, and a YI value (yellowness) of 1.5. Further, the length of the protective film in the width direction was 50 mm, and the length in the longitudinal direction was 100 m.

<テンター式乾燥機>
・クリップの把持幅(原料フィルムの一方端部に位置する把持部から、原料フィルムの該一方端(先端)までの最短距離):25mm
・乾燥機入口におけるフィルム両端の把持部間距離N1に対する乾燥機内でのフィルム両端の把持部間距離N2の比率Z:1.1
・乾燥機入口におけるフィルム両端の把持部間距離N1に対する乾燥機出口でのフィルム両端の把持部間距離N3の比率Q:0.98
・乾燥機内温度:280℃
・乾燥機内の各室の風速:第1室13.5m/秒、第2室13m/秒、第3~6室11m/秒
<Tenter type dryer>
・Clip grip width (shortest distance from the grip located at one end of the raw material film to that one end (tip) of the raw material film): 25 mm
・Ratio Z of the distance N2 between the gripping parts at both ends of the film in the dryer to the distance N1 between the gripping parts at both ends of the film at the entrance of the dryer: 1.1
- Ratio of the distance N3 between the grips at both ends of the film at the dryer outlet to the distance N1 between the grips at both ends of the film at the dryer entrance: Q: 0.98
・Temperature inside the dryer: 280℃
・Wind speed in each chamber in the dryer: 13.5 m/sec in the 1st chamber, 13 m/sec in the 2nd chamber, 11 m/sec in the 3rd to 6th chambers

<実施例2>
保護フィルムとして用いたポリイミドフィルムの厚さを25μmに変更したこと以外は、実施例1と同様の方法でポリイミド系フィルムを得た。得られたポリイミド系フィルム2は、厚さが50μm、残存溶媒量が0.5質量%であった。
<Example 2>
A polyimide film was obtained in the same manner as in Example 1, except that the thickness of the polyimide film used as the protective film was changed to 25 μm. The obtained polyimide film 2 had a thickness of 50 μm and a residual solvent amount of 0.5% by mass.

<実施例3>
保護フィルムをポリイミドフィルムからポリテトラフルオロエチレン(日東電工製ニトフロン、融点≧327℃、厚さ50μm)に変えたこと以外は、実施例1と同様の方法でポリイミド系フィルムを得た。得られたポリイミド系フィルム3は厚さが50μm、残存溶媒量が0.5質量%であった。
<Example 3>
A polyimide film was obtained in the same manner as in Example 1, except that the protective film was changed from polyimide film to polytetrafluoroethylene (Nitflon manufactured by Nitto Denko, melting point ≧327°C, thickness 50 μm). The obtained polyimide film 3 had a thickness of 50 μm and a residual solvent amount of 0.5% by mass.

<実施例4>
保護フィルムをポリイミドフィルムからPET(東洋紡製ポリエステルフィルム「E5000」、融点260℃、厚さ50μm)に変えたこと、及び乾燥機の温度を260℃に変更したこと以外は、実施例1と同様の方法でポリイミド系フィルム4を得た。得られたポリイミド系フィルムは、厚さが50μm、残存溶媒量が1.0質量%であった。
<Example 4>
Same as Example 1 except that the protective film was changed from polyimide film to PET (Polyester film "E5000" manufactured by Toyobo, melting point 260 ° C., thickness 50 μm) and the temperature of the dryer was changed to 260 ° C. A polyimide film 4 was obtained by the method. The obtained polyimide film had a thickness of 50 μm and a residual solvent amount of 1.0% by mass.

<比較例1>
保護フィルムを用いなかったこと以外は、実施例1と同様の方法でポリイミド系フィルムの製造を実施した。
<Comparative example 1>
A polyimide film was produced in the same manner as in Example 1 except that a protective film was not used.

<比較例2>
保護フィルムとして、ポリエチレンフィルム(東レフィルム加工製「トレテック7332」、融点≦150℃、厚さ30μm)を用いたこと以外は、実施例1と同様の方法でポリイミド系フィルムの製造を実施した。
<Comparative example 2>
A polyimide film was produced in the same manner as in Example 1, except that a polyethylene film ("Toretec 7332" manufactured by Toray Film Co., Ltd., melting point ≦150°C, thickness 30 μm) was used as the protective film.

<比較例3>
保護フィルムとして、ポリプロピレン(東レ製「トレファン」、融点≦170℃、厚さ30μm)を用いたこと以外は、実施例1と同様の方法でポリイミド系フィルムの製造を実施した。
<Comparative example 3>
A polyimide film was produced in the same manner as in Example 1, except that polypropylene (Toray Fan, manufactured by Toray Industries, Ltd., melting point ≦170°C, thickness 30 μm) was used as the protective film.

実施例1~4及び比較例1~3において、ポリイミド系フィルムの製造を実施した結果を表1に示す。

Figure 2023132813000016
Table 1 shows the results of manufacturing polyimide films in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3.
Figure 2023132813000016

表1に示されるように、実施例1~4の製造方法では、ポリイミド系フィルムが破断せずに、安定して得られることが確認された。一方、比較例1の製造方法では、ポリイミド系フィルムの破断が生じ、比較例2及び3の製造方法では、クリップへの樹脂癒着及びフィルムの破断が生じ、搬送不良となることが確認された。 As shown in Table 1, it was confirmed that in the production methods of Examples 1 to 4, polyimide films were stably obtained without breaking. On the other hand, it was confirmed that in the manufacturing method of Comparative Example 1, the polyimide film broke, and in the manufacturing methods of Comparative Examples 2 and 3, resin adhesion to the clip and breakage of the film occurred, resulting in poor conveyance.

1,1’…原料フィルム
2,2’…保護フィルム
3,3’…把持部材
3a…把持部
4…エンドレスチェーン
A…搬送方向
B…把持部材の移動方向
N…幅方向の把持部間距離
L…把持部材の把持幅
1, 1'...Raw material film 2,2'...Protective film 3,3'...Gripping member 3a...Gripping part 4...Endless chain A...Transportation direction B...Movement direction of the gripping member N...Distance between the gripping parts in the width direction L ...Gripping width of gripping member

Claims (9)

ポリイミド系原料フィルムの少なくとも一方の面上の端部において融点が200℃以上の保護フィルムを相対する2つ以上の区域に配置し、前記区域において前記ポリイミド系原料フィルムと前記保護フィルムとが把持部材により把持された状態で、前記ポリイミド系原料フィルムに加熱下で張力をかける工程を含む、ポリイミド系フィルムの製造方法。 A protective film having a melting point of 200° C. or more is arranged in two or more opposing areas at an end portion on at least one surface of the polyimide raw material film, and in the area, the polyimide raw material film and the protective film are held together by a gripping member. A method for producing a polyimide film, the method comprising the step of applying tension to the polyimide raw material film under heating while being held by the polyimide film. 加熱温度は、200℃以上である、請求項1に記載の方法。 The method according to claim 1, wherein the heating temperature is 200°C or higher. 前記保護フィルムは、前記ポリイミド系原料フィルムの両面に配置されている、請求項1又は2に記載の方法。 The method according to claim 1 or 2, wherein the protective film is placed on both sides of the polyimide raw material film. 前記保護フィルムの融点は250℃以上である、請求項1~3のいずれかに記載の方法。 The method according to any one of claims 1 to 3, wherein the protective film has a melting point of 250°C or higher. 前記保護フィルムは、ポリイミド系保護フィルム、ポリテトラフルオロエチレン系保護フィルム及びポリエステル系保護フィルムからなる群より選択される少なくとも1つの樹脂フィルムである、請求項1~4のいずれかに記載の方法。 The method according to any one of claims 1 to 4, wherein the protective film is at least one resin film selected from the group consisting of a polyimide-based protective film, a polytetrafluoroethylene-based protective film, and a polyester-based protective film. 前記工程において、延伸により張力をかける、請求項1~5のいずれかに記載の方法。 The method according to any one of claims 1 to 5, wherein in the step, tension is applied by stretching. 前記張力を与える方向におけるポリイミド系原料フィルムの一辺の長さに対する、前記方向におけるポリイミド系フィルムの一辺の長さは、0.7~1.3倍である、請求項1~6のいずれかに記載の方法。 Any one of claims 1 to 6, wherein the length of one side of the polyimide film in the direction is 0.7 to 1.3 times the length of one side of the polyimide raw material film in the direction in which the tension is applied. Method described. 前記延伸は、一軸延伸機又は二軸延伸機を用いて行う、請求項6又は7に記載の方法。 The method according to claim 6 or 7, wherein the stretching is performed using a uniaxial stretching machine or a biaxial stretching machine. 前記把持部材はクリップ、ピンシート及びフィルムチャックからなる群より選択される少なくとも1つを含む、請求項1~8のいずれかに記載の方法。 The method according to any one of claims 1 to 8, wherein the gripping member includes at least one selected from the group consisting of a clip, a pin sheet, and a film chuck.
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