JP2020006682A - Laminate - Google Patents

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JP2020006682A JP2019105230A JP2019105230A JP2020006682A JP 2020006682 A JP2020006682 A JP 2020006682A JP 2019105230 A JP2019105230 A JP 2019105230A JP 2019105230 A JP2019105230 A JP 2019105230A JP 2020006682 A JP2020006682 A JP 2020006682A
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真義 唐澤
Masayoshi Karasawa
真義 唐澤
一喜 大松
Kazuyoshi Omatsu
一喜 大松
仁之 福井
Hitoshi Fukui
仁之 福井
明子 岸田
Akiko Kishida
明子 岸田
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Abstract

To provide a laminate including a transparent resin film derived from a polyimide-based polymer, which hardly causes whitening on a film surface and has a good appearance and visibility.SOLUTION: A laminate comprises: a transparent resin film that comprises at least one polyamide imide and one or more solvents and that is produced by a casting method; and a protective film bonded to at least one surface of the transparent resin film. A boiling point of a solvent that has the highest boiling point in the solvents is 120 to 300°C; a residual solvent amount S (mass%) of the transparent resin film calculated from a thermogravimetry-differential thermal measurement, and a low molecular weight component amount W (mass%) of the protective film measured by gel permeation chromatography at a measurement temperature of 140°C satisfy a relational expression (1) S×W≤4.7; and S is 0.01 mass% or more and W is 1% or less.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、積層体に関する。   The present invention relates to a laminate.

近年、各種画像表示装置のディスプレイの薄型化、軽量化およびフレキシブル化等に伴い、従来用いられていたガラスに代わる材料として、ポリイミドやポリアミド等の高分子に基づく透明樹脂フィルムが広く利用されている。このような透明樹脂フィルムの製造方法の1つとしてキャスト法(溶液流涎法)が知られている。キャスト法では、一般に、溶媒に溶解させたポリイミド等の高分子を含むワニスを支持基材上に塗布して製膜し、支持基材から剥離した後、乾燥により溶媒を除去することによって、樹脂フィルムを連続的に成形することができる。製膜された透明樹脂フィルムの表面には、適宜、剥離可能な保護フィルムが積層され、フィルム表面の保護が図られている(特許文献1〜3)。   In recent years, as the displays of various image display devices have become thinner, lighter, more flexible, and the like, a transparent resin film based on a polymer such as polyimide or polyamide has been widely used as a material that replaces conventionally used glass. . A casting method (solution dripping method) is known as one of the methods for producing such a transparent resin film. In the casting method, generally, a varnish containing a polymer such as polyimide dissolved in a solvent is coated on a supporting substrate to form a film, and after the coating is peeled off from the supporting substrate, the solvent is removed by drying to remove the resin. The film can be formed continuously. A protective film that can be peeled off is appropriately laminated on the surface of the formed transparent resin film to protect the film surface (Patent Documents 1 to 3).

特開2010−208312号公報JP 2010-208312 A 特開2015−214122号公報JP 2015-214122 A 特開2016−87799号公報JP-A-2006-87799

樹脂フィルム中に溶媒が存在している場合、保護フィルムに含まれる添加剤等の成分が樹脂フィルムに含まれる溶媒に溶出することがあり、溶出した成分により、保護フィルムが貼合された樹脂フィルムの表面が白化することがある。特に、キャスト法等により溶媒を用いて製造される透明樹脂フィルムでは、連続的な生産において、ワニス中の溶媒を完全に除去することは難しく、ある程度の量の溶媒が残存していることが多く、保護フィルムと貼合した際に白化が生じやすい。このような透明樹脂フィルムにおける白化は、高い透明性が要求される透明樹脂フィルムにとって外観的な欠陥となるだけでなく、各種画像表示装置などのディスプレイに用いる場合には視認性を悪化させる原因となる。   When a solvent is present in the resin film, components such as additives contained in the protective film may be eluted into the solvent contained in the resin film. May whiten. In particular, in a transparent resin film manufactured using a solvent by a casting method or the like, in continuous production, it is difficult to completely remove the solvent in the varnish, and a certain amount of the solvent often remains. When it is bonded to a protective film, whitening is likely to occur. Whitening in such a transparent resin film is not only an appearance defect for a transparent resin film requiring high transparency, but also causes a deterioration in visibility when used for displays such as various image display devices. Become.

そこで、本発明は、フィルム表面の白化が生じ難く、良好な外観および視認性を有する、ポリイミド系高分子に基づく透明樹脂フィルムを含む積層体を提供することを目的とする。   Therefore, an object of the present invention is to provide a laminate including a transparent resin film based on a polyimide-based polymer, which is less likely to cause whitening of the film surface and has good appearance and visibility.

本発明者等は、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明は、以下の好適な態様を提供するものである。
[1]少なくとも1種のポリアミドイミドおよび1種以上の溶媒を含んでなり、キャスト法により前記1種以上の溶媒を用いて製造される透明樹脂フィルムと、前記透明樹脂フィルムの少なくとも一方の面に貼合された保護フィルムとを含んでなる積層体であって、
前記1種以上の溶媒の中で最も沸点が高い溶媒の沸点が120〜300℃であり、
熱重量−示差熱(TD−DTA)測定による120℃から250℃における質量減少率として算出される、前記透明樹脂フィルムの残留溶媒量S(質量%)と、前記保護フィルムの、測定温度140℃におけるゲル浸透クロマトグラフィーにより測定して得られるチャートの全面積に対するLog Mが2.82から3.32までの面積の割合として定義される低分子成分量W(%)が、関係式(1):
S × W ≦ 4.7 (1)
を満たし、
Sが0.01質量%以上であり、Wが1%以下であり、
前記ポリアミドイミドが、式(10):

Figure 2020006682
〔式(10)中、Gは4価の有機基を表し、Aは2価の有機基を表す〕
で表される繰り返し構造単位と、式(11)〜(13):
Figure 2020006682
〔式(11)〜(13)中、
は4価の有機基を表し、Gは3価の有機基を表し、Gは2価の有機基を表し、
、AおよびAは、それぞれ独立に、2価の有機基を表す〕
のいずれかで表される繰り返し構造単位のいずれか1つ以上を含む重合体である、積層体。
[2]SとWとが関係式(1’):
0.005≦ S × W (1’)
を満たす、前記[1]に記載の積層体。
[3]透明樹脂フィルムのヘイズが1.0%以下である、前記[1]または[2]に記載の積層体。
[4]透明樹脂フィルムの全光線透過率が85%以上である、前記[1]〜[3]のいずれかに記載の積層体。
[5]透明樹脂フィルムが、N,N−ジメチルアセトアミド、γ−ブチロラクトン、N−メチルピロリドン、シクロペンタノン、酢酸ブチルおよび酢酸アミルからなる群から選択される溶媒を少なくとも1つ含む、前記[1]〜[4]のいずれかに記載の積層体。
[6]保護フィルムが、ポリオレフィン系樹脂フィルムである、前記[1]〜[5]のいずれかに記載の積層体。 The present inventors have conducted intensive studies to solve the above-mentioned problems, and as a result, completed the present invention. That is, the present invention provides the following preferred embodiments.
[1] A transparent resin film comprising at least one kind of polyamideimide and one or more kinds of solvents and produced by a casting method using the one or more kinds of solvents, and at least one surface of the transparent resin film A laminate comprising a bonded protective film and
The boiling point of the solvent having the highest boiling point among the one or more solvents is 120 to 300 ° C,
The residual solvent amount S (% by mass) of the transparent resin film, which is calculated as a weight loss rate from 120 ° C. to 250 ° C. by thermogravimetric-differential heat (TD-DTA) measurement, and a measurement temperature of 140 ° C. of the protective film The low molecular weight component W (%), defined as the ratio of the area where Log M is from 2.82 to 3.32 with respect to the total area of the chart obtained by gel permeation chromatography in :
S × W ≦ 4.7 (1)
The filling,
S is 0.01% by mass or more, W is 1% or less,
The polyamideimide has the formula (10):
Figure 2020006682
[In the formula (10), G represents a tetravalent organic group, and A represents a divalent organic group.]
And a repeating structural unit represented by the following formulas (11) to (13):
Figure 2020006682
[In formulas (11) to (13),
G 1 represents a tetravalent organic group, G 2 represents a trivalent organic group, G 3 represents a divalent organic group,
A 1 , A 2 and A 3 each independently represent a divalent organic group]
The laminate which is a polymer containing any one or more of the repeating structural units represented by any one of the above.
[2] S and W are related equations (1 ′):
0.005 ≦ S × W (1 ′)
The laminate according to the above [1], which satisfies the following.
[3] The laminate according to the above [1] or [2], wherein the haze of the transparent resin film is 1.0% or less.
[4] The laminate according to any one of [1] to [3], wherein the transparent resin film has a total light transmittance of 85% or more.
[5] The aforementioned [1], wherein the transparent resin film contains at least one solvent selected from the group consisting of N, N-dimethylacetamide, γ-butyrolactone, N-methylpyrrolidone, cyclopentanone, butyl acetate and amyl acetate. ] The laminated body according to any one of [4].
[6] The laminate according to any one of [1] to [5], wherein the protective film is a polyolefin-based resin film.

本発明によれば、フィルム表面の白化が生じ難く、良好な外観および視認性を有する、ポリイミド系高分子に基づく透明樹脂フィルムを含む積層体を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the laminated body containing the transparent resin film based on a polyimide-type polymer which has a favorable appearance and visibility which does not produce whitening of a film surface easily can be provided.

図1は、実施例1で作製した透明ポリイミド系フィルムのTG−DTA測定結果を示す。FIG. 1 shows TG-DTA measurement results of the transparent polyimide-based film produced in Example 1.

以下、本発明の実施の形態について、詳細に説明する。なお、本発明の範囲はここで説明する実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を損なわない範囲で種々の変更をすることができる。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. Note that the scope of the present invention is not limited to the embodiment described here, and various changes can be made without departing from the spirit of the present invention.

本発明の積層体は、透明樹脂フィルムと、前記透明樹脂フィルムの少なくとも一方の面に貼合された保護フィルムとを含んでなり、本発明の積層体を構成する透明樹脂フィルムは、ポリイミド、ポリアミドおよびポリアミドイミドからなる群から選択される少なくとも1種を含んでなり、ポリイミド、ポリアミドおよびポリアミドイミドからなる群から選択される少なくとも1種を含む樹脂組成物から形成される。   The laminate of the present invention includes a transparent resin film and a protective film bonded to at least one surface of the transparent resin film, and the transparent resin film constituting the laminate of the present invention includes polyimide and polyamide. And a resin composition containing at least one selected from the group consisting of polyimide, polyamide and polyamide-imide.

本明細書において、ポリイミドは、イミド基を含む繰返し構造単位を含有する重合体を表し、ポリアミドイミドは、イミド基を含む繰り返し構造単位とアミド基を含む繰り返し構造単位との両方を含有する重合体を表し、ポリアミドは、アミド基を含む繰返し構造単位を含有する重合体を表す。ポリイミド系高分子は、ポリイミドおよびポリアミドイミドから選ばれるいずれか1つ以上を含む重合体を表す。   In the present specification, polyimide represents a polymer containing a repeating structural unit containing an imide group, and polyamide imide is a polymer containing both a repeating structural unit containing an imide group and a repeating structural unit containing an amide group. And polyamide represents a polymer containing a repeating structural unit containing an amide group. The polyimide-based polymer represents a polymer containing any one or more selected from polyimide and polyamideimide.

本実施形態に係るポリイミド系高分子は、式(10)で表される繰り返し構造単位を有する。ここで、Gは4価の有機基を表し、Aは2価の有機基を表す。Gおよび/またはAは、異なる2種類以上の式(10)で表される繰り返し構造単位を含んでいてもよい。また、本実施形態に係るポリイミド系高分子は、得られる透明樹脂フィルムの各種物性を損なわない範囲で、式(11)、式(12)、および式(13)のいずれかで表される繰り返し構造単位のいずれか1つ以上を含んでいてもよい。   The polyimide-based polymer according to this embodiment has a repeating structural unit represented by the formula (10). Here, G represents a tetravalent organic group, and A represents a divalent organic group. G and / or A may contain two or more different types of repeating structural units represented by the formula (10). In addition, the polyimide-based polymer according to this embodiment is a repeating polymer represented by any one of formulas (11), (12), and (13) as long as various physical properties of the obtained transparent resin film are not impaired. Any one or more of the structural units may be included.

ポリイミド系高分子の主な構造単位が式(10)で表される繰り返し構造単位であると、透明樹脂フィルムの強度および透明性の観点で好ましい。本実施形態に係るポリイミド高分子において、式(10)で表される繰り返し構造単位は、ポリイミド系高分子の全繰り返し構造単位に対し、好ましくは40モル%以上であり、より好ましくは50モル%以上であり、さらに好ましくは70モル%以上であり、殊更好ましくは90モル%以上であり、殊更さらに好ましくは98モル%以上である。式(10)で表される繰り返し構造単位は、100モル%であってもよい。   It is preferable that the main structural unit of the polyimide-based polymer is a repeating structural unit represented by the formula (10) from the viewpoint of the strength and transparency of the transparent resin film. In the polyimide polymer according to this embodiment, the repeating structural unit represented by the formula (10) is preferably at least 40 mol%, more preferably 50 mol%, based on all the repeating structural units of the polyimide polymer. It is more preferably at least 70 mol%, particularly preferably at least 90 mol%, even more preferably at least 98 mol%. The repeating structural unit represented by the formula (10) may be 100 mol%.

Figure 2020006682
Figure 2020006682

GおよびGは、それぞれ独立に、4価の有機基を表し、好ましくは炭素数4〜40の4価の有機基を表す。前記有機基は、炭化水素基またはフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよく、その場合、炭化水素基およびフッ素置換された炭化水素基の炭素数は好ましくは1〜8である。GおよびGとしては、式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)または式(29)で表される基並びに4価の炭素数6以下の鎖式炭化水素基が例示される。式中の*は結合手を表し、Zは、単結合、−O−、−CH−、−CH−CH−、−CH(CH)−、−C(CH−、−C(CF−、−Ar−、−SO−、−CO−、−O−Ar−O−、−Ar−O−Ar−、−Ar−CH−Ar−、−Ar−C(CH−Ar−または−Ar−SO−Ar−を表す。Arはフッ素原子で置換されていてもよい炭素数6〜20のアリーレン基を表し、具体例としてはフェニレン基が挙げられる。得られる透明樹脂フィルムの黄色度を抑制しやすいことから、GおよびGとしては、好ましくは式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)または式(27)で表される基が挙げられる。 G and G 1 each independently represent a tetravalent organic group, preferably a tetravalent organic group having 4 to 40 carbon atoms. The organic group may be substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group. In this case, the hydrocarbon group and the fluorine-substituted hydrocarbon group preferably have 1 to 8 carbon atoms. The G and G 1, equation (20), equation (21), equation (22), equation (23), equation (24), equation (25), equation (26), equation (27), formula (28 ) Or a group represented by the formula (29), and a tetravalent chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms. In the formula * represents a bond, Z is a single bond, -O -, - CH 2 - , - CH 2 -CH 2 -, - CH (CH 3) -, - C (CH 3) 2 -, -C (CF 3) 2 -, - Ar -, - SO 2 -, - CO -, - O-Ar-O -, - Ar-O-Ar -, - Ar-CH 2 -Ar -, - Ar- C (CH 3) represents a 2 -Ar-, or -Ar-SO 2 -Ar-. Ar represents an arylene group having 6 to 20 carbon atoms which may be substituted with a fluorine atom, and specific examples include a phenylene group. Yellowness index of the transparent resin film obtained from the easily suppressed, as the G and G 1, preferably of formula (20), equation (21), equation (22), equation (23), equation (24), wherein And groups represented by formula (25), formula (26) or formula (27).

Figure 2020006682
Figure 2020006682

は3価の有機基を表し、好ましくは炭素数4〜40の3価の有機基を表す。前記有機基は、炭化水素基またはフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよく、その場合、炭化水素基およびフッ素置換された炭化水素基の炭素数は好ましくは1〜8である。
としては、式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)または式(29)で表される基の結合手のいずれか1つが水素原子に置き換わった基並びに3価の炭素数6以下の鎖式炭化水素基が例示される。式中のZの例は、Gに関する記述におけるZの例と同じである。
G 2 is represents a trivalent organic radical, preferably a trivalent organic group having 4 to 40 carbon atoms. The organic group may be substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group. In this case, the hydrocarbon group and the fluorine-substituted hydrocarbon group preferably have 1 to 8 carbon atoms.
The G 2, equation (20), equation (21), equation (22), equation (23), equation (24), equation (25), equation (26), equation (27), equation (28) or Examples thereof include a group in which one of the bonding hands of the group represented by the formula (29) is replaced by a hydrogen atom, and a trivalent chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms. The example of Z in the formula is the same as the example of Z in the description of G.

は2価の有機基を表し、好ましくは炭素数4〜40の2価の有機基を表す。前記有機基は、炭化水素基またはフッ素置換された炭化水素基で置換されていてもよく、その場合、炭化水素基およびフッ素置換された炭化水素基の炭素数は好ましくは1〜8である。
としては、式(20)、式(21)、式(22)、式(23)、式(24)、式(25)、式(26)、式(27)、式(28)または式(29)で表される基の結合手のうち、隣接しない2つが水素原子に置き換わった基および炭素数6以下の2価の鎖式炭化水素基が例示される。式中のZの例は、Gに関する記述におけるZの例と同じである。
G 3 represents a divalent organic group, and preferably represents a divalent organic group having 4 to 40 carbon atoms. The organic group may be substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group. In this case, the hydrocarbon group and the fluorine-substituted hydrocarbon group preferably have 1 to 8 carbon atoms.
As G 3 , formula (20), formula (21), formula (22), formula (23), formula (24), formula (25), formula (26), formula (27), formula (28) or Among the bonds of the group represented by the formula (29), a group in which two non-adjacent atoms are replaced by a hydrogen atom and a divalent chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms are exemplified. The example of Z in the formula is the same as the example of Z in the description of G.

A、A、AおよびAはいずれも2価の有機基を表し、好ましくは炭素数4〜40の2価の有機基を表す。前記有機基は、炭化水素基またはフッ素置換された炭素数1〜8の炭化水素基で置換されていてもよく、その場合、炭化水素基およびフッ素置換された炭化水素基の炭素数は好ましくは1〜8である。A、A、AおよびAとしては、それぞれ式(30)、式(31)、式(32)、式(33)、式(34)、式(35)、式(36)、式(37)または式(38)で表される基;これらがメチル基、フルオロ基、クロロ基またはトリフルオロメチル基の1種類以上で置換された基;および炭素数6以下の鎖式炭化水素基が例示される。 A, A 1 , A 2 and A 3 each represent a divalent organic group, preferably a divalent organic group having 4 to 40 carbon atoms. The organic group may be substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, in which case the carbon number of the hydrocarbon group and the fluorine-substituted hydrocarbon group is preferably 1 to 8. A, A 1 , A 2, and A 3 are respectively represented by Formula (30), Formula (31), Formula (32), Formula (33), Formula (34), Formula (35), Formula (36), and Formula (36). (37) or a group represented by the formula (38); a group in which these are substituted with at least one of a methyl group, a fluoro group, a chloro group and a trifluoromethyl group; and a chain hydrocarbon group having a carbon number of 6 or less. Is exemplified.

式中の*は結合手を表し、Z、ZおよびZは、それぞれ独立して、単結合、−O−、−CH−、−CH−CH−、−CH(CH)−、−C(CH−、−C(CF−、−S−、−SO−、−CO−または−NRを表す。ここで、Rはハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1〜12の炭化水素基を表す。ここで、Rはハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1〜12の炭化水素基を表す。ZとZ、および、ZとZは、それぞれ、各環に対してメタ位またはパラ位に位置することが好ましい。 In the formula * represents a bond, Z 1, Z 2 and Z 3 are each independently a single bond, -O -, - CH 2 - , - CH 2 -CH 2 -, - CH (CH 3 ) -, - C (CH 3 ) 2 -, - C (CF 3) 2 -, - S -, - SO 2 -, - represents a CO- or -NR 2. Here, R 2 represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom. Here, R 2 represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom. It is preferred that Z 1 and Z 2 and Z 2 and Z 3 are each located at the meta or para position with respect to each ring.

Figure 2020006682
Figure 2020006682

本発明において、透明樹脂フィルムを形成する樹脂組成物は、ポリアミドを含んでいてもよい。本実施形態に係るポリアミドは、式(13)で表される繰り返し構造単位を主とする重合体である。ポリアミドにおけるGおよびAの好ましい例および具体例は、ポリイミド系高分子におけるGおよびAの好ましい例および具体例と同じである。前記ポリアミドは、Gおよび/またはAが異なる2種類以上の式(13)で表される繰り返し構造単位を含んでいてもよい。 In the present invention, the resin composition forming the transparent resin film may include a polyamide. The polyamide according to the present embodiment is a polymer mainly composed of a repeating structural unit represented by the formula (13). Preferred examples and specific examples of G 3 and A 3 in the polyamide are the same as the preferable examples and specific examples of G 3 and A 3 in the polyimide-based polymer. The polyamide may include two or more types of repeating structural units represented by the formula (13) in which G 3 and / or A 3 are different.

ポリイミド系高分子は、例えば、ジアミンとテトラカルボン酸化合物(テトラカルボン酸二無水物等)との重縮合によって得ることができ、例えば、特開2006−199945号公報または特開2008−163107号公報に記載されている方法にしたがって合成することができる。ポリイミドの市販品としては、三菱瓦斯化学(株)製ネオプリム(登録商標)、河村産業(株)製KPI−MX300F等を挙げることができる。   The polyimide-based polymer can be obtained, for example, by polycondensation of a diamine and a tetracarboxylic acid compound (such as tetracarboxylic dianhydride). For example, JP-A-2006-199945 or JP-A-2008-163107 Can be synthesized according to the method described in Commercially available polyimides include Neoprim (registered trademark) manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc., and KPI-MX300F manufactured by Kawamura Sangyo Co., Ltd.

ポリイミド系高分子の合成に用いられるテトラカルボン酸化合物としては、芳香族テトラカルボン酸およびその無水物、好ましくはその二無水物等の芳香族テトラカルボン酸化合物;および脂肪族テトラカルボン酸およびその無水物、好ましくはその二無水物等の脂肪族テトラカルボン酸化合物等が挙げられる。テトラカルボン酸化合物は、無水物の他、テトラカルボン酸クロリド化合物等のテトラカルボン酸化合物誘導体であってもよく、これらは単独または2種以上を組み合わせて使用できる。   Examples of the tetracarboxylic acid compound used for the synthesis of the polyimide-based polymer include aromatic tetracarboxylic acids and anhydrides thereof, preferably aromatic tetracarboxylic acid compounds such as dianhydrides; and aliphatic tetracarboxylic acids and anhydrides thereof. And preferably an aliphatic tetracarboxylic acid compound such as a dianhydride thereof. The tetracarboxylic acid compound may be a tetracarboxylic acid compound derivative such as a tetracarboxylic acid chloride compound in addition to an anhydride, and these may be used alone or in combination of two or more.

芳香族テトラカルボン酸二無水物の具体例としては、非縮合多環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物、単環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物および縮合多環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物が挙げられる。非縮合多環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、4,4’−オキシジフタル酸二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシフェニル)プロパン二無水物、4,4’−(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物(6FDAと記載することがある)、1,2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,1−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,1−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、4,4’−(p−フェニレンジオキシ)ジフタル酸二無水物、4,4’−(m−フェニレンジオキシ)ジフタル酸二無水物が挙げられる。また、単環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、1,2,4,5−ベンゼンテトラカルボン酸二無水物が、縮合多環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物が挙げられる。   Specific examples of the aromatic tetracarboxylic dianhydride include a non-condensed polycyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride, a monocyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride and a condensed polycyclic aromatic tetracarboxylic acid. Carboxylic dianhydrides are mentioned. Examples of the non-condensed polycyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride include 4,4′-oxydiphthalic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride and 2,2 ′ , 3,3′-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2 ′, 3,3′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-diphenylsulfonetetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2-bis (2,3-dicarboxy) Phenyl) propane dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenoxyphenyl) propane dianhydride, 4,4 ′-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic dianhydride (referred to as 6FDA) ), 1,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,1-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,2-bis (3 4-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,1-bis (3,4-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, bis (2,3 -Dicarboxyphenyl) methane dianhydride, 4,4 '-(p-phenylenedioxy) diphthalic dianhydride, and 4,4'-(m-phenylenedioxy) diphthalic dianhydride. Further, as the monocyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride, 1,2,4,5-benzenetetracarboxylic dianhydride is used, and as the condensed polycyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride, 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride is exemplified.

これらの中でも、好ましくは4,4’−オキシジフタル酸二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシフェニル)プロパン二無水物、4,4’−(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物(6FDA)、1,2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,1−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,1−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、4,4’−(p−フェニレンジオキシ)ジフタル酸二無水物および4,4’−(m−フェニレンジオキシ)ジフタル酸二無水物が挙げられ、より好ましくは4,4’−オキシジフタル酸二無水物、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、4,4’−(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物(6FDA)、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物および4,4’−(p−フェニレンジオキシ)ジフタル酸二無水物が挙げられる。これらは単独または2種以上を組み合わせて使用できる。   Of these, 4,4'-oxydiphthalic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, and 2,2', 3,3'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride are preferred. Anhydride, 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2', 3,3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-diphenyl Sulfonetetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2- Bis (3,4-dicarboxyphenoxyphenyl) propane dianhydride, 4,4 ′-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic dianhydride (6FDA), 1,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) Nyl) ethane dianhydride, 1,1-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,1-bis (3,4-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, 4,4 ′-( p-phenylenedioxy) diphthalic dianhydride and 4,4 ′-(m-phenylenedioxy) diphthalic dianhydride; more preferably 4,4′-oxydiphthalic dianhydride; 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2', 3,3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 4,4 '-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic dianhydride ( 6FD ), Bis (3,4-carboxyphenyl) methane dianhydride, and 4, 4 '- (p-phenylene-oxy) diphthalic acid dianhydride. These can be used alone or in combination of two or more.

脂肪族テトラカルボン酸二無水物としては、環式または非環式の脂肪族テトラカルボン酸二無水物が挙げられる。環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物とは、脂環式炭化水素構造を有するテトラカルボン酸二無水物であり、その具体例としては、1,2,4,5−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物等のシクロアルカンテトラカルボン酸二無水物、ビシクロ[2.2.2]オクト−7−エン−2,3,5,6−テトラカルボン酸二無水物、ジシクロヘキシル3,3’−4,4’−テトラカルボン酸二無水物およびこれらの位置異性体が挙げられる。これらは単独または2種以上を組み合わせて使用できる。非環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物の具体例としては、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−ペンタンテトラカルボン酸二無水物等が挙げられ、これらは単独または2種以上を組み合わせて使用できる。また、環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物および非環式脂肪族テトラカルボン酸二無水物を組み合わせて用いてもよい。   Examples of the aliphatic tetracarboxylic dianhydride include cyclic and acyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydrides. The cycloaliphatic tetracarboxylic dianhydride is a tetracarboxylic dianhydride having an alicyclic hydrocarbon structure, and specific examples thereof include 1,2,4,5-cyclohexanetetracarboxylic dianhydride. , Cycloalkanetetracarboxylic dianhydride such as 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic dianhydride, bicyclo [2.2 .2] oct-7-ene-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, dicyclohexyl 3,3′-4,4′-tetracarboxylic dianhydride and positional isomers thereof. . These can be used alone or in combination of two or more. Specific examples of the acyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride include 1,2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride and 1,2,3,4-pentanetetracarboxylic dianhydride. These can be used alone or in combination of two or more. Further, a cycloaliphatic tetracarboxylic dianhydride and an acyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride may be used in combination.

テトラカルボン酸化合物の中でも、透明樹脂フィルムの弾性率、耐屈曲性、および光学特性を向上しやすい観点から、好ましくは前記脂環式テトラカルボン酸二無水物または非縮合多環式の芳香族テトラカルボン酸二無水物が挙げられる。より好ましい具体例としては、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、4,4’−(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸二無水物(6FDA)が挙げられる。これらは単独または2種以上を組み合わせて使用できる。   Among the tetracarboxylic acid compounds, from the viewpoint of easily improving the elastic modulus, bending resistance, and optical properties of the transparent resin film, preferably the alicyclic tetracarboxylic dianhydride or the non-condensed polycyclic aromatic tetracarbonate Carboxylic dianhydrides are mentioned. More preferred specific examples include 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2 ′, 3,3′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis (3 , 4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride and 4,4 ′-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic dianhydride (6FDA). These can be used alone or in combination of two or more.

本実施形態に係るポリイミド系高分子は、得られる透明樹脂フィルムの各種物性を損なわない範囲で、上記のポリイミド合成に用いられるテトラカルボン酸の無水物に加えて、テトラカルボン酸、トリカルボン酸化合物、ジカルボン酸化合物、それらの無水物およびそれらの誘導体をさらに反応させたものであってもよい。   Polyimide-based polymer according to the present embodiment, in addition to the anhydride of tetracarboxylic acid used in the above polyimide synthesis, tetracarboxylic acid, tricarboxylic acid compound, as long as the various physical properties of the obtained transparent resin film are not impaired. Dicarboxylic acid compounds, their anhydrides, and their derivatives may be further reacted.

トリカルボン酸化合物としては、芳香族トリカルボン酸、脂肪族トリカルボン酸およびそれらの類縁の酸クロリド化合物、酸無水物等が挙げられ、これらは2種以上を併用してもよい。その具体例としては、1,2,4−ベンゼントリカルボン酸の無水物;2,3,6−ナフタレントリカルボン酸−2,3−無水物;フタル酸無水物と安息香酸とが単結合、−CH−、−C(CH−、−C(CF−、−SO−またはフェニレン基で連結された化合物が挙げられる。 Examples of the tricarboxylic acid compound include aromatic tricarboxylic acids, aliphatic tricarboxylic acids, and related acid chloride compounds and acid anhydrides, and two or more of these may be used in combination. Specific examples thereof include an anhydride of 1,2,4-benzenetricarboxylic acid; 2,3,6-naphthalenetricarboxylic acid-2,3-anhydride; a single bond of phthalic anhydride and benzoic acid; 2 -, - C (CH 3 ) 2 -, - C (CF 3) 2 -, - SO 2 - , or compounds linked phenylene group.

ジカルボン酸化合物としては、芳香族ジカルボン酸、脂肪族ジカルボン酸およびそれらの類縁の酸クロリド化合物、酸無水物等が挙げられ、これらは2種以上を併用してもよい。その具体例としては、テレフタル酸;イソフタル酸;ナフタレンジカルボン酸;4,4’−ビフェニルジカルボン酸;3,3’−ビフェニルジカルボン酸;炭素数8以下である鎖式炭化水素、のジカルボン酸化合物および2つの安息香酸骨格が−CH−、−S−、−C(CH−、−C(CF−、−O−、−NR−、−C(=O)−、−SO−またはフェニレン基で連結された化合物が挙げられる。これらは単独または2種以上を組み合わせて使用できる。ここで、Rはハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数1〜12の炭化水素基を表す。 Examples of the dicarboxylic acid compound include aromatic dicarboxylic acids, aliphatic dicarboxylic acids, and related acid chloride compounds and acid anhydrides, and two or more of these may be used in combination. Specific examples thereof include dicarboxylic acid compounds of terephthalic acid; isophthalic acid; naphthalenedicarboxylic acid; 4,4'-biphenyldicarboxylic acid; 3,3'-biphenyldicarboxylic acid; and a chain hydrocarbon having 8 or less carbon atoms; two benzoate skeleton -CH 2 -, - S -, - C (CH 3) 2 -, - C (CF 3) 2 -, - O -, - NR 9 -, - C (= O) -, A compound linked by —SO 2 — or a phenylene group is exemplified. These can be used alone or in combination of two or more. Here, R 9 represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a halogen atom.

ジカルボン酸化合物としては、好ましくはテレフタル酸;イソフタル酸;4,4’−ビフェニルジカルボン酸;3,3’−ビフェニルジカルボン酸;および2つの安息香酸骨格が−CH−、−C(=O)−、−O−、−NR−、−SO−またはフェニレン基で連結された化合物であり、より好ましくは、テレフタル酸;4,4’−ビフェニルジカルボン酸;および2つの安息香酸骨格が−O−、−NR−、−C(=O)−または−SO−で連結された化合物である。これらは単独または2種以上を組み合わせて使用できる。 The dicarboxylic acid compound is preferably terephthalic acid; isophthalic acid; 4,4′-biphenyldicarboxylic acid; 3,3′-biphenyldicarboxylic acid; and two benzoic acid skeletons having —CH 2 —, —C (= O). —, —O—, —NR 9 —, —SO 2 — or a compound linked by a phenylene group, more preferably terephthalic acid; 4,4′-biphenyldicarboxylic acid; and two benzoic acid skeletons— O -, - NR 9 -, - C (= O) - or -SO 2 - is a compound linked with. These can be used alone or in combination of two or more.

テトラカルボン酸化合物、トリカルボン酸化合物、およびジカルボン酸化合物の合計に対する、テトラカルボン酸化合物の割合は、好ましくは40モル%以上であり、より好ましくは50モル%以上であり、さらに好ましくは70モル%以上であり、よりさらに好ましくは90モル%以上であり、とりわけ好ましくは98モル%以上である。   The ratio of the tetracarboxylic acid compound to the total of the tetracarboxylic acid compound, tricarboxylic acid compound and dicarboxylic acid compound is preferably at least 40 mol%, more preferably at least 50 mol%, further preferably at least 70 mol%. And more preferably at least 90 mol%, particularly preferably at least 98 mol%.

ポリイミド系高分子の合成に用いられるジアミンとしては、脂肪族ジアミン、芳香族ジアミンまたはそれらの混合物が挙げられる。なお、本実施形態において「芳香族ジアミン」とは、アミノ基が芳香環に直接結合しているジアミンを表し、その構造の一部に脂肪族基またはその他の置換基を含んでいてもよい。芳香環は単環でも縮合環でもよく、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環およびフルオレン環等が例示されるが、これらに限定されるわけではない。これらの中でも、好ましくはベンゼン環が挙げられる。また「脂肪族ジアミン」とは、アミノ基が脂肪族基に直接結合しているジアミンを表し、その構造の一部に芳香環やその他の置換基を含んでいてもよい。   Examples of the diamine used for the synthesis of the polyimide polymer include an aliphatic diamine, an aromatic diamine, and a mixture thereof. In the present embodiment, “aromatic diamine” refers to a diamine in which an amino group is directly bonded to an aromatic ring, and a part of the structure may include an aliphatic group or another substituent. The aromatic ring may be a single ring or a condensed ring, and is exemplified by, but not limited to, a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring, and a fluorene ring. Among these, a benzene ring is preferred. The “aliphatic diamine” refers to a diamine in which an amino group is directly bonded to an aliphatic group, and may have an aromatic ring or another substituent in a part of its structure.

脂肪族ジアミンの具体例としては、ヘキサメチレンジアミン等の非環式脂肪族ジアミンおよび1,3−ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、1,4−ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、ノルボルナンジアミン、4,4’−ジアミノジシクロヘキシルメタン等の環式脂肪族ジアミン等が挙げられ、これらは単独または2種以上を組み合わせて使用できる。   Specific examples of the aliphatic diamine include acyclic aliphatic diamines such as hexamethylene diamine, and 1,3-bis (aminomethyl) cyclohexane, 1,4-bis (aminomethyl) cyclohexane, norbornanediamine, and 4,4 ′. And cycloaliphatic diamines such as diaminodicyclohexylmethane and the like, and these can be used alone or in combination of two or more.

芳香族ジアミンの具体例としては、p−フェニレンジアミン、m−フェニレンジアミン、2,4−トルエンジアミン、m−キシリレンジアミン、p−キシリレンジアミン、1,5−ジアミノナフタレン、2,6−ジアミノナフタレン等の、芳香環を1つ有する芳香族ジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルプロパン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,3’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、3,4’−ジアミノジフェニルスルホン、3,3’−ジアミノジフェニルスルホン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2’−ジメチルベンジジン、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)−4,4’−ジアミノジフェニル(TFMBと記載することがある)、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、9,9−ビス(4−アミノフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−アミノ−3−メチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−アミノ−3−クロロフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−アミノ−3−フルオロフェニル)フルオレン等の、芳香環を2つ以上有する芳香族ジアミンが挙げられる。これらは単独または2種以上を組み合わせて使用できる。   Specific examples of the aromatic diamine include p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, 2,4-toluenediamine, m-xylylenediamine, p-xylylenediamine, 1,5-diaminonaphthalene, and 2,6-diamino Aromatic diamine having one aromatic ring such as naphthalene, 4,4′-diaminodiphenylmethane, 4,4′-diaminodiphenylpropane, 4,4′-diaminodiphenyl ether, 3,4′-diaminodiphenyl ether, 3,3 '-Diaminodiphenyl ether, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3'-diaminodiphenylsulfone, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, bis [4- (4-aminophen) Noxy) phenyl] sulfone, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfone, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (3-amino Phenoxy) phenyl] propane, 2,2′-dimethylbenzidine, 2,2′-bis (trifluoromethyl) -4,4′-diaminodiphenyl (sometimes referred to as TFMB), 4,4′-bis ( 4-aminophenoxy) biphenyl, 9,9-bis (4-aminophenyl) fluorene, 9,9-bis (4-amino-3-methylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-amino-3-chlorophenyl) ) Aromatic diamines having two or more aromatic rings, such as fluorene and 9,9-bis (4-amino-3-fluorophenyl) fluorene. These can be used alone or in combination of two or more.

芳香族ジアミンとしては、好ましくは4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルプロパン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,3’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、3,3’−ジアミノジフェニルスルホン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2’−ジメチルベンジジン、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)−4,4’−ジアミノジフェニル(TFMB)、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニルであり、より好ましくは4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルプロパン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2’−ジメチルベンジジン、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)−4,4’−ジアミノジフェニル(TFMB)、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニルである。これらは単独または2種以上を組み合わせて使用できる。   As the aromatic diamine, preferably 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenylether, 3,3'-diaminodiphenylether, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3′-diaminodiphenyl sulfone, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfone, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2′-dimethylbenzidine, 2,2′-bis (Trifluoromethyl) -4,4′-diaminodiphenyl (TFMB), 4,4′-bis (4 Aminophenoxy) biphenyl, more preferably 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenylether, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 1,4-bis ( 4-aminophenoxy) benzene, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2′-dimethylbenzidine, 2,2 '-Bis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminodiphenyl (TFMB) and 4,4'-bis (4-aminophenoxy) biphenyl. These can be used alone or in combination of two or more.

前記ジアミンは、フッ素系置換基を有することもできる。フッ素系置換基としては、トリフルオロメチル基などの炭素数1〜5のパーフルオロアルキル基、および、フルオロ基が挙げられる。   The diamine may have a fluorine-based substituent. Examples of the fluorine-based substituent include a perfluoroalkyl group having 1 to 5 carbon atoms such as a trifluoromethyl group, and a fluoro group.

上記ジアミンの中でも、高透明性および低着色性の観点からは、ビフェニル構造を有する芳香族ジアミンからなる群から選ばれる1種以上を用いることが好ましく、具体例としては2,2’−ジメチルベンジジン、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)−4,4’−ジアミノジフェニル(TFMB)および4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニルからなる群から選ばれる1種以上を用いることが好ましい。ビフェニル構造およびフッ素系置換基を有するジアミンであることがより好ましく、具体例としては2,2’−ビス(トリフルオロメチル)−4,4’−ジアミノジフェニル(TFMB)を用いることがより好ましい。   Among the above diamines, from the viewpoint of high transparency and low coloring property, it is preferable to use at least one selected from the group consisting of aromatic diamines having a biphenyl structure, and specific examples thereof include 2,2′-dimethylbenzidine. And at least one selected from the group consisting of 2,2'-bis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminodiphenyl (TFMB) and 4,4'-bis (4-aminophenoxy) biphenyl. preferable. A diamine having a biphenyl structure and a fluorine-based substituent is more preferable, and as a specific example, 2,2'-bis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminodiphenyl (TFMB) is more preferably used.

ポリイミド系高分子は、ジアミンと、テトラカルボン酸化合物(酸クロリド化合物、テトラカルボン酸二無水物等のテトラカルボン酸化合物誘導体を含む)との重縮合で形成される、式(10)で表される繰り返し構造単位を含む縮合型高分子である。出発原料としては、これらに加えて、さらにトリカルボン酸化合物(酸クロリド化合物、トリカルボン酸無水物等のトリカルボン酸化合物誘導体を含む)およびジカルボン酸化合物(酸クロリド化合物等の誘導体を含む)を用いることもある。また、ポリアミドは、ジアミンと、ジカルボン酸化合物(酸クロリド化合物等の誘導体を含む)との重縮合で形成される、式(13)で表される繰り返し構造単位を含む縮合型高分子である。   The polyimide-based polymer is represented by the formula (10), which is formed by polycondensation of a diamine and a tetracarboxylic acid compound (including a tetracarboxylic acid compound derivative such as an acid chloride compound and tetracarboxylic dianhydride). Is a condensation type polymer containing a repeating structural unit. In addition to these, tricarboxylic acid compounds (including tricarboxylic acid compound derivatives such as acid chloride compounds and tricarboxylic anhydrides) and dicarboxylic acid compounds (including derivatives such as acid chloride compounds) may be used as starting materials. is there. Further, polyamide is a condensation type polymer containing a repeating structural unit represented by the formula (13), which is formed by polycondensation of a diamine and a dicarboxylic acid compound (including a derivative such as an acid chloride compound).

式(10)および式(11)で表される繰り返し構造単位は、通常、ジアミン類およびテトラカルボン酸化合物から誘導される。式(12)で表される繰り返し構造単位は、通常、ジアミンおよびトリカルボン酸化合物から誘導される。式(13)で表される繰り返し構造単位は、通常、ジアミンおよびジカルボン酸化合物から誘導される。ジアミン、テトラカルボン酸化合物、トリカルボン酸化合物およびジカルボン酸化合物の具体例は、上述のとおりである。   The repeating structural units represented by the formulas (10) and (11) are usually derived from diamines and tetracarboxylic acid compounds. The repeating structural unit represented by the formula (12) is usually derived from a diamine and a tricarboxylic acid compound. The repeating structural unit represented by the formula (13) is usually derived from a diamine and a dicarboxylic acid compound. Specific examples of the diamine, tetracarboxylic acid compound, tricarboxylic acid compound and dicarboxylic acid compound are as described above.

ジアミンと、テトラカルボン酸化合物等のカルボン酸化合物とのモル比は、ジアミン1.00molに対して、好ましくはテトラカルボン酸0.9mol以上1.1mol以下の範囲で適宜調節できる。高い耐折性を発現するためには得られるポリイミド系高分子が高分子量であることが好ましいことから、ジアミン1.00molに対してテトラカルボン酸0.98mol以上1.02molであることがより好ましく、0.99mol%以上1.01mol%以下であることがさらに好ましい。   The molar ratio of the diamine to the carboxylic acid compound such as a tetracarboxylic acid compound can be appropriately adjusted preferably in the range of 0.9 mol to 1.1 mol of the tetracarboxylic acid to 1.00 mol of the diamine. In order to exhibit high folding resistance, it is preferable that the obtained polyimide-based polymer has a high molecular weight. Therefore, it is more preferable that the tetracarboxylic acid is 0.98 mol or more and 1.02 mol with respect to the diamine 1.00 mol. , 0.99 mol% or more and 1.01 mol% or less.

また、得られる透明樹脂フィルムの黄色度を抑制する観点から、得られる高分子末端に占めるアミノ基の割合が低いことが好ましく、ジアミン1.00molに対してテトラカルボン酸化合物等のカルボン酸化合物は1.00mol以上であることが好ましい。   Further, from the viewpoint of suppressing the yellowness of the obtained transparent resin film, it is preferable that the ratio of the amino group occupying the obtained polymer terminal is low, and a carboxylic acid compound such as a tetracarboxylic acid compound is used for 1.00 mol of the diamine. It is preferably at least 1.00 mol.

ジアミンおよびカルボン酸化合物(たとえば、テトラカルボン酸化合物)の分子中のフッ素数を調整して、得られるポリイミド系高分子中のフッ素量を、ポリイミド系高分子の質量を基準として、1質量%以上、5質量%以上、10質量%以上、20質量%以上とすることができる。フッ素の割合が高いほど原料費が高くなる傾向があることから、フッ素量の上限は40質量%以下であることが好ましい。フッ素系置換基は、ジアミンまたはカルボン酸化合物のいずれに存在してもよく、両方に存在してもよい。フッ素系置換基を含むことにより特にYI値が低減される場合がある。   By adjusting the number of fluorine atoms in the molecules of the diamine and carboxylic acid compound (eg, tetracarboxylic acid compound), the amount of fluorine in the obtained polyimide-based polymer is adjusted to 1% by mass or more based on the mass of the polyimide-based polymer. , 5% by mass or more, 10% by mass or more, and 20% by mass or more. Since the raw material cost tends to increase as the proportion of fluorine increases, the upper limit of the amount of fluorine is preferably 40% by mass or less. The fluorine-based substituent may be present on either the diamine or the carboxylic acid compound, or may be present on both. By including a fluorine-based substituent, the YI value may be particularly reduced.

本実施形態に係るポリイミド系高分子は、異なる種類の複数の上記の繰り返し構造単位を含む共重合体でもよい。ポリイミド系高分子の標準ポリスチレン換算の重量平均分子量は、通常100,000〜800,000である。ポリイミド系高分子の重量平均分子量が大きいと、製膜した際の屈曲性が向上することから、好ましくは200,000以上であり、より好ましくは300,000以上であり、さらに好ましくは350,000以上である。また、適度な濃度および粘度のワニスが得られ、製膜性が向上する傾向があることから、好ましくは750,000以下であり、より好ましくは600,000以下であり、さらに好ましくは500,000以下である。   The polyimide-based polymer according to the present embodiment may be a copolymer including a plurality of the above-described repeating structural units of different types. The weight average molecular weight of the polyimide polymer in terms of standard polystyrene is usually from 100,000 to 800,000. When the weight average molecular weight of the polyimide-based polymer is large, the flexibility at the time of forming a film is improved, so that it is preferably 200,000 or more, more preferably 300,000 or more, and still more preferably 350,000. That is all. In addition, since a varnish having an appropriate concentration and viscosity is obtained and the film-forming property tends to be improved, it is preferably 750,000 or less, more preferably 600,000 or less, and further preferably 500,000. It is as follows.

ポリイミド系高分子およびポリアミドは、含フッ素置換基を含むことにより、フィルム化した際の弾性率が向上するとともに、YI値が低減される傾向を示す。フィルムの弾性率が高いと、キズおよびシワ等の発生が抑制される傾向がある。フィルムの透明性の観点から、ポリイミド系高分子およびポリアミドは、含フッ素置換基を有することが好ましい。含フッ素置換基の具体例としては、フルオロ基およびトリフルオロメチル基が挙げられる。   By containing a fluorine-containing substituent, polyimide-based polymers and polyamides tend to have an improved elastic modulus when formed into a film and a reduced YI value. When the elastic modulus of the film is high, generation of scratches and wrinkles tends to be suppressed. From the viewpoint of the transparency of the film, the polyimide polymer and the polyamide preferably have a fluorine-containing substituent. Specific examples of the fluorine-containing substituent include a fluoro group and a trifluoromethyl group.

ポリイミド系高分子およびポリイミド系高分子とポリアミドとの混合物におけるフッ素原子の含有量は、それぞれ、ポリイミド系高分子の質量またはポリイミド系高分子の質量とポリアミドの質量との合計を基準として、好ましくは1質量%以上40質量%以下であり、さらに好ましくは5質量%以上40質量%以下である。フッ素原子の含有量が1質量%以上であると、フィルム化した際のYI値をより低減し、透明性をより向上することができる傾向がある。フッ素原子の含有量は、40質量%以内であると、ポリイミドの高分子量化が容易になる傾向がある。   The content of fluorine atoms in the mixture of the polyimide polymer and the polyimide polymer and the polyamide, respectively, based on the mass of the polyimide polymer or the sum of the mass of the polyimide polymer and the mass of the polyamide, preferably It is from 1% by mass to 40% by mass, more preferably from 5% by mass to 40% by mass. When the content of the fluorine atom is 1% by mass or more, the YI value at the time of forming a film tends to be further reduced and the transparency can be further improved. When the content of the fluorine atom is within 40% by mass, it tends to be easy to increase the molecular weight of the polyimide.

本発明において、透明樹脂フィルム形成する樹脂組成物におけるポリイミド系高分子および/またはポリアミドの含有量は、樹脂組成物の固形分に対して、好ましくは40質量%以上、より好ましくは50質量%以上、さらに好ましくは70質量%以上であり、100質量%であってもよい。ポリイミド系高分子および/またはポリアミドの含有量が上記下限値以上であると、透明樹脂フィルムの屈曲性が良好である。なお、固形分とは、樹脂組成物から溶剤を除いた成分の合計量のことをいう。   In the present invention, the content of the polyimide-based polymer and / or polyamide in the resin composition forming the transparent resin film is preferably at least 40% by mass, more preferably at least 50% by mass, based on the solid content of the resin composition. And more preferably 70% by mass or more, and may be 100% by mass. When the content of the polyimide-based polymer and / or the polyamide is not less than the above lower limit, the flexibility of the transparent resin film is good. The solid content refers to the total amount of the components excluding the solvent from the resin composition.

本発明において、透明樹脂フィルムを形成する樹脂組成物は、上記ポリイミド系高分子および/またはポリアミドに加えて、無機粒子等の無機材料をさらに含有していてもよい。無機材料として、シリカ粒子、チタン粒子、水酸化アルミニウム、ジルコニア粒子、チタン酸バリウム粒子などの無機粒子、また、オルトケイ酸テトラエチル等の4級アルコキシシラン等のケイ素化合物が挙げられ、ワニスの安定性、無機材料の分散性の観点から、好ましくはシリカ粒子、水酸化アルミニウム、ジルコニア粒子が挙げられ、さらに好ましくはシリカ粒子が挙げられる。   In the present invention, the resin composition forming the transparent resin film may further contain an inorganic material such as inorganic particles in addition to the above-mentioned polyimide-based polymer and / or polyamide. Examples of the inorganic material include silica particles, titanium particles, aluminum hydroxide, zirconia particles, inorganic particles such as barium titanate particles, and silicon compounds such as quaternary alkoxysilanes such as tetraethyl orthosilicate. From the viewpoint of the dispersibility of the inorganic material, preferably, silica particles, aluminum hydroxide, and zirconia particles are used, and more preferably, silica particles are used.

無機材料の平均一次粒子径は、好ましくは1〜200nm、より好ましくは3〜100nm、さらに好ましくは5〜50nm、さらにより好ましくは5〜30nmである。前記平均一次粒子径が100nm以下であると透明性が向上する傾向がある。前記平均一次粒子径が10nm以上であると、無機材料の凝集力が弱まるために取り扱い易くなる傾向がある。   The average primary particle diameter of the inorganic material is preferably 1 to 200 nm, more preferably 3 to 100 nm, further preferably 5 to 50 nm, and still more preferably 5 to 30 nm. When the average primary particle size is 100 nm or less, transparency tends to be improved. If the average primary particle diameter is 10 nm or more, the cohesive force of the inorganic material is weakened, so that the handling tends to be easy.

本発明においてシリカ粒子は、有機溶剤等にシリカ粒子を分散させたシリカゾルであっても、気相法で製造したシリカ微粒子粉末を用いてもよいが、ハンドリングが容易であることから液相法で製造したシリカゾルであることが好ましい。   In the present invention, the silica particles may be a silica sol obtained by dispersing silica particles in an organic solvent or the like, or a silica fine particle powder produced by a gas phase method may be used. Preferably, the silica sol is produced.

透明樹脂フィルム中のシリカ粒子の平均一次粒子径は、透過型電子顕微鏡(TEM)による観察で求めることができる。透明樹脂フィルムを形成する前のシリカ粒子の粒度分布は、市販のレーザー回折式粒度分布計により求めることができる。   The average primary particle diameter of the silica particles in the transparent resin film can be determined by observation with a transmission electron microscope (TEM). The particle size distribution of the silica particles before forming the transparent resin film can be determined by a commercially available laser diffraction type particle size distribution meter.

本発明において、樹脂組成物中の無機材料の含有量は、樹脂組成物の固形分に対して、好ましくは0質量%以上90質量%以下である。より好ましくは10質量%以上60質量%以下であり、さらに好ましくは20質量%以上50質量%以下である。樹脂組成物における無機材料の含有量が上記の範囲内であると、透明樹脂フィルムの透明性および機械的強度を両立させやすい傾向がある。なお、固形分とは、樹脂組成物から溶剤を除いた成分の合計量のことをいう。   In the present invention, the content of the inorganic material in the resin composition is preferably from 0% by mass to 90% by mass based on the solid content of the resin composition. More preferably, it is 10% by mass or more and 60% by mass or less, and still more preferably 20% by mass or more and 50% by mass or less. When the content of the inorganic material in the resin composition is within the above range, the transparency and mechanical strength of the transparent resin film tend to be easily compatible. The solid content refers to the total amount of the components excluding the solvent from the resin composition.

透明樹脂フィルムを形成する樹脂組成物は、以上説明した成分に加えて、他の成分をさらに含有していてもよい。他の成分としては、例えば、酸化防止剤、離型剤、光安定剤、ブルーイング剤、難燃剤、滑剤およびレベリング剤が挙げられる。   The resin composition forming the transparent resin film may further contain other components in addition to the components described above. Other components include, for example, antioxidants, release agents, light stabilizers, bluing agents, flame retardants, lubricants and leveling agents.

本発明において樹脂組成物がポリイミド系高分子等の樹脂成分および無機材料以外の他の成分を含む場合、その他の成分の含有量は、透明樹脂フィルムの総質量に対して0%以上20質量%以下であることが好ましく、より好ましくは0%以上10質量%以下である。   In the present invention, when the resin composition contains a resin component such as a polyimide-based polymer and other components other than the inorganic material, the content of the other components is 0% or more and 20% by mass or more with respect to the total mass of the transparent resin film. Is preferably not more than 0%, and more preferably not less than 0% and not more than 10% by mass.

本発明において透明樹脂フィルムは、例えば、前記テトラカルボン酸化合物、前記ジアミンおよび前記のその他の原料から選択して反応させて得られる、ポリイミド系高分子および/またはポリアミドの反応液、必要に応じて無機材料およびその他の成分を含む樹脂組成物に、溶媒を加えて混合および撹拌することにより調製される樹脂ワニスから製造することができる。前記樹脂組成物または樹脂ワニスにおいて、ポリイミド系高分子等の反応液に変えて、購入したポリイミド系高分子等の溶液や、購入した固体のポリイミド系高分子等の溶液を用いてもよい。   In the present invention, the transparent resin film is, for example, a reaction solution of a polyimide-based polymer and / or a polyamide obtained by reacting by selecting from the tetracarboxylic acid compound, the diamine and the other raw materials, if necessary. It can be produced from a resin varnish prepared by adding a solvent to a resin composition containing an inorganic material and other components, and mixing and stirring. In the resin composition or the resin varnish, a solution of a purchased polyimide-based polymer or the like or a solution of a purchased solid polyimide-based polymer or the like may be used instead of the reaction solution of the polyimide-based polymer or the like.

樹脂ワニスを調製するために用い得る溶媒としては、ポリイミド系高分子等の樹脂成分を溶解または分散させ得るものを適宜選択することができる。溶媒として、1種を単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。なお、2種以上の溶媒を用いる場合には、用いる溶媒の中で最も沸点の高い溶媒の沸点が上記範囲に入るよう溶媒の種類を選択することが好ましい。樹脂成分の溶解性、塗布性および乾燥性等の観点からは、120〜300℃の沸点を有する有機溶媒が好ましく、より好ましくは120〜270℃、さらに好ましくは120〜250℃、特に好ましくは120〜230℃の沸点を有する有機溶媒が好ましい。そのような有機溶媒としては、具体的に例えば、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドンなどのアミド系溶媒;γ−ブチロラクトン、γ−バレロラクトン等のラクトン系溶媒;シクロヘキサノン、シクロペンタノン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒;酢酸ブチル、酢酸アミル等の酢酸エステル系溶媒;ジメチルスルホン、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の含硫黄系溶媒、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等のカーボネート系溶媒などが挙げられる。中でも、ポリイミド系高分子およびポリアミドに対する溶解性に優れることから、N,N−ジメチルアセトアミド(沸点:165℃)、γ−ブチロラクトン(沸点:204℃)、N−メチルピロリドン(沸点:202℃)、シクロペンタノン(沸点:131℃)、酢酸ブチル(沸点:126℃)および酢酸アミル(沸点:149℃)からなる群から選択される溶媒が好ましい。   As a solvent that can be used for preparing the resin varnish, a solvent that can dissolve or disperse a resin component such as a polyimide-based polymer can be appropriately selected. As the solvent, one type may be used alone, or two or more types may be used in combination. When two or more solvents are used, it is preferable to select the type of the solvent so that the boiling point of the solvent having the highest boiling point among the solvents used falls within the above range. From the viewpoints of solubility of the resin component, coatability, drying property, and the like, an organic solvent having a boiling point of 120 to 300 ° C is preferable, more preferably 120 to 270 ° C, further preferably 120 to 250 ° C, and particularly preferably 120 to 250 ° C. Organic solvents having a boiling point of 230230 ° C. are preferred. Specific examples of such organic solvents include amide solvents such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and N-methylpyrrolidone; lactone solvents such as γ-butyrolactone and γ-valerolactone. Ketone solvents such as cyclohexanone, cyclopentanone and methyl ethyl ketone; acetate solvents such as butyl acetate and amyl acetate; sulfur-containing solvents such as dimethyl sulfone, dimethyl sulfoxide and sulfolane; and carbonate solvents such as ethylene carbonate and propylene carbonate. And the like. Among them, N, N-dimethylacetamide (boiling point: 165 ° C), γ-butyrolactone (boiling point: 204 ° C), N-methylpyrrolidone (boiling point: 202 ° C), because of its excellent solubility in polyimide polymers and polyamides, A solvent selected from the group consisting of cyclopentanone (boiling point: 131 ° C.), butyl acetate (boiling point: 126 ° C.), and amyl acetate (boiling point: 149 ° C.) is preferred.

溶媒の量は、樹脂ワニスの取り扱いが可能な粘度になるように選択すればよく、特に制限はないが、例えば樹脂ワニス全量に対して、好ましくは50〜95質量%、より好ましくは70〜95質量%、さらに好ましくは80〜95質量%である。   The amount of the solvent may be selected so as to have a viscosity at which the resin varnish can be handled, and is not particularly limited. For example, the amount is preferably 50 to 95% by mass, more preferably 70 to 95% by mass relative to the total amount of the resin varnish. %, More preferably 80 to 95% by mass.

また、本発明の積層体を構成する透明樹脂フィルム中の溶媒の含有量は、熱重量−示差熱測定による120℃から250℃における質量減少率として算出される残留溶媒量S(質量%)が、後述する保護フィルムにおける低分子成分量W(%)との関係において所定の関係を満たす範囲になければならない。本発明において、透明樹脂フィルム中の残留溶媒量Sは、貼合される保護フィルムにおける低分子成分量Wとの関係において適宜調整すればよいが、好ましくは20質量%以下であり、より好ましくは17質量%以下であり、さらに好ましくは15質量%以下である。残留溶媒量Sが上記上限値以下であると、得られる透明樹脂フィルムを自立膜として形成することができる。また、残留溶媒量Sの下限値は特に限定されるものではないが、ポリイミド系高分子やポリアミドを樹脂成分とする透明樹脂フィルムの製造においては、一般的に上述したような100℃を超える沸点を有する高沸点溶媒が用いられるため、その製造過程で溶媒を完全に除去することは難しく、通常、0.001質量%以上である。また、屈曲性の観点からは、好ましくは0.005質量%以上、より好ましくは0.01質量%以上、さらに好ましくは0.1質量%以上、さらにより好ましくは0.5質量%以上である。   Further, the content of the solvent in the transparent resin film constituting the laminate of the present invention is determined by a residual solvent amount S (% by mass) calculated as a mass reduction ratio from 120 ° C. to 250 ° C. by thermogravimetry-differential thermal measurement. It must be within a range that satisfies a predetermined relationship with respect to the low molecular component amount W (%) in the protective film described later. In the present invention, the amount S of the residual solvent in the transparent resin film may be appropriately adjusted in relation to the amount W of the low molecular component in the protective film to be bonded, but is preferably 20% by mass or less, more preferably It is at most 17% by mass, more preferably at most 15% by mass. When the residual solvent amount S is equal to or less than the upper limit, the obtained transparent resin film can be formed as a self-standing film. Although the lower limit of the residual solvent amount S is not particularly limited, in the production of a transparent resin film containing a polyimide polymer or a polyamide as a resin component, the boiling point generally exceeds 100 ° C. as described above. Is used, it is difficult to completely remove the solvent during the production process, and usually it is 0.001% by mass or more. From the viewpoint of flexibility, the content is preferably 0.005% by mass or more, more preferably 0.01% by mass or more, further preferably 0.1% by mass or more, and still more preferably 0.5% by mass or more. .

本発明において、残留溶媒量Sとは、熱重量−示差熱(TG−DTA)測定装置を用いて行われ、測定対象とする透明樹脂フィルム(試料)を、室温から120℃まで10℃/分の昇温速度で昇温し、120℃で5分間保持することにより吸着水を除去した後、400℃まで10℃/分の昇温速度で昇温(加熱)しながら測定した質量変化の結果において、120℃から250℃にかけての質量減少率S(質量%)を関係式(2)に従い算出される値である。
S(質量%)=100−(W1/W0)×100 (2)
〔式(2)中、W0は120℃で5分間保持した後の試料の質量であり、W1は前記熱重量−示差熱測定装置による測定での250℃における試料の質量である〕。
In the present invention, the residual solvent amount S is measured using a thermogravimetric-differential heat (TG-DTA) measuring device, and a transparent resin film (sample) to be measured is heated at a rate of 10 ° C./min from room temperature to 120 ° C. The temperature change was measured at a heating rate of 120 ° C., the adsorbed water was removed by maintaining the temperature at 120 ° C. for 5 minutes, and the mass change measured while heating (heating) at a rate of 10 ° C./min to 400 ° C. Is a value obtained by calculating the mass reduction rate S (mass%) from 120 ° C. to 250 ° C. according to the relational expression (2).
S (% by mass) = 100− (W1 / W0) × 100 (2)
[In the formula (2), W0 is the mass of the sample after holding at 120 ° C for 5 minutes, and W1 is the mass of the sample at 250 ° C measured by the thermogravimetric-differential calorimeter].

残留溶媒量Sは、透明樹脂フィルムを形成するための樹脂ワニスに含まれる溶媒量、溶媒種、樹脂ワニスから製膜した塗膜の乾燥条件(乾燥温度および時間、風速等)を調整することにより制御することができる。   The amount S of the residual solvent is determined by adjusting the amount of the solvent contained in the resin varnish for forming the transparent resin film, the type of the solvent, and the drying conditions (drying temperature and time, wind speed, etc.) of the coating film formed from the resin varnish. Can be controlled.

透明樹脂フィルムの厚みは、透明樹脂フィルムの用途等に応じて適宜決定すればよいが、通常、10〜500μmであり、好ましくは15〜200μmであり、より好ましくは20〜100μmである。透明樹脂フィルムの厚みが上記範囲内にあると、透明樹脂フィルムの屈曲性が良好である。   The thickness of the transparent resin film may be appropriately determined according to the use of the transparent resin film, etc., and is usually 10 to 500 μm, preferably 15 to 200 μm, and more preferably 20 to 100 μm. When the thickness of the transparent resin film is within the above range, the flexibility of the transparent resin film is good.

本発明の積層体は、上記透明樹脂フィルムに貼合された保護フィルムを含む。保護フィルムは、透明樹脂フィルムの一方の面のみに貼合されていてもよく、両面に貼合されていてもよい。透明樹脂フィルムに貼合される保護フィルムは、通常、透明樹脂フィルムの表面を一時的に保護するためのフィルムであり、透明樹脂フィルムの表面を保護できる剥離可能なフィルムである限り特に限定されず、ポリエチレン、ポリプロピレンフィルムなどのポリオレフィン系樹脂フィルムからなる群から選択されることが好ましい。透明樹脂フィルムの両面に保護フィルムが貼合されている場合、各面の保護フィルムは互いに同じであってもよく、異なっていてもよい。   The laminate of the present invention includes a protective film attached to the transparent resin film. The protective film may be bonded to only one surface of the transparent resin film, or may be bonded to both surfaces. The protective film bonded to the transparent resin film is usually a film for temporarily protecting the surface of the transparent resin film, and is not particularly limited as long as it is a peelable film capable of protecting the surface of the transparent resin film. It is preferable to be selected from the group consisting of polyolefin resin films such as polyethylene, polypropylene films and the like. When protective films are stuck on both surfaces of the transparent resin film, the protective films on each surface may be the same or different.

本発明の積層体において保護フィルムは、基材フィルムとその上に積層される、例えばアクリル系粘着剤、エポキシ系粘着剤、ウレタン系粘着剤、シリコーン系粘着剤等から形成される粘着剤層とから構成されていてもよいが、透明樹脂フィルム表面に対する汚染をできる限り抑える観点からは、ポリオレフィン系樹脂等の自己粘着性を有する樹脂フィルムであることが好ましい。   In the laminate of the present invention, the protective film is a substrate film and laminated thereon, for example, an acrylic pressure-sensitive adhesive, an epoxy-based pressure-sensitive adhesive, a urethane-based pressure-sensitive adhesive, a pressure-sensitive adhesive layer formed from a silicone-based pressure-sensitive adhesive and the like. However, from the viewpoint of minimizing contamination on the surface of the transparent resin film, a resin film having self-adhesiveness, such as a polyolefin resin, is preferable.

また、本発明の課題である透明樹脂フィルムの白化は、ポリイミド系高分子およびポリアミドを樹脂成分とする透明樹脂フィルムを作製する際に用いられる溶媒中に、保護フィルムに含まれる低分子成分が溶出することにより生じると考えられる。積層体の分野で一般に用いられる保護フィルムの中でも、ポリオレフィン系樹脂フィルムは低分子成分が比較的多く含まれている傾向にあるため、透明樹脂フィルムの白化を抑制するという本発明の効果は、保護フィルムとしてポリオレフィン系樹脂フィルムを用いる積層体において特に有利に得られる。したがって、本発明の好適な一実施態様において、本発明の積層体に用いられる保護フィルムはポリオレフィン系樹脂フィルムであり、入手しやすく安価であることから、より好ましくはポリプロピレン系樹脂フィルムまたはポリエチレン系樹脂フィルムであり、さらに好ましくはポリエチレン系樹脂フィルムである。また、ポリエチレン系樹脂としては、例えば高圧法低密度ポリエチレン(LDPE)、直鎖状短鎖分岐ポリエチレン(LLDPE)、中低圧法高密度ポリエチレン(HDPE)、超低密度ポリエチレン(VLDPE)などが挙げられるが、透明樹脂フィルムと隣り合う面の樹脂としては、透明樹脂フィルムとの接着性、ならびに加工性の観点から、LLDPEであることが好ましい。なお、透明樹脂フィルムの両面に保護フィルムが貼合されている場合、各面の保護フィルムは互いに同じであってもよく、異なっていてもよいが、少なくとも一方の面に貼合される保護フィルムがポリオレフィン系樹脂フィルムであることが好ましい。   Further, the whitening of the transparent resin film, which is the subject of the present invention, is that a low molecular component contained in the protective film is eluted in a solvent used for producing a transparent resin film containing a polyimide polymer and a polyamide as a resin component. It is thought that it occurs by doing. Among protective films generally used in the field of laminates, polyolefin-based resin films tend to contain relatively large amounts of low-molecular components, so the effect of the present invention of suppressing whitening of a transparent resin film is protected. It is particularly advantageously obtained in a laminate using a polyolefin resin film as the film. Therefore, in a preferred embodiment of the present invention, the protective film used in the laminate of the present invention is a polyolefin resin film, and is easily available and inexpensive, and is more preferably a polypropylene resin film or a polyethylene resin. Film, and more preferably a polyethylene resin film. Examples of the polyethylene resin include high-pressure low-density polyethylene (LDPE), linear short-chain branched polyethylene (LLDPE), medium-low pressure high-density polyethylene (HDPE), and ultra-low-density polyethylene (VLDPE). However, the resin on the surface adjacent to the transparent resin film is preferably LLDPE from the viewpoint of adhesiveness to the transparent resin film and workability. In addition, when the protective films are bonded on both surfaces of the transparent resin film, the protective films on each surface may be the same as each other or may be different, but the protective films bonded on at least one surface. Is preferably a polyolefin-based resin film.

ここで、本発明において、保護フィルムに含まれる「低分子成分」とは、下記条件に従い、測定温度140℃におけるゲル浸透クロマトグラフィーにより測定して得られるチャートのLog Mが2.82から3.32までの範囲に検出される成分を意味する。
<ゲル浸透クロマトグラフィーの測定条件>
カラム:PLgel Individual(5μm、50Å、7.5mm ID×30cm、アジレントテクノロジー製)1本と、TSKgel GMHHR−H(S)HT(7.5mm ID×30cm、東ソー(株)製)2本を連結
移動相:オルトジクロロベンゼン(和光純薬(株)製、特級)にBHT(ジ−tert−ブチルヒドロキシトルエン)を0.1w/V%添加して使用
流速:1mL/分
カラムオーブン温度:140℃
オートサンプラー温度:140℃
システムオーブン温度:40℃
検出:示差屈折率検出器(RID)
RIDセル温度:140℃
試料溶液注入量:300μL
GPCカラム較正用標準物質溶液:東ソー(株)製標準ポリスチレン
なお、ゲル浸透クロマトグラフィーのより詳細な測定条件は、後述する実施例に記載する。
Here, in the present invention, the “low-molecular component” contained in the protective film is defined as having a Log M of 2.82 to 3.80 on a chart obtained by gel permeation chromatography at a measurement temperature of 140 ° C. under the following conditions. Means components detected in the range up to 32.
<Measurement conditions for gel permeation chromatography>
Column: One PLgel Individual (5 μm, 50 mm, 7.5 mm ID × 30 cm, manufactured by Agilent Technologies) and two TSKgel GMH HR- H (S) HT (7.5 mm ID × 30 cm, manufactured by Tosoh Corporation) Connected mobile phase: Ortho-dichlorobenzene (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., special grade) with BHT (di-tert-butylhydroxytoluene) added at 0.1 w / V% Flow rate: 1 mL / min Column oven temperature: 140 ° C
Autosampler temperature: 140 ° C
System oven temperature: 40 ° C
Detection: Differential refractive index detector (RID)
RID cell temperature: 140 ° C
Sample solution injection volume: 300 μL
Standard substance solution for GPC column calibration: Standard polystyrene manufactured by Tosoh Corporation More detailed measurement conditions of gel permeation chromatography are described in Examples described later.

上記低分子成分は、具体的には、保護フィルム中、または保護フィルムが基材フィルムとその上に積層される粘着剤層とからなる場合には粘着剤層中に含有される残存モノマー、オリゴマーおよび添加剤やフィルム原料等に由来する成分であると考えられる。保護フィルムに含まれる低分子成分としては、例えば、核剤、酸化防止剤、塩酸吸収剤、耐熱安定剤、光安定剤、紫外線吸収剤、滑剤、アンチブロッキング剤、帯電防止剤、難燃剤、顔料、染料、分散剤、銅害防止剤、中和剤、発泡剤、可塑剤、気泡防止剤、架橋剤、過酸化物などの流れ性改良剤、ウェルド強度改良剤等に由来する成分が、保護フィルム上に積層される粘着剤層に含まれる低分子成分としては、例えば、粘着付与樹脂および軟化剤等に由来する成分などが挙げられる。   The low-molecular component is, specifically, in the protective film, or when the protective film is composed of a base film and an adhesive layer laminated thereon, the remaining monomers and oligomers contained in the adhesive layer It is considered to be a component derived from additives and film raw materials. Examples of the low molecular components contained in the protective film include a nucleating agent, an antioxidant, a hydrochloric acid absorber, a heat stabilizer, a light stabilizer, an ultraviolet absorber, a lubricant, an antiblocking agent, an antistatic agent, a flame retardant, and a pigment. Components derived from dyes, dispersants, copper damage inhibitors, neutralizers, foaming agents, plasticizers, foam inhibitors, crosslinkers, flow improvers such as peroxides, weld strength improvers, etc. are protected. Examples of the low molecular component contained in the pressure-sensitive adhesive layer laminated on the film include components derived from a tackifier resin, a softener, and the like.

本発明において、保護フィルムに含まれる低分子成分の含有量は、上記ゲル浸透クロマトグラフィーの測定条件に従い、測定温度140℃におけるゲル浸透クロマトグラフィーにより測定して得られるチャートの全面積に対するLog Mが2.82から3.32までの面積の割合として定義される低分子成分量W(%)が、後述する透明樹脂フィルムにおける残留溶媒量S(質量%)との関係において所定の関係を満たす範囲になければならない。本発明において、保護フィルム中の低分子成分量Wは、貼合される透明樹脂フィルムにおける残留溶媒量Sとの関係において適宜調整すればよいが、好ましくは1%以下であり、より好ましくは0.8%以下であり、さらに好ましくは0.5%以下であり、とりわけ好ましくは0.33%以下である。低分子成分量Wが上記上限値以下であると、保護フィルムに含まれる低分子成分の透明樹脂フィルムへの転写が生じ難くなり、光学用の透明樹脂フィルム表面を保護するための保護フィルムとして好適である。また、低分子成分量Wの下限値は特に限定されるものではないが、光学積層体の分野で用いられる保護フィルムは、一般に、先に例示したような添加剤や原料に由来する低分子成分を含有しているため、通常、0.00001%以上であり、好ましくは0.001%以上であり、より好ましくは0.01%以上であり、さらに好ましくは0.02%以上である。   In the present invention, the content of the low molecular component contained in the protective film is determined according to the measurement conditions of the gel permeation chromatography described above, and Log M with respect to the entire area of a chart obtained by gel permeation chromatography at a measurement temperature of 140 ° C. A range in which the amount of low molecular components W (%) defined as the ratio of the area from 2.82 to 3.32 satisfies a predetermined relationship with the amount of residual solvent S (% by mass) in the transparent resin film described later. Must be. In the present invention, the amount W of low molecular components in the protective film may be appropriately adjusted in relation to the amount S of residual solvent in the transparent resin film to be bonded, but is preferably 1% or less, more preferably 0% or less. 0.8% or less, more preferably 0.5% or less, particularly preferably 0.33% or less. When the amount W of the low-molecular component is equal to or less than the above upper limit, the transfer of the low-molecular component contained in the protective film to the transparent resin film becomes difficult to occur, which is suitable as a protective film for protecting the transparent resin film surface for optics. It is. Although the lower limit of the low molecular component amount W is not particularly limited, the protective film used in the field of the optical laminate generally includes a low molecular component derived from the additives and raw materials exemplified above. Therefore, the content is usually 0.00001% or more, preferably 0.001% or more, more preferably 0.01% or more, and further preferably 0.02% or more.

保護フィルムの厚みは、特に限定されるものではないが、透明樹脂フィルムの保護の観点から、通常、10μm以上であり、好ましくは20μm以上であり、より好ましくは25μm以上である。一方、フィルムハンドリングの観点から、300μm以下であることが好ましい。透明樹脂フィルムの両面に保護フィルムが貼合されている場合、各面の保護フィルムの厚みは同じであってもよく、異なっていてもよい。   The thickness of the protective film is not particularly limited, but is usually 10 μm or more, preferably 20 μm or more, and more preferably 25 μm or more from the viewpoint of protection of the transparent resin film. On the other hand, the thickness is preferably 300 μm or less from the viewpoint of film handling. When a protective film is stuck on both surfaces of the transparent resin film, the thickness of the protective film on each surface may be the same or different.

本発明においては、積層体を構成する透明樹脂フィルムの残留溶媒量S(質量%)と、前記透明樹脂フィルムに貼合される保護フィルムの低分子成分量W(%)が、関係式(1):
S × W ≦ 4.7 (1)
を満たすよう、透明樹脂フィルムと保護フィルムとが組み合わされる。白化抑制効果の観点から、本発明の積層体における上記S×Wの値(以下、「式(1)の値」ともいう)は、好ましくは4.5以下であり、より好ましくは4.0以下であり、さらに好ましくは3.5以下であり、さらにより好ましくは3.4以下であり、とりわけ好ましくは3.3以下であり、さらにとりわけ好ましくは2.0以下であり、特に好ましくは0.5以下であり、とりわけ特に好ましくは0.4以下である。
また、SとWとが関係式(1’):
0.005≦ S × W (1’)
を満たすよう、透明フィルムと保護フィルムとが組み合わされることが好ましい。本発明の積層体における上記S×Wの値(以下、「式(1’)の値ともいう)は、好ましくは0.007以上である。
なお、透明樹脂フィルムの両面に保護フィルムが貼合されている場合、各保護フィルムの低分子成分量Wがそれぞれ透明樹脂フィルムの残留溶媒量Sとの関係において、上記式(1)及び(1’)を満たすことが好ましい。
In the present invention, the residual solvent amount S (% by mass) of the transparent resin film constituting the laminate and the low molecular component amount W (%) of the protective film bonded to the transparent resin film are represented by a relational expression (1). ):
S × W ≦ 4.7 (1)
The transparent resin film and the protective film are combined so as to satisfy the following. From the viewpoint of the whitening suppression effect, the value of S × W (hereinafter, also referred to as “value of formula (1)”) in the laminate of the present invention is preferably 4.5 or less, more preferably 4.0. Or less, more preferably 3.5 or less, even more preferably 3.4 or less, particularly preferably 3.3 or less, still more preferably 2.0 or less, and particularly preferably 0 or less. 0.5 or less, particularly preferably 0.4 or less.
Further, S and W are expressed by the relational expression (1 ′):
0.005 ≦ S × W (1 ′)
Preferably, the transparent film and the protective film are combined so as to satisfy the following. The value of S × W (hereinafter also referred to as “value of formula (1 ′)) in the laminate of the present invention is preferably 0.007 or more.
When the protective films are bonded to both surfaces of the transparent resin film, the low molecular weight component W of each protective film is related to the residual solvent content S of the transparent resin film by the above formulas (1) and (1). ') Is preferred.

式(1)の値は、残留溶媒量の多い透明樹脂フィルムを用いる場合には、低分子成分量の低い保護フィルムを選択し、一方、低分子成分量の多い保護フィルムを用いる場合には、残留溶媒量の少ない透明樹脂フィルムを選択する等により、制御することができる。   When the value of the formula (1) is such that a transparent resin film having a large amount of residual solvent is used, a protective film having a low molecular weight is selected. It can be controlled by selecting a transparent resin film having a small residual solvent amount.

本発明の積層体は、透明樹脂フィルムの残留溶媒量と保護フィルムの低分子成分量を制御することにより、保護フィルムを貼合した透明樹脂フィルム表面の白化を抑制する効果に優れる。このため、本発明の積層体を構成する透明樹脂フィルムは透明性に優れ、そのヘイズは、好ましくは1.0%以下であり、より好ましくは0.7%以下であり、さらに好ましくは0.5%以下である。また、本発明の積層体を構成する透明樹脂フィルムの全光線透過率は、好ましくは85%以上であり、より好ましくは87%以上であり、さらに好ましくは90%以上である。さらに、本発明の積層体を構成する透明樹脂フィルムの黄色度は、好ましくは3.0以下であり、より好ましくは2.5以下であり、さらに好ましくは2.2以下である。積層体を構成する透明樹脂フィルムのヘイズや全光線透過率が上記範囲にあると、高い透明性を求められる光学用途に好適な積層体となる。また、透明樹脂フィルムの黄色度が低く、着色が抑えられていることからも本発明の積層体は光学用途に好適である。なお、本発明における「透明樹脂フィルムの白化」は、後述する実施例に記載する通り、光束3000ルーメンの高輝度ライトを照射することにより識別し得るものであり、「白化」の発生は、透明樹脂フィルムのヘイズや全光線透過率に必ずしも直接影響を与えるものではない。本発明の積層体から保護フィルムを剥離して用いられる透明樹脂フィルムは、フィルム表面の白化が生じ難く、透明性に優れるため、該透明樹脂フィルムを用いると、例えば、透過率の低い樹脂フィルムを用いた場合と比べて、一定の明るさを確保しやすくなり、表示素子等の発光強度を抑えることが可能となる。このため、消費電力を削減することができる。   The laminate of the present invention is excellent in the effect of suppressing the whitening of the surface of the transparent resin film to which the protective film is bonded by controlling the amount of the residual solvent in the transparent resin film and the amount of the low molecular component of the protective film. Therefore, the transparent resin film constituting the laminate of the present invention has excellent transparency, and the haze thereof is preferably 1.0% or less, more preferably 0.7% or less, and further preferably 0.1% or less. 5% or less. Moreover, the total light transmittance of the transparent resin film constituting the laminate of the present invention is preferably 85% or more, more preferably 87% or more, and further preferably 90% or more. Further, the yellowness of the transparent resin film constituting the laminate of the present invention is preferably 3.0 or less, more preferably 2.5 or less, and further preferably 2.2 or less. When the haze and the total light transmittance of the transparent resin film constituting the laminate are in the above ranges, the laminate is suitable for optical applications requiring high transparency. In addition, the laminate of the present invention is suitable for optical applications because the transparent resin film has low yellowness and suppressed coloring. The “whitening of the transparent resin film” in the present invention can be identified by irradiating a high-luminance light having a luminous flux of 3,000 lumens, as described in Examples described later. It does not necessarily directly affect haze and total light transmittance of the resin film. The transparent resin film used by peeling the protective film from the laminate of the present invention is less likely to cause whitening of the film surface and is excellent in transparency, so if the transparent resin film is used, for example, a resin film having a low transmittance may be used. As compared with the case where the light emitting element is used, it is easier to secure a constant brightness, and the light emission intensity of the display element or the like can be suppressed. Therefore, power consumption can be reduced.

本発明の積層体は、公知の方法および装置/設備を用いて、透明樹脂フィルムと保護フィルムとを貼合することにより製造することができる。具体的には、例えば、
透明樹脂フィルムを形成するための樹脂組成物を溶媒と混合および撹拌して得られる樹脂ワニスを支持基材上に塗布すること;
塗布された樹脂ワニスを乾燥させることにより溶媒を除去し、支持基材上に透明樹脂フィルムの層を形成すること;
支持基材上に形成された透明樹脂フィルムの支持基材とは反対側の面に保護フィルムを貼合すること;および
支持基材上に形成された透明樹脂フィルムの層から支持基材を剥離すること
を含む方法により製造することができる。
The laminate of the present invention can be produced by laminating a transparent resin film and a protective film using a known method and apparatus / equipment. Specifically, for example,
Applying a resin varnish obtained by mixing and stirring a resin composition for forming a transparent resin film with a solvent on a supporting substrate;
Removing the solvent by drying the applied resin varnish to form a transparent resin film layer on the supporting substrate;
Laminating a protective film on the surface of the transparent resin film formed on the support substrate opposite to the support substrate; and peeling the support substrate from the transparent resin film layer formed on the support substrate Can be produced by a method including

例えば、キャスト法に代表されるような、溶媒を含む樹脂ワニスを塗布して製膜した後、乾燥により溶媒を除去する工程を含む方法により連続的に透明樹脂フィルムを製造する場合、乾燥により溶媒を完全に除去することは難しく、透明樹脂フィルム中に溶媒が残存したまま次工程へ用いられることが多く、保護フィルムを貼合した際に白化が生じやすくなる。このような場合においても、透明樹脂フィルム中の残留溶媒量に応じて、上記式(1)の関係を満たすよう保護フィルムを選択することにより、また、用いる保護フィルムの低分子成分量に応じて、上記式(1)の関係を満たすよう透明樹脂フィルムの乾燥条件を制御することにより、保護フィルムを貼合した透明樹脂フィルム表面に生じる白化を容易に、かつ、効果的に抑制することができる。また、上記式(1’)を満たすことが好ましい。   For example, as typified by a casting method, when a resin varnish containing a solvent is applied to form a film and then a transparent resin film is continuously produced by a method including a step of removing the solvent by drying, the solvent is dried. Is difficult to completely remove, and it is often used in the next step with the solvent remaining in the transparent resin film, and whitening tends to occur when the protective film is bonded. Even in such a case, by selecting the protective film so as to satisfy the relationship of the above formula (1) according to the amount of the residual solvent in the transparent resin film, and according to the amount of the low molecular component of the protective film to be used. By controlling the drying conditions of the transparent resin film so as to satisfy the relationship of the above formula (1), it is possible to easily and effectively suppress whitening occurring on the surface of the transparent resin film to which the protective film is attached. . Further, it is preferable that the above formula (1 ') is satisfied.

本発明の積層体が上記方法により製造される場合、樹脂ワニスを塗布する支持基材はフィルム状の基材であり、例えば、樹脂フィルム基材、スチール基材(例えばSUSベルト)であってもよい。樹脂フィルム基材としては、例えばポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムがある。支持基材の厚みは、特に制限されず、例えば10〜500μmであり、好ましくは50〜300μmである。   When the laminate of the present invention is produced by the above method, the supporting substrate on which the resin varnish is applied is a film-like substrate, and for example, even if it is a resin film substrate or a steel substrate (for example, a SUS belt). Good. Examples of the resin film base include a polyethylene terephthalate (PET) film. The thickness of the supporting substrate is not particularly limited, and is, for example, 10 to 500 μm, and preferably 50 to 300 μm.

塗膜の乾燥工程においては、樹脂ワニス中の溶媒が所望の範囲となるよう、乾燥により溶媒を除去することが好ましい。溶媒を除去するための乾燥は、自然乾燥、通風乾燥、加熱乾燥または減圧乾燥およびこれらの組み合わせにより行ってもよい。生産効率等の観点からは、加熱乾燥が好ましい。乾燥条件は用いる溶媒の種類やフィルム中の溶媒含有量等に応じて、透明樹脂フィルムの光学特性を損なわない範囲で適宜決定すればよい。例えば、50〜300℃、好ましくは70〜250℃の温度で、例えば5〜100分程度加熱してもよい。   In the drying step of the coating film, it is preferable to remove the solvent by drying so that the solvent in the resin varnish is in a desired range. Drying for removing the solvent may be performed by natural drying, ventilation drying, heat drying or drying under reduced pressure, and a combination thereof. From the viewpoint of production efficiency and the like, heating and drying are preferred. Drying conditions may be appropriately determined according to the type of solvent used, the content of the solvent in the film, and the like, as long as the optical characteristics of the transparent resin film are not impaired. For example, heating may be performed at a temperature of 50 to 300 ° C., preferably 70 to 250 ° C., for example, for about 5 to 100 minutes.

次いで、上記式(1)の関係を満たす低分子成分量の保護フィルムを透明樹脂フィルムの支持基材とは反対側の面に貼合し、支持基材上に透明樹脂フィルムの層が形成され、さらに該透明樹脂フィルムの層上に保護フィルムが積層された積層フィルムが得られる。その後、透明樹脂フィルムの層から支持基材を剥離することにより、透明樹脂フィルムに保護フィルムを貼合した積層フィルムを得ることができる。必要に応じて、支持基材を剥離した透明樹脂フィルムの表面に保護フィルムを貼合してもよい。   Next, a protective film having a low molecular component amount that satisfies the relationship of the above formula (1) is attached to the surface of the transparent resin film opposite to the support substrate, and a layer of the transparent resin film is formed on the support substrate. Further, a laminated film in which a protective film is laminated on the transparent resin film layer is obtained. Thereafter, by peeling the supporting substrate from the layer of the transparent resin film, a laminated film in which the protective film is bonded to the transparent resin film can be obtained. If necessary, a protective film may be bonded to the surface of the transparent resin film from which the supporting substrate has been peeled off.

本発明の積層体は、保護フィルムを貼合した透明樹脂フィルムの表面における白化を抑制することができ、高い透明性および良好な外観を有するため、特に、各種画像表示装置のディスプレイ等の光学用途に好適に用いることができる。   The laminate of the present invention can suppress whitening on the surface of the transparent resin film to which the protective film is bonded, and has high transparency and good appearance, and is particularly used for optical applications such as displays of various image display devices. Can be suitably used.

以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。例中の「%」および「部」は、特記ない限り、質量%および質量部である。また、実施例および比較例で用いた透明樹脂フィルムの残留溶媒量および保護フィルムの低分子成分量は、それぞれ、下記方法に従い測定、算出した。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. "%" And "parts" in the examples are% by mass and parts by mass unless otherwise specified. The residual solvent content of the transparent resin film and the low molecular component content of the protective film used in Examples and Comparative Examples were measured and calculated according to the following methods, respectively.

<残留溶媒量Sの測定方法>
熱重量−示差熱(TG−DTA)測定
TG−DTAの測定装置として、日立ハイテクサイエンス社製TG/DTA6300を用いた。作製した透明ポリイミド系フィルムから約20mgの試料を取得した。この試料を、室温から120℃まで10℃/分の昇温速度で昇温し、120℃で5分間保持した後、400℃まで10℃/分の昇温速度で昇温(加熱)しながら、試料の質量変化を測定した。図1は、後述の実施例1で作製した透明ポリイミド系フィルムのTG−DTA測定結果を示す。
<Method for measuring residual solvent amount S>
Thermogravimetric-differential heat (TG-DTA) measurement As a TG-DTA measuring device, TG / DTA6300 manufactured by Hitachi High-Tech Science was used. About 20 mg of a sample was obtained from the produced transparent polyimide-based film. This sample was heated from room temperature to 120 ° C. at a rate of 10 ° C./min, held at 120 ° C. for 5 minutes, and then heated (heated) to 400 ° C. at a rate of 10 ° C./min. And the mass change of the sample was measured. FIG. 1 shows a TG-DTA measurement result of a transparent polyimide film produced in Example 1 described later.

TG−DTA測定結果から、120℃から250℃にかけての質量減少率S(質量%)を関係式(2)に従い算出した。
S(質量%)=100−(W1/W0)×100 (2)
〔式(2)中、W0は120℃で5分間保持した後の試料の質量であり、W1は250℃における試料の質量である〕。
算出された質量減少率Sを、透明樹脂フィルム中の残留溶媒量S(質量%)とした。
From the TG-DTA measurement results, the mass reduction rate S (% by mass) from 120 ° C. to 250 ° C. was calculated according to the relational expression (2).
S (% by mass) = 100− (W1 / W0) × 100 (2)
[In the formula (2), W0 is the mass of the sample after holding at 120 ° C. for 5 minutes, and W1 is the mass of the sample at 250 ° C.].
The calculated mass reduction rate S was defined as a residual solvent amount S (% by mass) in the transparent resin film.

<低分子成分量の測定方法>
低分子成分量はゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)法により求められる。GPC測定は下記の条件で行う。低分子成分量はゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)法により求められる。得られたクロマトグラムについて、試験対象溶液と参照溶液との屈折率差に由来する電気信号値(強度Y)を、ポリスチレン換算分子量Log Mに対しプロットしたチャートを得た。このチャートについて、Log Mが2.82、および7.61の点を結んだ線をベースラインとして規定した。またベースラインにより補正された強度Y値がマイナスとなった部分については、0とした。
(1)試料溶液調製条件
溶媒:オルトジクロロベンゼン(和光純薬(株)製、特級)にBHT(ジ−tert−ブチルヒドロキシトルエン)を0.1w/V%添加して使用
試料溶液濃度:1mg/mL
溶解用自動振とう器:DF−8020(東ソー(株)製)
溶解条件:5mgの試料を1000メッシュのSUS製の金網袋に封入し、試料を封入した金網袋を試験管に入れた後、試験管に5mLの溶媒を加えた。次いで、アルミホイルで蓋をした試験管をDF−8020にセットし、60往復/分の撹拌速度で140℃、120分間撹拌した。
<Measurement method of low molecular components>
The amount of the low molecular component is determined by a gel permeation chromatography (GPC) method. GPC measurement is performed under the following conditions. The amount of the low molecular component is determined by a gel permeation chromatography (GPC) method. With respect to the obtained chromatogram, a chart was obtained in which the electric signal value (intensity Y) derived from the difference in the refractive index between the test target solution and the reference solution was plotted against the polystyrene equivalent molecular weight Log M. In this chart, a line connecting points of Log M of 2.82 and 7.61 was defined as a baseline. In addition, 0 was set for a portion where the intensity Y value corrected by the baseline was negative.
(1) Sample solution preparation conditions Solvent: Ortho-dichlorobenzene (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., special grade) added with BHT (di-tert-butylhydroxytoluene) at 0.1 w / V% Sample solution concentration: 1 mg / ML
Automatic shaker for dissolution: DF-8020 (manufactured by Tosoh Corporation)
Dissolution conditions: A 5 mg sample was sealed in a SUS wire mesh bag of 1000 mesh, the wire mesh bag containing the sample was placed in a test tube, and then 5 mL of a solvent was added to the test tube. Next, the test tube covered with aluminum foil was set in DF-8020, and stirred at 140 ° C. for 120 minutes at a stirring speed of 60 reciprocations / minute.

(2)測定条件
(GPC装置およびソフトウェア)
測定装置:HLC−8121 GPC/HT(東ソー(株)製)
測定ソフト:GPC−8020 model II データ収集 Version 4.32(東ソー(株)製)
解析ソフト:GPC−8020 model II データ解析 Version 4.32(東ソー(株)製)
(測定条件)
GPCカラム:PLgel Individual(5μm、50Å、7.5mm ID×30cm、アジレントテクノロジー製)1本と、TSKgel GMHHR−H(S)HT(7.5mm ID×30cm、東ソー(株)製)2本を連結
移動相:オルトジクロロベンゼン(和光純薬(株)製、特級)にBHTを0.1w/V%添加して使用
流速:1mL/分
カラムオーブン温度:140℃
オートサンプラー温度:140℃
システムオーブン温度:40℃
検出:示差屈折率検出器(RID)
RIDセル温度:140℃
試料溶液注入量:300μL
GPCカラム較正用標準物質溶液:東ソー(株)製標準ポリスチレンをそれぞれ下表のような質量で秤り取り、5mLのオルトジクロロベンゼン(移動相と同じ組成)を加え、室温で完全に溶解させて調製
(2) Measurement conditions (GPC equipment and software)
Measuring device: HLC-8121 GPC / HT (manufactured by Tosoh Corporation)
Measurement software: GPC-8020 model II data collection Version 4.32 (manufactured by Tosoh Corporation)
Analysis software: GPC-8020 model II data analysis Version 4.32 (manufactured by Tosoh Corporation)
(Measurement condition)
GPC column: One PLgel Individual (5 μm, 50 mm, 7.5 mm ID × 30 cm, manufactured by Agilent Technologies) and two TSKgel GMH HR- H (S) HT (7.5 mm ID × 30 cm, manufactured by Tosoh Corporation) Mobile phase: Ortho-dichlorobenzene (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., special grade) with BHT added at 0.1 w / V% Flow rate: 1 mL / min Column oven temperature: 140 ° C.
Autosampler temperature: 140 ° C
System oven temperature: 40 ° C
Detection: Differential refractive index detector (RID)
RID cell temperature: 140 ° C
Sample solution injection volume: 300 μL
GPC column calibration standard solution: Standard polystyrene manufactured by Tosoh Corporation was weighed as shown in the table below, 5 mL of orthodichlorobenzene (same composition as the mobile phase) was added, and completely dissolved at room temperature. Preparation

Figure 2020006682
Figure 2020006682

GPC測定結果から、低分子成分量W(%)を関係式(3)によって算出した。
W(%)= V0/V1 (3)
〔式(3)中、V0は、GPC測定から得られたチャートにおけるLog Mが2.82から3.32までの面積であり、V1はチャート全体の面積である〕。
From the GPC measurement results, the amount of low molecular components W (%) was calculated by the relational expression (3).
W (%) = V0 / V1 (3)
[In the formula (3), V0 is the area of Log M in the chart obtained from GPC measurement from 2.82 to 3.32, and V1 is the area of the entire chart.]

<弾性率の測定方法>
実施例および比較例で得られた透明樹脂フィルムを200℃で20分間乾燥し、ダンベルカッターを用いて10mm×100mmの短冊状にカットし、サンプルを得た。このサンプルの弾性率を(株)島津製作所製オートグラフAG−ISを用い、チャック間距離500mm、引張速度20mm/分の条件でS−S曲線を測定し、その傾きから光学フィルムの弾性率を算出した。
<Method of measuring elastic modulus>
The transparent resin films obtained in Examples and Comparative Examples were dried at 200 ° C. for 20 minutes, and cut into 10 mm × 100 mm strips using a dumbbell cutter to obtain samples. The elastic modulus of this sample was measured using an Autograph AG-IS manufactured by Shimadzu Corporation under the conditions of a distance between chucks of 500 mm and a pulling speed of 20 mm / min. Calculated.

<全光線透過率の測定方法>
実施例および比較例で得られた透明樹脂フィルムを30mm×30mmの大きさにカットし、ヘイズコンピューター(スガ試験機(株)製、「HGM−2DP」)を用いて、光学フィルムの厚み50μmにおける全光線透過率(%)を測定した。
<Method of measuring total light transmittance>
The transparent resin films obtained in the examples and the comparative examples were cut into a size of 30 mm × 30 mm, and a haze computer (“HGM-2DP”, manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.) was used at a thickness of 50 μm of the optical film. The total light transmittance (%) was measured.

<ヘイズ値の測定方法>
実施例および比較例で得られた透明樹脂フィルムを30mm×30mmの大きさにカットし、ヘイズコンピューター(スガ試験機(株)製、「HGM−2DP」)を用いてヘイズ(%)を測定した。
<Method for measuring haze value>
The transparent resin films obtained in Examples and Comparative Examples were cut into a size of 30 mm × 30 mm, and the haze (%) was measured using a haze computer (“HGM-2DP” manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.). .

<黄色度の測定方法>
実施例および比較例で得られた透明樹脂フィルムを30mm×30mmの大きさにカットし、紫外可視近赤外分光光度計(日本分光(株)製V−670)を用いて、三刺激値(X,Y,Z)を求め、計算式(4)に代入することにより、YI値を算出した。
YI=100×(1.2769X−1.0592Z)/Y (4)
<Method of measuring yellowness>
The transparent resin films obtained in Examples and Comparative Examples were cut into a size of 30 mm × 30 mm, and tristimulus values (V-670 manufactured by JASCO Corporation) were measured using an ultraviolet-visible-near-infrared spectrophotometer (V-670 manufactured by JASCO Corporation). X, Y, Z) were obtained and substituted into the calculation formula (4) to calculate the YI value.
YI = 100 × (1.2767X−1.0592Z) / Y (4)

製造例1:透明ポリイミド系高分子の調製
セパラブルフラスコにシリカゲル管、攪拌装置および温度計を取り付けた反応器と、オイルバスとを準備した。このフラスコ内に、4,4’−(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸無水物(6FDA)75.52gと、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)−4,4’−ジアミノジフェニル(TFMB)54.44gとを投入した。これを400rpmで攪拌しながらN,N−ジメチルアセトアミド(DMAc)519.84gを加え、フラスコの内容物が均一な溶液になるまで攪拌を続けた。続いて、オイルバスを用いて容器内温度が20〜30℃の範囲になるように調整しながらさらに20時間攪拌を続け、反応させてポリアミック酸を生成させた。30分後、撹拌速度を100rpmに変更した。20時間攪拌後、反応系温度を室温に戻し、DMAc649.8gを加えてポリマー濃度が10重量%となるように調整した。さらに、ピリジン32.27g、無水酢酸41.65gを加え、室温で10時間攪拌してイミド化を行った。反応容器からポリイミドワニスを取り出した。得られたポリイミドワニスをメタノール中に滴下して再沈殿を行い、得られた粉体を加熱乾燥して溶媒を除去し、固形分として透明ポリイミド系高分子を得た。得られたポリイミド系高分子のGPC測定を行ったところ、重量平均分子量は360,000であった。
Production Example 1: Preparation of Transparent Polyimide Polymer A reactor equipped with a silica gel tube, a stirrer, and a thermometer in a separable flask and an oil bath were prepared. In this flask, 75.52 g of 4,4 ′-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic anhydride (6FDA) and 2,2′-bis (trifluoromethyl) -4,4′-diaminodiphenyl (TFMB) 54.44 g were charged. While stirring the mixture at 400 rpm, 519.84 g of N, N-dimethylacetamide (DMAc) was added, and stirring was continued until the contents of the flask became a uniform solution. Subsequently, stirring was continued for another 20 hours while adjusting the temperature in the container to be in the range of 20 to 30 ° C. using an oil bath to cause a reaction to generate a polyamic acid. After 30 minutes, the stirring speed was changed to 100 rpm. After stirring for 20 hours, the temperature of the reaction system was returned to room temperature, and 649.8 g of DMAc was added to adjust the polymer concentration to 10% by weight. Further, 32.27 g of pyridine and 41.65 g of acetic anhydride were added, and the mixture was stirred at room temperature for 10 hours to perform imidization. The polyimide varnish was taken out of the reaction vessel. The obtained polyimide varnish was dropped into methanol for reprecipitation, and the obtained powder was dried by heating to remove the solvent, thereby obtaining a transparent polyimide polymer as a solid content. GPC measurement of the obtained polyimide polymer showed a weight-average molecular weight of 360,000.

製造例2:透明ポリアミドイミド系高分子の調製
窒素ガス雰囲気下、撹拌翼を備えた1Lセパラブルフラスコに、TFMB50g(156.13mmol)およびDMAc642.07gを加え、室温で撹拌しながらTFMBをDMAcに溶解させた。次に、フラスコに6FDA20.84g(46.91mmol)を添加し、室温で3時間撹拌した。その後、4,4’−オキシビス(ベンゾイルクロリド)(OBBC)9.23g(31.27mmol)、次いでテレフタロイルクロリド(TPC)15.87g(78.18mmol)をフラスコに加え、室温で1時間撹拌した。次いで、フラスコに4−メチルピリジン9.89g(106.17mmol)と無水酢酸14.37g(140.73mmol)とを加え、室温で30分間撹拌後、オイルバスを用いて70℃に昇温し、さらに3時間撹拌し、反応液を得た。
得られた反応液を室温まで冷却し、大量のメタノール中に糸状に投入し、析出した沈殿物を取り出し、メタノールで6時間浸漬後、メタノールで洗浄した。次に、100℃にて沈殿物の減圧乾燥を行い、透明ポリアミドイミド系高分子を得た。得られたポリアミドイミド系高分子のGPC測定を行ったところ、重量平均分子量は420,000であった。
Production Example 2: Preparation of transparent polyamideimide polymer Under a nitrogen gas atmosphere, 50 g (156.13 mmol) of TFMB and 642.07 g of DMAc were added to a 1 L separable flask equipped with a stirring blade, and TFMB was converted into DMAc while stirring at room temperature. Dissolved. Next, 20.84 g (46.91 mmol) of 6FDA was added to the flask, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. Thereafter, 9.23 g (31.27 mmol) of 4,4′-oxybis (benzoyl chloride) (OBBC) and 15.87 g (78.18 mmol) of terephthaloyl chloride (TPC) were added to the flask, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. did. Next, 9.89 g (106.17 mmol) of 4-methylpyridine and 14.37 g (140.73 mmol) of acetic anhydride were added to the flask, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes, and then heated to 70 ° C. using an oil bath. The mixture was further stirred for 3 hours to obtain a reaction solution.
The obtained reaction solution was cooled to room temperature, poured into a large amount of methanol in the form of a thread, and the deposited precipitate was taken out, immersed in methanol for 6 hours, and washed with methanol. Next, the precipitate was dried under reduced pressure at 100 ° C. to obtain a transparent polyamideimide polymer. GPC measurement of the obtained polyamideimide polymer showed a weight average molecular weight of 420,000.

製造例3:シリカゾルの調製
ゾル−ゲル法により作製されたBET径(BET法で測定された平均一次粒子径)27nmのアモルファスシリカゾルを原料とし、溶媒置換により、γ−ブチロラクトン(以下、GBLと表記することもある)置換シリカゾルを調製した。得られたゾルを目開き10μmのメンブレンフィルターでろ過し、GBL置換シリカゾルを得た。得られたGBL置換シリカゾルは、いずれもシリカ粒子が30〜32質量%であった。
Production Example 3: Preparation of silica sol An amorphous silica sol having a BET diameter of 27 nm (average primary particle diameter measured by the BET method) prepared by a sol-gel method was used as a raw material, and γ-butyrolactone (hereinafter referred to as GBL) was obtained by solvent replacement. A substituted silica sol was prepared. The obtained sol was filtered with a membrane filter having an opening of 10 μm to obtain a GBL-substituted silica sol. Each of the obtained GBL-substituted silica sols contained 30 to 32% by mass of silica particles.

実施例1:積層体の作製
上記製造例1により得られた透明ポリイミド系高分子を、GBLとDMAcを1:9で混合した混合溶媒中に、16.5%の濃度で溶解して樹脂ワニスを得た。得られた樹脂ワニスを、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム基材(厚み188μm、東洋紡(株)製(製品名:コスモシャイン(登録商標) A4100))上に流涎成形により塗布して製膜した。その後、50℃で30分、140℃で10分加熱することによって塗膜を乾燥し、塗膜からPET基材を剥離した。その後、200℃で12分加熱することで、厚み約80μmの透明樹脂フィルムを得た。得られた透明樹脂系フィルムの残留溶媒量は1質量%であった。また、得られた透明樹脂フィルムの全光線透過率は92.5%、ヘイズは0.3%、黄色度は2.1、弾性率は4GPaであった。
次いで、保護フィルムとして、東レフィルム加工(株)製 トレテック(登録商標) N−711を準備した。前記保護フィルムの低分子成分量は、0.33%であった。作製した透明樹脂フィルムに、ローラーを用いて貼合し、積層体を作製した。
Example 1 Preparation of Laminate A resin varnish was prepared by dissolving the transparent polyimide-based polymer obtained in Production Example 1 at a concentration of 16.5% in a mixed solvent of GBL and DMAc mixed at a ratio of 1: 9. I got The obtained resin varnish was applied on a polyethylene terephthalate (PET) film substrate (188 μm thick, manufactured by Toyobo Co., Ltd. (product name: Cosmoshine (registered trademark) A4100)) by salivation molding to form a film. Thereafter, the coating film was dried by heating at 50 ° C. for 30 minutes and at 140 ° C. for 10 minutes, and the PET substrate was peeled from the coating film. Thereafter, by heating at 200 ° C. for 12 minutes, a transparent resin film having a thickness of about 80 μm was obtained. The amount of residual solvent in the obtained transparent resin-based film was 1% by mass. Further, the total light transmittance of the obtained transparent resin film was 92.5%, the haze was 0.3%, the yellowness was 2.1, and the elastic modulus was 4 GPa.
Next, Tretec (registered trademark) N-711 manufactured by Toray Film Processing Co., Ltd. was prepared as a protective film. The low molecular component content of the protective film was 0.33%. The resulting transparent resin film was bonded using a roller to produce a laminate.

<白化の評価>
得られた透明樹脂フィルムの白化を確認した。
実施例1にて作製した積層体を、温度23℃、湿度50%の環境にて24時間静置した。その後、貼りあわせた保護フィルムを剥離し、保護フィルムが貼合してあった透明樹脂フィルムの表面を、クリーンウェスで擦った。その後、光束3,000ルーメンの高輝度ライトを用いて、下記評価基準に従いフィルムの外観(白化)を評価した。結果を表2に示す。
<Evaluation of whitening>
The whitening of the obtained transparent resin film was confirmed.
The laminate produced in Example 1 was allowed to stand in an environment at a temperature of 23 ° C. and a humidity of 50% for 24 hours. Thereafter, the bonded protective film was peeled off, and the surface of the transparent resin film to which the protective film was bonded was rubbed with a clean waste cloth. Thereafter, the appearance (whitening) of the film was evaluated using a high-luminance light having a luminous flux of 3,000 lumens according to the following evaluation criteria. Table 2 shows the results.

<白化の評価基準>
○:白化は確認されなかった
×:透明樹脂フィルムの表面に白化が確認された
<Evaluation criteria for whitening>
:: No whitening was observed ×: Whitening was observed on the surface of the transparent resin film

実施例2
上記製造例1により得られた透明ポリイミド系高分子を、GBLとDMAcを1:9で混合した混合溶媒中に、16.5%の濃度で溶解して樹脂ワニスを得た。得られた樹脂ワニスを、PETフィルム基材(厚み188μm、東洋紡(株)製(製品名:コスモシャイン A4100))上に流涎成形により塗布して製膜した。その後、50℃で30分、140℃で10分加熱することによって塗膜を乾燥し、塗膜からPET基材を剥離して、厚み80μmの透明樹脂系フィルムを得た。得られた透明樹脂フィルムの残留溶媒量は10質量%であった。これを透明樹脂フィルムとして用いた以外は、実施例1と同様の方法により積層体を得た。
実施例1と同様の方法により、フィルムの外観(白化)を評価した。結果を表2に示す。
Example 2
The transparent polyimide-based polymer obtained in Production Example 1 was dissolved at a concentration of 16.5% in a mixed solvent of GBL and DMAc mixed at a ratio of 1: 9 to obtain a resin varnish. The obtained resin varnish was applied on a PET film substrate (188 μm thick, manufactured by Toyobo Co., Ltd. (product name: Cosmoshine A4100)) by salivation molding to form a film. Thereafter, the coating film was dried by heating at 50 ° C. for 30 minutes and at 140 ° C. for 10 minutes, and the PET substrate was peeled off from the coating film to obtain a transparent resin film having a thickness of 80 μm. The residual solvent amount of the obtained transparent resin film was 10% by mass. A laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that this was used as a transparent resin film.
The appearance (whitening) of the film was evaluated in the same manner as in Example 1. Table 2 shows the results.

実施例3
保護フィルムとして、トレテック 7832C(東レフィルム加工(株)製、低分子成分量:0.48%)を用いた以外は、実施例1と同様の方法により積層体を得た。実施例1と同様の方法により、フィルムの外観(白化)を評価した。結果を表2に示す。
Example 3
A laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that Tretec 7832C (manufactured by Toray Film Processing Co., Ltd., low molecular weight: 0.48%) was used as the protective film. The appearance (whitening) of the film was evaluated in the same manner as in Example 1. Table 2 shows the results.

実施例4
保護フィルムとして、トレファン BO 25−MK01(東レ(株)製、低分子成分量:0.04%)を用いた以外は、実施例2と同様の方法により積層体を得た。実施例1と同様の方法により、フィルムの外観(白化)を評価した。結果を表2に示す。
Example 4
A laminate was obtained in the same manner as in Example 2, except that Trefane BO 25-MK01 (manufactured by Toray Industries, Inc., low molecular weight: 0.04%) was used as the protective film. The appearance (whitening) of the film was evaluated in the same manner as in Example 1. Table 2 shows the results.

実施例5
上記製造例2により得られた透明ポリアミドイミド系高分子を、DMAc溶媒中に、10%の濃度で溶解して樹脂ワニスを得たこと以外は、実施例2と同様の方法により積層体を得た。実施例1と同様の方法により、フィルムの外観(白化)を評価した。結果を表2に示す。
Example 5
A laminate was obtained in the same manner as in Example 2, except that the transparent polyamideimide-based polymer obtained in Production Example 2 was dissolved at a concentration of 10% in a DMAc solvent to obtain a resin varnish. Was. The appearance (whitening) of the film was evaluated in the same manner as in Example 1. Table 2 shows the results.

実施例6
製造例2にて得られた透明ポリアミドイミド系高分子をGBLに溶解し、製造例3にて得られたGBL置換シリカゾルを加えて十分に混合することで、表2に記載の組成である透明ポリアミドイミド系高分子/シリカ粒子混合ワニス(以下、混合ワニスと称することがある)を得た。その際、ポリアミドイミド系高分子/シリカ粒子濃度(樹脂とシリカ粒子の総質量に対する濃度)が10質量%となるように混合ワニスを調製した。その後、得られた混合ワニスを、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム基材(厚み188μm、東洋紡(株)製(製品名:コスモシャイン A4100))上に流涎成形により塗布して製膜した。その後、50℃で30分、140℃で10分加熱することによって塗膜を乾燥し、塗膜からPET基材を剥離して、厚み50μmの透明樹脂フィルムを得た。得られた透明樹脂フィルムの残留溶媒量は14質量%であった。これを透明樹脂フィルムとして用いた以外は、実施例1と同様の方法により積層体を得た。実施例1と同様の方法により、フィルムの外観(白化)を評価した。結果を表2に示す。
Example 6
The transparent polyamideimide-based polymer obtained in Production Example 2 was dissolved in GBL, and the GBL-substituted silica sol obtained in Production Example 3 was added and mixed well to obtain a transparent composition having the composition shown in Table 2. A polyamide imide polymer / silica particle mixed varnish (hereinafter sometimes referred to as a mixed varnish) was obtained. At that time, a mixed varnish was prepared so that the concentration of the polyamideimide-based polymer / silica particles (the concentration based on the total mass of the resin and the silica particles) was 10% by mass. Then, the obtained mixed varnish was applied on a polyethylene terephthalate (PET) film base material (thickness: 188 μm, manufactured by Toyobo Co., Ltd. (product name: Cosmoshine A4100)) by salivation molding to form a film. Thereafter, the coating was dried by heating at 50 ° C. for 30 minutes and at 140 ° C. for 10 minutes, and the PET substrate was peeled off from the coating to obtain a transparent resin film having a thickness of 50 μm. The residual solvent amount of the obtained transparent resin film was 14% by mass. A laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that this was used as a transparent resin film. The appearance (whitening) of the film was evaluated in the same manner as in Example 1. Table 2 shows the results.

実施例7
製造例2により得られた透明ポリアミドイミド系高分子を、DMAc中に、12%の濃度で溶解して樹脂ワニスを得た。塗膜の乾燥条件を、70℃で30分、140℃で15分加熱に変更した以外は、実施例2と同様の方法により積層体を得た。実施例1と同様の方法により、フィルムの外観(白化)を評価した。結果を表2に示す。
Example 7
The transparent polyamideimide-based polymer obtained in Production Example 2 was dissolved in DMAc at a concentration of 12% to obtain a resin varnish. A laminate was obtained in the same manner as in Example 2, except that the drying conditions of the coating film were changed to heating at 70 ° C. for 30 minutes and heating at 140 ° C. for 15 minutes. The appearance (whitening) of the film was evaluated in the same manner as in Example 1. Table 2 shows the results.

実施例8
塗膜からPET基材を剥離したのち、200℃で14時間加熱したこと以外は、実施例1と同様の方法により積層体を得た。得られた透明樹脂系フィルムの厚みは79μm、残留溶媒量は0.024質量%であった。実施例1と同様の方法により、フィルムの外観(白化)を評価した。結果を表2に示す。
Example 8
After peeling the PET substrate from the coating film, a laminate was obtained in the same manner as in Example 1, except that the PET substrate was heated at 200 ° C. for 14 hours. The thickness of the obtained transparent resin-based film was 79 μm, and the amount of residual solvent was 0.024% by mass. The appearance (whitening) of the film was evaluated in the same manner as in Example 1. Table 2 shows the results.

比較例1
保護フィルムとして、トレテック 7832C(東レフィルム加工(株)製、低分子成分量:0.48%)を用いた以外は、実施例2と同様の方法により積層体を得た。実施例1と同様の方法により、フィルムの外観(白化)を評価した。結果を表2に示す。
Comparative Example 1
A laminate was obtained in the same manner as in Example 2 except that Tretec 7832C (manufactured by Toray Film Processing Co., Ltd., low molecular weight: 0.48%) was used as the protective film. The appearance (whitening) of the film was evaluated in the same manner as in Example 1. Table 2 shows the results.

比較例2
保護フィルムとして、トレテック 7832C(東レフィルム加工(株)製、低分子成分量:0.48%)を用いた以外は、実施例6と同様の方法により積層体を得た。実施例1と同様の方法により、フィルムの外観(白化)を評価した。結果を表2に示す。
Comparative Example 2
A laminate was obtained in the same manner as in Example 6, except that Tretec 7832C (manufactured by Toray Film Processing Co., Ltd., low molecular weight: 0.48%) was used as the protective film. The appearance (whitening) of the film was evaluated in the same manner as in Example 1. Table 2 shows the results.

Figure 2020006682
Figure 2020006682

Claims (6)

少なくとも1種のポリアミドイミドおよび1種以上の溶媒を含んでなり、キャスト法により前記1種以上の溶媒を用いて製造される透明樹脂フィルムと、前記透明樹脂フィルムの少なくとも一方の面に貼合された保護フィルムとを含んでなる積層体であって、
前記1種以上の溶媒の中で最も沸点が高い溶媒の沸点が120〜300℃であり、
熱重量−示差熱(TG−DTA)測定による120℃から250℃における質量減少率として算出される、前記透明樹脂フィルムの残留溶媒量S(質量%)と、前記保護フィルムの、測定温度140℃におけるゲル浸透クロマトグラフィーにより測定して得られるチャートの全面積に対するLog Mが2.82から3.32までの面積の割合として定義される低分子成分量W(%)が、関係式(1):
S × W ≦ 4.7 (1)
を満たし、
Sが0.01質量%以上であり、Wが1%以下であり、
前記ポリアミドイミドが、式(10):
Figure 2020006682
〔式(10)中、Gは4価の有機基を表し、Aは2価の有機基を表す〕
で表される繰り返し構造単位と、式(11)〜(13):
Figure 2020006682
〔式(11)〜(13)中、
は4価の有機基を表し、Gは3価の有機基を表し、Gは2価の有機基を表し、
、AおよびAは、それぞれ独立に、2価の有機基を表す〕
のいずれかで表される繰り返し構造単位のいずれか1つ以上を含む重合体である、積層体。
A transparent resin film comprising at least one kind of polyamideimide and one or more kinds of solvents, produced by using the one or more kinds of solvents by a casting method, and bonded to at least one surface of the transparent resin film. And a protective film comprising:
The boiling point of the solvent having the highest boiling point among the one or more solvents is 120 to 300 ° C,
The residual solvent amount S (% by mass) of the transparent resin film, which is calculated as a mass reduction ratio from 120 ° C. to 250 ° C. by thermogravimetry-differential heat (TG-DTA) measurement, and a measurement temperature of 140 ° C. of the protective film The low molecular weight component W (%), defined as the ratio of the area where Log M is from 2.82 to 3.32 with respect to the total area of the chart obtained by gel permeation chromatography in :
S × W ≦ 4.7 (1)
The filling,
S is 0.01% by mass or more, W is 1% or less,
The polyamideimide has the formula (10):
Figure 2020006682
[In the formula (10), G represents a tetravalent organic group, and A represents a divalent organic group.]
And a repeating structural unit represented by the following formulas (11) to (13):
Figure 2020006682
[In formulas (11) to (13),
G 1 represents a tetravalent organic group, G 2 represents a trivalent organic group, G 3 represents a divalent organic group,
A 1 , A 2 and A 3 each independently represent a divalent organic group]
The laminate which is a polymer containing any one or more of the repeating structural units represented by any one of the above.
SとWとが関係式(1’):
0.005≦ S × W (1’)
を満たす、請求項1に記載の積層体。
S and W are related equations (1 ′):
0.005 ≦ S × W (1 ′)
The laminate according to claim 1, which satisfies the following.
透明樹脂フィルムのヘイズが1.0%以下である、請求項1または2に記載の積層体。   The laminate according to claim 1 or 2, wherein the haze of the transparent resin film is 1.0% or less. 透明樹脂フィルムの全光線透過率が85%以上である、請求項1〜3のいずれかに記載の積層体。   The laminate according to any one of claims 1 to 3, wherein the transparent resin film has a total light transmittance of 85% or more. 透明樹脂フィルムが、N,N−ジメチルアセトアミド、γ−ブチロラクトン、N−メチルピロリドン、シクロペンタノン、酢酸ブチルおよび酢酸アミルからなる群から選択される溶媒を少なくとも1つ含む、請求項1〜4のいずれかに記載の積層体。   The transparent resin film according to claim 1, wherein the transparent resin film contains at least one solvent selected from the group consisting of N, N-dimethylacetamide, γ-butyrolactone, N-methylpyrrolidone, cyclopentanone, butyl acetate and amyl acetate. The laminate according to any one of the above. 保護フィルムがポリオレフィン系樹脂フィルムである、請求項1〜5のいずれかに記載の積層体。   The laminate according to any one of claims 1 to 5, wherein the protective film is a polyolefin-based resin film.
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