JP2016087799A - Long-sized laminate for high frequency circuit board, and method for manufacturing the same - Google Patents

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まい 杉山
Mai Sugiyama
まい 杉山
雅一 奥井
Masakazu Okui
雅一 奥井
洋和 小森
Hirokazu Komori
洋和 小森
剛志 稲葉
Tsuyoshi Inaba
剛志 稲葉
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Daikin Industries Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a laminate which is a long-sized laminate formed by bonding a polyimide film and a fluorine resin, can be manufactured by bonding at a low temperature, and is excellent in adhesiveness between the polyimide film and the fluorine resin.SOLUTION: A long-sized laminate is a laminate formed by bonding a polyimide film produced using one or more aromatic diamine components selected from the group consisting of paraphenylene diamine, 1,3-bis(4-aminophenoxy)benzene, 4,4'-diaminodiphenyl ether and 3,4'-diaminodiphenyl ether, and one or more aromatic anhydride components selected from the group consisting of 4,4'-oxydiphthalic anhydride, pyromellitic dianhydride and 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic acid dianhydride, and a fluorine resin. A bond strength of the polyimide film and the fluorine resin is 0.2 N/cm or more.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、ポリイミドフィルムとフッ素樹脂を貼り合わせてなる、高周波回路基板用の長尺状積層体並びにその製造方法に関する。   The present invention relates to a long laminate for a high-frequency circuit board formed by bonding a polyimide film and a fluororesin, and a method for producing the same.

フレキシブルプリント基板(以下、FPCともいう)やフレキシブルフラットケーブル(以下、FFCともいう)は、携帯電話やタブレット、パーソナルコンピュータのハードディスク等、広く電子・電気機器に使用されている。   Flexible printed circuit boards (hereinafter also referred to as FPCs) and flexible flat cables (hereinafter also referred to as FFCs) are widely used in electronic and electrical devices such as mobile phones, tablets, and hard disks of personal computers.

一般的に、FPCは、絶縁体層と銅箔層とからなる銅張り積層体(CCL)を加工し、非直線の複雑な電気回路を形成した後、該回路部を保護するために絶縁層と接着剤層からなるカバーレイ(CL)の接着剤部を回路部へ取り付ける工程を経て作られるものである。
また、FFCは、絶縁体層と接着剤層からなる基材と配線状に形成した銅箔等の導体を用い、基材の接着剤部同士の間に導体を複数本並べ、接着して得られる直線状の電気回路である。
よって、FPCにおけるカバーレイとFFCにおける基材とは、構造的には同一のものである。
In general, an FPC is formed by processing a copper clad laminate (CCL) composed of an insulator layer and a copper foil layer to form a non-linear complex electric circuit, and then protecting the circuit portion with an insulating layer. And a cover lay (CL) made of an adhesive layer is made through a process of attaching the adhesive part to the circuit part.
FFC is obtained by using a base material composed of an insulator layer and an adhesive layer and a conductor such as a copper foil formed in a wiring shape, and arranging and bonding a plurality of conductors between the adhesive parts of the base material. It is a linear electric circuit.
Accordingly, the coverlay in the FPC and the base material in the FFC are structurally the same.

FPCやFFCの中でも、近年、伝達する情報量の増加に伴って、高周波数用途の回路基板の需要が高まっている。
高周波回路基板用のカバーレイ又はFFC用基材として、ポリイミドフィルムとフッ素樹脂との積層体が開発されている(特許文献1及び特許文献2)。
しかしながら、これら特許文献1及び特許文献2に記載のカバーレイ又はFFC用基材は、ラボスケールで製造されたものに過ぎず、高周波回路基板用の長尺状積層体の製造方法が必要とされている。
Among FPCs and FFCs, in recent years, with the increase in the amount of information to be transmitted, the demand for circuit boards for high frequency applications is increasing.
A laminate of a polyimide film and a fluororesin has been developed as a coverlay for a high-frequency circuit board or a base material for FFC (Patent Document 1 and Patent Document 2).
However, the coverlay or FFC base material described in Patent Document 1 and Patent Document 2 is only manufactured on a lab scale, and a method for manufacturing a long laminate for a high-frequency circuit board is required. ing.

また、特許文献3には、放電処理が施されたポリイミドフィルムにフッ素樹脂を積層させる方法が記載されている。特許文献3には、放電処理が施されたポリイミドフィルムとフッ素フィルムとを重ね合わせ、プレスローラを使用して圧力をかけながら約80〜200℃の温度にて加圧接合してラミネートした後、アフターキュアとして、約300〜400℃の温度で加圧を行うことなく熱処理を施してアニール処理をする方法が記載されている。
しかしながら、このような方法では高温での熱処理(アニール処理)が必要となるため、生産性向上のために、より低温での熱処理によって製造可能なポリイミドフィルムとフッ素樹脂の積層体が必要とされている。
Patent Document 3 describes a method of laminating a fluororesin on a polyimide film that has been subjected to a discharge treatment. In Patent Document 3, after laminating the polyimide film and the fluorine film subjected to the discharge treatment, pressurizing and laminating at a temperature of about 80 to 200 ° C. while applying pressure using a press roller, As after-cure, a method is described in which annealing is performed by applying heat treatment without applying pressure at a temperature of about 300 to 400 ° C.
However, since such a method requires a heat treatment at high temperature (annealing), a laminate of a polyimide film and a fluororesin that can be produced by a heat treatment at a lower temperature is required to improve productivity. Yes.

また、ポリイミドフィルムとフッ素樹脂の積層体においては、ポリイミドフィルムとフッ素樹脂間の接着性が優れていることも必要である。   Moreover, in the laminated body of a polyimide film and a fluororesin, it is also required that the adhesiveness between a polyimide film and a fluororesin is excellent.

特願2013−072570号Japanese Patent Application No. 2013-072570 特願2014−050759号Japanese Patent Application No. 2014-050759 平5−59828号公報No. 5-59828

本発明は、上記現状に鑑み、ポリイミドフィルムとフッ素樹脂を貼り合わせて形成される長尺状積層体であって、低温での貼り合わせによる製造が可能であり、ポリイミドフィルムとフッ素樹脂間の接着性に優れる積層体を提供することを目的とする。   In view of the above situation, the present invention is a long laminate formed by bonding a polyimide film and a fluororesin, and can be manufactured by bonding at a low temperature, and adhesion between the polyimide film and the fluororesin It aims at providing the laminated body which is excellent in property.

本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、パラフェニレンジアミン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル及び3,4’−ジアミノジフェニルエーテルからなる群から選ばれる1以上の芳香族ジアミン成分と、4,4’−オキシジフタル酸無水物、ピロメリット酸二無水物及び3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物からなる群から選ばれる1以上の芳香族酸無水物成分とを使用して製造されるポリイミドフィルムとフッ素樹脂を、150〜230℃に加熱したロールで1〜15kNの荷重を掛けて貼り合わせて積層体とし、貼り合わせた後に積層体をフッ素樹脂の融点以上の温度でアニール処理に付することによって、ポリイミドフィルムとフッ素樹脂の長尺状積層体が得られることを見出した。
本発明者らは、上記以外にも下記するように種々の新知見を得て、さらに鋭意検討を重ねて本発明を完成するに至った。
As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the present inventors have found that p-phenylenediamine, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 4,4′-diaminodiphenyl ether and 3,4′- One or more aromatic diamine components selected from the group consisting of diaminodiphenyl ether, 4,4′-oxydiphthalic anhydride, pyromellitic dianhydride and 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride A polyimide film manufactured using one or more aromatic acid anhydride components selected from the group consisting of a product and a fluororesin are bonded together by applying a load of 1 to 15 kN with a roll heated to 150 to 230 ° C. By laminating and laminating the laminate and subjecting the laminate to an annealing treatment at a temperature equal to or higher than the melting point of the fluororesin, polyimide film and fluorine Found that elongate laminate fat is obtained.
In addition to the above, the present inventors have obtained various new findings as will be described below, and have made further studies and completed the present invention.

本発明は以下の発明に関する。
[1]パラフェニレンジアミン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル及び3,4’−ジアミノジフェニルエーテルからなる群から選ばれる1以上の芳香族ジアミン成分と、4,4’−オキシジフタル酸無水物、ピロメリット酸二無水物及び3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物からなる群から選ばれる1以上の芳香族酸無水物成分とを使用して製造されるポリイミドフィルムとフッ素樹脂を貼り合わせてなる積層体であって、ポリイミドフィルムとフッ素樹脂の接着強度が0.2N/cm以上であることを特徴とする、長尺状積層体。
[2]ポリイミドフィルムとフッ素樹脂の接着強度が0.5N/cm以上であることを特徴とする前記[1]に記載の積層体。
[3]前記[1]又は[2]に記載の積層体であって、積層体を構成するポリイミドフィルムの平均厚さが2.5〜175μm、フッ素樹脂の平均厚さが12.5〜100μmであることを特徴とする積層体。
[4]フッ素樹脂が、融点が200℃以下ものであることを特徴とする前記[1]〜[3]のいずれか1項に記載の積層体。
[5]フッ素樹脂が、含フッ素エチレン性重合体であり、該含フッ素エチレン性重合体はカルボニル基を含有することを特徴とする前記[1]〜[4]のいずれか1項に記載の積層体。
[6]含フッ素エチレン性重合体のカルボニル基の含有量が、主鎖炭素数1×10個に対して合計3〜1000個であることを特徴とする前記[5]に記載の積層体。
[7]フッ素樹脂が、カーボネート基、カルボン酸ハライド基及びカルボン酸基からなる群から選択される少なくとも1種を、主鎖炭素数1×10個に対して合計3〜1000個有する含フッ素エチレン性重合体からなることを特徴とする前記[1]〜[4]のいずれか1項に記載の積層体。
[8]フッ素樹脂が、テトラフルオロエチレン、フッ化ビニリデン、クロロトリフルオロエチレン、フッ化ビニル、ヘキサフルオロプロピレン、ヘキサフルオロイソブテン、下記式(X):
CH=CR(CF (X)
(式中、RはH又はFを表し、RはH、F又はClを表し、nは1〜10の正の整数を表す。)
で表される単量体及び炭素数2〜10のパーフルオロ(アルキルビニルエーテル)類からなる群から選ばれる1種以上の含フッ素エチレン性単量体、又は前記含フッ素エチレン性単量体と炭素数5以下のエチレン性単量体とを重合してなる含フッ素エチレン性重合体であることを特徴とする前記[1]〜[4]のいずれか1項に記載の積層体。
[9]フッ素樹脂が、少なくとも下記(a)、(b)及び(c)を重合してなる共重合体である前記[1]〜[4]のいずれか1項に記載の積層体。
(a)テトラフルオロエチレン20〜90モル%
(b)エチレン10〜80モル%
(c)式CF=CFR (Y)
(式中、RはCF又はORを表し、Rは炭素数1〜5のパーフルオロアルキル基を表す。)
で表される化合物1〜70モル%
[10]パラフェニレンジアミン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル及び3,4’−ジアミノジフェニルエーテルからなる群から選ばれる1以上の芳香族ジアミン成分と、4,4’−オキシジフタル酸無水物、ピロメリット酸二無水物及び3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物からなる群から選ばれる1以上の芳香族酸無水物成分とを使用して製造されるポリイミドフィルムとフッ素樹脂を、150〜230℃に加熱したロールで1〜15kNの荷重を掛けて貼り合わせて積層体とし、貼り合わせた後に積層体をフッ素樹脂の融点以上の温度でアニール処理に付することを特徴とする、長尺状積層体の製造方法。
[11]アニール処理が、貼り合わせ直後の積層体を、引き続き200〜290℃に加熱されたロールに接触させることによって行われることを特徴とする前記[10]に記載の製造方法。
[12]アニール処理が、貼り合わせ直後の積層体を、引き続き200〜290℃に加熱されたオーブンで加熱することによって行われることを特徴とする前記[10]に記載の製造方法。
[13]パラフェニレンジアミン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル及び3,4’−ジアミノジフェニルエーテルからなる群から選ばれる1以上の芳香族ジアミン成分と、4,4’−オキシジフタル酸無水物、ピロメリット酸二無水物及び3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物からなる群から選ばれる1以上の芳香族酸無水物成分とを使用して製造されるポリイミドフィルムとフッ素樹脂を、150〜230℃に加熱したロールで1〜15kNの荷重を掛けて貼り合わせて積層体とし、貼り合わせた積層体をロール状に巻きとった後に150〜290℃に加熱されたオーブンで加熱することを特徴とする、長尺状積層体の製造方法。
[14]前記[1]〜[9]のいずれか1項に記載の積層体を用いることを特徴とするFPC(フレキシブルプリント基板)。
[15] 前記[1]〜[9]のいずれか1項に記載の積層体を用いることを特徴とするFFC(フレキシブルフラットケーブル)。
The present invention relates to the following inventions.
[1] one or more aromatic diamine components selected from the group consisting of paraphenylenediamine, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 4,4′-diaminodiphenyl ether and 3,4′-diaminodiphenyl ether; One or more aromatic acid anhydride components selected from the group consisting of 4,4'-oxydiphthalic anhydride, pyromellitic dianhydride and 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride; A laminate formed by laminating a polyimide film and a fluororesin produced by using an adhesive, wherein the adhesive strength between the polyimide film and the fluororesin is 0.2 N / cm or more. body.
[2] The laminate according to [1], wherein the adhesive strength between the polyimide film and the fluororesin is 0.5 N / cm or more.
[3] The laminate according to [1] or [2], wherein the polyimide film constituting the laminate has an average thickness of 2.5 to 175 μm, and the fluororesin has an average thickness of 12.5 to 100 μm. A laminate characterized by the above.
[4] The laminate according to any one of [1] to [3], wherein the fluororesin has a melting point of 200 ° C. or lower.
[5] The fluorine resin is a fluorine-containing ethylenic polymer, and the fluorine-containing ethylenic polymer contains a carbonyl group, according to any one of the above [1] to [4] Laminated body.
[6] The laminate according to [5], wherein the carbonyl group content of the fluorine-containing ethylenic polymer is 3 to 1000 in total with respect to 1 × 10 6 main chain carbon atoms. .
[7] Fluorine-containing fluorine-containing resin having at least one selected from the group consisting of a carbonate group, a carboxylic acid halide group, and a carboxylic acid group with respect to 1 × 10 6 main chain carbon atoms in total 3 to 1000 It consists of an ethylenic polymer, The laminated body of any one of said [1]-[4] characterized by the above-mentioned.
[8] The fluororesin is tetrafluoroethylene, vinylidene fluoride, chlorotrifluoroethylene, vinyl fluoride, hexafluoropropylene, hexafluoroisobutene, the following formula (X):
CH 2 = CR 1 (CF 2 ) n R 2 (X)
(In the formula, R 1 represents H or F, R 2 represents H, F or Cl, and n represents a positive integer of 1 to 10.)
1 or more types of fluorine-containing ethylenic monomers selected from the group consisting of monomers represented by formula (2) and perfluoro (alkyl vinyl ethers) having 2 to 10 carbon atoms, or the fluorine-containing ethylenic monomers and carbon The laminate according to any one of [1] to [4], which is a fluorine-containing ethylenic polymer obtained by polymerizing an ethylenic monomer having a number of 5 or less.
[9] The laminate according to any one of [1] to [4], wherein the fluororesin is a copolymer obtained by polymerizing at least the following (a), (b), and (c).
(A) Tetrafluoroethylene 20-90 mol%
(B) 10-80 mol% ethylene
(C) Formula CF 2 = CFR 3 (Y)
(In the formula, R 3 represents CF 3 or OR 4 , and R 4 represents a perfluoroalkyl group having 1 to 5 carbon atoms.)
1 to 70 mol% of a compound represented by
[10] one or more aromatic diamine components selected from the group consisting of paraphenylenediamine, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 4,4′-diaminodiphenyl ether and 3,4′-diaminodiphenyl ether; One or more aromatic acid anhydride components selected from the group consisting of 4,4'-oxydiphthalic anhydride, pyromellitic dianhydride and 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride; A polyimide film and a fluororesin produced by using a roll are laminated by applying a load of 1 to 15 kN with a roll heated to 150 to 230 ° C., and after laminating, the laminated body is equal to or higher than the melting point of the fluororesin. The manufacturing method of a elongate laminated body characterized by attaching | subjecting annealing treatment at the temperature of.
[11] The manufacturing method according to [10], wherein the annealing process is performed by bringing the laminated body immediately after bonding into contact with a roll heated to 200 to 290 ° C.
[12] The method according to [10], wherein the annealing treatment is performed by continuously heating the laminated body immediately after bonding in an oven heated to 200 to 290 ° C.
[13] one or more aromatic diamine components selected from the group consisting of paraphenylenediamine, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 4,4′-diaminodiphenyl ether, and 3,4′-diaminodiphenyl ether; One or more aromatic acid anhydride components selected from the group consisting of 4,4'-oxydiphthalic anhydride, pyromellitic dianhydride and 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride; A polyimide film and a fluororesin produced by using a roll are laminated together by applying a load of 1 to 15 kN with a roll heated to 150 to 230 ° C., and the laminated body is wound into a roll. A method for producing a long laminate, which is later heated in an oven heated to 150 to 290 ° C.
[14] An FPC (flexible printed circuit board) using the laminate according to any one of [1] to [9].
[15] An FFC (flexible flat cable) using the laminate according to any one of [1] to [9].

本発明によれば、ポリイミドフィルムとフッ素樹脂間の接着性に優れた、ポリイミドフィルムとフッ素樹脂の長尺状積層体を得ることができる。
また、本発明によれば、ポリイミドフィルムとフッ素樹脂の貼り合わせを従来よりも低温で行うことができるため、工業的に有利にポリイミドフィルムとフッ素樹脂の長尺状積層体を製造することができる。
また、本発明の積層体を用いて、優れた効果奏する高周波回路基板を得ることができる。
ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the elongate laminated body of a polyimide film and a fluororesin excellent in the adhesiveness between a polyimide film and a fluororesin can be obtained.
In addition, according to the present invention, since the polyimide film and the fluororesin can be bonded together at a lower temperature than conventional, a long laminate of the polyimide film and the fluororesin can be produced industrially advantageously. .
Moreover, the high frequency circuit board which has the outstanding effect can be obtained using the laminated body of this invention.

ポリイミドフィルムとフッ素樹脂を貼り合わせてなる本発明の積層体の例の断面図である。It is sectional drawing of the example of the laminated body of this invention formed by bonding a polyimide film and a fluororesin. 本発明における加熱したロールを用いたアニール処理を行う場合の製造方法を示すフロー図である。It is a flowchart which shows the manufacturing method in the case of performing the annealing process using the heated roll in this invention. 本発明におけるオーブンを用いたアニール処理を行う場合の製造方法を示すフロー図である。It is a flowchart which shows the manufacturing method in the case of performing the annealing process using the oven in this invention. 図1に示す本発明の積層体のポリイミドフィルム側にポリイミドフィルムを貼り合わせてなる本発明の積層体の例の断面図である。It is sectional drawing of the example of the laminated body of this invention formed by bonding a polyimide film to the polyimide film side of the laminated body of this invention shown in FIG. 図1に示す本発明の積層体のポリイミドフィルム側に微粘着性ペットフィルムを貼り合わせてなる本発明の積層体の例の断面図である。It is sectional drawing of the example of the laminated body of this invention formed by bonding a slightly adhesive pet film to the polyimide film side of the laminated body of this invention shown in FIG.

以下、本発明をさらに詳しく説明する。
本発明の積層体は、パラフェニレンジアミン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル及び3,4’−ジアミノジフェニルエーテルからなる群から選ばれる1以上の芳香族ジアミン成分と、4,4’−オキシジフタル酸無水物、ピロメリット酸二無水物及び3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物からなる群から選ばれる1以上の芳香族酸無水物成分とを使用して製造されるポリイミドフィルムとフッ素樹脂を貼り合わせてなる積層体であって、ポリイミドフィルムとフッ素樹脂の接着強度が0.2N/cm以上であることを特徴とする、長尺状積層体である。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail.
The laminate of the present invention has at least one aromatic selected from the group consisting of paraphenylenediamine, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 4,4′-diaminodiphenyl ether and 3,4′-diaminodiphenyl ether. One or more aromatic acids selected from the group consisting of a diamine component and 4,4′-oxydiphthalic anhydride, pyromellitic dianhydride and 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride A laminate obtained by laminating a polyimide film and a fluororesin manufactured using an anhydride component, wherein the adhesive strength between the polyimide film and the fluororesin is 0.2 N / cm or more, It is a long laminate.

<ポリイミドフィルム>
まず、本発明において使用されるポリイミドフィルムについて、以下に説明する。
本発明の積層体に用いるポリイミドフィルムの製造に際しては、まず芳香族ジアミン成分と芳香族酸無水物成分とを有機溶媒中で重合させることにより、ポリアミック酸溶液を得る。
<Polyimide film>
First, the polyimide film used in the present invention will be described below.
In producing the polyimide film used for the laminate of the present invention, first, an aromatic diamine component and an aromatic acid anhydride component are polymerized in an organic solvent to obtain a polyamic acid solution.

本発明において、前記芳香族ジアミン成分としては、通常は、パラフェニレンジアミン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル及び3,4’−ジアミノジフェニルエーテルからなる群から選ばれる1以上であるが、これらの成分以外の芳香族ジアミン成分を他に含んでいてもよい。
前記他に含んでいてもよい芳香族ジアミン成分の具体例としては、メタフェニレンジアミン、ベンジジン、パラキシリレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、3,3’−ジメチル−4,4’−ジアミノジフェニルメタン、1,5−ジアミノナフタレン、3,3’−ジメトキシベンチジン、1,4−ビス(3メチル−5アミノフェニル)ベンゼン、3,3’−ジメチル−4,4’−ジアミノビフェニル、2,2’−ジメチル−4,4’−ジアミノビフェニル、2,2’−ビス(トリフルオロメチル)−4,4’−ジアミノビフェニル、4,4’−ジアミノベンゾフェノン、3,3’−ジアミノベンゾフェノン、9,9’−ビス(4−アミノフェニル)フルオレン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4’−ビス(アミノフェノキシ)ビフェニル、4,4’−ビス(3−アミノフェノキシ)ビフェニル、2,2’−ビス(4−アミノフェノキシフェニル)プロパン、ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]スルホン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン、3,3’−ジヒドロキシ−4,4’−ジアミノビフェニル等が挙げられる。これらは、1種単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
前記他に含んでいてもよい芳香族ジアミン成分は、好ましくは、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4’−ビス(アミノフェノキシ)ビフェニル、4,4’−ビス(3−アミノフェノキシ)ビフェニル、2,2’−ビス(4−アミノフェノキシフェニル)プロパン等であり、より好ましくは、2,2’−ビス(4−アミノフェノキシフェニル)プロパン等である。
In the present invention, the aromatic diamine component is usually a group consisting of paraphenylenediamine, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 4,4′-diaminodiphenyl ether and 3,4′-diaminodiphenyl ether. It is 1 or more chosen from these, However, Other aromatic diamine components other than these components may be included.
Specific examples of the aromatic diamine component that may be included in addition to the above include metaphenylenediamine, benzidine, paraxylylenediamine, 4,4′-diaminodiphenylmethane, 4,4′-diaminodiphenylsulfone, 3,3 ′. -Dimethyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, 1,5-diaminonaphthalene, 3,3'-dimethoxybenzidine, 1,4-bis (3methyl-5aminophenyl) benzene, 3,3'-dimethyl-4 , 4′-diaminobiphenyl, 2,2′-dimethyl-4,4′-diaminobiphenyl, 2,2′-bis (trifluoromethyl) -4,4′-diaminobiphenyl, 4,4′-diaminobenzophenone, 3,3′-diaminobenzophenone, 9,9′-bis (4-aminophenyl) fluorene, 1,4-bis (4-aminophenoxy) be Zen, 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene, 4,4′-bis (aminophenoxy) biphenyl, 4,4′-bis (3-aminophenoxy) biphenyl, 2,2′-bis (4- Aminophenoxyphenyl) propane, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfone, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] Examples include hexafluoropropane and 3,3′-dihydroxy-4,4′-diaminobiphenyl. These may be used singly or in combination of two or more.
The aromatic diamine component that may be contained in addition to the above is preferably 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (3-aminophenoxy) benzene, 4,4′-bis ( Aminophenoxy) biphenyl, 4,4′-bis (3-aminophenoxy) biphenyl, 2,2′-bis (4-aminophenoxyphenyl) propane, and the like, more preferably 2,2′-bis (4- Aminophenoxyphenyl) propane and the like.

本発明において、前記芳香族酸無水物成分としては、通常は、4,4’−オキシジフタル酸無水物、ピロメリット酸二無水物及び3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物からなる群から選ばれる1以上であるが、これらの成分以外の芳香族酸無水物成分を他に含んでいてもよい。
前記他に含んでいてもよい芳香族酸無水物成分の具体例としては、2,3’,3,4’−ビフェニルテトラカルボン酸、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸、2,3,6,7−ナフタレンジカルボン酸、オキシジフタル酸、3,4,3’,4’−ビフェニルスルホンテトラカルボン酸、4,4’−(2,2−ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸、メタ(パラ)−フェニル−3,4,3,4’−テトラカルボン酸、2,2−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エーテル、ピリジン−2,3,5,6−テトラカルボン酸及びこれらのアミド形成性誘導体等の酸無水物が挙げられる。これらは、1種単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
前記他に含んでいてもよい芳香族酸無水物成分は、好ましくは、2,3’,3,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物等である。
In the present invention, the aromatic acid anhydride component is usually 4,4′-oxydiphthalic anhydride, pyromellitic dianhydride, and 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride. Although it is 1 or more chosen from the group which consists of a thing, aromatic acid anhydride ingredients other than these ingredients may be contained in addition.
Specific examples of the aromatic acid anhydride component that may be included in addition to the above include 2,3 ′, 3,4′-biphenyltetracarboxylic acid, 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic acid, 2,3,6,7-naphthalenedicarboxylic acid, oxydiphthalic acid, 3,4,3 ′, 4′-biphenylsulfonetetracarboxylic acid, 4,4 ′-(2,2-hexafluoroisopropylidene) diphthalic acid, meta (Para) -phenyl-3,4,3,4'-tetracarboxylic acid, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) ether, pyridine-2,3,5,6-tetracarboxylic acid and these And acid anhydrides such as amide-forming derivatives. These may be used singly or in combination of two or more.
The aromatic acid anhydride component which may be contained in addition to the above is preferably 2,3 ′, 3,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,3 ′, 4,4′-benzophenonetetracarboxylic And acid dianhydrides.

また、本発明において、ポリアミック酸溶液の形成に使用される有機溶媒としては、例えば、ジメチルスルホキシド、ジエチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒、N,N−ジメチルホルムド、N,N−ジエチルホルムアミド等のホルムアミド系溶媒、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジエチルアセトアミド等のアセトアミド系溶媒、N−メチル−2−ピロリドン、N−ビニル−2−ピロリドン等のピロリドン系溶媒、フェノール、o−,m−,又はp−クレゾール、キシレノール、ハロゲン化フェノール、カテコール等のフェノール系溶媒、又はヘキサメチルホスホルアミド、γ−ブチロラクトン等の非プロトン性極性溶媒等を挙げることができ、これらを単独又は2種以上を混合物として用いるのが望ましいが、さらにはキシレン、トルエン等の芳香族炭化水素も使用できる。   In the present invention, examples of the organic solvent used for forming the polyamic acid solution include sulfoxide solvents such as dimethyl sulfoxide and diethyl sulfoxide, and formamide such as N, N-dimethylform and N, N-diethylformamide. Solvents, acetamide solvents such as N, N-dimethylacetamide and N, N-diethylacetamide, pyrrolidone solvents such as N-methyl-2-pyrrolidone and N-vinyl-2-pyrrolidone, phenol, o-, m- , Or a phenolic solvent such as p-cresol, xylenol, halogenated phenol, and catechol, or an aprotic polar solvent such as hexamethylphosphoramide and γ-butyrolactone. These may be used alone or in combination of two or more. Is preferably used as a mixture. Emissions, also aromatic hydrocarbons such as toluene can be used.

重合方法は、特に限定されず、公知のいずれの方法で行ってもよく、例えば、(1)先に芳香族ジアミン成分全量を溶媒中に入れ、その後芳香族酸無水物成分を芳香族ジアミン成分全量と当量になるよう加えて重合する方法。   The polymerization method is not particularly limited and may be carried out by any known method. For example, (1) First, the whole amount of the aromatic diamine component is put in a solvent, and then the aromatic acid anhydride component is converted into the aromatic diamine component. A method in which the total amount is equal to the amount of polymerization.

(2)先に芳香族酸無水物成分全量を溶媒中に入れ、その後芳香族ジアミン成分を芳香族酸無水物成分と当量になるよう加えて重合する方法。   (2) A method in which the total amount of the aromatic acid anhydride component is first put in a solvent, and then the aromatic diamine component is added so as to be equivalent to the aromatic acid anhydride component for polymerization.

(3)一方の芳香族ジアミン成分(a1)を溶媒中に入れた後、反応成分に対して一方の芳香族酸無水物成分(b1)が95〜105モル%となる比率で反応に必要な時間混合した後、もう一方の芳香族ジアミン成分(a2)を添加し、続いて、もう一方の芳香族酸無水物成分(b2)を全芳香族ジアミン成分と全芳香族酸無水物成分とがほぼ当量になるように添加して重合する方法。   (3) After putting one aromatic diamine component (a1) in a solvent, it is necessary for the reaction at a ratio such that one aromatic acid anhydride component (b1) is 95 to 105 mol% with respect to the reaction component. After mixing for a period of time, the other aromatic diamine component (a2) is added, and then the other aromatic acid anhydride component (b2) is mixed with a wholly aromatic diamine component and a wholly aromatic acid anhydride component. A method of adding and polymerizing so as to be approximately equivalent.

(4)一方の芳香族酸無水物成分(b1)を溶媒中に入れた後、反応成分に対して一方の芳香族ジアミン成分(a1)が95〜105モル%となる比率で反応に必要な時間混合した後、もう一方の芳香族酸無水物成分(b2)を添加し、続いてもう一方の芳香族ジアミン成分(a2)を全芳香族ジアミン成分と全芳香族酸無水物成分とがほぼ当量になるように添加して重合する方法。   (4) After putting one aromatic acid anhydride component (b1) in a solvent, it is necessary for the reaction at a ratio such that one aromatic diamine component (a1) is 95 to 105 mol% with respect to the reaction component. After mixing for a period of time, the other aromatic acid anhydride component (b2) is added, and then the other aromatic diamine component (a2) is substantially divided into a wholly aromatic diamine component and a wholly aromatic acid anhydride component. A method of adding and polymerizing to an equivalent amount.

(5)溶媒中で一方の芳香族ジアミン成分と芳香族酸無水物成分をどちらかが過剰になるよう反応させてポリアミック酸溶液(A)を調整し、別の溶媒中でもう一方の芳香族ジアミン成分と芳香族酸無水物成分をどちらかが過剰になるよう反応させポリアミック酸溶液(B)を調製し、得られた各ポリアミック酸溶液(A)と(B)を混合し、重合を完結する方法が挙げられる。前記(5)の方法において、ポリアミック酸溶液(A)を調整するに際し芳香族ジアミン成分が過剰の場合、ポリアミック酸溶液(B)では芳香族酸無水物成分を過剰に、またポリアミック酸溶液(A)で芳香族酸無水物成分が過剰の場合、ポリアミック酸溶液(B)では芳香族ジアミン成分を過剰にし、ポリアミック酸溶液(A)と(B)を混ぜ合わせこれら反応に使用される全芳香族ジアミン成分と芳香族酸無水物成分とがほぼ当量になるよう調整する。   (5) A polyamic acid solution (A) is prepared by reacting one aromatic diamine component and an aromatic acid anhydride component in a solvent so that either one becomes excessive, and the other aromatic diamine component in another solvent. The polyamic acid solution (B) is prepared by reacting either the diamine component or the aromatic acid anhydride component in excess, and the resulting polyamic acid solutions (A) and (B) are mixed to complete the polymerization. The method of doing is mentioned. In the method of (5), when the aromatic diamine component is excessive in preparing the polyamic acid solution (A), the polyamic acid solution (B) contains excessive aromatic acid anhydride components, and the polyamic acid solution (A ), When the aromatic acid anhydride component is excessive, the polyamic acid solution (B) makes the aromatic diamine component excessive, and the polyamic acid solutions (A) and (B) are mixed and used in these reactions. The diamine component and the aromatic acid anhydride component are adjusted to be approximately equivalent.

なお、重合方法はこれらに限定されることはなく、その他公知の方法を用いてもよい。   The polymerization method is not limited to these, and other known methods may be used.

こうして得られるポリアミック酸溶液は、通常5〜40重量%の固形分を含有し、好ましくは10〜30重量%の固形分を含有する。また、その粘度は、ブルックフィールド粘度計による測定値で通常10〜10000Pa・sであり、安定した送液のために、好ましくは300〜5000Pa・sである。また、有機溶媒溶液中のポリアミック酸は部分的にイミド化されていてもよい。   The polyamic acid solution thus obtained usually contains 5 to 40% by weight of solid content, and preferably contains 10 to 30% by weight of solid content. The viscosity is usually 10 to 10000 Pa · s as measured by a Brookfield viscometer, and preferably 300 to 5000 Pa · s for stable liquid feeding. Moreover, the polyamic acid in the organic solvent solution may be partially imidized.

次に、前記ポリアミック酸溶液を用いた本発明のポリイミドフィルムの製造方法について説明する。   Next, the manufacturing method of the polyimide film of this invention using the said polyamic acid solution is demonstrated.

ポリイミドフィルムを製膜する方法としては、ポリアミック酸溶液をフィルム状にキャストし熱的に脱環化脱溶媒させてポリイミドフィルムを得る方法、及びポリアミック酸溶液に環化触媒及び脱水剤を混合し化学的に脱環化させてゲルフィルムを作製し、これを加熱脱溶媒することによりポリイミドフィルムを得る方法が挙げられる。   As a method for forming a polyimide film, a polyamic acid solution is cast into a film and thermally decyclized and desolvated to obtain a polyimide film, and a polyamic acid solution is mixed with a cyclization catalyst and a dehydrating agent. A method of obtaining a polyimide film by producing a gel film by thermally decyclizing and desolvating it by heating is mentioned.

前記ポリアミック酸溶液は、環化触媒(イミド化触媒)、脱水剤及びゲル化遅延剤等を含有することができる。   The polyamic acid solution may contain a cyclization catalyst (imidization catalyst), a dehydrating agent, a gelation retarder, and the like.

本発明で使用される環化触媒の具体例としては、トリメチルアミン、トリエチレンジアミン等の脂肪族第3級アミン、ジメチルアニリン等の芳香族第3級アミン、及びイソキノリン、ピリジン、ベータピコリン等の複素環第3級アミン等が挙げられるが、複素環式第3級アミンが好ましい。これらは、1種単独で使用してもよく、2種以上を混合して用いてもよい。   Specific examples of the cyclization catalyst used in the present invention include aliphatic tertiary amines such as trimethylamine and triethylenediamine, aromatic tertiary amines such as dimethylaniline, and heterocyclic rings such as isoquinoline, pyridine and betapicoline. Although a tertiary amine etc. are mentioned, a heterocyclic tertiary amine is preferable. These may be used individually by 1 type, and 2 or more types may be mixed and used for them.

本発明で使用される脱水剤の具体例としては、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸等の脂肪族カルボン酸無水物、及び無水安息香酸等の芳香族カルボン酸無水物等が挙げられるが、無水酢酸及び/又は無水安息香酸が好ましい。   Specific examples of the dehydrating agent used in the present invention include aliphatic carboxylic acid anhydrides such as acetic anhydride, propionic anhydride and butyric anhydride, and aromatic carboxylic acid anhydrides such as benzoic anhydride. Acetic anhydride and / or benzoic anhydride are preferred.

ポリアミック酸溶液からポリイミドフィルムを製造する方法としては、前記環化触媒及び前記脱水剤を含有させたポリアミック酸溶液を、スリット付き口金から支持体上に流延してフィルム状に成型し、支持体上でイミド化を一部進行させて自己支持性を有するゲルフィルムとした後、支持体より剥離し、加熱乾燥/イミド化し、熱処理を行う方法が挙げられる。   As a method for producing a polyimide film from a polyamic acid solution, a polyamic acid solution containing the cyclization catalyst and the dehydrating agent is cast from a slit-attached base onto a support, and is molded into a film. Examples of the method include a method in which imidization is partially advanced to form a gel film having self-supporting property, and then peeled from the support, heat-dried / imidized, and heat-treated.

前記支持体とは、金属製の回転ドラムやエンドレスベルトであり、その温度は液体又は気体の熱媒により及び/又は電気ヒーター等の輻射熱により制御される。   The support is a metal rotating drum or endless belt, and its temperature is controlled by a liquid or gaseous heat medium and / or by radiant heat from an electric heater or the like.

前記ゲルフィルムは、支持体からの受熱及び/又は熱風や電気ヒーター等の熱源からの受熱により通常30〜200℃、好ましくは40〜150℃に加熱されて閉環反応し、遊離した有機溶媒等の揮発分を乾燥させることにより自己支持性を有するようになり、支持体から剥離される。   The gel film is usually heated to 30 to 200 ° C., preferably 40 to 150 ° C. by receiving heat from the support and / or receiving heat from a heat source such as hot air or an electric heater, and a ring-closing reaction is performed. By drying the volatile matter, it becomes self-supporting and is peeled off from the support.

前記支持体から剥離されたゲルフィルムは、必要に応じて、回転ロールにより走行速度を規制しながら走行方向に延伸処理を施されてもよい。機械搬送方向への延伸倍率(MDX)、及び機械搬送方向に直交する方向への延伸倍率(TDX)は、通常1.01〜3.0倍、好ましくは1.05〜2.0倍で実施される。   The gel film peeled off from the support may be stretched in the traveling direction while regulating the traveling speed with a rotating roll, if necessary. The draw ratio (MDX) in the machine conveyance direction and the draw ratio (TDX) in the direction perpendicular to the machine conveyance direction are usually 1.01 to 3.0 times, preferably 1.05 to 2.0 times. Is done.

前記の乾燥ゾーンで乾燥したフィルムは、熱風、赤外ヒーター等で通常15秒から10分加熱される。次いで、熱風及び/又は電気ヒーター等により、通常250〜500℃の温度で15秒から20分熱処理を行う。   The film dried in the drying zone is usually heated for 15 seconds to 10 minutes with hot air, an infrared heater or the like. Next, heat treatment is usually performed at a temperature of 250 to 500 ° C. for 15 seconds to 20 minutes with hot air and / or an electric heater.

また、走行速度を調整しポリイミドフィルムの厚みを調整するが、ポリイミドフィルムの平均厚みとしては、通常2〜250μm程度であり、2.5〜250μm程度が好ましく、5〜75μm程度がさらに好ましい。これより薄くても厚くてもフィルムの製膜性が著しく悪化するので好ましくない。   Moreover, although the travel speed is adjusted to adjust the thickness of the polyimide film, the average thickness of the polyimide film is usually about 2 to 250 μm, preferably about 2.5 to 250 μm, and more preferably about 5 to 75 μm. If it is thinner or thicker than this, the film-forming property of the film is remarkably deteriorated.

本発明に用いるポリイミドフィルムとしては、市販品を用いてもよい。市販品としては、特に限定されないが、例えば、カプトンのENタイプ(例えば、50EN−S(商品名、東レ・デュポン株式会社製)、100EN(商品名、東レ・デュポン株式会社製)等)、カプトンのHタイプ(例えば、カプトン100H(商品名、東レ・デュポン株式会社製)等)、カプトンのKJタイプ(例えば、カプトン100KJ(商品名、米国デュポン社製)等)、カプトンJPタイプ(例えば、カプトン100JP(商品名、米国デュポン社製)等)等が挙げられる。このようなポリイミドフィルムの中でも、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル及びピロメリット酸二無水物を使用して製造されるポリイミドフィルム、パラフェニレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル及びピロメリット酸二無水物を使用して製造されるポリイミドフィルム、または、パラフェニレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、ピロメリット酸二無水物及び3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物を使用して製造されるポリイミドフィルムが好ましい。   A commercially available product may be used as the polyimide film used in the present invention. Although it does not specifically limit as a commercial item, For example, EN type (For example, 50EN-S (brand name, the Toray DuPont company make), 100EN (brand name, the Toray DuPont company make) etc.) etc. of Kapton, Kapton H type (for example, Kapton 100H (trade name, manufactured by Toray DuPont), etc.), Kapton KJ type (for example, Kapton 100KJ (trade name, manufactured by DuPont, USA)), Kapton JP type (for example, Kapton) 100JP (trade name, manufactured by DuPont, USA) and the like. Among such polyimide films, polyimide films manufactured using 4,4′-diaminodiphenyl ether and pyromellitic dianhydride, paraphenylenediamine, 4,4′-diaminodiphenyl ether, and pyromellitic dianhydride Polyimide film manufactured using, or paraphenylenediamine, 4,4'-diaminodiphenyl ether, pyromellitic dianhydride and 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride The polyimide film manufactured by manufacturing is preferable.

本発明におけるポリイミドフィルムは、本発明の目的を損なわない範囲で、可塑剤や他の樹脂等を含んでいてもよい。   The polyimide film in the present invention may contain a plasticizer, other resin and the like as long as the object of the present invention is not impaired.

前記可塑剤としては、特に限定されず、例えば、ヘキシレングリコール、グリセリン、β−ナフトール、ジベンジルフェノール、オクチルクレゾール、ビスフェノールA等のビスフェノール化合物、p−ヒドロキシ安息香酸オクチル、p−ヒドロキシ安息香酸−2−エチルヘキシル、p−ヒドロキシ安息香酸ペプチル、p−ヒドロキシ安息香酸のエチレンオキサイド及び/又はプロピレンオキサイド付加物、ε−カプロラクトン、フェノール類のリン酸エステル化合物、N−メチルベンゼンスルホンアミド、N−エチルベンゼンスルホンアミド、N−ブチルベンゼンスルホンアミド、トルエンスルホンアミド、N−エチルトルエンスルホンアミド、N−シクロヘキシルトルエンスルホンアミド等が挙げられる。   The plasticizer is not particularly limited, and examples thereof include bisphenol compounds such as hexylene glycol, glycerin, β-naphthol, dibenzylphenol, octylcresol, bisphenol A, octyl p-hydroxybenzoate, p-hydroxybenzoic acid- 2-ethylhexyl, p-hydroxy p-hydroxybenzoate, ethylene oxide and / or propylene oxide adducts of p-hydroxybenzoic acid, ε-caprolactone, phosphate compounds of phenols, N-methylbenzenesulfonamide, N-ethylbenzenesulfone Examples include amide, N-butylbenzenesulfonamide, toluenesulfonamide, N-ethyltoluenesulfonamide, N-cyclohexyltoluenesulfonamide, and the like.

ポリイミドに配合する前記他の樹脂としては、相溶性に優れるものが好ましく、例えば、エステル及び/又はカルボン酸変性オレフィン樹脂、アクリル樹脂(特に、グルタルイミド基を有するアクリル樹脂)、アイオノマー樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、エチレン−プロピレン−ジエン共重合体、ポリフェニレンオキサイド等が挙げられる。   As said other resin mix | blended with a polyimide, what is excellent in compatibility is preferable, for example, ester and / or carboxylic acid modified olefin resin, acrylic resin (especially acrylic resin which has a glutarimide group), ionomer resin, polyester resin , Phenoxy resin, ethylene-propylene-diene copolymer, polyphenylene oxide and the like.

本発明におけるポリイミドフィルムは、また、本発明の目的を損なわない範囲で、着色剤、各種添加剤等を含んでいてもよい。前記添加剤としては、例えば、帯電防止剤、難燃剤、熱安定剤、紫外線吸収剤、滑剤、離型剤、結晶核剤、強化剤(フィラー)等を挙げることができる。また、ポリイミドフィルム表面をインク等でコーティングしても良い。   The polyimide film in the present invention may contain a colorant, various additives and the like as long as the object of the present invention is not impaired. Examples of the additive include an antistatic agent, a flame retardant, a heat stabilizer, an ultraviolet absorber, a lubricant, a mold release agent, a crystal nucleating agent, and a reinforcing agent (filler). The polyimide film surface may be coated with ink or the like.

<フッ素樹脂>
本発明の積層体に用いるフッ素樹脂は、特に限定されないが、含フッ素エチレン性重合体が好ましい。本発明における含フッ素エチレン性重合体は、含フッ素エチレン性ポリマー鎖にカルボニル基又はカルボニル基含有官能基が結合されたものである。
<Fluorine resin>
Although the fluororesin used for the laminated body of this invention is not specifically limited, A fluorine-containing ethylenic polymer is preferable. The fluorinated ethylenic polymer in the present invention is one in which a carbonyl group or a carbonyl group-containing functional group is bonded to a fluorinated ethylenic polymer chain.

前記「カルボニル基」は、ポリイミドフィルム中のイミド基もしくはアミノ基と基本的に反応し得る−C(=O)−を有する官能基をいう。具体的には、カーボネート、カルボン酸ハライド、アルデヒド、ケトン、カルボン酸、エステル、酸無水物、イソシアネート基等が挙げられる。前記カルボニル基としては、特に限定されないが、導入が容易であり、ポリアミド系樹脂との反応性の高いことから、カーボネート基、カルボン酸ハライド基、カルボン酸基、エステル基及び酸無水物基が好ましく、カーボネート基及びカルボン酸ハライド基がより好ましい。   The “carbonyl group” refers to a functional group having —C (═O) — that can basically react with an imide group or an amino group in a polyimide film. Specific examples include carbonates, carboxylic acid halides, aldehydes, ketones, carboxylic acids, esters, acid anhydrides, and isocyanate groups. The carbonyl group is not particularly limited, but a carbonate group, a carboxylic acid halide group, a carboxylic acid group, an ester group, and an acid anhydride group are preferable because they can be easily introduced and have high reactivity with a polyamide-based resin. More preferred are carbonate groups and carboxylic acid halide groups.

本発明における含フッ素エチレン性重合体中のカルボニル基の数は、積層される相手材の種類、形状、接着の目的、用途、必要とされる接着力、該重合体の形態と接着方法等の違いにより適宜選択されうるが、カルボニル基の数が主鎖炭素数1×10個に対して合計3〜1000個であることが好ましい。上記カルボニル基の数が主鎖炭素数1×10個に対し、3個未満であると、充分な接着力が発現しない場合がある。また、1000個を超えると接着操作に伴い、カルボニル基の化学変化によって接着力を低下させる場合がある。より好ましくは3〜500個、更に好ましくは3〜300個、特に好ましくは5〜150個である。なお、含フッ素エチレン性重合体中のカルボニル基の含有量は、赤外吸収スペクトル分析により測定することができる。 The number of carbonyl groups in the fluorine-containing ethylenic polymer in the present invention is the type, shape, purpose of adhesion, use, required adhesive strength of the laminated material, the form of the polymer and the adhesion method, etc. Although it may be appropriately selected depending on the difference, the number of carbonyl groups is preferably 3 to 1000 in total with respect to 1 × 10 6 main chain carbon atoms. If the number of carbonyl groups is less than 3 with respect to 1 × 10 6 main chain carbon atoms, sufficient adhesive strength may not be exhibited. On the other hand, when the number exceeds 1,000, the adhesive force may be lowered due to a chemical change of the carbonyl group in accordance with the bonding operation. The number is more preferably 3 to 500, still more preferably 3 to 300, and particularly preferably 5 to 150. In addition, content of the carbonyl group in a fluorine-containing ethylenic polymer can be measured by infrared absorption spectrum analysis.

従って、本発明の含フッ素エチレン性重合体が、例えば、カーボネート基及び/又はカルボン酸ハライド基を有するものである場合、カーボネート基を有する場合、カーボネート基の数が主鎖炭素数1×10個に対し3〜1000個であることが好ましい。また、本発明の含フッ素エチレン性重合体が、カルボン酸ハライド基を有する場合、そのカルボン酸ハライド基の数が主鎖炭素数1×10個に対し3〜1000個であることが好ましい。本発明の含フッ素エチレン性重合体が、カーボネート基とカルボン酸ハライド基の両方を有する場合、カーボネート基とカルボン酸ハライド基の合計数が主鎖炭素数1×10個に対し3〜1000個であるものが好ましい。前記カーボネート基及び/又はカルボン酸ハライド基の数が主鎖炭素数1×10個に対し、3個未満であると、充分な接着力が発現しない場合がある。また、1000個を超えると接着操作に伴い、カーボネート基あるいはカルボン酸ハライド基の化学変化によって接着界面に出てくるガスの発生が悪影響を及ぼし、接着力を低下させる場合がある。耐熱性、耐薬品性の観点からより好ましくは、3〜500個、更に好ましくは3〜300個、特に好ましくは5〜150個である。なお、ポリアミド系樹脂との反応性に特に優れるカルボン酸ハライド基が、含フッ素エチレン性重合体中に、主鎖炭素数1×10個に対して10個以上、より好ましくは20個以上存在していれば、カルボニル基合計の含有量を主鎖炭素数1×10個に対して150個未満にしても、ポリアミド系樹脂からなる層(A)との優れた接着性を発現することができる。 Therefore, when the fluorine-containing ethylenic polymer of the present invention has, for example, a carbonate group and / or a carboxylic acid halide group, and has a carbonate group, the number of carbonate groups is 1 × 10 6 carbon atoms in the main chain. The number is preferably 3 to 1000. Moreover, when the fluorine-containing ethylenic polymer of this invention has a carboxylic acid halide group, it is preferable that the number of the carboxylic acid halide group is 3-1000 with respect to 1 * 10 < 6 > main chain carbon number. When the fluorine-containing ethylenic polymer of the present invention has both carbonate groups and carboxylic acid halide groups, the total number of carbonate groups and carboxylic acid halide groups is 3 to 1000 with respect to 1 × 10 6 main chain carbon atoms. Are preferred. If the number of carbonate groups and / or carboxylic acid halide groups is less than 3 with respect to 1 × 10 6 main chain carbon atoms, sufficient adhesive strength may not be exhibited. On the other hand, when the number exceeds 1,000, the generation of gas that appears at the bonding interface due to the chemical change of the carbonate group or the carboxylic acid halide group may be adversely affected and the adhesive force may be reduced. From the viewpoint of heat resistance and chemical resistance, the number is more preferably 3 to 500, still more preferably 3 to 300, and particularly preferably 5 to 150. In addition, 10 or more, more preferably 20 or more carboxylic acid halide groups having excellent reactivity with the polyamide-based resin are present in the fluorine-containing ethylenic polymer with respect to 1 × 10 6 main chain carbon atoms. If this is the case, even if the total carbonyl group content is less than 150 with respect to 1 × 10 6 carbon atoms in the main chain, excellent adhesion to the polyamide resin layer (A) can be exhibited. Can do.

本発明における含フッ素エチレン性重合体中のカーボネート基とは、一般に−OC(=O)O−の結合を有する基であり、具体的には、−OC(=O)O−R基〔Rは有機基(例えば、C〜C20アルキル基(好ましくはC〜C10アルキル基)、エーテル結合を有するC〜C20アルキル基等)又はVII族元素である。〕の構造のものである。カーボネート基としては、例えば、−OC(=O)OCH、−OC(=O)OC、−OC(=O)OC17、−OC(=O)OCHCHCHOCHCH等が好ましく挙げられる。 The carbonate group in the fluorine-containing ethylenic polymer in the present invention is generally a group having a bond of —OC (═O) O—, specifically, a —OC (═O) O—R group [R the organic group (e.g., C 1 -C 20 alkyl group (preferably C 1 -C 10 alkyl group), C 2 -C 20 alkyl group having an ether bond) or VII group element. ] Of the structure. The carbonate group, for example, -OC (= O) OCH 3 , -OC (= O) OC 3 H 7, -OC (= O) OC 8 H 17, -OC (= O) OCH 2 CH 2 CH 2 Preferred examples include OCH 2 CH 3 and the like.

本発明における含フッ素エチレン性重合体中のカルボン酸ハライド基とは、具体的には−COY〔Yはハロゲン元素〕の構造のもので、−COF、−COCl等が例示される。   The carboxylic acid halide group in the fluorine-containing ethylenic polymer in the present invention specifically has a structure of —COY [Y is a halogen element], and examples thereof include —COF and —COCl.

これらのカルボニル基を有する含フッ素エチレン性重合体はそれ自体、含フッ素樹脂がもつ優れた特性を維持することができ、成形後の積層体に含フッ素樹脂が有するこのような優れた特徴を低下させずに与えうる。   The fluorine-containing ethylenic polymer having these carbonyl groups can maintain the excellent characteristics of the fluorine-containing resin itself, reducing the excellent characteristics of the fluorine-containing resin in the laminate after molding. Can be given without.

本発明における含フッ素エチレン性重合体は、そのポリマー鎖にカルボニル基を含むが、該カルボニル基がポリマー鎖に含有される態様は特に限定されず、例えば、カルボニル基又はカルボニル基を含有する官能基がポリマー鎖末端又は側鎖に結合していてよい。そのなかでも、ポリマー鎖末端にカルボニル基を有するものが、耐熱性、機械特性、耐薬品性を著しく低下させない理由で又は生産性、コスト面で有利である理由で好ましいものである。このうち、パーオキシカーボネートやパーオキシエステルのようなカルボニル基を含むか、或いはカルボニル基に変換できる官能基を有する重合開始剤を使用してポリマー鎖末端にカルボニル基を導入する方法は、導入が非常に容易で、しかも導入量の制御も容易なことから好ましい態様である。なお、本発明では、パーオキサイドに由来するカルボニル基とは、パーオキサイドに含まれる官能基から直接又は間接的に導かれるカルボニル基をいう。   The fluorine-containing ethylenic polymer in the present invention contains a carbonyl group in the polymer chain, but the embodiment in which the carbonyl group is contained in the polymer chain is not particularly limited, for example, a carbonyl group or a functional group containing a carbonyl group May be bonded to the polymer chain end or side chain. Among them, those having a carbonyl group at the end of the polymer chain are preferable because they do not significantly reduce heat resistance, mechanical properties and chemical resistance, or are advantageous in terms of productivity and cost. Among these, a method of introducing a carbonyl group at the end of a polymer chain using a polymerization initiator containing a carbonyl group such as peroxycarbonate or peroxyester or having a functional group that can be converted into a carbonyl group is introduced. This is a preferred embodiment because it is very easy and the amount of introduction can be easily controlled. In the present invention, the carbonyl group derived from peroxide refers to a carbonyl group derived directly or indirectly from a functional group contained in the peroxide.

なお、本発明における含フッ素エチレン性重合体においては、カルボニル基を含まない含フッ素エチレン性重合体が存在していても、重合体全体として主鎖炭素1×10個に対して合計で上述の範囲の数のカルボニル基を持っていればよい。 In addition, in the fluorine-containing ethylenic polymer in the present invention, even if a fluorine-containing ethylenic polymer not containing a carbonyl group is present, the total amount of the polymer as described above is 1 × 10 6 main chain carbons. It is sufficient that the number of carbonyl groups is within the range.

本発明において、上記含フッ素エチレン性重合体の種類、構造は、目的、用途、使用方法により適宜選択されうるが、なかでも融点が160〜270℃であることが好ましい。このような重合体であれば、特に加熱溶融接着加工により積層化する場合、特にカルボニル基と相手材との接着性を充分に発揮でき、相手材と直接強固な接着力を与えうるので有利である。比較的耐熱性の低い有機材料との積層も可能となる点で、融点は、より好ましくは250℃以下、さらに好ましくは230℃以下、特に好ましくは200℃以下である。融点は、セイコー型DSC装置(セイコー電子社製)を用い、10℃/minの速度で昇温したときの融解ピークを記録し、極大値に対応する温度を融点(Tm)とした。   In the present invention, the type and structure of the fluorine-containing ethylenic polymer can be appropriately selected depending on the purpose, application, and method of use, and the melting point is preferably 160 to 270 ° C. Such a polymer is advantageous, especially when laminating by heating and melt-bonding, since it can sufficiently exert the adhesiveness between the carbonyl group and the counterpart material, and can give a strong adhesive force directly to the counterpart material. is there. The melting point is more preferably 250 ° C. or less, further preferably 230 ° C. or less, and particularly preferably 200 ° C. or less in that lamination with an organic material having relatively low heat resistance is possible. The melting point was recorded as the melting peak when the temperature was raised at a rate of 10 ° C./min using a Seiko DSC apparatus (manufactured by Seiko Denshi), and the temperature corresponding to the maximum value was defined as the melting point (Tm).

本発明における含フッ素エチレン性重合体の分子量については、該重合体が熱分解温度以下で成形でき、しかも得られた成形体が含フッ素エチレン性重合体本来の優れた機械特性等を発現できるような範囲であることが好ましい。具体的には、メルトフローレート(MFR)を分子量の指標として、フッ素樹脂一般の成形温度範囲である約230〜350℃の範囲の任意の温度におけるMFRが0.5〜100g/10分であることが好ましい。MFRは、メルトインデクサー(東洋精機製作所(株)社製)を用い、各種温度、5kg荷重下で直径2mm、長さ8mmのノズルから単位時間(10分間)に流出するポリマーの重量(g)を測定した。   Regarding the molecular weight of the fluorinated ethylenic polymer in the present invention, the polymer can be molded at a temperature lower than the thermal decomposition temperature, and the obtained molded product can express the original excellent mechanical properties and the like of the fluorinated ethylenic polymer. It is preferable that it is a range. Specifically, with the melt flow rate (MFR) as the molecular weight index, the MFR at an arbitrary temperature in the range of about 230 to 350 ° C., which is a general molding temperature range of fluororesin, is 0.5 to 100 g / 10 min. It is preferable. MFR uses a melt indexer (manufactured by Toyo Seiki Seisakusho Co., Ltd.), and the weight of the polymer flowing out in a unit time (10 minutes) from a nozzle having a diameter of 2 mm and a length of 8 mm under various temperatures and 5 kg load (g) Was measured.

前記含フッ素エチレン性ポリマー鎖の構造は、一般に、少なくとも1種の含フッ素エチレン性単量体から誘導される繰り返し単位を有するホモポリマー鎖又はコポリマー鎖であり、含フッ素エチレン性単量体のみ、又は含フッ素エチレン性単量体とフッ素原子を有さないエチレン性単量体を重合してなるポリマー鎖であってよい。   The structure of the fluorine-containing ethylenic polymer chain is generally a homopolymer chain or a copolymer chain having a repeating unit derived from at least one fluorine-containing ethylenic monomer, and only the fluorine-containing ethylenic monomer, Alternatively, it may be a polymer chain obtained by polymerizing a fluorine-containing ethylenic monomer and an ethylenic monomer having no fluorine atom.

上記含フッ素エチレン性単量体は、フッ素原子を有するオレフィン性不飽和単量体であり、具体的には、テトラフルオロエチレン、フッ化ビニリデン、クロロトリフルオロエチレン、フッ化ビニル、ヘキサフルオロプロピレン、ヘキサフルオロイソブテン、式(X):
CH=CR(CF (X)
(式中、RはH又はFを表し、RはH、F又はClを表し、nは1〜10の正の整数を表す。)
で表される単量体、炭素数2〜10のパーフルオロ(アルキルビニルエーテル)類等が挙げられる。
The fluorine-containing ethylenic monomer is an olefinically unsaturated monomer having a fluorine atom, specifically, tetrafluoroethylene, vinylidene fluoride, chlorotrifluoroethylene, vinyl fluoride, hexafluoropropylene, Hexafluoroisobutene, formula (X):
CH 2 = CR 1 (CF 2 ) n R 2 (X)
(In the formula, R 1 represents H or F, R 2 represents H, F or Cl, and n represents a positive integer of 1 to 10.)
And perfluoro (alkyl vinyl ether) s having 2 to 10 carbon atoms.

上記フッ素原子を有さないエチレン性単量体は、耐熱性等を低下させないためにも炭素数5以下のエチレン性単量体から選ばれることが好ましい。具体的には、エチレン、プロピレン、1−ブテン、2−ブテン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等が挙げられる。   The ethylenic monomer having no fluorine atom is preferably selected from ethylenic monomers having 5 or less carbon atoms in order not to lower the heat resistance and the like. Specific examples include ethylene, propylene, 1-butene, 2-butene, vinyl chloride, vinylidene chloride and the like.

含フッ素エチレン性単量体とフッ素原子を有さないエチレン性単量体とを使用する場合、その単量体組成は、含フッ素エチレン性単量体10モル%以上100モル%未満(例えば30モル%以上100モル%未満)とフッ素原子を有さないエチレン性単量体0モル%を超え90モル%以下(例えば0モル%を超え70モル%以下)の量比であってよい。   When a fluorine-containing ethylenic monomer and an ethylenic monomer having no fluorine atom are used, the monomer composition is 10 mol% or more and less than 100 mol% (for example, 30 mol%). The molar ratio may be greater than 0 mol% and less than 90 mol% (for example, greater than 0 mol% and less than 70 mol%).

本発明における含フッ素エチレン性重合体においては、含フッ素エチレン性単量体及びフッ素原子を有さないエチレン性単量体の種類、組合せ、組成比等を選ぶことによって重合体の融点又はガラス転移点を調整することができる。   In the fluorine-containing ethylenic polymer in the present invention, the melting point or glass transition of the polymer can be selected by selecting the type, combination, composition ratio, etc. of the fluorine-containing ethylenic monomer and the ethylenic monomer having no fluorine atom. The point can be adjusted.

本発明における含フッ素エチレン性重合体としては、耐熱性、耐薬品性の面では、テトラフルオロエチレン単位を必須成分とするカルボニル基含有含フッ素エチレン性重合体が好ましく、また、成形加工性の面では、フッ化ビニリデン単位を必須成分とするカルボニル基含有含フッ素エチレン性共重合体が好ましい。   As the fluorine-containing ethylenic polymer in the present invention, in terms of heat resistance and chemical resistance, a carbonyl group-containing fluorine-containing ethylenic polymer having a tetrafluoroethylene unit as an essential component is preferable, and in terms of molding processability. Then, a carbonyl group-containing fluorine-containing ethylenic copolymer having a vinylidene fluoride unit as an essential component is preferable.

本発明における含フッ素エチレン性重合体の好ましい具体例としては、含フッ素エチレン性重合体が本質的に下記の単量体を重合してなるカルボニル基含有含フッ素エチレン性共重合体(I)〜(V)等を挙げることができる:
(I)少なくとも、テトラフルオロエチレン及びエチレンを重合してなる共重合体、
(II)少なくとも、テトラフルオロエチレン及び下記式(Y):
CF=CFR (Y)
(式中、RはCF又はORを表し、Rは炭素数1〜5のパーフルオロアルキル基を表す。)
で表される化合物を重合してなる共重合体、
(III)少なくとも、フッ化ビニリデンを重合してなる共重合体、
(IV)少なくとも、下記(a)、(b)及び(c)を重合してなる共重合体、
(a)テトラフルオロエチレン20〜90モル%
(b)エチレン10〜80モル%
(c)CF=CFR (Y)
(式中、Rは前記と同一意味を表す。)
で表される化合物1〜70モル%、並びに、
(V)少なくとも、下記(d)、(e)及び(f)を重合してなる共重合体。
(d)フッ化ビニリデン15〜60モル%
(e)テトラフルオロエチレン35〜80モル%
(f)ヘキサフルオロプロピレン5〜30モル%
これらの具体例には、前記の単量体を含み、かつ本発明の効果を妨げない範囲で、他の公知の単量体を加えてもよい。
Preferable specific examples of the fluorine-containing ethylenic polymer in the present invention include a carbonyl group-containing fluorine-containing ethylenic copolymer (I), which is obtained by essentially polymerizing the following monomers. (V) and the like can be mentioned:
(I) a copolymer obtained by polymerizing at least tetrafluoroethylene and ethylene,
(II) At least tetrafluoroethylene and the following formula (Y):
CF 2 = CFR 3 (Y)
(In the formula, R 3 represents CF 3 or OR 4 , and R 4 represents a perfluoroalkyl group having 1 to 5 carbon atoms.)
A copolymer obtained by polymerizing a compound represented by
(III) a copolymer obtained by polymerizing at least vinylidene fluoride,
(IV) a copolymer obtained by polymerizing at least the following (a), (b) and (c):
(A) Tetrafluoroethylene 20-90 mol%
(B) 10-80 mol% ethylene
(C) CF 2 = CFR 3 (Y)
(Wherein R 3 represents the same meaning as described above.)
1 to 70 mol% of the compound represented by:
(V) A copolymer obtained by polymerizing at least the following (d), (e) and (f).
(D) 15-60 mol% vinylidene fluoride
(E) Tetrafluoroethylene 35-80 mol%
(F) 5-30 mol% hexafluoropropylene
In these specific examples, other known monomers may be added as long as they contain the aforementioned monomers and do not impair the effects of the present invention.

これら例示のカルボニル基含有含フッ素エチレン性重合体はいずれも、特に耐熱性に優れている点で好ましい。   All of these exemplified carbonyl group-containing fluorine-containing ethylenic polymers are particularly preferable in terms of excellent heat resistance.

前記共重合体(I)として、例えば、カルボニル基を有する単量体を除いた(側鎖にカルボニル基含有官能基を有する場合)単量体全体に対し、テトラフルオロエチレン単位20〜90モル%(例えば20〜60モル%)、エチレン単位10〜80モル%(例えば20〜60モル%)及びこれらと共重合可能な他の単量体単位0〜70モル%とからなるポリマー鎖のカルボニル基含有共重合体等が挙げられる。   As said copolymer (I), tetrafluoroethylene unit 20-90 mol% with respect to the whole monomer except the monomer which has a carbonyl group (when it has a carbonyl group containing functional group in a side chain), for example (For example, 20 to 60 mol%), 10 to 80 mol% (for example, 20 to 60 mol%) of ethylene units, and 0 to 70 mol% of other monomer units copolymerizable therewith. And a containing copolymer.

前記共重合可能な他の単量体としては、ヘキサフルオロプロピレン、クロロトリフルオロエチレン、式(X):
CH=CR(CF (X)
(式中、RはH又はFを表し、RはH、F又はClを表し、nは1〜10の正の整数を表す。)
で表される単量体、炭素数2〜10のパーフルオロ(アルキルビニルエーテル)類、プロピレン等が挙げられ、通常これらの1種又は2種以上が用いられる。
Examples of the other copolymerizable monomer include hexafluoropropylene, chlorotrifluoroethylene, and formula (X):
CH 2 = CR 1 (CF 2 ) n R 2 (X)
(In the formula, R 1 represents H or F, R 2 represents H, F or Cl, and n represents a positive integer of 1 to 10.)
, C2-C10 perfluoro (alkyl vinyl ether) s, propylene, and the like, and usually one or more of these are used.

また、前記共重合体(I)としては、例えば、以下のものが、テトラフルオロエチレン/エチレン共重合体の優れた性能を維持し、融点も比較的低くすることができ、他材との接着性を最大限に発揮できる点で好適に挙げられる。
(I−1)テトラフルオロエチレン単位62〜80モル%、エチレン単位20〜38モル%、その他の単量体単位0〜10モル%からなるポリマー鎖のカルボニル基含有共重合体、
(I−2)テトラフルオロエチレン単位20〜80モル%、エチレン単位10〜80モル%、ヘキサフルオロプロピレン単位0〜30モル%、その他の単量体単位0〜10モル%からなるポリマー鎖のカルボニル基含有共重合体。
Further, as the copolymer (I), for example, the following can maintain the excellent performance of the tetrafluoroethylene / ethylene copolymer, can have a relatively low melting point, and can adhere to other materials. It is preferably mentioned in that it can exhibit the maximum properties.
(I-1) a carbonyl group-containing copolymer of a polymer chain comprising 62 to 80 mol% of tetrafluoroethylene units, 20 to 38 mol% of ethylene units, and 0 to 10 mol% of other monomer units,
(I-2) Polymer chain carbonyl comprising 20 to 80 mol% tetrafluoroethylene units, 10 to 80 mol% ethylene units, 0 to 30 mol% hexafluoropropylene units, and 0 to 10 mol% other monomer units Group-containing copolymer.

前記共重合体(II)としては、例えば、以下のものが、好適に挙げられる。
(II−1)テトラフルオロエチレン単位65〜95モル%(好ましくは75〜95モル%)、ヘキサフルオロプロピレン単位5〜35モル%(好ましくは5〜25モル%)からなるポリマー鎖のカルボニル基含有共重合体、
(II−2)テトラフルオロエチレン単位70〜97モル%、CF=CFOR(Rは炭素数1〜5のパーフルオロアルキル基)単位3〜30モル%からなるポリマー鎖のカルボニル基含有共重合体、
(II−3)テトラフルオロエチレン単位、ヘキサフルオロプロピレン単位、CF=CFOR(Rは前記と同じ)単位からなるポリマー鎖のカルボニル基を有する共重合体であって、ヘキサフルオロプロピレン単位とCF=CFOR単位の合計が5〜30モル%である共重合体。
As said copolymer (II), the following are mentioned suitably, for example.
(II-1) containing a carbonyl group in a polymer chain composed of 65 to 95 mol% (preferably 75 to 95 mol%) tetrafluoroethylene units and 5 to 35 mol% (preferably 5 to 25 mol%) hexafluoropropylene units Copolymer,
(II-2) tetrafluoroethylene units 70 to 97 mol%, CF 2 = CFOR 4 ( R 4 is a perfluoroalkyl group having 1 to 5 carbon atoms) copolymer containing carbonyl groups in the polymer chain of 3 to 30 mole percent Polymer,
(II-3) a copolymer having a carbonyl group of a polymer chain comprising a tetrafluoroethylene unit, a hexafluoropropylene unit, and a CF 2 ═CFOR 4 (R 4 is the same as above) unit, A copolymer in which the total of CF 2 = CFOR 4 units is 5 to 30 mol%.

前記(II−1)〜(II−3)は、パーフルオロ系共重合体でもあり、含フッ素ポリマーの中でも耐熱性、電気絶縁性等に最も優れている。   Said (II-1)-(II-3) is also a perfluoro-type copolymer, and is the most excellent in heat resistance, electrical insulation, etc. among a fluorine-containing polymer.

前記共重合体(III)としては、例えば、カルボニル基を有する単量体を除いた(側鎖にカルボニル基含有官能基を有する場合)単量体全体に対し、フッ化ビニリデン単位15〜99モル%、テトラフルオロエチレン単位0〜80モル%、ヘキサフルオロプロピレン又はクロロトリフルオロエチレンのいずれか1種以上の単位0〜30モル%からなるポリマー鎖のカルボニル基含有共重合体等が挙げられる。
前記共重合体(III)の具体例としては、以下のものが、好適に挙げられる。
(III−1)フッ化ビニリデン単位30〜99モル%、テトラフルオロエチレン単位1〜70モル%からなるポリマー鎖のカルボニル基含有共重合体、
(III−2)フッ化ビニリデン単位60〜90モル%、テトラフルオロエチレン単位0〜30モル%、クロロトリフルオロエチレン単位1〜20モル%からなるポリマー鎖のカルボニル基含有共重合体、
(III−3)フッ化ビニリデン単位60〜99モル%、テトラフルオロエチレン単位0〜30モル%、ヘキサフルオロプロピレン単位5〜30モル%からなるポリマー鎖のカルボニル基含有共重合体、
(III−4)フッ化ビニリデン単位15〜60モル%、テトラフルオロエチレン単位35〜80モル%、ヘキサフルオロプロピレン単位5〜30モル%からなるポリマー鎖のカルボニル基含有共重合体。
Examples of the copolymer (III) include vinylidene fluoride units of 15 to 99 mol with respect to the whole monomer excluding the monomer having a carbonyl group (when the side chain has a carbonyl group-containing functional group). %, A carbonyl group-containing copolymer of a polymer chain composed of 0 to 30 mol% of tetrafluoroethylene units and 0 to 30 mol% of one or more units of hexafluoropropylene or chlorotrifluoroethylene.
Specific examples of the copolymer (III) include the following.
(III-1) a carbonyl group-containing copolymer of a polymer chain comprising 30 to 99 mol% of vinylidene fluoride units and 1 to 70 mol% of tetrafluoroethylene units,
(III-2) a carbonyl group-containing copolymer of a polymer chain comprising vinylidene fluoride units 60 to 90 mol%, tetrafluoroethylene units 0 to 30 mol%, chlorotrifluoroethylene units 1 to 20 mol%,
(III-3) a carbonyl group-containing copolymer of a polymer chain comprising 60 to 99 mol% of vinylidene fluoride units, 0 to 30 mol% of tetrafluoroethylene units, and 5 to 30 mol% of hexafluoropropylene units,
(III-4) A carbonyl group-containing copolymer of a polymer chain comprising 15 to 60 mol% of vinylidene fluoride units, 35 to 80 mol% of tetrafluoroethylene units, and 5 to 30 mol% of hexafluoropropylene units.

本発明における含フッ素エチレン性重合体の製造方法としては、特に限定されない。本発明の含フッ素エチレン性重合体は、カルボニル基を有するエチレン性単量体を、目的の含フッ素ポリマーに合わせた種類、配合の含フッ素及び/又はエチレン性単量体と共重合することにより製造することができる。前記カルボニル基を有するエチレン性単量体としては、好適には、パーフルオロアクリル酸(フルオライド)、1−フルオロアクリル酸(フルオライド)、アクリル酸フルオライド、1−トリフルオロメタクリル酸(フルオライド)、パーフルオロブテン酸等の含フッ素単量体;アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸クロライド、ビニレンカーボネート、イタコン酸、シトラコン酸等のフッ素を含まない単量体が挙げられる。   It does not specifically limit as a manufacturing method of the fluorine-containing ethylenic polymer in this invention. The fluorine-containing ethylenic polymer of the present invention is obtained by copolymerizing an ethylenic monomer having a carbonyl group with a fluorine-containing and / or ethylenic monomer of a type and blended with the target fluorine-containing polymer. Can be manufactured. The ethylenic monomer having a carbonyl group is preferably perfluoroacrylic acid (fluoride), 1-fluoroacrylic acid (fluoride), acrylic acid fluoride, 1-trifluoromethacrylic acid (fluoride), perfluoro. Fluorine-containing monomers such as butenoic acid; monomers not containing fluorine, such as acrylic acid, methacrylic acid, acrylic acid chloride, vinylene carbonate, itaconic acid, citraconic acid, and the like.

一方、ポリマー分子末端にカルボニル基を有する含フッ素エチレン性重合体を得るためには種々の方法を採用することができるが、パーオキサイド、特に、パーオキシカーボネートやパーオキシエステルを重合開始剤として用いる方法が、経済性の面、耐熱性、耐薬品性等の品質面で好ましく採用できる。この方法によれば、パーオキサイドに由来するカルボニル基(例えば、パーオキシカーボネートに由来するカーボネート基;パーオキシエステルに由来するエステル基;又は、これらの官能基を変換して得られるカルボン酸ハライド基若しくはカルボン酸基)を、ポリマー鎖末端に導入することができる。これらの重合開始剤のうち、パーオキシカーボネートを用いた場合には、重合温度を低くすることができ、開始反応に副反応を伴わないことからより好ましい。   On the other hand, in order to obtain a fluorine-containing ethylenic polymer having a carbonyl group at the polymer molecule end, various methods can be employed, but peroxides, particularly peroxycarbonates and peroxyesters are used as polymerization initiators. The method can be preferably employed in terms of quality such as economy, heat resistance and chemical resistance. According to this method, a carbonyl group derived from peroxide (for example, a carbonate group derived from peroxycarbonate; an ester group derived from peroxyester; or a carboxylic acid halide group obtained by converting these functional groups Alternatively, carboxylic acid groups) can be introduced at the polymer chain ends. Among these polymerization initiators, when peroxycarbonate is used, the polymerization temperature can be lowered, and it is more preferable because no side reaction is involved in the initiation reaction.

前記パーオキシカーボネートとしては、下記式(1)〜(4):
(1)
(2)
(3)
(4)
〔式中、R及びRaは、炭素数1〜15の直鎖状若しくは分岐状の一価飽和炭化水素基、又は末端にアルコキシ基を含有する炭素数1〜15の直鎖状又は分岐状の一価飽和炭化水素基を表し、Rは、炭素数1〜15の直鎖状若しくは分岐状の二価飽和炭化水素基、又は末端にアルコキシ基を含有する炭素数1〜15の直鎖状若しくは分岐状の二価飽和炭化水素基を表す。〕
で表される化合物等が好適に挙げられる。とりわけ、ジイソプロピルパーオキシカーボネート、ジ−n−プロピルパーオキシジカーボネート、t−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート、ビス(4−t−ブチルシクロヘキシル)パーオキシジカーボネート、ジ−2−エチルヘキシルパーオキシジカーボネート等が好ましい。
Examples of the peroxycarbonate include the following formulas (1) to (4):
(1)
(2)
(3)
(4)
[Wherein, R and R a are linear or branched monovalent saturated hydrocarbon groups having 1 to 15 carbon atoms, or linear or branched groups having 1 to 15 carbon atoms containing an alkoxy group at the terminal. R b represents a linear or branched divalent saturated hydrocarbon group having 1 to 15 carbon atoms, or a straight chain having 1 to 15 carbon atoms containing an alkoxy group at the terminal. Represents a branched or branched divalent saturated hydrocarbon group. ]
The compound etc. which are represented by these are mentioned suitably. In particular, diisopropyl peroxycarbonate, di-n-propyl peroxydicarbonate, t-butyl peroxyisopropyl carbonate, bis (4-t-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate, di-2-ethylhexyl peroxydicarbonate, etc. preferable.

パーオキシカーボネート、パーオキシエステル等の開始剤の使用量は、目的とする重合体の種類(組成等)、分子量、重合条件、使用する開始剤の種類によって異なるが、重合で得られる重合体100重量部に対して通常0.05〜20重量部であり、特に0.1〜10重量部であることが好ましい。   The amount of initiator used such as peroxycarbonate and peroxyester varies depending on the type of polymer (composition, etc.), the molecular weight, the polymerization conditions, and the type of initiator used. It is 0.05-20 weight part normally with respect to a weight part, and it is especially preferable that it is 0.1-10 weight part.

重合方法としては、工業的にはフッ素系溶媒を用い、重合開始剤としてパーオキシカーボネート等を使用した水性媒体中での懸濁重合が好ましいが、他の重合方法、例えば、溶液重合、乳化重合、塊状重合等も採用できる。懸濁重合においては、水に加えてフッ素系溶媒を使用してよい。懸濁重合に用いるフッ素系溶媒としては、例えば、ハイドロクロロフルオロアルカン類(例えば、CHCClF、CHCClF、CFCFCCl H、CFClCFCFHCl)、クロロフルオロアルカン類(例えば、CFClCFClCFCF、CFCFClCFClCF)、パーフルオロアルカン類(例えば、パーフルオロシクロブタン、CFCFCFCF、CFCFCFCFCF、CFCFCFCFCFCF)が使用でき、パーフルオロアルカン類が好ましい。フッ素溶媒の使用量は、特に限定されないが、懸濁重合の場合、懸濁性、経済性の面から、水性媒体に対して10〜100重量%とするのが好ましい。 As the polymerization method, suspension polymerization in an aqueous medium using a fluorine-based solvent industrially and using peroxycarbonate or the like as a polymerization initiator is preferable, but other polymerization methods such as solution polymerization and emulsion polymerization are preferable. Also, bulk polymerization and the like can be employed. In suspension polymerization, a fluorinated solvent may be used in addition to water. Examples of the fluorine-based solvent used for suspension polymerization include hydrochlorofluoroalkanes (for example, CH 3 CClF 2 , CH 3 CCl 2 F, CF 3 CF 2 CCl 2 H, CF 2 ClCF 2 CFHCl), and chlorofluoroalkanes. class (e.g., CF 2 ClCFClCF 2 CF 3, CF 3 CFClCFClCF 3), perfluoroalkanes (e.g., perfluorocyclobutane, CF 3 CF 2 CF 2 CF 3, CF 3 CF 2 CF 2 CF 2 CF 3, CF 3 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 3 ) can be used, and perfluoroalkanes are preferred. The amount of the fluorine solvent to be used is not particularly limited, but in the case of suspension polymerization, it is preferably 10 to 100% by weight with respect to the aqueous medium from the viewpoint of suspension and economy.

重合温度は、特に限定されず、0〜100℃であってもよい。重合圧力は、用いる溶媒の種類、量及び蒸気圧、重合温度等の他の重合条件に応じて適宜定められるが、0〜9.8MPaGであってもよい。   The polymerization temperature is not particularly limited, and may be 0 to 100 ° C. The polymerization pressure is appropriately determined according to other polymerization conditions such as the type, amount and vapor pressure of the solvent used, and the polymerization temperature, but may be 0 to 9.8 MPaG.

なお、分子量調整のために、公知の連鎖移動剤を用いることができる。連鎖移動剤としは、例えば、イソペンタン、n−ペンタン、n−ヘキサン、シクロヘキサン等の炭化水素;メタノール、エタノール等のアルコール;四塩化炭素、クロロホルム、塩化メチレン、塩化メチル等のハロゲン化炭化水素を用いることができる。また、末端のカーボネート基又はエステル基の含有量は、重合条件を調整することによってコントロールでき、パーオキシカーボネート又はパーオキシエステルの使用量、連鎖移動剤の使用量、重合温度等によってコントロールできる。   A known chain transfer agent can be used for adjusting the molecular weight. Examples of the chain transfer agent include hydrocarbons such as isopentane, n-pentane, n-hexane, and cyclohexane; alcohols such as methanol and ethanol; halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride, chloroform, methylene chloride, and methyl chloride. be able to. The content of the terminal carbonate group or ester group can be controlled by adjusting the polymerization conditions, and can be controlled by the amount of peroxycarbonate or peroxyester used, the amount of chain transfer agent used, the polymerization temperature, or the like.

ポリマー分子末端にカルボン酸ハライド基若しくはカルボン酸基を有する含フッ素エチレン性重合体を得るためには種々の方法を採用でき、例えば、上述のカーボネート基又はエステル基を末端に有する含フッ素エチレン性重合体を加熱させ、熱分解(脱炭酸)させることにより得ることができる。加熱温度は、カーボネート基又はエステル基の種類、含フッ素エチレン性重合体の種類によって異なるが、通常270℃以上であり、好ましくは280℃以上であり、特に好ましくは300℃以上である。また、加熱温度は、含フッ素エチレン性重合体のカーボネート基又はエステル基以外の部位の熱分解温度以下にすることが好ましく、具体的には400℃以下が好ましく、350℃以下がより好ましい。   In order to obtain a fluorinated ethylenic polymer having a carboxylic acid halide group or a carboxylic acid group at the polymer molecule end, various methods can be employed. For example, the fluorinated ethylenic polymer having the above-mentioned carbonate group or ester group at the end can be adopted. The coalescence can be obtained by heating and pyrolysis (decarboxylation). The heating temperature varies depending on the type of carbonate group or ester group and the type of fluorine-containing ethylenic polymer, but is usually 270 ° C or higher, preferably 280 ° C or higher, and particularly preferably 300 ° C or higher. Moreover, it is preferable to make heating temperature below the thermal decomposition temperature of parts other than the carbonate group or ester group of a fluorine-containing ethylenic polymer, specifically 400 degrees C or less is preferable, and 350 degrees C or less is more preferable.

<カーボネート基の個数の測定方法>
得られた含フッ素エチレン性重合体の白色粉末又は溶融押出しペレットの切断片を室温にて圧縮成形し、平均厚さ0.05〜0.2mmの均一なフィルムを作製した。このフィルムの赤外吸収スペクトル分析によって、カーボネート基(−OC(=O)O−)のカルボニル基に由来するピークが1809cm−1(νC=O)の吸収波長に現れ、そのνC=O ピークの吸光度を測定した。下記式(5)によって主鎖炭素数10個当たりのカーボネート基の個数(N)を算出した。
N=500AW/εdf (5)
A:カーボネート基(−OC(=O)O−)のνC=O ピークの吸光度
ε:カーボネート基(−OC(=O)O−)のνC=O ピークのモル吸光度係数〔l・cm−1・mol−1〕。モデル化合物からε=170とした。
W:モノマー組成から計算される単量体の平均分子量
d:フィルムの密度〔g/cm
f:フィルムの平均厚さ〔mm〕
なお、赤外吸収スペクトル分析は、Perkin−Elmer FTIRスペクトロメーター1760X(パーキンエルマー社製)を用いて40回スキャンして行った。得られたIRスペクトルをPerkin−Elmer Spectrum for Windows(登録商標) Ver. 1.4Cにて自動でベースラインを判定させ1809cm−1のピークの吸光度を測定した。また、フィルムの平均厚さはマイクロメーターにて測定した。
<Method for measuring the number of carbonate groups>
The obtained white powder of the fluorinated ethylenic polymer or a cut piece of the melt-extruded pellet was compression molded at room temperature to produce a uniform film having an average thickness of 0.05 to 0.2 mm. According to infrared absorption spectrum analysis of this film, a peak derived from a carbonyl group of a carbonate group (—OC (═O) O—) appears at an absorption wavelength of 1809 cm −1C═O ), and its ν C═O The absorbance of the peak was measured. The number (N) of carbonate groups per 10 6 main chain carbon atoms was calculated by the following formula (5).
N = 500 AW / εdf (5)
A: Absorbance of ν C = O peak of carbonate group (—OC (═O) O—) ε: Molar absorbance coefficient of ν C = O peak of carbonate group (—OC (═O) O—) [l · cm −1 · mol −1 ]. Ε = 170 from the model compound.
W: Average molecular weight of monomer calculated from monomer composition d: Film density [g / cm 3 ]
f: Average thickness of the film [mm]
The infrared absorption spectrum analysis was performed by scanning 40 times using a Perkin-Elmer FTIR spectrometer 1760X (manufactured by PerkinElmer). The obtained IR spectrum was analyzed using Perkin-Elmer Spectrum for Windows (registered trademark) Ver. The baseline was automatically determined at 1.4 C, and the absorbance of the peak at 1809 cm −1 was measured. Moreover, the average thickness of the film was measured with a micrometer.

<カルボン酸フルオライド基の個数の測定方法>
上記のカーボネート基の個数の測定方法と同様にして得られたフィルムの赤外スペクトル分析により、カルボン酸フルオライド基(−C(=O)F)のカルボニル基に由来するピークが1880cm−1(νC=O )の吸収波長に現れ、そのνC=O ピークの吸光度を測定した。カルボン酸フルオライド基のνC=O ピークのモル吸光度係数〔l・cm−1・mol−1〕をモデル化合物によりε=600とした以外は、上記式(5)を用いて上述のカーボネート基の個数の測定方法と同様にしてカルボン酸フルオライド基の個数を測定した。
<Method for measuring the number of carboxylic acid fluoride groups>
A peak derived from the carbonyl group of the carboxylic acid fluoride group (—C (═O) F) was found to be 1880 cm −1 (ν) by infrared spectrum analysis of the film obtained in the same manner as in the above method for measuring the number of carbonate groups. The absorbance at the ν C═O peak appears at the absorption wavelength of C═O 2 ). Except that the molar absorbance coefficient [l · cm −1 · mol −1 ] of the ν C═O peak of the carboxylic acid fluoride group was set to ε = 600 by the model compound, The number of carboxylic acid fluoride groups was measured in the same manner as the number measurement method.

<その他のカルボニル基の個数の測定方法>
上記カーボネート基の個数の測定方法と同様にして得られたフィルムの赤外スペクトル分析により、カルボン酸基、エステル基、酸無水物基等のポリアミド系樹脂中のアミド基やアミノ基等の官能基と基本的に反応し得るその他のカルボニル基の個数も測定することができる。但し、これらのカルボニル基に由来するνC=O ピークのモル吸光度係数〔l・cm−1・mol−1〕はε=530とした以外は、上記式(5)を用いて上述のカーボネート基の個数の測定方法と同様にしてその他のカルボニル基の個数を測定した。
<Measurement method of the number of other carbonyl groups>
Functional groups such as amide groups and amino groups in polyamide-based resins such as carboxylic acid groups, ester groups, and acid anhydride groups by infrared spectrum analysis of the film obtained in the same manner as the method for measuring the number of carbonate groups. The number of other carbonyl groups that can basically react with can also be measured. However, except that the molar absorbance coefficient [l · cm −1 · mol −1 ] of the ν C═O peak derived from these carbonyl groups is ε = 530, the above carbonate group is obtained using the above formula (5). The number of other carbonyl groups was measured in the same manner as the method for measuring the number of carbonyl groups.

<含フッ素エチレン性重合体の組成の測定方法>
19F−NMR分析により測定した。
<Method for measuring composition of fluorine-containing ethylenic polymer>
It was measured by 19 F-NMR analysis.

本発明における含フッ素エチレン性重合体は、それ自体が有する接着性と耐熱性や耐薬品性等を損なわないため、単独で用いることが好ましいが、目的や用途に応じてその性能を損なわない範囲で、無機質粉末、ガラス繊維、炭素繊維、金属酸化物又はカーボン等の種々の公知の充填剤を配合できる。また、充填剤以外に、顔料、紫外線吸収剤、その他任意の添加剤を混合できる。添加剤以外に、他のフッ素樹脂や熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂等の樹脂、合成ゴム等を配合することもでき、機械特性の改善、耐候性の改善、意匠性の付与、静電防止、成形性改善等が可能となる。   The fluorine-containing ethylenic polymer in the present invention is preferably used alone because it does not impair the adhesiveness, heat resistance, chemical resistance, etc. of itself, but it does not impair the performance depending on the purpose and application. Thus, various known fillers such as inorganic powder, glass fiber, carbon fiber, metal oxide or carbon can be blended. In addition to the filler, a pigment, an ultraviolet absorber, and other optional additives can be mixed. In addition to additives, other fluororesins, thermoplastic resins, thermosetting resins, etc., synthetic rubber, etc. can also be blended, improving mechanical properties, improving weather resistance, imparting design, and preventing static electricity It becomes possible to improve moldability.

また、本発明における含フッ素エチレン性重合体は、上述のようにそれ自体が接着性を有するものであるが、さらに接着性を向上させる目的で、該含フッ素エチレン性重合体やその成形体(例えば、フィルムなど)にコロナ処理、プラズマ処理、電子線照射処理、スパッタリング処理、コーティング処理などの表面処理を施すことにより、表面自由エネルギーのコントロール、もしくは接着性官能基の導入、表面粗度の調整を行ってもよい。これらの処理は、従来公知の方法を使用することができる。
コロナ処理,プラズマ処理,電子線照射処理においては、放電雰囲気中にフィルムを通過させることによってフィルム表面に生じるエッチング効果によって微細な凹凸を形成して接着面積の向上やアンカー効果による接着力向上を図る。また、これらの処理では、放電雰囲気中に酸素、水素を導入することで表面自由エネルギーをコントロールできる他、例えばアクリル酸を導入した含フッ素エチレン性重合体を用いることでフィルム表面にカルボキシル基などの接着性官能基を形成することもできる。
スパッタリング処理においては、エッチング効果により表面粗度が調整され、分子鎖が切断されることで反応が活性化し、接着性が向上する。
有機溶剤に溶解させた接着性を有する樹脂をコーティング処理によって含フッ素エチレン性重合体表面に形成することで、接着性を向上することもできる。接着性を有する樹脂は被着物に応じて適当なものを選定することが出来るが、含フッ素エチレン性重合体表面への濡れが不十分弾きや剥離などを生じる場合、上記表面処理加工と組み合わせることも出来る。
In addition, the fluorine-containing ethylenic polymer in the present invention itself has adhesiveness as described above, but for the purpose of further improving the adhesiveness, the fluorine-containing ethylenic polymer and its molded body ( For example, by applying surface treatment such as corona treatment, plasma treatment, electron beam irradiation treatment, sputtering treatment, coating treatment to films, etc., control of surface free energy or introduction of adhesive functional groups, adjustment of surface roughness May be performed. Conventionally known methods can be used for these treatments.
In corona treatment, plasma treatment, and electron beam irradiation treatment, fine irregularities are formed by the etching effect generated on the film surface by passing the film through the discharge atmosphere, thereby improving the adhesion area and the adhesion effect by the anchor effect. . In addition, in these treatments, the surface free energy can be controlled by introducing oxygen and hydrogen into the discharge atmosphere. For example, by using a fluorine-containing ethylenic polymer into which acrylic acid is introduced, a carboxyl group or the like is added to the film surface. Adhesive functional groups can also be formed.
In the sputtering process, the surface roughness is adjusted by the etching effect, and the reaction is activated and the adhesion is improved by cutting the molecular chain.
By forming a resin having adhesiveness dissolved in an organic solvent on the surface of the fluorinated ethylenic polymer by a coating treatment, the adhesiveness can be improved. Adhesive resin can be selected appropriately depending on the adherend, but if the wetness to the fluorine-containing ethylenic polymer surface is insufficiently repelled or peeled off, combine it with the above surface treatment. You can also.

<積層体の製造方法>
本発明の長尺状積層体は、上述したポリイミドフィルムとフッ素樹脂とを貼り合わせることによって形成される。
本発明の積層体の製造に使用される装置としては、特に限定されないが、例えばFPCやFFC用の長尺状基材の製造において貼り合わせに通常使用される装置を使用することができる。
<Method for producing laminate>
The long laminate of the present invention is formed by bonding the polyimide film and the fluororesin described above.
Although it does not specifically limit as an apparatus used for manufacture of the laminated body of this invention, For example, the apparatus normally used for bonding in manufacture of the elongate base material for FPC and FFC can be used.

本発明の長尺状積層体の製造方法の第一の態様は、前記ポリイミドフィルムと前記フッ素樹脂を、通常150〜230℃、好ましくは170〜210℃に加熱したロール(本明細書中において、熱ロールともいう)で1〜15kNの荷重を掛けて貼り合わせて積層体とし、貼り合わせた後に積層体をフッ素樹脂の融点以上の温度でアニール処理に付することを特徴とする。   In the first aspect of the method for producing a long laminate of the present invention, the polyimide film and the fluororesin are usually heated to 150 to 230 ° C, preferably 170 to 210 ° C (in the present specification, It is characterized by applying a load of 1 to 15 kN with a heat roll) to form a laminate, and after the lamination, the laminate is subjected to an annealing treatment at a temperature equal to or higher than the melting point of the fluororesin.

前記アニール処理としては、貼り合わせ直後の積層体を、引き続き、通常200〜290℃、好ましくは205〜270℃、さらに好ましくは210〜245℃に加熱されたロール(本明細書中において、加熱したロールともいう)に接触させることによって行われることが好ましい。
前記加熱されたロールに接触させる時間は、特に限定されないが、好ましくは5〜600秒間であり、より好ましくは10〜100秒間である。
As the annealing treatment, the laminate immediately after bonding is continuously heated to 200 to 290 ° C., preferably 205 to 270 ° C., more preferably 210 to 245 ° C. (in this specification, heated). It is preferably performed by contacting with a roll).
The time for contacting the heated roll is not particularly limited, but is preferably 5 to 600 seconds, and more preferably 10 to 100 seconds.

貼り合わせ直後の積層体を、引き続き、加熱されたロールに接触させてアニール処理を行う場合の製造方法を示すフロー図を、図2に示す。
この場合の製造方法は、図2に示すように、ポリイミドフィルムとフッ素樹脂とを熱ロールで荷重を掛けて貼り合わせて積層体とし、貼り合わせ直後の積層体を、そのまま引き続いて、インラインで、加熱されたロールに接触させる。
FIG. 2 is a flow diagram showing a manufacturing method in the case where the laminated body immediately after bonding is subsequently brought into contact with a heated roll for annealing treatment.
In this case, as shown in FIG. 2, the polyimide film and the fluororesin are laminated by applying a load with a heat roll to form a laminated body, and the laminated body immediately after the bonding is continued as it is, in-line, Contact with heated roll.

前記アニール処理の別の態様としては、貼り合わせ直後の積層体を、引き続き、通常200〜290℃、好ましくは205〜270℃、より好ましくは210℃〜245℃に加熱されたオーブンで加熱することによって行われることも好ましい。
前記加熱されたオーブンで加熱する時間は、特に限定されないが、好ましくは5〜600秒間、より好ましくは10〜300秒間である。
As another aspect of the annealing treatment, the laminated body immediately after bonding is continuously heated in an oven usually heated to 200 to 290 ° C., preferably 205 to 270 ° C., more preferably 210 to 245 ° C. It is also preferable that this is performed.
The time for heating in the heated oven is not particularly limited, but is preferably 5 to 600 seconds, more preferably 10 to 300 seconds.

貼り合わせ直後の積層体を、引き続き、加熱されたオーブンで加熱してアニール処理を行う場合の製造方法を示すフロー図を、図3に示す。
この場合の製造方法は、図3に示すように、ポリイミドフィルムとフッ素樹脂とを熱ロールで荷重を掛けて貼り合わせて積層体とし、貼り合わせ直後の積層体を、そのまま引き続いて、インラインで、加熱されたオーブンに入れて加熱する。
FIG. 3 shows a flow chart showing a manufacturing method in the case where the laminated body immediately after bonding is subsequently heated in a heated oven for annealing treatment.
In this case, as shown in FIG. 3, the polyimide film and the fluororesin are laminated by applying a load with a heat roll to form a laminated body, and the laminated body immediately after the bonding is continued as it is, in-line, Heat in a heated oven.

尚、上述した「貼り合わせ直後の積層体を、引き続き、」処理するとは、積層体の貼り合わせを行う製造ラインにおいて、貼り合わせを行った積層体を製造ラインから取り出すことなく、貼り合わせ処理後に引き続いてインラインで処理することを意味する。   In addition, in the manufacturing line which laminates the laminated body, the above-mentioned “continuous lamination immediately after bonding” is processed after the bonding process without taking out the laminated body which has been bonded from the manufacturing line. It means to process inline continuously.

本発明の長尺状積層体の製造方法の第二の態様は、パラフェニレンジアミン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル及び3,4’−ジアミノジフェニルエーテルからなる群から選ばれる1以上の芳香族ジアミン成分と、4,4’−オキシジフタル酸無水物、ピロメリット酸二無水物及び3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物からなる群から選ばれる1以上の芳香族酸無水物成分とを使用して製造されるポリイミドフィルムとフッ素樹脂を、通常150〜230℃、好ましくは170〜210℃に加熱したロールで1〜15kNの荷重を掛けて貼り合わせて積層体とし、貼り合わせた積層体をロール状に巻きとった後に通常150〜290℃、好ましくは160〜245℃に加熱されたオーブンで加熱することを特徴とする。   The second embodiment of the method for producing a long laminate according to the present invention includes paraphenylenediamine, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 4,4′-diaminodiphenyl ether, and 3,4′-diaminodiphenyl ether. One or more aromatic diamine components selected from the group consisting of 4,4'-oxydiphthalic anhydride, pyromellitic dianhydride and 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride A polyimide film and a fluororesin produced using one or more aromatic acid anhydride components selected from the group consisting of 1 to 15 kN in a roll heated to usually 150 to 230 ° C., preferably 170 to 210 ° C. After laminating by applying a load to form a laminated body and winding the laminated body into a roll, it is usually 150 to 290 ° C., preferably 160 to 24 ℃ wherein the heating in the heated oven.

前記貼り合わせた積層体をロール状に巻きとる方法は、特に限定されず、長尺状積層体やフィルムの製造において通常使用される方法に従ってよい。   The method of winding the laminated body in a roll shape is not particularly limited, and may be a method usually used in the production of a long laminated body or a film.

前記第二の態様において、加熱されたオーブンで加熱する時間は、特に限定されないが、好ましくは1分以上であり、より好ましくは5分以上、さらに好ましくは15分以上である。該加熱時間は、12時間以下が好ましいが、12時間を超えてもさらに優れた効果は奏しない。   In the second aspect, the heating time in the heated oven is not particularly limited, but is preferably 1 minute or more, more preferably 5 minutes or more, and further preferably 15 minutes or more. The heating time is preferably 12 hours or less, but even if the heating time exceeds 12 hours, a further excellent effect is not achieved.

また、前記第二の態様において使用されるオーブンとしては、長尺体を巻き取って形成されたロールを加熱することができるオーブンであれば、特に限定されない。
尚、当該第二の態様では、貼り合わせた積層体のオーブンでの加熱は、積層体の貼り合わせを行う製造ラインと同じインラインで行わなくてよい。
The oven used in the second aspect is not particularly limited as long as it is an oven that can heat a roll formed by winding a long body.
In the second aspect, heating of the laminated body in the oven does not have to be performed in the same inline as the production line for laminating the laminated body.

<積層体>
本発明の長尺状積層体の長さは、特に限定されないが、例えば、10m以上が好ましい。
また、本発明の積層体の幅は、特に限定されない。
<Laminate>
Although the length of the elongate laminated body of this invention is not specifically limited, For example, 10 m or more is preferable.
Moreover, the width | variety of the laminated body of this invention is not specifically limited.

本発明の積層体において、ポリイミドフィルムとフッ素樹脂の接着強度は、通常0.2N/cm以上であり、好ましくは0.5N/cm以上である。   In the laminate of the present invention, the adhesive strength between the polyimide film and the fluororesin is usually 0.2 N / cm or more, preferably 0.5 N / cm or more.

本発明の積層体において、積層体を構成するポリイミドフィルムの平均厚さは、特に限定されないが、通常2.5〜175μmであり、好ましくは5〜75μmである。
また、本発明の積層体において、フッ素樹脂の平均厚さは、特に限定されないが、通常12.5〜100μmであり、好ましくは12.5〜75μmである。
In the laminate of the present invention, the average thickness of the polyimide film constituting the laminate is not particularly limited, but is usually 2.5 to 175 μm, preferably 5 to 75 μm.
Moreover, in the laminated body of this invention, although the average thickness of a fluororesin is not specifically limited, Usually, it is 12.5-100 micrometers, Preferably it is 12.5-75 micrometers.

本発明の積層体は、ポリイミドフィルムとフッ素樹脂を貼り合わせてなる2層構造の積層体に、さらに、平均厚さが35μm以上のポリイミドフィルムが該積層体のポリイミドフィルム側に貼り合わせられた、ポリイミドフィルム/ポリイミドフィルム/フッ素樹脂の3層構造のものであってもよい。このような3層構造の積層体の例の断面図を、図4に示す。   In the laminate of the present invention, a laminate having a two-layer structure in which a polyimide film and a fluororesin are bonded together, and a polyimide film having an average thickness of 35 μm or more is bonded to the polyimide film side of the laminate. It may have a three-layer structure of polyimide film / polyimide film / fluororesin. A cross-sectional view of an example of a laminate having such a three-layer structure is shown in FIG.

前記平均厚さが35μm以上のポリイミドフィルムとしては、上述した本発明の積層体に使用されるポリイミドフィルムを好ましく使用することができる。   As the polyimide film having an average thickness of 35 μm or more, the polyimide film used in the laminate of the present invention described above can be preferably used.

また、本発明の積層体は、ポリイミドフィルムとフッ素樹脂を貼り合わせてなる2層構造の積層体に、さらに、平均厚みが25μm以上の微粘着性ペットフィルムが該積層体のフッ素樹脂側に貼り合わせられた、ポリイミドフィルム/フッ素樹脂/微粘着性ペットフィルムの3層構造のものであってもよい。   In addition, the laminate of the present invention has a two-layer structure in which a polyimide film and a fluororesin are bonded together, and a slightly adhesive pet film having an average thickness of 25 μm or more is attached to the fluororesin side of the laminate. A combined three-layer structure of polyimide film / fluororesin / slightly adhesive pet film may be used.

また、本発明の積層体は、ポリイミドフィルムとフッ素樹脂を貼り合わせてなる2層構造の積層体に、さらに、平均厚みが25μm以上の微粘着性ペットフィルムが該積層体のポリイミドフィルム側に貼り合わせられた、微粘着性ペットフィルム/ポリイミドフィルム/フッ素樹脂の3層構造のものであってもよい。このような3層構造の積層体の例の断面図を、図5に示す。   In addition, the laminate of the present invention has a two-layer structure in which a polyimide film and a fluororesin are bonded together, and a slightly adhesive pet film having an average thickness of 25 μm or more is attached to the polyimide film side of the laminate. The three-layer structure of the slightly sticky pet film / polyimide film / fluororesin combined may be used. A cross-sectional view of an example of such a three-layer structure is shown in FIG.

上記のように、平均厚さが35μm以上のポリイミドフィルム又は平均厚みが25μm以上の微粘着性ペットフィルムを2層構造の積層体にさらに貼り合わせることによって、ポリイミドフィルムとフッ素樹脂を貼り合わせる際や、貼り合わせた積層体を加熱されたロール又はオーブンで加熱する際に発生するシワ及びカールを、低減することができる。   As described above, when the polyimide film and the fluororesin are bonded together by further bonding a polyimide film having an average thickness of 35 μm or more or a slightly adhesive pet film having an average thickness of 25 μm or more to a laminate having a two-layer structure. In addition, wrinkles and curls that are generated when the bonded laminate is heated with a heated roll or oven can be reduced.

尚、上記の構成の表記において、「/」の記号はその両側のフィルム又はフッ素樹脂が接着(熱融着)していることを示す。   In the description of the above configuration, the symbol “/” indicates that the films or fluororesins on both sides thereof are bonded (heat-sealed).

前記微粘着性ペットフィルムとしては、特に限定されないが、例えば、パナック株式会社製パナプロテクトMK38S等を使用することができる。   Although it does not specifically limit as said slightly adhesive pet film, For example, Panaprotect MK38S by Panac Co., Ltd. can be used.

尚、上述した3層構造の積層体は、2層構造の積層体と同様にして製造することができる。該3層構造の積層体は、上述した本発明の長尺状積層体の製造方法の第一又は第二の態様において、熱ロールで1〜15kNの荷重を掛けてポリイミドフィルムとフッ素樹脂を貼り合わせる際に、3層目としてさらに貼り合わせるポリイミドフィルム又は微粘着性ペットフィルムを一緒に処理し、3枚を同時に貼り合わせることによって積層体とし、貼り合わせた積層体を加熱されたロール又はオーブンで加熱することによって、製造することができる。   In addition, the laminated body of the 3 layer structure mentioned above can be manufactured similarly to the laminated body of a 2 layer structure. In the first or second aspect of the method for producing a long laminate of the present invention described above, the laminate having a three-layer structure is applied with a polyimide film and a fluororesin by applying a load of 1 to 15 kN with a hot roll. When combining, the polyimide film or the slightly sticky PET film to be further bonded as the third layer is processed together, and the three layers are bonded together to form a laminate, and the bonded laminate is heated in a heated roll or oven. It can be manufactured by heating.

また、前記3層構造の積層体は、上述した本発明の長尺状積層体の製造方法の第一又は第二の態様を用いてポリイミドフィルムとフッ素樹脂を貼り合わせてなる2層構造の積層体を作製した後、該2層構造の積層体を、熱ロール又は熱していないロールを用いて、さらに3層目として貼り合わせるポリイミドフィルム又は微粘着性ペットフィルムと貼り合わせることによって製造することもできる。   The three-layer structure laminate is a two-layer laminate formed by laminating a polyimide film and a fluororesin using the first or second aspect of the method for producing a long laminate of the present invention described above. After producing the body, the laminate of the two-layer structure may be manufactured by further bonding with a polyimide film or a slightly adhesive pet film to be bonded as a third layer using a hot roll or a non-heated roll. it can.

<FPC>
本発明は、上述した本発明の積層体を用いたFPCも含む。
FPCは、カバーレイとしての本発明の積層体と、銅張積層体とを貼り合わせることにより、製造することができる。該銅張積層体の製造方法としては、例えば、基材フィルムと銅箔とを接着剤を介して積層した3層CCLや、基材フィルムに蒸着やスパッタ加工と電気めっきを利用して銅層を形成してなるもの、銅箔上にポリイミド層をキャスティングして形成した所謂キャスト型2層CCL(COC)、基材フィルムに無電解めっきを用いて銅層を形成したもの等が挙げられる。
<FPC>
The present invention also includes an FPC using the above-described laminate of the present invention.
The FPC can be manufactured by bonding the laminate of the present invention as a coverlay and a copper clad laminate. Examples of the method for producing the copper-clad laminate include a three-layer CCL in which a base film and a copper foil are laminated via an adhesive, and a copper layer using vapor deposition, sputtering, and electroplating on the base film. , A so-called cast type two-layer CCL (COC) formed by casting a polyimide layer on a copper foil, and a base film formed by forming a copper layer using electroless plating.

前記基材フィルムとしては、高周波回路用にポリイミドフィルムやLCPフィルム等が挙げられる。また、接着剤層としては、エポキシ系やアクリル系、ポリイミド系接着剤、フッ素樹脂等が挙げられる。接着剤は市販品を使用することができる。市販品としては、特に限定されないが、パイララックス(Pyralux、デュポン株式会社製)のLFシリーズ(アクリル系接着剤)等が挙げられる。これらの中で好ましい形態は、LCPフィルムを用いた銅張積層体、基材フィルムと銅箔とをフッ素樹脂を介して積層体とした銅張積層体である。   Examples of the base film include polyimide films and LCP films for high-frequency circuits. Examples of the adhesive layer include epoxy-based, acrylic-based, polyimide-based adhesive, and fluororesin. A commercially available product can be used as the adhesive. Although it does not specifically limit as a commercial item, LF series (acrylic adhesive) etc. of Pirarax (Pyralux, DuPont Co., Ltd.) etc. are mentioned. Among these, preferred forms are a copper clad laminate using an LCP film, and a copper clad laminate in which a base film and a copper foil are laminated via a fluororesin.

前記銅張積層体に用いるポリイミドフィルムとしては、上記の本発明の積層体に使用されるポリイミドフィルムと同様のものが挙げられ、その組成は本発明の積層体用のポリイミドフィルムと同一であってもよく、異なっていてもよい。   Examples of the polyimide film used for the copper-clad laminate include the same polyimide films used for the laminate of the present invention, and the composition is the same as the polyimide film for the laminate of the present invention. May be different.

前記銅張積層体に用いるフッ素樹脂としては、特に限定されないが、公知のフッ素系樹脂を使用でき、市販品を用いてもよい。前記市販品としては、例えば、トヨフロンF、FE、FL、FR、FV(商品名;以上、東レフィルム加工株式会社製)等が挙げられる。   Although it does not specifically limit as a fluorine resin used for the said copper clad laminated body, A well-known fluorine resin can be used and a commercial item may be used. Examples of the commercially available products include Toyoflon F, FE, FL, FR, and FV (trade names; above, manufactured by Toray Film Processing Co., Ltd.).

前記銅張積層体におけるポリイミド層(ポリイミド接着剤を使用する場合、接着剤を含めた層)の平均厚さとしては、特に限定されないが、フッ素樹脂層の平均厚さの0.01〜2.0倍程度が好ましく、0.05〜1.0倍程度がより好ましく、0.1〜0.9倍程度がさらに好ましい。ポリイミド層の平均厚さが、フッ素樹脂層の平均厚さの2.0倍を超えると、銅張積層体としての剛性や寸法安定性は向上するものの、誘電率が増加するため好ましくない。また、0.01倍未満であると、ポリイミド層の剛性が低下し、線膨張係数が増加する傾向となり、銅張積層体としての剛性や寸法安定性は低下する。   The average thickness of the polyimide layer in the copper-clad laminate (when using a polyimide adhesive, the layer including the adhesive) is not particularly limited, but is 0.01 to 2 of the average thickness of the fluororesin layer. About 0 times is preferable, about 0.05 to 1.0 times is more preferable, and about 0.1 to 0.9 times is more preferable. When the average thickness of the polyimide layer exceeds 2.0 times the average thickness of the fluororesin layer, although the rigidity and dimensional stability as a copper clad laminate are improved, the dielectric constant increases, which is not preferable. Moreover, when it is less than 0.01 times, the rigidity of the polyimide layer decreases and the linear expansion coefficient tends to increase, and the rigidity and dimensional stability as a copper clad laminate decrease.

前記銅張積層体をエッチング処理し、配線加工した銅張積層体が得られる。エッチング処理の方法は、特に限定されず、公知の方法を使用することができる。   The copper clad laminate is etched to obtain a copper clad laminate obtained by wiring. The method for the etching treatment is not particularly limited, and a known method can be used.

高周波回路基板の製造において、前記FPC用カバーレイのフッ素樹脂側を銅張積層体の回路に接するように積層し、カバーレイと銅張積層体とを仮止めを行う。   In the manufacture of the high-frequency circuit board, the FPC coverlay is laminated so that the fluororesin side is in contact with the circuit of the copper clad laminate, and the coverlay and the copper clad laminate are temporarily fixed.

銅張積層体とカバーレイとの仮止め工程としては、公知の方法を使用することができ、特に限定されないが、例えば、銅張積層体とカバーレイとの位置合わせをし、キスラミネーションをした後に、必要に応じてクイックプレスをして、150〜200℃程度でラミネーションする方法、銅張積層体とカバーレイとの位置合わせをし、多段プレスする方法等が挙げられる。前記仮止め工程における最大温度は、カバーレイに使用するフッ素樹脂の融点より低ければ、特に限定されないが、続いて行うアニール処理によって十分な接着強度が得られる点から、100〜250℃の範囲内とするのが好適である。仮止め工程の処理時間は特に限定されない。   As a temporary fixing process of the copper clad laminate and the cover lay, a known method can be used, and is not particularly limited. For example, the copper clad laminate and the cover lay are aligned and kiss-laminated. Later, if necessary, a method of laminating at a temperature of about 150 to 200 ° C. by quick pressing, a method of aligning the copper clad laminate and the cover lay, and a method of multi-stage pressing can be mentioned. The maximum temperature in the temporary fixing step is not particularly limited as long as it is lower than the melting point of the fluororesin used for the coverlay, but is within the range of 100 to 250 ° C. from the viewpoint that sufficient adhesive strength can be obtained by the subsequent annealing treatment. Is preferable. The processing time of the temporary fixing process is not particularly limited.

高周波回路基板の製造において、特に限定されないが、前記仮止め工程に続いて、カバーレイを取り付けた銅張積層体をアニール処理する工程を行うことが好ましい。   Although it does not specifically limit in manufacture of a high frequency circuit board, It is preferable to perform the process of annealing the copper clad laminated body to which the coverlay was attached following the said temporary fixing process.

アニール処理工程での加熱最大温度は、特に限定されないが、150℃以上350℃以下の範囲内で、前記仮止め工程の最大温度より高い温度とするのが、得られる高周波回路基板の接着強度が良好である点から好ましく、前記温度差は、20℃以上とするのが好ましい。また、前記アニール処理工程では、フリーテンションで、かつ150℃以上350℃以下で行うのが好ましい。フリーテンションは処理工程を簡単にするという利点があり、アニール温度については、200℃以上280℃以下がより好ましく、205℃以上275℃以下がさらに好ましい。アニール処理時間は特に限定されない。   The maximum heating temperature in the annealing process is not particularly limited, but the temperature higher than the maximum temperature in the temporary fixing process within the range of 150 ° C. or higher and 350 ° C. or lower is the adhesive strength of the resulting high-frequency circuit board. The temperature difference is preferably 20 ° C. or more. Moreover, it is preferable that the annealing process is performed with free tension at 150 ° C. or more and 350 ° C. or less. Free tension has the advantage of simplifying the treatment process, and the annealing temperature is more preferably 200 ° C. or higher and 280 ° C. or lower, and further preferably 205 ° C. or higher and 275 ° C. or lower. The annealing time is not particularly limited.

前記アニール処理によって、フッ素樹脂層の接着力に基づいて密着力が高まり、実用的な接着強度(ピール強度)を有する高周波回路基板が得られる。   By the annealing treatment, the adhesive strength is increased based on the adhesive strength of the fluororesin layer, and a high-frequency circuit board having a practical adhesive strength (peel strength) is obtained.

<FFC>
本発明は、上述した本発明の積層体を用いたFFCも含む。
FFCは、FFC用基材としての本発明の積層体によって導体を挟んで加熱圧着することによって製造することができる。
FFCは、例えば、前記ポリイミドフィルムと前記フッ素樹脂を接着状態に貼り合わせることにより形成される本発明の積層体2枚を、導体を間にして、前記フッ素樹脂層が互いに向かい合うように加熱しながら張り合わせて加熱圧着する方法;前記フッ素樹脂の成形体2枚を、導体を間にして該成形体が互いに向かい合うように加熱しながら張り合わせて加熱圧着した後、前記ポリイミドフィルム2枚を、貼り合わせ後のフッ素樹脂の成形体の上下に張り合わせる方法等を用いて製造することができる。前記加熱圧着方法としては、特に限定されず、従来公知のFFCの製造において使用される方法に従ってよく、上述した本発明の積層体の製造方法において使用される熱ロールや加熱したロールによる方法と同様の方法を用いて行なうことができる。
<FFC>
The present invention also includes an FFC using the above-described laminate of the present invention.
The FFC can be manufactured by thermocompression bonding with a conductor sandwiched between the laminates of the present invention as an FFC substrate.
FFC, for example, while heating two laminates of the present invention formed by bonding the polyimide film and the fluororesin in an adhesive state with the conductor in between so that the fluororesin layer faces each other Method of pasting and thermocompression bonding: After heating and pressing the two fluororesin molded bodies while heating so that the molded bodies face each other with the conductor in between, the two polyimide films are bonded together It can manufacture using the method of sticking up and down the molded object of this fluororesin. The method for thermocompression bonding is not particularly limited, and may be according to a method used in the production of a conventionally known FFC, and is similar to the method using a hot roll or a heated roll used in the method for producing a laminate of the present invention described above. This method can be used.

前記導体としては、特に限定されないが、例えば、導電性金属の扁平箔や丸線、長方形の断面を持つ平角導体、有機導電体などが挙げられる。導電性金属としては、特に限定されないが、銅、銀、錫、インジウム、アルミニウム、モリブデン、これらの合金等を使用することができる。導体の幅や厚さは、特に限定されないが、例えば、約20μm〜0.5mm程度である。   The conductor is not particularly limited, and examples thereof include a flat foil or round wire of conductive metal, a rectangular conductor having a rectangular cross section, and an organic conductor. Although it does not specifically limit as a conductive metal, Copper, silver, tin, indium, aluminum, molybdenum, these alloys, etc. can be used. The width and thickness of the conductor are not particularly limited, but are, for example, about 20 μm to 0.5 mm.

本発明の積層体と配線加工した銅張積層体とを積層することにより、もしくは、本発明の積層体によって導体を挟みこむことにより、高周波回路基板を製造することができる。   A high frequency circuit board can be manufactured by laminating the laminate of the present invention and a copper-clad laminate processed by wiring, or by sandwiching a conductor between the laminate of the present invention.

次に、実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例により何ら限定されるものではなく、多くの変形が本発明の技術的思想内で当分野において通常の知識を有する者により可能である。   EXAMPLES Next, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited to these examples at all, and many variations are within the technical idea of the present invention. This is possible by those with ordinary knowledge.

(接着強度測定)
ポリイミドフィルム及びフッ素樹脂の積層体を10mm×120mmの大きさに裁断し、島津製作所製万能引張試験器オートグラフAG−ISを用いて、90℃引き試験(引張速度:50mm/min、測定長:20mm、測定範囲:5.0−20.0mm)にてピール強度(接着強度)を測定した。(接着強度の単位:N/cm)。
(Adhesive strength measurement)
A laminate of a polyimide film and a fluororesin is cut into a size of 10 mm × 120 mm, and subjected to a 90 ° C. pulling test (tensile speed: 50 mm / min, measurement length: using Shimadzu Universal Tensile Tester Autograph AG-IS). The peel strength (adhesive strength) was measured at 20 mm and measurement range: 5.0-20.0 mm. (Unit of adhesive strength: N / cm).

(平均厚さ)
貼り合わせ前のポリイミドフィルム、フッ素樹脂フィルム及び微粘着性ペットフィルムの平均厚さ、並びに、積層体におけるポリイミドフィルム及びフッ素樹脂の平均厚さは、測定するフィルム又は積層体の任意の5箇所においてマイクロメーターにて測定した厚さの平均値である。
(Average thickness)
The average thickness of the polyimide film, the fluororesin film and the slightly sticky PET film before bonding, and the average thickness of the polyimide film and the fluororesin in the laminate are microscopic at any five locations of the film or laminate to be measured. It is the average value of the thickness measured with a meter.

(製造例1)フッ素樹脂フィルムの作製
表1に示すモノマー組成と物性を有するフッ素樹脂(含フッ素エチレン性重合体)を、設定温度を230℃〜280℃とした65φ短軸押出機を用いてペレット化し、その後、設定温度を230℃〜280℃としたTダイを備えた50φ短軸押出機でフィルム化を行い、平均厚さが25及び50μmのフッ素樹脂フィルムを得た。
(Production Example 1) Production of fluororesin film Using a 65φ short screw extruder with a fluororesin (fluorinated ethylenic polymer) having the monomer composition and physical properties shown in Table 1 and having a set temperature of 230 ° C to 280 ° C. Pelletized, and then formed into a film with a 50φ short-shaft extruder equipped with a T-die having a set temperature of 230 ° C. to 280 ° C. to obtain fluororesin films having an average thickness of 25 and 50 μm.

尚、表1において、TEEとはテトラフルオロエチレンを示し、Etとはエチレンを示し、HEPとはヘキサフルオロプロピレンを示し、HF−Paとはパーフルオロ(1,1,5−トリハイドロ−1−ペンテン)を示す。   In Table 1, TEE represents tetrafluoroethylene, Et represents ethylene, HEP represents hexafluoropropylene, and HF-Pa represents perfluoro (1,1,5-trihydro-1- Pentene).

以下に、積層体の実施例及び比較例を示す。
尚、ポリイミドフィルムとフッ素樹脂フィルムの厚みは、貼り合わせ前と、貼り合わせ及びアニール処理に付した後とで、共に変化しない。以下の実施例1〜8及び比較例1〜3において、得られた各積層体におけるポリイミドフィルムの平均厚さ及びフッ素樹脂の平均厚さは、それぞれ、貼り合わせ前のポリイミドフィルム(カプトン)の平均厚さ及びフッ素樹脂フィルム(製造例1で得られたフィルム)の平均厚さと同一である。
Below, the Example and comparative example of a laminated body are shown.
The thicknesses of the polyimide film and the fluororesin film do not change both before and after bonding and after being subjected to bonding and annealing. In the following Examples 1-8 and Comparative Examples 1-3, the average thickness of the polyimide film and the average thickness of the fluororesin in each of the obtained laminates are the average of the polyimide film (kapton) before bonding, respectively. It is the same as the thickness and the average thickness of the fluororesin film (the film obtained in Production Example 1).

(実施例1)
カプトン100KJ(平均厚さ25μm)及び製造例1で得られたフィルム(平均厚さ25μm)を重ね合わせ、200℃に加熱した熱ロールで荷重10kNを掛けて貼り合わせ、引き続き220℃に加熱されたロールに0.25分間接触させ、積層体を得た。
Example 1
Kapton 100KJ (average thickness 25 μm) and the film obtained in Production Example 1 (average thickness 25 μm) were superposed and bonded with a heat roll heated to 200 ° C. under a load of 10 kN, and subsequently heated to 220 ° C. It was made to contact with a roll for 0.25 minutes, and the laminated body was obtained.

(実施例2)
カプトン50EN(平均厚さ12.5μm)及び製造例1で得られたフィルム(平均厚さ25μm)を重ね合わせ、200℃に加熱した熱ロールで荷重10kNを掛けて貼り合わせ、引き続き240℃に加熱されたロールに0.25分間接触させ、積層体を得た。
(Example 2)
Kapton 50EN (average thickness 12.5 μm) and the film obtained in Production Example 1 (average thickness 25 μm) were superposed and bonded together with a heat roll heated to 200 ° C. under a load of 10 kN, and subsequently heated to 240 ° C. The laminated roll was contacted for 0.25 minutes to obtain a laminate.

(実施例3)
カプトン50EN−S(平均厚さ12.5μm)及び製造例1で得られたフィルム(平均厚さ50μm)を重ね合わせ、200℃に加熱した熱ロールで荷重10kNを掛けて貼り合わせ、引き続き270℃に加熱されたロールに1分間接触させ、積層体を得た。
(Example 3)
Kapton 50EN-S (average thickness 12.5 μm) and the film obtained in Production Example 1 (average thickness 50 μm) were superposed and bonded with a hot roll heated to 200 ° C. under a load of 10 kN, and subsequently 270 ° C. The laminate was brought into contact with a heated roll for 1 minute to obtain a laminate.

(実施例4)
カプトン100EN(平均厚さ25μm)及び製造例1で得られたフィルム(平均厚さ25μm)を重ね合わせ、210℃に加熱した熱ロールで荷重10kNを掛けて貼り合わせ、引き続き250℃に加熱されたロールに0.5分間接触させ、積層体を得た。
Example 4
Kapton 100EN (average thickness 25 μm) and the film obtained in Production Example 1 (average thickness 25 μm) were superposed and bonded with a heat roll heated to 210 ° C. under a load of 10 kN, and subsequently heated to 250 ° C. The laminate was brought into contact with the roll for 0.5 minutes to obtain a laminate.

(実施例5)
カプトン100H(平均厚さ25μm)及び製造例1で得られたフィルム(平均厚さ50μm)を重ね合わせ、200℃に加熱した熱ロールで荷重10kNを掛けて貼り合わせ、引き続き210℃に加熱されたオーブンで3分間加熱し、積層体を得た。
(Example 5)
Kapton 100H (average thickness 25 μm) and the film obtained in Production Example 1 (average thickness 50 μm) were superposed and bonded with a heat roll heated to 200 ° C. under a load of 10 kN, and subsequently heated to 210 ° C. The laminate was obtained by heating in an oven for 3 minutes.

(実施例6)
カプトン50EN(平均厚さ12.5μm)及び製造例1で得られたフィルム(平均厚さ25μm)を重ね合わせ、210℃に加熱した熱ロールで荷重13kNを掛けて貼り合わせ、引き続き250℃に加熱されたオーブンで0.5分間加熱し、積層体を得た。
(Example 6)
Kapton 50EN (average thickness 12.5 μm) and the film obtained in Production Example 1 (average thickness 25 μm) were superposed and bonded with a heat roll heated to 210 ° C. under a load of 13 kN, and subsequently heated to 250 ° C. The resulting laminate was heated for 0.5 minutes to obtain a laminate.

(実施例7)
カプトン50H(平均厚さ12.5μm)及び製造例1で得られたフィルム(平均厚さ50μm)を重ね合わせ、200℃に加熱した熱ロールで荷重10kNを掛けて貼り合わせ、積層体をロール状に巻きとった後に210℃に加熱されたオーブンで60分間加熱し、積層体を得た。
(Example 7)
Kapton 50H (average thickness 12.5 μm) and the film obtained in Production Example 1 (average thickness 50 μm) were superposed and bonded with a hot roll heated to 200 ° C. with a load of 10 kN, and the laminate was rolled. After being wound, the laminate was heated in an oven heated to 210 ° C. for 60 minutes to obtain a laminate.

(実施例8)
カプトン50EN(平均厚さ12.5μm)及び製造例1で得られたフィルム(平均厚さ25μm)を重ね合わせ、180℃に加熱した熱ロールで荷重5kNを掛けて貼り合わせ、積層体をロール状に巻きとった後に270℃に加熱されたオーブンで40分間加熱し、積層体を得た。
(Example 8)
Kapton 50EN (average thickness of 12.5 μm) and the film obtained in Production Example 1 (average thickness of 25 μm) were superposed and bonded with a heat roll heated to 180 ° C. under a load of 5 kN, and the laminate was rolled. After being wound on, it was heated in an oven heated to 270 ° C. for 40 minutes to obtain a laminate.

(比較例1)
カプトン50EN−S(平均厚さ12.5μm)及び製造例1で得られたフィルム(平均厚さ25μm)を重ね合わせ、200℃に加熱した熱ロールで荷重10kNを掛けて貼り合わせ、積層体を得た。
(Comparative Example 1)
Kapton 50EN-S (average thickness 12.5 μm) and the film obtained in Production Example 1 (average thickness 25 μm) were superposed and bonded with a heat roll heated to 200 ° C. under a load of 10 kN, and the laminate was laminated. Obtained.

(比較例2)
カプトン100KJ(平均厚さ25μm)及び製造例1で得られたフィルム(平均厚さ50μm)を重ね合わせ、200℃に加熱した熱ロールで荷重10kNを掛けて貼り合わせ、引き続き連続的に175℃に加熱されたロールに0.5分間接触させ、積層体を得た。
(Comparative Example 2)
Kapton 100KJ (average thickness 25 μm) and the film obtained in Production Example 1 (average thickness 50 μm) were superposed and bonded with a heat roll heated to 200 ° C. under a load of 10 kN, and then continuously increased to 175 ° C. The laminated body was obtained by contacting the heated roll for 0.5 minutes.

(比較例3)
カプトン50EN−S(平均厚さ12.5μm)及び製造例1で得られたフィルム(平均厚さ25μm)を重ね合わせ、200℃に加熱した熱ロールで荷重10kNを掛けて貼り合わせ、積層体をロール状に巻き取った後に80℃に加熱されたオーブンで10分間加熱し積層体を得た。
(Comparative Example 3)
Kapton 50EN-S (average thickness 12.5 μm) and the film obtained in Production Example 1 (average thickness 25 μm) were superposed and bonded with a heat roll heated to 200 ° C. under a load of 10 kN, and the laminate was laminated. After being wound into a roll, it was heated in an oven heated to 80 ° C. for 10 minutes to obtain a laminate.

実施例1〜8及び比較例1〜3で得られた積層体の接着強度の結果を表2に示す。   Table 2 shows the results of the adhesive strength of the laminates obtained in Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 3.

実施例1〜8の積層体は、いずれも接着強度が0.7N/cm以上と高かったのに対し、比較例1〜3の積層体は0.1N/cm以下と低いものとなった。
また、実施例1〜8の積層体は、いずれも270℃以下という低い温度でのアニール処理によって製造することができた。
The laminates of Examples 1 to 8 all had a high adhesive strength of 0.7 N / cm or higher, whereas the laminates of Comparative Examples 1 to 3 were as low as 0.1 N / cm or less.
Moreover, all the laminated bodies of Examples 1-8 were able to be manufactured by the annealing process at the low temperature of 270 degrees C or less.

本発明の積層体は、ポリイミドフィルムとフッ素樹脂の接着性に優れた長尺状積層体であるため、FFCやFPC等の基材として好適である。
また、本発明の製造方法では、ポリイミドフィルムとフッ素樹脂の貼り合わせを従来よりも低温で行うことができるため、工業的に有利にポリイミドフィルムとフッ素樹脂の長尺状積層体を製造することができる。
Since the laminated body of this invention is a long laminated body excellent in the adhesiveness of a polyimide film and a fluororesin, it is suitable as base materials, such as FFC and FPC.
Moreover, in the manufacturing method of this invention, since a polyimide film and a fluororesin can be bonded together at low temperature than before, it is possible to manufacture a long laminate of a polyimide film and a fluororesin in an industrially advantageous manner. it can.

1.ポリイミドフィルム
2.フッ素樹脂
3.微粘着性ペットフィルム
4.ポリイミドフィルム(35μm以上)
21.熱ロール
22.加熱したロール
23.オーブン
31.積層体
1. Polyimide film Fluorine resin 3. Light-adhesive pet film Polyimide film (35μm or more)
21. Heat roll 22. Heated roll 23. Oven 31. Laminate

Claims (15)

パラフェニレンジアミン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル及び3,4’−ジアミノジフェニルエーテルからなる群から選ばれる1以上の芳香族ジアミン成分と、4,4’−オキシジフタル酸無水物、ピロメリット酸二無水物及び3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物からなる群から選ばれる1以上の芳香族酸無水物成分とを使用して製造されるポリイミドフィルムとフッ素樹脂を貼り合わせてなる積層体であって、ポリイミドフィルムとフッ素樹脂の接着強度が0.2N/cm以上であることを特徴とする、長尺状積層体。   One or more aromatic diamine components selected from the group consisting of paraphenylenediamine, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 4,4′-diaminodiphenyl ether and 3,4′-diaminodiphenyl ether; One or more aromatic acid anhydride components selected from the group consisting of '-oxydiphthalic anhydride, pyromellitic dianhydride and 3,3', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride are used. A long laminate obtained by laminating a polyimide film and a fluororesin produced together, wherein the adhesive strength between the polyimide film and the fluororesin is 0.2 N / cm or more. ポリイミドフィルムとフッ素樹脂の接着強度が0.5N/cm以上であることを特徴とする請求項1に記載の積層体。   The laminate according to claim 1, wherein the adhesive strength between the polyimide film and the fluororesin is 0.5 N / cm or more. 請求項1又は2に記載の積層体であって、積層体を構成するポリイミドフィルムの平均厚さが2.5〜175μm、フッ素樹脂の平均厚さが12.5〜100μmであることを特徴とする積層体。   It is a laminated body of Claim 1 or 2, Comprising: The average thickness of the polyimide film which comprises a laminated body is 2.5-175 micrometers, The average thickness of a fluororesin is 12.5-100 micrometers, It is characterized by the above-mentioned. Laminated body. フッ素樹脂が、融点が200℃以下ものであることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の積層体。   The laminate according to any one of claims 1 to 3, wherein the fluororesin has a melting point of 200 ° C or lower. フッ素樹脂が、含フッ素エチレン性重合体であり、該含フッ素エチレン性重合体はカルボニル基を含有することを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の積層体。   The laminate according to any one of claims 1 to 4, wherein the fluororesin is a fluorinated ethylenic polymer, and the fluorinated ethylenic polymer contains a carbonyl group. 含フッ素エチレン性重合体のカルボニル基の含有量が、主鎖炭素数1×10個に対して合計3〜1000個であることを特徴とする請求項5に記載の積層体。 The laminate according to claim 5, wherein the content of carbonyl groups in the fluorine-containing ethylenic polymer is 3 to 1000 in total with respect to 1 × 10 6 main chain carbon atoms. フッ素樹脂が、カーボネート基、カルボン酸ハライド基及びカルボン酸基からなる群から選択される少なくとも1種を、主鎖炭素数1×10個に対して合計3〜1000個有する含フッ素エチレン性重合体からなることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の積層体。 The fluorine-containing ethylenic heavy polymer having at least one selected from the group consisting of a carbonate group, a carboxylic acid halide group and a carboxylic acid group with a total of 3 to 1000 carbon atoms per 1 × 10 6 main chain carbon atoms. The laminate according to any one of claims 1 to 4, wherein the laminate is a combination. フッ素樹脂が、テトラフルオロエチレン、フッ化ビニリデン、クロロトリフルオロエチレン、フッ化ビニル、ヘキサフルオロプロピレン、ヘキサフルオロイソブテン、下記式(X):
CH=CR(CF (X)
(式中、RはH又はFを表し、RはH、F又はClを表し、nは1〜10の正の整数を表す。)
で表される単量体及び炭素数2〜10のパーフルオロ(アルキルビニルエーテル)類からなる群から選ばれる1種以上の含フッ素エチレン性単量体、又は前記含フッ素エチレン性単量体と炭素数5以下のエチレン性単量体とを重合してなる含フッ素エチレン性重合体であることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の積層体。
The fluororesin is tetrafluoroethylene, vinylidene fluoride, chlorotrifluoroethylene, vinyl fluoride, hexafluoropropylene, hexafluoroisobutene, the following formula (X):
CH 2 = CR 1 (CF 2 ) n R 2 (X)
(In the formula, R 1 represents H or F, R 2 represents H, F or Cl, and n represents a positive integer of 1 to 10.)
1 or more types of fluorine-containing ethylenic monomers selected from the group consisting of monomers represented by formula (2) and perfluoro (alkyl vinyl ethers) having 2 to 10 carbon atoms, or the fluorine-containing ethylenic monomers and carbon The laminate according to any one of claims 1 to 4, which is a fluorine-containing ethylenic polymer obtained by polymerizing an ethylenic monomer having a number of 5 or less.
フッ素樹脂が、少なくとも下記(a)、(b)及び(c)を重合してなる共重合体である請求項1〜4のいずれか1項に記載の積層体。
(a)テトラフルオロエチレン20〜90モル%
(b)エチレン10〜80モル%
(c)式CF=CFR (Y)
(式中、RはCF又はORを表し、Rは炭素数1〜5のパーフルオロアルキル基を表す。)
で表される化合物1〜70モル%
The laminate according to any one of claims 1 to 4, wherein the fluororesin is a copolymer obtained by polymerizing at least the following (a), (b) and (c).
(A) Tetrafluoroethylene 20-90 mol%
(B) 10-80 mol% ethylene
(C) Formula CF 2 = CFR 3 (Y)
(In the formula, R 3 represents CF 3 or OR 4 , and R 4 represents a perfluoroalkyl group having 1 to 5 carbon atoms.)
1 to 70 mol% of a compound represented by
パラフェニレンジアミン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル及び3,4’−ジアミノジフェニルエーテルからなる群から選ばれる1以上の芳香族ジアミン成分と、4,4’−オキシジフタル酸無水物、ピロメリット酸二無水物及び3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物からなる群から選ばれる1以上の芳香族酸無水物成分とを使用して製造されるポリイミドフィルムとフッ素樹脂を、150〜230℃に加熱したロールで1〜15kNの荷重を掛けて貼り合わせて積層体とし、貼り合わせた後に積層体をフッ素樹脂の融点以上の温度でアニール処理に付することを特徴とする、長尺状積層体の製造方法。   One or more aromatic diamine components selected from the group consisting of paraphenylenediamine, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 4,4′-diaminodiphenyl ether and 3,4′-diaminodiphenyl ether; One or more aromatic acid anhydride components selected from the group consisting of '-oxydiphthalic anhydride, pyromellitic dianhydride and 3,3', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride are used. The polyimide film and the fluororesin produced in this manner are laminated by applying a load of 1 to 15 kN with a roll heated to 150 to 230 ° C., and after laminating, the laminate is heated at a temperature equal to or higher than the melting point of the fluororesin. A method for producing a long laminate, which is subjected to an annealing treatment. アニール処理が、貼り合わせ直後の積層体を、引き続き200〜290℃に加熱されたロールに接触させることによって行われることを特徴とする請求項10に記載の製造方法。   The manufacturing method according to claim 10, wherein the annealing treatment is performed by bringing the laminate immediately after bonding into contact with a roll heated to 200 to 290 ° C. アニール処理が、貼り合わせ直後の積層体を、引き続き200〜290℃に加熱されたオーブンで加熱することによって行われることを特徴とする請求項10に記載の製造方法。   The manufacturing method according to claim 10, wherein the annealing treatment is performed by continuously heating the laminated body immediately after bonding in an oven heated to 200 to 290 ° C. パラフェニレンジアミン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル及び3,4’−ジアミノジフェニルエーテルからなる群から選ばれる1以上の芳香族ジアミン成分と、4,4’−オキシジフタル酸無水物、ピロメリット酸二無水物及び3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物からなる群から選ばれる1以上の芳香族酸無水物成分とを使用して製造されるポリイミドフィルムとフッ素樹脂を、150〜230℃に加熱したロールで1〜15kNの荷重を掛けて貼り合わせて積層体とし、貼り合わせた積層体をロール状に巻きとった後に150〜290℃に加熱されたオーブンで加熱することを特徴とする、長尺状積層体の製造方法。   One or more aromatic diamine components selected from the group consisting of paraphenylenediamine, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 4,4′-diaminodiphenyl ether and 3,4′-diaminodiphenyl ether; One or more aromatic acid anhydride components selected from the group consisting of '-oxydiphthalic anhydride, pyromellitic dianhydride and 3,3', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride are used. The polyimide film and the fluororesin produced in the above are laminated by applying a load of 1 to 15 kN with a roll heated to 150 to 230 ° C., and the laminated body is wound into a roll and then 150 to A method for producing a long laminate, comprising heating in an oven heated to 290 ° C. 請求項1〜9のいずれか1項に記載の積層体を用いることを特徴とするFPC(フレキシブルプリント基板)。   An FPC (flexible printed circuit board) using the laminate according to any one of claims 1 to 9. 請求項1〜9のいずれか1項に記載の積層体を用いることを特徴とするFFC(フレキシブルフラットケーブル)。   An FFC (flexible flat cable) using the laminate according to any one of claims 1 to 9.
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