KR20190110970A - Laminate - Google Patents

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KR20190110970A
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마사요시 가라사와
가즈키 다이마츠
히토시 후쿠이
아키코 기시다
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스미또모 가가꾸 가부시키가이샤
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Abstract

The purpose of the present invention is to provide a laminate including a transparent resin film based on a polyimide-based polymer, which is less likely to be whitened on the film surface and has a good appearance and visibility. The laminate comprises: a transparent resin film comprising at least one selected from the group consisting of polyimide, polyamide, and polyamideimide and one or more solvents, and produced using the one or more solvents by a casting method; and a protective film bonded to the surface of at least one side of the transparent resin film, wherein a boiling point of a solvent having the highest boiling point among the one or more solvents is 120 to 300°C. In addition, a residual solvent amount (S) (mass%) of the transparent resin film calculated as a mass reduction rate from 120 to 250°C by thermogravimetric-differential thermal measurement and a low molecular component amount (W) (%) defined as a ratio of an area where log M for the total area of a chart obtained by measuring by a gel permeation chromatography of the protective film at a measurement temperature of 140°C is from 2.82 to 3.32 satisfy a relational expression (1) S × W <= 4.7 (1), wherein W is less than or equal to 0.33.

Description

적층체{LAMINATE}Laminates {LAMINATE}

본 발명은, 적층체에 관한 것이다.The present invention relates to a laminate.

최근, 각종 화상표시장치의 디스플레이의 박형화, 경량화 및 플렉시블화 등에 수반하여, 종래 이용되고 있었던 글라스를 대신하는 재료로서, 폴리이미드나 폴리아미드 등의 고분자에 근거하는 투명 수지 필름이 널리 이용되고 있다. 이러한 투명 수지 필름의 제조방법의 하나로서 캐스트법(용액 유연(流涎)법)이 알려져 있다. 캐스트법에서는, 일반적으로, 용매에 용해시킨 폴리이미드 등의 고분자를 포함하는 바니시(varnish)를 지지 기재 상에 도포하여 제막(製膜)하고, 지지 기재로부터 박리한 후, 건조에 의해 용매를 제거함으로써, 수지 필름을 연속적으로 성형할 수 있다. 제막된 투명 수지 필름의 표면에는, 적절히, 박리가능한 보호 필름이 적층되며, 필름 표면의 보호가 도모되고 있다(특허문헌 1∼3).Background Art In recent years, transparent resin films based on polymers such as polyimide and polyamide have been widely used as materials to replace glass, which has been conventionally used with thinning, lightening and flexible display of various image display apparatuses. The casting method (solution casting method) is known as one of the manufacturing methods of such a transparent resin film. In the cast method, a varnish containing a polymer such as polyimide dissolved in a solvent is generally applied onto a supporting substrate to form a film, and then peeled from the supporting substrate, and then the solvent is removed by drying. Thereby, a resin film can be shape | molded continuously. The peelable protective film is laminated | stacked suitably on the surface of the transparent resin film formed into a film, and protection of the film surface is aimed at (patent documents 1-3).

일본국 공개특허 특개2010-208312호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 2010-208312 일본국 공개특허 특개2015-214122호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 2015-214122 일본국 공개특허 특개2016-87799호 공보Japanese Patent Laid-Open No. 2016-87799

수지 필름 중에 용매가 존재하고 있을 경우, 보호 필름에 포함되는 첨가제 등의 성분이 수지 필름에 포함되는 용매로 용출되는 경우가 있으며, 용출된 성분에 의해, 보호 필름이 첩합(貼合)된 수지 필름의 표면이 백화되는 경우가 있다. 특히, 캐스트법 등에 의해 용매를 이용하여 제조되는 투명 수지 필름에서는, 연속적인 생산에 있어서, 바니시 중의 용매를 완전하게 제거하는 것은 어려우며, 어느 정도의 양의 용매가 잔존하고 있는 경우가 많아, 보호 필름과 첩합하였을 때에 백화가 생기기 쉽다. 이러한 투명 수지 필름에 있어서의 백화는, 높은 투명성이 요구되는 투명 수지 필름에 있어서 외관적인 결함이 될 뿐만 아니라, 각종 화상표시장치 등의 디스플레이에 이용할 경우에는 시인성을 악화시키는 원인이 된다.When a solvent exists in a resin film, components, such as an additive contained in a protective film, may elute with the solvent contained in a resin film, and the resin film with which the protective film was bonded by the eluted component. The surface of may whiten. In particular, in the transparent resin film manufactured by using a solvent by the casting method or the like, in the continuous production, it is difficult to completely remove the solvent in the varnish, and a certain amount of the solvent is often left. It is easy to produce whitening when bonded together. The whitening in such a transparent resin film is not only an external defect in a transparent resin film requiring high transparency, but also causes deterioration of visibility when used for displays such as various image display devices.

그래서, 본 발명은, 필름 표면의 백화가 생기기 어려우며, 양호한 외관 및 시인성을 가지는 폴리이미드계 고분자에 근거하는 투명 수지 필름을 포함하는 적층체를 제공하는 것을 목적으로 한다.Then, an object of this invention is to provide the laminated body which consists of a transparent resin film based on the polyimide type polymer which is hard to produce whitening of the film surface, and has favorable external appearance and visibility.

본 발명자 등은, 상기 과제를 해결하기 위해서 예의 검토한 결과, 본 발명을 완성하는 것에 이르렀다. 즉, 본 발명은, 이하의 바람직한 양태를 제공하는 것이다.MEANS TO SOLVE THE PROBLEM This inventor came to complete this invention, as a result of earnestly examining in order to solve the said subject. That is, this invention provides the following preferable aspects.

[1] 폴리이미드, 폴리아미드 및 폴리아미드이미드로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종 및 1종 이상의 용매를 포함하여 이루어지며, 캐스트법에 의해 상기 1종 이상의 용매를 이용하여 제조되는 투명 수지 필름과, 상기 투명 수지 필름의 적어도 일방의 면에 첩합된 보호 필름을 포함하여 이루어지는 적층체에 있어서,[1] a transparent resin film comprising at least one solvent selected from the group consisting of polyimide, polyamide, and polyamideimide, and at least one solvent; In the laminated body which consists of a protective film bonded to at least one surface of the said transparent resin film,

상기 1종 이상의 용매 중에서 가장 비점이 높은 용매의 비점이 120∼300℃이며,The boiling point of the solvent with the highest boiling point among the said 1 or more types of solvents is 120-300 degreeC,

열중량-시차열(TD-DTA) 측정에 의한 120℃로부터 250℃에 있어서의 질량 감소율로서 산출되는, 상기 투명 수지 필름의 잔류 용매량(S)(질량%)과, 상기 보호 필름의, 측정 온도 140℃에 있어서의 겔 침투 크로마토그래피에 의해 측정하여 얻어지는 차트의 전면적에 대한 Log M이 2.82로부터 3.32까지의 면적의 비율로서 정의되는 저분자 성분량(W)(%)이, 관계식 (1): Measurement of residual solvent amount (S) (mass%) of the said transparent resin film and the said protective film which are computed as a mass reduction rate in 120 degreeC from 250 degreeC by thermogravimetry-differential heat (TD-DTA) measurement The amount of low molecular weight component (W) (%) defined as a ratio of the area from 2.82 to 3.32 for the log area of the chart obtained by measurement by gel permeation chromatography at a temperature of 140 ° C is represented by the relation (1):

S×W≤4.7 (1)S × W≤4.7 (One)

을 만족시키고,To satisfy

W가 0.33 이하인, 적층체.The laminated body whose W is 0.33 or less.

[2] S와 W가 관계식 (1'):[2] S and W are relations (1 '):

0.005≤S×W (1')0.005≤S × W (One')

을 만족시키는, 상기 [1]에 기재된 적층체.The laminated body as described in said [1] which satisfy | fills.

[3] 투명 수지 필름의 헤이즈가 1.0% 이하인, 상기 [1] 또는 [2]에 기재된 적층체.[3] The laminate according to the above [1] or [2], wherein the haze of the transparent resin film is 1.0% or less.

[4] 투명 수지 필름의 전광선 투과율이 85% 이상인, 상기 [1]~[3]의 어느 하나에 기재된 적층체.[4] The laminate according to any one of [1] to [3], wherein a total light transmittance of the transparent resin film is 85% or more.

[5] 투명 수지 필름이, N,N-디메틸아세트아미드, γ-부티로락톤, N-메틸피롤리돈, 시클로펜타논, 아세트산 부틸 및 아세트산 아밀로 이루어지는 군에서 선택되는 용매를 적어도 1개 포함하는, 상기 [1]~[4]의 어느 하나에 기재된 적층체.[5] The transparent resin film contains at least one solvent selected from the group consisting of N, N-dimethylacetamide, γ-butyrolactone, N-methylpyrrolidone, cyclopentanone, butyl acetate and amyl acetate The laminated body in any one of said [1]-[4] said.

[6] 보호 필름이, 폴리올레핀계 수지 필름인, 상기 [1]~[5]의 어느 하나에 기재된 적층체.[6] The laminate according to any one of the above [1] to [5], wherein the protective film is a polyolefin resin film.

본 발명에 의하면, 필름 표면의 백화가 생기기 어려우며, 양호한 외관 및 시인성을 가지는, 폴리이미드계 고분자에 근거하는 투명 수지 필름을 포함하는 적층체를 제공할 수 있다.Advantageous Effects of Invention The present invention can provide a laminate comprising a transparent resin film based on a polyimide-based polymer that hardly occurs whitening of the film surface and has good appearance and visibility.

도 1은, 실시예 1에서 제조한 투명 폴리이미드계 필름의 TG-DTA 측정 결과를 나타낸다.1 shows the TG-DTA measurement result of the transparent polyimide film produced in Example 1. FIG.

이하, 본 발명의 실시형태에 대해서, 상세하게 설명한다. 또한, 본 발명의 범위는 여기에서 설명하는 실시형태로 한정되는 것이 아니며, 본 발명의 취지를 손상하지 않는 범위에서 다양한 변경을 할 수 있다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, embodiment of this invention is described in detail. In addition, the scope of the present invention is not limited to embodiment described here, A various change can be made in the range which does not impair the meaning of this invention.

본 발명의 적층체는, 투명 수지 필름과, 상기 투명 수지 필름의 적어도 일방의 면에 첩합된 보호 필름을 포함하여 이루어지며, 본 발명의 적층체를 구성하는 투명 수지 필름은, 폴리이미드, 폴리아미드 및 폴리아미드이미드로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 포함하여 이루어지며, 폴리이미드, 폴리아미드 및 폴리아미드이미드로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종을 포함하는 수지조성물로 형성된다.The laminate of the present invention comprises a transparent resin film and a protective film bonded to at least one surface of the transparent resin film, and the transparent resin film constituting the laminate of the present invention is polyimide or polyamide. And at least one selected from the group consisting of polyamide-imide, and formed of a resin composition containing at least one selected from the group consisting of polyimide, polyamide, and polyamideimide.

본 명세서에 있어서, 폴리이미드는, 이미드기를 포함하는 반복 구조 단위를 함유하는 중합체를 나타내고, 폴리아미드이미드는, 이미드기를 포함하는 반복 구조 단위와 아미드기를 포함하는 반복 구조 단위의 양방을 함유하는 중합체를 나타내고, 폴리아미드는, 아미드기를 포함하는 반복 구조 단위를 함유하는 중합체를 나타낸다. 폴리이미드계 고분자는, 폴리이미드 및 폴리아미드이미드로부터 선택되는 어느 하나 이상을 포함하는 중합체를 나타낸다.In this specification, a polyimide represents the polymer containing the repeating structural unit containing an imide group, and polyamideimide contains both the repeating structural unit containing an imide group, and the repeating structural unit containing an amide group. A polymer is shown and a polyamide shows the polymer containing the repeating structural unit containing an amide group. The polyimide polymer refers to a polymer containing any one or more selected from polyimide and polyamideimide.

본 실시형태와 관련되는 폴리이미드계 고분자는, 식 (10)으로 나타내는 반복 구조 단위를 가진다. 여기에서, G는 4가의 유기기를 나타내며, A는 2가의 유기기를 나타낸다. G 및/또는 A는, 다른 2종류 이상의 식 (10)으로 나타내는 반복 구조 단위를 포함하고 있어도 된다. 또한, 본 실시형태와 관련되는 폴리이미드계 고분자는, 얻어지는 투명 수지 필름의 각종 물성을 손상하지 않는 범위에서, 식 (11), 식 (12), 및 식 (13)의 어느 하나로 나타내는 반복 구조 단위의 어느 하나 이상을 포함하고 있어도 된다.The polyimide type polymer which concerns on this embodiment has a repeating structural unit represented by Formula (10). Here, G represents a tetravalent organic group and A represents a divalent organic group. G and / or A may include the repeating structural unit represented by two or more other types of formulas (10). In addition, the repeating structural unit represented by any of Formula (11), Formula (12), and Formula (13) is a polyimide polymer which concerns on this embodiment in the range which does not impair the various physical properties of the transparent resin film obtained. One or more of may be included.

폴리이미드계 고분자의 주요 구조 단위가 식 (10)으로 나타내는 반복 구조 단위이면, 투명 수지 필름의 강도 및 투명성의 관점에서 바람직하다. 본 실시형태와 관련되는 폴리이미드 고분자에 있어서, 식 (10)으로 나타내는 반복 구조 단위는, 폴리이미드계 고분자의 전(全)반복 구조 단위에 대하여, 바람직하게는 40몰% 이상이며, 보다 바람직하게는 50몰% 이상이며, 더 바람직하게는 70몰% 이상이며, 특히 바람직하게는 90몰% 이상이며, 특히 더 바람직하게는 98몰% 이상이다. 식 (10)으로 나타내는 반복 구조 단위는, 100몰%여도 된다.It is preferable from a viewpoint of the strength and transparency of a transparent resin film, if the main structural unit of a polyimide polymer is a repeating structural unit represented by Formula (10). In the polyimide polymer according to the present embodiment, the repeating structural unit represented by the formula (10) is preferably 40 mol% or more with respect to the total repeating structural unit of the polyimide polymer, more preferably Is at least 50 mol%, more preferably at least 70 mol%, particularly preferably at least 90 mol%, even more preferably at least 98 mol%. 100 mol% may be sufficient as the repeating structural unit represented by Formula (10).

[화학식 1][Formula 1]

Figure pat00001
Figure pat00001

G 및 G1은, 각각 독립적으로, 4가의 유기기를 나타내며, 바람직하게는 탄소수 4∼40의 4가의 유기기를 나타낸다. 상기 유기기는, 탄화수소기 또는 불소 치환된 탄화수소기로 치환되어 있어도 되고, 그 경우, 탄화수소기 및 불소 치환된 탄화수소기의 탄소수는 바람직하게는 1∼8이다. G 및 G1로서는, 식 (20), 식 (21), 식 (22), 식 (23), 식 (24), 식 (25), 식 (26), 식 (27), 식 (28) 또는 식 (29)로 나타내는 기 및 4가의 탄소수 6 이하의 쇄식 탄화수소기가 예시된다. 식 중의 *은 결합손을 나타내며, Z는, 단결합, -O-, -CH2-, -CH2-CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -Ar-, -SO2-, -CO-, -O-Ar-O-, -Ar-O-Ar-, -Ar-CH2-Ar-, -Ar-C(CH3)2-Ar- 또는 -Ar-SO2-Ar-을 나타낸다. Ar은 불소 원자로 치환되어 있어도 되는 탄소수 6∼20의 아릴렌기를 나타내며, 구체예로서는 페닐렌기를 들 수 있다. 얻어지는 투명 수지 필름의 황색도를 억제하기 쉬운 점으로부터, G 및 G1로서는, 바람직하게는 식 (20), 식 (21), 식 (22), 식 (23), 식 (24), 식 (25), 식 (26) 또는 식 (27)로 나타내는 기를 들 수 있다.G and G 1 each independently represent a tetravalent organic group, and preferably a tetravalent organic group having 4 to 40 carbon atoms. The said organic group may be substituted by the hydrocarbon group or the fluorine-substituted hydrocarbon group, and in that case, carbon number of a hydrocarbon group and a fluorine-substituted hydrocarbon group becomes like this. Preferably it is 1-8. Examples G and G 1, formula 20, formula 21, formula 22, formula 23, formula 24, formula 25, formula 26, formula 27, formula 28 Or the group represented by Formula (29) and a tetravalent C6 or less chain hydrocarbon group are illustrated. In the formula, * represents a bond, Z represents a single bond, -O-, -CH 2- , -CH 2 -CH 2- , -CH (CH 3 )-, -C (CH 3 ) 2 -,- C (CF 3 ) 2- , -Ar-, -SO 2- , -CO-, -O-Ar-O-, -Ar-O-Ar-, -Ar-CH 2 -Ar-, -Ar-C (CH 3 ) 2 -Ar- or -Ar-SO 2 -Ar-. Ar represents the C6-C20 arylene group which may be substituted by the fluorine atom, and a phenylene group is mentioned as a specific example. As from easy to suppress the yellowness index of the transparent resin film obtained point, G and G 1, and preferably formula (20), Equation 21, Equation 22, Equation 23, Equation 24, Equation ( 25), group represented by Formula (26) or Formula (27) is mentioned.

[화학식 2][Formula 2]

Figure pat00002
Figure pat00002

G2는 3가의 유기기를 나타내며, 바람직하게는 탄소수 4∼40의 3가의 유기기를 나타낸다. 상기 유기기는, 탄화수소기 또는 불소 치환된 탄화수소기로 치환되어 있어도 되고, 그 경우, 탄화수소기 및 불소 치환된 탄화수소기의 탄소수는 바람직하게는 1∼8이다. G2로서는, 식 (20), 식 (21), 식 (22), 식 (23), 식 (24), 식 (25), 식 (26), 식 (27), 식 (28) 또는 식 (29)로 나타내는 기의 결합손의 어느 1개가 수소 원자로 치환된 기 및 3가의 탄소수 6 이하의 쇄식 탄화수소기가 예시된다. 식 중의 Z의 예는, G에 관한 기술(記述)에 있어서의 Z의 예와 같다.G 2 represents a trivalent organic group, and preferably a trivalent organic group having 4 to 40 carbon atoms. The said organic group may be substituted by the hydrocarbon group or the fluorine-substituted hydrocarbon group, and in that case, carbon number of a hydrocarbon group and a fluorine-substituted hydrocarbon group becomes like this. Preferably it is 1-8. Examples of G 2, Equation 20, Equation 21, Equation 22, Equation 23, Equation 24, Equation 25, Equation 26, Equation 27, and Equation 28 or Equation The group by which any one of the bonds of the group represented by (29) was substituted by the hydrogen atom, and a trivalent C6 or less chain hydrocarbon group are illustrated. The example of Z in a formula is the same as the example of Z in the description about G.

G3은 2가의 유기기를 나타내며, 바람직하게는 탄소수 4∼40의 2가의 유기기를 나타낸다. 상기 유기기는, 탄화수소기 또는 불소 치환된 탄화수소기로 치환되어 있어도 되고, 그 경우, 탄화수소기 및 불소 치환된 탄화수소기의 탄소수는 바람직하게는 1∼8이다. G3으로서는, 식 (20), 식 (21), 식 (22), 식 (23), 식 (24), 식 (25), 식 (26), 식 (27), 식 (28) 또는 식 (29)로 나타내는 기의 결합손 중, 인접하지 않는 2개가 수소 원자로 치환된 기 및 탄소수 6 이하의 2가의 쇄식 탄화수소기가 예시된다. 식 중의 Z의 예는, G에 관한 기술에 있어서의 Z의 예와 같다.G 3 represents a divalent organic group, and preferably a divalent organic group having 4 to 40 carbon atoms. The said organic group may be substituted by the hydrocarbon group or the fluorine-substituted hydrocarbon group, and in that case, carbon number of a hydrocarbon group and a fluorine-substituted hydrocarbon group becomes like this. Preferably it is 1-8. Examples of G 3, formula 20, formula 21, formula 22, formula 23, formula 24, formula 25, formula 26, formula 27, formula 28 or formula Among the bonds of the group represented by (29), a group in which two non-adjacent groups are substituted with a hydrogen atom and a divalent chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms are exemplified. The example of Z in a formula is the same as the example of Z in the technique regarding G.

A, A1, A2 및 A3은 모두 2가의 유기기를 나타내며, 바람직하게는 탄소수 4∼40의 2가의 유기기를 나타낸다. 상기 유기기는, 탄화수소기 또는 불소 치환된 탄소수 1∼8의 탄화수소기로 치환되어 있어도 되고, 그 경우, 탄화수소기 및 불소 치환된 탄화수소기의 탄소수는 바람직하게는 1∼8이다. A, A1, A2 및 A3으로서는, 각각 식 (30), 식 (31), 식 (32), 식 (33), 식 (34), 식 (35), 식 (36), 식 (37) 또는 식 (38)로 나타내는 기; 이들이 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기의 1종류 이상으로 치환된 기; 및 탄소수 6 이하의 쇄식 탄화수소기가 예시된다.A, A 1 , A 2 and A 3 all represent a divalent organic group, and preferably a divalent organic group having 4 to 40 carbon atoms. The organic group may be substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group having 1 to 8 carbon atoms, and in that case, the carbon number of the hydrocarbon group and the fluorine-substituted hydrocarbon group is preferably 1 to 8 groups. As A, A 1 , A 2, and A 3 , formulas (30), (31), (32), (33), (34), (35), (36), and (3) 37) or a group represented by formula (38); Groups in which these are substituted with at least one of methyl, fluoro, chloro or trifluoromethyl groups; And a chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms.

식 중의 *은 결합손을 나타내며, Z1, Z2 및 Z3은, 각각 독립하여, 단결합, -O-, -CH2-, -CH2-CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -S-, -SO2-, -CO- 또는 -NR2를 나타낸다. 여기에서, R2는 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되는 탄소수 1∼12의 탄화수소기를 나타낸다. Z1과 Z2, 및, Z2와 Z3은, 각각, 각 환에 대하여 메타 위치 또는 파라 위치에 위치하는 것이 바람직하다.* In the formula represents a bond, Z 1 , Z 2 and Z 3 are each independently a single bond, -O-, -CH 2- , -CH 2 -CH 2- , -CH (CH 3 )- , -C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2- , -S-, -SO 2- , -CO- or -NR 2 . Here, R <2> represents the C1-C12 hydrocarbon group which may be substituted by the halogen atom. It is preferable that Z <1> and Z <2> and Z <2> and Z <3> are located in meta position or para position with respect to each ring, respectively.

[화학식 3][Formula 3]

Figure pat00003
Figure pat00003

본 발명에 있어서, 투명 수지 필름을 형성하는 수지조성물은, 폴리아미드를 포함하고 있어도 된다. 본 실시형태와 관련되는 폴리아미드는, 식 (13)으로 나타내는 반복 구조 단위를 주로 하는 중합체이다. 폴리아미드에 있어서의 G3 및 A3의 바람직한 예 및 구체예는, 폴리이미드계 고분자에 있어서의 G3 및 A3의 바람직한 예 및 구체예와 같다. 상기 폴리아미드는, G3 및/또는 A3가 다른 2종류 이상의 식 (13)으로 나타내는 반복 구조 단위를 포함하고 있어도 된다.In this invention, the resin composition which forms a transparent resin film may contain polyamide. The polyamide which concerns on this embodiment is a polymer which mainly uses the repeating structural unit represented by Formula (13). Preferred and specific examples of G 3 and A 3 in the polyamide is equal to the preferred embodiments and specific examples of G 3 and A 3 in the polyimide-based polymer. The polyamide may include a repeating structural unit represented by two or more formulas (13) in which G 3 and / or A 3 are different.

폴리이미드계 고분자는, 예를 들면, 디아민과 테트라카르본산 화합물(테트라카르본산 2무수물 등)의 중축합에 의해 얻을 수 있으며, 예를 들면, 일본국 공개특허 특개2006-199945호 공보 또는 일본국 공개특허 특개2008-163107호 공보에 기재되어 있는 방법에 따라서 합성할 수 있다. 폴리이미드의 시판품으로서는, 미쓰비시가스화학(주)제 네오푸림(Neopulim)(등록 상표), 카와무라산업(주)제 KPI-MX300F 등을 들 수 있다.The polyimide polymer can be obtained, for example, by polycondensation of a diamine and a tetracarboxylic acid compound (tetracarboxylic acid dianhydride, etc.), for example, JP-A-2006-199945 or JP It can synthesize | combine according to the method described in Unexamined-Japanese-Patent No. 2008-163107. Examples of commercially available products of the polyimide include Neopulim (registered trademark) manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd. and KPI-MX300F manufactured by Kawamura Industries Co., Ltd.

폴리이미드계 고분자의 합성에 이용되는 테트라카르본산 화합물로서는, 방향족 테트라카르본산 및 그 무수물, 바람직하게는 그 2무수물 등의 방향족 테트라카르본산 화합물; 및 지방족 테트라카르본산 및 그 무수물, 바람직하게는 그 2무수물 등의 지방족 테트라카르본산 화합물 등을 들 수 있다. 테트라카르본산 화합물은, 무수물 외, 테트라카르본산 클로라이드 화합물 등의 테트라카르본산 화합물 유도체여도 되고, 이들은 단독 또는 2종 이상을 조합시켜서 사용할 수 있다.As tetracarboxylic acid compound used for the synthesis | combination of a polyimide type polymer, Aromatic tetracarboxylic acid and its anhydride, Preferably, aromatic tetracarboxylic acid compounds, such as the dianhydride; And aliphatic tetracarboxylic acids and anhydrides thereof, and preferably aliphatic tetracarboxylic acid compounds such as their anhydrides. The tetracarboxylic acid compound may be a tetracarboxylic acid compound derivative such as a tetracarboxylic acid chloride compound in addition to the anhydride, and these may be used alone or in combination of two or more thereof.

방향족 테트라카르본산 2무수물의 구체예로서는, 비축합 다환식의 방향족 테트라카르본산 2무수물, 단환식의 방향족 테트라카르본산 2무수물 및 축합 다환식의 방향족 테트라카르본산 2무수물을 들 수 있다. 비축합 다환식의 방향족 테트라카르본산 2무수물로서는, 4,4'-옥시디프탈산 2무수물, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르본산 2무수물, 2,2',3,3'-벤조페논테트라카르본산 2무수물, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르본산 2무수물, 2,2',3,3'-비페닐테트라카르본산 2무수물, 3,3',4,4'-디페닐술폰테트라카르본산 2무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)프로판 2무수물, 2,2-비스(2,3-디카르복시페닐)프로판 2무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페녹시페닐)프로판 2무수물, 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 2무수물(6FDA라고 기재하는 경우가 있다), 1,2-비스(2,3-디카르복시페닐)에탄 2무수물, 1,1-비스(2,3-디카르복시페닐)에탄 2무수물, 1,2-비스(3,4-디카르복시페닐)에탄 2무수물, 1,1-비스(3,4-디카르복시페닐)에탄 2무수물, 비스(3,4-디카르복시페닐)메탄 2무수물, 비스(2,3-디카르복시페닐)메탄 2무수물, 4,4'-(p-페닐렌디옥시)디프탈산 2무수물, 4,4'-(m-페닐렌디옥시)디프탈산 2무수물을 들 수 있다. 또한, 단환식의 방향족 테트라카르본산 2무수물로서는, 1,2,4,5-벤젠테트라카르본산 2무수물이, 축합 다환식의 방향족 테트라카르본산 2무수물로서는, 2,3,6,7-나프탈렌테트라카르본산 2무수물을 들 수 있다.As a specific example of aromatic tetracarboxylic dianhydride, non-condensed polycyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride, monocyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride, and condensed polycyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride are mentioned. As a non-condensed polycyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride, 4,4'- oxydiphthalic acid dianhydride, 3,3 ', 4,4'- benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 2,2', 3,3 '-Benzophenonetetracarboxylic acid dianhydride, 3,3', 4,4'-biphenyltetracarboxylic acid dianhydride, 2,2 ', 3,3'-biphenyltetracarboxylic acid dianhydride, 3,3' , 4,4'-diphenylsulfontetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) propane dianhydride 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenoxyphenyl) propane dianhydride, 4,4 '-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic dianhydride (may be described as 6FDA), 1, 2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,1-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) ethane 2 Anhydride, 1,1-bis (3,4-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl) meth Carbon dianhydride, 4,4 '-(p-phenylenedioxy) diphthalic acid dianhydride, and 4,4'-(m-phenylenedioxy) diphthalic acid dianhydride. As monocyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride, 1,2,4,5-benzenetetracarboxylic dianhydride is a condensed polycyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride as 2,3,6,7-naphthalene. Tetracarboxylic dianhydride is mentioned.

이들 중에서도, 바람직하게는 4,4'-옥시디프탈산 2무수물, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르본산 2무수물, 2,2',3,3'-벤조페논테트라카르본산 2무수물, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르본산 2무수물, 2,2',3,3'-비페닐테트라카르본산 2무수물, 3,3',4,4'-디페닐술폰테트라카르본산 2무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)프로판 2무수물, 2,2-비스(2,3-디카르복시페닐)프로판 2무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페녹시페닐)프로판 2무수물, 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 2무수물(6FDA), 1,2-비스(2,3-디카르복시페닐)에탄 2무수물, 1,1-비스(2,3-디카르복시페닐)에탄 2무수물, 1,2-비스(3,4-디카르복시페닐)에탄 2무수물, 1,1-비스(3,4-디카르복시페닐)에탄 2무수물, 비스(3,4-디카르복시페닐)메탄 2무수물, 비스(2,3-디카르복시페닐)메탄 2무수물, 4,4'-(p-페닐렌디옥시)디프탈산 2무수물 및 4,4'-(m-페닐렌디옥시)디프탈산 2무수물을 들 수 있으며, 보다 바람직하게는 4,4'-옥시디프탈산 2무수물, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르본산 2무수물, 2,2',3,3'-비페닐테트라카르본산 2무수물, 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 2무수물(6FDA), 비스(3,4-디카르복시페닐)메탄 2무수물 및 4,4'-(p-페닐렌디옥시)디프탈산 2무수물을 들 수 있다. 이들은 단독 또는 2종 이상을 조합시켜서 사용할 수 있다.Among these, 4,4'- oxydiphthalic acid dianhydride, 3,3 ', 4,4'- benzophenone tetracarboxylic acid dianhydride, 2,2', 3,3'- benzophenone tetracarboxylic acid Dianhydride, 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic acid dianhydride, 2,2', 3,3'-biphenyltetracarboxylic acid dianhydride, 3,3 ', 4,4'-di Phenylsulfontetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2-bis ( 3,4-dicarboxyphenoxyphenyl) propane dianhydride, 4,4 '-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic dianhydride (6FDA), 1,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane Dianhydride, 1,1-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,1-bis (3,4-di Carboxyphenyl) ethane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, 4,4 '-(p-phenylenedioxy) diphthalic acid 2 Anhydride and 4 And 4,4 '-(m-phenylenedioxy) diphthalic dianhydride, and more preferably 4,4'-oxydiphthalic dianhydride, 3,3', 4,4'-biphenyltetracarboxylic acid. Dianhydride, 2,2 ', 3,3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 4,4'-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic dianhydride (6FDA), bis (3,4-dicarboxyl And phenyl) methane dianhydride and 4,4 '-(p-phenylenedioxy) diphthalic acid dianhydride. These can be used individually or in combination of 2 or more types.

지방족 테트라카르본산 2무수물로서는, 환식 또는 비환식의 지방족 테트라카르본산 2무수물을 들 수 있다. 환식 지방족 테트라카르본산 2무수물이란, 지환식 탄화수소 구조를 가지는 테트라카르본산 2무수물로서, 그 구체예로서는, 1,2,4,5-시클로헥산테트라카르본산 2무수물, 1,2,3,4-시클로부탄테트라카르본산 2무수물, 1,2,3,4-시클로펜탄테트라카르본산 2무수물 등의 시클로알칸테트라카르본산 2무수물, 비시클로[2.2.2]옥트-7-엔-2,3,5,6-테트라카르본산 2무수물, 디시클로헥실3,3',4,4'-테트라카르본산 2무수물 및 이들의 위치 이성체를 들 수 있다. 이들은 단독 또는 2종 이상을 조합시켜서 사용할 수 있다. 비환식 지방족 테트라카르본산 2무수물의 구체예로서는, 1,2,3,4-부탄테트라카르본산 2무수물, 1,2,3,4-펜탄테트라카르본산 2무수물 등을 들 수 있으며, 이들은 단독 또는 2종 이상을 조합시켜서 사용할 수 있다. 또한, 환식 지방족 테트라카르본산 2무수물 및 비환식 지방족 테트라카르본산 2무수물을 조합시켜서 사용해도 된다.As aliphatic tetracarboxylic dianhydride, a cyclic or acyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride is mentioned. A cyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride is tetracarboxylic dianhydride which has an alicyclic hydrocarbon structure, As an example, 1,2,4,5-cyclohexane tetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4- Cycloalkanetetracarboxylic dianhydride, such as cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic dianhydride, bicyclo [2.2.2] oct-7-ene-2,3, And 5,6-tetracarboxylic dianhydride, dicyclohexyl 3,3 ', 4,4'-tetracarboxylic dianhydride and positional isomers thereof. These can be used individually or in combination of 2 or more types. Specific examples of the acyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride include 1,2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-pentanetetracarboxylic dianhydride, and the like. It can be used in combination of 2 or more type. Moreover, you may use combining cyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride and acyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride.

테트라카르본산 화합물 중에서도, 투명 수지 필름의 탄성률, 내굴곡성, 및 광학 특성을 향상하기 쉬운 관점에서, 바람직하게는 상기 지환식 테트라카르본산 2무수물 또는 비축합 다환식의 방향족 테트라카르본산 2무수물을 들 수 있다. 보다 바람직한 구체예로서는, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르본산 2무수물, 2,2',3,3'-비페닐테트라카르본산 2무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)프로판 2무수물, 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 2무수물(6FDA)을 들 수 있다. 이들은 단독 또는 2종 이상을 조합시켜서 사용할 수 있다.Among the tetracarboxylic acid compounds, the alicyclic tetracarboxylic dianhydride or the non-condensed polycyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride is preferably used from the viewpoint of easily improving the elastic modulus, the flex resistance, and the optical properties of the transparent resin film. Can be. As a more preferable specific example, 3,3 ', 4,4'-biphenyl tetracarboxylic dianhydride, 2,2', 3,3'-biphenyl tetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis (3,4 -Dicarboxyphenyl) propane dianhydride, and 4,4 '-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic acid dianhydride (6FDA). These can be used individually or in combination of 2 or more types.

본 실시형태와 관련되는 폴리이미드계 고분자는, 얻어지는 투명 수지 필름의 각종 물성을 손상하지 않는 범위에서, 상기의 폴리이미드 합성에 이용되는 테트라카르본산의 무수물에 추가하여, 테트라카르본산, 트리카르본산 화합물, 디카르본산 화합물, 그들의 무수물 및 그들의 유도체를 추가로 반응시킨 것이어도 된다.In addition to the anhydride of tetracarboxylic acid used for said polyimide synthesis | combination, the polyimide type polymer which concerns on this embodiment is a tetracarboxylic acid and a tricarboxylic acid, in the range which does not impair the various physical properties of the obtained transparent resin film. The compound, the dicarboxylic acid compound, anhydrides thereof and derivatives thereof may be further reacted.

트리카르본산 화합물로서는, 방향족 트리카르본산, 지방족 트리카르본산 및 그들의 유연(類緣)의 산클로라이드 화합물, 산무수물 등을 들 수 있으며, 이들은 2종 이상을 병용하여도 된다. 그 구체예로서는, 1,2,4-벤젠트리카르본산의 무수물; 2,3,6-나프탈렌트리카르본산-2,3-무수물; 프탈산 무수물과 벤조산이 단결합, -CH2-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2- 또는 페닐렌기로 연결된 화합물을 들 수 있다.Examples of the tricarboxylic acid compound include aromatic tricarboxylic acid, aliphatic tricarboxylic acid, their acid chloride compounds and acid anhydrides, and these may be used in combination of two or more. Specific examples thereof include anhydrides of 1,2,4-benzenetricarboxylic acid; 2,3,6-naphthalenetricarboxylic acid-2,3- anhydride; Phthalic anhydride and benzoic acid single bond, -CH 2 -, -C (CH 3) 2 -, -C (CF 3) 2 -, -SO 2 - or can be connected to the compound group-phenylene.

디카르본산 화합물로서는, 방향족 디카르본산, 지방족 디카르본산 및 그들의 유연의 산클로라이드 화합물, 산무수물 등을 들 수 있으며, 이들은 2종 이상을 병용하여도 된다. 그 구체예로서는, 테레프탈산; 이소프탈산; 나프탈렌디카르본산; 4,4'-비페닐디카르본산; 3,3'-비페닐디카르본산; 탄소수 8 이하인 쇄식 탄화수소의 디카르본산 화합물 및 2개의 벤조산 골격이 -CH2-, -S-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -O-, -NR9-, -C(=O)-, -SO2- 또는 페닐렌기로 연결된 화합물을 들 수 있다. 이들은 단독 또는 2종 이상을 조합시켜서 사용할 수 있다. 여기에서, R9는 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되는 탄소수 1∼12의 탄화수소기를 나타낸다.As a dicarboxylic acid compound, aromatic dicarboxylic acid, aliphatic dicarboxylic acid, those flexible acid chloride compounds, an acid anhydride, etc. are mentioned, These may use 2 or more types together. Specific examples thereof include terephthalic acid; Isophthalic acid; Naphthalenedicarboxylic acid; 4,4'-biphenyldicarboxylic acid; 3,3'-biphenyldicarboxylic acid; The dicarboxylic acid compound of the chain hydrocarbon having 8 or less carbon atoms and the two benzoic acid skeletons are -CH 2- , -S-, -C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2- , -O-, -NR 9 -, -C (= O) - , -SO 2 - or can be connected to the compound group-phenylene. These can be used individually or in combination of 2 or more types. Here, R <9> represents the C1-C12 hydrocarbon group which may be substituted by the halogen atom.

디카르본산 화합물로서는, 바람직하게는 테레프탈산; 이소프탈산; 4,4'-비페닐디카르본산; 3,3'-비페닐디카르본산; 및 2개의 벤조산 골격이 -CH2-, -C(=O)-, -O-, -NR9-, -SO2- 또는 페닐렌기로 연결된 화합물이며, 보다 바람직하게는, 테레프탈산; 4,4'-비페닐디카르본산; 및 2개의 벤조산 골격이 -O-, -NR9-, -C(=O)- 또는 -SO2-로 연결된 화합물이다. 이들은 단독 또는 2종 이상을 조합시켜서 사용할 수 있다.As a dicarboxylic acid compound, Preferably, it is terephthalic acid; Isophthalic acid; 4,4'-biphenyldicarboxylic acid; 3,3'-biphenyldicarboxylic acid; And a compound in which two benzoic acid skeletons are linked by a —CH 2 —, —C (═O) —, —O—, —NR 9 —, —SO 2 — or a phenylene group, more preferably terephthalic acid; 4,4'-biphenyldicarboxylic acid; And two benzoic acid backbones linked by —O—, —NR 9 —, —C (═O) — or —SO 2 —. These can be used individually or in combination of 2 or more types.

테트라카르본산 화합물, 트리카르본산 화합물, 및 디카르본산 화합물의 합계에 대한, 테트라카르본산 화합물의 비율은, 바람직하게는 40몰% 이상이며, 보다 바람직하게는 50몰% 이상이며, 더 바람직하게는 70몰% 이상이며, 보다 더 바람직하게는 90몰% 이상이며, 특히 바람직하게는 98몰% 이상이다.The ratio of the tetracarboxylic acid compound to the total of the tetracarboxylic acid compound, the tricarboxylic acid compound, and the dicarboxylic acid compound is preferably 40 mol% or more, more preferably 50 mol% or more, and more preferably Is 70 mol% or more, still more preferably 90 mol% or more, particularly preferably 98 mol% or more.

폴리이미드계 고분자의 합성에 이용되는 디아민으로서는, 지방족 디아민, 방향족 디아민 또는 그들의 혼합물을 들 수 있다. 또한, 본 실시형태에 있어서 「방향족 디아민」이란, 아미노기가 방향환에 직접 결합되어 있는 디아민을 나타내고, 그 구조의 일부에 지방족기 또는 그 외의 치환기를 포함하고 있어도 된다. 방향환은 단환이어도 축합환이어도 되며, 벤젠환, 나프탈렌환, 안트라센환 및 플루오렌환 등이 예시되지만, 이들로 한정되는 것은 아니다. 이들 중에서도, 바람직하게는 벤젠환을 들 수 있다. 또한 「지방족 디아민」이란, 아미노기가 지방족기에 직접 결합되어 있는 디아민을 나타내고, 그 구조의 일부에 방향환이나 그 외의 치환기를 포함하고 있어도 된다.Aliphatic diamine, aromatic diamine, or mixtures thereof are mentioned as a diamine used for the synthesis | combination of a polyimide type polymer. In addition, in this embodiment, "aromatic diamine" represents the diamine in which an amino group is couple | bonded with the aromatic ring directly, and may contain the aliphatic group or another substituent in a part of the structure. The aromatic ring may be monocyclic or a condensed ring, and examples thereof include, but are not limited to, benzene ring, naphthalene ring, anthracene ring and fluorene ring. Among these, Preferably a benzene ring is mentioned. Moreover, "aliphatic diamine" shows the diamine in which an amino group is couple | bonded with the aliphatic group directly, and may contain the aromatic ring and other substituents in a part of the structure.

지방족 디아민의 구체예로서는, 헥사메틸렌디아민 등의 비환식 지방족 디아민 및 1,3-비스(아미노메틸)시클로헥산, 1,4-비스(아미노메틸)시클로헥산, 노르보르난디아민, 4,4'-디아미노디시클로헥실메탄 등의 환식 지방족 디아민 등을 들 수 있으며, 이들은 단독 또는 2종 이상을 조합시켜서 사용할 수 있다.Specific examples of aliphatic diamines include acyclic aliphatic diamines such as hexamethylenediamine, 1,3-bis (aminomethyl) cyclohexane, 1,4-bis (aminomethyl) cyclohexane, norbornanediamine, 4,4'- Cyclic aliphatic diamine, such as diamino dicyclohexyl methane, etc. are mentioned, These can be used individually or in combination of 2 or more types.

방향족 디아민의 구체예로서는, p-페닐렌디아민, m-페닐렌디아민, 2,4-톨루엔디아민, m-크실릴렌디아민, p-크실릴렌디아민, 1,5-디아미노나프탈렌, 2,6-디아미노나프탈렌 등의, 방향환을 1개 가지는 방향족 디아민, 4,4'-디아미노디페닐메탄, 4,4'-디아미노디페닐프로판, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 3,4'-디아미노디페닐에테르, 3,3'-디아미노디페닐에테르, 4,4'-디아미노디페닐술폰, 3,4'-디아미노디페닐술폰, 3,3'-디아미노디페닐술폰, 1,4-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕술폰, 비스〔4-(3-아미노페녹시)페닐〕술폰, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2-비스[4-(3-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2'-디메틸벤지딘, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)-4,4'-디아미노디페닐(TFMB라고 기재하는 경우가 있다), 4,4'-비스(4-아미노페녹시)비페닐, 9,9-비스(4-아미노페닐)플루오렌, 9,9-비스(4-아미노-3-메틸페닐)플루오렌, 9,9-비스(4-아미노-3-클로로페닐)플루오렌, 9,9-비스(4-아미노-3-플루오로페닐)플루오렌 등의, 방향환을 2개 이상 가지는 방향족 디아민을 들 수 있다. 이들은 단독 또는 2종 이상을 조합시켜서 사용할 수 있다.Specific examples of the aromatic diamine include p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, 2,4-toluenediamine, m-xylylenediamine, p-xylylenediamine, 1,5-diaminonaphthalene, 2,6 Aromatic diamine having one aromatic ring, such as -diaminonaphthalene, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3 , 4'-diaminodiphenylether, 3,3'-diaminodiphenylether, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3'-diamino Diphenylsulfone, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4 -(3-aminophenoxy) phenyl] sulfone, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminodiphenyl (may be described as TFMB), 4,4'-bis (4-ami Nophenoxy) biphenyl, 9,9-bis (4-aminophenyl) fluorene, 9,9-bis (4-amino-3-methylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-amino-3- And aromatic diamines having two or more aromatic rings, such as chlorophenyl) fluorene and 9,9-bis (4-amino-3-fluorophenyl) fluorene. These can be used individually or in combination of 2 or more types.

방향족 디아민으로서는, 바람직하게는 4,4'-디아미노디페닐메탄, 4,4'-디아미노디페닐프로판, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 3,3'-디아미노디페닐에테르, 4,4'-디아미노디페닐술폰, 3,3'-디아미노디페닐술폰, 1,4-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕술폰, 비스〔4-(3-아미노페녹시)페닐〕술폰, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2-비스[4-(3-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2'-디메틸벤지딘, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)-4,4'-디아미노디페닐(TFMB), 4,4'-비스(4-아미노페녹시)비페닐이며, 보다 바람직하게는 4,4'-디아미노디페닐메탄, 4,4'-디아미노디페닐프로판, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 4,4'-디아미노디페닐술폰, 1,4-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕술폰, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2'-디메틸벤지딘, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)-4,4'-디아미노디페닐(TFMB), 4,4'-비스(4-아미노페녹시)비페닐이다. 이들은 단독 또는 2종 이상을 조합시켜서 사용할 수 있다.As aromatic diamine, Preferably, 4,4'- diamino diphenylmethane, 4,4'- diamino diphenyl propane, 4,4'- diamino diphenyl ether, 3,3'- diamino diphenyl ether , 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3'-diaminodiphenylsulfone, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] Sulfone, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfone, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (3-aminophenoxy ) Phenyl] propane, 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminodiphenyl (TFMB), 4,4'-bis (4-aminophenoxy C) biphenyl, more preferably 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenylether, 4,4'-diamino Diphenylsulfone, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] Propane, 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'- (Trifluoromethyl) scan is 4,4'-diaminodiphenyl (TFMB), 4,4'- bis (4-aminophenoxy) biphenyl. These can be used individually or in combination of 2 or more types.

상기 디아민은, 불소계 치환기를 가질 수도 있다. 불소계 치환기로서는, 트리플루오로메틸기 등의 탄소수 1∼5의 퍼플루오로알킬기, 및, 플루오로기를 들 수 있다.The said diamine may have a fluorine-type substituent. As a fluorine-type substituent, a C1-C5 perfluoroalkyl group, such as a trifluoromethyl group, and a fluoro group are mentioned.

상기 디아민 중에서도, 고투명성 및 저착색성의 관점에서는, 비페닐 구조를 가지는 방향족 디아민으로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상을 이용하는 것이 바람직하고, 구체예로서는 2,2'-디메틸벤지딘, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)-4,4'-디아미노디페닐(TFMB) 및 4,4'-비스(4-아미노페녹시)비페닐로 이루어지는 군에서 선택되는 1종 이상을 이용하는 것이 바람직하다. 비페닐 구조 및 불소계 치환기를 가지는 디아민인 것이 보다 바람직하고, 구체예로서는 2,2'-비스(트리플루오로메틸)-4,4'-디아미노디페닐(TFMB)을 이용하는 것이 보다 바람직하다.Among the diamines, from the viewpoint of high transparency and low colorability, it is preferable to use one or more selected from the group consisting of aromatic diamines having a biphenyl structure, and as specific examples, 2,2'-dimethylbenzidine and 2,2'- Preference is given to using at least one member selected from the group consisting of bis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminodiphenyl (TFMB) and 4,4'-bis (4-aminophenoxy) biphenyl. . It is more preferable that it is a diamine which has a biphenyl structure and a fluorine-type substituent, and it is more preferable to use 2,2'-bis (trifluoromethyl) -4,4'- diamino diphenyl (TFMB) as a specific example.

폴리이미드계 고분자는, 디아민과, 테트라카르본산 화합물(산클로라이드 화합물, 테트라카르본산 2무수물 등의 테트라카르본산 화합물 유도체를 포함한다)의 중축합으로 형성되는, 식 (10)으로 나타내는 반복 구조 단위를 포함하는 축합형 고분자이다. 출발 원료로서는, 이들에 추가하여, 트리카르본산 화합물(산클로라이드 화합물, 트리카르본산 무수물 등의 트리카르본산 화합물 유도체를 포함한다) 및 디카르본산 화합물(산클로라이드 화합물 등의 유도체를 포함한다)을 추가로 이용하는 경우도 있다. 또한, 폴리아미드는, 디아민과, 디카르본산 화합물(산클로라이드 화합물 등의 유도체를 포함한다)의 중축합으로 형성되는, 식 (13)으로 나타내는 반복 구조 단위를 포함하는 축합형 고분자이다.The polyimide polymer is a repeating structural unit represented by formula (10), which is formed by polycondensation of a diamine and a tetracarboxylic acid compound (including a tetracarboxylic acid compound derivative such as an acid chloride compound and a tetracarboxylic dianhydride). Condensation type polymer comprising a. As starting materials, in addition to these, tricarboxylic acid compounds (including tricarboxylic acid compound derivatives such as acid chloride compounds and tricarboxylic acid anhydrides) and dicarboxylic acid compounds (including derivatives such as acid chloride compounds) It may be used additionally. Moreover, polyamide is a condensation type polymer containing the repeating structural unit represented by Formula (13) formed by polycondensation of diamine and dicarboxylic acid compounds (including derivatives, such as an acid chloride compound).

식 (10) 및 식 (11)로 나타내는 반복 구조 단위는, 통상, 디아민류 및 테트라카르본산 화합물로부터 유도된다. 식 (12)로 나타내는 반복 구조 단위는, 통상, 디아민 및 트리카르본산 화합물로부터 유도된다. 식 (13)으로 나타내는 반복 구조 단위는, 통상, 디아민 및 디카르본산 화합물로부터 유도된다. 디아민, 테트라카르본산 화합물, 트리카르본산 화합물 및 디카르본산 화합물의 구체예는, 상기 서술한 바와 같다.The repeating structural unit represented by Formula (10) and Formula (11) is usually derived from diamines and tetracarboxylic acid compounds. The repeating structural unit represented by Formula (12) is usually derived from a diamine and a tricarboxylic acid compound. The repeating structural unit represented by Formula (13) is usually derived from a diamine and a dicarboxylic acid compound. Specific examples of the diamine, tetracarboxylic acid compound, tricarboxylic acid compound, and dicarboxylic acid compound are as described above.

디아민과, 테트라카르본산 화합물 등의 카르본산 화합물과의 몰비는, 디아민 1.00㏖에 대하여, 바람직하게는 테트라카르본산 0.9㏖ 이상 1.1㏖ 이하의 범위에서 적절히 조절할 수 있다. 높은 내절성(耐折性)을 발현하기 위해서는 얻어지는 폴리이미드계 고분자가 고분자량인 것이 바람직한 점으로부터, 디아민 1.00㏖에 대하여 테트라카르본산 0.98㏖ 이상 1.02㏖ 이하인 것이 보다 바람직하고, 0.99㏖ 이상 1.01㏖ 이하인 것이 더 바람직하다.The molar ratio of the diamine and carboxylic acid compounds such as the tetracarboxylic acid compound, to 1.00 mol of the diamine, is preferably adjusted in the range of 0.9 mol or more and 1.1 mol or less, preferably tetracarboxylic acid. In order to express high corrosion resistance, it is more preferable that it is 0.98 mol or more and 1.02 mol or less of tetracarboxylic acid, and 0.99 mol or more and 1.01 mol with respect to 1.00 mol of diamines from the point that it is preferable that the polyimide polymer obtained is high molecular weight. It is more preferable that it is below.

또한, 얻어지는 투명 수지 필름의 황색도를 억제하는 관점에서, 얻어지는 고분자 말단에 차지하는 아미노기의 비율이 낮은 것이 바람직하고, 디아민 1.00㏖에 대하여 테트라카르본산 화합물 등의 카르본산 화합물은 1.00㏖ 이상인 것이 바람직하다.Moreover, it is preferable that the ratio of the amino group to the obtained polymer terminal is low from a viewpoint of suppressing the yellowness of the obtained transparent resin film, and it is preferable that carboxylic acid compounds, such as a tetracarboxylic acid compound, are 1.00 mol or more with respect to 1.00 mol of diamines. .

디아민 및 카르본산 화합물(예를 들면, 테트라카르본산 화합물)의 분자 중의 불소수를 조정하여, 얻어지는 폴리이미드계 고분자 중의 불소량을, 폴리이미드계 고분자의 질량을 기준으로 하여, 1질량% 이상, 5질량% 이상, 10질량% 이상, 20질량% 이상으로 할 수 있다. 불소의 비율이 높을수록 원료 비용이 비싸게 되는 경향이 있는 점으로부터, 불소량의 상한은 40질량% 이하인 것이 바람직하다. 불소계 치환기는, 디아민 또는 카르본산 화합물의 어디에 존재하여도 되고, 양방에 존재하여도 된다. 불소계 치환기를 포함하는 것에 의해 특히 YI값이 저감되는 경우가 있다.The amount of fluorine in the polyimide polymer obtained by adjusting the fluorine number in the molecule of the diamine and the carboxylic acid compound (for example, the tetracarboxylic acid compound) is 1% by mass or more based on the mass of the polyimide polymer, It can be 5 mass% or more, 10 mass% or more, and 20 mass% or more. It is preferable that the upper limit of the amount of fluorine is 40 mass% or less, since the raw material cost tends to become expensive, so that the ratio of fluorine is high. The fluorine-based substituent may be present anywhere in the diamine or carboxylic acid compound, or may be present in both of them. In particular, the YI value may be reduced by including a fluorine-based substituent.

본 실시형태와 관련되는 폴리이미드계 고분자는, 다른 종류의 복수의 상기의 반복 구조 단위를 포함하는 공중합체여도 된다. 폴리이미드계 고분자의 표준 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량은, 통상 100,000∼800,000이다. 폴리이미드계 고분자의 중량 평균 분자량이 크면, 제막하였을 때의 굴곡성이 향상하는 점으로부터, 바람직하게는 200,000 이상이며, 보다 바람직하게는 300,000 이상이며, 더 바람직하게는 350,000 이상이다. 또한, 적당한 농도 및 점도의 바니시가 얻어져, 제막성이 향상되는 경향이 있는 점으로부터, 바람직하게는 750,000 이하이며, 보다 바람직하게는 600,000 이하이며, 더 바람직하게는 500,000 이하이다.The polyimide-based polymer according to the present embodiment may be a copolymer including a plurality of different kinds of the above repeating structural units. The weight average molecular weight of standard polystyrene conversion of a polyimide type polymer is 100,000-800,000 normally. When the weight average molecular weight of a polyimide-type polymer is large, the flexibility at the time of film forming improves, Preferably it is 200,000 or more, More preferably, it is 300,000 or more, More preferably, it is 350,000 or more. Moreover, since the varnish of a suitable density | concentration and a viscosity tends to be obtained, and film forming property tends to improve, Preferably it is 750,000 or less, More preferably, it is 600,000 or less, More preferably, it is 500,000 or less.

폴리이미드계 고분자 및 폴리아미드는, 함불소 치환기를 포함하는 것에 의해, 필름화하였을 때의 탄성률이 향상하는 것과 함께, YI값이 저감되는 경향을 나타낸다. 필름의 탄성률이 높으면, 흠집 및 주름 등의 발생이 억제되는 경향이 있다. 필름의 투명성의 관점에서, 폴리이미드계 고분자 및 폴리아미드는, 함불소 치환기를 가지는 것이 바람직하다. 함불소 치환기의 구체예로서는, 플루오로기 및 트리플루오로메틸기를 들 수 있다.By including a fluorine-containing substituent, the polyimide polymer and the polyamide exhibit a tendency to decrease the YI value while improving the elastic modulus when forming a film. If the elastic modulus of the film is high, the occurrence of scratches and wrinkles tends to be suppressed. From the viewpoint of transparency of the film, the polyimide polymer and the polyamide preferably have a fluorine-containing substituent. As a specific example of a fluorine-containing substituent, a fluoro group and a trifluoromethyl group are mentioned.

폴리이미드계 고분자 및 폴리이미드계 고분자와 폴리아미드의 혼합물에 있어서의 불소 원자의 함유량은, 각각, 폴리이미드계 고분자의 질량 또는 폴리이미드계 고분자의 질량과 폴리아미드의 질량의 합계를 기준으로 하여, 바람직하게는 1질량% 이상 40질량% 이하이며, 보다 바람직하게는 5질량% 이상 40질량% 이하이다. 불소 원자의 함유량이 1질량% 이상이면, 필름화하였을 때의 YI값을 보다 저감하여, 투명성을 보다 향상시킬 수 있는 경향이 있다. 불소 원자의 함유량은, 40질량% 이내이면, 폴리이미드의 고분자량화가 용이하게 되는 경향이 있다.The content of the fluorine atom in the mixture of the polyimide polymer, the polyimide polymer and the polyamide is based on the sum of the mass of the polyimide polymer or the mass of the polyimide polymer and the mass of the polyamide, respectively. Preferably they are 1 mass% or more and 40 mass% or less, More preferably, they are 5 mass% or more and 40 mass% or less. When content of a fluorine atom is 1 mass% or more, there exists a tendency which can further reduce the YI value at the time of film-forming, and to improve transparency more. When content of a fluorine atom is 40 mass% or less, there exists a tendency for the high molecular weight of polyimide to become easy.

본 발명에 있어서, 투명 수지 필름 형성하는 수지조성물에 있어서의 폴리이미드계 고분자 및/또는 폴리아미드의 함유량은, 수지조성물의 고형분에 대하여, 바람직하게는 40질량% 이상, 보다 바람직하게는 50질량% 이상, 더 바람직하게는 70질량% 이상이며, 100질량%여도 된다. 폴리이미드계 고분자 및/또는 폴리아미드의 함유량이 상기 하한값 이상이면, 투명 수지 필름의 굴곡성이 양호하다. 또한, 고형분이란, 수지조성물로부터 용제를 제외한 성분의 합계량을 뜻한다.In this invention, content of the polyimide type polymer and / or polyamide in the resin composition to form a transparent resin film becomes like this. Preferably it is 40 mass% or more, More preferably, 50 mass% with respect to solid content of a resin composition. As mentioned above, More preferably, it is 70 mass% or more, and 100 mass% may be sufficient. Flexibility of a transparent resin film is favorable as content of a polyimide polymer and / or a polyamide is more than the said lower limit. In addition, solid content means the total amount of the component remove | excluding the solvent from the resin composition.

본 발명에 있어서, 투명 수지 필름을 형성하는 수지조성물은, 상기 폴리이미드계 고분자 및/또는 폴리아미드에 추가하여, 무기 입자 등의 무기 재료를 추가로 함유하고 있어도 된다. 무기 재료로서, 실리카 입자, 티탄 입자, 수산화알루미늄, 지르코니아 입자, 티탄산바륨 입자 등의 무기 입자, 또한, 오르토규산 테트라에틸 등의 4급 알콕시실란 등의 규소화합물을 들 수 있으며, 바니시의 안정성, 무기 재료의 분산성의 관점에서, 바람직하게는 실리카 입자, 수산화알루미늄, 지르코니아 입자를 들 수 있으며, 더 바람직하게는 실리카 입자를 들 수 있다.In the present invention, the resin composition forming the transparent resin film may further contain an inorganic material such as inorganic particles in addition to the polyimide polymer and / or polyamide. Examples of the inorganic material include inorganic particles such as silica particles, titanium particles, aluminum hydroxide, zirconia particles, barium titanate particles, and silicon compounds such as quaternary alkoxysilanes such as tetraethyl orthosilicate. From the viewpoint of dispersibility of the material, silica particles, aluminum hydroxide and zirconia particles are preferable, and silica particles are more preferable.

무기 재료의 평균 1차 입자경은, 바람직하게는 1∼200㎚, 보다 바람직하게는 3∼100㎚, 더 바람직하게는 5∼50㎚, 보다 더 바람직하게는 5∼30㎚이다. 상기 평균 1차 입자경이 100㎚ 이하이면 투명성이 향상되는 경향이 있다. 상기 평균 1차 입자경이 10㎚ 이상이면, 무기 재료의 응집력이 약해지기 때문에 취급하기 쉬워지는 경향이 있다.The average primary particle diameter of an inorganic material becomes like this. Preferably it is 1-200 nm, More preferably, it is 3-100 nm, More preferably, it is 5-50 nm, More preferably, it is 5-30 nm. There exists a tendency for transparency to improve that the said average primary particle diameter is 100 nm or less. When the average primary particle size is 10 nm or more, the cohesive force of the inorganic material is weakened, so it tends to be easy to handle.

본 발명에 있어서 실리카 입자는, 유기 용제 등에 실리카 입자를 분산시킨 실리카 졸이어도, 기상법으로 제조한 실리카 미립자 분말을 이용해도 되지만, 핸들링이 용이한 점으로부터 액상법으로 제조한 실리카 졸인 것이 바람직하다.In the present invention, the silica particles may be a silica sol obtained by dispersing the silica particles in an organic solvent or the like, or a silica particle powder produced by a gas phase method may be used.

투명 수지 필름 중의 실리카 입자의 평균 1차 입자경은, 투과형 전자 현미경(TEM)에 의한 관찰로 구할 수 있다. 투명 수지 필름을 형성하기 전의 실리카 입자의 입도 분포는, 시판의 레이저 회절식 입도 분포계에 의해 구할 수 있다.The average primary particle diameter of the silica particle in a transparent resin film can be calculated | required by observation with a transmission electron microscope (TEM). The particle size distribution of the silica particle before forming a transparent resin film can be calculated | required with a commercially available laser diffraction type particle size distribution meter.

본 발명에 있어서, 수지조성물 중의 무기 재료의 함유량은, 수지조성물의 고형분에 대하여, 바람직하게는 0질량% 이상 90질량% 이하이다. 보다 바람직하게는 10질량% 이상 60질량% 이하이며, 더 바람직하게는 20질량% 이상 50질량% 이하이다. 수지조성물에 있어서의 무기 재료의 함유량이 상기의 범위 내이면, 투명 수지 필름의 투명성 및 기계적 강도를 양립시키기 쉬운 경향이 있다. 또한, 고형분이란, 수지조성물로부터 용제를 제외한 성분의 합계량을 뜻한다.In this invention, content of the inorganic material in a resin composition becomes like this. Preferably it is 0 mass% or more and 90 mass% or less with respect to solid content of a resin composition. More preferably, they are 10 mass% or more and 60 mass% or less, More preferably, they are 20 mass% or more and 50 mass% or less. When content of the inorganic material in a resin composition exists in the said range, there exists a tendency which is easy to make the transparency and mechanical strength of a transparent resin film compatible. In addition, solid content means the total amount of the component remove | excluding the solvent from the resin composition.

투명 수지 필름을 형성하는 수지조성물은, 이상 설명한 성분에 추가하여, 다른 성분을 추가로 함유하고 있어도 된다. 다른 성분으로서는, 예를 들면, 산화방지제, 이형제, 광안정제, 블루잉제, 난연제, 활제(滑劑) 및 레벨링제를 들 수 있다.The resin composition forming the transparent resin film may further contain other components in addition to the components described above. As another component, antioxidant, a mold release agent, a light stabilizer, a bluing agent, a flame retardant, a lubricating agent, and a leveling agent are mentioned, for example.

본 발명에 있어서 수지조성물이 폴리이미드계 고분자 등의 수지 성분 및 무기 재료 이외의 다른 성분을 포함할 경우, 그 외의 성분의 함유량은, 투명 수지 필름의 총 질량에 대하여 0질량% 이상 20질량% 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0질량% 이상 10질량% 이하이다.In this invention, when a resin composition contains resin components, such as a polyimide polymer, and other components other than an inorganic material, content of another component is 0 mass% or more and 20 mass% or less with respect to the gross mass of a transparent resin film. It is preferable, More preferably, they are 0 mass% or more and 10 mass% or less.

본 발명에 있어서 투명 수지 필름은, 예를 들면, 상기 테트라카르본산 화합물, 상기 디아민 및 상기 그 외의 원료로부터 선택하여 반응시켜서 얻어지는, 폴리이미드계 고분자 및/또는 폴리아미드의 반응액, 필요에 따라 무기 재료 및 그 외의 성분을 포함하는 수지조성물에, 용매를 첨가하고 혼합 및 교반함으로써, 조제되는 수지 바니시로 제조할 수 있다. 상기 수지조성물 또는 수지 바니시에 있어서, 폴리이미드계 고분자 등의 반응액에 대신에, 구입한 폴리이미드계 고분자 등의 용액이나, 구입한 고체의 폴리이미드계 고분자 등의 용액을 이용해도 된다.In the present invention, the transparent resin film is, for example, a reaction liquid of a polyimide-based polymer and / or polyamide obtained by reacting by selecting from the tetracarboxylic acid compound, the diamine and the other raw materials, and optionally, inorganic. It can be manufactured with the resin varnish prepared by adding a solvent, mixing, and stirring to the resin composition containing a material and other components. In the above resin composition or resin varnish, a solution such as a purchased polyimide polymer or a solution such as a purchased polyimide polymer may be used instead of a reaction solution such as a polyimide polymer.

수지 바니시를 조제하기 위해서 이용할 수 있는 용매로서는, 폴리이미드계 고분자 등의 수지 성분을 용해 또는 분산되게 할 수 있는 것을 적절히 선택할 수 있다. 용매로서, 1종을 단독으로 이용해도 되고, 2종 이상을 조합시켜서 이용해도 된다. 또한, 2종 이상의 용매를 이용할 경우에는, 이용하는 용매 중에서 가장 비점이 높은 용매의 비점이 상기 범위에 들어가도록 용매의 종류를 선택하는 것이 바람직하다. 수지 성분의 용해성, 도포성 및 건조성 등의 관점에서는, 120∼300℃의 비점을 가지는 유기 용매가 바람직하고, 보다 바람직하게는 120∼270℃, 더 바람직하게는 120∼250℃, 특히 바람직하게는 120∼230℃의 비점을 가지는 유기 용매가 바람직하다. 그와 같은 유기 용매로서는, 구체적으로 예를 들면, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈 등의 아미드계 용매; γ-부티로락톤, γ-발레로락톤 등의 락톤계 용매; 시클로헥사논, 시클로펜타논, 메틸에틸케톤 등의 케톤계 용매; 아세트산 부틸, 아세트산 아밀 등의 아세트산 에스테르계 용매; 디메틸술폰, 디메틸술폭시드, 술포란 등의 함유황계 용매, 에틸렌카보네이트, 프로필렌카보네이트 등의 카보네이트계 용매 등을 들 수 있다. 그 중에서도, 폴리이미드계 고분자 및 폴리아미드에 대한 용해성이 우수한 점으로부터, N,N-디메틸아세트아미드(비점:165℃), γ-부티로락톤(비점:204℃), N-메틸피롤리돈(비점:202℃), 시클로펜타논(비점:131℃), 아세트산 부틸(비점:126℃) 및 아세트산 아밀(비점:149℃)로 이루어지는 군에서 선택되는 용매가 바람직하다.As a solvent which can be used in order to prepare a resin varnish, what can dissolve or disperse resin components, such as a polyimide polymer, can be selected suitably. As the solvent, one type may be used alone, or two or more types may be used in combination. In addition, when using 2 or more types of solvent, it is preferable to select the kind of solvent so that the boiling point of the solvent with the highest boiling point in the solvent used may fall in the said range. From the standpoints of solubility, applicability, dryness, etc. of the resin component, an organic solvent having a boiling point of 120 to 300 ° C is preferable, more preferably 120 to 270 ° C, still more preferably 120 to 250 ° C, particularly preferably The organic solvent which has a boiling point of 120-230 degreeC is preferable. Specific examples of such organic solvents include amide solvents such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, and N-methylpyrrolidone; lactone solvents such as γ-butyrolactone and γ-valerolactone; Ketone solvents such as cyclohexanone, cyclopentanone, and methyl ethyl ketone; Acetic acid ester solvents such as butyl acetate and amyl acetate; Carbonate solvents such as sulfur-containing solvents such as dimethyl sulfone, dimethyl sulfoxide and sulfolane, ethylene carbonate and propylene carbonate, and the like. Among them, N, N-dimethylacetamide (boiling point: 165 ° C), γ-butyrolactone (boiling point: 204 ° C), and N-methylpyrrolidone from the viewpoint of excellent solubility in polyimide polymers and polyamides A solvent selected from the group consisting of (boiling point: 202 ° C), cyclopentanone (boiling point: 131 ° C), butyl acetate (boiling point: 126 ° C) and amyl acetate (boiling point: 149 ° C) is preferable.

용매의 양은, 수지 바니시의 취급이 가능한 점도가 되도록 선택하면 되고, 특별히 제한은 없지만, 예를 들면, 수지 바니시 전량에 대하여, 바람직하게는 50∼95질량%, 보다 바람직하게는 70∼95질량%, 더 바람직하게는 80∼95질량%이다.The amount of the solvent may be selected so as to be a viscosity capable of handling the resin varnish, and there is no particular limitation. For example, the amount of the solvent is preferably 50 to 95% by mass, more preferably 70 to 95% by mass, based on the total amount of the resin varnish. More preferably, it is 80-95 mass%.

또한, 본 발명의 적층체를 구성하는 투명 수지 필름 중의 용매의 함유량은, 열중량-시차열 측정에 의한 120℃로부터 250℃에 있어서의 질량 감소율로서 산출되는 잔류 용매량(S)(질량%)이, 후술하는 보호 필름에 있어서의 저분자 성분량(W)(%)과의 관계에 있어서 소정의 관계를 만족시키는 범위가 아니면 안 된다. 본 발명에 있어서, 투명 수지 필름 중의 잔류 용매량(S)은, 첩합되는 보호 필름에 있어서의 저분자 성분량(W)과의 관계에 있어서 적절히 조정하면 되지만, 바람직하게는 20질량% 이하이며, 보다 바람직하게는 17질량% 이하이며, 더 바람직하게는 15질량% 이하이다. 잔류 용매량(S)이 상기 상한값 이하이면, 얻어지는 투명 수지 필름을 자립막으로서 형성할 수 있다. 또한, 잔류 용매량(S)의 하한값은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 폴리이미드계 고분자나 폴리아미드를 수지 성분으로 하는 투명 수지 필름의 제조에 있어서는, 일반적으로 상기 서술한 바와 같은 100℃를 넘는 비점을 가지는 고비점 용매가 이용되기 때문에, 그 제조과정에서 용매를 완전하게 제거하는 것은 어려우며, 통상, 0.001질량% 이상이다. 또한, 굴곡성의 관점에서는, 바람직하게는 0.005질량% 이상, 보다 바람직하게는 0.01질량% 이상, 더 바람직하게는 0.1질량% 이상, 보다 더 바람직하게는 0.5질량% 이상이다.In addition, content of the solvent in the transparent resin film which comprises the laminated body of this invention is residual solvent amount (S) (mass%) calculated as a mass reduction rate in 250 degreeC from 120 degreeC by thermogravimetry-differential heat measurement. It must be the range which satisfy | fills a predetermined relationship in the relationship with the low molecular weight component W (%) in this protective film mentioned later. In this invention, what is necessary is just to adjust suitably the residual solvent amount S in a transparent resin film in relationship with the low molecular weight component W in the protective film bonded together, Preferably it is 20 mass% or less, More preferably, it is more preferable. Preferably it is 17 mass% or less, More preferably, it is 15 mass% or less. When the amount of residual solvent S is below the said upper limit, the transparent resin film obtained can be formed as a self-supporting film. In addition, although the lower limit of residual amount of solvent (S) is not specifically limited, In manufacture of the transparent resin film which consists of a polyimide polymer and a polyamide as a resin component, generally the boiling point exceeding 100 degreeC as mentioned above is mentioned. Since the branched high boiling point solvent is used, it is difficult to completely remove the solvent in the production process, and usually it is 0.001% by mass or more. Moreover, from a viewpoint of flexibility, Preferably it is 0.005 mass% or more, More preferably, it is 0.01 mass% or more, More preferably, it is 0.1 mass% or more, More preferably, it is 0.5 mass% or more.

본 발명에 있어서, 잔류 용매량(S)이란, 열중량-시차열(TG-DTA) 측정 장치를 이용하여 행해지며, 측정 대상으로 하는 투명 수지 필름(시료)을, 실온으로부터 120℃까지 10℃/분의 승온 속도로 승온하고, 120℃로 5분간 보지(保持)함으로써, 흡착수를 제거한 후, 400℃까지 10℃/분의 승온 속도로 승온(가열)하면서 측정한 질량 변화의 결과에 있어서, 120℃로부터 250℃에 걸쳐서의 질량 감소율(S)(질량%)을 관계식 (2)에 따라 산출되는 값이다.In the present invention, the residual solvent amount (S) is performed using a thermogravimetric-differential thermal (TG-DTA) measuring device, and the transparent resin film (sample) to be measured is 10 ° C from room temperature to 120 ° C. In the result of the mass change measured by heating up at the temperature increase rate of / min and holding at 120 degreeC for 5 minutes, after removing adsorption water, heating up (heating) at the temperature increase rate of 10 degreeC / min to 400 degreeC, The mass reduction rate S (mass%) over 120 to 250 degreeC is a value computed according to relationship (2).

S(질량%)=100-(W1/W0)×100 (2)S (mass%) = 100- (W1 / W0) x 100 (2)

〔식 (2) 중, W0은 120℃로 5분간 보지한 후의 시료의 질량이며, W1은 상기 열중량-시차열 측정장치에 의한 측정에서의 250℃에 있어서의 시료의 질량이다〕.[In formula (2), W0 is the mass of the sample after hold | maintaining at 120 degreeC for 5 minutes, and W1 is the mass of the sample at 250 degreeC in the measurement by the said thermogravimetry-differential heat measuring apparatus. "

잔류 용매량(S)은, 투명 수지 필름을 형성하기 위한 수지 바니시에 포함되는 용매량, 용매종(種), 수지 바니시로 제막한 도막의 건조 조건(건조 온도 및 시간, 풍속 등)을 조정함으로써, 제어할 수 있다.The amount of residual solvent S is adjusted by adjusting the amount of solvent contained in the resin varnish for forming the transparent resin film, the solvent species, and the drying conditions (drying temperature and time, wind speed, etc.) of the coating film formed by the resin varnish. Can be controlled.

투명 수지 필름의 두께는, 투명 수지 필름의 용도 등에 따라 적절히 결정하면 되지만, 통상, 10∼500㎛이며, 바람직하게는 15∼200㎛이며, 보다 바람직하게는 20∼100㎛이다. 투명 수지 필름의 두께가 상기 범위 내에 있으면, 투명 수지 필름의 굴곡성이 양호하다.Although the thickness of a transparent resin film should just be determined suitably according to the use of a transparent resin film, etc., it is 10-500 micrometers normally, Preferably it is 15-200 micrometers, More preferably, it is 20-100 micrometers. When the thickness of a transparent resin film exists in the said range, the flexibility of a transparent resin film is favorable.

본 발명의 적층체는, 상기 투명 수지 필름에 첩합된 보호 필름을 포함한다. 보호 필름은, 투명 수지 필름의 일방의 면만에 첩합되어 있어도 되고, 양면에 첩합되어 있어도 된다. 투명 수지 필름에 첩합되는 보호 필름은, 통상, 투명 수지 필름의 표면을 일시적으로 보호하기 위한 필름으로서, 투명 수지 필름의 표면을 보호할 수 있는 박리가능한 필름인 한 특별하게 한정되지 않으며, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 필름 등의 폴리올레핀계 수지 필름으로 이루어지는 군에서 선택되는 것이 바람직하다. 투명 수지 필름의 양면에 보호 필름이 첩합되어 있을 경우, 각 면의 보호 필름은 서로 동일하여도 되고, 달라도 된다.The laminated body of this invention contains the protective film bonded to the said transparent resin film. A protective film may be bonded only to one surface of a transparent resin film, and may be bonded to both surfaces. The protective film bonded to a transparent resin film is normally a film for temporarily protecting the surface of a transparent resin film, and is not specifically limited as long as it is a peelable film which can protect the surface of a transparent resin film, polyethylene, poly It is preferable to select from the group which consists of polyolefin resin films, such as a propylene film. When the protective film is bonded to both surfaces of a transparent resin film, the protective film of each surface may be mutually same or different.

본 발명의 적층체에 있어서 보호 필름은, 기재 필름과 그 위에 적층되는, 예를 들면, 아크릴계 점착제, 에폭시계 점착제, 우레탄계 점착제, 실리콘계 점착제 등으로부터 형성되는 점착제층으로 구성되어 있어도 되지만, 투명 수지 필름 표면에 대한 오염을 가능한 한 억제하는 관점에서는, 폴리올레핀계 수지 등의 자기 점착성을 가지는 수지 필름인 것이 바람직하다.In the laminated body of this invention, although the protective film may be comprised from the base film and the adhesive layer formed from acrylic adhesive, an epoxy adhesive, a urethane type adhesive, a silicone type adhesive etc. laminated | stacked on it, for example, a transparent resin film It is preferable that it is a resin film which has self adhesiveness, such as polyolefin resin, from a viewpoint which suppresses contamination to the surface as much as possible.

또한, 본 발명의 과제인 투명 수지 필름의 백화는, 폴리이미드계 고분자 및 폴리아미드를 수지 성분으로 하는 투명 수지 필름을 제조할 때에 이용되는 용매 중에, 보호 필름에 포함되는 저분자 성분이 용출되는 것에 의해 생긴다고 생각된다. 적층체의 분야에서 일반적으로 이용되는 보호 필름 중에서도, 폴리올레핀계 수지 필름은 저분자 성분이 비교적 많이 포함되어 있는 경향이 있기 때문에, 투명 수지 필름의 백화를 억제한다고 하는 본 발명의 효과는, 보호 필름으로서 폴리올레핀계 수지 필름을 이용하는 적층체에 있어서 특히 유리하게 얻어진다. 따라서, 본 발명의 바람직한 일 실시양태에 있어서, 본 발명의 적층체에 이용되는 보호 필름은 폴리올레핀계 수지 필름에 있어서, 입수하기 쉬우며 저렴한 점으로부터, 보다 바람직하게는 폴리프로필렌계 수지 필름 또는 폴리에틸렌계 수지 필름이며, 더 바람직하게는 폴리에틸렌계 수지 필름이다. 또한, 폴리에틸렌계 수지로서는, 예를 들면, 고압법 저밀도 폴리에틸렌(LDPE), 직쇄형 단쇄 분기 폴리에틸렌(LLDPE), 중저압법 고밀도 폴리에틸렌(HDPE), 초저밀도 폴리에틸렌(VLDPE) 등을 들 수 있지만, 투명 수지 필름과 이웃하는 면의 수지로서는, 투명 수지 필름과의 접착성, 및 가공성의 관점에서, LLDPE인 것이 바람직하다. 또한, 투명 수지 필름의 양면에 보호 필름이 첩합되어 있을 경우, 각 면의 보호 필름은 서로 동일하여도 되고, 달라도 되지만, 적어도 일방의 면에 첩합되는 보호 필름이 폴리올레핀계 수지 필름인 것이 바람직하다.Moreover, in the whitening of the transparent resin film which is a subject of this invention, the low molecular component contained in a protective film elutes in the solvent used when manufacturing the transparent resin film which uses a polyimide polymer and a polyamide as a resin component. I think it occurs. Among the protective films generally used in the field of the laminate, since the polyolefin resin film tends to contain a relatively large amount of low molecular weight components, the effect of the present invention of suppressing whitening of the transparent resin film is a polyolefin as a protective film. It is especially advantageous in a laminate using a system resin film. Therefore, in one preferred embodiment of the present invention, the protective film used in the laminate of the present invention is easily available and inexpensive in a polyolefin resin film, more preferably a polypropylene resin film or a polyethylene-based resin. It is a resin film, More preferably, it is a polyethylene-type resin film. As the polyethylene resin, for example, high pressure low density polyethylene (LDPE), linear short chain branched polyethylene (LLDPE), medium and low pressure high density polyethylene (HDPE), ultra low density polyethylene (VLDPE), and the like can be cited. As resin of the surface which adjoins a resin film, it is preferable that it is LLDPE from a viewpoint of adhesiveness with a transparent resin film, and workability. In addition, when the protective film is bonded to both surfaces of a transparent resin film, although the protective film of each surface may be mutually same or different, it is preferable that the protective film bonded to at least one surface is a polyolefin resin film.

여기에서, 본 발명에 있어서, 보호 필름에 포함되는 「저분자 성분」이란, 하기 조건을 따르며, 측정 온도 140℃에 있어서의 겔 침투 크로마토그래피에 의해 측정하여 얻어지는 차트의 Log M이 2.82로부터 3.32까지의 범위에 검출되는 성분을 의미한다.Here, in this invention, the "low molecular weight component" contained in a protective film is based on the following conditions, Log M of the chart obtained by measuring by gel permeation chromatography in measurement temperature 140 degreeC is 2.82 to 3.32 It means the component detected in the range.

<겔 침투 크로마토그래피의 측정 조건><Measurement Conditions of Gel Permeation Chromatography>

칼럼 : PLgel Individual(5㎛, 50Å, 7.5㎜ ID×30㎝, 애질런트테크놀로지제) 1개와, TSKgel GMHHR-H(S)HT(7.5㎜ ID×30㎝, 토소(주)제) 2개를 연결Column: 1 PLgel Individual (5 μm, 50 μs, 7.5 mm ID × 30 cm, made by Agilent Technologies) and 2 TSKgel GMH HR- H (S) HT (7.5 mm ID × 30 cm, manufactured by Tosoh Corporation) connect

이동상 : 오르토디클로로벤젠(와코순약(주)제, 특급)에 BHT(디-tert-부틸히드록시톨루엔)를 0.1w/V% 첨가하여 사용 Mobile phase: 0.1 wt / V% of BHT (di-tert-butylhydroxytoluene) is added to orthodichlorobenzene (made by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)

유속 : 1㎖/분 Flow rate: 1 ml / min

칼럼 오븐 온도 : 140℃ Column oven temperature: 140 ℃

오토 샘플러 온도 : 140℃ Auto sampler temperature: 140 ℃

시스템 오븐 온도 : 40℃ System oven temperature: 40 ℃

검출 : 시차 굴절률 검출기(RID) Detection: Differential Refractive Index Detector (RID)

RID 셀 온도 : 140℃ RID cell temperature: 140 ℃

시료 용액 주입량 : 300㎕ Sample solution injection volume: 300µl

GPC 칼럼 교정용 표준 물질 용액 : 토소(주)제 표준 폴리스티렌 Standard material solution for GPC column calibration: Standard polystyrene manufactured by Tosoh Corporation

또한, 겔 침투 크로마토그래피의 보다 상세한 측정 조건은, 후술하는 실시예에 기재한다.In addition, the more detailed measurement conditions of gel permeation chromatography are described in the Example mentioned later.

상기 저분자 성분은, 구체적으로는, 보호 필름 중, 또는 보호 필름이 기재 필름과 그 위에 적층되는 점착제층으로 이루어질 경우에는 점착제층 중에 함유되는 잔존 모노머, 올리고머 및 첨가제나 필름 원료 등에 유래하는 성분이라고 생각된다. 보호 필름에 포함되는 저분자 성분으로서는, 예를 들면, 핵제, 산화방지제, 염산 흡수제, 내열 안정제, 광안정제, 자외선흡수제, 활제, 안티 블로킹제, 대전방지제, 난연제, 안료, 염료, 분산제, 동해(銅害)방지제, 중화제, 발포제, 가소제, 기포방지제, 가교제, 과산화물 등의 흐름성 개량제, 웰드 강도 개량제 등에 유래하는 성분이, 보호 필름 상에 적층되는 점착제층에 포함되는 저분자 성분으로서는, 예를 들면, 점착 부여 수지 및 연화제 등에 유래하는 성분 등을 들 수 있다.Specifically, the low-molecular component is considered to be a component derived from the remaining monomers, oligomers and additives contained in the pressure-sensitive adhesive layer, the film raw material, etc., in the protective film, or when the protective film consists of a base film and an adhesive layer laminated thereon. do. As the low molecular weight component contained in the protective film, for example, a nucleating agent, an antioxidant, a hydrochloric acid absorbent, a heat stabilizer, a light stabilizer, an ultraviolet absorber, a lubricant, an anti blocking agent, an antistatic agent, a flame retardant, a pigment, a dye, a dispersant, and a Donghae Iii) As the low molecular weight component included in the pressure-sensitive adhesive layer laminated on the protective film, components derived from flow inhibitors such as flow inhibitors, neutralizing agents, foaming agents, plasticizers, anti-foaming agents, crosslinking agents, peroxides, weld strength improvers, and the like are, for example, The component derived from tackifying resin, a softener, etc. are mentioned.

본 발명에 있어서, 보호 필름에 포함되는 저분자 성분의 함유량은, 상기 겔 침투 크로마토그래피의 측정 조건을 따르며, 측정 온도 140℃에 있어서의 겔 침투 크로마토그래피에 의해 측정하여 얻어지는 차트의 전면적에 대한 Log M이 2.82로부터 3.32까지의 면적의 비율로서 정의되는 저분자 성분량(W)(%)이, 후술하는 투명 수지 필름에 있어서의 잔류 용매량(S)(질량%)과의 관계에 있어서 소정의 관계를 만족시키는 범위가 아니면 안 된다. 본 발명에 있어서, 보호 필름 중의 저분자 성분량(W)은, 첩합되는 투명 수지 필름에 있어서의 잔류 용매량(S)과의 관계에 있어서 적절히 조정하면 되지만, 바람직하게는 1% 이하이며, 보다 바람직하게는 0.8% 이하이며, 더 바람직하게는 0.5% 이하이며, 특히 바람직하게는 0.33% 이하이다. 저분자 성분량(W)이 상기 상한값 이하이면, 보호 필름에 포함되는 저분자 성분의 투명 수지 필름에의 전사가 생기기 어려워져, 광학용의 투명 수지 필름 표면을 보호하기 위한 보호 필름으로서 적합하다. 또한, 저분자 성분량(W)의 하한값은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 광학적층체의 분야에서 이용되는 보호 필름은, 일반적으로, 앞서 예시한 바와 같은 첨가제나 원료에 유래하는 저분자 성분을 함유하고 있기 때문에, 통상, 0.00001% 이상이며, 바람직하게는 0.001% 이상이며, 보다 바람직하게는 0.01% 이상이며, 더 바람직하게는 0.02% 이상이다.In this invention, content of the low molecular weight component contained in a protective film follows the measurement conditions of the said gel permeation chromatography, Log M with respect to the whole area of the chart obtained by measuring by the gel permeation chromatography in the measurement temperature of 140 degreeC. The low molecular weight component (W) (%) defined as the ratio of the area from 2.82 to 3.32 satisfies the predetermined relationship in the relationship with the residual solvent amount (S) (mass%) in the transparent resin film described later. It must be a range to make. In the present invention, the low molecular weight component (W) in the protective film may be appropriately adjusted in relation to the amount of residual solvent (S) in the transparent resin film to be bonded, but is preferably 1% or less, and more preferably. Is 0.8% or less, more preferably 0.5% or less, and particularly preferably 0.33% or less. If the low molecular weight component (W) is below the said upper limit, the transfer of the low molecular weight component to the transparent resin film contained in a protective film will hardly arise, and it is suitable as a protective film for protecting the transparent resin film surface for optics. In addition, although the lower limit of the low molecular weight component W is not specifically limited, Since the protective film used in the field of an optical laminated body generally contains the low molecular component derived from the additive and raw material which were illustrated above, it is usually It is 0.00001% or more, Preferably it is 0.001% or more, More preferably, it is 0.01% or more, More preferably, it is 0.02% or more.

보호 필름의 두께는, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 투명 수지 필름의 보호의 관점에서, 통상, 10㎛ 이상이며, 바람직하게는 20㎛ 이상이며, 보다 바람직하게는 25㎛ 이상이다. 한편, 필름 핸들링의 관점에서, 300㎛ 이하인 것이 바람직하다. 투명 수지 필름의 양면에 보호 필름이 첩합되어 있을 경우, 각 면의 보호 필름의 두께는 같아도 되고, 달라도 된다.Although the thickness of a protective film is not specifically limited, From a viewpoint of protection of a transparent resin film, it is 10 micrometers or more normally, Preferably it is 20 micrometers or more, More preferably, it is 25 micrometers or more. On the other hand, it is preferable that it is 300 micrometers or less from a viewpoint of film handling. When the protective film is bonded to both surfaces of a transparent resin film, the thickness of the protective film of each surface may be same or different.

본 발명에 있어서는, 적층체를 구성하는 투명 수지 필름의 잔류 용매량(S)(질량%)과, 상기 투명 수지 필름에 첩합되는 보호 필름의 저분자 성분량(W)(%)이, 관계식 (1):In the present invention, the residual solvent amount (S) (mass%) of the transparent resin film constituting the laminate and the low molecular weight component (W) (%) of the protective film bonded to the transparent resin film are the relational formula (1) :

S×W≤4.7 (1)S × W≤4.7 (One)

을 만족시키도록, 투명 수지 필름과 보호 필름이 조합된다. 백화 억제 효과의 관점에서, 본 발명의 적층체에 있어서의 상기 S×W의 값(이하, 「식 (1)의 값」이라고도 말한다)은, 바람직하게는 4.5 이하이며, 보다 바람직하게는 4.0 이하이며, 더 바람직하게는 3.5 이하이며, 보다 더 바람직하게는 3.4 이하이며, 특히 바람직하게는 3.3 이하이며, 특히 더 바람직하게는 2.0 이하이며, 특별히 바람직하게는 0.5 이하이며, 보다 특별히 바람직하게는 0.4 이하이다.In order to satisfy this, a transparent resin film and a protective film are combined. From the viewpoint of the whitening inhibitory effect, the value of S × W (hereinafter also referred to as “value of formula (1)”) in the laminate of the present invention is preferably 4.5 or less, and more preferably 4.0 or less. It is more preferably 3.5 or less, still more preferably 3.4 or less, particularly preferably 3.3 or less, even more preferably 2.0 or less, particularly preferably 0.5 or less, and even more preferably 0.4 It is as follows.

또한, S와 W가 관계식 (1'):In addition, S and W are relations (1 '):

0.005≤S×W (1')0.005≤S × W (One')

을 만족시키도록, 투명 필름과 보호 필름이 조합되는 것이 바람직하다. 본 발명의 적층체에 있어서의 상기 S×W의 값(이하, 「식 (1')의 값」이라고도 말한다)은 바람직하게는 0.007 이상이다.In order to satisfy the above, it is preferable that the transparent film and the protective film are combined. The value of S × W (hereinafter also referred to as “value of formula (1 ′)”) in the laminate of the present invention is preferably 0.007 or more.

또한, 투명 수지 필름의 양면에 보호 필름이 첩합되어 있을 경우, 각 보호 필름의 저분자 성분량(W)이 각각 투명 수지 필름의 잔류 용매량(S)과의 관계에 있어서, 상기 식 (1) 및 식 (1')을 만족시키는 것이 바람직하다.In addition, when the protective film is bonded on both surfaces of a transparent resin film, the said low molecular weight component amount (W) of each protective film has a relationship with the residual solvent amount (S) of a transparent resin film, respectively, said Formula (1) and a formula It is preferable to satisfy (1 ').

식 (1)의 값은, 잔류 용매량이 많은 투명 수지 필름을 이용할 경우에는, 저분자 성분량이 낮은 보호 필름을 선택하고, 한편, 저분자 성분량이 많은 보호 필름을 이용할 경우에는, 잔류 용매량의 적은 투명 수지 필름을 선택하는 등에 의해, 제어할 수 있다.When using the transparent resin film with many residual solvent amounts, the value of Formula (1) selects the protective film with low amount of low molecular weight components, and, on the other hand, when using the protective film with many low molecular weight components, it is transparent resin with little residual solvent amount. It can control by selecting a film.

본 발명의 적층체는, 투명 수지 필름의 잔류 용매량과 보호 필름의 저분자 성분량을 제어함으로써, 보호 필름을 첩합한 투명 수지 필름 표면의 백화를 억제하는 효과가 우수하다. 이 때문에, 본 발명의 적층체를 구성하는 투명 수지 필름은 투명성이 우수하고, 그 헤이즈는, 바람직하게는 1.0% 이하이며, 보다 바람직하게는 0.7% 이하이며, 더 바람직하게는 0.5% 이하이다. 또한, 본 발명의 적층체를 구성하는 투명 수지 필름의 전광선 투과율은, 바람직하게는 85% 이상이며, 보다 바람직하게는 87% 이상이며, 더 바람직하게는 90% 이상이다. 또한, 본 발명의 적층체를 구성하는 투명 수지 필름의 황색도는, 바람직하게는 3.0 이하이며, 보다 바람직하게는 2.5 이하이며, 더 바람직하게는 2.2 이하이다. 적층체를 구성하는 투명 수지 필름의 헤이즈나 전광선 투과율이 상기 범위에 있으면, 높은 투명성을 요구하는 광학 용도에 바람직한 적층체가 된다. 또한, 투명 수지 필름의 황색도가 낮으며, 착색이 억제되어 있는 점으로부터도 본 발명의 적층체는 광학 용도에 바람직하다. 또한, 본 발명에 있어서의 「투명 수지 필름의 백화」는, 후술하는 실시예에 기재하는 바와 같이, 광속 3000루멘의 고휘도 라이트를 조사함으로써, 식별할 수 있는 것으로서, 「백화」의 발생은, 투명 수지 필름의 헤이즈나 전광선 투과율에 반드시 직접 영향을 주는 것이 아니다. 본 발명의 적층체로부터 보호 필름을 박리해서 이용되는 투명 수지 필름은, 필름 표면의 백화가 생기기 어려우며, 투명성이 우수하기 때문에, 당해 투명 수지 필름을 이용하면, 예를 들면, 투과율이 낮은 수지 필름을 이용하였을 경우와 비교하여, 일정한 밝기를 확보하기 쉬워져, 표시 소자 등의 발광 강도를 억제하는 것이 가능하게 된다. 이 때문에, 소비 전력을 삭감할 수 있다.The laminated body of this invention is excellent in the effect which suppresses the whitening of the transparent resin film surface which bonded the protective film by controlling the residual solvent amount of a transparent resin film and the low molecular weight component amount of a protective film. For this reason, the transparent resin film which comprises the laminated body of this invention is excellent in transparency, The haze becomes like this. Preferably it is 1.0% or less, More preferably, it is 0.7% or less, More preferably, it is 0.5% or less. Moreover, the total light transmittance of the transparent resin film which comprises the laminated body of this invention becomes like this. Preferably it is 85% or more, More preferably, it is 87% or more, More preferably, it is 90% or more. Moreover, the yellowness of the transparent resin film which comprises the laminated body of this invention becomes like this. Preferably it is 3.0 or less, More preferably, it is 2.5 or less, More preferably, it is 2.2 or less. When the haze and total light transmittance of the transparent resin film which comprise a laminated body exist in the said range, it becomes a suitable laminated body for the optical use which requires high transparency. Moreover, since the yellowness of a transparent resin film is low and coloring is suppressed, the laminated body of this invention is suitable for an optical use. In addition, the "whitening of a transparent resin film" in this invention can be identified by irradiating the high brightness light of luminous flux 3000 lumens, as described in the Example mentioned later, and generation | occurrence | production of "whitening" is transparent It does not necessarily directly affect the haze or total light transmittance of a resin film. Since the transparent resin film which peels a protective film from the laminated body of this invention and is used hardly whitens the film surface, and is excellent in transparency, when using the said transparent resin film, for example, a resin film with low transmittance | permeability is used. Compared with the case of use, it is easy to secure a constant brightness, and it becomes possible to suppress the light emission intensity of a display element or the like. For this reason, power consumption can be reduced.

본 발명의 적층체는, 공지된 방법 및 장치/설비를 이용하여, 투명 수지 필름과 보호 필름을 첩합함으로써, 제조할 수 있다. 구체적으로는, 예를 들면,The laminated body of this invention can be manufactured by bonding a transparent resin film and a protective film using a well-known method and apparatus / equipment. Specifically, for example,

투명 수지 필름을 형성하기 위한 수지조성물을 용매와 혼합 및 교반해서 얻어지는 수지 바니시를 지지 기재 상에 도포하는 것;Applying a resin varnish obtained by mixing and stirring a resin composition for forming a transparent resin film on a support substrate;

도포된 수지 바니시를 건조시킴으로써 용매를 제거하고, 지지 기재 상에 투명 수지 필름의 층을 형성하는 것;Removing the solvent by drying the applied resin varnish and forming a layer of a transparent resin film on the supporting substrate;

지지 기재 상에 형성된 투명 수지 필름의 지지 기재와는 반대측의 면에 보호 필름을 첩합하는 것; 및 Bonding a protective film to the surface on the side opposite to the supporting substrate of the transparent resin film formed on the supporting substrate; And

지지 기재 상에 형성된 투명 수지 필름의 층으로부터 지지 기재를 박리하는 것을 포함하는 방법에 의해 제조할 수 있다.It can manufacture by the method containing peeling a support base material from the layer of the transparent resin film formed on the support base material.

예를 들면, 캐스트법으로 대표되는, 용매를 포함하는 수지 바니시를 도포하여 제막한 후, 건조에 의해 용매를 제거하는 공정을 포함하는 방법에 의해 연속적으로 투명 수지 필름을 제조하는 경우, 건조에 의해 용매를 완전하게 제거하는 것은 어려우며, 투명 수지 필름 중에 용매가 잔존한 채 다음 공정에 이용되는 경우가 많아, 보호 필름을 첩합하였을 때에 백화가 생기기 쉬워진다. 이러한 경우에 있어서도, 투명 수지 필름 중의 잔류 용매량에 따라, 상기 식 (1)의 관계를 만족시키도록 보호 필름을 선택함으로써, 또한, 이용하는 보호 필름의 저분자 성분량에 따라, 상기 식 (1)의 관계를 만족시키도록 투명 수지 필름의 건조 조건을 제어함으로써, 보호 필름을 첩합한 투명 수지 필름 표면에 생기는 백화를 용이하면서, 또한, 효과적으로 억제할 수 있다. 또한, 상기 식 (1')을 만족시키는 것이 바람직하다.For example, when manufacturing a transparent resin film continuously by the method including the process of apply | coating and forming into a film the resin varnish containing a solvent represented by the casting method, and drying, by drying, It is difficult to remove a solvent completely, and it is often used for the next process, with a solvent remaining in a transparent resin film, and whitening easily arises when bonding a protective film. Even in such a case, the relationship of the said Formula (1) is selected by selecting a protective film so that the relationship of Formula (1) may be satisfied according to the amount of residual solvent in a transparent resin film, and also according to the low molecular-component content of the protective film to be used. By controlling the drying conditions of a transparent resin film so that it may satisfy | fill, the whitening which arises on the transparent resin film surface which bonded the protective film can be suppressed easily, and can be effectively suppressed. Moreover, it is preferable to satisfy said formula (1 ').

본 발명의 적층체가 상기 방법에 의해 제조될 경우, 수지 바니시를 도포하는 지지 기재는 필름 형상의 기재로서, 예를 들면, 수지 필름 기재, 스틸 기재(예를 들면, SUS 벨트)여도 된다. 수지 필름 기재로서는, 예를 들면, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름이 있다. 지지 기재의 두께는, 특별히 제한되지 않으며, 예를 들면, 10∼500㎛이며, 바람직하게는 50∼300㎛이다.When the laminated body of this invention is manufactured by the said method, the support base material which apply | coats a resin varnish may be a film-shaped base material, for example, a resin film base material and a steel base material (for example, SUS belt). As a resin film base material, there exists a polyethylene terephthalate (PET) film, for example. The thickness of a support base material is not specifically limited, For example, it is 10-500 micrometers, Preferably it is 50-300 micrometers.

도막의 건조 공정에 있어서는, 수지 바니시 중의 용매가 소망의 범위가 되도록, 건조에 의해 용매를 제거하는 것이 바람직하다. 용매를 제거하기 위한 건조는, 자연 건조, 통풍 건조, 가열 건조 또는 감압 건조 및 이들의 조합에 의해 행해도 된다. 생산 효율 등의 관점에서는, 가열 건조가 바람직하다. 건조 조건은 이용하는 용매의 종류나 필름 중의 용매 함유량 등에 따라, 투명 수지 필름의 광학 특성을 손상하지 않는 범위에서 적절히 결정하면 된다. 예를 들면, 50∼300℃, 바람직하게는 70∼250℃의 온도로, 예를 들면, 5∼100분 정도 가열하여도 된다.In the drying process of a coating film, it is preferable to remove a solvent by drying so that the solvent in a resin varnish may be a desired range. Drying for removing the solvent may be performed by natural drying, ventilation drying, heat drying or reduced pressure drying, or a combination thereof. From a viewpoint of production efficiency etc., heat drying is preferable. What is necessary is just to determine drying conditions suitably in the range which does not impair the optical characteristic of a transparent resin film according to the kind of solvent used, solvent content in a film, etc. For example, you may heat at 50-300 degreeC, Preferably it is 70-250 degreeC, for example, about 5 to 100 minutes.

이어서, 상기 식 (1)의 관계를 만족시키는 저분자 성분량의 보호 필름을 투명 수지 필름의 지지 기재와는 반대측의 면에 첩합하여, 지지 기재 상에 투명 수지 필름의 층이 형성되고, 당해 투명 수지 필름의 층 상에 보호 필름이 더 적층된 적층 필름이 얻어진다. 그 후, 투명 수지 필름의 층으로부터 지지 기재를 박리함으로써, 투명 수지 필름에 보호 필름을 첩합한 적층 필름을 얻을 수 있다. 필요에 따라, 지지 기재를 박리한 투명 수지 필름의 표면에 보호 필름을 첩합하여도 된다.Subsequently, the protective film of the low molecular weight component which satisfy | fills the relationship of said Formula (1) is bonded together to the surface on the opposite side to the support base material of a transparent resin film, the layer of a transparent resin film is formed on a support base material, and the said transparent resin film A laminated film obtained by further laminating a protective film on a layer of is obtained. Then, the laminated | multilayer film which bonded the protective film to the transparent resin film can be obtained by peeling a support base material from the layer of a transparent resin film. As needed, you may bond a protective film to the surface of the transparent resin film which peeled the support base material.

본 발명의 적층체는, 보호 필름을 첩합한 투명 수지 필름의 표면에 있어서의 백화를 억제할 수 있으며, 높은 투명성 및 양호한 외관을 가지기 때문에, 각종 화상표시장치의 디스플레이 등의 광학 용도, 특히 플렉시블 디스플레이 전면판(윈도우 필름)에 적합하게 이용할 수 있다. 화상 표시 장치로서는, 텔레비전, 스마트폰, 휴대 전화, 카 네비게이션, 태블릿 PC, 휴대 게임기, 전자 페이퍼, 인디케이터, 게시판, 시계, 및 스마트 워치 등 웨어러블 디바이스 등을 들 수 있다. 플렉시블 디스플레이로서는, 플렉시블 특성을 가지는 화상 표시 장치, 예를 들면 텔레비전, 스마트폰, 휴대 전화, 카 네비게이션, 태블릿 PC, 휴대 게임기, 전자 페이퍼, 인디케이터, 게시판, 시계, 및 웨어러블 디바이스 등을 들 수 있다.Since the laminated body of this invention can suppress the whitening in the surface of the transparent resin film which bonded the protective film, and has high transparency and a favorable appearance, it is optical use, such as a display of various image display apparatuses, especially a flexible display. It can use suitably for a front plate (window film). Examples of the image display apparatus include a wearable device such as a television, a smartphone, a mobile phone, a car navigation system, a tablet PC, a portable game machine, an electronic paper, an indicator, a bulletin board, a clock, and a smart watch. As a flexible display, the image display apparatus which has flexible characteristics, for example, a television, a smart phone, a mobile telephone, car navigation, a tablet PC, a portable game machine, an electronic paper, an indicator, a bulletin board, a clock, a wearable device, etc. are mentioned.

(실시예)(Example)

이하, 실시예에 의해 본 발명을 더 상세하게 설명한다. 예 중의 「%」 및 「부」는, 특별히 기재가 없는 한, 질량% 및 질량부이다. 또한, 실시예 및 비교예에서 이용한 투명 수지 필름의 잔류 용매량 및 보호 필름의 저분자 성분량은, 각각, 하기 방법을 따라 측정, 산출하였다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples. "%" And "part" in an example are the mass% and a mass part, unless there is particular notice. In addition, the residual solvent amount of the transparent resin film used by the Example and the comparative example and the low molecular weight component amount of the protective film were respectively measured and calculated according to the following method.

<잔류 용매량(S)의 측정 방법><Measurement Method of Residual Solvent Amount (S)>

열중량-시차열(TG-DTA) 측정Thermogravimetry-Differential Heat (TG-DTA) Measurement

TG-DTA의 측정 장치로서, 히타치하이테크사이언스사제 TG/DTA6300을 이용하였다. 제조한 투명 폴리이미드계 필름으로부터 약 20㎎의 시료를 취득하였다. 이 시료를, 실온으로부터 120℃까지 10℃/분의 승온 속도로 승온하고, 120℃로 5분간 보지한 후, 400℃까지 10℃/분의 승온 속도로 승온(가열)하면서, 시료의 질량 변화를 측정하였다. 도 1은, 후술의 실시예 1에서 제조한 투명 폴리이미드계 필름의 TG-DTA 측정 결과를 나타낸다.As a measuring device of TG-DTA, TG / DTA6300 made by Hitachi High-Tech Science Co., Ltd. was used. About 20 mg of sample was obtained from the produced transparent polyimide-type film. The temperature of the sample is increased by heating at a temperature increase rate of 10 ° C./min from room temperature to 120 ° C., holding at 120 ° C. for 5 minutes, and then heating (heating) at 400 ° C. at a temperature increase rate of 10 ° C./min. Was measured. 1 shows the TG-DTA measurement result of the transparent polyimide film produced in Example 1 described later.

TG-DTA 측정 결과로부터, 120℃로부터 250℃에 걸쳐서의 질량 감소율(S)(질량%)을 관계식 (2)에 따라 산출하였다.From the TG-DTA measurement result, the mass reduction rate S (mass%) from 120 degreeC to 250 degreeC was computed according to relationship (2).

S(질량%)=100-(W1/W0)×100 (2)S (mass%) = 100- (W1 / W0) x 100 (2)

〔식 (2) 중, W0은 120℃로 5분간 보지한 후의 시료의 질량이며, W1은 250℃에 있어서의 시료의 질량이다〕.[In formula (2), W0 is the mass of the sample after holding at 120 degreeC for 5 minutes, and W1 is the mass of the sample in 250 degreeC.).

산출된 질량 감소율(S)을, 투명 수지 필름 중의 잔류 용매량(S)(질량%)이라고 하였다.The calculated mass reduction rate S was referred to as the amount of residual solvent S (mass%) in the transparent resin film.

<저분자 성분량의 측정 방법><Measurement method of low molecular weight component>

저분자 성분량은 겔 침투 크로마토그래피(GPC)법에 의해 구해진다. GPC 측정은 하기의 조건으로 행한다. 저분자 성분량은 겔 침투 크로마토그래피(GPC)법에 의해 구해진다. 얻어진 크로마토그램에 대해서, 시험 대상 용액과 참조 용액의 굴절률 차에 유래하는 전기 신호값(강도(Y))을, 폴리스티렌 환산 분자량 Log M에 대하여 플롯한 차트를 얻었다. 이 차트에 대해서, Log M이 2.82, 및 7.61의 점을 연결한 선을 베이스라인으로서 규정하였다. 또한 베이스라인에 의해 보정된 강도(Y)값이 마이너스가 된 부분에 대해서는, 0이라고 하였다.The low molecular weight component is determined by gel permeation chromatography (GPC). GPC measurement is performed on condition of the following. The low molecular weight component is determined by gel permeation chromatography (GPC). About the obtained chromatogram, the chart which plotted the electric signal value (intensity (Y)) derived from the refractive index difference of the test object solution and a reference solution with respect to polystyrene conversion molecular weight Log M was obtained. About this chart, the line which Log M connected the points of 2.82 and 7.61 defined as the baseline. In addition, it was set as 0 about the part where the intensity | strength Y value corrected by the baseline became negative.

(1) 시료 용액 조제 조건(1) Sample solution preparation conditions

용매 : 오르토디클로로벤젠(와코순약(주)제, 특급)에 BHT(디-tert-부틸히드록시톨루엔)를 0.1w/V% 첨가하여 사용 Solvent: 0.1 wt / V% of BHT (di-tert-butylhydroxytoluene) is added to orthodichlorobenzene (made by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)

시료 용액 농도 : 1㎎/㎖ Sample solution concentration: 1 mg / ml

용해용 자동 진탕기 : DF-8020(토소(주)제) Automatic shaker for melting: DF-8020 (manufactured by Tosoh Corporation)

용해 조건 : 5㎎의 시료를 1000메시의 SUS제의 철망 파우치에 봉입하고, 시료를 봉입한 철망 파우치를 시험관에 넣은 후, 시험관에 5㎖의 용매를 가하였다. 이어서, 알루미늄 호일로 뚜껑을 덮은 시험관을 DF-8020에 세트하고, 60왕복/분의 교반 속도로 140℃, 120분간 교반하였다. Dissolution condition: A 5 mg sample was sealed in a wire mesh pouch made of SUS of 1000 mesh, a wire mesh pouch containing the sample was placed in a test tube, and 5 ml of solvent was added to the test tube. Subsequently, the test tube which covered with aluminum foil was set to DF-8020, and it stirred at 140 degreeC and 120 minutes at the stirring speed of 60 round trips / minute.

(2) 측정 조건(2) measurement conditions

(GPC 장치 및 소프트웨어)(GPC device and software)

측정 장치 : 토소사제 HLC-8121 GPC/HT(토소(주)제) Measuring apparatus: HLC-8121 GPC / HT manufactured by Tosoh Corporation (manufactured by Tosoh Corporation)

측정 소프트 : GPC-8020 modelⅡ 데이터수집 Version 4.32(토소(주)제) Measurement Software: GPC-8020 modelⅡ Data Collection Version 4.32 (manufactured by Tosoh Corporation)

해석 소프트 : GPC-8020 modelⅡ 데이터해석 Version 4.32(토소(주)제) Analysis software: GPC-8020 modelⅡ data analysis Version 4.32 (manufactured by Tosoh Corporation)

(측정 조건)(Measuring conditions)

GPC 칼럼 : PLgel Individual(5㎛, 50Å, 7.5㎜ ID×30㎝, 애질런트테크놀로지제) 1개와, TSKgel GMHHR-H(S)HT(7.5㎜ ID×30㎝, 토소(주)제) 2개를 연결GPC column: 1 PLgel Individual (5µm, 50mm, 7.5mm ID × 30cm, made by Agilent Technologies), and 2 TSKgel GMH HR- H (S) HT (7.5mm ID × 30cm, manufactured by Tosoh Corporation) Connect

이동상 : 오르토디클로로벤젠(와코순약(주)제, 특급)에 BHT를 0.1w/V% 첨가하여 사용 Mobile phase: Used by adding 0.1w / V% of BHT to orthodichlorobenzene (made by Wako Pure Chemical Co., Ltd.)

유속 : 1㎖/분 Flow rate: 1 ml / min

칼럼 오븐 온도 : 140℃ Column oven temperature: 140 ℃

오토 샘플러 온도 : 140℃ Auto sampler temperature: 140 ℃

시스템 오븐 온도 : 40℃ System oven temperature: 40 ℃

검출 : 시차 굴절률 검출기(RID) Detection: Differential Refractive Index Detector (RID)

RID 셀 온도 : 140℃ RID cell temperature: 140 ℃

시료 용액 주입량 : 300㎕ Sample solution injection volume: 300µl

GPC 칼럼 교정용 표준 물질 용액 : 토소(주)제 표준 폴리스티렌을 각각 하기 표와 같은 질량으로 저울에 달아, 5㎖의 오르토디클로로벤젠(이동상과 같은 조성)을 가하여, 실온에서 완전하게 용해시켜서 조제Standard material solution for GPC column calibration: Standard polystyrene manufactured by Tosoh Co., Ltd. was weighed in the mass as shown in the following table, and 5 ml of orthodichlorobenzene (the same composition as the mobile phase) was added to dissolve completely at room temperature.

Figure pat00004
Figure pat00004

GPC 측정 결과로부터, 저분자 성분량(W)(%)을 관계식 (3)에 의해 산출하였다.From the GPC measurement result, the low molecular weight component (W) (%) was calculated by the relational formula (3).

W(%)=V0/V1 (3)W (%) = V0 / V1 (3)

〔식 (3) 중, V0은, GPC 측정으로부터 얻어진 차트에 있어서의 Log M이 2.82로부터 3.32까지의 면적이며, V1은 차트 전체의 면적이다〕.[In Formula (3), V0 is the area of Log M in the chart obtained from the GPC measurement from 2.82 to 3.32, and V1 is the area of the entire chart.

<탄성률의 측정 방법><Measurement method of elastic modulus>

실시예 및 비교예에서 얻어진 투명 수지 필름을 200℃로 20분간 건조하고, 덤벨 커터를 이용하여 10㎜×100㎜의 단책상(短冊狀)으로 컷하여, 샘플을 얻었다. 이 샘플의 탄성률을 (주)시마즈제작소제 오토그래프 AG-IS를 이용하여, 척(chuck)간 거리 500㎜, 인장 속도 20㎜/분의 조건으로 S-S곡선을 측정하고, 그 기울기로부터 광학 필름의 탄성률을 산출하였다.The transparent resin film obtained by the Example and the comparative example was dried at 200 degreeC for 20 minute (s), it cut into 10 mm x 100 mm single stand shape using the dumbbell cutter, and the sample was obtained. Using the Autograph AG-IS manufactured by Shimadzu Corporation, the elastic modulus of this sample was measured on an SS curve under the conditions of a distance of 500 mm between chucks and a tensile speed of 20 mm / min, and from the inclination of the optical film. The elastic modulus was calculated.

<전광선 투과율의 측정 방법><Measurement method of total light transmittance>

실시예 및 비교예에서 얻어진 투명 수지 필름을 30㎜×30㎜의 크기로 컷하고, 헤이즈 컴퓨터(스가시험기(주)제, 「HGM-2DP」)를 이용하여, 광학 필름의 두께 50㎛에 있어서의 전광선 투과율(%)을 측정하였다.The transparent resin film obtained by the Example and the comparative example is cut into the magnitude | size of 30 mm x 30 mm, and is 50 micrometers in thickness of an optical film using a haze computer (manufactured by Suga Tester Co., Ltd., "HGM-2DP"). The total light transmittance of (%) was measured.

<헤이즈값의 측정 방법><Measuring method of haze value>

실시예 및 비교예에서 얻어진 투명 수지 필름을 30㎜×30㎜의 크기로 컷하고, 헤이즈 컴퓨터(스가시험기(주)제, 「HGM-2DP」)를 이용하여 헤이즈(%)를 측정하였다.The transparent resin film obtained by the Example and the comparative example was cut into the magnitude | size of 30 mm x 30 mm, and haze (%) was measured using the haze computer ("HGM-2DP" made by Suga Test Machine Co., Ltd.).

<황색도의 측정 방법><Measurement method of yellowness>

실시예 및 비교예에서 얻어진 투명 수지 필름을 30㎜×30㎜의 크기로 컷하고, 자외가시근적외 분광광도계(일본분광(주)제 V-670)를 이용하여, 3자극값(X, Y, Z)을 구하고, 계산식 (4)에 대입함으로써, YI값을 산출하였다.The transparent resin film obtained by the Example and the comparative example was cut into the magnitude | size of 30 mm x 30 mm, and tristimulus value (X, Y was used using the ultraviolet visible near-infrared spectrophotometer (V-670 by Nippon Kagaku Co., Ltd.). And Z) were calculated | required and substituted into calculation formula (4), and YI value was computed.

YI=100×(1.2769X-1.0592Z)/Y (4)YI = 100 × (1.2769X-1.0592Z) / Y (4)

제조예 1 : 투명 폴리이미드계 고분자의 조제Preparation Example 1 Preparation of Transparent Polyimide Polymer

세퍼러블 플라스크에 실리카 겔 관, 교반 장치 및 온도계를 부착한 반응기와, 오일 배스를 준비하였다. 이 플라스크 내에, 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 무수물(6FDA) 75.52g과, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)-4,4'-디아미노디페닐(TFMB) 54.44g을 투입하였다. 이를 400rpm으로 교반하면서 N,N-디메틸아세트아미드(DMAc) 519.84g을 가하고, 플라스크의 내용물이 균일한 용액이 될 때까지 교반을 계속하였다. 계속해서, 오일 배스를 이용해서 용기 내부 온도가 20∼30℃의 범위가 되도록 조정하면서 추가로 20시간 교반을 계속하고, 반응시켜서 폴리아믹산을 생성시켰다. 30분 후, 교반 속도를 100rpm으로 변경하였다. 20시간 교반 후, 반응계 온도를 실온으로 되돌리고, DMAc 649.8g을 가하여 폴리머 농도가 10중량%가 되도록 조정하였다. 또한, 피리딘 32.27g, 무수아세트산 41.65g을 가하고, 실온에서 10시간 교반하여 이미드화를 행했다. 반응 용기로부터 폴리이미드 바니시를 취출하였다. 얻어진 폴리이미드 바니시를 메탄올 중에 적하(滴下)해서 재침전을 행하고, 얻어진 분체(粉體)를 가열 건조해서 용매를 제거하여, 고형분으로서 투명 폴리이미드계 고분자를 얻었다. 얻어진 폴리이미드계 고분자의 GPC 측정을 행한 바, 중량 평균 분자량은 360,000이었다.A reactor equipped with a silica gel tube, a stirring device, and a thermometer was attached to the separable flask, and an oil bath was prepared. In this flask, 75.52 g of 4,4 '-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic anhydride (6FDA) and 2,2'-bis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminodiphenyl ( TFMB) 54.44 g was added. 519.84 g of N, N-dimethylacetamide (DMAc) was added while stirring at 400 rpm, and stirring was continued until the contents of the flask became a uniform solution. Subsequently, stirring was further continued for 20 hours, and it reacted to produce polyamic acid, adjusting so that the temperature inside a container might be in the range of 20-30 degreeC using an oil bath. After 30 minutes, the stirring speed was changed to 100 rpm. After stirring for 20 hours, the reaction system temperature was returned to room temperature, and 649.8 g of DMAc was added to adjust the polymer concentration to 10% by weight. Further, 32.27 g of pyridine and 41.65 g of acetic anhydride were added, followed by stirring at room temperature for 10 hours to perform imidization. The polyimide varnish was taken out from the reaction vessel. The obtained polyimide varnish was dripped in methanol, reprecipitation was carried out, the obtained powder was heat-dried, the solvent was removed, and the transparent polyimide polymer was obtained as solid content. The GPC measurement of the obtained polyimide polymer showed a weight average molecular weight of 360,000.

제조예 2 : 투명 폴리아미드이미드계 고분자의 조제Preparation Example 2 Preparation of Transparent Polyamide-imide Polymer

질소 가스 분위기 하, 교반 날개를 구비한 1L 세퍼러블 플라스크에, TFMB 50g(156.13m㏖) 및 DMAc 642.07g을 가하고, 실온에서 교반하면서 TFMB를 DMAc에 용해시켰다. 다음으로, 플라스크에 6FDA 20.84g(46.91m㏖)을 첨가하고, 실온에서 3시간 교반하였다. 그 후, 4,4'-옥시비스(벤조일클로라이드)(OBBC) 9.23g(31.27m㏖), 이어서 테레프탈로일클로라이드(TPC) 15.87g(78.18m㏖)을 플라스크에 가하여, 실온에서 1시간 교반하였다. 이어서, 플라스크에 4-메틸피리딘 9.89g(106.17m㏖)과 무수아세트산 14.37g(140.73m㏖)을 가하여, 실온에서 30분간 교반 후, 오일 배스를 이용해서 70℃로 승온하고, 3시간 더 교반하여, 반응액을 얻었다.TFMB 50g (156.13 mmol) and DMAc 642.07g were added to the 1 L separable flask with a stirring blade under nitrogen gas atmosphere, and TFMB was dissolved in DMAc, stirring at room temperature. Next, 20.84 g (46.91 mmol) of 6FDA was added to the flask, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. Thereafter, 9.23 g (31.27 mmol) of 4,4'-oxybis (benzoyl chloride) (OBBC) was added to the flask, followed by 15.87 g (78.18 mmol) of terephthaloyl chloride (TPC), followed by stirring at room temperature for 1 hour. It was. Subsequently, 9.89 g (106.17 mmol) of 4-methylpyridine and 14.37 g (140.73 mmol) of acetic anhydride were added to the flask, and after stirring at room temperature for 30 minutes, the temperature was raised to 70 ° C. using an oil bath, followed by further stirring for 3 hours. And the reaction liquid was obtained.

얻어진 반응액을 실온까지 냉각하고, 대량의 메탄올 중에 실(絲)형상으로 투입하고, 석출된 침전물을 취출하여, 메탄올에 6시간 침지 후, 메탄올으로 세정하였다. 다음으로, 100℃에서 침전물의 감압 건조를 행하고, 투명 폴리아미드이미드계 고분자를 얻었다. 얻어진 폴리아미드이미드계 고분자의 GPC 측정을 행한 바, 중량 평균 분자량은 420,000이었다.The obtained reaction liquid was cooled to room temperature, poured into a large amount of methanol in a large shape, and the precipitate precipitated was taken out and immersed in methanol for 6 hours, and then washed with methanol. Next, the precipitate was dried under reduced pressure at 100 ° C to obtain a transparent polyamideimide polymer. When the GPC measurement of the obtained polyamide-imide type polymer was performed, the weight average molecular weight was 420,000.

제조예 3 : 실리카 졸의 조제Preparation Example 3 Preparation of Silica Sol

졸-겔법에 의해 제조된 BET직경(BET법으로 측정된 평균 1차 입자경) 27㎚의 어모퍼스 실리카 졸을 원료로 하고, 용매 치환에 의해, γ-부티로락톤(이하, GBL이라고 표기하는 경우도 있다) 치환 실리카 졸을 조제하였다. 얻어진 졸을 체눈 10㎛의 멤브레인 필터로 여과하여, GBL 치환 실리카 졸을 얻었다. 얻어진 GBL 치환 실리카 졸은, 모두 실리카 입자가 30∼32질량%였다.When using an amorphous silica sol having a BET diameter (average primary particle size measured by the BET method) 27 nm produced by the sol-gel method as a raw material, and γ-butyrolactone (hereinafter referred to as GBL) by solvent substitution A substituted silica sol was prepared. The obtained sol was filtered through a 10 μm membrane filter to obtain a GBL substituted silica sol. As for the obtained GBL substituted silica sol, all were 30-32 mass% silica particles.

실시예 1 : 적층체의 제조Example 1 Preparation of Laminate

상기 제조예 1에 의해 얻어진 투명 폴리이미드계 고분자를, γ-부티로락톤(GBL)과 DMAc를 1:9로 혼합한 혼합 용매 중에, 16.5%의 농도로 용해하여 수지 바니시를 얻었다. 얻어진 수지 바니시를, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름 기재(두께 188㎛, 도요보(주)제(제품명:코스모샤인(등록 상표) A4100)) 상에 유연 성형에 의해 도포하여 제막하였다. 그 후, 50℃로 30분, 140℃로 10분 가열함으로써 도막을 건조하고, 도막으로부터 PET기재를 박리하였다. 그 후, 200℃로 12분 가열함으로써, 두께 약 80㎛의 투명 수지 필름을 얻었다. 얻어진 투명 수지계 필름의 잔류 용매량은 1질량%였다. 또한, 얻어진 투명 수지 필름의 전광선 투과율은 92.5%, 헤이즈는 0.3%, 황색도는 2.1, 탄성률은 4㎬이었다.The transparent polyimide-based polymer obtained in Production Example 1 was dissolved in a mixed solvent obtained by mixing γ-butyrolactone (GBL) and DMAc at 1: 9 at a concentration of 16.5% to obtain a resin varnish. The obtained resin varnish was apply | coated and formed into a film on the polyethylene terephthalate (PET) film base material (188 micrometers in thickness, Toyobo Co., Ltd. product (product name: Cosmoshine (registered trademark) A4100) by casting molding). Then, the coating film was dried by heating at 50 degreeC for 30 minutes and 140 degreeC for 10 minutes, and the PET base material was peeled from the coating film. Then, the transparent resin film of thickness about 80 micrometers was obtained by heating at 200 degreeC for 12 minutes. The residual solvent amount of the obtained transparent resin film was 1 mass%. Moreover, the total light transmittance of the obtained transparent resin film was 92.5%, the haze was 0.3%, the yellowness was 2.1 and the elasticity modulus was 4 kPa.

이어서, 보호 필름으로서, 도레이필름가공(주)제 트레테크(등록 상표) N-711을 준비하였다. 상기 보호 필름의 저분자 성분량은, 0.33%였다. 제조한 투명 수지 필름에, 롤러를 이용해서 첩합하여, 적층체를 제조하였다.Subsequently, Toray Film Processing Co., Ltd. Tretec (registered trademark) N-711 was prepared as a protective film. The low molecular weight component of the protective film was 0.33%. It bonded together to the produced transparent resin film using the roller and manufactured the laminated body.

<백화의 평가><Evaluation of white flower>

얻어진 투명 수지 필름의 백화를 확인하였다.Whitening of the obtained transparent resin film was confirmed.

실시예 1에서 제조한 적층체를, 온도 23℃, 습도 50%의 환경에서 24시간 정치(靜置)하였다. 그 후, 첩합한 보호 필름을 박리하고, 보호 필름이 첩합되어 있는 투명 수지 필름의 표면을, 클린 웨이스트로 문질렀다. 그 후, 광속 3000루멘의 고휘도 라이트를 이용하여, 하기 평가 기준을 따라 필름의 외관(백화)을 평가하였다. 결과를 표 2에 나타낸다.The laminated body manufactured in Example 1 was left still for 24 hours in the environment of the temperature of 23 degreeC, and 50% of humidity. Thereafter, the bonded protective film was peeled off, and the surface of the transparent resin film to which the protective film was bonded was rubbed with a clean waste. Then, the appearance (whitening) of the film was evaluated in accordance with the following evaluation criteria using the high luminance light of luminous flux 3000 lumens. The results are shown in Table 2.

<백화의 평가 기준><Evaluation standard of whitening>

○ : 백화는 확인되지 않았다(Circle): Whitening was not confirmed.

× : 투명 수지 필름의 표면에서 백화가 확인되었다X: Whitening was confirmed on the surface of a transparent resin film.

(실시예 2)(Example 2)

상기 제조예 1에 의해 얻어진 투명 폴리이미드계 고분자를, γ-부티로락톤(GBL)과 DMAc를 1:9로 혼합한 혼합 용매 중에, 16.5%의 농도로 용해하여 수지 바니시를 얻었다. 얻어진 수지 바니시를, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름 기재(두께 188㎛, 도요보(주)제(제품명:코스모샤인(등록 상표) A4100)) 상에 유연 성형에 의해 도포하여 제막하였다. 그 후, 50℃로 30분, 140℃로 10분 가열함으로써 도막을 건조하고, 도막으로부터 PET기재를 박리하고, 두께 80㎛의 투명 수지계 필름을 얻었다. 얻어진 투명 수지 필름의 잔류 용매량은 10질량%였다. 이를 투명 수지 필름으로서 이용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지의 방법에 의해 적층체를 얻었다. 실시예 1과 마찬가지의 방법에 의해, 필름의 외관(백화)을 평가하였다. 결과를 표 2에 나타낸다.The transparent polyimide-based polymer obtained in Production Example 1 was dissolved in a mixed solvent obtained by mixing γ-butyrolactone (GBL) and DMAc at 1: 9 at a concentration of 16.5% to obtain a resin varnish. The obtained resin varnish was apply | coated and formed into a film on the polyethylene terephthalate (PET) film base material (188 micrometers in thickness, Toyobo Co., Ltd. product (product name: Cosmoshine (registered trademark) A4100) by casting molding). Then, the coating film was dried by heating at 50 degreeC for 30 minutes and 140 degreeC for 10 minutes, the PET base material was peeled from the coating film, and the 80-micrometer-thick transparent resin film was obtained. The residual solvent amount of the obtained transparent resin film was 10 mass%. A laminated body was obtained by the method similar to Example 1 except having used this as a transparent resin film. By the method similar to Example 1, the external appearance (whitening) of the film was evaluated. The results are shown in Table 2.

(실시예 3)(Example 3)

보호 필름으로서, 트레테크(등록 상표) 7832C(도레이필름가공(주)제, 저분자 성분량:0.48%)를 이용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지의 방법에 의해 적층체를 얻었다. 실시예 1과 마찬가지의 방법에 의해, 필름의 외관(백화)을 평가하였다. 결과를 표 2에 나타낸다.As a protective film, the laminated body was obtained by the method similar to Example 1 except having used Tretech 7832C (Toray Film Processing Co., Ltd. product, low molecular weight component amount: 0.48%). By the method similar to Example 1, the external appearance (whitening) of the film was evaluated. The results are shown in Table 2.

(실시예 4)(Example 4)

보호 필름으로서, 트레팬(등록 상표) BO 25-MK01(도레이(주)제, 저분자 성분량:0.04%)을 이용한 것 이외에는, 실시예 2와 마찬가지의 방법에 의해 적층체를 얻었다. 실시예 1과 마찬가지의 방법에 의해, 필름의 외관(백화)을 평가하였다. 결과를 표 2에 나타낸다.As a protective film, the laminated body was obtained by the method similar to Example 2 except having used Trepan (trademark) BO 25-MK01 (made by Toray Corporation, the amount of low molecular weight components: 0.04%). By the method similar to Example 1, the external appearance (whitening) of the film was evaluated. The results are shown in Table 2.

(실시예 5)(Example 5)

상기 제조예 2에 의해 얻어진 투명 폴리아미드이미드계 고분자를, DMAc 용매 중에, 10%의 농도로 용해하여 수지 바니시를 얻은 것 이외는, 실시예 2와 마찬가지의 방법에 의해 적층체를 얻었다. 실시예 1과 마찬가지의 방법에 의해, 필름의 외관(백화)을 평가하였다. 결과를 표 2에 나타낸다.The laminated body was obtained by the method similar to Example 2 except having melt | dissolved the transparent polyamide-imide type polymer obtained by the said manufacture example 2 in the density | concentration of 10% in DMAc solvent, and obtained the resin varnish. By the method similar to Example 1, the external appearance (whitening) of the film was evaluated. The results are shown in Table 2.

(실시예 6)(Example 6)

제조예 2에서 얻어진 투명 폴리아미드이미드계 고분자를 GBL에 용해하고, 제조예 3에서 얻어진 GBL 치환 실리카 졸을 가하여 충분하게 혼합함으로써, 표 2에 기재된 조성인 투명 폴리아미드이미드계 고분자/실리카 입자 혼합 바니시(이하, 혼합 바니시라고 칭하는 경우가 있다)를 얻었다. 그 때, 폴리아미드이미드계 고분자/실리카 입자 농도(수지와 실리카 입자의 총 질량에 대한 농도)가 10질량%가 되도록 혼합 바니시를 조제하였다. 그 후, 얻어진 혼합 바니시를, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 필름 기재(두께 188㎛, 도요보(주)제(제품명:코스모샤인(등록 상표) A4100)) 상에 유연 성형에 의해 도포하여 제막하였다. 그 후, 50℃로 30분, 140℃로 10분 가열함으로써 도막을 건조하고, 도막으로부터 PET기재를 박리하고, 두께 50㎛의 투명 수지 필름을 얻었다. 얻어진 투명 수지 필름의 잔류 용매량은 14질량%였다. 이를 투명 수지 필름으로서 이용한 것 이외에는, 실시예 1과 마찬가지의 방법에 의해 적층체를 얻었다. 실시예 1과 마찬가지의 방법에 의해, 필름의 외관(백화)을 평가하였다. 결과를 표 2에 나타낸다.The transparent polyamideimide-based polymer / silica particle mixed varnish having the composition shown in Table 2 by dissolving the transparent polyamideimide-based polymer obtained in Production Example 2 in GBL, and by adding the GBL substituted silica sol obtained in Production Example 3 and sufficiently mixing. (Hereinafter, it may be called mixed varnish.). At that time, the mixed varnish was prepared so that the polyamide-imide polymer / silica particle concentration (concentration with respect to the total mass of the resin and silica particles) was 10 mass%. Then, the obtained mixed varnish was apply | coated and formed into a film on the polyethylene terephthalate (PET) film base material (188 micrometers in thickness, Toyobo Co., Ltd. product (product name: Cosmoshine (trademark) A4100) by casting molding). Then, the coating film was dried by heating at 50 degreeC for 30 minutes and 140 degreeC for 10 minutes, the PET base material was peeled from the coating film, and the 50-micrometer-thick transparent resin film was obtained. The residual solvent amount of the obtained transparent resin film was 14 mass%. A laminated body was obtained by the method similar to Example 1 except having used this as a transparent resin film. By the method similar to Example 1, the external appearance (whitening) of the film was evaluated. The results are shown in Table 2.

(실시예 7)(Example 7)

제조예 2에 의해 얻어진 투명 폴리아미드이미드계 고분자를, DMAc 중에, 12%의 농도로 용해하여 수지 바니시를 얻었다. 도막의 건조 조건을, 70℃로 30분, 140℃로 15분 가열로 변경한 것 이외는, 실시예 2와 마찬가지의 방법에 의해 적층체를 얻었다. 실시예 1과 마찬가지의 방법에 의해, 필름의 외관(백화)을 평가하였다. 결과를 표 2에 나타낸다.The transparent polyamide-imide polymer obtained in Production Example 2 was dissolved in DMAc at a concentration of 12% to obtain a resin varnish. The laminated body was obtained by the method similar to Example 2 except having changed the drying conditions of the coating film at 70 degreeC for 30 minutes, and 140 degreeC for 15 minutes. By the method similar to Example 1, the external appearance (whitening) of the film was evaluated. The results are shown in Table 2.

(실시예 8)(Example 8)

도막으로부터 PET기재를 박리한 후, 200℃로 14시간 가열한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지의 방법에 의해 적층체를 얻었다. 얻어진 투명 수지계 필름의 두께는 79㎛, 잔류 용매량은 0.024질량%였다. 실시예 1과 마찬가지의 방법에 의해, 필름의 외관(백화)을 평가하였다. 결과를 표 2에 나타낸다.After peeling a PET base material from a coating film, the laminated body was obtained by the method similar to Example 1 except having heated at 200 degreeC for 14 hours. The thickness of the obtained transparent resin film was 79 micrometers, and the amount of residual solvent was 0.024 mass%. By the method similar to Example 1, the external appearance (whitening) of the film was evaluated. The results are shown in Table 2.

(비교예 1)(Comparative Example 1)

보호 필름으로서, 트레테크(등록 상표) 7832C(도레이필름가공(주)제, 저분자 성분량:0.48%)를 이용한 것 이외에는, 실시예 2와 마찬가지의 방법에 의해 적층체를 얻었다. 실시예 1과 마찬가지의 방법에 의해, 필름의 외관(백화)을 평가하였다. 결과를 표 2에 나타낸다.As a protective film, the laminated body was obtained by the method similar to Example 2 except having used Tretech 7832C (Toray Film Processing Co., Ltd. product, low molecular weight component amount: 0.48%). By the method similar to Example 1, the external appearance (whitening) of the film was evaluated. The results are shown in Table 2.

(비교예 2)(Comparative Example 2)

보호 필름으로서, 트레테크(등록 상표) 7832C(도레이필름가공(주)제, 저분자 성분량:0.48%)을 이용한 것 이외에는, 실시예 6과 마찬가지의 방법에 의해 적층체를 얻었다. 실시예 1과 마찬가지의 방법에 의해, 필름의 외관(백화)을 평가하였다. 결과를 표 2에 나타낸다.As a protective film, the laminated body was obtained by the method similar to Example 6 except having used Tretech 7832C (Toray Film Processing Co., Ltd. product, low molecular weight component amount: 0.48%). By the method similar to Example 1, the external appearance (whitening) of the film was evaluated. The results are shown in Table 2.

Figure pat00005
Figure pat00005

Claims (6)

폴리이미드, 폴리아미드 및 폴리아미드이미드로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종 및 1종 이상의 용매를 포함하여 이루어지며, 캐스트법에 의해 상기 1종 이상의 용매를 이용하여 제조되는 투명 수지 필름과, 상기 투명 수지 필름의 적어도 일방의 면에 첩합된 보호 필름을 포함하여 이루어지는 적층체에 있어서,
상기 1종 이상의 용매 중에서 가장 비점이 높은 용매의 비점이 120∼300℃이며,
열중량-시차열(TG-DTA) 측정에 의한 120℃로부터 250℃에 있어서의 질량 감소율로서 산출되는, 상기 투명 수지 필름의 잔류 용매량(S)(질량%)과, 상기 보호 필름의, 측정 온도 140℃에 있어서의 겔 침투 크로마토그래피에 의해 측정하여 얻어지는 차트의 전면적에 대한 Log M이 2.82로부터 3.32까지의 면적의 비율로서 정의되는 저분자 성분량(W)(%)이, 관계식 (1):
S×W≤4.7 (1)
을 만족시키고,
W가 0.33 이하이며,
상기 투명 수지 필름의 두께는 10∼500㎛인, 적층체.
The transparent resin film which consists of at least 1 sort (s) and 1 or more sort (s) of solvent chosen from the group which consists of a polyimide, polyamide, and polyamide imide, and is manufactured using the said 1 or more solvent by the casting method, and the said transparent In the laminated body which consists of a protective film bonded to at least one surface of the resin film,
The boiling point of the solvent with the highest boiling point among the said 1 or more types of solvents is 120-300 degreeC,
Measurement of residual solvent amount (S) (mass%) of the said transparent resin film and the said protective film which are calculated as a mass reduction rate in 120 degreeC from 250 degreeC by thermogravimetry-differential heat (TG-DTA) measurement The amount of low molecular weight component (W) (%) defined as a ratio of the area from 2.82 to 3.32 for the log area of the chart obtained by measurement by gel permeation chromatography at a temperature of 140 ° C is represented by the relation (1):
S × W≤4.7 (1)
To satisfy
W is 0.33 or less,
The laminated body whose thickness of the said transparent resin film is 10-500 micrometers.
제 1 항에 있어서,
S와 W가 관계식 (1'):
0.005≤S×W (1')
을 만족시키는, 적층체.
The method of claim 1,
S and W are relations (1 '):
0.005≤S × W (1 ')
To satisfy the laminate.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
투명 수지 필름의 헤이즈가 1.0% 이하인, 적층체.
The method according to claim 1 or 2,
The laminated body whose haze of a transparent resin film is 1.0% or less.
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
투명 수지 필름의 전광선 투과율이 85% 이상인, 적층체.
The method according to any one of claims 1 to 3,
The laminated body whose total light transmittance of a transparent resin film is 85% or more.
제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
투명 수지 필름이, N,N-디메틸아세트아미드, γ-부티로락톤, N-메틸피롤리돈, 시클로펜타논, 아세트산 부틸 및 아세트산 아밀로 이루어지는 군에서 선택되는 용매를 적어도 1개 포함하는, 적층체.
The method according to any one of claims 1 to 4,
Lamination | stacking which a transparent resin film contains at least 1 solvent chosen from the group which consists of N, N- dimethylacetamide, (gamma) -butyrolactone, N-methylpyrrolidone, cyclopentanone, butyl acetate, and amyl acetate. sieve.
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
보호 필름이 폴리올레핀계 수지 필름인, 적층체.
The method according to any one of claims 1 to 5,
The laminated body whose protective film is a polyolefin resin film.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20210123308A (en) * 2019-02-04 2021-10-13 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 colorless and transparent polyimide film
TW202112542A (en) 2019-08-08 2021-04-01 日商住友化學股份有限公司 Laminate prevent peeling of the protective film or warping of the laminate from occurring in the laminate of the protective film and the transparent resin film
KR102260732B1 (en) * 2019-08-14 2021-06-07 에스케이씨 주식회사 Polyimide-based composite film and display device comprising same
KR102147297B1 (en) 2019-09-30 2020-08-24 에스케이이노베이션 주식회사 Window cover film and flexible display panel including the same
KR102147299B1 (en) 2019-09-30 2020-08-24 에스케이이노베이션 주식회사 Window cover film and flexible display panel including the same
KR102147349B1 (en) 2019-09-30 2020-08-25 에스케이이노베이션 주식회사 Window cover film and flexible display panel including the same

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010208312A (en) 2009-02-13 2010-09-24 Toyobo Co Ltd Multilayer polyimide film
JP2015214122A (en) 2014-05-13 2015-12-03 東洋紡株式会社 Polyimide film for forming laminate
JP2016087799A (en) 2014-10-29 2016-05-23 東レ・デュポン株式会社 Long-sized laminate for high frequency circuit board, and method for manufacturing the same

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101311755A (en) * 2007-05-23 2008-11-26 富士胶片株式会社 Optical film, optical compensation film, polarizing plate, and liquid-crystal display device
JP2010228296A (en) * 2009-03-27 2010-10-14 Nippon Shokubai Co Ltd Optical laminate film and method of manufacturing optical film
JP2013018166A (en) * 2011-07-08 2013-01-31 Dainippon Printing Co Ltd Laminate and method for producing the same
JP5901451B2 (en) * 2012-07-03 2016-04-13 富士フイルム株式会社 Transparent laminate, capacitance input device, and image display device
JP2014071261A (en) * 2012-09-28 2014-04-21 Sumitomo Chemical Co Ltd Method for storing surface activation treatment film
JP6394046B2 (en) * 2014-04-25 2018-09-26 日本ゼオン株式会社 Varnish, laminate, and method for producing laminate
KR20150128368A (en) * 2014-05-09 2015-11-18 삼성전자주식회사 Polyimide films and production methods thereof
JP6512804B2 (en) * 2014-12-05 2019-05-15 日東電工株式会社 Transparent conductive film laminate and use thereof
TWI719955B (en) * 2014-12-18 2021-03-01 日商住友化學股份有限公司 Three-layer film, method for forming three-layer film, laminated sheet, and printed circuit board
JPWO2016129329A1 (en) * 2015-02-09 2017-11-16 コニカミノルタ株式会社 Manufacturing method of transparent heat resistant laminated film, transparent heat resistant laminated film, flexible printed circuit board, flexible display substrate, front panel for flexible display, LED lighting device and organic electroluminescence display device
JP2016156961A (en) * 2015-02-24 2016-09-01 株式会社日本触媒 Optical film
WO2016152459A1 (en) * 2015-03-24 2016-09-29 コニカミノルタ株式会社 Polyimide-based optical film, process for producing same, and organic electroluminescent display
JP6917187B2 (en) * 2016-05-10 2021-08-11 住友化学株式会社 Optical film and flexible devices using it
JP6170224B1 (en) * 2016-05-10 2017-07-26 住友化学株式会社 Method for producing transparent resin film, and method for producing laminate having transparent resin film
KR101984171B1 (en) * 2016-06-01 2019-05-30 주식회사 엘지화학 High strength transparent polyamide-imide and process for preparing same

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010208312A (en) 2009-02-13 2010-09-24 Toyobo Co Ltd Multilayer polyimide film
JP2015214122A (en) 2014-05-13 2015-12-03 東洋紡株式会社 Polyimide film for forming laminate
JP2016087799A (en) 2014-10-29 2016-05-23 東レ・デュポン株式会社 Long-sized laminate for high frequency circuit board, and method for manufacturing the same

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