JP2013018166A - Laminate and method for producing the same - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、積層体に関し、さらに詳細には、ポリイミド樹脂フィルムとポリオレフィン樹脂フィルムとを、接着剤を介さずに接着した積層体およびその製造方法に関する。 The present invention relates to a laminate, and more particularly, to a laminate in which a polyimide resin film and a polyolefin resin film are bonded without using an adhesive and a method for producing the same.
ポリイミド樹脂は、耐熱性、電気絶縁性や耐薬品性に優れ、機械特性に優れることから電気・電子用途に使用されている。例えば、半導体デバイス上への絶縁フィルムや保護コーティング剤、フレキシブル回路基板や集積回路等の表面保護材料や基材樹脂、さらには、微細な回路の層間絶縁膜や保護膜を形成させる場合に用いられる。これらの用途では、ポリイミド樹脂フィルムを単独で用いる場合の他、ポリイミド樹脂フィルムと他の樹脂フィルムとを貼り合わせた積層体が使用される場合もある。 Polyimide resins are used in electrical and electronic applications because of their excellent heat resistance, electrical insulation and chemical resistance, and excellent mechanical properties. For example, it is used to form insulating films and protective coatings on semiconductor devices, surface protective materials such as flexible circuit boards and integrated circuits, base resin, and fine circuit interlayer insulating films and protective films. . In these applications, in addition to the case where a polyimide resin film is used alone, a laminated body obtained by bonding a polyimide resin film and another resin film may be used.
ポリイミド樹脂フィルムと他の樹脂フィルムとの積層体として、例えば、ポリイミド樹脂フィルムとポリオレフィン樹脂フィルムとを接着剤を介して積層することが試みられている。ポリオレフィン樹脂フィルム等のヒートシール性を有する樹脂フィルムをポリイミド樹脂フィルムに貼り合わせて積層体とすることにより、この積層体を他の部材に貼り合わせる際に、樹脂フィルム側をヒートシールすることにより、ポリイミド樹脂フィルムからなる積層体を他の部材に容易に貼り合わせることができる。しかしながら、ラミネート接着して積層体としたものは、積層体の使用環境によっては、接着剤成分が徐々に積層体から溶出または揮発する場合があり、接着剤成分による汚染の問題がある。また、長期使用により接着剤自体が劣化することもあり、特に紫外線や熱に曝される用途においては、積層体の耐候性が問題となることもある。また、接着剤を用いたラミネート技術においては、一般的に溶剤に希釈した樹脂成分を塗布することが行われるため、積層体を組み込んで最終製品とした後に、溶剤が残留してしまうことがある。 As a laminate of a polyimide resin film and another resin film, for example, it is attempted to laminate a polyimide resin film and a polyolefin resin film via an adhesive. By laminating a resin film having heat sealability such as a polyolefin resin film to a polyimide resin film to form a laminate, when laminating this laminate to other members, by heat sealing the resin film side, A laminate made of a polyimide resin film can be easily bonded to another member. However, in a laminate obtained by laminating and bonding, depending on the use environment of the laminate, the adhesive component may gradually elute or volatilize from the laminate, and there is a problem of contamination by the adhesive component. In addition, the adhesive itself may deteriorate due to long-term use, and the weather resistance of the laminate may become a problem particularly in applications exposed to ultraviolet rays and heat. In addition, in the laminating technique using an adhesive, since a resin component diluted in a solvent is generally applied, the solvent may remain after the laminated body is assembled into a final product. .
また、ポリイミド樹脂フィルムに、ヒートシールにより直接ポリオレフィン樹脂フィルムを貼り合わせることも考えられるが、ポリイミド樹脂は、耐熱性に優れる樹脂であるため、溶融したポリオレフィン樹脂フィルムがポリイミド樹脂フィルムに融着せず、両フィルムが強固に密着した積層体とすることができない。 In addition, it is conceivable that the polyolefin resin film is directly bonded to the polyimide resin film by heat sealing, but since the polyimide resin is a resin having excellent heat resistance, the molten polyolefin resin film is not fused to the polyimide resin film, A laminate in which both films are firmly adhered cannot be obtained.
ところで、放射線や電子線を用いて材料の表面改質を行うことが従来から行われている。例えば、特開2003−119293号公報(特許文献1)には、フッ素系樹脂に放射線を照射することにより架橋複合フッ素系樹脂が得られることが提案されている。また、Journal of Photopolymer Science and Technology Vol.19, No. 1 (2006), pp123-127(非特許文献1)には、ポリテトラフルオロエチレンフィルムとポリイミドフィルムとを積層させて高温下で電子線(以下、EBと略す場合もある)を照射することにより、互いを接着することが提案されている。また、Material Transactions Vol.50, No.7 (2009), pp1859-1863(非特許文献2)には、ポリカーボネート樹脂の表面をナイロンフィルムで覆い、その上から電子線(以下、EBと略す場合もある)を照射することにより、ポリカーボネート樹脂表面にナイロンフィルムを接着する技術が提案されている。さらに、日本金属学会誌第72巻第7号(2008)、pp526−531(非特許文献3)には、シリコーンゴム上に置いたナイロンフィルムの上からEBを照射することにより、互いを接着できることが記載されている。 By the way, surface modification of a material using radiation or an electron beam has been conventionally performed. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-119293 (Patent Document 1) proposes that a crosslinked composite fluororesin can be obtained by irradiating the fluororesin with radiation. In Journal of Photopolymer Science and Technology Vol.19, No. 1 (2006), pp123-127 (Non-patent Document 1), a polytetrafluoroethylene film and a polyimide film are laminated and an electron beam ( In the following, it has been proposed to bond each other by irradiating EB. In Material Transactions Vol.50, No.7 (2009), pp1859-1863 (Non-patent Document 2), the surface of the polycarbonate resin is covered with a nylon film, and an electron beam (hereinafter abbreviated as EB) may be applied from above. A technique for adhering a nylon film to a polycarbonate resin surface has been proposed. Furthermore, the Journal of the Japan Institute of Metals, Vol. 72, No. 7 (2008), pp 526-531 (Non-patent Document 3) can be bonded to each other by irradiating EB from a nylon film placed on silicone rubber. Is described.
本発明者らは、今般、異種材料どうしを接着する場合であっても、フィルムに電子線を照射することにより、ラミネート樹脂等を用いることなく、互いを強固に接着できることを見いだした。そして、ポリイミド樹脂フィルムとポリオレフィン樹脂フィルムとの積層体のように、従来、接着剤により互いを接着していた積層体であっても、電子線照射によれば、接着剤を使用しなくても、ポリイミド樹脂フィルム側の原子とポリオレフィン樹脂フィルム側の原子との間に結合が形成されるか、または酸素原子、窒素原子または水酸基を介して結合が形成されて、互いが強固に接着できる、との知見を得た。本発明はかかる知見によるものである。 The present inventors have now found that even when different types of materials are bonded to each other, they can be bonded firmly to each other without using a laminate resin or the like by irradiating the film with an electron beam. And even if it is the laminated body which adhered conventionally with the adhesive like the laminated body of a polyimide resin film and a polyolefin resin film, according to electron beam irradiation, it is not necessary to use an adhesive agent A bond is formed between an atom on the polyimide resin film side and an atom on the polyolefin resin film side, or a bond is formed through an oxygen atom, a nitrogen atom or a hydroxyl group, and can be firmly bonded to each other. I got the knowledge. The present invention is based on this finding.
したがって、本発明の目的は、ポリイミド樹脂フィルムとポリオレフィン樹脂フィルムとを接着剤を使用せずに接着した積層体であって、優れた強度、耐熱性、電気絶縁性、耐薬品性、ヒートシール性を有する積層体を提供することである。 Accordingly, an object of the present invention is a laminate in which a polyimide resin film and a polyolefin resin film are bonded without using an adhesive, and has excellent strength, heat resistance, electrical insulation, chemical resistance, and heat sealability. It is providing the laminated body which has this.
本発明による積層体は、ポリイミド樹脂フィルムとポリオレフィン樹脂フィルムとが積層した積層体であって、
前記ポリイミド樹脂フィルムおよび前記ポリオレフィン樹脂フィルムの少なくとも一部で、前記ポリイミド樹脂フィルム中の原子と、前記ポリオレフィン樹脂フィルム中の原子との間に結合が形成されており、前記ポリイミド樹脂フィルムおよび前記ポリオレフィン樹脂フィルムとが接着剤を介さずに接着されていることを特徴とするものである。
The laminate according to the present invention is a laminate in which a polyimide resin film and a polyolefin resin film are laminated,
In at least a part of the polyimide resin film and the polyolefin resin film, a bond is formed between an atom in the polyimide resin film and an atom in the polyolefin resin film, and the polyimide resin film and the polyolefin resin The film is bonded to the film without using an adhesive.
また、本発明の態様として、前記ポリイミド樹脂フィルムと前記ポリオレフィン樹脂フィルムとの界面の少なくとも一部で、前記ポリイミド樹脂フィルム中の原子と、前記ポリオレフィン樹脂フィルム中の原子との間で、酸素原子、窒素原子または水酸基を介して結合が形成されていることが好ましい。 Further, as an aspect of the present invention, at least part of the interface between the polyimide resin film and the polyolefin resin film, between the atoms in the polyimide resin film and the atoms in the polyolefin resin film, oxygen atoms, A bond is preferably formed through a nitrogen atom or a hydroxyl group.
また、本発明の態様として、前記ポリイミド樹脂フィルムが、ピロメリット酸二無水物と、4,4’−ジアミノジフェニルエーテルとから得られる芳香族ポリイミド樹脂フィルムであることが好ましい。 Moreover, as an aspect of the present invention, the polyimide resin film is preferably an aromatic polyimide resin film obtained from pyromellitic dianhydride and 4,4'-diaminodiphenyl ether.
また、本発明の態様として、前記ポリオレフィン樹脂フィルムが、ポリプロピレン、ポリエチレン、またはポリメチルペンテンからなる樹脂フィルムであることが好ましい。 Moreover, as an aspect of the present invention, the polyolefin resin film is preferably a resin film made of polypropylene, polyethylene, or polymethylpentene.
また、本発明の別の態様としての製造方法は、ポリイミド樹脂フィルムとポリオレフィン樹脂フィルムとが積層した積層体を製造する方法であって、
ポリイミド樹脂フィルムおよび/またはポリオレフィン樹脂フィルムの少なくとも一方の面、に電子線を照射し、
前記電子線が照射された前記ポリイミド樹脂フィルム面および/またはポリオレフィン樹脂フィルム面を重ね合わせて接着する、ことを含んでなることを特徴とするものである。
Moreover, the production method as another aspect of the present invention is a method for producing a laminate in which a polyimide resin film and a polyolefin resin film are laminated,
At least one surface of the polyimide resin film and / or the polyolefin resin film is irradiated with an electron beam,
The polyimide resin film surface and / or the polyolefin resin film surface irradiated with the electron beam are superposed and bonded together.
また、本発明の態様として、前記ポリイミド樹脂フィルムとポリオレフィン樹脂フィルムとを重ね合わせる前および/または重ね合わせた後に電子線照射を行うことが好ましい。 Moreover, as an aspect of the present invention, it is preferable to perform electron beam irradiation before and / or after the polyimide resin film and the polyolefin resin film are overlapped.
また、本発明の別の態様として、前記ポリイミド樹脂フィルムとポリオレフィン樹脂フィルムとの接着を加圧して行うことが好ましく、また、前記ポリイミド樹脂フィルムとポリオレフィン樹脂フィルムとの接着を加熱して行うことが好ましい。 Moreover, as another aspect of the present invention, it is preferable to press the adhesion between the polyimide resin film and the polyolefin resin film, and the heating between the polyimide resin film and the polyolefin resin film is preferably performed. preferable.
本発明によれば、ポリイミド樹脂フィルムとポリオレフィン樹脂フィルムとが積層した積層体において、ポリイミド樹脂フィルム中の原子と、ポリオレフィン樹脂フィルム中の原子との間に結合が形成されているか、または酸素原子、窒素原子または水酸基を介して結合が形成されているため、接着剤を介して接着していなくても、ポリイミド樹脂フィルムとポリオレフィン樹脂フィルムとが強固に接着した積層体が得られる。その結果、強度、耐熱性、電気絶縁性、耐薬品性、ヒートシール性に優れた積層体を実現することができる。 According to the present invention, in a laminate in which a polyimide resin film and a polyolefin resin film are laminated, a bond is formed between atoms in the polyimide resin film and atoms in the polyolefin resin film, or oxygen atoms, Since a bond is formed through a nitrogen atom or a hydroxyl group, a laminate in which the polyimide resin film and the polyolefin resin film are firmly bonded can be obtained even if the bonding is not performed through an adhesive. As a result, a laminate excellent in strength, heat resistance, electrical insulation, chemical resistance, and heat sealability can be realized.
以下、本発明による積層体を、図面を参照しながら説明する。本発明による積層体は、図1に示すように、ポリイミド樹脂フィルム2とポリオレフィン樹脂フィルム1とが、接着剤を介さずに積層した構造を有する。
Hereinafter, the laminated body by this invention is demonstrated, referring drawings. As shown in FIG. 1, the laminate according to the present invention has a structure in which a
ポリオレフィン樹脂フィルム1およびポリイミド樹脂フィルム2の接着面の少なくとも一部で、ポリオレフィン樹脂フィルム1の原子とポリイミド樹脂フィルム2の原子との間に結合が形成されることにより、ポリオレフィン樹脂フィルム1とポリイミド樹脂フィルム2とが強固に接着されている。通常、ポリオレフィン樹脂フィルムの表面にポリイミド樹脂フィルムを積層しても、両者の間に水素結合や共有結合が形成されないため接着剤を使用しなければ両者を接着することはできない。また、ヒートシールでは、上記したように両フィルムが強固に密着した積層体とすることができない。本発明においては、後記するように、ポリオレフィン樹脂フィルム1および/またはポリイミド樹脂フィルム2の表面に電子線を照射してラジカルを発生させて、図2に示すように、ポリオレフィン樹脂フィルム1表面の原子とポリイミド樹脂フィルム2表面の原子との間に結合を形成する、ないしはポリオレフィン樹脂フィルム1表面の原子と、ポリイミド樹脂フィルム2表面の原子との間に、酸素原子および/または窒素原子を介して結合を形成することにより、接着剤を介することなくポリオレフィン樹脂フィルム1とポリイミド樹脂フィルム2とを強固に接着したものである。また、電子線照射により発生したラジカルと空気中の酸素とが結合して、ポリオレフィン樹脂フィルム1および/またはポリイミド樹脂フィルム2の表面にはOH基が存在することがあり、その場合、ポリオレフィン樹脂フィルム1とポリイミド樹脂フィルム2との間で水素結合が形成される場合もある。なお、電子線照射によりラジカルの発生は、電子スピン共鳴装置(以下、ESRともいう。)を用いて、電子線照射後のフィルムに存在するフリーラジカル種を同定することにより、その発生を確認することができる。
By forming a bond between an atom of the
また、電子線照射によりポリイミド樹脂フィルム2とポリオレフィン樹脂フィルム1とを接着した積層体は、図2に示すように、ポリイミド樹脂フィルム中の原子とポリオレフィン樹脂フィルム中の原子との間で結合が形成されているため、接着剤を全く使用しなくても、剥離を生じない積層体とすることができる。水素結合の存在の確認は、積層体を水またはアルコール溶液中に浸積して剥離の有無を確認することにより行うことができる。水素結合のみによってポリイミド樹脂フィルム2とポリオレフィン樹脂フィルム1とが接着している場合、積層体を水またはアルコール溶液中に浸積すると、両者の間に形成されていた水素結合が破壊されて水またはアルコールの水素原子または酸素原子と水素結合が再形成されるため、接着力がなくなり両フィルムが剥離する。よって、接着が、共有結合および水素結合によるものなのか、水素結合のみによるものなのかを、確認することができる。
Further, in the laminate in which the
以下、本発明による積層体を構成するポリイミド樹脂フィルムおよびポリオレフィン樹脂フィルムについて、説明する。 Hereinafter, the polyimide resin film and the polyolefin resin film constituting the laminate according to the present invention will be described.
<ポリイミド樹脂フィルム>
本発明において使用されるポリイミド樹脂フィルムは、芳香族テトラカルボン酸無水物と芳香族ジアミンとを縮重合してポリイミドの前駆体であるポリアミド酸(ポリアミック酸)を生成し、得られたポリアミド酸を加熱または触媒を用いてイミド化した重合体を製膜化したものである。
<Polyimide resin film>
The polyimide resin film used in the present invention is a polyamic acid (polyamic acid) which is a polyimide precursor by polycondensing an aromatic tetracarboxylic acid anhydride and an aromatic diamine, and the resulting polyamic acid is A film formed from a polymer imidized by heating or using a catalyst.
芳香族テトラカルボン酸無水物はカルボン酸無水物を含むものであり、例えば、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エーテル二無水物、1,1−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、2,3,6,7−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、1,4,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、1,2,5,6−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、3,4,9,10−ペリレンテトラカルボン酸二無水物、1,2,7,8−フェナントレンテトラカルボン酸二無水物、オキシジフタル酸二無水物、ピロメリット酸二無水物、4,4’−ヘキサフルオロイソプロピリデンジフタル酸無水物等の芳香族テトラカルボン酸化合物の二無水物が挙げられる。
Aromatic tetracarboxylic acid anhydrides include carboxylic acid anhydrides such as 3,3 ′, 4,4′-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2 ′, 3,3′-biphenyltetra. Carboxylic dianhydride, 2,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) ether dianhydride, 1,1-bis (2,3- Dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, 2,3,6,7-naphthalenetetracarboxylic Acid dianhydride, 1,4,5,8-naphthalene tetracarboxylic dianhydride, 1,2,5,6-naphthalene tetracarboxylic dianhydride, 3,4,9,10-perylene tetracarboxylic
また、芳香族ジアミンとしては、m−フェニレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、3,4’−ジアミノジフェニルエーテル、ビス(3−アミノフェニル)スルフィド、(3−アミノフェニル)(4−アミノフェニル)スルフィド、ビス(3−アミノフェニル)スルホキシド、ビス(4−アミノフェニル)スルホキシド、(3−アミノフェニル)(4−アミノフェニル)スルホキシド、ビス(3−アミノフェニル)スルホン、ビス(4−アミノフェニル)スルホン、(3−アミノフェニル)(4−アミノフェニル)スルホン、3,3’−ジアミノベンゾフェノン、3,4’−ジアミノベンゾフェノン、3,3’−ジアミノジフェニルメタン、3,4’−ジアミノジフェニルメタン、1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4’−ビス(3−アミノフェノキシ)ビフェニル、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕ケトン、ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕ケトン、ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕スルフィド、ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕スルフィド、ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕スルホキシド、ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕スルホキシド、ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、ビス〔4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕スルホン、ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)フェニル〕エーテル、1,4−ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)ベンゾイル〕ベンゼン、1,3−ビス〔4−(3−アミノフェノキシ)ベンゾイル〕ベンゼン、4,4’−ビス〔3−(4−アミノフェノキシ)ベンゾイル〕ジフェニルエーテル、4,4’−ビス〔3−(3−アミノフェノキシ)ベンゾイル〕ジフェニルエーテル、3,3’−ジアミノ−4,4’−ジフェノキシベンゾフェノン、4,4’−ジアミノ−5,5’−ジフェノキシベンゾフェノン、3,4’−ジアミノ−4,5’−ジフェノキシベンゾフェノン、3,3’−ジアミノ−4−フェノキシベンゾフェノン、4,4’−ジアミノ−5−フェノキシベンゾフェノン、3,4’−ジアミノ−4−フェノキシベンゾフェノン、3,4’−ジアミノ−5’−フェノキシベンゾフェノン、3,3’−ジアミノ−4,4’−ジビフェノキシベンゾフェノン、4,4’−ジアミノ−5,5’−ジビフェノキシベンゾフェノン、3,4’−ジアミノ−4,5’−ジビフェノキシベンゾフェノン、3,3’−ジアミノ−4−ビフェノキシベンゾフェノン、4,4’−ジアミノ−5−ビフェノキシベンゾフェノン、3,4’−ジアミノ−4−ビフェノキシベンゾフェノン、3,4’−ジアミノ−5’−ビフェノキシベンゾフェノン、1,3−ビス(3−アミノ−4−フェノキシベンゾイル)ベンゼン、1,4−ビス(3−アミノ−4−ビフェノキシベンゾイル)ベンゼン、1,3−ビス(4−アミノ−5−ビフェノキシベンゾイル)ベンゼン、1,4−ビス(4−アミノ−5−ビフェノキシベンゾイル)ベンゼン、1,3−ビス(3−アミノ−4−ビフェノキシベンゾイル)ベンゼン、1,4−ビス(3−アミノ−4−ビフェノキシベンゾイル)ベンゼン、ビス(トリフルオロメチル)−1,1’−ビフェニル−4,4’−ジアミン等が挙げられる。 As aromatic diamines, m-phenylenediamine, 4,4′-diaminodiphenyl ether, 3,4′-diaminodiphenyl ether, bis (3-aminophenyl) sulfide, (3-aminophenyl) (4-aminophenyl) Sulfide, bis (3-aminophenyl) sulfoxide, bis (4-aminophenyl) sulfoxide, (3-aminophenyl) (4-aminophenyl) sulfoxide, bis (3-aminophenyl) sulfone, bis (4-aminophenyl) Sulfone, (3-aminophenyl) (4-aminophenyl) sulfone, 3,3′-diaminobenzophenone, 3,4′-diaminobenzophenone, 3,3′-diaminodiphenylmethane, 3,4′-diaminodiphenylmethane, 1, 3-bis (3-aminophenoxy) Zen, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,4-bis (3-aminophenoxy) benzene, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 4,4′-bis (3- Aminophenoxy) biphenyl, 4,4′-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] ketone, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] ketone, bis [4 -(3-aminophenoxy) phenyl] sulfide, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfide, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfoxide, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl Sulfoxide, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (4-aminophenoxy) Enyl] sulfone, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] ether, 1,4-bis [4- (3-aminophenoxy) benzoyl] benzene, 1,3-bis [4- (3-aminophenoxy) Benzoyl] benzene, 4,4′-bis [3- (4-aminophenoxy) benzoyl] diphenyl ether, 4,4′-bis [3- (3-aminophenoxy) benzoyl] diphenyl ether, 3,3′-diamino-4 , 4′-diphenoxybenzophenone, 4,4′-diamino-5,5′-diphenoxybenzophenone, 3,4′-diamino-4,5′-diphenoxybenzophenone, 3,3′-diamino-4-phenoxy Benzophenone, 4,4'-diamino-5-phenoxybenzophenone, 3,4'-diamino-4-phenoxybenzo Phenone, 3,4′-diamino-5′-phenoxybenzophenone, 3,3′-diamino-4,4′-dibiphenoxybenzophenone, 4,4′-diamino-5,5′-dibiphenoxybenzophenone, 3,4 '-Diamino-4,5'-dibiphenoxybenzophenone, 3,3'-diamino-4-biphenoxybenzophenone, 4,4'-diamino-5-biphenoxybenzophenone, 3,4'-diamino-4-biphenoxy Benzophenone, 3,4'-diamino-5'-biphenoxybenzophenone, 1,3-bis (3-amino-4-phenoxybenzoyl) benzene, 1,4-bis (3-amino-4-biphenoxybenzoyl) benzene 1,3-bis (4-amino-5-biphenoxybenzoyl) benzene, 1,4-bis (4-amino) 5-biphenoxybenzoyl) benzene, 1,3-bis (3-amino-4-biphenoxybenzoyl) benzene, 1,4-bis (3-amino-4-biphenoxybenzoyl) benzene, bis (trifluoromethyl) -1,1'-biphenyl-4,4'-diamine and the like.
上記した芳香族テトラカルボン酸無水物および芳香族ジアミンの組み合わせのなかでも、ピロメリット酸二無水物と4,4’−ジアミノジフェニルエーテルとから得られる芳香族ポリイミド樹脂を好適に使用することができる。 Among the combinations of the aromatic tetracarboxylic acid anhydride and the aromatic diamine, an aromatic polyimide resin obtained from pyromellitic dianhydride and 4,4′-diaminodiphenyl ether can be preferably used.
ポリイミド樹脂には、性能を損なわない範囲で必要に応じて、熱安定剤、難燃剤等の各種添加剤を製造工程中あるいはその後の加工工程において添加することができる。 Various additives such as a heat stabilizer and a flame retardant can be added to the polyimide resin during the manufacturing process or in the subsequent processing steps as necessary within a range not impairing the performance.
上記したポリイミド樹脂からフィルムを製造する方法は、特に制限はなく公知の方法を採用でき、例えば、重縮合して得られたポリアミド酸溶液を、基材上にキャスティング、スピンコーティング、ロールコーティングなどの方法により適当な厚さに塗工した後、100〜300℃の温度で加熱して、溶媒の除去とイミド化を行い、フィルム状のポリイミド樹脂を得ることができる。 The method for producing a film from the above polyimide resin is not particularly limited, and a known method can be adopted. For example, a polyamic acid solution obtained by polycondensation is cast on a substrate, such as casting, spin coating, roll coating, etc. After coating to an appropriate thickness by the method, the film is heated at a temperature of 100 to 300 ° C. to remove the solvent and imidize to obtain a film-like polyimide resin.
ポリイミド樹脂フィルムは、市販のものを使用してもよく、例えば、カプトン(東レ・デュポン社製)やアピカル(鐘淵化学工業社製)等を好適に使用できる。 A commercially available polyimide resin film may be used. For example, Kapton (manufactured by Toray DuPont), Apical (manufactured by Kaneka Chemical Co., Ltd.), or the like can be suitably used.
<ポリオレフィン樹脂フィルム>
本発明の積層体を構成するポリオレフィン樹脂フィルムとしては、低密度ポリエチレン、直鎖状低密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン等の単体、または、ポリプロピレンと低密度ポリエチレンとの混合物や、ポリプロピレンと高密度ポリエチレンとの混合物からなるフィルムを用いることができる。また、ポリメチルペンテンは、ガス透過性、耐薬品性、耐油性などに優れた性能を有するものである。このような樹脂フィルムとしては、市販のものを使用してもよく、例えばTPXフィルム(三井化学株式会社製)等を好適に使用することができる。フィルムの厚みは、使用用途に応じて適宜決定できるが、概ね20〜300μm程度である。
<Polyolefin resin film>
As the polyolefin resin film constituting the laminate of the present invention, low density polyethylene, linear low density polyethylene, medium density polyethylene, high density polyethylene, polypropylene, polymethylpentene and the like alone, or polypropylene and low density polyethylene And a film made of a mixture of polypropylene and high-density polyethylene can be used. Polymethylpentene has excellent performance in gas permeability, chemical resistance, oil resistance, and the like. As such a resin film, you may use a commercially available thing, for example, a TPX film (made by Mitsui Chemicals) etc. can be used conveniently. Although the thickness of a film can be suitably determined according to a use application, it is about 20-300 micrometers in general.
ポリオレフィン樹脂フィルムには、必要に応じて、光安定剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、充填剤、滑剤等、従来公知の各種添加剤を適宜添加することができる。光安定剤、紫外線吸収剤としては、従来公知のものを使用でき、例えば、フェノール系、リン系、ヒンダードアミン系の光吸収剤や、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、サリチル酸エステル系の紫外線吸収剤が使用できる。 Various conventionally known additives such as a light stabilizer, an ultraviolet absorber, an antioxidant, a filler, a lubricant, and the like can be appropriately added to the polyolefin resin film as necessary. Conventionally known light stabilizers and ultraviolet absorbers can be used. For example, phenol-based, phosphorus-based, hindered amine-based light absorbers, benzotriazole-based, benzophenone-based, and salicylic acid ester-based ultraviolet absorbers are used. it can.
上記したようなポリイミド樹脂フィルムとポリオレフィン樹脂フィルムとを重ね合わせて接着した積層体は、積層体を使用する際にも異物や残留溶剤等が滲出することがなく、また強度、耐熱性、電気絶縁性、耐薬品性、ヒートシール性にも優れている。 The laminated body in which the polyimide resin film and the polyolefin resin film are laminated and bonded as described above does not exude foreign matter or residual solvent even when the laminated body is used, and the strength, heat resistance, electrical insulation Excellent in chemical properties, chemical resistance and heat sealability.
<積層体の製造方法>
次に、上記したような積層体を製造する方法を、図面を参照しながら説明する。先ず、上記したポリオレフィン樹脂フィルム1とポリイミド樹脂フィルム2とを準備し(図3(1))、両者のいずれか一方または両方の、接着しようとする部分に電子線を照射する(図3(2))。その結果、図3(3)に示すように、電子線が照射された部分のみ、互いのフィルムが接着される。
<Method for producing laminate>
Next, a method for producing the laminate as described above will be described with reference to the drawings. First, the
本発明においては、フィルムに電子線を照射した直後に、図4に示すようにローラー6等を用いて、重ね合わせたポリオレフィン樹脂フィルム1とポリイミド樹脂フィルム2とを押圧することが好ましい。両フィルム1,2の表面は、図4に示すようにミクロレベルで凹凸があるため、互いのフィルムを重ね合わせても完全に密着しておらず、両フィルムの接触界面での接触面積が小さい。本発明においては、電子線を照射した直後にローラー6等でポリオレフィン樹脂フィルム1とポリイミド樹脂フィルム2を押圧することにより、両フィルムの接着面での接触面積が増加するため、密着性が向上する。
In the present invention, immediately after irradiating the film with an electron beam, it is preferable to press the overlapped
ポリオレフィン樹脂フィルム1とポリイミド樹脂フィルム2とを重ね合わせた後、両フィルム1,2を押圧する際には、加熱しながら両フィルム1,2を押圧することが好ましい。加熱しながら押圧することにより、ポリオレフィン樹脂フィルム1とポリイミド樹脂フィルム2の柔軟性が向上し、両フィルム1,2の界面(接着面)での接触面積をより増加させることができるため、密着性がより向上する。加熱する温度は、使用する材料の種類にもよるが、フィルムが熱変形できる温度であればよく、例えば、フィルムを構成する樹脂のガラス転移温度以上に加熱することができる。例えば、ポリオレフィン樹脂フィルムとポリイミド樹脂フィルムとを重ね合わせる場合には、加熱温度は80〜180℃、好ましくは100〜160℃である。加熱温度を高くしすぎると、発生したラジカルが失活してしまい、強固な結合を実現できなくなる。なお、押圧の力(接圧)を高くしてもよく、接圧を高くすることにより、加熱温度を低くすることができる。
After the
ポリオレフィン樹脂フィルム1とポリイミド樹脂フィルム2とを重ね合わせて押圧するには、上記したようにヒートローラ6等を好適に使用できる。また、図4に示すように、重ね合わせた積層物がヒートローラ6と支持ローラー7との間で圧接可能となるように、ヒートローラ6と対向する位置に支持ローラー7を載置してもよい。このようにヒートローラ6と対向する位置に支持ローラー7を載置することにより、積層体(フィルム1とフィルム2の積層物)とヒートローラ6との接触を線接触に近づけて、ヒートローラ6からの熱により積層体に発生する変形を最小限に抑えることができる。
In order to overlap and press the
図5は、本発明による別の製造方法の実施形態を示した概略図である。ポリオレフィン樹脂フィルム1とポリイミド樹脂フィルム2とを重ね合わせて接着する工程において、ポリオレフィン樹脂フィルム1とポリイミド樹脂フィルム2とを、それぞれガイドローラにより電子線照射位置3まで導き、電子線4を両フィルム1,2に照射した後にヒートローラ6により互いの両フィルム1,2を押圧する工程を連続的に行うものである。ポリオレフィン樹脂フィルム1とポリイミド樹脂フィルム2のそれぞれはロール状形態として供給されてもよい。
FIG. 5 is a schematic view showing another embodiment of the manufacturing method according to the present invention. In the process of laminating and adhering the
電子線照射装置3から、ポリオレフィン樹脂フィルム1とポリイミド樹脂フィルム2のそれぞれに電子線4を照射する場合、厚みがより小さい方の材料側から電子線4を照射することが好ましい。電子線は加速電圧が増加するほどその透過力も増大する性質を有しているため、何れか一方の材料側から電子線を照射した場合に、材料の厚さによっては、他方のフィルムまたはフィルムまで電子線が届かないことがある。その場合には、電子線の加速電圧を増加させることにより、他方の材料の深部まで電子線を到達させることができるが、電子線エネルギーが高くなるにしたがって、樹脂からなる材料(フィルム)自体に不必要な照射が行われ劣化させてしまう。そのため、厚肉のフィルムと薄肉のフィルムとを重ね合わせて接着する際には、電子線エネルギーをそれほど増大させることなく、薄肉のフィルム側から電子線を照射するのが好ましい。例えば、ポリオレフィン樹脂フィルムの厚みが25μm以下であり、ポリイミド樹脂フィルムの厚みが50μm以上である場合は、ポリオレフィン樹脂フィルム側から電子線を照射する。このような電子線照射方法を採用することにより、フィルムの劣化を最小限に留めることができる。
When the electron
重ね合わせるフィルム1,2が両方とも厚肉である場合には、図5に示すように両方から電子線が照射できるように、電子線照射装置3と対向する位置に、別の電子線照射装置3’を設けてもよい。この態様によれば、フィルムの厚みに応じて電子線の照射エネルギーを調整することができるため、フィルムを劣化させることなく互いを接着することができる。
When both the
図6は、本発明による別の製造方法の実施形態を示した概略図である。この実施態様においては、電子線の照射が、ポリオレフィン樹脂フィルム1とポリイミド樹脂フィルム2とを重ね合わせる前に行われる。先ず、供給されてきた一対のフィルム(ポリオレフィン樹脂フィルム1およびポリイミド樹脂2)は、両フィルム1,2が重ね合わされる前に、電子線照射装置3(3’)により、フィルム1(2)へ電子線4(4’)が照射される。図5に示した実施形態では、ポリオレフィン樹脂フィルム1とポリイミド樹脂フィルム2の電子線照射側と反対側の面どうしが対向するように両フィルム1,2を重ね合わせたのに対し、図6に示す実施態様では、両フィルム1,2の電子線照射側の面どうしが対向するように両フィルム1,2を重ね合わせる点が相違している。このように、フィルム1へ電子線を照射した側の面に他方のフィルム2を重ね合わせることにより、フィルムの厚みによらず、電子線の照射エネルギーをより小さくすることができ、その結果、フィルムの電子線照射による劣化をより低減することができる。
FIG. 6 is a schematic view showing an embodiment of another manufacturing method according to the present invention. In this embodiment, the electron beam irradiation is performed before the
また、図6に示した実施態様においても、一対の電子線照射装置3,3’を設けて、図5に示した実施態様と同様に、ポリオレフィン樹脂フィルム1およびポリイミド樹脂フィルム2のそれぞれへ電子線4,4’を照射してもよい。これらの組み合わせにより、よりフィルムの劣化を少なくして接着強度を向上させることができる。
Also in the embodiment shown in FIG. 6, a pair of electron
図7は、本発明による別の製造方法の実施形態を示した概略図である。この実施形態においては、ポリオレフィン樹脂フィルム1とポリイミド樹脂フィルム2とを重ね合わせてヒートローラ6により押圧した後に電子線照射を行うものである。先ず、供給されてきた一対のフィルム1,2は、ガイドローラに導かれて重ね合わされる。続いて、ヒートローラ6と支持ローラー7とにより両フィルム1,2が押圧されるとともに、ヒートローラ6により加熱が行われる。その後、電子線照射装置3によりポリオレフィン樹脂フィルム1とポリイミド樹脂フィルム2の表面に電子線4が照射されて両フィルム1,2の接着が連続的に行われる。また、図7に示した実施形態においても、一対の電子線照射装置3,3’を設けて、図5及び6に示した実施態様と同様に両フィルム1,2へそれぞれ電子線4,4’を照射してもよい。これらの組み合わせにより、よりフィルム劣化を少なくして接着強度を向上させることができる。
FIG. 7 is a schematic view showing another embodiment of the manufacturing method according to the present invention. In this embodiment, the
電子線の照射エネルギーは、上記したようにフィルム厚み等に応じて適宜調整する必要がある。本発明においては、20〜750kV、好ましくは30〜400kV、より好ましくは40〜200kV程度の照射エネルギー範囲で電子線を照射するが、より低い照射エネルギーとすることが好ましい。このように低い照射エネルギーとすることにより、フィルムの劣化を抑制できるだけでなく、フィルム表面のラジカル発生がより効率的におこるため、より強固な結合を実現することができる。また、電子線の吸収線量は、5〜2000kGy、好ましくは20〜1000kGyの範囲で行う。 The irradiation energy of the electron beam needs to be appropriately adjusted according to the film thickness and the like as described above. In the present invention, the electron beam is irradiated in an irradiation energy range of about 20 to 750 kV, preferably 30 to 400 kV, and more preferably about 40 to 200 kV, but it is preferable that the irradiation energy be lower. Thus, by setting it as low irradiation energy, not only deterioration of a film can be suppressed, but since radical generation | occurrence | production of a film surface occurs more efficiently, stronger bond can be implement | achieved. The absorbed dose of the electron beam is 5 to 2000 kGy, preferably 20 to 1000 kGy.
このような電子線照射装置としては、従来公知のものを使用でき、例えばカーテン型電子照射装置(LB1023、株式会社アイ・エレクトロンビーム社製)やライン照射型低エネルギー電子線照射装置(EB−ENGINE、浜松ホトニクス株式会社製)等を好適に使用することができる。 As such an electron beam irradiation apparatus, conventionally known ones can be used. For example, a curtain type electron irradiation apparatus (LB1023, manufactured by I. Electron Beam Co., Ltd.) or a line irradiation type low energy electron beam irradiation apparatus (EB-ENGINE). , Manufactured by Hamamatsu Photonics Co., Ltd.) can be preferably used.
電子線を照射する際には、酸素濃度を100ppm以下とすることが好ましい。酸素存在下で電子線を照射するとオゾンが発生するため環境に悪影響を及ぼす場合があるからである。酸素濃度を100ppm以下とするには、真空下または窒素やアルゴン等の不活性ガス雰囲気下において、フィルムに電子線を照射すればよく、例えば、電子線照射装置内を窒素充填することにより、酸素濃度100ppm以下を達成することができる。 When irradiating with an electron beam, the oxygen concentration is preferably 100 ppm or less. This is because irradiation with an electron beam in the presence of oxygen generates ozone and may adversely affect the environment. In order to reduce the oxygen concentration to 100 ppm or less, the film may be irradiated with an electron beam in a vacuum or in an inert gas atmosphere such as nitrogen or argon. For example, by filling the electron beam irradiation apparatus with nitrogen, A concentration of 100 ppm or less can be achieved.
上記した接着方法によって得られた、ポリオレフィン樹脂フィルムとポリイミド樹脂フィルムと積層した積層体は、従来のラミネート樹脂を用いて接着した場合と同等またはそれ以上の接着強度を実現できる。また、ラミネート樹脂等を全く用いていないため、積層体を使用する際にも異物や残留溶剤等が滲出することがなく、また強度、耐熱性、誘電特性、電気絶縁性にも優れている。 The laminate obtained by laminating the polyolefin resin film and the polyimide resin film obtained by the above-described adhesion method can realize an adhesive strength equal to or higher than that obtained by bonding using a conventional laminate resin. In addition, since no laminate resin or the like is used, foreign matter or residual solvent does not ooze out when the laminate is used, and the strength, heat resistance, dielectric properties, and electrical insulation are excellent.
<フィルムの準備>
ポリイミド樹脂フィルムとして、厚み50μmのポリイミド樹脂フィルム(カプトンH、東レ・デュポン社製)を準備した。また、ポリオレフィン樹脂フィルムとして、下記の下2種類のフィルムを準備した。
A:直鎖状低密度ポリエチレン(エボリューSP2020、プライムポリマー社製)を厚み70μmに製膜したフィルム
B:低密度ポリエチレン(ノバテックLD LF547C、日本ポリエチレン社製)を厚み70μmに製膜したフィルム
<Preparation of film>
A polyimide resin film (Kapton H, manufactured by Toray DuPont) having a thickness of 50 μm was prepared as a polyimide resin film. In addition, the following two types of films were prepared as polyolefin resin films.
A: Film obtained by forming a linear low density polyethylene (Evolue SP2020, manufactured by Prime Polymer Co., Ltd.) to a thickness of 70 μm B: Film formed by forming a low density polyethylene (Novatech LD LF547C, manufactured by Nippon Polyethylene Co., Ltd.) to a thickness of 70 μm
実施例1
<積層体の作製>
上記したフィルムを、それぞれ150mm×75mmの大きさに切り出した試料を準備し、電子線照射装置(ライン照射型低エネルギー電子線照射装置EES−L−DP01、浜松ホトニクス株式会社製)のサンプル台に並置した。この際、電子線が試料に照射されない部分を設けるために、両試料の一方の端部5〜10mm程度にマスキングしておいた。
Example 1
<Production of laminate>
Samples obtained by cutting each of the above films into a size of 150 mm × 75 mm are prepared and placed on a sample stage of an electron beam irradiation apparatus (line irradiation type low energy electron beam irradiation apparatus EES-L-DP01, manufactured by Hamamatsu Photonics Co., Ltd.). Juxtaposed. At this time, in order to provide a portion where the sample is not irradiated with the electron beam, masking is performed on one end portion of both samples of about 5 to 10 mm.
次いで、電子照射線装置のチャンバー内の酸素濃度が100ppm以下となるように窒素ガスでパージした後、下記の電子線照射条件により、試料の表面に電子線を照射した。
電圧:40kV
吸収線量:200kGy
装置内酸素濃度:100ppm以下
Next, after purging with nitrogen gas so that the oxygen concentration in the chamber of the electron irradiation apparatus becomes 100 ppm or less, the surface of the sample was irradiated with an electron beam under the following electron beam irradiation conditions.
Voltage: 40 kV
Absorbed dose: 200kGy
In-device oxygen concentration: 100 ppm or less
電子線を照射した後、試料を装置内から取り出し、すぐに両者の電子線照射面側が対向するようにして重ね合わせ、熱ラミネート法により、両フィルムを接着して積層体を得た。 After irradiating the electron beam, the sample was taken out from the apparatus, immediately overlapped so that both electron beam irradiation surface sides face each other, and both films were bonded by a thermal laminating method to obtain a laminate.
実施例2
実施例1において、電子線の照射条件を表1に示す加速電圧および照射線量に変更した以外は、実施例1と同様にして積層体を得た。
Example 2
In Example 1, a laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the electron beam irradiation conditions were changed to the acceleration voltage and irradiation dose shown in Table 1.
実施例3
実施例1において、使用したポリオレフィン樹脂フィルムをBのフィルムに変更し、かつ電子線の照射条件を表1に示す加速電圧および照射線量に変更した以外は、実施例1と同様にして積層体を得た。
Example 3
In Example 1, except that the polyolefin resin film used was changed to a B film, and the electron beam irradiation conditions were changed to the acceleration voltage and irradiation dose shown in Table 1, the laminate was prepared in the same manner as in Example 1. Obtained.
比較例1
電子照射を行わなかった以外は実施例1と同様にして積層体を得た。しかしながら、得られた積層体はポリイミド樹脂フィルムとポリオレフィン樹脂フィルムとが接着していなかった。
Comparative Example 1
A laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that electron irradiation was not performed. However, the obtained laminate was not bonded to the polyimide resin film and the polyolefin resin film.
比較例2
実施例1で用いた2種の樹脂フィルムを、2液硬化型芳香族エステル系接着剤(タケラックA−3、三井化学株式会社製)を介して貼り合わせるドライラミネート法により積層体を得た。
Comparative Example 2
A laminate was obtained by a dry laminating method in which the two types of resin films used in Example 1 were bonded together via a two-component curable aromatic ester adhesive (Takelac A-3, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.).
<積層体の接着強度の評価>
得られた積層体を幅15mmの短冊状になるように切り出し、引張試験機(テンシロン万能材料試験機RTC−1310A、ORIENTEC社製)を用いて、50mm/分の速度で、90度剥離試験を行った。評価結果は、下記の表1に示される通りであった。
<Evaluation of adhesive strength of laminate>
The obtained laminate was cut into a strip shape with a width of 15 mm, and a 90 ° peel test was performed at a rate of 50 mm / min using a tensile tester (Tensilon Universal Material Tester RTC-1310A, manufactured by ORIENTEC). went. The evaluation results were as shown in Table 1 below.
表1の評価結果からも明らかなように、電子線照射を行った実施例1〜3の積層体は、接着剤によって貼り合わせた比較例2の積層体と同程度またはそれ以上の接着強度を有していた。また、実施例1〜3の積層体は、水中保管後であっても、接着性を維持している。この結果から、実施例1〜3の積層体は、ポリイミド樹脂フィルムとポリオレフィン樹脂フィルムとが水素結合や分子間力のみによって接着しているものではないことがわかる。したがって、間接的にではあるが、ポリイミド樹脂フィルムの原子とポリオレフィン樹脂フィルム中の原子との間で共有結合が形成されていると推認できる。 As is clear from the evaluation results in Table 1, the laminates of Examples 1 to 3 that were irradiated with the electron beam had an adhesive strength equivalent to or higher than that of the laminate of Comparative Example 2 bonded with an adhesive. Had. Moreover, the laminated bodies of Examples 1 to 3 maintain adhesiveness even after storage in water. From this result, it can be seen that in the laminates of Examples 1 to 3, the polyimide resin film and the polyolefin resin film are not bonded only by hydrogen bonds or intermolecular forces. Therefore, although indirectly, it can be inferred that a covalent bond is formed between an atom of the polyimide resin film and an atom in the polyolefin resin film.
1 ポリオレフィン樹脂フィルム
2 ポリイミド樹脂フィルム
3、3’ 電子線照射装置
4、4’ 電子線
5 フィルム基材接触界面
6 ヒートローラ
7 支持ローラー
DESCRIPTION OF
Claims (8)
前記ポリイミド樹脂フィルムおよび前記ポリオレフィン樹脂フィルムの少なくとも一部で、前記ポリイミド樹脂フィルム中の原子と、前記ポリオレフィン樹脂フィルム中の原子との間に結合が形成されており、前記ポリイミド樹脂フィルムおよび前記ポリオレフィン樹脂フィルムとが接着剤を介さずに接着されていることを特徴とする、積層体。 A laminate in which a polyimide resin film and a polyolefin resin film are laminated,
In at least a part of the polyimide resin film and the polyolefin resin film, a bond is formed between an atom in the polyimide resin film and an atom in the polyolefin resin film, and the polyimide resin film and the polyolefin resin A laminate, wherein the film is bonded without using an adhesive.
ポリイミド樹脂フィルムおよび/またはポリオレフィン樹脂フィルムの少なくとも一方の面、に電子線を照射し、
前記電子線が照射された前記ポリイミド樹脂フィルム面および/またはポリオレフィン樹脂フィルム面を重ね合わせて接着する、ことを含んでなることを特徴とする、方法。 A method for producing a laminate in which a polyimide resin film and a polyolefin resin film are laminated according to any one of claims 1 to 4,
At least one surface of the polyimide resin film and / or the polyolefin resin film is irradiated with an electron beam,
A method comprising superposing and adhering the polyimide resin film surface and / or the polyolefin resin film surface irradiated with the electron beam.
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