KR20200026092A - Optical film - Google Patents

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Abstract

Provided is an optical film which has reduced partial unevenness in thickness and has excellent planarity of a film surface. The optical film comprises at least one resin selected from the group consisting of polyimide-based resins and polyamide-based resins having a structure represented by formula (A), wherein in the formula (A), * represents a dangling bond, and the resin satisfies formula (X): A/B × 100 >= 0.03 (%), wherein in the formula (X), A represents a peak area originated from a hydrogen atom that binds to a nitrogen atom in the structure represented by the formula (A) on ^1H-NMR spectrum of the resin, and B represents a peak area in the range where a chemical shift value is 6.5-11.5 ppm on the ^1H-NMR spectrum of the resin.

Description

광학 필름{OPTICAL FILM}Optical film {OPTICAL FILM}

본 발명은, 화상 표시 장치의 전면판 등으로서 이용되는 광학 필름, 당해 광학 필름을 구비하는 플렉시블 표시 장치, 및 당해 광학 필름을 형성 가능한 광학용 수지에 관한 것이다.This invention relates to the optical film used as a front plate etc. of an image display apparatus, the flexible display apparatus provided with the said optical film, and the resin for optics which can form the said optical film.

액정 표시 장치나 유기 EL 표시 장치 등의 화상 표시 장치는, 휴대전화나 스마트 워치 등 다양한 용도로 널리 활용되고 있다. 이와 같은 화상 표시 장치의 전면판으로서 유리가 이용되어 왔지만, 유리는 매우 강직하고, 깨지기 쉽기 때문에, 예를 들면 플렉시블 디스플레이 등의 전면판 재료로서의 이용은 어렵다. 유리를 대신하는 재료의 하나로서, 폴리이미드계 수지나 폴리아미드계 수지가 있고, 이러한 수지를 이용한 광학 필름이 검토되고 있다(예를 들면 특허문헌 1).Image display apparatuses, such as a liquid crystal display device and an organic electroluminescence display, are widely utilized for various uses, such as a mobile telephone and a smart watch. Although glass has been used as a front plate of such an image display apparatus, since glass is very rigid and fragile, it is difficult to use it as a front plate material, such as a flexible display, for example. As a material which replaces glass, polyimide-type resin and polyamide-type resin are mentioned, and the optical film using such resin is examined (for example, patent document 1).

일본공표특허 특표2015-521687호 공보Japanese Patent Publication No. 2015-521687

이와 같은 광학 필름은, 폴리이미드계 수지나 폴리아미드계 수지를 용매에 용해시켜 조제한 바니시를 지지재에 도포 후, 건조 등 시켜서 얻어진다. 그러나, 본 발명자의 검토에 의하면, 광학 필름 제조 공정에 있어서 바니시의 일부가 겔화하는 경우가 있고, 그 결과, 얻어지는 광학 필름에 있어서의 부분적인 두께의 불균일이 생기기 쉬워져, 필름 표면의 평탄성이 손상되는 경우가 있는 것을 알았다.Such an optical film is obtained by applying a varnish prepared by dissolving a polyimide resin or a polyamide resin in a solvent and then applying the varnish to a support material, followed by drying or the like. However, according to examination by the present inventors, a part of varnish may gelatinize in an optical film manufacturing process, As a result, the partial thickness nonuniformity tends to arise in the optical film obtained, and the flatness of a film surface is impaired. We knew that there might be.

따라서, 본 발명의 목적은, 부분적인 두께의 불균일이 작고, 필름 표면의 평탄성이 우수한 광학 필름 및 당해 광학 필름을 구비하는 플렉시블 표시 장치를 제공하는 것에 있다.Therefore, the objective of this invention is providing the optical film excellent in the flatness of a film surface, and the nonuniformity of a partial thickness, and the flexible display apparatus provided with this optical film.

또한, 본 발명의 다른 목적은, 부분적인 두께의 불균일이 작고, 필름 표면의 평탄성이 우수한 광학 필름을 형성 가능한 광학용 수지를 제공하는 것에 있다.Moreover, another object of this invention is to provide the resin for optics which can form the optical film excellent in the flatness of a film surface, and the nonuniformity of a partial thickness is small.

본 발명자는, 상기 과제를 해결하기 위해 예의 검토한 결과, 식(A)로 나타내어지는 구조를 갖는 폴리이미드계 수지 및 폴리아미드계 수지로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 수지를 포함하는 광학 필름에 있어서, 당해 수지가 식(X)를 충족시키면, 상기 과제를 해결할 수 있는 것을 발견하고, 본 발명을 완성하기에 이르렀다. 즉, 본 발명에는 이하의 양태가 포함된다.MEANS TO SOLVE THE PROBLEM As a result of earnestly examining in order to solve the said subject, this inventor is an optical film containing at least 1 sort (s) of resin chosen from the group which consists of polyimide-type resin and polyamide-type resin which have a structure represented by Formula (A). WHEREIN: When the said resin satisfied Formula (X), it discovered that the said subject could be solved and came to complete this invention. That is, the following aspects are included in the present invention.

[1] 식(A)[1] Formula (A)

[화학식 1][Formula 1]

Figure pat00001
Figure pat00001

[식(A) 중, *은 결합손을 나타낸다][In formula (A), * represents a bond.]

로 나타내어지는 구조를 갖는 폴리이미드계 수지 및 폴리아미드계 수지로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 수지를 포함하고, 당해 수지가 식(X)At least 1 sort (s) of resin chosen from the group which consists of polyimide-type resin and polyamide-type resin which have a structure represented by these, and the said resin is Formula (X)

A/B×100≥0.03(%) (X)A / B × 100≥0.03 (%) (X)

[식(X) 중, A는, 당해 수지의 1H-NMR 스펙트럼에 있어서, 식(A)로 나타내어지는 구조 중의 질소 원자에 결합하는 수소 원자에 유래하는 피크 면적을 나타내고, B는, 당해 수지의 1H-NMR 스펙트럼에 있어서, 화학 시프트값이 6.5∼11.5ppm의 범위에 있어서의 피크 면적을 나타낸다][In Formula (X), A represents the peak area derived from the hydrogen atom couple | bonded with the nitrogen atom in the structure represented by Formula (A) in <1> H-NMR spectrum of this resin, B is the said resin. In the 1 H-NMR spectrum, the chemical shift value represents the peak area in the range of 6.5 to 11.5 ppm.]

를 충족시키는, 광학 필름.To meet the optical film.

[2] 식(A)로 나타내어지는 구조를 갖는 폴리이미드계 수지는, 식(1)[2] The polyimide resin having a structure represented by formula (A) is formula (1)

[화학식 2][Formula 2]

Figure pat00002
Figure pat00002

[식(1) 중, Y는 4가의 유기기이고, X는 2가의 유기기이다][In Formula (1), Y is a tetravalent organic group and X is a divalent organic group.]

로 나타내어지는 구성 단위를 포함하고,Containing a structural unit represented by

식(A)로 나타내어지는 구조를 갖는 폴리아미드계 수지는, 식(2)Polyamide-type resin which has a structure represented by Formula (A) is Formula (2)

[화학식 3][Formula 3]

Figure pat00003
Figure pat00003

[식(2) 중, Z 및 X는, 각각 독립적으로, 2가의 유기기이다][In Formula (2), Z and X are each independently a divalent organic group.]

로 나타내어지는 구성 단위를 포함하는, [1]에 기재된 광학 필름.The optical film as described in [1] containing the structural unit represented by these.

[3] 식(A)로 나타내어지는 구조의 적어도 일부는, 식(B)[3] At least a part of the structure represented by formula (A) is represented by formula (B).

[화학식 4][Formula 4]

Figure pat00004
Figure pat00004

[식(B) 중, *은 결합손을 나타낸다][In formula (B), * represents a bond.]

로 나타내어지는 구조인, [1] 또는 [2]에 기재된 광학 필름.The optical film as described in [1] or [2] which is a structure shown by these.

[4] 식(A)로 나타내어지는 구조를 갖는 폴리이미드계 수지 및 폴리아미드계 수지로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 수지의 중량 평균 분자량은, 200,000 이상인, [1]∼[3] 중 어느 것에 기재된 광학 필름.[4] The weight average molecular weight of at least one resin selected from the group consisting of a polyimide resin and a polyamide resin having a structure represented by formula (A) is 200,000 or more, in [1] to [3]. The optical film as described in any one.

[5] 추가로 실리카 입자를 포함하는, [1]∼[4] 중 어느 것에 기재된 광학 필름.[5] The optical film according to any one of [1] to [4], further comprising silica particles.

[6] 두께는 25∼100㎛인, [1]∼[5] 중 어느 것에 기재된 광학 필름.[6] The optical film according to any one of [1] to [5], wherein the thickness is 25 to 100 µm.

[7] [1]∼[6] 중 어느 것에 기재된 광학 필름을 구비하는, 플렉시블 표시 장치.[7] A flexible display device comprising the optical film according to any one of [1] to [6].

[8] 추가로, 터치 센서를 구비하는, [7]에 기재된 플렉시블 표시 장치.[8] The flexible display device according to [7], further comprising a touch sensor.

[9] 추가로, 편광판을 구비하는, [7] 또는 [8]에 기재된 플렉시블 표시 장치.[9] The flexible display device according to [7] or [8], further comprising a polarizing plate.

[10] 식(A)[10] Formula (A)

[화학식 5][Formula 5]

Figure pat00005
Figure pat00005

[식(A) 중, *은 결합손을 나타낸다][In formula (A), * represents a bond.]

로 나타내어지는 구조를 갖는 폴리이미드계 수지 및 폴리아미드계 수지로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 포함하는 광학용 수지로서, 식(X)As optical resin containing at least 1 sort (s) chosen from the group which consists of polyimide-type resin and polyamide-type resin which have a structure represented by the formula (X)

A/B×100≥0.03(%) (X)A / B × 100≥0.03 (%) (X)

[식(X) 중, A는, 당해 광학용 수지의 1H-NMR 스펙트럼에 있어서, 식(A)로 나타내어지는 구조 중의 질소 원자에 결합하는 수소 원자에 유래하는 피크 면적을 나타내고, B는, 당해 광학용 수지의 1H-NMR 스펙트럼에 있어서, 화학 시프트값이 6.5∼11.5ppm의 범위에 있어서의 피크 면적을 나타낸다][In Formula (X), A represents the peak area derived from the hydrogen atom couple | bonded with the nitrogen atom in the structure represented by Formula (A) in <1> H-NMR spectrum of the said optical resin, B is In the 1 H-NMR spectrum of the optical resin, a chemical shift value represents a peak area in a range of 6.5 to 11.5 ppm.]

를 충족시키는, 광학용 수지.To meet the optical resin.

본 발명의 광학 필름은, 부분적인 두께의 불균일이 작고, 필름 표면의 평탄성이 우수하다. 또한, 본 발명의 광학용 수지는, 부분적인 두께의 불균일이 작고, 필름 표면의 평탄성이 우수한 광학 필름을 형성할 수 있다.The optical film of this invention is small in the nonuniformity of partial thickness, and is excellent in the flatness of a film surface. Moreover, the optical resin of this invention is small in the nonuniformity of a partial thickness, and can form the optical film excellent in the flatness of a film surface.

〔광학 필름〕[Optical film]

본 발명의 광학 필름은, 식(A)The optical film of the present invention is formula (A)

[화학식 6][Formula 6]

Figure pat00006
Figure pat00006

[식(A) 중, *은 결합손을 나타낸다][In formula (A), * represents a bond.]

로 나타내어지는 구조를 갖는 폴리이미드계 수지 및 폴리아미드계 수지로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 수지를 포함한다.At least 1 sort (s) of resin chosen from the group which consists of polyimide-type resin and polyamide-type resin which have a structure represented by these are included.

< 수지><Resin>

상기 폴리이미드계 수지는, 이미드기를 포함하는 반복 구조 단위를 함유하는 중합체, 및 이미드기 및 아미드기의 양방을 포함하는 반복 구조 단위를 함유하는 중합체(폴리아미드이미드라고 하는 경우가 있음)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 중합체를 나타낸다. 또한, 상기 폴리아미드계 수지는, 아미드기를 포함하는 반복 구조 단위를 함유하는 중합체를 나타낸다.The said polyimide resin consists of a polymer containing a repeating structural unit containing an imide group, and a polymer containing a repeating structural unit containing both an imide group and an amide group (sometimes called polyamideimide). At least one polymer selected from the group is shown. In addition, the said polyamide resin shows the polymer containing the repeating structural unit containing an amide group.

폴리이미드계 수지는, 광학 필름의 표면 평탄성 및 광학 특성을 향상시키기 쉬운 관점에서, 폴리아미드이미드인 것이 바람직하다. 또한, 본 명세서에 있어서, 반복 구조 단위를 구성 단위라고 하는 경우가 있다. 식(1)로 나타내어지는 구성 단위를 구성 단위(1)이라고 표기하는 경우가 있다. 식(A)로 나타내어지는 구조를 구조(A)라고 표기하는 경우가 있다. 괄호 내의 번호가 바뀐 경우도 마찬가지이다.It is preferable that a polyimide resin is polyamide imide from a viewpoint of improving the surface flatness and optical characteristics of an optical film. In addition, in this specification, a repeating structural unit may be called a structural unit. The structural unit represented by Formula (1) may be described as structural unit (1). The structure represented by Formula (A) may be described as structure (A). The same is true if the number in parentheses is changed.

상기 수지에 포함되는 구조(A)(아세트아미드기(A)라고 하는 경우가 있음)는, 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지 중의 아민 말단이 아세틸화되어 형성된 아세트아미드기를 나타낸다.The structure (A) (sometimes called an acetamide group (A)) contained in the said resin represents the acetamide group formed by acetylating the amine terminal in polyimide resin or polyamide resin.

본 발명의 광학 필름에 있어서, 상기 수지는, 식(X)In the optical film of the present invention, the resin is formula (X)

A/B×100≥0.03(%) (X)A / B × 100≥0.03 (%) (X)

[식(X) 중, A는, 당해 수지의 1H-NMR 스펙트럼에 있어서, 식(A)로 나타내어지는 구조 중의 질소 원자에 결합하는 수소 원자에 유래하는 피크 면적을 나타내고, B는, 당해 수지의 1H-NMR 스펙트럼에 있어서, 화학 시프트값이 6.5∼11.5ppm의 범위에 있어서의 피크 면적을 나타낸다][In Formula (X), A represents the peak area derived from the hydrogen atom couple | bonded with the nitrogen atom in the structure represented by Formula (A) in <1> H-NMR spectrum of this resin, B is the said resin. In the 1 H-NMR spectrum, the chemical shift value represents the peak area in the range of 6.5 to 11.5 ppm.]

를 충족시킨다. 당해 수지의 1H-NMR 스펙트럼은, 예를 들면, 당해 수지의 중수소화 디메틸술폭시드(DMSO-d6이라고 함) 용액의 1H-NMR을 이하의 조건에서 측정함으로써 얻을 수 있고, 예를 들면 실시예에 기재된 방법에 의해 얻을 수 있다.Meets. The 1 H-NMR spectrum of the resin can be obtained by, for example, measuring 1 H-NMR of a deuterated dimethyl sulfoxide (referred to as DMSO-d 6 ) solution of the resin under the following conditions, for example It can obtain by the method as described in an Example.

측정 용액 : 수지의 DMSO-d6 용액(수지 농도 2질량%)Measuring solution: DMSO-d 6 solution of resin (resin concentration 2% by mass)

측정 장치 : NMR 장치Measuring device: NMR device

측정 용액 온도 : 303KMeasuring solution temperature: 303K

측정 방법 : 1H-NMRMeasurement Method: 1 H-NMR

화학 시프트 레퍼런스 : DMSO(2.50ppm)Chemical Shift Reference: DMSO (2.50 ppm)

얻어진 1H-NMR 스펙트럼으로부터 면적값을 얻을 때에는, 식(A)로 나타내어지는 구조 중의 질소 원자에 결합하는 수소 원자에 유래하는 피크 및 6.5∼11.5ppm의 범위 각각에 대해, 적당한 베이스 라인 보정을 행하는 것이 바람직하다.When the area value is obtained from the obtained 1 H-NMR spectrum, appropriate baseline correction is performed for each of the peak derived from the hydrogen atom bonded to the nitrogen atom in the structure represented by the formula (A) and the range of 6.5 to 11.5 ppm. It is preferable.

구조(A) 중의 질소 원자에 결합하는 수소 원자에 유래하는 피크는, 구조(A)를 갖는 구성 단위의 화학 구조에 따라 변화할 수 있지만, 2차원 NMR 측정을 행함으로써 구조(A) 중의 질소 원자에 결합하는 수소 원자인 것을 확인할 수 있다. 예를 들면, 당해 측정 용액의 HMBC 측정을 행하면, 구조(A) 중의 질소 원자에 결합하는 수소 원자의 화학 시프트와, 구조(A) 중의 메틸기의 탄소 원자의 화학 시프트와의 사이에, 서로가 3 결합 이내에 존재하는 것을 나타내는 HMBC 시그널이 검출됨으로써 확인할 수 있다. 구조(A) 중의 질소 원자에 결합하는 수소 원자에 유래하는 피크의 화학 시프트값은, 예를 들면 10.1∼10.7ppm, 바람직하게는 10.2∼10.6ppm, 보다 바람직하게는 10.3∼10.4ppm이다.The peak derived from the hydrogen atom bonded to the nitrogen atom in the structure (A) may change depending on the chemical structure of the structural unit having the structure (A), but the nitrogen atom in the structure (A) by performing two-dimensional NMR measurement It can confirm that it is a hydrogen atom couple | bonded with. For example, when the HMBC measurement of the measurement solution is performed, the mutual shift between the chemical shift of the hydrogen atom bonded to the nitrogen atom in the structure (A) and the chemical shift of the carbon atom of the methyl group in the structure (A) is 3 This can be confirmed by the detection of an HMBC signal that is present within the binding. The chemical shift value of the peak derived from the hydrogen atom bonded to the nitrogen atom in the structure (A) is, for example, 10.1 to 10.7 ppm, preferably 10.2 to 10.6 ppm, and more preferably 10.3 to 10.4 ppm.

식(X)의 A/B×100은, 상기 수지의 1H-NMR 스펙트럼에 있어서, 화학 시프트값이 6.5∼11.5ppm의 범위에 있어서의 피크 면적을 기준으로 하여, 구조(A) 중의 질소 원자에 결합하는 수소 원자에 유래하는 피크 면적을 백분율로 나타낸 것이고, 즉, 1H-NMR 스펙트럼에 있어서의 화학 시프트값이 6.5∼11.5ppm으로 검출되는 수소 원자의 수지 중의 함유량을 기준으로 하여, 구조(A) 중의 질소 원자에 결합하는 수소 원자의 함유량을 백분율로 나타낸 것이라고도 할 수 있다. 그 때문에, 식(X)의 A/B×100의 값은, 예를 들면, 수지 중의 구조(A)의 함유량을 변화시킴으로써 조정할 수 있고, 구조(A)의 함유량을 크게 하면, A/B×100의 값은 증가하고, 구조(A)의 함유량을 작게 하면, A/B×100의 값은 감소한다. 또한, 구조(A)의 함유량을 크게 하기 위해서는, 예를 들면 수지 중의 아민 말단의 아세틸화량을 증가시키면 된다.A / B × 100 in the formula (X) is a nitrogen atom in the structure (A) on the basis of the peak area in the range of 6.5 to 11.5 ppm in the chemical shift value in the 1 H-NMR spectrum of the resin. The peak area derived from the hydrogen atom which couple | bonds with to is shown as a percentage, ie, the structure (based on content in resin of the hydrogen atom whose chemical shift value in 1 H-NMR spectrum is detected at 6.5-11.5 ppm) It can also be said that content of the hydrogen atom couple | bonded with the nitrogen atom in A) was shown in percentage. Therefore, the value of A / Bx100 of Formula (X) can be adjusted by changing content of structure (A) in resin, for example, and if content of structure (A) is enlarged, it will be A / Bx. The value of 100 increases, and when content of structure (A) is made small, the value of A / Bx100 will decrease. In addition, in order to enlarge content of structure (A), what is necessary is just to increase the acetylation amount of the amine terminal in resin, for example.

본 발명에서는, 상기 수지가 식(X)의 관계를 충족시키는, 즉, A/B×100이 0.03% 이상으로서, 당해 수지가 구조(A)를 소정량 이상 갖기 때문에, 필름 제조 공정에 있어서 수지 바니시의 겔화를 유효하게 억제할 수 있다. 그 때문에, 본 발명의 광학 필름은, 부분적인 두께의 불균일이 작고, 필름 표면의 우수한 평탄성을 가질 수 있다. 이와 같은 겔화 억제 효과는, 수지 중의 아민 말단이 소정량 이상 아세틸화되어, 소정량 이상의 아세트아미드기(A)를 갖고 있기 때문이라고 추정된다. 또한, 본 명세서에 있어서, 평탄성은, 필름의 부분적인 두께의 불균일로 평가할 수 있고, 평탄성이 향상한다란, 필름의 부분적인 두께의 불균일이 보다 작아지는 것을 의미한다. 필름의 부분적인 두께의 불균일은, 예를 들면 실시예와 같이 두께 분포를 측정함으로써 평가할 수 있다. 또한, 본 명세서에 있어서, 「광학 특성」이란, 예를 들면 전광선(全光線) 투과율, 황색도 및 헤이즈를 포함하는 광학적으로 평가할 수 있는 특성을 나타낸다.In the present invention, since the resin satisfies the relationship of the formula (X), that is, A / B × 100 is 0.03% or more, and the resin has a predetermined amount or more of the structure (A), the resin in the film production process The gelation of the varnish can be effectively suppressed. Therefore, the optical film of this invention is small in the nonuniformity of partial thickness, and can have the outstanding flatness of the film surface. Such a gelling inhibitory effect is estimated to be because the amine terminal in resin is acetylated more than predetermined amount, and has a predetermined amount or more of acetamide group (A). In addition, in this specification, flatness can be evaluated by the nonuniformity of the partial thickness of a film, and improving flatness means that the nonuniformity of the partial thickness of a film becomes smaller. The nonuniformity of the partial thickness of a film can be evaluated by measuring thickness distribution like an Example, for example. In addition, in this specification, an "optical characteristic" shows the optically evaluable characteristic which includes a total light transmittance, yellowness, and haze, for example.

본 발명의 광학 필름은, 식(X)의 관계를 충족시키는 수지를 포함하기 때문에, 필름 제조 공정에 있어서 수지 바니시의 겔화를 유효하게 억제할 수 있는 점에서, 높은 전광선 투과율, 낮은 황색도(YI값) 및 낮은 헤이즈 등의 우수한 광학 특성을 가질 수 있다.Since the optical film of this invention contains resin which satisfy | fills the relationship of Formula (X), since the gelation of resin varnish can be suppressed effectively in a film manufacturing process, high total light transmittance and low yellowness (YI) Value) and low haze and the like.

식(X)에 있어서, A/B×100은, 바람직하게는 0.04% 이상, 보다 바람직하게는 0.05% 이상이다. A/B×100이 상기의 하한 이상이면, 광학 필름의 평탄성 및 광학 특성을 보다 향상시키기 쉽다. 또한, A/B×100의 상한은, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 1.0% 이하, 바람직하게는 0.5% 이하이다. A/B×100이 상기의 상한 이하이면, 내굴곡성 등의 기계 물성이 양호해지기 쉬운 경향이 있다.In Formula (X), A / Bx100 becomes like this. Preferably it is 0.04% or more, More preferably, it is 0.05% or more. If A / Bx100 is more than the said minimum, it will be easy to improve the flatness and optical characteristics of an optical film more. In addition, the upper limit of A / Bx100 is not specifically limited, For example, it is 1.0% or less, Preferably it is 0.5% or less. If A / B × 100 is equal to or less than the above upper limit, mechanical properties such as bending resistance tend to be good.

본 발명의 적합한 실시 양태에 있어서, 수지 바니시의 겔화를 억제하기 쉽고, 광학 필름의 평탄성 및 광학 특성을 보다 향상시키기 쉬운 관점에서, 식(A)로 나타내어지는 구조의 적어도 일부는, 식(B)In a preferred embodiment of the present invention, at least a part of the structure represented by the formula (A) is a formula (B), from the viewpoint of ease of gelation of the resin varnish and easy improvement of the flatness and optical properties of the optical film.

[화학식 7][Formula 7]

Figure pat00007
Figure pat00007

[식(B) 중, *은 결합손을 나타낸다][In formula (B), * represents a bond.]

로 나타내어지는 구조인 것이 바람직하다.It is preferable that it is a structure shown by.

상기 수지 중의 구조(A)의, 바람직하게는 30몰% 이상, 보다 바람직하게는 50몰% 이상, 더 바람직하게는 70몰% 이상, 특히 바람직하게는 90몰% 이상이 구조(B)이다. 수지 중의 구조(A)의 상기의 하한 이상이 구조(B)이면, 광학 필름의 평탄성 및 광학 특성을 보다 향상시키기 쉽다. 또한, 상기 수지 중의 구조(A)의, 바람직하게는 100몰% 이하가 구조(B)이다. 구조(B)의 구조(A)에 대한 비율은, 예를 들면 1H-NMR을 이용하여 측정할 수 있고, 또는 원료의 도입비로부터 산출할 수 있다.The structure (A) in the resin (A) is preferably 30 mol% or more, more preferably 50 mol% or more, still more preferably 70 mol% or more, and particularly preferably 90 mol% or more. If more than the said minimum of the structure (A) in resin is a structure (B), it will be easy to improve the flatness and optical characteristic of an optical film more. Moreover, preferably 100 mol% or less of the structure (A) in the said resin is a structure (B). Ratio of the structure (A) of the structure (B) is, for example, can be measured by using a 1 H-NMR, or can be calculated from the raw material doipbi.

이하에, 본 발명에 있어서의 구조(A)를 갖는 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지(이하, 수지(P)라고 하는 경우가 있음)의 구체적인 실시 양태를 나타낸다. 그러나, 본 발명은 이하의 양태에 한정되지 않는다.Below, the specific embodiment of the polyimide-type resin or polyamide-type resin (henceforth called resin (P)) which has a structure (A) in this invention is shown. However, the present invention is not limited to the following aspects.

본 발명의 적합한 실시 양태에 있어서, 상기 폴리이미드계 수지는, 식(1)로 나타내어지는 구성 단위를 포함하고, 폴리아미드이미드는, 식(1)로 나타내어지는 구성 단위와 식(2)로 나타내어지는 구성 단위를 포함한다. 또한, 폴리아미드계 수지는, 식(2)로 나타내어지는 구성 단위를 포함한다.In a preferred embodiment of the present invention, the polyimide resin includes a structural unit represented by formula (1), and the polyamideimide is represented by a structural unit represented by formula (1) and formula (2). Includes losing units. In addition, polyamide resin contains the structural unit represented by Formula (2).

[화학식 8][Formula 8]

Figure pat00008
Figure pat00008

[식(1) 및 식(2) 중, Y는 4가의 유기기이고, X 및 Z는, 각각 독립적으로, 2가의 유기기이다][In Formula (1) and Formula (2), Y is a tetravalent organic group, X and Z are respectively independently a divalent organic group.]

식(1)로 나타내어지는 반복 구조 단위는, 식(X)의 관계를 충족시키도록, 수지의 말단에 있어서 식(1)의 X가 구조(A)와 결합한 식(1')로 나타내어지는 구성 단위를 포함하고, 식(2)로 나타내어지는 반복 구조 단위는, 식(X)의 관계를 충족시키도록, 수지의 말단에 있어서 식(2)의 X가 구조(A)와 결합한 식(2')로 나타내어지는 구성 단위를 포함한다.The repeating structural unit represented by formula (1) is a structure represented by formula (1 ') in which X of formula (1) is bonded to structure (A) at the terminal of the resin so as to satisfy the relationship of formula (X). The repeating structural unit which contains a unit and is represented by Formula (2) is Formula (2 ') which X of Formula (2) couple | bonded with Structure (A) at the terminal of resin so that the relationship of Formula (X) may be satisfied. It includes a structural unit represented by).

[화학식 9][Formula 9]

Figure pat00009
Figure pat00009

[식(1') 및 식(2') 중, Y는 4가의 유기기이고, X 및 Z는, 각각 독립적으로, 2가의 유기기이다][In Formula (1 ') and Formula (2'), Y is a tetravalent organic group, X and Z are respectively independently a divalent organic group.]

폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지가, 식(X)의 관계를 충족시키도록, 구성 단위(1') 및/또는 구성 단위(2')를 포함함으로써, 필름 제조 공정에 있어서 수지 바니시의 겔화를 유효하게 억제할 수 있고, 결과적으로, 필름 표면의 평탄성이 우수한 광학 필름을 얻을 수 있다. 또한, 당해 광학 필름은, 고 광선 투과율, 저 황색도 및 저 헤이즈 등의 우수한 광학 특성을 발현할 수도 있다.Gelling of the resin varnish in a film manufacturing process by including structural unit (1 ') and / or structural unit (2') so that polyimide-type resin or polyamide-type resin may satisfy | fill the relationship of Formula (X). Can be effectively suppressed, and as a result, an optical film excellent in the flatness of the film surface can be obtained. Moreover, the said optical film can also express the outstanding optical characteristics, such as high light transmittance, low yellowness, and low haze.

식(1), 식(1'), 식(2) 및 식(2')[이하, 식(1)∼식(2')라고 표기하는 경우가 있음]에 있어서, X는, 각각 독립적으로, 2가의 유기기를 나타내고, 바람직하게는 탄소수 4∼40의 2가의 유기기, 보다 바람직하게는 환상(環狀) 구조를 갖는 탄소수 4∼40의 2가의 유기기를 나타낸다. 환상 구조로서는, 지환, 방향환, 헤테로환 구조를 들 수 있다. 상기 유기기는, 유기기 중의 수소 원자가 탄화수소기 또는 불소 치환된 탄화수소기로 치환되어 있어도 되고, 그 경우, 탄화수소기 및 불소 치환된 탄화수소기의 탄소수는 바람직하게는 1∼8이다. 본 발명의 일 실시 양태인 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지는, 복수종의 X를 포함할 수 있으며, 복수종의 X는, 서로 동일해도 되고, 상이해도 된다. X로서는, 식(10), 식(11), 식(12), 식(13), 식(14), 식(15), 식(16), 식(17) 및 식(18)로 나타내어지는 기; 그러한 식(10)∼식(18)로 나타내어지는 기 중의 수소 원자가 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기로 치환된 기; 및 탄소수 6 이하의 쇄식 탄화수소기가 예시된다.In formula (1), formula (1 '), formula (2), and formula (2') (Hereinafter, it may be described as formula (1)-formula (2 ').) X is respectively independently , A divalent organic group, preferably a divalent organic group having 4 to 40 carbon atoms, and more preferably a divalent organic group having 4 to 40 carbon atoms having a cyclic structure. Examples of the cyclic structure include an alicyclic, aromatic ring, and heterocyclic structure. The said organic group may be substituted by the hydrogen group in the organic group by the hydrocarbon group or the fluorine-substituted hydrocarbon group, In that case, carbon number of a hydrocarbon group and a fluorine-substituted hydrocarbon group becomes like this. Preferably it is 1-8. The polyimide resin or the polyamide resin, which is an embodiment of the present invention, may include a plurality of types of X, and the plurality of types of X may be the same as or different from each other. As X, it is represented by Formula (10), Formula (11), Formula (12), Formula (13), Formula (14), Formula (15), Formula (16), Formula (17) and Formula (18). group; A group in which a hydrogen atom in the group represented by such formulas (10) to (18) is substituted with a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group; And a chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms is exemplified.

[화학식 10][Formula 10]

Figure pat00010
Figure pat00010

식(10)∼식(18) 중, *은 결합손을 나타내고,In formulas (10) to (18), * represents a bond.

V1, V2 및 V3은, 각각 독립적으로, 단결합, -O-, -S-, -CH2-, -CH2-CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2-, -CO- 또는 -NQ-를 나타낸다. 여기서, Q는 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되는 탄소수 1∼12의 탄화수소기를 나타낸다.V 1 , V 2 and V 3 are each independently a single bond, -O-, -S-, -CH 2- , -CH 2 -CH 2- , -CH (CH 3 )-, -C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2- , -SO 2- , -CO- or -NQ-. Here, Q represents a C1-C12 hydrocarbon group which may be substituted by the halogen atom.

1개의 예는, V1 및 V3이 단결합, -O- 또는 -S-이고, 또한, V2가 -CH2-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2- 또는 -SO2-이다. V1과 V2의 각 환에 대한 결합 위치, 및, V2와 V3의 각 환에 대한 결합 위치는, 각각, 각 환에 대해 바람직하게는 메타 위치 또는 파라 위치, 보다 바람직하게는 파라 위치이다.One example is that V 1 and V 3 are a single bond, -O- or -S-, and V 2 is -CH 2- , -C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2- Or -SO 2- . The bonding position for each ring of V 1 and V 2 and the bonding position for each ring of V 2 and V 3 are each preferably a meta position or a para position, more preferably a para position, for each ring. to be.

식(10)∼식(18)로 나타내어지는 기 중에서도, 광학 필름의 표면 경도 및 내굴곡성을 향상시키기 쉬운 관점에서, 식(13), 식(14), 식(15), 식(16) 및 식(17)로 나타내어지는 기가 바람직하고, 식(14), 식(15) 및 식(16)으로 나타내어지는 기가 보다 바람직하다. 또한, V1, V2 및 V3은, 광학 필름의 표면 경도 및 유연성을 향상시키기 쉬운 관점에서, 각각 독립적으로, 단결합, -O- 또는 -S-인 것이 바람직하고, 단결합 또는 -O-인 것이 보다 바람직하다.Among the groups represented by the formulas (10) to (18), from the viewpoint of easily improving the surface hardness and the bend resistance of the optical film, the formulas (13), (14), (15), (16) and Group represented by Formula (17) is preferable, and group represented by Formula (14), Formula (15), and Formula (16) is more preferable. Further, V 1, V 2 and V 3 is, in an easy to improve the surface hardness and flexibility point of view of the optical film, each independently, a single bond, preferably a -O- or -S-, and a bond or -O It is more preferable that it is-.

본 발명의 적합한 실시 양태에 있어서, 식(1)∼식(2') 중의 복수의 X의 적어도 일부는, 식(4) : In a preferred embodiment of the present invention, at least some of the plurality of X's in the formulas (1) to (2 ') are represented by the formula (4):

[화학식 11][Formula 11]

Figure pat00011
Figure pat00011

[식(4) 중, R10∼R17은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1∼6의 알킬기, 탄소수 1∼6의 알콕시기, 또는 탄소수 6∼12의 아릴기를 나타내고, R10∼R17에 포함되는 수소 원자는, 각각 독립적으로, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되며, *은 결합손을 나타낸다][In formula (4), R <10> -R <17> represents a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 alkoxy group, or a C6-C12 aryl group each independently, and R <10> -R The hydrogen atoms contained in 17 may be each independently substituted with a halogen atom, and * represents a bond.]

로 나타내어지는 기이다. 식(1)∼식(2') 중의 복수의 X의 적어도 일부가 식(4)로 나타내어지는 기이면, 광학 필름의 표면 경도, 평탄성 및 광학 특성 등을 향상시키기 쉽다.It is group represented by. If at least one part of the some X in Formula (1)-Formula (2 ') is group represented by Formula (4), it is easy to improve the surface hardness, flatness, optical characteristic, etc. of an optical film.

식(4)에 있어서, R10, R11, R12, R13, R14, R15, R16, R17은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1∼6의 알킬기, 탄소수 1∼6의 알콕시기, 또는 탄소수 6∼12의 아릴기를 나타낸다. 탄소수 1∼6의 알킬기로서는, 예를 들면 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, 2-메틸-부틸기, 3-메틸부틸기, 2-에틸-프로필기, n-헥실기 등을 들 수 있다. 탄소수 6∼12의 아릴기로서는, 예를 들면 페닐기, 톨릴기, 크실릴기, 나프틸기, 비페닐기 등을 들 수 있다. 탄소수 1∼6의 알콕시기로서는, 예를 들면 메톡시기, 에톡시기, 프로필옥시기, 이소프로필옥시기, 부톡시기, 이소부톡시기, tert-부톡시기, 펜틸옥시기, 헥실옥시기, 시클로헥실옥시기 등을 들 수 있다. R10∼R17은, 각각 독립적으로, 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1∼6의 알킬기를 나타내고, 보다 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1∼3의 알킬기를 나타내며, 여기서, R10∼R17에 포함되는 수소 원자는, 각각 독립적으로, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 된다. 할로겐 원자로서는, 예를 들면 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자를 들 수 있다. R10∼R17은, 각각 독립적으로, 광학 필름의 평탄성, 광학 특성, 표면 경도 또는 내굴곡성을 향상시키기 쉬운 관점에서, 보다 바람직하게는 수소 원자, 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기이고, 특히 바람직하게는 R10, R12, R13, R14, R15 및 R16이 수소 원자, R11 및 R17이 수소 원자, 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기이며, 특히 R11 및 R17이 메틸기 또는 트리플루오로메틸기인 것이 바람직하다.In Formula (4), R <10> , R <11> , R <12> , R <13> , R <14> , R <15> , R <16> and R <17> are respectively independently a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group, and C1-C6 An alkoxy group or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group and 2-methyl-butyl group , 3-methylbutyl group, 2-ethyl-propyl group, n-hexyl group and the like. As a C6-C12 aryl group, a phenyl group, a tolyl group, a xylyl group, a naphthyl group, a biphenyl group etc. are mentioned, for example. Examples of the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms include methoxy group, ethoxy group, propyloxy group, isopropyloxy group, butoxy group, isobutoxy group, tert-butoxy group, pentyloxy group, hexyloxy group and cyclohexyl octa Season, etc. can be mentioned. R 10 to R 17 each independently, preferably represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and more preferably represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, where R 10 to R 17 are The hydrogen atoms contained may be each independently substituted with a halogen atom. As a halogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom are mentioned, for example. R 10 to R 17 are each independently, from the viewpoint of easily improving the flatness, optical properties, surface hardness, or bend resistance of the optical film, more preferably hydrogen atom, methyl group, fluoro group, chloro group or trifluoro Methyl group, and particularly preferably R 10 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 and R 16 are hydrogen atoms, R 11 and R 17 are hydrogen atoms, methyl group, fluoro group, chloro group or trifluoromethyl group In particular, it is preferable that R 11 and R 17 be a methyl group or a trifluoromethyl group.

본 발명의 적합한 실시 양태에 있어서는, 식(4)로 나타내어지는 기는 식(4') : In a preferred embodiment of the invention, the group represented by formula (4) is represented by the formula (4 '):

[화학식 12][Formula 12]

Figure pat00012
Figure pat00012

로 나타내어지는 기이고, 즉, 복수의 X의 적어도 일부는, 식(4')로 나타내어지는 기이다. 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지가, 구성 단위(1') 및/또는 구성 단위(2') 중의 복수의 X의 적어도 일부에 (4')로 나타내어지는 기를 갖고 있을 경우, 당해 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지는, 구조(B)를 가지게 된다. 이 경우, 불소 원소를 함유하는 골격에 의해 수지의 용매에 대한 용해성이 향상하고, 수지 바니시의 겔화를 억제하기 쉽기 때문에, 광학 필름의 평탄성 및 광학 특성을 향상시키기 쉽다.In other words, at least a part of the plurality of X's is a group represented by the formula (4 '). When polyimide-type resin or polyamide-type resin has group represented by (4 ') in at least one part of several X in structural unit (1') and / or structural unit (2 '), the said polyimide system Resin or polyamide resin has a structure (B). In this case, since the solubility of a resin in the solvent improves by the frame | skeleton containing a fluorine element, and gelatinization of a resin varnish is easy to suppress, it is easy to improve the flatness and optical characteristics of an optical film.

본 발명의 적합한 실시 양태에 있어서, 수지(P)의 X의, 바람직하게는 30몰% 이상, 보다 바람직하게는 50몰% 이상, 더 바람직하게는 70몰% 이상이 식(4), 특히 식(4')로 나타내어진다. 당해 수지에 있어서의 상기 범위 내의 X가 식(4), 특히 식(4')로 나타내어지면, 불소 원소를 함유하는 골격에 의해 당해 수지의 용매에 대한 용해성이 향상하여, 수지 바니시의 겔화를 억제하기 쉽기 때문에, 광학 필름의 평탄성 및 광학 특성을 향상시키기 쉽다. 또한, 바람직하게는, 수지(P) 중의 X의 100몰% 이하가 식(4), 특히 식(4')로 나타내어진다. 수지(P) 중의 X는 식(4), 특히 식(4')여도 된다. 수지(P) 중의 X의 식(4)로 나타내어지는 기의 비율은, 예를 들면 1H-NMR을 이용하여 측정할 수 있고, 또는 원료의 도입비로부터 산출할 수도 있다.In a preferred embodiment of the present invention, X of the resin (P), preferably at least 30 mol%, more preferably at least 50 mol%, even more preferably at least 70 mol% is formula (4), in particular formula It is represented by (4 '). When X in the said range in the said resin is represented by Formula (4), especially Formula (4 '), the solubility to the solvent of the said resin improves by the skeleton containing a fluorine element, and suppresses gelation of the resin varnish. Since it is easy to do it, it is easy to improve the flatness and optical characteristics of an optical film. Moreover, Preferably, 100 mol% or less of X in resin (P) is represented by Formula (4), especially Formula (4 '). X in resin (P) may be Formula (4), especially Formula (4 '). Ratio of groups represented by the formula (4) X in the resin (P) is, for example, can be measured by using a 1 H-NMR, or may be calculated from the raw material doipbi.

식(2) 및 식(2')에 있어서, Z는, 각각 독립적으로, 2가의 유기기이고, 바람직하게는 탄소수 1∼8의 탄화수소기 또는 불소 치환된 탄소수 1∼8의 탄화수소기로 치환되어 있어도 되는, 탄소수 4∼40의 유기기이며, 보다 바람직하게는 탄소수 1∼8의 탄화수소기 또는 불소 치환된 탄소수 1∼8의 탄화수소기로 치환되어 있어도 되는, 환상 구조를 갖는 탄소수 4∼40의 2가의 유기기를 나타낸다. 환상 구조로서는, 지환, 방향환, 헤테로환 구조를 들 수 있다. Z의 유기기로서, 후술하는 식(20), 식(21), 식(22), 식(23), 식(24), 식(25), 식(26), 식(27), 식(28) 및 식(29)로 나타내어지는 기의 결합손 중, 인접하지 않는 2개가 수소 원자로 치환된 기 및 탄소수 6 이하의 2가의 쇄식 탄화수소기가 예시된다. 특히 광학 필름의 황색도를 억제(YI값을 저감)하기 쉽고, 광학 특성을 향상시키기 쉬운 관점에서, 식(20)∼식(27)로 나타내어지는 기가 바람직하다.In formula (2) and formula (2 '), Z is a divalent organic group each independently, Preferably, even if it is substituted by the C1-C8 hydrocarbon group or the fluorine-substituted C1-C8 hydrocarbon group, C4-C40 bivalent organic group which has a cyclic structure which is a C4-C40 organic group, More preferably, it may be substituted by the C1-C8 hydrocarbon group or the fluorine-substituted C1-C8 hydrocarbon group. Group. Examples of the cyclic structure include an alicyclic, aromatic ring, and heterocyclic structure. As an organic group of Z, Formula (20), Formula (21), Formula (22), Formula (23), Formula (24), Formula (25), Formula (26), Formula (27) and Formula (to be described later) 28) and group in which two nonadjacent groups are substituted by the hydrogen atom among the bond loss of the group represented by Formula (29), and the divalent chain hydrocarbon group of 6 or less carbon atoms are illustrated. In particular, a group represented by the formulas (20) to (27) is preferable from the viewpoint of easily suppressing the yellowness of the optical film (reducing the YI value) and improving the optical characteristics.

본 발명의 일 실시 양태에 있어서, 구조(A)를 갖는 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지는, 복수종의 Z를 포함할 수 있고, 복수종의 Z는, 서로 동일해도 상이해도 된다. 특히, 광학 필름이 보다 높은 평탄성 및 표면 경도에 더하여, 우수한 광학 특성을 발현하기 쉬운 관점에서, Z의 적어도 일부가, 식(3)In one embodiment of the present invention, the polyimide resin or the polyamide resin having the structure (A) may include a plurality of types of Z, and the plurality of types of Z may be the same as or different from each other. In particular, in view of the fact that the optical film tends to exhibit excellent optical properties in addition to higher flatness and surface hardness, at least a part of Z is represented by Formula (3)

[화학식 13][Formula 13]

Figure pat00013
Figure pat00013

[식(3) 중, R1∼R8은 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1∼6의 알킬기, 탄소수 1∼6의 알콕시기, 또는 탄소수 6∼12의 아릴기를 나타내고, R1∼R8에 포함되는 수소 원자는, 각각 독립적으로, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되며, A는, 단결합, -O-, -CH2-, -CH2-CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2-, -S-, -CO- 또는 -NR9-를 나타내고, R9는 수소 원자, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되는 탄소수 1∼12의 탄화수소기를 나타내며, m은 0∼4의 정수이고, *은 결합손을 나타낸다]Equation (3) of, R 1 ~R 8 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group, or an aryl group of 6 to 12 carbon atoms having 1 to 6 carbon atoms of, R 1 ~R 8 The hydrogen atoms contained in each may be independently substituted with a halogen atom, and A is a single bond, -O-, -CH 2- , -CH 2 -CH 2- , -CH (CH 3 )-,- C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2- , -SO 2- , -S-, -CO- or -NR 9- , and R 9 is carbon number which may be substituted with a hydrogen atom or a halogen atom; A hydrocarbon group of 1 to 12, m is an integer of 0 to 4, and * represents a bond.]

으로 나타내어지는 것이 바람직하다.It is preferable that it is represented by.

식(3)에 있어서, A는, 각각 독립적으로, 단결합, -O-, -CH2-, -CH2-CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2-, -S-, -CO- 또는 -NR9-를 나타내고, 광학 필름의 내굴곡성의 관점에서, 바람직하게는 -O- 또는 -S-를 나타내며, 보다 바람직하게는 -O-를 나타낸다. R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1∼6의 알킬기, 탄소수 1∼6의 알콕시기, 또는 탄소수 6∼12의 아릴기를 나타낸다. 탄소수 1∼6의 알킬기, 탄소수 1∼6의 알콕시기 및 탄소수 6∼12의 아릴기로서는, 식(4)에 있어서의 탄소수 1∼6의 알킬기, 탄소수 1∼6의 알콕시기 또는 탄소수 6∼12의 아릴기로서 상기에 예시된 것을 들 수 있다. 광학 필름의 표면 경도 및 유연성의 관점에서, R1∼R8은, 각각 독립적으로, 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1∼6의 알킬기를 나타내고, 보다 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1∼3의 알킬기를 나타내며, 더 바람직하게는 수소 원자를 나타낸다. 여기서, R1∼R8에 포함되는 수소 원자는, 각각 독립적으로, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 된다. R9는 수소 원자, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되는 탄소수 1∼12의 탄화수소기를 나타낸다.In Formula (3), A is respectively independently a single bond, -O-, -CH 2- , -CH 2 -CH 2- , -CH (CH 3 )-, -C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2- , -SO 2- , -S-, -CO- or -NR 9- , and from the viewpoint of the bend resistance of the optical film, preferably -O- or -S- More preferably -O-. R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , and R 8 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or 6 carbon atoms The aryl group of -12 is shown. As a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 alkoxy group, and a C6-C12 aryl group, a C1-C6 alkyl group, C1-C6 alkoxy group, or C6-C12 in Formula (4) Examples of the aryl group include those exemplified above. From the viewpoint of the surface hardness and the flexibility of the optical film, R 1 to R 8 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. And more preferably a hydrogen atom. Here, the hydrogen atoms contained in R 1 to R 8 may be each independently substituted with a halogen atom. R <9> represents the C1-C12 hydrocarbon group which may be substituted by the hydrogen atom and the halogen atom.

식(3)에 있어서, m은, 0∼4의 범위의 정수이고, m이 이 범위 내이면, 광학 필름의 내굴곡성이나 탄성률이 양호하다. 또한, 식(3)에 있어서, m은, 바람직하게는 0∼3의 범위의 정수, 보다 바람직하게는 0∼2, 더 바람직하게는 0 또는 1이고, m이 이 범위 내이면, 광학 필름의 내굴곡성이나 탄성률이 양호함과 동시에, 원료의 입수성이 비교적 양호하다. 또한, Z는, 식(3)으로 나타내어지는 기를 1종 또는 2종류 이상 포함하고 있어도 되고, 광학 필름의 탄성률 및 내굴곡성의 향상, 및 황색도(YI값) 저감의 관점에서, 특히 m의 값이 상이한 2종류 이상의 기, 바람직하게는 m의 값이 상이한 2종류의 기를 포함하고 있어도 된다. 그 경우, 광학 필름이 높은 탄성률이나 내굴곡성, 낮은 황색도(YI값)를 발현하기 쉬운 관점에서, m이 0과 1인 기를 양방 포함하는 것이 바람직하다.In Formula (3), m is an integer of the range of 0-4, and if m is in this range, the bending resistance and elastic modulus of an optical film are favorable. In addition, in Formula (3), m is preferably an integer in the range of 0-3, More preferably, it is 0-2, More preferably, it is 0 or 1, When m is in this range, The bending resistance and the elastic modulus are good, and the availability of the raw material is relatively good. In addition, Z may contain 1 type, or 2 or more types of group represented by Formula (3), and especially the value of m from a viewpoint of the improvement of the elasticity modulus, bending resistance, and yellowness (YI value) reduction of an optical film. Two or more types of these different groups, Preferably two types of groups different from each other may be included. In that case, it is preferable that an optical film contains both groups whose m is 0 and 1 from a viewpoint which is easy to express high elasticity modulus, bending resistance, and low yellowness (YI value).

본 발명의 적합한 실시 양태에 있어서는, 식(3)은 식(3') : In a preferred embodiment of the invention, formula (3) is formula (3 '):

[화학식 14][Formula 14]

Figure pat00014
Figure pat00014

로 나타내어지는 기이고, 즉, 복수의 Z의 적어도 일부는 식(3')로 나타내어지는 기이다. 이 경우, 광학 필름은, 표면 경도 및 내굴곡성을 향상시키기 쉽고, 또한 황색도를 저감하기 쉽다.In other words, at least a part of the plurality of Z is a group represented by the formula (3 '). In this case, an optical film is easy to improve surface hardness and bending resistance, and also easy to reduce yellowness.

본 발명의 적합한 실시 양태에 있어서, 수지(P) 중의 식(1)로 나타내어지는 구성 단위 및 식(2)로 나타내어지는 구성 단위의 합계에 대해, 식(3)으로 나타내어지는 기는, 바람직하게는 20몰% 이상, 보다 바람직하게는 30몰% 이상, 더 바람직하게는 40몰% 이상, 특히 바람직하게는 50몰% 이상, 가장 바람직하게는 60몰% 이상이고, 바람직하게는 90몰% 이하, 보다 바람직하게는 85몰% 이하, 더 바람직하게는 80몰% 이하이다. 수지(P) 중의 식(1)로 나타내어지는 구성 단위 및 식(2)로 나타내어지는 구성 단위의 합계에 대해, 식(3)으로 나타내어지는 기가 상기의 하한값 이상이면, 광학 필름은, 표면 경도, 내굴곡성 및 탄성률 등이 우수할 수 있다. 수지(P) 중의 식(1)로 나타내어지는 구성 단위 및 식(2)로 나타내어지는 구성 단위의 합계에 대해, 식(3)으로 나타내어지는 기가 상기의 상한값 이하이면, 식(3) 유래의 아미드 결합간 수소 결합에 기인하는 겔화를 억제하기 쉽고, 광학 필름의 평탄성 및 광학 특성을 높이기 쉽다.In a preferred embodiment of the present invention, the group represented by the formula (3) is preferably about the total of the structural unit represented by the formula (1) in the resin (P) and the structural unit represented by the formula (2). 20 mol% or more, more preferably 30 mol% or more, more preferably 40 mol% or more, particularly preferably 50 mol% or more, most preferably 60 mol% or more, preferably 90 mol% or less, More preferably, it is 85 mol% or less, More preferably, it is 80 mol% or less. When the group represented by Formula (3) is more than the said lower limit with respect to the sum total of the structural unit represented by Formula (1) in resin (P), and the structural unit represented by Formula (2), an optical film has surface hardness, Flex resistance and elastic modulus may be excellent. Amide derived from formula (3) when the group represented by formula (3) is less than or equal to the above upper limit with respect to the total of the structural unit represented by formula (1) in the resin (P) and the structural unit represented by formula (2). It is easy to suppress gelation resulting from hydrogen bonding between bonds, and it is easy to raise the flatness and optical characteristics of an optical film.

또한, 본 발명의 적합한 실시 양태에 있어서, 수지(P)의 식(1)로 나타내어지는 구성 단위 및 식(2)로 나타내어지는 구성 단위의 합계에 대해, 식(3)의 m이 1∼4로 나타내어지는 기는, 바람직하게는 3몰% 이상, 보다 바람직하게는 5몰% 이상, 더 바람직하게는 7몰% 이상, 특히 바람직하게는 9몰% 이상이고, 바람직하게는 90몰% 이하, 보다 바람직하게는 70몰% 이하, 더 바람직하게는 50몰% 이하, 특히 바람직하게는 30몰% 이하이다. 수지(P) 중의 식(1)로 나타내어지는 구성 단위 및 식(2)로 나타내어지는 구성 단위의 합계에 대해, 식(3)의 m이 1∼4로 나타내어지는 기가 상기의 하한값 이상이면, 광학 필름의 표면 경도 및 내굴곡성을 보다 향상시키기 쉽다. 수지(P) 중의 식(1)로 나타내어지는 구성 단위 및 식(2)로 나타내어지는 구성 단위의 합계에 대해, 식(3)의 m이 1∼4로 나타내어지는 기가 상기의 상한값 이하이면, 식(3) 유래의 아미드 결합간 수소 결합에 기인하는 겔화를 억제하기 쉽고, 광학 필름의 평탄성 및 광학 특성을 높이기 쉽다. 또한, 식(3)으로 나타내어지는 기의 함유량은, 예를 들면 1H-NMR을 이용하여 측정할 수 있고, 또는 원료의 도입비로부터 산출할 수도 있다.Moreover, in a suitable embodiment of this invention, m of Formula (3) is 1-4 with respect to the sum total of the structural unit represented by Formula (1) of resin (P), and the structural unit represented by Formula (2). The group represented by is preferably 3 mol% or more, more preferably 5 mol% or more, even more preferably 7 mol% or more, particularly preferably 9 mol% or more, preferably 90 mol% or less, more Preferably it is 70 mol% or less, More preferably, it is 50 mol% or less, Especially preferably, it is 30 mol% or less. With respect to the total of the structural unit represented by the formula (1) in the resin (P) and the structural unit represented by the formula (2), when m in the formula (3) is represented by 1 to 4 or more, the optical It is easy to improve the surface hardness and bending resistance of a film further. About the sum total of the structural unit represented by Formula (1) in resin (P), and the structural unit represented by Formula (2), if m of Formula (3) is group represented by 1-4, it is a formula below (3) It is easy to suppress the gelation resulting from the hydrogen bond between amide bonds derived from it, and to improve the flatness and optical characteristics of an optical film. The content of groups represented by the formula (3) is, for example, can be measured by using a 1 H-NMR, or may be calculated from the raw material doipbi.

본 발명의 적합한 실시 양태에 있어서, 수지(P) 중의 Z의, 바람직하게는 30몰% 이상, 보다 바람직하게는 50몰% 이상, 더 바람직하게는 60몰% 이상, 특히 바람직하게는 70몰% 이상이, 식(3)으로 나타내어진다. 수지(P)의 Z의 상기의 하한값 이상이 식(3)으로 나타내어지면, 광학 필름의 표면 경도 및 내굴곡성을 향상시키기 쉽다. 또한, 수지(P) 중의 Z의, 바람직하게는 100몰% 이하가, 식(3)으로 나타내지는 것이 바람직하다. 수지(P)의 Z의 상기의 상한 이하가 식(3)으로 나타내어지면, 식(3) 유래의 아미드 결합간 수소 결합에 기인하는 겔화를 억제하기 쉽고, 광학 필름의 평탄성 및 광학 특성을 높이기 쉽다.In a preferred embodiment of the present invention, Z in resin (P) is preferably at least 30 mol%, more preferably at least 50 mol%, even more preferably at least 60 mol%, particularly preferably 70 mol%. The above is represented by Formula (3). When more than the said lower limit of Z of resin (P) is represented by Formula (3), it is easy to improve the surface hardness and bending resistance of an optical film. In addition, it is preferable that preferably 100 mol% or less of Z in resin (P) is represented by Formula (3). When below the said upper limit of Z of resin (P) is represented by Formula (3), it is easy to suppress gelation resulting from hydrogen bonds between the amide bonds derived from Formula (3), and it is easy to raise the flatness and optical characteristics of an optical film. .

본 발명의 적합한 실시 양태에 있어서, 수지(P) 중의 Z의, 바람직하게는 5몰% 이상, 보다 바람직하게는 8몰% 이상, 더 바람직하게는 10몰% 이상, 특히 바람직하게는 12몰% 이상이, m이 1∼4인 경우의 식(3)으로 나타내어진다. 수지(P)의 Z의 상기의 하한값 이상이, m이 1∼4인 경우의 식(3)으로 나타내어지면, 광학 필름의 표면 경도 및 내굴곡성을 향상시키기 쉽다. 또한, 수지(P) 중의 Z의, 바람직하게는 90몰% 이하, 보다 바람직하게는 70몰% 이하, 더 바람직하게는 50몰% 이하, 특히 바람직하게는 30몰% 이하가, m이 1∼4인 경우의 식(3)으로 나타내지는 것이 바람직하다. 수지(P)의 Z의 상기의 상한 이하가, m이 1∼4인 경우의 식(3)으로 나타내어지면, m이 1∼4인 경우의 식(3) 유래의 아미드 결합간 수소 결합에 기인하는 겔화를 억제하기 쉽고, 광학 필름의 평탄성 및 광학 특성을 높이기 쉽다. 또한, 수지(P) 중의, m이 1∼4인 경우의 식(3)으로 나타내어지는 기의 비율은, 예를 들면 1H-NMR을 이용하여 측정할 수 있고, 또는 원료의 도입비로부터 산출할 수도 있다.In a preferred embodiment of the present invention, Z in the resin (P) is preferably at least 5 mol%, more preferably at least 8 mol%, even more preferably at least 10 mol%, particularly preferably 12 mol%. The above is represented by Formula (3) when m is 1-4. When more than the said lower limit of Z of resin (P) is represented by Formula (3) when m is 1-4, it is easy to improve the surface hardness and bending resistance of an optical film. Moreover, preferably 90 mol% or less of Z in resin (P), More preferably, it is 70 mol% or less, More preferably, it is 50 mol% or less, Especially preferably, it is 30 mol% or less, m is 1- It is preferable that it is represented by Formula (3) in the case of 4. When below the said upper limit of Z of resin (P) is represented by Formula (3) when m is 1-4, it originates in the hydrogen bond between amide bonds derived from Formula (3) when m is 1-4. It is easy to suppress gelation, and it is easy to raise the flatness and optical characteristics of an optical film. The resin (P) in a ratio of the group represented by the formula (3) in the case where m is 1 to 4, for example, can be measured by using a 1 H-NMR, or be calculated from the raw material doipbi It may be.

식(1) 및 식(1')에 있어서, Y는, 각각 독립적으로, 4가의 유기기를 나타내고, 바람직하게는 탄소수 4∼40의 4가의 유기기를 나타내며, 보다 바람직하게는 환상 구조를 갖는 탄소수 4∼40의 4가의 유기기를 나타낸다. 환상 구조로서는, 지환, 방향환, 헤테로환 구조를 들 수 있다. 상기 유기기는, 유기기 중의 수소 원자가 탄화수소기 또는 불소 치환된 탄화수소기로 치환되어 있어도 되는 유기기이고, 그 경우, 탄화수소기 및 불소 치환된 탄화수소기의 탄소수는 바람직하게는 1∼8이다. 본 발명의 일 실시 양태인 구조(A)를 갖는 폴리이미드계 수지는, 복수종의 Y를 포함할 수 있으며, 복수종의 Y는, 서로 동일해도 되고, 상이해도 된다. Y로서는, 이하의 식(20), 식(21), 식(22), 식(23), 식(24), 식(25), 식(26), 식(27), 식(28) 및 식(29)로 나타내어지는 기; 그러한 식(20)∼식(29)로 나타내어지는 기 중의 수소 원자가 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기로 치환된 기; 및 4가의 탄소수 6 이하의 쇄식 탄화수소기가 예시된다.In Formula (1) and Formula (1 '), Y represents a tetravalent organic group each independently, Preferably it represents a C4-C40 tetravalent organic group, More preferably, it has C4 which has a cyclic structure. The tetravalent organic group of -40 is represented. Examples of the cyclic structure include an alicyclic, aromatic ring, and heterocyclic structure. The said organic group is the organic group by which the hydrogen atom in the organic group may be substituted by the hydrocarbon group or the fluorine-substituted hydrocarbon group, In that case, carbon number of a hydrocarbon group and a fluorine-substituted hydrocarbon group becomes like this. Preferably it is 1-8. The polyimide resin which has a structure (A) which is one Embodiment of this invention may contain multiple types of Y, and multiple types of Y may mutually be same or different. As Y, the following formula (20), formula (21), formula (22), formula (23), formula (24), formula (25), formula (26), formula (27), formula (28) and A group represented by formula (29); A group in which a hydrogen atom in the group represented by such formulas (20) to (29) is substituted with a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group; And a tetravalent hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms is exemplified.

[화학식 15][Formula 15]

Figure pat00015
Figure pat00015

식(20)∼식(29) 중,In formulas (20) to (29),

* 은 결합손을 나타내고,* Represents a bonding hand,

W1은, 단결합, -O-, -CH2-, -CH2-CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -Ar-, -SO2-, -CO-, -O-Ar-O-, -Ar-O-Ar-, -Ar-CH2-Ar-, -Ar-C(CH3)2-Ar- 또는 -Ar-SO2-Ar-을 나타낸다. Ar은, 수소 원자가 불소 원자로 치환되어 있어도 되는 탄소수 6∼20의 아릴렌기를 나타내고, 구체예로서는 페닐렌기를 들 수 있다.W 1 is a single bond, -O-, -CH 2- , -CH 2 -CH 2- , -CH (CH 3 )-, -C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2- , -Ar-, -SO 2- , -CO-, -O-Ar-O-, -Ar-O-Ar-, -Ar-CH 2 -Ar-, -Ar-C (CH 3 ) 2 -Ar- Or -Ar-SO 2 -Ar-. Ar represents the C6-C20 arylene group in which a hydrogen atom may be substituted by the fluorine atom, and a phenylene group is mentioned as a specific example.

식(20)∼식(29)로 나타내어지는 기 중에서도, 광학 필름의 표면 경도 및 내굴곡성의 관점에서, 식(26), 식(28) 또는 식(29)로 나타내어지는 기가 바람직하고, 식(26)으로 나타내어지는 기가 보다 바람직하다. 또한, W1은, 광학 필름의 표면 경도 및 내굴곡성, 황색도를 억제하기 쉬운 관점에서, 각각 독립적으로, 단결합, -O-, -CH2-, -CH2-CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2- 또는 -C(CF3)2-인 것이 바람직하고, 단결합, -O-, -CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2- 또는 -C(CF3)2-인 것이 보다 바람직하며, 단결합, -C(CH3)2- 또는 -C(CF3)2-인 것이 더 바람직하고, 단결합 또는 -C(CF3)2-인 것이 특히 바람직하다.Among the groups represented by the formulas (20) to (29), from the viewpoint of the surface hardness and the flex resistance of the optical film, the group represented by the formula (26), the formula (28) or the formula (29) is preferable, and the formula ( Group represented by 26) is more preferable. W 1 is a single bond, -O-, -CH 2- , -CH 2 -CH 2- , or -CH, each independently from the viewpoint of easily suppressing the surface hardness, the bending resistance, and the yellowness of the optical film. (CH 3 )-, -C (CH 3 ) 2 -or -C (CF 3 ) 2 -is preferably a single bond, -O-, -CH 2- , -CH (CH 3 )-, -C More preferably, it is (CH 3 ) 2 -or -C (CF 3 ) 2- , more preferably a single bond, -C (CH 3 ) 2 -or -C (CF 3 ) 2- , and a single bond or Particular preference is given to -C (CF 3 ) 2- .

본 발명의 적합한 실시 양태에 있어서, 식(1) 및 식(1') 중의 복수의 Y의 적어도 일부는, 식(5) : In a preferred embodiment of the present invention, at least some of the plurality of Y in Formulas (1) and (1 ') are represented by Formula (5):

[화학식 16][Formula 16]

Figure pat00016
Figure pat00016

[식(5) 중, R18∼R25는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1∼6의 알킬기, 탄소수 1∼6의 알콕시기, 또는 탄소수 6∼12의 아릴기를 나타내고, R18∼R25에 포함되는 수소 원자는, 각각 독립적으로, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되며, *은 결합손을 나타낸다][Equation (5) of, R 18 ~R 25 are, each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group, or an aryl group of 6 to 12 carbon atoms having 1 to 6 carbon atoms in, R 18 ~R The hydrogen atoms contained in 25 may be each independently substituted with a halogen atom, and * represents a bond.]

로 나타내어지는 기이다. 식(1) 및 식(1') 중의 복수의 Y의 적어도 일부가 식(5)로 나타내어지는 기이면, 광학 필름은 평탄성 및 광학 특성을 향상시키기 쉽다.It is group represented by. If at least one part of some Y in Formula (1) and Formula (1 ') is group represented by Formula (5), an optical film is easy to improve flatness and an optical characteristic.

식(5)에 있어서, R18, R19, R20, R21, R22, R23, R24, R25는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1∼6의 알킬기, 탄소수 1∼6의 알콕시기, 또는 탄소수 6∼12의 아릴기를 나타낸다. 탄소수 1∼6의 알킬기, 탄소수 1∼6의 알콕시기 및 탄소수 6∼12의 아릴기로서는, 식(4)에 있어서의 탄소수 1∼6의 알킬기, 탄소수 1∼6의 알콕시기 또는 탄소수 6∼12의 아릴기로서 상기에 예시된 것을 들 수 있다. R18∼R25는, 각각 독립적으로, 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1∼6의 알킬기를 나타내고, 보다 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1∼3의 알킬기를 나타내며, 여기서, R18∼R25에 포함되는 수소 원자는, 각각 독립적으로, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 된다. 할로겐 원자로서는, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자, 요오드 원자를 들 수 있다. R18∼R25는, 각각 독립적으로, 광학 필름의 표면 경도, 내굴곡성, 평탄성 또는 광학 특성을 향상시키기 쉬운 관점에서, 보다 바람직하게는 수소 원자, 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기이고, 보다 더 바람직하게는 R18, R19, R20, R23, R24 및 R25가 수소 원자, R21 및 R22가 수소 원자, 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기이며, 특히 R21 및 R22가 메틸기 또는 트리플루오로메틸기인 것이 바람직하다.In Formula (5), R <18> , R <19> , R <20> , R <21> , R <22> , R <23> , R <24> and R <25> are respectively independently a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group, and C1-C6 An alkoxy group or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. As a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 alkoxy group, and a C6-C12 aryl group, a C1-C6 alkyl group, C1-C6 alkoxy group, or C6-C12 in Formula (4) Examples of the aryl group include those exemplified above. R 18 to R 25 each independently, preferably represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and more preferably represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, where R 18 to R 25 The hydrogen atoms contained may be each independently substituted with a halogen atom. As a halogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom are mentioned. R 18 to R 25 are each independently, from the viewpoint of easily improving the surface hardness, bending resistance, flatness or optical properties of the optical film, more preferably hydrogen atom, methyl group, fluoro group, chloro group or trifluoro Methyl group, even more preferably R 18 , R 19 , R 20 , R 23 , R 24 and R 25 are hydrogen atoms, R 21 and R 22 are hydrogen atoms, methyl group, fluoro group, chloro group or trifluoro It is a methyl group, It is especially preferable that R <21> and R <22> is a methyl group or a trifluoromethyl group.

본 발명의 적합한 실시 양태에 있어서는, 식(5)로 나타내어지는 기는, 식(5') : In a preferred embodiment of the present invention, the group represented by formula (5) is represented by formula (5 '):

[화학식 17][Formula 17]

Figure pat00017
Figure pat00017

로 나타내어지는 기이고, 즉, 복수의 Y의 적어도 일부는, 식(5')로 나타내어지는 기이다. 이 경우, 광학 필름은, 보다 우수한 평탄성 및 광학 특성을 가질 수 있다.In other words, at least a part of the plurality of Y's is a group represented by the formula (5 '). In this case, the optical film can have more excellent flatness and optical properties.

본 발명의 적합한 실시 양태에 있어서, 구조(A)를 갖는 폴리이미드계 수지 중의 Y의, 바람직하게는 50몰% 이상, 보다 바람직하게는 60몰% 이상, 더 바람직하게는 70몰% 이상이 식(5), 특히 식(5')로 나타내어진다. 당해 폴리이미드계 수지에 있어서의 상기 범위 내의 Y가 식(5), 특히 식(5')로 나타내어지면, 광학 필름은 평탄성 및 광학 특성을 향상시키기 쉽다. 또한, 바람직하게는, 당해 폴리이미드계 수지 중의 Y의 100몰% 이하가 식(5), 특히 식(5')로 나타내어진다. 당해 폴리이미드계 수지 중의 Y는 식(5), 특히 식(5')여도 된다. 당해 폴리이미드계 수지 중의 Y의 식(5)로 나타내어지는 기의 비율은, 예를 들면 1H-NMR을 이용하여 측정할 수 있고, 또는 원료의 도입비로부터 산출할 수도 있다.In a preferred embodiment of the present invention, preferably, at least 50 mol%, more preferably at least 60 mol%, even more preferably at least 70 mol% of Y in the polyimide resin having the structure (A) (5), especially represented by Formula (5 '). When Y in the said range in the said polyimide-type resin is represented by Formula (5), especially Formula (5 '), an optical film is easy to improve flatness and an optical characteristic. Moreover, Preferably, 100 mol% or less of Y in the said polyimide resin is represented by Formula (5), especially Formula (5 '). Formula (5), especially Formula (5 ') may be sufficient as Y in the said polyimide resin. Ratio of groups represented by formula (5) of the Y in the art polyimide-based resin is, for example, can be measured by using a 1 H-NMR, or may be calculated from the raw material doipbi.

구조(A)를 갖는 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지는, 식(1) 및 식(2)로 나타내어지는 구성 단위 외에, 식(30)으로 나타내어지는 구성 단위 및/또는 식(31)로 나타내어지는 구성 단위를 포함할 수 있다.The polyimide resin or polyamide resin having the structure (A) is a structural unit represented by formula (30) and / or formula (31), in addition to the structural units represented by formula (1) and formula (2). It may include a structural unit represented.

[화학식 18][Formula 18]

Figure pat00018
Figure pat00018

식(30)으로 나타내어지는 반복 구조 단위는, 식(X)의 관계를 충족시키도록, 수지의 말단에 있어서 식(30)의 X1이 구조(A)와 결합한 식(30')로 나타내어지는 구성 단위를 포함하고, 식(31)로 나타내어지는 반복 구조 단위는, 식(X)의 관계를 충족시키도록, 수지의 말단에 있어서 식(31)의 X2가 구조(A)와 결합한 식(31')로 나타내어지는 구성 단위를 포함한다.The repeating structural unit represented by formula (30) is represented by formula (30 ') in which X 1 of formula (30) is bonded to structure (A) at the terminal of the resin so as to satisfy the relationship of formula (X). The repeating structural unit represented by Formula (31) containing a structural unit is a formula which X <2> of Formula (31) couple | bonded with Structure (A) at the terminal of resin so that the relationship of Formula (X) may be satisfied. And a structural unit represented by 31 ′).

[화학식 19][Formula 19]

Figure pat00019
Figure pat00019

식(30) 및 식(30')에 있어서, Y1은, 각각 독립적으로, 4가의 유기기이고, 바람직하게는 유기기 중의 수소 원자가 탄화수소기 또는 불소 치환된 탄화수소기로 치환되어 있어도 되는 유기기이다. Y1로서는, 식(20), 식(21), 식(22), 식(23), 식(24), 식(25), 식(26), 식(27), 식(28) 및 식(29)로 나타내어지는 기, 그러한 식(20)∼식(29)로 나타내어지는 기 중의 수소 원자가 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기로 치환된 기, 및 4가의 탄소수 6 이하의 쇄식 탄화수소기가 예시된다. 본 발명의 일 실시 양태인 수지(P)는, 복수종의 Y1을 포함할 수 있으며, 복수종의 Y1은, 서로 동일해도 되고, 상이해도 된다.In formula (30) and formula (30 '), Y <1> is a tetravalent organic group each independently, Preferably it is the organic group by which the hydrogen atom in the organic group may be substituted by the hydrocarbon group or the fluorine-substituted hydrocarbon group. . As Y <1> , Formula (20), Formula (21), Formula (22), Formula (23), Formula (24), Formula (25), Formula (26), Formula (27), Formula (28) and Formula The group represented by (29), the group in which the hydrogen atom in the group represented by such formulas (20) to (29) is substituted with a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group, and a tetravalent carbon number 6 or less Chain hydrocarbon groups are exemplified. One embodiment of the resin (P) of the invention, Y 1 may comprise a plurality of species, Y 1 is a plurality of types, and may be same or different from each other.

식(31) 및 식(31')에 있어서, Y2는 3가의 유기기이고, 바람직하게는 유기기 중의 수소 원자가 탄화수소기 또는 불소 치환된 탄화수소기로 치환되어 있어도 되는 유기기이다. Y2로서는, 상기의 식(20), 식(21), 식(22), 식(23), 식(24), 식(25), 식(26), 식(27), 식(28) 및 식(29)로 나타내어지는 기의 결합손 중 어느 1개가 수소 원자로 치환된 기, 및 3가의 탄소수 6 이하의 쇄식 탄화수소기가 예시된다. 본 발명의 일 실시 양태인 수지(P)는, 복수종의 Y2를 포함할 수 있으며, 복수종의 Y2는, 서로 동일해도 되고, 상이해도 된다.In Formula (31) and Formula (31 '), Y <2> is a trivalent organic group, Preferably it is the organic group by which the hydrogen atom in the organic group may be substituted by the hydrocarbon group or the fluorine-substituted hydrocarbon group. As Y <2> , said Formula (20), Formula (21), Formula (22), Formula (23), Formula (24), Formula (25), Formula (26), Formula (27), and Formula (28). And a group in which any one of the bonds of the group represented by the formula (29) is substituted with a hydrogen atom, and a trivalent C 6 or less chain hydrocarbon group is exemplified. One embodiment of the resin (P) of the invention, may include a plurality of types of Y 2, Y 2 is a plurality of types, and may be same or different from each other.

식(30), 식(30'), 식(31) 및 식(31')에 있어서, X1 및 X2는, 각각 독립적으로, 2가의 유기기이고, 바람직하게는 유기기 중의 수소 원자가 탄화수소기 또는 불소 치환된 탄화수소기로 치환되어 있어도 되는 유기기이다. X1 및 X2로서는, 상기의 식(10), 식(11), 식(12), 식(13), 식(14), 식(15), 식(16), 식(17), 및 식(18)로 나타내어지는 기; 그러한 식(10)∼식(18)로 나타내어지는 기 중의 수소 원자가 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기로 치환된 기; 및 탄소수 6 이하의 쇄식 탄화수소기가 예시된다.In Formula (30), Formula (30 '), Formula (31), and Formula (31'), X <1> and X <2> are respectively independently divalent organic groups, Preferably the hydrogen atom in an organic group is a hydrocarbon It is an organic group which may be substituted by the group or the fluorine-substituted hydrocarbon group. As X <1> and X <2> , said Formula (10), Formula (11), Formula (12), Formula (13), Formula (14), Formula (15), Formula (16), Formula (17), and A group represented by formula (18); A group in which a hydrogen atom in the group represented by such formulas (10) to (18) is substituted with a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group; And a chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms is exemplified.

본 발명의 적합한 실시 양태에 있어서, 구조(A)를 갖는 폴리아미드이미드는, 식(1) 및 식(2)로 나타내어지는 구성 단위, 및 경우에 따라 식(30) 및/또는 식(31)로 나타내어지는 구성 단위로 이루어진다. 또한, 광학 필름의 표면 경도 및 내굴곡성의 관점에서, 당해 폴리아미드이미드에 있어서, 식(1) 및 식(2)로 나타내어지는 구성 단위는, 식(1) 및 식(2), 및 경우에 따라 식(30) 및 식(31)로 나타내어지는 전체 구성 단위에 기초하여, 바람직하게는 80몰% 이상, 보다 바람직하게는 90몰% 이상, 더 바람직하게는 95몰% 이상이다. 또한, 당해 폴리아미드이미드에 있어서, 식(1) 및 식(2)로 나타내어지는 구성 단위는, 식(1) 및 식(2), 및 경우에 따라 식(30) 및 식(31)로 나타내어지는 전체 구성 단위에 기초하여, 통상 100% 이하이다. 또한, 상기 비율은, 예를 들면, 1H-NMR을 이용하여 측정할 수 있고, 또는 원료의 도입비로부터 산출할 수도 있다.In a preferred embodiment of the present invention, the polyamideimide having structure (A) is a structural unit represented by formulas (1) and (2), and optionally formulas (30) and / or (31) It consists of the structural units represented by. In addition, from the viewpoint of the surface hardness and the flex resistance of the optical film, in the polyamideimide, the structural units represented by the formulas (1) and (2) are represented by formulas (1) and (2), and Therefore, based on all the structural units represented by Formula (30) and Formula (31), Preferably it is 80 mol% or more, More preferably, it is 90 mol% or more, More preferably, it is 95 mol% or more. In addition, in the said polyamideimide, the structural unit represented by Formula (1) and Formula (2) is represented by Formula (1) and Formula (2), and if necessary by Formula (30) and Formula (31). Paper is usually 100% or less based on the entire structural unit. In addition, the said ratio can be measured using <1> H-NMR, for example, or it can calculate it from the introduction ratio of a raw material.

구조(A)를 갖는 폴리이미드계 수지 및 폴리아미드계 수지로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 수지의 중량 평균 분자량(Mw)은, 표준 폴리스티렌 환산으로, 바람직하게는 200,000 이상, 보다 바람직하게는 300,000 이상, 더 바람직하게는 350,000 이상, 특히 바람직하게는 400,000 이상이고, 바람직하게는 1,000,000 이하, 보다 바람직하게는 800,000 이하, 더 바람직하게는 700,000 이하, 더 바람직하게는 500,000 이하, 특히 바람직하게는 450,000 이하이다. 당해 수지의 중량 평균 분자량이 상기의 하한 이상이면, 광학 필름의 내굴곡성을 향상시킬 수 있다. 또한, 당해 수지의 중량 평균 분자량이 상기의 상한 이하이면, 광학 필름의 제조 공정에서 수지 바니시의 겔화를 억제하기 쉽고, 광학 필름의 평탄성을 향상시킬 수 있다. 또한, 본 명세서에 있어서 중량 평균 분자량은, 예를 들면 GPC 측정을 행하여, 표준 폴리스티렌 환산에 의해 구할 수 있고, 예를 들면 실시예에 기재된 방법에 의해 산출해도 된다.The weight average molecular weight (Mw) of at least 1 sort (s) of resin chosen from the group which consists of a polyimide-type resin and polyamide-type resin which have a structure (A) is converted in standard polystyrene, Preferably it is 200,000 or more, More preferably, 300,000 or more, more preferably 350,000 or more, particularly preferably 400,000 or more, preferably 1,000,000 or less, more preferably 800,000 or less, even more preferably 700,000 or less, even more preferably 500,000 or less, particularly preferably 450,000 It is as follows. Flexural resistance of an optical film can be improved as the weight average molecular weight of the said resin is more than the said minimum. Moreover, when the weight average molecular weight of the said resin is below the said upper limit, it is easy to suppress gelation of the resin varnish in the manufacturing process of an optical film, and the flatness of an optical film can be improved. In addition, in this specification, a weight average molecular weight can be calculated | required by standard polystyrene conversion, for example by GPC measurement, and you may calculate it by the method as described in an Example, for example.

구조(A)를 갖는 폴리아미드이미드에 있어서, 식(2)로 나타내어지는 구성 단위의 함유량은, 식(1)로 나타내어지는 구성 단위 1몰에 대해, 바람직하게는 0.1몰 이상, 보다 바람직하게는 0.5몰 이상, 더 바람직하게는 1.0몰 이상, 특히 바람직하게는 1.5몰 이상이고, 바람직하게는 6.0몰 이하, 보다 바람직하게는 5.0몰 이하, 더 바람직하게는 4.5몰 이하이다. 식(2)로 나타내어지는 구성 단위의 함유량이 상기의 하한 이상이면, 표면 경도를 향상시키기 쉽다. 식(2)로 나타내어지는 구성 단위의 함유량이 상기의 상한 이하이면, 수지 바니시의 겔화를 억제하기 쉽고, 광학 필름의 평탄성 및 광학 특성을 향상시키기 쉽다.In the polyamideimide having the structure (A), the content of the structural unit represented by the formula (2) is preferably 0.1 mol or more, more preferably to 1 mol of the structural unit represented by the formula (1). 0.5 mol or more, More preferably, it is 1.0 mol or more, Especially preferably, it is 1.5 mol or more, Preferably it is 6.0 mol or less, More preferably, it is 5.0 mol or less, More preferably, it is 4.5 mol or less. It is easy to improve surface hardness as content of the structural unit represented by Formula (2) is more than the said minimum. When content of the structural unit represented by Formula (2) is below the said upper limit, it is easy to suppress gelation of a resin varnish, and it is easy to improve the flatness and optical characteristics of an optical film.

구조(A)를 갖는 폴리아미드이미드의 이미드화율은, 바람직하게는 90% 이상, 보다 바람직하게는 95% 이상, 더 바람직하게는 98% 이상이다. 광학 필름의 평탄성향상의 관점에서, 이미드화율이 상기의 하한 이상인 것이 바람직하다. 또한, 이미드화율의 상한은 100% 이하이다. 또한, 이미드화율은 IR법, NMR법 등에 의해 구할 수 있다.The imidation ratio of the polyamideimide which has a structure (A) becomes like this. Preferably it is 90% or more, More preferably, it is 95% or more, More preferably, it is 98% or more. It is preferable that the imidation ratio is more than the said minimum from a viewpoint of the flatness improvement of an optical film. In addition, the upper limit of the imidation ratio is 100% or less. In addition, the imidation ratio can be calculated | required by IR method, NMR method, etc.

< 수지의 제조 방법><Production Method of Resin>

구조(A)를 갖는 폴리아미드이미드는, 예를 들면, 후술하는 테트라카르본산 화합물, 디카르본산 화합물 및 디아민 화합물을 주된 원료로 하여 폴리아미드이미드를 제조 후, 폴리아미드이미드의 말단 아민을, 식(X)의 관계를 충족시키도록, 소정량 이상 아세틸화함으로써 얻을 수 있다. 폴리이미드는, 예를 들면, 후술하는 테트라카르본산 화합물 및 디아민 화합물을 주된 원료로 하여 폴리이미드를 제조 후, 폴리이미드의 말단 아민을, 식(X)의 관계를 충족시키도록, 소정량 이상 아세틸화함으로써 얻을 수 있다. 폴리아미드는, 예를 들면, 후술하는 디카르본산 화합물 및 디아민 화합물을 주된 원료로 하여 제조 후, 폴리아미드의 말단 아민을, 식(X)의 관계를 충족시키도록, 소정량 이상 아세틸화함으로써 얻을 수 있다. 여기서, 디카르본산 화합물은 적어도 식(3'')로 나타내어지는 화합물을 포함하는 것이 바람직하다.The polyamideimide having the structure (A) is, for example, after producing a polyamideimide using the tetracarboxylic acid compound, the dicarboxylic acid compound, and the diamine compound described below as main raw materials, and the terminal amine of the polyamideimide is represented by the following formula: It can be obtained by acetylating a predetermined amount or more so as to satisfy the relationship of (X). The polyimide is, for example, after producing a polyimide using a tetracarboxylic acid compound and a diamine compound described below as the main raw materials, the terminal amine of the polyimide is acetyl or more in a predetermined amount or more so as to satisfy the relationship of the formula (X). Can be obtained. The polyamide is obtained by, for example, acetylating a terminal amine of the polyamide after a predetermined amount or more so as to satisfy the relationship of the formula (X) after production, using the dicarboxylic acid compound and the diamine compound described below as main raw materials. Can be. Here, it is preferable that a dicarboxylic acid compound contains the compound represented by at least Formula (3 '').

[화학식 20][Formula 20]

Figure pat00020
Figure pat00020

[식(3'') 중, R1∼R8은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1∼6의 알킬기, 탄소수 1∼6의 알콕시기, 또는 탄소수 6∼12의 아릴기를 나타내고, R1∼R8에 포함되는 수소 원자는, 각각 독립적으로, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되며,[In formula (3 ''), R <1> -R <8> represents a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 alkoxy group, or a C6-C12 aryl group each independently, and R <1> The hydrogen atoms contained in the —R 8 may be each independently substituted with a halogen atom,

A는, 단결합, -O-, -CH2-, -CH2-CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2-, -S-, -CO- 또는 -NR9-를 나타내고, R9는 수소 원자, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되는 탄소수 1∼12의 탄화수소기를 나타내며,A is a single bond, -O-, -CH 2- , -CH 2 -CH 2- , -CH (CH 3 )-, -C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2 -,- SO 2- , -S-, -CO- or -NR 9 -is represented, R 9 represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms which may be substituted with a hydrogen atom or a halogen atom,

m은 0∼4의 정수이고,m is an integer of 0 to 4,

R31 및 R32는, 각각 독립적으로, 히드록실기, 메톡시기, 에톡시기, n-프로폭시기, n-부톡시기 또는 염소 원자이다]R 31 and R 32 are each independently a hydroxyl group, a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, n-butoxy group or a chlorine atom]

적합한 실시 양태에 있어서는, 디카르본산 화합물은, A가 산소 원자인, 식(3'')로 나타내어지는 화합물이다. 또한, 다른 적합한 실시 양태에 있어서는, 디카르본산 화합물은, R31, R32가 염소 원자인, 식(3'')로 나타내어지는 화합물이다. 또한, 디아민 화합물 대신에, 디이소시아네이트 화합물을 이용해도 된다.In a suitable embodiment, the dicarboxylic acid compound is a compound represented by formula (3 '') wherein A is an oxygen atom. In another preferred embodiment, the dicarboxylic acid compound is a compound represented by formula (3 '') wherein R 31 and R 32 are chlorine atoms. In addition, you may use a diisocyanate compound instead of a diamine compound.

폴리이미드계 수지의 합성에 이용되는 테트라카르본산 화합물로서는, 방향족 테트라카르본산 이무수물 등의 방향족 테트라카르본산 화합물; 및 지방족 테트라카르본산 이무수물 등의 지방족 테트라카르본산 화합물 등을 들 수 있다. 테트라카르본산 화합물은, 단독으로 이용해도 되고, 2종 이상을 조합하여 이용해도 된다. 테트라카르본산 화합물은, 이무수물 외에, 산 클로라이드 화합물 등의 테트라카르본산 화합물 유연체(類緣體)여도 된다.As tetracarboxylic acid compound used for the synthesis | combination of polyimide-type resin, Aromatic tetracarboxylic acid compounds, such as aromatic tetracarboxylic dianhydride; And aliphatic tetracarboxylic acid compounds such as aliphatic tetracarboxylic dianhydride and the like. The tetracarboxylic acid compound may be used alone or in combination of two or more thereof. In addition to the dianhydride, the tetracarboxylic acid compound may be a tetracarboxylic acid compound flexible body such as an acid chloride compound.

방향족 테트라카르본산 이무수물의 구체예로서는, 비축합 다환식의 방향족 테트라카르본산 이무수물, 단환식의 방향족 테트라카르본산 이무수물 및 축합 다환식의 방향족 테트라카르본산 이무수물을 들 수 있다. 비축합 다환식의 방향족 테트라카르본산 이무수물로서는, 예를 들면 4,4'-옥시디프탈산 이무수물, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르본산 이무수물, 2,2',3,3'-벤조페논테트라카르본산 이무수물, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르본산 이무수물(BPDA라고 기재하는 경우가 있음), 2,2',3,3'-비페닐테트라카르본산 이무수물, 3,3',4,4'-디페닐술폰테트라카르본산 이무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)프로판 이무수물, 2,2-비스(2,3-디카르복시페닐)프로판 이무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페녹시페닐)프로판 이무수물, 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 이무수물(6FDA라고 기재하는 경우가 있음), 1,2-비스(2,3-디카르복시페닐)에탄 이무수물, 1,1-비스(2,3-디카르복시페닐)에탄 이무수물, 1,2-비스(3,4-디카르복시페닐)에탄 이무수물, 1,1-비스(3,4-디카르복시페닐)에탄 이무수물, 비스(3,4-디카르복시페닐)메탄 이무수물, 비스(2,3-디카르복시페닐)메탄 이무수물, 4,4'-(p-페닐렌디옥시)디프탈산 이무수물, 4,4'-(m-페닐렌디옥시)디프탈산 이무수물을 들 수 있다. 또한, 단환식의 방향족 테트라카르본산 이무수물로서는, 예를 들면 1,2,4,5-벤젠테트라카르본산 이무수물을 들 수 있고, 축합 다환식의 방향족 테트라카르본산 이무수물로서는, 예를 들면 2,3,6,7-나프탈렌테트라카르본산 이무수물을 들 수 있다. Specific examples of the aromatic tetracarboxylic dianhydride include non-condensed polycyclic aromatic tetracarboxylic dianhydrides, monocyclic aromatic tetracarboxylic dianhydrides and condensed polycyclic aromatic tetracarboxylic dianhydrides. As a non-condensed polycyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride, For example, 4,4'- oxydiphthalic dianhydride, 3,3 ', 4,4'- benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 2,2', 3,3'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (may be referred to as BPDA), 2,2', 3,3'- Biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-diphenylsulfontetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenoxyphenyl) propane dianhydride, 4,4 '-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic dianhydride (May be described as 6FDA), 1,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,1-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,2- Bis (3,4-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,1-bis (3,4-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, S (3,4-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, 4,4 '-(p-phenylenedioxy) diphthalic dianhydride, 4,4'- (m-phenylenedioxy) diphthalic dianhydride is mentioned. Examples of the monocyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride include 1,2,4,5-benzenetetracarboxylic dianhydride. Examples of the condensed polycyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride include, for example. 2,3,6,7-naphthalene tetracarboxylic dianhydride is mentioned.

이들 중에서도, 바람직하게는 4,4'-옥시디프탈산 이무수물, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르본산 이무수물, 2,2',3,3'-벤조페논테트라카르본산 이무수물, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르본산 이무수물, 2,2',3,3'-비페닐테트라카르본산 이무수물, 3,3',4,4'-디페닐술폰테트라카르본산 이무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)프로판 이무수물, 2,2-비스(2,3-디카르복시페닐)프로판 이무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페녹시페닐)프로판 이무수물, 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 이무수물(6FDA), 1,2-비스(2,3-디카르복시페닐)에탄 이무수물, 1,1-비스(2,3-디카르복시페닐)에탄 이무수물, 1,2-비스(3,4-디카르복시페닐)에탄 이무수물, 1,1-비스(3,4-디카르복시페닐)에탄 이무수물, 비스(3,4-디카르복시페닐)메탄 이무수물, 비스(2,3-디카르복시페닐)메탄 이무수물, 4,4'-(p-페닐렌디옥시)디프탈산 이무수물 및 4,4'-(m-페닐렌디옥시)디프탈산 이무수물을 들 수 있고, 보다 바람직하게는 4,4'-옥시디프탈산 이무수물, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르본산 이무수물(BPDA), 2,2',3,3'-비페닐테트라카르본산 이무수물, 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 이무수물(6FDA), 비스(3,4-디카르복시페닐)메탄 이무수물 및 4,4'-(p-페닐렌디옥시)디프탈산 이무수물을 들 수 있다. 이들은 단독 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.Among these, 4,4'- oxydiphthalic dianhydride, 3,3 ', 4,4'- benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 2,2', 3,3'- benzophenone tetracarboxylic acid Dianhydrides, 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2', 3,3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-di Phenylsulfontetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2-bis ( 3,4-dicarboxyphenoxyphenyl) propane dianhydride, 4,4 '-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic dianhydride (6FDA), 1,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane Dianhydrides, 1,1-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane dianhydrides, 1,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) ethane dianhydrides, 1,1-bis (3,4-di Carboxyphenyl) ethane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, 4,4 '-(p-phenylenediox ) Diphthalic dianhydride and 4,4 '-(m-phenylenedioxy) diphthalic dianhydride, More preferably, 4,4'- oxydiphthalic dianhydride, 3,3', 4,4 '-Biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA), 2,2', 3,3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 4,4 '-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic dianhydride (6FDA ), Bis (3,4-dicarboxyphenyl) methane dianhydride and 4,4 '-(p-phenylenedioxy) diphthalic dianhydride. These can be used individually or in combination of 2 or more types.

지방족 테트라카르본산 이무수물로서는, 환식 또는 비환식의 지방족 테트라카르본산 이무수물을 들 수 있다. 환식 지방족 테트라카르본산 이무수물이란, 지환식 탄화수소 구조를 갖는 테트라카르본산 이무수물이고, 그 구체예로서는, 1,2,4,5-시클로헥산테트라카르본산 이무수물, 1,2,3,4-시클로부탄테트라카르본산 이무수물, 1,2,3,4-시클로펜탄테트라카르본산 이무수물 등의 시클로알칸테트라카르본산 이무수물, 비시클로[2.2.2]옥트-7-엔-2,3,5,6-테트라카르본산 이무수물, 디시클로헥실-3,3',4,4'-테트라카르본산 이무수물 및 이들의 위치 이성체를 들 수 있다. 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다. 비환식 지방족 테트라카르본산 이무수물의 구체예로서는, 1,2,3,4-부탄테트라카르본산 이무수물, 및 1,2,3,4-펜탄테트라카르본산 이무수물 등을 들 수 있고, 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다. 또한, 환식 지방족 테트라카르본산 이무수물 및 비환식 지방족 테트라카르본산 이무수물을 조합하여 이용해도 된다.As aliphatic tetracarboxylic dianhydride, a cyclic or acyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride is mentioned. A cyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride is a tetracarboxylic dianhydride which has an alicyclic hydrocarbon structure, As an example, 1,2,4,5-cyclohexane tetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4- Cycloalkanetetracarboxylic dianhydrides such as cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-cyclopentanetetracarboxylic dianhydride, bicyclo [2.2.2] oct-7-ene-2,3, 5,6-tetracarboxylic dianhydride, dicyclohexyl-3,3 ', 4,4'-tetracarboxylic dianhydride, and positional isomers thereof. These can be used individually or in combination of 2 or more types. Specific examples of the acyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride include 1,2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-pentanetetracarboxylic dianhydride, and the like. Or it can use in combination of 2 or more type. Moreover, you may use combining a cyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride and an acyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride.

상기 테트라카르본산 이무수물 중에서도, 광학 필름의 고 표면 경도, 고 광학 특성, 고 유연성 및 고 내굴곡성 등의 관점에서, 4,4'-옥시디프탈산 이무수물, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르본산 이무수물, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르본산 이무수물(BPDA), 2,2',3,3'-비페닐테트라카르본산 이무수물, 3,3',4,4'-디페닐술폰테트라카르본산 이무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)프로판 이무수물, 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 이무수물, 및 이들의 혼합물이 바람직하고, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르본산 이무수물(BPDA) 및 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 이무수물, 및 이들의 혼합물이 보다 바람직하며, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르본산 이무수물(BPDA) 및 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 이무수물(6FDA)이 더 바람직하다.Among the tetracarboxylic dianhydrides, 4,4'-oxydiphthalic dianhydride, 3,3 ', 4,4', from the viewpoint of high surface hardness, high optical properties, high flexibility and high flex resistance of the optical film. -Benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA), 2,2', 3,3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3, 3 ', 4,4'-diphenylsulfontetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 4,4'-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic acid Dianhydrides, and mixtures thereof, are preferred, 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA) and 4,4'-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic dianhydride, And mixtures thereof are more preferred, and 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA) and 4,4'-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic dianhydride (6FDA) This is more preferable.

폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지의 합성에 이용되는 디카르본산 화합물로서는, 바람직하게는 4,4'-옥시비스벤조산 및/또는 그 산 클로라이드 화합물이 이용된다. 4,4'-옥시비스벤조산 또는 그 산 클로라이드 화합물에 더하여, 다른 디카르본산 화합물이 이용되어도 된다. 다른 디카르본산 화합물로서는, 방향족 디카르본산, 지방족 디카르본산 및 그들의 유연(流涎)의 산 클로라이드 화합물, 산 무수물 등을 들 수 있고, 2종 이상을 조합하여 이용해도 된다. 구체예로서는, 테레프탈산; 이소프탈산; 나프탈렌디카르본산; 4,4'-비페닐디카르본산; 3,3'-비페닐디카르본산; 탄소수 8 이하인 쇄식 탄화수소의 디카르본산 화합물 및 2개의 벤조산이 단결합, -CH2-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2- 또는 페닐렌기로 연결된 화합물 및, 그들의 산 클로라이드 화합물을 들 수 있다. 이들의 다른 디카르본산 화합물 중에서도 테레프탈산이 바람직하다. 구체예로서는, 4,4'-옥시비스(벤조일클로라이드), 테레프탈로일클로라이드가 바람직하고, 4,4'-옥시비스(벤조일클로라이드)와 테레프탈로일클로라이드를 조합하여 이용하는 것이 더 바람직하다.As the dicarboxylic acid compound used for the synthesis of the polyimide resin or the polyamide resin, 4,4'-oxybisbenzoic acid and / or its acid chloride compound are preferably used. In addition to 4,4'-oxybisbenzoic acid or its acid chloride compound, other dicarboxylic acid compounds may be used. As another dicarboxylic acid compound, aromatic dicarboxylic acid, aliphatic dicarboxylic acid, those acid chloride compounds of these, acid anhydride, etc. are mentioned, You may use in combination of 2 or more type. As a specific example, Terephthalic acid; Isophthalic acid; Naphthalenedicarboxylic acid; 4,4'-biphenyldicarboxylic acid; 3,3'-biphenyldicarboxylic acid; Dicarboxylic acid compound of a chain hydrocarbon having 8 or less carbon atoms and two benzoic acids connected by single bond, -CH 2- , -C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2- , -SO 2 -or phenylene group A compound and those acid chloride compounds are mentioned. Among these other dicarboxylic acid compounds, terephthalic acid is preferable. As a specific example, 4,4'-oxybis (benzoyl chloride) and terephthaloyl chloride are preferable, and it is more preferable to use 4,4'-oxybis (benzoyl chloride) and terephthaloyl chloride in combination.

또한, 폴리이미드계 수지는, 광학 필름의 각종 물성을 손상하지 않는 범위에서, 상기의 폴리이미드계 수지 합성에 이용되는 테트라카르본산 화합물에 더하여, 테트라카르본산 및 트리카르본산 및 그들의 무수물 및 유도체를 더 반응시킨 것이어도 된다.Moreover, in addition to the tetracarboxylic acid compound used for said polyimide-type resin synthesis | combination, a polyimide-type resin does not impair the various physical properties of an optical film, In addition, tetracarboxylic acid, tricarboxylic acid, and their anhydrides and derivatives are It may be reacted further.

테트라카르본산으로서는, 상기 테트라카르본산 화합물의 무수물의 수부가체(水付加體)를 들 수 있다.As tetracarboxylic acid, the aqueous adduct of the anhydride of the said tetracarboxylic acid compound is mentioned.

트리카르본산 화합물로서는, 방향족 트리카르본산, 지방족 트리카르본산 및 그들의 유연의 산 클로라이드 화합물, 산 무수물 등을 들 수 있고, 2종 이상을 조합하여 이용해도 된다. 구체예로서는, 1,2,4-벤젠트리카르본산의 무수물; 2,3,6-나프탈렌트리카르본산-2,3-무수물; 프탈산 무수물과 벤조산이 단결합, -O-, -CH2-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2- 또는 페닐렌기로 연결된 화합물을 들 수 있다.As a tricarboxylic acid compound, aromatic tricarboxylic acid, aliphatic tricarboxylic acid, those flexible acid chloride compounds, an acid anhydride, etc. are mentioned, You may use in combination of 2 or more type. Specific examples include anhydrides of 1,2,4-benzenetricarboxylic acid; 2,3,6-naphthalenetricarboxylic acid-2,3- anhydride; And phthalic anhydride and benzoic acid include a single bond, -O-, -CH 2- , -C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2- , -SO 2 -or a phenylene group.

폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지의 합성에 이용되는 디아민 화합물로서는, 예를 들면, 지방족 디아민, 방향족 디아민 및 이들의 혼합물을 들 수 있다. 또한, 본 실시 형태에 있어서 「방향족 디아민」이란, 아미노기가 방향환에 직접 결합하고 있는 디아민을 나타내고, 그 구조의 일부에 지방족기 또는 기타의 치환기를 포함하고 있어도 된다. 이 방향환은 단환이어도 축합환이어도 되고, 벤젠환, 나프탈렌환, 안트라센환 및 플루오렌환 등이 예시되지만, 이들에 한정되는 것은 아니다. 이들 중에서도 바람직하게는 벤젠환이다. 또한 「지방족 디아민」이란, 아미노기가 지방족기에 직접 결합하고 있는 디아민을 나타내고, 그 구조의 일부에 방향환이나 기타의 치환기를 포함하고 있어도 된다.As a diamine compound used for the synthesis | combination of polyimide resin or polyamide resin, an aliphatic diamine, an aromatic diamine, and a mixture thereof are mentioned, for example. In addition, in this embodiment, "aromatic diamine" shows the diamine which the amino group couple | bonded with the aromatic ring directly, and may contain the aliphatic group or other substituent in a part of the structure. The aromatic ring may be monocyclic or condensed, and examples thereof include, but are not limited to, a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring and a fluorene ring. Among these, a benzene ring is preferable. Moreover, "aliphatic diamine" shows the diamine which the amino group couple | bonded with the aliphatic group directly, and may contain the aromatic ring and other substituents in a part of the structure.

지방족 디아민으로서는, 예를 들면, 헥사메틸렌디아민 등의 비환식 지방족 디아민, 및 1,3-비스(아미노메틸)시클로헥산, 1,4-비스(아미노메틸)시클로헥산, 노르보르난디아민 및 4,4'-디아미노디시클로헥실메탄 등의 환식 지방족 디아민 등을 들 수 있다. 이들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 이용할 수 있다.Examples of the aliphatic diamine include acyclic aliphatic diamines such as hexamethylenediamine, 1,3-bis (aminomethyl) cyclohexane, 1,4-bis (aminomethyl) cyclohexane, norbornanediamine, and 4, Cyclic aliphatic diamine, such as 4'- diamino dicyclohexyl methane, etc. are mentioned. These can be used individually or in combination of 2 or more types.

방향족 디아민으로서는, 예를 들면 p-페닐렌디아민, m-페닐렌디아민, 2,4-톨루엔디아민, m-크실릴렌디아민, p-크실릴렌디아민, 1,5-디아미노나프탈렌, 2,6-디아미노나프탈렌 등의, 방향환를 1개 갖는 방향족 디아민, 4,4'-디아미노디페닐메탄, 4,4'-디아미노디페닐프로판, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 3,4'-디아미노디페닐에테르, 3,3'-디아미노디페닐에테르, 4,4'-디아미노디페닐술폰, 3,4'-디아미노디페닐술폰, 3,3'-디아미노디페닐술폰, 1,4-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕술폰, 비스〔4-(3-아미노페녹시)페닐〕술폰, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2-비스[4-(3-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2'-디메틸벤지딘, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)-4,4'-디아미노디페닐(TFMB라고 기재하는 경우가 있음), 4,4'-비스(4-아미노페녹시)비페닐, 9,9-비스(4-아미노페닐)플루오렌, 9,9-비스(4-아미노-3-메틸페닐)플루오렌, 9,9-비스(4-아미노-3-클로로페닐)플루오렌, 9,9-비스(4-아미노-3-플루오로페닐)플루오렌 등의, 방향환를 2개 이상 갖는 방향족 디아민을 들 수 있다. 이들은 단독 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. Examples of the aromatic diamine include p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, 2,4-toluenediamine, m-xylylenediamine, p-xylylenediamine, 1,5-diaminonaphthalene, 2, Aromatic diamine having one aromatic ring, such as 6-diaminonaphthalene, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenyl ether, 3 , 4'-diaminodiphenylether, 3,3'-diaminodiphenylether, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3'-diamino Diphenylsulfone, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4 -(3-aminophenoxy) phenyl] sulfone, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminodiphenyl (may be referred to as TFMB), 4,4'-bis (4-a Nophenoxy) biphenyl, 9,9-bis (4-aminophenyl) fluorene, 9,9-bis (4-amino-3-methylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-amino-3- And aromatic diamines having two or more aromatic rings, such as chlorophenyl) fluorene and 9,9-bis (4-amino-3-fluorophenyl) fluorene. These can be used individually or in combination of 2 or more types.

방향족 디아민으로서는, 바람직하게는 4,4'-디아미노디페닐메탄, 4,4'-디아미노디페닐프로판, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 3,3'-디아미노디페닐에테르, 4,4'-디아미노디페닐술폰, 3,3'-디아미노디페닐술폰, 1,4-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕술폰, 비스〔4-(3-아미노페녹시)페닐〕술폰, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2-비스[4-(3-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2'-디메틸벤지딘, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)-4,4'-디아미노디페닐(TFMB), 4,4'-비스(4-아미노페녹시)비페닐이고, 보다 바람직하게는 4,4'-디아미노디페닐메탄, 4,4'-디아미노디페닐프로판, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 4,4'-디아미노디페닐술폰, 1,4-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕술폰, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2'-디메틸벤지딘, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)-4,4'-디아미노디페닐(TFMB), 4,4'-비스(4-아미노페녹시)비페닐이다. 이들은 단독 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. As aromatic diamine, Preferably, 4,4'- diamino diphenylmethane, 4,4'- diamino diphenyl propane, 4,4'- diamino diphenyl ether, 3,3'- diamino diphenyl ether , 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3'-diaminodiphenylsulfone, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] Sulfone, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfone, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (3-aminophenoxy ) Phenyl] propane, 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminodiphenyl (TFMB), 4,4'-bis (4-aminophenoxy C) biphenyl, more preferably 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenylether, 4,4'-diamino Diphenylsulfone, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] Propane, 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'- (Trifluoromethyl) scan is 4,4'-diaminodiphenyl (TFMB), 4,4'- bis (4-aminophenoxy) biphenyl. These can be used individually or in combination of 2 or more types.

상기 디아민 화합물 중에서도, 광학 필름의 고 표면 경도, 고 광학 특성, 고 유연성 및 고 내굴곡성 등의 관점에서, 비페닐 구조를 갖는 방향족 디아민으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 이용하는 것이 바람직하다. 2,2'-디메틸벤지딘, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘, 4,4'-비스(4-아미노페녹시)비페닐 및 4,4'-디아미노디페닐에테르로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 이용하는 것이 보다 바람직하고, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)-4,4'-디아미노디페닐(TFMB)을 이용하는 것이 보다 더 바람직하다.Among the said diamine compounds, it is preferable to use 1 or more types chosen from the group which consists of an aromatic diamine which has a biphenyl structure from a viewpoint of the high surface hardness, high optical characteristic, high flexibility, high bending resistance, etc. of an optical film. Consisting of 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine, 4,4'-bis (4-aminophenoxy) biphenyl and 4,4'-diaminodiphenylether It is more preferable to use 1 or more types selected from the group, and even more preferably to use 2,2'-bis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminodiphenyl (TFMB).

본 발명의 일 실시 양태인 폴리아미드이미드는, 디아민 화합물과, 테트라카르본산 화합물(산 클로라이드 화합물, 테트라카르본산 이무수물 등의 테트라카르본산 화합물 유연체) 및 디카르본산 화합물(산 클로라이드 화합물 등의 디카르본산 화합물 유연체), 및 경우에 따라 트리카르본산 화합물(산 클로라이드 화합물, 트리카르본산 무수물 등의 트리카르본산 화합물 유연체)과의 중축합 생성물인 축합형 고분자이다. 식(1) 및 식(30)으로 나타내어지는 구성 단위는, 통상, 디아민 및 테트라카르본산 화합물로부터 유도된다. 식(2)로 나타내어지는 구성 단위는, 통상, 디아민 및 디카르본산 화합물로부터 유도된다. 식(31)로 나타내어지는 구성 단위는, 통상, 디아민 및 트리카르본산 화합물로부터 유도된다.The polyamideimide which is one embodiment of the present invention includes a diamine compound, a tetracarboxylic acid compound (tetracarboxylic acid compound flexible body such as an acid chloride compound and a tetracarboxylic dianhydride), and a dicarboxylic acid compound (an acid chloride compound). Dicarboxylic acid compound flexible body) and, optionally, a tricondensation polymer which is a polycondensation product with a tricarboxylic acid compound (tricarboxylic acid compound flexible body such as an acid chloride compound or a tricarboxylic acid anhydride). The structural units represented by the formulas (1) and (30) are usually derived from diamines and tetracarboxylic acid compounds. The structural unit represented by Formula (2) is usually derived from a diamine and a dicarboxylic acid compound. The structural unit represented by Formula (31) is usually derived from a diamine and a tricarboxylic acid compound.

본 발명의 적합한 실시 양태에 있어서, 구조(A)를 갖는 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지에는, 상기와 같이, 할로겐 원자가 포함될 수 있다. 함불소 치환기의 구체예로서는, 플루오로기 및 트리플루오로메틸기를 들 수 있다. 구조(A)를 갖는 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지가 할로겐 원자를 포함함으로써, 광학 필름의 평탄성 및 광학 특성을 향상, 특히 황색도(YI값)를 저감시킬 수 있는 경우가 있고, 추가로 높은 유연성 및 내굴곡성을 양립시킬 수 있는 경향이 있다. 또한, 광학 필름의 평탄성 및 광학 특성의 향상, 특히 황색도의 저감, 흡수율의 저감, 및 내굴곡성의 관점에서, 할로겐 원자는 바람직하게는 불소 원자이다.In a suitable embodiment of the present invention, a halogen atom may be included in the polyimide resin or polyamide resin having the structure (A) as described above. As a specific example of a fluorine-containing substituent, a fluoro group and a trifluoromethyl group are mentioned. When the polyimide-based resin or polyamide-based resin having the structure (A) contains a halogen atom, the flatness and optical properties of the optical film may be improved, and in particular, the yellowness (YI value) may be reduced. It tends to be compatible with high flexibility and flex resistance. In addition, the halogen atom is preferably a fluorine atom in view of the improvement in the flatness and optical properties of the optical film, in particular in the reduction of the yellowness, the reduction in the water absorption, and the bending resistance.

폴리이미드계 수지에 있어서의 할로겐 원자의 함유량은, 광학 필름의 평탄성 및 광학 특성의 향상, 특히 황색도의 저감, 흡수율의 저감, 및 내굴곡성의 관점에서, 폴리이미드계 수지의 질량에 대해, 바람직하게는 1∼40질량%, 보다 바람직하게는 3∼35질량%, 더 바람직하게는 5∼32질량%이다.Content of the halogen atom in polyimide-type resin is preferable with respect to the mass of polyimide-type resin from a viewpoint of the improvement of the flatness and optical characteristics of an optical film, especially the fall of yellowness, the reduction of water absorption, and bending resistance. Preferably it is 1-40 mass%, More preferably, it is 3-35 mass%, More preferably, it is 5-32 mass%.

디아민 화합물, 테트라카르본산 화합물 및 디카르본산 화합물의 반응 온도는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 50∼350℃이다. 반응 시간도 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 30분∼10시간 정도이다. 필요에 따라, 불활성 분위기 또는 감압의 조건하에 있어서 반응을 행해도 된다. 또한, 반응은, 반응에 불활성인 용매 중에서 행하는 것이 바람직하다. 용매로서는, 반응에 영향을 주지 않는 한 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 물, 메탄올, 에탄올, 에틸렌글리콜, 이소프로필알코올, 프로필렌글리콜, 에틸렌글리콜메틸에테르, 에틸렌글리콜부틸에테르, 1-메톡시-2-프로판올, 2-부톡시에탄올, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 등의 알코올계 용매; 아세트산 에틸, 아세트산 부틸, 에틸렌글리콜메틸에테르아세테이트, γ-부티로락톤, γ-발레로락톤, 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 젖산 에틸 등의 에스테르계 용매; 아세톤, 메틸에틸케톤, 시클로펜탄온, 시클로헥산온, 2-헵탄온, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤계 용매; 펜탄, 헥산, 헵탄 등의 지방족 탄화수소 용매; 에틸시클로헥산 등의 지환식 탄화수소 용매; 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소 용매; 아세토니트릴 등의 니트릴계 용매; 테트라히드로푸란 및 디메톡시에탄 등의 에테르계 용매; 클로로포름 및 클로로벤젠 등의 염소 함유 용매; N,N-디메틸아세트아미드, N,N-디메틸포름아미드 등의 아미드계 용매; 디메틸술폰, 디메틸술폭시드, 술포란 등의 함유황계 용매; 에틸렌카보네이트, 프로필렌카보네이트 등의 카보네이트계 용매; 및 그들의 조합(혼합 용매) 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 용해성의 관점에서, 아미드계 용매를 적합하게 사용할 수 있다.Although the reaction temperature of a diamine compound, a tetracarboxylic acid compound, and a dicarboxylic acid compound is not specifically limited, For example, it is 50-350 degreeC. Although reaction time is not specifically limited, for example, It is about 30 minutes-about 10 hours. If necessary, the reaction may be performed under inert atmosphere or reduced pressure. In addition, it is preferable to perform reaction in the solvent inactive to reaction. The solvent is not particularly limited as long as it does not affect the reaction. For example, water, methanol, ethanol, ethylene glycol, isopropyl alcohol, propylene glycol, ethylene glycol methyl ether, ethylene glycol butyl ether, 1-methoxy- Alcohol solvents such as 2-propanol, 2-butoxyethanol, and propylene glycol monomethyl ether; Ester solvents such as ethyl acetate, butyl acetate, ethylene glycol methyl ether acetate, γ-butyrolactone, γ-valerolactone, propylene glycol methyl ether acetate, and ethyl lactate; Ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, 2-heptanone, and methyl isobutyl ketone; Aliphatic hydrocarbon solvents such as pentane, hexane and heptane; Alicyclic hydrocarbon solvents such as ethylcyclohexane; Aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene; Nitrile solvents such as acetonitrile; Ether solvents such as tetrahydrofuran and dimethoxyethane; Chlorine-containing solvents such as chloroform and chlorobenzene; Amide solvents such as N, N-dimethylacetamide and N, N-dimethylformamide; Sulfur-based solvents such as dimethyl sulfone, dimethyl sulfoxide and sulfolane; Carbonate solvents such as ethylene carbonate and propylene carbonate; And combinations thereof (mixed solvents). Among these, an amide solvent can be used suitably from a soluble viewpoint.

폴리이미드계 수지의 제조에 있어서의 이미드화 공정에서는, 이미드화 촉매의 존재하에서, 이미드화 할 수 있다. 이미드화 촉매로서는, 예를 들면 트리프로필아민, 디부틸프로필아민, 에틸디부틸아민 등의 지방족 아민; N-에틸피페리딘, N-프로필피페리딘, N-부틸피롤리딘, N-부틸피페리딘, 및 N-프로필헥사히드로아제핀 등의 지환식 아민(단환식); 아자비시클로[2.2.1]헵탄, 아자비시클로[3.2.1]옥탄, 아자비시클로[2.2.2]옥탄, 및 아자비시클로[3.2.2]노난 등의 지환식 아민(다환식); 및 피리딘, 2-메틸피리딘(2-피콜린), 3-메틸피리딘(3-피콜린), 4-메틸피리딘(4-피콜린), 2-에틸피리딘, 3-에틸피리딘, 4-에틸피리딘, 2,4-디메틸피리딘, 2,4,6-트리메틸피리딘, 3,4-시클로펜테노피리딘, 5,6,7,8-테트라히드로이소퀴놀린, 및 이소퀴놀린 등의 방향족 아민을 들 수 있다. 또한, 이미드화 반응을 촉진하기 쉬운 관점에서, 이미드화 촉매와 함께, 산 무수물을 이용하는 것이 바람직하다. 산 무수물은, 이미드화 반응에 이용되는 관용의 산 무수물 등을 들 수 있고, 그 구체예로서는, 무수아세트산, 무수프로피온산, 무수부티르산 등의 지방족 산 무수물, 프탈산 등의 방향족 산 무수물 등을 들 수 있다.In the imidation process in manufacture of polyimide-type resin, imidation can be carried out in presence of an imidation catalyst. As an imidation catalyst, For example, aliphatic amines, such as tripropylamine, dibutyl propylamine, and ethyl dibutyl amine; Alicyclic amines (monocyclic) such as N-ethylpiperidine, N-propylpiperidine, N-butylpyrrolidine, N-butylpiperidine, and N-propylhexahydroazepine; Alicyclic amines (polycyclic) such as azabicyclo [2.2.1] heptane, azabicyclo [3.2.1] octane, azabicyclo [2.2.2] octane, and azabicyclo [3.2.2] nonane; And pyridine, 2-methylpyridine (2-picolin), 3-methylpyridine (3-picolin), 4-methylpyridine (4-picolin), 2-ethylpyridine, 3-ethylpyridine, 4-ethylpyridine And aromatic amines such as 2,4-dimethylpyridine, 2,4,6-trimethylpyridine, 3,4-cyclopentenopyridine, 5,6,7,8-tetrahydroisoquinoline, and isoquinoline. . Moreover, it is preferable to use an acid anhydride with an imidation catalyst from a viewpoint which is easy to promote the imidation reaction. Examples of the acid anhydride include conventional acid anhydrides used for imidization reactions, and specific examples thereof include aliphatic acid anhydrides such as acetic anhydride, propionic anhydride and butyric anhydride, and aromatic acid anhydrides such as phthalic acid.

얻어진 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지의 말단 아민을, 식(X)의 관계를 충족시키도록, 소정량 이상 아세틸화함으로써, 구조(A)를 갖는 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지를 제조할 수 있다. 말단 아민을 아세틸화하는 아세틸화 공정에서는, 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지를 용해시킨 수지 용액에, 예를 들면 무수아세트산, 염화아세틸 등의 아세틸화제를 첨가하여 반응시킴으로써, 구조(A)를 갖는 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지를 얻을 수 있다. 아세틸화 공정의 반응 온도는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 20∼100℃, 바람직하게는 25∼80℃이고, 반응 시간은, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 30분∼10시간 정도이다. 필요에 따라, 불활성 분위기 또는 감압의 조건하에 있어서 반응을 행해도 된다. 용매로서는 예를 들면, 수지의 제조에 사용할 수 있는 상기에 예시된 용매 등을 들 수 있다. 구조(A)를 갖는 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지는, 예를 들면, 폴리이미드계 수지 또는 폴리아미드계 수지를 포함하는 반응액에 다량의 메탄올 등을 첨가하여, 당해 수지를 석출시키고, 여과, 농축, 건조 등을 행함으로써 단리(單離)할 수 있다.The terminal amine of the obtained polyimide resin or polyamide resin is acetylated at a predetermined amount or more so as to satisfy the relationship of formula (X), thereby producing a polyimide resin or polyamide resin having a structure (A). can do. In the acetylation step of acetylating the terminal amine, the structure (A) is reacted by adding and reacting an acetylating agent such as acetic anhydride and acetyl chloride to a resin solution in which a polyimide resin or a polyamide resin is dissolved. The polyimide resin or polyamide resin which has is obtained. Although the reaction temperature of an acetylation process is not specifically limited, For example, it is 20-100 degreeC, Preferably it is 25-80 degreeC, Although reaction time is not specifically limited, For example, it is about 30 minutes-about 10 hours. If necessary, the reaction may be performed under inert atmosphere or reduced pressure. As a solvent, the solvent etc. which were illustrated above which can be used for manufacture of resin are mentioned, for example. In the polyimide resin or polyamide resin having the structure (A), for example, a large amount of methanol or the like is added to a reaction solution containing a polyimide resin or a polyamide resin to precipitate the resin, Isolation can be carried out by performing filtration, concentration, drying and the like.

아세틸화제의 함유량은, 설정되는 A/B×100의 값에 따라 적절히 선택할 수 있으며, 예를 들면, 합성에 이용하는 아민 화합물 1몰에 대해, 바람직하게는 1몰 이상, 보다 바람직하게는 3몰 이상, 더 바람직하게는 7몰 이상, 보다 더 바람직하게는 10몰 이상이다. 아세틸화제의 함유량이 상기의 하한 이상이면, A/B×100의 값이 증가할 수 있기 때문에, 수지의 겔화가 억제되고, 광학 필름의 평탄성 및 광학 특성을 향상시키기 쉽다. 또한, 아세틸화제의 함유량의 상한은, 특별히 한정되지 않지만, 바람직하게는 100몰 이하, 보다 바람직하게는 50몰 이하이다.The content of the acetylating agent can be appropriately selected depending on the value of A / B × 100 to be set. For example, preferably, 1 mole or more, and more preferably 3 mole or more, per 1 mole of the amine compound used for synthesis. More preferably, it is 7 mol or more, More preferably, it is 10 mol or more. When content of an acetylating agent is more than the said minimum, since the value of A / Bx100 can increase, gelation of resin is suppressed and it is easy to improve the flatness and optical characteristics of an optical film. In addition, the upper limit of content of an acetylating agent is although it does not specifically limit, Preferably it is 100 mol or less, More preferably, it is 50 mol or less.

<첨가제><Additive>

본 발명의 광학 필름은, 필러를 포함할 수 있다. 필러로서는, 예를 들면 유기 입자, 무기 입자 등을 들 수 있고, 특히 무기 입자가 바람직하다. 무기 입자로서는, 실리카, 지르코니아, 알루미나, 티타니아, 산화아연, 산화게르마늄, 산화인듐, 산화주석, 인듐주석 산화물(ITO), 산화안티몬, 산화세륨 등의 금속 산화물 입자, 불화마그네슘, 불화나트륨 등의 금속 불화물 입자 등을 들 수 있고, 이들 중에서도, 내충격성을 향상시키기 쉬운 관점에서, 실리카 입자, 지르코니아 입자, 알루미나 입자가 바람직하며, 실리카 입자가 특히 바람직하다. 이러한 필러는 단독 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다.The optical film of this invention can contain a filler. As a filler, organic particle | grains, an inorganic particle, etc. are mentioned, for example, Especially an inorganic particle is preferable. As inorganic particles, metal oxide particles such as silica, zirconia, alumina, titania, zinc oxide, germanium oxide, indium oxide, tin oxide, indium tin oxide (ITO), antimony oxide, cerium oxide, metals such as magnesium fluoride and sodium fluoride Fluoride particle etc. are mentioned, Among these, a silica particle, a zirconia particle, and an alumina particle are preferable from a viewpoint of easy to improve impact resistance, and a silica particle is especially preferable. These fillers can be used individually or in combination of 2 or more types.

필러, 바람직하게는 실리카 입자의 평균 1차 입자경은, 바람직하게는 10㎚ 이상, 보다 바람직하게는 15㎚ 이상, 더 바람직하게는 20㎚ 이상이고, 바람직하게는 100㎚ 이하, 보다 바람직하게는 90㎚ 이하, 더 바람직하게는 80㎚ 이하, 보다 더 바람직하게는 70㎚ 이하, 특히 바람직하게는 60㎚ 이하, 보다 특히 바람직하게는 50㎚ 이하, 특히 바람직하게는 40㎚ 이하이다. 실리카 입자의 평균 1차 입자경이 상기 범위이면, 실리카 입자의 응집을 억제하고, 광학 필름의 광학 특성을 향상시키기 쉽다. 평균 1차 입자경은, BET법에 의해 측정할 수 있다. 또한, 투과형 전자 현미경(TEM)이나 주사형 전자 현미경(SEM)의 화상 해석에 의해, 평균 1차 입자경을 측정해도 된다.The average primary particle diameter of the filler, preferably the silica particles, is preferably 10 nm or more, more preferably 15 nm or more, more preferably 20 nm or more, preferably 100 nm or less, and more preferably 90 Nm or less, more preferably 80 nm or less, even more preferably 70 nm or less, particularly preferably 60 nm or less, more particularly preferably 50 nm or less, and particularly preferably 40 nm or less. If the average primary particle diameter of a silica particle is the said range, aggregation of a silica particle will be suppressed and it will be easy to improve the optical characteristic of an optical film. An average primary particle diameter can be measured by a BET method. Moreover, you may measure an average primary particle diameter by the image analysis of a transmission electron microscope (TEM) and a scanning electron microscope (SEM).

광학 필름이 필러, 바람직하게는 실리카 입자를 함유할 경우, 필러, 바람직하게는 실리카 입자의 함유량은, 광학 필름 100질량부에 대해, 통상 0.1질량부 이상, 바람직하게는 1질량부 이상, 보다 바람직하게는 5질량부 이상, 더 바람직하게는 10질량부 이상, 특히 바람직하게는 20질량부 이상, 특히 30질량부 이상이고, 바람직하게는 60질량부 이하이다. 필러의 함유량이 상기의 하한 이상이면, 탄성률을 향상시키기 쉽다. 또한, 필러의 함유량이 상기의 상한 이하이면, 겔화를 보다 억제하기 쉽고, 광학 필름의 평탄성 및 광학 특성을 향상시키기 쉽다.When the optical film contains a filler, preferably silica particles, the content of the filler, preferably the silica particles, is usually 0.1 parts by mass or more, preferably 1 part by mass or more, based on 100 parts by mass of the optical film. Preferably it is 5 mass parts or more, More preferably, it is 10 mass parts or more, Especially preferably, it is 20 mass parts or more, Especially 30 mass parts or more, Preferably it is 60 mass parts or less. If content of a filler is more than the said minimum, it will be easy to improve an elasticity modulus. Moreover, when content of a filler is below the said upper limit, it is easy to suppress gelatinization and it is easy to improve the flatness and optical characteristics of an optical film.

본 발명의 광학 필름은, 자외선 흡수제를 더 포함하고 있어도 된다. 자외선 흡수제는, 수지 재료의 분야에서 자외선 흡수제로서 통상 이용되고 있는 것으로부터, 적절히 선택할 수 있다. 자외선 흡수제는, 400㎚ 이하의 파장의 광을 흡수하는 화합물을 포함하고 있어도 된다. 자외선 흡수제로서는, 예를 들면, 벤조페논계 화합물, 살리실레이트계 화합물, 벤조트리아졸계 화합물, 및 트리아진계 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종류의 화합물을 들 수 있다. 자외선 흡수제는 단독 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다. 광학 필름이 자외선 흡수제를 함유함으로써, 수지의 열화가 억제되기 때문에, 광학 필름을 화상 표시 장치 등에 적용한 경우에 시인성을 높일 수 있다. 본 명세서에 있어서, 「계 화합물」이란, 당해 「계 화합물」이 붙여지는 화합물의 유도체를 가리킨다. 예를 들면, 「벤조페논계 화합물」이란, 모체 골격으로서의 벤조페논과, 벤조페논에 결합하고 있는 치환기를 갖는 화합물을 가리킨다.The optical film of this invention may contain the ultraviolet absorber further. A ultraviolet absorber can be suitably selected from what is normally used as a ultraviolet absorber in the field of a resin material. The ultraviolet absorber may contain the compound which absorbs the light of the wavelength of 400 nm or less. As a ultraviolet absorber, the at least 1 sort (s) of compound chosen from the group which consists of a benzophenone type compound, a salicylate type compound, a benzotriazole type compound, and a triazine type compound is mentioned, for example. A ultraviolet absorber can be used individually or in combination of 2 or more types. Since an optical film contains a ultraviolet absorber, deterioration of resin is suppressed, and when visibility is applied to an image display apparatus etc., visibility can be improved. In the present specification, the "based compound" refers to a derivative of the compound to which the "based compound" is attached. For example, a "benzophenone type compound" refers to a compound having a benzophenone as a parent skeleton and a substituent bonded to benzophenone.

광학 필름이 자외선 흡수제를 함유할 경우, 자외선 흡수제의 함유량은, 광학 필름 100질량부에 대해, 바람직하게는 1질량부 이상, 보다 바람직하게는 2질량부 이상, 더 바람직하게는 3질량부 이상이고, 바람직하게는 10질량부 이하, 보다 바람직하게는 8질량부 이하, 더 바람직하게는 6질량부 이하이다. 적합한 함유량은 이용하는 자외선 흡수제에 따라 상이하지만, 400㎚의 광선 투과율이 20∼60% 정도가 되도록 자외선 흡수제의 함유량을 조절하면, 광학 필름의 내광성이 높아짐과 함께, 투명성이 높은 광학 필름을 얻을 수 있다.When an optical film contains a ultraviolet absorber, content of a ultraviolet absorber becomes like this. Preferably it is 1 mass part or more, More preferably, it is 2 mass parts or more, More preferably, it is 3 mass parts or more with respect to 100 mass parts of optical films. Preferably it is 10 mass parts or less, More preferably, it is 8 mass parts or less, More preferably, it is 6 mass parts or less. Although suitable content differs according to the ultraviolet absorber to be used, if content of a ultraviolet absorber is adjusted so that the light transmittance of 400 nm may be about 20 to 60%, the light resistance of an optical film will become high and an optical film with high transparency can be obtained. .

광학 필름은, 필러, 자외선 흡수제 이외의 다른 첨가제를 더 함유하고 있어도 된다. 다른 첨가제로서는, 예를 들면, 산화 방지제, 이형제, 안정제, 블루잉제, 난연제, pH 조정제, 실리카 분산제, 활제(滑劑), 증점제, 및 레벨링제 등을 들 수 있다. 다른 첨가제를 함유할 경우, 그 함유량은, 광학 필름 100질량부에 대해, 바람직하게는 0.005∼20질량부, 보다 바람직하게는 0.01∼15질량부, 더 바람직하게는 0.1∼10질량부이면 된다.The optical film may further contain other additives other than a filler and a ultraviolet absorber. As another additive, antioxidant, a mold release agent, a stabilizer, a bluing agent, a flame retardant, a pH adjuster, a silica dispersing agent, a lubricating agent, a thickener, a leveling agent, etc. are mentioned, for example. When it contains another additive, the content is 0.005-20 mass parts with respect to 100 mass parts of optical films, More preferably, it is 0.01-15 mass parts, More preferably, it is 0.1-10 mass parts.

<광학 필름><Optical film>

본 발명의 광학 필름은, 식(X)의 관계를 충족시키는 수지를 가지기 때문에, 부분적인 두께의 불균일이 작고, 필름 표면의 우수한 평탄성을 가질 수 있다. 또한, 본 발명의 광학 필름은, 우수한 광학 특성도 가지기 때문에, 우수한 표면 평탄성과 우수한 광학 특성을 양립할 수 있다.Since the optical film of this invention has resin which satisfy | fills the relationship of Formula (X), the nonuniformity of a partial thickness is small and can have the outstanding flatness of a film surface. Moreover, since the optical film of this invention also has the outstanding optical characteristic, excellent surface flatness and excellent optical characteristic can be compatible.

본 발명의 광학 필름의 두께는, 용도에 따라 적절히 조정되지만, 바람직하게는 25㎛ 이상, 보다 바람직하게는 27㎛ 이상, 더 바람직하게는 30㎛ 이상이고, 바람직하게는 100㎛ 이하, 보다 바람직하게는 80㎛ 이하, 더 바람직하게는 65㎛ 이하, 특히 바람직하게는 55㎛ 이하이다. 광학 필름의 두께는, 막 두께계 등으로 측정할 수 있고, 예를 들면, 실시예에 기재된 방법에 의해 측정할 수 있다.Although the thickness of the optical film of this invention is adjusted suitably according to a use, Preferably it is 25 micrometers or more, More preferably, it is 27 micrometers or more, More preferably, it is 30 micrometers or more, Preferably it is 100 micrometers or less, More preferably, Is 80 µm or less, more preferably 65 µm or less, particularly preferably 55 µm or less. The thickness of an optical film can be measured with a film thickness meter, etc., and can be measured by the method as described in an Example, for example.

본 발명의 광학 필름에 있어서, 두께 48∼52㎛, 바람직하게는 두께 50㎛에 있어서의 전광선 투과율은, 바람직하게는 80% 이상, 보다 바람직하게는 85% 이상, 더 바람직하게는 90% 이상, 특히 바람직하게는 91% 이상이다. 전광선 투과율이 상기의 하한 이상이면 투명성이 양호해져, 예를 들면 화상 표시 장치의 전면판에 사용한 경우에, 높은 시인성에 기여할 수 있다. 또한, 전광선 투과율의 상한은 통상 100% 이하이다. 또한, 전광선 투과율은, 예를 들면 JIS K 7361-1:1997에 준거하여 헤이즈 컴퓨터를 이용하여 측정할 수 있고, 예를 들면 실시예에 기재된 방법에 의해 측정할 수 있다.In the optical film of the present invention, the total light transmittance at a thickness of 48 to 52 µm, preferably 50 µm is preferably 80% or more, more preferably 85% or more, even more preferably 90% or more, Especially preferably, it is 91% or more. Transparency becomes favorable that a total light transmittance is more than the said minimum, and when it is used for the front plate of an image display apparatus, for example, it can contribute to high visibility. In addition, the upper limit of total light transmittance is 100% or less normally. In addition, total light transmittance can be measured using a haze computer based on JISK736-1: 1997, for example, and can be measured by the method as described in an Example, for example.

본 발명의 광학 필름의 헤이즈는, 바람직하게는 3.0% 이하, 보다 바람직하게는 2.0% 이하, 더 바람직하게는 1.0% 이하, 특히 바람직하게는 0.5% 이하이다. 광학 필름의 헤이즈가 상기의 상한 이하이면 투명성이 양호해져, 예를 들면 화상 표시 장치의 전면판에 사용한 경우에, 높은 시인성에 기여할 수 있다. 또한, 헤이즈의 하한은 통상 0.01% 이상이다. 또한, 헤이즈는, JIS K 7136:2000에 준거하여 헤이즈 컴퓨터를 이용하여 측정할 수 있고, 예를 들면 실시예에 기재된 방법에 의해 측정할 수 있다.Haze of the optical film of this invention becomes like this. Preferably it is 3.0% or less, More preferably, it is 2.0% or less, More preferably, it is 1.0% or less, Especially preferably, it is 0.5% or less. If the haze of an optical film is below the said upper limit, transparency will become favorable, and when used for the front plate of an image display apparatus, for example, it can contribute to high visibility. In addition, the minimum of haze is 0.01% or more normally. In addition, a haze can be measured using a haze computer based on JISK7136: 2000, For example, it can measure by the method as described in an Example.

본 발명의 광학 필름의 황색도(YI값)는, 바람직하게는 8 이하, 보다 바람직하게는 5 이하, 더 바람직하게는 3 이하, 특히 바람직하게는 2 이하이다. 광학 필름의 황색도가 상기의 상한 이하이면 투명성이 양호해져, 예를 들면 화상 표시 장치의 전면판에 사용한 경우에, 높은 시인성에 기여할 수 있다. 또한 황색도는 통상 -5 이상이고, 바람직하게는 -2 이상이다. 또한, 황색도(YI값)는 자외 가시 근적외 분광 광도계를 이용하여 300∼800㎚의 광에 대한 투과율 측정을 행하여, 3 자극값(X, Y, Z)을 구하고, YI=100×(1.2769X-1.0592Z)/Y의 식에 기초하여 산출할 수 있다.Yellowness (YI value) of the optical film of this invention becomes like this. Preferably it is 8 or less, More preferably, it is 5 or less, More preferably, it is 3 or less, Especially preferably, it is 2 or less. If the yellowness of an optical film is below the said upper limit, transparency will become favorable, and when used for the front plate of an image display apparatus, for example, it can contribute to high visibility. In addition, yellowness is -5 or more normally, Preferably it is -2 or more. In addition, the yellowness (YI value) is measured using a UV-visible near-infrared spectrophotometer to measure the transmittance of light at 300 to 800 nm, to obtain three stimulus values (X, Y, Z), and YI = 100 × (1.2769). It can calculate based on the formula of X-1.0592Z) / Y.

〔광학 필름의 제조 방법〕[Method of Manufacturing Optical Film]

본 발명의 광학 필름은, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 이하의 공정 : Although the optical film of this invention is not specifically limited, For example, the following processes:

(a) 상기 수지를 포함하는 액(수지 바니시라고 하는 경우가 있음)을 조제하는 공정(바니시 조제 공정),(a) step (varnish preparation step) of preparing the liquid (which may be called resin varnish) containing the said resin,

(b) 당해 수지 바니시를 지지재에 도포하여 도막을 형성하는 공정(도포 공정), 및 (b) applying the resin varnish to the support material to form a coating film (coating step), and

(c) 도포된 액(도막)을 건조시켜, 광학 필름을 형성하는 공정(필름 형성 공정)(c) Process of drying the apply | coated liquid (coating film) and forming an optical film (film formation process)

을 포함하는 방법에 의해 제조할 수 있다.It can manufacture by the method containing these.

바니시 조제 공정에 있어서, 상기 수지를 용매에 용해하고, 필요에 따라, 필러, 자외선 흡수제 및 다른 첨가제 등을 첨가하여 교반 혼합함으로써 수지 바니시를 조제한다.In the varnish preparation step, the resin varnish is prepared by dissolving the above resin in a solvent and, if necessary, adding a filler, a ultraviolet absorber, other additives and the like and stirring the mixture.

바니시의 조제에 이용되는 용매는, 수지를 용해 가능하면 특별히 한정되지 않는다. 이와 같은 용매로서는, 예를 들면 <수지의 제조 방법>의 항에 예시한 용매 등을 들 수 있다. 이러한 용매 중에서도, 아미드계 용매 또는 락톤계 용매를 적합하게 사용할 수 있다. 이러한 용매는 단독 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다. 수지 바니시의 고형분 농도는, 바람직하게는 1∼25질량%, 보다 바람직하게는 5∼15질량%이다.The solvent used for preparation of the varnish is not particularly limited as long as it can dissolve the resin. As such a solvent, the solvent etc. which were illustrated in the term of <manufacturing method of resin> are mentioned, for example. Among these solvents, an amide solvent or a lactone solvent can be suitably used. Such solvents may be used alone or in combination of two or more thereof. Solid content concentration of resin varnish becomes like this. Preferably it is 1-25 mass%, More preferably, it is 5-15 mass%.

도포 공정에 있어서, 공지의 도포 방법에 의해, 지지재 상에 수지 바니시를 도포하여 도막을 형성한다. 공지의 도포 방법으로서는, 예를 들면 와이어 바 코팅법, 리버스 코팅, 그라비아 코팅 등의 롤 코팅법, 다이 코팅법, 콤마 코팅법, 립 코팅법, 스핀 코팅법, 스크린 코팅법, 파운틴 코팅법, 디핑법, 스프레이법, 유연 성형법 등을 들 수 있다.In a coating process, a resin varnish is apply | coated on a support material by a well-known coating method, and a coating film is formed. As a well-known coating method, for example, a roll coating method such as wire bar coating method, reverse coating, gravure coating, die coating method, comma coating method, lip coating method, spin coating method, screen coating method, fountain coating method, D A ping method, a spray method, the casting molding method, etc. are mentioned.

필름 형성 공정에 있어서, 도막을 건조하고, 지지재로부터 박리함으로써, 광학 필름을 형성할 수 있다. 박리 후에 추가로 광학 필름을 건조시키는 공정을 마련해도 된다. 도막의 건조는, 통상 50∼350℃의 온도에서 행할 수 있다. 필요에 따라, 불활성 분위기 또는 감압의 조건하에 있어서 도막의 건조를 행해도 된다.In a film formation process, an optical film can be formed by drying a coating film and peeling from a support material. You may provide the process of drying an optical film further after peeling. Drying of a coating film can be performed at the temperature of 50-350 degreeC normally. As needed, you may dry a coating film under the conditions of inert atmosphere or reduced pressure.

지지재의 예로서는, SUS 등의 금속 벨트, 및, PET 필름, PEN 필름, 다른 폴리이미드 필름, 폴리아미드 필름, 폴리아미드이미드 필름 등의 수지 필름을 들 수 있다. 그 중에서도, 내열성이 우수한 관점에서, PET 필름, PEN 필름 등이 바람직하고, 추가로 광학 필름과의 성막 시 밀착성, 이박리성, 및 비용의 관점에서, PET 필름이 보다 바람직하다.Examples of the support material include metal belts such as SUS, and resin films such as PET films, PEN films, other polyimide films, polyamide films, and polyamideimide films. Especially, PET film, PEN film, etc. are preferable from a viewpoint of excellent heat resistance, and PET film is more preferable from a viewpoint of adhesiveness, peeling property, and cost at the time of film-forming with an optical film.

〔광학용 수지〕[Optical resin]

본 발명은, 식(A)The present invention is formula (A)

[화학식 21][Formula 21]

Figure pat00021
Figure pat00021

[식(A) 중, *은 결합손을 나타낸다][In formula (A), * represents a bond.]

로 나타내어지는 구조를 갖는 폴리이미드계 수지 및 폴리아미드계 수지로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 포함하는 광학용 수지로서, 식(X)As optical resin containing at least 1 sort (s) chosen from the group which consists of polyimide-type resin and polyamide-type resin which have a structure represented by the formula (X)

A/B×100≥0.03(%) (X)A / B × 100≥0.03 (%) (X)

[식(X) 중, A는, 당해 광학용 수지의 1H-NMR 스펙트럼에 있어서, 식(A)로 나타내어지는 구조 중의 질소 원자에 결합하는 수소 원자에 유래하는 피크 면적을 나타내고, B는, 당해 광학용 수지의 1H-NMR 스펙트럼에 있어서, 화학 시프트값이 6.5∼11.5ppm의 범위에 있어서의 피크 면적을 나타낸다][In Formula (X), A represents the peak area derived from the hydrogen atom couple | bonded with the nitrogen atom in the structure represented by Formula (A) in <1> H-NMR spectrum of the said optical resin, B is In the 1 H-NMR spectrum of the optical resin, a chemical shift value represents a peak area in a range of 6.5 to 11.5 ppm.]

로 나타내어지는 광학용 수지를 포함한다.Optical resin represented by this is included.

본 발명의 광학용 수지는, 식(X)의 관계를 충족시키는, 즉, A/B×100이 0.03% 이상으로서 구조(A)를 소정량 이상 가지기 때문에, 당해 수지를 포함하는 광학 필름을 형성하는 경우에, 수지 바니시의 겔화를 유효하게 억제할 수 있다. 그 때문에, 부분적인 두께의 불균일이 작고, 필름 표면의 평탄성이 우수한 광학 필름을 형성할 수 있다. 또한, 얻어지는 광학 필름은, 겔의 혼입이 억제되어 있기 때문에, 우수한 광학 특성을 발현할 수도 있다.The optical resin of the present invention satisfies the relationship of the formula (X), that is, since A / B × 100 has a predetermined amount or more of the structure (A) as 0.03% or more, an optical film containing the resin is formed. In this case, the gelation of the resin varnish can be effectively suppressed. Therefore, the nonuniformity of a partial thickness is small and the optical film excellent in the flatness of a film surface can be formed. Moreover, since the mixing of a gel is suppressed, the optical film obtained can also express the outstanding optical characteristic.

본 발명의 광학용 수지는, 상기 <수지>의 항에 기재된 폴리이미드계 수지 및/또는 폴리아미드계 수지인 것이 바람직하다.It is preferable that the optical resin of this invention is polyimide-type resin and / or polyamide-type resin as described in said <resin>.

〔광학 적층체〕[Optical laminated body]

본 발명의 광학 필름은, 단층이어도, 적층체여도 되고, 광학 필름을 그대로 사용해도 되며, 추가로 다른 필름이나 층과의 적층체로서 사용해도 된다. 본 발명에서는, 광학 필름이 적층체인 경우, 광학 필름의 편면 또는 양면에 적층된 모든 층을 포함하여 광학 필름이라고 불린다. 또한, 편의상, 적층체 형태의 광학 필름을 광학 적층체(또는 적층체)라고 하는 경우도 있다.The optical film of this invention may be a single | mono layer, a laminated body may be sufficient, an optical film may be used as it is, and may also be used as a laminated body with another film or layer. In this invention, when an optical film is a laminated body, it is called an optical film including all the layers laminated | stacked on the single side | surface or both surfaces of an optical film. In addition, the optical film of a laminated body form may be called an optical laminated body (or laminated body) for convenience.

본 발명의 광학 필름의 적어도 일방의 면에 1 이상의 기능층을 적층하여 광학 적층체를 형성할 수도 있다. 기능층으로서는, 예를 들면 자외선 흡수층, 하드 코팅층, 프라이머층, 가스 배리어층, 점착층, 색상 조정층, 굴절률 조정층 등을 들 수 있다. 기능층은 단독 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다.An optical laminated body can also be formed by laminating | stacking one or more functional layers on at least one surface of the optical film of this invention. As a functional layer, an ultraviolet absorber layer, a hard coat layer, a primer layer, a gas barrier layer, an adhesion layer, a color adjustment layer, a refractive index adjustment layer, etc. are mentioned, for example. A functional layer can be used individually or in combination of 2 or more types.

자외선 흡수층은, 자외선 흡수의 기능을 갖는 층이고, 예를 들면, 자외선 경화형의 투명 수지, 전자선 경화형의 투명 수지, 및 열경화형의 투명 수지로부터 선택되는 주재(主材)와, 이 주재에 분산된 자외선 흡수제로 구성된다.The ultraviolet absorbing layer is a layer having a function of absorbing ultraviolet rays, and is, for example, a main material selected from an ultraviolet curable transparent resin, an electron beam curable transparent resin, and a thermosetting transparent resin, and dispersed in the main material. It consists of an ultraviolet absorber.

점착층은, 점착성의 기능을 갖는 층이고, 광학 필름을 다른 부재에 접착시키는 기능을 가진다. 점착층의 형성 재료로서는, 통상 알려진 것을 이용할 수 있다. 예를 들면, 열경화성 수지 조성물 또는 광경화성 수지 조성물을 이용할 수 있다. 이 경우, 사후적으로 에너지를 공급함으로써 수지 조성물을 고분자화하여 경화시킬 수 있다.An adhesive layer is a layer which has a sticky function, and has a function which adhere | attaches an optical film to another member. As a formation material of an adhesion layer, a conventionally well-known thing can be used. For example, a thermosetting resin composition or a photocurable resin composition can be used. In this case, the resin composition can be polymerized and cured by supplying energy afterwards.

점착층은, 감압형 접착제(Pressure Sensitive Adhesive, PSA)라고 불리는, 가압에 의해 대상물에 첩착(貼着)되는 층이어도 된다. 감압형 접착제는, 「상온에서 점착성을 갖고, 가벼운 압력으로 피착재에 접착하는 물질」(JIS K 6800)인 점착제여도 되고, 「특정 성분을 보호 피막(마이크로캡슐)에 내용하여, 적당한 수단(압력, 열 등)에 의해 피막을 파괴할 때까지는 안정성을 보지(保持)할 수 있는 접착제」(JIS K 6800)인 캡슐형 접착제여도 된다.The pressure-sensitive adhesive layer may be a layer adhered to the object by pressure, called a pressure sensitive adhesive (PSA). The pressure-sensitive adhesive may be an adhesive, which is "a substance which has adhesiveness at room temperature and adheres to the adherend at light pressure" (JIS K 6800), and "contains a specific component in a protective film (microcapsule), and adopts suitable means (pressure Or an adhesive capable of holding stability until the film is destroyed by heat, or the like '' (JIS K 6800).

색상 조정층은, 색상 조정의 기능을 갖는 층이며, 광학 적층체를 목적의 색상으로 조정할 수 있는 층이다. 색상 조정층은, 예를 들면, 수지 및 착색제를 함유하는 층이다. 이 착색제로서는, 예를 들면, 산화티탄, 산화아연, 벵갈라, 티타늄옥사이드계 소성 안료, 군청, 알루민산 코발트, 및 카본블랙 등의 무기 안료; 아조계 화합물, 퀴나크리돈계 화합물, 안트라퀴논계 화합물, 페릴렌계 화합물, 이소인돌리논계 화합물, 프탈로시아닌계 화합물, 퀴노프탈론계 화합물, 스렌계 화합물, 및 디케토피롤로피롤계 화합물 등의 유기 안료; 황산바륨, 및 탄산칼슘 등의 체질 안료; 및 염기성 염료, 산성 염료, 및 매염 염료 등의 염료를 들 수 있다.A color adjustment layer is a layer which has a function of color adjustment, and is a layer which can adjust an optical laminated body to the target color. A color adjustment layer is a layer containing resin and a coloring agent, for example. As this coloring agent, For example, Inorganic pigments, such as a titanium oxide, zinc oxide, a bengalah, a titanium oxide type baking pigment, ultramarine blue, cobalt aluminate, and carbon black; Organic pigments such as azo compounds, quinacridone compounds, anthraquinone compounds, perylene compounds, isoindolinone compounds, phthalocyanine compounds, quinophthalone compounds, styrene compounds, and diketopyrrolopyrrole compounds; Extender pigments such as barium sulfate and calcium carbonate; And dyes such as basic dyes, acid dyes, and mordant dyes.

굴절률 조정층은, 굴절률 조정의 기능을 갖는 층이며, 예를 들면 광학 필름과는 상이한 굴절률을 갖고, 광학 적층체에 소정의 굴절률을 부여할 수 있는 층이다. 굴절률 조정층은, 예를 들면, 적절히 선택된 수지, 및 경우에 따라 추가로 안료를 함유하는 수지층이어도 되고, 금속의 박막이어도 된다. 굴절률을 조정하는 안료로서는, 예를 들면, 산화규소, 산화알루미늄, 산화안티몬, 산화주석, 산화티탄, 산화지르코늄 및 산화탄탈을 들 수 있다. 당해 안료의 평균 1차 입자경은, 0.1㎛ 이하여도 된다. 안료의 평균 1차 입자경을 0.1㎛ 이하로 함으로써, 굴절률 조정층을 투과하는 광의 난반사를 방지하고, 투명도의 저하를 방지할 수 있다. 굴절률 조정층에 이용되는 금속으로서는, 예를 들면, 산화티탄, 산화탄탈, 산화지르코늄, 산화아연, 산화주석, 산화규소, 산화인듐, 산질화티탄, 질화티탄, 산질화규소, 질화규소 등의 금속 산화물 또는 금속 질화물을 들 수 있다.A refractive index adjustment layer is a layer which has a function of refractive index adjustment, and is a layer which has a refractive index different from an optical film, and can give a predetermined refractive index to an optical laminated body, for example. The refractive index adjusting layer may be, for example, a resin that is appropriately selected, and a resin layer further containing a pigment as the case may be, or a thin film of metal. Examples of the pigment for adjusting the refractive index include silicon oxide, aluminum oxide, antimony oxide, tin oxide, titanium oxide, zirconium oxide and tantalum oxide. The average primary particle diameter of the said pigment may be 0.1 micrometer or less. By making the average primary particle diameter of a pigment into 0.1 micrometer or less, the diffuse reflection of the light which permeate | transmits a refractive index adjustment layer can be prevented, and the fall of transparency can be prevented. Examples of the metal used for the refractive index adjusting layer include metal oxides such as titanium oxide, tantalum oxide, zirconium oxide, zinc oxide, tin oxide, silicon oxide, indium oxide, titanium oxynitride, titanium nitride, silicon oxynitride, and silicon nitride. Metal nitrides.

광학 적층체는, 보호 필름을 더 포함하고 있어도 된다. 보호 필름은, 광학 필름의 편면 또는 양면에 적층되어 있어도 된다. 광학 필름의 편면에 기능층을 가질 경우에는, 보호 필름은, 광학 필름측의 표면 또는 기능층측의 표면에 적층되어 있어도 되고, 광학 필름측과 기능층측의 양방에 적층되어 있어도 된다. 광학 필름의 양면에 기능층을 가질 경우에는, 보호 필름은, 일방의 기능층측의 표면에 적층되어 있어도 되고, 양방의 기능층측의 표면에 적층되어 있어도 된다. 보호 필름은, 광학 필름 또는 기능층의 표면을 일시적으로 보호하기 위한 필름이고, 광학 필름 또는 기능층의 표면을 보호할 수 있는 박리 가능한 필름인 한 특별히 한정되지 않는다. 보호 필름으로서는, 예를 들면, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르계 수지 필름; 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 필름 등의 폴리올레핀계 수지 필름, 아크릴계 수지 필름 등을 들 수 있고, 폴리올레핀계 수지 필름, 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지 필름 및 아크릴계 수지 필름으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 것이 바람직하다. 광학 적층체가 보호 필름을 2개 가질 경우, 각 보호 필름은 동일 또는 상이해도 된다.The optical laminated body may further contain the protective film. The protective film may be laminated on one side or both sides of the optical film. When having a functional layer in the single side | surface of an optical film, a protective film may be laminated | stacked on the surface of the optical film side, or the surface of the functional layer side, and may be laminated | stacked on both an optical film side and a functional layer side. When it has a functional layer on both surfaces of an optical film, a protective film may be laminated | stacked on the surface of one functional layer side, and may be laminated | stacked on the surface of both functional layer sides. A protective film is a film for temporarily protecting the surface of an optical film or a functional layer, and it is not specifically limited as long as it is a peelable film which can protect the surface of an optical film or a functional layer. As a protective film, For example, Polyester-based resin films, such as polyethylene terephthalate, a polybutylene terephthalate, a polyethylene naphthalate; Polyolefin resin films, such as polyethylene and a polypropylene film, an acrylic resin film, etc. are mentioned, It is preferable to select from the group which consists of a polyolefin resin film, a polyethylene terephthalate resin film, and an acrylic resin film. When an optical laminated body has two protective films, each protective film may be same or different.

보호 필름의 두께는, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 통상, 10∼100㎛, 바람직하게는 10∼80㎛, 보다 바람직하게는 10∼50㎛이다. 광학 적층체가 보호 필름을 2개 가질 경우, 각 보호 필름의 두께는 동일해도 되고, 상이해도 된다.Although the thickness of a protective film is not specifically limited, Usually, 10-100 micrometers, Preferably it is 10-80 micrometers, More preferably, it is 10-50 micrometers. When an optical laminated body has two protective films, the thickness of each protective film may be the same and may differ.

본 발명의 일 실시 양태에 있어서, 광학 적층체는, 권심(卷芯)에 롤 형상으로 권회(卷回)된 형태여도 되고, 당해 형태를 적층체 필름 롤이라고 한다. 권심을 구성하는 재료로서는, 예를 들면 폴리에틸렌 수지, 폴리프로필렌 수지, 폴리염화비닐 수지, 폴리에스테르 수지, 에폭시 수지, 페놀 수지, 멜라민 수지, 규소 수지, 폴리우레탄 수지, 폴리카보네이트 수지, ABS 수지 등의 합성 수지; 알루미늄 등의 금속; 섬유 강화 플라스틱(FRP:유리 섬유 등의 섬유를 플라스틱에 함유시켜 강도를 향상시킨 복합 재료) 등을 들 수 있다. 권심은 원통 형상 또는 원기둥 형상 등의 형상을 이루고, 그 직경은, 예를 들면 80∼170㎜이다. 또한, 적층체 필름 롤의 직경(권취(卷取) 후의 직경)은, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 통상 200∼800㎜이다. 본 발명의 일 실시 양태에 있어서, 적층체 필름 롤은, 광학 필름의 제조 공정에 있어서, 광학 필름으로부터 지지재를 박리하지 않고, 지지재, 광학 필름 및 임의로 기능층 및 보호 필름을 갖는 적층체가, 권심에 롤 형상으로 권회된 형태를 갖고 있어도 된다. 적층체 필름 롤은, 연속적인 제조에 있어서, 스페이스와 기타의 제약으로부터 일단 필름 롤의 형태로 보관하는 경우가 많고, 적층체 필름 롤의 형태에서는, 적층체가 보다 강하게 감아 조여져 있으므로, 지지재 상의 백탁 원인 물질이 광학 필름 상에 전사되기 쉬워진다. 그러나, 소정의 대수(對水) 접촉각을 갖는 지지재를 이용하면, 지지재로부터의 백탁 물질이 기재에 전사되기 어렵고, 그것이 적층체 필름 롤에서 감아 조여져도, 백탁이 생기기 어렵다.In one embodiment of the present invention, the optical laminated body may be a form wound in a roll shape in a core, and the form is referred to as a laminate film roll. Examples of the material constituting the core include polyethylene resin, polypropylene resin, polyvinyl chloride resin, polyester resin, epoxy resin, phenol resin, melamine resin, silicon resin, polyurethane resin, polycarbonate resin and ABS resin. Synthetic resins; Metals such as aluminum; Fiber-reinforced plastics (FRP: composite material in which fibers such as glass fibers are contained in plastics to improve strength); The core forms a shape such as a cylindrical shape or a cylindrical shape, and the diameter thereof is, for example, 80 to 170 mm. In addition, the diameter (diameter after winding) of a laminated body film roll is although it does not specifically limit, Usually, it is 200-800 mm. In one embodiment of the present invention, the laminate film roll, in the manufacturing process of the optical film, the laminate having a support material, an optical film and optionally a functional layer and a protective film, without peeling the support material from the optical film, You may have the form wound by the core in roll shape. In the case of continuous manufacture, the laminated film roll is often stored in the form of a film roll once from space and other constraints, and in the form of the laminated film roll, the laminated body is wound more tightly, so that the cloudy on the support material The causative agent tends to be transferred onto the optical film. However, when a support material having a predetermined logarithmic contact angle is used, the clouding material from the support material is less likely to be transferred to the substrate, and even if it is wound around the laminate film roll, clouding is unlikely to occur.

〔화상 표시 장치〕[Image display device]

본 발명의 광학 필름은, 우수한 표면 평탄성 및 광학 특성을 가지기 때문에, 화상 표시 장치의 전면판(윈도우 필름)으로서 적합하게 사용할 수 있다. 본 발명의 광학 필름은, 화상 표시 장치, 특히 플렉시블 디스플레이(플렉시블 표시 장치)의 시인측 표면에 전면판으로서 배치할 수 있다. 당해 전면판은, 플렉시블 디스플레이 내의 화상 표시 소자를 보호하는 기능을 가진다. 화상 표시 장치로서는, 텔레비전, 스마트폰, 휴대전화, 카 네비게이션, 태블릿 PC, 휴대 게임기, 전자 페이퍼, 인디케이터, 게시판, 시계, 및 스마트 워치 등의 웨어러블 디바이스 등을 들 수 있다. 플렉시블 디스플레이로서는, 플렉시블 특성을 갖는 화상 표시 장치, 예를 들면 텔레비전, 스마트폰, 휴대전화, 스마트 워치 등을 들 수 있다. 따라서, 본 발명은, 상기 광학 필름을 구비하는 플렉시블 표시 장치를 포함한다. 또한, 이하, 본 발명의 광학 필름을 윈도우 필름이라고 하는 경우가 있다.Since the optical film of this invention has the outstanding surface flatness and optical characteristics, it can be used suitably as a front plate (window film) of an image display apparatus. The optical film of this invention can be arrange | positioned as a front plate in the visual recognition side surface of an image display apparatus, especially a flexible display (flexible display apparatus). The front panel has a function of protecting an image display element in the flexible display. As an image display apparatus, wearable devices, such as a television, a smartphone, a mobile telephone, car navigation, a tablet PC, a portable game machine, an electronic paper, an indicator, a bulletin board, a clock, and a smart watch, are mentioned. As a flexible display, the image display apparatus which has a flexible characteristic, for example, a television, a smart phone, a mobile phone, a smart watch, etc. are mentioned. Therefore, this invention includes the flexible display apparatus provided with the said optical film. In addition, the optical film of this invention may be called a window film below.

본 발명의 일 실시 양태에 있어서, 화상 표시 장치, 특히 플렉시블 표시 장치는, 본 발명의 광학 필름, 및, 편광판, 터치 센서 및 표시 패널로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개를 포함하고 있어도 된다. 예를 들면, 당해 광학 필름의 편면에, 투명 접착제 또는 투명 점착제를 개재하거나, 또는 개재하지 않고, 편광판, 터치 센서 및 표시 패널이 적층된 화상 표시 장치여도 된다. 또한, 본 발명의 광학 필름은, 상기 광학 적층체로서 화상 표시 장치에 포함되어 있어도 되고, 이하, 화상 표시 장치에 포함되는 광학 필름은, 상기 광학 적층체여도 된다.In one embodiment of the present invention, the image display device, particularly the flexible display device, may include at least one selected from the group consisting of the optical film of the present invention and a polarizing plate, a touch sensor, and a display panel. For example, the image display apparatus in which the polarizing plate, the touch sensor, and the display panel were laminated | stacked without the transparent adhesive agent or the transparent adhesive agent on the single side | surface of the said optical film may be sufficient. In addition, the optical film of this invention may be contained in the image display apparatus as said optical laminated body, and the said optical laminated body may be sufficient as the optical film contained in an image display apparatus below.

본 발명의 일 실시 양태에 있어서, 화상 표시 장치는, 상기 광학 필름 또는 상기 편광판의 적어도 일면에, 프레임를 둘러싸서 인쇄된 유색의 차광 패턴을 구비할 수 있고, 당해 차광 패턴은 단층 또는 복층의 형태여도 된다. 상기 편광판은 상기 비표시 영역 또는 베젤부에 걸쳐 연속적으로 연장할 수 있고, 폴리비닐알코올계 편광자 및 상기 폴리비닐알코올계 편광자 중 적어도 일면에 적층(또는 첩합(貼合))된 보호층을 포함하는 통상의 편광판이어도 된다.In one embodiment of the present invention, the image display device may include a colored light shielding pattern printed by enclosing a frame on at least one surface of the optical film or the polarizing plate, and the light shielding pattern may be a single layer or a multilayer. do. The polarizing plate may extend continuously over the non-display area or the bezel portion, and includes a protective layer laminated (or bonded) to at least one surface of the polyvinyl alcohol polarizer and the polyvinyl alcohol polarizer. A normal polarizing plate may be sufficient.

본 발명의 일 실시 양태에서는, 상기 광학 필름의 일면에 편광판 및 터치 센서가 일체화된 구조에 있어서, 편광판 및 터치 센서의 배치 순서는 한정되지 않고, 광학 필름, 편광판, 터치 센서 및 표시 패널의 순으로 배치할 수도 있고, 광학 필름, 터치 센서, 편광판 및 표시 패널의 순으로 배치할 수도 있다. 광학 필름, 편광판, 터치 센서 및 표시 패널의 순으로 배치한 경우는, 화상 표시 장치를 시인측으로부터 봤을 때에 터치 센서가 편광판의 하측에 존재하므로, 터치 센서의 패턴이 시인되기 어려운 장점이 있다. 이와 같은 경우, 터치 센서의 기판은 정면 위상차가 ±2.5㎚ 이하인 것이 바람직하다. 당해 기판의 소재로서는 무연신 필름으로서, 예를 들면, 트리아세틸셀룰로오스, 트리아세틸셀룰로오스, 시클로올레핀, 시클로올레핀 공중합체, 폴리노르보르넨 공중합체 등의 소재로 이루어지는 군으로부터 선택된 1 이상의 소재의 필름이어도 된다. 한편, 터치 센서의 기판 없이 패턴만 광학 필름 및 편광판에 전사한 구조를 가질 수 있다.In one embodiment of the present invention, in a structure in which a polarizing plate and a touch sensor are integrated on one surface of the optical film, the arrangement order of the polarizing plate and the touch sensor is not limited, and in order of the optical film, the polarizing plate, the touch sensor, and the display panel. You may arrange | position, and it may arrange | position in order of an optical film, a touch sensor, a polarizing plate, and a display panel. When arrange | positioning in order of an optical film, a polarizing plate, a touch sensor, and a display panel, since the touch sensor exists in the lower side of a polarizing plate when an image display apparatus is seen from the visual recognition side, there exists an advantage that the pattern of a touch sensor is hard to be recognized. In such a case, it is preferable that the front phase difference of the board | substrate of a touch sensor is ± 2.5 nm or less. As a raw material of the said board | substrate, it is an unstretched film, For example, even if it is a film of 1 or more material chosen from the group which consists of materials, such as a triacetyl cellulose, a triacetyl cellulose, a cycloolefin, a cycloolefin copolymer, a polynorbornene copolymer, do. Meanwhile, only the pattern without the substrate of the touch sensor may have a structure transferred to the optical film and the polarizing plate.

상기 편광판 및 터치 센서는, 투명 점착제층 또는 투명 접착제층에 의해 광학 필름과 표시 패널의 사이에 배치할 수 있지만, 투명 점착제층이 적합하다. 광학 필름, 편광판, 터치 센서 및 표시 패널의 순으로 배치된 경우는, 광학 필름과 편광판의 사이, 터치 센서와 표시 패널의 사이에 투명 점착층이 위치할 수 있다. 광학 필름, 터치 센서, 편광판 및 표시 패널의 순으로 배치된 경우는, 광학 필름과 터치 센서의 사이, 터치 센서와 편광판, 편광판과 표시 패널의 사이에 투명 점착제층이 위치할 수 있다.Although the said polarizing plate and a touch sensor can be arrange | positioned between an optical film and a display panel with a transparent adhesive layer or a transparent adhesive bond layer, a transparent adhesive layer is suitable. When arrange | positioned in order of an optical film, a polarizing plate, a touch sensor, and a display panel, a transparent adhesive layer may be located between an optical film and a polarizing plate, and between a touch sensor and a display panel. When arrange | positioned in order of an optical film, a touch sensor, a polarizing plate, and a display panel, a transparent adhesive layer may be located between an optical film and a touch sensor, between a touch sensor and a polarizing plate, a polarizing plate, and a display panel.

상기 투명 점착층의 두께는 특별히 한정되지 않고, 예를 들면, 1∼100㎛여도 된다. 당해 투명 점착제층에 있어서, 하부(표시 패널측)의 투명 점착제층의 두께가 상부(광학 필름측)의 투명 점착제층의 두께 이상이고, -20∼80℃에서 점탄성이 0.2MPa 이하인 것이 바람직하다. 그 경우, 터치 센서와 표시 패널간의 간섭에 의해 발생하는 노이즈를 저감할 수 있고, 굴곡 시의 계면 응력을 완화하여 상하부의 다른 기능층의 파괴를 억제할 수 있다. 투명 점착제의 응집 파괴를 억제함과 동시에 계면 응력을 완화시킨다는 면에서, 보다 바람직하게는, 상기 점탄성은 0.01∼0.15MPa여도 된다.The thickness of the said transparent adhesive layer is not specifically limited, For example, 1-100 micrometers may be sufficient. In the said transparent adhesive layer, it is preferable that the thickness of the transparent adhesive layer of a lower part (display panel side) is more than the thickness of the transparent adhesive layer of an upper part (optical film side), and viscoelasticity is 0.2 Mpa or less at -20-80 degreeC. In this case, noise generated by the interference between the touch sensor and the display panel can be reduced, and the interfacial stress during bending can be alleviated to prevent breakage of other functional layers in the upper and lower parts. More preferably, the viscoelasticity may be 0.01 to 0.15 MPa in terms of suppressing cohesive failure of the transparent pressure-sensitive adhesive and at the same time relieving interfacial stress.

<편광판><Polarizing plate>

상기 화상 표시 장치, 특히 플렉시블 표시 장치는, 상기와 같이, 편광판을 구비하고 있어도 된다. 상기 편광판은, 예를 들면, 편광자, 및, 필요에 따라, 지지체, 배향막, 위상차 코팅층, 접착제층, 점착제층 및 보호층으로부터 선택되는 적어도 1개를 포함하고 있어도 된다. 상기 편광판의 두께는 특별히 한정되지 않고, 예를 들면 100㎛ 이하여도 된다. 두께가 100㎛ 이하이면 유연성이 저하하기 어렵다. 상기 범위 내에서, 예를 들면 5∼100㎛여도 된다.The said image display apparatus, especially the flexible display apparatus may be equipped with the polarizing plate as mentioned above. For example, the polarizing plate may include at least one selected from a polarizer and a support, an alignment film, a retardation coating layer, an adhesive layer, an adhesive layer, and a protective layer, as necessary. The thickness of the said polarizing plate is not specifically limited, For example, 100 micrometers or less may be sufficient. If thickness is 100 micrometers or less, flexibility will hardly fall. 5-100 micrometers may be sufficient, for example within the said range.

상기 편광자는, 폴리비닐알코올계 필름을 팽윤, 염색, 가교, 연신, 수세, 건조하는 등의 단계를 포함하는 공정에 의해 제조된 당분야에서 통상 사용되는 필름형 편광자여도 되고, 중합성 액정 및 이색성 염료를 포함하는 편광 코팅층 형성 조성물을 도포하여 형성되는 도포형 편광자(편광 코팅층이라고 하는 경우가 있음)여도 된다. 상기 편광 코팅층(간단히 편광층이라고 하는 경우가 있음)은, 예를 들면, 지지체 상에 배향막 형성 조성물을 도포하고, 배향성을 부여하여 배향막을 형성하고, 상기 배향막 상에 중합성 액정 화합물 및 이색성 염료를 포함하는 편광 코팅층 형성 조성물을 도포하고, 액정 코팅층을 형성함으로써 제조할 수 있다. 이와 같은 편광 코팅층은, 필름형 편광자의 양면에 접착제에 의해 첩부(貼付)된 보호층을 포함하는 편광판에 비해 두께를 얇게 형성할 수 있다. 상기 편광 코팅층의 두께는 0.5∼10㎛, 바람직하게는 2∼4㎛여도 된다.The polarizer may be a film polarizer commonly used in the art prepared by a process including the steps of swelling, dyeing, crosslinking, stretching, washing with water, drying, and the like, and polymerizable liquid crystal and dichroic polyvinyl alcohol-based film. An application type polarizer (sometimes called a polarization coating layer) formed by apply | coating the polarizing coating layer forming composition containing a soluble dye may be sufficient. The polarizing coating layer (sometimes referred to simply as polarizing layer) may, for example, apply an alignment film forming composition on a support, impart orientation to form an alignment film, and form a polymerizable liquid crystal compound and a dichroic dye on the alignment film. It can manufacture by apply | coating the polarizing coating layer forming composition containing and forming a liquid crystal coating layer. Such a polarizing coating layer can form thin thickness compared with the polarizing plate containing the protective layer affixed on both surfaces of a film-type polarizer with an adhesive agent. The thickness of the polarizing coating layer may be 0.5 to 10 µm, preferably 2 to 4 µm.

(배향막)(Alignment film)

상기 배향막은, 배향막 형성 조성물을 도포하여 형성할 수 있다. 배향막 형성 조성물은, 당해 분야에서 통상 사용되는 배향제, 광중합 개시제 및 용제를 포함할 수 있다. 상기 배향제로서는, 당해 분야에서 통상 사용되는 배향제를 특별히 제한 없이 사용할 수 있다. 예를 들면, 폴리아크릴레이트계 고분자, 폴리아믹산, 폴리이미드계 고분자 또는 신나메이트기를 포함하는 고분자를 배향제로서 사용할 수 있고, 광배향을 적용하는 경우에는 신나메이트기를 포함하는 고분자를 사용하는 것이 바람직하다. 용제로서는, 예를 들면 메탄올, 에탄올, 에틸렌글리콜, 이소프로필알코올, 프로필렌글리콜, 메틸셀로솔브, 부틸셀로솔브, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 등의 알코올 용제, 아세트산 에틸, 아세트산 부틸, 에틸렌글리콜메틸에테르아세테이트, γ-부티로락톤, 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 젖산 에틸 등의 에스테르 용제, 아세톤, 메틸에틸케톤, 시클로펜탄온, 시클로헥산온, 메틸아밀케톤, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤 용제, 펜탄, 헥산, 헵탄 등의 지방족 탄화수소 용제, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소 용제, 아세토니트릴 등의 니트릴 용제, 테트라히드로푸란, 디메톡시에탄 등의 에테르 용제, 및, 클로로포름, 클로로벤젠 등의 염소화 탄화수소 용제 등을 들 수 있다. 용제는, 단독 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다.The alignment film can be formed by applying the alignment film forming composition. An alignment film formation composition may contain the alignment agent, photoinitiator, and solvent which are used normally in the said field | area. As the aligning agent, an aligning agent usually used in the art can be used without particular limitation. For example, a polyacrylate-based polymer, a polyamic acid, a polyimide-based polymer, or a polymer containing cinnamate groups can be used as the alignment agent, and when a photoalignment is applied, it is preferable to use a polymer containing cinnamate groups. Do. Examples of the solvent include alcohol solvents such as methanol, ethanol, ethylene glycol, isopropyl alcohol, propylene glycol, methyl cellosolve, butyl cellosolve and propylene glycol monomethyl ether, ethyl acetate, butyl acetate and ethylene glycol methyl ether. Ester solvents such as acetate, γ-butyrolactone, propylene glycol methyl ether acetate, ethyl lactate, ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, methyl amyl ketone, methyl isobutyl ketone, pentane, Aliphatic hydrocarbon solvents such as hexane and heptane, aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene, nitrile solvents such as acetonitrile, ether solvents such as tetrahydrofuran and dimethoxyethane, and chlorinated hydrocarbon solvents such as chloroform and chlorobenzene. Can be mentioned. A solvent can be used individually or in combination of 2 or more types.

상기 배향막 형성 조성물의 도포는, 예를 들면, 스핀 코팅법, 압출 성형법, 딥 코팅, 플로우 코팅, 스프레이 코팅, 롤 코팅, 그라비아 코팅, 마이크로 그라비아 코팅 등을 들 수 있고, 바람직하게는 인라인 코팅 방식을 사용한다. 상기 배향막 형성 조성물이 도포 및 필요에 따라 건조된 후에는 배향 처리를 행한다. 상기 배향 처리는, 당해 분야에 있어서 주지의 다양한 방법을 제한 없이 채용할 수 있고, 바람직하게는, 광배향막화를 사용할 수 있다. 광배향막은 통상, 광반응성기를 갖는 중합체 또는 단량체와 용제를 포함하는 광배향막 형성용 조성물을 지지체에 도포하고, 편광(바람직하게는, 편광 UV)을 조사함으로써 얻어진다. 광배향막은 조사하는 편광의 편광 방향을 선택함으로써, 배향 규제력의 방향을 임의로 제어할 수 있는 점에서, 더 바람직하다.Examples of the coating of the alignment layer forming composition include spin coating, extrusion molding, dip coating, flow coating, spray coating, roll coating, gravure coating, micro gravure coating, and the like. use. After the said alignment film formation composition is apply | coated and dried as needed, an orientation treatment is performed. The above-mentioned orientation treatment can employ | adopt various well-known methods in the said field | area without limitation, Preferably, photo-alignment film formation can be used. A photo-alignment film is obtained by apply | coating the composition for photo-alignment film formation containing the polymer or monomer which has a photoreactive group, and a solvent to a support body normally, and irradiating polarized light (preferably polarized UV). The photo-alignment film is more preferable at the point which can arbitrarily control the direction of the orientation regulation force by selecting the polarization direction of the polarized light to irradiate.

상기 광배향막의 두께는, 통상 10∼10,000㎚, 바람직하게는 10∼1,000㎚, 보다 바람직하게는 10∼500㎚이다. 상기 범위로 하면, 배향 규제력이 충분히 발현된다.The thickness of the photo-alignment film is usually 10 to 10,000 nm, preferably 10 to 1,000 nm, and more preferably 10 to 500 nm. When it is in the said range, an orientation regulation force will fully express.

(편광 코팅층)(Polarization coating layer)

상기 편광 코팅층은, 편광 코팅층 형성 조성물을 도포하여 형성할 수 있다. 구체적으로는, 편광 코팅층 형성 조성물은 이색성 색소에 더하여 호스트 화합물이 되는 1 이상의 중합성 액정(이하, 중합성 액정(B)라고 하는 경우가 있음)을 포함하는 조성물(이하, 조성물 B라고 하는 경우가 있음)이다.The polarizing coating layer may be formed by applying a polarizing coating layer forming composition. Specifically, the polarizing coating layer-forming composition is a composition containing one or more polymerizable liquid crystals (hereinafter, sometimes referred to as polymerizable liquid crystals (B)) which become a host compound in addition to a dichroic dye (hereinafter, referred to as composition B). Is).

「이색성 색소」란, 분자의 장축 방향에 있어서의 흡광도와 단축 방향에 있어서의 흡광도가 상이한 성질을 갖는 색소를 의미한다. 이와 같은 성질을 갖는 것이면, 이색성 색소는 제한이 없고, 염료여도 되고, 안료여도 된다. 2종 이상의 염료를 조합하여 이용해도 되고, 2종 이상의 안료를 조합하여 이용해도 되며, 염료와 안료를 조합하여 이용해도 된다.A "dichroic dye" means the pigment | dye which has the property which the absorbance in the major axis direction of a molecule | numerator differs from the absorbance in a short axis direction. As long as it has such a property, a dichroic dye does not have a restriction | limiting and may be a dye and a pigment may be sufficient as it. Two or more types of dyes may be used in combination, two or more types of pigments may be used in combination, and dyes and pigments may be used in combination.

이색성 색소는, 300∼700㎚의 범위에 극대 흡수 파장(λMAX)을 갖는 것이 바람직하다. 이와 같은 이색성 색소로서는, 아크리딘 색소, 옥사진 색소, 시아닌 색소, 나프탈렌 색소, 아조 색소 및 안트라퀴논 색소를 들 수 있고, 그 중에서도 아조 색소가 바람직하다. 아조 색소로서는, 모노아조 색소, 비스아조 색소, 트리스아조 색소, 테트라키스아조 색소 및 스틸벤아조 색소를 들 수 있고, 비스아조 색소 및 트리스아조 색소가 바람직하다.It is preferable that a dichroic dye has maximum absorption wavelength ((lambda) MAX ) in the range of 300-700 nm. As such a dichroic dye, an acridine pigment, an oxazine pigment, a cyanine pigment, a naphthalene pigment, an azo pigment, and an anthraquinone pigment is mentioned, Especially, an azo pigment is preferable. As an azo dye, a monoazo pigment | dye, a bis azo pigment | dye, a tris azo pigment | dye, a tetrakis azo pigment | dye, and a stilbene azo pigment | dye are mentioned, A bis azo pigment | dye and a tris azo pigment | dye are preferable.

중합성 액정(B)가 나타내는 액정 상태는, 스멕틱상인 것이 바람직하고, 배향 질서도가 보다 높은 편광층을 제조할 수 있다는 점에서, 고차 스멕틱상인 것이 보다 바람직하다. 스멕틱상을 나타내는 중합성 액정(B)를 중합성 스멕틱 액정 화합물이라고 한다. 중합성 액정(B)는 단독, 또는 조합하여 사용할 수 있다. 또한, 2종 이상의 중합성 액정을 조합할 경우는, 적어도 1종이 중합성 액정(B)인 것이 바람직하고, 2종 이상이 중합성 액정(B)인 것이 보다 바람직하다. 이들을 조합함으로써, 액정-결정상 전이 온도 이하의 온도에서도 일시적으로 액정성을 보지할 수 있는 경우가 있다. 중합성 액정(B)는, 예를 들면, Lub et al. Recl. Trav. Chim. Pays-Bas, 115, 321-328(1996) 또는 일본특허 제4719156호 등에 기재된 공지의 방법으로 제조된다. 조성물 B에 있어서의 이색성 색소의 함유량은, 이색성 색소의 종류 등에 따라 적절히 조절할 수 있지만, 중합성 액정(B) 100질량부에 대해 바람직하게는 0.1∼50질량부, 보다 바람직하게는 0.1∼20질량부, 더 바람직하게는 0.1∼10질량부이다. 이색성 색소의 함유량이 상기 범위 내이면, 중합성 액정(B)의 배향을 흩뜨리지 않고 중합시킬 수 있고, 또한 중합성 액정(B)의 배향을 저해하는 경향이 작다.It is preferable that it is a smectic phase, and, as for the liquid crystal state represented by a polymeric liquid crystal (B), it is more preferable that it is a higher order smectic phase from the point which can manufacture a polarizing layer with a higher degree of orientation order. The polymerizable liquid crystal (B) showing a smectic phase is called a polymerizable smectic liquid crystal compound. The polymerizable liquid crystal (B) can be used alone or in combination. Moreover, when combining 2 or more types of polymerizable liquid crystals, it is preferable that at least 1 type is a polymerizable liquid crystal (B), and it is more preferable that 2 or more types are polymerizable liquid crystals (B). By combining these, liquid crystallinity may be temporarily retained even at a temperature below the liquid crystal-crystal phase transition temperature. The polymerizable liquid crystal (B) is, for example, Lub et al. Recl. Trav. Chim. It is manufactured by the well-known method described in Pays-Bas, 115, 321-328 (1996) or Japanese Patent No. 4719156. Although content of the dichroic dye in the composition B can be adjusted suitably according to the kind of dichroic dye, etc., Preferably it is 0.1-50 mass parts with respect to 100 mass parts of polymerizable liquid crystals (B), More preferably, it is 0.1- 20 mass parts, More preferably, it is 0.1-10 mass parts. When content of a dichroic dye is in the said range, it can superpose | polymerize without disperse | distributing the orientation of a polymeric liquid crystal (B), and the tendency which inhibits the orientation of a polymeric liquid crystal (B) is small.

조성물 B는 용제를 포함하는 것이 바람직하다. 일반적으로, 스멕틱 액정 화합물은 점도가 높기 때문에, 용제를 포함하는 조성물은 도포가 용이하고, 결과적으로 편광막을 형성하기 쉽게 하는 경우가 많다. 용제로서는 전술의 배향성 폴리머 조성물에 포함되는 용제와 마찬가지의 것을 들 수 있고, 중합성 액정(B) 및 이색성 색소의 용해성에 따라 적절하게 선택할 수 있다. 용제의 함유량은, 조성물 B의 총량에 대해 바람직하게는 50∼98질량%이다. 환원하면, 조성물 B에 있어서의 고형분은 바람직하게는 2∼50질량%이다.It is preferable that composition B contains a solvent. Generally, since a smectic liquid crystal compound has a high viscosity, the composition containing a solvent is easy to apply | coat, and as a result, it is easy to form a polarizing film in many cases. As a solvent, the thing similar to the solvent contained in the orientation polymer composition mentioned above can be mentioned, It can select suitably according to the solubility of a polymeric liquid crystal (B) and a dichroic dye. Content of a solvent becomes like this. Preferably it is 50-98 mass% with respect to the total amount of the composition B. If it reduces, solid content in the composition B becomes like this. Preferably it is 2-50 mass%.

조성물 B는 1종 이상의 레벨링제를 함유하는 것이 바람직하다. 레벨링제는 조성물 B의 유동성을 조정하여, 조성물 B를 도포함으로써 얻어지는 도포막을 보다 평탄하게 하는 기능을 가지고, 구체적으로는, 계면 활성제를 들 수 있다. 조성물 B가 레벨링제를 함유할 경우, 그 함유량은 중합성 액정 100질량부에 대해, 바람직하게는 0.05∼5질량부, 보다 바람직하게는 0.05∼3질량부이다. 레벨링제의 함유량이 상기 범위 내이면, 중합성 액정을 수평 배향시키는 것이 용이하고, 또한, 얻어지는 편광층이 보다 평활해지는 경향이 있다. 중합성 액정에 대한 레벨링제의 함유량이 상기 범위 내이면, 얻어지는 편광층에 얼룩이 그다지 생기지 않는 경향이 있다.It is preferable that composition B contains at least 1 leveling agent. The leveling agent has a function of adjusting the fluidity of the composition B to make the coating film obtained by applying the composition B more flat, and specifically, a surfactant may be mentioned. When composition B contains a leveling agent, its content becomes like this. Preferably it is 0.05-5 mass parts, More preferably, it is 0.05-3 mass parts with respect to 100 mass parts of polymeric liquid crystals. When content of a leveling agent exists in the said range, it is easy to horizontally align a polymeric liquid crystal, and there exists a tendency for the polarizing layer obtained to become smoother. When content of the leveling agent with respect to a polymerizable liquid crystal exists in the said range, there exists a tendency for a stain to not generate | occur | produce so much in the polarizing layer obtained.

조성물 B는 1종 이상의 중합 개시제를 함유하는 것이 바람직하다. 중합 개시제는 중합성 액정(B)의 중합 반응을 개시할 수 있는 화합물이고, 보다 저온 조건하에 있어서 중합 반응을 개시할 수 있다는 점에서 광중합 개시제가 바람직하다. 구체적으로는 광의 작용에 의해 활성 라디칼 또는 산을 발생할 수 있는 광중합 개시제를 들 수 있고, 그 중에서도 광의 작용에 의해 라디칼을 발생하는 광중합 개시제가 바람직하다. 중합 개시제로서는, 벤조인 화합물, 벤조페논 화합물, 알킬페논 화합물, 아실포스핀옥사이드 화합물, 트리아진 화합물, 요오도늄염 및 술포늄염을 들 수 있다.It is preferable that composition B contains 1 or more types of polymerization initiators. A polymerization initiator is a compound which can start the polymerization reaction of a polymeric liquid crystal (B), and a photoinitiator is preferable at the point which can start a polymerization reaction on lower temperature conditions. Specifically, the photoinitiator which can generate | occur | produce an active radical or an acid by the action of light is mentioned, Especially the photoinitiator which generate | occur | produces a radical by the action of light is preferable. Examples of the polymerization initiator include benzoin compounds, benzophenone compounds, alkylphenone compounds, acylphosphine oxide compounds, triazine compounds, iodonium salts and sulfonium salts.

조성물 B가 중합 개시제를 함유할 경우, 그 함유량은, 그 조성물에 함유되는 중합성 액정의 종류 및 그 양에 따라 적절히 조절할 수 있지만, 중합성 액정 100질량부에 대해, 바람직하게는 0.1∼30질량부, 보다 바람직하게는 0.5∼10질량부, 더 바람직하게는 0.5∼8질량부이다. 중합 개시제의 함유량이 이 범위 내이면, 중합성 액정(B)의 배향을 흩뜨리지 않고 중합시킬 수 있다. 조성물 B가 광중합 개시제를 함유할 경우, 상기 조성물은 광 증감제를 더 함유하고 있어도 된다. 조성물 B가 광중합 개시제 및 광 증감제를 함유할 경우, 그 조성물에 함유되는 중합성 액정의 중합 반응을 보다 촉진할 수 있다. 광 증감제의 사용량은 광중합 개시제 및 중합성 액정의 종류 및 그 양에 따라 적절히 조절할 수 있지만, 중합성 액정 100질량부에 대해, 바람직하게는 0.1∼30질량부, 보다 바람직하게는 0.5∼10질량부, 더 바람직하게는 0.5∼8질량부이다.When composition B contains a polymerization initiator, although the content can be suitably adjusted according to the kind and quantity of the polymeric liquid crystal contained in the composition, It is 0.1-30 mass with respect to 100 mass parts of polymeric liquid crystals preferably. Part, More preferably, it is 0.5-10 mass parts, More preferably, it is 0.5-8 mass parts. When content of a polymerization initiator exists in this range, it can superpose | polymerize without disturbing the orientation of a polymeric liquid crystal (B). When composition B contains a photoinitiator, the said composition may further contain the photosensitizer. When composition B contains a photoinitiator and a photosensitizer, the polymerization reaction of the polymeric liquid crystal contained in this composition can be accelerate | stimulated more. Although the usage-amount of a photosensitizer can be suitably adjusted according to the kind and quantity of a photoinitiator and a polymeric liquid crystal, Preferably it is 0.1-30 mass parts with respect to 100 mass parts of polymeric liquid crystals, More preferably, it is 0.5-10 mass Part, More preferably, it is 0.5-8 mass parts.

중합성 액정의 중합 반응을 보다 안정적으로 진행시키기 위해, 조성물 B는, 적량의 중합 금지제를 함유해도 되고, 이에 의해, 중합성 액정의 중합 반응의 진행 정도를 제어하기 쉬워진다. 조성물 B가 중합 금지제를 함유할 경우, 그 함유량은, 중합성 액정의 종류 및 그 양, 및 광 증감제의 사용량 등에 따라 적절히 조절할 수 있지만, 중합성 액정 100질량부에 대해, 바람직하게는 0.1∼30질량부, 보다 바람직하게는 0.5∼10질량부, 더 바람직하게는 0.5∼8질량부이다. 중합 금지제의 함유량이 이 범위 내이면, 중합성 액정의 배향을 흩뜨리지 않고 중합시킬 수 있다.In order to advance the polymerization reaction of a polymerizable liquid crystal more stably, the composition B may contain a suitable amount of a polymerization inhibitor, and thereby, it becomes easy to control the progress of the polymerization reaction of a polymerizable liquid crystal. When composition B contains a polymerization inhibitor, the content can be suitably adjusted according to the kind and quantity of a polymeric liquid crystal, the usage-amount of a photosensitizer, etc., However, Preferably it is 0.1 with respect to 100 mass parts of polymeric liquid crystals. It is -30 mass parts, More preferably, it is 0.5-10 mass parts, More preferably, it is 0.5-8 mass parts. If content of a polymerization inhibitor is in this range, it can superpose | polymerize without disturbing the orientation of a polymeric liquid crystal.

편광 코팅층은 통상, 편광 코팅층 형성 조성물을 배향 처리가 실시된 지지체 상에 도포하고, 얻어진 도포막 중의 중합성 액정을 중합시킴으로써 형성된다. 상기 편광 코팅층 형성 조성물을 도포하는 방법은 한정되지 않는다. 배향 처리로서는 앞에 예시한 것을 들 수 있다. 편광 코팅층 형성 조성물을 도포하고, 얻어진 도포막 중에 포함되는 중합성 액정이 중합하지 않는 조건에서 용제를 건조 제거함으로써 건조 피막이 형성된다. 건조 방법으로서는, 자연 건조법, 통풍 건조법, 가열 건조 및 감압 건조법을 들 수 있다. 중합성 액정이 중합성 스멕틱 액정 화합물일 경우, 건조 피막에 포함되는 중합성 스멕틱 액정 화합물의 액정 상태를 네마틱상(네마틱 액정 상태)으로 한 후, 스멕틱상으로 전이시키는 것이 바람직하다. 네마틱상을 거쳐 스멕틱상을 형성시키기 위해서는, 예를 들면, 건조 피막에 포함되는 중합성 스멕틱 액정 화합물이 네마틱상의 액정 상태로 상 전이하는 온도 이상으로 건조 피막을 가열하고, 계속해서, 중합성 스멕틱 액정 화합물이 스멕틱상의 액정 상태를 나타내는 온도까지 냉각하는 방법이 채용된다. 계속해서, 건조 피막 중의 중합성 액정의 액정 상태를 스멕틱상으로 한 후, 스멕틱상의 액정 상태를 보지한 채 중합성 액정을 광중합시키는 방법에 대해 설명한다. 광중합에 있어서, 건조 피막에 조사하는 광은, 상기 건조 피막에 포함되는 광중합 개시제의 종류, 중합성 액정의 종류(특히, 중합성 액정이 갖는 광중합기의 종류) 및 그 양에 따라 적절하게 선택할 수 있고, 그 구체예로서는, 가시광, 자외광 및 레이저광으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 활성 에너지선을 들 수 있다. 이들 중, 중합 반응의 진행을 제어하기 쉽다는 점이나 광중합 장치로서 당분야에서 광범위하게 이용되고 있는 것을 사용할 수 있다는 점에서 자외광이 바람직하다. 광중합을 행함으로써, 중합성 액정은, 스멕틱상, 바람직하게는 고차의 스멕틱상의 액정 상태를 보지한 채 중합하여 편광층이 형성된다.A polarizing coating layer is normally formed by apply | coating a polarizing coating layer forming composition on the support body on which the orientation process was performed, and polymerizing the polymerizable liquid crystal in the obtained coating film. The method of apply | coating the said polarizing coating layer forming composition is not limited. Examples of the orientation treatment include those exemplified above. A dry film is formed by apply | coating a polarizing coating layer forming composition and drying-drying a solvent on the conditions which the polymerizable liquid crystal contained in the obtained coating film does not superpose | polymerize. As a drying method, a natural drying method, ventilation drying method, heat drying, and reduced pressure drying method are mentioned. When a polymeric liquid crystal is a polymeric smectic liquid crystal compound, it is preferable to make the liquid crystal state of the polymeric smectic liquid crystal compound contained in a dry film into a nematic phase (nematic liquid crystal state), and then transfer to a smectic phase. In order to form a smectic phase via a nematic phase, for example, the polymerizable smectic liquid crystal compound contained in the dry coating is heated to a temperature above the temperature at which the phase transitions into the liquid crystal state of the nematic phase, and then the polymerizable The method by which the smectic liquid crystal compound is cooled to the temperature which shows the liquid crystal state of a smectic phase is employ | adopted. Subsequently, after making the liquid crystal state of the polymeric liquid crystal in a dry film into a smectic phase, the method of photopolymerizing a polymeric liquid crystal is demonstrated, maintaining the smectic phase liquid crystal state. In photopolymerization, the light irradiated to a dry film can be suitably selected according to the kind of photoinitiator contained in the said dry film, the kind of polymeric liquid crystal (especially the kind of photopolymerizer which a polymeric liquid crystal has), and its quantity. Specific examples thereof include an active energy ray selected from the group consisting of visible light, ultraviolet light and laser light. Among these, ultraviolet light is preferable because it is easy to control the progress of the polymerization reaction, and in that it can be used widely in the art as a photopolymerization apparatus. By performing photopolymerization, the polymerizable liquid crystal is polymerized while maintaining a liquid crystal state of a smectic phase, preferably a higher order smectic phase, thereby forming a polarizing layer.

(위상차 코팅층)(Phase difference coating layer)

상기 편광판은, 위상차 코팅층(간단히 위상차층이라고 하는 경우가 있음)을 포함하고 있어도 된다. 위상차층은, 광학 특성에 따라, λ/2층, λ/4층, 포지티브 C층 등으로 총칭한다. 위상차층은, 예를 들면, 표면에 배향막이 형성된 지지체의 배향막 상에 액정 화합물을 포함하는 위상차층 형성 조성물을 도포하여 액정 코팅층을 형성한 후, 당해 액정 코팅층을, 접착층을 개재하여 편광층과 첩부하고 나서 지지체를 박리함으로써 형성할 수 있지만, 이 방법에 제한되는 것이 아니다. 배향막 및 위상차층이 형성되는 측의 지지체면에는, 배향막을 형성하기 전에 표면 처리를 실시할 수도 있다. 상기 배향막 형성 조성물 및 그 도포 및 건조 방법 등은, 편광 코팅층에서 설명한 것과 마찬가지이다. 위상차층 형성 조성물의 조성은, 이색성 염료를 포함하고 있지 않은 것을 제외하고는, 상기 편광 코팅층에서 설명한 것과 마찬가지이다. 또한, 위상차층 형성 조성물의 도포, 건조 및 경화 방법 등도, 상기 편광 코팅층에서 설명한 것과 마찬가지이다.The polarizing plate may include a phase difference coating layer (sometimes referred to simply as a phase difference layer). The retardation layer is generically referred to as λ / 2 layer, λ / 4 layer, positive C layer, or the like depending on the optical characteristics. The retardation layer is, for example, after applying the retardation layer forming composition containing a liquid crystal compound on the alignment film of the support having the alignment film formed on the surface to form a liquid crystal coating layer, the liquid crystal coating layer is affixed to the polarizing layer via the adhesive layer. Although it can form by peeling a support body after doing this, it is not limited to this method. The surface of the support on the side where the alignment film and the retardation layer are formed may be subjected to surface treatment before the alignment film is formed. The said orientation film formation composition, its application | coating, drying method, etc. are the same as what was demonstrated by the polarizing coating layer. The composition of the retardation layer forming composition is the same as that described in the polarizing coating layer, except that the dichroic dye is not included. Moreover, the application | coating, drying, hardening method, etc. of retardation layer forming composition are also the same as what was demonstrated by the said polarizing coating layer.

위상차층의 두께는, 바람직하게는 0.5∼10㎛, 보다 바람직하게는 1∼4㎛여도 된다.The thickness of the retardation layer is preferably 0.5 to 10 µm, more preferably 1 to 4 µm.

본 발명의 일 실시 형태에 있어서, 위상차층은, 그 두께, 중합성 액정 화합물의 배향 상태 등에 따라 광학 특성을 조절할 수 있다. 구체적으로, 위상차층의 두께를 조절함으로써, 원하는 면 내 위상차를 부여하는 위상차층을 제작할 수 있다. 면 내 위상차값(면 내 리타데이션값, Re)은, 수식(1)로 정의되는 값이고, 원하는 Re를 얻기 위해서는, Δn과 두께(d)를 조절하면 된다.In one Embodiment of this invention, a retardation layer can adjust an optical characteristic according to the thickness, the orientation state of a polymeric liquid crystal compound, etc. Specifically, by adjusting the thickness of the retardation layer, a retardation layer that gives a desired in-plane retardation can be produced. The in-plane retardation value (in-plane retardation value, Re) is a value defined by Formula (1), and what is necessary is just to adjust (DELTA) n and thickness d to obtain desired Re.

Re=d×Δn(λ)···수식(1) (여기서 Δn=nx-ny)Re = d × Δn (λ) ... (1) (where Δn = nx-ny)

(수식(1) 중, Re는 위상차층의 면 내 위상차값을 나타내고, d는 위상차층의 두께를 나타내며, Δn은 위상차층의 복굴절률을 나타낸다. 중합성 액정 화합물의 배향에 의해 형성되는 굴절률 타원체를 고려할 경우, 3방향의 굴절률, 즉, nx, ny 및 nz를 다음과 같이 정의한다. nx는 위상차층이 형성하는 굴절률 타원체에 있어서의 당해 위상차층 평면에 대해 평행한 방향의 주굴절률을 나타낸다. ny는 위상차층이 형성하는 굴절률 타원체에 있어서의 당해 위상차층 평면에 대해 평행하고, nx의 방향에 대해 직교하는 방향의 굴절률을 나타낸다. nz는 위상차층이 형성하는 굴절률 타원체에 있어서의 당해 위상차층 평면에 대해 수직한 방향의 굴절률을 나타낸다. 위상차층이 λ/4층일 경우, 면 내 위상차값(Re(550))은, 통상 113∼163㎚의 범위, 바람직하게는 130∼150㎚의 범위이다. 위상차층이 λ/4층일 경우, Re(550)은, 통상 250∼300㎚의 범위이다.(In Formula (1), Re represents the in-plane retardation value of the retardation layer, d represents the thickness of the retardation layer, and Δn represents the birefringence of the retardation layer.) An index ellipsoid formed by the orientation of the polymerizable liquid crystal compound. In consideration of the above, the refractive indices in three directions, that is, nx, ny, and nz are defined as follows: nx denotes a main refractive index in a direction parallel to the plane of the phase difference layer in the refractive index ellipsoid formed by the phase difference layer. ny represents the refractive index of the direction parallel to the said retardation layer plane in the refractive index ellipsoid which a retardation layer forms, and orthogonal to the direction of nx.nz is the said retardation layer plane in the refractive index ellipsoid which a retardation layer forms. When the phase difference layer is λ / 4 layer, the in-plane retardation value Re (550) is usually in the range of 113 to 163 nm, preferably 130 to 150 nm. The above. When the retardation layer is a λ / 4 layer, Re (550) is in the range of usually 250~300㎚.

또한, 중합성 액정 화합물의 배향 상태에 따라, 두께 방향의 위상차를 발현하는 위상차층을 제작할 수 있다. 두께 방향의 위상차를 발현한다는 것은, 수식(2)에서 두께 방향의 위상차값(Rth)이 음이 되는 특성을 나타내는 것이다.Moreover, the phase difference layer which expresses the phase difference of the thickness direction can be produced according to the orientation state of a polymeric liquid crystal compound. Expressing the phase difference in the thickness direction indicates a characteristic in which the phase difference value Rth in the thickness direction becomes negative in Equation (2).

Rth=[(nx+ny)/2-nz]×d···수식(2)Rth = [(nx + ny) / 2-nz] × d ... (2)

(수식(2) 중, nx, ny, nz 및 d는, 전술의 정의와 동일하다)(In formula (2), nx, ny, nz, and d are the same as the definition of the above.)

포지티브 C층의 면 내 위상차값(Re(550))은, 통상 0∼10㎚의 범위, 바람직하게는 0∼5㎚의 범위이고, 두께 방향의 위상차값(Rth)은, 통상 -10∼-300㎚의 범위, 바람직하게는 -20∼-200㎚의 범위이다. 편광판은, 2 이상의 위상차층을 갖고 있어도 되고, 위상차층을 2층 갖는 경우는, 제 1 위상차층은 원편광을 만들기 위한 λ/4층이며, 제 2 위상차층은 비스듬히 본 색조을 개선하기 위한 포지티브 C층이어도 된다. 또한, 제 1 위상차층은 비스듬히 본 색조를 개선하기 위한 포지티브 C층이고, 제 2 위상차층은 원편광을 만들기 위한 λ/4층이어도 된다.The in-plane retardation value Re (550) of the positive C layer is usually in the range of 0 to 10 nm, preferably in the range of 0 to 5 nm, and the phase difference value Rth in the thickness direction is usually -10 to-. It is the range of 300 nm, Preferably it is the range of -20-200 nm. The polarizing plate may have two or more retardation layers, and when it has two retardation layers, a 1st retardation layer is (lambda) / 4 layer for making circularly polarized light, and a 2nd retardation layer is positive C for improving the hue seen obliquely. It may be a layer. Further, the first retardation layer may be a positive C layer for improving the color tone seen at an angle, and the second retardation layer may be a λ / 4 layer for producing circularly polarized light.

(접착제층 및 점착제층)(Adhesive Layer and Adhesive Layer)

상기 편광판은 접착제층 및/또는 점착제층을 포함하고 있어도 된다. 본 발명의 일 실시 형태에 있어서, 편광 코팅층과 제 1 위상차층, 또는 제 1 위상차층과 제 2 위상차층은, 점착제 또는 접착제를 개재하여 첩합할 수 있다. 접착제층을 형성하는 접착제로서는, 수계 접착제, 활성 에너지선 경화성 접착제 또는 열경화성 접착제를 이용할 수 있고, 바람직하게는 수계 접착제, 활성 에너지선 경화성 접착제이다. 점착제층으로서는 후술의 것을 사용할 수 있다.The polarizing plate may include an adhesive layer and / or an adhesive layer. In one Embodiment of this invention, a polarizing coating layer and a 1st phase difference layer, or a 1st phase difference layer and a 2nd phase difference layer can be bonded together via an adhesive or an adhesive agent. As an adhesive agent which forms an adhesive bond layer, an aqueous adhesive agent, an active energy ray curable adhesive agent, or a thermosetting adhesive agent can be used, Preferably it is an aqueous adhesive agent and an active energy ray curable adhesive agent. As an adhesive layer, the thing mentioned later can be used.

수계 접착제로서는, 폴리비닐알코올계 수지 수용액으로 이루어지는 접착제, 수계 이액형 우레탄계 에멀션 접착제 등을 들 수 있다. 그 중에서도 폴리비닐알코올계 수지 수용액으로 이루어지는 수계 접착제가 적합하게 이용된다. 폴리비닐알코올계 수지로서는, 아세트산 비닐의 단독 중합체인 폴리아세트산 비닐을 비누화 처리하여 얻어지는 비닐알콜호모폴리머 외에, 아세트산 비닐과 이에 공중합 가능한 다른 단량체와의 공중합체를 비누화 처리하여 얻어지는 폴리비닐알코올계 공중합체, 또는 그들의 수산기를 부분적으로 변성한 변성 폴리비닐알코올계 중합체 등을 이용할 수 있다. 수계 접착제는, 알데히드 화합물(글리옥살 등), 에폭시 화합물, 멜라민계 화합물, 메틸올 화합물, 이소시아네이트 화합물, 아민 화합물, 다가 금속염 등의 가교제를 포함할 수 있다.As an aqueous adhesive agent, the adhesive agent which consists of polyvinyl alcohol-type resin aqueous solution, an aqueous two-component urethane emulsion adhesive, etc. are mentioned. Especially, the aqueous adhesive which consists of aqueous solution of polyvinyl alcohol-type resin is used suitably. As polyvinyl alcohol-type resin, the polyvinyl alcohol-type copolymer obtained by saponifying the copolymer of vinyl acetate and the other monomer copolymerizable with this besides the vinyl alcohol homopolymer obtained by saponifying the polyvinyl acetate which is a homopolymer of vinyl acetate. Or modified polyvinyl alcohol polymers obtained by partially modifying their hydroxyl groups. The aqueous adhesive may include a crosslinking agent such as an aldehyde compound (glyoxal, etc.), an epoxy compound, a melamine compound, a methylol compound, an isocyanate compound, an amine compound, a polyvalent metal salt, and the like.

수계 접착제를 사용하는 경우에는, 코팅층을 첩합한 후, 수계 접착제 중에 포함되는 물을 제거하기 위한 건조 공정을 실시하는 것이 바람직하다.When using an aqueous adhesive agent, after bonding a coating layer, it is preferable to perform the drying process for removing the water contained in an aqueous adhesive agent.

상기 활성 에너지선 경화성 접착제란, 자외선, 가시광, 전자선, X선과 같은 활성 에너지선의 조사에 의해 경화하는 경화성 화합물을 함유하는 접착제이며, 바람직하게는 자외선 경화성 접착제이다.The said active energy ray curable adhesive agent is an adhesive agent containing the curable compound hardened | cured by irradiation of active energy rays, such as an ultraviolet-ray, visible light, an electron beam, and an X-ray, Preferably it is an ultraviolet curable adhesive agent.

상기 경화성 화합물은, 카티온 중합성의 경화성 화합물이나 라디칼 중합성의 경화성 화합물일 수 있다. 카티온 중합성의 경화성 화합물로서는, 예를 들면, 에폭시계 화합물(분자 내에 1개 또는 2개 이상의 에폭시기를 갖는 화합물)이나, 옥세탄계 화합물(분자 내에 1개 또는 2개 이상의 옥세탄환를 갖는 화합물), 또는 이들의 조합을 들 수 있다. 라디칼 중합성의 경화성 화합물로서는, 예를 들면, (메타)아크릴계 화합물(분자 내에 1개 또는 2개 이상의 (메타)아크릴로일옥시기를 갖는 화합물)이나, 라디칼 중합성의 이중 결합을 갖는 기타의 비닐계 화합물, 또는 이들의 조합을 들 수 있다. 카티온 중합성의 경화성 화합물과 라디칼 중합성의 경화성 화합물을 병용해도 된다. 활성 에너지선 경화성 접착제는 통상, 상기 경화성 화합물의 경화 반응을 개시시키기 위한 카티온 중합 개시제 및/또는 라디칼 중합 개시제를 더 포함한다.The curable compound may be a cation polymerizable curable compound or a radical polymerizable curable compound. As a cationic polymerizable curable compound, For example, an epoxy type compound (compound which has 1 or 2 or more epoxy groups in a molecule), an oxetane type compound (compound which has 1 or 2 or more oxetane rings in a molecule), or A combination of these. As a radically polymerizable curable compound, it is a (meth) acrylic-type compound (compound which has 1 or 2 or more (meth) acryloyloxy groups in a molecule | numerator), or other vinyl type compound which has a radically polymerizable double bond, for example. Or a combination thereof. You may use together a cationically polymerizable curable compound and a radically polymerizable curable compound. The active energy ray curable adhesive usually further contains a cationic polymerization initiator and / or a radical polymerization initiator for initiating the curing reaction of the curable compound.

코팅층을 첩합함에 있어서는, 접착성을 높이기 위해, 접착하는 면의 적어도 어느 일방의 첩합면에 표면 활성화 처리를 실시해도 된다. 표면 활성화 처리로서는, 코로나 처리, 플라즈마 처리, 방전 처리(글로 방전 처리 등), 화염 처리, 오존 처리, UV 오존 처리, 전리(電離) 활성선 처리(자외선 처리, 전자선 처리 등)와 같은 건식 처리; 물이나 아세톤 등의 용매를 이용한 초음파 처리, 비누화 처리, 앵커 코팅 처리와 같은 습식 처리를 들 수 있다. 이러한 표면 활성화 처리는, 단독으로 행해도 되고, 2개 이상을 조합해도 된다.In bonding a coating layer, in order to improve adhesiveness, you may surface-treat at least any one bonding surface of the surface to adhere | attach. As the surface activation treatment, dry treatment such as corona treatment, plasma treatment, discharge treatment (glow discharge treatment, etc.), flame treatment, ozone treatment, UV ozone treatment, ionizing active line treatment (ultraviolet treatment, electron beam treatment, etc.); And wet treatments such as ultrasonic treatment using a solvent such as water or acetone, saponification treatment, and anchor coating treatment. These surface activation processes may be performed independently, or may combine 2 or more.

상기 접착층의 두께는, 그 접착력에 따라 조절할 수 있고, 바람직하게는 0.1∼10㎛, 보다 바람직하게는 1∼5㎛여도 된다. 본 발명의 일 실시 형태에 있어서, 상기 접착층이 복수 개 사용되는 구성의 경우, 동일한 재료로 또는 상이한 재료로 제조할 수 있고, 동일한 두께 또는 상이한 두께를 가질 수 있다.The thickness of the said adhesive layer can be adjusted according to the adhesive force, Preferably it is 0.1-10 micrometers, More preferably, it may be 1-5 micrometers. In one embodiment of the present invention, in the case of a configuration in which a plurality of the adhesive layers are used, they may be made of the same material or of different materials, and may have the same thickness or different thicknesses.

점착제층은, (메타)아크릴계 수지, 고무계 수지, 폴리우레탄계 수지, 폴리에스테르계 수지, 실리콘계 수지, 폴리비닐에테르계 수지와 같은 수지를 주성분으로 하는 점착제 조성물로 구성할 수 있다. 그 중에서도, 투명성, 내후성, 내열성 등이 우수한 폴리에스테르계 수지 또는 (메타)아크릴계 수지를 베이스 폴리머로 하는 점착제 조성물이 적합하다. 점착제 조성물은, 활성 에너지선 경화형, 열경화형이어도 된다.An adhesive layer can be comprised by the adhesive composition which has resin, such as (meth) acrylic-type resin, rubber type resin, polyurethane type resin, polyester type resin, silicone type resin, and polyvinyl ether type resin as a main component. Especially, the adhesive composition which uses polyester resin or (meth) acrylic-type resin which is excellent in transparency, weather resistance, heat resistance, etc. as a base polymer is suitable. An active energy ray hardening type and a thermosetting type may be sufficient as an adhesive composition.

본 발명에서 사용하는 점착제 수지로서는, 통상, 중량 평균 분자량이 30만∼400만의 범위인 것이 이용된다. 내구성, 특히 내열성을 고려하면, 당해 점착제의 중량 평균 분자량은, 바람직하게는 50만∼300만, 보다 바람직하게는 65만∼200만이다. 중량 평균 분자량이 30만보다 크면, 내열성의 점에서 바람직하고, 중량 평균 분자량이 400만보다 작으면 첩합성, 접착력이 저하하는 점에서도 바람직하다. 또한, 중량 평균 분자량은, GPC(겔·퍼미에이션·크로마토그래피)에 의해 측정하고, 폴리스티렌 환산에 의해 산출된 값을 말한다.As adhesive resin used by this invention, the thing of the range of 300,000-4 million in weight average molecular weight is used normally. When durability, especially heat resistance are considered, the weight average molecular weight of the said adhesive becomes like this. Preferably it is 500,000-3 million, More preferably, it is 650,000-2 million. When a weight average molecular weight is larger than 300,000, it is preferable at the point of heat resistance, and when a weight average molecular weight is smaller than 4 million, it is also preferable at the point where adhesiveness and adhesive force fall. In addition, a weight average molecular weight is measured by GPC (gel permeation chromatography) and says the value computed by polystyrene conversion.

또한, 점착제 조성물에는, 가교제를 함유할 수 있다. 가교제로서는, 유기계 가교제나 다관능성 금속 킬레이트를 이용할 수 있다. 유기계 가교제로서는, 이소시아네이트계 가교제, 과산화물계 가교제, 에폭시계 가교제, 이민계 가교제 등을 들 수 있다. 다관능성 금속 킬레이트는, 다가 금속이 유기 화합물과 공유 결합 또는 배위 결합하고 있는 것이다. 다가 금속 원자로서는, Al, Cr, Zr, Co, Cu, Fe, Ni, V, Zn, In, Ca, Mg, Mn, Y, Ce, Sr, Ba, Mo, La, Sn, Ti 등을 들 수 있다. 공유 결합 또는 배위 결합하는 유기 화합물 중의 원자로서는 산소 원자 등을 들 수 있고, 유기 화합물로서는 알킬에스테르, 알코올 화합물, 카르본산 화합물, 에테르 화합물, 케톤 화합물 등을 들 수 있다.Moreover, a crosslinking agent can be contained in an adhesive composition. As a crosslinking agent, an organic type crosslinking agent and a polyfunctional metal chelate can be used. As an organic type crosslinking agent, an isocyanate type crosslinking agent, a peroxide type crosslinking agent, an epoxy type crosslinking agent, an imine type crosslinking agent, etc. are mentioned. A polyfunctional metal chelate is a thing in which a polyvalent metal is covalently bonded or coordinated with an organic compound. Examples of the polyvalent metal atoms include Al, Cr, Zr, Co, Cu, Fe, Ni, V, Zn, In, Ca, Mg, Mn, Y, Ce, Sr, Ba, Mo, La, Sn, Ti, and the like. have. Examples of the atoms in the organic compound to be covalently bonded or coordinated include oxygen atoms and the like, and examples of the organic compound include alkyl esters, alcohol compounds, carboxylic acid compounds, ether compounds, ketone compounds, and the like.

가교제를 함유할 경우, 그 함유량은, 점착제 수지 100질량부에 대해, 바람직하게는 0.01∼20질량부, 보다 바람직하게는 0.03∼10질량부이다. 또한, 가교제가 0.01질량부를 넘으면, 점착제층의 응집력이 부족하지 않은 경향이 있고, 가열 시에 발포가 생길 우려가 적으며, 반면, 20질량부보다 적으면, 내습성이 충분하고, 신뢰성 시험 등에서 박리가 생기기 어려워진다.When it contains a crosslinking agent, the content becomes like this. Preferably it is 0.01-20 mass parts with respect to 100 mass parts of adhesive resin, More preferably, it is 0.03-10 mass parts. If the crosslinking agent is more than 0.01 parts by mass, the cohesion force of the pressure-sensitive adhesive layer tends not to be insufficient, and there is little possibility that foaming occurs during heating. On the other hand, if it is less than 20 parts by mass, the moisture resistance is sufficient, Peeling becomes difficult to occur.

점착제 조성물은, 첨가제로서, 실란 커플링제를 배합하는 것이 바람직하다. 실란 커플링제로서는, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란 등의 에폭시 구조를 갖는 규소 화합물; 3-아미노프로필트리메톡시실란, N-(2-아미노에틸)3-아미노프로필트리메톡시실란, N-(2-아미노에틸)3-아미노프로필메틸디메톡시실란 등의 아미노기 함유 규소 화합물; 3-클로로프로필트리메톡시실란; 아세토아세틸기 함유 트리메톡시실란, 3-아크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리에톡시실란 등의 (메타)아크릴기 함유 실란 커플링제; 3-이소시아네이토프로필트리에톡시실란 등의 이소시아네이트기 함유 실란 커플링제 등을 들 수 있다. 실란 커플링제는, 내구성, 특히 가습 환경하에서 박리를 억제하는 효과를 부여할 수 있다. 실란 커플링제의 사용량은, 점착제 수지 100질량부에 대해, 바람직하게는 1질량부 이하, 보다 바람직하게는 0.01∼1질량부, 더 바람직하게는 0.02∼0.6질량부이다.It is preferable that an adhesive composition mix | blends a silane coupling agent as an additive. Examples of the silane coupling agent include silicon having an epoxy structure such as 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, and the like. compound; Amino group-containing silicon compounds such as 3-aminopropyltrimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) 3-aminopropyltrimethoxysilane and N- (2-aminoethyl) 3-aminopropylmethyldimethoxysilane; 3-chloropropyltrimethoxysilane; (Meth) acryl group containing silane coupling agents, such as acetoacetyl group containing trimethoxysilane, 3-acryloxypropyl trimethoxysilane, and 3-methacryloxypropyl triethoxysilane; Isocyanate group containing silane coupling agents, such as 3-isocyanatopropyl triethoxysilane, etc. are mentioned. A silane coupling agent can provide the effect which suppresses peeling in durability, especially a humidification environment. The usage-amount of a silane coupling agent is 1 mass part or less with respect to 100 mass parts of adhesive resins, More preferably, it is 0.01-1 mass part, More preferably, it is 0.02-0.6 mass part.

또한, 점착제 조성물은, 기타 공지의 첨가제를 함유하고 있어도 되고, 예를 들면, 점착제 조성물에, 착색제, 안료 등의 분체, 염료, 계면 활성제, 가소제, 점착성 부여제, 표면 윤활제, 레벨링제, 연화제, 산화 방지제, 노화 방지제, 광 안정제, 자외선 흡수제, 중합 금지제, 무기 또는 유기의 충전제, 금속 분말, 입자 형상, 박 형상물 등을, 사용하는 용도에 따라 적절히 첨가할 수 있다. 또한, 제어할 수 있는 범위 내에서, 환원제를 첨가한 레독스계를 채용해도 된다.Moreover, the adhesive composition may contain other well-known additives, For example, in an adhesive composition, powder, such as a coloring agent and a pigment, dye, surfactant, a plasticizer, a tackifier, a surface lubricant, a leveling agent, a softener, Antioxidants, antioxidants, light stabilizers, ultraviolet absorbers, polymerization inhibitors, inorganic or organic fillers, metal powders, particulates, foils, and the like can be appropriately added depending on the application to be used. Moreover, you may employ | adopt the redox system which added the reducing agent within the range which can be controlled.

점착제층의 두께는, 특별히 제한되지 않고, 예를 들면, 1∼100㎛ 정도, 바람직하게는 2∼50㎛, 보다 바람직하게는 3∼30㎛이다.The thickness of an adhesive layer is not specifically limited, For example, about 1-100 micrometers, Preferably it is 2-50 micrometers, More preferably, it is 3-30 micrometers.

(보호층)(Protective layer)

상기 편광판은, 보호층을 포함하고 있어도 된다. 본 발명의 일 실시 형태에 있어서, 편광판은 적어도 1 이상의 보호층을 갖는 형태여도 되고, 편광판을 이루고 있는 편광자의 일면, 또는 편광자가 위상차층을 갖는 경우에는, 위상차층의 편광자와 반대의 면에 위치할 수 있다.The polarizing plate may include a protective layer. In one embodiment of the present invention, the polarizing plate may be in the form of at least one protective layer, and is located on one surface of the polarizer constituting the polarizing plate or on the surface opposite to the polarizer of the phase difference layer when the polarizer has a phase difference layer. can do.

보호층으로서는, 투명성, 기계적 강도, 열 안정성, 수분 차폐성, 등방성 등이 우수한 필름이라면 특별히 제한은 없다. 구체적으로, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌이소프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트 등의 폴리에스테르계 필름; 디아세틸셀룰로오스, 트리아세틸셀룰로오스 등의 셀룰로오스계 필름; 폴리카보네이트계 필름; 폴리메틸(메타)아크릴레이트, 폴리에틸(메타)아크릴레이트 등의 아크릴계 필름; 폴리스티렌, 아크릴로니트릴-스티렌 공중합체 등의 스티렌계 필름; 시클로올레핀, 시클로올레핀 공중합체, 폴리노르보르넨, 폴리프로필렌, 폴리에틸렌, 에틸렌프로필렌 공중합체 등의 폴리올레핀계 필름; 염화비닐계 필름; 나일론, 방향족 폴리아미드 등의 폴리아미드계 필름; 이미드계 필름; 술폰계 필름; 폴리에테르케톤계 필름; 황화폴리페닐렌계 필름; 비닐알콜계 필름; 염화비닐리덴계 필름; 비닐부티랄계 필름; 아릴레이트계 필름; 폴리옥시메틸렌계 필름; 우레탄계 필름; 에폭시계 필름; 실리콘계 필름 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 특히 알칼리 등에 의해 비누화된 표면을 갖는 셀룰로오스계 필름이 편광 특성 또는 내구성을 고려하면 바람직하다. 또한, 보호층은 위상차 기능과 같은 광학 보상 기능을 겸비한 것이어도 된다.There is no restriction | limiting in particular as a protective layer as long as it is a film excellent in transparency, mechanical strength, thermal stability, moisture shielding, isotropy, etc. Specifically, polyester-based films such as polyethylene terephthalate, polyethylene isophthalate, polybutylene terephthalate; Cellulose films such as diacetyl cellulose and triacetyl cellulose; Polycarbonate film; Acrylic films such as polymethyl (meth) acrylate and polyethyl (meth) acrylate; Styrene films such as polystyrene and acrylonitrile-styrene copolymers; Polyolefin-based films such as cycloolefin, cycloolefin copolymer, polynorbornene, polypropylene, polyethylene, and ethylene propylene copolymer; Vinyl chloride film; Polyamide-based films such as nylon and aromatic polyamide; Imide film; Sulfone film; Polyether ketone film; Polyphenylene sulfide films; Vinyl alcohol film; Vinylidene chloride-based film; Vinyl butyral film; Arylate film; Polyoxymethylene film; Urethane film; Epoxy film; Silicone film etc. are mentioned. Among these, especially the cellulose type film which has the surface saponified by alkali etc. is preferable in consideration of polarization characteristic or durability. The protective layer may also have an optical compensation function such as a phase difference function.

상기 보호층은, 상기 편광자 또는 상기 위상차 코팅층과 접착되는 면에 접착력 향상을 위한 이접착 처리가 실시된 것이어도 된다. 이접착 처리는, 접착력을 향상시킬 수 있는 것이라면 특별히 한정되지 않고, 예를 들면, 프라이머 처리, 플라즈마 처리, 코로나 처리 등의 드라이 처리; 알칼리 처리(비누화 처리) 등의 화학 처리; 저압 UV 처리 등을 들 수 있다.The protective layer may have been subjected to an easy-adhesion process for improving adhesion to the surface to be bonded to the polarizer or the retardation coating layer. The easily-adhesive treatment is not particularly limited as long as it can improve the adhesive strength, and examples thereof include dry treatments such as primer treatment, plasma treatment and corona treatment; Chemical treatments such as alkali treatment (saponification treatment); Low pressure UV treatment; and the like.

<터치 센서><Touch sensor>

상기 화상 표시 장치, 특히 플렉시블 표시 장치는, 상기와 같이, 터치 센서를 구비하고 있어도 된다. 터치 센서는, 지지체, 지지체 상에 마련된 하부 전극, 하부 전극에 대향하는 상부 전극, 하부 전극과 상부 전극에 협지된 절연층을 가진다.The image display device, particularly the flexible display device, may be provided with a touch sensor as described above. The touch sensor has a support, a lower electrode provided on the support, an upper electrode facing the lower electrode, an insulating layer sandwiched between the lower electrode and the upper electrode.

지지체는, 광 투과성을 갖는 가요성의 수지 필름이면, 다양한 것을 채용할 수 있다.The support body can employ | adopt various things, if it is a flexible resin film which has light transmittance.

하부 전극은, 예를 들면 평면에서 볼 때 정방 형상의 복수의 소전극을 가진다. 복수의 소전극은, 매트릭스 형상으로 배열하고 있다.The lower electrode has, for example, a plurality of small electrodes having a square shape in plan view. The plurality of small electrodes are arranged in a matrix.

또한, 복수의 소전극은, 소전극의 일방의 대각선 방향으로 이웃하는 소전극끼리 접속되고, 복수의 전극열을 형성하고 있다. 복수의 전극열은, 단부에서 서로 접속되고, 이웃하는 전극열간의 전기 용량을 검출 가능하게 되어 있다.Further, the plurality of small electrodes are connected to adjacent small electrodes in one diagonal direction of the small electrode to form a plurality of electrode strings. The plurality of electrode strings are connected to each other at the end, and the capacitance between adjacent electrode strings can be detected.

상부 전극은, 예를 들면, 평면에서 볼 때 정방 형상의 복수의 소전극을 가진다. 복수의 소전극은, 평면에서 볼 때 하부 전극이 배치되어 있지 않은 위치에, 상보적으로 매트릭스 형상으로 배열하고 있다. 즉, 상부 전극과 하부 전극은, 평면에서 볼 때 간극 없이 배치되어 있다.The upper electrode has, for example, a plurality of small electrodes of square shape in plan view. The plurality of small electrodes are complementarily arranged in a matrix at positions where the lower electrodes are not arranged in plan view. That is, the upper electrode and the lower electrode are arranged without a gap in plan view.

또한, 복수의 소전극은, 소전극의 타방의 대각선 방향으로 이웃하는 소전극끼리 접속되고, 복수의 전극열을 형성하고 있다. 복수의 전극열은, 단부에서 서로 접속되고, 이웃하는 전극열간의 전기 용량을 검출 가능하게 되어 있다.Further, the plurality of small electrodes are connected to neighboring small electrodes in the other diagonal direction of the small electrode to form a plurality of electrode strings. The plurality of electrode strings are connected to each other at the end, and the capacitance between adjacent electrode strings can be detected.

절연층은, 하부 전극과 상부 전극을 절연하고 있다. 절연층의 형성 재료는, 터치 센서의 절연층의 재료로서 통상 알려진 재료를 사용 가능하다.The insulating layer insulates the lower electrode and the upper electrode. As a material for forming the insulating layer, a material commonly known as a material for the insulating layer of the touch sensor can be used.

또한, 본 실시 형태에 있어서는, 터치 센서가, 소위 투영형 정전 용량 방식의 터치 센서인 것으로 하여 설명했지만, 발명의 효과를 손상하지 않는 범위에 있어서, 막 저항 방식 등, 다른 방식의 터치 센서를 채용할 수도 있다.In addition, in this embodiment, although the touch sensor was demonstrated as what is called a projected capacitive touch sensor, in the range which does not impair the effect of this invention, the touch sensor of another system, such as a membrane resistance method, is employ | adopted. You may.

<차광 패턴><Shading Pattern>

상기 차광 패턴은 광학 필름 또는 광학 필름이 적용되는 표시 장치의 베젤 또는 하우징의 적어도 일부여도 된다. 예를 들면, 차광 패턴에 의해 상기 표시 장치의 각 배선이 숨겨져 사용자에게 시인되지 않는 경우가 있다. 차광 패턴의 컬러 및/또는 재질은 특별히 제한되는 경우는 없고, 흑색, 백색, 금색 등의 다양한 컬러를 갖는 수지 물질로 형성할 수 있다. 예를 들면, 차광 패턴은 컬러를 구현하기 위한 안료를 혼합하고 있는 아크릴계 수지, 에스테르계 수지, 에폭시계 수지, 폴리우레탄, 실리콘 등의 수지 물질로 형성할 수 있다. 상기 차광 패턴의 재질 및 두께는 광학 필름 또는 표시 장치의 보호 및 플렉시블 특성을 고려하여 결정할 수 있다. 또한, 이들의 단독 또는 2종류 이상의 혼합물로 사용할 수도 있다.The light blocking pattern may be at least a portion of a bezel or a housing of a display device to which an optical film or an optical film is applied. For example, the wiring of the display device may be hidden by the light shielding pattern and may not be visually recognized by the user. The color and / or material of the light shielding pattern is not particularly limited, and may be formed of a resin material having various colors such as black, white, and gold. For example, the light shielding pattern may be formed of a resin material such as an acrylic resin, an ester resin, an epoxy resin, polyurethane, silicone, etc., in which a pigment for realizing color is mixed. The material and thickness of the light blocking pattern may be determined in consideration of the protective and flexible characteristics of the optical film or the display device. Moreover, these can also be used individually or in mixture of 2 or more types.

[실시예]EXAMPLE

<중량 평균 분자량(Mw)의 측정><Measurement of weight average molecular weight (Mw)>

겔 침투 크로마토그래피(GPC) 측정Gel Permeation Chromatography (GPC) Measurement

(1) 전처리 방법(1) pretreatment method

폴리아미드이미드 : DMF 용리액(10㎜ol/L 브롬화 리튬 용액)을 농도 2mg/mL가 되도록 첨가하여, 80℃에서 30분간 교반하면서 가열하고, 냉각 후, 0.45㎛ 멤브레인 필터 여과한 것을 측정 용액으로 했다.Polyamideimide: A DMF eluent (10 mmol / L lithium bromide solution) was added to a concentration of 2 mg / mL, heated at 80 ° C. for 30 minutes with stirring, and cooled, followed by 0.45 μm membrane filter filtration to give a measurement solution. .

(2) 측정 조건(2) measurement conditions

칼럼 : 토소(주)제 TSKgel α-2500((7)7.8㎜ 직경×300㎜)×1개, α-M((13)7.8㎜ 직경×300㎜)×2개Column: TSKgel α-2500 ((7) 7.8mm diameter x 300mm) * 1 made by Tosoh Corporation, α-M ((13) 7.8mm diameter x 300mm) * 2 pieces

용리액 : DMF(10㎜ol/L의 브롬화 리튬 첨가)Eluent: DMF (10 mmol / L lithium bromide added)

유량 : 1.0mL/분Flow rate: 1.0 mL / min

검출기 : RI 검출기Detector: RI detector

칼럼 온도 : 40℃Column temperature: 40 ℃

주입량 : 100μLInjection volume: 100μL

분자량 표준 : 표준 폴리스티렌Molecular Weight Standard: Standard Polystyrene

<아세트아미드기 함유량><Acetamide group content>

(1) 전처리방법(1) Pretreatment Method

실시예 및 비교예에서 얻어진 폴리아미드이미드를 중수소화 디메틸술폭시드(DMSO-d6)에 용해시켜 2질량% 용액으로 한 것을 측정 시료로 했다.Examples and Comparative Examples was dissolved in heavy water a polyamide-imide digestion dimethyl sulfoxide (DMSO-d 6) was obtained in a test sample to a solution of 2% by mass.

(2) NMR 측정 조건(2) NMR measurement conditions

측정 장치 : Bruker사제 600MHz NMR 장치 「AVANCE600」Measuring device: Bruker's 600 MHz NMR device "AVANCE600"

시료 온도 : 303KSample temperature: 303 K

측정 방법 : 1H-NMRMeasurement Method: 1 H-NMR

화학 시프트 레퍼런스 : DMSO(2.50ppm)Chemical Shift Reference: DMSO (2.50 ppm)

(3) 아세트아미드 파라미터의 산출 방법(3) Calculation method of acetamide parameters

상기 측정 조건에 의해, 측정 시료의 1H-NMR을 측정했다. 당해 측정에 의해 얻어진 1H-NMR 스펙트럼에 있어서, 식(A)로 나타내어지는 구조 중의 질소 원자에 결합하는 수소 원자에 유래하는 화학 시프트값 10.3∼10.4ppm의 범위에 있어서의 피크 면적을 A라고 하고, 화학 시프트값 6.5∼11.5ppm의 범위에 있어서의 피크 면적을 B라고 하여, A의 B에 대한 백분율 A/B×100(%)를 구했다. 1 H-NMR of the measurement sample was measured under the above measurement conditions. In the 1 H-NMR spectrum obtained by the above measurement, the peak area in the range of 10.3 to 10.4 ppm of chemical shift values derived from a hydrogen atom bonded to the nitrogen atom in the structure represented by Formula (A) is defined as A. The peak area in the range of the chemical shift value of 6.5-11.5 ppm was set to B, and the percentage A / B × 100 (%) with respect to B of A was obtained.

<광학 필름의 전광선 투과율 및 헤이즈><Total light transmittance and haze of optical film>

광학 필름의 전광선 투과율은, JIS K 7361-1:1997에 준거하고, 헤이즈는, JIS K 7136:2000에 준거하여, 스가 시험기(주)제의 전자동 직독 헤이즈 컴퓨터 「HGM-2DP」를 이용하여 측정했다. 측정 시료는, 실시예 및 비교예에서 얻어진 광학 필름을 30㎜×30㎜의 크기로 커트하여 제작했다.The total light transmittance of an optical film is based on JIS K 7361-1: 1997, and haze is measured based on JIS K 7136: 2000 using the fully automatic direct reading haze computer "HGM-2DP" made by Suga Tester Co., Ltd. did. The measurement sample cut and produced the optical film obtained by the Example and the comparative example to the magnitude | size of 30 mm x 30 mm.

<광학 필름의 황색도><Yellow degree of optical film>

광학 필름의 황색도(Yellow Index:YI값)는, 자외 가시 근적외 분광 광도계(일본분광(주)제 「V-670」)를 이용하여 측정했다. 샘플이 없는 상태에서 백그라운드 측정을 행한 후, 실시예 및 비교예에서 얻어진 광학 필름을 샘플 홀더에 세팅하여, 300∼800㎚의 광에 대한 투과율 측정을 행하고, 3 자극값(X, Y, Z)을 구했다. 얻어진 3 자극값으로부터, ASTM D1925의 규격에 기초하여, 하기의 식에 기초하여 YI값을 산출했다.The yellowness (Yellow Index: YI value) of an optical film was measured using the ultraviolet visible near-infrared spectrophotometer ("V-670" by Nippon KKK). After background measurement was performed in the absence of a sample, the optical films obtained in Examples and Comparative Examples were set in a sample holder to measure transmittance for light of 300 to 800 nm, and three stimulus values (X, Y, Z). Saved. From the obtained 3 magnetic pole values, YI value was computed based on the following formula based on the specification of ASTMD1925.

YI=100×(1.2769X-1.0592Z)/YYI = 100 × (1.2769X-1.0592Z) / Y

<광학 필름의 두께 분포><Thickness Distribution of Optical Film>

광학 필름의 중앙부를 가로 세로 5㎝로 잘라내고, 외주로부터 5㎜의 개소를 1㎝ 간격으로 12개소, 마이크로미터((주)미츠토요제 「ID-C112XBS」) 또는 디지마이크로 스탠드((주)니콘제 「MS-5C」)를 이용하여 두께를 측정하고, 이들 두께의 최대값과 최소값의 차의 절대값을 두께 분포로 했다.Cut the center part of the optical film to 5 cm in width and length, and place 5 mm from the outer circumference at 12 places at 1 cm intervals, and micrometer ("ID-C112XBS" made by Mitsutoyo Co., Ltd.) or Digimicro stand (note) Thickness was measured using "MS-5C" by Nikon, and the absolute value of the difference of the maximum value and minimum value of these thickness was made into thickness distribution.

[실시예 1]Example 1

충분히 건조시킨 교반기와 온도계가 있는 1L 세퍼러블 플라스크에, 30분 이상 질소를 도통시켜, 용기 내를 질소로 치환했다. 디메틸아세트아미드(DMAc) 250g을 플라스크에 넣고, 실온하, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘(TFMB) 14.7g(45.82㎜ol)과 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 이무수물(6FDA) 6.14g(13.82㎜ol)을 첨가하여, 15분 이상 교반한 후, 16시간 방치했다.Nitrogen was conducted to the 1 L separable flask with a sufficiently dried stirrer and thermometer for at least 30 minutes, and the inside of the vessel was replaced with nitrogen. 250 g of dimethylacetamide (DMAc) was placed in a flask and 14.7 g (45.82 mmol) of 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine (TFMB) and 4,4 '-(hexafluoroisopropyl) at room temperature. 6.14 g (13.82 mmol) of lithium dendritic diphthalic dianhydride (6FDA) was added, and the mixture was left to stand for 16 hours after stirring for 15 minutes or more.

이어서, 실온하, 4,4'-옥시비스(벤조일클로라이드)(OBBC) 0.340g(1.15㎜ol)과 테레프탈로일클로라이드(TPC) 1.12g(5.52㎜ol)을 첨가하여, 실온하 10분 교반하고, 동량의 OBBC 및 TPC를 첨가하여, 동시간 교반하는 조작을 추가로 3회 반복했다. 반응액을 추가로 30분 교반한 후에, TPC 1.12g(5.52㎜ol)을 첨가하여, 추가로 실온에서 60분 교반했다. 이어서, 무수아세트산 9.93g(97.27㎜ol)과 4-피콜린 3.02g(32.43㎜ol)을 첨가하여, 실온하에서 30분 교반한 후, 70℃까지 1시간 걸쳐 승온하고, 70℃에서 3시간 보지했다. 반응액의 질량에 대해, 10배량의 메탄올을 첨가하고, 백색 고체를 얻었다. 얻어진 고체를 실온하 1일 걸쳐 풍건(風乾)시켰다.Next, at room temperature, 0.340 g (1.15 mmol) of 4,4'-oxybis (benzoyl chloride) (OBBC) and 1.12 g (5.52 mmol) of terephthaloyl chloride (TPC) were added thereto, followed by stirring at room temperature for 10 minutes. Then, the same amount of OBBC and TPC were added, and the operation of stirring for the same time was further repeated three times. After the reaction liquid was further stirred for 30 minutes, 1.12 g (5.52 mmol) of TPC was added, and the mixture was further stirred at room temperature for 60 minutes. Subsequently, 9.93 g (97.27 mmol) of acetic anhydride and 3.02 g (32.43 mmol) of 4-picoline were added, and after stirring at room temperature for 30 minutes, the temperature was raised to 70 ° C. over 1 hour and held at 70 ° C. for 3 hours. did. To the mass of the reaction solution, 10 times the amount of methanol was added to obtain a white solid. The obtained solid was air-dried over 1 day at room temperature.

얻어진 고체를 디메틸아세트아미드(DMAc) 250g에 용해시킨 뒤, 무수아세트산 47.19g(462.20㎜ol)을 첨가하여, 실온하에서 30분 교반한 후, 70℃까지 1시간 걸쳐 승온하고, 70℃에서 3시간 보지했다. 반응액의 질량에 대해, 10배량의 메탄올을 첨가하고, 백색 고체를 얻었다. 얻어진 고체를 실온하 1일 걸쳐 풍건시켜, 식(A)로 나타내어지는 구조를 갖는 폴리아미드이미드를 얻었다. 얻어진 식(A)로 나타내어지는 구조를 갖는 폴리아미드이미드의 중량 평균 분자량(Mw)은 445,000이고, 식(X)에 있어서의 A/B×100은 0.05%이며, 식(X)의 관계식을 충족시킨다.After dissolving the obtained solid in 250 g of dimethylacetamide (DMAc), 47.19 g (462.20 mmol) of acetic anhydride was added, the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes, and then heated up to 70 ° C. over 1 hour, and then heated at 70 ° C. for 3 hours. Did not see To the mass of the reaction solution, 10 times the amount of methanol was added to obtain a white solid. The obtained solid was air-dried over 1 day at room temperature, and the polyamideimide which has a structure represented by Formula (A) was obtained. The weight average molecular weight (Mw) of the polyamide-imide which has a structure represented by obtained formula (A) is 445,000, A / Bx100 in Formula (X) is 0.05%, and satisfy | fills the relational formula of Formula (X) Let's do it.

[실시예 2]Example 2

질소 가스 분위기하, 교반익(攪拌翼)을 구비한 1L 세퍼러블 플라스크에, TFMB 40g(124.91㎜ol) 및 DMAc 682.51g을 첨가하여, 실온에서 교반하면서 TFMB를 DMAc에 용해시켰다. 다음에, 플라스크에 6FDA 16.78g(37.77㎜ol)을 첨가하고, 실온에서 3시간 교반했다. 그 후, OBBC 3.72g(12.59㎜ol), 이어서 테레프탈로일클로라이드(TPC) 15.34g(75.55㎜ol)을 플라스크에 첨가하고, 실온에서 1시간 교반했다. 이어서, 플라스크에 4-메틸피리딘 8.21g(88.14㎜ol)과 무수아세트산 15.43g(151.10㎜ol)을 첨가하여, 실온에서 30분간 교반 후, 오일 배스를 이용하여 70℃로 승온하고, 추가로 3시간 교반하여, 반응액을 얻었다.40 g (124.91 mmol) of TFMB and 682.51 g of DMAc were added to the 1 L separable flask with a stirring blade under nitrogen gas atmosphere, and TFMB was dissolved in DMAc while stirring at room temperature. Next, 6FDA 16.78 g (37.77 mmol) was added to the flask, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. Thereafter, 3.72 g (12.59 mmol) of OBBC, followed by 15.34 g (75.55 mmol) of terephthaloyl chloride (TPC) was added to the flask and stirred at room temperature for 1 hour. Subsequently, 8.21 g (88.14 mmol) of 4-methylpyridine and 15.43 g (151.10 mmol) of acetic anhydride were added to the flask, and after stirring for 30 minutes at room temperature, the temperature was raised to 70 ° C. using an oil bath. It stirred for the time and obtained the reaction liquid.

얻어진 반응액을 실온까지 냉각하고, 대량의 메탄올 중에 실 형상(絲狀)으로 투입하여, 석출한 침전물을 취출하고, 메탄올에서 6시간 침지 후, 메탄올로 세정했다. 다음에, 100℃에서 침전물의 감압 건조를 행하여, 백색 고체를 얻었다.The obtained reaction solution was cooled to room temperature, poured into a large amount of methanol in a yarn form, and the precipitate deposited was taken out, and after immersing in methanol for 6 hours, the mixture was washed with methanol. Next, the precipitate was dried under reduced pressure at 100 ° C to obtain a white solid.

얻어진 고체를 디메틸아세트아미드(DMAc) 680g에 용해시킨 뒤, 무수아세트산 127.60g(1250.0㎜ol)을 첨가하여, 실온하에서 30분 교반한 후, 70℃까지 1시간 걸쳐 승온하고, 70℃에서 3시간 보지했다. 액의 질량에 대해, 10배량의 메탄올을 첨가하고, 백색 고체를 얻었다. 얻어진 고체를 실온하 1일 걸쳐 풍건시켜, 식(A)로 나타내어지는 구조를 갖는 폴리아미드이미드를 얻었다. 얻어진 식(A)로 나타내어지는 구조를 갖는 폴리아미드이미드 수지의 중량 평균 분자량(Mw)은 400,000이고, 식(X)에 있어서의 A/B×100은 0.05%이며, 식(X)의 관계식을 충족시킨다.The resulting solid was dissolved in 680 g of dimethylacetamide (DMAc), and then 127.60 g (1250.0 mmol) of acetic anhydride was added, the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes, then heated up to 70 ° C. over 1 hour, and then heated at 70 ° C. for 3 hours. Did not see To the mass of the liquid, 10 times the amount of methanol was added to obtain a white solid. The obtained solid was air-dried over 1 day at room temperature, and the polyamideimide which has a structure represented by Formula (A) was obtained. The weight average molecular weight (Mw) of the polyamide-imide resin which has a structure represented by obtained Formula (A) is 400,000, A / Bx100 in Formula (X) is 0.05%, and the relationship of Formula (X) Meets.

[비교예 1]Comparative Example 1

질소 가스 분위기하, 교반익을 구비한 1L 세퍼러블 플라스크에, TFMB 52g(162.38㎜ol) 및 DMAc 849.23g을 첨가하여, 실온에서 교반하면서 TFMB를 DMAc에 용해시켰다. 다음에, 플라스크에 6FDA 14.45g(32.52㎜ol)을 첨가하고, 실온에서 3시간 교반했다. 그 후, OBBC 4.80g(16.26㎜ol), 이어서 TPC 23.11g(113.84㎜ol)을 플라스크에 첨가하고, 실온에서 1시간 교반했다. 이어서, 플라스크에 피리딘 9.98g(126.20㎜ol)과 무수아세트산 13.28g(130.10㎜ol)을 첨가하여, 실온에서 30분간 교반 후, 오일 배스를 이용하여 70℃로 승온하고, 추가로 3시간 교반하여, 반응액을 얻었다.52 g (162.38 mmol) of TFMB and 849.23 g of DMAc were added to the 1 L separable flask with a stirring blade under nitrogen gas atmosphere, and TFMB was dissolved in DMAc, stirring at room temperature. Next, 14.45 g (32.52 mmol) of 6FDA was added to the flask, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. Then, OBBC 4.80g (16.26 mmol) and then TPC 23.11g (113.84 mmol) were added to the flask, and it stirred at room temperature for 1 hour. Subsequently, 9.98 g (126.20 mmol) of pyridine and 13.28 g (130.10 mmol) of acetic anhydride were added to the flask, and after stirring for 30 minutes at room temperature, the temperature was raised to 70 ° C. using an oil bath, followed by further stirring for 3 hours. And the reaction liquid was obtained.

얻어진 반응액을 실온까지 냉각하고, 대량의 메탄올 중에 실 형상으로 투입하여, 석출한 침전물을 취출하고, 메탄올에서 6시간 침지 후, 메탄올로 세정했다. 다음에, 100℃에서 침전물의 감압 건조를 행하여, 식(A)로 나타내어지는 구조를 갖는 폴리아미드이미드를 얻었다. 얻어진 폴리아미드이미드의 중량 평균 분자량(Mw)은 240,000이고, 식(X)에 있어서의 A/B×100은 0.02%이며, 식(X)의 관계식을 충족시키지 않는다.The obtained reaction solution was cooled to room temperature, poured into a large amount of methanol in a yarn shape, and the precipitate precipitated was taken out and immersed in methanol for 6 hours, and then washed with methanol. Next, the precipitate was dried under reduced pressure at 100 ° C to obtain a polyamideimide having a structure represented by formula (A). The weight average molecular weight (Mw) of the obtained polyamideimide is 240,000, A / Bx100 in Formula (X) is 0.02%, and does not satisfy the relation of Formula (X).

<광학 필름의 제조><Production of Optical Film>

γ-부티로락톤(GBL)을 분산매로 하는 실리카졸(실리카 입자의 평균 1차 입자경:27㎚)에 GBL을 첨가하고, 추가로 실시예 1, 2 및 비교예 1에서 얻어진 폴리아미드이미드를 각각 용해시켜, 폴리아미드이미드와 실리카의 합계 질량이, 바니시의 질량에 대해 10질량%가 되고, 폴리아미드이미드와 실리카의 고형분의 비율(질량비)이 6:4가 되도록, 폴리아미드이미드바니시를 제작했다. 얻어진 폴리아미드이미드바니시를 폴리에스테르 기재(基材)(도요보(주)제, 상품명 「A4100」)의 평활면 상에 자립막의 평균 두께가 52㎛가 되도록 애플리케이터를 이용하여 도공하고, 50℃ 30분간, 이어서 140℃ 15분간 건조하여, 자립막을 얻었다. 자립막을 A4 사이즈의 금속틀에 고정하여, 40분 걸쳐 200℃까지 승온하고, 200℃에서 20분간 유지하여 건조하고, 광학 필름을 얻었다. 얻어진 광학 필름의 전광선 투과율, YI, 헤이즈, 및 두께 분포의 평가 결과를 표 1에 나타냈다. 또한, 두께 분포란에 있어서의 괄호 내는 (두께의 최소값(㎛), 두께의 최대값(㎛))을 나타낸다.GBL was added to a silica sol (average primary particle diameter of silica particles: 27 nm) using γ-butyrolactone (GBL) as a dispersion medium, and the polyamideimide obtained in Examples 1, 2 and Comparative Example 1 was further It melt | dissolved and produced the polyamide-imide varnish so that the total mass of polyamide-imide and silica might be 10 mass% with respect to the mass of a varnish, and the ratio (mass ratio) of the solid content of polyamide-imide and silica might be 6: 4. . The obtained polyamideimide varnish was coated on the smooth surface of the polyester base material (Toyobo Co., Ltd., brand name "A4100") using an applicator so that the average thickness of a freestanding film might be 52 micrometers, and it was 50 degreeC 30 Then, it dried for 15 minutes at 140 degreeC, and obtained the self-supporting film. The self-supporting film was fixed to the metal frame of A4 size, it heated up to 200 degreeC over 40 minutes, hold | maintained at 200 degreeC for 20 minutes, and dried, and obtained the optical film. Table 1 shows the evaluation results of the total light transmittance, YI, haze, and thickness distribution of the obtained optical film. In addition, the parenthesis in a thickness distribution column shows (the minimum value of thickness (micrometer) and the maximum value of thickness (micrometer)).

[실시예 3]Example 3

질소 가스 분위기하, 교반익을 구비한 1L 세퍼러블 플라스크에, TFMB 14.64g(45.72㎜ol) 및 DMAc 500g을 첨가하여, 실온에서 교반하면서 TFMB를 DMAc에 용해시켰다. 다음에, 플라스크에 6FDA 6.15g(13.85㎜ol)과 3,3',4,4'-비페닐테트라카르본산 이무수물(BPDA) 1.36g(4.63㎜ol)을 첨가하여, 실온에서 16시간 교반했다.In a nitrogen gas atmosphere, TFMB 14.64 g (45.72 mmol) and 500 g of DMAc were added to a 1 L separable flask equipped with a stirring vane, and TFMB was dissolved in DMAc while stirring at room temperature. Next, 6.15 g (13.85 mmol) of 6FDA and 1.36 g (4.63 mmol) of 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA) were added to the flask, followed by stirring at room temperature for 16 hours. did.

이어서, 테레프탈로일클로라이드(TPC) 2.53g(12.46㎜ol)을 첨가하여, 10분 교반한 뒤에, 추가로 TPC 2.53g(12.46㎜ol)을 첨가하여 20분 교반했다. 이어서, 추가로 TPC 0.56g(2.76㎜ol)을 첨가하여 실온에서 2시간 교반했다.Then, 2.53 g (12.46 mmol) of terephthaloyl chloride (TPC) was added, and after stirring for 10 minutes, TPC 2.53 g (12.46 mmol) was further added and it stirred for 20 minutes. Subsequently, 0.56 g (2.76 mmol) of TPC was further added, and it stirred at room temperature for 2 hours.

이어서, 무수아세트산 13.20g(129.30㎜ol)과 4-피콜린 2.58g(27.71㎜ol)을 첨가하여, 실온에서 30분간 교반 후, 오일 배스를 이용하여 70℃로 승온하고, 추가로 3시간 교반하여, 반응액을 얻었다.Subsequently, 13.20 g (129.30 mmol) of acetic anhydride and 2.58 g (27.71 mmol) of 4-picoline were added, and after stirring at room temperature for 30 minutes, the temperature was raised to 70 ° C. using an oil bath, followed by further stirring for 3 hours. And the reaction liquid was obtained.

반응액을 냉각하여, 40℃ 이하로 내려갔을 때, 반응액을 메탄올 54g으로 희석하고, 메탄올 898g을 추가로 적하했다. 이어서 이온 교환수 359g을 적하하여, 백색 고체를 석출시켰다. 석출한 백색 고체를 감압 여과에 의해 포집하고, 메탄올로 세정함으로써, 폴리아미드이미드를 포함하는 웨트 케이크를 얻었다. 다음에, 실온에서 침전물의 감압 건조를 행하여, 식(A)로 나타내어지는 구조를 갖는 폴리아미드이미드(백색 고체)를 얻었다.When the reaction solution was cooled down to 40 ° C. or lower, the reaction solution was diluted with 54 g of methanol, and 898 g of methanol was further added dropwise. Subsequently, 359 g of ion-exchanged water was added dropwise to precipitate a white solid. The precipitated white solid was collected by vacuum filtration and washed with methanol to obtain a wet cake containing polyamideimide. Next, the precipitate was dried under reduced pressure at room temperature to obtain a polyamideimide (white solid) having a structure represented by formula (A).

얻어진 식(A)로 나타내어지는 구조를 갖는 폴리아미드이미드의 중량 평균 분자량(Mw)은 325,000이고, 식(X)에 있어서의 A/B×100은 0.03%이며, 식(X)의 관계식을 충족시킨다.The weight average molecular weight (Mw) of the polyamide-imide which has a structure represented by obtained formula (A) is 325,000, A / Bx100 in Formula (X) is 0.03%, and satisfy | fills the relational formula of Formula (X) Let's do it.

[실시예 4]Example 4

질소 가스 분위기하, 교반익을 구비한 1L 세퍼러블 플라스크에, TFMB 14.64g(45.72㎜ol) 및 DMAc 250g을 첨가하여, 실온에서 교반하면서 TFMB를 DMAc에 용해시켰다. 다음에, 플라스크에 6FDA 6.15g(13.85㎜ol)과 BPDA 1.36g(4.63㎜ol)을 첨가하고, 실온에서 16시간 교반했다.14.64 g (45.72 mmol) of TFMB and 250 g of DMAc were added to the 1 L separable flask equipped with a stirring vane under nitrogen gas atmosphere, and TFMB was dissolved in DMAc while stirring at room temperature. Next, 6.15 g (13.85 mmol) of 6FDA and 1.36 g (4.63 mmol) of BPDA were added to the flask, and the mixture was stirred at room temperature for 16 hours.

이어서, 테레프탈로일클로라이드(TPC) 2.53g(12.46㎜ol)을 첨가하여, 10분 교반한 뒤에, 추가로 TPC 2.53g(12.46㎜ol)을 첨가하고 20분 교반했다. DMAc 250.00g을 첨가하여, 10분 교반한 뒤에, 추가로 TPC 0.56g(2.76㎜ol)을 첨가하여 실온에서 2시간 교반했다.Then, 2.53 g (12.46 mmol) of terephthaloyl chloride (TPC) was added, and after stirring for 10 minutes, TPC 2.53 g (12.46 mmol) was further added and it stirred for 20 minutes. After adding 250.00 g of DMAc and stirring for 10 minutes, TPC 0.56 g (2.76 mmol) was further added, and it stirred at room temperature for 2 hours.

이어서, 무수아세트산 13.23g(129.55㎜ol)과 4-피콜린 2.60g(27.92㎜ol)을 첨가하여, 실온에서 30분간 교반 후, 오일 배스를 이용하여 70℃로 승온하고, 추가로 3시간 교반하여, 반응액을 얻었다.Next, 13.23 g (129.55 mmol) of acetic anhydride and 2.60 g (27.92 mmol) of 4-picoline were added, and after stirring at room temperature for 30 minutes, the temperature was raised to 70 ° C. using an oil bath, followed by further stirring for 3 hours. And the reaction liquid was obtained.

반응액을 냉각하여, 40℃ 이하로 내려갔을 때, 반응액을 메탄올 29g으로 희석하고, 메탄올 860g을 추가로 적하했다. 이어서 이온 교환수를 344g 적하하여, 백색 고체를 석출시켰다. 석출한 백색 고체를 감압 여과에 의해 포집하고, 메탄올로 세정함으로써, 폴리아미드이미드를 포함하는 웨트 케이크를 얻었다. 다음에, 실온에서 침전물의 감압 건조를 행하여, 식(A)로 나타내어지는 구조를 갖는 폴리아미드이미드(백색 고체)를 얻었다.When the reaction liquid was cooled down to 40 ° C. or lower, the reaction liquid was diluted with 29 g of methanol, and 860 g of methanol was further added dropwise. Next, 344 g of ion-exchanged water was added dropwise to precipitate a white solid. The precipitated white solid was collected by vacuum filtration and washed with methanol to obtain a wet cake containing polyamideimide. Next, the precipitate was dried under reduced pressure at room temperature to obtain a polyamideimide (white solid) having a structure represented by formula (A).

얻어진 식(A)로 나타내어지는 구조를 갖는 폴리아미드이미드의 중량 평균 분자량(Mw)은 219,000이고, 식(X)에 있어서의 A/B×100은 0.03%이며, 식(X)의 관계식을 충족시킨다.The weight average molecular weight (Mw) of the polyamide-imide which has a structure represented by obtained formula (A) is 219,000, A / Bx100 in a formula (X) is 0.03%, and satisfy | fills the relational formula of formula (X) Let's do it.

[비교예 2]Comparative Example 2

질소 가스 분위기하, 교반익을 구비한 1L 세퍼러블 플라스크에, TFMB 19.17g(59.87㎜ol) 및 DMAc 321.0g을 첨가하여, 실온에서 교반하면서 TFMB를 DMAc에 용해시켰다. 다음에, 플라스크에 6FDA 5.35g(12.04㎜ol)과 BPDA 1.77g(6.00㎜ol)을 첨가하고, 실온에서 16시간 교반했다. 그 후, TPC 3.85g(18.96㎜ol)을 플라스크에 첨가하여, 10분 교반한 후에, 추가로 TPC 3.85g(18.96㎜ol)을 첨가하고 20분 교반했다. DMAc 314.1g을 첨가하여, 10분 교반한 뒤에, 추가로 TPC 0.86g(4.22㎜ol)을 첨가하여 실온에서 2시간 교반했다.TFMB 19.17g (59.87 mmol) and DMAc 321.0g were added to the 1 L separable flask with a stirring blade under nitrogen gas atmosphere, and TFMB was dissolved in DMAc, stirring at room temperature. Next, 5.35 g (12.04 mmol) of 6FDA and 1.77 g (6.00 mmol) of BPDA were added to the flask, followed by stirring at room temperature for 16 hours. Thereafter, 3.85 g (18.96 mmol) of TPC was added to the flask, followed by stirring for 10 minutes, and then 3.85 g (18.96 mmol) of TPC was further added and stirred for 20 minutes. 314.1 g of DMAc was added, and after stirring for 10 minutes, 0.86 g (4.22 mmol) of TPC was further added, followed by stirring at room temperature for 2 hours.

이어서, 플라스크에 디이소프로필에틸아민(DIPEA) 6.23g(48.22㎜ol)을 플라스크에 첨가하고, 10분 교반한 후에 무수아세트산 8.62g(84.46㎜ol)과 4-피콜린 4.51g(48.44㎜ol)을 첨가하여, 실온에서 30분간 교반 후, 오일 배스를 이용하여 70℃로 승온하고, 추가로 3시간 교반하여, 반응액을 얻었다.Subsequently, 6.23 g (48.22 mmol) of diisopropylethylamine (DIPEA) was added to the flask and stirred for 10 minutes, followed by 8.62 g (84.46 mmol) of acetic anhydride and 4.51 g (48.44 mmol) of 4-picoline. ) Was added, and after stirring at room temperature for 30 minutes, the temperature was raised to 70 ° C using an oil bath, and further stirred for 3 hours to obtain a reaction solution.

반응액을 냉각하여, 50℃ 이하로 내려갔을 때, 메탄올 943g을 적하하고, 이어서 이온 교환수 493g을 적하하여, 백색 고체를 석출시켰다. 석출한 백색 고체를 감압 여과에 의해 포집하고, 메탄올로 세정함으로써, 폴리아미드이미드를 포함하는 웨트 케이크를 얻었다. 다음에, 60℃에서 침전물의 감압 건조를 행하여, 식(A)로 나타내어지는 구조를 갖는 폴리아미드이미드(백색 고체)을 얻었다.When the reaction liquid was cooled down to 50 ° C. or lower, 943 g of methanol was added dropwise, and then 493 g of ion-exchanged water was added dropwise to precipitate a white solid. The precipitated white solid was collected by vacuum filtration and washed with methanol to obtain a wet cake containing polyamideimide. Next, the precipitate was dried under reduced pressure at 60 ° C to obtain a polyamideimide (white solid) having a structure represented by Formula (A).

얻어진 식(A)로 나타내어지는 구조를 갖는 폴리아미드이미드의 중량 평균 분자량(Mw)은 826,000이고, 식(X)에 있어서의 A/B×100은 0.02%이며, 식(X)의 관계식을 충족시키지 않는다.The weight average molecular weight (Mw) of the polyamide-imide which has a structure represented by obtained formula (A) is 826,000, A / Bx100 in Formula (X) is 0.02%, and satisfies the relationship of Formula (X) Don't let that happen.

<광학 필름의 제조><Production of Optical Film>

GBL에 실시예 3 및 4에서 얻어진 폴리아미드이미드를 각각 용해시켜, 폴리아미드이미드의 합계 질량이, 바니시의 질량에 대해 8.5질량%가 되도록, 폴리아미드이미드바니시를 제작했다.The polyamide-imide obtained in Examples 3 and 4 was dissolved in GBL, respectively, and the polyamide-imide varnish was produced so that the total mass of polyamide-imide might be 8.5 mass% with respect to the mass of a varnish.

GBL에 비교예 2에서 얻어진 폴리아미드이미드를 용해시켜, 폴리아미드이미드의 합계 질량이, 바니시의 질량에 대해 6.0질량%가 되도록, 폴리아미드이미드바니시를 제작했다.The polyamideimide obtained by the comparative example 2 was dissolved in GBL, and the polyamide-imide varnish was produced so that the total mass of polyamide-imide might be 6.0 mass% with respect to the mass of a varnish.

얻어진 폴리아미드이미드바니시를 폴리에스테르 기재(도요보(주)제, 상품명 「A4100」)의 평활면 상에 자립막의 평균 두께가 52∼56㎛가 되도록 애플리케이터를 이용하여 도공하고, 50℃ 30분간, 이어서 140℃에서 15분간 건조하여, 자립막을 얻었다. 자립막을 A4사이즈의 금속 틀에 고정하여, 40분 걸쳐 200℃까지 승온하고, 200℃에서 20분간 유지하여 건조하고, 광학 필름을 얻었다. 얻어진 광학 필름의 전광선 투과율, YI, 헤이즈, 및 두께 분포의 평가 결과를 표 2에 나타냈다. 또한, 두께 분포란에 있어서의 괄호 내는 (두께의 최소값(㎛), 두께의 최대값(㎛))을 나타낸다.The obtained polyamideimide varnish is coated on the smooth surface of a polyester base material (Toyobo Co., Ltd. brand name "A4100") using an applicator so that the average thickness of a freestanding film may be 52-56 micrometers, and 50 degreeC 30 minutes, Then, it dried for 15 minutes at 140 degreeC, and obtained the self-supporting film. The self-supporting film was fixed to the metal frame of A4 size, it heated up to 200 degreeC over 40 minutes, hold | maintained at 200 degreeC for 20 minutes, and dried, and obtained the optical film. Table 2 shows the evaluation results of the total light transmittance, YI, haze, and thickness distribution of the obtained optical film. In addition, the parenthesis in a thickness distribution column shows (the minimum value of thickness (micrometer) and the maximum value of thickness (micrometer)).

Figure pat00022
Figure pat00022

Figure pat00023
Figure pat00023

실시예 1∼4에서 얻어진 광학 필름은, 비교예 1 및 2에서 얻어진 광학 필름과 비교하여 두께 분포가 작은 점으로부터, 부분적인 두께의 불균일이 작고, 필름 표면의 평탄성이 우수한 것이 확인되었다. 또한, 실시예 1∼4에서 얻어진 광학 필름은, 비교예 1 및 2에서 얻어진 광학 필름과 비교하여, 전광선 투과율이 높고, YI값 및 헤이즈가 낮은 것이 확인되었다. 따라서, 본 발명의 광학 필름은, 필름 표면의 평탄성 및 광학 특성이 우수한 것을 알 수 있다.The optical film obtained in Examples 1-4 has the small thickness distribution compared with the optical film obtained by the comparative examples 1 and 2, and it was confirmed that the nonuniformity of a partial thickness was small and was excellent in the flatness of the film surface. Moreover, it was confirmed that the optical film obtained in Examples 1-4 is high in total light transmittance, and YI value and low haze are compared with the optical film obtained in Comparative Examples 1 and 2. Therefore, it turns out that the optical film of this invention is excellent in the flatness and optical characteristics of a film surface.

Claims (10)

식(A)
Figure pat00024

[식(A) 중, *은 결합손을 나타낸다]
로 나타내어지는 구조를 갖는 폴리이미드계 수지 및 폴리아미드계 수지로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 수지를 포함하고, 당해 수지가 식(X)
A/B×100≥0.03(%) (X)
[식(X) 중, A는, 당해 수지의 1H-NMR 스펙트럼에 있어서, 식(A)로 나타내어지는 구조 중의 질소 원자에 결합하는 수소 원자에 유래하는 피크 면적을 나타내고, B는, 당해 수지의 1H-NMR 스펙트럼에 있어서, 화학 시프트값이 6.5∼11.5ppm의 범위에 있어서의 피크 면적을 나타낸다]
를 충족시키는, 광학 필름.
Formula (A)
Figure pat00024

[In formula (A), * represents a bond.]
At least 1 sort (s) of resin chosen from the group which consists of polyimide-type resin and polyamide-type resin which have a structure represented by these, and the said resin is Formula (X)
A / B × 100≥0.03 (%) (X)
[In Formula (X), A represents the peak area derived from the hydrogen atom couple | bonded with the nitrogen atom in the structure represented by Formula (A) in <1> H-NMR spectrum of this resin, B is the said resin. In the 1 H-NMR spectrum, the chemical shift value represents the peak area in the range of 6.5 to 11.5 ppm.]
To meet the optical film.
제 1 항에 있어서,
식(A)로 나타내어지는 구조를 갖는 폴리이미드계 수지는, 식(1)
Figure pat00025

[식(1) 중, Y는 4가의 유기기이고, X는 2가의 유기기이다]
로 나타내어지는 구성 단위를 포함하고,
식(A)로 나타내어지는 구조를 갖는 폴리아미드계 수지는, 식(2)
Figure pat00026

[식(2) 중, Z 및 X는, 각각 독립적으로, 2가의 유기기이다]
로 나타내어지는 구성 단위를 포함하는, 광학 필름.
The method of claim 1,
Polyimide-based resin which has a structure represented by Formula (A) is Formula (1)
Figure pat00025

[In Formula (1), Y is a tetravalent organic group and X is a divalent organic group.]
Containing a structural unit represented by
Polyamide-type resin which has a structure represented by Formula (A) is Formula (2)
Figure pat00026

[In Formula (2), Z and X are each independently a divalent organic group.]
An optical film containing the structural unit represented by.
제 1 항에 있어서,
식(A)로 나타내어지는 구조의 적어도 일부는, 식(B)
Figure pat00027

[식(B) 중, *은 결합손을 나타낸다]
로 나타내어지는 구조인, 광학 필름.
The method of claim 1,
At least a part of the structure represented by formula (A) is formula (B)
Figure pat00027

[In formula (B), * represents a bond.]
Optical film which is a structure represented by.
제 1 항에 있어서,
식(A)로 나타내어지는 구조를 갖는 폴리이미드계 수지 및 폴리아미드계 수지로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 수지의 중량 평균 분자량은, 200,000 이상인, 광학 필름.
The method of claim 1,
The optical film whose weight average molecular weight of at least 1 sort (s) of resin chosen from the group which consists of polyimide-type resin and polyamide-type resin which have a structure represented by Formula (A) is 200,000 or more.
제 1 항에 있어서,
추가로 실리카 입자를 포함하는, 광학 필름.
The method of claim 1,
An optical film, further comprising silica particles.
제 1 항에 있어서,
두께는 25∼100㎛인, 광학 필름.
The method of claim 1,
The optical film whose thickness is 25-100 micrometers.
제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 기재된 광학 필름을 구비하는, 플렉시블 표시 장치.The flexible display device provided with the optical film as described in any one of Claims 1-6. 제 7 항에 있어서,
추가로, 터치 센서를 구비하는, 플렉시블 표시 장치.
The method of claim 7, wherein
Furthermore, the flexible display apparatus provided with a touch sensor.
제 7 항에 있어서,
추가로, 편광판을 구비하는, 플렉시블 표시 장치.
The method of claim 7, wherein
Furthermore, the flexible display apparatus provided with a polarizing plate.
식(A)
Figure pat00028

[식(A) 중, *은 결합손을 나타낸다]
로 나타내어지는 구조를 갖는 폴리이미드계 수지 및 폴리아미드계 수지로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 포함하는 광학용 수지로서, 식(X)
A/B×100≥0.03(%) (X)
[식(X) 중, A는, 당해 광학용 수지의 1H-NMR 스펙트럼에 있어서, 식(A)로 나타내어지는 구조 중의 질소 원자에 결합하는 수소 원자에 유래하는 피크 면적을 나타내고, B는, 당해 광학용 수지의 1H-NMR 스펙트럼에 있어서, 화학 시프트값이 6.5∼11.5ppm의 범위에 있어서의 피크 면적을 나타낸다]
를 충족시키는, 광학용 수지.
Formula (A)
Figure pat00028

[In formula (A), * represents a bond.]
As optical resin containing at least 1 sort (s) chosen from the group which consists of polyimide-type resin and polyamide-type resin which have a structure represented by the formula (X)
A / B × 100≥0.03 (%) (X)
[In Formula (X), A represents the peak area derived from the hydrogen atom couple | bonded with the nitrogen atom in the structure represented by Formula (A) in <1> H-NMR spectrum of the said optical resin, B is In the 1 H-NMR spectrum of the optical resin, a chemical shift value represents a peak area in a range of 6.5 to 11.5 ppm.]
To meet the optical resin.
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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7469087B2 (en) * 2020-03-18 2024-04-16 住友化学株式会社 Optical film and flexible display device
JP2022041942A (en) * 2020-08-31 2022-03-11 住友化学株式会社 Film
KR102634467B1 (en) * 2021-08-20 2024-02-06 에스케이마이크로웍스 주식회사 Polyamide-imide-based film, preparation method thereof, and cover window and display device comprising same

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20140129155A (en) * 2012-02-16 2014-11-06 가부시키가이샤 가네카 Diamine, polyimide, and polyimide film and utilization thereof
JP2015521687A (en) 2012-06-29 2015-07-30 コーロン インダストリーズ インク Polyimide and polyimide film containing the same
KR20180045891A (en) * 2016-09-30 2018-05-04 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 Optical film and manufacturing method thereof
KR20180048955A (en) * 2016-09-30 2018-05-10 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 Optical film, laminated film using the same, and manufacturing method of optical film
KR20180048958A (en) * 2016-09-30 2018-05-10 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 Optical film and manufacturing method of optical film
KR20180094840A (en) * 2017-01-20 2018-08-24 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 Film, resin composition and method for producing polyamide-imide resin

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62177021A (en) * 1986-01-29 1987-08-03 Toray Ind Inc Aromatic polyamide copolymer
JPH04126720A (en) * 1990-09-18 1992-04-27 Kawasaki Steel Corp Polyester amide resin having improved wet heat stability and production of thereof
JP5428181B2 (en) * 2008-03-31 2014-02-26 大日本印刷株式会社 Method for producing polyimide precursor and method for producing polyimide using the same
JP6939225B2 (en) * 2016-08-10 2021-09-22 大日本印刷株式会社 Polyimide film, laminate, and display surface material
JP6939319B2 (en) * 2016-09-30 2021-09-22 大日本印刷株式会社 Polyimide film, laminate, and display surface material
JP7027867B2 (en) * 2016-12-22 2022-03-02 大日本印刷株式会社 Surface material for flexible displays

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20140129155A (en) * 2012-02-16 2014-11-06 가부시키가이샤 가네카 Diamine, polyimide, and polyimide film and utilization thereof
JP2015521687A (en) 2012-06-29 2015-07-30 コーロン インダストリーズ インク Polyimide and polyimide film containing the same
KR20180045891A (en) * 2016-09-30 2018-05-04 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 Optical film and manufacturing method thereof
KR20180048955A (en) * 2016-09-30 2018-05-10 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 Optical film, laminated film using the same, and manufacturing method of optical film
KR20180048958A (en) * 2016-09-30 2018-05-10 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 Optical film and manufacturing method of optical film
KR20180094840A (en) * 2017-01-20 2018-08-24 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 Film, resin composition and method for producing polyamide-imide resin

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Toshihiko Matsumoto 외, "Thermal Durability Improvement in Transparency of Alicyclic Polyimide by Capping Terminal Amino Groups", J. Photopolym. Sci. Technol., Vol. 30, No. 2, 2017. 1부.* *

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