KR20200010080A - Polyamideimide resin - Google Patents

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KR20200010080A
KR20200010080A KR1020190086142A KR20190086142A KR20200010080A KR 20200010080 A KR20200010080 A KR 20200010080A KR 1020190086142 A KR1020190086142 A KR 1020190086142A KR 20190086142 A KR20190086142 A KR 20190086142A KR 20200010080 A KR20200010080 A KR 20200010080A
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KR1020190086142A
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고지 미야모토
겐타로 마스이
가츠노리 모치즈키
다쿠시 아제미
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스미또모 가가꾸 가부시키가이샤
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Abstract

Provided by the present invention is polyamideimide resin capable of forming a polyamideimide film having a high elastic modulus. The polyamideimide resin includes a composition unit representing the following characteristics. In formula 1 and formula 2, each X independently represents a divalent organic group, Y represents a tetravalent organic group, each R^a independently represents a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, each hydrogen atom contained in R^a may be independently substituted with a halogen atom and n represents an integer of 0-6. The weight average molecular weight of the polyamideimide resin is 100,000 to 1,000,000.

Description

폴리아미드이미드 수지{POLYAMIDEIMIDE RESIN}Polyamideimide Resin {POLYAMIDEIMIDE RESIN}

본 발명은, 화상 표시 장치의 전면판 재료 등으로서 사용되는 폴리아미드이미드 필름을 형성 가능한 폴리아미드이미드 수지 및 폴리아미드이미드 필름과, 당해 폴리아미드이미드 필름을 구비하는 플렉시블 표시 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a polyamideimide resin and a polyamideimide film capable of forming a polyamideimide film used as a front plate material of an image display device and the like, and a flexible display device including the polyamideimide film.

액정 표시 장치나 유기 EL표시 장치 등의 화상 표시 장치는, 휴대전화나 스마트 워치와 같은 다양한 용도로 널리 활용되고 있다. 이러한 화상 표시 장치의 전면판으로서 유리가 이용되어 왔지만, 유리는 매우 강직하고, 깨지기 쉽기 때문에, 예를 들면 플렉시블 디스플레이 등의 전면판 재료로서의 이용은 어렵다. 유리를 대신하는 재료 중 하나로서, 폴리아미드이미드 수지로 형성된 폴리아미드이미드 필름이 검토되고 있다(예를 들면 특허문헌 1).Image display apparatuses, such as a liquid crystal display device and an organic electroluminescence display, are widely utilized for various uses, such as a mobile telephone and a smart watch. Although glass has been used as the front plate of such an image display device, since glass is very rigid and brittle, it is difficult to use it as a front plate material, such as a flexible display, for example. As one of the materials which replace glass, the polyamideimide film formed from the polyamideimide resin is examined (for example, patent document 1).

일본 공표특허공보 2015-521687호Japanese Patent Publication No. 2015-521687

한편, 광학 필름 용도로 사용하는 폴리아미드이미드 필름에는 높은 탄성률이 요구된다. 그러나, 본 발명자의 검토에 의하면, 종래의 폴리아미드이미드 필름은, 탄성률이 충분하지 않은 경우가 있는 것을 알 수 있었다.On the other hand, high elastic modulus is required for the polyamide-imide film used for an optical film use. However, according to examination by the present inventor, it turned out that the conventional polyamide-imide film may not have enough elastic modulus.

따라서, 본 발명의 목적은, 고탄성률을 갖는 폴리아미드이미드 필름을 형성 가능한 폴리아미드이미드 수지 및 폴리아미드이미드 필름과, 당해 폴리아미드이미드 필름을 구비하는 플렉시블 표시 장치를 제공하는 것에 있다.Accordingly, an object of the present invention is to provide a polyamideimide resin and a polyamideimide film capable of forming a polyamideimide film having a high modulus of elasticity, and a flexible display device including the polyamideimide film.

본 발명자는, 상기 과제를 해결하기 위해서 예의 검토한 결과, 폴리아미드이미드 수지를 구성하는 디카르복실산 화합물 유래의 구성 단위로서, 나프탈렌 골격을 갖는 디카르복실산 화합물 유래의 구성 단위를 포함하고, 당해 폴리아미드이미드 수지가 소정 범위의 중량 평균 분자량이면, 상기 과제를 해결할 수 있는 것을 발견하여, 본 발명을 완성하기에 이르렀다. 즉, 본 발명에는, 이하의 바람직한 양태가 포함된다.MEANS TO SOLVE THE PROBLEM As a result of earnestly examining in order to solve the said subject, as a structural unit derived from the dicarboxylic acid compound which comprises a polyamideimide resin, this inventor includes the structural unit derived from the dicarboxylic acid compound which has a naphthalene skeleton, When the said polyamideimide resin was the weight average molecular weight of a predetermined range, it discovered that the said subject could be solved and came to complete this invention. That is, the following preferable aspect is contained in this invention.

[1] 식 (1) 및 식 (2)[1] Formula (1) and Formula (2)

Figure pat00001
Figure pat00001

[식 (1) 및 식 (2) 중, X는 각각 독립적으로, 2가의 유기기를 나타내고, Y는 4가의 유기기를 나타내며, Ra는 각각 독립적으로, 할로겐 원자, 탄소수 1~6의 알킬기, 탄소수 1~6의 알콕시기, 또는 탄소수 6~12의 아릴기를 나타내고, Ra에 포함되는 수소 원자는 각각 독립적으로, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되며, n은 0~6의 정수를 나타낸다][In Formula (1) and Formula (2), X represents a bivalent organic group each independently, Y represents a tetravalent organic group, R <a> respectively independently represents a halogen atom, a C1-C6 alkyl group, and carbon number An alkoxy group of 1 to 6 or an aryl group of 6 to 12 carbon atoms is represented, and the hydrogen atoms contained in R a may be each independently substituted with a halogen atom, and n represents an integer of 0 to 6;

로 나타나는 구성 단위를 포함하고, 중량 평균 분자량이 100,000~1,000,000인, 폴리아미드이미드 수지.The polyamideimide resin which contains the structural unit represented by and whose weight average molecular weight is 100,000-1,000,000.

[2] 식 (2)로 나타나는 구성 단위의 함유량은, 식 (1)로 나타나는 구성 단위 1몰에 대해서 0.1~10몰인, [1]에 기재된 폴리아미드이미드 수지.[2] The polyamideimide resin according to [1], wherein the content of the structural unit represented by Formula (2) is 0.1 to 10 mol with respect to 1 mol of the structural unit represented by Formula (1).

[3] 식 (2')[3] Formula (2 ')

Figure pat00002
Figure pat00002

[식 (2') 중, X 및 K는 각각 독립적으로, 2가의 유기기를 나타내고, K의 적어도 일부는, 식 (3)[In Formula (2 '), X and K each independently represent a divalent organic group, and at least one part of K represents Formula (3).

Figure pat00003
Figure pat00003

(식 (3) 중, R1~R8은 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1~6의 알킬기, 탄소수 1~6의 알콕시기, 또는 탄소수 6~12의 아릴기를 나타내고, R1~R8에 포함되는 수소 원자는, 각각 독립적으로, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되며, A는, 단결합, -O-, -CH2-, -CH2-CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2-, -S-, -CO- 또는 -N(R9)-를 나타내고, R9는 수소 원자, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되는 탄소수 1~12의 탄화 수소기를 나타내며, m은 0~4의 정수이고, *는 결합손을 나타낸다)(Formula (3) of, R 1 ~ R 8 is each independently represents a hydrogen atom, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms alkyl group, having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having a carbon number of 6 ~ 12, R 1 ~ R 8 The hydrogen atoms contained in each may be independently substituted with a halogen atom, and A is a single bond, -O-, -CH 2- , -CH 2 -CH 2- , -CH (CH 3 )-,- C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2- , -SO 2- , -S-, -CO- or -N (R 9 )-, and R 9 is substituted with a hydrogen atom or a halogen atom Represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, m is an integer of 0 to 4, and * represents a bond.)

으로 나타난다]Appears]

로 나타나는 구성 단위를 추가로 포함하는, [1] 또는 [2]에 기재된 폴리아미드이미드 수지.The polyamideimide resin as described in [1] or [2] which further contains the structural unit represented by these.

[4] [1]~[3] 중 어느 하나에 기재된 폴리아미드이미드 수지를 포함하여 이루어지는, 폴리아미드이미드 필름.[4] A polyamideimide film, comprising the polyamideimide resin according to any one of [1] to [3].

[5] [4]에 기재된 폴리아미드이미드 필름을 구비하는, 플렉시블 표시 장치.[5] A flexible display device comprising the polyamideimide film according to [4].

[6] 추가로 터치 센서를 구비하는, [5]에 기재된 플렉시블 표시 장치.[6] The flexible display device according to [5], further comprising a touch sensor.

[7] 추가로 편광판을 구비하는, [5] 또는 [6]에 기재된 플렉시블 표시 장치.[7] The flexible display device according to [5] or [6], further comprising a polarizing plate.

본 발명의 폴리아미드이미드 수지를 포함하여 이루어지는 폴리아미드이미드 필름은, 고탄성률을 갖는다. 이로 인하여, 화상 표시 장치의 전면판 재료 등으로서 적합하게 사용할 수 있다.The polyamideimide film comprising the polyamideimide resin of the present invention has a high modulus of elasticity. For this reason, it can use suitably as a front plate material etc. of an image display apparatus.

<폴리아미드이미드 수지><Polyamideimide resin>

본 발명의 폴리아미드이미드 수지는, 식 (1) 및 식 (2)The polyamideimide resin of the present invention is formula (1) and formula (2)

Figure pat00004
Figure pat00004

[식 (1) 및 식 (2) 중, X는 각각 독립적으로, 2가의 유기기를 나타내고, Y는 4가의 유기기를 나타내며, Ra는 각각 독립적으로, 할로겐 원자, 탄소수 1~6의 알킬기, 탄소수 1~6의 알콕시기, 또는 탄소수 6~12의 아릴기를 나타내고, Ra에 포함되는 수소 원자는 각각 독립적으로, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되며, n은 0~6의 정수를 나타낸다][In Formula (1) and Formula (2), X represents a bivalent organic group each independently, Y represents a tetravalent organic group, R <a> respectively independently represents a halogen atom, a C1-C6 alkyl group, and carbon number An alkoxy group of 1 to 6 or an aryl group of 6 to 12 carbon atoms is represented, and the hydrogen atoms contained in R a may be each independently substituted with a halogen atom, and n represents an integer of 0 to 6;

로 나타나는 구성 단위를 포함하고, 중량 평균 분자량이 100,000~1,000,000이다. 본 발명의 폴리아미드이미드 수지는, 식 (2)로 나타나는 구성 단위(나프탈렌 골격을 갖는 구성 단위라고 하는 경우도 있다)를 포함함으로써, 탄성률을 향상시킬 수 있고, 얻어지는 폴리아미드이미드 필름은 높은 탄성률을 가질 수 있다. 또, 당해 폴리아미드이미드 필름은, 굴곡 내성도 우수하므로, 고탄성률과 고굴곡 내성을 양립할 수도 있다. 또한, 본 명세서에 있어서, 폴리아미드이미드 수지 중의 「구성 단위」는, 폴리아미드이미드 수지를 구성하는 반복 구조 단위를 나타낸다.The structural unit represented by this is a weight average molecular weight 100,000-100,000. The polyamideimide resin of this invention can improve elastic modulus by including the structural unit (it may be called the structural unit which has a naphthalene skeleton) represented by Formula (2), and the polyamideimide film obtained has high elastic modulus. Can have. Moreover, since the said polyamide-imide film is also excellent in bending resistance, it can also make high elastic modulus and high bending resistance compatible. In addition, in this specification, the "structural unit" in polyamideimide resin represents the repeating structural unit which comprises polyamideimide resin.

식 (2)에 있어서, Ra는 각각 독립적으로, 할로겐 원자, 탄소수 1~6의 알킬기, 탄소수 1~6의 알콕시기, 또는 탄소수 6~12의 아릴기를 나타낸다. 할로겐 원자로서는, 예를 들면 불소 원자, 염소 원자, 브로민 원자, 아이오딘 원자를 들 수 있다. 탄소수 1~6의 알킬기로서는, 예를 들면 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, 2-메틸-부틸기, 3-메틸부틸기, 2-에틸-프로필기, n-헥실기 등을 들 수 있다. 탄소수 6~12의 아릴기로서는, 예를 들면 페닐기, 톨릴기, 자일릴기, 나프틸기, 비페닐기 등을 들 수 있다. 탄소수 1~6의 알콕시기로서는, 예를 들면 메톡시기, 에톡시기, 프로필옥시기, 이소프로필옥시기, 부톡시기, 이소부톡시기, tert-부톡시기, 펜틸옥시기, 헥실옥시기, 시클로헥실옥시기 등을 들 수 있다. 얻어지는 폴리아미드이미드 필름의 탄성률이나 굴곡 내성을 향상시키기 쉬운 관점에서, Ra는 할로겐 원자 또는 탄소수 1~6의 알킬기인 것이 바람직하고, 할로겐 원자 또는 탄소수 1~3의 알킬기인 것이 보다 바람직하게는, 메틸기 또는 에틸기인 것이 더 바람직하다. 여기에서, Ra에 포함되는 수소 원자는 각각 독립적으로, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 된다. 또, 얻어지는 폴리아미드이미드 필름의 탄성률이나 굴곡 내성 향상의 관점에서, n은, 0~6의 정수이며, 바람직하게는 0~4의 정수이고, 보다 바람직하게는 0~2의 정수이며, 더 바람직하게는 0이다.In Formula (2), R <a> represents a halogen atom, a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 alkoxy group, or a C6-C12 aryl group each independently. As a halogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom are mentioned, for example. Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group and 2-methyl-butyl group , 3-methylbutyl group, 2-ethyl-propyl group, n-hexyl group and the like. As a C6-C12 aryl group, a phenyl group, a tolyl group, a xylyl group, a naphthyl group, a biphenyl group etc. are mentioned, for example. Examples of the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms include methoxy group, ethoxy group, propyloxy group, isopropyloxy group, butoxy group, isobutoxy group, tert-butoxy group, pentyloxy group, hexyloxy group and cyclohexyl octa Season, etc. can be mentioned. From the viewpoint of easily improving the elastic modulus and flexural resistance of the resulting polyamideimide film, R a is preferably a halogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and more preferably a halogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, It is more preferable that it is a methyl group or an ethyl group. Here, the hydrogen atoms contained in R a may be each independently substituted with a halogen atom. Moreover, from a viewpoint of the elasticity modulus and the bending resistance improvement of the polyamideimide film obtained, n is an integer of 0-6, Preferably it is an integer of 0-4, More preferably, it is an integer of 0-2, More preferably Is zero.

식 (2)에 있어서, 2개의 아미드기(-NHCO-)는, 나프탈렌환을 구성하는 2개의 벤젠환 각각에 1개씩 치환되어 있어도 되고, 2개의 벤젠환 중, 편방의 벤젠환에 양방 모두 치환되어 있어도 된다. 즉, 2개의 아미드기 중, 일방의 아미드기가 나프탈렌환의 1~4 위치에 치환되고, 타방의 아미드기가 나프탈렌환의 5~8 위치에 치환되어 있어도 되며, 양방의 아미드기가 나프탈렌환의 1~4 위치(또는 5~8 위치)에 치환되어 있어도 된다.In Formula (2), two amide groups (-NHCO-) may be substituted by each of the two benzene rings which comprise a naphthalene ring one by one, and both of them are substituted by a benzene ring of a benzene ring among two benzene rings. You may be. That is, in two amide groups, one amide group may be substituted at the 1-4 position of a naphthalene ring, the other amide group may be substituted at the 5-8 position of a naphthalene ring, and both amide groups may be 1-4 positions of a naphthalene ring (or 5-8 position) may be substituted.

본 발명의 일 실시양태에서는, 식 (2)에 있어서, 일방의 아미드기가 나프탈렌환의 1 위치 또는 2 위치에 치환되어 있는 경우, 다른 일방의 아미드기가 나프탈렌환의 5~8 위치에 치환되어 있어도 되고, 바람직하게는 5 또는 6 위치에 치환되어 있어도 된다. 폴리아미드이미드 필름의 탄성률이나 굴곡 내성을 향상시키기 쉬운 관점에서, 보다 바람직하게는, 2개의 아미드기가 2, 6 위치, 1, 4 위치 또는 1, 5 위치의 관계로 치환되고, 더 바람직하게는 2, 6 위치의 관계로 치환된다.In one Embodiment of this invention, when one amide group is substituted by the 1-position or 2 position of a naphthalene ring in Formula (2), the other amide group may be substituted by the 5-8 position of a naphthalene ring, and it is preferable. May be substituted at the 5 or 6 position. From the viewpoint of easily improving the elastic modulus and flexural resistance of the polyamideimide film, more preferably, the two amide groups are substituted in the relationship of 2, 6, 1, 4 or 1, 5 position, and more preferably 2 , 6 positions are substituted.

또, 본 발명의 일 실시양태에서는, 탄성률을 향상시키기 쉬운 관점에서, 식 (2)에 있어서, 일방의 아미드기가 나프탈렌환의 1 위치에 치환되고, 타방의 아미드기가 나프탈렌환의 3 위치 또는 4 위치, 바람직하게는 4 위치에 치환되어 있어도 된다.In addition, in one embodiment of the present invention, from the viewpoint of easily improving the modulus of elasticity, in Formula (2), one amide group is substituted at 1 position of the naphthalene ring, and the other amide group is 3 or 4 position of the naphthalene ring, preferably May be substituted in the 4 position.

식 (1) 및 식 (2)에 있어서, X는, 각각 독립적으로, 2가의 유기기를 나타내고, 바람직하게는 탄소수 4~40의 2가의 유기기, 보다 바람직하게는 환상 구조를 갖는 탄소수 4~40의 2가의 유기기를 나타낸다. 환상 구조로서는, 지환, 방향환, 헤테로환 구조를 들 수 있다. 상기 유기기는, 유기기 중의 수소 원자가 탄화 수소기 또는 불소 치환된 탄화 수소기로 치환되어 있어도 되며, 그 경우, 탄화 수소기 및 불소 치환된 탄화 수소기의 탄소수는 바람직하게는 1~8이다. 본 발명의 일 실시양태인 폴리아미드이미드 수지는, 복수 종의 X를 포함할 수 있으며, 복수 종의 X는 각각, 서로 동일해도 되고 상이해도 된다. X로서는, 식 (10), 식 (11), 식 (12), 식 (13), 식 (14), 식 (15), 식 (16), 식 (17) 및 식 (18)로 나타나는 기; 그 식 (10)~식 (18)로 나타나는 기 중의 수소 원자가 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기로 치환된 기; 그리고 탄소수 6 이하의 쇄식 탄화 수소기가 예시된다.In Formula (1) and Formula (2), X represents a divalent organic group each independently, Preferably it is a C4-C40 divalent organic group, More preferably, C4-C40 which has a cyclic structure Represents a divalent organic group. Examples of the cyclic structure include an alicyclic, aromatic ring, and heterocyclic structure. In the organic group, the hydrogen atom in the organic group may be substituted with a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group, and in that case, the carbon number of the hydrocarbon group and the fluorine-substituted hydrocarbon group is preferably 1-8. The polyamideimide resin which is one embodiment of the present invention may include a plurality of types of X, and the plurality of types of X may be the same as or different from each other. As X, the group represented by Formula (10), Formula (11), Formula (12), Formula (13), Formula (14), Formula (15), Formula (16), Formula (17) and Formula (18). ; A group in which a hydrogen atom in the group represented by the formulas (10) to (18) is substituted with a methyl group, a fluoro group, a chloro group, or a trifluoromethyl group; And a C6 or less chain hydrocarbon group is illustrated.

Figure pat00005
Figure pat00005

식 (10)~식 (18) 중, *는 결합손을 나타내고,In formulas (10) to (18), * represents a bonding hand,

V1, V2 및 V3은, 각각 독립적으로, 단결합, -O-, -S-, -CH2-, -CH2-CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2-, -CO- 또는 -NQ를 나타낸다. 여기에서, Q는 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되는 탄소수 1~12의 탄화 수소기를 나타낸다.V 1 , V 2 and V 3 are each independently a single bond, -O-, -S-, -CH 2- , -CH 2 -CH 2- , -CH (CH 3 )-, -C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2- , -SO 2- , -CO- or -NQ. Here, Q represents the C1-C12 hydrocarbon group which may be substituted by the halogen atom.

1개의 예는, V1 및 V3이 단결합, -O- 또는 -S-이며, 또한 V2가 -CH2-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2- 또는 -SO2-이다. V1과 V2의 각 환에 대한 결합 위치, 및 V2와 V3의 각 환에 대한 결합 위치는 각각, 각 환에 대해서 바람직하게는 메타 위치 또는 파라 위치, 보다 바람직하게는 파라 위치이다.One example is that V 1 and V 3 are a single bond, -O- or -S-, and V 2 is -CH 2- , -C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2 -or -SO 2- . The bonding position for each ring of V 1 and V 2 and the bonding position for each ring of V 2 and V 3 are each preferably a meta position or a para position, more preferably a para position for each ring.

식 (10)~식 (18)로 나타나는 기 중에서도, 폴리아미드이미드 필름의 표면 경도, 굴곡 내성 및 탄성률이 높아지기 쉬운 관점에서, 식 (13), 식 (14), 식 (15), 식 (16) 및 식 (17)로 나타나는 기가 바람직하고, 식 (14), 식 (15) 및 식 (16)으로 나타나는 기가 보다 바람직하다. 또, V1, V2 및 V3은, 폴리아미드이미드 필름의 표면 경도, 탄성률 및 유연성이 높아지기 쉽기 때문에, 각각 독립적으로, 바람직하게는 단결합, -O- 또는 -S-, 보다 바람직하게는 단결합 또는 -O-이다.Among the groups represented by the formulas (10) to (18), the surface hardness, the bending resistance and the elastic modulus of the polyamide-imide film tend to be increased, and thus, the formulas (13), (14), (15), and (16) ) And groups represented by formula (17) are preferable, and groups represented by formulas (14), (15) and (16) are more preferable. In addition, since V 1 , V 2 and V 3 tend to increase the surface hardness, elastic modulus and flexibility of the polyamide-imide film, each independently, preferably a single bond, -O- or -S-, more preferably Single bond or -O-.

본 발명의 바람직한 실시양태에 있어서, 식 (1) 및 식 (2) 중의 복수의 X의 적어도 일부는, 식 (4):In a preferred embodiment of the invention, at least some of the plurality of X in formulas (1) and (2) are formula (4):

Figure pat00006
Figure pat00006

[식 (4) 중, R10~R17은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1~6의 알킬기, 탄소수 1~6의 알콕시기, 또는 탄소수 6~12의 아릴기를 나타내며, R10~R17에 포함되는 수소 원자는, 각각 독립적으로, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되고, *는 결합손을 나타낸다][In formula (4), R <10> -R <17> represents a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 alkoxy group, or a C6-C12 aryl group each independently, and R <10> -R The hydrogen atoms contained in 17 may be each independently substituted with a halogen atom, and * represents a bond.]

로 나타나는 기이다. 식 (1) 및 식 (2) 중의 복수의 X의 적어도 일부가 식 (4)로 나타나는 기이면, 폴리아미드이미드 필름은, 탄성률, 및 투명성 등을 향상시키기 쉽다.Is represented by. If at least one part of some X in Formula (1) and Formula (2) is group represented by Formula (4), a polyamide-imide film will improve elasticity modulus, transparency, etc. easily.

식 (4)에 있어서, R10, R11, R12, R13, R14, R15, R16 및 R17은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1~6의 알킬기, 탄소수 1~6의 알콕시기, 또는 탄소수 6~12의 아릴기를 나타낸다. 탄소수 1~6의 알킬기, 탄소수 1~6의 알콕시기 또는 탄소수 6~12의 아릴기로서는, 식 (2)의 Ra에 있어서의 탄소수 1~6의 알킬기, 탄소수 1~6의 알콕시기 또는 탄소수 6~12의 아릴기로서 예시한 것을 들 수 있다. R10~R17은, 각각 독립적으로, 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1~6의 알킬기를 나타내고, 보다 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1~3의 알킬기를 나타내며, 여기에서, R10~R17에 포함되는 수소 원자는, 각각 독립적으로, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 된다. 할로겐 원자로서는, 식 (2)의 Ra에 있어서의 할로겐 원자로서 예시한 것을 들 수 있다. R10~R17은, 각각 독립적으로, 폴리아미드이미드 필름의, 탄성률, 굴곡 내성 및 투명성 등이 높아지기 쉬운 관점에서, 더 바람직하게는 수소 원자, 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기, 특히 바람직하게는 R10, R12, R13, R14, R15, 및 R16이 수소 원자, R11 및 R17이 수소 원자, 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기이며, 특히 바람직하게는 R11 및 R17이 메틸기 또는 트리플루오로메틸기이다.In Formula (4), R <10> , R <11> , R <12> , R <13> , R <14> , R <15> , R <16> and R <17> are respectively independently a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group, and C1-C6 An alkoxy group or a C6-C12 aryl group. As a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 alkoxy group, or a C6-C12 aryl group, a C1-C6 alkyl group, C1-C6 alkoxy group, or carbon number in R <a> of Formula (2) The thing illustrated as an aryl group of 6-12 is mentioned. R 10 to R 17 each independently preferably represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, wherein R 10 to R 17 The hydrogen atoms contained in each may be independently substituted with a halogen atom. As a halogen atom, what was illustrated as the halogen atom in R <a> of Formula (2) is mentioned. R 10 to R 17 each independently represent a hydrogen atom, a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group from the viewpoint of increasing the elastic modulus, flex resistance and transparency of the polyamideimide film. , Particularly preferably R 10 , R 12 , R 13 , R 14 , R 15 , and R 16 are hydrogen atoms, R 11 and R 17 are hydrogen atoms, methyl groups, fluoro groups, chloro groups or trifluoromethyl groups And particularly preferably R 11 and R 17 are a methyl group or a trifluoromethyl group.

본 발명의 바람직한 실시양태에 있어서는, 식 (4)로 나타나는 기는 식 (4'):In a preferred embodiment of the invention, the group represented by formula (4) is represented by the formula (4 '):

Figure pat00007
Figure pat00007

로 나타나는 기이며, 즉, 복수의 X의 적어도 일부는, 식 (4')로 나타나는 기이다. 이 경우, 폴리아미드이미드 필름은, 탄성률이나 투명성을 향상시키기 쉬운 경향이 있음과 동시에, 불소 원소를 함유하는 골격에 의해 폴리아미드이미드 수지의 용매에 대한 용해성을 향상시키며, 수지 바니시의 점도를 낮게 억제하여 필름의 가공성을 용이하게 할 수도 있다.In other words, at least a part of the plurality of X's is a group represented by Formula (4 '). In this case, the polyamideimide film tends to improve the elastic modulus and transparency, and also improves the solubility of the polyamideimide resin in the solvent by a skeleton containing a fluorine element, and suppresses the viscosity of the resin varnish low. It is also possible to facilitate the processability of the film.

본 발명의 바람직한 실시양태에 있어서, 상기 폴리아미드이미드 수지 중의 X의, 바람직하게는 30몰% 이상, 보다 바람직하게는 50몰% 이상, 더 바람직하게는 70몰% 이상이 식 (4), 특히 식 (4')로 나타난다. 상기 폴리아미드이미드 수지에 있어서의 상기 범위 내의 X가 식 (4), 특히 식 (4')로 나타나면, 폴리아미드이미드 필름은, 탄성률이나 투명성을 향상시키기 쉬운 경향이 있음과 동시에, 불소 원소를 함유하는 골격에 의해 폴리아미드이미드 수지의 용매에 대한 용해성을 향상시키며, 수지 바니시의 점도를 낮게 억제하여 필름의 가공성을 용이하게 할 수도 있다. 또한, 바람직하게는, 상기 폴리아미드이미드 수지 중의 X의 100몰% 이하가 식 (4), 특히 식 (4')로 나타난다. 상기 폴리아미드이미드 수지 중의 X는 식 (4), 특히 식 (4')여도 된다. 상기 폴리아미드이미드 수지 중의 X의 식 (4)로 나타나는 기의 비율은, 예를 들면 1H-NMR을 이용하여 측정할 수 있고, 또는 원료의 도입비로부터 산출할 수도 있다.In a preferred embodiment of the present invention, at least 30 mol%, more preferably at least 50 mol%, even more preferably at least 70 mol% of X in said polyamideimide resin is of formula (4), in particular It is represented by formula (4 '). When X in the said range in the said polyamideimide resin is represented by Formula (4), especially Formula (4 '), a polyamideimide film tends to improve elasticity modulus and transparency, and contains a fluorine element. It is also possible to improve the solubility of the polyamide-imide resin in the solvent by reducing the viscosity of the polyamide-imide resin, to lower the viscosity of the resin varnish and to facilitate the processability of the film. Moreover, Preferably, 100 mol% or less of X in the said polyamideimide resin is represented by Formula (4), especially Formula (4 '). X in the said polyamide-imide resin may be Formula (4), especially Formula (4 '). Ratio of the group represented by the formula (4) in the X in the polyamide-imide resin, for example, can be measured by using a 1 H-NMR, or may be calculated from the raw material doipbi.

식 (1)에 있어서, Y는, 각각 독립적으로, 4가의 유기기를 나타내고, 바람직하게는 탄소수 4~40의 4가의 유기기를 나타내며, 보다 바람직하게는 환상 구조를 갖는 탄소수 4~40의 4가의 유기기를 나타낸다. 환상 구조로서는, 지환, 방향환, 헤테로환 구조를 들 수 있다. 상기 유기기는, 유기기 중의 수소 원자가 탄화 수소기 또는 불소 치환된 탄화 수소기로 치환되어 있어도 되는 유기기이며, 그 경우, 탄화 수소기 및 불소 치환된 탄화 수소기의 탄소수는 바람직하게는 1~8이다. 본 발명의 일 실시양태인 폴리아미드이미드 수지는, 복수 종의 Y를 포함할 수 있으며, 복수 종의 Y는, 서로 동일해도 되고 상이해도 된다. Y로서는, 이하의 식 (20), 식 (21), 식 (22), 식 (23), 식 (24), 식 (25), 식 (26), 식 (27), 식 (28) 및 식 (29)로 나타나는 기; 그 식 (20)~식 (29)로 나타나는 기 중의 수소 원자가 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기로 치환된 기; 그리고 4가의 탄소수 6 이하의 쇄식 탄화 수소기가 예시된다.In Formula (1), Y represents a tetravalent organic group each independently, Preferably it represents a C4-C40 tetravalent organic group, More preferably, it is C4-C40 tetravalent organic which has a cyclic structure. Group. Examples of the cyclic structure include an alicyclic, aromatic ring, and heterocyclic structure. The said organic group is the organic group in which the hydrogen atom in the organic group may be substituted by the hydrocarbon group or the fluorine-substituted hydrocarbon group, In that case, carbon number of a hydrocarbon group and a fluorine-substituted hydrocarbon group becomes like this. Preferably it is 1-8. . The polyamideimide resin which is one embodiment of the present invention may include a plurality of Y, and the plurality of Y may be the same as or different from each other. As Y, the following formula (20), formula (21), formula (22), formula (23), formula (24), formula (25), formula (26), formula (27), formula (28) and A group represented by formula (29); A group in which a hydrogen atom in the group represented by the formulas (20) to (29) is substituted with a methyl group, a fluoro group, a chloro group, or a trifluoromethyl group; And the tetravalent hydrocarbon group of 6 or less carbon atoms is illustrated.

Figure pat00008
Figure pat00008

식 (20)~식 (29) 중,In formulas (20) to (29),

*는 결합손을 나타내고,* Represents a bonding hand,

W1은, 단결합, -O-, -CH2-, -CH2-CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -Ar-, -SO2-, -CO-, -O-Ar-O-, -Ar-O-Ar-, -Ar-CH2-Ar-, -Ar-C(CH3)2-Ar- 또는 -Ar-SO2-Ar-을 나타낸다. Ar은, 수소 원자가 불소 원자로 치환되어 있어도 되는 탄소수 6~20의 아릴렌기를 나타내고, 구체예로서는 페닐렌기를 들 수 있다.W 1 is a single bond, -O-, -CH 2- , -CH 2 -CH 2- , -CH (CH 3 )-, -C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2- , -Ar-, -SO 2- , -CO-, -O-Ar-O-, -Ar-O-Ar-, -Ar-CH 2 -Ar-, -Ar-C (CH 3 ) 2 -Ar- Or -Ar-SO 2 -Ar-. Ar represents the C6-C20 arylene group in which a hydrogen atom may be substituted by the fluorine atom, and a phenylene group is mentioned as a specific example.

식 (20)~식 (29)로 나타나는 기 중에서도, 폴리아미드이미드 필름의 탄성률, 표면 경도 및 굴곡 내성 등이 높아지기 쉬운 관점에서, 식 (26), 식 (28) 또는 식 (29)로 나타나는 기가 바람직하고, 식 (26)으로 나타나는 기가 보다 바람직하다. 또, W1은, 폴리아미드이미드 필름의 탄성률, 표면 경도 및 굴곡 내성 등이 높아지기 쉽고, 또 황색도(YI값)를 억제하기 쉬운 관점에서, 각각 독립적으로, 바람직하게는 단결합, -O-, -CH2-, -CH2-CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2- 또는 -C(CF3)2-, 보다 바람직하게는 단결합, -O-, -CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2- 또는 -C(CF3)2-, 더 바람직하게는 단결합, -C(CH3)2- 또는 -C(CF3)2-이다.Among the groups represented by the formulas (20) to (29), the group represented by the formula (26), the formula (28) or the formula (29), from the viewpoint of the tendency of the elastic modulus, the surface hardness and the bending resistance of the polyamide-imide film to be increased, etc. It is preferable and the group represented by Formula (26) is more preferable. In addition, from the viewpoint that W 1 tends to increase the elastic modulus, the surface hardness, the bending resistance, and the like of the polyamideimide film, and the yellowness (YI value) is easily suppressed, each independently, preferably a single bond, -O- , -CH 2- , -CH 2 -CH 2- , -CH (CH 3 )-, -C (CH 3 ) 2 -or -C (CF 3 ) 2- , more preferably a single bond, -O- , -CH 2- , -CH (CH 3 )-, -C (CH 3 ) 2 -or -C (CF 3 ) 2- , more preferably a single bond, -C (CH 3 ) 2 -or -C (CF 3 ) 2- .

본 발명의 바람직한 실시양태에 있어서, 식 (1) 중의 복수의 Y의 적어도 일부는, 식 (5):In a preferred embodiment of the present invention, at least some of the plurality of Y in Formula (1) are represented by Formula (5):

Figure pat00009
Figure pat00009

[식 (5) 중, R18~R25는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1~6의 알킬기, 탄소수 1~6의 알콕시기, 또는 탄소수 6~12의 아릴기를 나타내고, R18~R25에 포함되는 수소 원자는, 각각 독립적으로, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되고, *는 결합손을 나타낸다][In Formula (5), R <18> -R <25> respectively independently represents a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 alkoxy group, or a C6-C12 aryl group, and R18 -R The hydrogen atoms contained in 25 may be each independently substituted with a halogen atom, and * represents a bond.]

로 나타나는 기이다. 식 (1) 중의 복수의 Y의 적어도 일부가 식 (5)로 나타나는 기이면, 폴리아미드이미드 필름은, 탄성률, 투명성, 굴곡성 등을 향상시키기 쉬운 경향이 있음과 동시에, 폴리아미드이미드 수지의 용매에 대한 용해성을 향상시키며, 수지 바니시의 점도를 낮게 억제하여 필름의 가공성을 용이하게 할 수도 있다.Is represented by. If at least one part of several Y in Formula (1) is group represented by Formula (5), a polyamide-imide film will tend to improve elasticity modulus, transparency, bendability, etc., and will be made into the solvent of a polyamideimide resin. It is also possible to improve the solubility to the resin, and to lower the viscosity of the resin varnish to facilitate the processability of the film.

식 (5)에 있어서, R18, R19, R20, R21, R22, R23, R24 및 R25는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1~6의 알킬기, 탄소수 1~6의 알콕시기 또는 탄소수 6~12의 아릴기를 나타낸다. 탄소수 1~6의 알킬기, 탄소수 1~6의 알콕시기 또는 탄소수 6~12의 아릴기로서는, 식 (2)의 Ra에 있어서의 탄소수 1~6의 알킬기, 탄소수 1~6의 알콕시기 또는 탄소수 6~12의 아릴기로서 예시한 것을 들 수 있다. R18~R25는, 각각 독립적으로, 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1~6의 알킬기를 나타내고, 보다 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1~3의 알킬기를 나타내며, 여기에서, R18~R25에 포함되는 수소 원자는, 각각 독립적으로, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 된다. 할로겐 원자로서는, 식 (2)의 Ra에 있어서의 할로겐 원자로서 예시한 것을 들 수 있다. R18~R25는, 각각 독립적으로, 폴리아미드이미드 필름의 표면 경도, 굴곡 내성 및 투명성 등이 높아지기 쉬운 관점에서, 더 바람직하게는 수소 원자, 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기이고, 보다 더 바람직하게는 R18, R19, R20, R23, R24 및 R25가 수소 원자, R21 및 R22가 수소 원자, 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기이며, 특히 바람직하게는 R21 및 R22가 메틸기 또는 트리플루오로메틸기이다.In Formula (5), R <18> , R <19> , R <20> , R <21> , R <22> , R <23> , R <24> and R <25> respectively independently represent a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group, and C1-C6 An alkoxy group or a C6-C12 aryl group. As a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 alkoxy group, or a C6-C12 aryl group, a C1-C6 alkyl group, C1-C6 alkoxy group, or carbon number in R <a> of Formula (2) The thing illustrated as an aryl group of 6-12 is mentioned. R 18 to R 25 each independently, preferably represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and more preferably represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, wherein R 18 to R 25 The hydrogen atoms contained in each may be independently substituted with a halogen atom. As a halogen atom, what was illustrated as the halogen atom in R <a> of Formula (2) is mentioned. R 18 to R 25 are each independently, from the viewpoint of increasing the surface hardness, bending resistance and transparency of the polyamide-imide film, etc., more preferably a hydrogen atom, a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group. More preferably, R 18 , R 19 , R 20 , R 23 , R 24 and R 25 are hydrogen atoms, R 21 and R 22 are hydrogen atoms, methyl group, fluoro group, chloro group or trifluoromethyl group Especially preferably, R <21> and R <22> is a methyl group or a trifluoromethyl group.

본 발명의 바람직한 실시양태에 있어서는, 식 (5)로 나타나는 기는, 식 (5'):In a preferred embodiment of the present invention, the group represented by formula (5) is formula (5 '):

Figure pat00010
Figure pat00010

로 나타나는 기이며, 즉, 복수의 Y의 적어도 일부는, 식 (5')로 나타나는 기이다. 이 경우, 폴리아미드이미드 필름의 탄성률이나 투명성 등을 향상시키기 쉽다.In other words, at least a part of the plurality of Y's is a group represented by Formula (5 '). In this case, it is easy to improve the elasticity modulus, transparency, etc. of a polyamideimide film.

본 발명의 바람직한 실시양태에 있어서, 상기 폴리아미드이미드 수지의 Y의, 바람직하게는 50몰% 이상, 보다 바람직하게는 60몰% 이상, 더 바람직하게는 70몰% 이상이 식 (5), 특히 식 (5')로 나타난다. 상기 폴리아미드이미드 수지에 있어서의 상기 범위 내의 Y가 식 (5), 특히 식 (5')로 나타나면, 당해 폴리아미드이미드 수지를 포함하여 이루어지는 폴리아미드이미드 필름은 고탄성률, 고투명성, 및 고굴곡성을 갖기 쉬운 경향이 있고, 불소 원소를 추가로 함유하는 골격에 의해 당해 폴리아미드이미드 수지의 용매에 대한 용해성을 향상시키며, 수지 바니시의 점도를 낮게 억제할 수 있어, 필름의 제조가 용이해진다. 또한, 바람직하게는, 상기 폴리아미드이미드 수지 중의 Y의 100몰% 이하가 식 (5), 특히 식 (5')로 나타난다. 상기 폴리아미드이미드 수지 중의 Y는 식 (5), 특히 식 (5')여도 된다. 상기 폴리아미드이미드 수지 중의 Y의 식 (5)로 나타나는 기의 비율은, 예를 들면 1H-NMR을 이용하여 측정할 수 있고, 또는 원료의 도입비로부터 산출할 수도 있다.In a preferred embodiment of the invention, preferably at least 50 mol%, more preferably at least 60 mol%, even more preferably at least 70 mol% of Y of the polyamideimide resin is of formula (5), in particular It is represented by the formula (5 '). When Y in the said range in the said polyamideimide resin is represented by Formula (5), especially Formula (5 '), the polyamideimide film containing this polyamideimide resin has high elastic modulus, high transparency, and high flexibility. There exists a tendency to have a tendency to have, and the skeleton which further contains a fluorine element improves the solubility to the solvent of the said polyamideimide resin, can suppress the viscosity of resin varnish low, and manufacture of a film becomes easy. Moreover, Preferably, 100 mol% or less of Y in the said polyamideimide resin is represented by Formula (5), especially Formula (5 '). Y in the said polyamide-imide resin may be Formula (5), especially Formula (5 '). Ratio of the group represented by the formula (5) of the Y in the polyamide-imide resin, for example, can be measured by using a 1 H-NMR, or may be calculated from the raw material doipbi.

본 발명의 바람직한 실시양태에 있어서, 본 발명의 폴리아미드이미드 수지에 있어서, 식 (2)로 나타나는 구성 단위의 함유량은, 식 (1)로 나타나는 구성 단위 1몰에 대해서, 0.1몰 이상, 보다 바람직하게는 0.5몰 이상, 더 바람직하게는 1.0몰 이상, 특히 바람직하게는 1.5몰 이상이고, 바람직하게는 10.0몰 이하, 보다 바람직하게는 6.0몰 이하, 더 바람직하게는 5.0몰 이하, 특히 바람직하게는 4.5몰 이하이며, 이들 상한과 하한의 임의의 조합이어도 된다. 식 (2)로 나타나는 구성 단위의 함유량이 상기의 하한 이상이면, 폴리아미드이미드 필름은, 보다 높은 탄성률이나 굴곡 내성을 발현하기 쉽다. 또, 식 (2)로 나타나는 구성 단위의 함유량이 상기의 상한 이하이면, 식 (2) 중의 아미드 결합 간의 수소 결합에 의한 증점을 억제하여, 바니시의 점도를 저감할 수 있어, 폴리아미드이미드 필름의 제조가 용이해진다. 또한, 폴리아미드이미드 수지 중의, 식 (2)로 나타나는 구성 단위의 함유량(비율)은, 예를 들면 1H-NMR을 이용하여 측정할 수 있고, 또는 원료의 도입비로부터 산출할 수도 있다.In a preferred embodiment of the present invention, in the polyamideimide resin of the present invention, the content of the structural unit represented by the formula (2) is 0.1 mol or more, more preferably to 1 mol of the structural unit represented by the formula (1). Preferably it is 0.5 mol or more, More preferably, it is 1.0 mol or more, Especially preferably, it is 1.5 mol or more, Preferably it is 10.0 mol or less, More preferably, it is 6.0 mol or less, More preferably, it is 5.0 mol or less, Especially preferably, It is 4.5 mol or less, and arbitrary combinations of these upper limits and lower limits may be sufficient. When content of the structural unit represented by Formula (2) is more than the said minimum, a polyamide-imide film tends to express higher elastic modulus and bending resistance. Moreover, when content of the structural unit represented by Formula (2) is below the said upper limit, the thickening by the hydrogen bond between the amide bonds in Formula (2) can be suppressed, and the viscosity of a varnish can be reduced and a polyamide-imide film of Manufacturing becomes easy. In addition, the content (ratio) of the constituent unit represented by the formula (2) in the polyamide-imide resin, for example, it can be measured by using a 1 H-NMR, or may be calculated from the raw material doipbi.

본 발명의 폴리아미드이미드 수지는, 식 (2')The polyamideimide resin of the present invention is formula (2 ')

Figure pat00011
Figure pat00011

[식 (2') 중, X 및 K는 각각 독립적으로, 2가의 유기기를 나타낸다][In formula (2 '), X and K each independently represent a divalent organic group.]

로 나타나는 구성 단위를 추가로 포함하고 있어도 된다.It may further include the structural unit shown by.

식 (2')에 있어서, K는, 각각 독립적으로, 2가의 유기기이고, 바람직하게는 탄소수 1~8의 탄화 수소기 또는 불소 치환된 탄소수 1~8의 탄화 수소기로 치환되어 있어도 되는, 탄소수 4~40의 유기기이며, 보다 바람직하게는 탄소수 1~8의 탄화 수소기 또는 불소 치환된 탄소수 1~8의 탄화 수소기로 치환되어 있어도 되는, 환상 구조를 갖는 탄소수 4~40의 2가의 유기기를 나타낸다. 환상 구조로서는, 지환, 방향환, 헤테로환 구조를 들 수 있다. K의 유기기로서, 식 (20), 식 (21), 식 (22), 식 (23), 식 (24), 식 (25), 식 (26), 식 (27) 및 식 (28)로 나타나는 기의 결합손 중, 인접하지 않는 2개가 수소 원자로 치환된 기 및 탄소수 6 이하의 2가의 쇄식 탄화 수소기가 예시된다. 폴리아미드이미드 필름의 황색도를 억제(YI값을 저감)하기 쉬운 점에서, 식 (20)~식 (27)로 나타나는 기가 바람직하고, 식 (22), 식 (26), 식 (27)이 보다 바람직하고, 식 (26)이 특히 바람직하다. 본 발명의 일 실시양태에 있어서, 폴리아미드이미드 수지는 각각, 복수 종의 K를 포함할 수 있으며, 복수 종의 K는, 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.In Formula (2 '), K is a bivalent organic group each independently, Preferably carbon number which may be substituted by the C1-C8 hydrocarbon group or the fluorine-substituted C1-C8 hydrocarbon group It is a 4-40 organic group, More preferably, a C4-C40 divalent organic group which has a cyclic structure which may be substituted by the C1-C8 hydrocarbon group or the fluorine-substituted C1-C8 hydrocarbon group Indicates. Examples of the cyclic structure include an alicyclic, aromatic ring, and heterocyclic structure. As the organic group of K, formula (20), formula (21), formula (22), formula (23), formula (24), formula (25), formula (26), formula (27) and formula (28) Among the bonds of the group represented by the above, groups in which two non-adjacent groups are substituted with a hydrogen atom and a divalent chain hydrocarbon group having 6 or less carbon atoms are exemplified. Since it is easy to suppress the yellowness of a polyamideimide film (reduces YI value), group represented by Formula (20)-Formula (27) is preferable, and Formula (22), Formula (26), and Formula (27) are More preferably, formula (26) is especially preferable. In one embodiment of the present invention, the polyamide-imide resin may each include a plurality of types of K, and the plurality of types of K may be the same as or different from each other.

본 발명의 바람직한 실시양태에 있어서, 폴리아미드이미드 필름의 표면 경도를 보다 향상시켜, 고탄성률과 고표면 경도를 양립하기 쉬운 관점에서, 식 (2') 중의 K의 적어도 일부는, 식 (3)In a preferred embodiment of the present invention, at least part of K in the formula (2 ') is represented by the formula (3) from the viewpoint of further improving the surface hardness of the polyamide-imide film and making it possible to achieve high elastic modulus and high surface hardness.

Figure pat00012
Figure pat00012

(식 (3) 중, R1~R8은 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1~6의 알킬기, 탄소수 1~6의 알콕시기, 또는 탄소수 6~12의 아릴기를 나타내고, R1~R8에 포함되는 수소 원자는, 각각 독립적으로, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되며, A는, 단결합, -O-, -CH2-, -CH2-CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2-, -S-, -CO- 또는 -N(R9)-를 나타내고, R9는 수소 원자, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되는 탄소수 1~12의 탄화 수소기를 나타내며, m은 0~4의 정수이고, *는 결합손을 나타낸다)(Formula (3) of, R 1 ~ R 8 is each independently represents a hydrogen atom, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms alkyl group, having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having a carbon number of 6 ~ 12, R 1 ~ R 8 The hydrogen atoms contained in each may be independently substituted with a halogen atom, and A is a single bond, -O-, -CH 2- , -CH 2 -CH 2- , -CH (CH 3 )-,- C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2- , -SO 2- , -S-, -CO- or -N (R 9 )-, and R 9 is substituted with a hydrogen atom or a halogen atom Represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, m is an integer of 0 to 4, and * represents a bond.)

로 나타나는 기를 포함한다.Include groups represented by

식 (3)에 있어서, A는, 각각 독립적으로, 단결합, -O-, -CH2-, -CH2-CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2-, -S-, -CO- 또는 -N(R9)-를 나타내며, 폴리아미드이미드 필름의 탄성률이나 표면 경도, 굴곡성을 향상시키기 쉬운 관점에서, 바람직하게는 -O- 또는 -S-를 나타내고, 보다 바람직하게는 -O-를 나타낸다. R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7 및 R8은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1~6의 알킬기, 탄소수 1~6의 알콕시기, 또는 탄소수 6~12의 아릴기를 나타낸다. 탄소수 1~6의 알킬기, 탄소수 1~6의 알콕시기 또는 탄소수 6~12의 아릴기로서는, 식 (2)의 Ra에 있어서의 탄소수 1~6의 알킬기, 탄소수 1~6의 알콕시기 또는 탄소수 6~12의 아릴기로서 상기에 예시한 것을 들 수 있다. 폴리아미드이미드 필름의 표면 경도, 탄성률 및 굴곡 내성 등을 향상시키기 쉬운 관점에서, R1~R8은, 각각 독립적으로, 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1~6의 알킬기를 나타내고, 보다 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1~3의 알킬기를 나타내며, 더 바람직하게는 수소 원자를 나타낸다. 여기에서, R1~R8에 포함되는 수소 원자는, 각각 독립적으로, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 된다. R9는 수소 원자, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되는 탄소수 1~12의 탄화 수소기를 나타낸다. 또, X로서는, 식 (1) 및 식 (2)의 X로서 상기에 예시한 것을 들 수 있다.In the formula (3), A is, each independently, a single bond, -O-, -CH 2 -, -CH 2 -CH 2 -, -CH (CH 3) -, -C (CH 3) 2 - , -C (CF 3 ) 2- , -SO 2- , -S-, -CO- or -N (R 9 )-, from the viewpoint of improving the elastic modulus, surface hardness, and flexibility of the polyamideimide film. Preferably, -O- or -S- is represented, More preferably, -O- is represented. R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 and R 8 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or 6 carbon atoms An aryl group of 12 is represented. As a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 alkoxy group, or a C6-C12 aryl group, a C1-C6 alkyl group, C1-C6 alkoxy group, or carbon number in R <a> of Formula (2) The thing illustrated above as an aryl group of 6-12 is mentioned. From the viewpoint of easily improving the surface hardness, elastic modulus, bending resistance and the like of the polyamideimide film, each of R 1 to R 8 independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and more preferably A hydrogen atom or a C1-C3 alkyl group is represented, More preferably, a hydrogen atom is represented. Here, the hydrogen atoms contained in R 1 to R 8 may be each independently substituted with a halogen atom. R <9> represents the C1-C12 hydrocarbon group which may be substituted by the hydrogen atom and the halogen atom. Moreover, what was illustrated above as X of Formula (1) and Formula (2) is mentioned as X.

식 (3)에 있어서, m은, 0~4의 범위의 정수이며, m이 이 범위 내이면, 폴리아미드이미드 필름의 탄성률, 표면 경도 및 굴곡 내성 등이 양호해지는 경향이 있다. 또, 식 (3)에 있어서, m은, 바람직하게는 0~3의 범위의 정수, 보다 바람직하게는 0~2의 범위의 정수, 더 바람직하게는 0 또는 1이며, 특히 바람직하게는 1이다. m이 이 범위 내이면, 폴리아미드이미드 필름의 탄성률, 표면 경도 및 굴곡 내성 등이 양호해지는 경향이 있음과 동시에, 원료의 입수성이 비교적 양호하다. 또, K는, 식 (3)으로 나타나는 기를 1종 또는 2종류 이상 포함하고 있어도 되고, 폴리아미드이미드 필름의 탄성률이나 표면 경도를 보다 향상시키기 쉬운 관점에서, m이 1인 기를 포함하는 것이 보다 바람직하다.In Formula (3), m is an integer of the range of 0-4, and when m is in this range, there exists a tendency for the elasticity modulus, surface hardness, bending resistance, etc. of a polyamide-imide film to become favorable. Moreover, in Formula (3), m is preferably an integer of the range of 0-3, More preferably, it is an integer of the range of 0-2, More preferably, it is 0 or 1, Especially preferably, it is 1 . When m is in this range, there exists a tendency for the elasticity modulus, surface hardness, bending resistance, etc. of a polyamideimide film to become favorable, and the availability of a raw material is comparatively favorable. Moreover, K may contain 1 type (s) or 2 or more types of group represented by Formula (3), and it is more preferable to include the group whose m is 1 from a viewpoint which is easy to improve the elasticity modulus and surface hardness of a polyamide-imide film more. Do.

본 발명의 바람직한 실시양태에 있어서는, 식 (3)은 식 (3'):In a preferred embodiment of the invention, formula (3) is formula (3 '):

Figure pat00013
Figure pat00013

으로 나타나는 기이며, 즉, 복수의 K의 적어도 일부는 식 (3')으로 나타나는 기이다. 이 경우, 폴리아미드이미드 필름은, 고표면 경도를 발현할 수 있는 경향이 있음과 동시에, 높은 굴곡 내성을 가질 수도 있고, 황색도도 저감하기 쉽다.In other words, at least a part of the plurality of K's is a group represented by Formula (3 '). In this case, the polyamideimide film tends to exhibit high surface hardness, may have high bending resistance, and yellowness is also easily reduced.

본 발명의 폴리아미드이미드 수지가 식 (3)으로 나타나는 기를 포함하는 바람직한 실시양태에 있어서, 식 (3)의 m이 0~4, 바람직하게는 1~4로 나타나는 기의 함유량은, 식 (1)로 나타나는 구성 단위, 식 (2)로 나타나는 구성 단위, 및 식 (2')로 나타나는 구성 단위[이하, 식 (1)~식 (2')로 나타나는 구성 단위로 나타내는 경우가 있다]의 총몰량에 대해서, 바람직하게는 3몰% 이상, 보다 바람직하게는 5몰% 이상, 더 바람직하게는 7몰% 이상, 특히 바람직하게는 9몰% 이상이며, 바람직하게는 90몰% 이하, 보다 바람직하게는 70몰% 이하, 더 바람직하게는 50몰% 이하, 특히 바람직하게는 30몰% 이하이고, 이들 상한과 하한의 임의의 조합이어도 된다. 식 (3)의 m이 0~4, 바람직하게는 1~4로 나타나는 기의 함유량이 상기의 하한 이상이면, 폴리아미드이미드 필름이 충분한 굴곡 내성을 가짐과 동시에, 고탄성률과 고표면 경도를 양립하기 쉽다. 식 (3)의 m이 1~4로 나타나는 기의 함유량이 상기의 상한 이하이면, 식 (3) 유래의 아미드 결합 간 수소 결합에 의한 증점을 억제함으로써, 수지 바니시의 점도를 억제할 수 있어, 폴리아미드이미드 필름의 가공을 용이하게 할 수 있다.In a preferred embodiment in which the polyamideimide resin of the present invention includes a group represented by formula (3), the content of the group represented by m in formula (3) is 0 to 4, preferably 1 to 4, is represented by formula (1): ), The structural unit represented by Formula (2), and the structural unit represented by Formula (2 ') (Hereinafter, it may be represented by the structural unit represented by Formula (1)-Formula (2').) The molar amount is preferably 3 mol% or more, more preferably 5 mol% or more, even more preferably 7 mol% or more, particularly preferably 9 mol% or more, preferably 90 mol% or less, more preferably Preferably it is 70 mol% or less, More preferably, it is 50 mol% or less, Especially preferably, it is 30 mol% or less, and arbitrary combinations of these upper limits and lower limits may be sufficient. When m in Formula (3) is 0-4, Preferably content of group represented by 1-4 is more than the said minimum, while a polyamideimide film has sufficient bending resistance, it is compatible with high elastic modulus and high surface hardness. easy to do. When the content of the group represented by m to 1 to 4 in formula (3) is equal to or less than the above upper limit, the viscosity of the resin varnish can be suppressed by suppressing the thickening due to hydrogen bonding between amide bonds derived from formula (3), Processing of a polyamideimide film can be made easy.

본 발명의 폴리아미드이미드 수지가 식 (3)으로 나타나는 기를 포함하는 바람직한 실시양태에 있어서, 식 (3)의 m이 0~4, 바람직하게는 1~4로 나타나는 기의 함유량은, 식 (2)로 나타나는 구성 단위 및 식 (2')로 나타나는 구성 단위의 총몰량에 대해서, 바람직하게는 5몰% 이상, 보다 바람직하게는 8몰% 이상, 더 바람직하게는 10몰% 이상, 특히 바람직하게는 12몰% 이상이며, 바람직하게는 90몰% 이하, 보다 바람직하게는 70몰% 이하, 더 바람직하게는 50몰% 이하, 특히 바람직하게는 30몰% 이하이고, 이들 상한과 하한의 임의의 조합이어도 된다. 식 (3)의 m이 0~4, 바람직하게는 1~4로 나타나는 기의 함유량이 상기의 하한 이상이면, 폴리아미드이미드 필름이 충분한 굴곡 내성을 가짐과 동시에, 고탄성률과 고표면 경도를 양립하기 쉽다. 또, 식 (3)의 m이 0~4, 바람직하게는 1~4로 나타나는 기의 함유량이 상기의 상한 이하이면, 식 (3) 유래의 아미드 결합 간 수소 결합에 의한 증점을 억제함으로써, 수지 바니시의 점도를 억제할 수 있어, 폴리아미드이미드 필름의 가공을 용이하게 할 수 있다. 또한, 폴리아미드이미드 수지 중의, m이 1~4인 경우의 식 (3)으로 나타나는 기의 함유량(비율)은, 예를 들면 1H-NMR을 이용하여 측정할 수 있고, 또는 원료의 도입비로부터 산출할 수도 있다.In a preferred embodiment in which the polyamideimide resin of the present invention includes a group represented by formula (3), the content of the group represented by m of formula (3) is 0 to 4, preferably 1 to 4, is represented by formula (2) Regarding the total molar amount of the structural unit represented by) and the structural unit represented by the formula (2 '), preferably 5 mol% or more, more preferably 8 mol% or more, even more preferably 10 mol% or more, particularly preferably Is 12 mol% or more, preferably 90 mol% or less, more preferably 70 mol% or less, still more preferably 50 mol% or less, particularly preferably 30 mol% or less, and any of these upper and lower limits It may be a combination. When m in Formula (3) is 0-4, Preferably content of group represented by 1-4 is more than the said minimum, while a polyamideimide film has sufficient bending resistance, it is compatible with high elastic modulus and high surface hardness. easy to do. Moreover, when m of Formula (3) is 0-4, Preferably content of group represented by 1-4 is below the said upper limit, by suppressing the thickening by the hydrogen bond between the amide bonds derived from Formula (3), The viscosity of the varnish can be suppressed and the processing of the polyamideimide film can be facilitated. Further, from the polyamide-imide resin in, m is 1 to 4 when the equation (3) the content (ratio) of groups represented by, for example, be measured by using a 1 H-NMR, and or doipbi of the raw material for the It can also be calculated.

본 발명의 바람직한 실시양태에 있어서, 폴리아미드이미드 수지 중의 식 (2)로 나타나는 구성 단위의 함유량은, 식 (1)~식 (2')로 나타나는 구성 단위의 총몰량에 대해서, 바람직하게는 20몰% 이상, 보다 바람직하게는 30몰% 이상, 더 바람직하게는 40몰% 이상, 특히 바람직하게는 50몰% 이상, 가장 바람직하게는 60몰% 이상이며, 바람직하게는 90몰% 이하, 보다 바람직하게는 85몰% 이하, 더 바람직하게는 80몰% 이하이고, 이들 상한과 하한의 임의의 조합이어도 된다. 폴리아미드이미드 수지 중의 식 (2)로 나타나는 구성 단위가 상기 범위이면, 폴리아미드이미드 필름의 탄성률이나 굴곡 내성을 보다 향상시키기 쉽다.In preferable embodiment of this invention, content of the structural unit represented by Formula (2) in polyamideimide resin becomes like this with respect to the total molar amount of the structural unit represented by Formula (1)-Formula (2 '), Preferably it is 20 At least mol, more preferably at least 30 mol%, more preferably at least 40 mol%, particularly preferably at least 50 mol%, most preferably at least 60 mol%, preferably at most 90 mol%, more Preferably it is 85 mol% or less, More preferably, it is 80 mol% or less, and arbitrary combinations of these upper limits and lower limits may be sufficient. If the structural unit represented by Formula (2) in polyamide-imide resin is the said range, it will be easy to improve the elasticity modulus and bending resistance of a polyamide-imide film more.

본 발명의 바람직한 실시양태에 있어서, 폴리아미드이미드 수지 중의 식 (2)로 나타나는 구성 단위의 함유량은, 식 (2)로 나타나는 구성 단위 및 식 (2')로 나타나는 구성 단위의 총몰량에 대해서, 바람직하게는 40몰% 이상, 보다 바람직하게는 60몰% 이상, 더 바람직하게는 80몰% 이상이며, 바람직하게는 95몰% 이하, 보다 바람직하게는 90몰% 이하이고, 이들 상한과 하한의 임의의 조합이어도 된다. 폴리아미드이미드 수지 중의 식 (2)로 나타나는 구성 단위가 상기 범위이면, 폴리아미드이미드 필름의 탄성률이나 굴곡 내성을 보다 향상시키기 쉽다. 또한, 폴리아미드이미드 수지 중의 식 (2)로 나타나는 구성 단위의 함유량(비율)은, 예를 들면 1H-NMR을 이용하여 측정할 수 있고, 또는 원료의 도입비로부터 산출할 수도 있다.In a preferred embodiment of the present invention, the content of the structural unit represented by formula (2) in the polyamideimide resin is relative to the total molar amount of the structural unit represented by the formula (2) and the structural unit represented by the formula (2 '), Preferably it is 40 mol% or more, More preferably, it is 60 mol% or more, More preferably, it is 80 mol% or more, Preferably it is 95 mol% or less, More preferably, it is 90 mol% or less, and these upper and lower limits Any combination may be sufficient. If the structural unit represented by Formula (2) in polyamide-imide resin is the said range, it will be easy to improve the elasticity modulus and bending resistance of a polyamide-imide film more. In addition, the content (ratio) of the constituent unit represented by the formula (2) in the polyamide-imide resin, for example, it can be measured by using a 1 H-NMR, or may be calculated from the raw material doipbi.

폴리아미드이미드 수지는, 추가로 식 (30)으로 나타나는 구성 단위 및/또는 식 (31)로 나타나는 구성 단위를 포함하고 있어도 된다.The polyamideimide resin may further include the structural unit represented by Formula (30) and / or the structural unit represented by Formula (31).

Figure pat00014
Figure pat00014

식 (30)에 있어서, Y1은, 각각 독립적으로, 4가의 유기기이며, 바람직하게는 유기기 중의 수소 원자가 탄화 수소기 또는 불소 치환된 탄화 수소기로 치환되어 있어도 되는 유기기이다. Y1로서는, 식 (20), 식 (21), 식 (22), 식 (23), 식 (24), 식 (25), 식 (26), 식 (27), 식 (28) 및 식 (29)로 나타나는 기, 그 식 (20)~식 (29)로 나타나는 기 중의 수소 원자가 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기로 치환된 기와, 4가의 탄소수 6 이하의 쇄식 탄화 수소기가 예시된다. 본 발명의 일 실시양태인 폴리아미드이미드 수지는, 복수 종의 Y1을 포함할 수 있으며, 복수 종의 Y1은, 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.In Formula (30), Y <1> is a tetravalent organic group each independently, Preferably it is the organic group in which the hydrogen atom in the organic group may be substituted by the hydrocarbon group or the fluorine-substituted hydrocarbon group. As Y <1> , Formula (20), Formula (21), Formula (22), Formula (23), Formula (24), Formula (25), Formula (26), Formula (27), Formula (28) and Formula A group in which the hydrogen atom in the group represented by (29), the group represented by formulas (20) to (29) is substituted with a methyl group, a fluoro group, a chloro group or a trifluoromethyl group, and a tetravalent hydrocarbon having 6 or less carbon atoms Groups are illustrated. One embodiment of the polyamide-imide resin of the present invention, may include a plurality of types of Y 1, Y 1 may be a plurality of types it is be the same or different from each other.

식 (31)에 있어서, Y2는 3가의 유기기이며, 바람직하게는 유기기 중의 수소 원자가 탄화 수소기 또는 불소 치환된 탄화 수소기로 치환되어 있어도 되는 유기기이다. Y2로서는, 식 (20), 식 (21), 식 (22), 식 (23), 식 (24), 식 (25), 식 (26), 식 (27), 식 (28) 및 식 (29)로 나타나는 기의 결합손 중 어느 1개가 수소 원자로 치환된 기, 및 3가의 탄소수 6 이하의 쇄식 탄화 수소기가 예시된다. 본 발명의 일 실시양태인 폴리아미드이미드 수지는, 복수 종의 Y2를 포함할 수 있으며, 복수 종의 Y2는, 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.In Formula (31), Y <2> is a trivalent organic group, Preferably it is the organic group by which the hydrogen atom in the organic group may be substituted by the hydrocarbon group or the fluorine-substituted hydrocarbon group. Examples of Y 2, formula 20, formula 21, formula 22, formula 23, formula 24, formula 25, formula 26, formula 27, formula 28 and formula The group by which any one of the bonds of group represented by (29) was substituted by the hydrogen atom, and a trivalent C6 or less chain hydrocarbon group are illustrated. One embodiment of the polyamide-imide resin of the present invention, may include a plurality of types of Y 2, Y 2 is a plurality of types, and may be the same or different from each other.

식 (30) 및 식 (31)에 있어서, X1 및 X2는, 각각 독립적으로, 2가의 유기기이며, 바람직하게는 유기기 중의 수소 원자가 탄화 수소기 또는 불소 치환된 탄화 수소기로 치환되어 있어도 되는 유기기이다. X1 및 X2로서는, 식 (10), 식 (11), 식 (12), 식 (13), 식 (14), 식 (15), 식 (16), 식 (17), 및 식 (18)로 나타나는 기; 그 식 (10)~식 (18)로 나타나는 기 중의 수소 원자가 메틸기, 플루오로기, 클로로기 또는 트리플루오로메틸기로 치환된 기; 그리고 탄소수 6 이하의 쇄식 탄화 수소기가 예시된다.In Formula (30) and Formula (31), X <1> and X <2> are respectively independently divalent organic groups, Preferably, even if the hydrogen atom in an organic group is substituted by the hydrocarbon group or the fluorine-substituted hydrocarbon group, It is organic group. As X 1 and X 2 , formula (10), formula (11), formula (12), formula (13), formula (14), formula (15), formula (16), formula (17), and formula ( Group represented by 18); A group in which a hydrogen atom in the group represented by the formulas (10) to (18) is substituted with a methyl group, a fluoro group, a chloro group, or a trifluoromethyl group; And a C6 or less chain hydrocarbon group is illustrated.

본 발명의 일 실시양태에 있어서, 폴리아미드이미드 수지는, 식 (1) 및 식 (2)로 나타나는 구성 단위에 더해, 필요에 따라, 식 (2')로 나타나는 구성 단위, 식 (30)으로 나타나는 구성 단위 및 식 (31)로 나타나는 구성 단위로부터 선택되는 적어도 1종의 구성 단위를 포함한다. 폴리아미드이미드 필름의 탄성률, 표면 경도 및 굴곡 내성 등을 향상시키기 쉬운 관점에서, 상기 폴리아미드이미드 수지에 있어서, 식 (1), 식 (2), 식 (2'), 식 (30) 및 식 (31)로 나타나는 구성 단위의 합계 함유량은, 폴리아미드이미드 수지를 구성하는 전체 구성 단위의 총몰량에 근거하여, 바람직하게는 80몰% 이상, 보다 바람직하게는 90몰% 이상, 더 바람직하게는 95몰% 이상, 특히 바람직하게는 99몰% 이상이며, 통상 100몰% 이하이다. 또한, 식 (1), 식 (2), 식 (2'), 식 (30) 및 식 (31)로 나타나는 구성 단위의 함유량(비율)은, 예를 들면, 1H-NMR을 이용하여 측정할 수 있고, 또는 원료의 도입비로부터 산출할 수도 있다.In one embodiment of the present invention, the polyamideimide resin is added to the structural units represented by the formulas (1) and (2) and, if necessary, the structural units represented by the formula (2 '), the formula (30). At least 1 sort (s) of structural unit chosen from the structural unit shown and the structural unit represented by Formula (31) is included. From the viewpoint of easily improving the elastic modulus, the surface hardness, the bending resistance and the like of the polyamideimide film, in the polyamideimide resin, formulas (1), (2), (2 '), (30) and formula The total content of the structural units represented by (31) is preferably 80 mol% or more, more preferably 90 mol% or more, further preferably based on the total molar amount of all the structural units constituting the polyamideimide resin. 95 mol% or more, Especially preferably, it is 99 mol% or more, and it is 100 mol% or less normally. In addition, content (ratio) of the structural unit represented by Formula (1), Formula (2), Formula (2 '), Formula (30), and Formula (31) is measured using <1> H-NMR, for example. It can also calculate or from the introduction ratio of a raw material.

폴리아미드이미드 수지의 중량 평균 분자량(Mw)은, 표준 폴리스티렌 환산으로, 바람직하게는 100,000 이상, 보다 바람직하게는 150,000 이상, 더 바람직하게는 200,000 이상, 특히 바람직하게는 250,000 이상, 그 중에서도 300,000 이상이며, 바람직하게는 1,000,000 이하, 보다 바람직하게는 800,000 이하, 더 바람직하게는 700,000 이하, 특히 바람직하게는 500,000 이하이고, 이들 상한과 하한을 임의로 조합해도 된다. 폴리아미드이미드 수지의 중량 평균 분자량이 상기의 하한 이상이면, 폴리아미드이미드 필름의 탄성률, 및 굴곡 내성 등의 특성이 향상되기 쉽고, 또 상기의 상한 이하이면, 수지 바니시의 겔을 억제하기 쉬워, 얻어지는 폴리아미드이미드 수지의 광학 특성이나 외관이 양호해지기 쉽다. 또한, 중량 평균 분자량은 겔 침투 크로마토그래피(GPC)에 의해 측정할 수 있으며, 예를 들면 실시예에 기재된 방법에 의해 측정할 수 있다.The weight average molecular weight (Mw) of the polyamideimide resin is preferably 100,000 or more, more preferably 150,000 or more, still more preferably 200,000 or more, particularly preferably 250,000 or more, and 300,000 or more, in terms of standard polystyrene. Preferably it is 1,000,000 or less, More preferably, it is 800,000 or less, More preferably, it is 700,000 or less, Especially preferably, it is 500,000 or less, You may combine these upper limits and lower limits arbitrarily. If the weight average molecular weight of a polyamideimide resin is more than the said minimum, characteristics, such as the elasticity modulus of a polyamideimide film, and bending resistance, will improve easily, and if it is below the said upper limit, it will be easy to suppress the gel of a resin varnish, and will be obtained. The optical characteristic and external appearance of a polyamide-imide resin tend to become favorable. In addition, a weight average molecular weight can be measured by gel permeation chromatography (GPC), for example, can be measured by the method as described in an Example.

<폴리아미드이미드 수지의 제조 방법><Method for producing polyamideimide resin>

본 발명의 폴리아미드이미드 수지는, 테트라카르복실산 화합물, 디카르복실산 화합물 및 디아민 화합물을 주요 원료로 하여 제조할 수 있으며, 예를 들면 식 (1) 및 식 (2)로 나타나는 구성 단위를 포함하는 폴리아미드이미드 수지는, 식 (6)으로 나타나는 디아민 화합물과 식 (7)로 나타나는 테트라카르복실산 화합물을 반응시켜 폴리아믹산을 생성하는 공정, 당해 폴리아믹산과 식 (8)로 나타나는 디카르복실산 화합물을 반응시켜 폴리아미드이미드 전구체를 생성하는 공정, 당해 폴리아미드이미드 전구체를 이미드화하는 공정을 포함하는 방법에 의해 제조할 수 있다.The polyamideimide resin of this invention can be manufactured using a tetracarboxylic acid compound, a dicarboxylic acid compound, and a diamine compound as a main raw material, For example, the structural unit represented by Formula (1) and Formula (2) is used. The polyamideimide resin to contain reacts the diamine compound represented by Formula (6) with the tetracarboxylic-acid compound represented by Formula (7), and produces | generates a polyamic acid, and the dicara represented by the said polyamic acid and Formula (8) It can manufacture by the method including the process of reacting an acid compound, and producing | generating a polyamideimide precursor, and the process of imidating the said polyamideimide precursor.

Figure pat00015
Figure pat00015

[식 (6)~식 (8) 중, X는 식 (1) 및 식 (2)에 있어서의 X에 대응하고, Y는 식 (1)에 있어서의 Y에 대응하며, Ra 및 n은 각각, 식 (2)에 있어서의 Ra 및 n에 대응하고, Rb 및 Rc는 각각 독립적으로, -OH, -OMe, -OEt, -OPr, -OBu 또는 -Cl이다][In Formulas (6) to (8), X corresponds to X in Formulas (1) and (2), Y corresponds to Y in Formula (1), and R a and n are Each corresponds to R a and n in formula (2), and R b and R c are each independently —OH, —OMe, —OEt, —OPr, —OBu, or —Cl];

상기 제조 방법에 있어서, 디카르복실산 화합물로서, 추가로 식 (9)로 나타나는 디카르복실산 화합물을 사용하면, 식 (1), 식 (2) 및 식 (2')로 나타나는 구성 단위를 포함하는 폴리아미드이미드 수지를 제조할 수 있다.In the said manufacturing method, when using the dicarboxylic acid compound further represented by Formula (9) as a dicarboxylic acid compound, the structural unit represented by Formula (1), Formula (2), and Formula (2 ') is used. The polyamideimide resin containing can be manufactured.

Figure pat00016
Figure pat00016

[식 (9) 중, K는 식 (2')에 있어서의 K에 대응하고, Rd 및 Re는 각각 독립적으로, -OH, -OMe, -OEt, -OPr, -OBu 또는 -Cl이다][In Formula (9), K corresponds to K in Formula (2 '), and R d and R e are each independently -OH, -OMe, -OEt, -OPr, -OBu or -Cl. ]

구체적으로는, 디아민 화합물로서는, 예를 들면, 지방족 디아민, 방향족 디아민 및 이것들의 혼합물을 들 수 있다. 또한, 본 실시형태에 있어서 「방향족 디아민」이란, 아미노기가 방향환에 직접 결합하고 있는 디아민을 나타내고, 그 구조의 일부에 지방족기 또는 그 외의 치환기를 포함하고 있어도 된다. 이 방향환은 단환이어도 되고 축합환이어도 되며, 벤젠환, 나프탈렌환, 안트라센환 및 플루오렌환 등이 예시되지만, 이것들로 한정되는 것은 아니다. 이것들 중에서도, 바람직하게는 벤젠환이다. 또 「지방족 디아민」이란, 아미노기가 지방족기에 직접 결합하고 있는 디아민을 나타내고, 그 구조의 일부에 방향환이나 그 외의 치환기를 포함하고 있어도 된다. 디아민 화합물은 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다.Specifically, as a diamine compound, aliphatic diamine, aromatic diamine, and a mixture thereof are mentioned, for example. In addition, in this embodiment, "aromatic diamine" shows the diamine which the amino group couple | bonded with the aromatic ring directly, and may contain the aliphatic group or other substituent in a part of the structure. The aromatic ring may be monocyclic or condensed ring, and examples thereof include, but are not limited to, a benzene ring, a naphthalene ring, an anthracene ring and a fluorene ring. Among these, Preferably they are a benzene ring. Moreover, "aliphatic diamine" shows the diamine which the amino group couple | bonded with the aliphatic group directly, and may contain the aromatic ring and other substituent in a part of the structure. A diamine compound can be used individually or in combination of 2 or more types.

지방족 디아민의 구체예로서는, 헥사메틸렌디아민 등의 비환식 지방족 디아민; 1,3-비스(아미노메틸)시클로헥산, 1,4-비스(아미노메틸)시클로헥산, 노르보난디아민, 4,4'-디아미노디시클로헥실메탄 등의 환식 지방족 디아민 등을 들 수 있다. 이것들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.As a specific example of aliphatic diamine, Acyclic aliphatic diamine, such as hexamethylenediamine; And cyclic aliphatic diamines such as 1,3-bis (aminomethyl) cyclohexane, 1,4-bis (aminomethyl) cyclohexane, norbornanediamine, and 4,4'-diaminodicyclohexylmethane. These can be used individually or in combination of 2 or more types.

방향족 디아민의 구체예로서는, p-페닐렌디아민, m-페닐렌디아민, 2,4-톨루엔디아민, m-자일릴렌디아민, p-자일릴렌디아민, 1,5-디아미노나프탈렌, 2,6-디아미노나프탈렌 등의, 방향환을 1개 갖는 방향족 디아민; 4,4'-디아미노디페닐메탄, 4,4'-디아미노디페닐프로판, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 3,4'-디아미노디페닐에테르, 3,3'-디아미노디페닐에테르, 4,4'-디아미노디페닐설폰, 3,4'-디아미노디페닐설폰, 3,3'-디아미노디페닐설폰, 1,4-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕설폰, 비스〔4-(3-아미노페녹시)페닐〕설폰, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2-비스[4-(3-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2'-디메틸벤지딘, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘(TFMB라고 표기하는 경우도 있다), 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디아닐린, 4,4'-비스(4-아미노페녹시)비페닐, 9,9-비스(4-아미노페닐)플루오렌, 9,9-비스(4-아미노-3-메틸페닐)플루오렌, 9,9-비스(4-아미노-3-클로로페닐)플루오렌, 9,9-비스(4-아미노-3-플루오로페닐)플루오렌 등의, 방향환을 2개 이상 갖는 방향족 디아민을 들 수 있다. 이것들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.Specific examples of the aromatic diamine include p-phenylenediamine, m-phenylenediamine, 2,4-toluenediamine, m-xylylenediamine, p-xylylenediamine, 1,5-diaminonaphthalene, 2,6-dia Aromatic diamines having one aromatic ring, such as minonaphthalene; 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenylether, 3,4'-diaminodiphenylether, 3,3'-dia Minodiphenylether, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3'-diaminodiphenylsulfone, 1,4-bis (4-aminophenoxy) Benzene, 1,3-bis (4-aminophenoxy) benzene, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfone, 2,2- Bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis (tri Fluoromethyl) benzidine (sometimes referred to as TFMB), 4,4 '-(hexafluoroisopropylidene) dianiline, 4,4'-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, 9,9 -Bis (4-aminophenyl) fluorene, 9,9-bis (4-amino-3-methylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-amino-3-chlorophenyl) fluorene, 9,9- Bis (4-amino-3-fluorophenyl) fluorene and the like , There may be mentioned aromatic diamine having an aromatic ring at least two. These can be used individually or in combination of 2 or more types.

방향족 디아민으로서는, 바람직하게는 4,4'-디아미노디페닐메탄, 4,4'-디아미노디페닐프로판, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 3,3'-디아미노디페닐에테르, 4,4'-디아미노디페닐설폰, 3,3'-디아미노디페닐설폰, 1,4-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕설폰, 비스〔4-(3-아미노페녹시)페닐〕설폰, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2-비스[4-(3-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2'-디메틸벤지딘, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)-4,4'-디아미노디페닐, 4,4'-비스(4-아미노페녹시)비페닐, 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디아닐린을 들 수 있고, 보다 바람직하게는 4,4'-디아미노디페닐메탄, 4,4'-디아미노디페닐프로판, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 4,4'-디아미노디페닐설폰, 1,4-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 비스〔4-(4-아미노페녹시)페닐〕설폰, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2'-디메틸벤지딘, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘, 4,4'-비스(4-아미노페녹시)비페닐, 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디아닐린을 들 수 있다. 이것들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.As aromatic diamine, Preferably, 4,4'- diamino diphenylmethane, 4,4'- diamino diphenyl propane, 4,4'- diamino diphenyl ether, 3,3'- diamino diphenyl ether , 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 3,3'-diaminodiphenylsulfone, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] Sulfone, bis [4- (3-aminophenoxy) phenyl] sulfone, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [4- (3-aminophenoxy ) Phenyl] propane, 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis (trifluoromethyl) -4,4'-diaminodiphenyl, 4,4'-bis (4-aminophenoxy) ratio Phenyl, 4,4 '-(hexafluoroisopropylidene) dianiline, and more preferably 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 4, 4'-diaminodiphenylether, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] sulfone, 2 , 2-bis [4- (4- Minophenoxy) phenyl] propane, 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine, 4,4'-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, 4,4 ' -(Hexafluoroisopropylidene) dianiline is mentioned. These can be used individually or in combination of 2 or more types.

상기 디아민 화합물 중에서도, 폴리아미드이미드 필름의 탄성률이나 광학 특성을 향상시키기 쉬운 관점에서, 비페닐 구조를 갖는 방향족 디아민으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 이용하는 것이 바람직하다. 2,2'-디메틸벤지딘, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘, 4,4'-비스(4-아미노페녹시)비페닐, 4,4'-디아미노디페닐에테르 및 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디아닐린으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 이용하는 것이 보다 바람직하고, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘을 이용하는 것이 더 바람직하다.It is preferable to use at least 1 sort (s) chosen from the group which consists of aromatic diamine which has a biphenyl structure from a viewpoint of easy to improve the elasticity modulus and optical characteristic of a polyamideimide film among the said diamine compounds. 2,2'-dimethylbenzidine, 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine, 4,4'-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, 4,4'-diaminodiphenylether and 4 It is more preferable to use at least one selected from the group consisting of, 4 '-(hexafluoroisopropylidene) dianiline, and more preferably 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine.

테트라카르복실산 화합물은, 테트라카르복실산 또는 테트라카르복실산 유도체를 나타낸다. 테트라카르복실산 유도체는, 테트라카르복실산의 무수물, 바람직하게는 이무수물, 산 클로라이드 등을 들 수 있다. 테트라카르복실산 화합물로서는, 예를 들면 방향족 테트라카르복실산 및 그 무수물, 바람직하게는 그 이무수물 등의 방향족 테트라카르복실산 화합물; 지방족 테트라카르복실산 및 그 무수물, 바람직하게는 그 이무수물 등의 지방족 테트라카르복실산 화합물 등을 들 수 있다. 이들 테트라카르복실산 화합물은 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다.The tetracarboxylic acid compound represents a tetracarboxylic acid or tetracarboxylic acid derivative. The tetracarboxylic acid derivatives include anhydrides of tetracarboxylic acids, preferably dianhydrides, acid chlorides, and the like. As a tetracarboxylic-acid compound, For example, aromatic tetracarboxylic acid compounds, such as aromatic tetracarboxylic acid and its anhydride, Preferably its dianhydride; Aliphatic tetracarboxylic acid and its anhydride, Preferably aliphatic tetracarboxylic-acid compounds, such as the dianhydride, etc. are mentioned. These tetracarboxylic acid compounds can be used individually or in combination of 2 or more types.

방향족 테트라카르복실산 이무수물의 구체예로서는, 비축합 다환식의 방향족 테트라카르복실산 이무수물, 단환식의 방향족 테트라카르복실산 이무수물 및 축합 다환식의 방향족 테트라카르복실산 이무수물을 들 수 있다. 비축합 다환식의 방향족 테트라카르복실산 이무수물로서는, 4,4'-옥시디프탈산 이무수물, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르복실산 이무수물, 2,2',3,3'-벤조페논테트라카르복실산 이무수물, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르복실산 이무수물(BPDA라고 표기하는 경우도 있다), 2,2',3,3'-비페닐테트라카르복실산 이무수물, 3,3',4,4'-디페닐설폰테트라카르복실산 이무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)프로판 이무수물, 2,2-비스(2,3-디카르복시페닐)프로판 이무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페녹시페닐)프로판 이무수물, 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 이무수물(6FDA라고 표기하는 경우도 있다), 1,2-비스(2,3-디카르복시페닐)에탄 이무수물, 1,1-비스(2,3-디카르복시페닐)에탄 이무수물, 1,2-비스(3,4-디카르복시페닐)에탄 이무수물, 1,1-비스(3,4-디카르복시페닐)에탄 이무수물, 비스(3,4-디카르복시페닐)메탄 이무수물, 비스(2,3-디카르복시페닐)메탄 이무수물, 4,4'-(p-페닐렌디옥시)디프탈산 이무수물 및 4,4'-(m-페닐렌디옥시)디프탈산 이무수물을 들 수 있다. 또, 단환식의 방향족 테트라카르복실산 이무수물로서는, 1,2,4,5-벤젠테트라카르복실산 이무수물을 들 수 있고, 축합 다환식의 방향족 테트라카르복실산 이무수물로서는, 2,3,6,7-나프탈렌테트라카르복실산 이무수물을 들 수 있다.Specific examples of the aromatic tetracarboxylic dianhydride include non-condensed polycyclic aromatic tetracarboxylic dianhydrides, monocyclic aromatic tetracarboxylic dianhydrides and condensed polycyclic aromatic tetracarboxylic dianhydrides. As a non-condensed polycyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride, 4,4'- oxydiphthalic dianhydride, 3,3 ', 4,4'- benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 2,2', 3 , 3'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (may be referred to as BPDA), 2,2', 3,3 ' -Biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,3 ', 4,4'-diphenylsulfontetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2, 2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenoxyphenyl) propane dianhydride, 4,4 '-(hexafluoroisopropylidene) di Phthalic dianhydride (may be referred to as 6FDA), 1,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,1-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1 , 2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,1-bis (3,4-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride , Bis (3,4-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, 4,4 '-(p-phenylenedioxy) diphthalic dianhydride and 4,4' -(m-phenylenedioxy) diphthalic dianhydride is mentioned. Moreover, 1,2,4,5-benzene tetracarboxylic dianhydride is mentioned as monocyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride, As condensed polycyclic aromatic tetracarboxylic dianhydride, 2,3 is mentioned. And 6,7-naphthalene tetracarboxylic dianhydride.

이것들 중에서도, 바람직하게는 4,4'-옥시디프탈산 이무수물, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르복실산 이무수물, 2,2',3,3'-벤조페논테트라카르복실산 이무수물, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르복실산 이무수물, 2,2',3,3'-비페닐테트라카르복실산 이무수물, 3,3',4,4'-디페닐설폰테트라카르복실산 이무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)프로판 이무수물, 2,2-비스(2,3-디카르복시페닐)프로판 이무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페녹시페닐)프로판 이무수물, 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 이무수물, 1,2-비스(2,3-디카르복시페닐)에탄 이무수물, 1,1-비스(2,3-디카르복시페닐)에탄 이무수물, 1,2-비스(3,4-디카르복시페닐)에탄 이무수물, 1,1-비스(3,4-디카르복시페닐)에탄 이무수물, 비스(3,4-디카르복시페닐)메탄 이무수물, 비스(2,3-디카르복시페닐)메탄 이무수물, 4,4'-(p-페닐렌디옥시)디프탈산 이무수물 및 4,4'-(m-페닐렌디옥시)디프탈산 이무수물을 들 수 있고, 보다 바람직하게는 4,4'-옥시디프탈산 이무수물, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르복실산 이무수물, 2,2',3,3'-비페닐테트라카르복실산 이무수물, 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 이무수물, 비스(3,4-디카르복시페닐)메탄 이무수물 및 4,4'-(p-페닐렌디옥시)디프탈산 이무수물을 들 수 있다. 이것들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.Among these, 4,4'- oxydiphthalic dianhydride, 3,3 ', 4,4'- benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 2,2', 3,3'- benzophenone tetracarr Acid dianhydrides, 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydrides, 2,2', 3,3'-biphenyltetracarboxylic dianhydrides, 3,3 ', 4, 4'-diphenylsulfontetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 2 , 2-bis (3,4-dicarboxyphenoxyphenyl) propane dianhydride, 4,4 '-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic dianhydride, 1,2-bis (2,3-dicarboxyphenyl ) Ethane dianhydride, 1,1-bis (2,3-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,2-bis (3,4-dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, 1,1-bis (3,4 -Dicarboxyphenyl) ethane dianhydride, bis (3,4-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, bis (2,3-dicarboxyphenyl) methane dianhydride, 4,4 '-(p-pe Rendioxy) diphthalic dianhydride and 4,4 '-(m-phenylenedioxy) diphthalic dianhydride, More preferably, 4,4'- oxydiphthalic dianhydride, 3,3', 4 , 4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2 ', 3,3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 4,4'-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic dianhydride, And bis (3,4-dicarboxyphenyl) methane dianhydride and 4,4 '-(p-phenylenedioxy) diphthalic dianhydride. These can be used individually or in combination of 2 or more types.

지방족 테트라카르복실산 이무수물로서는, 환식 또는 비환식의 지방족 테트라카르복실산 이무수물을 들 수 있다. 환식 지방족 테트라카르복실산 이무수물이란, 지환식 탄화 수소 구조를 갖는 테트라카르복실산 이무수물이며, 그 구체예로서는, 1,2,4,5-시클로헥산테트라카르복실산 이무수물, 1,2,3,4-시클로부탄테트라카르복실산 이무수물, 1,2,3,4-시클로펜탄테트라카르복실산 이무수물 등의 시클로알칸테트라카르복실산 이무수물, 비시클로[2.2.2]옥트-7-엔-2,3,5,6-테트라카르복실산 이무수물, 디시클로헥실-3,3',4,4'-테트라카르복실산 이무수물 및 이것들의 위치 이성체를 들 수 있다. 이것들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 비환식 지방족 테트라카르복실산 이무수물의 구체예로서는, 1,2,3,4-부탄테트라카르복실산 이무수물, 및 1,2,3,4-펜탄테트라카르복실산 이무수물 등을 들 수 있고, 이것들은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 또, 환식 지방족 테트라카르복실산 이무수물 및 비환식 지방족 테트라카르복실산 이무수물을 조합하여 이용해도 된다.As aliphatic tetracarboxylic dianhydride, a cyclic or acyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride is mentioned. A cyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride is tetracarboxylic dianhydride which has alicyclic hydrocarbon structure, As a specific example, 1,2,4,5-cyclohexane tetracarboxylic dianhydride, 1,2, Cycloalkanetetracarboxylic dianhydride, such as 3, 4- cyclobutane tetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-cyclopentane tetracarboxylic dianhydride, bicyclo [2.2.2] oct-7 -En-2,3,5,6-tetracarboxylic dianhydride, dicyclohexyl-3,3 ', 4,4'-tetracarboxylic dianhydride and these positional isomers are mentioned. These can be used individually or in combination of 2 or more types. Specific examples of the acyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride include 1,2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride, 1,2,3,4-pentanetetracarboxylic dianhydride, and the like. These can be used individually or in combination of 2 or more types. Moreover, you may use combining a cyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride and an acyclic aliphatic tetracarboxylic dianhydride.

테트라카르복실산 화합물 중에서도, 폴리아미드이미드 필름의 탄성률, 굴곡 내성, 표면 경도 및 광학 특성 등을 향상시키기 쉬운 관점에서, 상기 지환식 테트라카르복실산 이무수물 또는 비축합 다환식의 방향족 테트라카르복실산 이무수물이 바람직하다. 구체예로서는, 4,4'-옥시디프탈산 이무수물, 3,3',4,4'-벤조페논테트라카르복실산 이무수물, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르복실산 이무수물, 2,2',3,3'-비페닐테트라카르복실산 이무수물, 3,3',4,4'-디페닐설폰테트라카르복실산 이무수물, 2,2-비스(3,4-디카르복시페닐)프로판 이무수물, 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 이무수물 및 이것들의 혼합물이 바람직하고, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르복실산 이무수물 및 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 이무수물 및 이것들의 혼합물이 보다 바람직하며, 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 이무수물이 더 바람직하다.Among the tetracarboxylic acid compounds, the alicyclic tetracarboxylic dianhydride or the non-condensed polycyclic aromatic tetracarboxylic acid from the viewpoint of easily improving the elastic modulus, flex resistance, surface hardness, optical properties and the like of the polyamideimide film. Dianhydrides are preferred. As a specific example, 4,4'- oxydiphthalic dianhydride, 3,3 ', 4,4'- benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 3,3', 4,4'-biphenyl tetracarboxylic dianhydride Water, 2,2 ', 3,3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,3', 4,4'-diphenylsulfontetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis (3,4 -Dicarboxyphenyl) propane dianhydride, 4,4 '-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic dianhydride and mixtures thereof are preferred, and 3,3', 4,4'-biphenyltetracarboxylic acid More preferred are dianhydrides and 4,4 '-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic dianhydride and mixtures thereof, more preferred 4,4'-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic dianhydride. .

디카르복실산 화합물은, 디카르복실산 또는 디카르복실산 유도체를 나타내고, 디카르복실산 유도체로서는, 예를 들면 당해 디카르복실산의 산 클로라이드나 에스테르체 등을 들 수 있다. 디카르복실산 화합물은 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다.The dicarboxylic acid compound represents a dicarboxylic acid or a dicarboxylic acid derivative, and examples of the dicarboxylic acid derivative include acid chlorides and esters of the dicarboxylic acid. Dicarboxylic acid compounds can be used individually or in combination of 2 or more types.

디카르복실산 화합물의 구체예로서는, 예를 들면 4,4'-옥시비스벤조산, 테레프탈산, 이소프탈산, 2,6-나프탈렌디카르복실산, 1,5-나프탈렌디카르복실산, 1,4-나프탈렌디카르복실산, 4,4'-비페닐디카르복실산, 3,3'-비페닐디카르복실산, 2개의 벤조산이 단결합, -CH2-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2- 또는 페닐렌기로 연결된 화합물 등의 방향족 디카르복실산 및 그것들의 유도체(예를 들면 산 클로라이드, 산 무수물); 탄소수 8 이하인 쇄식 탄화 수소의 디카르복실산 화합물 등의 지방족 디카르복실산 및 그것들의 유도체(예를 들면 산 클로라이드, 에스테르체) 등을 들 수 있다. 이들 디카르복실산 화합물은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 이것들 중에서도, 폴리아미드이미드 필름의 양호한 탄성률 및 굴곡 내성이 얻어지기 쉬운 관점에서, 테레프탈산 또는 그 유도체, 2,6-나프탈렌디카르복실산 또는 그 유도체, 1,5-나프탈렌디카르복실산 또는 그 유도체, 1,4-나프탈렌디카르복실산 또는 그 유도체 등의 나프탈렌디카르복실산 또는 그 유도체, 특히 2,6-나프탈렌디카르복실산 디클로라이드(NADOC라고 부른다)가 바람직하다. 또, 폴리아미드이미드 필름의 표면 경도를 더 향상시키기 쉬운 관점에서, 나프탈렌디카르복실산 또는 그 유도체와, 4,4'-옥시비스벤조산 또는 그 유도체를 병용하는 것이 바람직하고, 특히, 2,6-나프탈렌디카르복실산 디클로라이드(NADOC)와 4,4'-옥시비스(벤조일클로라이드)(OBBC라고 부른다)를 병용하는 것이 보다 바람직하다.As a specific example of a dicarboxylic acid compound, 4,4'- oxybis benzoic acid, terephthalic acid, isophthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 1,5-naphthalenedicarboxylic acid, 1,4-, for example Naphthalenedicarboxylic acid, 4,4'-biphenyldicarboxylic acid, 3,3'-biphenyldicarboxylic acid, two benzoic acids are a single bond, -CH 2- , -C (CH 3 ) 2- Aromatic dicarboxylic acids such as compounds linked with -C (CF 3 ) 2- , -SO 2 -or phenylene groups and derivatives thereof (for example, acid chlorides, acid anhydrides); And aliphatic dicarboxylic acids such as dicarboxylic acid compounds of chain hydrocarbons having 8 or less carbon atoms, and derivatives thereof (for example, acid chlorides and esters). These dicarboxylic acid compounds can be used individually or in combination of 2 or more types. Among these, terephthalic acid or its derivatives, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid or its derivatives, 1,5-naphthalenedicarboxylic acid or its derivatives from the viewpoint of satisfactory elastic modulus and flexural resistance of the polyamideimide film And naphthalenedicarboxylic acids or derivatives thereof such as 1,4-naphthalenedicarboxylic acid or derivatives thereof, particularly 2,6-naphthalenedicarboxylic acid dichloride (called NADOC) are preferable. Moreover, it is preferable to use naphthalenedicarboxylic acid or its derivative (s) and 4,4'-oxybisbenzoic acid or its derivative (s) together from a viewpoint of improving the surface hardness of a polyamideimide film further, Especially, 2,6 It is more preferable to use naphthalenedicarboxylic acid dichloride (NADOC) and 4,4'-oxybis (benzoyl chloride) (called OBBC) together.

폴리아미드이미드 수지의 제조에 있어서, 디아민 화합물, 테트라카르복실산 화합물 및 디카르복실산 화합물의 사용량은, 원하는 폴리아미드이미드 수지의 각 구성 단위의 비율에 따라 적절히 선택할 수 있다.In manufacture of polyamideimide resin, the usage-amount of a diamine compound, a tetracarboxylic acid compound, and a dicarboxylic acid compound can be suitably selected according to the ratio of each structural unit of a desired polyamideimide resin.

폴리아미드이미드 수지의 제조에 있어서, 디아민 화합물, 테트라카르복실산 화합물 및 디카르복실산 화합물의 반응 온도는, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 50~350℃이다. 반응 시간도 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 30분~24시간 정도이다. 필요에 따라, 불활성 분위기 또는 감압의 조건하에 있어서 반응을 행해도 된다. 바람직한 양태로는, 반응은, 상압 및/또는 불활성 가스 분위기하에서 교반하면서 행한다. 또, 반응은, 반응에 불활성인 용매 중에서 행하는 것이 바람직하다. 용매로서는, 반응에 영향을 주지 않는 한 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 물, 메탄올, 에탄올, 에틸렌글리콜, 이소프로필알코올, 프로필렌글리콜, 에틸렌글리콜메틸에테르, 에틸렌글리콜부틸에테르, 1-메톡시-2-프로판올, 2-부톡시에탄올, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 등의 알코올계 용매; 아세트산 에틸, 아세트산 부틸, 에틸렌글리콜메틸에테르아세테이트, γ-부티로락톤, γ-발레로락톤, 프로필렌글리콜메틸에테르아세테이트, 락트산 에틸 등의 에스테르계 용매; 아세톤, 메틸에틸케톤, 시클로펜탄온, 시클로헥산온, 2-헵탄온, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤계 용매; 펜탄, 헥산, 헵탄 등의 지방족 탄화 수소 용매; 에틸시클로헥산 등의 지환식 탄화 수소 용매; 톨루엔, 자일렌 등의 방향족 탄화 수소 용매; 아세토니트릴 등의 니트릴계 용매; 테트라히드로푸란 및 디메톡시에탄 등의 에테르계 용매; 클로로포름 및 클로로벤젠 등의 염소 함유 용매; N,N-디메틸아세트아미드(DMAc), N,N-디메틸포름아미드(DMF) 등의 아미드계 용매; 디메틸설폰, 디메틸설폭시드, 설포란 등의 함황계 용매; 에틸렌카보네이트, 프로필렌카보네이트 등의 카보네이트계 용매; 및 그것들의 조합(혼합 용매) 등을 들 수 있다. 이것들 중에서도, 용해성의 관점에서, 아미드계 용매를 적합하게 사용할 수 있다.In the production of the polyamideimide resin, the reaction temperature of the diamine compound, the tetracarboxylic acid compound and the dicarboxylic acid compound is not particularly limited, but is 50 to 350 ° C, for example. Although reaction time is not specifically limited, for example, It is about 30 minutes-about 24 hours. If necessary, the reaction may be performed under inert atmosphere or reduced pressure. In a preferred embodiment, the reaction is performed while stirring under normal pressure and / or inert gas atmosphere. Moreover, it is preferable to perform reaction in the solvent inactive to reaction. The solvent is not particularly limited as long as it does not affect the reaction. For example, water, methanol, ethanol, ethylene glycol, isopropyl alcohol, propylene glycol, ethylene glycol methyl ether, ethylene glycol butyl ether, 1-methoxy- Alcohol solvents such as 2-propanol, 2-butoxyethanol, and propylene glycol monomethyl ether; Ester solvents such as ethyl acetate, butyl acetate, ethylene glycol methyl ether acetate, γ-butyrolactone, γ-valerolactone, propylene glycol methyl ether acetate, and ethyl lactate; Ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, 2-heptanone, and methyl isobutyl ketone; Aliphatic hydrocarbon solvents such as pentane, hexane and heptane; Alicyclic hydrocarbon solvents such as ethylcyclohexane; Aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene; Nitrile solvents such as acetonitrile; Ether solvents such as tetrahydrofuran and dimethoxyethane; Chlorine-containing solvents such as chloroform and chlorobenzene; Amide solvents such as N, N-dimethylacetamide (DMAc) and N, N-dimethylformamide (DMF); Sulfur-containing solvents such as dimethyl sulfone, dimethyl sulfoxide and sulfolane; Carbonate solvents such as ethylene carbonate and propylene carbonate; And combinations thereof (mixed solvents). Among these, an amide solvent can be used suitably from a soluble viewpoint.

폴리아미드이미드 수지의 제조에 있어서의 이미드화 공정에서는, 이미드화 촉매의 존재하에서 이미드화할 수 있다. 이미드화 촉매로서는, 예를 들면 트리프로필아민, 디부틸프로필아민, 에틸디부틸아민 등의 지방족 아민; N-에틸피페리딘, N-프로필피페리딘, N-부틸피롤리딘, N-부틸피페리딘, 및 N-프로필헥사히드로아제핀 등의 지환식 아민(단환식); 아자비시클로[2.2.1]헵탄, 아자비시클로[3.2.1]옥탄, 아자비시클로[2.2.2]옥탄, 및 아자비시클로[3.2.2]노난 등의 지환식 아민(다환식); 그리고 피리딘, 2-메틸피리딘(2-피콜린), 3-메틸피리딘(3-피콜린), 4-메틸피리딘(4-피콜린), 2-에틸피리딘, 3-에틸피리딘, 4-에틸피리딘, 2,4-디메틸피리딘, 2,4,6-트리메틸피리딘, 3,4-시클로펜테노피리딘, 5,6,7,8-테트라히드로이소퀴놀린, 및 이소퀴놀린 등의 방향족 아민을 들 수 있다. 또, 이미드화 반응을 촉진하기 쉬운 관점에서, 이미드화 촉매와 함께, 산 무수물을 이용하는 것이 바람직하다. 산 무수물은, 이미드화 반응에 이용되는 관용의 산 무수물 등을 들 수 있고, 그 구체예로서는, 무수 아세트산, 무수 프로피온산, 무수 부티르산 등의 지방족 산무수물, 프탈산 등의 방향족 산무수물 등을 들 수 있다.In the imidation process in manufacture of polyamide-imide resin, it can imidate in presence of an imidation catalyst. As an imidation catalyst, For example, aliphatic amines, such as tripropylamine, dibutyl propylamine, and ethyl dibutyl amine; Alicyclic amines (monocyclic) such as N-ethylpiperidine, N-propylpiperidine, N-butylpyrrolidine, N-butylpiperidine, and N-propylhexahydroazepine; Alicyclic amines (polycyclic) such as azabicyclo [2.2.1] heptane, azabicyclo [3.2.1] octane, azabicyclo [2.2.2] octane, and azabicyclo [3.2.2] nonane; And pyridine, 2-methylpyridine (2-picoline), 3-methylpyridine (3-picoline), 4-methylpyridine (4-picoline), 2-ethylpyridine, 3-ethylpyridine, 4-ethylpyridine And aromatic amines such as 2,4-dimethylpyridine, 2,4,6-trimethylpyridine, 3,4-cyclopentenopyridine, 5,6,7,8-tetrahydroisoquinoline, and isoquinoline. . Moreover, it is preferable to use an acid anhydride with an imidation catalyst from a viewpoint which is easy to promote the imidation reaction. Examples of the acid anhydride include conventional acid anhydrides used for the imidization reaction, and specific examples thereof include aliphatic acid anhydrides such as acetic anhydride, propionic anhydride and butyric anhydride, and aromatic acid anhydrides such as phthalic acid.

이미드화하여 얻어진 폴리아미드이미드 수지는, 관용의 방법, 예를 들면, 여과, 농축, 추출, 정석, 재결정, 칼럼 크로마토그래피 등의 분리 수단이나, 이것들을 조합한 분리 수단에 의해 단리(분리 정제)해도 되고, 바람직한 양태로는, 폴리아미드이미드 수지를 포함하는 반응액에, 다량의 메탄올 등의 알코올을 첨가하여 폴리아미드이미드 수지를 석출시켜, 농축, 여과, 건조 등을 행하는 것에 의해 단리할 수 있다.The polyamideimide resin obtained by imidation is isolated by conventional methods, for example, separation means such as filtration, concentration, extraction, crystallization, recrystallization, column chromatography, and separation means combining these (separation and purification). In a preferred embodiment, a large amount of alcohol such as methanol can be added to the reaction solution containing the polyamideimide resin to precipitate the polyamideimide resin, and can be isolated by concentrating, filtration and drying. .

<폴리아미드이미드 필름><Polyamideimide film>

본 발명은, 폴리아미드이미드 수지를 포함하여 이루어지는 폴리아미드이미드 필름을 포함한다. 당해 폴리아미드이미드는 고탄성률을 갖는다. 또한, 바람직한 일 양태에 있어서, 폴리아미드이미드 필름은, 굴곡 내성 및 표면 경도도 우수하다. 폴리아미드이미드 필름 중의 폴리아미드이미드 수지의 함유량은, 양호한 탄성률, 굴곡 내성 및 표면 경도 등을 발현하기 쉬운 관점에서, 폴리아미드이미드 필름의 질량에 대해서, 바람직하게는 40질량% 이상, 보다 바람직하게는 60질량% 이상, 더 바람직하게는 80질량% 이상, 특히 바람직하게는 90질량% 이상, 그 중에서도 95질량% 이상이다. 폴리아미드이미드 수지의 함유량의 상한은 100질량% 이하이다.The present invention includes a polyamideimide film comprising a polyamideimide resin. The polyamideimide has a high modulus of elasticity. Moreover, in one preferable aspect, the polyamide-imide film is also excellent in bending resistance and surface hardness. The content of the polyamideimide resin in the polyamideimide film is preferably 40% by mass or more, and more preferably, based on the mass of the polyamideimide film, from the viewpoint of easily exhibiting good elastic modulus, flex resistance and surface hardness. 60 mass% or more, More preferably, it is 80 mass% or more, Especially preferably, it is 90 mass% or more, Especially, it is 95 mass% or more. The upper limit of content of polyamide-imide resin is 100 mass% or less.

폴리아미드이미드 필름은, 무기 입자 등의 무기 재료를 추가로 포함하고 있어도 된다. 무기 재료로서 예를 들면, 티타니아 입자, 알루미나 입자, 지르코니아 입자, 실리카 입자 등의 무기 입자, 및 오르토 규산 테트라에틸 등의 4급 알콕시실란 등의 규소 화합물 등을 들 수 있다. 폴리아미드이미드 필름을 제조하기 위한 폴리아미드이미드 바니시의 안정성의 관점에서, 무기 재료는 무기 입자, 특히 실리카 입자인 것이 바람직하다. 무기 입자끼리는, 실록산 결합을 갖는 분자에 의해 결합되어 있어도 된다.The polyamideimide film may further contain inorganic materials such as inorganic particles. Examples of the inorganic material include inorganic particles such as titania particles, alumina particles, zirconia particles, and silica particles, and silicon compounds such as quaternary alkoxysilanes such as tetraethyl ortho silicate. In view of the stability of the polyamideimide varnish for producing the polyamideimide film, the inorganic material is preferably inorganic particles, in particular silica particles. The inorganic particles may be bonded by a molecule having a siloxane bond.

무기 입자의 평균 일차 입자경은, 폴리아미드이미드 필름의 투명성, 기계 물성, 및 무기 입자의 응집 억제의 관점에서, 예를 들면 1~100nm이며, 바람직하게는 5~80nm이고, 보다 바람직하게는 7~50nm이며, 특히 바람직하게는 10~30nm이다. 평균 일차 입자경은, 투과형 전자 현미경에 의한 정방향경(徑)의 10점 평균값을 측정하는 것에 의해 결정할 수 있다.The average primary particle size of the inorganic particles is, for example, from 1 to 100 nm, preferably from 5 to 80 nm, more preferably from 7 to 10 in view of transparency of the polyamideimide film, mechanical properties, and suppression of aggregation of the inorganic particles. 50 nm, Especially preferably, it is 10-30 nm. An average primary particle diameter can be determined by measuring the 10-point average value of the forward diameter by a transmission electron microscope.

폴리아미드이미드 필름의 무기 재료의 함유량은, 폴리아미드이미드 필름의 전체 질량을 기준으로 하여, 바람직하게는 0~90질량%, 보다 바람직하게는 0.01~60질량%, 더 바람직하게는 5~40질량%이다. 무기 재료의 함유율이 상기 범위 내이면, 폴리아미드이미드 필름의 투명성 및 기계 물성을 양립시키기 쉬운 경향이 있다.Content of the inorganic material of a polyamideimide film is based on the total mass of a polyamideimide film, Preferably it is 0-90 mass%, More preferably, it is 0.01-60 mass%, More preferably, it is 5-40 mass %to be. When the content rate of the inorganic material is within the above range, there is a tendency to make the transparency and mechanical properties of the polyamideimide film compatible.

폴리아미드이미드 필름은, 자외선 흡수제를 추가로 포함하고 있어도 된다. 자외선 흡수제는, 수지 재료의 분야에서 자외선 흡수제로서 통상 이용되고 있는 것 중에서 적절히 선택할 수 있다. 자외선 흡수제는, 400nm 이하의 파장의 광을 흡수하는 화합물을 포함하고 있어도 된다. 자외선 흡수제로서는, 예를 들면, 벤조페논계 화합물, 살리실레이트계 화합물, 벤조트리아졸계 화합물, 및 트리아진계 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 화합물을 들 수 있다. 자외선 흡수제는 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다. 폴리아미드이미드 필름이 자외선 흡수제를 함유하는 것에 의해, 폴리아미드이미드 수지의 열화가 억제되기 때문에, 폴리아미드이미드 필름을 화상 표시 장치 등에 적용한 경우에 시인성을 높일 수 있다. 본 명세서에 있어서, 「계 화합물」이란, 당해 「계 화합물」이 포함되는 화합물의 유도체를 나타낸다. 예를 들면, 「벤조페논계 화합물」이란, 모체 골격으로서의 벤조페논과, 벤조페논에 결합하고 있는 치환기를 갖는 화합물을 나타낸다.The polyamideimide film may further contain the ultraviolet absorber. A ultraviolet absorber can be suitably selected from the thing normally used as a ultraviolet absorber in the field of resin materials. The ultraviolet absorber may contain the compound which absorbs the light of the wavelength of 400 nm or less. As a ultraviolet absorber, the at least 1 sort (s) of compound chosen from the group which consists of a benzophenone type compound, a salicylate type compound, a benzotriazole type compound, and a triazine type compound is mentioned, for example. A ultraviolet absorber can be used individually or in combination of 2 or more types. Since the deterioration of a polyamideimide resin is suppressed because a polyamideimide film contains a ultraviolet absorber, visibility can be improved when a polyamideimide film is applied to an image display apparatus etc. In this specification, a "system compound" represents the derivative of the compound in which the said "system compound" is contained. For example, a "benzophenone type compound" represents the compound which has a benzophenone as a mother skeleton and a substituent couple | bonded with benzophenone.

폴리아미드이미드 필름이 자외선 흡수제를 함유하는 경우, 자외선 흡수제의 함유량은, 폴리아미드이미드 필름의 질량에 대해서, 바람직하게는 1질량% 이상, 보다 바람직하게는 2질량% 이상, 더 바람직하게는 3질량% 이상이며, 바람직하게는 10질량% 이하, 보다 바람직하게는 8질량% 이하, 더 바람직하게는 6질량% 이하이다. 바람직한 함유량은 이용하는 자외선 흡수제에 따라 다르지만, 400nm의 광선 투과율이 20~60% 정도가 되도록 자외선 흡수제의 함유량을 조절하면, 폴리아미드이미드 필름의 내광성을 높일 수 있음과 함께, 투명성이 높은 폴리아미드이미드 필름을 얻을 수 있다.When the polyamideimide film contains a ultraviolet absorber, the content of the ultraviolet absorber is preferably 1% by mass or more, more preferably 2% by mass or more, and even more preferably 3% by mass with respect to the mass of the polyamideimide film. It is% or more, Preferably it is 10 mass% or less, More preferably, it is 8 mass% or less, More preferably, it is 6 mass% or less. Although preferable content changes with the ultraviolet absorber to be used, if the content of an ultraviolet absorber is adjusted so that the light transmittance of 400 nm may be about 20 to 60%, the light resistance of a polyamideimide film can be improved, and the polyamideimide film with high transparency Can be obtained.

폴리아미드이미드 필름은, 무기 재료, 자외선 흡수제 이외의 다른 첨가제를 추가로 함유하고 있어도 된다. 다른 첨가제로서는, 예를 들면, 산화 방지제, 이형제, 안정제, 블루잉제, 난연제, pH조정제, 실리카 분산제, 윤활제, 증점제, 및 레벨링제 등을 들 수 있다. 다른 첨가제를 함유하는 경우, 그 함유량은, 폴리아미드이미드 필름의 질량에 대해서, 바람직하게는 0.005~20질량%, 보다 바람직하게는 0.01~15질량%, 더 바람직하게는 0.1~10질량% 정도이다.The polyamideimide film may further contain other additives other than the inorganic material and the ultraviolet absorber. As another additive, antioxidant, a mold release agent, a stabilizer, a bluing agent, a flame retardant, a pH adjuster, a silica dispersing agent, a lubricating agent, a thickening agent, a leveling agent, etc. are mentioned, for example. When it contains another additive, the content is with respect to the mass of a polyamide-imide film, Preferably it is 0.005-20 mass%, More preferably, it is 0.01-15 mass%, More preferably, it is about 0.1-10 mass%. .

폴리아미드이미드 필름의 두께는, 용도에 따라 적절히 선택할 수 있고, 바람직하게는 25μm 이상, 보다 바람직하게는 30μm 이상이며, 바람직하게는 100μm 이하, 보다 바람직하게는 80μm 이하, 더 바람직하게는 60μm 이하이고, 이들 상한과 하한의 임의의 조합이어도 된다. 폴리아미드이미드 필름의 두께는, 예를 들면 마이크로미터를 이용하여 측정할 수 있다.The thickness of a polyamideimide film can be suitably selected according to a use, Preferably it is 25 micrometers or more, More preferably, it is 30 micrometers or more, Preferably it is 100 micrometers or less, More preferably, it is 80 micrometers or less, More preferably, it is 60 micrometers or less. Any combination of these upper and lower limits may be sufficient. The thickness of a polyamideimide film can be measured using a micrometer, for example.

폴리아미드이미드 필름의 탄성률은, 바람직하게는 5.0GPa 이상, 보다 바람직하게는 5.2GPa 이상, 더 바람직하게는 5.5GPa 이상이다. 탄성률의 상한은 10GPa 이하, 보다 바람직하게는 8GPa 이하이다. 탄성률은, 예를 들면 인장 시험기나 정밀 만능 시험기 등을 이용하여 측정할 수 있으며, 예를 들면 실시예에 기재된 방법에 의해 측정할 수 있다.The elastic modulus of the polyamide-imide film is preferably 5.0 GPa or more, more preferably 5.2 GPa or more, still more preferably 5.5 GPa or more. The upper limit of the elasticity modulus is 10 GPa or less, More preferably, it is 8 GPa or less. An elastic modulus can be measured using a tensile tester, a precision universal testing machine, etc., for example, and can be measured by the method as described in an Example, for example.

폴리아미드이미드 필름의 표면 경도는, 예를 들면 연필 경도로 평가할 수 있다. 당해 폴리아미드이미드 필름의 연필 경도는, 통상 6B 이상, 바람직하게는 B 이상, 보다 바람직하게는 HB 이상, 더 바람직하게는 F 이상, 특히 바람직하게는 H 이상이다. 연필 경도가 상기 범위이면, 필름 표면의 흠집을 유효하게 방지할 수 있다. 표면 경도는, JIS K 5600-5-4:1999에 준거하여 측정할 수 있으며, 예를 들면 실시예에 기재된 방법에 의해 측정할 수 있다.The surface hardness of a polyamideimide film can be evaluated by pencil hardness, for example. The pencil hardness of the said polyamide-imide film is 6 B or more normally, Preferably it is B or more, More preferably, it is HB or more, More preferably, it is F or more, Especially preferably, it is H or more. If the pencil hardness is in the above range, scratches on the surface of the film can be effectively prevented. Surface hardness can be measured based on JISK5600-5-4: 1999, and can be measured by the method as described in an Example, for example.

본 발명의 바람직한 일 양태에 있어서, 본 발명의 폴리아미드이미드 수지를 포함하여 이루어지는 폴리아미드이미드 필름은, 투명성이 높고, 우수한 광학 특성도 갖는다. 이로 인하여, 당해 폴리아미드이미드 필름은 광학 필름으로서 이용할 수 있고, 액정 표시 장치나 유기 EL표시 장치 등의 화상 표시 장치의 부재, 특히 플렉시블 디스플레이의 전면판(윈도 필름)에 적합하게 사용할 수 있다. 전면판은, 플렉시블 디스플레이 내의 화상 표시 소자를 보호하는 기능을 갖는다. 보다 상세하게는, 화상 표시 장치로서는, 텔레비전, 스마트 폰, 휴대전화, 카 내비게이션, 태블릿 PC, 휴대 게임기, 전자 페이퍼, 인디케이터, 게시판, 시계, 및 스마트 워치 등의 웨어러블 디바이스 등을 들 수 있다. 플렉시블 디스플레이로서는, 플렉시블 특성을 갖는 화상 표시 장치, 예를 들면 텔레비전, 스마트 폰, 휴대전화, 카 내비게이션, 태블릿 PC, 휴대 게임기, 전자 페이퍼, 인디케이터, 게시판, 시계, 및 웨어러블 디바이스 등을 들 수 있다.In a preferable aspect of the present invention, the polyamideimide film comprising the polyamideimide resin of the present invention has high transparency and also has excellent optical properties. For this reason, the said polyamideimide film can be used as an optical film, and can be used suitably for the member of image display apparatuses, such as a liquid crystal display device and an organic electroluminescence display, especially the front plate (window film) of a flexible display. The front panel has a function of protecting an image display element in the flexible display. More specifically, as an image display apparatus, wearable devices, such as a television, a smart phone, a mobile telephone, car navigation, a tablet PC, a portable game machine, an electronic paper, an indicator, a bulletin board, a clock, and a smart watch, are mentioned. As a flexible display, the image display apparatus which has a flexible characteristic, for example, a television, a smart phone, a mobile telephone, car navigation, a tablet PC, a portable game machine, an electronic paper, an indicator, a bulletin board, a clock, a wearable device, etc. are mentioned.

폴리아미드이미드 필름의 헤이즈는, 바람직하게는 3.0% 이하, 보다 바람직하게는 2.0% 이하, 더 바람직하게는 1.0% 이하이다. 폴리아미드이미드 필름의 헤이즈가 상기의 상한 이하이면 투명성이 양호해져, 예를 들면 화상 표시 장치의 전면판에 사용한 경우에, 높은 시인성에 기여할 수 있다. 또 헤이즈의 하한은 통상 0.01% 이상이다. 또한, 헤이즈는, 예를 들면 헤이즈 컴퓨터에 의해 측정할 수 있다.Haze of a polyamideimide film becomes like this. Preferably it is 3.0% or less, More preferably, it is 2.0% or less, More preferably, it is 1.0% or less. If the haze of a polyamideimide film is below the said upper limit, transparency will become favorable, and when used for the front plate of an image display apparatus, for example, it can contribute to high visibility. Moreover, the minimum of haze is 0.01% or more normally. In addition, a haze can be measured by a haze computer, for example.

폴리아미드이미드 필름의 황색도는, 바람직하게는 8 이하, 보다 바람직하게는 5 이하, 더 바람직하게는 3 이하, 특히 더 바람직하게는 2 이하이다. 폴리아미드이미드 필름의 황색도가 상기의 상한 이하이면 투명성이 양호해져, 예를 들면 화상 표시 장치의 전면판에 사용한 경우에, 높은 시인성에 기여할 수 있다. 또 황색도는 통상 -5 이상이며, 바람직하게는 -2 이상이다. 또한, 황색도(YI값)는 자외 가시 근적외 분광 광도계를 이용하여 300~800nm의 광에 대한 투과율 측정을 행하여, 3자극값(X, Y, Z)을 구하고, YI=100×(1.2769X-1.0592Z)/Y의 식에 근거하여 산출할 수 있다.Yellowness of a polyamideimide film becomes like this. Preferably it is 8 or less, More preferably, it is 5 or less, More preferably, it is 3 or less, Especially preferably, it is 2 or less. If the yellowness of a polyamideimide film is below the said upper limit, transparency will become favorable, and when used for the front plate of an image display apparatus, for example, it can contribute to high visibility. Moreover, yellowness is -5 or more normally, Preferably it is -2 or more. In addition, the yellowness (YI value) is measured using a UV-visible near-infrared spectrophotometer to measure the transmittance for light of 300 to 800 nm, to obtain tristimulus values (X, Y, Z), and YI = 100 × (1.2769X). Can be calculated based on the formula -1.0592Z) / Y.

폴리아미드이미드 필름에 있어서, 두께 50μm에 있어서의 전광선 투과율은, 바람직하게는 80% 이상, 보다 바람직하게는 85% 이상, 더 바람직하게는 89% 이상, 특히 바람직하게는 90% 이상이다. 전광선 투과율이 상기의 하한 이상이면 투명성이 양호해져, 예를 들면 화상 표시 장치의 전면판에 사용한 경우에, 높은 시인성에 기여할 수 있다. 또 전광선 투과율의 상한은 통상 100% 이하이다. 또한, 전광선 투과율은, 예를 들면, JIS K 7105:1981에 준거하여 헤이즈 컴퓨터를 이용하여 측정할 수 있다.In the polyamide-imide film, the total light transmittance in a thickness of 50 µm is preferably 80% or more, more preferably 85% or more, still more preferably 89% or more, and particularly preferably 90% or more. Transparency becomes favorable that a total light transmittance is more than the said minimum, and when it is used for the front plate of an image display apparatus, for example, it can contribute to high visibility. In addition, the upper limit of total light transmittance is 100% or less normally. In addition, total light transmittance can be measured using a haze computer based on JISK7105: 1981, for example.

<폴리아미드이미드 필름의 제조 방법><Method for producing polyamideimide film>

본 발명의 폴리아미드이미드 수지를 포함하여 이루어지는 폴리아미드이미드 필름은, 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 이하의 공정:Although the polyamideimide film containing the polyamideimide resin of this invention is not specifically limited, For example, the following processes:

(a) 상기 폴리아미드이미드 수지를 포함하는 액(폴리아미드이미드 바니시라고 부르는 경우가 있다)을 조제하는 공정(바니시 조제 공정),(a) step (varnish preparation step) of preparing the liquid containing the said polyamide-imide resin (it may be called polyamide-imide varnish),

(b) 폴리아미드이미드 바니시를 기재에 도포하여 도막을 형성하는 공정(도포 공정), 및(b) applying a polyamideimide varnish to the substrate to form a coating film (coating step), and

(c) 도포된 액(도막)을 건조시켜, 폴리아미드이미드 필름을 형성하는 공정(필름 형성 공정)(c) The process of drying the apply | coated liquid (coating film) and forming a polyamide-imide film (film formation process)

을 포함하는 방법에 의해 제조할 수 있다.It can manufacture by the method containing these.

바니시 조제 공정에 있어서, 상기 폴리아미드이미드 수지를 용매에 용해하고, 필요에 따라 상기 첨가제 등을 첨가하여 교반 혼합하는 것에 의해 폴리아미드이미드 바니시를 조제한다.In the varnish preparation step, the polyamideimide resin is dissolved in a solvent, and the polyamideimide varnish is prepared by adding the above additives or the like and stirring the mixture as necessary.

바니시의 조제에 이용되는 용매는, 폴리아미드이미드 수지를 용해 가능하면 특별히 한정되지 않는다. 이러한 용매로서는, 예를 들면, <폴리아미드이미드 수지>의 항에 예시된 용매를 들 수 있다. 이들 용매 중에서도, 아미드계 용매 또는 락톤계 용매를 적합하게 사용할 수 있다. 이들 용매는 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다. 폴리아미드이미드 바니시의 고형분 농도는, 바람직하게는 1~25질량%, 보다 바람직하게는 5~15질량%이다.The solvent used for preparation of the varnish is not particularly limited as long as it can dissolve the polyamideimide resin. As such a solvent, the solvent illustrated in the term of <polyamideimide resin> is mentioned, for example. Among these solvents, an amide solvent or a lactone solvent can be suitably used. These solvents can be used alone or in combination of two or more thereof. Solid content concentration of a polyamide-imide varnish becomes like this. Preferably it is 1-25 mass%, More preferably, it is 5-15 mass%.

도포 공정에 있어서, 공지의 도포 방법에 의해, 기재 상에 폴리아미드이미드 바니시를 도포하여 도막을 형성한다. 공지의 도포 방법으로서는, 예를 들면 와이어 바 코팅법, 리버스 코팅, 그라비어 코팅 등의 롤 코팅법, 다이 코팅법, 콤마 코팅법, 립 코팅법, 스핀 코팅법, 스크린 코팅법, 파운틴 코팅법, 디핑법, 스프레이법, 유연(流涎) 성형법 등을 들 수 있다.In a coating process, a polyamide-imide varnish is apply | coated on a base material by a well-known coating method, and a coating film is formed. As a well-known coating method, for example, a roll coating method such as a wire bar coating method, reverse coating, gravure coating, a die coating method, a comma coating method, a lip coating method, a spin coating method, a screen coating method, a fountain coating method, a di A ping method, a spray method, the casting molding method, etc. are mentioned.

필름 형성 공정에 있어서, 도막을 건조하여 기재로부터 박리하는 것에 의해, 폴리아미드이미드 필름을 형성할 수 있다. 박리 후에 추가로 폴리아미드이미드 필름을 건조하는 공정을 마련해도 된다. 도막의 건조는, 통상 50~350℃의 온도에서 행할 수 있다. 당해 건조는, 필요에 따라, 불활성 분위기 또는 감압의 조건하에 있어서 행해도 된다.In a film formation process, a polyamideimide film can be formed by drying a coating film and peeling from a base material. You may provide the process of drying a polyamideimide film further after peeling. Drying of a coating film can be performed at the temperature of 50-350 degreeC normally. You may perform the said drying on condition of inert atmosphere or reduced pressure as needed.

기재의 예로서는, SUS 등의 금속 벨트, 및 PET 필름, PEN 필름, 폴리이미드 필름, 폴리아미드 필름, 다른 폴리아미드이미드 필름 등의 수지 필름을 들 수 있고, 내열성이 우수한 관점에서, 바람직하게는 PET 필름, PEN 필름 등을 들 수 있으며, 추가로 폴리아미드이미드 필름과의 성막시 밀착성, 박리 용이성, 및 코스트의 관점에서, 보다 바람직하게는 PET 필름을 들 수 있다.As an example of a base material, metal belts, such as SUS, and resin films, such as PET film, a PEN film, a polyimide film, a polyamide film, and another polyamideimide film, are mentioned, From a viewpoint of excellent heat resistance, Preferably it is a PET film , PEN film, and the like, and more preferably, a PET film may be mentioned from the viewpoints of adhesion, ease of peeling, and cost when forming a film with a polyamideimide film.

<적층체><Laminated body>

본 발명의 폴리아미드이미드 수지를 포함하여 이루어지는 폴리아미드이미드 필름은, 단층이어도 되고 적층체여도 되며, 폴리아미드이미드 필름을 그대로 사용해도 되고, 또 다른 필름이나 층과의 적층체로서 사용해도 된다. 본 발명에서는, 폴리아미드이미드 필름이 적층체인 경우, 폴리아미드이미드 필름의 편면 또는 양면에 적층된 모든 층을 포함하여 폴리아미드이미드 필름이라고 불린다. 또한, 편의상, 적층체 형태의 폴리아미드이미드 필름을 적층체라고 하는 경우도 있다.The polyamideimide film containing the polyamideimide resin of the present invention may be a single layer or a laminate, may be used as it is, or may be used as a laminate with another film or layer. In this invention, when a polyamideimide film is a laminated body, it is called a polyamideimide film including all the layers laminated | stacked on the single side | surface or both surfaces of a polyamideimide film. In addition, for convenience, the polyamide-imide film in the form of a laminate may be referred to as a laminate.

본 발명의 폴리아미드이미드 필름이 적층체인 경우, 폴리아미드이미드 필름의 적어도 일방의 면에 1개 이상의 기능층을 갖고 있어도 된다. 기능층으로서는, 예를 들면 자외선 흡수층, 하드 코팅층, 프라이머층, 가스 배리어층, 점착층, 색상 조정층, 굴절률 조정층 등을 들 수 있다. 기능층은 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다.When the polyamideimide film of this invention is a laminated body, you may have one or more functional layers in at least one surface of a polyamideimide film. As a functional layer, an ultraviolet absorber layer, a hard coat layer, a primer layer, a gas barrier layer, an adhesion layer, a color adjustment layer, a refractive index adjustment layer, etc. are mentioned, for example. A functional layer can be used individually or in combination of 2 or more types.

본 발명의 폴리아미드이미드 필름은, 이하에 나타내는 보호 필름 등과의 적층체로 할 수 있다. 즉, 본 발명의 폴리아미드이미드 필름은, 적어도 일방의 면에 보호 필름 등을 포함해도 된다. 폴리아미드이미드 필름의 편면 또는 양면에 기능층을 갖는 경우는, 기능층의 표면에 보호 필름을 갖고 있어도 된다.The polyamideimide film of this invention can be made into the laminated body with the protective film etc. which are shown below. That is, the polyamideimide film of this invention may contain a protective film etc. in at least one surface. When having a functional layer in the single side | surface or both surfaces of a polyamideimide film, you may have a protective film on the surface of a functional layer.

보호 필름은, 폴리아미드이미드 필름의 지지체인 기재가 없는 면에 첩합(貼合)된다. 적층체를 롤형으로 권취할 때에, 블로킹 등의 권취성에 문제가 있는 경우는, 상기에 추가해, 지지체의 폴리아미드이미드 필름과는 반대측의 면에 보호 필름을 첩합해도 된다. 폴리아미드이미드 필름에 첩합되는 보호 필름은, 폴리아미드이미드 필름의 표면을 일시적으로 보호하기 위한 필름이며, 폴리아미드이미드 필름의 표면을 보호할 수 있는 박리 가능한 필름인 한 특별히 한정되지 않는다. 예를 들면, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르계 수지 필름; 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 필름 등의 폴리올레핀계 수지 필름, 아크릴계 수지 필름 등을 들 수 있고, 폴리올레핀계 수지 필름, 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지 필름 및 아크릴계 수지 필름으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 것이 바람직하다. 적층체(폴리아미드이미드 필름)의 양면에 보호 필름을 포함하는 경우, 각면의 보호 필름은 서로 동일해도 되고 상이해도 된다.A protective film is bonded to the surface which does not have a base material which is a support body of a polyamideimide film. When winding up a laminated body in roll shape, when there exists a problem in winding properties, such as blocking, you may bond a protective film to the surface on the opposite side to the polyamideimide film of a support body in addition to the above. The protective film bonded to a polyamideimide film is a film for temporarily protecting the surface of a polyamideimide film, and it is not specifically limited as long as it is a peelable film which can protect the surface of a polyamideimide film. For example, Polyester resin films, such as a polyethylene terephthalate, a polybutylene terephthalate, and a polyethylene naphthalate; Polyolefin resin films, such as polyethylene and a polypropylene film, an acrylic resin film, etc. are mentioned, It is preferable to select from the group which consists of a polyolefin resin film, a polyethylene terephthalate resin film, and an acrylic resin film. When including a protective film on both surfaces of a laminated body (polyamideimide film), the protective film of each surface may be mutually same or different.

보호 필름의 두께는, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 통상, 10~100μm, 바람직하게는 10~80μm, 보다 바람직하게는 10~50μm이다. 적층체(폴리아미드이미드 필름)의 양면에 보호 필름을 포함하는 경우, 각면의 보호 필름의 두께는 동일해도 되고 상이해도 된다.Although the thickness of a protective film is not specifically limited, Usually, 10-100 micrometers, Preferably it is 10-80 micrometers, More preferably, it is 10-50 micrometers. When a protective film is included on both surfaces of a laminated body (polyamideimide film), the thickness of the protective film of each surface may be same or different.

(적층체 필름 롤)(Laminated Film Roll)

본 명세서에 있어서, 상기 적층체(예를 들면 지지체, 폴리아미드이미드 필름 및 필요에 따라 보호 필름)가 권심(卷芯)에 롤형으로 권회(捲回)된 것을 적층체 필름 롤이라고 부른다. 적층체 필름 롤은, 연속적인 제조에 있어서, 스페이스 및 기타 제약으로부터 일단 필름 롤의 형태로 보관하는 경우가 많으며, 적층체 필름 롤도 그 하나이다. 적층체 필름 롤의 형태에서는, 적층체가 보다 강하게 감겨 있으므로, 지지체 상의 백탁 원인 물질이 폴리아미드이미드 필름 상에 전사되기 쉬워진다. 그러나, 본 발명의 소정의 대수(對水) 접촉각을 갖는 지지체를 이용하면, 지지체로부터의 백탁 물질이 폴리아미드이미드 필름에 전사되기 어려워, 그것이 적층체 필름 롤로 감겨 있어도, 백탁이 발생하기 어렵다.In this specification, the thing by which the said laminated body (for example, a support body, a polyamideimide film, and a protective film as needed) was wound by roll shape to the core is called a laminated body film roll. In the continuous production, the laminated film roll is often stored in the form of a film roll once from space and other constraints, and the laminated film roll is one of them. In the form of a laminated film roll, since a laminated body is wound more strongly, the haze-causing substance on a support body becomes easy to be transferred on a polyamideimide film. However, when the support having the predetermined logarithmic contact angle of the present invention is used, the clouding material from the support is hard to be transferred to the polyamideimide film, and even if it is wound with a laminate film roll, clouding is unlikely to occur.

적층체 필름 롤의 권심을 구성하는 재료로서는, 예를 들면 폴리에틸렌 수지, 폴리프로필렌 수지, 폴리염화 비닐 수지, 폴리에스테르 수지, 에폭시 수지, 페놀 수지, 멜라민 수지, 규소 수지, 폴리우레탄 수지, 폴리카보네이트 수지, ABS 수지 등의 합성 수지; 알루미늄 등의 금속; 섬유강화 플라스틱(FRP: 유리 섬유 등의 섬유를 플라스틱에 함유시켜 강도를 향상시킨 복합재료) 등을 들 수 있다. 권심은 원통형 또는 원기둥형 등의 형상을 이루고, 그 직경은, 예를 들면 80~170mm이다. 또, 필름 롤의 권취 후의 직경은, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 통상 200~800mm이다.As a material which comprises the core of a laminated film roll, a polyethylene resin, a polypropylene resin, a polyvinyl chloride resin, a polyester resin, an epoxy resin, a phenol resin, a melamine resin, a silicon resin, a polyurethane resin, a polycarbonate resin, for example Synthetic resins such as ABS resin; Metals such as aluminum; Fiber-reinforced plastics (FRP: a composite material in which fibers such as glass fibers are contained in plastics to improve strength); The core forms a cylindrical or cylindrical shape, and the diameter thereof is, for example, 80 to 170 mm. Moreover, although the diameter after the winding of a film roll is not specifically limited, Usually, it is 200-800 mm.

<플렉시블 표시 장치><Flexible Display Device>

본 발명은, 상기 폴리아미드이미드 필름을 구비하는, 플렉시블 표시 장치를 포함한다. 당해 플렉시블 표시 장치(광학 적층체)는, 상기 폴리아미드이미드 필름의 일방의 면에, 편광판 및 터치 센서로 이루어지는 군으로부터 선택되는 하나의 층을 추가로 포함할 수 있다. 즉, 본 발명의 플렉시블 표시 장치는, 추가로 터치 센서 및/또는 편광판을 구비할 수 있다. 상기와 같이, 플렉시블 표시 장치에 있어서, 본 발명의 폴리아미드이미드 필름은 전면판(윈도 필름)으로서 이용된다. 따라서, 본 발명의 폴리아미드이미드 필름을 윈도 필름이라고 부르는 경우가 있다. 윈도 필름은, 윈도 하드 코팅층을 구비하고 있어도 된다. 또, 상기 윈도 필름은 필요에 따라, 점접착층을 사이에 두고 편광판 또는 터치 센서를 구비할 수 있다.The present invention includes a flexible display device comprising the polyamideimide film. The flexible display device (optical laminate) may further include one layer selected from the group consisting of a polarizing plate and a touch sensor on one surface of the polyamideimide film. That is, the flexible display device of the present invention may further include a touch sensor and / or a polarizing plate. As described above, in the flexible display device, the polyamideimide film of the present invention is used as a front plate (window film). Therefore, the polyamideimide film of this invention may be called the window film. The window film may be provided with the window hard coating layer. In addition, the window film may be provided with a polarizing plate or a touch sensor with an adhesive layer interposed as needed.

상기 윈도 필름 또는 상기 편광판의 적어도 일면에, 테두리를 둘러싸고 인쇄된 유색의 차광 패턴을 구비할 수 있고, 상기 차광 패턴은 단층 또는 복층의 형태여도 된다. 또, 상기 윈도 필름의 일면에는 직접 또는 점접착층을 사이에 두고 편광판을 접합할 수도 있다. 예를 들면, 상기 편광판은 상기 비표시 영역 또는 베젤부에 걸쳐 연속적으로 연장할 수 있고, 폴리비닐알코올계 편광자 및 상기 폴리비닐알코올계 편광자의 적어도 일면에 첩부된 보호 필름을 포함하는 통상의 편광판이어도 된다.At least one surface of the window film or the polarizing plate may be provided with a colored light shielding pattern printed around the edge, and the light shielding pattern may be in the form of a single layer or a multilayer. In addition, a polarizing plate may be bonded to one surface of the window film directly or with an adhesive layer therebetween. For example, the polarizing plate may extend continuously over the non-display area or the bezel portion, and may be a conventional polarizing plate including a polyvinyl alcohol polarizer and a protective film affixed on at least one surface of the polyvinyl alcohol polarizer. do.

본 발명의 일 양태로서는, 상기 윈도 필름의 일면에 편광판 및 터치 센서가 일체화된 구조이며, 편광판 및 터치 센서의 배치 순서는 한정되지 않고, 윈도 필름, 편광판, 터치 센서 및 표시 패널의 순서로 배치할 수도 있으며, 윈도 필름, 터치 센서, 편광판 및 표시 패널의 순서로 배치할 수도 있다. 윈도 필름, 편광판, 터치 센서 및 표시 패널의 순서로 배치한 경우는, 화상 표시 장치를 시인측으로부터 보았을 때에 터치 센서가 편광판의 하측에 존재하므로, 터치 센서의 패턴이 시인되기 어려운 장점이 있다. 이러한 경우, 터치 센서의 기판은 정면 위상차가 ±2.5nm 이하인 것이 바람직하다. 그러한 소재로서는 무연신 필름으로서, 예를 들면, 트리아세틸셀룰로오스, 시클로올레핀, 시클로올레핀 공중합체, 폴리노르보르넨 공중합체 등의 소재로 이루어지는 군으로부터 선택된 1종 이상의 소재의 필름이어도 된다. 한편, 터치 센서의 기판없이 패턴만 윈도 필름 및 편광판에 전사한 구조를 가질 수 있다.As an aspect of the present invention, the polarizing plate and the touch sensor are integrated on one surface of the window film, and the arrangement order of the polarizing plate and the touch sensor is not limited, and the polarizing plate and the touch sensor may be arranged in the order of the window film, the polarizing plate, the touch sensor, and the display panel. You may arrange | position in order of a window film, a touch sensor, a polarizing plate, and a display panel. When arrange | positioning in order of a window film, a polarizing plate, a touch sensor, and a display panel, when the image display apparatus is seen from the visual recognition side, since a touch sensor exists under a polarizing plate, there exists an advantage that the pattern of a touch sensor is hard to be recognized. In this case, it is preferable that the substrate of the touch sensor has a front phase difference of ± 2.5 nm or less. As such a raw material, as a non-stretched film, the film of 1 or more types of materials chosen from the group which consists of raw materials, such as a triacetyl cellulose, a cycloolefin, a cycloolefin copolymer, a polynorbornene copolymer, may be sufficient, for example. Meanwhile, only the pattern without the substrate of the touch sensor may have a structure transferred to the window film and the polarizing plate.

상기 편광판 및 터치 센서는, 투명 점착제층 또는 투명 접착제층에 의해 윈도 필름과 표시 패널의 사이에 배치할 수 있지만, 투명 점착제층이 바람직하다. 윈도 필름, 편광판, 터치 센서 및 표시 패널의 순서로 배치된 경우는, 윈도 필름과 편광판의 사이, 터치 센서와 표시 패널의 사이에 투명 점착층이 위치할 수 있다. 윈도 필름, 터치 센서, 편광판 및 표시 패널의 순서로 배치된 경우는, 윈도 필름과 터치 센서의 사이, 터치 센서와 편광판의 사이, 편광판과 표시 패널의 사이에 투명 점착제층이 위치할 수 있다.Although the said polarizing plate and a touch sensor can be arrange | positioned between a window film and a display panel with a transparent adhesive layer or a transparent adhesive bond layer, a transparent adhesive layer is preferable. When arrange | positioned in order of a window film, a polarizing plate, a touch sensor, and a display panel, a transparent adhesive layer may be located between a window film and a polarizing plate, and between a touch sensor and a display panel. When arrange | positioned in order of a window film, a touch sensor, a polarizing plate, and a display panel, a transparent adhesive layer may be located between a window film and a touch sensor, between a touch sensor and a polarizing plate, and between a polarizing plate and a display panel.

상기 투명 점착층의 두께는 특별히 한정되지 않고, 예를 들면, 1~100μm여도 된다. 본 발명에 의한 투명 점착층에 있어서, 하부 점착층의 두께가 상부 점착층의 두께 이상이며, -20~80℃에서 점탄성이 0.2MPa 이하인 것이 바람직하다. 그 경우, 터치 센서와 표시 패널 간의 간섭에 의해 발생하는 노이즈를 저감할 수 있고, 굴곡시의 계면 응력을 완화하여 상하부의 기재의 파괴를 억제할 수 있다. 점착제의 응집 파괴를 억제함과 동시에 계면 응력을 완화시키는 면으로부터, 보다 바람직하게는, 상기 점탄성은 0.01~0.15MPa여도 된다.The thickness of the said transparent adhesive layer is not specifically limited, For example, 1-100 micrometers may be sufficient. In the transparent adhesive layer which concerns on this invention, it is preferable that the thickness of a lower adhesion layer is more than the thickness of an upper adhesion layer, and viscoelasticity is 0.2 Mpa or less at -20-80 degreeC. In this case, the noise generated by the interference between the touch sensor and the display panel can be reduced, and the interfacial stress during bending can be alleviated to prevent breakage of the upper and lower substrates. More preferably, 0.01 to 0.15 MPa may be sufficient as the said viscoelasticity from the surface which suppresses the cohesive failure of an adhesive and relieves interfacial stress.

(편광판)(Polarizing plate)

상기 윈도 필름에 적층되는 편광판은, 편광자 단독으로 또는 편광자 및 그 적어도 일면에 첩부된 보호 필름을 구비한 구성이어도 된다. 상기 편광판의 두께는 특별히 한정되지 않고, 예를 들면, 100μm 이하여도 된다. 두께가 100μm 이하이면 유연성이 저하되기 어렵다. 상기 범위 내에서, 예를 들면, 5~100μm여도 된다.The polarizing plate laminated | stacked on the said window film may be the structure provided with the polarizer alone or the polarizer and the protective film affixed on at least one surface thereof. The thickness of the said polarizing plate is not specifically limited, For example, 100 micrometers or less may be sufficient. If thickness is 100 micrometers or less, flexibility will hardly fall. Within this range, for example, 5 to 100 µm may be sufficient.

상기 편광자는, 폴리비닐알코올계 필름을 팽윤, 염색, 가교, 연신, 수세, 건조하는 등의 단계를 포함하는 공정에 의해 제조된 당해 분야에서 통상 사용되는 필름형 편광자여도 되고, 또 다른 일례로서는, 편광 코팅층으로서 액정 코팅용 조성물을 도포하여 형성할 수 있다. 상기 액정 코팅용 조성물은, 코팅층 형성 조성물로서, 중합성 액정 화합물 및 2색성 염료를 포함할 수 있다. 상기 편광 코팅층은, 예를 들면, 기재 상에 배향막 형성 조성물을 도포하여, 배향성을 부여해 배향막을 형성하고, 상기 배향막 상에 액정 화합물 및 2색성 염료를 포함하는 코팅층 형성 조성물을 도포하여 액정 코팅층을 형성함으로써 제조할 수 있다. 이러한 편광 코팅층은, 폴리비닐알코올계 편광자의 양면에 접착제에 의해 첩부된 보호 필름을 포함하는 편광판에 비해 두께를 얇게 형성할 수 있다. 상기 편광 코팅층의 두께는 0.5~10μm, 바람직하게는 2~4μm여도 된다.The polarizer may be a film-type polarizer commonly used in the art produced by a step including a step of swelling, dyeing, crosslinking, stretching, washing with water, drying, or the like for a polyvinyl alcohol-based film. As another example, It can form by apply | coating the composition for liquid crystal coating as a polarizing coating layer. The liquid crystal coating composition may include a polymerizable liquid crystal compound and a dichroic dye as a coating layer forming composition. For example, the polarizing coating layer is coated with an alignment film forming composition on a substrate to provide an alignment property to form an alignment film, and a coating layer forming composition containing a liquid crystal compound and a dichroic dye is formed on the alignment film to form a liquid crystal coating layer. It can manufacture by doing. Such a polarizing coating layer can form a thin thickness compared with the polarizing plate containing the protective film affixed on both surfaces of a polyvinyl alcohol-type polarizer by an adhesive agent. The thickness of the said polarizing coating layer may be 0.5-10 micrometers, Preferably 2-4 micrometers may be sufficient.

(배향막 형성 조성물)(Orientation film formation composition)

상기 배향막 형성 조성물은, 당해 분야에서 통상 사용되는 배향제, 광중합 개시제 및 용제를 포함할 수 있다. 상기 배향제로서는, 당해 분야에서 통상 사용되는 배향제를 특별히 제한 없이 사용할 수 있다. 예를 들면, 폴리아크릴레이트계 고분자, 폴리아믹산, 폴리이미드계 고분자 또는 신나메이트기를 포함하는 고분자를 배향제로서 사용할 수 있고, 광배향을 적용하는 경우에는 신나메이트기를 포함하는 고분자를 사용하는 것이 바람직하다.The alignment layer forming composition may include an alignment agent, a photopolymerization initiator, and a solvent which are commonly used in the art. As the aligning agent, an aligning agent usually used in the art can be used without particular limitation. For example, a polyacrylate-based polymer, a polyamic acid, a polyimide-based polymer, or a polymer containing cinnamate groups can be used as the alignment agent, and when a photoalignment is applied, it is preferable to use a polymer containing cinnamate groups. Do.

상기 배향막 형성 조성물의 도포는, 예를 들면, 스핀 코팅법, 압출 성형법, 딥 코팅, 플로 코팅, 스프레이 코팅, 롤 코팅, 그라비어 코팅, 마이크로 그라비어 코팅, 인 라인 코팅 방식 등을 들 수 있다. 상기 배향막 형성 조성물이 도포 및 필요에 따라 건조된 후에는 배향 처리를 행한다. 상기 배향 처리는, 당해 분야에 있어서 주지의 다양한 방법을 제한 없이 채용할 수 있고, 바람직하게는, 광배향막화를 이용할 수 있다. 광배향막은 통상, 광반응성기를 갖는 중합체 또는 단량체와 용제를 포함하는 광배향막 형성용 조성물을 기재에 도포하여, 편광(바람직하게는, 편광 UV)을 조사함으로써 얻어진다. 광배향막은 조사하는 편광의 편광 방향을 선택함으로써, 배향 규제력의 방향을 임의로 제어할 수 있는 점에서, 더 바람직하다.Examples of the coating of the alignment layer forming composition include spin coating, extrusion molding, dip coating, flow coating, spray coating, roll coating, gravure coating, micro gravure coating, in-line coating, and the like. After the said alignment film formation composition is apply | coated and dried as needed, an orientation treatment is performed. The said orientation process can employ | adopt various well-known methods in the said field | area without limitation, Preferably, photo-alignment film formation can be used. A photo-alignment film is obtained by apply | coating the composition for photo-alignment film formation containing a polymer or monomer which has a photoreactive group, and a solvent to a base material normally, and irradiating polarized light (preferably polarized UV). The photo-alignment film is more preferable at the point which can arbitrarily control the direction of the orientation regulation force by selecting the polarization direction of the polarized light to irradiate.

상기 광배향막의 두께는, 통상 10~10,000nm, 바람직하게는 10~1,000nm, 보다 바람직하게는 10~500nm이다. 광배향막의 두께가 상기 범위에 있으면, 배향 규제력이 충분히 발현된다.The thickness of the photo-alignment film is usually 10 to 10,000 nm, preferably 10 to 1,000 nm, and more preferably 10 to 500 nm. When the thickness of the photo-alignment film is in the above range, the orientation regulation force is sufficiently expressed.

(편광 코팅층 형성 조성물)(Polarizing Coating Layer Formation Composition)

편광 코팅층은 편광 코팅층 형성 조성물을 도포하여 형성할 수 있다. 구체적으로는, 편광 코팅층 형성 조성물은 2색성 색소에 더해, 호스트 화합물이 되는 1개 이상의 중합성 액정(이하, 중합성 액정 (B)라고 부르는 경우가 있다)을 포함하는 조성물(이하, 조성물 B라고 부르는 경우가 있다)이다.The polarizing coating layer may be formed by applying a polarizing coating layer forming composition. Specifically, the polarizing coating layer-forming composition, in addition to the dichroic dye, contains a composition containing one or more polymerizable liquid crystals (hereinafter, sometimes referred to as polymerizable liquid crystals (B)) as host compounds (hereinafter referred to as composition B). May be called).

「2색성 색소」란, 분자의 장축 방향에 있어서의 흡광도와 단축 방향에 있어서의 흡광도가 다른 성질을 갖는 색소를 의미한다. 이러한 성질을 갖는 것이면, 2색성 색소는 제한이 없고, 염료여도 되고 안료여도 된다. 2종 이상의 염료를 조합하여 이용해도 되고, 2종 이상의 안료를 조합하여 이용해도 되며, 염료와 안료를 조합하여 이용해도 된다.A "dichroic dye" means the pigment | dye which has the property which the absorbance in the major axis direction of a molecule | numerator differs from the absorbance in a short axis direction. As long as it has such a property, a dichroic dye does not have a restriction | limiting and may be a dye or a pigment. Two or more types of dyes may be used in combination, two or more types of pigments may be used in combination, and dyes and pigments may be used in combination.

2색성 색소는, 300~700nm의 범위에 극대 흡수 파장(λMAX)을 갖는 것이 바람직하다. 이러한 2색성 색소로서는, 아크리딘 색소, 옥사진 색소, 시아닌 색소, 나프탈렌 색소, 아조 색소 및 안트라퀴논 색소를 들 수 있으며, 그 중에서도 아조 색소가 바람직하다. 아조 색소로서는, 모노아조 색소, 비스아조 색소, 트리스아조 색소, 테트라키스아조 색소 및 스틸벤아조 색소를 들 수 있으며, 비스아조 색소 및 트리스아조 색소가 바람직하다.It is preferable that a dichroic dye has maximum absorption wavelength ((lambda) MAX ) in the range of 300-700 nm. As such a dichroic dye, an acridine pigment, an oxazine pigment, a cyanine pigment, a naphthalene pigment, an azo pigment, and an anthraquinone pigment is mentioned, Especially, an azo pigment is preferable. As an azo pigment | dye, a monoazo pigment | dye, bis azo pigment | dye, a tris azo pigment | dye, a tetrakis azo pigment | dye, and a stilbenazo pigment | dye are mentioned, A bis azo pigment | dye and a tris azo pigment | dye are preferable.

중합성 액정 (B)가 나타내는 액정 상태는, 스멕틱상인 것이 바람직하고, 배향 질서도가 보다 높은 편광층을 제조할 수 있는 점에서, 고차 스멕틱상인 것이 보다 바람직하다. 스멕틱상을 나타내는 중합성 액정 (B)를 중합성 스멕틱 액정 화합물이라고 부른다. 중합성 액정 (B)는 단독으로 또는 조합하여 사용할 수 있다. 또, 2종 이상의 중합성 액정을 조합하는 경우는, 적어도 1종이 중합성 액정 (B)면 바람직하고, 2종 이상이 중합성 액정 (B)면, 보다 바람직하다. 조합함으로써, 액정-결정 상전이 온도 이하의 온도에서도 일시적으로 액정성을 보지(保持)할 수 있는 경우가 있다. 중합성 액정 (B)는, 예를 들면, Lub et al. Recl. Trav. Chim. Pays-Bas, 115, 321-328(1996) 또는 일본 특허공보 제4719156호 등에 기재된 공지의 방법으로 제조된다. 조성물 B에 있어서의 2색성 색소의 함유량은, 2색성 색소의 종류 등에 따라 적절히 조절할 수 있지만, 중합성 액정 (B) 100질량부에 대해서 바람직하게는 0.1질량부 이상 50질량부 이하, 보다 바람직하게는 0.1질량부 이상 20질량부 이하, 더 바람직하게는 0.1질량부 이상 10질량부 이하이다. 2색성 색소의 함유량이 상기 범위 내이면, 중합성 액정 (B)의 배향을 어지럽히지 않고 중합시킬 수 있고, 또 중합성 액정 (B)의 배향을 저해하는 경향이 작다.It is preferable that it is a smectic phase, and, as for the liquid crystal state represented by a polymeric liquid crystal (B), it is more preferable that it is a higher order smectic phase from the point which can manufacture a polarizing layer with a higher degree of orientation order. The polymeric liquid crystal (B) which shows a smectic phase is called a polymeric smectic liquid crystal compound. The polymerizable liquid crystal (B) can be used alone or in combination. Moreover, when combining 2 or more types of polymerizable liquid crystals, at least 1 type is preferable if it is a polymerizable liquid crystal (B), and it is more preferable if 2 or more types are polymerizable liquid crystals (B). By combining, it may be possible to hold | maintain liquid crystal temporarily even at the temperature below liquid crystal-crystal phase transition temperature. The polymerizable liquid crystal (B) is, for example, Lub et al. Recl. Trav. Chim. It is manufactured by the well-known method described in Pays-Bas, 115, 321-328 (1996) or Unexamined-Japanese-Patent No. 4919156. Although content of the dichroic dye in the composition B can be suitably adjusted according to the kind etc. of a dichroic dye, Preferably it is 0.1 mass part or more and 50 mass parts or less with respect to 100 mass parts of polymeric liquid crystals (B), More preferably, 0.1 mass part or more and 20 mass parts or less, More preferably, they are 0.1 mass part or more and 10 mass parts or less. When content of a dichroic dye is in the said range, it can superpose | polymerize without disturbing the orientation of a polymeric liquid crystal (B), and the tendency which inhibits the orientation of a polymeric liquid crystal (B) is small.

조성물 B는 용제를 포함하는 것이 바람직하다. 일반적으로, 스멕틱 액정 화합물은 점도가 높기 때문에, 용제를 포함하는 조성물은 도포가 용이하고, 결과적으로 편광막의 형성이 쉬운 경우가 많다. 용제로서는 앞서 설명한 배향성 폴리머 조성물에 포함되는 용제와 마찬가지의 것을 들 수 있으며, 중합성 액정 (B) 및 2색성 색소의 용해성에 따라 적절히 선택할 수 있다. 용제의 함유량은, 조성물 B의 총량에 대해서 바람직하게는 50~98질량%이다. 바꾸어 말하면, 조성물 B에 있어서의 고형분은 바람직하게는 2~50질량%이다.It is preferable that composition B contains a solvent. Generally, since a smectic liquid crystal compound has a high viscosity, the composition containing a solvent is easy to apply | coat, and as a result, formation of a polarizing film is easy in many cases. As a solvent, the thing similar to the solvent contained in the orientation polymer composition mentioned above can be mentioned, It can select suitably according to the solubility of a polymeric liquid crystal (B) and a dichroic dye. Content of a solvent becomes like this. Preferably it is 50-98 mass% with respect to the total amount of the composition B. In other words, solid content in the composition B becomes like this. Preferably it is 2-50 mass%.

조성물 B는 1종 이상의 레벨링제를 함유하는 것이 바람직하다. 레벨링제는 조성물 B의 유동성을 조정하고, 조성물 B를 도포함으로써 얻어지는 도포막을 보다 평탄하게 하는 기능을 가지며, 구체적으로는, 계면활성제를 들 수 있다. 조성물 B가 레벨링제를 함유하는 경우, 그 함유량은 중합성 액정 100질량부에 대해서 바람직하게는 0.05질량부 이상 5질량부 이하, 보다 바람직하게는 0.05질량부 이상 3질량부 이하이다. 레벨링제의 함유량이 상기의 범위 내이면, 중합성 액정을 수평 배향시키는 것이 용이하고, 또, 얻어지는 편광층이 보다 평활하게 되는 경향이 있다. 중합성 액정에 대한 레벨링제의 함유량이 상기의 범위 내이면, 얻어지는 편광층에 편차가 그다지 발생하지 않는 경향이 있다.It is preferable that composition B contains at least 1 leveling agent. The leveling agent has a function of adjusting the fluidity of the composition B and flattening the coating film obtained by applying the composition B, and specifically, a surfactant may be mentioned. When composition B contains a leveling agent, the content becomes like this. Preferably it is 0.05 mass part or more and 5 mass parts or less, More preferably, it is 0.05 mass part or more and 3 mass parts or less with respect to 100 mass parts of polymeric liquid crystals. When content of a leveling agent exists in said range, it is easy to horizontally align a polymeric liquid crystal, and there exists a tendency for the polarizing layer obtained to become more smooth. When content of the leveling agent with respect to a polymeric liquid crystal is in the said range, there exists a tendency for a deviation not to generate | occur | produce so much in the polarizing layer obtained.

조성물 B는 1종 이상의 중합 개시제를 함유하는 것이 바람직하다. 중합 개시제는 중합성 액정 (B)의 중합 반응을 개시할 수 있는 화합물이며, 보다 저온 조건하에서 중합 반응을 개시할 수 있는 점에서 광중합 개시제가 바람직하다. 구체적으로는 광의 작용에 의해 활성 라디칼 또는 산을 발생할 수 있는 광중합 개시제를 들 수 있으며, 그 중에서도 광의 작용에 의해 라디칼을 발생하는 광중합 개시제가 바람직하다. 중합 개시제로서는, 벤조인 화합물, 벤조페논 화합물, 알킬페논 화합물, 아실포스핀옥사이드 화합물, 트리아진 화합물, 아이오도늄염 및 설포늄염을 들 수 있다.It is preferable that composition B contains 1 or more types of polymerization initiators. A polymerization initiator is a compound which can start the polymerization reaction of a polymeric liquid crystal (B), and a photoinitiator is preferable at the point which can start a polymerization reaction on lower temperature conditions. Specifically, the photoinitiator which can generate | occur | produce an active radical or an acid by the action of light is mentioned, Especially the photoinitiator which generate | occur | produces a radical by the action of light is preferable. Examples of the polymerization initiator include benzoin compounds, benzophenone compounds, alkylphenone compounds, acylphosphine oxide compounds, triazine compounds, iodonium salts and sulfonium salts.

조성물 B가 중합 개시제를 함유하는 경우, 그 함유량은, 그 조성물에 함유되는 중합성 액정의 종류 및 그 양에 따라 적절히 조절할 수 있지만, 중합성 액정 100질량부에 대해서 바람직하게는 0.1~30질량부, 보다 바람직하게는 0.5~10질량부, 더 바람직하게는 0.5~8질량부이다. 중합 개시제의 함유량이 이 범위 내이면, 중합성 액정 (B)의 배향을 어지럽히지 않고 중합시킬 수 있다. 조성물 B가 광중합 개시제를 함유하는 경우, 상기 조성물은 광증감제를 추가로 함유하고 있어도 된다. 조성물 B가 광중합 개시제 및 광증감제를 함유하는 경우, 그 조성물에 함유되는 중합성 액정의 중합 반응을 보다 촉진할 수 있다. 광증감제의 사용량은 광중합 개시제 및 중합성 액정의 종류 및 그 양에 따라 적절히 조절할 수 있지만, 중합성 액정 100질량부에 대해서, 바람직하게는 0.1~30질량부, 보다 바람직하게는 0.5~10질량부, 더 바람직하게는 0.5~8질량부이다.When composition B contains a polymerization initiator, although the content can be suitably adjusted according to the kind and quantity of the polymeric liquid crystal contained in the composition, Preferably it is 0.1-30 mass parts with respect to 100 mass parts of polymeric liquid crystals. More preferably, it is 0.5-10 mass parts, More preferably, it is 0.5-8 mass parts. If content of a polymerization initiator exists in this range, it can superpose | polymerize without disturbing the orientation of a polymeric liquid crystal (B). When composition B contains a photoinitiator, the said composition may further contain the photosensitizer. When composition B contains a photoinitiator and a photosensitizer, the polymerization reaction of the polymeric liquid crystal contained in this composition can be accelerate | stimulated more. Although the usage-amount of a photosensitizer can be suitably adjusted according to the kind and quantity of a photoinitiator and a polymeric liquid crystal, Preferably it is 0.1-30 mass parts, More preferably, it is 0.5-10 mass with respect to 100 mass parts of polymeric liquid crystals. Part, More preferably, it is 0.5-8 mass parts.

중합성 액정의 중합 반응을 보다 안정적으로 진행시키기 위해서, 조성물 B는, 적량의 중합 금지제를 함유해도 되고, 이로써, 중합성 액정의 중합 반응의 진행 정도를 제어하기 쉬워진다. 조성물 B가 중합 금지제를 함유하는 경우, 그 함유량은, 중합성 액정의 종류 및 그 양, 및 광증감제의 사용량 등에 따라 적절히 조절할 수 있지만, 중합성 액정 100질량부에 대해서, 바람직하게는 0.1~30질량부, 보다 바람직하게는 0.5~10질량부, 더 바람직하게는 0.5~8질량부이다. 중합 금지제의 함유량이 이 범위 내이면, 중합성 액정의 배향을 어지럽히지 않고 중합시킬 수 있다.In order to advance the polymerization reaction of a polymeric liquid crystal more stably, the composition B may contain an appropriate amount of polymerization inhibitors, and thereby, it becomes easy to control the progress of the polymerization reaction of a polymeric liquid crystal. When composition B contains a polymerization inhibitor, the content can be suitably adjusted according to the kind and quantity of a polymeric liquid crystal, the usage-amount of a photosensitizer, etc., Preferably it is 0.1 with respect to 100 mass parts of polymeric liquid crystals. -30 mass parts, More preferably, it is 0.5-10 mass parts, More preferably, it is 0.5-8 mass parts. If content of a polymerization inhibitor exists in this range, it can superpose | polymerize without disturbing the orientation of a polymeric liquid crystal.

(편광 코팅층의 제작 방법)(Production method of polarizing coating layer)

편광 코팅층은 통상, 편광 코팅층 형성 조성물을 배향 처리가 실시된 기재 상에 도포하여, 얻어진 도포막 중의 중합성 액정을 중합시킴으로써 형성된다. 상기 편광 코팅층 형성 조성물을 도포하는 방법은 한정되지 않는다. 배향 처리로서는 앞서 예시한 것을 들 수 있다. 편광 코팅층 형성 조성물을 도포하여, 얻어진 도포막 중에 포함되는 중합성 액정이 중합하지 않는 조건으로 용제를 건조 제거함으로써 건조 피막이 형성된다. 건조 방법으로서는, 자연 건조법, 통풍 건조법, 가열 건조 및 감압 건조법을 들 수 있다. 중합성 액정이 중합성 스멕틱 액정 화합물인 경우, 건조 피막에 포함되는 중합성 스멕틱 액정 화합물의 액정 상태를 네마틱상(네마틱 액정 상태)으로 한 후, 스멕틱상으로 전이시키는 것이 바람직하다. 네마틱상을 거쳐 스멕틱상을 형성시키기 위해서는, 예를 들면, 건조 피막에 포함되는 중합성 스멕틱 액정 화합물이 네마틱상의 액정 상태로 상전이하는 온도 이상으로 건조 피막을 가열하고, 계속해서, 중합성 스멕틱 액정 화합물이 스멕틱상의 액정 상태를 나타내는 온도로까지 냉각하는 방법이 채용된다. 계속해서, 건조 피막 중의 중합성 액정의 액정 상태를 스멕틱상으로 한 후, 스멕틱상의 액정 상태를 보지한 채로 중합성 액정을 광중합시키는 방법에 대해 설명한다. 광중합에 있어서, 건조 피막에 조사하는 광은, 상기 건조 피막에 포함되는 광중합 개시제의 종류, 중합성 액정의 종류(특히, 중합성 액정이 갖는 광중합기의 종류) 및 그 양에 따라 적절히 선택할 수 있고, 그 구체예로서는, 가시광, 자외광 및 레이저광으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 활성 에너지선을 들 수 있다. 이것들 중, 중합 반응의 진행을 제어하기 쉬운 점이나 광중합 장치로서 당해 분야에서 광범위하게 이용되고 있는 것을 사용할 수 있는 점에서 자외광이 바람직하다. 광중합을 행함으로써, 중합성 액정은, 스멕틱상, 바람직하게는 고차의 스멕틱상의 액정 상태를 보지한 채로 중합하여 편광층이 형성된다.A polarizing coating layer is normally formed by apply | coating a polarizing coating layer forming composition on the base material on which the orientation process was performed, and polymerizing the polymerizable liquid crystal in the coating film obtained. The method of apply | coating the said polarizing coating layer forming composition is not limited. Examples of the orientation treatment include those exemplified above. A dry film is formed by apply | coating a polarizing coating layer forming composition and drying-drying a solvent on the conditions which the polymerizable liquid crystal contained in the coating film obtained does not superpose | polymerize. As a drying method, a natural drying method, ventilation drying method, heat drying, and reduced pressure drying method are mentioned. When a polymerizable liquid crystal is a polymeric smectic liquid crystal compound, it is preferable to make the liquid crystal state of the polymeric smectic liquid crystal compound contained in a dry film into a nematic phase (nematic liquid crystal state), and then transfer to a smectic phase. In order to form a smectic phase via a nematic phase, for example, the polymerizable smectic liquid crystal compound included in the dry coating is heated to a temperature above the temperature at which the nematic phase liquid crystal phase transitions, and then the polymerizable smudge The method of cooling to the temperature in which a mextic liquid crystal compound shows the liquid crystal state of a smectic phase is employ | adopted. Subsequently, after making the liquid crystal state of the polymeric liquid crystal in a dry film into a smectic phase, the method of photopolymerizing a polymeric liquid crystal with the smectic phase liquid crystal state maintained is demonstrated. In photopolymerization, the light irradiated to a dry film can be suitably selected according to the kind of photoinitiator contained in the said dry film, the kind of polymeric liquid crystal (especially the kind of photopolymerizer which a polymeric liquid crystal has), and its quantity, And the specific examples thereof include an active energy ray selected from the group consisting of visible light, ultraviolet light and laser light. Among these, ultraviolet light is preferable because it is easy to control the progress of the polymerization reaction, or because it can be used as a photopolymerization device in a wide range of fields. By performing photopolymerization, the polymerizable liquid crystal is polymerized while maintaining a liquid crystal state of a smectic phase, preferably a higher order smectic phase, thereby forming a polarizing layer.

(위상차 코팅층)(Phase difference coating layer)

본 발명의 일 실시형태에 있어서, 편광판은, 위상차 코팅층을 포함할 수 있다. 위상차 코팅층은 광학 특성에 따라, λ/2층, λ/4층, 포지티브 C층 등을 총칭한다. 위상차 코팅층은, 예를 들면, 배향 처리를 실시한 기재 필름 상에 액정 화합물을 포함하는 코팅층 형성 조성물을 도포하여 액정 코팅층을 형성한 후, 액정 코팅층을, 접착층을 개재하여 편광판과 첩부한 후에 기재 필름을 박리함으로써 형성할 수 있지만, 이 방법으로 제한되는 것은 아니다. 기재 필름으로서는, 보호 필름으로서 예시한 고분자 필름을 사용할 수 있고, 배향막 및 위상차층이 형성되는 측의 기재면에는, 배향막을 형성하기 전에 표면 처리를 실시할 수도 있다. 상기 배향막 형성 조성물 및 그 도포 및 건조 방법 등은, 편광 코팅층에서 설명한 것과 마찬가지이므로, 중복을 피하기 위해서 기재를 생략한다. 코팅층 형성 조성물의 조성은, 2색성 염료를 포함하지 않는 것을 제외하고는, 상기 편광 코팅층에서 설명한 것과 마찬가지이다. 또, 상기 코팅층 형성 조성물의 도포, 건조 및 경화 방법 등도, 상기 편광 코팅층에서 설명한 것과 마찬가지이므로, 중복을 피하기 위해서 기재를 생략한다.In one embodiment of the present invention, the polarizing plate may include a phase difference coating layer. The retardation coating layer generally refers to the lambda / 2 layer, the lambda / 4 layer, the positive C layer and the like according to the optical properties. The retardation coating layer is, for example, after coating the coating layer forming composition containing the liquid crystal compound on the substrate film subjected to the alignment treatment to form a liquid crystal coating layer, and after attaching the liquid crystal coating layer with the polarizing plate through the adhesive layer, the substrate film Although it can form by peeling, it is not limited to this method. As the base film, the polymer film exemplified as the protective film can be used, and surface treatment may be performed before the alignment film is formed on the base material surface on the side where the alignment film and the retardation layer are formed. Since the said oriented film formation composition, its application | coating, drying method, etc. are the same as what was demonstrated by the polarizing coating layer, description is abbreviate | omitted in order to avoid duplication. The composition of the coating layer forming composition is the same as that described in the polarizing coating layer, except that the dichroic dye is not included. Moreover, since application | coating, drying, and a hardening method of the said coating layer forming composition are also the same as what was demonstrated by the said polarizing coating layer, description is abbreviate | omitted in order to avoid duplication.

위상차 코팅층의 두께는, 통상 0.5~10μm, 바람직하게는 1~4μm여도 된다.The thickness of the retardation coating layer is usually 0.5 to 10 m, preferably 1 to 4 m.

본 발명의 일 실시형태에 있어서, 위상차 코팅층은, 코팅층의 두께, 중합성 액정 화합물의 배향 상태 등에 의해 광학 특성을 조절할 수 있다. 구체적으로, 위상차층의 두께를 조절함으로써, 원하는 면내 위상차를 부여하는 위상차층을 제작할 수 있다. 면내 위상차값(면내 리타데이션값, Re)은, 수식 (1)로 정의되는 값이며, 원하는 Re를 얻기 위해서는, Δn과 두께(d)를 조절하면 된다.In one embodiment of this invention, a retardation coating layer can adjust an optical characteristic by thickness of a coating layer, the orientation state of a polymeric liquid crystal compound, etc. Specifically, by adjusting the thickness of the retardation layer, a retardation layer that gives a desired in-plane retardation can be produced. In-plane retardation value (in-plane retardation value, Re) is a value defined by Formula (1), and what is necessary is just to adjust (DELTA) n and thickness d to obtain desired Re.

Re=d×Δn(λ)…수식 (1)(여기에서 Δn=nx-ny)Re = d × Δn (λ)... Equation (1), where Δn = nx-ny

(수식 (1) 중, Re는 면내 위상차값을 나타내고, d는 두께를 나타내며, Δn은 복굴절률을 나타낸다. 중합성 액정 화합물의 배향에 따라 형성되는 굴절률 타원체를 고려하는 경우, 3방향의 굴절률, 즉, nx, ny 및 nz를 다음과 같이 정의한다. nx는 위상차층이 형성하는 굴절률 타원체에 있어서의 기재 평면에 대해서 평행한 방향의 주굴절률을 나타낸다. ny는 위상차층이 형성하는 굴절률 타원체에 있어서의 기재 평면에 대해서 평행하며, nx의 방향에 대해서 직교하는 방향의 굴절률을 나타낸다. nz는 위상차층이 형성하는 굴절률 타원체에 있어서의 기재 평면에 대해서 수직인 방향의 굴절률을 나타낸다. 위상차층이 λ/4층인 경우, 면내 위상차값 Re(550)는 113~163nm의 범위, 바람직하게는 130~150nm의 범위이다. 위상차층이 λ/2층인 경우, Re(550)는 바람직하게는 250~300nm의 범위이다.)(In Formula (1), Re represents an in-plane retardation value, d represents a thickness, and Δn represents a birefringence. When considering an index ellipsoid formed according to the orientation of the polymerizable liquid crystal compound, the refractive index in three directions, In other words, nx, ny, and nz are defined as follows: nx represents a major refractive index in a direction parallel to the base plane of the refractive index ellipsoid formed by the retardation layer, and ny represents a refractive index ellipsoid formed by the retardation layer. Represents a refractive index in a direction parallel to the substrate plane of and perpendicular to the direction of nx, where nz represents a refractive index in a direction perpendicular to the substrate plane in the refractive index ellipsoid formed by the phase difference layer. In the case of four layers, the in-plane retardation value Re (550) is in the range of 113 to 163 nm, preferably in the range of 130 to 150 nm, and when the retardation layer is a λ / 2 layer, Re (550) is preferably in the range of 250 to 300 nm. Is above.)

또, 중합성 액정 화합물의 배향 상태에 따라, 두께 방향의 위상차를 발현하는 위상차층을 제작할 수 있다. 두께 방향의 위상차를 발현한다는 것은, 수식 (2)에서 두께 방향의 위상차값 Rth가 부(負)가 되는 특성을 나타내는 것이다.Moreover, the phase difference layer which expresses the phase difference of the thickness direction can be produced according to the orientation state of a polymeric liquid crystal compound. Expressing the phase difference in the thickness direction indicates the characteristic that the phase difference value Rth in the thickness direction becomes negative in the formula (2).

Rth=[(nx+ny)/2-nz]×d…수식 (2)Rth = [(nx + ny) / 2-nz] × d... Formula (2)

(수식 (2) 중, nx, ny, nz 및 d는, 앞서 설명한 정의와 같다.)(In formula (2), nx, ny, nz, and d are the same as the definition mentioned above.)

포지티브 C층의 면내 위상차값 Re(550)는 통상 0~10nm의 범위, 바람직하게는 0~5nm의 범위이며, 두께 방향의 위상차값 Rth는 통상 -10~-300nm의 범위, 바람직하게는 -20~-200nm의 범위이다. 본 발명의 편광판은, 2개 이상의 위상차 코팅층을 갖고 있어도 되고, 위상차 코팅층을 2층 갖는 경우는, 제1 위상차 코팅층은 원편광을 만들기 위한 λ/4층이며, 제2 위상차 코팅층은 비스듬하게 본 색감을 개선하기 위한 포지티브 C층이어도 된다. 또, 제1 위상차 코팅층은 비스듬하게 본 색감을 개선하기 위한 포지티브 C층이며, 제2 위상차 코팅층은 원편광을 만들기 위한 λ/4층이어도 된다.The in-plane retardation value Re (550) of the positive C layer is usually in the range of 0 to 10 nm, preferably in the range of 0 to 5 nm, and the retardation value Rth in the thickness direction is usually in the range of -10 to -300 nm, preferably -20. It is in the range of -200nm. The polarizing plate of this invention may have two or more retardation coating layers, and when it has two retardation coating layers, a 1st retardation coating layer is (lambda) / 4 layer for making circularly polarized light, and a 2nd retardation coating layer has the color sense seen obliquely. Positive C layer may be used to improve the efficiency. Further, the first retardation coating layer may be a positive C layer for improving the color sense seen obliquely, and the second retardation coating layer may be a λ / 4 layer for producing circularly polarized light.

(접착제 또는 점착제)(Adhesive or adhesive)

본 발명의 일 실시형태에 있어서, 편광 코팅층과 제1 위상차 코팅층, 또는 제1 위상차 코팅층과 제2 위상차 코팅층은, 점착제 또는 접착제를 개재하여 첩합할 수 있다. 접착제층을 형성하는 접착제로서는, 수계 접착제, 활성 에너지선 경화성 접착제 또는 열경화성 접착제를 이용할 수 있고, 바람직하게는 수계 접착제, 활성 에너지선 경화성 접착제이다. 점착제층으로서는 후술하는 것을 사용할 수 있다.In one embodiment of the present invention, the polarizing coating layer and the first retardation coating layer, or the first retardation coating layer and the second retardation coating layer can be bonded to each other via an adhesive or an adhesive. As an adhesive agent which forms an adhesive bond layer, an aqueous adhesive agent, an active energy ray curable adhesive agent, or a thermosetting adhesive agent can be used, Preferably it is an aqueous adhesive agent and an active energy ray curable adhesive agent. As an adhesive layer, what is mentioned later can be used.

수계 접착제로서는, 폴리비닐알코올계 수지 수용액으로 이루어지는 접착제, 수계 2액형 우레탄계 에멀젼 접착제 등을 들 수 있다. 그 중에서도 폴리비닐알코올계 수지 수용액으로 이루어지는 수계 접착제가 적합하게 이용된다. 폴리비닐알코올계 수지로서는, 아세트산 비닐의 단독 중합체인 폴리아세트산 비닐을 비누화 처리하여 얻어지는 비닐알코올 호모폴리머 외에, 아세트산 비닐과 이것에 공중합 가능한 다른 단량체와의 공중합체를 비누화 처리하여 얻어지는 폴리비닐알코올계 공중합체, 또는 그것들의 수산기를 부분적으로 변성한 변성 폴리비닐알코올계 중합체 등을 이용할 수 있다. 수계 접착제는, 알데히드 화합물(글리옥살 등), 에폭시 화합물, 멜라민계 화합물, 메틸올 화합물, 이소시아네이트 화합물, 아민 화합물, 다가 금속염 등의 가교제를 포함할 수 있다.As an aqueous adhesive agent, the adhesive agent which consists of polyvinyl alcohol-type resin aqueous solution, an aqueous two-component urethane emulsion adhesive, etc. are mentioned. Especially, the aqueous adhesive which consists of aqueous solution of polyvinyl alcohol-type resin is used suitably. As polyvinyl alcohol-type resin, in addition to the vinyl alcohol homopolymer obtained by saponifying polyvinyl acetate which is a homopolymer of vinyl acetate, the polyvinyl alcohol-type air obtained by saponifying the copolymer of vinyl acetate and the other monomer copolymerizable with this. The modified polyvinyl alcohol polymer etc. which partially modified | polymerized or these hydroxyl groups can be used. The aqueous adhesive may include a crosslinking agent such as an aldehyde compound (glyoxal, etc.), an epoxy compound, a melamine compound, a methylol compound, an isocyanate compound, an amine compound, a polyvalent metal salt, and the like.

수계 접착제를 사용하는 경우는, 코팅층을 첩합한 후, 수계 접착제 중에 포함되는 물을 제거하기 위한 건조 공정을 실시하는 것이 바람직하다.When using an aqueous adhesive agent, after bonding a coating layer, it is preferable to perform the drying process for removing the water contained in an aqueous adhesive agent.

상기 활성 에너지선 경화성 접착제란, 자외선, 가시광, 전자선, X선과 같은 활성 에너지선의 조사에 의해 경화하는 경화성 화합물을 함유하는 접착제이며, 바람직하게는 자외선 경화성 접착제이다.The said active energy ray curable adhesive agent is an adhesive agent containing the curable compound hardened | cured by irradiation of active energy rays, such as an ultraviolet-ray, visible light, an electron beam, and an X-ray, Preferably it is an ultraviolet curable adhesive agent.

상기 경화성 화합물은, 카티온 중합성의 경화성 화합물이나 라디칼 중합성의 경화성 화합물일 수 있다. 카티온 중합성의 경화성 화합물로서는, 예를 들면, 에폭시계 화합물(분자 내에 1개 또는 2개 이상의 에폭시기를 갖는 화합물)이나, 옥세탄계 화합물(분자 내에 1개 또는 2개 이상의 옥세탄환을 갖는 화합물), 또는 이것들의 조합을 들 수 있다. 라디칼 중합성의 경화성 화합물로서는, 예를 들면, (메트)아크릴계 화합물(분자 내에 1개 또는 2개 이상의 (메트)아크릴로일 옥시기를 갖는 화합물)이나, 라디칼 중합성의 이중 결합을 갖는 기타 비닐계 화합물, 또는 이것들의 조합을 들 수 있다. 카티온 중합성의 경화성 화합물과 라디칼 중합성의 경화성 화합물을 병용해도 된다. 활성 에너지선 경화성 접착제는 통상, 상기 경화성 화합물의 경화 반응을 개시시키기 위한 카티온 중합 개시제 및/또는 라디칼 중합 개시제를 추가로 포함한다.The curable compound may be a cation polymerizable curable compound or a radical polymerizable curable compound. As a cationic polymerizable curable compound, For example, an epoxy type compound (compound which has one or two or more epoxy groups in a molecule), an oxetane type compound (compound which has one or two or more oxetane rings in a molecule), Or a combination thereof. As a radically polymerizable curable compound, For example, (meth) acrylic-type compound (compound which has one or two or more (meth) acryloyloxy groups in a molecule), the other vinyl type compound which has a radically polymerizable double bond, Or a combination thereof. You may use together a cationically polymerizable curable compound and a radically polymerizable curable compound. The active energy ray curable adhesive usually further contains a cationic polymerization initiator and / or a radical polymerization initiator for initiating the curing reaction of the curable compound.

코팅층을 첩합할 때에는, 접착성을 높이기 위해서, 접착하는 면의 적어도 어느 일방의 첩합면에 표면 활성화 처리를 실시해도 된다. 표면 활성화 처리로서는, 코로나 처리, 플라즈마 처리, 방전 처리(글로 방전 처리 등), 화염 처리, 오존 처리, UV오존 처리, 전리 활성선 처리(자외선 처리, 전자선 처리 등)와 같은 건식 처리; 물이나 아세톤 등의 용매를 이용한 초음파 처리, 비누화 처리, 앵커 코팅 처리와 같은 습식 처리를 들 수 있다. 이 표면 활성화 처리는, 단독으로 행해도 되고, 2개 이상을 조합해도 된다.When bonding a coating layer, in order to improve adhesiveness, you may perform surface activation treatment to at least one bonding surface of the surface to adhere | attach. Examples of the surface activation treatment include dry treatment such as corona treatment, plasma treatment, discharge treatment (glow discharge treatment, and the like), flame treatment, ozone treatment, UV ozone treatment, ionizing active line treatment (ultraviolet treatment, electron beam treatment, and the like); And wet treatments such as ultrasonic treatment using a solvent such as water or acetone, saponification treatment, and anchor coating treatment. This surface activation process may be performed independently and may combine 2 or more.

상기 접착층의 두께는, 그 접착력에 따라 조절할 수 있고, 바람직하게는 0.1~10μm, 보다 바람직하게는 1~5μm여도 된다. 본 발명의 일 실시형태에 있어서, 상기 접착층이 복수개 사용되는 구성의 경우, 같은 재료 또는 다른 재료로 제조할 수 있고, 같은 두께 또는 다른 두께를 가질 수 있다.The thickness of the said adhesive layer can be adjusted according to the adhesive force, Preferably it is 0.1-10 micrometers, More preferably, it may be 1-5 micrometers. In one embodiment of the present invention, in the case of a configuration in which a plurality of the adhesive layers are used, they may be made of the same material or different materials, and may have the same thickness or different thicknesses.

점착제층은, (메트)아크릴계 수지, 고무계 수지, 폴리우레탄계 수지, 폴리에스테르계 수지, 실리콘계 수지, 폴리비닐에테르계 수지와 같은 수지를 주성분으로 하는 점착제 조성물로 구성할 수 있다. 그 중에서도, 투명성, 내후성(耐候性), 내열성 등이 우수한 폴리에스테르계 수지 또는 (메트)아크릴계 수지를 베이스 폴리머로 하는 점착제 조성물이 바람직하다. 점착제 조성물은, 활성 에너지선 경화형, 열경화형이어도 된다.An adhesive layer can be comprised by the adhesive composition which has resin, such as (meth) acrylic-type resin, rubber type resin, polyurethane type resin, polyester type resin, silicone type resin, and polyvinyl ether type resin as a main component. Especially, the adhesive composition which uses polyester resin or (meth) acrylic-type resin which is excellent in transparency, weather resistance, heat resistance, etc. as a base polymer is preferable. An active energy ray hardening type and a thermosetting type may be sufficient as an adhesive composition.

본 발명에서 사용하는 점착제 수지로서는, 통상, 중량 평균 분자량이 300,000~4,000,000의 범위인 것이 이용된다. 내구성, 특히 내열성을 고려하면, 중량 평균 분자량은, 바람직하게는 500,000~3,000,000, 보다 바람직하게는 650,000~2,000,000이다. 중량 평균 분자량이 300,000보다 크면 내열성의 점에서 바람직하고, 중량 평균 분자량이 4,000,000보다 작으면 첩합성, 접착력이 저하되는 점에서도 바람직하다. 또한, 중량 평균 분자량은, GPC(겔·파미에이션·크로마토그래피)에 의해 측정하여, 폴리스티렌 환산에 의해 산출된 값을 말한다.As adhesive resin used by this invention, the thing of the range of 300,000-4,000,000 in weight average molecular weight is used normally. In consideration of durability, particularly heat resistance, the weight average molecular weight is preferably 500,000 to 3,000,000, more preferably 650,000 to 2,000,000. A weight average molecular weight of more than 300,000 is preferable in terms of heat resistance, and a weight average molecular weight of less than 4,000,000 is also preferable in that adhesiveness and adhesion decrease. In addition, a weight average molecular weight is measured by GPC (gel chromatography chromatography), and says the value computed by polystyrene conversion.

추가로, 점착제 조성물에는 가교제를 함유할 수 있다. 가교제로서는, 유기계 가교제나 다관능성 금속 킬레이트를 이용할 수 있다. 유기계 가교제로서는, 이소시아네이트계 가교제, 과산화물계 가교제, 에폭시계 가교제, 이민계 가교제 등을 들 수 있다. 다관능성 금속 킬레이트는, 다가 금속이 유기 화합물과 공유결합 또는 배위결합하고 있는 것이다. 다가 금속 원자로서는, Al, Cr, Zr, Co, Cu, Fe, Ni, V, Zn, In, Ca, Mg, Mn, Y, Ce, Sr, Ba, Mo, La, Sn, Ti 등을 들 수 있다. 공유결합 또는 배위결합하는 유기 화합물 중의 원자로서는 산소 원자 등을 들 수 있고, 유기 화합물로서는 알킬에스테르, 알콜 화합물, 카르복실산 화합물, 에테르 화합물, 케톤 화합물 등을 들 수 있다.In addition, the pressure-sensitive adhesive composition may contain a crosslinking agent. As a crosslinking agent, an organic type crosslinking agent and a polyfunctional metal chelate can be used. As an organic type crosslinking agent, an isocyanate type crosslinking agent, a peroxide type crosslinking agent, an epoxy type crosslinking agent, an imine type crosslinking agent, etc. are mentioned. A polyfunctional metal chelate is a thing in which a polyvalent metal is covalently bonded or coordinated with an organic compound. Examples of the polyvalent metal atoms include Al, Cr, Zr, Co, Cu, Fe, Ni, V, Zn, In, Ca, Mg, Mn, Y, Ce, Sr, Ba, Mo, La, Sn, Ti, and the like. have. As an atom in the organic compound covalently bonded or coordinated, an oxygen atom etc. are mentioned, As an organic compound, an alkyl ester, an alcohol compound, a carboxylic acid compound, an ether compound, a ketone compound, etc. are mentioned.

가교제를 함유하는 경우, 그 사용량은, 점착제 수지 100질량부에 대해서, 바람직하게는 0.01~20질량부, 보다 바람직하게는 0.03~10질량부이다. 또한, 가교제가 0.01질량부를 넘으면, 점착제층의 응집력이 부족하지 않은 경향이 있어, 가열시에 발포가 발생할 우려가 적고, 한편, 20질량부보다 적으면 내습성이 충분하고, 신뢰성 시험 등에서 박리가 발생하기 어려워진다.When it contains a crosslinking agent, the usage-amount is preferably 0.01-20 mass parts, More preferably, it is 0.03-10 mass parts with respect to 100 mass parts of adhesive resin. When the crosslinking agent exceeds 0.01 parts by mass, the cohesive force of the pressure-sensitive adhesive layer tends not to be insufficient, and there is little fear that foaming occurs during heating. On the other hand, when the crosslinking agent is less than 20 parts by mass, moisture resistance is sufficient and peeling is prevented in reliability tests or the like. It is difficult to occur.

첨가제로서 실란 커플링제를 배합하는 것이 바람직하다. 실란 커플링제로서는, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란 등의 에폭시 구조를 갖는 규소 화합물; 3-아미노프로필트리메톡시실란, N-(2-아미노에틸)3-아미노프로필트리메톡시실란, N-(2-아미노에틸)3-아미노프로필메틸디메톡시실란 등의 아미노기 함유 규소 화합물; 3-클로로프로필트리메톡시실란; 아세토아세틸기 함유 트리메톡시실란, 3-아크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴옥시프로필트리에톡시실란 등의 (메트)아크릴기 함유 실란 커플링제; 3-이소시아네이토프로필트리에톡시실란 등의 이소시아네이트기 함유 실란 커플링제 등을 들 수 있다. 실란 커플링제는, 내구성, 특히 가습 환경하에서 박리를 억제하는 효과를 부여할 수 있다. 실란 커플링제의 사용량은, 점착제 수지 100질량부에 대해서, 바람직하게는 1질량부 이하, 보다 바람직하게는 0.01~1질량부, 더 바람직하게는 0.02~0.6질량부이다.It is preferable to mix | blend a silane coupling agent as an additive. Examples of the silane coupling agent include silicon having an epoxy structure such as 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, and the like. compound; Amino group-containing silicon compounds such as 3-aminopropyltrimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) 3-aminopropyltrimethoxysilane and N- (2-aminoethyl) 3-aminopropylmethyldimethoxysilane; 3-chloropropyltrimethoxysilane; (Meth) acryl group containing silane coupling agents, such as acetoacetyl group containing trimethoxysilane, 3-acryloxypropyl trimethoxysilane, and 3-methacryloxypropyl triethoxysilane; Isocyanate group containing silane coupling agents, such as 3-isocyanatopropyl triethoxysilane, etc. are mentioned. A silane coupling agent can provide the effect which suppresses peeling in durability, especially a humidification environment. The usage-amount of a silane coupling agent is 1 mass part or less with respect to 100 mass parts of adhesive resin, More preferably, it is 0.01-1 mass part, More preferably, it is 0.02-0.6 mass part.

추가로, 점착제 조성물은, 그 외의 공지의 첨가제를 함유하고 있어도 되고, 예를 들어, 점착제 조성물에, 착색제, 안료 등의 분체(粉體), 염료, 계면활성제, 가소제, 점착성 부여제, 표면 윤활제, 레벨링제, 연화제, 산화 방지제, 노화 방지제, 광 안정제, 자외선 흡수제, 중합 금지제, 무기 또는 유기의 충전제, 금속분, 입자상, 박상물(箔狀物) 등을, 사용하는 용도에 따라 적절히 첨가할 수 있다. 또, 제어할 수 있는 범위 내에서, 환원제를 첨가한 레독스계를 채용해도 된다.Furthermore, the adhesive composition may contain other well-known additives, For example, in an adhesive composition, powder, such as a coloring agent and a pigment, dye, surfactant, a plasticizer, a tackifier, and a surface lubricant , Leveling agents, softeners, antioxidants, antioxidants, light stabilizers, ultraviolet absorbers, polymerization inhibitors, inorganic or organic fillers, metal powders, particulates, thin powders and the like may be appropriately added depending on the intended use. Can be. Moreover, you may employ | adopt the redox system which added the reducing agent within the range which can be controlled.

점착제층의 두께는, 특별히 제한되지 않고, 예를 들면, 1~100μm 정도, 바람직하게는 2~50μm, 보다 바람직하게는 3~30μm이다. 점착제층의 두께를 얇게 함으로써, 점착제층 중의 산의 전체량이 저하된다. 이로써, 산 성분이 기판의 배선을 부식시키기 어려워진다. 또, 제2의 층이 갖는 점착제층은, 감합하는 플렉시블 프린트 기판의 두께에 따라 조정할 수 있다.The thickness of an adhesive layer is not specifically limited, For example, about 1-100 micrometers, Preferably it is 2-50 micrometers, More preferably, it is 3-30 micrometers. By making thickness of an adhesive layer thin, the total amount of the acid in an adhesive layer falls. This makes it difficult for an acid component to corrode wiring of a board | substrate. Moreover, the adhesive layer which a 2nd layer has can be adjusted with the thickness of the flexible printed circuit board which fits.

(보호층)(Protective layer)

본 발명의 일 실시형태에 있어서, 상기 편광판은 적어도 1개 이상의 보호층을 갖는 형태여도 되고, 편광판을 이루고 있는 편광자의 일면, 또는 편광자가 위상차층을 갖는 경우는, 위상차층의 편광자와 반대의 면에 위치할 수 있다.In one Embodiment of this invention, the said polarizing plate may be a form which has at least 1 or more protective layers, and when one surface of the polarizer which comprises the polarizing plate, or the polarizer has a phase difference layer, the surface opposite to the polarizer of a phase difference layer It can be located at

보호층으로서는, 투명성, 기계적 강도, 열 안정성, 수분 차폐성, 등방성 등이 우수한 필름이라면 특별히 제한은 없다. 구체적으로, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌이소프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트 등의 폴리에스테르계 필름; 디아세틸셀룰로오스, 트리아세틸셀룰로오스 등의 셀룰로오스계 필름; 폴리카보네이트계 필름; 폴리메틸(메트)아크릴레이트, 폴리에틸(메트)아크릴레이트 등의 아크릴계 필름; 폴리스티렌, 아크릴로니트릴-스티렌 공중합체 등의 스티렌계 필름; 시클로올레핀, 시클로올레핀 공중합체, 폴리노르보르넨, 폴리프로필렌, 폴리에틸렌, 에틸렌프로필렌 공중합체 등의 폴리올레핀계 필름; 염화 비닐계 필름; 나일론, 방향족 폴리아미드 등의 폴리아미드계 필름; 이미드계 필름; 설폰계 필름; 폴리에테르케톤계 필름; 황화 폴리페닐렌계 필름; 비닐알코올계 필름; 염화 비닐리덴계 필름; 비닐부티랄계 필름; 아릴레이트계 필름; 폴리옥시메틸렌계 필름; 우레탄계 필름; 에폭시계 필름; 실리콘계 필름 등을 들 수 있다. 이것들 중에서도 특히 알칼리 등에 의해 비누화된 표면을 갖는 셀룰로오스계 필름이 편광 특성 또는 내구성을 고려하면 바람직하다. 또, 보호층은 위상차 기능과 같은 광학 보상 기능을 겸비한 것이어도 된다.There is no restriction | limiting in particular as a protective layer as long as it is a film excellent in transparency, mechanical strength, thermal stability, moisture shielding, isotropy, etc. Specifically, polyester-based films such as polyethylene terephthalate, polyethylene isophthalate, polybutylene terephthalate; Cellulose films such as diacetyl cellulose and triacetyl cellulose; Polycarbonate film; Acrylic films such as polymethyl (meth) acrylate and polyethyl (meth) acrylate; Styrene films such as polystyrene and acrylonitrile-styrene copolymers; Polyolefin-based films such as cycloolefin, cycloolefin copolymer, polynorbornene, polypropylene, polyethylene, and ethylene propylene copolymer; Vinyl chloride film; Polyamide-based films such as nylon and aromatic polyamide; Imide film; Sulfone type films; Polyether ketone film; Sulfided polyphenylene-based films; Vinyl alcohol film; Vinylidene chloride-based film; Vinyl butyral film; Arylate film; Polyoxymethylene film; Urethane film; Epoxy film; Silicone film etc. are mentioned. Among these, especially the cellulose type film which has the surface saponified by alkali etc. is preferable in consideration of polarization characteristic or durability. The protective layer may also have an optical compensation function such as a phase difference function.

상기 보호층은, 상기 편광자 또는 상기 위상차 코팅층과 접착되는 면에 접착력 향상을 위한 이접착(易接着) 처리가 실시된 것이어도 된다. 이접착 처리는, 접착력을 향상시킬 수 있는 것이라면 특별히 한정되지 않고, 예를 들면, 프라이머 처리, 플라즈마 처리, 코로나 처리 등의 드라이 처리; 알칼리 처리(비누화 처리) 등의 화학 처리; 저압 UV 처리 등을 들 수 있다.The protective layer may have been subjected to an easy-adhesion process for improving adhesive strength on the surface bonded to the polarizer or the retardation coating layer. The easily-adhesive treatment is not particularly limited as long as it can improve the adhesive strength, and examples thereof include dry treatments such as primer treatment, plasma treatment and corona treatment; Chemical treatments such as alkali treatment (saponification treatment); Low pressure UV treatment; and the like.

(터치 센서)(Touch sensor)

터치 센서는, 기재, 기재 상에 마련된 하부 전극, 하부 전극에 대향하는 상부 전극, 하부 전극과 상부 전극에 협지된 절연층을 갖는다.The touch sensor has a substrate, a lower electrode provided on the substrate, an upper electrode facing the lower electrode, an insulating layer sandwiched between the lower electrode and the upper electrode.

기재는, 광투과성을 갖는 가요성의 수지 필름이라면 다양한 것을 채용할 수 있다. 예를 들면, 기재로서는, 상기 설명한 투명기재의 재료로서 예시한 필름을 이용할 수 있다.A base material can employ | adopt various things, if it is a flexible resin film which has light transparency. For example, as a base material, the film illustrated as a material of the above-mentioned transparent base material can be used.

하부 전극은, 예를 들면 평면에서 볼 때 정방 형상의 복수의 소전극을 갖는다. 복수의 소전극은, 매트릭스 형상으로 배열되어 있다.The lower electrode has, for example, a plurality of small electrodes of square shape in plan view. The plurality of small electrodes are arranged in a matrix.

또, 복수의 소전극은, 소전극의 일방의 대각선 방향으로 인접하는 소전극끼리 접속되며, 복수의 전극열을 형성하고 있다. 복수의 전극열은 단부에서 서로 접속되어, 인접하는 전극열 간의 전기용량을 검출 가능하게 되어 있다.Further, the plurality of small electrodes are connected to adjacent small electrodes in one diagonal direction of the small electrode, thereby forming a plurality of electrode rows. The plurality of electrode strings are connected to each other at the end, and the capacitance between adjacent electrode strings can be detected.

상부 전극은, 예를 들면 평면에서 볼 때 정방 형상의 복수의 소전극을 갖는다. 복수의 소전극은, 평면에서 볼 때 하부 전극이 배치되어 있지 않은 위치에, 상보적으로 매트릭스 형상으로 배열되어 있다. 즉, 상부 전극과 하부 전극은, 평면에서 볼 때 간극 없이 배치되어 있다.The upper electrode has, for example, a plurality of small electrodes having a square shape in plan view. The plurality of small electrodes are complementarily arranged in a matrix at positions where the lower electrodes are not arranged in plan view. That is, the upper electrode and the lower electrode are arranged without a gap in plan view.

또, 복수의 소전극은, 소전극의 타방의 대각선 방향으로 인접하는 소전극끼리 접속되며, 복수의 전극열을 형성하고 있다. 복수의 전극열은 단부에서 서로 접속되어, 인접하는 전극열 간의 전기용량을 검출 가능하게 되어 있다.Further, the plurality of small electrodes are connected to adjacent small electrodes in the other diagonal direction of the small electrode to form a plurality of electrode strings. The plurality of electrode strings are connected to each other at the end, and the capacitance between adjacent electrode strings can be detected.

절연층은, 하부 전극과 상부 전극을 절연하고 있다. 절연층의 형성 재료는, 터치 센서의 절연층의 재료로서 통상 알려진 재료를 사용 가능하다.The insulating layer insulates the lower electrode and the upper electrode. As a material for forming the insulating layer, a material commonly known as a material for the insulating layer of the touch sensor can be used.

또한, 본 실시형태에 있어서는, 터치 센서가, 이른바 투영형 정전 용량 방식의 터치 센서인 것으로 하여 설명했지만, 발명의 효과를 해치지 않는 범위에 있어서, 막저항 방식 등, 다른 방식의 터치 센서를 채용할 수도 있다.In addition, in this embodiment, although the touch sensor was demonstrated as what is what is called a projected capacitive touch sensor, in the range which does not impair the effect of this invention, a touch sensor of another method, such as a film resistance method, is employable. It may be.

(차광 패턴)(Shading Pattern)

상기 차광 패턴은 윈도 필름 또는 윈도 필름이 적용되는 표시 장치의 베젤 또는 하우징의 적어도 일부로서 제공할 수 있다. 예를 들면, 차광 패턴에 의해 상기 표시 장치의 각 배선이 가려져 사용자에게 시인되지 않는 경우가 있다. 차광 패턴의 컬러 및/또는 재질은 특별히 제한되지 않으며, 흑색, 백색, 금색 등의 다양한 컬러를 갖는 수지 물질로 형성할 수 있다. 예를 들면, 차광 패턴은 컬러를 구현하기 위한 안료를 혼합하고 있는 아크릴계 수지, 에스테르계 수지, 에폭시계 수지, 폴리우레탄, 실리콘(silicone) 등의 수지 물질로 형성할 수 있다. 상기 차광 패턴의 재질 및 두께는 윈도 필름 또는 표시 장치의 보호 및 플렉시블 특성을 고려하여 결정할 수 있다. 또, 이것들 단독으로 또는 2종류 이상의 혼합물로 사용할 수도 있다.The light blocking pattern may be provided as at least a part of a bezel or a housing of a window film or a display device to which the window film is applied. For example, the wiring of the display device may be blocked by the light shielding pattern and may not be visually recognized by the user. The color and / or material of the light shielding pattern is not particularly limited, and may be formed of a resin material having various colors such as black, white, and gold. For example, the light shielding pattern may be formed of a resin material such as an acrylic resin, an ester resin, an epoxy resin, polyurethane, silicone, or the like, in which a pigment for realizing color is mixed. The material and thickness of the light blocking pattern may be determined in consideration of protection and flexible characteristics of the window film or the display device. Moreover, these can also be used individually or in mixture of 2 or more types.

실시예Example

이하, 실시예에 의해 본 발명을 더 상세하게 설명한다. 예 중의 「%」 및 「부」는, 특별히 기재하지 않는 한, 질량% 및 질량부를 의미한다. 우선 평가 방법에 대해 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples. "%" And "part" in an example mean a mass% and a mass part unless there is particular notice. First, the evaluation method is described.

<탄성률의 측정><Measurement of elastic modulus>

실시예 및 비교예에 있어서 얻어진 폴리아미드이미드 필름의 탄성률을 (주)시마즈 제작소(Shimadzu Corporation)제 「오토 그래프 AG-IS」를 이용하여 측정했다. 종횡 10mm폭의 필름을 제작하고, 척간 거리 50mm, 인장 속도 20mm/분의 조건으로 Stress-Strain 곡선을 측정하여, 그 기울기로부터 탄성률을 산출했다.The elasticity modulus of the polyamide-imide film obtained in the Example and the comparative example was measured using "Autograph AG-IS" by Shimadzu Corporation. A 10 mm wide film was produced, and the stress-strain curve was measured under the condition of the distance between the chucks 50 mm and the tensile speed 20 mm / min, and the elastic modulus was calculated from the inclination.

<표면 경도의 측정><Measurement of surface hardness>

실시예 및 비교예에 있어서 얻어진 폴리아미드이미드 필름의 표면 경도로서, JIS K 5600-5-4:1999에 준거하여 필름 표면의 연필 경도를 채용했다. 하중은 100g, 주사 속도 60mm/분으로 하고, 4,000룩스의 환경하에서, 흠집의 유무의 평가를 행하여, 연필 경도를 측정했다.As surface hardness of the polyamide-imide film obtained in the Example and the comparative example, the pencil hardness of the film surface was employ | adopted based on JISK5600-5-4: 1999. The load was 100 g and the scanning speed was 60 mm / minute, and the presence or absence of a scratch was evaluated in the environment of 4,000 lux, and pencil hardness was measured.

<굴곡 내성의 측정>Measurement of Flexural Resistance

실시예 및 비교예에 있어서 얻어진 폴리아미드이미드 필름의 굴곡 내성을, (주)도요세이키 세이사쿠쇼(Toyo Seiki Seisaku-sho, Ltd.)제 「MIT 내절피로 시험기(형식 0530)」를 이용하여 측정했다. 두께 50μm, 종횡 각 10mm폭의 필름을 제작하고, R=1mm로 135°를 하중 0.75kgf로 속도 175cpm으로 측정했을 때에, 파단될 때까지의 왕복 절곡(折曲) 횟수를 평가했다.The bending resistance of the polyamideimide film obtained in the Example and the comparative example was made using the "MIT anti-fatigue tester (type 0530)" by Toyo Seiki Seisaku-sho, Ltd. Measured. A film having a thickness of 50 µm and a width of 10 mm in length and width was produced, and the number of reciprocating bends until fracture was evaluated when 135 ° at R = 1 mm was measured at a speed of 175 cpm at a load of 0.75 kgf.

<중량 평균 분자량(Mw)의 측정><Measurement of weight average molecular weight (Mw)>

겔 침투 크로마토그래피(GPC) 측정Gel Permeation Chromatography (GPC) Measurement

(1) 전처리 방법(1) pretreatment method

샘플에 DMF용리액(10mmol/L 브로민화 리튬 용액)을 농도 2mg/mL가 되도록 첨가하여, 80℃에서 30분간 교반하면서 가열하고, 냉각 후, 0.45μm 멤브레인 필터 여과한 것을 측정 용액으로 했다.DMF eluent (10 mmol / L lithium bromide solution) was added to the sample so that it might be set to a concentration of 2 mg / mL, heated with stirring at 80 ° C. for 30 minutes, and cooled, followed by 0.45 μm membrane filter filtration, as a measurement solution.

(2) 측정 조건(2) measurement conditions

칼럼: 토소(주)(TOSOH CORPORATION)제 TSKgel α-2500((7) 7.8mm직경×300mm)×1개, α-M((13) 7.8mm직경×300mm)×2개Column: TSKgel α-2500 ((7) 7.8 mm diameter × 300 mm) x 1, α-M ((13) 7.8 mm diameter × 300 mm) × 2 made by TOSOH CORPORATION

용리액: DMF(10mmol/L의 브로민화 리튬 첨가)Eluent: DMF (with 10 mmol / L lithium bromide)

유량: 1.0mL/분Flow rate: 1.0 mL / min

검출기: RI검출기Detector: RI Detector

칼럼 온도: 40℃Column temperature: 40 ℃

주입량: 100μLInjection volume: 100 μL

분자량 표준: 표준 폴리스티렌Molecular Weight Standard: Standard Polystyrene

<두께의 측정><Measurement of thickness>

실시예 및 비교예에서 얻어진 폴리아미드이미드 필름의 두께는, 마이크로미터((주)미쓰토요(Mitutoyo Corporation)제 「ID-C112XBS」)를 이용하여 측정했다.The thickness of the polyamide-imide film obtained by the Example and the comparative example was measured using the micrometer ("ID-C112XBS" by Mitutoyo Corporation).

<실시예 1><Example 1>

[폴리아미드이미드 수지 (1)의 조제][Preparation of polyamideimide resin (1)]

질소 분위기하에서 교반 날개를 구비한 1L 세퍼러블 플라스크에, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘(TFMB) 17.08g(53.33mmol) 및 N,N-디메틸아세트아미드(DMAc) 313.57g을 첨가하고, 실온에서 교반하면서 TFMB를 DMAc 중에 용해시켰다. 다음으로, 플라스크에 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 이무수물(6FDA) 9.58g(21.66mmol)을 첨가하고, 실온에서 3시간 교반했다. 그 후, 2,6-나프탈렌디카르복실산 디클로라이드(NADOC) 8.18g(32.32mmol)을 플라스크에 첨가하고, 실온에서 1시간 교반했다. 이어서, 플라스크에 4-피콜린 3.01g(32.32mmol)과 무수 아세트산 15.40g(150.85mmol)을 첨가하고, 실온에서 30분간 교반한 후, 오일배스를 이용하여 70℃로 승온하고, 추가로 3시간 교반하여, 반응액을 얻었다.In a 1 L separable flask with stirring blades under nitrogen atmosphere, 17.08 g (53.33 mmol) of 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine (TFMB) and 313.57 g of N, N-dimethylacetamide (DMAc) were added. TFMB was dissolved in DMAc with addition and stirring at room temperature. Next, 9.58 g (21.66 mmol) of 4,4 '-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic dianhydride (6FDA) was added to the flask, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. Thereafter, 8.18 g (32.32 mmol) of 2,6-naphthalenedicarboxylic acid dichloride (NADOC) was added to the flask, followed by stirring at room temperature for 1 hour. Subsequently, 3.01 g (32.32 mmol) of 4-picoline and 15.40 g (150.85 mmol) of acetic anhydride were added to the flask, stirred at room temperature for 30 minutes, and then heated to 70 ° C. using an oil bath, and further 3 hours. It stirred and obtained the reaction liquid.

얻어진 반응액을 실온까지 냉각하여, 대량의 메탄올 중에 실(絲)형상으로 투입하고, 석출한 침전물을 꺼내 메탄올 중에 6시간 침지 후, 메탄올로 세정했다. 다음으로, 60℃에서 침전물의 감압 건조를 행하여, 폴리아미드이미드 수지 (1)을 얻었다. 폴리아미드이미드 수지 (1)의 중량 평균 분자량(Mw)은 380,000이었다.The obtained reaction liquid was cooled to room temperature, poured into a large amount of methanol in a real shape, and the precipitate which precipitated was taken out, immersed in methanol for 6 hours, and wash | cleaned with methanol. Next, the precipitate was dried under reduced pressure at 60 ° C to obtain polyamideimide resin (1). The weight average molecular weight (Mw) of the polyamideimide resin (1) was 380,000.

[폴리아미드이미드 필름 (1)의 제조][Production of Polyamide-imide Film (1)]

얻어진 폴리아미드이미드 수지 (1)에, 농도가 10질량%가 되도록 DMAc를 첨가하여, 폴리아미드이미드 바니시 (1)을 제작했다. 얻어진 폴리아미드이미드 바니시 (1)을 폴리에스테르 기재(도요보(주)(TOYOBO CO., LTD.)제, 상품명 「A4100」)의 평활면 상에 자립막의 두께가 50μm가 되도록 어플리케이터를 이용하여 도공(途工)하고, 50℃에서 30분간, 이어서 140℃에서 15분간 건조하여, 자립막을 얻었다. 자립막을 금속 프레임에 고정하고, 추가로 200℃에서 60분간 건조하여, 두께 45μm의 폴리아미드이미드 필름 (1)을 얻었다. 상기 측정 방법에 의해 폴리아미드이미드 필름 (1)의 탄성률, 굴곡 내성, 및 연필 경도를 측정한 바, 탄성률은 5.2GPa, 굴곡 내성은 12만회, 연필 경도는 6B였다.DMAc was added to the obtained polyamide-imide resin (1) so that a density | concentration might be 10 mass%, and the polyamide-imide varnish (1) was produced. Coating the obtained polyamideimide varnish (1) on the smooth surface of a polyester base material (Toyobo Co., Ltd. make, brand name "A4100") using an applicator so that the thickness of a freestanding film may be 50 micrometers. It dried at 50 degreeC for 30 minutes and then at 140 degreeC for 15 minutes, and obtained the self-supporting film. The freestanding film was fixed to a metal frame, and further dried at 200 ° C. for 60 minutes to obtain a polyamideimide film (1) having a thickness of 45 μm. The elasticity modulus, bending resistance, and pencil hardness of the polyamide-imide film 1 were measured by the said measuring method, and the elasticity modulus was 5.2 GPa, the bending resistance was 120,000 times, and the pencil hardness was 6B.

<실시예 2><Example 2>

[폴리아미드이미드 수지 (2)의 조제][Preparation of polyamideimide resin (2)]

질소 분위기하에서 교반 날개를 구비한 1L 세퍼러블 플라스크에, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘(TFMB) 17.40g(54.33mmol) 및 N,N-디메틸아세트아미드(DMAc) 313.57g을 첨가하고, 실온에서 교반하면서 TFMB를 DMAc 중에 용해시켰다. 다음으로, 플라스크에 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 이무수물(6FDA) 7.39g(16.71mmol)을 첨가하고, 실온에서 3시간 교반했다. 그 후, 2,6-나프탈렌디카르복실산 디클로라이드(NADOC) 8.42g(33.27mmol)과 4,4'-옥시비스(벤조일클로라이드)(OBBC) 1.64g(5.56mmol)을 플라스크에 첨가하고, 실온에서 1시간 교반했다. 이어서, 플라스크에 4-피콜린 3.61g(38.76mmol)과 무수 아세트산 11.90g(116.56mmol)을 첨가하고, 실온에서 30분간 교반한 후, 오일배스를 이용하여 70℃로 승온하고, 추가로 3시간 교반하여, 반응액을 얻었다.In a 1 L separable flask with stirring blades under nitrogen atmosphere, 17.40 g (54.33 mmol) of 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine (TFMB) and 313.57 g of N, N-dimethylacetamide (DMAc) were added. TFMB was dissolved in DMAc with addition and stirring at room temperature. Next, 7.39 g (16.71 mmol) of 4,4 '-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic dianhydride (6FDA) was added to the flask, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. Then, 8.42 g (33.27 mmol) of 2,6-naphthalenedicarboxylic acid dichloride (NADOC) and 1.64 g (5.56 mmol) of 4,4'-oxybis (benzoyl chloride) (OBBC) were added to the flask, It stirred at room temperature for 1 hour. Subsequently, 3.61 g (38.76 mmol) of 4-picoline and 11.90 g (116.56 mmol) of acetic anhydride were added to the flask, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes, then heated to 70 ° C. using an oil bath, and further 3 hours. It stirred and obtained the reaction liquid.

얻어진 반응액을 실온까지 냉각하여, 대량의 메탄올 중에 실형상으로 투입하고, 석출한 침전물을 꺼내 메탄올 중에 6시간 침지 후, 메탄올로 세정했다. 다음으로, 60℃에서 침전물의 감압 건조를 행하여, 폴리아미드이미드 수지 (2)를 얻었다. 폴리아미드이미드 수지 (2)의 중량 평균 분자량(Mw)은 380,000이었다.The obtained reaction solution was cooled to room temperature, poured into a large amount of methanol in a solid form, and the precipitate deposited was taken out and immersed in methanol for 6 hours, and then washed with methanol. Next, the precipitate was dried under reduced pressure at 60 ° C to obtain a polyamideimide resin (2). The weight average molecular weight (Mw) of the polyamideimide resin (2) was 380,000.

[폴리아미드이미드 필름 (2)의 제조][Production of Polyamide-imide Film (2)]

얻어진 폴리아미드이미드 수지 (2)에, 농도가 10질량%가 되도록 DMAc를 첨가하여, 폴리아미드이미드 바니시 (2)를 제작했다. 얻어진 폴리아미드이미드 바니시 (2)를 폴리에스테르 기재(도요보(주)제, 상품명 「A4100」)의 평활면 상에 자립막의 두께가 55μm가 되도록 어플리케이터를 이용하여 도공하고, 50℃에서 30분간, 이어서 140℃에서 15분간 건조하여, 자립막을 얻었다. 자립막을 금속 프레임에 고정하고, 추가로 200℃에서 60분간 건조하여, 두께 50μm의 폴리아미드이미드 필름 (2)를 얻었다. 상기 측정 방법에 의해 폴리아미드이미드 필름 (2)의 탄성률, 굴곡 내성, 및 연필 경도를 측정한 바, 탄성률은 5.2GPa, 굴곡 내성은 7만회, 연필 경도는 H였다.DMAc was added to the obtained polyamide-imide resin (2) so that a density | concentration might be 10 mass%, and the polyamide-imide varnish (2) was produced. The obtained polyamideimide varnish (2) is coated on the smooth surface of a polyester base material (Toyobo Co., Ltd. brand name "A4100") using an applicator so that the thickness of a freestanding film may be 55 micrometers, and it is 30 minutes at 50 degreeC, Then, it dried for 15 minutes at 140 degreeC, and obtained the self-supporting film. The freestanding film was fixed to a metal frame, and further dried at 200 ° C. for 60 minutes to obtain a polyamideimide film (2) having a thickness of 50 μm. The elasticity modulus, the bending resistance, and the pencil hardness of the polyamide-imide film 2 were measured by the said measuring method, and the elasticity modulus was 5.2 GPa, the bending resistance was 70,000 times, and the pencil hardness was H.

<비교예 1>Comparative Example 1

[폴리아미드이미드 수지 (3)의 조제][Preparation of polyamideimide resin (3)]

질소 분위기하에서 교반 날개를 구비한 1L 세퍼러블 플라스크에, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘(TFMB) 14.29g(44.62mmol) 및 N,N-디메틸아세트아미드(DMAc) 250.00g을 첨가하고, 실온에서 교반하면서 TFMB를 DMAc 중에 용해시켰다. 다음으로, 플라스크에 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 이무수물(6FDA) 8.01g(18.11mol)을 첨가하고, 실온에서 3시간 교반했다. 그 후, 테레프탈로일디클로라이드(TPC) 5.49g(27.04mmol)을 플라스크에 첨가하고, 실온에서 1시간 교반했다. 이어서, 플라스크에 4-피콜린 2.52g(27.06mmol)과 무수 아세트산 12.88g(126.16mmol)을 첨가하고, 실온에서 30분간 교반한 후, 오일배스를 이용하여 70℃로 승온하고, 추가로 3시간 교반하여, 반응액을 얻었다.In a 1 L separable flask with stirring blades under nitrogen atmosphere, 14.29 g (44.62 mmol) of 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine (TFMB) and 250.00 g of N, N-dimethylacetamide (DMAc) were added. TFMB was dissolved in DMAc with addition and stirring at room temperature. Next, 8.01 g (18.11 mol) of 4,4 '-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic dianhydride (6FDA) was added to the flask, and it stirred at room temperature for 3 hours. Then, 5.49 g (27.04 mmol) of terephthaloyl dichloride (TPC) was added to the flask, and it stirred at room temperature for 1 hour. Subsequently, 2.52 g (27.06 mmol) of 4-picoline and 12.88 g (126.16 mmol) of acetic anhydride were added to the flask, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes, and then heated to 70 ° C. using an oil bath, and further 3 hours. It stirred and obtained the reaction liquid.

얻어진 반응액을 실온까지 냉각하여, 대량의 메탄올 중에 실형상으로 투입하고, 석출한 침전물을 꺼내 메탄올 중에 6시간 침지 후, 메탄올로 세정했다. 다음으로, 60℃에서 침전물의 감압 건조를 행하여, 폴리아미드이미드 수지 (3)을 얻었다. 폴리아미드이미드 수지 (3)의 중량 평균 분자량(Mw)은 290,000이었다.The obtained reaction solution was cooled to room temperature, poured into a large amount of methanol in a solid form, and the precipitate deposited was taken out and immersed in methanol for 6 hours, and then washed with methanol. Next, the precipitate was dried under reduced pressure at 60 ° C to obtain a polyamideimide resin (3). The weight average molecular weight (Mw) of the polyamideimide resin (3) was 290,000.

[폴리아미드이미드 필름 (3)의 제조][Production of Polyamide-imide Film (3)]

얻어진 폴리아미드이미드 수지 (3)에, 농도가 10질량%가 되도록 DMAc를 첨가하여, 폴리아미드이미드 바니시 (3)을 제작했다. 얻어진 폴리아미드이미드 바니시 (3)을 폴리에스테르 기재(도요보(주)제, 상품명 「A4100」)의 평활면 상에 자립막의 두께가 55μm가 되도록 어플리케이터를 이용하여 도공하고, 50℃에서 30분간, 이어서 140℃에서 15분간 건조하여, 자립막을 얻었다. 자립막을 금속 프레임에 고정하고, 추가로 200℃에서 60분간 건조하여, 두께 50μm의 폴리아미드이미드 필름 (3)을 얻었다. 상기 측정 방법에 의해 폴리아미드이미드 필름 (3)의 탄성률, 굴곡 내성, 및 연필 경도를 측정한 바, 탄성률은 4.8GPa, 굴곡 내성은 7만회, 연필 경도는 6B였다.DMAc was added to the obtained polyamide-imide resin (3) so that a density | concentration might be 10 mass%, and the polyamide-imide varnish (3) was produced. The obtained polyamideimide varnish (3) is coated on the smooth surface of a polyester base material (Toyobo Co., Ltd. product, brand name "A4100") using an applicator so that the thickness of a freestanding film may be 55 micrometers, and it is 30 minutes at 50 degreeC, Then, it dried for 15 minutes at 140 degreeC, and obtained the self-supporting film. The freestanding film was fixed to a metal frame, and further dried at 200 ° C. for 60 minutes to obtain a polyamideimide film (3) having a thickness of 50 μm. The elasticity modulus, bending resistance, and pencil hardness of the polyamide-imide film 3 were measured by the said measuring method, and the elasticity modulus was 4.8 GPa, the bending resistance was 70,000 times, and the pencil hardness was 6B.

<실시예 3><Example 3>

[폴리아미드이미드 수지 (4)의 조제][Preparation of polyamideimide resin (4)]

질소 분위기하에서 교반 날개를 구비한 1L 세퍼러블 플라스크에, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘(TFMB) 17.95g(56.03mmol) 및 N,N-디메틸아세트아미드(DMAc) 313.57g을 첨가하고, 실온에서 교반하면서 TFMB를 DMAc 중에 용해시켰다. 다음으로, 플라스크에 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 이무수물(6FDA) 5.08g(11.44mmol)을 첨가하고, 실온에서 3시간 교반했다. 그 후, 2,6-나프탈렌디카르복실산 디클로라이드(NADOC) 10.13g(40.02mmol)과 4,4'-옥시비스(벤조일클로라이드)(OBBC) 1.69g(5.72mmol)을 플라스크에 첨가하고, 실온에서 1시간 교반했다. 이어서, 플라스크에 4-피콜린 4.26g(45.74mmol)과 무수 아세트산 8.17g(80.05mmol)을 첨가하고, 실온에서 30분간 교반한 후, 오일배스를 이용하여 70℃로 승온하고, 추가로 3시간 교반하여, 반응액을 얻었다.In a 1 L separable flask with stirring blades under nitrogen atmosphere, 17.95 g (56.03 mmol) of 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine (TFMB) and 313.57 g of N, N-dimethylacetamide (DMAc) were added. TFMB was dissolved in DMAc with addition and stirring at room temperature. Next, 5.08 g (11.44 mmol) of 4,4 '-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic dianhydride (6FDA) was added to the flask, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. Then 10.13 g (40.02 mmol) of 2,6-naphthalenedicarboxylic acid dichloride (NADOC) and 1.69 g (5.72 mmol) of 4,4'-oxybis (benzoyl chloride) (OBBC) were added to the flask, It stirred at room temperature for 1 hour. Subsequently, 4.26 g (45.74 mmol) of 4-picoline and 8.17 g (80.05 mmol) of acetic anhydride were added to the flask, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes, then heated to 70 ° C. using an oil bath, and further 3 hours. It stirred and obtained the reaction liquid.

얻어진 반응액을 실온까지 냉각하여, 대량의 메탄올 중에 실형상으로 투입하고, 석출한 침전물을 꺼내 메탄올 중에 6시간 침지 후, 메탄올로 세정했다. 다음으로, 60℃에서 침전물의 감압 건조를 행하여, 폴리아미드이미드 수지 (4)를 얻었다. 폴리아미드이미드 수지 (4)의 중량 평균 분자량(Mw)은 370,000이었다.The obtained reaction solution was cooled to room temperature, poured into a large amount of methanol in a solid form, and the precipitate deposited was taken out and immersed in methanol for 6 hours, and then washed with methanol. Next, the precipitate was dried under reduced pressure at 60 ° C to obtain a polyamideimide resin (4). The weight average molecular weight (Mw) of the polyamideimide resin (4) was 370,000.

[폴리아미드이미드 필름 (4)의 제조][Production of Polyamide-imide Film (4)]

얻어진 폴리아미드이미드 수지 (4)에, 농도가 10질량%가 되도록 DMAc를 첨가하여, 폴리아미드이미드 바니시 (4)를 제작했다. 얻어진 폴리아미드이미드 바니시 (4)를 폴리에스테르 기재(도요보(주)제, 상품명 「A4100」)의 평활면 상에 자립막의 두께가 55μm가 되도록 어플리케이터를 이용하여 도공하고, 50℃에서 30분간, 이어서 140℃에서 15분간 건조하여, 자립막을 얻었다. 자립막을 금속 프레임에 고정하고, 추가로 200℃에서 60분간 건조하여, 두께 50μm의 폴리아미드이미드 필름 (4)를 얻었다. 상기 측정 방법에 의해 폴리아미드이미드 필름 (4)의 탄성률, 굴곡 내성, 및 연필 경도를 측정한 바, 탄성률은 5.8GPa, 굴곡 내성은 9만회, 연필 경도는 H였다.DMAc was added to the obtained polyamide-imide resin (4) so that a density | concentration might be 10 mass%, and the polyamide-imide varnish (4) was produced. The obtained polyamideimide varnish (4) is coated on the smooth surface of a polyester base material (Toyobo Co., Ltd. product, brand name "A4100") using an applicator so that the thickness of a self-supporting film may be 55 micrometers, and it is 30 minutes at 50 degreeC, Then, it dried for 15 minutes at 140 degreeC, and obtained the self-supporting film. The freestanding film was fixed to a metal frame, and further dried at 200 ° C. for 60 minutes to obtain a polyamideimide film (4) having a thickness of 50 μm. The elasticity modulus, the bending resistance, and the pencil hardness of the polyamide-imide film 4 were measured by the above measuring method. The elasticity modulus was 5.8 GPa, the bending resistance was 90,000 times, and the pencil hardness was H.

<실시예 4><Example 4>

[폴리아미드이미드 수지 (5)의 조제][Preparation of polyamideimide resin (5)]

질소 분위기하에서 교반 날개를 구비한 1L 세퍼러블 플라스크에, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘(TFMB) 18.11g(56.56mmol) 및 N,N-디메틸아세트아미드(DMAc) 313.57g을 첨가하고, 실온에서 교반하면서 TFMB를 DMAc 중에 용해시켰다. 다음으로, 플라스크에 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디프탈산 이무수물(6FDA) 5.10g(11.48mmol)을 첨가하고, 실온에서 3시간 교반했다. 그 후, 1,4-나프탈렌디카르복실산 디클로라이드(14NADOC) 11.63g(45.94mmol)을 플라스크에 첨가하고, 실온에서 1시간 교반했다. 이어서, 플라스크에 4-피콜린 4.28g(45.94mmol)과 무수 아세트산 8.21g(80.39mmol)을 첨가하고, 실온에서 30분간 교반한 후, 오일배스를 이용하여 70℃로 승온하고, 추가로 3시간 교반하여, 반응액을 얻었다.In a 1 L separable flask with stirring blades under nitrogen atmosphere, 18.11 g (56.56 mmol) of 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine (TFMB) and 313.57 g of N, N-dimethylacetamide (DMAc) TFMB was dissolved in DMAc with addition and stirring at room temperature. Next, 5.10 g (11.48 mmol) of 4,4 '-(hexafluoroisopropylidene) diphthalic dianhydride (6FDA) was added to the flask, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. Thereafter, 11.63 g (45.94 mmol) of 1,4-naphthalenedicarboxylic acid dichloride (14NADOC) was added to the flask, followed by stirring at room temperature for 1 hour. Subsequently, 4.28 g (45.94 mmol) of 4-picoline and 8.21 g (80.39 mmol) of acetic anhydride were added to the flask, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes, and then heated to 70 ° C. using an oil bath, and further 3 hours. It stirred and obtained the reaction liquid.

얻어진 반응액을 실온까지 냉각하여, 대량의 메탄올 중에 실형상으로 투입하고, 석출한 침전물을 꺼내 메탄올 중에 6시간 침지 후, 메탄올로 세정했다. 다음으로, 60℃에서 침전물의 감압 건조를 행하여, 폴리아미드이미드 수지 (5)를 얻었다. 폴리아미드이미드 수지 (5)의 중량 평균 분자량(Mw)은 280,000이었다.The obtained reaction solution was cooled to room temperature, poured into a large amount of methanol in a solid form, and the precipitate deposited was taken out and immersed in methanol for 6 hours, and then washed with methanol. Next, the precipitate was dried under reduced pressure at 60 ° C to obtain a polyamideimide resin (5). The weight average molecular weight (Mw) of the polyamideimide resin (5) was 280,000.

[폴리아미드이미드 필름 (5)의 제조][Production of Polyamide-imide Film (5)]

얻어진 폴리아미드이미드 수지 (5)에, 농도가 10질량%가 되도록 DMAc를 첨가하여, 폴리아미드이미드 바니시(5)를 제작했다. 얻어진 폴리아미드이미드 바니시(5)를 폴리에스테르 기재(도요보(주)제, 상품명 「A4100」)의 평활면 상에 자립막의 막두께가 55μm가 되도록 어플리케이터를 이용하여 도공하고, 50℃에서 30분간, 이어서 140℃에서 15분간 건조하여, 자립막을 얻었다. 자립막을 금속 프레임에 고정하고, 추가로 200℃에서 60분간 건조하여, 막두께 50μm의 폴리아미드이미드 필름 (5)를 얻었다. 상기 측정 방법에 의해 폴리아미드이미드 필름 (5)의 탄성률, 굴곡 내성, 및 연필 경도를 측정한 바, 탄성률은 5.6GPa, 굴곡 내성은 3만회, 연필 경도는 6B였다.DMAc was added to the obtained polyamide-imide resin (5) so that a density | concentration might be 10 mass%, and the polyamide-imide varnish (5) was produced. The obtained polyamide-imide varnish (5) was coated on the smooth surface of a polyester base material (Toyobo Co., Ltd. product, brand name "A4100") using an applicator so that the film thickness of a self-supporting film might be 55 micrometers, and it carried out at 50 degreeC for 30 minutes. Then, it dried for 15 minutes at 140 degreeC, and obtained the self-supporting film. The self-supporting film was fixed to a metal frame and further dried at 200 ° C. for 60 minutes to obtain a polyamideimide film (5) having a film thickness of 50 μm. The elasticity modulus, bending resistance, and pencil hardness of the polyamide-imide film 5 were measured by the said measuring method, and the elasticity modulus was 5.6 GPa, the bending resistance was 30,000 times, and the pencil hardness was 6B.

<실시예 5>Example 5

[폴리아미드이미드 수지 (6)의 조제][Preparation of polyamideimide resin (6)]

질소 분위기하에서 교반 날개를 구비한 1L 세퍼러블 플라스크에, 2,2'-비스(트리플루오로메틸)벤지딘(TFMB) 16.91g(52.80mmol), 4,4'-(헥사플루오로이소프로필리덴)디아닐린(6FDAM) 1.96g(5.87mmol) 및 N,N-디메틸아세트아미드(DMAc) 313.57g을 첨가하고, 실온에서 교반하면서 TFMB와 6FDAM를 DMAc 중에 용해시켰다. 다음으로, 플라스크에 3,3',4,4'-비페닐테트라카르복실산 이무수물(BPDA) 6.97g(23.70mmol)을 첨가하고, 실온에서 3시간 교반했다. 그 후, 2,6-나프탈렌디카르복실산 디클로라이드(NADOC) 9.00g(35.55mmol)을 플라스크에 첨가하고, 실온에서 1시간 교반했다. 이어서, 플라스크에 4-피콜린 3.31g(35.55mmol)과 무수 아세트산 16.94g(165.92mmol)을 첨가하고, 실온에서 30분간 교반한 후, 오일배스를 이용하여 70℃로 승온하고, 추가로 3시간 교반하여, 반응액을 얻었다.16.91 g (52.80 mmol) of 2,2'-bis (trifluoromethyl) benzidine (TFMB), 4,4 '-(hexafluoroisopropylidene) in a 1 L separable flask with stirring blades under nitrogen atmosphere 1.96 g (5.87 mmol) of dianiline (6FDAM) and 313.57 g of N, N-dimethylacetamide (DMAc) were added and TFMB and 6FDAM were dissolved in DMAc with stirring at room temperature. Next, 6.97 g (23.70 mmol) of 3,3 ', 4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride (BPDA) was added to the flask, and the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. Thereafter, 9.00 g (35.55 mmol) of 2,6-naphthalenedicarboxylic acid dichloride (NADOC) was added to the flask, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. Subsequently, 3.31 g (35.55 mmol) of 4-picoline and 16.94 g (165.92 mmol) of acetic anhydride were added to the flask, and the mixture was stirred at room temperature for 30 minutes, then heated to 70 ° C. using an oil bath, and further 3 hours. It stirred and obtained the reaction liquid.

얻어진 반응액을 실온까지 냉각하여, 대량의 메탄올 중에 실형상으로 투입하고, 석출한 침전물을 꺼내 메탄올 중에 6시간 침지 후, 메탄올로 세정했다. 다음으로, 60℃에서 침전물의 감압 건조를 행하여, 폴리아미드이미드 수지 (6)을 얻었다. 폴리아미드이미드 수지 (6)의 중량 평균 분자량(Mw)은 460,000이었다.The obtained reaction solution was cooled to room temperature, poured into a large amount of methanol in a solid form, and the precipitate deposited was taken out and immersed in methanol for 6 hours, and then washed with methanol. Next, the precipitate was dried under reduced pressure at 60 ° C to obtain a polyamideimide resin (6). The weight average molecular weight (Mw) of the polyamideimide resin (6) was 460,000.

[폴리아미드이미드 필름 (6)의 제조][Production of Polyamide-imide Film (6)]

얻어진 폴리아미드이미드 수지 (6)에, 농도가 10질량%가 되도록 DMAc를 첨가하여, 폴리아미드이미드 바니시 (6)을 제작했다. 얻어진 폴리아미드이미드 바니시 (6)을 폴리에스테르 기재(도요보(주)제, 상품명 「A4100」)의 평활면 상에 자립막의 두께가 55μm가 되도록 어플리케이터를 이용하여 도공하고, 50℃에서 30분간, 이어서 140℃에서 15분간 건조하여, 자립막을 얻었다. 자립막을 금속 프레임에 고정하고, 추가로 200℃에서 60분간 건조하여, 두께 50μm의 폴리아미드이미드 필름 (6)을 얻었다. 상기 측정 방법에 의해 폴리아미드이미드 필름 (6)의 탄성률, 굴곡 내성, 및 연필 경도를 측정한 바, 탄성률은 6.8GPa, 굴곡 내성은 7만회, 연필 경도는 HB였다.DMAc was added to the obtained polyamide-imide resin (6) so that a density | concentration might be 10 mass%, and the polyamide-imide varnish (6) was produced. The obtained polyamideimide varnish (6) is coated on the smooth surface of a polyester base material (Toyobo Co., Ltd. product, brand name "A4100") using an applicator so that the thickness of a freestanding film may be 55 micrometers, and it is 30 minutes at 50 degreeC, Then, it dried for 15 minutes at 140 degreeC, and obtained the self-supporting film. The freestanding film was fixed to a metal frame and further dried at 200 ° C. for 60 minutes to obtain a polyamideimide film (6) having a thickness of 50 μm. The elasticity modulus, bending resistance, and pencil hardness of the polyamide-imide film 6 were measured by the said measuring method, and the elasticity modulus was 6.8 GPa, the bending resistance was 70,000 times, and the pencil hardness was HB.

실시예 1~5 및 비교예 1에서 얻어진 폴리아미드이미드 수지의 구성 단위, 폴리아미드이미드 필름의 두께 및 탄성률을 표 1에 나타낸다. 또한, 구성 단위 중, 괄호 내의 숫자는, 각 구성 단위의 도입 비율을 나타내고, 예를 들면 실시예 1에서는, NADOC 단위:6FDA 단위:TFMB 단위=60:40:100인 것을 나타낸다.Table 1 shows the thickness and elastic modulus of the structural unit of the polyamideimide resin obtained in Examples 1 to 5 and Comparative Example 1, and the polyamideimide film. In addition, in the structural unit, the number in parentheses shows the introduction ratio of each structural unit. For example, in Example 1, it shows that it is NADOC unit: 6FDA unit: TFMB unit = 60: 40: 100.

Figure pat00017
Figure pat00017

표 1에 나타나는 바와 같이, 실시예 1~5에서 얻어진 폴리아미드이미드 필름은, 비교예 1에서 얻어진 폴리아미드이미드 필름과 비교해 탄성률이 높은 것이 확인되었다. 특히, 실시예 2, 3 및 5에서 얻어진 폴리아미드이미드 필름은, 연필 경도도 높아, 고탄성률과 고표면 경도를 양립할 수 있는 것을 알 수 있었다. 또, 실시예 1~3 및 5에서 얻어진 폴리아미드이미드 필름은, 동시에 높은 굴곡성을 만족할 수도 있어, 화상 표시 장치의 부재로서 적합하게 사용할 수 있는 것을 알 수 있었다.As shown in Table 1, it was confirmed that the polyamideimide films obtained in Examples 1 to 5 had a higher elastic modulus as compared with the polyamideimide film obtained in Comparative Example 1. In particular, it was found that the polyamide-imide films obtained in Examples 2, 3, and 5 had a high pencil hardness and were compatible with high elastic modulus and high surface hardness. Moreover, the polyamideimide films obtained in Examples 1-3 and 5 may satisfy | fill high flexibility simultaneously, and it turned out that it can use suitably as a member of an image display apparatus.

Claims (7)

식 (1) 및 식 (2)
Figure pat00018

[식 (1) 및 식 (2) 중, X는 각각 독립적으로, 2가의 유기기를 나타내고, Y는 4가의 유기기를 나타내며, Ra는 각각 독립적으로, 할로겐 원자, 탄소수 1~6의 알킬기, 탄소수 1~6의 알콕시기, 또는 탄소수 6~12의 아릴기를 나타내고, Ra에 포함되는 수소 원자는 각각 독립적으로, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되며, n은 0~6의 정수를 나타낸다]
로 나타나는 구성 단위를 포함하고, 중량 평균 분자량이 100,000~1,000,000인, 폴리아미드이미드 수지.
Equation (1) and (2)
Figure pat00018

[In Formula (1) and Formula (2), X represents a bivalent organic group each independently, Y represents a tetravalent organic group, R <a> respectively independently represents a halogen atom, a C1-C6 alkyl group, and carbon number An alkoxy group of 1 to 6 or an aryl group of 6 to 12 carbon atoms is represented, and the hydrogen atoms contained in R a may be each independently substituted with a halogen atom, and n represents an integer of 0 to 6;
The polyamideimide resin which contains the structural unit represented by and whose weight average molecular weight is 100,000-1,000,000.
제1항에 있어서,
식 (2)로 나타나는 구성 단위의 함유량은, 식 (1)로 나타나는 구성 단위 1몰에 대해서 0.1~10몰인, 폴리아미드이미드 수지.
The method of claim 1,
Content of the structural unit represented by Formula (2) is polyamideimide resin which is 0.1-10 mol with respect to 1 mol of structural units represented by Formula (1).
제1항에 있어서,
식 (2')
Figure pat00019

[식 (2') 중, X 및 K는 각각 독립적으로, 2가의 유기기를 나타내고, K의 적어도 일부는, 식 (3)
Figure pat00020

(식 (3) 중, R1~R8은 각각 독립적으로, 수소 원자, 탄소수 1~6의 알킬기, 탄소수 1~6의 알콕시기, 또는 탄소수 6~12의 아릴기를 나타내고, R1~R8에 포함되는 수소 원자는, 각각 독립적으로, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되며, A는, 단결합, -O-, -CH2-, -CH2-CH2-, -CH(CH3)-, -C(CH3)2-, -C(CF3)2-, -SO2-, -S-, -CO- 또는 -N(R9)-를 나타내고, R9는 수소 원자, 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되는 탄소수 1~12의 탄화 수소기를 나타내며, m은 0~4의 정수이고, *는 결합손을 나타낸다)
으로 나타난다]
로 나타나는 구성 단위를 추가로 포함하는, 폴리아미드이미드 수지.
The method of claim 1,
Formula (2 ')
Figure pat00019

[In Formula (2 '), X and K each independently represent a divalent organic group, and at least one part of K represents Formula (3).
Figure pat00020

(Formula (3) of, R 1 ~ R 8 is each independently represents a hydrogen atom, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms alkyl group, having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having a carbon number of 6 ~ 12, R 1 ~ R 8 The hydrogen atoms contained in each may be independently substituted with a halogen atom, and A is a single bond, -O-, -CH 2- , -CH 2 -CH 2- , -CH (CH 3 )-,- C (CH 3 ) 2- , -C (CF 3 ) 2- , -SO 2- , -S-, -CO- or -N (R 9 )-, and R 9 is substituted with a hydrogen atom or a halogen atom Represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, m is an integer of 0 to 4, and * represents a bond.)
Appears]
The polyamide-imide resin which further contains the structural unit represented by these.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 기재된 폴리아미드이미드 수지를 포함하여 이루어지는, 폴리아미드이미드 필름.The polyamideimide film which contains the polyamideimide resin in any one of Claims 1-3. 제4항에 기재된 폴리아미드이미드 필름을 구비하는, 플렉시블 표시 장치.The flexible display device provided with the polyamideimide film of Claim 4. 제5항에 있어서,
추가로 터치 센서를 구비하는, 플렉시블 표시 장치.
The method of claim 5,
Furthermore, the flexible display apparatus provided with a touch sensor.
제5항에 있어서,
추가로 편광판을 구비하는, 플렉시블 표시 장치.
The method of claim 5,
Furthermore, the flexible display apparatus provided with a polarizing plate.
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