KR20180022654A - 치아 석션 장치 - Google Patents

Abstract

타액 및 다른 유체의 제거를 위한 치아 석션 장치는, 타액 및 다른 유체의 제거를 위해 배치된 석션 라인(101, 602, 702) 및 흡수체(111, 611, 711)를 포함하고, 상기 석션 라인(101)은 상기 흡수체(111) 내에 배치되고 상기 흡수체와 연통하는 홀 부재(104, 904a-e)를 구비 한 석션부(103)를 포함하여 구성된다. 상기 석션 라인(101, 602, 702)은 동공의 하부 또는 상기 하부 근처에 상기 흡수체를 위치시키기위한 사전 제작된 형태 및 크기를 가지며, 상기 하부로부터 상방으로 상승된 부분을 따라 연장되고, 고정을 위해 상기 부분을 부분적으로 둘러싸며, 상기 홀 부재(104, 904a-e)는 상기 석션부(103)의 종 방향 범위뿐만 아니라 그 둘레에 분포되며, 상기 흡수체(111, 611, 711)는 원하는 형상으로 변형시키기 위해 탄성 변형 가능하고 적응 가능한 재료로 만들어진다.

Description

치아 석션 장치

본 발명은 사람의 구강으로부터 타액 및 다른 유체를 제거하는 치아 석션 장치에 관한 것이다. 석션 장치는 석션 튜브와 구강 내에 배치되는 흡수체를 포함하여, 이에따라 상기 석션 튜브는 흡수체 내에 배치되고 흡수체와 통하는 홀 기관을 구비하는 석션 부분을 포함한다.

치과 분야에서는 다양한 유형의 석션 장치가 구강에서 타액과 물의 제거에 사용된다. 물의 공급은 주로 치아 물질을 드릴링하고 연마할 때 및 치석을 제거할 때 발생한다. 물 스프레이를 사용하여 치아를 식히는 것은 입 온도를 낮추기 위해 사용자에게 매우 유쾌한 일이다. 물 공급은 또한 물 스프레이가 사용되는 치아 및 구강 청소와 관련하여 일반적이다. 타액과 물의 제거는 환자 또는 사용자의 안락감, 작업 영역 가시성, 수술 구역의 건조 유지, 타액 및 물의 제거가 가시성을 향상시키기 위해 사용자의 편의를 위해 여러 가지 이유로 필요하며, 청소 과정에서, 및 작업 영역을 건조하게 유지할 수 있다.

타액과 물의 제거는 주로 다른 크기의 튜브를 포함하는 두 종류의 석션 장치를 사용하여 수행된다. 두꺼운 튜브는 많은 양의 물과 타액을 효율적으로 제거하는 소위 고속 석션 장치이며 운전자 또는 조수가 수동으로 조작한다. 더 작은 치수 및 더 낮은 석션력을 갖는 석션 장치는 주로 구강 내에 고정된 장치와 관련되어 사용되고 타액 및 물의 제거는 작업자의 영향없이 자동적으로 작동한다. 종종 석션 장치는 혀를 이격 유지함으로써 회전기구에 대한 혀의 보호 역할을 한다. 이러한 더 얇은 치수의 석션 장치의 한 예가 US 3,086,289에 기술된다. 이러한 종류의 석션 장치는 튜브의 한쪽 끝에 또는 이를 따라 홀이 뚫린 다양한 모양의 직선 또는 미리 구부려진 다양한 종류의 플라스틱 튜브로만 구성된다. 석션 장치를 손으로 다시 성형함으로써, 장치가 구강 내의 다른 위치로 조절될 수 있으며, 이때 석션 장치가 가장 필요한 순간에 흡수 장치는 가장 도움이 된다.

문제점은 구조물 고정적이어서 흡수 효과가 가장 필요한 영역에 대한 조정 가능성이 사람에 따라 제한적이라는 데 있다. 이러한 구조물은 석션 장치의 홀이 있는 영역으로 제한되어 구강 하부에 있는 타액와 물을 흡수할 수 없으며 목구멍에서 더 이상 뒤쪽으로 흡수되지 못하고 흡수 영역이 타액에서 안전하게 격리할 수 있는 능력이 제한적이다.

또 다른 주요한 문제점은 이러한 구조물의 낮은 편안함이다. 타액과 물을 제거해야 하는 필요성은 입 아래쪽에서 가장 높지만 석션 장치가 있을 때 거의 항상 아래턱의 내부에 닿으므로 통증에 민감하며 종종 강한 환자 또는 사용자의 불편함을 초래한다. 상기 효과를 최소화하기 위해 석션 장치의 모양을 조정하고 변경해야할 필요가 생겼으며 이는 작업자의 다른 작업에서 시간이 걸린다. 석션 장치를 입의 하부에 놓을 때, 점막의 이동 가능한 부분이 홀에 흡수되어 흡수 장치의 홀이 종종 막히게 되고 이로 인해 장치의 흡수 또는 흡수력 크게 감소한다. 또한, 이러한 경우 흡수된 점막이 석션 장치의 홀에서 진동할 때 종종 시끄럽고 매우 혼란스러운 소음이 발생한다.

과거부터 플라스틱 튜브에 흡수체를 제공하고 이것을 치아 소켓의 각면 또는 치열을 따라 배치하는 것이 더 알려진 바 있다. 따라서 상술한 부작용과 타액 흡수와 관련된 문제 중 일부를 줄일 수 있다. 이러한 유형의 석션 장치의 예는 미국 특허 제 5,071,347 호 및 미국 특허 제 6,309,218 호에 기재된다.

이러한 흡수체를 사용하여 구강에서 타액 및 물을 효과적으로 흡수하기 위해서는 흡수체가 타액이 생성 및 축적되는 영역과의 양호한 연결/적용 범위를 갖는 것이 중요하다. 상기 공지된 흡수 배치의 흡수체는 원통형이다. 그 결과 각 영역과의 연결이 불완전해 진다. 확실하게, 흡수체의 일부는 흡수체가 압축되어 연결점의 영역이 확장될 수 있는 약간의 탄성을 가지지만 제한적이다. 이것은 불만족스런 흡수로 이어지고, 흡수관만으로 작업할 때의 이점은 제한적인 이유가 된다.

이러한 장치는 매우 정적이며 흡수 장치가 고정된 장치의 치열을 따라 배치된다. 흡수는 타액/액체가 일정 수준에 도달하여 신체와 접촉할 때만 발생한다. 신체 사이의 영역은 건조한 채로 유지되지만 석션 장치가 전혀없는 것처럼 나머지 모든 유체와 타액은 환자의 목에 도달한다.

공지된 기술의 실린더형 흡수체의 또 다른 단점은 이들이 치아 소켓을 따라 놓여 있다는 것이다. 타액이 구강 내에 축적되어 환자의 목구멍을 넘나드는 수준으로 올라갈 때 환자는 반사적으로 삼키게 되며 삼키는 운동은 타액과 물의 양을 증가시킨다.

따라서 축적되는 타액 및 물을 구강의 하부에서 제거하여 수술 영역이 건조하고 물이 없게 유지되고 환자가 삼킬 필요가 최소화되며, 특히 석션 장치가 하부 턱의 내부와 접촉할 때 환자에게 불쾌감을 주지 않는 석션 장치가 필요하다.

본 발명의 한 가지 목적은 당 분야에 공지된 종래의 기술과 관련된 문제점을 제거하여 이전에 제공된 것보다 타액 및 다른 유체의 보다 효과적인 흡수를 제공하는 것이다.

상기 및 다른 목적은 구강 내에 배치되는 석션 라인 및 흡수체를 포함하는 구강 내의 타액 및 다른 유체를 제거하는 치과 석션 장치로부터 완전히 또는 부분적으로 달성된다 석션 라인은 흡수체 내에 배치되고 흡수체와 연통하는 홀 부재가 구비된 석션부를 포함한다. 본 발명에 따르면, 석션 장치는 입의 하부의 해부학적 형상에 적응하기 위해 탄성적으로 변형 가능한 재료로 만들어진다.

탄성적으로 변형 가능한 재료를 통해, 석션 장치의 외부 표면의 주된 부분은 유체가 흡수될 입구의 하부에서의 영역과 연결되며, 이는 보다 효과적이고 완전한 흡수를 가능하게 한다.

또한, 흡수체가 있는 석션 라인은 하부 턱의 하부뿐만 아니라 하부 턱의 하부를 따라 연장되는 것이 중요하다. 이로써, 흡수체는 혀와 하부 턱 사이에 클램핑되는 종류의 것으로, 의도하지 않게 이 부위로부터 분리되지 않는다.

이것은 환자가 구강의 격렬한 움직임으로 인해 종래 기술의 장치처럼 삼킬 때 특히 중요하며, 상기 석션 튜브는 일반적으로 손실된다.

탄성적으로 변형 가능한 재료를 포함하는 석션 장치는 구강의 하부에 적합하고 환자에게 불편함을 주지 않고 영역을 덮어 동시에 타액이 치아와 접촉하는 것을 방지하고, 장치는 다시 부분적으로 혀 아래에 놓이기 때문에 입의 하부에 유지된다. 석션 라인은 최상의 위치에 적응되도록 원하는대로 변형될 수 있다. 이는 대구치 또는 절치 위로 연장되어 원위 방향으로 아래턱에 가깝게 및 이를 따라 연장될 수 있다. 바람직하게는, 하부 턱의 하부, 즉 송곳니에 가까운 주 혀 연장부 높이 아래에 도달한 다음, 소구치 및 대구치를 따라 혀 아래로 연장된다.

석션 라인은 바람직하게는 용이하고 소성 변형 가능한 플라스틱 재료로 제조된다. 상기 흡수체는 접착제 또는 마찰에 의해 임의의 적절한 방식으로 상기 석션 라인의 석션부에 고정될 수 있다. 석션 장치는 좌측 또는 우측 턱에 적용하기에 적합하다.

석션 장치 내의 흡수체는 환자가 삼키고 이어서 팽창할 때의 움직임으로 인해 눌려질 때 펌프 역할을 한다.

바람직하고 유익한 펌프 작용을 보장하기 위해, 탄성 흡수체가 표준 혀의 힘에 의해 원래의 체적의 절반까지의 압축성을 갖는 것이 필수적이다. 압축성은 상당히 높을 수 있으며, 즉 85 %까지 높아질 수 있다. 따라서, 흡수체의 재료는 낮은 탄성 계수를 갖는 연질 개방 발포체, 또는 부드러운 흡수재 또는 내부 흡수체를 덮는 부드러운 메쉬 일 수 있다.

흡수체는 또한 예를 들어, 환자가 아래턱에 통증을 느낄 때 석션 장치를 조정하기 위해 지속적인 치과 클리닝 처료를 방해하는 것을 제거한다.

석션 장치는 입의 하부의 해부학적 형태에 적응하고 또한 탄성이기 때문에, 공지된 기술의 단순한 원통형 흡수체로는 불가능한 방식으로 정확한 해부학적 형태에 자동으로 매우 효율적으로 적응된다. 흡수체가 석션 홀에 의해 방출되는 석션 소음을 감소시키는 소음 차단재 역할을 하기 때문에 치과 치료가 더 조용해진다. 생성된 해부학적 형태는 혀밑샘(Glandula Sublingualis)과 턱밑샘(Glandula Submandubularis)에서 타액의 수용을 허용하여 상기 장치는 치아와 침샘사이에 장벽을 형성한다.

본 발명의 한 실시예에서, 흡수체는 흡수체의 길이 연장부에 수직인 단면도에서 비원형 윤곽을 나타낸다.

또 다른 실시예에서, 흡수체는 흡수체의 길이 연장부에 수직인 단면도에서 베이스 및 상부를 갖는 윤곽을 나타내며, 상기 베이스는 상부보다 넓다. 상기 형상은 혀의 일부분 아래에 배치 및 보유를 용이하게 한다. 또 다른 실시예에서, 흡수체는 흡수체의 길이 연장에 수직인 단면도에서 적어도 하나의 오목부를 가진 윤곽을 나타내는 부분을 갖는다. 오목한 윤곽 부분을 이용하여, 흡수체의 형상이 혀를위한 공간을 생성하기 위해 자연스럽게 변형된다. 이렇게 하면 혀에서 압력이 집중되는 것을 피할 수 있으며 동시에 흡수체는 흡수가 가장 필요한 혀 아래뿐만 아니라 혀 위 영역으로 효과적으로 도달한다.

바람직하게는, 흡수체의 단면은 혀에 의해 생성되는 허리영역 아래에서 더 크고 상기 허리 영역 위에서 약간 더 크다. 석션 튜브의 석션부는 바람직하게는 하부의 더 넓은 부분에 배치된다. 일 실시예에서, 석션 튜브는 입의 하부 및 배치 위치의 해부학적 형태에 대한 적응을 얻기 위해 탄성적으로 변형 가능하고 조정 가능한 물질로 만들어진다. 상기 실시예는 다양한 응용 가능성을 포함한다. 석션 장치 및 그와 관련된 석션 튜브 또는 석션 라인 및 흡수체는 특히 그 자체로 구강의 상이한 크기에 적응할 수 있지만, 흡수체가 너무 길어서 소구치 및 대구치에서와 마찬가지로 전치부 및 송곳니에서 턱의 치조골이나 치은 부위를 따라 연장될 가능성이 있고 단면적으로 인해 다른 부위에 잘 적응한다.

본 발명의 또 다른 실시예에서, 석션 장치는 구강 내에 위치될 때 인후를 향해 후방으로 연장되는 연장부를 포함하고, 연장부는 인후 방향으로 감소하는 감소된 단면적을 갖는 것이 바람직하다. 연장부분은 인후의 약간 아래쪽에 닿아 인후에 있는 액체의 축적을 줄이는 데 도움이 된다. 그렇지 않으면 불쾌감을 유발하고 삼킴 반사 작용으로 인해 치아 치료를 방해할 수 있다. 연장부분은 일반적으로 더 낮은 유체 레벨을 수반한다.

또 다른 실시예에서, 흡수체는 길이 조절 가능하다. 긴 흡수체가 미리 조립되어 짧아 지지만 절단된다. 선택적으로, 흡수체는 석션 라인의 석션부에 마찰에 의해 고정될 수 있으며, 필요에 따라 수동으로 연장되고 이동될 수 있다. 또한, 석션부에 펀치 패턴이 제공될 수 있어 흡수체와 함께 신장시킬 수 도있다.

다른 실시예에서, 홀 부재는 다수의 홀을 포함한다. 이것은 이송 경로가 짧아지기 때문에 흡수체의 외부 표면으로부터 흡수부 또는 석션부로의 유체 이송을 용이하게 한다. 바람직하게는, 다수의 홀은 그 둘레에서 흡수부를 따라 또한 분포된다.

다른 실시예에서, 홀은 상이한 크기 및/또는 형상을 갖는다. 따라서, 홀 크기 및/또는 모양 또는 둘다는 흡수체의 상이한 지점에서의 흡수의 필요성과 관련하여 국소적인 변화로 조정될 수 있다. 흡수의 필요성은 타액의 생성 위치, 타액이 축적되는 위치, 다른 유체가 축적되는 위치 및 흡수체의 변형에 따라 달라질 수 있다. 또한 유동 기술의 관점에서 흡수 장치를 흡수 장치의 나머지 부분에 연결하는 거리에 따라 다른 크기의 홀을 가질 수 있는 것이 바람직하다.

또 다른 실시예에서, 석션 장치는 제 2 흡수체가 흡수체와 유체 연결되는 타액 분비 덕트(glandula Parotis excretory duct)에 배치되는 제 2 흡수체를 포함한다.

타액의 실질적인 부분은 타액 분비 덕트(glandula Parotis excretory duct), 즉 후방 상부 뺨 영역에 위치한 침샘에 의해 생성된다. 상기 영역에도 흡수체를 배치함으로써, 생성된 공급원에서 미리 타액을 흡수할 수 있으며 구강의 하부에 축적될 때 이를 관리할 필요가 없다. 또한, 그것은 또한 타액이 침샘으로부터 상부 턱 측면 영역의 치아에 도달하는 것을 방지하여 환자에게 유익하고 편안함을 제공하여 석션 장치의 효율을 향상시킨다.

또 다른 실시예에서, 제 2 흡수체와 흡수체는 제 2 석션 라인으로 불리는 연결 라인을 통해 서로 연결된다. 또한 흡수체를 제 2 흡수체로 연장시켜 모세관 작용에 의해 수송을 달성할 수도 있다. 그러나 흐름은 두 몸체 사이의 라인을 통해 수행되는 경우 더 효율적이 된다.

추가 실시예에서, 석션 장치는 다수의 흡수체를 포함하고, 석션 튜브는 추가 라인을 포함하며, 각각의 추가 라인은 각각의 흡수체 내의 석션부와 연결된다.

상기 실시예에서, 제 2 석션 라인은 제 2 흡수체와 제 1 흡수체 사이에 스프링 힘이 가해지도록 형성될 수 있다. 이에따라, 둘 다 정 위치에 유지되고, 일차 흡수체는 혀밑샘에 더 가깝도록 밀려 나간다.

상기 실시예는 단지 하나의 석션 장치로 구강 내의 여러 위치로부터 동시에 유체를 제거할 수 있게 한다. 사용자는 흡수체가 두 가지 또는 여러 가지 점에서 혀와 치열 사이의 오른쪽, 치열과 뺨 사이의 오른쪽에, 대응하여 침샘에서 치열과 입술사이의 왼쪽에, 또는 구강 내 다른 지점에 놓여야 하는지 여부를 자유롭게 결정할 수 있다.

다른 실시예에서, 각각의 석션부는 석션 라인의 나머지와 분리 가능하게 연결된다.

이렇게 하면 어떤 이유로 흡수 능력이 떨어지는 경우 흡수체를 쉽게 교체할 수 있다. 이것은 또한 하나의 동일한 석션 튜브가 다른 유형의 흡수체에 연결될 수 있게 한다.

다른 실시예에서, 석션 장치는 해부학적 형상 및/또는 크기에 대해 상이한 실시예에서 석션 라인 및 한 세트의 다중 흡수체를 포함한다.

이러한 세트를 사용하면 현재 상황에 따라 단일 석션 튜브를 모든 유형의 흡수체에 연결할 수 있으므로 높은 유연성이 달성된다. 다른 방법으로는, 환자의 턱 크기 또는 다른 환자 종속 변수에 따라 최적의 피팅을 선택할 수 있도록 다양한 크기의 흡수체 유형 세트를 가질 수 있다.

또 다른 실시예에서, 석션 장치는 혀를 막기 위해 혀 보호 수단으로 보호 쉴드(protective shield)를 포함한다. 혀 보호 수단은 세척 치료와 같은 치과 치료 동안 회전하는 기구로부터 혀를 보호하고 또한 상이한 충전 및/또는 보철 구조의 접합을 수행할 때 타액에 오염을 유발할 수 있는 임계 영역에서 치아에 혀가 닿지 않도록 하는 것을 목적으로 한다.

일 실시예에서, 혀 보호 수단은 석션 라인의 연장부에 배치되고, 다른 실시 형태에서, 혀 보호 수단은 상기 석션 라인의 한 측부 암에 배치된다.

다른 실시예에서, 혀 보호 수단은 탄성적으로 변형 불가능한 재료로 만들어진다. 상기 실시예에서, 텅 보호 수단이 구강 영역으로부터 혀를 효과적으로 분리 시키도록 구부러질 수 있는 한편, 보조 요원이 필요한 중재 및 물과 타액의 보완 제거를 위해 임계 영역에서 완전한 접근과 통찰을 달성할 수 있도록 한다.

일 실시예에서, 혀 보호 수단은 구강 내에서 피팅 및 배치를 조정하기 위해 그리고 또한 접근 및 통찰을 증가시키는 한편 혀를 보호하는 능력이 유지되도록 파단될 수 있는 재료로 만들어진다.

다른 실시예에서, 혀 보호수단은 석션 튜브에 조정 가능하게 배치된다. 이것은 환자의 상태에 따라 특정 조정을 수행할 추가 기회가 된다.

또 다른 실시예에서, 혀 보호수단은 흡수 용량을 갖는다. 상기 흡수 용량은 혀 보호 수단이 흡수성 물질로 이루어지거나 흡수 물질로 덮여 있는 경우 또는 혀 보호 수단이 석션 장치 및 그 흡수체와 연결되는 제 2 석션 라인을 갖추고 있는 경우에 제공될 수 있다.

일 실시예에서, 각각의 혀 보호 수단 및 석션부는 석션 튜브의 나머지와 분리 가능하게 연결된다.

혀 보호 수단과 흡수체 사이의 제 2 석션 라인은 혀를 하부 턱의 하부로부터 분리시키도록 편향될 수 있다. 이로써, 흡수체는 혀 아래의 유선을 향해 아래쪽으로 가압된다. 제 2 석션 라인은 유리하게는 약 180도보다 적게 구부러진다.

본 발명의 다른 실시예에서, 혀 홀더는 작은 측면 연장부와 같이 그립이 제공될 수 있다. 이에 따라, 치과 의사와 같은 작업자는 혀 홀더를 횡 방향 또는 임의의 적절한 방향으로 당길 수 있다.

본 발명의 다른 실시예에서, 혀 홀더는 회전 가능하고 및/또는 플라스틱 힌지를 통해 제 2 석션 라인에 부착될 수 있다.

본 발명의 다른 실시예에서, 혀 홀더는 구조화된 표면을 갖는다. 이것은 혀가 진행하는 방향에서 잘 움직일 수 있도록 하기 위한 것이다.

본 발명의 다른 실시예에서, 혀 홀더는 열경화성 재료로 제조된다. 그런 다음 작업자는 사용하기 전에 열을 가해 원하는 형태로 성형할 수 있다. 다시 냉각하면 선택한 형태가 유지된다. 이 과정은 필요할 경우 자주 반복될 수 있다.

혀 홀더는 유익하게는 오렌지색 아크릴 재료로 만들어져 광 경화성 실드를 형성할 수 있다.

석션 라인은 특수 플라스틱 재료와 같은 임의의 적합한 재료로 이루어질 수 있다. 재료는 기억 효과를 가지기 위해 선택될 수 있고 및/또는 소성적으로 및/또는 탄력적으로 변형될 수 있다.

일 실시예에서, 석션 장치는 해부학적 형상 및/또는 크기에 대해 상이한 실행에서 석션 튜브 또는 석션 라인 및 한 세트의 다중 흡수체 및 한 세트의 다중 혀 보호 수단을 포함한다.

본 발명의 매우 바람직한 실시예에서, 흡수체는 주얼리 박스로 알려진 바와 같은 실키 메쉬로 덮여있다. 이러한 웹 또는 메쉬는 마찰 계수가 낮은 표면을 가지므로 흡수체가 원하는 위치에 쉽게 삽입될 수 있고, 환자에게 매우 쾌적하고 편안한 느낌을 주며 그 투과성은 원하는 석션력을 가지기에 충분하다.

바람직하게는, 실키 메쉬는 매우 얇기 때문에 매우 유연하다. 또한 흡수체는 부드럽고 유연하며 신축성이 있다. 그것이 폼 또는 임의의 다른 적절한 재료로 제조되는 경우, 경도 구배가 석션부 근처에서 단단하고 외주부 근처에서 부드럽도록 사용될 수 있다.

이러한 경도 구배는 흡수체가 플로킹(flocking)으로 만들어지는 경우 자동으로 제공되고 원하는 모양과 분포가 가능하다. 프로킹은 매우 좋은 모세관 효과를 가진다.

다른 실시예에서, 석션 장치는 진공 펌프에 피드백을 제공하고 혀 아래의 영역이 건조한 경우 펌프 작용을 감소시키도록 의도된 습기 센서를 구비한다. 이것은 또한 진공 펌프 소음을 감소시킨다.

본 발명의 석션 장치는 치아가 없는 환자에게도 매우 적합하다. 혀와 입의 하부 사이의 흡수체 및 턱과 아래턱의 하부 사이의 석션 라인 모두에 대한 스프링 작용으로 인해, 본 발명은 턱에 치아가 완전히 형성되었는 여부, 부분적으로 치아가 형성 및 미형성되는지 여부에 관계없이 잘 작용한다.

본 발명의 다른 목적, 특징 및 설비는 다음의 상세한 설명, 특허 청구 범위 및 도면에 도시된다. 설명된 실시예들로부터의 특징들의 상이한 가능한 조합 및 제시 이후의 예들에 설명된 이들 특징들의 각각의 가능한 조합을 통해 추가적인 바람직한 실시예들이 발생할 수 있음을 이해해야 한다.

일반적으로 요구 사항의 용어는 명시적으로 달리 명시하지 않는 한 기술 분야의 일반적인 의미에 따라 해석되어야 한다. "흡수 장치, 흡수 튜브, 흡수체 등"에 대한 모든 언급은 달리 명시하지 않는한 적어도 언급된 흡수 장치, 흡수 튜브, 흡수체 등의 존재를 참조로 공개적으로 해석되어야 한다.

본 발명의 이들 및 다른 실시예는 이제 본 발명의 실시예를 나타내는 첨부 도면을 참조하여 보다 상세하게 설명될 것이다.

도 1은 본 발명의 제 1 실시예에 따른 석션 장치 또는 석션 배치의 측면도.
도 2는 도 1의 석션 장치의 종단면도.
도 3은 도 2의 III-III 선을 따른 단면도.
도 4는 유체의 흐름을 도시하는 도 2의 단면도.
도 5는 유체의 흐름을 도시하는 도 3의 단면도.
도 6은 도 1의 석션 장치를 하부 턱의 치조 영역과 혀 사이의 구강 하부에 배치한 평면도.
도 7은 도 6의 Ⅶ-Ⅶ 선을 따른 단면도.
도 8은 도 6과 관련하여 배치된 위치에서 입 하부에 배치된 도 1의 석션 장치의 평면도.
도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 석션 장치의 상세부.
도 10-14는 본 발명의 5 개의 다른 실시예에 따른 석션 장치의 상세 단면도.
도 15는 본 발명에 따른 석션 장치의 또 다른 실시예의 측면도.
도 16은 도 15의 석션 장치의 평면도.
도 17은 본 발명에 따른 석션 장치의 또 다른 실시예의 측면도.
도 18은 도 17의 실시예의 상세도.
도 19는 변형된 흡수체를 구비한 본 발명의 석션 장치의 다른 실시예의 단면도.
도 20은 본 발명에 따른 석션 장치의 다른 실시예.
도 21은 본 발명에 따른 석션 장치의 또 다른 실시예.

본 발명은 이제 첨부된 도면을 참조하여보다 상세히 설명될 것이다.

도 1 내지 도 8에는 본 발명의 제 1 실시예가 도시된다. 도 1에 도시된 바와 같이, 석션 장치는 석션 튜브 내부에 부압을 생성하기 위해 진공 소스에 연결될 수 있는 석션 튜브 또는 석션 라인(101)을 가진다. 석션 튜브(101)는 가시적인 노출부(102)를 갖는다. 석션 튜브(101)는 흡수체 내에 매립된 흡수부(103)(도 1에는 보이지 않음)를 갖는 석션장치의 흡수체(111) 내로 연장된다. 흡수체(111)는 주요부(112) 및 선택적으로 연장부(113)로 이루어진다. 주요부(112)는 턱의 하부와 혀 사이의 사용자의 구강 아래에 위치하도록 배치된다.

연장부(113)는 주요부(112)로부터 환자의 인후를 향해 후방으로 연장되도록 배치된다. 석션 튜브의 노출부(102)는 통상적으로 환자의 턱 주위에 쉽게 고정되도록 구부러진다. 석션 장치는 그 길이 연장부의 단면도로 도 2에 도시되어 있으며, 이에 따라 석션 튜브(101)의 석션부(103)가 보인다. 상기 예시에서, 석션 튜브의 노출부(102)가 도시된다. 석션부(103)는 선택적으로 상기 석션부(103)와 노출부(102) 사이의 접합부에 연결될 수 있다. 석션부(103)는 튜브 내부를 피복 흡수체와 연결하는 다수의 홀(104)을 구비한다. 상기 예시에서, 흡수체는 부드럽게 아치형상이지만, 석션 장치가 탄성 변형 가능한 재료로 만들어지기 때문에, 상기 장치는 환자의 구강 및 특히 입의 하부에 맞도록 다른 형상을 채택할 수 있다.

도 2의 Ⅲ-Ⅲ 선 단면도인 도 3은 횡 방향의 흡수체가 베이스(112b)와 상부(112t)와 함께 비 원형의 외부 윤곽을 가지고 이에따라, 베이스(112b)가 상부(112t)보다 넓으며, 삼각형 형상의 단면을 나타낸다. 석션 튜브(101)의 석션부(103)는 흡수체의 중앙에 위치한다. 선택적으로 도면에서, 상기 부분은 흡수체의 다른 위치, 예를들어 비대칭 형 배치에서 흡수체에 위치할 수 있다. 또한, 외부 윤곽은 예시된 것과 다를 수 있다. 다른 형상의 예시가 도 10-14에 도시된다.

도 4 및 도 5는 석션 장치를 통한 유체 흐름을 개략적으로 도시한다. 타액 및 물은 점막으로부터 및 유체가 축적되는 구강 내의 다른 장소로부터 화살표 A로 나타낸 바와 같이 흡수체(111)로 진입한다. 석션 튜브(101)는 진공에 연결되어 그 석션부(103) 내부에 부압이 발생된다 모세관 작용에 의해, 흡수체(111)로 유입된 유체는 화살표 B로 표시된 바와 같이 석션부(103)의 방향으로 흡수된다. 진공을 통해 유체는 화살표 C에 따라 석션 튜브에 의해 흡수되고, 화살표 D에 따라 제거된다. 도 6 및 도 7은 하부턱(116)과 혀(117) 사이의 구강 하부에서의 석션 장치를 도시한다.

도 8은 도 6과 관련하여 약간 변위된 위치에 배치된 석션 장치를 도시한다. 이러한 배치는 환자의 입 앞부분에 보철물을 채우거나 접합시키는데 유익할 수 있다. 석션 장치는 탄성 변형 및 조정 가능한 재료로 이루어지기 때문에, 석션 장치는 구부러져 앞니에 의해 하부 턱 하부 옆쪽의 입 하부에 배치될 수 있고, 오른쪽 및/또는 왼쪽의 소구치 및 대구치에 의해 아래턱 하부 방향으로 다시 연장될 수 있다.

석션 튜브(101)는 바람직하게는 압출된 플라스틱으로 제조되며, 필요하다면 작업자가 필요에 따라 튜브를 재구성할 수 있게 하는 일체형 와이어를 포함한다. 석션 튜브는 미리 제작된 모양과 크기로 입안의 아래쪽에 쉽게 놓을 수 있으며 동시에 하부 턱의 아래 부분을 덮어 안전하게 고정할 수 있다.

석션 튜브는 구부러지기 쉬운 원형 또는 타원형을 가질 수 있다. 또한, 와이어는 편평한 방향으로 더 부드러운 스프링 특성을 갖는 편평한 것일 수 있다. 둘 다 사용자의 요구에 맞게 조정될 수 있다.

석션 튜브의 석션부(903)는 도 9에 도시된 바와 같이 크기 및 형상이 다른 홀을 구비할 수 있다. 홀(904a, 904b, 904c)은 석션 튜브 또는 라인의 노출부에 가장 가까운 홀(904a)이 가장 작고 상이한 직경을 갖는 원형이다. 홀(9d, 9e)은 길ㄱ게 형성된다.

흡수체(111)는 신체를 통해 유체 수송을 가능하게 하는 적절하게 탄성 변형 가능한 재료, 바람직하게는 개방 셀을 갖는 발포 플라스틱으로 제조된다. 또한, 예를 들어, 면섬유, 다양한 텍스타일 섬유, 합성 섬유, 밍(mull), 린트 또는 거즈(바람직하게는 메쉬로 덮인)와 같은 모세관 작용을 갖는 다른 부드러운 재료를 사용할 수 있다.

도 15 및 도 16에 도시된 실시예에서, 석션 장치는 주 흡수체(612, 613)를 위에 제 2 흡수체(618)를 포함한다. 제 2 흡수체(618)는 타액 분비 덕트에 위치되도록 배치되고, 연결 라인(605)를 통해 주 흡수체와 연결된다. 주 흡수체는 도 6에 도시된 바와 같은 적용을 위해 배치된다. 제 2 흡수체(618)를 통해, 침샘에서 나온 타액은 주 흡수체를 통해 생성된 곳으로 직접 흡수된다. 연결 라인(605)은 석션 튜브의 석션부의 연장부로 사용되는 것이 바람직하나, 석션 튜브의 노출부(102)를 추가 라인상에 배치하거나 연장부로 전이되기 전에 석션부(103)에 대한 추가 라인으로 배치하는 것도 가능하다.

도 17에 도시된 실시예에서, 석션 장치는 혀 보호 수단(714)을 포함한다. 혀 보호 장치는 혀를 막고 따라서 치아 치료 중에 혀를 회전기구로부터 보호하여 또한 상이한 충전 및/또는 보철 구조의 접합을 수행할 때 타액에 오염을 유발할 수 있는 임계 영역에서 치아에 혀가 닿지 않도록 하는 것을 목적으로 한다. 도 17은 혀(tongue) 보호 수단(714)이 석션 튜브(702)의 연장부(705)에 배치되지만, 다른(도시되지 않은) 실시 형태에서 혀 보호 수단이 노출된 석션 튜브(702)의 일 측부에 배치될 수 있다. 추가의(도시되지 않은) 실시예에서, 석션 장치는 도 17에 도시된 바와 같이 배치된 하나의 혀 보호수단 및 노출된 석션 튜브(702)의 일 측부에 배치된 하나의 혀 보호수단과 같은, 두 개의 혀 보호 수단을 포함한다. 혀 보호 수단은 탄성적으로 변형 불가능한 재료로 만들어질 수 있다. 따라서, 혀 보호수단은 도 18의 화살표 H로 도시된 바와 같이, 라인 I을 따라 구부러질 수 있고, 따라서 혀를 수술과정으로부터 효과적으로 분리하면서, 보조 요원이 필요한 중재 및 물과 타액의 보완 제거를 위해 임계 영역에서 완전한 접근과 통찰을 달성할 수 있도록 한다.

일 실시예에서, 텅 보호 수단은 예를 들어 파단될 수 있는 물질로 제조되어 라인(715)을 따라 구강 내에서 피팅 및 배치를 조정하고 또한 접근 및 통찰력을 증가시키면서 치료 중에 혀를 보호하는 능력이 유지되도록 한다.

또한, 혀 보호수단은 도 17의 화살표 E, F 및 G에 의해 도시된 바와 같이, 석션 튜브(702)의 석션부(703) 및 흡수체(712)에 관련하여 배치될 수 있다.

또 다른(도시되지 않은) 실시예에서, 혀 보호수단은 흡수 용량을 갖는다. 이 흡수 용량은 혀 보호가 흡수성 물질로 제조된 경우 또는 혀 보호가 석션 장치 및 그 흡수체와 연결된 석션 튜브를 구비하는 경우에 제공될 수 있다.

도 19는 본 발명의 다른 실시예를 도시한다. 이 실시예에 따르면, 흡수체(711)는 베이스 및 상부를 갖는 비 원형으로 형성되어, 베이스(741)는 상부(740)보다 넓다. 일반적인 형태는 계란형에 해당하지만, 상부 부분(740)과 베이스 ㅂ부분(741)을 분리하는 오목부(719)와 같은 허리부분을 가진다.

상기 실시예에 따르면, 환자의 혀 아래의 공간을 적어도 부분적으로 채우기위한 큰 석션 버퍼가 제공된다. 또한, 그러한 큰 버퍼로, 혀가 가하는 힘에 의해 원하는 펌프 작용이 개선된다.

흡수체(711)는 높은 탄성을 갖는 개방-다공성 폼, 즉 부드러운 개방 폼으로 만들어 진다. 도시된 실시예에 따르면, 상기 폼은 유체를 통과시키기 위해 개방 다공성이며 또한 환자에게 쾌적하고 편안함을 주는 부드러운 메쉬로 덮여있고, 선택적으로 유체를 막기 위해 폐쇄 다공성이다.

도 21은 본 발명의 치아 석션 장치의 다른 실시예를 도시한다.

석션부(703)는 상부(740)를 관통하며, 석션부(703)의 전체에 걸쳐 불균일하게 분포되고 직경이 다른 다수 개의 석션 홀(704a, 704b, 704c)을 형성한다.

바람직하게는, 석션부(703)는 상부(740)의 중심에서 연장된다. 상이한 실시예에서, 흡수체(711)의 일측에서 석션력을 증가시키기 위해 외측으로 연장될 수 있다.

본 실시예에 따르면, 혀 홀더(714)는 제 2 석션 라인(705)의 단부에 배치된다. 흡수체(711)는 제 2 석션 라인(705)과 제 1 석션 라인(702) 사이에 배치되고 복수의 석셜 홀(704)을 가지는 석션부(703)를 포함한다.

화살표 C, D 및 E로부터 표시될 수 있는 바와 같이, 상기 실시예의 모든 부분은 필요에 따라 용이하게 조정되고 구부러질 수 있다. 일반적으로, 제 2 석션 라인(705)은 약 150도 내지 180 도로 구부러지며, 또한 제 1 석션 라인(702)은 여러 번 구부러져있는 것이 바람직하다.

본 발명의 아이디어는 흡수체(703)가 혀밑샘(Glandula Sublingualis)과 턱밑샘(Glandula Submandubularis)에 근접한 입 하부 환자의 혀아래에 가능한한 낮게 배치되고 혀 홀더(711)는 거기서 상부로 연장되어 턱으로부터 상부로 비스듬하게 이격되어 가압하는 것이다.

다른 한편으로, 제 1 석션 라인(702)은 환자의 견치 또는 절치를 가로 질러 입을 떠나, 진공 펌프와 같은 석션원에 부착된다.

이와 같은 구성에 의해, 흡수체(703)는 하방으로 가압되고 혀 홀더(711)는 상방으로 가압된다. 따라서, 환자의 요구에 맞추기 위해, 제 2 석션 라인에서 구부릴 수 있는 특정 부분을 갖는 것이 바람직하다.

다른 실시예가 도 21에 도시된다. 상기 실시예는 석션 라인(702)과 소위 "완전 턱(full jaw)" 흡수체(703)를 포함한다. 상기 흡수체는 본질적으로 U 자형이고 도 21에 도시된지 않은 석션 홀을 갖는 석션부를 구비하며, 혀 아래에 배치되기 위한 것이고 상기 석션 라인(702)은 힌지 영역(725)에서 절곡할 수 있도록 가요성이어서, 상기 본질적으로 U 자형 흡수체는 석션 라인(702)이 좌측 또는 우측에 배치되도록 구강 내로 삽입된다.

도시되지 않은 다른 실시예에서, 추가의 혀 홀더는 흡수체(703)의 단부(726)에 배치된다. 이와같은 형태는 도 20에 배치되고, 제 2 석션 라인이 혀 홀더(714) 및 단부(726) 사이에 제공될 수 있는 형태와 유사할 수 있다.

본 발명은 가장 실용적이고 바람직한 실시예 형태의 이해에 관련하여 설명되었지만, 본 발명은 설명된 실시예들에 한정되지 않으며, 여러 가지 변형 및 수정이 가능하다. 따라서, 발명의 범위는 첨부된 특허 청구 범위에 의해서만 배타적으로 정의된다.

Claims (17)

1. 타액 및 다른 유체의 제거를 위해 배치된 석션 라인(101, 602, 702) 및 흡수체(111, 611, 711)를 포함하고, 상기 석션 라인(101)은 상기 흡수체(111) 내에 배치되고 상기 흡수체와 연통하는 홀 부재(104, 904a-e)를 구비 한 석션부(103)를 포함하여 구성되는 타액 및 다른 유체의 제거를 위한 치아 석션 장치에 있어서,
   상기 석션 라인(101, 602, 702)은 동공의 하부 또는 상기 하부 근처에 상기 흡수체를 위치시키기위한 사전 제작된 형태 및 크기를 가지며, 상기 하부로부터 상방으로 상승된 부분을 따라 연장되고, 고정을 위해 상기 부분을 부분적으로 둘러싸며, 상기 홀 부재(104, 904a-e)는 상기 석션부(103)의 종 방향 범위뿐만 아니라 그 둘레에 분포되며, 상기 흡수체(111, 611, 711)는 원하는 형상으로 변형시키기 위해 탄성 변형 가능하고 적응 가능한 재료로 만들어지는 것을 특징으로 하는 치아 석션 장치.
2. 제 1 항에 있어서, 흡수체의 길이 방향에 수직인 단면도에서 흡수체(111, 611, 711)는 비 원형 및/또는 베이스 및 상부를 갖는 윤곽을 가지며, 상기 베이스는 상기 상부보다 넓고, 및/또는 적어도 하나의 오목부(119) 갖는 윤곽을 가지는 것을 특징으로 하는 치아 석션 장치.
3. 전항중 어느 한 항에 있어서, 상기 흡수체(111, 611, 711)는 바람직하게는 상기 공동 내에 위치될 때 상기 석션 라인으로부터 말단부으로 연장되는 연장부(113, 613)를 포함하고, 상기 연장부(113, 613)는 말단부 방향에서 감소하는 감소된 단면 영역을 갖는 것을 특징으로 하는 치아 석션 장치.
4. 전항중 어느 한 항에 있어서, 상기 흡수체(111, 611, 711)는 연질 변형에 의해 길이 조절 가능하고, 및/또는 흡수체의 폼 본체와 함께 상기 본체가 연장되도록하는 펀치 패턴을 갖는 베이스 본체를 가지는 것을 특징으로 하는 치아 석션 장치.
5. 전항중 어느 한 항에 있어서, 상기 흡수체(111, 611, 711)는 실키 외관을 가진 메쉬로 둘러싸이거나 만들어지거나 부드러운 플로킹에 둘러싸이고, 상기 메쉬 또는 플로킹이 모세관 효과를 가지는 것을 특징으로 하는 치아 석션 장치.
6. 전항중 어느 한 항에 있어서, 상기 다수의 홀은 상이한 크기 및/또는 상이한 형태의 홀(104, 904a-e)을 포함하는 것을 특징으로 하는 치아 석션 장치.
7. 전항중 어느 한 항에 있어서, 제 2 흡수체(618)와의 연결을 위해 주 흡수체(602, 603, 611)로부터 연장되는 제 2 및 조절 가능한 석션 라인(605)을 포함하고, 및/또는 상기 석션 장치가 다수의 흡수체를 포함하고, 상기 석션 라인이 추가의 라인을 포함하여, 각각의 추가의 라인이 각각의 흡수체 내의 석션부와 연결되는 것을 특징으로 하는 치아 석션 장치.
8. 전항중 어느 한 항에 있어서, 상기 석션부(103)는 관련된 흡수체(111)와 함께 바람직하게 상기 석션 튜브(102)의 나머지 부분과 분리 가능하게 연결되고, 바람직하게는 석션 장치가 형상 및/또는 크기에 대해 상이한 실시예에서 석션 라인(102) 및 복수의 흡수체(111, 611, 618, 711) 세트를 포함하는 것을 특징으로 하는 치아 석션 장치.
9. 전항중 어느 한 항에 있어서, 흡수체(111, 611, 711) 및 흡수체를 따라 진행하는 석션 라인(101, 601, 701) 즉, 석션 부(103)는 본질적으로 U 자형이며, 상기 석션 라인(101, 601, 701)은 그 단부에서 흡수체(111, 611, 711)로부터 빠져나오는 것을 특징으로 하는 치아 석션 장치.
10. 전항중 어느 한 항에 있어서, 제 3 부분이 치아 석션 장치의 임의의 부분을 향하여 이동하는 것을 차단하기 위한 적어도 하나의 보호 실드(714)를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 치아 석션 장치.
11. 제 10 항에 있어서, 상기 보호 실드(714) 중 적어도 하나는 상기 석션 라인(102)의 연장부에 배치되고 및/또는 상기 보호 실드(714)중 적어도 하나는 석션 라인(102)의 측부 암(sidearm) 상에 배치되고, 및/또는 각각의 석션부(103) 및 보호 실드(714)가 석션 라인(102)의 나머지 부분과 분리 가능하게 연결되는 것을 특징으로 하는 치아 석션 장치.
12. 제 10 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 석션 장치는 형상 및/또는 크기와 관련하여 다르게 수행되는 석션 라인(102) 및 다수의 흡수체(111, 611, 711) 세트 및 형상 및/또는 크기와 관련하여 다른 실시예에서 다수의 보호 실드(714)의 세트를 포함하는 것을 특징으로 하는 치아 석션 장치.
13. 전항중 어느 한 항에 있어서, 상기 보호 실드(714)는 조절 가능하고 특히 구부릴 수 있고 및/또는 적어도 하나의 힌지 및/또는 적어도 하나의 소정의 파단점을 갖는 것을 특징으로 하는 치아 석션 장치.
14. 전항중 어느 한 항에 있어서, 상기 흡수체(711)의 말단에 있는 제 2 석션 라인(705) 상에 보호 실드(714)가 장착되고, 제 2 석션 라인(705)은 상기 흡수체를 따라 연장되며, 사용자를 고려하여 상기 보호 실드(714)의 임의의 정렬을 위해 조정 가능한 것을 특징으로 하는 치아 석션 장치.
15. 전항중 어느 한 항에 있어서, 보호 쉴드(714)는 광 경화 실드를 형성하고, 오렌지색 아크릴 재료로 만들어지는 것을 특징으로 하는 치아 석션 장치.
16. 전항중 어느 한 항에 있어서, 보호 쉴드(714)는 상기 석션 라인(705)의 연장부로 연장되는 편평하고 긴 형태를 가지며 및/또는 그 연장된 형태로부터 측 방향으로 연장되는 돌출부를 구비하는 것을 특징으로 하는 치아 석션 장치.
17. 전항중 어느 한 항에 있어서, 상기 공동은 구강이고, 상기 상승된 부분은 하부 턱이고, 상기 보호 실드는 혀 보호수단이며 및/또는 상기 제 2 흡수체(618)는 타액 분비 덕트에 위치되도록 배치되고 및/또는 상기 하부는 혀와 입의 하부 사이의 영역인 것을 특징으로 하는 치아 석션 장치.

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