KR20170125317A - 투명 도전막이 형성된 유리 기판 및 그 제조 방법 - Google Patents

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KR20170125317A
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마사노리 와다
겐 가시와다니
도루 히라오
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니폰 덴키 가라스 가부시키가이샤
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Abstract

하지 유리층 상에 형성된 투명 도전막을 레이저로 패터닝할 때, 투명 도전막 또는 하지 유리층에 변색이나 손상이 발생하는 것을 억제할 수 있는 투명 도전막이 형성된 유리 기판 및 그 제조 방법을 제공한다.
유리 기판과, 유리 기판 상에 형성되는 하지 유리층과, 하지 유리층 상에 형성되고, 레이저에 의해 패터닝된 투명 도전막 (3) 을 구비하는 투명 도전막이 형성된 유리 기판 (6) 으로서, 하지 유리층은, 레이저의 파장에 있어서, 투명 도전막 (3) 의 흡수율보다 작고, 또한 유리 기판의 흡수율보다 큰 흡수율을 갖고 있고, 레이저에 의해 패터닝되어 투명 도전막 (3) 의 일부가 제거된 패터닝 영역 (10) 은, 제 1 선상 부분 (11) 과, 제 2 선상 부분 (12) 과, 제 1 선상 부분 (11) 과 제 2 선상 부분 (12) 을 접속하는 접속 부분 (13) 을 갖고, 제 1 선상 부분 (11) 과 제 2 선상 부분 (12) 이 이루는 각도가 120 °이하이고, 접속 부분 (13) 의 곡률 반경이 0.5 ㎜ 이상인 것을 특징으로 하고 있다.

Description

투명 도전막이 형성된 유리 기판 및 그 제조 방법{TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM-EQUIPPED GLASS SUBSTRATE AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME}
본 발명은, 투명 도전막이 형성된 유리 기판 및 그 제조 방법에 관한 것이다.
플라즈마 디스플레이나 일렉트로루미네선스 소자 등에 있어서, 전극으로서 사용하는 투명 도전막을, 유리 기판 등의 투명 기판 상에 형성하고, 투명 도전막을 레이저로 패터닝하는 것이 알려져 있다 (특허문헌 1 및 특허문헌 2).
유기 일렉트로루미네선스 소자 등에 있어서는, 광의 취출 효율을 높이기 위하여, 유리 기판과 투명 도전막 사이에, 유리 기판보다 굴절률이 높은 하지 유리층이 형성되는 경우가 있다.
일본 공개특허공보 2007-207554호 일본 공개특허공보 2006-267834호
본 발명자들은, 하지 유리층을 형성한 경우, 레이저로 투명 도전막을 패터닝할 때, 투명 도전막 또는 하지 유리층에 변색이나 손상이 발생하기 쉽다는 과제를 알아냈다.
본 발명의 목적은, 하지 유리층 상에 형성된 투명 도전막을 레이저로 패터닝할 때, 투명 도전막 또는 하지 유리층에 변색이나 손상이 발생하는 것을 억제할 수 있는 투명 도전막이 형성된 유리 기판 및 그 제조 방법을 제공하는 것에 있다.
본 발명의 투명 도전막이 형성된 유리 기판은, 유리 기판과, 유리 기판 상에 형성되는 하지 유리층과, 하지 유리층 상에 형성되고, 레이저에 의해 패터닝된 투명 도전막을 구비하는 투명 도전막이 형성된 유리 기판으로서, 하지 유리층은, 레이저의 파장에 있어서, 투명 도전막의 흡수율보다 작고, 또한 유리 기판의 흡수율보다 큰 흡수율을 갖고 있고, 레이저에 의해 패터닝되어 투명 도전막의 일부가 제거된 패터닝 영역은, 제 1 선상 (線狀) 부분과, 제 2 선상 부분과, 제 1 선상 부분과 제 2 선상 부분을 접속하는 접속 부분을 갖고, 제 1 선상 부분과 제 2 선상 부분이 이루는 각도가 120 °이하이고, 접속 부분의 곡률 반경이 0.5 ㎜ 이상인 것을 특징으로 하고 있다.
하지 유리층으로는, 비스무트계 유리를 포함하는 것을 들 수 있다.
하지 유리층으로는, 유리 기판의 굴절률보다 높은 굴절률을 갖는 것을 들 수 있다.
레이저로는, 예를 들어 펨토 초 레이저를 사용할 수 있다.
하지 유리층이 형성되어 있는 유리 기판의 표면에는 요철이 형성되어 있는 것이 바람직하다.
본 발명의 투명 도전막이 형성된 유리 기판은, 예를 들어, 유기 일렉트로루미네선스 소자용 유리 기판으로서 사용된다.
본 발명의 제조 방법은, 상기 본 발명의 투명 도전막이 형성된 유리 기판을 제조할 수 있는 방법으로서, 패터닝이 이루어지기 전의 투명 도전막이 하지 유리층 상에 형성된 유리 기판을 제조하는 공정과, 제 1 선상 부분, 접속 부분, 및 제 2 선상 부분의 순서 또는 이 반대 순서로 레이저를 주사하여, 투명 도전막에 레이저를 조사하고, 패터닝 영역을 형성하는 공정을 구비하는 것을 특징으로 하고 있다.
본 발명에 의하면, 하지 유리층 상에 형성된 투명 도전막을 레이저로 패터닝할 때, 투명 도전막 또는 하지 유리층에 변색이나 손상이 발생하는 것을 억제할 수 있다.
도 1 은, 본 발명의 일 실시형태의 투명 도전막이 형성된 유리 기판을 나타내는 모식적 단면도이다.
도 2 는, 본 발명의 일 실시형태의 투명 도전막이 형성된 유리 기판을 나타내는 모식적 평면도이다.
도 3 은, 도 2 에 나타내는 제 1 선상 부분, 제 2 선상 부분, 및 접속 부분을 확대하여 나타내는 모식적 평면도이다.
도 4 는, 비교예에 있어서의 제 1 선상 부분, 제 2 선상 부분, 및 접속 부분을 확대하여 나타내는 모식적 평면도이다.
이하, 바람직한 실시형태에 대하여 설명한다. 단, 이하의 실시형태는 단순한 예시이며, 본 발명은 이하의 실시형태에 한정되는 것은 아니다. 또, 각 도면에 있어서, 실질적으로 동일한 기능을 갖는 부재는 동일한 부호로 참조하는 경우가 있다.
도 1 은, 본 발명의 일 실시형태의 투명 도전막이 형성된 유리 기판을 나타내는 모식적 단면도이다. 도 2 는, 본 발명의 일 실시형태의 투명 도전막이 형성된 유리 기판을 나타내는 모식적 평면도이다. 도 1 은, 도 2 에 나타내는 I-I 선을 따르는 모식적 단면도이다. 도 1 에 나타내는 바와 같이, 본 실시형태의 투명 도전막이 형성된 유리 기판 (6) 은, 유리 기판 (1) 과, 유리 기판 (1) 의 주면 (1a) 상에 형성되는 하지 유리층 (2) 과, 하지 유리층 (2) 의 주면 (2a) 상에 형성되는 투명 도전막 (3) 을 구비하고 있다. 유리 기판 (1) 의 주면 (1a) 에는 요철이 형성되어 있다. 따라서, 하지 유리층 (2) 은, 요철이 형성된 주면 (1a) 상에 형성되어 있다.
투명 도전막 (3) 에는, 레이저에 의해 패터닝되어 투명 도전막 (3) 의 일부가 제거된 패터닝 영역 (10) 이 형성되어 있다. 투명 도전막 (3) 은, 패터닝 영역 (10) 에 의해 제 1 전극 (4) 과 제 2 전극 (5) 으로 분할되어 있다.
본 실시형태의 투명 도전막이 형성된 유리 기판 (6) 은, 예를 들어, 유기 일렉트로루미네선스 소자용 유리 기판으로서 사용할 수 있다. 유기 일렉트로루미네선스 소자용 유리 기판으로서 사용하는 경우, 투명 도전막이 형성된 유리 기판 (6) 상에는 유기 일렉트로루미네선스층이 형성된다. 유기 일렉트로루미네선스층이 발광하여, 유기 일렉트로루미네선스층으로부터 출사된 광은, 투명 도전막 (3) 및 유리 기판 (1) 을 통과하여, 외부로 취출된다. 하지 유리층 (2) 은, 유기 일렉트로루미네선스층으로부터 출사된 광의 취출 효율을 높이기 위하여, 투명 도전막 (3) 과 유리 기판 (1) 사이에 형성되어 있다.
즉, 일반적으로, 유기 일렉트로루미네선스층의 굴절률 (nd) 은 1.8 ∼ 1.9 정도이고, 투명 도전막 (3) 의 굴절률 (nd) 은 1.9 ∼ 2.0 정도이고, 유리 기판 (1) 의 굴절률 (nd) 은 통상적으로 1.5 정도이다. 이 때문에, 하지 유리층 (2) 이 형성되어 있지 않은 경우, 유리 기판 (1) 과 투명 도전막 (3) 의 굴절률차가 크기 때문에, 유리 기판 (1) 과 투명 도전막 (3) 의 계면에서 유기 일렉트로루미네선스층으로부터의 광이 반사되어, 광을 효율적으로 외부로 취출할 수 없다.
본 실시형태와 같이, 유리 기판 (1) 과 투명 도전막 (3) 사이에 하지 유리층 (2) 을 형성하고, 하지 유리층 (2) 의 굴절률 (nd) 을, 투명 도전막 (3) 의 굴절률 (nd) 에 가깝게 함으로써, 상기 광 반사를 억제할 수 있고, 광을 효율적으로 외부로 취출할 수 있다. 따라서, 하지 유리층 (2) 은, 일반적으로, 유리 기판 (1) 보다 높은 굴절률 (nd), 예를 들어 1.8 ∼ 2.2 를 갖는 유리로 형성된다. 이와 같은 유리로는, 비스무트계 유리를 들 수 있다. 비스무트계 유리로는, 유리 조성으로서 Bi2O3 을 10 몰％ 이상 함유하는 유리를 들 수 있다.
비스무트계 유리의 구체적인 조성으로는, 몰％ 표시로, Bi2O3 10 ∼ 35 ％, B2O3 20 ∼ 35 ％, SiO2 5 초과 ∼ 35 ％, Al2O3 0 ∼ 10 ％, ZnO 0 ∼ 10 ％, ZrO2 1 ∼ 8 ％ 를 함유하는 유리, 및 몰％ 표시로, Bi2O3 10 ∼ 35 ％, B2O3 20 ∼ 35 ％, SiO2 ＋ Al2O3 21 ∼ 45 ％, ZnO 0 ∼ 10 ％, ZrO2 0.1 ∼ 10 ％ 를 함유하는 유리 등을 들 수 있다. 여기서 「SiO2 ＋ Al2O3」이란, SiO2 와 Al2O3 의 함유량의 합계를 의미한다.
또, 본 실시형태와 같이, 유리 기판 (1) 의 주면 (1a) 에 요철을 형성함으로써, 하지 유리층 (2) 과 유리 기판 (1) 의 계면에서의 광의 반사를 저감시킬 수 있어, 더욱 효율적으로 광을 외부로 취출할 수 있다. 주면 (1a) 에 요철이 형성된 유리 기판 (1) 은, 예를 들어, 평탄한 표면을 갖는 유리판에 대하여, 샌드블라스트법, 졸겔 스프레이법, 에칭법 등의 방법을 실시함으로써 제조할 수 있다. 혹은 표면에 요철이 형성된 금형으로 유리판을 프레스 성형하거나, 표면에 요철이 형성된 롤로 용융 유리를 롤 성판 (成板) 하거나 함으로써 제조할 수도 있다.
주면 (1a) 의 표면 조도 (Ra) 는, 예를 들어 0.05 ∼ 2 ㎛ 의 범위로 하는 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 0.05 ∼ 1.5 ㎛ 의 범위이다. 주면 (1a) 의 표면 조도 (Ra) 가 지나치게 작으면, 충분한 광 취출 효율이 얻어지지 않는 경우가 있다. 또, 주면 (1a) 의 표면 조도 (Ra) 가 지나치게 크면, 충분한 광 취출 효율이 얻어지지 않음과 함께, 하지 유리층 (2) 의 두께를 필요 이상으로 두껍게 해야 하는 경우가 있다.
투명 도전막 (3) 으로는, 예를 들어, 인듐주석 산화물 (ITO), 알루미늄아연 산화물 (AZO), 인듐아연 산화물 (IZO), 불소를 도프한 주석 산화물 (FTO) 등의 도전성을 갖는 복합 산화물 박막을 사용할 수 있다. 특히, 인듐주석 산화물이 바람직하게 사용된다.
유리 기판 (1) 으로는, 특별히 한정되는 것은 아니며, 광의 취출 효율이 저감되지 않는 것이면 된다.
본 발명에 있어서는, 투명 도전막 (3) 을 레이저로 패터닝함으로써, 투명 도전막 (3) 의 일부를 제거하여, 패터닝 영역 (10) 을 형성한다. 레이저로는, 그 파장에 있어서의 투명 도전막 (3) 의 흡수율이 큰 레이저가 사용된다. 예를 들어, ITO 막의 경우, 1000 ㎚ 이상의 파장에 있어서 흡수율이 커진다. 이 때문에, 1000 ㎚ 이상의 파장의 레이저를 사용하여 패터닝함으로써, ITO 막을 레이저 조사로 제거하여 패터닝 영역 (10) 을 형성할 수 있다.
상기 서술한 바와 같이, 본 발명자들은, 투명 도전막 (3) 을 레이저로 패터닝하여, 투명 도전막 (3) 의 일부를 레이저 조사로 제거할 때, 투명 도전막 (3) 또는 하지 유리층 (2) 에 변색이나 손상을 발생시키는 경우가 있는 것을 알아냈다. 특히, 레이저의 주사 방향이 수직 방향으로 변화되는 코너부에 있어서, 이와 같은 변색이나 손상이 발생하기 쉬운 것을 알아냈다. 이 원인에 대하여 검토한 결과, 레이저의 주사 방향이 수직 방향으로 변화될 때, 주사 속도가 감소하고, 레이저의 조사 시간이 상대적으로 길어지기 때문에, 그 부분에 있어서 열이 축적되어, 변색이나 손상이 발생하고 있는 것을 알 수 있었다. 또, 레이저의 파장에 있어서, 하지 유리층 (2) 도 큰 흡수율을 갖기 때문에, 이와 같은 현상이 발생하고 있는 것을 알 수 있었다.
따라서, 본 발명에 있어서, 하지 유리층 (2) 은, 레이저의 파장에 있어서, 투명 도전막 (3) 의 흡수율보다 작고, 또한 유리 기판 (1) 의 흡수율보다 큰 흡수율을 갖고 있다. 레이저의 파장에 있어서의 하지 유리층 (2) 의 흡수율은, 투명 도전막 (3) 의 흡수율의 10 ∼ 60 ％ 의 범위인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 10 ∼ 30 ％ 의 범위 내이다.
레이저의 파장은, 투명 도전막 (3) 이 그 파장에 있어서 큰 흡수율을 갖는 것이면 특별히 한정되지 않는다. 레이저의 파장은, 예를 들어 1000 ㎚ 이상인 것이 바람직하고, 1300 ㎚ 이상인 것이 보다 바람직하고, 1500 ㎚ 이상인 것이 더욱 바람직하다. 레이저의 파장의 상한값은, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 레이저의 파장은 2000 ㎚ 이하인 것이 일반적이다.
레이저는, 10 피코 초 이하의 펄스 레이저인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1 피코 초 이하의 초단펄스 레이저이고, 특히 바람직하게는 펨토 초 레이저이다. 이와 같은 펄스 폭이 작은 레이저를 사용함으로써, 다광자 흡수 현상을 발생시키고, 주변 부분에 열을 확산시키지 않고 패터닝할 수 있다.
레이저의 스폿 직경은, 패터닝 영역의 폭의 20 ％ ∼ 100 ％ 의 범위 내인 것이 바람직하고, 50 ％ ∼ 100 ％ 의 범위 내인 것이 더욱 바람직하다.
또한, 레이저는, 일반적으로 투명 도전막 (3) 의 두께 방향 (z 방향) 으로, 투명 도전막 (3) 측으로부터 조사된다.
도 2 는, 본 발명의 일 실시형태의 투명 도전막이 형성된 유리 기판을 나타내는 모식적 평면도이다. 도 2 에 나타내는 투명 도전막이 형성된 유리 기판 (6) 은, 유기 일렉트로루미네선스 소자 1 개분의 투명 도전막 (3) 의 패터닝 회로를 나타내고 있다. 도 2 에 나타내는 투명 도전막이 형성된 유리 기판 (6) 은, 인접하여 다른 유기 일렉트로루미네선스 소자가 형성되어 있는 마더 유리 기판 중 1 개의 유리 기판이다.
도 2 에 나타내는 바와 같이, 직선상의 패터닝 영역 (30 및 40) 이 x 방향으로 연장되도록 형성되어 있고, 이들 패터닝 영역 (30 및 40) 과 직교하는 y 방향으로 연장되도록 직선상의 패터닝 영역 (50 및 60) 이 형성되어 있다. 이들 패터닝 영역 (30, 40, 50 및 60) 에 의해, 투명 도전막 (3) 은, 인접하는 소자의 투명 도전막과 분할되어 있다.
투명 도전막 (3) 에는, 도 1 에 나타내는 패터닝 영역 (10) 이 형성되어 있다. 패터닝 영역 (10) 에 의해, 투명 도전막 (3) 이 분할되고, 제 1 전극 (4) 및 제 2 전극 (5) 이 형성되어 있다. 예를 들어, 제 1 전극 (4) 을 양극, 제 2 전극 (5) 을 음극으로서 사용할 수 있다. 제 2 전극은, 유기 일렉트로루미네선스층 상에 형성되는 전자 주입 전극과 접속할 수 있다.
도 2 에 나타내는 바와 같이, 패터닝 영역 (10) 은, x 방향으로 연장되는 제 1 선상 부분 (11) 과 y 방향으로 연장되는 제 2 선상 부분 (12) 을 갖는다. 제 1 선상 부분 (11) 과 제 2 선상 부분 (12) 은, 접속 부분 (13) 에 의해 접속되어 있다. 또, 패터닝 영역 (10) 은, y 방향으로 연장되는 제 2 선상 부분 (14) 을 갖고, 제 2 선상 부분 (14) 과 제 1 선상 부분 (11) 은, 접속 부분 (15) 에 의해 접속되어 있다.
또, 패터닝 영역 (10) 은, x 방향으로 연장되는 제 1 선상 부분 (16) 을 갖고, 제 1 선상 부분 (16) 과 제 2 선상 부분 (12) 은, 접속 부분 (17) 에 의해 접속되어 있다. 또, 패터닝 영역 (10) 은, x 방향으로 연장되는 제 1 선상 부분 (18) 을 갖고, 제 1 선상 부분 (18) 과 제 2 선상 부분 (14) 은, 접속 부분 (19) 에 의해 접속되어 있다.
또, 패터닝 영역 (10) 은, y 방향으로 연장되는 제 2 선상 부분 (21) 을 갖고, 제 2 선상 부분 (21) 과 제 1 선상 부분 (16) 은, 접속 부분 (22) 에 의해 접속되어 있다. 또, 패터닝 영역 (10) 은, y 방향으로 연장되는 제 2 선상 부분 (23) 을 갖고, 제 2 선상 부분 (23) 과 제 1 선상 부분 (18) 은, 접속 부분 (24) 에 의해 접속되어 있다.
도 3 은, 도 2 에 나타내는 제 1 선상 부분 (11), 제 2 선상 부분 (12), 및 접속 부분 (13) 을 확대하여 나타내는 모식적 평면도이다. 도 3 에 나타내는 바와 같이, 제 1 선상 부분 (11) 과 제 2 선상 부분 (12) 은, 그것들이 이루는 각도가 θ 가 되도록 형성되어 있다. 본 실시형태에 있어서, 각도 θ 는 90 °이다. 본 발명은 이것에 한정되는 것은 아니며, 제 1 선상 부분 (11) 과 제 2 선상 부분 (12) 이 이루는 각도 θ 는 120 °이하이면 된다. 제 1 선상 부분 (11) 과 제 2 선상 부분 (12) 이 이루는 각도 θ 는, 바람직하게는 80 °∼ 100 °의 범위 내이다.
제 1 선상 부분 (11) 과 제 2 선상 부분 (12) 을 접속하는 접속 부분 (13) 은, 본 실시형태에 있어서 원호상으로 형성되어 있다. 본 발명에 있어서, 접속 부분 (13) 의 곡률 반경은 0.5 ㎜ 이상이다. 접속 부분 (13) 의 곡률 반경은, 바람직하게는 1.0 ㎜ 이상이다. 접속 부분 (13) 의 곡률 반경을 이와 같은 범위로 함으로써, 투명 도전막 (3) 또는 하지 유리층 (2) 에 변색이나 손상을 발생시키는 것을 보다 효과적으로 억제할 수 있다. 접속 부분 (13) 의 곡률 반경이 지나치게 커지면, 패터닝 영역의 형성이 곤란해지는 경우가 있다. 따라서, 접속 부분 (13) 의 곡률 반경은, 5.0 ㎜ 이하인 것이 바람직하고, 3.0 ㎜ 이하인 것이 더욱 바람직하다.
도 4 는, 비교예에 있어서의 제 1 선상 부분 (11), 제 2 선상 부분 (12), 및 접속 부분 (34) 을 확대하여 나타내는 모식적 평면도이다. 도 4 에 나타내는 비교예에서는, 제 1 선상 부분 (11) 과 제 2 선상 부분 (12) 을 접속하는 접속 부분 (34) 이, 곡률 반경 0.5 ㎜ 이상의 원호상으로 형성되어 있지 않다. 이와 같은 경우, 제 1 선상 부분 (11), 접속 부분 (34) 및 제 2 선상 부분 (12) 의 순서, 혹은 제 2 선상 부분 (12), 접속 부분 (34) 및 제 1 선상 부분 (11) 의 순서로 레이저가 주사되었을 때, 접속 부분 (34) 에서 레이저가 x 방향 및 y 방향 중 어느 쪽으로도 이동하지 않는 순간이 생긴다. 이 때문에, 레이저가 긴 시간 정체하는 지점이 생기고, 그 부분에 있어서 열이 축적되어, 투명 도전막 (3) 또는 하지 유리층 (2) 에 변색이나 손상이 발생한다.
이것에 대하여, 도 3 에 나타내는 바와 같이, 접속 부분 (13) 이, 곡률 반경 0.5 ㎜ 이상의 원호상으로 형성되어 있는 경우, 항상 x 방향 및 y 방향 중 적어도 어느 방향으로 레이저가 이동하면서 접속 부분 (13) 을 통과하기 때문에, 레이저가 긴 시간 정체하는 지점을 발생시키지 않는다. 이 때문에, 투명 도전막 (3) 또는 하지 유리층 (2) 에 변색이나 손상을 발생시키는 것을 억제할 수 있다.
도 3 및 도 4 를 참조하여 접속 부분 (13) 에 대하여 설명했지만, 도 2 에 나타내는 접속 부분 (15, 17, 19, 22 및 24) 에 대해서도, 접속 부분 (13) 과 동일하게 곡률 반경 0.5 ㎜ 이상의 원호상으로 형성함으로써, 이들 부분에 있어서, 투명 도전막 (3) 또는 하지 유리층 (2) 에 변색이나 손상을 발생시키는 것을 억제할 수 있다.
도 2 에 있어서는, x 방향으로 연장되는 선상 부분을 제 1 선상 부분, y 방향으로 연장되는 선상 부분을 제 2 선상 부분으로 하여 설명했지만, 본 발명은 이것에 한정되는 것은 아니다. y 방향으로 연장되는 선상 부분을 제 1 선상 부분, x 방향으로 연장되는 선상 부분을 제 2 선상 부분으로 해도 된다.
1 : 유리 기판
1a : 주면
2 : 하지 유리층
2a : 주면
3 : 투명 도전막
4 : 제 1 전극
5 : 제 2 전극
6 : 투명 도전막이 형성된 유리 기판
10, 30, 40, 50, 60 : 패터닝 영역
11, 16, 18 : 제 1 선상 부분
12, 14, 21, 23 : 제 2 선상 부분
13, 15, 17, 19, 22, 24, 34 : 접속 부분

Claims (7)

  1. 유리 기판과, 상기 유리 기판 상에 형성되는 하지 유리층과, 상기 하지 유리층 상에 형성되고 레이저에 의해 패터닝된 투명 도전막을 구비하는 투명 도전막이 형성된 유리 기판으로서,
    상기 하지 유리층은, 상기 레이저의 파장에 있어서, 상기 투명 도전막의 흡수율보다 작고 또한 상기 유리 기판의 흡수율보다 큰 흡수율을 갖고 있고,
    상기 레이저에 의해 패터닝되어 상기 투명 도전막의 일부가 제거된 패터닝 영역은, 제 1 선상 부분과, 제 2 선상 부분과, 상기 제 1 선상 부분과 상기 제 2 선상 부분을 접속하는 접속 부분을 갖고, 상기 제 1 선상 부분과 상기 제 2 선상 부분이 이루는 각도가 120 °이하이고, 상기 접속 부분의 곡률 반경이 0.5 ㎜ 이상인, 투명 도전막이 형성된 유리 기판.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 하지 유리층은 비스무트계 유리를 포함하는, 투명 도전막이 형성된 유리 기판.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 하지 유리층은 상기 유리 기판의 굴절률보다 높은 굴절률을 갖는, 투명 도전막이 형성된 유리 기판.
  4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 레이저가 펨토 초 레이저인, 투명 도전막이 형성된 유리 기판.
  5. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 하지 유리층이 형성되어 있는 상기 유리 기판의 표면에 요철이 형성되어 있는, 투명 도전막이 형성된 유리 기판.
  6. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
    유기 일렉트로루미네선스 소자용 유리 기판인, 투명 도전막이 형성된 유리 기판.
  7. 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 기재된 투명 도전막이 형성된 유리 기판을 제조하는 방법으로서,
    상기 패터닝이 이루어지기 전의 상기 투명 도전막이 상기 하지 유리층 상에 형성된 상기 유리 기판을 제조하는 공정과,
    상기 제 1 선상 부분, 상기 접속 부분, 및 상기 제 2 선상 부분의 순서 또는 이 반대 순서로 상기 레이저를 주사하여, 상기 투명 도전막에 상기 레이저를 조사하고, 상기 패터닝 영역을 형성하는 공정을 구비하는, 투명 도전막이 형성된 유리 기판의 제조 방법.
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