KR20130092022A - 레이저를 이용한 숄더 제거장치 및 제거방법 - Google Patents

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Abstract

레이저를 이용한 숄더 제거장치 및 제거방법이 개시된다. 본 발명의 일 측면에 따른 레이저를 이용한 숄더 제거장치는, 레이저빔을 생성하는 레이저 광원, 레이저빔을 라인빔 형태로 변경하는 광학계, 레이저빔을 스캔하기 위한 이동수단을 포함한다. 레이저빔은, 유리 또는 고분자 물질로 이루어지는 기판 상에 형성되고 패턴이 형성된 메탈레이어에 조사되어 숄더를 제거하는 하고, 패턴이 손상되지 않을 정도의 에너지 밀도를 갖는다.

Description

레이저를 이용한 숄더 제거장치 및 제거방법{SHOULDER REMOVING DEVICE AND METHOD USING LASER}
본 발명은 레이저를 이용한 숄더 제거장치 및 제거방법에 관한 것으로서, 구체적으로는 메탈 레이어의 패턴 부분에 형성된 숄더를 레이저를 이용하여 제거하는 숄더 제거장치 및 제거방법에 관한 것이다.
메탈, 절연막, 유기막 또는 투명 전도막(transparent conductive oxide) 등과 같은 박막(thin film)의 패턴 형성 및 제거는 일반적으로 포토 리소그라피(photo lithography) 공정을 통해서 포토 레지스트(photo resist) 코팅, 노광, 현상, 건식 또는 습식 에칭(wet or dry etching) 및 박리의 순서를 통해서 이루어지게 된다. 그러나 플랫 패널 디스플레이(Flat Panel Display) 공정의 경우 기판의 크기가 증가하면서 시설 투자비와 기판 시설 비용이 급격하게 증가하고 있으며, 에칭 과정에서 발생하는 화학물질의 중화 처리 및 환경 오염 문제로 인해 레이저를 이용한 박막 제거 기술이 계발되고 있는 추세에 있다.
레이저를 이용하여 메탈 레이어(metal layer)를 선택적으로 패터닝(patterning) 하는 과정에서, 메탈 레이어를 선택적으로 승화시켜 제거하기 위해서 일정 이상의 열에너지를 갖는 레이저를 메탈 레이어에 조사하게 된다. 이때, 레이저에 의해 메탈이 승화되면서 패턴 영역으로 올라가서 돌출된 숄더(shoulder)가 형성된다.
도 1은 레이저 다이렉트 어블레이션(LDA)에 의한 패턴 형성시 발생하는 경계면의 숄더(16)에 대한 확대 사진이고, 도 2는 도 1의 숄더(16)를 예시하는 단면도이다. 그리고 도 3은 숄더(16)의 시인성을 예시하는 확대 사진이다.
도 1 내지 도 2를 참조하면, 기판 상에 적층된 메탈이 레이저에 의해 열적으로 승화되어 제거됨으로써, 패턴 영역(12)과 비패턴 영역(14)이 형성된다. 이때, 레이저를 이용한 제거 과정에서 비패턴 영역(14)에 있던 메탈이 승화되면서 패턴 영역(12)의 경계 부분에 올라가서 숄더(16)를 형성하게 됨을 알 수 있다.
이와 같이 형성된 숄더(16)는 들뜬 상태이기 때문에 도 3에서와 같이 시인성의 문제가 발생하게 되고, 추후 라미네이션(lamination) 공정 또는 압력이 가해지는 경우 떨어져 나가게 되어 이물질(debris)을 발생시키는 문제점을 유발한다. 따라서 표시장치(display)의 시인성을 높이고 추후 공정에서 이물질이 발생하는 것을 방지하기 위해서, 숄더(16)를 제거 해야 할 필요성이 있다.
숄더(16)를 제거하기 위한 종래의 기술로는 대한민국 공개특허 제2000-0059973호 "플라즈마 디스플레이 패널의 표시전극 제조방법"이 있다. 상기 선행기술에는 레이저를 이용하여 표시전극을 형성하고, 표시전극을 형성하는 과정에서 발생하는 숄더는 에칭액을 이용하여 제거하는 방법이 개시되어 있다.
그러나 상기 선행기술과 같이 습식 에칭(wet etching)을 이용하여 숄더를 제거하는 방법은, 화학물질을 사용하기 때문에 환경 오염을 유발하고, 에칭액의 분사 및 세정 과정을 거쳐야 하기 때문에 공정이 복잡할 뿐만 아니라 작업 시간이 오래 소요되는 문제점이 있다. 또한, 습식 에칭에 의해 숄더를 제거하는 상기 선행기술과 같은 종래의 숄더 제거 방법은 에칭액의 분사 압력 및 분사 온도를 조절해야 하고, 에칭액의 분사로 인해 저항이 변화하는 문제점도 유발한다.
따라서 본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위해 도출된 것으로서, 종래의 습식 에칭 방법에 의해 숄더를 제거하는 과정에서 발생하는 비용 및 공정시간 상승 그리고 환경 오염의 문제를 해결할 수 있는 숄더 제거장치 및 제거방법을 제공하고자 한다.
또한, 본 발명은 패턴영역과 비패턴영역의 경계 부분에서 발생하는 색상차를 줄여서 시인성을 향상하고, 추후 공정시 발생하는 이물질을 감소시킬 수 있는 숄더 제거장치 및 제거방법을 제공하고자 한다.
본 발명의 다른 목적들은 이하에 서술되는 실시예를 통하여 더욱 명확해질 것이다.
본 발명의 일 측면에 따른 레이저를 이용한 숄더 제거장치는, 레이저빔을 생성하는 레이저 광원, 레이저빔을 라인빔 형태로 변경하는 광학계, 레이저빔을 스캔하기 위한 이동수단을 포함한다. 레이저빔은, 유리 또는 고분자 물질로 이루어지는 기판 상에 형성되고 패턴이 형성된 메탈레이어에 조사되어 숄더를 제거하는 하고, 패턴이 손상되지 않을 정도의 에너지 밀도를 갖는다.
본 발명에 따른 레이저를 이용한 숄더 제거장치는 다음과 같은 실시예들을 하나 또는 그 이상 구비할 수 있다. 예를 들면, 메탈레이어는, ITO(Indium-Tin Oxide), FTO(Fluorine-doped tin oxide), ATO, ZnO(Zinc Oxide), SnO2(Tin Oxide), 탄소나노튜브(CNT) 및 그래핀(Graphene) 중에서 선택된 하나에 의해 형성될 수 있다.
메탈레이어의 패턴은 레이저 패터닝에 의해 형성된 것이고, 레이저빔은 패턴이 레이저에 의해 제거될 때의 에너지 밀도에 비해 낮은 에너지 밀도를 가질 수 있다.
메탈레이어의 패턴은 플라즈마 에칭에 의해 형성될 수 있다.
레이저광원은, DPSS(Diode Pumped Solid State) 레이저, 광섬유 레이저 또는 LD(Laser Diode) 중 어느 하나일 수 있다.
본 발명의 일 측면에 따른 레이저를 이용한 숄더 제거장치는, 레이저 패터닝 또는 플라즈마 에칭에 의해 패턴이 형성된 메탈레이어를 갖는 기판을 제공하는 단계 및 라인빔 형태의 레이저빔을 스캐닝하여 메탈레이어에 형성된 숄더를 제거하는 단계를 포함한다. 그리고 레이저빔은 패턴이 손상되지 않을 정도의 에너지 밀도를 갖는다.
본 발명에 따른 레이저를 이용한 숄더 제거방법은 다음과 같은 실시예들을 구비할 수 있다. 예를 들면, 기판은 고분자 물질 또는 글라스에 의해 형성될 수 있다.
본 발명은 레이저를 이용하여 숄더를 제거하기 때문에, 작업 시간 및 비용을 줄일 수 있으며 환경 오염을 유발하지 않는 숄더 제거장치 및 제거방법을 제공할 수 있다.
또한, 본 발명은 숄더를 제거함으로써 경계 부분에서 발생하는 색상차를 줄여서 시인성을 향상하고 추후 공정시 발생하는 이물질을 줄여서 품질 향상 및 불량 감소의 효과를 갖는다.
또한, 본 발명은 레이저 스캐닝에 의한 어닐링 효과로 인해 투과율의 상승 및 저항 감소로 인해 표시 품질을 향상할 수 있다.
도 1은 레이저 다이렉트 어블레이션(LDA)에 의한 패턴 형성시 발생하는 경계면의 숄더에 대한 확대 사진.
도 2는 도 1의 숄더를 예시하는 단면도.
도 3은 숄더의 시인성을 예시하는 확대 사진.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 레이저를 이용한 숄더 제거장치에 대한 도면.
도 5는 PET 기판 상에 ITO에 의해 형성된 메탈 레이어에 레이저를 이용하여 패터닝한 상태에 대한 확대 사진.
도 6a 내지 도 6c는 도 5의 메탈 레이어를 오븐을 이용하여 각각의 조건에서 숄더를 제거한 상태에 대한 확대 사진.
도 7a 내지 도 7d는 도 5의 메탈 레이어를 습식 에칭에 의해 각각의 조건에서 숄더를 제거한 상태에 대한 확대 사진.
도 8a 내지 도 8d는 도 5의 메탈 레이어를 본 실시예에 따른 숄더 제거장치를 이용하여 각각의 조건에서 숄더를 제거한 상태에 대한 확대 사진.
도 9a 내지 도 9b는 글라스 기판 상에 ITO에 의해 형성된 메탈 레이어에 레이저를 이용하여 패터닝한 상태에 대한 프로파일 그래프.
도 10a 내지 도 10b는 도 9a 내지 도 9b의 메탈 레이어를 본 발명의 일 실시예에 따른 숄더 제거장치를 이용하여 각각의 조건에서 숄더를 제거한 상태에 대한 프로파일 그래프.
본 발명은 다양한 변환을 가할 수 있고 여러 가지 실시 예를 가질 수 있는 바, 특정 실시 예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에서 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변환, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 본 발명을 설명함에 있어서 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다.
본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.
이하, 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명에 따른 실시예들을 상세히 설명하기로 하며, 첨부 도면을 참조하여 설명함에 있어 도면 부호에 상관없이 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 참조번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 레이저를 이용한 숄더 제거장치(100)를 예시하는 도면이다.
도 4를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 레이저를 이용한 숄더 제거장치(100)는, 레이저광원(140), 광학계(160) 및 헤드(180)를 포함한다. 그리고 광학계(160) 및 헤드(180)는 갠트리(120) 상에 위치하고 있으며, 가공 대상물에 해당하는 기판(200)은 테이블(125) 상에 고정되어 있다.
테이블(125) 상에 고정되어 있는 기판(200)에는 메탈레이어(220)가 형성되어 있으며, 메탈레이어(220)는 패턴영역(225)과 비패턴영역(230)으로 구분되어 있다.
기판(200)은 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET) 필름과 같은 고분자 물질 또는 유리(glass)와 같은 투명성을 갖는 재질에 의해 형성될 수 있다.
메탈레이어(220)는 기판(200) 상에 코팅 또는 증착에 의해 형성된다. 메탈레이어(220)는 ITO(Indium-Tin Oxide), FTO(Fluorine-doped tin oxide), ATO, ZnO(Zinc Oxide), SnO2(Tin Oxide), 탄소나노튜브(CNT) 및 그래핀(Graphene) 중에서 선택된 하나에 의해 형성되는 투명전극일 수 있다.
메탈레이어(220)에 형성되는 패턴영역(225) 및 비패턴영역(230)은 레이저 패터닝 또는 플라즈마 에칭에 의해서 형성된다. 즉, 기판(200) 상에 형성된 메탈레이어(220)에 레이저를 조사하여 패터닝을 함으로써 원하는 부분을 제거하거나 또는 플라즈마 에칭에 의해서 원하는 부분을 제거하여 패턴영역(225) 및 비패턴영역(230)을 형성할 수 있다.
메탈레이어(220)에 패턴영역(225) 및 비패턴영역(230)을 형성하는 과정에서, 패턴영역(225)과 비패턴영역(230)의 경계면에 숄더가 발생하게 된다.
레이저광원(140)은 숄더를 제거하기 위한 레이저빔을 생성한다. 레이저광원(140)으로는 DPSS(Diode Pumped Solid State) 레이저, 광섬유(fiber) 레이저 또는 LD(Laser Diode) 레이저 중 선택된 어느 하나일 수 있다.
레이저광원(140)에서 출력되는 레이저빔은 자외선 영역, 가시광선 영역 및 적외선 영역을 모두 포함한다.
레이저광원(140)에서 생성된 레이저빔은 광학계(160)에 의해 원하는 형태 및 에너지 등을 갖는 라인빔(line beam)으로 변경된다. 광학계(160)는 다수 개의 렌즈(도시하지 않음), 감쇄기(도시하지 않음) 및 빔셔터(beam shutter)(도시하지 않음)를 포함할 수 있다. 감쇄기는 레이저광원(140)에서 생성된 레이저빔의 에너지를 원하는 값으로 조절한다. 그리고 빔셔터는 레이저빔을 차단하여 헤드(180)에 레이저빔이 전달되지 않도록 한다.
헤드(180)는 기판(200)의 상부에서 이동하면서 라인빔 형태의 레이저빔을 스캔하기 위한 이동수단에 해당한다. 헤드(180)는 갠트리(gantry)(120) 상에 이동 가능하게 결합되어 있다. 헤드(180)는 LM 레일(도시하지 않음), 리니어 모터(linear motor) 또는 스텝핑 모터(stepping motor)(도시하지 않음)를 포함할 수 있으며, 이동 정밀도를 높이기 위해 리니어 인코더(linear encoder)의 스케일을 인식하여 정밀하게 제어될 수 있다. 그리고 에어 베어링(air bearing) 방식의 리니어 모터를 이용하여 정밀도를 높일 수 있다.
헤드(180)에서 나오는 라인빔 형태의 레이저빔은 메탈레이어(220) 상에 조사되어 숄더를 제거하는 것으로, 메탈레이어(220)에 패턴영역(225) 및 비패턴영역(230)을 형성할 때의 레이저빔의 에너지 밀도(energy density)에 비해 적은 에너지 밀도를 갖는다. 그리고 헤드(180)에서 나오는 레이저빔은 패턴영역(225) 및 비패턴영역(230)이 손상되지 않을 정도의 에너지 밀도를 갖는다.
테이블(125)은 가공대상물에 해당하는 기판(200)을 고정하는 것으로, xy축 이동 및 회전이 가능하다. 테이블(125)은 일반적인 금속이나 주물 형태로 제작될 수 있으며 그 변형을 방지하고 정밀도를 향상하기 위해서 화강암(granite) 재질의 석정반을 포함하여 형성될 수 있다.
이하에서는 도 5 내지 도 10을 참고하면서, 본 발명의 일 실시예에 따른 레이저를 이용한 숄더 제거장치에 대해서 더욱 구체적으로 설명하기로 한다.
도 5는 PET 기판 상에 ITO에 의해 형성된 메탈 레이어에 레이저를 이용하여 패터닝한 상태에 대한 확대 사진이다.
IR 레이저를 이용하여 PET 기판 상에 형성된 ITO 레이어를 0.996J/㎠의 에너지 밀도로 레이저 패터닝을 실시하면, 도 5에서와 같이 패턴영역(225)과 비패턴영역(230)의 경계 부분에 숄더(235)가 발생하게 된다. 레이저 패터닝에 사용된 레이저빔의 반복율은 6kHz, 파워는 230W 및 스캐닝 속도는 100mm/s이다.
도 6a 내지 도 6c는, 도 5와 같이 레이저 패터닝을 한 상태에서 와이프 세정(wipe cleaning) 후 오븐(oven) 처리를 한 상태에 대한 확대 사진으로서, 도 6a는 100℃에서 10분간, 도 6b는 130℃에서 10분간, 도 6c는 150℃에서 10분간 오븐처리를 하였다.
도 6a 내지 도 6c에서 알 수 있는 바와 같이 오븐에 의한 처리 후에도 숄더가 제대로 제거되지 않아서 이로 인한 시인성의 문제가 발생함을 알 수 있다.
도 7a 내지 도 7d는, 도 5와 같이 레이저 패터닝을 한 메탈레이어를 습식 에칭(wet etching)을 수행한 상태에 대한 확대 사진이다. 도 7a 내지 도 7c는 에칭용액을 1:30으로 희석한 후 각각 10초, 20초 및 30초간 디핑(dipping) 후의 사진이고, 도 7d는 디핑 방법이 아니고 와이퍼(wiper)를 이용한 에칭용액을 사용하여 숄더를 제거한 상태에 대한 확대 사진이다.
도 7a 내지 도 7c를 참고하면, 디핑 시간에 따라서 숄더 제거 비율이 증가함을 알 수 있지만, 이 경우에도 숄더가 부분적으로 잔존함을 알 수 있다.
도 8a 내지 도 8f는, 도 5와 같이 레이저 패터닝을 한 메탈레이어를 본 발명의 일 실시예에 따른 레이저를 이용한 숄더 제거장치(100)를 이용하여 스캐닝 한 상태에 대한 확대 도면이다.
도 8a 내지 도 8f에서 사용한 레이저의 조건은, 도 8a에서는 170w, 6kHz, 100mm/sec, 에너지 밀도: 0.736 J/㎠의 레이저빔을 이용하였고, 도 8b에서는 150w, 6kHz, 100mm/sec, 에너지 밀도: 0.649 J/㎠의 레이저빔을 이용하였으며, 도 8c에서는 130w, 6kHz, 100mm/sec, 에너지 밀도: 0.563 J/㎠의 레이저빔을 이용하였다. 그리고 도 8d에서는 450w, 40kHz, 100mm/sec, 에너지 밀도: 0.292 J/㎠의 레이저빔을 이용하였고, 도 8e에서는 400w, 40kHz, 100mm/sec, 에너지 밀도: 0.260 J/㎠의 레이저빔을 이용하였으며, 도 8f에서는 350w, 40kHz, 100mm/sec, 에너지 밀도: 0.227 J/㎠의 레이저빔을 이용하였다. 즉, 도 8a 내지 도 8f에서는 스캐닝 스피드(scanning speed)는 100mm/sec로 고정하고 파워(power) 및 반복율(repetition rate)을 변경하여 에너지 밀도에 따른 숄더의 제거를 확인하였다.
도 8a 내지 도 8f를 참고하면, 레이저빔의 파워가 130w, 반복율이 6kHz, 100mm/sec의 조건으로 에너지 밀도가 0.292J/㎠ 일 때, 숄더가 가장 효율적으로 제거되었음을 알 수 있고, 도 7a 내지 도 7c와 같이 에칭액을 이용하여 습식 에칭을 한 경우와 비교해도 유사한 결과를 나타냄을 알 수 있다.
그리고 본 실시예에 따른 숄더 제거장치(100)에 의한 레이저빔의 스캐닝 결과, 메탈레이어(ITO 레이어)에 대한 미세한 어닐링(annealing) 효과로 인해 투과율이 상승하고 저항이 감소함을 실험을 통해 확인하였다.
메탈레이어의 패턴영역과 비패턴영역은 반사율/색차이로 인해 시인성의 문제가 발생하는데, 일반적으로 패턴부의 투과율이 비패턴부의 투과율에 비해 훨씬 크게 나타난다. 레이저 어닐링으로 인해 패턴영역의 투과율이 상승하게 되어 비패턴영역과의 색차를 줄일 수 있고, 저항이 낮아져서 디스플레이의 표시 품질을 향상할 수 있게 된다.
도 9a 내지 도 9b는 글라스(glass) 기판 상에 ITO에 의해 형성된 메탈 레이어에 레이저를 이용하여 패터닝한 상태에 대한 확대 프로파일(profile) 그래프를 나타낸다.
IR 레이저를 이용하여 글라스 기판 상에 형성된 ITO 레이어를 1.299J/㎠의 에너지 밀도로 레이저 패터닝을 실시하면, 그래프에서 돌출된 영역(점선으로 표시)으로 표시되는 숄더가 발생하게 된다. 레이저 패터닝에 사용된 레이저빔의 반복율은 6kHz, 파워는 300W 및 스캐닝 속도는 100mm/s이다.
도 9a 내지 도 9b를 참고하면, IR 레이저를 이용하여 ITO 레이어를 1.299/㎠의 에너지 밀도로 패터닝을 수행하면, 숄더가 4000Å(도 9a) 및 8000Å(도 9b) 정도 형성됨을 알 수 있다.
도 10a 내지 도 10b는 도 9a 내지 도 9b와 같이 패터닝된 기판에 본 발명의 일 실시예에 따른 레이저를 이용한 숄더 제거장치를 이용하여 스캐닝한 상태에 대한 프로파일 그래프이다.
도 10a 내지 도 10b에서는, 반복율 40kHz, 파워 250w, 스캐닝 속도 100mm/s, 에너지 밀도 0.164/㎠인 IR 레이저를 이용하여 스캐닝을 수행한 결과, 숄더의 높이가 200Å(도 10a) 및 500Å(도 10b) 정도로 감소하였음을 알 수 있다. 그리고 레이저 스캐닝에 의해 숄더를 제거하는 과정에서 ITO 레이어(패턴영역)에 대한 손상은 발생하지 않았음을 알 수 있다.
상기에서는 본 발명의 일 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.
100: 숄더 제거장치 120: 갠트리
125: 테이블 140: 레이저광원
160: 광학계 180: 헤드
200: 기판 220: 메탈레이어
225: 패턴영역 230: 비패턴영역
235: 숄더

Claims (7)

  1. 레이저빔을 생성하는 레이저 광원;
    상기 레이저빔을 라인빔 형태로 변경하는 광학계; 및
    상기 레이저빔을 스캔하기 위한 이동수단을 포함하고,
    상기 레이저빔은, 유리 또는 고분자 물질로 이루어지는 기판 상에 형성되고 패턴이 형성된 메탈레이어에 조사되어 숄더를 제거하며,
    상기 레이저빔은 상기 패턴이 손상되지 않을 정도의 에너지 밀도를 갖는 레이저를 이용한 숄더 제거장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 메탈레이어는, ITO(Indium-Tin Oxide), FTO(Fluorine-doped tin oxide), ATO, ZnO(Zinc Oxide), SnO2(Tin Oxide), 탄소나노튜브(CNT) 및 그래핀(Graphene) 중에서 선택된 하나에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 레이저를 이용한 숄더 제거장치.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 메탈레이어의 패턴은 레이저 패터닝에 의해 형성된 것이고,
    상기 레이저빔은 상기 패턴이 레이저에 의해 제거될 때의 에너지 밀도에 비해 낮은 에너지 밀도를 갖는 것을 특징으로 하는 레이저를 이용한 숄더 제거장치.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 메탈레이어의 패턴은 플라즈마 에칭에 의해 형성된 것을 특징으로 하는 레이저를 이용한 숄더 제거장치.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 레이저광원은, DPSS(Diode Pumped Solid State) 레이저, 광섬유 레이저 또는 LD(Laser Diode) 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 레이저를 이용한 숄더 제거장치.
  6. 레이저 패터닝 또는 플라즈마 에칭에 의해 패턴이 형성된 메탈레이어를 갖는 기판을 제공하는 단계; 및
    라인빔 형태의 레이저빔을 스캐닝하여 상기 메탈레이어에 형성된 숄더를 제거하는 단계를 포함하고,
    상기 레이저빔은 상기 패턴이 손상되지 않을 정도의 에너지 밀도를 갖는 레이저를 이용한 숄더 제거방법.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 기판은 고분자 물질 또는 글라스에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 레이저를 이용한 숄더 제거방법.
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