KR20170121072A - 세퍼레이트 필름 부착 광학 부재의 제조 방법 - Google Patents

세퍼레이트 필름 부착 광학 부재의 제조 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 플렉시블 디스플레이에서의 굴곡에 대해서도 점착제층과 이것에 인접하는 부재의 사이에서 양호한 밀착성을 유지할 수 있는 세퍼레이트 필름 부착 광학 부재를 제조하기 위한 방법을 제공하는 것을 과제로 한다.
장척형의 세퍼레이트 필름 상에 활성 에너지선 경화형 점착제 조성물을 도공하여 도공층을 형성하는 도공 공정; 도공층을 갖는 세퍼레이트 필름을 연속 반송하면서, 활성 에너지선의 조사에 의해 도공층을 패턴 노광하여, 노광된 제1 영역과, 상기 제1 영역보다 노광량이 작은 제2 영역을 포함하는 점착제층을 갖는 세퍼레이트 필름을 얻는 노광 공정; 노광 공정후의 필름을 계속해서 연속 반송하면서, 그 점착제층의 외면에 장척의 광학 부재를 적층하고, 이 적층체를 상하로부터 압박하는 접합 공정을 포함하는 세퍼레이트 필름 부착 광학 부재의 제조 방법이다.

Description

세퍼레이트 필름 부착 광학 부재의 제조 방법{METHOD FOR PREPARING OPTICAL MEMBER WITH SEPARATE FILM}
본 발명은, 세퍼레이트 필름과 점착제층과 광학 부재를 이 순서대로 포함하는 세퍼레이트 필름 부착 광학 부재의 제조 방법에 관한 것이다.
편광판 등으로 대표되는 각종 광학 부재는, 점착제층을 통해 다른 부재, 예컨대 화상 표시 셀에 접합하여 이용되는 것이 있다(예컨대 특허문헌 1). 이 때문에, 광학 부재는, 그 한쪽 면에 미리 점착제층이 형성된 점착제층 부착 광학 부재의 형태로 시장 유통되는 것이 있다. 이 점착제층의 외면에는, 그 면을 보호하기 위한 박리 가능한 세퍼레이트 필름(「박리 필름」이라고도 함)을 가착해 두는 것이 일반적이다.
[특허문헌 1] 일본 특허 공개 제2008-275722호 공보
상기와 같은 광학 부재와 화상 표시 셀을 구비하는 디스플레이로서, 가요성을 갖는 플렉시블 디스플레이는, 평면이 아닌 면이나 절곡면에 설치하는 것이 가능하고, 또한 휴대시에 접어서 포개거나 롤 형상으로 하여 휴대성을 향상시키는 것이 가능해지는 것 등으로 인해, 휴대용 기기에 대한 탑재 용도로서 기대되고 있다. 플렉시블 디스플레이에 이용되는 점착제층 부착 광학 부재에 있어서는, 플렉시블 디스플레이를 굴곡시키더라도(예컨대 절곡, 만곡 등) 또는 굴곡시키는 것을 반복하더라도 점착제층과 이것에 인접하는 부재가 박리되지 않는 밀착성이 요구된다.
본 발명의 목적은, 점착제층 부착 세퍼레이트 필름과 광학 부재의 적층체인 세퍼레이트 필름 부착 광학 부재로서, 플렉시블 디스플레이에서의 굴곡에 대해서도 점착제층과 이것에 인접하는 부재의 사이에서 양호한 밀착성을 유지할 수 있는 세퍼레이트 필름 부착 광학 부재를 제조하기 위한 방법을 제공하는 것에 있다.
본 발명은, 이하에 나타내는 세퍼레이트 필름 부착 광학 부재의 제조 방법을 제공한다.
[1] 장척형의 세퍼레이트 필름 상에 활성 에너지선 경화형 점착제 조성물을 도공하여 도공층을 형성하는 도공 공정과,
상기 도공층을 갖는 세퍼레이트 필름을 연속 반송하면서, 활성 에너지선의 조사에 의해 상기 도공층을 패턴 노광하여, 노광된 제1 영역과, 상기 제1 영역보다 노광량이 작은 제2 영역을 포함하는 점착제층을 갖는 세퍼레이트 필름을 얻는 노광 공정과,
상기 노광 공정후의 필름을 계속해서 연속 반송하면서, 그 점착제층의 외면에 장척의 광학 부재를 적층하고, 이 적층체를 상하로부터 압박하는 접합 공정
을 포함하는 세퍼레이트 필름 부착 광학 부재의 제조 방법.
[2] 상기 노광 공정에 있어서, 마스크를 통해 상기 활성 에너지선의 조사에 의한 패턴 노광을 행하는 [1]에 기재된 제조 방법.
[3] 상기 마스크는 상기 도공층을 갖는 세퍼레이트 필름의 반송 방향을 따르는 방향으로 연장되는 관통부를 가지며, 상기 관통부는 상기 도공층을 갖는 세퍼레이트 필름의 폭방향을 따라서 배열되어 있는 [2]에 기재된 제조 방법.
[4] 상기 마스크가 그라데이션 마스크인 [2]에 기재된 제조 방법.
[5] 상기 접합 공정에 의해 얻어지는 세퍼레이트 필름 부착 광학 부재를 롤형으로 권취하고, 롤 상태로 상기 점착제층의 양생을 행하는 양생 공정을 더 포함하는 [1]∼[4] 중 어느 한 항에 기재된 제조 방법.
[6] 상기 노광 공정에 있어서, 상기 도공층에 대한 상기 활성 에너지선의 조사를 복수회 행하는 [1]∼[5] 중 어느 한 항에 기재된 제조 방법.
[7] 상기 접합 공정의 전에, 상기 광학 부재에서의 상기 점착제층과의 접합면 및 상기 점착제층에서의 상기 광학 부재와의 접합면의 적어도 한쪽에 에너지 조사를 행하는 표면 활성화 공정을 더 포함하는 [1]∼[6] 중 어느 한 항에 기재된 제조 방법.
[8] 상기 광학 부재가 편광판인 [1]∼[7] 중 어느 한 항에 기재된 제조 방법.
본 발명의 제조 방법에 의하면, 적용한 플렉시블 디스플레이에서의 굴곡에 대해서도 점착제층과 이것에 인접하는 부재의 사이에서 양호한 밀착성을 유지할 수 있는 세퍼레이트 필름 부착 광학 부재를 제공할 수 있다.
도 1은 본 발명에 관한 세퍼레이트 필름 부착 광학 부재의 제조 방법 및 그것에 이용하는 제조 장치의 일례를 나타내는 개략도이다.
도 2는 도공층을 갖는 세퍼레이트 필름의 일례를 나타내는 개략 단면도이다.
도 3은 점착제층 부착 세퍼레이트 필름의 일례를 나타내는 개략 단면도이다.
도 4는 플렉시블 디스플레이의 굴곡 양태의 일례를 나타내는 개략도이다.
도 5는 마스크를 통해 도공층에 활성 에너지선을 조사하는 모습을 나타내는 개략 평면도이다.
도 6은 점착제층에서의 제1 영역과 제2 영역의 배치 패턴의 예를 나타내는 개략 평면도이다.
도 7은 마스크를 이용한 활성 에너지선의 조사 방법의 일례를 나타내는 개략 단면도이다.
도 8은 마스크를 이용한 활성 에너지선의 조사 방법의 다른 일례를 나타내는 개략 단면도이다.
도 9는 점착제층에서의 제1 영역과 제2 영역의 배치 패턴의 다른 예를 나타내는 개략 평면도이다.
도 10은 점착제층에서의 제1 영역과 제2 영역의 배치 패턴의 다른 예를 나타내는 개략 평면도이다.
도 11은 점착제층에서의 제1 영역과 제2 영역의 배치 패턴의 다른 예를 나타내는 개략 평면도이다.
도 12는 점착제층에서의 제1 영역과 제2 영역의 배치 패턴의 다른 예를 나타내는 개략 평면도이다.
도 13은 세퍼레이트 필름 부착 광학 부재의 일례를 나타내는 개략 단면도이다.
본 발명에 관한 세퍼레이트 필름 부착 광학 부재의 제조 방법은, 하기의 공정 :
장척형의 세퍼레이트 필름 상에 활성 에너지선 경화형 점착제 조성물을 도공하여 도공층을 형성하는 도공 공정;
도공층을 갖는 세퍼레이트 필름을 연속 반송하면서, 활성 에너지선의 조사에 의해 상기 도공층을 패턴 노광하여, 노광된 제1 영역과, 상기 제1 영역보다 노광량이 작은 제2 영역을 포함하는 점착제층을 갖는 세퍼레이트 필름을 얻는 노광 공정;
노광 공정후의 필름을 계속해서 연속 반송하면서, 그 점착제층의 외면에 장척의 광학 부재를 적층하고, 이 적층체를 상하로부터 압박하는 접합 공정 ;
을 포함한다. 본 발명에 관한 세퍼레이트 필름 부착 광학 부재의 제조 방법은, 상기 이외의 다른 공정을 더 포함할 수 있다. 이하, 도면을 참조하면서 각 공정에 관해 설명한다. 또한, 이하에서는, 광학 부재에 접합되는 필름 중간체인 점착제층을 갖는 세퍼레이트 필름을 「점착제층 부착 세퍼레이트 필름」이라고도 한다.
[도공 공정]
본 공정은, 세퍼레이트 필름(10) 상에 활성 에너지선 경화형 점착제 조성물을 도공함으로써 도공층(11)을 형성하여, 도공층(11)을 갖는 세퍼레이트 필름(15)을 얻는 공정이다(도 1 및 도 2 참조). 활성 에너지선 경화형 점착제 조성물의 도공은, 도공 장치(50)를 이용하여 행할 수 있다.
(1) 세퍼레이트 필름
세퍼레이트 필름(10)은 통상적으로 열가소성 수지 필름이고, 바람직하게는 투광성을 갖는(보다 바람직하게는 광학적으로 투명한) 열가소성 수지 필름이다. 열가소성 수지의 구체예는, 쇄형 폴리올레핀계 수지(폴리에틸렌계 수지, 폴리프로필렌계 수지 등), 고리형 폴리올레핀계 수지(노르보넨계 수지 등)와 같은 폴리올레핀계 수지; 폴리불화비닐, 폴리불화비닐리덴, 폴리불화에틸렌과 같은 불소화 폴리올레핀계 수지; 폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지, 폴리에틸렌나프탈레이트계 수지와 같은 폴리에스테르계 수지; 메타크릴산메틸계 수지와 같은 (메트)아크릴계 수지; 트리아세틸셀룰로오스〔TAC〕, 디아세틸셀룰로오스와 같은 아세트산셀룰로오스계 수지와 같은 셀룰로오스계 수지; 폴리카보네이트계 수지; 폴리비닐알콜계 수지; 폴리아세트산비닐계 수지; 폴리아릴레이트계 수지; 폴리이미드계 수지; 폴리스티렌계 수지; 폴리아미드계 수지; 폴리에테르술폰계 수지; 폴리술폰계 수지; 및 이들의 혼합물, 공중합물을 포함한다. 본 명세서에 있어서, 「(메트)아크릴」이란 아크릴 및/또는 메타크릴을 의미하고, (메트)아크릴레이트 등이라고 할 때의 「(메트)」도 동일한 취지이다.
세퍼레이트 필름(10)으로는, 점착제층이 적층되는 측의 표면에 대하여 이형 처리를 한 것을 이용할 수 있다. 이형 처리의 예는, 실리콘 처리, 장쇄 알킬 처리, 불소 처리 등이다. 세퍼레이트 필름(10)의 두께는, 예컨대 5∼200 ㎛ 정도이고, 바람직하게는 10∼150 ㎛, 보다 바람직하게는 15∼100 ㎛이다.
(2) 활성 에너지선 경화형 점착제 조성물
활성 에너지선 경화형 점착제 조성물은, 자외선, 가시광, 전자선, X선 등의 활성 에너지선의 조사에 의해 경화 반응이 진행되는 점착제 조성물이다. 활성 에너지선 경화형 점착제 조성물은, 바람직하게는 자외선 경화형 점착제 조성물이다. 자외선 경화형 점착제 조성물의 적합한 예는, (메트)아크릴계 화합물을 주성분으로 하는 (메트)아크릴계 자외선 경화형 점착제 조성물이다. 본 발명에 있어서는, 종래 공지의 활성 에너지선 경화형 점착제 조성물을 모두 사용할 수 있다. 활성 에너지선 경화형 점착제 조성물은, 용제형, 무용제형, 수분산형 등일 수 있다.
활성 에너지선 경화형 점착제 조성물의 일례는, 활성 에너지선 경화성 부위를 분자 내에 적어도 1개 갖는 중합성 모노머(이하, 단순히 「중합성 모노머」라고도 함)를 1종 또는 2종 이상 포함하는 점착제 조성물이다. 활성 에너지선 경화성 부위는, 예컨대 에틸렌성 이중 결합이다. 활성 에너지선 경화형 점착제 조성물은, 바람직하게는 (메트)아크릴계 화합물을 주성분으로 하는 (메트)아크릴계의 점착제 조성물이며, 이 경우, 중합성 모노머는, 바람직하게는 활성 에너지선 경화성의 (메트)아크릴계 모노머이다. 활성 에너지선 경화성의 (메트)아크릴계 모노머의 적합한 일례는, (메트)아크릴로일기를 갖는 (메트)아크릴계 모노머이며, 그 구체예는, 하기 식(I):
Figure pat00001
로 표시되는 (메트)아크릴산에스테르이다.
상기 식(I)에 있어서, R1은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R2는 탄소수 1∼10의 알콕시기로 치환되어 있어도 좋은 탄소수 1∼14의 알킬기 또는 탄소수 1∼10의 알콕시기로 치환되어 있어도 좋은 탄소수 7∼21의 아랄킬기를 나타낸다. R2는, 탄소수 1∼10의 알콕시기로 치환되어 있어도 좋은 탄소수 1∼14의 알킬기인 것이 바람직하다. 식(I)로 표시되는 (메트)아크릴산에스테르는, 1종만을 단독으로 사용해도 좋고, 2종 이상을 병용해도 좋다.
식(I)로 표시되는 (메트)아크릴산에스테르의 구체예는, 아크릴산메틸, 아크릴산에틸, 아크릴산프로필, 아크릴산 n-부틸, 아크릴산 n-옥틸, 아크릴산라우릴과 같은 알킬 부분이 직쇄형인 아크릴산알킬에스테르; 아크릴산이소부틸, 아크릴산 2-에틸헥실, 아크릴산이소옥틸과 같은 알킬 부분이 분기형인 아크릴산알킬에스테르; 메타크릴산메틸, 메타크릴산에틸, 메타크릴산프로필, 메타크릴산 n-부틸, 메타크릴산 n-옥틸, 메타크릴산라우릴과 같은 알킬 부분이 직쇄형인 메타크릴산알킬에스테르; 메타크릴산이소부틸, 메타크릴산 2-에틸헥실, 메타크릴산이소옥틸과 같은 알킬 부분이 분기형인 메타크릴산알킬에스테르 등을 포함한다.
R2가 알콕시기로 치환된 알킬기인 경우, 즉, R2가 알콕시알킬기인 경우에서의 식(I)로 표시되는 (메트)아크릴산에스테르의 구체예는, 아크릴산 2-메톡시에틸, 아크릴산에톡시메틸, 메타크릴산 2-메톡시에틸, 메타크릴산에톡시메틸 등을 포함한다. R2가 탄소수 7∼21의 아랄킬기인 경우에서의 식(I)로 표시되는 (메트)아크릴산에스테르의 구체예는, 아크릴산벤질, 메타크릴산벤질 등을 포함한다.
상기 (메트)아크릴로일기를 갖는 (메트)아크릴계 모노머는, 분자 내에 지환식 구조를 갖는 (메트)아크릴산에스테르를 포함하고 있어도 좋다. 지환식 구조는, 탄소수가 통상 5 이상, 바람직하게는 5∼7 정도이다. 지환식 구조를 갖는 (메트)아크릴산에스테르의 구체예는, (메트)아크릴산이소보르닐, (메트)아크릴산시클로헥실, (메트)아크릴산디시클로펜타닐, (메트)아크릴산시클로도데실, (메트)아크릴산메틸시클로헥실, (메트)아크릴산트리메틸시클로헥실, (메트)아크릴산 tert-부틸시클로헥실, (메트)아크릴산시클로헥실페닐, α-에톡시아크릴산시클로헥실 등을 포함한다.
상기 중합성 모노머는, 극성 작용기를 갖는 중합성 모노머를 포함할 수 있다. 극성 작용기를 갖는 중합성 모노머는, 바람직하게는 (메트)아크릴계 모노머이다. 극성 작용기로는, 유리 카르복실기, 수산기, 아미노기 외에, 에폭시기 등의 복소 고리기 등을 들 수 있다.
극성 작용기를 갖는 중합성 모노머의 구체예는, (메트)아크릴산, β-카르복시에틸(메트)아크릴레이트와 같은 유리 카르복실기를 갖는 중합성 모노머; (메트)아크릴산 2-히드록시에틸, (메트)아크릴산 3-히드록시프로필, (메트)아크릴산 4-히드록시부틸, (메트)아크릴산 2-(2-히드록시에톡시)에틸, (메트)아크릴산 2- 또는 3-클로로-2-히드록시프로필, 디에틸렌글리콜모노(메트)아크릴레이트와 같은 수산기를 갖는 중합성 모노머; 아크릴로일모르폴린, 비닐카프로락탐, N-비닐-2-피롤리돈, 비닐피리딘, 테트라히드로푸르푸릴(메트)아크릴레이트, 카프로락톤 변성 테트라히드로푸르푸릴아크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실메틸(메트)아크릴레이트, 글리시딜(메트)아크릴레이트, 2,5-디히드로푸란과 같은 복소 고리기를 갖는 중합성 모노머; 아미노에틸(메트)아크릴레이트, N,N-디메틸아미노에틸(메트)아크릴레이트, 디메틸아미노프로필(메트)아크릴레이트와 같은 복소 고리와는 상이한 아미노기를 갖는 중합성 모노머 등을 포함한다. 극성 작용기를 갖는 중합성 모노머는, 1종만을 단독으로 이용해도 좋고, 2종 이상을 병용해도 좋다.
상기 중에서도, 극성 작용기를 갖는 중합성 모노머는, 수산기를 갖는 중합성 모노머 및/또는 유리 카르복실기를 갖는 중합성 모노머를 포함하는 것이 바람직하다.
상기 중합성 모노머는, 위에서 예시되는 중합성 모노머 외에, 예컨대 하기 식(II):
Figure pat00002
로 표시되는 페녹시에틸기 함유 (메트)아크릴산에스테르와 같은 아릴옥시알킬기를 갖는 (메트)아크릴산에스테르를 포함할 수 있다. 상기 식(II)에 있어서, R3은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, n은 1∼8의 정수를 나타내고, R4는 수소 원자, 알킬기, 아랄킬기 또는 아릴기를 나타낸다. R4가 알킬기인 경우, 그 탄소수는 1∼9 정도일 수 있고, 아랄킬기인 경우, 그 탄소수는 7∼11정도, 또한 아릴기인 경우, 그 탄소수는 6∼10 정도일 수 있다.
식(II) 중의 R4를 구성하는 탄소수 1∼9의 알킬기로는, 메틸, 부틸, 노닐 등을, 탄소수 7∼11의 아랄킬기로는, 벤질, 페네틸, 나프틸메틸 등을, 탄소수 6∼10의 아릴기로는, 페닐, 톨릴, 나프틸 등을 각각 들 수 있다.
식(II)로 표시되는 페녹시에틸기 함유 (메트)아크릴산에스테르의 구체예는, (메트)아크릴산 2-페녹시에틸, (메트)아크릴산 2-(2-페녹시에톡시)에틸, 에틸렌옥사이드 변성 노닐페놀의 (메트)아크릴산에스테르, (메트)아크릴산 2-(o-페닐페녹시)에틸 등을 포함한다. 페녹시에틸기 함유 (메트)아크릴산에스테르는, 1종만을 단독으로 이용해도 좋고, 2종 이상을 병용해도 좋다. 그 중에서도, 페녹시에틸기 함유 (메트)아크릴산에스테르는, (메트)아크릴산 2-페녹시에틸, (메트)아크릴산 2-(o-페닐페녹시)에틸 및/또는 (메트)아크릴산 2-(2-페녹시에톡시)에틸을 포함하는 것이 바람직하다.
(메트)아크릴계 모노머인 중합성 모노머의 다른 일례는, (메트)아크릴아미드계 모노머이다. (메트)아크릴아미드 화합물의 구체예는, N-메틸올(메트)아크릴아미드, N-(2-히드록시에틸)(메트)아크릴아미드, N-(3-히드록시프로필)(메트)아크릴아미드, N-(4-히드록시부틸)(메트)아크릴아미드, N-(5-히드록시펜틸)(메트)아크릴아미드, N-(6-히드록시헥실)(메트)아크릴아미드, N,N-디메틸(메트)아크릴아미드, N,N-디에틸(메트)아크릴아미드, N-이소프로필(메트)아크릴아미드, N-(3-디메틸아미노프로필)(메트)아크릴아미드, N-(1,1-디메틸-3-옥소부틸)(메트)아크릴아미드, N-〔2-(2-옥소-1-이미다졸리디닐)에틸〕(메트)아크릴아미드, 2-아크릴로일아미노-2-메틸-1-프로판술폰산, N-(메톡시메틸)아크릴아미드, N-(에톡시메틸)(메트)아크릴아미드, N-(프로폭시메틸)(메트)아크릴아미드, N-(1-메틸에톡시메틸)(메트)아크릴아미드, N-(1-메틸프로폭시메틸)(메트)아크릴아미드, N-(2-메틸프로폭시메틸)(메트)아크릴아미드〔별명 : N-(이소부톡시메틸)(메트)아크릴아미드〕, N-(부톡시메틸)(메트)아크릴아미드, N-(1,1-디메틸에톡시메틸)(메트)아크릴아미드, N-(2-메톡시에틸)(메트)아크릴아미드, N-(2-에톡시에틸)(메트)아크릴아미드, N-(2-프로폭시에틸)(메트)아크릴아미드, N-2-(1-메틸에톡시)에틸〕(메트)아크릴아미드, N-2-(1-메틸프로폭시)에틸〕(메트)아크릴아미드, N-2-(2-메틸프로폭시)에틸〕(메트)아크릴아미드〔별명 : N-(2-이소부톡시에틸)(메트)아크릴아미드〕, N-(2-부톡시에틸)(메트)아크릴아미드, N-2-(1,1-디메틸에톡시)에틸〕(메트)아크릴아미드 등을 포함한다.
(메트)아크릴아미드계 모노머는, 1종만을 단독으로 이용해도 좋고, 2종 이상을 병용해도 좋다.
상기 중합성 모노머는, (메트)아크릴계 모노머 이외의 다른 중합성 모노머를 포함할 수 있다. 다른 중합성 모노머로는, 예컨대 스티렌계 모노머, 비닐계 모노머 등을 들 수 있다. 중합성 모노머는, 상기 다른 중합성 모노머를 1종 또는 2종 이상 포함할 수 있다.
스티렌계 모노머의 구체예는, 스티렌; 메틸스티렌, 디메틸스티렌, 트리메틸스티렌, 에틸스티렌, 디에틸스티렌, 트리에틸스티렌, 프로필스티렌, 부틸스티렌, 헥실스티렌, 헵틸스티렌, 옥틸스티렌과 같은 알킬스티렌; 플루오로스티렌, 클로로스티렌, 브로모스티렌, 디브로모스티렌, 요오드스티렌과 같은 할로겐화스티렌; 니트로스티렌, 아세틸스티렌, 메톡시스티렌, 디비닐벤젠 등을 포함한다.
비닐계 모노머의 구체예는, 아세트산비닐, 프로피온산비닐, 부티르산비닐, 2-에틸헥산산비닐, 라우린산비닐과 같은 지방산비닐에스테르; 염화비닐, 브롬화비닐과 같은 할로겐화비닐; 염화비닐리덴과 같은 할로겐화비닐리덴; 비닐피리딘, 비닐피롤리돈, 비닐카르바졸과 같은 질소 포함 방향족 비닐; 부타디엔, 이소프렌, 클로로프렌과 같은 공액 디엔 단량체; 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴 등을 포함한다.
상기 중합성 모노머는, 에틸렌성 이중 결합 등의 활성 에너지선 경화성 부위를 분자 내에 2개 이상 갖는 모노머를 포함하고 있어도 좋다. 이러한 다작용 모노머의 일례는, 분자 내에 2 이상의 (메트)아크릴로일기를 갖는 (메트)아크릴계 모노머이다.
분자 내에 2 이상의 (메트)아크릴로일기를 갖는 (메트)아크릴계 모노머의 구체예는,
1,4-부탄디올디(메트)아크릴레이트,
1,6-헥산디올디(메트)아크릴레이트,
1,9-노난디올디(메트)아크릴레이트,
에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트,
디에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트,
트리에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트,
트리프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트,
테트라에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트,
트리시클로데칸디일디메탄올디(메트)아크릴레이트,
폴리에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트,
네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트,
비스페놀 A 디글리시딜에테르의 양 말단 (메트)아크릴산 부가체,
폴리에스테르디(메트)아크릴레이트,
비스페놀 A의 에틸렌디옥사이드 또는 프로필렌옥사이드의 부가체인 디올의 디(메트)아크릴레이트,
수소 첨가 비스페놀 A의 에틸렌옥사이드 또는 프로필렌옥사이드의 부가체인 디올의 디(메트)아크릴레이트,
트리시클로데칸디메탄올디(메트)아크릴레이트,
시클로헥산디메탄올디(메트)아크릴레이트
와 같은 분자 내에 2개의 (메트)아크릴로일기를 갖는 모노머;
트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트,
트리메틸올프로판트리옥시에틸(메트)아크릴레이트,
펜타에리스리톨트리(메트)아크릴레이트,
트리스(2-히드록시에틸)이소시아누레이트디(메트)아크릴레이트,
트리시클로데칸디메탄올디(메트)아크릴레이트
와 같은 분자 내에 3개의 (메트)아크릴로일기를 갖는 모노머;
펜타에리스리톨테트라(메트)아크릴레이트
와 같은 분자 내에 4개의 (메트)아크릴로일기를 갖는 모노머;
비스페놀 A의 디글리시딜에테르에 (메트)아크릴레이트를 부가시킨 에폭시(메트)아크릴레이트
등을 포함한다.
(메트)아크릴계의 활성 에너지선 경화형 점착제 조성물은, 활성 에너지선 경화성 성분이 상기 중합성 모노머만으로 이루어진 것이어도 좋지만, 바람직하게는 중합성 모노머에 더하여, (메트)아크릴계 폴리머 및/또는 올리고머를 1종 또는 2종 이상 함유한다.
(메트)아크릴계 폴리머 및/또는 올리고머는, 상기 중합성 모노머의 1종 또는 2종 이상을 (공)중합시켜 이루어진 (공)중합체일 수 있다. (메트)아크릴계 폴리머 및/또는 올리고머는, 상기 식(I)로 표시되는 (메트)아크릴산에스테르의 1종 또는 2종 이상에서 유래하는 구성 단위를 주성분으로 하는 것이 바람직하고, 상기 구성 단위를 전체 구성 단위 100 중량부 중, 50 중량부 이상 포함하는 것이 보다 바람직하고, 60 중량부 이상 포함하는 것이 더욱 바람직하고, 70 중량부 이상 포함하는 것이 특히 바람직하다．그 중에서도, 상기 식(I)로 표시되는 (메트)아크릴산에스테르는, 아크릴산 n-부틸을 포함하는 것이 바람직하다.
(메트)아크릴계 폴리머 및/또는 올리고머는, 상기 극성 작용기를 갖는 중합성 모노머에서 유래하는 구성 단위를 포함하는 것이 바람직하다. 상기 구성 단위의 함유량은, 전체 구성 단위 100 중량부 중, 통상 0.1∼20 중량부이고, 바람직하게는 0.4∼10 중량부이다. (메트)아크릴계 폴리머 및/또는 올리고머는 그 자신, 에틸렌성 이중 결합 등의 활성 에너지선 경화성 부위를 갖고 있어도 좋다.
(메트)아크릴계 폴리머는, 겔퍼미에이션 크로마토그래피(GPC)에 의한 표준 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량 Mw가, 예컨대 5만∼80만일 수 있다. 활성 에너지선 경화형 점착제 조성물은, Mw가 5만∼80만인 (메트)아크릴계 폴리머를 1종 또는 2종 이상 포함할 수 있다. 활성 에너지선 경화형 점착제 조성물은, Mw가 5만 미만인 (메트)아크릴계 폴리머나 올리고머를 더 포함하고 있어도 좋다.
활성 에너지선 경화형 점착제 조성물이, 상기 중합성 모노머와, (메트)아크릴계 폴리머 및/또는 올리고머를 포함하는 경우, 이들은 상기 중합성 모노머의 부분 중합물로서 포함되어 있어도 좋다.
활성 에너지선 경화형 점착제 조성물은 통상, 광중합 개시제를 포함한다. 광중합 개시제의 구체예는, 아세토페논, 2,2-디에톡시아세토페논, p-디메틸아미노아세토페논, 메톡시아세토페논, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 2-히드록시-2-시클로헥실아세토페논 등의 아세토페논류; 벤조페논, 2-클로로벤조페논, p,p'-디클로로벤조페논, p,p'-비스디에틸아미노벤조페논, N,N'-테트라메틸-4,4'-디아미노벤조페논, 4-(2-히드록시에톡시)페닐(2-히드록시-2-프로필)케톤, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐-프로판-1-온 등의 케톤류; 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르 등의 벤조인에테르류; 티옥산톤, 2-클로로티옥산톤, 2-메틸티옥산톤 등의 티옥산톤류; 비스아실포스핀옥사이드, 벤조일포스핀옥사이드 등의 포스핀산화물; 벤질디메틸케탈 등의 케탈류; 캄판-2,3-디온, 페난트렌퀴논 등의 퀴논류 등을 포함한다. 광중합 개시제는, 1종만을 단독으로 사용해도 좋고, 2종 이상을 병용해도 좋다.
광중합 개시제의 함유량은, 상기 중합성 모노머 등의 활성 에너지선 경화성 성분 100 중량부에 대하여, 통상 0.01∼10 중량부이고, 바람직하게는 0.05∼5 중량부이다.
활성 에너지선 경화형 점착제 조성물은, 가교제를 더 함유하고 있어도 좋다. 가교제는, 전술한 극성 작용기와 같은 활성 에너지선 경화성 성분이 갖는 반응성 작용기와 반응할 수 있는 작용기를 분자 내에 2개 이상 갖는 화합물 등, 활성 에너지선 경화성 성분을 가교시키는 화합물이다. 구체적으로는, 이소시아네이트계 화합물, 에폭시계 화합물, 아지리딘계 화합물, 금속 킬레이트계 화합물 등이 예시된다. 이들 중, 이소시아네이트계 화합물, 에폭시계 화합물 및 아지리딘계 화합물은, 활성 에너지선 경화성 성분 중의 극성 작용기와 반응할 수 있는 작용기를 분자 내에 2개 이상 갖는다. 가교제는, 1종만을 단독으로 사용해도 좋고, 2종 이상을 병용해도 좋다.
이소시아네이트계 화합물은, 분자 내에 적어도 2개의 이소시아나토기(-NCO)를 갖는 화합물이다. 이소시아네이트계 화합물의 구체예는, 톨릴렌디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, 크실릴렌디이소시아네이트, 수소 첨가 크실릴렌디이소시아네이트, 디페닐메탄디이소시아네이트, 수소 첨가 디페닐메탄디이소시아네이트, 나프탈렌디이소시아네이트, 트리페닐메탄트리이소시아네이트, 수소 첨가 디페닐메탄디이소시아네이트; 이들 이소시아네이트 화합물의 비울렛트체, 이소시아누레이트체; 이들 이소시아네이트 화합물에, 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 네오펜틸글리콜, 트리메틸올프로판, 피마자유, 글리세롤이나 트리메틸올프로판과 같은 폴리올을 반응시킨 어덕트체; 이들 이소시아네이트 화합물을 이량체, 삼량체 등으로 한 것 등을 포함한다.
에폭시계 화합물은, 분자 내에 적어도 2개의 에폭시기를 갖는 화합물이다. 에폭시계 화합물의 구체예는, 비스페놀 A형의 에폭시 수지, 에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 폴리에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 글리세린디글리시딜에테르, 글리세린트리글리시딜에테르, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르, 트리메틸올프로판트리글리시딜에테르, N,N-디글리시딜아닐린, N,N,N',N'-테트라글리시딜-m-크실렌디아민, 1,3-비스(N,N'-디글리시딜아미노메틸)시클로헥산 등을 포함한다.
아지리딘계 화합물은, 에틸렌이민이라고도 불리는 1개의 질소 원자와 2개의 탄소 원자로 이루어진 3원환의 골격을 분자 내에 적어도 2개 갖는 화합물이다. 아지리딘계 화합물의 구체예는, 디페닐메탄-4,4'-비스(1-아지리딘카르복사미드), 톨루엔-2,4-비스(1-아지리딘카르복사미드), 트리에틸렌멜라민, 이소프탈로일비스-1-(2-메틸아지리딘), 트리스-1-아지리디닐포스핀옥사이드, 헥사메틸렌-1,6-비스(1-아지리딘카르복사미드), 트리메틸올프로판-트리스-β-아지리디닐프로피오네이트, 테트라메틸올메탄-트리스-β-아지리디닐프로피오네이트 등을 포함한다.
금속 킬레이트 화합물의 구체예는, 알루미늄, 철, 구리, 아연, 주석, 티탄, 니켈, 안티몬, 마그네슘, 바나듐, 크롬 및 지르코늄 등의 다가 금속에, 아세틸아세톤이나 아세토아세트산에틸이 배위된 화합물 등을 포함한다.
가교제는, 활성 에너지선 경화성 성분 100 중량부에 대하여, 통상 0.05∼10 중량부, 바람직하게는 0.1∼5 중량부의 비율로 함유된다.
활성 에너지선 경화형 점착제 조성물은, 대전 방지제로서 이온성 화합물을 더 함유할 수 있다. 이온성 화합물은, 예컨대 무기 양이온 또는 유기 양이온과, 무기 음이온 또는 유기 음이온을 갖는 화합물이다. 이온성 화합물은, 1종만을 단독으로 사용해도 좋고, 2종 이상을 병용해도 좋다.
무기 양이온으로는, 예컨대 리튬 양이온〔Li+〕, 나트륨 양이온〔Na+〕, 칼륨 양이온〔K+〕과 같은 알칼리 금속 이온이나, 베릴륨 양이온〔Be2 +〕, 마그네슘 양이온〔Mg2+〕, 칼슘 양이온〔Ca2 +〕과 같은 알칼리 토금속 이온 등을 들 수 있다.
유기 양이온으로는, 예컨대 이미다졸륨 양이온, 피리디늄 양이온, 피롤리디늄 양이온, 암모늄 양이온, 술포늄 양이온, 포스포늄 양이온 등을 들 수 있다.
상기 양이온 성분 중, 유기 양이온 성분은, 점착제 조성물 중의 상용성이 우수하다. 유기 양이온 성분 중에서도, 피리디늄 양이온 및 이미다졸륨 양이온은, 대전 방지성의 점에서 유리하다.
무기 음이온으로는, 예컨대 클로라이드 음이온〔Cl-〕, 브로마이드 음이온〔Br-〕, 이오다이드 음이온〔I-〕, 테트라클로로알루미네이트 음이온〔AlCl4 -〕, 헵타클로로디알루미네이트 음이온〔Al2Cl7 -〕, 테트라플루오로보레이트 음이온〔BF4 -〕, 헥사플루오로포스페이트 음이온〔PF6 -〕, 퍼클로레이트 음이온〔ClO4 -〕, 나이트레이트 음이온〔NO3 -〕, 헥사플루오로아세네이트 음이온〔AsF6 -〕, 헥사플루오로안티모네이트 음이온〔SbF6 -〕, 헥사플루오로니오베이트 음이온〔NbF6 -〕, 헥사플루오로탄탈레이트 음이온〔TaF6 -〕, 디시아나미드 음이온〔(CN)2N-〕 등을 들 수 있다.
유기 음이온으로는, 예컨대 아세테이트 음이온〔CH3COO-〕, 트리플루오로아세테이트 음이온〔CF3COO-〕, 메탄술포네이트 음이온〔CH3SO3 -〕, 트리플루오로메탄술포네이트 음이온〔CF3SO3 -〕, p-톨루엔술포네이트 음이온〔p-CH3C6H4SO3 -〕, 비스(플루오로술포닐)이미드 음이온〔(FSO2)2N-〕, 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드 음이온〔(CF3SO2)2N-〕, 트리스(트리플루오로메탄술포닐)메타니드 음이온〔(CF3SO2)3C-〕, 디메틸포스피네이트 음이온〔(CH3)2POO-〕, (폴리)하이드로플루오로플루오라이드 음이온〔F(HF)n -〕(n은 1∼3 정도), 티오시안 음이온〔SCN-〕, 퍼플루오로부탄술포네이트 음이온〔C4F9SO3 -〕, 비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드 음이온〔(C2F5SO2)2N-〕, 퍼플루오로부타노에이트 음이온〔C3F7COO-〕, (트리플루오로메탄술포닐)(트리플루오로메탄카르보닐)이미드 음이온〔(CF3SO2)(CF3CO)N-〕, 퍼플루오로프로판-1,3-디술포네이트 음이온〔-O3S(CF2)3SO3 -〕, 카보네이트 음이온〔CO3 2-〕 등을 들 수 있다. 상기 음이온 성분 중에서도, 불소 원자를 포함하는 음이온 성분은 대전 방지성의 점에서 유리하다.
이온성 화합물의 구체예는, 상기 양이온 성분과 음이온 성분의 조합에서 적절하게 선택할 수 있다. 유기 양이온을 갖는 이온성 화합물의 예를 유기 양이온의 구조마다 분류하면, 다음과 같은 것을 들 수 있다.
피리디늄염 :
N-헥실피리디늄 헥사플루오로포스페이트,
N-옥틸피리디늄 헥사플루오로포스페이트,
N-옥틸-4-메틸피리디늄 헥사플루오로포스페이트,
N-부틸-4-메틸피리디늄 헥사플루오로포스페이트,
N-데실피리디늄 비스(플루오로술포닐)이미드,
N-도데실피리디늄 비스(플루오로술포닐)이미드,
N-테트라데실피리디늄 비스(플루오로술포닐)이미드,
N-헥사데실피리디늄 비스(플루오로술포닐)이미드,
N-도데실-4-메틸피리디늄 비스(플루오로술포닐)이미드,
N-테트라데실-4-메틸피리디늄 비스(플루오로술포닐)이미드,
N-헥사데실-4-메틸피리디늄 비스(플루오로술포닐)이미드,
N-벤질-2-메틸피리디늄 비스(플루오로술포닐)이미드,
N-벤질-4-메틸피리디늄 비스(플루오로술포닐)이미드,
N-헥실피리디늄 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드,
N-옥틸피리디늄 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드,
N-옥틸-4-메틸피리디늄 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드,
N-부틸-4-메틸피리디늄 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드.
이미다졸륨염 :
1-에틸-3-메틸이미다졸륨 헥사플루오로포스페이트,
1-에틸-3-메틸이미다졸륨 p-톨루엔술포네이트,
1-에틸-3-메틸이미다졸륨 비스(플루오로술포닐)이미드,
1-에틸-3-메틸이미다졸륨 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드,
1-부틸-3-메틸이미다졸륨 메탄술포네이트,
1-부틸-3-메틸이미다졸륨 비스(플루오로술포닐)이미드.
피롤리디늄염 :
N-부틸-N-메틸피롤리디늄 헥사플루오로포스페이트,
N-부틸-N-메틸피롤리디늄 비스(플루오로술포닐)이미드,
N-부틸-N-메틸피롤리디늄 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드.
4급 암모늄염 :
테트라부틸암모늄 헥사플루오로포스페이트,
테트라부틸암모늄 p-톨루엔술포네이트,
(2-히드록시에틸)트리메틸암모늄 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드,
(2-히드록시에틸)트리메틸암모늄 디메틸포스피네이트.
또한, 무기 양이온을 갖는 이온성 화합물의 예를 들면, 다음과 같은 것을 들 수 있다.
리튬 브로마이드,
리튬 이오다이드,
리튬 테트라플루오로보레이트,
리튬 헥사플루오로포스페이트,
리튬 티오시아네이트,
리튬 퍼클로레이트,
리튬 트리플루오로메탄술포네이트,
리튬 비스(플루오로술포닐)이미드,
리튬 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드,
리튬 비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드,
리튬 트리스(트리플루오로메탄술포닐)메타니드,
리튬 p-톨루엔술포네이트,
나트륨 헥사플루오로포스페이트,
나트륨 비스(플루오로술포닐)이미드,
나트륨 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드,
나트륨 p-톨루엔술포네이트,
칼륨 헥사플루오로포스페이트,
칼륨 비스(플루오로술포닐)이미드,
칼륨 비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드,
칼륨 p-톨루엔술포네이트.
이온성 화합물은, 대전 방지성의 지속성의 관점에서 30℃ 이상, 나아가 35℃ 이상의 융점을 갖는 것이 바람직하다. 한편, 이온성 화합물은, 활성 에너지선 경화성 성분과의 상용성의 관점에서, 바람직하게는 90℃ 이하, 보다 바람직하게는 70℃ 이하, 더욱 바람직하게는 50℃ 미만의 융점을 갖는다.
이온성 화합물은, 활성 에너지선 경화성 성분 100 중량부에 대하여, 바람직하게는 0.2∼8 중량부, 보다 바람직하게는 0.2∼5 중량부의 비율로 배합된다. 이온성 화합물의 함유량이 0.2 중량부 이상인 것은 대전 방지성의 향상에 유리하고, 8 중량부 이하인 것은 점착제층의 내구성 향상에 유리하다.
활성 에너지선 경화형 점착제 조성물은, 점착제층 부착 세퍼레이트 필름(20)의 점착제층(12)이 유리로 구성되는 광학 부재(30)에 접합되는 경우, 점착제층(12)과 유리의 밀착성을 향상시키기 위해서 실란 화합물을 더 함유할 수 있다. 실란 화합물은, 1종만을 단독으로 사용해도 좋고, 2종 이상을 병용해도 좋다.
실란 화합물로는, 예컨대 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 메타크릴옥시프로필트릴메톡시실란, 비닐트리스(2-메톡시에톡시)실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 3-클로로프로필메틸디메톡시실란, 3-클로로프로필트리메톡시실란, 3-메타크릴로일옥시프로필트리메톡시실란, 3-머캅토프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필디메톡시메틸실란, 3-글리시독시프로필에톡시디메틸실란 등을 들 수 있다.
실란 화합물은, 실리콘 올리고머 타입인 것이어도 좋다. 실리콘 올리고머로는, 예컨대 다음과 같은 것을 들 수 있다.
3-머캅토프로필트리메톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머,
3-머캅토프로필트리메톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머,
3-머캅토프로필트리에톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머,
3-머캅토프로필트리에톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머
등의 머캅토프로필기 함유의 코폴리머;
머캅토메틸트리메톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머,
머캅토메틸트리메톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머,
머캅토메틸트리에톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머,
머캅토메틸트리에톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머
등의 머캅토메틸기 함유의 코폴리머;
3-글리시독시프로필트리메톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머,
3-글리시독시프로필트리메톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머,
3-글리시독시프로필트리에톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머,
3-글리시독시프로필트리에톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머,
3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머,
3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머,
3-글리시독시프로필메틸디에톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머,
3-글리시독시프로필메틸디에톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머
등의 3-글리시독시프로필기 함유의 코폴리머;
3-메타크릴로일옥시프로필트리메톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머,
3-메타크릴로일옥시프로필트리메톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머,
3-메타크릴로일옥시프로필트리에톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머,
3-메타크릴로일옥시프로필트리에톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머,
3-메타크릴로일옥시프로필메틸디메톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머,
3-메타크릴로일옥시프로필메틸디메톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머,
3-메타크릴로일옥시프로필메틸디에톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머,
3-메타크릴로일옥시프로필메틸디에톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머
등의 메타크릴로일옥시프로필기 함유의 코폴리머;
3-아크릴로일옥시프로필트리메톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머,
3-아크릴로일옥시프로필트리메톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머,
3-아크릴로일옥시프로필트리에톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머,
3-아크릴로일옥시프로필트리에톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머,
3-아크릴로일옥시프로필메틸디메톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머,
3-아크릴로일옥시프로필메틸디메톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머,
3-아크릴로일옥시프로필메틸디에톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머,
3-아크릴로일옥시프로필메틸디에톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머
등의 아크릴로일옥시프로필기 함유의 코폴리머;
비닐트리메톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머,
비닐트리메톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머,
비닐트리에톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머,
비닐트리에톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머,
비닐메틸디메톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머,
비닐메틸디메톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머,
비닐메틸디에톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머,
비닐메틸디에톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머
등의 비닐기 함유의 코폴리머;
3-아미노프로필트리메톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머,
3-아미노프로필트리메톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머,
3-아미노프로필트리에톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머,
3-아미노프로필트리에톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머,
3-아미노프로필메틸디메톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머,
3-아미노프로필메틸디메톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머,
3-아미노프로필메틸디에톡시실란-테트라메톡시실란 코폴리머,
3-아미노프로필메틸디에톡시실란-테트라에톡시실란 코폴리머
등의 아미노기 함유의 코폴리머 등.
실란 화합물은, 활성 에너지선 경화성 성분 100 중량부에 대하여, 통상 0.01∼10 중량부, 바람직하게는 0.05∼5 중량부의 비율로 함유된다. 실란 화합물의 함유량이 0.01 중량부 이상이면, 점착제층(12)과 유리의 밀착성 향상 효과가 얻어지기 쉽다. 또한 함유량이 10 중량부 이하이면, 점착제층(12)으로부터의 실란 화합물의 블리드아웃을 억제할 수 있다.
활성 에너지선 경화형 점착제 조성물은, 용제(방향족계 탄화수소, 지방족계 탄화수소, 케톤류, 에스테르류 등), 가교 촉매, 내후 안정제, 테키파이어, 가소제, 연화제, 염료, 안료, 무기 필러, 광산란성 미립자, 점착 부여제 등의 다른 첨가제를 1종 또는 2종 이상 함유할 수 있다.
(3) 활성 에너지선 경화형 점착제 조성물의 도공
도공 장치(50)를 이용한 세퍼레이트 필름(10)에 대한 활성 에너지선 경화형 점착제 조성물의 도공 방법은 특별히 제한되지 않고, 예컨대 슬롯다이법, 리버스 그라비아코트법, 마이크로그라비아법, 디프법, 롤코트법, 플렉소 인쇄법 등을 이용할 수 있다. 활성 에너지선 경화형 점착제 조성물로 이루어진 도공층(11)의 두께는, 점착제층 부착 세퍼레이트 필름(20)의 점착제층(12)의 두께가 후술하는 범위가 되도록 조정된다.
도 1에 도시된 바와 같이, 도공 공정은, 보다 구체적으로는, 제1 조출 롤(1)로부터 연속적으로 풀어내는 장척의 세퍼레이트 필름(10)의 한쪽 면에 활성 에너지선 경화형 점착제 조성물을 연속 도공하는 공정일 수 있다. 이 때, 도 1에 도시된 바와 같이, 세퍼레이트 필름(10)을 도공용 롤(60)에 감아 걸면서 활성 에너지선 경화형 점착제 조성물을 도공해도 좋다.
[노광 공정]
본 공정은, 도공층(11)을 갖는 세퍼레이트 필름(15)을 연속 반송하면서, 그 도공층(11)에 대하여 활성 에너지선을 조사함으로써 패턴 노광을 하여, 점착제층(12)을 갖는 점착제층 부착 세퍼레이트 필름(20)을 얻는 공정이다(도 1 및 도 3 참조). 본 공정을 거쳐서, 세퍼레이트 필름 부착 광학 부재의 중간체인 점착제층(12)을 갖는 점착제층 부착 세퍼레이트 필름(20)이 연속 제조된다. 활성 에너지선은, 바람직하게는 자외선이다.
활성 에너지선의 조사에 의한 패턴 노광에 의해 점착제층(12)에는, 노광된 제1 영역(12a)과, 제1 영역(12a)보다 노광량이 작은 제2 영역(12b)이 형성된다(도 3). 제2 영역(12b)은, 노광되지 않는 영역이어도 좋지만, 바람직하게는, 제1 영역(12a)보다 노광량이 작은 한 어느 정도 노광되고, 활성 에너지선의 조사에 의한 경화 반응이 어느 정도 진행되고 있는 영역이다.
점착제층(12)에서의 제1 영역(12a)과 제2 영역(12b)의 배치 패턴은, 적용되는 플렉시블 디스플레이의 굴곡 양태에 따라서 선택할 수 있다. 플렉시블 디스플레이의 굴곡 양태의 예를 도 4에 나타낸다. 도 4의 (a)는 권취 가능한 플렉시블 디스플레이이고, 도 4의 (b)는 절첩 가능한 플렉시블 디스플레이이다.
제1 영역(12a)과 제2 영역(12b)을 포함하는 점착제층(12)은, 도 1에 도시된 바와 같이, 마스크(81)를 통해 노광 장치(활성 에너지선 조사 장치)(80)로부터의 활성 에너지선을 도공층(11)에 조사하는 방법에 의해 형성할 수 있다. 도공층(11)에 대한 활성 에너지선의 조사를 복수회 행해도 좋다. 이용하는 마스크(81)의 슬릿 형상이나 특성, 마스크(81)를 통한 활성 에너지선의 조사 방법 등을 적절히 선택함으로써, 제1 영역(12a)과 제2 영역(12b)의 배치 패턴을 원하는 패턴으로 할 수 있다. 제1 영역(12a)과 제2 영역(12b)의 배치 패턴이나, 마스크(81)를 통한 활성 에너지선의 조사 방법 등에 관해 구체예를 나타내면, 예컨대 다음과 같다.
a) 도 5는, 차광 마스크(81a)를 통해 도공층(11)에 활성 에너지선을 조사하는 모습을 나타내는 개략 평면도이다. 화살표는, 도공층(11)을 갖는 세퍼레이트 필름(15)의 반송 방향을 나타내고 있다. 차광 마스크(81a)는, 도공층(11)을 갖는 세퍼레이트 필름(15)의 길이 방향(반송 방향)을 따르는 방향으로 연장되는 복수의 슬릿(관통부)(85)을 갖고 있고, 이들 복수의 슬릿(85)은, 필름 폭방향을 따라서 배열되어 있다. 노광 장치(활성 에너지선 조사 장치)(80)는, 차광 마스크(81a)에 대하여 고정되어 있다. 차광 마스크(81a)를 통해 노광 장치(80)로부터의 활성 에너지선을, 도공층(11)을 갖는 세퍼레이트 필름(15)에 조사하면, 제1 영역(12a)과 제2 영역(12b)이 예컨대 도 6의 (a)와 같이 배치된 점착제층(12)을 얻을 수 있다. 이 배치 패턴은, 도 4의 (a)에 도시되는 권취 가능한 플렉시블 디스플레이에 유리하고, 도 6의 (a)에 도시된 바와 같은 권취 방향에 대략 수직인 방향으로 연장되는 제1 영역(12a)과 제2 영역(12b)을 교대로 배치함으로써, 권취시의 응력을 완화할 수 있고, 이에 따라, 점착제층(12)과 이것에 인접하는 부재 사이에서의 밀착성을 양호하게 유지할 수 있다.
b) 폭방향 중앙부를 남기고 다른 부분을 전부 관통부(슬릿)로 한 마스크(81)를 이용하면, 제1 영역(12a)과 제2 영역(12b)이 예컨대 도 6의 (b)와 같이 배치된 점착제층(12)을 얻을 수 있다. 이 배치 패턴은, 도 4의 (b)에 도시되는 절첩 가능한 플렉시블 디스플레이에 유리하고, 절첩부에 대응하는 위치에 제2 영역(12b)을 설치함으로써 절첩시의 응력을 완화할 수 있고, 이에 따라, 점착제층(12)과 이것에 인접하는 부재 사이에서의 밀착성을 양호하게 유지할 수 있다.
c) 도 5에 도시되는 마스크(81a)와 같은 슬릿을 갖는 차광 마스크를 이용하여 활성 에너지선을 1회 조사하면, 차광된 영역은, 노광되지 않은(노광량이 제로) 제2 영역(12b)이 된다. 한편, 도 7에 도시된 바와 같이, 슬릿(85)을 갖는 차광 마스크(81a)를 통해 활성 에너지선을 조사한 후(도 7의 (a)), 마스크를 통하지 않고 도공층(11) 전면에 활성 에너지선을 조사하는(도 7의 (b)) 복수회 조사법에 의하면, 제2 영역(12b)을 노광된 영역으로 할 수 있다. 도 7의 (b)의 공정과 도 7의 (a)의 공정은 순서가 반대이어도 좋다.
d) 도 8에 도시된 바와 같이, 하프톤 마스크(81b)를 통해 활성 에너지선을 조사하면, 1회의 조사로 노광된 제2 영역(12b)을 형성할 수 있다. 하프톤 마스크(81b)란, 활성 에너지선의 투과량이 보다 큰 영역(82)과 보다 작은(제로가 아닌) 영역(83)을 갖는 마스크를 말한다.
e) 도 9∼도 12에, 제1 영역(12a) 및 제2 영역(12b)의 배치 패턴의 다른 예를 나타낸다. 제1 영역(12a) 및 제2 영역(12b)이 연장되는 방향은, 필름의 반송 방향(또는 세퍼레이트 필름 부착 광학 부재(40)를 매엽체로 했을 때의 예컨대 짧은 변 방향)에 대하여 평행해도 좋다(도 9).
제1 영역(12a) 및 제2 영역(12b)의 폭은 특별히 제한되지 않고, 이들이 복수 존재하는 경우에 있어서 서로 동일해도 좋고(도 10의 (a)) 상이해도 좋다(도 10의 (b)). 점착제층(12)의 표면에서 차지하는 제1 영역(12a)의 비율도 특별히 제한되지 않고, 인접하는 제1 영역(12a) 사이의 거리(피치)를 짧게 해도 좋고(도 11의 (a)) 길게 해도 좋다(도 11의 (b)). 또한 도 12에 도시된 바와 같이, 제1 영역(12a) 및/또는 제2 영역(12b)은, 어떤 방향을 따라서 노광량이 점차적으로 변화하고 있어도 좋다. 이러한 그레데이션을 부여하면, 제1 영역(12a)과 제2 영역(12b)의 경계에서의 점착제층(12)의 저장 탄성률의 변화(차)를 작게 하는 것이 가능해지고, 이것에 의해 굴곡에 대한 점착제층(12)의 내구성을 높일 수 있다. 노광량이 점차적으로 변화하는 제1 영역(12a) 및/또는 제2 영역(12b)은, 그라데이션 마스크를 통해 활성 에너지선을 조사함으로써 형성할 수 있다. 그라데이션 마스크는, 어떤 방향을 따라서 활성 에너지선의 투과량이 점차적으로 변화하는 마스크이다.
도공층(11)에 조사하는 활성 에너지선의 광원은 특별히 한정되지 않지만, 파장 400 nm 이하에 발광 분포를 갖는 자외선이 바람직하고, 구체적으로는, 저압 수은등, 중압 수은등, 고압 수은등, 초고압 수은등, 케미컬 램프, 블랙라이트 램프, 마이크로웨이브 여기 수은등, 메탈할라이드 램프, LED형 자외선 램프 등을 이용할 수 있다.
도공층(11)에 대한 활성 에너지선의 조사 강도는, 예컨대 1∼1000 mW/㎠이다. 또한, 광조사 강도와 광조사 시간의 곱으로서 표시되는 적산 광량은, 예컨대 10∼5000 mJ/㎠이다.
노광 공정을 거쳐서 얻어지는 점착제층 부착 세퍼레이트 필름(20)이 갖는 점착제층(12)의 두께는, 예컨대 1∼200 ㎛이고, 바람직하게는 5∼35 ㎛이다. 점착제층(12)의 두께가 200 ㎛ 이하인 것은, 디스플레이의 박형화나, 활성 에너지선의 조사 효율의 점에서 유리하다. 또한 그 두께가 5 ㎛ 이상이면, 플렉시블 디스플레이로서 이것을 굴곡시켰을 때에 응력 완화의 점에서 유리해지고, 인접하는 광학 부재와의 밀착성이 양호해진다.
[접합 공정]
본 공정은, 점착제층 부착 세퍼레이트 필름(20)의 점착제층(12)의 외면에 광학 부재(30)를 접합하여, 세퍼레이트 필름 부착 광학 부재(40)를 얻는 공정이다(도 1 및 도 13 참조). 도 13에 도시된 바와 같이, 세퍼레이트 필름 부착 광학 부재(40)는, 점착제층 부착 세퍼레이트 필름(20)을 그 점착제층(12)을 통해 광학 부재(30)의 표면에 적층 접합한 것이다. 본 발명에 의해 얻어지는 세퍼레이트 필름 부착 광학 부재(40)에 의하면, 세퍼레이트 필름(10)을 박리 제거하고, 노출된 점착제층(20)을 통해 화상 표시 셀 등의 다른 광학 부재에 접합하여 이루어진 플렉시블 디스플레이가 굴곡되더라도, 점착제층과 이것에 인접하는 부재(광학 부재(30) 및 화상 표시 셀 등의 다른 광학 부재)의 사이에서 양호한 밀착성을 유지할 수 있다. 따라서, 본 발명에 의해 얻어지는 세퍼레이트 필름 부착 광학 부재(40)를 적용한 플렉시블 디스플레이는, 내구성 및 신뢰성이 우수한 것이 될 수 있다.
접합 공정은, 구체적으로는 다음과 같이 하여 실시할 수 있다. 노광 공정을 거쳐서 얻어진 장척의 점착제층 부착 세퍼레이트 필름(20)을 계속해서 연속 반송함과 함께, 제2 조출 롤(2)로부터 장척의 광학 부재(30)를 풀어내면서 연속 반송하고, 점착제층 부착 세퍼레이트 필름(20)의 점착제층(12)의 외면에 광학 부재(30)를 적층하여 적층체로 한다. 이 적층체를 한쌍의 접합 롤(90) 등을 이용하여 상하로부터 압박함으로써, 세퍼레이트 필름 부착 광학 부재(40)를 연속 제조한다. 점착제층(12)과 광학 부재(30)의 밀착성의 관점에서, 노광 공정을 거쳐서 얻어진 점착제층 부착 세퍼레이트 필름(20)은, 일단 롤형으로 권취하지 않고 광학 부재(30)와의 접합 공정에 공급되는 것이 바람직하고, 필요에 따라 표면 활성화 처리 등을 한 뒤에 광학 부재(30)와의 접합 공정에 공급되어도 좋다.
도 1은, 광학 부재(30)의 한면에 점착제층 부착 세퍼레이트 필름(20)을 접합하는 예를 나타내고 있지만, 광학 부재(30)의 양면에 점착제층 부착 세퍼레이트 필름(20)을 접합해도 좋다.
광학 부재(30)의 양면에 점착제층 부착 세퍼레이트 필름(20)을 접합하는 경우, 양면의 점착제층 부착 세퍼레이트 필름(20)은 동시에 접합해도 좋고, 단계적으로 접합해도 좋다.
광학 부재(30)는, 플렉시블 디스플레이에 삽입될 수 있는 광학 부재이며, 예컨대 단층 또는 다층 구조의 광학 필름 등일 수 있다. 광학 필름의 구체예는, 편광 필름; 광학 보상 필름(위상차 필름 등), 반사 방지 필름(시트), 광확산 필름(시트), 반사 필름(시트) 등의 광학 기능성 필름; 편광 필름용 보호 필름; 편광판; 유리 필름(유리 시트나 유리 기판을 포함) 등을 포함한다. 광학 부재(30)는, 바람직하게는 편광판이다.
편광판은, 편광 필름의 적어도 한쪽 면에 접착제층을 통해 보호 필름을 접합한 것일 수 있다. 이 보호 필름은, 위상차 필름과 같은 광학 보상 필름으로서의 기능을 겸하고 있어도 좋다. 편광판은, 편광 필름의 적어도 한쪽 면에 경화성 수지로 형성된 경화 수지층을 적층한 것이어도 좋다. 또한, 편광 필름 상 또는 보호 필름 또는 경화 수지층 상에 접착제층이나 점착제층을 통해, 예컨대 위상차 필름, 휘도 향상 필름과 같은 다른 광학 기능성 필름이 적층되어 있어도 좋다.
편광 필름 상 또는 보호 필름 또는 경화 수지층 상에, 프로텍트 필름이 적층되어 있어도 좋다. 프로텍트 필름은, 광학 부재의 표면을 손상이나 오염으로부터 보호할 목적으로 광학 부재에 가착되는 박리 가능한 필름이며, 통상적으로 열가소성 수지로 이루어진 기재 필름과 그 위에 적층되는 점착제층으로 구성된다.
편광 필름은, 입사하는 자연광으로부터 직선 편광을 취출하는 기능을 갖는 필름이며, 적합한 예는, 일축 연신된 폴리비닐알콜계 수지 필름에 요오드나 이색성 염료 등의 이색성 색소가 흡착 배향되어 있는 것이다. 편광 필름의 두께는 특별히 제한되지 않지만, 통상 2∼35 ㎛이다.
보호 필름은, 투광성을 갖는(바람직하게는 광학적으로 투명한) 열가소성 수지 필름일 수 있다. 열가소성 수지의 구체예는, 쇄형 폴리올레핀계 수지(폴리프로필렌계 수지 등), 고리형 폴리올레핀계 수지(노르보넨계 수지 등)와 같은 폴리올레핀계 수지; 폴리에스테르계 수지(폴리에틸렌테레프탈레이트계 수지 등); (메트)아크릴계 수지(메타크릴산메틸계 수지 등); 셀룰로오스계 수지(트리아세틸셀룰로오스, 디아세틸셀룰로오스와 같은 아세트산셀룰로오스계 수지 등); 폴리카보네이트계 수지; 폴리비닐알콜계 수지; 폴리아세트산비닐계 수지; 폴리아릴레이트계 수지; 폴리스티렌계 수지; 폴리에테르술폰계 수지; 폴리술폰계 수지; 폴리아미드계 수지; 폴리이미드계 수지; 및 이들의 혼합물, 공중합물을 포함한다. 보호 필름의 두께는, 예컨대 5∼200 ㎛ 정도이고, 바람직하게는 10∼150 ㎛, 보다 바람직하게는 15∼100 ㎛이다.
경화 수지층은, 열경화성 수지나 활성 에너지선 경화성 수지 등의 경화성 수지로 형성된다. 경화성 수지는, 열중합성 화합물을 포함하는 것이어도 좋고, 양이온 중합성 화합물을 포함하는 것이어도 좋고, 라디칼 중합성 화합물을 포함하는 것이어도 좋고, 이들 복수의 종류를 포함하는 것이어도 좋다. 경화 수지층의 두께는, 예컨대 0.1∼10 ㎛ 정도이고, 바람직하게는 1∼5 ㎛이다.
편광 필름의 양면에 보호 필름이 접합되는 경우에 있어서, 이들 보호 필름은, 동종의 열가소성 수지로 구성되어 있어도 좋고, 이종의 열가소성 수지로 구성되어 있어도 좋다. 또한, 두께가 동일해도 좋고 상이해도 좋다. 편광 필름의 양면에 경화 수지층이 적층되는 경우에 있어서, 이들 경화 수지층은, 동종의 경화성 수지로 형성되어 있어도 좋고, 이종의 경화성 수지로 형성되어 있어도 좋다. 또한, 두께가 동일해도 좋고 상이해도 좋다. 보호 필름이나 경화 수지층은, 하드코트층, 방현층, 반사 방지층, 광확산층, 대전 방지층, 오염 방지층, 도전층과 같은 표면 처리층(코팅층)을 갖고 있어도 좋다. 편광 필름의 한면에 보호 필름이 접합되는 경우나 경화 수지층이 적층되는 경우는, 점착제층 부착 세퍼레이트 필름(20)의 점착제층(12)은, 편광 필름면에 직접 접합되어도 좋다.
위상차 필름은, 광학 이방성을 나타내는 광학 필름이며, 상기 보호 필름에 이용할 수 있는 수지 등으로 구성되는 열가소성 수지 필름의 일축 또는 이축 연신 필름이나, 열가소성 수지 필름에 대한 액정성 화합물의 도포ㆍ배향에 의해 광학 이방성을 발현시킨 필름, 열가소성 수지 필름에 대한 무기층형 화합물의 도포에 의해 광학 이방성을 발현시킨 필름 등일 수 있다.
보호 필름(또는 위상차 필름 등)은, 접착제층을 통해 편광 필름에 접합할 수 있다. 접착제층을 형성하는 접착제로는, 수계 접착제, 활성 에너지선 경화성 접착제 또는 열경화성 접착제를 이용할 수 있고, 바람직하게는 수계 접착제, 활성 에너지선 경화성 접착제이다.
수계 접착제로는, 폴리비닐알콜계 수지 수용액으로 이루어진 접착제, 수계 이액형 우레탄계 에멀젼 접착제 등을 들 수 있다. 그 중에서도 폴리비닐알콜계 수지 수용액으로 이루어진 수계 접착제가 적합하게 이용된다. 폴리비닐알콜계 수지로는, 아세트산비닐의 단독 중합체인 폴리아세트산비닐을 비누화 처리하여 얻어지는 비닐알콜호모폴리머 외에, 아세트산비닐과 이것에 공중합 가능한 다른 단량체의 공중합체를 비누화 처리하여 얻어지는 폴리비닐알콜계 공중합체 또는 이들의 수산기를 부분적으로 변성한 변성 폴리비닐알콜계 중합체 등을 이용할 수 있다. 수계 접착제는, 알데히드 화합물(글리옥살 등), 에폭시 화합물, 멜라민계 화합물, 메틸올 화합물, 이소시아네이트 화합물, 아민 화합물, 다가 금속염 등의 가교제를 포함할 수 있다.
수계 접착제를 사용하는 경우는, 편광 필름과 보호 필름을 접합한 후, 수계 접착제중에 포함되는 물을 제거하기 위한 건조 공정을 실시하는 것이 바람직하다. 건조 공정후, 예컨대 20∼45℃ 정도의 온도에서 양생하는 양생 공정을 설치해도 좋다.
상기 활성 에너지선 경화성 접착제란, 자외선, 가시광선, X선, 전자선과 같은 활성 에너지선을 조사함으로써 경화하는 접착제를 말하며, 예컨대 중합성 화합물 및 광중합 개시제를 포함하는 경화성 조성물, 광반응성 수지를 포함하는 경화성 조성물, 바인더 수지 및 광반응성 가교제를 포함하는 경화성 조성물 등을 들 수 있다. 바람직하게는 자외선 경화성 접착제이다. 중합성 화합물로는, 광경화성 에폭시계 모노머, 광경화성 (메트)아크릴계 모노머, 광경화성 우레탄계 모노머와 같은 광중합성 모노머나, 광중합성 모노머에서 유래하는 올리고머를 들 수 있다. 광중합 개시제로는, 활성 에너지선의 조사에 의해 중성 라디칼, 음이온 라디칼, 양이온 라디칼과 같은 활성종을 발생시키는 물질을 포함하는 것을 들 수 있다. 중합성 화합물 및 광중합 개시제를 포함하는 활성 에너지선 경화성 접착제로서, 광경화성 에폭시계 모노머 및 광양이온 중합 개시제를 포함하는 경화성 조성물이나, 광경화성 (메트)아크릴계 모노머 및 광라디칼 중합 개시제를 포함하는 경화성 조성물, 광경화성 에폭시계 모노머, 광경화성 (메트)아크릴계 모노머, 광양이온 중합 개시제 및 광라디칼 중합 개시제를 포함하는 경화성 조성물을 바람직하게 이용할 수 있다.
활성 에너지선 경화성 접착제를 이용하는 경우는, 편광 필름과 보호 필름을 접합한 후, 필요에 따라서 건조 공정을 행하고(단, 활성 에너지선 경화성 접착제는, 실질적으로 용제 성분을 포함하지 않는 무용제형 접착제일 수 있음), 이어서 활성 에너지선을 조사함으로써 활성 에너지선 경화성 접착제를 경화시키는 경화 공정을 실시한다. 활성 에너지선의 광원은 특별히 한정되지 않지만, 파장 400 nm 이하에 발광 분포를 갖는 자외선이 바람직하고, 구체적으로는, 저압 수은등, 중압 수은등, 고압 수은등, 초고압 수은등, 케미컬 램프, 블랙라이트 램프, 마이크로웨이브 여기 수은등, 메탈할라이드 램프 등을 이용할 수 있다.
보호 필름의 접합에 앞서서, 접착성 향상을 위해, 편광 필름 및 보호 필름의 적어도 어느 한쪽의 접합면에 코로나 처리, 플라즈마 처리, 자외선 조사 처리, 프레임(화염) 처리, 비누화 처리, 프라이머층 형성 처리와 같은 표면 활성화 처리를 실시해도 좋다.
편광 필름의 양면에 보호 필름이 접합되는 경우에 있어서, 이들 보호 필름을 접합하기 위한 접착제는, 동종의 접착제이어도 좋고, 이종의 접착제이어도 좋다.
[그 밖의 공정]
(1) 건조 공정
본 발명에 관한 제조 방법은, 도공 공정과 노광 공정 사이에, 도공층(11)을 갖는 세퍼레이트 필름(15)의 도공층(11)을 건조(용제 휘발)시키는 건조 공정을 갖고 있어도 좋다. 이 건조 공정은 통상적으로, 도공층(11)(활성 에너지선 경화형 점착제 조성물)이 용제를 포함하는 경우에 실시된다. 건조 공정은, 도 1을 참조하여, 도공 공정에 의해 얻어진 도공층(11)을 갖는 장척의 세퍼레이트 필름(15)을 계속해서 연속 반송하여, 건조 수단(70)에 통과시키는(도입) 것에 의해 실시할 수 있다.
건조 수단(70)은 용제를 휘발할 수 있는 수단이라면 특별히 제한되지 않고, 예컨대 건조로(가열로)이다. 건조로는, 가열 수단에 더하여 감압 수단을 더 포함할 수 있다. 건조로 내에 공급되는 열풍의 풍량, 건조로 내의 온도 및 압력 등의 건조 조건은, 도공층(11)에 포함되는 용제의 종류나, 평활성, 결로 등의 건조후의 면상태를 고려하여 적절하게 설정된다. 건조 온도(예컨대 건조로 내의 온도)는, 통상 50∼120℃, 바람직하게는 60∼110℃이다.
(2) 표면 활성화 공정
본 발명에 관한 제조 방법은, 접합 공정에 앞서서, 보다 구체적으로는, 노광 공정과 접합 공정 사이에, 광학 부재(30)에서의 점착제층(12)과의 접합면 및 점착제층(12)에서의 광학 부재(30)와의 접합면의 적어도 한쪽에 에너지 조사를 행하는 표면 활성화 공정을 더 포함할 수 있다. 표면 활성화 공정에서의 표면 활성화 처리는, 코로나 처리, 플라즈마 처리, 자외선 조사 처리, 프레임(화염) 처리, 비누화 처리 등일 수 있다.
광학 부재(30)에서의 점착제층(12)과의 접합면 및 점착제층(12)에서의 광학 부재(30)와의 접합면의 쌍방에 표면 활성화 처리를 실시하는 경우, 이들 표면 활성화 처리는, 점착제층(12)과 광학 부재(30)의 밀착성의 관점에서, 바람직하게는, 노광 공정후의 점착제층 부착 세퍼레이트 필름(20)이 접합 공정에 도달하기까지의 시간과, 표면 활성화 처리후의 광학 부재(30)가 접합 공정에 도달하기까지의 시간이 동일하거나, 또는 대략 동일해지는 타이밍에 실시된다. 또한, 점착제층(12)과 광학 부재(30)의 밀착성의 관점에서, 표면 활성화 공정에서 에너지 조사를 행하고 나서, 접합 공정에서 상기 적층체를 한쌍의 접합 롤(90) 등을 이용하여 압박하기까지의 시간은, 바람직하게는 5초 이하이다. 표면 활성화 처리는, 상기 접합면에 대하여 복수회 행해도 좋다.
(3) 권취 공정 및 양생 공정
본 발명에 관한 제조 방법은, 접합 공정을 거쳐서 얻어진 장척의 세퍼레이트 필름 부착 광학 부재(40)를 권취 롤(3)에 감아 거는 것에 의해 롤형으로 권취하여 필름 롤로 하는 권취 공정을 포함할 수 있다(도 1 참조). 또한 본 발명에 관한 제조 방법은, 권취 공정후의 롤 상태로 점착제층(12)의 양생(숙성)을 행하는 양생 공정을 포함할 수도 있다. 양생 공정을 실시함으로써 점착제층(12)의 경화 반응이 촉진되고, 점착제층(13)의 점착력을 높일 수 있다. 또한, 점착제층(12)을 광학 부재(30)에 밀착시킨 상태로 양생(점착제의 경화 반응)을 행함으로써, 광학 부재(30)와의 상호 작용(화학 반응을 포함)이나 광학 부재(30)에 대한 점착제의 습윤성이 개선되기 때문에, 점착제층(12)과 광학 부재(30)의 밀착성을 더욱 높이는 것이 가능해진다. 양생 온도는, 예컨대 20∼45℃이다.
(4) 다른 광학 부재와의 접합 공정
본 발명에 관한 제조 방법은, 세퍼레이트 필름 부착 광학 부재(40)로부터 세퍼레이트 필름(10)을 박리 제거하는 박리 공정과, 박리 공정에 의해 노출된 점착제층(12)의 표면에 광학 부재 이외의 다른 광학 부재를 접합하는 접합 공정(제2 접합 공정)을 포함할 수 있다. 박리 공정후, 제2 접합 공정전에, 점착제층(12) 및 상기 다른 광학 부재의 접합면의 적어도 어느 한쪽에, 코로나 처리, 플라즈마 처리, 자외선 조사 처리, 프레임(화염) 처리, 비누화 처리, 프라이머층 형성 처리와 같은 표면 처리를 해도 좋다.
상기 다른 광학 부재는, 플렉시블 디스플레이에 삽입될 수 있는 광학 부재이며, 화상 표시 셀이 예시된다. 화상 표시 셀은, 예컨대 가요성을 갖는 액정 셀, 유기 EL 표시 소자 등이다. 접합 공정(제2 접합 공정)을 거쳐서 얻어지는 광학 적층체는, 상기 다른 광학 부재가 화상 표시 셀인 경우, 화상 표시 셀/점착제층(12)/광학 부재(30)(예컨대 편광판)를 이 순서대로 포함하는 층구성을 갖는다. 이러한 구성의 광학 적층체를 포함하는 플렉시블 디스플레이에 있어서는, 굴곡된 상태로 점착제층(12)에 생기는 응력을 완화할 수 있고, 이에 따라, 상기 디스플레이가 굴곡되더라도 점착제층과 이것에 인접하는 부재(광학 부재(30) 및 상기 다른 광학 부재)의 사이에서 양호한 밀착성을 유지할 수 있다.
1 : 제1 조출 롤, 2 : 제2 조출 롤, 3 : 권취 롤, 10 : 세퍼레이트 필름, 11 : 도공층, 12 : 점착제층, 12a : 제1 영역, 12b : 제2 영역, 15 : 도공층을 갖는 세퍼레이트 필름, 20 : 점착제층 부착 세퍼레이트 필름, 30 : 광학 부재, 40 : 세퍼레이트 필름 부착 광학 부재, 50 : 도공 장치, 60 : 도공용 롤, 70 : 건조 수단, 80 : 노광 장치(활성 에너지선 조사 장치), 81 : 마스크, 81a : 차광 마스크, 81b : 하프톤 마스크, 82, 83 : 하프톤 마스크의 영역, 85 : 슬릿, 90 : 접합 롤.

Claims (8)

  1. 장척형의 세퍼레이트 필름 상에 활성 에너지선 경화형 점착제 조성물을 도공하여 도공층을 형성하는 도공 공정과,
    상기 도공층을 갖는 세퍼레이트 필름을 연속 반송하면서, 활성 에너지선의 조사에 의해 상기 도공층을 패턴 노광하여, 노광된 제1 영역과, 상기 제1 영역보다 노광량이 작은 제2 영역을 포함하는 점착제층을 갖는 세퍼레이트 필름을 얻는 노광 공정과,
    상기 노광 공정후의 필름을 계속해서 연속 반송하면서, 그 점착제층의 외면에 장척의 광학 부재를 적층하고, 이 적층체를 상하로부터 압박하는 접합 공정
    을 포함하는 세퍼레이트 필름 부착 광학 부재의 제조 방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 노광 공정에 있어서, 마스크를 통해 상기 활성 에너지선의 조사에 의한 패턴 노광을 행하는 제조 방법.
  3. 제2항에 있어서, 상기 마스크는 상기 도공층을 갖는 세퍼레이트 필름의 반송 방향을 따르는 방향으로 연장되는 관통부를 가지며, 상기 관통부는 상기 도공층을 갖는 세퍼레이트 필름의 폭방향을 따라서 배열되어 있는 제조 방법.
  4. 제2항에 있어서, 상기 마스크가 그라데이션 마스크인 제조 방법.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 접합 공정에 의해 얻어지는 세퍼레이트 필름 부착 광학 부재를 롤형으로 권취하고, 롤 상태로 상기 점착제층의 양생을 행하는 양생 공정을 더 포함하는 제조 방법.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 노광 공정에 있어서, 상기 도공층에 대한 상기 활성 에너지선의 조사를 복수회 행하는 제조 방법.
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 접합 공정의 전에, 상기 광학 부재에서의 상기 점착제층과의 접합면 및 상기 점착제층에서의 상기 광학 부재와의 접합면의 적어도 한쪽에 에너지 조사를 행하는 표면 활성화 공정을 더 포함하는 제조 방법.
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광학 부재가 편광판인 제조 방법.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20230322986A1 (en) * 2021-12-01 2023-10-12 The Chinese University Of Hong Kong, Shenzhen Humidity-stiffening polymer material, and preparation method therefor and use thereof

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102418578B1 (ko) * 2017-12-20 2022-07-07 엘지디스플레이 주식회사 접착제 및 이를 적용한 플렉서블 디스플레이
JPWO2020203647A1 (ko) * 2019-03-29 2020-10-08
US20220332989A1 (en) * 2019-12-10 2022-10-20 Lg Chem, Ltd. Multi-region foldable adhesive film and fabrication method therefor

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005213314A (ja) * 2004-01-28 2005-08-11 Sumitomo Chemical Co Ltd 粘着剤層の貼合方法。
JP2007219022A (ja) * 2006-02-14 2007-08-30 Toagosei Co Ltd ロール状位相差フィルムならびに楕円偏光板及びそれらの製造方法
JP2008275722A (ja) 2007-04-26 2008-11-13 Sumitomo Chemical Co Ltd 偏光板製品の梱包方法
JP2009086452A (ja) * 2007-10-01 2009-04-23 Nitto Denko Corp 粘着型光学フィルムの製造方法、粘着型光学フィルムおよび画像表示装置
KR20110106599A (ko) * 2010-03-23 2011-09-29 동우 화인켐 주식회사 배향막 패턴의 형성 방법 및 이로부터 제조된 광학 적층체

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9307648B2 (en) * 2004-01-21 2016-04-05 Microcontinuum, Inc. Roll-to-roll patterning of transparent and metallic layers
JP2005338215A (ja) * 2004-05-25 2005-12-08 Sumitomo Chemical Co Ltd 複合位相差板及び複合光学部材の製造方法
JP2006047741A (ja) * 2004-08-05 2006-02-16 Konica Minolta Opto Inc 偏光板、偏光板の製造方法及び表示装置
JP4557166B2 (ja) * 2005-08-01 2010-10-06 ソニーケミカル＆インフォメーションデバイス株式会社 粘着テープの製造方法及び製造装置
CN102131881B (zh) * 2008-08-20 2016-01-20 Lg化学株式会社 粘合剂
JP2011057882A (ja) * 2009-09-11 2011-03-24 Toray Ind Inc 枚葉の粘着剤層積層シートの製造方法
TWI423307B (zh) * 2010-11-05 2014-01-11 Far Eastern New Century Corp 製造微結構的方法
JP5377800B1 (ja) * 2012-01-13 2013-12-25 株式会社タイカ 光学用透明粘着シートの製造方法、光学用透明粘着シート及びそれを用いた表示装置
US20140093650A1 (en) * 2012-09-28 2014-04-03 Skc Haas Display Films Co., Ltd. Method of manufacturing a composite light guide
KR102079849B1 (ko) * 2013-11-26 2020-02-20 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 광학 부재 접합체의 제조 장치

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005213314A (ja) * 2004-01-28 2005-08-11 Sumitomo Chemical Co Ltd 粘着剤層の貼合方法。
JP2007219022A (ja) * 2006-02-14 2007-08-30 Toagosei Co Ltd ロール状位相差フィルムならびに楕円偏光板及びそれらの製造方法
JP2008275722A (ja) 2007-04-26 2008-11-13 Sumitomo Chemical Co Ltd 偏光板製品の梱包方法
JP2009086452A (ja) * 2007-10-01 2009-04-23 Nitto Denko Corp 粘着型光学フィルムの製造方法、粘着型光学フィルムおよび画像表示装置
KR20110106599A (ko) * 2010-03-23 2011-09-29 동우 화인켐 주식회사 배향막 패턴의 형성 방법 및 이로부터 제조된 광학 적층체

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20230322986A1 (en) * 2021-12-01 2023-10-12 The Chinese University Of Hong Kong, Shenzhen Humidity-stiffening polymer material, and preparation method therefor and use thereof
US11845821B2 (en) * 2021-12-01 2023-12-19 The Chinese University Of Hong Kong, Shenzhen Humidity-stiffening polymer material, and preparation method therefor and use thereof

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