KR20170108004A - 세퍼레이터 부착형 광학용 표면 보호 필름 - Google Patents

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Abstract

점착제층의 편면에 폴리에스테르 필름을 갖고, 상기 점착제층의 폴리에스테르 필름과는 반대면에 세퍼레이터를 갖는 세퍼레이터 부착형 광학용 표면 보호 필름으로서, 상기 세퍼레이터를 박리한 후의 상기 점착제층 표면의 형광 X선에서의 Si-Kα선 강도가 2.5kcps 이하이고, 상기 세퍼레이터의 광학용 표면 보호 필름에 대한 박리력이 인장 속도 0.3m/분에서 0.5N/50mm 이하인 세퍼레이터 부착형 광학용 표면 보호 필름이다. 당해 세퍼레이터 부착형 광학용 표면 보호 필름은 표면 보호 필름을 피착체로부터 박리한 후의 피착체 표면에 형성된 층간 충전제(층) 등의 다른 층이 벗겨지기 쉬운 현상을 방지할 수 있다.

Description

세퍼레이터 부착형 광학용 표면 보호 필름
본 발명은 세퍼레이터 부착형 광학용 표면 보호 필름에 관한 것이다.
본 발명의 세퍼레이터 부착형 광학용 표면 보호 필름은 액정 디스플레이 등에 사용되는 유리, 편광판, 파장판, 위상차판, 광학 보상 필름, 반사 시트, 휘도 향상 필름, 및 투명 도전성 필름 등의 광학 부재 표면을 보호할 목적으로 사용되는 광학용 표면 보호 필름으로서 유용하다.
종래부터 광학 부재나 전자 부재 등은 가공, 조립, 검사, 수송 등의 경우에 표면의 스크래치 방지를 위해 일반적으로 부재의 노출면에 표면 보호 필름이 첩착(貼着)된다. 표면 보호 필름은 기재 필름 및 점착층으로 구성되지만, 필요에 따라 첩착(사용) 전에 점착제층을 보호할 목적으로 점착제 표면에 세퍼레이터(이형 필름, 또는 박리 라이너라고도 함)가 첩합(貼合)된다(특허문헌 1). 세퍼레이터 부착형 표면 보호 필름은 세퍼레이터를 박리한 후에 피착체인 광학 부재에 첩착된다.
첩착된 표면 보호 필름은 불필요하게 된 단계에서 광학 부재로부터 박리된 후, 또한 박리 후의 광학 부재의 표면에 다른 기능을 갖는 층(다른 층) 등이 형성되는 경우가 있다(특허문헌 2).
특허문헌 1: 일본 특허 공개 제2012-224811호 특허문헌 2: 일본 특허 공개 제2014-208756호
그러나, 표면 보호 필름을 박리한 후의 광학 부재(피착체)의 표면 상태에 따라서는 다른 층에 대한 젖음성이나 첩착성이 나빠지는 것 등이 원인으로, 다른 층이 광학 부재로부터 벗겨지는 일이 발생하여, 제품이 불량이 되는 문제가 있었다. 특히, 세퍼레이터 부착형 표면 보호 필름을 이용한 경우, 광학용 표면 보호 필름을 박리한 후의 피착체(예를 들면, 광학 부재를 구성하는 유리 표면)에 형성한 다른 층(예를 들면, 층간 충전제(층))은 벗겨지기 쉽다는 문제가 있었다. 그 때문에, 표면 보호 필름을 박리한 후의 유리 표면 등의 피착체에 층간 충전제(층) 등의 다른 층을 형성할 때, 이것이 벗겨지기 어려운 상태를 확보할 수 있는 세퍼레이터 부착형 광학용 표면 보호 필름 개발이 요구되고 있다.
본 발명의 목적으로 하는 바는, 피착체인 광학 부재를 오염이나 손상으로부터 보호할 수 있고, 표면 보호 필름을 피착체로부터 박리한 후, 피착체 표면에 형성된 층간 충전제(층) 등의 다른 층이 벗겨지기 쉬워지는 등의 현상을 방지할 수 있는 세퍼레이터 부착형 광학용 표면 보호 필름을 제공하는 것이다.
본 발명자들은 상기 사정을 감안하여 예의 연구한 바, 세퍼레이터 부착형 광학용 표면 보호 필름에 있어서, 세퍼레이터를 박리한 후의 점착제층이 유리 등의 피착체에 첩착 후에 박리됨으로써, 점착제층 성분이 피착체 상에 잔존하여 피착체의 표면이 오염되어 버리는 것에 의해, 그 후 피착체 상에 형성된 층간 충전제(층) 등의 다른 층의 박리 용이성에 영향을 주고 있을 것으로 고찰하였다. 따라서, 특정한 파라미터를 갖는 세퍼레이터 부착형 광학용 표면 보호 필름을 사용한 바, 종래와 비교해서 광학용 표면 보호 필름을 박리한 후의 피착체 표면의 오염의 영향을 작게 할 수 있기 때문에, 예를 들면 층간 충전제(층) 등의 다른 층의 박리를 방지할 수 있는, 세퍼레이터 부착형 광학 표면 보호 필름을 제공할 수 있음을 찾아내었다.
즉, 본 발명은 점착제층의 편면에 폴리에스테르 필름을 갖고, 상기 점착제층의 폴리에스테르 필름과는 반대면에 세퍼레이터를 갖는 세퍼레이터 부착형 광학용 표면 보호 필름으로서, 상기 세퍼레이터를 박리한 후의 상기 점착제층 표면의 형광 X선에서의 Si-Kα선 강도가 2.5kcps 이하이고, 상기 세퍼레이터의 광학용 표면 보호 필름에 대한 박리력이 인장 속도 0.3m/분에서 0.5N/50mm 이하인 세퍼레이터 부착형 광학용 표면 보호 필름에 관한 것이다.
본 발명의 세퍼레이터 부착형 광학용 표면 보호 필름은, 상기 세퍼레이터가 이형층과 기재를 가지며, 상기 이형층이 장쇄 알킬계 재료 및/또는 지방족 카르복실산 에스테르를 포함하는 이형 조성물로 형성되는 것이 바람직하다.
본 발명의 세퍼레이터 부착형 광학용 표면 보호 필름은, 상기 점착제층이 (메트)아크릴계 폴리머(A) 및 지방족 폴리이소시아네이트계 가교제(B)를 포함하는 점착제 조성물로 형성되고, 상기 (메트)아크릴계 폴리머(A)가, 모노머 성분으로서, 적어도 탄소수 2~14의 알킬기 함유 (메트)아크릴계 모노머 및 히드록실기 함유 (메트)아크릴계 모노머를 포함하며, 또한 유리 전이 온도가 -50℃ 이하이고, 상기 탄소수 2~14의 알킬기 함유 (메트)아크릴계 모노머 100중량부에 대하여 상기 히드록실기 함유 (메트)아크릴계 모노머를 2~20중량부를 함유하는 것이 바람직하다.
본 발명의 세퍼레이터 부착형 광학용 표면 보호 필름은 상기 (메트)아크릴계 폴리머(A) 100중량부에 대하여 상기 지방족 폴리이소시아네이트계 가교제(B)를 1~30중량부 함유하는 것이 바람직하다.
본 발명의 세퍼레이터 부착형 광학용 표면 보호 필름은 상기 점착제 조성물이 또한, 철 또는 주석을 활성 중심으로 하는 촉매(C)를 함유하는 것이 바람직하다.
본 발명의 세퍼레이터 부착형 광학용 표면 보호 필름은, 상기 (메트)아크릴계 폴리머(A) 100중량부에 대하여, 상기 철 또는 주석을 활성 중심으로 하는 촉매(C)를 0.002~0.5중량부 함유하는 것이 바람직하다.
본 발명의 세퍼레이터 부착형 광학용 표면 보호 필름은 광학용 표면 보호 필름과 세퍼레이터와의 박리성이 우수하고, 또한 세퍼레이터 박리 후의 광학용 표면 보호 필름이 피착체에 대한 박리성이 우수하며, 또한 광학용 표면 보호 필름을 박리했을 때, 점착제층에 의한 피착체 표면의 오염의 영향이 작기 때문에, 그 피착체 상에 형성되는 층간 충전제(층) 등의 다른 층이 피착체로부터 벗겨지는 것을 방지할 수 있으므로 유용하다.
도 1은 본 발명에 따른 세퍼레이터 부착형 광학용 표면 보호 필름의 일 구성예를 나타내는 모식적 단면도이다.
이하, 본 발명의 실시예에 대해서 상세하게 설명한다.
<세퍼레이터 부착형 광학용 표면 보호 필름의 전체 구조>
본 발명의 광학용 표면 보호 필름은 광학 부품(예를 들면, 액정 디스플레이 등에 사용되는 유리, 편광판, 파장판, 위상차판, 광학 보상 필름, 반사 시트, 휘도 향상 필름, 및 투명 도전성 필름 등의 광학 부품)의 가공 시나 반송 시에 광학 부품의 표면을 보호하는 광학용 표면 보호 필름이며, 일반적으로 광학용 점착 시트, 광학용 점착 테이프, 광학용 점착 라벨, 광학용 점착 필름 등으로 불리는 형태의 것이다. 상기 광학용 표면 보호 필름에서의 점착제층은 일반적으로 연속적으로 형성되지만, 이러한 형태로 한정되는 것이 아니라, 예를 들면 점 형상, 스트라이프 형상 등의 규칙적 혹은 랜덤한 패턴으로 형성된 점착제층이어도 좋다. 또한, 상기 광학용 표면 보호 필름은 롤 형상이어도 좋고, 매엽 형상이어도 좋다.
본 발명의 세퍼레이터 부착형 광학용 표면 보호 필름의 전형적인 구성예를 도 1에 모식적으로 나타낸다. 이 세퍼레이터 부착형 광학용 표면 보호 필름(3)은 세퍼레이터(1)와 광학용 표면 보호 필름(2)이 적층된 형태이다. 세퍼레이터(1)는 기재(11)와 이형층(12)을 구비하고, 광학용 표면 보호 필름(2)은 폴리에스테르 필름(22)과 그 편면에 형성된 점착제층(21)을 구비하고, 적층은 이형층(12)과 점착제층(21)이 첩합되어 이루어진다. 세퍼레이터 부착형 광학용 표면 보호 필름(3)은 세퍼레이터(1)를 박리한 후에 점착제층(21)을 피착체인 광학 부재(보호 대상, 예를 들면 액정 디스플레이 등에 사용되는 유리, 편광판, 파장판, 위상차판, 광학 보상 필름, 반사 시트, 휘도 향상 필름, 및 투명 도전성 필름 등의 광학 부품의 표면)에 첩부(貼付)하여 사용되고, 불필요하게 된 단계에서 광학 부재로부터 박리된다. 또한, 세퍼레이터 부착형 광학용 표면 보호 필름(3)은 폴리에스테르 필름(22)의 양면에 점착제층(21)을 갖는 것이나, 폴리에스테르 필름(22)의 점착제층(21)이 부착된 면의 반대면에 대전 방지층을 갖는 것을 들 수 있다.
<광학용 표면 보호 필름>
본 발명의 광학용 표면 보호 필름은 폴리에스테르 필름과 점착제층을 구비한다.
<폴리에스테르 필름>
본 발명의 폴리에스테르 필름으로서는, 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN), 폴리부틸렌테레프탈레이트 등의 에스테르 결합을 기본으로 하는 주 골격을 갖는 폴리머 재료(폴리에스테르 수지)를 주된 수지 성분으로 하는 것을 들 수 있다. 상기 폴리에스테르 필름은 광학 특성이나 치수 안정성이 뛰어나지만, 그대로는 대전하기 쉬운 성질을 갖는다.
상기 폴리에스테르 필름을 구성하는 수지 재료로는, 필요에 따라서, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 가소제, 착색제(안료, 염료 등) 등의 각종 첨가제가 배합되어 있어도 좋다. 상기 폴리에스테르 필름의 제1 면에는, 예를 들면, 코로나 방전 처리, 플라즈마 처리, 자외선 조사 처리, 산 처리, 알칼리 처리, 언더코팅제의 도포 등의 공지 또는 관용의 표면 처리가 실시되어 있어도 좋다. 이와 같은 표면 처리는, 예를 들면, 상기 폴리에스테르 필름과 상기 점착제층의 밀착성(점착제층의 앵커링 특성(anchoring property))을 높이기 위한 처리일 수 있다. 상기 폴리에스테르 필름의 표면에 히드록실기(-OH기) 등의 극성기가 도입되도록 표면 처리를 바람직하게 채용할 수 있다. 또한, 상기 폴리에스테르 필름의 제2 면에 상기와 동일한 표면 처리를 실시하여, 점착제층이나 대전 방지층을 형성해도 좋다.
본 발명의 광학용 표면 보호 필름은 상기 폴리에스테르 필름의 점착제층이 부착된 면과 반대면에 상기 대전 방지층을 형성함으로써, 대전 방지 기능을 부여할 수 있다. 또한, 미리 대전 방지 처리가 되어 있는 폴리에스테르 필름을 사용해도 좋다. 상기 폴리에스테르 필름을 사용함으로써, 상기 세퍼레이터를 박리했을 때나, 상기 점착제층을 피착체인 광학 부재로부터 박리했을 때에 대전이 억제되기 때문에 바람직하다. 또한, 대전 방지 기능을 부여하는 방법으로서는 특별히 제한은 없고, 종래 공지된 방법을 이용할 수 있으며, 예를 들면 대전 방지제와 수지 성분으로 이루어진 대전 방지성 수지나 도전성 폴리머, 도전성 물질을 함유하는 도전성 수지를 도포하는 방법이나 도전성 물질을 증착 혹은 도금하는 방법, 또한 대전 방지제 등을 혼입하는 방법 등을 들 수 있다.
상기 폴리에스테르 필름의 두께로서는 통상 5~200㎛, 바람직하게는 10~100㎛ 정도이다. 상기 폴리에스테르 필름의 두께가 상기 범위 내에 있으면, 피착체인 광학 부재로의 첩합 작업성이나 광학 부재로부터의 박리 작업성이 우수하기 때문에 바람직하다.
<점착제층>
본 발명의 점착제층은 실질적으로 실리콘 재료를 포함하지 않는 점착제 조성물로 형성되는 것이다. 상기 「실질적으로 실리콘 재료를 포함하지 않음」이란, 상기 점착제층의 표면의 형광 X선에서의 Si-Kα선 강도가 2.5kcps 이하인 것을 말한다. 상기 점착제 조성물로서는, 점착성을 갖는 것이면 특별히 제한 없이 사용할 수 있고, 예를 들면 아크릴계 점착제 조성물, 우레탄계 점착제 조성물, 합성 고무계 점착제 조성물, 천연 고무계 점착제 조성물 등을 사용할 수 있으며, 그 중에서도 아크릴계 점착제 조성물을 바람직하게 사용할 수 있다.
<(메트)아크릴계 폴리머(A)>
상기 아크릴계 점착제 조성물은 (메트)아크릴계 폴리머(A)를 함유한다. 또한, (메트)아크릴계 폴리머란 아크릴계 폴리머 및/또는 메타크릴계 폴리머를 말한다.
<탄소수 2~14의 알킬기 함유 (메트)아크릴계 모노머>
상기 (메트)아크릴계 폴리머(A)는 점착성을 갖는 (메트)아크릴계 폴리머이면 특별히 한정되지 않지만, 모노머 성분의 주성분으로서, 탄소수 2~14의 알킬기 함유 (메트)아크릴계 모노머를 사용하는 것이 바람직하다. 상기 탄소수 2~14의 알킬기 함유 (메트)아크릴계 모노머로서는, 1종 또는 2종 이상을 주성분으로서 사용할 수 있다. 또한, 주성분이란 가장 배합 비율이 높은 것을 의미한다.
상기 탄소수 2~14의 알킬기 함유 (메트)아크릴계 모노머의 구체예로서는, 예를 들면, 에틸(메트)아크릴레이트, n-부틸(메트)아크릴레이트, s-부틸(메트)아크릴레이트, t-부틸(메트)아크릴레이트, 이소부틸(메트)아크릴레이트, 헥실(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트, n-옥틸(메트)아크릴레이트, 이소옥틸(메트)아크릴레이트, n-노닐(메트)아크릴레이트, 이소노닐(메트)아크릴레이트, n-데실(메트)아크릴레이트, 이소데실(메트)아크릴레이트, n-도데실(메트)아크릴레이트, n-트리데실(메트)아크릴레이트, n-테트라데실(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.
그 중에서도 헥실(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트, n-옥틸(메트)아크릴레이트, 이소옥틸(메트)아크릴레이트, n-노닐(메트)아크릴레이트, 이소노닐(메트)아크릴레이트, n-데실(메트)아크릴레이트, 이소데실(메트)아크릴레이트, n-도데실(메트)아크릴레이트, n-트리데실(메트)아크릴레이트, n-테트라데실(메트)아크릴레이트 등의 탄소수 6~14의 알킬기 함유 (메트)아크릴계 모노머가 바람직한 것으로서 들 수 있다. 상기 탄소수 6~14의 알킬기를 갖는 (메트)아크릴계 모노머를 사용함으로써, 피착체로의 점착력을 낮게 제어하는 것이 용이하게 되어 재박리성이 우수한 점착제층이 된다.
상기 (메트)아크릴계 폴리머(A)는 상기 (메트)아크릴계 폴리머(A)를 구성하는 모노머 성분 전량에 대해, 상기 탄소수 2~14인 알킬기 함유 (메트)아크릴계 모노머를 50~99중량% 함유하는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 60~98중량%, 더욱 바람직하게는 70~97중량%, 가장 바람직하게는 80~96중량%이다. 이 범위 내에 있는 것에 의해, 점착제 조성물이 적당한 젖음성이 갖고, 점착제층의 응집력도 우수하여 바람직하다.
<히드록실기 함유 (메트)아크릴계 모노머>
상기 (메트)아크릴계 폴리머(A)는 모노머 성분으로서, 히드록실기 함유 (메트)아크릴계 모노머를 포함하는 것이 바람직하다. 상기 히드록실기 함유 (메트)아크릴계 모노머를 포함함으로써 히드록실기가 가교의 제어를 용이하게 행할 수 있고, 나아가 유동에 의한 젖음성의 개선과, 상기 점착제층의 응집력이나 전단력의 균형을 제어하기 쉽게 된다. 또한, 상기 점착제층에 대전 방지제를 첨가하는 경우, 일반적으로 가교 부위로서 작용할 수 있는 카르복실기나 술포네이트기 등과는 달리, 히드록실기는 대전 방지제인 이온성 화합물 등과 적당한 상호 작용을 갖기 때문에, 대전 방지성의 면에서도 바람직하게 사용할 수 있다.
상기 히드록실기 함유 (메트)아크릴계 모노머로서는, 예를 들어, 2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메트)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메트)아크릴레이트, 6-히드록시헥실(메트)아크릴레이트 8-히드록시옥틸(메트)아크릴레이트, 10-히드록시데실(메트)아크릴레이트, 12-히드록시라우릴(메트)아크릴레이트, (4-히드록시메틸시클로헥실)메틸아크릴레이트, N-메틸올(메트)아크릴아미드 등을 들 수 있다. 상기 히드록실기 함유 (메트)아크릴계 모노머는 단독으로 사용해도 좋고, 또한 2종 이상을 혼합하여 사용해도 좋다.
상기 (메트)아크릴계 폴리머(A)에 상기 탄소수 2~14의 알킬기 함유 (메트)아크릴계 모노머, 및 상기 히드록실기 함유 (메트)아크릴계 모노머를 사용한 경우, 상기 히드록실기 함유 (메트)아크릴계 모노머는, 상기 탄소수 2~14의 알킬기 함유 (메트)아크릴계 모노머 100중량부에 대하여 2~20중량부인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 3~15중량부, 더욱 바람직하게는 4~12중량부이다. 이 범위 내에 있으면, 상기 점착제 조성물의 젖음성과 상기 점착제층의 응집력이나 전단력의 균형을 제어하기 쉬워지기 때문에 바람직하다.
<카르복실기 함유 (메트)아크릴계 모노머>
상기 (메트)아크릴계 폴리머(A)는 모노머 성분으로서 카르복실기 함유 (메트)아크릴계 모노머를 포함하는 것이 바람직하다. 상기 카르복실기 함유 (메트)아크릴계 모노머를 포함하는 것에 의해, 카르복실기가 전단력을 향상시킬 수 있고, 또한 시간 경과적으로 점착력의 상승을 방지할 수 있으며, 재박리성, 점착력 상승 방지성, 및 작업성이 우수한 점착제층이 된다. 특히, 상기 점착제층의 전단력이 향상함으로써, 상기 점착제층을 피착체에 첩합하는 것에 의해, 피착체에 기초한 컬(curl)을 억제할 수 있고, 상기 점착제층과 피착체 사이(계면)에서의 미끄러짐이나 어긋남의 발생을 억제할 수 있다.
상기 카르복실기 함유 (메트)아크릴계 모노머로서는, 예를 들면, (메트)아크릴산, 카르복시에틸(메트)아크릴레이트, 카르복시펜틸(메트)아크릴레이트, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸헥사히드로프탈산, 2-(메트)아크릴로일옥시프로필헥사히드로프탈산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸프탈산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸숙신산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸말레산, 카르복시폴리카프로락톤모노(메트)아크릴레이트, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸테트라히드로프탈산 등을 들 수 있다. 상기 카르복실기 함유 (메트)아크릴계 모노머는 단독으로 사용해도 좋고, 또한 2종 이상을 혼합하여 사용해도 좋다.
상기 (메트)아크릴계 폴리머(A)에 상기 탄소수 2~14의 알킬기 함유 (메트)아크릴계 모노머 및 상기 카르복실기 함유 (메트)아크릴계 모노머를 사용한 경우, 상기 카르복실기 함유 (메트)아크릴계 모노머는 상기 탄소수 2~14의 알킬기를 갖는 (메트)아크릴계 모노머 100중량부에 대하여 0.01~1중량부인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.01~0.8중량부, 더욱 바람직하게는 0.01~0.5중량부, 가장 바람직하게는 0.02~0.2중량부이다. 이 범위 내에 있으면, 상기 점착제층의 시간 경과에 따른 점착력의 상승을 억제할 수 있고, 재박리성, 점착력 상승 방지성, 및 작업성이 우수하고, 또한, 상기 점착제층의 응집력과 함께 전단력도 우수하기 때문에 바람직하다.
<그 밖의 중합성 모노머>
상기 (메트)아크릴계 폴리머(A)에는, 모노머 성분으로서, 그 밖의 중합성 모노머를, 본 발명의 특성을 손상시키지 않는 범위 내이면 특별히 한정하지 않고 사용할 수 있다. 상기 그 밖의 중합성 모노머는 특히 점착 성능의 밸런스를 맞추기 쉬운 이유로부터, 상기 (메트)아크릴계 폴리머(A)의 Tg가 -50℃ 이하 -100℃ 이상이 되도록 하여 유리 전이 온도나 박리성을 조정하기 위해 사용할 수 있다.
상기 그 밖의 중합성 모노머로서는, 예를 들면, 시아노기 함유 모노머, 비닐에스테르 모노머, 방향족 비닐 모노머 등의 응집력ㆍ내열성 향상 성분이나, 아미드기 함유 모노머, 이미드기 함유 모노머, 아미노기 함유 모노머, 에폭시기 함유 모노머, N-아크릴로일모르폴린, 비닐에테르 모노머 등의 점착(첩착)력 향상이나 가교 화 기점으로 작용하는 관능기를 갖는 성분을 적절히 이용할 수 있다. 이들 중합성 모노머는 단독으로 사용해도 좋고, 또한 2종 이상을 혼합하여 사용해도 좋다.
상기 시아노기 함유 모노머로서는, 예를 들면, 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴을 들 수 있다.
상기 비닐에스테르 모노머로서는, 예를 들면, 아세트산 비닐, 프로피온산 비닐, 라우르산 비닐 등을 들 수 있다.
상기 방향족 비닐 모노머로서는, 예를 들면, 스티렌, 클로로스티렌, 클로로메틸스티렌, α-메틸스티렌, 그밖의 치환 스티렌 등을 들 수 있다.
상기 아미드기 함유 모노머로서는, 예를 들면, 아크릴아미드, 메타크릴아미드, 디에틸아크릴아미드, N-비닐피롤리돈, N,N-디메틸아크릴아미드, N,N-디메틸메타크릴아미드, N,N-디에틸아크릴아미드, N,N-디에틸메타크릴아미드, N,N'-메틸렌비스아크릴아미드, N,N-디메틸아미노프로필아크릴아미드, N,N-디메틸아미노프로필메타크릴아미드, 디아세톤아크릴아미드 등을 들 수 있다.
상기 이미드기 함유 모노머로서는, 예를 들면, 시클로헥실말레이미드, 이소프로필말레이미드, N-시클로헥실말레이미드, 이타콘이미드 등을 들 수 있다.
상기 아미노기 함유 모노머로서는, 예를 들면, 아미노에틸(메트)아크릴레이트, N,N-디메틸아미노에틸(메트)아크릴레이트, N,N-디메틸아미노프로필(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.
상기 에폭시기 함유 모노머로서는, 예를 들면, 글리시딜(메트)아크릴레이트, 메틸글리시딜(메트)아크릴레이트, 알릴글리시딜에테르 등을 들 수 있다.
상기 비닐에테르 모노머로서는, 예컨대 메틸비닐에테르, 에틸비닐에테르, 이소부틸비닐에테르 등을 들 수 있다.
그 밖의 중합성 모노머는 상기 (메트)아크릴계 폴리머(A)를 구성하는 모노머 성분 전량에 대하여 0.01~1중량%인 것이 바람직하고, 0.05~0.5중량%인 것이 보다 바람직하다. 상기 그 밖의 중합성 모노머를 이 범위 내에서 이용함으로써, 예를 들면, 대전 방지제의 이온성 화합물을 사용하는 경우, 이 화합물과의 양호한 상호 작용이나 양호한 재박리성을 적절히 조절할 수 있다.
상기 (메트)아크릴계 폴리머(A)는 중량 평균 분자량(Mw)이 10만~500만, 바람직하게는 20만~400만, 더욱 바람직하게는 30만~300만이다. 중량 평균 분자량이 10만보다 작은 경우는, 점착제 조성물의 응집력이 작아짐으로써 첩착성 잔여물이 생기는 경향이 있다. 한편, 중량 평균 분자량(Mw)이 500만을 초과하는 경우는, 폴리머의 유동성이 저하하여 피착체(예를 들면, 광학 부재인 편광판 등)로의 젖음이 불충분하게 되어, 피착체와 점착제 층 사이에 발생하는 블리스터(blister)의 원인이 되는 경향이 있다. 또한, 중량 평균 분자량(Mw)은 GPC(겔ㆍ침투ㆍ크로마토그래피)에 의해 측정하여 얻어진 것을 말한다.
상기 (메트)아크릴계 폴리머(A)의 유리 전이 온도(Tg)는 -50℃ 이하가 바람직하고, 보다 바람직하게는 -55℃ 이하이며, 더욱 바람직하게는 -60℃ 이하이다. 상기 (메트)아크릴계 폴리머의 유리 전이 온도(Tg)는 -100℃ 이상이 바람직하다. 유리 전이 온도가 -50℃보다 높은 경우, 폴리머가 유동하기 어렵고, 예를 들면, 피착체(예를 들어, 광학 부재인 편광판 등)로의 젖음이 불충분하게 되어, 피착체와 점착제층 사이에 발생하는 블리스터의 원인이 되는 경향이 있다. 특히 유리 전이 온도를 -61℃ 이하로 함으로써, 피착체로의 젖음성과 경박리성이 우수한 점착제 조성물을 얻기 쉽게 된다. 또한, 상기 (메트)아크릴계 폴리머(A)의 유리 전이 온도는 사용하는 모노머 성분이나 조성비를 적절히 변경함으로써 상기 범위 내로 조정할 수 있다.
상기 (메트)아크릴계 폴리머(A)의 중합 방법은 특별히 제한되는 것이 아니라, 용액 중합, 유화 중합, 괴상 중합, 현탁 중합 등의 공지된 방법에 의해 중합할 수 있지만, 특히 작업성의 관점이나 피착체로의 저오염성 등 특성면에서 용액 중합이 보다 바람직한 형태이다. 또한, 얻어지는 폴리머는 랜덤 공중합체, 블록 공중합체, 상호 공중합체, 그라프트 공중합체 등 어느 것이어도 좋다.
상기 점착제 조성물에는 가교제를 함유하는 것이 바람직하다. 상기 가교제로서는, 이소시아네이트 화합물, 에폭시 화합물, 멜라민계 수지, 아지리딘 유도체, 및 금속 킬레이트 화합물 등을 사용해도 좋고, 특히 이소시아네이트 화합물의 사용은 바람직한 형태가 된다. 또한, 이들 화합물은 단독으로 사용해도 좋고, 2종 이상을 혼합하여 사용해도 좋다.
<지방족 폴리이소시아네이트계 가교제(B)>
상기 이소시아네이트 화합물 중에서도 점착제 조성물에는 지방족 폴리이소시아네이트계 가교제(B)를 함유하는 것이 바람직하다. 예컨대, 상기 점착제 조성물에 상기 (메트)아크릴계 폴리머(A)를 함유하는 경우, 상기 (메트)아크릴계 폴리머(A)의 구성 단위, 구성 비율, 지방족 폴리이소시아네이트계 가교제(B)의 선택 및 첨가 비율 등을 적절히 조절하여 가교함으로써, 보다 내열성이 우수한 점착제층을 얻을 수 있다.
상기 지방족 폴리이소시아네이트계 가교제(B)로서는, 예를 들면, 트리메틸렌디이소시아네이트, 부틸렌디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트(HDI), 다이머산 디이소시아네이트 등의 지방족 폴리이소시아네이트류, 시클로펜틸렌디이소시아네이트, 시클로헥실렌디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트(IPDI) 등의 지방족 이소시아네이트류, 상기 이소시아네이트 화합물을 알로파네이트 결합, 뷰렛 결합, 이소시아누레이트 결합, 우레트디온 결합, 우레아 결합, 카르보디이미드 결합, 우레톤이민 결합, 옥사디아진트리온 결합 등에 의해 변성된 폴리이소시네이트 변성체를 들 수 있다. 예를 들면, 시판품으로서 상품명 Takenate 300S, Takenate 500, Takenate D165N, Takenate D178N(이상, 타케다 약품 공업사 제조), Sumidur T80, Sumidur L, Desmodur N3400(이상, 스미카 바이엘 우레탄사 제조), Millionate MR, Millionate MT, Coronate L, Coronate HL, Coronate HX(이상, 니폰 폴리우레탄 공업사 제조) 등을 들 수 있다. 지방족 폴리이소시아네이트계 가교제(B)는 단독으로 사용해도 좋고, 2종 이상 혼합하여 사용해도 좋으며, 2 관능의 이소시아네이트 화합물과 3 관능 이상의 이소시아네이트 화합물을 병용하여 사용하는 것도 가능하다. 가교제를 병용하여 사용함으로써 점착성과 내반발성(곡면에 대한 접착성)을 양립하는 것이 가능하게 되어, 보다 접착 신뢰성이 우수한 표면 보호 필름을 얻을 수 있다.
상기 지방족 폴리이소시아네이트계 가교제(B)의 함유량은, 예를 들면 상기 (메트)아크릴계 폴리머(A) 100중량부에 대하여 1~30중량부 함유되어 있는 것이 바람직하고, 1~20중량부 함유되어있는 것이 보다 바람직하며, 2~10중량부 함유되어 있는 것이 보다 바람직하고, 3~6중량부 함유되어 있는 것이 가장 바람직하다. 상기 함유량이 1중량부보다 적은 경우, 가교제에 의한 가교 형성이 불충분하게 되고, 얻어지는 점착제층의 응집력이 작아져, 충분한 내열성을 얻을 수 없는 경우도 있으며, 또한 첩착성 잔여물의 원인이 되는 경향이 있다. 한편, 함유량이 30중량부를 초과하는 경우, 폴리머의 응집력이 크고, 유동성이 저하되고, 피착체(예를 들면, 액정 디스플레이 등에 사용되는 유리, 편광판, 파장판, 위상차판, 광학 보상 필름, 반사 시트, 휘도 향상 필름, 및 투명 도전성 필름 등의 광학 부재)로의 젖음이 불충분하게 되어, 피착체와 점착제층 사이에 발생하는 블리스터의 원인이 되는 경향이 있다. 또한, 가교제 양이 많으면 박리 대전 특성이 저하되는 경향이 있다.
<촉매(C)>
상기 점착제 조성물에는 또한 상기의 가교 반응을 보다 효과적으로 진행시키기 위해 촉매(C)를 함유시킬 수 있다. 촉매(C)로서는, 예를 들면, 디라우르산 디부틸 주석, 디라우르산 디옥틸 주석 등의 주석계 촉매, 트리스(아세틸아세토네이토) 철, 트리스(헥산-2,4-디오네이토) 철, 트리스(헵탄-2,4-디오네이토) 철, 트리스(헵탄-3,5-디오네이토) 철, 트리스(5-메틸헥산-2,4-디오네이토) 철, 트리스(옥탄-2,4-디오네이토) 철, 트리스(6-메틸헵탄-2,4-디오네이토) 철, 트리스(2,6-디메틸헵탄-3,5-디오네이토) 철, 트리스(노난-2,4-디오네이토) 철, 트리스(노난-4,6-디오네이토) 철, 트리스(2,2,6,6-테트라메틸헵탄-3,5-디오네이토) 철, 트리스(트리데칸-6,8-디오네이토) 철, 트리스(1-페닐부탄-1,3-디오네이토) 철, 트리스(헥사플루오로아세틸아세토네이토) 철, 트리스(아세토아세트산에틸) 철, 트리스(아세토아세트산-n-프로필) 철, 트리스(아세토아세트산 이소프로필) 철, 트리스(아세토아세트산-n-부틸) 철, 트리스(아세토아세트산-sec-부틸) 철, 트리스(아세토아세트산-tert-부틸) 철, 트리스(프로피오닐아세트산메틸) 철, 트리스(프로피오닐아세트산에틸) 철, 트리스(프로피오닐아세트산-n-프로필) 철, 트리스(프로피오닐아세트산이소프로필) 철, 트리스(프로피오닐아세트산-n-부틸) 철, 트리스(프로피오닐아세트산-sec-부틸) 철, 트리스(프로피오닐아세트산-tert-부틸) 철, 트리스(아세토아세트산벤질) 철, 트리스(말론산디메틸) 철, 트리스(말론산디에틸) 철, 트리메톡시 철, 트리에톡시 철, 트리이소프로폭시 철, 염화 제이철 등의 철계 촉매를 사용할 수 있다. 촉매(C)는 1종이어도 좋고, 2종 이상을 병용해도 좋다.
또한, 상기 철계 촉매로서는 철 킬레이트 화합물을 바람직하게 사용할 수 있으며, 예를 들어 화학식 Fe(X)(Y)(Z)로서 나타낼 수 있다. 철 킬레이트 화합물은 (X)(Y)(Z)의 조합에 의해, Fe(X)3, Fe(X)2(Y), Fe(X)(Y)2, Fe(X)(Y)(Z) 중 어느 하나로 표시된다. 철 킬레이트 화합물 Fe(X)(Y)(Z)에 있어서, (X)(Y)(Z)는 각각 Fe에 대한 배위자이며, 예를 들면 X, Y 또는 Z가 β-디케톤인 경우, β-디케톤으로서 아세틸아세톤, 헥산-2,4-디온, 헵탄-2,4-디온, 헵탄-3,5-디온, 5-메틸-헥산-2,4-디온, 옥탄-2,4-디온, 6-메틸헵탄-2,4-디온, 2,6-디메틸헵탄-3,5-디온, 노난-2,4-디온, 노난-4,6-디온, 2,2,6,6-테트라메틸헵탄-3,5-디온, 트리데칸-6,8-디온, 1-페닐-부탄-1,3-디온, 헥사플루오로아세틸아세톤, 아스코르빈산 등을 들 수 있다.
상기 X, Y 또는 Z가 β-케토에스테르인 경우, β-케토에스테르로서, 아세토아세트산메틸, 아세토아세트산에틸, 아세토아세트산-n-프로필, 아세토아세트산이소프로필, 아세토아세트산-n-부틸, 아세토아세트산-sec-부틸, 아세토아세트산-tert-부틸, 프로피오닐아세트산메틸, 프로피오닐아세트산에틸, 프로피오닐아세트산-n-프로필, 프로피오닐아세트산이소프로필, 프로피오닐아세트산-n-부틸, 프로피오닐아세트산-sec-부틸, 프로피오닐아세트산-tert-부틸, 아세토아세트산벤질, 말론산디메틸, 말론산디에틸 등을 들 수 있다.
또한, 상기 철 킬레이트 화합물 이외의 철계 촉매를 사용할 수도 있고, 예를 들면 철과 알콕시기, 할로겐 원자, 아실옥시기와의 화합물을 사용할 수도 있다. 철과 알콕시기의 화합물의 경우, 알콕시기로서, 메톡시, 에톡시, n-프로폭시기, 이소프로폭시기, n-부톡시기, sec-부톡시기, tert-부톡시기, 펜틸옥시기, 헥실옥시기, 헵틸옥시기, 옥틸옥시기, 2-에틸헥실기, 페녹시기, 시클로헥실옥시기, 벤질옥시기, 1-벤질나프틸옥시기 등을 들 수 있다.
상기 철과 할로겐 원자의 화합물의 경우, 할로겐 원자로서, 불소, 염소, 브롬, 요오드 등을 들 수 있다.
상기 철과 아실옥시기의 화합물의 경우, 아실옥시기로서, 2-에틸헥실산, 옥틸산, 나프텐산, 수지산(아비에틴산, 네오아비에틴산, d-피마르산, 이소-d-피마르산, 포도카르프산, 글루콘산, 푸마르산, 구연산, 아스파라긴산, α-케토글루타민산, 말산, 숙신산, 글리신이나 히스티딘 등의 아미노산 등을 주성분으로 하는 지방족계 유기산이나 안식향산, 계피산, p-옥시계피산 등을 주성분으로 하는 방향족 지방산) 등을 들 수 있다.
상기 철계 촉매 중, 반응성, 경화성의 점에서 β-디케톤을 배위자로서 갖는 철 킬레이트 화합물이 바람직하고, 특히 트리스(아세틸아세토네이토) 철을 사용하는 것이 바람직하다.
상기 촉매(C)의 함유량(사용량)은 예를 들면 (메트)아크릴계 폴리머(A) 100질량부에 대하여 0.002~0.5질량부가 바람직하고, 0.005~0.3질량부가 보다 바람직하며, 0.01~0.1질량부가 보다 더 바람직하다. 이 범위 내에 있으면, 점착제층을 형성했을 때에 가교 반응의 속도가 빠르고, 점착제 조성물의 가용 시간도 길어져서 바람직한 형태가 된다.
또한, 상기 점착제 조성물에는, 가교 지연제로서, 케토-에놀 호변이성(keto-enol tautomerism)이 발생하는 화합물을 함유시킬 수 있다. 예컨대, 지방족 폴리이소시아네이트계 가교제(B)를 포함하는 점착제 조성물 또는 지방족 폴리이소시아네이트계 가교제(B)를 배합하여 사용될 수 있는 점착제 조성물에 있어서, 상기 케토- 에놀 호변이성이 발생하는 화합물을 포함하는 형태를 바람직하게 채용할 수 있다. 이에 의해, 지방족 폴리이소시아네이트계 가교제(B) 배합 후에서의 점착제 조성물의 과도한 점도 상승이나 겔화를 억제하고, 점착제 조성물의 가용 시간을 연장하는 효과가 실현될 수 있다. 이 기술은 예를 들면 상기 점착제 조성물이 유기 용제 용액 또는 무용제의 형태인 경우에 바람직하게 적용될 수 있다.
상기 케토-에놀 호변이성이 발생하는 화합물로서는 각종 β-디카르보닐 화합물을 사용할 수 있다. 구체예로서는, 아세틸아세톤 2,4-헥산디온, 3,5-헵탄디온, 2-메틸헥산-3,5-디온, 6-메틸헵탄-2,4-디온, 2,6-디메틸헵탄-3,5-디온 등의 β-디케톤류; 아세토아세트산메틸, 아세토아세트산에틸, 아세토아세트산이소프로필, 아세토아세트산tert-부틸 등의 아세토아세트산에스테르류; 프로피오닐아세트산에틸, 프로피오닐아세트산에틸, 프로피오닐아세트산이소프로필, 프로피오닐아세트산tert-부틸 등의 프로피오닐아세트산에스테르류; 이소부티릴아세트산에틸, 이소부티릴아세트산에틸, 이소부티릴아세트산이소프로필, 이소부티릴아세트산tert-부틸 등의 이소부티릴아세트산에스테르류; 말론산메틸, 말론산에틸 등의 말론산에스테르류; 등을 들 수 있다. 그 중에서 바람직한 화합물로서, 아세틸아세톤 및 아세토아세트산에스테르류를 들 수 있다. 케토-에놀 호변이성이 발생하는 화합물은 단독으로 사용해도 좋고, 2종 이상을 조합하여 사용해도 좋다.
상기 케토-에놀 호변이성이 발생하는 화합물의 함유량은 상기 (메트)아크릴계 폴리머(A) 100중량부에 대하여, 예를 들면 0.1~20중량부로 할 수 있고, 통상은 0.5~15중량부(예를 들어 1~10중량부)로 하는 것이 적당하다. 상기 화합물의 양이 너무 적으면, 충분한 사용 효과가 발휘되기 어렵게 되는 경우가 있다. 한편, 상기 화합물을 필요 이상으로 많이 사용하면, 점착제층에 잔류하여 응집력을 저하시키는 경우가 있다.
또한, 상기 점착제 조성물에는, 그 밖의 공지된 첨가제를 함유하고 있어도 좋고, 예를 들면 착색제, 안료 등의 분체, 계면 활성제, 가소제, 대전 방지제, 점착 부여제, 저분자량 폴리머, 표면 윤활제, 레벨링제, 산화 방지제, 부식 방지제, 광 안정제, 자외선 흡수제, 중합 금지제, 실란커플링제, 무기 또는 유기 충전제, 금속분, 입자상, 박상물 등을 사용하는 용도에 따라 적절히 첨가할 수 있다.
<광학용 표면 보호 필름의 제작>
상기 광학용 표면 보호 필름은 상기 폴리에스테르 필름의 편면에 상기 점착제 조성물로 형성되어 이루어지는 점착제층을 갖는 것이지만, 그때 점착제 조성물의 가교는 점착제 조성물의 도포 후에 실시하는 것이 일반적이지만, 가교 후의 점착제 조성물로 이루어지는 점착제층을 기재 등에 전사하는 것도 가능하다.
또한, 폴리에스테르 필름 상에 점착제층을 형성하는 방법은 특별히 상관없지만, 예를 들면 상기 점착제 조성물의 용액을 필름에 도포하고, 중합용제 등을 건조 제거하여 점착제층을 필름 상에 형성함으로써 제작된다. 그 후, 점착제층의 성분 이행의 조정이나 가교 반응의 조정 등을 목적으로서 양생을 해도 좋다. 또한, 점착제 조성물을 폴리에스테르 필름 상에 도포하여 점착제층을 제작하는 경우에는, 필름 상에 균일하게 도포할 수 있도록 상기 점착제 조성물 중에 중합용제 이외의 1종 이상의 용제를 새롭게 추가해도 좋다.
또한, 상기 점착제층의 형성 방법으로서는 점착제층의 제조에 사용되는 공지된 방법이 사용된다. 구체적으로는, 예를 들면 롤 코트, 그라비아 코트, 리버스 코트, 롤 브러쉬, 스프레이 코트, 에어나이프 코팅법, 다이코터 등에 의한 압출 코팅법 등을 들 수 있다.
상기 점착제층의 두께는 3~100㎛인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 5~50㎛ 정도가 되도록 제작한다. 점착제층의 두께가 이 범위 내에 있으면, 적당한 재박리성과 점착(첩착제)성의 균형을 얻기 쉬우므로 바람직하다.
<세퍼레이터>
본 발명의 광학용 표면 보호 필름에는 상기 점착제층 면을 보호할 목적으로 점착제층 표면에 세퍼레이터를 첩합한다. 세퍼레이터는 기재 및 이형층을 구비한다.
<기재>
상기 기재로서는 종이나 플라스틱 필름이 있지만, 표면 평활성이 우수한 점에서 플라스틱 필름이 바람직하게 사용된다. 그 필름으로서는 상기 점착제층을 보호할 수 있는 필름이면 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면 폴리에틸렌 필름, 폴리프로필렌 필름, 폴리부텐 필름, 폴리부타디엔 필름, 폴리메틸펜텐 필름, 폴리염화비닐 필름, 염화비닐 공중합체 필름, 폴리에틸렌테레프탈산 필름, 폴리부틸렌테레프탈산 필름, 폴리우레탄 필름, 에틸렌-아세트산비닐 공중합체 필름 등을 들 수 있다.
상기 기재의 두께는 통상 5~200㎛, 바람직하게는 10~100㎛ 정도이다. 이 범위 내에 있으면, 점착제층으로의 첩합 작업성과 점착제층으로부터의 박리 작업성이 우수하기 때문에 바람직하다.
상기 기재에는, 필요에 따라, 그 표면을 코로나 방전 처리 등의 각종 표면 처리를 실시하거나, 엠보스 가공 등의 각종 표면 가공을 실시하거나 할 수 있다. 또한, 필요에 따라, 충전제(무기 충전제, 유기 충전제 등), 노화 방지제, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 대전 방지제, 활제, 가소제, 착색제(안료, 염료 등) 등의 각종 첨가제가 배합되어 있어도 좋다.
<이형층>
상기 이형층은 상기 기재에 밀착성을 갖고, 또한 상기 점착제층에 대해 박리성을 갖으며, 실질적으로 실리콘계 재료를 포함하지 않는 이형제 조성물로 형성된다. 상기 「실질적으로 실리콘 재료를 포함하지 않음」이란, 상기 세퍼레이터의 이형층 표면의 형광 X선에서의 Si-Kα선 강도(a)와, 상기 세퍼레이터의 이형층을 갖지 않는 기재 표면(미처리면)의 형광 X선에서의 Si-Kα선 강도(b)의 차[(b)-(a)]가 0.3kcps 이하인 것을 말한다.
상기 이형제 조성물에는, 장쇄 알킬계 재료 및/또는 지방족 카르복실산 에스테르를 포함하는 것이 바람직하다. 이들 화합물은 이형제 조성물 중에 소량 배합하는 것만으로도 효과적으로 박리성이 얻어지고, 상기 이형층 조성물로 형성되는 도포층이 얼룩이나 백화가 없는 외관을 갖는 것이 얻어지는 점에서 바람직하다. 이들 화합물은 1종으로도 좋고, 2종 이상을 병용해도 좋다.
<장쇄 알킬계 재료>
상기 장쇄 알킬계 재료는 탄소수가 6 이상, 바람직하게는 8 이상, 더욱 바람직하게는 12 이상의 직쇄 또는 분기의 알킬기를 갖는 화합물이다. 알킬기로서는, 예를 들면, 옥틸기, 데실기, 라우릴기, 옥타데실기, 베헤닐기 등을 들 수 있다. 알킬기를 갖는 화합물은, 예를 들면 각종 장쇄 알킬기 함유 고분자 화합물, 장쇄 알킬기 함유 아민 화합물, 장쇄 알킬기 함유 에테르 화합물, 장쇄 알킬기 함유 4급 암모늄염 등을 들 수 있다. 내열성, 오염성을 고려하면 고분자 화합물인 것이 바람직하다. 또한, 적은 함유량으로 효과적으로 적당한 발수성을 얻을 수 있다는 관점에서, 장쇄 알킬기를 측쇄에 갖는 고분자 화합물인 것이 보다 바람직하다.
장쇄 알킬기를 측쇄에 갖는 고분자 화합물은 탄소수가 6 이상의 알킬기 함유 (메트)아크릴계 모노머를 포함하는 모노머 성분을 중합시켜서 얻어지는 (메트)아크릴계 폴리머나, 반응성기를 갖는 고분자와 해당 반응성기와 반응 가능한 알킬기를 갖는 화합물을 반응시켜서 얻을 수 있는 폴리머 등을 들 수 있다. 상기 반응성기로서는, 예를 들면 히드록실기, 아미노기, 카르복실기, 산무수물 등을 들 수 있다. 이들 반응성기를 갖는 화합물로서는, 예를 들면, 폴리비닐알코올, 부티랄 수지, 에틸렌비닐알코올 수지, 폴리에틸렌이민, 폴리에틸렌아민, 반응성기 함유 폴리에스테르 수지, 반응성기 함유 폴리(메트)아크릴 수지 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 이형성이나 취급 용이성을 고려하면 (메트)아크릴계 폴리머, 폴리비닐알코올, 부티랄 수지, 에틸렌비닐알코올 수지인 것이 바람직하다.
<탄소수 6 이상의 알킬기 함유 (메트)아크릴계 폴리머>
상기 탄소수 6 이상의 알킬기 함유 (메트)아크릴계 모노머를 포함하는 모노머 성분을 중합시켜서 얻어지는 (메트)아크릴계 폴리머는, 이 (메트)아크릴계 폴리머를 구성하는 모노머 성분 전량에 대해, 상기 탄소수 6 이상의 알킬기 함유 (메트)아크릴계 모노머를 10~80중량% 함유하는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 20~70중량%, 더욱 바람직하게는 30~70중량%, 가장 바람직하게는 30~60중량%이다. 이 범위 내에 있는 것에 의해, 얻어지는 이형층은 점착제층에 대한 경박리성이 우수하다.
상기 탄소수 6 이상의 알킬기 함유 (메트)아크릴계 모노머 이외의, 그 밖의 중합성 모노머로서는, 예를 들면 히드록실기 함유 (메트)아크릴계 모노머, 카르복실기 함유 (메트)아크릴계 모노머, 시아노기 함유 모노머, 비닐에스테르 모노머, 방향족 비닐 모노머, 아미드기 함유 모노머, 이미드기 함유 모노머, 아미노기 함유 모노머, 에폭시기 함유 모노머, N-아크릴로일모르폴린, 비닐에테르 모노머 등 적절하게 사용할 수 있다. 이들 중합성 모노머는 단독으로 사용해도 좋고, 또한 2종 이상을 혼합하여 사용해도 좋다.
그 중에서도, 점착제층에 대한 경박리성과 기재에 대한 밀착성이 우수한 점에서, 카르복실기 함유 (메트)아크릴계 모노머 및 시아노기 함유 모노머를 이용하는 것이 바람직하다. 카르복실기 함유 (메트)아크릴계 모노머로서는, 예를 들면 (메트)아크릴산, 카르복실에틸(메트)아크릴레이트, 카르복실펜틸(메트)아크릴레이트, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸헥사히드로프탈산, 2-(메트)아크릴로일옥시프로필헥사히드로프탈산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸프탈산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸숙신산, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸말레산, 카르복시폴리카프로락톤모노(메트)아크릴레이트, 2-(메트)아크릴로일옥시에틸테트라히드로프탈산 등을 들 수 있다. 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴을 들 수 있다. 시아노기 함유 모노머로서는, 예를 들면 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴을 들 수 있다.
<반응성기를 갖는 고분자와 해당 반응성기와 반응 가능한 알킬기를 갖는 화합물을 반응시켜서 얻어진 폴리머>
또한, 상기 반응성기와 반응 가능한 알킬기를 갖는 화합물은, 예를 들면, 옥틸이소시아네이트, 데실이소시아네이트, 라우릴이소시아네이트, 옥타데실이소시아네이트, 베헤닐이소시아네이트 등의 장쇄 알킬기 함유 이소시아네이트, 옥틸클로라이드, 데실클로라이드, 라우릴클로라이드, 옥타데실클로라이드, 베헤닐클로라이드 등의 장쇄 알킬기 함유산 클로라이드, 장쇄 알킬기 함유 아민, 장쇄 알킬기 함유 알코올 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 이형성이나 취급 용이성을 고려하면 장쇄 알킬기 함유 이소시아네이트가 바람직하고, 옥타데실이소시아네이트가 특히 바람직하다.
상기 반응성기와 반응 가능한 알킬기를 갖는 화합물은 상기 반응성기를 갖는 고분자 100중량부에 대하여 100~1000중량부를 반응시키는 것이 바람직하고, 200~800중량부가 보다 바람직하고, 300~700중량부가 더욱 바람직하다. 이 범위에 있으면, 점착제층에 대한 경박리성과 광학용 표면 보호 필름의 점착제층으로의 오염을 억제할 수 있기 때문에 바람직하다.
<지방족 카르복실산 에스테르>
상기 지방족 카르복실산 에스테르는 지방족 카르복실산과 알코올을 반응시켜서 얻어진다. 상기 지방족 카르복실산 성분으로서는, 탄소수 6~36의 모노 또는 디카르복실산이 바람직하고, 탄소수 6~36의 지방족 포화 모노 카르복실산이 보다 바람직하다. 이러한 지방족 카르복실산의 구체예로서는, 팔미트산, 스테아르산, 발레르산, 카프로산, 카프린산, 라우르산, 아라킨산, 베헨산, 리그노세린산, 세로틴산, 메리신산, 테트라트리아콘탄산, 몬탄산, 글루타르산, 아디프산, 아젤라산 등을 들 수 있다.
한편, 상기 알코올로서는 포화 또는 불포화의 1가 알코올, 포화 또는 불포화의 다가 알코올 등을 들 수 있다. 이들 알코올은 불소 원자, 아릴기 등의 치환기를 갖고 있어도 좋다. 이들 알코올 중, 탄소수 30 이하의 1가 또는 다가의 포화 알코올이 바람직하고, 또한 탄소수 30 이하의 지방족 포화 1가 알코올 또는 다가 알코올이 바람직하다. 여기서 지방족 알코올은 지환식 알코올도 포함하고 있다. 이들 알코올의 구체예로서는, 옥탄올, 데칸올, 도데칸올, 스테아릴알코올, 베헤닐알코올, 에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 글리세린, 펜타에리트리톨, 2,2-디히드록시퍼플루오로프로판올, 네오펜틸렌글리콜, 디트리메틸올프로판, 디펜타에리스리톨 등을 들 수 있다. 이들 지방족 카르복실산 에스테르는 불순물로서 지방족 카르복실산 및/또는 알코올을 함유하고 있어도 좋고, 복수의 화합물의 혼합물이어도 좋다.
상기 지방족 카르복실산 에스테르의 구체예로서는, 비즈왁스(밀리실팔미테이트를 주성분으로 하는 혼합물), 스테아르산 스테아릴, 베헨산 베헤닐, 베헨산 옥틸도데실, 글리세린모노팔미테이트, 글리세린모노스테아레이트, 글리세린디스테아레이트, 글리세린트리스테아레이트, 펜타에리트리톨모노팔미테이트, 펜타에리트리톨모노스테아레이트, 펜타에리트리톨디스테아레이트, 펜타에리트리톨트리스테아레이트, 펜타에리트리톨테트라스테아레이트를 들 수 있다.
상기 카르복실산 에스테르는 이형제 조성물 중에, 바람직하게는 70~99중량%, 보다 바람직하게는 80~99중량%, 더욱 바람직하게는 90~99중량% 함유한다. 이 범위에 있으면, 점착제층에 대한 경박리성이 우수한 점에서 바람직하다.
또한, 상기 이형제 조성물에는 그 밖의 공지된 첨가제를 함유하고 있어도 좋고, 예를 들면 대전 방지제, 착색제, 안료 등의 분체, 계면 활성제, 가소제, 점착 부여제, 저분자량 폴리머, 표면 윤활제, 레벨링제, 산화 방지제, 부식 방지제, 광 안정제, 자외선 흡수제, 중합 금지제, 실란커플링제, 무기 또는 유기 충전제, 금속분, 입자상 등을 사용하는 용도에 따라 적절히 첨가할 수 있다.
<세퍼레이터의 제작>
상기 세퍼레이터는 상기 기재 상에 상기 이형제 조성물을 이용하여 형성되는 것이다.
기재 상에 이형층을 형성하는 방법은 특별히 상관없지만, 예를 들면, 상기 이형제 조성물 용액을 기재 상에 도포하고, 중합 용제 등을 건조 제거하여 이형층을 기재 상에 형성함으로써 제작된다. 그 후, 이형층의 성분 이행의 조정 등을 목적으로 양생해도 좋다. 또한, 이형제 조성물을 기재 상에 도포하여 이형층을 제작할 때에는, 기재 상에 균일하게 도포할 수 있도록 상기 이형제 조성물 중에 중합 용제 이외의 1종 이상의 용제를 새롭게 추가해도 좋다.
또한, 상기 이형층의 형성 방법으로서는, 이형층의 제조에 이용되는 공지된 방법이 사용된다. 구체적으로는, 예를 들어 롤 코트, 그라비어 코트, 리버스 코트, 롤 브러쉬, 스프레이 코트, 에어나이프 코팅법, 다이코터 등에 의한 압출 코팅법 등을 들 수 있다.
상기 이형층의 두께는 일반적으로 1~200nm이고, 바람직하게는 5~100nm, 보다 바람직하게는 10~50nm이다. 이형층의 두께가 너무 작으면 세퍼레이터를 박리하는 것이 곤란하게 되고, 이 때문에 광학용 표면 보호 필름을 첩합시키는 작업이 곤란하게 되는 일이 있을 수 있다. 한편, 너무 두꺼우면, 광학용 표면 보호 필름의 점착제층의 오염성에 영향을 미치는 경우가 있다.
<광학용 표면 보호 필름과 세퍼레이터의 첩합>
본 발명의 세퍼레이터 부착형 광학용 표면 보호 필름은 상기 광학용 표면 보호 필름의 점착제층과 상기 세퍼레이터의 이형층을 첩합시켜서 이루어지는 형태이다. 첩합은 공지된 제조 방법이 이용된다.
<형광 X선에서의 Si-Kα선 강도의 측정>
본 발명의 세퍼레이터 부착형 광학용 표면 보호 필름에 있어서, 광학용 표면 보호 필름에 첩합된 상기 세퍼레이터를 박리한 후, 점착제층 표면의 형광 X선에서의 Si-Kα선 강도에 의해, 점착제층 표면의 규소 원자량을 측정할 수 있다. 상기 점착제층 표면의 형광 X선에서의 Si-Kα선 강도는 2.5kcps 이하이고, 바람직하게는 2.4 이하이며, 보다 바람직하게는 2.2 이하이고, 가장 바람직하게는 2.0 이하이다. 이 범위에 있으면, 세퍼레이터가 박리된 광학용 표면 보호 필름을 피착체(예를 들면, 유리판)에 첩착 후 이를 박리했을 때에, 점착제층에 의한 피착체 표면의 오염 의 영향을 작게 할 수 있기(예를 들면, 세퍼레이터의 이형층에 박리성 향상을 위해 포함되는 폴리디메틸실록산과 같은 유기 실리콘 화합물이 세퍼레이터와 광학용 표면 보호 필름의 첩착에 의해 점착제층의 표면에 전사되고, 이 전사된 유기 실리콘 화합물이 또한 피착체에 전사되는 것을 억제할 수 있기) 때문에 바람직하다. 그 결과, 피착체에 형성된 층간 충전제(층) 등의 다른 층의 벗겨짐을 방지할 수 있다.
<점착 테이프의 박리력의 차 측정>
상기 피착체로의 표면 오염의 영향은 점착 테이프의 박리력의 차이에 의해 측정할 수 있다. 점착 테이프의 박리력의 차는 식(1): 점착 테이프의 박리력의 차(N/50mm)=F0-F(N/50mm)에 의해 구할 수 있다.
여기서, F는 세퍼레이터를 박리한 광학용 표면 보호 필름을 피착체인 유리판에 첩합하고 70℃, 48시간 가온한 후, 실온에서 1시간 방치 후에 광학용 표면 보호 필름을 떼어, 광학용 표면 보호 필름이 첩합되어 있던 유리판의 표면에 닛토 덴코 주식회사 제조의 편면 점착 테이프 품번 「No.31B」(폭 19mm)를 2kg의 롤러를 이용하여 첩합하고, 23℃, 50% RH의 조건 하에서 20분간 경과한 박리 각도 180°, 인장 속도 0.3m/분으로 박리했을 때의 해당 점착 테이프의 박리력(N/19mm)을 50mm 폭에서의 측정값으로 환산한 박리력(N/50mm)이다.
또한, F0는 광학용 표면 보호 필름을 유리판에 첩합하지 않고, 유리판의 표면에 직접 니토 덴코 주식회사의 편면 점착 테이프 품번 「No.31B」를 2kg의 롤러를 이용하여 첩합하고 23℃, 50% RH의 조건 하에서 20분간 경과한 박리 각도 180°, 인장 속도 0.3m/분으로 박리했을 때의 해당 점착 테이프의 박리력(N/19mm)을 50mm 폭에서의 측정값으로 환산한 박리력(N/50mm)이다.
상기 점착 테이프의 박리력의 차는 광학용 표면 보호 필름을 박리한 후의 광학 부재 상에 형성되는 다른 층(예를 들면, 층간 충전제(층))과의 밀착성의 지표이며, 이에 의해 피착체 표면의 오염 정도를 평가할 수 있다.
상기 점착 테이프의 박리력의 차는 4.0N/50mm 이하가 바람직하고, 3.6N/50mm 이하가 보다 바람직하며, 3.2N/mm 이하가 보다 더욱 바람직하고, 2.8 이하가 가장 바람직하다. 이 범위에 있으면, 광학용 보호 필름을 박리한 후, 점착제층에 의한 피착체 표면으로의 오염의 영향이 적고, 피착체에 형성된 층간 충전제(층) 등의 다른 층의 벗겨짐을 방지할 수 있다.
<세퍼레이터의 광학용 표면 보호 필름에 대한 박리력의 측정>
본 발명의 세퍼레이터 부착형 광학용 표면 보호 필름은 광학용 표면 보호 필름과 세퍼레이터를 첩합하고, 23℃, 50% RH 조건 하에서 20분간 방치 후에, 박리 각도 180°, 박리 속도 0.3m/분의 조건에 의해 박리함으로써, 세퍼레이터의 광학용 표면 보호 필름에 대한 박리력을 구할 수 있다. 세퍼레이터의 광학용 표면 보호 필름에 대한 박리력은 0.5N/50mm 이하이고, 0.4N/50mm 이하가 바람직하며, 0.3N/50mm 이하가 보다 바람직하고, 0.2N/50mm 이하가 보다 더욱 바람직하며, 0.1N/50mm 이하가 가장 바람직하다. 또한, 0.03N/50mm 이상이 바람직하고, 0.05N/50mm 이상이 보다 바람직하고, 0.08N/50mm 이상이 더욱 바람직하다. 이 범위에 있으면, 상기 점착제층에 대한 박리성이 우수하고, 또한 첩합 시의 작업성이 우수한 세퍼레이터로 된다.
<광학용 표면 보호 필름의 유리에 대한 박리력의 측정>
본 발명의 세퍼레이터 부착형 광학용 표면 보호 필름은 세퍼레이터를 박리한 광학용 표면 보호 필름을 유리판의 표면에 2kg 롤러로 첩합한 후, 23℃, 50% RH의 조건 하에서 20분간 경과한 박리 각도 180°, 인장 속도 0.3m/분의 조건에 의해 박리함으로써, 광학용 표면 보호 필름의 유리에 대한 박리력을 구할 수 있다. 상기 광학용 표면 보호 필름의 유리에 대한 박리력이 0.08N/25mm 이하인 것이 바람직하고, 0.07N/25mm 이하가 바람직하며, 0.06N/25mm 이하가 보다 바람직하고, 0.05N/25mm 이하가 보다 더욱 바람직하며, 0.04N/25mm 이하가 가장 바람직하다. 또한, 0.01N/25mm 이상이 바람직하며, 0.02N/25mm 이상이 보다 바람직하고, 0.03N/25mm 이상이 더욱 바람직하다. 이 범위에 있으면, 유리 등의 피착체에 대한 박리성이 우수한 점착제층이 된다.
<X선 광전자 분광법(ESCA)으로의 규소 원자의 원소 비율 측정>
본 발명의 세퍼레이터 부착형 광학용 표면 보호 필름에 있어서, 광학용 표면 보호 필름에 첩합된 상기 세퍼레이터를 박리한 후, 점착제층 표면을 X선 광전자 분광법으로 측정하는 것에 의해, 점착제층의 최표면의 규소 원자(Si)에 대한 원소 비율(atomic%)을 산출할 수 있다. 상기 점착제층의 최표면의 규소 원자(Si)에 대한 원소 비율(atomic%)은 바람직하게는 0.5 이하이고, 보다 바람직하게는 0.3 이하이며, 가장 바람직하게는 0.2 이하이다. 이 범위에 있으면, 세퍼레이터가 박리된 광학용 표면 보호 필름을 피착체(예를 들면, 유리판)에 첩착 후 이를 박리했을 때에, 점착제층에 의한 피착체 표면의 오염의 영향을 작게 할 수 있기(예를 들면, 세퍼레이터의 이형층에 박리성 향상을 위해 포함되는 폴리디메틸실록산과 같은 유기 실리콘 화합물이 세퍼레이터와 광학용 표면 보호 필름의 첩착하여 점착제층의 표면에 전사되고, 이 전사된 유기 실리콘 화합물이 또한 피착체에 전사되는 것을 억제할 수 있기) 때문에 바람직하다. 그 결과, 피착체에 형성된 층간 충전제(층) 등의 다른 층의 벗겨짐을 방지할 수 있다.
본 발명의 상기 광학용 표면 보호 필름을 박리한 후에 피착체에 형성되는 다른 층으로서는, 예를 들어 층간 충전제(층)를 들 수 있다. 상기 층간 충전제(층)는, 예를 들면 커버 유리와 액정 패널 사이를 충전하여 시인성을 향상시킬 목적으로 사용되는 것이며, 구체적으로는 SVR7000 시리즈, SVR1120, SVR1150, SVR1320, SVR1241H(덱세리얼즈사 제조)이나 WORLD ROCK 700 시리즈, WORLD ROCK801, A-350 시리즈, WORLD ROCK HRJ-40, HRJ-203, HRJ-300, HRJ-302(교리츠 화학 산업사 제조) 등을 들 수 있다.
[실시예]
이하, 본 발명의 구성과 효과를 구체적으로 나타내는 실시예 등에 대해서 설명하지만, 본 발명은 이들로 한정되는 것은 아니다. 또한, 실시예 등에서의 평가 항목은 하기와 같이 하여 측정하였다.
<실시예 1>
<(메트)아크릴계 폴리머(A1)의 제조>
교반 날개, 온도계, 질소 가스 도입관, 냉각기를 구비한 4구 플라스크에 2-에틸헥실아크릴레이트(2EHA, 도우아 고우세이 제조, 아크릴산 2-에틸헥실) 100중량부, 2-히드록시에틸아크릴레이트(HEA, 도우아 고우세이 제조, 아크릭스 HEA) 4중량부, 중합 개시제로서 2,2'-아조비스이소부티로니트릴(와코 준야쿠 제조, AIBN) 0.2중량부, 아세트산에틸(쇼와 덴코 제조, 아세트산에틸) 205중량부를 투입하고, 완만하게 교반하면서 질소 가스를 도입하고, 플라스크 내의 액체 온도를 63℃ 부근으로 유지하여 약 4시간 중합 반응을 행하여, (메트)아크릴계 폴리머(A1) 용액(35중량%)을 제조하였다. 상기 (메트)아크릴계 폴리머(A1)의 중량 평균 분자량은 65만이고, Tg는 -68.3℃이었다.
<점착제 조성물의 제조>
상기 (메트)아크릴계 폴리머(A1) 용액(35중량%)을 아세트산에틸로 29중량%로 희석하고, 이 용액의 (메트)아크릴계 폴리머 100중량부(고형분)에 대해, 헥사메틸렌디이소시아네이트의 이소시아누레이트체(니폰 폴리우레탄 공업사 제조, Coronate HX) 4중량부, 주석계 촉매로서 디옥틸주석 라우레이트(도쿄 파인케미컬 제조, 엔비라이저 OL-1) 0.015중량부, 케토-에놀 호변이성이 발생하는 화합물로서 아세틸아세톤 0.69중량부를 추가하고, 25℃ 부근으로 유지하여 약 1분간 혼합 교반을 행하여 점착제 조성물(1)을 제조하였다.
<세퍼레이터 A의 제작>
부티랄 수지(세키스이 화학 공업 제조, 에스렉 KW-10)를 건조시켜 얻어진 수지 100중량부를 크실렌(다이요 화학 제조, 크실렌) 900중량부에 용해시키고, 이어서 옥타데실이소시아네이트(오하라 파라지움 화학 주식회사 제조, R-NCO)를 480중량부를 추가하였다. 또한, 이 용액을 톨루엔(이데미츠 석유 화학 제조)으로 고형분이 0.3중량%로 되도록 희석하여, 이형제 조성물을 얻었다. 이 이형제 조성물을 두께 38㎛의 PET 필름(미츠비시 수지 제조, 다이아호일 T100C38)에 도포하고, 130℃에서 1분간 건조시켜 세퍼레이터 A를 제작하였다. 이형층의 건조 후의 두께는 20nm이었다.
<세퍼레이터 부착형 광학용 표면 보호 필름의 제작>
상기 점착제 조성물(1)을 PET 기재(미쓰비시 수지 제조, 다이아호일 T100C38, 두께 38㎛)의 편면에 도포하고, 130℃에서 60초간 가열해 두께 10㎛의 점착제층을 형성하여, 광학용 표면 보호 필름을 제작하였다. 이어서, 상기 점착제층의 표면에 세퍼레이터 A 이형층을 핸드롤러에 첩합하여, 세퍼레이터 부착형 광학용 표면 보호 필름을 제작하였다. 또한, 피착체로의 첩착(사용)시에는, 상기 세퍼레이터는 제거하여 사용하였다.
<세퍼레이터 B의 제작>
냉각기를 구비한 반응 용기에 아크릴로니트릴(쇼와 덴코 주식회사 제조, 아크릴로니트릴)을 100중량부, 메타크릴산 스테아릴(미쓰비시 가스 화학 주식회사 제조, SMA)을 62.5중량부, 메타크릴산(미쓰비시 레이온 주식회사 제조, 메타크릴레이트)을 18중량부, 1-도데칸티올(와코 준야쿠 주식회사 제조, 1-도데칸티올)을 1.8중량부, 과산화 벤조일(니치유 주식회사 제조, 나이퍼 BW)을 0.55중량부, 톨루엔(이데미츠 석유 화학 제조)으로 24중량%로 희석하고, 질소 기류 하에서 70℃ 7시간 반응시켰다. 얻어진 액체를 톨루엔으로 0.3중량%로 희석하여 이형제 조성물을 얻은 후, 세퍼레이터 A와 동일하게 하여 세퍼레이터 B를 제작하였다.
<세퍼레이터 C>
도요보 제조의 도요보 에스테르 필름 TN101(두께 38㎛)을 사용하였다. 세퍼레이터 C를 구성하는 이형층은 펜타에리트리톨 지방산 에스테르를 포함하는 이형제 조성물에 의해 형성되어 있다.
<세퍼레이터 D의 제작>
냉각기를 구비한 반응 용기에 크실렌(다이요 화학 제조, 크실렌)을 200중량부, 옥타데실이소시아네이트(오하라 파라지움 화학 주식회사 제조, R-NCO)를 600중량부 넣고, 교반하면서 가열하여 크실렌이 환류하기 시작한 점부터 폴리비닐알코올(쿠라레 제조, 쿠라레 Poval 205) 100중량부를 소량씩 10분 간격으로 2시간에 걸쳐서 첨가하였다. 폴리비닐알코올을 추가하는 것을 끝내고 2시간 환류를 더 행하고 반응을 종료하였다. 반응 혼합물을 약 80℃까지 냉각하고 나서 메탄올 내에 추가한 결과, 반응 생성물이 백색 침전물로 석출되었기 때문에, 이 침전물을 여과하여 크실렌 140중량부를 추가하고, 가열하여 완전히 용해시킨 후, 다시 메탄올을 추가하여 침전시키는 등의 작업을 수회 반복한 후, 침전물을 메탄올로 세정하고, 건조 분쇄하여 얻은 분말을 물로 0.3중량%로 희석하였다. 얻어진 용액을 사용하여 세퍼레이터 A와 동일하게 하여 세퍼레이터 D를 제작하였다.
<세퍼레이터 E>
후지모리 공업 제조의 필름 바이너리 50E-0010NSD(두께 50㎛)를 사용하였다. 세퍼레이터 E를 구성하는 이형층은 펜타에리트리톨 지방산 에스테르를 포함하는 이형제 조성물에 의해 형성되어 있다.
<세퍼레이터 F>
실리콘 이형제(신에츠 화학 공업 제조, KS-847H)를 100중량부, 실리콘 경화 촉매(신에츠 화학 공업 제조, CAT-PL-50T)를 3.3중량부 넣고, 톨루엔(이데미츠 석유 화학 제조), 헥산(마루젠 석유 화학 제조, 노말헥산), 메틸에틸케톤(이데미츠 고산 제조, MEK)이 1:2:1의 중량비로 되는 용제로 0.3중량%로 희석하여, 이형제 조성물을 얻었다. 얻어진 이형제 조성물을 이용하여 세퍼레이터 A와 동일하게 하여 세퍼레이터 F를 제작하였다.
<실시예 2~8, 비교예 1~3, 블랭크 1>
표 1 및 2에 나타내는 바와 같이, (메트)아크릴계 폴리머를 구성하는 모노머 성분이나, 상기 세퍼레이터의 처리를 변경한 것 이외는, 실시예 1과 동일한 방법으로 실시예 2-8 및 비교예 1~3의 세퍼레이터 부착형 광학용 표면 보호 필름을 제작하였다. 블랭크 1로서, 세퍼레이터를 사용하지 않는 광학용 표면 보호 필름을 제작하였다. 또한, 철 촉매로서는, 트리스(아세틸아세토네이트) 철(니폰 화학 산업사 제조, 상품명 「Nasemu 제2철」)을 사용하였다.
<측정ㆍ평가>
이하에, 구체적인 배합량 및 측정ㆍ평가 방법을 기재하고, 그 결과를 표 1 및 2에 기재하였다.
<(메트)아크릴계 폴리머(A)의 중량 평균 분자량(Mw)의 측정>
제작한 폴리머의 중량 평균 분자량은 GPC(겔ㆍ침투ㆍ크로마토그래피)에 의해 측정하였다. 조건은 이하에 나타낸다.
장치: 도소사 제조, HLC-8220GPC
샘플 컬럼: 도소사 제조, TSKguardcolumn Super HZ-H(1개)+TSKgel Super HZM-H(2개)
참조 컬럼: 도소사 제조, TSKgel Super H-RC(1개)
유량: 0.6ml/분
주입량: 10㎕
칼럼 온도: 40℃
용리액: THF
주입 시료 농도: 0.2중량%
검출기: 시차 굴절계
또한, 중량 평균 분자량은 폴리스티렌 환산에 의해 산출되었다.
<(메트)아크릴계 폴리머(A)의 유리 전이 온도(Tg)의 측정>
유리 전이 온도(Tg)(℃)는 각 모노머에 의한 호모 폴리머의 유리 전이 온도 Tgn(℃)로서 하기의 문헌 값을 이용하여 하기의 식에 의해 구하였다.
식: 1/(Tg+273)=Σ[Wn/(Tgn+273)
(식 중, Tg(℃)는 공중합체의 유리 전이 온도, Wn(-)는 각 모노머의 중량 분율, Tgn(℃)는 각 모노머에 의한 호모 폴리머의 유리 전이 온도, n은 각 모노머의 종류를 나타냄.)
2-에틸헥실아크릴레이트(2EHA): -70℃
히드록시에틸아크릴레이트(HEA): -15℃
4-히드록시부틸아크릴레이트(HBA): -32℃
아크릴산(AA): 106℃
한편, 문헌 값으로서 「아크릴 수지의 합성ㆍ설계와 새로운 용도 개발」(중앙 경영 개발 센터 출판부 발행)을 참조하였다.
<Si-Kα선 강도의 측정>
얻어진 세퍼레이터 부착형 광학용 표면 보호 필름으로부터 세퍼레이터를 박리한 후, 점착제층 표면의 형광 X선에서의 Si-Kα선 강도에 따라, 점착제층 표면의 규소 원자량을 이하의 조건에 의해 측정하였다.
장치: Rigaku 제조의 XRF ZSX100e
X선원: 종형 Rh 관
분석 면적: 30mmφ
분석 원소: Si
분광 결정: RX4
출력: 50kv, 70mA
시료(면적=30mmφ)에 여기 X선(선원=종형 Rh관, 출력=50kv, 70mA)을 조사하여, 분광 결정(=RX4)으로 분광된 Si의 형광 X선의 강도를 계측하였다.
또한, 세퍼레이터를 사용하지 않는 광학용 표면 보호 필름(블랭크 1)의 점착제층 표면에 대해서도 형광 X선에서의 Si-Kα선 강도를 상기의 조건에 의해 측정하였다. 그 결과, 상기 규소 원자량은 점착제층이나 이형층에 실리콘계 재료를 사용하지 않아도, 폴리에스테르 필름이나 기재의 규소 원자(예를 들면, PET 필름 중 충전제의 실리카(SiO2) 등)도 검출하기 때문에, Si-Kα선 강도가 0kcps로 되지 않고 세퍼레이터를 사용하지 않는 광학용 표면 보호 필름(블랭크(1))의 점착제층에서는 1.9kcps로 되었다.
상기 세퍼레이터를 박리한 후, 점착제층 표면의 Si-Kα선 강도는 2.5kcps 이하가 바람직하다. 이 범위에 있으면 세퍼레이터가 박리된 광학용 표면 보호 필름을 유리판으로부터 박리한 후, 점착제층에 의한 유리 표면의 오염의 영향이 적기(예를 들어, 세퍼레이터의 이형층에 박리성 향상을 위해 포함된 폴리디메틸실록산과 같은 유기 실리콘 화합물이 세퍼레이터와 광학용 표면 보호 필름의 첩착에 의해 점착제층의 표면에 전사되고, 이 전사된 유기 실리콘 화합물이 또한 피착체에 전사되는 것을 억제할 수 있기) 때문에, 예를 들면, 층간 충전제(층) 등의 다른 층의 피착체로부터의 벗겨짐을 방지할 수 있다.
<점착 테이프의 박리력의 차의 측정>
얻어진 세퍼레이터 부착형 광학용 표면 보호 필름으로부터 세퍼레이터를 떼어서 유리판(마츠나미 글라스 제조, 청판 연마품 OF1)에 첩합하여, 오븐에서 70℃로 48시간 가온하였다. 오븐에서 꺼내서 실온에서 1시간 방치한 후에 광학용 표면 보호 필름을 벗기고, 광학용 표면 보호 필름이 붙어 있었던 면에 아크릴 점착 테이프(닛토덴코사 제조, No.31B, 폭 19mm)를 2kg의 롤러를 사용하여 첩합하고, 23℃, 상대 습도 50%의 환경에 20분 정도 방치하였다. 0.3m/분의 속도로 180°의 각도로 떼어내어, 박리력을 측정하고, 50mm 폭에서의 측정값으로 환산하여, 이를 하기 식(1)의 F 값으로 하였다.
또한, 광학용 표면 보호 필름을 첩합하지 않고 유리판에 직접 No.31B를 첩합한 것과 동일하게 박리력을 측정하고, 50mm 폭에서의 측정값으로 환산하여, 하기 식(1)의 F0의 값으로 하였다. 이 경우, No.31B의 박리력은 18.7N/50mm이었다.
그리고, 이들 점착 테이프의 박리력의 차를 하기 식(1)에 의해 계산하였다.
식(1): 점착 테이프의 박리력의 차(N/50mm)=F0-F(N/50mm)
상기 점착 테이프 박리력의 차는 4.0N/50mm 이하가 바람직하다. 이 값이 작을수록, 광학용 보호 필름을 박리한 후, 점착제층에 의한 유리 표면의 오염의 영향이 작고, 예를 들면 유리 표면에 형성된 층간 충전제(층) 등의 다른 층의 벗겨짐을 방지할 수 있다.
<세퍼레이터의 광학용 표면 보호 필름에 대한 박리력의 측정>
얻어진 세퍼레이터 부착형 광학용 표면 보호 필름을 50mm 폭으로 절단하고, SUS판(SUS304BA)에 점착제층이 부착된 면과 반대면(폴리에스테르 필름)을 고정하였다. 23℃, 상대 습도 50%의 환경에 20분 정도 방치한 후, 세퍼레이터를 0.3m/분의 속도로 180°의 각도로 떼어내어, 세퍼레이터의 광학용 표면 보호 필름에 대한 박리력(N/50mm)을 측정하였다.
세퍼레이터의 광학용 표면 보호 필름에 대한 박리력은 0.5N/50mm 이하가 바람직하다. 이 범위에 있으면, 상기 점착제층에 대한 박리성이 우수하고, 또한 첩합시의 작업성이 우수한 세퍼레이터가 된다.
<세퍼레이터 박리성 평가>
세퍼레이터 박리성 평가는 상기 세퍼레이터의 광학용 표면 보호 필름에 대한 박리력이 0.5N/50mm 이하인 것을 양호(○)로 하고, 0.5N/50mm보다 큰 것을 불량(×)으로 하였다.
<광학용 표면 보호 필름의 유리에 대한 박리력의 측정>
얻어진 세퍼레이터 부착형 광학용 표면 보호 필름을 25mm 폭으로 절단하고 세퍼레이터를 떼어서 유리판(마츠나미 글라스 제조, 청판 연마품 OF1)에 2kg의 롤러를 이용하여 첩합하고, 23℃, 상대 습도 50%의 환경에 20분 정도 방치하였다. 광학용 표면 보호 필름을 0.3m/분의 속도로 180°의 각도로 떼어내어, 광학용 표면 보호 필름의 유리에 대한 박리력(N/25mm)을 측정하였다.
상기 광학용 표면 보호 필름의 유리에 대한 박리력은 0.08N/25mm 이하인 것이 바람직하다. 이 범위에 있으면, 유리 등의 피착체에 대한 박리성이 우수한 점착제층을 갖는 광학용 보호 필름이 된다.
<X선 광전자 분광법(ESCA)으로의 규소 원자의 원소 비율 측정>
얻어진 세퍼레이터 부착형 광학용 표면 보호 필름으로부터 세퍼레이터를 박리한 후, 점착제층 표면의 X선 광전자 분광법에 의한 측정에 의해, 점착제층의 최표면의 규소 원자(Si)의 원소 비율을 이하의 조건에 의해 계산하였다.
장치: ULVAC PHI 제조의 PHI Quantera SXM
X선원: 흑백 AlKα
XRay Setting: 100㎛φ[15kV, 25W]
광전자 취출각(extraction angle): 시료 표면에 대해 45°
얻어진 세퍼레이터 부착형 광학용 표면 보호 필름을 적절히 잘라내고 X선 광전자 분광법의 측정을 행하여, 규소 원자에 대해서 원소 비율(atomic%)을 산출하였다.
상기 규소 원자에 대해서 원소 비율은 0.5atomic% 이하가 바람직하다. 이 범위에 있으면, 세퍼레이터가 박리된 광학용 표면 보호 필름을 유리판으로부터 박리한 후, 점착제층에 의한 유리 표면의 오염 영향이 적기(예를 들면, 세퍼레이터의 이형층에 박리성 향상을 위해 포함되는 폴리디메틸실록산과 같은 유기 실리콘 화합물이 세퍼레이터와 광학용 표면 보호 필름의 첩착에 의해 점착제층의 표면에 전사되고, 이 전사된 유기 실리콘 화합물이 피착체에 더 전사하는 것을 억제할 수 있기) 때문에, 예를 들면, 층간 충전제(층) 등의 다른 층의 피착체로부터의 벗겨짐을 방지할 수 있다.
<세퍼레이터의 이형층의 표면과, 세퍼레이터의 기재의 표면의 형광 X선에서의 Si-Kα선 강도의 차 측정>
상기 Si-Kα선 강도의 측정 조건에 따라, 세퍼레이터의 이형층 표면의 형광 X선에서의 Si-Kα선 강도(a)와, 세퍼레이터의 이형층을 갖지 않는 기재의 표면(미처리면)의 형광 X선에서의 Si-Kα선 강도(b)를 측정하고, 그 차[(b)-(a)]를 구하였다. 그 결과, 세퍼레이터 C의 상기 Si-Kα선 강도(a)는 3.78kcps이고, 세퍼레이터 C의 상기 Si-Kα선 강도(b)는 3.98kcps이었으므로, 그 차[(b)-(a)]는 0.20kcps이었다. 또한, 세퍼레이터 E의 상기 Si-Kα선 강도(a)는 6.52kcps이며, 세퍼레이터 E의 상기 Si-Kα선 강도(b)는 6.73kcps이었으므로, 그 차[(b)-(a)]는 0.21kcps이었다. 또한, 세퍼레이터 F의 상기 Si-Kα선 강도(a)는 75.5kcps이며, 세퍼레이터 F의 상기 Si-Kα선 강도(b)는 7.36kcps이었으므로, 그 차[(b)-(a)]는 68.14kcps이었다.
Figure pct00001
Figure pct00002
상기 표 2의 결과로부터, 모든 실시예에 있어서 Si-Kα선 강도가 2.5kcps 이하이기 때문에, 내오염성이 우수하고, 또한 세퍼레이터의 광학용 표면 보호 필름에 대한 박리력이 0.5N/50mm 이하이기 때문에, 첩합시의 작업성이 우수한 것으로 확인되었다. 이에 대해, 비교예 1 및 3에 있어서 Si-Kα선 강도가 2.5kcps보다 크고, 비교예 2에 있어서 세퍼레이터의 점착제층에 대한 박리력이 0.5N/50mm보다 크며, 비교예 1~3은 실시예와 비교해서 그 성능이 떨어지는 것이 확인되었다.
추가로, 상기 표 2의 결과로부터, 모든 실시예에 있어서 점착 테이프의 박리력 차가 4.0N/50mm 이하이기 때문에, 광학용 보호 필름을 박리했을 때의 점착제층에 의한 유리 표면의 오염 영향이 작으므로, 예를 들면 층간 충전제(층) 등의 다른 층의 벗겨짐을 방지할 수 있고, 또한 표면 보호 필름의 유리에 대한 박리력이 0.08N/25mm 이하이므로, 유리에 대한 박리성이 우수한 것이 확인되었다. 또한, 세퍼레이터 박리성이 양호하였다. 추가로, 점착제층의 최표면의 규소 원자(Si)의 원소 비율이 0.5atomic% 이하이기 때문에, 내오염성이 우수한 것으로 확인되었다. 이에 대해, 비교예 1 및 3에 있어서 점착 테이프의 박리력 차가 4.0N/50mm보다 크고, 또한 점착제층의 최표면의 규소 원자의 원소 비율이 2.0atomic% 이상이며, 비교예 2에 있어서 광학용 표면 보호 필름의 유리에 대한 박리력이 0.08N/25mm보다 크고, 또한 세퍼레이터 박리성이 불량이며, 비교예 1~3은 실시예와 비교해서 그 성능이 떨어지는 것이 확인되었다.
1: 세퍼레이터
2: 광학용 표면 보호 필름
3: 세퍼레이터 부착형 광학용 표면 보호 필름
11: 기재
12: 이형층
21: 점착제층
22: 폴리에스테르 필름

Claims (6)

  1. 점착제층의 편면에 폴리에스테르 필름을 갖고, 상기 점착제층의 폴리에스테르 필름과는 반대면에 세퍼레이터를 갖는 세퍼레이터 부착형 광학용 표면 보호 필름으로서,
    상기 세퍼레이터를 박리한 후의 상기 점착제층 표면의 형광 X선에서의 Si-Kα선 강도가 2.5kcps 이하이고,
    상기 세퍼레이터의 광학용 표면 보호 필름에 대한 박리력이 인장 속도 0.3m/분에서 0.5N/50mm 이하인, 세퍼레이터 부착형 광학용 표면 보호 필름.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 세퍼레이터는 이형층과 기재를 갖고,
    상기 이형층은 장쇄 알킬계 재료 및/또는 지방족 카르복실산 에스테르를 포함하는 이형제 조성물로 형성되는, 세퍼레이터 부착형 광학용 표면 보호 필름.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 점착제층은 (메트)아크릴계 폴리머(A) 및 지방족 폴리이소시아네이트계 가교제(B)를 포함하는 점착제 조성물로 형성되고,
    상기 (메트)아크릴계 폴리머(A)는, 모노머 성분으로서, 적어도 탄소수 2~14의 알킬기 함유 (메트)아크릴계 모노머 및 히드록실기 함유 (메트)아크릴계 모노머를 포함하고, 또한 유리 전이 온도는 -50℃ 이하이며,
    상기 탄소수 2~14의 알킬기 함유 (메트)아크릴계 모노머 100중량부에 대하여, 상기 히드록실기 함유 (메트)아크릴계 모노머를 2~20중량부를 함유하는, 세퍼레이터 부착형 광학용 표면 보호 필름.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 (메트)아크릴계 폴리머(A) 100중량부에 대하여, 상기 지방족 폴리이소시아네이트계 가교제(B)를 1~30중량부를 함유하는, 세퍼레이터 부착형 광학용 표면 보호 필름.
  5. 제3항 또는 제4항에 있어서,
    상기 점착제 조성물은 철 또는 주석을 활성 중심으로 하는 촉매(C)를 더 함유하는, 세퍼레이터 부착형 광학용 표면 보호 필름.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 (메트)아크릴계 폴리머(A) 100중량부에 대하여, 상기 철 또는 주석을 활성 중심으로 하는 촉매(C)를 0.002~0.5중량부 함유하는, 세퍼레이터 부착형 광학용 표면 보호 필름.
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