KR20170101772A - 점착 시트 및 광학 제품의 제조 방법 - Google Patents

점착 시트 및 광학 제품의 제조 방법 Download PDF

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KR20170101772A
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잇세이 아다치
마사토모 나카무라
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린텍 가부시키가이샤
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Abstract

(과제) 파장 385㎚ 의 광선의 조사에 의해 점착력이 저하되고, 또 형광등 하에서의 보관 안정성이 우수한 점착 시트 및 당해 점착 시트를 사용한 광학 제품의 제조 방법을 제공한다.
(해결 수단) 기재와, 기재의 적어도 일방의 면측에 적층된, 자외선 경화성 점착제로 이루어지는 점착제층을 구비하고, 자외선 경화성 점착제가, (a) 파장 385㎚ 의 광선의 조사에 의해 개열되는 광중합 개시제와, (b) 파장 385㎚ 의 광선의 조사에 의해 개열되지 않고, 또, 광중합 개시제의 개열에 의해 라디칼을 발생하는 라디칼 발생제를 함유하는 점착제 조성물로부터 형성된 것인 점착 시트.

Description

점착 시트 및 광학 제품의 제조 방법{ADHESIVE SHEET AND PRODUCTION METHOD FOR OPTICAL PRODUCT}
본 발명은, 워크에 대한 첩부(貼付) 및 워크로부터의 박리가 가능한 점착 시트, 그리고 당해 점착 시트를 사용한 광학 제품의 제조 방법에 관한 것이다.
최근의 스마트폰, 타블렛 단말 등의 각종 모바일 전자 기기는 액정 소자, 발광 다이오드 (LED 소자), 유기 일렉트로루미네선스 (유기 EL) 소자 등을 갖는 표시체 모듈을 사용한 디스플레이를 구비하고 있고, 이러한 디스플레이가 터치 패널이 되는 경우도 많아지고 있다.
상기와 같은 디스플레이는, 각종 광학 부재를 적층함으로써 구성된다. 일례로서 터치 패널 디스플레이는, 표시체 모듈 (예를 들어, 액정 (LCD) 모듈, 발광 다이오드 (LED) 모듈, 유기 일렉트로루미네선스 (유기 EL) 모듈 등) 과, 그 위에 점착제층을 통하여 적층된, 투명 도전막이 형성되어 있는 필름과, 그 위에 점착제층을 통하여 적층된, 투명 도전막이 형성되어 있는 커버 유리를 구비하여 구성된다.
상기 각종 광학 부재를 사용하여 디스플레이를 제조함에 있어서, 광학 부재를 어느 위치로부터 다른 위치로 이동시키거나, 어느 광학 부재를 다른 광학 부재에 적층하거나 할 필요가 있다. 그 때, 광학 부재에 점착 시트를 첩부하고, 그 점착 시트를 핸들링함으로써, 당해 점착 시트가 첩부된 광학 부재를 원하는 작업에 처하는 것이 행해지고 있다.
이러한 점착 시트는, 광학 부재에 대한 작업 중에는 의도치 않은 박리가 발생하지 않도록 소정의 점착력을 갖고, 또, 광학 부재에 대한 작업 후에는 당해 광학 부재로부터 용이하게 박리할 수 있는 점착력을 가질 필요가 있다.
그러한 점착 시트로서 자외선 경화성의 점착제로 이루어지는 점착제층을 구비한 것을 사용할 수 있다. 이러한 점착 시트에 있어서는, 자외선을 조사함으로써 점착제를 경화시켜 점착력을 저하시키고, 그것에 의해 피착체로부터 용이하게 박리하는 것이 가능해진다.
상기 자외선을 조사하는 장치로서 종래에는 메탈 할라이드나 고압 수은 램프를 광원으로 하는 장치가 사용되어 왔지만, 최근, 이들을 대신하여 자외선 발광 다이오드 (본 명세서에 있어서 「자외선 LED」라고도 한다) 를 광원으로 한 자외선 조사 장치가 제안되어 있다 (예를 들어 특허문헌 1).
그러나, 자외선 LED 를 광원에 사용하면, 그 저확산성, 저발열성, 파장 영역의 협소 등의 이유에 의해 전술한 점착 시트가 구비하는 점착제층의 경화가 불충분하게 되는 경향이 보이는 경우가 있었다.
상기 문제를 해결하기 위해서, 용도는 반도체 웨이퍼 등의 디바이스 관련 부재이지만, 특허문헌 2 에 개시되는 점착 시트가 제안되어 있다. 이러한 점착 시트에서는, 파장 365㎚ 의 질량 흡광 계수가 소정의 범위에 있는 광중합 개시제를 점착제에 소정량 배합함으로써, 자외선 LED 를 조사한 경우라도 점착력을 충분히 저하시킬 수 있다.
특허문헌 1 : 일본 공개특허공보 2006-040944호 특허문헌 2 : 국제 공개 공보 WO2014/142085
그러나, 특허문헌 2 의 점착 시트를 형광등 하에서 보관한 경우, 형광등의 광에 의해 광중합 개시제가 개열되고, 점착제의 경화가 진행되어 버리는 일이 있다. 점착 시트의 보관 중에 점착제의 경화가 진행된 경우, 실제의 사용시에 피착체에 대해 원하는 점착력을 안정적으로 발휘할 수 없게 된다. 이와 같이, 자외선 LED 로 점착력을 저하시키는 종래의 점착 시트에서는, 형광등 하에서의 보관 안정성이 충분하다고는 말하기 어려웠다.
여기서, 최근 자외선 LED 로는, 파장 385㎚ 의 광선을 발하는 것이 사용되고 있다.
본 발명은 상기와 같은 실상을 감안하여 이루어진 것으로, 파장 385㎚ 의 광선의 조사에 의해 점착력이 저하되고, 또 형광등 하에서의 보관 안정성이 우수한 점착 시트 및 당해 점착 시트를 사용한 광학 제품의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기 목적을 달성하기 위해서, 첫째로 본 발명은, 기재와, 상기 기재의 적어도 일방의 면측에 적층된, 자외선 경화성 점착제로 이루어지는 점착제층을 구비하고, 상기 자외선 경화성 점착제가, (a) 파장 385㎚ 의 광선의 조사에 의해 개열되는 광중합 개시제와, (b) 파장 385㎚ 의 광선의 조사에 의해 개열되지 않고, 또, 상기 광중합 개시제의 개열에 의해 라디칼을 발생하는 라디칼 발생제를 함유하는 점착제 조성물로부터 형성된 것임을 특징으로 하는 점착 시트를 제공한다 (발명 1).
둘째로 본 발명은, 기재와, 상기 기재의 적어도 일방의 면측에 적층된, 자외선 경화성 점착제로 이루어지는 점착제층을 구비하고, 상기 자외선 경화성 점착제가, (a) 파장 370∼390㎚ 의 파장 영역에 있어서의 광선의 질량 흡광 계수의 최대값이 200㎖/g·㎝ 이상, 10000㎖/g·㎝ 이하인 광중합 개시제와, (b) 파장 370∼390㎚ 의 파장 영역에 있어서의 광선의 질량 흡광 계수의 최대값이 200㎖/g·㎝ 미만인 라디칼 발생제를 함유하는 점착제 조성물로부터 형성된 것임을 특징으로 하는 점착 시트를 제공한다 (발명 2).
상기 발명 (발명 1, 2) 에 관련된 점착 시트에 있어서의 점착제층에 대해 파장 385㎚ 의 광선을 조사하면, 광중합 개시제가 개열되고 라디칼이 발생하고, 그 라디칼에게 유발되어 라디칼 발생제도 라디칼을 발생한다. 이와 같이 라디칼 발생제가 연쇄 이동제로서 작용함으로써, 광중합 개시제의 함유량을 적게 해도 발생한 라디칼에 의해 자외선 경화성 점착제를 충분히 경화시킬 수 있고, 그러므로 점착력이 충분히 저하된다. 한편, 광중합 개시제의 함유량을 적게 할 수 있는 것에 의해, 형광등 하에서도 자외선 경화성 점착제의 경화가 진행되기 어렵고, 따라서, 당해 점착 시트를 형광등 하에서 보관한 경우라도, 피착체에 대해 양호한 점착력을 안정적으로 발휘할 수 있다. 즉, 상기 발명에 관련된 점착 시트는, 파장 385㎚ 의 광선 조사에 의한 점착력의 저하성이 우수하고, 또 형광등 하에서의 보관 안정성이 우수하다.
상기 발명 (발명 1, 2) 에 있어서, 상기 점착제 조성물 중에 있어서의 상기 광중합 개시제의 함유량은, 상기 자외선 경화성 점착제 중의 자외선 경화성 성분 100질량부에 대해 0.3질량부 이상, 5질량부 이하인 것이 바람직하고, 상기 점착제 조성물 중에 있어서의 상기 라디칼 발생제의 함유량은, 상기 자외선 경화성 점착제 중의 자외선 경화성 성분 100질량부에 대해 0.8질량부 이상, 7.0질량부 이하인 것이 바람직하다 (발명 3).
상기 발명 (발명 1∼3) 에 있어서, 상기 자외선 경화성 점착제는, 자외선 비경화성의 폴리머와, 자외선 경화성의 모노머 및/또는 올리고머를 함유하는 것이 바람직하다 (발명 4).
상기 발명 (발명 4) 에 있어서, 상기 자외선 비경화성의 폴리머는, 가교제를 통한 가교 구조를 갖는 것이 바람직하다 (발명 5).
상기 발명 (발명 1∼5) 에 있어서, 파장 385㎚ 의 광선 조사 전에 있어서의 상기 점착 시트의 실리콘 미러 웨이퍼에 대한 점착력은, 8000mN/25㎜ 이상, 300000mN/25㎜ 이하인 것이 바람직하다 (발명 6).
상기 발명 (발명 1∼6) 에 있어서, 파장 385㎚ 의 광선 조사 후에 있어서의 상기 점착 시트의 실리콘 미러 웨이퍼에 대한 점착력은, 1000mN/25㎜ 이하인 것이 바람직하다 (발명 7).
상기 발명 (발명 1∼7) 에 있어서, 파장 385㎚ 의 광선 조사 전에 있어서의 상기 점착 시트의 실리콘 미러 웨이퍼에 대한 점착력에 대한, 파장 385㎚ 의 광선 조사 후에 있어서의 상기 점착 시트의 실리콘 미러 웨이퍼에 대한 점착력의 비는, 0.1％ 이상, 15％ 이하인 것이 바람직하다 (발명 8).
상기 발명 (발명 1∼8) 에 관련된 점착 시트는, 광학 제품의 제조에 사용되는 것이 바람직하다 (발명 9).
셋째로 본 발명은, 상기 점착 시트 (발명 1∼9) 를, 상기 점착제층을 통하여 광학 부재에 첩부하는 공정과, 상기 점착 시트가 첩부된 상기 광학 부재에 대해 원하는 작업을 실시하는 공정과, 상기 광학 부재에 첩부된 상기 점착 시트의 상기 점착제층에 대해 파장 385㎚ 의 광선을 조사하여, 상기 점착제층의 점착력을 저하시키는 공정과, 상기 광학 부재로부터 상기 점착 시트를 박리하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 제품의 제조 방법을 제공한다 (발명 10).
본 발명에 관련된 점착 시트는, 파장 385㎚ 의 광선의 조사에 의해 점착력이 저하되고, 또 형광등 하에서의 보관 안정성이 우수하다. 이러한 점착 시트에 의하면, 광학 제품을 안정적으로 제조할 수 있다.
이하, 본 발명의 실시형태에 대해 설명한다.
〔점착 시트〕
본 실시형태에 관련된 점착 시트는, 워크에 첩부되고, 그 상태로 워크에 대해 원하는 작업이 이루어진 후, 당해 워크로부터 박리되는 것이다. 워크로는 특별히 한정되지 않지만, 후술하는 광학 부재가 바람직하다.
본 실시형태에 관련된 점착 시트는, 기재와, 기재의 적어도 일방의 면측에 적층된 점착제층을 구비하여 구성된다. 점착제층의 기재와는 반대측의 면에는, 박리 필름이 적층되어도 된다. 이 박리 필름은 점착 시트의 사용시에 박리 제거되고, 그때까지 점착제층을 보호하는 것이다.
1. 점착제층
본 실시형태에 있어서의 점착제층은, 자외선 경화성 점착제로 이루어진다. 당해 자외선 경화성 점착제는, 첫째로,
(a) 파장 385㎚ 의 광선의 조사에 의해 개열되는 광중합 개시제와,
(b) 파장 385㎚ 의 광선의 조사에 의해 개열되지 않고, 또, 상기 광중합 개시제의 개열에 의해 라디칼을 발생하는 라디칼 발생제를 함유하는 점착제 조성물로부터 형성된 것이거나, 또는 둘째로,
(a) 파장 370∼390㎚ 의 파장 영역에 있어서의 광선의 질량 흡광 계수의 최대값이 200㎖/g·㎝ 이상, 10000㎖/g·㎝ 이하인 광중합 개시제와,
(b) 파장 370∼390㎚ 의 파장 영역에 있어서의 광선의 질량 흡광 계수의 최대값이 200㎖/g·㎝ 미만인 라디칼 발생제를 함유하는 점착제 조성물로부터 형성된 것이다.
상기 점착제 조성물로부터 형성된 자외선 경화성 점착제로 이루어지는 점착제층에 있어서는, 상기 광중합 개시제 및 라디칼 발생제를 병용하고 있다. 이러한 점착제층에 대해 파장 385㎚ 의 광선을 조사하면, 광중합 개시제가 개열되어 라디칼이 발생하고, 그 라디칼에게 유발되어 라디칼 발생제도 라디칼을 발생한다. 이와 같이 라디칼 발생제가 연쇄 이동제로서 작용함으로써, 광중합 개시제의 함유량을 적게 하여도, 발생한 라디칼에 의해 자외선 경화성 점착제를 충분히 경화시킬 수 있고, 그러므로 점착력이 충분히 저하된다. 또한, 이러한 작용에 의해, 광선의 조사 시간을 단축할 수 있으며, 그것에 의해 생산 효율을 높일 수 있다. 한편, 광중합 개시제의 함유량을 적게할 수 있음으로써, 형광등 하에서도 자외선 경화성 점착제의 경화가 진행되기 어렵고, 따라서, 당해 점착 시트를 형광등 하에서 보관한 경우라도, 피착체 (워크) 에 대해 양호한 점착력을 안정적으로 발휘할 수 있다. 즉, 본 실시형태에 관련된 점착 시트는, 파장 385㎚ 의 광선 조사에 의한 점착력의 저하성이 우수하고, 또한 형광등 하에서의 보관 안정성이 우수하다.
(1) 자외선 경화성 점착 주제 (主劑)
본 실시형태에 있어서의 자외선 경화성 점착제를 형성하는 점착제 조성물은, 상기 광중합 개시제 및 라디칼 발생제 이외에 자외선 경화성 점착 주제를 함유하고, 또한 가교제를 함유해도 된다. 자외선 경화성 점착 주제는, 파장 385㎚ 의 광선의 조사에 의해 발생한 라디칼에 의해 경화되는 것이면, 특별히 한정되지 않는다. 이러한 자외선 경화성 점착 주제로는, 자외선 경화성의 모노머 및/또는 올리고머를 함유하는 것이어도 되고, 자외선 비경화성의 폴리머와 자외선 경화성의 모노머 및/또는 올리고머를 함유하는 것이어도 되고, 자외선 경화성의 폴리머를 함유하는 것이어도 되고, 자외선 경화성의 폴리머와 자외선 경화성의 모노머 및/또는 올리고머를 함유하는 것이어도 되고, 자외선 경화성의 폴리머와 자외선 비경화성의 폴리머와 자외선 경화성의 모노머 및/또는 올리고머를 함유하는 것이어도 된다. 그 중에서도, 자외선 경화 전의 점착력을 크게 하는 것이 용이하여, 자외선 경화 후의 점착력과의 차이를 크게 할 수 있는, 자외선 비경화성의 폴리머와 자외선 경화성의 모노머 및/또는 올리고머를 함유하는 자외선 경화성 점착 주제가 바람직하다. 또한, 상기 성분 가운데, 자외선 경화성의 모노머 및/또는 올리고머, 그리고 자외선 경화성의 폴리머가 자외선 경화성 성분에 해당한다.
(1-1) 자외선 비경화성의 폴리머
자외선 경화성 점착 주제가 자외선 비경화성의 폴리머를 함유하는 경우, 그 자외선 비경화성의 폴리머는 점착제층에 그대로 함유되어 있어도 되고, 또 적어도 그 일부가 가교제와 가교 반응을 실시하여 가교 구조를 가지고 있어도 된다. 자외선 비경화성의 폴리머로는, 예를 들어, 아크릴계 중합체, 페녹시 수지, 우레탄 수지, 폴리에스테르 수지, 고무계 수지, 아크릴우레탄 수지, 실리콘 수지 등을 들 수 있고, 그 중에서도 점착력의 제어가 용이한 아크릴계 중합체가 바람직하다. 이하, 아크릴계 중합체를 사용하는 경우에 대해서 상세하게 설명한다. 또한, 본 명세서에 있어서의 「중합체」에는 「공중합체」의 개념도 포함되는 것으로 한다.
아크릴계 중합체로는, 종래 공지된 아크릴계의 중합체를 사용할 수 있다. 아크릴계 중합체는, 1종류의 아크릴계 모노머로부터 형성된 단독 중합체여도 되고, 복수 종류의 아크릴계 모노머로부터 형성된 공중합체여도 되고, 1종류 또는 복수 종류의 아크릴계 모노머와 아크릴계 모노머 이외의 모노머로부터 형성된 공중합체여도 된다. 아크릴계 모노머가 되는 화합물의 구체적인 종류는 특별히 한정되지 않고, (메트)아크릴산, (메트)아크릴산에스테르, 그 유도체 (아크릴로니트릴, 이타콘산 등) 를 구체예로서 들 수 있다. 또한, 본 명세서에 있어서, (메트)아크릴산이란, 아크릴산 및 메타크릴산의 양방을 의미한다. 다른 유사 용어도 동일하다.
(메트)아크릴산에스테르에 대해 추가로 구체예를 나타내면, 메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, 프로필(메트)아크릴레이트, n-부틸(메트)아크릴레이트, n-펜틸(메트)아크릴레이트, n-헥실(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트, 이소옥틸(메트)아크릴레이트, n-데실(메트)아크릴레이트, 라우릴(메트)아크릴레이트, 미리스틸(메트)아크릴레이트, 팔미틸(메트)아크릴레이트, 스테아릴(메트)아크릴레이트 등의 쇄상 골격을 갖는 (메트)아크릴레이트 ; 시클로헥실(메트)아크릴레이트, 벤질(메트)아크릴레이트, 이소보르닐(메트)아크릴레이트, 디시클로펜타닐(메트)아크릴레이트, 테트라하이드로푸르푸릴(메트)아크릴레이트, 이미드아크릴레이트 등의 환상 골격을 갖는 (메트)아크릴레이트 ; 2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메트)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메트)아크릴레이트 등의 히드록시기를 갖는 (메트)아크릴레이트 ; 글리시딜(메트)아크릴레이트, N-메틸아미노에틸(메트)아크릴레이트 등의 히드록시기 이외의 반응성 관능기를 갖는 (메트)아크릴레이트를 들 수 있다. 또, 아크릴계 모노머 이외의 모노머로서 에틸렌, 노르보르넨 등의 올레핀, 아세트산비닐, 스티렌 등이 예시된다. 또한, 아크릴계 모노머가 알킬(메트)아크릴레이트인 경우에는, 그 알킬기의 탄소수는 1∼18 의 범위인 것이 바람직하다.
본 실시형태에 있어서의 자외선 경화성 점착제를 형성하는 점착제 조성물이 가교제를 함유하는 경우에는, 아크릴계 중합체는 가교제와 반응하는 반응성 관능기를 갖는 것이 바람직하다. 반응성 관능기의 종류는 특별히 한정되지 않고, 가교제의 종류 등에 기초하여 적절히 결정하면 된다.
예를 들어, 가교제가 폴리이소시아네이트 화합물인 경우에는, 아크릴계 중합체가 갖는 반응성 관능기로서 히드록시기, 카르복시기, 아미노기 등이 예시된다. 또, 가교제가 에폭시계 화합물인 경우에는, 아크릴계 중합체가 갖는 반응성 관능기로서 카르복시기, 아미노기, 아미드기 등이 예시된다. 가교제가 킬레이트 화합물인 경우에는, 아크릴계 중합체가 갖는 반응성 관능기로서 히드록시기, 카르복시기, 에폭시 기 등이 예시된다.
아크릴계 중합체에 반응성 관능기를 도입하는 방법은 특별히 한정되지 않고, 일례로서 반응성 관능기를 갖는 모노머를 사용하여 아크릴계 중합체를 형성하고, 반응성 관능기를 갖는 모노머에 기초한 구성 단위를 중합체의 골격에 함유시키는 방법을 들 수 있다. 예를 들어, 아크릴계 중합체에 히드록시기를 도입하는 경우에는, 2-히드록시에틸아크릴레이트 등의 히드록시기를 갖는 모노머를 사용하여 아크릴계 중합체를 형성하면 된다. 또, 아크릴계 중합체에 카르복시기를 도입하는 경우에는, 아크릴산 등의 카르복시기를 갖는 모노머를 사용하여 아크릴계 중합체를 형성하면 된다.
아크릴계 중합체가 반응성 관능기를 갖는 경우에는, 아크릴계 중합체 전체의 질량에서 차지하는 반응성 관능기를 갖는 모노머 유래의 구조 부분의 질량의 비율은 1질량％ 이상인 것이 바람직하고, 특히 2질량％ 이상인 것이 바람직하다. 또, 당해 비율은 20질량％ 이하인 것이 바람직하고, 특히 10질량％ 이하인 것이 바람직하다. 상기 비율이 상기 범위에 있음으로써, 가교의 정도를 양호하게 할 수 있다.
아크릴계 중합체의 중량 평균 분자량 (Mw) 은 1만 이상인 것이 바람직하고, 특히 10만 이상인 것이 바람직하다. 또, 아크릴계 중합체의 중량 평균 분자량은 200만 이하인 것이 바람직하고, 특히 150만 이하인 것이 바람직하다. 상기 중량 평균 분자량이 상기 범위에 있음으로써, 양호한 점착성을 발휘함과 함께, 도공시의 조막성(造膜性)을 양호하게 확보할 수 있다. 또한, 본 명세서에 있어서의 중량 평균 분자량은, 겔 퍼미에이션 크로마토그래피 (GPC) 법에 의해 측정한 표준 폴리스티렌 환산의 값이다.
(1-2) 자외선 경화성의 모노머 및/또는 올리고머
자외선 경화성의 모노머 및/또는 올리고머 (이하 「자외선 경화성 화합물」이라고 한다.) 는, 자외선 경화성기를 가져, 자외선의 조사를 받으면 중합하는 화합물로서, 후술하는 자외선 경화성의 폴리머보다 저분자량인 것이다.
자외선 경화성 화합물이 갖는 자외선 경화성기는, 예를 들어 자외선 경화성의 탄소-탄소 이중 결합을 함유하는 기이고, 구체적으로는 (메트)아크릴로일기, 비닐기 등을 예시할 수 있다.
자외선 경화성 화합물은 단관능이어도 되고, 다관능이어도 되는데, 다관능인 것이 바람직하다. 그 경우, 자외선 경화성 화합물은 2 관능 이상인 것이 바람직하고, 특히 3 관능 이상인 것이 바람직하며, 나아가서는 4 관능 이상인 것이 바람직하다. 또, 당해 자외선 경화성 화합물은, 15 관능 이하인 것이 바람직하고, 특히 12 관능 이하인 것이 바람직하고, 나아가서는 10 관능 이하인 것이 바람직하다. 자외선 경화성 화합물이 상기와 같은 다관능이면, 자외성 경화에 의한 점착력의 컨트롤을 하기 쉽고, 경화에 의한 체적 수축이 커지는 것에서 기인하는 기재와의 밀착 불량도 발생하기 어렵다.
자외선 경화성 화합물의 구체예로는, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 테트라메틸올메탄테트라아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라아크릴레이트, 디펜타에리트리톨모노히드록시펜타아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트, 디펜타에리트리톨폴리아크릴레이트, 혹은 1,4-부틸렌글리콜디아크릴레이트, 1,6-헥산디올디아크릴레이트, 디시클로펜타디엔디메톡시디아크릴레이트, 이소보르닐아크릴레이트 등의 환상 지방족 골격 함유 아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 올리고에스테르아크릴레이트, 우레탄아크릴레이트 올리고머, 에폭시 변성 아크릴레이트, 폴리에테르아크릴레이트, 이타콘산 올리고머 등의 아크릴레이트계 화합물을 들 수 있다. 이들은 1종을 단독으로 사용할 수도 있고, 2종 이상을 조합하여 사용할 수도 있다.
자외선 경화성 화합물의 분자량은 100 이상인 것이 바람직하고, 특히 300 이상인 것이 바람직하다. 또, 자외선 경화성 화합물의 분자량은, 30000 이하인 것이 바람직하고, 특히 10000 이하인 것이 바람직하다. 자외선 경화성 화합물의 분자량이 상기 범위에 있음으로써, 조막성을 확보하면서, 도공 건조시의 재료 휘발의 영향을 억제할 수 있다.
자외선 경화성 점착 주제가 자외선 비경화성의 폴리머와 자외선 경화성 화합물을 함유하는 경우, 자외선 비경화성의 폴리머 (특히 아크릴계 중합체) 100질량부에 대한 자외선 경화성 화합물의 비율은 50질량부 이상인 것이 바람직하고, 특히 70질량부 이상인 것이 바람직하고, 나아가서는 85질량부 이상인 것이 바람직하다. 또, 당해 비율은, 300질량부 이하인 것이 바람직하고, 특히 210질량부 이하인 것이 바람직하고, 나아가서는 150질량부 이하인 것이 바람직하다. 상기 비율이 상기 범위에 있음으로써, 경화 전에는 양호한 점착력을 발휘하고, 경화 후에는 점착력이 충분히 저하될 수 있다.
(1-3) 자외선 경화성의 폴리머
자외선 경화성의 폴리머는, 자외선 경화성기가 도입된 중합체인 것이 바람직하다. 이 자외선 경화성기가 도입된 중합체는, 점착제층에 그대로 함유되어 있어도 되고, 또 적어도 그 일부가 가교제와 가교 반응을 실시하여 가교 구조를 가지고 있어도 된다.
자외선 경화성기가 도입된 중합체로는, 예를 들어, 관능기를 함유하는 관능기 함유 모노머를 구성 성분으로 하는 관능기 함유 아크릴계 중합체와, 당해 관능기와 반응하는 치환기 및 자외선 경화성 탄소-탄소 이중 결합을 갖는 경화성기 함유 화합물을 반응시켜 얻어지는 아크릴계 중합체를 들 수 있다.
관능기 함유 아크릴계 중합체는, 관능기를 함유하는 아크릴계 모노머와, 관능기를 함유하지 않은 아크릴계 모노머와, 원하는 바에 따라서 아크릴계 모노머 이외의 모노머를 공중합한 것임이 바람직하다. 즉, 상기 관능기 함유 모노머는, 관능기를 함유하는 아크릴계 모노머인 것이 바람직하다.
관능기를 함유하는 아크릴계 모노머의 관능기 (관능기 함유 모노머의 관능기) 로는, 상기 경화성기 함유 화합물이 갖는 치환기와 반응 가능한 것이 선택된다. 이러한 관능기로는, 예를 들어, 히드록시기, 카르복시기, 아미노기, 치환 아미노기, 에폭시기 등을 들 수 있다. 또한, 본 실시형태에 있어서의 자외선 경화성 점착제가 가교제를 함유하는 경우에는, 관능기 함유 아크릴계 중합체는, 가교제와 반응하는 관능기를 갖는 관능기 함유 모노머를 구성 성분으로서 함유하는 것이 바람직하고, 당해 관능기 함유 모노머는, 상기 경화성기 함유 화합물이 갖는 치환기와 반응 가능한 관능기를 갖는 관능기 함유 모노머가 겸해도 된다.
관능기를 함유하지 않은 아크릴계 모노머는, (메트)아크릴산알킬에스테르 모노머를 포함하는 것이 바람직하다. (메트)아크릴산알킬에스테르 모노머로는, 예를 들어, (메트)아크릴산메틸, (메트)아크릴산에틸, (메트)아크릴산프로필, (메트)아크릴산n-부틸, (메트)아크릴산n-펜틸, (메트)아크릴산n-헥실, (메트)아크릴산2-에틸헥실, (메트)아크릴산이소옥틸, (메트)아크릴산n-데실, (메트)아크릴산라우릴, (메트)아크릴산미리스틸, (메트)아크릴산팔미틸, (메트)아크릴산스테아릴 등을 들 수 있다. (메트)아크릴산알킬에스테르 모노머 중에서도, 알킬기의 탄소수가 1∼18 인 것이 바람직하고, 특히 탄소수가 1∼8 인 것이 바람직하다. 이들은 단독으로 사용해도 되고, 2종 이상을 조합하여 사용해도 된다.
관능기를 함유하지 않은 아크릴계 모노머는, 상기 (메트)아크릴산알킬에스테르 모노머 이외에도, 예를 들어, (메트)아크릴산메톡시메틸, (메트)아크릴산메톡시에틸, (메트)아크릴산에톡시메틸, (메트)아크릴산에톡시에틸 등의 알콕시알킬기 함유 (메트)아크릴산에스테르, (메트)아크릴산페닐 등의 방향족환을 갖는 (메트)아크릴산에스테르, 아크릴아미드, 메타크릴아미드 등의 비가교성의 아크릴아미드, (메트)아크릴산N,N-디메틸아미노에틸, (메트)아크릴산N,N-디메틸아미노프로필 등의 비가교성의 3급 아미노기를 갖는 (메트)아크릴산에스테르 등을 포함해도 된다.
아크릴계 모노머 이외의 모노머로는, 예를 들어, 에틸렌, 노르보르넨 등의 올레핀, 아세트산비닐, 스티렌 등을 들 수 있다.
관능기 함유 아크릴계 중합체에 있어서의, 관능기 함유 아크릴계 중합체 전체의 질량에서 차지하는 관능기 함유 모노머 유래의 구조 부분의 질량의 비율은 0.1질량％ 이상인 것이 바람직하고, 특히 1질량％ 이상인 것이 바람직하고, 나아가서는 3질량％ 이상인 것이 바람직하다. 또, 당해 비율은 50질량％ 이하인 것이 바람직하고, 특히 40질량％ 이하인 것이 바람직하고, 나아가서는 30질량％ 이하인 것이 바람직하다. 이로써, 경화성기 함유 화합물에 의한 경화성기의 도입량 (및 가교제와의 반응량) 을 원하는 양으로 조정하여, 얻어지는 점착제층의 가교의 정도를 바람직한 범위로 제어할 수 있다.
관능기 함유 아크릴계 중합체는, 상기 각 모노머를 통상적인 방법에 의해 공중합함으로써 얻어진다. 관능기 함유 아크릴계 중합체의 중합 양태는, 랜덤 공중합체여도 되고, 블록 공중합체여도 된다.
경화성기 함유 화합물은, 관능기 함유 아크릴계 중합체가 갖는 관능기와 반응하는 치환기 및 자외선 경화성 탄소-탄소 이중 결합을 갖는 것이다. 관능기 함유 아크릴계 중합체가 갖는 관능기와 반응하는 치환기로는, 예를 들어, 이소시아네이트기, 에폭시기, 카르복시기 등을 들 수 있고, 그 중에서도 히드록시기와의 반응성이 높은 이소시아네이트기가 바람직하다.
경화성기 함유 화합물은, 자외선 경화성 탄소-탄소 이중 결합을 경화성기 함유 화합물의 1 분자마다 1∼5개 포함하는 것이 바람직하고, 특히 1∼2개 포함하는 것이 바람직하다.
이와 같은 경화성기 함유 화합물로는, 예를 들어, 2-메타크릴로일옥시에틸이소시아네이트, 메타-이소프로페닐-α,α-디메틸벤질이소시아네이트, 메타크릴로일이소시아네이트, 알릴이소시아네이트, 1,1-(비스아크릴로일옥시메틸)에틸이소시아네이트 ; 디이소시아네이트 화합물 또는 폴리이소시아네이트 화합물과 히드록시에틸(메트)아크릴레이트와의 반응에 의해 얻어지는 아크릴로일모노이소시아네이트 화합물 ; 디이소시아네이트 화합물 또는 폴리이소시아네이트 화합물과, 폴리올 화합물과, 히드록시에틸(메트)아크릴레이트와의 반응에 의해 얻어지는 아크릴로일모노이소시아네이트 화합물 등을 들 수 있다. 경화성기 함유 화합물은 1종을 단독으로 사용할 수도 있고, 2종 이상을 조합하여 사용할 수도 있다.
자외선 경화성기가 도입된 중합체는, 경화성기 함유 화합물에서 유래하는 경화성기를, 당해 중합체가 갖는 관능기 (경화성기 함유 화합물의 치환기와 반응하는 관능기) 에 대해 20몰％ 이상 함유하는 것이 바람직하고, 특히 35몰％ 이상 함유하는 것이 바람직하고, 나아가서는 50몰％ 이상 함유하는 것이 바람직하다. 또, 120몰％ 이하 함유하는 것이 바람직하고, 특히 100몰％ 이하 함유하는 것이 바람직하다. 또한, 경화성기 함유 화합물이 일관능인 경우에는, 상한은 100몰％ 가 되지만, 경화성기 함유 화합물이 다관능인 경우에는, 100몰％ 를 초과하는 경우가 있다. 상기 관능기에 대한 경화성기의 비율이 상기 범위 내에 있음으로써, 자외선 조사에 의한 점착력의 저하성이 보다 양호한 것이 된다.
자외선 경화성기가 도입된 중합체의 중량 평균 분자량 (Mw) 은 10만 이상인 것이 바람직하고, 30만 이상인 것이 보다 바람직하다. 또, 당해 중량 평균 분자량은 200만 이하인 것이 바람직하고, 특히 150만 이하인 것이 보다 바람직하다. 상기 중량 평균 분자량이 상기 범위에 있음으로써, 양호한 점착성을 발휘함과 함께, 도공시의 조막성을 양호하게 확보할 수 있다.
(2) 가교제
본 실시형태에 있어서의 자외선 경화성 점착제를 형성하는 점착제 조성물은, 가교제를 함유해도 된다. 가교제로는, 전술한 아크릴계 중합체나, 자외선 경화성기가 도입된 중합체가 갖는 관능기와의 반응성을 갖는 다관능성 화합물을 사용할 수 있다. 이와 같은 다관능성 화합물의 예로는, 폴리이소시아네이트 화합물, 에폭시 화합물, 아민 화합물, 멜라민 화합물, 아지리딘 화합물, 히드라진 화합물, 알데히드 화합물, 옥사졸린 화합물, 금속 알콕시드 화합물, 금속 킬레이트 화합물, 금속염, 암모늄염, 반응성 페놀 수지 등을 들 수 있다.
폴리이소시아네이트 화합물로는, 예를 들어, 톨릴렌디이소시아네이트, 디페닐메탄디이소시아네이트, 자일릴렌디이소시아네이트 등의 방향족 폴리이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트 등의 지방족 폴리이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, 수소 첨가 디페닐메탄디이소시아네이트 등의 지환식 폴리이소시아네이트 등, 및 그들의 뷰렛체, 이소시아누레이트체, 나아가서는 에틸렌글리콜, 프로필렌글리콜, 네오펜틸글리콜, 트리메틸올프로판, 피마자유 등의 저분자 활성 수소 함유 화합물과의 반응물인 어덕트체 등을 들 수 있다. 그 중에서도 관능기와의 반응성의 관점에서, 트리메틸올프로판 변성의 방향족 폴리이소시아네이트, 특히 트리메틸올프로판 변성 톨릴렌디이소시아네이트가 바람직하다.
가교제의 함유량은, 아크릴계 중합체 또는 자외선 경화성기가 도입된 중합체에 있어서의 관능기에 대해, 하한값으로서 0.2당량 이상인 것이 바람직하고, 특히 0.25당량 이상인 것이 바람직하다. 또, 상한값으로서 0.8당량 이하인 것이 바람직하고, 특히 0.75당량 이하인 것이 바람직하다. 가교제의 함유량이 상기 범위에 있음으로써, 얻어지는 점착제층의 가교의 정도를 바람직한 범위로 제어할 수 있다.
(3) 광중합 개시제
본 실시형태에 있어서의 점착제 조성물이 함유하는 광중합 개시제는, 파장 385㎚ 의 광선의 조사에 의해 개열되거나, 파장 370∼390㎚ 의 파장 영역에 있어서의 광선의 질량 흡광 계수의 최대값이 200㎖/g·㎝ 이상, 10000㎖/g·㎝ 이하인 것이다. 여기서, 본 명세서에 있어서의 질량 흡광 계수는, 0.01질량％ 아세토니트릴 용액으로 하여 측정하는 것으로 하고, 구체적으로는 후술하는 시험예에 나타내는 방법에 의해 측정한다.
파장 370∼390㎚ 의 파장 영역에 있어서의 광선의 질량 흡광 계수의 최대값은, 상기한 바와 같이 200㎖/g·㎝ 이상이며, 500㎖/g·㎝ 이상인 것이 바람직하고, 특히 1000㎖/g·㎝ 이상인 것이 바람직하다. 또, 당해 질량 흡광 계수의 최대값은, 10000㎖/g·㎝ 이하이며, 5000㎖/g·㎝ 이하인 것이 바람직하고, 특히 2000㎖/g·㎝ 이하인 것이 바람직하다. 파장 370∼390㎚ 의 파장 영역에 있어서의 광선의 질량 흡광 계수의 최대값이 상기 범위에 있음으로써, 광중합 개시제는, 파장 385㎚ 의 광선의 조사에 의해 개열되고, 그것에 의해 라디칼을 발생할 수 있다.
또한, 상기 광중합 개시제의 파장 385㎚ 의 광선의 질량 흡광 계수의 하한값은 100㎖/g·㎝ 이상인 것이 바람직하고, 특히 200㎖/g·㎝ 이상인 것이 바람직하고, 나아가서는 300㎖/g·㎝ 이상인 것이 바람직하다. 이로써, 광중합 개시제는 파장 385㎚ 의 광선의 조사에 의해 개열되기 쉽고, 그것에 의해 라디칼을 충분히 발생할 수 있다.
상기 물성을 만족하는 광중합 개시제로는, 예를 들어, 2,4,6-트리메틸벤조일-디페닐-포스핀옥사이드, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부타논-1, 요오드늄,(4-메틸페닐)[4-(2-메틸프로필)페닐]-헥사플루오로포스페이트(1-), 옥시페닐아세트산2-[2-옥소-2-페닐아세톡시에톡시]에틸에스테르, 옥시페닐아세트산2-(2-히드록시에톡시)에틸에스테르, 2-메틸-1-(4-메틸티오페닐)-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐-프로판-1-온, 1-[4-(2-히드록시에톡시)-페닐]-2-히드록시-2-메틸-1-프로판-1-온 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 파장 385㎚ 의 광선 조사에 의해 개열되기 쉬운 2,4,6-트리메틸벤조일-디페닐-포스핀옥사이드 및 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부타논-1 이 바람직하다. 이들 광중합 개시제는 1종을 단독으로 사용할 수도 있고, 2종 이상을 조합하여 사용할 수도 있다.
본 실시형태에 있어서의 점착제 조성물 중에 있어서의 상기 광중합 개시제의 함유량은, 상기 자외선 경화성 점착제 중의 자외선 경화성 성분 (자외선 경화성 화합물·자외선 경화성의 폴리머) 100질량부에 대해 0.3질량부 이상인 것이 바람직하고, 특히 0.5질량부 이상인 것이 바람직하고, 나아가서는 0.7질량부 이상인 것이 바람직하다. 또, 당해 함유량은, 5.0질량부 이하인 것이 바람직하고, 특히 3.0질량부 이하인 것이 바람직하고, 나아가서는 2.0질량부 이하인 것이 바람직하다. 광중합 개시제는 상기와 같이 비교적 적은 함유량인 것이 바람직하고, 이로써, 형광등 하에서도 자외선 경화성 점착제의 경화가 진행되기 어려워, 점착 시트를 형광등 하에서 보관한 경우라도 피착체 (워크) 에 대해 양호한 점착력을 안정적으로 발휘할 수 있다. 또, 광중합 개시제가 상기와 같이 비교적 적은 함유량이라도, 라디칼 발생제와 병용함으로써, 파장 385㎚ 의 광선의 조사에 의해 자외선 경화성 점착제를 충분히 경화시켜, 점착제층의 점착력을 충분히 저하시킬 수 있다.
(4) 라디칼 발생제
본 실시형태에 있어서의 점착제 조성물이 함유하는 라디칼 발생제는, 파장 385㎚ 의 광선의 조사에 의해 개열되지 않고, 또, 상기 광중합 개시제의 개열에 의해 라디칼을 발생하거나, 파장 370∼390㎚ 의 파장 영역에 있어서의 광선의 질량 흡광 계수의 최대값이 200㎖/g·㎝ 미만인 것이다. 본 실시형태에 있어서의 점착제 조성물은, 이러한 라디칼 발생제를 함유함으로써, 형광등 하에서도 자외선 경화성 점착제의 경화가 진행되기 어려워, 점착 시트는 형광등 하에서의 보관 안정성이 우수한 것이 된다. 그 한편으론, 파장 385㎚ 의 광선을 조사하면, 광중합 개시제가 개열되어 라디칼이 발생하고, 그 라디칼에게 유발되어 라디칼 발생제도 라디칼을 발생하기 때문에, 자외선 경화성 점착제를 충분히 경화시킬 수 있어 점착제층의 점착력이 충분히 저하된다. 또, 라디칼 발생제의 상기 작용에 의해 광선의 조사 시간을 단축할 수 있으며, 그로 인해 생산 효율을 높일 수 있다.
상기 라디칼 발생제의 파장 370∼390㎚ 의 파장 영역에 있어서의 광선의 질량 흡광 계수의 최대값은, 상기한 바와 같이 200㎖/g·㎝ 미만이며, 바람직하게는 100㎖/g·㎝ 이하이고, 특히 바람직하게는 70㎖/g·㎝ 이하이다. 또한, 하한값은 0㎖/g·㎝ 이다. 이로써, 라디칼 발생제는 형광등 하에서는 라디칼을 발생하기 어렵고, 따라서, 점착 시트는 형광등 하에서의 보관 안정성이 우수한 것이 된다.
또한, 상기 라디칼 발생제의 파장 385㎚ 의 광선의 질량 흡광 계수의 하한값은 100㎖/g·㎝ 이상인 것이 바람직하고, 특히 150㎖/g·㎝ 이상인 것이 바람직하고, 나아가서는 200㎖/g·㎝ 이상인 것이 바람직하다. 또, 상기 질량 흡광 계수의 상한값은 10000㎖/g·㎝ 이하인 것이 바람직하고, 특히 7000㎖/g·㎝ 이하인 것이 바람직하고, 나아가서는 6000㎖/g·㎝ 이하인 것이 바람직하다.
상기 물성을 만족하는 라디칼 발생제로는, 예를 들어, 1-히드록시-시클로헥실-페닐-케톤, 2-히드록시-1-｛4-[4-(2-히드록시-2-메틸-프로피오닐)-벤질]페닐}-2-메틸-프로판-1-온, 비스(2,4-시클로펜타디에닐)비스[2,6-디플루오로-3-(1-피릴)페닐]티탄, 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)-페닐포스핀옥사이드 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 형광등 하에서 라디칼을 발생하기 어려운 1-히드록시-시클로헥실-페닐-케톤 및 2-히드록시-1-｛4-[4-(2-히드록시-2-메틸-프로피오닐)-벤질]페닐}-2-메틸-프로판-1-온이 바람직하다. 이들 라디칼 발생제는 1종을 단독으로 사용할 수도 있고, 2종 이상을 조합하여 사용할 수도 있다.
본 실시형태에서의 점착제 조성물 중에 있어서의 상기 라디칼 발생제의 함유량은, 상기 자외선 경화성 점착제 중의 자외선 경화성 성분 (자외선 경화성 화합물·자외선 경화성의 폴리머) 100질량부에 대해 0.8질량부 이상인 것이 바람직하고, 특히 1.0질량부 이상인 것이 바람직하고, 나아가서는 2.0질량부 이상인 것이 바람직하다. 또, 당해 함유량은, 7.0질량부 이하인 것이 바람직하고, 특히 5.0질량부 이하인 것이 바람직하고, 나아가서는 3.0질량부 이하인 것이 바람직하다. 라디칼 발생제의 함유량이 상기 범위에 있음으로써, 전술한 작용 효과가 양호하게 발휘된다.
(5) 두께
본 실시형태에 있어서의 점착제층의 두께의 하한값은 3㎛ 이상인 것이 바람직하고, 특히 4㎛ 이상인 것이 바람직하고, 나아가서는 5㎛ 이상인 것이 바람직하다. 점착제층의 두께의 하한값이 상기 이상임으로써, 원하는 점착력을 효과적으로 얻을 수 있다. 또, 본 실시형태에 있어서의 점착제층의 두께는, 30㎛ 이하인 것이 바람직하고, 특히 25㎛ 이하인 것이 바람직하고, 나아가서는 20㎛ 이하인 것이 바람직하다. 점착제층의 두께의 상한값이 상기 이하이면, 파장 385㎚ 의 광선의 적당한 조사에 의해, 상기 자외선 경화성 점착제가 경화되기 쉬워진다.
2. 기재
본 실시형태에 관련된 점착 시트의 기재는, 전술한 점착제층을 지지할 수 있으며, 또 당해 점착 시트가 첩부된 워크, 특히 광학 부재에 대해 원하는 작업을 실시할 수 있는 것이면 특별히 한정되지 않는다.
본 실시형태에 있어서의 기재는, 파장 385㎚ 의 광선이 투과하는 것임이 바람직하고, 이로써, 기재측으로부터 파장 385㎚ 의 광선을 조사하여 점착제층을 경화시키는 것이 가능해진다.
상기와 같은 관점에서, 본 실시형태에 있어서의 기재는, 수지계의 재료를 주재로 하는 필름 (이하 「수지 필름」이라고 한다.) 으로 구성되는 것이 바람직하다. 수지 필름의 구체예로서 저밀도 폴리에틸렌 (LDPE) 필름, 직쇄 저밀도 폴리에틸렌 (LLDPE) 필름, 고밀도 폴리에틸렌 (HDPE) 필름 등의 폴리에틸렌 필름, 폴리프로필렌 필름, 폴리부텐 필름, 폴리부타디엔 필름, 폴리메틸펜텐 필름, 에틸렌-노르보르넨 공중합체 필름, 노르보르넨 수지 필름 등의 폴리올레핀계 필름 ; 에틸렌-아세트산비닐 공중합체 필름, 에틸렌-(메트)아크릴산 공중합체 (EAA, EMAA) 필름, 에틸렌-(메트)아크릴산에스테르 공중합체 필름 등의 에틸렌계 공중합 필름 ; 폴리염화비닐 필름, 염화비닐 공중합체 필름 등의 폴리염화비닐계 필름 ; 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름, 폴리부틸렌테레프탈레이트 필름 등의 폴리에스테르계 필름 ; 폴리우레탄 필름 ; 폴리이미드 필름 ; 폴리스티렌 필름 ; 폴리카보네이트 필름 ; 불소 수지 필름 ; 아크릴 필름 등을 들 수 있다. 또한 이들의 가교 필름, 아이오노머 필름과 같은 변성 필름도 사용된다. 상기 기재는 이들의 1종으로 이루어지는 필름이어도 되고, 또한 이들을 2종류 이상 조합한 적층 필름이어도 된다. 상기 중에서도, 강도, 환경 안전성, 비용 등의 관점에서 에틸렌-(메트)아크릴산 공중합체 (EAA, EMAA) 필름, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름 등이 바람직하다.
상기 수지 필름은, 그 표면에 적층되는 점착제층과의 밀착성을 향상시킬 목적으로, 원하는 바에 따라서 편면 또는 양면에, 산화법이나 요철화법 등에 의한 표면 처리, 혹은 프라이머 처리를 실시할 수 있다. 상기 산화법으로는, 예를 들어 코로나 방전 처리, 플라즈마 방전 처리, 크롬 산화 처리 (습식), 화염 처리, 열풍 처리, 오존, 자외선 조사 처리 등을 들 수 있고, 또, 요철화법으로는, 예를 들어 샌드블라스트 법, 용사 처리법 등을 들 수 있다.
또, 상기 수지 필름에 있어서의 점착제층이 적층되지 않은 측의 면에는, 박리제에 의해 박리 처리를 해도 된다. 이로써, 박리 필름을 사용하지 않고서 점착 시트를 권취체로 한 경우라도, 감은 것을 풀어내기를 양호하게 실시할 수 있다.
기재는, 상기 수지 필름 중에 착색제, 난연제, 가소제, 대전 방지제, 활제, 필러 등의 각종 첨가제를 함유해도 된다.
기재의 두께는 점착 시트가 첩부된 피착체, 특히 광학 부재에 대해 원하는 작업을 실시할 수 있는 것이면 특별히 한정되지 않는다. 구체적으로는, 기재의 두께는 25㎛ 이상인 것이 바람직하고, 특히 50㎛ 이상인 것이 바람직하다. 또, 당해 두께는 200㎛ 이하인 것이 바람직하고, 특히 150㎛ 이하인 것이 바람직하다.
3. 박리 필름
박리 필름은, 점착 시트가 사용되기까지의 동안에 점착제층을 보호하는 것으로, 반드시 있어야 하는 것은 아니다. 박리 필름의 구성은 임의이며, 필름 자체가 점착제층에 대해 박리성을 갖는 플라스틱 필름, 및 플라스틱 필름을 박리제 등에 의해 박리 처리한 것이 예시된다. 플라스틱 필름의 구체예로는, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르 필름, 및 폴리프로필렌이나 폴리에틸렌 등의 폴리올레핀 필름을 들 수 있다. 박리제로는, 실리콘계, 불소계, 장쇄 알킬계 등을 사용할 수 있는데, 이들 중에서, 저렴하고 안정적인 성능이 얻어지는 실리콘계가 바람직하다. 박리 필름의 두께에 대해서는 특별히 제한은 없지만, 통상 20∼250㎛ 정도이다.
4. 점착 시트의 제조 방법
본 실시형태에 관련된 점착 시트를 제조하려면, 바람직하게는, 박리 필름의 박리면 (박리성을 갖는 면 ; 통상은 박리 처리가 실시된 면이지만, 이것에 한정되지 않는다) 에 점착제층을 형성한다. 구체적으로는, 전술한 점착제 조성물과 원하는 바에 따라서 추가로 용매를 함유하는 도포액을 조제하고, 롤 코터, 나이프 코터, 롤나이프 코터, 에어나이프 코터, 다이 코터, 바 코터, 그라비아 코터, 커튼 코터 등의 도공기에 의해 박리 필름의 박리면에 도포하고 건조시켜, 점착제층을 형성한다.
다음으로, 점착제층의 노출면에 기재를 중첩하여 압착하고, 점착 시트를 얻는다. 원하는 바에 따라서, 박리 필름은 점착제층으로부터 박리해도 된다. 또, 점착제층은 박리 필름이 아니라, 기재에 대해 직접 도포하고, 형성해도 된다.
5. 점착 시트의 물성
파장 385㎚ 의 광선 조사 전에 있어서의, 본 실시형태에 관련된 점착 시트의 실리콘 미러 웨이퍼에 대한 점착력 (본 명세서에 있어서 「조사 전 점착력」이라고 하는 경우가 있다.) 은, 하한값으로서 8000mN/25㎜ 이상인 것이 바람직하고, 특히 10000mN/25㎜ 이상인 것이 바람직하고, 나아가서는 13000mN/25㎜ 이상인 것이 바람직하다. 이로써, 점착 시트가 첩부된 워크에 대한 작업 중에 의도치 않은 박리가 발생하는 것을 억제할 수 있다. 또, 각종 재료에 대해서도 양호한 밀착성을 발휘할 수 있어, 폭넓은 워크에 적용할 수 있다. 한편, 당해 조사 전 점착력은, 상한값으로서 300000mN/25㎜ 이하인 것이 바람직하고, 특히 250000mN/25㎜ 이하인 것이 바람직하고, 나아가서는 200000mN/25㎜ 이하인 것이 바람직하다. 이로써, 파장 385㎚ 의 광선 조사 후에 있어서의 점착력을 바람직한 범위까지 저하시키기 쉬워진다. 또한, 본 명세서에 있어서의 점착력은, 실리콘 미러 웨이퍼를 피착체로 하여, JIS Z 0237 : 2000 에 준거한 180°박리 시험에 의해 측정한 것으로 하고, 구체적인 측정 방법은, 후술하는 시험예에 나타낸 바와 같다.
파장 385㎚ 의 광선 조사 후에 있어서의, 본 실시형태에 관련된 점착 시트의 실리콘 미러 웨이퍼에 대한 점착력 (본 명세서에 있어서 「조사 후 점착력」이라고 하는 경우가 있다.) 은, 상한값으로서 1000mN/25㎜ 이하인 것이 바람직하고, 특히 600mN/25㎜ 이하인 것이 바람직하고, 나아가서는 300mN/25㎜ 이하인 것이 바람직하다. 이로써, 점착 시트를 워크로부터 용이하게 박리할 수 있다. 한편, 당해 조사 후 점착력의 하한값은 특별히 한정되지 않지만, 통상, 20mN/25㎜ 이상인 것이 바람직하고, 특히 30mN/25㎜ 이상인 것이 바람직하고, 나아가서는 50mN/25㎜ 이상인 것이 바람직하다.
상기 조사 전 점착력에 대한 상기 조사 후 점착력의 비 (점착력비) 는 15％ 이하인 것이 바람직하고, 특히 10％ 이하인 것이 바람직하고, 나아가서는 5％ 이하인 것이 바람직하다. 또, 당해 점착력비는, 통상 0.1％ 이상인 것이 바람직하고, 특히 0.2％ 이상인 것이 바람직하고, 나아가서는 0.5％ 이상인 것이 바람직하다. 상기 점착력비가 상기 범위에 있음으로써, 점착 시트가 첩부된 워크에 대한 작업시에 요구되는 높은 점착력과, 워크로부터의 박리시에 요구되는 낮은 점착력의 밸런스가 양호한 것이 된다.
본 실시형태에 관련된 점착 시트의 하기 식으로 나타내는 점착력 유지율은 85％ 이상인 것이 바람직하고, 특히 90％ 이상인 것이 바람직하다. 점착력 유지율이 85％ 이상임으로써, 형광등 하에서의 보관 안정성이 우수하다고 할 수 있다. 또한, 점착력 유지율의 상한값은, 통상 100％ 이다.
점착력 유지율 (％) = (형광등 하에서의 보관 후의 조사 전 점착력/형광등 하에서의 보관 전의 조사 전 점착력)×100
점착력 유지율의 구체적인 산출 방법은, 후술하는 시험예에 나타낸 바와 같다.
6. 점착 시트의 사용 방법
본 실시형태에 관련된 점착 시트를 사용하려면, 먼저 당해 점착 시트를 워크에 첩부하고, 그 상태로 점착 시트를 핸들링하면서, 워크에 대해 원하는 작업을 실시한다. 워크로는, 후술하는 광학 부재가 바람직하지만, 그 외, 실리콘 웨이퍼, 반도체 패키지, 유리 웨이퍼 등을 워크로 해도 된다. 원하는 작업으로는 특별히 한정되지는 않으며, 예를 들어, 워크를 어느 위치에서부터 다른 위치로 이동시키는 작업, 워크의 박리 필름을 당해 워크로부터 박리하는 작업, 워크를 원하는 대상물에 적층 또는 첩부하는 작업 등을 들 수 있다.
워크에 대해 원하는 작업을 실시한 후, 상기 점착 시트를 워크로부터 박리한다. 그 때, 점착 시트의 점착제층에 대해 파장 385㎚ 의 광선을 조사하여, 점착제층 중의 자외선 경화성 점착제를 경화시켜서, 점착제층의 점착력을 저하시킨다. 이로써, 점착 시트를 워크로부터 용이하게 박리할 수 있다. 파장 385㎚ 의 광선의 조사는, 워크가 파장 385㎚ 의 광선을 투과하는 것이면, 워크측으로부터 실시해도 되지만, 통상은 기재측으로부터 실시하는 것이 바람직하다.
파장 385㎚ 의 광선은, 자외선 LED 를 광원으로 한 자외선 조사 장치를 사용하여 조사하는 것이 바람직하다. 자외선 LED 는, 종래의 메탈 할라이드나 고압 수은 램프와 비교해, 런닝 코스트를 낮게 억제할 수 있고, 게다가 발열량이 적기 때문에 피조사물을 가열할 우려가 작다. 그 때문에, 점착 시트 및 워크의 적층체가 가열에 의해 컬이나 변형되는 것을 억제할 수 있다.
광원으로서 자외선 LED 를 사용한 경우, 구체적으로는, 최대 강도가 365㎚ 이상 400㎚ 이하의 범위에 있고, 반치 전폭이 5㎚ 이상 30㎚ 이하인 단일 발광 피크를 그 발광 스펙트럼에 갖는 광선을 조사하는 것이 바람직하다.
상기 광선의 조사량은, 단일 발광의 광원 (반치 전폭이 10㎚ 이하인 단일 발광 피크를 그 발광 스펙트럼에 갖는 광원) 을 사용한 경우에는, 적산 광량으로 15mJ/㎠ 이상이 바람직하고, 특히 20mJ/㎠ 이상이 바람직하다. 또, 단일 발광이 아닌 통상적인 광원을 사용한 경우에는, 적산 광량으로 150mJ/㎠ 이상이 바람직하고, 특히 200mJ/㎠ 이상이 바람직하다.
본 실시형태에 있어서의 점착제층에서는, 전술한 소정의 광중합 개시제 및 라디칼 발생제를 병용하고 있기 때문에, 광선의 조사 시간을 상기와 같이 비교적 단시간으로 할 수 있고, 따라서 생산 효율을 향상시킬 수 있다.
〔광학 제품의 제조 방법〕
다음으로, 전술한 점착 시트를 사용한, 본 발명의 일 실시형태에 관련된 광학 제품의 제조 방법에 대해 설명한다. 여기서 광학 제품으로는, 예를 들어, 액정 (LCD) 디스플레이, 발광 다이오드 (LED) 디스플레이, 유기 일렉트로루미네선스 (유기 EL) 디스플레이, 전자 페이퍼 등을 들 수 있고, 터치 패널이어도 된다. 또, 광학 제품으로는, 상기와 같은 제품의 일부를 구성하는 부재여도 된다.
상기 광학 제품을 제조하기 위한 광학 부재로는, 예를 들어, 유리판, 플라스틱판, 그들에 각종 기능층 (투명 도전막, 금속층, 실리카층, 하드 코트층, 방현층 등) 이 형성된 것 ; 비산 방지 필름, 편광판 (편광 필름), 편광자, 위상차판 (위상차 필름), 시야각 보상 필름, 휘도 향상 필름, 콘트라스트 향상 필름, 액정 폴리머 필름, 확산 필름, 반투과 반사 필름, 투명 도전성 필름, 그들의 적층체등 ; 표시체 모듈 (예를 들어, 액정 (LCD) 모듈, 발광 다이오드 (LED) 모듈, 유기 일렉트로루미네선스 (유기 EL) 모듈 등), 표시체 모듈의 일부, 표시체 모듈을 포함하는 적층체 등을 들 수 있다.
처음에, 본 실시형태에 관련된 점착 시트를, 그 점착제층을 통하여 광학 부재에 첩부한다. 그리고, 점착 시트가 첩부된 광학 부재에 대해, 당해 점착 시트를 핸들링하면서 원하는 작업을 실시한다. 원하는 작업으로는, 전술한 워크에 대한 작업과 동일하다.
상기 원하는 작업이 종료되면, 광학 부재에 첩부된 점착 시트의 점착제층에 대해 파장 385㎚ 의 광선을 조사하여, 점착제층의 자외선 경화성 점착제를 경화시켜서, 점착제층의 점착력을 저하시킨다. 그리고, 광학 부재로부터 점착 시트를 박리한다. 파장 385㎚ 의 광선의 조사는, 전술한 워크에 첩부한 점착 시트에 대한 광선의 조사와 동일하다. 본 실시형태에 관련된 점착 시트는, 파장 385㎚ 의 광선의 조사에 의해 점착력이 충분히 저하되기 때문에, 상기 박리를 용이하게 실시할 수 있다. 또, 본 실시형태에 관련된 점착 시트는, 형광등 하에서의 보관 안정성이 우수하기 때문에, 상기와 같이 사용하기 전에 형광등 하에서 보관한 경우라도, 피착체 (광학 부재) 에 대해 양호한 점착력을 안정적으로 발휘할 수 있다. 이로써, 광학 제품을 안정적으로 제조할 수 있다.
이상 설명한 실시형태는 본 발명의 이해를 쉽게 하기 위해서 기재된 것으로, 본 발명을 한정하기 위해서 기재된 것은 아니다. 따라서, 상기 실시형태에 개시된 각 요소는, 본 발명의 기술적 범위에 속하는 모든 설계 변경이나 균등물도 포함하는 취지이다.
예를 들어, 기재와 점착제층 사이에는 다른 층이 개재하고 있어도 되고, 기재에 있어서의 점착제층측의 면과는 반대측의 면에는 다른 층이 적층되어 있어도 된다.
실시예
이하, 실시예 등에 의해 본 발명을 더욱 구체적으로 설명하지만, 본 발명의 범위는 이들 실시예 등에 한정되는 것은 아니다.
〔실시예 1〕
(1) 점착제 조성물의 조제
2-에틸헥실아크릴레이트 40질량부와, 메틸아크릴레이트 50질량부와, 아크릴산 10질량부를 공중합하고, 자외선 비경화성의 폴리머로서의 아크릴계 중합체 (중량 평균 분자량 : 50만, 유리 전이 온도 Tg : -23℃) 를 얻었다.
자외선 경화성 점착 주제로서의 상기 아크릴계 중합체 100질량부 (고형분 환산 ; 이하 동일) 및 자외선 경화성 화합물로서의 10관능 디펜타에리트리톨폴리아크릴레이트 (중량 평균 분자량 : 1700) 100질량부와, 가교제로서의 트리메틸올프로판 변성 톨릴렌디이소시아네이트 (TDI-TMP) 를 함유하는 조성물 (토소사제, 콜로네이트 L) 8질량부와, 광중합 개시제로서의 2,4,6-트리메틸벤조일-디페닐-포스핀옥사이드 (광중합 개시제 (a1)) 0.7질량부와, 라디칼 발생제로서의 1-히드록시-시클로헥실-페닐-케톤 (라디칼 발생제 (b1)) 2.8질량부를 혼합하고, 아세트산에틸에 의해 희석하여, 이것을 점착제 조성물의 도포액으로 했다.
(2) 점착 시트의 제작
두께 38㎛ 의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름의 일방의 주면이 실리콘계 박리제에 의해 박리 처리되어 이루어지는 박리 필름 (린텍사제, SP-PET381031) 의 박리 처리면 상에, 상기 점착제 조성물의 도포액을 다이 코터로 도포하고 건조시켜, 두께 10㎛ 의 점착제층을 형성했다. 그리고, 두께 140㎛ 의 에틸렌-메타크릴산 공중합체 (EMAA) 필름으로 이루어지는 기재의 일방의 면을 상기 적층체의 점착제층측의 면과 첩부하여, 기재와 점착제층으로 이루어지는 점착 시트를, 점착제층의 기재와 반대측의 면에 박리 필름이 적층된 상태로 얻었다.
〔실시예 2〕
광중합 개시제로서 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부타논-1 (광중합 개시제 (a2)) 을 1.5질량부 사용하고, 라디칼 발생제로서 2-히드록시-1-｛4-[4-(2-히드록시-2-메틸-프로피오닐)-벤질]페닐}-2-메틸-프로판-1-온 (라디칼 발생제 (b2)) 을 2.3질량부 사용하는 것 외에 실시예 1 과 동일하게 하여 점착제 조성물의 도포액을 조제했다. 그리고, 얻어진 점착제 조성물의 도포액을 사용해서, 실시예 1 과 동일하게 하여 점착 시트를 제작했다.
〔비교예 1∼4〕
광중합 개시제 및 라디칼 발생제의 배합량을 표 1 에 나타내는 바와 같이 변경하는 것 외에 실시예 1 과 동일하게 하여 점착제 조성물의 도포액을 조제했다. 그리고, 얻어진 점착제 조성물의 도포액을 사용해서, 실시예 1 과 동일하게 하여 점착 시트를 제작했다.
〔시험예 1〕<질량 흡광 계수의 측정>
실시예 및 비교예에서 사용한 광중합 개시제 및 라디칼 발생제의 각각을 아세토니트릴에 용해하여, 0.01질량％ 아세토니트릴 용액을 얻었다. 얻어진 0.01질량％ 아세토니트릴 용액의 각각에 대해, 자외광에서 가시광의 범위 (200㎚∼800㎚) 에 대해 흡수 스펙트럼을 측정했다. 측정 기기로는, 시마즈 제작소사제의 UV-3600 을 사용했다. 얻어진 흡수 스펙트럼으로부터, 파장 385㎚ 에 있어서의 질량 흡광 계수를 구했다 (단위 : ㎖/g·㎝). 또, 파장 370∼390㎚ 의 파장 영역에 있어서의 질량 흡광 계수의 최대값을 구했다 (단위 : ㎖/g·㎝ ). 결과를 표 2 에 나타낸다.
〔시험예 2〕<점착력 및 점착력비의 측정>
실시예 및 비교예에서 제작한 점착 시트에 대해, 23℃, 상대습도 50％ 의 환경하에서 7일간 정치(靜置)하는 양생을 실시한 후, 각각을 절단하여 길이 200㎜, 폭 25㎜ 의 점착력 측정용 시트를 얻었다. 얻어진 점착력 측정용 시트의 점착제층측을 2㎏ 의 롤러를 사용하여 실리콘 미러 웨이퍼에 첩부하고, 실리콘 미러 웨이퍼와 점착력 측정용 시트로 이루어지는 적층체를 얻었다. 얻어진 적층체를 23℃, 상대습도 50％ 의 분위기하에 20분간 방치하여, 이것을 평가 샘플로 했다.
평가 샘플에 대해, 만능형 인장 시험기 (오리엔텍사제, TENSILON/UTM-4-100)를 사용해서, JIS Z 0237 : 2000 에 준거하여 180°박리 시험 (점착력 측정용 시트를 박리되어지는 측의 부재로 했다.) 을 실시하여, 조사 전 점착력을 측정했다 (단위 : mN/25㎜). 조사 전 점착력의 측정 결과를 표 3 에 나타낸다.
또, 상기 평가 샘플에 대해, 점착력 측정용 시트의 기재측의 면으로부터 자외선을 조사하여, 점착제층을 경화시켰다. 이 자외선의 조사는, 광원으로서 자외선 LED (발하는 자외선을 포함하는 에너지선은, 최대 강도가 385㎚ 이며, 반치 전폭이 10㎚ 인 단일 발광 피크를 그 발광 스펙트럼에 갖는다.) 를 사용한 자외선 조사 장치 (파나소닉사제, UD40) 를 이용하여 실시하고, 조도는 1.2mW/㎠, 적산 광량은 20mJ/㎠ (아이그라픽스사제의 UVPF-A1 에 의해 측정) 로 했다. 이 자외선 조사 후의 평가 샘플에 대해, 상기 조사 전 점착력을 측정하기 위한 박리 시험과 동일한 조건에서의 박리 시험을 실시하여, 조사 후 점착력을 측정했다 (단위 : mN/25㎜). 조사 후 점착력의 측정 결과를 표 3 에 나타낸다.
상기와 같이 하여 측정한 조사 전 점착력 및 조사 후 점착력으로부터, 조사 전 점착력에 대한 조사 후 점착력의 비 (점착력비) 를 산출했다. 이 점착력비에 기초하여, 이하의 기준에 의해 자외선 조사에 의한 점착력의 저하성을 평가했다. 점착력비 및 평가 결과를 표 3 에 나타낸다.
○ … 점착력비가 3％ 이하이고, 자외선 조사에 의한 점착력의 저하성이 우수하다.
× … 점착력비가 3％ 를 초과하고, 자외선 조사에 의한 점착력의 저하성이 떨어진다.
〔시험예 3〕<보관 안정성의 평가>
실시예 및 비교예에서 제작한 점착 시트에 대해, 23℃, 상대습도 50％ 의 환경하에서 7일간 정치하는 양생을 실시한 후, 각각을 절단하여 길이 200㎜, 폭 25㎜ 의 점착력 측정용 시트를 얻었다. 얻어진 점착력 측정용 시트의 기재측의 표면에 대해, 당해 기재측의 표면으로부터 30㎝ 거리의 위치에 배치한 형광등 (400lx ; UV컷 타입) 의 광을 1주일간 조사했다.
그 후, 상기 점착력 측정용 시트에 대해, 시험예 2 와 동일한 조작에 의해 조사 전 점착력을 측정했다. 측정하여 얻어진 보관 후의 조사 전 점착력의, 보관 전의 조사 전 점착력 (시험예 2 에서 측정한 조사 전 점착력) 에 대한 비율인 점착력 유지율 (단위 : ％) 을 산출했다. 이 점착력 유지율에 기초하여, 이하의 기준에 의해 보관 안정성을 평가했다. 점착력 유지율 및 평가 결과를 표 3 에 나타낸다.
○ … 점착력 유지율이 90％ 이상이고, 형광등 하에서의 보관 안정성이 우수하다.
× … 점착력 유지율이 90％ 미만이고, 형광등 하에서의 보관 안정성에 떨어진다.
Figure pat00001
Figure pat00002
Figure pat00003
표 3 으로부터 알 수 있듯이, 실시예에서 제작한 점착 시트는, 파장 385㎚ 의 자외선 조사에 의한 점착력의 저하성이 우수함과 동시에, 형광등 하에서의 보관 안정성이 우수하다.
본 발명에 관련된 점착 시트는, 예를 들어 광학 부재에 첩부되고, 그 상태로 광학 부재에 대해 원하는 작업을 실시한 후, 당해 광학 부재로부터 박리됨으로써 광학 제품을 제조하는 데 있어서 바람직하게 사용된다.

Claims (10)

  1. 기재와, 상기 기재의 적어도 일방의 면측에 적층된, 자외선 경화성 점착제로 이루어지는 점착제층을 구비하고,
    상기 자외선 경화성 점착제가, (a) 파장 385㎚ 의 광선의 조사에 의해 개열되는 광중합 개시제와, (b) 파장 385㎚ 의 광선의 조사에 의해 개열되지 않고, 또, 상기 광중합 개시제의 개열에 의해 라디칼을 발생하는 라디칼 발생제를 함유하는 점착제 조성물로부터 형성된 것임을 특징으로 하는 점착 시트.
  2. 기재와, 상기 기재의 적어도 일방의 면측에 적층된, 자외선 경화성 점착제로 이루어지는 점착제층을 구비하고,
    상기 자외선 경화성 점착제가, (a) 파장 370∼390㎚ 의 파장 영역에 있어서의 광선의 질량 흡광 계수의 최대값이 200㎖/g·㎝ 이상, 10000㎖/g·㎝ 이하인 광중합 개시제와, (b) 파장 370∼390㎚ 의 파장 영역에 있어서의 광선의 질량 흡광 계수의 최대값이 200㎖/g·㎝ 미만인 라디칼 발생제를 함유하는 점착제 조성물로부터 형성된 것임을 특징으로 하는 점착 시트.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 점착제 조성물 중에 있어서의 상기 광중합 개시제의 함유량은, 상기 자외선 경화성 점착제 중의 자외선 경화성 성분 100질량부에 대해 0.3질량부 이상, 5질량부 이하이고,
    상기 점착제 조성물 중에 있어서의 상기 라디칼 발생제의 함유량은, 상기 자외선 경화성 점착제 중의 자외선 경화성 성분 100질량부에 대해 0.8질량부 이상, 7.0질량부 이하인 것을 특징으로 하는 점착 시트.
  4. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 자외선 경화성 점착제는, 자외선 비경화성의 폴리머와, 자외선 경화성의 모노머 및/또는 올리고머를 함유하는 것을 특징으로 하는 점착 시트.
  5. 제 4 항에 있어서, 상기 자외선 비경화성의 폴리머는, 가교제를 통한 가교 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 점착 시트.
  6. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 파장 385㎚ 의 광선 조사 전에 있어서의 상기 점착 시트의 실리콘 미러 웨이퍼에 대한 점착력은, 8000mN/25㎜ 이상, 300000mN/25㎜ 이하인 것을 특징으로 하는 점착 시트.
  7. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 파장 385㎚ 의 광선 조사 후에 있어서의 상기 점착 시트의 실리콘 미러 웨이퍼에 대한 점착력은, 1000mN/25㎜ 이하인 것을 특징으로 하는 점착 시트.
  8. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 파장 385㎚ 의 광선 조사 전에 있어서의 상기 점착 시트의 실리콘 미러 웨이퍼에 대한 점착력에 대한, 파장 385㎚ 의 광선 조사 후에 있어서의 상기 점착 시트의 실리콘 미러 웨이퍼에 대한 점착력의 비는, 0.1％ 이상, 15％ 이하인 것을 특징으로 하는 점착 시트.
  9. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 광학 제품의 제조에 사용되는 것을 특징으로 하는 점착 시트.
  10. 제 1 항 또는 제 2 항에 기재된 점착 시트를, 상기 점착제층을 통하여 광학 부재에 첩부하는 공정과, 상기 점착 시트가 첩부된 상기 광학 부재에 대해 원하는 작업을 실시하는 공정과, 상기 광학 부재에 첩부된 상기 점착 시트의 상기 점착제층에 대해 파장 385㎚ 의 광선을 조사하여, 상기 점착제층의 점착력을 저하시키는 공정과, 상기 광학 부재로부터 상기 점착 시트를 박리하는 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학 제품의 제조 방법.
KR1020170001220A 2016-02-29 2017-01-04 점착 시트 및 광학 제품의 제조 방법 KR20170101772A (ko)

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