KR20170052677A - 처음에는 아직도 액상인 코팅 재료를 이용한 금속 스트립의 코팅 방법 및 그 장치 - Google Patents
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Abstract
본 발명은, 처음에는 아직도 액상인 코팅 재료로, 예컨대 아연으로 금속 스트립을 코팅하기 위한 방법 및 그 장치에 관한 것이다. 상기 유형의 공지된 장치들은 액상 코팅 재료(300)를 포함한 코팅 용기(110)를 포함한다. 금속 스트립(200)은 코팅을 위해 코팅 용기를 통해 안내된다. 코팅 용기에서 유출된 이후, 아직도 액상인 코팅 재료는 금속 스트립(200) 상에 점착된다. 그런 다음 과량의 코팅 재료(300)는 분출 장치에 의해 금속 스트립(200)의 표면으로부터 송풍 제거된다. 분출 장치 이후, 금속 스트립은 통상 분출 장치(120) 상에서 지지되는 전자기식 안정화 장치를 통과한다. 교란 영향들로 인해, 금속 스트립은 분출 장치(120)의 슬릿(122) 내부에서 더 이상 자신의 사전 설정된 설정 중앙 위치에서 안내되지 않을 필요가 있을 수 있다. 이런 경우, 금속 스트립이 다시 설정 중앙 위치에서 안내되는 방식으로 분출 장치(120)의 변위 또는 재정렬이 필요하다. 이런 경우에, 전자기식 안정화 장치의 의도되지 않는 변위를 방지하기 위해, 본 발명은 금속 스트립의 이송 방향에 대해 횡방향인 평면에서 분출 장치(120)에 상대적으로 전자기식 안정화 장치(140)를 변위시키기 위한 제1 변위 장치를 포함한다.
Description
본 발명은, 처음에는 아직도 액상인 코팅 재료로, 예컨대 아연으로 금속 스트립을 코팅하기 위한 방법 및 그 장치에 관한 것이다. 상기 방법 및 상기 장치는 특히 금속 스트립을 용융아연도금하기 위해 이용된다.
금속 스트립을 코팅하기 위한 상기 유형의 장치들은 종래 기술에서, 예컨대 DE 10 2009 051 932 A1로부터 원칙적으로 공지되어 있다. 구체적으로, 상기 독일 공보는, 액상 코팅 재료로 충전되는 코팅 용기(coating container)를 개시하고 있다. 금속 스트립은 코팅을 위해 코팅 재료를 포함한 용기를 통해 안내된다. 코팅 용기에서 유출된 이후, 금속 스트립은 코팅 용기의 상부에 배치되어 금속 스트립의 표면으로부터 아직도 액상인 코팅 재료의 과량 부분들을 송풍 제거하기 위한 분출 장치(blowing device)를 통과한다. 분출 장치의 상부에는 분출 장치에 의해 지지되는 전자기식 안정화 장치가 배치되어 코팅 용기 및 분출 장치에서 유출된 이후의 금속 스트립을 안정화시킨다. 전자기식 안정화 장치에 의해서는, 특히 스트립이 전체 장치의 중앙 평면 내의 중앙에서 파지되고 코팅 용기 및 분출 장치를 통과하는 동안 금속 스트립의 진동은 방지되거나 적어도 감소된다.
분출 장치뿐만 아니라 전자기식 안정화 장치 역시도 각각 하나의 슬릿(slit)을 포함하며, 이 슬릿을 통해 금속 스트립이 안내된다. 금속 스트립의 상면 및 하면 상에 코팅 재료의 균일한 두께 또는 두께 분포를 달성하기 위해, 반드시 금속 스트립은 사전 설정된 설정 중앙 위치(set middle position)에서 분출 장치의 슬릿을 통과해야만 한다. 이런 경우에만, 금속 스트립의 상면 및 하면에서 분출 노즐들의 작용이 동일하고 금속 스트립 상에서는 코팅 재료의 의도되는 균일한 두께 분포가 나타나는 점이 보장된다.
설정 중앙 위치는 특히 분출 장치의 슬릿의 대향하는 측면들까지 금속 스트립의 광폭 측면들 및 협폭 측면들의 바람직하게는 균일한 이격 간격을 통해, 그리고 특히 금속 스트립이 슬릿의 길이방향 정렬부에 상대적으로 경사되거나 회전되지 않는 것을 통해 정의된다.
그러나 교란 영향들(disturbing influence)로 인해, 금속 스트립이 사전 설정된 설정 중앙 위치로부터 멀어지고 그에 따라 금속 스트립의 실제 위치가 설정 중앙 위치로부터 편차를 나타내는 점이 일어날 수 있다. 그러므로 통상 상술한 설정 중앙 위치로부터 금속 스트립의 실제 위치의 경우에 따른 편차는 조작 직원에 의해 모니터링 되고, 경우에 따라 분출 장치는 금속 스트립의 이송 방향에 대해 수직인 평면에서 금속 스트립이 다시 분출 장치의 슬릿 내의 사전 설정된 설정 중앙 위치에서 안내되는 방식으로 변위된다. 그러나 분출 장치의 상기 유형의 변위는, 결과적으로 전자기식 안정화 장치 역시도 그에 상응하게 함께 변위된다는 단점을 갖는데, 그 이유는 상기 전자기식 안정화 장치가, 통상, 예컨대 DE 10 2008 039 244 A1에 기재된 것처럼, 수직 방향에서의 자유도를 제외하고라도, 분출 장치와 고정 연결되어 상기 분출 장치 상에서 지지되기 때문이다. 그러나 분출 장치의 슬릿을 통과하는 금속 스트립의 안내의 상술한 교란은 결과가 확실치 않게 불가피하게 전자기식 안정화 장치의 슬롯을 통과하는 금속 스트립의 안내에도 영향을 미친다. 그러므로 DE 10 2008 039 244 A1에 기재되는 사항으로 분출 장치와 함께 전자기식 안정화 장치의 동시 변위는 원칙적으로 바람직하지 않은데, 그 이유는 상기 변위가 금속 스트립에 대해 전자기식 안정화 장치의 힘 작용의 비대칭적이고 그에 따라 의도되지 않는 변경을 초래하기 때문이다.
본 발명의 과제는, 상기 종래 기술에서 출발하여, 분출 장치의 변위의 경우에 전자기식 안정화 장치의 의도되지 않는 변위가 방지되는 정도로, 금속 스트립을 코팅하기 위한 공지된 방법 및 공지된 장치를 개량하는 것에 있다.
상기 과제는, 방법 기술의 측면에서, 특허 청구항 제1항에서 청구되는 방법을 통해 해결된다. 상기 방법은 하기 방법 단계, 즉, 금속 스트립의 실제 위치가 전자기식 안정화 장치의 슬릿 내에 사전 설정된 설정 중앙 위치와 적어도 거의 일치하도록, 금속 스트립의 이송 방향에 대해 횡방향인 평면에서 분출 장치에 상대적으로 전자기식 안정화 장치를 변위시키는 변위 단계를 특징으로 한다.
전자기식 안정화 장치는 본원의 출원인에 의해 동적 전자기식 코팅 최적화 장치(DEMCO)로서도 지칭된다.
상기 청구되는 방법 단계를 통해, 분출 장치에 대해 전자기식 안정화 장치의 상대 이동이 가능해지며, 그리고 그에 따라 바람직하게는 분출 장치의 변위가 반드시 전자기식 안정화 장치의 의도되지 않은 변위를 초래하지 않는 점이 보장된다. 구체적으로, 특히 금속 스트립은, 비록 분출 장치가 금속 스트립의 이송 방향에 대해 횡방향인 평면에서 이동된다고 하더라도, 전자기식 안정화 장치의 슬릿 내에서 바람직하게는 설정 중앙 위치에서 파지될 수 있다. 이를 목적으로, 전자기식 안정화 장치는 분출 장치에 상대적으로 분출 장치와 정확히 반대되는 방향으로 이동된다(보상). 바람직하게는, 상기 방법 단계를 통해, 비록 분출 장치가 분출 장치의 슬릿을 통한 설정 중앙 위치에서 금속 스트립의 안내의 복구를 위해 변위될 수밖에 없다고 하더라도, 전자기식 안정화 장치의 정규 기능은 보장된다.
제1 실시예에 따라서, 분출 장치의 슬릿 내에서 사전 설정된 설정 중앙 위치로부터 금속 스트립의 실제 위치의 편차가 검출되며, 그리고 금속 스트립의 실제 위치는 금속 스트립의 이송 방향에 대해 횡방향인 평면에서 분출 장치의 적합한 변위를 통해 사전 설정된 설정 중앙 위치로 조절된다.
전자기식 안정화 장치의 본 발명에 따른 변위는, 분출 장치의 슬릿 내에서 사전 설정된 설정 중앙 위치로부터 금속 스트립의 실제 위치의 검출되는 편차에 따라서, 또는 분출 장치의 수행되는 검출된 변위에 따라서, 그리고 그 반대 방향으로 수행될 수 있다. 여기서 후자의 대안의 경우, 패스 라인 기준 위치에 상대적인 분출 장치의 변위의 검출이 수행된다. 이 경우, 패스 라인 기준 위치는, 특히 코팅 용기의 내부에서 금속 스트립을 위한 제1 편향 롤러의 고정 위치 및 안정화 장치의 상부에서 제2 편향 롤러의 고정 위치를 통해 정의되는 것과 같은 구조적인 설비 중심을 통해 정의된다.
그 대안으로 전자기식 안정화 장치의 슬릿 내에서 사전 설정된 설정 중앙 위치로부터 금속 스트립의 실제 위치의 편차가 검출되며, 그리고 전자기식 안정화 장치의 본 발명에 따른 변위는 전자기식 안정화 장치의 슬릿 내에서 사전 설정된 설정 중앙 위치로부터 금속 스트립의 실제 위치의 검출된 편차에 따라서 수행된다.
전자기식 안정화 장치 또는 분출 장치의 슬릿 내에서 금속 스트립의 설정 중앙 위치로부터 금속 스트립의 실제 위치의 검출되는 편차는 설정 중앙 위치에 의해 정의되는 길이방향에 대해 평행한 병진 변위일 수 있거나, 또는 사전 설정된 설정 중앙 위치에 상대적인 회전일 수 있다. 이처럼 금속 스트립의 설정 중앙 위치로부터 실제 위치의 두 가지 유형의 편차, 또는 전자기식 안정화 장치의 상응하는 변위 또는 회전은 본원의 출원인에 의해 왜도 함수(skew function)로도 지칭된다.
그 대안으로, 금속 스트립의 실제 위치의 검출되는 편차는 전자기식 안정화 장치 또는 분출 장치의 슬릿 내에서 금속 스트립의 사전 설정된 설정 중앙 위치의(혹은 사전 설정된 설정 중앙 위치에 상대적인) 폭 방향(x)으로의 병진 변위이다. 금속 스트립의 설정 중앙 위치로부터 실제 위치의 상기 유형의 편차 또는 전자기식 안정화 장치의 상응하는 변위는 본원의 출원인에 의해 스캔 함수(scan function)로서도 지칭된다.
앞에서 언급한 과제는 장치 기술 측면에서는 청구항 제8항의 대상을 통해 해결된다. 상기 해결책의 장점들은 앞에서 청구되는 방법과 관련하여 언급한 장점들에 상응한다.
본원의 방법 및 본원의 장치의 바람직한 구현예들은 종속 청구항들의 대상이다. 특히 바람직한 구현예에서, 본원의 장치는, 예컨대 분출 장치의 슬릿 내에서, 또는 전자기식 안정화 장치의 슬릿 내에서 설정 중앙 위치로부터 금속 스트립의 실제 위치의 검출되는 편차의 시각화를 위한, 또는 패스 라인 기준 위치로부터 분출 장치의 검출되는 편차의 시각화를 위한, 또는 상술한 편차들의 시간에 따른 변화량을 시각화하기 위한 장치의 조작 직원을 위한 인간 기계 인터페이스(HMI)를 포함한다. 편차들 또는 이 편차들의 시간에 따른 변화량들의 상기 유형의 시각화를 통해, 본원의 방법의 실행은 실질적으로 간소화된다.
본 발명에는 3개의 도면이 첨부되어 있다.
도 1은 본 발명에 따른 장치를 도시한 도면이다.
도 2 및 도 3은 금속 스트립의 설정 중앙 위치 및 서로 상이하고 의도되지 않는 그 실제 위치가 각각 표시되어 있는, 본 발명에 따른 분출 장치 또는 본 발명에 따른 전자기식 안정화 장치의 슬릿을 각각 도시한 상면도이다.
도 1은 본 발명에 따른 장치를 도시한 도면이다.
도 2 및 도 3은 금속 스트립의 설정 중앙 위치 및 서로 상이하고 의도되지 않는 그 실제 위치가 각각 표시되어 있는, 본 발명에 따른 분출 장치 또는 본 발명에 따른 전자기식 안정화 장치의 슬릿을 각각 도시한 상면도이다.
본 발명은 하기에서 실시예들의 형태로 언급한 도면들을 참조하여 상세하게 기재된다. 모든 도면에서 동일한 기술 요소들은 동일한 도면부호들로 표시된다.
도 1에는, 액상 코팅 재료(300), 예컨대 아연으로 금속 스트립(200)을 코팅하기 위한 본 발명에 따른 장치(100)가 도시되어 있다. 이를 목적으로, 처음에는 아직도 코팅되지 않은 금속 스트립(200)이 이송 방향(R)으로 액상 코팅 재료로 충전되어 있는 코팅 용기(110) 내로 안내된다. 코팅 용기(110)의 내부에서 금속 스트립(200)은 편향 롤러에 의해 편향되며, 그럼으로써 금속 스트립은 코팅 용기에서 상향으로 유출된다. 코팅 용기를 통과한 이후, 아직도 액상인 코팅 재료는 금속 스트립(200) 상에 점착된다.
코팅 용기(110)의 상부에는 슬릿(122)을 펼쳐 형성하는 분출 장치(120)가 배치되며, 슬릿을 통해 금속 스트립(200)이 안내된다. 분출 장치에 의해 과량의 코팅 재료는 금속 스트립(200)의 표면으로부터 송풍 제거된다.
금속 스트립(200)의 상면 및 하면 상에서 송풍 제거가 균일하게 수행되도록 하기 위해서는, 금속 스트립이 도 2에서 x 방향으로 실선의 형태로 상징적으로 표시된 것과 같은 사전 설정된 설정 중앙 위치(128)에서 분출 장치(120)의 슬릿(122)을 통과하게 하는 점이 중요하다. 상기 설정 중앙 위치는 특히 분출 장치(120)의 슬릿(122)의 안쪽 가장자리들까지 대칭이 되는 이격 간격들 또는 이 이격 간격들의 분포를 특징으로 한다. 의도되는 사전 설정된 설정 중앙 위치 외에, 도 2에는, 금속 스트립의 가능하고 의도되지 않는 실제 위치들 역시도 파선들로서 표시되어 있다. 이렇게 금속 스트립에 대해 의도되지 않는 실제 위치들은 예컨대 금속 스트립이 설정 중앙 위치에 상대적으로 회전되거나 Y 방향으로 평행하게 변위되어 발생하는 위치들이다.
도 3에는, 금속 스트립(200)이 설정 중앙 위치에 상대적으로 X 방향으로, 다시 말해 폭 방향으로 평행하게 변위되어 있는 가능하고 의도되지 않는 제3 실제 위치가 도시되어 있다.
다시 도 1을 참조하면, 분출 장치(120)의 상부에는 전자기식 안정화 장치(140)도 확인되는데, 이 전자기식 안정화 장치는 자체적으로 슬릿(142)을 포함하고, 이 슬릿을 통해 금속 스트립(200)이 마찬가지로 안내된다. 여기서도 마찬가지로, 전자기식 안정화 장치(140)를 통해 공급되는 힘이 의도되는 방식으로 금속 스트립(200) 상에 균일하게 안정화하는 방식으로 작용할 수 있도록 하기 위해, 도 2 및 도 3에 도시된 것처럼 금속 스트립(200)은 바람직하게는 사전 설정된 설정 중앙 위치(128)에서 슬릿(142)을 통과한다. 슬릿(142), 및 이 슬릿에서도 달성하고자 하는 설정 중앙 위치에 대해서도, 앞에서 도 2 및 도 3을 참조하여 분출 장치(120)의 슬릿(122)에 대해 언급한 것과 동일한 사항이 적용된다.
전자기식 안정화 장치(140)는 분출 장치(120) 상에서 기계적으로 지지된다. 그러나 이런 지지는 본 발명에 따라서 고정 방식으로 수행되는 것이 아니라, 분출 장치(120)와 전자기식 안정화 장치(140) 사이에 제공되는 제1 변위 장치(160)를 통해 수행된다. 구체적으로 제1 변위 장치(160)는 금속 스트립의 이송 방향(R)에 대해 횡방향인 평면에서 분출 장치에 상대적으로 전자기식 안정화 장치(140)의 변위를 가능하게 한다. 제1 변위 장치(160)는 제어 장치(170)에 의해 제어된다.
그 밖에도, 안정화 장치(140)와 분출 장치(120) 사이에는, 분출 장치(120)의 슬릿(122) 내에서 사전 설정된 설정 중앙 위치로부터 금속 스트립(200)의 실제 위치의 편차를 검출하기 위한 제1 검출 장치(154)가 배치된다. 그 대안으로, 제1 검출 장치(154)는 단지 금속 스트립의 실제 위치를 검출하도록만 형성될 수도 있다. 그 밖에도, 제2 변위 장치(130)를 이용한 분출 장치(120)의 변위를 통해, 앞에서 도 2 및 도 3을 참조하여 설명한 것처럼, 분출 장치의 슬릿(122) 내에서 금속 스트립(200)의 실제 위치를 사전 설정된 설정 중앙 위치로 조절하기 위한 조절 장치(180)도 제공된다. 여기서 조절은 검출된 편차에 대응하여 수행된다. 설정 중앙 위치로부터 실제 위치의 편차의 검출이 제1 검출 장치(154)에서 수행되지 않는다면, 상기 검출은 예컨대 조절 장치(180)의 내부에서도 수행될 수 있다. 변위는 분출 장치의 슬릿(122) 내에서 사전 설정된 설정 중앙 위치로부터 금속 스트립의 실제 위치의 검출되는 편차에 따라서 금속 스트립의 이송 방향(R)에 대해 횡방향인 평면에서 수행된다. 달리 표현하면, 금속 스트립(200)이 설정 중앙 위치(128)에서 슬릿(122)을 통과하지 않는 것으로 확인된다면, 분출 장치(120)는, 금속 스트립이 다시 사전 설정된 설정 중앙 위치(128)에서 분출 장치의 슬릿(122)을 통과하는 방식으로, 제2 변위 장치(130)에 의해 변위된다. 이를 목적으로, 제1 검출 장치(154)는, 자신이 바람직하게는 앞에서 도 2 및 도 3을 참조하여 기재하고 설정 중앙 위치(128)로부터 편차를 나타내는 금속 스트립(200)의 총 3개의 실제 위치를 검출할 수 있도록 형성된다.
분출 장치(120)의 상술한 변위는, 분출 장치(120) 상에서 지지되는 전자기식 안정화 장치(140)에 영향을 미치지 않아야 한다. 이를 목적으로, 제어 장치(170)는, 전자기식 안정화 장치(140)가 패스 라인 기준 위치에 상대적으로 분출 장치(120)를 변위시키는 경우 함께 이동되는 것이 아니라 자신의 원래 위치에서 머물러 있을 수 있는 방식으로, 제1 변위 장치(160)를 제어하도록 형성된다. 그에 따라 제어 장치(170)는, 분출 장치(120)를 변위시키는 경우 전자기식 안정화 장치(140)가 바람직하게는 분출 장치(120)와 정확히 반대되는 이동을 수행하는 방식으로, 다시 말하면 결과적으로 바람직하게는 자신의 원래의 위치에 머무르는 방식으로, 제1 변위 장치(160)에 작용한다.
이처럼 제1 변위 장치(160)를 위한 특별한 유형의 제어를 실현하기 위해, 제어 장치(170)는 다양한 상황들을 평가할 수 있다. 한편으로, 제어 장치(170)는, 분출 장치(120)의 슬릿(122) 내에서 금속 스트립의 사전 설정된 설정 중앙 위치로부터 제1 검출 장치(154)에 의해 검출되는 금속 스트립의 실제 위치의 편차에 따라서 전자기식 안정화 장치(140)의 변위를 실행하도록 형성될 수 있다.
그 대안으로, 또는 그에 추가로, 제어 장치(170)는, 제2 검출 장치(155)에 의해 검출되는 분출 장치(120)의 변위에 따라서, 그리고 그 반대 방향으로 전자기식 안정화 장치의 변위를 실행하도록 형성될 수 있다.
마지막으로, 추가의 대안에 따라서, 또는 그에 보충하여, 제어 장치(170)는, 전자기식 안정화 장치의 슬릿(142) 내에서 사전 설정된 설정 중앙 위치로부터 금속 스트립의 실제 위치의 검출되는 편차에 따라서 전자기식 안정화 장치(140)의 변위를 유발하도록 형성된다. 이에 대한 전제조건은, 전자기식 안정화 장치(140)의 슬릿(142) 내에서 사전 설정된 설정 중앙 위치로부터 금속 스트립의 실제 위치의 상술한 편차를 검출하기 위한 제3 검출 장치(145)가 제공되어 있는 점에 있다.
제1, 제2 및 제3 검출 장치(154, 155, 145)는, 바람직하게는 의도되는 설정 중앙 위치로부터 금속 스트립의 실제 위치의 모든 생각할 수 있는 편차를 검출하도록 형성된다. 이런 편차에 속하는 경우는 특히 앞에서 도 2 및 도 3을 참조하여 설명한 것처럼 x 방향 또는 y 방향으로 금속 스트립의 (평행) 변위이거나, 또는 회전이다. 그에 상응하게, 제1 및 제2 변위 장치(130, 160)는, [조절 장치(180) 또는 제어 장치(170)를 통한 적합한 제어 조건에서] 설정 중앙 위치에서 금속 스트립의 통과를 실현하기 위해, 금속 스트립의 이송 방향(R)에 대해 횡방향인 평면에서 분출 장치(120) 및 전자기식 안정화 장치(140)를 임의의 방식으로 이동시키도록, 특히 (평행하게) 변위시키거나 회전시키도록 형성된다. 이런 점에 한해, 대차(carriage) 또는 피스톤/실린더 유닛으로서 제1 및 제2 변위 장치(160, 130)의 형성은 각각 오직 예시일 뿐이며, 그로 제한되지 않는다.
제1 및 제3 검출 장치(154, 145) 및 선택에 따라 추가로 제2 검출 장치(155) 역시도 (예컨대 초점을 공유하는 방식으로 형성되거나 레이저 지원 방식인) 단일의 센서 장치(150)의 형태로 실현될 수 있다. 이런 점에 한해, 간단히 "레이저"로도 지칭되는 센서 장치는 언급한 검출 장치들을 위한 하나의 구조 유닛을 형성한다. 센서 장치(150)는 또한 일반적으로 거리 검출 장치로서도 지칭될 수 있다.
100: (코팅) 장치
110: 코팅 용기
120: 분출 장치
122: 분출 장치의 슬릿
128: 분출 장치 또는 전자기식 안정화 장치 내에서 금속 스트립의 설정 중앙 위치
130: 제2 변위 장치
140: 전자기식 안정화 장치
142: 전자기식 안정화 장치의 슬릿
145: 제3 검출 장치
150: 센서 장치
154: 제1 검출 장치
155: 제2 검출 장치
160: 제1 변위 장치
170: 제어 장치
180: 조절 장치
200: 금속 스트립
300: 코팅 재료
R: 금속 스트립의 이송 방향
X: 설정 중앙 위치에서 금속 스트립의 폭 방향
Y: 금속 스트립에 의해 펼쳐 형성되는 평면에 대해 횡방향인 방향
110: 코팅 용기
120: 분출 장치
122: 분출 장치의 슬릿
128: 분출 장치 또는 전자기식 안정화 장치 내에서 금속 스트립의 설정 중앙 위치
130: 제2 변위 장치
140: 전자기식 안정화 장치
142: 전자기식 안정화 장치의 슬릿
145: 제3 검출 장치
150: 센서 장치
154: 제1 검출 장치
155: 제2 검출 장치
160: 제1 변위 장치
170: 제어 장치
180: 조절 장치
200: 금속 스트립
300: 코팅 재료
R: 금속 스트립의 이송 방향
X: 설정 중앙 위치에서 금속 스트립의 폭 방향
Y: 금속 스트립에 의해 펼쳐 형성되는 평면에 대해 횡방향인 방향
Claims (14)
- 처음에는 아직도 액상인 코팅 재료(300)로 금속 스트립(200)을 코팅하기 위한 방법으로서, 하기 단계들, 즉,
액상 코팅 재료(300)로 충전되어 있는 코팅 용기(110)를 통해 코팅할 금속 스트립(200)을 통과시키는 통과 단계와;
코팅 용기를 통과한 이후 분출 장치(120)를 이용하여 금속 스트립(200)의 표면으로부터 아직도 액상인 코팅 재료(300)의 과량의 부분을 송풍 제거하는 송풍 제거 단계와;
금속 스트립의 이송 방향으로 분출 장치의 하류에 배치되고 분출 장치 상에서 지지되는 전자기식 안정화 장치(140)를 이용하여 분출 장치(120)에서 유출된 이후의 금속 스트립을 안정화시키는 안정화 단계와;
분출 장치(120)에 상대적으로 전자기식 안정화 장치(140)를 변위시키는 변위 단계를 포함하는 방법에 있어서,
상기 금속 스트립(200)의 실제 위치가 상기 전자기식 안정화 장치(140)의 슬릿(142) 내에 사전 설정된 설정 중앙 위치와 적어도 거의 일치하도록, 상기 금속 스트립(200)의 이송 방향에 대해 횡방향인 평면에서 상기 분출 장치(120)에 상대적으로 상기 전자기식 안정화 장치(140)의 변위가 수행되는 것을 특징으로 하는 방법. - 제1항에 있어서,
상기 분출 장치(120)의 슬릿 내에서 사전 설정된 설정 중앙 위치로부터 상기 금속 스트립(200)의 실제 위치의 편차를 검출하는 검출 단계와;
상기 금속 스트립의 이송 방향에 대해 횡방향인 평면에서 상기 분출 장치(120)의 적합한 변위를 통해 상기 사전 설정된 설정 중앙 위치로 상기 금속 스트립의 실제 위치를 조절하는 조절 단계를 특징으로 하는 방법. - 제2항에 있어서, 상기 전자기식 안정화 장치(140)의 변위는 상기 분출 장치(120)의 슬릿(122) 내에서 상기 금속 스트립의 사전 설정된 설정 중앙 위치로부터 상기 금속 스트립(200)의 실제 위치의 검출되는 편차에 따라서 수행되는 것을 특징으로 하는 방법.
- 제1항 또는 제2항에 있어서,
패스 라인 기준 위치에 상대적인 상기 분출 장치(120)의 변위가 직접 또는 간접적으로 검출되며; 그리고
상기 전자기식 안정화 장치(140)의 변위는 상기 분출 장치(120)의 검출되는 변위에 따라서, 그리고 그 반대 방향으로 수행되는 것을 특징으로 하는 방법. - 제1항에 있어서,
상기 전자기식 안정화 장치(140)의 슬릿 내에서 사전 설정된 설정 중앙 위치로부터 상기 금속 스트립(200)의 실제 위치의 편차가 검출되며; 그리고
상기 전자기식 안정화 장치(140)의 변위는 상기 전자기식 안정화 장치(140)의 슬릿 내에서 사전 설정된 설정 중앙 위치로부터 상기 금속 스트립(200)의 실제 위치의 검출되는 편차에 따라서 수행되는 것을 특징으로 하는 방법. - 제2항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 금속 스트립(200)의 실제 위치의 검출되는 편차는 상기 설정 중앙 위치에 의해 정의되는 길이방향에 대해 평행한 병진 변위이고, 그리고/또는 상기 전자기식 안정화 장치(140) 또는 상기 분출 장치(120)의 슬릿(122, 142) 내에서 상기 금속 스트립의 사전 설정된 설정 중앙 위치에 상대적인 회전인 것을 특징으로 하는 방법.
- 제2항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 금속 스트립(200)의 실제 위치의 검출되는 편차는 상기 전자기식 안정화 장치(140) 또는 상기 분출 장치(120)의 슬릿(122, 142) 내에서 상기 금속 스트립의 사전 설정된 설정 중앙 위치에 상대적인 폭 방향(x)으로의 병진 변위인 것을 특징으로 하는 방법.
- 액상 코팅 재료(300)로 금속 스트립(200)을 코팅하기 위한 장치(100)로서,
액상 코팅 재료(300)로 충전될 수 있으면서 코팅할 금속 스트립(200)을 통과시키기 위한 코팅 용기(110)와;
코팅 용기의 상부에 배치되어 코팅 용기를 통해 금속 스트립을 통과시킨 이후의 금속 스트립(200)의 표면으로부터 아직도 액상인 코팅 재료(300)의 과량의 부분들을 송풍 제거하기 위한 분출 장치(120)와;
분출 장치(120)의 상부에 배치되고 분출 장치에 의해 지지되면서 코팅 용기(110) 및 분출 장치(120)에서 유출된 이후의 금속 스트립(200)을 안정화시키기 위한 전자기식 안정화 장치(140)와;
분출 장치(120)에 상대적으로 전자기식 안정화 장치(140)를 변위시키기 위한 제1 변위 장치(160)를 포함하는 장치(100)에 있어서,
상기 제1 변위 장치(160)는 상기 금속 스트립의 이송 방향(R)에 대해 횡방향인 평면에서 상기 분출 장치(120)에 상대적으로 상기 전자기식 안정화 장치(140)의 변위를 실행하도록 형성되며; 그리고
상기 제1 변위 장치(160)를 제어하기 위한 제어 장치(170)가 제공되는 것을 특징으로 하는 장치(100). - 제8항에 있어서,
상기 분출 장치(120)의 슬릿(122) 내에서 사전 설정된 설정 중앙 위치로부터 상기 금속 스트립(200)의 실제 위치의 편차를 검출하기 위한 제1 검출 장치(150);
상기 분출 장치(120)를 변위시키기 위한 제2 변위 장치(130); 및
상기 분출 장치(120)의 슬릿(122) 내에서 사전 설정된 설정 중앙 위치로부터 상기 금속 스트립(200)의 실제 위치의 검출되는 편차에 따라서 상기 금속 스트립의 이송 방향(R)에 대해 횡방향인 평면에서 상기 제2 변위 장치(130)를 이용한 상기 분출 장치(120)의 변위를 통해 상기 분출 장치(120)의 슬릿(122) 내에서 상기 금속 스트립(200)의 사전 설정된 설정 중앙 위치로 상기 금속 스트립(200)의 실제 위치를 조절하기 위한 조절 장치(180)를; 특징으로 하는 장치(100). - 제9항에 있어서, 상기 제어 장치(170)는 상기 분출 장치(120)의 슬릿(122) 내에서 상기 금속 스트립(200)의 사전 설정된 설정 중앙 위치로부터 상기 제1 검출 장치(150)에 의해 검출되는 상기 금속 스트립의 실제 위치의 편차에 따라서 상기 전자기식 안정화 장치(140)를 변위시키도록 형성되는 것을 특징으로 하는 장치(100).
- 제8항 또는 제9항에 있어서,
패스 라인 기준 위치에 상대적인 상기 분출 장치(120)의 변위를 검출하기 위한 제2 검출 장치(155)가 제공되며; 그리고
상기 제어 장치(170)는 상기 제2 검출 장치(155)에 의해 검출되는 상기 분출 장치(120)의 변위에 따라서, 그리고 그 반대 방향으로 상기 전자기식 안정화 장치(140)를 변위시키도록 형성되는 것을 특징으로 하는 장치(100). - 제8항에 있어서,
상기 전자기식 안정화 장치(140)의 슬릿(142) 내에서 사전 설정된 설정 중앙 위치로부터 상기 금속 스트립(200)의 실제 위치의 편차를 검출하기 위한 제3 검출 장치(145)가 제공되며; 그리고
상기 제어 장치(170)는 상기 전자기식 안정화 장치(140)의 슬릿(142) 내에서 사전 설정된 설정 중앙 위치로부터 상기 금속 스트립의 실제 위치의 검출되는 편차에 따라서 상기 전자기식 안정화 장치(140)를 변위시키도록 형성되는 것을 특징으로 하는 장치(100). - 제8항에 있어서, 상기 전자기식 안정화 장치(140)를 변위시키기 위한 상기 제1 변위 장치(160)는 상기 분출 장치(120)와 상기 전자기식 안정화 장치(140) 사이에 배치되는 것을 특징으로 하는 장치(100).
- 제8항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서, 예컨대 상기 분출 장치(120) 또는 상기 전자기식 안정화 장치(140)의 슬릿(122, 142) 내에서 설정 중앙 위치로부터 상기 금속 스트립(200)의 실제 위치의 검출되는 편차, 또는 상기 패스 라인 기준 위치로부터 상기 분출 장치(120)의 검출되는 편차의 시각화를 위한, 또는 상기 편차들의 시간에 따른 변화량의 시각화를 위한 장치의 조작 직원을 위한 인간 기계 인터페이스(HMI)를 특징으로 하는 장치(100).
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