KR20160088282A - 신규 화합물 및 상기 화합물을 함유하는 조성물 - Google Patents

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토시히코 무라이
미츠히로 오카다
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Abstract

본 발명은 내열성이 뛰어난 착색 감광성 조성물(착색 알칼리 현상성 감광성 조성물)의 색소로서 바람직한 신규 화합물 및 상기 신규 화합물을 사용한 착색 감광성 조성물을 제공하는 것으로서, 구체적으로는 자외부터 근자외의 파장 영역에 흡수 극대를 갖는 유기 색소이며, 분자 내에 하기 일반식(1)로 나타내는 치환기를 1~10개 갖는 화합물, 바람직하게는 시아노스티렌 화합물, 트리아릴메탄 화합물 또는 시아닌 화합물, 및 상기 신규 화합물과 산가를 갖는 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 중합성 화합물 및 광 라디칼 중합 개시제를 함께 병용한 착색 감광성 조성물을 제공하는 것이다. 일반식 (1)의 구체적인 내용에 대해서는 본 명세서에 기재한 바와 같다.

Description

신규 화합물 및 상기 화합물을 함유하는 조성물{NOVEL COMPOUND AND COMPOSITION CONTAINING NOVEL COMPOUND}
본 발명은 페놀계 산화 방지제 구조를 갖는 유기 색소 화합물, 및 상기 화합물을 함유하는 조성물에 관한 것이다. 또한 상기 조성물을 사용한, 에너지 선에 의해 중합 가능한 착색 감광성 조성물 및 상기 착색 감광성 조성물을 사용한 컬러 필터에 관한 것이다.
특정한 광에 대하여 강도가 큰 흡수를 갖는 화합물은 CD-R, DVD-R, DVD+R, BD-R 등의 광학 기록 매체의 기록층이나, 액정 표시 장치(LCD), 플라즈마 디스플레이 패널(PDP), 전계발광 디스플레이(electroluminescence display)(ELD), 음극관 표시 장치(CRT), 형광 표시관, 전계방사형 디스플레이 등의 화상 표시 장치의 광학 요소로서 사용되고 있다.
액정 표시 장치(LCD), 플라즈마 디스플레이 패널(PDP), 전계발광 디스플레이(ELD), 음극관 표시 장치(CRT), 형광 표시관, 전계방사형 디스플레이 등의 화상 표시 장치용의 광학 필터에서는 300~1100㎚의 파장광을 흡수하는 각종 화합물이 광 흡수제로서 사용되고 있다.
이들 광 흡수제에는 광 흡수가 특히 급격한 것, 즉 λmax의 반값폭이 작은 것, 또한 광이나 열 등에 의해 기능이 상실되지 않는 것이 요구되고 있다.
액정 표시 장치(LCD)에 주로 사용되는 광학 필터에는 컬러 필터가 있다. 컬러 필터에는, 일반적으로 RGB의 3원색이 사용되어 왔지만, 단독 색재로는 순수한 RGB의 색상을 갖게 하는 것은 곤란하여 복수의 색재를 사용하여 순수한 RGB의 색상에 가깝게 하려는 노력이 실시되어 왔다. 그 때문에, RGB가 아니라 노란색, 주황색, 보라색 등의 색재도 필요해졌다.
컬러 필터에 사용되는 광 흡수제에는 내열성의 높이에 의해 유기 및/또는 무기 안료가 사용되어 왔지만, 안료이기 때문에 표시 장치로서의 휘도를 저하시킨다는 문제가 있어서 광원의 휘도를 높임으로써 이 문제를 해결해 왔다. 그러나 저소비 전력화의 흐름에 따라, 염료를 사용한 컬러 필터의 개발이 왕성하다.
또한 최근에는 고체 촬상 소자에 사용되는 컬러 필터에서, 화질 향상의 관점에서 착색 패턴의 박막화가 요구되고 있어서, 박막화하기 위해서는 색 농도 면에서 염료 농도를 높일 필요가 있다. 또한 염료의 몰 흡광 계수가 낮은 경우에도 다량의 염료를 첨가 할 필요가 있다.
그러나 염료 농도를 높이면, 성막 후에 가열 처리(포스트 베이크)를 실시한 경우에 인접 화소 간이나 적층 구조 중의 상하층 사이에서 혼색이 발생하기 쉽기 때문에 내열성이 요구되고 있다.
특허문헌 1~3에는 특정 구조의 유기 색소를 함유하는 컬러 필터용 착색 수지조성물이 개시되어 있다.
또한 특허문헌 4 및 5에는 색소와 산화 방지제를 함유하는 컬러 필터용 착색 조성물이 개시되어 있다.
그러나 이들 문헌에 기재된 컬러 필터용 착색 조성물에 사용되는 화합물은 내열성 면에서 만족할 수 있는 것이 아니었다.
WO2012/039286 WO2012/101946 WO2012/111400 일본국 공개특허공보 2010-008650호 일본국 공개특허공보 2011-141356호
따라서 본 발명의 목적은, 내열성이 뛰어난 착색 감광성 조성물(착색 알칼리 현상성 감광성 조성물)을 제공하는 것에 있다. 또한 본 발명의 다른 목적은, 상기 착색 감광성 조성물(착색 알칼리 현상성 감광성 조성물)을 사용한 광학 필터, 특히 휘도를 저하시키지 않고 액정 표시 패널 등의 화상 표시 장치에 바람직한 컬러 필터를 제공하는 것에 있다.
본 발명자는 예의 검토를 거듭한 결과, 특정한 구조를 갖는 화합물이 내열성이 뛰어난 것을 지견하고 또한 이 화합물을 사용한 착색 감광성 조성물(착색 알칼리 현상성 감광성 조성물)이 광학 필터(특히 컬러 필터)의 휘도를 저하시키지 않고, 액정 표시 패널 등의 화상 표시 장치용 컬러 필터에 바람직한 것을 지견하여 본 발명에 도달했다.
본 발명은 상기 지견에 기초하여 이루어진 것으로, 자외부터 근자외의 파장 영역에 흡수 극대(absorption maximum)를 갖는 유기 색소이며, 분자 내에 하기 일반식(1)로 나타내는 치환기를 1~10개 갖는 화합물을 제공하는 것이다.
Figure pct00001
(식 중 R01, R02, R03, R04 및 R05는 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 시아노기, 수산기, 니트로기, 카르복실기, 탄소 원자수 1~40의 알킬기, 탄소 원자수 6~20의 아릴기, 탄소 원자수 7~20의 아릴알킬기, 탄소 원자수 2~20의 복소환 함유기 또는 -O-R1을 나타내고,
R01, R02, R03, R04 및 R05 중 적어도 1개는 -O-R1로 나타나며,
R1은 수소 원자, 탄소 원자수 1~40의 알킬기, 탄소 원자수 6~20의 아릴기, 탄소 원자수 7~20의 아릴알킬기, 탄소 원자수 2~20의 복소환 함유기 또는 트리알킬실릴기를 나타내고,
R01, R02, R03, R04 및 R05 또한 R1로 나타내는 알킬기, 아릴기, 아릴알킬기 또는 복소환 함유기는 치환기를 갖고 있거나 또는 무치환이며,
R01, R02, R03, R04 및 R05 또한 R1로 나타내는 알킬기 또는 아릴알킬기 중 메틸렌기는 탄소-탄소 2중 결합, -O-, -S-, -CO-, -O-CO-, -CO-O-, -O-CO-O-, -S-CO-, -CO-S-, -S-CO-O-, -O-CO-S-, -CO-NH-, -NH-CO-, -NH-CO-O-, -NR2-, ＞P=O, -S-S- 또는 -SO2-로 치환되어 있어도 되고,
R2는 수소 원자 또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타낸다.)
또한 본 발명은 상기의 자외부터 근자외의 파장 영역에 흡수 극대를 갖는 유기 색소이며, 분자 내에 하기 일반식(1)로 나타내는 치환기를 1~10개 갖는 화합물을 함유하는 조성물을 제공하는 것이다.
또한 본 발명은, 상기 조성물에 또한 산가(酸價)를 갖는 에틸렌 불포화 결합을 가지는 중합성 화합물 및 광 라디칼 중합 개시제를 함유하는 착색 감광성 조성물을 제공하는 것이다.
특정 구조를 갖는 화합물을 함유하는 본 발명의 착색 감광성 조성물(착색 알칼리 현상성 감광성 조성물)은 내열성이 뛰어난 것이다. 또한 그 경화물은 표시 디바이스용 컬러 필터에 바람직한 것이다.
이하, 본 발명에 대해 바람직한 실시형태에 기초하여 설명한다.
우선, 상기 자외부터 근자외의 파장 영역에 흡수 극대를 갖는 유기 색소이며, 분자 내에 상기 일반식(1)로 나타내는 구조를 적어도 하나 갖는 화합물에 대해 설명한다.
상기 자외부터 근자외의 파장 영역에 흡수 극대를 갖는 유기 색소로는 자외부터 근자외의 파장 영역, 즉 380~1200㎚에 흡수 극대를 갖는 화합물이면 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 시아노스티렌 화합물, 아조 화합물, 안트라퀴논 화합물, 인디고이드 화합물, 트리아릴메탄 화합물, 크산텐 화합물, 알리자린 화합물, 아크리딘 화합물, 스틸벤 화합물, 티아졸 화합물, 나프톨 화합물, 퀴놀린 화합물, 니트로 화합물, 인다민 화합물, 옥사진 화합물, 프탈로시아닌 화합물, 시아닌 화합물, 디이모늄 화합물, 시아노에테닐 화합물, 디시아노스티렌 화합물, 카르보늄 화합물, 로다민 화합물, 페릴렌 화합물, 폴리엔나프토락탐 화합물, 쿠마린 화합물, 스쿠아릴륨 화합물, 크로코늄 화합물, 스피로피란 화합물, 스피로옥사진 화합물, 메로시아닌 화합물, 옥소놀 화합물, 스티릴 화합물, 피릴륨 화합물, 로다닌 화합물, 옥사졸론 화합물, 프탈이미드 화합물, 나프탈이미드 화합물, 신놀린 화합물, 나프토퀴논 화합물, 안트라퀴논 화합물, 아자안트라퀴논 화합물, 포르피린 화합물, 아자포르피린 화합물, 피로메텐 화합물, 퀴나크리돈 화합물, 디케토피롤로피롤 화합물, 인디고 화합물, 아크리딘 화합물, 아진 화합물, 아조메틴 화합물, 아닐린 화합물, 퀴노프탈론 화합물, 퀴논이민 화합물, 올리고페닐렌 화합물, 이리듐 착체 화합물, 유로퓸 착체 화합물 등의 염료 등을 들 수 있고, 이들은 복수를 혼합하여 사용해도 된다.
상기 일반식(1)로 나타내는 구조를 상기 자외부터 근자외의 파장 영역에 흡수 극대를 갖는 유기 색소에 도입하는 방법으로는 특별히 한정되지 않고 공지의 반응을 응용한 방법을 들 수 있는데, 예를 들면, 에스테르화, 아미드화 등의 반응을 이용하는 방법을 들 수 있다.
상기 자외부터 근자외의 파장 영역에 흡수 극대를 갖는 유기 색소는 1~10개의 상기 일반식(1)로 나타내는 치환기가 결합된 구조를 갖는다. 치환기가 복수인 경우는, 서로 동일해도 되고 달라도 된다. 치환기의 수는 합성의 용이성 면에서 바람직하게는 2~6개이다.
상기 일반식(1)에서의 R01, R02, R03, R04 및 R05로 나타내는 할로겐 원자로는 불소, 염소, 브롬, 요오드를 들 수 있다.
R01, R02, R03, R04 및 R05 또한 R1로 나타내는 탄소 원자수 1~40의 알킬기로는 메틸, 에틸, 프로필, iso-프로필, 부틸, sec-부틸, tert-부틸, iso-부틸, 아밀, iso-아밀, tert-아밀, 시클로펜틸, 헥실, 2-헥실, 3-헥실, 시클로헥실, 4-메틸시클로헥실, 헵틸, 2-헵틸, 3-헵틸, iso-헵틸, tert-헵틸, 1-옥틸, iso-옥틸, tert-옥틸, 노닐, 이소노닐, 데실, 운데실, 도데실, 트리데실, 이소트리데실, 테트라데실, 펜타데실, 헥사데실, 헵타데실, 옥타데실, 아다만틸, 1-아다만틸, 2-아다만틸, 2-메틸-1-아다만틸, 2-메틸-2-아다만틸, 2-에틸-1-아다만틸, 2-에틸-2-아다만틸, 2-노보닐, 2-노보닐메틸 등을 들 수 있고,
R01, R02, R03, R04 및 R05 또한 R1로 나타내는 탄소 원자수 6~20의 아릴기로는 페닐, 나프틸, 안트라세닐, 2-메틸페닐, 3-메틸페닐, 4-메틸페닐, 4-비닐페닐, 3-iso-프로필페닐, 4-iso-프로필페닐, 4-부틸페닐, 4-iso-부틸페닐, 4-tert-부틸페닐, 4-헥실페닐, 4-시클로헥실페닐, 4-옥틸페닐, 4-(2-에틸헥실)페닐, 4-스테아릴페닐, 2,3-디메틸페닐, 2,4-디메틸페닐, 2,5-디메틸페닐, 2,6-디메틸페닐, 3,4-디메틸페닐, 3,5-디메틸페닐, 2,4-디-tert-부틸페닐, 2,5-디-tert-부틸페닐, 2,6-디-tert-부틸페닐, 2,4-디-tert-펜틸페닐, 2,5-디-tert-아밀페닐, 2,5-디-tert-옥틸페닐, 2,4-디쿠밀페닐, 4-시클로헥실페닐, (1,1'-비페닐)-4-일, 2,4,5-트리메틸페닐, 페로세닐 등을 들 수 있으며,
R01, R02, R03, R04 및 R05 또한 R1로 나타내는 탄소 원자수 7~20의 아릴알킬기로는 벤질, 플루오레닐, 인데닐, 9-플루오레닐메틸기, 2-페닐프로판-2-일, 디페닐메틸, 트리페닐메틸, 스티릴, 신나밀 등을 들 수 있고,
R01, R02, R03, R04 및 R05 또한 R1로 나타내는 탄소 원자수 2~20의 복소환 함유기로는 피리딜, 피리미딜, 피리다질, 피페리딜, 피라닐, 피라졸릴, 트리아질, 피롤릴, 퀴놀릴, 이소퀴놀릴, 이미다졸릴, 벤조이미다졸릴, 트리아졸릴, 푸릴, 푸라닐, 벤조푸라닐, 티에닐, 티오페닐, 벤조티오페닐, 티아디아졸릴, 티아졸릴, 벤조티아졸릴, 옥사졸릴, 벤조옥사졸릴, 이소티아졸릴, 이소옥사졸릴, 인돌릴, 2-피롤리디논-1-일, 2-피페리돈-1-일, 2,4-디옥시이미다졸리딘-3-일, 2,4-디옥시옥사졸리딘-3-일 등을 들 수 있으며,
R1로 나타내는 트리알킬실릴기로는 트리메틸실란, 트리에틸실란, 에틸디메틸실란 등을 들 수 있다.
R01, R02, R03, R04 및 R05 또한 R1로 나타내는 알킬기, 아릴기, 아릴알킬기 및 복소환 함유기를 치환하는 치환기로는 비닐, 알릴, 아크릴, 메타크릴 등의 에틸렌성 불포화기; 불소, 염소, 브롬, 요오드 등의 할로겐 원자; 아세틸, 2-클로로아세틸, 프로피오닐, 옥타노일, 아크릴로일, 메타크릴로일, 페닐카르보닐(벤조일), 프탈로일, 4-트리플루오로메틸벤조일, 피발로일, 살리실로일, 옥살로일, 스테아로일, 메톡시카르보닐, 에톡시카르보닐, t-부톡시카르보닐, n-옥타데실옥시카르보닐, 카르바모일 등의 아실기; 아세틸옥시, 벤조일옥시 등의 아실옥시기; 아미노, 에틸아미노, 디메틸아미노, 디에틸아미노, 부틸아미노, 시클로펜틸아미노, 2-에틸헥실아미노, 도데실아미노, 아닐리노, 클로로페닐아미노, 톨루이디노, 아니시디노, N-메틸-아닐리노, 디페닐아미노, 나프틸아미노, 2-피리딜아미노, 메톡시카르보닐아미노, 페녹시카르보닐아미노, 아세틸아미노, 벤조일아미노, 포르밀아미노, 피발로일아미노, 라우로일아미노, 카르바모일아미노, N,N-디메틸아미노카르보닐아미노, N,N-디에틸아미노카르보닐아미노, 모르폴리노카르보닐아미노, 메톡시카르보닐아미노, 에톡시카르보닐아미노, t-부톡시카르보닐아미노, n-옥타데실옥시카르보닐아미노, N-메틸-메톡시카르보닐아미노, 페녹시카르보닐아미노, 술파모일아미노, N,N-디메틸아미노술포닐아미노, 메틸술포닐아미노, 부틸술포닐아미노, 페닐술포닐아미노 등의 치환 아미노기; 술폰아미드기, 술포닐기, 카르복실기, 시아노기, 술포기, 수산기, 니트로기, 메르캅토기, 이미드기, 카르바모일기, 술폰아미드기, 포스폰산기, 인산기 또는 카르복실기, 술포기, 포스폰산기, 인산기의 염 등을 들 수 있다.
또한 R01, R02, R03, R04 및 R05 또한 R1로 나타내는 알킬기 또는 아릴알킬기 중 메틸렌기는 탄소-탄소 2중 결합, -O-, -S-, -CO-, -O-CO-, -CO-O-, -O-CO-O-, -S-CO-, -CO-S-, -S-CO-O-, -O-CO-S-, -CO-NH-, -NH-CO-, -NH-CO-O-, -NR2-, ＞P=O, -S-S- 또는 -SO2-로 치환되어 있어도 되며, 치환되는 위치 및 수는 임의이다.
R2로 나타내는 탄소 원자수 1~8의 알킬기로는 R01, R02, R03, R04 및 R05 또한 R1로 나타내는 탄소 원자수 1~40의 알킬기로서 예시한 것 중 소정의 탄소 원자수를 만족시키는 기 등을 들 수 있다.
상기 일반식(1)로 나타내는 구조 중에서도, R02 또는 R04 중 적어도 한쪽이 탄소 원자수 1~40의 알킬기, 탄소 원자수 6~20의 아릴기, 탄소 원자수 7~20의 아릴알킬기 또는 탄소 원자수 2~20의 복소환 함유기인 것, R03이 -O-R1인 것, 특히 R1이 수소 원자 또는 탄소 원자수 2~9의 알콕시카르보닐기인 것, 그 중에서도 R1이 수소 원자 또는 탄소 원자수 2~9의 알콕시카르보닐기이면서, R02 또는 R04 중 적어도 한쪽이 탄소 원자수 1~40의 알킬기, 탄소 원자수 6~20의 아릴기, 탄소 원자수 7~20의 아릴알킬기 또는 탄소 원자수 2~20의 복소환 함유기인 것, 특히 R1이 수소 원자 또는 탄소 원자수 2~9의 알콕시카르보닐기이면서, R02 또는 R04 중 적어도 한쪽이 탄소 원자수 1~10의 알킬기인 것이 내열성 면에서 바람직하다.
한편 탄소 원자수 2~9의 알콕시카르보닐기로는 메틸옥시카르보닐, 에틸옥시카르보닐, 프로필옥시카르보닐, 이소프로필옥시카르보닐, 부틸옥시카르보닐, s-부틸옥시카르보닐, t-부틸옥시카르보닐, 이소부틸옥시카르보닐, 펜틸옥시카르보닐, 이소아밀옥시카르보닐, t-아밀옥시카르보닐, 헥실옥시카르보닐, 시클로헥실옥시카르보닐, 시클로헥실메틸옥시카르보닐, 테트라하이드로푸라닐옥시카르보닐, 테트라하이드로피라닐옥시카르보닐 등을 들 수 있다.
상기 자외부터 근자외의 파장 영역에 흡수 극대를 갖는 유기 색소로서 예시한 것 중에서도, 합성의 용이성 및 분자 설계 면에서 시아노스티렌 화합물, 트리아릴메탄 화합물, 시아닌 화합물이 바람직하다.
상기 시아노스티렌 화합물 중에서도, 합성의 용이성 및 분자 설계 면에서 하기 일반식(2)로 나타내는 것이 바람직하다.
Figure pct00002
(식 중 A는 벤젠환, 나프탈렌환 또는 안트라센환을 나타내고, 이들 환은 상기 일반식(1)로 나타내는 치환기, 할로겐 원자, 시아노기, 수산기, 니트로기, 탄소 원자수 1~8의 알킬기, 탄소 원자수 1~8의 알콕시기, 탄소 원자수 1~8의 할로겐화 알킬기 혹은 탄소 원자수 1~8의 할로겐화 알콕시기로 치환되어 있거나 또는 무치환이며,
R5는 수소 원자, 페닐기, 시아노기, 니트로기, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1~8의 알킬기, 탄소 원자수 1~8의 알콕시기, 탄소 원자수 1~8의 할로겐화 알킬기 또는 탄소 원자수 1~8의 할로겐화 알콕시기를 나타내고,
Y는 시아노기 또는 -COOR8을 나타내며,
R8은 수소 원자, 탄소 원자수 1~8의 알킬기 또는 상기 일반식(1)로 나타나는 치환기를 나타내고,
R8로 나타내는 알킬기 중 메틸렌기는 -COO-, -O-, -OCO-, -NHCO-, -NH- 또는 -CONH-로 치환되어 있어도 되며,
X는 단결합, 질소 원자, -NR9-, 산소 원자, 황 원자, 인 원자, -PR10- 또는 하기 <1> 내지 <5> 중 어느 하나의 조건을 만족시키는 유기기이면서, Y를 -COOR8로 나타낼 때의 R8, A, R6 또는 R7 중 어느 하나 이상과 결합되어 있고,
R6, R7, R9 및 R10은 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소 원자수 1~8의 알킬기, 탄소 원자수 6~20의 아릴기, 탄소 원자수 7~20의 아릴알킬기 또는 상기 일반식(1)로 나타나는 치환기를 나타내며,
R6, R7, R9 및 R10으로 나타내는 알킬기, 아릴기 및 아릴알킬기는, 상기 일반식(1)로 나타내는 치환기, 할로겐 원자, 수산기 또는 니트로기로 치환되어 있어도 되고,
R6, R7, R9 및 R10으로 나타내는 알킬기 및 아릴알킬기 중 메틸렌기는 -COO-, -O-, -OCO-, -NHCO-, -NH- 또는 -CONH-로 치환되어 있어도 되며,
m은 1~6의 정수이고,
분자 내에 상기 일반식(1)로 나타내는 치환기를 적어도 하나 갖는다.)
<1> m=2이며, X를 하기 일반식(3)으로 나타낸다.
Figure pct00003
(식 중 X1은 -NR13-, 2가의 탄소 원자수 1~35의 지방족 탄화수소기, 2가의 탄소 원자수 3~35의 지환식 탄화수소기, 2가의 탄소 원자수 6~35의 방향환 함유 탄화수소기 혹은 2가의 탄소 원자수 2~35의 복소환기 또는 하기 (3-1) 내지 (3-3) 중 어느 하나로 나타나는 치환기를 나타내며,
X1로 나타내는 지방족 탄화수소기 중 메틸렌기는 -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -NH- 또는 이들을 조합한 기로 치환되어 있어도 되고,
Z1 및 Z2는 각각 독립적으로 직접 결합, -O-, -S-, -SO2-, -SO-, -NR13-, -PR14-를 나타내며,
R13 및 R14는 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소 원자수 1~8의 알킬기, 탄소 원자수 6~20의 아릴기 또는 탄소 원자수 7~20의 아릴알킬기를 나타내고,
R13 및 R14로 나타내는 알킬기, 아릴기 및 아릴알킬기는 할로겐 원자, 수산기 또는 니트로기로 치환되어 있어도 되며,
R13 및 R14로 나타내는 알킬기 및 아릴알킬기 중 메틸렌기는 -COO-, -O-, -OCO-, -NHCO-, -NH- 또는 -CONH-로 치환되어 있어도 된다.
단, 상기 일반식(3)으로 나타내는 기는 탄소 원자수 1~35의 범위 내이다.)
Figure pct00004
(식 중 R21은 수소 원자, 탄소 원자수 1~10의 알킬기 혹은 탄소 원자수 1~10의 알콕시 기로부터 치환되어도 되는 페닐기 또는 탄소 원자수 3~10의 시클로 알킬기를 나타내며,
R22는 탄소 원자수 1~10의 알킬기, 탄소 원자수 1~10의 알콕시기, 탄소 원자수 2~10의 알케닐기 또는 할로겐 원자를 나타내고,
R21 및 R22로 나타내는 알킬기, 알콕시기 및 알케닐기는 할로겐 원자로 치환되어 있거나 또는 무치환이며,
d는 0~5의 정수이다.)
Figure pct00005
Figure pct00006
(식 중 R23 및 R24는 각각 독립적으로 탄소 원자수 1~10의 알킬기, 탄소 원자수 6~20의 아릴기, 탄소 원자수 6~20의 아릴옥시기, 탄소 원자수 6~20의 아릴티오기, 탄소 원자수 8~20의 아릴알케닐기, 탄소 원자수 7~20의 아릴알킬기, 탄소 원자수 2~20의 복소환 함유기 또는 할로겐 원자를 나타내고,
R23 및 R24로 나타내는 알킬기, 아릴기, 아릴옥시기, 아릴티오기, 아릴알케닐기, 아릴알킬기 및 복소환 함유기는 할로겐 원자로 치환되어 있거나 또는 무치환이며,
R23 및 R24로 나타내는 알킬기 및 아릴알킬기 중 메틸렌기는 불포화 결합, -O- 또는 -S-로 치환되어 있어도 되고,
R23은 인접하는 R23끼리 환을 형성하고 있어도 되며,
e는 0~4의 수를 나타내고, f는 0~8의 수를 나타내며, g는 0~4의 수를 나타내고, h는 0~4의 수를 나타내며, g와 h의 수의 합계는 2~4이다.)
<2> m=3이며, X를 하기 일반식(4)로 나타낸다.
Figure pct00007
(식 중 X2는 R25로 치환된 탄소 원자, 3가의 탄소 원자수 1~35의 지방족 탄화수소기, 3가의 탄소 원자수 3~35의 지환식 탄화수소기, 3가의 탄소 원자수 6~35의 방향환 함유 탄화수소기 또는 3가의 탄소 원자수 2~35의 복소환 함유기를 나타내고,
R25는 수소 원자, 탄소 원자수 1~8의 알킬기, 탄소 원자수 6~20의 아릴기 또는 탄소 원자수 7~20의 아릴알킬기를 나타내며,
X2로 나타내는 지방족 탄화수소기 중 메틸렌기는 -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -NH- 또는 이들을 조합한 기로 치환되어 있어도 되고,
Z1~Z3은 각각 독립적으로 상기 일반식(3)에서의 Z1 및 Z2로 나타내는 기와 동일하다.
단, 상기 일반식(4)로 나타내는 기는 탄소 원자수 1~35의 범위 내이다.)
<3> m=4이며, X를 하기 일반식(5)로 나타낸다.
Figure pct00008
(식 중 X3은 탄소 원자, 4가의 탄소 원자수 1~35의 지방족 탄화수소기, 4가의 탄소 원자수 3~35의 지환식 탄화수소기, 4가의 탄소 원자수 6~35의 방향환 함유 탄화수소기 또는 4가의 탄소 원자수 2~35의 복소환 함유기를 나타내며,
X3으로 나타내는 지방족 탄화수소기 중 메틸렌기는 -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -NH- 또는 이들을 조합한 기로 치환되어 있어도 되고,
Z1~Z4는 각각 독립적으로 상기 일반식(3)에서의 Z1 및 Z2로 나타내는 기와 동일하다.
단, 상기 일반식(5)로 나타내는 기는 탄소 원자수 1~35의 범위 내이다.)
<4> m=5이며, X를 하기 일반식(6)으로 나타낸다.
Figure pct00009
(식 중 X4는 5가의 탄소 원자수 2~35의 지방족 탄화수소기, 5가의 탄소 원자수 3~35의 지환식 탄화수소기, 5가의 탄소 원자수 6~35의 방향환 함유 탄화수소기 또는 5가의 탄소 원자수 2~35의 복소환 함유기를 나타내며,
X4로 나타내는 지방족 탄화수소기 중 메틸렌기는 -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -NH- 또는 이들을 조합한 기로 치환되어 있어도 되고,
Z1~Z5는 각각 독립적으로 상기 일반식(3)에서의 Z1 및 Z2로 나타내는 기와 동일하다.
단 상기 일반식(6)으로 나타내는 기는 탄소 원자수 2~35의 범위 내이다.)
<5> m=6이며, X를 하기 일반식(7)로 나타낸다.
Figure pct00010
(식 중 X5는 6가의 탄소 원자수 2~35의 지방족 탄화수소기, 6가의 탄소 원자수 3~35의 지환식 탄화수소기, 6가의 탄소 원자수 6~35의 방향환 함유 탄화수소기 또는 6가의 탄소 원자수 2~35의 복소환 함유기를 나타내며,
X5로 나타내는 지방족 탄화수소기 중 메틸렌기는 -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -NH- 또는 이들을 조합한 기로 치환되어 있어도 되고,
Z1~Z6은 각각 독립적으로 상기 일반식(3)에서의 Z1 및 Z2로 나타내는 기와 동일하다.
단 상기 일반식(7)로 나타내는 기는 탄소 원자수 2~35의 범위 내이다.)
상기 일반식(2)에서의 A로 나타내는 벤젠환, 나프탈렌환 및 안트라센을 치환하고 있어도 되는 할로겐 원자, R5로 나타내는 할로겐 원자, 및 R6, R7, R9 및 R10으로 나타내는 알킬기, 아릴기 및 아릴알킬기를 치환하고 있어도 되는 할로겐 원자로는 R01, R02, R03, R04 및 R05로 나타내는 할로겐 원자로서 예시한 기를 들 수 있고,
A로 나타내는 벤젠환, 나프탈렌환 및 안트라센을 치환하고 있어도 되는 탄소 원자수 1~8의 알킬기, 및 R5~R10으로 나타내는 탄소 원자수 1~8의 알킬기로는 R01, R02, R03, R04 및 R05 또한 R1로 나타내는 탄소 원자수 1~40의 알킬기로서 예시한 기 중 소정의 탄소수를 만족시키는 기 등을 들 수 있으며,
A로 나타내는 벤젠환, 나프탈렌환 및 안트라센을 치환해도 되는 탄소 원자수 1~8의 알콕시기 및 R5로 나타내는 탄소 원자수 1~8의 알콕시기로는 메톡시, 에톡시, 프로필옥시, 이소프로필옥시, 부틸옥시, s-부틸옥시, t-부틸옥시, 이소부틸옥시, 펜틸옥시, 이소아밀옥시, t-아밀옥시, 헥실옥시, 시클로헥실옥시, 시클로헥실메틸옥시, 테트라하이드로푸라닐옥시, 테트라하이드로피라닐옥시 등을 들 수 있고,
A로 나타내는 벤젠환, 나프탈렌환 및 안트라센을 치환하고 있어도 되는 탄소 원자수 1~8의 할로겐화 알킬기 및 R5로 나타내는 탄소 원자수 1~8의 할로겐화 알킬기로는 상술한 탄소 원자수 1~8의 알킬기 중 적어도 1개의 수소 원자가 상술한 할로겐 원자에 의해 치환된 것, 예를 들면, 클로로메틸, 디클로로로메틸, 트리클로로메틸, 플루오로메틸, 플루오로메틸, 트리플루오로메틸, 노나플루오로부틸 등을 들 수 있으며,
A로 나타내는 벤젠환, 나프탈렌환 및 안트라센을 치환하고 있어도 되는 탄소 원자수 1~8의 할로겐화 알콕시기 및 R5로 나타내는 탄소 원자수 1~8의 할로겐화 알콕시기로는 상술한 탄소 원자수 1~8의 알콕시기 중 적어도 1개의 수소 원자가 상술한 할로겐 원자에 의해 치환된 것, 예를 들면, 클로로메틸옥시, 디클로로로메틸옥시, 트리클로로메틸옥시, 플루오로메틸옥시, 플루오로메틸옥시, 트리플루오로메틸옥시, 노나플루오로부틸옥시 등을 들 수 있고,
R6, R7, R9 및 R10으로 나타내는 탄소 원자수 6~20의 아릴기로는 R01, R02, R03, R04 및 R05 또한 R1로 나타내는 탄소 원자수 6~20의 아릴기로서 예시한 기를 들 수 있으며,
R6, R7, R9 및 R10으로 나타내는 탄소 원자수 7~20의 아릴알킬기로는 R01, R02, R03, R04 및 R05 또한 R1로 나타내는 탄소 원자수 7~20의 아릴알킬기로서 예시한 기를 들 수 있다.
상기 일반식(3)에서의 X1로 나타내는 2가의 탄소 원자수 1~35의 지방족 탄화수소기로는 메탄, 에탄, 프로판, iso-프로판, 부탄, sec-부탄, tert-부탄, iso-부탄, 헥산, 2-메틸헥산, 3-메틸헥산, 헵탄, 2-메틸헵탄, 3-메틸헵탄, iso-헵탄, tert-헵탄, 1-메틸옥탄, iso-옥탄, tert-옥탄, 시클로프로판, 시클로부탄, 시클로펜탄, 시클로헥산, 시클로헵탄, 2,4-디메틸시클로부탄, 4-메틸시클로헥산 등의 기가 Z1 및 Z2로 치환된 2가의 기를 들 수 있으며, 지방족 탄화수소기 중 메틸렌기는 -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -NH- 또는 이들을 조합한 기로 치환되어 있어도 되고, 여기서 이들을 조합한 기란, 예를 들면, -COO-O-, -COO-S-, -O-OCO-, -S-OCO-, -CO-NH-, -NH-CO- 등을 나타내고, 그 중에서도 -COO-, -O-, -OCO-, -NHCO-, -NH-, -CONH-, -O-CONH- 또는 -NHCO-O-로 치환되어 있는 것이 바람직하며,
X1로 나타내는 2가의 탄소 원자수 3~35의 지환식 탄화수소기로는 시클로펜틸, 시클로헥실, 시클로헵틸, 시클로옥틸, 시클로데카닐, 1-아다만틸, 2-아다만틸, 노르아다만틸, 2-메틸아다만틸, 노보닐, 이소노보닐, 퍼하이드로나프틸, 퍼하이드로안트라세닐, 비시클로[1.1.0]부틸, 비시클로[1.1.1]펜틸, 비시클로[2.1.0]펜틸, 비시클로[3.1.0]헥실, 비시클로[2.1.1]헥실, 비시클로[2.2.0]헥실, 비시클로[4.1.0]헵틸, 비시클로[3.2.0]헵틸, 비시클로[3.1.1]헵틸, 비시클로[2.2.1]헵틸, 비시클로[5.1.0]옥틸, 비시클로[4.2.0]옥틸, 비시클로[4.1.1]옥틸, 비시클로[3.3.0]옥틸, 비시클로[3.2.1]옥틸, 비시클로[2.2.2]옥틸, 스피로[4,4]노나닐, 스피로[4,5]데카닐, 데칼린, 트리시클로데카닐, 테트라시클로도데카닐, 세드롤, 시클로도데카닐 등의 기가 Z1 및 Z2로 치환된 2가의 기 등을 들 수 있고,
X1로 나타내는 2가의 탄소 원자수 6~35의 방향환 함유 탄화수소기로는 페닐, 나프틸, 비페닐 등의 기가 Z1 및 Z2로 치환된 2가의 기 등을 들 수 있으며,
X1로 나타내는 2가의 탄소 원자수 2~35의 복소환 함유기로는 피리딘, 피라진, 피페리딘, 피페라진, 피리미딘, 피리다진, 트리아진, 헥사하이드로트리아진, 푸란, 테트라하이드로푸란, 크로만, 크산텐, 티오펜, 티올란 등의 기가 Z1 및 Z2로 치환된 2가의 기를 들 수 있다.
이들 기는 할로겐 원자, 시아노기, 니트로기 또는 탄소 원자수 1~8의 알콕시기로 또한 치환되어 있어도 된다.
R13 및 R14로 나타내는 탄소 원자수 1~8의 알킬기로는 R01, R02, R03, R04 및 R05 또한 R1로 나타내는 탄소 원자수 1~40의 알킬기로서 예시한 기 중 소정의 탄소수를 만족시키는 기를 들 수 있고,
R13 및 R14로 나타내는 탄소 원자수 6~20의 아릴기로는 R01, R02, R03, R04 및 R05 또한 R1로 나타내는 탄소 원자수 6~20의 아릴기로서 예시한 기를 들 수 있으며,
R13 및 R14로 나타내는 탄소 원자수 7~20의 아릴알킬기로는 R01, R02, R03, R04 및 R05 또한 R1로 나타내는 탄소 원자수 7~20의 아릴알킬기로서 예시한 기를 들 수 있고,
R13 및 R14로 나타내는 알킬기, 아릴기 및 아릴알킬기를 치환하고 있어도 되는 할로겐 원자로는 R01, R02, R03, R04 및 R05로 나타내는 할로겐 원자로서 예시한 기를 들 수 있다.
상기 (3-1)로 나타내는 치환기에서, R21로 나타내는 페닐기 및 탄소 원자수 3~10의 시클로 알킬기를 치환해도 되는 탄소 원자수 1~10의 알킬기 및 R22로 나타내는 탄소 원자수 1~10의 알킬기로는 R01, R02, R03, R04 및 R05 또한 R1로 나타내는 탄소 원자수 1~40의 알킬기로서 예시한 기 중 소정의 탄소수를 만족시키는 기 등을 들 수 있고,
R21로 나타내는 페닐기 및 탄소 원자수 3~10의 시클로 알킬기를 치환해도 되는 탄소 원자수 1~10의 알콕시기 및 R22로 나타내는 탄소 원자수 1~10의 알콕시기로는 A로 나타내는 벤젠환, 나프탈렌환 및 안트라센을 치환해도 되는 탄소 원자수 1~8의 알콕시기 및 R5로 나타내는 탄소 원자수 1~8의 알콕시기로서 예시한 기 등을 들 수 있으며,
R21로 나타내는 탄소 원자수 3~10의 시클로 알킬기로는 시클로프로필, 시클로부틸, 시클로펜틸, 시클로헵틸, 시클로옥틸 등 및 이들 기가 상기 탄소 원자수 1~10의 알킬기 혹은 탄소 원자수 1~10의 알콕시기로 치환된 기 등을 들 수 있고,
R22로 나타내는 탄소 원자수 2~10의 알케닐기로는 비닐, 알릴, 1-프로페닐, 이소프로페닐, 2-부테닐, 1,3-부타디에닐, 2-펜테닐, 2-옥테닐 등을 들 수 있으며,
R22로 나타내는 할로겐 원자, 및 R21 및 R22로 나타내는 알킬기, 알콕시기 및 알케닐기를 치환해도 되는 할로겐 원자로는 R01, R02, R03, R04 및 R05로 나타내는 할로겐 원자로서 예시한 기를 들 수 있다.
한편 R22로 나타내는 알킬기, 알콕시기 및 알케닐기를 치환해도 되는 할로겐 원자의 치환 위치는 제한되지 않는다.
상기 (3-3)으로 나타내는 치환기에서, R23 및 R24로 나타내는 탄소 원자수 1~10의 알킬기로는 R01, R02, R03, R04 및 R05 또한 R1로 나타내는 탄소 원자수 1~40의 알킬기로서 예시한 기 중 소정의 탄소수를 만족시키는 기 등을 들 수 있고,
R23 및 R24로 나타내는 탄소 원자수 6~20의 아릴기로는 R01, R02, R03, R04 및 R05 또한 R1로 나타내는 탄소 원자수 6~20의 아릴기로서 예시한 기 등을 들 수 있으며,
R23 및 R24로 나타내는 탄소 원자수 6~20의 아릴옥시기로는 페닐옥시, 나프틸옥시, 2-메틸페닐옥시, 3-메틸페닐옥시, 4-메틸페닐옥시, 4-비닐페닐옥시, 3-iso-프로필페닐옥시, 4-iso-프로필페닐옥시, 4-부틸페닐옥시, 4-tert-부틸페닐옥시, 4-헥실페닐옥시, 4-시클로헥실페닐옥시, 4-옥틸페닐옥시, 4-(2-에틸헥실)페닐옥시, 2,3-디메틸페닐옥시, 2,4-디메틸페닐옥시, 2,5-디메틸페닐옥시, 2.6-디메틸페닐옥시, 3.4-디메틸페닐옥시, 3.5-디메틸페닐옥시, 2,4-디tert-부틸페닐옥시, 2,5-디tert-부틸페닐옥시, 2,6-디tert-부틸페닐옥시, 2.4-디tert-펜틸페닐옥시, 2,5-tert-아밀페닐옥시, 4-시클로헥실페닐옥시, 2,4,5-트리메틸페닐옥시, 페로세닐옥시 등의 기 및 이들 기가 할로겐 원자로 치환된 기 등을 들 수 있고,
R23 및 R24로 나타내는 탄소 원자수 6~20의 아릴티오기로는 상기 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되는 탄소 원자수 6~20의 아릴옥시기의 산소 원자를 황 원자로 치환한 기 등을 들 수 있으며,
R23 및 R24로 나타내는 탄소 원자수 8~20의 아릴알케닐기로는 상기 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되는 탄소 원자수 6-20의 아릴옥시기의 산소 원자를 비닐, 알릴, 1-프로페닐, 이소프로페닐, 2-부테닐, 1,3-부타디에닐, 2-펜테닐, 2-옥테닐 등의 알케닐기로 치환한 기 등을 들 수 있고,
R23 및 R24로 나타내는 탄소 원자수 7~20의 아릴알킬기로는 R01, R02, R03, R04 및 R05 또한 R1로 나타내는 탄소 원자수 7~20의 아릴알킬기로서 예시한 기 등을 들 수 있다.
R23 및 R24로 나타내는 탄소 원자수 2~20의 복소환 함유기로는 피리딘, 피라진, 피페리딘, 피페라진, 피리미딘, 피리다진, 트리아진, 헥사하이드로트리아진, 푸란, 테트라하이드로푸란, 크로만, 크산텐, 티오펜, 티오푸란 등의 기 및 이들 기가 할로겐 원자로 치환된 기 등을 들 수 있다.
R13 및 R14로 나타내는 알킬기, 아릴기, 아릴옥시기, 아릴티오기, 아릴알케닐기, 아릴알킬기 및 복소환 함유기를 치환하고 있어도 되는 할로겐 원자로는 R01, R02, R03, R04 및 R05로 나타내는 할로겐 원자로서 예시한 기를 들 수 있다.
상기 일반식(4)에서의 X2로 나타내는 3가의 탄소 원자수 1~35의 지방족 탄화수소기로는 상기 일반식(3)에서의 X1의 설명에서 예시한 지방족 탄화수소기가 Z1, Z2 및 Z3으로 치환된 3가의 기 등을 들 수 있으며, 지방족 탄화수소기 중 메틸렌기는 -O-, -S-, -CO-, -CO-O-, -O-CO-, -SO2-, -NH- 또는 이들을 조합한 기로 치환되어도 되고, 여기서 이들을 조합한 기란, 예를 들면, -COO-O-, -COO-S-, -O-OCO-, -S-OCO-, -CO-NH-, -NH-CO- 등을 나타내며, 그 중에서도 -COO-, -O-, -OCO-, -NHCO-, -NH-, -CONH-, -O-CONH- 또는 -NHCO-O-로 치환되어 있는 것이 바람직하고, X2로 나타내는 3가의 탄소 원자수 3~35의 지환식 탄화수소기로는 상기 일반식(3)에서의 X1의 설명에서 예시한 지환식 탄화수소기가 Z1, Z2 및 Z3으로 치환된 3가의 기 등을 들 수 있으며,
X2로 나타내는 3가의 탄소 원자수 6~35의 방향환 함유 탄화수소기로는 상기 일반식(3)에서의 X1의 설명에서 예시한 방향환 함유 탄화수소기가 Z1, Z2 및 Z3으로 치환된 3가의 기 등을 들 수 있고,
X2로 나타내는 3가의 탄소 원자수 2~35의 복소환 함유기로는 상기 일반식(3)에서의 X1의 설명에서 예시한 복소환 함유기가 Z1, Z2 및 Z3으로 치환된 3가의 기 등을 들 수 있다.
또한 R25로 나타내는 탄소 원자수 1~8의 알킬기, 탄소 원자수 6~20의 아릴기 또는 탄소 원자수 7~20의 아릴알킬기로는 R13 및 R14로 나타내는 탄소 원자수 1~8의 알킬기, 탄소 원자수 6~20의 아릴기 또는 탄소 원자수 7~20의 아릴알킬기와 동일한 기 등을 들 수 있다.
상기 일반식(5)에서의 X3으로 나타내는 4가의 탄소 원자수 1~35의 지방족 탄화수소기로는 상기 일반식(3)에서의 X1의 설명에서 예시한 지방족 탄화수소기가 Z1, Z2, Z3 및 Z4로 치환된 4가의 기 등을 들 수 있으며, 지방족 탄화수소기 중 메틸렌기는 -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -NH- 또는 이들을 조합한 기로 치환되어 있어도 되고, 여기서 이들을 조합한 기란, 예를 들면, -COO-O-, -COO-S-, -O-OCO-, -S-OCO-, -CO-NH-, -NH-CO- 등을 나타내며, 그 중에서도 -COO-, -O-, -OCO-, -NHCO-, -NH-, -CONH-, -O-CONH- 또는 -NHCO-O-로 치환되어 있는 것이 바람직하고,
X3으로 나타내는 4가의 탄소 원자수 3~35의 지환식 탄화수소기로는 상기 일반식(3)에서의 X1의 설명에서 예시한 지환식 탄화수소기가 Z1, Z2, Z3 및 Z4로 치환된 3가의 기 등을 들 수 있으며,
X3으로 나타내는 4가의 탄소 원자수 6~35의 방향환 함유 탄화수소기로는 상기 일반식(3)에서의 X1의 설명에서 예시한 방향환 함유 탄화수소기가 Z1, Z2, Z3 및 Z4로 치환된 4가의 기 등을 들 수 있고,
X3으로 나타내는 4가의 탄소 원자수 2~35의 복소환 함유기로는 상기 일반식(3)에서의 X1의 설명에서 예시한 복소환 함유기가 Z1, Z2, Z3 및 Z4로 치환된 4가의 기 등을 들 수 있다.
상기 일반식(6)에서의 X4로 나타내는 5가의 탄소 원자수 2~35의 지방족 탄화수소기로는 상기 일반식(3)에서의 X1의 설명에서 예시한 지방족 탄화수소기가 Z1, Z2, Z3, Z4 및 Z5로 치환된 5가의 기 등을 들 수 있으며, 지방족 탄화수소기 중 메틸렌기는 -O-, -S-, -CO-, -CO-O-, -O-CO-, -SO2-, -NH- 또는 이들을 조합한 기로 치환되어 있어도 되고, 여기서 이들을 조합한 기란, 예를 들면, -COO-O-, -COO-S-, -O-OCO-, -S-OCO-, -CO-NH-, -NH-CO- 등을 나타내며, 그 중에서도 -COO-, -O-, -OCO-, -NHCO-, -NH-, -CONH-, -O-CONH- 또는 -NHCO-O-로 치환되어 있는 것이 바람직하고,
X4로 나타내는 5가의 탄소 원자수 3~35의 지환식 탄화수소기로는 상기 일반식(3)에서의 X1의 설명에서 예시한 지환식 탄화수소기가 Z1, Z2, Z3, Z4 및 Z5로 치환된 5가의 기 등을 들 수 있고,
X4로 나타내는 5가의 탄소 원자수 6~35의 방향환 함유 탄화수소기로는 상기 일반식(3)에서의 X1의 설명에서 예시한 방향환 함유 탄화수소기가 Z1, Z2, Z3, Z4 및 Z5로 치환된 5가의 기 등을 들 수 있으며,
X4로 나타내는 5가의 탄소 원자수 2~35의 복소환 함유기로는 상기 일반식(12)에서의 X1로 설명에서 예시한 복소환 함유기가 Z1, Z2, Z3, Z4 및 Z5로 치환된 5가의 기 등을 들 수 있다.
상기 일반식(7)에서의 X5로 나타내는 6가의 탄소 원자수 2~35의 지방족 탄화수소기로는 상기 일반식(3)에서의 X1의 설명에서 예시한 지방족 탄화수소기가 Z1, Z2, Z3, Z4, Z5 및 Z6으로 치환된 6가의 기 등을 들 수 있으며, 지방족 탄화수소기 중 메틸렌기는 -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -SO2-, -NH- 또는 이들을 조합한 기로 치환되어 있어도 되고, 여기서 이들을 조합한 기란, 예를 들면, -COO-O-, -COO-S-, -O-OCO-, -S-OCO-, -CO-NH-, -NH-CO- 등을 나타내며, 그 중에서도 -COO-, -O-, -OCO-, -NHCO-, -NH-, -CONH-, -O-CONH- 또는 -NHCO-O-로 치환되어 있는 것이 바람직하고,
X5로 나타내는 6가의 탄소 원자수 3~35의 지환식 탄화수소기로는 상기 일반식(3)에서의 X1의 설명에서 예시한 지환식 탄화수소기가 Z1, Z2, Z3, Z4, Z5 및 Z6으로 치환된 5가의 기 등을 들 수 있으며,
X5로 나타내는 6가의 탄소 원자수 6~35의 방향환 함유 탄화수소기로는 상기 일반식(3)에서의 X1의 설명에서 예시한 방향환 함유 탄화수소기가 Z1, Z2, Z3, Z4, Z5 및 Z6으로 치환된 6가의 기 등을 들 수 있고,
X5로 나타내는 6가의 탄소 원자수 2~35의 복소환 함유기로는 상기 일반식(3)에서의 X1의 설명에서 예시한 복소환 함유기가 Z1, Z2, Z3, Z4, Z5 및 Z6으로 치환된 6가의 기 등을 들 수 있다.
상기 일반식(2)로 나타내는 화합물 중에서도, A가 벤젠환인 것; R5가 수소 원자인 것; R6, R7 또는 R8이 상기 일반식(1)로 나타내는 치환기를 갖는 것; m이 2일 때 X가 상기 일반식(3)으로 나타나면서, 식(3) 중의 X1이 하기 군 1로부터 선택되는 기인 것; m이 3일 때 X가 상기 일반식(4)로 나타나면서, 식(4) 중의 X2가 하기 군 2로부터 선택되는 기인 것; m이 4일 때 X가 상기 일반식(5)로 나타나면서, 식(5) 중의 X3이 군 3으로부터 선택되는 기인 것; m이 5일 때 X가 상기 일반식(6)으로 나타나면서, 식(6) 중의 X4가 하기 군 4로부터 선택되는 기인 것; m이 6일 때 X가 상기 일반식(7)로 나타나면서, 식(7) 중의 X5가 하기 군 5로부터 선택되는 기인 것은 원료의 입수나 제조가 용이하며 내열성이 높기 때문에 바람직하다.
Figure pct00011
(식 중 R5는 상기 일반식(1)에서의 R5와 동일한 기이며, 기 중에 둘 이상 있는 경우, 동일해도 되고 달라도 되며, p는 1~3의 정수를 나타내고, q는 0~3의 정수를 나타내며, r은 0~19의 정수를 나타낸다.)
Figure pct00012
Figure pct00013
Figure pct00014
Figure pct00015
상기 일반식(1)로 나타내는 화합물의 구체예로는 하기 화학식으로 나타내는 화합물을 들 수 있지만, 본 발명은 이들 화합물로 제한되지 않는다.
Figure pct00016
Figure pct00017
Figure pct00018
Figure pct00019
Figure pct00020
Figure pct00021
상기 트리아릴메탄 화합물 중에서도, 합성의 용이성 및 분자 설계 면에서 하기 일반식(8)로 나타내는 것이 바람직하다.
Figure pct00022
(식 중 R31, R32, R33, R34, R35, R36, R37, R38, R39, R40, R41 및 R42는 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 시아노기, 니트로기, 수산기, 탄소 원자수 1~8의 알킬기, 탄소 원자수 6~12의 아릴기, 탄소 원자수 7~20의 아릴알킬기 또는 -X11-Y11을 나타내고,
X11은 산소 원자 또는 황 원자를 나타내며,
Y11은 탄소 원자수 1~8의 알킬기, 탄소 원자수 6~12의 아릴기, 탄소 원자수 7~20의 아릴알킬기를 나타내고,
R31~R42 및 Y11로 나타내는 알킬기, 아릴기 또는 아릴알킬기는 할로겐 원자로 치환되어 있거나 또는 무치환이며,
R32와 R43, R33과 R44, R36과 R45, R37과 R46, R40과 R47, R41과 R48, R31과 R32, R33과 R34, R35와 R36, R37과 R38, R39와 R40 및 R41과 R42는 연결되어 6원환을 형성하고 있어도 되고,
R31과 R42, R34와 R35 및 R38과 R39는 단결합, 산소 원자, 황 원자, 셀렌 원자, CR49R50, CO, NR51, PR52 또는 SO2를 통해 연결되어 환을 형성하고 있어도 되며,
R43, R44, R45, R46, R47 및 R48은 각각 독립적으로 탄소 원자수 1~8의 알킬기, 페닐기 또는 벤질기를 나타내고,
R43~R48로 나타내는 알킬기는 수산기, 할로겐 원자, 시아노기 또는 니트로기로 치환되어 있거나 또는 무치환이며,
R43~R48로 나타내는 페닐기 및 벤질기는 탄소 원자수 1~4의 알킬기, 할로겐 원자, 시아노기 또는 비닐기로 치환되어 있거나 또는 무치환이고,
R43과 R44, R45와 R46, 및 R47과 R48은 연결되어 3~6원환을 형성하고 있어도 되며,
Anq -는 q가의 음이온을 나타내고, q는 1 또는 2를 나타내며, p는 전하를 중성으로 유지하는 계수를 나타내고,
분자 내에 상기 일반식(1)로 나타내는 치환기를 적어도 하나 갖는다.)
상기 일반식(8)에서, R31~R42로 나타내는 할로겐 원자, R31~R42 및 Y11로 나타내는 알킬기, 아릴기 또는 아릴알킬기를 치환해도 되는 할로겐 원자, R43~R48로 나타내는 알킬기, 페닐기 및 벤질기를 치환해도 되는 할로겐 원자로는 R01, R02, R03, R04 및 R05로 나타내는 할로겐 원자로서 예시한 기를 들 수 있다.
R31~R48 및 Y11로 나타내는 탄소 원자수 1~8의 알킬기, 또한 R43~R48로 나타내는 페닐기 및 벤질기를 치환해도 되는 탄소 원자수 1~4의 알킬기로는 R01, R02, R03, R04 및 R05 또한 R1로 나타내는 탄소 원자수 1~40의 알킬기로서 예시한 기 중 소정의 탄소수를 만족시키는 기 등을 들 수 있고,
R31~R42 및 Y11로 나타내는 탄소 원자수 6~12의 아릴기로는 R01, R02, R03, R04 및 R05 또한 R1로 나타내는 탄소 원자수 6~20의 아릴기로서 예시한 기 중 소정의 탄소수를 만족시키는 기 등을 들 수 있으며,
R31~R42 및 Y11로 나타내는 탄소 원자수 7~20의 아릴알킬기로는 R01, R02, R03, R04 및 R05 또한 R1로 나타내는 탄소 원자수 7~20의 아릴알킬기로서 예시한 기 등을 들 수 있고,
R32와 R43, R33과 R44, R36과 R45, R37과 R46, R40과 R47, R41과 R48, R31과 R32, R33과 R34, R35와 R36, R37과 R38, R39와 R40 및 R41과 R42가 연결되어 형성될 수 있는 6원환으로는 피페리딘환, 피리딘환, 피리미딘환, 퀴놀린환, 이소퀴놀린환, 줄롤리딘(julolidine)환 등을 들 수 있으며,
R31과 R42, R34와 R35 및 R38과 R39는 단결합, 산소 원자, 황 원자, 셀렌 원자, CR49R50, CO, NR51, PR52 또는 SO2를 통해 연결되어 형성될 수 있는 환으로는 디하이드로안트라센환, 아크리딘환, 크산텐환, 티오크산텐환 등을 들 수 있고,
R43과 R44, R45와 R46, 및 R47과 R48이 연결되어 형성될 수 있는 3~6원환의 복소환으로는 피페리딘환, 피페라진환, 피롤리딘환, 모르폴린환, 티오모르폴린환, 피리딘환, 피라진환, 피리미딘환, 퀴놀린환, 이소퀴놀린환, 이미다졸환, 옥사졸환, 이미다졸리딘환, 피라졸리딘환, 이소옥사졸리딘환, 이소티아졸리딘환 등을 들 수 있으며, 이들 환은 다른 환과 축합 되어 있거나 치환되어 있어도 된다.
상기 일반식(8)에서 Anq -로 나타내는 음이온으로는 예를 들면, 1가의 것으로서 염화물 이온, 브롬화 이온, 요오드화물 이온, 불화물 이온 등의 할로겐화물 이온; 과염소산 이온, 염소산 이온, 티오시안산 이온, 헥사플루오로인산 이온, 헥사플루오로안티몬산 이온, 테트라플루오로붕산 이온 등의 무기계 음이온; 메탄술폰산 이온, 도데실술폰산 이온, 벤젠술폰산 이온, 톨루엔술폰산 이온, 트리플루오로메탄술폰산 이온, 나프탈렌술폰산 이온, 디페닐아민-4-술폰산 이온, 2-아미노-4-메틸-5-클로로벤젠술폰산 이온, 2-아미노-5-니트로벤젠술폰산 이온, 프탈로시아닌술폰산 이온, 중합성 치환기를 갖는 술폰산 이온, 일본국 공개특허 평10-235999, 일본국 공개특허 평10-337959, 일본국 공개특허 평11-102088, 일본국 공개특허 2000-108510, 일본국 공개특허 2000-168223, 일본국 공개특허 2001-209969, 일본국 공개특허 2001-322354, 일본국 공개특허 2006-248180, 일본국 공개특허 2006-297907, 일본국 공개특허공보 평8-253705호, 일본국 공표특허공보 2004-503379호, 일본국 공개특허공보 2005-336150호, 국제공개공보 2006/28006호 등에 기재된 술폰산 이온 등의 유기 술폰산계 음이온; 옥틸인산 이온, 도데실인산 이온, 옥타데실인산 이온, 페닐인산 이온, 노닐페닐인산 이온, 2,2'-메틸렌비스(4,6-디-t-부틸페닐)포스폰산 이온 등의 유기 인산계 음이온, 비스트리플루오로메틸술포닐이미드 이온, 비스퍼플루오로부탄술포닐이미드 이온, 퍼플루오로-4-에틸시클로헥산술폰산 이온, 테트라 키스(펜타플루오로페닐)붕산 이온, 트리스(플루오로알킬술포닐)카르보 음이온 등을 들 수 있고, 2가의 것으로는 예를 들면, 벤젠디술폰산 이온, 나프탈렌디술폰산 이온 등을 들 수 있다. 또한 여기(勵起) 상태에 있는 활성 분자를 탈(脫)여기시키는(?칭(quenching)시키는) 기능을 갖는 ?차(quencher) 음이온이나 시클로펜타디에닐환에 카르복실기나 포스폰산기, 술폰산기 등의 음이온성 기를 갖는 페로센, 루테노센 등의 메탈로센 화합물 음이온 등도 필요에 따라 사용할 수 있다. 또한 p는 분자 전체에서 전하가 중성이 되도록 선택된다.
상기 일반식(8)에서는 Anq -로 나타내는 음이온이 상기 일반식(1)로 나타내는 치환기를 1~10개 갖고 있어도 되며, 이러한 음이온으로는 예를 들면 하기 화학식으로 나타내는 음이온을 들 수 있지만, 본 발명은 이들 음이온으로 제한되지 않는다.
Figure pct00023
상기의 ?차 음이온으로는 예를 들면, 일본국 공개특허공보 소60-234892호, 일본국 공개특허공보 평5-43814호, 일본국 공개특허공보 평5-305770호, 일본국 공개특허공보 평6-239028호, 일본국 공개특허공보 평9-309886호, 일본국 공개특허공보 평9-323478호, 일본국 공개특허공보 평10-45767호, 일본국 공개특허공보 평11-208118호, 일본국 공개특허공보 2000-168237호, 일본국 공개특허공보 2002-201373호, 일본국 공개특허공보 2002-206061호, 일본국 공개특허공보 2005-297407호, 일본국 공고특허공보 평7-96334호, 국제공개공보 98/29257호 등에 기재된 바와 같은 음이온을 들 수 있다.
상기 일반식(I) 중의 Anq -로 나타내는 음이온으로는 1가의 유기 술폰산계 음이온, 비스트리플루오로메틸술포닐이미드 이온, 비스퍼플루오로부탄술포닐이미드 이온, 퍼플루오로-4-에틸시클로헥산술폰산 이온, 벤젠디술폰산 이온, 나프탈렌디술폰산 이온이 내열성 면에서 바람직하고, 비스트리플루오로메틸술포닐이미드 이온 이 더욱 바람직하다.
상기 일반식(8)로 나타내는 화합물의 구체예로는 하기 화학식으로 나타내는 화합물을 들 수 있지만, 본 발명은 이들 화합물로 제한되지 않는다.
Figure pct00024
Figure pct00025
상기 시아닌 화합물 중에서도, 합성의 용이성 및 분자 설계 면에서 하기 일반식(9)~(12) 중 어느 하나로 나타내는 것이 바람직하다.
Figure pct00026
(식 중, D는 하기의 군 I 중 (a)~(m)으로부터 선택되는 기를 나타내고, D'는 하기의 군 Ⅱ 중 (a')~(m')으로부터 선택되는 기를 나타내며,
Q는 탄소 원자수 1~9의 메틴쇄(methine chain)를 구성하고, 쇄 중에 환구조를 포함해도 되는 연결기를 나타내며, 상기 메틴쇄 중의 수소 원자는 수산기, 할로겐 원자, 시아노기, -NR51R52, 탄소 원자수 6~12의 아릴기, 탄소 원자수 7~12의 아릴알킬기 또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기로 치환되어 있어도 되고, 상기 -NR51R52, 아릴기, 아릴알킬기 및 알킬기는 또한 수산기, 할로겐 원자, 시아노기 또는 -NR51R52로 치환되어 있어도 되며, -NR51R52, 아릴기, 아릴알킬기 및 알킬기 중 메틸렌기는 -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -SO2-, -NH-, -CONH-, -NHCO-, -N=CH- 또는 -CH=CH-로 치환되어 있어도 되고,
R51 및 R52는 탄소 원자수 6~12의 아릴기, 탄소 원자수 7~12의 아릴알킬기 또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타내고,
Anq -는 q가의 음이온을 나타내며, q는 1 또는 2를 나타내고, p는 전하를 중성으로 유지하는 계수를 나타내며,
분자 내에 상기 일반식(1)로 나타내는 치환기를 적어도 하나 갖는다.)
Figure pct00027
(식 중, D는 하기의 군 I 중 (a)~(m)으로부터 선택되는 기를 나타내고, D'는 하기의 군 Ⅱ 중 (a')~(m')으로부터 선택되는 기를 나타낸다.)
Figure pct00028
(식 중 환 G 및 환 G'는 벤젠환, 나프탈렌환, 페난트렌환 또는 피리딘환을 나타내고,
R53 및 R53'는 수산기, 할로겐 원자, 니트로기, 시아노기, -SO3H, 카르복실기, 아미노기, 아미드기, 페로세닐기, 탄소 원자수 6~30의 아릴기, 탄소 원자수 7~30의 아릴알킬기 또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타내며,
R53 및 R53'로 나타내는 아릴기, 아릴알킬기 및 알킬기는 수산기, 할로겐 원자, 니트로기, 시아노기, -SO3H, 카르복실기, 아미노기, 아미드기 또는 페로세닐기로 치환되어 있어도 되고,
R53 및 R53'로 나타내는 아릴기, 아릴알킬기 및 알킬기 중 메틸렌기는 -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -SO2-, -NH-, -CONH-, -NHCO-, -N=CH- 또는 -CH=CH-로 치환되어 있어도 되며, R54~R61 및 R54'~R61'는 R53 및 R53'과 동일한 기 또는 수소 원자를 나타내고,
X12, X12', X13 및 X13'는 산소 원자, 황 원자, 셀렌 원자, -CR62R63-, 탄소 원자수 3~6의 시클로알칸-1,1-디일기, -NH- 또는 -NY13-를 나타내며,
R62 및 R63은 R53 및 R53'과 동일한 기 또는 수소 원자를 나타내고,
Y12, Y12' 및 Y13은 탄소 원자수 1~20의 알킬기, 탄소 원자수 6~30의 아릴기 또는 탄소 원자수 7~30의 아릴알킬기를 나타내며,
Y12, Y12' 및 Y13으로 나타내는 알킬기, 아릴기 및 아릴알킬기는 수산기, 할로겐 원자, 시아노기, 카르복실기, 아미노기, 아미드기, 페로세닐기, -SO3H 혹은 니트로기로 치환되어 있거나 또는 무치환이고,
Y12, Y12' 및 Y13으로 나타내는 알킬기, 아릴기 및 아릴알킬기 중 메틸렌기는 -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -SO2-, -NH-, -CONH-, -NHCO-, -N=CH- 또는 -CH=CH-로 치환되어 있어도 되며,
r 및 r'는 0 또는 (a)~(e), (g)~(j), (l), (m), (a')~(e'), (g')~(j'), (l') 및 (m')에서 치환 가능한 수를 나타낸다.)
상기 일반식(9)에서 Q는 탄소 원자수 1~9의 메틴쇄를 구성하고, 쇄 중에 환구조를 포함해도 되는 연결기로는 하기 (Q-1)~(Q-11) 중 어느 하나로 나타내는 기가, 제조가 용이하기 때문에 바람직하다. 탄소 원자수 1~9의 메틴쇄에서의 탄소 원자수에는, 메틴쇄 및 쇄 중에 환구조를 포함해도 되는 연결기를 나타내고, 상기 연결기를 또한 치환하는 기(예를 들면 하기 R62~R67, Z')의 탄소 원자(예를 들면, 연결기 (Q-1)에서의 양(兩) 말단의 탄소 원자)를 포함하지 않는다.
Figure pct00029
(식 중 R62, R63, R64, R65, R66, R67 및 Z'는 각각 독립적으로 수소 원자, 수산기, 할로겐 원자, 시아노기, -NRR', 탄소 원자수 6~12의 아릴기, 탄소 원자수 7~12의 아릴알킬기 또는 탄소 원자수 1~8의 알킬을 나타내며,
R62~R67 및 Z'로 나타내는 -NRR', 아릴기, 아릴알킬기 및 알킬기는 수산기, 할로겐 원자, 시아노기 또는 -NRR'로 치환되어 있어도 되고, -O-, -S-, -CO-, -COO-, -OCO-, -SO2-, -NH-, -CONH-, -NHCO-, -N=CH- 또는 -CH=CH-로 중단되어 있어도 되며,
R 및 R'는 탄소 원자수 6~12의 아릴기, 탄소 원자수 7~12의 아릴알킬기 또는 탄소 원자수 1~8의 알킬을 나타낸다.)
상기의 R62~R67 및 Z'로 나타내는 할로겐 원자로는 R01, R02, R03, R04 및 R05로 나타내는 할로겐 원자로서 예시한 기를 들 수 있다.
상기의 R62~R67, Z', R 및 R'로 나타내는 탄소 원자수 6~12의 아릴기로는 R01, R02, R03, R04 및 R05 또한 R1로 나타내는 탄소 원자수 6~20의 아릴기로서 예시한 기 중 소정의 탄소수를 만족시키는 기 등을 들 수 있고,
상기의 R62~R67, Z', R 및 R'로 나타내는 탄소 원자수 7~12의 아릴알킬기로는 R01, R02, R03, R04 및 R05 또한 R1로 나타내는 탄소 원자수 6~20의 아릴기로서 예시한 기 중 소정의 탄소수를 만족시키는 기 등을 들 수 있다.
상기 일반식(9)에서 Anq -로 나타내는 음이온으로는 상기 일반식(8)에서의 Anq-로 나타내는 음이온으로서 예시한 기 등을 들 수 있다.
상기 일반식(10)에서의 2개의 D 및 상기 일반식(11), (12)에서의 D 및 D'로는, 화합물로서 전하가 중성이 되도록 비이온성 기 하나와 양이온성 기를 하나 선택한다.
상기 일반식(10)~(12)에서의 R53~R63 및 R53'~R63'로 나타내는 할로겐 원자, R53 및 R53'로 나타내는 아릴기, 아릴알킬기 및 알킬기를 치환해도 되는 할로겐 원자, 및 Y12, Y12' 및 Y13으로 나타내는 알킬기, 아릴기 및 아릴알킬기를 치환해도 되는 할로겐 원자로는 R01, R02, R03, R04 및 R05로 나타내는 할로겐 원자로서 예시한 기를 들 수 있다.
R53~R63 및 R53'~R63' 및 Y12, Y12' 및 Y13으로 나타내는 탄소 원자수 6~30의 아릴기로는 페닐, 나프틸, 2-메틸페닐, 3-메틸페닐, 4-메틸페닐, 4-비닐페닐, 3-iso-프로필페닐, 4-iso-프로필페닐, 4-부틸페닐, 4-iso-부틸페닐, 4-tert-부틸페닐, 4-헥실페닐, 4-시클로헥실페닐, 4-옥틸페닐, 4-(2-에틸헥실)페닐, 4-스테아릴페닐, 2,3-디메틸페닐, 2,4-디메틸페닐, 2,5-디메틸페닐, 2,6-디메틸페닐, 3,4-디메틸페닐, 3,5-디메틸페닐, 2,4-디-tert-부틸페닐, 2,5-디-tert-부틸페닐, 2,6-디-tert-부틸페닐, 2,4-디-tert-펜틸페닐, 2,5-디-tert-아밀페닐, 2,5-디-tert-옥틸페닐, 2,4-디쿠밀페닐, 4-시클로헥실페닐, (1,1'-비페닐)-4-일, 2,4,5-트리메틸페닐, 페로세닐 등을 들 수 있고,
R53~R63 및 R53'~R63' 및 Y12, Y12' 및 Y13으로 나타내는 탄소 원자수 7~30의 아릴알킬기로는 벤질, 페네틸, 2-페닐프로판-2-일, 디페닐메틸, 트리페닐메틸, 스티릴, 신나밀, 페로세닐메틸, 페로세닐프로필 등을 들 수 있으며,
R53~R63 및 R53'~R63'로 나타내는 탄소 원자수 1~8의 알킬기, 및 Y12, Y12' 및 Y13으로 나타내는 탄소 원자수 1~20의 알킬기로는 R01, R02, R03, R04 및 R05 또한 R1로 나타내는 탄소 원자수 1~40의 알킬기로서 예시한 기 중 소정의 탄소수를 만족시키는 기 등을 들 수 있다.
상기 일반식(10)~(12)에서 X12, X12', X13 및 X13'로 나타내는 탄소 원자수 3~6의 시클로알칸-1,1-디일기로는 시클로프로판-1,1-디일, 시클로부탄-1,1-디일, 2,4-디메틸시클로부탄-1,1-디일, 3,3-디메틸시클로부탄-1,1-디일, 시클로펜탄-1,1-디일, 시클로헥산-1,1-디일 등을 들 수 있다.
상기 일반식(9)~(12)로 나타내는 화합물의 구체예로는 하기 [화 24]로 나타내는 화합물을 들 수 있지만, 본 발명은 이들 화합물로 제한되지 않는다.
Figure pct00030
본 발명의 자외부터 근자외의 파장 영역에 흡수 극대를 갖는 유기 색소이며, 분자 내에 상기 일반식(1)로 나타내는 구조를 적어도 하나 갖는 화합물의 제조 방법은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 자외부터 근자외의 파장 영역에 흡수 극대를 갖는 유기 색소로서 시아노스티렌 화합물, 트리아릴메탄 화합물, 시아닌 화합물을 공지의 방법에 의해 제조한 후, 이것에 산염화물, Boc화 시약, 알킬할라이드 화합물, 실릴클로라이드 화합물, 알릴에테르 화합물 등을 반응시켜 상기 일반식(1)로 나타내는 구조를 도입함으로써 얻는 방법을 들 수 있다.
본 발명의 자외부터 근자외의 파장 영역에 흡수 극대를 갖는 유기 색소이며, 분자 내에 상기 일반식(1)로 나타내는 구조를 적어도 하나 갖는 화합물은 염료로서 이하에 설명하는 착색 감광성 조성물에 사용되는 것 외에도, 디스플레이나 옵티컬 렌즈에 사용되는 광학 필터, 은염(銀鹽) 사진용 감광 재료, 염색물, 도료, 잉크, 전자 사진 감광체, 토너, 감열(感熱) 기록지, 전사(轉寫) 리본, 광학 기록 색소, 태양 전지, 유기 반도체, 임상 검사 시약, 레이저 치료용 색소, 염색 등에 사용된다.
또한 산화 방지제로서 광경화성 조성물, 열변화성 조성물 또는 중합성 조성물에 사용되는 것 외에도, 현색제(顯色劑)로서 감열 재료에도 사용된다.
본 발명의 자외부터 근자외의 파장 영역에 흡수 극대를 갖는 유기 색소이며, 분자 내에 하기 일반식(1)로 나타내는 구조를 적어도 하나 갖는 화합물은 상기 일반식(1)에서 R1이 수소 원자가 아닌 경우, 잠재성 첨가제로서 사용할 수도 있다.
잠재성 첨가제란, 상온 혹은 150℃ 이하의 프리베이크(prebake) 공정에서는 불활성이며, 100~250℃로 가열할 것인지 또는 산/염기 촉매 존재하에서 80~200℃로 가열함으로써 보호기가 이탈하여 활성이 되는 것으로서, 구체적으로는 잠재성 산화 방지제, 잠재성 자외선 흡수제 등의 잠재성 수지 첨가제; 감열지용 잠재성 현색제; 감열지용 잠재성 보존 안정제; 잠재성 경화제 등을 들 수 있다.
계속해서, 본 발명의 자외부터 근자외의 파장 영역에 흡수 극대를 갖는 유기 색소이며, 분자 내에 상기 일반식(1)로 나타내는 구조를 적어도 하나 갖는 화합물을 함유하는 조성물에 대해 설명한다.
본 발명의 자외부터 근자외의 파장 영역에 흡수 극대를 갖는 유기 색소이며, 분자 내에 상기 일반식(1)로 나타내는 구조를 적어도 하나 갖는 화합물을 함유하는 조성물은 착색 감광성 조성물로서 사용되는 것 외에도, 중합성 조성물로서도 사용된다.
상기 착색 감광성 조성물로서 사용하는 경우, 본 발명의 자외부터 근자외의 파장 영역에 흡수 극대를 갖는 유기 색소이며, 분자 내에 상기 일반식(1)로 나타내는 구조를 적어도 하나 갖는 화합물의 함유량은 0.01~50질량%가 바람직하고, 0.1~30질량%가 보다 바람직하다.
상기 착색 감광성 조성물은 광 조사에 의해 경화되는 것으로서, 광 양이온 경화성, 광 음이온 경화성 혹은 광 라디칼 경화성 중 어느 것이어도 되지만, 광 라디칼 경화성인 것이 바람직하다.
상기 착색 감광성 조성물이 광 라디칼 경화성인 경우, 착색 감광성 조성물은 본 발명의 자외부터 근자외의 파장 영역에 흡수 극대를 갖는 유기 색소이며, 분자 내에 상기 일반식(1)로 나타내는 구조를 적어도 하나 갖는 화합물 외에도, 산가를 갖는 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 중합성 화합물 및 광 라디칼 중합 개시제를 필수 성분으로 한다. 이하, 이 착색 감광성 조성물을 본 발명의 착색 감광성 조성물이라고도 한다.
상기 산가를 갖는 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 중합성 화합물로는 (메타)아크릴산, α-클로로아크릴산, 이타콘산, 말레산, 시트라콘산, 푸마르산, 하이믹산, 크로톤산, 이소크로톤산, 비닐아세트산, 알릴아세트산, 계피산, 소르빈산, 메사콘산, 숙신산모노[2-(메타)아크릴로일옥시에틸], 프탈산모노[2-(메타)아크릴로일옥시에틸], ω-카르복시폴리카프로락톤모노(메타)아크릴레이트 등의 양 말단에 카르복시기와 수산기를 갖는 폴리머의 모노(메타)아크릴레이트, 하이드록시에틸(메타)아크릴레이트ㆍ말레이트, 하이드록시프로필(메타)아크릴레이트ㆍ말레이트, 디시클로펜타디엔ㆍ말레이트 혹은 1개의 카르복실기와 2개 이상의 (메타)아크릴로일기를 갖는 다관능(메타)아크릴레이트 등의 불포화 다염기산; 페놀 및/또는 크레졸노볼락에폭시 수지, 비페닐 골격, 나프탈렌 골격을 갖는 노볼락에폭시 수지, 비스페놀A노볼락형 에폭시 화합물, 디시클로펜타디엔노볼락형 에폭시 화합물 등의 노볼락형 에폭시 화합물, 다관능 에폭시 기를 갖는 폴리페닐메탄형 에폭시 수지, 하기 일반식(13)으로 나타내는 에폭시 화합물 등의 에폭시 수지의 에폭시 기에 불포화 1염기산을 작용시키고, 또한 다염기산 무수물을 작용시켜 얻어진 수지, 펜타에리스리톨트리아크릴레이트, 디펜타에리스리톨펜타아크릴레이트 등의 수산기 함유 다관능 아크릴레이트와 무수 숙신산, 무수 프탈산, 테트라하이드로무수프탈산 등의 2염기산 무수물의 반응물인 산가를 갖는 다관능 아크릴레이트 등의 중합체를 들 수 있다.
Figure pct00031
(식 중 X41은 직접 결합, 메틸렌기, 탄소 원자수 1~4의 알킬리덴기, 탄소 원자수 3~20의 지환식 탄화수소기, -O-, -S-, -SO2-, -SS-, -SO-, -CO-, -OCO- 또는 상기 (3-1) 내지 (3-3)으로 나타나는 치환기를 나타내며, 상기 알킬리덴기는 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되고, R68, R69, R70 및 R71은 각각 독립적으로 수소 원자, 탄소 원자수 1~5의 알킬기, 탄소 원자수 1~8의 알콕시기, 탄소 원자수 2~5의 알케닐기 또는 할로겐 원자를 나타내며, 상기 알킬기, 알콕시기 및 알케닐기는 할로겐 원자로 치환되어 있어도 되고, s는 0~10의 정수이다.)
이들 중합성 화합물은 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있고, 또한 산가를 갖지 않는 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 중합성 화합물과 조합하여 사용할 수 있다. 2종 이상을 혼합하여 사용하는 경우에는 그들을 미리 공중합하여 공중합체로서 사용해도 된다.
상기 산가를 갖지 않는 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 중합성 화합물로는 예를 들면, (메타)아크릴산-2-하이드록시에틸, (메타)아크릴산-2-하이드록시프로필, (메타)아크릴산글리시딜, 하기 화합물 No.A1~No.A4, (메타)아크릴산메틸, (메타)아크릴산부틸, (메타)아크릴산이소부틸, (메타)아크릴산-t-부틸, (메타)아크릴산시클로헥실, (메타)아크릴산n-옥틸, (메타)아크릴산이소옥틸, (메타)아크릴산이소노닐, (메타)아크릴산스테아릴, (메타)아크릴산라우릴, (메타)아크릴산메톡시에틸, (메타)아크릴산디메틸아미노메틸, (메타)아크릴산디메틸아미노에틸, (메타)아크릴산아미노프로필, (메타)아크릴산디메틸아미노프로필, (메타)아크릴산에톡시에틸, (메타)아크릴산폴리(에톡시)에틸, (메타)아크릴산부톡시에톡시에틸, (메타)아크릴산에틸헥실, (메타)아크릴산페녹시에틸, (메타)아크릴산테트라하이드로푸릴, (메타)아크릴산비닐, (메타)아크릴산알릴, (메타)아크릴산벤질, 에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 1,4-부탄디올디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올에탄트리(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 트리시클로데칸디메틸올디(메타)아크릴레이트, 트리[(메타)아크릴로일에틸]이소시아누레이트, 폴리에스테르(메타)아크릴레이트올리고머 등의 불포화 1염기산 및 다가 알코올 또는 다가 페놀의 에스테르; (메타)아크릴산아연, (메타)아크릴산마그네슘 등의 불포화 다염기산의 금속염; 말레산무수물, 이타콘산무수물, 시트라콘산무수물, 메틸테트라하이드로무수프탈산, 테트라하이드로무수프탈산, 트리알킬테트라하이드로무수프탈산, 5-(2,5-디옥소테트라하이드로푸릴)-3-메틸-3-시클로헥센-1,2-디카르복실산무수물, 트리알킬테트라하이드로무수프탈산-무수말레산 부가물, 도데세닐무수 숙신산, 무수메틸하이믹산 등의 불포화 다염기산의 산무수물; (메타)아크릴아미드, 메틸렌비스-(메타)아크릴아미드, 디에틸렌트리아민트리스(메타)아크릴아미드, 크실릴렌비스(메타)아크릴아미드, α-클로로아크릴아미드, N-2-하이드록시에틸(메타)아크릴아미드 등의 불포화 1염기산 및 다가 아민의 아미드; 아크롤레인 등의 불포화 알데히드; (메타)아크릴로니트릴, α-클로로아크릴로니트릴, 시안화 비닐리덴, 시안화 알릴 등의 불포화 니트릴; 스티렌, 4-메틸스티렌, 4-에틸스티렌, 4-메톡시스티렌, 4-하이드록시스티렌, 4-클로로스티렌, 디비닐벤젠, 비닐톨루엔, 비닐안식향산, 비닐페놀, 비닐술폰산, 4-비닐벤젠술폰산, 비닐벤질메틸에테르, 비닐벤질글리시딜에테르 등의 불포화 방향족 화합물; 메틸비닐케톤 등의 불포화 케톤; 비닐아민, 알릴아민, N-비닐피롤리돈, 비닐피페리딘 등의 불포화 아민 화합물; 비닐메틸에테르, 비닐에틸에테르, n-부틸비닐에테르, 이소부틸비닐에테르, 알릴글리시딜에테르 등의 비닐에테르; 말레이미드, N-페닐말레이미드, N-시클로헥실말레이미드 등의 불포화이미드류; 인덴, 1-메틸인덴 등의 인덴류; 1,3-부타디엔, 이소프렌, 클로로프렌 등의 지방족 공역(共役) 디엔류; 폴리스티렌, 폴리메틸(메타)아크릴레이트, 폴리-n-부틸(메타)아크릴레이트, 폴리실록산 등의 중합체 분자쇄의 말단에 모노(메타)아크릴로일기를 갖는 매크로모노머류; (메타)아크릴로니트릴, 에틸렌, 프로필렌, 부틸렌, 염화비닐, 아세트산비닐 등의 그 밖의 비닐 화합물, 및 폴리메틸메타크릴레이트매크로모노머, 폴리스티렌매크로모노머 등의 매크로모노머류, 트리시클로데칸 골격의 모노메타크릴레이트, N-페닐말레이미드, 메타크릴로일옥시메틸-3-에틸옥세탄 등과, (메타)아크릴산의 공중합체 및 이들에 쇼와덴코우(주)사 제품 카렌즈 MOI, AOI와 같은 불포화 결합을 갖는 이소시아네이트 화합물을 반응시킨 (메타)아크릴산의 공중합체나, 비닐클로라이드, 비닐리덴클로라이드, 디비닐숙신산, 디알릴프랄레이트, 트리알릴포스페이트, 트리알릴이소시아누레이트, 비닐티오에테르, 비닐이미다졸, 비닐옥사졸린, 비닐카르바졸, 비닐피롤리돈, 비닐피리딘, 수산기 함유 비닐모노머 및 폴리이소시아네이트 화합물의 비닐우레탄 화합물, 수산기 함유 비닐모노머 및 폴리에폭시 화합물의 비닐에폭시 화합물, 펜타에리스리톨트리아크릴레이트, 디펜타에리스리톨펜타아크릴레이트 등의 수산기 함유 다관능 아크릴레이트와 톨릴렌디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트 등의 다관능 이소시아네이트의 반응물 등을 들 수 있다.
Figure pct00032
Figure pct00033
Figure pct00034
Figure pct00035
산가 조정하여 본 발명의 착색 감광성 조성물의 현상성을 개량하기 위해, 상기 산가를 갖는 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 중합성 화합물과 함께, 또한 단관능 또는 다관능 에폭시 화합물을 사용할 수 있다. 상기 산가를 갖는 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 중합성 화합물은 고형분의 산가가 5~120㎎KOH/g의 범위인 것이 바람직하고, 단관능 또는 다관능 에폭시 화합물의 사용량은 상기 산가를 만족시키도록 선택하는 것이 바람직하다.
상기 단관능 에폭시 화합물로는 글리시딜메타크릴레이트, 메틸글리시딜에테르, 에틸글리시딜에테르, 프로필글리시딜에테르, 이소프로필글리시딜에테르, 부틸글리시딜에테르, 이소부틸글리시딜에테르, t-부틸글리시딜에테르, 펜틸글리시딜에테르, 헥실글리시딜에테르, 헵틸글리시딜에테르, 옥틸글리시딜에테르, 노닐글리시딜에테르, 데실글리시딜에테르, 운데실글리시딜에테르, 도데실글리시딜에테르, 트리데실글리시딜에테르, 테트라데실글리시딜에테르, 펜타데실글리시딜에테르, 헥사데실글리시딜에테르, 2-에틸헥실글리시딜에테르, 알릴글리시딜에테르, 프로파르길(propargyl)글리시딜에테르, p-메톡시에틸글리시딜에테르, 페닐글리시딜에테르, p-메톡시글리시딜에테르, p-부틸페놀글리시딜에테르, 크레실글리시딜에테르, 2-메틸크레실글리시딜에테르, 4-노닐페닐글리시딜에테르, 벤질글리시딜에테르, p-쿠밀페닐글리시딜에테르, 트리틸글리시딜에테르, 2,3-에폭시프로필메타크릴레이트, 에폭시화 대두유, 에폭시화 아마인유, 글리시딜부틸레이트, 비닐시클로헥산모노옥사이드, 1,2-에폭시-4-비닐시클로헥산, 스티렌옥사이드, 피넨옥사이드, 메틸스티렌옥사이드, 시클로헥센옥사이드, 프로필렌옥사이드 등을 들 수 있다.
상기 다관능 에폭시 화합물로는 비스페놀형 에폭시 화합물 및 글리시딜에테르류로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 사용하면, 특성이 한층 더 양호한 착색 감광성 조성물을 얻을 수 있으므로 바람직하다. 상기 비스페놀형 에폭시 화합물로는 상기 일반식(13)으로 나타내는 에폭시 화합물을 사용할 수 있는 것 외에도, 예를 들면, 수소첨가 비스페놀형 에폭시 화합물 등의 비스페놀형 에폭시 화합물도 사용할 수 있다. 상기 글리시딜에테르류로는 에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 1,4-부탄디올디글리시딜에테르, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르, 1,8-옥탄디올디글리시딜에테르, 1,10-데칸디올디글리시딜에테르, 2,2-디메틸-1,3-프로판디올디글리시딜에테르, 디에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 트리에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 테트라에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 헥사에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 1,4-시클로헥산디메탄올디글리시딜에테르, 1,1,1-트리(글리시딜옥시메틸)프로판, 1,1,1-트리(글리시딜옥시메틸)에탄, 1,1,1-트리(글리시딜옥시메틸)메탄, 1,1,1,1-테트라(글리시딜옥시메틸)메탄을 들 수 있다.
그 외에도, 페놀노볼락형 에폭시 화합물, 비페닐노볼락형 에폭시 화합물, 크레졸노볼락형 에폭시 화합물, 비스페놀A노볼락형 에폭시 화합물, 디시클로펜타디엔노볼락형 에폭시 화합물 등의 노볼락형 에폭시 화합물; 3,4-에폭시-6-메틸시클로헥실메틸-3,4-에폭시-6-메틸시클로헥산카르복실레이트, 3,4-에폭시시클로헥실메틸-3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트, 1-에폭시에틸-3,4-에폭시시클로헥산 등의 지환식 에폭시 화합물; 프탈산디글리시딜에스테르, 테트라하이드로프탈산디글리시딜에스테르, 다이머산글리시딜에스테르 등의 글리시딜에스테르류; 테트라글리시딜디아미노디페닐메탄, 트리글리시딜-p-아미노페놀, N,N-디글리시딜아닐린 등의 글리시딜아민류; 1,3-디글리시딜-5,5-디메틸히단토인(dimethylhydantoin), 트리글리시딜이소시아누레이트 등의 복소환식 에폭시 화합물; 디시클로펜타디엔디옥사이드 등의 디옥사이드 화합물; 나프탈렌형 에폭시 화합물, 트리페닐메탄형 에폭시 화합물, 디시클로펜타디엔형 에폭시 화합물 등을 사용할 수도 있다.
본 발명의 착색 감광성 조성물에서, 상기 산가를 갖는 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 중합성 화합물의 함유량은 본 발명의 착색 감광성 조성물 중 1~95질량%, 특히 10~80질량%가 바람직하다.
또한 상기 산가를 갖지 않는 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 중합성 화합물을 사용하는 경우, 그 함유량은 상기 산가를 갖는 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 중합성 화합물 100질량부에 대하여 10~1000질량부로 하는 것이 바람직하다.
상기 광 라디칼 중합 개시제는 광 조사를 받음으로써 라디칼 중합을 개시시키는 것이 가능해지는 화합물이면 되고, 예를 들면, 아세토페논계 화합물, 벤질계 화합물, 벤조페논계 화합물, 옥심계 화합물, 티옥산톤계 화합물 등의 케톤계 화합물 등을 바람직한 것으로서 예시할 수 있다.
상기 아세토페논계 화합물로는 예를 들면, 디에톡시아세토페논, 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 4'-이소프로필-2-하이드록시-2-메틸프로피오페논, 2-하이드록시메틸-2-메틸프로피오페논, 2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온, p-디메틸아미노아세토페논, p-타샤리부틸디클로로로아세토페논, p-타샤리부틸트리클로로아세토페논, p-아지도벤잘아세토페논, 1-하이드록시시클로헥실페닐케톤, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로파논-1, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부타논-1, 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인-n-부틸에테르, 벤조인이소부틸에테르, 1-[4-(2-하이드록시에톡시)-페닐]-2-하이드록시-2-메틸-1-프로판-1-온 등을 들 수 있다.
상기 벤질계 화합물로는 벤질, 아니실 등을 들 수 있다.
상기 벤조페논계 화합물로는 예를 들면, 벤조페논, o-벤조일안식향산메틸, 미힐러케톤(Michler's ketone), 4,4'-비스디에틸아미노벤조페논, 4,4'-디클로로벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐설파이드 등을 들 수 있다.
상기 옥심계 화합물로는 1,2-옥탄디온,1-[4-(페닐티오)-,2-(O-벤조일옥심)], 에타논,1-[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]-,1-(O-아세틸옥심), 메타논,(2-메틸페닐)[6-니트로-9-[3-(트리메틸실릴)프로필]-9H-카르바졸-3-일]-,1-O-아세틸옥심), 메타논,(9-에틸-6-니트로-9H-카르바졸-3-일)(2-메틸페닐),O-아세틸옥심, 메타논,(9-에틸-6-니트로-9H-카르바졸-3-일)[2-메틸-4-(4-모르폴리닐)페닐),O-아세틸옥심, 메타논,(3,5-디니트로페닐)(9-에틸-6-니트로-9H-카르바졸-3-일)(2-메틸페닐),O-아세틸옥심, 메타논,(9-에틸-6-니트로-9H-카르바졸-3-일)(3-니트로페닐),O-아세틸옥심, 1,3,5-트리아진-2,4,6(1H,3H,5H)-트리온,1,3,5-트리스[2-(아세틸옥시)-3-[3-[(1E)-1-[(아세틸옥시)이미노에틸]-6-니트로-9H-카르바졸-9-일]프로필]-, 1,2-부탄디온,1-[4-(페닐티오)페닐]-,2-(O-아세틸옥심), 1,2-부탄디온,1-[4-[[4-(2-하이드록시에톡시)페닐]티오]페닐]-,2-(O-아세틸옥심), 1,2-부탄디온,1,1'-(티오디-4,1-페닐렌)비스-,2,2-비스(O-아세틸옥심), 1,2-옥탄디온,1-[4-(페닐티오)페닐]-,2-[O-(4-메틸벤조일)옥심] 등을 들 수 있다.
상기 티옥산톤계 화합물로는 티옥산톤, 2-메틸티옥산톤, 2-에틸티옥산톤, 2-클로로티옥산톤, 2-이소프로필티옥산톤, 2,4-디에틸티옥산톤 등을 들 수 있다.
그 밖의 광 라디칼 중합 개시제로는 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥사이드, 비스(시클로펜타디에닐)-비스[2,6-디플루오로-3-(피루-1-일)]티타늄 등을 들 수 있다.
이들 광 라디칼 중합 개시제는 1종 혹은 2종 이상의 것을 원하는 성능에 따라 배합하여 사용할 수 있다.
이상과 같은 광 라디칼 중합 개시제는 라디칼 중합성 유기 물질(상기 산가를 갖는 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 중합성 화합물, 산가를 갖지 않는 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 중합성 화합물, 단관능 또는 다관능 에폭시 화합물)에 대하여 화학량론적 필요량을 사용하면 되지만, 바람직하게는 라디칼 중합성 유기 물질에 대하여 0.05~10질량부, 또한 바람직하게는 0.1~10질량부 배합하는 것이 좋다. 이 범위를 상회하면 충분한 강도를 갖는 경화물을 얻을 수 없는 경우가 있으며, 하회하면 수지가 충분히 경화되지 않는 경우가 있다.
본 발명의 착색 감광성 조성물에서, 상기 광 라디칼 중합 개시제의 함유량은 본 발명의 착색 감광성 조성물 중 0.1~30질량%, 특히 0.5~10질량%가 바람직하다. 상기 광중합 개시제의 함유량이 0.1질량%보다 작으면 노광에 의한 경화가 불충분해지는 경우가 있으며, 30질량%보다 크면 착색 감광성 조성물 중에 개시제가 석출되는 경우가 있다.
본 발명의 착색 감광성 조성물은 필요에 따라 유기 용매에 용해 또는 분산시켜 얻어진 도액(塗液)을 스핀코터, 롤코터, 바코터, 다이코터, 커튼코터, 각종 인쇄, 침지 등의 공지의 수단으로 소다 유리, 석영 유리, 반도체 기판, 금속, 종이 플라스틱 등의 지지 기체 상에 도포하고 광 조사하여 경화시킬 수 있다.
상기 유기 용매로는 통상, 필요에 따라 상기의 각 성분을 용해 또는 분산할 수 있는 용매, 예를 들면, 메틸에틸케톤, 메틸아밀케톤, 디에틸케톤, 아세톤, 메틸이소프로필케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논, 2-헵타논 등의 케톤류; 에틸에테르, 디옥산, 테트라하이드로푸란, 1,2-디메톡시에탄, 1,2-디에톡시에탄, 디프로필렌글리콜디메틸에테르 등의 에테르계 용매; 아세트산메틸, 아세트산에틸, 아세트산-n-프로필, 아세트산이소프로필, 아세트산n-부틸, 아세트산시클로헥실, 락트산에틸, 숙신산디메틸, 텍사놀 등의 에스테르계 용매; 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르 등의 셀로솔브계 용매; 메탄올, 에탄올, 이소- 또는 n-프로판올, 이소- 또는 n-부탄올, 아밀알코올 등의 알코올계 용매; 에틸렌글리콜모노메틸아세테이트, 에틸렌글리콜모노에틸아세테이트, 프로필렌글리콜-1-모노메틸에테르-2-아세테이트(PGMEA), 디프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 3-메톡시부틸아세테이트, 에톡시에틸프로피오네이트 등의 에테르에스테르계 용매; 벤젠, 톨루엔, 크실렌 등의 BTX계 용매; 헥산, 헵탄, 옥탄, 시클로헥산 등의 지방족 탄화수소계 용매; 테레핀유, D-리모넨, 피넨 등의 테르펜계 탄화수소유; 미네랄스피릿, 스와졸 #310(코스모 마츠야마 세키유(주)), 솔벳소 #100(에쿠손 카가쿠(주)) 등의 파라핀계 용매; 4염화탄소, 클로로포름, 트리클로로에틸렌, 염화메틸렌, 1,2-디클로로로에탄 등의 할로겐화 지방족 탄화수소계 용매; 클로로벤젠 등의 할로겐화 방향환 함유 탄화수소계 용매; 카르비톨계 용매, 아닐린, 트리에틸아민, 피리딘, 아세트산, 아세토니트릴, 2황화탄소, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈, 디메틸술폭사이드, 물 등을 들 수 있고, 이들 용매는 1종 또는 2종 이상의 혼합 용매로서 사용할 수 있다. 이들 중에서도 케톤류, 에테르에스테르계 용매 등, 특히 프로필렌글리콜-1-모노메틸에테르-2-아세테이트, 시클로헥사논 등이 착색 감광성 조성물에서 레지스트와 광중합 개시제의 상용성이 좋으므로 바람직하다.
본 발명의 착색 감광성 조성물에는 또한 착색제를 첨가할 수 있으며, 상기 착색제로는 염료 또는 안료를 들 수 있다.
상기 염료로는 380~1200㎚에 흡수를 갖는 화합물이면 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 아조 화합물, 안트라퀴논 화합물, 인디고이드 화합물, 트리아릴메탄 화합물, 크산텐 화합물, 알리자린 화합물, 아크리딘 화합물, 스틸벤 화합물, 티아졸 화합물, 나프톨 화합물, 퀴놀린 화합물, 니트로 화합물, 인다민 화합물, 옥사진 화합물, 프탈로시아닌 화합물, 시아닌 화합물, 디이모늄 화합물, 시아노에테닐 화합물, 디시아노스티렌 화합물, 로다민 화합물, 페릴렌 화합물, 폴리엔나프토락탐 화합물, 쿠마린 화합물, 스쿠아릴륨 화합물, 크로코늄 화합물, 스피로피란 화합물, 스피로옥사진 화합물, 메로시아닌 화합물, 옥소놀 화합물, 스티릴 화합물, 피릴륨 화합물, 로다닌 화합물, 옥사졸론 화합물, 프탈이미드 화합물, 신놀린 화합물, 나프토퀴논 화합물, 아자안트라퀴논 화합물, 포르피린 화합물, 아자포르피린 화합물, 피로메텐 화합물, 퀴나크리돈 화합물, 디케토피롤로피롤 화합물, 인디고 화합물, 아크리딘 화합물, 아진 화합물, 아조메틴 화합물, 아닐린 화합물, 퀴나크리돈 화합물, 퀴노프탈론 화합물, 퀴논이민 화합물, 이리듐 착체 화합물, 유로퓸 착체 화합물 등의 염료 등을 들 수 있고, 이들은 복수를 혼합하여 사용해도 된다.
상기 안료로는 무기 안료 또는 유기 안료를 사용할 수 있고, 예를 들면, 니트로소 화합물, 니트로 화합물, 아조 화합물, 디아조 화합물, 크산텐 화합물, 퀴놀린 화합물, 안트라퀴논 화합물, 쿠마린 화합물, 프탈로시아닌 화합물, 이소인돌리논 화합물, 이소인돌린 화합물, 퀴나크리돈 화합물, 안탄트론 화합물, 페리논 화합물, 페릴렌 화합물, 디케토피롤로피롤 화합물, 티오인디고 화합물, 디옥사진 화합물, 트리페닐메탄 화합물, 퀴노프탈론 화합물, 나프탈렌테트라카르복실산; 아조 염료, 시아닌 염료의 금속 착체 화합물; 레이크(lake) 안료; 퍼니스(furnace)법, 채널법, 서멀(thermal)법에 의해 얻어지는 카본블랙, 혹은 아세틸렌블랙, 케첸블랙(ketjen black) 또는 램프블랙 등의 카본블랙; 상기 카본블랙을 에폭시 수지로 조정, 피복한 것, 상기 카본블랙을 미리 용매 중에서 수지로 분산 처리하여 20~200㎎/g의 수지를 흡착시킨 것, 상기 카본블랙을 산성 또는 알카리성 표면 처리한 것, 평균 입경이 8㎚ 이상이며 DBP 흡유량이 90㎖/100g 이하인 것, 950℃에서의 휘발분 중의 CO, CO2로부터 산출한 전(全) 산소량이 카본블랙의 표면적 100㎡당 9㎎ 이상인 것; 흑연, 흑연화 카본블랙, 활성탄, 탄소섬유, 카본나노튜브, 카본마이크로코일, 카본나노혼(carbon nanohorn), 카본에어로겔, 풀러렌(fullerene); 아닐린블랙, 피그먼트블랙 7, 티탄블랙; 소수성 수지, 산화크롬그린, 밀로리블루, 코발트그린, 코발트블루, 망간계, 페로시안화물, 인산염군청, 감청, 울트라마린, 세룰리안블루, 피리디안, 에메랄드그린, 황산납, 황색납, 아연황, 철단(鐵丹)(적색산화철(Ⅲ)), 카드뮴레드, 합성 철흑, 앰버 등의 무기 함량 또는 유기 안료를 사용할 수 있다. 이들 안료는 단독으로, 혹은 복수를 혼합하여 사용할 수 있다.
상기 무기 안료 또는 유기 안료로는 시판 안료를 사용할 수도 있고 예를 들면, 피그먼트레드 1, 2, 3, 9, 10, 14, 17, 22, 23, 31, 38, 41, 48, 49, 88, 90, 97, 112, 119, 122, 123, 144, 149, 166, 168, 169, 170, 171, 177, 179, 180, 184, 185, 192, 200, 202, 209, 215, 216, 217, 220, 223, 224, 226, 227, 228, 240, 254; 피그먼트오렌지 13, 31, 34, 36, 38, 43, 46, 48, 49, 51, 52, 55, 59, 60, 61, 62, 64, 65, 71; 피그먼트옐로 1, 3, 12, 13, 14, 16, 17, 20, 24, 55, 60, 73, 81, 83, 86, 93, 95, 97, 98, 100, 109, 110, 113, 114, 117, 120, 125, 126, 127, 129, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 151, 152, 153, 154, 166, 168, 175, 180, 185; 피그먼트그린 7, 10, 36; 피그먼트블루 15, 15:1, 15:2, 15:3, 15:4, 15:5, 15:6, 22, 24, 56, 60, 61, 62, 64; 피그먼트바이올렛 1, 19, 23, 27, 29, 30, 32, 37, 40, 50 등을 들 수 있다.
본 발명의 착색 감광성 조성물에서, 상기 색제의 함유량은 본 발명의 착색 감광성 조성물 중 0~99질량%, 특히 0~80질량%가 바람직하다.
본 발명의 착색 감광성 조성물에는 또한 무기 화합물을 함유시킬 수 있다. 상기 무기 화합물로는 예를 들면, 산화니켈, 산화철, 산화이리듐, 산화티탄, 산화아연, 산화마그네슘, 산화칼슘, 산화칼륨, 실리카, 알루미나 등의 금속 산화물; 층상 점토광물, 밀로리블루, 탄산칼슘, 탄산마그네슘, 코발트계, 망간계, 유리 분말, 마이카, 탈크, 카올린, 페로시안화물, 각종 금속 황산염, 황화물, 셀렌화물, 알루미늄실리케이트, 칼슘실리케이트, 수산화알루미늄, 백금, 금, 은, 구리 등을 들 수 있다.
상기 착색 감광성 조성물에서, 안료 및/또는 무기 화합물을 사용하는 경우, 분산제를 첨가할 수 있다. 상기 분산제로는 안료, 무기 화합물을 분산, 안정화할 수 있는 것이면 무엇이든 되며, 시판의 분산제, 예를 들면 빅케미사 제품, BYK 시리즈 등을 사용할 수 있고, 염기성 관능기를 갖는 폴리에스테르, 폴리에테르, 폴리우레탄으로 이루어지는 고분자 분산제, 염기성 관능기로서 질소 원자를 가지며, 질소 원자를 갖는 관능기가 아민, 및/또는 그 4급 염이고, 아민가가 1~100㎎KOH/g인 것이 적합하게 사용된다.
본 발명의 착색 감광성 조성물에는 필요에 따라 p-아니솔, 하이드로퀴논, 피로카테콜, t-부틸카테콜, 페노티아진 등의 열중합 억제제; 가소제; 접착 촉진제; 충전제; 소포제; 레벨링제; 표면 조정제; 페놀계 산화 방지제, 포스파이트계 산화 방지제, 티오에테르계 산화 방지제 등의 산화 방지제; 자외선 흡수제; 분산 조제; 응집 방지제; 촉매; 효과 촉진제; 가교제; 증점제 등의 관용의 첨가물을 첨가할 수 있다.
또한 상기 산가를 갖는 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 중합성 화합물과 함께, 다른 유기 중합체를 사용함으로써 본 발명의 착색 감광성 조성물의 경화물 특성을 개선할 수도 있다. 상기 유기 중합체로는 예를 들면, 폴리스티렌, 폴리메틸메타크릴레이트, 메틸메타크릴레이트-에틸아크릴레이트 공중합체, 폴리(메타)아크릴산, 스티렌-(메타)아크릴산 공중합체, (메타)아크릴산-메틸메타크릴레이트 공중합체, 에틸렌-염화비닐 공중합체, 에틸렌-비닐 공중합체, 폴리염화비닐 수지, ABS 수지, 나일론 6, 나일론 66, 나일론 12, 우레탄 수지, 폴리카보네이트폴리비닐부티랄, 셀룰로오스에스테르, 폴리아크릴아미드, 포화 폴리에스테르, 페놀 수지, 페녹시 수지, 폴리아미드이미드 수지, 폴리아믹산 수지, 에폭시 수지 등을 들 수 있고, 이들 중에서도 폴리스티렌, (메타)아크릴산-메틸메타크릴레이트 공중합체, 에폭시 수지가 바람직하다.
본 발명의 착색 감광성 조성물에는, 또한 열라디칼 중합 개시제, 연쇄이동제, 증감제, 계면활성제, 실란커플링제, 멜라민 화합물 등을 병용할 수 있다.
상기 열라디칼 중합 개시제로는 2,2'-아조비스이소부티로니트릴, 2,2'-아조비스(메틸이소부틸레이트), 2,2'-아조비스-2,4-디메틸발레로니트릴, 1,1'-아조비스(1-아세톡시-1-페닐에탄) 등의 아조계 개시제; 벤조일퍼옥사이드, 디-t-부틸벤조일퍼옥사이드, t-부틸퍼옥시피발레이트, 디(4-t-부틸시클로헥실)퍼옥시디카보네이트 등의 과산화물계 개시제, 과황산암모늄, 과황산나트륨, 과황산칼륨 등의 과황산염 등을 들 수 있다. 이들은 1종 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.
상기 연쇄이동제, 증감제로는 일반적으로 황 원자 함유 화합물이 사용된다. 예를 들면 티오글리콜산, 티오말산, 티오살리신산, 2-메르캅토프로피온산, 3-메르캅토프로피온산, 3-메르캅토부티르산, N-(2-메르캅토프로피오닐)글리신, 2-메르캅토니코틴산, 3-[N-(2-메르캅토에틸)카르바모일]프로피온산, 3-[N-(2-메르캅토에틸)아미노]프로피온산, N-(3-메르캅토프로피오닐)알라닌, 2-메르캅토에탄술폰산, 3-메르캅토프로판술폰산, 4-메르캅토부탄술폰산, 도데실(4-메틸티오)페닐에테르, 2-메르캅토에탄올, 3-메르캅토-1,2-프로판디올, 1-메르캅토-2-프로판올, 3-메르캅토-2-부탄올, 메르캅토페놀, 2-메르캅토에틸아민, 2-메르캅토이미다졸, 2-메르캅토벤조이미다졸, 2-메르캅토-3-피리디놀, 2-메르캅토벤조티아졸, 메르캅토아세트산, 트리메틸올프로판트리스(3-메르캅토프로피오네이트), 펜타에리스리톨테트라키스(3-메르캅토프로피오네이트) 등의 메르캅토 화합물, 상기 메르캅토 화합물을 산화하여 얻어지는 디설파이드 화합물, 요오드아세트산, 요오드프로피온산, 2-요오드에탄올, 2-요오드에탄술폰산, 3-요오드프로판술폰산 등의 요오드화 알킬 화합물, 트리메틸올프로판트리스(3-메르캅토이소부틸레이트), 부탄디올비스(3-메르캅토이소부틸레이트), 헥산디티올, 데칸디티올, 1,4-디메틸메르캅토벤젠, 부탄디올비스티오프로피오네이트, 부탄디올비스티오글리콜레이트, 에틸렌글리콜비스티오글리콜레이트, 트리메틸올프로판트리스티오글리콜레이트, 부탄디올비스티오프로피오네이트, 트리메틸올프로판트리스티오프로피오네이트, 트리메틸올프로판트리스티오글리콜레이트, 펜타에리스리톨테트라키스티오프로피오네이트, 펜타에리스리톨테트라키스티오글리콜, 트리스하이드록시에틸트리스티오프로피오네이트, 하기 화합물 No.C1, 트리메르캅토프로피온산트리스(2-하이드록시에틸)이소시아누레이트 등의 지방족 다관능 티올 화합물, 쇼와덴코우사 제품 카렌즈 MT BD1, PE1, NR1 등을 들 수 있다.
Figure pct00036
상기 계면활성제로는 퍼플루오로알킬인산에스테르, 퍼플루오로알킬카르복실산염 등의 불소 계면활성제, 고급 지방산 알칼리염, 알킬술폰산염, 알킬황산염 등의 음이온계 계면활성제, 고급 아민할로겐산염, 제4급 암모늄염 등의 양이온계 계면활성제, 폴리에틸렌글리콜알킬에테르, 폴리에틸렌글리콜 지방산 에스테르, 소르비탄 지방산 에스테르, 지방산 모노글리세리드 등의 비이온 계면활성제, 양성 계면활성제, 실리콘계 계면활성제 등의 계면활성제를 사용할 수 있고, 이들은 조합하여 사용해도 된다.
상기 실란커플링제로는, 예를 들면 신에츠 카가쿠사 제품 실란커플링제를 사용할 수 있고, 그중에서도 KBE-9007, KBM-502, KBE-403 등, 이소시아네이트기, 메타크릴로일기, 에폭시기를 갖는 실란커플링제가 적합하게 사용된다.
상기 멜라민 화합물로는 (폴리)메틸올멜라민, (폴리)메틸올글리콜우릴, (폴리)메틸올벤조구아나민, (폴리)메틸올우레아 등의 질소 화합물 중의 활성 메틸올기(CH2OH기)의 전부 또는 일부(적어도 2개)가 알킬에테르화된 화합물을 들 수 있다. 여기서, 알킬에테르를 구성하는 알킬기로는 메틸기, 에틸기 또는 부틸기를 들 수 있으며, 서로 동일해도 되고 달라도 된다. 또한 알킬에테르화되어 있지 않은 메틸올기는 1분자 내에서 자기축합 하고 있어도 되고, 2분자 사이에서 축합하여 그 결과, 올리고머 성분이 형성되어 있어도 된다. 구체적으로는 헥사메톡시메틸멜라민, 헥사부톡시메틸멜라민, 테트라메톡시메틸글리콜우릴, 테트라부톡시메틸글리콜우릴 등을 사용할 수 있다. 이들 중에서도, 헥사메톡시메틸멜라민, 헥사부톡시메틸멜라민 등의 알킬에테르화된 멜라민이 바람직하다.
또한 본 발명의 착색 감광성 조성물을 경화시킬 때에 사용되는 활성광의 광원으로는 파장 300~450㎚의 광을 발광하는 것을 사용할 수 있고 예를 들면, 초고압 수은, 수은 증기 아크, 카본 아크, 제논 아크 등을 사용할 수 있다.
또한 노광 광원에 레이저광을 사용함으로써 마스크를 사용하지 않고 컴퓨터 등의 디지털 정보로부터 직접 화상을 형성하는 레이저 직접 묘화법이, 생산성뿐만 아니라 해상성이나 위치 정밀도 등의 향상도 도모할 수 있기 때문에 유용하며, 그 레이저광으로는 340~430㎚의 파장광이 적합하게 사용되는데, 아르곤이온 레이저, 헬륨네온 레이저, YAG 레이저, 및 반도체 레이저 등의 가시로부터 적외 영역의 광을 내는 것도 사용된다. 이들 레이저를 사용하는 경우에는, 가시로부터 적외의 상기 영역을 흡수하는 증감 색소가 첨가된다.
본 발명의 착색 감광성 조성물(또는 그 경화물)은 광경화성 도료 혹은 바니쉬(varnish), 광경화성 접착제, 프린트 기판, 혹은 컬러 TV, PC 모니터, 휴대 정보단말, 디지털 카메라 등의 컬러 표시의 액정 표시 패널에서의 컬러 필터, CCD 이미지 센서의 컬러 필터, 플라즈마 표시 패널용의 전극 재료, 분말 코팅, 인쇄 잉크, 인쇄판, 접착제, 치과용 조성물, 광조형용 수지, 겔 코트, 전자 공학용의 포토레지스트, 전기 도금 레지스트, 에칭 레지스트, 액상 및 건조막의 양쪽, 솔더 레지스트, 다양한 표시 용도용의 컬러 필터를 제조하기 위한, 혹은 플라즈마 표시 패널, 전기 발광 표시 장치, 및 LCD의 제조 공정에서 구조를 형성하기 위한 레지스트, 전기 및 전자 부품을 봉입하기 위한 조성물, 솔더 레지스트, 자기(磁氣) 기록 재료, 미세 기계 부품, 도파로(導波路), 광 스위치, 도금용 마스크, 에칭 마스크, 컬러 시험계, 유리 섬유 케이블 코팅, 스크린 인쇄용 스텐실, 스테레오 리소그래피에 의해 3차원 물체를 제조하기 위한 재료, 홀로그래피 기록용 재료, 화상 기록 재료, 미세 전자회로, 탈색 재료, 화상 기록 재료를 위한 탈색 재료, 마이크로캡슐을 사용하는 화상 기록 재료용의 탈색 재료, 인쇄 배선판용 포토레지스트 재료, UV 및 가시 레이저 직접 화상계용의 포토레지스트 재료, 프린트 회로 기판의 순차 적층에서의 유전체층 형성에 사용하는 포토레지스트 재료 혹은 보호막 등의 각종 용도에 사용할 수 있으며 그 용도에 특별히 제한은 없다.
본 발명의 착색 감광성 조성물은 컬러 필터의 화소를 형성할 목적으로 사용되고, 특히 액정 표시 패널 등의 화상 표시 장치용의 표시 디바이스용 컬러 필터를 형성하기 위한 감광성 조성물로서 유용하다.
상기 표시 디바이스용 컬러 필터는 (1) 상기 착색 감광성 조성물의 도막을 기판 상에 형성하는 공정, (2) 상기 도막에 소정의 패턴 형상을 갖는 마스크를 통해 활성광을 조사하는 공정, (3) 노광 후의 피막을 현상액으로 현상하는 공정, (4) 현상 후의 상기 피막을 가열하는 공정에 의해 바람직하게 형성된다. 또한 본 발명의 착색 감광성 조성물은, 현상 공정이 없는 잉크젯 방식의 착색 감광성 조성물로서도 유용하다.
실시예
이하, 실시예 등을 들어 본 발명을 더욱 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예 등에 한정되는 것이 아니다.
[실시예 1-1] 화합물 No.1의 합성
Figure pct00037
<스텝 1＞ 화합물 4의 합성
상기 스킴에서 화합물 3의 1당량 및 피리딘 2.42g을 혼합하고 화합물 2의 2.5당량 및 4-디메틸아미노피리딘 2.42g을 첨가하여 빙욕(ice bath)하에서 30분 교반하고, EDC 염산염의 4.5 등량(等量)을 첨가하여 질소 분위기하, 실온에서 5시간 교반했다. 아세트산에틸/물로 유수(油水) 분리한 후, 수세(水洗), 건조하고 용매를 증류 제거하여 화합물 4를 얻었다.
<스텝 2＞ 화합물 No.1의 합성
스텝 1에서 얻어진 화합물 4의 1당량 및 피리딘 2.05g을 혼합하고, 4-디메틸아미노피리딘 0.1당량을 첨가하여 교반한 후, 10℃ 이하에서 2탄산-t-부틸의 12당량을 적하하고 실온에서 20시간 교반했다. 아세트산에틸/물로 유수 분리한 후, 수세, 건조하고 용매를 증류 제거했다. 칼럼 크로마토그래피(아세트산에틸:헥산=1:1)에 의해 정제하고 메탄올로부터 정석(晶析)을 실시하여 화합물 No.1을 수율 24%로 얻었다. 얻어진 화합물이 목적물인 것은 1H-NMR, IR로 확인했다. 또한 흡수 파장 특성을 측정했다. 결과를 [표 1] 및 [표 2]에 나타낸다.
Figure pct00038
[실시예 1-2] 화합물 No.2의 합성
Figure pct00039
<스텝 1＞ 화합물 6의 합성
상기 스킴에서 화합물 5의 1당량 및 피리딘 3.12g을 혼합하고 4-디메틸아미노피리딘 0.1당량을 첨가하여 교반한 후, 10℃ 이하에서 2산화-t-부틸의 3당량을 적하하고 실온에서 3시간 교반했다. 아세트산에틸/물로 유수 분리한 후, 수세, 건조하고 용매를 증류 제거하여 화합물 6을 얻었다.
<스텝 2＞ 화합물 No.2의 합성
화합물 7의 1당량 및 아세트산에틸10g, 물 10g을 혼합하고 스텝 1에서 얻어진 화합물 6의 1당량을 첨가하여 교반한 후, 아세트산에틸층을 각각 나누어 건조하여 이론 수량의 5배까지 농축했다. 농축한 아세트산에틸 용액을 헥산에 분산시키고 정석하여 화합물 No.2를 수율 70%로 얻었다. 얻어진 화합물이 목적물인 것은 1H-NMR, IR로 확인했다. 또한 흡수 파장 특성을 측정했다. 결과를 [표 1] 및 [표 2]에 나타낸다.
Figure pct00040
[실시예 1-3] 화합물 No.3의 합성
Figure pct00041
<스텝 1＞ 화합물 9의 합성
상기 스킴에서 화합물 8의 1당량, 수산화나트륨 2eq. 물 2g, 및 톨루엔2g을 혼합하고 실온에서 교반했다. 그 후, 빙냉(氷冷)하, 1N 염산 수용액 2㎖를 첨가하여 산성 용액으로 하고 유수 분리를 실시하여 화합물 9가 포함되는 톨루엔 용액을 얻었다.
<스텝 2＞ 화합물 No.3의 합성
스텝 1에서 얻어진 화합물 9의 1당량이 포함되는 톨루엔 용액에 클로로포름4g, 화합물 6의 1eq.을 첨가하여 교반, 유수 분리를 실시한 후, 헥산에 분산시키고 정석하여 화합물 No.3을 수율 80%로 얻었다. 얻어진 화합물이 목적물인 것은 1H-NMR, IR로 확인했다. 또한 흡수 파장 특성을 측정했다. 결과를 [표 1] 및 [표 2]에 나타낸다.
Figure pct00042
Figure pct00043
Figure pct00044
[실시예 2-2~2-3] 착색 감광성 조성물 No.1~No.3의 조제
<스텝 1＞ 감광성 조성물 No.1의 조제
산가를 갖는 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 중합성 화합물성분으로서 ACA Z250(다이셀 사이테크사 제품)을 30.3g, 산가를 갖지 않는 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 중합성 화합물성분으로서 아로닉스 M-450(토아고세이사 제품)을 11.04g, 광 라디칼 중합 개시제 성분으로서 이르가큐어 907(BASF사 제품)을 1.93g, 용매로서 PGMEA를 36.60g 및 시클로헥사논을 20.08g, 및, 그 밖의 성분으로서 FZ2122(토레이ㆍ다우코닝사 제품)를 0.01g 혼합하고 불용물이 없어질 때까지 교반하여 감광성 조성물 No.1을 얻었다.
<스텝 2＞ 염료액 No.1~No.3의 조제
상기에서 얻어진 화합물 No.1~No.3의 0.10g에 디메틸아세트아미드 1.90g을 첨가하여 교반하고 용해시켜 염료액 No.1~No.3을 각각 조제했다.
<스텝 3＞ 착색 감광성 조성물 No.1~No.3의 조제
스텝 1에서 얻어진 감광성 조성물 No.1의 5.0g와 스텝 2에서 얻어진 염료액 No.1~No.3의 1.0g을 각각 혼합하고 균일해질 때까지 교반하여, 본 발명의 착색 감광성 조성물 No.1~No.3을 각각 얻었다.
[비교예 1-1~1-3] 비교 착색성 감광성 조성물 No.1~No.3의 조제
실시예 2의 스텝 2에서의 화합물 No.1을 하기의 비교 화합물 No.1~No.3 중 어느 하나로 변경한 것 이외에는, 실시예 2-1과 동일한 방법으로 비교 착색 감광성 조성물 No.1~No.3을 얻었다.
Figure pct00045
[비교예 2-1~2-3] 비교 착색성 감광성 조성물 No.1A~No.3A의 조제
비교 착색성 감광성 조성물 No.1~No.3에 산화 방지제로서 하기 화합물 α를 첨가한 것 이외에는, 실시예 2-1과 동일한 방법으로 비교 착색 감광성 조성물 No.1A~No.3A를 얻었다.
Figure pct00046
[평가예 1-1~1-3 및 비교 평가예 1-1~1-3] 소성에 의한 내열성 평가
상기에서 얻어진 착색 감광성 조성물 No.1~No.3 및 비교 착색 감광성 조성물 No.1~No.3을 각각 유리 기판에 410rpm×7sec의 조건에서 도공하고 핫플레이트에서 건조(90℃, 90sec)시켰다. 얻어진 도막에 초고압 수은 램프로 노광(150mJ/㎠)했다. 노광 후의 도막을 230℃×30min의 조건에서 소성했다. 사용한 화합물의 극대 흡수 파장(λmax)에서의 소성 전(노광 후) 도막의 흡광도와 소성 후 도막의 흡광도를 측정하고, 소성 전(노광 후) 도막의 흡광도를 100으로 했을 때의 상대 강도로서 평가했다. 한편 소성 후 도막의 흡광도가 100에 가까울수록 내열성이 높은 것을 나타낸다. 또한 소성 전후의 색차(ΔEab*)를 조사했다. 결과를 [표 3]에 나타낸다.
Figure pct00047
상기 결과로부터, 본 발명의 착색 감광성 조성물은 내열성이 높은 것이 명백하다.
[평가예 2-1~2-3 및 비교 평가예 2-1~2-3] 산화 방지 기능 평가
우선, 착색 감광성 조성물 No.1~No.3에 비교 화합물 No.1을 첨가한 것 이외에는, 실시예 2-1과 동일한 방법으로 착색 감광성 조성물 No.1A~No.3A를 각각 얻었다.
상기에서 얻어진 착색 감광성 조성물 No.1A~No.3A 및 비교예 2-1~2-3에서 얻어진 비교 착색 감광성 조성물 No.1A~No.3A를 각각 유리 기판에 410rpm×7sec의 조건에서 도공하고 핫플레이트에서 건조(90℃, 90sec)시켰다. 얻어진 도막에 초고압 수은 램프로 노광(150mJ/㎠)했다.
노광 후의 도막을 230℃×30min의 조건에서 소성했다. 사용한 화합물의 극대 흡수 파장(λmax)에서의 소성 전(노광 후) 도막의 흡광도와 소성 후 도막의 흡광도를 측정하고, 소성 전(노광 후) 도막의 흡광도를 100으로 했을 때의 상대 강도로서 평가했다. 또한 소성 전후의 색차(ΔEab*)를 조사했다. 결과를 [표 4]에 나타낸다.
Figure pct00048
상기 결과로부터, 종래의 색소에 본 발명의 화합물을 첨가한 착색 감광성 조성물은, 종래의 색소에 산화 방지제를 첨가한 비교 착색 감광성 조성물과 비교하여 내열성이 높은 것은 명백하다. 따라서 이는, 본 발명의 화합물이 높은 산화 방지 기능을 갖는 것을 나타내고 있다.
이상의 결과로부터, 본 발명의 신규 화합물을 사용한 착색 감광성 조성물 및 그 경화물에서의 내열성이 높은 것은 명백하다. 따라서 본 발명의 염료 및 착색 감광성 조성물은, 표시 디바이스용 컬러 필터 및 그것을 사용하여 이루어지는 액정 표시 패널에 유용하다.

Claims (10)

  1. 자외부터 근자외의 파장 영역에 흡수 극대(absorption maximum)를 갖는 유기 색소이며, 분자 내에 하기 일반식(1)로 나타내는 치환기를 1~10개 갖는 화합물.
    Figure pct00049

    (식 중 R01, R02, R03, R04 및 R05는 각각 독립적으로 수소 원자, 할로겐 원자, 시아노기, 수산기, 니트로기, 카르복실기, 탄소 원자수 1~40의 알킬기, 탄소 원자수 6~20의 아릴기, 탄소 원자수 7~20의 아릴알킬기, 탄소 원자수 2~20의 복소환 함유기 또는 -O-R1을 나타내고,
    R01, R02, R03, R04 및 R05 중 적어도 1개는 -O-R1로 나타나며,
    R1은 수소 원자, 탄소 원자수 1~40의 알킬기, 탄소 원자수 6~20의 아릴기, 탄소 원자수 7~20의 아릴알킬기, 탄소 원자수 2~20의 복소환 함유기 또는 트리알킬실릴기를 나타내고,
    R01, R02, R03, R04 및 R05 또한 R1로 나타내는 알킬기, 아릴기, 아릴알킬기 또는 복소환 함유기는 치환기를 갖고 있거나 또는 무치환이며,
    R01, R02, R03, R04 및 R05 또한 R1로 나타내는 알킬기 또는 아릴알킬기 중 메틸렌기는 탄소-탄소 2중 결합, -O-, -S-, -CO-, -O-CO-, -CO-O-, -O-CO-O-, -S-CO-, -CO-S-, -S-CO-O-, -O-CO-S-, -CO-NH-, -NH-CO-, -NH-CO-O-, -NR2-, ＞P=O, -S-S- 또는 -SO2-로 치환되어 있어도 되고,
    R2는 수소 원자 또는 탄소 원자수 1~8의 알킬기를 나타낸다.)
  2. 제1항에 있어서,
    상기 일반식 (1) 중 R1이 수소 원자인 것을 특징으로 하는 화합물.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 일반식 (1) 중 R02 또는 R04 중 적어도 한쪽이 탄소 원자수 1~40의 알킬기, 탄소 원자수 6~20의 아릴기, 탄소 원자수 7~20의 아릴알킬기 또는 탄소 원자수 2~20의 복소환 함유기이며, R03이 -O-R1로 나타나는 것을 특징으로 하는 화합물.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 일반식 (1) 중 R1이 탄소 원자수 2~9의 알콕시카르보닐기인 것을 특징으로 하는 화합물.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 일반식 (1) 중 R02 또는 R04 중 적어도 한쪽이 탄소 원자수 1~40의 알킬기, 탄소 원자수 6~20의 아릴기, 탄소 원자수 7~20의 아릴알킬기 또는 탄소 원자수 2~20의 복소환 함유기이며, R03이 -O-R1로 나타나는 것을 특징으로 하는 화합물.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 자외부터 근자외의 파장 영역에 흡수 극대를 갖는 유기 색소가 시아노스티렌 화합물인 것을 특징으로 하는 화합물.
  7. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 자외부터 근자외의 파장 영역에 흡수 극대를 갖는 유기 색소가 트리아릴메탄 화합물인 것을 특징으로 하는 화합물.
  8. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 자외부터 근자외의 파장 영역에 흡수 극대를 갖는 유기 색소가 시아닌 화합물인 것을 특징으로 하는 화합물.
  9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 기재된 화합물을 함유하는 조성물.
  10. 제9항에 기재된 조성물에 또한 산가(酸價)를 갖는 에틸렌성 불포화 결합을 가지는 중합성 화합물 및 광 라디칼 중합 개시제를 함유하는 것을 특징으로 하는 착색 감광성 조성물.
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