KR20160073006A - 사전 수처리 장치를 포함하는 스크러버 - Google Patents

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KR20160073006A KR1020140181177A KR20140181177A KR20160073006A KR 20160073006 A KR20160073006 A KR 20160073006A KR 1020140181177 A KR1020140181177 A KR 1020140181177A KR 20140181177 A KR20140181177 A KR 20140181177A KR 20160073006 A KR20160073006 A KR 20160073006A
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Abstract

본 발명은 사전 수처리 장치를 포함하는 스크러버에 관한 것으로서, 저면이 개방된 하부는 메인 수처리 탱크의 내부에 위치하고 상부는 메인 수처리 탱크의 상면에서 상향 돌출되어 형성된 사전 수처리 수조와, 후단부는 공정챔버와 연결된 주입부에 연결되며 선단부는 사전 수처리 수조의 상부에 관통되는 이동관과, 하측 단부는 사전 수처리 수조 상부의 상면을 관통하여 소정 길이로 연장 설치되고 상측 단부는 사전 수처리 수조 상부의 상면에서 상향 돌출되어 반응기의 버너와 연결되는 연결관, 선단부가 사전 수처리 수조의 상부에 관통되어 내부에서 물을 분사하는 물 분사 노즐 및 선단부가 사전 수처리 수조의 상부에 관통되어 내부에서 질소를 분사하는 질소 분사 노즐을 포함하는 것과 관련된다.
이러한 본 발명은 공정가스에서 생성되는 파우더가 연결관 또는 버너의 내부에 형성되지 않고 사전 수처리 장치를 통해 미리 제거됨에 따라 파우더에 의한 연결관의 압력이 변화되거나, 버너의 화염이 꺼지는 현상이 방지될 수 있는 효과를 가진다.

Description

사전 수처리 장치를 포함하는 스크러버{Scrubber With Pre Wet Device}
본 발명은 반도체 공정에서 생성되는 파우더가 사전 수처리 과정을 통해 제거된 상태에서 스크러버의 버너에 유입될 수 있도록 한 사전 수처리 장치를 포함하는 스크러버에 관한 것이다.
일반적으로 반도체 공정은 실리콘 기판에 사진, 확산, 식각, 화학기상증착 및 금속증착 등의 다양한 공정을 반복수행하게 되며, 이러한 공정 중 확산, 식각, 화학기상증착 등의 공정은 밀폐된 공정챔버 내부에 공정가스를 공급하여 이들 공정가스로 하여금 웨이퍼 상에서 반응토록 하는 것이다.
한편, 반도체 제조 공정에 사용되는 가스는 유독성, 가연성 및 부식성 등 그 특성이 강한 것이 사용되고, 이러한 공정가스는 제조설비의 공정 과정에서 약 10% 정도만이 반응에 참여하고, 나머지 90% 정도의 공정가스는 미반응한 상태에서 제조설비로부터 배출된다.
따라서 이러한 유독성 폐가스들이 별도의 정화과정 없이 대기중에 그대로 방출될 경우 주변 제조설비의 손상과 심각한 환경오염 및 작업자의 안전사고를 초래하게 되므로 각 제조설비에는 배기덕트로 연결된 가스 배출라인 상에 배출가스를 안전한 상태로 분해 또는 정화시키는 스크러버가 설치된다.
이러한 스크러버는 공정가스의 성질 즉, 일반 공기와 접촉시 폭발적으로 반응하는 성질, 연소되는 성질, 가스 처리제와 반응하는 성질 및 물에 용해되는 성질 등을 이용하는 것으로 크게 건식과 습식 및 이들 건식과 습식을 병행하는 혼합식으로 구분된다.
습식방식의 스크러버는 물을 이용하여 폐가스를 포집한 후, 세정 및 냉각하는 구조로써, 비교적 간단한 구성을 가지며, 제작이 용이하고 대용량화 할 수 있다는 장점이 있다. 그러나 불수용성의 가스는 처리가 불가능하고, 특히 발화성(가연성)이 강한 수소기를 포함하는 폐가스의 처리에는 부적절하다.
건식방식의 스크러버는 버너 내부로 폐가스가 통과되도록 하여 직접 연소시키거나, 열원을 이용하여 고온의 챔버를 형성하고 그 속으로 폐가스가 통과되도록 하여 간접적으로 연소시키는 구조를 갖는다. 이러한 건식방식의 스크러버는 발화성 가스의 처리에는 탁월한 효과가 있으나, 수용성 가스와 같이 잘 연소되지 않는 가스의 처리에는 부적절하다.
혼합식 스크러버는 폐가스를 연소실에서 1차 연소시켜 발화성 가스 및 폭발성 가스를 제거한 후 2차적으로 수처리 탱크에 수용시켜 수용성의 유독성 폐가스를 물에 용해시키는 구조를 갖는다.
이러한 혼합형 가스 스크러버의 선행기술로는 국내공개특허 제10-2010-0021135호 "폐가스 처리 장치"를 통해 이미 개시된 바 있다.
한편, 도 1 은 종래 가스 스크러버를 도시한 것으로, 이러한 가스 스크러버에 의해 공정가스가 처리되는 과정을 살펴보면, 반도체 장비의 공정챔버에서 발생되는 공정가스가 주입부(Inlet)(10)를 통해 연결배관(20)을 거쳐 반응기(Reactor)(30)의 버너(Burner)(40)로 이동된 후 연소/산화되거나 열분해되는 방법으로 버닝(Burning)되고, 버너(40)를 통과한 폐가스 중 처리되지 못한 일부 가스나 분진 입자 등 미처리 가스는 습식세정부(Wet Zone)(50)로 이동되며, 이때 습식세정부(50)에서는 물을 분사함으로써 산화 가스속의 파우더(Powder)가 분리된 후 아래의 수처리 탱크(60)에 떨어지도록 하는 세정(Wetting) 공정을 거치게 되고, 세정된 처리가스는 필터와 덕트를 통해 대기중으로 배출된다.
그러나 공정가스에서 발생되는 파우더는 습식세정부(50)를 통과하는 과정 및 버너(40)의 내부에서 발생하는 경우가 많으며, 버너(40)의 내부에 파우더가 발생되면서 점진적으로 쌓이는 경우 고착된 파우더로 인하여 버너(40)의 가스배출이 방해를 받게 되면서 화염(Flame)이 꺼지게 되어 결국 가스 처리 공정이 멈추게 되는 문제점이 있었다.
또한 공정가스에서 발생되는 파우더는 전술한 버너(40)의 내부는 물론 주입부(10)와 버너(40)를 연결하는 연결배관(20)의 내부에도 쌓이게 되면서 연결배관(20)을 통과하는 공정가스의 압력을 변화시키게 되고, 이러한 압력변화는 공정가스의 원활한 흐름을 방해하거나 역류 등의 현상을 일으켜 가스 처리의 효율성을 저하시키게 되는 문제점이 있었다.
따라서 본 발명은 상술한 바와 같은 문제점을 해소하기 위해 안출된 것으로, 공정가스가 버너에 공급되기 전에 사전 수처리 과정을 거치도록 하여 버너 내부 또는 버너와 연결되는 연결배관에 파우더가 발생되는 현상을 방지할 수 있도록 한 사전 수처리 장치를 포함하는 스크러버를 제공하는 목적이 포함된다.
본 발명의 바람직한 일 실시 예에 의하면, 저면이 개방된 하부는 메인 수처리 탱크의 내부에 위치하고 상부는 메인 수처리 탱크의 상면에서 상향 돌출되어 형성된 사전 수처리 수조와, 후단부는 공정챔버와 연결된 주입부에 연결되며 선단부는 사전 수처리 수조의 상부에 관통되는 이동관과, 하측 단부는 사전 수처리 수조 상부의 상면을 관통하여 소정 길이로 연장 설치되고 상측 단부는 사전 수처리 수조 상부의 상면에서 상향 돌출되어 반응기의 버너와 연결되는 연결관과, 선단부가 사전 수처리 수조의 상부에 관통되어 내부에서 물을 분사하는 물 분사 노즐 및 선단부가 사전 수처리 수조의 상부에 관통되어 내부에서 질소를 분사하는 질소 분사 노즐을 포함하는 것과 관련된다.
더 바람직하게 이동관은 복수로 구성되어 사전 수처리 수조의 상부 후면에 일정한 간격을 유지하며 설치된다.
더욱 바람직하게 이동관의 선단부는 상기 연결관의 하측 단부를 향하여 하향 경사지게 설치된다.
더 바람직하게 물 분사 노즐은 사전 수처리 수조 상부의 상면에 복수개로 설치된다.
더욱 바람직하게 물 분사 노즐은 연결관의 하측 단부를 향하여 하향 경사지게 설치된다.
더 바람직하게 질소 분사 노즐은 사전 수처리 수조 상부의 상면에 복수개로 설치된다.
더욱 바람직하게 질소 분사 노즐은 사전 수처리 수조 상부의 상면에서 각 모서리 부위에 설치된다.
더 바람직하게 연결관의 상측 단부에는 원주 접선방향을 따라 설치되는 하나 이상의 물 유입구가 더 구비되어 상기 물 유입구를 통해 분사된 물이 연결관의 내주면을 따라 흘러내리면서 수막이 형성되도록 구성된다.
본 발명은 반도체 공정의 공정챔버에서 발생되는 공정가스가 버너로 유입되기에 전 수처리 과정을 거치도록 함으로써, 공정가스 내의 부식성 가스는 물론 공정가스에서 만들어질 수 있는 파우더가 수처리를 통해 미리 제거된 상태에서 버너로 유입되도록 구성함에 따라 버너의 내부에 파우더가 쌓이게 되어 화염이 꺼지거나, 버너와 연결된 연결배관에 파우더가 쌓이게 되면서 압력변화를 일으키는 현상등의 문제점 발생을 을 효과적으로 방지할 있는 것이다.
아울러 이와 같은 기재된 본 발명의 효과는 발명자가 인지하는지 여부와 무관하게 기재된 내용의 구성에 의해 당연히 발휘되게 되는 것이므로 상술한 효과는 기재된 내용에 따른 몇 가지 효과일 뿐 발명자가 파악한 또는 실재하는 모든 효과를 기재한 것이라 인정되어서는 안 된다.
또한, 본 발명의 효과는 명세서의 전체적인 기재에 의해서 추가로 파악되어야 할 것이며, 설사 명시적인 문장으로 기재되어 있지 않더라도 기재된 내용이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 명세서를 통해 그러한 효과가 있는 것으로 인정할 수 있는 효과라면 본 명세서에 기재된 효과로 보아야 할 것이다.
도 1 은 종래의 가스 스크러버의 구성을 예시한 요부 측면도이다.
도 2 는 본 발명의 일 실시 예에 따른 사전 수처리 장치가 구비된 가스 스크러버의 구성을 예시한 사시도이다.
도 3 은 본 발명의 일 실시 예에 따른 사전 수처리 장치를 예시한 요부 사시도이다.
도 4 는 본 발명의 일 실시 예에 따른 사전 수처리 장치를 예시한 요부 단면도이다.
도 5 는 본 발명의 일 실시 예에 따라 사전 수처리 장치에 설치되는 연결관 내주면에 수막을 형성하기 위한 실시 예를 보인 요부 평면도이다.
이하 본 발명의 바람직한 실시 예를 첨부된 도면을 토대로 상세하게 설명하면 다음과 같다.
이는 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 기재된 내용을 용이하게 실시할 수 있을 정도로 상세하게 설명하기 위한 것이며, 이로 인해 기재된 내용의 기술적인 사상 및 범주가 한정되는 것을 의미하지는 않는다.
또한, 도면에 도시된 구성요소의 크기나 형상 등은 설명의 명료성과 편의상 과장되게 도시될 수 있으며, 기재된 내용의 구성 및 작용을 고려하여 특별히 정의된 용어들은 사용자, 운용자의 의도 또는 관례에 따라 달라질 수 있고, 이러한 용어들에 대한 정의는 본 명세서 전반에 걸친 내용을 토대로 내려져야 한다.
우선, 본 발명에 따른 사전 수처리 장치의 구성은 크게 메인 수처리 탱크에 설치되는 사전 수처리 수조와, 공정챔버와 사전 수처리 수조를 연결하는 이동관과, 버너와 사전 수처리 수조를 연결하는 연결관과, 사전 수처리 수조 내부에 물을 분사하는 물 분사 노즐과, 사전 수처리 수조 내부에 질소를 분사하는 질소 분사 노즐을 포함하며, 이러한 구성에 대해 예시된 도면을 통해 상세히 살펴보면 다음과 같다.
사전 수처리 수조(100)는,
도 2 내지 도 4 에 예시한 바와 같이 메인 수처리 탱크(200)의 내부에 위치하며, 저면이 개방된 사각의 함체 형상을 가진다.
사전 수처리 수조(100)의 하부는 메인 수처리 탱크(200)의 내부에 위치하며, 도 4 에서와 같이 하부의 저면은 메인 수처리 탱크(200)의 바닥면으로부터 소정거리 이격됨에 따라 사전 수처리 수조(100)의 하부 일부분이 메인 수처리 탱크(200)에 수용된 물속으로 잠기게 된다.
사전 수처리 수조(100)의 상부는 메인 수처리 탱크(200)의 외부에 위치하며, 메인 수처리 탱크(200)의 상면으로부터 소정 거리 만큼 상향 돌출된다.
사전 수처리 수조(100)의 상부가 메인 수처리 탱크(200)의 상면으로부터 소정 거리 상향 돌출됨은 후술되는 이동관(110)과 연결관(120)을 통해 공정챔버(300) 및 버너(400)와의 연결을 위한 것이므로 공정챔버(300)와 버너(400)의 위치에 따라 사전 수처리 수조(100)의 상부 형상 및 메인 수처리 탱크(200) 상면에서의 설치위치는 필요에 따라 변형될 수 있다.
메인 수처리 탱크(200)에 사전 수처리 수조(100)를 설치함에 있어서, 그 결합방식은 어느 하나로 정해질 필요는 없으며, 일 예로 도 3 에서와 같이 메인 수처리 탱크(200)의 상면에 사전 수처리 수조(100)의 외형과 상응하는 개구부를 형성하고, 그러한 개구부를 통해 사전 수처리 수조(100)를 끼워 설치할 수 있으며, 사전 수처리 수조(100)의 외측둘레에는 고정 플랜지를 구비하여 그러한 고정 플랜지를 메인 수처리 탱크(200)의 상면 개구부 둘레에 결합시켜 고정시킬 수 있다. 이때 사전 수처리 수조(100)의 고정 플랜지 위치는 사전 수처리 수조(100)의 저면이 메인 수처리 탱크(200)의 바닥면으로부터 소정 거리 이격될 수 있는 위치에 구비됨이 바람직하다.
이동관(110)은,
도 2 에서와 같이 공정챔버(300)와 전술한 사전 수처리 수조(100)를 연결해주는 역할을 한다.
이동관(110)의 후단부는 공정챔버(300)와 연결된 주입부(310)와 연결되며, 이동관(110)의 선단부는 사전 수처리 수조(100)의 상부에 관통되어 그 내부에 위치된다.
사전 수처리 수조(100)에 설치되는 이동관(110)은 공정챔버(300)의 설치 위치에 따라 변경될 수 있으며, 본 실시 예에서는 공정챔버(300)가 사전 수처리 수조(100)의 후방에 위치됨에 따라 이동관(110)은 도 3 과 같이 사전 수처리 수조(100)의 상부 후면에 관통 설치된다.
공정챔버(300)에서 발생되는 공정가스는 이동관(110)을 통해 사전 수처리 수조(100)의 내부로 이동된 상태에서 후술되는 연결관(120)으로 이동하게 된다.
이동관(110)이 사전 수처리 수조(100)를 관통하는 각도는 수평은 물론 상향 경사지거나 본 실시 예인 도 3 과 같이 하향 경사지게 관통될 수도 있다.
이동관(110)은 다수개로 구성되어 서로 이격되어 배열될 수 있으며, 각 이동관(110)은 수평하게 배열될 수 있지만 도 3 과 같이 후술되는 연결관(120)을 향하는 방향으로 배열될 수도 있다.
연결관(120)은,
도 2 와 같이 버너(400)와 전술한 사전 수처리 수조(100)를 연결해주는 역할을 한다.
연결관(120)의 하측 단부는 전술한 사전 수처리 수조(100)의 상부 상면을 관통하여 소정 길이로 연장 형성되고, 연결관(120)의 상측 단부는 사전 수처리 수조(100) 상부의 상면에서 상향 돌출되어 반응기의 버너(400)와 연결된다.
연결관(120)은 사전 수처리 수조(100)의 버너(400) 위치에 따라 가변되어 설치될 수 있으며, 바람직하게는 사전 수처리 수조(100)의 상부 상면 중 어느 한쪽에 설치될 수 있고, 더 바람직하게는 도 3 에서와 같이 사전 수처리 수조(100)의 상부 상면 중앙에 설치될 수 있다.
연결관(120)의 하측 단부는 도 4 에서와 같이 사전 수처리 수조(100)의 내부에 위치하게 되는데, 하측 단부의 위치는 바람직하게 메인 수처리 탱크(200)의 상면과 동일 선상에 위치될 수 있으며, 필요에 따라서는 동일 선상의 위쪽 또는 아래쪽에 위치될 수도 있다.
연결관(120)은 버너(400)의 내부에 형성되는 압력에 의해 흡입력이 발생되며, 이에 따라 도 4 에서와 같이 전술한 이동관(110)에서 배출되는 공정가스는 자연스럽게 연결관(120)의 하측 단부를 통해 내부로 흡입되어 버너(400)로 이동하게 된다.
연결관(120)의 상측 단부에는 도 5 에서와 같이 원주 접선방향을 따라 하나 이상의 물 유입구(121)가 노즐의 형태로 설치될 수 있으며, 이러한 물 유입구(121)에서 공급된 물은 연결관(120)의 내주면을 따라 소용돌이 형태로 이동되면서 연결관(120)의 내주면에 수막을 형성하게 되며, 이러한 수막은 연결관(120) 내주면에서 발생될 수 있는 파우더의 생성을 방지해줄 수 있다.
물 분사 노즐(130)은,
전술한 사전 수처리 수조(100)의 내부에 물을 분사함으로써 이동관(110)에서 연결관(120)으로 이동되는 공정가스를 물에 반응시켜 공정가스 내의 파우더를 제거해준다.
사전 수처리 수조(100)에 관통 설치되는 물 분사 노즐(130)의 설치위치는 이동관(110)에서 배출되어 연결관(120)으로 이동되는 공정가스의 경로상에 효과적으로 물이 분사될 수 있는 최적의 위치에 구비될 수 있다.
본 실시 예에서는 도 3 및 도 4 에서와 같이 물 분사 노즐(130)이 사전 수처리 수조(100)의 상부 상면에서 연결관(120)의 중심으로 대향된 양측에 설치된 것이며, 이때 상부 상면을 관통하는 설치각도는 연결관(120)의 하측 단부를 향하여 하향 경사지게 설치된 것이다.
물 분사 노즐(130)의 개수나 설치위치 및 설치각도는 어느 하나로 정해질 필요는 없으며, 이동관(110)과 연결관(120)의 위치 및 이동관(110)에서 연결관(120)으로 이동되는 공정가스의 경로에 상응하여 적절한 개수와 배치와 형태를 가질 수 있다.
물 분사 노즐(130)에 사용되는 물은 외부에서 계속적으로 공급되는 시수 및 펌프 등을 이용하여 순환시켜주는 순환수가 사용될 수 있다. 순환수인 경우 도 2 에서와 같이 HCS와 같은 별도의 순환수 이물질 제거수단이 더 구비될 수 있다.
질소 분사 노즐(140)은,
전술한 사전 수처리 수조(100)의 내부에 질소를 분사함으로써, 이동관(110)에서 연결관(120)으로 이동되는 공정가스를 연결관(120)쪽으로 이동되도록 유도해준다.
사전 수처리 수조(100)에 관통 설치되는 질소 분사 노즐(140)의 설치위치는 이동관(110)에서 배출된 공정가스가 사전 수처리 수조(100)의 내부에서 연결관(120)쪽으로 이동되지 못하고 정체될 수 있는 부위에 설치될 수 있다.
본 실시 예에서는 도 3 및 도 4 에서와 같이 질소 분사 노즐(140)이 사전 수처리 수조(100)의 상부 상면에서 사방의 모서리에 수직 하방으로 관통되어 설치된 것이며, 이때 질소 분사 노즐(140)의 관통되는 설치위치와 각도는 다양하게 변형될 수 있다.
도면으로 예시되지는 않았지만 질소 분사 노즐(140)의 다른 실시 예로서, 질소 분사 노즐(140)이 각 이동관(110)에 근접 설치된 후 연결관(120)쪽을 향하여 분사되도록 구성함으로써, 이동관(110)에서 배출되는 공정가스가 연결관(120)쪽으로 자연스럽게 이동되도록 구성될 수도 있다.
질소 분사 노즐(140)의 설치위치는 상부 상면으로 한정될 필요 없이 상부 전후면 또는 양측면에 각각 또는 함께 설치될 수도 있다.
질소 분사 노즐(140)에서 분사되는 질소는 일 예이며, 다른 원소와 반응을 일으키지 않는 안정된 기체인 희가스류 원소인 아르곤, 네온, 헬륨 등의 비활성 가스가 사용될 수도 있다.
이와 같은 본 발명에 따른 사전 수처리 장치를 포함하는 스크러버를 통해 공정가스가 사전 수처리 되는 과정을 도 4 를 통해 살펴보면 다음과 같다.
반도체 공정에 사용되는 공정가스가 공정챔버(300)로부터 빠져나와 주입부(310)를 거쳐 반응기의 버너(400)로 이동함에 있어서, 주입부(310)에서 배출되는 공정가스는 주입부(310)와 연결된 이동관(110)을 통해 사전 수처리 수조(100)의 내부에서 배출되고, 배출된 공정가스는 버너(400)와 연결된 연결관(120)에서 발생되는 흡입력에 따라 연결관(120) 내부로 빨려들어가게 된다.
한편, 사전 수처리 수조(100)에는 물 분사 노즐(130)이 구비되어 사전 수처리 수조(100)의 내부에 물을 지속적으로 분사하고 있으며, 분사된 물은 이동관(110)에서 연결관(120)으로 이동되는 공정가스의 이동 경로상에 분사되어 이동관(110)을 통해 배출된 공정가스는 연결관(120)으로 이동되는 과정에서 물과의 접촉에 따라 파우더를 생성하게 되고, 이러한 파우더는 자중에 의해 낙하되면서 분사된 물과 함께 메인 수처리 탱크(200)의 바닥면에 떨어지게 된다.
또한, 이동관(110)에서 배출된 공정가스 중 물 분사 노즐(130)의 물 분사 범위에서 벗어나고, 연결관(120)의 흡입력으로부터 벗어나 사전 수처리 수조(100)의 어느 한 부위에 정체되는 공정가스는 사전 수처리 수조(100) 사방에 위치하여 분사되는 질소 분사 노즐(140)의 질소에 의해 연결관(120)쪽으로 이동되어 물과의 접촉 후 연결관(120)으로 이동될 수 있는 것이다.
한편, 공정가스 중 물 분사 노즐(130)에서 분사되는 물과 접촉되지 않은 공정가스가 연결관(120)으로 이동될 경우 연결관(120) 내주면에 파우더가 생성될 수 있다.
이에 따라 본 발명은 연결관(120)의 상측 단부에 원주 접선방향을 따라 물 유입구(121)를 설함으로써, 물 유입구(121)에서 분사되는 물이 연결관(120)의 내주면을 따라 소용돌이를 일으키면서 수막을 형성하여 연결관(120)의 내주면에 파우더가 생성되는 것을 방지할 수 있다.
이와 같이 물 분사 노즐(130)과 물 유입구(121)를 통해 분사되는 물에 의해 파우더가 제거된 공정가스는 이후 연결관(120)과 연결된 버너(400)로 유입된 후 연소/산화되거나 열분해되는 버닝과정을 거치게 된다.
그리고 버닝과정에서 처리되지 못한 미처리 가스는 세정공정을 거치게 되고 세정공정을 거친 처리가스는 필터와 덕트를 통해 대기중으로 배출되는 것이다.
이와 같이 기재된 내용의 상세한 설명에서는 구체적인 실시 예에 관한 설명을 하였으나, 기재된 내용의 범주에서 벗어나지 않는 한도 내에서 여러 가지 변형이 가능함은 물론이다. 그러므로 기재된 내용의 범위는 설명된 실시 예에 국한되어 정해져서는 안되며, 후술하는 특허청구범위뿐만 아니라 이 청구범위와 균등한 것들에 의해 정해져야 한다.
100 : 사전 수처리 수조 110 : 이동관
120 : 연결관 121 : 물 유입구
130 : 물 분사 노즐 140 : 질소 분사 노즐
200 : 메인 수처리 탱크 300 : 공정챔버
310 : 주입부 400 : 버너

Claims (8)

  1. 저면이 개방된 하부는 메인 수처리 탱크의 내부에 위치하고, 상부는 상기 메인 수처리 탱크의 상면에서 상향 돌출되어 형성된 사전 수처리 수조;
    후단부는 공정챔버와 연결된 주입부에 연결되며, 선단부는 상기 사전 수처리 수조의 상부에 관통되는 이동관;
    하측 단부는 상기 사전 수처리 수조 상부의 상면을 관통하여 소정 길이로 연장 설치되고, 상측 단부는 상기 사전 수처리 수조 상부의 상면에서 상향 돌출되어 반응기의 버너와 연결되는 연결관;
    선단부가 상기 사전 수처리 수조의 상부에 관통되어 내부에서 물을 분사하는 물 분사 노즐; 및
    선단부가 상기 사전 수처리 수조의 상부에 관통되어 내부에서 질소를 분사하는 질소 분사 노즐이 포함된 것을 특징으로 하는 사전 수처리 장치를 포함하는 스크러버.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 이동관은 복수로 구성되어 상기 사전 수처리 수조의 상부 후면에 일정한 간격을 유지하며 설치된 것을 특징으로 하는 사전 수처리 장치를 포함하는 스크러버.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 이동관의 선단부는 상기 연결관의 하측 단부를 향하여 하향 경사지게 설치되는 것을 특징으로 하는 사전 수처리 장치를 포함하는 스크러버.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 물 분사 노즐은 상기 사전 수처리 수조 상부의 상면에 복수개로 설치되는 것을 특징으로 하는 사전 수처리 장치를 포함하는 스크러버.
  5. 제 1 항 또는 제 4 항에 있어서,
    상기 물 분사 노즐은 상기 연결관의 하측 단부를 향하여 하향 경사지게 설치되는 것을 특징으로 하는 사전 수처리 장치를 포함하는 스크러버.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 질소 분사 노즐은 상기 사전 수처리 수조 상부의 상면에 복수개로 설치되는 것을 특징으로 하는 사전 수처리 장치를 포함하는 스크러버.
  7. 제 6 항에 있어서,
    상기 질소 분사 노즐은 상기 사전 수처리 수조 상부의 상면에서 각 모서리 부위에 설치된 것을 특징으로 하는 사전 수처리 장치를 포함하는 스크러버.
  8. 제 1 항에 있어서,
    상기 연결관의 상측 단부에는 원주 접선방향을 따라 설치되는 하나 이상의 물 유입구가 더 구비되어 상기 물 유입구를 통해 분사된 물이 상기 연결관의 내주면을 따라 흘러내리면서 수막이 형성되도록 구성된 것을 특징으로 하는 사전 수처리 장치를 포함하는 스크러버.







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