KR20160035819A - 박막 인덕터용 코일 유닛, 박막 인덕터용 코일 유닛의 제조방법, 박막 인덕터 및 박막 인덕터의 제조방법 - Google Patents

박막 인덕터용 코일 유닛, 박막 인덕터용 코일 유닛의 제조방법, 박막 인덕터 및 박막 인덕터의 제조방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20160035819A
KR20160035819A KR1020140127618A KR20140127618A KR20160035819A KR 20160035819 A KR20160035819 A KR 20160035819A KR 1020140127618 A KR1020140127618 A KR 1020140127618A KR 20140127618 A KR20140127618 A KR 20140127618A KR 20160035819 A KR20160035819 A KR 20160035819A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
layer
plating
insulating
insulating layer
thin film
Prior art date
Application number
KR1020140127618A
Other languages
English (en)
Other versions
KR102185067B1 (ko
Inventor
박정우
김동민
Original Assignee
삼성전기주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성전기주식회사 filed Critical 삼성전기주식회사
Priority to KR1020140127618A priority Critical patent/KR102185067B1/ko
Priority to US14/822,440 priority patent/US9892844B2/en
Priority to CN201510612320.7A priority patent/CN105448491B/zh
Publication of KR20160035819A publication Critical patent/KR20160035819A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102185067B1 publication Critical patent/KR102185067B1/ko

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01FMAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F27/00Details of transformers or inductances, in general
    • H01F27/28Coils; Windings; Conductive connections
    • H01F27/2804Printed windings
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01FMAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F41/00Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
    • H01F41/02Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets
    • H01F41/04Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for manufacturing cores, coils, or magnets for manufacturing coils
    • H01F41/041Printed circuit coils
    • H01F41/042Printed circuit coils by thin film techniques
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01FMAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F27/00Details of transformers or inductances, in general
    • H01F27/28Coils; Windings; Conductive connections
    • H01F27/2804Printed windings
    • H01F2027/2809Printed windings on stacked layers

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Coils Or Transformers For Communication (AREA)
  • Manufacturing Cores, Coils, And Magnets (AREA)

Abstract

본 발명은 박막 인덕터용 코일 유닛, 박막 인덕터용 코일 유닛의 제조방법, 박막 인덕터 및 박막 인덕터의 제조방법에 관한 것이다.
본 발명에 따른 박막 인덕터용 코일 유닛은, 제1 및 제2 절연층의 이중의 절연층을 갖는 절연재; 및 상기 절연재에 내장 형성되는 복수의 코일패턴;을 포함하되, 상기 코일패턴은, 적어도 하나의 코일패턴이 나머지 다른 코일패턴과 상이한 두께를 가진다.

Description

박막 인덕터용 코일 유닛, 박막 인덕터용 코일 유닛의 제조방법, 박막 인덕터 및 박막 인덕터의 제조방법{COIL UNIT FOR THIN FILM INDUCTOR, MANUFACTURING METHOD OF COIL UNIT FOR THIN FILM INDUCTOR, THIN FILM INDUCTOR AND MANUFACTURING METHOD OF THIN FILM INDUCTOR}
본 발명은 박막 인덕터용 코일 유닛, 박막 인덕터용 코일 유닛의 제조방법, 박막 인덕터 및 박막 인덕터의 제조방법에 관한 것이다.
최근 전자산업의 발전으로 휴대폰을 비롯한 전자제품의 소형화, 고기능화가 급속도로 진행되고 있고, 이에 따라 필연적으로 전자제품에 사용되는 부품도 가볍고, 작으면서 고기능을 수행할 필요성이 생겼다. 따라서 전자제품에 사용되는 인덕터의 개발분야에서도 소형화 및 박형화가 더욱더 중요한 과제로서 대두되고 있다.
이러한 흐름에 따라 고기능화 뿐만 아니라, 소형화 및 박형화의 특성도 양립할 수 있는 인덕터 개발에 초점이 맞추어지고 있으며, 이러한 인덕터로서 최근에는 박막 인덕터가 개발되어 실용화되고 있다.
현재까지의 박막 인덕터는, 절연 기판 위 아래로 코일패턴을 형성한 코일 유닛을 주로 채택하고 있다.
그러나 상기와 같은 구조의 박막 인덕터용 코일 유닛은, 절연기판 위 아래로 코일 패턴을 형성하는 것이어서, 코일 유닛의 전체적인 두께가 두꺼워질 뿐만 아니라, 도금 두께 산포, 패턴 간의 쇼트(short) 문제 등으로 인해 박막 인덕터 특성 등을 설계하는 데 있어 어려움이 발생하게 된다.
따라서, 작고 얇은 기기를 선호하는 최근의 추세에 대응할 수 있을 뿐 아니라 박막 인덕터 특성 등을 보다 자유롭게 설계할 수 있는 박막 인덕터용 코일 유닛 및 이를 구비한 박막 인덕터의 개발이 필요한 실정이다.
대한민국공개특허공보 제1999-0066108호
본 발명의 일 목적은, 소형화 및 박형화가 가능하고 박막 인덕터의 특성을 보다 자유롭게 설계할 수 있는 박막 인덕터용 코일 유닛 및 그 제조방법과 박막 인덕터 및 그 제조방법을 제공하는 데 있다.
또한, 본 발명의 다른 목적은, 제조공정을 단순화하여 대량생산을 가능하게 하는 박막 인덕터용 코일 유닛 및 그 제조방법과 박막 인덕터 및 그 제조방법을 제공하는 데 있다.
본 발명의 상기 목적은, 절연재에 내장 형성된 복수의 코일패턴 중 적어도 하나의 코일패턴이 나머지 다른 코일패턴과 상이한 두께를 가지는 박막 인덕터용 코일 유닛 및 그 제조방법, 그리고 박막 인덕터 및 그 제조방법이 제공됨에 의해 달성된다.
또한 본 발명의 상기 목적은, 접착층을 매개로 기재층의 양면에 각각 접착되는 한 쌍의 금속층 각각에 회로패턴을 형성한 후 이를 분리하는 공정을 채택하는 박막 인덕터용 코일 유닛 및 그 제조방법, 그리고 박막 인덕터 및 그 제조방법이 제공됨에 의해 달성된다.
상기와 같은 본 발명에 따르면, 소형화 및 박형화가 가능하고 박막 인덕터의 특성을 보다 자유롭게 설계할 수 있게 된다.
또한 상기와 같은 본 발명에 따르면, 제조공정을 단순화하여 대량생산이 가능하게 된다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 박막 인덕터용 코일 유닛의 개략적인 단면도.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 박막 인덕터용 코일 유닛의 제조방법을 설명하기 위한 흐름도.
도 3은 본 실시예에 따른 박막 인덕터용 코일 유닛의 제조방법에 이용되는 캐리어의 개략적인 단면도.
도 4a 내지 도 4d는 도 2의 제1 도금층 및 제1 절연층 형성단계를 나타내는 공정도.
도 5a 내지 도 5d는 도 2의 제2 도금층 및 제2 절연층 형성단계를 나타내는 공정도.
도 6a 내지 도 6c는 도 2의 금속층 분리단계 및 절연 레지스트 형성단계를 나타내는 공정도.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 박막 인덕터의 개략적인 단면도.
본 발명에 따른 박막 인덕터용 코일 유닛 및 그 제조방법과 본 발명에 따른 박막 인덕터 및 그 제조방법의 상기 목적에 대한 기술적 구성을 비롯한 작용효과에 관한 사항은 본 발명의 바람직한 실시예가 도시된 도면을 참조한 아래의 상세한 설명에 의해서 명확하게 이해될 것이다.
또한, 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명은 생략한다. 본 명세서에서 제1, 제2 등의 용어는 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하기 위해 사용되는 것으로 구성요소가 상기 용어들에 의해 제한되는 것은 아니다.
<박막 인덕터용 코일 유닛>
먼저, 도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 박막 인덕터용 코일 유닛(100)의 개략적인 단면도를 나타낸 것이다.
도 1에 도시된 바와 같이, 본 실시예에 따른 박막 인덕터용 코일 유닛(100)은, 절연재(110) 및 코일패턴(120)을 포함하여 구성될 수 있다.
먼저 절연재(110)는, 이중의 절연층을 가질 수 있으며 이에 따라 도 1에 도시된 바와 같이, 제1 절연층(111) 및 제2 절연층(112)을 포함할 수 있다.
이때 본 실시예의 제1 및 제2 절연층(111, 112)은 감광성 절연층으로 형성될 수 있으나, 본 발명은 이에 한정되는 것은 아니며 절연 특성을 가지는 것이라면 그 어떠한 재질로도 형성될 수 있다.
또한 본 실시예의 제1 및 제2 절연층(111, 112)은, 도 1에 도시된 바와 같이, 복수의 코일패턴(120)을 내장하고 있다.
이때 본 실시예에서는, 제1 절연층(111)을 프리프레그(PPG)와 레진(resin)의 혼합물로 형성하고, 제2 절연층(112)을 레진 타입으로 형성하는 경우를 예로 들고 있으나, 본 발명은 이에 한정되지 않으며, 복수의 코일패턴(120)을 내장 보호할 수 있는 것이라면 어떠한 재질도 가능하다.
따라서 제1 절연층(111)을 레진 타입으로, 제2 절연층(112)을 프리프레그와 레진의 혼합물로 형성할 수도 있으며, 아울러 아크릴계 폴리머, 페놀계 폴리머, 폴리이미드계 폴리머 중 선택되는 적어도 한 물질 또는 적어도 두 물질의 혼합물로 형성하는 등의 다양한 응용도 가능하다.
본 실시예와 같이 이중 절연층 구조를 갖는 절연재(110)를 채택할 경우에는, 단일 절연층을 갖는 구조에 비해 절연재의 두께 조절이 자유롭다. 따라서 본 실시예의 경우, 코일패턴과 자성체 사이의 절연거리, 코일 간의 간격 등을 자유롭게 조절할 수 있으므로, 박막 인덕터의 정전용량 특성을 보다 자유롭게 설계 형성할 수 있게 된다.
다음으로 코일패턴(120)은, 도 1에 도시된 바와 같이, 절연재(110)에 내장 형성되는 것으로 복수개를 포함할 수 있다.
본 실시예와 같이, 절연재(110)에 복수의 코일패턴(120)을 내장 형성시킴으로써, 절연재 위 아래로 코일패턴을 형성한 코일 유닛에 비해 그 전체 두께를 최소화할 수 있으며, 이에 따라 이를 구비한 박막 인덕터의 소형화 및 박형화까지도 달성할 수 있게 된다.
또한 코일패턴(120)은, 적어도 하나의 코일패턴이 나머지 다른 코일패턴과 상이한 두께를 가진다. 본 실시예에서는 도 1에 도시된 바와 같이, 하나의 코일패턴(120-1)이 나머지 다른 코일패턴(120-2)과 상이한 두께를 가지는 것을 예시하고 있으나, 본 발명은 이에 한정되는 것은 아니며, 둘 이상의 코일패턴이 나머지 다른 코일패턴과 상이한 두께를 가지는 구조를 채택할 수 있음은 물론이다.
본 실시예와 같이, 박막 인덕터용 코일 형성에 있어서, 적어도 하나의 코일패턴을 나머지 다른 코일패턴과 상이한 두께를 가지도록 함으로써, 이러한 두께 조절을 통해 코일패턴의 단면적을 각각 다르게 조절 형성할 수 있게 되고, 이에 따라 임피던스 등의 박막 인덕터 특성을 보다 자유롭게 설계 형성할 수 있게 된다.
한편 본 실시예의 코일패턴(120)은, 도 1에 도시된 바와 같이, 제1 및 제2 도금층(121, 122)을 포함할 수 있다.
제1 도금층(121)은 절연재(110)의 제1 절연층(111)에 내장 형성되며, 본 실시예의 경우 도 1에 도시된 바와 같이, 제1 절연층(111)의 하면으로부터 내장 형성될 수 있다.
이때 제1 도금층(121)은, 구리(Cu), 금(Au), 은(Ag), 알루미늄(Al), 니켈(Ni) 중 선택되는 적어도 한 물질 또는 적어도 두 물질의 혼합물로 이루어질 수 있으나, 본 발명은 이에 한정되는 것은 아니다.
또한 제2 도금층(122)은 절연재(110)의 제2 절연층(112)에 내장 형성되며, 본 실시예의 경우 도 1에 도시된 바와 같이, 제2 절연층(112)의 하면으로부터 내장 형성될 수 있다.
이때 제2 도금층(122)은, 제1 도금층(121)과 마찬가지로, 구리(Cu), 금(Au), 은(Ag), 알루미늄(Al), 니켈(Ni) 중 선택되는 적어도 한 물질 또는 적어도 두 물질의 혼합물로 이루어질 수 있으나, 본 발명은 이에 한정되는 것은 아니다.
또한 제1 및 제2 도금층(121, 122)은, 도 1에 도시된 바와 같이, 일방성 도금으로 형성될 수 있으나, 본 발명은 이에 한정되는 것은 아니며, 일방성 도금뿐만 아니라 이방성 도금 등을 통해서도 형성될 수 있음은 물론이다.
한편 코일패턴(120)의 제1 및 제2 도금층(121, 122) 중 적어도 하나는, 복수의 도금층으로 형성될 수도 있다. 본 실시예에서는, 도 1에 도시된 바와 같이, 제2 절연층(112)에 내장 형성된 제2 도금층(122)을 복수의 도금층으로 형성하고 있으나, 본 발명은 이에 한정되지 않으며 제1 절연층(111)에 내장 형성된 제1 도금층(121)도 복수의 도금층으로 형성할 수 있다.
상기와 같이 코일패턴의 도금층을 복수층으로 형성할 경우, 이를 통해 코일패턴의 단면적 조절이 가능하며, 따라서 박막 인덕터 특성(예를 들어 임피던스 특성 등)의 설계 자유도를 더욱 향상시킬 수 있게 된다.
한편 본 실시예에 따른 박막 인덕터용 코일 유닛(100)은, 각 코일패턴, 외부 회로패턴 간의 전기적 연결 등을 위해 도전성 비아홀(미도시)을 더 포함할 수도 있다. 즉 절연재(110) 내에, 기계적인 방법이나 레이저 또는 포토리소그래피 공정 등으로 비아홀을 가공하고, 그 비아홀에 디스미어(desmear), 화학동 등의 공정을 통해 도금하여 도전성 비아홀을 형성할 수도 있다.
또한 본 실시예에 따른 박막 인덕터용 코일 유닛(100)은, 도 1에 도시된 바와 같이, 절연재(110)의 상하면, 즉 제1 절연층(111)의 하면과 제2 절연층(112)의 상면에 절연을 위한 솔더 레지스트(130)를 형성할 수 있다. 그러나 본 발명은 이에 한정되는 것이 아니어서, 제1 도금층(121) 중 제1 절연층(111) 하면에서 노출되는 부분 및 제2 도금층(122) 중 제2 절연층(112) 상면에서 노출되는 부분에만 솔더 레지스트(130)를 형성할 수도 있으며, 또한 제1 및 제2 도금층(121, 122)의 노출부분을 보호할 수 있는 절연 레지스트라면 어떠한 레지스트라도 사용 가능하다.
<박막 인덕터용 코일 유닛의 제조방법>
먼저 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 박막 인덕터용 코일 유닛의 제조방법을 설명하기 위한 흐름도이다.
도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 박막 인덕터용 코일 유닛의 제조방법은, 접착층을 매개로 기재층의 양면에 각각 접착되는 한 쌍의 금속층 각각에 제1 도금층을 형성하고, 상기 제1 도금층을 내장하도록 제1 절연층을 형성하는 단계(S110), 제2 도금층을 형성하고 상기 제2 도금층을 내장하도록 제2 절연층을 형성하는 단계(S120) 및 기재층으로부터 한 쌍의 금속층을 분리하는 단계(S130)를 포함할 수 있다. 아울러 금속층을 분리하는 단계(S130) 이후에 절연 레지스트를 형성하는 단계(S140)를 더 포함할 수도 있다. 이때 상기 제1 및 제2 도금층을 포함하는 복수의 코일패턴 중 적어도 하나의 코일패턴은 나머지 다른 코일패턴과 상이한 두께를 가지도록 형성된다.
본 실시예는 도 3에 도시된 캐리어를 이용하는 제조방법을 채택할 수 있는데, 도 3은 본 실시예에 따른 박막 인덕터용 코일 유닛의 제조방법에 이용되는 캐리어의 개략적인 단면도를 나타낸다.
본 실시예에 따른 박막 인덕터용 코일 유닛의 제조방법은, 도 3에 도시된 바와 같이, 접착층(12)을 매개로 기재층(11)의 양면에 각각 접착되는 한 쌍의 금속층(13)이 형성되는 캐리어(10)를 이용할 수 있다.
이때 캐리어(10)는, 도 3에 도시된 바와 같이, 기재층(11)과, 기재층(11)의 양면에 각각 적층되는 한 쌍의 접착층(12) 및 한 쌍의 접착층(12)에 각각 접착되는 한 쌍의 금속층(13)을 포함할 수 있다.
기재층(11)은 기재층(11)의 양면에 형성되는 접착층(12)을 양분하여 접착층(12)에 각각 접착되는 금속층(13)을 개별적으로 분리할 수 있도록 한다. 기재층(11)으로는 종이, 부직포, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 및 폴리부틸렌 등의 합성수지가 사용될 수 있다.
접착층(12)은 기재층(11)의 양면에 각각 적층되며, 소정의 인자에 의해 접착력이 저하되며, 소정의 인자로는 자외선 또는 열이 될 수 있다.
접착층(12)에 접착되는 금속층(13)은 접착층(12)에 접착되어 있다가 소정의 인자에 의해 접착층(12)의 접착력이 저하되어 기재층(11)으로부터 용이하게 분리될 수 있어야 한다.
접착층(12)을 형성하는 접착제는 소정의 인자에 의해 접착제의 물성이 변화되어 접착력이 저하됨으로써 금속층(13)이 기재층(11)으로부터 쉽게 분리될 수 있도록 한다.
예를 들면, 자외선의 조사에 의해 가스가 발생하는 재료가 배합된 접착제를 사용하여 이를 접착층(12)으로 형성하면, 금속층(13)을 분리하고자 할 때 자외선을 조사하면 접착층(12) 내에서 가스가 발생하여 접착층(12)의 최적이 변화되면서 접착력이 저하된다.
또한, 소정 온도의 열에 의해 발포되는 재료가 배합된 발포성 접착제를 사용하여 이를 접착층(12)으로 형성하면, 금속층(13)을 분리하고자 할 때 소정 온도를 가하면 접착층(12) 내에서 발포가 일어나게 되고 이에 따라 접착면이 요철화되면서 접착성이 저하된다.
금속층(13)은 기재층(11)에 접착층(12)에 접착되어 있다가, 필요 시 기재층(11)으로부터 분리된다.
예를 들면, 본 실시예에 따른 제조방법에 따르면, 한 쌍의 금속층(13) 각각에 양각의 제1 도금층(121)을 형성하고, 상기 제1 도금층(121)이 제1 절연층(111)을 통해 내장되도록 하며, 그 위에 제2 도금층(122)이 제2 절연층(112)을 통해 내장되도록 한 후, 한 쌍의 금속층(13)을 기재층(11)으로부터 분리하면, 절연재(110)에 회로패턴이 내장 형성된 2개의 박막 인덕터용 코일 유닛을 한꺼번에 제조할 수 있는 것이다.
상기와 같이 본 실시예는, 캐리어(10)를 이용하는 공정, 보다 구체적으로는, 캐리어(10)의 한 쌍의 금속층(13) 각각에 회로패턴을 형성한 후 회로패턴이 형성된 금속층(13)을 각각 분리하는 공정을 채택함으로써, 한번의 공정으로 2개의 박막 인덕터용 코일 유닛을 제조할 수 있게 되며, 이에 따라 제조공정을 단순화하여 대량 생산을 가능하게 할 수 있다.
한편 기재층(11)으로부터 금속층(13)의 분리는, 기재층(11)과 금속층(13) 사이에 개재되는 접착층(12)의 접착력을 저하시켜 이루어질 수 있다. 즉, 접착제에 소정의 인자를 가해 접착층(12)의 접착력이 저하되면 금속층(13)을 기재층(11)으로부터 분리할 수 있다.
금속층(13)은 전도성 금속으로 이루어질 수 있는데, 이 경우 전도성 금속은 구리(Cu), 금(Au), 은(Ag), 니켈(Ni), 팔라디움(Pd) 및 백금(Pt)로 구성된 군에서선택된 적어도 하나 이상으로 이루어질 수 있으나, 본 발명은 이에 한정되는 것으 아니며, 상기의 금속 중 하나로 금속층(13)을 형성하거나, 이들을 조합하여 금속층(13)을 형성하는 등의 다양한 응용도 가능하다.
후술하는 도면은 본 발명의 일 실시예에 따른 박막 인덕터용 코일 유닛의 제조방법을 나타내는 공정도로서 이를 통해 상기 제조방법의 각 단계를 구체적으로 살펴보면 다음과 같다.
먼저 도 4a 내지 도 4d는 도 2의 S110 단계, 즉 제1 도금층 및 제1 절연층 형성단계를 나타내는 공정도이다.
도 2, 도 4a 내지 도 4d에 도시된 바와 같이, 본 실시예에 따른 제1 도금층 및 제1 절연층 형성단계(S110)는, 복수의 코일패턴 중 두께가 동일한 코일패턴의 제1 도금층에 대응되는 제1 도금레지스트를 한 쌍의 금속층 각각에 형성하여, 금속층의 소정 영역을 노출시키는 단계(S111), S111 단계에서 노출된 금속층 영역에 두께가 동일한 코일패턴의 제1 도금층을 형성하는 단계(S112), S111 단계에서 형성된 제1 도금레지스트를 제거하는 단계(S113), S113 단계에서 제1 도금레지스트가 제거된 금속층 영역 및 두께가 동일한 코일패턴의 제1 도금층에, 제1 절연층을 형성하는 단계(S114), 복수의 코일패턴 중 두께가 상이한 코일패턴의 제1 도금층에 대응되는 제1 절연층 부분을 제거하여, 금속층의 소정 영역을 노출시키는 단계(S115) 및 S115 단계에서 노출된 금속층 영역에, 두께가 상이한 코일패턴의 제1 도금층을 형성하는 단계(S116)를 포함할 수 있다.
본 실시예에 따른 제1 도금층 및 제1 절연층 형성단계(S110)를 보다 구체적으로 살펴보면, 먼저 도 4a에 도시된 바와 같이, 캐리어(10)의 한쌍의 금속층(13) 각각에, 복수의 코일패턴 중 두께가 동일한 코일패턴의 제1 도금층에 상응하는 제1 도금레지스트(14)를 형성하여, 금속층(13)의 소정 영역(두께가 동일한 코일패턴의 제1 도금층 영역)을 노출시킬 수 있다(S111).
이때, 제1 도금레지스트(14)로서, 드라이 필름 레지스트(Dry Film Resist, DFR)를 사용할 수 있으나, 본 발명에서는 이에 한정되는 것은 아니며, 코일패턴의 도금층을 형성할 수 있다면, 포토 레지스트 등 어떠한 형태의 레지스트 패턴이라도 가능하다
그리고, 도 4b에 도시된 바와 같이, 금속층(13)을 전극으로 하여 전해도금을 수행하여 한 쌍의 금속층(13) 각각에 있어 S111 단계에서 노출된 금속층 영역(제1 도금레지스트(14)가 형성되지 않은 금속층 영역)을 도전성 물질로 충진함으로써, 두께가 동일한 코일패턴의 제1 도금층(121-2)을 형성할 수 있다(S112).
이때 S112 단계에서 형성되는 제1 도금층(121-2)은, 구리(Cu), 금(Au), 은(Ag), 알루미늄(Al), 니켈(Ni) 중 선택되는 적어도 한 물질 또는 적어도 두 물질의 혼합물로 이루어질 수 있으나, 본 발명은 이에 한정되는 것은 아니다.
또한 S112 단계에서 형성되는 제1 도금층(121-2)은, 도 4b에 도시된 바와 같이, 일방성 도금으로 형성될 수 있으나, 본 발명은 이에 한정되는 것은 아니며, 일방성 도금 뿐만 아니라 이방성 도금 등을 통해서도 형성될 수 있음은 물론이다.
그리고 제1 도금레지스트(14)를 노광, 현상 등의 공정을 통해 제거함(S113)으로써, 도 4b에 도시된 바와 같이, 한 쌍의 금속층(13) 각각에, 두께가 동일한 코일패턴의 제1 도금층(121-2)을 형성할 수 있다.
그리고 S113 단계에서 제1 도금레지스트(14)가 제거된 금속층 영역과 S112 단계에서 형성된 제1 도금층(121-2)에, 제1 절연층(111)을 개입 형성(S114)하여, 도 4c에 도시된 바와 같이, S112 단계에서 형성된 제1 도금층(121-2)들이 제1 절연층(111)에 내장되도록 한다. 이때 제1 절연층(111)은 감광성 절연층으로 형성될 수 있으나 본 발명은 이에 한정되는 것은 아니며 절연 특성을 가지는 것이라면 그 어떠한 재질로도 형성될 수 있다.
그리고 도 4c에 도시된 바와 같이, 복수의 코일패턴 중 두께가 상이한 코일패턴의 제1 도금층에 상응하는 제1 절연층 부분을 노광, 현상 등의 공정을 통해 제거함으로써, 금속층(13)의 소정 영역(두께가 상이한 코일패턴의 제1 도금층 영역)을 다시 노출시킬 수 있다(S115).
그리고 도 4d에 도시된 바와 같이, 금속층(13)을 전극으로 하여 전해도금을 수행하여 한 쌍의 금속층(13) 각각에 있어 S115 단계에서 노출된 금속층 영역(제1 절연층 부분이 제거된 금속층 영역)을 도전성 물질로 충진함으로써, 두께가 상이한 코일패턴의 제1 도금층(121-1)을 형성할 수 있다(S116). 따라서 S116 단계에서 형성된 제1 도금층(121-1)은, 도 4d에 도시된 바와 같이, 제1 절연층(111)에 내장되게 된다.
이때 S116 단계에서 형성되는 제1 도금층(121-1)은, S112 단계에서 형성된 제1 도금층(121-2)과 마찬가지로, 구리(Cu), 금(Au), 은(Ag), 알루미늄(Al), 니켈(Ni) 중 선택되는 적어도 한 물질 또는 적어도 두 물질의 혼합물로 이루어질 수 있으나, 본 발명은 이에 한정되는 것은 아니다.
또한 S116 단계에서 형성되는 제1 도금층(121-1)은, 도 4d에 도시된 바와 같이, 일방성 도금으로 형성될 수 있으나, 본 발명은 이에 한정되는 것은 아니며, 일방성 도금 뿐만 아니라 이방성 도금 등을 통해서도 형성될 수 있음은 물론이다.
아울러, 상술한 제1 도금층 및 제1 절연층 형성단계(S110)를 수행한 후에는, 각 코일패턴, 외부 회로패턴 간의 전기적 연결 등을 위하여 비아홀을 가공할 수 있으며, 가공된 비아홀에 디스미어, 화학동 등의 공정으로 도금하여 도전성 비아홀(미도시)을 형성할 수도 있다. 이때의 비아홀은 기계적인 방법이나 레이저 또는 포토리소그래피 공정 등으로 가공될 수 있으나, 본 발명은 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.
다음으로 도 5a 내지 도 5d는 도 2의 S120 단계, 즉 제2 도금층 및 제2 절연층 형성단계를 나타내는 공정도이다.
도 2, 도 5a 내지 도 5d에 도시된 바와 같이, 본 실시예에 따른 제2 도금층 및 제2 절연층 형성단계(S120)는, 복수의 코일패턴 중 두께가 동일한 코일패턴의 제2 도금층에 대응되는 제2 도금레지스트를 제1 절연층에 형성하여, 제1 절연층의 소정 영역을 노출시키는 단계(S121), S121 단계에서 노출된 제1 절연층 영역에 두께가 동일한 코일패턴의 제2 도금층을 형성하는 단계(S122), S121 단계에서 형성된 제2 도금레지스트를 제거하는 단계(S123), S123 단계에서 제2 도금레지스트가 제거된 제1 절연층 영역 및 두께가 동일한 코일패턴의 제2 도금층에, 제2 절연층을 형성하는 단계(S124), 복수의 코일패턴 중 두께가 상이한 코일패턴의 제2 도금층에 대응되는 제2 절연층 부분을 제거하여, S116 단계에서 형성된 제1 도금층을 노출시키는 단계(S125) 및 S125 단계에서 노출된 제1 도금층에, 두께가 상이한 코일패턴의 제2 도금층을 형성하는 단계(S126)를 포함할 수 있다.
본 실시예에 따른 제2 도금층 및 제2 절연층 형성단계(S120)를 보다 구체적으로 살펴보면, 먼저 도 5a에 도시된 바와 같이, 제1 절연층(111) 각각에, 복수의 코일패턴 중 두께가 동일한 코일패턴의 제2 도금층에 상응하는 제2 도금레지스트(16)를 형성하여, 제1 절연층(111)의 소정 영역(두께가 동일한 코일패턴의 제2 도금층 영역)을 노출시킬 수 있다(S121).
이때, 제2 도금레지스트(16)로서, S111 단계에서의 제1 도금레지스트(14)와 마찬가지로, 드라이 필름 레지스트(Dry Film Resist, DFR)를 사용할 수 있으나, 본 발명에서는 이에 한정되는 것은 아니며, 코일패턴의 도금층을 형성할 수 있다면, 포토 레지스트 등 어떠한 형태의 레지스트 패턴이라도 가능하다.
그리고, 도 5b에 도시된 바와 같이, 전해도금을 수행하여 S121 단계에서 노출된 제1 절연층 영역(제2 도금레지스트(16)가 형성되지 않은 제1 절연층 영역)을 도전성 물질로 충진함으로써, 두께가 동일한 코일패턴의 제2 도금층(122-2)을 형성할 수 있다(S122).
이때 S122 단계에서 형성되는 제2 도금층(122-2)은, 구리(Cu), 금(Au), 은(Ag), 알루미늄(Al), 니켈(Ni) 중 선택되는 적어도 한 물질 또는 적어도 두 물질의 혼합물로 이루어질 수 있으나, 본 발명은 이에 한정되는 것은 아니다.
또한 S122 단계에서 형성되는 제2 도금층(122-2)은, 도 5b에 도시된 바와 같이, 일방성 도금으로 형성될 수 있으나, 본 발명은 이에 한정되는 것은 아니며, 일방성 도금 뿐만 아니라 이방성 도금 등을 통해서도 형성될 수 있음은 물론이다.
아울러 S122 단계에서 형성되는 제2 도금층(122-2)은, 도 5b에 도시된 바와 같이, 전해도금을 위한 전극으로서 금속 시드층(S)을 더 포함할 수 있으며, 이에 따라 S122 단계에서 형성되는 제2 도금층(122-2)은 복수의 도금층으로 형성될 수 있게 된다. 그러나 본 발명은 이에 한정되는 것은 아니어서 제1 및 제2 도금층 중 적어도 하나를 복수의 도금층으로 형성할 수 있다. 따라서 제2 도금층 뿐만 아니라 제1 도금층도 복수의 도금층으로 형성할 수 있다.
따라서 본 실시예의 제조방법에 따르면, 상기와 같이 코일패턴의 도금층을 복수층으로 형성할 수 있으므로, 코일패턴의 단면적 조절이 가능하며, 이를 통해 박막 인덕터 특성(예를 들어 임피던스 특성 등)의 설계 자유도를 더욱 향상시킬 수 있게 된다.
그리고 제2 도금레지스트(16)를 노광, 현상 등의 공정을 통해 제거함(S123)으로써, 도 5b에 도시된 바와 같이, 두께가 동일한 코일패턴(120-2)의 제2 도금층(122-2)을 제1 절연층(111) 상에 형성할 수 있다.
그리고 S123 단계에서 제2 도금레지스트(16)가 제거된 제1 절연층 영역과 S122 단계에서 형성된 제2 도금층(122-2)에, 제2 절연층(112)을 개입 형성(S124)하여, 도 5c에 도시된 바와 같이, S122 단계에서 형성된 제2 도금층(122-2)들이 제2 절연층(112)에 내장되도록 한다. 이때 제2 절연층(112)은 감광성 절연층으로 형성될 수 있으나 본 발명은 이에 한정되는 것은 아니며 절연 특성을 가지는 것이라면 그 어떠한 재질로도 형성될 수 있다.
그리고 도 5c에 도시된 바와 같이, 복수의 코일패턴 중 두께가 상이한 코일패턴의 제2 도금층에 상응하는 제2 절연층 부분을 노광, 현상 등의 공정을 통해 제거함으로써, S116 단계에서 형성된 제1 도금층(121-1)을 노출시킬 수 있다(S125).
그리고 도 5d에 도시된 바와 같이, 전해도금을 수행하여 S125 단계에서 노출된 제1 도금층(121-1)에 도전성 물질을 충진함으로써, 두께가 상이한 코일패턴(120-1)의 제2 도금층(122-1)을 형성할 수 있다(S126). 따라서 S126 단계에서 형성된 제2 도금층(122-1)은, 도 5d에 도시된 바와 같이 제2 절연층(112)에 내장되게 된다.
이때 S126 단계에서 형성되는 제2 도금층(122-1)은, S122 단계에서 형성된 제2 도금층(122-2)과 마찬가지로, 구리(Cu), 금(Au), 은(Ag), 알루미늄(Al), 니켈(Ni) 중 선택되는 적어도 한 물질 또는 적어도 두 물질의 혼합물로 이루어질 수 있으나, 본 발명은 이에 한정되는 것은 아니다.
또한 S126 단계에서 형성되는 제2 도금층(122-1)은, 도 5d에 도시된 바와 같이, 일방성 도금으로 형성될 수 있으나, 본 발명은 이에 한정되는 것은 아니며, 일방성 도금 뿐만 아니라 이방성 도금 등을 통해서도 형성될 수 있음은 물론이다.
다음으로 도 6a 내지 도 6c는 도 2의 S130 단계 및 S140 단계, 즉 금속층 분리단계 및 절연 레지스트 형성단계를 나타내는 공정도이다.
본 실시예에 따른 금속층 분리단계(S130)는, 도 2, 도 6a에 도시된 바와 같이, 기재층으로부터 한 쌍의 금속층을 분리할 수 있다.
즉 도 6a에 도시된 바와 같이, 본 실시예에 따른 금속층 분리단계(S130)에서는, 도 5d의 기재층(11)으로부터 한 쌍의 금속층(13)을 분리할 수 있으며, 이에 따라 한번의 공정으로 2개의 박막 인덕터용 코일 유닛을 제조할 수 있게 되므로, 그 제조공정을 단순화하여 대량 생산을 가능하게 할 수 있다.
또한 본 실시예에 따른 금속층 분리단계(S130)에서는, 도 3을 참조하면, 기재층(11)의 양면에는 소정의 인자에 의해 접착력이 저하되는 접착층(12)이 적층되어 있고 접착층(12)에는 금속층(13)이 각각 접착되어 있으므로, 접착층(12)에 소정의 인자를 가해 접착층(12)의 접착력을 저하시킨 후 금속층(13)을 분리할 수 있다.
이 경우 접착층(12)의 접착력을 저하시키는 소정의 인자는 자외선이나 열일 수 있다. 즉, 자외선의 조사에 의해 가스가 발생하는 재료가 배합된 접착제를 사용하여 이를 접착층(12)으로 형성하면, 금속층(13)을 분리하고자 할 때 자외선을 조사하면 접착층(12) 내에서 가스가 발생하여 접착층(12)의 최적이 변화되면서 접착력이 저하된다. 또한, 소정 온도의 열에 의해 발포되는 재료가 배합된 발포성 접착제를 사용하여 이를 접착층(12)으로 형성하면, 금속층(13)을 분리하고자 할 때 소정 온도를 가하면 접착층(12) 내에서 발포가 일어나게 되고 이에 따라 접착면이 요철화되면서 접착성이 저하된다.
다음으로 본 실시예에 따른 금속층 분리단계(S130)는, 도 6b에 도시된 바와 같이, 금속층을 에칭에 의해 제거하는 단계(S131)를 포함할 수도 있다.
즉 도 6b에 도시된 바와 같이, 본 실시예에 따른 금속층 분리단계(S130)에서는, 기재층(11)으로부터 분리된 한 쌍의 금속층(13)을 에칭에 의해 제거할 수도 있다.
다음으로 본 실시예에 따른 박막 인덕터용 코일 유닛의 제조방법은, 도 2, 도 6c에 도시된 바와 같이, 금속층 분리단계(S130), 특히 금속층(13)을 에칭에 의해 제거하는 단계(S131) 이후에, 절연 레지스트를 형성하는 단계(S140)를 더 포함할 수 있다.
즉 도 6c에 도시된 바와 같이, 절연재(110)의 상하면, 즉 제1 절연층(111)의 하면과 제2 절연층(112)의 상면에 절연을 위한 솔더 레지스트(130)를 형성할 수 있다. 그러나 본 발명은 이에 한정되는 것이 아니어서, 제1 도금층(121) 중 제1 절연층(111) 하면에서 노출되는 부분 및 제2 도금층(122) 중 제2 절연층(112) 상면에서 노출되는 부분에만 솔더 레지스트(130)를 형성할 수도 있으며, 또한 제1 및 제2 도금층(121, 122)의 노출부분을 보호할 수 있는 절연 레지스트라면 어떠한 레지스트라도 사용 가능하다.
결국 본 실시예의 제조방법에 따르면, 적어도 하나의 코일패턴이 나머지 다른 코일패턴과 상이한 두께를 가지게 된다. 이때 본 실시예에서는 도 6c에 도시된 바와 같이, 하나의 코일패턴(120-1)이 나머지 다른 코일패턴(120-2)과 상이한 두께를 가지는 것을 예시하고 있으나, 본 발명은 이에 한정되는 것은 아니며, 둘 이상의 코일패턴이 나머지 다른 코일패턴과 상이한 두께를 가지도록 하는 제조방법을 채택할 수 있음은 물론이다.
따라서 본 실시예의 제조방법에 따르면, 박막 인덕터용 코일 유닛 형성에 있어서, 적어도 하나의 코일패턴을 나머지 다른 코일패턴과 상이한 두께를 가지도록 할 수 있으며, 이러한 두께 조절을 통해 코일패턴의 단면적을 각각 다르게 조절 형성할 수 있게 된다. 따라서 임피던스 등의 박막 인덕터 특성을 보다 자유롭게 설계 형성할 수 있게 된다.
또한 본 실시예의 제조방법에 따르면, 도 6c에 도시된 바와 같이, 복수의 코일패턴(120)을 절연재(110)에 내장 형성할 수 있게 되므로, 절연재 위 아래로 코일패턴을 형성한 코일 유닛에 비해 그 전체 두께를 최소화할 수 있으며, 이에 따라 이를 구비한 박막 인덕터의 소형화 및 박형화까지도 달성할 수 있게 된다.
한편 본 실시예의 제조방법에 따르면, 상술한 제1 및 제2 절연층 형성단계를 통하여 이중의 절연층(제1 및 제2 절연층)을 가질 수 있으며, 이에 따라 단일 절연층을 갖는 경우에 비해 절연재의 두께 조절이 자유롭다. 따라서 본 실시예의 제조방법에 따르면, 코일패턴과 자성체 사이의 절연거리, 코일 간의 간격 등을 자유롭게 조절할 수 있으므로, 박막 인덕터의 정전용량 특성을 보다 자유롭게 설계 형성할 수 있게 된다.
또한 본 실시예의 제조방법에 따르면, 제1 절연층(111)을 프리프레그(PPG)와 레진(resin)의 혼합물로 형성하고, 제2 절연층(112)을 레진 타입으로 형성할 수 있다. 그러나 본 발명은 이에 한정되지 않으며, 복수의 코일패턴(120)을 내장 보호할 수 있는 것이라면 어떠한 재질도 가능하다.
따라서 본 실시예의 제조방법의 경우, 제1 절연층(111)을 레진 타입으로, 제2 절연층(112)을 프리프레그와 레진의 혼합물로 형성할 수도 있으며, 아울러 아크릴계 폴리머, 페놀계 폴리머, 폴리이미드계 폴리머 중 선택되는 적어도 한 물질 또는 적어도 두 물질의 혼합물로 형성하는 등의 다양한 응용도 가능하다.
<박막 인덕터 및 그 제조방법>
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 박막 인덕터(200)의 개략적인 단면도를 나타낸다.
도 7을 참조하면, 본 실시예에 따른 박막 인덕터(200)는, 도 1에 도시된 본 실시예에 따른 박막 인덕터용 코일 유닛(100)에 접합되는 자성체(210)를 포함하여 형성될 수 있다.
이때 본 실시예에서는, 박막 인덕터용 코일 유닛(100)의 상하면 모두에 자성체(210)가 접합되는 경우를 예로 들고 있으나, 본 발명은 이에 한정되지 않으며, 박막 인덕터용 코일 유닛(100)의 상면 또는 하면에만 자성체(210)가 접합되어 박막 인덕터(200)를 형성할 수도 있다.
이때 박막 인덕터용 코일 유닛(100)에 자성체(210)를 접합할 경우에는, 에폭시나 폴리이미드 등의 고분자를 이용하거나 다른 접착제를 사용하여 접합할 수 있다.
또한 자성체(210)는, 기존의 페라이트 분말(powder) 그대로 사용할 수 있으며, 유리나 다른 기판 상에 페라이트를 형성시킨 것을 자성체로서 이용하는 것도 가능하며, 아울러 박막제조공정으로 형성한 연자성막이나 절연막의 적층막을 이용하는 것도 가능하다.
한편 도 7에 도시된 박막 인덕터(200)는, 앞서 설명한 본 실시예의 제조방법에 따라 형성된 박막 인덕터용 코일 유닛(100), 즉 도 1에 도시된 박막 인덕터용 코일 유닛(100)을 형성하고 나서, 상기 박막 인덕터용 코일 유닛(100) 상면 및 하면 중 적어도 하나에 자성체(210)를 접합하는 단계를 포함함으로써 형성될 수 있다.
본 명세서에서 본 발명의 원리들의 '일 실시예'와 이런 표현의 다양한 변형들의 지칭은 이 실시예와 관련되어 특정 특징, 구조, 특성 등이 본 발명의 원리의 적어도 하나의 실시예에 포함된다는 것을 의미한다. 따라서, 표현 '일 실시예에서'와, 본 명세서 전체를 통해 개시된 임의의 다른 변형례들은 반드시 모두 동일한 실시예를 지칭하는 것은 아니다.
본 발명의 도면 중 공정단계를 묘사하고 있는 도면이 있지만, 이는 바람직한 결과를 얻기 위하여 도시된 특정한 단계로 그러한 단계들을 수행해야 한다거나 모든 도시된 단계들이 수행되어야 하는 것으로 이해해서는 안 된다. 특정한 경우, 멀티태스킹 및 병렬적인 단계진행이 유리할 수도 있다.
본 명세서에서, 'A와 B 중 적어도 하나'의 경우에서 '~중 적어도 하나'의 표현은, 첫 번째 옵션 (A)의 선택만, 또는 두 번째 열거된 옵션 (B)의 선택만, 또는 양쪽 옵션들 (A와 B)의 선택을 포괄하기 위해 사용된다. 추가적인 예로 'A, B, 및 C 중 적어도 하나'의 경우는, 첫 번째 열거된 옵션 (A)의 선택만, 또는 두 번째 열거된 옵션(B)의 선택만, 또는 세 번째 열거된 옵션 (C)의 선택만, 또는 첫 번째와 두 번째 열거된 옵션들 (A와 B)의 선택만, 또는 두 번째와 세 번째 열거된 옵션 (B와 C)의 선택만, 또는 모든 3개의 옵션들의 선택(A와 B와 C)이 포괄할 수 있다. 더 많은 항목들이 열거되는 경우에도 당업자에게 명백하게 확장 해석될 수 있다.
이제까지 본 발명에 대하여 그 바람직한 실시예들을 중심으로 살펴보았다. 본 명세서를 통해 개시된 모든 실시예들과 조건부 예시들은, 본 발명의 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 당업자가 독자가 본 발명의 원리와 개념을 이해하도록 돕기 위한 의도로 기술된 것으로, 당업자는 본 발명이 본 발명의 본질적인 특성에서 벗어나지 않는 범위에서 변형된 형태로 구현될 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.그러므로 개시된 실시예들은 한정적인 관점이 아니라 설명적인 관점에서 고려되어야 한다. 본 발명의 범위는 전술한 설명이 아니라 특허청구범위에 나타나 있으며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 차이점은 본 발명에 포함된 것으로 해석되어야 할 것이다.
100 : 박막 인덕터용 코일 유닛 110 : 절연재
111 : 제1 절연층 112 : 제2 절연층
120 : 코일패턴 121 : 제1 도금층
122 : 제2 도금층 130 : 솔더 레지스트(절연 레지스트)
200 : 박막 인덕터 210 : 자성체

Claims (20)

  1. 제1 및 제2 절연층의 이중의 절연층을 갖는 절연재; 및
    상기 절연재에 내장 형성되는 복수의 코일패턴;을 포함하되,
    상기 코일패턴은, 적어도 하나의 코일패턴이 나머지 다른 코일패턴과 상이한 두께를 가지는 박막 인덕터용 코일 유닛.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 코일패턴은,
    상기 제1 절연층에 내장 형성되는 제1 도금층; 및
    상기 제2 절연층에 내장 형성되는 제2 도금층;을 포함하는 박막 인덕터용 코일 유닛.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 제1 및 제2 절연층은, 감광성 절연층인 박막 인덕터용 코일 유닛.
  4. 제3항에 있어서,
    상기 제1 절연층은 프리프레그와 레진의 혼합물로 형성되고, 상기 제2 절연층은 레진으로 형성되는 박막 인덕터용 코일 유닛.
  5. 제3항에 있어서,
    상기 제1 절연층은, 레진으로 형성되고, 상기 제2 절연층은 프리프레그와 레진의 혼합물로 형성되는 박막 인덕터용 코일 유닛.
  6. 제2항에 있어서,
    상기 제1 및 제2 도금층 중 적어도 하나는, 복수의 도금층으로 형성되는 박막 인덕터용 코일 유닛.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 절연재의 상하면에 형성되는 절연레지스트를 더 포함하는 박막 인덕터용 코일 유닛.
  8. 제2항에 있어서,
    상기 제1 도금층 중 상기 제1 절연층의 하면에서 노출되는 부분 및 상기 제2 도금층 중 상기 제2 절연층의 상면에서 노출되는 부분에 형성되는 절연 레지스트를 더 포함하는 박막 인덕터용 코일 유닛.
  9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 기재된 박막 인덕터용 코일 유닛; 및
    상기 박막 인덕터용 코일 유닛의 상면 및 하면 중 적어도 하나에 접합되는 자성체;
    를 포함하는 박막 인덕터.
  10. (a) 접착층을 매개로 기재층의 양면에 각각 접착되는 한 쌍의 금속층 각각에 제1 도금층을 형성하고, 상기 제1 도금층을 내장하도록 제1 절연층을 형성하는 단계;
    (b) 제2 도금층을 형성하고, 상기 제2 도금층을 내장하도록 제2 절연층을 형성하는 단계; 및
    (c) 상기 기재층으로부터 한 쌍의 금속층을 분리하는 단계;
    를 포함하되,
    상기 제1 및 제2 도금층을 포함하는 복수의 코일패턴 중 적어도 하나의 코일패턴은 나머지 다른 코일패턴과 상이한 두께를 가지도록 형성되는 박막 인덕터용 코일 유닛의 제조방법.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 단계 (a)는,
    (a-1) 상기 한 쌍의 금속층 각각에 상기 나머지 다른 코일패턴의 제1 도금층에 대응되는 제1 도금레지스트를 형성하여, 상기 금속층의 소정 영역을 노출시키는 단계;
    (a-2) 상기 단계 (a-1)에서 노출된 금속층 영역에 상기 나머지 다른 코일패턴의 제1 도금층을 형성하는 단계;
    (a-3) 상기 제1 도금 레지스트를 제거하는 단계;
    (a-4) 상기 제1 도금 레지스트가 제거된 금속층 영역 및 상기 나머지 다른 코일패턴의 제1 도금층에, 제1 절연층을 형성하는 단계;
    (a-5) 상기 적어도 하나의 코일패턴의 제1 도금층에 대응되는 제1 절연층 부분을 제거하여, 상기 금속층의 소정 영역을 노출시키는 단계; 및
    (a-6) 상기 단계 (a-5)에서 노출된 금속층 영역에, 상기 적어도 하나의 코일패턴의 제1 도금층을 형성하는 단계;
    를 포함하는 박막 인덕터용 코일 유닛의 제조방법.
  12. 제11항에 있어서,
    상기 단계 (b)는,
    (b-1) 상기 나머지 다른 코일패턴의 제2 도금층에 대응되는 제2 도금레지스트를 상기 제1 절연층에 형성하여, 상기 제1 절연층의 소정 영역을 노출시키는 단계;
    (b-2) 상기 단계 (b-1)에서 노출된 제1 절연층 영역에 상기 나머지 다른 코일패턴의 제2 도금층을 형성하는 단계;
    (b-3) 상기 제2 도금레지스트를 제거하는 단계;
    (b-4) 상기 제2 도금 레지스트가 제거된 제1 절연층 영역 및 상기 나머지 다른 코일패턴의 제2 도금층에, 제2 절연층을 형성하는 단계;
    (b-5) 상기 적어도 하나의 코일패턴의 제2 도금층에 대응되는 제2 절연층 부분을 제거하여, 상기 단계 (a-6)에서 형성된 제1 도금층을 노출시키는 단계; 및
    (b-6) 상기 단계 (b-5)에서 노출된 제1 도금층에, 상기 적어도 하나의 코일패턴의 제2 도금층을 형성하는 단계;
    를 포함하는 박막 인덕터용 코일 유닛의 제조방법.
  13. 제10항에 있어서,
    상기 단계 (c)는,
    (c-1) 상기 금속층을 에칭에 의해 제거하는 단계를 포함하는 박막 인덕터용 코일 유닛의 제조방법.
  14. 제13항에 있어서,
    상기 (c-1) 단계 이후에,
    (d) 상기 제1 및 제2 절연층의 상하면에 절연레지스트를 형성하는 단계를 더 포함하는 박막 인덕터용 코일 유닛의 제조방법.
  15. 제13항에 있어서,
    상기 (c-1) 단계 이후에,
    (d) 상기 제1 도금층 중 상기 제1 절연층의 하면에서 노출되는 부분과, 상기 제2 도금층 중 상기 제2 절연층의 상면에서 노출되는 부분에 절연 레지스트를 형성하는 단계를 더 포함하는 박막 인덕터용 코일 유닛의 제조방법.
  16. 제10항에 있어서,
    상기 제1 및 제2 절연층은, 감광성 절연층인 박막 인덕터용 코일 유닛의 제조방법.
  17. 제16항에 있어서,
    상기 제1 절연층은 프리프레그와 레진의 혼합물로 형성되고, 상기 제2 절연층은 레진으로 형성되는 박막 인덕터용 코일 유닛의 제조방법.
  18. 제16항에 있어서,
    상기 제1 절연층은 레진으로 형성되고, 상기 제2 절연층은 프리프레그와 레진의 혼합물로 형성되는 박막 인덕터용 코일 유닛의 제조방법.
  19. 제10항에 있어서,
    상기 제1 및 제2 도금층 중 적어도 하나는, 복수의 도금층으로 형성되는 박막 인덕터용 코일 유닛의 제조방법.
  20. 제10항 내지 제19항 중 어느 한 항에 기재된 박막 인덕터용 코일 유닛의 제조방법에 따라 형성된 박막 인덕터용 코일 유닛의 상면 및 하면 중 적어도 하나에 자성체를 접합하는 단계를 포함하는 박막 인덕터의 제조방법.
KR1020140127618A 2014-09-24 2014-09-24 박막 인덕터용 코일 유닛, 박막 인덕터용 코일 유닛의 제조방법, 박막 인덕터 및 박막 인덕터의 제조방법 KR102185067B1 (ko)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020140127618A KR102185067B1 (ko) 2014-09-24 2014-09-24 박막 인덕터용 코일 유닛, 박막 인덕터용 코일 유닛의 제조방법, 박막 인덕터 및 박막 인덕터의 제조방법
US14/822,440 US9892844B2 (en) 2014-09-24 2015-08-10 Coil unit for thin film inductor, method of manufacturing coil unit for thin film inductor, thin film inductor, and method of manufacturing thin film inductor
CN201510612320.7A CN105448491B (zh) 2014-09-24 2015-09-23 线圈单元及其制造方法、薄膜电感器及其制造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020140127618A KR102185067B1 (ko) 2014-09-24 2014-09-24 박막 인덕터용 코일 유닛, 박막 인덕터용 코일 유닛의 제조방법, 박막 인덕터 및 박막 인덕터의 제조방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20160035819A true KR20160035819A (ko) 2016-04-01
KR102185067B1 KR102185067B1 (ko) 2020-12-01

Family

ID=55526376

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020140127618A KR102185067B1 (ko) 2014-09-24 2014-09-24 박막 인덕터용 코일 유닛, 박막 인덕터용 코일 유닛의 제조방법, 박막 인덕터 및 박막 인덕터의 제조방법

Country Status (3)

Country Link
US (1) US9892844B2 (ko)
KR (1) KR102185067B1 (ko)
CN (1) CN105448491B (ko)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20190000606A (ko) * 2017-06-23 2019-01-03 삼성전기주식회사 박막 인덕터
KR20190069039A (ko) * 2017-12-11 2019-06-19 삼성전기주식회사 코일 부품
US10553346B2 (en) 2016-11-01 2020-02-04 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Thin film inductor and method of manufacturing the same

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9859357B1 (en) 2016-07-14 2018-01-02 International Business Machines Corporation Magnetic inductor stacks with multilayer isolation layers
WO2018018006A1 (en) * 2016-07-22 2018-01-25 The Trustees Of Dartmouth College Resonant coils with integrated capacitance
US10763031B2 (en) * 2016-08-30 2020-09-01 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Method of manufacturing an inductor
US10283249B2 (en) 2016-09-30 2019-05-07 International Business Machines Corporation Method for fabricating a magnetic material stack
KR101863280B1 (ko) * 2017-03-16 2018-05-31 삼성전기주식회사 코일부품 및 그 제조방법
KR102502340B1 (ko) * 2017-12-07 2023-02-22 삼성전기주식회사 코일 부품
KR102064041B1 (ko) * 2017-12-11 2020-01-08 삼성전기주식회사 코일 부품
KR102505437B1 (ko) * 2017-12-26 2023-03-03 삼성전기주식회사 권선형 인덕터 및 이의 제작 방법
US11783986B2 (en) 2019-08-16 2023-10-10 The Trustees Of Dartmouth College Resonant coils with integrated capacitance
CN113973431B (zh) * 2020-07-23 2023-08-18 宏启胜精密电子(秦皇岛)有限公司 电路板及其制作方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR19990066108A (ko) 1998-01-21 1999-08-16 구자홍 박막 인덕터 및 그 제조방법
US20060057341A1 (en) * 2004-09-16 2006-03-16 Tdk Corporation Multilayer substrate and manufacturing method thereof
US20130244343A1 (en) * 2012-03-19 2013-09-19 Inpaq Technology Co., Ltd. Method for preparing a thin film device and method for preparing a common mode filter using the same

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10232642B4 (de) * 2002-07-18 2006-11-23 Infineon Technologies Ag Integrierte Transformatoranordnung
JP4033401B2 (ja) * 2004-01-09 2008-01-16 Tdk株式会社 積層セラミック電子部品および当該部品の製造の供せられるセラミックグリーンシートの製造方法
US7423508B2 (en) * 2006-06-30 2008-09-09 Intel Corporation Control of eddy currents in magnetic vias for inductors and transformers in integrated circuits
JP2010147043A (ja) * 2008-12-16 2010-07-01 Sony Corp インダクタモジュール、回路モジュール
JP2010165778A (ja) * 2009-01-14 2010-07-29 Sharp Corp 半導体装置の製造方法
TWI617225B (zh) * 2010-12-24 2018-03-01 Lg伊諾特股份有限公司 印刷電路板及其製造方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR19990066108A (ko) 1998-01-21 1999-08-16 구자홍 박막 인덕터 및 그 제조방법
US20060057341A1 (en) * 2004-09-16 2006-03-16 Tdk Corporation Multilayer substrate and manufacturing method thereof
US20130244343A1 (en) * 2012-03-19 2013-09-19 Inpaq Technology Co., Ltd. Method for preparing a thin film device and method for preparing a common mode filter using the same

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10553346B2 (en) 2016-11-01 2020-02-04 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Thin film inductor and method of manufacturing the same
KR20190000606A (ko) * 2017-06-23 2019-01-03 삼성전기주식회사 박막 인덕터
US10707009B2 (en) 2017-06-23 2020-07-07 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Thin film-type inductor
KR20190069039A (ko) * 2017-12-11 2019-06-19 삼성전기주식회사 코일 부품

Also Published As

Publication number Publication date
CN105448491B (zh) 2020-02-18
US9892844B2 (en) 2018-02-13
CN105448491A (zh) 2016-03-30
US20160086721A1 (en) 2016-03-24
KR102185067B1 (ko) 2020-12-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR20160035819A (ko) 박막 인덕터용 코일 유닛, 박막 인덕터용 코일 유닛의 제조방법, 박막 인덕터 및 박막 인덕터의 제조방법
KR101973410B1 (ko) 박막 인덕터용 코일 유닛, 박막 인덕터용 코일 유닛의 제조방법, 박막 인덕터 및 박막 인덕터의 제조방법
KR20160004090A (ko) 박막 인덕터용 코일 유닛, 박막 인덕터용 코일 유닛의 제조방법, 박막 인덕터 및 박막 인덕터의 제조방법
CN107818864B (zh) 电感部件以及电感部件内置基板
JP6658415B2 (ja) 電子部品
TWI450286B (zh) 基板內藏用電子零件及零件內藏型基板
JP6665838B2 (ja) インダクタ部品
KR20160071958A (ko) 칩 전자부품 및 그 제조방법
KR20170086802A (ko) 코일 부품 및 그 제조 방법
KR101832547B1 (ko) 칩 전자부품 및 그 제조방법
JPWO2019044459A1 (ja) コイル部品及びその製造方法
KR20150102504A (ko) 임베디드 기판 및 임베디드 기판의 제조 방법
JP2018037652A (ja) インダクタの製造方法及びインダクタ
KR102029489B1 (ko) 박막 인덕터용 코일 유닛, 박막 인덕터용 코일 유닛의 제조방법, 박막 인덕터 및 박막 인덕터의 제조방법
JP2019140148A (ja) コイル部品及びその製造方法
JP7069739B2 (ja) コイル部品及びその製造方法
JP2019140202A (ja) コイル部品及びその製造方法
CN108022715B (zh) 薄膜电感器及制造该薄膜电感器的方法
JP4609466B2 (ja) 積層型電子部品の製造方法
KR102052807B1 (ko) 인덕터 및 이의 제작 방법
US8841209B2 (en) Method for forming coreless flip chip ball grid array (FCBGA) substrates and such substrates formed by the method
US8927880B2 (en) Printed circuit board and method for manufacturing the same
JP2009094438A (ja) コイル部品およびその製造方法
TWI486107B (zh) 用於晶片封裝件之基板的製造方法
JP7367713B2 (ja) インダクタ部品

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant