KR20150139018A - Apparatus and method for treating a substrate - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법에 관한 발명으로 보다 상세하게는 기판을 세정하는 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate processing apparatus and a substrate processing method, and more particularly, to a substrate processing apparatus and a substrate processing method for cleaning a substrate.
반도체 소자가 고밀도, 고집적화, 고성능화됨에 따라 회로 패턴의 미세화가 급속히 진행됨으로써, 기판 표면에 잔류하는 파티클(Particle), 유기 오염물, 금속 오염물 등의 오염 물질은 소자의 특성과 생산 수율에 많은 영향을 미치게 된다. 이 때문에 기판 표면에 부착된 각종 오염 물질을 제거하는 세정 공정이 반도체 제조 공정에서 매우 중요하게 대두되고 있으며, 반도체를 제조하는 각 단위 공정의 전후 단계에서 기판을 세정 처리하는 공정이 실시되고 있다.As semiconductor devices become more dense, highly integrated, and have high performance, circuit patterns become finer, so that contaminants such as particles, organic contaminants, and metal contaminants remaining on the surface of the substrate greatly affect the characteristics of devices and yield do. Therefore, a cleaning process for removing various contaminants adhering to the surface of the substrate is very important in the semiconductor manufacturing process, and a process of cleaning the substrate at the front and rear stages of each unit process for manufacturing a semiconductor is being carried out.
한국 공개공보 2011-0116469에는 3단의 회수통이 제공된 용기를 가진 기판 세정 장치가 개시되어 있다. 상기 기판 세정 장치는 세정 처리에 사용되는 약액이 종류별로 배출되는데, 처리 용기에 형성된 약액 유로들을 통해 종류별로 분리 배출된다. 상기 장치에서 각각의 회수통의 입구는 상하로 적층되게 구성되어 있으며, 회수통들 전체가 구동기에 의해서 상하로 구동하여 기판과 회수통들 간의 상하 높이를 조절한다. 이러한 구조는 공정 진행시 처리액이 선택된 회수통의 입구가 아닌 다른 회수통으로 유입될 수 있다.Korean Patent Laid-Open Publication No. 2011-0116469 discloses a substrate cleaning apparatus having a container provided with a three-stage recovery box. The substrate cleaning apparatus discharges the chemical liquid used for the cleaning process by type, and is separated and discharged by the chemical liquid flow channels formed in the process container. In the apparatus, the entrances of the respective recovery bins are stacked vertically, and the entire recovery bins are driven up and down by a driver to adjust the vertical height between the substrate and the recovery bins. This structure allows the treatment liquid to flow into the recovery tank other than the inlet of the selected recovery tank when the process proceeds.
본 발명은 기판 처리 공정 시 사용되는 약액의 회수를 효율적으로 하기 위한 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법을 제공하고자 한다.An object of the present invention is to provide a substrate processing apparatus and a substrate processing method for efficiently recovering a chemical solution used in a substrate processing step.
또한, 본 발명은 기판 처리 공정 시 처리액이 회수하고자 하는 회수통 이외의 회수통으로 유입되는 것을 방지하는 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법을 제공하고자 한다.Another object of the present invention is to provide a substrate processing apparatus and a substrate processing method for preventing a treatment liquid from flowing into a collection container other than a collection container to be collected during a substrate processing process.
또한, 본 발명은 기판 처리 공정 시 다수의 처리액을 분리 회수하는 새로운 구조의 회수통을 가진 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법을 제공하고자 한다.Another object of the present invention is to provide a substrate processing apparatus and a substrate processing method having a recovery cylinder of a new structure for separating and recovering a large number of processing solutions during a substrate processing step.
본 발명은 기판 처리 장치를 제공한다. The present invention provides a substrate processing apparatus.
본 발명의 일 실시 예에 따르면, 상기 기판 처리 장치는 기판을 처리하는 처리 공간을 제공하며, 복수의 회수통을 포함하는 처리용기; 상기 처리 공간 내에 제공되고, 기판을 지지하는 기판 지지 유닛; 상기 기판 지지 유닛에 놓여지는 기판으로 복수의 처리액을 분사하는 분사 부재; 각각의 상기 회수통들을 각각 상하 방향으로 이동시키는 승강유닛을 포함하되; 상기 복수의 회수통들은 각각 상기 처리 공간 내에서 비산되는 처리액이 유입되는 입구를 가지며 상기 입구들은 서로 상하 방향으로 제공될 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the substrate processing apparatus provides a processing space for processing a substrate, and includes a processing container including a plurality of recovery cans; A substrate support unit provided in the processing space and supporting the substrate; A jetting member for jetting a plurality of processing solutions onto a substrate placed on the substrate supporting unit; And an elevating unit for moving each of the recovery cylinders in a vertical direction, respectively; Each of the plurality of recovery bins has an inlet through which the treatment liquid scattered in the treatment space flows, and the inlets can be provided in the vertical direction with respect to each other.
일 실시예에 의하면, 상기 회수통들은 복수의 메인 회수통을 가지고 상기 승강 유닛은 상기 메인 회수통들의 외측에 위치하는 승강체와 상기 승강체를 상하로 구동하는 승강체 구동기와 상기 메인 회수통들을 각각 자력에 의해 상하 방향으로 이동시키는 메인 구동기를 포함하고, 상기 메인 구동기는 상기 메인회수통에 설치되는 회수통 자성부재들과 상기 승강체에 설치되는 승강체 자성부재들를 포함할 수 있다.According to one embodiment, the recovery cylinders have a plurality of main recovery cylinders, and the elevating unit includes an elevating body located outside the main recovery cylinders, an elevating body driver for driving the elevating bodies up and down, And a main actuator for moving the magnet in a vertical direction by a magnetic force, wherein the main actuator includes recoverable magnetic members installed in the main recovery cylinder and lifting body magnetic members installed on the ascending / descending member.
일 실시예에 의하면, 상기 회수통 자성부재와 상기 승강체 자성부재 중 하나는 전자석으로 제공되고, 상기 승강 유닛은 상기 전자석에 전류을 인가하는 전원을 더 포함할 수 있다.According to an embodiment, one of the recovery magnetic field member and the elevating body magnetic member is provided as an electromagnet, and the elevating unit may further include a power source for applying a current to the electromagnet.
일 실시예에 의하면, 상기 회수통 자성부재는 영구자석으로 제공될 수 있다.According to one embodiment, the recovered magnetic body member may be provided as a permanent magnet.
일 실시예에 의하면, 서로 대응되는 상기 회수통 자성부재와 상기 승강체 자성부재는 서로 상하로 대향되게 제공될 수 있다.According to an embodiment, the recovered magnetic body and the elevating body magnetic member corresponding to each other can be provided so as to face each other up and down.
일 실시예에 의하면, 각각의 상기 승강체 자성부재는 대응하는 상기 회수통 자성부재보다 상부에 제공될 수 있다.According to one embodiment, each of the ascending / descending body magnetic members may be provided above the corresponding recovered magnetic element.
일 실시예에 의하면, 각각의 상기 메인 회수통들에는 상기 회수통 자성부재가 링을 이루는 배열로 복수개 제공될 수 있다.According to an embodiment, a plurality of the recovered fluid magnetic members may be provided in the ring in each of the main collection bins.
일 실시예에 의하면, 상기 승강체는 상기 메인 회수통들을 감싸는 링 형상으로 제공될 수 있다.According to one embodiment, the lifting body may be provided in a ring shape surrounding the main collection bins.
일 실시예에 의하면, 서로 대응되는 상기 회수통 자성부재와 상기 승강체 자성부재 사이에는 금속판이 제공될 수 있다.According to an embodiment, a metal plate may be provided between the magnetic field collecting member and the elevating body magnetic member corresponding to each other.
일 실시예에 의하면, 상기 메인 회수통은 그 외측으로 돌출되는 외측 돌기를 가지고, 상기 승강체는 그 내부로 돌출되는 내측 돌기를 가지며, 상기 회수통 자성부재는 상기 승강체의 내측 돌기에 설치되고, 상기 승강체 자성부재는 상기 승강체 구동기의 외측 돌기에 설치되고, 서로 대응되는 상기 외측 돌기와 상기 내측 돌기는 상부에서 바라 볼 때 서로 중첩되게 제공될 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the main recovery cylinder has an outer protrusion protruding outwardly, the lifting body having an inner protrusion protruding into the inner protrusion, and the recovered magnetic body member is installed on the inner protrusion of the lifting body , The elevating body magnetic member may be provided on an outer projection of the elevator driver, and the outer projections and the inner projections corresponding to each other may be provided so as to overlap each other when viewed from above.
일 실시예에 의하면, 상기 메인 회수통들은, 제1회수통; 상기 제1회수통을 감싸는 제2회수통을 포함하며, 상기 회수통 자성부재는 상기 제1회수통에 설치되는 제1회수통 자석과; 상기 제2회수통에 설치되는 제2회수통 자석을 포함하며, 상기 승강체 자성부재는 상기 승강체에 설치되고 상기 제1회수통 자석과 대향되는 위치에 제공되는 제1승강 자석과; 상기 승강체에 설치되고, 상기 제2회수통 자석과 대향되는 위치에 제공되는 제2승강 자석을 포함할 수 있다.According to an embodiment, the main recovery cylinders include a first recovery cylinder; And a second recovery tank surrounding the first recovery tank, wherein the recovery and magnetic member includes a first recovery cylinder magnet installed in the first recovery tank; And a second recovery cylinder magnet provided in the second recovery cylinder, wherein the ascending / descending body magnetic member is provided in the ascending / descending body and provided at a position facing the first recovery cylinder magnet; And a second lifting magnet installed on the lifting body and provided at a position facing the second secondary recovery magnet.
일 실시예에 의하면, 상기 기판 처리 장치는 상기 승강 유닛을 제어하는 제어기를 더 포함하며, 상기 제어기는 제1유체를 상기 제1회수통의 입구로 회수 시, 상기 제1승강 자석 및 상기 제2승강 자석에 전류를 차단하며, 상기 제1회수통 자석과 상기 제1승강 자석 및 상기 제2회수통 자석과 상기 제2승강 자석은 인력이 작용하도록 하며, 상기 승강체를 상부로 이동시켜, 상기 제1회수통의 입구는 열리고, 상기 제2회수통의 입구는 닫히도록 하고, 제2유체를 상기 제2회수통의 입구로 회수 시, 상기 제1승강 자석에는 전류를 인가하고, 상기 제2승강 자석에는 전류를 차단하여, 상기 제1회수통 자석과 상기 제1승강 자석은 척력이 작용하고, 상기 제2회수통 자석과 상기 제2승강 자석은 마주보는 면이 인력이 작용하도록 하며, 상기 승강체를 상부로 이동시켜, 상기 제1회수통의 입구는 닫히고, 상기 제2회수통의 입구는 열리도록 제어할 수 있다.According to one embodiment, the substrate processing apparatus further includes a controller for controlling the lifting unit, and when the first fluid is recovered to the inlet of the first recovery tank, the controller controls the first lift magnet and the second lift The first and second lifting magnets, the second retrieving cylinder magnet and the second lifting magnet are actuated by the attraction force, and the lifting body is moved upward, The inlet of the first recovery tank is opened and the inlet of the second recovery tank is closed so that when the second fluid is recovered to the inlet of the second recovery tank, current is applied to the first lift magnet, The first and second lifting magnets and the first and second lifting magnets are brought into contact with each other so that a force acts on the surfaces of the first and second lifting magnets facing each other, By moving the ascending / descending member upward, The first inlet is closed and the recovery tube, the inlet of the second recovery tube may be controlled to open.
일 실시예에 의하면, 상기 제어기는 상기 제1회수통의 입구 및 상기 제2회수통의 입구가 열린 후, 상기 승강체 자성부재에 전류를 모두 차단할 수 있다.According to an embodiment, the controller can block all the currents to the ascending / descending body magnetic member after the inlet of the first recovery tank and the inlet of the second recovery tank are opened.
일 실시예에 의하면, 상기 메인 회수통들은, 상기 제2회수통을 감싸는 제3회수통을 포함하며, 상기 회수통 자성부재는 상기 제3회수통에 설치되는 제3회수통 자석을 더 포함하고, 상기 승강체 자성부재는 상기 승강체에 설치되고, 상기 제3회수통 자석과 대향되는 위치에 제공되는 제3승강 자석을 더 포함하고, 상기 제어기는 상기 제1유체을 상기 제1회수통의 입구로 회수 시 상기 제3승강 자석에는 전류를 차단하여, 상기 제3회수통 자석과 상기 제3승강 자석은 인력이 작용하도록 하고, 상기 승강체를 상부로 이동시켜 상기 제3회수통 입구는 닫히도록 하고, 상기 제2유체를 상기 제2회수통의 입구로 회수 시, 상기 제3승강 자석에는 전류를 차단하여, 상기 제3회수통 자석과 상기 제3승강 자석은 인력이 작용하도록 하고, 상기 승강체를 상부로 이동시켜 상기 제3회수통의 입구는 닫히도록 하고, 제3유체를 상기 제3회수통의 입구로 회수 시, 상기 제1승강 자석 및 상기 제2승강 자석에는 전류를 인가하고, 상기 제3승강 자석에는 전류를 차단하며, 상기 제1회수통 자석과 상기 제1승강 자석 및 상기 제2회수통 자석과 상기 제2승강 자석은 척력이 작용하고, 상기 제3회수통 자석과 상기 제3승강 자석은 인력이 작용하도록 하고, 상기 승강체를 상부로 이동시켜, 상기 제1회수통의 입구와 상기 제2회수통의 입구는 닫히고, 상기 제3회수통의 입구는 열리도록 제어할 수 있다.According to an embodiment, the main recovery cylinders include a third recovery cylinder surrounding the second recovery cylinder, and the recovered magnetic body member further includes a third recovery cylinder magnet installed in the third recovery cylinder , And the ascending / descending body magnetic member further includes a third lifting magnet provided on the ascending / descending member and provided at a position opposed to the third recovering cylinder magnet, and the controller controls the first fluid to flow into the inlet , The current is cut off to the third lifting magnet so that the attraction force acts between the third recovery tube magnet and the third lifting magnet, and the lifting body is moved upward so that the third recovery tube inlet is closed And the third returning magnet magnet and the third lifting magnet are actuated by the attraction force when the second fluid is recovered to the inlet of the second recovery cylinder, Moving the sieve to the top And the third lift cylinder is closed. When the third fluid is recovered to the inlet of the third recovery cylinder, current is applied to the first lift magnet and the second lift magnet, and current And the third recovery tube magnet and the third lifting magnet exert a repulsive force, and the first recovery tube magnet, the first recovery tube magnet, the second recovery tube magnet, So that the inlet of the first recovery tank and the inlet of the second recovery tank are closed and the inlet of the third recovery tank is opened.
일 실시예에 의하면, 상기 제어기는 상기 제3회수통의 입구가 열린 후, 상기 승강체 자성부재에 전류를 모두 차단할 수 있다. According to an embodiment, the controller may block all the currents to the ascending / descending body magnetic member after the inlet of the third recovery tank is opened.
일 실시예에 의하면, 상기 기판 처리 장치는 상기 승강체 자성부재에 전류를 인가하여 자력 발생을 조절하는 제어기를 더 포함하며, 상기 제어기는 상기 메인 회수통들 중 유체를 회수하고자 하는 메인 회수통 및 상기 유체를 회수하고자 하는 메인 회수통의 입구보다 상부에 위치하는 입구를 가진 메인 회수통들에 제공되는 상기 회수통 자성부재와 대향되는 곳에 제공되는 상기 승강체 자성부재에는 전류를 차단하고, 상기 메인 회수통들 중 유체를 회수하고자 하는 메인 회수통의 입구보다 하부에 위치하는 입구의 메인 회수통에 제공되는 상기 회수통 자성부재와 대향되는 곳에 제공되는 상기 승강체 자성부재에는 전류를 차단하며, 상기 메인 회수통들 중 유체를 회수하고자 하는 메인 회수통 및 유체를 회수하고자 하는 상기 메인 회수통의 입구보다 상부에 위치하는 입구를 가진 메인 회수통들에 제공되는 상기 회수통 자성부재와 상기 회수통 자성부재와 대향되는 곳에 제공되는 상기 승강체 자성부재 사이에는 인력이 작용하며, 상기 메인 회수통들 중 유체를 회수하고자 하는 메인 회수통의 입구보다 하부에 위치하는 입구의 메인 회수통에 제공되는 상기 회수통 자성부재와 상기 회수통 자성부재와 대향되는 곳에 제공되는 상기 승강체 자성부재 사이에는 척력이 작용되도록 하고, 상기 승강체를 상부로 이동시켜, 상기 메인 회수통들 중 유체를 회수하고자 하는 메인 회수통의 입구는 열리고, 다른 상기 메인 회수통의 입구는 닫히도록 제어할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the substrate processing apparatus further includes a controller for regulating the generation of magnetic force by applying a current to the ascending / descending body magnetic member, wherein the controller comprises: a main recovery cylinder for recovering fluid among the main recovery cylinders; The main body of the main body is provided with the inlet located above the inlet of the main recovery cylinder to recover the fluid, and the current is interrupted in the main body of the ascending / descending body provided at a position facing the recovered magnetic body, The current collecting body is provided in the main collecting cylinder at an inlet located below the inlet of the main collecting cylinder to collect the fluid from the collecting cylinders, A main recovery tank for recovering the fluid in the main collection tanks and an inlet tank for recovering the fluid, Attraction force is applied between the magnetic field recovering magnetic member provided in the main collection bins having the inlet located at the upper portion and the magnetic member for the ascending and descending body provided at the opposite position to the recovering and communicating magnetic member, Is provided between the withdrawal magnetic field generating member provided in the main recovery cylinder at the entrance located below the entrance of the main recovery cylinder to be recovered and the magnetic body for the ascending and descending body provided at the opposite position to the recovered magnetic body member And the ascending / descending member is moved upward to open the inlet of the main recovery cylinder to recover the fluid from the main recovery cylinders, and to close the inlet of the other main recovery cylinder.
일 실시예에 의하면, 상기 제어기는 상기 유체를 회수하고자 하는 메인 회수통의 입구가 열린 후, 상기 승강체 자성부재들에 인가된 전류를 모두 차단할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the controller may block all the currents applied to the lifting body magnetic members after the inlet of the main recovery cylinder for recovering the fluid is opened.
일 실시예에 의하면, 상기 제1회수통은 제1내측벽과; 상기 제1내측벽에서 상기 기판 지지 유닛으로 멀어지는 방향으로 연장되는 제1바닥면과; 상기 제1바닥면의 상부로 연장되는 제1외측벽을 포함하고, 상기 제2회수통은 상기 제1외측벽에서 상기 기판 지지 유닛에서 멀어지는 방향에 위치하는 제2내측벽과; 상기 제2내측벽에서 상기 기판 지지 유닛에서 멀어지는 방향으로 연장되는 제2바닥면과; 상기 제2바닥면의 상부로 연장되며 제1외측벽의 상부에 위치하는 제2외측벽을 포함하되, 상기 제1외측벽과 상기 제2외측벽은 상부에서 바라 볼 때 중첩되게 제공될 수 있다.According to one embodiment, the first recovery cylinder includes a first inner wall; A first bottom surface extending in a direction away from the first inner wall to the substrate support unit; A first inner wall extending in a direction away from the substrate supporting unit at the first outer wall; and a second inner wall extending in a direction away from the substrate supporting unit at the first outer wall; A second bottom surface extending from the second inner wall in a direction away from the substrate support unit; And a second outer wall extending above the second bottom surface and positioned above the first outer wall, wherein the first outer wall and the second outer wall may be overlapped when viewed from above.
일 실시예에 의하면, 상기 제1회수통의 바닥면의 외측으로 제공되는 제1외측 돌기와 상기 제2회수통의 바닥면의 외측으로 제공되는 제2회측 돌기와, 상기 승강체의 내측으로 제공되며, 상기 제1외측 돌기의 상부에 제공되는 제1내측 돌기와, 상기 승강체의 내측으로 제공되며, 상기 제2외측 돌기의 상부에 제공되는 제2내측 돌기를 포함하며, 상기 제1외측 돌기의 내부에는 상기 제1회수통 자석이 제공되며, 상기 제2외측 돌기의 내부에는 상기 제2회수통 자석이 제공되며, 상기 제1내측 돌기의 내부에는 상기 제1승강 자석이 제공되며, 상기 제2내측 돌기의 내부에는 상기 제2승강 자석이 제공되고, 상기 제1회수통 자석, 상기 제2회수통 자석, 상기 제1승강 자석 그리고 상기 제2승강 자석은 상부에서 바라 볼 때, 서로 중첩되게 제공될 수 있다. According to an embodiment of the present invention, there is provided an internal combustion engine including: a first external protrusion provided on the outer side of a bottom surface of the first recovery tank; a second detachment protrusion provided on an outer side of a bottom surface of the second recovery tank; A first inner protrusion provided on an upper portion of the first outer protrusion and a second inner protrusion provided on an inner side of the ascending / descending member and provided on an upper portion of the second outer protrusion, The first recovery cylinder magnet is provided, the second recovery cylinder magnet is provided inside the second outer projection, the first lifting magnet is provided inside the first inner projection, Wherein the first lift cylinder magnet, the second recovery cylinder magnet, the first lift magnet and the second lift magnet are provided so as to overlap with each other when viewed from above, have.
일 실시예에 의하면, 상기 메인 회수통들은 상기 제2회수통을 감싸는 제3회수통을 포함하며, 상기 제3회수통은 상기 제2외측벽에서 상기 기판 지지 유닛에서 멀어지는 방향에 위치하는 제3내측벽과; 상기 제3내측벽에서 상기 기판 지지 유닛에서 멀어지는 방향으로 연장되는 제3바닥면과; 상기 제3바닥면의 상부로 연장되며 제2외측벽의 상부에 위치하는 제3외측벽을 포함하되, 상기 제1외측벽과 상기 제2외측벽과 상기 제3외측벽은 상부에서 바라 볼 때 서로 중첩되게 제공될 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the main recovery cylinders include a third recovery cylinder surrounding the second recovery cylinder, and the third recovery cylinder includes a third inner cylinder located in a direction away from the substrate supporting unit at the second outer wall, A side wall; A third bottom surface extending from the third inner side wall in a direction away from the substrate supporting unit; And a third outer side wall extending above the third bottom side and positioned above the second outer side wall, wherein the first outer side wall, the second outer side wall and the third outer side wall are provided so as to overlap each other when viewed from above .
일 실시예에 의하면, 상기 제3회수통의 바닥면의 외측으로 제공되는 제3외측 돌기와 상기 승강체의 내측으로 제공되며, 상기 제1외측 돌기의 상부에 제공되는 제1내측 돌기를 더 포함하며, 상기 제3외측 돌기의 내부에는 상기 제3회수통 자석이 제공되며, 상기 제3내측 돌기의 내부에는 상기 제3승강 자석이 제공되며, 상기 제1회수통 자석, 상기 제2회수통 자석, 상기 제3회수통 자석, 상기 제1승강 자석, 상기 제2승강 자석 그리고 상기 제3승강 자석은 상부에어 바라 볼 때 서로 중첩되게 제공될 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the apparatus further includes a third inner protrusion provided on the outer side of the bottom surface of the third collection tank and a first inner protrusion provided on the upper portion of the first outer protrusion, , The third recovery cylinder magnet is provided inside the third outside projection, the third lifting magnet is provided inside the third inside projection, and the first recovery tube magnet, the second collection tube magnet, The third recovery tube magnet, the first lifting magnet, the second lifting magnet, and the third lifting magnet may be provided so as to overlap each other when viewed from above.
일 실시예에 의하면, 상기 용기는 상기 용기를 둘러싸며 상기 용기의 외측에 위치하는 베이스통을 더 포함할 수 있다.According to one embodiment, the vessel may further include a base cylinder surrounding the vessel and located outside the vessel.
일 실시예에 의하면, 상기 베이스통의 외부에 위치하며 상기 메인 회수통들의 상하 위치를 감지 할 수 있는 위치 감지용 부재를 더 포함할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the apparatus may further include a position sensing member located outside the base cylinder and capable of sensing a vertical position of the main recovery cylinders.
일 실시예에 의하면, 상기 메인 회수통들은 상기 승강체의 구동으로 제1위치와 제2위치로 이동 가능하고, 상기 위치 감지용 부재는 자력을 이용해 상기 메인회수통들의 위치를 감지하며, 상기 회수통 자성부재와 대향되는 곳에 복수개가 제공될 수 있다.According to an embodiment, the main recovery cylinders are movable to the first position and the second position by driving the ascending / descending member, the position sensing member senses the position of the main recovery cylinders by using magnetic force, A plurality of magnetic members may be provided at positions facing the magnetic permeable member.
일 실시예에 의하면, 상기 메인 회수통들의 외부에 위치하는 보조 회수통을 더 포함하며, 상기 보조 회수통을 상하로 이동가능한 보조 구동기를 더 포함할 수 다. According to an embodiment of the present invention, the apparatus further includes an auxiliary recovery cylinder located outside the main recovery cylinders, and may further include an auxiliary driver capable of moving the auxiliary recovery cylinder vertically.
본 발명은 기판 처리 방법을 제공한다. 본 발명의 일 실시 예에 따르면, 상기 기판 처리 방법은 제1유체을 상기 제1회수통의 입구로 회수 시, 상기 제1승강 자석 및 상기 제2승강 자석에는 전류를 차단하여, 상기 제1회수통 자석과 상기 제1승강 자석 및 상기 제2회수통 자석과 상기 제2승강 자석은 인력이 작용하도록 하며, 상기 승강체를 상부로 이동시켜, 상기 제1회수통의 입구는 열리고, 상기 제2회수통의 입구는 닫히도록 하고, 제2유체을 상기 제2회수통의 입구로 회수 시, 상기 제1승강 자석에는 전류를 인가하고, 상기 제2승강 자석에는 전류를 차단하여, 상기 제1회수통 자석과 상기 제1승강 자석은 척력이 작용하고, 상기 제2회수통 자석과 상기 제2승강 자석은 마주보는 면이 인력이 작용하도록 하며, 상기 승강체를 상부로 이동시켜, 상기 제1회수통의 입구는 닫히고, 상기 제2회수통의 입구는 열리게 할 수 있다.The present invention provides a substrate processing method. According to an embodiment of the present invention, when recovering the first fluid to the inlet of the first collection box, the substrate processing method may interrupt current to the first and second lifting magnets, The magnet and the first lifting magnet, the second recovering barrel magnet and the second lifting magnet are actuated by gravity, the lifting body is moved upward, the inlet of the first recovery bin is opened, And a second current is applied to the first lift magnet when the second fluid is recovered to the entrance of the second recovery box, and the current is cut off to the second lift magnet, And the first lift-up magnet is acted upon by a repulsive force, a force acting on a surface of the second recovery tube magnet opposing to the second lift-up magnet acts on the lifting body, and the lift- The inlet is closed, and the inlet of the second recovery cylinder Can be opened.
일 실시 예에 의하면, 상기 제2회수통을 감싸는 제3회수통을 포함하며, 상기 회수통 자성부재는 상기 제3회수통에 설치되는 제3회수통 자석과, 상기 승강체 자성부재는 상기 승강체에 설치되고, 상기 제3회수통 자석과 대향되는 위치에 제공되는 제3승강 자석이 제공되고, 상기 제1유체을 상기 제1회수통의 입구로 회수 시, 상기 제3승강 자석에는 전류를 차단하여, 상기 제3회수통 자석과 상기 제3승강 자석은 인력이 작용하도록 하고, 상기 승강체를 상부로 이동시켜 상기 제3회수통 입구는 닫히도록 하고, 상기 제2유체을 상기 제2회수통의 입구로 회수 시 상기 제3승강 자석에는 전류를 차단하여, 상기 제3회수통 자석과 상기 제3승강 자석은 인력이 작용하도록 하고, 상기 승강체를 상부로 이동시켜 상기 제3회수통의 입구는 닫히도록 하고, 제3유체을 상기 제3회수통의 입구로 회수 시, 상기 제1승강 자석 및 상기 제2승강 자석에는 전류를 인가하고, 상기 제3승강 자석에는 전류를 차단하여, 상기 제1회수통 자석과 상기 제1승강 자석 및 상기 제2회수통 자석과 상기 제2승강 자석은 척력이 작용하고, 상기 제3회수통 자석과 상기 제3승강 자석은 인력이 작용하도록 하고, 상기 승강체를 상부로 이동시켜, 상기 제1회수통의 입구는 닫히고, 상기 제2회수통의 입구는 닫히고, 상기 제3회수통의 입구는 열리게 할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, there is provided a centrifugal separator including a third recovery cylinder enclosing the second recovery cylinder, wherein the recovered magnetic body member includes a third recovery cylinder magnet provided in the third recovery cylinder, And a third lifting magnet provided at a position opposed to the third recovery tube magnet, and when the first fluid is recovered to the inlet of the first recovery tube, a current is blocked to the third lifting magnet So that the attraction force acts on the third recovery cylinder magnet and the third lifting magnet to move the lifting body upward so as to close the third recovery tube inlet, The third current-collecting magnet and the third current-carrying magnet are acted on by the attraction force, and the entrance of the third collecting barrel is moved to the upper side, Close the third fluid, The first current-carrying magnet and the second current-carrying magnet are supplied with a current, and when the current is recovered to the inlet of the third water-collecting cylinder, current is applied to the first and second lifting magnets, And the second recovery tube magnet and the second lifting magnet are acted upon by a repulsive force and the third recovery tube magnet and the third lifting magnet are actuated by gravity and the lifting body is moved upward, The inlet of the recovery tank is closed, the inlet of the second recovery tank is closed, and the inlet of the third recovery tank can be opened.
일 실시예에 의하면, 상기 제1회수통의 입구 또는 제2회수통의 입구가 열린 후, 상기 승강체 자성부재에 전류를 모두 차단할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, after the inlet of the first recovery tank or the inlet of the second recovery tank is opened, all the currents may be cut off to the ascending / descending body magnetic member.
일 실시예에 의하면, 상기 제3회수통의 입구가 열린 후 상기 승강체 자성부재에 전류를 모두 차단할 수 있다.According to an embodiment, after the inlet of the third recovery tank is opened, all currents may be cut off to the magnetic member of the ascending / descending body.
본 발명의 일 실시 예에 따르면, 상기 메인 회수통들 중 유체를 회수하고자 하는 메인 회수통 및 유체를 회수하고자 하는 상기 메인 회수통의 입구보다 상부에 위치하는 입구를 가진 메인 회수통들에 제공되는 상기 회수통 자성부재와 대향되는 곳에 제공되는 상기 승강체 자성부재에는 전류를 차단하고, 상기 메인 회수통들 중 유체를 회수하고자 하는 메인 회수통의 입구보다 하부에 위치하는 입구의 메인 회수통에 제공되는 상기 회수통 자성부재와 대향되는 곳에 제공되는 상기 승강체 자성부재에는 전류를 차단하며, 상기 메인 회수통들 중 유체를 회수하고자 하는 메인 회수통 및 유체를 회수하고자 하는 상기 메인 회수통의 입구보다 상부에 위치하는 입구를 가진 메인 회수통들에 제공되는 상기 회수통 자성부재와 상기 회수통 자성부재와 대향되는 곳에 제공되는 상기 승강체 자성부재 사이에는 인력이 작용하며,상기 메인 회수통들 중 유체를 회수하고자 하는 메인 회수통의 입구보다 하부에 위치하는 입구의 메인 회수통에 제공되는 상기 회수통 자성부재와 상기 회수통 자성부재와 대향되는 곳에 제공되는 상기 승강체 자성부재 사이에는 척력이 작용되도록 하고, 상기 승강체를 상부로 이동시켜, 상기 메인 회수통들 중 유체를 회수하고자 하는 메인 회수통의 입구는 열리고, 다른 상기 메인 회수통의 입구는 닫히도록 할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, there is provided a main recovery cylinder for recovering fluid from the main recovery cylinders and an inlet located above the inlet of the main recovery cylinder for recovering fluid, The main body of the ascending and descending body provided with the magnetic field recovering body and the main body of the ascending and descending magnetic body provided with the fluid is provided with a main return pipe at an inlet located below the inlet of the main recovery pipe to recover the fluid among the main recovery pipes Wherein the main magnetic fluid is supplied to the main body through the main return pipe and the main return pipe for withdrawing fluid from the main return pipes, And the recovery and magnetic magnetic member provided in the main recovery cylinders having the inlet located at the upper portion, Which is provided at a lower portion of an inlet of the main recovery cylinder to recover fluid from the main recovery cylinders, is provided between the magnetic bodies of the ascending and descending body provided in the main recovery cylinder, And the upper and lower magnetic bodies provided opposite to the recovered magnetic body member are acted upon by a repulsive force to move the ascending and descending member upward so as to discharge the fluid from the main collection bins And the inlet of the other main collection bins can be closed.
일 실시예에 의하면, 상기 유체를 회수하고자 하는 메인 회수통의 입구가 열린 후, 상기 승강체 자성부재들에 인가된 전류를 모두 차단할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, after the inlet of the main recovery cylinder for recovering the fluid is opened, all the currents applied to the lifting body magnetic members can be blocked.
일 실시예에 의하면, 상기 메인 회수통들의 외부에 위치하는 보조 회수통을 더 포함하며, 상기 보조 회수통만의 입구를 개방해 제4유체을 회수 할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, the apparatus further includes an auxiliary recovery cylinder located outside the main recovery cylinders, and the inlet of only the auxiliary recovery cylinder may be opened to recover the fourth fluid.
일 실시예에 의하면, 자력을 감지하는 위치 감지용 부재를 이용해 상기 메인 회수통들의 상하 위치를 감지할 수 있다.According to an embodiment of the present invention, a position sensing member for sensing a magnetic force can be used to sense the vertical position of the main collection tubes.
본 발명의 일 실시 예에 의하면, 기판 처리 공정 시 사용되는 약액의 회수를 효율적으로 할 수 있다. According to the embodiment of the present invention, the recovery of the chemical solution used in the substrate processing step can be efficiently performed.
또한, 본 발명의 일 실시 예에 의하면, 기판 처리 공정 시 처리액이 회수하고자 하는 회수통 이외의 회수통으로 유입되는 것을 방지하는 효과가 있다. Further, according to the embodiment of the present invention, there is an effect of preventing the treatment liquid from flowing into the recovery container other than the recovery container to be recovered during the substrate processing step.
또한, 본 발명의 일 실시 예에 의하면, 기판 세정 공정 시 각각의 회수통들이 개별적으로 구동 가능한 승강 유닛에 구조를 간단하게 제공할 수 있다.In addition, according to the embodiment of the present invention, it is possible to simply provide the structure to the lift unit in which each of the recovery cylinders can be individually driven during the substrate cleaning process.
또한, 본 발명의 일 실시예에 의하면, 기판 세정 공정시 회수통들의 개별적 구동시에만 전류를 인가하여 전력 소비를 줄이는 효과가 있다.In addition, according to the embodiment of the present invention, there is an effect of reducing the power consumption by applying current only during the individual operation of the recovery cylinders in the substrate cleaning process.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 설비를 개략적으로 나타낸 평면도이다.
도 2는 도 1의 기판 처리 장치의 평면도이다.
도 3은 도1의 기판 처리 장치의 단면도이다.
도 4 내지 도 6은 도1 기판 처리 장치에서 제2회수통 자성부재와 제2승강 자석이 분리되는 것을 보여주는 개략적인 단면도들이다.
도 7은 각각의 회수통들의 입구가 모두 닫혀 있는 상태를 보여주는 단면도이다.
도 8은 보조 회수통의 입구가 열리는 상태를 보여주는 단면도이다.
도 9는 제3회수통의 입구가 열리는 상태를 보여주는 단면도이다.
도 10은 제2회수통의 입구가 열리는 상태를 보여주는 단면도이다.
도 11은 제1회수통의 입구가 열리는 상태를 보여주는 단면도이다.
도 12는 도1의 기판 처리 장치의 다른 실시예를 보여주는 단면도이다.1 is a plan view schematically illustrating a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
2 is a plan view of the substrate processing apparatus of FIG.
3 is a cross-sectional view of the substrate processing apparatus of FIG.
Figs. 4 to 6 are schematic cross-sectional views showing the separation of the second recoverable magnetic member and the second lift magnet in the substrate processing apparatus of Fig. 1; Fig.
7 is a cross-sectional view showing a state in which all the openings of the respective collection bins are closed.
8 is a sectional view showing a state in which the inlet of the auxiliary recovery cylinder is opened.
9 is a sectional view showing a state in which the inlet of the third recovery tank is opened.
10 is a sectional view showing a state in which the inlet of the second recovery tank is opened.
11 is a sectional view showing a state in which the inlet of the first recovery tank is opened;
12 is a cross-sectional view showing another embodiment of the substrate processing apparatus of FIG.
이하, 본 발명의 실시 예를 첨부된 도면들을 참조하여 더욱 상세하게 설명한다. 본 발명의 실시 예는 여러 가지 형태로 변형할 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래의 실시 예들로 한정되는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 실시 예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 더욱 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다. 따라서 도면에서의 요소의 형상은 보다 명확한 설명을 강조하기 위해 과장되었다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. The embodiments of the present invention can be modified in various forms, and the scope of the present invention should not be construed as being limited to the following embodiments. This embodiment is provided to more fully describe the present invention to those skilled in the art. Thus, the shape of the elements in the figures has been exaggerated to emphasize a clearer description.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 설비를 개략적으로 나타낸 평면도이다.1 is a plan view schematically illustrating a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.
도 1을 참조하면, 기판 처리 설비(1000)은 인덱스 모듈(10), 버퍼 모듈(20) 그리고 처리 모듈(50)을 포함할 수 있다. Referring to FIG. 1, the
인덱스 모듈(10), 버퍼 모듈(20) 그리고 처리 모듈(50)는 순차적으로 일렬로 배치된다. 이하, 인덱스 모듈(10), 버퍼 모듈(20) 그리고 처리 모듈(50)가 배열된 방향을 제1방향(1)이라 하고, 상부에서 바라볼 때, 제1방향(1)의 수직인 방향을 제2방향(2)이라 하며, 제1방향(1)과 제2방향(2)을 포함한 평면에 수직인 방향을 제3방향(3)이라 한다.The
인덱스 모듈(10)은 로드 포트(12)와 인덱스 로봇(13)을 포함한다. The
로드 포트(12)는 제1방향(1)으로 인덱스 모듈(10)의 전방에 배치된다. 로드 포트(12)는 복수 개가 제공되며 이들은 제2방향(2)을 따라 배치된다. 일 예에 의하면 로드 포트(12)는 4개가 제공될 수 있다. 로드 포트(12)의 개수는 기판 처리 설비(1000)의 공정 효율 및 풋 프린트 조건에 따라 가감할 수도 있다. 로드 포트(12)들에는 공정에 제공될 기판(w) 및 공정처리가 완료된 기판(w)이 수납된 캐리어(16)가 안착된다. 일 실시예로 캐리어(16)에는 전면개방일체형포트(FOUP: front opening unified pod)가 안착될 수 있다. 캐리어(16)에는 기판(w)들을 지면에 대해 수평하게 배치한 상태로 수납하기 위한 다수의 슬롯이 형성된다.The
인덱스 로봇(13)은 로드 포트(12)와 버퍼 모듈(20) 사이에 설치된다. 인덱스 로봇(13)은 기판(w)을 캐리어(16)로 이송하거나, 캐리어(16)에서 대기하는 기판(w)을 버퍼 모듈(20)로 이송한다. The
버퍼 모듈(20)는 인덱스 로봇(13)에 의해 이송되기 전에 공정에 제공될 기판(w) 또는 메인 이송 로봇(30)에 의해 이송되기 전에 공정 처리가 완료된 기판(w)이 일시적으로 수납되어 대기한다.The
버퍼 모듈(20)의 상층에는 캐리어(16)로 이송하는 기판(w)이 대기한다. 캐리어(16)에서 버퍼 모듈(20)로 이송하는 기판(w)은 버퍼 모듈(20)의 하층에 위치한다.On the upper layer of the
처리 모듈(50)은 메인 이송로봇(30), 이동 통로(40), 그리고 기판 처리 장치(60)를 포함한다. 처리 모듈(50)은 버퍼 모듈(20)에서 이송된 기판(w)을 기판 처리 장치(60)에서 처리한다. The
메인 이송 로봇(30)은 이동 통로(40)에 설치된다. 메인 이송 로봇(30)은 각 기판 처리 장치(60)들 및 버퍼 모듈(20) 간에 기판(w)을 이송한다. 메인 이송 로봇(30)은 버퍼 모듈(20)에서 대기하는 기판(w)을 각 기판 처리 장치(60)로 이송한다. 메인 이송 로봇(30)은 각 기판 처리 장치(60)에서 공정 처리가 완료된 기판(w)을 버퍼 모듈(20)로 이송한다. The main transfer robot (30) is installed in the transfer passage (40). The
이동 통로(40)는 처리 모듈(50) 내의 제1방향(1)을 따라 배치된다. 이동 통로(40)는 메인 이송 로봇(30)이 이동하는 통로를 제공한다. 이동 통로(40)의 양측에는 기판 처리 장치(60)들이 서로 마주보며 제1방향(1)을 따라 배치된다. 이동 통로(40)에는 메인 이송 로봇(30)이 제1방향(1)을 따라 이동하며, 기판 처리 장치(60)의 상하층, 그리고 버퍼 모듈(20)의 상하층으로 승강할 수 있는 이동 레일이 설치된다. The
기판 처리 장치(60)는 메인 이송 로봇(30)이 설치되는 이동통로(40)의 양측에 배치된다. 기판 처리 설비(1000)은 상하층으로 된 다수개의 기판 처리 장치(60)을 구비한다. 기판 처리 장치(60)의 개수는 기판 처리 설비(1000)의 공정 효율 및 풋 프린트 조건에 따라 증가하거나 감소할 수도 있다.The
도 2는 도 1의 기판 처리 장치의 평면도이다. 도 3은 도1의 기판 처리 장치의 단면도이다. 도 4는 도1 승강 유닛에 승강 작동을 보여주는 개략적인 단면도이다. 도 5는 회수통들의 입구가 모두 닫혀 있는 상태를 보여주는 단면도이다. 도 2 내지 도 5를 참조하면, 기판 처리 장치(60)는 공정 챔버(700), 처리 용기(100), 기판 지지 유닛(200), 분사 부재(300), 배기 부재(400), 승강 유닛(600), 제어부(800) 그리고 위치 감지용 부재(900)를 포함한다. 2 is a plan view of the substrate processing apparatus of FIG. 3 is a cross-sectional view of the substrate processing apparatus of FIG. Fig. 4 is a schematic cross-sectional view showing the elevating operation of the elevating unit of Fig. 1; 5 is a cross-sectional view showing a state in which all of the openings of the recovery cylinders are closed. 2 to 5, the
공정 챔버(700)는 밀폐된 공간을 제공한다. 공정 챔버(700)의 상부에는 팬 필터 유닛(710)이 설치된다. 팬 필터 유닛(710)은 공정 챔버(700) 내부에 하강 기류를 발생시킨다.The
팬 필터 유닛(710)은 필터와 팬을 포함한다. 팬 필터 유닛(710)은 필터와 팬이 하나의 유니트로 모듈화될 수 있다. 팬 필터 유닛(710)은 외기를 정화하여 공정 챔버(700) 내부로 공급한다. 외기는 팬 필터 유닛(710)을 통과하여 공정 챔버(700) 내부로 공급되어 하강기류를 형성한다.The
도 2에 도시된 바와 같이, 챔버(700)는 수평 격벽(714)에 의해 상부 영역(716)과 하부 영역(718)으로 구획된다. 상부 영역에는 처리 용기(100)와 기판 지지 유닛(200)이 위치된다. 하부 영역(718)에는 처리 용기(100)의 각 회수통들과 연결되는 회수라인(151,153,155,157)과 배기라인(410) 이외에도 승강 부재, 분사 노즐(340)과 연결되는 구동부 그리고 공급라인 등이 위치된다.하부 영역(718)은 상부 영역으로부터 격리된다. As shown in FIG. 2, the
처리 용기(100)는 상부가 개방된 공정 공간을 가진 원통 형상을 가진다. 기판(w)을 처리하기 위한 공정 공간을 제공한다. 처리 용기(100)의 개방된 상면은 기판(w)의 반출 및 반입 통로로 제공된다. 공정 공간에는 기판 지지 유닛(200)이 위치된다. 처리 용기(100)에는 배기부재(400)가 설치된 배기덕트(190)가 제공된다. The
기판 지지 유닛(200)는 공정 진행 중 기판(W)을 지지하고 기판을 회전시킨다. 기판 지지 유닛(200)는 스핀 헤드(210), 지지축(220) 그리고 회전 구동부(230)을 포함한다. 스핀 헤드(210)는 지지핀(212)과 척핀(214)을 가진다. 스핀 헤드(210)는 상부에서 바라볼 때 원형으로 제공되는 상부면을 가진다. The
지지핀(212)은 복수 개 제공된다. 지지핀(212)은 스핀 헤드(210)의 상부면의 가장자리부에 소정 간격으로 이격되게 배치되고 스핀 헤드(210)에서 제3방향(3)으로 돌출된다. 지지핀(212)은 스핀 헤드(210)의 상부면으로부터 기판(W)이 일정거리 이격되도록 기판(W)의 후면 가장자리를 지지한다. 스핀헤드(210)의 하부에는 지지축(220)이 결합된다. 지지축(220)은 회전 구동부(230)에 의해 회전가능하다. A plurality of support pins 212 are provided. The support pins 212 are spaced apart from the edge of the upper surface of the
척핀(214)은 복수 개 제공된다. 지지핀(212)의 외측에 배치된다. 척핀(214)은 스핀 헤드(210)가 회전할 때 기판(W)이 정 위치에서 측 방향으로 이탈되지 않도록 기판(W)의 측부를 지지한다.A plurality of the chuck pins 214 are provided. And is disposed outside the
분사 부재(300)는 기판 처리 공정시 기판 지지 유닛(200)의 스핀헤드(210)에 놓인 기판의 처리면으로 약액을 분사한다. 분사 부재(300)는 구동기(310), 지지축(320), 노즐 지지대(330) 그리고 분사 노즐(340)을 포함한다. The
지지축(320)은 그 길이 방향이 제 3 방향(3)으로 제공되며, 지지축(320)의 하단은 구동기(310)와 결합된다. 구동기(310)는 지지축(320)을 회전시킨다. 노즐 지지대(330)는 지지축(320)에 결합되어 분사 노즐(340)을 지지한다. The
분사 노즐(340)은 노즐 지지대(330)의 끝단 저면에 위치한다. 분사 노즐(340)은 구동기(310)에 의해 공정 위치와 대기 위치로 이동된다. 공정 위치는 분사 노즐(340)이 처리 용기(100)의 수직 상부에 배치된 위치이다. 대기 위치는 분사 노즐(340)이 처리 용기(100)의 수직 상부로부터 벗어난 위치이다. 분사 노즐(340)은 약액 공급 장치로부터 공급된 약액을 분사한다. The
배기 부재(400)는 기판 처리 공정시 처리 용기 내에 배기압력을 제공한다. 배기부재(400)는 배기덕트(190)와 연결되는 서브 배기 라인(410) 및 댐퍼(420)를 포함한다. 서브 배기 라인(410)은 배기펌프(미도시됨)로부터 배기압을 제공받는다. 서브 배기 라인(410)은 반도체 생산라인의 바닥 공간에 매설된 메인 배기 라인과 연결된다.The
처리 용기(100)는 메인 회수통들(112, 114, 116), 보조 회수통(118), 그리고 베이스통(110)을 포함한다.The
베이스통(110)은 바닥면과 측부벽을 가진다. 베이스통(110)에는 배기 덕트(190)가 연결된다. 베이스통(110)는 수평 격벽(714)에 고정 설치될 수 있다.The
메인 회수통들(112,114,116)들과 보조 회수통(118)은 처리 용기(100)의 베이스통(110) 안쪽에 배치된다. The
메인 회수통(112,114,116)들과 보조 회수통(118)은 회전되는 기판(w)상에서 비산되는 약액과 기체를 유입 및 흡입하기 위해 다단으로 배치된다. 회수통(112,114,116,118)들은 베이스통(110)로부터 이격되어 배치된다. The
회수통들(112,114,116,118)은 처리 공간내에서 비산되는 처리액이 유입되는 입구를 가진다. 회수통들(112,114,116,118)의 입구는 서로 상항 방향으로 제공된다.The
메인 회수통(112,114,116)들은 제1회수통(112), 제2회수통(114) 그리고 제3회수통(116)을 포함한다. 제1회수통(112)은 처리 용기(100)의 안쪽에 위치한다.제1회수통(112)은 기판 지지 유닛(200)를 감싸는 환형의 링 형상으로 제공되고, 제2회수통(114)은 제1회수통(112)을 감싸는 환형의 링 형상으로 제공되고, 제3회수통(116)은 제2회수통(112)을 감싸는 환형의 링 형상으로 제공된다.The
제1회수통(112)은 제1내측벽(112a), 제1바닥면(112b), 그리고 제1외측벽(112c)을 포함한다. 제1내측벽(112a)은 기판 지지 유닛을 향하는 방향에 설치된다. 제1내측벽(112a)은 제1바닥면(112b)과 수직하게 제공된다. 제1바닥면(112b)은 제1내측벽(112a)에서 기판 지지 유닛(200)으로 멀어지는 방향으로 연장되게 제공된다. 제1외측벽(112c)은 제1바닥면(112b)으로부터 상부로 연장되게 배치된다.The
제2회수통(114)은 제2내측벽(114a), 제2바닥면(114b), 그리고 제2외측벽(114c)을 포함한다. 제2내측벽(114a)은 제1외측벽(112c)을 감싸도록 위치한다. 제2내측벽(114a)은 제1내측벽(112a)과 평행하게 제공된다. 제2내측벽(114a)은 제2바닥면(114b)으로부터 수직하게 배치된다. 제2바닥면(114b)은 제2내측벽(114a)에서 기판 지지 유닛(200)에서 멀어지는 방향으로 연장되게 제공된다. 제2외측벽(114c)은 제2바닥면(114b)의 상부로 연장되게 제공된다. The
제3회수통(116)은 제3내측벽(116a), 제3바닥면(116b), 그리고 제3외측벽(116c)을 포함한다. 제3내측벽(116a)은 제2외측벽(114c)감싸도록 위치한다. 제3내측벽(116a)은 제2내측벽(114a)과 평행하게 제공된다. 제3내측벽(116a)은 제3바닥면(116b)과 수직하게 배치된다. 제3바닥면(116b)은 제3내측벽(116a)으로부터 기판 지지 유닛(200)에서 멀어지는 방향으로 연장되게 제공된다. 제3외측벽(116c)은 제3바닥면(116b)으로부터 상부로 연장되게 제공된다.The third
일 실시예로 제1외측벽(112c)과 제2외측벽(114c)과 제3외측벽(116c)은 상부에서 바라 볼 때 서로 중첩되게 제공된다. In an embodiment, the first
보조 회수통(118)은 제3회수통(116)의 상단에 배치된다. 보조 회수통(118)은 보조 구동기(170)에 의해서 이동할 수 있다. 보조 구동기(170)는 보조 회수통(118)의 입구를 개페시키기 위해 보조 회수통(118)을 상하로 이동시킨다. 보조 회수통(118)은 제3회수통(116)을 감싸며 제공된다.The
각각의 회수통(112,114,116,118)은 공정에 사용된 처리 유체 중 서로 상이한 처리 유체를 회수할 수 있다. Each of the
메인회수통들(112,114,116)과 보조 회수통(118)은 기판 지지 유닛(200)를 감싸는 환형의 링 형상으로 제공된다. 제3회수통(118)의 내측에는 고정통(119)이 배치된다. 메인 회수통들(112,114,116)과 보조 회수통(118)은 각각 개별적으로 상하 방향으로 이동가능하게 설치된다. The
제1회수통(112)과 고정통(119) 사이 공간은 제1회수통(112)으로 약액 및 기체가 유입되는 공간으로 제1회수통(112) 상단의 입구와 연결된다. 제2회수통(114)과 제1회수통(112) 사이 공간은 제2회수통(114)으로 약액 및 기체가 유입되는 공간으로, 제2회수통(114) 상단의 유입구와 연결된다. 제3회수통(116)과 제2회수통(114) 사이 공간(114a)은 제3회수통(116)으로 약액 및 기체가 유입되는 공간으로, 제3회수통(116) 상단의 유입구와 연결된다. 보조 회수통(118)과 제3 회수통(116) 사이 공간은 보조 회수통(118)으로 약액 및 기체가 유입되는 공간으로 보조 회수통(118) 상단의 유입구와 연결된다. The space between the
각각의 회수통(112,114,116,118)에는 그 저면 아래 방향으로 수직하게 연장되는 회수라인(151,153,155,157)이 연결된다. 각각의 회수라인(151,153,155,157)은 각각의 회수통(112,114,116,118)을 통해 유입된 처리액을 배출한다. 배출된 처리액은 외부의 처리액 재생 시스템을 통해 재사용 또는 페기될 수 있다.
메인 회수통(112,114,116)들은 각각 외측 돌기(640)를 포함한다. 외측 돌기(640)는 메인 회수통(112,114,116)들의 외측으로 돌출되어 제공된다. 외측 돌기(640)는 제1외측 돌기(641), 제2외측 돌기(642) 그리고 제3외측 돌기(643)를 포함한다. 제1회측 돌기(641)는 제1회수통(112)의 외측으로 돌출되어 제공된다. 제2외측 돌기(642)는 제2회수통(114)의 외측으로 돌출되어 제공된다. 제3외측 돌기(643)는 제3회수통(116)의 외측으로 돌출되어 제공된다. 일 예로 제1외측 돌기(641), 제2외측 돌기(642) 그리고 제3외측 돌기(643)는 상부에서 바라 볼 때 중첩되게 제공된다. The
승강 유닛(600)은 승강체(610), 승강체 구동기(630) 그리고 메인 구동기(650)를 포함한다.The elevating
승강체(610)는 메인 회수통(112,114,116)들과 연결되게 제공된다. 승강체(610)는 메인 회수통(112,114,116)들의 외측에 배치된다. 일 실시예로 승강체(610)는 메인 회수통(112,114,116)들은 감싸는 링 형상으로 제공될 수 있다.The lifting
승강체(610)는 내측 돌기(680)를 포함한다. 내측 돌기(680)는 승강체(610)의 내부로 돌출되어 배치된다. 내측 돌기(680)는 제1내측 돌기(681), 제2내측 돌기(682), 제3내측 돌기(683)를 포함한다. 서로 대응되는 외측 돌기(640)와 내측 돌기(680)는 상부에서 바라볼 때 서로 중첩되게 제공된다. 일 예로 제1외측 돌기(641)는 제1내측 돌기(681)의 하부에 제공된다. 제2외측 돌기(642)는 제2내측 돌기(682)의 하부에 제공된다. 제3외측 돌기(643)는 제3내측 돌기(683)의 하부에 제공된다. The lifting
승강체 구동기(630)는 메인 회수통(112,114,116)들을 상하로 구동시킨다. 승강체 구동기(630)는 승강체(610)의 하부에 제공된다. 일 예로 승강체 구동기(630)는 실린더 장치일 수 있다. 다른 실시예로 직선 구동 가능한 장치가 적용될 수 있다.The
메인 구동기(650)는 자력에 의해 메인 회수통(112,114,116,118)들을 각각 구동하게 제공된다. 메인 구동기(650)는 회수통 자성부재(670), 승강체 자성부재(690) 그리고 금속판(660)을 포함한다.The
회수통 자성부재(670)는 메인 회수통(112,114,116)의 외측 돌기(640)에 제공된다. 회수통 자성부재(670)는 각각의 메인 회수통들(112,114,116)에 링을 이루는 배열로 복수개가 제공될 수 있다. 회수통 자성부재(670)는 승강체 자성부재(690)와 결합하여 메인 회수통(112,114,116)을 개별 구동하게 한다. 일 예로 회수통 자성부재(670)는 영구자석으로 제공될 수 있다. The recovery
회수통 자성부재(670)는 제1회수통 자석(671), 제2회수통 자석(672) 그리고 제3회수통 자석(673)을 포함한다. 제1회수통 자석(671)은 제1외측 돌기(641)에 제공된다. 제2회수통 자석(672)은 제2외측 돌기에 제공된다. 제3회수통 자석(673)은 제3외측 돌기(643)에 제공된다.The recovery
승강체 자성부재(690)는 승강체(610)에 제공된다. 승강체 자성부재(690)는 회수통 자성부재(670)와 포함되어 메인 회수통(112,114,116)들을 개별 구동하게 한다. 서로 대응되는 회수통 자성부재(670)와 승강체 자성부재(690)는 서로 상하로 대향되게 제공된다. 일 예로 승강체 자성부재(690)는 회수통 자성부재(670)에 상부에 제공될 수 있다. 일 예로 승강체 자성부재(690)는 전자석으로 제공될 수 있다.The ascending / descending body
승강체 자성부재(690)는 제1승강 자석(691), 제2승강 자석(692) 그리고 제3승강 자석(693)을 포함한다. 제1승강 자석(691)은 제1내측 돌기(681)에 제공된다. 제1승강 자석(691)은 제1회수통 자석(671)에 대향되는 위치에 제공된다. 제2승강 자석(692)은 제2내측 돌기(682)에 제공된다. 제2승강 자석(692)은 제2회수통 자석(672)에 대향되는 위치에 제공된다. 제3승강 자석(693)은 제3내측 돌기(683)에 제공된다. 제3승강 자석(693)은 제3회수통 자석(673)에 대향되는 위치에 제공된다. 일 예로 제1회수통 자석(671), 제1승강 자석(691), 제2회수통 자석(672), 제2승강 자석(692), 제3회수통 자석(673) 그리고 제3승강 자석(693)은 상부에서 바라 볼 때, 서로 중첩되게 제공 될 수 있다.The ascending / descending body
금속판(660)은 승강체(610)에 제공된다. 승강체 자성부재(690)의 저면에 위치한다. 일 예로 금속판(660)은 상부에서 바라 볼 때, 회수통 자성부재(670) 및 승강체 자성부재(690)와 중첩되게 제공될 수 있다. 금속판(660)은 제어기(820)에서 전류를 차단할 때, 회수통 자성부재(670)와 금속판(660)간에 인력이 작용되도록 한다.The
제어부(800)는 승강체 자성부재(690)에 전류를 인가하거나 차단한다. 제어부(800)는 전원(810)과 제어기(820)를 포함한다. 전원(810)은 승강체 자성부재(690)에 전류를 인가할 수 있다. 일 예로 승강체 자성부재(690)가 전자석으로 제공 시, 전자석에 전류를 인가하거나 차단한다. 제어기(820)는 전원(810)에서 전류를 인가하거나 차단 하는 것을 조절한다. The
위치 감지용 부재(900)는 자력을 감지할 수 있다. 위치 감지용 부재(900)는 베이스통(110)의 외부에 위치한다. 메인 회수통(112,114,116)들이 상하 위치를 감지한다. 메인 회수통(112,114,116)들은 회수통의 입구가 페쇄되는 제1위치와 회수통의 입구가 개방되는 제2위치로 각각 구동한다. 이러한 메인 회수통(112,114,116)들의 위치를 자력을 이용해 위치 감지용 부재(900)가 감지 가능하다. 일 예로 위치 감지용 부재(900)는 회수통 자성부재(670)에 대향되는 베이스통(110)의 외부에 복수개가 제공될 수 있다. The
도 4 내지 도 6은 도1 기판 처리 장치에서 제2회수통 자성부재와 제2승강 자석이 분리되는 것을 순차적으로 보여주는 개략적인 단면도들이다. 도 4 내지 도 6을 참조하면, 전원에서 제2승강 자석(692)에 전류를 차단할 때는 제2승강 자석(692)에는 자력이 형성되지 않는다. 이 때에는 금속판(660)과 하부에 제2회수통 자석(672)과 인력이 작용한다. 인력으로 승강체(610)와 메인 회수통(112,114,116)들은 연결된다. 제2승강 자석(692)에 전류가 인가되면, 제2승강 자석(692)은 자력을 형성한다. 이 후 제2승강 자석(692)와 제2회수통 자석(672)이 마주보는 면은 같은 자극을 형성하여 척력이 작용한다. 이 후 제2회수통 자석(672)은 이전 위치를 유지한다. 다만, 승강체(610)와 연결된 제2승강 자석(692)은 상부로 이동하게 되며, 제2회수통 자석(672)과 제2승강 자석(692)은 분리된다.FIGS. 4 to 6 are schematic cross-sectional views sequentially showing the separation of the second recoverable magnetic member and the second lift magnet in the substrate processing apparatus of FIG. 1; 4 to 6, when a current is cut off from the power source to the second lift-up
도 7은 회수통들의 입구가 모두 닫혀 있는 상태를 보여주는 단면도이다.7 is a cross-sectional view showing a state in which all of the openings of the recovery cylinders are closed.
도 8 내지 도 11은 도 1의 기판 처리 장치에 각 회수통의 입구 개폐 상태를 보여주는 단면도이다. 도 8 내지 도 11을 참조하면, 메인 회수통(112,114,116)들과 보조 회수통(118)들은 유체를 회수할 수 있다. 메인 회수통(112,114,116)들은 유체를 회수하는 메인 회수통의 입구(112d,114d,116d)를 개방하고, 그 외 회수통의 입구는 차단하다. 공정을 진행하기 전에는 메인회수통의 입구가 이웃하는 메인 회수통의 입구와 서로 겹쳐져 닫혀진 상태로 제공될 수 있다. 일 예로 제1회수통(112)은 제1유체를 회수할 수 있다. 제2회수통(114)은 제2유체를 회수할 수 있다. 제3회수통(116)은 제3유체를 회수할 수 있다. 보조 회수통(118)은 제4유체를 회수할 수 있다. 제1유체 내지 제3유체는 서로 상이한 케미칼 용액으로 제공될 수 있다. 제4유체는 순수 또는 건조용 유체일 수 있다. 다만, 유체는 위와 상이하게 제공될 수 있다.Figs. 8 to 11 are cross-sectional views showing an inlet opening / closing state of each of the collection bins in the substrate processing apparatus of Fig. 1; Referring to FIGS. 8 to 11, the
일 실시 예로 제1유체를 상기 제1회수통의 입구(112d)로 회수 시, 제어부(800)는 제1승강 자석(691)에 전류를 차단하고, 제2승강 자석(692) 및 제3승강 자석(693)에는 전류를 차단한다. 제어부(800)의 승강체 자성부재(690)에 대해서 전류 차단으로 제1회수통 자석(671)과 제1승강 자석(691)은 인력이 작용한다. 제2회수통 자석(672)과 제2승강 자석(692)은 인력이 작용한다. 제3회수통 자석(673)과 제3승강 자석(693)은 인력이 작용한다. 이 후 승강체(610)를 상부로 이동시킨다. 이 후 제1회수통의 입구(112d)는 열리고, 제2회수통의 입구(114d) 및 제3회수통 입구(116d)는 닫힌다. 열린 제1회수통의 입구(112d)를 통해 제1유체을 회수 가능하게 제공된다. In one embodiment, when the first fluid is recovered to the
제2유체을 상기 제2회수통의 입구(114d)로 회수 시, 제어부(800)는 제1승강 자석(691)에는 전류를 인가하고,제2승강 자석(692) 및 제3승강 자석(693)에는 전류를 차단한다. 제어부(800)의 승강체 자성부재(690)의 전류 인가와 차단으로 제1회수통 자석(671)과 제1승강 자석(691)은 척력이 작용한다. 제2회수통 자석(672)과 제2승강 자석(692)은 인력이 작용한다. 제3회수통 자석(673)과 제3승강 자석(693)은 인력이 작용한다. 이 후 승강체(610)를 상부로 이동시킨다. 이 후 제1회수통의 입구(112d) 및 제3회수통의 입구(116d)는 닫히고, 제2회수통의 입구(114d)는 열린다. 열린 제2회수통의 입구(114d)를 통해 제2유체을 회수 가능하게 제공된다.When the second fluid is recovered to the
제3유체을 상기 제3회수통의 입구(116d)로 회수 시, 제어부(800)는 제1승강 자석(691) 및 제2승강 자석(692)에는 전류를 인가하고, 제3승강 자석(693)에는 전류를 차단한다. 제어부(800)의 승강체 자성부재(690)의 전류 인가와 차단으로 제1회수통 자석(671)과 제1승강 자석(691)은 척력이 작용한다. 제2회수통 자석(672)과 제2승강 자석(692)은 척력이 작용한다. 제3회수통 자석(673)과 제3승강 자석(693)은 인력이 작용한다. 이 후 승강체(610)를 상부로 이동시킨다. 이 후 제1회수통의 입구(112d) 및 제2회수통의 입구(114d)는 닫힌다. 제3회수통의 입구(116d)는 열린다. 열린 제3회수통의 입구(116d)를 통해 제3유체을 회수 가능하게 제공된다. The
보조 회수통(118)은 보조 구동기(170)에 의해 상부로 이동 가능하다. 보조 회수통(118)은 보조 구동기(170)에 의해 보조 회수통의 입구(118d)가 개방된다. 보조 회수통의 입구(118d)가 개방시 열린 보조 회수통의 입구(118d)로 제4유체를 회수 가능하게 제공된다.The auxiliary recovery cylinder (118) is movable upward by the auxiliary driver (170). The
제어부(800)에서는 제1회수통의 입구(112d) 또는 제2회수통의 입구(114d)가 열릴 시, 승강체 자성부재(690)에 인가된 전류를 모두 차단한다. 제어부(800)는 제3회수통의 입구(116d)가 열린 후, 승강체 자성부재(690)에 인가된 전류를 모두 차단한다. 제어부(800)에서 전류를 차단하여, 승강체 자성부재(690)에 과열을 방지 가능하다. 이러한 과열은 기판 처리 공정에 악영향을 줄 수 있기 때문이다. 또한, 순간적으로 전류를 인가하는 바 승강체 자성부재(690) 제어시 전류가 적게 드는 효과가 있다. The
본 발명의 실시예에서는, 처리 용기는 3개의 메인회수통들과 보조 회수통을 을 갖는 것으로 도시하였으나, 이에 한정되지 않으며, 상기 처리 용기는 2개 또는 5개 이상의 메인 회수통을 포함할 수 있다. 또한, 회수통 자성부재(670)와 승강체 자성부재(690)는 3개가 제공되는 것으로 도시하였으나, 이에 한정되지 않는다. In the embodiment of the present invention, the processing vessel is shown as having three main collection bins and auxiliary recovery bins, but the present invention is not limited thereto, and the processing vessel may include two or more main collection bins . In addition, although three recovered
다른 실시 예로, 메인회수통(112,114,116)들 중 유체를 회수하고자 하는 메인 회수통(112,114,116)으로 회수할 수 있다.In another embodiment, the fluid can be recovered from the
제어부(800)에서는 메인 회수통(112,114,116)들 중 유체를 회수하고자 하는 메인 회수통(112,114,116) 및 유체를 회수하고자 하는 메인 회수통의 입구(112d,114d,116d)보다 상부에 위치하는 입구를 가진 메인 회수통(112,114,116)들에 제공되는 회수통 자성부재(670)와 대향되는 곳에 제공되는 승강체 자성부재(690)에는 전류를 차단한다. 이와 동시에 메인 회수통(112,114,116)들 중 유체를 회수하고자 하는 메인 회수통의 입구(112d,114d,116d)보다 하부에 위치하는 입구의 메인 회수통(112,114,116)에 제공되는 회수통 자성부재(670)와 대향되는 곳에 제공되는 승강체 자성부재(690)에는 전류를 차단한다.The
이 후, 메인 회수통(112,114,116)들 중 유체를 회수하고자 하는 메인 회수통(112,114,116) 및 유체를 회수하고자 하는 메인 회수통의 입구(112d,114d,116d)보다 상부에 위치하는 입구를 가진 메인 회수통(112,114,116)들에 제공되는 회수통 자성부재와 회수통 자성부재(670)와 대향되는 곳에 제공되는 승강체 자성부재(690) 사이에는 인력이 작용한다. 또한, 메인 회수통(112,114,116)들 중 유체를 회수하고자 하는 메인 회수통의 입구(112d,114d,116d)보다 하부에 위치하는 입구의 메인 회수통(112,114,116)에 제공되는 회수통 자성부재(670)와 회수통 자성부재(670)와 대향되는 곳에 제공되는 승강체 자성부재(690) 사이에는 척력이 작용한다. 이와 동시에, 승강체(610)를 상부로 이동시켜, 메인 회수통(112,114,116)들 중 유체를 회수하고자 하는 메인 회수통의 입구(112d,114d,116d)는 열리고, 다른 상기 메인 회수통의 입구(112d,114d,116d)는 닫힌다. Thereafter, the
제어부(800) 유체를 회수하고자 하는 메인 회수통의 입구(112d,114d,116d)가 열린 후, 승강체 자성부재(690)들에 인가된 전류를 모두 차단한다.After the
도 12는 도3의 기판 처리 장치의 다른 실시예를 보여주는 단면도이다. 도 12를 참조하면, 기판 처리 장치는 대체로 도 3의 기판 처리 장치와 동일하게 제공된다. 다만, 도 3과 달리 처리 용기(100)에 보조 회수통이 제공되지 않는다.12 is a cross-sectional view showing another embodiment of the substrate processing apparatus of FIG. Referring to Fig. 12, the substrate processing apparatus is provided substantially the same as the substrate processing apparatus of Fig. However, unlike FIG. 3, the auxiliary recovery cylinder is not provided in the
이상의 상세한 설명은 본 발명을 예시하는 것이다. 또한 전술한 내용은 본 발명의 바람직한 실시 형태를 나타내어 설명하는 것이며, 본 발명은 다양한 다른 조합, 변경 및 환경에서 사용할 수 있다. 즉 본 명세서에 개시된 발명의 개념의 범위, 저술한 개시 내용과 균등한 범위 및/또는 당업계의 기술 또는 지식의 범위내에서 변경 또는 수정이 가능하다. 저술한 실시예는 본 발명의 기술적 사상을 구현하기 위한 최선의 상태를 설명하는 것이며, 본 발명의 구체적인 적용 분야 및 용도에서 요구되는 다양한 변경도 가능하다. 따라서 이상의 발명의 상세한 설명은 개시된 실시 상태로 본 발명을 제한하려는 의도가 아니다. 또한 첨부된 청구범위는 다른 실시 상태도 포함하는 것으로 해석되어야 한다.The foregoing detailed description is illustrative of the present invention. In addition, the foregoing is intended to illustrate and explain the preferred embodiments of the present invention, and the present invention may be used in various other combinations, modifications and environments. That is, it is possible to make changes or modifications within the scope of the concept of the invention disclosed in this specification, within the scope of the disclosure, and / or within the skill and knowledge of the art. The embodiments described herein are intended to illustrate the best mode for implementing the technical idea of the present invention and various modifications required for specific applications and uses of the present invention are also possible. Accordingly, the detailed description of the invention is not intended to limit the invention to the disclosed embodiments. It is also to be understood that the appended claims are intended to cover further embodiments.
100: 처리 용기
200: 기판 지지 유닛
300: 분사 부재
400: 배기 부재
600: 승강 유닛
800: 제어부
900: 위치 감지용 부재100: Processing vessel
200: substrate holding unit
300: injection member
400: exhaust member
600: lift unit
800:
900: member for position sensing
Claims (33)
기판을 처리하는 처리 공간을 제공하며, 복수의 회수통을 포함하는 처리용기;
상기 처리 공간 내에 제공되고, 기판을 지지하는 기판 지지 유닛;
상기 기판 지지 유닛에 놓여지는 기판으로 복수의 처리액을 분사하는 분사 부재;
각각의 상기 회수통들을 각각 상하 방향으로 이동시키는 승강유닛을 포함하되;
상기 복수의 회수통들은 각각 상기 처리 공간 내에서 비산되는 처리액이 유입되는 입구를 가지며,
상기 입구들은 서로 상하 방향으로 제공되는 기판 처리 장치.An apparatus for processing a substrate,
A processing chamber for providing a processing space for processing the substrate, the processing chamber including a plurality of recovery cans;
A substrate support unit provided in the processing space and supporting the substrate;
A jetting member for jetting a plurality of processing solutions onto a substrate placed on the substrate supporting unit;
And an elevating unit for moving each of the recovery cylinders in a vertical direction, respectively;
Each of the plurality of recovery bins having an inlet through which a treatment liquid scattered in the treatment space flows,
Wherein the inlets are provided vertically to each other.
상기 회수통들은 복수의 메인 회수통을 가지고,
상기 승강 유닛은,
상기 메인 회수통들의 외측에 위치하는 승강체와,
상기 승강체를 상하로 구동하는 승강체 구동기와,
상기 메인 회수통들을 각각 자력에 의해 상하 방향으로 이동시키는 메인 구동기를 포함하고,
상기 메인 구동기는,
상기 메인회수통에 설치되는 회수통 자성부재들과;
상기 승강체에 설치되는 승강체 자성부재들를 포함하는 기판 처리 장치.The method according to claim 1,
Wherein the collection bins have a plurality of main collection bins,
The elevating unit includes:
An ascending / descending member positioned outside the main recovery cylinders,
A lifting body driver for driving the lifting body vertically,
And a main driver for vertically moving the main recovery cylinders by magnetic force,
The main driver includes:
Recoverable magnetic members provided in the main recovery cylinder;
And ascending / descending body magnetic members provided on the ascending / descending body.
상기 회수통 자성부재와 상기 승강체 자성부재 중 하나는 전자석으로 제공되고,
상기 승강 유닛은 상기 전자석에 전류을 인가하는 전원을 더 포함하는 기판 처리 장치.3. The method of claim 2,
Wherein one of the recovered magnetic body member and the ascending / descending body magnetic member is provided as an electromagnet,
Wherein the elevating unit further comprises a power source for applying a current to the electromagnet.
상기 회수통 자성부재는 영구자석으로 제공되는 기판 처리 장치.The method of claim 3,
Wherein the recovered magnetic body member is provided as a permanent magnet.
서로 대응되는 상기 회수통 자성부재와 상기 승강체 자성부재는 서로 상하로 대향되게 제공되는 기판 처리 장치.5. The method of claim 4,
Wherein the recovered magnetic body member and the ascending / descending body magnetic member corresponding to each other are vertically opposed to each other.
각각의 상기 승강체 자성부재는 대응하는 상기 회수통 자성부재보다 상부에 제공되는 기판 처리 장치.6. The method of claim 5,
Wherein each of said elevating body magnetic members is provided above said corresponding recovered magnetic element.
각각의 상기 메인 회수통들에는 상기 회수통 자성부재가 링을 이루는 배열로 복수개 제공되는 기판 처리 장치.7. The method according to any one of claims 2 to 6,
Wherein a plurality of the recovered magnetic components are provided in a ring arrangement in each of the main collection bins.
상기 승강체는 상기 메인 회수통들을 감싸는 링 형상으로 제공되는 기판 처리 장치.7. The method according to any one of claims 2 to 6,
Wherein the lifting body is provided in a ring shape surrounding the main collection bins.
서로 대응되는 상기 회수통 자성부재와 상기 승강체 자성부재 사이에는 금속판이 제공되는 기판 처리 장치.7. The method according to any one of claims 2 to 6,
And a metal plate is provided between the magnetic field recovering magnetic member and the elevating body magnetic member corresponding to each other.
상기 메인 회수통은 그 외측으로 돌출되는 외측 돌기를 가지고,
상기 승강체는 그 내부로 돌출되는 내측 돌기를 가지며,
상기 회수통 자성부재는 상기 승강체의 내측 돌기에 설치되고,
상기 승강체 자성부재는 상기 승강체 구동기의 외측 돌기에 설치되고,
서로 대응되는 상기 외측 돌기와 상기 내측 돌기는 상부에서 바라 볼 때 서로 중첩되게 제공되는 기판 처리 장치.7. The method according to any one of claims 2 to 6,
Wherein the main recovery cylinder has an outer projection projecting outwardly therefrom,
Wherein the lifting body has an inner projection projecting into the interior thereof,
Wherein the recovered magnetic body member is provided on an inner projection of the ascending / descending member,
Wherein the ascending / descending body magnetic member is provided on an outer projection of the elevator driver,
Wherein the outer protrusions and the inner protrusions corresponding to each other are provided so as to overlap each other when viewed from above.
상기 메인 회수통들은;
제1회수통;
상기 제1회수통을 감싸는 제2회수통을 포함하며,
상기 회수통 자성부재는,
상기 제1회수통에 설치되는 제1회수통 자석과;
상기 제2회수통에 설치되는 제2회수통 자석을 포함하며,
상기 승강체 자성부재는,
상기 승강체에 설치되고 상기 제1회수통 자석과 대향되는 위치에 제공되는 제1승강 자석과;
상기 승강체에 설치되고, 상기 제2회수통 자석과 대향되는 위치에 제공되는 제2승강 자석을 포함하는 기판 처리 장치.7. The method according to any one of claims 2 to 6,
The main recovery cylinders comprising:
A first collecting cylinder;
And a second collection box surrounding the first collection box,
Wherein the recovered magnetic field-
A first recovery cylinder magnet provided in the first recovery cylinder;
And a second recovery cylinder magnet provided in the second recovery cylinder,
The elevating body magnetic member includes:
A first lifting magnet installed on the lifting body and provided at a position opposed to the first recovering cylinder magnet;
And a second lifting magnet provided on the elevating body and provided at a position opposite to the second recovering cylinder magnet.
상기 기판 처리 장치는
상기 승강 유닛을 제어하는 제어기를 더 포함하며,
상기 제어기는 제1유체를 상기 제1회수통의 입구로 회수 시, 상기 제1승강 자석 및 상기 제2승강 자석에 전류를 차단하며, 상기 제1회수통 자석과 상기 제1승강 자석 및 상기 제2회수통 자석과 상기 제2승강 자석은 인력이 작용하도록 하며, 상기 승강체를 상부로 이동시켜, 상기 제1회수통의 입구는 열리고, 상기 제2회수통의 입구는 닫히도록 하고,
제2유체를 상기 제2회수통의 입구로 회수 시, 상기 제1승강 자석에는 전류를 인가하고, 상기 제2승강 자석에는 전류를 차단하여, 상기 제1회수통 자석과 상기 제1승강 자석은 척력이 작용하고, 상기 제2회수통 자석과 상기 제2승강 자석은 마주보는 면이 인력이 작용하도록 하며,
상기 승강체를 상부로 이동시켜, 상기 제1회수통의 입구는 닫히고, 상기 제2회수통의 입구는 열리도록 제어하는 기판 처리 장치.12. The method of claim 11,
The substrate processing apparatus
Further comprising a controller for controlling said lifting unit,
Wherein the controller interrupts the current to the first lifting magnet and the second lifting magnet when the first fluid is recovered to the inlet of the first recovery tank, The second recycling bar magnet and the second reclining magnet are actuated by force, the ascending / descending member is moved upward, the inlet of the first recycling bins is opened, the inlet of the second recycling bins are closed,
Wherein when the second fluid is recovered to the inlet of the second recovery cylinder, a current is applied to the first lift magnet and the current is cut off to the second lift magnet, and the first recovery magnet magnet and the first lift magnet And the second return tube magnet and the second lifting magnet are actuated by the attraction force,
Moves the ascending / descending member upward to close the inlet of the first recovery tank and open the inlet of the second recovery tank.
상기 제어기는 상기 제1회수통의 입구 및 상기 제2회수통의 입구가 열린 후,
상기 승강체 자성부재에 전류를 모두 차단하는 기판 처리 장치.13. The method of claim 12,
After the inlet of the first recovery tank and the inlet of the second recovery tank are opened,
And the current collecting member blocks all currents to the ascending / descending body magnetic member.
상기 메인 회수통들은,
상기 제2회수통을 감싸는 제3회수통을 포함하며,
상기 회수통 자성부재는 상기 제3회수통에 설치되는 제3회수통 자석을 더 포함하고,
상기 승강체 자성부재는 상기 승강체에 설치되고, 상기 제3회수통 자석과 대향되는 위치에 제공되는 제3승강 자석을 더 포함하고,
상기 제어기는 상기 제1유체을 상기 제1회수통의 입구로 회수 시 상기 제3승강 자석에는 전류를 차단하여, 상기 제3회수통 자석과 상기 제3승강 자석은 인력이 작용하도록 하고, 상기 승강체를 상부로 이동시켜 상기 제3회수통 입구는 닫히도록 하고,
상기 제2유체를 상기 제2회수통의 입구로 회수 시, 상기 제3승강 자석에는 전류를 차단하여, 상기 제3회수통 자석과 상기 제3승강 자석은 인력이 작용하도록 하고, 상기 승강체를 상부로 이동시켜 상기 제3회수통의 입구는 닫히도록 하고,
제3유체를 상기 제3회수통의 입구로 회수 시, 상기 제1승강 자석 및 상기 제2승강 자석에는 전류를 인가하고, 상기 제3승강 자석에는 전류를 차단하며, 상기 제1회수통 자석과 상기 제1승강 자석 및 상기 제2회수통 자석과 상기 제2승강 자석은 척력이 작용하고, 상기 제3회수통 자석과 상기 제3승강 자석은 인력이 작용하도록 하고, 상기 승강체를 상부로 이동시켜, 상기 제1회수통의 입구와 상기 제2회수통의 입구는 닫히고, 상기 제3회수통의 입구는 열리도록 제어하는 기판 처리 장치.13. The method of claim 12,
The main recovery cylinders
And a third recovery tank surrounding the second recovery tank,
Wherein the recovered magnetic body member further comprises a third recovery cylinder magnet provided in the third recovery cylinder,
Wherein the ascending / descending body magnetic member further comprises a third lifting magnet provided on the ascending / descending member and provided at a position opposed to the third recovery tube magnet,
Wherein the controller interrupts the current to the third lifting magnet when the first fluid is recovered to the inlet of the first recovery tank so that a force acts on the third recovery tube magnet and the third lifting magnet, So that the third recovery bore can be closed,
When the second fluid is recovered to the inlet of the second recovery cylinder, the current is cut off to the third lifting magnet, and the attraction force acts between the third recovery cylinder magnet and the third lifting magnet, The inlet of the third recovery tank is closed,
Wherein when the third fluid is recovered to the inlet of the third recovery tank, a current is applied to the first lifting magnet and the second lifting magnet, and the current is cut off to the third lifting magnet, The first and second lifting magnets, the second recovery cylinder magnet and the second lifting magnet are acted upon by a repulsive force, the attraction force between the third recovery cylinder magnet and the third lifting magnet acts, and the lifting body is moved upward The inlet of the first recovery tank and the inlet of the second recovery tank are closed so that the inlet of the third recovery tank is opened.
상기 제어기는,
상기 제3회수통의 입구가 열린 후,
상기 승강체 자성부재에 전류를 모두 차단하는 기판 처리 장치.15. The method of claim 14,
The controller comprising:
After the inlet of the third recovery tank is opened,
And the current collecting member blocks all currents to the ascending / descending body magnetic member.
상기 기판 처리 장치는,
상기 승강체 자성부재에 전류를 인가하여 자력 발생을 조절하는 제어기를 더 포함하며,
상기 제어기는 상기 메인 회수통들 중 유체를 회수하고자 하는 메인 회수통 및 상기 유체를 회수하고자 하는 메인 회수통의 입구보다 상부에 위치하는 입구를 가진 메인 회수통들에 제공되는 상기 회수통 자성부재와 대향되는 곳에 제공되는 상기 승강체 자성부재에는 전류를 차단하고,
상기 메인 회수통들 중 유체를 회수하고자 하는 메인 회수통의 입구보다 하부에 위치하는 입구의 메인 회수통에 제공되는 상기 회수통 자성부재와 대향되는 곳에 제공되는 상기 승강체 자성부재에는 전류를 차단하며,
상기 메인 회수통들 중 유체를 회수하고자 하는 메인 회수통 및 유체를 회수하고자 하는 상기 메인 회수통의 입구보다 상부에 위치하는 입구를 가진 메인 회수통들에 제공되는 상기 회수통 자성부재와 상기 회수통 자성부재와 대향되는 곳에 제공되는 상기 승강체 자성부재 사이에는 인력이 작용하며,
상기 메인 회수통들 중 유체를 회수하고자 하는 메인 회수통의 입구보다 하부에 위치하는 입구의 메인 회수통에 제공되는 상기 회수통 자성부재와 상기 회수통 자성부재와 대향되는 곳에 제공되는 상기 승강체 자성부재 사이에는 척력이 작용되도록 하고,
상기 승강체를 상부로 이동시켜, 상기 메인 회수통들 중 유체를 회수하고자 하는 메인 회수통의 입구는 열리고, 다른 상기 메인 회수통의 입구는 닫히도록 제어하는 기판 처리 장치.12. The method of claim 11,
The substrate processing apparatus includes:
And a controller for controlling the generation of magnetic force by applying a current to the ascending / descending body magnetic member,
Wherein the controller is provided with a main recovery cylinder for recovering fluid from the main recovery cylinders and an inlet located above the inlet of the main recovery cylinder for recovering the fluid, The current is interrupted in the ascending / descending body magnetic member provided at the opposite side,
The current collecting body is provided with a return main body provided at an inlet located below the inlet of the main collecting trough for collecting the fluid from the main collecting trough, ,
A main recovery tank for recovering the fluid from the main collection tanks and an inlet located above the inlet of the main recovery tank for collecting the fluid, Attraction is exerted between the magnetic member of the ascending and descending body provided opposite to the magnetic member,
The recovery fluid magnetic member being provided in a main recovery cylinder at an inlet located below an inlet of a main recovery cylinder to recover fluid from the main recovery cylinders, A repulsive force is applied between the members,
Wherein the ascending / descending member is moved upward to open the inlet of the main recovery cylinder to recover the fluid among the main recovery cylinders and to close the inlet of the other main recovery cylinder.
상기 제어기는 상기 유체를 회수하고자 하는 메인 회수통의 입구가 열린 후,
상기 승강체 자성부재들에 인가된 전류를 모두 차단하는 기판 처리 장치.17. The method of claim 16,
Wherein the controller opens the inlet of the main recovery cylinder to recover the fluid,
And blocks all the currents applied to the ascending / descending body magnetic members.
상기 제1회수통은,
제1내측벽과;
상기 제1내측벽에서 상기 기판 지지 유닛으로 멀어지는 방향으로 연장되는 제1바닥면과;
상기 제1바닥면의 상부로 연장되는 제1외측벽을 포함하고,
상기 제2회수통은,
상기 제1외측벽에서 상기 기판 지지 유닛에서 멀어지는 방향에 위치하는 제2내측벽과;
상기 제2내측벽에서 상기 기판 지지 유닛에서 멀어지는 방향으로 연장되는 제2바닥면과;
상기 제2바닥면의 상부로 연장되며 제1외측벽의 상부에 위치하는 제2외측벽을 포함하되,
상기 제1외측벽과 상기 제2외측벽은 상부에서 바라 볼 때 중첩되게 제공되는 기판 처리 장치.13. The method of claim 12,
Wherein the first recovery cylinder comprises:
A first inner side wall;
A first bottom surface extending in a direction away from the first inner wall to the substrate support unit;
And a first outer wall extending above the first bottom surface,
The second recovery cylinder is provided with:
A second inner side wall positioned away from the substrate support unit at the first outer side wall;
A second bottom surface extending from the second inner wall in a direction away from the substrate support unit;
And a second outer wall extending above the second bottom surface and positioned above the first outer wall,
Wherein the first outer wall and the second outer wall are provided so as to overlap when viewed from above.
상기 제1회수통의 바닥면의 외측으로 제공되는 제1외측 돌기와,
상기 제2회수통의 바닥면의 외측으로 제공되는 제2회측 돌기와,
상기 승강체의 내측으로 제공되며, 상기 제1외측 돌기의 상부에 제공되는 제1내측 돌기와,
상기 승강체의 내측으로 제공되며, 상기 제2외측 돌기의 상부에 제공되는 제2내측 돌기를 포함하며,
상기 제1외측 돌기의 내부에는 상기 제1회수통 자석이 제공되며,
상기 제2외측 돌기의 내부에는 상기 제2회수통 자석이 제공되며,
상기 제1내측 돌기의 내부에는 상기 제1승강 자석이 제공되며,
상기 제2내측 돌기의 내부에는 상기 제2승강 자석이 제공되고,
상기 제1회수통 자석, 상기 제2회수통 자석, 상기 제1승강 자석 그리고 상기 제2승강 자석은 상부에서 바라 볼 때, 서로 중첩되게 제공되는 기판 처리 장치.19. The method of claim 18,
A first outer protrusion provided outside the bottom surface of the first recovery tank,
A second washer provided on the outer side of the bottom surface of the second recovery tank,
A first inner protrusion provided on an inner side of the ascending / descending member and provided on an upper portion of the first outer protrusion,
And a second inner protrusion provided on the inside of the ascending / descending member and provided on an upper portion of the second outer protrusion,
The first recovery cylinder magnet is provided inside the first outer projection,
The second recovery cylinder magnet is provided inside the second outer projection,
The first inner magnet is provided inside the first inner protrusion,
The second lifting magnet is provided inside the second inner protrusion,
Wherein the first recovery tube magnet, the second recovery tube magnet, the first lifting magnet, and the second lifting magnet are provided so as to overlap each other when viewed from above.
상기 상기 메인 회수통들은,
상기 제2회수통을 감싸는 제3회수통을 포함하며,
상기 제3회수통은,
상기 제2외측벽에서 상기 기판 지지 유닛에서 멀어지는 방향에 위치하는 제3내측벽과;
상기 제3내측벽에서 상기 기판 지지 유닛에서 멀어지는 방향으로 연장되는 제3바닥면과;
상기 제3바닥면의 상부로 연장되며 제2외측벽의 상부에 위치하는 제3외측벽을 포함하되,
상기 제1외측벽과 상기 제2외측벽과 상기 제3외측벽은 상부에서 바라 볼 때 서로 중첩되게 제공되는 기판 처리 장치.19. The method of claim 18,
Wherein the main recovery cylinders
And a third recovery tank surrounding the second recovery tank,
Wherein the third recovery tank comprises:
A third inner side wall positioned away from the substrate support unit at the second outer side wall;
A third bottom surface extending from the third inner side wall in a direction away from the substrate supporting unit;
And a third outer wall extending above the third bottom surface and positioned above the second outer wall,
Wherein the first outer side wall, the second outer side wall, and the third outer side wall are provided so as to overlap each other when viewed from above.
상기 제3회수통의 바닥면의 외측으로 제공되는 제3외측 돌기와,
상기 승강체의 내측으로 제공되며, 상기 제1외측 돌기의 상부에 제공되는 제1내측 돌기를 더 포함하며,
상기 제3외측 돌기의 내부에는 상기 제3회수통 자석이 제공되며,
상기 제3내측 돌기의 내부에는 상기 제3승강 자석이 제공되며,
상기 제1회수통 자석, 상기 제2회수통 자석, 상기 제3회수통 자석, 상기 제1승강 자석, 상기 제2승강 자석 그리고 상기 제3승강 자석은 상부에서 바라 볼 때 서로 중첩되게 제공되는 기판 처리 장치.21. The method of claim 20,
A third outer protrusion provided outside the bottom surface of the third recovery tank,
Further comprising a first inner protrusion provided on the inside of the ascending / descending member and provided on an upper portion of the first outer protrusion,
The third recycling barrel magnet is provided inside the third outside boss,
The third lifting magnet is provided inside the third inner protrusion,
Wherein the first withdrawal barrel magnet, the second recovery tube magnet, the third recovery tube magnet, the first lift magnet, the second lift magnet, and the third lift magnet are provided so as to overlap each other when viewed from above, Processing device.
상기 용기는,
상기 용기를 둘러싸며 상기 용기의 외측에 위치하는 베이스통을 더 포함하는 기판 처리 장치.3. The method of claim 2,
The container may include:
And a base cylinder surrounding the vessel and positioned outside the vessel.
상기 베이스통의 외부에 위치하며 상기 메인 회수통들의 상하 위치를 감지 할 수 있는 위치 감지용 부재를 더 포함하는 기판 처리 장치.23. The method of claim 22,
And a position sensing member located outside the base cylinder and capable of sensing a vertical position of the main recovery cylinders.
상기 메인 회수통들은 상기 승강체의 구동으로 제1위치와 제2위치로 이동 가능하고,
상기 위치 감지용 부재는 자력을 이용해 상기 메인회수통들의 위치를 감지하며,
상기 회수통 자성부재와 대향되는 곳에 복수개가 제공되는 기판 처리 장치.24. The method of claim 23,
Wherein the main recovery cylinders are movable to a first position and a second position by driving the lifting body,
Wherein the position sensing member senses the position of the main recovery cylinders using magnetic force,
Wherein a plurality of magnetic members are provided at positions facing the recovered magnetic body member.
상기 메인 회수통들의 외부에 위치하는 보조 회수통을 더 포함하며,
상기 보조 회수통을 상하로 이동가능한 보조 구동기를 더 포함하는 기판 처리 장치.12. The method of claim 11,
Further comprising an auxiliary recovery cylinder located outside the main recovery cylinders,
Further comprising an auxiliary driver capable of moving the auxiliary recovery cylinder vertically.
제1유체을 상기 제1회수통의 입구로 회수 시,
상기 제1승강 자석 및 상기 제2승강 자석에는 전류를 차단하여, 상기 제1회수통 자석과 상기 제1승강 자석 및 상기 제2회수통 자석과 상기 제2승강 자석은 인력이 작용하도록 하며, 상기 승강체를 상부로 이동시켜, 상기 제1회수통의 입구는 열리고, 상기 제2회수통의 입구는 닫히도록 하고,
제2유체을 상기 제2회수통의 입구로 회수 시,
상기 제1승강 자석에는 전류를 인가하고, 상기 제2승강 자석에는 전류를 차단하여, 상기 제1회수통 자석과 상기 제1승강 자석은 척력이 작용하고, 상기 제2회수통 자석과 상기 제2승강 자석은 마주보는 면이 인력이 작용하도록 하며,
상기 승강체를 상부로 이동시켜, 상기 제1회수통의 입구는 닫히고, 상기 제2회수통의 입구는 열리게 하는 기판 처리 방법.12. A method of processing a substrate using the substrate processing apparatus of claim 11,
When recovering the first fluid to the inlet of the first recovery tank,
And a current is interrupted in the first and second lifting magnets to cause the attraction force between the first recovery tube magnet and the first lifting magnet, the second recovery tube magnet and the second lifting magnet, The inlet and the outlet of the first recovery tank are opened and the inlet of the second recovery tank is closed,
When the second fluid is recovered to the inlet of the second recovery tank,
Wherein a current is applied to the first lifting magnet and a current is interrupted in the second lifting magnet to cause a repulsive force to act on the first primary recovery magnet and the first recovery magnet, The lifting magnet allows the attraction force to act on the facing surface,
The elevating member is moved upward to close the inlet of the first recovery tank and open the inlet of the second recovery tank.
상기 제2회수통을 감싸는 제3회수통을 포함하며,
상기 회수통 자성부재는 상기 제3회수통에 설치되는 제3회수통 자석과,
상기 승강체 자성부재는 상기 승강체에 설치되고, 상기 제3회수통 자석과 대향되는 위치에 제공되는 제3승강 자석이 제공되고,
상기 제1유체을 상기 제1회수통의 입구로 회수 시,
상기 제3승강 자석에는 전류를 차단하여, 상기 제3회수통 자석과 상기 제3승강 자석은 인력이 작용하도록 하고, 상기 승강체를 상부로 이동시켜 상기 제3회수통 입구는 닫히도록 하고,
상기 제2유체을 상기 제2회수통의 입구로 회수 시,
상기 제3승강 자석에는 전류를 차단하여, 상기 제3회수통 자석과 상기 제3승강 자석은 인력이 작용하도록 하고, 상기 승강체를 상부로 이동시켜 상기 제3회수통의 입구는 닫히도록 하고,
제3유체을 상기 제3회수통의 입구로 회수 시, 상기 제1승강 자석 및 상기 제2승강 자석에는 전류를 인가하고, 상기 제3승강 자석에는 전류를 차단하여, 상기 제1회수통 자석과 상기 제1승강 자석 및 상기 제2회수통 자석과 상기 제2승강 자석은 척력이 작용하고, 상기 제3회수통 자석과 상기 제3승강 자석은 인력이 작용하도록 하고, 상기 승강체를 상부로 이동시켜, 상기 제1회수통의 입구는 닫히고, 상기 제2회수통의 입구는 닫히고, 상기 제3회수통의 입구는 열리게 하는 기판 처리 방법.27. The method of claim 26,
And a third recovery tank surrounding the second recovery tank,
Wherein the recovered magnetic body member includes a third recovery cylinder magnet provided in the third recovery cylinder,
Wherein the ascending / descending body magnetic member is provided on the ascending / descending member, a third lifting magnet provided at a position opposite to the third recovery tube magnet,
When recovering the first fluid to the inlet of the first recovery tank,
And the third withdrawal magnet and the third withdrawal magnet are actuated so that the ascending / descending member is moved upward to close the third withdrawal receptacle,
When recovering the second fluid to the inlet of the second recovery tank,
The third current-carrying magnet and the third current-carrying magnet are actuated by the current, and the elevator is moved upward to close the inlet of the third collecting container,
Wherein when the third fluid is recovered to the inlet of the third recovery tank, a current is applied to the first lifting magnet and the second lifting magnet, and the current is cut off to the third lifting magnet, The first lift-up magnet, the second recovery tube magnet and the second lift-up magnet are acted upon by a repulsive force, the attraction force between the third collection tube magnet and the third lift-up magnet acts, and the lift- , The inlet of the first recovery tank is closed, the inlet of the second recovery tank is closed, and the inlet of the third recovery tank is opened.
상기 제1회수통의 입구 또는 제2회수통의 입구가 열린 후,
상기 승강체 자성부재에 전류를 모두 차단하는 기판 처리 방법.27. The method of claim 26,
After the inlet of the first recovery tank or the inlet of the second recovery tank is opened,
And the current is entirely cut off to the ascending / descending body magnetic member.
상기 제3회수통의 입구가 열린 후,
상기 승강체 자성부재에 전류를 모두 차단하는 기판 처리 방법.28. The method of claim 27,
After the inlet of the third recovery tank is opened,
And the current is entirely cut off to the ascending / descending body magnetic member.
상기 메인 회수통들 중 유체를 회수하고자 하는 메인 회수통 및 유체를 회수하고자 하는 상기 메인 회수통의 입구보다 상부에 위치하는 입구를 가진 메인 회수통들에 제공되는 상기 회수통 자성부재와 대향되는 곳에 제공되는 상기 승강체 자성부재에는 전류를 차단하고,
상기 메인 회수통들 중 유체를 회수하고자 하는 메인 회수통의 입구보다 하부에 위치하는 입구의 메인 회수통에 제공되는 상기 회수통 자성부재와 대향되는 곳에 제공되는 상기 승강체 자성부재에는 전류를 차단하며,
상기 메인 회수통들 중 유체를 회수하고자 하는 메인 회수통 및 유체를 회수하고자 하는 상기 메인 회수통의 입구보다 상부에 위치하는 입구를 가진 메인 회수통들에 제공되는 상기 회수통 자성부재와 상기 회수통 자성부재와 대향되는 곳에 제공되는 상기 승강체 자성부재 사이에는 인력이 작용하며,
상기 메인 회수통들 중 유체를 회수하고자 하는 메인 회수통의 입구보다 하부에 위치하는 입구의 메인 회수통에 제공되는 상기 회수통 자성부재와 상기 회수통 자성부재와 대향되는 곳에 제공되는 상기 승강체 자성부재 사이에는 척력이 작용되도록 하고,
상기 승강체를 상부로 이동시켜, 상기 메인 회수통들 중 유체를 회수하고자 하는 메인 회수통의 입구는 열리고, 다른 상기 메인 회수통의 입구는 닫히도록 하는 기판 처리 방법.12. A method of processing a substrate using the substrate processing apparatus of claim 11,
A main recovery tank for recovering the fluid from the main collection bins, and a main recovery tank for recovering the fluid, the main recovery tank having an inlet positioned above the inlet of the main recovery tank, The current is interrupted in the provided lifting body magnetic member,
The current collecting body is provided with a return main body provided at an inlet located below the inlet of the main collecting trough for collecting the fluid from the main collecting trough, ,
A main recovery tank for recovering the fluid from the main collection tanks and an inlet located above the inlet of the main recovery tank for collecting the fluid, Attraction is exerted between the magnetic member of the ascending and descending body provided opposite to the magnetic member,
The recovery fluid magnetic member being provided in a main recovery cylinder at an inlet located below an inlet of a main recovery cylinder to recover fluid from the main recovery cylinders, A repulsive force is applied between the members,
Moving the ascending / descending member upward to open the inlet of the main recovery tank for collecting the fluid among the main recovery cylinders, and close the inlet of the other main recovery cylinders.
상기 유체를 회수하고자 하는 메인 회수통의 입구가 열린 후,
상기 승강체 자성부재들에 인가된 전류를 모두 차단하는 기판 처리 방법.31. The method of claim 30,
After the inlet of the main recovery cylinder for opening the fluid is opened,
Wherein all the currents applied to the ascending / descending body magnetic members are blocked.
상기 메인 회수통들의 외부에 위치하는 보조 회수통을 더 포함하며,
상기 보조 회수통만의 입구를 개방해 제4유체을 회수하는 기판 처리 방법.27. The method of claim 26,
Further comprising an auxiliary recovery cylinder located outside the main recovery cylinders,
And the fourth fluid is recovered by opening the inlet of the auxiliary recovery tank only.
자력을 감지하는 위치 감지용 부재를 이용해 상기 메인 회수통들의 상하 위치를 감지하는 기판 처리 방법.
27. The method of claim 26,
And detecting a vertical position of the main recovery cylinders by using a position sensing member for sensing a magnetic force.
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