KR20150104226A - 서스펜션 제련로 및 정광 버너 - Google Patents
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Abstract
본 발명은, 반응 샤프트 (1), 상승 샤프트 (2) 및 하측 노 (3), 뿐만 아니라 서스펜션 제련로의 상기 반응 샤프트 (1) 에 반응 가스 및 미세 고형물을 공급하기 위한 정광 버너 (4) 를 포함하는 서스펜션 제련로에 관한 것이다. 상기 정광 버너 (4) 는, 미세 고형물 배출 채널 (5) 로서, 상기 미세 고형물 배출 채널 (5) 의 벽 (6) 에 의해 반경방향으로 제한되는 미세 고형물 배출 채널 (5); 상기 미세 고형물 배출 채널 (5) 내의 미세 고형물 확산 장치 (7); 환형 반응 가스 채널 (8) 로서, 상기 미세 고형물 배출 채널 (5) 을 둘러싸고 또한 당해 환형 반응 가스 채널 (8) 의 벽 (9) 에 의해 반경방향으로 제한되는 환형 반응 가스 채널 (8); 및 상기 환형 반응 가스 채널 (8) 을 둘러싸는 냉각 블록 (10) 을 구비한다. 상기 냉각 블록 (10) 은 연속 주조법을 이용하여 제조되는 구성요소이다. 상기 냉각 블록 (10) 은 상기 반응 샤프트 (1) 의 아치부 (11) 에 그리고 상기 환형 반응 가스 채널 (8) 의 벽 (9) 에 부착되어, 상기 냉각 블록 (10) 및 상기 환형 반응 가스 채널 (8) 의 벽 (9) 에 의해 공동으로 형성된 구조부 (13) 와 상기 미세 고형물 배출 채널 (5) 의 벽 (6) 과의 사이에, 상기 환형 반응 가스 채널 (8) 의 배출 오리피스 (12) 가 형성된다. 본 발명은, 또한, 서스펜션 제련로의 반응 샤프트 (1) 에 반응 가스 및 미세 고형물을 공급하기 위한 정광 버너 (4) 에 관한 것이다.
Description
본 발명은, 반응 샤프트, 상승 샤프트 및 하측 노 (lower furnace), 뿐만 아니라 서스펜션 제련로의 반응 샤프트에 반응 가스 및 미립자 고형물 (fine-grained solids) 을 공급하기 위한 정광 버너를 포함하는 청구항 1 의 전제부에 따른 서스펜션 제련로에 관한 것이다.
또한, 본 발명은, 서스펜션 제련로의 반응 샤프트에 반응 가스 및 미립자 고형물을 공급하기 위한 청구항 7 의 전제부에 따른 정광 버너에 관한 것이다.
O 98/14741 에는, 제어된 그리고 조절가능한 서스펜션을 형성하기 위해 서스펜션 제련로의 반응 샤프트에 반응 가스 및 미립자 고형물을 공급할 때, 분말 고형물의 확산 공기 및 반응 가스의 유속을 조절하는 방법이 개시되어 있다. 반응 가스는 미립자 고형물 유동 주위에서 제련로에 공급되고, 고형물은 확산 공기에 의해 반응 가스를 향한 배향으로 분배된다. 반응 샤프트로의 반응 가스의 유속 및 배출 방향은 반응 가스 채널에서 수직으로 이동하는 특별히 성형된 조절 부재에 의해 그리고 특별히 성형된 냉각 블록에 의해 부드럽게 조절되며, 이 냉각 블록은 반응 가스 채널을 둘러싸고 있고 반응 샤프트의 아치부 (arch) 에 위치되어 있다. 반응 가스의 유속은 반응 샤프트 아치부의 하측 에지에 위치된 배출 오리피스 (이로부터 반응 가스가 반응 샤프트 내로 배출되어, 내부의 분말 물질과 서스펜션을 형성함) 에서, 가스 양에 관계없이, 적절한 레벨로 조절되고, 물질을 확산시키는데 사용되는 확산 공기의 양은 분말 물질의 공급에 따라 조절된다. 또한, 상기 공보에는 다중 조절 가능한 버너가 개시되어 있다.
이 공지된 해법의 문제 중 하나는 냉각 블록의 가격이 높다는 것이다. 냉각 블록은 보통 구리로부터 사형 주조 (sand casting) 에 의해 제조된다. 일 방법으로서, 사형 주조는 종종 질에 문제를 일으키고, 냉각 블록의 제조에 다량의 구리가 소비된다.
본 발명의 목적은 위에서 언급한 문제들을 해결하는 것이다.
본 발명의 목적은 독립 청구항 1 에 따른 서스펜션 제련로에 의해 달성된다.
서스펜션 제련로는 반응 샤프트, 상승 샤프트 및 하측 노, 뿐만 아니라 서스펜션 제련로의 상기 반응 샤프트에 반응 가스 및 미세 고형물을 공급하기 위한 정광 버너를 포함한다. 서스펜션 제련로의 정광 버너는, 미세 고형물 배출 채널로서, 상기 미세 고형물 배출 채널의 벽에 의해 반경방향으로 제한되는 미세 고형물 배출 채널, 상기 미세 고형물 배출 채널 내의 미세 고형물 확산 장치, 환형 반응 가스 채널로서, 상기 미세 고형물 배출 채널을 둘러싸고 또한 당해 환형 반응 가스 채널의 벽에 의해 반경방향으로 제한되는 환형 반응 가스 채널을 포함한다. 서스펜션 제련로의 정광 버너는, 상기 환형 반응 가스 채널을 둘러싸는 냉각 블록을 추가로 포함한다.
본 발명에 따른 서스펜션 제련로에 있어서, 상기 냉각 블록은 연속 주조법을 이용하여 제조되는 구성요소이고, 또한, 상기 냉각 블록은 상기 반응 샤프트의 아치부에 그리고 상기 환형 반응 가스 채널의 벽에 부착되어, 상기 냉각 블록 및 상기 환형 반응 가스 채널의 벽에 의해 공동으로 형성된 구조부와 상기 미세 고형물 배출 채널의 벽과의 사이에, 상기 환형 반응 가스 채널의 배출 오리피스가 형성된다.
또한, 본 발명은 독립 청구항 7 에 따른 정광 버너에 관한 것이다.
정광 버너는, 미세 고형물 배출 채널로서, 당해 미세 고형물 배출 채널의 벽에 의해 반경방향으로 제한되는 미세 고형물 배출 채널, 상기 미세 고형물 배출 채널 내의 미세 고형물 확산 장치, 환형 반응 가스 채널로서, 상기 미세 고형물 배출 채널을 둘러싸고 또한 당해 환형 반응 가스 채널의 벽에 의해 반경방향으로 제한되는 환형 반응 가스 채널을 포함한다. 정광 버너는, 상기 환형 반응 가스 채널을 둘러싸는 냉각 블록을 추가로 포함한다.
냉각 블록은 연속 주조법을 이용하여 제조되는 구성요소이고, 또한, 냉각 블록은 상기 환형 반응 가스 채널의 벽에 부착되어, 상기 냉각 블록 및 상기 환형 반응 가스 채널의 벽에 의해 공동으로 형성된 구조부와 상기 미세 고형물 배출 채널의 벽과의 사이에, 상기 환형 반응 가스 채널의 배출 오리피스가 형성된다.
본 발명의 바람직한 실시형태는 종속 청구항에 개시되어 있다.
예컨대, 공보 WO 98/14741 의 해법과 비교했을 때, 연속 주조된 냉각 블록의 이점은, 구리와 같은 원료가 훨씬 적게 소비되고 또한 제조 공정이 훨씬 더 용이하다는 것이다. 연속 주조된 냉각 블록은 사형 주조된 냉각 블록보다 향상된 내식성 (부식은 누출을 야기함) 을 제공한다.
냉각 블록의 간단한 구조로 인해, 프로세스를 측정하는 측정 장치 및 부속품 (accessories) 을 정광 버너 가까이에 설치하는 것이 훨씬 더 용이해진다. 바람직한 실시형태에서, 냉각 블록에는 부산물 (outgrowth) 제거 장치의 피드-쓰루 (feed-through) 용의, 즉 부산물 제거 장치 피스톤의 피드-쓰루용의 개구들이 형성된다.
본 발명에 따른 하나의 해법에서, 냉각 블록은 당해 냉각 블록 내에서의 냉각 유체의 순환을 위한 드릴링된 채널들을 포함한다.
이하에서, 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 몇몇의 바람직한 실시형태를 상세하게 설명한다.
본 발명에 따를 경우, 위에서 언급한 문제들을 해결할 수 있다.
도 1 은 서스펜션 제련로를 보여준다.
도 2 는 서스펜션 제련로의 반응 샤프트에 설치된 상태에 있는 정광 버너의 하나의 바람직한 실시형태의 수직 단면을 보여준다.
도 3 은 냉각 블록을 위에서 바라본 도면이다.
도 2 는 서스펜션 제련로의 반응 샤프트에 설치된 상태에 있는 정광 버너의 하나의 바람직한 실시형태의 수직 단면을 보여준다.
도 3 은 냉각 블록을 위에서 바라본 도면이다.
본 발명은 서스펜션 제련로 및 정광 버너에 관한 것이다.
먼저, 서스펜션 제련로 및 그의 바람직한 실시형태와 변형예의 일부에 대해 더 상세하게 설명한다.
도 1 은, 반응 샤프트 (1), 상승 샤프트 (2), 하측 노 (3), 및 반응 가스 (도면에는 도시 안 됨) 및 미세 고형물 (도시 안 됨) 을 반응 샤프트 (1) 에 공급하기 위한 정광 버너 (4) 를 포함하는 서스펜션 제련로를 보여준다. 상기 서스펜션 제련로의 작동은 예컨대 필란드 특허 FI22694 에 기재되어 있다.
정광 버너 (4) 는 미세 고형물 배출 채널 (5) 포함하고, 이 미세 고형물 배출 채널은 미세 고형물 배출 채널 (5) 의 벽 (6) 에 의해 반경방향으로, 즉 외측을 향해 제한된다.
정광 버너 (4) 는 미세 고형물 배출 채널 (5) 내에 미세 고형물 확산 장치 (7) 를 포함한다.
정광 버너 (4) 는 환형 반응 가스 채널 (8) 을 포함하고, 이 환형 반응 가스 채널은 미세 고형물 배출 채널 (5) 을 둘러싸고 환형 반응 가스 채널 (8) 의 벽 (9) 에 의해 반경방향으로 제한된다.
정광 버너 (4) 는 환형 반응 가스 채널 (8) 을 둘러싸는 냉각 블록 (10) 을 포함한다.
그러한 정광 버너 (4) 의 작동은 예컨대 공보 WO 98/14741 에 기재되어 있다.
냉각 블록 (10) 은 연속 주조법을 이용하여 제조되는 구성요소이다.
냉각 블록 (10) 은 반응 샤프트 (1) 의 아치부 (11) 에 그리고 환형 반응 가스 채널 (8) 의 벽 (9) 에 부착되고, 따라서 구조부 (13) (냉각 블록 (10) 과 환형 반응 가스 채널 (8) 의 벽 (9) 에 의해 공동으로 형성됨) 와 미세 고형물 배출 채널 (5) 의 벽 (6) 사이에, 환형 반응 가스 채널 (8) 의 배출 오리피스 (12) 가 형성된다.
미세 고형물 배출 채널 (5) 의 벽 (6) 은 바람직하게는 환형 반응 가스 채널 (8) 의 측면에 제 1 곡선부 (14) 를 포함하지만, 반드시 포함해야 하는 것은 아니며, 제 1 곡선부 (14) 는 환형 반응 가스 채널 (8) 의 측면 상의 구조부 (13) 의 제 2 곡선부 (15) 와 협력 작동하도록 되어 있고, 구조부 (13) 는 냉각 블록 (10) 및 환형 반응 가스 채널 (8) 의 벽 (9) 에 의해 공동으로 형성되고, 그럼으로써 환형 반응 가스 채널의 유동 단면적은 제 1 곡선부 (14) 와 제 2 곡선부 (15) 사이에서 반응 가스의 유동 방향으로 감소한다.
냉각 블록 (10) 및 환형 반응 가스 채널의 벽 (9) 에 의해 공동으로 형성된 구조부 (13) 와 미세 고형물 배출 채널의 벽 (6) 은 바람직하게는 서로에 대해 수직으로 이동이 가능하지만, 반드시 그래야 하는 것은 아니며, 그럼으로써 환형 반응 가스 채널 (8) 의 배출 오리피스 (12) 의 유동 단면적의 크기가 변화한다. 예컨대, 미세 고형물 배출 채널의 벽 (6) 을 수직으로 이동시키는 것이 가능하며, 그럼으로써 환형 반응 가스 채널의 배출 오리피스 (12) 의 유동 단면적의 크기가 변화한다.
환형 반응 가스 채널 (8) 은 조정가능한 또는 고정된 소용돌이 베인 (도면에는 미도시됨) 을 구비할 수 있다.
냉각 블록 (10) 은 바람직하게는 당해 냉각 블록 (10) 내에서의 냉각 유체 (미도시) 의 순환을 위한 드릴링된 채널과 같은 채널 (17) 을 포함하지만, 반드시 포함해야 하는 것은 아니다.
냉각 블록 (10) 은 바람직하게는 부산물 (outgrowth) 제거 시스템 (미도시) 의 피드-쓰루 (feed-through) 용의 개구 (16) 를 구비하지만, 반드시 구비해야 하는 것은 아니다.
냉각 블록 (10) 은, 바람직하게는, 적어도 부분적으로, 구리 또는 구리 합금으로 제조되지만, 반드시 그래야 하는 것은 아니다.
본 발명은, 또한, 서스펜션 제련로의 반응 샤프트 (1) 에 반응 가스 및 미세 고형물을 공급하기 위한 정광 버너 (4) 에 관한 것이다.
정광 버너 (4) 는 미세 고형물 배출 채널 (5) 을 포함하고, 이 미세 고형물 배출 채널 (5) 은 당해 미세 고형물 배출 채널 (5) 의 벽 (6) 에 의해 반경방향으로 제한된다.
정광 버너 (4) 는 미세 고형물 배출 채널 (5) 내의 미세 고형물 확산 장치 (7) 를 포함한다.
정광 버너 (4) 는 환형 반응 가스 채널 (8) 을 포함하고, 환형 반응 가스 채널 (8) 은 미세 고형물 배출 채널 (5) 을 둘러싸고 또한 환형 반응 가스 채널 (8) 의 벽 (9) 에 의해 반경방향으로, 즉 외측방향으로 제한된다.
정광 버너 (4) 는 환형 반응 가스 채널 (8) 을 둘러싸는 냉각 블록 (10) 을 포함한다.
이러한 정광 버너 (4) 의 작동은 예컨대 WO 98/14741 공보에 개시되어 있다.
정광 버너 (4) 에서, 냉각 블록 (10) 은 연속 주조법을 이용하여 제조되는 구성요소이다.
냉각 블록 (10) 은 상기 환형 반응 가스 채널 (8) 의 벽 (9) 에 부착되어, 냉각 블록 (10) 및 환형 반응 가스 채널 (8) 의 벽 (9) 에 의해 공동으로 형성된 구조부 (13) 와 미세 고형물 배출 채널 (5) 의 벽 (6) 과의 사이에, 환형 반응 가스 채널 (8) 의 배출 오리피스 (12) 가 형성된다.
미세 고형물 배출 채널 (5) 의 벽 (6) 은 바람직하게는 환형 반응 가스 채널 (8) 의 측면에 제 1 곡선부 (14) 를 포함하지만, 반드시 포함하여야 하는 것은 아니며, 제 1 곡선부 (14) 는 환형 반응 가스 채널 (8) 의 측면 상의 구조부 (13) 의 제 2 곡선부 (15) 와 협력 작동하도록 되어 있고, 구조부 (13) 는 상기 냉각 블록 (10) 및 환형 반응 가스 채널 (8) 의 벽 (9) 에 의해 공동으로 형성되고, 그럼으로써 환형 반응 가스 채널 (8) 의 유동 단면적은 제 1 곡선부 (14) 와 제 2 곡선부 (15) 사이에서 반응 가스의 유동 방향으로 감소한다.
냉각 블록 (10) 및 환형 반응 가스 채널 (8) 의 벽 (9) 에 의해 공동으로 형성된 구조부 (13) 와 미세 고형물 배출 채널 (5) 의 벽 (6) 은 바람직하게는 서로에 대해 수직으로 이동이 가능하지만, 반드시 그래야 하는 것은 아니며, 그럼으로써 환형 반응 가스 채널 (8) 의 배출 오리피스 (12) 의 유동 단면적의 크기가 변화한다. 예컨대, 미세 고형물 배출 채널 (5) 의 벽 (6) 을 수직으로 이동시키는 것이 가능하며, 그럼으로써 환형 반응 가스 채널 (8) 의 배출 오리피스 (12) 의 유동 단면적의 크기가 변화한다.
환형 반응 가스 채널 (8) 은 조정가능한 또는 고정된 소용돌이 베인 (도면에는 미도시됨) 을 구비할 수 있다.
냉각 블록 (10) 은 바람직하게는 당해 냉각 블록 (10) 내에서의 냉각 유체 (미도시) 의 순환을 위한 드릴링된 채널과 같은 채널 (17) 을 포함하지만, 반드시 포함해야 하는 것은 아니다.
냉각 블록 (10) 은 바람직하게는 부산물 제거 시스템 (미도시) 의 피드-쓰루용의 개구 (16) 를 구비하지만, 반드시 구비해야 하는 것은 아니다.
냉각 블록 (10) 은, 바람직하게는, 적어도 부분적으로, 구리 또는 구리 합금으로 제조되지만, 반드시 그래야 하는 것은 아니다.
본 발명의 기본 사상은 기술의 개량에 의해 여러 방식으로 구현될 수 있음은 당업자에게 자명하다. 따라서, 본 발명 및 그 실시형태들은, 전술한 예들에 제한되는 것이 아니라 첨부의 청구범위 내에서 변할 수 있다.
Claims (12)
- 서스펜션 제련로로서,
상기 서스펜션 제련로는 반응 샤프트 (1), 상승 샤프트 (2) 및 하측 노 (3), 뿐만 아니라 상기 서스펜션 제련로의 상기 반응 샤프트 (1) 에 반응 가스 및 미세 고형물을 공급하기 위한 정광 버너 (4) 를 포함하고,
상기 정광 버너 (4) 는,
미세 고형물 배출 채널 (5) 로서, 당해 미세 고형물 배출 채널 (5) 의 벽 (6) 에 의해 반경방향으로 제한되는, 상기 미세 고형물 배출 채널 (5),
상기 미세 고형물 배출 채널 (5) 내의 미세 고형물 확산 장치 (7),
환형 반응 가스 채널 (8) 로서, 상기 미세 고형물 배출 채널 (5) 을 둘러싸고 또한 상기 환형 반응 가스 채널 (8) 의 벽 (9) 에 의해 반경방향으로 제한되는 환형 반응 가스 채널 (8), 및
상기 환형 반응 가스 채널 (8) 을 둘러싸는 냉각 블록 (10) 을 구비하고,
상기 냉각 블록 (10) 은 연속 주조법을 이용하여 제조되는 구성요소이고,
상기 냉각 블록 (10) 은 상기 반응 샤프트 (1) 의 아치부 (11) 에 그리고 상기 환형 반응 가스 채널 (8) 의 벽 (9) 에 부착되어, 상기 냉각 블록 (10) 및 상기 환형 반응 가스 채널 (8) 의 벽 (9) 에 의해 공동으로 형성된 구조부 (13) 와 상기 미세 고형물 배출 채널 (5) 의 벽 (6) 과의 사이에, 상기 환형 반응 가스 채널 (8) 의 배출 오리피스 (12) 가 형성되는, 서스펜션 제련로. - 제 1 항에 있어서,
상기 미세 고형물 배출 채널 (5) 의 벽 (6) 은 상기 환형 반응 가스 채널 (8) 의 측면에 제 1 곡선부 (14) 를 포함하고,
상기 제 1 곡선부 (14) 는 상기 환형 반응 가스 채널 (8) 의 측면 상의 상기 구조부 (13) 의 제 2 곡선부 (15) 와 협력 작동하도록 되어 있고, 상기 구조부 (13) 는 상기 냉각 블록 (10) 및 상기 환형 반응 가스 채널의 벽 (9) 에 의해 공동으로 형성되고, 그럼으로써 상기 환형 반응 가스 채널의 유동 단면적은 상기 제 1 곡선부 (14) 와 상기 제 2 곡선부 (15) 사이에서 반응 가스의 유동 방향으로 감소하는, 서스펜션 제련로. - 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 미세 고형물 배출 채널 (5) 은 수직으로 이동가능하여, 상기 환형 반응 가스 채널 (8) 의 배출 오리피스 (12) 의 유동 단면적의 크기가 변화하는, 서스펜션 제련로. - 제 1 항 내지 제 3 항 중의 어느 한 항에 있어서,
상기 냉각 블록 (10) 은 당해 냉각 블록 (10) 내에서의 냉각 유체의 순환을 위한 채널들 (17) 을 포함하는, 서스펜션 제련로. - 제 1 항 내지 제 4 항 중의 어느 한 항에 있어서,
상기 냉각 블록 (10) 은 부산물 (outgrowth) 제거 장치의 피드-쓰루 (feed-through) 용의 개구들 (16) 을 구비하는, 서스펜션 제련로. - 제 1 항 내지 제 5 항 중의 어느 한 항에 있어서,
상기 냉각 블록 (10) 은, 적어도 부분적으로, 구리 또는 구리 합금으로 제조되는, 서스펜션 제련로. - 서스펜션 제련로의 반응 샤프트 (1) 에 반응 가스 및 미세 고형물을 공급하기 위한 정광 버너 (4) 로서,
미세 고형물 배출 채널 (5) 로서, 당해 미세 고형물 배출 채널 (5) 의 벽 (6) 에 의해 반경방향으로 제한되는 미세 고형물 배출 채널 (5),
상기 미세 고형물 배출 채널 (5) 내의 미세 고형물 확산 장치 (7),
환형 반응 가스 채널 (8) 로서, 상기 미세 고형물 배출 채널 (5) 을 둘러싸고 또한 상기 환형 반응 가스 채널 (8) 의 벽 (9) 에 의해 반경방향으로 제한되는, 상기 환형 반응 가스 채널 (8), 및
상기 환형 반응 가스 채널 (8) 을 둘러싸는 냉각 블록 (10) 을 구비하고,
상기 냉각 블록 (10) 은 연속 주조법을 이용하여 제조되는 구성요소이고,
상기 냉각 블록 (10) 은 상기 환형 반응 가스 채널 (8) 의 벽 (9) 에 부착되어, 상기 냉각 블록 (10) 및 상기 환형 반응 가스 채널 (8) 의 벽 (9) 에 의해 공동으로 형성된 구조부 (13) 와 상기 미세 고형물 배출 채널 (5) 의 벽 (6) 과의 사이에, 상기 환형 반응 가스 채널 (8) 의 배출 오리피스 (12) 가 형성되는, 정광 버너. - 제 7 항에 있어서,
상기 미세 고형물 배출 채널 (5) 의 벽 (6) 은 상기 환형 반응 가스 채널 (8) 의 측면에 제 1 곡선부 (14) 를 포함하고,
상기 제 1 곡선부 (14) 는 상기 환형 반응 가스 채널 (8) 의 측면 상의 상기 구조부 (13) 의 제 2 곡선부 (15) 와 협력 작동하도록 되어 있고, 상기 구조부 (13) 는 상기 냉각 블록 (10) 및 상기 환형 반응 가스 채널 (8) 의 벽 (9) 에 의해 공동으로 형성되고, 그럼으로써 상기 환형 반응 가스 채널 (8) 의 유동 단면적은 상기 제 1 곡선부 (14) 와 상기 제 2 곡선부 (15) 사이에서 반응 가스의 유동 방향으로 감소하는, 정광 버너. - 제 7 항 또는 제 8 항에 있어서,
상기 미세 고형물 배출 채널 (5) 은 수직으로 이동가능하여, 상기 환형 반응 가스 채널 (8) 의 배출 오리피스 (12) 의 유동 단면적의 크기가 변화하는, 정광 버너. - 제 7 항 내지 제 9 항 중의 어느 한 항에 있어서,
상기 냉각 블록 (10) 은 냉각 유체를 위한 채널들 (17) 을 포함하는, 정광 버너. - 제 7 항 내지 제 10 항 중의 어느 한 항에 있어서,
상기 냉각 블록 (10) 은 부산물 제거 장치의 피드-쓰루용의 개구들 (16) 을 구비하는, 정광 버너. - 제 7 항 내지 제 11 항 중의 어느 한 항에 있어서,
상기 냉각 블록 (10) 은, 적어도 부분적으로, 구리 또는 구리 합금으로 제조되는, 정광 버너.
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