KR20150048927A - Hard coat film and transparent conducting film - Google Patents

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Abstract

기재 필름의 적어도 일방의 면에, 입자를 함유하는 제 1 하드 코트층을 구비하고, 제 1 하드 코트층의 표면이 상기 입자로 이루어지는 돌기가 100㎛2당 300∼4000개의 밀도로 존재하고 있고, 제 1 하드 코트층의 표면의 중심선 평균 조도(Ra1)는 30nm 미만이고, 헤이즈값은 1.5% 미만인 것을 특징으로 하는 하드 코트 필름.
본 발명은 투명성이 높고, 또한 슬라이딩성과 내블로킹성이 양호한 하드 코트 필름을 제공한다.
Wherein at least one surface of the base film is provided with a first hard coat layer containing particles and the surface of the first hard coat layer is present at a density of 300 to 4,000 densities per 100 m 2 of the particle, Wherein the center line average roughness Ra1 of the surface of the first hard coat layer is less than 30 nm and the haze value is less than 1.5%.
The present invention provides a hard coat film having high transparency and good sliding property and blocking resistance.

Description

하드 코트 필름 및 투명 도전성 필름{HARD COAT FILM AND TRANSPARENT CONDUCTING FILM}[0001] Hard Coat Film and Transparent Conductive Film [0002]

본 발명은 투명성이 높고, 또한 슬라이딩성과 내블로킹성이 양호한 하드 코트 필름에 관한 것이고, 구체적으로는 투명 도전성 필름에 바람직한 하드 코트 필름에 관한 것이다.The present invention relates to a hard coat film having high transparency and good sliding property and blocking resistance, and specifically relates to a hard coat film suitable for a transparent conductive film.

기재 필름에 하드 코트층이 적층된 하드 코트 필름은 디스플레이나 터치 패널의 표면 보호로서, 또한 터치 패널용 전극 필름(터치 패널용 투명 도전성 필름)의 베이스 필름으로서 사용되고 있다. 이들 용도에 사용되는 하드 코트 필름은 투명성이 높고, 또한 슬라이딩성과 내블로킹성이 양호한 것이 요구된다.A hard coat film in which a hard coat layer is laminated on a base film is used as a surface protection of a display or a touch panel, and also as a base film of an electrode film for a touch panel (a transparent conductive film for a touch panel). The hard coat film used in these applications is required to have high transparency and good sliding property and blocking resistance.

하드 코트 필름 또는 폴리에스테르 필름의 슬라이딩성이나 내블로킹성을 개량하기 위해서, 표면에 돌기를 설치하는 것이 제안되고 있다(특허문헌 1, 2)In order to improve the sliding property and blocking resistance of a hard coat film or a polyester film, it has been proposed to provide projections on the surface (Patent Documents 1 and 2)

일본 특허 공개 평 7-314628호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-314628 일본 특허 공개 2000-211082호 공보Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-211082

그러나, 상기 특허문헌에 개시되어 있는 기술에서는 투명성, 슬라이딩성 및 내블로킹성을 동시에 충분히 만족시킬 때까지 이르지 않았다.However, in the technique disclosed in the above patent documents, the transparency, the sliding property and the blocking resistance were not sufficiently satisfied at the same time.

따라서, 본 발명의 목적은 상기 종래 기술의 과제를 감안하여, 투명성이 높고, 또한 슬라이딩성과 내블로킹성이 양호한 하드 코트 필름을 제공하는 것이다. 본 발명의 다른 목적은 투명 도전성 필름에 바람직한 하드 코트 필름을 제공하는 것이다.Accordingly, an object of the present invention is to provide a hard coat film having high transparency and good sliding and blocking properties in view of the problems of the prior art. Another object of the present invention is to provide a hard coat film preferable for a transparent conductive film.

본 발명의 상기 목적은 이하의 1)∼15) 중 어느 하나의 구성에 의해 달성된다.The above object of the present invention can be achieved by any one of the following constitutions 1) to 15).

1) 기재 필름의 적어도 일방의 면에, 입자를 함유하는 제 1 하드 코트층을 구비하고, 제 1 하드 코트층의 표면에 상기 입자로 이루어지는 돌기가 100㎛2당 300∼4000개의 밀도로 존재하고 있고, 제 1 하드 코트층의 표면의 중심선 평균 조도(Ra1)는 30nm 미만이고, 헤이즈값은 1.5% 미만인 것을 특징으로 하는 하드 코트 필름.1) A first hard coat layer containing particles is provided on at least one surface of a base film, protrusions comprising the particles are present on the surface of the first hard coat layer at a density of 300 to 4,000 per 100 μm 2 , The center line average roughness (Ra1) of the surface of the first hard coat layer is less than 30 nm, and the haze value is less than 1.5%.

2) 1)에 있어서, 상기 입자의 평균 입자지름(r)은 0.05∼0.5㎛인 것을 특징으로 하는 하드 코트 필름.2) The hard coat film according to 1), wherein the particles have an average particle diameter (r) of 0.05 to 0.5 μm.

3) 1) 또는 2)에 있어서, 제 1 하드 코트층의 두께(d)에 대한 상기 입자의 평균 입자지름(r)의 비율(r/d)은 0.01∼0.30인 것을 특징으로 하는 하드 코트 필름.3) The hard coat film according to 1) or 2), wherein the ratio (r / d) of the average particle diameter r of the particles to the thickness d of the first hard coat layer is 0.01 to 0.30. .

4) 1)∼3) 중 어느 하나에 있어서, 상기 돌기의 평균 직경은 0.03∼0.3㎛이고, 상기 돌기의 평균 높이는 0.03∼0.3㎛인 것을 특징으로 하는 하드 코트 필름.4) The hard coat film according to any one of 1) to 3), wherein the average diameter of the projections is 0.03 to 0.3 탆 and the average height of the projections is 0.03 to 0.3 탆.

5) 1)∼4) 중 어느 하나에 있어서, 상기 돌기의 평균 간격은 0.10∼0.70㎛인 것을 특징으로 하는 하드 코트 필름.5) The hard coat film according to any one of 1) to 4), wherein the average interval of the projections is 0.10 to 0.70 탆.

6) 1)∼5) 중 어느 하나에 있어서, 제 1 하드 코트층의 두께(d)는 0.5㎛ 이상 10㎛ 미만인 것을 특징으로 하는 하드 코트 필름.6) The hard coat film according to any one of 1) to 5), wherein the thickness (d) of the first hard coat layer is 0.5 탆 or more and less than 10 탆.

7) 1)∼6) 중 어느 하나에 있어서, 기재 필름과 제 1 하드 코트층 사이에 수지층을 갖고, 상기 수지층은 그 두께가 0.005∼0.3㎛이고, 또한 평균 입자지름이 수지층의 두께의 1.3배 이상의 입자를 함유하는 것을 특징으로 하는 하드 코트 필름.7) The resin composition according to any one of 1) to 6), further comprising a resin layer between the base film and the first hard coat layer, wherein the resin layer has a thickness of 0.005 to 0.3 mu m, Of the hard coat film.

8) 1)∼7) 중 어느 하나에 있어서, 기재 필름은 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름이고, 기재 필름과 제 1 하드 코트층 사이에 굴절률이 1.55∼1.61인 수지층을 갖는 것을 특징으로 하는 하드 코트 필름.(8) The hard coat film according to any one of (1) to (7), wherein the base film is a polyethylene terephthalate film and a resin layer having a refractive index of 1.55 to 1.61 is provided between the base film and the first hard coat layer.

9) 1)∼8) 중 어느 하나에 있어서, 기재 필름과 제 1 하드 코트층 사이에 젖음 장력이 52mN/m 이하인 수지층을 갖는 것을 특징으로 하는 하드 코트 필름.(9) The hard coat film according to any one of (1) to (8), wherein a resin layer having a wet tension of 52 mN / m or less is provided between the base film and the first hard coat layer.

10) 9)에 있어서, 제 1 하드 코트층의 두께가 2㎛ 미만인 것을 특징으로 하는 하드 코트 필름.10) The hard coat film according to 9), wherein the thickness of the first hard coat layer is less than 2 탆.

11) 1)∼10) 중 어느 하나에 있어서, 제 1 하드 코트층에 함유되는 입자가 입자의 표면 자유에너지를 작게 하기 위한 표면 처리가 실시된 무기 입자, 및 입자의 표면이 소수화처리된 무기 입자로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종인 것을 특징으로 하는 하드 코트 필름.11) The method according to any one of 1) to 10), wherein the surface treatment is performed on the inorganic particles to reduce the surface free energy of the particles contained in the first hard coat layer, and the inorganic particles Wherein the hard coat film is at least one selected from the group consisting of a hard coat film and a hard coat film.

12) 11)에 있어서, 상기 입자의 표면 자유에너지를 작게 하기 위한 표면 처리가 실시된 무기 입자를 얻기 위한 표면 처리는 하기 (I) 또는 (II)인 것을 특징으로 하는 하드 코트 필름.12) The hard coat film according to 11), wherein the surface treatment for obtaining the inorganic particles subjected to the surface treatment for reducing the surface free energy of the particles is the following (I) or (II).

(I) 하기 일반식(1)으로 나타내어지는 불소원자를 갖는 오르가노 실란 화합물, 상기 오르가노 실란의 가수 분해물, 및 상기 오르가노 실란의 가수 분해물의 부분 축합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개의 화합물로 표면 처리한다.(I) at least one organosilane compound selected from the group consisting of an organosilane compound having a fluorine atom represented by the following general formula (1), a hydrolyzate of the organosilane, and a partial condensate of the hydrolyzate of the organosilane Surface treatment with compound.

CnF2n +1-(CH2)m-Si(Q)3····일반식(1)C n F 2n +1 - (CH 2 ) m -Si (Q) 3 ????? (1)

[일반식(1)에 있어서, n은 1∼10의 정수, m은 1∼5의 정수를 나타낸다. Q는 탄소수 1∼5개의 알콕시기 또는 할로겐원자를 나타낸다][In the general formula (1), n represents an integer of 1 to 10, and m represents an integer of 1 to 5. Q represents an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms or a halogen atom]

(II) 하기 일반식(2)으로 나타내어지는 화합물로 처리하고, 또한 하기 일반식(3)으로 나타내어지는 불소 화합물로 표면 처리한다.(II) is treated with a compound represented by the following general formula (2), and further treated with a fluorine compound represented by the following general formula (3).

B-R4-SiR5 n(OR6)3-n ····일반식(2)BR 4 -SiR 5 n (OR 6 ) 3-n ????? (2)

D-R7-Rf2····일반식(3)DR 7 -Rf 2 ????? (3)

[일반식(2) 및 (3)에 있어서, B 및 D는 각각 독립적으로 반응성 부위를 나타내고, R4 및 R7은 각각 독립적으로 탄소수 1∼3개의 알킬렌기, 또는 상기 알킬렌기로부터 도출되는 에스테르 구조를 나타내고, R5 및 R6은 각각 독립적으로 수소 또는 탄소수가 1∼4개인 알킬기를 나타내고, Rf2는 플루오로알킬기를 나타내고, n은 0∼2의 정수를 나타낸다][In formulas (2) and (3), B and D each independently represent a reactive moiety, and R 4 and R 7 each independently represents an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms or an ester derived from the alkylene group , R 5 and R 6 each independently represent hydrogen or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, Rf 2 represents a fluoroalkyl group, and n represents an integer of 0 to 2 ,

13) 11)에 있어서, 상기 입자의 표면이 소수화 처리된 무기 입자를 얻기 위한 소수화 처리에 사용되는 소수성 화합물은 탄소수 4개 이상의 플루오로알킬기와 반응성 부위를 갖는 불소 화합물, 탄소수 8개 이상의 탄화수소기와 반응성 부위를 갖는 장쇄 탄화수소 화합물, 및 실록산기와 반응성 부위를 갖는 실리콘 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개의 화합물인 것을 특징으로 하는 하드 코트 필름.13) The hydrophobic compound used in the hydrophobic treatment for obtaining the inorganic particles having the surface of the particle hydrophobized in the process 11) is a fluoroalkyl group having 4 or more carbon atoms and a fluorine compound having a reactive site, A long-chain hydrocarbon compound having a siloxane group and a silicone compound having a reactive site, and a silicone compound having a siloxane group and a reactive site.

14) 1)∼13) 중 어느 하나에 있어서, 제 1 하드 코트층에 함유되는 입자는 실리카 입자인 것을 특징으로 하는 것을 특징으로 하는 하드 코트 필름.(14) The hard coat film according to any one of (1) to (13), wherein the particles contained in the first hard coat layer are silica particles.

15) 1)∼14) 중 어느 하나에 있어서, 상기 기재 필름의 제 1 하드 코트층이 설치된 면과는 반대 면에 제 2 하드 코트층을 구비하고, 제 2 하드 코트층의 표면에는 입자로 이루어지는 돌기가 실질적으로 존재하지 않고, 또한 제 2 하드 코트층의 표면의 중심선 평균 조도(Ra2)는 25nm 이하인 것을 특징으로 하는 하드 코트 필름.15) The method of any one of 1) to 14), wherein a second hard coat layer is provided on a surface of the base film opposite to a surface on which the first hard coat layer is provided, and the surface of the second hard coat layer And the center line average roughness (Ra2) of the surface of the second hard coat layer is 25 nm or less.

16) 상기 1)∼15) 중 어느 하나에 기재된 하드 코트 필름의 적어도 일방의 면에 투명 도전막을 구비하는 것을 특징으로 하는 투명 도전성 필름.16) A transparent conductive film comprising a transparent conductive film on at least one surface of the hard coat film according to any one of 1) to 15) above.

(발명의 효과)(Effects of the Invention)

본 발명에 의하면, 투명성이 높고, 또한 슬라이딩성과 내블로킹성이 양호한 하드 코트 필름을 제공할 수 있다. 본 발명의 하드 코트 필름은 투명 도전성 필름의 베이스 필름에 바람직하다.According to the present invention, it is possible to provide a hard coat film having high transparency and good sliding property and blocking resistance. The hard coat film of the present invention is preferable for the base film of the transparent conductive film.

도 1은 주사형 전자현미경으로 관찰된 제 1 하드 코트층 표면의 관찰도의 일례이다.
도 2는 제 1 하드 코트층 표면의 돌기의 평면 형상을 모식적으로 나타낸 도이다.
도 3은 도 1의 제 1 하드 코트층 표면을 모식적으로 의미한 모식도이다.
도 4는 도 3의 일부를 생략한 모식도이다.
1 is an example of an observation view of the surface of the first hard coat layer observed with a scanning electron microscope.
2 is a diagram schematically showing a planar shape of a projection on the surface of the first hard coat layer.
FIG. 3 is a schematic diagram schematically showing the surface of the first hard coat layer of FIG. 1; FIG.
Fig. 4 is a schematic view showing a part of Fig. 3 is omitted.

본 발명의 일실시형태에 의한 하드 코트 필름은 기재 필름의 적어도 일방의 면에 제 1 하드 코트층을 갖는다. 이 제 1 하드 코트층은 입자를 함유하고, 제 1 하드 코트층의 표면에 입자에 의한 돌기(이하, 간단히 「돌기」라고 하는 경우가 있음)를 100㎛2당 300∼4000개 갖는다. 이 제 1 하드 코트층 표면의 중심선 평균 조도(Ra1)는 30nm 미만이다. 이러한 본 실시형태의 하드 코트 필름은 헤이즈값이 1.5% 미만이다.The hard coat film according to one embodiment of the present invention has a first hard coat layer on at least one side of the base film. A first hard coat layer containing particles, and has a first (that is sometimes referred to hereinafter simply referred to as "projections") 300-4000 per 100㎛ 2 protrusions by the particles on the surface of the hard coat layer. The center line average roughness Ra1 of the surface of the first hard coat layer is less than 30 nm. The hard coat film of this embodiment has a haze value of less than 1.5%.

제 1 하드 코트층의 표면에 돌기를 제 1 하드 코트층 표면의 단위면적(100㎛2)당 300∼4000개 가짐으로써, 슬라이딩성 및 내블로킹성은 양호해진다.By providing the surface of the first hard coat layer with protrusions of 300 to 4000 per unit area (100 탆 2 ) of the surface of the first hard coat layer, the sliding properties and the blocking resistance are improved.

돌기의 개수밀도의 범위는 100㎛2당 400∼3500개의 범위가 바람직하고, 500∼3000개의 범위가 보다 바람직하고, 600∼3000개의 범위가 더욱 바람직하고, 특히 700∼2500개의 범위가 바람직하다.The number density of protrusions is preferably in the range of 400 to 3,500, more preferably in the range of 500 to 3,000, more preferably in the range of 600 to 3,000, and particularly preferably in the range of 700 to 2,500 per 100 μm 2 .

입자의 개수밀도를 100㎛2당 300개 미만으로 하면, 슬라이딩성이나 내블로킹성은 저하한다. 한편, 입자의 개수밀도가 100㎛2당 4000개를 초과하면, 제 1 하드 코트층 표면의 평활성은 저하하고, 헤이즈값은 커지고, 하드 코트 필름의 투명성은 저하한다.When the number density of particles is less than 300 per 100 mu m < 2 & gt ;, the sliding property and anti-blocking property are deteriorated. On the other hand, when the number density of particles exceeds 4000 per 100 μm 2 , the smoothness of the surface of the first hard coat layer is lowered, the haze value is increased, and the transparency of the hard coat film is lowered.

본 실시형태의 하드 코트 필름은 상기한 바와 같이 제 1 하드 코트층 표면에 비교적 많은 돌기를 가지면서, 제 1 하드 코트층 표면은 비교적 평활하고 또는 하드 코트 필름의 헤이즈값이 작은 것이 특징 중 하나이다. 구체적으로는, 본 실시형태에 있어서의 제 1 하드 코트층 표면의 중심선 평균 조도(Ra1)는 30nm 미만이고, 또한 하드 코트 필름의 헤이즈값은 1.5% 미만인 것이 중요하다.As described above, the hard coat film of this embodiment has a relatively large number of protrusions on the surface of the first hard coat layer, and is characterized in that the surface of the first hard coat layer is relatively smooth or the haze value of the hard coat film is small. Specifically, it is important that the center line average roughness Ra1 of the surface of the first hard coat layer in this embodiment is less than 30 nm, and the haze value of the hard coat film is less than 1.5%.

제 1 하드 코트층 표면의 중심선 평균 조도(Ra1)는 25nm 이하가 바람직하고, 20nm 이하가 보다 바람직하고, 18nm 이하가 특히 바람직하다. 하한의 중심선 평균 조도(Ra1)는 슬라이딩성 및 내블로킹성을 확보한다는 관점으로부터 5nm 이상이 바람직하고, 7nm 이상이 보다 바람직하고, 9nm 이상이 특히 바람직하다.The center line average roughness Ra1 of the surface of the first hard coat layer is preferably 25 nm or less, more preferably 20 nm or less, and particularly preferably 18 nm or less. The center line average roughness Ra1 of the lower limit is preferably not less than 5 nm, more preferably not less than 7 nm, and particularly preferably not less than 9 nm from the viewpoint of ensuring sliding property and blocking resistance.

제 1 하드 코트층 표면의 중심선 평균 조도(Ra1)를 30nm 이상으로 하면 평활성은 저하하고, 하드 코트 필름의 투명성은 저하한다. 즉, 하드 코트 필름의 헤이즈값은 커진다.When the center line average roughness Ra1 of the surface of the first hard coat layer is 30 nm or more, the smoothness is lowered and the transparency of the hard coat film is lowered. That is, the haze value of the hard coat film becomes large.

본 실시형태의 하드 코트 필름은 높은 투명성을 실현한다는 관점으로부터 헤이즈값이 1.5% 미만인 것이 중요하다. 본 실시형태의 하드 코트 필름의 헤이즈값은 또한 1.1% 이하가 바람직하고, 1.0% 이하가 보다 바람직하다. 하한의 헤이즈값은 작을수록 바람직하지만, 현실적으로는 0.01% 정도이다.From the viewpoint of realizing high transparency, it is important that the haze value of the hard coat film of the present embodiment is less than 1.5%. The haze value of the hard coat film of the present embodiment is preferably 1.1% or less, more preferably 1.0% or less. The haze value of the lower limit is preferably as small as possible, but is practically about 0.01%.

제 1 하드 코트층 표면에 돌기를 100㎛2당 300∼4000개 갖고, 또한 제 1 하드 코트층 표면의 중심선 평균 조도(Ra1)를 30nm 미만으로 하고, 또한 하드 코트 필름의 헤이즈값을 1.5% 미만으로 하기 위해서는 제 1 하드 코트층에 평균 입자지름(r)이 0.05∼0.5㎛인 입자를 함유시켜, 이 입자를 제 1 하드 코트층의 표면 근방에 비교적 많이 존재시킴으로써 제 1 하드 코트층 표면에 돌기를 형성시키는 것이 바람직하다.A first hard coat layer has a protrusion piece 300-4000 100㎛ per second on the surface, and a first center line average roughness (Ra1) of the hard coat layer surface is less than 30nm, and further less than 1.5% the haze value of the hard coat film , Particles having an average particle diameter (r) of 0.05 to 0.5 占 퐉 are contained in the first hard coat layer and the particles are relatively present in the vicinity of the surface of the first hard coat layer, .

또한, 제 1 하드 코트층에 함유되는 입자의 평균 입자지름(r)(㎛)과 제 1 하드 코트층의 두께(d)(㎛)의 비율(r/d)은 0.01∼0.30인 것이 바람직하다. 이것에 의해, 제 1 하드 코트층 표면의 중심선 평균 조도(Ra1)는 작아지고, 하드 코트 필름의 헤이즈값도 작아진다.The ratio (r / d) of the average particle diameter (r) (mu m) of the particles contained in the first hard coat layer to the thickness d (mu m) of the first hard coat layer is preferably 0.01 to 0.30 . As a result, the centerline average roughness Ra1 of the surface of the first hard coat layer is reduced, and the haze value of the hard coat film is also reduced.

이하, 하드 코트 필름을 구성하는 각 구성요소에 대해서 상세하게 설명한다.Hereinafter, each component constituting the hard coat film will be described in detail.

[기재 필름][Base film]

기재 필름에는 플라스틱 필름이 바람직하게 사용된다. 기재 필름을 구성하는 재질로서는, 예를 들면 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET), 폴리에틸렌나프탈레이트(PEN) 등의 폴리에스테르, 폴리이미드, 폴리페닐렌술피드, 아라미드, 폴리프로필렌, 폴리에틸렌, 폴리락트산, 폴리염화비닐, 폴리카보네이트, 폴리메타크릴산메틸, 지환식 아크릴 수지, 시클로올레핀 수지, 트리아세틸셀룰로오스, 및 이들 수지를 혼합 및/또는 공중합한 것을 들 수 있다. 이들 수지를 미연신으로, 또는 1축 연신 또는 2축 연신하여 필름으로 한 것을 기재 필름으로서 적용할 수 있다.A plastic film is preferably used for the base film. Examples of the material constituting the base film include polyester such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN), polyimide, polyphenylene sulfide, aramid, polypropylene, polyethylene, polylactic acid, polyvinyl chloride , Polycarbonate, polymethyl methacrylate, alicyclic acrylic resin, cycloolefin resin, triacetyl cellulose, and resins obtained by mixing and / or copolymerizing these resins. These resins can be applied as a base film in the form of unstretched or uniaxially or biaxially stretched film.

상기한 기재 필름 중에서도, 폴리에스테르 필름은 투명성, 치수안정성, 기계적 특성, 내열성, 전기적 특성, 내약품성 등이 우수하고, 특히 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(PET 필름)이 바람직하게 사용된다.Among the above base films, the polyester film is excellent in transparency, dimensional stability, mechanical properties, heat resistance, electrical properties, chemical resistance and the like, and in particular, a polyethylene terephthalate film (PET film) is preferably used.

기재 필름의 두께의 범위는 20∼300㎛의 범위가 적당하고, 30∼200㎛의 범위가 바람직하고, 50∼150㎛의 범위가 보다 바람직하다.The thickness of the base film is suitably in the range of 20 to 300 占 퐉, preferably in the range of 30 to 200 占 퐉, and more preferably in the range of 50 to 150 占 퐉.

기재 필름은 적어도 제 1 하드 코트층이 적층되는 면에 이하에 나타내는 바와 같은 수지층을 갖고 있는 것이 바람직하다. 즉, 기재 필름과 제 1 하드 코트층 사이에 이하에 나타내는 수지층을 갖고 있는 것이 바람직하다.It is preferable that the base film has a resin layer as shown below on the side where at least the first hard coat layer is laminated. That is, it is preferable that a resin layer shown below is provided between the base film and the first hard coat layer.

[수지층][Resin Layer]

기재 필름과 제 1 하드 코트층의 밀착성을 강화하기 위해서, 기재 필름은 적어도 제 1 하드 코트층이 적층되는 면에 수지층이 설치되어 있는 것이 바람직하다.In order to enhance adhesion between the base film and the first hard coat layer, it is preferable that a resin layer is provided on a surface of the base film on which at least the first hard coat layer is laminated.

수지층은 수지를 주성분으로서 함유하는 층이다. 구체적으로는, 수지층은 수지를 수지층의 고형분 총량 100질량%에 대하여 50질량% 이상 함유하는 층이다. 수지층을 형성하는 수지로서는 폴리에스테르 수지, 아크릴 수지, 우레탄 수지, 폴리카보네이트 수지, 에폭시 수지, 알키드 수지, 요소 수지 등을 들 수 있다. 이들 수지는 단독 또는 복수종 병용할 수 있다.The resin layer is a layer containing a resin as a main component. Specifically, the resin layer is a layer containing 50% by mass or more of the resin with respect to 100% by mass of the total solid content of the resin layer. Examples of the resin forming the resin layer include a polyester resin, an acrylic resin, a urethane resin, a polycarbonate resin, an epoxy resin, an alkyd resin and a urea resin. These resins may be used singly or in combination.

수지층은 기재 필름과 제 1 하드 코트층 사이에 개재되어 기재 필름과 제 1 하드 코트층의 밀착성을 향상시킨다는 관점으로부터, 수지로서 폴리에스테르 수지, 아크릴 수지 및 폴리우레탄 수지로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 함유하는 것이 바람직하다. 특히, 수지층은 수지로서 적어도 폴리에스테르 수지를 함유하는 것이 바람직하다.From the viewpoint that the resin layer is interposed between the base film and the first hard coat layer and improves the adhesion between the base film and the first hard coat layer, it is preferable to use at least a resin selected from the group consisting of polyester resin, acrylic resin and polyurethane resin It is preferable to contain one species. In particular, it is preferable that the resin layer contains at least a polyester resin as a resin.

수지층에 있어서의 수지의 함유량은 수지층의 고형분 총량 100질량%에 대하여 60질량% 이하가 바람직하고, 70질량% 이상이 보다 바람직하고, 특히 80질량% 이상이 바람직하다. 상한에 관해서는, 수지층에 있어서의 수지의 함유량은 95질량% 이하가 바람직하고, 90질량% 이하가 보다 바람직하다.The content of the resin in the resin layer is preferably 60 mass% or less, more preferably 70 mass% or more, and particularly preferably 80 mass% or more, based on 100 mass% of the total solid content of the resin layer. Regarding the upper limit, the content of the resin in the resin layer is preferably 95% by mass or less, more preferably 90% by mass or less.

또한, 수지층은 2층 구성으로 형성되어 있어도 좋다. 2층 구성의 경우에는 기재 필름측으로부터 순서대로 폴리에스테르 수지를 주성분으로 하는 제 1 수지층과 아크릴 수지를 주성분으로 하는 제 2 수지층으로 구성되는 것이 바람직하다. 2층 구성에 대해서 상세는 후술한다.The resin layer may be formed in a two-layer structure. In the case of the two-layer structure, the first resin layer mainly composed of a polyester resin and the second resin layer mainly composed of an acrylic resin are preferably formed in this order from the base film side. Details of the two-layer structure will be described later.

수지층은 하드 코트 필름의 제조 공정에 있어서의 적당한 슬라이딩성이나 권취성을 확보한다는 관점으로부터 입자를 함유하는 것이 바람직하다.The resin layer preferably contains particles from the viewpoint of ensuring adequate sliding property and winding property in the production process of the hard coat film.

수지층에 함유되는 입자로서는 특별히 한정되지 않지만, 실리카 입자, 산화티타늄, 산화알루미늄, 산화지르코늄, 탄산칼슘, 제올라이트 입자 등의 무기 입자나 아크릴 입자, 실리콘 입자, 폴리이미드 입자, 테플론(등록상표) 입자, 가교 폴리에스테르 입자, 가교 폴리스티렌 입자, 가교 중합체 입자, 코어 쉘 입자 등의 유기 입자를 들 수 있다. 이들 중에서도 실리카 입자가 바람직하고, 특히 콜로이드 실리카가 바람직하다.Examples of the particles contained in the resin layer include, but are not limited to, inorganic particles such as silica particles, titanium oxide, aluminum oxide, zirconium oxide, calcium carbonate and zeolite particles, acrylic particles, silicone particles, polyimide particles, Teflon (registered trademark) , Crosslinked polyester particles, crosslinked polystyrene particles, crosslinked polymer particles, core shell particles and the like. Among these, silica particles are preferable, and colloidal silica is particularly preferable.

수지층에 함유되는 입자는 그 평균 입자지름이 수지층의 두께보다 큰 것이 바람직하다. 구체적으로는, 평균 입자지름은 수지층의 두께의 1.3배 이상이 바람직하고, 1.5배 이상이 보다 바람직하고, 2.0배 이상이 특히 바람직하다. 상한은 20배 이하가 바람직하고, 15배 이하가 보다 바람직하고, 10배 이하가 특히 바람직하다.It is preferable that the average particle size of the particles contained in the resin layer is larger than the thickness of the resin layer. Specifically, the average particle diameter is preferably 1.3 times or more of the thickness of the resin layer, more preferably 1.5 times or more, and particularly preferably 2.0 times or more. The upper limit is preferably 20 times or less, more preferably 15 times or less, and particularly preferably 10 times or less.

이러한 평균 입자지름이 수지층의 두께보다 큰 입자를 함유하는 수지층에, 제 1 하드 코트층을 직접 적층함으로써 슬라이딩성 및 내블로킹성은 더욱 향상한다.Sliding property and anti-blocking property are further improved by directly laminating the first hard coat layer on a resin layer containing particles having an average particle diameter larger than the thickness of the resin layer.

수지층에 함유되는 입자의 평균 입자지름은 수지층의 두께 설계에 따라 적당히 선택되지만, 구체적으로는 평균 입자지름의 범위는 0.02∼1㎛의 범위인 것이 바람직하고, 0.05∼0.7㎛의 범위가 보다 바람직하고, 특히 0.1∼0.5㎛의 범위가 바람직하다. 평균 입자지름이 0.02㎛ 미만이면 슬라이딩성이나 내블로킹성이 저하하는 경우가 있다. 평균 입자지름이 1㎛를 초과하면 입자가 탈락하거나 투명성이 저하하거나, 또는 외관이 악화되는 경우가 있다.The average particle diameter of the particles contained in the resin layer is appropriately selected according to the design of the thickness of the resin layer. Specifically, the average particle diameter is preferably in the range of 0.02 to 1 mu m, more preferably in the range of 0.05 to 0.7 mu m And particularly preferably in the range of 0.1 to 0.5 mu m. If the average particle diameter is less than 0.02 탆, the sliding property and blocking resistance may be lowered. If the average particle diameter exceeds 1 占 퐉, the particles may fall off, the transparency may deteriorate, or the appearance may be deteriorated.

수지층의 두께의 범위는 0.005∼0.3㎛의 범위인 것이 바람직하다. 수지층의 두께가 0.005㎛ 미만인 경우에는 기재 필름과 제 1 하드 코트층의 밀착성이 저하한다. 또한, 수지층의 두께가 0.3㎛보다 커지면 제 1 하드 코트층을 적층한 후 내블로킹성이 저하하는 경우가 있다. 수지층의 두께는 또한 0.01㎛ 이상이 바람직하고, 0.015㎛ 이상이 보다 바람직하고, 특히 0.02㎛ 이상이 바람직하다. 상한에 관하여, 수지층의 두께는 0.25㎛ 이하가 바람직하고, 0.2㎛ 이하가 바람직하고, 특히 0.15㎛ 이하가 바람직하다. 수지층이 복수 존재하는 경우에는 모든 수지층의 두께를 합계한 값이 상기 두께의 조건을 만족시키는 것이 바람직하다.The range of the thickness of the resin layer is preferably in the range of 0.005 to 0.3 mu m. When the thickness of the resin layer is less than 0.005 탆, the adhesion between the base film and the first hard coat layer deteriorates. If the thickness of the resin layer is larger than 0.3 mu m, the anti-blocking property may decrease after the first hard coat layer is laminated. The thickness of the resin layer is also preferably 0.01 占 퐉 or more, more preferably 0.015 占 퐉 or more, and particularly preferably 0.02 占 퐉 or more. Regarding the upper limit, the thickness of the resin layer is preferably 0.25 占 퐉 or less, more preferably 0.2 占 퐉 or less, particularly preferably 0.15 占 퐉 or less. When there are a plurality of resin layers, it is preferable that the sum of the thicknesses of all the resin layers satisfies the condition of the thickness.

수지층에 있어서의 입자의 함유량의 범위는 수지층의 고형분 총량 100질량%에 대하여 0.05∼10질량%의 범위가 바람직하고, 0.1∼8질량%의 범위가 보다 바람직하고, 특히 0.5∼5질량%의 범위가 바람직하다. 수지층에 있어서의 입자의 함유량이 0.05질량% 미만이면 양호한 슬라이딩성이나 내블로킹성을 얻을 수 없는 경우가 있고, 입자의 함유량이 10질량%를 초과하면 투명성이 저하하거나 제 1 하드 코트층의 도포성이 악화하거나, 기재 필름과 제 1 하드 코트층의 밀착성이 저하할 경우가 있다.The content of the particles in the resin layer is preferably in the range of 0.05 to 10 mass%, more preferably in the range of 0.1 to 8 mass%, particularly preferably in the range of 0.5 to 5 mass%, based on 100 mass% of the total solid content of the resin layer. Is preferable. When the content of the particles in the resin layer is less than 0.05 mass%, good sliding property and blocking resistance may not be obtained. When the content of the particles exceeds 10 mass%, the transparency decreases or the coating of the first hard coat layer The adhesion between the base film and the first hard coat layer may deteriorate.

수지층은 가교제를 더 함유하는 것이 바람직하다. 수지층은 상술한 수지와 가교제를 함유하는 열경화층인 것이 바람직하다. 수지층을 이러한 열경화층으로 함으로써, 기재 필름과 제 1 하드 코트층의 밀착성을 더욱 향상시킬 수 있다. 수지층을 열경화 할 때의 조건(가열 온도, 시간)은 특별히 한정되지 않지만, 가열 온도는 70℃ 이상이 바람직하고, 100℃ 이상이 보다 바람직하고, 150℃ 이상이 특히 바람직하고, 200℃ 이상이 가장 바람직하다. 상한에 관하여, 가열 온도는 300℃ 이하가 바람직하다. 가열 시간의 범위는 5∼300초의 범위가 바람직하고, 10∼200초의 범위가 보다 바람직하다.The resin layer preferably further contains a crosslinking agent. The resin layer is preferably a thermosetting layer containing the above-mentioned resin and a crosslinking agent. By making the resin layer into such a thermosetting layer, the adhesion between the base film and the first hard coat layer can be further improved. The heating temperature, the heating temperature, the heating temperature, the heating temperature, the heating temperature, the heating temperature, the heating temperature, the heating temperature and the heating temperature are preferably 100 ° C or more, more preferably 150 ° C or more, Is most preferable. Regarding the upper limit, the heating temperature is preferably 300 DEG C or less. The heating time is preferably in the range of 5 to 300 seconds, more preferably in the range of 10 to 200 seconds.

상기 가교제로서는, 예를 들면 멜라민계 가교제, 옥사졸린계 가교제, 카르보디이미드계 가교제, 이소시아네이트계 가교제, 아지리딘계 가교제, 에폭시계 가교제, 메틸올화 또는 알킬올화한 요소계 가교제, 아크릴아미드계 가교제, 폴리아미드계 수지, 아미드에폭시 화합물, 각종 실란 커플링제, 각종 티타네이트계 커플링제등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 라민계 가교제, 옥사졸린계 가교제, 카르보디이미드계 가교제, 이소시아네이트계 가교제, 아지리딘계 가교제가 바람직하고, 특히 멜라민계 가교제가 바람직하다.Examples of the crosslinking agent include melamine crosslinking agents, oxazoline crosslinking agents, carbodiimide crosslinking agents, isocyanate crosslinking agents, aziridine crosslinking agents, epoxy crosslinking agents, methylol or alkylol urea crosslinking agents, acrylamide crosslinking agents, poly Amide-based resins, amide epoxy compounds, various silane coupling agents, and various titanate-based coupling agents. Among them, a lamin-based crosslinking agent, an oxazoline-based crosslinking agent, a carbodiimide-based crosslinking agent, an isocyanate-based crosslinking agent and an aziridine-based crosslinking agent are preferable, and a melamine crosslinking agent is particularly preferable.

멜라민계 가교제로서는, 예를 들면 이미노기형 메틸화 멜라민 수지, 메틸올기형 멜라민 수지, 메틸올기형 메틸화 멜라민 수지, 완전 알킬형 메틸화 멜라민 수지 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 이미노기형 멜라민 수지, 메틸올화 멜라민 수지가 바람직하게 사용된다.Examples of the melamine-based cross-linking agent include imino group-type methylated melamine resin, methylol group type melamine resin, methylol group type methylated melamine resin and fully alkyl type methylated melamine resin. Of these, an imino type melamine resin and a methylol melamine resin are preferably used.

수지층에 있어서의 가교제의 함유량의 범위는 수지층의 고형분 총량 100질량%에 대하여 0.5∼40질량%의 범위가 바람직하고, 1∼30질량%의 범위가 보다 바람직하고, 특히 2∼20질량%의 범위가 바람직하다.The content of the crosslinking agent in the resin layer is preferably in the range of 0.5 to 40 mass%, more preferably in the range of 1 to 30 mass%, particularly preferably in the range of 2 to 20 mass%, based on 100 mass% of the total solid content of the resin layer. Is preferable.

기재 필름 상에 수지층을 통하여 제 1 하드 코트층을 적층하여 얻어지는 하드 코트 필름의 반사색은 중립인 무색의 색상이 바람직하다. 이 관점으로부터, 기재 필름으로서 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(PET 필름)을 사용했을 경우, 수지층의 굴절률의 범위는 1.55∼1.61의 범위가 바람직하고, 1.56∼1.60의 범위가 보다 바람직하고, 1.57∼1.59의 범위가 특히 바람직하다.The color of the hard coat film obtained by laminating the first hard coat layer on the base film through the resin layer is preferably a neutral colorless hue. From this viewpoint, when a polyethylene terephthalate film (PET film) is used as the base film, the refractive index of the resin layer is preferably in the range of 1.55 to 1.61, more preferably in the range of 1.56 to 1.60, Range is particularly preferred.

폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(PET 필름)의 굴절률은 일반적으로 1.62∼1.70 정도이고, 수지층의 굴절률을 상기 범위(1.55∼1.61)로 함으로써 하드 코트 필름의 반사색을 중립인 무색에 근접하게 할 수 있다. 즉, PET 필름의 굴절률(np)과 수지층의 굴절률(nr)의 차(np-nr)는 0.02∼0.1의 범위인 것이 바람직하고, 0.03∼0.09의 범위인 것이 보다 바람직하고, 0.04∼0.08의 범위인 것이 특히 바람직하다.The refractive index of the polyethylene terephthalate film (PET film) is generally about 1.62 to 1.70, and the refractive index of the resin layer is in the above range (1.55 to 1.61), so that the reflection color of the hard coat film can be brought close to the neutral colorlessness. That is, the difference (np-nr) between the refractive index np of the PET film and the refractive index nr of the resin layer is preferably in the range of 0.02 to 0.1, more preferably 0.03 to 0.09, and most preferably 0.04 to 0.08 Is particularly preferable.

수지층의 굴절률을 1.55∼1.61로 하기 위해서는 수지로서 분자 중에 나프탈렌환을 포함하는 폴리에스테르 수지를 사용하는 것이 바람직하다. 나프탈렌환을 포함하는 폴리에스테르 수지는, 예를 들면 공중합 성분으로서 1,4-나프탈렌디카르복실산, 2,6-나프탈렌디카르복실산 등의 다가 카르복실산을 사용함으로써 합성할 수 있다.In order to set the refractive index of the resin layer to 1.55 to 1.61, it is preferable to use a polyester resin containing a naphthalene ring in the molecule as a resin. The naphthalene ring-containing polyester resin can be synthesized by using, for example, a polycarboxylic acid such as 1,4-naphthalenedicarboxylic acid or 2,6-naphthalenedicarboxylic acid as a copolymerization component.

수지층에 있어서의 분자 중에 나프탈렌환을 포함하는 폴리에스테르 수지의 함유량의 범위는 전체 수지 총량 100질량%에 대하여 5∼70질량%의 범위가 바람직하고, 10∼60질량%의 범위가 보다 바람직하다.The content of the polyester resin containing naphthalene rings in the molecule in the resin layer is preferably in the range of 5 to 70 mass%, more preferably in the range of 10 to 60 mass%, based on 100 mass% of the total resin .

수지층은 기재 필름 상에 웨트 코팅법으로 도포하고 열경화하여 적층되는 것이 바람직하다. 또한, 기재 필름의 제조 공정 내에서 수지층을 웨트 코팅법으로 도포하는, 소위 인라인 코팅법에 의해 도포하고 열경화하여 적층되는 것이 바람직하다. 웨트 코팅법으로서는, 예를 들면 리버스 코팅법, 스프레이 코팅법, 바 코팅법, 그라비어 코팅법, 로드 코팅법, 다이 코팅법 등을 들 수 있다.It is preferable that the resin layer is laminated on the base film by a wet coating method and thermally cured. It is also preferred that the resin layer is applied by a wet coating method in a production process of a base film, applied by the so-called in-line coating method, and thermally cured. Examples of the wet coating method include a reverse coating method, a spray coating method, a bar coating method, a gravure coating method, a rod coating method and a die coating method.

상술한 바와 같이, 수지층은 2층 구성의 것을 채용할 수 있다. 이러한 2층 구성의 수지층은 1개의 도포액을 1회 도포하고, 그 건조 과정에서 자기상 분리를 생기시켜 형성되는 것이 바람직하다. 즉, 제 1 수지층의 주성분(폴리에스테르 수지)과 제 2 수지층의 주성분(아크릴 수지)을 함유하는 도포액을 도포하고, 그 건조 과정에서 각각의 성분의 자기상 분리를 사용하여 제 1 수지층과 제 2 수지층을 형성하는 방법을 채용하는 것이 바람직하다.As described above, the resin layer having a two-layer structure can be employed. It is preferable that the resin layer of the two-layer structure is formed by applying one coating liquid once and causing magnetic phase separation in the drying process. That is, a coating liquid containing the main component (polyester resin) of the first resin layer and the main component (acrylic resin) of the second resin layer is applied, and by using the magnetic phase separation of each component in the drying process, It is preferable to employ a method of forming a second layer and a second resin layer.

이 상분리 방법을 실시할 때에, 제 1 수지층의 주성분(폴리에스테르 수지)과 제 2 수지층의 주성분(아크릴 수지)의 표면 에너지 차를 크게 하는 것이 바람직하다. 즉, 표면에너지가 높은 폴리에스테르 수지와 표면에너지가 낮은 아크릴 수지를 사용하는 것이 바람직하다. 특히, 폴리에스테르 수지의 표면에너지를 높게 하기 위해서, 술폰산기를 갖는 폴리에스테르 수지를 사용하는 것이 바람직하다.In carrying out this phase separation method, it is preferable to increase the surface energy difference between the main component (polyester resin) of the first resin layer and the main component (acrylic resin) of the second resin layer. That is, it is preferable to use a polyester resin having a high surface energy and an acrylic resin having a low surface energy. Particularly, in order to increase the surface energy of the polyester resin, it is preferable to use a polyester resin having a sulfonic acid group.

수지층이 2층 구성인 경우, 기재 필름과 제 1 하드 코트층의 밀착성을 강화하고 하드 코트 필름의 반사색을 중립인 무색으로 가까이한다는 관점으로부터, 제 1 수지층의 두께가 제 2 수지층의 두께보다 큰 것이 바람직하다. 제 1 수지층의 두께는 제 2 수지층의 두께의 1.5배 이상이 바람직하고, 2.0배 이상이 보다 바람직하고, 특히 3.0배 이상이 바람직하다.From the viewpoint that the adhesion between the base film and the first hard coat layer is enhanced and the reflection color of the hard coat film is close to neutral colorless when the resin layer has a two-layer structure, the thickness of the first resin layer Is preferably larger than the thickness. The thickness of the first resin layer is preferably 1.5 times or more of the thickness of the second resin layer, more preferably 2.0 times or more, particularly 3.0 times or more.

제 1 수지층의 두께의 범위는, 구체적으로는 0.02∼0.2㎛의 범위가 바람직하고, 0.03∼0.15㎛의 범위가 보다 바람직하고, 특히 0.05∼0.12㎛의 범위가 바람직하다. 제 2 수지층의 두께의 범위는 0.005∼0.1㎛의 범위가 바람직하고, 0.01∼0.07㎛의 범위가 보다 바람직하고, 특히 0.01∼0.05㎛의 범위가 바람직하다.The thickness of the first resin layer is preferably in the range of 0.02 to 0.2 mu m, more preferably in the range of 0.03 to 0.15 mu m, and particularly preferably in the range of 0.05 to 0.12 mu m. The thickness of the second resin layer is preferably in the range of 0.005 to 0.1 mu m, more preferably in the range of 0.01 to 0.07 mu m, and particularly preferably in the range of 0.01 to 0.05 mu m.

기재 필름과 제 1 하드 코트층 사이에 설치되는 수지층은 그 표면의 젖음 장력이 52mN/m 이하인 것이 바람직하다. 즉, 본 발명에서는 제 1 하드 코트층이 도포되는 수지층 표면의 젖음 장력이 52mN/m 이하인 것이 바람직하다. 이러한 수지층 상에 직접 제 1 하드 코트층을 적층함으로써, 제 1 하드 코트층 표면에 입자에 의한 돌기가 형성되기 쉬워지고, 그 결과 슬라이딩성 및 내블로킹성은 더욱 향상한다. 여기서, 젖음 장력은 JIS-K-6768에 규정되는 물성값이다.The resin layer provided between the base film and the first hard coat layer preferably has a wettability tension of 52 mN / m or less. That is, in the present invention, it is preferable that the wet tension of the surface of the resin layer to which the first hard coat layer is applied is 52 mN / m or less. By directly laminating the first hard coat layer on the resin layer, protrusions due to particles are easily formed on the surface of the first hard coat layer, and as a result, the sliding property and blocking resistance are further improved. Here, the wet tensile strength is a physical property value stipulated in JIS-K-6768.

상기 기재 필름과 제 1 하드 코트층 사이에 젖음 장력이 52mN/m 이하인 수지층을 설치하는 실시형태는 제 1 하드 코트층의 두께가 비교적 작은 경우에 유효하다. 제 1 하드 코트층의 두께가 작아지면, 제 1 하드 코트층에 함유되는 입자의 절대량도 작아진다. 그러나, 젖음 장력이 52mN/m 이하인 수지층 상에 제 1 하드 코트층을 적층함으로써, 제 1 하드 코트층에 함유되는 입자가 표면 근방에 편재하기 쉬워지고, 그 결과 효율적으로 돌기를 형성할 수 있게 된다. 이 실시형태는 제 1 하드 코트층의 두께가 2㎛ 미만인 경우에 유효하고, 또한 제 1 하드 코트층의 두께가 1.7㎛ 이하인 경우에 특히 유효하다.An embodiment in which a resin layer having a wet tension of 52 mN / m or less is provided between the base film and the first hard coat layer is effective when the thickness of the first hard coat layer is relatively small. As the thickness of the first hard coat layer becomes smaller, the absolute amount of the particles contained in the first hard coat layer also becomes smaller. However, by laminating the first hard coat layer on the resin layer having a wet tension of 52 mN / m or less, the particles contained in the first hard coat layer are likely to be localized near the surface, and as a result, do. This embodiment is effective when the thickness of the first hard coat layer is less than 2 mu m, and is particularly effective when the thickness of the first hard coat layer is 1.7 mu m or less.

상기 관점으로부터, 수지층 표면의 젖음 장력은 50mN/m 이하가 더욱 바람직하다. 한편, 기재 필름과 제 1 하드 코트층의 밀착성을 확보한다는 관점으로부터, 수지층 표면의 젖음 장력의 하한은 35mN/m 이상이 바람직하고, 37mN/m 이상이 보다 바람직하고, 40mN/m 이상이 특히 바람직하다. 수지층 표면의 젖음 장력을 35mN/m 미만으로 하면, 제 1 하드 코트층의 밀착성은 저하하는 경우가 있다.From the above viewpoint, it is more preferable that the wettability of the surface of the resin layer is 50 mN / m or less. On the other hand, from the viewpoint of ensuring adhesion between the base film and the first hard coat layer, the lower limit of the wetting tension of the surface of the resin layer is preferably 35 mN / m or more, more preferably 37 mN / m or more, desirable. If the wettability of the surface of the resin layer is less than 35 mN / m, the adhesion of the first hard coat layer may decrease.

수지층 표면의 젖음 장력을 52mN/m 이하로 제어하고, 또한 기재 필름과 제 1 하드 코트층의 밀착성을 향상시킨다는 관점으로부터, 수지층에 함유시키는 수지로서는 폴리에스테르 수지, 아크릴 수지 및 폴리우레탄 수지로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 사용하는 것이 바람직하다. 이들 수지 중에서도 폴리에스테르 수지 및/또는 아크릴 수지를 사용하는 것이 더욱 바람직하고, 특히 수지로서 적어도 폴리에스테르 수지를 사용하는 것이 바람직하다.From the viewpoint of controlling the wettability of the surface of the resin layer to 52 mN / m or less and improving the adhesion between the base film and the first hard coat layer, the resin to be contained in the resin layer includes polyester resin, acrylic resin and polyurethane resin At least one selected from the group consisting of Among these resins, it is more preferable to use a polyester resin and / or an acrylic resin, and it is particularly preferable to use at least a polyester resin as the resin.

또한, 수지층 표면의 젖음 장력은 상기한 가교제의 종류나 함유량을 조정함으로써도 제어할 수 있다. 예를 들면, 가교제의 함유량이 많아지면 수지층 표면의 젖음 장력은 작아지는 경향이 있고, 반대로 가교제의 함유량이 적어지면 수지층 표면의 젖음 장력은 커지는 경향이 있다.The wetting tension on the surface of the resin layer can also be controlled by adjusting the kind or content of the cross-linking agent. For example, when the content of the crosslinking agent is large, the wet tension of the surface of the resin layer tends to be small. On the contrary, if the content of the crosslinking agent is small, the wet tension of the surface of the resin layer tends to become large.

[제 1 하드 코트층][First hard coat layer]

제 1 하드 코트층은 입자를 함유하고, 그 입자에 의한 돌기가 제 1 하드 코트층 표면에 형성되어 있다. 제 1 하드 코트층 표면에 있어서의 돌기의 개수밀도는 제 1 하드 코트층 표면의 단위면적(100㎛2)당 300∼4000개이다. 또한, 돌기의 개수밀도의 범위는 100㎛2당 400∼3500개의 범위가 바람직하고, 500∼3000개의 범위가 보다 바람직하고, 600∼3000개의 범위가 더욱 바람직하고, 특히 700∼2500개의 범위가 바람직하다.The first hard coat layer contains particles, and protrusions formed by the particles are formed on the surface of the first hard coat layer. The number density of protrusions on the surface of the first hard coat layer is 300 to 4000 per unit area (100 탆 2 ) of the surface of the first hard coat layer. In addition, the range of the number density of protrusions is preferably preferably in the range of 400-3500 per 100㎛ 2, and the range of 500-3000, and more preferably, to a range of more preferably 600-3000, in particular 700-2500 of range Do.

제 1 하드 코트층에 함유되는 입자의 평균 입자지름(r)의 범위는 0.05∼0.5㎛의 범위가 바람직하고, 0.06∼0.4㎛의 범위가 보다 바람직하고, 특히 0.07∼0.3㎛의 범위가 바람직하다.The range of the average particle diameter (r) of the particles contained in the first hard coat layer is preferably in the range of 0.05 to 0.5 mu m, more preferably in the range of 0.06 to 0.4 mu m, and particularly preferably in the range of 0.07 to 0.3 mu m .

제 1 하드 코트층에 함유되는 입자의 평균 입자지름(r)이 0.05㎛ 미만이면, 제 1 하드 코트층 표면에 충분한 크기의 돌기가 형성되지 않아 슬라이딩성 및 내블로킹성이 충분히 개량되지 않는 경우가 있다. 평균 입자지름(r)이 0.5㎛를 초과하면 제 1 하드 코트층 표면의 평활성이 저하하고, 중심선 평균 조도(Ra1)가 30nm 이상이 되거나 하드 코트 필름의 헤이즈값이 1.5% 이상이 되어 투명성이 저하하는 등의 문제가 생기는 경우가 있다.When the average particle diameter (r) of the particles contained in the first hard coat layer is less than 0.05 탆, protrusions of sufficient size are not formed on the surface of the first hard coat layer, and the sliding property and blocking resistance are not sufficiently improved have. When the average particle diameter (r) exceeds 0.5 mu m, the smoothness of the surface of the first hard coat layer decreases, the center line average roughness Ra1 becomes 30 nm or more, or the haze value of the hard coat film becomes 1.5% There is a possibility that a problem such as occurrence of a problem may occur.

제 1 하드 코트층에 함유되는 입자의 평균 입자지름(r)은 제 1 하드 코트층의 두께(d)에 대하여 충분히 작은 것이 바람직하다. 즉, 입자의 평균 입자지름(r)과 제 1 하드 코트층의 두께(d)의 비율은 0.01∼0.30의 범위가 바람직하다. 이러한 입자를 제 1 하드 코트층의 표면 근방에 비교적 많이 존재시켜 제 1 하드 코트층 표면에, 상기한 바와 같이 비교적 많은 돌기를 형성시키는 것이 바람직하다. 이것에 의해, 제 1 하드 코트층 표면의 평활성을 저하시키지 않고 슬라이딩성과 내블로킹성을 향상시킬 수 있다.The average particle diameter (r) of the particles contained in the first hard coat layer is preferably sufficiently smaller than the thickness (d) of the first hard coat layer. That is, the ratio of the average particle diameter (r) of the particles to the thickness (d) of the first hard coat layer is preferably in the range of 0.01 to 0.30. It is preferable that relatively large protrusions are formed on the surface of the first hard coat layer as described above by relatively presenting such particles in the vicinity of the surface of the first hard coat layer. This makes it possible to improve the sliding property and blocking resistance without lowering the smoothness of the surface of the first hard coat layer.

제 1 하드 코트층에 함유되는 입자의 평균 입자지름(r)과 제 1 하드 코트층의 두께(d)의 비율(r/d)의 범위는 또한 0.01∼0.20의 범위가 바람직하고, 0.01∼0.15의 범위가 보다 바람직하고, 0.02∼0.10의 범위가 특히 바람직하고, 0.02∼0.08의 범위가 가장 바람직하다.The ratio (r / d) of the average particle diameter (r) of the particles contained in the first hard coat layer to the thickness (d) of the first hard coat layer is also preferably in the range of 0.01 to 0.20, more preferably in the range of 0.01 to 0.15 More preferably in the range of 0.02 to 0.10, and most preferably in the range of 0.02 to 0.08.

상술한 바와 같은 입자에 의해 제 1 하드 코트층 표면에 형성되는 돌기의 평균 직경의 범위는 0.03∼0.3㎛의 범위가 바람직하다. 또한, 돌기의 평균 직경의 범위는 0.04∼0.25㎛의 범위가 바람직하고, 0.05∼0.2㎛의 범위가 바람직하다. 이것에 의해, 투명성을 저하시키지 않고 슬라이딩성 및 내블로킹성을 향상시킬 수 있다. The average diameter of the protrusions formed on the surface of the first hard coat layer by the above-described particles is preferably in the range of 0.03 to 0.3 mu m. The average diameter of the projections is preferably in the range of 0.04 to 0.25 탆, and more preferably in the range of 0.05 to 0.2 탆. This makes it possible to improve the sliding property and the blocking resistance without lowering the transparency.

돌기의 평균 높이의 범위는 0.03∼0.3㎛의 범위가 바람직하다. 또한, 돌기의 평균 높이의 범위는 0.04∼0.25㎛의 범위가 바람직하고, 0.05∼0.2㎛의 범위가 바람직하다. 이것에 의해, 투명성을 저하시키지 않고 슬라이딩성 및 내블로킹성을 향상시킬 수 있다.The average height of the projections is preferably in the range of 0.03 to 0.3 mu m. The average height of the projections is preferably in the range of 0.04 to 0.25 탆, and more preferably in the range of 0.05 to 0.2 탆. This makes it possible to improve the sliding property and the blocking resistance without lowering the transparency.

제 1 하드 코트층의 표면에 형성되는 돌기의 형상은 특별히 한정되지 않지만, 원형 또는 원형에 가까운 평면 형상을 갖는 것이 바람직하다. 여기서, 돌기의 평면 형상은 제 1 하드 코트층의 표면을 주사형 전자현미경(SEM)으로 관찰했을 때의 평면 형상을 가리킨다.The shape of the protrusions formed on the surface of the first hard coat layer is not particularly limited, but it is preferable that the protrusions have a circular or circular planar shape. Here, the plane shape of the projections indicates a planar shape when the surface of the first hard coat layer is observed with a scanning electron microscope (SEM).

도 1은 제 1 하드 코트층의 주사형 전자현미경에 의한 표면 사진의 일례이다. 제 1 하드 코트층의 표면에는 입자에 의한 돌기(11)가 형성되어 있다.1 is an example of a surface photograph of a first hard coat layer by a scanning electron microscope. On the surface of the first hard coat layer, protrusions 11 made of particles are formed.

도 2는 제 1 하드 코트층 표면의 돌기의 평면 형상을 모식적으로 나타낸 도이다.2 is a diagram schematically showing a planar shape of a projection on the surface of the first hard coat layer.

돌기의 평면 형상이 원형에 가깝다란, 도 2에 나타내는 모식도에 있어서 돌기(11)의 최대 직경(Lmax)을 나타내는 선분과 중심(Lc)에서 직교하는 돌기(11)의 지름(Lmin)과, 돌기(11)의 최대 직경(Lmax)의 비율(Lmin/Lmax)이 0.65 이상인 것을 의미한다.The planar shape of the projection is close to a circle. In the schematic view shown in Fig. 2, the line segment indicating the maximum diameter Lmax of the projection 11, the diameter Lmin of the projection 11 perpendicular to the center Lc, (Lmin / Lmax) of the maximum diameter Lmax of the honeycomb structure 11 is 0.65 or more.

상기 비율(Lmin/Lmax)은 0.70 이상이 바람직하고, 0.80 이상이 보다 바람직하고, 특히 0.85 이상이 바람직하다. 상한은 1.0이다.The ratio (Lmin / Lmax) is preferably 0.70 or more, more preferably 0.80 or more, and particularly preferably 0.85 or more. The upper limit is 1.0.

도 1의 표면 사진에 있어서의 돌기의 평면 형상은 모두, 원형 또는 상기 정의에 의한 「원형에 가깝다」 형상이다.The planar shapes of the protrusions in the surface photograph of Fig. 1 are all circular, or a " close to circular shape "

본 명세서에 있어서, 돌기의 직경이란 도 2에 나타내는 최대 직경(Lmax)을 의미한다. 돌기의 평균 직경은 도 1 에 나타나 있는 바와 같은 제 1 하드 코트층의 주사형 전자현미경에 의한 표면 사진으로부터 구할 수 있다.In the present specification, the diameter of the protrusion means the maximum diameter Lmax shown in Fig. The average diameter of the protrusions can be obtained from a photograph of the surface of the first hard coat layer as shown in Fig. 1 by a scanning electron microscope.

본 명세서에 있어서, 돌기의 높이란 돌기의 정점으로부터 제 1 하드 코트층 표면까지의 길이를 의미한다. 돌기의 평균 높이는 제 1 하드 코트층의 투과형 전자현미경(TEM)으로 촬영된 단면 사진으로부터 측정할 수 있다.In the present specification, the height of the projection means the length from the apex of the projection to the surface of the first hard coat layer. The average height of the protrusions can be measured from a cross-sectional photograph taken with a transmission electron microscope (TEM) of the first hard coat layer.

제 1 하드 코트층의 표면에 있어서의 돌기의 평균 간격의 범위는 0.10∼0.70㎛의 범위가 바람직하고, 0.15∼0.50㎛의 범위가 보다 바람직하고, 특히 0.20∼0.40㎛의 범위가 바람직하다. 이것에 의해, 투명성을 저하시키지 않고 슬라이딩성 및 내블로킹성을 향상시킬 수 있다.The average interval of the protrusions on the surface of the first hard coat layer is preferably in the range of 0.10 to 0.70 탆, more preferably in the range of 0.15 to 0.50 탆, and particularly preferably in the range of 0.20 to 0.40 탆. This makes it possible to improve the sliding property and the blocking resistance without lowering the transparency.

돌기의 평균 간격은 제 1 하드 코트층의 주사형 전자현미경에 의한 표면 사진으로부터 구할 수 있다. 도 3은 제 1 하드 코트층의 주사형 전자현미경에 의한 표면 사진을 모식화한 도이다. 도 3 을 사용하여 돌기의 평균 간격의 측정 방법을 설명한다.The average interval of the projections can be obtained from a photograph of the surface of the first hard coat layer by a scanning electron microscope. 3 is a schematic view of a surface photograph of a first hard coat layer by a scanning electron microscope. A method of measuring the average interval of the projections will be described with reference to Fig.

우선, 가로방향으로 1개의 직선(20)을 긋고, 또한 가로방향의 직선(20)에 직교하는 세로방향의 직선(30)을 긋는다. 이어서, 가로방향의 직선(20) 위에 있는(즉, 직선(20)에 접촉함) 돌기 모두에 대해서, 인접하는 돌기와의 간격을 측정한다. 동일한 조작을 세로방향의 직선(30)에 대해서도 행한다. 이와 같이 하여 얻어진 모든 돌기의 간격(거리)을 평균한다.First, one straight line 20 is drawn in the transverse direction, and a straight line 30 perpendicular to the transverse straight line 20 is drawn. Then, for all of the projections on the straight line 20 in the transverse direction (that is, in contact with the straight line 20), the distance between adjacent projections is measured. The same operation is also performed on the straight line 30 in the vertical direction. The intervals (distances) of all the projections thus obtained are averaged.

돌기의 평균 간격의 측정 방법에 대해서, 도 4를 사용하여 상세하게 설명한다.A method of measuring the average interval of the projections will be described in detail with reference to Fig.

도 4는 도 3에 있어서의 가로방향의 직선(20) 또는 세로방향의 직선(30) 위에 있는 돌기만을 선택하여 편집한 것이다. 도 4에 있어서, 가로방향의 직선(20) 위에 있는 돌기는 부호(1∼5)로 나타내는 5개이다. 인접하는 돌기의 간격이란, 예를 들면 돌기(1)와 상기 돌기(1)에 인접하는 돌기(2)의 거리(P)이다. 마찬가지로, 돌기(2)와 돌기(3)의 간격, 돌기(3)와 돌기(4)의 간격, 돌기(4)와 돌기(5)의 간격을 계측하고, 가로방향의 직선(20) 위에 있는 모든 입자에 대해서 인접하는 돌기간의 간격을 계측한다.FIG. 4 shows only the protrusions on the straight line 20 in the horizontal direction or the straight line 30 in the vertical direction in FIG. In Fig. 4, the protrusions on the straight line 20 in the transverse direction are five, denoted by reference numerals (1 to 5). The distance between the adjacent projections is the distance P between the projections 1 and the projections 2 adjacent to the projections 1, for example. Similarly, the distance between the protrusions 2 and 3, the distance between the protrusions 3 and 4, and the distance between the protrusions 4 and 5 are measured, The intervals of adjacent stone periods are measured for all the particles.

마찬가지로, 세로방향의 직선(30) 위에 있는 모든 돌기에 관해서도 인접하는 돌기간의 간격을 계측한다.Similarly, with respect to all the protrusions on the straight line 30 in the longitudinal direction, the interval of the adjacent stone period is measured.

상기 조작을 가로방향의 직선의 위치 및 세로방향의 직선의 위치를 각각 3회 변경하여 실시하고, 얻어진 모든 돌기 간격을 평균한 것을 돌기의 평균 간격이라고 한다.The above operation is performed by changing the position of the straight line in the transverse direction and the position of the straight line in the vertical direction three times, and the average of all the obtained protrusion intervals is referred to as the average interval of the protrusions.

도 1에 나타낸 바와 같이, 제 1 하드 코트층 표면에 있어서의 개개의 돌기는 각각 1개의 입자에 의해 형성되어 있는 것이 바람직하다. 이것에 의해, 제 1 하드 코트층 표면의 중심선 평균 조도(Ra1)를 30nm 미만으로 조정하는 것, 및 하드 코트 필름의 헤이즈값을 1.5% 미만으로 조정하는 것이 용이해진다. 복수의 입자가 응집한 상태에서 돌기를 형성하면, 제 1 하드 코트층 표면의 중심선 평균 조도(Ra1)나 하드 코트 필름의 헤이즈값이 커지는 경향이 있어 바람직하지 않다.As shown in Fig. 1, it is preferable that the individual projections on the surface of the first hard coat layer are each formed by one particle. This makes it easy to adjust the centerline average roughness Ra1 of the surface of the first hard coat layer to less than 30 nm and adjust the haze value of the hard coat film to less than 1.5%. If the projections are formed in a state in which a plurality of particles are aggregated, the center line average roughness Ra1 of the surface of the first hard coat layer and the haze value of the hard coat film tend to increase, which is not preferable.

제 1 하드 코트층에 있어서의 입자의 함유량의 범위는 제 1 하드 코트층의 고형분 총량 100질량%에 대하여 2.5∼17질량%의 범위가 바람직하고, 3∼15질량%의 범위가 보다 바람직하고, 특히 4∼12질량%의 범위가 바람직하다.The content of the particles in the first hard coat layer is preferably in the range of 2.5 to 17 mass%, more preferably in the range of 3 to 15 mass% with respect to 100 mass% of the total solid content of the first hard coat layer, Particularly preferably from 4 to 12 mass%.

상술한 바와 같이, 제 1 하드 코트층의 두께(d)에 대하여 평균 입자지름(r)이 충분히 작은 입자를 제 1 하드 코트층에 함유시키고, 입자를 제 1 하드 코트층의 표면 근방에 비교적 많이 존재시켜 제 1 하드 코트층 표면에 비교적 많은 돌기를 형성시키는 것이 바람직하다.As described above, the first hard coat layer contains particles sufficiently small in average particle diameter (r) with respect to the thickness (d) of the first hard coat layer, and the particles are relatively large in the vicinity of the surface of the first hard coat layer So that relatively large projections are formed on the surface of the first hard coat layer.

입자를 제 1 하드 코트층의 표면 근방에 존재시키기 위해서는 제 1 하드 코트층의 형성 과정에서 입자를 표면 근방으로 이동(부상)시킬 필요가 있다. 이것은, 예를 들면 입자의 표면 자유에너지를 작게 하기 위한 표면 처리가 실시된 입자, 또는 입자의 표면을 소수화하기 위한 소수화 처리가 실시된 입자를 사용함으로써 가능해진다. 이들 처리가 실시되는 입자로서는 무기 입자가 바람직하고, 특히 실리카 입자가 바람직하다.In order to allow the particles to exist near the surface of the first hard coat layer, it is necessary to move (float) the particles near the surface in the process of forming the first hard coat layer. This can be achieved, for example, by using surface-treated particles for reducing the surface free energy of the particles, or particles subjected to hydrophobic treatment for hydrophobizing the surface of the particles. As the particles to be subjected to these treatments, inorganic particles are preferable, and silica particles are particularly preferable.

제 1 하드 코트층에 함유되는 입자로서는 무기 입자가 바람직하게 사용된다. 무기 입자로서는 Si, Na ,K, Ca 및 Mg로부터 선택되는 원소를 포함하는 무기 입자를 바람직하게 들 수 있다. 더욱 바람직하게는 실리카 입자(SiO2), 알칼리 금속 불화물(NaF, KF 등) 및 알칼리 토류 금속 불화물(CaF2, MgF2 등)로부터 선택되는 화합물을 포함하는 무기 입자를 들 수 있지만, 내구성 등의 점으로부터 실리카 입자가 특히 바람직하다.As the particles contained in the first hard coat layer, inorganic particles are preferably used. As the inorganic particles, inorganic particles containing an element selected from Si, Na, K, Ca and Mg are preferably used. More preferably, inorganic particles containing a compound selected from silica particles (SiO 2 ), alkali metal fluorides (NaF, KF, etc.) and alkaline earth metal fluorides (CaF 2 , MgF 2 and the like) Particularly preferred are silica particles.

상기 입자의 표면 자유에너지를 작게 하기 위한 표면 처리로서는 하기 일반식(1)으로 나타내어지는 불소원자를 갖는 오르가노 실란 화합물, 상기 오르가노 실란의 가수 분해물, 및 상기 오르가노 실란의 가수 분해물의 부분 축합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개의 화합물로 표면 처리하는 방법을 들 수 있다.As the surface treatment for reducing the surface free energy of the particles, an organosilane compound having a fluorine atom represented by the following general formula (1), a hydrolyzate of the organosilane, and a partial condensation of the hydrolyzate of the organosilane Water and at least one compound selected from the group consisting of water and the like.

CnF2n +1-(CH2)m-Si(Q)3····일반식(1)C n F 2n +1 - (CH 2 ) m -Si (Q) 3 ????? (1)

[일반식(1)에 있어서, n은 1∼10의 정수, m은 1∼5의 정수를 나타낸다. Q는 탄소수 1∼5개의 알콕시기 또는 할로겐원자를 나타낸다][In the general formula (1), n represents an integer of 1 to 10, and m represents an integer of 1 to 5. Q represents an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms or a halogen atom]

일반식(1)의 화합물로서, 구체적으로는 하기 화합물을 예시할 수 있다.Specific examples of the compound represented by the general formula (1) include the following compounds.

C4F9CH2CH2Si(OCH3)3 C 4 F 9 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3

C6F13CH2CH2Si(OCH3)3 C 6 F 13 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3

C8F17CH2CH2Si(OCH3)3 C 8 F 17 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3

C6F13CH2CH2CH2Si(OCH3)3 C 6 F 13 CH 2 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3

C6F13CH2CH2CH2CH2Si(OCH3)3 C 6 F 13 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3

C6F13CH2CH2Si(OC2H5)3 C 6 F 13 CH 2 CH 2 Si (OC 2 H 5 ) 3

C8F17CH2CH2CH2Si(OC2H5)3 C 8 F 17 CH 2 CH 2 CH 2 Si (OC 2 H 5 ) 3

C6F13CH2CH2CH2CH2Si(OC2H5)3 C 6 F 13 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 Si (OC 2 H 5 ) 3

C6F13CH2CH2SiCl3 C 6 F 13 CH 2 CH 2 SiCl 3

C6F13CH2CH2SiBr3 C 6 F 13 CH 2 CH 2 SiBr 3

C6F13CH2CH2CH2SiCl3 C 6 F 13 CH 2 CH 2 CH 2 SiCl 3

C6F13CH2CH2Si(OCH3)Cl2 C 6 F 13 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) Cl 2

또한, 무기 입자의 표면 자유에너지를 작게 하기 위한 것 이외의 표면 처리로서 하기 일반식(2)으로 나타내어지는 화합물로 처리하고, 또한 하기 일반식(3)으로 나타내어지는 불소 화합물로 표면 처리하는 방법을 들 수 있다.Further, a surface treatment other than the one for reducing the surface free energy of the inorganic particles, a treatment with a compound represented by the following general formula (2), and a surface treatment with a fluorine compound represented by the following general formula (3) .

B-R4-SiR5 n(OR6)3-n····일반식(2)BR 4 -SiR 5 n (OR 6 ) 3-n ????? (2)

D-R7-Rf2····일반식(3)DR 7 -Rf 2 ????? (3)

[일반식(2) 및 (3)에 있어서, B 및 D는 각각 독립적으로 반응성 부위를 나타내고, R4 및 R7은 각각 독립적으로 탄소수 1∼3개의 알킬렌기, 또는 상기 알킬렌기로부터 도출되는 에스테르 구조를 나타내고, R5 및 R6은 각각 독립적으로 수소 또는 탄소수가 1∼4개의 알킬기를 나타내고, Rf2는 플루오로알킬기를 나타내고, n은 0∼2의 정수를 나타낸다][In formulas (2) and (3), B and D each independently represent a reactive moiety, and R 4 and R 7 each independently represents an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms or an ester derived from the alkylene group Wherein R 5 and R 6 are each independently hydrogen or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, Rf 2 is a fluoroalkyl group, and n is an integer of 0 to 2 ,

B 및 D로 나타내어지는 반응성 부위로서는, 예를 들면 비닐기, 알릴기, 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 아크릴로일옥시기, 메타크릴로일옥시기, 에폭시기, 카르복실기, 수산기 등을 들 수 있다.Examples of the reactive moiety represented by B and D include vinyl, allyl, acryloyl, methacryloyl, acryloyloxy, methacryloyloxy, epoxy, carboxyl and hydroxyl.

일반식(2)의 구체예로서는 아크릴옥시에틸트리메톡시실란, 아크릴옥시프로필트리메톡시실란, 아크릴옥시부틸트리메톡시실란, 아크릴옥시펜틸트리메톡시실란, 아크릴옥시헥실트리메톡시실란, 아크릴옥시헵틸트리메톡시실란, 메타크릴옥시에틸트리메톡시실란, 메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, 메타크릴옥시부틸트리메톡시실란, 메타크릴옥시헥실트리메톡시실란, 메타크릴옥시헵틸트리메톡시실란, 메타크릴옥시프로필메틸디메톡시실란, 메타크릴옥시프로필메틸디메톡시실란 및 이들 화합물 중 메톡시기가 다른 알콕실기 또는 수산기로 치환된 화합물을 포함하는 것 등을 들 수 있다.Specific examples of the general formula (2) include acryloxyethyltrimethoxysilane, acryloxypropyltrimethoxysilane, acryloxybutyltrimethoxysilane, acryloxypentyltrimethoxysilane, acryloxyhexyltrimethoxysilane, acryloxy Methacryloxypropyltrimethoxysilane, heptyltrimethoxysilane, methacryloxyethyltrimethoxysilane, methacryloxypropyltrimethoxysilane, methacryloxybutyltrimethoxysilane, methacryloxyhexyltrimethoxysilane, methacryloxyheptyltrimethoxysilane , Methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, and compounds containing a compound in which an alkoxyl group or a hydroxyl group is substituted with methoxy group among these compounds.

일반식(3)의 구체예로서는 2,2,2-트리플루오로에틸아크릴레이트, 2,2,3,3,3-펜타플루오로프로필아크릴레이트, 2-퍼플루오로부틸에틸아크릴레이트, 3-퍼플루오로부틸-2-히드록시프로필아크릴레이트, 2-퍼플루오로헥실에틸아크릴레이트, 3-퍼플루오로헥실-2-히드록시프로필아크릴레이트, 퍼플루오로옥틸메틸아크릴레이트, 2-퍼플루오로옥틸에틸아크릴레이트, 3-퍼플루오로옥틸-2-히드록시프로필아크릴레이트, 2-퍼플루오로데실에틸아크릴레이트, 2-퍼플루오로-3-메틸부틸에틸아크릴레이트, 3-퍼플루오로-3-메톡시부틸-2-히드록시프로필아크릴레이트, 2-퍼플루오로-5-메틸헥실에틸아크릴레이트, 3-퍼플루오로-5-메틸헥실-2-히드록시프로필아크릴레이트, 2-퍼플루오로-7-메틸옥틸-2-히드록시프로필아크릴레이트, 테트라플루오로프로필아크릴레이트, 옥타플루오로펜틸아크릴레이트, 도데카플루오로헵틸아크릴레이트, 헥사데카플루오로노닐아크릴레이트, 헥사플루오로부틸아크릴레이트, 2,2,2-트리플루오로에틸메타크릴레이트, 2,2,3,3,3-펜타플루오로프로필메타크릴레이트, 2-퍼플루오로부틸에틸메타크릴레이트, 3-퍼플루오로부틸-2-히드록시프로필메타크릴레이트, 퍼플루오로옥틸메틸메타크릴레이트, 2-퍼플루오로옥틸에틸메타크릴레이트, 3-퍼플루오로옥틸-2-히드록시프로필메타크릴레이트, 2-퍼플루오로데실에틸메타크릴레이트, 2-퍼플루오로-3-메틸부틸에틸메타크릴레이트, 3-퍼플루오로-3-메틸부틸-2-히드록시프로필메타크릴레이트, 2-퍼플루오로-5-메틸헥실에틸메타크릴레이트, 3-퍼플루오로-5-메틸헥실-2-히드록시프로필메타크릴레이트, 2-퍼플루오로-7-메틸옥틸에틸메타크릴레이트, 3-퍼플루오로-7-메틸옥틸에틸메타크릴레이트, 테트라플루오로프로필메타크릴레이트, 옥타플루오로펜틸메타크릴레이트, 옥타플루오로펜틸메타크릴레이트, 도데카플루오로헵틸메타크릴레이트, 헥사데카플루오로노닐메타크릴레이트, 1-트리플루오로메틸트리플루오로에틸메타크릴레이트, 헥사플루오로부틸메타크릴레이트 등을 들 수 있다.Specific examples of the general formula (3) include 2,2,2-trifluoroethyl acrylate, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl acrylate, 2-perfluorobutyl ethyl acrylate, 3- 2-hydroxypropyl acrylate, 2-perfluorohexyl ethyl acrylate, 3-perfluorohexyl-2-hydroxypropyl acrylate, perfluorooctyl methyl acrylate, 2- Perfluorooctyl-2-hydroxypropyl acrylate, 2-perfluoro decyl ethyl acrylate, 2-perfluoro-3-methyl butyl ethyl acrylate, 3-perfluoro 2-hydroxypropyl acrylate, 2-perfluoro-5-methylhexyl ethyl acrylate, 3-perfluoro-5-methylhexyl- Perfluoro-7-methyloctyl-2-hydroxypropyl acrylate, tetrafluoropropyl acrylate, octafluoro Pentyl acrylate, dodecafluoroheptyl acrylate, hexadecafluorononyl acrylate, hexafluorobutyl acrylate, 2,2,2-trifluoroethyl methacrylate, 2,2,3,3,3 Perfluorobutyl methyl methacrylate, 3-perfluorobutyl-2-hydroxypropyl methacrylate, perfluorooctyl methyl methacrylate, 2-perfluoro Perfluorohexyl methacrylate, 3-perfluorooctyl-2-hydroxypropyl methacrylate, 2-perfluorodecylethyl methacrylate, 2-perfluoro-3- Perfluoro-3-methylbutyl-2-hydroxypropyl methacrylate, 2-perfluoro-5-methylhexylethyl methacrylate, 3-perfluoro-5-methylhexyl- 2-perfluoro-7-methyloctylethyl methacrylate, 3-perfluoro-7-methyloctyl Ethyl methacrylate, tetrafluoropropyl methacrylate, octafluoropentyl methacrylate, octafluoropentyl methacrylate, dodecafluoroheptyl methacrylate, hexadecafluorononyl methacrylate, 1-tri Fluoromethyltrifluoroethyl methacrylate, hexafluorobutyl methacrylate, and the like.

상술한 입자 표면에 소수화 처리를 실시하기 위한 소수성 화합물로서는, 예를 들면 분자 중에 소수기와 반응성 부위를 갖는 화합물을 들 수 있다. 소수성 화합물의 소수기는 일반적으로 소수적인 기능을 갖으면 특별히 한정되지 않지만, 소수기의 구체예로서는, 예를 들면 탄소수 4개 이상의 플루오로알킬기, 탄소수 8개 이상의 탄화수소기, 및 실록산기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1개의 관능기가 예시된다.Examples of the hydrophobic compound for carrying out the hydrophobic treatment on the above-mentioned particle surface include a compound having a hydrophobic group and a reactive site in the molecule. The hydrophobic group of the hydrophobic compound is not particularly limited as long as it has a hydrophobic function. Specific examples of the hydrophobic group include at least a fluoroalkyl group having at least 4 carbon atoms, a hydrocarbon group having at least 8 carbon atoms, and a siloxane group One functional group is exemplified.

상기 반응성 부위로서는 광 또는 열 등의 에너지를 받아서 발생한 라디칼 등에 의해 화학 반응하는 부위이고, 구체예로서는 비닐기, 알릴기, 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 아크릴로일옥시기, 메타크릴로일옥시기, 에폭시기, 카르복실기, 수산기 등의 광 또는 열 등의 에너지를 받아서 화학 반응하는 반응성 부위를 갖는 것이 보다 바람직하다.The reactive site is a site chemically reacted with radicals generated by energy such as light or heat. Specific examples thereof include a vinyl group, an allyl group, an acryloyl group, a methacryloyl group, an acryloyloxy group, a methacryloyloxy group, More preferably a reactive site that undergoes chemical reaction by receiving energy such as light or heat such as an epoxy group, a carboxyl group or a hydroxyl group.

즉, 입자 표면에 소수화 처리를 실시하기 위한 소수성 화합물로서는 탄소수 4개 이상의 플루오로알킬기와 반응성 부위를 갖는 화합물(불소 화합물), 탄소수 8개 이상의 탄화수소기와 반응성 부위를 갖는 화합물(장쇄 탄화수소 화합물), 및 실록산기와 반응성 부위를 갖는 화합물(실리콘 화합물)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 사용하는 것이 바람직하다.That is, as the hydrophobic compound for carrying out the hydrophobic treatment on the particle surface, a compound (fluorine compound) having a fluoroalkyl group having 4 or more carbon atoms and a reactive site, a compound having a reactive site with a carbon number of 8 or more (long chain hydrocarbon compound) It is preferable to use at least one member selected from the group consisting of a siloxane group and a compound having a reactive site (silicone compound).

장쇄 탄화수소 화합물은 분자 중에 소수기인 탄소수 8개 이상의 탄화수소기와 반응성 부위를 갖는 화합물을 나타낸다. 탄소수 8개 이상의 탄화수소기는 탄소수가 8개 이상 30개 이하인 것이 바람직하다. 또한, 탄소수 8개 이상의 탄화수소기는 직쇄 구조, 분기 구조, 지환 구조를 상관없이 선택할 수 있다. 장쇄 탄화수소 화합물로서 보다 바람직하게는 탄소수 10개 이상 22개 이하의 직쇄상의 알킬알콜, 알킬에폭시드, 알킬아크릴레이트, 알킬메타크릴레이트, 알킬카르복실레이트(산무수물 및 에스테르류를 포함) 등을 사용할 수 있다.The long-chain hydrocarbon compound represents a compound having a hydrocarbon group and a reactive site having at least 8 carbon atoms, which is a hydrophobic group in the molecule. The hydrocarbon group having 8 or more carbon atoms preferably has 8 or more and 30 or less carbon atoms. The hydrocarbon group having 8 or more carbon atoms may be selected without regard to a straight chain structure, a branched structure and an alicyclic structure. More preferably, the long-chain hydrocarbon compound is a linear alkyl alcohol, alkyl epoxide, alkyl acrylate, alkyl methacrylate, alkyl carboxylate (including acid anhydrides and esters) having 10 to 22 carbon atoms Can be used.

장쇄 탄화수소 화합물의 구체예로서는 옥탄올, 헥산디올, 헵탄디올, 옥탄디올, 스테아릴알콜 등의 다가 알콜, 옥틸아크릴레이트, 옥틸메타크릴레이트, 2-히드록시옥틸아크릴레이트, 2-히드록시옥틸메타크릴레이트 등의 아크릴레이트(메타크릴레이트), 옥틸트리메톡시실란 등의 아크릴실란 등을 들 수 있다.Specific examples of the long chain hydrocarbon compound include polyhydric alcohols such as octanol, hexanediol, heptanediol, octanediol, and stearyl alcohol, octyl acrylate, octyl methacrylate, 2-hydroxyoctyl methacrylate, Acrylate such as acrylate (methacrylate) and octyltrimethoxysilane, and the like.

실리콘 화합물로서는 분자 중에 소수기인 실록산기와 반응성 부위를 갖는 화합물을 들 수 있다. 실리콘 화합물의 반응성 부위는 아크릴로일옥시기나 메타크릴로일옥시기가 바람직하게 사용된다.As the silicone compound, a compound having a siloxane group and a reactive site, which are hydrophobic groups in the molecule, can be mentioned. The reactive site of the silicone compound is preferably an acryloyloxy group or a methacryloyloxy group.

또한, 실록산기로서는 하기 일반식(4)으로 나타내어지는 폴리실록산기가 바람직하게 사용된다.As the siloxane group, a polysiloxane group represented by the following general formula (4) is preferably used.

-(Si(R8)(R9)-O)m-····일반식(4)- (Si (R 8 ) (R 9 ) -O) m - ????? (4)

[일반식(4)에 있어서, R8 및 R9는 각각 독립적으로 탄소수 1∼6개의 알킬기, 페닐기, 3-아크릴옥시-2-히드록시프로필-옥시프로필기, 2-아크릴옥시-3-히드록시프로필-옥시프로필기, 말단에 아크릴로일옥시기나 메타크릴로일옥시기를 갖는 폴리에틸렌글리콜프로필에테르기, 또는 말단 히드록시기를 갖는 폴리에틸렌글리콜프로필에테르기를 나타내고, m은 10∼200의 정수를 나타낸다][In the formula (4), R 8 and R 9 each independently represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a phenyl group, a 3-acryloxy-2-hydroxypropyl-oxypropyl group, a 2-acryloxy- A polyethylene glycol propyl ether group having an acryloyloxy group or a methacryloyloxy group at the terminal, or a polyethylene glycol propyl ether group having a terminal hydroxy group, and m represents an integer of 10 to 200,

소수기로서 일반식(4)으로 나타내어지는 폴리실록산기를 갖는 실리콘 화합물의 구체예는 하기 일반식(5)으로 나타내어지는 디메틸실록산기와, 또한 반응성 부위를 갖는 화합물을 들 수 있다. 일반식(5)의 디메틸 실록산기와, 또한 반응성 부위를 갖는 실리콘 화합물의 구체예로서 X-22-164B, X-22-164C, X-22-5002, X-22-174D, X-22-167B(이상 상품명, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 제작) 등을 들 수 있다.Specific examples of the silicone compound having a polysiloxane group represented by the general formula (4) as a hydrophobic group include a compound having a dimethylsiloxane group represented by the following general formula (5) and a reactive site. Specific examples of the silicone compound having a dimethylsiloxane group and a reactive site of the general formula (5) and X-22-164B, X-22-164C, X-22-5002, X-22-174D, X-22-167B (All trade names, produced by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.).

Figure pct00001
Figure pct00001

····일반식(5)... (5)

[식 중, R은 탄소수 1개 이상 7개 이하의 알킬을 나타내고, k는 0 또는 1의 정수를 나타내고, m은 10∼200의 정수를 나타낸다]Wherein R represents alkyl having 1 to 7 carbon atoms, k represents an integer of 0 or 1, and m represents an integer of 10 to 200,

또한, 소수기로서 일반식(4)으로 나타내어지는 폴리실록산기와 반응성 부위를 갖는 실리콘 화합물의 다른 구체예는 일반식(6)으로 나타내어지는 3-아크릴옥시-2-히드록시프로필-옥시프로필기와 메틸기를 갖는 화합물, 일반식(7)으로 나타내어지는 2-아크릴옥시-3-히드록시프로필-옥시프로필기와 메틸기를 갖는 화합물을 예시할 수 있다.Another example of the silicone compound having a polysiloxane group and a reactive site represented by the general formula (4) as a hydrophobic group is a 3-acryloxy-2-hydroxypropyl-oxypropyl group represented by the general formula (6) A compound having a methyl group and a 2-acryloxy-3-hydroxypropyl-oxypropyl group represented by the general formula (7).

Figure pct00002
Figure pct00002

····일반식(6)(6)

Figure pct00003
Figure pct00003

····일반식(7)... (7)

[일반식(6) 및 (7)에 있어서, R은 탄소수 1개 이상 7개 이하의 알킬을 나타내고, k는 0 또는 1의 정수를 나타내고, m은 10∼200 중 어느 하나의 정수를 나타낸다]Wherein R represents an alkyl of 1 to 7 carbon atoms, k represents an integer of 0 or 1, and m represents any integer of 10 to 200). [In the general formulas (6) and (7)

또한, 소수기로서 일반식(4)으로 나타내어지는 폴리실록산기와 반응성 부위를 갖는 실리콘 화합물의 다른 구체예는 일반식(8)으로 나타내어지는 말단에 아크릴로일옥시기나 메타크릴로일옥시기를 갖는 폴리에틸렌글리콜프로필에테르기와 메틸기를 갖는 화합물, 일반식(9)으로 나타내어지는 말단에 히드록시기를 갖는 폴리에틸렌글리콜프로필에테르기와 메틸기를 갖는 화합물을 예시할 수 있다.Another example of the silicone compound having a reactive site with the polysiloxane group represented by the general formula (4) as a hydrophobic group is a polyethylene glycol propyl ester having an acryloyloxy group or a methacryloyloxy group at the end represented by the general formula (8) A compound having an ether group and a methyl group, and a compound having a methyl group and a polyethylene glycol propyl ether group having a hydroxy group at the terminal represented by the general formula (9).

Figure pct00004
Figure pct00004

····일반식(8)... (8)

Figure pct00005
Figure pct00005

····일반식(9)... (9)

[일반식(8) 및 (9)에 있어서, R은 탄소수 1개 이상 7개 이하의 알킬을 나타내고, k는 0 또는 1의 정수를 나타내고, x는 1∼10의 정수를 나타내고, m은 10∼200의 정수를 나타낸다]Wherein R represents an alkyl having 1 to 7 carbon atoms, k represents an integer of 0 or 1, x represents an integer of 1 to 10, and m represents an integer of from 10 to 10 (in the general formulas (8) and (9) ≪ / RTI >

탄소수 4개 이상의 플루오로알킬기와 반응성 부위를 갖는 불소 화합물에 관하여 설명한다. 여기서, 플루오로알킬기는 직쇄 구조 또는 분기 구조 중 어느 것이어도 좋다. 또한, 플루오로알킬기로서는 탄소수 4개 이상 8개 이하인 것이 바람직하다. 이러한 불소 화합물로서는 플루오로알킬알콜, 플루오로알킬에폭시드, 플루오로알킬할라이드, 플루오로알킬아크릴레이트, 플루오로알킬메타크릴레이트, 플루오로알킬카르복실레이트(산무수물 및 에스테르류를 포함) 등을 사용할 수 있다. 이들 중에서도, 플루오로알킬아크릴레이트, 플루오로알킬메타크릴레이트가 바람직하고, 예를 들면 상술의 일반식(3)으로 예시된 화합물 중에서 탄소수 4개 이상의 플루오로알킬기를 갖는 화합물을 사용할 수 있다.A fluoroalkyl group having at least four carbon atoms and a fluorine compound having a reactive site will be described. Here, the fluoroalkyl group may be either a straight-chain structure or a branched structure. The fluoroalkyl group preferably has 4 or more and 8 or less carbon atoms. Examples of such fluorine compounds include fluoroalkyl alcohols, fluoroalkyl epoxides, fluoroalkyl halides, fluoroalkyl acrylates, fluoroalkyl methacrylates, fluoroalkyl carboxylates (including acid anhydrides and esters) Can be used. Among these, fluoroalkyl acrylates and fluoroalkyl methacrylates are preferable, and among the compounds exemplified by the above-mentioned general formula (3), compounds having fluoroalkyl groups having 4 or more carbon atoms can be used.

불소 화합물 중의 플루오로알킬기의 수는 반드시 하나일 필요는 없고, 불소 화합물은 복수의 플루오로알킬기를 가져도 좋다.The number of fluoroalkyl groups in the fluorine compound is not necessarily one, and the fluorine compound may have plural fluoroalkyl groups.

제 1 하드 코트층은 하드 코트 필름 표면에 상처가 발생하는 것을 억제하기 위해서 경도가 높은 것이 바람직하고, JIS K5600-5-4(1999년)에서 정의되는 연필경도가 H 이상인 것이 바람직하다. 또한, 연필경도의 상한은 9H 정도이다.The first hard coat layer preferably has a high hardness in order to inhibit the occurrence of scratches on the surface of the hard coat film, and preferably has a pencil hardness of at least H defined in JIS K5600-5-4 (1999). The upper limit of pencil hardness is about 9H.

제 1 하드 코트층은 수지로서 열경화성 수지 또는 활성 에너지선 경화성 수지를 포함하는 것이 바람직하고, 특히 활성 에너지선 경화성 수지를 포함하는 것이 바람직하다. 여기서, 활성 에너지선 경화성 수지란 자외선이나 전자선 등의 활성 에너지선에 의해 중합되어 경화하는 수지를 의미한다.The first hard coat layer preferably comprises a thermosetting resin or an active energy ray-curable resin as the resin, and particularly preferably contains an active energy ray-curable resin. Herein, the active energy ray-curable resin means a resin which is polymerized and cured by an active energy ray such as ultraviolet ray or electron ray.

활성 에너지선 경화성 수지를 얻기 위한 중합성 화합물로서는 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 아크릴로일옥시기, 메타크릴로일옥시기, 비닐기, 알릴기 등의 중합성 관능기를 갖는 화합물(모노머나 올리고머)을 들 수 있다.Examples of the polymerizable compound for obtaining an active energy ray-curable resin include a compound (monomer or oligomer) having a polymerizable functional group such as an acryloyl group, a methacryloyl group, an acryloyloxy group, a methacryloyloxy group, a vinyl group, .

제 1 하드 코트층은 상기 중합성 화합물을 함유하는 활성 에너지선 경화성 조성물을 웨트 코팅법에 의해 도포하고, 필요에 따라서 건조한 후 활성 에너지선을 조사하여 경화함으로써 형성된 것이 바람직하다.The first hard coat layer is preferably formed by coating the active energy ray-curable composition containing the polymerizable compound by a wet coating method, drying it if necessary, and irradiating it with an active energy ray to cure it.

이하에, 중합성 화합물(모노머나 올리고머)을 예시하지만, 이들 화합물로 한정되지 않는다. 또한, 이하의 설명에 있어서, 「···(메타)아크릴레이트」로 된 표현은 「···아크릴레이트」와 「···메타크릴레이트」의 2개의 화합물을 포함한다.Polymerizable compounds (monomers and oligomers) are exemplified below, but are not limited to these compounds. In the following description, the expression "(meth) acrylate" includes two compounds of "... acrylate" and "... methacrylate".

모노머로서는, 예를 들면 메틸(메타)아크릴레이트, 라우릴(메타)아크릴레이트, 에톡시디에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 메톡시트리에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트, 페녹시에틸(메타)아크릴레이트, 테트라히드로푸르푸릴(메타)아크릴레이트, 이소보르닐(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 2-히드록시-3-페녹시(메타)아크릴레이트 등의 단관능 아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트, 트리펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 트리펜타에리스리톨헥사(메타)트리아크릴레이트, 트리메틸올프로판(메타)아크릴산 벤조산 에스테르, 트리메틸올프로판 벤조산 에스테르 등의 다관능 아크릴레이트, 글리세린 디(메타)아크릴레이트 헥사메틸렌디이소시아네이트, 펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트 헥사메틸렌디이소시아네이트 등의 우레탄 아크릴레이트 등을 들 수 있다.Examples of the monomer include monomers such as methyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, ethoxydiethylene glycol (meth) acrylate, methoxy triethylene glycol (meth) acrylate, (Meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (Meth) acrylate such as neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (Meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (Meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, tripentaerythritol tri (meth) acrylate, tripentaerythritol hexa (meta) triacrylate, trimethylol propane (meth) acrylic acid benzoic acid ester, trimethylolpropane benzoic acid ester And urethane acrylates such as glycidyl (meth) acrylate hexamethylene diisocyanate, pentaerythritol tri (meth) acrylate hexamethylene diisocyanate, and the like.

상기한 모노머 중에서도, 1분자 중에 중합성 관능기를 3개 이상 갖는 다관능 모노머가 바람직하게 사용된다.Among the above-mentioned monomers, a multifunctional monomer having three or more polymerizable functional groups in one molecule is preferably used.

올리고머로서는, 예를 들면 폴리에스테르 (메타)아크릴레이트, 폴리우레탄 (메타)아크릴레이트, 에폭시 (메타)아크릴레이트, 폴리에테르 (메타)아크릴레이트, 알키드 (메타)아크릴레이트, 멜라민 (메타)아크릴레이트, 실리콘 (메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.Examples of the oligomer include polyester (meth) acrylate, polyurethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, polyether (meth) acrylate, alkyd , And silicone (meth) acrylate.

상기 올리고머 중에서도, 1분자 중에 중합성 관능기를 3개 이상 갖는 다관능의 우레탄 (메타)아크릴레이트 올리고머가 바람직하게 사용된다. 이러한 다관능의 우레탄 (메타)아크릴레이트 올리고머는 시판되어 있는 것을 사용할 수 있다. 예를 들면, Kyoeisha Chemical Co., Ltd. 제작의 우레탄 아크릴레이트 AH 시리즈, 우레탄 아크릴레이트 AT 시리즈, 우레탄 아크릴레이트 UA 시리즈, Negami Chemical Industrial Co., Ltd. 제작의 UN-3320 시리즈, UN-900 시리즈, Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. 제작의 NK 올리고 U 시리즈, Daicel·Huls Ltd. 제작의 Ebecryl1290 시리즈 등을 들 수 있다.Among these oligomers, polyfunctional urethane (meth) acrylate oligomers having three or more polymerizable functional groups in one molecule are preferably used. Such polyfunctional urethane (meth) acrylate oligomer may be commercially available. For example, Kyoeisha Chemical Co., Ltd. Urethane acrylate AH series, Urethane acrylate AT series, Urethane acrylate UA series, Negami Chemical Industrial Co., Ltd. UN-3320 series, UN-900 series, Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. Manufactured by NK Oligo U series, Daicel · Huls Ltd. And the Ebecryl 1290 series manufactured by Toshiba Corporation.

활성 에너지선 경화성 조성물에 있어서의 중합성 화합물의 함유량은 활성 에너지선 경화성 조성물의 고형분 총량 100질량%에 대하여 50질량% 이상인 것이 바람직하고, 55질량% 이상인 것이 보다 바람직하고, 60질량% 이상인 것이 더욱 바람직하고, 70질량% 이상인 것이 특히 바람직하다. 상한은 97질량% 이하 바람직하고, 95질량% 이하가 보다 바람직하다.The content of the polymerizable compound in the active energy ray-curable composition is preferably 50% by mass or more, more preferably 55% by mass or more, and more preferably 60% by mass or more based on 100% by mass of the total solid content of the active energy ray- , And particularly preferably 70 mass% or more. The upper limit is preferably 97 mass% or less, more preferably 95 mass% or less.

활성 에너지선으로서 자외선을 사용하는 경우에는 활성 에너지선 경화성 조성물은 광중합개시제를 포함하는 것이 바람직하다. 이러한 광중합개시제의 구체예로서는, 예를 들면 아세토페논, 2,2-디에톡시아세토페논, p-디메틸아세토페논, p-디메틸아미노프로피오페논, 벤조페논, 2-클로로벤조페논, 4,4'-디클로로벤조페논, 4,4'-비스디에틸아미노벤조페논, 미힐러케톤, 벤질, 벤조인, 벤조인 메틸에테르, 벤조인 에틸에테르, 벤조인 이소프로필에테르, 메틸벤조일포르메이트, p-이소프로필-α-히드록시이소부틸페논, α-히드록시이소부틸페논, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤 등의 카르보닐 화합물, 테트라메틸티오람모노술피드, 테트라메틸티오람디술피드, 티오크산톤, 2-클로로티오크산톤, 2-메틸티오크산톤 등의 황 화합물 등을 사용할 수 있다. 이들 광중합개시제는 단독으로 사용해도 좋고, 2종 이상 조합시켜 사용해도 좋다.When ultraviolet rays are used as an active energy ray, the active energy ray curable composition preferably contains a photopolymerization initiator. Specific examples of such photopolymerization initiators include, for example, acetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, p-dimethylaminopropiophenone, benzophenone, 2-chlorobenzophenone, Benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, methyl benzoyl formate, p-isopropyl myristate, methyl isobutyl ketone, methyl isobutyl ketone, carbonyl compounds such as? -hydroxyisobutylphenone,? -hydroxyisobutylphenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone and 1-hydroxycyclohexylphenylketone, And sulfur compounds such as tetramethylthiomal disulfide, thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, and 2-methylthioxanthone. These photopolymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.

또한, 광중합개시제는 일반적으로 시판되고 있고, 그들을 사용할 수 있다. 예를 들면, Ciba·Specialty·Chemicals 제작의 Irgacure(등록상표) 184, Irgacure 907, Irgacure 379, Irgacure 819, Irgacure 127, Irgacure 500, Irgacure 754, Irgacure 250, Irgacure 1800, Irgacure 1870, Irgacure OXE01, DAROCUR TPO, DAROCUR 1173 등, Nihon SiberHegner K.K. 제작의 Speedcure MBB, Speedcure PBZ, Speedcure ITX, Speedcure CTX, Speedcure EDB, Esacure ONE, Esacure KIP150, Esacure KTO46 등, Nippon Kayaku Co., Ltd. 제작의 KAYACURE DETX-S, KAYACURE CTX, KAYACURE BMS, KAYACURE DMBI 등을 들 수 있다.In addition, photopolymerization initiators are generally commercially available, and they can be used. For example, Irgacure (registered trademark) 184, Irgacure 907, Irgacure 379, Irgacure 819, Irgacure 127, Irgacure 500, Irgacure 754, Irgacure 250, Irgacure 1800, Irgacure OXE01, DAROCUR TPO , DAROCUR 1173, etc., Nihon SiberHegner KK Speedcure MBB, Speedcure PBZ, Speedcure ITX, Speedcure CTX, Speedcure EDB, Esacure ONE, Esacure KIP150, Esacure KTO46, etc., Nippon Kayaku Co., Ltd. KAYACURE DETX-S, KAYACURE CTX, KAYACURE BMS, KAYACURE DMBI and so on.

상기 광중합개시제의 함유량의 범위는 활성 에너지선 경화성 조성물의 고형분 총량 100질량%에 대하여 0.1∼10질량%의 범위가 적당하고, 0.5∼8질량%의 범위가 바람직하다.The content of the photopolymerization initiator is suitably in the range of 0.1 to 10 mass%, preferably in the range of 0.5 to 8 mass%, based on 100 mass% of the total solid content of the active energy ray curable composition.

활성 에너지선 경화성 조성물은 각종첨가제, 예를 들면 산화방지제, 자외선흡수제, 레벨링제, 입자분산제, 유기계 대전방지제, 활제, 착색제, 안료 등을 더 함유할 수 있다.The active energy ray curable composition may further contain various additives such as antioxidants, ultraviolet absorbers, leveling agents, particle dispersants, organic antistatic agents, lubricants, colorants, pigments and the like.

활성 에너지선 경화성 조성물은 제 1 하드 코트층 표면에 돌기를 형성하기 위한 입자를 함유한다. 이러한 입자로서는 상술한 표면 처리 또는 소수화 처리가 실시된 입자가 바람직하게 사용된다. 활성 에너지선 경화성 조성물에 있어서의 입자의 함유량의 범위는 활성 에너지선 경화성 조성물의 고형분 총량 100질량%에 대하여 2.5∼17질량%의 범위가 바람직하고, 3∼15질량%의 범위가 보다 바람직하고, 특히 4∼12질량%의 범위가 바람직하다.The active energy ray curable composition contains particles for forming projections on the surface of the first hard coat layer. As such particles, particles subjected to the surface treatment or hydrophobic treatment described above are preferably used. The content of the particles in the active energy ray-curable composition is preferably in the range of 2.5 to 17 mass%, more preferably in the range of 3 to 15 mass% with respect to 100 mass% of the total solid content of the active energy ray curable composition, Particularly preferably from 4 to 12 mass%.

제 1 하드 코트층의 굴절률의 범위는 1.48∼1.54의 범위인 것이 바람직하고, 1.50∼1.54의 범위가 보다 바람직하다. 상기한 활성 에너지선 경화성 조성물을 웨트 코팅법에 의해 도포하고, 필요에 따라서 건조한 후 활성 에너지선을 조사하여 경화함으로써 제 1 하드 코트층을 형성함으로써, 굴절률이 1.48∼1.54의 범위인 제 1 하드 코트층을 얻을 수 있다.The refractive index of the first hard coat layer is preferably in the range of 1.48 to 1.54, more preferably in the range of 1.50 to 1.54. The above active energy ray curable composition is applied by a wet coating method, dried if necessary, and then irradiated with active energy rays to be cured to form a first hard coat layer, whereby a first hard coat layer having a refractive index of 1.48 to 1.54 Layer can be obtained.

제 1 하드 코트층의 두께의 범위는 0.5㎛ 이상 10㎛ 미만의 범위가 적당하지만, 0.8㎛ 이상 7㎛ 이하의 범위가 바람직하고, 1㎛ 이상 5㎛ 이하의 범위가 보다 바람직하고, 특히 1㎛ 이상 3㎛ 이하가 바람직하다.The range of the thickness of the first hard coat layer is suitably in the range of 0.5 탆 to less than 10 탆, but is preferably in the range of 0.8 탆 to 7 탆, more preferably in the range of 1 탆 to 5 탆, Or more and 3 mu m or less.

제 1 하드 코트층의 두께를 0.5㎛ 미만으로 하면 제 1 하드 코트층의 경도가 저하하고 상처가 들어가기 쉬워진다. 또한, 제 1 하드 코트층의 두께를 10㎛ 이상으로 하면, 슬라이딩성이나 내블로킹성이 저하하거나 컬이 커지거나 투과율이 저하하는 등의 문제가 생기는 경우가 있다.When the thickness of the first hard coat layer is less than 0.5 탆, the hardness of the first hard coat layer is lowered and the scratches are likely to enter. If the thickness of the first hard coat layer is 10 占 퐉 or more, the sliding property and anti-blocking property may deteriorate, the curl may increase, and the transmittance may decrease.

[하드 코트 필름][Hard Coat Film]

하드 코트 필름은 기재 필름의 적어도 일방의 면에 제 1 하드 코트층을 갖는다. 하드 코트 필름은 기재 필름의 편면에만 제 1 하드 코트층을 갖고 있어도 좋고, 기재 필름의 양면에 제 1 하드 코트층을 갖고 있어도 좋다.The hard coat film has a first hard coat layer on at least one side of the base film. The hard coat film may have the first hard coat layer only on one side of the base film or may have the first hard coat layer on both sides of the base film.

또한, 하드 코트 필름의 다른 바람직한 실시형태로서 기재 필름의 일방의 면에 제 1 하드 코트층을 갖고, 기재 필름의 타방의 면에(즉, 기재 필름의 제 1 하드 코트층이 설치된 면과는 반대면에) 제 2 하드 코트층을 갖는 하드 코트 필름을 들 수 있다.In another preferred embodiment of the hard coat film, the first hard coat layer is provided on one surface of the base film, and the second hard coat layer is provided on the other surface of the base film A hard coat film having a second hard coat layer may be mentioned.

또한, 기재 필름의 타방의 면에 적층되는 제 2 하드 코트층이 기재 필름의 일방의 면에 적층되는 제 1 하드 코트층과 완전히 동일한 구성을 채용하는 경우(즉, 기재 필름의 양면에 제 1 하드 코트층을 각각 적층하는 경우)에도, 일방의 면의 제 1 하드 코트층과 구별하기 위해서 제 2 하드 코트층이라고 하는 경우가 있다.When the second hard coat layer laminated on the other surface of the base film is completely identical to the first hard coat layer laminated on one surface of the base film (that is, The case where the first hard coat layer is laminated on the first hard coat layer) may be referred to as a second hard coat layer in order to distinguish it from the first hard coat layer on one side.

[제 2 하드 코트층][Second hard coat layer]

이하, 기재 필름의 타방의 면에 설치되는 제 2 하드 코트층에 관하여 설명한다.Hereinafter, the second hard coat layer provided on the other surface of the base film will be described.

제 2 하드 코트층은 하드 코트 필름 표면에 상처가 발생하는 것을 억제하기 위해서 경도가 높은 것이 바람직하고, JIS K5600-5-4(1999년)에서 정의되는 연필경도가 H 이상인 것이 바람직하고, 2H 이상이 보다 바람직하다. 또한, 연필경도의 상한은 9H 정도이다.The second hard coat layer preferably has a high hardness in order to inhibit the occurrence of scratches on the surface of the hard coat film. The pencil hardness defined by JIS K5600-5-4 (1999) is preferably at least H, more preferably at least 2H Is more preferable. The upper limit of pencil hardness is about 9H.

제 2 하드 코트층의 표면은 비교적 평활하고 클리어언 것이 바람직하다. 예를 들면, 제 2 하드 코트층의 표면의 중심선 평균 조도(Ra2)는 25nm 이하가 바람직하고, 20nm 이하가 보다 바람직하고, 특히 15nm 이하가 바람직하다. 하한은 특별히 한정되지 않지만, 현실적으로는 1nm 정도이다.The surface of the second hard coat layer is preferably relatively smooth and clear. For example, the center line average roughness Ra2 of the surface of the second hard coat layer is preferably 25 nm or less, more preferably 20 nm or less, particularly preferably 15 nm or less. The lower limit is not particularly limited, but is practically about 1 nm.

제 2 하드 코트층은 제 2 하드 코트층 표면의 중심선 평균 조도(Ra2)를 25nm 이하로 하기 위해서, 제 2 하드 코트층은 평균 입자지름이 0.5㎛ 보다 큰 입자를 실질적으로 함유하지 않는 것이 바람직하다. 여기서, 제 2 하드 코트층이 평균 입자지름이 0.5㎛보다 큰 입자를 실질적으로 함유하지 않으면은 제 2 하드 코트층을 형성하기 위한 도포액(예를 들면, 활성 에너지선 경화성 조성물)에 평균 입자지름이 0.5㎛보다 큰 입자를 의도적으로 첨가하지 않는 것을 의미한다.The second hard coat layer preferably contains substantially no particles having an average particle diameter larger than 0.5 탆 in order to make the center line average roughness Ra2 of the surface of the second hard coat layer 25 nm or less . If the second hard coat layer does not substantially contain particles having an average particle diameter larger than 0.5 탆, a coating liquid (for example, an active energy ray curable composition) for forming the second hard coat layer has a mean particle diameter Means that particles larger than 0.5 mu m are not intentionally added.

제 2 하드 코트층의 표면은 비교적 평활하고 클리어인 것이 바람직하다. 따라서, 제 2 하드 코트층의 표면에는 입자에 의한 돌기는 실질적으로 존재하지 않는 것이 바람직하다. 여기서, 제 2 하드 코트층의 표면에 입자에 의한 돌기는 실질적으로 존재하지 않으면은 제 2 하드 코트층 표면의 단위면적(100㎛2)당 돌기의 개수가 100개 이하인 것을 의미한다. 바람직하게는, 제 2 하드 코트층 표면의 단위면적(100㎛2)당 돌기의 개수는 50개 이하이고, 보다 바람직하게는 30개 이하이고, 특히 0개가 바람직하다.The surface of the second hard coat layer is preferably relatively smooth and clear. Therefore, it is preferable that the surface of the second hard coat layer is substantially free of protrusions due to particles. Here, when the protrusions due to particles are not substantially present on the surface of the second hard coat layer, it means that the number of protrusions per unit area (100 탆 2 ) of the surface of the second hard coat layer is 100 or less. Preferably, the number of projections per unit area (100 탆 2 ) of the surface of the second hard coat layer is 50 or less, more preferably 30 or less, particularly preferably 0 or less.

제 2 하드 코트층은 평균 입자지름이 0.5㎛ 이하인 입자를 함유할 수 있지만, 상기 관점으로부터 제 2 하드 코트층에 함유되는 입자의 평균 입자지름을 조정하는 것이 바람직하다.The second hard coat layer may contain particles having an average particle diameter of 0.5 탆 or less, but from the above viewpoint, it is preferable to adjust the average particle diameter of the particles contained in the second hard coat layer.

제 2 하드 코트층에 입자를 함유시키는 경우에는, 입자의 평균 입자지름은 0.2㎛ 이하가 바람직하고, 0.1㎛ 이하가 보다 바람직하다. 이러한 입자의 함유량의 범위는 제 2 하드 코트층의 고형분 총량 100질량%에 대하여 0.1∼15질량%의 범위가 적당하고, 0.5∼10질량%의 범위가 보다 바람직하고, 특히 1∼8질량%의 범위가 바람직하다.When particles are contained in the second hard coat layer, the average particle diameter of the particles is preferably 0.2 탆 or less, more preferably 0.1 탆 or less. The content of such particles is suitably in the range of 0.1 to 15 mass%, more preferably 0.5 to 10 mass%, particularly preferably 1 to 8 mass%, based on 100 mass% of the total solid content of the second hard coat layer Range is preferred.

제 2 하드 코트층은 수지로서 열경화성 수지 또는 활성 에너지선 경화성 수지를 포함하는 것이 바람직하고, 특히 활성 에너지선 경화성 수지를 포함하는 것이 바람직하다. 여기서, 활성 에너지선 경화성 수지란 자외선이나 전자선 등의 활성 에너지선에 의해 중합되어 경화된 수지를 의미한다.The second hard coat layer preferably comprises a thermosetting resin or an active energy ray-curable resin as the resin, particularly preferably an active energy ray-curable resin. Herein, the active energy ray-curable resin means a resin which is polymerized and cured by an active energy ray such as ultraviolet rays or electron rays.

활성 에너지선 경화성 수지를 얻기 위한 중합성 화합물로서는 상술의 제 1 하드 코트층 중에서 설명한 것과 동일한 것을 사용할 수 있다.As the polymerizable compound for obtaining the active energy ray-curable resin, the same ones as described in the first hard coat layer described above can be used.

제 2 하드 코트층은 제 1 하드 코트층과 마찬가지로, 중합성 화합물을 함유하는 활성 에너지선 경화성 조성물을 웨트 코팅법에 의해 도포하고, 필요에 따라서 건조한 후 활성 에너지선을 조사하여 경화함으로써 형성된 것이 바람직하다.The second hard coat layer is preferably formed by coating the active energy ray curable composition containing a polymerizable compound by a wet coating method, drying it if necessary, and irradiating with an active energy ray to harden the same, like the first hard coat layer Do.

제 2 하드 코트층의 굴절률의 범위는 1.48∼1.54의 범위인 것이 바람직하고, 1.50∼1.54의 범위가 보다 바람직하다. 제 2 하드 코트층을 상기한 활성 에너지선 경화성 조성물을 웨트 코팅법에 의해 도포하고, 필요에 따라서 건조한 후 활성 에너지선을 조사해서 경화하여 형성함으로써, 굴절률이 1.48∼1.54인 범위의 제 2 하드 코트층을 얻을 수 있다.The refractive index of the second hard coat layer is preferably in the range of 1.48 to 1.54, more preferably in the range of 1.50 to 1.54. The second hard coat layer is formed by applying the above active energy ray curable composition by a wet coating method, drying it if necessary, and then irradiating an active energy ray to form the second hard coat layer, thereby forming a second hard coat layer having a refractive index of 1.48 to 1.54 Layer can be obtained.

제 2 하드 코트층의 두께의 범위는 0.5㎛ 이상 10㎛ 미만의 범위가 적당하지만, 0.8㎛ 이상 7㎛ 이하의 범위가 바람직하고, 1㎛ 이상 5㎛ 이하의 범위가 보다 바람직하고, 특히 1㎛ 이상 3㎛ 이하가 바람직하다.The range of the thickness of the second hard coat layer is preferably in the range of 0.5 탆 to less than 10 탆, but is preferably in the range of 0.8 탆 to 7 탆, more preferably in the range of 1 탆 to 5 탆, Or more and 3 mu m or less.

제 2 하드 코트층의 두께를 0.5㎛ 미만으로 하면, 제 2 하드 코트층의 경도가 저하하고 상처가 들어가기 쉬워진다. 또한, 제 2 하드 코트층의 두께를 10㎛ 이상으로 하면, 슬라이딩성이나 내블로킹성이 저하하거나 컬이 커지거나 투과율이 저하하는 등의 문제가 생기는 경우가 있다.When the thickness of the second hard coat layer is less than 0.5 占 퐉, the hardness of the second hard coat layer is lowered and scratches are likely to enter. When the thickness of the second hard coat layer is 10 占 퐉 or more, the sliding property and anti-blocking property may deteriorate, the curl may become large, and the transmittance may decrease.

기재 필름과 제 2 하드 코트층의 밀착성을 강화하기 위해서, 상술의 수지층을 기재 필름과 제 2 하드 코트층 사이에 개재시키는 것이 바람직하다.It is preferable to interpose the above-mentioned resin layer between the base film and the second hard coat layer in order to enhance the adhesion between the base film and the second hard coat layer.

[투명 도전성 필름][Transparent conductive film]

본 실시형태의 하드 코트 필름은 투명 도전성 필름의 베이스 필름으로서 바람직하다. 즉, 본 실시형태의 하드 코트 필름을 베이스 필름으로서 사용한 투명 도전성 필름은 본 실시형태의 하드 코트 필름의 적어도 일방의 면에 투명 도전막이 적층된 것이다.The hard coat film of this embodiment is preferable as the base film of the transparent conductive film. That is, the transparent conductive film using the hard coat film of this embodiment as a base film is a transparent conductive film laminated on at least one surface of the hard coat film of the present embodiment.

투명 도전막은 하드 코트 필름의 어느 일방의 면에만 적층되어 있어도 좋고, 양방의 면에 적층되어 있어도 좋다.The transparent conductive film may be laminated only on one side of the hard coat film or on both sides of the hard coat film.

본 발명의 하드 코트 필름을 베이스 필름으로서 사용한 투명 도전성 필름의 구성예의 몇가지를 이하에 예시하지만, 본 발명은 이들로 한정되지 않는다.Some examples of the constitution of the transparent conductive film using the hard coat film of the present invention as a base film are illustrated below, but the present invention is not limited thereto.

i) 제 1 하드 코트층/수지층/기재 필름/수지층/제 1 하드 코트층/투명 도전막i) First hard coat layer / resin layer / base film / resin layer / first hard coat layer / transparent conductive film

ii) 투명 도전막/ 제 1 하드 코트층/수지층/기재 필름/수지층/ 제 1 하드 코트층/투명 도전막ii) Transparent conductive film / first hard coat layer / resin layer / base film / resin layer / first hard coat layer / transparent conductive film

iii) 제 1 하드 코트층/수지층/기재 필름/수지층/ 제 2 하드 코트층/투명 도전막iii) First hard coat layer / resin layer / base film / resin layer / second hard coat layer / transparent conductive film

iv) 투명 도전막/ 제 1 하드 코트층/수지층/기재 필름/수지층/ 제 2 하드 코트층iv) a transparent conductive film / a first hard coat layer / a resin layer / a base film / a resin layer / a second hard coat layer

v) 투명 도전막/ 제 1 하드 코트층/수지층/기재 필름/수지층/ 제 2 하드 코트층/투명 도전막v) transparent conductive film / first hard coat layer / resin layer / base film / resin layer / second hard coat layer / transparent conductive film

상기 구성예 중에서도, i) 또는 iii)이 바람직하다. 즉, 투명 도전막의 적층 공정이나 가공 공정에 있어서의 하드 코트 필름의 슬라이딩성이나 내블로킹성을 확보한다는 관점으로부터, 일방의 제 1 하드 코트층에는 투명 도전막은 적층되지 않고 노출시켜 두는 것이 바람직하다.Among the above examples, i) or iii) is preferable. That is, from the viewpoint of securing the sliding property and anti-blocking property of the hard coat film in the process of laminating and processing the transparent conductive film, it is preferable to expose the transparent conductive film to one of the first hard coat layers without being laminated.

또한, 투명 도전막을 적층하는 면의 하드 코트층은 비교적 평활하고 클리어인 것이 바람직하다. 따라서, iii)의 구성 예에 있어서 제 2 하드 코트층의 표면의 중심선 평균 조도(Ra2)는 25nm 이하가 바람직하고, 20nm 이하가 보다 바람직하고, 특히 15nm 이하가 바람직하다. 상기한 바와 같이 투명 도전막의 적층하는 면의 하드 코트층(예를 들면, 제 2 하드 코트층)의 표면이 비교적 평활하고 클리어함으로써, 투명 도전성 필름의 투명성은 향상되므로 바람직하다.It is preferable that the hard coat layer on the side where the transparent conductive film is laminated is relatively smooth and clear. Therefore, in the constitution example of iii), the center line average roughness Ra2 of the surface of the second hard coat layer is preferably 25 nm or less, more preferably 20 nm or less, and particularly preferably 15 nm or less. As described above, the surface of the hard coat layer (for example, the second hard coat layer) on the surface of the transparent conductive film to be laminated is relatively smooth and clear, so that the transparency of the transparent conductive film is improved.

[투명 도전막][Transparent conductive film]

투명 도전성층을 형성하는 재료로서는, 예를 들면 산화주석, 산화인듐, 산화안티몬, 산화아연, ITO(산화인듐주석), ATO(산화안티몬주석) 등의 금속 산화물, 금속 나노 와이어(예를 들면, 은 나노 와이어), 카본나노튜브를 들 수 있다. 이들 중에서도, ITO가 바람직하게 사용된다.Examples of the material for forming the transparent conductive layer include metal oxides such as tin oxide, indium oxide, antimony oxide, zinc oxide, ITO (indium tin oxide), ATO (antimony tin oxide) Silver nanowires), and carbon nanotubes. Of these, ITO is preferably used.

투명 도전막의 두께는 표면 저항값을 103Ω/□ 이하의 양호한 도전성을 확보한다는 관점으로부터 10nm 이상인 것이 바람직하고, 15nm 이상인 것이 보다 바람직하고, 특히 20nm이상인 것이 바람직하다. 한편, 투명 도전막의 두께가 너무 커지면, 색감(착색)이 강해지거나 투명성이 저하한다는 문제가 생기는 경우가 있어, 투명 도전막의 두께의 상한은 60nm 이하가 바람직하고, 50nm 이하가 보다 바람직하고, 특히 40nm 이하가 바람직하다.The thickness of the transparent conductive film is preferably 10 nm or more, more preferably 15 nm or more, and particularly preferably 20 nm or more from the viewpoint of ensuring a good electrical conductivity of 10 3 Ω / square or less. On the other hand, if the thickness of the transparent conductive film is excessively large, there is a problem that the color (coloring) becomes strong or the transparency deteriorates. In this case, the upper limit of the thickness of the transparent conductive film is preferably 60 nm or less, more preferably 50 nm or less, Or less.

투명 도전막의 형성 방법으로서는 특별히 한정되지 않고, 종래 공지의 방법을 사용할 수 있다. 구체적으로는 진공증착법, 스퍼터링법, 이온도금법 등의 드라이 제막법(기상 제막법) 또는 웨트 코팅법을 들 수 있다.The method for forming the transparent conductive film is not particularly limited, and conventionally known methods can be used. Specifically, a dry film forming method (vapor phase film forming method) such as a vacuum vapor deposition method, a sputtering method and an ion plating method, or a wet coating method can be mentioned.

상기한 바와 같이 하여 제막된 투명 도전막은 패턴화되어 있어도 좋다. 패턴화는 투명 도전성 필름이 적용되는 용도에 따라서 각종 패턴을 형성할 수 있다. 또한, 투명 도전막의 패턴화에 의해 패턴부와 비패턴부가 형성되지만, 패턴부의 형상으로서는, 예를 들면 스트라이프상, 격자상 등을 들 수 있다.The transparent conductive film thus formed may be patterned. The patterning can form various patterns according to the application to which the transparent conductive film is applied. Further, the pattern portion and the non-pattern portion are formed by patterning the transparent conductive film, but the shape of the pattern portion includes, for example, a stripe shape and a lattice shape.

투명 도전막의 패턴화는 일반적으로는 에칭에 의해 행해진다. 예를 들면, 투명 도전막 상에 패턴상의 에칭 레지스트막을 포토리소그래피법, 레이저 노광법 또는 인쇄법에 의해 형성한 후 에칭 처리함으로써 투명 도전막이 패턴화된다. 투명 도전막이 패턴화된 후, 에칭 레지스트막은 알카리 수용액으로 박리 제거된다.The patterning of the transparent conductive film is generally performed by etching. For example, a patterned etching resist film is formed on a transparent conductive film by a photolithography method, a laser exposure method, or a printing method, and is subjected to an etching treatment to pattern the transparent conductive film. After the transparent conductive film is patterned, the etching resist film is stripped off with an aqueous alkaline solution.

에칭액으로서는 종래부터 공지의 것을 사용할 수 있다. 예를 들면, 염화수소, 브롬화수소, 황산, 질산, 인산 등의 무기산, 아세트산 등의 유기산, 및 이들의 혼합물, 및 그들의 수용액을 사용할 수 있다.Conventionally known etchants may be used as the etchant. For example, inorganic acids such as hydrogen chloride, hydrogen bromide, sulfuric acid, nitric acid, and phosphoric acid, organic acids such as acetic acid, and mixtures thereof, and aqueous solutions thereof can be used.

에칭 레지스트막의 박리 제거에 사용되는 알카리 수용액으로서는 1∼5질량%의 수산화나트륨 수용액이나 수산화칼륨 수용액 등을 들 수 있다.Examples of the aqueous alkaline solution used for peeling and removing the etching resist film include an aqueous solution of sodium hydroxide and an aqueous solution of potassium hydroxide in an amount of 1 to 5 mass%.

[굴절률 조정층][Refractive index adjusting layer]

상기 투명 도전성 필름의 구성예에 있어서, 투명 도전막은 제 1 하드 코트층 또는 제 2 하드 코트층 상에 직접 적층되어도 좋지만, 투명 도전막과 제 1 하드 코트층 또는 제 2 하드 코트층 사이에 굴절률 조정층을 개재시키는 것이 바람직하다. 이하, 굴절률 조정층에 관하여 설명한다.In the structural example of the transparent conductive film, the transparent conductive film may be directly laminated on the first hard coat layer or the second hard coat layer, but the refractive index may be adjusted between the transparent conductive film and the first hard coat layer or the second hard coat layer Layer. Hereinafter, the refractive index adjustment layer will be described.

굴절률 조정층은 1층만으로 구성되어도 좋고, 2층 이상의 적층 구성이어도 좋다. 굴절률 조정층은 그 상에 적층되는 투명 도전막의 반사색이나 투과색을 조정하기 위한 기능, 또는 패턴화된 투명 도전막의 패턴부가 시인되는 소위, 「패턴 보임」를 억제하기 위한 기능을 갖는 층이다.The refractive index adjustment layer may be composed of only one layer, or may have a laminated structure of two or more layers. The refractive index adjustment layer is a layer having a function for adjusting the reflection color or transmittance color of the transparent conductive film to be laminated thereon or a function for suppressing the so-called " pattern appearance " in which the patterned transparent conductive film is observed.

굴절률 조정층의 구성으로서는, 예를 들면 굴절률(n1)이 1.60∼1.80인 고굴절률층의 1층 구성, 굴절률(n2)이 1.30∼1.53인 저굴절률층의 1층 구성, 또는 상기 고굴절률층과 저굴절률층의 적층 구성(저굴절률층이 투명 도전막측에 배치) 등을 들 수 있다.As the structure of the refractive index adjusting layer, for example, a single layer structure of a high refractive index layer having a refractive index (n1) of 1.60 to 1.80 and a single layer structure of a low refractive index layer having a refractive index (n2) of 1.30 to 1.53, And a lamination structure of the low refractive index layer (the low refractive index layer is disposed on the transparent conductive film side).

상기 고굴절률층의 굴절률(n1)의 범위는 또한 1.63∼1.78의 범위가 바람직하고, 1.65∼1.75의 범위가 보다 바람직하다. 상기 저굴절률층의 굴절률(n2)은 또한 1.30∼1.50의 범위가 바람직하고, 1.30∼1.48의 범위가 보다 바람직하고, 1.33∼1.46의 범위가 특히 바람직하다.The refractive index n1 of the high refractive index layer is also preferably in the range of 1.63 to 1.78, more preferably in the range of 1.65 to 1.75. The refractive index n2 of the low refractive index layer is also preferably in a range of 1.30 to 1.50, more preferably in a range of 1.30 to 1.48, and particularly preferably in a range of 1.33 to 1.46.

굴절률 조정층의 두께(복수 층의 적층 구성의 경우에는 합계 두께를 가리킴)는 200nm 이하가 바람직하고, 150nm 이하가 보다 바람직하고, 120nm 이하가 특히 바람직하고, 100nm 이하가 가장 바람직하다. 하한의 두께는 30nm 이상이 바람직하고, 40nm 이상이 보다 바람직하고, 50nm 이상이 특히 바람직하고, 60nm 이상이 가장 바람직하다.The thickness of the refractive index adjustment layer (in the case of a laminated structure of plural layers, the total thickness) is preferably 200 nm or less, more preferably 150 nm or less, particularly preferably 120 nm or less, and most preferably 100 nm or less. The thickness of the lower limit is preferably 30 nm or more, more preferably 40 nm or more, particularly preferably 50 nm or more, and most preferably 60 nm or more.

투명 도전막이 패턴화되어 있는 경우에는 「패턴 보임」을 억제한다는 관점으로부터, 굴절률 조정층은 고굴절률층과 저굴절률층의 적층 구성인 것이 바람직하다. 이 경우, 고굴절률층의 광학 두께와 저굴절률층의 광학 두께의 합계(nm)가 (1/4)λ(nm)을 만족하는 것이 바람직하다. 여기서, 광학 두께(nm)란 굴절률과 실제의 층의 두께(nm)의 곱이고, λ은 가시광선 영역의 파장범위인 380∼780(nm)이다.When the transparent conductive film is patterned, it is preferable that the refractive index adjustment layer is a laminated structure of a high refractive index layer and a low refractive index layer from the viewpoint of suppressing " pattern appearance ". In this case, it is preferable that the sum (nm) of the optical thickness of the high refractive index layer and the optical thickness of the low refractive index layer satisfies (1/4)? (Nm). Here, the optical thickness (nm) is the product of the refractive index and the thickness (nm) of the actual layer, and? Is 380 to 780 (nm), which is the wavelength range of the visible light region.

본 명세서에 있어서, 고굴절률층의 광학 두께(nm)와 저굴절률층의 광학 두께(nm)의 합계가 (1/4)λ(nm)을 만족하면, 이하의 식 1을 만족하는 것이다. 또한, 식 중, n1은 고굴절률층의 굴절률, d1은 고굴절률층의 두께(nm), n2는 저굴절률층의 굴절률, d2는 저굴절률층의 두께(nm)를 나타낸다.In the present specification, when the sum of the optical thickness (nm) of the high refractive index layer and the optical thickness (nm) of the low refractive index layer satisfies (1/4)? (Nm) In the formula, n1 represents the refractive index of the high refractive index layer, d1 represents the thickness (nm) of the high refractive index layer, n2 represents the refractive index of the low refractive index layer, and d2 represents the thickness (nm) of the low refractive index layer.

(380nm/4)≤(n1×d1)+(n2×d2)≤(780nm/4)(380 nm / 4)? (N1 x d1) + (n2 x d2)? (780 nm / 4)

95nm≤(n1×d1)+(n2×d2)≤195nm ···(식 1)95 nm? (N1 x d1) + (n2 x d2)? 95 nm (1)

즉, 고굴절률층의 광학 두께(n1×d1)와 저굴절률층의 광학 두께(n2×d2)의 합계는 95nm 이상 195nm 이하인 것이 바람직하다.That is, the sum of the optical thickness (n1 x d1) of the high refractive index layer and the optical thickness (n2 x d2) of the low refractive index layer is preferably 95 nm or more and 195 nm or less.

또한, 고굴절률층의 광학 두께와 저굴절률층의 광학 두께의 합계의 범위는 95∼163nm의 범위가 보다 바람직하고, 95∼150nm의 범위가 특히 바람직하고, 특히 100∼140nm의 범위가 가장 바람직하다.The total of the optical thickness of the high refractive index layer and the optical thickness of the low refractive index layer is more preferably in the range of 95 to 163 nm, particularly preferably in the range of 95 to 150 nm, and most preferably in the range of 100 to 140 nm .

고굴절률층은, 예를 들면 굴절률이 1.65 이상인 금속 산화물 미립자를 함유하는 활성 에너지선 경화성 조성물을 웨트 코팅법에 의해 도포하고, 필요에 따라서 건조한 후 활성 에너지선을 조사하여 경화함으로써 형성할 수 있다. 여기서, 활성 에너지선 경화성 조성물은 상술의 제 1 하드 코트층에서 설명한 중합성 화합물 및 광중합개시제를 함유하는 조성물이다.The high refractive index layer can be formed, for example, by applying an active energy ray curable composition containing metal oxide fine particles having a refractive index of 1.65 or more by a wet coating method, drying it if necessary, and irradiating an active energy ray to cure. Here, the active energy ray-curable composition is a composition containing the polymerizable compound and the photopolymerization initiator described in the first hard coat layer.

금속 산화물 미립자로서는 티타늄, 지르코늄, 아연, 주석, 안티몬, 세륨, 철, 인듐 등의 금속 산화물 입자를 들 수 있다. 금속 산화물 미립자의 구체예로서는, 예를 들면 산화티타늄, 산화지르코늄, 산화아연, 산화주석, 산화안티몬, 산화세륨, 산화철, 안티몬산 아연, 산화주석 도프 산화인듐(ITO), 안티몬 도프 산화주석(ATO), 인 도프 산화주석, 알루미늄 도프 산화아연, 갈륨 도프 산화아연, 불소 도프 산화주석 등을 들 수 있고, 이들 금속 산화물 미립자는 단독으로 사용해도 좋고, 복수 병용해도 좋다. 상기 금속 산화물 미립자 중에서도, 특히 산화티타늄 및 산화지르코늄이 투명성을 저하시키지 않고 굴절률을 높일 수 있으므로 바람직하다.Examples of the metal oxide fine particles include metal oxide particles such as titanium, zirconium, zinc, tin, antimony, cerium, iron and indium. Specific examples of the metal oxide fine particles include titanium oxide, zirconium oxide, zinc oxide, tin oxide, antimony oxide, cerium oxide, iron oxide, zinc antimonate, indium tin oxide (ITO), antimony doped tin oxide , Indoped tin oxide, aluminum-doped zinc oxide, gallium-doped zinc oxide, and fluorine-doped tin oxide. These metal oxide fine particles may be used singly or in combination. Among the above-mentioned metal oxide fine particles, titanium oxide and zirconium oxide are particularly preferred because they can increase the refractive index without lowering the transparency.

활성 에너지선 경화성 조성물에 있어서의 금속 산화물 미립자의 함유량은 활성 에너지선 경화성 조성물의 고형분 총량 100질량%에 대하여 30질량% 이상이 바람직하고, 40질량% 이상이 보다 바람직하고, 50질량% 이상이 특히 바람직하다. 상한은 70질량% 이하가 바람직하고, 60질량% 이하가 바람직하다.The content of the metal oxide fine particles in the active energy ray-curable composition is preferably 30% by mass or more, more preferably 40% by mass or more, and particularly preferably 50% by mass or more based on 100% by mass of the total solid content of the active energy ray- desirable. The upper limit is preferably 70 mass% or less, and more preferably 60 mass% or less.

저굴절률층은, 예를 들면 저굴절률 재료로서 저굴절률 무기 입자 및/또는 함불소 화합물을 함유하는 활성 에너지선 경화성 조성물을 웨트 코팅법에 의해 도포하고, 필요에 따라서 건조한 후 활성 에너지선을 조사하여 경화함으로써 형성할 수 있다. 여기서, 활성 에너지선 경화성 조성물은 상술의 제 1 하드 코트층에서 설명한 중합성 화합물 및 광중합개시제를 함유하는 조성물이다.The low refractive index layer can be obtained by coating an active energy ray curable composition containing a low refractive index inorganic particle and / or a fluorine compound as a low refractive index material by a wet coating method, drying it if necessary, Followed by curing. Here, the active energy ray-curable composition is a composition containing the polymerizable compound and the photopolymerization initiator described in the first hard coat layer.

저굴절률 무기 입자로서는 실리카나 불화 마그네슘 등의 무기 입자가 바람직하다. 또한, 이들 무기 입자는 중공형상이나 다공질의 것이 바람직하다. 이러한 저굴절률 무기 입자의 함유량은 활성 에너지선 경화성 조성물의 고형분 총량 100질량%에 대하여 10질량% 이상이 바람직하고, 20질량% 이상이 보다 바람직하고, 특히 30질량% 이상이 바람직하다. 상한은 70질량% 이하가 바람직하고, 60질량% 이하가 바람직하고, 특히 50질량% 이하가 바람직하다.As the low refractive index inorganic particles, inorganic particles such as silica and magnesium fluoride are preferable. These inorganic particles are preferably hollow or porous. The content of such low refractive index inorganic particles is preferably 10% by mass or more, more preferably 20% by mass or more, and particularly preferably 30% by mass or more based on 100% by mass of the total solid content of the active energy ray curable composition. The upper limit is preferably 70 mass% or less, more preferably 60 mass% or less, particularly preferably 50 mass% or less.

함불소 화합물로서는 함불소 모노머, 함불소 올리고머, 함불소 고분자 화합물을 들 수 있다. 여기서, 함불소 모노머 또는 함불소 올리고머는 분자 중에 상술의 중합성 관능기(탄소-탄소 이중 결합기를 포함하는 관능기)와 불소원자를 갖는 모노머 또는 올리고머이다.Examples of fluorinated compounds include fluorinated monomers, fluorinated oligomers, and fluorinated polymer compounds. Here, the fluorine-containing monomer or fluorine-containing oligomer is a monomer or oligomer having a polymerizable functional group (a functional group containing a carbon-carbon double bond group) and a fluorine atom in the molecule.

함불소 모노머, 함불소 올리고머로서는, 예를 들면 2,2,2-트리플루오로에틸(메타)아크릴레이트, 2,2,3,3,3-펜타플루오로프로필(메타)아크릴레이트, 2-(퍼플루오로부틸)에틸(메타)아크릴레이트, 2-(퍼플루오로헥실)에틸(메타)아크릴레이트, 2-(퍼플루오로옥틸)에틸(메타)아크릴레이트, 2-(퍼플루오로데실)에틸(메타)아크릴레이트, β-(퍼플루오로옥틸)에틸(메타)아크릴레이트 등의 불소 함유 (메타)아크릴산 에스테르류, 디-(α-플루오로아크릴산)-2,2,2-트리플루오로에틸에틸렌글리콜, 디-(α-플루오로아크릴산)-2,2,3,3,3-펜타플루오로프로필에틸렌글리콜, 디-(α-플루오로아크릴산)-2,2,3,3,4,4,4-헵타플루오로부틸에틸렌글리콜, 디-(α-플루오로아크릴산)-2,2,3,3,4,4,5,5,5-노나플루오로펜틸에틸렌글리콜, 디-(α-플루오로아크릴산)-2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,6-운데카플루오로헥실에틸렌글리콜, 디-(α-플루오로아크릴산)-2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,7-트리데카플루오로헵틸에틸렌글리콜, 디-(α-플루오로아크릴산)-2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-펜타데카플루오로옥틸에틸렌글리콜, 디-(α-플루오로아크릴산)-3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-트리데카플루오로옥틸에틸렌글리콜, 디-(α-플루오로아크릴산)-2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,9-헵타데카플루오로노닐에틸렌글리콜 등의 디-(α-플루오로아크릴산)플루오로알킬에스테르류를 들 수 있다.Examples of fluorinated monomers and fluorinated oligomers include 2,2,2-trifluoroethyl (meth) acrylate, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl (meth) acrylate, 2- (Perfluorohexyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluorohexyl) ethyl (meth) acrylate, 2- Fluorine-containing (meth) acrylic acid esters such as ethyl (meth) acrylate and? - (perfluorooctyl) ethyl (meth) acrylate, di- Fluoroethyl ethylene glycol, di- (? -Fluoroacrylic acid) -2,2,3,3,3-pentafluoropropylethylene glycol, di- (? -Fluoroacrylic acid) -2,2,3,3 , 4,4,4-heptafluorobutyl ethylene glycol, di- (? - fluoroacrylic acid) -2,2,3,3,4,4,5,5,5-nonafluoropentyl ethylene glycol, di - (? -fluoroacrylic acid) -2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,6-undecafluorohexyl ethylene Glycol, di- (? - fluoroacrylic acid) -2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,7-tridecafluoroheptylethylene glycol, di- (? -Fluoroacrylic acid) -2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-pentadecafluorooctylethylene glycol, di- (? - fluoro (Acrylic acid) -3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8-tridecafluorooctylethylene glycol, di- (? - fluoroacrylic acid) -2, Di- (? -Fluoroacrylic acid) such as 2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,9-heptadecafluorononyl ethylene glycol, And fluoroalkyl esters.

함불소 고분자 화합물로서는, 예를 들면 함불소 모노머와 가교성기 부여를 위한 모노머를 구성단위로 하는 함불소 공중합체를 들 수 있다. 함불소 모노머 단위의 구체예로서는, 예를 들면 플루오로올레핀류(예를 들면, 플루오로에틸렌, 비닐리덴플루오라이드, 테트라플루오르에틸렌, 헥사플루오로에틸렌, 헥사플루오로프로필렌, 퍼플루오로-2,2-디메틸-1,3-디옥솔 등), (메타)아크릴산의 부분 또는 완전 불소화 알킬에스테르 유도체류(예를 들면, 비스 코트 6FM(Osaka Organic Chemical Industry Ltd. 제작)이나 M-2020(Daikin Industries, Ltd. 제작) 등), 완전 또는 부분 불소화 비닐에테르류 등이다. 가교성기 부여를 위한 모노머로서는 글리시딜메타크릴레이트와 같이 분자 내에 미리 가교성 관능기를 갖는 (메타)아크릴레이트 모노머의 것 이외에, 카르복실기나 히드록실기, 아미노기, 술폰산기 등을 갖는 (메타)아크릴레이트 모노머(예를 들면, (메타)아크릴산, 메틸올(메타)아크릴레이트, 히드록시알킬(메타)아크릴레이트, 알릴아크릴레이트 등)를 들 수 있다.Examples of the fluorinated polymer compound include fluorinated monomers and fluorinated copolymers containing a monomer for imparting a crosslinkable group as a constitutional unit. Specific examples of fluorinated monomer units include fluoroolefins (e.g., fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoroethylene, hexafluoropropylene, perfluoro-2,2 -Dimethyl-1,3-dioxol), partially or fully fluorinated alkyl ester derivatives of (meth) acrylic acid (for example, Viscot 6FM (manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Ltd.) or M- 2020 (manufactured by Daikin Industries, Ltd.), fully or partially fluorinated vinyl ethers, and the like. Examples of the monomer for imparting a crosslinkable group include (meth) acrylate monomers having a carboxyl group, a hydroxyl group, an amino group, a sulfonic acid group and the like, as well as (meth) acrylate monomers having a crosslinkable functional group in advance in the molecule such as glycidyl methacrylate (Meth) acrylic acid, methylol (meth) acrylate, hydroxyalkyl (meth) acrylate, allylacrylate and the like).

함불소 화합물의 함유량은 활성 에너지선 경화성 조성물의 고형분 총량 100질량%에 대하여 30질량% 이상이 바람직하고, 40질량% 이상이 보다 바람직하고, 50질량% 이상이 특히 바람직하다. 상한은 95질량% 이하가 바람직하고, 90질량% 이하가 보다 바람직하고, 80질량% 이하가 특히 바람직하다.The content of the fluorine compound is preferably 30% by mass or more, more preferably 40% by mass or more, and particularly preferably 50% by mass or more, based on 100% by mass of the total solid content of the active energy ray curable composition. The upper limit is preferably 95 mass% or less, more preferably 90 mass% or less, and particularly preferably 80 mass% or less.

함불소 화합물 중에서도, 함불소 모노머, 함불소 올리고머가 바람직하게 사용된다. 함불소 모노머 및 함불소 올리고머는 분자 중에 중합성 관능기를 갖고 있으므로 저굴절률층의 치밀한 가교 구조의 형성에 기여함과 아울러 저굴절률화할 수 있다.Of the fluorinated compounds, fluorinated monomers and fluorinated oligomers are preferably used. Since the fluorinated monomer and fluorinated oligomer have a polymerizable functional group in the molecule, they contribute to the formation of a dense crosslinked structure of the low refractive index layer and can lower the refractive index.

[터치 패널][Touch Panel]

본 실시형태의 하드 코트 필름을 베이스 필름으로 하는 투명 도전성 필름은 터치 패널의 구성 부재의 1개로서 바람직하게 사용된다.The transparent conductive film using the hard coat film of the present embodiment as the base film is preferably used as one of constituent members of the touch panel.

저항막식 터치 패널은 통상, 상부전극과 하부전극이 스페이서를 통하여 배치된 구성으로 되어 있지만, 본 실시형태의 하드 코트 필름을 베이스 필름으로 하는 투명 도전성 필름은 상부전극 및 하부전극의 어느 일방 또는 양방에 사용될 수 있다.The resistance film type touch panel generally has a structure in which the upper electrode and the lower electrode are arranged through a spacer. However, the transparent conductive film using the hard coat film of the present embodiment as a base film is not limited to the one of the upper electrode and the lower electrode Can be used.

또한, 정전용량식 터치 패널은 통상, 패턴화된 X전극과 Y전극으로 구성되지만, 본 실시형태의 하드 코트 필름을 베이스 필름으로 하는 투명 도전성 필름은 X전극 및 Y전극의 어느 일방 또는 양방에 사용될 수 있다.The capacitive touch panel generally comprises a patterned X electrode and a Y electrode. However, the transparent conductive film using the hard coat film of the present embodiment as a base film may be used for either or both of the X electrode and the Y electrode .

터치 패널에 사용되는 투명 도전성 필름은 투명성 및 가공성(슬라이딩성이나 내블로킹성)이 양호한 것이 요구되지만, 본 실시형태의 하드 코트 필름을 베이스 필름으로 하는 투명 도전성 필름은 상기 특성을 충분히 만족시킬 수 있다.The transparent conductive film used in the touch panel is required to have good transparency and workability (slidability and blocking resistance), but the transparent conductive film using the hard coat film of the present embodiment as the base film can sufficiently satisfy the above characteristics .

(실시예)(Example)

이하, 실시예에 의해 본 발명을 더욱 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다. 또한, 본 실시예에 있어서의 측정 방법 및 평가 방법을 이하에 나타낸다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. The measurement method and the evaluation method in this embodiment are shown below.

(1) 각 층의 굴절률의 측정(1) Measurement of refractive index of each layer

각각의 도포액을 실리콘 웨이퍼 상에 스핀코터로 도포 형성한 도막(건조 두께 약 2㎛)에 대해서, 25℃의 온도 조건 하에서 위상차 측정 장치(Nikon Corporation 제작: NPDM-1000)로 589nm의 굴절률을 측정했다.The refractive index of 589 nm was measured with a phase difference measuring apparatus (Nikon Corporation: NPDM-1000) under a temperature condition of 25 캜 with respect to a coating film (dry thickness of about 2 탆) formed by coating each coating liquid on a silicon wafer with a spin coater did.

또한, 기재 필름(PET 필름)의 굴절률은 JIS K7105(1981)에 기초하여 아베 굴절률계로 589nm의 굴절률을 측정했다.The refractive index of the base film (PET film) was measured at 589 nm in the Abbe's refractive index meter based on JIS K7105 (1981).

(2) 수지층의 두께의 측정(2) Measurement of the thickness of the resin layer

수지층이 적층된 기재 필름의 단면을 초박절편으로 잘라내고, RuO4 염색, OsO4 염색, 또는 양자의 2중 염색에 의한 염색 초박절편법에 의해 TEM(투과형 전자현미경)으로 단면 구조가 목시가능한 이하의 조건에서 관찰하고, 그 단면 사진으로부터 수지층의 두께를 측정했다. 또한, 측정 부분은 입자가 존재하지 않는 부분이었다. 또한, 5개소를 측정하고 그 평균치를 수지층의 두께라고 했다.The cross section of the substrate film on which the resin layer is laminated is cut into ultra slim pieces and the cross-sectional structure can be observed with a TEM (transmission electron microscope) by staining with RuO 4 dye, OsO 4 dye, The thickness of the resin layer was measured from the cross-sectional photographs. In addition, the measurement portion was a portion where no particles existed. In addition, five points were measured and the average value was referred to as the thickness of the resin layer.

·측정 장치: 투과형 전자현미경(Hitachi, Ltd. 제작 H-7100FA형)· Measuring device: transmission electron microscope (H-7100FA type manufactured by Hitachi, Ltd.)

·측정 조건: 가속 전압 100kVMeasurement conditions: acceleration voltage 100 kV

·시료 조정: 동결 초박절편법· Sample adjustment:

·배율: 30만배· Magnification: 300,000 times

(3) 제 1 및 제 2 하드 코트층, 고굴절률층, 저굴절률층의 두께의 측정(3) Measurement of the thicknesses of the first and second hard coat layers, the high refractive index layer and the low refractive index layer

하드 코트 필름의 단면을 초박절편으로 잘라내고, TEM(투과형 전자현미경)으로 가속 전압 100kV으로 관찰(1∼30만배의 배율로 관찰)하고, 그 단면 사진으로부터 두께를 측정했다. 또한, 제 1 하드 코트층과 같이 표면에 돌기를 갖는 층에 대해서는 돌기가 존재하지 않는 부분에 있어서의 두께이다. 두께의 측정은 5개소에서 행하여 그 평균치를 두께라고 했다.The cross section of the hard-coated film was cut into ultra-thin slices and observed with a TEM (transmission electron microscope) at an acceleration voltage of 100 kV (at a magnification of 1 to 3000000). In the case of the layer having the protrusion on the surface like the first hard coat layer, it is the thickness in the portion where the protrusion is not present. The thickness was measured at five places, and the average value was referred to as thickness.

(4) 제 1 하드 코트층에 함유되는 입자의 평균 입자지름의 측정(4) Measurement of average particle diameter of particles contained in the first hard coat layer

제 1 하드 코트층의 단면을 TEM(투과형 전자현미경)으로 관찰(약 1만∼10만배)하고, 그 단면 사진으로부터 무작위로 선택한 30개의 입자의 각각의 최대 길이를 계측하여 그들을 평균한 값을 평균 입자지름이라고 했다.The cross section of the first hard coat layer was observed with a TEM (transmission electron microscope) (about 10,000 to 100,000 times), and the maximum length of each of the 30 randomly selected particles from the cross-sectional photograph was measured, Called particle diameter.

(5) 수지층에 함유되는 입자의 평균 입자지름의 측정(5) Measurement of the average particle diameter of the particles contained in the resin layer

기재 필름에 적층된 수지층 표면을 SEM(주사형 전자현미경)을 사용하여 배율 1만배로 관찰하고, 입자의 화상(입자에 의해 할 수 있는 광의 농담)을 이미지 애널라이저(예를 들면, Cambridge Instrument 제작 QTM900)에 연계시키고, 관찰 장소를 변경하여 데이터를 취입하고, 합계 입자수 5000개 이상이 된 곳에서 이하의 수치 처리를 행하고, 그것에 의해서 구한 수 평균지름(d)을 평균 입경(직경)이라고 했다.The surface of the resin layer laminated on the base film was observed at a magnification of 10,000 times using an SEM (scanning electron microscope), and the image of the particle (the density of light that can be made by the particle) was measured with an image analyzer QTM900), the data was taken by changing the observation place, and the following numerical processing was performed where the total number of particles became 5,000 or more, and the number average diameter d obtained thereby was referred to as an average particle diameter (diameter) .

d=Σdi/Nd =? di / N

여기서, di는 입자의 등가원 직경(입자의 단면적과 같은 면적을 가지는 원의 직경), N은 개수이다.Where di is the equivalent circle diameter of the particle (the diameter of the circle having the same area as the cross-sectional area of the particle), and N is the number.

(6) 제 1 및 제 2 하드 코트층의 표면의 중심선 평균 조도(Ra1, Ra2)의 측정(6) Measurement of center line average roughness (Ra1, Ra2) of the surfaces of the first and second hard coat layers

JIS B0601(1982)에 기초하여, 촉침식 표면 조도 측정기 SE-3400(Kosaka Laboratory Ltd. 제작)을 사용하여 측정했다.Was measured using a stylus type surface roughness meter SE-3400 (manufactured by Kosaka Laboratory Ltd.) based on JIS B0601 (1982).

<측정 조건><Measurement Conditions>

이송 속도; 0.5mm/sFeed rate; 0.5mm / s

평가 길이; 8mmEvaluation length; 8mm

컷오프값(λc); 0.08mmCutoff value? C; 0.08mm

(7) 제 1 하드 코트층 표면에 있어서의 돌기 개수의 계측(7) Measurement of the number of projections on the surface of the first hard coat layer

하드 코트 필름의 컷 샘플(20cm×15cm)을 준비하고, 이 컷 샘플의 제 1 하드 코트층의 표면을 SEM(주사형 전자현미경)으로 5개소 촬영(약 1만∼10만배)하여 5개의 화상(표면 사진)을 제작했다. 이어서, 5개의 화상 각각에 대해서 화상의 1㎛×1㎛(면적 1㎛2) 또는 2㎛×2㎛(면적 4㎛2)의 범위에 존재하는 돌기의 개수를 계측하고, 면적 100㎛2당 개수로 환산하여 평균했다. 또한, 돌기 개수를 계측하는 면적은 촬영 배율에 따라 적당히 변경한다.A cut sample (20 cm x 15 cm) of a hard coat film was prepared and the surface of the first hard coat layer of this cut sample was photographed at five positions (about 10,000 to 100,000 times) by SEM (scanning electron microscope) (Surface photograph). Then, for each of the five images 1㎛ × 1㎛ of the image (area 1㎛ 2) or 2㎛ × 2㎛ measuring the number of protrusions existing in a range (area 4㎛ 2), and area per 100㎛ 2 And the number was converted and averaged. The area for measuring the number of projections is appropriately changed according to the imaging magnification.

(8) 제 1 하드 코트층 표면에 있어서의 돌기의 평균 직경의 측정(8) Measurement of average diameter of projections on the surface of the first hard coat layer

하드 코트 필름의 제 1 하드 코트층의 표면을 SEM(주사형 전자현미경)으로 촬영(약 1만∼10만배)하여 화상(표면 사진)을 작성했다. 이어서, 이 화상 중에서 무작위로 선택한 30개의 돌기의 직경(최대 길이)을 측정하여 평균했다.The surface of the first hard coat layer of the hard coat film was photographed (about 10,000 to 100,000 times) with an SEM (scanning electron microscope) to prepare an image (surface photograph). Then, the diameter (maximum length) of 30 protrusions randomly selected from the image was measured and averaged.

(9) 제 1 하드 코트층 표면에 있어서의 돌기의 평균 높이의 측정(9) Measurement of average height of projections on the surface of the first hard coat layer

하드 코트 필름의 컷 샘플(20cm×15cm)을 준비하고, 이 컷 샘플의 제 1 하드 코트층의 단면을 SEM(주사형 전자현미경)으로 5개소 촬영(약 1만∼10만배)하여 5개의 단면 사진을 제작했다. 이어서, 5개의 단면 사진에 존재하는 모든 돌기의 높이를 측정하여 평균했다.A cut sample (20 cm x 15 cm) of a hard coat film was prepared, and the cross section of the first hard coat layer of this cut sample was photographed at five locations (about 10,000 to 100,000 times) by SEM (scanning electron microscope) I made a photo. Then, the heights of all the projections existing in the five sectional photographs were measured and averaged.

(10) 돌기의 평균 간격(10) Average spacing of protrusions

하드 코트 필름의 제 1 하드 코트층의 표면을 SEM(주사형 전자현미경)으로 촬영(약 1만∼10만배)하여 화상(표면 사진)을 제작했다. 이 화상에 가로방향과 세로방향에 직교하는 각각 1개씩의 직선을 그었다. 이어서, 가로방향의 1개의 직선 위에 있는(직선에 접촉하는) 돌기 모두에 대해서 인접하는 돌기와의 간격을 측정했다. 동일한 조작을 세로방향의 1개의 직선에 대해서도 행했다. 이 조작을 가로방향의 직선의 위치 및 세로방향의 직선의 위치를 각각 3회 변경하여 실시하고, 얻어진 모든 돌기 간격을 평균했다.The surface of the first hard coat layer of the hard coat film was photographed (about 10,000 to 100,000 times) with an SEM (scanning electron microscope) to produce an image (surface photograph). One straight line orthogonal to the horizontal and vertical directions was drawn on the image. Subsequently, the distance between adjacent projections was measured with respect to all of the projections (in contact with the straight line) on one straight line in the transverse direction. The same operation was performed on one straight line in the vertical direction. This operation was performed by changing the position of the straight line in the transverse direction and the position of the straight line in the vertical direction three times, and the obtained interval of all the projections was averaged.

(11) 하드 코트 필름의 측정(11) Measurement of hard coat film

JIS K 7136(2000)에 기초하여 Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. 제작의 탁도계 「NDH-2000」을 사용하여 측정했다. 측정시에, 하드 코트 필름의 제 1 하드 코트층의 반대면(즉, 제 2 하드 코트층이 설치되어 있는 면)의 표면에 광이 입사하도록 배치했다.Based on JIS K 7136 (2000), Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. NDH-2000 &quot; manufactured by Toshiba Corporation. During the measurement, the light was placed on the surface of the hard coat film opposite to the first hard coat layer (that is, the surface on which the second hard coat layer was provided).

(12) 하드 코트 필름의 전광선 투과율(12) Total light transmittance of hard coat film

JIS-K7361(1997년)에 기초하여 탁도계 NDH2000(Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. 제작)을 사용하여 측정했다.Was measured using a turbidimeter NDH2000 (manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.) based on JIS-K7361 (1997).

(13) 하드 코트 필름의 반사색의 목시 평가(13) Evaluation of the reflection color of the hard coat film

하드 코트 필름의 제 2 하드 코트층의 면에 흑색 점착테이프(Nitto Denko Corporation 제작 "비닐테이프 No. 21 EXTRA WIDE 흑색")를 붙이고, 제 1 하드 코트층의 면의 반사색을 암실 삼파장 형광등 하에서 목시로 관찰하여 이하의 기준으로 행했다.A black adhesive tape ("Vinyl Tape No. 21 EXTRA WIDE BLACK", manufactured by Nitto Denko Corporation) was applied to the surface of the second hard coat layer of the hard coat film and the reflection color of the surface of the first hard coat layer was observed under a dark three- And the measurement was carried out based on the following criteria.

마찬가지로, 하드 코트 필름의 제 1 하드 코트층의 면에 흑 점착테이프(Nitto Denko Corporation 제작 " 비닐테이프 No. 21 EXTRA WIDE 흑색")를 붙이고, 제 2 하드 코트층의 면의 반사색을 암실 삼파장 형광등 하에서 목시로 관찰하여 이하의 기준으로 행했다.Similarly, a black adhesive tape ("Vinyl Tape No. 21 EXTRA WIDE BLACK" manufactured by Nitto Denko Corporation) was attached to the surface of the first hard coat layer of the hard coat film and the reflection color of the surface of the second hard coat layer was changed to a dark room tri- Under the following criteria.

A: 반사색이 중립으로 거의 무색이다.A: The reflection color is neutral and almost colorless.

C: 반사색이 착색을 보이고 있다.C: The reflection color is showing coloration.

(14) 슬라이딩성의 평가(14) Evaluation of sliding property

하드 코트 필름을 절단하여 2매의 시트편(20cm×15cm)을 제작했다. 2매의 시트편의 제 1 하드 코트층의 면과 제 2 하드 코트층의 면이 마주보도록 2매의 시트편을 약간 비켜 포개어 평활한 대 상에 놓고, 하방의 시트편을 손가락으로 대 상을 고정하고, 상방의 시트편을 손으로 슬라이딩시키는 방법으로 슬라이딩성의 양부 판정을 행했다. 측정 환경은 23℃, 55% RH이었다.The hard coat film was cut to produce two sheet pieces (20 cm x 15 cm). Two sheets of sheet pieces are slightly shifted and placed on a smooth target so that the surface of the first hard coat layer and the surface of the second hard coat layer face each other and the lower sheet sheet is fixed with a finger And the upper and lower sheet pieces were slid by hand. The measurement environment was 23 ° C and 55% RH.

A: 상방의 시트편의 슬라이딩성은 양호하다.A: Sliding property of the upper sheet member is good.

B: 상방의 시트편의 슬라이딩성은 열악하지만 비교적 양호하다.B: Sliding property of the upper sheet member is poor but relatively good.

C: 상방의 시트편은 미끄러지지 않는다.C: The upper sheet piece does not slip.

(15) 내블로킹성의 평가(15) Evaluation of blocking resistance

하드 코트 필름을 절단하여 2매의 시트편(20cm×15cm)을 제작했다. 이 2매의 시트의 제 1 하드 코트층면과 제 2 하드 코트층면이 마주보도록 포갰다. 이어서, 2매의 시트편을 포갠 시료를 유리판에 끼우고, 약 3kg의 추를 싣고 50℃, 90%(RH)의 분위기 하에서 48시간 방치했다. 이어서, 포갠면을 목시에 의해 관찰하여 뉴턴링(Newton's ring)의 발생 상황을 확인한 후 양자를 박리하고, 이하의 기준으로 평가했다.The hard coat film was cut to produce two sheet pieces (20 cm x 15 cm). The first hard coat layer surface of the two sheets and the second hard coat layer surface are opposed to each other. Subsequently, a sample containing two sheet pieces was placed on a glass plate, and a weight of about 3 kg was put thereon and left for 48 hours in an atmosphere of 50 DEG C and 90% (RH). Subsequently, the overlapping surface was observed with a naked eye to confirm the occurrence of Newton's ring, and the both were peeled off and evaluated according to the following criteria.

A: 박리 전은 뉴턴링이 발생하지 않고, 박리시에는 박리음을 내지 않고 가볍게 박리된다.A: Newton ring does not occur before peeling, and peeling is lightly peeled off without peeling.

B: 박리 전은 일부 뉴턴링이 발생하고, 박리시에는 작은 박리음을 내면서 박리된다.B: Some Newton rings occur before peeling, and peeling occurs when peeling, with a small peeling.

C: 박리 전은 전면에 뉴턴링이 발생하고, 박리시에는 큰 박리음을 내면서 박리된다.C: A Newton ring is formed on the front surface before peeling, and peeled off while giving a large peeling sound when peeling.

(16) 제 1 및 제 2 하드 코트층의 연필경도(16) Pencil hardness of the first and second hard coat layers

하드 코트 필름의 제 1 하드 코트층의 표면과 제 1 하드 코트층의 표면에 대해서 각각 JIS K5600-5-4(1999년)에 준거하여 측정했다. 하중은 750g, 속도는 30mm/min이었다. 측정 장치는 Shinto Scientific Co., Ltd. 제작의 표면성 경도계(HEIDON; 타입 14DR)를 사용했다. 측정시의 환경은 23℃±2℃, 상대습도 55%±5%이었다.The surface of the first hard coat layer and the surface of the first hard coat layer of the hard coat film were measured according to JIS K5600-5-4 (1999). The load was 750 g and the speed was 30 mm / min. The measuring device was Shinto Scientific Co., Ltd. A surface hardness tester (HEIDON type 14DR) was used. The environment at the time of measurement was 23 캜 2 캜 and relative humidity 55% 5%.

(17) 투명 도전막 패턴의 시인성(17) Visibility of the transparent conductive film pattern

검은판 상에 샘플을 놓고, 목시에 의해 투명 도전막의 패턴부를 시인할 수 있는지 아닌지 이하의 기준으로 평가했다.A sample was placed on a black plate, and whether or not the pattern portion of the transparent conductive film could be visually inspected was evaluated based on the following criteria.

A: 패턴부를 시인할 수 없다.A: The pattern part can not be recognized.

C: 패턴부를 시인할 수 있다.C: The pattern part can be recognized.

(18) 수지층의 젖음 장력의 측정(18) Measurement of wetting tension of resin layer

수지층이 적층된 기재 필름을 상태(23℃, 상대습도 50%)의 분위기 하에서 6시간 시즈닝하고, 동 분위기 하에서 JIS-K-6768(1999)에 준거하여 측정했다.The substrate film on which the resin layer was laminated was seasoned for 6 hours in an atmosphere of a state (23 DEG C, relative humidity 50%) and measured under a copper atmosphere according to JIS-K-6768 (1999).

<수지층 형성용 도포액>&Lt; Coating liquid for resin layer formation >

(수지층 형성용 도포액 a)(Coating liquid a for forming a resin layer)

고형분 질량비로, Tg(유리전이온도)가 120℃인 폴리에스테르 수지 a를 26질량%, Tg가 80℃인 폴리에스테르 수지 b를 54질량%, 멜라민계 가교제를 18질량%, 입자를 2질량% 혼합하여 수분산 도포액을 조제했다., A polyester resin (b) having a Tg (glass transition temperature) of 120 deg. C at a solid content of 26 mass%, a polyester resin (b) having a Tg of 80 deg. C at 54 mass%, a melamine crosslinking agent at 18 mass% To prepare a water dispersion coating liquid.

·폴리에스테르 수지 a; 2,6-나프탈렌디카르복실산 43몰%, 5-나트륨술포이소 프탈산 7몰%, 에틸렌글리콜을 포함하는 디올 성분 50몰%를 공중합하여 얻어진 폴리에스테르 수지Polyester resin a; 43 mol% of 2,6-naphthalene dicarboxylic acid, 7 mol% of 5-sodium sulfoisophthalic acid, and 50 mol% of a diol component containing ethylene glycol

·폴리에스테르 수지 b; 테레프탈산 38몰%, 트리멜리트산 12몰%, 에틸렌글리콜을 포함하는 디올 성분 50몰%를 공중합하여 얻어진 폴리에스테르 수지Polyester resin b; A polyester resin obtained by copolymerizing 38 mol% of terephthalic acid, 12 mol% of trimellitic acid and 50 mol% of a diol component containing ethylene glycol

·멜라민계 가교제; Sanwa Chemical Co., Ltd. 제작의 「NIKALAC MW12LF」Melamine-based crosslinking agents; Sanwa Chemical Co., Ltd. Production "NIKALAC MW12LF"

·입자; 평균 입자지름 0.19㎛의 콜로이드 실리카·particle; Colloidal silica having an average particle diameter of 0.19 mu m

(수지층 형성용 도포액 b)(Coating liquid for forming a resin layer b)

고형분 질량비로, 하기 아크릴 수지를 80질량%, 멜라민계 가교제를 18질량%, 입자를 2질량% 혼합하여 수분산 도포액을 조제했다.80% by mass of the following acrylic resin, 18% by mass of a melamine crosslinking agent, and 2% by mass of particles were mixed in a solid content ratio by mass to prepare a water dispersion coating liquid.

·아크릴 수지(하기 공중합 조성으로 이루어지는 아크릴 수지)· Acrylic resin (acrylic resin having the following copolymerization composition)

메틸메타크릴레이트 63중량%Methyl methacrylate 63 wt%

에틸아크릴레이트 35중량%35% by weight of ethyl acrylate

아크릴산 1중량%1% by weight of acrylic acid

N-메틸올아크릴아미드 1중량%N-methylol acrylamide 1 wt%

·멜라민계 가교제; Sanwa Chemical Co., Ltd. 제작의 「NIKALAC MW12LF」Melamine-based crosslinking agents; Sanwa Chemical Co., Ltd. Production "NIKALAC MW12LF"

·입자; 평균 입자지름 0.19㎛의 콜로이드 실리카·particle; Colloidal silica having an average particle diameter of 0.19 mu m

<표면 처리 실리카 입자 분산액><Surface-treated silica particle dispersion>

(표면 처리 실리카 입자 분산액 A)(Surface-treated silica particle dispersion A)

콜로이드 실리카(Nissan Chemical Industries, Ltd. 제작의 「오르가노 실리카졸 IPA-ST-ZL」) 150질량부에, 메타크릴옥시프로필트리메톡시실란 13.7질량부와 10질량% 포름산 수용액 1.7질량부를 혼합하여 70℃에서 1시간 교반했다. 이어서, 불소 화합물(H2C=CH-COO-CH2-(CF2)8F) 13.8질량부 및 2,2-아조비스이소부티로니트릴 0.57질량부를 첨가한 후 60분간 90℃에서 가열 교반하여 분산액을 얻었다.To 150 parts by mass of colloidal silica ("Organosilica solzol IPA-ST-ZL" manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.), 13.7 parts by mass of methacryloxypropyltrimethoxysilane and 1.7 parts by mass of a 10 mass% Followed by stirring at 70 占 폚 for 1 hour. Subsequently, 13.8 parts by mass of a fluorine compound (H 2 C = CH-COO-CH 2 - (CF 2 ) 8 F) and 0.57 parts by mass of 2,2-azobisisobutyronitrile were added, followed by heating and stirring at 90 ° C for 60 minutes To obtain a dispersion.

(표면 처리 실리카 입자 분산액 B)(Surface-treated silica particle dispersion B)

콜로이드 실리카(Nissan Chemical Industries, Ltd. 제작의 「오르가노 실리카졸 IPA-ST-ZL」) 150질량부에, 메타크릴옥시프로필트리메톡시실란 13.7질량부와 10질량% 포름산 수용액 1.7질량부를 혼합하여 70℃에서 1시간 교반했다. 이어서, 소수성 화합물로서 불소 화합물(H2C=CH-COO-CH2-(CF2)8F)을 9질량부와 실리콘 화합물(DIC Corporation 제작의 「PC-4131」)을 4.8질량부, 및 2,2-아조비스이소부티로니트릴을 0.57질량부 첨가한 후 60분간 90℃에서 가열 교반하여 분산액을 얻었다.To 150 parts by mass of colloidal silica ("Organosilica solzol IPA-ST-ZL" manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.), 13.7 parts by mass of methacryloxypropyltrimethoxysilane and 1.7 parts by mass of a 10 mass% Followed by stirring at 70 占 폚 for 1 hour. Subsequently, 9 parts by mass of a fluorine compound (H 2 C═CH-COO-CH 2 - (CF 2 ) 8 F) as a hydrophobic compound and 4.8 parts by mass of a silicone compound ("PC-4131" And 0.57 parts by mass of 2,2-azobisisobutyronitrile was added, followed by heating and stirring at 90 DEG C for 60 minutes to obtain a dispersion.

(표면 처리 실리카 입자 분산액 C)(Surface-treated silica particle dispersion C)

콜로이드 실리카(Nissan Chemical Industries, Ltd. 제작의 「오르가노 실리카졸 IPA-ST-ZL」)330질량부에, 아크릴로일옥시프로필트리메톡시실란(Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 제작) 8질량부, 트리데카플루오로옥틸트리메톡시실란(GE Toshiba Silicone Co., Ltd. 제작) 2질량부, 및 디이소프로폭시알루미늄 에틸아세테트 1.5질량부 첨가하여 혼합한 후에, 이온 교환수 9질량을 첨가했다. 60℃에서 8시간 반응시킨 후에 실온까지 냉각하고, 아세틸아세톤 1.8질량부를 첨가했다. 이어서, 이 분산액에 시클로헥산온을 첨가하면서, 압력 20kPa로 감압증류에 의한 용매치환을 행하여 분산액을 얻었다.Acryloyloxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 8 (trade name) was added to 330 parts by mass of colloidal silica ("Organosilica solzol IPA-ST- , 2 parts by mass of tridecafluorooctyltrimethoxysilane (manufactured by GE Toshiba Silicone Co., Ltd.), and 1.5 parts by mass of diisopropoxyaluminum ethyl acetate were mixed and then mixed with 9 parts by mass of ion-exchanged water Was added. After reacting at 60 DEG C for 8 hours, the reaction mixture was cooled to room temperature, and 1.8 parts by mass of acetylacetone was added. Subsequently, cyclohexanone was added to the dispersion, and the solvent was replaced by distillation under reduced pressure at a pressure of 20 kPa to obtain a dispersion.

(표면 처리 실리카 입자 분산액 D)(Surface-treated silica particle dispersion D)

콜로이드 실리카(Nissan Chemical Industries, Ltd. 제작의 「오르가노 실리카졸 MEK-ST-2040」) 150질량부에, 메타크릴옥시프로필트리메톡시실란 13.7질량부와 10질량% 포름산 수용액 1.7질량부를 혼합하여 70℃에서 1시간 교반했다. 이어서, 불소 화합물(H2C=CH-COO-CH2-(CF2)8F) 13.8질량부 및 2,2-아조비스이소부티로니트릴 0.57질량부를 첨가한 후 60분간 90℃에서 가열 교반하여 분산액을 얻었다.13.7 parts by mass of methacryloxypropyltrimethoxysilane and 1.7 parts by mass of a 10 mass% formic acid aqueous solution were mixed with 150 parts by mass of colloidal silica ("Organosilica sol Mez-ST-2040" manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) Followed by stirring at 70 占 폚 for 1 hour. Subsequently, 13.8 parts by mass of a fluorine compound (H 2 C = CH-COO-CH 2 - (CF 2 ) 8 F) and 0.57 parts by mass of 2,2-azobisisobutyronitrile were added, followed by heating and stirring at 90 ° C for 60 minutes To obtain a dispersion.

(표면 처리 실리카 입자 분산액 E)(Surface-treated silica particle dispersion E)

콜로이드 실리카(Nissan Chemical Industries, Ltd. 제작의 「오르가노 실리카졸 MEK-ST-L」) 150질량부에, 메타크릴옥시프로필트리메톡시실란 13.7질량부와 10질량% 포름산 수용액 1.7질량부를 혼합하여 70℃에서 1시간 교반했다. 이어서, 불소 화합물(H2C=CH-COO-CH2-(CF2)8F) 13.8질량부 및 2,2-아조비스이소부티로니트릴 0.57질량부를 첨가한 후 60분간 90℃에서 가열 교반하여 분산액을 얻었다.To 150 parts by mass of colloidal silica ("Organosilica sol MES-ST-L" manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.), 13.7 parts by mass of methacryloxypropyltrimethoxysilane and 1.7 parts by mass of a 10 mass% Followed by stirring at 70 占 폚 for 1 hour. Subsequently, 13.8 parts by mass of a fluorine compound (H 2 C = CH-COO-CH 2 - (CF 2 ) 8 F) and 0.57 parts by mass of 2,2-azobisisobutyronitrile were added, followed by heating and stirring at 90 ° C for 60 minutes To obtain a dispersion.

[실시예 1][Example 1]

하기 요령으로 하드 코트 필름을 제작했다.A hard coat film was produced by the following procedure.

<수지층 적층 PET 필름의 제작>&Lt; Fabrication of resin layer laminated PET film >

굴절률 1.65로 두께 100㎛의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(PET 필름)의 양면에, 각각 수지층을 PET 필름의 제조 공정 내에서 인라인 코팅했다. 즉, 길이방향으로 1축 연신된 PET 필름의 양면에 각각 수지층 형성용 도포액 a를 바 코팅법으로 도포하여 100℃에서 건조 후, 계속해서 폭방향으로 2축 연신하고 230℃에서 20초간 가열 처리를 실시해서 열경화시켜, 양면에 수지층이 적층된 PET 필름을 제작했다. PET 필름의 양면에 적층된 수지층은 각각 굴절률이 1.59이고, 두께가 0.09㎛이었다.On both sides of a polyethylene terephthalate film (PET film) having a refractive index of 1.65 and a thickness of 100 占 퐉, a resin layer was in-line coated in the production process of a PET film. That is, a coating liquid a for forming a resin layer was applied to both surfaces of a uniaxially stretched PET film in the longitudinal direction by a bar coating method and dried at 100 DEG C, followed by biaxial stretching in the width direction and heated at 230 DEG C for 20 seconds Treated and thermally cured to prepare a PET film laminated with a resin layer on both sides. The resin layers laminated on both sides of the PET film had a refractive index of 1.59 and a thickness of 0.09 mu m, respectively.

<제 1 및 제 2 하드 코트층의 적층><Lamination of first and second hard coat layers>

양면에 수지층이 적층된 PET 필름의 일방의 면의 수지층 상에 하기 활성 에너지선 경화성 조성물 a를 그라비어 코팅법으로 도포하고 90℃에서 건조 후 자외선 400mJ/㎠를 조사해서 경화시켜, 제 1 하드 코트층을 형성했다. 이 제 1 하드 코트층은 두께가 2.6㎛, 굴절률이 1.51이었다.The following active energy ray curable composition (a) was applied on a resin layer on one side of a PET film having a resin layer laminated on both surfaces thereof by gravure coating method, dried at 90 DEG C, and cured by irradiating ultraviolet rays at 400 mJ / Thereby forming a coat layer. The first hard coat layer had a thickness of 2.6 탆 and a refractive index of 1.51.

이어서, PET 필름의 타방의 면(제 1 하드 코트층이 적층된 면과는 반대면)의 수지층 상에도 활성 에너지선 경화성 조성물 a를 사용하여 상기와 동일한 방법으로 제 2 하드 코트층을 형성하여, 하드 코트 필름을 제작했다. 이 제 2 하드 코트층은 두께가 2.6㎛, 굴절률이 1.51이었다.Subsequently, a second hard coat layer was formed on the resin layer on the other surface (the surface opposite to the surface on which the first hard coat layer was laminated) of the PET film by using the actinic energy ray curable composition a in the same manner as described above , And a hard coat film was produced. The second hard coat layer had a thickness of 2.6 탆 and a refractive index of 1.51.

<활성 에너지선 경화성 조성물 a>&Lt; Active Energy ray curable composition a >

디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트 50질량부, 아크릴레이트 화합물(Toagosei Co., Ltd. 제작의 「ARONIX M111」) 37질량부, 표면 처리 실리카 입자 분산액 A를 고형분 환산으로 8질량부, 광중합개시제(Ciba·Specialty·Chemicals 제작의 「Irgacure 184」) 5질량부를 유기용제(메틸에틸케톤)에서 혼합하여 조제했다., 37 parts by mass of an acrylate compound ("ARONIX M111" manufactured by Toagosei Co., Ltd.), 8 parts by mass of a surface-treated silica particle dispersion A in terms of solid content, 10 parts by mass of a photopolymerization initiator (Ciba Irgacure 184 &quot; manufactured by Specialty Chemicals) were mixed in an organic solvent (methyl ethyl ketone).

[실시예 2][Example 2]

제 2 하드 코트층을 하기 활성 에너지선 경화성 조성물 b로 변경하는 것 이외에는, 실시예 1과 동일한 방법으로 하드 코트 필름을 제작했다. 이 제 2 하드 코트층의 두께는 2.6㎛이고, 굴절률은 1.52이었다.A hard coat film was produced in the same manner as in Example 1 except that the second hard coat layer was changed to the following active energy ray curable composition b. The thickness of the second hard coat layer was 2.6 mu m, and the refractive index was 1.52.

<활성 에너지선 경화성 조성물 b>&Lt; Active energy ray curable composition b >

디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트 48질량부, 우레탄아크릴레이트 올리고머(Negami Chemical Industrial Co., Ltd. 제작의 「UN-901T」; 분자 중에 중합성 관능기를 9개 포함) 47질량부, 광중합개시제(Ciba·Specialty·Chemicals 제작의 「Irgacure 184」) 5질량부를 유기용제(메틸에틸케톤)에서 분산·용해하여 조제했다.48 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate, 47 parts by mass of a urethane acrylate oligomer ("UN-901T" manufactured by Negami Chemical Industrial Co., Ltd., containing 9 polymerizable functional groups in the molecule), a photopolymerization initiator (Ciba Irgacure 184 &quot; manufactured by Specialty &amp; Chemicals) were dispersed and dissolved in an organic solvent (methyl ethyl ketone).

[실시예 3][Example 3]

제 1 및 제 2 하드 코트층을 형성하기 위한 활성 에너지선 경화성 조성물을 하기 활성 에너지선 경화성 조성물 c로 변경하는 것 이외에는, 실시예 1과 동일한 방법으로 하드 코트 필름을 제작했다. 제 1 및 제 2 하드 코트층의 두께는 각각 2.6㎛이고, 굴절률은 각각 1.51이었다.A hard coat film was produced in the same manner as in Example 1 except that the active energy ray curable composition for forming the first and second hard coat layers was changed to the following active energy ray curable composition c. The thicknesses of the first and second hard coat layers were respectively 2.6 占 퐉 and 1.51, respectively.

<활성 에너지선 경화성 조성물 c>&Lt; Active energy ray curable composition c >

디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트 87질량부, 표면 처리 실리카 입자 분산액 B를 고형분 환산으로 8질량부, 광중합개시제(Ciba·Specialty·Chemicals 제작의 「Irgacure 184」) 5질량부를 유기용제(메틸에틸케톤)에서 혼합하여 조제했다.87 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate, 8 parts by mass of the surface-treated silica particle dispersion B in terms of solid content, and 5 parts by mass of a photopolymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) were dissolved in an organic solvent (methyl ethyl ketone) And mixed.

[실시예 4][Example 4]

제 2 하드 코트층을 상기 활성 에너지선 경화성 조성물 b로 변경하는 것 이외에는, 실시예 3과 동일한 방법으로 하드 코트 필름을 제작했다. 이 제 2 하드 코트층의 두께는 2.6㎛이고, 굴절률은 1.52이었다.A hard coat film was produced in the same manner as in Example 3 except that the second hard coat layer was changed to the active energy ray curable composition b. The thickness of the second hard coat layer was 2.6 mu m, and the refractive index was 1.52.

[실시예 5][Example 5]

제 1 및 제 2 하드 코트층을 형성하기 위한 활성 에너지선 경화성 조성물을 하기 활성 에너지선 경화성 조성물 d로 변경하는 것 이외에는, 실시예 1과 동일한 방법으로 하드 코트 필름을 제작했다. 제 1 및 제 2 하드 코트층의 두께는 각각 2.6㎛이고, 굴절률은 각각 1.51이었다.A hard coat film was produced in the same manner as in Example 1 except that the active energy ray curable composition for forming the first and second hard coat layers was changed to the following active energy ray curable composition d. The thicknesses of the first and second hard coat layers were respectively 2.6 占 퐉 and 1.51, respectively.

<활성 에너지선 경화성 조성물 d>&Lt; Active energy ray curable composition d >

디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트 87질량부, 표면 처리 실리카 입자 분산액 C를 고형분 환산으로 8질량부, 광중합개시제(Ciba·Specialty·Chemicals 제작의 「Irgacure 184」) 5질량부를 유기용제(메틸에틸케톤과 시클로헥산온의 질량비는 8:2의 혼합 용제)에서 분산·용해하여 조제했다.87 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate, 8 parts by mass of the surface-treated silica particle dispersion C in terms of solid content, and 5 parts by mass of a photopolymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) were dissolved in an organic solvent (methyl ethyl ketone and cyclo Hexanone in a mass ratio of 8: 2).

[실시예 6][Example 6]

제 2 하드 코트층을 상기 활성 에너지선 경화성 조성물 b로 변경하는 것 이외에는, 실시예 5과 동일한 방법으로 하드 코트 필름을 제작했다. 이 제 2 하드 코트층의 두께는 2.6㎛이고, 굴절률은 1.52이었다.A hard coat film was produced in the same manner as in Example 5 except that the second hard coat layer was changed to the active energy ray curable composition b. The thickness of the second hard coat layer was 2.6 mu m, and the refractive index was 1.52.

[실시예 7][Example 7]

제 1 및 제 2 하드 코트층을 형성하기 위한 활성 에너지선 경화성 조성물을 하기 활성 에너지선 경화성 조성물 e로 변경하는 것 이외에는, 실시예 1과 동일한 방법으로 하드 코트 필름을 제작했다. 제 1 및 제 2 하드 코트층의 두께는 각각 2.6㎛이고, 굴절률은 각각 1.51이었다.A hard coat film was produced in the same manner as in Example 1 except that the active energy ray curable composition for forming the first and second hard coat layers was changed to the following active energy ray curable composition e. The thicknesses of the first and second hard coat layers were respectively 2.6 占 퐉 and 1.51, respectively.

<활성 에너지선 경화성 조성물 e>&Lt; Active energy ray curable composition e >

디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트 50질량부, 아크릴레이트 화합물(Toagosei Co., Ltd. 제작의 「ARONIX M111」) 37질량부, 표면 처리 실리카 입자 분산액 D를 고형분 환산으로 8질량부, 광중합개시제(Ciba·Specialty·Chemicals 제작의 「Irgacure 184」) 5질량부를 유기용제(메틸에틸케톤)에서 혼합하여 조제했다., 37 parts by mass of an acrylate compound ("ARONIX M111" manufactured by Toagosei Co., Ltd.), 8 parts by mass of a surface-treated silica particle dispersion D in terms of solid content, a photopolymerization initiator (Ciba Irgacure 184 &quot; manufactured by Specialty Chemicals) were mixed in an organic solvent (methyl ethyl ketone).

[실시예 8][Example 8]

제 2 하드 코트층을 상기 활성 에너지선 경화성 조성물 b로 변경하는 것 이외에는, 실시예 7과 동일한 방법으로 하드 코트 필름을 제작했다. 이 제 2 하드 코트층의 두께는 2.6㎛이고, 굴절률은 1.52이었다.A hard coat film was produced in the same manner as in Example 7 except that the second hard coat layer was changed to the active energy ray curable composition b. The thickness of the second hard coat layer was 2.6 mu m, and the refractive index was 1.52.

[실시예 9][Example 9]

제 1 및 제 2 하드 코트층을 형성하기 위한 활성 에너지선 경화성 조성물을 하기 활성 에너지선 경화성 조성물 f로 변경하는 것 이외에는, 실시예 1과 동일한 방법으로 하드 코트 필름을 제작했다. 제 1 및 제 2 하드 코트층의 두께는 각각 2.6㎛이고, 굴절률은 각각 1.51이었다.A hard coat film was produced in the same manner as in Example 1 except that the active energy ray curable composition for forming the first and second hard coat layers was changed to the following active energy ray curable composition f. The thicknesses of the first and second hard coat layers were respectively 2.6 占 퐉 and 1.51, respectively.

<활성 에너지선 경화성 조성물 f>&Lt; Active energy ray curable composition f >

디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트 50질량부, 아크릴레이트 화합물(Toagosei Co., Ltd. 제작의 「ARONIX M111」) 37질량부, 표면 처리 실리카 입자 분산액 E를 고형분 환산으로 8질량부, 광중합개시제(Ciba·Specialty·Chemicals 제작의 「Irgacure 184」) 5질량부를 유기용제(메틸에틸케톤)에서 혼합하여 조제했다., 37 parts by mass of an acrylate compound ("ARONIX M111" manufactured by Toagosei Co., Ltd.), 8 parts by mass of a surface-treated silica particle dispersion E in terms of solid content, a photopolymerization initiator (Ciba Irgacure 184 &quot; manufactured by Specialty Chemicals) were mixed in an organic solvent (methyl ethyl ketone).

[실시예 10][Example 10]

제 2 하드 코트층을 상기 활성 에너지선 경화성 조성물 b로 변경하는 것 이외에는, 실시예 9와 동일한 방법으로 하드 코트 필름을 제작했다. 이 제 2 하드 코트층의 두께는 2.6㎛이고, 굴절률은 1.52이었다.A hard coat film was produced in the same manner as in Example 9 except that the second hard coat layer was changed to the active energy ray curable composition b. The thickness of the second hard coat layer was 2.6 mu m, and the refractive index was 1.52.

[비교예 1][Comparative Example 1]

제 1 및 제 2 하드 코트층을 형성하기 위한 활성 에너지선 경화성 조성물을 하기 활성 에너지선 경화성 조성물 g로 변경하는 것 이외에는, 실시예 1과 동일한 방법으로 하드 코트 필름을 제작했다. 제 1 및 제 2 하드 코트층의 두께는 각각 2.6㎛이고, 굴절률은 각각 1.51이었다.A hard coat film was produced in the same manner as in Example 1 except that the active energy ray curable composition for forming the first and second hard coat layers was changed to the following active energy ray curable composition g. The thicknesses of the first and second hard coat layers were respectively 2.6 占 퐉 and 1.51, respectively.

<활성 에너지선 경화성 조성물 g>&Lt; Active energy ray curable composition g >

디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트 87질량부, 실리카 입자(Nissan Chemical Industries, Ltd. 제작의 「오르가노 실리카졸 IPA-ST-ZL」)를 고형분 환산으로 8질량부, 광중합개시제(Ciba·Specialty·Chemicals 제작의 「Irgacure 184」) 5질량부를 유기용제(메틸에틸케톤과 시클로헥산온의 질량비는 8:2인 혼합 용제)에서 분산·용해하여 조제했다.87 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate, 8 parts by mass of silica particles ("Organosilica sol IPA-ST-ZL", manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) in terms of solid content, 8 parts by mass of a photopolymerization initiator (produced by Ciba Specialty Chemicals Irgacure 184 &quot;) were dispersed and dissolved in an organic solvent (a mixed solvent of methyl ethyl ketone and cyclohexanone in a mass ratio of 8: 2).

[비교예 2][Comparative Example 2]

제 2 하드 코트층을 상기 활성 에너지선 경화성 조성물 b로 변경하는 것 이외에는, 비교예 1과 동일한 방법으로 하드 코트 필름을 제작했다. 이 제 2 하드 코트층의 두께는 2.6㎛이고, 굴절률은 1.52이었다.A hard coat film was produced in the same manner as in Comparative Example 1 except that the second hard coat layer was changed to the active energy ray curable composition b. The thickness of the second hard coat layer was 2.6 mu m, and the refractive index was 1.52.

[비교예 3][Comparative Example 3]

제 1 및 제 2 하드 코트층을 형성하기 위한 활성 에너지선 경화성 조성물을 하기 활성 에너지선 경화성 조성물 h로 변경하는 것 이외에는, 실시예 1과 동일한 방법으로 하드 코트 필름을 제작했다. 제 1 및 제 2 하드 코트층의 두께는 각각 2.6㎛이고, 굴절률은 각각 1.52이었다.A hard coat film was produced in the same manner as in Example 1 except that the active energy ray curable composition for forming the first and second hard coat layers was changed to the following active energy ray curable composition h. The thicknesses of the first and second hard coat layers were respectively 2.6 占 퐉 and the refractive indexes were 1.52, respectively.

<활성 에너지선 경화성 조성물 h>&Lt; Active energy ray curable composition h >

디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트 87질량부, 폴리메틸메타크릴레이트 입자(Soken Chemical & Engineering Co., Ltd. 제작의 「MX-150H」)를 고형분 환산으로 8질량부, 광중합개시제(Ciba·Specialty·Chemicals 제작의 「Irgacure 184」) 5질량부를 유기용제(메틸에틸케톤과 시클로헥산온의 질량비는 8:2인 혼합 용제)에서 분산·용해하여 조제했다.87 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate, 8 parts by mass of polymethylmethacrylate particles ("MX-150H" manufactured by Soken Chemical &amp; Engineering Co., Ltd.) in terms of solid content, 8 parts by mass of a photopolymerization initiator (Ciba Specialty Chemicals Irgacure 184 &quot;) were dispersed and dissolved in an organic solvent (a mixed solvent of methyl ethyl ketone and cyclohexanone in a mass ratio of 8: 2).

[비교예 4][Comparative Example 4]

제 2 하드 코트층을 상기 활성 에너지선 경화성 조성물 b로 변경하는 것 이외에는, 비교예 3과 동일한 방법으로 하드 코트 필름을 제작했다. 이 제 2 하드 코트층의 두께는 2.6㎛이고, 굴절률은 1.52이었다.A hard coat film was produced in the same manner as in Comparative Example 3 except that the second hard coat layer was changed to the active energy ray curable composition b. The thickness of the second hard coat layer was 2.6 mu m, and the refractive index was 1.52.

[실시예 11][Example 11]

제 1 및 제 2 하드 코트층을 형성하기 위한 활성 에너지선 경화성 조성물을 하기 활성 에너지선 경화성 조성물 i로 변경하는 것 이외에는, 실시예 1과 동일한 방법으로 하드 코트 필름을 제작했다. 제 1 및 제 2 하드 코트층의 두께는 각각 2.6㎛이고, 굴절률은 각각 1.51이었다.A hard coat film was produced in the same manner as in Example 1 except that the active energy ray curable composition for forming the first and second hard coat layers was changed to the following active energy ray curable composition i. The thicknesses of the first and second hard coat layers were respectively 2.6 占 퐉 and 1.51, respectively.

<활성 에너지선 경화성 조성물 i>&Lt; Active energy ray curable composition i >

디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트 54질량부, 아크릴레이트 화합물(Toagosei Co., Ltd. 제작의 「ARONIX M111」) 37질량부, 표면 처리 실리카 입자 분산액 A를 고형분 환산으로 4질량부, 광중합개시제(Ciba·Specialty·Chemicals 제작의 「Irgacure 184」) 5질량부를 유기용제(메틸에틸케톤)에서 혼합하여 조제했다., 59 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate, 37 parts by mass of an acrylate compound ("ARONIX M111" manufactured by Toagosei Co., Ltd.), 4 parts by mass of the surface-treated silica particle dispersion A in terms of solid content, Irgacure 184 &quot; manufactured by Specialty Chemicals) were mixed in an organic solvent (methyl ethyl ketone).

[실시예 12][Example 12]

제 1 및 제 2 하드 코트층을 형성하기 위한 활성 에너지선 경화성 조성물을 하기 활성 에너지선 경화성 조성물 j로 변경하는 것 이외에는, 실시예 1과 동일한 방법으로 하드 코트 필름을 제작했다. 제 1 및 제 2 하드 코트층의 두께는 각각 2.6㎛이고, 굴절률은 각각 1.51이었다.A hard coat film was produced in the same manner as in Example 1 except that the active energy ray curable composition for forming the first and second hard coat layers was changed to the following active energy ray curable composition j. The thicknesses of the first and second hard coat layers were respectively 2.6 占 퐉 and 1.51, respectively.

<활성 에너지선 경화성 조성물 j>&Lt; Active energy ray curable composition j >

디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트 52질량부, 아크릴레이트 화합물(Toagosei Co., Ltd. 제작의 「ARONIX M111」) 37질량부, 표면 처리 실리카 입자 분산액 A를 고형분 환산으로 6질량부, 광중합개시제(Ciba·Specialty·Chemicals 제작의 「Irgacure 184」) 5질량부를 유기용제(메틸에틸케톤)에서 혼합하여 조제했다., 37 parts by mass of an acrylate compound (&quot; ARONIX M111 &quot; produced by Toagosei Co., Ltd.), 6 parts by mass of a surface-treated silica particle dispersion A in terms of solid content, a photopolymerization initiator (Ciba Irgacure 184 &quot; manufactured by Specialty Chemicals) were mixed in an organic solvent (methyl ethyl ketone).

[실시예 13][Example 13]

제 1 및 제 2 하드 코트층을 형성하기 위한 활성 에너지선 경화성 조성물을 하기 활성 에너지선 경화성 조성물 k로 변경하는 것 이외에는, 실시예 1과 동일한 방법으로 하드 코트 필름을 제작했다. 제 1 및 제 2 하드 코트층의 두께는 각각 2.6㎛이고, 굴절률은 각각 1.51이었다.A hard coat film was produced in the same manner as in Example 1 except that the active energy ray curable composition for forming the first and second hard coat layers was changed to the following active energy ray curable composition k. The thicknesses of the first and second hard coat layers were respectively 2.6 占 퐉 and 1.51, respectively.

<활성 에너지선 경화성 조성물 k>&Lt; Active energy ray curable composition k >

디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트 50질량부, 아크릴레이트 화합물(Toagosei Co., Ltd. 제작의 「ARONIX M111」) 35질량부, 표면 처리 실리카 입자 분산액 A를 고형분 환산으로 10질량부, 광중합개시제(Ciba·Specialty·Chemicals 제작의 「Irgacure184」) 5질량부를 유기용제(메틸에틸케톤)에서 혼합하여 조제했다.50 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate, 35 parts by mass of an acrylate compound ("ARONIX M111" manufactured by Toagosei Co., Ltd.), 10 parts by mass of the surface-treated silica particle dispersion A in terms of solid content, Irgacure 184 &quot; manufactured by Specialty &amp; Chemicals) in an organic solvent (methyl ethyl ketone).

[실시예 14][Example 14]

제 1 및 제 2 하드 코트층을 형성하기 위한 활성 에너지선 경화성 조성물을 하기 활성 에너지선 경화성 조성물 l로 변경하는 것 이외에는, 실시예 1과 동일한 방법으로 하드 코트 필름을 제작했다. 제 1 및 제 2 하드 코트층의 두께는 각각 2.6㎛이고, 굴절률은 각각 1.51이었다.A hard coat film was produced in the same manner as in Example 1 except that the active energy ray curable composition for forming the first and second hard coat layers was changed to the following active energy ray curable composition 1. The thicknesses of the first and second hard coat layers were respectively 2.6 占 퐉 and 1.51, respectively.

<활성 에너지선 경화성 조성물 l>&Lt; Active energy ray curable composition 1 >

디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트 50질량부, 아크릴레이트 화합물(Toagosei Co., Ltd. 제작의 「ARONIX M111」) 33질량부, 표면 처리 실리카 입자 분산액 A를 고형분 환산으로 12질량부, 광중합개시제(Ciba·Specialty·Chemicals 제작의 「Irgacure184」) 5질량부를 유기용제(메틸에틸케톤)에서 혼합하여 조제했다., 33 parts by mass of an acrylate compound (&quot; ARONIX M111 &quot; produced by Toagosei Co., Ltd.), 12 parts by mass of a surface-treated silica particle dispersion A in terms of solid content, a photopolymerization initiator (Ciba Irgacure 184 &quot; manufactured by Specialty &amp; Chemicals) in an organic solvent (methyl ethyl ketone).

[비교예 5][Comparative Example 5]

제 1 및 제 2 하드 코트층을 형성하기 위한 활성 에너지선 경화성 조성물을 하기 활성 에너지선 경화성 조성물 m으로 변경하는 것 이외에는, 실시예 1과 동일한 방법으로 하드 코트 필름을 제작했다. 제 1 및 제 2 하드 코트층의 두께는 각각 2.6㎛이고, 굴절률은 각각 1.51이었다.A hard coat film was produced in the same manner as in Example 1 except that the active energy ray curable composition for forming the first and second hard coat layers was changed to the following active energy ray curable composition m. The thicknesses of the first and second hard coat layers were respectively 2.6 占 퐉 and 1.51, respectively.

<활성 에너지선 경화성 조성물 m>&Lt; Active energy ray curable composition m >

디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트 56질량부, 아크릴레이트 화합물(Toagosei Co., Ltd. 제작의 「ARONIX M111」) 37질량부, 표면 처리 실리카 입자 분산액 A를 고형분 환산으로 2질량부, 광중합개시제(Ciba·Specialty·Chemicals 제작의 「Irgacure184」) 5질량부를 유기용제(메틸에틸케톤)에서 혼합하여 조제했다., 57 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate, 37 parts by mass of an acrylate compound ("ARONIX M111" manufactured by Toagosei Co., Ltd.), 2 parts by mass of the surface-treated silica particle dispersion A in terms of solid content, Irgacure 184 &quot; manufactured by Specialty &amp; Chemicals) in an organic solvent (methyl ethyl ketone).

[비교예 6][Comparative Example 6]

제 1 및 제 2 하드 코트층을 형성하기 위한 활성 에너지선 경화성 조성물을 하기 활성 에너지선 경화성 조성물 n으로 변경하는 것 이외에는, 실시예 1과 동일한 방법으로 하드 코트 필름을 제작했다. 제 1 및 제 2 하드 코트층의 두께는 각각 2.6㎛이고, 굴절률은 각각 1.51이었다.A hard coat film was produced in the same manner as in Example 1 except that the active energy ray curable composition for forming the first and second hard coat layers was changed to the following active energy ray curable composition n. The thicknesses of the first and second hard coat layers were respectively 2.6 占 퐉 and 1.51, respectively.

<활성 에너지선 경화성 조성물 n><Active Energy ray-curable composition n>

디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트 45질량부, 아크릴레이트 화합물(Toagosei Co., Ltd. 제작의 「ARONIX M111」) 30질량부, 표면 처리 실리카 입자 분산액 A를 고형분 환산으로 20질량부, 광중합개시제(Ciba·Specialty·Chemicals 제작의 「Irgacure184」) 5질량부를 유기용제(메틸에틸케톤)에서 혼합하여 조제했다.45 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate, 30 parts by mass of an acrylate compound ("ARONIX M111" manufactured by Toagosei Co., Ltd.), 20 parts by mass of the surface-treated silica particle dispersion A in terms of solid content, Irgacure 184 &quot; manufactured by Specialty &amp; Chemicals) in an organic solvent (methyl ethyl ketone).

[비교예 7][Comparative Example 7]

실시예 1의 수지층 적층 PET 필름의 제작에 있어서, 수지층 형성용 도포액을 수지층 형성용 도포액 b로 변경하는 것 이외에는, 실시예 1과 동일한 방법으로 양면에 수지층이 적층된 PET 필름을 제작했다. PET 필름의 양면에 적층된 수지층은 각각 굴절률이 1.52이고, 두께가 0.09㎛이었다.A resin layer laminated PET film of Example 1 was produced in the same manner as in Example 1 except that the coating liquid for forming a resin layer was changed to a coating liquid for forming a resin layer b, . The resin layers laminated on both sides of the PET film had a refractive index of 1.52 and a thickness of 0.09 mu m, respectively.

<제 1 및 제 2 하드 코트층의 적층><Lamination of first and second hard coat layers>

상기 수지층 적층 PET 필름에, 비교예 5와 동일한 방법으로 제 1 및 제 2 하드 코트층을 적층하여 하드 코트 필름을 제작했다. 제 1 및 제 2 하드 코트층의 두께는 각각 2.6㎛이고, 굴절률은 각각 1.51이었다.The first and second hard coat layers were laminated on the resin layer laminated PET film in the same manner as in Comparative Example 5 to produce a hard coat film. The thicknesses of the first and second hard coat layers were respectively 2.6 占 퐉 and 1.51, respectively.

[하드 코트 필름의 평가][Evaluation of hard coat film]

상기에서 얻어지는 실시예 및 비교예의 하드 코트 필름에 대해서, 제 1 및 제 2 하드 코트층의 구성을 표 1에 나타내고, 이들 하드 코트 필름의 평가 결과를 표 2에 나타낸다.Table 1 shows the structures of the first and second hard coat layers of the hard coat films obtained in the above-mentioned Examples and Comparative Examples. Table 2 shows the evaluation results of these hard coat films.

Figure pct00006
Figure pct00006

Figure pct00007
Figure pct00007

또한, 상기 실시예 및 비교예 중 대표적인 샘플에 대해서, 제 1 하드 코트층의 표면에 있어서의 돌기의 평균 직경, 평균 높이 및 평균 간격을 측정했다. 그 결과를 표 3에 나타낸다.The average diameter, the average height, and the average interval of the projections on the surface of the first hard coat layer were measured for representative samples of the examples and the comparative examples. The results are shown in Table 3.

Figure pct00008
Figure pct00008

상기 결과로부터, 실시예 1∼14에 있어서는 제 1 하드 코트층 표면에 돌기가 단위면적(100㎛2)당 300∼10000개 형성되어 있으므로, 슬라이딩성 및 내블로킹성이 양호하다고 할 수 있다. 또한, 제 1 및 제 2 하드 코트층의 중심선 평균 조도(Ra1, Ra2)는 30nm 미만이고, 하드 코트 필름의 헤이즈값은 1.5% 미만으로 작아지고 있어 투명성이 양호하므로, 전광선 투과율이 높다고 할 수 있다.From the above results, in Examples 1 to 14, since 300 to 10000 protrusions were formed per unit area (100 탆 2 ) on the surface of the first hard coat layer, the sliding property and the blocking resistance were good. Further, the center line average roughness Ra1, Ra2 of the first and second hard coat layers is less than 30 nm, the haze value of the hard coat film is less than 1.5%, and the transparency is good, so that the total light transmittance is high .

[실시예 15∼24][Examples 15 to 24]

실시예 1∼10의 하드 코트 필름의 제 2 하드 코트층의 면에, 투명 도전막으로서 ITO막을 두께가 25nm가 되도록 스퍼터링법으로 적층하여, 투명 도전성 필름을 제작했다. 이들 투명 도전성 필름에 대해서 슬라이딩성과 내블로킹성을 평가했다. 그 결과를 표 4에 나타낸다.On the surfaces of the second hard coat layer of the hard coat films of Examples 1 to 10, an ITO film as a transparent conductive film was laminated by a sputtering method so as to have a thickness of 25 nm to prepare a transparent conductive film. These transparent conductive films were evaluated for sliding property and blocking resistance. The results are shown in Table 4.

Figure pct00009
Figure pct00009

또한, 투명 도전성 필름의 슬라이딩성 및 내블로킹성의 평가는 상술의 「(14) 슬라이딩성의 평가」 및 「(15) 내블로킹성의 평가」에 있어서, 제 1 하드 코트층의 면과 투명 도전막의 면이 마주보도록 포개진 것과 같이 변경한 것 이외에는, 동일한 방법으로 평가했다.The sliding property and the blocking resistance of the transparent conductive film were evaluated in the same manner as in the evaluation of (14) Sliding property and (15) Evaluation of blocking resistance, The evaluation was carried out in the same manner except that the change was made such that it was opposed to face each other.

실시예 15∼24의 투명 도전성 필름은 모두 슬라이딩성 및 내블로킹성도 양호했다.All of the transparent conductive films of Examples 15 to 24 had good sliding properties and blocking resistance.

[실시예 25∼29][Examples 25 to 29]

실시예 2, 4, 6, 8 및 10의 하드 코트 필름의 제 2 하드 코트층의 면에, 하기 고굴절률층과 저굴절률층을 이 순서로 적층하고, 이어서 저굴절률층 상에 하기 투명 도전막을 형성하여 정전용량식 터치 패널용의 투명 도전성 필름을 제작했다.The following high refractive index layer and a low refractive index layer were laminated in this order on the surface of the second hard coat layer of the hard coat film of Examples 2, 4, 6, 8, and 10, and then the following transparent conductive film To produce a transparent conductive film for a capacitive touch panel.

<고굴절률층의 적층>&Lt; Lamination of high refractive index layer &

하기 고굴절률층 형성용의 활성 에너지선 경화성 조성물을 그라비어 코팅법에 의해 도포하고 90℃에서 건조 후, 자외선 400mJ/㎠를 조사해서 경화시켜 두께가 50nm인 고굴절률층을 형성했다. 이 고굴절률층의 굴절률은 1.68이었다.The active energy ray curable composition for forming the following high refractive index layer was coated by a gravure coating method, dried at 90 占 폚 and irradiated with ultraviolet rays of 400 mJ / cm2 to form a high refractive index layer having a thickness of 50 nm. The refractive index of this high refractive index layer was 1.68.

(고굴절률층 형성용의 활성 에너지선 경화성 조성물)(Active energy ray curable composition for forming a high refractive index layer)

디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트 21질량부, 우레탄아크릴레이트 올리고머(Negami Chemical Industrial Co.,Ltd. 제작의 「UN-901T」; 분자 중에 중합성 관능기를 9개 포함) 21질량부, 산화지르코늄 55질량부, 및 광중합개시제(Ciba·Specialty·Chemicals 제작의 「Irgacure 184」) 3질량부를 유기용제(프로필렌글리콜모노메틸에탈)에서 분산 또는 용해하여 조제했다.21 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate, 21 parts by mass of a urethane acrylate oligomer ("UN-901T" manufactured by Negami Chemical Industrial Co., Ltd., containing 9 polymerizable functional groups in the molecule), 55 parts by mass of zirconium oxide , And 3 parts by mass of a photopolymerization initiator ("Irgacure 184" manufactured by Ciba Specialty Chemicals) were dispersed or dissolved in an organic solvent (propylene glycol monomethyl ether).

<저굴절률층의 적층>&Lt; Lamination of low refractive index layer &

하기 저굴절률층 형성용의 활성 에너지선 경화성 조성물을 그라비어 코팅법에 의해 도포하고 90℃에서 건조 후, 자외선 400mJ/㎠을 조사해서 경화시켜 두께가 40nm인 저굴절률층을 형성했다. 이 저굴절률층의 굴절률은 1.40이었다.The active energy ray-curable composition for forming the following low refractive index layer was coated by a gravure coating method, dried at 90 占 폚, and cured by irradiation with ultraviolet rays of 400 mJ / cm2 to form a low refractive index layer having a thickness of 40 nm. The refractive index of this low refractive index layer was 1.40.

(저굴절률층 형성용의 활성 에너지선 경화성 조성물)(Active energy ray curable composition for forming a low refractive index layer)

디-(α-플루오로아크릴산)-2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,9-헵타데카플루오로노닐에틸렌글리콜 87질량부, 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트 10질량부, 광중합개시제(Ciba·Specialty·Chemicals 제작의 「Irgacure 184」) 3질량부를 유기용제(메틸에틸케톤)에서 분산 또는 용해하여 조제했다.Di- (? -Fluoroacrylic acid) -2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,9-heptadecafluorononylethylene , 87 parts by mass of glycol, 10 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate, and 3 parts by mass of a photopolymerization initiator (&quot; Irgacure 184 &quot; manufactured by Ciba Specialty Chemicals) were dispersed or dissolved in an organic solvent (methyl ethyl ketone).

<투명 도전막의 적층><Lamination of Transparent Conductive Film>

ITO막을 두께가 25nm가 되도록 스퍼터링법으로 적층하고 격자상 패턴으로 패턴 가공(에칭 처리)하여 투명 도전막을 형성했다.The ITO film was laminated by sputtering to a thickness of 25 nm and patterned (etched) in a lattice pattern to form a transparent conductive film.

[평가][evaluation]

실시예 25∼29의 투명 도전성 필름에 대해서, 슬라이딩성, 내블로킹성 및 투명 도전막 패턴의 시인성을 평가했다. 그 결과를 표 5에 나타낸다.Sliding properties, blocking resistance, and visibility of transparent conductive film patterns of the transparent conductive films of Examples 25 to 29 were evaluated. The results are shown in Table 5.

Figure pct00010
Figure pct00010

또한, 투명 도전성 필름의 슬라이딩성 및 내블로킹성의 평가는 상술의 「(14) 슬라이딩성의 평가」 및 「(15) 내블로킹성의 평가」에 있어서, 제 1 하드 코트층의 면과 투명 도전막의 면이 마주보도록 포개진 것과 같이 변경한 것 이외에는, 동일한 방법으로 평가했다.The sliding property and the blocking resistance of the transparent conductive film were evaluated in the same manner as in the evaluation of (14) Sliding property and (15) Evaluation of blocking resistance, The evaluation was carried out in the same manner except that the change was made such that it was opposed to face each other.

실시예 25∼29의 투명 도전성 필름은 모두 양호한 슬라이딩성, 내블로킹성 및 투명 도전막 패턴의 시인성을 나타냈다.All of the transparent conductive films of Examples 25 to 29 exhibited good sliding properties, blocking resistance, and visibility of the transparent conductive film pattern.

[실시예 31∼40][Examples 31 to 40]

이하에 나타내는 바와 같이, 젖음 장력이 다른 5종류의 수지층 형성용 도포액을 준비했다.As shown below, five kinds of coating liquids for forming a resin layer having different wetting pressures were prepared.

(수지층 형성용 도포액 c; 젖음 장력 42mN/m)(Coating liquid c for forming a resin layer (wet tension 42 mN / m)

고형분 질량비로, 하기 폴리에스테르 수지 c를 27질량%, 폴리에스테르 수지 d를 54질량%, 멜라민계 가교제를 18질량%, 입자를 1질량% 혼합하여 수분산 도포액을 조제했다.A water dispersion coating liquid was prepared by mixing 27 mass% of the polyester resin c, 54 mass% of the polyester resin d, 18 mass% of the melamine crosslinking agent, and 1 mass% of the particles in solid content by mass ratio.

·폴리에스테르 수지 c; 2,6-나프탈렌디카르복실산 43몰%/5-나트륨술포이소 프탈산 7몰%/에틸렌글리콜 45몰%/디에틸렌글리콜 5몰%로 구성되어 있는 폴리에스테르 수지.Polyester resin c; 43 mol% of 2,6-naphthalene dicarboxylic acid / 7 mol% of 5-sodium sulfoisophthalic acid / 45 mol% of ethylene glycol / 5 mol% of diethylene glycol.

·폴리에스테르 수지 d; 테레프탈산 38몰%/트리멜리트산 12몰%/에틸렌글리콜 45몰%/디에틸렌글리콜 5몰%로 구성되어 있는 폴리에스테르 수지.Polyester resin d; 38 mol% of terephthalic acid / 12 mol% of trimellitic acid / 45 mol% of ethylene glycol / 5 mol% of diethylene glycol.

·멜라민계 가교제; Sanwa Chemical Co., Ltd. 제작의 「NIKALAC MW12LF」Melamine-based crosslinking agents; Sanwa Chemical Co., Ltd. Production "NIKALAC MW12LF"

·입자; 평균 입자지름 0.19㎛의 콜로이드 실리카.·particle; Colloidal silica having an average particle diameter of 0.19 mu m.

(수지층 형성용 도포액 d; 젖음 장력 44mN/m)(Coating liquid d for forming a resin layer; wetting tension: 44 mN / m)

고형분 질량비로, 하기 폴리에스테르 수지 e를 42질량%, 아크릴 수지 a를 42질량%, 에폭시계 가교제를 6질량%, 계면활성제를 9질량%, 입자를 1질량% 혼합하여 수분산 도포액을 조제했다.The water-dispersed coating liquid was prepared by mixing 42 mass% of the polyester resin e, 42 mass% of the acrylic resin a, 6 mass% of the epoxy crosslinking agent, 9 mass% of the surfactant, and 1 mass% did.

·폴리에스테르 수지 e; 테레프탈산 35몰%/이소프탈산 11몰%/5-나트륨술포이소프탈산 4몰%/에틸렌글리콜 45몰%/디에틸렌글리콜 4몰%/폴리에틸렌글리콜(반복단위수 n=23) 1몰%로 구성되어 있는 폴리에스테르 수지.Polyester resin e; (Composed of 35 mol% of terephthalic acid / 11 mol% of isophthalic acid / 5 mol% of sodium sulfoisophthalic acid / 45 mol% of ethylene glycol / 4 mol% of diethylene glycol / 1 mol% of polyethylene glycol Polyester resin.

·아크릴 수지 a; 메틸메타크릴레이트 75몰%/에틸아크릴레이트 18몰%/N-메틸올아크릴아미드 4몰%/메톡시폴리에틸렌글리콜(반복단위수 n=10)메타크릴레이트 3몰%로 구성되어 있는 아크릴 수지.Acrylic resin a; An acrylic resin consisting of 75 mole% of methyl methacrylate / 18 mole% of ethyl acrylate / 4 mole% of N-methylol acrylamide / 3 mole% of methoxypolyethylene glycol (n = 10 repeating units) methacrylate.

·에폭시계 가교제; 1,3-비스(N,N-디글리시딜아민)시클로헥산Epoxy crosslinking agents; 1,3-bis (N, N-diglycidylamine) cyclohexane

·계면활성제; 폴리옥시에틸렌라우릴에테르·Surfactants; Polyoxyethylene lauryl ether

·입자; 평균 입자지름 0.19㎛의 콜로이드 실리카.·particle; Colloidal silica having an average particle diameter of 0.19 mu m.

(수지층 형성용 도포액 e; 젖음 장력 48mN/m)(Coating liquid e for forming a resin layer (wet tension: 48 mN / m)

고형분 질량비로, 하기 폴리에스테르 수지 f를 40질량%, 아크릴 수지 b를 40질량%, 멜라민계 가교제를 10질량%, 계면활성제를 9질량%, 입자를 1질량% 혼합하여 수분산 도포액을 조제했다.The aqueous dispersion liquid was prepared by mixing 40% by mass of the polyester resin f, 40% by mass of the acrylic resin b, 10% by mass of the melamine crosslinking agent, 9% by mass of the surfactant and 1% did.

·폴리에스테르 수지 f; 테레프탈산 30몰%/이소프탈산 15몰%/5-나트륨술포이소프탈산 5몰%/에틸렌글리콜 30몰%/1,4-부탄디올 20몰%로 구성되어 있는 폴리에스테르 수지.Polyester resin f; A polyester resin composed of 30 mol% of terephthalic acid / 15 mol% of isophthalic acid / 5 mol% of sodium sulfoisophthalic acid / 30 mol% of ethylene glycol / 20 mol% of 1,4-butanediol.

·아크릴 수지 b; 메틸메타크릴레이트 75몰%/에틸아크릴레이트 22몰%/아크릴산 1몰%/N-메틸올아크릴아미드 2몰%로 구성되어 있는 아크릴 수지Acrylic resin b; An acrylic resin composed of 75 mol% of methyl methacrylate / 22 mol% of ethyl acrylate / 1 mol% of acrylic acid / 2 mol% of N-methylol acrylamide

·멜라민계 가교제; Sanwa Chemical Co., Ltd. 제작의 「NIKALAC MW12LF」Melamine-based crosslinking agents; Sanwa Chemical Co., Ltd. Production "NIKALAC MW12LF"

·계면활성제; 폴리옥시에틸렌라우릴에테르·Surfactants; Polyoxyethylene lauryl ether

·입자; 평균 입자지름 0.19㎛의 콜로이드 실리카.·particle; Colloidal silica having an average particle diameter of 0.19 mu m.

(수지층 형성용 도포액 f; 젖음 장력 51mN/m)(Coating liquid f for forming a resin layer (wet tension: 51 mN / m)

고형분 질량비로, 하기 폴리에스테르 수지 g를 45질량%, 아크릴 수지 c를 45질량%, 멜라민계 가교제를 5질량%, 계면활성제를 4질량%, 입자를 1질량% 혼합하여 수분산 도포액을 조제했다.A water-dispersion coating liquid was prepared by mixing 45% by mass of the polyester resin g, 45% by mass of the acrylic resin c, 5% by mass of the melamine crosslinking agent, 4% by mass of the surfactant and 1% did.

·폴리에스테르 공중합체 g: 테레프탈산 32몰%/이소프탈산 12몰%/5-나트륨술포이소프탈산 6몰%/에틸렌글리콜 46몰%/디에틸렌글리콜 4몰%로 구성되어 있는 폴리에스테르 공중합체.Polyester copolymer g: polyester copolymer composed of 32 mol% terephthalic acid / 12 mol% isophthalic acid / 6 mol% 5-sodium sulfoisophthalic acid / 46 mol% ethylene glycol / 4 mol% diethylene glycol.

·아크릴 수지 c: 메틸메타크릴레이트 70몰%/에틸아크릴레이트 22몰%/N-메틸올아크릴아미드 4몰%/N,N-디메틸아크릴아미드 4몰%로 구성되어 있는 아크릴 공중합체.Acrylic resin c: an acrylic copolymer composed of 70 mol% of methyl methacrylate / 22 mol% of ethyl acrylate / 4 mol% of N-methylol acrylamide / 4 mol% of N, N-dimethylacrylamide.

·멜라민계 가교제; Sanwa Chemical Co., Ltd. 제작의 「NIKALAC MW12LF」Melamine-based crosslinking agents; Sanwa Chemical Co., Ltd. Production "NIKALAC MW12LF"

·계면활성제; 폴리옥시에틸렌라우릴에테르·Surfactants; Polyoxyethylene lauryl ether

·입자; 평균 입자지름 0.19㎛의 콜로이드 실리카.·particle; Colloidal silica having an average particle diameter of 0.19 mu m.

(수지층 형성용 도포액 g; 젖음 장력 53mN/m)(Coating liquid g for forming a resin layer; wet tension: 53 mN / m)

고형분 질량비로, 우레탄 수지를 85질량%, 에폭시계 가교제를 5질량%, 계면활성제를 9질량%, 입자를 1질량% 혼합하여 도포액을 조제했다.The coating liquid was prepared by mixing 85% by mass of a urethane resin, 5% by mass of an epoxy crosslinking agent, 9% by mass of a surfactant, and 1% by mass of particles by solid content ratio by mass.

·우레탄 수지; Dainippon Ink & Chamicals, Inc. 제작의 「HYDRAN AP-20」Urethane resins; Dainippon Ink & Chamicals, Inc. Production "HYDRAN AP-20"

·에폭시계 가교제; 트리에틸렌글리콜디글리시딜에테르Epoxy crosslinking agents; Triethylene glycol diglycidyl ether

·계면활성제; 폴리옥시에틸렌라우릴에테르·Surfactants; Polyoxyethylene lauryl ether

·입자; 평균 입자지름 0.19㎛의 콜로이드 실리카.·particle; Colloidal silica having an average particle diameter of 0.19 mu m.

[실시예 31][Example 31]

하기 요령으로 하드 코트 필름을 제작했다.A hard coat film was produced by the following procedure.

<수지층 적층 PET 필름의 제작>&Lt; Fabrication of resin layer laminated PET film >

굴절률 1.65로 두께 100㎛의 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(PET 필름)의 양면에, 각각 수지층을 PET 필름의 제조 공정 내에서 인라인 코팅했다. 즉, 길이방향으로 1축 연신된 PET 필름의 양면에 각각 수지층 형성용 도포액 c를 바 코팅법으로 도포하고 100℃에서 건조 후, 계속해서 폭방향으로 2축 연신하고 230℃에서 20초간 가열 처리를 실시해서 열경화시켜, 양면에 수지층이 적층된 PET 필름을 제작했다. PET 필름의 양면에 적층된 수지층의 두께는 각각 0.08㎛이었다.On both sides of a polyethylene terephthalate film (PET film) having a refractive index of 1.65 and a thickness of 100 占 퐉, a resin layer was in-line coated in the production process of a PET film. That is, a coating liquid c for forming a resin layer was applied to both surfaces of a uniaxially stretched PET film in the longitudinal direction by a bar coating method, followed by drying at 100 DEG C, followed by biaxial stretching in the width direction and heating at 230 DEG C for 20 seconds Treated and thermally cured to prepare a PET film laminated with a resin layer on both sides. The thicknesses of the resin layers laminated on both sides of the PET film were 0.08 탆.

<제 1 및 제 2 하드 코트층의 적층><Lamination of first and second hard coat layers>

양면에 수지층이 적층된 PET 필름의 일방의 면의 수지층 상에, 실시예 1에서 사용한 활성 에너지선 경화성 조성물 a를 그라비어 코팅법으로 도포하고 90℃에서 건조 후 자외선 400mJ/㎠를 조사해서 경화시켜, 제 1 하드 코트층을 형성했다. 이 제 1 하드 코트층의 두께는 1.6㎛이었다.The active energy ray curable composition a used in Example 1 was coated on the resin layer on one side of the PET film having the resin layers laminated on both sides thereof by gravure coating method and dried at 90 DEG C and then irradiated with ultraviolet rays at 400 mJ / To form a first hard coat layer. The thickness of the first hard coat layer was 1.6 mu m.

이어서, PET 필름의 타방의 면(제 1 하드 코트층이 적층된 면과는 반대면)의 수지층 상에, 실시예 2에서 사용한 활성 에너지선 경화성 조성물 b를 상기와 동일한 방법으로 제 2 하드 코트층을 형성하여, 하드 코트 필름을 제작했다. 이 제 2 하드 코트층의 두께는 1.6㎛이었다.Subsequently, the active energy ray curable composition b used in Example 2 was coated on the resin layer on the other surface (the surface opposite to the surface on which the first hard coat layer was laminated) of the PET film, To form a hard coat film. The thickness of the second hard coat layer was 1.6 탆.

[실시예 32∼35][Examples 32 to 35]

수지층 형성용 도포액을 표 6과 같이 변경하는 것 이외에는, 실시예 31과 동일한 방법으로 하드 코트 필름을 제작했다.A hard coat film was produced in the same manner as in Example 31 except that the coating liquid for forming the resin layer was changed as shown in Table 6. [

[실시예 36∼40][Examples 36 to 40]

제 1 하드 코트층의 두께를 2.6㎛로 변경하는 것, 및 제 2 하드 코트층의 두께를 2.6㎛로 변경하는 것 이외에는, 실시예 31∼35과 동일한 방법으로 하드 코트 필름을 제작했다.A hard coat film was produced in the same manner as in Examples 31 to 35 except that the thickness of the first hard coat layer was changed to 2.6 占 퐉 and the thickness of the second hard coat layer was changed to 2.6 占 퐉.

[하드 코트 필름의 평가][Evaluation of hard coat film]

상기에서 얻어지는 실시예 31∼40의 하드 코트 필름에 대해서, 제 1 및 제 2 하드 코트층의 구성을 표 6에 나타내고, 이들 하드 코트 필름의 평가 결과를 표 7에 나타낸다.The compositions of the first and second hard coat layers obtained in the above-mentioned Examples 31 to 40 are shown in Table 6, and the evaluation results of these hard coat films are shown in Table 7.

Figure pct00011
Figure pct00011

Figure pct00012
Figure pct00012

상기 결과로부터, 젖음 장력이 52mN/m 이하인 수지층 상에 직접 제 1 하드 코트층을 적층함으로써, 제 1 하드 코트층 표면에 입자에 의한 돌기가 형성되기 쉬운 것을 알았다(단위면적당 돌기 개수가 많아지는 것을 알았다). 그리고, 수지층 표면의 젖음 장력의 영향은 제 1 하드 코트층의 두께가 2㎛ 미만인 경우에 현저해지는 것을 알았다. 즉, 젖음 장력이 52mN/m 이하인 수지층 상에 직접 제 1 하드 코트층을 적층하는 실시형태는 제 1 하드 코트층의 두께가 2㎛ 미만인 경우에 제 1 하드 코트층에 함유되는 입자가 표면 근방에 편재하기 쉽고, 그 결과 효율적으로 입자에 의한 돌기가 형성된다. 또한, 제 1 하드 코트층의 두께를 2㎛ 미만으로 함으로써, 헤이즈값이 보다 작아져 투명성은 향상된다.From the above results, it was found that the projections due to particles were liable to be formed on the surface of the first hard coat layer by directly laminating the first hard coat layer on the resin layer having a wet tension of 52 mN / m or less (the number of projections per unit area . It has been found that the influence of the wet tension on the surface of the resin layer becomes significant when the thickness of the first hard coat layer is less than 2 mu m. That is, in the embodiment in which the first hard coat layer is directly laminated on the resin layer having a wet tension of 52 mN / m or less, when the thickness of the first hard coat layer is less than 2 탆, And as a result, protrusions due to particles are efficiently formed. Further, by setting the thickness of the first hard coat layer to less than 2 mu m, the haze value becomes smaller and the transparency improves.

1∼5 돌기 11 돌기
20 가로방향의 직선 30 세로방향의 직선
1 to 5 projections 11 projections
20 Straight line in the horizontal direction 30 Straight line in the vertical direction

Claims (17)

기재 필름의 적어도 일방의 면에, 입자를 함유하는 제 1 하드 코트층을 구비하고, 제 1 하드 코트층의 표면에 상기 입자로 이루어지는 돌기가 100㎛2당 300∼4000개의 밀도로 존재하고 있고, 제 1 하드 코트층의 표면의 중심선 평균 조도(Ra1)는 30nm 미만이고, 헤이즈값은 1.5% 미만인 것을 특징으로 하는 하드 코트 필름.Wherein at least one surface of the base film is provided with a first hard coat layer containing particles, and the surface of the first hard coat layer has protrusions of the above-mentioned particles at a density of 300 to 4,000 per 100 μm 2 , Wherein the center line average roughness Ra1 of the surface of the first hard coat layer is less than 30 nm and the haze value is less than 1.5%. 제 1 항에 있어서,
상기 입자의 평균 입자지름(r)은 0.05∼0.5㎛인 것을 특징으로 하는 하드 코트 필름.
The method according to claim 1,
Wherein the average particle diameter (r) of the particles is 0.05 to 0.5 占 퐉.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
제 1 하드 코트층의 두께(d)에 대한 상기 입자의 평균 입자지름(r)의 비율(r/d)은 0.01∼0.30인 것을 특징으로 하는 하드 코트 필름.
3. The method according to claim 1 or 2,
Wherein the ratio (r / d) of the average particle diameter (r) of the particles to the thickness (d) of the first hard coat layer is 0.01 to 0.30.
제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 돌기의 평균 직경은 0.03∼0.3㎛이고, 상기 돌기의 평균 높이는 0.03∼0.3㎛인 것을 특징으로 하는 하드 코트 필름.
4. The method according to any one of claims 1 to 3,
Wherein the average diameter of the protrusions is 0.03 to 0.3 占 퐉 and the average height of the protrusions is 0.03 to 0.3 占 퐉.
제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 돌기의 평균 간격은 0.10∼0.70㎛인 것을 특징으로 하는 하드 코트 필름.
5. The method according to any one of claims 1 to 4,
Wherein the average interval of the protrusions is 0.10 to 0.70 占 퐉.
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
제 1 하드 코트층의 두께(d)는 0.5㎛ 이상 10㎛ 미만인 것을 특징으로 하는 하드 코트 필름.
6. The method according to any one of claims 1 to 5,
And the thickness (d) of the first hard coat layer is 0.5 占 퐉 or more and less than 10 占 퐉.
제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 기재 필름과 제 1 하드 코트층 사이에 두께가 0.005∼0.3㎛인 수지층을 구비하고, 상기 수지층은 두께가 1.3배 이상의 평균 입자지름을 갖는 입자를 함유하는 것을 특징으로 하는 하드 코트 필름.
7. The method according to any one of claims 1 to 6,
Wherein a resin layer having a thickness of 0.005 to 0.3 mu m is provided between the base film and the first hard coat layer, and the resin layer contains particles having an average particle diameter of 1.3 times or more in thickness.
제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 기재 필름은 폴리에틸렌테레프탈레이트로 이루어지고, 상기 기재 필름과 제 1 하드 코트층 사이에 굴절률이 1.55∼1.61인 수지층을 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 하드 코트 필름.
8. The method according to any one of claims 1 to 7,
Wherein the base film is made of polyethylene terephthalate and a resin layer having a refractive index of 1.55 to 1.61 is provided between the base film and the first hard coat layer.
제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 기재 필름과 제 1 하드 코트층 사이에 젖음 장력이 52mN/m 이하인 수지층을 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 하드 코트 필름.
9. The method according to any one of claims 1 to 8,
And a resin layer having a wet tension of 52 mN / m or less between the base film and the first hard coat layer.
제 9 항에 있어서,
제 1 하드 코트층의 두께는 2㎛ 미만인 것을 특징으로 하는 하드 코트 필름.
10. The method of claim 9,
Wherein the thickness of the first hard coat layer is less than 2 占 퐉.
제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서,
제 1 하드 코트층에 함유되는 상기 입자는 무기물로 이루어지고, 상기 입자의 표면에 대하여 표면 자유에너지를 작게 하기 위한 처리 또는 소수화 처리가 실시되어 있는 것을 특징으로 하는 하드 코트 필름.
11. The method according to any one of claims 1 to 10,
Wherein the particles contained in the first hard coat layer are made of an inorganic material and subjected to treatment for reducing surface free energy or hydrophobic treatment for the surface of the particles.
제 11 항에 있어서,
제 1 하드 코트층에 함유되는 상기 입자의 표면에 대하여, 일반식 1(CnF2n +1-(CH2)m-Si(Q)3)로 나타내어지는 오르가노 실란 화합물, 상기 오르가노 실란 화합물의 가수 분해물, 또는 상기 가수 분해물의 부분 축합물을 사용하여 표면 자유에너지를 작게 하는 처리가 실시되어 있는 것을 특징으로 하는 하드 코트 필름.
[단, 일반식 1에 있어서, n은 1∼10의 정수, m은 1∼5의 정수를 나타낸다. Q는 탄소수 1∼5개의 알콕시기 또는 할로겐원자를 나타낸다]
12. The method of claim 11,
An organosilane compound represented by the general formula 1 (C n F 2n + 1 - (CH 2 ) m -Si (Q) 3 ) with respect to the surface of the particles contained in the first hard coat layer, Wherein the hydrolyzate of the compound or the partial condensate of the hydrolyzate is used to reduce the surface free energy.
(In the general formula (1), n represents an integer of 1 to 10, and m represents an integer of 1 to 5. Q represents an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms or a halogen atom]
제 11 항에 있어서,
제 1 하드 코트층에 함유되는 상기 입자의 표면은 일반식 2(B-R4-SiR5 n(OR6)3-n)로 나타내어지는 화합물을 사용하여 처리된 후에, 일반식 3(D-R7-Rf2)으로 나타내어지는 불소 화합물을 사용하여 처리됨으로써 소수화되어 있는 것을 특징으로 하는 하드 코트 필름.
[단, 일반식(2) 및 (3)에 있어서, B 및 D는 각각 독립적으로 반응성 부위를 나타내고, R4 및 R7은 각각 독립적으로 탄소수 1∼3개의 알킬렌기, 또는 상기 알킬렌기로부터 도출되는 에스테르 구조를 나타내고, R5 및 R6은 각각 독립적으로 수소 또는 탄소수 1∼4개의 알킬기를 나타내고, Rf2는 플루오로알킬기를 나타내고, n은 0∼2의 정수를 나타낸다]
12. The method of claim 11,
The surface of the particles contained in the first hard coat layer is treated with a compound represented by the general formula 2 (BR 4 -SiR 5 n (OR 6 ) 3 -n ), and then the compound represented by the general formula 3 (DR 7 -Rf 2 ). &Lt; RTI ID = 0.0 &gt; 11. &lt; / RTI &gt;
In the general formulas (2) and (3), B and D each independently represent a reactive site, R 4 and R 7 each independently represent an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms, , R 5 and R 6 are each independently hydrogen or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, Rf 2 is a fluoroalkyl group, and n is an integer of 0 to 2 ,
제 11 항에 있어서,
제 1 하드 코트층에 함유되는 상기 입자의 표면은 탄소수 4개 이상의 플루오로알킬기와 반응성 부위를 갖는 불소 화합물, 탄소수 8개 이상의 탄화수소기와 반응성 부위를 갖는 장쇄 탄화수소 화합물, 또는 실록산기와 반응성 부위를 갖는 실리콘 화합물을 사용하여 처리됨으로써 소수화되어 있는 것을 특징으로 하는 하드 코트 필름.
12. The method of claim 11,
The surface of the particles contained in the first hard coat layer may be a fluorine compound having a fluoroalkyl group having 4 or more carbon atoms and a reactive site, a long-chain hydrocarbon compound having a reactive site with a hydrocarbon group having 8 or more carbon atoms, or a silicon compound having a reactive site with a siloxane group Lt; RTI ID = 0.0 &gt; hydrophobic &lt; / RTI &gt;
제 1 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항에 있어서,
제 1 하드 코트층에 함유되는 상기 입자는 실리카 입자인 것을 특징으로 하는 하드 코트 필름.
15. The method according to any one of claims 1 to 14,
Wherein the particles contained in the first hard coat layer are silica particles.
제 1 항 내지 제 15 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 기재 필름의 제 1 하드 코트층이 설치된 면과는 반대면에 제 2 하드 코트층을 구비하고, 제 2 하드 코트층의 표면에는 입자로 이루어지는 돌기가 실질적으로 존재하지 않고, 또한 제 2 하드 코트층의 표면의 중심선 평균 조도(Ra2)는 25nm 이하인 것을 특징으로 하는 하드 코트 필름.
16. The method according to any one of claims 1 to 15,
The second hard coat layer is provided on the surface of the base film opposite to the surface on which the first hard coat layer is provided and the surface of the second hard coat layer is substantially free of protrusions made of particles, Wherein the center line average roughness (Ra2) of the surface of the layer is 25 nm or less.
제 1 항 내지 제 16 항 중 어느 한 항에 기재된 하드 코트 필름의 적어도 일방의 면에 투명 도전막을 구비하는 것을 특징으로 하는 투명 도전성 필름.A transparent conductive film comprising a transparent conductive film on at least one surface of the hard coat film according to any one of claims 1 to 16.
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Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6094226B2 (en) * 2013-01-09 2017-03-15 Dic株式会社 Protective adhesive film, screen panel and touch panel
JP6258012B2 (en) * 2013-11-15 2018-01-10 リンテック株式会社 Hard coat film, transparent conductive film, and capacitive touch panel
JP5767744B1 (en) * 2014-03-31 2015-08-19 積水ナノコートテクノロジー株式会社 Light transmissive conductive film and touch panel having the same
JP6239484B2 (en) * 2014-10-29 2017-11-29 富士フイルム株式会社 Optical film, polarizing plate, image display device, and optical film manufacturing method
JP6577708B2 (en) 2014-12-05 2019-09-18 日東電工株式会社 Transparent conductive film and touch sensor using the same
TWI676185B (en) * 2014-12-09 2019-11-01 日商琳得科股份有限公司 Transparent conductive film and its producing method thereof
JP6515407B2 (en) * 2015-03-09 2019-05-22 リンテック株式会社 Window film and method of manufacturing window film
JP6681726B2 (en) * 2016-02-01 2020-04-15 日東電工株式会社 Transparent conductive film
WO2017138482A1 (en) * 2016-02-10 2017-08-17 日立化成株式会社 Conductive particles, insulated coated conductive particles, anisotropic conductive adhesive, connected structure and method for producing conductive particles
JP6713850B2 (en) * 2016-06-16 2020-06-24 株式会社トッパンTomoegawaオプティカルフィルム Transparent conductive film, method of manufacturing the same, and touch panel including transparent conductive film
JP6983586B2 (en) * 2016-09-07 2021-12-17 東山フイルム株式会社 Hardcourt film for transparent conductive films
JP6508559B2 (en) * 2016-12-01 2019-05-08 Dic株式会社 Active energy ray curable composition and film using the same
JP7141237B2 (en) * 2018-04-27 2022-09-22 日東電工株式会社 HARD COAT FILM, TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM, TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM LAMINATE AND IMAGE DISPLAY DEVICE
CN110504047B (en) * 2018-05-16 2021-06-29 南昌欧菲显示科技有限公司 Transparent conductive film and touch screen
JP6462941B1 (en) * 2018-05-28 2019-01-30 グンゼ株式会社 Cover film
WO2024070442A1 (en) * 2022-09-26 2024-04-04 富士フイルム株式会社 Film, laminated film, and film production method
CN115850803B (en) * 2022-11-27 2024-02-13 合肥乐凯科技产业有限公司 Antifog anti-dazzle hardening film

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3248333B2 (en) * 1994-02-25 2002-01-21 東レ株式会社 Laminated polyester film
JP2974576B2 (en) * 1994-05-25 1999-11-10 リンテック株式会社 Slippery hard coat film and method for producing the same
JP2000052517A (en) * 1998-08-04 2000-02-22 Unitika Ltd Multilayer biaxially oriented polyester film
JP3684095B2 (en) * 1999-01-21 2005-08-17 帝人株式会社 Slippery composite polyester film
DE60128508D1 (en) * 2000-03-28 2007-07-05 Toyo Boseki Transparent conductive film, transparent conductive sheet and touch-sensitive panel
JP4986100B2 (en) * 2003-12-25 2012-07-25 東洋紡績株式会社 Transparent conductive film, transparent conductive sheet and touch panel
JP2008001050A (en) * 2006-06-26 2008-01-10 Toray Ind Inc Laminated polyester film for electronic paper, electronic paper using the same, and manufacturing method of elecronic paper using the same
JP5239247B2 (en) * 2007-07-31 2013-07-17 大日本印刷株式会社 Curable resin composition for hard coat layer and hard coat film
WO2009022639A1 (en) * 2007-08-10 2009-02-19 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Hard coat film
KR20120003448A (en) * 2009-03-31 2012-01-10 데이진 가부시키가이샤 Transparent conductive laminate and transparent touch panel
KR20100112740A (en) * 2009-04-10 2010-10-20 도레이첨단소재 주식회사 Low reflection film
JP5385846B2 (en) * 2010-04-30 2014-01-08 三菱樹脂株式会社 Laminated polyester film
JP2012027401A (en) * 2010-07-27 2012-02-09 Panasonic Electric Works Co Ltd Hard coat film and antireflection film

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Publication number Publication date
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WO2014084008A1 (en) 2014-06-05
JP5528645B1 (en) 2014-06-25
TW201425035A (en) 2014-07-01

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