KR20100112740A - Low reflection film - Google Patents

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이문복
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서정태
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Abstract

PURPOSE: A low reflection film is provided to economically produce the low reflection film by avoid using an expensive metal oxide additive, and to secure the excellent scratch prevention property. CONSTITUTION: A low reflection film includes a high refractive index hard coating layer(20) and a low refractive index layer(30) successively laminated on one side of a substrate film(10). The surface of the low refractive index layer includes a minute concavo-convex structure. The arithmetic average roughness of the minute concavo-convex structure is 0.0001~0.005 microns. The thickness of the high refractive index hard coating layer is 1~50 microns.

Description

저반사 필름{LOW REFLECTION FILM}Low reflection film {LOW REFLECTION FILM}

본 발명은 저반사 필름에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 기재필름 상에 고굴절율로 조절된 경질코팅층 및 저굴절율층이 2층 구조로 적층된 저반사 필름을 제공하되, 경질코팅층과 저굴절율층의 표면조도를 낮게 조절하여, 종래의 저반사 필름보다 표면경도, 긁힘 방지성 및 지문 제거 기능을 향상시킬 수 있는 저반사 필름에 관한 것이다.The present invention relates to a low reflection film, and more particularly, to provide a low reflection film in which a hard coating layer adjusted to a high refractive index and a low refractive index layer are laminated on a base film in a two-layer structure, wherein a hard coating layer and a low refractive index layer are provided. By adjusting the surface roughness of the low, it relates to a low reflection film that can improve the surface hardness, scratch resistance and fingerprint removal function than the conventional low reflection film.

음극선관(CRT), 액정디스플레이(LCD) 및 플라즈마 디스플레이(PDP)와 같은 각종 디스플레이는 전기적인 신호가 화면에 화상으로 표현되는 것으로 대부분 고전압을 사용하기 때문에 정전기, 전자파 및 표면에서의 외광 반사현상이 일어나 이용자의 건강에 해를 미치게 됨은 물론 시각적인 효과를 반감시키거나 눈의 피로를 유발한다. 따라서, 외부의 모습이잘 반사되지 않게 하는 저반사필름을 상기 화면표시장치의 표면에 배치하여 화질을 훨씬 선명하게 하며 이용자의 눈에 피로감이 없는 화면을 얻도록 하고 있다.Various displays, such as cathode ray tube (CRT), liquid crystal display (LCD), and plasma display (PDP), are electric signals that are represented on the screen. Most of them use high voltage, so static electricity, electromagnetic waves and external light reflection on the surface Wake up to harm the health of the user, as well as halve the visual effect or cause eye fatigue. Accordingly, the low reflection film which prevents the external appearance from being reflected well is disposed on the surface of the screen display device to make the image quality much clearer and to obtain a screen without fatigue to the user's eyes.

일반적으로, 디스플레이의 저반사 필름은 다층의 구조[PCT JP2003-008535]를 이루는데, 그 일례로 기재필름 상에 경질코팅층, 고굴절율층 및 저굴절율층으로 구성된 3층의 구조(도 2)와 경질코팅층, 중간굴절율층, 고굴절율층 및 저굴절율층으로 구성된 4층의 구조(도 3) 및 경질코팅층, 고굴절율층, 저굴절율층, 고굴절율층 및 저굴절율층으로 구성된 5층의 구조(도 4)의 저반사 필름이 공지되어 있다.In general, the low reflection film of the display forms a multi-layer structure [PCT JP2003-008535], for example, a three-layer structure composed of a hard coating layer, a high refractive index layer and a low refractive index layer on the base film (Fig. 2) and 4 layers structure composed of hard coating layer, middle refractive index layer, high refractive index layer and low refractive index layer (FIG. 3) and 5 layers structure composed of hard coating layer, high refractive index layer, low refractive index layer, high refractive index layer and low refractive index layer ( The low reflection film of FIG. 4) is known.

상기 경질코팅층은 기재필름의 경도향상을 위한 것으로서 기재필름과 접하여 위치하며, 고굴절율층, 저굴절율층 및 중간굴절율층은 굴절율 조절을 위한 층으로 경질코팅층 상에 적층된다. 이때, 저반사 필름이 외광 반사의 기능을 충분히 나타내기 위해서는, 저굴절율층의 굴절율이 저굴절율층보다 기판에 더 근접한 층의 굴절율보다 낮은 것이 중요하다.The hard coating layer is positioned to be in contact with the base film to improve the hardness of the base film, the high refractive index layer, the low refractive index layer and the middle refractive index layer is laminated on the hard coating layer as a layer for adjusting the refractive index. At this time, in order for the low reflection film to sufficiently exhibit the function of external light reflection, it is important that the refractive index of the low refractive index layer is lower than the refractive index of the layer closer to the substrate than the low refractive index layer.

일반적으로 저반사 필름은 굴절률 조절을 위해 다층의 구조로 이루어지나, 저반사 필름의 생산성, 비용 및 반사감소 효과의 견지에서 적층되는 층이 적을수록 유리하다. 또한 저반사 필름은 디스플레이 제품의 최외각에 위치하기 때문에 외광 반사 저감의 기능 외에도 제품의 보호 및 고급화를 위한 긁힘 방지, 오염 방지, 대전 방지 등의 부가기능이 추가적으로 요구되며, 이에 따라 하나 이상의 역할을 하는 굴절율층이 공지되어 있다. 그 일례로, 대전방지 및 경질코팅층의 기능이 부여된 고굴절율 경질코팅층 및 내오염성이 부여된 저굴절율층이 있다.In general, the low reflection film is composed of a multi-layered structure for controlling the refractive index, but the more layers are laminated in view of the productivity, cost and reflection reduction effect of the low reflection film is advantageous. In addition, since the low-reflection film is located at the outermost part of the display product, in addition to the function of reducing external light reflection, additional functions such as anti-scratch, anti-pollution, and antistatic are required for protecting and enhancing the product. A refractive index layer is known. Examples thereof include high refractive index hard coating layers imparted with the functions of antistatic and hard coating layers and low refractive index layers imparted with fouling resistance.

그러나, 하나 이상의 역할을 하는 굴절율층을 제조할 경우, 사용할 수 있는 재료가 제한적이며 고가의 선택된 재료를 불가피하게 사용함에 따라 제조비용이 높다. 또한, 굴절율만을 감안하여 제조된 굴절율층보다 최종적인 광학특성, 투과율, 헤이즈 및 내UV성의 특성이 저하되는 한계가 있다. 특히, 고굴절율 경질코팅층의 경우 높은 굴절율이 요구되고 동시에 대형 디스플레이 제품에 필요한 대전방지성을 부여하기 위해 선택된 입자들을 다량 사용함에 따라, 코팅층의 표면조도가 높아지는 경향이 있다. 저굴절율층 또한 디스플레이 제품의 최종 반사율을 낮추기 위해 굴절율이 낮은 입자를 다량 사용함에 따라, 코팅층의 표면조도가 높아지는 경향이 있다.However, when manufacturing a refractive index layer that plays more than one role, the materials that can be used are limited and manufacturing costs are high due to the inevitable use of expensive selected materials. In addition, there is a limit that the final optical characteristics, transmittance, haze and UV resistance characteristics are lower than the refractive index layer prepared in consideration of only the refractive index. In particular, in the case of a high refractive index hard coating layer, a high refractive index is required and at the same time a large amount of particles selected to impart the antistatic properties required for large display products, the surface roughness of the coating layer tends to increase. The low refractive index layer also tends to increase the surface roughness of the coating layer as a large amount of particles having low refractive index are used to lower the final reflectance of the display product.

최근, LCD, PDP TV와 같은 대형 디스플레이 이외의 휴대폰, PDA, PMP, 게임기와 같은 소형 휴대 기기 분야에서도 외광 반사를 저감시켜 시인성, 특히 야외에서의 시인성을 높이기 위한 노력들이 진행되고 있다. 그러나, 시중에 발매되고 있는 대형 디스플레이용 저반사 필름들을 휴대용 기기에 그대로 적용할 때는 다음과 같은 문제점이 발생한다.In recent years, efforts have been made to improve visibility, especially in outdoor, by reducing external light reflection in the field of small portable devices such as mobile phones, PDAs, PMPs, and game machines other than large displays such as LCDs and PDP TVs. However, the following problems occur when the commercially available low-reflection films for large displays are applied to portable devices as they are.

먼저, 휴대용 기기, 특히 터치 패널을 채용한 휴대용 기기의 경우, 대형 디스플레이에 비해 사용자의 피부에 의한 접촉이 훨씬 빈번하게 발생한다. 이에 따라, 땀, 지문 등에 의한 오염의 발생 가능성이 대형 디스플레이에 비해 현격하게 증가한다. 그런 이유로, 휴대용 기기의 경우 이러한 오염에 대한 대책이 더욱더 필요하게 된다. 그러나, 대형 디스플레이용 저반사 필름들은 상기 기술대로 본연의 광학적 특성을 만족하기 위해 다량으로 사용된 입자들에 의해 표면에 미세한 요철이 존재하게 되고, 이러한 요철은 지문 등의 오염이 발생한 경우, 오염의 제거를 방해하는 역할을 하게 된다. 또한, 휴대용 기기의 경우, 특히 터치 패널을 채용한 경우, 터치용 펜이나 손톱 등에 의한 충격 및 휴대하는 과정에서 여러 가지 물질에 의한 접촉이 대형 디스플레이에 비해 훨씬 빈번하게 발생하게 되어, 표면의 경도, 즉 단단하고 거친 물질과의 접촉에 의한 스크래치 방지 기능이 대형 디스플레이에 비해 더 엄격하게 요구된다.First, in the case of a portable device, especially a portable device employing a touch panel, contact by the user's skin occurs much more frequently than a large display. As a result, the possibility of contamination caused by sweat, fingerprints, or the like is significantly increased as compared with a large display. For that reason, there is a greater need for countermeasures against such contamination in portable devices. However, the low reflection films for large display have fine unevenness on the surface due to the particles used in large quantities to satisfy the original optical characteristics as described above, and the unevenness of the unevenness is caused by contamination of fingerprints and the like. It will interfere with removal. In addition, in the case of a portable device, especially when a touch panel is employed, contact with various materials occurs more frequently than a large display in the process of impact and touch with a pen or fingernail for touch. In other words, the ability to prevent scratching by contact with hard and coarse materials is more stringent than that of large displays.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하고 본 기술분야의 요구사항에 부응하기 위해 안출한 것으로서, 본 발명의 목적은 긁힘 방지성 및 지문제거 기능이 우수하고, 또한 기존 고가의 금속산화물 첨가에 따른 높은 제조원가를 낮출 수 있는 저반사 필름을 제공하고자 하는 것이다.The present invention has been made to solve the above problems and to meet the requirements of the art, the object of the present invention is excellent scratch resistance and fingerprint removal function, and also high due to the addition of existing expensive metal oxide It is to provide a low reflection film that can lower the manufacturing cost.

본 발명의 상기 및 다른 목적과 이점은 바람직한 실시예를 설명한 하기의 설명으로부터 보다 분명해 질 것이다.These and other objects and advantages of the present invention will become more apparent from the following description of a preferred embodiment thereof.

상기 목적은, 기재필름(10)의 적어도 한쪽 면에, 고굴절율 경질코팅층(20)과 저굴절율층(30)이 순차적으로 적층되되, 상기 저굴절율층(30)의 표면은 미세한 요철을 갖고, 상기 요철의 산술평균조도(Ra)가 0.0001㎛~ 0.005㎛인 것을 특징으로 하는 저반사 필름에 의해 달성된다.The purpose is that the high refractive index hard coating layer 20 and the low refractive index layer 30 are sequentially stacked on at least one surface of the base film 10, the surface of the low refractive index layer 30 has fine irregularities, Arithmetic mean roughness Ra of the unevenness is 0.0001 µm to 0.005 µm, which is achieved by a low reflection film.

여기서, 상기 저굴절율층(30)은 바인더 수지 100중량 대비 3 내지 15중량부의 중공실리카를 포함하는 것을 특징으로 한다.Here, the low refractive index layer 30 is characterized in that it comprises 3 to 15 parts by weight of hollow silica with respect to 100 weight of the binder resin.

바람직하게는, 상기 저반사필름은 헤이즈가 3% 미만인 것을 특징으로 한다.Preferably, the low reflection film is characterized in that the haze is less than 3%.

바람직하게는, 상기 저반사필름은 표면경도가 3H 이상인 것을 특징으로 한다.Preferably, the low reflection film is characterized in that the surface hardness of 3H or more.

바람직하게는, 상기 저반사필름은 수접촉각이 80°이상인 것을 특징으로 한 다.Preferably, the low reflection film is characterized in that the water contact angle is 80 ° or more.

바람직하게는, 상기 고굴절율 경질코팅층(20)의 두께는 1~50㎛이고, 상기 저굴절율층(30)의 두께는 0.01~1.0㎛인 것을 특징으로 한다.Preferably, the thickness of the high refractive index hard coating layer 20 is 1 ~ 50㎛, the thickness of the low refractive index layer 30 is characterized in that the 0.01 ~ 1.0㎛.

바람직하게는, 상기 저굴절율층(30)은 주쇄 중에 비닐에테르구조를 갖는 함불소계 공중합체를 포함하는 것을 특징으로 것을 특징으로 한다.Preferably, the low refractive index layer 30 is characterized in that it comprises a fluorine-containing copolymer having a vinyl ether structure in the main chain.

바람직하게는, 상기 저굴절층(30)은 입경 0.001㎛∼0.2㎛의 실리카 미립자를 더 함유하는 것을 특징으로 것을 특징으로 한다.Preferably, the low refractive index layer 30 is characterized in that it further contains silica fine particles having a particle diameter of 0.001㎛ 0.2㎛.

또한 바람직하게는, 상기 저굴절층(30)은 다음 화학식 1로 나타내어지는 실란커플링제 또는 그 가수분해물 또는 그 반응물을 함유하되,Also preferably, the low refractive layer 30 contains a silane coupling agent represented by the following formula (1) or a hydrolyzate thereof or a reactant thereof,

[화학식 1][Formula 1]

R(1)aR(2)bSiX4-(a+b) R (1) a R (2) b SiX 4- (a + b)

여기서, R(1), R(2)는 각각 알킬기, 알케닐기, 알릴기, 또는 할로겐기, 에폭시기, 아미노기, 메르캅토기, 메타크릴옥시기 내지 시아노기를 갖는 탄화수소기이고, X는 알콕실기, 알콕시알콕실기, 할로겐기 내지 아실옥시기에서 선택된 가수분해 가능한 치환기이며, a와 b는 각각 0, 1 또는 2이고, 또한 (a+b)는 1, 2 또는 3인 것을 특징으로 한다.Here, R (1) and R (2) are each an alkyl group, an alkenyl group, an allyl group, or a hydrocarbon group having a halogen group, an epoxy group, an amino group, a mercapto group, a methacryloxy group to a cyano group, and X is an alkoxyl group , Alkoxyalkoxy group, a hydrolyzable substituent selected from halogen to acyloxy group, a and b are each 0, 1 or 2, and (a + b) is characterized in that 1, 2 or 3.

바람직하게는, 상기 저굴절층(30)은 불소화합물로서 다음 화학식 2로 나타내어지는 알콕시실릴기를 갖는 불소수지 또는 이의 가수분해 생성물을 더 함유하되,Preferably, the low refractive layer 30 further contains a fluorine resin or a hydrolysis product thereof having an alkoxysilyl group represented by the following Chemical Formula 2 as a fluorine compound,

[화학식 2][Formula 2]

R(3)cR(4)dSiX4-(c+d) R (3) c R (4) d SiX 4- (c + d)

여기서, R(3), R(4)는 각각 불소 치환된 알킬기, 알케닐기, 알릴기, 메타크릴옥시기, 또는 (메타)아크릴로일기를 갖는 탄화수소기이고, X는 알콕실기, 알콕시알콕실기, 할로겐기 또는 아실옥시기에서 선택된 가수분해 가능한 치환기이며, c와 d는 각각 0, 1, 2 또는 3이고, 또한 (c+d)는 1, 2 또는 3 인 것을 특징으로 한다.Wherein R (3) and R (4) are each a hydrocarbon group having a fluorine-substituted alkyl group, alkenyl group, allyl group, methacryloxy group, or (meth) acryloyl group, and X is an alkoxyl group or an alkoxyalkoxy group And a hydrolyzable substituent selected from a halogen group or an acyloxy group, c and d are each 0, 1, 2 or 3, and (c + d) is 1, 2 or 3, respectively.

또한, 바람직하게는, 상기 저반사 필름은 500시간 광 조사 전후에 반사율 상승이 0.5% 미만인 것을 특징으로 한다.In addition, the low reflection film is characterized in that the increase in reflectance is less than 0.5% before and after light irradiation for 500 hours.

본 발명에 따르면, 표면경도, 긁힘 방지성 및 지문제거 기능이 우수하고, 또한 기존 고가의 금속산화물 첨가에 따른 높은 제조원가를 낮출 수 있는 등의 효과를 가진다.According to the present invention, the surface hardness, scratch resistance and fingerprint removal function is excellent, and also has the effect of lowering the high manufacturing cost according to the existing expensive metal oxide addition.

이하, 본 발명의 실시예와 도면을 참조하여 본 발명을 상세히 설명한다. 이들 실시예는 오로지 본 발명을 보다 구체적으로 설명하기 위해 예시적으로 제시한 것일 뿐, 본 발명의 범위가 이들 실시예에 의해 제한되지 않는다는 것은 당업계에서 통상의 지식을 가지는 자에 있어서 자명할 것이다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to embodiments and drawings of the present invention. These examples are only presented by way of example only to more specifically describe the present invention, it will be apparent to those skilled in the art that the scope of the present invention is not limited by these examples. .

본 발명자들은 상기의 문제점들을 해소하고자 노력한 결과, 기재필름 상에 경질 코팅층이 고굴절율로 조절된 고굴절율 경질코팅층을 형성하되, 상기 고굴절율 경질코팅층이 경질 코팅 수지성분에 굴절율 조절을 위한 입자를 첨가함에 있어, 입 자의 크기와 비율을 최적으로 함유하게 하고, 마찬가지로 경질코팅층 위에 적층되는 저굴절율층에 대해서도 과다한 요철을 형성시키는 요인을 제거하여 최종적으로 완성된 저반사 필름의 표면조도가 지문 등에 의한 오염 제거를 용이하게 할 수 있고, 펜 등의 접촉에 의해 발생되는 스크래치를 방지할 수 있는 저반사 필름이 만들어짐을 확인하여 본 발명을 완성하였다.The present inventors have made efforts to solve the above problems, while forming a high refractive index hard coating layer in which the hard coating layer is adjusted to a high refractive index on the base film, the high refractive index hard coating layer adds particles for controlling the refractive index to the hard coating resin component In this case, the size and ratio of the particles are optimally contained, and similarly, even the low refractive index layer laminated on the hard coating layer eliminates the factor of forming excessive unevenness, and thus the surface roughness of the finally completed low reflection film is contaminated by fingerprints or the like. The present invention was completed by confirming that a low-reflection film that can be easily removed and can prevent scratches caused by contact with a pen or the like is made.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 저반사 필름의 단면도이며, 이러한 저반사 필름은 기재필름(10)상에 고굴절율 경질코팅층(20) 및 저굴절율층(30)이 순차적으로 적층된 필름(이하, '저반사필름'이라고도 한다.)이다. 이러한 저반사 필름에 보호필름과 기재필름(10)의 반대면에 점착층 및 이형필름이 적층될 수도 있다.1 is a cross-sectional view of a low reflection film according to an embodiment of the present invention, such a low reflection film is a film in which the high refractive index hard coating layer 20 and the low refractive index layer 30 are sequentially laminated on the base film 10 (Hereinafter referred to as 'low reflection film'). In such a low reflection film, an adhesive layer and a release film may be laminated on opposite surfaces of the protective film and the base film 10.

본 발명은 고굴절율 경질코팅층 및 저굴절율층의 표면 산술평균조도(Ra)를 낮춤으로서 표면경도, 긁힘 방지성 등의 물리적 기능을 개선하고, 지문제거 기능을 향상시킨 우수한 저반사 필름을 제공할 수 있고, 또한 기존 고가의 금속산화물 첨가에 따른 높은 제조원가를 낮출 수 있는 저반사 필름을 제공할 수 있다.The present invention can provide an excellent low reflection film that improves physical functions such as surface hardness, scratch resistance, and the like by lowering the surface arithmetic mean roughness Ra of the high refractive index hard coating layer and the low refractive index layer. In addition, it is possible to provide a low reflection film that can lower the high manufacturing cost according to the existing expensive metal oxide addition.

이러한 목적을 달성하기 위해서 본 발명자들은 예의연구를 거듭한 결과, 기재필름의 적어도 한 면에 고굴절율 경질코팅층(20)과 저굴절층(30)이 순차적으로 적층되고, 또 저굴절층(30)의 표면 산술평균조도(Ra)가 0.0001㎛ ~ 0.005㎛로 하는 구성에 의해, 그 목적을 달성할 수 있는 반사방지필름으로 이루어진다는 것을 발견하였다.In order to achieve this object, the present inventors have intensively studied, and as a result, the high refractive index hard coating layer 20 and the low refractive layer 30 are sequentially stacked on at least one surface of the base film, and the low refractive layer 30 The surface arithmetic mean roughness (Ra) of was found to be composed of an antireflection film that can achieve the object by the configuration of 0.0001 µm to 0.005 µm.

이러한 본 발명에 따른 상기 저반사 필름은 화상표시면 또는 전면판의 표면에 점착하여 이루어진 화상표시장치에도 적용될 수 있다.The low reflection film according to the present invention can be applied to an image display device made by adhering to the surface of an image display surface or a front plate.

본 발명에 따른 저반사 필름의 상기 기재필름(10)은 표시장치용 부재(이하 '표시부재'라고 함)로서 사용하기 위해, 광선투과율이 높고, 헤이즈 값이 낮은 것이 바람직하다. 예를 들면, 파장 400∼800nm에서의 광선투과율은 바람직하게는 40%이상, 보다 바람직하게는 60%이상이며, 또한, 헤이즈 값은 바람직하게는 5%이하, 보다 바람직하게는 3%이하이다. 이들 조건의 하나 또는 모두를 만족시키지 않는 경우에는, 표시부재로서 사용했을 때에, 화상의 선명성이 결여되는 경향이 있다. 또한, 이러한 효과를 발휘하는 점에서, 광선투과율의 상한치는 99.5%정도까지 그리고 헤이즈 값의 하한 값은 0.1%정도까지가 제작할 수 있는 가능한 범위이다.The base film 10 of the low reflection film according to the present invention preferably has a high light transmittance and a low haze value for use as a display device member (hereinafter referred to as a 'display member'). For example, the light transmittance at a wavelength of 400 to 800 nm is preferably 40% or more, more preferably 60% or more, and the haze value is preferably 5% or less, and more preferably 3% or less. When one or all of these conditions are not satisfied, there is a tendency that the sharpness of an image is lacking when used as a display member. In addition, the upper limit of the light transmittance is about 99.5%, and the lower limit of the haze value is about 0.1% in the point which exhibits such an effect, and is the range which can be produced.

또한, 본 발명에 따른 저반사 필름의 상기 기재필름(10)은 특별히 한정되는 것은 아니고, 공지의 플라스틱 기재필름에 이용되는 수지소재 중에서 적절히 선택해서 사용할 수 있다. 이러한 기재필름용 수지소재로서, 예를 들면, 에스테르, 에틸렌, 프로필렌, 디아세테이트, 트리아세테이트, 스티렌, 카보네이트, 메틸펜텐, 술폰, 에테르에틸케톤, 이미드, 불소, 나일론, 아크릴레이트, 지환족 올레핀계 등에서 선택되는 하나를 구성단위로 하는 폴리머 또는 공중합 폴리머를 사용할 수 있다. 바람직하게는 이들 수지 중에서 폴리에틸렌테레프탈레이트 등의 에스테르계, 트리아세틸셀룰로오스 등의 아세테이트계, 및 폴리메틸메타크릴레이트 등의 아크릴레이트계에서 선택되는 하나를 구성단위로 하는 폴리머 또는 공중합 폴리머가 바람직한데, 이들은 투명성, 강도 및 두께의 균일성이 우수하기 때문이다. 특히, 투명성, 헤이즈값, 기계특성의 면에서, 에스테르계를 구성단위로 하는 폴리머로 이루어지는 기재필름이 바람직하다.In addition, the said base film 10 of the low reflection film which concerns on this invention is not specifically limited, It can select suitably from the resin material used for a well-known plastic base film, and can use. As such a resin material for the base film, for example, ester, ethylene, propylene, diacetate, triacetate, styrene, carbonate, methylpentene, sulfone, ether ethyl ketone, imide, fluorine, nylon, acrylate, alicyclic olefin Polymers or copolymerized polymers having one selected from the system and the like as the structural unit can be used. Preferably, among these resins, polymers or copolymerized polymers containing one selected from esters such as polyethylene terephthalate, acetates such as triacetyl cellulose, and acrylates such as polymethyl methacrylate are preferred. This is because they are excellent in transparency, strength and uniformity of thickness. In particular, in view of transparency, haze value and mechanical properties, a base film made of a polymer having an ester type as a structural unit is preferable.

이러한 폴리에스테르계 수지로서는, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌-2,6-나프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌-α, β-비스(2-클로로페녹시)에탄-4,4'-디카르복실레이트 등을 들 수 있다. 또한, 이들 폴리에스테르에는 또한 다른 디카르복실산 성분이나 디올 성분이 20몰%이하이면 공중합되어 있어도 좋다. 그 중에서도 품질, 경제성 등을 종합적으로 판단하면, 폴리에틸렌테레프탈레이트가 특히 바람직하다. 이들 구성 수지성분은 1종만 사용해도, 2종이상 병용해도 어느 것이라도 좋다.Examples of such polyester resins include polyethylene terephthalate, polyethylene-2,6-naphthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene-α, and β-bis (2-chlorophenoxy) ethane-4,4'-dicarboxyl. The rate etc. are mentioned. Moreover, these polyester may be copolymerized as long as another dicarboxylic acid component and diol component are 20 mol% or less. Among them, polyethylene terephthalate is particularly preferred in view of comprehensive evaluation of quality, economy and the like. 1 type of these structural resin components may be used, or they may be used together 2 or more types.

또한, 본 발명에 따른 저반사 필름의 기재필름 두께는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 투명성, 헤이즈값, 기계특성의 면에서, 통상 5∼800㎛, 바람직하게는 10∼250㎛이다. 또한, 2장 이상의 필름을 공지의 방법으로 접합한 것이어도 좋다.Moreover, the base film thickness of the low reflection film which concerns on this invention is although it does not specifically limit, In terms of transparency, a haze value, and a mechanical characteristic, it is 5-800 micrometers normally, Preferably it is 10-250 micrometers. Moreover, what joined two or more films by a well-known method may be sufficient.

또한, 상기 기재필름(10)은, 고굴절율 경질코팅층(20)을 형성하기 전에, 각종 표면처리(예를 들면, 코로나 방전처리, 글로우 방전처리, 화염처리, 에칭처리, 또는 조면화처리 등)를 실시한 것이라도 좋다. 또한, 접착촉진을 위해서 기재필름의 표면에 프라이머층으로서 코팅(예를 들면 폴리우레탄계, 폴리에스테르계, 폴리에스테르 아크릴레이트계, 폴리우레탄아크릴레이트계, 폴리에폭시아크릴레이트계, 티타네이트계 화합물 등의 코팅)을 행한 후에, 고굴절율 경질코팅층(20)을 형성해도 좋다. 특히, 친수기 함유 폴리에스테르수지에 아크릴계 화합물을 그래프트화시킨 공중합체와 가교 결합제로 이루어지는 조성물을 프라이머 도포한 것은 접착성이 향상되고, 내열성, 내수성 등의 내구성이 우수하므로 기재필름(10)으로서 바람직하다.In addition, the base film 10 is subjected to various surface treatments (for example, corona discharge treatment, glow discharge treatment, flame treatment, etching treatment, roughening treatment, etc.) before the high refractive index hard coating layer 20 is formed. It may be implemented. Also, in order to promote adhesion, the surface of the base film is coated as a primer layer (for example, polyurethane, polyester, polyester acrylate, polyurethane acrylate, polyepoxy acrylate, titanate compound, etc.). After the coating), the high refractive index hard coating layer 20 may be formed. In particular, the primer coating of a composition comprising a copolymer and a crosslinking agent grafted with an acrylic compound on a hydrophilic group-containing polyester resin is preferred as the base film 10 because of improved adhesiveness and excellent durability such as heat resistance and water resistance. .

다음으로, 본 발명에 따른 저반사 필름의 고굴절율 경질코팅층(20)은 상기 기재필름(10) 상에 형성되는데, 아크릴레이트 화합물을 함유하는 것이 필수적이다. 이러한 (메타)아크릴레이트 화합물은 활성광선 조사에 의해 라디칼 중합되고 형성되는 막의 내용제성이나 경도를 향상시킨다. 구체적으로는, 메틸(메타)아크릴레이트, n-부틸(메타)아크릴레이트, 폴리에스테르(메타) 아크릴레이트, 라우릴(메타)아크릴레이트, 히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 히드록시프로필(메타)아크릴레이트 등의 단관능 아크릴레이트 화합물을 들 수 있다. 또한, (메타)아크릴로일기가 분자내에 2개 이상인 다관능 (메타) 아크릴레이트 화합물은, 내용제성 등이 향상되므로 본 발명에 있어서는 특히 바람직하다. 다관능 (메타)아크릴레이트의 구체적인 예로는, 펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스톨펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트, 트리메티롤프로판트리(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들 단량체는 1종 또는 2종 이상 혼합해서 사용해도 좋다.Next, the high refractive index hard coating layer 20 of the low reflection film according to the present invention is formed on the base film 10, it is essential to contain an acrylate compound. Such a (meth) acrylate compound improves the solvent resistance and hardness of the film formed by radical polymerization by actinic light irradiation. Specifically, methyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) Monofunctional acrylate compounds, such as a) acrylate, are mentioned. Moreover, since the solvent resistance etc. improve the polyfunctional (meth) acrylate compound in which two (meth) acryloyl groups are in a molecule | numerator, it is especially preferable in this invention. Specific examples of the polyfunctional (meth) acrylate include pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, Dipentaerythritol (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, trimetholpropane tri (meth) acrylate, and the like. You may use these monomers 1 type or in mixture of 2 or more types.

또한, 본 발명에 따른 고굴절율 경질코팅층(20)을 형성하기 위한 구성 수지성분에는 고굴절율층 경질코팅층(20)의 경도 향상을 목적으로 알킬실리케이트류 및 그 가수분해물, 콜로이달 실리카, 건식 실리카, 습식 실리카, 산화티타늄 등의 무기입자, 콜로이드상으로 분산된 실리카 미립자 등을 함유시켜도 좋다.In addition, the constituent resin components for forming the high refractive index hard coating layer 20 according to the present invention include alkyl silicates and hydrolyzates thereof, colloidal silica, dry silica, for the purpose of improving the hardness of the high refractive index layer hard coating layer 20. Inorganic particles, such as wet silica and titanium oxide, silica fine particles dispersed in the colloidal form, etc. may be contained.

상기 고굴절율 경질코팅층(20)의 두께는, 용도에 따라서 적당히 선택되지만, 통상 1㎛∼50㎛, 바람직하게는 2㎛∼30㎛이다. 고굴절율 경질코팅층(20)의 두 께가 1㎛ 미만에서는, 표면경도가 불충분해서 상처가 생기기 쉬워 바람직하지 못하고, 50㎛를 초과하는 경우는, 투명성이 저하해서 헤이즈값이 높아지기 쉽고, 또 경화막이 약해지며, 필름을 접어 구부렸을 때에 고굴절율 경질코팅층(20)에 크랙이 생기기 쉬워지기 때문에 바람직하지 못하다.Although the thickness of the said high refractive index hard coating layer 20 is suitably selected according to a use, it is 1 micrometer-50 micrometers normally, Preferably they are 2 micrometers-30 micrometers. If the thickness of the high refractive index hard coating layer 20 is less than 1 µm, the surface hardness is insufficient to easily cause scratches, and if the thickness exceeds 50 µm, the transparency decreases and the haze value tends to increase, and the cured film It becomes weak, and it is unpreferable because a crack becomes easy to occur in the high refractive index hard coating layer 20 when a film is bent and folded.

또한 본 발명에 따른 저반사 필름에서 고굴절율 경질코팅층(20)을 형성할 때, 도포한 바인더성분의 경화를 진행시키기 위해서 개시제를 사용한다. 상기 개시제로서는, 도포한 바인더 성분을, 라디칼반응, 음이온반응, 양이온반응 등에 의한 중합 및/또는 가교반응을 개시 또는 촉진시키는 것이며, 종래부터 공지의 각종 광중합 개시제를 사용할 수 있다. 구체적으로는, 소듐메틸디티오카바메이트설파이드, 디페닐모노설파이드, 디벤조티아조일모노설파이드 및 디설파이드 등의 설파이드류; 티옥산톤, 2-에틸티옥산톤, 2-클로로티옥산톤, 2,4-디에틸티옥산톤 등의 티옥산톤 유도체; 히드라존, 아조비스이소부티로니트릴 등의 아조 화합물; 벤젠디아조늄염 등의 디아조 화합물; 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조페논, 디메틸아미노벤조페논, 미힐러케톤, 벤질안트라퀴논, t-부틸안트라퀴논, 2-메틸안트라퀴논, 2-에틸안트라퀴논, 2-아미노안트라퀴논, 2-클로로안트라퀴논 등의 방향족 카르보닐 화합물; p-디메틸아미노 안식향산메틸, p-디메틸아미노 안식향산에틸, D-디메틸아미노 안식향산부틸, p-디에틸아미노 안식향산이소프로필 등의 디알킬아미노 안식향산에스테르; 벤조일퍼옥사이드, 디-t-부틸퍼옥사이드, 디쿠밀퍼옥사이드, 쿠멘하이드로퍼옥사이드 등의 과산화물; 9-페닐아크리딘, 9-p-메톡시페닐아크리딘, 9-아세틸아미노아크리딘, 벤즈아크리딘 등의 아크리딘 유도체; 9,10-디메틸벤즈페 나진, 9-메틸벤즈페나진, 10-메톡시벤즈페나진 등의 페나진 유도체; 6,4',4"-트리메톡시-2,3-디페닐퀴녹살린 등의 퀴녹살린 유도체; 2,4,5-트리페닐이미다조일 2량체, 2-니트로플루오렌, 2,4,6-트리페닐피릴리움 4불화 붕소염, 2,4,6-트리스(트리클로로메틸)-1,3,5-트리아진, 3,3'-카르보닐비스쿠말린, 티오미힐러케톤, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥시드, 올리고(2-히드록시-2-메틸-1-(4-(1-메틸비닐)페닐)프로판온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-몰포리노페닐)-부탄온 등을 들 수 있다.In addition, when forming the high refractive index hard coating layer 20 in the low reflection film according to the present invention, an initiator is used to advance the curing of the applied binder component. As said initiator, the apply | coated binder component starts or promotes superposition | polymerization and / or crosslinking reaction by radical reaction, anion reaction, cation reaction, etc., and various conventionally well-known photoinitiators can be used. Specifically, sulfides such as sodium methyldithiocarbamate sulfide, diphenyl monosulfide, dibenzothiazoyl monosulfide and disulfide; Thioxanthone derivatives such as thioxanthone, 2-ethyl thioxanthone, 2-chlorothioxanthone and 2,4-diethyl thioxanthone; Azo compounds such as hydrazone and azobisisobutyronitrile; Diazo compounds such as benzenediazonium salts; Benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzophenone, dimethylaminobenzophenone, Michler's ketone, benzyl anthraquinone, t-butyl anthraquinone, 2-methylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 2-amino Aromatic carbonyl compounds such as anthraquinone and 2-chloroanthraquinone; dialkylamino benzoic acid esters such as methyl p-dimethylamino benzoate, ethyl p-dimethylamino benzoate, butyl D-dimethylamino benzoate and isopropyl p-diethylamino benzoate; Peroxides such as benzoyl peroxide, di-t-butyl peroxide, dicumyl peroxide and cumene hydroperoxide; Acridine derivatives such as 9-phenylacridine, 9-p-methoxyphenylacridine, 9-acetylaminoacridine and benzacridin; Phenazine derivatives such as 9,10-dimethylbenzphenazine, 9-methylbenzphenazine, and 10-methoxybenzphenazine; Quinoxaline derivatives such as 6,4 ', 4 "-trimethoxy-2,3-diphenylquinoxaline; 2,4,5-triphenylimidazoyl dimer, 2-nitrofluorene, 2,4, 6-triphenylpyrilium tetrafluoroborate, 2,4,6-tris (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, 3,3'-carbonylbiscoumarin, thiomihilerketone, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, oligo (2-hydroxy-2-methyl-1- (4- (1-methylvinyl) phenyl) propanone, 2-benzyl-2-dimethylamino- 1- (4-morpholinophenyl) -butanone etc. are mentioned.

또한, 본 발명에 따른 고굴절율 경질코팅층(20)을 형성할 때, 상기 개시제의 산소저해에 의한 감도 저하를 방지하기 위해, 광중합 개시제에 아민 화합물을 공존시켜도 좋다. 이러한 아민 화합물로서는, 예를 들면, 지방족 아민 화합물이나, 방향족 아민 화합물 등의 불휘발성의 것이라면, 특별히 한정되지 않는다. 예를 들면, 트리에탄올아민, 메틸디에탄올아민 등이 적절하다.In addition, when forming the high refractive index hard coating layer 20 which concerns on this invention, an amine compound may coexist with a photoinitiator, in order to prevent the sensitivity fall by the oxygen inhibition of the said initiator. As such an amine compound, if it is nonvolatile, such as an aliphatic amine compound and an aromatic amine compound, it will not specifically limit, for example. For example, triethanolamine, methyl diethanolamine, etc. are suitable.

본 발명에 따른 저반사필름의 고굴절율 경질코팅층(20)의 구성성분은, 상술한 바인더 성분, 광중합 개시제를 필수 구성성분으로 하며, 또한 필요에 따라, 예를 들면, 중합금지제나, 경화촉매, 산화방지제, 분산제, 레벨링제, 실란커플링제 등의 각종 첨가제를 함유해도 좋다.The components of the high refractive index hard coating layer 20 of the low reflection film according to the present invention include the above-described binder component and a photopolymerization initiator as essential components, and, if necessary, for example, a polymerization inhibitor, a curing catalyst, You may contain various additives, such as antioxidant, a dispersing agent, a leveling agent, and a silane coupling agent.

본 발명에서는 상기 고굴절율 경질코팅층(20)의 구성성분에 도전성의 부여를 목적으로 해서 폴리피롤 및 폴리아닐린 등의 도전성 폴리머, 금속 알콜레이트 및 킬레이트 화합물 등의 유기금속 화합물을 더 함유시킬 수 있다. 또한, 고굴절율 경질코팅층(20)의 구성성분에, 표면경도의 향상을 목적으로 해서, 알킬실리케이트류 및 그 가수분해물, 콜로이달 실리카, 건식 실리카, 습식 실리카, 산화티타늄 등 의 무기입자, 콜로이드상으로 분산된 실리카 미립자 등을 더 함유시킬 수도 있다.In the present invention, an organic metal compound such as a conductive polymer such as polypyrrole and polyaniline, a metal alcoholate, and a chelate compound may be further contained in the component of the high refractive index hard coating layer 20 for the purpose of imparting conductivity. In addition, for the purpose of improving the surface hardness of the components of the high refractive index hard coating layer 20, inorganic particles such as alkyl silicates and hydrolyzates thereof, colloidal silica, dry silica, wet silica, titanium oxide, colloidal phase, etc. The silica fine particles dispersed therein may be further contained.

다음으로, 본 발명에 따른 저반사 필름의 저굴절율층(30)은, 고굴절율 경질코팅층(20) 상에 형성되고, 불소화합물을 함유하는 것이 필수적이다. 이러한 불소화합물은 열 또는 전리 방사선에 의해 가교되는 불소화합물이 바람직하다. 가교되는 불소화합물로서는, 불포화기를 갖는 함불소 모노머나 가교성기를 갖는 불소 폴리머 혹은, 함불소 모노머와 가교성기 부여를 위한 모노머를 구성단위로 하는 함불소계 공중합체를 사용해도 좋다. 특히 주쇄중에 비닐에테르구조를 갖는 함불소계 공중합체로 구성되는 것이 바람직하다. 함불소계 공중합체는, 불소함량이 30중량%이상이며, 폴리스티렌 환산에 의한 수평균 분자량이 500이상, 바람직하게는 5000이상인 불소함유 올레핀쇄를 갖는 것이 바람직하다. 이러한 함불소계 공중합체는 함불소 화합물 및 비닐에테르함유 화합물을 함유하는 경화성 조성물을 중합 반응시킴으로써 얻어지는 것이며, 바람직하게는, 불소함유 올레핀 화합물, 이 불소함유 올레핀 화합물과 공중합 가능한 비닐에테르함유 화합물 및 필요에 따라 배합되는 반응성 유화제로 이루어지는 경화성 조성물을 중합 반응시킴으로써 얻을 수 있다. 함불소계 공중합체를 형성하기 위해서 사용하는 경화성 조성물에는, 반응성 유화제를 1성분으로서 함유시키는 것이 바람직하다. 이 반응성 유화제 성분을 사용함으로써, 도포액 중에 함유되는 함불소계 공중합체를 양호한 도포성 및 레벨링성으로 도포할 수 있다. 이 반응성 유화제로서는, 특히 비이온성 반응성 유화제를 사용하는 것이 바람직하다.Next, it is essential that the low refractive index layer 30 of the low reflection film according to the present invention is formed on the high refractive index hard coating layer 20 and contain a fluorine compound. The fluorine compound is preferably a fluorine compound crosslinked by heat or ionizing radiation. As a fluorine compound bridge | crosslinked, you may use the fluorine-containing copolymer which has an unsaturated group, the fluoropolymer which has a crosslinkable group, or the fluorine-containing monomer and the monomer for providing a crosslinkable group as a structural unit. In particular, the main chain is preferably composed of a fluorine-containing copolymer having a vinyl ether structure. The fluorine-containing copolymer preferably has a fluorine-containing olefin chain having a fluorine content of 30% by weight or more and a number average molecular weight in terms of polystyrene of 500 or more, preferably 5000 or more. Such a fluorine-containing copolymer is obtained by polymerizing a curable composition containing a fluorine-containing compound and a vinyl ether-containing compound, preferably a fluorine-containing olefin compound, a vinyl ether-containing compound copolymerizable with the fluorine-containing olefin compound, and necessity. It can obtain by polymerizing-reacting the curable composition which consists of reactive emulsifiers mix | blended accordingly. It is preferable to contain a reactive emulsifier as one component in the curable composition used in order to form a fluorine-containing copolymer. By using this reactive emulsifier component, the fluorine-containing copolymer contained in the coating liquid can be applied with good applicability and leveling property. As this reactive emulsifier, it is particularly preferable to use a nonionic reactive emulsifier.

또한 상기 저굴절층(30)을 구성하는 함불소계 공중합체에 있어서, 불소함유 올레핀 화합물 성분에 유래하는 구조단위는 20∼70몰%, 바람직하게는 25∼65몰%, 더욱 바람직하게는 30∼60몰%이다. 불소함유 올레핀 화합물 성분에 유래하는 구조단위의 비율이 20몰%미만에서는, 얻어지는 함불소계 공중합체중의 불소함량이 과소로 되기 쉬우므로, 얻어지는 저굴절층(30)은 굴절율이 충분히 낮은 것으로 되지 않고, 불소함유 올레핀 화합물 성분에 유래하는 구조단위의 비율이 70몰%를 초과하면 도포액의 균일성이 악화되어 균질의 도포피막의 형성이 어렵게 되고, 또한, 투명성 및 기재로의 밀착성이 낮아져 바람직하지 못하다. 함불소계 공중합체에 있어서, 비닐에테르구조 함유 화합물 성분에 유래하는 구조단위는 10∼70몰%, 바람직하게는 15∼65몰%, 더욱 바람직하게는 30∼60몰%이다. 비닐에테르구조 함유 화합물 성분에 유래하는 구조단위의 비율이 10몰%미만에서는 도포액의 균일성이 악화되어 균질의 도포피막의 형성이 어렵게 되고, 70몰%를 초과하면 얻어지는 저굴절층(30)은 투명성 및 저반사율의 광학특성이 악화된 것으로 되기 쉬워 바람직하지 못하다. 이러한 비닐에테르구조 함유 화합물 성분으로서, 수산기 또는 에폭시기 등의 반응성 관능기를 함유하는 단량체를 사용함으로써, 얻어지는 경화성 수지 조성물을 도포제로서 사용한 경우의 경화막의 강도를 향상시킬 수 있으므로 바람직하다. 수산기 또는 에폭시기를 함유하는 단량체의 전단량체에 있어서의 비율은 0∼20몰%이며, 바람직하게는 1∼20몰%, 더욱 바람직하게는 3∼15몰%이다. 이 비율이 20몰%를 초과하면, 얻어지는 수지층(30)은 광학적 특성이 악화되기 쉽고, 또한, 경화막이 취약한 것으로 되기 쉽다. 반응성 유화제를 함유하는 함불소계 공중합체에 있어서, 반응성 유화제 성분 유래의 구성단위의 비율은, 통상 0∼10몰%이며, 바람직하게는 0.1∼5몰%이다. 이 비율이 10몰%를 초과하면, 얻어지는 수지층(130)이 점착성을 띤 것으로 되기 때문에 취급이 곤란하게 되고, 또한, 도포제의 내습성이 저하되기 때문에 바람직하지 못하다.Further, in the fluorine-containing copolymer constituting the low refractive index layer 30, the structural unit derived from the fluorine-containing olefin compound component is 20 to 70 mol%, preferably 25 to 65 mol%, more preferably 30 to 60 mol%. When the ratio of the structural unit derived from the fluorine-containing olefin compound component is less than 20 mol%, the fluorine content in the fluorine-containing copolymer obtained is likely to be excessive, so that the low refractive index layer 30 obtained does not have a sufficiently low refractive index. When the proportion of the structural unit derived from the fluorine-containing olefin compound component exceeds 70 mol%, the uniformity of the coating liquid is deteriorated, making it difficult to form a homogeneous coating film, and the transparency and adhesion to the substrate are not preferable, which is not preferable. . In the fluorine-containing copolymer, the structural unit derived from the vinyl ether structure-containing compound component is 10 to 70 mol%, preferably 15 to 65 mol%, more preferably 30 to 60 mol%. When the ratio of the structural units derived from the vinyl ether structure-containing compound component is less than 10 mol%, the uniformity of the coating liquid is deteriorated, making it difficult to form a homogeneous coating film, and the low refractive index layer 30 obtained when it exceeds 70 mol%. The transparency and low reflectance of the optical properties tend to be deteriorated, which is not preferable. As such a vinyl ether structure-containing compound component, by using a monomer containing a reactive functional group such as a hydroxyl group or an epoxy group, the strength of the cured film in the case of using the curable resin composition obtained as a coating agent is preferable. The ratio in the shear monomer of the monomer containing a hydroxyl group or an epoxy group is 0-20 mol%, Preferably it is 1-20 mol%, More preferably, it is 3-15 mol%. When this ratio exceeds 20 mol%, the optical characteristic of the obtained resin layer 30 tends to worsen, and a cured film tends to become weak. In the fluorine-containing copolymer containing a reactive emulsifier, the proportion of the structural unit derived from the reactive emulsifier component is usually 0 to 10 mol%, preferably 0.1 to 5 mol%. When this ratio exceeds 10 mol%, since the resin layer 130 obtained becomes sticky, handling becomes difficult, and since the moisture resistance of a coating agent falls, it is unpreferable.

또한, 본 발명에 있어서의 저굴절율층(30)은 바인더 수지 100중량 대비 3 내지 15중량부의 중공 실리카를 포함하는 것을 특징으로 하는데, 상기 중공 실리카 입자의 함량이 3중량부 미만인 경우 굴절율이 상승하여 반사율 상승의 단점이 있고, 또한 상기 중공실리카 입자 함량이 15중량부를 초과할 경우에는 표면 요철의 산술평균조도(Ra)값 상승으로 인한 표면경도, 즉 반사율이 상승하는 문제점이 있고, 표면 요철의 산술평균조도(Ra)값의 상승으로 인한 표면경도, 긁힘 방지성, 지문제거기능 감소 및 고가의 중공 실리카 입자로 인한 코스트가 상승하는 문제점이 있기 때문이다.In addition, the low refractive index layer 30 in the present invention is characterized in that it comprises 3 to 15 parts by weight of hollow silica with respect to 100 weight of the binder resin, the refractive index is increased when the content of the hollow silica particles is less than 3 parts by weight There is a disadvantage of increasing the reflectivity, and when the content of the hollow silica particles exceeds 15 parts by weight, there is a problem that the surface hardness due to the increase in the arithmetic mean roughness (Ra) value of the surface irregularities, that is, the reflectance increases, and the arithmetic of the surface irregularities This is because the surface hardness, the scratch resistance, the fingerprint removal function, and the cost due to the expensive hollow silica particles are increased due to the increase in the average roughness Ra.

또한, 본 발명에 따른 저굴절율층(30)에는, 함불소계 공중합체 외에 가교성 화합물을 배합하는 것이 바람직하고, 소정의 경화성을 부여하여 경화특성을 개선하기 때문에 효과적이다. 상기 가교성 화합물로서는, 예를 들면 각종 아미노 화합물이나, 펜타에리스리톨, 폴리페놀, 글리콜, 알킬실리케이트류 및 그 가수분해물 등의 각종 수산기 함유 화합물 등을 들 수 있다. 상기 가교성 화합물로서 이용되는 아미노 화합물은 불소화합물 중에 존재하는 수산기 또는 에폭시기와 반응 가능한 아미노기, 예를 들면 히드록시알킬아미노기 및 알콕시알킬아미노기 중 어느 한쪽 또는 양쪽을 합계로 2개 이상 함유하는 화합물이며, 구체적으로는, 예를 들면 멜라민계 화합물, 요소계 화합물, 벤조구아나민계 화합물, 글리콜우릴계 화합물 등을 들 수 있다. 멜라민계 화합물은, 일반적으로 트리아진환에 질소원자가 결합된 골격을 갖는 화합물로서 알려져 있는 것이며, 구체적으로는, 멜라민, 알킬화 멜라민, 메티롤멜라민, 알콕시화 메틸멜라민 등을 들 수 있지만, 1분자 중에 메티롤기 및 알콕시화 메틸기 중 어느 한쪽 또는 양쪽을 합계로 2개 이상 갖는 것이 바람직하다. 구체적으로는, 멜라민과 포름알데히드를 염기성 조건하에서 반응시켜서 얻어지는 메티롤화 멜라민, 알콕시화 메틸멜라민, 또는 이들의 유도체가 바람직하고, 특히 경화성 수지조성물에 양호한 보존 안정성이 얻어지는 점 및 양호한 반응성이 얻어지는 점에서 알콕시화 메틸멜라민이 바람직하다. 가교성 화합물로서 이용되는 메티롤화 멜라민 및 알콕시화 메틸멜라민에는 특별히 제약은 없고, 예를 들면 문헌 「플라스틱재료 강좌 [8] 유리아 멜라민 수지」(닛간고교신문사)에 기재되어 있는 방법으로 얻어지는 각종의 수지형상물의 사용도 가능하다. 또한, 요소 화합물로서는, 요소 외에, 폴리메티롤화 요소 그 유도체인 알콕시화 메틸 요소, 우론환을 갖는 메티롤화 우론 및 알콕시화 메틸우론 등을 들 수 있다. 그리고, 요소 유도체 등의 화합물에 대해서도 상기의 문헌에 기재되어 있는 각종 수지형상물의 사용이 가능하다.Moreover, it is preferable to mix | blend a crosslinking | crosslinked compound with the low refractive index layer 30 which concerns on this invention other than a fluorine-containing copolymer, and it is effective because it gives predetermined curability and improves a hardening characteristic. As said crosslinkable compound, various amino compounds, pentaerythritol, polyphenol, glycol, alkyl silicates, various hydroxyl-containing compounds, such as its hydrolyzate, etc. are mentioned, for example. The amino compound used as the crosslinkable compound is a compound containing two or more of a total of any one or both of an amino group, for example, a hydroxyalkylamino group and an alkoxyalkylamino group, capable of reacting with a hydroxyl group or an epoxy group present in the fluorine compound, Specifically, a melamine type compound, a urea type compound, a benzoguanamine type compound, a glycoluril type compound, etc. are mentioned, for example. Melamine compounds are generally known as compounds having a skeleton in which a nitrogen atom is bonded to a triazine ring, and specific examples thereof include melamine, alkylated melamine, metyrolmelamine, alkoxylated methylmelamine, and the like. It is preferable to have two or more in any one or both of a tyrol group and an alkoxylated methyl group. Specifically, metharolized melamine, alkoxylated methylmelamine, or derivatives thereof obtained by reacting melamine and formaldehyde under basic conditions are preferable, in particular, good storage stability is obtained in the curable resin composition and good reactivity is obtained. Preferred is alkoxylated methylmelamine. There is no restriction | limiting in particular in the metharolized melamine and the alkoxylated methyl melamine used as a crosslinking | crosslinked compound, For example, various kinds obtained by the method described in the literature "Plastic material course [8] Yuri melamine resin" (Nigan Kogyo Shimbun) The use of resinous materials is also possible. Moreover, as a urea compound, the alkoxylated methyl urea which is a polymethyrrole urea derivative | guide_body, its metholurized uron which has a uron ring, the alkoxylated methyluron, etc. are mentioned besides urea. Moreover, also about compounds, such as a urea derivative, can use various resin-like thing described in the said document.

이러한 가교성 화합물의 사용량은, 함불소계 공중합체 100중량부에 대하여, 3~70중량부이며, 바람직하게는 3∼50중량부, 더욱 바람직하게는 5∼30중량부이다. 가교성 화합물의 사용량이 3중량부 미만에서는 도포·경화에 의해 형성되는 박막의 내구성이 불충분하게 되는 경우가 있고, 70중량부를 넘으면, 함불소계 공중합체와의 반응에 있어서 겔화를 회피하는 것이 곤란하며, 또한 경화막이 저굴절율의 것으 로 되지 않아 경화물이 약한 것으로 되는 경우가 있다.The usage-amount of such a crosslinking | crosslinked compound is 3-70 weight part with respect to 100 weight part of fluorine-containing copolymers, Preferably it is 3-50 weight part, More preferably, it is 5-30 weight part. If the amount of the crosslinkable compound is less than 3 parts by weight, the durability of the thin film formed by coating and curing may become insufficient. If it exceeds 70 parts by weight, it is difficult to avoid gelation in the reaction with the fluorine-containing copolymer. Moreover, a cured film may not become a thing of low refractive index, and a hardened | cured material may become weak.

또한 상기 저굴절율층(30)에는, 표면경도, 긁힘 방지성, 지문제거기능 향상을 부여하기 위해서 실리카 미립자, 또는/및 실란커플링제, 또는/및 알콕시실릴기를 갖는 불소수지를 함유하는 것이 바람직하다.In addition, it is preferable that the low refractive index layer 30 contains a fluororesin having silica fine particles, and / or a silane coupling agent, and / or an alkoxysilyl group in order to impart improved surface hardness, scratch resistance, and fingerprint removal function. .

상기 실리카 미립자는, 건식 실리카, 습식 실리카, 콜로이드상으로 분산된 실리카 미립자 등을 함유시키는 것이 바람직하고, 특히 콜로이드상으로 분산된 실리카 미립자를 함유시키는 것이 바람직하다. 상기 실리카 미립자의 입경은 평균 1차 입경(구상당 지름:BET법)이 0.001∼0.2㎛의 것을 일반적으로 사용할 수 있지만, 바람직하게는 0.001∼0.005㎛의 입경의 것이 이용된다. 상기 평균 입경이, 이러한 바람직한 범위이면 생성 피막(수지층)의 투명성이 저하되는 일은 없고, 한편, 표면경도를 향상시키기 어려워지는 일도 없다. 또한, 상기 실리카 미립자의 형상은 구상, 수주(數珠)상이 바람직하게 이용된다. 또한, 상기 실리카 미립자는 평균 입경이 다른 2성분 이상의 입자를 사용할 수 있다. 또한, 상기 실리카 미립자는, 표면처리를 실시해서 사용할 수도 있다. 표면처리방법으로서는 플라즈마 방전처리나 코로나 방전처리 등의 물리적 표면처리와 커플링제를 사용한 화학적 표면처리가 있지만, 화학적 처리가 바람직하게 이용된다. 화학적 처리에 이용되는 커플링제로서는, 실란커플링제가 특히 바람직하게 이용된다. 실리카 미립자 유래의 성분은 고형분비로 3∼50%, 또한 3∼40%, 특히 3∼15%로 하는 것이 바람직하다. 실리카 미립자 유래의 성분이 이러한 바람직한 범위이면, 얻어지는 저굴절율층(30)의 표면경도 및 긁힘 방지성이 충분하며, 한편, 투명성 및 저반사율 등의 광학특성도 우수한 것으 로 할 수 있다. The silica fine particles preferably contain dry silica, wet silica, silica fine particles dispersed in a colloidal phase, or the like, and particularly preferably contain silica fine particles dispersed in a colloidal phase. As for the particle size of the said silica fine particle, what has an average primary particle diameter (a spherical diameter: BET method) is 0.001-0.2 micrometer normally can be used, Preferably, the particle diameter of 0.001-0.005 micrometer is used. If the said average particle diameter is such a preferable range, transparency of a production film (resin layer) will not fall, and it will not become difficult to improve surface hardness. In addition, the shape of the said silica microparticle is spherical and the columnar phase is used preferably. In addition, the silica fine particles may be used two or more particles having different average particle diameters. In addition, the said silica fine particle can also be surface-treated and used. Surface treatment methods include physical surface treatments such as plasma discharge treatment and corona discharge treatment, and chemical surface treatment using a coupling agent, but chemical treatment is preferably used. As the coupling agent used for the chemical treatment, a silane coupling agent is particularly preferably used. It is preferable to make the component derived from a silica fine particle into 3 to 50%, 3 to 40%, especially 3 to 15% by solid content. If the component derived from silica microparticles | fine-particles is such a preferable range, the surface hardness and the scratch prevention property of the low refractive index layer 30 obtained are sufficient, and also the optical characteristics, such as transparency and a low reflectance, can also be made excellent.

상기 실란커플링제 성분은, 다음 화학식 1로 나타내어지는 화합물 내지 그 가수분해 생성물이다.The said silane coupling agent component is a compound represented by following General formula (1)-its hydrolysis product.

[화학식 1] [Formula 1]

R(1)aR(2)bSiX4-(a+b) R (1) a R (2) b SiX 4- (a + b)

여기서, R(1), R(2)는 각각 알킬기, 알케닐기, 알릴기, 또는 할로겐기, 에폭시기, 아미노기, 메르캅토기, 메타크릴옥시기, 내지 시아노기 등을 갖는 탄화수소기이고, X는 알콕실기, 알콕시알콕실기, 할로겐기 내지 아실옥시기에서 선택된 가수분해 가능한 치환기이다. 또한 상기 화학식 1에서 a와 b는 각각 0, 1 또는 2이며 (a+b)는 1, 2 또는 3이다. 실란커플링제 유래의 성분은 고형분비로 5∼70%, 또한 15∼65%, 특히 20∼60%로 하는 것이 바람직하다. 실란커플링제 유래의 성분이 이러한 바람직한 범위이면, 얻어지는 수지층의 표면경도가 충분하며, 한편, 투명성 및 저반사율 등의 광학특성도 우수한 것으로 할 수 있다.Wherein R (1) and R (2) are each a hydrocarbon group having an alkyl group, an alkenyl group, an allyl group, or a halogen group, an epoxy group, an amino group, a mercapto group, a methacryloxy group, a cyano group, or the like, and X is It is a hydrolyzable substituent selected from an alkoxyl group, an alkoxy alkoxyl group, and a halogen group to an acyloxy group. In addition, in Formula 1, a and b are each 0, 1 or 2 and (a + b) is 1, 2 or 3. It is preferable to make the component derived from a silane coupling agent into 5 to 70%, 15 to 65%, especially 20 to 60% by solid content. If the component derived from a silane coupling agent is such a preferable range, the surface hardness of the resin layer obtained will be enough, and it can also be made excellent in optical characteristics, such as transparency and a low reflectance.

상기 알콕시실릴기를 갖는 불소수지는 다음 화학식 2로 나타내어지는 화합물 내지 그 가수분해물 생성물이다.The fluororesin having the alkoxysilyl group is a compound represented by the following formula (2) to a hydrolyzate product thereof.

[화학식 2] [Formula 2]

R(3)cR(4)dSiX4-(c+d) R (3) c R (4) d SiX 4- (c + d)

여기서, R(3), R(4)는 각각 불소 치환된 알킬기, 알케닐기, 알릴기, 메타크릴옥시기, 또는 (메타)아크릴로일기를 갖는 탄화수소기이다. X는 알콕실기, 알콕시 알콕실기, 할로겐기 또는 아실옥시기에서 선택된 가수분해 가능한 치환기이다. 상기 화학식 2에서 c와 d는 각각 0, 1, 2 또는 3이며 또한 (c+d)는 1, 2 또는 3이다. 알콕시실릴기를 갖는 불소수지 유래의 성분은 고형분비로 20∼90%, 또한 25∼80%, 특히 30∼70%로 하는 것이 바람직하다. 알콕시실릴기를 갖는 불소수지 유래의 성분이 이러한 바람직한 범위이면, 얻어지는 수지층의 투명성 및 저반사율의 광학특성이 양호하며 한편 수지층의 표면경도도 좋은 것으로 할 수 있다.Here, R (3) and R (4) are hydrocarbon groups each having a fluorine-substituted alkyl group, alkenyl group, allyl group, methacryloxy group, or (meth) acryloyl group. X is a hydrolyzable substituent selected from an alkoxyl group, an alkoxy alkoxyl group, a halogen group or an acyloxy group. In Formula 2, c and d are each 0, 1, 2 or 3 and (c + d) is 1, 2 or 3, respectively. It is preferable to make the component derived from the fluororesin which has an alkoxy silyl group into 20 to 90%, 25 to 80%, especially 30 to 70% by solid content ratio. If the component derived from the fluororesin which has an alkoxy silyl group is such a preferable range, the optical characteristic of transparency and low reflectance of the resin layer obtained is favorable, and the surface hardness of a resin layer can also be made good.

또한, 본 발명에 따른 저굴절율층(30)을 형성할 때, 도포액의 경화를 진행시키기 위해서 경화촉매를 사용해도 좋다. 경화촉매로서는, 실란커플링제의 축합반응을 촉진시키는 것이 바람직하고, 이러한 것으로서 산화합물을 들 수 있다. 이들 중에서 루이스산 화합물이 바람직하다. 루이스산 화합물의 예로서, 아세트아세톡시알루미늄 등의 금속 알콕시드나 금속 킬레이트를 들 수 있다. 이 경화촉매의 양은, 적절히 결정할 수 있지만, 예를 들면, 실란커플링제 100중량부에 대하여 통상적으로 0.1∼10중량부이다.In addition, when forming the low refractive index layer 30 which concerns on this invention, in order to advance hardening of a coating liquid, you may use a curing catalyst. As a curing catalyst, it is preferable to accelerate the condensation reaction of a silane coupling agent, and an acid compound is mentioned as such. Of these, Lewis acid compounds are preferred. Examples of the Lewis acid compound include metal alkoxides and metal chelates such as acetacetoxy aluminum. Although the quantity of this hardening catalyst can be determined suitably, it is 0.1-10 weight part normally with respect to 100 weight part of silane coupling agents, for example.

또한, 본 발명에 따른 저굴절율층(30)을 형성할 때, 필요에 따라, 예를 들면 중합금지제, 산화방지제, 분산제, 레벨링제 등의 각종 첨가제를 함유해도 좋다.In addition, when forming the low refractive index layer 30 which concerns on this invention, you may contain various additives, such as a polymerization inhibitor, antioxidant, a dispersing agent, a leveling agent, as needed.

본 발명에 따른 저반사 필름이 고투명성으로 되기 위해서는, 적층필름의 헤이즈를 3.0% 미만으로 하는 것이 좋으며, 바람직하게는 2.7% 미만이다. 헤이즈가 3.0% 이상이면, 투명성이 불충분해지기 쉽기 때문이다.In order for the low reflection film which concerns on this invention to become high transparency, it is preferable to make the haze of laminated | multilayer film less than 3.0%, Preferably it is less than 2.7%. If the haze is 3.0% or more, the transparency tends to be insufficient.

또한, 본 발명에 따른 저굴절율층(30) 표면이 양호한 표면경도, 긁힘 방지성, 지문제거기능을 가지기 위해서는, 저굴절율층 표면에 미세한 요철을 갖는 것이 필요하다. 상기 요철에 의한 표면조도와 표면경도 및 긁힘 방지성의 관계는, 다음과 같은 작용기구에 의한 것으로 생각된다. 즉 미세 요철면에 있어서는, 이 요철면을 스틸울 등으로 슬라이딩하면, 스틸울 부분은 볼록 부분과만 접해서 슬라이딩되는 것으로 되어, 산술평균조도(Ra)값이 증가할수록 스틸울 등이 슬라이딩할 때 방해하는 높은 볼록부분이 증가하므로 표면경도 및 긁힘 방지성을 낮추는 것으로 판단된다. 그 결과 표면의 산술평균조도(Ra)값을 낮출수록 특히 표면경도와 긁힘 방지성이 향상하게 된다. 상기 저굴절율층(30) 표면의 상기 요철의 산술 평균 조도(Ra)값의 범위는 0.0001㎛ 내지 0.025㎛가 필수적이다. 보다 바람직하게는 0.0001㎛ 내지 0.010㎛, 더욱 바람직하게는 0.0001㎛ 내지 0.005㎛이다. 상기 요철의 평균산술 조도(Ra)값이 이 범위를 초과하면, 저굴절율층(30)의 헤이즈가 높아져서 투명성을 저하시킨다. 또 상기 요철의 산술 평균 조도(Ra)값이 상기 범위 이상에서는, 표면경도, 긁힘방지특성을 향상시키기 어렵게 된다. 본 발명에 있어서의 저굴절율층(30) 표면에 미세요철을 형성하기 위해서, 콜로이달 실리카, 건식 실리카, 습식 실리카, 산화티타늄, 유리비드, 산화 알루미늄, 탄화 규소, 질화규소 등의 무기입자, 콜로이드상으로 분산된 실리카 미립자 등을 함유시키는 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 콜로이드상으로 분산된 실리카 미립자를 함유시킨다. 특히 바람직하게는 실리카 미립자의 평균 입경이 0.001∼0.005㎛인 입자에 의해 미세한 요철을 형성할 수 있다.In addition, in order for the low refractive index layer 30 according to the present invention to have good surface hardness, scratch resistance, and fingerprint removal function, it is necessary to have fine irregularities on the surface of the low refractive index layer. The relationship between surface roughness, surface hardness and scratch prevention property due to the irregularities is considered to be due to the following mechanism. In other words, in the fine uneven surface, when the uneven surface is slid with steel wool or the like, the steel wool portion is slid in contact with only the convex portion, and when the steel wool or the like slides as the arithmetic mean roughness Ra increases. It is believed that the high convex portion that interferes increases the surface hardness and scratch resistance. As a result, the lower the surface arithmetic mean roughness (Ra) value, in particular, surface hardness and scratch resistance is improved. The range of the arithmetic mean roughness (Ra) value of the unevenness on the surface of the low refractive index layer 30 is 0.0001 μm to 0.025 μm. More preferably, they are 0.0001 micrometer-0.010 micrometer, More preferably, they are 0.0001 micrometer-0.005 micrometer. When the average arithmetic roughness Ra value of the unevenness exceeds this range, the haze of the low refractive index layer 30 is increased to lower the transparency. Moreover, when the arithmetic mean roughness Ra value of the said unevenness | corrugation is more than the said range, it will become difficult to improve surface hardness and a scratch prevention characteristic. In order to form fine irregularities on the surface of the low refractive index layer 30 in the present invention, inorganic particles such as colloidal silica, dry silica, wet silica, titanium oxide, glass beads, aluminum oxide, silicon carbide, silicon nitride, and colloidal phase It is preferable to contain silica fine particles dispersed in the above, and more preferably silica fine particles dispersed in a colloidal phase. Particularly preferably, fine irregularities can be formed by particles having an average particle diameter of the silica fine particles of 0.001 to 0.005 µm.

또한, 본 발명에 따른 저굴절율층(30)의 표면이 저반사성으로 되기 위해서는, 고굴절율 경질코팅층(20) 및 저굴절층(30)의 굴절율과 두께의 곱이 대상광선 (통상 가시광선) 파장의 1/4이 되도록 하는 것이 바람직하다. 따라서, 고굴절율 경질코팅층(20) 및 저굴절율층(30)에 있어서는, 각 층의 두께와 굴절율(n)의 곱의 4배가 380∼780nm의 범위에 있는 것이 바람직하다. 즉, 상기 고굴절율 경질코팅층(20) 및 저굴절율층(30)에 있어서의 굴절율(n)과 두께(d)의 관계는 하기의 수학식 1을 만족하는 범위내의 두께인 것이 바람직하다.In addition, in order for the surface of the low refractive index layer 30 according to the present invention to become low reflectivity, the product of the refractive index and the thickness of the high refractive index hard coating layer 20 and the low refractive index layer 30 is the wavelength of the target light (usually visible light) wavelength. It is preferable to make it 1/4. Therefore, in the high refractive index hard coating layer 20 and the low refractive index layer 30, it is preferable that four times the product of the thickness of each layer and the refractive index n is in the range of 380-780 nm. That is, the relationship between the refractive index n and the thickness d in the high refractive index hard coating layer 20 and the low refractive index layer 30 is preferably a thickness within a range satisfying Equation 1 below.

[수학식 1][Equation 1]

n·d=λ/4 n-d = λ / 4

(여기서, λ는 가시광선의 파장범위이며, 통상 380nm≤λ≤780nm의 범위로 된다.)(Here, λ is the wavelength range of visible light and is usually in the range of 380 nm ≦ λ ≦ 780 nm.)

또한, 본 발명에 따른 저반사 필름에 저반사성을 부여하기 위해서는, 고굴절율 경질코팅층(20)의 두께는 1∼50㎛인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 2∼30㎛이다. 또한, 상기 저굴절율층(30)의 바람직한 두께 범위는 0.01∼1.0㎛이며, 더욱 바람직하게는 0.05∼0.12㎛이다. 상기 고굴절율 경질코팅층(20) 및 저굴절율층(30)의 두께가 이 범위 외로 되면, 상기 수학식 1을 만족할 수 없고, 저굴절율층(30)측의 상기 적층필름 표면이 저반사성으로 되지 않는다.In addition, in order to impart low reflectivity to the low reflective film according to the present invention, the thickness of the high refractive index hard coating layer 20 is preferably 1 to 50 µm, more preferably 2 to 30 µm. Moreover, the preferable thickness range of the said low refractive index layer 30 is 0.01-1.0 micrometer, More preferably, it is 0.05-0.12 micrometer. When the thicknesses of the high refractive index hard coating layer 20 and the low refractive index layer 30 are out of this range, the equation 1 cannot be satisfied, and the surface of the laminated film on the low refractive index layer 30 side does not become low reflective. .

또한, 본 발명에 따른 저굴절율층(30)측의 상기 적층필름 표면이 저반사성으로 되기 위해서는, 저굴절율층(30)의 굴절율은 고굴절율 경질코팅층(20)의 굴절율보다 작은 것, 즉, 저굴절층(30)의 굴절율/고굴절층(20)의 굴절율이 1.0미만인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 0.6∼0.95이다. 또한, 저굴절층(130)의 굴절율은 1.47이하인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 1.40∼1.45이다. 굴절율이 1.40미만인 수지는 형성되는 것이 실리카 등에 미립자 함유량 증가로 표면산술조도평균(Ra)값 상승으로 인한 표면경도, 긁힘 방지성등에 특성 저하를 유발하고, 또한, 굴절율이 1.47보다 높으면 반사율이 높아진다.In addition, in order for the surface of the laminated film on the low refractive index layer 30 according to the present invention to become low reflective, the refractive index of the low refractive index layer 30 is smaller than that of the high refractive index hard coating layer 20, that is, low It is preferable that the refractive index of the refractive layer 30 / the high refractive layer 20 is less than 1.0, More preferably, it is 0.6-0.95. In addition, the refractive index of the low refractive index layer 130 is preferably 1.47 or less, and more preferably 1.40 to 1.45. If the resin having a refractive index of less than 1.40 is formed, the increase in the content of fine particles in silica or the like causes a decrease in properties such as surface hardness and scratch resistance due to an increase in the surface arithmetic roughness average (Ra) value, and when the refractive index is higher than 1.47, the reflectance becomes high.

다음으로, 본 발명에 따른 표면경도, 긁힘 방지성, 지문제거 기능이 우수한 저반사필름의 제조방법에 대해서 설명한다.Next, the manufacturing method of the low reflection film excellent in the surface hardness, the scratch prevention property, and the fingerprint removal function which concerns on this invention is demonstrated.

본 발명에 따른 저반사 필름은 기재필름(10)의 적어도 한쪽 면에, (메타)아크릴레이트 화합물을 함유하는 고굴절율 경질코팅층(20), 불소화합물을 함유하는 저굴절율층(30)을 순서대로 적층하는 것에 의해 제조할 수 있다. 본 발명에 있어서 고굴절율 경질코팅층(20) 및 저굴절율층(30)은 각 구성성분을 바람직하게는 용매로 분산시킨 도포액을 조정하고, 그 도포액을 기재필름상에 도포한 후, 건조·경화시킴으로써 형성할 수 있다.In the low reflection film according to the present invention, the high refractive index hard coating layer 20 containing the (meth) acrylate compound and the low refractive index layer 30 containing the fluorine compound are sequentially disposed on at least one surface of the base film 10. It can manufacture by laminating | stacking. In the present invention, the high refractive index hard coating layer 20 and the low refractive index layer 30 preferably adjust the coating liquid in which each component is dispersed in a solvent, apply the coating liquid onto the base film, and then dry and It can form by hardening.

본 발명의 고굴절율 경질코팅층(20) 형성에 있어서 사용되는 용제로서는, 본 발명의 조성물의 도포 또는 인쇄 작업성을 개선하고, 또 바인더 성분을 용해하는 것이면, 종래부터 공지의 각종 유기용매를 사용할 수 있다. 특히, 본 발명에 있어서는 조성물의 점도의 안정성, 건조성의 관점에서 비점이 60∼180℃의 유기용매가 바람직하다. 이러한 유기용매로서는 구체적으로는, 예를 들면, 메탄올이나, 에탄올, 이소프로필알콜, n-부탄올, tert-부탄올, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 1-메톡시-2-프로판올, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르, 시클로헥사논, 초산부틸, 이소프로필아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 디아세틸아세톤, 아세틸아세톤 등을 바람직하게 들 수 있다. 이들은 단일로 사용해도 좋고, 2종류 이상을 혼합해서 사용해도 좋다.As the solvent used in the formation of the high refractive index hard coating layer 20 of the present invention, various known organic solvents can be used conventionally as long as the coating or printing workability of the composition of the present invention is improved and the binder component is dissolved. have. In particular, in the present invention, an organic solvent having a boiling point of 60 to 180 ° C. is preferable from the viewpoint of stability of the viscosity and dryness of the composition. Specific examples of such organic solvents include methanol, ethanol, isopropyl alcohol, n-butanol, tert-butanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, propylene glycol monomethyl ether, Cyclohexanone, butyl acetate, isopropyl acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, diacetyl acetone, acetyl acetone, etc. are mentioned preferably. These may be used individually and may mix and use two or more types.

또한, 유기용매의 양은, 도포수단이나, 인쇄수단에 따라 작업성이 좋은 상태의 점도의 조성물로 되도록 임의의 배합량으로 하면 좋지만, 통상 조성물의 고형분 농도가 60중량% 이하, 바람직하게는, 50중량% 이하로 되는 정도가 적당하다. 통상 바인더 성분을 유기용매로 용해시킨 용액 중에, 광중합 개시제를 첨가하여 균일하게 용해시키는 방법이 적당하다.The amount of the organic solvent may be any compounding amount so as to be a composition having a viscosity in a state of good workability depending on the application means or printing means, but the solid content concentration of the composition is usually 60% by weight or less, preferably 50% by weight. It is suitable that it becomes below%. Usually, the method of adding a photoinitiator and dissolving it uniformly in the solution which melt | dissolved the binder component with the organic solvent is suitable.

또한, 저굴절율층(30)을 형성하는 경우에는, 불소화합물로 주로 이루어지는 경화성 조성물을 메탄올이나, 에탄올, 이소프로필알콜, n-부탄올, tert-부탄올, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 1-메톡시-2-프로판올, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 시클로헥사논, 초산부틸, 이소프로필아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 디아세틸아세톤, 아세틸아세톤에서 선택되는 적어도 1종 이상의 용제에 분산시킨 액을 도포한 후, 건조·경화시켜 저굴절율층(30)을 형성하는 방법을 취하는 것이 바람직하다. 이 경우의 용제의 양도 필요로 하는 조성물의 점도, 목적으로 하는 경화 피막의 두께, 건조온도 조건 등에 따라 적당히 변경할 수 있다.In addition, when forming the low refractive index layer 30, the curable composition mainly consisting of a fluorine compound is methanol, ethanol, isopropyl alcohol, n-butanol, tert-butanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy- Applying a liquid dispersed in at least one solvent selected from 2-propanol, propylene glycol monomethyl ether, cyclohexanone, butyl acetate, isopropyl acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, diacetyl acetone, acetyl acetone After that, it is preferable to take a method of drying and curing to form the low refractive index layer 30. The quantity of the solvent in this case can also be suitably changed according to the viscosity of the composition required, the thickness of the cured film made into the objective, drying temperature conditions, etc.

또한, 본 발명에 따른 적층필름의 층 구성은 기재필름(10)의 적어도 한쪽 면에, (메타)아크릴레이트 화합물을 함유하는 고굴절율 경질코팅층(20), 불소화합물을 함유하는 저굴절율층(30)을 형성하는 것이 바람직하다. 또한, 기재필름(10)의 한쪽 면 측에 복수의 고굴절율 경질코팅층(20)을 형성하는 경우에는 기재필름(10)의 같은 측의 최외각 표면이 저굴절율층(30)이 되도록 해서 복수의 저굴절율층(30)을 형성하는 것이 바람직하다. 또는 기재필름(10)에 대하여 고굴절율 경질코팅 층(20)과는 반대측의 면에 프라이머층, 투명도전층을 형성해도 좋다. 또는, 수지층의 표면에, 방습층, 보호층을 형성해도 좋다. 상기 방습층, 상기 보호층의 두께는 반사방지기능에 영향을 주지 않도록 하기 위해서, 20nm이하인 것이 바람직하다.In addition, the laminated structure of the laminated film according to the present invention is a high refractive index hard coating layer 20 containing a (meth) acrylate compound on at least one surface of the base film 10, a low refractive index layer 30 containing a fluorine compound Is preferably formed. When the plurality of high refractive index hard coating layers 20 are formed on one surface side of the base film 10, the outermost surfaces on the same side of the base film 10 may be the low refractive index layer 30. It is preferable to form the low refractive index layer 30. Alternatively, a primer layer and a transparent conductive layer may be formed on the surface of the base film 10 on the side opposite to the high refractive index hard coating layer 20. Or you may provide a moisture proof layer and a protective layer on the surface of a resin layer. The thickness of the moisture proof layer and the protective layer is preferably 20 nm or less in order not to affect the antireflection function.

한편, 본 발명에 따른 저반사 필름을 사용한 디스플레이용 필름은, 상기 적층필름의 저굴절율층(30) 상에 점착층 또는 접착층을 형성하고, 점착층 또는 접착층면에 보호필름을 접착해도 좋다. 점착층 또는 접착층으로서는, 점착 또는 접착작용에 의해 접착시키는 것이라면 특별히 한정되지 않는다. On the other hand, the display film using the low reflection film which concerns on this invention may form an adhesion layer or an adhesive layer on the low refractive index layer 30 of the said laminated | multilayer film, and may adhere a protective film to the adhesion layer or adhesion layer surface. The pressure-sensitive adhesive layer or adhesive layer is not particularly limited as long as the adhesive layer or adhesive layer is bonded by adhesion or adhesion.

상기 점착층 또는 접착층을 형성하는 점착제 또는 접착제로서는, 고무계, 비닐중합계, 축합중합계, 열경화성 수지계 및 실리콘계 등을 사용할 수 있다. 그 중에서, 고무계의 점착제 또는 접착제로서는, 부타디엔-스티렌 공중합체계(SBR), 부타디엔-아크릴로니트릴 공중합체계(NBR), 클로로플렌 중합체계, 이소부티렌-이소플렌 공중합체계(부틸고무) 등을 들 수 있다. 비닐 중합계의 점착제 또는 접착제로서는, 아크릴 수지계, 스티렌 수지계, 초산비닐-에틸렌 공중합체계 및 염화비닐-초산비닐 공중합체계 등을 들 수 있다. 축합중합계의 점착제 또는 접착제로서는, 폴리에스테르 수지계를 들 수 있다. 열경화 수지계의 점착제로서는, 에폭시 수지계, 우레탄 수지계, 포르말린 수지계 등을 들 수 있다. 이들 수지는 단독으로 사용해도 좋고, 또 2종 이상 혼합해서 사용해도 좋다. 또한, 점착제 또는 접착제는, 용제형과 무용제형 중 어느 것이라도 사용할 수 있다. 점착층 또는 접착층의 형성은, 상기와 같은 점착제 또는 접착제를 사용하여, 도포 등 통상 행해지고 있는 기술을 사용해서 실시된다. 또한, 점착층 또는 접착층에 착색제를 함유시켜도 좋다. 이것은, 점착제 또는 접착제에, 예를 들면, 안료나 염료 등의 색소를 함유한 착색제를 혼합해서 사용하는 것에 의해 용이하게 달성된다. 착색제를 함유하고 있는 경우, 적층필름으로서 550nm에서의 광선투과율이 40∼80%의 범위내인 것이 바람직하다. 또한, 특히 플라즈마디스플레이용으로써 이용되는 경우, 투과광이 뉴트럴 그레이 또는 블루 그레이인 것, 디스플레이의 발광색의 색 순도 및 콘트라스트의 향상이 요구되고 있으므로, 색소를 함유한 점착층 또는 접착층을 사용하는 것에 의해 달성할 수 있다.As an adhesive or adhesive which forms the said adhesion layer or adhesive layer, a rubber type, a vinyl polymerization type, a condensation polymerization type, a thermosetting resin type, a silicone type, etc. can be used. Among them, butadiene-styrene copolymerization system (SBR), butadiene-acrylonitrile copolymerization system (NBR), chloroprene polymer system, isobutylene-isoprene copolymerization system (butyl rubber), etc. are mentioned as a rubber-based adhesive agent or adhesive agent. Can be. As an adhesive or adhesive agent of a vinyl polymerization system, an acrylic resin type, a styrene resin type, a vinyl acetate-ethylene copolymerization system, a vinyl chloride-vinyl acetate copolymerization system, etc. are mentioned. As an adhesive or adhesive agent of a condensation polymerization system, polyester resin system is mentioned. Examples of the thermosetting resin pressure sensitive adhesive include epoxy resins, urethane resins, formalin resins, and the like. These resins may be used alone or in combination of two or more thereof. In addition, an adhesive or an adhesive can use either a solvent type or a non-solvent type. Formation of an adhesion layer or an adhesive layer is performed using the technique currently performed, such as application | coating, using the above adhesive or adhesive agent. Moreover, you may contain a coloring agent in an adhesion layer or an adhesion layer. This is easily achieved by mixing and using a coloring agent containing pigment | dyes, such as a pigment and dye, to an adhesive or an adhesive agent. When it contains a coloring agent, it is preferable that the light transmittance in 550 nm is 40 to 80% of range as a laminated film. In addition, especially when used for plasma display, since the transmitted light is neutral gray or blue gray, and the color purity and contrast of the emission color of a display are required, it is achieved by using the adhesive layer or adhesive layer containing a pigment | dye. can do.

상기 보호필름을 구성하는 수지소재는 특별히 한정되는 것은 아니고, 공지의 플라스틱 기재필름에 이용되는 수지소재 중에서 적절히 선택해서 사용할 수 있다. 이러한 보호필름용 수지소재로서, 예를 들면, 에스테르, 에틸렌, 프로필렌, 디아세테이트, 트리아세테이트, 스티렌, 카보네이트, 메틸펜텐, 술폰, 에테르에틸케톤, 나일론, 아크릴레이트, 지환족 올레핀계 등에서 선택되는 1개를 구성단위로 하는 폴리머 또는 공중합 폴리머를 들 수 있다. 이들 수지소재 중에서 폴리에틸렌, 폴리프로필렌 등의 에틸렌, 프로필렌계, 폴리에틸렌테레프탈레이트 등의 에스테르계에서 선택되는 1개를 구성단위로 하는 폴리머 또는 공중합 폴리머가 바람직하게 이용된다. 특히, 투명성, 기계특성의 점에서 에스테르계를 구성단위로 하는 폴리머로 이루어지는 기재필름이 특히 바람직하다.The resin material constituting the protective film is not particularly limited, and may be appropriately selected from resin materials used for known plastic base films. As the resin material for the protective film, for example, ester, ethylene, propylene, diacetate, triacetate, styrene, carbonate, methyl pentene, sulfone, ether ethyl ketone, nylon, acrylate, cycloaliphatic olefin, etc. And polymers or copolymers containing dogs as structural units. Among these resin materials, polymers or copolymerized polymers having one selected from ethylene such as polyethylene and polypropylene, esters such as propylene and polyethylene terephthalate as structural units are preferably used. In particular, the base film which consists of a polymer which makes an ester type a structural unit from the point of transparency and a mechanical characteristic is especially preferable.

또한, 본 발명에 따른 저반사 필름을 사용한 디스플레이용 필터는, 상기 디스플레이용 필름에 점착층 또는 접착층을 개재해서, 액정표시장치(LCD), 플라즈마 디스플레이 패널(PDP), 터치 패널, 일렉트로 루미네선스 디스플레이(ELD)나 음극선 관 표시장치(CRT), 포터블 디지털 어시스턴트(PDA) 등의 디스플레이면의 표시면 및/또는 그 전면판의 표면에 접착하는 것에 의해 얻어진다.In addition, the display filter using the low reflection film which concerns on this invention is a liquid crystal display device (LCD), a plasma display panel (PDP), a touch panel, and an electro luminescence through an adhesion layer or an adhesive layer on the said display film. It is obtained by adhering to the display surface of display surfaces, such as a display ELD, a cathode ray tube display apparatus, a portable digital assistant, and / or the surface of the front plate.

또한 본 발명에 따른 저반사 필름을 사용한 디스플레이용 필름에 점착층 또는 접착층을 개재해서 액정표시장치(LCD), 플라즈마 디스플레이 패널(PDP), 터치 패널, 일렉트로 루미네선스 디스플레이(ELD)나 음극선관 표시장치(CRT), 포터블 디지털 어시스턴트(PDA) 등의 디스플레이면의 표시면에 접착하는 것에 의해 디스플레이를 얻을 수 있다.In addition, a liquid crystal display (LCD), a plasma display panel (PDP), a touch panel, an electro luminescence display (ELD), or a cathode ray tube display is provided through a pressure-sensitive adhesive layer or an adhesive layer on the display film using the low reflection film according to the present invention. A display can be obtained by adhering to the display surface of a display surface, such as an apparatus CRT and a portable digital assistant PDA.

상기와 같이 해서 제작된 적층필름과 디스플레이 표시면 및/또는 그 전면판의 표면을 밀착시키는 수단은 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면, 디스플레이 표시부재 혹은 기재필름(10)에 점착층 또는 접착층을 도포 건조시켜, 저반사필름의 저굴절율층(30)이 표층으로 되도록 압착 롤러 등으로 접합시켜, 점착층 또는 접착층을 개재해서 디스플레이 표시부재와 기재필름(10)을 접착시키는 것에 의해, 적층필름으로 이루어지는 디스플레이용 필터 또는 디스플레이를 얻을 수 있다.The means for closely contacting the laminated film produced as described above with the surface of the display display surface and / or its front plate is not particularly limited. For example, an adhesive layer or an adhesive layer is applied to the display display member or the base film 10. It is made of a laminated film by drying, bonding the low refractive index layer 30 of the low reflection film to a surface layer by a pressing roller or the like, and adhering the display display member and the base film 10 through an adhesive layer or an adhesive layer. A display filter or display can be obtained.

이하, 실시예 및 비교예를 들어 본 발명을 더욱 구체적으로 설명한다. Hereinafter, an Example and a comparative example are given and this invention is demonstrated further more concretely.

[실시예 1]Example 1

고굴절율 경질코팅층(20)의 형성Formation of High Refractive Index Hard Coating Layer 20

아크릴레이트를 함유하는 고굴절 경질코팅수지 (고형분 100%)(일본합성화학공업㈜ 제품, UV-9100B)를 이소프로필알콜(IPA)에 용해하여 얻은 혼합물에 광개시제(고형분100%)(Ciba Specialty Chemicals 제품, IRGACURE-184)를 첨가(올리고머:IPA:광개시제=48.8wt%:48.8wt%:2.4wt%)한 후 균일하게 혼합하여 고굴절율 경질 코팅층 재료의 용액을 조성하였다. 이때 용액의 광개시제는 경질 코팅 수지 성분 대비는 0.05배가 함유되었다. 균일하게 혼합된 용액을 두께 100㎛의 폴리에스테르필름(도레이㈜ 제품, 루미러)로 이루어지는 기재필름(10)의 면상에 마이크로그라비아 코터를 이용하여 도포하고, 80℃에서 5분간 건조 후, 자외선 0.5J/cm2를 조사해서 도포층을 경화시켜, 두께 약 2.0㎛, 미세한 요철을 갖고, 상기 요철의 산술평균 조도(Ra)가 0.003㎛인 고굴절율 경질코팅층(20)을 형성했다. Photoinitiator (solid content 100%) in a mixture obtained by dissolving acrylate-containing high refractive index hard coating resin (solid content 100%) (product of Nippon Synthetic Chemicals, UV-9100B) in isopropyl alcohol (IPA) (Ciba Specialty Chemicals product) , IRGACURE-184) was added (oligomer: IPA: photoinitiator = 48.8 wt%: 48.8 wt%: 2.4 wt%) and then uniformly mixed to form a solution of a high refractive index hard coating layer material. At this time, the photoinitiator of the solution contained 0.05 times compared to the hard coating resin component. The uniformly mixed solution was applied onto the surface of the base film 10 made of a polyester film (Toray Co., Ltd., Lumirror) having a thickness of 100 μm using a microgravure coater, dried at 80 ° C. for 5 minutes, and then UV 0.5 J / cm <2> was irradiated, the coating layer was hardened | cured, and the high refractive index hard coating layer 20 which has a thickness of about 2.0 micrometers and fine unevenness | corrugation, and whose arithmetic mean roughness Ra of the unevenness | corrugation is 0.003 micrometers was formed.

저굴절율층(30)의 형성Formation of Low Refractive Index Layer 30

함불소계 공중합체(플루오로올레핀/비닐에테르 공중합체)를 함유하는 도료(고형분 10%)(JSR㈜ 제품, TU2263, 바인더수지 100중량 대비 중공실리카 5중량부)를 이소프로필알콜에 용해(함불소계 공중합체:이소프로필알콜= 8.2wt%:91.8wt%)하여 이 혼합물을 교반해서 얻은 도포액을 고굴절율 경질코팅층(20) 위에 마이크로그라비아 코터를 사용해서 두께가 약 112~116nm로 도포하고, 80℃에서 5분간 건조 후, 자외선 0.5J/cm2를 조사해서 도포층을 경화시켜, 두께 약 0.1㎛, 미세한 요철을 갖고, 상기 요철의 산술평균 조도(Ra)가 0.003㎛인 저굴절율층(30)을 형성했다.Dissolve paint (solid content 10%) (JSR Co., Ltd., TU2263, 5 parts by weight of hollow silica with respect to 100 weight of binder resin) containing fluorine-containing copolymer (fluoroolefin / vinyl ether copolymer) in isopropyl alcohol (fluorine-based Copolymer: Isopropyl alcohol = 8.2wt%: 91.8wt%) and the coating liquid obtained by stirring this mixture was applied on the high refractive index hard coating layer 20 using a microgravure coater at a thickness of about 112-116 nm, and 80 After drying at 5 ° C. for 5 minutes, ultraviolet rays were irradiated with 0.5 J / cm 2 to cure the coating layer, having a thickness of about 0.1 μm, fine irregularities, and a low refractive index layer 30 having an arithmetic mean roughness Ra of 0.003 μm. Formed).

[실시예 2][Example 2]

고굴절율 경질코팅층(20)의 형성Formation of High Refractive Index Hard Coating Layer 20

아크릴레이트를 함유하는 경질 코팅 수지(고형분 100%)(일본합성화학공업㈜ 제품, UV-9100B)를 이소프로필알콜에 용해하여 얻은 혼합물에 광개시제 (고형분100%)(Ciba Specialty Chemicals제품, IRGACURE-184)를 첨가(올리고머:IPA:광개시 제=48.8wt%:48.8wt%:2.4wt%)한 후 균일하게 혼합하여 고굴절율 경질코팅층 재료의 용액을 조성하였다. 이때 용액의 광개시제는 경질 코팅 수지 성분 대비는 0.05배가 함유되었다. 균일하게 혼합된 용액을 두께 100㎛의 폴리에스테르필름(도레이㈜ 제품, 루미러)로 이루어지는 기재필름(10)의 면상에 마이크로그라비아 코터를 이용하여 도포하고, 80℃에서 5분간 건조 후, 자외선 0.5J/cm2를 조사해서 도포층을 경화시켜, 두께 약 2.0㎛, 미세한 요철을 갖고, 상기 요철의 산술평균 조도(Ra)가 0.003㎛인 의 고굴절율 경질코팅층(20)을 형성했다.Photoinitiator (solid content 100%) (Ciba Specialty Chemicals, IRGACURE-184) in a mixture obtained by dissolving acrylate-containing hard coating resin (100% solids) (UV-9100B, manufactured by Nippon Synthetic Chemicals Co., Ltd.) in isopropyl alcohol. ) Was added (oligomer: IPA: photoinitiator = 48.8 wt%: 48.8 wt%: 2.4 wt%) and then uniformly mixed to form a solution of a high refractive index hard coating layer material. At this time, the photoinitiator of the solution contained 0.05 times compared to the hard coating resin component. The uniformly mixed solution was applied onto the surface of the base film 10 made of a polyester film (Toray Co., Ltd., Lumirror) having a thickness of 100 μm using a microgravure coater, dried at 80 ° C. for 5 minutes, and then UV 0.5 J / cm <2> was irradiated, the coating layer was hardened | cured, and the high refractive index hard coating layer 20 which has a thickness of about 2.0 micrometers and fine unevenness | corrugation, and whose arithmetic mean roughness Ra of the unevenness | corrugation is 0.003 micrometers was formed.

저굴절율층(30)의 형성Formation of Low Refractive Index Layer 30

함불소계 공중합체(플루오로올레핀/비닐에테르 공중합체)를 함유하는 도료(고형분 10%)(JSR㈜ 제품, TU2207, 바인더수지 100중량 대비 중공실리카 10중량부)를 이소프로필알콜에 용해(함불소계 공중합체:이소프로필알콜= 8.2wt%:91.8wt%)하여 이 혼합물을 교반해서 얻은 도포액을 고굴절율 경질코팅층(20) 위에 마이크로그라비아 코터를 사용해서 두께가 약 112~116nm로 도포하고, 80℃에서 5분간 건조 후, 자외선 0.5J/cm2를 조사해서 도포층을 경화시켜, 두께 약 0.1㎛, 미세한 요철을 갖고, 상기 요철의 산술평균 조도(Ra)가 0.005㎛인 저굴절율층(30)을 형성했다.Dissolve the paint (solid content 10%) containing the fluorine-containing copolymer (fluoroolefin / vinyl ether copolymer) (JSR Co., Ltd., TU2207, 10 parts by weight of hollow silica with respect to 100 weight of the binder resin) in isopropyl alcohol (fluorine-based Copolymer: Isopropyl alcohol = 8.2wt%: 91.8wt%) and the coating liquid obtained by stirring this mixture was applied on the high refractive index hard coating layer 20 using a microgravure coater at a thickness of about 112-116 nm, and 80 After drying at 5 ° C. for 5 minutes, ultraviolet rays were irradiated with 0.5 J / cm 2 to cure the coating layer. The low refractive index layer 30 having a thickness of about 0.1 μm and fine irregularities and having an arithmetic mean roughness Ra of the irregularities was 0.005 μm. Formed).

[비교예 1]Comparative Example 1

고굴절율High refractive index 경질코팅층(20)의 형성 Formation of Hard Coating Layer 20

경질 코팅 수지와 광중합 개시제를 함유하는 도료(고형분 50%)(JSR㈜ 제품, KZ7528) 11.1중량%, Isopropanol에 분산되어 있는 평균입경 20~40nm의 주석함유 산 화 인듐 입자(ATO)를 함유하는 용액(고형분25%) (SIGMA-ALDRICH 제품, 50926-11-9) 88.9 중량%를 균일하게 혼합하여 고굴절율 경질코팅층 재료의 용액을 조성하였다. 이때 용액의 산화 인듐 입자(ATO)는 경질 코팅 수지 성분 대비는 1배가 함유되었다. 균일하게 혼합된 용액을 두께 100㎛의 폴리에스테르필름(도레이㈜ 제품, 루미러)로 이루어지는 기재필름(10)의 면상에 마이크로그라비아 코터를 이용하여 도포하고, 80℃에서 5분간 건조 후, 자외선 1.0J/cm2를 조사해서 도포층을 경화시켜, 두께 약 2.0㎛, 미세한 요철을 갖고, 상기 요철의 산술평균 조도(Ra)가 0.015㎛인 고굴절율 경질코팅층(20)을 형성했다.Paint containing solid coating resin and photopolymerization initiator (50% solids) (JSR Co., KZ7528) 11.1% by weight, solution containing tin oxide-containing indium oxide particles (ATO) with an average particle diameter of 20-40 nm dispersed in Isopropanol (Solid 25%) (Sigma-ALDRICH, 50926-11-9) 88.9 wt% was uniformly mixed to form a solution of the high refractive index hard coating layer material. At this time, the indium oxide particles (ATO) of the solution contained 1 times compared to the hard coating resin component. The uniformly mixed solution was applied on the surface of the base film 10 made of a polyester film (Toray Co., Ltd., Lumirror) having a thickness of 100 μm using a microgravure coater, dried at 80 ° C. for 5 minutes, and then subjected to ultraviolet ray 1.0. J / cm <2> was irradiated, the coating layer was hardened | cured, and the high refractive index hard coating layer 20 which has a thickness of about 2.0 micrometers and fine unevenness | corrugation, and whose arithmetic mean roughness Ra of the unevenness | corrugation is 0.015 micrometers was formed.

저굴절율층(30)의 형성Formation of Low Refractive Index Layer 30

함불소계 공중합체(플루오로올레핀/비닐에테르 공중합체)를 함유하는 도료(고형분 10%)(JSR㈜ 제품, TU2263, 바인더수지 100중량 대비 중공실리카 5중량부)를 이소프로필알콜에 용해(함불소계 공중합체:이소프로필알콜= 8.2wt%:91.8wt%)하여 이 혼합물을 교반해서 얻은 도포액을 고굴절율 경질코팅층(20) 위에 마이크로그라비아 코터를 사용해서 두께가 약 112~116nm로 도포하고, 80℃에서 5분간 건조 후, 자외선 0.5J/cm2를 조사해서 도포층을 경화시켜, 두께 약 0.1㎛, 미세한 요철을 갖고, 상기 요철의 산술평균 조도(Ra)가 0.015㎛인 저굴절율층(30)을 형성했다.Dissolve paint (solid content 10%) (JSR Co., Ltd., TU2263, 5 parts by weight of hollow silica with respect to 100 weight of binder resin) containing fluorine-containing copolymer (fluoroolefin / vinyl ether copolymer) in isopropyl alcohol (fluorine-based Copolymer: Isopropyl alcohol = 8.2wt%: 91.8wt%) and the coating liquid obtained by stirring this mixture was applied on the high refractive index hard coating layer 20 using a microgravure coater at a thickness of about 112-116 nm, and 80 After drying at 5 ° C. for 5 minutes, ultraviolet rays were irradiated with 0.5 J / cm 2 to cure the coating layer. The low refractive index layer 30 having a thickness of about 0.1 μm and fine irregularities and having an arithmetic mean roughness Ra of the irregularities was 0.015 μm. Formed).

[비교예 2]Comparative Example 2

고굴절율 경질코팅층(20)의 형성Formation of High Refractive Index Hard Coating Layer 20

경질 코팅 수지와 광중합 개시제를 함유하는 도료(고형분 50%)(JSR㈜ 제품, KZ7528) 11.1중량%, Isopropanol에 분산되어 있는 평균입경 20~40nm의 주석함유 산화 인듐 입자(ATO)를 함유하는 용액(고형분25%) (SIGMA-ALDRICH 제품, 50926-11-9) 88.9 중량%를 균일하게 혼합하여 고굴절율 경질코팅층 재료의 용액을 조성하였다. 이때 용액의 산화 인듐 입자(ATO)는 경질 코팅 수지 성분 대비 2배가 함유되었다. 균일하게 혼합된 용액을 두께 100㎛의 폴리에스테르필름(도레이㈜ 제품, 루미러)로 이루어지는 기재필름(10)의 면상에 마이크로그라비아 코터를 이용하여 도포하고, 80℃에서 5분간 건조 후, 자외선 1.0J/cm2를 조사해서 도포층을 경화시켜, 두께 약 2.0㎛, 미세한 요철을 갖고, 상기 요철의 산술평균 조도(Ra)가 0.025㎛인 의 고굴절율 경질코팅층(20)을 형성했다.Paint containing solid coating resin and photopolymerization initiator (50% solids) (JSR Co., KZ7528) 11.1% by weight, solution containing tin-containing indium oxide particles (ATO) with an average particle diameter of 20-40 nm dispersed in Isopropanol ( Solid content 25%) (from SIGMA-ALDRICH, 50926-11-9) 88.9 wt% was uniformly mixed to form a solution of high refractive index hard coating layer material. At this time, the indium oxide particles (ATO) of the solution contained twice as much as the hard coating resin component. The uniformly mixed solution was applied on the surface of the base film 10 made of a polyester film (Toray Co., Ltd., Lumirror) having a thickness of 100 μm using a microgravure coater, dried at 80 ° C. for 5 minutes, and then subjected to ultraviolet ray 1.0. J / cm <2> was irradiated, the coating layer was hardened | cured, and the high refractive index hard coating layer 20 which has a thickness of about 2.0 micrometers and fine unevenness | corrugation, and whose arithmetic mean roughness Ra of the unevenness | corrugation is 0.025 micrometers was formed.

저굴절율층(30)의 형성Formation of Low Refractive Index Layer 30

함불소계 공중합체(플루오로올레핀/비닐에테르 공중합체)를 함유하는 도료(고형분 10%)(JSR㈜ 제품, TU2189, 바인더수지 100중량 대비 중공실리카 40중량부)를 이소프로필알콜에 용해(함불소계 공중합체:이소프로필알콜= 8.2wt%:91.8wt%)하여 이 혼합물을 교반해서 얻은 도포액을 고굴절율 경질코팅층(20) 위에 마이크로그라비아 코터를 사용해서 두께가 약 112~116nm로 도포하고, 80℃에서 5분간 건조 후, 자외선 0.5J/cm2를 조사해서 도포층을 경화시켜, 두께 약 0.1㎛, 미세한 요철을 갖고, 상기 요철의 산술평균 조도(Ra)가 0.037㎛인 저굴절율층(30)을 형성했다. Dissolve the paint (solid content 10%) containing fluorine-containing copolymer (fluoroolefin / vinyl ether copolymer) (JSR Co., Ltd., TU2189, 40 parts by weight of hollow silica with respect to 100 weight of binder resin) in isopropyl alcohol (fluorine-based Copolymer: Isopropyl alcohol = 8.2wt%: 91.8wt%) and the coating liquid obtained by stirring this mixture was applied on the high refractive index hard coating layer 20 using a microgravure coater at a thickness of about 112-116 nm, and 80 After drying at 5 ° C. for 5 minutes, ultraviolet rays were irradiated with 0.5 J / cm 2 to cure the coating layer, having a thickness of about 0.1 μm, fine irregularities, and a low refractive index layer 30 having an arithmetic mean roughness Ra of the irregularities of 0.037 μm. Formed).

다음으로, 상기 실시예들 및 비교예들에서 제조된 저반사 필름을 사용하여 그 특성을 평가하는 방법을 설명한다.Next, a method of evaluating the characteristics using the low reflection film prepared in the above Examples and Comparative Examples will be described.

[실험예 1: 투과율 측정]Experimental Example 1 Measurement of Transmittance

스가시켄키 제품의 직독 헤이즈 컴퓨터를 사용해서 본 실험을 행하였다.This experiment was carried out using a direct reading haze computer manufactured by Sugashi Kenki.

[실험예 2: 반사율 측정]Experimental Example 2: Measurement of Reflectance

히타치 케이소쿠 제품의 분광 광도계 U-3410을 사용했다. 샘플필름은 320∼400의 내수 샌드페이퍼로 이면에 균일하게 상처를 내고, 흑색도료를 도포하여, 이면으로부터의 반사를 완전히 없앤 상태로 하고, 수지층 측 표면에 대하여 입사광 각도 6∼10°로 측정했다. 또한, 여기서 반사율은 파장영역 380nm≤λ≤780nm에 있어서의 최소값을 나타낸다.The spectrophotometer U-3410 from Hitachi Keisoku was used. The sample film was scratched evenly on the back surface with 320-400 waterproof sandpaper, and black paint was applied to completely remove the reflection from the back surface. . In addition, a reflectance here shows the minimum value in wavelength range 380nm <=== 780nm.

[실험예 3: 표면경도(연필경도)평가]Experimental Example 3: Evaluation of Surface Hardness (Pencil Hardness)

HEIDON(신코카가쿠사 제품)을 사용하여 JIS K-5400을 따라서 측정하였다.It measured according to JIS K-5400 using HEIDON (manufactured by Shinkokagaku Co., Ltd.).

[실험예 4: 긁힘방지성(스틸울 경도)평가][Experimental Example 4: scratch resistance (steel wool hardness) evaluation]

#0000의 스틸울을 사용하여, 250gf/㎠의 하중을 가해서 10회 왕복했을 때의 상처의 개수를 관찰했다. 상처의 레벨에 따라서 경도를 다음 5단계로 분류했다(레벨 5 : 상처 없음, 레벨 4 : 1∼5개 상처 있음, 레벨 3 : 5∼10개 상처 있음, 레벨2 : 10개 이상의 상처 있음, 레벨 1 : 전체 면에 상처 있음).Using the steel wool of # 0000, the number of wounds when reciprocating 10 times under a load of 250 gf / cm 2 was observed. According to the level of the wound, the hardness was classified into the following five levels (level 5: no wound, level 4: 1-5 wounds, level 3: 5-10 wounds, level 2: 10 or more wounds, level) 1: wound on the entire surface).

[실험예 5: 지문제거특성평가]Experimental Example 5: Fingerprint Removal Characteristic Evaluation

모든 시료의 지문제거특성은 저반사필름 배면을 무광 블랙잉크로 처리하여, 저반사필름 표면에 손가락을 천천히 가압 접촉하여, 나타난 지문을 헝겁 등을 이용하여 5회 왕복 제거 후 지문의 남은 흔적 정도에 따라 판단하였다. "○"는 보이는 지문이 없음을 나타내고, "△"는 지문이 약하게 남아 있음을 나타내며 "X"는 지문 이 잘 보임을 각각 나타낸다.Fingerprint removal characteristics of all samples were treated with matte black ink on the back of the low reflective film, and the finger was slowly pressed against the surface of the low reflective film. Judging accordingly. "○" indicates that there is no visible fingerprint, "△" indicates that the fingerprint remains weak and "X" indicates that the fingerprint is well seen, respectively.

상기 특성을 평가한 실험에 따른 결과를 다음 표 1에 나타내었다.The results of the experiment evaluating the characteristics are shown in Table 1 below.

[표 1]TABLE 1

투과율(%)Transmittance (%) 최저반사율
(%)
Reflectance
(%)
표면경도
(H)
Surface hardness
(H)
긁힘방지성
(스틸울경도)
Anti-scratch
(Steel wool hardness)
지문제거특성Fingerprint Removal Characteristics
실시예 1Example 1 91.891.8 1.51.5 33 55 실시예 2Example 2 91.491.4 0.80.8 33 55 비교예 1Comparative Example 1 89.189.1 1.31.3 22 22 비교예 2Comparative Example 2 87.987.9 0.30.3 2~12 ~ 1 1One XX

상기 실시예 1 및 2 에 따른 저반사 필름의 고굴절율 경질코팅층은 아크릴레이트를 함유하는 경질코팅수지로 제조되며 경화 후 산술평균조도(Ra)가 0.003㎛인 것이고, 비교예 1 및 2 에 따른 저반사 필름의 고굴절율 경질코팅층은 경질 코팅 수지와 광중합 개시제를 함유하는 도료와 경질코팅 코팅 수지 성분 대비 산화 인듐 입자(ATO)가 각각 1배와 2배 함유된 것으로 경화 후 산술평균조도(Ra)가 각각 0.015㎛와 0.025㎛인 것이다.The high refractive index hard coating layer of the low reflection film according to Examples 1 and 2 is made of a hard coating resin containing acrylate and has arithmetic mean roughness (Ra) of 0.003 μm after curing, and according to Comparative Examples 1 and 2 The high refractive index hard coating layer of the reflective film contains indium oxide particles (ATO) 1 and 2 times higher than the paint containing the hard coating resin and the photopolymerization initiator and the hard coating coating resin, respectively. 0.015 micrometer and 0.025 micrometer, respectively.

또한, 상기 개선된 도료에서의 저반사 필름의 저굴절율층은 산술평균조도(Ra)가 각각 0.003㎛, 0.005㎛ 임에 반해, 비교예 1과 같이 산술평균조도(Ra)가 0.015㎛로 상승할 경우 표면경도 저하 및 긁힘방지성 저하 및 지문제거특성이 저하된다. 또한 비교예 2와 같이 산술평균조도(Ra)값이 0.037㎛로 더욱 상승할 경우, 고굴절 경질코팅층의 산화 인듐 입자(ATO) 함유량 증가에 따른 굴절율 상승 및 저굴절율층의 중공실리카 함유량 증가에 따른 굴절율 하강으로 반사율을 상당히 낮출 수 있으나 급격한 투과율저하에 따른 디스플레이 소자로서의 적용이 제한적이며, 및 지문제거특성 상실로 인하여 품질이 저하되는 단점이 있다.In addition, the low refractive index layer of the low-reflective film in the improved paint has arithmetic mean roughness Ra of 0.003 μm and 0.005 μm, respectively. In this case, surface hardness is lowered, scratch resistance is lowered, and fingerprint removal characteristics are lowered. In addition, when the arithmetic mean roughness (Ra) value is further increased to 0.037 μm as in Comparative Example 2, the refractive index is increased due to the increase in the content of indium oxide particles (ATO) in the high refractive index hard coating layer and the refractive index is increased in the hollow silica content of the low refractive index layer. Although the reflectance can be considerably lowered due to the drop, the application as a display element due to the rapid decrease in transmittance is limited, and the quality is deteriorated due to the loss of fingerprint removal characteristics.

상기 표 1에서 확인할 수 있는 바와 같이, 본 발명의 실시예에 따른 저반사 필름은 기재필름 상에 경질코팅층의 굴절율이 고굴절율로 조절된 고굴절율 경질코팅층과 저굴절율층이 2층 구조로 순차 적층되되, 상기 고굴절율 경질코팅층 및 저굴절율층이 미세한 요철을 갖고, 요철의 산술평균 조도(Ra)를 제어함으로써, 비교예에 비해, 표면경도 및 긁힘 방지성 및 지문제거특성이 우수함을 알 수 있다.As can be seen in Table 1, in the low reflection film according to the embodiment of the present invention, the high refractive index hard coating layer and the low refractive index layer of which the refractive index of the hard coating layer is adjusted to the high refractive index on the base film are sequentially stacked in a two-layer structure. However, the high refractive index hard coating layer and the low refractive index layer has a fine unevenness, by controlling the arithmetic mean roughness (Ra) of the unevenness, it can be seen that the surface hardness and scratch resistance and fingerprint removal characteristics are superior to the comparative example. .

따라서, 본 발명에 따른 저반사 필름은 종래의 다층 구조를 가지는 저반사 필름과 대비하여 물리적 특성이 향상됨과 동시에 고가의 산화 인듐 입자(ATO) 함유하지 않음으로서 생산성이 향상되고 제조 비용을 줄일 수 있기 때문에, 예컨대 플라즈마 디스플레이와 같은 대화면의 평면 텔레비전 전면, 액정 텔레비전 전면, 또는 터치스크린이 사용되는 소형 모바일 디스플레이 등에 적용되는 저반사 고경도필름으로 적합한 개선된 디스플레이용 저반사 필름을 제공할 수 있게 되는 것이다.Therefore, the low reflection film according to the present invention improves physical properties and does not contain expensive indium oxide particles (ATO) as compared to a low reflection film having a conventional multilayer structure, thereby improving productivity and reducing manufacturing costs. Therefore, it is possible to provide an improved low reflection film for display, which is suitable as a low reflection high hardness film applied to, for example, a large flat screen front surface such as a plasma display, a liquid crystal television front surface, or a small mobile display using a touch screen. .

이상에서 본 발명은 기재된 실시예에 대해서만 상세히 기술되었지만, 본 발명의 기술사상 범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속함은 당연한 것이다.Although the present invention has been described in detail only with respect to the embodiments described, it will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations are possible within the technical scope of the present invention, and such modifications and modifications belong to the appended claims.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 저반사 필름의 단면도.1 is a cross-sectional view of a low reflection film according to an embodiment of the present invention.

도 2는 종래의 경질코팅층, 고굴절율층 및 저굴절율층으로 구성된 3층 구조의 저반사 필름의 단면도.2 is a cross-sectional view of a low-reflection film of a three-layer structure composed of a conventional hard coating layer, a high refractive index layer and a low refractive index layer.

도 3은 종래의 경질코팅층, 중간굴절율층, 고굴절율층 및 저굴절율층으로 구성된 4층 구조의 저반사 필름의 단면도.3 is a cross-sectional view of a low-reflection film of a four-layer structure composed of a conventional hard coating layer, an intermediate refractive index layer, a high refractive index layer and a low refractive index layer.

도 4는 종래의 경질코팅층, 고굴절율층, 저굴절율층, 고굴절율층 및 저굴절율층으로 구성된 5층 구조의 저반사 필름의 단면도. 4 is a cross-sectional view of a five-layer low reflection film composed of a conventional hard coating layer, a high refractive index layer, a low refractive index layer, a high refractive index layer and a low refractive index layer.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 간단한 설명> BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG.

10: 기재필름 20: 고굴절율 경질코팅층10: base film 20: high refractive index hard coating layer

30: 저굴절율층 100: 기재필름30: low refractive index layer 100: base film

105: 경질코팅층 110: 중간굴절율층105: hard coating layer 110: intermediate refractive index layer

120: 고굴절율층 130: 저굴절율층 120: high refractive index layer 130: low refractive index layer

Claims (11)

저반사 필름에 있어서,In the low reflection film, 기재필름(10)의 적어도 한쪽 면에, 고굴절율 경질코팅층(20)과 저굴절율층(30)이 순차적으로 적층되되, 상기 저굴절율층(30)의 표면은 미세한 요철을 갖고, 상기 요철의 산술평균조도(Ra)가 0.0001㎛~ 0.005㎛인 것을 특징으로 하는, 저반사 필름. The high refractive index hard coating layer 20 and the low refractive index layer 30 are sequentially stacked on at least one surface of the base film 10, and the surface of the low refractive index layer 30 has fine irregularities and arithmetic of the irregularities. Average roughness Ra is 0.0001 micrometer-0.005 micrometer, The low reflection film characterized by the above-mentioned. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 저굴절율층(30)은 바인더 수지 100중량 대비 3 내지 15중량부의 중공실리카를 포함하는 것을 특징으로 하는, 저반사 필름. The low refractive index layer 30, characterized in that it comprises 3 to 15 parts by weight of hollow silica relative to 100 weight of the binder resin, low reflection film. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 저반사필름은 헤이즈가 3% 미만인 것을 특징으로 하는, 저반사 필름. The low reflection film, haze is characterized in that less than 3%, low reflection film. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 저반사필름은 표면경도가 3H이상인 것을 특징으로 하는, 저반사 필름.The low reflection film is characterized in that the surface hardness of 3H or more, low reflection film. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 저반사필름은 수접촉각이 80°이상인 것을 특징으로 하는, 저반사 필 름.The low reflection film is a low reflection film, characterized in that the water contact angle is more than 80 °. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 고굴절율 경질코팅층(20)의 두께는 1~50㎛이고, 상기 저굴절율층(30)의 두께는 0.01~1.0㎛인 것을 특징으로 하는, 저반사 필름.The high refractive index hard coating layer 20 is 1 ~ 50㎛ thickness, the low refractive index layer 30, characterized in that the thickness of 0.01 ~ 1.0㎛, low reflection film. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 저굴절율층(30)은 주쇄 중에 비닐에테르구조를 갖는 함불소계 공중합체를 포함하는 것을 특징으로 하는, 저반사 필름.The low refractive index layer 30, characterized in that it comprises a fluorine-containing copolymer having a vinyl ether structure in the main chain, low reflection film. 제7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 저굴절층(30)은 입경 0.001㎛∼0.2㎛의 실리카 미립자를 더 함유하는 것을 특징으로 하는, 저반사 필름.The low reflection film (30) further comprises silica fine particles having a particle size of 0.001 µm to 0.2 µm. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 1 to 8, 상기 저굴절층(30)은 다음 화학식 1로 나타내어지는 실란커플링제 또는 그 가수분해물 또는 그 반응물을 함유하되,The low refractive layer 30 contains a silane coupling agent represented by the following formula (1) or a hydrolyzate thereof or a reactant thereof, [화학식 1][Formula 1] R(1)aR(2)bSiX4-(a+b) R (1) a R (2) b SiX 4- (a + b) 여기서, R(1), R(2)는 각각 알킬기, 알케닐기, 알릴기, 또는 할로겐기, 에폭시기, 아미노기, 메르캅토기, 메타크릴옥시기 내지 시아노기를 갖는 탄화수소기이고, X는 알콕실기, 알콕시알콕실기, 할로겐기 내지 아실옥시기에서 선택된 가수분해 가능한 치환기이며, a와 b는 각각 0, 1 또는 2이고, 또한 (a+b)는 1, 2 또는 3인 것을 특징으로 하는, 저반사 필름.Here, R (1) and R (2) are each an alkyl group, an alkenyl group, an allyl group, or a hydrocarbon group having a halogen group, an epoxy group, an amino group, a mercapto group, a methacryloxy group to a cyano group, and X is an alkoxyl group , Alkoxyalkoxy group, a hydrolyzable substituent selected from halogen to acyloxy group, a and b are each 0, 1 or 2, and (a + b) is 1, 2 or 3, characterized in that Reflective film. 제9항에 있어서,10. The method of claim 9, 상기 저굴절층(30)은 불소화합물로서 다음 화학식 2으로 나타내어지는 알콕시실릴기를 갖는 불소수지 또는 이의 가수분해 생성물을 더 함유하되,The low refractive layer 30 further contains a fluorine resin or a hydrolysis product thereof having an alkoxysilyl group represented by the following Chemical Formula 2 as a fluorine compound, [화학식 2][Formula 2] R(3)cR(4)dSiX4-(c+d) R (3) c R (4) d SiX 4- (c + d) 여기서, R(3), R(4)는 각각 불소 치환된 알킬기, 알케닐기, 알릴기, 메타크릴옥시기, 또는 (메타)아크릴로일기를 갖는 탄화수소기이고, X는 알콕실기, 알콕시알콕실기, 할로겐기 또는 아실옥시기에서 선택된 가수분해 가능한 치환기이며, c와 d는 각각 0, 1, 2 또는 3이고, 또한 (c+d)는 1, 2 또는 3 인 것을 특징으로 하는, 저반사 필름.Wherein R (3) and R (4) are each a hydrocarbon group having a fluorine-substituted alkyl group, alkenyl group, allyl group, methacryloxy group, or (meth) acryloyl group, and X is an alkoxyl group or an alkoxyalkoxy group , A hydrolyzable substituent selected from a halogen group or an acyloxy group, c and d are each 0, 1, 2 or 3, and (c + d) is 1, 2 or 3, characterized in that the low reflection film . 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 1 to 8, 상기 저반사 필름은 500시간 광 조사 전후에 반사율 상승이 0.5% 미만인 것 을 특징으로 하는, 저반사 필름.The low reflection film is a low reflection film, characterized in that the increase in reflectance is less than 0.5% before and after light irradiation for 500 hours.
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