KR101506545B1 - Transparent conductive film for depositing ito - Google Patents
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Abstract
본 발명에서는 저굴절률층을 포함하는 1층 또는 고굴절률층과 저굴절률층이 순차적으로 적층된 2층의 광학조절층을 포함하는 ITO 증착용 투명 도전성 필름에 있어서, 상기 광학조절층을 구성하는 저굴절률층이 불소 첨가제를 포함하는 도포액으로 코팅되어 형성된 것을 특징으로 하는 상기 ITO 증착용 투명 도전성 필름을 제공한다. 본 발명의 ITO 증착용 투명 도전성 필름은 ITO 에칭 후 나타나는 패턴 시인을 최소화하고, 표면에너지를 조절함으로써, ITO 에칭면과 OCA(Optically Clear Adhesive)층과의 부착력을 증가시켜 터치스크린 패널의 신뢰성 확보가 가능하다.In the present invention, in a transparent conductive film for ITO vapor deposition including two layers of an optical control layer in which a single layer or a high refractive index layer including a low refractive index layer and a low refractive index layer are sequentially laminated, Wherein the refractive index layer is formed by coating with a coating liquid containing a fluorine additive. The transparent conductive film with the ITO vapor deposition of the present invention minimizes the pattern visibility after ITO etching and increases the adhesion between the ITO etched surface and the OCA (Optically Clear Adhesive) layer by controlling the surface energy to secure the reliability of the touch screen panel It is possible.
Description
본 발명은 ITO 증착용 투명 도전성 필름에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 저굴절률층을 포함하는 1층 광학조절층 또는 고굴절률층과 저굴절률층이 순차적으로 적층된 2층 광학조절층을 포함하는 ITO 증착용 투명 도전성 필름에 있어서, 상기 1층 광학조절층 또는 2층 광학조절층을 구성하는 저굴절률층이 불소 첨가제를 포함하는 도포액으로 코팅되어 형성된 것으로서, ITO 증착용 투명 도전성 필름의 평균반사율을 조절함으로부터 ITO 에칭 후 나타나는 패턴 시인을 최소화할 수 있고, 표면에너지를 조절함으로써 ITO 에칭면과 OCA(Optically Clear Adhesive)층과의 부착력을 증가시켜 터치스크린 패널의 신뢰성 확보를 갖출 수 있는 ITO 증착용 투명 도전성 필름에 관한 것이다. The present invention relates to a transparent conductive film for ITO vapor deposition, and more particularly, to a transparent conductive film for ITO vapor deposition, and more particularly, to a transparent conductive film for ITO vapor deposition, which comprises a one-layer optical control layer containing a low- Wherein the low refractive index layer constituting the one-layer optical control layer or the two-layer optical control layer is formed by coating with a coating liquid containing a fluorine-containing additive, and the average reflectance of the transparent conductive film It is possible to minimize the pattern visibility after ITO etching and to increase the adhesion between the ITO etched surface and the OCA (Optically Clear Adhesive) layer by adjusting the surface energy, thereby improving the reliability of the touch screen panel. To a transparent conductive film.
사용자가 화면(스크린)을 손 또는 물체로 터치하는 것만으로 편하게 데이터를 입력할 수 있도록 해주는 Operating System의 입력장치를 터치스크린패널(TSP, Touch Screen Panel)이라고 하며, 터치 인식 방법에 따라 저항막 방식(Resistive), 정전용량 방식(Capacitive) 등으로 구분된다.A touch screen panel (TSP) is an input device of an operating system that allows a user to easily input data by simply touching the screen (screen) with a hand or an object. The touch screen panel (TSP) (Resistive), and capacitive (Capacitive).
이중 현재 가장 널리 사용되고 있는 방식은 저항막 방식(Resistive)과 정전용량 방식(Capacitive)이며, 저항막 방식은 손가락이나 펜으로 터치했을 때, 눌린 지점에서 전위차가 발생하면, 그 지점을 감지해 동작하는 원리이며 감압식이라 부르기도 한다.Among them, Resistive and Capacitive are the most widely used methods. Resistive method is to detect when a potential difference occurs at a pressed point when touching with a finger or a pen. It is a principle and it is called a decompression type.
또한, 정전용량 방식은 사람의 몸에 있는 정전 용량을 이용해 전류의 방향이 변경된 부분을 감지해 동작하는 것이다.In addition, the electrostatic capacity type uses the electrostatic capacity in the human body to sense and change the direction of the current.
상기 저항막 방식과 정전용량 방식의 터치 스크린 패널의 구조에 공통으로 구성되는 ITO(Indium-Tin Oxide) 필름은 금속 전도성 물질인 인듐 주석 화합물로 이루어진 투명전도막을 스퍼터링(Sputtering) 방식 또는 물리적, 화학적 방식으로 증착하여 전류가 흐르는 투명전극(전기회로, pattern)을 베이스기판에 형성되도록 한 것이다.The indium-tin oxide (ITO) film, which is commonly used in the structure of the resistive film type and capacitive type touch screen panel, can be formed by sputtering a transparent conductive film made of indium tin compound, which is a metal conductive material, To form a transparent electrode (electric circuit, pattern) through which a current flows on the base substrate.
특히, 정전용량 방식은 투명전극(전기회로, pattern)의 시인성이 문제가 되고 있다. 따라서 ITO층 등의 도전층이 형성되는 하부면에 광학조절층을 형성시켜 에칭(패터닝 형성 공정)된 필름면 면과 에칭이 되지 않은 면과의 반사율을 최소화하여 시인성면에서 우수한 터치 스크린 패널을 제조하고 있다.Particularly, in the capacitance type, visibility of a transparent electrode (electric circuit, pattern) becomes a problem. Therefore, by forming the optical control layer on the lower surface where the conductive layer such as the ITO layer is formed, the reflectance of the film surface which is etched (patterning forming step) and the surface which is not etched is minimized, .
광학조절층 형성과정은 크게 무기물 증착방식을 이용하는 건식방식과 굴절률 조절용 수지를 도포한 습식방식으로 나눌 수 있으며, 최근에는 ITO필름의 생산 속도를 높이기 위해 습식방식을 선호하는 추세에 있다.The optical control layer formation process can be roughly classified into a dry process using an inorganic deposition method and a wet process using a resin for controlling an index of refraction. Recently, a wet process has been preferred to increase the production speed of an ITO film.
터치스크린 패널 제조 과정에서 ITO 에칭 후, OCA 및 OCR 접착층을 이용하여 피접착체와 접착하는 과정을 거치게 된다. 대한민국 공개특허 제2010-0084259호는 반사율 조절 필름과 OCA접착제의 합지 시, 최상위층의 수접촉각이 클수록, 표면에너지가 저하된다. 따라서, 점착층의 표면 부착력이 다소 약하게 되므로, 터치스크린 패널 전체의 내구성과 직결되는 문제점이 있다.In the manufacturing process of the touch screen panel, after the ITO etching, OCA and the OCR adhesive layer are used to adhere to the adherend. Korean Patent Publication No. 2010-0084259 discloses that when the reflectance control film and the OCA adhesive are laminated, the surface energy decreases as the water contact angle at the uppermost layer is larger. Therefore, there is a problem that the surface adhesion force of the pressure-sensitive adhesive layer is somewhat weakened, so that the durability of the entire touch screen panel is directly connected.
본 발명의 목적은 ITO 증착용 투명 도전성 필름의 평균반사율을 조절함으로부터 ITO 에칭 후 나타나는 패턴 시인을 최소화할 수 있고, 표면에너지를 조절함으로써 ITO 에칭면과 OCA(Optically Clear Adhesive)층과의 부착력을 증가시켜 터치스크린 패널의 신뢰성을 확보할 수 있는 터치스크린 패널용 ITO 증착용 투명 도전성 필름을 제공하는 것이다.It is an object of the present invention to minimize the pattern visibility after ITO etching by controlling the average reflectance of the transparent conductive film with ITO vapor deposition and to improve the adhesion between the ITO etched surface and the OCA (Optically Clear Adhesive) layer by controlling the surface energy To thereby improve the reliability of the touch screen panel. The present invention also provides a transparent conductive film for an ITO evaporation film for a touch screen panel.
상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 ITO 증착용 투명 도전성 필름은 저굴절률층을 포함하는 1층 광학조절층 또는 고굴절률층과 저굴절률층이 순차적으로 적층된 2층 광학조절층을 포함하는 ITO 증착용 투명 도전성 필름에 있어서, 상기 1층 광학조절층 또는 2층 광학조절층을 구성하는 저굴절률층이 불소 첨가제를 포함하는 도포액으로 코팅되어 형성된 것을 특징으로 한다.In order to achieve the above object, the transparent conductive film for ITO vapor deposition of the present invention comprises a one-layer optical control layer comprising a low-refractive index layer or a two-layer optical control layer in which a high-refractive index layer and a low- Wherein the low refractive index layer constituting the one-layer optical control layer or the two-layer optical control layer is formed by coating with a coating liquid containing a fluorine additive.
상기 불소 첨가제는 상기 저굴절률층(11)을 구성하는 불소 첨가제는 불소함유 (메타)아크릴레이트로서, 바람직하게는 하기의 화학식 1 또는 2로 표시되는 불소함유 (메타)아크릴레이트이다: The fluorine-containing additive is a fluorine-containing (meth) acrylate constituting the low
[화학식 1][Chemical Formula 1]
[화학식 2](2)
상기 화학식 1에서, R1은 아래의 화학식 3으로 표시되는 치환기이고:In Formula 1, R 1 is a substituent represented by the following Formula 3:
[화학식 3](3)
(상기 식에서 n은 1~6의 정수이다)(Wherein n is an integer of 1 to 6)
R2는 아래의 화학식 4로 표시되는 치환기이다:R 2 is a substituent represented by the following formula (4):
상기 불소첨가제의 함량은 바인더 성분 100 중량부에 대하여 0.5 내지 10 중량부인 것이 바람직하다.The content of the fluorine-containing additive is preferably 0.5 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the binder component.
또한, 상기 1층 광학조절층 또는 2층 광학조절층을 구성하는 저굴절률층이 평균 입경 10 내지 50nm의 무기입자를 추가로 포함하는 도포액으로 코팅되어 형성된 것일 수 있다.Further, the low refractive index layer constituting the one-layer optical control layer or the two-layer optical control layer may be formed by coating with a coating liquid further comprising inorganic particles having an average particle diameter of 10 to 50 nm.
본 발명의 ITO 증착용 투명 도전성 필름은 저굴절률층을 포함하는 1층 광학조절층 또는 고굴절률층과 저굴절률층이 순차적으로 적층된 2층의 광학조절층 하에, 하드코트층 및 기재필름이 역순으로 구성되거나 상기 기재필름 하에 안티-블록킹 하드코트층이 추가로 적층되어 구성되어 이루어진다. The transparent conductive film for ITO vapor deposition according to the present invention is characterized in that the hard coat layer and the substrate film are laminated in the order of reversing the order of the first layer of the optical control layer containing the low refractive index layer or the second layer of the optical control layer of the high refractive index layer and the low refractive index layer, Or an anti-blocking hard coat layer is further laminated under the substrate film.
상기 2층 광학조절층을 구성하는 고굴절률층의 굴절률은 1.64 내지 1.75이고, 두께는 20 내지 120nm인 것이 바람직하다.The refractive index of the high refractive index layer constituting the two-layered optical adjusting layer is preferably 1.64 to 1.75 and the thickness is preferably 20 to 120 nm.
상기 1층 광학조절층 또는 2층 광학조절층을 구성하는 저굴절률층의 굴절률이 1.44 내지 1.52인 것이 바람직하다.It is preferable that the refractive index of the low refractive index layer constituting the one-layer optical control layer or the two-layer optical control layer is from 1.44 to 1.52.
또한, 상기 1층 광학조절층을 구성하는 저굴절률층의 두께는 10 내지 100nm이고, 상기 2층 광학조절층을 구성하는 저굴절률층의 두께는 20 내지 80nm인 것이 바람직하다.The thickness of the low refractive index layer constituting the one-layer optical controlling layer is preferably 10 to 100 nm, and the thickness of the low refractive index layer constituting the two-layered optical adjusting layer is preferably 20 to 80 nm.
상기 1층 광학조절층 또는 2층 광학조절층을 구성하는 저굴절률층은 표면에너지가 25 내지 45 dyne/cm 이고, 아크릴계 접착테이프 간에 박리력이 150 내지 600 gf/inch인 것이 바람직하다.The low refractive index layer constituting the one-layer optical control layer or the two-layer optical control layer preferably has a surface energy of 25 to 45 dyne / cm and a peeling force of 150 to 600 gf / inch between the acrylic adhesive tapes.
본 발명의 ITO 증착용 투명 도전성 필름의 평균반사율이 가시광 영역(380 내지 780nm) 하에서 4 내지 10%인 것이 바람직하다The transparent ITO transparent conductive film of the present invention preferably has an average reflectance of 4 to 10% under visible light (380 to 780 nm)
본 발명의 저굴절률층을 포함하는 1층 광학조절층 또는 고굴절률층과 저굴절률층이 순차적으로 적층된 2층 광학조절층을 포함하는 ITO 증착용 투명 도전성 필름에 있어서, 상기 1층 광학조절층 또는 2층 광학조절층을 구성하는 저굴절률층이 불소 첨가제를 포함하는 도포액으로 코팅되어 형성됨으로써, ITO 증착용 투명 도전성 필름의 평균반사율을 조절함으로부터 ITO 에칭 후 나타나는 패턴 시인을 최소화할 수 있고, 표면에너지를 조절함으로써 ITO 에칭면과 OCA(Optically Clear Adhenive)층과의 부착력을 증가시켜 터치스크린 패널의 신뢰성을 확보할 수 있다.Layered optical conductive layer comprising a low refractive index layer of the present invention or a two-layer optical adjusting layer in which a high refractive index layer and a low refractive index layer are sequentially laminated, Or the low refractive index layer constituting the two-layer optical control layer is formed by coating with a coating solution containing a fluorine additive, the pattern visibility after ITO etching can be minimized by adjusting the average reflectance of the transparent conductive film with ITO evaporation , The adhesion of the ITO etched surface and the OCA (Optically Clear Adhenive) layer is increased by controlling the surface energy, thereby securing the reliability of the touch screen panel.
도 1은 본 발명의 제1 실시형태에 따르는 ITO 증착용 투명 도전성 필름의 모식적 단면도이다.
도 2는 본 발명의 제2 실시형태에 따르는 ITO 증착용 투명 도전성 필름의 모식적 단면도이다.
도 3은 본 발명의 제3 실시형태에 따르는 ITO 증착용 투명 도전성 필름의 모식적 단면도이다.1 is a schematic cross-sectional view of a transparent conductive film for ITO vapor deposition according to a first embodiment of the present invention.
2 is a schematic cross-sectional view of a transparent conductive film for ITO vapor deposition according to a second embodiment of the present invention.
3 is a schematic cross-sectional view of a transparent conductive film for ITO vapor deposition according to a third embodiment of the present invention.
본 발명에서는 저굴절률층을 포함하는 1층 광학조절층 또는 고굴절률층과 저굴절률층이 순차적으로 적층된 2층 광학조절층을 포함하는 ITO 증착용 투명 도전성 필름에 있어서, 상기 1층 광학조절층 또는 2층 광학조절층을 구성하는 저굴절률층이 불소 첨가제를 포함하는 도포액으로 코팅되어 형성된 ITO 증착용 투명 도전성 필름을 제공한다.In the present invention, there is provided a transparent conductive film for ITO vapor deposition comprising a one-layer optical control layer including a low refractive index layer or a two-layer optical control layer in which a high refractive index layer and a low refractive index layer are sequentially laminated, Or the low refractive index layer constituting the two-layer optical control layer is coated with a coating liquid containing a fluorine additive.
이하 도면을 참조하여 본 발명에 따르는 ITO 증착용 투명 도전성 필름을 설명한다.Hereinafter, a transparent conductive film for ITO vapor deposition according to the present invention will be described with reference to the drawings.
예를 들어, 본 발명의 제1 실시형태에 따르는 ITO 증착용 투명 도전성 필름(10)은, 도 1에 모식적으로 도시된 바와 같이, 기재필름(11), 하드코트층(12) 및 저굴절률층(14)이 순차적으로 적층되어 형성된 것이다. 본 실시형태에서 광학조절층은 저굴절율층(14) 단독의 1층으로 구성된다.For example, the transparent
본 발명의 제2 실시형태에 따르는 ITO 증착용 투명 도전성 필름(20)은, 도 2에 모식적으로 도시된 바와 같이, 기재필름(21), 하드코트층(22) 및 고굴절률층(23) 및 저굴절률층(24)이 순차적으로 적층되어 형성된 것이다. 본 실시형태에서는 상기 고굴절률층(23) 및 저굴절률층(24)이 2층으로 형성된 광학조절층을 구성한다.The transparent
본 발명의 제3 실시형태에 따르는 ITO 증착용 투명 도전성 필름(30)은, 도 2에 모식적으로 도시된 바와 같이, 안티-블록킹층(35), 기재필름(31), 하드코트층(32) 및 고굴절률층(33) 및 저굴절률층(34)이 순차적으로 적층되어 형성된 것이다. 본 실시형태에서는 상기 고굴절률층(33) 및 저굴절률층(34)이 2층으로 형성된 광학조절층을 구성한다.
2, the ITO vapor deposition transparent
1. 플라스틱 기재필름(11, 21, 31)1. Plastic base film (11, 21, 31)
본 발명의 ITO 증착용 투명 도전성 필름에서, 플라스틱 기재필름은 표시장치용으로서 사용하기 위해, 광선투과율이 높고, 헤이즈값이 낮은 것이 바람직하다. 예를 들면, 파장 400 내지 800nm에서의 광선투과율은 바람직하게는 40%이상, 보다 바람직하게는 60%이상이며, 또한, 헤이즈값은 바람직하게는 5% 이하, 더욱 바람직하게는 3% 이하이다. 이들 조건을 만족시키지 않는 경우에는, 표시부재로서 사용했을 때에 화상의 선명성이 결여되는 경향이 있다. 또한, 이러한 효과를 발휘하는 점에서, 광선투과율의 상한치는 99.5% 정도까지 그리고 헤이즈값의 하한값은 0.1% 정도까지가 제작할 수 있는 가능한 범위이다.In the transparent conductive film for ITO vapor deposition of the present invention, it is preferable that the plastic substrate film is high in light transmittance and low in haze value for use as a display device. For example, the light transmittance at a wavelength of 400 to 800 nm is preferably 40% or more, more preferably 60% or more, and the haze value is preferably 5% or less, more preferably 3% or less. When these conditions are not satisfied, the sharpness of the image tends to be lacking when used as the display member. In order to exhibit this effect, the upper limit of the light transmittance is about 99.5%, and the lower limit of the haze value is about 0.1%.
상기 플라스틱 기재필름의 재질은 상술한 조건을 만족시키는 것이면 특별히 한정되지 않아, 공지의 플라스틱 기재필름에 이용되는 수지소재 중에서 적절히 선택해서 사용할 수 있다. 이러한 플라스틱 기재필름용 수지소재로서, 예를 들면, 에스테르, 에틸렌, 프로필렌, 디아세테이트, 트리아세테이트, 스티렌, 카보네이트, 메틸펜텐, 술폰, 에테르에틸케톤, 이미드, 불소, 나일론, 아크릴레이트, 지환족 올레핀계 등에서 선택되는 하나를 구성단위로 하는 폴리머 또는 공중합 폴리머를 사용할 수 있다. 바람직하게는 이들 수지 중에서 폴리에틸렌테레프탈레이트 등의 에스테르계, 트리아세틸셀룰로오스 등의 아세테이트계, 및 폴리메틸메타크릴레이트 등의 아크릴레이트계에서 선택되는 하나를 구성단위로 하는 폴리머 또는 공중합 폴리머가 바람직한데, 이들은 투명성, 강도 및 두께의 균일성이 우수하기 때문이다.The material of the plastic base film is not particularly limited as long as it satisfies the above-mentioned conditions, and it can be appropriately selected from resin materials used for known plastic base films. As the resin material for such a plastic substrate film, for example, a resin such as an ester, an ethylene, a propylene, a diacetate, a triacetate, a styrene, a carbonate, a methylpentene, a sulfone, an ether ethyl ketone, an imide, a fluorine, a nylon, An olefin-based polymer, or the like can be used. Among these resins, a polymer or a copolymer polymer having one constituent unit selected from an ester type such as polyethylene terephthalate, an acetate type such as triacetyl cellulose and an acrylate type such as polymethyl methacrylate is preferable, They are excellent in transparency, strength and uniformity of thickness.
특히, 투명성, 헤이즈값, 기계특성의 면에서 에스테르계를 구성단위로 하는 폴리머로 이루어지는 기재필름이 특히 바람직하다. 이러한 폴리에스테르계 수지로서는, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌-2,6-나프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌-α,β-비스(2-클로로페녹시)에탄-4,4'-디카르복실레이트 등을 들 수 있다. 또한, 이들 폴리에스테르에는 또한 다른 디카르복실산 성분이나 디올 성분이 20몰% 이하이면 공중합되어 있어도 좋다. 그 중에서도 품질, 경제성 등을 종합적으로 판단하면, 폴리에틸렌테레프탈레이트가 특히 바람직하다. 이들 구성 수지성분은 1종만 사용해도, 2종 이상 병용해도 좋다.Particularly, a base film made of a polymer having an ester system as a constituent unit is particularly preferable in terms of transparency, haze value, and mechanical properties. Examples of such polyester resins include polyethylene terephthalate, polyethylene-2,6-naphthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene-α, β-bis (2-chlorophenoxy) And the like. These polyesters may also be copolymerized if the other dicarboxylic acid component or diol component is 20 mol% or less. Among them, polyethylene terephthalate is particularly preferable when it is judged comprehensively with regard to quality, economical efficiency and the like. These constituent resin components may be used alone or in combination of two or more.
상기 플라스틱 기재필름의 두께는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 투명성, 헤이즈값, 기계특성을 고려하여, 통상 5 내지 800㎛, 바람직하게는 10 내지 250㎛의 범위인 것이 선택된다. 또한, 2장 이상의 필름을 공지의 방법으로 접합한 것이어도 좋다.The thickness of the plastic base film is not particularly limited, but is usually in the range of 5 to 800 占 퐉, preferably 10 to 250 占 퐉 in consideration of transparency, haze value, and mechanical characteristics. Further, two or more films may be bonded by a known method.
또한, 상기 플라스틱 기재필름(30)은 각종 표면처리, 예를 들어, 코로나 방전처리, 글로우 방전처리, 화염처리, 에칭처리, 또는 조면화처리 등의 처리를 실시한 것이라도 좋다. 또한, 접착촉진을 위해서 플라스틱 기재필름의 표면에 프라이머층, 예를 들어, 폴리우레탄계, 폴리에스테르계, 폴리에스테르 아크릴레이트계, 폴리우레탄아크릴레이트계, 폴리에폭시아크릴레이트계, 티타네이트계 화합물 등의 코팅을 행한 후에, 고굴절율 경질코팅층을 형성해도 좋다. 특히, 친수기 함유 폴리에스테르수지에 아크릴계 화합물을 가교시킨 공중합체와 가교 결합제로 이루어지는 조성물을 프라이머 도포한 것은 접착성이 향상되고, 내열성, 내수성 등의 내구성이 우수하므로 상기 플라스틱 기재필름의 재질로서 바람직하다.
The
2. 하드코트층(12, 22, 32)2. The hard coat layers 12, 22 and 32,
본 발명의 ITO 증착용 투명 도전성 필름에서, 상기 플라스틱 기재필름상에 형성되어, 취급시 발생할 수 있는 스크레치 방지하는 기능을 한다.In the transparent conductive film with the ITO vapor deposition of the present invention, it is formed on the plastic base film to prevent scratches that may occur during handling.
상기 하드코트층은 아크릴레이트 화합물을 함유하는 것이 필수적이다. 아크릴레이트 화합물은 활성광선 조사에 의해 라디칼 중합되고, 형성되는 막의 내용제성이나 경도를 향상시킨다. 이 목적으로는 단관능 또는 다관능의 아크릴레이트가 단독으로 또는 조합으로 중합되어 사용될 수 있다. 단관능 아크릴레이트로서는 구체적으로는, 메틸(메타)아크릴레이트, n-부틸(메타)아크릴레이트, 폴리에스테르(메타) 아크릴레이트, 라우릴(메타)아크릴레이트, 히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 히드록시프로필(메타)아크릴레이트 등이 있다. 또한, (메타)아크릴로일기가 분자내에 2개 이상인 다관능 (메타) 아크릴레이트 화합물로서는 내용제성 등이 향상되므로 본 발명에 있어서는 특히 바람직하다. 다관능 (메타)아크릴레이트의 구체적인 예로는, 타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트,디펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스톨펜타(메타)아크릴레이트,디펜타에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트, 트리메티롤프로판트리(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 이들 단량체는, 1종 또는 2종 이상 혼합해서 사용해도 좋다.It is essential that the hard coat layer contains an acrylate compound. The acrylate compound is subjected to radical polymerization by irradiation with actinic rays to improve the solvent resistance and hardness of the formed film. For this purpose, monofunctional or polyfunctional acrylates may be used alone or in combination and polymerized. Specific examples of monofunctional acrylates include methyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, hydroxyethyl Hydroxypropyl (meth) acrylate, and the like. The polyfunctional (meth) acrylate compound having two or more (meth) acryloyl groups in the molecule is particularly preferable in the present invention because of its improved solvent resistance and the like. Specific examples of the polyfunctional (meth) acrylate include, but are not limited to, erythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (Meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, trimethylol propane tri (meth) acrylate, and the like. These monomers may be used alone or in combination of two or more.
상기 하드코트층의 경도는 JIS K5400에 의한 연필 경도 시험에 의해 H 이상인 것이 바람직하고, 2H 이상인 것이 보다 바람직하며, 3H 이상인 것이 더욱 바람직하다. 또한 JIS K5400에 의해 수행되는 테이버 마모 시험(Taber abration test)에 의해, 시험 전후의 시험편의 마모량이 더 적은 하드코트층이 더욱 바람직하다.The hardness of the hard coat layer is preferably not less than H by a pencil hardness test according to JIS K5400, more preferably not less than 2H, more preferably not less than 3H. Further, a hard coat layer having a smaller wear amount of the test piece before and after the test by the Taber abrasion test performed by JIS K5400 is more preferable.
본 발명의 하드코트층을 형성하기 위한 구성 수지성분에는, 하드코트층 경도의 향상을 목적으로 하여 알킬실리케이트류 및 그 가수분해물, 콜로이드상 실리카, 건식 실리카, 습식 실리카, 산화티타늄 등의 무기입자, 콜로이드상으로 분산된 실리카 미립자 등을 함유시켜도 좋다.The constituent resin components for forming the hard coat layer of the present invention include inorganic particles such as alkyl silicates and hydrolyzates thereof, colloidal silica, dry silica, wet silica, and titanium oxide for the purpose of improving the hardness of the hard coat layer, Silica fine particles dispersed in a colloidal state, or the like.
상기 하드코트층의 두께는, 따라서 적당히 선택되지만, 통상 1 내지 20㎛이며 바람직하게는 1 내지 10㎛이다. 하드코트층의 두께가 1㎛ 미만에서는, 표면경도가 불충분해서 상처가 생기기 쉬워 바람직하지 못하다. 또한, 20㎛를 넘는 경우는, 투명성이 저하해서 헤이즈값이 높아지기 쉽고, 또 경화막이 약해지며, 필름을 접어 구부렸을 때에 하드코트층에 크랙이 생기기 쉬워지기 때문에 바람직하지 못하다.
The thickness of the hard coat layer is suitably selected, but is usually 1 to 20 占 퐉, preferably 1 to 10 占 퐉. When the thickness of the hard coat layer is less than 1 mu m, surface hardness is insufficient and scratches tend to occur, which is not preferable. On the other hand, when the thickness exceeds 20 m, the transparency lowers and the haze value tends to be high, and the cured film is weakened, and cracks tend to occur in the hard coat layer when the film is folded and bent.
3. 광학 조절층3. The optical control layer
본 발명의 ITO 증착용 투명 도전성 필름에서, 광학 조절층은 저굴절률층 단독으로 형성된 광학조절층이거나; 또는 고굴절률층과 저굴절률층이 순차적으로 적층된 2층 광학조절층으로 이루어진다. 광학 조절층의 굴절율 및 층두께를 조절함으로써 필름의 반사율을 조절하는 기능을 수행한다.
In the transparent conductive film for ITO vapor deposition of the present invention, the optical control layer may be an optical control layer formed by a low refractive index layer alone; Or a two-layer optical control layer in which a high refractive index layer and a low refractive index layer are sequentially laminated. And controls the reflectance of the film by adjusting the refractive index and the layer thickness of the optical control layer.
3-1. 저굴절률층(14, 24, 34)3-1. The low refractive index layers (14, 24, 34)
본 발명의 ITO 증착용 투명 도전성 필름의 광학 조절층에서, 저굴절률층 하드코팅층 상에(제1 실시형태) 또는 고굴절률층 상에 형성된다(제2 실시형태 및 제3 실시형태).(The first embodiment) or the high-refractive-index layer (the second embodiment and the third embodiment) on the low-refractive index layer hard coat layer in the optical control layer of the transparent conductive film of the ITO vapor deposition of the present invention.
상기 저굴절률층은 바인더 성분, 불소 첨가제가 포함되며, 무기입자가 추가되어 사용될 수 있다.상기 저굴절률층을 구성하는 바인더 성분은 아크릴레이트 수지가 사용된다. 상기 아크릴레이트 수지를 위한 바람직한 단량체로는, 메틸(메타)아크 릴레이트, n-부틸(메타)아크릴레이트, 폴리에스테르(메타) 아크릴레이트, 라우릴(메타)아크릴레이트, 히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 히드록시프로필(메타)아크릴레이트 등의 단관능 아크릴레이트; 펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트,펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨테트라(메타) 아크릴레이트, 디펜타에리스톨펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨헥사The low refractive index layer includes a binder component and a fluorine additive, and inorganic particles may be added and used. The binder component constituting the low refractive index layer is an acrylate resin. Preferred examples of the monomer for the acrylate resin include methyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, hydroxyethyl Monofunctional acrylates such as acrylate and hydroxypropyl (meth) acrylate; (Meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tri Pentaerythritol hexa
(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메타)아크릴레이트 등의 다관능 아크릴레이트 등을 예로 들 수 있다. 더욱 바람직하게는, 다관능 아크릴레이트이고, 상기 아크릴레이트 수지를 위한 단량체는 1종 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. (Meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, and the like. More preferably, it is a polyfunctional acrylate, and the monomers for the acrylate resin may be used alone or in combination of two or more.
상기 저굴절률층을 구성하는 바인더 성분은 내용제성 및 경도를 향상시킬 수 있다.The binder component constituting the low refractive index layer can improve the solvent resistance and the hardness.
상기 저굴절률층을 구성하는 불소 첨가제는 불소함유 (메타)아크릴레이트로서, 고굴절층과의 조합으로 필름의 반사율을 조절 및 표면에너지를 조절하는 목적으로 사용한다. 바람직하게는 하기의 화학식 1 또는 2로 표시되는 아크릴에이트이다:The fluorine additive constituting the low refractive index layer is fluorine-containing (meth) acrylate, and is used in combination with the high refractive index layer to control the reflectance of the film and control the surface energy. Is preferably an acrylate represented by the following formula (1) or (2): < EMI ID =
[화학식 1][Chemical Formula 1]
[화학식 2](2)
상기 화학식 1에서, R1은 아래의 화학식 3으로 표시되는 치환기이고,In the above formula (1), R 1 is a substituent represented by the following formula (3)
[화학식 3](3)
(상기 식에서 n은 1~6의 정수이다)(Wherein n is an integer of 1 to 6)
R2는 아래의 화학식 4로 표시되는 치환기이다.R 2 is a substituent represented by the following formula (4).
상기 저굴절률층을 구성하는 불소 첨가제의 함량은 바인더 성분 100중량부에 대하여 0.5 내지 10중량부를 사용하는 것이 바람직하다. 불소 첨가제의 함량이 0.5중량부에 이르지 못하면 코팅면 형성되지 않는 문제와 반사율 조절이 제대로 되지 않는 문제점이 있고, 10중량부를 초과하는 경우에는 박막두께 조절에 문제점이 있다.The content of the fluorine additive constituting the low refractive index layer is preferably 0.5 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the binder component. If the content of the fluorine additive is less than 0.5 parts by weight, there is a problem that the coated surface is not formed and the reflectance is not properly controlled. When the content exceeds 10 parts by weight, there is a problem in controlling the thickness of the thin film.
상기 저굴절률층은 불소 첨가제가 포함된 도포액으로 코팅되어 형성된 것으로서, ITO 증착용 투명 도전성 필름의 평균반사율을 조절함으로부터 ITO 에칭 후 나타나는 패턴 시인을 최소화할 수 있고, 표면에너지를 조절함으로써 ITO 에칭면과 OCA(Optically Clear Adhenive)층과의 부착력을 증가시키는 기능을 한다.Since the low refractive index layer is formed by coating with a coating liquid containing a fluorine additive, it is possible to minimize the pattern visibility after the ITO etching by controlling the average reflectance of the transparent conductive film on the ITO vapor deposition, Plane and an OCA (Optically Clear Adhenive) layer.
또한, 상기 저굴절률층을 구성하는 무기입자는 굴절률 조절 및 표면 에너지 조절을 위해 실리카 미립자를 사용하는 것이 바람직하다. 상기 실리카 미립자는 중공 및 다공성의 미립자를 사용하고, 평균 1차 입경 크기가 10nm 내지 50nm인 것이 바람직하다. 상기 평균 1차 입경 크기가 10nm 미만이면 입자의 분산 문제가 있을 수 있고, 50nm를 초과하면 박막 코팅면의 조도를 높이는 문제점이 있다. 또한, 평균 1차 입경이 다른 2성분 이상의 입자를 사용할 수 있다.The inorganic particles constituting the low refractive index layer preferably use silica fine particles for adjusting the refractive index and controlling the surface energy. The fine silica particles are preferably hollow and porous fine particles and have an average primary particle diameter of 10 nm to 50 nm. If the average primary particle diameter is less than 10 nm, there is a problem of dispersion of particles. If the average primary particle diameter is more than 50 nm, there is a problem of raising the roughness of the thin film coated surface. Further, particles of two or more components having different average primary diameters may be used.
상기 실리카 미립자는 공기와의 굴절률 차를 줄이기 위해 중공(中空) 및/또는 다공(多空)성의 미립자를 사용하며, 표면 거칠기를 줄이기 위해 평균입경이 수십 nm 사이즈로 제한하여 사용하는 것이 바람직하다.The fine silica particles are preferably hollow and / or porous fine particles in order to reduce the refractive index difference with air, and the average particle size is preferably limited to a size of several tens nm in order to reduce surface roughness.
상기 실리카 미립자 성분은, 건식 실리카, 습식 실리카, 콜로이드상으로 분산된 실리카 미립자 등일 수 있으며, 콜로이드상으로 분산된 실리카 미립자일 수도 있다. 상기 실리카 미립자의 형상은 구상 또는 수주상이 바람직하게 이용된다. 상기 실리카 입자는 평균 입경이 다른 2성분 이상의 입자를 사용할 수 있다.The silica fine particle component may be dry silica, wet silica, silica fine particles dispersed in a colloidal state, or may be fine silica particles dispersed in a colloid. The shape of the fine silica particles is preferably spherical or water-phase. The silica particles may be particles of two or more components having different average particle diameters.
또한, 상기 실리카 미립자는, 표면처리를 하여 사용할 수도 있다. 표면처리 방법으로서는 플라즈마 방전처리나 코로나 방전처리 등의 물리적 표면처리와 커플링제를 사용한 화학적 표면처리가 있지만, 화학적 처리가 바람직하게 이용된다.
The fine silica particles may be subjected to a surface treatment. As the surface treatment method, there are physical surface treatment such as plasma discharge treatment and corona discharge treatment, and chemical surface treatment using a coupling agent, but chemical treatment is preferably used.
상기 저굴절률층의 굴절률은 1.44 내지 1.52인 것이 바람직하다. 상기 저굴절률층)의 굴절률이 1.44 미만이면, 목표 반사율보다 높아지는 문제점이 있고, 1.52를 초과하면, 목표 반사율보다 낮아지는 문제점이 있다. The refractive index of the low refractive index layer is preferably 1.44 to 1.52. Refractive index layer) is less than 1.44, there is a problem that it becomes higher than the target reflectance. When the refractive index exceeds 1.52, there is a problem that the refractive index is lower than the target reflectance.
상기 저굴절률층의 두께는 1층 광학조절층을 구성하는 경우, 10 내지 100nm이다. 상기 저굴절률층의 두께가 10nm 미만이면, 두께 조절의 문제점과 목표 반사율보다 높아지는 문제점이 있고, 100nm를 초과하면, 목표 반사율보다 과도하게 낮아지는 문제점이 있다.The thickness of the low refractive index layer is 10 to 100 nm when constituting the one-layer optical control layer. If the thickness of the low refractive index layer is less than 10 nm, there is a problem of thickness control and higher than the target reflectance. On the other hand, when the thickness is more than 100 nm, the refractive index is excessively lower than the target reflectance.
상기 저굴절률층의 두께는 2층 광학조절층을 구성하는 경우, 20 내지 80nm이다. 상기 저굴절률층의 두께가 20nm 미만이면, 목표 반사율보다 높아지는 문제점이 있고, 80nm를 초과하면, 목표 반사율보다 낮아지는 문제점이 있다.The thickness of the low refractive index layer is 20 to 80 nm when constituting the two-layer optical controlling layer. If the thickness of the low refractive index layer is less than 20 nm, there is a problem that it becomes higher than the target reflectance. When the thickness is more than 80 nm, the target reflectance is lowered.
상기 저굴절률층의 표면에너지가 25 내지 45dyne/cm이고, 아크릴계 접착테이프 간에 박리력이 150 내지 600gf/inch인 것이 바람직하다.
The surface energy of the low refractive index layer is 25 to 45 dyne / cm, and the peeling force between the acrylic adhesive tapes is preferably 150 to 600 gf / inch.
3-2. 고굴절률층(23, 33)3-2. The high refractive index layers (23, 33)
본 발명의 ITO 증착용 투명 도전성 필름의 광학 조절층에서, 고굴절률층은 상기 하드코트층 상에 형성된다.In the optical control layer of the ITO vapor-deposited transparent conductive film of the present invention, a high refractive index layer is formed on the hard coat layer.
상기 고굴절률층은 도전성 입자와 바인더 성분을 함유한다. 본 발명에서의 도전성 입자란, 금속미립자, 혹은 금속산화물 미립자를 가리킨다. 그 중에서도 금속산화물 미립자는 투명성이 높아 바람직하다. 금속산화물 미립자로서는 산화지르코늄, 산화티타늄, 주석함유 산화안티몬입자(ATO), 아연함유 산화안티몬입자, 주석함유 산화인듐입자(ITO), 산화아연/산화알루미늄입자, 산화안티몬입자 등이 특히 바람직하고, 보다 바람직하게는 주석함유 산화인듐입자(ITO), 주석함유 산화안티몬입자(ATO), 주석함유 산화지르코늄 이다.The high refractive index layer contains conductive particles and a binder component. The conductive particles in the present invention refer to metal fine particles or metal oxide fine particles. Among them, the metal oxide fine particles are preferable because of their high transparency. Particularly preferred metal oxide fine particles are zirconium oxide, titanium oxide, tin-containing antimony oxide particles (ATO), zinc-containing antimony oxide particles, tin-containing indium oxide particles (ITO), zinc oxide / aluminum oxide particles, antimony oxide particles, More preferred are tin-containing indium oxide particles (ITO), tin-containing antimony oxide particles (ATO), and tin-containing zirconium oxide.
상기 도전성 입자는 평균 1차 입경(BET법에 의해 측정되는 구에 상당하는 지름)이 100nm 이하인 입자가 바람직하고, 더욱 바람직하게는 1 내지 80nm, 보다 바람직하게는 5nm 내지 60nm의 입경을 가진 입자이다. 상기 평균 1차 입경이 5nm이면, 입자가 응집되기 쉬워 생성피막의 헤이즈 값이 증대되기 때문에 원하는 헤이즈 값을 얻는 것이 어렵고, 60nm를 초과하면, 피막의 투명성을 저하시킨다.The conductive particles Particles having an average primary particle diameter (diameter corresponding to a sphere measured by the BET method) of 100 nm or less are preferable, and particles having a particle diameter of 1 to 80 nm, more preferably 5 nm to 60 nm are more preferable. If the average primary particle size is 5 nm, the particles tend to agglomerate to increase the haze value of the resulting coating film. Therefore, it is difficult to obtain a desired haze value. When the average primary particle size exceeds 60 nm, the transparency of the coating film is deteriorated.
상기 고굴절률층을 구성하는 바인더 성분은 (메타)아크릴레이트 화합물이 이용된다. (메타)아크릴레이트 화합물은 활성광선 조사에 의해 라디칼 중합되고, 형성되는 막의 내용제성이나 경도를 향상시키기 때문에 바람직하고, 또한, (메타)아크릴로일기가 분자내에 2개 이상인 다관능 (메타)아크릴레이트 화합물은 내용제성 등이 향상되므로 본 발명에 있어서는 특히 바람직하다. 예를 들면, 펜타에리스리톨트리(메타) 아크릴레이트나, 트리메티롤프로판트리(메타)아크릴레이트, 글리세롤트리 (메타)아크릴레이트, 에틸렌 변성트리메티롤프로판트리(메타)아크릴레이트, 트리스-(2-히드록시에틸)-이소시아눌산에스테르트리(메타)아크릴레이트 등의 3관능(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨펜타(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스톨헥사(메타) 아크릴레이트 등의 4관능 이상의 (메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.The binder component constituting the high refractive index layer is a (meth) acrylate compound. (Meth) acrylate compound is preferable because it is radical-polymerized by irradiation with actinic rays to improve the solvent resistance and hardness of the film to be formed, and the polyfunctional (meth) acrylate compound having two or more (meth) acryloyl groups in the molecule The rate compound is particularly preferable in the present invention because the solvent resistance improves. (Meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, glycerol tri (meth) acrylate, ethylene-modified trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tris- (Meth) acrylate such as pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythol hexa (meth) acrylate, (Meth) acrylate, and the like.
고굴절률층을 구성하는 바인더 성분은 입자의 분산성을 향상시키기 위해서, 카르복실기나, 인산기, 술폰산기 등의 산성 관능기를 갖는 (메타)아크릴레이트 화합물을 사용할 수 있다. 구체적으로는, 산성 관능기 함유모노머로서는, 아크릴산, 메타크릴산, 크로톤산, 2-메타크릴로일옥시에틸숙신산, 2-메타크릴로일옥시에틸프탈 산 등의 불포화 카르복실산, 모노(2-(메타)아크릴로일옥시에틸)애시드포스페이트, 디페닐-2-(메타)아크릴로일옥시에틸포스페이트 등의 인산(메타)아크릴산에스테르, 2-술포에스테르(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.For the binder component constituting the high refractive index layer, a (meth) acrylate compound having an acidic functional group such as a carboxyl group or a phosphoric acid group or a sulfonic acid group can be used for improving the dispersibility of the particles. Specific examples of the acidic functional group-containing monomer include unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, 2-methacryloyloxyethylsuccinic acid and 2-methacryloyloxyethylphthalic acid, mono (2- (Meth) acryloyloxyethyl) acid phosphate and diphenyl-2- (meth) acryloyloxyethyl phosphate, and the like, and 2-sulfoester (meth) acrylate.
그 외, 아미드결합, 우레탄결합, 에테르결합 등의 극성을 가진 결합을 갖는 (메타)아크릴레이트 화합물을 사용할 수 있다.In addition, a (meth) acrylate compound having a polar bond such as an amide bond, a urethane bond or an ether bond can be used.
또한, 우레탄(메타)아크릴레이트 올리고머 등의 우레탄결합을 갖고 있는 수지이면, 극성도 높고 입자의 분산성이 좋아지므로 특히 바람직하다.Further, a resin having a urethane bond such as urethane (meth) acrylate oligomer is particularly preferable because it has high polarity and dispersibility of particles.
본 발명에서 하드코트층 및 고굴절률층을 형성할 때, 도포한 바인더성분의 경화를 진행시키기 위해서 개시제를 사용해도 좋다. 상기 개시제로서는, 도포한 바인더 성분을, 라디칼반응, 음이온반응, 양이온반응 등에 의한 중합 및/또는 가교반응을 개시 또는 촉진시키는 것이며, 종래부터 공지의 각종 광중합 개시제를 사용할 수 있다.In the present invention, when the hard coat layer and the high refractive index layer are formed, an initiator may be used to advance the curing of the applied binder component. As the initiator, various known photopolymerization initiators can be used to initiate or accelerate the polymerization and / or crosslinking reaction of the applied binder component by radical reaction, anion reaction, cation reaction and the like.
구체적으로는, 소듐메틸디티오카바메이트설파이드, 디페닐모노설파이드, 디벤조티아조일모노설파이드 및 디설파이드 등의 설파이드류; 티옥산톤, 2-에틸티옥산톤, 2-클로로티옥산톤, 2,4-디에틸티옥산톤 등의 티옥산톤 유도체; 히드라존, 아조비스이소부티로니트릴 등의 아조 화합물; 벤젠디아조늄염 등의 디아조 화합물 벤조인, 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조페논, 디메틸아미노벤조페논, 미힐러케톤, 벤질안트라퀴논, t-부틸안트라퀴논, 2-메틸안트라퀴논, 2-에틸안트라퀴논, 2-아미노안트라퀴논, 2-클로로안트라퀴논등의 방향족 카르보닐 화합물; p-디메틸아미노 안식향산메틸, p-디메틸아미노 안식향산에틸, D-디메틸아미노안식향산부틸, p-디에틸아미노 안식향산이소프로필 등의 디알킬아미노 안식향산에스테르; 벤조일퍼옥사이드, 디-t-부틸퍼옥사이드,디쿠밀퍼옥사이드, 쿠멘하이드로퍼옥사이드 등의 과산화물; 9-페닐아크리딘, 9-p-메톡시페닐아크리딘, 9-아세틸아미노아크리딘, 벤즈아크리딘 등의 아크리딘 유도체; 9,10-디메틸벤즈페나진, 9-메틸벤즈페나진, 10-메톡시벤즈페나진 등의 페나진 유도체; 6,4',4"-트리메톡시-2,3-디페닐퀴녹살린 등의 퀴녹살린 유도체 2,4,5-트리페닐이미다조일 2량체, 2-니트로플루오렌, 2,4,6-트리페닐피릴리움 4불화 붕소염, 2,4,6-트리스(트리클로로메틸)-1,3,5-트리아진, 3,3'-카르보닐비스쿠말린, 티오미힐러케톤, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥시드, 올리고(2-히드록시-2-메틸-1-(4-(1-메틸비닐)페닐)프로판온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-몰포리노페닐)-부탄온 등을 들 수 있다.Specific examples thereof include sulfides such as sodium methyldithiocarbamate sulfide, diphenylmonosulfide, dibenzothiazoylmonosulfide and disulfide; Thioxanthone derivatives such as thioxanthone, 2-ethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone and 2,4-diethylthioxanthone; Azo compounds such as hydrazone and azobisisobutyronitrile; Diazo compounds such as benzene diazonium salts such as benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzophenone, dimethylaminobenzophenone, Michler's ketone, benzyl anthraquinone, t-butyl anthraquinone, Aromatic carbonyl compounds such as 2-ethyl anthraquinone, 2-amino anthraquinone and 2-chloro anthraquinone; dialkylamino benzoic acid esters such as methyl p-dimethylaminobenzoate, ethyl p-dimethylaminobenzoate, butyl D-dimethylaminobenzoate and isopropyl p-diethylaminobenzoate; Peroxides such as benzoyl peroxide, di-t-butyl peroxide, dicumyl peroxide, cumene hydroperoxide and the like; Acridine derivatives such as 9-phenylacridine, 9-p-methoxyphenylacridine, 9-acetylaminoacridine, benzacridine and the like; Phenazine derivatives such as 9,10-dimethylbenzphenazine, 9-methylbenzphenazine, and 10-methoxybenzphenazine; Quinoxaline derivatives such as 6,4 ', 4 "-trimethoxy-2,3-diphenylquinoxaline, 2,4,5-triphenylimidazoyl dimer, 2-nitrofluorene, 2,4,6 - triphenylpyrilium tetrafluoroborate salt, 2,4,6-tris (trichloromethyl) -1,3,5-triazine, 3,3'-carbonylbiscumalin, thiomihaler ketone, 2 , 4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, oligo (2-hydroxy-2-methyl-1- (4- - (4-morpholinophenyl) -butanone, and the like.
또한, 본 발명에서 고굴절률층을 형성할 때, 상기 개시제의 산소저해에 의한 감도의 저하를 방지하기 위해서, 광중합 개시제에 아민 화합물을 공존시켜도 좋다. 이러한 아민 화합물로서는, 예를 들면, 지방족 아민 화합물이나, 방향족 아민 화합물 등의 불휘발성의 것이라면, 특별히 한정되지 않는다.Further, in the present invention, when forming the high refractive index layer, an amine compound may be allowed to coexist in the photopolymerization initiator in order to prevent the sensitivity of the initiator due to oxygen inhibition from lowering. Such an amine compound is not particularly limited as long as it is a nonvolatile compound such as an aliphatic amine compound or an aromatic amine compound.
예를 들면, 트리에탄올아민, 메틸디에탄올아민 등이 적절하다. 본 발명에 따른 고굴절률층의 구성성분은, 이상 설명한 바인더 성분, 도전성 입자, 광중합 개시제를 필수 구성성분으로 하며, 또한 필요에 따라, 예를 들면, 중합금지제나, 경화촉매, 산화방지제, 분산제, 레벨링제, 실란커플링제 등의 각종 첨가제를 함유해도 좋다For example, triethanolamine, methyldiethanolamine and the like are suitable. The constituent components of the high refractive index layer according to the present invention contain the above-described binder component, conductive particles and photopolymerization initiator as essential constituents, and if necessary, for example, polymerization inhibitors, curing catalysts, antioxidants, A leveling agent, and a silane coupling agent may be contained
본 발명에서는 상기 고굴절률층의 구성성분에 도전성의 부여를 목적으로 해서 폴리피롤 및 폴리아닐린 등의 도전성 폴리머, 금속 알콜레이트 및 킬레이트 화합물 등의 유기금속 화합물을 더 함유시킬 수 있다. 또한, 이 고굴절률층(12)의 구성성분에, 표면경도의 향상을 목적으로 해서, 알킬실리케이트류 및 그 가수분해물, 콜로이드상 실리카, 건식 실리카, 습식 실리카, 산화티타늄 등의 무기입자, 콜로이드상으로 분산된 실리카 미립자 등을 더 함유시킬 수도 있다.In the present invention, the constituent components of the high refractive index layer may further contain an organic metal compound such as a conductive polymer such as polypyrrole and polyaniline, a metal alcoholate and a chelate compound for imparting conductivity. In order to improve the surface hardness of the high
상기 고굴절률층의 굴절률은 1.64 내지 1.75인 것이 바람직하다. 굴절률이 1.64 미만이면, 목표 반사율 보다 낮아지는 문제점이 있고, 1.75를 초과하는 경우에는 목표 반사율 보다 높아지는 문제점이 있다.The refractive index of the high refractive index layer is preferably 1.64 to 1.75. When the refractive index is less than 1.64, there is a problem that it is lower than the target reflectance. When the refractive index exceeds 1.75, there is a problem that the refractive index becomes higher than the target reflectance.
상기 고굴절률층의 두께는 20 내지 120nm인 것이 바람직하다. 두께가 20nm 미만이면, 목표 반사율 보다 낮아지는 문제점이 있고, 120nm를 초과하는 경우에는 목표 반사율 보다 높아지는 문제점이 있다.
The thickness of the high refractive index layer is preferably 20 to 120 nm. When the thickness is less than 20 nm, there is a problem that it is lower than the target reflectance. When the thickness exceeds 120 nm, the thickness is higher than the target reflectance.
4. 안티-블록킹층(35)4.
본 발명의 ITO 증착용 투명 도전성 필름에서, 취급시 발생할 수 있는 스크레치 방지 및 필름면간의 블록킹 현상을 방지하는 것을 목적으로 상기 플라스틱 기재필름 상에 안티-블록킹 하드코트층 형성될 수 있다.An anti-blocking hard coat layer may be formed on the plastic substrate film for the purpose of preventing scratches and blocking between films on the transparent conductive film for ITO vapor deposition of the present invention.
상기 하드코트층은 (메타)아크릴 수지, 에폭시아크릴 수지, 폴리우레탄 수지, 폴리에스테르 수지, 폴리에테르 수지, 올레핀 수지 및 폴리이미드 수지를 골격구조에 포함하는 것이 바람직하며, 상기 수지의 반복단위 수가 3∼10인 중합체 올리고머가 사용된다. 보다 구체적으로, (메타)아크릴 수지를 골격구조에 포함하는 수지로는 (메타)아크릴 모노머를 중합 또는 공중합한 수지, (메타)아크릴 모노머와 다른 에틸렌성 불포화 이중결합을 갖는 모노머를 공중합한 수지가 있다.The hard coat layer preferably contains a (meth) acrylic resin, an epoxy acrylic resin, a polyurethane resin, a polyester resin, a polyether resin, an olefin resin and a polyimide resin in a skeleton structure. Lt; RTI ID = 0.0 > 10 < / RTI > More specifically, as the resin containing the (meth) acrylic resin in the skeleton structure, a resin obtained by polymerization or copolymerization of a (meth) acrylic monomer, a resin obtained by copolymerizing a (meth) acrylic monomer and a monomer having an ethylenic unsaturated double bond have.
상기 폴리우레탄 수지를 골격구조에 포함하는 수지로는 분자쇄 중에 우레탄 결합을 포함하는 수지가 있다.As the resin containing the polyurethane resin in the skeleton structure, there is a resin containing a urethane bond in the molecular chain.
또한, 상기 폴리에스테르 수지를 골격 구조에 포함하는 수지는 분자쇄 중에 에스테르 결합을 포함하는 수지로서 불포화 폴리에스테르 수지, 알키드 수지, 폴리에틸렌 테레프탈레이트 등이 있다.The resin containing the polyester resin in the skeleton structure includes an unsaturated polyester resin, an alkyd resin, and a polyethylene terephthalate as a resin containing an ester bond in the molecular chain.
상기 폴리에테르 수지를 골격 구조에 포함하는 수지는 분자쇄 중에 에테르 결합을 포함하는 수지로서 폴리에틸렌 글라이콜, 폴리프로필렌 글라이콜, 폴리테트라메틸렌 글라이콜 등이 있다. Resins containing the polyether resin in the skeleton structure include polyethylene glycol, polypropylene glycol, and polytetramethylene glycol as resins containing an ether bond in the molecular chain.
또한, 상기 올레핀 수지를 골격 구조에 포함하는 수지는 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 에틸렌과 프로필렌 공중합체, 에틸렌과 아세트산비닐 공중합체, 아이오노머, 에틸렌과 비닐알코올 공중합체, 에틸렌과 염화비닐 공중합체 등이 있다.Examples of the resin containing the olefin resin in the skeleton structure include polyethylene, polypropylene, ethylene and a propylene copolymer, ethylene and a vinyl acetate copolymer, an ionomer, ethylene and a vinyl alcohol copolymer, and ethylene and a vinyl chloride copolymer .
상기 폴리이미드 수지를 골격 구조에 포함하는 수지는 분자쇄 중에 이미드 결합을 포함하는 수지로서 상기 골격구조의 2종 이상으로 이루어지는 공중합체 또는 상기 골격 구조와 그 이외의 모노머로 이루어지는 공중합체일 수 있다. The resin containing the polyimide resin in the skeleton structure may be a copolymer comprising an imide bond in the molecular chain and a copolymer comprising two or more of the above skeleton structures or a copolymer comprising the skeleton structure and other monomers .
상기 전리방사선 경화형 수지에는 조성물의 경화도를 향상시키기 위한 다관능성 모노머 또는 다관능성 올리고머가 추가로 혼합될 수 있다. 이 목적으로는 관능기가 3개 이상 포함된 다작용 관능기인 것이 바람직하다. The ionizing radiation curable resin may further contain a multifunctional monomer or a multifunctional oligomer for improving the curing degree of the composition. For this purpose, a multifunctional functional group containing three or more functional groups is preferable.
구체적으로 상기 다관능성 모노머는 (메타)아크릴레이트와 다가 알코올과의 탈 알코올 반응물이 사용될 수 있으며, 구체적으로 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사(메타)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 펜타(메타)아크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리(메타)아크릴레이트 및 디트리메틸올프로판 테트라(메타)아크릴레이트로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상이 바람직하다. Specifically, the polyfunctional monomer may be a reaction product of a (meth) acrylate and a polyhydric alcohol, and specifically, pentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (Meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, and ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate.
상기 다관능성 올리고머는 우레탄(메타)아크릴레이트 올리고머 또는 폴리에스테르(메타)아크릴레이트 올리고머이고, 상기 다관능성 올리고머는 1종 이상 또는 상기 올리고머와 이종의 모노머로 이루어진 공중합체가 사용될 수 있으며, 또한 반복 단위가 3∼10이며, 중량 평균 분자량 8,000 미만인 저분자량물과 공중합하여 사용될 수 있다.The polyfunctional oligomer may be a urethane (meth) acrylate oligomer or a polyester (meth) acrylate oligomer. The polyfunctional oligomer may be a copolymer comprising at least one kind of monomer or a monomer different from the oligomer, Is 3 to 10 and can be used in copolymerization with a low molecular weight water having a weight average molecular weight of less than 8,000.
본 발명의 UV경화형 수지 조성물에 첨가되는 일 조성인 무기 미립자는 경화 수지층 표면에 미세요철을 형성하여 안티블록킹성을 부여하는 기능을 한다. 이러한 목적을 구현하기 위한 무기 미립자는 실리카, 알루미나 및 산화지르코늄으로 이루어진 금속산화물 또는 클레이로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상이 바람직하며, 가장 바람직한 일례로서, 본 발명의 실시예에서는 실리카 입자를 사용하여 설명하고 있으나, 이에 한정되지는 않을 것이다. 또한, 상기 무기 미립자는 분산을 용이하게 하기 위해 실란커플링제, 폴리올, 알킬올아민, 티타네이트 커플링제와 같은 유기화합물로 표면처리될 수 있다.The inorganic fine particles to be added to the UV curable resin composition of the present invention form fine irregularities on the surface of the cured resin layer to impart anti-blocking properties. The inorganic fine particles for realizing the above object are preferably at least one selected from the group consisting of metal oxide or clay composed of silica, alumina and zirconium oxide, and most preferably, But is not limited to this. In addition, the inorganic fine particles may be surface-treated with an organic compound such as a silane coupling agent, a polyol, an alkylol amine, or a titanate coupling agent to facilitate dispersion.
이때, 상기 무기 미립자는 특별히 한정되는 형태는 없어, 구형상, 입방체상, 방추형상, 부정형상 등 어느 것이나 가능하다. At this time, the inorganic fine particles are not particularly limited, and any of spherical, cubic, spindle-shaped, and indefinite shapes can be used.
무기 미립자의 크기는 평균입경이 50 내지 250nm인 것이 바람직하다. 이때, 50nm 미만이면, 안티블록킹성이 충분하지 않으며, 250nm를 초과하면, 입자에 빛이 산란되어 선명도가 떨어져서 시인성에 문제가 있다. The inorganic fine particles preferably have an average particle size of 50 to 250 nm. At this time, if it is less than 50 nm, the anti-blocking property is not sufficient, and if it exceeds 250 nm, light is scattered on the particle to decrease the sharpness, which causes a problem in visibility.
무기 미립자의 함량은 상기 UV경화형 수지 조성물의 고형분 100 중량부에 대하여, 2내지 5 중량부가 바람직하며, 무기 미립자 함량이 2중량부 미만이면, 안티블록킹성이 충분하지 않고, 상기 함량이 5중량부를 초과하면, 안티블록킹성은 우수하지만 표면 요철이 과도해져서 빛의 산란으로 인해 필름이 불선명해지는 문제가 있다.
The content of the inorganic fine particles is preferably 2 to 5 parts by weight based on 100 parts by weight of the solid content of the UV curable resin composition. When the content of the inorganic fine particles is less than 2 parts by weight, the antiblocking property is insufficient, The anti-blocking property is excellent, but the surface unevenness becomes excessive, and there is a problem that the film becomes unclear due to light scattering.
5. ITO 증착용 투명 도전성 필름5. Transparent conductive film with ITO evaporation
상술한 층 구성을 갖는 본 발명에 따르는 상기 ITO 증착용 투명 도전성 필름의 평균반사율은 가시광 영역(380 내지 780nm) 하에서 4 내지 10%로서, ITO 에칭 후 나타나는 패턴 시인을 최소화할 수 있다.
The average reflectance of the ITO evaporation transparent conductive film according to the present invention having the above-described layer structure is 4 to 10% under visible light range (380 to 780 nm), so that pattern visibility after ITO etching can be minimized.
6. 하드코트층, 고굴절률층, 저굴절률층 및 안티-블록킹 하드코트층의 형성6. Formation of hard coat layer, high refractive index layer, low refractive index layer and anti-blocking hard coat layer
상술한 하드코트층, 고굴절률층, 저굴절률층 및 안티-블록킹 하드코트층의 형성은 수지성분 및 입자를 포함하는 조성물이 적당한 용매에 희석되어 도포된 다음, 건조 및/또는 경화를 거쳐 형성될 수 있다. 이때, 용매로는 케톤계, 에스테르계, 지방족 탄화수소계, 할로겐화 탄화수소계, 방향족 탄화수소계, 아민계, 물, 알코올 등으로 통상 비점이 60∼170℃의 액체이면 제한 없이 사용될 수 있으며, 특히 바람직하게는 톨루엔, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 프로필렌글리콜모노에틸에테르 및 시클로헥사논으로 이루어진 군에서 선택되는 1종 또는 1종 이상이 혼합되어 사용될 수 있다.The formation of the hard coat layer, the high refractive index layer, the low refractive index layer and the anti-blocking hard coat layer described above can be performed by applying the composition comprising the resin component and the particles diluted with an appropriate solvent and then drying and / . The solvent may be any of ketones, esters, aliphatic hydrocarbons, halogenated hydrocarbons, aromatic hydrocarbons, amines, water, alcohols and the like, and may be used without limitation as long as it is a liquid having a boiling point of 60 to 170 캜, May be a mixture of one or more selected from the group consisting of toluene, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, propylene glycol monoethyl ether, and cyclohexanone.
도포의 방법 역시 그라비아코터, 마이크로그라비아 코터, 나이프코터, 바코터, 롤코터, 스핀코터 등 당업계 공지의 코팅방법 중 적절한 것을 선택하여 사용할 수 있다.
The coating method may be appropriately selected from coating methods known in the art such as gravure coater, micro gravure coater, knife coater, bar coater, roll coater and spin coater.
이하, 실시예를 통하여 본 발명을 보다 상세히 설명하고자 한다. 이는 본 발명을 보다 구체적으로 설명하기 위한 것으로서, 본 발명의 범위가 이들 실시예에 한정되는 것은 아니다.
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples. This is for further illustrating the present invention, and the scope of the present invention is not limited to these examples.
<실시예 1> ≪ Example 1 >
(1) 하드코트층의 형성(1) Formation of hard coat layer
다관능 아크릴계 수지를 함유하는 도료(고형분 50%)(JSR㈜ 제품, KZ7528)를 두께 100㎛의 폴리에스테르필름(도레이㈜ 제품, 루미러)으로 이루어지는 플라스틱 기재필름의 일면 상에 마이크로그라비아 코터를 이용하여 도포하고, 80℃에서 2분간 건조 후, 자외선 300mJ/cm2를 조사해서 도포층을 경화시키고, 두께 약 1.5㎛의 하드코트층을 형성했다.(A solid content of 50%) (product of JSR Corporation, KZ7528) containing a polyfunctional acrylic resin was coated on one side of a plastic base film made of a polyester film (product of Toray Co., Ltd., Lumirror) having a thickness of 100 탆 using a microgravure coater Dried at 80 ° C for 2 minutes, and irradiated with ultraviolet rays of 300 mJ / cm 2 to cure the coating layer to form a hard coat layer having a thickness of about 1.5 탆.
(2) 광학조절층)의 형성(2) formation of an optical control layer)
2-1) 고굴절률층의 형성2-1) Formation of high refractive index layer
주석함유 산화지르코늄를 함유하는 도료(고형분 10%) (JSR㈜제품, KZ6719)를 메틸에틸케톤과 메틸이소부틸케톤 혼합용제로 희석하여 얻은 도포액을 하드코트층의 일면 상에 마이크로그라비아 코터를 사용해서 도포하고, 80℃에서 2분간 건조 후, 자외선 300mJ/cm2를 조사해서 도포층 경화시켜, 두께 약 40㎛, 굴절률(n)=1.65의 고굴절률층을 형성했다.The coating liquid obtained by diluting a coating material (
2-2) 저굴절률층의 형성2-2) Formation of low refractive index layer
다관능 아크릴계 수지를 함유하며 평균 입경 25nm인 실리카 입자를 포함하는 도료(고형분 10%)(JSR㈜ 제품,TU1007)에 불소 첨가제(다이킨㈜제품, OPTOOL DAC-HP)를 실리콘 입자를 포함하는 도료의 고형분 대비 0.5% 중량비를 첨가 후, 메틸에틸케톤으로 희석하여 얻은 도포액을 고굴절률층 상에 마이크로그라비아 코터를 사용해서 도포하고, 80℃ 에서 2분간 건조 후, 자외선 300mJ/cm2를 질소분위기하에서 조사해서 도포층을 경화시켜, 두께 약 40nm 굴절률(n)=1.49의 저굴절률층을 형성했다.
A fluorine additive (OPTOOL DAC-HP, product of Daikin Industries, Ltd.) was coated on a coating material (
<실시예 2>≪ Example 2 >
저굴절률층의 형성을 다음과 같은 방법으로 수행한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 하여 실시예 2의 ITO 증착용 투명 도전성 필름을 제작하였다:A transparent conductive film with ITO vapor deposition of Example 2 was prepared in the same manner as in Example 1, except that the formation of the low refractive index layer was performed by the following method:
다관능 아크릴계 수지를 함유하며 평균 입경 25nm인 실리카 입자를 포함하는 도료(고형분 10%)(JSR㈜ 제품,TU1007)에 불소 첨가제(다이킨㈜제품, OPTOOL DAC-HP)를 실리콘 입자를 포함하는 도료의 고형분 대비 1.0% 중량비를 첨가 후, 메틸에틸케톤으로 희석하여 얻은 도포액을 고굴절률층 상에 마이크로그라비아 코터를 사용해서 도포하고, 80℃ 에서 2분간 건조 후, 자외선 300mJ/cm2를 질소분위기하에서 조사해서 도포층을 경화시켜, 두께 약 40nm 굴절률(n)=1.48의 저굴절률층을 형성했다.A fluorine additive (OPTOOL DAC-HP, product of Daikin Industries, Ltd.) was coated on a coating material (
<실시예 3> ≪ Example 3 >
저굴절률층의 형성을 다음과 같은 방법으로 수행한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 하여 실시예 3의 ITO 증착용 투명 도전성 필름을 제작하였다:A transparent conductive film with ITO vapor deposition of Example 3 was prepared in the same manner as in Example 1, except that the formation of the low refractive index layer was performed by the following method:
다관능 아크릴계 수지를 함유하며 평균 입경 25nm인 실리카 입자를 포함하는 도료(고형분 10%)(JSR㈜ 제품, TU1007)에 불소 첨가제(다이킨㈜제품, OPTOOL DAC-HP)를 실리콘 입자를 포함하는 도료의 고형분 대비 1.5% 중량비를 첨가 후, 메틸에틸케톤으로 희석하여 얻은 도포액을 고굴절률층 상에 마이크로그라비아 코터를 사용해서 도포하고, 80℃ 에서 2분간 건조 후, 자외선 300mJ/cm2를 질소분위기하에서 조사해서 도포층을 경화시켜, 두께 약 40nm 굴절률(n)=1.46의 저굴절률층을 형성했다.
A fluorine additive (OPTOOL DAC-HP, product of Daikin Industries, Ltd.) was coated on a coating material (
<비교예 1> ≪ Comparative Example 1 &
저굴절률층의 형성을 다음과 같은 방법으로 수행한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 하여 비교예 1의 ITO 증착용 투명 도전성 필름을 제작하였다:A transparent conductive film for ITO evaporation of Comparative Example 1 was prepared in the same manner as in Example 1, except that the formation of the low refractive index layer was performed by the following method:
다관능 아크릴계 수지를 함유하며 평균 입경 25nm인 실리카 입자를 포함하는 도료(고형분 10%)(JSR㈜ 제품,TU1007)를 메틸에틸케톤으로 희석한 후 교반하여 얻은 도포액을 고굴절률층 상에 마이크로그라비아 코터를 사용해서 도포하고, 80℃ 에서 2분간 건조 후, 자외선 300mJ/cm2를 질소분위기하에서 조사해서 도포층을 경화시켜, 두께 약 40nm 굴절률(n)=1.49의 저굴절률층을 형성했다.
A coating material (solid content: 10%) containing silica particles having an average particle size of 25 nm (manufactured by JSR Corporation, TU1007) containing a polyfunctional acrylic resin was diluted with methyl ethyl ketone and stirred. The coating liquid was applied to a high- The coating layer was cured by irradiation with ultraviolet rays of 300 mJ / cm 2 under a nitrogen atmosphere to form a low refractive index layer having a thickness of about 40 nm and a refractive index (n) of 1.49.
<비교예 2> ≪ Comparative Example 2 &
저굴절률층의 형성을 다음과 같은 방법으로 수행한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일하게 하여 비교예 2의 ITO 증착용 투명 도전성 필름을 제작하였다:A transparent conductive film for ITO evaporation of Comparative Example 2 was prepared in the same manner as in Example 1, except that the formation of the low refractive index layer was performed by the following method:
다관능 불소 아크릴계 수지를 함유하는 도료(고형분 40%)(PELNOX㈜ 제품, XJA-0263-LR)를 메틸에틸케톤을 이용해 희석하여 3wt% 용액이 되도록 제조한 후 얻은 도포액을 고굴절률층상에 마이크로그라비아 코터를 사용해서 도포하고, 80℃ 에서 2분간 건조 후, 자외선 300mJ/cm2를 질소분위기하에서 조사해서 도포층을 경화시켜, 두께 약 40nm 굴절률(n)=1.45의 저굴절률층을 형성했다.
A coating material (solid content: 40%) (product of PELNOX, XJA-0263-LR) containing a polyfunctional fluorine acrylic resin was diluted with methyl ethyl ketone to prepare a 3 wt% solution. The coating liquid obtained on the high refractive index layer was micro- after coating using a gravure coater and dried at 80 ℃ 2 minutes, and the ultraviolet 300mJ / cm 2 to cure the applied layer is irradiated in a nitrogen atmosphere, to form a low refractive index layer having a thickness of about 40nm refractive index (n) = 1.45.
<평가><Evaluation>
1. 박리력 : 상기 실시예 및 비교예에서 제조된 ITO 증착용 투명 도전성 필름의 표면에 NITTO TAPE (No.500)을 무게 2kgf/cm의 압력으로 합지한 후 60분간 방치한다. 이 후 시료를 박리각도 180°, 박리속도 300mm/min로 박리하면서 응력을 측정하였다.1. Peeling force: NITTO TAPE (No. 500) was laminated on the surface of the transparent conductive film for ITO vapor deposition prepared in the above Examples and Comparative Examples at a weight of 2 kgf / cm and left for 60 minutes. Thereafter, the sample was peeled off at a peeling angle of 180 ° and a peeling rate of 300 mm / min, and the stress was measured.
2. 투과도 및 헤이즈 : 상기 실시예 및 비교예에서 제조된 ITO 증착용 투명 도전성 필름을 분광광도계(니뽄덴쇼쿠 제품, NDH2000 모델)를 사용하여 투과도 및 헤이즈를 측정하였다.2. Transmittance and haze: The transmittance and haze of the ITO transparent conductive film prepared in the above Examples and Comparative Examples were measured using a spectrophotometer (Model NDH2000, manufactured by Nippon Denshoku Co., Ltd.).
3. 최저반사율 : 상기 실시예 및 비교예에서 제조된 ITO 증착용 투명 도전성 필름을 시마즈 제품의 분광 광도계 UV3600을 사용해서 측정을 행했다. 샘플필름은 320 ~ 150의 내수 샌드페이퍼로 이면에 균일하게 상처를 내고, 흑색도료를 도포하여, 이면으로부터의 반사를 완전히 없앤 상태로 하고, 광학조절층측 표면에 대하여 입사광 각도 5°로 측정을 하였다. 여기에서의 평균반사율은 파장영역 380nm ~ 780nm에서의 평균값을 나타낸다.3. Lowest reflectance: The transparent conductive film with the ITO vapor deposition prepared in the above Examples and Comparative Examples was measured using a spectrophotometer UV3600 manufactured by Shimadzu. The sample film was uniformly scratched on the back surface with water-resistant sandpaper of 320 to 150, coated with a black paint to completely eliminate reflection from the back surface, and measured at an angle of incidence of 5 degrees with respect to the surface of the optical adjustment layer side. Here, the average reflectance represents an average value in the wavelength region of 380 nm to 780 nm.
4. 표면에너지 : 상기 실시예 및 비교예에서 제조된 ITO 증착용 투명 도전성 필름을 접촉각계(㈜쿄와 제품, Drop Master 300 모델)를 사용하여 표면에 직경 2mm의 정제수 및 헥사테칸을 적하하여 표면과 액적의 접촉각 측정하고, Owen-Wendt식을 이용하여 표면에너지를 얻었다.4. Surface energy: Using a contact angle meter (Drop Master 300 model manufactured by Kyowa Co., Ltd.), purified water and hexatecane having a diameter of 2 mm were dropped on the surface of the ITO transparent conductive film prepared in the above Examples and Comparative Examples, And the contact angle of the droplet was measured, and the surface energy was obtained using the Owen-Wendt equation.
(%)Average reflectance
(%)
(%)Transmittance
(%)
(%)Hayes
(%)
(dyne/cm)Surface energy
(dyne / cm)
(gf/Inch)Adhesion
(gf / Inch)
상기 결과에 의하면, 비교예 1은 바인더 성분으로서 다관능 아크릴계 수지 및 실리카 입자가 포함된 도포액을 통하여 코팅했을 경우, 표면 에너지의 상승과 함께 부착력이 향상됨을 확인하였다. 반면, 평균반사율과 헤이즈면에서 효율이 떨어짐을 알 수 있었다. 비교예 2는 불소계의 바인더 성분 및 실리카 입자를 포함하지 않은 도포액을 통하여 코팅하였을 경우, 표면 에너지가 낮으므로, 그 결과 OCA(점착제)와의 부착력이 낮음을 확인하였다. 반면, 평균반사율 및 투과율 면에서 우수함을 확인하였다. According to the results, in Comparative Example 1, when the coating liquid containing the polyfunctional acrylic resin and the silica particles was coated as the binder component, adhesion with the surface energy was increased. On the other hand, it was found that the efficiency was inferior in terms of average reflectance and haze. In Comparative Example 2, when coated with a fluorine-based binder component and a coating liquid containing no silica particles, the surface energy was low, and as a result, it was confirmed that the adhesion to OCA (adhesive) was low. On the other hand, it was confirmed that it is excellent in terms of average reflectance and transmittance.
비교예 1의 저굴절률층 형성 조건 이외에는 모두 동일하게 하여, 불소 첨가제를 점차적으로 증가시키는 실시예 1, 실시예 2 및 실시예 3의 경우, 표면에너지가 점차적으로 낮아짐을 확인하였고, 그에 따른 ITO 증착용 투명 도전성 필름의 평균반사율, 투과율 및 헤이즈의 변화가 있음을 알 수 있었다. It was confirmed that the surface energy was gradually lowered in Examples 1, 2 and 3 in which the fluorine additive was gradually increased in the same manner except for the conditions of forming the low refractive index layer of Comparative Example 1, It was found that the average reflectance, transmittance and haze of the worn transparent conductive film were changed.
상기 결과로부터 불소 첨가제를 가하여 ITO 증착용 투명 도전성 필름의 광학특성의 조절과 표면에너지 조절을 통해 점착제(OCA)의 부착력을 조절할 수 있음을 확인하였고, From the above results, it was confirmed that the adhesive force of the adhesive agent (OCA) can be controlled by controlling the optical characteristics and the surface energy of the transparent conductive film by adding the fluorine additive,
본 결과를 토대로 ITO 증착용 투명 도전성 필름에 있어서, 광학 특성과 필름과 점착제와의 부착력을 동시에 최적화할 수 있다는 점을 확인하였다.Based on the results, it was confirmed that the optical properties and the adhesive force between the film and the pressure-sensitive adhesive can be optimized simultaneously in the ITO transparent transparent conductive film.
10, 20, 30.. 투명도전성 필름
11, 21, 31.. 기재필름
12, 22, 32..하드코트층
14, 24, 34.. 저굴절률층
23, 33.. 고줄절율층
35.. 안티-블로킹층10, 20, 30 .. Transparent conductive film
11, 21, 31. Base film
12, 22, 32. The hard coat layer
14, 24, 34. The low refractive index layer
23, 33.
35 .. Anti-blocking layer
Claims (13)
상기 저굴절률층이 하기의 화학식 1 또는 2로 표시되는 불소 첨가제 함유 (메타)아크릴레이트 수지 도포액으로 코팅되어 형성된 것이고,
상기 2층의 광학조절층을 구성하는 고굴절률층의 굴절률이 1.64 내지 1.75이고, 저굴절률층의 굴절률이 1.46 내지 1.52인 것을 특징으로 하는 ITO 증착용 투명 도전성 필름:
[화학식 1]
[화학식 2]
상기 화학식 1에서, R1은 아래의 화학식 3으로 표시되는 치환기이고:
[화학식 3]
(상기 식에서 n은 1~6의 정수이다)
R2는 아래의 화학식 4로 표시되는 치환기이다:
Wherein the low refractive index layer is formed by coating with a (meth) acrylate resin coating liquid containing a fluorine additive represented by the following formula (1) or (2)
Wherein the refractive index of the high refractive index layer constituting the two layers of the optical control layer is from 1.64 to 1.75 and the refractive index of the low refractive index layer is from 1.46 to 1.52.
[Chemical Formula 1]
(2)
In Formula 1, R 1 is a substituent represented by the following Formula 3:
(3)
(Wherein n is an integer of 1 to 6)
R 2 is a substituent represented by the following formula (4):
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