JP2012063687A

JP2012063687A - Antireflection film, antireflective polarizing plate and transmissive liquid crystal display

Info

Publication number: JP2012063687A
Application number: JP2010209382A
Authority: JP
Inventors: Kaori Nakajima; かおり中島
Original assignee: Toppan Printing Co Ltd
Current assignee: Toppan Inc
Priority date: 2010-09-17
Filing date: 2010-09-17
Publication date: 2012-03-29

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an antireflection film having sufficient optical characteristics and mechanical characteristics and an antifouling property, and to provide an antireflection film using the film.SOLUTION: An antireflection film comprises a hard coat layer 12 and a low refractive index layer 13 layered on one surface of a transparent substrate 11. The hard coat layer is formed of a polymer essentially comprising a polyfunctional monomer having a (meth)acryloyloxy group. The low refractive index layer is formed of a low refractive index coating agent comprising a fluorocarbon polymer, and 80 to 100 parts by weight of low refractive index nanoparticles with respect to 100 parts by weight of the fluorocarbon polymer, 30 to 50 parts by weight of an acrylic monomer with respect to 100 parts by weight of the fluorocarbon polymer, 0.5 to 1.5 parts by weight of a fluorocarbon-based additive with respect to 100 parts by weight of the fluorocarbon polymer, and 0.5 to 1.5 parts by weight of a silicone-based additive with respect to 100 parts by weight of the fluorocarbon polymer.

Description

本発明は、反射防止性能及び帯電防止性能を備える反射防止フィルムに関する。さらには、ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＣＲＴ、プロジェクションディスプレイ、ＥＬディスプレイ等のディスプレイの表示画面に適用される反射防止フィルムに関する。また、その反射防止フィルムを適用した反射防止性偏光板、及び透過型液晶ディスプレイに関する。 The present invention relates to an antireflection film having antireflection performance and antistatic performance. Furthermore, it is related with the antireflection film applied to the display screen of displays, such as LCD, PDP, CRT, a projection display, and an EL display. The present invention also relates to an antireflection polarizing plate and a transmissive liquid crystal display to which the antireflection film is applied.

一般にディスプレイは、室内外での使用を問わず、外光などが入射する環境下で使用される。この外光等の入射光は、ディスプレイ表面等において正反射され、それによる反射像が表示画像と混合することにより、画面表示品質を低下させてしまう。そのため、ディスプレイ表面等に反射防止機能を付与することは必須であり、反射防止機能の高性能化、反射防止機能以外の機能の複合化が求められている。
一般に反射防止機能は、透明基材上に金属酸化物等の透明材料からなる高屈折率層と低屈折率層の繰り返し構造による多層構造の反射防止層を形成することで得ている。これらの多層構造からなる反射防止層は、化学蒸着（ＣＶＤ）法や、物理蒸着（ＰＶＤ）法といった乾式成膜法により形成することができる。 In general, a display is used in an environment where external light or the like enters regardless of whether the display is used indoors or outdoors. Incident light such as external light is specularly reflected on the display surface and the like, and the reflected image thereby mixes with the display image, thereby degrading the screen display quality. For this reason, it is essential to provide an antireflection function on the display surface or the like, and there is a demand for higher performance of the antireflection function and a combination of functions other than the antireflection function.
In general, the antireflection function is obtained by forming an antireflection layer having a multilayer structure with a repeating structure of a high refractive index layer and a low refractive index layer made of a transparent material such as a metal oxide on a transparent substrate. These antireflection layers having a multilayer structure can be formed by a dry film forming method such as a chemical vapor deposition (CVD) method or a physical vapor deposition (PVD) method.

乾式成膜法を用いて反射防止層を形成する場合にあっては、低屈折率層、高屈折率層の膜厚を精密に制御できるという利点がある一方、成膜を真空中でおこなうため、生産性が低く、大量生産に適していないという問題を抱えている。一方、反射防止層の形成方法として、大面積化、連続生産が可能である塗液を用いた湿式成膜法による反射防止層の生産が注目されている。
湿式成膜法により反射防止層、特に低屈折率層を設けるにあっては、形成される低屈折率層を低屈折率とするために塗液に低屈折率ナノ微粒子が添加される（特許文献１）。 In the case of forming an antireflection layer using a dry film formation method, there is an advantage that the film thickness of the low refractive index layer and the high refractive index layer can be precisely controlled, while the film formation is performed in vacuum. There is a problem that productivity is low and it is not suitable for mass production. On the other hand, as an antireflection layer forming method, attention has been focused on the production of an antireflection layer by a wet film forming method using a coating liquid that can be enlarged and continuously produced.
When an antireflection layer, particularly a low refractive index layer is provided by a wet film formation method, low refractive index nanoparticles are added to the coating liquid in order to make the formed low refractive index layer have a low refractive index (patent) Reference 1).

特開2003-292831号公報JP 2003-292831 A

ここで特許文献１に記載の方法では、低屈折ナノ微粒子含有量を増量することで非常に低い屈折率を実現することはできるが、多くの場合、強度不足等により反射防止層が十分な機械特性を得られるに至っていない。
本発明は、十分な光学特性と機械特性、防汚性を備えた反射防止フィルム、及びそれを用いた反射防止性偏光板、及び透過型液晶ディスプレイを提供することを目的とする。 Here, in the method described in Patent Document 1, it is possible to realize a very low refractive index by increasing the content of low-refractive nanoparticle, but in many cases, the anti-reflection layer is sufficient due to insufficient strength or the like. The properties have not been obtained.
An object of the present invention is to provide an antireflection film having sufficient optical properties, mechanical properties, and antifouling properties, an antireflection polarizing plate using the antireflection film, and a transmissive liquid crystal display.

上記課題を解決するために、請求項１に記載した発明は、透明基材の一方の面に対し、ハードコート層と低屈折率層とを積層した反射防止フィルムにおいて、
前記ハードコート層は、（メタ）アクリロイルオキシ基を有する多官能性モノマーを主成分とする重合体から形成され、
前記低屈折率層は、低屈折率ナノ微粒子と、フッ素ポリマーと、アクリルモノマーと、フッ素系添加剤と、シリコーン系添加剤とを含有している低屈折率コーティング剤から形成されていることを特徴とする。
ここで、（メタ）アクリロイルオキシ基とは、アクリロイルオキシ基及びメタアクリロイルオキシ基の少なくとも一方を言う。 In order to solve the above problems, the invention described in claim 1 is an antireflection film in which a hard coat layer and a low refractive index layer are laminated on one surface of a transparent substrate.
The hard coat layer is formed from a polymer mainly composed of a polyfunctional monomer having a (meth) acryloyloxy group,
The low refractive index layer is formed of a low refractive index coating agent containing low refractive index nanoparticles, a fluoropolymer, an acrylic monomer, a fluorine additive, and a silicone additive. Features.
Here, the (meth) acryloyloxy group means at least one of an acryloyloxy group and a methacryloyloxy group.

次に、請求項２に記載した発明は、前記低屈折率層は、フッ素ポリマーと、フッ素ポリマー１００重量部に対し８０重量部より大きく且つ１００重量部未満の低屈折率ナノ微粒子と、フッ素ポリマー１００重量部に対し３０重量より大きく且つ５０重量部未満のアクリルモノマーと、フッ素ポリマー１００重量部に対し０．５重量部より大きく且つ１．５重量部未満のフッ素系添加剤と、フッ素ポリマー１００重量部に対し０．５重量部より大きく且つ１．５重量部未満のシリコーン系添加剤とを含有してなる低屈折率コーティング剤から形成されていることを特徴とする。 Next, the invention described in claim 2 is characterized in that the low refractive index layer includes a fluoropolymer, low refractive index nanoparticles of less than 100 parts by weight and less than 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the fluoropolymer, and the fluoropolymer. Greater than 30 parts by weight and less than 50 parts by weight acrylic monomer with respect to 100 parts by weight; greater than 0.5 parts by weight with less than 1.5 parts by weight fluorine-based additive with respect to 100 parts by weight of fluoropolymer; It is characterized by being formed from a low refractive index coating agent containing a silicone-based additive that is greater than 0.5 parts by weight and less than 1.5 parts by weight with respect to parts by weight.

次に、請求項３に記載した発明は、前記フッ素ポリマーの平均分子量が１５０００００以下であることを特徴とするものである。
次に、請求項４に記載した発明は、前記アクリルモノマーの平均分子量が１５００以下であることを特徴とするものである。
次に、請求項５に記載した発明は、前記低屈折率コーティング剤の屈折率は、１．３０以上１．４０以下の範囲であり、
低屈折率層の屈折率は、１．３０以上１．４５以下の範囲であることを特徴とする。 Next, the invention described in claim 3 is characterized in that an average molecular weight of the fluoropolymer is not more than 1500,000.
Next, the invention described in claim 4 is characterized in that an average molecular weight of the acrylic monomer is 1500 or less.
Next, in the invention described in claim 5, the refractive index of the low refractive index coating agent is in the range of 1.30 or more and 1.40 or less,
The low refractive index layer has a refractive index in the range of 1.30 to 1.45.

次に、請求項６に記載した発明は、平均視感反射率が０．３％以上０．７％以下であり、全光線透過率が９５．０％以上９８．０％以下であり、且つ、ヘイズが０．０１％以上０．２０％以下の範囲内となっている反射防止フィルムであることを特徴とする。
次に、請求項７に記載した発明は、前記低屈折率層は、主溶媒の沸点の−６０℃以上＋２０℃以下の範囲内の乾燥温度で乾燥し、更に積算光量が２００ｍＪ／ｃｍ^２以上４００ｍＪ／ｃｍ^２以下の範囲内で紫外線照射することで製造されたものであることを特徴とする。 Next, in the invention described in claim 6, the average luminous reflectance is 0.3% or more and 0.7% or less, the total light transmittance is 95.0% or more and 98.0% or less, and The haze is an antireflection film having a range of 0.01% to 0.20%.
Next, in the invention described in claim 7, the low refractive index layer is dried at a drying temperature within the range of −60 ° C. or higher and + 20 ° C. or lower of the boiling point of the main solvent, and the integrated light quantity is 200 mJ / cm ² or higher. It is manufactured by irradiating with ultraviolet rays within a range of 400 mJ / cm ² or less.

次に、請求項８に記載した発明は、請求項１〜請求項７のいずれか１項に記載の反射防止フィルムと、当該反射防止フィルムにおける低屈折率層を形成していない低屈折率層非形成面側に積層された第１の偏光板とを備えたことを特徴とする反射防止性偏光板を提供するものである。
次に、請求項９に記載の発明は、観察者側から、請求項８に記載の反射防止性偏光板、液晶セル、第２の偏光板、バックライトユニットがこの順に配置され、前記反射防止性偏光板の低屈折率層非形成面側に液晶セルを保持していることを特徴とする透過型液晶ディスプレイを提供するものである。 Next, the invention described in claim 8 is the antireflective film according to any one of claims 1 to 7 and a low refractive index layer in which the low refractive index layer is not formed in the antireflective film. The present invention provides an antireflective polarizing plate comprising a first polarizing plate laminated on a non-formed surface side.
Next, according to the ninth aspect of the present invention, the antireflection polarizing plate, the liquid crystal cell, the second polarizing plate, and the backlight unit according to the eighth aspect are arranged in this order from the observer side, and the antireflection The present invention provides a transmission type liquid crystal display characterized in that a liquid crystal cell is held on the side of the low refractive index layer non-formation side of a polarizing plate.

本発明によれば、十分な光学特性と機械特性、防汚性を維持した反射防止フィルム、及びそれを使用した反射防止性偏光板、及び透過型液晶ディスプレイを提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the antireflection film which maintained sufficient optical characteristics, mechanical characteristics, and antifouling property, the antireflection polarizing plate using the same, and a transmissive liquid crystal display can be provided.

本発明に基づく実施形態に係る反射防止フィルムの模式断面図である。It is a schematic cross section of the antireflection film concerning the embodiment based on the present invention.

次に、本発明の実施形態について図面を参照しつつ説明する。
（低屈折率コーティング剤）
まず本実施形態で使用する低屈折率層に用いられる低屈折率コーティング剤について説明する。
本実施形態の低屈折率コーティング剤は、低屈折率ナノ微粒子と、フッ素ポリマーと、アクリルモノマーと、フッ素系添加剤と、シリコーン系添加剤と、を含有する。 Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
(Low refractive index coating agent)
First, the low refractive index coating agent used for the low refractive index layer used in this embodiment will be described.
The low refractive index coating agent of this embodiment contains low refractive index nanoparticles, a fluoropolymer, an acrylic monomer, a fluorine-based additive, and a silicone-based additive.

本実施形態の低屈折率コーティング剤に含まれる低屈折率ナノ微粒子としては、ＬｉＦ、ＭｇＦ、３ＮａＦ・ＡｌＦまたはＡｌＦ（いずれも、屈折率１．４）、または、Ｎａ_３ＡｌＦ_６（氷晶石、屈折率１．３３）、シリカ等の低屈折材料からなる低屈折率粒子を用いることができる。また、粒子内部に空隙を有する粒子を好適に用いることができる。粒子内部に空隙を有する粒子は、空隙の部分を空気の屈折率（≒１）とすることができるため、非常に低い屈折率を備える低屈折率粒子とすることができる。具体的には、粒子内部に空隙を有する粒子として、多孔質シリカ粒子、内部に空隙を有する低屈折率シリカ粒子を用いることができる。 The low refractive index nanoparticle contained in the low refractive index coating agent of the present embodiment includes LiF, MgF, 3NaF.AlF or AlF (all of which have a refractive index of 1.4), or Na ₃ AlF ₆ (cryolite. , Refractive index 1.33), and low refractive index particles made of a low refractive material such as silica can be used. Moreover, the particle | grains which have a space | gap inside a particle | grain can be used suitably. Particles having voids inside the particles can be made into low refractive index particles having a very low refractive index because the void portion can have a refractive index of air (≈1). Specifically, porous silica particles and low refractive index silica particles having voids inside can be used as particles having voids inside.

なお、平均粒径にあっては、１ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが好ましい。粒径が１００ｎｍを超える場合、レイリー散乱によって光が著しく反射され、低屈折率層が白化して反射防止フィルムの透明性が低下する傾向にある。一方、粒径が１ｎｍ未満の場合、粒子の凝集による低屈折率層における粒子の凝集等の問題が生じる。
平均粒径とは、溶液中の粒子を動的光散乱方法で測定し、粒径分布を累積分布で表したときの５０％粒径（ｄ５０メジアン径）を意味する。 The average particle size is preferably 1 nm or more and 100 nm or less. When the particle diameter exceeds 100 nm, light is remarkably reflected by Rayleigh scattering, and the low refractive index layer tends to be whitened and the transparency of the antireflection film tends to be lowered. On the other hand, when the particle size is less than 1 nm, problems such as particle aggregation in the low refractive index layer due to particle aggregation occur.
The average particle diameter means a 50% particle diameter (d50 median diameter) when particles in a solution are measured by a dynamic light scattering method and the particle diameter distribution is expressed by a cumulative distribution.

また、内部に空隙を有するシリカ粒子の空隙としては、２０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることが好ましい。空隙が５０ｎｍを超える場合、十分な耐擦傷性が得ることができずディスプレイ表面に設ける反射防止フィルムに適さなくなってしまうためである。一方、空隙が２０ｎｍ未満の場合、屈折率が１．４５以上となってしまい平均視感反射率が０．７％以上となるためである。 Moreover, as a space | gap of the silica particle which has a space | gap inside, it is preferable that they are 20 nm or more and 50 nm or less. This is because, when the gap exceeds 50 nm, sufficient scratch resistance cannot be obtained and the antireflection film provided on the display surface is not suitable. On the other hand, when the gap is less than 20 nm, the refractive index is 1.45 or more, and the average luminous reflectance is 0.7% or more.

なお、内部に空隙を有するシリカ粒子の一例としては、球状の形状を保持したまま、硝子の屈折率１．４５に比べて低い屈折率１．３０であり、半径２０ｎｍ以上２５ｎｍ以下、密度（ρ１）の球状の構造が中心部分にあり、周囲を厚み１０ｎｍ以上１５ｎｍ以下の異なる密度（ρ２）の層が覆っており、（ρ１／ρ２）の値が０．５、０．１、０．０を示し、シリカ粒子の中心部分は外部のシリカの１／１０程度の密度となるような構造モデルである。 As an example of silica particles having voids inside, while maintaining a spherical shape, the refractive index is 1.30 lower than the refractive index of glass 1.45, the radius is 20 nm to 25 nm, and the density (ρ1 ) Has a spherical structure in the center, and the periphery is covered with layers of different densities (ρ2) having a thickness of 10 nm to 15 nm, and the values of (ρ1 / ρ2) are 0.5, 0.1, 0.0 The center part of the silica particles is a structural model that has a density of about 1/10 of the external silica.

また、本実施形態の低屈折率コーティング剤に用いられるフッ素ポリマーとしては、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン−パーフルオロ（アルキルビニルエーテル）共重合体、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体、エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体、ポリフッ化ビニリデン、ポリクロロトリフルオロエチレンなどが挙げられる。 In addition, as the fluoropolymer used in the low refractive index coating agent of the present embodiment, polytetrafluoroethylene, tetrafluoroethylene-perfluoro (alkyl vinyl ether) copolymer, tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer, ethylene -Tetrafluoroethylene copolymer, polyvinylidene fluoride, polychlorotrifluoroethylene and the like.

また本実施形態の低屈折率コーティング剤に用いられるアクリルモノマーとしては、２−アクリロイルオキシエチル２−ヒドロキシプロピルフタレ−ト、２−メタクリロイルオキシエチル２−ヒドロキシプロピルフタレ−ト、２−ヒドロキシエチルアクリレ−ト、２−ヒドロキシエチルメタクリレ−ト、ジエチレングリコ−ルモノエチルエ−テルアクリレ−ト、ジエチレングリコ−ルモノエチルエ−テルメタクリレ−ト、イソボルニルアクリレ−ト、イソボルニルメタクリレ−ト、３−メトキシブチルアクリレ−ト、３−メトキシブチルメタクリレ−ト、エチレングリコ−ルジアクリレ−ト、エチレングリコ−ルジメタクリレ−ト、ジエチレングリコ−ルジアクリレ−ト、ジエチレングリコ−ルジメタクリレ−ト、テトラエチレングリコ−ルジアクリレ−ト、テトラエチレングリコ−ルジメタクリレ−ト、ビスフェノキシエタノ−ルフルオレンジアクリレ−ト、ビスフェノキシエタノ−ルフルオレンジメタクリレ−ト、１，６−ヘキサンジオ−ルジアクリレ−ト、１，６−ヘキサンジオ−ルジメタクリレ−ト、１，９−ノナンジオ−ルジアクリレ−ト、１，９−ノナンジオ−ルジメタクリレ−ト、トリメチロ−ルプロパントリアクリレ−ト、トリメチロ−ルプロパントリメタクリレ−ト、ペンタエリスリト−ルトリアクリレ−ト、ペンタエリスリト−ルトリメタクリレ−ト、ペンタエリスリト−ルテトラアクリレ−ト、ペンタエリスリト−ルテトラメタクリレ−ト、ジペンタエリスリト−ルペンタアクリレ−ト、ジペンタエリスリト−ルペンタメタクリレ−ト、ジペンタエリスリト−ルヘキサアクリレ−ト、ジペンタエリスリト−ルヘキサメタクリレ−ト、トリ（２−アクリロイルオキシエチル）ホスフェ−ト、トリ（２−メタクリロイルオキシエチル）ホスフェ−ト等を挙げられる。 The acrylic monomer used in the low refractive index coating agent of the present embodiment includes 2-acryloyloxyethyl 2-hydroxypropyl phthalate, 2-methacryloyloxyethyl 2-hydroxypropyl phthalate, 2-hydroxyethyl. Acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, diethylene glycol monoethyl ether acrylate, diethylene glycol monoethyl ether methacrylate, isobornyl acrylate, isobornyl methacrylate, 3-methoxybutyl Acrylate, 3-methoxybutyl methacrylate, ethylene glycol diacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol diacrylate, diethylene glycol dimethacrylate, tetraethylene glycol Acrylate, tetraethylene glycol dimethacrylate, bisphenoxyethanol full orange acrylate, bisphenoxyethanol full orange methacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, 1,6-hexanediol Rudimethacrylate, 1,9-nonanediol diacrylate, 1,9-nonanediol dimethacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, pentaerythritol triacrylate Pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol pentamethacrylate, Dipentaerythrito Ruhekisaakurire - DOO, dipentaerythritol - Le hexa methacrylate -, tri (2-acryloyloxyethyl) Hosufe -, tri (2-methacryloyloxyethyl) Hosufe - like the door or the like.

本実施形態の低屈折率コーティング剤に用いられるフッ素系添加剤としては、Ｃ_ｄＦ_２ｄ＋１（ｄは１〜２１の整数）で表されるパーフルオロアルキル基、−（ＣＦ_２ＣＦ_２）ｇ−（ｇは１〜５０の整数）で表されるパーフルオロアルキレン基、またはＦ−（−ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ−）_ｅ−ＣＦ（ＣＦ_３）（ここで、ｅは１〜５０の整数）で表されるパーフルオロアルキルエーテル基、ならびに、ＣＦ_２＝ＣＦＣＦ_２ＣＦ_２−、（ＣＦ_３）_２Ｃ＝Ｃ（Ｃ_２Ｆ_５）−、および（（ＣＦ_３）_２ＣＦ）_２Ｃ＝Ｃ（ＣＦ_３）−等で例示されるパーフルオロアルケニル基を有することが好ましい。 The fluorine-based additives used in the low refractive index coating agent of the present _embodiment, C _{d F 2d +} 1 perfluoroalkyl group (d is the 1-21 integer) represented _{_{by, - (CF 2 CF 2)}} g- perfluoroalkylene group (g is an integer of 1 to 50) represented by or _{_{F, - (- CF (CF}} 3) CF 2 O-) e -CF (CF 3) ( where, e is from 1 to 50 A perfluoroalkyl ether group represented by (integer), and CF ₂ = CFCF ₂ CF _2- , (CF ₃ ) ₂ C = C (C ₂ F ₅ )-, and ((CF ₃ ) ₂ CF) ₂ C It preferably has a perfluoroalkenyl group exemplified by ═C (CF ₃ ) —.

本実施形態の低屈折率コーティング剤に用いられるシリコーン系添加剤としては、ポリジメチルシロキサン、ポリメチルフェニルシロキサン、ポリメチルビニルシロキサンなどのポリアルキル、ポリアルケニル等を挙げることができる。
本実施形態の低屈折率コーティング剤におけるそれぞれの材料の割合は、フッ素ポリマーと、フッ素ポリマー１００重量部に対し８０重量部より大きく且つ１００重量部未満の低屈折率ナノ微粒子と、フッ素ポリマー１００重量部に対し３０重量より大きく且つ５０重量部未満のアクリルモノマーと、フッ素ポリマー１００重量部に対し０．５重量部より大きく且つ１．５重量部未満のフッ素系添加剤と、フッ素ポリマー１００重量部に対し０．５重量部より大きく且つ１．５重量部未満のシリコーン系添加剤となっている。 Examples of the silicone-based additive used in the low refractive index coating agent of the present embodiment include polyalkyl such as polydimethylsiloxane, polymethylphenylsiloxane, and polymethylvinylsiloxane, and polyalkenyl.
The ratio of each material in the low refractive index coating agent of the present embodiment is as follows: fluoropolymer, low refractive index nanoparticle of greater than 80 parts by weight and less than 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight of fluoropolymer, and 100 parts by weight of fluoropolymer. Greater than 30 parts by weight and less than 50 parts by weight acrylic monomer, more than 0.5 parts by weight and less than 1.5 parts by weight fluorine-based additive, and 100 parts by weight fluoropolymer. On the other hand, the silicone-based additive is greater than 0.5 parts by weight and less than 1.5 parts by weight.

ここで、フッ素ポリマー添加量１００重量部に対して、低屈折率ナノ微粒子の添加量を８０重量部より大きく１００重量部未満とする理由は、次の通りである。８０重量部以下であると平均視感反射率は０．７％以上となり、また１００重量部以上であると機械特性（耐擦傷性能）が低下し、５００ｇ/cm²荷重で傷が生じてしまうためである。
また、フッ素ポリマー添加量１００重量部に対して、アクリルモノマーの添加量を３０重量部より大きく且つ５０重量部未満とする理由は、次の通りである。３０重量部以下であると機械特性（耐擦傷性能）が低下し、５００ｇ/cm²荷重で傷が生じてしまうためであり、５０重量部以上であると平均視感反射率が０．７％以上になるためである。 Here, the reason why the addition amount of the low-refractive-index nanoparticles is more than 80 parts by weight and less than 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the fluoropolymer is as follows. If it is 80 parts by weight or less, the average luminous reflectance is 0.7% or more, and if it is 100 parts by weight or more, the mechanical properties (scratch resistance) are lowered, and scratches are generated at a load of 500 g / cm ^2. Because.
Moreover, the reason for making the addition amount of an acrylic monomer larger than 30 weight part and less than 50 weight part with respect to 100 weight part of fluoropolymer addition is as follows. If the amount is 30 parts by weight or less, the mechanical properties (scratch resistance) deteriorate, and scratches are generated at a load of 500 g / cm ^{2. If the amount} is 50 parts by weight or more, the average luminous reflectance is 0.7%. This is because of the above.

また、フッ素ポリマー１００重量部に対して、フッ素系添加剤の添加量を０．５重量部より大きく且つ１．５重量部未満とする理由は、次の通りである。０．５重量部以下であると十分な防汚性が得られなくなるためであり、１．５重量部以上であるとブリードアウトするためである。ブリードアウトとは、添加物がフィルム表面に凝集することである。
また、フッ素ポリマー１００重量部に対して、シリコーン系添加剤の添加量を０．５重量部より大きく且つ１．５重量部未満とする理由は次の通りである。０．５重量部以下であると十分な防汚性が得られなくなるためであり、１．５重量部以上であるとブリードアウトするためである。 Moreover, the reason why the addition amount of the fluorine-based additive is more than 0.5 parts by weight and less than 1.5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the fluoropolymer is as follows. This is because if the amount is 0.5 parts by weight or less, sufficient antifouling property cannot be obtained, and if it is 1.5 parts by weight or more, bleeding occurs. Bleed-out means that the additive aggregates on the film surface.
The reason why the amount of the silicone-based additive added is greater than 0.5 parts by weight and less than 1.5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the fluoropolymer is as follows. This is because if the amount is 0.5 parts by weight or less, sufficient antifouling property cannot be obtained, and if it is 1.5 parts by weight or more, bleeding occurs.

また、本実施形態の低屈折率コーティング剤におけるフッ素ポリマーの平均分子量は１５０００００以下とすることが好ましい。これは、平均分子量が１５０００００を超える添加は溶解性が悪くなるため塗料化が困難であるためである。なお、フッ素ポリマーの平均分子量は塗料化できる範囲内で高ければ高いほど好ましく、５０００００以上であることが好ましい。
また、本発明の低屈折率コーティング剤におけるアクリルモノマーの平均分子量は１５００以下とすることが好ましい。これは、平均分子量が１５００を超える添加は溶解性が悪くなるため塗料化が困難であるためである。なお、アクリルモノマーの分子量は１００以上であることが好ましい。 Moreover, it is preferable that the average molecular weight of the fluoropolymer in the low refractive index coating agent of this embodiment shall be 1500,000 or less. This is because the addition of an average molecular weight exceeding 1500,000 makes it difficult to form a coating because of poor solubility. The average molecular weight of the fluoropolymer is preferably as high as possible within the range that can be formed into a paint, and is preferably 500,000 or more.
The average molecular weight of the acrylic monomer in the low refractive index coating agent of the present invention is preferably 1500 or less. This is because the addition of an average molecular weight exceeding 1500 makes it difficult to form a coating because of poor solubility. In addition, it is preferable that the molecular weight of an acrylic monomer is 100 or more.

なお、低屈折率コーティング剤には、必要に応じて、溶媒や各種添加剤を加えることができる。溶媒としては、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、シクロヘキシルベンゼンなどの芳香族炭化水素類、ｎ−ヘキサンなどの炭化水素類、ジブチルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、ジオキサン、ジオキソラン、トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトール等のエーテル類、また、メチルイソブチルケトン、メチルブチルケトン、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノン等のケトン類、また蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ｎ−ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酢酸ｎ−ペンチル、およびγ−プチロラクトン等のエステル類、さらには、メチルセロソルブ、セロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のセロソルブ類、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類、水等の中から塗工適正等を考慮して適宜選択される。また、低屈折率コーティング剤には添加剤として、表面調整剤、レベリング剤、屈折率調整剤、密着性向上剤、光増感剤等を加えることもできる。 In addition, a solvent and various additives can be added to a low refractive index coating agent as needed. Solvents include aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, cyclohexane and cyclohexylbenzene, hydrocarbons such as n-hexane, dibutyl ether, dimethoxymethane, dimethoxyethane, diethoxyethane, propylene oxide, dioxane, dioxolane, and trioxane. , Ethers such as tetrahydrofuran, anisole and phenetole, and ketones such as methyl isobutyl ketone, methyl butyl ketone, acetone, methyl ethyl ketone, diethyl ketone, dipropyl ketone, diisobutyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, methylcyclohexanone, and methylcyclohexanone , Ethyl formate, propyl formate, n-pentyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate , Esters such as n-pentyl acetate and γ-ptyrolactone, cellosolves such as methyl cellosolve, cellosolve, butyl cellosolve, cellosolve acetate, alcohols such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol, water, etc. It is appropriately selected in consideration of appropriateness and the like. In addition, a surface adjusting agent, a leveling agent, a refractive index adjusting agent, an adhesion improver, a photosensitizer, and the like can be added as additives to the low refractive index coating agent.

なお、低屈折率コーティング剤を用いた低屈折率層形成用塗液を塗布した後、紫外線を照射することにより低屈折率層を形成する場合には、低屈折率層形成用塗液に、低屈折率コーティング剤と共に光重合開始剤を加えることができる。光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類等が挙げられる。 In addition, in the case of forming a low refractive index layer by irradiating ultraviolet rays after applying a coating solution for forming a low refractive index layer using a low refractive index coating agent, A photoinitiator can be added along with the low refractive index coating agent. Examples of the photopolymerization initiator include acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphine oxides, ketals, anthraquinones, thioxanthones, and the like.

（反射防止フィルム）
図１は、本発明に基づく本実施形態の反射防止フィルムの模式断面図である。
本実施形態の反射防止フィルム１は、図１に示すように、透明基材１１の一方の面に対しハードコート層１２と低屈折率層１３を順に備える。 (Antireflection film)
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of an antireflection film of this embodiment based on the present invention.
As shown in FIG. 1, the antireflection film 1 of the present embodiment includes a hard coat layer 12 and a low refractive index layer 13 in order on one surface of the transparent substrate 11.

（透明基材）
次に前記透明基材１１について説明する。
透明基材１１としては、種々の有機高分子からなるフィルムまたはシートを用いることができる。例えば、ディスプレイ等の光学部材に通常使用される基材が挙げられ、透明性や光の屈折率等の光学特性、さらには耐衝撃性、耐熱性、耐久性などの諸物性を考慮して、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セロファン等のセルロース系、６−ナイロン、６，６−ナイロン等のポリアミド系、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、エチレンビニルアルコール等の有機高分子からなるものが用いられる。特に、ポリエチレンテレフタレート、トリアセチルセルロース、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレートが好ましい。さらに、これらの有機高分子に公知の添加剤、例えば帯電防止剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤等を添加することにより機能を付加させたものも使用できる。また、透明基材は上記の有機高分子から選ばれる１種または２種以上の混合物、または重合体からなるものでもよく、複数の層を積層させたものであってもよい。 (Transparent substrate)
Next, the transparent substrate 11 will be described.
As the transparent substrate 11, films or sheets made of various organic polymers can be used. For example, a base material usually used for an optical member such as a display can be cited, considering optical properties such as transparency and refractive index of light, and further various physical properties such as impact resistance, heat resistance and durability, Polyolefins such as polyethylene and polypropylene, polyesters such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, celluloses such as triacetyl cellulose, diacetyl cellulose and cellophane, polyamides such as 6-nylon and 6,6-nylon, polymethyl methacrylate, etc. Those made of organic polymers such as acrylic, polystyrene, polyvinyl chloride, polyimide, polyvinyl alcohol, polycarbonate, ethylene vinyl alcohol are used. In particular, polyethylene terephthalate, triacetyl cellulose, polycarbonate, and polymethyl methacrylate are preferable. Furthermore, functions can be added to these organic polymers by adding known additives such as antistatic agents, ultraviolet absorbers, infrared absorbers, plasticizers, lubricants, colorants, antioxidants, flame retardants, etc. Can also be used. The transparent substrate may be composed of one or a mixture of two or more selected from the above organic polymers, or a polymer, or may be a laminate of a plurality of layers.

中でも、トリアセチルセルロースフィルムは、複屈折が少なく、透明性が良好であることから、本実施形態の反射防止フィルムを液晶ディスプレイに用いるにあっては好適に使用することができる。トリアセチルセルロースフィルムの屈折率は約１．５０であって、他の透明基材と比較して屈折率が低い。例えば、透明基材として広範に用いられるポリエチレンテレフタレートフィルムは、１．６０程度である。
また、本実施形態の反射防止フィルムは、透明基材と低屈折率層との間にハードコート層を備える。ハードコート層を備えることにより、耐擦傷性に優れた反射防止フィルムとすることができる。 Especially, since a triacetylcellulose film has little birefringence and favorable transparency, when using the antireflection film of this embodiment for a liquid crystal display, it can be used conveniently. The refractive index of the triacetyl cellulose film is about 1.50, which is lower than that of other transparent substrates. For example, a polyethylene terephthalate film widely used as a transparent substrate is about 1.60.
Moreover, the antireflection film of this embodiment includes a hard coat layer between the transparent substrate and the low refractive index layer. By providing a hard coat layer, an antireflection film having excellent scratch resistance can be obtained.

（ハードコート層）
次に、前記ハードコート層１２について説明をする。
ハードコート層１２は、（メタ）アクリロイルオキシ基を有する官能性モノマーを主成分とする重合体からなることが好ましい。
（メタ）アクリロイルオキシ基を有する官能性モノマーとしては、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、へキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ペンタエリスリトールトリアクリレート、トルエンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ペンタエリスリトールトリアクリレート、イソホロンジイソシアネートウレタンプレポリマー等を挙げることができる。 (Hard coat layer)
Next, the hard coat layer 12 will be described.
The hard coat layer 12 is preferably made of a polymer mainly composed of a functional monomer having a (meth) acryloyloxy group.
Functional monomers having a (meth) acryloyloxy group include pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipenta Erythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol triacrylate, hexamethylene diisocyanate urethane prepolymer, pentaerythritol triacrylate, toluene diisocyanate urethane prepolymer, penta Examples include erythritol triacrylate, isophorone diisocyanate urethane prepolymer, etc. It is possible.

なお、ハードコート層１２は、他の機能性材料を含んでいてもかまわない。例えば、ハードコート層に導電性材料を含有させることにより、反射防止フィルムに帯電防止性能を付与することができる。
本実施形態の反射防止フィルム１では、透明基材１１上に対し、（メタ）アクリロイルオキシ基を有する官能性モノマーを含む塗液を塗布し、必要に応じて乾燥をおこない、電離放射線を照射することによりハードコート層１２が形成される。 The hard coat layer 12 may contain other functional materials. For example, antistatic performance can be imparted to the antireflection film by incorporating a conductive material into the hard coat layer.
In the antireflection film 1 of the present embodiment, a coating liquid containing a functional monomer having a (meth) acryloyloxy group is applied onto the transparent substrate 11, dried as necessary, and irradiated with ionizing radiation. Thus, the hard coat layer 12 is formed.

透明基材１１上に、（メタ）アクリロイルオキシ基を有する官能性モノマーを主成分とする重合体からなるハードコート層１２が形成される。更に、前記ハードコート層１２上に、低屈折率コーティング剤を用いた低屈折率層形成用塗液を塗布した後、乾燥し、電離放射線を照射することにより低屈折率層１３を形成することにより反射防止フィルムが作製することができる。 On the transparent substrate 11, a hard coat layer 12 made of a polymer whose main component is a functional monomer having a (meth) acryloyloxy group is formed. Furthermore, after applying a coating solution for forming a low refractive index layer using a low refractive index coating agent on the hard coat layer 12, it is dried and irradiated with ionizing radiation to form the low refractive index layer 13. Thus, an antireflection film can be produced.

（低屈折率層）
次に、実施形態の反射防止フィルムにおける低屈折率層１３について説明する。
反射防止フィルムにあっては、低屈折率層単層で構成される単層構造の反射防止層や、低屈折率層と高屈折率層の繰り返し構造からなる積層構造の反射防止層を形成することが知られている。本実施形態の反射防止フィルム１にあっては、反射防止層が、バインダマトリックス中に低屈折率粒子を含む低屈折率層単層構造であることが好ましい。 (Low refractive index layer)
Next, the low refractive index layer 13 in the antireflection film of the embodiment will be described.
In the antireflection film, a single-layer antireflection layer composed of a single low refractive index layer or a laminated antireflection layer composed of a repeating structure of a low refractive index layer and a high refractive index layer is formed. It is known. In the antireflection film 1 of the present embodiment, it is preferable that the antireflection layer has a low refractive index layer single layer structure including a low refractive index particle in a binder matrix.

前記反射防止層を形成する方法としては、反射防止層形成用塗液を防眩層表面に塗布し反射防止層を形成する湿式成膜法による方法と、真空蒸着法やスパッタリング法やＣＶＤ法といった真空中で反射防止層を形成する真空成膜法による方法に分けられる。
低屈折率層と高屈折率層の繰り返し構造からなる積層構造の反射防止層を形成する場合、形成する高屈折率層、低屈折率層の膜厚を精密に制御する必要があり、真空成膜法により形成する必要がある。本実施形態の反射防止フィルムにあっては、低屈折率粒子とバインダマトリックスを含む低屈折率塗液を用い、湿式成膜法により反射防止フィルムを形成することにより、反射防止フィルムを製造することができる。 As the method for forming the antireflection layer, a wet film forming method in which an antireflection layer forming coating liquid is applied to the surface of the antiglare layer to form an antireflection layer, a vacuum deposition method, a sputtering method, a CVD method, etc. It can be divided into vacuum film forming methods for forming an antireflection layer in vacuum.
When forming an antireflection layer having a laminated structure consisting of a repeating structure of a low refractive index layer and a high refractive index layer, it is necessary to precisely control the film thickness of the high refractive index layer and low refractive index layer to be formed. It is necessary to form by a film method. In the antireflection film of this embodiment, an antireflection film is produced by forming an antireflection film by a wet film formation method using a low refractive index coating liquid containing low refractive index particles and a binder matrix. Can do.

このとき、低屈折率層単層は、その膜厚（ｄ）に低屈折率層の屈折率（ｎ）をかけることによって得られる光学膜厚（ｎｄ）が可視光の波長の１／４と等しくなるように設形成される。
低屈折率コーティング剤を用いた低屈折率層形成用塗液を、ハードコート層が形成された透明基材上に塗布するための塗工方法としては、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、ダイコーターを用いた塗工方法を使用できる。 At this time, in the low refractive index layer single layer, the optical film thickness (nd) obtained by multiplying the film thickness (d) by the refractive index (n) of the low refractive index layer is 1/4 of the wavelength of visible light. Are formed to be equal.
As a coating method for applying a coating solution for forming a low refractive index layer using a low refractive index coating agent on a transparent substrate on which a hard coat layer is formed, a roll coater, a reverse roll coater, a gravure coater, A coating method using a knife coater, bar coater or die coater can be used.

低屈折率層形成用塗液がハードコート層上に塗布された後、ハードコート層上の塗膜中の溶媒を除去するために乾燥工程が設けられる。本実施形態の反射防止フィルムの製造方法としては、乾燥工程における塗膜の乾燥温度が、主溶媒の沸点−６０℃以上主溶媒の沸点＋２０℃以下の範囲内であることが好ましい。
なお、本実施形態において主溶媒の沸点とは低屈折率層形成用塗液に含まれる溶媒が１種類のときはその溶媒の沸点である。低屈折率層形成用塗液に含まれる溶媒が２種類以上のときは、主溶媒の沸点は重量割合がもっとも大きい溶媒の沸点である。また、低屈折率層形成用塗液に含まれる溶媒が２種類以上であって、重量割合がもっとも大きい溶媒が２種類以上あるときは、重量割合がもっとも大きい溶媒のうち沸点の高いほうの溶媒を主溶媒の沸点とする。 After the coating liquid for forming a low refractive index layer is applied on the hard coat layer, a drying step is provided to remove the solvent in the coating film on the hard coat layer. As a manufacturing method of the antireflection film of this embodiment, it is preferable that the drying temperature of the coating film in the drying step is in the range of the boiling point of the main solvent from −60 ° C. to the boiling point of the main solvent + 20 ° C. or less.
In the present embodiment, the boiling point of the main solvent is the boiling point of the solvent when there is one kind of solvent contained in the low refractive index layer forming coating solution. When two or more kinds of solvents are contained in the coating solution for forming the low refractive index layer, the boiling point of the main solvent is the boiling point of the solvent having the largest weight ratio. In addition, when there are two or more kinds of solvents contained in the coating solution for forming the low refractive index layer and two or more kinds of solvents having the largest weight ratio, the solvent having the highest boiling point among the solvents having the largest weight ratio. Is the boiling point of the main solvent.

乾燥温度が低屈折率層の形成用塗液に用いられる主溶媒の沸点−６０℃を下回る場合には、溶媒の乾燥が不十分であり低屈折率層に含まれるシリコーン材料成分がフィルム上に残ってしまい、低屈折率層の防汚性と耐擦傷性が低下してしまう。一方、乾燥温度が低屈折率層の形成用塗液に用いられる主溶媒の沸点＋２０℃を上回る場合には、製造コストが高くなり、また熱によって反射防止フィルムに熱シワと呼ばれるシワが発生してしまう場合がある。 When the drying temperature is lower than the boiling point of the main solvent used in the coating liquid for forming the low refractive index layer, which is −60 ° C., the drying of the solvent is insufficient and the silicone material component contained in the low refractive index layer is on the film. It remains, and the antifouling property and scratch resistance of the low refractive index layer are lowered. On the other hand, when the drying temperature is higher than the boiling point of the main solvent used in the coating liquid for forming the low refractive index layer + 20 ° C., the production cost is increased, and wrinkles called heat wrinkles are generated in the antireflection film due to heat. May end up.

低屈折率コーティング剤を用いた低屈折率層形成用塗液を、ハードコート層１２が形成された透明基材１１上に塗布することにより得られる塗膜に対し、電離放射線を照射することにより、低屈折率層１３が形成される。電離放射線としては、紫外線、電子線を用いることができる。紫外線硬化の場合は、高圧水銀灯、低圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアーク、キセノンアーク等の光源が利用できる。また、電子線硬化の場合はコックロフトワルト型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される電子線が利用できる。 By irradiating the coating film obtained by applying a coating solution for forming a low refractive index layer using a low refractive index coating agent on the transparent substrate 11 on which the hard coat layer 12 is formed, by irradiating with ionizing radiation The low refractive index layer 13 is formed. As the ionizing radiation, ultraviolet rays and electron beams can be used. In the case of ultraviolet curing, a light source such as a high pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a carbon arc, or a xenon arc can be used. In the case of electron beam curing, electron beams emitted from various electron beam accelerators such as cockloftwald type, bandegraph type, resonant transformer type, insulated core transformer type, linear type, dynamitron type, and high frequency type can be used. .

本実施形態に係る反射防止フィルムの製造方法は、紫外線照射工程において、照射される紫外線の積算光量を２００ｍＪ／ｃｍ^２以上４００ｍＪ／ｃｍ^２以下の範囲内とすることが好ましい。照射される紫外線の積算光量が２００ｍＪ／ｃｍ^２未満の場合は、硬化が不十分であり、低屈折率層の耐擦傷性が低下してしまう。一方、照射される紫外線の積算光量が４００ｍＪ／ｃｍ^２を超える場合であっては、製造コストが高くなってしまう。 In the method for producing an antireflection film according to this embodiment, in the ultraviolet irradiation step, it is preferable that the integrated light amount of the irradiated ultraviolet rays is in the range of 200 mJ / cm ² or more and 400 mJ / cm ² or less. When the cumulative amount of the irradiated ultraviolet light is less than 200 mJ / cm ² , curing is insufficient and the scratch resistance of the low refractive index layer is lowered. On the other hand, when the integrated light quantity of the irradiated ultraviolet rays exceeds 400 mJ / cm ² , the manufacturing cost becomes high.

本実施形態の反射防止フィルムは、低屈折率層１３の表面での平均視感反射率が０．３％以上から０．７％以下であることが好ましい。低屈折率層１３の表面の平均視感反射率は低いほど、優れた反射防止機能を備える。
低屈折率層１３の表面での平均視感反射率が０．７％を超える場合にあっては、十分な反射防止機能を備える反射防止フィルムとすることができなくなってしまう。一方、低屈折率層１３の表面での平均視感反射率を０．３％未満の反射防止フィルムを低屈折率層単層で実現することは困難である。 The antireflection film of this embodiment preferably has an average luminous reflectance on the surface of the low refractive index layer 13 of 0.3% or more and 0.7% or less. The lower the average luminous reflectance of the surface of the low refractive index layer 13, the better the antireflection function.
If the average luminous reflectance on the surface of the low refractive index layer 13 exceeds 0.7%, an antireflection film having a sufficient antireflection function cannot be obtained. On the other hand, it is difficult to realize an antireflection film having an average luminous reflectance of less than 0.3% on the surface of the low refractive index layer 13 with a single low refractive index layer.

本実施形態の反射防止フィルム１の分光反射率は、反射防止フィルムの低屈折率層１３と反対側の面を黒色塗料で艶消し処理した後におこなわれ、低屈折率層１３の表面に対しての垂直方向から入射角度は５度に設定され、光源としてＣ光源を用い、２度視野の条件下で求められる。平均視感反射率は、可視光の各波長の反射率を比視感度により校正し、平均した反射率の値である。このとき、比視感度は明所視標準比視感度が用いられる。 The spectral reflectance of the antireflective film 1 according to the present embodiment is performed after the surface opposite to the low refractive index layer 13 of the antireflective film is matted with a black paint, and is applied to the surface of the low refractive index layer 13. The incident angle from the vertical direction is set to 5 degrees, and a C light source is used as the light source, and is obtained under the condition of a 2-degree visual field. The average luminous reflectance is a reflectance value obtained by calibrating the reflectance of each wavelength of visible light with the relative luminous sensitivity and averaging it. At this time, the photopic standard relative visual sensitivity is used as the specific visual sensitivity.

本実施形態の反射防止フィルムのヘイズを０．２％以下とすることにより、明所コントラストの高い反射防止フィルムとすることができる。ヘイズが０．２％を超える場合には、散乱による透過損失によって暗所での黒表示させた際の光モレを見かけ上抑制することが可能となるが、明所での黒表示の際に散乱によって黒表示が白ボケしてコントラストが低下してしまう。 By setting the haze of the antireflection film of the present embodiment to 0.2% or less, an antireflection film having a high light contrast can be obtained. When the haze exceeds 0.2%, it is possible to apparently suppress light leakage when black is displayed in a dark place due to transmission loss due to scattering, but when displaying black in a bright place. The black display is blurred by scattering and the contrast is lowered.

反射防止フィルムの全光線透過率を９５．０％以上９８．０％以下とすることにより、コントラストを良好なものとすることができる。反射防止フィルムの全光線透過率が９５．０％に満たない場合にあっては、白表示した際の白輝度が低下し、コントラストが低下してしまう。一方、裏面反射等を考慮すると全光線透過率９８．０％を超える反射防止フィルムを作製することは実質的に困難であり、本発明の反射防止フィルムにあっては全光線透過率９８．０％以下であることを特徴とする。 By making the total light transmittance of the antireflection film 95.0% or more and 98.0% or less, the contrast can be improved. In the case where the total light transmittance of the antireflection film is less than 95.0%, the white luminance when white is displayed is lowered, and the contrast is lowered. On the other hand, in consideration of back surface reflection and the like, it is substantially difficult to produce an antireflection film having a total light transmittance of more than 98.0%. In the antireflection film of the present invention, the total light transmittance is 98.0. % Or less.

なお、本実施形態の反射防止フィルムは、必要に応じて、帯電防止性能、電磁波シールド性能、赤外線吸収性能、紫外線吸収性能、色補正性能等を有する機能層が設けられていてもよい。これらの機能層としては、帯電防止層、電磁波遮蔽層、赤外線吸収層、紫外線吸収層、色補正層等が挙げられる。また、本発明にあっては、各種層間の接着性向上のために、各層間にプライマー層や接着層等を設けても良い。 In addition, the antireflection film of this embodiment may be provided with a functional layer having antistatic performance, electromagnetic wave shielding performance, infrared absorption performance, ultraviolet absorption performance, color correction performance, and the like, if necessary. Examples of these functional layers include an antistatic layer, an electromagnetic wave shielding layer, an infrared absorption layer, an ultraviolet absorption layer, and a color correction layer. In the present invention, a primer layer, an adhesive layer, or the like may be provided between each layer in order to improve adhesion between various layers.

（ディスプレイ及び偏光板）
本実施形態の反射防止フィルム１は、ディスプレイ表面に好適に用いることができる。ディスプレイとしてはＬＣＤ、ＰＤＰ、ＣＲＴ、プロジェクションディスプレイ、ＥＬディスプレイ等を挙げることができる。また、ディスプレイ内部に用いることもできる。以下に本実施形態の反射防止フィルム１を液晶ディスプレイの部材としての偏光板に用いる場合について説明する。
本実施形態の偏光板は、透明基材１１におけるハードコート層形成面と反対側の面に、偏光層と透明基材を順に備える。本実施形態の偏光板は、偏光層が２枚の透明基材で狭持された構造をとる。 (Display and polarizing plate)
The antireflection film 1 of the present embodiment can be suitably used for the display surface. Examples of the display include LCD, PDP, CRT, projection display, EL display and the like. It can also be used inside a display. The case where the antireflection film 1 of this embodiment is used for a polarizing plate as a member of a liquid crystal display will be described below.
The polarizing plate of this embodiment comprises a polarizing layer and a transparent substrate in this order on the surface of the transparent substrate 11 opposite to the hard coat layer forming surface. The polarizing plate of this embodiment has a structure in which a polarizing layer is sandwiched between two transparent substrates.

また、透過型液晶ディスプレイにおいては、バックライトユニット、偏光板、液晶セル、偏光板、反射防止フィルム１をこの順に備えている。このとき、反射防止フィルム１の反射防止層形成面側が観察側すなわちディスプレイ表面となる。
前記バックライトユニットは、光源と光拡散板を備える。液晶セルは、一方の透明基材に電極が設けられ、もう一方の透明基材に電極及びカラーフィルターを備えており、両電極間に液晶が封入された構造となっている。液晶セルを挟むように設けられる偏光板にあっては、透明基材間に偏光層を挟持した構造となっている。 The transmissive liquid crystal display includes a backlight unit, a polarizing plate, a liquid crystal cell, a polarizing plate, and an antireflection film 1 in this order. At this time, the antireflection layer forming surface side of the antireflection film 1 becomes the observation side, that is, the display surface.
The backlight unit includes a light source and a light diffusing plate. The liquid crystal cell has a structure in which an electrode is provided on one transparent substrate, an electrode and a color filter are provided on the other transparent substrate, and liquid crystal is sealed between both electrodes. The polarizing plate provided so as to sandwich the liquid crystal cell has a structure in which a polarizing layer is sandwiched between transparent substrates.

また、本実施形態の透過型液晶ディスプレイにあっては、他の機能性部材を備えても良い。他の機能性部材としては、例えば、バックライトから発せられる光を有効に使うための、拡散フィルム、プリズムシート、輝度向上フィルムや、液晶セルや偏光板の位相差を補償するための位相差フィルムが挙げられるが、本発明の透過型液晶ディスプレイはこれらに限定されるものではない。なお、これらは公知のものを使用できる。 Moreover, in the transmissive liquid crystal display of this embodiment, you may provide another functional member. Other functional members include, for example, a diffusion film, a prism sheet, a brightness enhancement film for effectively using light emitted from a backlight, and a phase difference film for compensating for a phase difference between a liquid crystal cell and a polarizing plate. However, the transmissive liquid crystal display of the present invention is not limited to these. In addition, these can use a well-known thing.

以下に、本発明に基づく実施形態を採用した実施例により、さらに具体的に説明する。ただし、本発明はこれら実施例により限定されるものではない。
以下の（調整例１）〜（調整例１３）の低屈折率コーティング剤を調整した後、それぞれの低屈折率層形成用塗液１〜１３を作製し、（実施例１）〜（実施例１２）、(比較例１)の反射防止フィルムを作製した。 In the following, the present invention will be described in more detail with reference to examples employing the embodiment according to the present invention. However, the present invention is not limited to these examples.
After adjusting the low refractive index coating agents of the following (Adjustment Example 1) to (Adjustment Example 13), the respective coating solutions 1 to 13 for forming a low refractive index layer were prepared, and (Example 1) to (Example) 12) The antireflection film of (Comparative Example 1) was produced.

＜調整例１＞
（低屈折率コーティング剤１）
フッ素ポリマー（分子量１００００００）と、フッ素ポリマー１００重量部に対して低屈折率ナノ微粒子８０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してアクリルモノマー（分子量１０００）４０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してフッ素系添加剤１重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してシリコーン系添加剤１重量部になるよう組み合わせて調液し、ＭＩＢＫ：ｔ−ＢｕＯＨ：シクロヘキサノン＝２０：５５：２５を加え、３．５ｗｔ％の低屈折率層形成用塗液１を作製した。なお、ＭＩＢＫ（メチルイソブチルケトン）の沸点は１１５℃であり、ｔ−ＢｕＯＨ（ｔ−ブタノール）の沸点は１４２℃であり、シクロヘキサノンの沸点は１５６℃である。 <Adjustment example 1>
(Low refractive index coating agent 1)
Fluoropolymer (molecular weight 1000000), 80 parts by weight of low refractive index nanoparticles with respect to 100 parts by weight of fluoropolymer, 40 parts by weight of acrylic monomer (molecular weight 1000) with respect to 100 parts by weight of fluoropolymer, and 100 parts by weight of fluoropolymer The mixture was prepared by combining 1 part by weight of a fluorine-based additive and 1 part by weight of a silicone-based additive with respect to 100 parts by weight of a fluoropolymer, and MIBK: t-BuOH: cyclohexanone = 20: 55: 25 In addition, a coating solution 1 for forming a low refractive index layer of 3.5 wt% was prepared. MIBK (methyl isobutyl ketone) has a boiling point of 115 ° C., t-BuOH (t-butanol) has a boiling point of 142 ° C., and cyclohexanone has a boiling point of 156 ° C.

＜調整例２＞
（低屈折率コーティング剤２）
フッ素ポリマー（分子量１００００００）と、フッ素ポリマー１００重量部に対して低屈折率ナノ微粒子９０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してアクリルモノマー（分子量１０００）４０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してフッ素系添加剤１重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してシリコーン系添加剤１重量部になるよう組み合わせて調液し、ＭＩＢＫ：ｔ−ＢｕＯＨ：シクロヘキサノン＝２０：５５：２５を加え、３．５ｗｔ％の低屈折率層形成用塗液２を作製した。 <Adjustment example 2>
(Low refractive index coating agent 2)
Fluoropolymer (molecular weight 1000000), 90 parts by weight of low refractive index nanoparticles with respect to 100 parts by weight of fluoropolymer, 40 parts by weight of acrylic monomer (molecular weight 1000) with respect to 100 parts by weight of fluoropolymer, and 100 parts by weight of fluoropolymer The mixture was prepared by combining 1 part by weight of a fluorine-based additive and 1 part by weight of a silicone-based additive with respect to 100 parts by weight of a fluoropolymer, and MIBK: t-BuOH: cyclohexanone = 20: 55: 25 In addition, 3.5 wt% of a coating solution 2 for forming a low refractive index layer was prepared.

＜調整例３＞
（低屈折率コーティング剤３）
フッ素ポリマー（分子量１００００００）と、フッ素ポリマー１００重量部に対して低屈折率ナノ微粒子１００重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してアクリルモノマー（分子量１０００）４０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してフッ素系添加剤１重量部と、（フッ素ポリマー１００重量部に対してシリコーン系添加剤１重量部になるよう組み合わせて調液し、ＭＩＢＫ：ｔ−ＢｕＯＨ：シクロヘキサノン＝２０：５５：２５を加え、３．５ｗｔ％の低屈折率層形成用塗液３を作製した。 <Adjustment example 3>
(Low refractive index coating agent 3)
Fluoropolymer (molecular weight 1000000), 100 parts by weight of low refractive index nanoparticles with respect to 100 parts by weight of fluoropolymer, 40 parts by weight of acrylic monomer (molecular weight 1000) with respect to 100 parts by weight of fluoropolymer, and 100 parts by weight of fluoropolymer 1 part by weight of a fluorine-based additive with respect to 100 parts by weight of a fluorine-based additive, and prepared by combining 1 part by weight of a silicone-based additive with respect to 100 parts by weight of a fluoropolymer. MIBK: t-BuOH: cyclohexanone = 20: 55: 25 Was added to prepare a coating solution 3 for forming a low refractive index layer of 3.5 wt%.

＜調整例４＞
（低屈折率コーティング剤４）
フッ素ポリマー（分子量１００００００）と、フッ素ポリマー１００重量部に対して低屈折率ナノ微粒子９０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してアクリルモノマー（分子量１０００）３０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してフッ素系添加剤１重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してシリコーン系添加剤１重量部になるよう組み合わせて調液し、ＭＩＢＫ：ｔ−ＢｕＯＨ：シクロヘキサノン＝２０：５５：２５を加え、３．５ｗｔ％の低屈折率層形成用塗液４を作製した。 <Adjustment example 4>
(Low refractive index coating agent 4)
Fluoropolymer (molecular weight 1000000), 90 parts by weight of low refractive index nanoparticles with respect to 100 parts by weight of fluoropolymer, 30 parts by weight of acrylic monomer (molecular weight 1000) with respect to 100 parts by weight of fluoropolymer, and 100 parts by weight of fluoropolymer The mixture was prepared by combining 1 part by weight of a fluorine-based additive and 1 part by weight of a silicone-based additive with respect to 100 parts by weight of a fluoropolymer, and MIBK: t-BuOH: cyclohexanone = 20: 55: 25 In addition, 3.5 wt% of a coating solution 4 for forming a low refractive index layer was prepared.

＜調整例５＞
（低屈折率コーティング剤５）
フッ素ポリマー（分子量１００００００）と、フッ素ポリマー１００重量部に対して低屈折率ナノ微粒子９０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してアクリルモノマー（分子量１０００）５０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してフッ素系添加剤１重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してシリコーン系添加剤１重量部になるよう組み合わせて調液し、ＭＩＢＫ：ｔ−ＢｕＯＨ：シクロヘキサノン＝２０：５５：２５を加え、３．５ｗｔ％の低屈折率層形成用塗液５を作製した。 <Adjustment example 5>
(Low refractive index coating agent 5)
Fluoropolymer (molecular weight 1000000), 90 parts by weight of low refractive index nanoparticles with respect to 100 parts by weight of fluoropolymer, 50 parts by weight of acrylic monomer (molecular weight 1000) with respect to 100 parts by weight of fluoropolymer, and 100 parts by weight of fluoropolymer The mixture was prepared by combining 1 part by weight of a fluorine-based additive and 1 part by weight of a silicone-based additive with respect to 100 parts by weight of a fluoropolymer, and MIBK: t-BuOH: cyclohexanone = 20: 55: 25 In addition, 3.5 wt% of a coating solution 5 for forming a low refractive index layer was prepared.

＜調整例６＞
（低屈折率コーティング剤６）
フッ素ポリマー（分子量１００００００）と、フッ素ポリマー１００重量部に対して低屈折率ナノ微粒子９０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してアクリルモノマー（分子量１０００）４０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してフッ素系添加剤０．５重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してシリコーン系添加剤１重量部になるよう組み合わせて調液し、ＭＩＢＫ：ｔ−ＢｕＯＨ：シクロヘキサノン＝２０：５５：２５を加え、３．５ｗｔ％の低屈折率層形成用塗液６を作製した。 <Adjustment Example 6>
(Low refractive index coating agent 6)
Fluoropolymer (molecular weight 1000000), 90 parts by weight of low refractive index nanoparticles with respect to 100 parts by weight of fluoropolymer, 40 parts by weight of acrylic monomer (molecular weight 1000) with respect to 100 parts by weight of fluoropolymer, and 100 parts by weight of fluoropolymer The mixture was prepared by combining 0.5 parts by weight of a fluorine-based additive and 1 part by weight of a silicone-based additive with respect to 100 parts by weight of a fluoropolymer, and MIBK: t-BuOH: cyclohexanone = 20: 55: 25 was added to prepare a coating solution 6 for forming a low refractive index layer of 3.5 wt%.

＜調整例７＞
（低屈折率コーティング剤７）
フッ素ポリマー（分子量１００００００）と、フッ素ポリマー１００重量部に対して低屈折率ナノ微粒子９０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してアクリルモノマー（分子量１０００）４０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してフッ素系添加剤１．５重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してシリコーン系添加剤１重量部になるよう組み合わせて調液し、ＭＩＢＫ：ｔ−ＢｕＯＨ：シクロヘキサノン＝２０：５５：２５を加え、３．５ｗｔ％の低屈折率層形成用塗液７を作製した。 <Adjustment example 7>
(Low refractive index coating agent 7)
Fluoropolymer (molecular weight 1000000), 90 parts by weight of low refractive index nanoparticles with respect to 100 parts by weight of fluoropolymer, 40 parts by weight of acrylic monomer (molecular weight 1000) with respect to 100 parts by weight of fluoropolymer, and 100 parts by weight of fluoropolymer The mixture was prepared by combining 1.5 parts by weight of a fluorine-based additive and 1 part by weight of a silicone-based additive with respect to 100 parts by weight of a fluoropolymer, and MIBK: t-BuOH: cyclohexanone = 20: 55: 25 was added to prepare 3.5 wt% coating solution 7 for forming a low refractive index layer.

＜調整例８＞
（低屈折率コーティング剤８）
フッ素ポリマー（分子量１００００００）と、フッ素ポリマー１００重量部に対して低屈折率ナノ微粒子９０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してアクリルモノマー（分子量１０００）４０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してフッ素系添加剤１重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してシリコーン系添加剤０．５重量部になるよう組み合わせて調液し、ＭＩＢＫ：ｔ−ＢｕＯＨ：シクロヘキサノン＝２０：５５：２５を加え、３．５ｗｔ％の低屈折率層形成用塗液８を作製した。 <Adjustment example 8>
(Low refractive index coating agent 8)
Fluoropolymer (molecular weight 1000000), 90 parts by weight of low refractive index nanoparticles with respect to 100 parts by weight of fluoropolymer, 40 parts by weight of acrylic monomer (molecular weight 1000) with respect to 100 parts by weight of fluoropolymer, and 100 parts by weight of fluoropolymer The mixture was prepared by combining 1 part by weight of a fluorine-based additive and 0.5 parts by weight of a silicone-based additive with respect to 100 parts by weight of a fluoropolymer, and MIBK: t-BuOH: cyclohexanone = 20: 55: 25 was added to prepare a coating solution 8 for forming a low refractive index layer of 3.5 wt%.

＜調整例９＞
（低屈折率コーティング剤９）
フッ素ポリマー（分子量１００００００）と、フッ素ポリマー１００重量部に対して低屈折率ナノ微粒子９０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してアクリルモノマー（分子量１０００）４０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してフッ素系添加剤１重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してシリコーン系添加剤１．５重量部になるよう組み合わせて調液し、ＭＩＢＫ：ｔ−ＢｕＯＨ：シクロヘキサノン＝２０：５５：２５を加え、３．５ｗｔ％の低屈折率層形成用塗液９を作製した。 <Adjustment example 9>
(Low refractive index coating agent 9)
Fluoropolymer (molecular weight 1000000), 90 parts by weight of low refractive index nanoparticles with respect to 100 parts by weight of fluoropolymer, 40 parts by weight of acrylic monomer (molecular weight 1000) with respect to 100 parts by weight of fluoropolymer, and 100 parts by weight of fluoropolymer The mixture was prepared by combining 1 part by weight of a fluorine-based additive and 1.5 parts by weight of a silicone-based additive with respect to 100 parts by weight of a fluoropolymer, and MIBK: t-BuOH: cyclohexanone = 20: 55: 25 was added to prepare a 3.5 wt% coating solution 9 for forming a low refractive index layer.

＜調整例１０＞
（低屈折率コーティング剤１０）
フッ素ポリマー（分子量２００００００）と、フッ素ポリマー１００重量部に対して低屈折率ナノ微粒子９０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してアクリルモノマー（分子量１０００）４０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してフッ素系添加剤１重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してシリコーン系添加剤１．５重量部になるよう組み合わせて調液し、ＭＩＢＫ：ｔ−ＢｕＯＨ：シクロヘキサノン＝２０：５５：２５を加え、３．５ｗｔ％の低屈折率層形成用塗液１０を作製した。 <Adjustment Example 10>
(Low refractive index coating agent 10)
Fluoropolymer (molecular weight 2000000), 90 parts by weight of low refractive index nanoparticles with respect to 100 parts by weight of fluoropolymer, 40 parts by weight of acrylic monomer (molecular weight 1000) with respect to 100 parts by weight of fluoropolymer, and 100 parts by weight of fluoropolymer The mixture was prepared by combining 1 part by weight of a fluorine-based additive and 1.5 parts by weight of a silicone-based additive with respect to 100 parts by weight of a fluoropolymer, and MIBK: t-BuOH: cyclohexanone = 20: 55: 25 was added to prepare a coating solution 10 for forming a low refractive index layer of 3.5 wt%.

＜調整例１１＞
（低屈折率コーティング剤１１）
フッ素ポリマー（分子量１００００００）と、フッ素ポリマー１００重量部に対して低屈折率ナノ微粒子９０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してアクリルモノマー（分子量２０００）４０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してフッ素系添加剤１重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してシリコーン系添加剤１．５重量部になるよう組み合わせて調液し、ＭＩＢＫ：ｔ−ＢｕＯＨ：シクロヘキサノン＝２０：５５：２５を加え、３．５ｗｔ％の低屈折率層形成用塗液１１を作製した。 <Adjustment Example 11>
(Low refractive index coating agent 11)
Fluoropolymer (molecular weight 1000000), 90 parts by weight of low refractive index nanoparticles with respect to 100 parts by weight of fluoropolymer, 40 parts by weight of acrylic monomer (molecular weight 2000) with respect to 100 parts by weight of fluoropolymer, and 100 parts by weight of fluoropolymer The mixture was prepared by combining 1 part by weight of a fluorine-based additive and 1.5 parts by weight of a silicone-based additive with respect to 100 parts by weight of a fluoropolymer, and MIBK: t-BuOH: cyclohexanone = 20: 55: 25 was added to prepare 3.5 wt% coating solution 11 for forming a low refractive index layer.

＜調整例１２＞
（低屈折率コーティング剤１２）
フッ素ポリマー（分子量２００００００）と、フッ素ポリマー１００重量部に対して低屈折率ナノ微粒子９０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してアクリルモノマー（分子量２０００）４０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してフッ素系添加剤１重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してシリコーン系添加剤１．５重量部になるよう組み合わせて調液し、ＭＩＢＫ：ｔ−ＢｕＯＨ：シクロヘキサノン＝２０：５５：２５を加え、３．５ｗｔ％の低屈折率層形成用塗液１２を作製した。 <Adjustment example 12>
(Low refractive index coating agent 12)
Fluoropolymer (molecular weight 20000), 90 parts by weight of low-refractive-index nanoparticles with respect to 100 parts by weight of the fluoropolymer, 40 parts by weight of acrylic monomer (molecular weight 2000) with respect to 100 parts by weight of the fluoropolymer, and 100 parts by weight of the fluoropolymer The mixture was prepared by combining 1 part by weight of a fluorine-based additive and 1.5 parts by weight of a silicone-based additive with respect to 100 parts by weight of a fluoropolymer, and MIBK: t-BuOH: cyclohexanone = 20: 55: 25 was added to prepare a coating solution 12 for forming a low refractive index layer of 3.5 wt%.

＜比較例１＞
（低屈折率コーティング剤１３）
フッ素ポリマー１００重量部に対して低屈折率ナノ微粒子９０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してアクリルモノマー（分子量１０００）４０重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してフッ素系添加剤１重量部と、フッ素ポリマー１００重量部に対してシリコーン系添加剤１重量部になるよう組み合わせて調液し、ＭＩＢＫ：ｔ−ＢｕＯＨ：シクロヘキサノン＝２０：５５：２５を加え、３．５ｗｔ％の低屈折率層形成用塗液１３を作製した。 <Comparative Example 1>
(Low refractive index coating agent 13)
90 parts by weight of low refractive index nanoparticles with respect to 100 parts by weight of the fluoropolymer, 40 parts by weight of acrylic monomer (molecular weight 1000) with respect to 100 parts by weight of the fluoropolymer, and fluorine-based additive 1 with respect to 100 parts by weight of the fluoropolymer The mixture was prepared by combining 1 part by weight of the silicone additive with 100 parts by weight of the fluoropolymer, and MIBK: t-BuOH: cyclohexanone = 20: 55: 25 was added. A refractive index layer forming coating solution 13 was prepared.

（低屈折率層の形成）
（メタ）アクリロイルオキシ基を有する多官能性モノマーを硬化させたハードコート層を備えるトリアセチルセルロースフィルム（富士フィルム製：膜厚８０μｍ）上に、前記（低屈折率コーティング剤１）〜（低屈折率コーティング剤１３）で作製した低屈折率層形成用塗液をそれぞれ塗布し、８０℃・４０秒オーブンで乾燥し、膜厚が１００ｎｍとなるように塗布した。乾燥後、窒素パージ下で紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン、光源Ｈバルブ）を用いて照射線量３８０ｍＪ／ｍ^２で紫外線照射をおこなって硬化させて低屈折率層を形成し、下記表１及び表２中に示す（実施例１）〜（実施例１２）、及び(比較例１)の反射防止フィルムを作製した。 (Formation of a low refractive index layer)
(Low refractive index coating agent 1) to (low refractive index) on a triacetyl cellulose film (manufactured by Fuji Film: film thickness 80 μm) having a hard coat layer obtained by curing a polyfunctional monomer having a (meth) acryloyloxy group. Each of the coating solutions for forming a low refractive index layer prepared with the refractive index coating agent 13) was applied, dried in an oven at 80 ° C. for 40 seconds, and applied so that the film thickness was 100 nm. After drying, a low refractive index layer is formed by performing ultraviolet irradiation at an irradiation dose of 380 mJ / m ² using an ultraviolet irradiation device (Fusion UV System Japan, light source H bulb) under nitrogen purge to form a low refractive index layer. The antireflection films of (Example 1) to (Example 12) and (Comparative Example 1) shown in Table 2 were produced.

前記の（実施例１）〜（実施例１２）、(比較例１)で得られた反射防止フィルムについて、以下の方法で評価をおこなった。
（１）光学特性
「分光反射率・平均視感反射率」
得られた反射防止フィルムの低屈折率層表面について、自動分光光度計（日立製作所社製、Ｕ−４０００）を用い、入射角５°における分光反射率を測定した。また、得られた分光反射率曲線から平均視感反射率を求めた。なお、測定の際には透明基材であるトリアセチルセルロースフィルムのうち低屈折率層の形成されていない面につや消し黒色塗料を塗布し、反射防止の処置をおこなった。
「ヘイズ値および全光線透過率」
得られた反射防止フィルムについて、写像性測定器［日本電色工業社製、ＮＤＨ−２０００］を使用してヘイズ値、及び全光線透過率を測定した。 The antireflection films obtained in the above (Example 1) to (Example 12) and (Comparative Example 1) were evaluated by the following methods.
(1) Optical characteristics “spectral reflectance / average luminous reflectance”
About the surface of the low refractive index layer of the obtained antireflection film, the spectral reflectance at an incident angle of 5 ° was measured using an automatic spectrophotometer (manufactured by Hitachi, Ltd., U-4000). Further, the average luminous reflectance was obtained from the obtained spectral reflectance curve. In the measurement, a matte black paint was applied to the surface of the triacetylcellulose film, which is a transparent substrate, on which the low refractive index layer was not formed, and an antireflection treatment was performed.
"Haze value and total light transmittance"
About the obtained antireflection film, the haze value and the total light transmittance were measured using the image clarity measuring device [Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. make, NDH-2000].

（２）防汚性
「接触角測定」
接触角計〔ＣＡ−Ｘ型：協和界面科学社製〕を用いて、０．９μｌの液滴を針先に作り、これを基材（固体）の表面に接触させて液滴を作った。接触角とは、固体と液体が接する点における液体表面に対する接線と固体表面がなす角で、液体を含む方の角度で定義した。液体には、蒸留水を使用した。 (2) Antifouling "Contact angle measurement"
Using a contact angle meter (CA-X type: manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.), a droplet of 0.9 μl was formed on the needle tip, and this was brought into contact with the surface of the substrate (solid) to form a droplet. The contact angle is an angle formed by the solid surface and the tangent to the liquid surface at the point where the solid and the liquid are in contact with each other, and is defined as the angle containing the liquid. Distilled water was used as the liquid.

「油性ペン（マッキー、マジック）の拭取り性」
基材表面に付着した油性ペンをティッシュペーパー〔エリエール社製〕で拭き取り、その取れ易さを目視評価した。判定基準を以下に示す。
○：油性ペンを容易に拭き取ることが出来る。
△：油性ペンを拭き取れる。
×：油性ペンを拭き取ることが出来ない "Wipeability of oil-based pens (Mackey, Magic)"
The oil-based pen adhering to the substrate surface was wiped off with a tissue paper (manufactured by Eliere Co., Ltd.), and the ease of removal was visually evaluated. Judgment criteria are shown below.
○: The oil pen can be easily wiped off.
Δ: The oil pen can be wiped off.
×: The oil pen cannot be wiped off

（３）機械特性
「耐擦傷性試験」
基材表面をスチールウール〔ボンスター＃００００：日本スチールウール社製〕により２００ｇ／ｃｍ^２、３００ｇ／ｃｍ^２、４００ｇ／ｃｍ^２、５００ｇ／ｃｍ^２でそれぞれ１０回擦り、傷の有無を目視評価した（スチールウール試験）。
判定基準を以下に示す。
○：傷なし
×：傷あり (3) Mechanical properties “Abrasion resistance test”
The surface of the substrate was rubbed 10 times with steel wool (Bonster # 0000: manufactured by Nippon Steel Wool Co., Ltd.) at 200 g / cm ² , 300 g / cm ² , 400 g / cm ² , and 500 g / cm ² , and the presence or absence of scratches was visually evaluated. (Steel wool test).
Judgment criteria are shown below.
○: No scratch ×: Scratch

（４）ブリードアウト
塗工表面をティッシュペーパー〔エリエール社製〕で拭取り、拭取ることができるかを目視評価した。
判定基準を以下に示す。
○：ブリードなし（拭取れない）
×：ブリードあり（拭取れる）
結果を表１及び表２に示す。 (4) Bleed-out The coated surface was wiped with a tissue paper [manufactured by Eliere Co., Ltd.] and visually evaluated whether it could be wiped off.
Judgment criteria are shown below.
○: No bleed (cannot be wiped off)
×: Bleed (can be wiped off)
The results are shown in Tables 1 and 2.

表１から分かるように、（実施例２）で反射率が低く、機械特性、防汚性の優れた低屈折率層を得ることができた。
フッ素ポリマー１００重量部に対して、低屈折率ナノ微粒子の添加量が８０重量部であると平均視感反射率は０．７％以上となってしまう。また低屈折率ナノ微粒子添加量が１００重量部であると耐擦傷性試験において４００ｇ／ｃｍ^２荷重で傷が生じてしまう。低屈折率ナノ微粒子添加量に関して反射率と機械特性はトレードオフの関係にある。このことから十分な光学特性と機械特性を備えた反射防止フィルムを作成するためには、フッ素ポリマー１００重量部に対して低屈折率ナノ微粒子添加量が８０重量部より大きく且つ１００重量部未満である必要であることがわかる。 As can be seen from Table 1, in Example 2, a low refractive index layer having low reflectance and excellent mechanical properties and antifouling properties could be obtained.
If the addition amount of the low refractive index nanoparticles is 80 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the fluoropolymer, the average luminous reflectance will be 0.7% or more. Further, when the amount of the low refractive index nano-particles added is 100 parts by weight, scratches occur at a load of 400 g / cm ² in the scratch resistance test. The reflectance and mechanical properties are in a trade-off relationship with respect to the addition amount of the low refractive index nanoparticle. Therefore, in order to prepare an antireflection film having sufficient optical properties and mechanical properties, the amount of the low refractive index nanoparticle added is more than 80 parts by weight and less than 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the fluoropolymer. It turns out that it is necessary.

また、フッ素ポリマー１００重量部に対して、アクリルモノマーの添加量が３０重量部であると耐擦傷性試験において４００ｇ／ｃｍ^２荷重で傷が生じてしまう。また低屈折率ナノ微粒子添加量が５０重量部であると平均視感反射率は０．７％以上となってしまう。アクリルモノマーの添加量に関して反射率と機械特性はトレードオフの関係にある。このことから十分な光学特性と機械特性を備えた反射防止フィルムを作成するためには、フッ素ポリマー１００重量部に対してアクリルモノマーの添加量が３０重量部より大きく且つ５０重量部未満である必要であることがわかる。 In addition, if the amount of the acrylic monomer added is 30 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the fluoropolymer, scratches occur at a load of 400 g / cm ² in the scratch resistance test. On the other hand, if the amount of the low refractive index nanoparticle added is 50 parts by weight, the average luminous reflectance is 0.7% or more. The reflectance and mechanical properties are in a trade-off relationship with respect to the amount of acrylic monomer added. Therefore, in order to create an antireflection film having sufficient optical and mechanical properties, the amount of acrylic monomer added must be greater than 30 parts by weight and less than 50 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the fluoropolymer. It can be seen that it is.

また、フッ素ポリマー１００重量部に対して、フッ素系添加剤の添加量が０．５重量部であると十分な防汚性が発現しない。またフッ素系添加剤が１．５重量部であるとブリードが生じてしまう。シリコーン系添加剤添加量に関して防汚性とブリードはトレードオフの関係にある。このことから十分な防汚性を備えたブリードが発生しない反射防止フィルムを作成するためには、フッ素ポリマー１００重量部に対してフッ素系添加剤の添加量が０．５重量部より大きく且つ１．５重量部未満である必要であることがわかる。 Moreover, sufficient antifouling property does not express that the addition amount of a fluorine-type additive is 0.5 weight part with respect to 100 weight part of fluoropolymers. If the fluorine-based additive is 1.5 parts by weight, bleeding occurs. The antifouling property and bleed are in a trade-off relationship with respect to the amount of silicone additive added. Therefore, in order to prepare an antireflection film having sufficient antifouling property and free from bleeding, the amount of the fluorine-based additive added is more than 0.5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the fluoropolymer. It can be seen that it must be less than 5 parts by weight.

同様にフッ素ポリマー１００重量部に対して、シリコーン系添加剤の添加量が０．５重量部であると十分な防汚性が発現しない。またシリコーン系添加剤が１．５重量部であるとブリードが生じてしまう。シリコーン系材料添加量に関して防汚性とブリードはトレードオフの関係にある。このことから十分な防汚性を備えたブリードが発生しない反射防止フィルムを作成するためには、フッ素ポリマー１００重量部に対してシリコーン系添加剤の添加量が０．５重量部より大きく且つ１．５重量部未満である必要であることがわかる。
また表２から分かるように、フッ素ポリマーの平均分子量が１００００００を超える添加は溶解性が悪くなるため塗料化は困難である。また、アクリルモノマーの平均分子量が１０００を超える添加も溶剤溶解性が悪くなるため塗料化は困難である。 Similarly, when the amount of the silicone-based additive added is 0.5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the fluoropolymer, sufficient antifouling properties are not exhibited. If the silicone-based additive is 1.5 parts by weight, bleeding occurs. The antifouling property and bleed are in a trade-off relationship with respect to the amount of silicone-based material added. Therefore, in order to produce an antireflection film having sufficient antifouling property and free from bleeding, the amount of the silicone-based additive added is more than 0.5 parts by weight and 100 parts by weight of the fluoropolymer. It can be seen that it must be less than 5 parts by weight.
Further, as can be seen from Table 2, when the average molecular weight of the fluoropolymer exceeds 1000000, the solubility becomes poor, so that it is difficult to form a paint. Addition of an acrylic monomer with an average molecular weight exceeding 1000 also makes it difficult to form a coating because the solvent solubility is poor.

以上のように、本発明の反射防止フィルムは、低屈折率層に、フッ素ポリマーと、フッ素ポリマー１００重量部に対し８０重量部より大きく且つ１００重量部未満の低屈折率ナノ微粒子と、フッ素ポリマー１００重量部に対し３０重量より大きく且つ５０重量部未満のアクリルモノマーと、フッ素ポリマー１００重量部に対し０．５重量部より大きく且つ１．５重量部未満のフッ素系添加剤と、フッ素ポリマー１００重量部に対し０．５重量部より大きく且つ１．５重量部未満のシリコーン系添加剤とを添加し、主溶媒の沸点の−６０℃以上前記主溶媒の沸点の＋２０℃以下の範囲内の乾燥温度で乾燥し、積算光量が２００ｍＪ／ｃｍ^２以上４００ｍＪ／ｃｍ^２以下の範囲内で紫外線を照射することにより形成する結果、平均視感反射率０．７％以下という低屈折率光学特性と優れた防汚性、優れた機械強度とを兼備した反射防止フィルムを形成できるものである。すなわち、本発明の反射防止フィルムはディスプレイなどの最外層に配置されることに優れたものである。 As described above, the antireflective film of the present invention includes a fluoropolymer, a low refractive index nanoparticle of greater than 80 parts by weight and less than 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the fluoropolymer, and a fluoropolymer in the low refractive index layer. Greater than 30 parts by weight and less than 50 parts by weight acrylic monomer with respect to 100 parts by weight; greater than 0.5 parts by weight with less than 1.5 parts by weight fluorine-based additive with respect to 100 parts by weight of fluoropolymer; A silicone-based additive that is greater than 0.5 parts by weight and less than 1.5 parts by weight with respect to parts by weight is added, and the boiling point of the main solvent is within a range of −60 ° C. dried at a drying temperature, a result of the accumulated light amount is formed by irradiation with ultraviolet rays in the range of 200 mJ / cm ² or more 400 mJ / cm ² or less, an average luminous reflectance 0 Antifouling properties and excellent low-refractive index optical properties of 7% or less, as it can form an excellent antireflection film having both the mechanical strength. That is, the antireflection film of the present invention is excellent in being disposed on the outermost layer of a display or the like.

１反射防止フィルム
１１透明基材
１２ハードコート層
１３低屈折率層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Antireflection film 11 Transparent base material 12 Hard-coat layer 13 Low refractive index layer

Claims

In the antireflection film in which the hard coat layer and the low refractive index layer are laminated on one surface of the transparent substrate,
The hard coat layer is formed from a polymer mainly composed of a polyfunctional monomer having a (meth) acryloyloxy group,
The low refractive index layer is formed of a low refractive index coating agent containing low refractive index nanoparticles, a fluoropolymer, an acrylic monomer, a fluorine additive, and a silicone additive. Anti-reflection film characterized.

The low refractive index layer comprises a fluoropolymer, a low refractive index nanoparticle of greater than 80 parts by weight and less than 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the fluoropolymer, and a weight of greater than 30 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the fluoropolymer. Less than 0.5 parts by weight of acrylic monomer, greater than 0.5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of fluoropolymer and less than 1.5 parts by weight of fluorine-based additive, greater than 0.5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of fluoropolymer and 2. The antireflection film according to claim 1, wherein the antireflective film is formed from a low refractive index coating agent containing less than 1.5 parts by weight of a silicone-based additive.

The antireflective film according to claim 1 or 2, wherein the fluoropolymer has an average molecular weight of 1500,000 or less.

The average molecular weight of the said acrylic monomer is 1500 or less, The antireflection film of any one of Claims 1-3 characterized by the above-mentioned.

The refractive index of the low refractive index coating agent ranges from 1.30 to 1.40,
The antireflective film according to any one of claims 1 to 4, wherein a refractive index of the low refractive index layer is in a range of 1.30 to 1.45.

The average luminous reflectance is from 0.3% to 0.7%, the total light transmittance is from 95.0% to 98.0%, and the haze is from 0.01% to 0.20%. The antireflection film according to any one of claims 1 to 5, wherein the antireflection film is in the following range.

The low refractive index layer is dried at a drying temperature in the range of −60 ° C. or higher and + 20 ° C. or lower of the boiling point of the main solvent, and further irradiated with ultraviolet rays in an integrated light amount range of 200 mJ / cm ² or more and 400 mJ / cm ² or less. The antireflection film according to any one of claims 1 to 6, wherein the antireflection film is produced by the above method.

The antireflection film according to any one of claims 1 to 7, and a first polarization layered on a low refractive index layer non-formation surface side in which the low refractive index layer is not formed in the antireflection film. An antireflective polarizing plate comprising a plate.

The antireflective polarizing plate, the liquid crystal cell, the second polarizing plate, and the backlight unit according to claim 8 are arranged in this order from the observer side, and the low refractive index layer non-formation surface side of the antireflective polarizing plate A transmissive liquid crystal display characterized by holding a liquid crystal cell.