JP2017182080A - Optical film, polarizing plate, and image display device - Google Patents

Optical film, polarizing plate, and image display device Download PDF

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尾 智 之 堀
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical film which can suppress lowering of transparency of an antistatic hard coat layer and occurrence of interference fringes while improving antistatic property, and is also excellent in adhesion.SOLUTION: A method for producing an optical film includes: applying a photocurable resin composition for antistatic hard coat layer, which contains at least one of chain-like metal oxide particles formed of two or more conductive metal oxide particles connected in a chain film, a photopolymerizable monomer, urethane (meth) acrylate having 6 or more photo-polymerizable functional groups and a weight average molecular weight of 1,000 or more and polymer (meth)acrylate having 10 or more photopolymerizable functional groups and a weight average molecular weight of 10,000 or more, and a permeable solvent having permeability to a light-transmissive base material 1A, onto the surface of the light-transmissive base material 1A; drying the photocurable resin composition to form a mixed layer; curing the mixed layer by irradiation with light; and forming an antistatic hard coat layer 7 formed of a second hard coat layer 6 on a first hard coat layer 5.SELECTED DRAWING: Figure 3

Description

本発明は、光学フィルム、偏光板および画像表示装置に関する。   The present invention relates to an optical film, a polarizing plate, and an image display device.

液晶ディスプレイ(LCD)、陰極線管表示装置(CRT)、プラズマディスプレイ(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)、フィールドエミッションディスプレイ(FED)等の画像表示装置における画像表示面には、通常、耐擦傷性機能等の機能が付与された機能層が設けられている。機能層の一つとして、耐擦傷性機能と帯電防止機能とを兼ね備えた帯電防止ハードコート層がある(例えば、特許文献1参照)。   The image display surface of an image display device such as a liquid crystal display (LCD), a cathode ray tube display (CRT), a plasma display (PDP), an electroluminescence display (ELD), or a field emission display (FED) is usually scratch-resistant. A functional layer provided with functions such as functions is provided. As one of the functional layers, there is an antistatic hard coat layer having both an abrasion resistance function and an antistatic function (see, for example, Patent Document 1).

帯電防止ハードコート層を形成する場合には、通常、光透過性基材上に帯電防止剤を含む帯電防止ハードコート層用組成物を塗布し、乾燥させる。そして、乾燥した帯電防止ハードコート層用組成物に紫外線等を照射して硬化させて、帯電防止ハードコート層を形成する。   When forming the antistatic hard coat layer, the antistatic hard coat layer composition containing an antistatic agent is usually applied on a light-transmitting substrate and dried. Then, the dried antistatic hard coat layer composition is irradiated with ultraviolet rays and cured to form an antistatic hard coat layer.

帯電防止剤として単独の導電性金属酸化物粒子を用いる場合、導電性金属酸化物粒子の添加量が少ないと、導電性金属酸化物粒子が帯電防止ハードコート層中において均一に分散してしまい、導電性金属酸化物粒子間の距離が大きくなってしまう。このため、導電性金属酸化物粒子同士が接触することによって形成される導電パスが形成されにくく、帯電防止性に劣るという問題がある。   When using a single conductive metal oxide particle as an antistatic agent, if the amount of conductive metal oxide particles added is small, the conductive metal oxide particles are uniformly dispersed in the antistatic hard coat layer, The distance between the conductive metal oxide particles is increased. For this reason, there is a problem that the conductive path formed by contact between the conductive metal oxide particles is difficult to form, and the antistatic property is inferior.

このようなことから、単独の導電性金属酸化物粒子を用いる場合には、導電性金属酸化物粒子の添加量を多くして、例えば、導電性金属酸化物粒子が帯電防止ハードコート層用組成物におけるバインダ成分の量とほぼ同量となるように添加して、導電性金属酸化物粒子を凝集させることにより、導電パスを形成して、帯電防止性を得ている。   Therefore, when using a single conductive metal oxide particle, the amount of the conductive metal oxide particle is increased, for example, the conductive metal oxide particle is a composition for an antistatic hard coat layer. Addition is made so that the amount of the binder component in the product is almost the same amount, and the conductive metal oxide particles are aggregated to form a conductive path to obtain antistatic properties.

しかしながら、導電性金属酸化物粒子の添加量を多くした場合には、導電性金属酸化物粒子の量が多いので、ヘイズが高くなり、透明性が低下してしまうという問題がある。また、導電性金属酸化物粒子の量が多いので、一部の導電性金属酸化物粒子が沈み込んでしまい、帯電防止ハードコート層と光透過性基材の界面に導電性金属酸化物粒子が並んでしまう。このため、帯電防止ハードコート層と光透過性基材との屈折率差がこれらの界面付近で急激に変化してしまい、干渉縞の発生が発生してしまうという問題がある。   However, when the addition amount of the conductive metal oxide particles is increased, the amount of the conductive metal oxide particles is large, so that there is a problem that the haze increases and the transparency decreases. In addition, since the amount of the conductive metal oxide particles is large, some of the conductive metal oxide particles sink, and the conductive metal oxide particles are present at the interface between the antistatic hard coat layer and the light-transmitting substrate. They are lined up. For this reason, there is a problem that a difference in refractive index between the antistatic hard coat layer and the light-transmitting base material changes abruptly in the vicinity of these interfaces, and interference fringes are generated.

また、導電性金属酸化物粒子の添加量を多くした場合には、光透過性基材と帯電防止ハードコート層との密着性が悪化することもある。さらに、帯電防止ハードコート層上に別の層を設ける場合、帯電防止ハードコート層と別の層との密着性が悪化することもある。   Moreover, when the addition amount of electroconductive metal oxide particle is increased, the adhesiveness of a light transmissive base material and an antistatic hard-coat layer may deteriorate. Furthermore, when another layer is provided on the antistatic hard coat layer, the adhesion between the antistatic hard coat layer and another layer may deteriorate.

なお、特許文献2(特開2006−126808号公報)には、ハードコート層とは別に帯電防止層を形成し、かつ帯電防止層にクラックを入れることが開示されている。特許文献2では、帯電防止層にクラックを入れることにより、帯電防止層と光透過性基材との界面における干渉縞を防止しているが、帯電防止層を別途設けるので、帯電防止層とハードコート層との間に新たな界面が生じてしまう(特許文献2の図3および図4参照)。したがって、帯電防止層にクラックを入れることによって多少干渉縞の発生を抑制できるかもしれないが、干渉縞の発生を抑制する観点からは不十分である。   Patent Document 2 (Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-126808) discloses that an antistatic layer is formed separately from the hard coat layer and cracks are formed in the antistatic layer. In Patent Document 2, the antistatic layer is cracked to prevent interference fringes at the interface between the antistatic layer and the light-transmitting substrate. However, since the antistatic layer is provided separately, A new interface is generated between the coating layer and the coating layer (see FIGS. 3 and 4 of Patent Document 2). Therefore, it may be possible to suppress the generation of interference fringes by cracking the antistatic layer, but this is insufficient from the viewpoint of suppressing the generation of interference fringes.

特開2006−130667号公報JP 2006-130667 A

本発明は、上記課題を解決するためになされたものである。すなわち、優れた帯電防止性を得ることができるとともに帯電防止ハードコート層の透明性の低下を抑制でき、干渉縞の発生を十分に抑制でき、かつ密着性にも優れた光学フィルムの製造方法、およびこのような光学フィルム、偏光板およびこれを備えた画像表示装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made to solve the above problems. That is, a method for producing an optical film that can obtain excellent antistatic properties and can suppress a decrease in transparency of the antistatic hard coat layer, can sufficiently suppress the generation of interference fringes, and has excellent adhesion, And it aims at providing such an optical film, a polarizing plate, and an image display apparatus provided with the same.

本発明の一の態様によれば、光透過性基材の表面に、鎖状に連結した2個以上の導電性金属酸化物粒子からなる鎖状金属酸化物粒子と、光重合性モノマーと、光重合性官能基を6個以上有する重量平均分子量が1000以上のウレタン(メタ)アクリレートおよび光重合性官能基を10個以上有する重量平均分子量が10000以上のポリマー(メタ)アクリレートの少なくともいずれかと、前記光透過性基材に対して浸透性を有する浸透性溶剤とを含む帯電防止ハードコート層用光硬化性樹脂組成物を塗布し、乾燥させて、前記光透過性基材の上部に前記光透過性基材の主成分と前記光重合性モノマーとが混ざり合った混合層を形成するとともに、前記混合層上に前記鎖状金属酸化物粒子と前記光重合性モノマーと前記ウレタン(メタ)アクリレートおよび前記ポリマー(メタ)アクリレートの少なくともいずれかとを含む鎖状金属酸化物粒子含有層を形成する工程と、前記混合層および前記鎖状金属酸化物粒子含有層を光照射により硬化させて、前記混合層の硬化物である第1のハードコート層と、前記鎖状金属酸化物粒子含有層の硬化物であり、かつ前記第1のハードコート層上に形成された第2のハードコート層とからなる帯電防止ハードコート層を形成する工程とを備え、前記帯電防止ハードコート層用光硬化性樹脂組成物の全固形分に対する前記鎖状金属酸化物粒子の含有量が、2〜20質量%であることを特徴とする、光学フィルムの製造方法が提供される。   According to one aspect of the present invention, a chain metal oxide particle composed of two or more conductive metal oxide particles linked in a chain form on the surface of a light transmissive substrate, a photopolymerizable monomer, At least one of urethane (meth) acrylate having a weight average molecular weight of 1000 or more having 6 or more photopolymerizable functional groups and polymer (meth) acrylate having a weight average molecular weight of 10,000 or more having 10 or more photopolymerizable functional groups; A photocurable resin composition for an antistatic hard coat layer containing a permeable solvent having permeability to the light transmissive substrate is applied and dried, and the light is applied to the top of the light transmissive substrate. A mixed layer in which the main component of the transparent substrate and the photopolymerizable monomer are mixed is formed, and the chain metal oxide particles, the photopolymerizable monomer, and the urethane (meth) a are formed on the mixed layer. A step of forming a chain metal oxide particle-containing layer containing at least one of relate and the polymer (meth) acrylate, and curing the mixed layer and the chain metal oxide particle-containing layer by light irradiation, A first hard coat layer which is a cured product of the mixed layer, and a second hard coat layer which is a cured product of the chain metal oxide particle-containing layer and which is formed on the first hard coat layer; A step of forming an antistatic hard coat layer comprising, the content of the chain metal oxide particles with respect to the total solid content of the photocurable resin composition for the antistatic hard coat layer is 2 to 20% by mass A method for producing an optical film is provided.

本発明の他の態様によれば、光透過性基材と、前記光透過性基材上に形成された帯電防止ハードコート層とを備える光学フィルムであって、前記帯電防止ハードコート層が、前記光透過性基材上に形成された第1のハードコート層と、前記第1のハードコート層上に形成された第2のハードコート層とからなり、前記第1のハードコート層が、前記光透過性基材の主成分と第1のバインダ樹脂とを含み、前記第2のハードコート層が、鎖状に連結した2個以上の導電性金属酸化物粒子からなる鎖状金属酸化物粒子と第2のバインダ樹脂とを含み、前記第2のバインダ樹脂が、光重合性モノマーと、光重合性官能基を6個以上有する重量平均分子量が1000以上のウレタン(メタ)アクリレートおよび光重合性官能基を10個以上有する重量平均分子量が10000以上のポリマー(メタ)アクリレートの少なくともいずれかとの重合体を含み、前記第1のハードコート層の屈折率が、前記第2のハードコート層側から前記光透過性基材側に向けて徐々に前記光透過性基材の屈折率に近づくように変化しており、かつ前記光透過性基材と前記第1のハードコート層との間および前記第1のハードコート層と前記第2のハードコート層との間に界面が存在しないことを特徴とする、光学フィルムが提供される。   According to another aspect of the present invention, there is provided an optical film comprising a light transmissive substrate and an antistatic hard coat layer formed on the light transmissive substrate, wherein the antistatic hard coat layer comprises: The first hard coat layer formed on the light transmissive substrate, and the second hard coat layer formed on the first hard coat layer, the first hard coat layer, A chain metal oxide comprising two or more conductive metal oxide particles including a main component of the light-transmitting substrate and a first binder resin, wherein the second hard coat layer is connected in a chain. Urethane (meth) acrylate having a weight average molecular weight of 1000 or more and photopolymerization comprising particles and a second binder resin, wherein the second binder resin has a photopolymerizable monomer, six or more photopolymerizable functional groups Weight having 10 or more functional groups The polymer comprises a polymer with at least one of polymer (meth) acrylate having an average molecular weight of 10,000 or more, and the refractive index of the first hard coat layer is from the second hard coat layer side to the light transmissive substrate side. Gradually changing toward the refractive index of the light transmissive substrate, and between the light transmissive substrate and the first hard coat layer, and the first hard coat layer and the There is provided an optical film characterized in that no interface exists between the second hard coat layer and the second hard coat layer.

本発明の他の態様によれば、上記の光学フィルムと、前記光学フィルムの前記光透過性基材における前記第1のハードコート層が形成されている面とは反対側の面に形成された偏光素子とを備えることを特徴とする、偏光板が提供される。   According to another aspect of the present invention, the optical film is formed on the surface of the optical film opposite to the surface on which the first hard coat layer is formed in the light-transmitting substrate. A polarizing plate comprising a polarizing element is provided.

本発明の他の態様によれば、上記の光学フィルム、または上記の偏光板を備えることを特徴とする、画像表示装置が提供される。   According to another aspect of the present invention, there is provided an image display device comprising the optical film or the polarizing plate.

本発明の一の態様の光学フィルムの製造方法によれば、帯電防止剤として鎖状金属酸化物粒子を使用しているので、鎖状金属酸化物粒子の含有量が帯電防止ハードコート層用光硬化性樹脂組成物の全固形分に対して2〜20質量%という少ない量であっても、優れた帯電防止性を得ることができる。また、鎖状金属酸化物粒子の含有量が帯電防止ハードコート層用光硬化性樹脂組成物の全固形分に対して2〜20質量%という少ない量であるので、帯電防止ハードコート層の透明性の低下を抑制することができる。さらに、鎖状金属酸化物粒子は単独の導電性金属酸化物粒子に比べて嵩高いので、沈み込みにくく、またたとえ沈み込んだとしても、立体障害により、第1のハードコート層と第2のハードコート層との間の界面付近に並ぶことがないので、第1のハードコート層と第2のハードコート層の界面付近において屈折率差が急激に変化することを抑制することができる。またこの製造方法によれば、第1のハードコート層と第2のハードコート層との間の界面のみならず、光透過性基材と第1のハードコート層の間の界面が存在せず、かつ第1のハードコート層の屈折率が第2のハードコート層側から光透過性基材側に向けて徐々に光透過性基材の屈折率に近づくように変化した帯電防止ハードコート層を形成することができる。これにより、干渉縞の発生を十分に抑制することができる。また、光透過性基材と第1のハードコート層の間の界面が存在せず、かつ第1のハードコート層と第2のハードコート層との間の界面も存在しない帯電防止ハードコート層を形成することができるので、密着性を向上させることができる。さらに、帯電防止ハードコート層用光硬化性樹脂組成物に、光重合性官能基を6個以上有する重量平均分子量が1000以上のウレタン(メタ)アクリレートおよび光重合性官能基を10個以上有する重量平均分子量が10000以上のポリマー(メタ)アクリレートの少なくともいずれかを含ませているので、帯電防止ハードコート層の硬度をより向上させることができる。   According to the method for producing an optical film of one aspect of the present invention, since the chain metal oxide particles are used as the antistatic agent, the content of the chain metal oxide particles is the light for the antistatic hard coat layer. Even when the amount is as small as 2 to 20% by mass relative to the total solid content of the curable resin composition, excellent antistatic properties can be obtained. Further, since the content of the chain metal oxide particles is a small amount of 2 to 20% by mass with respect to the total solid content of the photocurable resin composition for an antistatic hard coat layer, the transparency of the antistatic hard coat layer is small. Deterioration can be suppressed. Furthermore, since the chain metal oxide particles are bulky compared to the single conductive metal oxide particles, the first hard coat layer and the second hard coat layer are less likely to sink. Since they are not arranged in the vicinity of the interface between the hard coat layer, it is possible to suppress a rapid change in the refractive index difference in the vicinity of the interface between the first hard coat layer and the second hard coat layer. Further, according to this manufacturing method, not only the interface between the first hard coat layer and the second hard coat layer but also the interface between the light transmissive substrate and the first hard coat layer does not exist. And the antistatic hard coat layer in which the refractive index of the first hard coat layer is changed so as to gradually approach the refractive index of the light transmissive substrate from the second hard coat layer side toward the light transmissive substrate side. Can be formed. Thereby, generation | occurrence | production of an interference fringe can fully be suppressed. An antistatic hard coat layer in which no interface exists between the light-transmitting substrate and the first hard coat layer, and no interface exists between the first hard coat layer and the second hard coat layer. Therefore, the adhesion can be improved. Further, the weight of the photocurable resin composition for antistatic hard coat layer having at least 10 photopolymerizable functional groups and urethane (meth) acrylate having at least 1000 photopolymerizable functional groups and a weight average molecular weight of 1000 or more. Since at least one of polymer (meth) acrylates having an average molecular weight of 10,000 or more is contained, the hardness of the antistatic hard coat layer can be further improved.

また、本発明の他の態様の光学フィルム、偏光板および画像表示装置によれば、第2のハードコート層が帯電防止剤としての鎖状金属酸化物粒子を含んでいるので、優れた帯電防止性を得ることができるとともに帯電防止ハードコート層の透明性の低下を抑制することができる。また、鎖状金属酸化物粒子は単独の導電性金属酸化物粒子に比べて嵩高いので、第1のハードコート層と第2のハードコート層との間の界面付近には並ぶことがなく、第1のハードコート層と第2のハードコート層との屈折率差がこれらの界面付近においてが急激に変化することを抑制することができる。さらに、第1のハードコート層と第2のハードコート層との間の界面のみならず、光透過性基材と第1のハードコート層の間の界面が存在せず、かつ第1のハードコート層の屈折率が第2のハードコート層側から光透過性基材側に向けて徐々に光透過性基材の屈折率に近づくように変化している。これにより、干渉縞の発生を十分に抑制できる。また、光透過性基材と第1のハードコート層の間の界面が存在せず、かつ第1のハードコート層と第2のハードコート層との間の界面も存在しないので、密着性に優れている。さらに、第2のバインダ樹脂が、光重合性モノマーと、光重合性官能基を6個以上有する重量平均分子量が1000以上のウレタン(メタ)アクリレートおよび光重合性官能基を10個以上有する重量平均分子量が10000以上のポリマー(メタ)アクリレートの少なくともいずれかとの重合体を含むので、硬度にも優れている。   In addition, according to the optical film, the polarizing plate and the image display device of another aspect of the present invention, the second hard coat layer contains chain metal oxide particles as an antistatic agent. Can be obtained, and a decrease in transparency of the antistatic hard coat layer can be suppressed. In addition, since the chain metal oxide particles are bulky compared to the single conductive metal oxide particles, they are not lined up near the interface between the first hard coat layer and the second hard coat layer, It can suppress that the refractive index difference of the 1st hard coat layer and the 2nd hard coat layer changes abruptly in the vicinity of these interfaces. Furthermore, not only the interface between the first hard coat layer and the second hard coat layer, but also the interface between the light transmissive substrate and the first hard coat layer does not exist, and the first hard coat layer does not exist. The refractive index of the coat layer changes so as to gradually approach the refractive index of the light transmissive substrate from the second hard coat layer side toward the light transmissive substrate side. Thereby, generation | occurrence | production of an interference fringe can fully be suppressed. In addition, since there is no interface between the light transmissive substrate and the first hard coat layer, and there is no interface between the first hard coat layer and the second hard coat layer, the adhesion is improved. Are better. Furthermore, the second binder resin has a photopolymerizable monomer, a urethane (meth) acrylate having a weight average molecular weight of 1000 or more having 6 or more photopolymerizable functional groups, and a weight average having 10 or more photopolymerizable functional groups. Since it contains a polymer with a polymer (meth) acrylate having a molecular weight of 10,000 or more, it has excellent hardness.

実施形態に係る光学フィルムの製造工程を模式的に示した図である。It is the figure which showed typically the manufacturing process of the optical film which concerns on embodiment. 実施形態に係る光学フィルムの製造工程を模式的に示した図である。It is the figure which showed typically the manufacturing process of the optical film which concerns on embodiment. 実施形態に係る光学フィルムの製造工程を模式的に示した図である。It is the figure which showed typically the manufacturing process of the optical film which concerns on embodiment. 実施形態に係る偏光板の概略構成図である。It is a schematic block diagram of the polarizing plate which concerns on embodiment. 実施形態に係る画像表示装置の概略構成図である。1 is a schematic configuration diagram of an image display device according to an embodiment. 走査電子顕微鏡の走査透過電子顕微鏡機能を用いて撮影した実施例1に係る光学フィルムの断面写真である。It is a cross-sectional photograph of the optical film which concerns on Example 1 image | photographed using the scanning transmission electron microscope function of a scanning electron microscope. 走査電子顕微鏡の走査透過電子顕微鏡機能を用いて撮影した実施例1に係る光学フィルムの表面付近の断面写真である。It is a cross-sectional photograph of the surface vicinity of the optical film which concerns on Example 1 image | photographed using the scanning transmission electron microscope function of a scanning electron microscope. 図7に示されている光学フィルムの表面付近をさらに拡大した断面写真である。It is the cross-sectional photograph which expanded further the surface vicinity of the optical film shown by FIG.

以下、本発明の実施形態に係る光学フィルムの製造方法等について、図面を参照しながら説明する。図1〜3は本実施形態に係る光学フィルムの製造工程を模式的に示した図である。   Hereinafter, the manufacturing method of the optical film etc. which concern on embodiment of this invention are demonstrated, referring drawings. 1-3 is the figure which showed typically the manufacturing process of the optical film which concerns on this embodiment.

≪光学フィルムの製造方法≫
まず、図1(A)に示されるように、光透過性基材1を用意する。光透過性基材1としては、光透過性を有すれば特に限定されない。具体的には、光透過性基材1としては、セルロースアシレート、シクロオレフィンポリマー、ポリカーボネート、またはアクリレート系ポリマーが挙げられる。
≪Method for manufacturing optical film≫
First, as shown in FIG. 1A, a light transmissive substrate 1 is prepared. The light transmissive substrate 1 is not particularly limited as long as it has light transmissive properties. Specifically, examples of the light transmissive substrate 1 include cellulose acylate, cycloolefin polymer, polycarbonate, or acrylate polymer.

セルロースアシレートとしては、例えば、セルローストリアセテート、セルロースジアセテートが挙げられる。シクロオレフィンポリマーとしては、例えばノルボルネン系モノマーおよび単環シクロオレフィンモノマー等の重合体が挙げられる。   Examples of cellulose acylate include cellulose triacetate and cellulose diacetate. Examples of the cycloolefin polymer include polymers such as norbornene monomers and monocyclic cycloolefin monomers.

ポリカーボネートとしては、例えば、ビスフェノール類(ビスフェノールA等)をベースとする芳香族ポリカーボネート、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート等の脂肪族ポリカーボネート等が挙げられる。   Examples of the polycarbonate include aromatic polycarbonates based on bisphenols (such as bisphenol A) and aliphatic polycarbonates such as diethylene glycol bisallyl carbonate.

アクリレート系ポリマーとしては、例えば、ポリ(メタ)アクリル酸メチル、ポリ(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸メチル−(メタ)アクリル酸ブチル共重合体等が挙げられる。   Examples of the acrylate polymer include poly (meth) methyl acrylate, poly (meth) ethyl acrylate, methyl (meth) acrylate-butyl (meth) acrylate, and the like.

これらの中でも、光透過性に優れていることからセルロースアシレートが好ましく、さらにセルロースアシレートの中でもトリアセチルセルロースが好ましい。トリアセチルセルロースフィルム(TACフィルム)は、可視光域380〜780nmにおいて、平均光透過率を50%以上とすることが可能な光透過性基材である。TACフィルムの平均光透過率は70%以上、更に85%以上であることが好ましい。   Among these, cellulose acylate is preferable because of excellent light transmittance, and triacetyl cellulose is preferable among cellulose acylates. A triacetyl cellulose film (TAC film) is a light-transmitting substrate capable of setting an average light transmittance to 50% or more in a visible light region of 380 to 780 nm. The average light transmittance of the TAC film is preferably 70% or more, and more preferably 85% or more.

なお、トリアセチルセルロースとしては、純粋なトリアセチルセルロース以外に、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートの如くセルロースとエステルを形成する脂肪酸として酢酸以外の成分も併用した物であってもよい。また、これらトリアセチルセルロースには、必要に応じて、ジアセチルセルロース等の他のセルロース低級脂肪酸エステル、或いは可塑剤、紫外線吸收剤、易滑剤等の各種添加剤が添加されていてもよい。   As triacetyl cellulose, in addition to pure triacetyl cellulose, cellulose acetate propionate and cellulose acetate butyrate may be used in combination with components other than acetic acid as a fatty acid forming an ester with cellulose. Further, these triacetylcelluloses may be added with other additives such as other cellulose lower fatty acid esters such as diacetylcellulose, or plasticizers, ultraviolet absorbers, and lubricants as necessary.

光透過性基材1を用意した後、図1(B)に示されるように光透過性基材1の表面に、帯電防止ハードコート層用光硬化性樹脂組成物を塗布する(以下、簡略化のために「帯電防止ハードコート層用光硬化性樹脂組成物」を、「帯電防止ハードコート層用組成物」と称する)。帯電防止ハードコート層用組成物を塗布する方法としては、スピンコート、ディップ法、スプレー法、スライドコート法、バーコート法、ロールコート法、グラビアコート法、ダイコート法等の公知の塗布方法が挙げられる。   After preparing the light-transmitting substrate 1, a photocurable resin composition for an antistatic hard coat layer is applied to the surface of the light-transmitting substrate 1 as shown in FIG. For this purpose, the “photocurable resin composition for an antistatic hard coat layer” is referred to as “a composition for an antistatic hard coat layer”). Examples of the method for applying the antistatic hard coat layer composition include known coating methods such as spin coating, dipping, spraying, slide coating, bar coating, roll coating, gravure coating, and die coating. It is done.

<帯電防止ハードコート層用組成物>
帯電防止ハードコート層用組成物は、鎖状金属酸化物粒子、光照射による硬化後にバインダ樹脂またはバインダ樹脂の一部となる光重合性モノマーと、光重合性官能基を6個以上有する重量平均分子量が1000以上のウレタン(メタ)アクリレートおよび光重合性官能基を10個以上有する重量平均分子量が10000以上のポリマー(メタ)アクリレートの少なくともいずれかと、浸透性溶剤とを含む。なお、本発明において、「(メタ)アクリレート」とは、「アクリレート」および「メタアクリレート」の少なくともいずれかを意味するものである。
<Composition for antistatic hard coat layer>
The antistatic hard coat layer composition comprises a chain metal oxide particle, a photopolymerizable monomer that becomes a part of the binder resin or the binder resin after curing by light irradiation, and a weight average having 6 or more photopolymerizable functional groups It includes at least one of urethane (meth) acrylate having a molecular weight of 1000 or more and polymer (meth) acrylate having a weight average molecular weight of 10,000 or more having 10 or more photopolymerizable functional groups, and a permeable solvent. In the present invention, “(meth) acrylate” means at least one of “acrylate” and “methacrylate”.

(鎖状金属酸化物粒子)
鎖状金属酸化物粒子は、導電性を有する金属酸化物粒子が2個以上鎖状に連結した形態を有している。ここで、本発明における「金属酸化物」とは、異種金属がドープされた金属酸化物をも含む概念である。また「鎖状」とは、直鎖状および分岐鎖状の両方を含む概念である。
(Chain metal oxide particles)
The chain metal oxide particles have a form in which two or more conductive metal oxide particles are linked in a chain. Here, the “metal oxide” in the present invention is a concept including a metal oxide doped with a different metal. “Chain” is a concept including both linear and branched chains.

鎖状金属酸化物粒子は、導電性金属酸化物粒子の一次粒子が単に粒子間引力等によって凝集しているのとは相異し、導電性金属酸化物粒子同士が結合している。このような鎖状金属酸化物粒子は、直線状であっても、折れ線状であってもよく、また湾曲状となっていてもよい。   The chain metal oxide particles are different from the primary particles of the conductive metal oxide particles that are simply aggregated due to the attractive force between the particles, and the conductive metal oxide particles are bonded to each other. Such chain metal oxide particles may be linear, polygonal, or curved.

鎖状金属酸化物粒子は、2個以上の導電性金属酸化物粒子が鎖状に連結した形態を有していればよいが、導電性金属酸化物粒子は2〜50個鎖状に連結しているものが好ましく、3〜30個連結しているものがより好ましい。導電性金属酸化物粒子の連結個数を上記範囲としたのは、連結していない導電性金属酸化物粒子、すなわち導電性金属酸化物粒子単体であると、表面抵抗値を有効に低下させることができないおそれがあるからであり、また、連結個数が50個を超えると、帯電防止ハードコート層の光透過率が低下し、ヘイズが上昇してしまうおそれがあるからである。   The chain metal oxide particles need only have a form in which two or more conductive metal oxide particles are linked in a chain, but 2 to 50 conductive metal oxide particles are linked in a chain. What is connected is preferable, and what connected 3-30 pieces is more preferable. The reason why the number of connected conductive metal oxide particles is in the above range is that the conductive metal oxide particles that are not connected, that is, the conductive metal oxide particles alone, can effectively reduce the surface resistance value. This is because the light transmittance of the antistatic hard coat layer may decrease and haze may increase if the number of connections exceeds 50.

導電性金属酸化物粒子の平均一次粒径は、1〜100nmであることが好ましく、5〜80nmであることがより好ましい。導電性金属酸化物粒子の平均一次粒径を上記範囲としたのは、導電性金属酸化物粒子の平均一次粒径が100nmを越えると、導電性金属酸化物粒子を連結させることが困難となり、また仮にできたとしても導電性金属酸化物粒子の接点が減少するために表面抵抗値を有効に低下させることが困難となるおそれがあるからである。また、導電性金属酸化物粒子の平均一次粒径が100nmを越えると、導電性金属酸化物粒子による光の吸収が大きくなり、帯電防止ハードコート層の光透過率が低下したり、また帯電防止ハードコート層のヘイズ値が高くなるおそれがあるからである。また、導電性金属酸化物粒子の平均粒径が1nm未満の場合には粒界抵抗が急激に大きくなるため、表面抵抗値を有効に低下させることができないおそれがあるからである。   The average primary particle size of the conductive metal oxide particles is preferably 1 to 100 nm, and more preferably 5 to 80 nm. The average primary particle size of the conductive metal oxide particles is in the above range because, when the average primary particle size of the conductive metal oxide particles exceeds 100 nm, it becomes difficult to connect the conductive metal oxide particles, In addition, even if it can be made, the number of contacts of the conductive metal oxide particles decreases, so that it may be difficult to effectively reduce the surface resistance value. Also, if the average primary particle size of the conductive metal oxide particles exceeds 100 nm, the light absorption by the conductive metal oxide particles increases, the light transmittance of the antistatic hard coat layer decreases, and the antistatic property This is because the haze value of the hard coat layer may be increased. In addition, when the average particle diameter of the conductive metal oxide particles is less than 1 nm, the grain boundary resistance increases rapidly, so that the surface resistance value may not be effectively reduced.

上記「平均一次粒径」とは、組成物においては、日機装株式会社製のMicrotrac粒度分析計を用いて測定した値を意味し、硬化膜においては、硬化膜の断面の透過型電子顕微鏡(TEM)写真や走査透過電子顕微鏡(STEM)写真により観察される導電性金属酸化物粒子の10個の平均値を意味するものとする。具体的には、例えば、図8に示されるような導電性金属酸化物粒子の1個の大きさが確認できる倍率(例えば20万倍)で撮影した断面写真において導電性金属酸化物粒子10個選択し、選んだ導電性金属酸化物粒子の直径をそれぞれ測定し、その平均値を求めることにより、硬化膜中における導電性金属酸化物粒子の平均一次粒径を求めることができる。   The above-mentioned “average primary particle size” means a value measured by using a Microtrac particle size analyzer manufactured by Nikkiso Co., Ltd. in the composition, and in a cured film, a transmission electron microscope (TEM) of a cross section of the cured film. ) It means an average value of 10 conductive metal oxide particles observed by a photograph or a scanning transmission electron microscope (STEM) photograph. Specifically, for example, 10 conductive metal oxide particles in a cross-sectional photograph taken at a magnification (for example, 200,000 times) that allows confirmation of the size of one conductive metal oxide particle as shown in FIG. The average primary particle diameter of the conductive metal oxide particles in the cured film can be determined by selecting and measuring the diameters of the selected conductive metal oxide particles and determining the average value thereof.

硬化膜を断面観察したときの硬化膜中の鎖状金属酸化物粒子の平均長さは、10〜500nmであることが好ましい。鎖状金属酸化物粒子の平均長さを上記範囲としたのは、平均長さが10nm未満であると、接触抵抗が増加し、表面抵抗値を有効に低下させることができないおそれがあるからであり、また、500nmを超えると、第2のハードコート層の透明性が得られないおそれがあるからである。「硬化膜中の鎖状金属酸化物粒子の平均長さ」とは、硬化膜の断面の透過型電子顕微鏡(TEM)写真や走査透過電子顕微鏡(STEM)写真により観察される鎖状導電性金属酸化物粒子の10個の平均値を意味するものとする。具体的には、例えば、導電性金属酸化物粒子が2個以上連結している鎖状導電性金属酸化物粒子の1個の大きさが確認できる倍率(例えば20万倍以上)で撮影した断面写真において鎖状導電性金属酸化物粒子10個選択し、選んだ鎖状導電性金属酸化物粒子の最も長い部分の長さをそれぞれ測定し、その平均値を求めることにより、硬化膜中における鎖状導電性金属酸化物粒子の平均長さを求めることができる。なお、鎖状金属酸化物粒子は、曲線状など多様な形状で存在しているが、その長さ測定においては、写真上に糸状のものを置いて多様な形状をなぞったりすることで測定できる。   The average length of the chain metal oxide particles in the cured film when the cured film is observed in cross section is preferably 10 to 500 nm. The reason why the average length of the chain metal oxide particles is in the above range is that if the average length is less than 10 nm, the contact resistance may increase and the surface resistance value may not be effectively reduced. In addition, if it exceeds 500 nm, the transparency of the second hard coat layer may not be obtained. “The average length of chain metal oxide particles in the cured film” means a chain conductive metal observed by a transmission electron microscope (TEM) photograph or a scanning transmission electron microscope (STEM) photograph of a cross section of the cured film. It shall mean the average value of 10 oxide particles. Specifically, for example, a cross section taken at a magnification (for example, 200,000 times or more) at which one size of chain-like conductive metal oxide particles in which two or more conductive metal oxide particles are connected can be confirmed. By selecting 10 chain conductive metal oxide particles in the photograph, measuring the length of the longest part of the selected chain conductive metal oxide particles, and calculating the average value thereof, the chain in the cured film is obtained. The average length of the conductive metal oxide particles can be determined. The chain metal oxide particles exist in various shapes such as a curved shape, but the length can be measured by placing a thread-like object on the photograph and tracing the various shapes. .

導電性金属酸化物粒子としては、導電性を有する金属酸化物の粒子であれば特に限定されないが、例えば、アンチモンドープ酸化スズ(略称;ATO)、リンドープ酸化スズ(略称;PTO)、スズドープ酸化インジウム(略称;ITO)、アルミニウムドープ酸化亜鉛(略称;AZO)、ガリウムドープ酸化亜鉛(略称;GZO)、ZnO、CeO、Sb、SnO、In、およびAlを挙げることができる。 The conductive metal oxide particles are not particularly limited as long as they are conductive metal oxide particles. For example, antimony-doped tin oxide (abbreviation: ATO), phosphorus-doped tin oxide (abbreviation: PTO), tin-doped indium oxide. (abbreviation; ITO), aluminum-doped zinc oxide (abbreviation; AZO), gallium-doped zinc oxide (abbreviation; GZO), ZnO, CeO 2 , Sb 2 O 5, SnO 2, In 2 O 3, and Al 2 O 3 Can be mentioned.

帯電防止ハードコート層用組成物の全固形分に対する鎖状金属酸化物粒子の含有量は、2〜20質量%であることが必要である。この範囲が好ましいとしたのは、鎖状金属酸化物粒子の含有量が2%未満であると、目的とする帯電防止性能が発現されないおそれがあるからであり、また20%を超えると、帯電防止性能が頭打ちとなる一方で帯電防止ハードコート層の透明性が低下し、かつヘイズ値が上昇してしまうおそれがあり、さらには帯電防止ハードコート層用組成物の保管安定性が悪化するおそれがあるからである。本発明においては、帯電防止ハードコート層用組成物に重合開始剤が含まれている場合には、重合開始剤は固形分として換算しないものとする。   The content of the chain metal oxide particles with respect to the total solid content of the antistatic hard coat layer composition needs to be 2 to 20% by mass. This range is preferred because if the content of the chain metal oxide particles is less than 2%, the intended antistatic performance may not be exhibited, and if it exceeds 20%, The antistatic hard coat layer may become less transparent and the haze value may increase while the storage performance of the antistatic hard coat layer composition may deteriorate. Because there is. In the present invention, when a polymerization initiator is contained in the composition for an antistatic hard coat layer, the polymerization initiator is not converted as a solid content.

鎖状金属酸化物粒子は、次のようにして得ることができる。まず、金属塩または金属アルコキシドが0.1〜5質量%の濃度で含まれるアルコール溶液を加熱して加水分解させる。このとき必要に応じて温水やアルカリを加える。このような加水分解によって、一次粒子径が1〜100nmの金属水酸化物のゲル分散液を調製する。次いで、ゲル分散液を濾別・洗浄し、空気中、200〜800℃の温度で焼成して導電性金属酸化物粒子を調製する。   The chain metal oxide particles can be obtained as follows. First, an alcohol solution containing metal salt or metal alkoxide at a concentration of 0.1 to 5% by mass is heated and hydrolyzed. At this time, warm water or alkali is added as necessary. By such hydrolysis, a gel dispersion of a metal hydroxide having a primary particle diameter of 1 to 100 nm is prepared. Next, the gel dispersion is filtered and washed, and fired in air at a temperature of 200 to 800 ° C. to prepare conductive metal oxide particles.

次いで、この粉末を酸性またはアルカリ性の水およびアルコール溶媒の少なくともいずれかに分散させて濃度10〜50質量%の分散液とし、必要に応じて有機安定剤の存在下でこの分散液をメカニカル分散処理する。有機安定剤として具体的には、ゼラチン、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタール酸、アジピン酸、セバシン酸、マレイン酸、フマル酸、フタル酸、クエン酸などの多価カルボン酸およびその塩、複素環化合物あるいはこれらの混合物などが挙げられる。このメカニカル分散処理によって、生成ゲルが解膠し、鎖状金属酸化物粒子が分散したゾルが得られる。このようなメカニカル分散処理としては、サンドミル法、衝撃分散法などが挙げられ、特に、衝撃分散法が好ましく使用される。   Next, the powder is dispersed in at least one of acidic or alkaline water and an alcohol solvent to obtain a dispersion having a concentration of 10 to 50% by mass. If necessary, the dispersion is mechanically dispersed in the presence of an organic stabilizer. To do. Specific examples of organic stabilizers include gelatin, polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, sebacic acid, maleic acid, fumaric acid, phthalic acid, and citric acid. Examples thereof include carboxylic acids and salts thereof, heterocyclic compounds, and mixtures thereof. By this mechanical dispersion treatment, a sol in which the generated gel is peptized and the chain metal oxide particles are dispersed is obtained. Examples of such mechanical dispersion treatment include a sand mill method and an impact dispersion method, and the impact dispersion method is particularly preferably used.

こうして得られた鎖状金属酸化物粒子は、通常、遠心分離などの方法によって生成後の分散液から取り出され、必要に応じて酸などで洗浄される。また、得られた鎖状金属酸化物子を含む分散液は、そのまま塗布液として使用することもできる。   The chain metal oxide particles thus obtained are usually taken out of the produced dispersion by a method such as centrifugation, and washed with an acid or the like as necessary. Moreover, the obtained dispersion liquid containing a chain metal oxide can also be used as a coating liquid as it is.

鎖状金属酸化物粒子の市販品としては、例えば、日揮触媒化成株式会社製のELCOM-V3560、DP1197、DP1203、DP1204、DP1207、DP1208等が挙げられる。   Examples of commercially available products of chain metal oxide particles include ELCOM-V3560, DP1197, DP1203, DP1204, DP1207, DP1208, etc. manufactured by JGC Catalysts and Chemicals.

(光重合性モノマー)
光重合性モノマーは、光重合性官能基を少なくとも1つ有するものである。本発明における「光重合性官能基」とは、光照射により重合反応し、分子間に架橋結合を形成し得る官能基である。光重合性官能基としては、例えば、(メタ)アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性二重結合が挙げられる。なお、「(メタ)アクリロイル基」とは、「アクリロイル基」および「メタクリロイル基」の少なくともいずれかを意味するものである。また、本発明における「光」には、可視領域の波長および紫外線等の非可視領域の波長の電磁波のみならず、電子線のような粒子線、および電磁波と粒子線を総称する放射線または電離放射線が含まれるものとする。光重合性モノマーとしては、重量平均分子量が1000未満の2以上の光重合性官能基を有する多官能モノマー等が挙げられる。
(Photopolymerizable monomer)
The photopolymerizable monomer has at least one photopolymerizable functional group. The “photopolymerizable functional group” in the present invention is a functional group that can undergo a polymerization reaction by light irradiation to form a cross-linking bond between molecules. Examples of the photopolymerizable functional group include ethylenic double bonds such as a (meth) acryloyl group, a vinyl group, and an allyl group. The “(meth) acryloyl group” means at least one of “acryloyl group” and “methacryloyl group”. The “light” in the present invention includes not only electromagnetic waves having wavelengths in the visible region and wavelengths in the non-visible region such as ultraviolet rays, but also particle beams such as electron beams, and radiation or ionizing radiation that collectively refers to electromagnetic waves and particle beams. Is included. Examples of the photopolymerizable monomer include polyfunctional monomers having two or more photopolymerizable functional groups having a weight average molecular weight of less than 1000.

2官能モノマーとしては、例えば、1,6‐ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール400ジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールA EO変成ジ(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸ジ(メタ)アクリレート、ポリエステルジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、アダマンチルジ(メタ)アクリレート、イソボロニルジ(メタ)アクリレート、ジシクロペンタンジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンジ(メタ)アクリレート等が挙げられる。これらは、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、カプロラクトン等の変成がなされていてもよい。   Examples of the bifunctional monomer include 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, and tripropylene glycol di (meth). ) Acrylate, polyethylene glycol 400 di (meth) acrylate, hydroxypivalate ester neopentyl glycol di (meth) acrylate, bisphenol A EO modified di (meth) acrylate, isocyanuric acid di (meth) acrylate, polyester di (meth) acrylate, Bisphenol A di (meth) acrylate, adamantyl di (meth) acrylate, isobornyl di (meth) acrylate, dicyclopentane di (meth) acrylate, trisi Examples include chlorodecane di (meth) acrylate. These may be modified with ethylene oxide, propylene oxide, caprolactone, or the like.

3官能以上のモノマーとしては、エチレングリコール、グリセリン、ペンタエリスルトール、エポキシ樹脂等に(メタ)アクリル酸又はその誘導体を反応させて得られる3官能以上の(メタ)アクリロイルモノマーなどが適用でき、例えば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ(メタ)アクリレート、テトラペンタエリスリトールデカ(メタ)アクリレート、イソシアヌル酸トリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンEO変成トリ(メタ)アクリレート、ジメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレートなどが挙げられる。   As the trifunctional or higher monomer, trifunctional or higher functional (meth) acryloyl monomer obtained by reacting (meth) acrylic acid or a derivative thereof with ethylene glycol, glycerin, pentaerythritol, epoxy resin or the like can be applied. For example, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, tripentaerythritol octa ( (Meth) acrylate, tetrapentaerythritol deca (meth) acrylate, isocyanuric acid tri (meth) acrylate, trimethylolpropane EO modified tri (meth) acrylate, dimethylo Such as Le propane tetra (meth) acrylate.

これらの中でも硬度が高い帯電防止ハードコート層が得られる観点から、ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA)、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA)、ペンタエリスリトールテトラアクリレート(PETTA)、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(DPPA)等が好ましい。   Among these, from the viewpoint of obtaining a hard antistatic hard coat layer, pentaerythritol triacrylate (PETA), dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA), pentaerythritol tetraacrylate (PETTA), dipentaerythritol pentaacrylate (DPPA) Etc. are preferred.

帯電防止ハードコート層用組成物の全固形分に対する光重合性モノマーの含有量は、10〜70質量%であることが好ましい。この範囲が好ましいとしたのは、光重合性モノマーの含有量が10質量%未満であると、光学積層体の硬度として所望の硬度が得られないおそれがあり、また干渉縞も発生するおそれがあるからであり、また70質量%を超えると、硬度を良好にするために、多官能の光重合性モノマーを使用した場合には、カールが発生するおそれがあり、また硬化時(架橋反応時)の反応熱によって光学積層体に熱ダメージを与えてしまうため、皺が発生してしまい、外観が悪化してしまうおそれがあるからである。   The content of the photopolymerizable monomer with respect to the total solid content of the antistatic hard coat layer composition is preferably 10 to 70% by mass. This range is preferred because if the content of the photopolymerizable monomer is less than 10% by mass, the optical laminate may not have a desired hardness, and interference fringes may also occur. If it exceeds 70% by mass, the use of a polyfunctional photopolymerizable monomer in order to improve the hardness may cause curling, and also during curing (during crosslinking reaction). This is because heat damage is caused to the optical layered body by the reaction heat of), so that wrinkles are generated and the appearance may be deteriorated.

(ウレタン(メタ)アクリレートおよびポリマー(メタ)アクリレート)
ウレタン(メタ)アクリレートは、光重合性官能基(例えば(メタ)アクリロイル基)を6個以上有し(6官能)、かつ重量平均分子量が1000以上のものである。ウレタン(メタ)アクリレートの重量平均分子量は1000以上であればよいが、例えば重量平均分子量として1000以上10000以下のものを使用することができる。「重量平均分子量」は、テトラヒドロフラン(THF)等の溶媒に溶解して、従来公知のゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)法によるポリスチレン換算により得られる値である。
(Urethane (meth) acrylate and polymer (meth) acrylate)
Urethane (meth) acrylate has 6 or more photopolymerizable functional groups (for example, (meth) acryloyl group) (hexafunctional) and a weight average molecular weight of 1000 or more. The weight average molecular weight of the urethane (meth) acrylate may be 1000 or more. For example, a weight average molecular weight of 1000 or more and 10,000 or less can be used. The “weight average molecular weight” is a value obtained by dissolving in a solvent such as tetrahydrofuran (THF) and converting to polystyrene by a conventionally known gel permeation chromatography (GPC) method.

ポリマー(メタ)アクリレートは、光重合性官能基(例えば(メタ)アクリロイル基)を10個以上有し(10官能)、かつ重量平均分子量が10000以上のものである。ポリマー(メタ)アクリレートの重量平均分子量は10000以上であればよいが、重量平均分子量としては10000〜80000程度が好ましく、10000〜40000程度がより好ましい。重量平均分子量が80000を超える場合は、粘度が高いため塗工適性が低下してしまい、得られる光学積層体の外観が悪化するおそれがある。   The polymer (meth) acrylate has 10 or more photopolymerizable functional groups (for example, (meth) acryloyl group) (10 functional groups) and a weight average molecular weight of 10,000 or more. The weight average molecular weight of the polymer (meth) acrylate may be 10,000 or more, but the weight average molecular weight is preferably about 10,000 to 80,000, more preferably about 10,000 to 40,000. When the weight average molecular weight exceeds 80,000, the viscosity is high, so that the coating suitability is lowered, and the appearance of the obtained optical laminate may be deteriorated.

帯電防止ハードコート層用組成物にバインダ成分として光重合性モノマーのみを含ませた場合には、帯電防止ハードコート層が脆くなるおそれがあるが、本実施形態のように、帯電防止ハードコート層用組成物に、光重合性モノマーの他に、上記ウレタン(メタ)アクリレートおよび/またはポリマー(メタ)アクリレートを含ませた場合には、ウレタン(メタ)アクリレートやポリマー(メタ)アクリレートにより帯電防止ハードコート層に靱性を付与することができる。これにより、帯電防止ハードコート層の硬度を高めることができる。また、帯電防止ハードコート層用組成物に、上記ウレタン(メタ)アクリレートおよび/またはポリマー(メタ)アクリレートを含ませることにより、光重合性モノマーの浸透度合いを調製することもできる。また、帯電防止ハードコート層用組成物にウレタン(メタ)アクリレートを含ませた場合には、帯電防止ハードコート層上に設けられる別の層(例えば、低屈折率層)との密着性を高めることができる。   When the composition for an antistatic hard coat layer contains only a photopolymerizable monomer as a binder component, the antistatic hard coat layer may become brittle, but as in this embodiment, the antistatic hard coat layer When the urethane (meth) acrylate and / or polymer (meth) acrylate is included in the composition for use in addition to the photopolymerizable monomer, the antistatic hard is obtained with urethane (meth) acrylate or polymer (meth) acrylate. Toughness can be imparted to the coat layer. Thereby, the hardness of the antistatic hard coat layer can be increased. Moreover, the penetration degree of a photopolymerizable monomer can also be prepared by including the urethane (meth) acrylate and / or polymer (meth) acrylate in the antistatic hard coat layer composition. Further, when urethane (meth) acrylate is included in the composition for antistatic hard coat layer, the adhesion with another layer (for example, low refractive index layer) provided on the antistatic hard coat layer is improved. be able to.

上記ウレタン(メタ)アクリレートの官能基当量および上記ポリマー(メタ)アクリレートの官能基当量は、150以上500以下であることが好ましく、160以上400以下であることがより好ましい。ここで、「官能基当量」とは、光重合性官能基1個当たりの重量平均分子量を意味する。例えば、光重合性官能基を6個以上有する重量平均分子量が1000のウレタン(メタ)アクリレートの場合、官能基当量は1000/6で計算され、約167となる。上記において、150以上500以下の官能基当量が好ましいとしたのは、150以上であればカールが発生し難いからであり、また500以下であれば所望の鉛筆硬度を確保できるからである。   The functional group equivalent of the urethane (meth) acrylate and the functional group equivalent of the polymer (meth) acrylate are preferably 150 or more and 500 or less, and more preferably 160 or more and 400 or less. Here, “functional group equivalent” means a weight average molecular weight per one photopolymerizable functional group. For example, in the case of urethane (meth) acrylate having a weight average molecular weight of 1000 and having 6 or more photopolymerizable functional groups, the functional group equivalent is calculated as 1000/6 and is about 167. In the above description, the functional group equivalent of 150 or more and 500 or less is preferred because curl is unlikely to be generated if it is 150 or more, and a desired pencil hardness can be secured if it is 500 or less.

また、ウレタン(メタ)アクリレートは、ポリマー(メタ)アクリレートに比べ、靱性が高いので、ポリマー(メタ)アクリレートより官能基当量が小さいものを用いた場合であっても、帯電防止ハードコート層に靱性を付与することができる。このため、ウレタン(メタ)アクリレートにおいては、官能基当量を小さくすることが可能であり、重量平均分子量を小さくすることができるので、帯電防止ハードコート層用組成物の粘度を低く保ち、良好な塗工適性を得ることができる。このような観点から、ウレタン(メタ)アクリレートは、ポリマー(メタ)アクリレートよりも好ましい。   In addition, since urethane (meth) acrylate has higher toughness than polymer (meth) acrylate, even when a functional group equivalent smaller than that of polymer (meth) acrylate is used, the antistatic hard coat layer has toughness. Can be granted. For this reason, in the urethane (meth) acrylate, the functional group equivalent can be reduced, and the weight average molecular weight can be reduced, so that the viscosity of the composition for antistatic hard coat layer is kept low and good. Coating suitability can be obtained. From such a viewpoint, urethane (meth) acrylate is more preferable than polymer (meth) acrylate.

帯電防止ハードコート層用組成物の全固形分に対するウレタン(メタ)アクリレートおよび/またはポリマー(メタ)アクリレートの含有量は、10〜70質量%であることが好ましい。ここで、帯電防止ハードコート層用組成物にウレタン(メタ)アクリレートおよびポリマー(メタ)アクリレートの両方が含まれている場合には、上記含有量は、ウレタン(メタ)アクリレートとポリマー(メタ)アクリレートとを合わせた含有量を意味するものとする。この範囲が好ましいとしたのは、ウレタン(メタ)アクリレートおよび/またはポリマー(メタ)アクリレートの含有量が10質量%未満であると、特に帯電防止ハードコート層上の層(低屈折率層)との密着性が悪くなり、後述する耐SW性が悪化してしまうおそれがある。また、優れた硬度を得られないおそれがある。また70質量%を超えると、光重合性モノマーの割合が減少するため干渉縞が発生するおそれがある。   The content of urethane (meth) acrylate and / or polymer (meth) acrylate with respect to the total solid content of the composition for antistatic hard coat layer is preferably 10 to 70% by mass. Here, when both the urethane (meth) acrylate and the polymer (meth) acrylate are contained in the composition for antistatic hard coat layer, the above contents are urethane (meth) acrylate and polymer (meth) acrylate. And the combined content. This range is preferred because the content of urethane (meth) acrylate and / or polymer (meth) acrylate is less than 10% by mass, particularly the layer on the antistatic hard coat layer (low refractive index layer) There is a possibility that the adhesiveness of the material will deteriorate and the SW resistance described later will deteriorate. Moreover, there exists a possibility that the outstanding hardness cannot be obtained. On the other hand, if it exceeds 70% by mass, the ratio of the photopolymerizable monomer is decreased, so that interference fringes may occur.

上記ウレタン(メタ)アクリレートは、以下のポリオールとジイソシアネートを反応させて得られるイソシアネート化合物と、水酸基を有する(メタ)アクリレートモノマーの反応による化合物を用いることができるが、その組合せには限定されない。   As the urethane (meth) acrylate, a compound obtained by reacting an isocyanate compound obtained by reacting the following polyol and diisocyanate with a (meth) acrylate monomer having a hydroxyl group can be used, but the combination is not limited.

ポリオールとしては、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール、ポリカーボネートジオールが挙げられる。ポリエステルポリオールの製造方法は特に限定されず、公知の製造方法により製造することができる。例えば、ジオールとジカルボン酸またはジカルボン酸クロライドとを重縮合反応させたり、ジオールまたはジカルボン酸をエステル化して、エステル交換反応させたりすることにより得られる。   Examples of the polyol include polyester polyol, polyether polyol, and polycarbonate diol. The manufacturing method of polyester polyol is not specifically limited, It can manufacture with a well-known manufacturing method. For example, it can be obtained by polycondensation reaction of diol and dicarboxylic acid or dicarboxylic acid chloride, or esterification of diol or dicarboxylic acid and transesterification.

ジオールとしてはエチレングリコール、1、4−ブタンジオール、1、6−ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコールなどが挙げられる。ジカルボン酸としては、アジピン酸、コハク酸、グルタル酸、ピメリン酸、セバシン酸、アゼライン酸、マレイン酸、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸等が挙げられる。   Examples of the diol include ethylene glycol, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, diethylene glycol, and dipropylene glycol. Examples of the dicarboxylic acid include adipic acid, succinic acid, glutaric acid, pimelic acid, sebacic acid, azelaic acid, maleic acid, terephthalic acid, isophthalic acid, and phthalic acid.

ポリエーテルポリオールとしては、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド、エチレンオキシド−プロピレンオキシドランダム共重合等が挙げられる。   Examples of the polyether polyol include polyethylene oxide, polypropylene oxide, ethylene oxide-propylene oxide random copolymerization, and the like.

ポリカーボネートジオールとしては、1、4−ブタンジオール、1、6−へキサンジオール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、1、2−プロピレングリコール、1、3−プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、2−エチル−1、3−ヘキサンジオール、1、5−ペンタンジオール、3−メチル−1、5−ペンタンジオール、1、4−シクロヘキサンジオール、ポリオキシエチレングリコールなどが挙げられる。   Examples of the polycarbonate diol include 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, 1,2-propylene glycol, 1,3-propylene glycol, dipropylene glycol, Examples include 2-ethyl-1,3-hexanediol, 1,5-pentanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 1,4-cyclohexanediol, and polyoxyethylene glycol.

ジイソシアネートとしては、直鎖式あるいは環式の脂肪族ジイソシアネートまたは芳香族ジイソシアネートが用いられる。直鎖式あるいは環式の脂肪族ジイソシアネートとしては、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、水素化トリレンジイソシアネート、水素化キシリレンジイソシアネートが挙げられる。芳香族ジイソシアネートとしてはトリレンジイソシアネート、キリレンジイソシアネートなどが挙げられる。   As the diisocyanate, linear or cyclic aliphatic diisocyanate or aromatic diisocyanate is used. Examples of the linear or cyclic aliphatic diisocyanate include hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, dicyclohexylmethane diisocyanate, hydrogenated tolylene diisocyanate, and hydrogenated xylylene diisocyanate. Examples of the aromatic diisocyanate include tolylene diisocyanate and xylylene diisocyanate.

水酸基を有する(メタ)アクリレートモノマーとしては、ジトリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート等が挙げられる。   Examples of the (meth) acrylate monomer having a hydroxyl group include ditrimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol triacrylate, and the like.

上記ウレタンアクリレートは、市販品を用いても良く、市販品としては例えば、日本合成化学工業株式会社製のUV1700B(分子量2000、10官能)、UV6300B(分子量3700、7官能)およびUV7640B(分子量1500、7官能)、日本化薬株式会社製のDPHA40H(分子量7000、8官能)、UX5000(分子量1000、5官能)およびUX5001T(分子量6200、8官能)、根上工業株式会社製のUN3320HS(分子量5000、15官能)、UN904(分子量4900、10官能)、UN3320HC(分子量1500、6官能)およびUN3320HA(分子量1500、6官能)、荒川化学工業株式会社製のBS577(分子量1000、6官能)、並びに新中村化学工業株式会社製のU15H(15官能)及びU6H(6官能)等が挙げられる。   Commercially available products may be used as the urethane acrylate. Examples of commercially available products include UV1700B (molecular weight 2000, 10 functional), UV6300B (molecular weight 3700, 7 functional) and UV7640B (molecular weight 1500, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.). 7 functional), DPHA40H (molecular weight 7000, 8 functional), UX5000 (molecular weight 1000, 5 functional) and UX5001T (molecular weight 6200, 8 functional) manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., UN3320HS (molecular weight 5000, 15) manufactured by Negami Industrial Co., Ltd. Functional), UN904 (molecular weight 4900, 10 functional), UN3320HC (molecular weight 1500, 6 functional) and UN3320HA (molecular weight 1500, 6 functional), BS577 (molecular weight 1000, 6 functional) manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd., and Shin-Nakamura Chemical Industrial Stock Board Made in U15H (15 functional) and U6H (6 functional), and the like.

上記ポリマー(メタ)アクリレートとしては、ウレタン(メタ)アクリレート、イソシアヌレート(メタ)アクリレート、ポリエステル−ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート等が挙げられる。   Examples of the polymer (meth) acrylate include urethane (meth) acrylate, isocyanurate (meth) acrylate, polyester-urethane (meth) acrylate, and epoxy (meth) acrylate.

エポキシアクリレートの市販品としては、荒川化学工業株式会社製のビームセット371等が挙げられる。   As a commercial item of epoxy acrylate, Arakawa Chemical Industries, Ltd. beam set 371 etc. are mentioned.

(浸透性溶剤)
「浸透性溶剤」とは、光透過性基材に対して浸透性が高く、光透過性基材を溶解または膨潤させる溶剤である。浸透性溶剤を用いることにより、光透過性基材に浸透性溶剤のみならず、光重合性モノマーをも浸透させることができる。
(Penetration solvent)
The “permeable solvent” is a solvent that has high permeability to the light transmissive substrate and dissolves or swells the light transmissive substrate. By using the penetrating solvent, not only the penetrating solvent but also the photopolymerizable monomer can penetrate into the light-transmitting substrate.

浸透性溶剤としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン(MEK)、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、ジアセトンアルコール、シクロヘプタノン、ジエチルケトン等のケトン類;蟻酸メチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、乳酸エチル等のエステル類;ニトロメタン、アセトニトリル、N−メチルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド等の含窒素化合物;メチルグリコール、メチルグリコールアセテート等のグリコール類;テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサン、ジオキソラン、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類;塩化メチレン、クロロホルム、テトラクロルエタン等のハロゲン化炭化水素;メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のグリコールエーテル類;その他、ジメチルスルホキシド、炭酸プロピレンが挙げられる。また、これらの混合物であってもよい。これらの中でも、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル及びメチルエチルケトンからなる群より選択される少なくとも1種であることが好ましい。   Examples of the permeable solvent include ketones such as acetone, methyl ethyl ketone (MEK), cyclohexanone, methyl isobutyl ketone, diacetone alcohol, cycloheptanone, and diethyl ketone; methyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate Esters such as ethyl lactate; nitrogen-containing compounds such as nitromethane, acetonitrile, N-methylpyrrolidone and N, N-dimethylformamide; glycols such as methyl glycol and methyl glycol acetate; tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, dioxolane, Ethers such as diisopropyl ether; halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform, tetrachloroethane; methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, cellosolve acetate, etc. Recall ethers and the like; dimethyl sulfoxide, propylene carbonate. Moreover, these mixtures may be sufficient. Among these, at least one selected from the group consisting of methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, and methyl ethyl ketone is preferable.

浸透性溶剤の添加量は、帯電防止ハードコート層用組成物の全固形分100質量部に対して、50〜500質量部であることが好ましい。この範囲が好ましいとしたのは、浸透性溶剤の添加量が50質量部未満であると、浸透性溶剤が充分に光透過性基材に浸透せず、干渉縞が発生するおそれがあるからであり、また、500質量部を超えると、浸透性溶剤が、光透過性基材を必要以上に溶解又は膨潤させる可能性があり、光学フィルムとして所望の硬度が得られないおそれがあるからである。   The amount of penetrating solvent added is preferably 50 to 500 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total solid content of the antistatic hard coat layer composition. This range is preferred because if the amount of the penetrating solvent added is less than 50 parts by mass, the penetrating solvent does not sufficiently penetrate the light-transmitting substrate, and interference fringes may occur. In addition, if it exceeds 500 parts by mass, the permeable solvent may dissolve or swell the light-transmitting substrate more than necessary, and the desired hardness as an optical film may not be obtained. .

(その他の成分)
帯電防止ハードコート層用組成物には、その他、必要に応じて、重合開始剤、分散剤、易滑剤、微粒子、防眩剤等を添加してもよい。
(Other ingredients)
In addition to the composition for an antistatic hard coat layer, a polymerization initiator, a dispersant, a lubricant, fine particles, an antiglare agent, and the like may be added as necessary.

(重合開始剤)
重合開始剤は、光照射により分解されて、ラジカルを発生して光重合性モノマーの重合を開始または進行させる成分である。
(Polymerization initiator)
The polymerization initiator is a component that is decomposed by light irradiation to generate radicals and initiate or advance polymerization of the photopolymerizable monomer.

重合開始剤は、光照射によりラジカル重合を開始させる物質を放出することが可能であれば特に限定されない。重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ケタール類、アントラキノン類、ジスルフィド化合物類、チウラム化合物類、フルオロアミン化合物類等が挙げられる。より具体的には、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン、ベンジルジメチルケトン、1−(4−ドテシルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、ベンゾフェノン等を例示できる。これらの中でも、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン、及び2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オンは、少量でも光照射による重合反応を開始または促進することができるので、好ましい。重合開始剤は、以上に示したいずれか一つを単独で、又は、複数を組み合わせて用いることができる。   The polymerization initiator is not particularly limited as long as it can release a substance that initiates radical polymerization by light irradiation. Examples of the polymerization initiator include acetophenones, benzophenones, ketals, anthraquinones, disulfide compounds, thiuram compounds, and fluoroamine compounds. More specifically, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenylketone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, benzyldimethylketone, 1- (4-dosyl) Tesylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methyl Examples include propan-1-one and benzophenone. Among these, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenylketone and 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one initiate polymerization reaction by light irradiation even in a small amount. Since it can promote, it is preferable. Any one of the above-described polymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.

重合開始剤の市販品としては、例えば、BASF社製のイルガキュア(登録商標)184(1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン)、イルガキュア(登録商標)907(2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン)、イルガキュア(登録商標)127(2−ヒドロキシ−1[4−[4−(2−ヒドロキシ−2−メチル−プロピオニル)−ベンジル]フェニル]−2−メチル−プロパン−1−オン)、ルシリン(登録商標)TPO(2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド)等が挙げられる。   Examples of commercially available polymerization initiators include Irgacure (registered trademark) 184 (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone) and Irgacure (registered trademark) 907 (2-methyl-1- (4-methylthio) manufactured by BASF. Phenyl) -2-morpholinopropan-1-one), Irgacure® 127 (2-hydroxy-1 [4- [4- (2-hydroxy-2-methyl-propionyl) -benzyl] phenyl] -2 -Methyl-propan-1-one), Lucillin (registered trademark) TPO (2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide) and the like.

(易滑剤)
易滑剤(アンチブロッキング剤)は、ロール状態にするなど帯電防止ハードコート層と光透過性基材とを重ね合わせた際の貼り付きを防止する成分である。易滑剤としては、従来公知の易滑剤を使用することができ、例えば、平均一次粒径100〜1000nmの特開2004−284126号公報に記載のシリカ等の無機化合物の微粒子及び高密度ポリエチレンや、ポリスチレン、ポリスチレンアクリル等の有機化合物の微粒子を用いることができる。易滑剤の含有量は、帯電防止ハードコート層用組成物の全固形分の合計質量に対して、0.1〜5質量%であることが好ましい。
(Lubricant)
An easy lubricant (anti-blocking agent) is a component that prevents sticking when an antistatic hard coat layer and a light-transmitting substrate are superposed, such as in a roll state. As the lubricant, a conventionally known lubricant can be used. For example, fine particles of inorganic compounds such as silica and high-density polyethylene described in JP-A No. 2004-284126 having an average primary particle size of 100 to 1000 nm, Fine particles of organic compounds such as polystyrene and polystyrene acrylic can be used. The content of the lubricant is preferably 0.1 to 5% by mass with respect to the total mass of the total solid content of the antistatic hard coat layer composition.

(硬度付与微粒子)
硬度付与微粒子は、帯電防止ハードコート層の硬度を向上させる成分である。微粒子としては帯電防止ハードコート層に用いることができる公知のものを要求性能に応じて適宜採用すればよい。
(Hardness imparting fine particles)
The hardness-imparting fine particles are components that improve the hardness of the antistatic hard coat layer. As the fine particles, known particles that can be used for the antistatic hard coat layer may be appropriately employed depending on the required performance.

硬度付与微粒子の平均粒径は、ハードコート層の透明性の点から1〜100nmであることが好ましい。この範囲であることにより、ハードコート層の透明性を維持しながら硬度を付与しやすい。微粒子は、凝集粒子であってもよく、凝集粒子である場合は、二次粒径が上記範囲内であれば良い。   The average particle diameter of the hardness-imparting fine particles is preferably 1 to 100 nm from the viewpoint of the transparency of the hard coat layer. By being in this range, it is easy to impart hardness while maintaining the transparency of the hard coat layer. The fine particles may be agglomerated particles, and in the case of agglomerated particles, the secondary particle size may be in the above range.

硬度付与微粒子の帯電防止ハードコート層用組成物における添加量は特に制限が無く、硬度等を考慮して適宜設定すれば良い。微粒子の添加量は、帯電防止ハードコート層用組成物の全固形分に対し、0〜40質量%であることが帯電防止ハードコート層の硬度向上の点から好ましく、10〜30質量%であることがより好ましい。40質量%を超えると、帯電防止性能が発現されなくなってしまうおそれがある。   The addition amount of the hardness-imparting fine particles in the antistatic hard coat layer composition is not particularly limited, and may be appropriately set in consideration of hardness and the like. The addition amount of the fine particles is preferably 0 to 40% by mass with respect to the total solid content of the composition for antistatic hard coat layer from the viewpoint of improving the hardness of the antistatic hard coat layer, and is 10 to 30% by mass. It is more preferable. If it exceeds 40% by mass, the antistatic performance may not be exhibited.

微粒子は、無機微粒子でも有機微粒子でもよいが、硬度付与の観点から無機微粒子であることが好ましい。無機微粒子としては、例えば、シリカ(SiO)微粒子、アルミナ微粒子等が挙げられる。 The fine particles may be inorganic fine particles or organic fine particles, but are preferably inorganic fine particles from the viewpoint of imparting hardness. Examples of the inorganic fine particles include silica (SiO 2 ) fine particles and alumina fine particles.

シリカ微粒子は、表面処理が施されたものであってもよい。また、シリカ微粒子としては、硬度の面から表面に紫外線反応基を有するものが好ましい。シリカ微粒子の形状は、球状、不定形、異形、鎖状であってもよい。シリカ微粒子の市販品としては、日産化学工業株式会社製のIPA−ST、IPASTMS、IPAST(L)等が挙げられる。   The silica fine particles may be subjected to surface treatment. The silica fine particles are preferably those having an ultraviolet reactive group on the surface in terms of hardness. The shape of the silica fine particles may be spherical, irregular, irregular, or chain. Examples of commercially available silica fine particles include IPA-ST, IPASTMS, and IPAST (L) manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.

アルミナはモース硬度が高い材料であるので、無機微粒子としてアルミナ微粒子を使用した場合には、より硬度を向上させることができる。アルミナ微粒子は、シリカ微粒子と同様に表面処理が施されたものであってもよい。   Since alumina is a material having a high Mohs hardness, when alumina fine particles are used as the inorganic fine particles, the hardness can be further improved. The alumina fine particles may be subjected to a surface treatment in the same manner as the silica fine particles.

有機微粒子としては、例えば、プラスチックビーズを挙げることができる。プラスチックビーズとしては、具体例としては、ポリスチレンビーズ、メラミン樹脂ビーズ、アクリルビーズ、アクリル−スチレンビーズ、シリコーンビーズ、ベンゾグアナミンビーズ、ベンゾグアナミン・ホルムアルデヒド縮合ビーズ、ポリカーボネートビーズ、ポリエチレンビーズ等が挙げられる。上記プラスチックビーズは、その表面に疎水性基を有することが好ましく、例えば、スチレンビーズを挙げることができる。   Examples of the organic fine particles include plastic beads. Specific examples of the plastic beads include polystyrene beads, melamine resin beads, acrylic beads, acrylic-styrene beads, silicone beads, benzoguanamine beads, benzoguanamine / formaldehyde condensation beads, polycarbonate beads, polyethylene beads, and the like. The plastic beads preferably have a hydrophobic group on the surface, and examples thereof include styrene beads.

(防眩剤)
防眩剤は、ハードコート層に防眩機能を付与するための成分である。防眩剤としては微粒子が挙げられ、微粒子の形状は、真球状、楕円状などのものであってよく、好ましくは真球状のものが挙げられる。また、微粒子は無機系、有機系のものが挙げられるが、好ましくは有機系材料により形成されてなるものが好ましい。微粒子は、防眩性を発揮するものであり、好ましくは透明性のものがよい。微粒子の具体例としては、プラスチックビーズが挙げられ、より好ましくは、透明性を有するものが挙げられる。プラスチックビーズの具体例としては、スチレンビーズ(屈折率1.59)、メラミンビーズ(屈折率1.67)、アクリルビーズ(屈折率1.49)、アクリル−スチレンビーズ(屈折率1.54)、ポリカーボネートビーズ、ポリエチレンビーズなどが挙げられる。
(Anti-glare agent)
The antiglare agent is a component for imparting an antiglare function to the hard coat layer. Examples of the antiglare agent include fine particles, and the shape of the fine particles may be a true sphere or an ellipse, and preferably a true sphere. The fine particles may be inorganic or organic, but those formed of an organic material are preferred. The fine particles exhibit anti-glare properties and are preferably transparent. Specific examples of the fine particles include plastic beads, and more preferably those having transparency. Specific examples of plastic beads include styrene beads (refractive index 1.59), melamine beads (refractive index 1.67), acrylic beads (refractive index 1.49), acrylic-styrene beads (refractive index 1.54), Examples thereof include polycarbonate beads and polyethylene beads.

光透過性基材1の表面に、帯電防止ハードコート層用組成物2を塗布すると、光透過性基材1の上部に一部の浸透性溶剤および一部の光重合性モノマーが浸透する。一方で、ハードコート層用組成物2中の鎖状金属酸化物粒子、光重合性官能基を6個以上有する重量平均分子量が1000以上のウレタン(メタ)アクリレートおよび/または光重合性官能基を10個以上有する重量平均分子量が10000以上のポリマー(メタ)アクリレートは大きさが大きいため、光透過性基材1には浸透せずに光透過性基材1上に残存する。   When the antistatic hard coat layer composition 2 is applied to the surface of the light transmissive substrate 1, a part of the permeable solvent and a part of the photopolymerizable monomer penetrate into the upper part of the light transmissive substrate 1. On the other hand, the chain metal oxide particles in composition 2 for hard coat layer, urethane (meth) acrylate having 6 or more photopolymerizable functional groups and a weight average molecular weight of 1000 or more and / or photopolymerizable functional groups. The polymer (meth) acrylate having a weight average molecular weight of 10,000 or more having 10 or more has a large size, and therefore does not penetrate into the light transmissive substrate 1 and remains on the light transmissive substrate 1.

次いで、例えば30〜100℃で15秒以上乾燥させて浸透性溶剤を除去すると、図2(A)に示されるように、光透過性基材1の上部に光透過性基材2の主成分と光重合性モノマーが混ざり合った混合層3が形成されるとともに、混合層3上に鎖状金属酸化物粒子と透過性基材1に浸透せずに光透過性基材1上に残留した光重合性モノマーと、上記ウレタン(メタ)アクリレートおよび/または上記ポリマー(メタ)アクリレートとを含む鎖状金属酸化物粒子含有層4が形成される。混合層3を形成した後における光透過性基材1Aは混合層3の厚みだけ光透過性基材1よりも薄くなっている。また、本発明における「光透過性基材の主成分」とは、光透過性基材の構成成分の中で最も含有割合が高い成分を示すものである。   Next, for example, when the permeable solvent is removed by drying at 30 to 100 ° C. for 15 seconds or longer, the main component of the light transmissive substrate 2 is formed on the light transmissive substrate 1 as shown in FIG. The mixed layer 3 in which the photopolymerizable monomer is mixed is formed, and the chain metal oxide particles and the transparent substrate 1 do not penetrate into the mixed layer 3 and remain on the transparent substrate 1. A chain metal oxide particle-containing layer 4 containing a photopolymerizable monomer and the urethane (meth) acrylate and / or the polymer (meth) acrylate is formed. The light transmissive substrate 1 </ b> A after the formation of the mixed layer 3 is thinner than the light transmissive substrate 1 by the thickness of the mixed layer 3. The “main component of the light transmissive substrate” in the present invention indicates a component having the highest content ratio among the constituent components of the light transmissive substrate.

その後、図2(B)に示されるように、混合層3と鎖状金属酸化物粒子含有層4とに紫外線等の光を照射して、混合層3に含まれる光重合性モノマーを重合させることにより混合層3を硬化させるとともに、鎖状金属酸化物粒子含有層4に含まれる光重合性モノマーならびにウレタン(メタ)アクリレートおよび/またはポリマー(メタ)アクリレートを重合させることにより、鎖状金属酸化物粒子含有層4を硬化させる。これにより、混合層3の硬化物である第1のハードコート層5と、鎖状金属酸化物粒子含有層4の硬化物である第2のハードコート層6とから構成された帯電防止ハードコート層7が形成される。光として、紫外線を用いる場合には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等から発せられる紫外線等が利用できる。   Thereafter, as shown in FIG. 2B, the mixed layer 3 and the chain metal oxide particle-containing layer 4 are irradiated with light such as ultraviolet rays to polymerize the photopolymerizable monomer contained in the mixed layer 3. As a result, the mixed layer 3 is cured, and the photopolymerizable monomer and urethane (meth) acrylate and / or polymer (meth) acrylate contained in the chain metal oxide particle-containing layer 4 are polymerized to thereby cause chain metal oxidation. The product particle-containing layer 4 is cured. Thus, the antistatic hard coat composed of the first hard coat layer 5 which is a cured product of the mixed layer 3 and the second hard coat layer 6 which is a cured product of the chain metal oxide particle-containing layer 4. Layer 7 is formed. When ultraviolet rays are used as the light, ultraviolet rays emitted from an ultrahigh pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, a carbon arc, a xenon arc, a metal halide lamp, or the like can be used.

第1のハードコート層5は、光透過性基材1Aの主成分と、光重合モノマーの重合体を含む第1のバインダ樹脂とを含んでいる。また、第2のハードコート層6は、鎖状金属酸化物粒子と、第2のバインダ樹脂とを含んでいる。第2のバインダ樹脂は、光重合性モノマーと、上記ウレタン(メタ)アクリレートおよび/または上記ポリマー(メタ)アクリレートとの重合体を含むものである。帯電防止ハードコート層7は、JIS K5600−5−4(1999)で規定される鉛筆硬度試験で「H」以上の硬度を有する。   The first hard coat layer 5 includes a main component of the light transmissive substrate 1A and a first binder resin containing a polymer of a photopolymerizable monomer. The second hard coat layer 6 contains chain metal oxide particles and a second binder resin. The second binder resin contains a polymer of a photopolymerizable monomer and the urethane (meth) acrylate and / or the polymer (meth) acrylate. The antistatic hard coat layer 7 has a hardness of “H” or more in a pencil hardness test specified by JIS K5600-5-4 (1999).

帯電防止ハードコート層7を形成した後、図3に示されるように、必要に応じて第2のハードコート層6上に帯電防止ハードコート層7の屈折率よりも低い屈折率を有する低屈折率層8を形成する。具体的には、例えば、低屈折率層8は、第2のハードコート層6上に低屈折率層用硬化性樹脂組成物(以下、簡略化のために「低屈折率層用硬化性樹脂組成物」を、「低屈折率層用組成物」と称する。)を塗布し、乾燥させて、硬化させることにより形成することができる。これにより、図3に示される光学フィルム10が作製される。   After forming the antistatic hard coat layer 7, as shown in FIG. 3, a low refraction having a refractive index lower than the refractive index of the antistatic hard coat layer 7 on the second hard coat layer 6 as necessary. The rate layer 8 is formed. Specifically, for example, the low refractive index layer 8 is formed on the second hard coat layer 6 with a curable resin composition for low refractive index layer (hereinafter referred to as “curable resin for low refractive index layer”). The “composition” is referred to as “a composition for a low refractive index layer”), and is dried and cured. Thereby, the optical film 10 shown by FIG. 3 is produced.

(低屈折率層用組成物)
低屈折率層用組成物としては、例えば、シリカやフッ化マグネシウム等の屈折率の低い成分と硬化後バインダ樹脂となる光重合性モノマー、光重合性オリゴマー、あるいは光重合性ポリマーとを含む組成物が挙げられる。なお、低屈折率層用組成物中に重合開始剤等を添加してもよい。光重合性モノマー、光重合性オリゴマー、あるいは光重合性ポリマーとしては、帯電防止ハードコート層用組成物で挙げられた光重合性モノマー等と同様のものを使用することができる。他にも、有機フッ素化合物のモノマー、オリゴマー、およびポリマーの少なくともいずれかを用いてもよい。有機フッ素化合物は硬度が弱いため、紫外線硬化型のものが好ましい。
(Composition for low refractive index layer)
As the composition for a low refractive index layer, for example, a composition comprising a low refractive index component such as silica or magnesium fluoride and a photopolymerizable monomer, photopolymerizable oligomer, or photopolymerizable polymer that becomes a binder resin after curing. Things. In addition, you may add a polymerization initiator etc. in the composition for low refractive index layers. As the photopolymerizable monomer, photopolymerizable oligomer, or photopolymerizable polymer, those similar to the photopolymerizable monomer and the like mentioned in the composition for antistatic hard coat layer can be used. In addition, at least one of a monomer, an oligomer, and a polymer of an organic fluorine compound may be used. Since the organic fluorine compound has low hardness, an ultraviolet curable type is preferable.

また、低屈折率層を形成するための組成物には、低屈折率層の屈折率を低減させるために中空シリカ粒子等の中空粒子を含有させてもよい。中空粒子は、外殻層を有し外殻層に囲まれた内部が多孔質組織又は空洞である粒子をいう。この多孔質組織や空洞には空気(屈折率:1)が含まれており、屈折率1.20〜1.45の中空粒子を低屈折率層に含有させることで低屈折率層の屈折率を低下させることができる。中空粒子の平均粒径は1〜100nmであることが好ましい。中空粒子としては従来公知の低屈折率層に用いられているものを用いることができ、例えば、特開2008−165040号公報に記載の空隙を有する微粒子が挙げられる。低屈折率層の膜厚は要求される性能に応じて適宜選択すればよく、80〜120nmであることが好ましい。   In addition, the composition for forming the low refractive index layer may contain hollow particles such as hollow silica particles in order to reduce the refractive index of the low refractive index layer. A hollow particle refers to a particle having an outer shell layer and the inside surrounded by the outer shell layer being a porous structure or a cavity. This porous structure or cavity contains air (refractive index: 1), and the refractive index of the low refractive index layer is obtained by including hollow particles having a refractive index of 1.20 to 1.45 in the low refractive index layer. Can be reduced. The average particle diameter of the hollow particles is preferably 1 to 100 nm. As the hollow particles, those conventionally used for a low refractive index layer can be used, and examples thereof include fine particles having voids described in JP-A-2008-165040. What is necessary is just to select the film thickness of a low refractive index layer suitably according to the performance requested | required, and it is preferable that it is 80-120 nm.

≪光学フィルム≫
本実施形態に係る光学フィルムは、上記製造方法により得られるものである。すなわち、図3に示されるように、光学フィルム10は、光透過性基材1Aと、光透過性基材1A上に形成された帯電防止ハードコート層7とを備えている。
≪Optical film≫
The optical film according to the present embodiment is obtained by the above production method. That is, as shown in FIG. 3, the optical film 10 includes a light transmissive substrate 1A and an antistatic hard coat layer 7 formed on the light transmissive substrate 1A.

帯電防止ハードコート層7は、光透過性基材1A上に形成され、光透過性基材1Aの主成分と第1のバインダ樹脂とを含む第1のハードコート層5と、第1のハードコート層5上に形成され、第2のバインダ樹脂と、第2のバインダ樹脂中に分散された、鎖状に連結した2個以上の導電性金属酸化物粒子からなる鎖状金属酸化物粒子とを含む第2のハードコート層6とから構成されている。なお、図3に示される光学フィルム10は、低屈折率層8をさらに備えているが、光学フィルム10は低屈折率層8を備えていなくともよい。   The antistatic hard coat layer 7 is formed on the light transmissive substrate 1A, and includes a first hard coat layer 5 containing a main component of the light transmissive substrate 1A and a first binder resin, and a first hard A chain metal oxide particle formed on the coat layer 5 and composed of a second binder resin and two or more conductive metal oxide particles linked in a chain and dispersed in the second binder resin; And a second hard coat layer 6 containing The optical film 10 shown in FIG. 3 further includes the low refractive index layer 8, but the optical film 10 may not include the low refractive index layer 8.

第1のハードコート層5の厚みは、0.5〜10μmであることが好ましい。この範囲が好ましいとしたのは、第1のハードコート層5の厚みが0.5μm未満であると、光透過性基材との密着に劣るおそれがあり、また10μmを超えると、紫外線等の光がハードコート層中に十分に到達しないので、硬化不良を起こしたり、乾燥後に浸透性溶剤が光透過性基材中に残存してしまったり、硬化後に皺やカールが発生してしまうおそれがあるからである。   The thickness of the first hard coat layer 5 is preferably 0.5 to 10 μm. This range is preferred because if the thickness of the first hard coat layer 5 is less than 0.5 μm, the adhesion to the light-transmitting substrate may be inferior. Since light does not reach the hard coat layer sufficiently, there is a risk of causing poor curing, a permeable solvent remaining in the light-transmitting substrate after drying, or wrinkles or curls after curing. Because there is.

第2のハードコート層6の厚みは、1〜10μmであることが好ましい。この範囲が好ましいとしたのは、第2のハードコート層6の厚みが1μm未満であると、ハードコート層としての硬度が低くなるおそれがある。また、浸透性溶剤の使用によって光透過性基材が膨潤するので光透過性基材の表面に微細な凹凸が形成されるが、第2のハードコート層の厚みが1μm未満であると、この凹凸によってヘイズが若干上昇してしまい、特に斜めから第2のハードコート層を見た場合に第2のハードコート層が白く見えてしまうおそれがある。一方で10μmを超えると、第2のハードコート層の光透過率が低下してしまうとともに、カールやクラックが発生するおそれがある。また、鎖状金属酸化物粒子はコストも高いので、コストの上昇を引き起こすおそれがある。   The thickness of the second hard coat layer 6 is preferably 1 to 10 μm. This range is preferable because if the thickness of the second hard coat layer 6 is less than 1 μm, the hardness as the hard coat layer may be lowered. Moreover, since the light-transmitting substrate swells due to the use of the penetrating solvent, fine irregularities are formed on the surface of the light-transmitting substrate. When the thickness of the second hard coat layer is less than 1 μm, The haze increases slightly due to the unevenness, and there is a possibility that the second hard coat layer may appear white particularly when the second hard coat layer is viewed obliquely. On the other hand, when the thickness exceeds 10 μm, the light transmittance of the second hard coat layer is lowered, and there is a risk of curling and cracking. Moreover, since chain metal oxide particles are expensive, there is a risk of increasing costs.

第1のハードコート層5の屈折率は、第2のハードコート層6側から光透過性基材1A側に向けて徐々に光透過性基材1Aの屈折率に近づくように変化している。これは、上述したように光重合性モノマーを光透過性基材1の表面側から光透過性基材1に浸透させるので、混合層3中の光重合性モノマーが、混合層3の鎖状金属酸化物粒子層4側から光透過性基材1A側に向けて徐々に小さくなる濃度勾配を有するために生じるものと考えられる。   The refractive index of the first hard coat layer 5 gradually changes from the second hard coat layer 6 side toward the light transmissive substrate 1A side so as to approach the refractive index of the light transmissive substrate 1A. . This is because the photopolymerizable monomer penetrates the light transmissive substrate 1 from the surface side of the light transmissive substrate 1 as described above, so that the photopolymerizable monomer in the mixed layer 3 is a chain of the mixed layer 3. This is considered to be caused by a concentration gradient that gradually decreases from the metal oxide particle layer 4 side toward the light transmissive substrate 1A side.

このような屈折率の変化は、光学フィルムの膜厚方向の断面の透過型電子顕微鏡(TEM)または走査透過電子顕微鏡(STEM)を用いた観察において、確認することができる。   Such a change in refractive index can be confirmed by observation using a transmission electron microscope (TEM) or a scanning transmission electron microscope (STEM) of a cross section in the film thickness direction of the optical film.

光透過性基材1Aと第1のハードコート層5との間および第1のハードコート層5と第2のハードコート層6の間には界面が存在しない。これらの界面は、光学フィルム10の膜厚方向の断面の透過型電子顕微鏡(TEM)や走査透過電子顕微鏡(STEM)を用いた観察において、視認できる界面を意味する。したがって、TEMやSTEMを用いた観察でこれらの界面が視認できなければ、界面はないと判断する。なお、TEMやSTEMでは電子線照射により生じる二次電子を測定しているので、上層と下層との間の界面において、上層を構成する物質と下層を構成する物質とがグラデーション状に混合されている場合、または上層を構成する物質と下層を構成する物質との二次電子の電子放出特性が同じである場合には界面が存在しても、TEMを用いた観察では界面が視認されない。また、これらの界面がないことは、干渉縞がないことによっても確かめられる。干渉縞がなければ層界面はないためである。干渉縞は、光学フィルムの光透過性基材における第1のハードコート層が形成されている面とは反対側の面に黒いテープを貼り、3波長蛍光ランプ下で観察することで有無を確かめられる。   There are no interfaces between the light transmissive substrate 1A and the first hard coat layer 5 and between the first hard coat layer 5 and the second hard coat layer 6. These interfaces mean interfaces that can be visually recognized in observation using a transmission electron microscope (TEM) or a scanning transmission electron microscope (STEM) of the cross section of the optical film 10 in the film thickness direction. Therefore, if these interfaces cannot be visually recognized by observation using TEM or STEM, it is determined that there is no interface. In TEM and STEM, secondary electrons generated by electron beam irradiation are measured, so that the material constituting the upper layer and the material constituting the lower layer are mixed in a gradation at the interface between the upper layer and the lower layer. If the electron emission characteristics of secondary electrons of the substance constituting the upper layer and the substance constituting the lower layer are the same, even if an interface exists, the interface is not visually recognized by TEM observation. The absence of these interfaces can also be confirmed by the absence of interference fringes. This is because there is no layer interface without interference fringes. Interference fringes can be confirmed by attaching a black tape on the surface of the optically transparent substrate opposite to the surface on which the first hard coat layer is formed, and observing it under a three-wavelength fluorescent lamp. It is done.

光学フィルム10の表面抵抗値は、優れた帯電防止性を得る観点から、1012Ω/□以下であることが好ましく、1011Ω/□以下であることがより好ましく、1010Ω/□以下であることがさらに好ましい。低屈折率層8を備えない場合には、光学フィルムを鹸化処理後、または溶剤で表面を拭き取った後でも、表面抵抗値は、1012Ω/□以下であることが好ましく、1011Ω/□以下であることがより好ましく、1010Ω/□以下であることがさらに好ましい。鹸化処理は、光学フィルムを、1.5〜4.5規定に調整された40℃〜70℃のNaOHまたはKOH水溶液に15秒〜5分浸漬することにより行われる。表面抵抗値の測定に使用できる機器としては、三菱油化株式会社製のハイレスターHT−210等が挙げられる。 From the viewpoint of obtaining excellent antistatic properties, the surface resistance value of the optical film 10 is preferably 10 12 Ω / □ or less, more preferably 10 11 Ω / □ or less, and more preferably 10 10 Ω / □ or less. More preferably. If without the low refractive index layer 8 after saponified optical film, or even after wiping off the surface with a solvent, the surface resistance value is preferably 10 12 Ω / □ or less, 10 11 Omega / □ or less is more preferable, and 10 10 Ω / □ or less is more preferable. The saponification treatment is performed by immersing the optical film in a NaOH or KOH aqueous solution at 40 ° C. to 70 ° C. adjusted to 1.5 to 4.5 N for 15 seconds to 5 minutes. Examples of equipment that can be used to measure the surface resistance include Hiresta HT-210 manufactured by Mitsubishi Oil Chemical Co., Ltd.

光学フィルム10の全光線透過率は、優れた透明性を得る観点から、低屈折率層8を備えない場合には88%以上であることが好ましい。また低屈折率層8を備える場合には90%以上であることが好ましく、92%以上であることがより好ましい。また、光学フィルム10のヘイズ値は、優れた透明性を得る観点から、1.0%以下であることが好ましく、0.7%以下であることがより好ましい。全光線透過率はJIS K7361に従って測定し、かつヘイズ値はJIS K7136に従って測定する。全光線透過率およびヘイズ値の測定に使用できる機器としては、村上色彩技術研究所製のHM−150等が挙げられる。なお、「透明性」は、全光線透過率およびヘイズ値によって評価することができる。   From the viewpoint of obtaining excellent transparency, the total light transmittance of the optical film 10 is preferably 88% or more when the low refractive index layer 8 is not provided. When the low refractive index layer 8 is provided, it is preferably 90% or more, more preferably 92% or more. Further, the haze value of the optical film 10 is preferably 1.0% or less, and more preferably 0.7% or less, from the viewpoint of obtaining excellent transparency. The total light transmittance is measured according to JIS K7361, and the haze value is measured according to JIS K7136. Examples of equipment that can be used for measuring the total light transmittance and haze value include HM-150 manufactured by Murakami Color Research Laboratory. “Transparency” can be evaluated by the total light transmittance and the haze value.

光学フィルム10の反射Y値は、外光の反射を防止する観点から、2.0%以下であることが好ましく、1.5%以下であることがより好ましく、1.2%以下であることがさらに好ましく、1.0%以下であることがさらに好ましく、0.7%以下であることがさらに好ましい。反射Y値は、5°正反射率を380〜780nmまでの波長範囲で測定し、その後、人間が目で感じる明度として換算するソフト(後述するMCP3100に内蔵)で算出される、視感反射率で示す値である。なお、5°正反射率を測定する場合には、光学フィルムであるフィルムの裏面反射を防止するため、測定膜面とは逆側に、黒テープを貼って測定する。反射Y値の測定に使用できる機器としては、島津製作所株式会社製のMCP3100等が挙げられる。   The reflection Y value of the optical film 10 is preferably 2.0% or less, more preferably 1.5% or less, and 1.2% or less from the viewpoint of preventing reflection of external light. Is more preferable, 1.0% or less is further preferable, and 0.7% or less is more preferable. Reflection Y value is a luminous reflectance calculated by software (built in MCP3100 described later) that measures 5 ° regular reflectance in a wavelength range of 380 to 780 nm, and then converts it as brightness that is perceived by human eyes. This is the value indicated by. In addition, when measuring 5 degree regular reflectance, in order to prevent the back surface reflection of the film which is an optical film, it measures by sticking a black tape on the opposite side to a measurement film surface. Examples of equipment that can be used to measure the reflection Y value include MCP3100 manufactured by Shimadzu Corporation.

光学フィルム10の耐スチールウール摩耗性は、光学フィルム10の表面を♯0000のスチールウールを用い、荷重100g/cmを加えながら、速度100mm/秒で10往復擦った場合に傷がないことが好ましく、荷重300g/cmを加えながら、速度100mm/秒で10往復擦った場合に傷がないことがより好ましい。 The abrasion resistance of the optical film 10 is not damaged when the surface of the optical film 10 is rubbed 10 times at a speed of 100 mm / sec using # 0000 steel wool and applying a load of 100 g / cm 2. Preferably, it is more preferable that there is no flaw when rubbing 10 times at a speed of 100 mm / sec while applying a load of 300 g / cm 2 .

≪偏光板≫
光学フィルム10は、例えば、偏光板に組み込んで使用することができる。図4は本実施形態に係る光学フィルムを組み込んだ偏光板の概略構成図である。図4に示されるように偏光板20は、光学フィルム10と、偏光素子21とを備えている。偏光素子21は、光透過性基材1Aにおける第1のハードコート層5が形成されている面とは反対側の面に形成されている。
≪Polarizing plate≫
The optical film 10 can be used by being incorporated into a polarizing plate, for example. FIG. 4 is a schematic configuration diagram of a polarizing plate incorporating the optical film according to the present embodiment. As shown in FIG. 4, the polarizing plate 20 includes an optical film 10 and a polarizing element 21. The polarizing element 21 is formed on the surface opposite to the surface on which the first hard coat layer 5 is formed in the light transmissive substrate 1A.

偏光素子21としては、例えば、ヨウ素等により染色し、延伸したポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルホルマールフィルム、ポリビニルアセタールフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体系ケン化フィルム等が挙げられる。光学フィルム10と偏光素子21とを積層する際には、予め光透過性基材1Aに鹸化処理を施すことが好ましい。鹸化処理を施すことによって、接着性が良好になり帯電防止効果も得ることができる。   Examples of the polarizing element 21 include a polyvinyl alcohol film, a polyvinyl formal film, a polyvinyl acetal film, an ethylene-vinyl acetate copolymer saponified film, which are dyed and stretched with iodine or the like. When laminating the optical film 10 and the polarizing element 21, it is preferable to saponify the light transmissive substrate 1A in advance. By performing the saponification treatment, the adhesiveness is improved and an antistatic effect can be obtained.

≪画像表示装置≫
光学フィルム10や偏光板20は、画像表示装置に組み込んで使用することができる。
画像表示装置としては、例えば液晶ディスプレイ(LCD)、陰極線管表示装置(CRT)、プラズマディスプレイ(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)、フィールドエミッションディスプレイ(FED)、タッチパネル、タブレットPC、電子ペーパー等が挙げられる。図5は本実施形態に係る光学フィルムを組み込んだ画像表示装置の概略構成図である。
≪Image display device≫
The optical film 10 and the polarizing plate 20 can be used by being incorporated in an image display device.
Examples of the image display device include a liquid crystal display (LCD), a cathode ray tube display device (CRT), a plasma display (PDP), an electroluminescence display (ELD), a field emission display (FED), a touch panel, a tablet PC, and electronic paper. Can be mentioned. FIG. 5 is a schematic configuration diagram of an image display device incorporating the optical film according to the present embodiment.

図5に示される画像表示装置30は、液晶ディスプレイである。画像表示装置30は、光源側(バックライト側)から観察者側に向けて、トリアセチルセルロースフィルム(TACフィルム)等の保護フィルム31、偏光素子32、位相差フィルム33、接着剤層34、液晶セル35、接着剤層36、位相差フィルム37、偏光素子21、光学フィルム10の順に積層された構造を有している。液晶セル35は、2枚のガラス基材間に、液晶層、配向膜、電極層、カラーフィルタ等を配置したものである。   The image display device 30 shown in FIG. 5 is a liquid crystal display. The image display device 30 includes a protective film 31, such as a triacetyl cellulose film (TAC film), a polarizing element 32, a retardation film 33, an adhesive layer 34, a liquid crystal, from the light source side (backlight side) to the viewer side. The cell 35, the adhesive layer 36, the retardation film 37, the polarizing element 21, and the optical film 10 are stacked in this order. In the liquid crystal cell 35, a liquid crystal layer, an alignment film, an electrode layer, a color filter, and the like are disposed between two glass substrates.

位相差フィルム33、37としては、トリアセチルセルロースフィルムやシクロオレフィンポリマーフィルムが挙げられる。接着剤層34、36を構成する接着剤としては、感圧接着剤(PSA)が挙げられる。   Examples of the retardation films 33 and 37 include a triacetyl cellulose film and a cycloolefin polymer film. Examples of the adhesive constituting the adhesive layers 34 and 36 include a pressure sensitive adhesive (PSA).

鎖状金属酸化物粒子は嵩高いので、浸透性溶剤が光透過性基材1に浸透する際に、光透過性基材1には鎖状金属酸化物粒子はほぼ入り込まない。すなわち、本実施形態の光学フィルム10においては、鎖状金属酸化物粒子は、第2のハードコート層6中に存在しており、第1のハードコート層5中にはほぼ存在していない。また、鎖状金属酸化物粒子は導電性金属酸化物粒子が鎖状に連結しているので、単独の導電性金属酸化物粒子よりも導電パスを形成しやすい。したがって、鎖状金属酸化物粒子と、単独の導電性金属酸化物粒子とを同じ量を用いた場合には、単独の導電性金属酸化物粒子よりも鎖状金属酸化物粒子の方が、帯電防止性を向上させることができる。したがって、鎖状金属酸化物粒子の含有量が帯電防止ハードコート層用組成物の全固形分に対して2〜20質量%という少ない量であったとしても、優れた帯電防止性を得ることができる。   Since the chain metal oxide particles are bulky, the chain metal oxide particles hardly enter the light transmissive substrate 1 when the permeable solvent penetrates the light transmissive substrate 1. That is, in the optical film 10 of the present embodiment, the chain metal oxide particles are present in the second hard coat layer 6 and are not substantially present in the first hard coat layer 5. Further, since the conductive metal oxide particles are connected in a chain shape in the chain metal oxide particles, it is easier to form a conductive path than the single conductive metal oxide particles. Therefore, when the same amount of the chain metal oxide particles and the single conductive metal oxide particles are used, the chain metal oxide particles are more charged than the single conductive metal oxide particles. Preventive properties can be improved. Therefore, even if the content of the chain metal oxide particles is as small as 2 to 20% by mass based on the total solid content of the composition for antistatic hard coat layer, excellent antistatic properties can be obtained. it can.

本実施形態においては、鎖状金属酸化物粒子の含有量が帯電防止ハードコート層用組成物の全固形分に対して2〜20質量%という少ない量となっているので、ヘイズの上昇を抑制することができる。これにより、帯電防止ハードコート層7の透明性の低下を抑制することができる。   In this embodiment, since the content of the chain metal oxide particles is as small as 2 to 20% by mass with respect to the total solid content of the composition for antistatic hard coat layer, the increase in haze is suppressed. can do. Thereby, the fall of the transparency of the antistatic hard coat layer 7 can be suppressed.

本実施形態においては、鎖状金属酸化物粒子は嵩高いので、第2のハードコート層6において沈み込みにくく、また、たとえ、鎖状金属酸化物粒子が第2のハードコート層6中において沈み込んで第1のハードコート層5と第2のハードコート層6との界面付近に存在したとしても、鎖状金属酸化物粒子は鎖状形態となっているので、立体障害により鎖状金属酸化物粒子は、第1のハードコート層5と第2のハードコート層6との界面付近には並ばない。これにより、第1のハードコート層5と第2のハードコート層6との屈折率差がこれらの界面付近において急激に変化することを抑制できる。さらに、第1のハードコート層5の屈折率が第2のハードコート層6側から光透過性基材1A側に向けて徐々に光透過性基材1Aの屈折率に近くになるように変化しており、かつ光透過性基材1Aと第1のハードコート層5との間および第1のハードコート層5と第2のハードコート層6の間には界面が存在しない。これにより、干渉縞の発生を十分に抑制することができる。   In this embodiment, since the chain metal oxide particles are bulky, they are difficult to sink in the second hard coat layer 6, and even if the chain metal oxide particles sink in the second hard coat layer 6. Even if it is present near the interface between the first hard coat layer 5 and the second hard coat layer 6, the chain metal oxide particles are in a chain form. The physical particles are not arranged near the interface between the first hard coat layer 5 and the second hard coat layer 6. Thereby, it can suppress that the refractive index difference of the 1st hard-coat layer 5 and the 2nd hard-coat layer 6 changes rapidly in these interface vicinity. Further, the refractive index of the first hard coat layer 5 gradually changes from the second hard coat layer 6 side toward the light transmissive substrate 1A side so as to approach the refractive index of the light transmissive substrate 1A. In addition, there are no interfaces between the light-transmitting substrate 1A and the first hard coat layer 5 and between the first hard coat layer 5 and the second hard coat layer 6. Thereby, generation | occurrence | production of an interference fringe can fully be suppressed.

本実施形態においては、帯電防止剤として鎖状金属酸化物粒子を用いているので、薬品等による脱落を抑制でき、かつ鉛筆硬度を向上させることができる。   In the present embodiment, since chain metal oxide particles are used as the antistatic agent, it is possible to suppress dropout due to chemicals and the like and to improve pencil hardness.

本実施形態においては、帯電防止ハードコート層用組成物2に、光重合性官能基を6個以上有する重量平均分子量が1000以上のウレタン(メタ)アクリレートおよび光重合性官能基を10個以上有する重量平均分子量が10000以上のポリマー(メタ)アクリレートの少なくともいずれかを含ませているので、帯電防止ハードコート層7の硬度をより向上させることができる。   In the present embodiment, the antistatic hard coat layer composition 2 has 6 or more photopolymerizable functional groups and a urethane (meth) acrylate having a weight average molecular weight of 1000 or more and 10 or more photopolymerizable functional groups. Since at least one of polymer (meth) acrylates having a weight average molecular weight of 10,000 or more is contained, the hardness of the antistatic hard coat layer 7 can be further improved.

帯電防止ハードコート層用組成物2に光重合性官能基を6個以上有する重量平均分子量が1000以上のウレタン(メタ)アクリレートを含ませた場合には、低屈折率層8に対する帯電防止ハードコート層7の密着性をより向上させることができる。   When the antistatic hard coat layer composition 2 contains a urethane (meth) acrylate having 6 or more photopolymerizable functional groups and a weight average molecular weight of 1000 or more, the antistatic hard coat for the low refractive index layer 8 The adhesion of the layer 7 can be further improved.

本実施形態によれば、浸透性溶剤により光重合性モノマーを光透過性基材1に浸透させて、帯電防止ハードコート層7の一部である第1のハードコート層5を形成しているので、帯電防止ハードコート層7と光透過性基材1Aとの密着性にも優れている。   According to the present embodiment, the first hard coat layer 5 which is a part of the antistatic hard coat layer 7 is formed by allowing the photopolymerizable monomer to penetrate into the light transmissive substrate 1 with the permeable solvent. Therefore, the adhesion between the antistatic hard coat layer 7 and the light transmissive substrate 1A is also excellent.

本実施形態によれば、帯電防止ハードコート層7の表層部に鎖状金属酸化物粒子が偏在しているので、帯電防止ハードコート層に均一に鎖状金属酸化物粒子が分散している場合よりも、光学フィルム10のカール化難くい。また、帯電防止ハードコート層7の表層部に鎖状金属酸化物粒子が偏在しているので、帯電防止ハードコート層に均一に鎖状金属酸化物粒子が分散している場合よりも、反射率が低い。   According to this embodiment, since the chain metal oxide particles are unevenly distributed in the surface layer portion of the antistatic hard coat layer 7, the chain metal oxide particles are uniformly dispersed in the antistatic hard coat layer. It is more difficult to curl the optical film 10. Further, since the chain metal oxide particles are unevenly distributed in the surface layer portion of the antistatic hard coat layer 7, the reflectance is higher than the case where the chain metal oxide particles are uniformly dispersed in the antistatic hard coat layer. Is low.

本発明を詳細に説明するために、以下に実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらの記載に限定されない。   In order to describe the present invention in detail, examples will be described below, but the present invention is not limited to these descriptions.

<帯電防止ハードコート層用組成物の調製>
下記に示す組成となるように各成分を配合して、帯電防止ハードコート層用組成物を得た。
(帯電防止ハードコート層用組成物1)
・鎖状アンチモンドープ酸化スズのアルコール分散液(鎖状金属酸化物粒子の分散液、ELCOM-V3560、日揮触媒化株式会社製):50質量部(固形分10質量部、アルコール40質量部)
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(光重合性モノマー、DPHA、日本化薬株式会社製、重量平均分子量578、6官能):45質量部
・ウレタンアクリレート(アートレジンUN3320HA、根上工業株式会社、重量平均分子量1500、6官能、官能基当量250):45質量部
・メチルエチルケトン(浸透性溶剤):140質量部
・重合開始剤(イルガキュア184、BASF社製):4質量部
<Preparation of composition for antistatic hard coat layer>
Each component was mix | blended so that it might become the composition shown below, and the composition for antistatic hard-coat layers was obtained.
(Antistatic hard coat layer composition 1)
-Alcohol dispersion of chain antimony-doped tin oxide (dispersion of chain metal oxide particles, ELCOM-V3560, manufactured by JGC Catalysts Co., Ltd.): 50 parts by mass (solid content 10 parts by mass, alcohol 40 parts by mass)
Dipentaerythritol hexaacrylate (photopolymerizable monomer, DPHA, Nippon Kayaku Co., Ltd., weight average molecular weight 578, hexafunctional): 45 parts by mass Urethane acrylate (Art Resin UN3320HA, Negami Industrial Co., Ltd., weight average molecular weight 1500) , Hexafunctional, functional group equivalent 250): 45 parts by massMethyl ethyl ketone (penetrating solvent): 140 parts by massPolymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by BASF): 4 parts by mass

(帯電防止ハードコート層用組成物2)
・鎖状アンチモンドープ酸化スズのアルコール分散液(鎖状金属酸化物粒子の分散液、ELCOM-V3560、日揮触媒化株式会社製):50質量部(固形分10質量部、アルコール40質量部)
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(光重合性モノマー、DPHA、日本化薬株式会社製、重量平均分子量578、6官能):45質量部
・ウレタンアクリレート(UV1700B、日本合成株式会社、重量平均分子量2000、10官能、官能基当量200):45質量部
・メチルエチルケトン(浸透性溶剤):140質量部
・重合開始剤(イルガキュア184、BASF社製):4質量部
(Antistatic hard coat layer composition 2)
-Alcohol dispersion of chain antimony-doped tin oxide (dispersion of chain metal oxide particles, ELCOM-V3560, manufactured by JGC Catalysts Co., Ltd.): 50 parts by mass (solid content 10 parts by mass, alcohol 40 parts by mass)
Dipentaerythritol hexaacrylate (photopolymerizable monomer, DPHA, Nippon Kayaku Co., Ltd., weight average molecular weight 578, 6 functional): 45 parts by mass Urethane acrylate (UV1700B, Nippon Gosei Co., Ltd., weight average molecular weight 2000, 10 Functionality, functional group equivalent 200): 45 parts by mass-Methyl ethyl ketone (penetrating solvent): 140 parts by mass-Polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by BASF): 4 parts by mass

(帯電防止ハードコート層用組成物3)
・鎖状アンチモンドープ酸化スズのアルコール分散液(鎖状金属酸化物粒子の分散液、ELCOM-V3560、日揮触媒化株式会社製):50質量部(固形分10質量部、アルコール40質量部)
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(光重合性モノマー、DPHA、日本化薬株式会社製、重量平均分子量578、6官能):45質量部
・ウレタンアクリレート(アートレジンUN3320HS、根上工業株式会社、重量平均分子量5000、15官能、官能基当量333):45質量部
・メチルエチルケトン(浸透性溶剤):140質量部
・重合開始剤(イルガキュア184、BASF社製):4質量部
(Antistatic hard coat layer composition 3)
-Alcohol dispersion of chain antimony-doped tin oxide (dispersion of chain metal oxide particles, ELCOM-V3560, manufactured by JGC Catalysts Co., Ltd.): 50 parts by mass (solid content 10 parts by mass, alcohol 40 parts by mass)
Dipentaerythritol hexaacrylate (photopolymerizable monomer, DPHA, Nippon Kayaku Co., Ltd., weight average molecular weight 578, 6 functional): 45 parts by mass Urethane acrylate (Art Resin UN3320HS, Negami Industrial Co., Ltd., weight average molecular weight 5000) 15 functional, functional group equivalent 333): 45 parts by mass Methyl ethyl ketone (penetrating solvent): 140 parts by mass Polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by BASF): 4 parts by mass

(帯電防止ハードコート層用組成物4)
・鎖状アンチモンドープ酸化スズのアルコール分散液(鎖状金属酸化物粒子の分散液、ELCOM-V3560、日揮触媒化株式会社製):50質量部(固形分10質量部、アルコール40質量部)
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(光重合性モノマー、DPHA、日本化薬株式会社製、重量平均分子量578、6官能):45質量部
・ポリマーアクリレートの酢酸ブチル溶解液(ビームセット371、荒川化学株式会社製、重量平均分子量40000、100官能、官能基当量400):69質量部(固形分45質量部、酢酸ブチル24質量部)
・メチルエチルケトン(浸透性溶剤):140質量部
・重合開始剤(イルガキュア184、BASF社製):4質量部
(Antistatic hard coat layer composition 4)
-Alcohol dispersion of chain antimony-doped tin oxide (dispersion of chain metal oxide particles, ELCOM-V3560, manufactured by JGC Catalysts Co., Ltd.): 50 parts by mass (solid content 10 parts by mass, alcohol 40 parts by mass)
Dipentaerythritol hexaacrylate (photopolymerizable monomer, DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., weight average molecular weight 578, hexafunctional): 45 parts by mass butyl acetate solution of polymer acrylate (Beamset 371, Arakawa Chemical Co., Ltd.) Manufactured, weight average molecular weight 40000, 100 functional, functional group equivalent 400): 69 parts by mass (solid content 45 parts by mass, butyl acetate 24 parts by mass)
-Methyl ethyl ketone (penetrating solvent): 140 parts by mass-Polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by BASF): 4 parts by mass

(帯電防止ハードコート層用組成物5)
・鎖状アンチモンドープ酸化スズのアルコール分散液(鎖状金属酸化物粒子の分散液、ELCOM-V3560、日揮触媒化株式会社製):50質量部(固形分10質量部、アルコール40質量部)
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(光重合性モノマー、DPHA、日本化薬株式会社製、重量平均分子量578、6官能):30質量部
・ポリマーアクリレートの酢酸ブチル溶解液(ビームセット371、荒川化学株式会社製、重量平均分子量40000、100官能、官能基当量400):46質量部(固形分30質量部、酢酸ブチル16質量部)
・ウレタンアクリレート(UV1700B、日本合成株式会社、重量平均分子量2000、10官能、官能基当量200):45質量部
・メチルエチルケトン(浸透性溶剤):140質量部
・重合開始剤(イルガキュア184、BASF社製):4質量部
(Antistatic hard coat layer composition 5)
-Alcohol dispersion of chain antimony-doped tin oxide (dispersion of chain metal oxide particles, ELCOM-V3560, manufactured by JGC Catalysts Co., Ltd.): 50 parts by mass (solid content 10 parts by mass, alcohol 40 parts by mass)
・ Dipentaerythritol hexaacrylate (photopolymerizable monomer, DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., weight average molecular weight 578, hexafunctional): 30 parts by mass ・ Butyl acetate solution of polymer acrylate (Beamset 371, Arakawa Chemical Co., Ltd.) Manufactured, weight average molecular weight 40000, 100 functional, functional group equivalent 400): 46 parts by mass (solid content 30 parts by mass, butyl acetate 16 parts by mass)
・ Urethane acrylate (UV1700B, Nihon Gosei Co., Ltd., weight average molecular weight 2000, 10 functional, functional group equivalent 200): 45 parts by mass ・ Methyl ethyl ketone (penetrating solvent): 140 parts by mass ・ Polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by BASF ): 4 parts by mass

(帯電防止ハードコート層用組成物6)
鎖状アンチモンドープ酸化スズのアルコール分散液(鎖状金属酸化物粒子の分散液、ELCOM-V3560、日揮触媒化株式会社製):50質量部(固形分10質量部、アルコール40質量部)
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(光重合性モノマー、DPHA、日本化薬株式会社製、重量平均分子量578、6官能):45質量部
・ウレタンアクリレート(アートレジンUN333、根上工業株式会社、重量平均分子量5000、2官能、官能基当量2500):45質量部
・メチルエチルケトン(浸透性溶剤):140質量部
・重合開始剤(イルガキュア184、BASF社製):4質量部
(Antistatic hard coat layer composition 6)
Alcohol dispersion of chain antimony-doped tin oxide (dispersion of chain metal oxide particles, ELCOM-V3560, manufactured by JGC Catalysts Co., Ltd.): 50 parts by mass (solid content 10 parts by mass, alcohol 40 parts by mass)
Dipentaerythritol hexaacrylate (photopolymerizable monomer, DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., weight average molecular weight 578, 6 functional): 45 parts by mass Urethane acrylate (Art Resin UN333, Negami Industrial Co., Ltd., weight average molecular weight 5000) Bifunctional, functional group equivalent 2500): 45 parts by mass Methyl ethyl ketone (penetrating solvent): 140 parts by mass Polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by BASF): 4 parts by mass

(帯電防止ハードコート層用組成物7)
・鎖状アンチモンドープ酸化スズのアルコール分散液(鎖状金属酸化物粒子の分散液、ELCOM-V3560、日揮触媒化株式会社製):50質量部(固形分10質量部、アルコール40質量部)
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(光重合性モノマー、DPHA、日本化薬株式会社製、重量平均分子量578、6官能):45質量部
・ポリマーアクリレート(アートレジンUN7700、根上工業株式会社、重量平均分子量20000、2官能、官能基当量10000):45質量部
・メチルエチルケトン(浸透性溶剤):140質量部
・重合開始剤(イルガキュア184、BASF社製):4質量部
(Antistatic hard coat layer composition 7)
-Alcohol dispersion of chain antimony-doped tin oxide (dispersion of chain metal oxide particles, ELCOM-V3560, manufactured by JGC Catalysts Co., Ltd.): 50 parts by mass (solid content 10 parts by mass, alcohol 40 parts by mass)
Dipentaerythritol hexaacrylate (photopolymerizable monomer, DPHA, Nippon Kayaku Co., Ltd., weight average molecular weight 578, 6 functional): 45 parts by mass Polymer acrylate (Art Resin UN7700, Negami Industrial Co., Ltd., weight average molecular weight 20000) Bifunctional, functional group equivalent 10,000): 45 parts by mass-Methyl ethyl ketone (penetrating solvent): 140 parts by mass-Polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by BASF): 4 parts by mass

(帯電防止ハードコート層用組成物8)
・鎖状アンチモンドープ酸化スズのアルコール分散液(鎖状金属酸化物粒子の分散液、ELCOM-V3560、日揮触媒化株式会社製):200質量部(固形分40質量部、アルコール160質量部)
・ペンタエリスリトールトリアクリレート(光重合性モノマー、PET30、日本化薬株式会社製、重量平均分子量298、3官能):30質量部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(光重合性モノマー、DPHA、日本化薬株式会社製、重量平均分子量578、6官能):30質量部
・イソプロピルアルコール(非浸透性溶剤):25質量部
・重合開始剤(イルガキュア184、BASF社製):4質量部
(Antistatic hard coat layer composition 8)
-Alcohol dispersion of chain antimony-doped tin oxide (dispersion of chain metal oxide particles, ELCOM-V3560, manufactured by JGC Catalysts Co., Ltd.): 200 parts by mass (solid content 40 parts by mass, alcohol 160 parts by mass)
Pentaerythritol triacrylate (photopolymerizable monomer, PET30, Nippon Kayaku Co., Ltd., weight average molecular weight 298, trifunctional): 30 parts by mass Dipentaerythritol hexaacrylate (photopolymerizable monomer, DPHA, Nippon Kayaku Co., Ltd.) Made by company, weight average molecular weight 578, 6 functional): 30 parts by mass. Isopropyl alcohol (non-permeable solvent): 25 parts by mass. Polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by BASF): 4 parts by mass.

(帯電防止ハードコート層用組成物9)
・鎖状アンチモンドープ酸化スズのアルコール分散液(鎖状金属酸化物粒子の分散液、ELCOM-V3560、日揮触媒化株式会社製):50質量部(固形分10質量部、アルコール45質量部)
・ペンタエリスリトールトリアクリレート(光重合性モノマー、PET30、日本化薬株式会社製、重量平均分子量298、3官能):45質量部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(光重合性モノマー、DPHA、日本化薬株式会社製、重量平均分子量578、6官能):30質量部
・イソプロピルアルコール(非浸透性溶剤):140質量部
重合開始剤(イルガキュア184、BASF社製):4質量部
(Antistatic hard coat layer composition 9)
-Alcohol dispersion of chain antimony-doped tin oxide (dispersion of chain metal oxide particles, ELCOM-V3560, manufactured by JGC Catalysts Co., Ltd.): 50 parts by mass (solid content 10 parts by mass, alcohol 45 parts by mass)
Pentaerythritol triacrylate (photopolymerizable monomer, PET30, Nippon Kayaku Co., Ltd., weight average molecular weight 298, trifunctional): 45 parts by mass Dipentaerythritol hexaacrylate (photopolymerizable monomer, DPHA, Nippon Kayaku Co., Ltd.) Made by company, weight average molecular weight 578, hexafunctional): 30 parts by mass-Isopropyl alcohol (non-permeable solvent): 140 parts by mass Polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by BASF): 4 parts by mass

(帯電防止ハードコート層用組成物10)
・鎖状アンチモンドープ酸化スズのアルコール分散液(鎖状金属酸化物粒子の分散液、ELCOM-V3560、日揮触媒化株式会社製):200質量部(固形分40質量部、アルコール160質量部)
・ペンタエリスリトールトリアクリレート(光重合性モノマー、PET30、日本化薬株式会社製、重量平均分子量298、3官能):30質量部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(光重合性モノマー、DPHA、日本化薬株式会社製、重量平均分子量578、6官能):30質量部
・メチルエチルケトン(浸透性溶剤):200質量部
・重合開始剤(イルガキュア184、BASF社製):4質量部
(Composition 10 for antistatic hard coat layer)
-Alcohol dispersion of chain antimony-doped tin oxide (dispersion of chain metal oxide particles, ELCOM-V3560, manufactured by JGC Catalysts Co., Ltd.): 200 parts by mass (solid content 40 parts by mass, alcohol 160 parts by mass)
Pentaerythritol triacrylate (photopolymerizable monomer, PET30, Nippon Kayaku Co., Ltd., weight average molecular weight 298, trifunctional): 30 parts by mass Dipentaerythritol hexaacrylate (photopolymerizable monomer, DPHA, Nippon Kayaku Co., Ltd.) Made by company, weight average molecular weight 578, hexafunctional): 30 parts by mass / methyl ethyl ketone (penetrating solvent): 200 parts by mass / polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by BASF): 4 parts by mass

(帯電防止ハードコート層用組成物11)
・鎖状アンチモンドープ酸化スズのアルコール分散液(鎖状金属酸化物粒子の分散液、ELCOM-V3560、日揮触媒化株式会社製):5質量部(固形分1質量部、アルコール9質量部)
・ペンタエリスリトールトリアクリレート(光重合性モノマー、PET30、日本化薬株式会社製、重量平均分子量298、3官能):49質量部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(光重合性モノマー、DPHA、日本化薬株式会社製、重量平均分子量578、6官能):49質量部
・メチルエチルケトン(浸透性溶剤):172質量部
・重合開始剤(イルガキュア184、BASF社製):4質量部
(Composition 11 for antistatic hard coat layer)
-Alcohol dispersion of chain antimony-doped tin oxide (dispersion of chain metal oxide particles, ELCOM-V3560, manufactured by JGC Catalysts Co., Ltd.): 5 parts by mass (solid content 1 part by mass, alcohol 9 parts by mass)
Pentaerythritol triacrylate (photopolymerizable monomer, PET30, Nippon Kayaku Co., Ltd., weight average molecular weight 298, trifunctional): 49 parts by mass Dipentaerythritol hexaacrylate (photopolymerizable monomer, DPHA, Nippon Kayaku Co., Ltd.) 49 parts by mass, methyl ethyl ketone (permeable solvent): 172 parts by mass, polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by BASF): 4 parts by mass

(帯電防止ハードコート層用組成物12)
・非鎖状アンチモンドープ酸化スズのメチルイソブチルケトン分散液(非鎖状金属酸化物粒子の分散液、EPT5DL2MIBK、三菱マテリアル電子化成株式会社製):50質量部(固形分10質量部、メチルイソブチルケトン40質量部)
・ペンタエリスリトールトリアクリレート(光重合性モノマー、PET30、日本化薬株式会社製、重量平均分子量298、3官能):30質量部
・ウレタンアクリレート(UV1700B、日本合成株式会社、重量平均分子量2000、10官能、官能基当量200):30質量部
・イソプロピルアルコール(非浸透性溶剤):25質量部
・重合開始剤(イルガキュア184、BASF社製):4質量部
(Composition 12 for antistatic hard coat layer)
-Non-chain antimony-doped tin oxide methyl isobutyl ketone dispersion (dispersion of non-chain metal oxide particles, EPT5DL2MIBK, manufactured by Mitsubishi Materials Electronics Chemical Co., Ltd.): 50 parts by mass (solid content 10 parts by mass, methyl isobutyl ketone) 40 parts by mass)
Pentaerythritol triacrylate (photopolymerizable monomer, PET30, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., weight average molecular weight 298, trifunctional): 30 parts by mass Urethane acrylate (UV1700B, Nippon Gosei Co., Ltd., weight average molecular weight 2000, 10 functional) , Functional group equivalent 200): 30 parts by mass-Isopropyl alcohol (non-permeable solvent): 25 parts by mass-Polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by BASF): 4 parts by mass

(帯電防止ハードコート層用組成物13)
・非鎖状アンチモンドープ酸化スズのメチルイソブチルケトン分散液(非鎖状金属酸化物粒子の分散液、EPT5DL2MIBK、三菱マテリアル電子化成株式会社製):200質量部(固形分40質量部、メチルイソブチルケトン160質量部)
・ペンタエリスリトールトリアクリレート(光重合性モノマー、PET30、日本化薬株式会社製、重量平均分子量298、3官能):30質量部
・ウレタンアクリレート(UV1700B、日本合成株式会社、重量平均分子量2000、10官能、官能基当量200):30質量部
・イソプロピルアルコール(非浸透性溶剤):25質量部
・重合開始剤(イルガキュア184、BASF社製):4質量部
(Antistatic hard coat layer composition 13)
-Non-chain antimony-doped tin oxide methyl isobutyl ketone dispersion (dispersion of non-chain metal oxide particles, EPT5DL2MIBK, manufactured by Mitsubishi Materials Electronics Chemical Co., Ltd.): 200 parts by mass (solid content 40 parts by mass, methyl isobutyl ketone) 160 parts by mass)
Pentaerythritol triacrylate (photopolymerizable monomer, PET30, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., weight average molecular weight 298, trifunctional): 30 parts by mass Urethane acrylate (UV1700B, Nippon Gosei Co., Ltd., weight average molecular weight 2000, 10 functional) , Functional group equivalent 200): 30 parts by mass-Isopropyl alcohol (non-permeable solvent): 25 parts by mass-Polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by BASF): 4 parts by mass

<低屈折率層用組成物の調製>
下記に示す組成となるように各成分を配合して、ハードコート層用組成物を得た。
(低屈折率層用組成物)
・中空状処理シリカ微粒子のメチルイソブチルケトン分散液(日揮触媒化株式会社製、平均粒径60nm):60質量部(固形分20質量%)
・ペンタエリスリトールトリアクリレート(PET30、日本化薬株式会社製、3官能):10質量部
・反応型シリコーン(X22164E、信越化学株式会社製):0.6質量部
・メチルイソブチルケトン:350質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート:161質量部
・重合開始剤(イルガキュア127、BASF社製):0.4質量部
<Preparation of composition for low refractive index layer>
Each component was mix | blended so that it might become the composition shown below, and the composition for hard-coat layers was obtained.
(Composition for low refractive index layer)
・ Methyl isobutyl ketone dispersion of hollow treated silica fine particles (manufactured by JGC Catalysts Co., Ltd., average particle size 60 nm): 60 parts by mass (solid content 20% by mass)
Pentaerythritol triacrylate (PET30, Nippon Kayaku Co., Ltd., trifunctional): 10 parts by massReactive silicone (X22164E, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.): 0.6 parts by massMethyl isobutyl ketone: 350 parts by mass Propylene glycol monomethyl ether acetate: 161 parts by mass-polymerization initiator (Irgacure 127, manufactured by BASF): 0.4 parts by mass

<実施例1>
厚さ40μmのトリアセチルセルロース基材(KC4UY、コニカミノルタ株式会社製)の一方の表面に、ロールコート法を用いて帯電防止ハードコート層用組成物1を塗布して塗膜を形成した。その塗膜を70℃で60秒間乾燥させた後、紫外線照射装置を用いて、照射量100mJ/cmで紫外線照射を行い、塗膜を硬化させた。これにより、トリアセチルセルロースと、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの重合体とを含む乾燥膜厚4μmの第1のハードコート層と、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートおよびウレタンアクリレートの重合体と鎖状アンチモンドープ酸化スズとを含む乾燥膜厚1.5μmの第2のハードコート層とから構成された帯電防止ハードコート層を形成した。さらに、第2のハードコート層の表面に低屈折率層用組成物を塗布して塗膜を形成した。その塗膜を70℃で60秒間乾燥させた後、紫外線照射装置を用いて、照射量150mJ/cmで紫外線照射を行い、塗膜を硬化させて、低屈折率層を得た。これにより、トリアセチルセルロース基材上に帯電防止ハードコート層および低屈折率層がこの順で形成された光学フィルムが作製された。
<Example 1>
On one surface of a 40 μm thick triacetylcellulose base material (KC4UY, manufactured by Konica Minolta Co., Ltd.), the antistatic hard coat layer composition 1 was applied using a roll coating method to form a coating film. The coating film was dried at 70 ° C. for 60 seconds, and then irradiated with ultraviolet rays at an irradiation amount of 100 mJ / cm 2 using an ultraviolet irradiation device to cure the coating film. Thus, a first hard coat layer having a dry film thickness of 4 μm containing triacetyl cellulose and a polymer of dipentaerythritol hexaacrylate, a polymer of dipentaerythritol hexaacrylate and urethane acrylate, and chain antimony-doped tin oxide An antistatic hard coat layer comprising a second hard coat layer having a dry film thickness of 1.5 μm containing Furthermore, the low refractive index layer composition was applied to the surface of the second hard coat layer to form a coating film. The coating film was dried at 70 ° C. for 60 seconds, and then irradiated with ultraviolet rays at an irradiation amount of 150 mJ / cm 2 using an ultraviolet irradiation device to cure the coating film to obtain a low refractive index layer. As a result, an optical film in which an antistatic hard coat layer and a low refractive index layer were formed in this order on a triacetyl cellulose substrate was produced.

<実施例2〜5および比較例1〜8>
実施例2、3および比較例1〜8においては、帯電防止ハードコート層用組成物として表1に示すものを用いた以外は、実施例1と同様の方法により光学フィルムを作製した。
<Examples 2-5 and Comparative Examples 1-8>
In Examples 2 and 3 and Comparative Examples 1 to 8, optical films were produced in the same manner as in Example 1 except that the antistatic hard coat layer compositions shown in Table 1 were used.

<光学フィルムの断面観察>
上記実施例1において作製された光学フィルムの断面を、走査電子顕微鏡(SEM)(S−4800、日立協和エンジニアリング株式会社製)の走査透過電子顕微鏡(STEM)機能を用いて撮影し、得られたSTEM断面写真を観察した。図6は走査電子顕微鏡の走査透過電子顕微鏡機能を用いて撮影した実施例1に係る光学フィルムの断面写真である。図7は走査電子顕微鏡の走査透過電子顕微鏡機能を用いて撮影した実施例1に係る光学フィルムの表面付近の断面写真である。
<Section observation of optical film>
The cross section of the optical film produced in Example 1 was photographed using a scanning transmission electron microscope (STEM) function of a scanning electron microscope (SEM) (S-4800, manufactured by Hitachi Kyowa Engineering Co., Ltd.). A STEM cross-sectional photograph was observed. FIG. 6 is a cross-sectional photograph of the optical film according to Example 1 taken using the scanning transmission electron microscope function of the scanning electron microscope. FIG. 7 is a cross-sectional photograph of the vicinity of the surface of the optical film of Example 1 taken using the scanning transmission electron microscope function of the scanning electron microscope.

図6および図7の写真により、トリアセチルセルロール基材上に第1のハードコート層が存在し、第1のハードコート層上に鎖状金属酸化物粒子を含む第2のハードコート層が存在し、第2のハードコート層上に低屈折率層が存在していることが確認できた。また、図6および図7の写真により、トリアセチルセルロース基材と第1のハードコート層との間および第1のハードコート層と第2のハードコート層との間に界面がないことが確認できた。   6 and 7, the first hard coat layer is present on the triacetyl cellulose substrate, and the second hard coat layer containing chain metal oxide particles is present on the first hard coat layer. It was confirmed that a low refractive index layer was present on the second hard coat layer. 6 and 7 confirm that there is no interface between the triacetyl cellulose substrate and the first hard coat layer and between the first hard coat layer and the second hard coat layer. did it.

<光学フィルムの評価>
上記実施例および比較例において作製された光学フィルムについて、それぞれ以下に示す試験を行って、評価した。
<Evaluation of optical film>
The optical films produced in the above examples and comparative examples were evaluated by performing the following tests.

(表面抵抗値測定)
上記実施例および比較例で作製したそれぞれの光学フィルムについて、表面抵抗値測定器(ハイレスターHT−210、三菱油化株式会社製)を用いて表面抵抗値を測定した。
(Surface resistance measurement)
About each optical film produced by the said Example and comparative example, the surface resistance value was measured using the surface resistance value measuring device (High Lester HT-210, Mitsubishi Oil Chemical Co., Ltd. product).

(全光線透過率測定)
上記実施例および比較例で作製したそれぞれの光学フィルムについて、ヘイズメーター(HM−150、村上色彩技術研究所製)を用いて、JIS K−7361に従って全光線透過率を測定した。
(Total light transmittance measurement)
About each optical film produced by the said Example and comparative example, the total light transmittance was measured according to JISK-7361 using the haze meter (HM-150, Murakami Color Research Laboratory make).

(ヘイズ値測定)
上記実施例および比較例で作製したそれぞれの光学フィルムについて、ヘイズメーター(HM−150、村上色彩技術研究所製)を用いて、JIS K−7361に従ってヘイズ値を測定した。
(Haze value measurement)
About each optical film produced by the said Example and comparative example, the haze value was measured according to JISK-7361 using the haze meter (HM-150, Murakami Color Research Laboratory make).

(反射Y値測定)
上記実施例および比較例で作製したそれぞれの光学フィルムについて、分光光度計(MCP3100、島津製作所株式会社製)を用いて、反射Y値を測定した。なお、反射Y値を求めるための5°正反射率の測定においては、光学フィルムの裏面反射を防止するため、測定膜面とは逆側に、黒いテープ(寺岡製作所製)を貼った。
(Reflection Y value measurement)
About each optical film produced by the said Example and comparative example, the reflection Y value was measured using the spectrophotometer (MCP3100, Shimadzu Corporation make). In the measurement of 5 ° regular reflectance for obtaining the reflection Y value, a black tape (manufactured by Teraoka Seisakusho) was pasted on the side opposite to the measurement film surface in order to prevent back reflection of the optical film.

(鉛筆硬度試験)
上記実施例および比較例で作製したそれぞれの光学フィルムの低屈折率層の表面に対して、JIS K5600−5−4(1999)に規定する鉛筆硬度試験(4.9N荷重)を行った。評価基準は以下の通りとした。
○:傷なし/測定回数=4/5、5/5
×:傷なし/測定回数=0/5、1/5、2/5、3/5
(Pencil hardness test)
The pencil hardness test (4.9 N load) prescribed | regulated to JISK5600-5-4 (1999) was done with respect to the surface of the low-refractive-index layer of each optical film produced by the said Example and comparative example. The evaluation criteria were as follows.
○: No scratch / number of measurements = 4/5, 5/5
X: No scratch / number of measurements = 0/5, 1/5, 2/5, 3/5

(干渉縞評価)
1.目視評価
上記実施例および比較例で作製したそれぞれの光学フィルムのトリアセチルセルロース基材における帯電防止ハードコート層が形成されている面とは反対側の面に黒いテープを貼り、3波長蛍光ランプ下で目視して、干渉縞の有無を評価した。評価基準は以下の通りとした。
○:干渉縞が確認されなかった。
×:干渉縞が確認された。
(Interference fringe evaluation)
1. Visual evaluation A black tape was applied to the surface of the triacetylcellulose base material of each optical film produced in the above examples and comparative examples on the surface opposite to the surface on which the antistatic hard coat layer was formed. The presence or absence of interference fringes was evaluated visually. The evaluation criteria were as follows.
○: No interference fringes were confirmed.
X: Interference fringes were confirmed.

2.分光反射率評価
上記実施例および比較例で作製したそれぞれの光学フィルムについて、分光光度計(MCP3100、島津製作所株式会社製)を用いて、5°正反射率を測定し、分光反射率曲線を得た。そして、分光反射曲線におけるリップル(極大極小の波)の有無を調べた。なお、5°正反射率の測定においては、光学フィルムの裏面反射を防止するため、測定膜面とは逆側に、黒いテープ(寺岡製作所製)を貼った。評価基準は以下の通りとした。
○:リップルが確認されない、またはリップルが確認されたが非常に少なかった。
×:リップルが多数確認された。
2. Spectral reflectance evaluation About each optical film produced by the said Example and comparative example, using a spectrophotometer (MCP3100, Shimadzu Corp. make), 5 degree regular reflectance was measured and the spectral reflectance curve was obtained. It was. Then, the presence or absence of ripples (maximum and minimum waves) in the spectral reflection curve was examined. In the measurement of 5 ° regular reflectance, a black tape (manufactured by Teraoka Seisakusho) was pasted on the side opposite to the measurement film surface in order to prevent back reflection of the optical film. The evaluation criteria were as follows.
○: Ripple was not confirmed or ripple was confirmed but very little.
X: Many ripples were confirmed.

(密着性評価)
上記実施例および比較例で作製したそれぞれの光学フィルムについて、密着性評価として、碁盤目密着試験を行い、密着率を算出した。碁盤目密着試験は、以下のようにして行われた。光学フィルムの低屈折率層側の表面に1mm角で合計100目の碁盤目を入れ、ニチバン株式会社製工業用24mmセロテープ(登録商標)を用いて5回連続剥離試験を行い、剥がれずに残ったマス目の割合(密着率)を求めた。なお、密着率は、以下の式に基づいて算出された。
密着率(%)=(剥がれなかったマス目の数/合計のマス目数100)×100
(Adhesion evaluation)
About each optical film produced by the said Example and comparative example, the cross-cut adhesion test was done as adhesive evaluation, and the adhesion rate was computed. The cross-cut adhesion test was performed as follows. A 100 mm grid with a 1 mm square is put on the surface on the low refractive index layer side of the optical film, and a continuous peel test is performed 5 times using a 24 mm cello tape (registered trademark) manufactured by Nichiban Co., Ltd. The proportion of the squares (adhesion rate) was determined. The adhesion rate was calculated based on the following formula.
Adhesion rate (%) = (number of cells not peeled / total number of cells 100) × 100

(耐スチールウール(SW)摩耗性評価)
上記実施例および比較例で作製したそれぞれの光学フィルムを♯0000のスチールウール(商品名「BON STAR」、日本スチールウール株式会社製)を用い、荷重300g/cmを加えながら、速度100mm/秒で10往復擦った後、トリアセチルセルロース基材における帯電防止ハードコート層が形成されている面とは反対側の面に黒いテープを貼り、傷の有無を3波長蛍光ランプ下での目視により評価した。評価基準は以下の通りとした。
○:傷が確認されなかった。
×:傷が確認された。
(Evaluation of wear resistance of steel wool (SW))
Each optical film produced in the above-mentioned examples and comparative examples was # 0000 steel wool (trade name “BON STAR”, manufactured by Nippon Steel Wool Co., Ltd.), and a load of 300 g / cm 2 was applied and a speed of 100 mm / sec. After rubbing 10 times, a black tape is applied to the surface of the triacetyl cellulose substrate opposite to the surface on which the antistatic hard coat layer is formed, and the presence or absence of scratches is visually evaluated under a three-wavelength fluorescent lamp. did. The evaluation criteria were as follows.
○: No scratch was confirmed.
X: Scratches were confirmed.

評価結果を表1に示す。なお、表1に記載されている「鎖状金属酸化物粒子の含有量(質量%)」は、帯電防止ハードコート層用組成物の全固形分に対する鎖状金属酸化物粒子の含有量を意味するものとする。
The evaluation results are shown in Table 1. In addition, “content of chain metal oxide particles (% by mass)” described in Table 1 means the content of chain metal oxide particles with respect to the total solid content of the composition for antistatic hard coat layer. It shall be.

表1に示されるように、実施例1〜5の光学フィルムは、表面抵抗値、全光線透過率、ヘイズ値、反射Y値、鉛筆硬度、干渉縞防止性、密着性、耐SW摩耗性の全てを満足させる結果が得られた。特に干渉縞防止性に関しては、従来からハードコート層と光透明基材との界面で生じる干渉縞は、ハードコート組成物中に浸透性溶剤を適切量添加することで防止できることが知られているが、帯電防止ハードコート層の場合、この浸透性溶剤だけでは不十分であった(比較例の結果参照)。これは、帯電防止性微粒子等の帯電防止材料を添加した場合、帯電防止材料は浸透性溶剤とともに光透過性基材中に、干渉縞防止可能なレベルで浸透することが出来ず、そのために帯電防止材料起因の新たな界面が帯電防止ハードコート層と光透過性基材の間に生じて干渉縞になっていたからであると考えられる。これに対し、本発明においては、鎖状金属酸化物粒子を帯電防止材料に用いているため、このような界面が生じないと考えられる。このため、実施例においては、良好な干渉縞防止性が得られている。   As shown in Table 1, the optical films of Examples 1 to 5 have a surface resistance value, total light transmittance, haze value, reflection Y value, pencil hardness, interference fringe resistance, adhesion, and SW wear resistance. The results satisfying all were obtained. In particular, regarding interference fringe prevention, it has been known that interference fringes generated at the interface between the hard coat layer and the light transparent substrate can be prevented by adding an appropriate amount of a permeable solvent to the hard coat composition. However, in the case of the antistatic hard coat layer, this permeable solvent alone was insufficient (see the result of the comparative example). This is because when an antistatic material such as antistatic fine particles is added, the antistatic material cannot penetrate into the light-transmitting substrate together with the penetrating solvent at a level capable of preventing interference fringes. This is considered to be because a new interface caused by the prevention material was generated between the antistatic hard coat layer and the light-transmitting substrate to form interference fringes. In contrast, in the present invention, since chain metal oxide particles are used for the antistatic material, it is considered that such an interface does not occur. For this reason, in the embodiments, good interference fringe prevention properties are obtained.

一方、比較例1〜8の光学フィルムは、表面抵抗値、全光線透過率、ヘイズ値、反射Y値、鉛筆硬度、干渉縞防止性、密着性、耐SW摩耗性の全てを満足させる結果は得られなかった。比較例1、2は、ウレタン(メタ)アクリレートやポリマー(メタ)アクリレートの官能基当量が大きすぎるため、また比較例3、5は浸透性溶剤を使用しておらず、比較例6はウレタン(メタ)アクリレートやポリマー(メタ)アクリレートを使用していないために、上記性能のいずれかを満足できなかったと考えられる。   On the other hand, the optical films of Comparative Examples 1 to 8 satisfy all of the surface resistance value, total light transmittance, haze value, reflection Y value, pencil hardness, interference fringe prevention property, adhesion, and SW wear resistance. It was not obtained. In Comparative Examples 1 and 2, since the functional group equivalent of urethane (meth) acrylate or polymer (meth) acrylate is too large, Comparative Examples 3 and 5 do not use a permeable solvent, and Comparative Example 6 uses urethane ( Since no (meth) acrylate or polymer (meth) acrylate is used, it is considered that either of the above performances could not be satisfied.

比較例7における表面抵抗値の結果が「over」となっているのは、比較例7に係る光学フィルムにおいては、非鎖状アンチモンドープ酸化スズ粒子のバインダ成分に対する量が少ないために、バインダ成分に均一に分散することにより、この粒子同士の間隔が広くなり、導電パスが形成されていないためであると考えられる。また、比較例7における干渉縞防止性の目視評価の結果が「○」となっているのは、比較例7に係る光学フィルムにおいては、非鎖状アンチモンドープ酸化スズ粒子がバインダ成分の量に対して均一分散性が高く保てる程度の量で添加されているので、この粒子の比重がバインダ成分よりも高いにも関わらず第1のハードコート層側への沈み込みがほぼなくなるため、第1のハードコート層と第2のハードコート層との屈折率差の変化が小さくなることに起因すると考えられる。しかし、帯電防止ハードコート層全体としての屈折率は比較例6と比較すると大きいため、比較例7の3波長蛍光ランプの目視評価における「○」は、製品として使用できるレベルであるが、比較例6の「○」と比較すると、レベル的に悪い。このことは、比較例7における干渉縞防止性の分光反射率評価の結果が「×」となっていることに表れており、干渉縞防止性としてやはり不十分であった。   The result of the surface resistance value in Comparative Example 7 is “over” in the optical film according to Comparative Example 7 because the amount of the non-chain antimony-doped tin oxide particles is small relative to the binder component. It is considered that this is because the distance between the particles is widened and the conductive path is not formed. Moreover, the result of the visual evaluation of the interference fringe prevention property in Comparative Example 7 is “◯”. In the optical film according to Comparative Example 7, the non-chain antimony-doped tin oxide particles are included in the amount of the binder component. On the other hand, since it is added in such an amount that the uniform dispersibility can be kept high, subsidence to the first hard coat layer side is almost eliminated although the specific gravity of the particles is higher than that of the binder component. This is thought to be due to the small change in the refractive index difference between the hard coat layer and the second hard coat layer. However, since the refractive index of the whole antistatic hard coat layer is larger than that of Comparative Example 6, “◯” in the visual evaluation of the three-wavelength fluorescent lamp of Comparative Example 7 is a level that can be used as a product. Compared with 6 “◯”, the level is bad. This shows that the result of the spectral reflectance evaluation for interference fringe prevention in Comparative Example 7 is “x”, which is also insufficient as interference fringe prevention.

また、比較例8における表面抵抗値の結果が9×10となっているのは、比較例8に係る光学フィルムにおいては、非鎖状アンチモンドープ酸化スズ粒子の量が多いので、比較例7とは反対にこの粒子同士の間隔が密であり、十分な導電パスが形成されためであると考えられる。また、比較例8における干渉縞防止性の目視評価および分光反射率評価の結果が「×」となっているのは、比較例8に係る光学フィルムにおいては、多量の非鎖状アンチモンドープ酸化スズ粒子が存在することによって帯電防止ハードコート層の屈折率が高くなっているだけでなく、この粒子の比重が大きいため、第1のハードコート層側へ沈み込んでしまい、第1のハードコート層と第2のハードコート層との界面で屈折率差が大きく変化したためであると考えられる。 Moreover, the result of the surface resistance value in Comparative Example 8 is 9 × 10 9 because the amount of non-chain antimony-doped tin oxide particles in the optical film according to Comparative Example 8 is large. On the contrary, it is considered that this is because the interval between the particles is close and a sufficient conductive path is formed. Moreover, in the optical film according to Comparative Example 8, a large amount of non-chain antimony-doped tin oxide indicates that the results of visual evaluation and spectral reflectance evaluation of interference fringe prevention in Comparative Example 8 are “x”. The presence of the particles not only increases the refractive index of the antistatic hard coat layer, but also because the specific gravity of the particles is large, the particles sink into the first hard coat layer side, and the first hard coat layer This is probably because the difference in refractive index greatly changed at the interface between the first hard coat layer and the second hard coat layer.

1、1A…光透過性基材
2…帯電防止ハードコート層用光硬化性樹脂組成物
3…混合層
4…鎖状金属酸化物粒子含有層
5…第1のハードコート層
6…第2のハードコート層
7…帯電防止ハードコート層
8…低屈折率層
10…光学フィルム
20…偏光板
21…偏光素子
30…画像表示装置
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 1A ... Light transmissive base material 2 ... Photocurable resin composition 3 for antistatic hard coat layer ... Mixed layer 4 ... Chain metal oxide particle content layer 5 ... First hard coat layer 6 ... Second Hard coat layer 7 ... Antistatic hard coat layer 8 ... Low refractive index layer 10 ... Optical film 20 ... Polarizing plate 21 ... Polarizing element 30 ... Image display device

Claims (12)

光透過性基材の表面に、鎖状に連結した2個以上の導電性金属酸化物粒子からなる鎖状金属酸化物粒子と、光重合性モノマーと、光重合性官能基を6個以上有する重量平均分子量が1000以上のウレタン(メタ)アクリレートおよび光重合性官能基を10個以上有する重量平均分子量が10000以上のポリマー(メタ)アクリレートの少なくともいずれかと、前記光透過性基材に対して浸透性を有する浸透性溶剤とを含む帯電防止ハードコート層用光硬化性樹脂組成物を塗布し、乾燥させて、前記光透過性基材の上部に前記光透過性基材の主成分と前記光重合性モノマーとが混ざり合った混合層を形成するとともに、前記混合層上に前記鎖状金属酸化物粒子と前記光重合性モノマーと前記ウレタン(メタ)アクリレートおよび前記ポリマー(メタ)アクリレートの少なくともいずれかとを含む鎖状金属酸化物粒子含有層を形成する工程と、
前記混合層および前記鎖状金属酸化物粒子含有層を光照射により硬化させて、前記混合層の硬化物である第1のハードコート層と、前記鎖状金属酸化物粒子含有層の硬化物であり、かつ前記第1のハードコート層上に形成された第2のハードコート層とからなる帯電防止ハードコート層を形成する工程とを備え、
前記帯電防止ハードコート層用光硬化性樹脂組成物の全固形分に対する前記鎖状金属酸化物粒子の含有量が、2〜20質量%であることを特徴とする、光学フィルムの製造方法。
The surface of the light-transmitting substrate has at least six chain-shaped metal oxide particles composed of two or more conductive metal oxide particles linked in a chain, a photopolymerizable monomer, and a photopolymerizable functional group. Penetrating into the light transmissive substrate with at least one of urethane (meth) acrylate having a weight average molecular weight of 1000 or more and polymer (meth) acrylate having a weight average molecular weight of 10,000 or more having 10 or more photopolymerizable functional groups A photocurable resin composition for an antistatic hard coat layer containing a penetrating solvent having a property is applied and dried, and the main component of the light-transmitting substrate and the light are formed on the light-transmitting substrate. A mixed layer in which a polymerizable monomer is mixed is formed, and the chain metal oxide particles, the photopolymerizable monomer, the urethane (meth) acrylate, and the polymer are formed on the mixed layer. (Meth) forming a chain-like metal oxide particles-containing layer containing at least any of acrylate,
The mixed layer and the chain metal oxide particle-containing layer are cured by light irradiation, and a first hard coat layer that is a cured product of the mixed layer and a cured product of the chain metal oxide particle-containing layer And a step of forming an antistatic hard coat layer comprising a second hard coat layer formed on the first hard coat layer,
Content of the said chain | strand-shaped metal oxide particle with respect to the total solid of the said photocurable resin composition for antistatic hard-coat layers is 2-20 mass%, The manufacturing method of the optical film characterized by the above-mentioned.
前記ウレタン(メタ)アクリレートの官能基当量および前記ポリマー(メタ)アクリレートの官能基当量が150以上500以下である、請求項1に記載の光学フィルムの製造方法。   The manufacturing method of the optical film of Claim 1 whose functional group equivalent of the said urethane (meth) acrylate and functional group equivalent of the said polymer (meth) acrylate are 150-500. 前記鎖状金属酸化物粒子が、2〜50個鎖状に連結した前記導電性金属酸化物粒子からなる、請求項1または2に記載の光学フィルムの製造方法。   The manufacturing method of the optical film of Claim 1 or 2 which the said chain metal oxide particle consists of the said electroconductive metal oxide particle connected in the shape of 2-50 pieces. 前記導電性金属酸化物粒子が、アンチモンドープ酸化スズ、リンドープ酸化スズ、スズドープ酸化インジウム、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、ZnO、CeO、Sb、SnO、In、およびAlからなる群から選択される金属酸化物の粒子である、請求項1ないし3のいずれか一項に記載の光学フィルムの製造方法。 The conductive metal oxide particles are antimony-doped tin oxide, phosphorus-doped tin oxide, tin-doped indium oxide, aluminum-doped zinc oxide, gallium-doped zinc oxide, ZnO, CeO 2 , Sb 2 O 5 , SnO 2 , In 2 O 3 , The method for producing an optical film according to claim 1, wherein the particles are metal oxide particles selected from the group consisting of Al 2 O 3 and Al 2 O 3 . 前記光透過性基材がトリアセチルセルロース基材である、請求項1ないし4のいずれか一項に記載の光学フィルムの製造方法。   The method for producing an optical film according to any one of claims 1 to 4, wherein the light-transmitting substrate is a triacetylcellulose substrate. 光透過性基材と、前記光透過性基材上に形成された帯電防止ハードコート層とを備える光学フィルムであって、
前記帯電防止ハードコート層が、前記光透過性基材上に形成された第1のハードコート層と、前記第1のハードコート層上に形成された第2のハードコート層とからなり、
前記第1のハードコート層が、前記光透過性基材の主成分と第1のバインダ樹脂とを含み、
前記第2のハードコート層が、鎖状に連結した2個以上の導電性金属酸化物粒子からなる鎖状金属酸化物粒子と第2のバインダ樹脂とを含み、
前記第2のバインダ樹脂が、光重合性モノマーと、光重合性官能基を6個以上有する重量平均分子量が1000以上のウレタン(メタ)アクリレートおよび光重合性官能基を10個以上有する重量平均分子量が10000以上のポリマー(メタ)アクリレートの少なくともいずれかとの重合体を含み、
前記第1のハードコート層の屈折率が、前記第2のハードコート層側から前記光透過性基材側に向けて徐々に前記光透過性基材の屈折率に近づくように変化しており、かつ
前記光透過性基材と前記第1のハードコート層との間および前記第1のハードコート層と前記第2のハードコート層との間に界面が存在しないことを特徴とする、光学フィルム。
An optical film comprising a light transmissive substrate and an antistatic hard coat layer formed on the light transmissive substrate,
The antistatic hard coat layer comprises a first hard coat layer formed on the light transmissive substrate and a second hard coat layer formed on the first hard coat layer,
The first hard coat layer includes a main component of the light transmissive substrate and a first binder resin,
The second hard coat layer contains chain metal oxide particles composed of two or more conductive metal oxide particles linked in a chain and a second binder resin,
The second binder resin has a photopolymerizable monomer, a urethane (meth) acrylate having 6 or more photopolymerizable functional groups and a weight average molecular weight of 1000 or more, and a weight average molecular weight having 10 or more photopolymerizable functional groups. Includes a polymer with at least one of 10,000 or more polymer (meth) acrylates,
The refractive index of the first hard coat layer changes so as to gradually approach the refractive index of the light transmissive substrate from the second hard coat layer side toward the light transmissive substrate side. And there is no interface between the light-transmitting substrate and the first hard coat layer and between the first hard coat layer and the second hard coat layer. the film.
前記ウレタン(メタ)アクリレートの官能基当量および前記ポリマー(メタ)アクリレートの官能基当量が150以上500以下である、請求項6に記載の光学フィルム。   The optical film of Claim 6 whose functional group equivalent of the said urethane (meth) acrylate and functional group equivalent of the said polymer (meth) acrylate are 150-500. 前記鎖状金属酸化物粒子が、2〜50個鎖状に連結した前記導電性金属酸化物粒子からなる、請求項6または7に記載の光学フィルム。   The optical film according to claim 6 or 7, wherein the chain metal oxide particles are composed of 2 to 50 conductive metal oxide particles connected in a chain. 前記導電性金属酸化物粒子が、アンチモンドープ酸化スズ、リンドープ酸化スズ、スズドープ酸化インジウム、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、ZnO、CeO、Sb、SnO、In、およびAlからなる群から選択される金属酸化物の粒子である、請求項6ないし8のいずれか一項に記載の光学フィルム。 The conductive metal oxide particles are antimony-doped tin oxide, phosphorus-doped tin oxide, tin-doped indium oxide, aluminum-doped zinc oxide, gallium-doped zinc oxide, ZnO, CeO 2 , Sb 2 O 5 , SnO 2 , In 2 O 3 , The optical film according to claim 6, wherein the optical film is a metal oxide particle selected from the group consisting of Al 2 O 3 . 前記光透過性基材がトリアセチルセルロース基材である、請求項6ないし9のいずれか一項に記載の光学フィルム。   The optical film according to claim 6, wherein the light transmissive substrate is a triacetyl cellulose substrate. 請求項6ないし10のいずれか一項に記載の光学フィルムと、
前記光学フィルムの前記光透過性基材における前記第1のハードコート層が形成されている面とは反対側の面に形成された偏光素子とを備えることを特徴とする、偏光板。
The optical film according to any one of claims 6 to 10,
A polarizing plate comprising: a polarizing element formed on a surface opposite to a surface on which the first hard coat layer is formed in the light transmissive substrate of the optical film.
請求項6ないし10のいずれか一項に記載の光学フィルム、または請求項11に記載の偏光板を備えることを特徴とする、画像表示装置。   An image display device comprising the optical film according to claim 6 or the polarizing plate according to claim 11.
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