JP5076763B2 - Optical laminate manufacturing method, optical laminate, polarizing plate, and image display device - Google Patents

Optical laminate manufacturing method, optical laminate, polarizing plate, and image display device Download PDF

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本発明は、光学積層体の製造方法、光学積層体、偏光板及び画像表示装置に関する。 The present invention relates to an optical laminate manufacturing method, an optical laminate, a polarizing plate, and an image display device.

陰極線管表示装置(CRT)、液晶ディスプレイ(LCD)、プラズマディスプレイ(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)、フィールドエミッションディスプレイ(FED)等の画像表示装置の最表面には、反射防止のための光学積層体が設けられている。このような反射防止用光学積層体は、光の散乱や干渉によって、像の写り込みを抑制したり反射率を低減したりするものである。 Anti-reflection optics on the outermost surface of image display devices such as cathode ray tube display (CRT), liquid crystal display (LCD), plasma display (PDP), electroluminescence display (ELD), field emission display (FED) A laminate is provided. Such an anti-reflection optical laminate suppresses image reflection or reduces reflectance by scattering or interference of light.

上記反射防止用光学積層体において、蛍光等の外光から照射された光線による反射を少なくし、その表示面の視認性を高めるための方法の一つとして、屈折率の異なる層を積層することが従来より行われている(特許文献1)。しかし、屈折率の差が大きい層を積層させた反射防止積層体にあっては、互いに重なりあった層の界面において、界面反射や干渉縞が生じ、その結果、画像の視認性が低下するといった問題があった。 In the anti-reflection optical layered body, as one method for reducing the reflection of light emitted from external light such as fluorescence and improving the visibility of the display surface, layers having different refractive indexes are stacked. Is conventionally performed (Patent Document 1). However, in an antireflection laminate in which layers having a large difference in refractive index are laminated, interface reflection and interference fringes occur at the interface of the layers that overlap each other, resulting in a decrease in image visibility. There was a problem.

このような干渉縞の発生を抑制する方法として、基材上に、基材を溶解する溶剤を含む樹脂組成物を用いてハードコート層を形成する方法が知られている(特許文献2、3)。
特許文献3では、重量平均分子量が200以上10000以下であり、かつ2超過の官能基を有する樹脂と、重量平均分子量が200以上1000以下であり、かつ2以下の官能基を有する樹脂と、浸透性溶剤とを含んでなる組成物によりハードコート層を基材上に形成することにより、界面反射と干渉縞の発生を有効に防止する光学積層体が開示されている。
As a method for suppressing the occurrence of such interference fringes, a method of forming a hard coat layer on a substrate using a resin composition containing a solvent for dissolving the substrate is known (Patent Documents 2 and 3). ).
In Patent Document 3, a resin having a weight average molecular weight of 200 or more and 10,000 or less and having a functional group of more than 2; a resin having a weight average molecular weight of 200 or more and 1000 or less and having a functional group of 2 or less; An optical laminate that effectively prevents the occurrence of interface reflection and interference fringes is disclosed by forming a hard coat layer on a substrate with a composition comprising a reactive solvent.

しかしながら、比較的屈折率の高いハードコート層を形成するために、ハードコート層に高屈折率樹脂を添加した場合、浸透性溶剤を使用して形成しても、干渉縞の発生の抑制が十分ではなく、視認性が低下するといった問題があった。
特開2003−75603号公報 特開2003−205563号公報 特開2006−299221号公報
However, when a high refractive index resin is added to the hard coat layer in order to form a hard coat layer having a relatively high refractive index, the occurrence of interference fringes is sufficiently suppressed even when formed using a permeable solvent. However, there was a problem that visibility was lowered.
JP 2003-75603 A JP 2003-205563 A JP 2006-299221 A

本発明は、上記現状に鑑みて、界面反射と干渉縞の発生を有効に抑制し、視認性に優れる光学積層体を形成するための製造方法を提供することを目的とする。 In view of the above situation, the present invention has an object to provide a manufacturing method for effectively suppressing the occurrence of interface reflection and interference fringes and forming an optical laminate having excellent visibility.

本発明は、光透過性基材及びハードコート層を有する光学積層体の製造方法であって、重量平均分子量が200以上、1000未満である高屈折率樹脂A、重量平均分子量が1000以上、10万以下である高屈折率樹脂B、浸透性溶剤、及び、バインダー樹脂を含み、かつ、含まれる全樹脂成分中における前記高屈折率樹脂Aと高屈折率樹脂Bとの合計量が10〜80質量%(固形分比)である樹脂組成物を、上記光透過性基材上に塗布して上記ハードコート層を形成する工程を有し、上記高屈折率樹脂A及び高屈折率樹脂Bは、屈折率が1.55〜1.65であることを特徴とする光学積層体の製造方法である。
記高屈折率樹脂Aと上記高屈折率樹脂Bとの含有比(高屈折率樹脂A/高屈折率樹脂B)が、固形分質量比で(95/5)〜(5/95)であることが好ましい。
上記浸透性溶剤は、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン、アセトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン及び塩化メチレンからなる群より選択される少なくとも1種であるであることが好ましい。
上記バインダー樹脂は、屈折率が1.55未満であり、かつ、重量平均分子量200以上、1000未満である樹脂1と、屈折率が1.55未満であり、かつ、重量平均分子量1000以上、10万以下である樹脂2とを含むことが好ましい。
上記樹脂組成物は、更に、ケイ素、アルミニウム、チタン、亜鉛、ゲルマニウム、インジウム、スズ及びアンチモンからなる群より選択される少なくとも1つの元素の酸化物を含有することが好ましい。
上記樹脂組成物は、更に、帯電防止剤を有することが好ましい。
上記光透過性基材は、ハードコート層を形成する面に帯電防止層を有することが好ましい。
上記光透過性基材は、トリアセチルセルロースであることが好ましい。
The present invention is a method for producing an optical laminate having a light-transmitting substrate and a hard coat layer, wherein the weight average molecular weight is 200 or more and less than 1000, the high refractive index resin A, the weight average molecular weight is 1000 or more, 10 The total amount of the high-refractive index resin A and the high-refractive index resin B in all the resin components including the high-refractive index resin B, the penetrating solvent, and the binder resin that are 10,000 or less is 10 to 80 mass% (solid content ratio) at which the resin composition was applied onto the light-transmitting substrate have a step of forming the hard coat layer, the high refractive index resin a and a high refractive index resin B A method for producing an optical laminate , wherein the refractive index is 1.55 to 1.65 .
Upper SL content ratio of the high refractive index resin A and the high refractive index resin B (a high refractive index resin A / high refractive index resin B) is in a solid content mass ratio (95/5) - (5/95) Preferably there is.
The permeable solvent is preferably at least one selected from the group consisting of methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, methyl ethyl ketone, acetone, cyclohexanone, methyl isobutyl ketone and methylene chloride.
The binder resin has a refractive index of less than 1.55, a resin 1 having a weight average molecular weight of 200 or more and less than 1000, a refractive index of less than 1.55, and a weight average molecular weight of 1000 or more, 10 It is preferable to contain resin 2 that is 10,000 or less.
The resin composition preferably further contains an oxide of at least one element selected from the group consisting of silicon, aluminum, titanium, zinc, germanium, indium, tin and antimony.
The resin composition preferably further has an antistatic agent.
The light-transmitting substrate preferably has an antistatic layer on the surface on which the hard coat layer is formed.
The light transmissive substrate is preferably triacetyl cellulose.

本発明はまた、上述の光学積層体の製造方法により得られることを特徴とする光学積層体でもある。
本発明はまた、最表面に上述の光学積層体を備えることを特徴とする自発光型画像表示装置でもある。
本発明はまた、偏光素子を備えてなる偏光板であって、上記偏光板は、偏光素子表面に上述の光学積層体を備えることを特徴とする偏光板でもある。
本発明はまた、最表面に上述の光学積層体、又は、上述の偏光板を備えることを特徴とする非自発光型画像表示装置でもある。
以下、本発明を詳細に説明する。
The present invention is also an optical laminate obtained by the above-described method for producing an optical laminate.
The present invention is also a self-luminous image display device including the above-described optical laminate on the outermost surface.
This invention is also a polarizing plate provided with a polarizing element, Comprising: The said polarizing plate is a polarizing plate characterized by providing the above-mentioned optical laminated body on the polarizing element surface.
The present invention is also a non-self-luminous image display device comprising the above-described optical layered body or the above-described polarizing plate on the outermost surface.
Hereinafter, the present invention will be described in detail.

本発明は、光透過性基材及びハードコート層を有する光学積層体の製造方法であって、重量平均分子量が200以上、1000未満である高屈折率樹脂A、重量平均分子量が1000以上、10万以下である高屈折率樹脂B、浸透性溶剤、及び、バインダー樹脂を含む樹脂組成物を、上記光透過性基材上に塗布して上記ハードコート層を形成する工程を有することを特徴とする光学積層体の製造方法である。上記ハードコート層を形成する工程を有することで、界面反射と干渉縞の発生を好適に防止し、視認性に優れる光学積層体を得ることができる。 The present invention is a method for producing an optical laminate having a light-transmitting substrate and a hard coat layer, wherein the weight average molecular weight is 200 or more and less than 1000, the high refractive index resin A, the weight average molecular weight is 1000 or more, 10 It has the process of apply | coating the high refractive index resin B which is 10,000 or less, the permeable solvent, and the resin composition containing binder resin on the said transparent base material, and forming the said hard-coat layer, It is characterized by the above-mentioned. It is the manufacturing method of the optical laminated body to do. By having the process of forming the said hard-coat layer, generation | occurrence | production of interface reflection and an interference fringe can be prevented suitably, and the optical laminated body excellent in visibility can be obtained.

本発明の光学積層体の製造方法において、ハードコート層を形成する際、重量平均分子量の異なる2種の高屈折率樹脂を含む樹脂組成物を使用する。
上記樹脂組成物が2種の高屈折率樹脂を含むことにより、光透過性基材上に形成するハードコート層は、該光透過性基材や、その他必要に応じて積層する低屈折率層等との屈折率の差を大きくすることができ、反射防止性を向上させることができる。また、上記樹脂組成物は、重量平均分子量の異なる2種の高屈折率樹脂と浸透性溶剤を含むものであるため、ハードコート層を形成した際、低分子量のものは浸透性溶剤とともに一部基材に浸透することにより、明確な界面が形成されないので、干渉縞の発生を抑制することができるものである。
なお、本明細書において、「高屈折率樹脂」とは、屈折率が1.55以上の樹脂を意味し、「樹脂」とは、モノマー、オリゴマー等の樹脂成分も包含する概念である。
In the method for producing an optical layered body of the present invention, when the hard coat layer is formed, a resin composition containing two types of high refractive index resins having different weight average molecular weights is used.
When the resin composition contains two kinds of high-refractive index resins, the hard coat layer formed on the light-transmitting substrate is the light-transmitting substrate or other low-refractive index layers that are laminated as necessary. The difference in refractive index from the above can be increased, and the antireflection property can be improved. In addition, the resin composition contains two kinds of high refractive index resins having different weight average molecular weights and a permeable solvent. Therefore, when the hard coat layer is formed, the low molecular weight part of the resin composition is partially mixed with the permeable solvent. Since a clear interface is not formed by penetrating into the film, generation of interference fringes can be suppressed.
In the present specification, “high refractive index resin” means a resin having a refractive index of 1.55 or more, and “resin” is a concept including resin components such as monomers and oligomers.

本発明の光学積層体の製造方法により製造される光学積層体は、界面反射及び干渉縞の発生を好適に抑制することができるので、画像表示装置に設置した際、視認性に優れるものである。また、ハードコート層の成分の一部が光透過性基材に浸透して形成されるものであるため、層間の密着性にも優れるものである。 The optical laminate produced by the method for producing an optical laminate of the present invention can suitably suppress the occurrence of interface reflection and interference fringes, and therefore has excellent visibility when installed in an image display device. . In addition, since a part of the components of the hard coat layer is formed by penetrating into the light-transmitting substrate, the adhesion between the layers is also excellent.

本発明の光学積層体の製造方法は、重量平均分子量が200以上、1000未満である高屈折率樹脂A、重量平均分子量が1000以上、10万以下である高屈折率樹脂B、及び、浸透性溶剤を含む樹脂組成物を光透過性基材に塗布してハードコート層を形成する工程を有する。 The method for producing an optical laminate of the present invention includes a high refractive index resin A having a weight average molecular weight of 200 or more and less than 1000, a high refractive index resin B having a weight average molecular weight of 1,000 or more and 100,000 or less, and permeability. It has the process of apply | coating the resin composition containing a solvent to a transparent base material, and forming a hard-coat layer.

上記高屈折率樹脂Aの重量平均分子量が200未満であると、分子中に高屈折率とするための成分の導入が困難となり、形成するハードコート層の屈折率を高くすることが困難となって製造する光学積層体の反射防止性が不充分になることがある。また、揮発性が高くなって人体への悪影響を及ぼしたり、乾燥工程で揮発して汚れ等の要因になったりすることがある。1000以上であると、上述の浸透性溶剤とともに一部基材に浸透するという効果が得られないことがある。上記高屈折率樹脂Aの重量平均分子量の好ましい下限は260である。 When the weight average molecular weight of the high refractive index resin A is less than 200, it is difficult to introduce a component for increasing the refractive index in the molecule, and it is difficult to increase the refractive index of the hard coat layer to be formed. In some cases, the anti-reflection property of the optical laminate produced in this way becomes insufficient. In addition, the volatility may increase and adversely affect the human body, or may volatilize during the drying process and cause contamination. If it is 1000 or more, the effect of partially penetrating the substrate together with the above-mentioned permeable solvent may not be obtained. A preferable lower limit of the weight average molecular weight of the high refractive index resin A is 260.

また、上記高屈折率樹脂Bの重量平均分子量が、1000未満であると、形成するハードコート層の屈折率を充分に高くすることができないことがある。10万を超えると、調製した樹脂組成物の粘度が高くなって均一に塗工できないことがある。上記高屈折率樹脂Bの重量平均分子量の好ましい下限は1200、好ましい上限は4万である。
なお、上記重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により、ポリスチレン換算にて得られた値である。
Further, if the weight average molecular weight of the high refractive index resin B is less than 1000, the refractive index of the hard coat layer to be formed may not be sufficiently increased. If it exceeds 100,000, the viscosity of the prepared resin composition may increase and coating may not be performed uniformly. The minimum with a preferable weight average molecular weight of the said high refractive index resin B is 1200, and a preferable upper limit is 40,000.
The weight average molecular weight is a value obtained by gel permeation chromatography (GPC) in terms of polystyrene.

上記高屈折率樹脂A及びBは、屈折率が1.55〜1.65であるものが好ましい。このような高屈折の樹脂を含むことにより、本工程を経て形成するハードコート層の屈折率が上がり、その結果、該ハードコート層の上に低屈折率樹脂を積層した場合、反射率の低い光学積層体を得ることができる。 The high refractive index resins A and B preferably have a refractive index of 1.55 to 1.65. By including such a high refractive resin, the refractive index of the hard coat layer formed through this step increases, and as a result, when a low refractive index resin is laminated on the hard coat layer, the reflectance is low. An optical laminate can be obtained.

上記高屈折率樹脂Aとして使用することができる市販品としては、例えば、「ALEN10」(ビフェニル骨格の単官能アクリレート、屈折率1.58、重量平均分子量268、新中村化学社製)、「EX142」(ビフェニル骨格の単官能エポキシ、屈折率1.59、重量平均分子量226、ナガセケムテックス社製)、「Z9014」(臭素含有アクリレート、屈折率1.57、JSR社製)、「Z9009D」(臭素含有アクリレート、屈折率1.57、JSR社製)等を挙げることができる。 Examples of commercially available products that can be used as the high refractive index resin A include “ALEN10” (monofunctional acrylate having a biphenyl skeleton, refractive index 1.58, weight average molecular weight 268, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), “EX142 "(Monofunctional epoxy of biphenyl skeleton, refractive index 1.59, weight average molecular weight 226, manufactured by Nagase ChemteX Corporation)", "Z9014" (bromine-containing acrylate, refractive index 1.57, manufactured by JSR Corporation), "Z9009D" ( Bromine-containing acrylate, refractive index 1.57, manufactured by JSR Corporation) and the like.

上記高屈折率樹脂Bとして使用することができる市販品としては、例えば、「R1403M」(ウレタンアクリレート、屈折率1.58、重量平均分子量1500、第一工業製薬社製)、「HRR2」(ウレタンアクリレート、屈折率1.58、重量平均分子量1500、昭和インク社製)等を挙げることができる。 Examples of commercially available products that can be used as the high refractive index resin B include “R1403M” (urethane acrylate, refractive index 1.58, weight average molecular weight 1500, manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.), “HRR2” (urethane). Acrylate, refractive index 1.58, weight average molecular weight 1500, manufactured by Showa Ink Co., Ltd.) and the like.

上記樹脂組成物において、上記高屈折率樹脂Aと上記高屈折率樹脂Bとの含有比(高屈折率樹脂A/高屈折率樹脂B)は、固形分質量比で(5/95)〜(95/5)であることが好ましい。(5/95)未満であると、高屈折率樹脂Aが少なくなり、製造する光学積層体に干渉縞が発生し、光透過性基材との密着性が悪化するおそれがある。(95/5)を超えると、高屈折率樹脂Bが少なくなり、製造する光学積層体に干渉縞が発生するおそれがある。 In the resin composition, the content ratio of the high refractive index resin A and the high refractive index resin B (high refractive index resin A / high refractive index resin B) is (5/95) to ( 95/5). If it is less than (5/95), the high refractive index resin A is decreased, interference fringes are generated in the optical laminate to be produced, and the adhesion to the light-transmitting substrate may be deteriorated. If it exceeds (95/5), the high refractive index resin B is decreased, and interference fringes may be generated in the produced optical laminate.

上記樹脂組成物において、上記高屈折率樹脂Aと上記高屈折率樹脂Bの合計含有量は、後述する屈折率が1.55未満のバインダー樹脂等を含む全樹脂成分の中において、10〜80質量%(固形分比)である。10質量%未満であると、形成するハードコート層が高屈折率化されにくく目的とする効果が薄れる。80質量%を超えると、形成するハードコート層の硬度が著しく低下し、また、光透過性基材との密着性が悪化して干渉縞が発生してしまう。更に、高屈折率樹脂A及びBは高価であるためコストアップとなってしまう。上記合計含有量(固形分比)の好ましい下限は20質量%、好ましい上限は60質量%である。 In the resin composition, the total content of the high refractive index resin A and the high refractive index resin B is 10 to 80 among all resin components including a binder resin having a refractive index of less than 1.55, which will be described later. It is mass% (solid content ratio). If it is less than 10% by mass, the hard coat layer to be formed is less likely to have a high refractive index, and the intended effect is reduced. If it exceeds 80% by mass, the hardness of the hard coat layer to be formed is remarkably lowered, and the adhesiveness with the light-transmitting substrate is deteriorated to generate interference fringes. Furthermore, since the high refractive index resins A and B are expensive, the cost increases. The minimum with said preferable total content (solid content ratio) is 20 mass%, and a preferable upper limit is 60 mass%.

上記浸透性溶剤は、光透過性基材に対して浸透性が高く、上記基材を溶解又は膨潤させる溶剤である。
このような浸透性溶剤を使用することにより、製造する光学積層体に干渉縞をなくし、更には光透過性基材との密着性を向上させることができる。これは、以下に挙げる理由によると考えられる。
すなわち、本工程において光透過性基材上に上記樹脂組成物を塗布し、樹脂層を形成すると、該樹脂層中の浸透性溶剤が上記光透過性基材の表面付近に浸透するが、このとき、樹脂組成物の他の成分、具体的には主に高屈折率樹脂A(及び、後述するバインダー樹脂)が、浸透性溶剤とともに光透過性基材中に浸透すると考えられる。そうすると、製造される光学積層体は、光透過性基材とハードコート層との界面が不明確になって光透過性基材からハードコート層にかけて屈折率が徐々に変化するものとなり、干渉縞の発生をなくすことができるものと考えられる。また、ハードコート層の一部が光透過性基材の表面付近に浸透することとなるため、製造される光学積層体は、光透過性基材とハードコート層との密着性が向上するものと考えられる。
The permeable solvent is a solvent that has high permeability to the light transmissive substrate and dissolves or swells the substrate.
By using such a penetrating solvent, interference fringes can be eliminated from the optical laminate to be produced, and the adhesion to the light-transmitting substrate can be improved. This is considered to be due to the following reasons.
That is, in this step, when the resin composition is applied onto the light transmissive substrate and a resin layer is formed, the permeable solvent in the resin layer penetrates near the surface of the light transmissive substrate. When the other components of the resin composition, specifically, the high refractive index resin A (and the binder resin described later) are considered to penetrate into the light-transmitting substrate together with the penetrating solvent. As a result, the manufactured optical laminate has an unclear interface between the light transmissive substrate and the hard coat layer, and the refractive index gradually changes from the light transmissive substrate to the hard coat layer. It is thought that the occurrence of the occurrence can be eliminated. In addition, since a part of the hard coat layer penetrates near the surface of the light transmissive substrate, the produced optical laminate has improved adhesion between the light transmissive substrate and the hard coat layer. it is conceivable that.

上記浸透性溶剤としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、ジアセトンアルコール等のケトン類;蟻酸メチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル等のエステル類;ニトロメタン、アセトニトリル、N−メチルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド等の含窒素化合物;メチルグリコール、メチルグリコールアセテート等のグリコール類;テトラヒドロフラン、1,4―ジオキサン、ジオキソラン、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類;塩化メチレン、クロロホルム、テトラクロルエタン等のハロゲン化炭化水素;メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のグリコールエーテル類;その他、ジメチルスルホキシド、炭酸プロピレン、又は、これらの混合物が挙げられる。なかでも、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン、アセトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン及び塩化メチレンからなる群より選択される少なくとも1種であることが好ましい。 Examples of the permeable solvent include ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, methyl isobutyl ketone, and diacetone alcohol; esters such as methyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, and ethyl lactate; nitromethane, acetonitrile, Nitrogen-containing compounds such as N-methylpyrrolidone and N, N-dimethylformamide; glycols such as methyl glycol and methyl glycol acetate; ethers such as tetrahydrofuran, 1,4-dioxane, dioxolane and diisopropyl ether; methylene chloride, chloroform, Halogenated hydrocarbons such as tetrachloroethane; glycol ethers such as methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, cellosolve acetate; others, dimethyl sulfoxide, charcoal Propylene, or mixtures thereof. Among these, at least one selected from the group consisting of methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, methyl ethyl ketone, acetone, cyclohexanone, methyl isobutyl ketone and methylene chloride is preferable.

上記浸透性溶剤の添加量としては、形成するハードコート層の厚さに合わせて適宜調整され、特に限定されないが、上記樹脂組成物中において、上記高屈折率樹脂A、Bや後述するバインダー樹脂等の固形分100質量部に対して、30〜500質量部程度であることが好ましい。30質量部未満であると、光透過性基材上に形成するハードコート層が充分に光透過性基材に浸透せず、製造する光学積層体に干渉縞が発生することがある。また、形成するハードコート層の光透過性基材に対する密着性も不充分になることがある。500質量部を超えると、充分な厚さのハードコート層を形成することができないことがあり、製造する光学積層体の反射防止性等の機能が不充分となることがある。より好ましい下限は40質量部、より好ましい上限は400質量部である。 The addition amount of the permeable solvent is appropriately adjusted according to the thickness of the hard coat layer to be formed, and is not particularly limited. In the resin composition, the high refractive index resins A and B and the binder resin described later are used. It is preferable that it is about 30-500 mass parts with respect to 100 mass parts of solid content, such as. If it is less than 30 parts by mass, the hard coat layer formed on the light-transmitting substrate does not sufficiently penetrate the light-transmitting substrate, and interference fringes may be generated in the produced optical laminate. In addition, the adhesion of the hard coat layer to be formed to the light-transmitting substrate may be insufficient. When the amount exceeds 500 parts by mass, a hard coat layer having a sufficient thickness may not be formed, and functions such as antireflection properties of the produced optical laminate may be insufficient. A more preferable lower limit is 40 parts by mass, and a more preferable upper limit is 400 parts by mass.

上記ハードコート層を形成するための樹脂組成物は、更に、バインダー樹脂を含む。
上記バインダー樹脂としては、屈折率が1.55未満で透明性のものが好ましく、例えば、紫外線又は電子線により硬化する樹脂である電離放射線硬化型樹脂が好適に用いられる。
上記電離放射線硬化型樹脂としては、分子量の異なる2種の樹脂を含むことが好ましい。分子量の異なる2種の樹脂を含むことにより、上記樹脂組成物を光透過性基材上に塗布した場合、上記浸透性溶剤とともに低分子の樹脂が光透過性基材へ浸透し、製造する光学積層体の界面反射及び干渉縞の発生をより抑制することができる。また、層間の密着性を高めることができる。更に、形成するハードコート層の鉛筆硬度を優れたものとすることもできる。
The resin composition for forming the hard coat layer further contains a binder resin.
As the binder resin, a transparent resin having a refractive index of less than 1.55 is preferable. For example, an ionizing radiation curable resin which is a resin curable by ultraviolet rays or an electron beam is suitably used.
The ionizing radiation curable resin preferably includes two types of resins having different molecular weights. By including two kinds of resins having different molecular weights, when the resin composition is applied onto a light-transmitting substrate, a low-molecular resin penetrates the light-transmitting substrate together with the penetrating solvent, and is manufactured. Generation of interface reflection and interference fringes of the laminate can be further suppressed. Moreover, the adhesiveness between layers can be improved. Furthermore, the pencil hardness of the hard coat layer to be formed can be made excellent.

上記分子量の異なる2種の樹脂としては、屈折率が1.55未満であり、かつ、重量平均分子量200以上、1000未満である樹脂1と、屈折率が1.55未満であり、かつ、重量平均分子量1000以上、10万以下である樹脂2であることが好ましい。上記樹脂1及び2の重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により、ポリスチレン換算にて得られた値である。 The two types of resins having different molecular weights include a resin 1 having a refractive index of less than 1.55 and a weight average molecular weight of 200 or more and less than 1000, a refractive index of less than 1.55, and a weight. A resin 2 having an average molecular weight of 1,000 or more and 100,000 or less is preferable. The weight average molecular weights of the resins 1 and 2 are values obtained in terms of polystyrene by gel permeation chromatography (GPC).

上記樹脂1としては、上述した屈折率及び重量平均分子量を満たすものであれば特に限定されないが、例えば、3官能以上の(メタ)アクリレート系化合物が好適に用いられる。
上記3官能以上の(メタ)アクリレート系化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、イソシアヌル酸変性トリアクリレート等が挙げられる。また、これらアクリレートは、分子骨格の一部を変性しているものでもよく、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、カプロラクトン、イソシアヌル酸、アルキル、環状アルキル、芳香族、ビスフェノール等による変性がなされたものも使用することができる。
The resin 1 is not particularly limited as long as it satisfies the above-described refractive index and weight average molecular weight. For example, a trifunctional or higher functional (meth) acrylate compound is preferably used.
Examples of the trifunctional or higher functional (meth) acrylate compound include trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate, and isocyanuric acid-modified triacrylate. Is mentioned. These acrylates may be modified in part of the molecular skeleton, such as those modified with ethylene oxide, propylene oxide, caprolactone, isocyanuric acid, alkyl, cyclic alkyl, aromatic, bisphenol, etc. be able to.

また、上記(メタ)アクリレートは、エポキシ(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート、ポリブタジエン(メタ)アクリレート、シリコン(メタ)アクリレート等のオリゴマーであってもよい。これらは、2種以上を併用してもよい。 The (meth) acrylate may be an oligomer such as epoxy (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate, polybutadiene (meth) acrylate, or silicon (meth) acrylate. Two or more of these may be used in combination.

上記(メタ)アクリレート系化合物の分子量が1000を超えると、基材との密着性が悪化するだけでなく、干渉縞が消えないおそれがある。上記分子量は、700以下であることがより好ましく、280〜600であることが更に好ましい。
このような樹脂1を含有することで、製造する光学積層体に干渉縞の発生を抑制することができ、層間の密着性を優れたものとすることがきる。
When the molecular weight of the (meth) acrylate compound exceeds 1000, not only the adhesion to the substrate is deteriorated but also the interference fringes may not disappear. The molecular weight is more preferably 700 or less, and further preferably 280 to 600.
By containing such a resin 1, it is possible to suppress the generation of interference fringes in the optical laminate to be manufactured, and to improve the adhesion between the layers.

上記樹脂2としては、上述した屈折率及び重量平均分子量を満たすものであれば特に限定されないが、例えば、6官能以上のウレタン(メタ)アクリレート系化合物が好適に用いられる。
上記ウレタン(メタ)アクリレート系化合物の市販品としては、例えば、日本合成社製の紫光シリーズ、UV1700B、UV6300B、UV765B、UV7640B、UV7600B等が挙げられ;根上工業社製のアートレジンシリーズ、アートレジンHDP、アートレジンUN3320HSBA、UN9000H、アートレジンUN3320HA、アートレジンUN3320HB、アートレジンUN3320HC、アートレジンUN3320HS、アートレジンUN901M、アートレジンUN902MS、アートレジンUN903等が挙げられ;新中村化学社製のUA100H、U4H、U4HA、U6H、U6HA、U15HA、UA32P、U6LPA、U324A、U9HAMI等が挙げられ;ダイセル・ユーシービー社製のEbecrylシリーズ、1290、5129、254、264、265、1259、1264、4866、9260、8210、204、205、6602、220、4450等が挙げられ;荒川化学社製のビームセットシリーズ、371、577等が挙げられ;三菱レーヨン社製のRQシリーズ、大日本インキ社製のユニディックシリーズ等が挙げられ;DPHA40H(日本化薬社製)、CN9006(サーマー社製)、CN968等が挙げられる。この中でも、好ましくは、UV1700B(日本合成社製)、DPHA40H(日本化薬社製)、アートレジンHDP(根上工業社製)、ビームセット371(荒川化学社製)、ビームセット577(荒川化学社製)U15HA(新中村化学社製)等が挙げられる。
The resin 2 is not particularly limited as long as it satisfies the above-described refractive index and weight average molecular weight. For example, a hexafunctional or higher functional urethane (meth) acrylate compound is preferably used.
As a commercial item of the said urethane (meth) acrylate type-compound, for example, the Nihon Gosei Co., Ltd. purple light series, UV1700B, UV6300B, UV765B, UV7640B, UV7600B etc. are mentioned; Art resin series, Art resin HDP by Negami Kogyo Art Resin UN3320HSBA, UN9000H, Artresin UN3320HA, Artresin UN3320HB, Artresin UN3320HC, Artresin UN3320HS, Artresin UN901M, Artresin UN902MS, Artresin UN903, UA made by H4 Shin 100, U4 made by H4, 100 , U6H, U6HA, U15HA, UA32P, U6LPA, U324A, U9HAMI, etc .; manufactured by Daicel UCB Ebecryl series, 1290, 5129, 254, 264, 265, 1259, 1264, 4866, 9260, 8210, 204, 205, 6602, 220, 4450, etc .; Beam set series made by Arakawa Chemical Co., Ltd., 371, 577, etc. RQ series manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd., Unidic series manufactured by Dainippon Ink Co., Ltd., and the like; DPHA40H (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), CN9006 (manufactured by Thermar Corporation), CN968 and the like. Of these, UV1700B (manufactured by Nippon Gohsei Co., Ltd.), DPHA40H (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), Art Resin HDP (manufactured by Negami Kogyo Co., Ltd.), beam set 371 (manufactured by Arakawa Chemical Co., Ltd.), beam set 577 (Arakawa Chemical Co., Ltd.) And U15HA (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.).

上記ウレタン(メタ)アクリレート系化合物の重量平均分子量が1000未満であると、基材への浸透性が増し、製造する光学積層体に充分な硬度が得られないことがある。10万を超えると、粘度が高すぎて、好適な塗工をすることができないおそれがある。
このような樹脂2を含有することで、製造する光学積層体に充分な鉛筆硬度を付与することができる。
When the weight average molecular weight of the urethane (meth) acrylate compound is less than 1000, the permeability to the substrate is increased, and sufficient hardness may not be obtained for the optical laminate to be produced. If it exceeds 100,000, the viscosity is too high, and there is a possibility that suitable coating cannot be performed.
By containing such resin 2, sufficient pencil hardness can be imparted to the optical laminate to be produced.

更に、不飽和二重結合を有する比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等も上記電離放射線硬化型樹脂として使用することができる。 In addition, relatively low molecular weight polyester resins having unsaturated double bonds, polyether resins, acrylic resins, epoxy resins, urethane resins, alkyd resins, spiroacetal resins, polybutadiene resins, polythiol polyene resins, etc. are also used in the ionizing radiation curable type. It can be used as a resin.

また、上記バインダー樹脂としては、電離放射線硬化型樹脂と溶剤乾燥型樹脂(熱可塑性樹脂等、塗工時に固形分を調整するために添加した溶剤を乾燥させるだけで、被膜となるような樹脂)との混合物、又は、熱硬化型樹脂も挙げることができる。 In addition, as the binder resin, an ionizing radiation curable resin and a solvent-drying resin (a resin that forms a film by simply drying a solvent added to adjust the solid content during coating, such as a thermoplastic resin) And a thermosetting resin.

上記電離放射線硬化型樹脂は、溶剤乾燥型樹脂と併用して使用することもできる。溶剤乾燥型樹脂を併用することによって、塗布面の被膜欠陥を有効に防止することができ、これによってより優れた艶黒感を得ることができる。上記電離放射線硬化型樹脂と併用して使用することができる溶剤乾燥型樹脂としては、一般に、熱可塑性樹脂を使用することができる。 The ionizing radiation curable resin can be used in combination with a solvent-drying resin. By using the solvent-drying resin in combination, it is possible to effectively prevent coating defects on the coated surface, thereby obtaining a more excellent glossy blackness. In general, a thermoplastic resin can be used as the solvent-drying resin that can be used in combination with the ionizing radiation curable resin.

上記熱可塑性樹脂としては特に限定されず、例えば、スチレン系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロース誘導体、シリコーン系樹脂及びゴム又はエラストマー等を挙げることができる。上記熱可塑性樹脂は、非結晶性で、かつ有機溶媒(特に複数のポリマーや硬化性化合物を溶解可能な共通溶媒)に可溶であることが好ましい。特に、製膜性、透明性や耐候性に優れるという観点から、スチレン系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース誘導体(セルロースエステル類等)等が好ましい。 The thermoplastic resin is not particularly limited. For example, a styrene resin, a (meth) acrylic resin, a vinyl acetate resin, a vinyl ether resin, a halogen-containing resin, an alicyclic olefin resin, a polycarbonate resin, or a polyester resin. Examples thereof include resins, polyamide-based resins, cellulose derivatives, silicone-based resins, rubbers, and elastomers. The thermoplastic resin is preferably amorphous and soluble in an organic solvent (particularly a common solvent capable of dissolving a plurality of polymers and curable compounds). In particular, styrene resins, (meth) acrylic resins, alicyclic olefin resins, polyester resins, cellulose derivatives (cellulose esters, etc.) are preferable from the viewpoint of excellent film forming properties, transparency and weather resistance. .

本工程で樹脂組成物を塗布する光透過性基材の材料がトリアセチルセルロース(TAC)等のセルロース系樹脂の場合、上記熱可塑性樹脂の好ましい具体例としては、セルロース系樹脂、例えば、ニトロセルロース、アセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、エチルヒドロキシエチルセルロース、アセチルブチルセルロース、エチルセルロース、メチルセルロース等のセルロース誘導体等が挙げられる。上記熱可塑性樹脂としてセルロース系樹脂を用いることにより、光透過性基材との密着性や透明性を向上させることができる。更に、上記熱可塑性樹脂としては、上述のセルロース系樹脂の他に、酢酸ビニル及びその共重合体、塩化ビニル及びその共重合体、塩化ビニリデン及びその共重合体等のビニル系樹脂、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール等のアセタール樹脂、アクリル樹脂及びその共重合体、メタアクリル樹脂及びその共重合体等のアクリル系樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリカーボネート樹脂等を使用することもできる。 When the material of the light-transmitting substrate on which the resin composition is applied in this step is a cellulose resin such as triacetyl cellulose (TAC), a preferable specific example of the thermoplastic resin is a cellulose resin such as nitrocellulose. , Cellulose derivatives such as acetylcellulose, cellulose acetate propionate, ethylhydroxyethylcellulose, acetylbutylcellulose, ethylcellulose, and methylcellulose. By using a cellulose-based resin as the thermoplastic resin, it is possible to improve adhesion and transparency with a light-transmitting substrate. Furthermore, as the thermoplastic resin, in addition to the above-mentioned cellulose resin, vinyl acetate and its copolymer, vinyl chloride and its copolymer, vinyl resin such as vinylidene chloride and its copolymer, polyvinyl formal, Acetal resins such as polyvinyl butyral, acrylic resins and copolymers thereof, acrylic resins such as methacrylic resins and copolymers thereof, polystyrene resins, polyamide resins, polycarbonate resins, and the like can also be used.

上記バインダー樹脂として使用できる熱硬化性樹脂としては、例えば、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラニン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等を挙げることができる。 Examples of the thermosetting resin that can be used as the binder resin include phenol resin, urea resin, diallyl phthalate resin, melanin resin, guanamine resin, unsaturated polyester resin, polyurethane resin, epoxy resin, aminoalkyd resin, and melamine-urea. A condensation resin, a silicon resin, a polysiloxane resin, etc. can be mentioned.

上記樹脂組成物は、更に、ケイ素、アルミニウム、チタン、亜鉛、ゲルマニウム、インジウム、スズ及びアンチモンからなる群より選択される少なくとも1つの元素の酸化物(以下、これらをまとめて金属酸化物ともいう)を含有することが好ましい。上記金属酸化物を有することで、製造する光学積層体の鉛筆硬度を向上させることができる。 The resin composition further includes an oxide of at least one element selected from the group consisting of silicon, aluminum, titanium, zinc, germanium, indium, tin and antimony (hereinafter, these are collectively referred to as a metal oxide). It is preferable to contain. By having the said metal oxide, the pencil hardness of the optical laminated body to manufacture can be improved.

上記金属酸化物としては、なかでも、光反応性基を表面に有するコロイダルシリカが好適である。製造する光学積層体の鉛筆硬度を極めて優れたものとすることができる。
上記光反応性基としては特に限定されず、例えば、アクリレート基、メタクリレート基、エポキシ基等が挙げられる。
このような光反応性基を表面に有するコロイダルシリカは、例えば、シリカ微粒子の表面に上記光反応性基を有するシランカップリング剤を反応させる方法等が挙げられる。
As the metal oxide, colloidal silica having a photoreactive group on the surface is particularly preferable. The pencil hardness of the optical laminate to be manufactured can be made extremely excellent.
The photoreactive group is not particularly limited, and examples thereof include an acrylate group, a methacrylate group, and an epoxy group.
Colloidal silica having such a photoreactive group on the surface includes, for example, a method of reacting the surface of silica fine particles with the silane coupling agent having the photoreactive group.

上記樹脂組成物における金属酸化物の配合量としては特に限定されず、該金属酸化物を有することによる鉛筆硬度向上効果を充分に享有するできるとともに、上述した本発明により製造される光学積層体の効果を阻害しない範囲で、上記樹脂組成物に適宜配合されることが好ましい。 The compounding amount of the metal oxide in the resin composition is not particularly limited, and the effect of improving the pencil hardness by having the metal oxide can be sufficiently enjoyed, and the optical laminate produced by the present invention described above can be used. It is preferable that the resin composition is appropriately blended as long as the effect is not impaired.

また、上記樹脂組成物は、更に、帯電防止剤を有することが好ましい。
上記樹脂組成物が帯電防止剤を含有することで、形成するハードコート層に帯電防止性を付与することができる。
Moreover, it is preferable that the said resin composition has an antistatic agent further.
When the resin composition contains an antistatic agent, antistatic properties can be imparted to the hard coat layer to be formed.

上記帯電防止剤としては特に限定されず、例えば、第4級アンモニウム塩、ピリジニウム塩、第1〜第3アミノ基等のカチオン性化合物;スルホン酸塩基、硫酸エステル塩基、リン酸エステル塩基、ホスホン酸塩基等のアニオン性化合物;アミノ酸系、アミノ硫酸エステル系等の両性化合物;アミノアルコール系、グリセリン系、ポリエチレングリコール系等のノニオン性化合物;スズ及びチタンのアルコキシドのような有機金属化合物;上記有機金属化合物のアセチルアセトナート塩のような金属キレート化合物等を挙げることができる。上記に列記した化合物を高分子量化した化合物も使用することができる。また、第3級アミノ基、第4級アンモニウム基又は金属キレート部を有し、かつ、電離放射線により重合可能なモノマー又はオリゴマー又は官能基を有するカップリング剤のような有機金属化合物等の重合性化合物もまた帯電防止剤として使用できる。 The antistatic agent is not particularly limited, and examples thereof include cationic compounds such as quaternary ammonium salts, pyridinium salts, and primary to tertiary amino groups; sulfonate groups, sulfate ester bases, phosphate ester bases, and phosphonic acids. Anionic compounds such as bases; amphoteric compounds such as amino acids and aminosulfate esters; nonionic compounds such as amino alcohols, glycerin and polyethylene glycol; organometallic compounds such as tin and titanium alkoxides; Examples thereof include metal chelate compounds such as acetylacetonate salts of compounds. Compounds obtained by increasing the molecular weight of the compounds listed above can also be used. Also, polymerizability of organometallic compounds such as coupling agents having a tertiary amino group, a quaternary ammonium group or a metal chelate moiety and having a monomer, oligomer or functional group that can be polymerized by ionizing radiation. Compounds can also be used as antistatic agents.

上記帯電防止剤としては、導電性ポリマーも挙げることができる。導電性ポリマーとしては特に限定されず、例えば、芳香族共役系のポリ(パラフェニレン)、複素環式共役系のポリピロール、ポリチオフェン、脂肪族共役系のポリアセチレン、含ヘテロ原子共役系のポリアニリン、混合型共役系のポリ(フェニレンビニレン)、分子中に複数の共役鎖を持つ共役系である複鎖型共役系、前述の共役高分子鎖を飽和高分子にグラフト又はブロック共重した高分子である導電性複合体等を挙げることができる。 Examples of the antistatic agent include conductive polymers. The conductive polymer is not particularly limited. For example, aromatic conjugated poly (paraphenylene), heterocyclic conjugated polypyrrole, polythiophene, aliphatic conjugated polyacetylene, heteroatom-containing polyaniline, mixed type Conjugated poly (phenylene vinylene), a double chain conjugated system that has a plurality of conjugated chains in the molecule, and a conductive polymer that is a polymer obtained by grafting or block-copolymerizing the conjugated polymer chain to a saturated polymer. And the like.

上記帯電防止剤は、導電性金属酸化物微粒子であってもよい。上記導電性金属酸化物微粒子としては特に限定されず、例えば、ZnO(屈折率1.90、以下、カッコ内の値はすべて屈折率を表すものである。)、Sb(1.71)、SnO(1.997)、CeO(1.95)、酸化インジウム錫(略称 ITO;1.95)、In(2.00)、Al(1.63)、アンチモンドープ酸化錫(略称ATO;2.0)、アルミニウムドープ酸化亜鉛(略称AZO;2.0)等を挙げることができる。 The antistatic agent may be conductive metal oxide fine particles. The conductive metal oxide fine particles are not particularly limited. For example, ZnO (refractive index 1.90, hereinafter, all values in parentheses indicate refractive index), Sb 2 O 2 (1.71). ), SnO 2 (1.997), CeO 2 (1.95), indium tin oxide (abbreviated as ITO; 1.95), In 2 O 3 (2.00), Al 2 O 3 (1.63), Antimony-doped tin oxide (abbreviation ATO; 2.0), aluminum-doped zinc oxide (abbreviation AZO; 2.0), and the like can be given.

上記帯電防止剤の含有量としては、上記帯電防止剤を含有することの効果を充分に享有できるとともに、上述した本発明により製造される光学積層体に得られる効果を阻害しない範囲で、上記樹脂組成物に適宜配合されることが好ましい。 As the content of the antistatic agent, the resin can be used as long as the effect of containing the antistatic agent can be fully enjoyed and the effect obtained in the optical laminate produced according to the present invention is not impaired. It is preferable to be appropriately blended in the composition.

上記ハードコート層を形成するための樹脂組成物は、上述した成分の他に、必要に応じて、その他の成分を含んでいてもよい。上記その他の成分としては、光重合開始剤、レベリング剤、架橋剤、硬化剤、重合促進剤、粘度調整剤等を挙げることができる。 The resin composition for forming the hard coat layer may contain other components as necessary in addition to the components described above. Examples of the other components include a photopolymerization initiator, a leveling agent, a crosslinking agent, a curing agent, a polymerization accelerator, and a viscosity modifier.

上記光重合開始剤としては、アセトフェノン類(例えば、商品名イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製の1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、商品名イルガキュア907、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製の2−メチル−1〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モリフォリノプロパン−1−オン)、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタセロン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を挙げることができる。これらは、単独で使用するか又は2種以上を併用してもよい。
上記光重合開始剤の添加量は、上記電離放射線硬化型樹脂固形分100質量部に対して、0.1〜10質量部であることが好ましい。
上記レベリング剤、架橋剤、硬化剤、重合促進剤、粘度調整剤は、公知のものを使用するとよい。
Examples of the photopolymerization initiator include acetophenones (for example, trade name Irgacure 184, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone manufactured by Ciba Specialty Chemicals, trade name Irgacure 907, 2 manufactured by Ciba Specialty Chemicals). -Methyl-1 [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one), benzophenones, thioxanthones, benzoin, benzoin methyl ether, aromatic diazonium salts, aromatic sulfonium salts, aromatic iodonium Examples thereof include salts, metathelone compounds, and benzoin sulfonic acid esters. These may be used alone or in combination of two or more.
The addition amount of the photopolymerization initiator is preferably 0.1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the ionizing radiation curable resin solid content.
Known leveling agents, crosslinking agents, curing agents, polymerization accelerators, and viscosity modifiers may be used.

上記樹脂組成物は、上述した高屈折率樹脂A、高屈折率樹脂B、浸透性溶剤、バインダー樹脂及びその他の成分を混合して分散処理することにより得られる。混合分散には、ペイントシェーカー又はビーズミル等を使用するとよい。 The resin composition can be obtained by mixing and dispersing the above-described high refractive index resin A, high refractive index resin B, permeable solvent, binder resin and other components. For mixing and dispersing, a paint shaker or a bead mill may be used.

本工程では、上記樹脂組成物を光透過性基材上に塗布してハードコート層を形成する。
上記光透過性基材としては、透明性、平滑性、耐熱性を備え、機械的強度とに優れたものであることが好ましい。上記光透過性基材を形成する材料の具体例としては、トリアセチルセルロース(TAC)、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート等のセルロース系化合物が挙げられる。なかでも、発明の効果を発揮しやすいという観点からトリアセチルセルロース(TAC)であることがより好ましい。
In this step, the resin composition is applied onto a light transmissive substrate to form a hard coat layer.
The light-transmitting substrate preferably has transparency, smoothness, heat resistance, and excellent mechanical strength. Specific examples of the material forming the light-transmitting substrate include cellulose compounds such as triacetyl cellulose (TAC), cellulose diacetate, and cellulose acetate butyrate. Especially, it is more preferable that it is a triacetyl cellulose (TAC) from a viewpoint that it is easy to exhibit the effect of invention.

上記光透過性基材の厚みは、20〜300μmであることが好ましく、より好ましい下限は30μm、より好ましい上限は200μmである。 The thickness of the light transmissive substrate is preferably 20 to 300 μm, a more preferable lower limit is 30 μm, and a more preferable upper limit is 200 μm.

更に、上記光透過性基材は、その上にハードコート層を形成するのに際して、接着性向上のために、コロナ放電処理、酸化処理等の物理的な処理のほか、アンカー剤もしくはプライマーと呼ばれる塗料の塗布を予め行ってもよい。また、上記光透過性基材がトリアセチルセルロースの場合、ケン化処理をあらかじめ行ってもよい。上記ケン化処理は既知の方法・条件で行ってよい。 Furthermore, the light-transmitting substrate is called an anchor agent or primer in addition to physical treatment such as corona discharge treatment and oxidation treatment for improving adhesion when a hard coat layer is formed thereon. Application of the paint may be performed in advance. Moreover, when the said light-transmitting base material is a triacetyl cellulose, you may perform a saponification process previously. The saponification treatment may be performed by a known method / condition.

上記樹脂組成物を光透過性基材上に塗布する方法としては、ロールコート法、ミヤバーコート法、グラビアコート法等の公知の塗布方法が挙げられる。
また、上記樹脂組成物の塗布量としては目的とするハードコート層の膜厚等を考慮して適宜決定されるが、0.1〜30g/mであることが好ましい。0.1g/m未満であると、形成するハードコート層の硬度が低下する恐れがある。また、膜厚のコントロールが難しくなり性能のバラツキが大きくなることがある。30g/mを超えると、製造した光学積層体を曲げた場合にクラックが入りやすくなり問題となることがある。また、コスト的にも高くなるため好ましくない。より好ましい下限は1g/m、より好ましい上限は20g/mである。
Examples of a method for applying the resin composition on the light-transmitting substrate include known coating methods such as a roll coating method, a Miya bar coating method, and a gravure coating method.
The coating amount of the resin composition is appropriately determined in consideration of the film thickness of the target hard coat layer, etc., but is preferably 0.1 to 30 g / m 2 . If it is less than 0.1 g / m 2 , the hardness of the hard coat layer to be formed may be lowered. In addition, it may be difficult to control the film thickness, resulting in large variations in performance. If it exceeds 30 g / m 2 , cracks are likely to occur when the produced optical laminate is bent, which may be a problem. Moreover, it is not preferable because the cost increases. A more preferred lower limit is 1 g / m 2 and a more preferred upper limit is 20 g / m 2 .

上記ハードコート層を形成する方法としては、上記樹脂組成物を上記光透過性基材に塗布して樹脂層を形成した後、必要に応じて該樹脂層加熱し、活性エネルギー線照射により、硬化させて形成する方法が挙げられる。
上記活性エネルギー線照射としては、紫外線又は電子線による照射を挙げることができる。紫外線源の具体例としては、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク灯、ブラックライト蛍光灯、メタルハライドランプ灯等の光源が挙げられる。紫外線の波長としては、190〜380nmの波長域を使用することができる。電子線源の具体例としては、コッククロフトワルト型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、又は直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器が挙げられる。
As the method for forming the hard coat layer, the resin composition is applied to the light-transmitting substrate to form a resin layer, and then the resin layer is heated as necessary, and cured by irradiation with active energy rays. The method of making it form is mentioned.
Examples of the active energy ray irradiation include irradiation with ultraviolet rays or electron beams. Specific examples of the ultraviolet light source include light sources such as an ultrahigh pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a black light fluorescent lamp, and a metal halide lamp. As the wavelength of the ultraviolet light, a wavelength range of 190 to 380 nm can be used. Specific examples of the electron beam source include various electron beam accelerators such as a cockcroft-wald type, a bandegraft type, a resonant transformer type, an insulated core transformer type, a linear type, a dynamitron type, and a high frequency type.

本工程を経て形成されるハードコート層は、JIS K5600−5−4(1999)で規定される鉛筆硬度試験で「H」以上の硬度を示すものであることが好ましい。上記硬度を有することにより、所望の耐擦傷性等を実現できる光学積層体を製造することができる。 The hard coat layer formed through this step preferably exhibits a hardness of “H” or higher in a pencil hardness test specified by JIS K5600-5-4 (1999). By having the above-mentioned hardness, an optical laminate that can realize desired scratch resistance and the like can be manufactured.

本発明の光学積層体の製造方法は、帯電防止層を形成する工程を有することが好ましい。
上記帯電防止層は、例えば、上述した帯電防止剤を及び樹脂を含む組成物により形成することができる。上記樹脂としては特に限定されず、例えば、上述の樹脂組成物で例示したバインダー樹脂等が挙げられる。
なお、上記帯電防止層を形成する工程は、上記ハードコート層を光透過性基材上に形成する工程の前に行ってもよく、上記ハードコート層を光透過性基材上に形成する工程の後に行ってもよい。前者の場合、製造する光学積層体は、光透過性基材上に帯電防止層が形成され、該帯電防止層上にハードコート層が形成された構造となる。一方、後者の場合、製造する光学積層体は、光透過性基材上にハードコート層が形成され、該ハードコート層上に帯電防止層が形成された構造となる。
The method for producing an optical laminate of the present invention preferably includes a step of forming an antistatic layer.
The antistatic layer can be formed of, for example, a composition containing the above-described antistatic agent and a resin. It does not specifically limit as said resin, For example, the binder resin etc. which were illustrated with the above-mentioned resin composition are mentioned.
The step of forming the antistatic layer may be performed before the step of forming the hard coat layer on the light transmissive substrate, or the step of forming the hard coat layer on the light transmissive substrate. You may go after. In the former case, the produced optical laminate has a structure in which an antistatic layer is formed on a light-transmitting substrate and a hard coat layer is formed on the antistatic layer. On the other hand, in the latter case, the optical laminate to be produced has a structure in which a hard coat layer is formed on a light-transmitting substrate and an antistatic layer is formed on the hard coat layer.

また、本発明の光学積層体の製造方法は、上述した工程を経て形成したハードコート層の上に、更に、低屈折率層を形成する工程を有することが好ましい。
上記高屈折率樹脂A及び高屈折率樹脂Bを含むハードコート層の上に、低屈折率層を形成することにより、屈折率の異なる層が複数形成されて反射防止性能をより高めることができる。上記低屈折率層は、屈折率が1.50未満であることが好ましく、1.45以下であることがより好ましい。
Moreover, it is preferable that the manufacturing method of the optical laminated body of this invention has the process of forming a low refractive index layer further on the hard-coat layer formed through the process mentioned above.
By forming a low refractive index layer on the hard coat layer containing the high refractive index resin A and the high refractive index resin B, a plurality of layers having different refractive indexes can be formed to further improve the antireflection performance. . The low refractive index layer preferably has a refractive index of less than 1.50, more preferably 1.45 or less.

上記低屈折率層は、1)シリカ又はフッ化マグネシウムを含有する樹脂、2)低屈折率樹脂であるフッ素系樹脂、3)シリカ又はフッ化マグネシウムを含有するフッ素系樹脂、4)シリカ又はフッ化マグネシウムの薄膜等のいずれかで構成されていてもよい。 The low refractive index layer is composed of 1) a resin containing silica or magnesium fluoride, 2) a fluorine resin which is a low refractive index resin, 3) a fluorine resin containing silica or magnesium fluoride, 4) silica or fluorine. You may be comprised with either of the thin films of magnesium halide.

上記フッ素系樹脂とは、少なくとも分子中にフッ素原子を含む重合性化合物又はその重合体である。重合性化合物はとして特に限定されないが、例えば、電離放射線で硬化する官能基(電離放射線硬化性基)や熱で硬化する極性基(熱硬化極性基)等の硬化反応性の基を有するものが好ましい。また、これらの反応性の基を同時に併せ持つ化合物でもよい。 The fluororesin is a polymerizable compound containing at least a fluorine atom in the molecule or a polymer thereof. Although it does not specifically limit as a polymeric compound, For example, what has hardening reactive groups, such as a functional group (ionizing radiation hardening group) hardened by ionizing radiation, and a polar group (thermosetting polar group) hardened by heat preferable. Moreover, the compound which has these reactive groups simultaneously may be sufficient.

フッ素原子を含有する電離放射線硬化性基を有する重合性化合物としては、エチレン性不飽和結合を有するフッ素含有モノマーを広く用いることができる。より具体的には、フルオロオレフィン類(例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロブタジエン、パーフルオロ‐2,2‐ジメチル−1,3−ジオキソールなど)を例示することができる。(メタ)アクリロイルオキシ基を有するものとして、2,2,2−トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロブチル)エチル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロヘキシル)エチル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロオクチル)エチル(メタ)アクリレート、2−(パーフルオロデシル)エチル(メタ)アクリレート、α−トリフルオロメタクリル酸メチル、α−トリフルオロメタクリル酸エチルのような、分子中にフッ素原子を有する(メタ)アクリレート化合物;分子中に、フッ素原子を少なくとも3個持つ炭素数1〜14のフルオロアルキル基、フルオロシクロアルキル基又はフルオロアルキレン基と、少なくとも2個の(メタ)アクリロイルオキシ基とを有する含フッ素多官能(メタ)アクリル酸エステル化合物などもある。 As the polymerizable compound having an ionizing radiation curable group containing a fluorine atom, fluorine-containing monomers having an ethylenically unsaturated bond can be widely used. More specifically, exemplify fluoroolefins (eg, fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoropropylene, perfluorobutadiene, perfluoro-2,2-dimethyl-1,3-dioxole, etc.) Can do. As having a (meth) acryloyloxy group, 2,2,2-trifluoroethyl (meth) acrylate, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl (meth) acrylate, 2- (perfluorobutyl) Ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluorohexyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluorooctyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluorodecyl) ethyl (meth) acrylate, α-trifluoromethacryl (Meth) acrylate compounds having fluorine atoms in the molecule, such as methyl acrylate and ethyl α-trifluoromethacrylate; C 1-14 fluoroalkyl groups having at least 3 fluorine atoms in the molecule, fluorocyclo An alkyl group or a fluoroalkylene group and at least two (meta And fluorine-containing polyfunctional (meth) acrylic acid ester compounds having an acryloyloxy group.

フッ素原子を含有する熱硬化性極性基を有する重合性化合物としては、例えば、4−フルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体;フルオロエチレン−炭化水素系ビニルエーテル共重合体;エポキシ、ポリウレタン、セルロース、フェノール、ポリイミド等の各樹脂のフッ素変性品などを例示することができる。上記熱硬化性極性基としては、例えば、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、エポキシ基等の水素結合形成基が好ましく挙げられる。これらは、塗膜との密着性だけでなく、シリカ等の無機超微粒子との親和性にも優れている。 Examples of the polymerizable compound having a thermosetting polar group containing a fluorine atom include 4-fluoroethylene-perfluoroalkyl vinyl ether copolymer; fluoroethylene-hydrocarbon vinyl ether copolymer; epoxy, polyurethane, cellulose, Examples include fluorine-modified products of resins such as phenol and polyimide. As said thermosetting polar group, hydrogen bond forming groups, such as a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group, an epoxy group, are mentioned preferably, for example. These are excellent not only in adhesion to the coating film but also in affinity with inorganic ultrafine particles such as silica.

電離放射線硬化性基と熱硬化性極性基とを併せ持つ重合性化合物(フッ素系樹脂)としては、アクリル又はメタクリル酸の部分及び完全フッ素化アルキル、アルケニル、アリールエステル類、完全又は部分フッ素化ビニルエーテル類、完全又は部分フッ素化ビニルエステル類、完全又は部分フッ素化ビニルケトン類等を例示することができる。 Polymerizable compounds having both ionizing radiation curable groups and thermosetting polar groups (fluorinated resins) include acrylic or methacrylic acid moieties and fully fluorinated alkyl, alkenyl, aryl esters, fully or partially fluorinated vinyl ethers. Examples thereof include fully or partially fluorinated vinyl esters, fully or partially fluorinated vinyl ketones, and the like.

フッ素原子を含有する上記重合性化合物の重合体としては、例えば、上記電離放射線硬化性基を有する重合性化合物の含フッ素(メタ)アクリレート化合物を少なくとも1種類含むモノマー又はモノマー混合物の重合体;含フッ素(メタ)アクリレート化合物の少なくとも1種類と、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレートの如き分子中にフッ素原子を含まない(メタ)アクリレート化合物との共重合体;フルオロエチレン、フッ化ビニリデン、トリフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、3,3,3−トリフルオロプロピレン、1,1,2−トリクロロ−3,3,3−トリフルオロプロピレン、ヘキサフルオロプロピレンのような含フッ素モノマーの単独重合体又は共重合体;などが挙げられる。 Examples of the polymer of the polymerizable compound containing a fluorine atom include a polymer of a monomer or a monomer mixture containing at least one fluorine-containing (meth) acrylate compound of the polymerizable compound having the ionizing radiation curable group; At least one fluorine (meth) acrylate compound and a fluorine atom in a molecule such as methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate Copolymers with (meth) acrylate compounds not containing; fluoroethylene, vinylidene fluoride, trifluoroethylene, chlorotrifluoroethylene, 3,3,3-trifluoropropylene, 1,1,2-trichloro-3, 3,3-trifluoropropylene, hex Homopolymers and copolymers of fluorine-containing monomers such as hexafluoropropylene; and the like.

また、これらの共重合体にシリコーン成分を含有させたシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体も、上記重合性化合物の重合体として用いることができる。この場合のシリコーン成分としては、(ポリ)ジメチルシロキサン、(ポリ)ジエチルシロキサン、(ポリ)ジフェニルシロキサン、(ポリ)メチルフェニルシロキサン、アルキル変性(ポリ)ジメチルシロキサン、アゾ基含有(ポリ)ジメチルシロキサンや、ジメチルシリコーン、フェニルメチルシリコーン、アルキル・アラルキル変性シリコーン、フルオロシリコーン、ポリエーテル変性シリコーン、脂肪酸エステル変性シリコーン、メチル水素シリコーン、シラノール基含有シリコーン、アルコキシ基含有シリコーン、フェノール基含有シリコーン、メタクリル変性シリコーン、アクリル変性シリコーン、アミノ変性シリコーン、カルボン酸変性シリコーン、カルビノール変性シリコーン、エポキシ変性シリコーン、メルカプト変性シリコーン、フッ素変性シリコーン、ポリエーテル変性シリコーン等が例示できる。中でもジメチルシロキサン構造を有するものが好ましい。 Moreover, the silicone containing vinylidene fluoride copolymer which made these copolymers contain a silicone component can also be used as a polymer of the said polymeric compound. Examples of silicone components in this case include (poly) dimethylsiloxane, (poly) diethylsiloxane, (poly) diphenylsiloxane, (poly) methylphenylsiloxane, alkyl-modified (poly) dimethylsiloxane, azo group-containing (poly) dimethylsiloxane, , Dimethyl silicone, phenylmethyl silicone, alkyl aralkyl modified silicone, fluorosilicone, polyether modified silicone, fatty acid ester modified silicone, methyl hydrogen silicone, silanol group containing silicone, alkoxy group containing silicone, phenol group containing silicone, methacryl modified silicone, Acrylic modified silicone, amino modified silicone, carboxylic acid modified silicone, carbinol modified silicone, epoxy modified silicone, mercapto modified silicone Corn, fluorine-modified silicones, polyether-modified silicones and the like. Among them, those having a dimethylsiloxane structure are preferable.

上記したほか、更には、分子中に少なくとも1個のイソシアナト基を有する含フッ素化合物と、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基等のイソシアナト基と反応する官能基を分子中に少なくとも1個有する化合物とを反応させて得られる化合物;フッ素含有ポリエーテルポリオール、フッ素含有アルキルポリオール、フッ素含有ポリエステルポリオール、フッ素含有ε−カプロラクトン変性ポリオール等のフッ素含有ポリオールと、イソシアナト基を有する化合物とを反応させて得られる化合物;等も、フッ素系樹脂として用いることができる。 In addition to the above, a fluorine-containing compound having at least one isocyanato group in the molecule, and a compound having at least one functional group in the molecule that reacts with an isocyanato group such as an amino group, a hydroxyl group, or a carboxyl group A compound obtained by reacting a fluorine-containing polyether polyol, a fluorine-containing alkyl polyol, a fluorine-containing polyester polyol, a fluorine-containing polyol such as a fluorine-containing ε-caprolactone-modified polyol, and a compound having an isocyanato group. Compounds; etc. can also be used as the fluororesin.

低屈折率層の形成にあっては、例えば原料成分を含む組成物(低屈折率層形成用組成物)を用いて形成することができる。より具体的には、原料成分(樹脂等)及び必要に応じて添加剤(例えば、後述の「空隙を有する微粒子」、重合開始剤、帯電防止剤、防眩剤等)を溶媒に溶解又は分散してなる溶液又は分散液を、低屈折率層形成用組成物として用い、上記ハードコート層上に上記組成物による塗膜を形成し、上記塗膜を硬化させることにより低屈折率層を得ることができる。なお、重合開始剤等の添加剤は、例えば、ハードコート層で使用するものと同様のものを使用することができる。また、帯電防止剤、防眩剤は、光学積層体の技術分野において公知のものを使用することができる。 In forming the low refractive index layer, for example, it can be formed using a composition containing a raw material component (a composition for forming a low refractive index layer). More specifically, a raw material component (resin, etc.) and, if necessary, an additive (for example, “fine particles having voids” described later, a polymerization initiator, an antistatic agent, an antiglare agent, etc.) are dissolved or dispersed in a solvent The resulting solution or dispersion is used as a composition for forming a low refractive index layer, a coating film is formed from the composition on the hard coat layer, and the coating film is cured to obtain a low refractive index layer. be able to. In addition, as additives, such as a polymerization initiator, the thing similar to what is used by a hard-coat layer can be used, for example. As the antistatic agent and the antiglare agent, those known in the technical field of optical laminates can be used.

上記溶媒としては、水、アルコール(例、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、s−ブタノール、t−ブタノール、ベンジルアルコール、PGME)、ケトン(例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ヘプタノン、ジイソブチルケトン、ジエチルケトン)、エステル(例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル、PGMEA)、脂肪族炭化水素(例、ヘキサン、シクロヘキサン)、ハロゲン化炭化水素(例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素)、芳香族炭化水素(例、ベンゼン、トルエン、キシレン)、アミド(例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、n −メチルピロリドン)、エーテル(例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン)、エーテルアルコール(例、1−メトキシ−2−プロパノール)等を挙げることができる。なかでも、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、イソプロピルアルコール(IPA)、n−ブタノール、s−ブタノール、t−ブタノール、PGME、PGMEAが好ましい。 Examples of the solvent include water, alcohol (eg, methanol, ethanol, propanol, isopropanol, n-butanol, s-butanol, t-butanol, benzyl alcohol, PGME), ketone (eg, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone). , Heptanone, diisobutyl ketone, diethyl ketone), esters (eg, methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, methyl formate, ethyl formate, propyl formate, butyl formate, PGMEA), aliphatic hydrocarbons (eg, hexane, Cyclohexane), halogenated hydrocarbons (eg, methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride), aromatic hydrocarbons (eg, benzene, toluene, xylene), amides (eg, dimethylformamide, dimethylacetamide, n -Methylpyrrolidone), ether (eg, diethyl ether, dioxane, tetrahydrofuran), ether alcohol (eg, 1-methoxy-2-propanol) and the like. Of these, methyl isobutyl ketone, methyl ethyl ketone, isopropyl alcohol (IPA), n-butanol, s-butanol, t-butanol, PGME, and PGMEA are preferable.

上記低屈折率層においては、低屈折率剤として、「空隙を有する微粒子」を利用することが好ましい。「空隙を有する微粒子」は低屈折率層の層強度を保持しつつ、その屈折率を下げることができる。本発明において、「空隙を有する微粒子」とは、微粒子の内部に気体が充填された構造及び/又は気体を含む多孔質構造体を形成し、微粒子本来の屈折率に比べて微粒子中の気体の占有率に反比例して屈折率が低下する微粒子を意味する。また、本発明にあっては、微粒子の形態、構造、凝集状態、被膜内部での微粒子の分散状態により、内部、及び/又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子も含まれる。この微粒子を使用した低屈折率層は、屈折率を1.30〜1.45に調節することが可能である。 In the low refractive index layer, it is preferable to use “fine particles having voids” as the low refractive index agent. The “fine particles having voids” can lower the refractive index while maintaining the layer strength of the low refractive index layer. In the present invention, the term “fine particles having voids” refers to a structure in which a gas is filled with gas and / or a porous structure containing gas, and the gas in the fine particle is compared with the original refractive index of the fine particle. It means fine particles whose refractive index decreases in inverse proportion to the occupation ratio. The present invention also includes fine particles capable of forming a nanoporous structure inside and / or at least part of the surface depending on the form, structure, aggregated state, and dispersed state of the fine particles inside the coating. . The low refractive index layer using these fine particles can adjust the refractive index to 1.30 to 1.45.

空隙を有する無機系の微粒子としては、例えば、特開2001−233611号公報、特開平7−133105号公報、特開2002−79616号公報、特開2006−106714号公報等に記載された製法によって得られるシリカ微粒子等を挙げることができる。空隙を有するシリカ微粒子は、製造が容易でそれ自身の硬度が高いため、バインダーと混合して低屈折率層を形成した際、その層強度が向上され、かつ、屈折率を1.20〜1.45程度の範囲内に調整することができる。
空隙を有する有機系の微粒子の具体例としては、特開2002−80503号公報で開示されている技術を用いて調製した中空ポリマー微粒子を挙げることができる。
Examples of the inorganic fine particles having voids include the production methods described in JP-A-2001-233611, JP-A-7-133105, JP-A-2002-79616, JP-A-2006-106714, and the like. Examples thereof include silica fine particles to be obtained. Since the silica fine particles having voids are easy to manufacture and have high hardness itself, when mixed with a binder to form a low refractive index layer, the layer strength is improved and the refractive index is 1.20 to 1. It can be adjusted within a range of about .45.
Specific examples of the organic fine particles having voids include hollow polymer fine particles prepared by using the technique disclosed in JP-A-2002-80503.

被膜の内部及び/又は表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子としては先のシリカ微粒子に加え、比表面積を大きくすることを目的として製造され、充填用のカラム及び表面の多孔質部に各種化学物質を吸着させる除放材、触媒固定用に使用される多孔質微粒子又は断熱材や低誘電材に組み込むことを目的とする中空微粒子の分散体や凝集体を挙げることができる。そのような具体的としては、市販品として日本シリカ工業株式会社製の商品名NipsilやNipgelの中から多孔質シリカ微粒子の集合体、日産化学工業社製のシリカ微粒子が鎖状に繋がった構造を有するコロイダルシリカUPシリーズ(商品名)から、本発明の好ましい粒子径の範囲内のものを利用することが可能である。 The fine particles capable of forming a nanoporous structure inside and / or at least a part of the surface of the coating are manufactured for the purpose of increasing the specific surface area in addition to the silica fine particles, and the packing column and the porous surface Examples include a release material that adsorbs various chemical substances on the part, a porous fine particle used for catalyst fixation, a dispersion or aggregate of hollow fine particles intended to be incorporated into a heat insulating material or a low dielectric material. Specifically, as a commercial product, an assembly of porous silica fine particles from the product names Nippil and Nipgel manufactured by Nippon Silica Industry Co., Ltd., and a structure in which silica fine particles manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd. are connected in a chain form. From the colloidal silica UP series (trade name), it is possible to use those within the preferred particle diameter range of the present invention.

上記「空隙を有する微粒子」の平均粒子径は、5nm以上300nm以下であることが好ましく、8nm以上100nm以下であることがより好ましく、10nm以上80nm以下であることが更に好ましい。微粒子の平均粒子径がこの範囲内にあることにより、ハードコート層に優れた透明性を付与することが可能となる。なお、上記平均粒子径は、動的光散乱法によって測定した値である。「空隙を有する微粒子」は、上記低屈折率層中にマトリックス樹脂100質量部に対して、通常0.1〜500質量部程度、好ましくは10〜200質量部程度とするのが好ましい。 The average particle diameter of the “fine particles having voids” is preferably 5 nm to 300 nm, more preferably 8 nm to 100 nm, and still more preferably 10 nm to 80 nm. When the average particle diameter of the fine particles is within this range, it is possible to impart excellent transparency to the hard coat layer. The average particle diameter is a value measured by a dynamic light scattering method. The “fine particles having voids” are usually about 0.1 to 500 parts by mass, preferably about 10 to 200 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the matrix resin in the low refractive index layer.

上記低屈折率層形成用組成物の調製方法は、上述の成分を均一に混合できれば良く、公知の方法に従って実施すれば良い。例えば、上記ハードコート層の形成において上述した公知の装置を使用して混合することができる。 The preparation method of the said composition for low refractive index layer formation should just be able to mix the above-mentioned component uniformly, and should just implement it according to a well-known method. For example, it can mix using the well-known apparatus mentioned above in formation of the said hard-coat layer.

低屈折率層の形成においては、上記低屈折率層形成用組成物の粘度を好ましい塗布性が得られる0.5〜5cps(25℃)の範囲のものとすることが好ましい。可視光線の優れた反射防止膜を実現でき、かつ、均一で塗布ムラのない薄膜を形成することができ、かつ基材に対する密着性に特に優れた低屈折率層を形成することができる。上記粘度は、より好ましくは0.7〜3cps(25℃)である。 In the formation of the low refractive index layer, the viscosity of the low refractive index layer forming composition is preferably in the range of 0.5 to 5 cps (25 ° C.) at which preferable coatability is obtained. An antireflection film excellent in visible light can be realized, a uniform thin film with no coating unevenness can be formed, and a low refractive index layer particularly excellent in adhesion to a substrate can be formed. The viscosity is more preferably 0.7 to 3 cps (25 ° C.).

上記低屈折率層形成用組成物をハードコート層上に塗布して塗膜を形成する方法としては、公知の方法に従えば良い。例えば、上記ハードコート層の形成における樹脂組成物の塗布方法と同様の各種方法を用いることができる。 As a method for forming the coating film by applying the composition for forming a low refractive index layer on the hard coat layer, a known method may be followed. For example, various methods similar to the coating method of the resin composition in forming the hard coat layer can be used.

塗膜の硬化方法としては、例えば、上記ハードコート層の形成における樹脂組成物の硬化方法と同様の方法を挙げることができる。硬化処理のために加熱手段が利用される場合には、加熱により、例えばラジカルを発生して重合性化合物の重合を開始させる熱重合開始剤がフッ素系樹脂組成物に添加されることが好ましい。 Examples of the method for curing the coating film include the same method as the method for curing the resin composition in the formation of the hard coat layer. When a heating means is used for the curing treatment, it is preferable to add a thermal polymerization initiator that generates, for example, a radical by heating to start polymerization of the polymerizable compound, to the fluororesin composition.

低屈折率層の膜厚(nm)dは、下記式(I):
=mλ/(4n) (I)
(上記式中、
は低屈折率層の屈折率を表し、
mは正の奇数を表し、好ましくは1を表し、
λは波長であり、好ましくは480〜580nmの範囲の値である)
を満たすものが好ましい。
The film thickness (nm) d A of the low refractive index layer is expressed by the following formula (I):
d A = mλ / (4n A ) (I)
(In the above formula,
n A represents the refractive index of the low refractive index layer;
m represents a positive odd number, preferably 1;
λ is a wavelength, preferably a value in the range of 480 to 580 nm)
Those satisfying these conditions are preferred.

また、本発明にあっては、低屈折率層は下記数式(II):
120<n<145 (II)
を満たすことが低反射率化の点で好ましい。
In the present invention, the low refractive index layer has the following formula (II):
120 <n A d A <145 (II)
It is preferable from the viewpoint of low reflectivity.

本発明の光学積層体の製造方法により得られる光学積層体は、光透過性基材上にハードコート層、必要に応じて帯電防止層や低屈折率層を有するものであるが、その他にも任意の層として防汚染層、防眩層、中屈折率層等を備えているものであってよい。上記防汚染層、防眩層、中屈折率層は、一般に使用される防汚染剤、防眩剤、中屈折率剤又は樹脂等を添加した組成物を調製し、それぞれの層を公知の方法により形成するとよい。 The optical laminate obtained by the method for producing an optical laminate of the present invention has a hard coat layer on an optically transparent substrate, and optionally an antistatic layer or a low refractive index layer. An arbitrary layer may be provided with an antifouling layer, an antiglare layer, a medium refractive index layer and the like. The antifouling layer, the antiglare layer, and the medium refractive index layer are prepared by adding a commonly used antifouling agent, antiglare agent, medium refractive index agent, resin, or the like, and preparing each layer by a known method. It is good to form by.

上記光学積層体の全光線透過率は、90%以上であることが好ましい。90%未満であると、ディスプレイ表面に装着した場合において、色再現性や視認性を損なうおそれがある。上記全光線透過率は、92%以上であることがより好ましく、94%以上であることが更に好ましい。 The total light transmittance of the optical layered body is preferably 90% or more. If it is less than 90%, color reproducibility and visibility may be impaired when it is mounted on the display surface. The total light transmittance is more preferably 92% or more, and still more preferably 94% or more.

上記光学積層体のヘイズ値は、10%以下であることが好ましい。10%を超えると、ディスプレイ表面に装着した場合において、色再現性や視認性を損なうおそれがある。上記ヘイズ値は、5%以下であることがより好ましい。1%以下であれば更に好ましい。 The haze value of the optical layered body is preferably 10% or less. If it exceeds 10%, color reproducibility and visibility may be impaired when mounted on the display surface. The haze value is more preferably 5% or less. 1% or less is more preferable.

上記光学積層体の一態様について、図を用いて説明する。図1は、上から順に低屈折率層1、ハードコート層2、光透過性基材3を備えてなる光学積層体を示す。このような本発明の光学積層体の製造方法により得られる光学積層体もまた、本発明の一つである。上記光学積層体は、このような態様の他に、目的に応じて任意の層からなるものであってもよく、また、上述した態様に限定されないものである。 One mode of the optical layered body will be described with reference to the drawings. FIG. 1 shows an optical laminate including a low refractive index layer 1, a hard coat layer 2, and a light-transmitting substrate 3 in order from the top. An optical laminate obtained by such a method for producing an optical laminate of the present invention is also one aspect of the present invention. In addition to such an aspect, the optical layered body may be composed of any layer depending on the purpose, and is not limited to the above-described aspect.

偏光素子の表面に、上記光学積層体を、上記光学積層体におけるハードコート層が存在する面と反対の面に設けることによって、偏光板とすることができる。このような偏光板も、本発明の一つである。 A polarizing plate can be obtained by providing the optical layered body on the surface of the polarizing element on the surface opposite to the surface where the hard coat layer is present in the optical layered body. Such a polarizing plate is also one aspect of the present invention.

上記偏光素子としては特に限定されず、例えば、ヨウ素等により染色し、延伸したポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルホルマールフィルム、ポリビニルアセタールフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体系ケン化フィルム等を使用することができる。上記偏光素子と本発明の光学積層体とのラミネート処理においては、光透過性基材(好ましくは、トリアセチルセルロースフィルム)にケン化処理を行うことが好ましい。ケン化処理によって、接着性が良好になり帯電防止効果も得ることができる。 The polarizing element is not particularly limited, and for example, a polyvinyl alcohol film, a polyvinyl formal film, a polyvinyl acetal film, an ethylene-vinyl acetate copolymer saponified film, etc. dyed and stretched with iodine or the like can be used. In the laminating process of the polarizing element and the optical laminate of the present invention, it is preferable to saponify the light-transmitting substrate (preferably a triacetyl cellulose film). By the saponification treatment, the adhesiveness is improved and an antistatic effect can be obtained.

本発明は、最表面に上記光学積層体又は上記偏光板を備えてなる画像表示装置でもある。上記画像表示装置は、LCD等の非自発光型画像表示装置であっても、PDP、FED、ELD(有機EL、無機EL)、CRT等の自発光型画像表示装置であってもよい。 The present invention is also an image display device including the optical laminate or the polarizing plate on the outermost surface. The image display device may be a non-self-luminous image display device such as an LCD, or a self-luminous image display device such as a PDP, FED, ELD (organic EL, inorganic EL), or CRT.

上記非自発光型の代表的な例であるLCDは、透過性表示体と、上記透過性表示体を背面から照射する光源装置とを備えてなるものである。本発明の画像表示装置がLCDである場合、この透過性表示体の表面に、本発明の光学積層体又は本発明の偏光板が形成されてなるものである。 An LCD that is a typical example of the non-self-luminous type includes a transmissive display and a light source device that irradiates the transmissive display from the back. When the image display device of the present invention is an LCD, the optical laminate of the present invention or the polarizing plate of the present invention is formed on the surface of this transmissive display.

本発明が上記光学積層体を有する液晶表示装置の場合、光源装置の光源は光学積層体の下側から照射される。なお、STN型の液晶表示装置には、液晶表示素子と偏光板との間に、位相差板が挿入されてよい。この液晶表示装置の各層間には必要に応じて接着剤層が設けられてよい。 In the case where the present invention is a liquid crystal display device having the optical laminate, the light source of the light source device is irradiated from the lower side of the optical laminate. Note that in the STN liquid crystal display device, a retardation plate may be inserted between the liquid crystal display element and the polarizing plate. An adhesive layer may be provided between the layers of the liquid crystal display device as necessary.

上記自発光型画像表示装置であるPDPは、表面ガラス基板(表面に電極を形成)と当該表面ガラス基板に対向して間に放電ガスが封入されて配置された背面ガラス基板(電極および、微小な溝を表面に形成し、溝内に赤、緑、青の蛍光体層を形成)とを備えてなるものである。本発明の画像表示装置がPDPである場合、上記表面ガラス基板の表面、又はその前面板(ガラス基板又はフィルム基板)に上述した光学積層体を備えるものでもある。 The PDP, which is the self-luminous image display device, has a front glass substrate (electrodes are formed on the surface) and a rear glass substrate (electrodes and minute electrodes) disposed with a discharge gas sealed between the front glass substrate and the front glass substrate. Are formed on the surface, and red, green, and blue phosphor layers are formed in the groove). When the image display device of the present invention is a PDP, the above-mentioned optical laminate is provided on the surface of the surface glass substrate or the front plate (glass substrate or film substrate).

上記自発光型画像表示装置は、電圧をかけると発光する硫化亜鉛、ジアミン類物質:発光体をガラス基板に蒸着し、基板にかける電圧を制御して表示を行うELD装置、又は、電気信号を光に変換し、人間の目に見える像を発生させるCRT等の画像表示装置であってもよい。この場合、上記のような各表示装置の最表面又はその前面板の表面に上述した光学積層体を備えるものである。 The self-luminous image display device is an ELD device that emits light when a voltage is applied, such as zinc sulfide or a diamine substance: a phosphor is deposited on a glass substrate, and the voltage applied to the substrate is controlled. It may be an image display device such as a CRT that converts light into light and generates an image visible to the human eye. In this case, the optical laminated body described above is provided on the outermost surface of each display device as described above or the surface of the front plate.

本発明の画像表示装置は、いずれの場合も、テレビジョン、コンピュータ、ワードプロセッサ等のディスプレイ表示に使用することができる。特に、CRT、液晶パネル、PDP、ELD、FED等の高精細画像用ディスプレイの表面に好適に使用することができる。 In any case, the image display apparatus of the present invention can be used for display display of a television, a computer, a word processor, or the like. In particular, it can be suitably used for the surface of high-definition image displays such as CRT, liquid crystal panel, PDP, ELD, FED and the like.

本発明の光学積層体の製造方法は、上述した光透過性基材上にハードコート層を形成する工程を有するため、界面反射と干渉縞が抑制され、優れた視認性を有する光学積層体を製造することができる。本発明により製造された光学積層体は、陰極線管表示装置(CRT)、液晶ディスプレイ(LCD)、プラズマディスプレイ(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)、フィールドエミッションディスプレイ(FED)等に好適に適用することができる。 Since the method for producing an optical laminate of the present invention includes a step of forming a hard coat layer on the above-described light-transmitting substrate, an optical laminate having excellent visibility, in which interface reflection and interference fringes are suppressed. Can be manufactured. The optical laminate manufactured by the present invention is suitably applied to a cathode ray tube display (CRT), a liquid crystal display (LCD), a plasma display (PDP), an electroluminescence display (ELD), a field emission display (FED) and the like. be able to.

以下、本発明を実施例に基づいて更に詳細に説明するが、本発明の内容はこれらの実施態様に限定して解釈されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated further in detail based on an Example, the content of this invention is limited to these embodiments and is not interpreted.

(製造例1 樹脂組成物1の調製)
下記に示す組成を混合して樹脂組成物1を調製した。
ウレタンアクリレート(UV1700B、日本合成製) 5質量部
高屈折率樹脂A(A−REN−10、新中村化学製、Mw268) 2.5質量部
高屈折率樹脂B(R1403、第一工業製薬製、Mw1500) 2.5質量部
重合開始剤(イルガキュア184;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)
0.4質量部
レベリング剤(大日本インキ製、メガファックMCF350−5) 0.2質量部
メチルエチルケトン 10質量部
(Production Example 1 Preparation of Resin Composition 1)
The composition shown below was mixed and the resin composition 1 was prepared.
Urethane acrylate (UV1700B, manufactured by Nihon Gosei) 5 parts by mass high refractive index resin A (A-REN-10, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., Mw268) 2.5 parts by mass high refractive index resin B (R1403, manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku, Mw1500) 2.5 parts by mass polymerization initiator (Irgacure 184; manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
0.4 parts by weight leveling agent (Dainippon Ink, MegaFuck MCF350-5) 0.2 parts by weight methyl ethyl ketone 10 parts by weight

(製造例2 樹脂組成物2の調製)
下記に示す組成を混合して樹脂組成物2を調製した。
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA、日本化薬製) 5質量部
高屈折率樹脂A(A−REN−10、新中村化学製、Mw268) 2.5質量部
高屈折率樹脂B(R1403、第一工業製薬製、Mw1500) 2.5質量部
重合開始剤(イルガキュア184;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)
0.4質量部
レベリング剤(大日本インキ製、メガファックMCF350−5) 0.2質量部
メチルエチルケトン 10質量部
(Production Example 2 Preparation of Resin Composition 2)
The composition shown below was mixed and the resin composition 2 was prepared.
Dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, Nippon Kayaku) 5 parts by mass high refractive index resin A (A-REN-10, Shin-Nakamura Chemical, Mw268) 2.5 parts by mass high refractive index resin B (R1403, Daiichi Mw 1500, manufactured by Kogyo Seiyaku Co., Ltd. 2.5 parts by mass polymerization initiator (Irgacure 184; manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
0.4 parts by weight leveling agent (Dainippon Ink, MegaFuck MCF350-5) 0.2 parts by weight methyl ethyl ketone 10 parts by weight

(製造例3 樹脂組成物3の調製)
下記に示す組成を混合して樹脂組成物3を調製した。
ウレタンアクリレート(UV1700B、日本合成製) 2.5質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA、日本化薬製) 2.5質量部
高屈折率樹脂A(A−REN−10、新中村化学製、Mw268) 2.5質量部
高屈折率樹脂B(R1403、第一工業製薬製、Mw1500) 2.5質量部
重合開始剤(イルガキュア184;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)
0.4質量部
レベリング剤(大日本インキ製、メガファックMCF350−5) 0.2質量部
メチルエチルケトン 10質量部
(Production Example 3 Preparation of Resin Composition 3)
The composition shown below was mixed and the resin composition 3 was prepared.
Urethane acrylate (UV1700B, manufactured by Nippon Gosei Co., Ltd.) 2.5 parts by mass Dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 2.5 parts by mass high refractive index resin A (A-REN-10, manufactured by Shin-Nakamura Chemical, Mw268 ) 2.5 parts by mass high refractive index resin B (R1403, manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd., Mw 1500) 2.5 parts by mass polymerization initiator (Irgacure 184; manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
0.4 parts by weight leveling agent (Dainippon Ink, MegaFuck MCF350-5) 0.2 parts by weight methyl ethyl ketone 10 parts by weight

(製造例4 樹脂組成物4の調製)
下記に示す組成を混合して樹脂組成物4を調製した。
ウレタンアクリレート(BS577、荒川化学製) 2.5質量部
ペンタエリスリトールテトラアクリレート(PET30、日本化薬製) 2.5質量部
高屈折率樹脂A(A―REN―10、新中村化学製、Mw268) 2.5質量部
高屈折率樹脂B(R1403、第一工業製薬製、Mw1500) 2.5質量部
重合開始剤(イルガキュア184;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)
0.4質量部
レベリング剤(大日本インキ製、メガファックMCF350−5) 0.2質量部
メチルエチルケトン 10質量部
(Production Example 4 Preparation of Resin Composition 4)
The composition shown below was mixed and the resin composition 4 was prepared.
Urethane acrylate (BS577, manufactured by Arakawa Chemical) 2.5 parts by mass pentaerythritol tetraacrylate (PET30, manufactured by Nippon Kayaku) 2.5 parts by mass high refractive index resin A (A-REN-10, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Mw268) 2.5 parts by mass high refractive index resin B (R1403, manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd., Mw 1500) 2.5 parts by mass polymerization initiator (Irgacure 184; manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
0.4 parts by weight leveling agent (Dainippon Ink, MegaFuck MCF350-5) 0.2 parts by weight methyl ethyl ketone 10 parts by weight

(製造例5 樹脂組成物5の調製)
下記に示す組成を混合して樹脂組成物5を調製した。
ウレタンアクリレート(UV1700B、日本合成製) 5質量部
高屈折率樹脂A(EX142、ナガセケムテックス製、Mw226) 2.5質量部
高屈折率樹脂B(HRR2、昭和インク、Mw1500) 2.5質量部
重合開始剤(イルガキュア184;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)
0.4質量部
レベリング剤(大日本インキ製、メガファックMCF350−5) 0.2質量部
メチルエチルケトン 10質量部
(Production Example 5 Preparation of Resin Composition 5)
The composition shown below was mixed and the resin composition 5 was prepared.
Urethane acrylate (UV1700B, manufactured by Nihon Gosei) 5 parts by mass High refractive index resin A (EX142, manufactured by Nagase ChemteX, Mw226) 2.5 parts by mass High refractive index resin B (HRR2, Showa Ink, Mw1500) 2.5 parts by mass Polymerization initiator (Irgacure 184; manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
0.4 parts by weight leveling agent (Dainippon Ink, MegaFuck MCF350-5) 0.2 parts by weight methyl ethyl ketone 10 parts by weight

(製造例6 樹脂組成物6の調製)
下記に示す組成を混合して樹脂組成物6を調製した。
ウレタンアクリレート(UV1700B、日本合成製 7質量部
高屈折率樹脂A(A―REN―10、新中村化学製、Mw268) 1.5質量部
高屈折率樹脂B(R1403、第一工業製薬製、Mw1500) 1.5質量部
重合開始剤(イルガキュア184;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)
0.4質量部
レベリング剤(大日本インキ製、メガファックMCF350−5) 0.2質量部
メチルエチルケトン 10質量部
(Production Example 6 Preparation of Resin Composition 6)
The composition shown below was mixed and the resin composition 6 was prepared.
Urethane acrylate (UV1700B, Nippon Synthetic 7 mass parts high refractive index resin A (A-REN-10, Shin-Nakamura Chemical, Mw268) 1.5 mass parts high refractive index resin B (R1403, Daiichi Kogyo Seiyaku, Mw1500) ) 1.5 parts by mass polymerization initiator (Irgacure 184; manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
0.4 parts by weight leveling agent (Dainippon Ink, MegaFuck MCF350-5) 0.2 parts by weight methyl ethyl ketone 10 parts by weight

(製造例7 樹脂組成物7の調製)
下記に示す組成を混合して樹脂組成物7を調製した。
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA、日本化薬製) 3質量部
高屈折率樹脂A(A―REN―10、新中村化学製、Mw268) 3.5質量部
高屈折率樹脂B(R1403、第一工業製薬製、Mw1500) 3.5質量部
重合開始剤(イルガキュア184;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)
0.4質量部
レベリング剤(大日本インキ製、メガファックMCF350−5) 0.2質量部
メチルエチルケトン 10質量部
(Production Example 7 Preparation of Resin Composition 7)
The composition shown below was mixed and the resin composition 7 was prepared.
Dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, Nippon Kayaku) 3 parts by mass high refractive index resin A (A-REN-10, Shin-Nakamura Chemical, Mw268) 3.5 parts by mass high refractive index resin B (R1403, Daiichi Kogyo Seiyaku, Mw 1500) 3.5 parts by mass polymerization initiator (Irgacure 184; manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
0.4 parts by weight leveling agent (Dainippon Ink, MegaFuck MCF350-5) 0.2 parts by weight methyl ethyl ketone 10 parts by weight

(製造例8 樹脂組成物1’の調製)
下記に示す組成を混合して樹脂組成物1’を調製した。
ウレタンアクリレート(UV1700B、日本合成製) 5質量部
高屈折率樹脂B(R1403、第一工業製薬製、Mw1500) 5質量部
重合開始剤(イルガキュア184;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)
0.4質量部
レベリング剤(大日本インキ製、メガファックMCF350−5) 0.2質量部
メチルエチルケトン 10質量部
(Production Example 8 Preparation of Resin Composition 1 ′)
The composition shown below was mixed to prepare a resin composition 1 ′.
Urethane acrylate (UV1700B, manufactured by Nippon Gosei Co., Ltd.) 5 parts by mass high refractive index resin B (R1403, manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd., Mw 1500) 5 parts by mass polymerization initiator (Irgacure 184; manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
0.4 parts by weight leveling agent (Dainippon Ink, MegaFuck MCF350-5) 0.2 parts by weight methyl ethyl ketone 10 parts by weight

(製造例9 樹脂組成物2’の調製)
下記に示す組成を混合して樹脂組成物2’を調製した。
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA、日本化薬製) 5質量部
高屈折率樹脂B(R1403、第一工業製薬製、Mw1500) 5質量部
重合開始剤(イルガキュア184;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)
0.4質量部
レベリング剤(大日本インキ製、メガファックMCF350−5) 0.2質量部
メチルエチルケトン 10質量部
(Production Example 9 Preparation of Resin Composition 2 ′)
The composition shown below was mixed to prepare a resin composition 2 ′.
Dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, Nippon Kayaku) 5 parts by mass high refractive index resin B (R1403, Daiichi Kogyo Seiyaku, Mw 1500) 5 parts by mass polymerization initiator (Irgacure 184; manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
0.4 parts by weight leveling agent (Dainippon Ink, MegaFuck MCF350-5) 0.2 parts by weight methyl ethyl ketone 10 parts by weight

(製造例10 樹脂組成物3’の調製)
下記に示す組成を混合して樹脂組成物3’を調製した。
ウレタンアクリレート(UV1700B、日本合成製) 5質量部
高屈折率樹脂A(A―REN―10、新中村化学製、Mw268) 5質量部
重合開始剤(イルガキュア184;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)
0.4質量部
レベリング剤(大日本インキ製、メガファックMCF350−5) 0.2質量部
メチルエチルケトン 10質量部
(Production Example 10 Preparation of Resin Composition 3 ′)
The composition shown below was mixed to prepare a resin composition 3 ′.
Urethane acrylate (UV1700B, manufactured by Nippon Gosei Co., Ltd.) 5 parts by mass high refractive index resin A (A-REN-10, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., Mw268) 5 parts by mass polymerization initiator (Irgacure 184; manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
0.4 parts by weight leveling agent (Dainippon Ink, MegaFuck MCF350-5) 0.2 parts by weight methyl ethyl ketone 10 parts by weight

(製造例11 樹脂組成物4’の調製)
下記に示す組成を混合して樹脂組成物4’を調製した。
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA、日本化薬製) 5質量部
高屈折率樹脂A(A−REN−10、新中村化学製、Mw268) 5質量部
重合開始剤(イルガキュア184;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)
0.4質量部
レベリング剤(大日本インキ製、メガファックMCF350−5) 0.2質量部
メチルエチルケトン 10質量部
(Production Example 11 Preparation of Resin Composition 4 ′)
The composition shown below was mixed to prepare a resin composition 4 ′.
Dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, Nippon Kayaku) 5 parts by mass high refractive index resin A (A-REN-10, Shin-Nakamura Chemical, Mw268) 5 parts by mass polymerization initiator (Irgacure 184; Ciba Specialty Chemicals) (Made by company)
0.4 parts by weight leveling agent (Dainippon Ink, MegaFuck MCF350-5) 0.2 parts by weight methyl ethyl ketone 10 parts by weight

(製造例12 樹脂組成物5’の調製)
下記に示す組成を混合して樹脂組成物5’を調製した。
ウレタンアクリレート(UV1700B、日本合成製) 2.5質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA、日本化薬製) 2.5質量部
高屈折率樹脂B(R1403、第一工業製薬製、Mw1500) 5質量部
重合開始剤(イルガキュア184;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)
0.4質量部
レベリング剤(大日本インキ製、メガファックMCF350−5) 0.2質量部
メチルエチルケトン 10質量部
(Production Example 12 Preparation of Resin Composition 5 ′)
The composition shown below was mixed to prepare a resin composition 5 ′.
Urethane acrylate (UV1700B, manufactured by Nihon Gosei) 2.5 parts by mass Dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, manufactured by Nippon Kayaku) 2.5 parts by mass High refractive index resin B (R1403, Daiichi Kogyo Seiyaku, Mw1500) 5 masses Partial polymerization initiator (Irgacure 184; manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
0.4 parts by weight leveling agent (Dainippon Ink, MegaFuck MCF350-5) 0.2 parts by weight methyl ethyl ketone 10 parts by weight

(製造例13 樹脂組成物6’の調製)
下記に示す組成を混合して樹脂組成物6’を調製した。
ウレタンアクリレート(UV1700B、日本合成製) 2.5質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA、日本化薬製) 2.5質量部
高屈折率樹脂A(A−REN−10、新中村化学製、Mw268) 5質量部
重合開始剤(イルガキュア184;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)
0.4質量部
レベリング剤(大日本インキ製、メガファックMCF350−5) 0.2質量部
メチルエチルケトン 10質量部
(Production Example 13 Preparation of Resin Composition 6 ′)
The composition shown below was mixed to prepare a resin composition 6 ′.
Urethane acrylate (UV1700B, manufactured by Nippon Gosei Co., Ltd.) 2.5 parts by mass Dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 2.5 parts by mass high refractive index resin A (A-REN-10, manufactured by Shin-Nakamura Chemical, Mw268 ) 5 parts by mass polymerization initiator (Irgacure 184; manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
0.4 parts by weight leveling agent (Dainippon Ink, MegaFuck MCF350-5) 0.2 parts by weight methyl ethyl ketone 10 parts by weight

(製造例14 樹脂組成物7’の調製)
下記に示す組成を混合して樹脂組成物7’を調製した。
ウレタンアクリレート(UV1700B、日本合成製) 0.5質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA、日本化薬製) 0.5質量部
高屈折率樹脂A(A−REN−10、新中村化学製、Mw268) 4.5質量部
高屈折率樹脂B(R1403、第一工業製薬製、Mw1500) 4.5質量部
重合開始剤(イルガキュア184;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)
0.4質量部
レベリング剤(大日本インキ製、メガファックMCF350−5) 0.2質量部
メチルエチルケトン 10質量部
(Production Example 14 Preparation of Resin Composition 7 ′)
The composition shown below was mixed to prepare a resin composition 7 ′.
Urethane acrylate (UV1700B, manufactured by Nippon Gosei Co., Ltd.) 0.5 parts by mass Dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 0.5 parts by mass High refractive index resin A (A-REN-10, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Mw268) ) 4.5 parts by mass high refractive index resin B (R1403, manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd., Mw 1500) 4.5 parts by mass polymerization initiator (Irgacure 184; manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
0.4 parts by weight leveling agent (Dainippon Ink, MegaFuck MCF350-5) 0.2 parts by weight methyl ethyl ketone 10 parts by weight

(製造例15 樹脂組成物8’の調製)
下記に示す組成を混合して樹脂組成物8’を調製した。
ウレタンアクリレート(UV1700B、日本合成製) 2.5質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(DPHA、日本化薬製) 2.5質量部
高屈折率樹脂B(R1403、第一工業製薬製、Mw1500) 2.5質量部
高屈折率樹脂A(A−REN−10、新中村化学製、Mw268) 2.5質量部
重合開始剤(イルガキュア184;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)
0.4質量部
レベリング剤(大日本インキ製、メガファックMCF350−5) 0.2質量部
トルエン 10質量部
(Production Example 15 Preparation of Resin Composition 8 ′)
The composition shown below was mixed to prepare a resin composition 8 ′.
Urethane acrylate (UV1700B, manufactured by Nippon Gosei Co., Ltd.) 2.5 parts by mass Dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 2.5 parts by mass high refractive index resin B (R1403, manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd., Mw1500) 5 parts by mass high refractive index resin A (A-REN-10, Shin-Nakamura Chemical, Mw268) 2.5 parts by mass polymerization initiator (Irgacure 184; manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
0.4 parts by weight leveling agent (Dainippon Ink, MegaFac MCF350-5) 0.2 parts by weight Toluene 10 parts by weight

(実施例1)
光透過性基材として、トリアセチルセルロース(TAC)フィルム(富士写真フィルム製、TF80UL、厚さ80ミクロン)を用意し、このフィルムの表面に調製した樹脂組成物1を、湿潤重量26g/m(乾燥重量13g/m)で塗布(バーコーティング)して樹脂層を形成し、次いで、50℃にて乾燥することにより溶剤を除去した。その後、紫外線照射装置(フュージョンUVシステムジャパン社製)を用いて、照射線量50mJ/cmで紫外線照射を行うことにより、樹脂組成物1を用いて形成した樹脂層を硬化させて、ハードコート層を形成し、光学積層体を製造した。膜厚は、反射率の極小値が波長550nm付近(膜厚0.10μm)になるように形成させた。
Example 1
A triacetylcellulose (TAC) film (manufactured by Fuji Photo Film, TF80UL, thickness 80 microns) is prepared as a light-transmitting substrate, and the resin composition 1 prepared on the surface of this film has a wet weight of 26 g / m 2. A resin layer was formed by coating (bar coating) at a dry weight of 13 g / m 2 , and then the solvent was removed by drying at 50 ° C. Thereafter, the resin layer formed using the resin composition 1 is cured by irradiating with ultraviolet rays at an irradiation dose of 50 mJ / cm 2 using an ultraviolet irradiation device (manufactured by Fusion UV System Japan Co., Ltd.). And an optical laminate was produced. The film thickness was formed so that the minimum value of the reflectance was around a wavelength of 550 nm (film thickness of 0.10 μm).

(実施例2〜7、比較例1〜8)
樹脂組成物1を、樹脂組成物2〜7、1’〜8’に変更した以外は、実施例1と同様にして実施例2〜7、比較例1〜8に係る光学積層体を製造した。
(Examples 2-7, Comparative Examples 1-8)
Except having changed the resin composition 1 into the resin compositions 2-7 and 1'-8 ', it manufactured the optical laminated body which concerns on Examples 2-7 and Comparative Examples 1-8 similarly to Example 1. .

(評価)
実施例1〜7及び比較例1〜8で得られた各光学積層体について、以下の評価を行った。結果を表1に示す。
(Evaluation)
The following evaluation was performed about each optical laminated body obtained by Examples 1-7 and Comparative Examples 1-8. The results are shown in Table 1.

(干渉縞の有無)
実施例1〜7及び比較例1〜8で得られた各光学積層体のハードコート層と逆の面に、裏面反射を防止するための黒色テープを貼り、ハードコート層の面から各光学積層体を、3波長蛍光灯で目視しで観察し、干渉縞の発生の有無を以下の基準により評価した。
○:干渉縞の発生はなかった。
×:干渉縞の発生があった。
(With or without interference fringes)
A black tape for preventing back surface reflection is applied to the surface opposite to the hard coat layer of each optical laminate obtained in Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 8, and each optical laminate is formed from the surface of the hard coat layer. The body was visually observed with a three-wavelength fluorescent lamp, and the presence or absence of interference fringes was evaluated according to the following criteria.
○: No interference fringes were generated.
X: Interference fringes were generated.

(反射防止効果の評価)
まず、実施例1〜7及び比較例1〜8で製造した光学積層体のハードコート層の上に、下記組成の低屈折率樹脂組成物を用いて、0.10ミクロンの厚さ(Dry)となるように積層した。
<低屈折率樹脂組成物組成>
「空隙を有する」処理シリカ微粒子(該シリカ微粒子の固形分は20質量%溶液;メチルイソブチルケトン、粒径50ナノメートル) 11.5質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート(PETA) 1.58質量部
重合開始剤(イルガキュア127;チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)
0.1質量部
シリコーンオイル(X22164E;信越化学社製) 0.1質量部
メチルイソブチルケトン 32質量部
PGME 20質量部
(Evaluation of antireflection effect)
First, on the hard coat layer of the optical laminate produced in Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 8, using a low refractive index resin composition having the following composition, a thickness (Dry) of 0.10 microns It laminated | stacked so that it might become.
<Low refractive index resin composition>
Treated silica fine particles “having voids” (solid content of the silica fine particles is 20% by mass solution; methyl isobutyl ketone, particle size 50 nanometers) 11.5 parts by mass Pentaerythritol triacrylate (PETA) 1.58 parts by mass polymerization start Agent (Irgacure 127; manufactured by Ciba Specialty Chemicals)
0.1 parts by mass silicone oil (X22164E; manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 0.1 parts by mass methyl isobutyl ketone 32 parts by mass PGME 20 parts by mass

<反射率の測定>
反射Y値は、島津製作所製 MPC3100分光光度計にて、5°正反射率を380〜780nmまでの波長範囲で測定し、その後、人間が目で感じる明度として換算するソフト(MPC3100内蔵)で算出される、視感反射率を示す値である。なお、5°正反射率を測定する場合には、光学積層体であるフィルムの裏面反射を防止するため、測定膜面とは逆側に、黒テープ(寺岡製)を貼って測定した。以下の基準にて評価を行った。
◎:反射率が1.2%未満であった
○:反射率が1.2%以上であった
<Measurement of reflectance>
The reflection Y value is calculated with software (built-in MPC3100) that measures 5 ° specular reflectance in the wavelength range from 380 to 780 nm with an MPC3100 spectrophotometer manufactured by Shimadzu Corp. This is a value indicating the luminous reflectance. In addition, when measuring 5 degree regular reflectance, in order to prevent the back surface reflection of the film which is an optical laminated body, it measured by sticking a black tape (made by Teraoka) on the opposite side to a measurement film surface. Evaluation was performed according to the following criteria.
A: Reflectance was less than 1.2% B: Reflectance was 1.2% or more

(鉛筆硬度試験)
上述した方法で低屈折率層を形成した各光学積層体を温度25℃、相対湿度60%の条件で2時間調湿した後、JIS−S−6006が規定する試験用鉛筆(硬度H)を用いて、JIS K5600−5−4(1999)で規定される鉛筆硬度評価方法に従い、4.9Nの荷重にて実施し、以下の評価基準で評価を行った。
評価○:傷なし/測定回数=4/5,5/5
評価×:傷なし/測定回数=0/5,1/5,2/5,3/5
(Pencil hardness test)
Each optical laminate having the low refractive index layer formed by the above-described method is conditioned for 2 hours under conditions of a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 60%, and then a test pencil (hardness H) specified by JIS-S-6006 is used. Using, according to the pencil hardness evaluation method prescribed | regulated by JISK5600-5-4 (1999), it implemented by the load of 4.9N and evaluated by the following evaluation criteria.
Evaluation ○: No scratch / number of measurements = 4/5, 5/5
Evaluation x: No scratch / number of measurements = 0/5, 1/5, 2/5, 3/5

Figure 0005076763
Figure 0005076763

表1より、実施例の光学積層体は、干渉縞が発生せず、鉛筆強度反射防止性能がともに良好なものを得ることができたのに対し、比較例の光学積層体は、干渉縞が発生し鉛筆硬度が劣るものもあった。 From Table 1, the optical laminated body of the example did not generate interference fringes, and the pencil strength antireflection performance was good, whereas the optical laminated body of the comparative example had interference fringes. Some were generated and had poor pencil hardness.

本発明の光学積層体の製造方法により得られる光学積層体は、陰極線管表示装置(CRT)、液晶ディスプレイ(LCD)、プラズマディスプレイ(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)、フィールドエミッションディスプレイ(FED)等に好適に適用することができる。 The optical laminate obtained by the method for producing an optical laminate of the present invention includes a cathode ray tube display (CRT), a liquid crystal display (LCD), a plasma display (PDP), an electroluminescence display (ELD), and a field emission display (FED). It can apply suitably to.

本発明の光学積層体の概要図の一例である。It is an example of the schematic diagram of the optical laminated body of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 低屈折率層
2 ハードコート層
3 光透過性基材
1 Low refractive index layer 2 Hard coat layer 3 Light transmissive substrate

Claims (12)

光透過性基材及びハードコート層を有する光学積層体の製造方法であって、
重量平均分子量が200以上、1000未満である高屈折率樹脂A、重量平均分子量が1000以上、10万未満である高屈折率樹脂B、浸透性溶剤、及び、バインダー樹脂を含み、かつ、含まれる樹脂成分中における前記高屈折率樹脂Aと高屈折率樹脂Bとの合計量が10〜80質量%(固形分比)である樹脂組成物を、前記光透過性基材上に塗布して前記ハードコート層を形成する工程を有し、
前記高屈折率樹脂A及び前記高屈折率樹脂Bは、屈折率が1.55〜1.65である
ことを特徴とする光学積層体の製造方法。
A method for producing an optical laminate having a light-transmitting substrate and a hard coat layer,
A high refractive index resin A having a weight average molecular weight of 200 or more and less than 1,000, a high refractive index resin B having a weight average molecular weight of 1,000 or more and less than 100,000, a penetrating solvent, and a binder resin. A resin composition in which the total amount of the high refractive index resin A and the high refractive index resin B in the resin component is 10 to 80% by mass (solid content ratio) is applied onto the light-transmitting substrate, and It has a step of forming a hard coat layer,
The method for manufacturing an optical laminate, wherein the high refractive index resin A and the high refractive index resin B have a refractive index of 1.55 to 1.65 .
高屈折率樹脂Aと高屈折率樹脂Bとの含有比(高屈折率樹脂A/高屈折率樹脂B)が、固形分質量比で(95/5)〜(5/95)である請求項記載の光学積層体の製造方法。 The content ratio of the high refractive index resin A and the high refractive index resin B (high refractive index resin A / high refractive index resin B) is (95/5) to (5/95) in terms of solid content mass ratio. A method for producing an optical laminate according to 1 . 浸透性溶剤は、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン、アセトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン及び塩化メチレンからなる群より選択される少なくとも1種である請求項1又は2記載の光学積層体の製造方法。 3. The optical laminate according to claim 1, wherein the permeable solvent is at least one selected from the group consisting of methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, methyl ethyl ketone, acetone, cyclohexanone, methyl isobutyl ketone, and methylene chloride. Method. バインダー樹脂は、屈折率が1.55未満であり、かつ、重量平均分子量200以上、1000未満である樹脂1と、屈折率が1.55未満であり、かつ、重量平均分子量1000以上、10万以下である樹脂2とを含む請求項1、2又は3記載の光学積層体の製造方法。 The binder resin has a refractive index of less than 1.55 and a weight average molecular weight of 200 or more and less than 1000, a resin 1 having a refractive index of less than 1.55 and a weight average molecular weight of 1,000 or more and 100,000. The manufacturing method of the optical laminated body of Claim 1, 2 or 3 containing the resin 2 which is the following. 樹脂組成物は、更に、ケイ素、アルミニウム、チタン、亜鉛、ゲルマニウム、インジウム、スズ及びアンチモンからなる群より選択される少なくとも1つの元素の酸化物を含有する請求項1、2、3又は4記載の光学積層体の製造方法。 5. The resin composition according to claim 1, 2, 3 or 4 , further comprising an oxide of at least one element selected from the group consisting of silicon, aluminum, titanium, zinc, germanium, indium, tin and antimony. Manufacturing method of optical laminated body. 樹脂組成物は、更に、帯電防止剤を有する請求項1、2、3、4又は5記載の光学積層体の製造方法。 The method for producing an optical laminate according to claim 1, 2, 3, 4, or 5 , wherein the resin composition further comprises an antistatic agent. 光透過性基材は、ハードコート層を形成する面に帯電防止層を有する請求項1、2、3、4、5又は6記載の光学積層体の製造方法。 Light transmitting substrate, a manufacturing method of claim 1, 2, 3, 4, 5 or 6 optical laminate according with an antistatic layer on the surface to form a hard coat layer. 光透過性基材は、トリアセチルセルロースである請求項1、2、3、4、5、6又は7記載の光学積層体の製造方法。 Light transmitting substrate, according to claim 1,2,3,4,5 triacetyl cellulose, 6 or 7 method of producing an optical laminate according. 請求項1、2、3、4、5、6、7又は8記載の光学積層体の製造方法により得られることを特徴とする光学積層体。 An optical laminate obtained by the method for producing an optical laminate according to claim 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7 or 8 . 最表面に請求項9記載の光学積層体を備えることを特徴とする自発光型画像表示装置。 A self-luminous image display device comprising the optical laminate according to claim 9 on an outermost surface. 偏光素子を備えてなる偏光板であって、
前記偏光板は、偏光素子表面に請求項記載の光学積層体を備えることを特徴とする偏光板。
A polarizing plate comprising a polarizing element,
The said polarizing plate is equipped with the optical laminated body of Claim 9 on a polarizing element surface, The polarizing plate characterized by the above-mentioned.
最表面に請求項記載の光学積層体、又は、請求項11記載の偏光板を備えることを特徴とする非自発光型画像表示装置。 A non-self-luminous image display device comprising the optical laminate according to claim 9 or the polarizing plate according to claim 11 on an outermost surface.
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