JP2006178276A - Antireflection layered film - Google Patents

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Tomoya Ohira
知也 大衡
Kazuto Tokutome
一人 徳留
Takuzo Watanabe
卓三 渡邉
Yusuke Takahashi
裕介 高橋
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an inexpensive antireflection layered film showing particularly high antistatic property and antireflection property and having high transparency, surface hardness, scratch resistance, stain resistance and chemical resistance. <P>SOLUTION: The antireflection layered film comprises a hard coat layer and an antistatic low refractive index layer, layered in this order on a transparent support, wherein the antistatic low refractive index layer comprises an actinic ray-curing resin containing a compound having at least a (meth)acryloyloxy group in the molecule and porous conductive fine particles having ≤100 nm particle size and ≤1.40 refractive index n. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、生産性、光学特性、帯電防止性および表面硬度や耐擦傷性に優れ、透明基材上に設けたディスプレイ(液晶ディスプレイ、CRTディスプレイ、プロジェクションディスプレイ、プラズマディスプレイ、ELディスプレイ等)の表示画面表面に適用される反射防止積層フィルムに関するものである。   The present invention is excellent in productivity, optical properties, antistatic properties, surface hardness and scratch resistance, and is provided on a display (liquid crystal display, CRT display, projection display, plasma display, EL display, etc.) provided on a transparent substrate. The present invention relates to an antireflection laminated film applied to the screen surface.

多くのディスプレイは、室内外を問わず外光などが入射するような環境下で使用される。この外光などの入射光は、ディスプレイ表面等において正反射され、反射像が表示光と混合し表示品質を低下させ、表示画像を見にくくしている。このため、反射防止機能を付与するために金属酸化物の透明薄膜を積層させた多層膜が従来から用いられている。金属酸化物の透明薄膜は、化学蒸着(CVD)法や物理蒸着(PVD)法により形成され、特に物理蒸着法である真空蒸着法により形成されている。このように形成された反射防止膜は優れた光学特性を示すが、蒸着による形成方法は生産性が低く、大量生産に適していないという問題を抱えていた。   Many displays are used in an environment where external light or the like enters regardless of whether indoors or outdoors. Incident light such as external light is specularly reflected on the display surface or the like, and the reflected image is mixed with display light to lower the display quality and make the display image difficult to see. For this reason, in order to provide an antireflection function, a multilayer film in which transparent thin films of metal oxide are laminated has been conventionally used. The transparent thin film of metal oxide is formed by a chemical vapor deposition (CVD) method or a physical vapor deposition (PVD) method, and in particular, is formed by a vacuum vapor deposition method which is a physical vapor deposition method. The antireflection film thus formed exhibits excellent optical characteristics, but the formation method by vapor deposition has a problem that productivity is low and it is not suitable for mass production.

さらには、プラスティックやフィルムなどの高分子材料の表面は比較的柔軟であることから、表面硬度を得る為に、物品表面にアクリル多官能化合物を重合させ、ハードコート層を設けるという手法がなされる。このようにして得られたハードコート層は、アクリル樹脂特有の性質である高い表面硬度、光沢性、透明性、擦傷性を有する。その一方で、絶縁特性に優れる為に帯電しやすく、ハードコート層を設けた製品表面への埃等の付着による汚れや、精密機械に使用された場合に、帯電してしまうことにより障害が発生するといった問題を抱えていた。   Furthermore, since the surface of a polymer material such as a plastic or a film is relatively flexible, a method of polymerizing an acrylic polyfunctional compound on the surface of the article and providing a hard coat layer is used to obtain surface hardness. . The hard coat layer thus obtained has high surface hardness, glossiness, transparency, and scratch resistance, which are properties unique to acrylic resins. On the other hand, it is easy to be charged because of its excellent insulating properties, and it can cause troubles due to contamination due to dust adhering to the surface of the product provided with a hard coat layer, or charging when used in precision machinery. I had a problem to do.

これらの問題を解消するためにハードコート層に導電剤を練り混むか、基材とハードコート層の間やハードコート層と低屈折率層の間に表面硬度を落とさない程度に極めて薄く導電層を設ける手法がなされている。また、その形成方法としては塗工法が用いられ、生産性の向上がはかられている。   In order to solve these problems, a conductive layer is very thin enough not to drop the surface hardness between the base material and the hard coat layer or between the hard coat layer and the low refractive index layer. There is a method of providing Moreover, the coating method is used as the formation method, and the improvement of productivity is attempted.

用いられる導電剤としては、金属酸化物微粒子や、導電性ポリマー、各種活性剤、親水性化合物、イオン導電性化合物があげられる。この中で各種活性剤、親水性化合物、イオン導電性化合物をもちいる方式(例えば、特許文献1参照)は外気中の水分を媒体としてイオン伝導を行うために湿度依存性が大きく、さらには上層に反射防止層などの新たな層を形成する場合には、性能が安定しないという問題がある。   Examples of the conductive agent used include metal oxide fine particles, conductive polymers, various activators, hydrophilic compounds, and ionic conductive compounds. Among them, the method using various active agents, hydrophilic compounds, and ion conductive compounds (see, for example, Patent Document 1) is highly dependent on humidity because ion conduction is performed using moisture in the outside air as a medium, and the upper layer. However, when a new layer such as an antireflection layer is formed, the performance is not stable.

一方、湿度環境による影響のない電子伝導性の微粒子を使用する技術では、ハードコート練り混み方式と層間に導電層を設ける手法がなされている。練り混み方式(例えば、特許文献2参照)では、微粒子の屈折率が通常高いことや、電子伝導性であるために微粒子の配合量が決まってしまうことにより、基材との光干渉の低減と導電性を両立することが困難となる。配合量が少なすぎると導電性が発現せず、逆に多い場合には光線透過率が低下してしまう問題が発生し、透過率を上げるために膜厚を薄くすると基材保護の機能が低下してしまう問題がある。また、ハードコート層の上層に反射防止層を形成するために帯電防止性能が低下するなどの問題がある。導電性ポリマーも同様の問題を抱えている。基材とハードコート層間に導電層を設ける方式(例えば、特許文献3参照)では、導電層の上層に積層することにより、導電性を考慮して上層に特別な処理を行わなければ行けないことや、多層構成にすることにより、工程が増えて生産性が落ちることなどが問題となる。ハードコート層と反射防止層間に導電層を設ける方式(例えば、特許文献4参照)でも
同様に、多層構成にすることにより、工程が増えて生産性が落ちることなどが問題となる。
On the other hand, in the technique using electron conductive fine particles that are not affected by the humidity environment, a hard coat kneading method and a method of providing a conductive layer between layers are used. In the kneading method (see, for example, Patent Document 2), the refractive index of fine particles is usually high, and the amount of fine particles is determined because of electronic conductivity, thereby reducing light interference with the substrate. It becomes difficult to achieve both conductivity. If the blending amount is too small, conductivity will not be exhibited, and if it is too large, there will be a problem that the light transmittance will decrease, and if the film thickness is reduced to increase the transmittance, the function of protecting the substrate will decrease. There is a problem. In addition, since the antireflection layer is formed on the hard coat layer, there is a problem that the antistatic performance is lowered. Conductive polymers have similar problems. In the method of providing a conductive layer between the base material and the hard coat layer (for example, see Patent Document 3), it is necessary to perform a special treatment on the upper layer in consideration of conductivity by laminating it on the upper layer of the conductive layer. In addition, the multi-layer structure causes a problem that the number of processes increases and the productivity decreases. Similarly, a method in which a conductive layer is provided between a hard coat layer and an antireflection layer (see, for example, Patent Document 4) has a problem that the number of processes increases and productivity decreases due to the multilayer structure.

下記に特許文献を記す。
特開2002−40209号公報 特開平11−92750号公報 特開平11−326602号公報 特開2001−330702号公報
Patent literature is described below.
JP 2002-40209 A JP-A-11-92750 JP-A-11-326602 JP 2001-330702 A

本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであって、特に高い帯電防止性と反射防止性を示し、且つ高透明性、表面硬度、耐擦傷性、防汚性、耐薬品性に優れた反射防止積層フィルムを低コストで提供することを課題とする。   The present invention has been made to solve the above-described problems, and exhibits particularly high antistatic properties and antireflection properties, and has high transparency, surface hardness, scratch resistance, antifouling properties, and chemical resistance. It is an object of the present invention to provide an antireflection laminated film that is excellent in performance at low cost.

上記課題は、下記の手段によって解決できる。すなわち、
請求項1に係る発明は、透明支持体上に、ハードコート層、帯電防止性低屈折率層がこの順に積層されてなる反射防止積層フィルムにおいて、
前記帯電防止性低屈折率層が、少なくとも(メタ)アクリロイルオキシ基を分子内に有する化合物を含む活性エネルギー線硬化型樹脂と、粒径100nm以下で屈折率nが1.40以下の多孔質導電性微粒子からなることを特徴とする反射防止積層フィルムである。
The above problem can be solved by the following means. That is,
The invention according to claim 1 is an antireflection laminated film in which a hard coat layer and an antistatic low refractive index layer are laminated in this order on a transparent support.
The antistatic low refractive index layer includes an active energy ray-curable resin containing at least a compound having a (meth) acryloyloxy group in the molecule, and a porous conductive material having a particle size of 100 nm or less and a refractive index n of 1.40 or less. It is an antireflection laminated film characterized by comprising conductive fine particles.

請求項2に係る発明は、前記帯電防止性低屈折率層が一般式(A)nd=λ/4(但し、nは層の屈折率、dは層厚を示し、λは光の波長を示し、450≦λ≦650を満たす整数である)を満たすことを特徴とする反射防止積層フィルムである。   In the invention according to claim 2, the antistatic low refractive index layer is represented by the general formula (A) nd = λ / 4 (where n is the refractive index of the layer, d is the layer thickness, and λ is the wavelength of light). And an integer satisfying 450 ≦ λ ≦ 650).

請求項3に係る発明は、前記ハードコート層が、(メタ)アクリロイルオキシ基を有する多官能性モノマーを主成分とする重合体からなることを特徴とする反射防止積層フィルムである。   The invention according to claim 3 is the antireflection laminated film characterized in that the hard coat layer is made of a polymer containing a polyfunctional monomer having a (meth) acryloyloxy group as a main component.

請求項4に係る発明は、請求項3記載のハードコート層に、さらに、一般式(B)R’ySi(OR)4-y(但し、式中Rはアルキル基を示し、R’は末端にアルキル基、フッ化アルキル基などの未反応性官能基やビニル基、エポキシ基、アリール基、(メタ)アクリロイル基などの反応性官能基を示し、yは1≦y≦3を満たす整数である)で示される有機珪素アルコキシド、および、その加水分解物が含まれることを特徴とする反射防止積層フィルムである。 The invention according to claim 4 is the hard coat layer according to claim 3, further comprising the general formula (B) R ′ y Si (OR) 4-y (wherein R represents an alkyl group, R ′ represents The terminal represents an unreactive functional group such as an alkyl group or a fluorinated alkyl group, or a reactive functional group such as a vinyl group, an epoxy group, an aryl group or a (meth) acryloyl group, and y is an integer satisfying 1 ≦ y ≦ 3 The anti-reflection laminated film is characterized by comprising an organosilicon alkoxide represented by the formula (1) and a hydrolyzate thereof.

請求項5に係る発明は、請求項4記載のハードコート層に、さらに、平均粒子径0.5μm以上10μm以下のフィラーが含まれることを特徴とする反射防止積層フィルムである。   The invention according to claim 5 is the antireflection laminated film, wherein the hard coat layer according to claim 4 further contains a filler having an average particle diameter of 0.5 μm or more and 10 μm or less.

本発明により、優れたハードコート性、防汚性、反射防止性、透明性、耐薬品性および帯電防止性を有し、かつ低コストな反射防止積層フィルムを提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide an antireflection laminated film having excellent hard coat properties, antifouling properties, antireflection properties, transparency, chemical resistance and antistatic properties, and at a low cost.

以下に、本発明の実施形態について詳細に説明する。透明支持体となるプラスチックフィルムとしては、種々の有機高分子からなるフィルムもしくはシートを用いることができる。通常ディスプレイ等の光学部材に使用される基材は、透明性や光の屈折率等の光学特性、さらには耐衝撃性、耐熱性、耐久性などの諸物性を考慮して、ポリオレフィン系(ポリエチレン、ポリプロピレン等)、ポリエステル系(ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナルタレート等)、セルロース系(トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セロファン等)、ポルアミド系(ナイロン−6、ナイロン−66等)、アクリル系(ポリメチルメタクリレート等)、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、エチレンビニルアルコール等の有機高分子が用いられる。特に、ポリエチレンテレフタレート、トリアセチルセルロース、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレートが好ましい。さらにはこれらの有機高分子に公知の添加剤、たとえば、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤等を添加し、機能を付加させたものも使用できる。また、この基材は上記物質単体、もしくは複数の物質を積層もしくは混合させたものでもよい。また、基材の厚みは表面保護フィルムを用いる用途によって適宜選択することができ、25〜300μmが好ましい。しかしこれに限定するものではない。また、基材上にもうけられる表面保護層との密着性を向上させる目的で、表面処理を施すことができる。この表面処理方法としては、例えばサンドブラスト法や溶剤処理法などによる表面の凹凸化処理、あるいはコロナ放電処理、クロム酸処理、火炎処理、熱風処理、オゾン・紫外線照射処理などの表面の酸化処理などが挙げられる。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. As the plastic film serving as the transparent support, films or sheets made of various organic polymers can be used. The base material usually used for optical members such as displays is a polyolefin-based (polyethylene) considering optical properties such as transparency and refractive index of light, as well as various physical properties such as impact resistance, heat resistance and durability. , Polypropylene, etc.), polyester-based (polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, etc.), cellulose-based (triacetylcellulose, diacetylcellulose, cellophane, etc.), polamide-based (nylon-6, nylon-66, etc.), acrylic Organic polymers such as (polymethyl methacrylate, etc.), polystyrene, polyvinyl chloride, polyimide, polyvinyl alcohol, polycarbonate, ethylene vinyl alcohol are used. In particular, polyethylene terephthalate, triacetyl cellulose, polycarbonate, and polymethyl methacrylate are preferable. Furthermore, known additives such as ultraviolet absorbers, infrared absorbers, plasticizers, lubricants, colorants, antioxidants, flame retardants, etc. are added to these organic polymers to add functions. it can. In addition, the base material may be a single substance or a laminate or mixture of a plurality of substances. Moreover, the thickness of a base material can be suitably selected according to the use which uses a surface protection film, and 25-300 micrometers is preferable. However, the present invention is not limited to this. In addition, surface treatment can be performed for the purpose of improving the adhesion to the surface protective layer provided on the substrate. As this surface treatment method, for example, surface roughening treatment such as sandblasting or solvent treatment, or surface oxidation treatment such as corona discharge treatment, chromic acid treatment, flame treatment, hot air treatment, ozone / ultraviolet irradiation treatment, etc. Can be mentioned.

本発明のハードコート層は、前記プラスチックフィルムの上に積層するものであって、このハードコート層は紫外線および電子線硬化型樹脂単体、またはこの硬化物中に有機珪素アルコキシドおよびその加水分解物、フィラーが含まれたものである。   The hard coat layer of the present invention is laminated on the plastic film, and the hard coat layer is an ultraviolet ray and an electron beam curable resin alone, or an organic silicon alkoxide and a hydrolyzate thereof in the cured product, It contains a filler.

ハードコート層に用いる紫外線および電子線硬化型樹脂化合物としては基材の表面改質を目的として、スチールウールラビング試験による耐擦傷性、鉛筆ひっかき試験による表面硬度、セロテープ(登録商標)剥離試験による密着性、最小曲げ試験によるクラック性等の諸特性を要求されるスペックを満足させるように樹脂を選択して使用することが出来る。この化合物は、光重合性プレポリマー、光重合性モノマー、光重合開始剤等を含有するものである。   Ultraviolet and electron beam curable resin compounds used in hard coat layers for the purpose of surface modification of base materials, scratch resistance by steel wool rubbing test, surface hardness by pencil scratch test, adhesion by cello tape (registered trademark) peel test The resin can be selected and used so as to satisfy the specifications required for various properties such as the properties and cracking properties by the minimum bending test. This compound contains a photopolymerizable prepolymer, a photopolymerizable monomer, a photopolymerization initiator, and the like.

前記光重合性プレポリマーとしては、例えばポリエステルアクリレート系、エポキシアクリレート系、ウレタンアクリレート系、ポリオールアクリレート系等が挙げられる。これらの光重合性プレポリマーは1種用いても良いし、2種以上を組み合わせて用いても良い。   Examples of the photopolymerizable prepolymer include polyester acrylate, epoxy acrylate, urethane acrylate, and polyol acrylate. These photopolymerizable prepolymers may be used alone or in combination of two or more.

また、光重合性モノマーとしては、例えばポリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオール(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート等が挙げられる。また、これらの屈折率は1.5前後であるが、屈折率が高いモノマーとしては、環状基を有するものさらに/またはフッ素原子以外のハロゲン原子やS、N、P等の原子を含むものが挙げられる。環状基には芳香族基、複素環基および脂肪族環基が含まれる。例えば、ビス(4−メタクリロイルチオフェノキシ)スルフィド、ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレート、テトラブロモビスフェノールAジエポキシアクリレートなどが挙げられる。特に本発明では、プレポリマーとしてウレタンアクリレート系、モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ビスフ
ェノキシエタノールフルオレンジアクリレート等を用いることが好ましい。
Examples of the photopolymerizable monomer include polymethylolpropane tri (meth) acrylate, hexanediol (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, Examples include dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, and neopentyl glycol di (meth) acrylate. Moreover, although these refractive indexes are around 1.5, monomers having a high refractive index include those having a cyclic group and / or those containing halogen atoms other than fluorine atoms and atoms such as S, N and P. Can be mentioned. The cyclic group includes an aromatic group, a heterocyclic group and an aliphatic ring group. Examples thereof include bis (4-methacryloylthiophenoxy) sulfide, bisphenoxyethanol full orange acrylate, and tetrabromobisphenol A diepoxy acrylate. In particular, in the present invention, it is preferable to use urethane acrylate as a prepolymer and dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, bisphenoxyethanol full orange acrylate, or the like as a monomer.

さらに光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類等が挙げられる。   Furthermore, examples of the photopolymerization initiator include acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphine oxides, ketals, anthraquinones, thioxanthones, and the like.

また、光増感剤としてn−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−n−ブチルホスフィン等を混合して用いることができる。   Further, n-butylamine, triethylamine, poly-n-butylphosphine and the like can be mixed and used as a photosensitizer.

本発明のハードコート層においては、さらに有機珪素アルコキシドおよびその加水分解物を添加することができる。有機珪素アルコキシドは、一般式(B)R’ySi(OR)4-yを満たすものである。式中Rはアルキル基を示し、R’は末端にアルキル基、フッ化アルキル基などの未反応性官能基やビニル基、アミノ基、エポキシ基、アリール基、(メタ)アクリロイル基などの反応性官能基を示し、yは1≦y≦3を満たす整数である。例えば、オクチルトリメトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン、3、3、3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、1H,1H,2H,2H−パープルオロヘキシルトリメトキシシラン、1H,1H,2H,2H−パープルオロデシルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロビルトリメトキシシラン、3−アミノプロビルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−イソシアナートプロピルトリメトキシシラン、3−イソシアナートプロピルトリエトキシシランがあげられる。 In the hard coat layer of the present invention, an organosilicon alkoxide and a hydrolyzate thereof can be further added. The organosilicon alkoxide satisfies the general formula (B) R ′ y Si (OR) 4-y . In the formula, R represents an alkyl group, and R ′ represents an unreactive functional group such as an alkyl group or a fluorinated alkyl group at the terminal, or a reactivity such as a vinyl group, an amino group, an epoxy group, an aryl group, or a (meth) acryloyl group. A functional group is shown, and y is an integer satisfying 1 ≦ y ≦ 3. For example, octyltrimethoxysilane, octadecyltrimethoxysilane, 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, 1H, 1H, 2H, 2H-purple cyclohexyl trimethoxysilane, 1H, 1H, 2H, 2H-purple oro Decyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyl trimethoxysilane, 3-aminopropyl trimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxy B pills triethoxysilane, 3-isocyanate propyl trimethoxysilane, 3-isocyanate propyl triethoxysilane and the like.

本発明のハードコート層においては、さらに平均粒子径0.5μm以上10μm以下のフィラーを添加し、反射防止フィルムに新たに防眩性を付与することができる。0.5μm以下では防眩性が発現しにくく、10μm以上ではハードコート層の厚さより粒子径が大きすぎることから、上層の帯電防止性低屈折率層が積層しにくくなる。フィラーは、シリカ、アルミナ、ジルコニア等の無機フィラーおよびこれら2種類以上の複合酸化物フィラー、アクリル、スチレン、ウレタン、メラミン、ベンゾアナミン等の有機フィラーおよびこれら2種類以上の共重合フィラーを用いることができる。フィラーは単体で用いても2種類以上を混合して用いても良い。また、ハードコート層の強度を向上させるために、平均粒子径0.5μm以下のコロイド粒子を加えることができる。コロイド粒子径は透明性の観点から、0.1μm以下が好ましい。コロイド粒子は、例えば、シリカ、アルミナ、ジルコニアがあげられる。これらは単体で用いても、2種類以上の複合酸化物でも、2種類以上の混合物でもよい。   In the hard coat layer of the present invention, a filler having an average particle size of 0.5 μm or more and 10 μm or less can be added to newly impart antiglare properties to the antireflection film. If it is 0.5 μm or less, the antiglare property is hardly exhibited, and if it is 10 μm or more, the particle diameter is too larger than the thickness of the hard coat layer, so that it is difficult to laminate the upper antistatic low refractive index layer. As the filler, inorganic fillers such as silica, alumina, zirconia and the like, and composite oxide fillers of these two or more types, organic fillers such as acrylic, styrene, urethane, melamine, and benzoanamin, and copolymer fillers of these two or more types can be used. . The filler may be used alone or in combination of two or more. In order to improve the strength of the hard coat layer, colloidal particles having an average particle diameter of 0.5 μm or less can be added. The colloidal particle diameter is preferably 0.1 μm or less from the viewpoint of transparency. Examples of the colloidal particles include silica, alumina, and zirconia. These may be used alone, or may be two or more kinds of complex oxides or a mixture of two or more kinds.

ハードコート層の硬度は、鉛筆硬度でH以上であるのが好ましく、反射防止積層フィルムに必要な耐擦傷性を備えることができる。   The hardness of the hard coat layer is preferably H or higher in pencil hardness, and can have scratch resistance necessary for the antireflection laminated film.

ハードコート層形成用のハードコート剤の調整において、各成分の配合順序については特に制限はなく、各種溶媒中に紫外線および電子線硬化型樹脂化合物等を加えて混合する。   In preparing the hard coat agent for forming the hard coat layer, there is no particular limitation on the blending order of the components, and ultraviolet rays, electron beam curable resin compounds, and the like are added and mixed in various solvents.

溶媒としては、特に限定することはないが、メチルエチルケトン、アセトン、メチルイソプチルケトン等のケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、トルエン、キシレン等の芳香族化合物類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類等を挙げることができる。また、このハードコート剤には、所望により消泡剤やレベリング剤等の公知の添
加剤を配合することができる。ハードコート剤の固形分濃度については特に制限はなく、塗工性、乾燥性、経済性等の面から10〜70重量%の範囲が好ましく、特に30〜50重量%の範囲が好適である。
Solvents include, but are not limited to, ketones such as methyl ethyl ketone, acetone, and methyl isoptyl ketone, esters such as methyl acetate, ethyl acetate, and butyl acetate, aromatic compounds such as toluene and xylene, diethyl ether And ethers such as tetrahydrofuran and alcohols such as methanol, ethanol and isopropanol. Moreover, well-known additives, such as an antifoamer and a leveling agent, can be mix | blended with this hard-coat agent if desired. There is no restriction | limiting in particular about solid content concentration of a hard-coat agent, The range of 10 to 70 weight% is preferable from surfaces, such as coating property, drying property, economical efficiency, and the range of 30 to 50 weight% is especially suitable.

ハードコート剤の基材への塗工方法については特に制限はなく、バーコート法、マイクログラビア法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法等を用いることができる。ハードコート層の厚さは、ハードコート剤の固形分濃度および硬化後におけるハードコート層の密度から必要なハードコート剤の塗工量を算出することにより、制御する事ができる。2μm〜8μmの厚さが好ましく、特に3μm〜6μmの厚さが好ましい。   There are no particular restrictions on the method of applying the hard coating agent to the substrate, and a bar coating method, a micro gravure method, a knife coating method, a roll coating method, a blade coating method, a die coating method, or the like can be used. The thickness of the hard coat layer can be controlled by calculating the required amount of hard coat agent applied from the solid content concentration of the hard coat agent and the density of the hard coat layer after curing. A thickness of 2 μm to 8 μm is preferable, and a thickness of 3 μm to 6 μm is particularly preferable.

また、乾燥後の塗工層に窒素パージした雰囲気下で紫外線および電子線を照射して硬化させ、酸素障害が少なく、表面硬度の高いハードコート層を形成しても良い。   Alternatively, the coating layer after drying may be cured by irradiation with ultraviolet rays and electron beams in an atmosphere purged with nitrogen to form a hard coat layer with less surface damage and high surface hardness.

硬化に用いる紫外線照射装置については、特に制限はなく、例えば高圧水銀ランプ、キセノンランプ、メタルハライドランプ、無電極ランプ等を用いた公知の紫外線照射装置を使用することができる。紫外線照射量は、通常100〜800mJ/cm2程度である。電子線照射装置については特に制限はなく、加速電圧は通常50〜300kVである。 There is no restriction | limiting in particular about the ultraviolet irradiation apparatus used for hardening, For example, the well-known ultraviolet irradiation apparatus using a high pressure mercury lamp, a xenon lamp, a metal halide lamp, an electrodeless lamp etc. can be used. The amount of ultraviolet irradiation is usually about 100 to 800 mJ / cm 2 . There is no restriction | limiting in particular about an electron beam irradiation apparatus, and an acceleration voltage is 50-300 kV normally.

このようにして得られたハードコートフィルムは、物品の表面に基材との密着性、表面硬度、屈曲性、耐擦傷性、透明性または防眩性に優れたハードコート層及びハードコート層成形物品を提供することができる。   The hard coat film thus obtained has a hard coat layer and hard coat layer molding excellent in adhesion to the substrate, surface hardness, flexibility, scratch resistance, transparency or antiglare property on the surface of the article. Articles can be provided.

ハードコート層の上に設ける帯電防止性低屈折率層には、多孔質導電性微粒子、活性エネルギー線硬化型樹脂を用いることにより、帯電防止性を発現しながら、帯電防止性低屈折率層の屈折率nを低下させることができる。バインダー成分である活性エネルギー線硬化型樹脂に多孔質導電性微粒子を加えることにより、微粒子細孔の空気(n=1.0)が層の屈折率を低下させることができる。   The antistatic low refractive index layer provided on the hard coat layer uses porous conductive fine particles and an active energy ray curable resin, while exhibiting the antistatic properties, and the antistatic low refractive index layer. The refractive index n can be lowered. By adding porous conductive fine particles to the active energy ray curable resin as a binder component, air in the fine particle pores (n = 1.0) can lower the refractive index of the layer.

多孔質導電性微粒子は屈折率nが1.40以下であり、五酸化アンチモン、酸化錫、酸化亜鉛、ITO(インジウム錫酸化物)、ATO(アンチモン錫酸化物)等の無機微粒子、ポリピロール、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリフルオレン等の有機微粒子を使用することができる。これらの微粒子は、単体での使用、2種類以上の混合微粒子での使用、またはこれら2種類以上の複合微粒子を使用することができる。また、シリカ、フッ化マグネシウムなど他の金属化合物との混合微粒子での使用、または複合微粒子を使用することができる。   Porous conductive fine particles have a refractive index n of 1.40 or less, inorganic fine particles such as antimony pentoxide, tin oxide, zinc oxide, ITO (indium tin oxide), ATO (antimony tin oxide), polypyrrole, polyaniline Organic fine particles such as polythiophene and polyfluorene can be used. These fine particles can be used alone or in combination of two or more kinds of mixed fine particles, or these two or more kinds of composite fine particles can be used. Further, it is possible to use mixed fine particles with other metal compounds such as silica and magnesium fluoride, or composite fine particles.

複合微粒子としては、コア−シェル構造を有する微粒子でも良い。具体的には、多孔質な屈折率の低い金属化合物微粒子をコア部に持ち。導電性を有する結晶性被膜をシェル部とすることにより、屈折率の低い多孔質導電性微粒子となる。屈折率の低い金属化合物微粒子としては、例えば、シリカ、フッ化マグネシウムなどの金属化合物があげられ、導電性を有する結晶性被膜の材料としては、五酸化アンチモン、酸化錫、酸化亜鉛、ITO(インジウム錫酸化物)、ATO(アンチモン錫酸化物)などをあげることができる。   The composite fine particles may be fine particles having a core-shell structure. Specifically, it has porous metal compound fine particles with a low refractive index in the core part. By using a crystalline film having conductivity as the shell portion, porous conductive fine particles having a low refractive index are obtained. Examples of the metal compound fine particles having a low refractive index include metal compounds such as silica and magnesium fluoride, and examples of the material for the crystalline film having conductivity include antimony pentoxide, tin oxide, zinc oxide, and ITO (indium). Tin oxide) and ATO (antimony tin oxide).

また、コア−シェルが逆の物質、即ち、コア部に導電性材料を用い、シェル部に屈折率の低い金属化合物を用いた構成でも良いが、シェル部の金属化合物被膜により導電性を示しにくくなってしまうことがある。   In addition, the core-shell may be reversed, that is, a conductive material may be used for the core portion and a metal compound having a low refractive index may be used for the shell portion. It may become.

多孔質導電性微粒子の添加量は特に制限はないが、帯電防止性と屈折率調整の面から20〜80重量%の範囲が好ましく、特に30〜70重量%の範囲が好適である。また、多
孔質導電性微粒子のマトリックス中における分散性を向上するために、マトリックス中に分散剤を用いることができる。分散剤としては、特に制限はなく、シリコーン系の分散剤を用いることが好ましい。
The amount of the porous conductive fine particles added is not particularly limited, but is preferably in the range of 20 to 80% by weight, particularly preferably in the range of 30 to 70% by weight from the viewpoint of antistatic properties and refractive index adjustment. In order to improve the dispersibility of the porous conductive fine particles in the matrix, a dispersant can be used in the matrix. There is no restriction | limiting in particular as a dispersing agent, It is preferable to use a silicone type dispersing agent.

また、粒径100nm以下の多孔質導電性微粒子を用いることにより、、高い導電性を示すと共に透過率の低下や、層の着色の無い導電層の形成が可能となる。粒径が100nmを越えるとレイリー散乱によって光が著しく反射され、膜が白くなって透明性の低下がみられ、また2nm未満では微粒子の形成が困難であることや、導電性が悪くなること、および粒子間の凝集による膜の不均一性等の問題が生じる。   In addition, by using porous conductive fine particles having a particle size of 100 nm or less, it is possible to form a conductive layer that exhibits high conductivity, lowers transmittance, and has no coloring of the layer. When the particle size exceeds 100 nm, light is remarkably reflected by Rayleigh scattering, the film becomes white and a decrease in transparency is observed, and when it is less than 2 nm, it is difficult to form fine particles, the conductivity is deteriorated, In addition, problems such as film non-uniformity due to aggregation between particles occur.

帯電防止性低屈折率層に含まれる活性エネルギー線硬化型樹脂としては特に制限はねく、従来公知のものの中から適宜選択して用いることができる。この活性エネルギー線硬化型樹脂は、光重合性プレポリマー、光重合性モノマー、光重合開始剤等を含有するものである。前記光重合性プレポリマーとしては、例えば、ポリエステルアクリレート系、エポキシアクリレート系、ウレタンアクリレート系、ポリオールアクリレート系等があげられる。これらの光重合性プレポリマーは単体で用いても良いし、2種以上を組み合わせて用いても良い。また、光重合性モノマーとしては、例えば、ポリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオール(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,6―ヘキサンジオール(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート等があげられる。これらプレポリマーやモノマーには、防汚性を付与する目的で、パーフルオロアルキル基、パーフルオロエチレンオキサイド基やアルキル基などを導入した化合物を用いることができる。この化合物は層の強度を低下させる可能性があることから、強度と防汚性のバランスにより、適宜添加量を調整する。   The active energy ray-curable resin contained in the antistatic low refractive index layer is not particularly limited, and can be appropriately selected from conventionally known ones. This active energy ray-curable resin contains a photopolymerizable prepolymer, a photopolymerizable monomer, a photopolymerization initiator, and the like. Examples of the photopolymerizable prepolymer include polyester acrylate, epoxy acrylate, urethane acrylate, polyol acrylate, and the like. These photopolymerizable prepolymers may be used alone or in combination of two or more. Examples of the photopolymerizable monomer include polymethylolpropane tri (meth) acrylate, hexanediol (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, and pentaerythritol tri (meth) acrylate. , Dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,6-hexanediol (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, and the like. For these prepolymers and monomers, compounds introduced with a perfluoroalkyl group, a perfluoroethylene oxide group or an alkyl group can be used for the purpose of imparting antifouling properties. Since this compound may reduce the strength of the layer, the addition amount is appropriately adjusted according to the balance between strength and antifouling property.

帯電防止性低屈折率層のバインダーを(メタ)アクリロイルオキシ基を有する活性エネルギー線硬化型樹脂にすることにより、ハードコート層との密着性に優れた反射防止積層フィルムにすることができる。さらに、アルカリ、酸、アルコールおよびケトン類などの耐薬品性に優れた反射防止積層フィルムにすることができる。   By using an active energy ray-curable resin having a (meth) acryloyloxy group as the binder for the antistatic low refractive index layer, an antireflection laminated film having excellent adhesion to the hard coat layer can be obtained. Furthermore, it can be set as the antireflection laminated film excellent in chemical resistance, such as an alkali, an acid, alcohol, and ketones.

帯電防止性低屈折率層形成用の塗工液の調整において、各成分の配合順序については特に制限はなく、各種前述の溶媒中に活性エネルギー線硬化型樹脂と多孔質導電微粒子を加えて混合する。   In preparing the coating solution for forming the antistatic low refractive index layer, there is no particular limitation on the blending order of the components, and the active energy ray-curable resin and porous conductive fine particles are added and mixed in the various solvents described above. To do.

帯電防止性低屈折率層の形成方法としては、前述の各種塗工方法により、一般式(A)nd=λ/4(450≦λ≦650の範囲)を満たすように塗工し、乾燥処理を行った後、紫外線および電子線照射を行う。450≦λ≦650の範囲、より好ましくは、500≦λ≦600の範囲で層厚dを制御することにより、視感反射率の低い反射防止積層フィルムを得ることができる。また、乾燥後の塗工層に窒素パージした雰囲気下で紫外線および電子線を照射して硬化させ、酸素障害が少なく、表面硬度の高い帯電防止性低屈折率層を形成しても良い。   As a method for forming the antistatic low refractive index layer, coating is performed by the above-described various coating methods so as to satisfy the general formula (A) nd = λ / 4 (range of 450 ≦ λ ≦ 650), followed by a drying treatment. After carrying out, ultraviolet rays and electron beam irradiation are carried out. By controlling the layer thickness d in the range of 450 ≦ λ ≦ 650, more preferably in the range of 500 ≦ λ ≦ 600, an antireflection laminated film having a low luminous reflectance can be obtained. The dried coating layer may be cured by irradiation with ultraviolet rays and electron beams in an atmosphere purged with nitrogen to form an antistatic low-refractive index layer having less surface damage and high surface hardness.

透明支持体およびハードコート層に表面処理を行うことにより、各表面の表面張力を変化させることができるため、ハードコート層と帯電防止性低屈折率層との密着力を向上させることができる。表面処理法としては、アルカリ処理、プラズマ処理、レーザー処理、またはコロナ処理を行うことができる。各層間の密着力を向上させると共に各種表面処理を行うことにより、表面上の異物を低減させることができる。これにより、外観上において欠陥の無い反射防止積層フィルムを提供することができる。   By subjecting the transparent support and the hard coat layer to surface treatment, the surface tension of each surface can be changed, so that the adhesion between the hard coat layer and the antistatic low refractive index layer can be improved. As the surface treatment method, alkali treatment, plasma treatment, laser treatment, or corona treatment can be performed. By improving the adhesion between the layers and performing various surface treatments, foreign substances on the surface can be reduced. Thereby, an antireflection laminated film having no defects in appearance can be provided.

このように、透明支持体上にハードコート層、帯電防止性低屈折率層の2層構成にすることにより、多機能を少ない層数にて実現することができ、工程を少なくしてコストダウンすることができる。帯電防止性低屈折率層が反射防止積層フィルムの表面にあることから、帯電防止の性能が安定しやすい。ハードコート層による表面硬度、屈曲性、耐擦傷性、透明性または防眩性を備え、かつ帯電防止性低屈折率層による帯電防止性、反射防止性、表面硬度、耐擦傷性、防汚性耐薬品性の多機能を付与することができ、さらに層間の密着性を兼ね備えた低コストな反射防止フィルムを提供することができる。   In this way, by having a two-layer configuration of a hard coat layer and an antistatic low-refractive index layer on a transparent support, multiple functions can be realized with a small number of layers, reducing the number of processes and reducing costs. can do. Since the antistatic low refractive index layer is on the surface of the antireflection laminated film, the antistatic performance tends to be stable. Anti-static, anti-reflective, surface hardness, scratch resistance, antifouling properties due to surface hardness, flexibility, scratch resistance, transparency or anti-glare property due to hard coat layer, and anti-static low refractive index layer It is possible to provide a low-cost antireflection film that can provide a multi-function of chemical resistance and further has adhesion between layers.

以下に、本発明を実施例によりさらに具体的に説明するが、本発明はこれら実施例により限定されるものではない。反射防止積層フィルムの性能は、下記の方法に従って評価した。   EXAMPLES The present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited to these examples. The performance of the antireflection laminated film was evaluated according to the following method.

視感反射率…自動分光光度計(日立製作所製、U−4000)を用い、分光反射率から視感反射率を測定した。なお、測定の際には塗布面と反対の面をにつや消し黒色塗料を塗布し、裏面側からの反射防止処置を行った。   Luminous reflectance: The luminous reflectance was measured from the spectral reflectance using an automatic spectrophotometer (Hitachi, U-4000). At the time of measurement, the surface opposite to the coated surface was matted and black paint was applied, and antireflection treatment from the back side was performed.

耐擦傷性…#0000のスチールウールを用い、250g荷重で10往復表面を擦り、傷の有無を目視評価した。   Scratch resistance: Using # 0000 steel wool, 10 reciprocating surfaces were rubbed with a load of 250 g, and the presence or absence of scratches was visually evaluated.

全光線透過率およびヘイズ値…写像性測定器[日本電色工業(株)製、NDH−2000]を使用して測定した。   Total light transmittance and haze value: Measured using image clarity measuring instrument [NDH-2000, manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.].

鉛筆硬度…JIS K5400に準拠し、試験機法により500g加重で評価した。   Pencil hardness: Based on JIS K5400, evaluation was performed with a load of 500 g by a testing machine method.

表面抵抗値…JIS K6911に準拠して測定した。   Surface resistance value: measured in accordance with JIS K6911.

防汚性…指紋、マジック、ティッシュくずを表面に付着させ、拭き取りの可否を判断した。(○:全て拭き取れる、△:拭き取りにくいものがある、×:拭き取れないものがある)
密着性…フィルム表面を1mm角100点カット後、粘着セロハンテープ[ニチバン株式会社製工業用24mm巾セロテープ(登録商標)]による剥離試験を行い、100点カット部の残存率で評価した。
Antifouling property: Fingerprints, magic and tissue scraps were attached to the surface, and the possibility of wiping was determined. (○: All can be wiped off, △: Some items are difficult to wipe off, ×: Some items cannot be wiped off)
Adhesiveness: After the surface of the film was cut at 100 points of 1 mm square, a peel test was performed using an adhesive cellophane tape [24 mm wide cello tape (registered trademark) manufactured by Nichiban Co., Ltd.], and the residual rate at the 100-point cut portion was evaluated.

目視評価…20W蛍光灯から20cmの距離で反射防止積層フィルムの帯電防止性低屈折率層側に蛍光灯の光を入射し、色ムラの目視評価を行った。なお、評価の際には、支持体のうち塗工の施されていない面につや消し黒色塗料を塗布し、裏面側からの反射防止処理を行った。(○:色ムラなし、△:色ムラが僅かに認められる、×:色ムラが顕著に認められる)
<実施例1>
(ハードコート層の形成)
透明支持体として厚み80μmのトリアセチルセルロースフィルム(全光線透過率:93%、ヘイズ値:0.1%)を用いた。また、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ウレタンアクリレート、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシランを用いてハードコート層用の塗布液を調整した。
Visual evaluation: The light of the fluorescent lamp was incident on the antistatic low refractive index layer side of the antireflection laminated film at a distance of 20 cm from the 20 W fluorescent lamp, and the color unevenness was visually evaluated. In the evaluation, a matte black paint was applied to the surface of the support that had not been coated, and an antireflection treatment from the back side was performed. (○: No color unevenness, Δ: Color unevenness is slightly recognized, X: Color unevenness is remarkably recognized)
<Example 1>
(Formation of hard coat layer)
A 80 μm thick triacetyl cellulose film (total light transmittance: 93%, haze value: 0.1%) was used as the transparent support. Moreover, the coating liquid for hard-coat layers was prepared using dipentaerythritol hexaacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, urethane acrylate, and 3-acryloxypropyltrimethoxysilane.

このハードコート層用塗布液をトリアセチルセルロースフィルム上に乾燥膜厚5μmになるように塗布し、120Wのメタルハライドランプを20cmの距離から10秒間照射することにより、ハードコート層を形成した。
(帯電防止性低屈折率層の形成)
ペンタエリスリトールトリアクリレートと有機官能基としてパーフルオロオクタン基を有するアクリレートの混合物7重量部と、五酸化アンチモン−シリカ複合酸化物多孔質導電性微粒子3重量部を190重量部のイソプロパノールで希釈した帯電防止性低屈折率層用のコーティング液を調整した。上記の帯電防止性低屈折率層を積層したフィルムに乾燥膜厚が100nmになるようにこのコーティング液を塗布し、120Wのメタルハライドランプを20cmの距離から10秒間照射することにより、硬化した。なお、硬化は酸素濃度3000ppm以下の窒素パージ雰囲気下にて行った。帯電防止性低屈折率層の屈折率は波長550nmにおいて1.42であった。用いた微粒子の屈折率は1.40であった。以上により、反射防止積層フィルムを作成した。
This hard coat layer coating solution was applied onto a triacetyl cellulose film so as to have a dry film thickness of 5 μm, and a hard coat layer was formed by irradiating a 120 W metal halide lamp from a distance of 20 cm for 10 seconds.
(Formation of an antistatic low refractive index layer)
7 parts by weight of a mixture of pentaerythritol triacrylate and an acrylate having a perfluorooctane group as an organic functional group and 3 parts by weight of antimony pentoxide-silica composite oxide porous conductive fine particles diluted with 190 parts by weight of isopropanol The coating liquid for the low refractive index layer was prepared. This coating solution was applied to a film on which the antistatic low refractive index layer was laminated so that the dry film thickness was 100 nm, and cured by irradiating a 120 W metal halide lamp from a distance of 20 cm for 10 seconds. Curing was performed in a nitrogen purge atmosphere with an oxygen concentration of 3000 ppm or less. The refractive index of the antistatic low refractive index layer was 1.42 at a wavelength of 550 nm. The refractive index of the fine particles used was 1.40. Thus, an antireflection laminated film was prepared.

<実施例2>
実施例1(帯電防止性低屈折率層の形成)において、加水分解オリゴマーを5重量部、五酸化アンチモン−シリカ複合酸化物多孔質導電性微粒子を5重量部とした以外は実施例1と同様にして反射防止積層フィルムを作成した。
<Example 2>
In Example 1 (formation of antistatic low refractive index layer), the same procedure as in Example 1 except that 5 parts by weight of hydrolyzed oligomer and 5 parts by weight of antimony pentoxide-silica composite oxide porous conductive fine particles were used. Thus, an antireflection laminated film was prepared.

<実施例3>
実施例1(ハードコート層の形成)において、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ウレタンアクリレート、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシランの混合物9.5重量部に対し、防眩性を付与する目的で平均粒子径4μmのアクリル粒子0.5重量部を加えてハードコート層用の塗布液を調整した以外は実施例1と同様にして反射防止積層フィルムを作成した。
<Example 3>
In Example 1 (formation of hard coat layer), antiglare property is imparted to 9.5 parts by weight of a mixture of dipentaerythritol hexaacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, urethane acrylate, and 3-acryloxypropyltrimethoxysilane. For the purpose, an antireflection laminate film was prepared in the same manner as in Example 1 except that 0.5 part by weight of acrylic particles having an average particle diameter of 4 μm was added to prepare a coating solution for the hard coat layer.

<比較例1>
実施例1(帯電防止性低屈折率層の形成)において、アクリレート混合物7重量部、シリカ微粒子を3重量部とした以外は実施例1と同様にして反射防止積層フィルムを作成した。
<Comparative Example 1>
In Example 1 (formation of an antistatic low refractive index layer), an antireflection laminated film was prepared in the same manner as in Example 1 except that 7 parts by weight of the acrylate mixture and 3 parts by weight of silica fine particles were used.

<比較例2>
実施例1((帯電防止性低屈折率層の形成)において、アクリレート混合物7重量部、五酸化アンチモン微粒子を3重量部とした以外は実施例1と同様にして反射防止積層フィルムを作成した。
<Comparative example 2>
An antireflection laminate film was prepared in the same manner as in Example 1 except that 7 parts by weight of the acrylate mixture and 3 parts by weight of antimony pentoxide fine particles were used in (formation of an antistatic low refractive index layer).

<比較例3>
実施例1(帯電防止性低屈折率層の形成)において、帯電防止性低屈折率層の乾燥膜厚が74nmとした以外は実施例1と同様にして反射防止積層フィルムを作成した。
<Comparative Example 3>
In Example 1 (formation of an antistatic low refractive index layer), an antireflection laminated film was prepared in the same manner as in Example 1 except that the dry thickness of the antistatic low refractive index layer was 74 nm.

<比較例4>
実施例1(帯電防止性低屈折率層の形成)において、帯電防止性低屈折率層の乾燥膜厚が120nmとした以外は実施例1と同様にして反射防止積層フィルムを作成した。
実施例1〜3で得られた本発明の反射防止積層フィルムおよび比較例1〜4で得られた反射防止積層フィルムについての評価結果を表1に示す。
<Comparative example 4>
In Example 1 (formation of antistatic low refractive index layer), an antireflection laminated film was prepared in the same manner as in Example 1 except that the dry thickness of the antistatic low refractive index layer was 120 nm.
Table 1 shows the evaluation results of the antireflection laminated film of the present invention obtained in Examples 1 to 3 and the antireflection laminated film obtained in Comparative Examples 1 to 4.

Figure 2006178276
Figure 2006178276

実施例1、2においては、請求項1〜4を満たすことにより、反射防止性、高透明性の光学特性、表面硬度、耐擦傷性のハードコート性、帯電防止性、拭き取り性の防汚性に優れる多機能性反射防止積層フィルムが得られることがわかる。   In Examples 1 and 2, by satisfying claims 1 to 4, antireflection properties, highly transparent optical properties, surface hardness, scratch resistance hard coat properties, antistatic properties, wiping properties, and antifouling properties It can be seen that a multifunctional antireflection laminated film having excellent resistance can be obtained.

実施例3においては、請求項5のフィラーにより防眩性をさらに付与した多機能性反射
防止フィルムが得られることが分かる。
In Example 3, it turns out that the multifunctional anti-reflective film which further provided the glare-proof property by the filler of Claim 5 is obtained.

比較例1においては、微粒子をシリカ粒子にすることにより、表面抵抗値が高く、防汚性が劣っている。   In Comparative Example 1, by making the fine particles into silica particles, the surface resistance value is high and the antifouling property is inferior.

比較例2においては、微粒子を屈折率の高いアンチモン粒子にすることにより、層の屈折率が上昇するために視感反射率が高くなり、反射防止性が劣っている。   In Comparative Example 2, when the fine particles are antimony particles having a high refractive index, the refractive index of the layer is increased, so that the luminous reflectance is high and the antireflection property is poor.

比較例3においては、請求項2一般式(A)の範囲より薄い膜厚のため、目視評価において赤い色ムラが認められる。   In Comparative Example 3, since the film thickness is thinner than the range of the general formula (A), red color unevenness is recognized in the visual evaluation.

比較例4においては、請求項2一般式(A)の範囲より厚い膜厚のため、目視評価において青い色ムラが認められる。   In Comparative Example 4, since the film thickness is thicker than the range of the general formula (A), blue color unevenness is recognized in the visual evaluation.

実施例1〜3および比較例1〜4の結果比較において、請求項1〜5を満たすことにより、耐擦傷性、表面硬度などハードコート性能は十分な性能を保ちつつも、密着性、帯電防止性、防汚性、高透明性または防眩性を同時に発現させることができる。さらに少ない層構成にて多機能性のフィルムが得られるため、塗工方式による低コストな反射防止積層フィルムを提供することができる。   In the result comparison of Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 to 4, by satisfying claims 1 to 5, the hard coat performance such as scratch resistance and surface hardness is maintained while maintaining sufficient performance, adhesion and antistatic Property, antifouling property, high transparency, or antiglare property can be exhibited at the same time. Furthermore, since a multifunctional film can be obtained with a small number of layers, it is possible to provide a low-cost antireflection laminated film by a coating method.

本発明の実施の一形態に係わる帯電防止性ハードコートフィルムを示す断面図である。It is sectional drawing which shows the antistatic hard coat film concerning one Embodiment of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1…透明支持体
2…ハードコート層
3…帯電防止性低屈折率層
4…反射防止積層フィルム
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Transparent support 2 ... Hard-coat layer 3 ... Antistatic low refractive index layer 4 ... Antireflection laminated film

Claims (5)

透明支持体上に、ハードコート層、帯電防止性低屈折率層がこの順に積層されてなる反射防止積層フィルムにおいて、
前記帯電防止性低屈折率層が、少なくとも(メタ)アクリロイルオキシ基を分子内に有する化合物を含む活性エネルギー線硬化型樹脂と、粒径100nm以下で屈折率nが1.40以下の多孔質導電性微粒子からなることを特徴とする反射防止積層フィルム。
In the antireflection laminated film in which a hard coat layer and an antistatic low refractive index layer are laminated in this order on a transparent support,
The antistatic low refractive index layer includes an active energy ray-curable resin containing at least a compound having a (meth) acryloyloxy group in the molecule, and a porous conductive material having a particle size of 100 nm or less and a refractive index n of 1.40 or less. An antireflective laminated film comprising a conductive fine particle.
前記帯電防止性低屈折率層が、一般式(A)nd=λ/4(但し、nは層の屈折率、dは層厚を示し、λは光の波長を示し、450≦λ≦650を満たす整数である)を満たすことを特徴とする請求項1記載の反射防止積層フィルム。   The antistatic low refractive index layer has the general formula (A) nd = λ / 4 (where n is the refractive index of the layer, d is the layer thickness, λ is the wavelength of light, and 450 ≦ λ ≦ 650) The antireflection laminated film according to claim 1, wherein 前記ハードコート層が、(メタ)アクリロイルオキシ基を有する多官能性モノマーを主成分とする重合体からなることを特徴とする請求項1または2記載の反射防止積層フィルム。   The antireflection laminated film according to claim 1 or 2, wherein the hard coat layer is made of a polymer mainly composed of a polyfunctional monomer having a (meth) acryloyloxy group. 請求項3記載のハードコート層に、さらに、一般式(B)R’ySi(OR)4-y(但し、式中Rはアルキル基を示し、R’は末端にアルキル基、フッ化アルキル基などの未反応性官能基やビニル基、アミノ基、エポキシ基、アリール基、(メタ)アクリロイル基などの反応性官能基を示し、yは1≦y≦3を満たす整数である)で示される有機珪素アルコキシド、および、その加水分解物が含まれることを特徴とする反射防止積層フィルム。 The hard coat layer according to claim 3, further general formula (B) R 'y Si ( OR) 4-y ( wherein R represents an an alkyl group, R' is an alkyl group at its terminal, fluorinated alkyl A reactive functional group such as a vinyl group, an amino group, an epoxy group, an aryl group, or a (meth) acryloyl group, and y is an integer satisfying 1 ≦ y ≦ 3) An anti-reflection laminated film comprising an organosilicon alkoxide and a hydrolyzate thereof. 請求項4記載のハードコート層に、さらに、平均粒子径0.5μm以上10μm以下のフィラーが含まれることを特徴とする反射防止積層フィルム。   5. The antireflection laminate film according to claim 4, wherein the hard coat layer further comprises a filler having an average particle diameter of 0.5 μm or more and 10 μm or less.
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