JP2007185824A - Antireflection laminated film - Google Patents

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JP2007185824A JP2006004549A JP2006004549A JP2007185824A JP 2007185824 A JP2007185824 A JP 2007185824A JP 2006004549 A JP2006004549 A JP 2006004549A JP 2006004549 A JP2006004549 A JP 2006004549A JP 2007185824 A JP2007185824 A JP 2007185824A
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Takeshi Nishikawa
健 西川
Yukio Amano
幸雄 天野
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To inexpensively provide an antireflection laminated film which is used appropriately for the display screen surfaces of various displays including a liquid crystal display, CRT display, projection display, plasma display, and EL display, has high antistatic and antireflection properties in particular, and is excellent in transparency, surface hardness, scratch resistance, and antifouling properties. <P>SOLUTION: In the antireflection laminated film, a hard coat layer with a refractive index of at least 1.50 and an antistatic, low-refractive index layer which contains a binder and an organic antistatic agent and has a refractive index of 1.49 or below are laminated on a substrate. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、生産性、高い帯電防止性と反射防止性を有し、かつ、高透明性、表面硬度、耐擦傷性、防汚性に優れる、ディスプレイ(液晶ディスプレイ、CRTディスプレイ、プロジェクションディスプレイ、プラズマディスプレイ、ELディスプレイ等)の表示画面表面に適用される反射防止積層フィルムに関するものである。   The present invention is a display (liquid crystal display, CRT display, projection display, plasma, having productivity, high antistatic properties and antireflection properties, and excellent in high transparency, surface hardness, scratch resistance, and antifouling properties. The present invention relates to an antireflection laminated film applied to the display screen surface of a display, an EL display, or the like.

多くのディスプレイは、室内外を問わず外光などが入射するような環境下で使用される。この外光などの入射光は、ディスプレイ表面等において正反射され、反射像が表示光と混合し表示品質を低下させ、表示画像を見にくくしている。このため、反射防止機能を付与するために金属酸化物の透明薄膜を積層させた多層膜が従来から用いられている。金属酸化物の透明薄膜は、化学蒸着(CVD)法や物理蒸着(PVD)法により形成され、特に物理蒸着法である真空蒸着法により形成されている。このように形成された反射防止膜は優れた光学特性を示すが、蒸着による形成方法は生産性が低く、大量生産に適していないという問題を抱えていた。   Many displays are used in an environment where external light or the like enters regardless of whether indoors or outdoors. Incident light such as external light is specularly reflected on the display surface or the like, and the reflected image is mixed with display light to lower the display quality and make the display image difficult to see. For this reason, in order to provide an antireflection function, a multilayer film in which transparent thin films of metal oxide are laminated has been conventionally used. The transparent thin film of metal oxide is formed by a chemical vapor deposition (CVD) method or a physical vapor deposition (PVD) method, and in particular, is formed by a vacuum vapor deposition method which is a physical vapor deposition method. The antireflection film thus formed exhibits excellent optical characteristics, but the formation method by vapor deposition has a problem that productivity is low and it is not suitable for mass production.

さらには、プラスティックやフィルムなどの高分子材料の表面は比較的柔軟であることから、表面硬度を得る為に、物品表面にアクリル多官能化合物を重合させ、ハードコート層を設けるという手法がなされる。このようにして得られたハードコート層は、アクリル樹脂特有の性質である高い表面硬度、光沢性、透明性、擦傷性を有する。その一方で、絶縁特性に優れる為に帯電しやすく、ハードコート層を設けた製品表面への埃等の付着による汚れや、精密機械に使用された場合に、帯電してしまうことにより障害が発生するといった問題を抱えていた。   Furthermore, since the surface of a polymer material such as plastic or film is relatively flexible, a technique of polymerizing an acrylic polyfunctional compound on the surface of the article and providing a hard coat layer is used to obtain surface hardness. . The hard coat layer thus obtained has high surface hardness, glossiness, transparency, and scratch resistance, which are properties unique to acrylic resins. On the other hand, it is easy to be charged because of its excellent insulating properties, and it can cause troubles due to contamination due to dust adhering to the surface of the product provided with a hard coat layer and charging when used in precision machinery. I had a problem to do.

これらの問題を解消するためにハードコート層に導電剤を練り混むか、基材とハードコート層の間やハードコート層と低屈折率層の間に表面硬度を落とさない程度に極めて薄く導電層を設ける手法がなされている。また、その形成方法としては塗工法が用いられ、生産性の向上がはかられている。   In order to solve these problems, a conductive layer is very thin enough not to drop the surface hardness between the base material and the hard coat layer or between the hard coat layer and the low refractive index layer. There is a method of providing Moreover, the coating method is used as the formation method, and the improvement of productivity is attempted.

用いられる導電剤としては、金属酸化物微粒子や、導電性ポリマー、各種活性剤、親水性化合物、イオン導電性化合物があげられる。電子伝導性の微粒子を使用する技術では、ハードコート練り混み方式と層間に導電層を設ける手法がなされている。練り混み方式(例えば、特許文献1参照)では、微粒子の屈折率が通常高いことや、電子伝導性であるために微粒子の配合量が決まってしまうことにより、基材との光干渉の低減と導電性を両立することが困難となる。配合量が少なすぎると導電性が発現せず、逆に多い場合には光線透過率が低下してしまう問題が発生し、透過率を上げるために膜厚を薄くすると基材保護の機能が低下してしまう問題がある。また、ハードコート層の上層に反射防止層を形成するために帯電防止性能が低下するなどの問題がある。導電性ポリマーも同様の問題を抱えている。基材とハードコート層間に導電層を設ける方式(例えば、特許文献2参照)では、導電層の上層に積層することにより、導電性を考慮して上層に特別な処理を行わなければ行けないことや、多層構成にすることにより、工程が増えて生産性が落ちることなどが問題となる。ハードコート層と反射防止層間に導電層を設ける方式(例えば、特許文献3参照)でも同様に、多層構成にすることにより、工程が増えて生産性が落ちることなどが問題となる。
特開平11−92750号公報 特開平11−326602号公報 特開2001−330702号公報
Examples of the conductive agent used include metal oxide fine particles, conductive polymers, various activators, hydrophilic compounds, and ionic conductive compounds. In the technique using electron conductive fine particles, a hard coat kneading method and a method of providing a conductive layer between layers are used. In the kneading method (see, for example, Patent Document 1), the refractive index of the fine particles is usually high, and the amount of fine particles is determined because it is electronically conductive, thereby reducing light interference with the substrate. It becomes difficult to achieve both conductivity. If the blending amount is too small, conductivity will not be exhibited, and if it is too large, there will be a problem that the light transmittance will decrease, and if the film thickness is reduced to increase the transmittance, the function of protecting the substrate will decrease. There is a problem. In addition, since the antireflection layer is formed on the hard coat layer, there is a problem that the antistatic performance is lowered. Conductive polymers have similar problems. In the method of providing a conductive layer between the base material and the hard coat layer (for example, see Patent Document 2), it is necessary to perform a special treatment on the upper layer in consideration of conductivity by laminating it on the upper layer of the conductive layer. In addition, the multi-layer structure causes a problem that the number of processes increases and the productivity decreases. Similarly, in the method of providing a conductive layer between the hard coat layer and the antireflection layer (see, for example, Patent Document 3), a multi-layer structure causes a problem that the number of processes is increased and productivity is lowered.
JP-A-11-92750 JP-A-11-326602 JP 2001-330702 A

本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであって、特に高い帯電防止性と反射防止性を有し、かつ、高透明性、表面硬度、耐擦傷性、防汚性に優れる反射防止積層フィルムを低コストで提供することを目的とする。   The present invention has been made to solve the above-described problems, and has particularly high antistatic properties and antireflection properties, and is excellent in high transparency, surface hardness, scratch resistance, and antifouling properties. An object is to provide an antireflection laminated film at a low cost.

上記の目的を達成するために、すあなわち、請求項1に記載の発明は、基材上に、屈折率1.50以上のハードコート層と、バインダー及び有機帯電防止剤を含む、屈折率1.49以下の帯電防止性低屈折率層とを積層してなることを特徴とする反射防止積層フィルムである。   In order to achieve the above object, that is, the invention described in claim 1 includes a hard coat layer having a refractive index of 1.50 or more, a binder, and an organic antistatic agent on a substrate. 1. An antireflection laminate film comprising an antistatic low refractive index layer having a refractive index of 1.49 or less.

請求項2に記載の発明は、前記バインダーが熱硬化性であることを特徴とする請求項1記載の反射防止積層フィルムである。   The invention described in claim 2 is the antireflection laminated film according to claim 1, wherein the binder is thermosetting.

請求項3に記載の発明は、前記帯電防止性低屈折率層にフッ素原子含有物質を含むことを特徴とする請求項1または2に記載の反射防止積層フィルムである。   The invention according to claim 3 is the antireflection laminated film according to claim 1 or 2, wherein the antistatic low refractive index layer contains a fluorine atom-containing substance.

請求項4に記載の発明は、前記帯電防止性低屈折率層が、
nd=λ/4
(但し、nは層の屈折率、dは層厚を示し、λは光の波長を示し、450≦λ≦650を満たす整数である)
を満たすことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の反射防止積層フィルムである。
The invention according to claim 4 is characterized in that the antistatic low refractive index layer is
nd = λ / 4
(Where n represents the refractive index of the layer, d represents the layer thickness, λ represents the wavelength of light, and is an integer satisfying 450 ≦ λ ≦ 650)
It is satisfy | filling. It is an antireflection laminated film of any one of Claims 1-3 characterized by the above-mentioned.

請求項5記載の発明は、前記ハードコート層が、(メタ)アクリロイルオキシ基を有する多官能性モノマーを主成分とする重合体からなることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の反射防止積層フィルムである。   The invention according to claim 5 is characterized in that the hard coat layer is made of a polymer mainly composed of a polyfunctional monomer having a (meth) acryloyloxy group. It is an antireflection laminated film of description.

請求項6記載の発明は、前記ハードコート層に、さらに平均粒子径10nm以上10μm以下のフィラーが含まれることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の反射防止積層フィルムである。   The invention according to claim 6 is the antireflection laminated film according to any one of claims 1 to 5, wherein the hard coat layer further contains a filler having an average particle diameter of 10 nm to 10 μm. is there.

本発明により、特に高い帯電防止性と反射防止性を有し、かつ、高透明性、表面硬度、耐擦傷性、防汚性に優れる低コストの反射防止積層フィルムを提供することができる。本発明の反射防止積層フィルムは、液晶ディスプレイ、CRTディスプレイ、プロジェクションディスプレイ、プラズマディスプレイ、ELディスプレイ等の各種ディスプレイの表示画面表面に好適に使用される。   According to the present invention, it is possible to provide a low-cost antireflection laminate film having particularly high antistatic properties and antireflection properties, and excellent in high transparency, surface hardness, scratch resistance and antifouling properties. The antireflection laminated film of the present invention is suitably used for the display screen surface of various displays such as a liquid crystal display, a CRT display, a projection display, a plasma display, and an EL display.

以下に、本発明の実施形態について図面を参照して詳細に説明する。図1は、本発明のの一実施形態に係わる反射防止積層フィルムの一例を示す断面図である。   Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of an antireflection laminated film according to an embodiment of the present invention.

図1で示すように、本発明の一例としての反射防止積層フィルム1は、基材2上に、屈折率1.50以上のハードコート層3と、バインダー及び有機帯電防止剤を含む、屈折率1.49以下の帯電防止性低屈折率層4とを積層してなる反射防止積層フィルムである。   As shown in FIG. 1, an antireflection laminated film 1 as an example of the present invention includes a hard coat layer 3 having a refractive index of 1.50 or more, a binder, and an organic antistatic agent on a base material 2. 1. An antireflection laminated film obtained by laminating an antistatic low refractive index layer 4 of 1.49 or less.

本発明における基材2は、透明支持体となるプラスチックフィルムが使用され、種々の
有機高分子からなるフィルムもしくはシートを用いることができる。通常、ディスプレイ等の光学部材に使用される基材は、透明性や光の屈折率等の光学特性、さらには耐衝撃性、耐熱性、耐久性などの諸物性を考慮して、ポリオレフィン系(ポリエチレン、ポリプロピレン等)、ポリエステル系(ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナルタレート等)、セルロース系(トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セロファン等)、ポルアミド系(ナイロン−6、ナイロン−66等)、アクリル系(ポリメチルメタクリレート等)、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、エチレンビニルアルコール等の有機高分子が用いられる。特に、ポリエチレンテレフタレート、トリアセチルセルロース、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレートが好ましい。さらにはこれらの有機高分子に公知の添加剤、たとえば、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、可塑剤、滑剤、着色剤、酸化防止剤、難燃剤等を添加し、機能を付加させたものも使用できる。また、この基材は上記物質単体、もしくは複数の物質を積層もしくは混合させたものでもよい。また、基材の厚みは表面保護フィルムを用いる用途によって適宜選択することができ、25〜300μmが好ましい。しかしこれに限定するものではない。また、基材上にもうけられる表面保護層との密着性を向上させる目的で、表面処理を施すことができる。この表面処理方法としては、例えばサンドブラスト法や溶剤処理法などによる表面の凹凸化処理、あるいはコロナ放電処理、クロム酸処理、火炎処理、熱風処理、オゾン・紫外線照射処理などの表面の酸化処理などが挙げられる。
As the substrate 2 in the present invention, a plastic film serving as a transparent support is used, and films or sheets made of various organic polymers can be used. In general, a base material used for an optical member such as a display is a polyolefin-based material in consideration of optical properties such as transparency and refractive index of light, as well as various physical properties such as impact resistance, heat resistance and durability. Polyethylene, polypropylene, etc.), polyesters (polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene nallate, etc.), celluloses (triacetylcellulose, diacetylcellulose, cellophane, etc.), polamides (nylon-6, nylon-66, etc.), acrylic Organic polymers such as system (polymethyl methacrylate, etc.), polystyrene, polyvinyl chloride, polyimide, polyvinyl alcohol, polycarbonate, ethylene vinyl alcohol, etc. are used. In particular, polyethylene terephthalate, triacetyl cellulose, polycarbonate, and polymethyl methacrylate are preferable. Furthermore, known additives such as ultraviolet absorbers, infrared absorbers, plasticizers, lubricants, colorants, antioxidants, flame retardants, etc. are added to these organic polymers to add functions. it can. In addition, the base material may be a single substance or a laminate or mixture of a plurality of substances. Moreover, the thickness of a base material can be suitably selected according to the use which uses a surface protection film, and 25-300 micrometers is preferable. However, the present invention is not limited to this. In addition, surface treatment can be performed for the purpose of improving the adhesion to the surface protective layer provided on the substrate. As this surface treatment method, for example, surface roughening treatment such as sandblasting or solvent treatment, or surface oxidation treatment such as corona discharge treatment, chromic acid treatment, flame treatment, hot air treatment, ozone / ultraviolet irradiation treatment, etc. Can be mentioned.

本発明におけるハードコート層3は、前記プラスチックフィルムの上に積層するものであって、このハードコート層は紫外線および電子線硬化型樹脂単体、またはこの硬化物中に有機珪素アルコキシドおよびその加水分解物、フィラーが含まれたものである。   The hard coat layer 3 in the present invention is laminated on the plastic film, and the hard coat layer is composed of an ultraviolet ray and an electron beam curable resin alone, or an organic silicon alkoxide and a hydrolyzate thereof in the cured product. The filler is included.

ハードコート層に用いる紫外線および電子線硬化型樹脂化合物としては基材の表面改質を目的として、スチールウールラビング試験による耐擦傷性、鉛筆ひっかき試験による表面硬度、セロテープ(登録商標)剥離試験による密着性、最小曲げ試験によるクラック性等の諸特性を要求されるスペックを満足させるように樹脂を選択して使用することが出来る。この化合物は、光重合性プレポリマー、光重合性モノマー、光重合開始剤等を含有するものである。   Ultraviolet and electron beam curable resin compounds used in hard coat layers for the purpose of surface modification of base materials, scratch resistance by steel wool rubbing test, surface hardness by pencil scratch test, adhesion by cello tape (registered trademark) peel test The resin can be selected and used so as to satisfy the specifications required for various properties such as the properties and cracking properties by the minimum bending test. This compound contains a photopolymerizable prepolymer, a photopolymerizable monomer, a photopolymerization initiator, and the like.

前記光重合性プレポリマーとしては、例えばポリエステルアクリレート系、エポキシアクリレート系、ウレタンアクリレート系、ポリオールアクリレート系等が挙げられる。これらの光重合性プレポリマーは1種用いても良いし、2種以上を組み合わせて用いても良い。   Examples of the photopolymerizable prepolymer include polyester acrylate, epoxy acrylate, urethane acrylate, polyol acrylate, and the like. These photopolymerizable prepolymers may be used alone or in combination of two or more.

また、光重合性モノマーとしては、例えばポリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオール(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1、6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート等が挙げられる。また、これらの屈折率は1.5前後であるが、屈折率が高いモノマーとしては、環状基を有するものさらに/またはフッ素原子以外のハロゲン原子やS、N、P等の原子を含むものが挙げられる。環状基には芳香族基、複素環基および脂肪族環基が含まれる。例えば、ビス(4−メタクリロイルチオフェノキシ)スルフィド、ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレート、 テトラブロモビスフェノールAジエポキシアクリレートなどが挙げられる。特に本発明では、プレポリマーとしてウレタンアクリレート系、モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレート等を用いることが好ましい。   Examples of the photopolymerizable monomer include polymethylolpropane tri (meth) acrylate, hexanediol (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, Examples include dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, and the like. Moreover, although these refractive indexes are around 1.5, monomers having a high refractive index include those having a cyclic group and / or those containing halogen atoms other than fluorine atoms and atoms such as S, N and P. Can be mentioned. The cyclic group includes an aromatic group, a heterocyclic group and an aliphatic ring group. Examples thereof include bis (4-methacryloylthiophenoxy) sulfide, bisphenoxyethanol full orange acrylate, and tetrabromobisphenol A diepoxy acrylate. In particular, in the present invention, it is preferable to use urethane acrylate as a prepolymer and dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, bisphenoxyethanol full orange acrylate, or the like as a monomer.

さらに、光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類等が挙げられる。   Furthermore, examples of the photopolymerization initiator include acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphine oxides, ketals, anthraquinones, thioxanthones, and the like.

また、光増感剤として、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−n−ブチルホスフィン等を混合して用いることができる。・・・
本発明におけるハードコート層は、さらに、有機珪素アルコキシドおよびその加水分解物を添加することができる。有機珪素アルコキシドは、下記一般式を満たすものである。R’ySi(OR)4-y・・・一般式(B)
(但し、式中Rはアルキル基を示し、R’は末端にアルキル基、フッ化アルキル基などの未反応性官能基やビニル基、アミノ基、エポキシ基、アリール基、(メタ)アクリロイル基などの反応性官能基を示し、yは1≦y≦3を満たす整数である。)例えば、オクチルトリメトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン、3、3、3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、1H、1H、2H、2H−パープルオロヘキシルトリメトキシシラン、1H、1H、2H、2H−パープルオロデシルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロビルトリメトキシシラン、3−アミノプロビルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、2−(3、4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−イソシアナートプロピルトリメトキシシラン、3−イソシアナートプロピルトリエトキシシランがあげられる。
Moreover, n-butylamine, triethylamine, poly-n-butylphosphine, etc. can be mixed and used as a photosensitizer. ...
The hard coat layer in the present invention can further contain an organosilicon alkoxide and a hydrolyzate thereof. The organosilicon alkoxide satisfies the following general formula. R 'y Si (OR) 4 -y ··· formula (B)
(However, in the formula, R represents an alkyl group, and R ′ represents an unreactive functional group such as an alkyl group or a fluorinated alkyl group at the terminal, a vinyl group, an amino group, an epoxy group, an aryl group, a (meth) acryloyl group, etc. And y is an integer satisfying 1 ≦ y ≦ 3.) For example, octyltrimethoxysilane, octadecyltrimethoxysilane, 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, 1H, 1H 2H, 2H-purple chlorohexyltrimethoxysilane, 1H, 1H, 2H, 2H-purple olodecyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopro Biltrimethoxysilane, 3-aminopropyl trimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-g Risidoxypropyltrimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, 3 -Isocyanatopropyltrimethoxysilane, 3-isocyanatopropyltriethoxysilane.

本発明におけるハードコート層は、さらに平均粒子径10nm以上10μm以下のフィラーを添加し、反射防止フィルムに新たに機能を付与することができる。フィラー添加により、高硬度、屈折率調整を行うことができる。   The hard coat layer in the present invention can further add a function to the antireflection film by further adding a filler having an average particle diameter of 10 nm or more and 10 μm or less. By adding a filler, high hardness and refractive index can be adjusted.

粒子径が大きい(0.1μm以上)の粒子を用いると、フィルムに防眩性を付与させることができる。   When particles having a large particle size (0.1 μm or more) are used, antiglare properties can be imparted to the film.

10μm以上ではハードコート層の厚さより粒子径が大きすぎることから、上層の帯電防止性低屈折率層が積層しにくくなる。フィラーは、シリカ、アルミナ、ジルコニア等の無機フィラーおよびこれら2種類以上の複合酸化物フィラー、アクリル、スチレン、ウレタン、メラミン、ベンゾアナミン等の有機フィラーおよびこれら2種類以上の共重合フィラーを用いることができる。フィラーは単体で用いても2種類以上を混合して用いても良い。また、ハードコート層の強度を向上させるために、平均粒子径0.5μm以下のコロイド粒子を加えることができる。コロイド粒子径は透明性の観点から、0.1μm以下が好ましい。コロイド粒子は、例えば、シリカ、アルミナ、ジルコニアがあげられる。これらは単体で用いても、2種類以上の複合酸化物でも、2種類以上の混合物でもよい。   If the particle size is 10 μm or more, the particle diameter is too large compared to the thickness of the hard coat layer, so that it is difficult to laminate the upper antistatic low refractive index layer. As the filler, inorganic fillers such as silica, alumina, zirconia and the like, two or more kinds of composite oxide fillers, organic fillers such as acrylic, styrene, urethane, melamine, and benzoanamine, and two or more kinds of copolymer fillers can be used. . The filler may be used alone or in combination of two or more. In order to improve the strength of the hard coat layer, colloidal particles having an average particle diameter of 0.5 μm or less can be added. The colloidal particle diameter is preferably 0.1 μm or less from the viewpoint of transparency. Examples of the colloidal particles include silica, alumina, and zirconia. These may be used alone, or two or more kinds of complex oxides or a mixture of two or more kinds.

ハードコート層の硬度は、鉛筆硬度でH以上であるのが好ましく、反射防止積層フィルムに必要な耐擦傷性を備えることができる。   The hardness of the hard coat layer is preferably H or higher in pencil hardness, and can have scratch resistance necessary for the antireflection laminated film.

ハードコート層形成用のハードコート剤の調整において、各成分の配合順序については特に制限はなく、各種溶媒中に紫外線および電子線硬化型樹脂化合物等を加えて混合する。   In preparing the hard coat agent for forming the hard coat layer, there is no particular limitation on the blending order of the components, and ultraviolet rays, electron beam curable resin compounds, and the like are added and mixed in various solvents.

溶媒としては、特に限定することはないが、メチルエチルケトン、アセトン、メチルイソプチルケトン等のケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、トルエン、キシレン等の芳香族化合物類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエー
テル類、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類等を挙げることができる。また、このハードコート剤には、所望により消泡剤やレベリング剤等の公知の添加剤を配合することができる。ハードコート剤の固形分濃度については特に制限はなく、塗工性、乾燥性、経済性等の面から10〜70重量%の範囲が好ましく、特に30〜50重量%の範囲が好適である。
Solvents include, but are not limited to, ketones such as methyl ethyl ketone, acetone, and methyl isoptyl ketone, esters such as methyl acetate, ethyl acetate, and butyl acetate, aromatic compounds such as toluene and xylene, diethyl ether And ethers such as tetrahydrofuran and alcohols such as methanol, ethanol and isopropanol. Moreover, well-known additives, such as an antifoamer and a leveling agent, can be mix | blended with this hard-coat agent if desired. There is no restriction | limiting in particular about solid content concentration of a hard-coat agent, The range of 10 to 70 weight% is preferable from surfaces, such as coating property, drying property, economical efficiency, and the range of 30 to 50 weight% is especially suitable.

ハードコート剤の基材への塗工方法については特に制限はなく、バーコート法、マイクログラビア法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法等を用いることができる。   There are no particular restrictions on the method of applying the hard coating agent to the substrate, and a bar coating method, a micro gravure method, a knife coating method, a roll coating method, a blade coating method, a die coating method, or the like can be used.

ハードコート層の厚さは、ハードコート剤の固形分濃度および硬化後におけるハードコート層の密度から必要なハードコート剤の塗工量を算出することにより、制御する事ができる。2μm〜20μmの厚さが好ましく、特に3μm〜10μmの厚さが好ましい。   The thickness of the hard coat layer can be controlled by calculating the required amount of hard coat agent applied from the solid content concentration of the hard coat agent and the density of the hard coat layer after curing. A thickness of 2 μm to 20 μm is preferable, and a thickness of 3 μm to 10 μm is particularly preferable.

また、乾燥後の塗工層に窒素パージした雰囲気下で紫外線および電子線を照射して硬化させ、酸素障害が少なく、表面硬度の高いハードコート層を形成しても良い。   Alternatively, the coating layer after drying may be cured by irradiation with ultraviolet rays and electron beams in an atmosphere purged with nitrogen to form a hard coat layer with less surface damage and high surface hardness.

硬化に用いる紫外線照射装置については、特に制限はなく、例えば高圧水銀ランプ、キセノンランプ、メタルハライドランプ等を用いた公知の紫外線照射装置を使用することができる。紫外線照射量は、通常100〜800mJ/cm2程度である。電子線照射装置については特に制限はなく、加速電圧は通常50〜300kVである。   There is no restriction | limiting in particular about the ultraviolet irradiation apparatus used for hardening, For example, the well-known ultraviolet irradiation apparatus using a high pressure mercury lamp, a xenon lamp, a metal halide lamp etc. can be used. The amount of ultraviolet irradiation is usually about 100 to 800 mJ / cm2. There is no restriction | limiting in particular about an electron beam irradiation apparatus, and an acceleration voltage is 50-300 kV normally.

このようにして得られたハードコート層は、物品の表面に基材との密着性、表面硬度、屈曲性、耐擦傷性、透明性または防眩性に優れるものである。   The hard coat layer thus obtained is excellent in adhesion to the substrate, surface hardness, flexibility, scratch resistance, transparency or antiglare property on the surface of the article.

本発明における帯電防止性低屈折率層4は、上記ハードコート層の上に設けられ、有機帯電防止剤をバインダーに添加し、塗膜とすることで帯電防止性能を発現させることができる。有機帯電防止剤は。これらの有機帯電防止剤は、単体での使用、2種類以上の混合での使用、およびこれら2種類以上の複合微粒子を使用することができる。   The antistatic low refractive index layer 4 in the present invention is provided on the hard coat layer, and an antistatic property can be exhibited by adding an organic antistatic agent to a binder to form a coating film. What are organic antistatic agents? These organic antistatic agents can be used alone, in a mixture of two or more kinds, and in two or more kinds of composite fine particles.

有機帯電防止剤の添加量は特に制限はないが、添加量が多いとブリードし透明性を損なう場合があるため、固形分の1〜30重量%の範囲が好ましく、特に5〜20重量%の範囲が好適である。   The addition amount of the organic antistatic agent is not particularly limited. However, if the addition amount is large, it may bleed and impair transparency, so the range of 1 to 30% by weight of the solid content is preferable, particularly 5 to 20% by weight. A range is preferred.

有機帯電防止剤としては、四級アンモニウム塩基含有重合体、四級アンモニウム塩基含有シランカップリング剤またはその加水分解縮合物がある。このような四級アンモニウム塩基含有重合体の具体例を以下例示する。(a)N、N−ジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリル酸エステル/他の(メタ)アクリル酸エステルの共重合体、の四級アンモニウム塩、(b)N、N−ジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリルアミド/他の(メタ)アクリル酸エステルとの共重合体、の四級アンモニウム塩、(c)N、N−ジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリル酸エステル/他の(メタ)アクリル酸エステル(/スチレン類)/ヒドロキシアルキル(メタ)アクリル酸エステルの共重合体と、(メタ)アクリロイル基含有イソシアネート化合物との付加物、の四級アンモニウム塩、(d)N、N−ジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリル酸エステル/他の(メタ)アクリル酸エステル(/スチレン類)/ヒドロキシアルキル(メタ)アクリル酸エステル/(メタ)アクリロイル末端ポリジメチルシロキサンの共重合体と、(メタ)アクリロイル基含有イソシアネート化合物との付加物、の四級アンモニウム塩、(e)N、N−ジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリル酸エステル/他の(メタ)アクリル酸エステル/(/スチレン類)/ヒドロキシアルキル(メタ)アクリル酸エステル/(メタ)アクリロイル末端ポリジメチルシロキサンの共重合体、と(メタ)アクリロイル基含有イソシアネート化合物との
付加物、の四級アンモニウム塩に、さらにアミノ基含有ポリジメチルシロキサンを付加したポリマー、(f)N、N−ジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリル酸エステル/(メタ)アクリル酸エステル(/スチレン類)/ヒドロキシアルキル(メタ)アクリル酸エステル/メルカプト末端ポリジメチルシロキサンの共重合体、と(メタ)アクリロイル基含有イソシアネート化合物との付加物、の四級アンモニウム塩、(g)N、N−ジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリルアミド/(メタ)アクリル酸エステル(/スチレン類)/ヒドロキシアルキル(メタ)アクリル酸エステル/メルカプト末端ポリジメチルシロキサンの共重合体、と(メタ)アクリロイル基含有イソシアネート化合物との付加物、の四級アンモニウム塩、等を例示することができる。
Examples of the organic antistatic agent include a quaternary ammonium base-containing polymer, a quaternary ammonium base-containing silane coupling agent, or a hydrolysis-condensation product thereof. Specific examples of such a quaternary ammonium base-containing polymer are shown below. (A) N, N-dialkylaminoalkyl (meth) acrylic ester / quaternary ammonium salt of other (meth) acrylic ester copolymer, (b) N, N-dialkylaminoalkyl (meth) acrylamide / Quaternary ammonium salts of copolymers with other (meth) acrylic acid esters, (c) N, N-dialkylaminoalkyl (meth) acrylic acid esters / other (meth) acrylic acid esters (/ styrenes ) / Hydroxyalkyl (meth) acrylic ester copolymer and adduct of (meth) acryloyl group-containing isocyanate compound, quaternary ammonium salt, (d) N, N-dialkylaminoalkyl (meth) acrylic acid Esters / other (meth) acrylic acid esters (/ styrenes) / hydroxyalkyl (meth) acrylic acid esters / Quaternary ammonium salt of (meth) acryloyl-terminated polydimethylsiloxane copolymer and adduct of (meth) acryloyl group-containing isocyanate compound, (e) N, N-dialkylaminoalkyl (meth) acrylic acid ester / Other (meth) acrylic acid esters / (/ styrenes) / Hydroxyalkyl (meth) acrylic acid esters / (meth) acryloyl-terminated polydimethylsiloxane copolymers and addition of (meth) acryloyl group-containing isocyanate compounds (F) N, N-dialkylaminoalkyl (meth) acrylic acid ester / (meth) acrylic acid ester (/ styrenes) / Hydroxyalkyl (meth) acrylate / me A quaternary ammonium salt of a copolymer of capto-terminated polydimethylsiloxane and an adduct of a (meth) acryloyl group-containing isocyanate compound, (g) N, N-dialkylaminoalkyl (meth) acrylamide / (meth) acrylic acid Examples include esters (/ styrenes) / hydroxyalkyl (meth) acrylic esters / mercapto-terminated polydimethylsiloxane copolymers and adducts of (meth) acryloyl group-containing isocyanate compounds, quaternary ammonium salts, and the like. be able to.

アミノ基を四級アンモニウム塩に変性するための四級化剤としては、ハロゲン化アルキル(メチルクロリド等)、ハロゲン化アルケニル(アリルクロリド等)、ハロゲン化アラルキル(ベンジルクロリド等)、ジメチル硫酸、ジエチル硫酸等のアルキル硫酸類、p−トルエンスルホン酸メチル等のスルホン酸エステル類、クロロ酢酸メチル等のα−ハロ脂肪族カルボン酸誘導体、クロロアセトン等のα−ハロケトン類、クロロアセトニトリル等のα−ハロアルキルニトリル等を例示することができる。これらのうち、優れた帯電防止性を得るためには、炭素数4以下のハロゲン化アルキル、ハロゲン化アルケニル、α−ハロ脂肪族カルボン酸誘導体等を四級化剤として用いるのが好ましい。また、上記(f)のようなN、N−ジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリル酸エステルと、他の(メタ)アクリル酸エステルおよび/またはスチレン類と、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリル酸エステルと、メルカプト末端ポリジメチルシロキサンの共重合体と(メタ)アクリロイル基含有イソシアネート化合物との付加物を、メチルクロリド、アリルクロリド、クロロ酢酸メチル等の四級化剤で変性した四級アンモニウム塩基含有重合体が特に好ましい。   Quaternizing agents for modifying amino groups to quaternary ammonium salts include alkyl halides (such as methyl chloride), alkenyl halides (such as allyl chloride), aralkyl halides (such as benzyl chloride), dimethyl sulfate, diethyl Alkyl sulfates such as sulfuric acid, sulfonate esters such as methyl p-toluenesulfonate, α-haloaliphatic carboxylic acid derivatives such as methyl chloroacetate, α-haloketones such as chloroacetone, α-haloalkyl such as chloroacetonitrile A nitrile etc. can be illustrated. Among these, in order to obtain excellent antistatic properties, it is preferable to use an alkyl halide having 4 or less carbon atoms, an alkenyl halide, an α-haloaliphatic carboxylic acid derivative, or the like as a quaternizing agent. In addition, N, N-dialkylaminoalkyl (meth) acrylic acid ester as in the above (f), other (meth) acrylic acid ester and / or styrenes, hydroxyalkyl (meth) acrylic acid ester, mercapto A quaternary ammonium base-containing polymer obtained by modifying an adduct of a terminal polydimethylsiloxane copolymer and a (meth) acryloyl group-containing isocyanate compound with a quaternizing agent such as methyl chloride, allyl chloride, or methyl chloroacetate preferable.

四級アンモニウム塩基含有シランカップリング剤は、一部市販のものもあるが、帯電防止剤としての機能は一般に低い。これは、その分子量が低いために、無機酸化物粒子の表面に容易に吸着されてしまい、四級アンモニウム基の濃度が低くなってしまうためである。以下に示すように、N、N−ジアルキルアミノアルコールと、NCO基を有するシランカップリング剤とをウレタン結合で接続した後、適切な四級化剤で四級化した、分子量が400以上のシランカップリング剤、および/またはこの加水分解縮合物、あるいはN、N−ジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリル酸エステルと、SH基を有するシランカップリング剤のチオエーテル結合での付加物を四級化した分子量が400以上のシランカップリング剤、またはこのようなシランカップリング剤単独の加水分解縮合物、他のシランカップリング剤との加水分解共縮合物等が好ましい。   Although some quaternary ammonium base-containing silane coupling agents are commercially available, their functions as antistatic agents are generally low. This is because the molecular weight is low, so that it is easily adsorbed on the surface of the inorganic oxide particles, and the concentration of the quaternary ammonium group is lowered. As shown below, N, N-dialkylaminoalcohol and a silane coupling agent having an NCO group are connected by a urethane bond and then quaternized with an appropriate quaternizing agent, and a silane having a molecular weight of 400 or more. Molecular weight obtained by quaternizing the coupling agent and / or the hydrolysis condensate thereof, or an adduct of a N, N-dialkylaminoalkyl (meth) acrylate ester and a silane coupling agent having an SH group with a thioether bond Is preferably a silane coupling agent having a molecular weight of 400 or more, a hydrolysis condensate of such a silane coupling agent alone, a hydrolysis cocondensation product with another silane coupling agent, or the like.

このような四級アンモニウム塩基含有シランカップリング剤の具体例を例示すると、N、N−ジアルキルアミノ脂肪族アルコール(N、N−ジメチルアミノエタノール、N、N−ジメチルアミノプロパノール等)とNCO基を含有するトリアルコキシシラン(γ−トリメトキシシリルプロピルイソシアネート等)の反応物の四級アンモニウム塩、N、N−ジアルキルアミノアルキル(メタ)アクリル酸エステル(N、N−ジメチルアミノメタクリレート等)とメルカプト基を有するトリアルコキシシラン(γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等)との反応物の四級アンモニウム塩、これらの単独加水分解縮合物、これらと他のシランカップリング剤との共加水分解縮合物等を挙げることができる。他のシランカップリング剤としては、既に例示したアルキレンオキシド鎖を有するシランカップリング剤や、ラジカル重合可能なシランカップリング剤が特に好ましい。   Specific examples of such quaternary ammonium base-containing silane coupling agents include N, N-dialkylamino aliphatic alcohols (N, N-dimethylaminoethanol, N, N-dimethylaminopropanol, etc.) and NCO groups. Quaternary ammonium salts, N, N-dialkylaminoalkyl (meth) acrylic acid esters (N, N-dimethylamino methacrylate, etc.) and mercapto groups of reaction products of trialkoxysilane (γ-trimethoxysilylpropyl isocyanate etc.) contained A quaternary ammonium salt of a reaction product with a trialkoxysilane (γ-mercaptopropyltrimethoxysilane or the like) having a silane, a single hydrolysis condensate of these, a cohydrolysis condensate of these with another silane coupling agent, etc. Can be mentioned. As other silane coupling agents, silane coupling agents having an alkylene oxide chain exemplified above and silane coupling agents capable of radical polymerization are particularly preferred.

他の帯電防止剤としては、アルキル基を有する四級ホスホニウム塩基化合物を例示することができる。このような化合物の代表例をいくつか具体的に示すと、ドデシルトリメチルホスホニウムクロリド等のテトラアルキルホスホニウムハライド、ベンジルトリメチルホスホニウムクロリド等のアラルキルトリアルキルホスホニウムハライド、メタクリルオ
キシエチルトリメチルホスホニウムクロリド等のラジカル重合可能な官能基を有する四級ホスホニウム塩等を例示することができる。
Examples of other antistatic agents include quaternary phosphonium base compounds having an alkyl group. Some typical examples of such compounds are shown below. Radical polymerization of tetraalkylphosphonium halides such as dodecyltrimethylphosphonium chloride, aralkyltrialkylphosphonium halides such as benzyltrimethylphosphonium chloride, methacryloxyethyltrimethylphosphonium chloride, etc. Examples thereof include quaternary phosphonium salts having various functional groups.

他の帯電防止剤としては、エチレンオキシド鎖を有する多価アルコールまたはその誘導体を例示することができる。このような化合物の代表例をいくつか具体的に示すと、ポリエチレングリコールのモノ(メタ)アクリレート等のポリアルキレングリコールモノ(メタ)アクリレート、多価アルコール(グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール等)のアルキレンオキシド付加体、およびその(メタ)アクリル酸エステル等を挙げることができる。   Examples of other antistatic agents include polyhydric alcohols having an ethylene oxide chain or derivatives thereof. Some typical examples of such compounds are: polyalkylene glycol mono (meth) acrylates such as polyethylene glycol mono (meth) acrylate, polyhydric alcohols (glycerin, trimethylolpropane, pentaerythritol, dipenta And an alkylene oxide adduct of erythritol and the like, and (meth) acrylic acid esters thereof.

他の帯電防止剤として、リン酸塩を例示することができる。このような物質の代表例をいくつか示すと、ビス(β−メタクリロキシエチル)ホスフェートの3級アミン塩、ポリ燐酸ナトリウム等を挙げることができる。   Examples of other antistatic agents include phosphates. Some representative examples of such substances include tertiary amine salts of bis (β-methacryloxyethyl) phosphate, sodium polyphosphate, and the like.

他の帯電防止剤として、導電性重合体を例示することができる。このような物質の代表例をいくつか例示すると、ポリアニリン、ポリアセチレン、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリビニルカルバゾール等を挙げることができる。   Examples of other antistatic agents include conductive polymers. Some typical examples of such substances include polyaniline, polyacetylene, polypyrrole, polythiophene, and polyvinylcarbazole.

他の帯電防止剤としては、イオン性液体を例示することができる。イオン性液体を構成するカチオンとしては、アミジニウムカチオン、グアニジニウムカチオンおよび3級アンモニウムカチオンなどが挙げられる。イオン性液体を構成するアニオンとしてはハロゲン(フッ素、塩素、臭素など)イオン、アルキル(炭素数1〜12)ベンゼンスルホン酸(p−トルエンスルホン酸など)イオンおよびポリ(n=1〜25)フルオロアルカンスルホン酸(ウンデカフルオロペンタンスルホン酸など)イオン等が挙げられる。   As other antistatic agents, ionic liquids can be exemplified. Examples of the cation constituting the ionic liquid include an amidinium cation, a guanidinium cation, and a tertiary ammonium cation. As anions constituting the ionic liquid, halogen (fluorine, chlorine, bromine, etc.) ions, alkyl (carbon number 1-12) benzenesulfonic acid (p-toluenesulfonic acid, etc.) ions and poly (n = 1-25) fluoro Alkane sulfonic acid (undecafluoropentane sulfonic acid etc.) ion etc. are mentioned.

帯電防止性低屈折率層のバインダーとしては、電離放射線硬化性、熱硬化性の有機、無機の各種バインダーを用いることができる。熱硬化性のものであれば、屈折率の低い樹脂を選択しやすく、好ましい。   As the binder for the antistatic low refractive index layer, various ionizing radiation curable and thermosetting organic and inorganic binders can be used. A thermosetting resin is preferable because a resin having a low refractive index can be easily selected.

熱硬化性のバインダーとしては、熱硬化性樹脂や珪素アルコキシド(屈折率約1.45)を好適に用いることができる。   As the thermosetting binder, a thermosetting resin or silicon alkoxide (refractive index of about 1.45) can be preferably used.

帯電防止性低屈折率層に含まれる珪素アルコキシドは、下記一般式(A)を満たすものである。   The silicon alkoxide contained in the antistatic low refractive index layer satisfies the following general formula (A).

xSi(OR)4-x・・・一般式(A)
(但し、式中Rはアルキル基を示し、xは0≦x≦4を満たす整数である。)例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−n−プロポキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシランがあげられる。
R x Si (OR) 4-x ... General formula (A)
(In the formula, R represents an alkyl group, and x is an integer satisfying 0 ≦ x ≦ 4.) For example, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetra-n-propoxysilane, tetraisopropoxysilane, tetrabutoxy Examples thereof include silane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, isobutyltrimethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, and dimethyldiethoxysilane.

帯電防止性低屈折率層に含まれる有機珪素アルコキシドは、一般式(B)を満たすものである。   The organosilicon alkoxide contained in the antistatic low refractive index layer satisfies the general formula (B).

R’ySi(OR)4-y・・・一般式(B)
(但し、式中Rはアルキル基を示し、R’は末端にアルキル基、フッ化アルキル基などの未反応性官能基やビニル基、アミノ基、エポキシ基、アリール基、(メタ)アクリロイル基などの反応性官能基を示し、yは1≦y≦3を満たす整数である。)例えば、前記有機珪素アルコキシドがあげられる。
R 'y Si (OR) 4 -y ··· formula (B)
(However, in the formula, R represents an alkyl group, and R ′ represents an unreactive functional group such as an alkyl group or a fluorinated alkyl group at the terminal, a vinyl group, an amino group, an epoxy group, an aryl group, a (meth) acryloyl group, etc. And y is an integer satisfying 1 ≦ y ≦ 3.) For example, the organosilicon alkoxide is mentioned.

帯電防止性低屈折率層形成用の塗工液の調整において、各成分の配合順序については特に制限はなく、各種前述の溶媒中に珪素アルコキシド、およびその加水分解物と多孔質導電微粒子と有機珪素アルコキシド、およびその加水分解物を加えて混合する。   In the preparation of the coating solution for forming the antistatic low refractive index layer, there is no particular limitation on the blending order of each component, and silicon alkoxide, its hydrolyzate, porous conductive fine particles, and organic in various above-mentioned solvents. Silicon alkoxide and its hydrolyzate are added and mixed.

帯電防止性低屈折率層の形成方法としては、前述の各種塗工方法により、一般式(C)nd=λ/4(450≦λ≦650の範囲)を満たすように塗工し、乾燥処理を行った後、必要に応じて紫外線および電子線照射を行う。450≦λ≦650の範囲で層厚dを制御することにより、視感反射率の低い反射防止積層フィルムを得ることができる。   As a method for forming the antistatic low refractive index layer, coating is performed by the above-described various coating methods so as to satisfy the general formula (C) nd = λ / 4 (range of 450 ≦ λ ≦ 650), followed by drying treatment. After performing the above, ultraviolet and electron beam irradiation is performed as necessary. By controlling the layer thickness d in the range of 450 ≦ λ ≦ 650, an antireflection laminated film having a low luminous reflectance can be obtained.

透明支持体である基材およびハードコート層に表面処理を行うことにより、各表面の表面張力を変化させることができるため、ハードコート層と帯電防止性低屈折率層との密着力を向上させることができる。表面処理法としては、アルカリ処理、プラズマ処理、レーザー処理、またはコロナ処理を行うことができる。各層間の密着力を向上させると共に各種表面処理を行うことにより、表面上の異物を低減させることができる。これにより、外観上において欠陥の無い反射防止積層フィルムを提供することができる。   By performing surface treatment on the base material and hard coat layer that are transparent supports, the surface tension of each surface can be changed, thus improving the adhesion between the hard coat layer and the antistatic low refractive index layer. be able to. As the surface treatment method, alkali treatment, plasma treatment, laser treatment, or corona treatment can be performed. By improving the adhesion between the layers and performing various surface treatments, foreign substances on the surface can be reduced. Thereby, an antireflection laminated film having no defect in appearance can be provided.

このように、透明支持体である基材上にハードコート層、帯電防止性低屈折率層の2層構成にすることにより、多機能を少ない層数にて実現することができ、工程を少なくしてコストダウンすることができる。帯電防止性低屈折率層が反射防止積層フィルムの表面にあることから、帯電防止の性能が安定しやすい。ハードコート層による表面硬度、屈曲性、耐擦傷性、透明性または防眩性を備え、かつ帯電防止性低屈折率層による帯電防止性、反射防止性、表面硬度、耐擦傷性、防汚性の多機能を付与することができ、さらに層間の密着性を兼ね備えた低コストな反射防止フィルムを提供することができる。   As described above, by forming a hard coat layer and an antistatic low refractive index layer on a substrate that is a transparent support, multiple functions can be realized with a small number of layers, and the number of steps can be reduced. And cost can be reduced. Since the antistatic low refractive index layer is on the surface of the antireflection laminated film, the antistatic performance tends to be stable. Anti-static, anti-reflective, surface hardness, scratch resistance, antifouling properties due to surface hardness, flexibility, scratch resistance, transparency or anti-glare property due to hard coat layer, and anti-static low refractive index layer Thus, it is possible to provide a low-cost antireflection film that can provide the above-mentioned multiple functions and that also has adhesion between layers.

以下に、本発明を実施例によりさらに具体的に説明するが、本発明はこれら実施例により限定されるものではない。   EXAMPLES The present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the present invention is not limited to these examples.

下記の実施例で得られる反射防止積層フィルムの性能は、下記の方法に基づいて評価した。   The performance of the antireflection laminated film obtained in the following examples was evaluated based on the following method.

<反射率の測定方法>
自動分光光度計(日立製作所製、U−4000)を用い、分光反射率から視感反射率を測定した。なお、測定の際には塗布面と反対の面をにつや消し黒色塗料を塗布し、裏面側からの反射防止処置を行った。
<Measurement method of reflectance>
Using an automatic spectrophotometer (U-4000, manufactured by Hitachi, Ltd.), the luminous reflectance was measured from the spectral reflectance. At the time of measurement, the surface opposite to the coated surface was matted and black paint was applied, and antireflection treatment from the back side was performed.

<表面抵抗値の測定方法>
JIS K6911に準拠して測定した。
<Measurement method of surface resistance value>
The measurement was performed according to JIS K6911.

<防汚性の評価方法>
指紋、マジック、ティッシュくずを表面に付着させ、拭き取りの可否を判断した。(○:拭き取れる、×:拭き取れない)
<Anti-fouling evaluation method>
Fingerprints, magic and tissue scraps were attached to the surface, and the possibility of wiping was judged. (○: Can be wiped off, ×: Cannot be wiped off)

<密着性の評価方法>
フィルム表面を1mm角100点カット後、粘着セロハンテープ[ニチバン(株)社製工業用24mm巾セロテープ(登録商標)]による剥離試験を行い、100点カット部の残存率で評価した。
<Adhesion evaluation method>
After the film surface was cut at 100 points of 1 mm square, a peel test was performed using an adhesive cellophane tape [24 mm wide cello tape (registered trademark) manufactured by Nichiban Co., Ltd.], and the remaining rate of the 100-point cut part was evaluated.

アデカオプトマーKRX−559−37(旭電化製、固形分70%)をメチルイソブチ
ルケトンにて固形分40%に希釈し、東洋紡製A4100易接着面にバーコート法にて塗布し、80℃のオーブンにて1分乾燥した後、400mJ/cm2の紫外線にて硬化させ、厚み2.5μmの塗膜を得た(硬化膜屈折率1.62)。次にイオン伝導型帯電防止剤コルコートN−103X(コルコート製)100gにKBM−5103(信越化学工業製)を0.2g混合し、バーコート法により上記塗膜上に塗布し、120℃、5分にて硬化させ、厚み約0.1μmの塗膜を得た(硬化膜屈折率約1.45)。この層構成によるフィルムの最小反射率は1.8%であり、表面抵抗値は2.53+E9だった(500V印加)。
Adeka optomer KRX-559-37 (manufactured by Asahi Denka Co., Ltd., solid content: 70%) was diluted with methyl isobutyl ketone to a solid content of 40%, and applied to the A4100 easy-bonding surface of Toyobo by the bar coating method. After drying in an oven for 1 minute, it was cured with 400 mJ / cm 2 ultraviolet rays to obtain a coating film having a thickness of 2.5 μm (cured film refractive index 1.62). Next, 0.2 g of KBM-5103 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) is mixed with 100 g of the ion conductive antistatic agent Colcoat N-103X (manufactured by Colcoat), and applied onto the coating film by a bar coating method. The film was cured in minutes to obtain a coating film having a thickness of about 0.1 μm (cured film refractive index: about 1.45). The minimum reflectivity of the film having this layer structure was 1.8%, and the surface resistance value was 2.53 + E9 (500 V applied).

アデカオプトマーKRX−559−37(旭電化製、固形分70%)をメチルイソブチルケトンにて固形分40%に希釈し、東洋紡製A4100易接着面にバーコート法にて塗布し、80℃のオーブンにて1分乾燥した後、400mJ/cm2の紫外線にて硬化させ、厚み2.5μmの塗膜を得た(硬化膜屈折率1.62)。テトラエトキシシラン(関東化学製)1g、1NのHClを0.675g、IPAを24g、4級アンモニウム塩であるニッカタイボー(日本化成製)を0.1g、KBM−5103(信越化学工業製)を0.1gを混合した後、上記塗膜の上にバーコート法により塗布し、0.1μmの塗膜を得た(硬化膜屈折率約1.65)。この層構成によるフィルムの最小反射率は3.7%(硬化膜屈折率1.48)であり、表面抵抗値は9.0+E11だった(500V印加)。 Adeka optomer KRX-559-37 (manufactured by Asahi Denka Co., Ltd., solid content: 70%) was diluted with methyl isobutyl ketone to a solid content of 40%, and applied to the A4100 easy-bonding surface of Toyobo by the bar coating method. After drying in an oven for 1 minute, it was cured with 400 mJ / cm 2 ultraviolet rays to obtain a coating film having a thickness of 2.5 μm (cured film refractive index 1.62). 1g of tetraethoxysilane (manufactured by Kanto Chemical) 0.675g of 1N HCl, 24g of IPA, 0.1g of quaternary ammonium salt Nikkataibo (manufactured by Nippon Kasei), KBM-5103 (manufactured by Shin-Etsu Chemical) After mixing 0.1 g, it was applied onto the coating film by a bar coating method to obtain a 0.1 μm coating film (cured film refractive index: about 1.65). The minimum reflectance of the film having this layer constitution was 3.7% (cured film refractive index 1.48), and the surface resistance value was 9.0 + E11 (500 V applied).

(比較例)
アデカオプトマーKRX−559−37(旭電化製、固形分70%)をメチルイソブチルケトンにて固形分40%に希釈し、東洋紡製A4100易接着面にバーコート法にて塗布し、80℃のオーブンにて1分乾燥した後、400mJ/cm2の紫外線にて硬化させ、厚み2.5μmの塗膜を得た(硬化膜屈折率1.62)。この塗膜上にITO導電性コーティング剤EI−3(大日本塗料製)をバーコート法により塗布し、80℃、1分乾燥させた後、400mJ/cm2の紫外線を照射し硬化させ、厚み約0.1μmの塗膜を得た(硬化膜屈折率約1.65)。この層構成によるフィルムの最小反射率は5.8%であり、表面抵抗値は5.0+E6だった(10V印加)。
(Comparative example)
Adeka optomer KRX-559-37 (manufactured by Asahi Denka Co., Ltd., solid content: 70%) was diluted with methyl isobutyl ketone to a solid content of 40%, and applied to the A4100 easy-bonding surface of Toyobo by the bar coating method. After drying in an oven for 1 minute, it was cured with 400 mJ / cm 2 ultraviolet rays to obtain a coating film having a thickness of 2.5 μm (cured film refractive index 1.62). The ITO conductive coating agent EI-3 (manufactured by Dainippon Paint) was applied onto this coating film by the bar coating method, dried at 80 ° C. for 1 minute, and then cured by irradiating with 400 mJ / cm 2 of ultraviolet light. A coating film of about 0.1 μm was obtained (cured film refractive index: about 1.65). The minimum reflectivity of the film having this layer structure was 5.8%, and the surface resistance value was 5.0 + E6 (10 V applied).

(比較例)
アデカオプトマーKRX−559−37(旭電化製、固形分70%)をメチルイソブチルケトンにて固形分40%に希釈し、東洋紡製A4100易接着面にバーコート法にて塗布し、80℃のオーブンにて1分乾燥した後、400mJ/cm2の紫外線にて硬化させ、厚み2.5μmの塗膜を得た(硬化膜屈折率1.62)。次に、テトラエトキシシラン
を1g、1NのHClを0.675g、IPAを24g混合した後、上記塗膜の上にバーコート法により塗布し、0.1μmの塗膜を得た(硬化膜屈折率約1.65)。この層構成によるフィルムの最小反射率は3.7%(硬化膜屈折率1.48)であり、表面抵抗値はOVERだった(500V印加)。
(Comparative example)
Adeka optomer KRX-559-37 (manufactured by Asahi Denka Co., Ltd., solid content: 70%) was diluted with methyl isobutyl ketone to a solid content of 40%, and applied to the A4100 easy-bonding surface of Toyobo by the bar coating method. After drying in an oven for 1 minute, it was cured with 400 mJ / cm 2 ultraviolet rays to obtain a coating film having a thickness of 2.5 μm (cured film refractive index 1.62). Next, 1 g of tetraethoxysilane, 0.675 g of 1N HCl and 24 g of IPA were mixed, and then applied onto the coating film by a bar coating method to obtain a 0.1 μm coating film (cured film refraction). The rate is about 1.65). The minimum reflectance of the film having this layer structure was 3.7% (cured film refractive index: 1.48), and the surface resistance value was OVER (500 V applied).

Figure 2007185824
Figure 2007185824

表1より、実施例1、2で得られた本発明の反射防止積層フィルムは、本発明の比較例としての実施例3、4で得られた反射防止積層フィルムに比較して、反射率と表面抵抗値および防汚性共に優れている。このように、本発明の反射防止積層フィルムは、特に高い帯電防止性と反射防止性を有し、かつ、高透明性、表面硬度、耐擦傷性、防汚性に優れる低コストの反射防止積層フィルムを提供することができ、液晶ディスプレイ、CRTディスプレイ、プロジェクションディスプレイ、プラズマディスプレイ、ELディスプレイ等
の各種ディスプレイの表示画面表面に好適に使用されるものである。
From Table 1, the antireflection laminated film of the present invention obtained in Examples 1 and 2 was compared with the antireflection laminated film obtained in Examples 3 and 4 as comparative examples of the present invention. Excellent surface resistance and antifouling properties. As described above, the antireflection laminate film of the present invention has a particularly high antistatic property and antireflection property, and is a low-cost antireflection laminate having excellent transparency, surface hardness, scratch resistance, and antifouling property. A film can be provided and is suitably used for the display screen surface of various displays such as a liquid crystal display, a CRT display, a projection display, a plasma display, and an EL display.

本発明の一実施形態に係わる反射防止積層フィルムを示す断面図である。It is sectional drawing which shows the reflection preventing laminated film concerning one Embodiment of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1・・・反射防止積層フィルム
2・・・基材(透明支持体)
3・・・ハードコート層
4・・・帯電防止性低屈折率層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Antireflection laminated film 2 ... Base material (transparent support)
3 ... Hard coat layer 4 ... Antistatic low refractive index layer

Claims (6)

基材上に、屈折率1.50以上のハードコート層と、バインダー及び有機帯電防止剤を含む、屈折率1.49以下の帯電防止性低屈折率層とを積層してなることを特徴とする反射防止積層フィルム。   A laminate comprising a hard coat layer having a refractive index of 1.50 or more and an antistatic low refractive index layer having a refractive index of 1.49 or less containing a binder and an organic antistatic agent on a substrate. Anti-reflection laminated film. 前記バインダーが熱硬化性であることを特徴とする請求項1記載の反射防止積層フィルム。   2. The antireflection laminated film according to claim 1, wherein the binder is thermosetting. 前記帯電防止性低屈折率層にフッ素原子含有物質を含むことを特徴とする請求項1または2に記載の反射防止積層フィルム。   3. The antireflection laminated film according to claim 1, wherein the antistatic low refractive index layer contains a fluorine atom-containing substance. 前記帯電防止性低屈折率層が、
nd=λ/4
(但し、nは層の屈折率、dは層厚を示し、λは光の波長を示し、450≦λ≦650を満たす整数である)
を満たすことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の反射防止積層フィルム。
The antistatic low refractive index layer is
nd = λ / 4
(Where n represents the refractive index of the layer, d represents the layer thickness, λ represents the wavelength of light, and is an integer satisfying 450 ≦ λ ≦ 650)
The antireflection laminated film according to claim 1, wherein the antireflection laminated film is satisfied.
前記ハードコート層が、(メタ)アクリロイルオキシ基を有する多官能性モノマーを主成分とする重合体からなることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の反射防止積層フィルム。   5. The antireflection laminated film according to claim 1, wherein the hard coat layer is made of a polymer mainly composed of a polyfunctional monomer having a (meth) acryloyloxy group. 前記ハードコート層に、さらに平均粒子径10nm以上10μm以下のフィラーが含まれることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の反射防止積層フィルム。   The antireflection multilayer film according to any one of claims 1 to 5, wherein the hard coat layer further contains a filler having an average particle diameter of 10 nm or more and 10 µm or less.
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008191544A (en) * 2007-02-07 2008-08-21 Konica Minolta Opto Inc Antireflection film, and polarizing plate and display device using film
JP2011031501A (en) * 2009-07-31 2011-02-17 Fujifilm Corp Optical laminated body
JP2012214004A (en) * 2010-06-30 2012-11-08 Fujifilm Corp Antistatic laminate, optical film, polarizing plate, image display device and production method of antistatic laminate
CN104316983A (en) * 2014-11-04 2015-01-28 苏州精创光学仪器有限公司 Waterproof compound antireflection film
JP2016078395A (en) * 2014-10-21 2016-05-16 大日本印刷株式会社 Laminate, conductive laminate and touch panel

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000187102A (en) * 1998-10-14 2000-07-04 Tomoegawa Paper Co Ltd Antireflection material and polarizing film using the same
JP2001123150A (en) * 1999-10-28 2001-05-08 Matsumoto Yushi Seiyaku Co Ltd Coating type antistatic agent composition excellent in durability
JP2001341237A (en) * 2000-06-02 2001-12-11 Kyodo Printing Co Ltd Antistatic film and antistatic wall paper
JP2003201444A (en) * 2001-10-09 2003-07-18 Mitsubishi Chemicals Corp Active energy ray-curable antistatic coating composition
JP2004272197A (en) * 2003-02-20 2004-09-30 Dainippon Printing Co Ltd Antireflective stack
JP2005313593A (en) * 2004-03-31 2005-11-10 Dainippon Printing Co Ltd Anti-reflective laminated body

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000187102A (en) * 1998-10-14 2000-07-04 Tomoegawa Paper Co Ltd Antireflection material and polarizing film using the same
JP2001123150A (en) * 1999-10-28 2001-05-08 Matsumoto Yushi Seiyaku Co Ltd Coating type antistatic agent composition excellent in durability
JP2001341237A (en) * 2000-06-02 2001-12-11 Kyodo Printing Co Ltd Antistatic film and antistatic wall paper
JP2003201444A (en) * 2001-10-09 2003-07-18 Mitsubishi Chemicals Corp Active energy ray-curable antistatic coating composition
JP2004272197A (en) * 2003-02-20 2004-09-30 Dainippon Printing Co Ltd Antireflective stack
JP2005313593A (en) * 2004-03-31 2005-11-10 Dainippon Printing Co Ltd Anti-reflective laminated body

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008191544A (en) * 2007-02-07 2008-08-21 Konica Minolta Opto Inc Antireflection film, and polarizing plate and display device using film
JP2011031501A (en) * 2009-07-31 2011-02-17 Fujifilm Corp Optical laminated body
US9176258B2 (en) 2009-07-31 2015-11-03 Fujifilm Corporation Optical laminate
JP2012214004A (en) * 2010-06-30 2012-11-08 Fujifilm Corp Antistatic laminate, optical film, polarizing plate, image display device and production method of antistatic laminate
JP2016078395A (en) * 2014-10-21 2016-05-16 大日本印刷株式会社 Laminate, conductive laminate and touch panel
CN104316983A (en) * 2014-11-04 2015-01-28 苏州精创光学仪器有限公司 Waterproof compound antireflection film

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