JP4736387B2 - Laminated body having scratch resistance and antireflection properties - Google Patents

Laminated body having scratch resistance and antireflection properties Download PDF

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本発明は、透明基材の表面に耐擦傷性層及び反射防止層がこの順に形成された積層体に関するものである。   The present invention relates to a laminate in which a scratch-resistant layer and an antireflection layer are formed in this order on the surface of a transparent substrate.

従来、ガラスや樹脂などの透明基材に反射防止性能を付与する方法の1つとして、シリカ微粒子とカチオン重合性化合物を含む硬化性組成物を用いて、その硬化物からなる反射防止層を基材表面に形成することが知られている。例えば、特開平6−157819号公報(特許文献1)には、上記カチオン重合性化合物としてエポキシ化合物やビニルエーテル化合物を用いることが開示されている。また、特開2003−145682号公報(特許文献2)には、上記カチオン重合性化合物としてオキセタン化合物を用いることが開示されている。さらに、特開2003−147268号公報(特許文献3)には、上記カチオン重合性化合物としてオキセタン化合物とエポキシ化合物を併用することが開示されている。   Conventionally, as one method for imparting antireflection performance to a transparent substrate such as glass or resin, a curable composition containing silica fine particles and a cationic polymerizable compound is used, and an antireflection layer made of the cured product is used as a base. It is known to form on the surface of a material. For example, Japanese Patent Laid-Open No. 6-1557819 (Patent Document 1) discloses the use of an epoxy compound or a vinyl ether compound as the cationic polymerizable compound. Japanese Patent Laid-Open No. 2003-145682 (Patent Document 2) discloses that an oxetane compound is used as the cationic polymerizable compound. Furthermore, JP 2003-147268 A (Patent Document 3) discloses that an oxetane compound and an epoxy compound are used in combination as the cationic polymerizable compound.

特開平6−157819号公報Japanese Patent Laid-Open No. 6-1557819 特開2003−145682号公報JP 2003-145682 A 特開2003−147268号公報JP 2003-147268 A

これら特許文献に記載の如きカチオン重合性化合物による反射防止層は、一般に硬度が高く、良好な耐擦傷性を有するが、例えば、傷付きの原因となる浮遊物の多い屋外用途や、傷付きが特に問題となるディスプレイ用途などでは、さらなる耐擦傷性の向上が求められている。反射防止層の耐擦傷性を向上させるには、基材表面に通常ハードコート層と称される耐擦傷性層を形成し、その上に反射防止層を形成するのが有効であるが、耐擦傷性層の種類によっては、反射防止層と耐擦傷性層との密着性が不十分であったり、反射防止層の耐擦傷性が十分に向上しなかったりする。そこで、本発明の目的は、透明基材の表面に耐擦傷性層及び反射防止層がこの順に形成された積層体であって、反射防止層と耐擦傷性層との密着性に優れ、かつ反射防止層の耐擦傷性に優れる積層体を提供することにある。   Antireflective layers made of cationically polymerizable compounds as described in these patent documents generally have high hardness and good scratch resistance, but for example, outdoor applications with many floating matters causing scratches, scratches, etc. In particular, for display applications that are problematic, further improvement in scratch resistance is required. In order to improve the scratch resistance of the antireflection layer, it is effective to form a scratch resistance layer usually referred to as a hard coat layer on the surface of the substrate, and to form an antireflection layer thereon. Depending on the type of the scratch-resistant layer, the adhesion between the antireflection layer and the scratch-resistant layer may be insufficient, or the scratch resistance of the anti-reflection layer may not be sufficiently improved. Therefore, an object of the present invention is a laminate in which a scratch-resistant layer and an antireflection layer are formed in this order on the surface of a transparent substrate, and has excellent adhesion between the antireflection layer and the scratch resistance layer, and An object of the present invention is to provide a laminate having an antireflection layer excellent in scratch resistance.

本発明者らは鋭意研究を行った結果、透明基材の表面に、特定の硬化性組成物を用いて耐擦傷性層を形成し、その上にカチオン重合性化合物とシリカ微粒子を含む硬化性組成物を用いて反射防止層を形成することにより、上記目的を達成できることを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明は、透明基材の表面に、耐擦傷性層及び反射防止層が基材表面側からこの順に形成されてなり、耐擦傷性層は、分子内に少なくとも2個のラジカル重合性官能基を有する化合物50〜99重量部と、分子内にカチオン重合性官能基及びラジカル重合性官能基を有する化合物1〜50重量部とを含む組成物が硬化したものであり、反射防止層は、分子内にカチオン重合性官能基を有する化合物と、シリカ微粒子とを含む組成物が硬化したものであることを特徴とする積層体を提供するものである。   As a result of intensive studies, the inventors of the present invention formed a scratch-resistant layer using a specific curable composition on the surface of a transparent substrate, and a curable composition containing a cationically polymerizable compound and silica fine particles thereon. It has been found that the above object can be achieved by forming an antireflection layer using the composition, and the present invention has been completed. That is, in the present invention, a scratch-resistant layer and an antireflection layer are formed in this order from the substrate surface side on the surface of the transparent substrate, and the scratch-resistant layer has at least two radically polymerizable molecules in the molecule. A composition containing 50 to 99 parts by weight of a compound having a functional group and 1 to 50 parts by weight of a compound having a cationic polymerizable functional group and a radical polymerizable functional group in the molecule is cured, and the antireflection layer is The present invention provides a laminate comprising a cured composition comprising a compound having a cationically polymerizable functional group in the molecule and silica fine particles.

本発明の積層体は、透明基材の表面に耐擦傷性層及び反射防止層がこの順に形成されてなり、反射防止層と耐擦傷性層との密着性に優れ、かつ反射防止層の耐擦傷性に優れている。   In the laminate of the present invention, the scratch-resistant layer and the antireflection layer are formed in this order on the surface of the transparent substrate, and the adhesion between the antireflection layer and the scratch resistance layer is excellent. Excellent scratch resistance.

本発明の積層体は、透明基材の表面に、耐擦傷性層及び反射防止層が、透明基材の表面側からこの順に形成されているものである。透明基材には通常、透明樹脂が用いられ、その例としては、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、メチルメタクリレート−スチレン共重合体樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体樹脂、トリアセチルセルロース樹脂などが挙げられる。特に、メチルメタクリレート−スチレン共重合体樹脂は、吸湿による伸縮が小さく、反射防止板の基材として適している。   In the laminate of the present invention, a scratch-resistant layer and an antireflection layer are formed in this order from the surface side of the transparent substrate on the surface of the transparent substrate. A transparent resin is usually used for the transparent substrate. Examples thereof include polymethyl methacrylate resin, polycarbonate resin, polystyrene resin, methyl methacrylate-styrene copolymer resin, acrylonitrile-styrene copolymer resin, and triacetyl cellulose resin. Etc. In particular, methyl methacrylate-styrene copolymer resin is small in expansion and contraction due to moisture absorption, and is suitable as a base material for an antireflection plate.

透明基材の形状は特に限定されないが、シートやフィルムが代表的である。また、基材表面は、平面であってもよいし、凸レンズや凹レンズなどのように曲面になっていてもよい。また、細かな凹凸が設けられていてもよい。   Although the shape of a transparent base material is not specifically limited, A sheet | seat and a film are typical. The substrate surface may be a flat surface or a curved surface such as a convex lens or a concave lens. Moreover, fine irregularities may be provided.

透明基材の表面には、耐擦傷性層が設けられる。耐擦傷性層は、基材表面の全体に形成されていてもよいし、一部に形成されていてもよい。例えば、透明基材がシートやフィルムであれば、両面に形成されていてもよいし、片面に形成されていてもよい。   A scratch-resistant layer is provided on the surface of the transparent substrate. The scratch-resistant layer may be formed on the entire surface of the substrate, or may be formed on a part thereof. For example, if the transparent substrate is a sheet or film, it may be formed on both sides or may be formed on one side.

耐擦傷性層の材料には、分子内に少なくとも2個のラジカル重合性官能基を有する化合物と、分子内にカチオン重合性官能基及びラジカル重合性官能基を有する化合物とを含む硬化性組成物が用いられ〔以下、この組成物を硬化性組成物(1)ということがある〕、その硬化物により耐擦傷性層が構成される。   Curable composition comprising a compound having at least two radical polymerizable functional groups in a molecule and a compound having a cationic polymerizable functional group and a radical polymerizable functional group in the molecule as a material for the scratch-resistant layer [Hereinafter, this composition may be referred to as a curable composition (1)], and the cured product constitutes an abrasion-resistant layer.

硬化性組成物(1)の必須成分の1つである分子内に少なくとも2個のラジカル重合性官能基を有する化合物は、一般に多官能ラジカル重合性化合物とも呼ばれ、このラジカル重合性官能基の例としては、(メタ)アクリロイルオキシ基やマレイミド基のような、ラジカル重合性炭素−炭素二重結合を含む基が代表的である。特に、分子内に少なくとも2個の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する化合物である多官能(メタ)アクリレート化合物が好ましく用いられる。なお、(メタ)アクリロイルオキシ基とは、メタクリロイルオキシ基又はアクリロイルオキシ基をいい、(メタ)アクリレートとは、メタクリレート又はアクリレートをいい、その他、本明細書において、(メタ)アクリロイルなどというときの「(メタ)」も同様である。   The compound having at least two radical polymerizable functional groups in the molecule, which is one of the essential components of the curable composition (1), is generally called a polyfunctional radical polymerizable compound. As a typical example, a group containing a radical polymerizable carbon-carbon double bond such as a (meth) acryloyloxy group or a maleimide group is typical. In particular, a polyfunctional (meth) acrylate compound which is a compound having at least two (meth) acryloyloxy groups in the molecule is preferably used. The (meth) acryloyloxy group refers to a methacryloyloxy group or an acryloyloxy group, and the (meth) acrylate refers to a methacrylate or an acrylate. In addition, in the present specification, “(meth) acryloyl” The same applies to “(meta)”.

多官能(メタ)アクリレート化合物の例としては、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、グリセリントリ(メタ)アクリレート、ペンタグリセロールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ−又はテトラ−(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ−、テトラ−、ペンタ−又はヘキサ−(メタ)アクリレート、トリス(メタ)アクリロイルオキシエチルイソシアヌレート、2,2−ビス〔4−(アクリロイルオキシジエトキシ)フェニル〕プロパンのような、多価アルコールのポリ(メタ)アクリレート;環状ホスファゼン化合物のホスファゼン環に(メタ)アクリロイルオキシ基が導入されたホスファゼン系(メタ)アクリレート化合物;分子内に少なくとも2個のイソシアナト基を有するポリイソシアネート化合物と、ポリオールの一部の水酸基が(メタ)アクリロイル化された化合物とを反応させて得られるウレタン(メタ)アクリレート化合物;分子内に少なくとも2個のハロカルボニル基を有するカルボン酸ハロゲン化物と、ポリオールの一部の水酸基が(メタ)アクリロイル化された化合物とを反応させて得られるポリエステル(メタ)アクリレート化合物などが挙げられ、必要に応じてそれらの2種以上を用いることもできる。   Examples of polyfunctional (meth) acrylate compounds include ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, and trimethylol. Propane tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, glycerin tri (meth) acrylate, pentaglycerol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri- or tetra- (meth) acrylate, dipentaerythritol tri-, tetra -, Penta- or hexa- (meth) acrylate, tris (meth) acryloyloxyethyl isocyanurate, 2,2-bis [4- (acryloyloxydiethoxy) phenyl] propane A poly (meth) acrylate of a polyhydric alcohol; a phosphazene-based (meth) acrylate compound in which a (meth) acryloyloxy group is introduced into the phosphazene ring of a cyclic phosphazene compound; a poly having at least two isocyanato groups in the molecule A urethane (meth) acrylate compound obtained by reacting an isocyanate compound with a compound in which some hydroxyl groups of the polyol are (meth) acryloylated; a carboxylic acid halide having at least two halocarbonyl groups in the molecule; Polyester (meth) acrylate compounds obtained by reacting a compound in which some hydroxyl groups of the polyol are (meth) acryloylated are used, and two or more of them can be used as necessary.

多官能(メタ)アクリレート化合物には、溶剤や重合開始剤、その他の添加剤などと混合された状態で市販されているものもあるので、それを用いることもでき、かかる市販品の例としては、東亞合成(株)の“アロニックス UV3701”、大日本インキ化学工業(株)の“ユニディック 17−824−9”、ジーイー東芝シリコーン(株)の“UVHC8558”などが挙げられる。   Some polyfunctional (meth) acrylate compounds are commercially available in a mixed state with solvents, polymerization initiators, other additives, etc., and can be used as examples of such commercially available products. "Aronix UV3701" from Toagosei Co., Ltd., "Unidic 17-824-9" from Dainippon Ink and Chemicals, "UVHC8558" from GE Toshiba Silicone, Inc.

硬化性組成物(1)のもう1つの必須成分である分子内にカチオン重合性官能基及びラジカル重合性官能基を有する化合物において、カチオン重合性官能基の例としては、ビニルエーテル基やエポキシ基、オキセタン環などが挙げられる。また、ラジカル重合性官能基の例は、先に述べた分子内に少なくとも2個のラジカル重合性官能基を有する化合物におけるラジカル重合性官能基の例と同様である。なお、分子内に少なくとも2個のラジカル重合性官能基を有する化合物と分子内にカチオン重合性官能基及びラジカル重合性官能基を有する化合物とは、前者がカチオン重合性官能基を有していない点で構成上、区別され、後者はラジカル重合性官能基を分子内に複数個有していてもよく、またカチオン重合性官能基を分子内に複数個有していてもよい。   In the compound having a cationic polymerizable functional group and a radical polymerizable functional group in the molecule, which is another essential component of the curable composition (1), examples of the cationic polymerizable functional group include a vinyl ether group, an epoxy group, And oxetane ring. Examples of the radical polymerizable functional group are the same as the examples of the radical polymerizable functional group in the compound having at least two radical polymerizable functional groups in the molecule described above. In addition, a compound having at least two radical polymerizable functional groups in the molecule and a compound having a cationic polymerizable functional group and a radical polymerizable functional group in the molecule do not have a cationic polymerizable functional group. The latter is distinguished in terms of constitution, and the latter may have a plurality of radically polymerizable functional groups in the molecule or may have a plurality of cationically polymerizable functional groups in the molecule.

分子内にカチオン重合性官能基及びラジカル重合性官能基を有する化合物の例としては、ビニルオキシエトキシエチル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、(エポキシシクロヘキシル)メチル(メタ)アクリレート、3−エチル−3−(メタ)アクリロイルオキシメチルオキセタン、グリシジルビニルベンジルエーテルなどが挙げられ、必要に応じてそれらの2種以上を用いることもできる。   Examples of compounds having a cationic polymerizable functional group and a radical polymerizable functional group in the molecule include vinyloxyethoxyethyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, (epoxycyclohexyl) methyl (meth) acrylate, and 3-ethyl. -3- (Meth) acryloyloxymethyl oxetane, glycidyl vinyl benzyl ether and the like can be mentioned, and two or more of them can be used as necessary.

硬化性組成物(1)において、分子内に少なくとも2個のラジカル重合性官能基を有する化合物と分子内にカチオン重合性官能基及びラジカル重合性官能基を有する化合物との量比は、両者の合計量を基準として、前者が50〜99重量%、後者が1〜50重量%であり、好ましくは、前者が70〜95重量%、後者が5〜30重量%である。後者があまり少ないと、耐擦傷性層と反射防止層との密着性が十分でなく、後者があまり多いと、耐擦傷性層及びその上の反射防止層の耐擦傷性が低下する。   In the curable composition (1), the amount ratio between the compound having at least two radical polymerizable functional groups in the molecule and the compound having a cationic polymerizable functional group and a radical polymerizable functional group in the molecule is Based on the total amount, the former is 50 to 99% by weight and the latter is 1 to 50% by weight, and preferably the former is 70 to 95% by weight and the latter is 5 to 30% by weight. When the latter is too small, the adhesion between the scratch-resistant layer and the antireflection layer is not sufficient, and when the latter is too large, the scratch resistance of the scratch-resistant layer and the antireflection layer thereon is lowered.

硬化性組成物(1)には、導電性微粒子を含有させるのが好ましい。これにより、形成される耐擦傷性層が導電性微粒子を含むものとなり、帯電防止性能が付与されるので、静電気の発生が抑制され、埃が付着し難くなる。また、耐擦傷性層とその上に設けられる反射防止層との密着性が向上する。   The curable composition (1) preferably contains conductive fine particles. As a result, the formed scratch-resistant layer contains conductive fine particles and is imparted with antistatic performance, so that generation of static electricity is suppressed and dust is less likely to adhere. In addition, the adhesion between the scratch-resistant layer and the antireflection layer provided thereon is improved.

導電性微粒子としては、例えば、酸化アンチモンのような金属酸化物、インジウム/スズの複合酸化物(ITO)、スズ/アンチモンの複合酸化物(ATO)、アンチモン/亜鉛の複合酸化物、リンでドープされた酸化スズなどが挙げられる。導電性微粒子の粒子径と添加量は、透明性と帯電防止性のバランスを考慮して適宜選択される。粒子径は平均で0.001〜0.1μmであるのが好ましく、あまり小さいと、工業的な生産が難しく、あまり大きいと、耐擦傷性層の透明性が低下するため好ましくない。また、添加量は、分子内に少なくとも2個のラジカル重合性官能基を有する化合物、分子内にカチオン重合性官能基及びラジカル重合性官能基を有する化合物、並びに導電性微粒子の合計量を基準として、1〜50重量%であるのが好ましい。あまり少ないと、帯電防止効果が得られ難く、あまり多いと、耐擦傷性が低下したり、成膜性が低下したりするため好ましくない。   Examples of the conductive fine particles include metal oxides such as antimony oxide, indium / tin composite oxide (ITO), tin / antimony composite oxide (ATO), antimony / zinc composite oxide, and doping with phosphorus. And tin oxide. The particle size and amount of the conductive fine particles are appropriately selected in consideration of the balance between transparency and antistatic properties. The average particle size is preferably 0.001 to 0.1 μm. If the particle size is too small, industrial production is difficult. If the particle size is too large, the transparency of the scratch-resistant layer is lowered. The addition amount is based on the total amount of the compound having at least two radical polymerizable functional groups in the molecule, the compound having a cationic polymerizable functional group and a radical polymerizable functional group in the molecule, and conductive fine particles. 1 to 50% by weight is preferable. If the amount is too small, it is difficult to obtain an antistatic effect, and if the amount is too large, the scratch resistance is lowered or the film formability is lowered, which is not preferable.

また、硬化性組成物(1)には、安定化剤、酸化防止剤、着色剤などの添加剤が含有されていてもよい。   The curable composition (1) may contain additives such as a stabilizer, an antioxidant, and a colorant.

硬化性組成物(1)を硬化させるための重合開始剤としては、紫外線を照射することでラジカルを発生する化合物が好ましく用いられる。かかるラジカル重合開始剤の例としては、ベンジル、ベンゾフェノンやその誘導体、チオキサントン類、ベンジルジメチルケタール類、α−ヒドロキシアルキルフェノン類、ヒドロキシケトン類、アミノアルキルフェノン類、アシルホスフィンオキサイド類などが挙げられ、必要に応じてそれらの2種以上を用いることもできる。   As the polymerization initiator for curing the curable composition (1), a compound that generates radicals when irradiated with ultraviolet rays is preferably used. Examples of such radical polymerization initiators include benzyl, benzophenone and derivatives thereof, thioxanthones, benzyldimethylketals, α-hydroxyalkylphenones, hydroxyketones, aminoalkylphenones, acylphosphine oxides, and the like. Two or more of them can be used as necessary.

また、これらのラジカル重合開始剤の市販品の例としては、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)の“IRGACURE 651”、“IRUGACURE 184”、“IRUGACURE 907”、“IRUGACURE 500”及び“DAROCURE 1173”、日本化薬(株)の“KAYACURE BP−100”及び“KAYACURE DETX−S”、川口薬品(株)の“ハイキュア OBM”、シェル化学(株)の“QUANTACURE ITX”、BASF社の“LUCIRIN TPO”、日本シイベルヘグナー(株)の“ESACURE EB3”などが挙げられる。   Examples of commercially available products of these radical polymerization initiators include “IRGACURE 651”, “IRUGACURE 184”, “IRUGACURE 907”, “IRUGACURE 500” and “DAROCURE 1173” from Ciba Specialty Chemicals, “KAYACURE BP-100” and “KAYACURE DETX-S” of Nippon Kayaku Co., Ltd., “High Cure OBM” of Kawaguchi Pharmaceutical Co., Ltd., “QUANTACURE ITX” of Shell Chemical Co., Ltd., “LUCIRIN TPO” of BASF Corporation And “ESACURE EB3” of Nippon Siebel Hegner Co., Ltd.

ラジカル重合開始剤は、分子内に少なくとも2個のラジカル重合性官能基を有する化合物と分子内にカチオン重合性官能基及びラジカル重合性官能基を有する化合物との合計量100重量部に対して、通常0.1〜20重量部程度、好ましくは0.5〜10重量部程度の割合で添加される。この開始剤の量があまり少ないと、紫外線重合性が十分に発揮されず、またその量があまり多くなっても、増量効果が認められず、経済的に不利であるとともに、耐擦傷性層の光学特性の低下をきたす可能性があるので、好ましくない。   The radical polymerization initiator is based on a total amount of 100 parts by weight of a compound having at least two radical polymerizable functional groups in the molecule and a compound having a cationic polymerizable functional group and a radical polymerizable functional group in the molecule. Usually, it is added at a ratio of about 0.1 to 20 parts by weight, preferably about 0.5 to 10 parts by weight. If the amount of this initiator is too small, the ultraviolet polymerizability is not sufficiently exhibited, and even if the amount is too large, the effect of increasing the amount is not recognized, which is economically disadvantageous, and the scratch-resistant layer. This is not preferable because optical characteristics may be deteriorated.

耐擦傷性層の形成は、透明基材の表面に硬化性組成物(1)を塗布して硬化させることにより行うのが好ましく、このためには、硬化性組成物(1)を塗料として構成する必要がある。この塗料は、分子内に少なくとも2個のラジカル重合性官能基を有する化合物、分子内にカチオン重合性官能基及びラジカル重合性官能基を有する化合物、並びに必要に応じて他の成分を、溶剤に溶解ないし分散させることにより調製するのが望ましい。   The scratch-resistant layer is preferably formed by applying and curing the curable composition (1) on the surface of the transparent substrate. For this purpose, the curable composition (1) is formed as a paint. There is a need to. This paint comprises a compound having at least two radical polymerizable functional groups in the molecule, a compound having a cationic polymerizable functional group and a radical polymerizable functional group in the molecule, and other components as needed in a solvent. It is desirable to prepare by dissolving or dispersing.

溶剤は、塗料の濃度や粘度、硬化後の層厚などを調整するために使用される。用いる溶剤は、適宜選択すればよいが、例えば、メタノール、エタノール、1−プロパノール、イソプロピルアルコール、1−ブタノール、2−ブタノール、イソブチルアルコール、t−ブチルアルコールのようなアルコール類、2−エトキシエタノール、2−ブトキシエタノール、3−メトキシプロパノール、1−メトキシ−2−プロパノール、1−エトキシ−2−プロパノールのようなアルコキシアルコール類、ジアセトンアルコールのようなケトール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンのようなケトン類、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチルのようなエステル類などが挙げられる。溶剤の使用量は、基材の材質、形状、塗布方法、目的とする耐擦傷性層の層厚などに応じて適宜選択されるが、通常は、分子内に少なくとも2個のラジカル重合性官能基を有する化合物、分子内にカチオン重合性官能基及びラジカル重合性官能基を有する化合物、並びに必要により用いられる導電性微粒子の合計量100重量部当たり20〜10000重量部程度の範囲である。   The solvent is used to adjust the concentration and viscosity of the paint, the layer thickness after curing, and the like. The solvent to be used may be appropriately selected. For example, methanol, ethanol, 1-propanol, isopropyl alcohol, 1-butanol, 2-butanol, isobutyl alcohol, alcohols such as t-butyl alcohol, 2-ethoxyethanol, Alkoxy alcohols such as 2-butoxyethanol, 3-methoxypropanol, 1-methoxy-2-propanol, 1-ethoxy-2-propanol, ketols such as diacetone alcohol, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone Ketones, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, and esters such as ethyl acetate and butyl acetate. The amount of the solvent used is appropriately selected according to the material, shape, coating method, layer thickness of the target scratch-resistant layer, etc., but usually at least two radical polymerizable functional groups in the molecule. The total amount of the compound having a group, the compound having a cationic polymerizable functional group and a radical polymerizable functional group in the molecule, and the total amount of conductive fine particles used as necessary is in the range of about 20 to 10,000 parts by weight.

かかる塗料を透明基材の表面に塗布することにより、硬化性組成物(1)からなる塗膜が形成される。塗料の塗布は、例えば、マイクログラビアコート法、ロールコート法、ディッピングコート法、フローコート法、スピンコート法、ダイコート法、キャスト転写法、スプレーコート法などの方法により行われる。   A coating film made of the curable composition (1) is formed by applying such paint to the surface of the transparent substrate. The coating is applied by a method such as a micro gravure coating method, a roll coating method, a dipping coating method, a flow coating method, a spin coating method, a die coating method, a cast transfer method, or a spray coating method.

次いで、紫外線を照射して塗膜を硬化させることにより、耐擦傷性層を形成することができる。紫外線の照射時間は通常0.1〜60秒程度であり、照射温度は通常10〜40℃程度である。また、紫外線の照射エネルギーは通常50〜3000mJ/cm2程度であり、好ましくは100〜700mJ/cm2程度である。紫外線の照射量があまり少ないと、硬化が不十分となり、耐擦傷性層の強度が低下する。また紫外線の照射量があまり多くなると、耐擦傷性層や基材が劣化し、光学特性や機械物性の低下をきたす可能性があるので、好ましくない。 Next, the scratch-resistant layer can be formed by irradiating ultraviolet rays to cure the coating film. The irradiation time of ultraviolet rays is usually about 0.1 to 60 seconds, and the irradiation temperature is usually about 10 to 40 ° C. Moreover, the irradiation energy of ultraviolet rays is about 50-3000 mJ / cm < 2 > normally, Preferably it is about 100-700 mJ / cm < 2 >. When the irradiation amount of ultraviolet rays is too small, curing becomes insufficient and the strength of the scratch-resistant layer is lowered. On the other hand, if the amount of UV irradiation is too large, the scratch-resistant layer and the base material are deteriorated, and there is a possibility that optical properties and mechanical properties will be lowered.

塗料が溶剤を含有する場合、紫外線は、塗膜が溶剤を含有した状態のまま照射してもよいし、溶剤を揮発させた後に照射してもよい。溶剤を揮発させる場合には、室温で放置してもよいし、30〜100℃程度で加熱乾燥してもよい。乾燥時間は、基材の材質、形状、塗布方法、目的とする耐擦傷性層の層厚などに応じて適宜選択される。紫外線照射によって耐擦傷性層を形成した後、耐擦傷性層をより強固なものとするために、さらに加熱処理を施してもよい。加熱温度と時間は適宜選択されるが、通常50〜120℃で30分〜24時間程度である。   When the coating material contains a solvent, the ultraviolet ray may be irradiated while the coating film contains the solvent, or may be irradiated after the solvent is volatilized. When the solvent is volatilized, it may be left at room temperature or may be dried by heating at about 30 to 100 ° C. The drying time is appropriately selected according to the material and shape of the substrate, the coating method, the layer thickness of the target scratch-resistant layer, and the like. After forming the scratch-resistant layer by ultraviolet irradiation, a heat treatment may be further performed in order to make the scratch-resistant layer stronger. The heating temperature and time are appropriately selected, but are usually about 50 to 120 ° C. and about 30 minutes to 24 hours.

形成される耐擦傷性層の層厚は、通常0.5〜20μm、好ましくは1〜10μmである。層厚があまり小さいと、耐擦傷性層としての特性を示し難くなり、また層厚があまり大きいと、ひびが入るなどの問題が生じる可能性があるため、好ましくない。   The layer thickness of the formed scratch-resistant layer is usually 0.5 to 20 μm, preferably 1 to 10 μm. If the layer thickness is too small, it will be difficult to exhibit properties as a scratch-resistant layer, and if the layer thickness is too large, problems such as cracking may occur, which is not preferable.

以上のようにして形成された耐擦傷性層の上には、反射防止層が形成される。反射防止層の材料には、分子内にカチオン重合性官能基を有する化合物と、シリカ微粒子とを含む硬化性組成物が用いられ〔以下、この組成物を硬化性組成物(2)ということがある〕、その硬化物により反射防止層が構成される。   An antireflection layer is formed on the scratch-resistant layer formed as described above. As the material for the antireflection layer, a curable composition containing a compound having a cationic polymerizable functional group in the molecule and silica fine particles is used [hereinafter, this composition is referred to as a curable composition (2). There is an antireflection layer by the cured product.

硬化性組成物(2)の必須成分の1つである分子内にカチオン重合性官能基を有する化合物は、一般にカチオン重合性化合物とも呼ばれ、カチオン重合性官能基を分子内に1個有する単官能のものであってもよいし、複数個有する多官能のものであってもよい。このカチオン重合性官能基の例は、先に述べた硬化性組成物(1)の必須成分である分子内にカチオン重合性官能基及びラジカル重合性官能基を有する化合物におけるカチオン重合性官能基の例と同様である。特に分子内に少なくとも1個のオキセタン環を有する化合物であるオキセタン化合物や、分子内に少なくとも1個のエポキシ基を有する化合物であるエポキシ化合物が好ましく用いられる。   The compound having a cationically polymerizable functional group in the molecule, which is one of the essential components of the curable composition (2), is generally called a cationically polymerizable compound, and is a single compound having one cationically polymerizable functional group in the molecule. It may be a functional one or a polyfunctional one having a plurality. Examples of this cationic polymerizable functional group include those of the cationic polymerizable functional group in the compound having a cationic polymerizable functional group and a radical polymerizable functional group in the molecule, which is an essential component of the curable composition (1) described above. Similar to the example. In particular, an oxetane compound that is a compound having at least one oxetane ring in the molecule and an epoxy compound that is a compound having at least one epoxy group in the molecule are preferably used.

オキセタン化合物の好ましい例としては、下記式(I)〜(III)で示されるものを挙げることができる。   Preferable examples of the oxetane compound include those represented by the following formulas (I) to (III).

Figure 0004736387
Figure 0004736387

式中、R1は、水素原子、フッ素原子、アルキル基、フルオロアルキル基、アリル基、アリール基又はフリル基を表し、mは1〜4の整数を表し、Zは酸素原子又は硫黄原子を表し、R2はmの値に応じて1〜4価の有機基を表し、nは1〜5の整数を表し、pは0〜2の整数を表し、R3は水素又は不活性な1価の有機基を表し、R4は加水分解可能な官能基を表す。一分子内にR1、Z、R3又はR4が複数回現れる場合は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。 In the formula, R 1 represents a hydrogen atom, a fluorine atom, an alkyl group, a fluoroalkyl group, an allyl group, an aryl group or a furyl group, m represents an integer of 1 to 4, and Z represents an oxygen atom or a sulfur atom. , R 2 represents a 1 to 4 valent organic group depending on the value of m, n represents an integer of 1 to 5, p represents an integer of 0 to 2, and R 3 represents hydrogen or an inactive monovalent group. R 4 represents a hydrolyzable functional group. When R 1 , Z, R 3 or R 4 appears multiple times in one molecule, they may be the same or different.

式(I)〜(III)において、R1がアルキル基の場合、その炭素数は1〜6程度であることができ、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などが挙げられる。またフルオロアルキル基も、炭素数1〜6程度であることができる。さらにアリール基は、典型的にはフェニル基又はナフチル基であり、これらは他の基で置換されていてもよい。 In the formulas (I) to (III), when R 1 is an alkyl group, the carbon number thereof can be about 1 to 6, specifically, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, and the like. Can be mentioned. The fluoroalkyl group can also have about 1 to 6 carbon atoms. Furthermore, the aryl group is typically a phenyl group or a naphthyl group, and these may be substituted with other groups.

また、式(I)においてR2で表される有機基は、特に限定されないが、例えば、mが1の場合は、アルキル基、フェニル基などが、mが2の場合は、炭素数1〜12の直鎖又は分枝状アルキレン基、直鎖又は分枝状のポリ(アルキレンオキシ)基、1,2−フェニレン基、1,3−フェニレン基、1,4−フェニレン基、4,4’−ビフェニレン基などが、mが3又は4の場合は、類似の多価官能基が挙げられる。 Further, the organic group represented by R 2 in the formula (I) is not particularly limited. For example, when m is 1, an alkyl group, a phenyl group, etc., and when m is 2, 12 linear or branched alkylene groups, linear or branched poly (alkyleneoxy) groups, 1,2-phenylene groups, 1,3-phenylene groups, 1,4-phenylene groups, 4,4 ′ -When m is 3 or 4 in the biphenylene group or the like, a similar polyfunctional group is exemplified.

式(III)においてR3で表される不活性な1価の有機基としては、典型的には炭素数1〜4のアルキル基が挙げられ、またR4で表される加水分解可能な官能基としては、例えば、メトキシ基やエトキシ基などを包含する炭素数1〜5のアルコキシ基、塩素原子や臭素原子のようなハロゲン原子などが挙げられる。 The inactive monovalent organic group represented by R 3 in the formula (III) typically includes an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and a hydrolyzable function represented by R 4. Examples of the group include an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms including a methoxy group and an ethoxy group, and a halogen atom such as a chlorine atom and a bromine atom.

オキセタン化合物の中でも、分子内にシリル基を有する化合物又はその加水分解縮合物が好ましく用いられる。特に、前記式(III)で示される化合物をアルカリと水の存在下で加水分解縮合させることによって得られる、分子内にオキセタン環を複数個有するシルセスキオキサン化合物(ネットワーク状ポリシロキサン化合物)は、硬い反射防止層を与えるため、本発明に用いる材料として好適である。   Among oxetane compounds, a compound having a silyl group in the molecule or a hydrolysis condensate thereof is preferably used. In particular, a silsesquioxane compound (network polysiloxane compound) obtained by hydrolytic condensation of a compound represented by the formula (III) in the presence of alkali and water has a plurality of oxetane rings in the molecule. In order to give a hard antireflection layer, it is suitable as a material used in the present invention.

エポキシ化合物の好ましい例としては、フェニルグリシジルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル、ビニルシクロヘキセンジオキサイド、1,2,8,9−ジエポキシリモネン、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル 3′,4′−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシル)アジペートなどが挙げられる。   Preferred examples of the epoxy compound include phenyl glycidyl ether, ethylene glycol diglycidyl ether, glycerin diglycidyl ether, vinylcyclohexene dioxide, 1,2,8,9-diepoxy limonene, 3,4-epoxycyclohexyl methyl 3 ′, Examples thereof include 4'-epoxycyclohexanecarboxylate, bis (3,4-epoxycyclohexyl) adipate, and the like.

分子内にカチオン重合性官能基を有する化合物は、単独で又は複数の化合物を組み合わせて用いることができる。例えば、オキセタン化合物とエポキシ化合物を併用すると、オキセタン化合物の硬化がより促進され、より硬い反射防止膜を得ることができて、有利である。   The compound having a cationically polymerizable functional group in the molecule can be used alone or in combination of a plurality of compounds. For example, when an oxetane compound and an epoxy compound are used in combination, curing of the oxetane compound is further accelerated, and a harder antireflection film can be obtained, which is advantageous.

硬化性組成物(2)のもう1つの必須成分であるシリカ微粒子は、その平均粒径が5nm〜10μm、特に5nm〜100nmの範囲にあるものが好ましく用いられる。粒径があまり小さいシリカ微粒子は、工業的に製造することが困難であり、また粒径があまり大きくなると、反射防止層の透明性などの光学性能が低下するため、好ましくない。また、シリカ微粒子として多孔質シリカ微粒子を用いてもよい。多孔質シリカは、屈折率が1.2〜1.4程度であり、通常のシリカの屈折率1.46に比べて屈折率が低く、反射防止層を形成するうえで、より好ましい。多孔質シリカは、アルコキシシランをアルカリの存在下で加水分解することにより得られる、高度に絡み合って枝分かれし、ポリマー状に生成したシリカであってもよいし、特開平7−133105号公報に示される方法などで製造された、表面が被覆された多孔質シリカであってもよい。また、シリカ微粒子の表面は、分散性を向上させ、分子内にカチオン重合性官能基を有する化合物との親和性を高めるために、例えば特開平7−133105号公報に示されるように、有機ケイ素化合物で修飾されていてもよい。   As the fine silica particles, which are another essential component of the curable composition (2), those having an average particle diameter in the range of 5 nm to 10 μm, particularly 5 nm to 100 nm are preferably used. Silica fine particles having a very small particle size are difficult to produce industrially, and if the particle size is too large, optical performance such as transparency of the antireflection layer is lowered, which is not preferable. Further, porous silica fine particles may be used as the silica fine particles. Porous silica has a refractive index of about 1.2 to 1.4, which is lower than the refractive index of normal silica 1.46, and is more preferable for forming an antireflection layer. The porous silica may be a silica that is obtained by hydrolyzing an alkoxysilane in the presence of an alkali and is highly intertwined and branched and formed into a polymer, as shown in JP-A-7-133105. The surface-coated porous silica produced by the method described above may be used. Further, the surface of the silica fine particles is improved in dispersibility, and in order to increase the affinity with a compound having a cationic polymerizable functional group in the molecule, for example, as shown in JP-A-7-133105, organosilicon It may be modified with a compound.

硬化性組成物(2)において、分子内にカチオン重合性官能基を有する化合物とシリカ微粒子との量比は、両者の合計量を基準として、通常、前者が20〜90重量%、後者が10〜80重量%であり、好ましくは、前者が30〜80重量%、後者が20〜70重量%である。前者を多くし、後者を少なくするほど、反射防止層の強度が向上する傾向にあり、前者を少なくし、後者を多くするほど、反射防止層の屈折率が低下して、反射防止効果が高くなる傾向にある。   In the curable composition (2), the amount ratio between the compound having a cationically polymerizable functional group in the molecule and the silica fine particles is usually 20 to 90% by weight for the former and 10 for the latter based on the total amount of both. -80% by weight, preferably 30-80% by weight of the former and 20-70% by weight of the latter. Increasing the former and decreasing the latter tend to improve the strength of the antireflection layer. Decreasing the former and increasing the latter decrease the refractive index of the antireflection layer and increase the antireflection effect. Tend to be.

硬化性組成物(2)には、シリコーンオイルを含有させるのが好ましい。これにより、形成される反射防止層がシリコーンオイルを含むものとなり、反射防止層表面の平滑性ないし滑り性が向上して、耐擦傷性が向上する。   The curable composition (2) preferably contains silicone oil. Thereby, the formed antireflection layer contains silicone oil, the smoothness or slipperiness of the antireflection layer surface is improved, and the scratch resistance is improved.

シリコーンオイルの例としては、ジメチルシリコーンオイル、フェニルメチルシリコーンオイル、アルキル・アラルキル変性シリコーオイル、フルオロシリコーンオイル、ポリエーテル変性シリコーンオイル、脂肪酸エステル変性シリコーンオイル、メチル水素シリコーンオイル、シラノール基含有シリコーンオイル、アルコキシ基含有シリコーンオイル、フェノール基含有シリコーンオイル、メタクリル変性シリコーンオイル、アミノ変性シリコーンオイル、カルボン酸変性シリコーンオイル、カルビノール変性シリコーンオイル、エポキシ変性シリコーンオイル、メルカプト変性シリコーンオイル、フッ素変性シリコーンオイル、ポリエーテル変性シリコーンオイルなどが挙げられ、必要に応じてそれらの2種以上を用いることもできる。シリコーンオイルの添加量は、分子内にカチオン重合性官能基を有する化合物とシリカ微粒子との合計量100重量部に対し、通常0.1〜20重量部である。あまり少ないと滑り性を付与した効果が認められ難く、あまり多いと反射防止層の強度が低下するため好ましくない。   Examples of silicone oils include dimethyl silicone oil, phenylmethyl silicone oil, alkyl / aralkyl-modified silicone oil, fluorosilicone oil, polyether-modified silicone oil, fatty acid ester-modified silicone oil, methyl hydrogen silicone oil, silanol group-containing silicone oil, Alkoxy group-containing silicone oil, phenol group-containing silicone oil, methacryl-modified silicone oil, amino-modified silicone oil, carboxylic acid-modified silicone oil, carbinol-modified silicone oil, epoxy-modified silicone oil, mercapto-modified silicone oil, fluorine-modified silicone oil, poly Examples include ether-modified silicone oils, and two or more of them can be used as necessary.The addition amount of the silicone oil is usually 0.1 to 20 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total amount of the compound having a cationic polymerizable functional group in the molecule and the silica fine particles. If the amount is too small, the effect of imparting slipperiness is hardly recognized. If the amount is too large, the strength of the antireflection layer decreases, which is not preferable.

また、硬化性組成物(2)には、硬化性組成物(1)同様、安定化剤、酸化防止剤、着色剤などの添加剤が含有されていてもよい。   Moreover, additives, such as a stabilizer, antioxidant, and a coloring agent, may be contained in the curable composition (2) like the curable composition (1).

硬化性組成物(2)を硬化させるための重合開始剤としては、紫外線を照射することでカチオンを発生する化合物が好ましく用いられる。かかるカチオン重合開始剤の例としては、次の各式で示されるジアゾニウム塩、スルホニウム塩、ヨードニウム塩などのオニウム塩が挙げられる。   As the polymerization initiator for curing the curable composition (2), a compound that generates a cation when irradiated with ultraviolet rays is preferably used. Examples of such cationic polymerization initiators include onium salts such as diazonium salts, sulfonium salts and iodonium salts represented by the following formulas.

ArN2 +-
(R)3+-
(R)2+-
ArN 2 + Z ,
(R) 3 S + Z - ,
(R) 2 I + Z -

式中、Arはアリール基を表し、Rはアリール基又は炭素数1〜20のアルキル基を表し、一分子内にRが複数回現れる場合は、それぞれ同一でも異なっていてもよく、Z-は非塩基性でかつ非求核性の陰イオンを表す。 In the formula, Ar represents an aryl group, R represents an aryl group or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and when R appears multiple times in one molecule, they may be the same or different, and Z is Represents a non-basic and non-nucleophilic anion.

上記各式において、Ar又はRで表されるアリール基は、典型的にはフェニルやナフチルであり、これらは適当な基で置換されていてもよい。また、Z-で表される陰イオンとしては、具体的には、テトラフルオロボレートイオン(BF4 -)、テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレートイオン(B(C65)4 -)、ヘキサフルオロホスフェートイオン(PF6 -)、ヘキサフルオロアーセネートイオン(AsF6 -)、ヘキサフルオロアンチモネートイオン(SbF6 -)、ヘキサクロロアンチモネートイオン(SbCl6 -)、硫酸水素イオン(HSO4 -)、過塩素酸イオン(ClO4 -)などが挙げられる。 In each of the above formulas, the aryl group represented by Ar or R is typically phenyl or naphthyl, and these may be substituted with an appropriate group. Specific examples of the anion represented by Z include tetrafluoroborate ion (BF 4 ), tetrakis (pentafluorophenyl) borate ion (B (C 6 F 5 ) 4 ), and hexafluoro. Phosphate ion (PF 6 ), hexafluoroarsenate ion (AsF 6 ), hexafluoroantimonate ion (SbF 6 ), hexachloroantimonate ion (SbCl 6 ), hydrogen sulfate ion (HSO 4 ), excess Examples thereof include chlorate ions (ClO 4 ).

これらカチオン重合開始剤の市販品の例としては、ダウケミカル日本(株)の“サイラキュア UVI−6990”、旭電化工業(株)の“アデカオプトマー SP−150”及び“アデカオプトマー SP−170”、ローディアジャパン(株)の“RHODORSIL PHOTOINITIATOR 2074”などが挙げられる。   Examples of commercially available products of these cationic polymerization initiators include “Syracure UVI-6990” from Dow Chemical Japan Co., Ltd., “Adekaoptomer SP-150” and “Adekaoptomer SP-170” from Asahi Denka Kogyo Co., Ltd. "RHODORSIL PHOTOINITIATOR 2074" from Rhodia Japan Co., Ltd.

カチオン重合開始剤は、分子内にカチオン重合性官能基を有する化合物100重量部に対し、通常0.1〜20重量部程度、好ましくは0.5〜10重量部程度の割合で添加される。この開始剤の量があまり少ないと、紫外線重合性が十分に発揮されず、またその量があまり多くなっても、増量効果が認められず、経済的に不利であるとともに、反射防止層の光学特性の低下をきたす可能性があるので、好ましくない。   The cationic polymerization initiator is usually added at a ratio of about 0.1 to 20 parts by weight, preferably about 0.5 to 10 parts by weight, per 100 parts by weight of the compound having a cationic polymerizable functional group in the molecule. If the amount of the initiator is too small, the ultraviolet polymerizability is not sufficiently exerted, and even if the amount is too large, the effect of increasing the amount is not recognized, which is economically disadvantageous, and the optical properties of the antireflection layer. Since there is a possibility of deteriorating characteristics, it is not preferable.

反射防止層の形成は、耐擦傷性層の表面に硬化性組成物(2)を塗布して硬化させることにより行うのが好ましく、このためには、硬化性組成物(2)を塗料として構成する必要がある。この塗料は、分子内にカチオン重合性官能基を有する化合物、シリカ微粒子、及び必要に応じて他の成分を、溶剤に溶解ないし分散させることにより調製するのが望ましい。   The antireflection layer is preferably formed by applying and curing the curable composition (2) on the surface of the scratch-resistant layer. For this purpose, the curable composition (2) is formed as a paint. There is a need to. This paint is preferably prepared by dissolving or dispersing a compound having a cationically polymerizable functional group in the molecule, silica fine particles, and, if necessary, other components in a solvent.

溶剤は、塗料の濃度や粘度、硬化後の層厚などを調整するために使用され、用いる溶剤は、適宜選択すればよいが、例えば、先に述べた硬化性組成物(2)の塗料と同様のものを用いることができる。溶剤の使用量は、基材の材質、形状、塗布方法、目的とする反射防止層の層厚などに応じて適宜選択されるが、通常は、分子内にカチオン重合性官能基を有する化合物及びシリカ微粒子の合計量100重量部当たり20〜10000重量部程度の範囲である。   The solvent is used to adjust the concentration and viscosity of the coating material, the layer thickness after curing, and the solvent to be used may be appropriately selected. For example, the coating material of the curable composition (2) described above Similar ones can be used. The amount of the solvent used is appropriately selected according to the material of the substrate, the shape, the coating method, the layer thickness of the target antireflection layer, etc., but usually a compound having a cationically polymerizable functional group in the molecule and The amount is about 20 to 10,000 parts by weight per 100 parts by weight of the total amount of silica fine particles.

かかる塗料を耐擦傷性層の表面に塗布することにより、硬化性組成物(2)からなる塗膜が形成される。塗料の塗布は、先に述べた硬化性組成物(1)の塗布と同様に、例えば、マイクログラビアコート法、ロールコート法、ディッピングコート法、フローコート法、スピンコート法、ダイコート法、キャスト転写法、スプレーコート法などの方法により行われる。   A coating film made of the curable composition (2) is formed by applying such a coating to the surface of the scratch-resistant layer. The coating is applied in the same manner as the coating of the curable composition (1) described above, for example, micro gravure coating method, roll coating method, dipping coating method, flow coating method, spin coating method, die coating method, cast transfer. The method is performed by a method such as a spray coating method.

次いで、紫外線を照射して塗膜を硬化させることにより、反射防止層を形成することができる。紫外線の照射は、先に述べた耐擦傷性層の形成のときと同様に行うことができ、照射時間は通常0.1〜60秒程度であり、照射温度は通常10〜40℃程度である。また、紫外線の照射エネルギーは通常50〜3000mJ/cm2程度であり、好ましくは100〜700mJ/cm2程度である。紫外線の照射量があまり少ないと、硬化が不十分となり、反射防止層の強度が低下する。また紫外線の照射量があまり多くなると、反射防止層や耐擦傷性層、基材が劣化し、光学特性や機械物性の低下をきたす可能性があるので、好ましくない。 Next, the antireflection layer can be formed by irradiating ultraviolet rays to cure the coating film. Irradiation with ultraviolet rays can be performed in the same manner as in the formation of the scratch-resistant layer described above, the irradiation time is usually about 0.1 to 60 seconds, and the irradiation temperature is usually about 10 to 40 ° C. . Moreover, the irradiation energy of ultraviolet rays is about 50-3000 mJ / cm < 2 > normally, Preferably it is about 100-700 mJ / cm < 2 >. When the irradiation amount of ultraviolet rays is too small, curing is insufficient and the strength of the antireflection layer is lowered. On the other hand, if the amount of UV irradiation is too large, the antireflection layer, the scratch-resistant layer and the substrate are deteriorated, which may cause a decrease in optical properties and mechanical properties.

塗料が溶剤を含有する場合、先に述べた耐擦傷性層の形成のときと同様に、紫外線は、被膜が溶剤を含有した状態のまま照射してもよいし、溶剤を揮発させた後に照射してもよい。溶剤を揮発させる場合には、室温で放置してもよいし、30〜100℃程度で加熱乾燥してもよい。乾燥時間は、基材の材質、形状、塗布方法、目的とする反射防止層の層厚などに応じて適宜選択される。紫外線照射によって反射防止層を形成した後、反射防止層をより強固なものとするために、さらに加熱処理を施してもよい。加熱温度と時間は適宜選択されるが、通常50〜120℃で30分〜24時間程度である。   When the paint contains a solvent, as in the formation of the scratch-resistant layer described above, the ultraviolet ray may be irradiated while the film contains the solvent, or after the solvent is volatilized. May be. When the solvent is volatilized, it may be left at room temperature or may be dried by heating at about 30 to 100 ° C. The drying time is appropriately selected according to the material, shape, coating method, layer thickness of the desired antireflection layer, and the like. After forming the antireflection layer by ultraviolet irradiation, a heat treatment may be further performed to make the antireflection layer stronger. The heating temperature and time are appropriately selected, but are usually about 50 to 120 ° C. and about 30 minutes to 24 hours.

なお、本発明の積層体において、耐擦傷性層と反射防止層との密着性が優れるのは、先の硬化性組成物(1)をラジカル重合により硬化させて耐擦傷性層を形成させた時点では、耐擦傷性層中に分子内にカチオン重合性官能基及びラジカル重合性官能基を有する化合物の該カチオン重合性官能基が未反応で残っており、続く硬化性組成物(2)をカチオン重合により硬化させて反射防止層を形成する段階で、反射防止層中の分子内にカチオン重合性官能基を有する化合物の該カチオン重合性官能基と、耐擦傷性層中に残存する未反応のカチオン重合性官能基とが反応して、両層間に結合が生じるためであると考えられる。   In the laminate of the present invention, the adhesion between the scratch-resistant layer and the antireflection layer is excellent because the scratch-resistant layer was formed by curing the curable composition (1) by radical polymerization. At that time, the cationic polymerizable functional group of the compound having a cationic polymerizable functional group and a radical polymerizable functional group in the molecule remains in the scratch-resistant layer in an unreacted state, and the subsequent curable composition (2) At the stage of curing by cationic polymerization to form an antireflection layer, the cation polymerizable functional group of the compound having a cationic polymerizable functional group in the molecule in the antireflection layer and the unreacted remaining in the scratch resistant layer This is thought to be due to the reaction between the cationically polymerizable functional groups of the two and the formation of bonds between the two layers.

また、以上の説明では、硬化性組成物(1)の硬化と硬化性組成物(2)の硬化を段階的に行うことを述べたが、硬化性組成物(1)と硬化性組成物(2)とが非相溶である場合には、基材表面に硬化性組成物(1)の塗膜を形成した後、未硬化のまま、その上に硬化性組成物(2)の塗膜を形成し、次いで、紫外線を照射して硬化性組成物(1)及び(2)を同時に硬化させることもできる。   Moreover, in the above description, although hardening of curable composition (1) and hardening of curable composition (2) were described in steps, curable composition (1) and curable composition ( And 2) are incompatible with each other, after a coating film of the curable composition (1) is formed on the surface of the substrate, the coating film of the curable composition (2) is left uncured thereon. Then, the curable compositions (1) and (2) can be simultaneously cured by irradiating with ultraviolet rays.

形成される反射防止層の層厚は、通常0.01〜1μmである。あまり小さくても、あまり大きくても、反射防止膜としての機能が得られ難い。   The layer thickness of the formed antireflection layer is usually 0.01 to 1 μm. Even if it is too small or too large, it is difficult to obtain a function as an antireflection film.

以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。例中、含有量ないし使用量を表す%及び部は、特記ないかぎり重量基準である。また、得られた積層体は、以下の方法で評価した。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited by these Examples. In the examples, “%” and “part” representing the content or amount used are based on weight unless otherwise specified. Moreover, the obtained laminated body was evaluated with the following method.

(1)反射スペクトル
紫外線可視分光光度計〔(株)島津製作所製の“UV−3100”〕を用いて、入射角度5°における絶対鏡面反射スペクトルを測定し、400〜800nmにおける最も低い反射率を読取った。なお、本測定法では、積層体の表裏両面からの反射が検出されるが、より実用に近い性能としての反射スペクトルを得ることができる。
(1) Reflection spectrum Using an ultraviolet-visible spectrophotometer [“UV-3100” manufactured by Shimadzu Corporation], an absolute specular reflection spectrum at an incident angle of 5 ° was measured, and the lowest reflectance at 400 to 800 nm was obtained. Read. In this measurement method, reflection from both the front and back surfaces of the laminate is detected, but a reflection spectrum as performance closer to practical use can be obtained.

(2)ガーゼ磨耗硬度
消しゴム摩耗試験機〔(株)本光製作所製〕の消しゴム先端をガーゼで覆い、49N/cm2の圧力を加えながら積層体の表面を往復させて、目視で表面に傷が確認されるまでの往復回数で評価した。
(2) Gauze abrasion hardness eraser abrasion tester eraser tip of [KK present Hikariseisakusho] covered with gauze, back and forth of the surface of the laminated body while applying a pressure of 49N / cm 2, scratches on the surface by visual observation It was evaluated by the number of round-trips until it was confirmed.

(3)表面抵抗
JIS K 6911に従って、積層体の表面の表面抵抗を測定した。
(3) Surface resistance According to JIS K6911, the surface resistance of the surface of the laminated body was measured.

(4)密着性
積層体に、カッターナイフで1mm幅100個の碁盤目を、基材に達する深さで形成し、セロハンテープ〔ニチバン(株)製、24mm幅〕を碁盤目上に貼り、次いで垂直方向に剥がした。この操作を3回繰返し、剥離した碁盤目の数を求めた。
(4) Adhesiveness On the laminate, a 100 mm grid with a cutter knife is formed at a depth reaching the base material, and cellophane tape (manufactured by Nichiban Co., Ltd., 24 mm width) is pasted on the grid. Then it was peeled off in the vertical direction. This operation was repeated three times, and the number of peeled grids was determined.

また、耐擦傷性層のみを形成した段階で、次の評価を行った。
(5)スチールウール硬度
#0000のスチールウールを用いて、耐擦傷性層の表面を500g/cm2の荷重で10往復させて、表面の状態を目視観察した。
Moreover, the following evaluation was performed in the stage which formed only the abrasion-resistant layer.
(5) Steel Wool Hardness Using # 0000 steel wool, the surface of the scratch-resistant layer was reciprocated 10 times with a load of 500 g / cm 2 , and the surface condition was visually observed.

(6)層厚
耐擦傷性層の層厚を顕微膜厚計MS−2000〔大塚電子(株)製〕により測定した。
(6) Layer thickness The layer thickness of the scratch-resistant layer was measured with a microscopic film thickness meter MS-2000 (manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.).

実施例1
〔耐擦傷性層の形成〕
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート〔新中村化学工業(株)の“NKエステル A−9530”〕を15.3部、2,2−ビス〔4−(アクリロイルオキシジエトキシ)フェニル〕プロパン〔新中村化学工業(株)の“NKエステルA−BPE−4”〕を3.8部、3−エチル−3−メタクリロイルオキシメチルオキセタン〔宇部興産(株)の“ETERNACOLL OXMA”〕を3.4部、2−メチル−1−プロパノールを47.2部、1−メトキシ−2−プロパノールを20.3部、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン〔チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製“IRUGACURE 184”;重合開始剤〕を1.2部、及び平均粒子径20〜30nmの五酸化二アンチモン微粒子分散液〔触媒化成工業(株)の“ELCOM PC−14”;濃度20%〕を10部、混合して、耐擦傷性塗料を調製した。
Example 1
(Formation of scratch-resistant layer)
15.3 parts of dipentaerythritol hexaacrylate [Shin Nakamura Chemical Co., Ltd. “NK Ester A-9530”], 2,2-bis [4- (acryloyloxydiethoxy) phenyl] propane [Shin Nakamura Chemical Co., Ltd. 3.8 parts of “NK Ester A-BPE-4” from Co., Ltd., 3.4 parts of 3-ethyl-3-methacryloyloxymethyloxetane [“ETERNACOLL OXMA” from Ube Industries, Ltd.], 2- 47.2 parts of methyl-1-propanol, 20.3 parts of 1-methoxy-2-propanol, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone [“IRUGACURE 184” manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd .; polymerization initiator] 1.2 parts and an antimony pentoxide fine particle dispersion having an average particle size of 20 to 30 nm [Catalyst Chemical Industries, Ltd. "ELCOM PC-14"; 10 parts concentration of 20%], and mixed to prepare a scratch resistant coating.

この塗料に、厚さ2mmのメチルメタクリレート−スチレン共重合体樹脂板〔日本アクリエース(株)の“アクリエースMS”〕を浸漬し、引上速度60cm/minでディップ塗布して、室温で1分以上乾燥させた後、60℃で10分間乾燥させた。乾燥後、高圧水銀ランプ〔ウシオ電機(株)製の“UVC−3533”〕により約500mJ/cm2のエネルギーで紫外線を照射して、約4μmの厚さの耐擦傷性層を両面に有する樹脂板を得た。評価結果を表1に示す。 A 2 mm-thick methyl methacrylate-styrene copolymer resin plate (“Acryase MS” from Nihon Acryase Co., Ltd.) is dipped in this paint, and dip-coated at a pulling speed of 60 cm / min. After drying, it was dried at 60 ° C. for 10 minutes. After drying, a resin having an abrasion resistant layer having a thickness of about 4 μm on both sides by irradiating ultraviolet rays with a high-pressure mercury lamp (“UVC-3533” manufactured by USHIO INC.) With an energy of about 500 mJ / cm 2. I got a plate. The evaluation results are shown in Table 1.

〔反射防止層の形成〕
表面がエチルシリケートの加水分解物で被覆された粒径20〜70nmの多孔質シリカ微粒子をイソプロピルアルコール中に20%分散させたゾルを5部、3−エチル−3−〔{3−(トリエトキシシリル)プロポキシ}メチル〕オキセタン〔式(III)において、R1=エチル、R3=エトキシ、n=3、p=0の化合物〕の加水分解縮合物であるオキセタニルシルセスキオキサン〔東亞合成(株)製〕を0.7部、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル 3′,4′−エポキシシクロヘキサンカルボキシレートを0.3部、p−クミル−p−トリルヨードニウム テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート〔ローディアジャパン(株)の“RHODORSIL PHOTOINITIATOR 2074”;重合開始剤〕を0.1部、イソプロピルアルコールを84部、及び2−ブトキシエタノールを10部、混合して、反射防止塗料を調製した。
(Formation of antireflection layer)
5 parts of a sol in which 20% to 70 nm porous silica fine particles having a surface coated with a hydrolyzate of ethyl silicate and dispersed in 20% of isopropyl alcohol are mixed with 3-ethyl-3-[{3- (triethoxy Silyl) propoxy} methyl] oxetane [compound of formula (III) wherein R 1 = ethyl, R 3 = ethoxy, n = 3, p = 0] oxetanylsilsesquioxane [Toagosei Co., Ltd.], 0.7 parts of 3,4-epoxycyclohexylmethyl 3 ', 4'-epoxycyclohexanecarboxylate, p-cumyl-p-tolyliodonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate [Rhodia 0.1 part of “RHODORSIL PHOTOINITIATOR 2074”; polymerization initiator] from Japan, 84 parts of B pills alcohol, and 10 parts of 2-butoxyethanol, and mixed to prepare an anti-reflective coating.

この塗料に、先に得た耐擦傷性層を有する樹脂板を浸漬し、引上速度24cm/minでディップ塗布して、室温で1分以上乾燥させた後、60℃で10分間乾燥させた。乾燥後、高圧水銀ランプ〔ウシオ電機(株)の“UVC−3533”〕により約500mJ/cm2のエネルギーで紫外線を照射して、耐擦傷性層の上に反射防止層を有する積層体を得た。評価結果を表1に示す。 The resin plate having the scratch-resistant layer obtained above was immersed in this paint, dip-coated at a lifting speed of 24 cm / min, dried at room temperature for 1 minute or more, and then dried at 60 ° C. for 10 minutes. . After drying, a high pressure mercury lamp (“UVC-3533” from USHIO INC.) Is irradiated with ultraviolet rays at an energy of about 500 mJ / cm 2 to obtain a laminate having an antireflection layer on the scratch resistant layer. It was. The evaluation results are shown in Table 1.

実施例2
耐擦傷性塗料の調製の際、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの量を12.6部、2,2−ビス〔4−(アクリロイルオキシジエトキシ)フェニル〕プロパンの量を3.2部、3−エチル−3−メタクリロイルオキシメチルオキセタンの量を6.7部にそれぞれ変更した以外は、実施例1と同様の操作を行った。評価結果を表1に示す。
Example 2
In preparing the scratch-resistant paint, 12.6 parts of dipentaerythritol hexaacrylate, 3.2 parts of 2,2-bis [4- (acryloyloxydiethoxy) phenyl] propane, and 3-ethyl The same operation as in Example 1 was performed, except that the amount of -3-methacryloyloxymethyloxetane was changed to 6.7 parts. The evaluation results are shown in Table 1.

実施例3
反射防止塗料の調製の際、さらにエポキシ変性シリコーンオイル〔信越化学工業(株)の“X−22−163A”〕を0.2部、加えた以外は、実施例1と同様の操作を行った。評価結果を表1に示す。
Example 3
The same operation as in Example 1 was performed except that 0.2 parts of epoxy-modified silicone oil [“X-22-163A” from Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.] was further added during the preparation of the antireflection coating. . The evaluation results are shown in Table 1.

実施例4
耐擦傷性塗料の調製の際、3−エチル−3−メタクリロイルオキシメチルオキセタンに代えて、グリシジルメタクリレートを使用した以外は、実施例1と同様の操作を行った。評価結果を表1に示す。
Example 4
In preparing the scratch-resistant paint, the same operation as in Example 1 was performed except that glycidyl methacrylate was used instead of 3-ethyl-3-methacryloyloxymethyloxetane. The evaluation results are shown in Table 1.

比較例1
耐擦傷性塗料の調製の際、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの量を18部、2,2−ビス〔4−(アクリロイルオキシジエトキシ)フェニル〕プロパンの量を4.5部にそれぞれ変更し、3−エチル−3−メタクリロイルオキシメチルオキセタンを使用しなかった以外は、実施例1と同様の操作を行った。評価結果を表1に示す。分子内にカチオン重合性官能基及びラジカル重合性官能基を有する化合物を使用しなかったため、耐擦傷性層と反射防止層との密着性が低く、両層間での剥離が碁盤目100個あたり34個見られた。また、耐擦傷性層の硬度は良好だが、反射防止層の硬度が低い。
Comparative Example 1
In preparing the scratch-resistant paint, the amount of dipentaerythritol hexaacrylate was changed to 18 parts and the amount of 2,2-bis [4- (acryloyloxydiethoxy) phenyl] propane was changed to 4.5 parts. The same operation as in Example 1 was carried out except that -ethyl-3-methacryloyloxymethyloxetane was not used. The evaluation results are shown in Table 1. Since a compound having a cationically polymerizable functional group and a radically polymerizable functional group in the molecule was not used, the adhesion between the scratch-resistant layer and the antireflection layer was low, and peeling between the two layers was 34 per 100 grids. I was seen. Further, the hardness of the scratch-resistant layer is good, but the hardness of the antireflection layer is low.

比較例2
耐擦傷性塗料の調製の際、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの量を7.2部、2,2−ビス〔4−(アクリロイルオキシジエトキシ)フェニル〕プロパンの量を1.8部、3−エチル−3−メタクリロイルオキシメチルオキセタンの量を13.5部ににそれぞれ変更した以外は、実施例1と同様の操作を行った。評価結果を表1に示す。分子内にカチオン重合性官能基及びラジカル重合性官能基を有する化合物の使用量が規定値以上であるため、耐擦傷性層と反射防止層との密着性は良好だが、耐擦傷性層の硬度が低く、その上の反射防止層の硬度も低い。
Comparative Example 2
In preparing the scratch-resistant paint, the amount of dipentaerythritol hexaacrylate is 7.2 parts, the amount of 2,2-bis [4- (acryloyloxydiethoxy) phenyl] propane is 1.8 parts, and 3-ethyl The same operation as in Example 1 was performed, except that the amount of -3-methacryloyloxymethyloxetane was changed to 13.5 parts. The evaluation results are shown in Table 1. The amount of the compound having a cation polymerizable functional group and a radical polymerizable functional group in the molecule is more than the specified value, so the adhesion between the scratch resistant layer and the antireflection layer is good, but the hardness of the scratch resistant layer. And the hardness of the antireflection layer thereon is also low.

Figure 0004736387
Figure 0004736387

本発明の積層体は、反射防止性が要求される各種用途に用いることができるが、特にプロジェクションテレビ等のディスプレイの前面板として好適に用いられる。
The laminate of the present invention can be used for various applications that require antireflection properties, and is particularly suitably used as a front plate for displays such as projection televisions.

Claims (4)

透明基材の表面に、分子内に少なくとも2個のラジカル重合性官能基を有する化合物50〜99重量部と、分子内にカチオン重合性官能基及びラジカル重合性官能基を有する化合物1〜50重量部とを含み、さらに、分子内に少なくとも2個のラジカル重合性官能基を有する化合物並びに分子内にカチオン重合性官能基及びラジカル重合性官能基を有する化合物の合計100重量部に対して0.1〜20重量部のラジカル重合開始剤を含む塗料を塗布して硬化させて耐擦傷性層を形成し、次いで該耐擦傷性層の上に、分子内にカチオン重合性官能基を有する化合物20〜90重量部と、シリカ微粒子10〜80重量部とを含み、さらに、分子内にカチオン重合性官能基を有する化合物100重量部に対して0.1〜20重量部のカチオン重合開始剤を含む塗料を塗布して硬化させて反射防止層を形成する積層体の製造方法であって、50 to 99 parts by weight of a compound having at least two radical polymerizable functional groups in the molecule on the surface of the transparent substrate, and 1 to 50 weights of the compound having a cationic polymerizable functional group and a radical polymerizable functional group in the molecule And 0.1 parts by weight with respect to a total of 100 parts by weight of a compound having at least two radical polymerizable functional groups in the molecule and a compound having a cationic polymerizable functional group and a radical polymerizable functional group in the molecule. A coating containing 1 to 20 parts by weight of a radical polymerization initiator is applied and cured to form a scratch-resistant layer, and then a compound 20 having a cationically polymerizable functional group in the molecule on the scratch-resistant layer. Cation polymerization of 0.1 to 20 parts by weight with respect to 100 parts by weight of a compound containing ˜90 parts by weight and 10 to 80 parts by weight of silica fine particles and having a cationic polymerizable functional group in the molecule. A method for producing a laminate for forming an antireflection layer coating applied to cure the containing initiator,
該積層体が、透明基材の表面に、耐擦傷性層及び反射防止層が基材表面側からこの順に形成されてなり、耐擦傷性層は、分子内に少なくとも2個のラジカル重合性官能基を有する化合物50〜99重量部と、分子内にカチオン重合性官能基及びラジカル重合性官能基を有する化合物1〜50重量部とを含む組成物が硬化したものであり、反射防止層は、分子内にカチオン重合性官能基を有する化合物と、シリカ微粒子とを含む組成物が硬化したものであり、さらに、耐擦傷性層中のカチオン重合性官能基と、反射防止層中のカチオン重合性官能基とに結合が生じている製造方法。The laminate is formed by forming a scratch-resistant layer and an antireflection layer in this order from the substrate surface side on the surface of the transparent substrate, and the scratch-resistant layer has at least two radical polymerizable functional groups in the molecule. A composition containing 50 to 99 parts by weight of a compound having a group and 1 to 50 parts by weight of a compound having a cationic polymerizable functional group and a radical polymerizable functional group in the molecule is cured, and the antireflection layer is A composition comprising a compound having a cationic polymerizable functional group in the molecule and silica fine particles is cured, and further, the cationic polymerizable functional group in the scratch-resistant layer and the cationic polymerizable property in the antireflection layer A production method in which a bond is formed with a functional group.
シリカ微粒子が多孔質シリカ微粒子である請求項1に記載の製造方法The production method according to claim 1, wherein the silica fine particles are porous silica fine particles. 耐擦傷性層を形成するための組成物が、さらに導電性微粒子を含む請求項1又は2に記載の製造方法The production method according to claim 1 or 2, wherein the composition for forming the scratch-resistant layer further contains conductive fine particles. 反射防止層を形成するための組成物に含まれる分子内にカチオン重合性官能基を有する化合物が、分子内にシリル基を有するオキセタン化合物又はその加水分解縮合物である請求項1〜3のいずれかに記載の製造方法The compound having a cationically polymerizable functional group in the molecule contained in the composition for forming the antireflection layer is an oxetane compound having a silyl group in the molecule or a hydrolysis condensate thereof. The manufacturing method of crab.
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