JP2003266605A - Transparent base having cured film formed thereon - Google Patents

Transparent base having cured film formed thereon

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JP2003266605A
JP2003266605A JP2002068265A JP2002068265A JP2003266605A JP 2003266605 A JP2003266605 A JP 2003266605A JP 2002068265 A JP2002068265 A JP 2002068265A JP 2002068265 A JP2002068265 A JP 2002068265A JP 2003266605 A JP2003266605 A JP 2003266605A
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JP
Japan
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compound
film
fine particles
silica
transparent substrate
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Application number
JP2002068265A
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Japanese (ja)
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Shinsuke Ochiai
伸介 落合
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Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a material having a sufficient antireflection performance only with a single antireflection film. <P>SOLUTION: A transparent base comprises a cured film formed of a cationic polymerizable compound, a hydrolyzable organic silicon compound and a composition containing porous fine particles and formed on the surface of the base. As the cationic polymerizable compound, an oxetane compound or an epoxy compound can be used. Particularly, the oxetane compound having a silyl group in a molecule or containing its hydrolyzable condensate as a main ingredient is effective. As the fine particles, silica fine particles are preferred. A silica having a double structure with its coated surface or a composite oxide containing the silica is effective. When the cured film has a refractive index of 1.20 to 1.45 and a film thickness of 0.01 to 1 μm, the film is operated as the film having the antireflection function. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、表面に反射防止性
の硬化被膜が形成された透明基材に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a transparent substrate having an antireflection cured coating formed on its surface.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、ディスプレイ用のガラスや樹脂等
の透明基材の表面には、反射防止膜などの機能性被膜が
形成され、利用されてきた。特にコストの面から、蒸着
法やスパッタリング法ではなく、反射防止材料を塗料に
して塗布することにより得られる被膜を形成した基材が
多く開発されている。例えば、特開平 8-100136 号公報
には、フッ化ビニリデンとヘキサフルオロプロピレンの
共重合体に、エチレン性不飽和基を有する重合性化合物
を配合した、反射防止膜を形成するのに用いられるフッ
素系塗料が記載されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, a functional coating film such as an antireflection film has been formed and used on the surface of a transparent substrate such as glass or resin for a display. In particular, from the viewpoint of cost, many base materials having a coating film obtained by applying an antireflection material as a paint, rather than the vapor deposition method or the sputtering method, have been developed. For example, JP-A-8-100136 discloses that a copolymer of vinylidene fluoride and hexafluoropropylene is blended with a polymerizable compound having an ethylenically unsaturated group, and is used for forming an antireflection film. A system paint is described.

【0003】しかしながら、従来用いられている反射防
止膜は、その反射防止性能が不十分であり、例えば上記
特開平 8-100136号公報に記載のものは、屈折率が1.4
3程度であり、十分な反射防止性能が得られなかった。
また、反射防止性能を高めるために反射防止層を高屈折
率層と低屈折率層からなる二層構成にすることが、特開
2001-315242号公報に示されているが、この場合、反射
率が低くなるのは特定の波長を中心とする100〜20
0nmの波長範囲だけであり、他の波長では反射率が逆に
高くなるために、反射光が干渉により強く着色する問題
があった。
However, the conventionally used antireflection film has an insufficient antireflection performance. For example, the one described in JP-A-8-100136 mentioned above has a refractive index of 1.4.
It was about 3, and sufficient antireflection performance was not obtained.
Further, in order to improve the antireflection performance, it is preferable that the antireflection layer has a two-layer structure composed of a high refractive index layer and a low refractive index layer.
As disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 2001-315242, in this case, the reflectance is reduced to 100 to 20 around a specific wavelength.
There is a problem that the reflected light is strongly colored due to interference because it is only in the wavelength range of 0 nm and the reflectance is high at other wavelengths.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】そこで本発明者は、単
層の反射防止膜だけで、十分な反射防止性能を有する材
料を開発すべく、鋭意研究を行った結果、特定の組成物
を硬化して得られる被膜が、十分な反射防性能を有する
ことを見出し、本発明に至った。
Therefore, the present inventor has conducted diligent research to develop a material having a sufficient antireflection property with a single-layer antireflection film, and as a result, a specific composition was cured. It was found that the coating film obtained in this way has sufficient antireflection performance, and the present invention has been completed.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】すなわち本発明は、基材
表面に、カチオン重合性化合物と、加水分解性有機ケイ
素化合物と、多孔質微粒子とを含む組成物からの硬化被
膜が形成されている透明基材を提供するものである。
That is, according to the present invention, a cured coating is formed on the surface of a substrate from a composition containing a cationically polymerizable compound, a hydrolyzable organosilicon compound, and porous fine particles. A transparent substrate is provided.

【0006】[0006]

【発明の実施の形態】本発明の透明基材は、表面に硬化
被膜が形成されたものであり、この硬化被膜は、カチオ
ン重合性化合物と加水分解性有機ケイ素化合物と多孔質
微粒子を含む組成物から形成される。したがってこの硬
化被膜は、カチオン重合性化合物と加水分解性有機ケイ
素化合物の硬化物中に多孔質微粒子が分散されたものと
なる。この硬化被膜が、適当な厚みと屈折率を有するよ
うにすれば、反射防止層として作用する。この硬化被膜
は、カチオン重合性化合物と加水分解性有機ケイ素化合
物との混合物中に多孔質微粒子を分散させた組成物から
なる被膜を基材上に形成し、その被膜を硬化させること
によって、得ることができる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The transparent substrate of the present invention has a cured coating formed on its surface, and this cured coating has a composition containing a cationically polymerizable compound, a hydrolyzable organosilicon compound and porous fine particles. Formed from things. Therefore, this cured film is a cured product of the cationically polymerizable compound and the hydrolyzable organosilicon compound in which the porous fine particles are dispersed. If the cured coating has an appropriate thickness and refractive index, it acts as an antireflection layer. This cured film is obtained by forming a film of a composition in which porous fine particles are dispersed in a mixture of a cationically polymerizable compound and a hydrolyzable organosilicon compound on a substrate and curing the film. be able to.

【0007】カチオン重合性化合物は、カチオン重合に
より硬化する化合物である。具体例としては、オキセタ
ン化合物やエポキシ化合物を挙げることができ、これら
の混合物を用いることもできる。
The cationically polymerizable compound is a compound which is cured by cationic polymerization. Specific examples include oxetane compounds and epoxy compounds, and a mixture thereof can also be used.

【0008】オキセタン化合物は、分子中に少なくとも
1個のオキセタン環を有する化合物である。このような
オキセタン化合物としては、種々のものが使用できる
が、好ましい化合物として、下記式(I)〜(III) で示
されるものを挙げることができる。
The oxetane compound is a compound having at least one oxetane ring in the molecule. As such an oxetane compound, various compounds can be used, and preferred compounds include those represented by the following formulas (I) to (III).

【0009】 [0009]

【0010】式中、R1 は、水素、フッ素、アルキル
基、フルオロアルキル基、アリル基、アリール基又はフ
リル基を表し、mは1〜4の整数を表し、Zは酸素又は
硫黄を表し、R2 はmの値に応じて1〜4価の有機基を
表し、nは1〜5の整数を表し、pは0〜2の整数を表
し、R3 は水素又は不活性な1価の有機基を表し、R4
は加水分解可能な官能基を表す。
In the formula, R 1 represents hydrogen, fluorine, an alkyl group, a fluoroalkyl group, an allyl group, an aryl group or a furyl group, m represents an integer of 1 to 4, Z represents oxygen or sulfur, R 2 represents a monovalent to tetravalent organic group depending on the value of m, n represents an integer of 1 to 5, p represents an integer of 0 to 2, R 3 represents hydrogen or an inert monovalent monovalent. Represents an organic group, R 4
Represents a hydrolyzable functional group.

【0011】式(I)〜(III) において、R1 がアルキ
ル基の場合、その炭素数は1〜6程度であることがで
き、具体的には、メチル、エチル、プロキル、ブチルな
どが挙げられる。またフルオロアルキル基も、炭素数1
〜6程度であることができる。さらにアリール基は、典
型的にはフェニル又はナフチルであり、これらは他の基
で置換されていてもよい。
In formulas (I) to (III), when R 1 is an alkyl group, the number of carbon atoms can be about 1 to 6, and specific examples thereof include methyl, ethyl, propyl and butyl. To be The fluoroalkyl group also has 1 carbon atom.
It can be up to about 6. Further aryl groups are typically phenyl or naphthyl, which may be substituted with other groups.

【0012】また、式(I)においてR2 で表される有
機基は、特に限定されないが、例えば、mが1の場合
は、アルキル基、フェニル基などが、mが2の場合は、
炭素数1〜12の直鎖又は分枝状アルキレン基、直鎖又
は分枝状のポリ(アルキレンオキシ)基などが、mが3
又は4の場合は、類似の多価官能基が挙げられる。
Further, the organic group represented by R 2 in the formula (I) is not particularly limited. For example, when m is 1, an alkyl group, a phenyl group or the like, and when m is 2,
A straight-chain or branched alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, a straight-chain or branched poly (alkyleneoxy) group, etc., wherein m is 3
Alternatively, in case of 4, similar polyvalent functional groups can be mentioned.

【0013】式(III) においてR3 で表される不活性な
1価の有機基として、典型的には炭素数1〜4のアルキ
ル基が挙げられ、またR4 で表される加水分解可能な官
能基としては、例えば、メトキシやエトキシなどを包含
する炭素数1〜5のアルコキシ基、塩素原子や臭素原子
のようなハロゲン原子などが挙げられる。
The inert monovalent organic group represented by R 3 in the formula (III) typically includes an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and is hydrolyzable represented by R 4. Examples of such functional groups include alkoxy groups having 1 to 5 carbon atoms including methoxy and ethoxy, and halogen atoms such as chlorine atom and bromine atom.

【0014】オキセタン化合物の中でも、分子内にシリ
ル基を有する化合物又はその加水分解縮合物が好ましく
用いられる。特に、前記式(III) の化合物をアルカリと
水の存在下で加水分解縮合させることによって得られ
る、オキセタニル基を複数有するシルセスキオキサン化
合物(ネットワーク状ポリシロキサン化合物)は、硬い
被膜を与えるため、本発明に用いる材料として好適であ
る。
Among the oxetane compounds, a compound having a silyl group in the molecule or a hydrolyzed condensate thereof is preferably used. In particular, the silsesquioxane compound having a plurality of oxetanyl groups (a network-like polysiloxane compound) obtained by hydrolytically condensing the compound of the formula (III) in the presence of an alkali and water gives a hard coating film. It is suitable as a material used in the present invention.

【0015】エポキシ化合物は、分子中にエポキシ基を
少なくとも1個有する単量体であって、カチオン重合を
起こして硬化するものであれば、いずれも使用すること
ができる。例えば、フェニルグリシジルエーテル、エチ
レングリコールジグリシジルエーテル、グリセリンジグ
リシジルエーテル、ビニルシクロヘキセンジオキサイ
ド、1,2,8,9−ジエポキシリモネン、3,4−エ
ポキシシクロヘキシルメチル 3′,4′−エポキシシ
クロヘキサンカルボキシレート、ビス(3,4−エポキ
シシクロヘキシル)アジペートなどが挙げられる。
Any epoxy compound can be used as long as it is a monomer having at least one epoxy group in the molecule and can undergo cationic polymerization to be cured. For example, phenyl glycidyl ether, ethylene glycol diglycidyl ether, glycerin diglycidyl ether, vinylcyclohexenedioxide, 1,2,8,9-diepoxylimonene, 3,4-epoxycyclohexylmethyl 3 ', 4'-epoxycyclohexanecarboxy. Rate, bis (3,4-epoxycyclohexyl) adipate and the like.

【0016】カチオン重合性化合物としては、特に、オ
キセタン化合物を単独で、又はエポキシ化合物と組み合
わせて用いるのが好ましい。この場合、エポキシ化合物
は、オキセタン化合物100重量部に対し、通常0〜3
0重量部程度、好ましくは1〜20重量部程度の割合で
添加される。
As the cationically polymerizable compound, it is particularly preferable to use an oxetane compound alone or in combination with an epoxy compound. In this case, the epoxy compound is usually 0 to 3 with respect to 100 parts by weight of the oxetane compound.
It is added in an amount of about 0 parts by weight, preferably about 1 to 20 parts by weight.

【0017】加水分解性有機ケイ素化合物は、加水分解
性の基を分子内に少なくとも1個有し、ケイ素原子に有
機基が結合した化合物であって、具体的には、次の式
(IV)で示すことができる。
The hydrolyzable organosilicon compound is a compound having at least one hydrolyzable group in the molecule and having an organic group bonded to a silicon atom. Specifically, the following formula (IV) Can be shown as

【0018】 Si(R5)q(R6)4-q (IV)Si (R 5 ) q (R 6 ) 4-q (IV)

【0019】式中、R5 は水素又は不活性な1価の有機
基を表し、R6 は加水分解可能な官能基を表し、qは0
〜3の整数を表す。
In the formula, R 5 represents hydrogen or an inert monovalent organic group, R 6 represents a hydrolyzable functional group, and q represents 0.
Represents an integer of 3;

【0020】式(IV)においてR5 で表される不活性な
1価の有機基として、典型的には、炭素数1〜4のアル
キル基、炭素数2〜4のアルケニル基、フェニルなどを
包含するアリール基などが挙げられる。またR6 で表さ
れる加水分解可能な官能基としては、例えば、メトキシ
やエトキシなどを包含する炭素数1〜5のアルコキシ
基、アセトキシやプロピオニルオキシのようなアシロキ
シ基、塩素原子や臭素原子のようなハロゲン原子、トリ
メチルシリルアミノのような置換シリルアミノ基などが
挙げられる。よく知られている加水分解性の有機ケイ素
化合物を大分類的に挙げると、アルコキシシラン化合
物、ハロゲン化シラン化合物、アシロキシシラン化合
物、シラザン化合物などがある。これらの有機ケイ素化
合物は、上記式(IV)におけるR5 又はR6 の一部とし
て、アリール基、ビニル基、アリル基、(メタ)アクリ
ロイルオキシ基、エポキシ基、アミノ基、メルカプト基
などの置換基を有していてもよい。
The inert monovalent organic group represented by R 5 in the formula (IV) is typically an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 4 carbon atoms, phenyl or the like. Included are aryl groups and the like. The hydrolyzable functional group represented by R 6 includes, for example, an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms including methoxy and ethoxy, an acyloxy group such as acetoxy and propionyloxy, a chlorine atom and a bromine atom. Examples thereof include halogen atoms and substituted silylamino groups such as trimethylsilylamino. Well-known hydrolyzable organosilicon compounds are roughly classified into alkoxysilane compounds, halogenated silane compounds, acyloxysilane compounds and silazane compounds. These organosilicon compounds are substituted with aryl groups, vinyl groups, allyl groups, (meth) acryloyloxy groups, epoxy groups, amino groups, mercapto groups, etc. as a part of R 5 or R 6 in the above formula (IV). It may have a group.

【0021】具体的な加水分解性有機ケイ素化合物とし
ては、例えば、メチルトリクロロシランのようなハロゲ
ン化シラン化合物、テトラメトキシシラン、テトラエト
キシシラン、メチルトリメトキシシラン、フェニルトリ
メトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジメチ
ルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ビニ
ルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ
−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−(β−アミ
ノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、
N−(β−アミノエチル)−γ−アミノプロピルメチル
ジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキ
シシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシ
ラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシ
シラン、γ−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメ
トキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシ
シラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシ
ランのようなアルコキシシラン化合物、ヘキサメチルジ
シラザンのようなシラザン化合物などが挙げられる。こ
れらは、それぞれ単独で、又は2種以上混合して用いる
ことができる。
Specific hydrolyzable organosilicon compounds include, for example, halogenated silane compounds such as methyltrichlorosilane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, methyltrimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane and phenyltriethoxysilane. , Dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, γ
-Aminopropyltriethoxysilane, N- (β-aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane,
N- (β-aminoethyl) -γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, γ-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloyloxypropylmethyldimethoxysilane , An alkoxysilane compound such as γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane and γ-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, a silazane compound such as hexamethyldisilazane, and the like. These can be used alone or in combination of two or more.

【0022】加水分解性の有機ケイ素化合物は、ここに
示したような単量体であってもよいし、2量体〜10量
体程度のオリゴマー又は重合度が10を超えるポリマー
のような多量体であってもよい。さらには、上記のよう
な有機ケイ素化合物が加水分解された加水分解生成物で
あってもよい。加水分解生成物は、上記有機ケイ素化合
物に、塩酸、リン酸、酢酸のような酸、又は水酸化ナト
リウム、酢酸ナトリウムのような塩基を加えることによ
り、生成させることができる。
The hydrolyzable organosilicon compound may be a monomer as shown here, or a large amount such as an oligomer of a dimer to a 10mer or a polymer having a degree of polymerization of more than 10. It may be the body. Further, it may be a hydrolysis product obtained by hydrolyzing the above-mentioned organosilicon compound. The hydrolysis product can be produced by adding an acid such as hydrochloric acid, phosphoric acid, acetic acid, or a base such as sodium hydroxide or sodium acetate to the above organosilicon compound.

【0023】また、加水分解性有機ケイ素化合物とし
て、分子中にフッ素原子を有する化合物を用いることも
できる。分子中にフッ素原子を有する加水分解性有機ケ
イ素化合物は、加水分解性の基を分子内に少なくとも1
個有し、ケイ素原子にフッ素原子を有する有機基が結合
した化合物であって、具体的には、次の式(V)で示す
ことができる。
Further, as the hydrolyzable organosilicon compound, a compound having a fluorine atom in the molecule can be used. The hydrolyzable organosilicon compound having a fluorine atom in the molecule has at least one hydrolyzable group in the molecule.
It is a compound having an organic group having a fluorine atom on a silicon atom, and specifically, it can be represented by the following formula (V).

【0024】 Rf−R7−Si(R8)r(R9)3-r (V)Rf-R 7 -Si (R 8 ) r (R 9 ) 3-r (V)

【0025】式中、Rf は炭素数1〜16の直鎖状又は
分岐状パーフルオロアルキル基、R7は2価の有機基、
8 は水素又は不活性な1価の有機基、R9 は加水分解
可能な官能基を表し、rは0〜2の整数を表す。
In the formula, Rf is a linear or branched perfluoroalkyl group having 1 to 16 carbon atoms, R 7 is a divalent organic group,
R 8 represents hydrogen or an inert monovalent organic group, R 9 represents a hydrolyzable functional group, and r represents an integer of 0 to 2.

【0026】式(V)において、R7 は2価の有機基で
あり、具体的には次のような基が挙げられる。
In the formula (V), R 7 is a divalent organic group, and specific examples include the following groups.

【0027】−CH2CH2−、−CH2OCH2CH2
2−、−CONHCH2CH2CH2−、−CONHCH
2CH2NHCH2CH2CH2−、−SO2NHCH2CH2
CH2−、−CH2CH2OCONHCH2CH2CH2
など。
--CH 2 CH 2- , --CH 2 OCH 2 CH 2 C
H 2 -, - CONHCH 2 CH 2 CH 2 -, - CONHCH
2 CH 2 NHCH 2 CH 2 CH 2 -, - SO 2 NHCH 2 CH 2
CH 2 -, - CH 2 CH 2 OCONHCH 2 CH 2 CH 2 -
Such.

【0028】また、R8 は水素又は不活性な1価の有機
基であり、具体例は、式(IV)中のR5 と同様である。
9 は加水分解可能な官能基であり、具体例は、式(I
V)中のR6 と同様である。
R 8 is hydrogen or an inert monovalent organic group, and specific examples thereof are the same as R 5 in the formula (IV).
R 9 is a hydrolyzable functional group, and a specific example thereof is represented by the formula (I
It is the same as R 6 in V).

【0029】このような式(V)で示される分子中にフ
ッ素原子を有する加水分解性有機ケイ素化合物として、
具体的には例えば、次のようなものを挙げることができ
る。
As the hydrolyzable organosilicon compound having a fluorine atom in the molecule represented by the formula (V),
Specific examples include the following.

【0030】CF3CH2CH2Si(OCH3)3 、C49
CH2CH2Si(OCH3)3 、C49CH2CH2Si(C
3)(OCH3)2 、C817CH2CH2Si(OCH3)
3 、C817CH2CH2Si(OC25)3 、C817CH
2CH2SiCl3 、(CF3)2CF(CF2)8CH2CH2
i(OCH3)3 、C1021CH2CH2Si(OCH3)3
1021CH2CH2SiCl3 など。
CF 3 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3 , C 4 F 9
CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3 , C 4 F 9 CH 2 CH 2 Si (C
H 3) (OCH 3) 2 , C 8 F 17 CH 2 CH 2 Si (OCH 3)
3 , C 8 F 17 CH 2 CH 2 Si (OC 2 H 5 ) 3 , C 8 F 17 CH
2 CH 2 SiCl 3, (CF 3) 2 CF (CF 2) 8 CH 2 CH 2 S
i (OCH 3) 3, C 10 F 21 CH 2 CH 2 Si (OCH 3) 3,
Such as C 10 F 21 CH 2 CH 2 SiCl 3.

【0031】多孔質微粒子は特に限定されないが、平均
粒径が5nm〜10μm の範囲にあるものが好ましく用い
られる。特に反射防止膜として被膜を形成する場合に
は、平均粒径が5nm〜100nmの範囲にある微粒子がよ
り好ましい。粒径があまり小さいものは工業的に製造す
ることが困難であり、また粒径があまり大きくなると、
被膜の透明性などの光学性能が低下するため、好ましく
ない。
The porous fine particles are not particularly limited, but those having an average particle diameter in the range of 5 nm to 10 μm are preferably used. In particular, when forming a film as an antireflection film, fine particles having an average particle size in the range of 5 nm to 100 nm are more preferable. If the particle size is too small, it is difficult to industrially manufacture, and if the particle size becomes too large,
It is not preferable because the optical performance such as the transparency of the coating is deteriorated.

【0032】多孔質微粒子としては、材料そのものの屈
折率が低く、かつ強度を有することから、シリカ微粒子
が好ましい。多孔質シリカは、屈折率が1.2〜1.4程
度であり、通常のシリカ微粒子の屈折率1.46 に比べ
て屈折率が低く、反射防止材料を形成するうえで好まし
い。多孔質シリカとしては、例えば、特開平 7-48527号
公報に示されるような、アルコキシシランをアルカリの
存在下で加水分解することにより得られる、高度に絡み
合って枝分かれし、ポリマー状に生成したシリカが挙げ
られる。
As the porous fine particles, silica fine particles are preferable because the material itself has a low refractive index and strength. Porous silica has a refractive index of about 1.2 to 1.4, which is lower than the refractive index of ordinary silica fine particles of 1.46, and is preferable for forming an antireflection material. The porous silica, for example, as shown in JP-A-7-48527, obtained by hydrolyzing an alkoxysilane in the presence of an alkali, highly entangled and branched, silica produced in the form of a polymer Is mentioned.

【0033】また多孔質微粒子として、表面が被覆され
た二重構造を有するシリカ又はシリカを含む複合酸化物
を用いることもできる。このような表面が被覆された二
重構造を有するシリカ又はシリカを含む複合酸化物は、
例えば、特開平 7-133105 号公報に記載される方法など
によって製造することができる。特に、表面が被覆され
て二重構造になっている多孔質シリカ微粒子は、粒子の
細孔入口が閉塞されて粒子内部の多孔性が保持されるこ
とから、好ましく用いられる。
Further, as the porous fine particles, silica having a double structure whose surface is coated or a composite oxide containing silica may be used. Such a surface-coated silica having a double structure or a composite oxide containing silica,
For example, it can be produced by the method described in JP-A-7-133105. In particular, porous silica fine particles whose surface is coated to have a double structure are preferably used because the pore inlets of the particles are closed and the porosity inside the particles is maintained.

【0034】硬化被膜を形成するために用いる組成物に
おいて、各成分の量は特に限定されないが、カチオン重
合性化合物、加水分解性有機ケイ素化合物及び多孔質微
粒子の合計量を基準に、カチオン重合性化合物が通常1
0〜70重量%、加水分解性有機ケイ素化合物が通常1
0〜70重量%、多孔質微粒子が通常20〜80重量%
の範囲である。また、カチオン重合性化合物と加水分解
性有機ケイ素化合物の合計量を基準にすると、カチオン
重合性化合物は通常20〜80重量%である。カチオン
重合性化合物の量があまり少ないか、又はあまり多い
と、硬化被膜と基材との十分な密着性が得られなくな
る。また、多孔質微粒子の量があまり少ないと、硬化被
膜の屈折率が低下せず、十分な反射防止機能が得られな
くなる場合があり、その量があまり多いと、膜としての
強度が低下する。反射防止膜として被膜を形成する場合
には、被膜の屈折率が、好ましくは1.20〜1.45、
より好ましくは1.25〜1.41となるよう、多孔質微
粒子の添加量を選択するのが好ましい。その際の添加量
は、多孔質微粒子の屈折率によっても異なるが、通常は
先述した範囲内であり、より好ましくは、15〜70重
量%である。
In the composition used for forming the cured film, the amount of each component is not particularly limited, but the cationically polymerizable compound is based on the total amount of the cationically polymerizable compound, the hydrolyzable organosilicon compound and the porous fine particles. Compound is usually 1
0 to 70% by weight, usually 1 of hydrolyzable organosilicon compound
0 to 70% by weight, porous fine particles are usually 20 to 80% by weight
Is the range. Further, based on the total amount of the cationically polymerizable compound and the hydrolyzable organosilicon compound, the amount of the cationically polymerizable compound is usually 20 to 80% by weight. If the amount of the cationically polymerizable compound is too small or too large, sufficient adhesion between the cured film and the substrate cannot be obtained. On the other hand, if the amount of the porous fine particles is too small, the refractive index of the cured coating may not be lowered, and a sufficient antireflection function may not be obtained. If the amount is too large, the strength of the film will be reduced. When a film is formed as an antireflection film, the refractive index of the film is preferably 1.20 to 1.45,
It is preferable to select the addition amount of the porous fine particles so that it is more preferably 1.25 to 1.41. The addition amount at that time varies depending on the refractive index of the porous fine particles, but is usually within the range described above, and more preferably 15 to 70% by weight.

【0035】本発明に用いる基材は、透明なものであれ
ば特に限定されないが、例えば、ポリメチルメタクリレ
ート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン、メチ
ルメタクリレート−スチレン共重合体樹脂、アクリロニ
トリル−スチレン共重合体樹脂、トリアセチルセルロー
ス樹脂のような樹脂基材、また無機ガラスのような無機
基材などが挙げられる。特に、メチルメタクリレート−
スチレン共重合体は、吸湿による伸縮が小さく、反射防
止板の基材として適している。
The substrate used in the present invention is not particularly limited as long as it is transparent, but for example, polymethylmethacrylate resin, polycarbonate resin, polystyrene, methylmethacrylate-styrene copolymer resin, acrylonitrile-styrene copolymer resin. Resin base materials such as triacetyl cellulose resin, and inorganic base materials such as inorganic glass. In particular, methyl methacrylate-
The styrene copolymer has a small expansion and contraction due to moisture absorption and is suitable as a base material of an antireflection plate.

【0036】基材は、板(シート)やフィルムなどのよ
うに、表面が平らなものであってもよいし、凸レンズや
凹レンズなどのように、表面が曲率を有する基材であっ
てもよい。また、表面に細かな凹凸が設けられていても
よい。樹脂基材である場合には、その表面にハードコー
ト層などの他の被膜が形成されていてもよい。
The substrate may have a flat surface such as a plate (sheet) or film, or may have a curved surface such as a convex lens or a concave lens. . In addition, fine irregularities may be provided on the surface. In the case of a resin base material, another coating such as a hard coat layer may be formed on the surface thereof.

【0037】カチオン重合性化合物と加水分解性有機ケ
イ素化合物と多孔質微粒子とを含む組成物を基材上に塗
布するためには、これらの各成分を含有する塗料として
構成する必要がある。塗料には通常、カチオン重合性化
合物と加水分解性有機ケイ素化合物と多孔質微粒子の他
に、重合開始剤や触媒、溶剤、また必要により各種添加
剤が含まれる。
In order to apply a composition containing a cationically polymerizable compound, a hydrolyzable organosilicon compound and porous fine particles onto a substrate, it is necessary to form a coating composition containing each of these components. In general, the coating material contains a polymerization initiator, a catalyst, a solvent and, if necessary, various additives in addition to the cationically polymerizable compound, the hydrolyzable organosilicon compound and the porous fine particles.

【0038】重合開始剤は、硬化被膜を形成するために
必要である。カチオン重合性化合物の重合開始剤として
は、紫外線を照射することでカチオンを発生する化合物
が用いられる。かかる開始剤としては、例えば、次の各
式で示される、ジアゾニウム塩、スルホニウム塩、ヨー
ドニウム塩などのオニウム塩が好適に使用される。
The polymerization initiator is necessary for forming a cured film. As the polymerization initiator of the cationically polymerizable compound, a compound that generates a cation when irradiated with ultraviolet rays is used. As such an initiator, for example, onium salts represented by the following formulas, such as diazonium salts, sulfonium salts, and iodonium salts, are preferably used.

【0039】ArN2 +- 、(R)3+- 、(R)2
+-
ArN 2 + Z , (R) 3 S + Z , (R) 2
I + Z -

【0040】式中、Arはアリール基を表し、Rはアリ
ール基又は炭素数1〜20のアルキル基を表し、一分子
内にRが複数回現れる場合は、それぞれ同一でも異なっ
ていてもよく、Z- は非塩基性でかつ非求核性の陰イオ
ンを表す。
In the formula, Ar represents an aryl group, R represents an aryl group or an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, and when R appears a plurality of times in one molecule, they may be the same or different, Z represents a non-basic and non-nucleophilic anion.

【0041】上記各式において、Ar又はRで表される
アリール基も、典型的にはフェニルやナフチルであり、
これらは適当な基で置換されていてもよい。また、Z-
で表される陰イオンとして具体的には、テトラフルオロ
ボレートイオン(BF4 -)、テトラキス(ペンタフルオ
ロフェニル)ボレートイオン(B(C65)4 -)、ヘキサ
フルオロホスフェートイオン(PF6 -)、ヘキサフルオ
ロアーセネートイオン(AsF6 -)、ヘキサフルオロア
ンチモネートイオン(SbF6 -)、ヘキサクロロアンチ
モネートイオン(SbCl6 -)、硫酸水素イオン(HS
4 -)、過塩素酸イオン(ClO4 -)などが挙げられ
る。
In each of the above formulas, the aryl group represented by Ar or R is also typically phenyl or naphthyl,
These may be substituted with a suitable group. In addition, Z -
Specific examples of the anion represented by: tetrafluoroborate ion (BF 4 ), tetrakis (pentafluorophenyl) borate ion (B (C 6 F 5 ) 4 ), hexafluorophosphate ion (PF 6 −). ), Hexafluoroarsenate ion (AsF 6 ), hexafluoroantimonate ion (SbF 6 ), hexachloroantimonate ion (SbCl 6 ), hydrogen sulfate ion (HS
O 4 ), perchlorate ion (ClO 4 ), and the like.

【0042】これらのカチオン重合開始剤の多くは市販
されているので、そのような市販品を用いることができ
る。市販のカチオン重合開始剤としては、例えば、ダウ
ケミカル日本(株)から販売されている“サイラキュア
UVI-6990 ”、それぞれ旭電化工業(株)から販売され
ている“アデカオプトマー SP-150”及び “アデカオプ
トマー SP-170”、ローディアジャパン(株)から販売
されている“RHODORSILPHOTOINITIATOR 2074”などを挙
げることができる。
Since many of these cationic polymerization initiators are commercially available, such commercially available products can be used. Examples of commercially available cationic polymerization initiators include “Cyracure” sold by Dow Chemical Japan Co., Ltd.
"UVI-6990", "Adeka Optomer SP-150" and "Adeka Optomer SP-170" sold by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd., "RHODORSILPHOTOINITIATOR 2074" sold by Rhodia Japan KK, etc. Can be mentioned.

【0043】開始剤は、カチオン重合性化合物100重
量部に対し、通常 0.1〜20重量部程度、好ましくは
0.5〜10重量部程度の割合で添加される。開始剤の
量があまり少ないと、カチオン重合性化合物の紫外線重
合性が十分に発揮されず、またその量があまり多くなっ
ても、増量効果が認められず、経済的に不利であるとと
もに、被膜の光学特性の低下をきたす可能性があるの
で、好ましくない。
The initiator is usually added in an amount of about 0.1 to 20 parts by weight, preferably 0.5 to 10 parts by weight, based on 100 parts by weight of the cationically polymerizable compound. When the amount of the initiator is too small, the ultraviolet polymerizable property of the cationically polymerizable compound is not sufficiently exhibited, and even when the amount is too large, the amount increasing effect is not recognized, which is economically disadvantageous and the coating film It is not preferable because it may cause deterioration of optical characteristics.

【0044】また、加水分解性有機ケイ素化合物の硬化
を促進するために、酸や、有機金属化合物、金属イオン
などの硬化触媒を含有させてもよい。
Further, in order to accelerate the curing of the hydrolyzable organosilicon compound, a curing catalyst such as an acid, an organometallic compound or a metal ion may be contained.

【0045】溶剤は、塗料の濃度や粘度、硬化後の膜厚
などを調整するために使用される。用いる溶剤は、適宜
選択すればよいが、例えば、メタノール、エタノール、
プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、2
−ブタノール、イソブタノール、tert−ブタノールのよ
うなアルコール類、2−エトキシエタノール、2−ブト
キシエタノール、3−メトキシプロパノール、1−メト
キシ−2−プロパノール、1−エトキシ−2−プロパノ
ールのようなアルコキシアルコール類、ジアセトンアル
コールのようなケトール類、アセトン、メチルエチルケ
トン、メチルイソブチルケトンのようなケトン類、トル
エン、キシレンのような芳香族炭化水素類、酢酸エチ
ル、酢酸ブチルのようなエステル類などが挙げられる。
溶剤の使用量は、基材の材質、形状、塗布方法、目的と
する被膜の膜厚などに応じて適宜選択されるが、通常
は、カチオン重合性化合物と加水分解性有機ケイ素化合
物と多孔質微粒子の合計100重量部あたり、 20〜
10,000重量部程度の範囲である。
The solvent is used for adjusting the concentration and viscosity of the coating material, the film thickness after curing, and the like. The solvent used may be appropriately selected, for example, methanol, ethanol,
Propanol, isopropanol, n-butanol, 2
-Alcohols such as butanol, isobutanol, tert-butanol, alkoxy alcohols such as 2-ethoxyethanol, 2-butoxyethanol, 3-methoxypropanol, 1-methoxy-2-propanol, 1-ethoxy-2-propanol , Ketols such as diacetone alcohol, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, esters such as ethyl acetate and butyl acetate, etc. .
The amount of the solvent used is appropriately selected according to the material of the substrate, the shape, the coating method, the film thickness of the target coating, etc., but is usually a cationically polymerizable compound, a hydrolyzable organosilicon compound and a porous material. 20 to about 100 parts by weight in total of fine particles
It is in the range of about 10,000 parts by weight.

【0046】また、塗料中には、安定化剤、酸化防止
剤、着色剤、レベリング剤などの添加剤が含有されてい
てもよい。特に、シリコーンオイルは、レベリング性を
向上させるだけでなく、硬化被膜の表面の滑り性も向上
させ、表面硬度も向上させる効果があるので、添加する
のが好ましい。
Further, the coating material may contain additives such as a stabilizer, an antioxidant, a coloring agent and a leveling agent. In particular, silicone oil is effective in improving not only the leveling property but also the slipperiness of the surface of the cured film and the surface hardness, and therefore it is preferably added.

【0047】シリコーンオイルとしては、通常のものが
使用でき、具体的には、ジメチルシリコーンオイル、フ
ェニルメチルシリコーンオイル、アルキル・アラルキル
変性シリコーオイル、フルオロシリコーンオイル、ポリ
エーテル変性シリコーンオイル、脂肪酸エステル変性シ
リコーンオイル、メチル水素シリコーンオイル、シラノ
ール基含有シリコーンオイル、アルコキシ基含有シリコ
ーンオイル、フェノール基含有シリコーンオイル、メタ
クリル変性シリコーンオイル、アミノ変性シリコーンオ
イル、カルボン酸変性シリコーンオイル、カルビノール
変性シリコーンオイル、エポキシ変性シリコーンオイ
ル、メルカプト変性シリコーンオイル、フッ素変性シリ
コーンオイル、ポリエーテル変性シリコーンオイルなど
が例示される。これらシリコーンオイルは、それぞれ単
独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。シリ
コーンオイルの添加量は通常、カチオン重合性化合物、
加水分解性有機ケイ素化合物及び多孔質微粒子の合計1
00重量部に対し、0〜20重量部である。その量が2
0重量部より多いと、光学性能や膜強度が低下するた
め、好ましくない。
As the silicone oil, usual ones can be used, and specifically, dimethyl silicone oil, phenylmethyl silicone oil, alkyl / aralkyl modified silicone oil, fluorosilicone oil, polyether modified silicone oil, fatty acid ester modified silicone. Oil, methyl hydrogen silicone oil, silanol group-containing silicone oil, alkoxy group-containing silicone oil, phenol group-containing silicone oil, methacryl-modified silicone oil, amino-modified silicone oil, carboxylic acid-modified silicone oil, carbinol-modified silicone oil, epoxy-modified silicone Examples thereof include oil, mercapto-modified silicone oil, fluorine-modified silicone oil, and polyether-modified silicone oil. These silicone oils may be used alone or in combination of two or more. The amount of silicone oil added is usually a cationically polymerizable compound,
Total of hydrolyzable organosilicon compound and porous fine particles 1
It is 0 to 20 parts by weight with respect to 00 parts by weight. The amount is 2
If the amount is more than 0 parts by weight, the optical performance and the film strength are deteriorated, which is not preferable.

【0048】以上説明したような塗料を基材の表面に塗
布することにより、カチオン重合性化合物、加水分解性
有機ケイ素化合物及び多孔質微粒子からなる被膜が形成
される。基材の表面に塗料を塗布するにあたっては、通
常と同様の方法、例えば、マイクログラビアコート法、
ロールコート法、ディッピングコート法、フローコート
法、スピンコート法、ダイコート法、キャスト転写法、
スプレーコート法などの方法により塗布すればよい。
By coating the surface of the substrate with the coating material as described above, a coating film composed of the cationically polymerizable compound, the hydrolyzable organosilicon compound and the porous fine particles is formed. In applying the coating material to the surface of the substrate, the same method as usual, for example, microgravure coating method,
Roll coating method, dipping coating method, flow coating method, spin coating method, die coating method, cast transfer method,
It may be applied by a method such as a spray coating method.

【0049】次いで、この被膜を紫外線照射及び加熱に
より硬化させる。塗料が溶剤を含有する場合には、硬化
は、被膜が溶剤を含有した状態のまま行ってもよいし、
溶剤を揮発させた後に行ってもよい。溶剤を揮発させる
場合には、室温で放置してもよいし、30〜100℃程
度で加熱乾燥してもよい。乾燥時間は、基材の材質、形
状、塗布方法、目的とする被膜の膜厚などに応じて適宜
選択される。加熱硬化と紫外線硬化は、どちらを先に行
ってもよく、また、加熱硬化、紫外線照射の順に行った
後、さらに加熱するといったように、加熱硬化を紫外線
照射の前後に行うことも可能である。
Next, this coating is cured by irradiation with ultraviolet rays and heating. When the paint contains a solvent, curing may be carried out while the film contains the solvent,
You may carry out after volatilizing a solvent. When the solvent is volatilized, it may be left at room temperature or may be dried by heating at about 30 to 100 ° C. The drying time is appropriately selected according to the material and shape of the base material, the coating method, the desired film thickness of the coating film, and the like. Either the heat curing or the UV curing may be performed first, or the heat curing may be performed before or after the UV irradiation, such as performing the heat curing and the UV irradiation in this order, and then further heating. .

【0050】被膜の加熱による硬化において、加熱温度
と時間は特に限定されないが、通常は50〜120℃の
温度範囲で1分〜5時間程度が適用される。塗料が溶剤
を含有する場合、加熱硬化は、被膜が溶剤を含有した状
態のまま行ってもよいし、溶剤を揮発させた後に行って
もよい。
In the curing of the coating film by heating, the heating temperature and the heating time are not particularly limited, but usually a temperature range of 50 to 120 ° C. for about 1 minute to 5 hours is applied. When the coating material contains a solvent, the heat curing may be carried out while the coating film contains the solvent, or after the solvent is volatilized.

【0051】紫外線照射における紫外線の照射時間は特
に限定されないが、通常は 0.1〜60秒程度の範囲で
ある。紫外線は通常、10〜40℃程度の雰囲気下で照
射することができる。照射する紫外線の照射エネルギー
は、通常 50〜3,000mJ/cm2 程度である。紫外線
の照射量があまり少ないと、硬化が不十分となり、膜の
強度が低下する。また紫外線の照射量があまり多くなる
と、被膜や基材が劣化し、光学特性や機械物性の低下を
きたす可能性があるので、好ましくない。
The irradiation time of ultraviolet rays in the ultraviolet irradiation is not particularly limited, but is usually in the range of about 0.1 to 60 seconds. Ultraviolet rays can be usually irradiated in an atmosphere of about 10 to 40 ° C. The irradiation energy of ultraviolet rays to be irradiated is usually about 50 to 3,000 mJ / cm 2 . If the irradiation amount of ultraviolet rays is too small, curing will be insufficient and the strength of the film will decrease. On the other hand, if the irradiation amount of ultraviolet rays is too large, the coating film or the base material may be deteriorated and the optical characteristics and mechanical properties may be deteriorated, which is not preferable.

【0052】紫外線照射によって硬化被膜を形成した
後、その前に加熱硬化処理を行わなかった場合は、ここ
で加熱硬化処理が施され、また紫外線照射前に加熱硬化
を行った場合であっても、ここでさらに加熱硬化処理を
施してもよい。この場合の加熱温度と時間は適宜選択さ
れるが、通常50〜120℃で30分〜24時間程度で
ある。
After the cured film is formed by irradiation with ultraviolet rays, if the heat curing treatment is not performed before that, even if the heat curing treatment is performed here, or even if the heat curing is performed before the ultraviolet ray irradiation. A heat curing treatment may be further performed here. The heating temperature and time in this case are appropriately selected, but are usually about 50 minutes to 120 ° C. and about 30 minutes to 24 hours.

【0053】形成された硬化被膜は、膜厚が通常0.0
1〜1μmの範囲となるようにするのが好ましい。膜厚
が0.01μmに満たなくても1μm を超えても、反射防
止膜としての機能が低下しやすい。
The cured film formed usually has a thickness of 0.0.
It is preferable that the thickness is in the range of 1 to 1 μm. If the film thickness is less than 0.01 μm or more than 1 μm, the function as an antireflection film is likely to deteriorate.

【0054】[0054]

【実施例】以下、実施例により本発明をさらに詳細に説
明するが、本発明はこれらの実施例によって限定される
ものではない。例中、含有量ないし使用量を表す%及び
部は、特記ないかぎり重量基準である。また、実施例で
得た基材は、以下の方法で反射率を評価した。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to examples below, but the present invention is not limited to these examples. In the examples,% and parts indicating the content or the amount used are based on weight unless otherwise specified. The reflectance of the base material obtained in each example was evaluated by the following method.

【0055】〔反射率の測定方法〕基材の測定面側とは
反対側の面をスチールウールで粗面化し、黒色ペンキを
塗って乾燥し、次いで測定面の入射角度5°における絶
対鏡面反射スペクトルを紫外線可視分光光度計〔“UV-3
100 ”、(株)島津製作所製〕を用いて測定し、反射率
が最小値を示す波長とその反射率の最小値を求めた。
[Method of Measuring Reflectance] The surface of the base material opposite to the measurement surface side is roughened with steel wool, coated with black paint and dried, and then absolute specular reflection at an incident angle of 5 ° on the measurement surface. Spectra for UV-Visible Spectrophotometer ["UV-3
100 ", manufactured by Shimadzu Corporation], and the wavelength at which the reflectance is minimum and the minimum value of the reflectance were obtained.

【0056】実施例1 表面がエチルシリケートの加水分解物で被覆された粒径
20〜70nmの多孔質シリカ微粒子をイソプロピルアル
コール中に20%分散させたゾルを80部、オキセタン
化合物として3−エチル−3−〔{3−(トリエトキシ
シリル)プロポキシ}メチル〕オキセタン〔式(III) に
おいて、R1=エチル、R4=エトキシ、n=3、p=0
の化合物〕の加水分解縮合物であるオキセタニルシルセ
スキオキサンを12部、光カチオン重合開始剤“RHODOR
SIL PHOTOINITIATOR 2074 ”〔化学名:p−クミル−p
−トリルヨードニウム テトラキス(ペンタフルオロフ
ェニル)ボレート、ローディアジャパン(株)から入
手〕を 1.5部、加水分解性有機ケイ素化合物としてテ
トラエトキシシランを12部、 0.1N−塩酸を12
部、メチルハイドロジェンシリコーンオイル“KF99”
(信越化学工業(株)から入手)を1.5部、イソプロ
ピルアルコールを1,681部、及び2−ブトキシエタ
ノールを200部混合し、分散させて塗料を得た。
Example 1 80 parts of a sol in which 20% of a porous silica fine particle having a particle size of 20 to 70 nm, the surface of which was coated with a hydrolyzate of ethyl silicate, was dispersed in isopropyl alcohol, and 3-ethyl-as an oxetane compound was used. 3-[{3- (triethoxysilyl) propoxy} methyl] oxetane [in formula (III), R 1 = ethyl, R 4 = ethoxy, n = 3, p = 0
[Compound of], 12 parts of oxetanyl silsesquioxane, which is a hydrolyzed condensate, and a photocationic polymerization initiator “RHODOR
SIL PHOTOINITIATOR 2074 "[Chemical name: p-cumyl-p
-Tolyliodonium tetrakis (pentafluorophenyl) borate, obtained from Rhodia Japan Ltd.], 1.5 parts, 12 parts of tetraethoxysilane as a hydrolyzable organosilicon compound, and 12 parts of 0.1N-hydrochloric acid.
Part, methyl hydrogen silicone oil "KF99"
1.5 parts (obtained from Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), 1,681 parts of isopropyl alcohol, and 200 parts of 2-butoxyethanol were mixed and dispersed to obtain a paint.

【0057】この塗料に、スチレン単位を約40%含む
メチルメタクリレート−スチレン共重合体樹脂板〔日本
アクリエース(株)製の“アクリエースMS”〕を浸漬
し、引上速度24cm/min でディップ塗布して、室温で
5分以上乾燥させた後、80℃で20分間加熱処理を行
った。その後、高圧水銀ランプ〔ウシオ電機(株)製の
“UVC-3533”〕により約1,000mJ/cm2のエネルギー
で紫外線を照射して、反射防止性能を有する透明基材を
得た。この透明基材の評価結果を表1に示した。この基
材の被膜について、反射スペクトルから屈折率を計算す
ると1.38 であり、同じく反射スペクトルから計算し
た膜厚は112nmであった。この基材は、干渉色による
反射光の着色が少なかった。
A methylmethacrylate-styrene copolymer resin plate ["Acryace MS" manufactured by Nippon Acreace Co., Ltd.] containing about 40% of styrene units was dipped in this coating material and dip-coated at a pulling speed of 24 cm / min. After drying at room temperature for 5 minutes or more, heat treatment was performed at 80 ° C. for 20 minutes. Then, a high pressure mercury lamp [“UVC-3533” manufactured by USHIO INC.] Was irradiated with ultraviolet rays at an energy of about 1,000 mJ / cm 2 to obtain a transparent substrate having antireflection properties. The evaluation results of this transparent substrate are shown in Table 1. With respect to the coating film of this substrate, the refractive index calculated from the reflection spectrum was 1.38, and the film thickness similarly calculated from the reflection spectrum was 112 nm. This base material was less colored by the reflected light due to the interference color.

【0058】実施例2 塗料の組成を次のように変えた以外は、実施例1と同様
にして、反射防止性能を有する透明基材を作製した。
Example 2 A transparent base material having antireflection performance was produced in the same manner as in Example 1 except that the composition of the coating material was changed as follows.

【0059】 実施例1と同じ多孔質シリカ微粒子の20%ゾル 120部 実施例1と同じオキセタン化合物 8部 実施例1と同じ光カチオン重合開始剤 1.5部 テトラエトキシシラン 8部 0.1N−塩酸 8部 実施例1と同じシリコーンオイル 1.5部 イソプロピルアルコール 1,653部 2−ブトキシエタノール 200部[0059] 120 parts of 20% sol of the same porous silica fine particles as in Example 1 8 parts of the same oxetane compound as in Example 1 1.5 parts of the same cationic photopolymerization initiator as in Example 1 Tetraethoxysilane 8 parts 0.1 N-hydrochloric acid 8 parts 1.5 parts of the same silicone oil as in Example 1 Isopropyl alcohol 1,653 parts 2-Butoxyethanol 200 parts

【0060】得られた透明基材の評価結果を表1に示し
た。この基材の被膜について、反射スペクトルから屈折
率を計算すると1.34 であり、同じく反射スペクトル
から計算した膜厚は108nmであった。この基材も、干
渉色による反射光の着色が少なかった。
Table 1 shows the evaluation results of the obtained transparent substrate. With respect to the coating film of this substrate, the refractive index calculated from the reflection spectrum was 1.34, and the film thickness calculated from the reflection spectrum was 108 nm. This substrate was also less colored by the reflected light due to the interference color.

【0061】[0061]

【表1】 [Table 1]

【0062】[0062]

【発明の効果】本発明の硬化被膜を有する透明基材は、
反射防止性能にすぐれ、かつ反射光の干渉による着色も
小さいので、ディスプレイ等の保護板として有用であ
る。
The transparent substrate having the cured coating of the present invention is
It has excellent anti-reflection properties and little coloring due to interference of reflected light, and is useful as a protective plate for displays and the like.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G02B 1/11 G02B 1/10 A Fターム(参考) 2K009 AA04 BB02 BB13 BB24 CC09 CC33 CC42 DD02 DD05 DD06 4F100 AA20B AA20H AA33B AA33H AH06B AK01B AK12 AK25 AK53B AK80B AL01 AL05B AT00A BA02 DE10B EH46 EH462 EJ42 EJ422 EJ54 EJ542 EJ82 EJ822 EJ86 EJ862 GB41 JB12B JM02B JN01 JN06B JN18B YY00B 4J038 DB002 DF021 DL031 DL051 DL081 DL091 DL101 DL171 GA15 HA446 NA01 NA19 PC08 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) G02B 1/11 G02B 1/10 A F term (reference) 2K009 AA04 BB02 BB13 BB24 CC09 CC33 CC42 DD02 DD05 DD06 4F100 AA20B AA20H AA33B AA33H AH06B AK01B AK12 AK25 AK53B AK80B AL01 AL05B AT00A BA02 DE10B EH46 EH462 EJ42 DLEJ01 NA02 DL08 DL01 DL01NA01 BN01B001BJ0101002BJ0101002BJ0101002BJ0101002BJ0101002BJ0101002BJ01JB06BJ01JN06BBN18B4

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】基材表面に、カチオン重合性化合物と、加
水分解性有機ケイ素化合物と、多孔質微粒子とを含む組
成物からの硬化被膜が形成されていることを特徴とする
透明基材。
1. A transparent substrate having a cured coating formed from a composition containing a cationically polymerizable compound, a hydrolyzable organosilicon compound and porous fine particles on the surface of the substrate.
【請求項2】カチオン重合性化合物が、オキセタン化合
物及びエポキシ化合物から選ばれる請求項1に記載の透
明基材。
2. The transparent substrate according to claim 1, wherein the cationically polymerizable compound is selected from an oxetane compound and an epoxy compound.
【請求項3】カチオン重合性化合物が、分子内にシリル
基を有するオキセタン化合物又はその加水分解縮合物を
主成分とする請求項2に記載の透明基材。
3. The transparent substrate according to claim 2, wherein the cationically polymerizable compound contains an oxetane compound having a silyl group in the molecule or a hydrolyzed condensate thereof as a main component.
【請求項4】多孔質微粒子が、シリカ微粒子である請求
項1〜3のいずれかに記載の透明基材。
4. The transparent substrate according to claim 1, wherein the porous fine particles are silica fine particles.
【請求項5】多孔質微粒子が、表面を被覆された二重構
造を有するシリカ又はシリカを含む複合酸化物である請
求項1〜3のいずれかに記載の透明基材。
5. The transparent substrate according to claim 1, wherein the porous fine particles are silica or a complex oxide containing silica having a double structure whose surface is coated.
【請求項6】硬化被膜が、1.20〜1.45の屈折率及
び0.01〜1μmの膜厚を有し、反射防止機能を有する
被膜である請求項1〜5のいずれかに記載の透明基材。
6. The cured film as claimed in claim 1, which has a refractive index of 1.20 to 1.45 and a film thickness of 0.01 to 1 μm and has an antireflection function. Transparent substrate.
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