JP2000187102A - Antireflection material and polarizing film using the same - Google Patents

Antireflection material and polarizing film using the same

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JP2000187102A
JP2000187102A JP11286321A JP28632199A JP2000187102A JP 2000187102 A JP2000187102 A JP 2000187102A JP 11286321 A JP11286321 A JP 11286321A JP 28632199 A JP28632199 A JP 28632199A JP 2000187102 A JP2000187102 A JP 2000187102A
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hard coat
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an antireflection material and a polarizing film which has a multilayered structure having a hard coating layer with high refractive index and excellent layer strength so that reflection of external light such as sun rays and light from a fluorescent lamp on a display is prevented, that each layer which constitutes the antireflection material has high strength and high wear resistance, and that when the film is used for a touch panel or the like, it has durability. SOLUTION: A hard coating layer 12 is formed directly or with other layers interposed on one or both surfaces of a transparent base body 11, and a surface layer which is extremely thin and has a lower refractive index than the refractive index of the hard coating layer 12 is formed on the surface of the hard coating layer 12. The hard coating layer 12 contains a polymer having a (meth) acrylate compd. having at least a fluorene skeleton as the polymer component.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶ディスプレイ
(LCD)、プラズマディスプレイ(PDP)、CR
T、EL等の画像表示体等に好適に用いられ、特に、画
像部の防汚性、反射防止、耐薬品性、耐摩耗性に優れた
反射防止材料およびそれを使用した偏光フィルムに関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display (LCD), a plasma display (PDP),
The present invention relates to an antireflection material which is suitably used for an image display such as T, EL and the like, and is particularly excellent in antifouling property, antireflection, chemical resistance and abrasion resistance of an image portion, and a polarizing film using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】LCD、PDP、CRT、ELに代表さ
れる画像表示装置(以下、これを「ディスプレイ」とい
う。)は、テレビやコンピューターを始めとして、様々
な分野で繁用されており、目覚ましい発展を遂げてい
る。最近は、携帯電話、PHS、その他各種携帯端末分
野への普及に期待が集まっている。
2. Description of the Related Art Image display devices such as LCDs, PDPs, CRTs and ELs (hereinafter referred to as "displays") are widely used in various fields including televisions and computers, and are remarkable. Has evolved. In recent years, expectations are growing for the spread to mobile phones, PHS, and other various types of mobile terminals.

【0003】携帯端末用のディスプレイとしては、軽
量、コンパクト、汎用性等の特徴を有するLCDが市場
を独占するものと考えられているが、これらの携帯端末
にはタッチパネルを搭載し、プラスチックのペンや指で
直接触れて操作するものが主流になってきている。その
ため、ディスプレイ表面への耐摩耗性、耐薬品性、汚れ
防止に対する要求が高まっている。また、これらの機器
を屋外での使用も含めた比較的明るいところで使用する
場合の太陽光や蛍光灯等の外部光のディスプレイへの映
り込みを防止すること、すなわち反射防止に対する要求
も強くなっている。これらの要求は、現在、携帯端末機
器に限らず、小型から大型に至る様々なディスプレイに
波及している。
As displays for portable terminals, LCDs having features such as light weight, compactness and versatility are considered to dominate the market. However, these portable terminals are equipped with a touch panel and a plastic pen. What is operated by directly touching with a finger or a finger is becoming mainstream. Therefore, demands for abrasion resistance, chemical resistance, and prevention of dirt on the display surface are increasing. In addition, when these devices are used in relatively bright places including outdoor use, there is a strong demand for preventing reflection of external light such as sunlight or fluorescent light on a display, that is, antireflection. I have. At present, these demands are spreading not only to portable terminal devices but also to various displays ranging from small to large.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】この問題を解決するた
め、ディスプレイの表面に屈折率の高い層を積層し、こ
の上に屈折率の低い層を積層した多層構成を形成するこ
とにより、ディスプレイの最表面の反射率を抑える方法
が開発された。屈折率の低い層の材料としてはMgFや
SiOなど、屈折率が高い層の材料としてはTi
、ZrOなどが挙げられ、通常これらの材料は蒸
着やスパッタリングなどの気相法や、ゾルゲル法等によ
り積層される。しかしながら、気相法は、加工装置が高
価で、大面積の加工に向かず、ゾルゲル法は塗布、焼成
を繰り返すため経済性に問題があった。また、成膜方法
としては、ウェットコーティング法で膜形成する提案も
なされているが、特性上必要な10nmオーダーでの膜
厚コントロールが現状不充分で、色ムラ(干渉ムラ)等
の問題があった。
In order to solve this problem, a high-refractive-index layer is laminated on the surface of a display, and a low-refractive-index layer is laminated thereon to form a multilayer structure. A method has been developed to reduce the reflectivity of the outermost surface. The material for the low refractive index layer is MgF or SiO 2, and the material for the high refractive index layer is Ti.
O 2 , ZrO 2 and the like can be mentioned, and these materials are usually laminated by a vapor phase method such as vapor deposition or sputtering, or a sol-gel method. However, the vapor phase method is expensive in processing equipment and is not suitable for processing a large area, and the sol-gel method has a problem in economical efficiency because coating and firing are repeated. As a film forming method, there has been proposed a method of forming a film by a wet coating method. However, at present, film thickness control on the order of 10 nm required for characteristics is insufficient, and there are problems such as color unevenness (interference unevenness). Was.

【0005】ポリエチレンテレフタレート(PET)の
ような透明基体上に、ペンや指で直接触れて操作するタ
ッチパネルなどを設け、この表面に上記で述べたような
反射防止層を設けた反射防止フィルムを貼り合わせて使
用するような場合は、高度の耐摩耗性、耐薬品性、汚れ
防止が要求される。通常、これらの特性を満足するため
に、前記反射防止層には、ハードコート層が設けられて
いる。反射防止フィルムの反射防止特性を良くするため
には、このハードコート層も屈折率制御する必要があ
る。
On a transparent substrate such as polyethylene terephthalate (PET), a touch panel or the like operated by directly touching with a pen or a finger is provided, and an anti-reflection film provided with an anti-reflection layer as described above on this surface is attached. When used together, a high degree of wear resistance, chemical resistance, and contamination prevention are required. Usually, in order to satisfy these characteristics, the antireflection layer is provided with a hard coat layer. In order to improve the antireflection characteristics of the antireflection film, it is necessary to control the refractive index of this hard coat layer as well.

【0006】光学的に考えれば、ハードコート層を高屈
折率化し、その上にハードコート層より低い屈折率の層
を設けることが必要となるが、ハードコート層の高屈折
率化と反射防止フィルムとしての耐摩耗性や耐薬品性等
の耐久性を満足することは非常に困難である。
From an optical point of view, it is necessary to increase the refractive index of the hard coat layer and provide a layer having a lower refractive index than that of the hard coat layer. It is very difficult to satisfy durability such as abrasion resistance and chemical resistance as a film.

【0007】ハードコート層に用いる樹脂としては、通
常、透明な熱硬化型樹脂、熱可塑性樹脂、放射線硬化型
樹脂などが用いられている。また、必要に応じてこれら
の樹脂に、架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進
剤、溶剤、粘度調整剤等が加えられている。ハードコー
ト層の屈折率を高くするためには、高い屈折率を有する
超微粒子をフィラーとしてバインダー樹脂に添加するこ
とによって行うか、高屈折率を持つバインダー樹脂を使
用するか、またはこれらを併用することによって行われ
ている。しかしながら、より高い屈折率をめざしフィラ
ーの含有量を多くすると、ハードコート層の硬さが低下
するため、耐久性に問題が生じる。よって、この場合、
フィラーの含有量が少なくて済み、かつ、高い屈折率を
持つバインダー樹脂を用いることが望まれる。
As the resin used for the hard coat layer, a transparent thermosetting resin, a thermoplastic resin, a radiation curing resin, or the like is usually used. Further, a curing agent such as a crosslinking agent and a polymerization initiator, a polymerization accelerator, a solvent, a viscosity modifier and the like are added to these resins as needed. In order to increase the refractive index of the hard coat layer, it is performed by adding ultrafine particles having a high refractive index to the binder resin as a filler, or using a binder resin having a high refractive index, or using these together. It is done by that. However, when the content of the filler is increased to achieve a higher refractive index, the hardness of the hard coat layer decreases, and thus a problem occurs in durability. So, in this case,
It is desirable to use a binder resin having a low filler content and a high refractive index.

【0008】高屈折率を持つバインダー樹脂としては、
F以外のハロゲン原子や芳香族環、または、S、N、P
原子等の高屈折率成分を含む樹脂が挙げられる。しかし
ながら、上記の樹脂は、屈折率が高くなる反面、塗料中
での安定性に問題があり、さらに、脆くなり易く、耐擦
傷性、耐光性、着色等においても問題がある。したがっ
て、現時点では高屈折率と耐久性を共に満足するハード
コート層形成材料として好適なものは提供されていない
のが実情である。
[0008] As a binder resin having a high refractive index,
Halogen atoms other than F, aromatic rings, or S, N, P
Resins containing a high refractive index component such as atoms can be used. However, while the above-mentioned resins have a high refractive index, they have a problem in stability in a paint, and are liable to be brittle, and have problems in scratch resistance, light resistance, coloring, and the like. Therefore, at present, a material suitable for forming a hard coat layer satisfying both high refractive index and durability has not been provided yet.

【0009】本発明は、従来技術における上記した実情
に鑑みてなされたもので、高屈折率を有し、かつ、耐久
性に優れたハードコート層を備えた多層構成により、デ
ィスプレイへの太陽光および蛍光灯等の外部光の映り込
みを防止し、優れた反射防止性を発揮し、かつ、画像コ
ントラストを低下させることなく、ギラツキ等のない鮮
明な画像を得ることができ、光学的に安定で優れた耐薬
品性を示すのは勿論のこと、反射防止材料を構成する各
層の強度が高く耐摩耗性に優れ、タッチパネル等に用い
ても耐久性のある反射防止材料を提供することを目的と
している。また、本発明は、上記反射防止材料を使用し
た偏光フィルムを提供することも目的としており、これ
により、特に、フルカラー液晶ディスプレイ等の性能を
大幅に向上させることを目的としている。
The present invention has been made in view of the above-mentioned circumstances in the prior art, and has a multi-layer structure including a hard coat layer having a high refractive index and excellent durability. And prevents reflection of external light such as fluorescent lamps, etc., exhibits excellent anti-reflection properties, and can provide clear images without glare without lowering image contrast, and are optically stable. The purpose of the present invention is to provide an anti-reflective material that has excellent chemical resistance, high strength of each layer constituting the anti-reflective material, excellent abrasion resistance, and durability even when used for a touch panel or the like. And Another object of the present invention is to provide a polarizing film using the above-described antireflection material, and in particular, to significantly improve the performance of a full-color liquid crystal display or the like.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】(1)反射防止材料の内
容 本発明者は、ハードコート層の屈折率と層の強度とを共
に高めるために、ハードコート層の主たる成分となる樹
脂について検討を重ねた結果、樹脂に含有させる成分に
フルオレン骨格を有する(メタ)アクリレート化合物を
重合成分として用いると極めて効果的であることを見出
した。よって、本発明の反射防止材料は、上記知見に基
づいてなされたもので、透明基体の片面もしくは両面
に、直接または他の層を介して、ハードコート層を設
け、このハードコート層の表面にハードコート層の屈折
率よりも低い屈折率を有する表面層を設けた反射防止材
料において、ハードコート層は、少なくともフルオレン
骨格を有する(メタ)アクリレート化合物を重合成分と
した重合体を含有することを特徴としている。以下、本
発明のより好適な実施の形態について詳細に説明する。
Means for Solving the Problems (1) Contents of antireflection material The present inventors studied a resin which is a main component of the hard coat layer in order to increase both the refractive index of the hard coat layer and the strength of the layer. As a result, it was found that it is extremely effective to use a (meth) acrylate compound having a fluorene skeleton as a polymerization component as a component contained in the resin. Therefore, the antireflection material of the present invention has been made based on the above findings, and provided on one or both surfaces of the transparent substrate, directly or via another layer, a hard coat layer, and the surface of the hard coat layer In an antireflection material provided with a surface layer having a refractive index lower than the refractive index of the hard coat layer, the hard coat layer contains at least a polymer containing a (meth) acrylate compound having a fluorene skeleton as a polymerization component. Features. Hereinafter, more preferred embodiments of the present invention will be described in detail.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】A.透明基体 本発明の反射防止材料に使用する透明基体としては、公
知の透明なフィルム、ガラス等を使用することができ
る。その具体例としては、ポリエチレンテレフタレート
(PET)、トリアセチルセルロース(TAC)、ポリ
アリレート、ポリイミド、ポリエーテル、ポリカーボネ
ート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、セロファ
ン、芳香族ポリアミド、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリビニールアルコール等の各種樹脂フィルムおよ
び石英ガラス、ソーダガラス等のガラス基材等を好適に
使用することができる。PDP、LCDに用いる場合
は、PET、TACが好ましい。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Transparent substrate As the transparent substrate used for the antireflection material of the present invention, a known transparent film, glass, or the like can be used. Specific examples thereof include polyethylene terephthalate (PET), triacetyl cellulose (TAC), polyarylate, polyimide, polyether, polycarbonate, polysulfone, polyethersulfone, cellophane, aromatic polyamide, polyethylene, polypropylene, and polyvinyl alcohol. Various resin films and glass substrates such as quartz glass and soda glass can be suitably used. When used for PDP and LCD, PET and TAC are preferred.

【0012】これら透明基体の透明性は、高いもの程良
好であるが、光線透過率(JISC−6714)として
は80%以上、より好ましくは90%以上が良い。ま
た、その透明基体を小型軽量の液晶ディスプレイに用い
る場合には、透明基体はフィルムであることがより好ま
しい。透明基体の厚さは、軽量化の観点から薄いほうが
望ましいが、その生産性を考慮すると、1〜700μm
の範囲のもの、好ましくは25〜250μmを使用する
ことが好適である。
The higher the transparency of these transparent substrates, the better, but the light transmittance (JISC-6714) is preferably 80% or more, more preferably 90% or more. When the transparent substrate is used for a small and lightweight liquid crystal display, the transparent substrate is more preferably a film. The thickness of the transparent substrate is desirably thin from the viewpoint of weight reduction, but in consideration of the productivity, it is 1 to 700 μm.
It is suitable to use those having a range of 25 to 250 μm.

【0013】また、透明基体に、アルカリ処理、コロナ
処理、プラズマ処理、フッ素処理、スパッタ処理等の表
面処理や、界面活性剤、シランカップリング剤等の塗
布、またはSi蒸着などの表面改質処理を行うことによ
り、透明基体とハードコート層、または他の層との密着
性を向上させることができる。また、透明基体の表面に
は、ディスプレイ表面に静電的に付着するホコリ等の汚
れを防止するために帯電防止層を設けても良い。帯電防
止層は、アルミニウム、錫等の金属、ITO等の金属酸
化膜を蒸着、スパッタ等で極めて薄く設ける方法、アル
ミニウム、錫等の金属微粒子やウイスカー、酸化錫等の
金属酸化物にアンチモン等をドープした微粒子やウイス
カー、7,7,8,8−テトラシアノキノジメタンと金
属イオンや有機カチオンなどの電子供与体(ドナー)と
の間でできた電荷移動錯体をフィラー化したもの等をポ
リエステル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂等に分散
し、ソルベントコーティング等により設ける方法、ポリ
ピロール、ポリアニリン等にカンファースルホン酸等を
ドープしたものをソルベントコーティング等により設け
る方法等により設けることができる。帯電防止層の透過
率は光学用途の場合、80%以上が好ましい。
The transparent substrate may be subjected to a surface treatment such as an alkali treatment, a corona treatment, a plasma treatment, a fluorine treatment, a sputtering treatment, a surfactant, a silane coupling agent or the like, or a surface modification treatment such as Si vapor deposition. By doing so, the adhesiveness between the transparent substrate and the hard coat layer or another layer can be improved. Further, an antistatic layer may be provided on the surface of the transparent substrate in order to prevent dirt such as dust electrostatically adhering to the display surface. The antistatic layer is formed by depositing a metal such as aluminum or tin, or a metal oxide film such as ITO by vapor deposition, sputtering, or the like, and applying an antimony or the like to metal fine particles such as aluminum or tin or whisker or metal oxide such as tin oxide. Doped fine particles and whiskers, and fillers of charge transfer complexes formed between 7,7,8,8-tetracyanoquinodimethane and electron donors (donors) such as metal ions and organic cations are polyester. It can be provided by a method of dispersing in a resin, an acrylic resin, an epoxy resin or the like and providing by solvent coating or the like, or a method of providing polypyrrole, polyaniline or the like doped with camphorsulfonic acid or the like by solvent coating or the like. The transmittance of the antistatic layer is preferably 80% or more for optical applications.

【0014】B.ハードコート層 本発明でいうハードコートとは、鉛筆硬度試験(JIS
K5400)でH以上の硬度を示すものをいう。ま
た、本発明でいう高屈折率および低屈折率とは、互いに
隣接する層との相対的な屈折率の高低の関係をいう。次
に、本発明におけるハードコート層について説明する。
本発明のハードコート層の樹脂組成には、少なくとも下
記の化1で表されるフルオレン骨格を有する(メタ)ア
クリレート化合物および/または化2で表されるフルオ
レン骨格を有する(メタ)アクリレート化合物(A成
分)を重合成分とし、これに重合開始剤を用いて重合し
た重合体を含有しており、特に、該(メタ)アクリレー
ト化合物に加えて、化3で表されるウレタン(メタ)ア
クリレート化合物および/または化4で表されるウレタ
ン(メタ)アクリレート化合物(B成分)を共重合成分
として併用して重合した共重合体が好適である。以下、
これらの化合物について説明する。
B. Hard coat layer The hard coat referred to in the present invention is a pencil hardness test (JIS
K5400) showing hardness of H or more. Further, the high refractive index and the low refractive index referred to in the present invention refer to the relationship between the relative refractive indexes of adjacent layers. Next, the hard coat layer in the present invention will be described.
The resin composition of the hard coat layer of the present invention includes at least a (meth) acrylate compound having a fluorene skeleton represented by the following chemical formula 1 and / or a (meth) acrylate compound having a fluorene skeleton represented by the following chemical formula 2 (A Component) as a polymerization component, which contains a polymer obtained by polymerization using a polymerization initiator. In particular, in addition to the (meth) acrylate compound, a urethane (meth) acrylate compound represented by Chemical Formula 3 and A copolymer obtained by polymerizing a urethane (meth) acrylate compound (component B) represented by Chemical Formula 4 in combination as a copolymerization component is preferable. Less than,
These compounds will be described.

【0015】[0015]

【化1】 Embedded image

【0016】[0016]

【化2】 Embedded image

【0017】[0017]

【化3】 Embedded image

【0018】[0018]

【化4】 Embedded image

【0019】式中、Rは多価アルコール残基、Rは水
素原子、CHまたはC、R は水素原子または
CH、Xはイソシアネート残基、Yは多価アルコール
残基を表す。aおよびbは1〜5の整数、kは2〜5の
整数、lは2〜3の整数、mは1〜2の整数、nは2〜
6の整数を表す。
In the formula, R is a polyhydric alcohol residue, R1Is water
Elemental atom, CH3Or C2H5, R 2Is a hydrogen atom or
CH3, X is an isocyanate residue, Y is a polyhydric alcohol
Represents a residue. a and b are integers of 1 to 5, k is 2 to 5
An integer, l is an integer of 2-3, m is an integer of 1-2, n is 2
Represents an integer of 6.

【0020】前記A成分のフルオレン骨格を有する(メ
タ)アクリレート化合物は、化1または化2で表される
化合物のいずれのものも使用することができる。特に好
ましくは、化1においてa,bが1、R,Rが水素
原子の最も基本的な化合物である。
As the (meth) acrylate compound having a fluorene skeleton of the component A, any of the compounds represented by Chemical Formula 1 or Chemical Formula 2 can be used. Particularly preferably, in formula 1, a and b are 1, and R 1 and R 2 are the most basic compounds of a hydrogen atom.

【0021】前記B成分のウレタン(メタ)アクリレー
ト化合物は、化3または化4で表される。化3のウレタ
ン(メタ)アクリレート化合物は、水酸基含有(メタ)
アクリレート化合物とポリイソシアネート化合物の反応
生成物の中で(メタ)アクリレート基を少なくとも4個
有する化合物である。また、化4のウレタン(メタ)ア
クリレート化合物は、水酸基含有(メタ)アクリレート
化合物とポリイソシアネート化合物とポリオール化合物
の反応生成物の中で(メタ)アクリレート基を少なくと
も4個有する化合物である。また、上記のウレタン(メ
タ)アクリレートを得る方法としては、いずれの公知の
方法も用いることができる。
The urethane (meth) acrylate compound of the component B is represented by the following chemical formula (3) or (4). The urethane (meth) acrylate compound represented by Chemical Formula 3 is a compound containing a hydroxyl group (meth)
It is a compound having at least four (meth) acrylate groups in the reaction product of the acrylate compound and the polyisocyanate compound. The urethane (meth) acrylate compound of Chemical Formula 4 is a compound having at least four (meth) acrylate groups in a reaction product of a hydroxyl group-containing (meth) acrylate compound, a polyisocyanate compound, and a polyol compound. As a method for obtaining the urethane (meth) acrylate, any known method can be used.

【0022】水酸基含有(メタ)アクリレート化合物と
しては、グリセリンジ(メタ)アクリレート、トリメチ
ロールプロパンジ(メタ)アクリレート、ペンタエリス
リトールトリ(メタ)アクリレート、ジトリメチロール
プロパントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリ
トールペンタ(メタ)アクリレート等を挙げることがで
きる。これらは単独でも複数組み合わせて使用すること
も可能である。
Examples of the hydroxyl group-containing (meth) acrylate compound include glycerin di (meth) acrylate, trimethylolpropane di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (Meth) acrylate and the like. These can be used alone or in combination of two or more.

【0023】ポリイソシアネート化合物としては、2,
4−トリレンジイソシアネート、2,6−トリレンジイ
ソシアネート、4,4−ジフェニルメタンジイソシアネ
ート、m−キシリレンジイソシアネート、p−キシリレ
ンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシ
アネート、ビフェニレンジイソシアネート、1,5−ナ
フチレンジイソシアネート、o−トリジンジイソシアネ
ート、ヘキサメチレンジイソシアネート、4,4’−メ
チレンビスシクロヘキシルイソシアネート、イソホロン
ジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシ
アネート、1,3−(イソシアナートメチル)シクロヘ
キサン、およびこれらのビュレット化物、ヌレート化物
等の重縮合物を挙げることができる。これらは単独でも
複数組み合わせて使用することも可能である。特に好ま
しくは、トリレンジイソシアネート、キシリレンジイソ
シアネートおよびヘキサメチレンジイソシアネートのヌ
レート化物、イソホロンジイソシアネートのヌレート化
物等が挙げられる。
As the polyisocyanate compound, 2,
4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, 4,4-diphenylmethane diisocyanate, m-xylylene diisocyanate, p-xylylene diisocyanate, tetramethyl xylylene diisocyanate, biphenylene diisocyanate, 1,5-naphthylene diisocyanate, Polycondensation of o-tolidine diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, 4,4'-methylenebiscyclohexyl isocyanate, isophorone diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate, 1,3- (isocyanatomethyl) cyclohexane, and burettes and nurates thereof Things can be mentioned. These can be used alone or in combination of two or more. Particularly preferred are a nulated product of tolylene diisocyanate, xylylene diisocyanate and hexamethylene diisocyanate, a nulated product of isophorone diisocyanate, and the like.

【0024】ポリオール化合物としては、エチレングリ
コール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコー
ル、1,6−ヘキサンジオール、グリセリン、トリメチ
ロールプロパン、カルボン酸含有ポリオール等の脂肪族
多価アルコール、各種ビスフェノールのエチレンオキサ
イドおよびプロピレンオキサイド反応物、ビスフェノー
ルフルオレンのエチレンオキサイドおよびプロピレンオ
キサイド反応物等の芳香族多価アルコール、また脂肪
族、芳香族に関わらず、化2で表されるような、分子中
に(メタ)アクリロイル基を有するポリオールが挙げら
れる。特に好ましくは、ジメチロールプロピオン酸、ジ
メチロールブタン酸、ビスフェノキシエタノールフルオ
レン等が挙げられる。
Examples of the polyol compound include aliphatic polyhydric alcohols such as ethylene glycol, propylene glycol, neopentyl glycol, 1,6-hexanediol, glycerin, trimethylolpropane, and carboxylic acid-containing polyols, ethylene oxide of various bisphenols and propylene. An aromatic polyhydric alcohol such as an oxide reactant, an ethylene oxide and a propylene oxide reactant of bisphenolfluorene, and a (meth) acryloyl group in a molecule represented by Chemical formula 2 regardless of an aliphatic or aromatic compound Polyol. Particularly preferred are dimethylolpropionic acid, dimethylolbutanoic acid, bisphenoxyethanolfluorene and the like.

【0025】上記で説明した化合物の他に、粘度、架橋
密度、耐熱性、耐薬品性など塗料および塗工膜の特性を
コントロールするために、アクリロイル基、メタクリロ
イル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ
基等重合性不飽和結合を有するモノマー、オリゴマー、
プレポリマーを適宜混合した組成物を用いることもでき
る。モノマーの例としては、スチレン、アクリル酸メチ
ル、シクロヘキシルアクリレート、ラウリルアクリレー
ト、エトキシジエチレングリコールアクリレート、メト
キシトリエチレングリコールアクリレート、フェノキシ
エチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレ
ート、イソボルニルアクリレート、2−ヒドロキシエチ
ルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレー
ト、2−ヒドロキシ−3−フェノキシアクリレート等の
単官能アクリレート、エチレングリコールジアクリレー
ト、ネオペンチルグリコールジアクリレート、1,6−
ヘキサンジオールジアクリレート、トリメチロールプロ
パントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアク
リレート、ペンタエリスリトールアクリレート、ジペン
タエリスリトールヘキサアクリレート、トリメチロール
プロパンアクリル酸安息香酸エステル、トリメチロール
プロパン安息香酸エステル等の多官能アクリレート等の
アクリル酸誘導体、メチルメタクリレート、2−エチル
ヘキシルメタクリレート、n−ステアリルメタクリレー
ト、シクロヘキシルメタクリレート、テトラヒドロフル
フリルメタクリレート、メトキシポリエチレンメタクリ
レート、フェノキシエチルメタクリレート、2−ヒドロ
キシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシブチルメタ
クリレート等の単官能メタクリレート、1,6−ヘキサ
ンジオールジメタクリレート、トリメチロールプロパン
トリメタクリレート、グリセリンジメタクリレート等の
多官能メタクリレート等のメタクリル酸誘導体等を挙げ
ることができる。オリゴマー、プレポリマーとしては、
ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート、ポ
リエーテルアクリレート、アルキットアクリレート、メ
ラミンアクリレート、シリコンアクリレート等のアクリ
レート、不飽和ポリエステル、エポキシ樹脂等を挙げる
ことができる。これらは単独、もしくは複数混合して使
用しても良い。モノマーは硬化膜の可とう性が要求され
る場合は少なめにし、さらに架橋密度を低くするために
は、1官能、2官能の(メタ)アクリレート系モノマー
を使用することが好ましく、逆に、硬化膜に耐熱性、耐
摩耗性、耐溶剤性等過酷な耐久性を要求される場合は、
モノマーの量を増やし、3官能以上の(メタ)アクリレ
ート系モノマーを使用することが好ましい。
In addition to the compounds described above, acryloyl, methacryloyl, acryloyloxy and methacryloyloxy groups are used to control the properties of paints and coatings such as viscosity, crosslink density, heat resistance and chemical resistance. Monomers, oligomers having isomerizable unsaturated bonds,
A composition obtained by appropriately mixing a prepolymer can also be used. Examples of the monomer include styrene, methyl acrylate, cyclohexyl acrylate, lauryl acrylate, ethoxydiethylene glycol acrylate, methoxytriethylene glycol acrylate, phenoxyethyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, isobornyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, and 2-hydroxyethyl acrylate. Monofunctional acrylates such as hydroxypropyl acrylate and 2-hydroxy-3-phenoxy acrylate, ethylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, 1,6-
Acrylic acids such as polyfunctional acrylates such as hexanediol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol acrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, trimethylolpropane acrylate benzoate, and trimethylolpropane benzoate. Monofunctional methacrylates such as derivatives, methyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, n-stearyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate, methoxypolyethylene methacrylate, phenoxyethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, and 2-hydroxybutyl methacrylate; 6-hexanediol dimeta Relate, trimethylolpropane trimethacrylate, mention may be made of methacrylic acid derivatives, such as polyfunctional methacrylate such as glycerol dimethacrylate. As oligomers and prepolymers,
Examples include acrylates such as polyester acrylate, epoxy acrylate, polyether acrylate, Alkit acrylate, melamine acrylate, and silicone acrylate, unsaturated polyester, epoxy resin, and the like. These may be used alone or in combination. It is preferable to use a monofunctional (meth) acrylate-based monomer in order to lower the crosslinking density and to reduce the crosslink density, if the flexibility of the cured film is required. When severe durability such as heat resistance, abrasion resistance and solvent resistance is required for the film,
It is preferable to increase the amount of the monomer and use a trifunctional or higher functional (meth) acrylate monomer.

【0026】ハードコート層に使用することができる熱
硬化型樹脂としては、フェノール樹脂、フラン樹脂、キ
シレン・ホルムアルデヒド樹脂、ケトン・ホルムアルデ
ヒド樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、アニリン樹脂、
アルキド樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂
等を挙げることができる。これらは単独もしくは複数混
合して使用しても良い。透明基体がプラスチックである
場合は、熱硬化温度を高く設定することができない。特
に、PET、TACを使用する場合には、使用する熱硬
化型樹脂は、100℃以下で硬化できることが望まし
い。
Examples of the thermosetting resin that can be used in the hard coat layer include a phenol resin, a furan resin, a xylene / formaldehyde resin, a ketone / formaldehyde resin, a urea resin, a melamine resin, an aniline resin,
Alkyd resins, unsaturated polyester resins, epoxy resins and the like can be mentioned. These may be used alone or in combination. When the transparent substrate is plastic, the thermosetting temperature cannot be set high. In particular, when PET or TAC is used, it is desirable that the thermosetting resin used can be cured at 100 ° C. or lower.

【0027】上記ハードコート層形成用の樹脂における
屈折率は、A成分の比率を上げることにより高めること
ができるが、B成分を併用するとより優れた耐擦傷性が
得られる。しかしながら、耐擦傷性を向上するためにB
成分の比率を多くすると屈折率が低くなる。このため、
A成分とB成分の混合比は両成分の合計を100重量部
とした場合、A成分20〜90重量部に対して、B成分
80〜10重量部であることが好ましい。特に好ましく
は、A成分50〜80重量部に対して、B成分50〜2
0重量部が良い。
The refractive index of the resin for forming the hard coat layer can be increased by increasing the ratio of the component A. However, when the component B is used in combination, more excellent scratch resistance can be obtained. However, in order to improve the scratch resistance, B
Increasing the ratio of the components lowers the refractive index. For this reason,
The mixing ratio of the component A and the component B is preferably 20 to 90 parts by weight of the component A and 80 to 10 parts by weight of the component B when the total of both components is 100 parts by weight. Particularly preferably, 50 to 80 parts by weight of component A and 50 to 80 parts by weight of component B
0 parts by weight is good.

【0028】重合開始剤としては、熱、または可視光
線、紫外線等のエネルギー線等により活性ラジカルを発
生するものであれば特に制限なく使用することができ
る。具体例としては、2,2’−アゾビス(2,4−ジ
メチルバレロニトリル)等のアゾ化合物、ベンゾイルパ
ーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド等の有機過酸
化物などが挙げられる。エネルギー線で活性ラジカルを
発生するものとしては、2,2−ジメトキシ−2−フェ
ニルアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、2−
ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−
オン、ベンジルジメチルケタール、1−ヒドロキシシク
ロヘキシル−フェニルケトン、2−メチル−2−モルホ
リノ(4−チオメチルフェニル)プロパン−1−オン等
のアセトフェノン類、ベンゾインメチルエーテル、ベン
ゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテ
ル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾインエー
テル類、ベンゾフェノン、o−ベンゾイル安息香酸メチ
ル、4−フェニルベンゾフェノン、4−ベンゾイル−
4’−メチル−ジフェニルサルファイド、4−ベンゾイ
ル−N,N−ジメチル−N−〔2−(1−オキソ−2−
プロペニルオキシ)エチル〕ベンゼンメタナミニウムブ
ロミド、(4−ベンゾイルベンジル)トリメチルアンモ
ニウムクロリド等のベンゾフェノン類、2,4−ジエチ
ルチオキサントン、1−クロロ−4−ジクロロチオキサ
ントン等のチオキサントン類、2,4,6−トリメチル
ベンゾイルジフェニルベンゾイルオキサイド等を挙げる
ことができる。これらは単独もしくは複数混合して使用
することができる。また、促進剤(増感剤)として、
N、N−ジメチルパラトルイジン、4,4’−ジエチル
アミノベンゾフェノン等のアミン系化合物を混合して使
用することもできる。さらに、ハイドロキノン、p−ベ
ンゾキノン、t−ブチルハイドロキノン等の安定化剤
(熱重合禁止剤)を添加しても良い。これらの促進剤お
よび安定化剤の添加量は、樹脂成分に対し、0.1〜
5.0重量%の範囲が好ましい。
As the polymerization initiator, any one can be used without particular limitation as long as it generates an active radical by heat or energy rays such as visible light and ultraviolet rays. Specific examples include azo compounds such as 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile) and organic peroxides such as benzoyl peroxide and lauroyl peroxide. Those which generate an active radical by energy rays include 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, diethoxyacetophenone,
Hydroxy-2-methyl-1-phenylpropane-1-
Acetophenones such as on, benzyldimethyl ketal, 1-hydroxycyclohexyl-phenyl ketone, 2-methyl-2-morpholino (4-thiomethylphenyl) propan-1-one, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, Benzoin ethers such as benzoin isobutyl ether, benzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, 4-benzoyl-
4'-methyl-diphenyl sulfide, 4-benzoyl-N, N-dimethyl-N- [2- (1-oxo-2-
Benzophenones such as propenyloxy) ethyl] benzenemethananium bromide and (4-benzoylbenzyl) trimethylammonium chloride; thioxanthones such as 2,4-diethylthioxanthone and 1-chloro-4-dichlorothioxanthone; -Trimethylbenzoyldiphenylbenzoyl oxide. These can be used alone or in combination of two or more. In addition, as an accelerator (sensitizer),
Amine compounds such as N, N-dimethylparatoluidine and 4,4′-diethylaminobenzophenone can be mixed and used. Further, stabilizers (thermal polymerization inhibitors) such as hydroquinone, p-benzoquinone, and t-butylhydroquinone may be added. The addition amount of these accelerators and stabilizers is 0.1 to
A range of 5.0% by weight is preferred.

【0029】上記ハードコート層形成用の樹脂におい
て、重合開始剤の比率は、A成分とB成分の合計量を1
00重量部とした場合、該合計量100重量部に対し、
0.01〜5重量部が好ましく、特に好ましくは1〜3
重量部である。重合開始剤が多すぎる場合、未反応の重
合開始剤の分解物が層の強度の低下や樹脂の着色の原因
となることがあり、逆に少なすぎる場合には、樹脂が固
まらなくなる。また、可視光線、紫外線等のエネルギー
線による重合開始剤においては、照射エネルギー線の波
長域に吸収を持つフィラーが使用されることがあり、こ
の場合には重合開始剤の比率を上げる必要がある。
In the resin for forming the hard coat layer, the ratio of the polymerization initiator is such that the total amount of the component A and the component B is 1
When the total amount is 100 parts by weight,
It is preferably 0.01 to 5 parts by weight, particularly preferably 1 to 3 parts by weight.
Parts by weight. If the amount of the polymerization initiator is too large, unreacted decomposition products of the polymerization initiator may cause a decrease in the strength of the layer or cause coloring of the resin. Conversely, if the amount is too small, the resin does not solidify. Further, in the case of a polymerization initiator using energy rays such as visible light and ultraviolet rays, a filler having absorption in the wavelength range of irradiation energy rays may be used. In this case, it is necessary to increase the ratio of the polymerization initiator. .

【0030】ハードコート層のバインダー樹脂に高屈折
率のフィラーを含有させることにより、ハードコート層
の屈折率を調整することができる。該フィラーの屈折率
は、ハードコート層の樹脂成分の屈折率よりも相対的に
高く、かつ、1.6〜2.7の範囲にあることが望まし
い。フィラーの具体例としては、ZnO(屈折率n=
1.9)、TiO(n=2.3〜2.7)、CeO
(n=1.95)、Sb (n=1.71)、Sn
(n=1.95)、ITO(n=1.95)、Y
(n=1.87)、La(n=1.95)、
ZrO(n=2.05)、Al(n=1.6
3)、HfO(n=2.0)、Ta等が挙げら
れる。これらのフィラーは単独または混合して使用さ
れ、有機溶媒または水に分散したコロイド状になったも
のが用いられる。特に、メタノール、エタノール、イソ
プロピルアルコール、メチルエチルケトン、メチルイソ
ブチルケトン、シクロヘキサン等の有機溶媒に分散され
たオルガノゾルが、ハードコート層に用いる樹脂に対す
る分散性の点において良好であり、その粒径としては、
1〜100nm、塗膜の透明性から好ましくは、5〜2
0nmであることが望ましい。また、バインダー樹脂に
対するフィラーの含有量は、70%以下が好ましい。フ
ィラーの含有量増加に伴い、ハードコート層の耐摩耗
性、耐薬品性等の耐久性が低下する。よって、含有量は
可能な限り少なくすることが好ましい。
High refraction in binder resin of hard coat layer
Hard coat layer
Can be adjusted. Refractive index of the filler
Is relatively higher than the refractive index of the resin component of the hard coat layer.
High and in the range of 1.6 to 2.7
No. As a specific example of the filler, ZnO (refractive index n =
1.9), TiO2(N = 2.3-2.7), CeO2
(N = 1.95), Sb 2O5(N = 1.71), Sn
O2(N = 1.95), ITO (n = 1.95), Y2
O3(N = 1.87), La2O3(N = 1.95),
ZrO2(N = 2.05), Al2O3(N = 1.6
3), HfO2(N = 2.0), Ta2O5Etc.
It is. These fillers can be used alone or as a mixture.
And become colloidal dispersed in organic solvent or water.
Is used. In particular, methanol, ethanol, iso
Propyl alcohol, methyl ethyl ketone, methyl iso
Dispersed in organic solvents such as butyl ketone and cyclohexane
Organosol is not suitable for the resin used for the hard coat layer.
Is good in terms of dispersibility, and as the particle size,
1 to 100 nm, preferably 5 to 2 nm from the viewpoint of transparency of the coating film.
Desirably, it is 0 nm. In addition, for binder resin
The content of the filler is preferably 70% or less. H
The wear resistance of the hard coat layer increases as the content of the filler increases.
And durability such as chemical resistance decrease. Therefore, the content
Preferably, it is as small as possible.

【0031】本発明において、透明基体の片面または両
面に、直接または他の層を介してハードコート層を設け
る方法としては、上記で述べた樹脂中に、必要に応じて
フィラーや水または有機溶媒を混合し、これをペイント
シェーカー、サンドミル、パールミル、ボールミル、ア
トライター、ロールミル、高速インペラー分散機、ジェ
ットミル、高速衝撃ミル、超音波分散機等によって分散
して塗料またはインキとし、これをエアドクターコーテ
ィング、ブレードコーティング、ナイフコーティング、
リバースコーティング、トランスファロールコーティン
グ、グラビアロールコーティング、キスコーティング、
キャストコーティング、スプレーコーティング、スロッ
トオリフィスコーティング、カレンダーコーティング、
電着コーティング、ディップコーティング、ダイコーテ
ィング等のコーティングやフレキソ印刷等の凸版印刷、
ダイレクトグラビア印刷、オフセットグラビア印刷等の
凹版印刷、オフセット印刷等の平版印刷、スクリーン印
刷等の孔版印刷等の印刷手法により透明基体の片面また
は両面上に単層もしくは多層に分けて設け、溶媒を含ん
でいる場合は、熱乾燥工程を経て、熱またはエネルギー
線(紫外線の場合、光重合開始剤が必要)照射等により
塗工層もしくは印刷層を硬化させることによって得る方
法が挙げられる。なお、放射線が電子線による場合は、
コックロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧
型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高
周波型等の各種電子線加速器から放出される50〜10
00KeVのエネルギーを有する電子線等が使用され、
紫外線の場合は、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀
灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライド
ランプ等の光線から発する紫外線等が利用できる。
In the present invention, as a method of providing a hard coat layer on one or both surfaces of a transparent substrate directly or via another layer, a filler, water or an organic solvent may be added, if necessary, to the resin described above. The mixture is dispersed by a paint shaker, a sand mill, a pearl mill, a ball mill, an attritor, a roll mill, a high-speed impeller disperser, a jet mill, a high-speed impact mill, an ultrasonic disperser, etc. to obtain a paint or ink, and this is an air doctor. Coating, blade coating, knife coating,
Reverse coating, transfer roll coating, gravure roll coating, kiss coating,
Cast coating, spray coating, slot orifice coating, calendar coating,
Coating such as electrodeposition coating, dip coating, die coating and letterpress printing such as flexographic printing,
Direct gravure printing, intaglio printing such as offset gravure printing, lithographic printing such as offset printing, stencil printing such as screen printing, etc. are provided in a single layer or multilayer on one or both sides of the transparent substrate by a printing method, and include a solvent. In this case, a method may be used in which the coating layer or the printing layer is cured by heat or irradiation with energy rays (in the case of ultraviolet rays, a photopolymerization initiator is required) or the like after the heat drying step. If the radiation is electron beam,
50 to 10 emitted from various electron beam accelerators such as Cockloft-Walton type, Bande graph type, Resonant transformer type, Insulated core transformer type, Linear type, Dynamitron type, High frequency type
An electron beam having an energy of 00 KeV is used,
In the case of ultraviolet rays, ultraviolet rays emitted from light rays such as ultra-high pressure mercury lamp, high pressure mercury lamp, low pressure mercury lamp, carbon arc, xenon arc, and metal halide lamp can be used.

【0032】塗料、インクの塗工適性または印刷適性を
向上させるために、必要に応じ、シリコーンオイル等の
レベリング剤、ポリエチレンワックス、カルナバワック
ス、高級アルコール、ビスアマイド、高級脂肪酸等の油
脂、イソシアネート等の硬化剤、炭酸カルシウムやシリ
カゾル、合成雲母等0.1μm以下の超微粒子等の添加
剤を適宜使用することができる。また、ディスプレイ表
面に静電的に付着するホコリ等の汚れを防止するために
帯電防止剤を添加しても良い。帯電防止剤は、上述の帯
電防止層で説明した材料がそのまま適用できる。
In order to improve the coating suitability or printing suitability of paints and inks, if necessary, a leveling agent such as silicone oil, polyethylene wax, carnauba wax, higher alcohols, bisamides, oils and fats such as higher fatty acids, isocyanates and the like may be used. Additives such as hardening agents, ultrafine particles of 0.1 μm or less, such as calcium carbonate, silica sol, and synthetic mica, can be used as appropriate. Further, an antistatic agent may be added to prevent dirt such as dust electrostatically adhering to the display surface. As the antistatic agent, the materials described for the above antistatic layer can be applied as they are.

【0033】上記のようにして形成されるハードコート
層は、その屈折率が1.55〜1.75の範囲となるよ
うにすることが好ましい。また、ハードコート層の厚さ
は1〜10μmの範囲が、好ましくは1〜5μmの範囲
が良い。ハードコート層が1μmより薄い場合は、ハー
ドコート層の耐摩耗性が劣化したり、紫外線硬化型樹脂
を使用した場合など、酸素阻害により硬化不良を起こ
す。10μmより厚い場合は、樹脂の硬化収縮によりカ
ールが発生したり、ハードコート層にマイクロクラック
が発生したり、さらに、透明基体との密着性が低下した
りする。
The refractive index of the hard coat layer formed as described above is preferably in the range of 1.55 to 1.75. Further, the thickness of the hard coat layer is in the range of 1 to 10 μm, preferably 1 to 5 μm. When the hard coat layer is thinner than 1 μm, the hard coat layer is deteriorated in abrasion resistance or hardened poorly due to oxygen inhibition such as when an ultraviolet curable resin is used. If the thickness is more than 10 μm, curling may occur due to curing shrinkage of the resin, micro cracks may occur in the hard coat layer, and adhesion to the transparent substrate may be reduced.

【0034】C.表面層 反射防止機能を得るために、ハードコート層上に、これ
よりも屈折率の小さい表面層を設ける。以下、この表面
層について説明する。表面層の組成は特に限定されるも
のではないが、その臨界表面張力が20dyn/cm以
下となるように構成されることが好ましい。臨界表面張
力が20dyn/cmより大きい場合は、表面層に付着
した汚れが取れにくくなる。また、反射防止効果を向上
させるためには、表面層の屈折率は、1.20〜1.4
5であることが好ましい。これらの特徴を有する材料と
しては、例えば、LiF(屈折率n=1.4)、MgF
(n=1.4)、3NaF・AlF(n=1.
4)、AlF(n=1.4)、NaAlF(n=
1.33)、SiO(n=1.45)等の無機材料を
微粒子化し、アクリル系樹脂やエポキシ系樹脂等に含有
させた無機系低反射材料、フッ素系、シリコーン系の有
機化合物、熱可塑性樹脂、熱硬化型樹脂、放射線硬化型
樹脂等の有機低反射材料を挙げることができる。透明基
体が熱によるダメージを受けやすいTAC、PET等の
プラスチックフィルムを使用する場合は、これら表面層
の材料としては、放射線硬化型樹脂が好ましい。その中
で、特に、フッ素系の含フッ素材料が汚れ防止の点にお
いて好ましい。
C. Surface layer In order to obtain an anti-reflection function, a surface layer having a smaller refractive index is provided on the hard coat layer. Hereinafter, this surface layer will be described. The composition of the surface layer is not particularly limited, but it is preferable that the surface layer be configured so that its critical surface tension is 20 dyn / cm or less. When the critical surface tension is larger than 20 dyn / cm, it becomes difficult to remove dirt attached to the surface layer. Further, in order to improve the anti-reflection effect, the refractive index of the surface layer should be 1.20 to 1.4.
It is preferably 5. Materials having these characteristics include, for example, LiF (refractive index n = 1.4), MgF
2 (n = 1.4), 3NaF.AlF 3 (n = 1.
4), AlF 3 (n = 1.4), Na 3 AlF 6 (n =
1.33), fine particles of inorganic materials such as SiO 2 (n = 1.45), and inorganic low-reflection materials containing fluorine-based or silicone-based organic compounds contained in an acrylic resin or an epoxy-based resin. Organic low-reflection materials such as a plastic resin, a thermosetting resin, and a radiation-curable resin can be used. When a transparent substrate is made of a plastic film such as TAC or PET which is easily damaged by heat, a radiation-curable resin is preferable as the material of these surface layers. Among them, a fluorine-based fluorinated material is particularly preferable in terms of preventing contamination.

【0035】前記含フッ素材料としては、有機溶媒に溶
解し、その取り扱いが容易であるフッ化ビニリデン系共
重合体や、フルオロオレフィン/炭化水素オレフィン共
重合体、含フッ素エポキシ樹脂、含フッ素エポキシアク
リレート、含フッ素シリコーン、含フッ素アルコキシシ
ラン、さらに、TEFRON AF1600(デュポン
社製 屈折率n=1.30)、CYTOP(旭硝子
(株)社製 n=1.34)、17FM(三菱レーヨン
(株)社製 n=1.35)、オプスターJN−721
2(日本合成ゴム(株)社製 n=1.40)、LR2
01(日産化学工業(株)社製 n=1.38)等を挙
げることができる。これらは単独でも複数組み合わせて
使用することも可能である。
As the fluorine-containing material, a vinylidene fluoride copolymer, a fluoroolefin / hydrocarbon olefin copolymer, a fluorine-containing epoxy resin, a fluorine-containing epoxy acrylate which is dissolved in an organic solvent and is easy to handle. , Fluorinated silicone, fluorinated alkoxysilane, TFRON AF1600 (DuPont, refractive index n = 1.30), CYTOP (Asahi Glass Co., Ltd., n = 1.34), 17FM (Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) N = 1.35), Opstar JN-721
2 (manufactured by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd., n = 1.40), LR2
01 (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., n = 1.38). These can be used alone or in combination of two or more.

【0036】また、2−(パーフルオロデシル)エチル
メタクリレート、2−(パーフルオロ−7−メチルオク
チル)エチルメタクリレート、3−(パーフルオロ−7
−メチルオクチル)−2−ヒドロキシプロピルメタクリ
レート、2−(パーフルオロ−9−メチルデシル)エチ
ルメタクリレート、3−(パーフルオロ−8−メチルデ
シル)−2−ヒドロキシプロピルメタクリレート等の含
フッ素メタクリレート、3−パーフルオロオクチル−2
−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−(パーフルオ
ロデシル)エチルアクリレート、2−(パーフルオロ−
9−メチルデシル)エチルアクリレート等の含フッ素ア
クリレート、3−パーフルオロデシル−1,2−エポキ
シプロパン、3−(パーフルオロ−9−メチルデシル)
−1,2−エポキシプロパン等のエポキサイド、エポキ
シアクリレート等の放射線硬化型の含フッ素モノマー、
オリゴマー、プレポリマー等を挙げることができる。こ
れらは単独もしくは複数種類混合して使用することも可
能である。
Further, 2- (perfluorodecyl) ethyl methacrylate, 2- (perfluoro-7-methyloctyl) ethyl methacrylate, 3- (perfluoro-7)
-Methyloctyl) -2-hydroxypropyl methacrylate, 2- (perfluoro-9-methyldecyl) ethyl methacrylate, 3- (perfluoro-8-methyldecyl) -2-hydroxypropyl methacrylate, and other fluorinated methacrylates, 3-perfluoro Octyl-2
-Hydroxypropyl acrylate, 2- (perfluorodecyl) ethyl acrylate, 2- (perfluoro-
Fluorine-containing acrylates such as 9-methyldecyl) ethyl acrylate, 3-perfluorodecyl-1,2-epoxypropane, 3- (perfluoro-9-methyldecyl)
Epoxides such as -1,2-epoxypropane, radiation-curable fluorine-containing monomers such as epoxy acrylate,
Oligomer, prepolymer and the like can be mentioned. These can be used alone or in combination of two or more.

【0037】しかしながら、これらは耐汚染性には優れ
ているが、ヌレ性が悪いため、組成によってはハードコ
ート層上で表面層をはじくという問題や、表面層がハー
ドコート層から剥がれるという問題が生じるおそれがあ
るため、放射線硬化型樹脂として用いられるアクリロイ
ル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタ
クリロイルオキシ基等重合性不飽和結合を有するモノマ
ー、オリゴマー、プレポリマーを適宜混合し、使用する
ことが望ましい。
However, although these are excellent in stain resistance, they have poor wetting properties, so that depending on the composition, the problem of repelling the surface layer on the hard coat layer and the problem of the surface layer being peeled off from the hard coat layer. It is desirable to appropriately mix and use monomers, oligomers, and prepolymers having a polymerizable unsaturated bond such as an acryloyl group, a methacryloyl group, an acryloyloxy group, and a methacryloyloxy group, which are used as the radiation-curable resin, because they may occur. .

【0038】さらに、5〜30nmのシリカ超微粒子を
水もしくは有機溶媒に分散したゾルとフッ素系の皮膜形
成剤を混合した低反射材料を使用することもできる。該
5〜30nmのシリカ超微粒子を水もしくは有機溶媒に
分散したゾルは、ケイ酸アルカリ塩中のアルカリ金属イ
オンをイオン交換等で脱アルカリする方法や、ケイ酸ア
ルカリ塩を鉱酸で中和する方法等で知られた活性ケイ酸
を縮合して得られる公知のシリカゾル、アルコキシシラ
ンを有機溶媒中で塩基性触媒の存在下に加水分解と縮合
することにより得られる公知のシリカゾル、さらには上
記の水性シリカゾル中の水を蒸留法等により有機溶媒に
置換することにより得られる有機溶媒系のシリカゾル
(オルガノシリカゾル)が用いられる。これらのシリカ
ゾルは水系および有機溶媒系のどちらでも使用すること
ができる。有機溶媒系シリカゾルの製造に際し、完全に
水を有機溶媒に置換する必要はない。上記シリカゾルは
SiOとして0.5〜50重量%濃度の固形分を含有
する。シリカゾル中のシリカ超微粒子の構造は球状、針
状、板状等様々なものが使用可能である。
Further, a low-reflection material obtained by mixing a sol in which ultrafine silica particles of 5 to 30 nm are dispersed in water or an organic solvent and a fluorine-based film-forming agent can be used. The sol in which the ultrafine silica particles having a diameter of 5 to 30 nm are dispersed in water or an organic solvent may be prepared by dealkalizing alkali metal ions in the alkali silicate by ion exchange or neutralizing the alkali silicate with a mineral acid. A known silica sol obtained by condensing an active silicic acid known by a method, etc., a known silica sol obtained by condensing an alkoxysilane with hydrolysis in an organic solvent in the presence of a basic catalyst, An organic solvent-based silica sol (organo-silica sol) obtained by replacing water in the aqueous silica sol with an organic solvent by a distillation method or the like is used. These silica sols can be used in both aqueous and organic solvent systems. In producing the organic solvent-based silica sol, it is not necessary to completely replace water with an organic solvent. The silica sol contains solids 0.5 to 50% strength by weight as SiO 2. Various structures such as spherical, needle-like, and plate-like structures can be used for the ultrafine silica particles in the silica sol.

【0039】皮膜形成剤としては、アルコキシシラン、
金属アルコキシドや金属塩の加水分解物や、ポリシロキ
サンをフッ素変性したものなどを用いることができる。
上記のような皮膜形成剤を用いることにより、表面層の
臨界表面張力が低下して油分の付着を抑制することがで
きる。
As the film forming agent, alkoxysilane,
Hydrolysates of metal alkoxides and metal salts, fluorine-modified polysiloxanes, and the like can be used.
By using the above-described film forming agent, the critical surface tension of the surface layer is reduced, and the adhesion of oil can be suppressed.

【0040】また、ディスプレイ表面に静電的に付着す
るホコリ等の汚れを防止するために帯電防止剤を表面層
に添加したり、もしくは表面層上に帯電防止層を設けて
も良い。前記帯電防止層の厚さは、反射防止効果に影響
しない光学膜厚が望ましい。好ましくは10nm以下が
望ましい。なお、帯電防止剤は、前述の帯電防止層で説
明した材料がそのまま適用できる。
Further, an antistatic agent may be added to the surface layer in order to prevent dirt such as dust which electrostatically adheres to the display surface, or an antistatic layer may be provided on the surface layer. The thickness of the antistatic layer is desirably an optical film thickness that does not affect the antireflection effect. Preferably, it is 10 nm or less. As the antistatic agent, the materials described for the antistatic layer can be applied as they are.

【0041】本発明において表面層は、上記で述べた低
屈折率材料を用い、ロールコーティングや印刷等による
ウェットコーティング法や、真空蒸着、スパッタリン
グ、プラズマCVD、イオンプレーティング等による気
相法により、ハードコート層上に設けられる。ウェット
コーティング法で設ける場合は、塗工適性または印刷適
性を向上させるために、必要に応じ、シリコーンオイル
等のレベリング剤、ポリエチレンワックス、カルナバワ
ックス、高級アルコール、ビスアマイド、高級脂肪酸等
の油脂、イソシアネート等の硬化剤、炭酸カルシウムや
シリカゾル、合成雲母等0.05μm以下の超微粒子等
の添加剤を適宜使用することができる。
In the present invention, the surface layer is formed of the above-mentioned low refractive index material by a wet coating method such as roll coating or printing, or a vapor phase method such as vacuum deposition, sputtering, plasma CVD, or ion plating. Provided on the hard coat layer. When provided by a wet coating method, a leveling agent such as silicone oil, polyethylene wax, carnauba wax, a higher alcohol, a bisamide, a fatty acid such as a higher fatty acid, an isocyanate, etc., as necessary, in order to improve coating suitability or printability. And additives such as ultrafine particles of 0.05 μm or less, such as calcium carbonate, silica sol, and synthetic mica.

【0042】表面層が良好な反射防止機能を発揮するた
めの厚さについては、公知の計算式で算出することがで
きる。公知の文献(サイエンスライブラリ、物理学9
「光学」70〜72頁)によれば、入射光が表面層に垂
直に入射する場合に、表面層が光を反射せず、かつ10
0%透過するための条件は次の関係式を満たせば良いと
されている。なお、式中Nは表面層の屈折率、Nsは
ハードコート層の屈折率、hは表面層の厚さ、λは光
の波長を示す。
The thickness for the surface layer to exhibit a good antireflection function can be calculated by a known calculation formula. Known literature (Science Library, Physics 9
According to “Optics” on pages 70 to 72), when incident light is perpendicularly incident on the surface layer, the surface layer does not reflect light, and
It is considered that the condition for transmitting 0% should satisfy the following relational expression. In the formula, N 0 is the refractive index of the surface layer, Ns is the refractive index of the hard coat layer, h is the thickness of the surface layer, and λ 0 is the wavelength of light.

【0043】[0043]

【数1】N=Ns1/2 式(1) Nh=λ/4 式(2)[Number 1] N 0 = Ns 1/2 Equation (1) N 0 h = λ 0/4 formula (2)

【0044】上記(1)式によれば、光の反射を100
%防止するためには、表面層の屈折率が下層(ハードコ
ート層)の屈折率の平方根になるような材料を選択すれ
ばよいことが分かる。ただし、実際は、この数式を完全
に満たす材料は見出し難く、限りなく近い材料を選択す
ることになる。上記(2)式では(1)式で選択した表
面層の屈折率と、光の波長から表面層の反射防止膜とし
ての最適な厚さが計算される。例えば、ハードコート
層、表面層の屈折率をそれぞれ1.50、1.38、光
の波長を550nm(視感度の基準)とし、これらの値
を上記(2)式に代入すると、表面層の厚さは0.1μ
m前後の光学膜厚、好ましくは0.10±0.01μm
の範囲が最適であると計算される。このように、表面層
は極めて薄く、そして極めて均一に設ける必要がある
(厚さの面内バラツキはハードコート層との干渉によ
り、色ムラになる)。よって、表面層を設ける方法とし
ては、気相法が好ましい。
According to the above equation (1), the reflection of light is 100
It can be seen that in order to prevent the percentage, the material should be selected so that the refractive index of the surface layer becomes the square root of the refractive index of the lower layer (hard coat layer). However, in practice, it is difficult to find a material that completely satisfies this equation, and a material as close as possible is selected. In the above equation (2), the optimum thickness of the surface layer as an antireflection film is calculated from the refractive index of the surface layer selected in the equation (1) and the wavelength of light. For example, when the refractive index of the hard coat layer and the refractive index of the surface layer are 1.50 and 1.38, respectively, and the wavelength of light is 550 nm (standard of visibility), and these values are substituted into the above equation (2), Thickness 0.1μ
m, preferably 0.10 ± 0.01 μm
Is calculated to be optimal. As described above, the surface layer needs to be extremely thin and very evenly provided (in-plane variation in thickness causes color unevenness due to interference with the hard coat layer). Therefore, as a method of providing the surface layer, a gas phase method is preferable.

【0045】本発明における表面層は、上記のような組
成を有する単層でも良いが、多層化して形成しても良
い。すなわち、多層の場合は、高屈折率層上に低屈折率
層を設けた組合せをハードコート層上もしくは上記単層
の表面層、つまり低屈折率層上に1組または複数積層し
た構成とすることができる。
The surface layer in the present invention may be a single layer having the above composition, or may be formed as a multilayer. That is, in the case of a multi-layer, a combination in which a low-refractive-index layer is provided on a high-refractive-index layer has a structure in which one set or a plurality of layers are laminated on the hard coat layer or the surface layer of the single layer, that is, on the low-refractive index layer. be able to.

【0046】(2)偏光フィルムの内容 上記構成の反射防止材料の透明基体のハードコート層お
よび表面層が設けられていない他方の面に、偏光基体を
介して保護材を積層することにより、偏光フィルムを構
成することができる。以下、本発明の偏光フィルムの詳
細について説明する。
(2) Contents of Polarizing Film A protective material is laminated via a polarizing substrate on the other surface of the transparent substrate of the antireflective material having the above-mentioned structure, on which the hard coat layer and the surface layer are not provided, thereby providing a polarized light. A film can be constructed. Hereinafter, the details of the polarizing film of the present invention will be described.

【0047】A.偏光基体 偏光基体は、透明フィルムを形成できる材料で構成さ
れ、具体的には、ポリビニルアルコール、ポリビニレン
等が使用できる。そして、このような材料を延伸させて
フィルム化することにより偏光基体を得ることができ
る。例えば、2色性素子として沃素または染料を吸着さ
せたポリビニルアルコールを一軸延伸して得られたポリ
ビニルアルコール(PVA)フィルムを用いることが好
ましい。偏光基体は10〜80μmの厚みを有するもの
が使用される。具体的には、PVAフィルムを一軸方向
に3〜4倍程度延伸し、高次の沃素イオン中に延伸した
PVAフィルムを含浸させることにより偏光基体を得る
ことができる。
A. Polarizing Substrate The polarizing substrate is composed of a material capable of forming a transparent film, and specifically, polyvinyl alcohol, polyvinylene, or the like can be used. Then, a polarizing substrate can be obtained by stretching such a material to form a film. For example, it is preferable to use a polyvinyl alcohol (PVA) film obtained by uniaxially stretching polyvinyl alcohol adsorbing iodine or a dye as the dichroic element. A polarizing substrate having a thickness of 10 to 80 μm is used. Specifically, the polarizing substrate can be obtained by stretching the PVA film about 3 to 4 times in the uniaxial direction and impregnating the stretched PVA film into higher-order iodine ions.

【0048】B.保護材 上記で得られるPVAフィルムは、強度等が不足してい
るため裂け易く、湿度変化に対して収縮率が大きいとい
う欠点を有していることから、偏光基体の片面に保護材
が積層される。また、反射防止材料の透明基体も偏光基
体の他方の面に貼り合わせられて保護材と同じ機能を奏
する。保護材および透明基体は、偏光基体の両面に、ポ
リエステル系接着剤、ポリアクリル系接着剤、ポリウレ
タン系接着剤、ポリ酢酸ビニル系接着剤等により接着さ
れる。
B. Protective material The PVA film obtained above is apt to tear due to lack of strength and the like, and has a drawback of a large shrinkage ratio with respect to a change in humidity. Therefore, the protective material is laminated on one surface of the polarizing substrate. You. In addition, the transparent substrate of the anti-reflection material is bonded to the other surface of the polarizing substrate and has the same function as the protective material. The protective material and the transparent substrate are bonded to both surfaces of the polarizing substrate with a polyester adhesive, a polyacrylic adhesive, a polyurethane adhesive, a polyvinyl acetate adhesive, or the like.

【0049】保護材としては、透明な高分子化合物のフ
ィルム、例えば、トリアセチルセルロース等のセルロー
ス系フィルム、ポリエステルフィルム、ポリカーボネー
トフィルム等を使用することができる。その中でも特に
トリアセチルセルロースが好ましい。該フィルムの厚さ
は10〜2000μmが好ましい。また、これらのフィ
ルムには特にほう酸等のゲル化剤を使用したり、熱処理
やホルマール化を行うことによって、フィルムの耐水性
を向上させることが好ましい。また、偏光基体との密着
性を向上させるために、偏光基体との接着面の表面エネ
ルギーが50dyn/cm以上になるように、けん化処
理やコロナ処理等の表面処理を行うことが好ましい。
As the protective material, a transparent polymer compound film, for example, a cellulose film such as triacetyl cellulose, a polyester film, a polycarbonate film and the like can be used. Among them, triacetyl cellulose is particularly preferred. The thickness of the film is preferably from 10 to 2000 μm. Further, it is preferable to improve the water resistance of the films by using a gelling agent such as boric acid, or by performing a heat treatment or formalization on these films. Further, in order to improve the adhesion to the polarizing substrate, it is preferable to perform a surface treatment such as a saponification treatment or a corona treatment so that the surface energy of the bonding surface with the polarizing substrate becomes 50 dyn / cm or more.

【0050】以下図面を用いて、本発明の反射防止材料
と偏光フィルムをさらに詳細に説明する。図1は、本発
明の反射防止材料の構成を示す概略断面図であり、反射
防止材料10は、透明基体11の片面上にハードコート
層12を有する構成である。なお、ハードコート層12
の表面には表面層が形成されているが、表面層は極めて
薄いために図示を省略している(以下においても同
じ)。図2は、本発明の偏光フィルム20の構成を示す
概略断面図であり、偏光基体24の片面に、透明基体2
1上にハードコート層22とを有する反射防止材料23
が設けられ、偏光基体24の他の面に保護材25が設け
られていることを示している。
Hereinafter, the antireflection material and the polarizing film of the present invention will be described in more detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic sectional view showing the structure of the antireflection material of the present invention. The antireflection material 10 has a structure in which a hard coat layer 12 is provided on one surface of a transparent substrate 11. The hard coat layer 12
Although a surface layer is formed on the surface of, the illustration is omitted because the surface layer is extremely thin (the same applies hereinafter). FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing the structure of the polarizing film 20 of the present invention.
Anti-reflective material 23 having a hard coat layer 22 on 1
Indicates that the protective member 25 is provided on the other surface of the polarizing substrate 24.

【0051】図3は本発明の反射防止材料により反射防
止性を改善した液晶表示体30の構成を示すものであ
る。この液晶表示体30は、上面の液晶パネル31と下
面の導光板装置(EL)やランプ等の背面光源32とを
積層して形成されている。液晶パネル31には、例え
ば、ツイステッドネマチック(TN)液晶セルなどが使
用可能である。
FIG. 3 shows a structure of a liquid crystal display 30 in which the antireflection property is improved by the antireflection material of the present invention. The liquid crystal display 30 is formed by laminating a liquid crystal panel 31 on the upper surface and a back light source 32 such as a light guide plate (EL) or a lamp on the lower surface. As the liquid crystal panel 31, for example, a twisted nematic (TN) liquid crystal cell or the like can be used.

【0052】TN液晶セルは、所望のパターンからなる
透明電極付きの2枚のガラス基板33、34の透明電極
面33’、および34’上に、ポリイミドの溶液を塗布
して配向膜を形成し、これをラビング操作により配向さ
せ、その後、このガラス基板33、34間にネマチック
液晶35を注入し、ガラス基板33、34周辺部をエポ
キシ樹脂等で封着することにより形成される。このネマ
チック液晶は、配向膜の作用により90゜捻れ配向す
る。このTN液晶セルの2枚のガラス基板の背面光源と
は反対側には、図2に示されるハードコート層22を有
する反射防止材料23と保護材25とで偏光基体24の
両面を保護された偏光フィルム36を、また、その背面
光源側には、ハードコート層のない偏光フィルム37
を、偏光角度が互いに90゜捻れるように貼ることで液
晶パネル31が形成される。
In the TN liquid crystal cell, an alignment film is formed by applying a polyimide solution on the transparent electrode surfaces 33 'and 34' of two glass substrates 33 and 34 having transparent electrodes having a desired pattern. This is oriented by a rubbing operation, and thereafter, a nematic liquid crystal 35 is injected between the glass substrates 33 and 34, and the periphery of the glass substrates 33 and 34 is sealed with an epoxy resin or the like. The nematic liquid crystal is twist-aligned by 90 ° by the action of the alignment film. On both sides of the two glass substrates of the TN liquid crystal cell opposite to the rear light source, both surfaces of the polarizing substrate 24 were protected by an antireflection material 23 having a hard coat layer 22 shown in FIG. A polarizing film 36 and a polarizing film 37 having no hard coat layer on the back light source side are provided.
Are adhered so that the polarization angles are twisted by 90 ° with each other, whereby the liquid crystal panel 31 is formed.

【0053】上記TN液晶パネル31の透明電極に駆動
信号を印加すると信号が印加された電極間には電界が発
生する。その際、液晶分子の持つ電子的異方性により、
液晶分子の長軸が電界方向と平行になるため、液晶分子
による光の旋光性が失われることとなり、その結果、液
晶パネルには光が透過しない状態となる。画像の表示は
この時の光透過の差に基づくコントラストにより視覚情
報として認識される。上記液晶表示体30においては、
液晶パネル31に光を透過させ、液晶パネル31の光の
透過する部分と透過しない部分にコントラストを持たせ
ることにより画像表示を可能とするものである。
When a drive signal is applied to the transparent electrodes of the TN liquid crystal panel 31, an electric field is generated between the electrodes to which the signals are applied. At that time, due to the electronic anisotropy of the liquid crystal molecules,
Since the major axis of the liquid crystal molecules is parallel to the direction of the electric field, the optical rotatory power of the liquid crystal molecules is lost, and as a result, the light does not pass through the liquid crystal panel. The display of the image is recognized as visual information by contrast based on the difference in light transmission at this time. In the above liquid crystal display 30,
Light is transmitted through the liquid crystal panel 31, and an image can be displayed by giving a contrast between the light transmitting portion and the light non-transmitting portion of the liquid crystal panel 31.

【0054】図4は、本発明の反射防止材料10を使用
した他の液晶表示体の構成を示す断面図である。図4に
おいて、液晶パネル41は、2枚のガラス基板43、4
4およびその間に介在するネマチック液晶45と、ガラ
ス基板43、44の外側に位置するハードコート層を有
しない上部の偏光フィルム46、ハードコート層を有し
ない下部の偏光フィルム47および該上部の偏光フィル
ム46の上に積層された反射防止材料10より構成され
ている。また、液晶表示体40は、液晶パネル41とそ
の下面に位置する背面光源32を積層して形成されてい
る。
FIG. 4 is a sectional view showing the structure of another liquid crystal display using the antireflection material 10 of the present invention. In FIG. 4, the liquid crystal panel 41 has two glass substrates 43, 4
4, a nematic liquid crystal 45 interposed therebetween, an upper polarizing film 46 having no hard coat layer, a lower polarizing film 47 having no hard coat layer and an upper polarizing film positioned outside the glass substrates 43 and 44 The anti-reflection material 10 is laminated on the reference numeral 46. The liquid crystal display 40 is formed by laminating a liquid crystal panel 41 and a back light source 32 located on the lower surface thereof.

【0055】[0055]

【実施例】本発明を実施例によってさらに詳細に説明す
る。なお、以下の説明において「部」は「重量部」を意
味するものとする。 [A成分の合成例] 合成例A−1 ビスフェノキシエタノールフルオレン(大阪ガスケミカ
ル(株)社製、商品名BPEF)600g、アクリル酸
258g、p−トルエンスルホン酸30g、トルエン1
350g、ハイドロキノンモノメチルエーテル1g、お
よびハイドロキノン0.03gを混合し、100〜11
5℃で還流しながら理論脱水量を得るまで脱水エステル
化反応を行った。その後、反応液をアルカリ中和し、1
0%食塩水で洗浄を行った。洗浄後トルエン除去し、ジ
アクリレート(A−1)を得た。
The present invention will be described in more detail by way of examples. In the following description, “parts” means “parts by weight”. [Synthesis Example of Component A] Synthesis Example A-1 Bisphenoxyethanolfluorene (trade name BPEF, manufactured by Osaka Gas Chemical Co., Ltd.) 600 g, acrylic acid 258 g, p-toluenesulfonic acid 30 g, toluene 1
350 g, 1 g of hydroquinone monomethyl ether and 0.03 g of hydroquinone were mixed, and 100 to 11
While refluxing at 5 ° C., the dehydration esterification reaction was performed until the theoretical dehydration amount was obtained. Thereafter, the reaction solution was neutralized with alkali, and
Washing was performed with 0% saline. After washing, toluene was removed to obtain diacrylate (A-1).

【0056】合成例A−2 ビスヒドロキシフェニルフルオレン350g、エピクロ
ルヒドリン500g、およびトリエチルベンジルアンモ
ニウムクロライド10gを混合し、還流下50%苛性ソ
ーダ水溶液160gを滴下し、留出水を系外に除去しな
がら約3時間反応した。次に、水300gを添加し、静
置後有機層を分別した後、pHが5になるように酢酸で
調整し、その後、水300gで2回水洗した。濃縮して
残存する水分とエピクロルヒドリンを除去した。この生
成物のエポキシ当量は270であった。ここにトルエン
80g、ハイドロキノンモノメチルエーテル0.5g、
およびアクリル酸95gを添加し、100℃に加熱し、
約15時間反応した。樹脂酸化5mgKOH/g、エポ
キシ当量7500、固形分85%のジアクリレート(A
−2)溶液を得た。
Synthesis Example A-2 350 g of bishydroxyphenylfluorene, 500 g of epichlorohydrin, and 10 g of triethylbenzylammonium chloride were mixed, and 160 g of a 50% aqueous sodium hydroxide solution was added dropwise under reflux. Reacted for hours. Next, 300 g of water was added, and after standing, the organic layer was separated, adjusted with acetic acid so that the pH became 5, and then washed twice with 300 g of water. Concentration was performed to remove residual water and epichlorohydrin. The epoxy equivalent of this product was 270. Here, 80 g of toluene, 0.5 g of hydroquinone monomethyl ether,
And 95 g of acrylic acid, and heated to 100 ° C.
It reacted for about 15 hours. Diacrylate of resin oxidation 5 mgKOH / g, epoxy equivalent 7500, solid content 85% (A
-2) A solution was obtained.

【0057】[B成分の合成例] 合成例B−1 ペンタエリスリトールトリアクリレートとペンタエリス
リトールテトラアクリレートの混合物(水酸基価120
mgKOH/g、以下PETAと示す)940g、ヘキ
サメチレンジイソシアネート(以下HDIと示す)16
8g、およびジブチル錫ジラウレート(以下DBTLと
示す)数滴を混合し、80℃に加熱して反応を約5時間
行い、ウレタンアクリレート(B−1)を得た。
[Synthesis Example of Component B] Synthesis Example B-1 A mixture of pentaerythritol triacrylate and pentaerythritol tetraacrylate (having a hydroxyl value of 120)
mg KOH / g, hereinafter referred to as PETA) 940 g, hexamethylene diisocyanate (hereinafter referred to as HDI) 16
8 g and a few drops of dibutyltin dilaurate (hereinafter referred to as DBTL) were mixed, and the mixture was heated to 80 ° C. and reacted for about 5 hours to obtain a urethane acrylate (B-1).

【0058】合成例B−2 ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタ
エリスリトールヘキサアクリレートの混合物(水酸基価
53mgKOH/g、以下DPPAと示す)2200
g、HDI168g、およびDBTL数滴を混合し、8
0℃に加熱して反応を約7時間行い、ウレタンアクリレ
ート(B−2)を得た。
Synthesis Example B-2 Mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (hydroxyl value 53 mg KOH / g, hereinafter referred to as DPPA) 2200
g, HDI 168 g, and a few drops of DBTL,
The reaction was carried out by heating to 0 ° C. for about 7 hours to obtain urethane acrylate (B-2).

【0059】合成例B−3 HDI168gの代わりに2,4−トリレンジイソシア
ネート174gを用いる以外は合成例B−1と同様にし
て合成を行い、ウレタンアクリレート(B−3)を得
た。
Synthesis Example B-3 Synthesis was performed in the same manner as in Synthesis Example B-1 except that 174 g of 2,4-tolylene diisocyanate was used instead of 168 g of HDI, to obtain a urethane acrylate (B-3).

【0060】合成例B−4 HDI168gの代わりに4,4’−ジフェニルメタン
ジイソシアネート(以下MDIと示す)250gを用い
る以外は合成例B−1と同様にして合成を行い、ウレタ
ンアクリレート(B−4)を得た。
Synthesis Example B-4 Synthesis was performed in the same manner as in Synthesis Example B-1 except that 250 g of 4,4′-diphenylmethane diisocyanate (hereinafter referred to as MDI) was used instead of 168 g of HDI, and urethane acrylate (B-4) I got

【0061】合成例B−5 HDI168gの代わりにキシリレンジイソシアネート
188gを用いる以外は合成例B−1と同様にして合成
を行い、ウレタンアクリレート(B−5)を得た。
Synthesis Example B-5 Synthesis was performed in the same manner as in Synthesis Example B-1 except that 188 g of xylylene diisocyanate was used instead of 168 g of HDI, to obtain a urethane acrylate (B-5).

【0062】合成例B−6 DPPA3200g、イソホロンジイソシアネートのヌ
レート化物666g、およびDBTL数滴を混合し、8
0℃に加熱して反応を約7時間行い、ウレタンアクリレ
ート(B−6)を得た。
Synthesis Example B-6 3200 g of DPPA, 666 g of a nullified product of isophorone diisocyanate, and a few drops of DBTL were mixed to give 8
The reaction was carried out by heating to 0 ° C. for about 7 hours to obtain urethane acrylate (B-6).

【0063】合成例B−7 ビスフェノキシエタノールフルオレン438g、MDI
500g、およびDBTL数滴を混合し、80℃に加熱
して、反応を約3時間行い、次に、DPPA2350g
を添加し、80℃で反応を約6時間行い、ウレタンアク
リレート(B−7)を得た。
Synthesis Example B-7 Bisphenoxyethanol fluorene 438 g, MDI
500 g and a few drops of DBTL are mixed, heated to 80 ° C. and the reaction is allowed to proceed for about 3 hours, then 2350 g of DPPA
Was added, and the reaction was carried out at 80 ° C. for about 6 hours to obtain urethane acrylate (B-7).

【0064】合成例B−8 ジメチロールプロピオン酸134g、MDI500g、
およびDBTL数滴を混合し、80℃に加熱して、反応
を約6時間行い、次に、PETA1050gを添加し、
80℃で反応を約6時間行い、ウレタンアクリレート
(B−8)を得た。
Synthesis Example B-8 134 g of dimethylolpropionic acid, 500 g of MDI,
And a few drops of DBTL are mixed, heated to 80 ° C. and the reaction is allowed to proceed for about 6 hours, then 1050 g of PETA is added,
The reaction was carried out at 80 ° C. for about 6 hours to obtain urethane acrylate (B-8).

【0065】<実施例1>まず、下記分散液の配合より
なる混合物をサンドミルにて30分間分散することによ
って得られた分散液と、下記配合からなるハードコート
層用ベース塗料をディスパーにて15分間攪拌、混合し
た塗料を、膜厚80μm、透過率92%、屈折率1.4
9からなる透明基体であるトリアセチルセルロース(商
品名:フジタックタック、富士写真フィルム社製)の片
面上に、リバースコーティング方式にて塗布し、100
℃で2分間乾燥後、出力120w/cmの集光型高圧水
銀灯1灯を用いて、照射距離(ランプ中心から塗工面ま
での距離)10cm、処理速度(塗工基体側の水銀灯に
対する速度)5m/分で紫外線照射を行い、塗工膜を硬
化させた。このようにして、厚さ5μm、屈折率1.6
5のハードコート層を形成した。次に、表面層用の塗料
として、含フッ素シリカゾルLR201(全固形分濃
度;4%、溶媒;エタノール/ブチルセロソルブ=50
/50、日産化学工業(株)社製)を用い、上記ハード
コート層上にスピンコーティングにより塗布し、100
℃で1分間乾燥後、120℃で6時間熱キュアーし、厚
さ0.1μm、屈折率1.38、臨界表面張力16dy
n/cmの表面層を形成し、反射率0.8%の本発明の
反射防止材料を得た。
<Example 1> First, a dispersion obtained by dispersing a mixture having the following composition in a sand mill for 30 minutes and a base coating material for a hard coat layer having the following composition were mixed with a disperser. After stirring and mixing for a minute, the coating material was coated to a thickness of 80 μm, a transmittance of 92%, and a refractive index of 1.4.
9 was coated on one side of triacetyl cellulose (trade name: Fuji Tack Tack, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) as a transparent substrate made of No. 9 by a reverse coating method.
After drying at 2 ° C. for 2 minutes, the irradiation distance (the distance from the lamp center to the coating surface) was 10 cm, and the processing speed (the speed of the coating substrate side relative to the mercury lamp) was 5 m using one condensing high-pressure mercury lamp having an output of 120 w / cm. The coating film was cured by irradiating ultraviolet rays at a rate of / min. Thus, a thickness of 5 μm and a refractive index of 1.6
No. 5 hard coat layer was formed. Next, as a coating for the surface layer, fluorinated silica sol LR201 (total solid content: 4%, solvent: ethanol / butyl cellosolve = 50)
/ 50, manufactured by Nissan Chemical Industry Co., Ltd.) and spin-coated on the hard coat layer,
After drying at ℃ for 1 minute, heat curing at 120 ℃ for 6 hours, thickness 0.1μm, refractive index 1.38, critical surface tension 16dy
An n / cm surface layer was formed to obtain an antireflection material of the present invention having a reflectance of 0.8%.

【0066】 [分散液の配合] ・アンチモンティンオキサイド(ATO)(1次粒子径10nm) 30部 ・分散剤(商品名:A−147、日本ユニカー(株)社製) 3部 ・メチルエチルケトン 40部 ・メチルイソブチルケトン 60部[Blending of Dispersion] Antimony Tin Oxide (ATO) (Primary Particle Diameter 10 nm) 30 parts Dispersant (trade name: A-147, manufactured by Nippon Unicar Co., Ltd.) 3 parts Methyl ethyl ketone 40 parts・ Methyl isobutyl ketone 60 parts

【0067】 [ハードコート層用ベース塗料の配合] ・A−1 49部 ・B−1 21部 ・光重合開始剤(商品名:イルガキュア184、チバガイギー社製) 5部 ・イソプロピルアルコール 80部[Incorporation of Base Coating for Hard Coat Layer] A-1 49 parts B-1 21 parts Photopolymerization initiator (trade name: Irgacure 184, manufactured by Ciba Geigy) 5 parts Isopropyl alcohol 80 parts

【0068】<実施例2〜13、比較例1>ハードコー
ト層用ベース塗料の共重合成分組成を表1に記載の配合
に変更した以外は実施例1と同様にして、本発明の実施
例2〜13および比較例1の反射防止材料を得た。な
お、AおよびB成分以外のC成分として、DPPAまた
はPPEAを添加したものもある。ここで、DPPA
は、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペ
ンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(水酸
基価53mgKOH/g)、PPEAは、フェニルフェ
ノキシエタノールアクリレートを示す。
<Examples 2 to 13, Comparative Example 1> Examples of the present invention were prepared in the same manner as in Example 1 except that the composition of the copolymer component of the base coating material for the hard coat layer was changed to the composition shown in Table 1. 2 to 13 and Comparative Example 1 were obtained. Some of the C components other than the A and B components include DPPA or PPEA. Where DPPA
Is a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (hydroxyl value 53 mgKOH / g), and PPEA is phenylphenoxyethanol acrylate.

【0069】<実施例14>下記配合の表面層用塗料を
用いた以外は、実施例1と同様にして、本発明の反射防
止材料を得た。 [表面層用塗料の配合] ・シリカゾル (粒子径15nmでSiOとして30重量%のシリカ超微粒子を含有するエタ ノール分散液) 10部 ・皮膜形成剤 テトラエトキシシランの加水分解物 (SiOとして計算して固形分6%) 15部 ・溶媒 エタノール 53部
<Example 14> An antireflection material of the present invention was obtained in the same manner as in Example 1 except that a coating material for a surface layer having the following composition was used. [Blending of paint for surface layer] Silica sol (Ethanol dispersion containing 30% by weight of silica ultrafine particles as SiO 2 with a particle diameter of 15 nm) 10 parts Film-forming agent Hydrolysis product of tetraethoxysilane (as SiO 2) Calculate the solid content 6%) 15 parts ・ Solvent ethanol 53 parts

【0070】<比較例2>表面層を設けない以外は実施
例1と同様にして、比較用の反射防止材料を得た。 <比較例3>ハードコート層を設けない以外は実施例1
と同様にして、比較用の反射防止材料を得た。 <比較例4>比較例1において、ハードコート層用塗料
として分散液を用いずにベース塗料のみを用いて(樹脂
のみでATOなし)、ハードコート層を形成した以外は
比較例1と同様にして、比較用の反射防止材料を得た。
<Comparative Example 2> An antireflection material for comparison was obtained in the same manner as in Example 1 except that the surface layer was not provided. <Comparative Example 3> Example 1 except that no hard coat layer was provided.
In the same manner as in the above, an antireflection material for comparison was obtained. <Comparative Example 4> In the same manner as in Comparative Example 1, except that a hard coat layer was formed by using only a base paint without using a dispersion liquid as a hard coat layer paint (only resin and no ATO). Thus, an antireflection material for comparison was obtained.

【0071】実施例1〜14、比較例1〜4で得られた
反射防止材料10を用い、反射率、耐摩耗性、耐薬品
性、臨界表面張力、耐汚染性を下記方法により測定、評
価した。さらに、実施例1〜14、比較例1〜4の各反
射防止材料10を用い、図2に示される構成のハードコ
ート層付偏光フィルム20を作製した。次いで、上記ハ
ードコート層付偏光フィルム20を図3に示すようにガ
ラス基板33に貼り付け、液晶表示体30を得た。この
ようにして作製した実施例1〜14、比較例1〜4の各
液晶表示体30を用いて、画像コントラストを下記方法
により評価した。なお、これらの各液晶表示体30の画
像サイズは、例えば10.4インチとし、解像度は、例
えば800×600ドットとして、画像コントラストの
評価を行った。
Using the antireflection materials 10 obtained in Examples 1 to 14 and Comparative Examples 1 to 4, the reflectance, abrasion resistance, chemical resistance, critical surface tension, and stain resistance were measured and evaluated by the following methods. did. Further, using each antireflection material 10 of Examples 1 to 14 and Comparative Examples 1 to 4, a polarizing film 20 with a hard coat layer having a configuration shown in FIG. 2 was produced. Next, the polarizing film 20 with the hard coat layer was attached to a glass substrate 33 as shown in FIG. Using each of the liquid crystal displays 30 of Examples 1 to 14 and Comparative Examples 1 to 4 thus produced, image contrast was evaluated by the following method. The image size of each of the liquid crystal displays 30 was, for example, 10.4 inches and the resolution was, for example, 800 × 600 dots, and the image contrast was evaluated.

【0072】反射率は分光光度計UV3100(島津製
作所社製)を使用し、波長領域400〜700nmの範
囲の5゜の正反射を測定し、JIS Z8701に従っ
て視感度補正したY値で表した。なお、測定は非測定面
を黒マジックで完全に黒塗りした状態で行った。反射防
止性は、1%以下が特に良好で、4%を越えるとかなり
悪くなる。
The reflectivity was measured by using a spectrophotometer UV3100 (manufactured by Shimadzu Corporation) to measure the regular reflection at 5 ° in the wavelength range of 400 to 700 nm, and expressed as a Y value corrected for visibility according to JIS Z8701. The measurement was performed in a state where the non-measurement surface was completely blackened with black magic. The antireflection property is particularly good when it is 1% or less, and considerably deteriorates when it exceeds 4%.

【0073】耐摩耗性は日本スチールウール社製のスチ
ールウール#0000を板紙耐摩耗試験機(熊谷理機工
業社製)に取り付け、反射防止材料の表面層面を荷重2
00gにて50回往復させる。その後、その部分のHA
ZE値の変化δH(下記計算に基づく)を東洋精機社製
HAZEメーターで測定した。耐摩耗性はδHが1.5
以下で良好で、5を越えると傷が多くなり、実用上問題
となる。HAZE値の測定は反射防止材料単体で行っ
た。 HAZE値変化δH=試験後のHAZE値−試験前のH
AZE値
The abrasion resistance was as follows. Steel wool # 0000 manufactured by Nippon Steel Wool Co., Ltd. was attached to a paperboard abrasion tester (manufactured by Kumagaya Riki Kogyo Co., Ltd.), and the surface layer of the anti-reflective material was subjected to a load of 2
Reciprocate 50 times at 00g. Then, HA of that part
The change δH of the ZE value (based on the following calculation) was measured by a HAZE meter manufactured by Toyo Seiki. Abrasion resistance δH is 1.5
Below, it is good, and when it exceeds 5, the number of scratches increases, which is a practical problem. The measurement of the HAZE value was performed using the antireflection material alone. HAZE value change δH = HAZE value after test-H before test
AZE value

【0074】耐薬品性は、イソプロピルアルコールを含
ませた綿棒(ジョンソン社製)で表面層面を50往復擦
った後に、ハードコート層に剥がれ等著しい変化があっ
た場合を×、変化がない場合を○、その中間を△として
評価した。
The chemical resistance was evaluated as x when the surface layer surface was remarkably changed, such as peeling, after rubbing the surface layer 50 times with a cotton swab (manufactured by Johnson) impregnated with isopropyl alcohol. 、, the middle was evaluated as △.

【0075】臨界表面張力はウィル・ヘルミー法により
反射防止材料の表面層の水とヨウ化メチレンに対する接
触角を測定し、コーティングの基礎科学(原崎 勇次著
槇書店発行)p170〜171記載の次式に代入、Z
ismamプロットから、COSθ−1に外挿したγ
LV゜の値から求めた。 COSθ=1+b(γ−γLV゜) ただし、γ
LV゜≧γ θ:固/液の接触角、γLV゜:液体の表面張力、
γ:臨界表面張力、b:定数
The critical surface tension is determined by the Wilhelmy method by measuring the contact angle of the surface layer of the antireflective material with water and methylene iodide, and the following formula described in Basic Science of Coating (published by Yuji Harazaki, published by Maki Shoten), pages 170 to 171. , Z
From the ismam plot, γ extrapolated to COS θ-1
It was determined from the value of the LV °. COS θ = 1 + b (γ c −γ LV ゜ ) where γ
LV ゜ ≧ γ c θ: contact angle of solid / liquid, γ LV ゜ : surface tension of liquid,
γ c : critical surface tension, b: constant

【0076】耐汚染性は、表面層面に菜種油をスポイト
で1滴、滴下した後、滴下した菜種油をリグロインを含
ませた旭化成社製のベンコットで20往復ラビングす
る。さらにその後、拭き取った面のSEM写真を撮影
し、面の傷やベンコットの繊維の付着の有無を確認し
た。ハードコート層に傷やベンコットの繊維の付着が顕
著に認められる場合を×、全く変化がない場合を○、そ
の中間を△とした。
The stain resistance is as follows. One drop of rapeseed oil is dropped on the surface of the surface layer with a dropper, and the dropped rapeseed oil is rubbed 20 times with a Bencott made by Asahi Kasei Corporation containing ligroin. Further, after that, an SEM photograph of the wiped surface was taken, and it was confirmed whether or not the surface was scratched or the Bencott fibers were attached. When the scratches and the adhesion of Bencott fibers were remarkably observed on the hard coat layer, the result was evaluated as x, when no change was observed, and as intermediate.

【0077】画面コントラストはJIS C7072 1
988に於ける液晶表示パネルのコントラスト比(C
R)測定方法に準拠し、評価した。画像コントラストの
評価における光源60−液晶パネル61−測光器62の
位置関係を図5に示す。この場合、光源60と液晶パネ
ル61との間は、例えば1cm、液晶パネル61と測光
器62との間は、例えば50cm、測光器の開口角は、
例えば5゜に設定した。なお、光源には5WのELを使
用し、測光器にはミノルタカメラ社製のLS−100を
使用した。CRが4以上の場合を◎、同3以上4未満の
場合を○、同2以上3未満の場合を△、同2未満を×と
した。以上の評価結果を表1に示す。
The screen contrast is JIS C70721.
988, the contrast ratio of the liquid crystal display panel (C
R) It was evaluated according to the measuring method. FIG. 5 shows the positional relationship between the light source 60, the liquid crystal panel 61, and the photometer 62 in the evaluation of the image contrast. In this case, the distance between the light source 60 and the liquid crystal panel 61 is, for example, 1 cm, the distance between the liquid crystal panel 61 and the photometer 62 is, for example, 50 cm, and the aperture angle of the photometer is:
For example, it was set to 5 °. The light source used was 5 W EL, and the photometer used was LS-100 manufactured by Minolta Camera. The case where CR was 4 or more was evaluated as ◎, the case of 3 or more but less than 4 was evaluated as ○, the case of 2 or more and less than 3 was evaluated as Δ, and the case of less than 2 was evaluated as ×. Table 1 shows the evaluation results.

【0078】[0078]

【表1】 [Table 1]

【0079】表1の結果から明らかなように、本発明の
反射防止材料はいずれも良好な反射率および耐久性を有
し、優れた特性が得られているのに対し、比較例1〜4
の反射防止材料では、いずれも反射率に問題を有し、加
えて、比較例1および4は、コントラストが劣り、比較
例2は、耐汚染性およびコントラストが、比較例3は、
耐久性が実用に耐え得るものではなかった。
As is clear from the results shown in Table 1, the antireflection materials of the present invention all have good reflectance and durability and excellent characteristics, while Comparative Examples 1 to 4
In the antireflection materials of Nos. 1 and 2, both have a problem in reflectance. In addition, Comparative Examples 1 and 4 have inferior contrast, Comparative Example 2 has stain resistance and contrast, and Comparative Example 3 has
The durability was not enough for practical use.

【0080】[0080]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、デ
ィスプレイへの太陽光および蛍光灯等の外部光の映り込
みを防止することにより優れた反射防止性を発揮し、画
像コントラストを低下させることなく、ギラツキ等のな
い鮮明な画像を得ることができるとともに、光学的に安
定で優れた耐摩耗性、耐薬品性を示し、かつ、優れた耐
汚染性を示す反射防止材料と偏光フィルムを得ることが
できる。
As described above, according to the present invention, excellent antireflection properties are exhibited by preventing the reflection of external light such as sunlight and fluorescent lights on the display, and the image contrast is reduced. Without the need to obtain clear images without glare, optically stable, excellent abrasion resistance, chemical resistance, and an anti-reflective material and polarizing film that exhibit excellent contamination resistance Obtainable.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の反射防止材料の構成を示す概略断面
図である。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view illustrating a configuration of an antireflection material of the present invention.

【図2】 本発明の反射防止材料を使用した偏光フィル
ムの構成を示す概略断面図である。
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing a configuration of a polarizing film using the antireflection material of the present invention.

【図3】 反射防止材料を使用した偏光フィルムを具備
する液晶表示体の構成を示す概略断面図である。
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view illustrating a configuration of a liquid crystal display including a polarizing film using an antireflection material.

【図4】 反射防止材料を使用した偏光フィルムを具備
する他の液晶表示体の構成を示す概略断面図である。
FIG. 4 is a schematic sectional view showing the configuration of another liquid crystal display including a polarizing film using an antireflection material.

【図5】 画像コントラストの測定装置の配置図を示す
概略図である。
FIG. 5 is a schematic view showing a layout of an image contrast measuring device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…反射防止材料、11…透明基体、12…ハードコ
ート層、20…ハードコート層付偏光フィルム、21…
透明基体、22…ハードコート層、23…第1の保護
材、24…偏光基体、25…第2の保護材、30…液晶
表示体、31…液晶パネル、32…背面光源、33,3
4…ガラス基板、33’,34’…透明電極面、35…
ネマチック液晶、36…偏光フィルム、40…液晶表示
体、41…液晶パネル、43,44…ガラス基板、45
…ネマチック液晶、46,47…偏光フィルム、60…
光源、61…液晶パネル、62…測光器
10 anti-reflection material, 11 transparent substrate, 12 hard coat layer, 20 polarizing film with hard coat layer, 21
Transparent substrate, 22 hard coat layer, 23 first protective material, 24 polarizing substrate, 25 second protective material, 30 liquid crystal display, 31 liquid crystal panel, 32 back light source, 33, 3
4: glass substrate, 33 ', 34': transparent electrode surface, 35:
Nematic liquid crystal, 36: polarizing film, 40: liquid crystal display, 41: liquid crystal panel, 43, 44: glass substrate, 45
… Nematic liquid crystal, 46, 47… Polarized film, 60…
Light source, 61: liquid crystal panel, 62: photometer

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 透明基体の片面もしくは両面に、直接ま
たは他の層を介して、ハードコート層を設け、このハー
ドコート層の表面にハードコート層の屈折率よりも低い
屈折率を有する表面層を設けた反射防止材料において、
上記ハードコート層は、少なくともフルオレン骨格を有
する(メタ)アクリレート化合物を重合成分とした重合
体を含有することを特徴とする反射防止材料。
A hard coat layer is provided on one or both sides of a transparent substrate, directly or via another layer, and a surface layer having a refractive index lower than that of the hard coat layer on the surface of the hard coat layer. In the antireflection material provided with
The anti-reflection material, wherein the hard coat layer contains a polymer having a (meth) acrylate compound having at least a fluorene skeleton as a polymerization component.
【請求項2】 前記重合体がウレタン(メタ)アクリレ
ート化合物を共重合成分とした共重合体であることを特
徴とする請求項1に記載の反射防止材料。
2. The antireflection material according to claim 1, wherein the polymer is a copolymer containing a urethane (meth) acrylate compound as a copolymer component.
【請求項3】 前記ハードコート層が屈折率1.6〜
2.7のフィラーを含有することを特徴とする請求項1
または2に記載の反射防止材料。
3. The hard coat layer has a refractive index of 1.6 or more.
2. The composition according to claim 1, further comprising 2.7 fillers.
Or the antireflection material according to 2.
【請求項4】 前記表面層の臨界表面張力が20dyn
/cm以下であることを特徴とする請求項1〜3のいず
れかに記載の反射防止材料。
4. The critical surface tension of the surface layer is 20 dyn.
/ Cm or less, The anti-reflection material according to any one of claims 1 to 3.
【請求項5】 請求項1〜4のいずれかに記載の反射防
止材料の前記透明基体の前記ハードコート層および前記
表面層が設けられていない他方の面に、偏光基体を介し
て保護材を積層したことを特徴とする偏光フィルム。
5. A protective material via a polarizing substrate on the other surface of the anti-reflection material according to claim 1, wherein the hard coat layer and the surface layer are not provided on the transparent substrate. A polarizing film characterized by being laminated.
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Cited By (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002154183A (en) * 2000-11-21 2002-05-28 Jsr Corp Structure
JP2002322294A (en) * 2001-04-26 2002-11-08 Fuji Photo Film Co Ltd Cellulose acylate film
JP2004258190A (en) * 2003-02-25 2004-09-16 Matsushita Electric Ind Co Ltd Display device for portable terminal and portable terminal apparatus
JP2005103973A (en) * 2003-09-30 2005-04-21 Dainippon Printing Co Ltd Laminate suppressed in curling of hard coat layer
JP2005125771A (en) * 2003-09-30 2005-05-19 Nippon Paper Industries Co Ltd Hard coat film and its manufacturing method
JP2005535934A (en) * 2002-08-15 2005-11-24 富士写真フイルム株式会社 Antireflection film, polarizing plate, and image display device
JP2006328342A (en) * 2005-04-27 2006-12-07 Mitsubishi Chemicals Corp Curable composition, cured material and liquid crystal display device using the same
JP2007058111A (en) * 2005-08-26 2007-03-08 Dainippon Printing Co Ltd Hard coat layer with high refractive index
JP2007084815A (en) * 2005-08-26 2007-04-05 Dainippon Printing Co Ltd Hard coat layer having high refractive index
JP2007185824A (en) * 2006-01-12 2007-07-26 Toppan Printing Co Ltd Antireflection laminated film
WO2007105627A1 (en) * 2006-03-10 2007-09-20 Toyo Ink Mfg. Co., Ltd. Hard coating resin composition for optical member
WO2007119566A1 (en) * 2006-03-28 2007-10-25 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Optical laminate comprising low-refractive index layer
JP2008112177A (en) * 2000-09-22 2008-05-15 Fujifilm Corp Antiglare film, polarizer and liquid crystal display
JP2009009138A (en) * 2000-08-29 2009-01-15 Daikin Ind Ltd Method for manufacturing anti-reflective coated goods
JP2011084048A (en) * 2009-10-19 2011-04-28 Tomoegawa Paper Co Ltd Optical laminated body
KR20120052192A (en) 2009-06-17 2012-05-23 니폰 가야꾸 가부시끼가이샤 Urethane (meth)acrylate compound and resin composition containing same
JP2013082108A (en) * 2011-10-07 2013-05-09 Sumitomo Bakelite Co Ltd Resin laminate and ultraviolet curable resin composition
JP2014037554A (en) * 2005-04-27 2014-02-27 Mitsubishi Chemicals Corp Curable composition, cured object, and liquid crystal display device using the same
WO2018003293A1 (en) * 2016-06-27 2018-01-04 Dic株式会社 Active-energy-beam curable composition and film using same
CN112513682A (en) * 2018-07-31 2021-03-16 日本电产株式会社 Coating method, optical element and lens assembly
EP3909744A4 (en) * 2019-01-10 2022-10-05 Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. Antireflection film and multilayer film having antireflection film

Cited By (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009009138A (en) * 2000-08-29 2009-01-15 Daikin Ind Ltd Method for manufacturing anti-reflective coated goods
JP2008112177A (en) * 2000-09-22 2008-05-15 Fujifilm Corp Antiglare film, polarizer and liquid crystal display
JP2002154183A (en) * 2000-11-21 2002-05-28 Jsr Corp Structure
JP4701492B2 (en) * 2000-11-21 2011-06-15 Jsr株式会社 Structure
JP2002322294A (en) * 2001-04-26 2002-11-08 Fuji Photo Film Co Ltd Cellulose acylate film
JP4663906B2 (en) * 2001-04-26 2011-04-06 富士フイルム株式会社 Cellulose acylate film
CN1322338C (en) * 2002-08-15 2007-06-20 富士胶片株式会社 Antireflection film, polarizing plate and image display device
JP2005535934A (en) * 2002-08-15 2005-11-24 富士写真フイルム株式会社 Antireflection film, polarizing plate, and image display device
JP2004258190A (en) * 2003-02-25 2004-09-16 Matsushita Electric Ind Co Ltd Display device for portable terminal and portable terminal apparatus
KR101081987B1 (en) 2003-09-30 2011-11-10 가부시키가이샤 디엔피 파인 케미칼 Article having a hardcoating layer prevented from curling
JP2005125771A (en) * 2003-09-30 2005-05-19 Nippon Paper Industries Co Ltd Hard coat film and its manufacturing method
JP2005103973A (en) * 2003-09-30 2005-04-21 Dainippon Printing Co Ltd Laminate suppressed in curling of hard coat layer
JP4500522B2 (en) * 2003-09-30 2010-07-14 大日本印刷株式会社 Laminate that suppresses curling of hard coat layer
JP2014037554A (en) * 2005-04-27 2014-02-27 Mitsubishi Chemicals Corp Curable composition, cured object, and liquid crystal display device using the same
JP2006328342A (en) * 2005-04-27 2006-12-07 Mitsubishi Chemicals Corp Curable composition, cured material and liquid crystal display device using the same
JP2007084815A (en) * 2005-08-26 2007-04-05 Dainippon Printing Co Ltd Hard coat layer having high refractive index
JP2007058111A (en) * 2005-08-26 2007-03-08 Dainippon Printing Co Ltd Hard coat layer with high refractive index
JP2007185824A (en) * 2006-01-12 2007-07-26 Toppan Printing Co Ltd Antireflection laminated film
WO2007105627A1 (en) * 2006-03-10 2007-09-20 Toyo Ink Mfg. Co., Ltd. Hard coating resin composition for optical member
US7990617B2 (en) 2006-03-28 2011-08-02 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Optical laminate comprising low-refractive index layer
JPWO2007119566A1 (en) * 2006-03-28 2009-08-27 大日本印刷株式会社 Optical laminate comprising a low refractive index layer
WO2007119566A1 (en) * 2006-03-28 2007-10-25 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Optical laminate comprising low-refractive index layer
KR20120052192A (en) 2009-06-17 2012-05-23 니폰 가야꾸 가부시끼가이샤 Urethane (meth)acrylate compound and resin composition containing same
JP2011084048A (en) * 2009-10-19 2011-04-28 Tomoegawa Paper Co Ltd Optical laminated body
JP2013082108A (en) * 2011-10-07 2013-05-09 Sumitomo Bakelite Co Ltd Resin laminate and ultraviolet curable resin composition
WO2018003293A1 (en) * 2016-06-27 2018-01-04 Dic株式会社 Active-energy-beam curable composition and film using same
JP6288538B1 (en) * 2016-06-27 2018-03-07 Dic株式会社 Active energy ray-curable composition and film using the same
CN109312012A (en) * 2016-06-27 2019-02-05 Dic株式会社 Actinic-radiation curable composition and the film for using it
CN109312012B (en) * 2016-06-27 2021-08-27 Dic株式会社 Active energy ray-curable composition and film using same
CN112513682A (en) * 2018-07-31 2021-03-16 日本电产株式会社 Coating method, optical element and lens assembly
EP3909744A4 (en) * 2019-01-10 2022-10-05 Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. Antireflection film and multilayer film having antireflection film

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