JPH11209717A - Coating material for coating on film, anti-reflection film using the same, polarized film, and coating on film - Google Patents

Coating material for coating on film, anti-reflection film using the same, polarized film, and coating on film

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JPH11209717A
JPH11209717A JP10021526A JP2152698A JPH11209717A JP H11209717 A JPH11209717 A JP H11209717A JP 10021526 A JP10021526 A JP 10021526A JP 2152698 A JP2152698 A JP 2152698A JP H11209717 A JPH11209717 A JP H11209717A
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JP
Japan
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transparent substrate
film
coating
layer
resin
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JP10021526A
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Inventor
Tsutomu Murata
力 村田
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Tomoegawa Co Ltd
Original Assignee
Tomoegawa Paper Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a coated film that has a largely increased adhesion to a transparent substrate, retains high reliability even under the conditions of high temperature and humidity and shows excellent optical characteristics, abrasion resistance and chemical resistance. SOLUTION: An anti-reflecting material is prepared by forming surface- roughened layers 12 on one or both faces of a transparent substrate 11. The transparent substrate is made of a triacetylcellulose(TAC) resin, a saponified triacetyl-cellulose(TAC) resin, a polycarbonate or an acrylic resin, while the roughened layer 12 is coated with a coating material containing methyl isobutyl ketone(MIBK) as a main solvent.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は液晶ディスプレイ(LC
D)、プラズマディスプレイ(PDP)、CRT、EL
等の画像表示体等に好適に用いられ、画像部の防汚性、
反射防止、耐薬品性、耐摩耗性に優れるとともに、特
に、車載用画像表示体のように高温、高湿の環境化での
耐久性を向上させる技術に関する。
The present invention relates to a liquid crystal display (LC).
D), plasma display (PDP), CRT, EL
It is preferably used for an image display body such as an antifouling property of an image portion,
The present invention relates to a technology that is excellent in antireflection, chemical resistance, and abrasion resistance, and in particular, improves durability in a high-temperature, high-humidity environment such as a vehicle-mounted image display.

【0002】[0002]

【従来の技術】LCD、PDP、CRT、ELに代表さ
れる画像表示装置(以下ディスプレイ)や、サングラ
ス、ゴーグル、ヘルメットのシールド等光学系の製品に
は、沢山のフィルム製品が使用されている。特にディス
プレイは、テレビ、コンピューター、携帯電話、PH
S、カーナビ等、様々な分野に応用され、フィルム製品
の大きな市場として期待されている。
2. Description of the Related Art Many film products are used for image display devices (hereinafter referred to as displays) typified by LCDs, PDPs, CRTs, and ELs, and for optical products such as sunglasses, goggles, and helmet shields. In particular, displays include televisions, computers, mobile phones, PH
It is applied to various fields such as S and car navigation, and is expected as a large market for film products.

【0003】最近、この分野において、ノートパソコン
等のディスプレイ表面に使用されている反射防止フィル
ムが注目されている。反射防止に関しては、従来、磨り
ガラスのように、光を散乱もしくは拡散させて像をボカ
ス手法が一般的に行われている。光を散乱もしくは拡散
させるためには、光の入射面を粗面化することが基本と
なっており、この粗面化処理には、サンドブラスト法や
エンボス法等により透明基体表面を直接粗面化する方
法、透明基体表面にフィラーを含有させた塗工層を設け
る方法及び透明基体表面に海島構造による多孔質膜を形
成する方法等が採用されている。
In this field, attention has recently been paid to antireflection films used on display surfaces of notebook computers and the like. As for the anti-reflection, conventionally, a scattered or scattered light, such as frosted glass, has been generally used for a blurred image. In order to scatter or diffuse light, it is fundamental to roughen the light incident surface, and this roughening treatment involves directly roughening the surface of the transparent substrate by sandblasting or embossing. , A method of providing a coating layer containing a filler on the surface of the transparent substrate, and a method of forming a porous film having a sea-island structure on the surface of the transparent substrate.

【0004】透明基体表面にフィラーを含有させた粗面
化層を設ける方法は、フィラーの粒径やその含有量等に
より粗面化層表面の凹凸の大きさを比較的簡単にコント
ロールでき、かつ製造が容易である等の利点から現在、
好んで用いられている。塗工剤に使用する樹脂として
は、透過性、耐熱性、耐摩耗性、耐薬品性等に優れたも
のが望ましいが、基材が耐熱性に乏しい高透明なプラス
チックフィルムである場合が多いことから、UV硬化型
樹脂が好んで使用されている。その例として、UV硬化
型樹脂とシリカ顔料を構成要素とする特開平1−105
738や特開平5−162261などが報告されてい
る。
A method of providing a surface-roughened layer containing a filler on the surface of a transparent substrate can relatively easily control the size of the irregularities on the surface of the surface-roughened layer by controlling the particle size and the content of the filler. Currently, because of the advantages such as easy manufacturing,
It is used favorably. As the resin used for the coating agent, those having excellent permeability, heat resistance, abrasion resistance, chemical resistance, etc. are desirable, but the base material is often a highly transparent plastic film having poor heat resistance. Therefore, UV curable resins are preferably used. As an example, Japanese Patent Application Laid-Open No. HEI 1-105 having UV curable resin and silica pigment as constituents
738 and JP-A-5-162261 have been reported.

【0005】反射防止効果を更に向上するために、該粗
面化層上に、該粗面化層より屈折率の低い層を設けた
り、屈折率の高い材料と低い材料を交互に積層したりす
る方法が知られている。屈折率の低い材料としてはMg
FやSiO2など、屈折率が高い材料としてはTiO2
ZrO2などがあげられ、通常これらの材料は蒸着やス
パッタリングなどの気相法や、ゾルゲル法等により形成
される。
In order to further improve the antireflection effect, a layer having a lower refractive index than the roughened layer is provided on the roughened layer, or a material having a higher refractive index and a material having a lower refractive index are alternately laminated. There are known ways to do this. Mg as a material having a low refractive index
Materials having a high refractive index such as F and SiO 2 are TiO 2 ,
ZrO 2 and the like can be mentioned, and these materials are usually formed by a vapor phase method such as vapor deposition or sputtering, or a sol-gel method.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】ところで、透明基体の
材料としては、従来、安価で、光学特性や各環境におけ
る信頼性等に優れていることから、トリアセチルセルロ
ース(以下、TACと略称する)、ポリカーボネート、
アクリル樹脂が多用されているが、これらの透明基体と
粗面化層との密着性が問題となっていた。即ち、近年、
急速に普及しつつあるカーテレビやカーナビゲーション
用ディスプレイなどは、反射防止フィルムが使用されて
おり、乗用車の中で温度と湿度の極めて大きな変化が繰
り返される。ところが、これらの透明基体は、粗面化層
を構成する樹脂との密着性がもともと悪い上に、TAC
などは、熱膨張率が高く、しかも吸湿性が大きいため、
温湿度変化で寸法変化し易いという欠点がある。そのた
め、耐摩耗性を高めるためにリジッドに構成された粗面
化層との間に高い応力が生じ、粗面化層の剥がれ等の重
大なトラブルが発生し、耐久性に問題を有するものであ
った。
By the way, as a material for a transparent substrate, triacetyl cellulose (hereinafter abbreviated as TAC) has conventionally been used because it is inexpensive and has excellent optical characteristics and reliability in various environments. , Polycarbonate,
Acrylic resins are frequently used, but the adhesion between these transparent substrates and the roughened layer has been a problem. That is, in recent years,
Anti-reflection films are used in car televisions, car navigation displays, and the like, which are rapidly spreading, and extremely large changes in temperature and humidity are repeated in passenger cars. However, these transparent substrates have inherently poor adhesion to the resin constituting the roughened layer, and have a TAC
Etc. have a high coefficient of thermal expansion and high hygroscopicity,
There is a drawback that the dimensions easily change due to changes in temperature and humidity. Therefore, high stress is generated between the roughened layer formed rigidly to increase the wear resistance, and serious troubles such as peeling of the roughened layer occur, which has a problem in durability. there were.

【0007】従来においては、粗面化層の材料である樹
脂を例えば、芳香族溶剤、あるいはアルコール系溶剤に
溶かして塗料とし、これを透明基体に塗工していたが、
そのような溶剤では透明基体への密着力が弱く、車載用
などの用途には信頼性の面で適していないことが判っ
た。一方、密着力を高めるためにメチルエチルケトンや
酢酸エチルなどの極性の大きな溶剤を用いることも考え
られるが、そのような溶剤では、密着力の面では問題は
ないものの、上記した透明基体の表面が冒されて反射防
止材料の光学的特性が劣化するという問題があった。
Conventionally, a resin, which is a material of a roughened layer, is dissolved in, for example, an aromatic solvent or an alcohol-based solvent to form a paint, which is applied to a transparent substrate.
It has been found that such a solvent has poor adhesion to a transparent substrate and is not suitable for use in vehicles and the like in terms of reliability. On the other hand, it is conceivable to use a highly polar solvent such as methyl ethyl ketone or ethyl acetate in order to enhance the adhesion, but such a solvent has no problem in terms of the adhesion, but the surface of the above-mentioned transparent substrate is not effective. As a result, there is a problem that the optical characteristics of the antireflection material are deteriorated.

【0008】また、ディスプレイの解像度が向上するに
伴い、上記粗面化層の凹凸の高さや間隔にも緻密化が要
求されるようになってきた。画像の高精細化は、主に画
像ドットの高密度化によるが、凹凸の間隔がこの画像ド
ットのピッチより小さい場合は良いが、大きい場合は干
渉によるギラツキが発生する。反射防止性が良好で、ギ
ラツキがない鮮明な画像を得るためには、まず、この凹
凸の高さおよび間隔を、小さくかつバラツキがないよう
コントロールしなければならない。
[0008] Further, as the resolution of the display has been improved, the height and spacing of the unevenness of the roughened layer have also been required to be more dense. The high definition of an image is mainly based on an increase in the density of image dots. It is good if the interval between the concavities and convexities is smaller than the pitch of the image dots, but if it is large, glare occurs due to interference. In order to obtain a clear image with good antireflection properties and no glare, first, the height and spacing of the unevenness must be controlled to be small and uniform.

【0009】しかしながら、UV硬化型樹脂とシリカ顔
料からなる系は、基材に塗料を塗布した後、UV照射に
より膜硬化するまでの間、低粘度の液状態を呈している
ため、粗面化層中のフィラーどうしが互いにくっつき合
ったりして、凝集(オレンジピール)を生じて解像度が
十分得られないという問題を有していた。特に、粗面化
層表面の凹凸を緻密化する目的で、フィラーの含有量を
増加させたり、粗面化層の厚さをコントロールするため
に粗面化層の塗料を溶剤等で希釈する場合には特に顕著
であった。
However, the system composed of a UV-curable resin and a silica pigment exhibits a low-viscosity liquid state until the film is cured by UV irradiation after the coating is applied to the substrate, so that the surface is roughened. There has been a problem that the fillers in the layer stick to each other to cause agglomeration (orange peel) and a sufficient resolution cannot be obtained. In particular, for the purpose of densifying irregularities on the surface of the roughened layer, increasing the content of the filler, or diluting the coating material of the roughened layer with a solvent or the like in order to control the thickness of the roughened layer. Was particularly remarkable.

【0010】本発明は、従来技術における上記した実情
に鑑みてなされたもので、TAC、PC、アクリル樹脂
のフィルムに対する密着力が高く、しかもフィルム表面
を冒すことのないフィルム塗工用塗料およびフィルムへ
の塗工方法を提供することを目的としている。また、本
発明は、透明基体と粗面化層との密着強度が高く、車載
用として充分な信頼性を有することは勿論のこと、ディ
スプレイへの太陽光及び蛍光灯等の外部光の映り込みを
防止することにより、優れた反射防止性を発揮し、か
つ、画像コントラストを低下させることなく、ギラツキ
等のない鮮明な画像を得ることができ、光学的に安定で
優れた耐薬品性を示す反射防止材料を提供することを目
的としている。さらに、本発明は、上記反射防止材料を
使用した偏光フィルムを提供することにより、特に、フ
ルカラー液晶ディスプレイ等の性能を大幅に向上させる
ことを目的としている。
The present invention has been made in view of the above-mentioned circumstances in the prior art, and has a high adhesion to TAC, PC, and acrylic resin films, and does not affect the film surface. The purpose is to provide a coating method for coating. In addition, the present invention has a high adhesion strength between the transparent substrate and the roughened layer, has sufficient reliability for use in vehicles, and reflects external light such as sunlight and fluorescent lights on a display. By exhibiting excellent anti-reflective properties, and without deteriorating the image contrast, it is possible to obtain a clear image free of glare and the like, which is optically stable and exhibits excellent chemical resistance. It is intended to provide an anti-reflective material. Further, an object of the present invention is to provide a polarizing film using the above-mentioned antireflection material, and particularly to significantly improve the performance of a full-color liquid crystal display and the like.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】A.フィルム塗工用塗料
の内容 本発明者は、まず、TAC製透明基体とこれに塗工する
塗料との密着強度を高めるために、塗料の溶剤について
検討を重ねた結果、塗料の溶剤がメチルイソブチルケト
ン(以下、MIBKと略称する)の場合には、透明基体
の表面が僅かに冒されるだけで光学的特性への影響は一
切なく、しかも、密着強度が大幅に高められることを見
出した。本発明者は、MIBKのかかる特性に注目して
他の透明基体についても検討を重ねた結果、ポリカーボ
ネートおよびアクリル系の樹脂で構成された透明基体、
更には、こらら透明基体をケン化処理したものについて
も同等の効果が得られることを見出した。
A. Means for Solving the Problems First, the inventors of the present invention have repeatedly studied the solvent of the paint in order to increase the adhesion strength between the TAC transparent substrate and the paint to be applied thereto. As a result, the solvent of the paint was methyl isobutyl. In the case of ketone (hereinafter, abbreviated as MIBK), it has been found that the surface of the transparent substrate is slightly affected, and there is no influence on optical characteristics, and that the adhesion strength is greatly increased. The present inventor has focused on such characteristics of MIBK and has studied other transparent substrates as a result. As a result, a transparent substrate composed of polycarbonate and acrylic resin,
Furthermore, it has been found that the same effect can be obtained also when the transparent substrate is saponified.

【0012】本発明は上記知見に基づいてなされたもの
で、TAC系、ポリカーボネートまたはアクリル系の樹
脂で構成された透明基体、更には、前記透明基体をケン
化処理したものに塗工する塗料において、塗料の溶剤
を、MIBKを主体とすることを特徴としている。な
お、溶剤は、MIBK単独でも良く、MIBKにトルエ
ン、キシレン等の芳香族溶剤、メタノール、エタノー
ル、イソプロパノール、エチルセロソルブ、ブチルセロ
ソルブ等のアルコール系溶剤の1種または2種以上を混
合したものであっても良い。ただし、上記フィルムとの
所望の密着性を得るためには、溶剤中のMIBKの含有
量は重量10%以上、好ましくは40%以上、必要であ
る。また、メチルエチルケトンや酢酸エチル等の極性の
大きな溶剤は混合しない方が好ましい。透明基体がTA
C、けん化処理TACの場合には、熱膨張率と吸湿性が
高いために本発明の効果が一層発揮される。以下、本発
明のフィルム塗工用塗料の好適な実施の形態を反射防止
材料の粗面化層を形成する塗料を例に説明する。
The present invention has been made based on the above findings, and is directed to a transparent substrate made of a TAC-based, polycarbonate or acrylic-based resin, and a paint for coating the transparent substrate obtained by saponifying the transparent substrate. It is characterized in that the solvent of the paint is mainly made of MIBK. The solvent may be MIBK alone, or a mixture of MIBK with one or more aromatic solvents such as toluene and xylene, and alcoholic solvents such as methanol, ethanol, isopropanol, ethyl cellosolve and butyl cellosolve. Is also good. However, in order to obtain the desired adhesion to the film, the content of MIBK in the solvent must be 10% or more by weight, preferably 40% or more. Further, it is preferable not to mix a solvent having a large polarity such as methyl ethyl ketone or ethyl acetate. Transparent substrate is TA
In the case of C, saponified TAC, the effects of the present invention are further exhibited because of high thermal expansion coefficient and high hygroscopicity. Hereinafter, a preferred embodiment of the coating material for film coating according to the present invention will be described with reference to a coating material for forming a roughened layer of an antireflective material.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】本発明において粗面化層を塗工す
る透明基体としては、TAC系、ポリカーボネート、ア
クリル系の樹脂で構成された透明フィルムが用いられ
る。具体的には、TAC、けん化処理されたTAC等の
TAC系フィルム、ポリカーボネートフィルム、さらに
アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸エステル、メタ
クリル酸エステル、アクリルアミド、アクリルニトリル
等の単独もしくは共重合体であるアクリル系フィルムが
挙げられる。粗面化層には、各種の樹脂を使用すること
ができるが、塗工時に加熱の必要がなく、耐摩耗性、耐
熱性、耐薬品性等の耐久性に優れていることから紫外線
硬化型樹脂が好ましく用いられる。透明基体がけん化T
ACの場合には、塗料の主たる成分である樹脂にエポキ
シ化合物と光カチオン重合開始剤を含有する紫外線硬化
型樹脂を含めると一層効果的である。紫外線硬化型樹脂
の粘度、架橋密度、耐熱性、耐薬品性など塗料および塗
工膜の特性をコントロールするためには、アクリル系化
合物を混合することが好ましい。このような紫外線硬化
型樹脂を塗料に使用して粗面化層を形成した場合の利点
を、従来のラジカル反応型紫外線硬化型樹脂を塗料に用
いた場合と比較すると以下のようになる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION In the present invention, as a transparent substrate on which a roughened layer is applied, a transparent film composed of a TAC-based, polycarbonate, or acrylic-based resin is used. Specifically, TAC films such as TAC and saponified TAC, polycarbonate films, and acrylic or homo- or copolymers of acrylic acid, methacrylic acid, acrylates, methacrylates, acrylamides, acrylonitriles, etc. System film. Various resins can be used for the surface roughening layer, but they do not require heating during coating and have excellent durability such as abrasion resistance, heat resistance and chemical resistance. Resins are preferably used. Transparent substrate is saponified T
In the case of AC, it is more effective to include an ultraviolet curing resin containing an epoxy compound and a cationic photopolymerization initiator in the resin which is a main component of the paint. In order to control the properties of the paint and the coating film such as the viscosity, crosslink density, heat resistance and chemical resistance of the ultraviolet curable resin, it is preferable to mix an acrylic compound. The advantage of forming a roughened layer by using such an ultraviolet-curable resin in a coating is as follows when compared with the case of using a conventional radical-reaction-type ultraviolet-curing resin in a coating.

【0014】透明基体との密着性が良好である。特
に、従来の粗面化層を形成する樹脂系では、ほとんど密
着しなかったけん化TAC基体への密着性に優れている
ので、偏光基体、透明基体および粗面化層を強固に密着
させた積層体を得ることができる。 酸素阻害が少ない。 硬化収縮が非常に少ない。 顔料の分散性に優れている。
Good adhesion to the transparent substrate. In particular, since the conventional resin system for forming a roughened layer has excellent adhesion to a saponified TAC substrate, which hardly adheres, a laminate in which a polarizing substrate, a transparent substrate, and a roughened layer are firmly adhered. You can get the body. Less oxygen inhibition. Very little cure shrinkage. Excellent pigment dispersibility.

【0015】前記エポキシ系化合物としては、テトラメ
チレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレング
リコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコー
ルジグリシジルエーテル、ビスフェノールAジグリシジ
ルエーテル等のグリシジルエーテル、2−ヒドロキシ−
3−フェノキシプロピルアクリレート、ビスフェノール
A−ジエポキシ−アクリル酸付加物等のエポキシエステ
ルや、以下の化学式からなる脂環式エポキシ等のモノマ
ーおよびオリゴマーをあげることができる。
Examples of the epoxy compounds include glycidyl ethers such as tetramethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, bisphenol A diglycidyl ether, and 2-hydroxy-glycidyl ether.
Examples include monomers and oligomers such as epoxy esters such as 3-phenoxypropyl acrylate and bisphenol A-diepoxy-acrylic acid adduct, and alicyclic epoxies represented by the following chemical formula.

【0016】[0016]

【化1】 Embedded image

【0017】光カチオン重合開始剤としては、以下の化
学式からなる化合物をあげることができる。なお、これ
ら化合物は各単体で用いても良く、複数混合で使用して
も良い。
Examples of the cationic photopolymerization initiator include compounds represented by the following chemical formula. These compounds may be used alone or as a mixture of two or more.

【0018】[0018]

【化2】 Embedded image

【0019】光カチオン重合開始剤の配合量は、主剤に
対し、0.1〜5.0重量%の範囲が望ましい。この配
合量は0.1より少なくても、5.0より多くても紫外
線硬化は不十分である。
The amount of the cationic photopolymerization initiator is desirably in the range of 0.1 to 5.0% by weight based on the main component. If the amount is less than 0.1 or more than 5.0, ultraviolet curing is insufficient.

【0020】紫外線硬化型樹脂に混合するアクリル系化
合物としては、ラウリルアクリレート、エトキシジエチ
レングリコールアクリレート、メトキシトリエチレング
リコールアクリレート、フェノキシエチルアクリレー
ト、テトラヒドロフルフリルアクリレート、イソボルニ
ルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、
2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシ
−3−フェノキシアクリレート等の単官能アクリレー
ト、ネオペンチルグリコールジアクリレート、1,6−
ヘキサンジオールジアクリレート、トリメチロールプロ
パントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアク
リレート、ペンタエリスリトールアクリレート、ジペン
タエリスリトールヘキサアクリレート、トリメチロール
プロパンアクリル酸安息香酸エステル、トリメチロール
プロパン安息香酸エステル等の多官能アクリレート等の
アクリル酸誘導体、2−エチルヘキシルメタクリレー
ト、n−ステアリルメタクリレート、シクロヘキシルメ
タクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレー
ト、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキ
シブチルアクリレート等の単官能メタクリレート、1,
6−ヘキサンジオールジメタクリレート、トリメチロー
ルプロパントリメタクリレート、グリセリンジメタクリ
レート等の多官能メタクリレート等のメタクリル酸誘導
体、グリセリンジメタクリレートヘキサメチレンジイソ
シアネート、ペンタエリスリトールトリアクリレートヘ
キサメチレンジイソシアネート等のウレタンアクリレー
ト等のモノマーおよびオリゴマーをあげることができ
る。
The acrylic compound to be mixed with the ultraviolet curable resin includes lauryl acrylate, ethoxydiethylene glycol acrylate, methoxytriethylene glycol acrylate, phenoxyethyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, isobornyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate,
Monofunctional acrylates such as 2-hydroxypropyl acrylate and 2-hydroxy-3-phenoxy acrylate, neopentyl glycol diacrylate, 1,6-
Acrylic acids such as polyfunctional acrylates such as hexanediol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol acrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, trimethylolpropane acrylate benzoate, and trimethylolpropane benzoate. Monofunctional methacrylates such as derivatives, 2-ethylhexyl methacrylate, n-stearyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, and 2-hydroxybutyl acrylate;
Monomers and oligomers such as methacrylic acid derivatives such as polyfunctional methacrylates such as 6-hexanediol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, and glycerin dimethacrylate; glycerin dimethacrylate hexamethylene diisocyanate; pentaerythritol triacrylate hexamethylene diisocyanate; Can be given.

【0021】前記紫外線硬化型樹脂を使用した粗面化層
の硬化に伴う体積収縮率(下記方法より算出)は、20
%以下が望ましい。体積収縮率が20%より大きくなる
と、透明基体が薄手のフィルムの場合はカールが著しく
なり、また厚手で剛度の高いフィルムやガラスのように
リジットな板状の透明基体の場合は粗面化層の密着性が
低下する。
The volume shrinkage rate (calculated by the following method) associated with the hardening of the roughened layer using the ultraviolet-curable resin is 20
% Is desirable. When the volumetric shrinkage is more than 20%, the curl becomes remarkable when the transparent substrate is a thin film, and when the transparent substrate is a thick and rigid film or a rigid plate-like transparent substrate such as glass, a roughened layer is formed. Of the adhesive decreases.

【0022】[0022]

【数1】体積収縮率:D=(S−S')/S×100 S:硬化前の比重 S':硬化後の比重 (比重はJIS K−7112のB法ピクノメーター法
により測定)
## EQU1 ## Volume shrinkage: D = (S−S ′) / S × 100 S: specific gravity before curing S ′: specific gravity after curing (specific gravity is measured by the B method pycnometer method of JIS K-7112)

【0023】また、紫外線硬化型樹脂の透明性は高いほ
ど良く、光線透過率(JIS C−6714)として
は、透明基体同様、80%以上、好ましくは90%以上
が好ましい。反射防止材料の透明性は該紫外線硬化型樹
脂の屈折率によって影響を受けるが、屈折率は、1.4
5〜1.70の範囲が好ましく、この範囲を超えると反
射防止効果が損なわれる。
The higher the transparency of the UV-curable resin, the better, and the light transmittance (JIS C-6714) is preferably 80% or more, more preferably 90% or more, like the transparent substrate. The transparency of the antireflection material is affected by the refractive index of the ultraviolet curable resin, but the refractive index is 1.4.
The range of 5 to 1.70 is preferable, and if it exceeds this range, the antireflection effect is impaired.

【0024】塗料にはフィラーを含有させ、形成した粗
面化層表面を粗面化することで、反射防止効果を向上さ
せることができる。フィラーとしてはシリカ、炭酸カル
シウム、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、ク
レー、タルク、二酸化チタン等の無機系白色顔料、アク
リル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリエチレン樹脂、エポ
キシ樹脂、シリコン樹脂、ビーズ等有機系の透明または
白色顔料等をあげることができる。特に、球状で給油性
を示さない有機フィラーが好ましく、球状のフィラーを
用いることによって、粗面化層の表面から突出する部分
がなだらかになり、油分等の汚れが付着し難くなるとと
もに付着した汚れを拭い易くなる。
The antireflection effect can be improved by adding a filler to the paint and roughening the surface of the formed roughened layer. Fillers include inorganic white pigments such as silica, calcium carbonate, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, clay, talc, and titanium dioxide, acrylic resins, polystyrene resins, polyethylene resins, epoxy resins, silicone resins, and organic transparent materials such as beads. Alternatively, white pigments and the like can be given. In particular, organic fillers that are spherical and do not exhibit lubricating properties are preferable.By using spherical fillers, the portions that protrude from the surface of the roughened layer become gentle, so that dirt such as oil becomes less likely to adhere and dirt that adheres. Easier to wipe.

【0025】このようなフィラーの粒子径D(JIS
B9921)は、0.5μm≦D≦6.0μmの範囲の
ものが60重量%以上、6.0μm<D≦10.0μm
の範囲のものが20重量%未満、10μm<D≦15.
0μmの範囲のものが5重量%以下、15.0μm<D
であるものが1重量%以下であることが望ましい。さら
に、15.0μm<Dである粒子は、できれば含有され
ない(0%)ことが好ましく、特に、0.5μm≦D≦
6.0μmの範囲のものが80重量%以上、6.0μm
<D≦10.0μmの範囲のものが10重量%未満、1
0μm<D≦15.0μmの範囲のものは全く含まない
ことが好ましい。0.5μm≦D≦6.0μmの範囲に
あるフィラーの重量%と、6.0μm<D≦10.0μ
mの範囲にあるフィラーの重量%、さらに、10μm<
D≦15.0μmの範囲にあるフィラーの重量%が、そ
れぞれ60%未満、20%未満、5%未満の場合は、デ
ィスプレイの反射防止効果が悪くなり、6.0μm<D
≦10.0μmの範囲にあるフィラーが20重量%以上
もしくは、10μm<D≦15.0μmの範囲にあるフ
ィラーが5重量%以上の場合は、ディスプレイの画像に
ギラツキが発生する。フィラーの配合量については、粗
面化層の全固形分重量比で、0.5〜30%の範囲が良
い。特に、1〜15%の範囲が好ましい。配合量が0.
5%以下では、反射防止効果が不充分となり、30%以
上では、透明性、画像のコントラストが劣るばかりでな
く、耐摩耗性や耐環境性等の耐久性が悪くなる。また、
フィラーの屈折率(JIS K−7142によるB法)
は、紫外線硬化型樹脂と同等であることが好ましい。フ
ィラーの屈折率が紫外線硬化型樹脂の屈折率と異なる場
合は、フィラーと樹脂界面で光が拡散し、透明性が損な
われる。紫外線硬化型樹脂と同等の屈折率を有するフィ
ラーの例としては、有機系のフィラー、特に、架橋アク
リルビーズが好適である。
The particle diameter D of such a filler (JIS
B9921) is 60% by weight or more in the range of 0.5 μm ≦ D ≦ 6.0 μm, and 6.0 μm <D ≦ 10.0 μm.
Is less than 20% by weight, 10 μm <D ≦ 15.
In the range of 0 μm, 5% by weight or less, 15.0 μm <D
Is desirably 1% by weight or less. Further, the particles satisfying 15.0 μm <D are preferably not contained (0%) if possible, and in particular, 0.5 μm ≦ D ≦
80% by weight or more in the range of 6.0 μm, 6.0 μm
<D ≦ 10.0 μm is less than 10% by weight,
It is preferable not to include those in the range of 0 μm <D ≦ 15.0 μm at all. 0.5% by weight of the filler in the range of 0.5 μm ≦ D ≦ 6.0 μm, and 6.0 μm <D ≦ 10.0 μm
weight% of fillers in the range of m, further 10 μm <
When the weight% of the filler in the range of D ≦ 15.0 μm is less than 60%, less than 20%, and less than 5%, respectively, the antireflection effect of the display deteriorates and 6.0 μm <D
When the filler in the range of ≦ 10.0 μm is 20% by weight or more, or the filler in the range of 10 μm <D ≦ 15.0 μm is 5% by weight or more, glare occurs in the image on the display. The amount of the filler is preferably in the range of 0.5 to 30% in terms of the total solids weight ratio of the roughened layer. In particular, a range of 1 to 15% is preferable. The blending amount is 0.
If it is 5% or less, the antireflection effect becomes insufficient. If it is 30% or more, not only the transparency and the contrast of the image are deteriorated, but also the durability such as abrasion resistance and environmental resistance is deteriorated. Also,
Refractive index of filler (B method according to JIS K-7142)
Is preferably equivalent to an ultraviolet curable resin. When the refractive index of the filler is different from the refractive index of the ultraviolet curable resin, light is diffused at the interface between the filler and the resin, and transparency is impaired. As an example of the filler having a refractive index equivalent to that of the ultraviolet curable resin, an organic filler, particularly, a crosslinked acrylic bead is suitable.

【0026】架橋アクリルビーズとしては、アクリル酸
及びそのエステル、メタクリル酸及びそのエステル、ア
クリルアミド、アクリルニトリル等のアクリル系モノマ
ーと過硫酸等の重合開始剤、エチレングリコールジメタ
クリレート等の架橋剤を用い、懸濁重合法等により重合
して得られる重合体及び共重合体からなる架橋アクリル
系ビーズが好適に使用できる。特にアクリル系のモノマ
ーとして、メチルメタクリレートを使用した構成が好ま
しい。この様にして得られた架橋アクリルビーズは球状
で吸油性を示さないことから、粗面化層に使用した場
合、優れた耐汚染性を発現できる。また、架橋アクリル
ビーズには、塗料の分散性を向上させるために油脂類、
シランカップリング剤、金属酸化物等の有機・無機材料
による表面改質を行っても良い。
As the crosslinked acrylic beads, an acrylic monomer such as acrylic acid and its ester, methacrylic acid and its ester, acrylamide, acrylonitrile and the like, a polymerization initiator such as persulfuric acid, and a crosslinking agent such as ethylene glycol dimethacrylate are used. Crosslinked acrylic beads comprising a polymer and a copolymer obtained by polymerization by a suspension polymerization method or the like can be suitably used. In particular, a configuration using methyl methacrylate as the acrylic monomer is preferable. Since the crosslinked acrylic beads thus obtained are spherical and do not exhibit oil absorption, when used in a roughened layer, excellent stain resistance can be exhibited. Also, the crosslinked acrylic beads include oils and fats to improve the dispersibility of the paint,
Surface modification with an organic or inorganic material such as a silane coupling agent or a metal oxide may be performed.

【0027】B.塗工方法の内容 本発明のフィルムへの塗料の塗工方法は、TAC、ポリ
カーボネートまたはアクリル系の樹脂で構成された透明
基体、更には、これら透明基体をケン化処理したもの
に、溶剤としてメチルイソブチルケトンを主体とする塗
料を用いることを特徴とする。具体的には、上記で述べ
た紫外線硬化型樹脂中に、本発明の溶剤と必要に応じて
架橋アクリルビーズ等のフィラーを混合し、これをペイ
ントシェーカー、サンドミル、パールミル、ボールミ
ル、アトライター、ロールミル、高速インペラー分散
機、ジェットミル、高速衝撃ミル、超音波分散機等によ
って分散して塗料またはインキとし、これをエアドクタ
ーコーティング、ブレードコーティング、ナイフコーテ
ィング、リバースコーティング、トランスファロールコ
ーティング、グラビアロールコーティング、キスコーテ
ィング、キャストコーティング、スプレーコーティン
グ、スロットオリフィスコーティング、カレンダーコー
ティング、電着コーティング、ディップコーティング、
ダイコーティング等のコーティングやフレキソ印刷等の
凸版印刷、ダイレクトグラビア印刷、オフセットグラビ
ア印刷等の凹版印刷、オフセット印刷等の平版印刷、ス
クリーン印刷等の孔版印刷等の印刷手法により透明基体
の片面もしくは両面上に単層もしくは多層に分けて設
け、溶剤を含んでいる場合は、熱乾燥工程を経て、紫外
線照射により塗工層もしくは印刷層を硬化させることに
よって得る方法等挙げられる。なお、照射する紫外線と
しては、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カー
ボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等
の光線から発する紫外線等が利用できる。
B. Content of Coating Method The method of applying a coating material to the film of the present invention includes a transparent substrate composed of TAC, polycarbonate or acrylic resin, and a saponification treatment of such a transparent substrate. It is characterized by using a paint mainly composed of isobutyl ketone. Specifically, the solvent of the present invention and a filler such as cross-linked acrylic beads are mixed into the above-described ultraviolet-curable resin, if necessary, and the mixture is paint shaker, sand mill, pearl mill, ball mill, attritor, roll mill. , Dispersed by a high-speed impeller disperser, jet mill, high-speed impact mill, ultrasonic disperser, etc. into a paint or ink, which is then coated with air doctor, blade, knife, reverse, transfer roll, gravure roll, Kiss coating, cast coating, spray coating, slot orifice coating, calendar coating, electrodeposition coating, dip coating,
One or both sides of the transparent substrate by a printing method such as coating such as die coating, letterpress printing such as flexographic printing, intaglio printing such as direct gravure printing, offset gravure printing, lithographic printing such as offset printing, and stencil printing such as screen printing. In the case where a solvent is contained in a single layer or a multilayer, a method of obtaining a coating layer or a printing layer by curing the coating layer or the printing layer by irradiating ultraviolet rays through a heat drying step may be used. In addition, as the ultraviolet rays to be radiated, ultraviolet rays emitted from light rays such as an ultrahigh-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, a low-pressure mercury lamp, a carbon arc, a xenon arc, and a metal halide lamp can be used.

【0028】塗料の塗工適性または印刷適性を向上させ
るために、必要に応じ、シリコーンオイル等のレベリン
グ剤、ポリエチレンワックス、カルナバワックス、高級
アルコール、ビスアマイド、高級脂肪酸等の油脂、イソ
シアネート等の硬化剤、炭酸カルシウムやシリカゾル、
合成雲母等0.1μm以下の超微粒子等の添加剤を適宜
使用することができる。また、ディスプレイ表面に静電
的に付着するホコリ等の汚れを防止するために帯電防止
剤を添加しても良い。帯電防止剤は、後述の帯電防止層
の説明で例示する材料をそのまま適用できる。
In order to improve the coating suitability or printing suitability of the paint, if necessary, a leveling agent such as silicone oil, polyethylene wax, carnauba wax, oils and fats such as higher alcohols, bisamides and higher fatty acids, and curing agents such as isocyanates and the like. , Calcium carbonate or silica sol,
Additives such as ultrafine particles of 0.1 μm or less such as synthetic mica can be used as appropriate. Further, an antistatic agent may be added to prevent dirt such as dust electrostatically adhering to the display surface. As the antistatic agent, the materials exemplified in the description of the antistatic layer described below can be applied as they are.

【0029】塗料を粗面化層として塗工するときの乾燥
状態での厚さは、0.5〜10μmの範囲が、好ましく
は1〜5μmの範囲が良い。粗面化層が0.5μmより
薄い場合は、粗面化層の耐摩耗性が悪くなったり、紫外
線硬化型樹脂を使用した場合など、酸素阻害により硬化
不良を起こす。10μmより厚い場合は、樹脂の硬化収
縮によりカールが発生したり、粗面化層にマイクロクラ
ックが発生したり、さらに、透明基体との密着性が低下
したりする。
When the coating is applied as a roughened layer, the thickness in a dry state is in the range of 0.5 to 10 μm, preferably 1 to 5 μm. When the surface roughening layer is thinner than 0.5 μm, the abrasion resistance of the surface roughening layer deteriorates, and curing failure occurs due to oxygen inhibition such as when an ultraviolet curable resin is used. When the thickness is more than 10 μm, curling is caused by curing shrinkage of the resin, microcracks are generated in the roughened layer, and adhesion to the transparent substrate is reduced.

【0030】C.反射防止材料の内容 透明基体の片面もしくは両面に、上記した塗料を塗工す
ることにより、本発明の反射防止材料を得ることができ
る。透明基体の透明性は高いもの程良好であるが、光線
透過率(JISC−6714)としては80%以上、よ
り好ましくは90%以上が良い。透明基体の厚さは、軽
量化の観点から薄いほうが望ましいが、その生産性を考
慮すると、1μ〜5μmの範囲のものを使用することが
好適である。また、透明基体に、コロナ処理、プラズマ
処理、フッ素処理、スパッタ処理等の表面処理や、界面
活性剤、シランカップリング剤等の塗布を行うと好適で
ある。このような処理を行うことにより、透明基体の表
面エネルギーが上昇し、粗面化層との密着強度を確実に
高めることができる。具体的には、透明基体の表面エネ
ルギーは、30〜60dyne/cmの範囲が好まし
い。
C. Contents of Antireflective Material The antireflective material of the present invention can be obtained by applying the above-mentioned paint to one or both surfaces of a transparent substrate. The higher the transparency of the transparent substrate, the better, but the light transmittance (JISC-6714) is preferably 80% or more, more preferably 90% or more. The thickness of the transparent substrate is desirably thin from the viewpoint of weight reduction. However, in consideration of productivity, it is preferable to use a transparent substrate having a thickness of 1 μm to 5 μm. Further, it is preferable that the transparent substrate is subjected to a surface treatment such as a corona treatment, a plasma treatment, a fluorine treatment and a sputtering treatment, or a surfactant, a silane coupling agent or the like. By performing such a treatment, the surface energy of the transparent substrate increases, and the adhesion strength to the roughened layer can be reliably increased. Specifically, the surface energy of the transparent substrate is preferably in the range of 30 to 60 dyne / cm.

【0031】また、透明基体の表面には、ディスプレイ
表面に静電的に付着するホコリ等の汚れを防止するため
に帯電防止層を設けても良い。帯電防止層は、アルミ、
錫等の金属、ITO等の金属酸化膜を蒸着、スパッタ等
で極めて薄く設ける方法、アルミ、錫等の金属微粒子や
ウィスカー、酸化錫等の金属酸化物にアンチモン等をド
ープした微粒子やウィスカー、7,7,8,8−テトラ
シアノキノジメタンと金属イオンや有機カチオンなどの
電子供与体(ドナー)との間でできた電荷移動錯体をフ
ィラー化したもの等をポリエステル樹脂、アクリル樹
脂、エポキシ樹脂等に分散し、ソルベントコーティング
等により設ける方法、ポリピロール、ポリアニリン等に
カンファースルホン酸等をドープしたものをソルベント
コーティング等により設ける方法等により設けることが
できる。帯電防止層の透過率は光学用途の場合、80%
以上が好ましい。
Further, an antistatic layer may be provided on the surface of the transparent substrate in order to prevent dirt such as dust adhering electrostatically to the display surface. The antistatic layer is made of aluminum,
A method of providing a metal oxide film such as a metal such as tin or ITO or the like by vapor deposition or sputtering, etc .; a metal fine particle or whisker such as aluminum or tin; a fine particle or whisker obtained by doping a metal oxide such as tin oxide with antimony; , 7,8,8-tetracyanoquinodimethane and charge transfer complex formed between electron donor (donor) such as metal ion and organic cation as filler, polyester resin, acrylic resin, epoxy resin Etc. and provided by solvent coating or the like, or a method in which polypyrrole, polyaniline or the like doped with camphorsulfonic acid or the like is provided by solvent coating or the like. The transmittance of the antistatic layer is 80% for optical applications
The above is preferred.

【0032】本発明においては、より優れた反射防止機
能を得るために、必要に応じて粗面化層上に表面層を設
けることができる。該表面層は、単層で設ける場合と複
数層積層する場合がある。単層の場合は粗面化層の屈折
率より、低い材料を使用し、複数層積層する場合は、粗
面化層上に、粗面化層より屈折率の高い材料と低い材料
が交互に設けられる。屈折率の低い材料からなる層を低
屈折率層と呼び、屈折率の高い材料からなる層を高屈折
率層と呼ぶ。以下これらの層について詳細説明する。
In the present invention, a surface layer can be provided on the roughened layer as needed in order to obtain a better antireflection function. The surface layer may be provided as a single layer or a plurality of layers. In the case of a single layer, a material having a lower refractive index than that of the roughened layer is used, and when a plurality of layers are laminated, a material having a higher refractive index and a material having a lower refractive index than the roughened layer are alternately formed on the roughened layer. Provided. A layer made of a material having a low refractive index is called a low refractive index layer, and a layer made of a material having a high refractive index is called a high refractive index layer. Hereinafter, these layers will be described in detail.

【0033】(a)高屈折率層 高屈折率層は、前記粗面化層の表面に直接あるいは接着
剤層など他の層を介して設けられる。屈折率を高くする
ためには高屈折率を持つバインダー樹脂を使用するか、
高い屈折率を有する超微粒子をバインダー樹脂に添加す
ることによって行うか、あるいはこれらを併用すること
によって行う。高屈折率層の屈折率は粗面化層より必ず
高く、1.55〜2.70の範囲にあることが好まし
い。屈折率が粗面化層より低い場合、もしくは前記範囲
外の場合は、反射防止効果が損なわれる。高屈折率層に
用いる樹脂は、透明なものであれば任意であり、熱硬化
型樹脂、熱可塑性樹脂、放射線(紫外線を含む)硬化型
樹脂などを用いることができる。熱硬化型樹脂として
は、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ポリウレタン樹
脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、グアナミン樹
脂、不飽和ポリエステル樹脂、アミノアルキッド樹脂、
メラミン−尿素共縮合樹脂、グアナミン樹脂、珪素樹
脂、ポリシロキサン樹脂等を用いることができ、これら
の樹脂に、必要に応じて架橋剤、重合開始剤等の硬化
剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等を加えることがで
きる。
(A) High Refractive Index Layer The high refractive index layer is provided directly on the surface of the roughened layer or via another layer such as an adhesive layer. Use a binder resin with a high refractive index to increase the refractive index,
It is carried out by adding ultrafine particles having a high refractive index to the binder resin, or by using them in combination. The refractive index of the high refractive index layer is always higher than that of the roughened layer, and is preferably in the range of 1.55 to 2.70. If the refractive index is lower than that of the roughened layer, or if the refractive index is out of the range, the antireflection effect is impaired. The resin used for the high refractive index layer is arbitrary as long as it is transparent, and a thermosetting resin, a thermoplastic resin, a radiation (including ultraviolet) curable resin, or the like can be used. As thermosetting resins, phenolic resins, melamine resins, polyurethane resins, urea resins, diallyl phthalate resins, guanamine resins, unsaturated polyester resins, amino alkyd resins,
Melamine-urea co-condensation resin, guanamine resin, silicon resin, polysiloxane resin and the like can be used, and if necessary, a curing agent such as a crosslinking agent and a polymerization initiator, a polymerization accelerator, a solvent, Adjusters and the like can be added.

【0034】放射線硬化型樹脂としては、ポリエステル
樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹
脂、アルキッド樹脂、ポリブタジエン樹脂、スピロール
アセタール樹脂、ウレタン樹脂、多価アルコール等の多
官能化合物の(メタ)アクリレート等のオリゴマーまた
はプレポリマーおよび反応性希釈剤としてエチル(メ
タ)アクリレート、エチルヘキシル(メタ)アクリレー
ト、スチレン、スチレン、メチルスチレン、N−ビニル
ピロリドン等の単官能モノマー及び多官能モノマー等を
用いることができる。
Examples of the radiation-curable resin include (meth) acrylates of polyfunctional compounds such as polyester resin, polyether resin, acrylic resin, epoxy resin, alkyd resin, polybutadiene resin, spirol acetal resin, urethane resin and polyhydric alcohol. And monofunctional monomers and polyfunctional monomers such as ethyl (meth) acrylate, ethylhexyl (meth) acrylate, styrene, styrene, methylstyrene, and N-vinylpyrrolidone as reactive diluents. .

【0035】上記樹脂を紫外線硬化型樹脂として用いる
場合には、光重合開始剤として、アセチフェノン類、ベ
ンゾフェノン類、α−アミロキシムエステル、ミヒラー
ベンゾイルベンゾエート、テトラメチルチウラムモノサ
ルファイド、チオキサントン類や、光増感剤としてn−
ブチルアミン、トリエチルアミンなどを混合して用いる
ことができる。
When the above resin is used as an ultraviolet curable resin, acetylenones, benzophenones, α-amyloxime ester, Michler benzoyl benzoate, tetramethylthiuram monosulfide, thioxanthone, and the like are used as photopolymerization initiators. N- as sensitizer
Butylamine, triethylamine and the like can be used as a mixture.

【0036】上記樹脂を高屈折率とするためには、芳香
環やBr、I、Cl等のハロゲン化元素を含むものを選
定する。芳香環を含む樹脂の例としては、ポリスチレン
等のスチロール樹脂、PET、ビスフェノールAのポリ
カーボネート等が挙げられる。また、ハロゲン化元素を
含む樹脂の例としては、ポリ塩化ビニル、ポリテトラブ
ロモビスフェノールAグリシジルエーテル等が挙げられ
る。また、S、N、P等を含む樹脂も高屈折率であり、
例えば、ポリビニルピリジン、ポリビスフェノールSグ
リシジルエーテル等が挙げられる。
In order to increase the refractive index of the resin, a resin containing an aromatic ring or a halogenated element such as Br, I, or Cl is selected. Examples of the resin containing an aromatic ring include styrene resins such as polystyrene, PET, and polycarbonate of bisphenol A. Examples of the resin containing a halogenated element include polyvinyl chloride and polytetrabromobisphenol A glycidyl ether. Resins containing S, N, P, etc. also have a high refractive index,
For example, polyvinyl pyridine, polybisphenol S glycidyl ether and the like can be mentioned.

【0037】高屈折超微粒子としては、たとえば、Zn
O(屈折率n=1.9)、TiO2(n=2.3〜2.
7)、CeO2(n=1.95)の微粒子を含有させる
ことで、紫外線遮蔽の効果を得ることができる。また、
アンチモンがドープされたSnO2(n=1.95)ま
たはITO(n=1.95)の微粒子を含有させること
により、帯電防止効果が付与されて埃の付着を防止する
ことができる。その他の微粒子としては、Al2O3
(n=1.63)、La2O3(n=1.95)、Zr
O2(n=2.05)、Y2O3(n=1.87)等を
挙げることができる。これらの超微粒子は単独または混
合して使用され、有機溶剤または水に分散したコロイド
状になったものが分散性の点において良好であり、その
粒径としては、1〜100nm、塗膜の透明性から好ま
しくは、5〜20nmであることが望ましい。
As the high refraction ultrafine particles, for example, Zn
O (refractive index n = 1.9), TiO2 (n = 2.3-2.
7) By containing fine particles of CeO2 (n = 1.95), an effect of shielding ultraviolet rays can be obtained. Also,
By containing fine particles of SnO2 (n = 1.95) or ITO (n = 1.95) doped with antimony, an antistatic effect is imparted and dust adhesion can be prevented. Other fine particles include Al2O3
(N = 1.63), La2O3 (n = 1.95), Zr
O2 (n = 2.05), Y2O3 (n = 1.87) and the like can be mentioned. These ultrafine particles are used singly or as a mixture, and those in the form of a colloid dispersed in an organic solvent or water are good in terms of dispersibility. Preferably, the thickness is 5 to 20 nm.

【0038】高屈折率層は、例えば、上記で述べたZn
Oなどの高屈折材料をCVD、スパッタリング、蒸着等
の気相法や、高屈折材料を例えば溶剤に希釈し、スピン
コーター、ロールコーター、印刷等の方法で粗面化層上
に設けて乾燥後、熱や放射線(紫外線の場合は上述の光
重合開始剤を使用する)等により硬化させる方法によっ
て粗面化層上に直接設けることができる。また、その際
には、乾燥後の高屈折率層の厚さが0.05〜0.15
μmとなるように塗工厚さを調節する。高屈折率層の厚
さがこの範囲外となる場合は、反射防止の効果が損なわ
れる。
The high refractive index layer is made of, for example, Zn as described above.
After the high refractive material such as O is vapor-phase method such as CVD, sputtering and vapor deposition, or the high refractive material is diluted in a solvent and provided on the roughened layer by a method such as spin coater, roll coater, printing, and then dried. It can be provided directly on the surface-roughened layer by a method of curing with heat, radiation or the like (in the case of ultraviolet rays, the above-mentioned photopolymerization initiator is used). In this case, the thickness of the high refractive index layer after drying is 0.05 to 0.15.
The coating thickness is adjusted so as to be μm. When the thickness of the high refractive index layer is out of this range, the antireflection effect is impaired.

【0039】(b)低屈折率層 本発明においては、より優れた反射防止機能を得るため
に、高屈折率層上に、これよりも屈折率の小さい低屈折
率層を設けている。以下、低屈折率層について説明す
る。低屈折率層の組成は特に限定されるものではない
が、その臨界表面張力が20dyne/cm以下となる
ように構成されることが好ましい。臨界表面張力が20
dyne/cmより大きい場合は、低屈折率層に付着し
た汚れが取れにくくなる。また、反射防止効果を向上さ
せるためには、低屈折率層の屈折率は、1.45以下で
あることが好ましい。これらの特徴を有する材料として
は、例えばLiF(屈折率n=1.4)、MgF2(n
=1.4)、3NaF・AlF3(n=1.4)、Al
F3(n=1.4)Na3AlF6(n=1.33)S
iO2(n=1.45)等の無機材料を微粒子化し、ア
クリル系樹脂やエポキシ系樹脂等に含有させた無機系低
反射材料、フッ素系、シリコーン系の有機化合物、熱可
塑性樹脂、熱硬化型樹脂、放射線硬化型樹脂等の有機低
反射材料を挙げることができる。その中で、特に、フッ
素系の含フッ素材料が汚れ防止の点において好ましい。
(B) Low Refractive Index Layer In the present invention, a low refractive index layer having a smaller refractive index is provided on the high refractive index layer in order to obtain a better antireflection function. Hereinafter, the low refractive index layer will be described. The composition of the low refractive index layer is not particularly limited, but it is preferable that the composition is such that the critical surface tension is 20 dyne / cm or less. Critical surface tension is 20
When it is larger than dyne / cm, it becomes difficult to remove the dirt attached to the low refractive index layer. Further, in order to improve the antireflection effect, the low refractive index layer preferably has a refractive index of 1.45 or less. Materials having these characteristics include, for example, LiF (refractive index n = 1.4), MgF 2 (n
= 1.4), 3NaF.AlF3 (n = 1.4), Al
F3 (n = 1.4) Na3AlF6 (n = 1.33) S
Inorganic materials such as iO2 (n = 1.45) are made into fine particles, and inorganic low-reflection materials, fluorine- or silicone-based organic compounds, thermoplastic resins, and thermosetting resins are contained in acrylic resins and epoxy resins. Organic low-reflection materials such as resins and radiation-curable resins can be used. Among them, a fluorine-based fluorinated material is particularly preferable in terms of preventing contamination.

【0040】前記含フッ素材料としては、有機溶剤に溶
解し、その取り扱いが容易であるフッ化ビニリデン系共
重合体や、フルオロオレフィン/炭化水素オレフィン共
重合体、含フッ素エポキシ樹脂、含フッ素エポキシアク
リレート、含フッ素シリコーン、含フッ素アルコキシシ
ラン、さらに、TEFRON AF1600(デュポン
社製、n=1.30)、CYTOP(旭硝子(株)社
製、n=1.34)、17FM(三菱レーヨン(株)社
製、屈折率n=1.35)、オプスターJN−7212
(日本合成ゴム(株)社製、n=1.40)、LR20
1(日産化学工業(株)社製、n=1.38)等を挙げ
ることができる。これらは単独でも複数組み合わせて使
用することも可能である。
Examples of the fluorine-containing material include vinylidene fluoride copolymers, fluoroolefin / hydrocarbon olefin copolymers, fluorine-containing epoxy resins, and fluorine-containing epoxy acrylates which are dissolved in an organic solvent and are easy to handle. , Fluorinated silicone, fluorinated alkoxysilane, TFRON AF1600 (manufactured by DuPont, n = 1.30), CYTOP (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd., n = 1.34), 17FM (Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) Refractive index n = 1.35), Opstar JN-7212
(Manufactured by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd., n = 1.40), LR20
1 (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., n = 1.38). These can be used alone or in combination of two or more.

【0041】また、2−(パーフルオロデシル)エチル
メタクリレート、2−(パーフロロ−7−メチルオクチ
ル)エチルメタクリレート、3−(パーフロロ−7−メ
チルオクチル)−2−ヒドロキシプロピルメタクリレー
ト、2−(パーフロロ−9−メチルデシル)エチルメタ
クリレート、3−(パーフロロ−8−メチルデシル)2
−ヒドロキシプロピルメタクリレート等の含フッ素メタ
クリレート、3−パフロロオクチル−2−ヒドロキシプ
ロピルアクリレート、2−(パーフルオロデシル)エチ
ルアクリレート、2−(パーフルオロ−9−メチルデシ
ル)エチルアクリレート等の含フッ素アクリレート、3
−パーフルオロデシル1,2−エポキシプロパン、3−
(パーフロロ−9−メチルデシル)−1,2−エポキシ
プロパン等のエポキサイド、エポキシアクリレート等の
放射線硬化型の含フッ素モノマー、オリゴマー、プレポ
リマー等を挙げることができる。これらは単独もしくは
複数種類混合して使用することも可能である。
Also, 2- (perfluorodecyl) ethyl methacrylate, 2- (perfluoro-7-methyloctyl) ethyl methacrylate, 3- (perfluoro-7-methyloctyl) -2-hydroxypropyl methacrylate, 2- (perfluoro- 9-methyldecyl) ethyl methacrylate, 3- (perfluoro-8-methyldecyl) 2
A fluorine-containing methacrylate such as -hydroxypropyl methacrylate, a fluorine-containing acrylate such as 3-pafluorooctyl-2-hydroxypropyl acrylate, 2- (perfluorodecyl) ethyl acrylate, or 2- (perfluoro-9-methyldecyl) ethyl acrylate; 3
-Perfluorodecyl 1,2-epoxypropane, 3-
Examples thereof include epoxides such as (perfluoro-9-methyldecyl) -1,2-epoxypropane, radiation-curable fluorine-containing monomers such as epoxy acrylate, oligomers, and prepolymers. These can be used alone or in combination of two or more.

【0042】さらに、5〜30nmのシリカ超微粒子を
水もしくは有機溶剤に分散したゾルとフッ素系の皮膜形
成剤を混合した低反射材料を使用することもできる。該
5〜30nmのシリカ超微粒子を水もしくは有機溶剤に
分散したゾルは、ケイ酸アルカリ塩中のアルカリ金属イ
オンをイオン交換等で脱アルカリする方法や、ケイ酸ア
ルカリ塩を鉱酸で中和する方法等で知られた活性ケイ酸
を縮合して得られる公知のシリカゾル、アルコキシシラ
ンを有機溶媒中で塩基性触媒の存在下に加水分解と縮合
することにより得られる公知のシリカゾル、さらには上
記の水性シリカゾル中の水を蒸留法等により有機溶剤に
置換することにより得られる有機溶剤系のシリカゾル
(オルガノシリカゾル)が用いられる。これらのシリカ
ゾルは水系及び有機溶剤系のどちらでも使用することが
できる。有機溶剤系シリカゾルの製造に際し、完全に水
を有機溶剤に置換する必要はない。前記シリカゾルはS
iO2として0.5〜50重量%濃度の固形分を含有す
る。シリカゾル中のシリカ超微粒子の構造は球状、針
状、板状等様々なものが使用可能である。
Further, a low-reflection material obtained by mixing a sol in which ultrafine silica particles of 5 to 30 nm are dispersed in water or an organic solvent and a fluorine-based film-forming agent may be used. The sol obtained by dispersing the ultrafine silica particles of 5 to 30 nm in water or an organic solvent can be prepared by dealkalizing alkali metal ions in an alkali silicate by ion exchange or neutralizing the alkali silicate with a mineral acid. A known silica sol obtained by condensing an active silicic acid known by a method, etc., a known silica sol obtained by condensing an alkoxysilane with hydrolysis in an organic solvent in the presence of a basic catalyst, An organic solvent-based silica sol (organo silica sol) obtained by substituting water in the aqueous silica sol with an organic solvent by a distillation method or the like is used. These silica sols can be used in both aqueous and organic solvent systems. It is not necessary to completely replace water with an organic solvent when producing an organic solvent-based silica sol. The silica sol is S
It contains a solid content of 0.5 to 50% by weight as iO2. Various structures such as spherical, needle-like, and plate-like structures can be used for the ultrafine silica particles in the silica sol.

【0043】また、被膜形成剤としては、アルコキシシ
ラン、金属アルコキシドや金属塩の加水分解物や、ポリ
シロキサンをフッ素変性したものなどを用いることがで
きる。上記のような被膜形成剤を用いることにより、低
屈折率層の臨界表面張力が低下して油分の付着を抑制す
ることができる。本発明において低屈折率層は、上記で
述べた材料を例えば溶剤に希釈し、スピンコーター、ロ
ールコーター、印刷等の方法で高屈折率層上に設けて乾
燥後、熱や放射線(紫外線の場合は上述の光重合開始剤
を使用する)等により硬化させることによって得ること
ができる。放射線硬化型の含フッ素モノマー、オリゴマ
ー、プレポリマーは耐汚染性には優れているが、ヌレ性
が悪いため、組成によっては高屈折率層上で低屈折率層
をはじくという問題や、低屈折率層が高屈折率層から剥
がれるという問題が生じるおそれがあるため、粗面化層
に使用する前述の放射線硬化型樹脂として説明した、ア
クリロイル基、メタアクリロイル基、アクリロイルオキ
シ基、メタアクリロイルオキシ基等重合性不飽和結合を
有するモノマー、オリゴマー、プレポリマーを適宜混合
し、使用することが望ましい。なお、透明基体がTA
C、アクリル系等樹脂フィルムの場合は、熱によるダメ
ージを受けやすいことから、低屈折率層の材料は、放射
線硬化型樹脂が好ましい。
As the film-forming agent, alkoxysilanes, hydrolysates of metal alkoxides and metal salts, fluorine-modified polysiloxanes, and the like can be used. By using such a film-forming agent, the critical surface tension of the low refractive index layer is reduced, and the adhesion of oil can be suppressed. In the present invention, the low-refractive-index layer is prepared by diluting the above-mentioned material in, for example, a solvent, spin-coater, roll-coater, and printing on the high-refractive-index layer by a method such as printing. Can be obtained by using the above-mentioned photopolymerization initiator). Radiation-curable fluorine-containing monomers, oligomers, and prepolymers are excellent in stain resistance, but have poor wetting properties, and depending on the composition, may cause problems such as repelling a low refractive index layer on a high refractive index layer, or a low refractive index. The acryloyl group, methacryloyl group, acryloyloxy group, and methacryloyloxy group described as the above-mentioned radiation-curable resin used for the surface-roughening layer may cause a problem that the refractive index layer is peeled off from the high refractive index layer. It is desirable to appropriately mix and use monomers, oligomers and prepolymers having an isomerizable unsaturated bond. When the transparent substrate is TA
In the case of a resin film such as C or an acrylic resin, the material of the low refractive index layer is preferably a radiation-curable resin because it is easily damaged by heat.

【0044】低屈折率層はこれらの低反射材料を用い、
ロールコーティングや印刷等によるウェットコーティン
グ法や、真空蒸着、スパッタリング、プラズマCVD、
イオンプレーティング等による気相法により、高屈折率
層上に設けられる。ウェットコーティング法で設ける場
合は、塗工適性または印刷適性を向上させるために、必
要に応じ、粗面化層同様、シリコーンオイル等のレベリ
ング剤、ポリエチレンワックス、カルナバワックス、高
級アルコール、ビスアマイド、高級脂肪酸等の油脂、イ
ソシアネート等の硬化剤、炭酸カルシウムやシリカゾ
ル、合成雲母等0.05μm以下の超微粒子等の添加剤
を適宜使用することができる。
The low refractive index layer uses these low reflection materials,
Wet coating method by roll coating or printing, vacuum evaporation, sputtering, plasma CVD,
It is provided on the high refractive index layer by a gas phase method such as ion plating. When provided by a wet coating method, as necessary, a leveling agent such as silicone oil, polyethylene wax, carnauba wax, higher alcohol, bisamide, higher fatty acid, as well as a roughened layer, in order to improve coating suitability or printability. Oils and fats such as isocyanate, hardeners such as isocyanate, and additives such as ultrafine particles of 0.05 μm or less such as calcium carbonate, silica sol, and synthetic mica can be appropriately used.

【0045】表面層が良好な反射防止機能を発揮するた
めの厚さについては、公知の計算式で算出することがで
きる。公知の文献(サイエンスライブラリ、物理学9
「光学」70〜72頁)によれば、入射光が表面層に垂
直に入射する場合に、表面層が光を反射せず、かつ10
0%透過するための条件は次の関係式を満たせば良いと
されている。なお、式中NOは表面層の屈折率、Nsは
粗面化層の屈折率、hは表面層の厚さ、λOは光の波長
を示す。
The thickness for the surface layer to exhibit a good antireflection function can be calculated by a known formula. Known literature (Science Library, Physics 9
According to “Optics” on pages 70 to 72), when incident light is perpendicularly incident on the surface layer, the surface layer does not reflect light, and
It is considered that the condition for transmitting 0% should satisfy the following relational expression. In the formula, N O indicates the refractive index of the surface layer, Ns indicates the refractive index of the roughened layer, h indicates the thickness of the surface layer, and λ O indicates the wavelength of light.

【0046】[0046]

【数2】NO=Ns1/2 式(1) NOh=λO/4 式(2)N O = Ns 1/2 Equation (1) N O h = λ O / 4 Equation (2)

【0047】前記(1)式によれば、光の反射を100
%防止するためには、表面層の屈折率が下層(粗面化
層)の屈折率の平方根になるような材料を選択すればよ
いことが分かる。但し、実際は、この数式を完全に満た
す材料は見出し難く、限りなく近い材料を選択すること
になる。前記(2)式では(1)式で選択した表面層の
屈折率と、光の波長から表面層の反射防止膜としての最
適な厚さが計算される。たとえば、粗面化層、表面層の
屈折率をそれぞれ1.50、1.38、光の波長を55
0nm(視感度の基準)とし、これらの値を前記(2)
式に代入すると、表面層の厚さは0.1μm前後の光学
膜厚、好ましくは0.10±0.01μmの範囲が最適
であると計算される。
According to the above equation (1), the reflection of light is 100
It can be seen that a material having a refractive index of the surface layer to be the square root of the refractive index of the lower layer (roughened layer) should be selected in order to prevent the percentage. However, in practice, it is difficult to find a material that completely satisfies the formula, and a material as close as possible is selected. In the above equation (2), the optimum thickness of the surface layer as an antireflection film is calculated from the refractive index of the surface layer selected in the equation (1) and the wavelength of light. For example, the refractive index of the roughened layer and the refractive index of the surface layer are 1.50 and 1.38, respectively, and the light wavelength is 55.
0 nm (standard of visibility), and these values are referred to in the above (2).
By substituting into the equation, it is calculated that the optimal thickness of the surface layer is about 0.1 μm, preferably in the range of 0.10 ± 0.01 μm.

【0048】このようにして作製した本発明の反射防止
材料のJIS K7105によるHAZE値は、3〜3
0の範囲、特に好ましくは5〜15の範囲であることが
好ましい。この場合、この値が3未満では、光拡散の効
果が少なくそれ程大きな反射防止効果を得ることができ
ない。一方、HAZE値が30を超えると、画像コント
ラストが悪く視認性不良となり、ディスプレイとしての
機能低下を招くことから好ましくない。なお、HAZE
値とは、曇価を意味するものであり、積分球式光線透過
率測定装置を用いて、拡散透過率(Hd%)と全光線透
過率(Ht%)を測定し、下記式にて算出する。
The anti-reflection material of the present invention thus produced has a HAZE value of 3 to 3 according to JIS K7105.
It is preferably in the range of 0, particularly preferably in the range of 5 to 15. In this case, if this value is less than 3, the effect of light diffusion is small, and a so large antireflection effect cannot be obtained. On the other hand, when the HAZE value exceeds 30, the image contrast is poor and the visibility is poor, and the function as a display is undesirably reduced. In addition, HAZE
The value means the haze value. The diffuse transmittance (Hd%) and the total light transmittance (Ht%) are measured using an integrating sphere light transmittance measuring device, and calculated by the following formula. I do.

【0049】[0049]

【数3】HAZE値=Hd/Ht×100Haze value = Hd / Ht × 100

【0050】D.偏光フィルムの内容 上記構成の反射防止材料の透明基体の粗面化層が設けら
れていない他方の面に、偏光基体を介して保護材を積層
することによって、本発明の偏光フィルムを得ることが
できる。偏光基体は、透明性を有する材料で構成され、
具体的には、ポリビニルアルコール、ポリビニレン等が
使用できる。そして、このような材料を延伸させてフィ
ルム化することにより偏光基体を得ることができる。例
えば、2色性素子として沃素または染料を吸着させたポ
リビニルアルコールを一軸延伸して得られたポリビニル
アルコール(PVA)フィルムを用いることが好まし
い。偏光基体は10〜80μmの厚みを有するものが使
用される。具体的には、PVAフィルムを一軸方向に3
〜4倍程度延伸し、高次の沃素イオン中に延伸したPV
Aフィルムを含浸させることにより偏光基体を得ること
ができる。
D. Contents of Polarizing Film The polarizing film of the present invention can be obtained by laminating a protective material via a polarizing substrate on the other surface of the antireflective material having the above structure, on which the roughening layer of the transparent substrate is not provided. it can. The polarizing substrate is made of a material having transparency,
Specifically, polyvinyl alcohol, polyvinylene, or the like can be used. Then, a polarizing substrate can be obtained by stretching such a material to form a film. For example, it is preferable to use a polyvinyl alcohol (PVA) film obtained by uniaxially stretching polyvinyl alcohol adsorbing iodine or a dye as the dichroic element. A polarizing substrate having a thickness of 10 to 80 μm is used. Specifically, the PVA film is uniaxially
PV stretched about 4 times and stretched into higher-order iodine ions
A polarizing substrate can be obtained by impregnating the A film.

【0051】上記で得られるPVAフィルムは、強度等
が不足していることから、裂け易く、湿度変化に対して
収縮率が大きいという欠点を有していることから、偏光
基体の両面に反射防止材料の透明基体及び保護材がそれ
ぞれ積層される。これらは偏光基体の両面に、ポリエス
テル系接着剤、ポリアクリル系接着剤、ポリウレタン系
接着剤、ポリ酢酸ビニル系接着剤等により接着される。
The PVA film obtained above has the disadvantage that it is apt to be torn due to lack of strength and the like and has a large shrinkage ratio with respect to a change in humidity. A transparent substrate and a protective material of the material are respectively laminated. These are adhered to both surfaces of the polarizing substrate with a polyester adhesive, a polyacrylic adhesive, a polyurethane adhesive, a polyvinyl acetate adhesive, or the like.

【0052】保護材としては、透明な高分子化合物のフ
ィルム、例えば、TAC等のセルロース系フィルム、ポ
リエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム等が使
用される。その中でも特にTACが好ましい。これらの
フィルムの厚さは10〜2000μmが好ましい。ま
た、これらのフィルムには特にほう酸等のゲル化剤を使
用したり、熱処理やホルマール化を行うことによって、
フィルムの耐水性を向上させることが好ましい。また、
偏光基体との密着性を向上させるために、偏光基体との
接着面の表面エネルギーが50dyne/cm以上にな
るように、けん化処理やコロナ処理等の表面処理を行う
ことが好ましい。
As the protective material, a transparent polymer compound film, for example, a cellulose film such as TAC, a polyester film, a polycarbonate film and the like are used. Among them, TAC is particularly preferable. The thickness of these films is preferably from 10 to 2000 μm. In addition, by using a gelling agent such as boric acid in these films, or by performing a heat treatment or formalization,
It is preferable to improve the water resistance of the film. Also,
In order to improve the adhesion to the polarizing substrate, it is preferable to perform a surface treatment such as a saponification treatment or a corona treatment so that the surface energy of the bonding surface with the polarizing substrate is 50 dyne / cm or more.

【0053】以下図面を用いて、本発明の反射防止材料
と偏光フィルムをさらに詳細に説明する。図1は、本発
明の反射防止材料の構成を示す概略断面図であり、反射
防止材料10は、透明基体11の片面上に粗面化層12
を有する構成である。なお、粗面化層12の表面には表
面層が形成されているが、表面層は極めて薄いために図
示を省略している(以下においても同じ)。図2は、本
発明の偏光フィルム20の構成を示す概略断面図であ
り、偏光基体24の片面に、透明基体21と粗面化層2
2とを有する反射防止材料23が設けられ、偏光基体2
4の他の面に保護材25が設けられていることを示して
いる。
Hereinafter, the antireflection material and the polarizing film of the present invention will be described in more detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing the structure of an antireflection material of the present invention. An antireflection material 10 has a roughened layer 12 on one surface of a transparent substrate 11.
It is a structure which has. Although a surface layer is formed on the surface of the roughened layer 12, the surface layer is not shown because it is extremely thin (the same applies to the following description). FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing the configuration of the polarizing film 20 of the present invention, in which a transparent substrate 21 and a roughened layer 2 are provided on one surface of a polarizing substrate 24.
2 is provided, and the polarizing substrate 2 is provided.
4 shows that the protective material 25 is provided on the other surface.

【0054】図3は本発明の反射防止材料により防眩性
を改善した液晶表示体30の構成を示している。この液
晶表示体30は、上面の液晶パネル31と下面の導光板
装置(EL)やランプ等の背面光源32とを積層して形
成されている。液晶パネル31には、例えば、ツイステ
ッドネマチック(TN)液晶セルなどが使用可能であ
る。
FIG. 3 shows the structure of a liquid crystal display 30 in which the anti-glare property is improved by the anti-reflection material of the present invention. The liquid crystal display 30 is formed by laminating a liquid crystal panel 31 on the upper surface and a back light source 32 such as a light guide plate (EL) or a lamp on the lower surface. As the liquid crystal panel 31, for example, a twisted nematic (TN) liquid crystal cell or the like can be used.

【0055】TN液晶セルは、所望のパターンからなる
透明電極付きの2枚のガラス基板33,34の透明電極
面33'、及び34'上に、ポリイミドの溶液を塗布して
配向膜を形成し、これをラビング操作により配向させ、
その後、このガラス基板33,34間にネマチック液晶
35を注入し、ガラス基板33,34周辺部をエポキシ
樹脂等で封着することにより形成される。このネマチッ
ク液晶は、配向膜の作用により90゜捻れ配向する。こ
のTN液晶セルの2枚のガラス基板の背面光源とは反対
側には、図2に示される粗面化層22を有する反射防止
材料23と保護材25とで偏光基体24の両面を保護さ
れた偏光フィルム36を、また、その背面光源側には、
粗面化層のない偏光フィルム37を、偏光角度が互いに
90゜捻れるように貼ることで液晶パネル31が形成さ
れる。
In the TN liquid crystal cell, an alignment film is formed by applying a polyimide solution on the transparent electrode surfaces 33 'and 34' of two glass substrates 33 and 34 having transparent electrodes having a desired pattern. , This is orientated by a rubbing operation,
Thereafter, a nematic liquid crystal 35 is injected between the glass substrates 33 and 34, and the periphery of the glass substrates 33 and 34 is sealed with an epoxy resin or the like. The nematic liquid crystal is twist-aligned by 90 ° by the action of the alignment film. On the opposite sides of the two glass substrates of the TN liquid crystal cell from the back light source, both surfaces of the polarizing substrate 24 are protected by an antireflection material 23 having a roughened layer 22 and a protective material 25 shown in FIG. Polarizing film 36, and on the back light source side,
The liquid crystal panel 31 is formed by attaching the polarizing film 37 without the roughening layer so that the polarization angles are twisted by 90 ° with respect to each other.

【0056】上記TN液晶パネル31の透明電極に駆動
信号を印加すると信号が印加された電極間には電界が発
生する。その際、液晶分子の持つ電子的異方性により、
液晶分子の長軸が電界方向と平行になるため、液晶分子
による光の旋光性が失われることとなり、その結果、液
晶パネルには光が透過しない状態となる。画像の表示は
この時の光透過の差に基づくコントラストにより視覚情
報として認識される。上記液晶表示体30においては、
液晶パネル31に透過させ、液晶パネル31の光の透過
する部分と透過しない部分にコントラストを持たせるこ
とにより画像表示を可能とするものである。
When a drive signal is applied to the transparent electrodes of the TN liquid crystal panel 31, an electric field is generated between the electrodes to which the signals are applied. At that time, due to the electronic anisotropy of the liquid crystal molecules,
Since the major axis of the liquid crystal molecules is parallel to the direction of the electric field, the optical rotatory power of the liquid crystal molecules is lost, and as a result, the light does not pass through the liquid crystal panel. The display of the image is recognized as visual information by contrast based on the difference in light transmission at this time. In the above liquid crystal display 30,
An image can be displayed by transmitting the light through the liquid crystal panel 31 and giving a contrast to a portion of the liquid crystal panel 31 where light is transmitted and a portion where light is not transmitted.

【0057】図4は、本発明の反射防止材料10を使用
した他の液晶表示体の構成を示す断面図である。図4に
おいて、液晶パネル41は、2枚のガラス基板43、4
4及びその間に介在するネマチック液晶45と、ガラス
基板43,44の外側に位置する粗面化層を有しない上
部の偏光フィルム46、粗面化層を有しない下部の偏光
フィルム47及び該上部の偏光フィルム46の上に積層
された反射防止材料10より構成されている。また、液
晶表示体40は、液晶パネル41とその下面に位置する
背面光源32を積層して形成されている。
FIG. 4 is a sectional view showing the structure of another liquid crystal display using the antireflection material 10 of the present invention. In FIG. 4, the liquid crystal panel 41 has two glass substrates 43, 4
4, a nematic liquid crystal 45 interposed therebetween, an upper polarizing film 46 having no roughening layer, a lower polarizing film 47 having no roughening layer, and a lower polarizing film 47 located outside the glass substrates 43 and 44. It is composed of an antireflection material 10 laminated on a polarizing film 46. The liquid crystal display 40 is formed by laminating a liquid crystal panel 41 and a back light source 32 located on the lower surface thereof.

【0058】[0058]

【実施例】本発明を実施例によってさらに詳細に説明す
る。なお、以下の説明において「部」は「重量部」を意
味するものとする。 <実施例1>まず、架橋アクリルビーズ、MIBK及び
トルエンの混合物をサンドミルにて30分間分散するこ
とによって得られた下記分散液と、下記ベース塗料をデ
ィスパーにて15分間撹拌、混合した塗料を、膜厚80
μm、透過率92%からなる透明基体であるけん化TA
Cの片面上に、リバースコーティング方式にて塗布し、
100℃で2分間乾燥後、UVランプ出力120w/c
mの集光型高圧水銀灯1灯を用いて、照射距離(ランプ
中心から塗工面までの距離)10cm、処理速度(塗工
基体側のUVランプに対する速度)5m/分でUV照射
を行い、塗工膜を硬化させた。このようにして、厚さ
2.5μm、HAZE値16.5の粗面化層を形成し
た。その後、下記配合からなる表面層塗料を前記粗面化
層上にリバースグラビアコーティングにより塗布し、1
20℃で6時間乾燥キュアーして、厚さが0.1μmの
表面層を形成して本発明の反射防止材料を得た。
The present invention will be described in more detail by way of examples. In the following description, “parts” means “parts by weight”. <Example 1> First, the following dispersion obtained by dispersing a mixture of crosslinked acrylic beads, MIBK, and toluene in a sand mill for 30 minutes, and a coating obtained by stirring and mixing the following base coating with a disper for 15 minutes, Thickness 80
Saponified TA, which is a transparent substrate having a transmittance of 92%
On one side of C, apply by reverse coating method,
After drying at 100 ° C for 2 minutes, UV lamp output 120w / c
m using a single condensing high-pressure mercury lamp with an irradiation distance (distance from the center of the lamp to the coating surface) of 10 cm and a processing speed (speed with respect to the UV lamp on the coating substrate side) of 5 m / min. The coating was cured. Thus, a roughened layer having a thickness of 2.5 μm and a HAZE value of 16.5 was formed. Thereafter, a surface layer paint having the following composition was applied on the surface-roughened layer by reverse gravure coating.
After drying and curing at 20 ° C. for 6 hours, a surface layer having a thickness of 0.1 μm was formed to obtain an antireflection material of the present invention.

【0059】 [分散液の配合] ・架橋アクリルビーズ 9部 (商品名:MX150、粒径1.5μm±0.5、綜研化学社製) ・MIBK 100部 ・トルエン 110部[Blending of dispersion liquid] 9 parts of crosslinked acrylic beads (trade name: MX150, particle size 1.5 μm ± 0.5, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) 100 parts of MIBK 110 parts of toluene

【0060】 [ベース塗料の配合] ・アクリル系化合物 ジペンタエリスリトールトリアクリレート 45部 ・エポキシ系化合物 45部 (商品名:セロキサイト2021、ダイセル化学工業) ・下記化学式の光カチオン重合開始剤 2部[Blending of base paint]-Acrylic compound 45 parts of dipentaerythritol triacrylate-Epoxy compound 45 parts (trade name: celloxite 2021, Daicel Chemical Industries)-2 parts of photocationic polymerization initiator of the following chemical formula

【0061】[0061]

【化3】 Embedded image

【0062】 ・イソプロピルアルコール 5部 [表面層塗料の配合] ・シリカゾル 10部 (粒子径15nmでSiO2として30重量%のシリカ粒子を含有するエタノ ール分散液) ・被膜形成剤 15部 (テトラエトキシシランの加水分解物:SiO2として計算して固形分濃度6 %) ・溶剤:エタノール 53部• 5 parts of isopropyl alcohol [Blending of surface layer paint] • 10 parts of silica sol (ethanol dispersion containing 30% by weight of silica particles as SiO 2 with a particle diameter of 15 nm) • 15 parts of film forming agent (tetra Hydrolysis product of ethoxysilane: calculated as SiO 2 , solid content concentration 6%) ・ Solvent: ethanol 53 parts

【0063】<実施例2>粗面化層の組成を下記に変更
した以外は実施例1と同様にして、厚さ3.6μm、H
AZE値22.0の粗面化層を有する反射防止材料を得
た。
Example 2 The procedure of Example 1 was repeated, except that the composition of the surface-roughened layer was changed as follows.
An antireflection material having a roughened layer having an AZE value of 22.0 was obtained.

【0064】 [分散液の配合] ・架橋アクリルビーズ 14部 (商品名:MX300、粒径3.0μm±0.5、綜研化学社製) ・MIBK 210部[Blending of dispersion liquid] 14 parts of crosslinked acrylic beads (trade name: MX300, particle size 3.0 μm ± 0.5, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) 210 parts of MIBK

【0065】 [ベース塗料の配合] ・アクリル系化合物 45部 (トリペンタエリスリトールポリアクリレート) ・エポキシ系化合物 45部 (商品名:サイラキュアUVR−6110、ユニオンカーバイド(株)社製) ・光カチオン重合開始剤 2部 (商品名:サイラキュアUVI−6990、ユニオンカーバイド(株)社製) ・イソプロピルアルコール 5部[Blending of base paint] 45 parts of acrylic compound (tripentaerythritol polyacrylate) 45 parts of epoxy compound (trade name: Cyracure UVR-6110, manufactured by Union Carbide Co., Ltd.) 2 parts (trade name: Cyracure UVI-6990, manufactured by Union Carbide Co., Ltd.) ・ 5 parts of isopropyl alcohol

【0066】<実施例3>粗面化層の組成を下記に変更
した以外は実施例1と同様にして、厚さ3.8μm、H
AZE値13.0の粗面化層を有する反射防止材料を得
た。
Example 3 The procedure of Example 1 was repeated, except that the composition of the roughened layer was changed as follows, and the thickness was 3.8 μm.
An antireflection material having a roughened layer having an AZE value of 13.0 was obtained.

【0067】 [分散液の配合] ・架橋アクリルビーズ (商品名:MX300、粒径1.5μm±0.5、綜研化学社製) 5部 (商品名:MX300、粒径3.0μm±0.5、綜研化学社製) 5部 ・MIBK 100部 ・IPA 50部 ・トルエン 50部[Blending of Dispersion] Crosslinked acrylic beads (trade name: MX300, particle size 1.5 μm ± 0.5, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) 5 parts (trade name: MX300, particle size 3.0 μm ± 0. 5, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) 5 parts ・ MIBK 100 parts ・ IPA 50 parts ・ Toluene 50 parts

【0068】 [ベース塗料の配合] ・アクリル系化合物 テトラジペンタエリスリトールポリアクリレート 15部 ネオペンチルグリコールジアクリレート 30部 ・エポキシ系化合物 45部 (商品名:エピコート828、油化シェルエポキシ社製) ・光カチオン重合開始剤 2部 (商品名:サイラキュアUVI−6990、ユニオンカーバイド社製) ・イソプロピルアルコール 5部[Blending of base paint] ・ Acrylic compound tetradipentaerythritol polyacrylate 15 parts Neopentyl glycol diacrylate 30 parts ・ Epoxy compound 45 parts (trade name: Epicoat 828, manufactured by Yuka Shell Epoxy Co.) Cationic polymerization initiator 2 parts (trade name: Cyracure UVI-6990, manufactured by Union Carbide) 5 parts of isopropyl alcohol

【0069】<実施例4>粗面化層の組成を下記に変更
した以外は実施例1と同様にして、厚さ3.8μm、H
AZE値9.0の粗面化層を有する反射防止材料を得
た。
Example 4 The procedure of Example 1 was repeated, except that the composition of the surface-roughened layer was changed as follows.
An antireflection material having a roughened layer having an AZE value of 9.0 was obtained.

【0070】 [分散液の配合] ・架橋アクリルビーズ (商品名:MX150、粒径1.5μm±0.5、綜研化学社製) 3部 (商品名:MX300、粒径3.0μm±0.5、綜研化学社製) 3部 ・MIBK 210部[Blending of dispersion] Cross-linked acrylic beads (trade name: MX150, particle size 1.5 μm ± 0.5, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) 3 parts (trade name: MX300, particle size 3.0 μm ± 0. 5, Soken Chemical Co., Ltd.) 3 parts ・ MIBK 210 parts

【0071】 [ベース塗料の配合] ・アクリル系化合物 ジペンタエリスリトールポリアクリレート 15部 トリペンタエリスリトールポリアクリレート 30部 ・エポキシ系化合物 45部 (商品名:ラピキュアDVE−3、ISP社製) ・光カチオン重合開始剤 2部 (商品名:BBI−102、みどり化学社製) ・イソプロピルアルコール 5部[Blending of base paint] ・ Acrylic compound 15 parts of dipentaerythritol polyacrylate 30 parts of tripentaerythritol polyacrylate ・ 45 parts of epoxy compound (trade name: LAPICURE DVE-3, manufactured by ISP) ・ Photocationic polymerization Initiator 2 parts (trade name: BBI-102, manufactured by Midori Kagaku) ・ Isopropyl alcohol 5 parts

【0072】<実施例5>粗面化層の組成を下記に変更
した以外は実施例1と同様にして、厚さ2.5μm、H
AZE値6.7の粗面化層を有する反射防止材料を得
た。
Example 5 The same procedure as in Example 1 was carried out except that the composition of the roughened layer was changed as follows, and the thickness was 2.5 μm.
An antireflection material having a roughened layer having an AZE value of 6.7 was obtained.

【0073】 [分散液の配合] ・架橋アクリルビーズ 3部 (商品名:MX300、粒径1.5μm±0.5、綜研化学社製) ・MIBK 80部 ・エチルセロソルブ 60部 ・キシレン 60部[Blending of Dispersion] 3 parts of crosslinked acrylic beads (trade name: MX300, particle size 1.5 μm ± 0.5, manufactured by Soken Kagaku) ・ 80 parts of MIBK ・ 60 parts of ethyl cellosolve ・ 60 parts of xylene

【0074】 [ベース塗料の配合] ・アクリル系化合物 1,6ヘキサンジオールジメタクリレート 20部 ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネート 30部 ・エポキシ化合物 45部 (商品名:エポライト40E 共栄社化学社製) ・光カチオン重合開始剤 2部 (商品名:MPI03、みどり化学社製) ・イソプロピルアルコール 5部[Blending of base paint] Acrylic compound 1,6 hexanediol dimethacrylate 20 parts Pentaerythritol triacrylate hexamethylene diisocyanate 30 parts Epoxy compound 45 parts (trade name: Epolite 40E manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) Photocation Polymerization initiator 2 parts (trade name: MPI03, manufactured by Midori Kagaku) ・ Isopropyl alcohol 5 parts

【0075】<実施例6>透明基体としてけん化TAC
に代えてポリカーボネートフィルムを使用した以外は実
施例1と全く同様にして、反射防止材料を得た。
Example 6 Saponified TAC as Transparent Substrate
In the same manner as in Example 1 except that a polycarbonate film was used in place of the above, an antireflection material was obtained.

【0076】<実施例7>透明基体としてけん化TAC
に代えてアクリル系樹脂(メタクリル酸メチル−スチレ
ン共重合体)フィルムを使用した以外は実施例1と全く
同様にして、反射防止材料を得た。
Example 7 Saponified TAC as Transparent Substrate
An antireflection material was obtained in exactly the same manner as in Example 1 except that an acrylic resin (methyl methacrylate-styrene copolymer) film was used instead of the above.

【0077】<比較例1>粗面化層の成分を下記に変更
した以外は実施例1と同様にして、厚さ3.6μm、H
AZE値11.0、の粗面化層を有する反射防止材料を
得た。
Comparative Example 1 A film having a thickness of 3.6 μm and a thickness of 3.6 μm was prepared in the same manner as in Example 1 except that the components of the roughened layer were changed as follows.
An anti-reflection material having a roughened layer having an AZE value of 11.0 was obtained.

【0078】 [分散液の配合] ・架橋アクリルビーズ 3部 (商品名:MX300 粒径1.5μm±0.5、綜研化学社製) ・トルエン 200部[Blending of dispersion] 3 parts of crosslinked acrylic beads (trade name: MX300, particle size 1.5 μm ± 0.5, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) 200 parts of toluene

【0079】 [ベース塗料の配合] ・アクリレート系化合物 ジペンタエリスリトールポリアクリレート 50部 ペンタエリスリトールテトラアクリレート 20部 ヒドロキシエチルアクリレート 22部 ・ラジカル系光重合開始剤 5部 (商品名:イルガキュア 184、チバガイギー社製) ・イソプロピルアルコール 50部[Blending of base paint] ・ Acrylate compound Dipentaerythritol polyacrylate 50 parts Pentaerythritol tetraacrylate 20 parts Hydroxyethyl acrylate 22 parts ・ Radical photopolymerization initiator 5 parts (trade name: Irgacure 184, manufactured by Ciba Geigy)・ 50 parts of isopropyl alcohol

【0080】<比較例2>厚さ80μm、透過率92%
のTACをそのまま比較用の反射防止材料とした。
Comparative Example 2 Thickness 80 μm, transmittance 92%
Was used as an antireflection material for comparison.

【0081】<比較例3>粗面化層の組成を以下に変更
した以外は実施例1と同様にして、厚さ4.2μm、H
AZE値17.5の粗面化層を有する反射防止材料を得
た。 [分散液の配合] ・架橋アクリルビーズ 6部 (商品名:MR−7G、綜研化学社製 粒径:0.5〜6.0μmの範囲のもの 60重量% 粒径:6.0μmを越えるもの 25重量%) ・トルエン 210部
<Comparative Example 3> A 4.2 μm-thick H layer was prepared in the same manner as in Example 1 except that the composition of the roughened layer was changed as follows.
An antireflection material having a roughened layer having an AZE value of 17.5 was obtained. [Blending of dispersion] Crosslinked acrylic beads 6 parts (trade name: MR-7G, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd. Particle size: 0.5 to 6.0 μm 60% by weight Particle size: more than 6.0 μm・ 25 parts by weight of toluene

【0082】 [ベース塗料の配合] ・アクリル系化合物 42部 ジペンタエリストリールトリアクリレート ・トリメチロールプロパントリアクリレート 42部 ・下記化学式の光カチオン重合開始剤 10部[Blending of base paint]-Acrylic compound 42 parts Dipentaerythryl triacrylate-Trimethylolpropane triacrylate 42 parts-Photocationic polymerization initiator of the following chemical formula 10 parts

【0083】[0083]

【化4】 Embedded image

【0084】 ・イソプロピルアルコール 5部・ Isopropyl alcohol 5 parts

【0085】<比較例4>粗面化層の組成を下記に変更
した以外は実施例5と同様にして、厚さ3.0μm、H
AZE値13.0の粗面化層を有する反射防止剤を得
た。 [分散液の配合] ・架橋アクリルビーズ 2部 (商品名:MX300、粒径3.0μm±0.5、綜研化学社製) ・シクロヘキサノン 100部
Comparative Example 4 A film having a thickness of 3.0 μm and a thickness of 3.0 μm was prepared in the same manner as in Example 5 except that the composition of the roughened layer was changed as follows.
An antireflection agent having a roughened layer having an AZE value of 13.0 was obtained. [Blending of dispersion liquid] 2 parts of crosslinked acrylic beads (trade name: MX300, particle size 3.0 μm ± 0.5, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) 100 parts of cyclohexanone

【0086】 [ベース塗料の配合] ・ポリエステル系熱可塑性樹脂 40部 (商品名:バイロン200、東洋紡社製) ・トルエン 70部 ・メチルエチルケトン 100部[Blending of base paint] 40 parts of polyester-based thermoplastic resin (trade name: Byron 200, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) 70 parts of toluene 100 parts of methyl ethyl ketone

【0087】実施例1〜7、比較例1〜4で得られた反
射防止材料10を用いて図2に示される構成の偏光フィ
ルム20を作製した。次いで、前記偏光フィルム20
(図3では符号36で示す)を図3に示されるようにガ
ラス基板33に貼り付け、液晶表示体30を得た。な
お、これらの各液晶表示体の画像サイズは例えば10.
4インチとし、解像度は例えば800ドット×600ド
ットとして、下記方法によって、画像コントラスト、画
像ギラツキ、防眩性、各項目について、評価を行った。
また、反射防止材料の耐熱サイクル性、耐摩耗性、耐薬
品性の評価も下記方法に基づき行った。
Using the anti-reflection material 10 obtained in Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 4, a polarizing film 20 having the structure shown in FIG. 2 was produced. Next, the polarizing film 20
(Indicated by reference numeral 36 in FIG. 3) was attached to the glass substrate 33 as shown in FIG. The image size of each of these liquid crystal displays is, for example, 10.
The image contrast, the image glare, and the anti-glare property were evaluated by the following methods with a 4-inch resolution of, for example, 800 dots × 600 dots.
The anti-reflective material was also evaluated for heat cycle resistance, wear resistance, and chemical resistance based on the following methods.

【0088】画像コントラストはJIS C7072
1988に於ける液晶表示パネルのコントラスト比(C
R)測定方法に準拠し、評価した。画像コントラストの
評価における光源60−液晶パネル61−測光器62の
位置関係を図5に示す。この場合、光源60と液晶パネ
ル61との間は例えば1cm、液晶パネル61と測光器
62との間は例えば50cm、測光器62の開口角は例
えば5゜に設定した。なお、光源60には5WのELを
使用し、測光器62にはミノルタカメラ社製のLS−1
00を使用した。CRが4以上の場合を◎、3以上、4
未満の場合を○、2以上〜3未満を△、2未満を×とし
た。
The image contrast is JIS C7072.
1988, the contrast ratio of the liquid crystal display panel (C
R) It was evaluated according to the measuring method. FIG. 5 shows the positional relationship between the light source 60, the liquid crystal panel 61, and the photometer 62 in the evaluation of the image contrast. In this case, the distance between the light source 60 and the liquid crystal panel 61 was set to, for example, 1 cm, the distance between the liquid crystal panel 61 and the photometer 62 was set to, for example, 50 cm, and the aperture angle of the photometer 62 was set to, for example, 5 °. The light source 60 is a 5 W EL, and the photometer 62 is LS-1 manufactured by Minolta Camera.
00 was used. When CR is 4 or more, ◎, 3 or more, 4
In the case of less than ○, 2 or more and less than 3 were evaluated as Δ, and less than 2 was evaluated as ×.

【0089】画像ギラツキについては、液晶表示体をウ
ィンドウズ、バージョン3.1のペイントブラシのオー
プニング画面が表示できるようにパーソナルコンピュー
タとの接続を行い、この白黒表示における画像ギラツキ
の有無を任意の10人の目視判定により評価した。ギラ
ツキを感じた人が3人未満の場合を○、3人以上、7人
未満の人がギラツキを感じた場合を△、7人以上がギラ
ツキを感じた場合を×とした。
Regarding the image glare, a liquid crystal display was connected to a personal computer so that the opening screen of the paint brush of Windows version 3.1 could be displayed. Was evaluated by visual judgment. The case where less than 3 people felt glare was evaluated as ○, the case where 3 or more and less than 7 people felt glare, and the case where 7 or more people felt glare was evaluated as x.

【0090】防眩性については、スガ試験機社製の写像
性測定器ICM−1DP(JISK7105)を使用
し、透過モードで、光学クシ幅2mmにおける写像性を
測定した。なお、この測定試験では、測定データの数値
が小さいほど防眩性が高い。ここでは、50%未満を
○、50%以上、70%未満を△、70%以上を×とし
て評価した。
As for the antiglare property, the image clarity in an optical comb width of 2 mm was measured in a transmission mode using an image clarity measuring device ICM-1DP (JISK7105) manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd. In this measurement test, the smaller the numerical value of the measurement data, the higher the anti-glare property. Here, less than 50% was evaluated as ○, more than 50%, less than 70% as Δ, and more than 70% as X.

【0091】密着性については、60℃温水に500時
間浸漬放置後、クロスカット試験(JIS K−540
0)を行い、透明基体と粗面化層とが密着しているか否
かを観察し、剥離が全くない場合(100/100)を
○、99/100〜90/100の場合を△、89/1
00以下を×として評価した。
Regarding the adhesion, after immersion in hot water at 60 ° C. for 500 hours, a cross cut test (JIS K-540) was conducted.
0), and observe whether or not the transparent substrate and the roughened layer are in close contact with each other. When there is no peeling (100/100), ○, when 99/100 to 90/100, Δ, 89 / 1
00 or less was evaluated as x.

【0092】また、耐摩耗性の試験は、日本スチールウ
ール性のスチールウール#0000を板紙耐摩耗試験機
(熊谷理機工業社製)に取り付け、反射防止材料の粗面
化層面を荷重200gにて50回往復させた。その後、
その部分のHAZE値の変化δH(下記計算に基づく)
を東洋精機社製HAZEメーターで測定した。この測定
試験では、測定値が大きいほど耐摩耗性が悪い。なお、
HAZE値の測定は反射防止材料単体で行った。また、
HAZE値変化δHは、試験後のHAZE値から試験前
のHAZE値を除算して算出した。 HAZE値変化δH=試験後のHAZE値−試験前のH
AZE値
In the abrasion resistance test, a steel wool # 0000 of Nippon Steel Wool was attached to a paperboard abrasion tester (manufactured by Kumagaya Riki Kogyo Co., Ltd.), and the roughened layer of the anti-reflective material was subjected to a load of 200 g. And reciprocated 50 times. afterwards,
Change δH of the HAZE value of that part (based on the following calculation)
Was measured with a HAZE meter manufactured by Toyo Seiki Co., Ltd. In this measurement test, the larger the measured value, the worse the wear resistance. In addition,
The measurement of the HAZE value was performed using the antireflection material alone. Also,
The change in HAZE value δH was calculated by dividing the HAZE value before the test from the HAZE value after the test. HAZE value change δH = HAZE value after test-H before test
AZE value

【0093】また、耐薬品性については、粗面化層面を
イソプロピルアルコールを含ませた綿棒(ジョンソン社
製)で、50往復擦った後に、粗面化層に剥がれ等著し
い変化があった場合を×、変化がない場合を○、その中
間を△として評価した。
The chemical resistance was measured in the case where the surface of the roughened layer was remarkably changed, such as peeling off, after rubbing 50 times with a cotton swab (manufactured by Johnson Corporation) containing isopropyl alcohol. ×, no change was evaluated as ○, and the middle was evaluated as Δ.

【0094】[0094]

【表1】 [Table 1]

【0095】表1から明らかなように、溶剤としてMI
BKを用いた実施例1〜5では熱サイクル試験を経ても
透明基体と粗面化層とが密着しており、また、防眩性等
の光学特性や耐久性も良好であった。これに対して、比
較例1及び3では、塗料の溶剤がトルエンのみであるた
めに、全て粗面化層が透明基体から剥離していた。ま
た、比較例4では、粗面化層の剥離は生じなかったが、
透明基体がメチルエチルケトンで冒されたために画像コ
ントラストが劣化していた。また、比較例1および3で
はフィラーの分散が悪くギラツキの問題を生じ、比較例
3及び4では耐薬品性に問題を生じた。
As is clear from Table 1, MI was used as the solvent.
In Examples 1 to 5 using BK, even after the heat cycle test, the transparent substrate and the roughened layer were in close contact with each other, and the optical properties such as anti-glare properties and the durability were good. On the other hand, in Comparative Examples 1 and 3, since the solvent for the paint was only toluene, the roughened layer was all separated from the transparent substrate. In Comparative Example 4, although the peeling of the roughened layer did not occur,
The image contrast was degraded because the transparent substrate was affected by methyl ethyl ketone. In Comparative Examples 1 and 3, the dispersion of the filler was poor, causing a glare problem. In Comparative Examples 3 and 4, a problem occurred in the chemical resistance.

【0096】なお、本発明の塗料は、上記のような反射
防止材料に限定されるものではなく、写真用フィルムや
アニメーション用動画フィルム等種々の透明フィルムに
適用可能である。
The coating material of the present invention is not limited to the above-mentioned antireflection materials, but can be applied to various transparent films such as photographic films and animation moving images.

【0097】[0097]

【発明の効果】以上説明したように本発明のフィルム塗
工用塗料によれば、透明基体への密着強度を高めること
ができ、高温多湿の過酷な条件で使用されても信頼性を
有するものである。また、本発明の反射防止材料および
偏光フィルムによれば、そのような効果に加えて、ディ
スプレイへの太陽光及び蛍光灯等の外部光の映り込みを
防止することにより優れた反射防止性を発揮し、画像コ
ントラストを低下させることなく、ギラツキ等のない鮮
明な画像を得ることができるとともに、光学的に安定で
優れた耐摩耗性、耐薬品性を示す等の優れた効果が得ら
れる。
As described above, according to the coating material for film coating of the present invention, the adhesion strength to the transparent substrate can be increased, and the film has high reliability even under severe conditions of high temperature and high humidity. It is. Further, according to the antireflection material and the polarizing film of the present invention, in addition to such effects, excellent antireflection properties are exhibited by preventing reflection of external light such as sunlight and fluorescent lights on the display. In addition, a clear image without glare can be obtained without lowering the image contrast, and excellent effects such as optically stable and excellent abrasion resistance and chemical resistance can be obtained.

【図面の簡単な発明】BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

【図1】 本発明の反射防止材料の構成を示す概略断面
図である。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view illustrating a configuration of an antireflection material of the present invention.

【図2】 本発明の反射防止材料を使用した偏光フィル
ムの構成を示す概略断面図である。
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing a configuration of a polarizing film using the antireflection material of the present invention.

【図3】 反射防止材料を使用した偏光フィルムを具備
する液晶表示体の構成を示す概略断面図である。
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view illustrating a configuration of a liquid crystal display including a polarizing film using an antireflection material.

【図4】 反射防止材料を使用した偏光フィルムを具備
する他の液晶表示体の構成を示す概略断面図である。
FIG. 4 is a schematic sectional view showing the configuration of another liquid crystal display including a polarizing film using an antireflection material.

【図5】 画像コントラストの測定装置の配置図を示す
概略図である。
FIG. 5 is a schematic view showing a layout of an image contrast measuring device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…反射防止材料、11…透明基体、12…粗面化
層、20…粗面化層付偏光フィルム、21…透明基体、
22…粗面化層、23…反射防止材料、24…偏光基
体、25…保護材、30…液晶表示体、31…液晶パネ
ル、32…背面光源、33,34…ガラス基板、33
´,34´…透明電極面、35…ネマチック液晶、36
…偏光フィルム、40…液晶表示体、41…液晶パネ
ル、42…背面光源、43,44…ガラス基板、45…
ネマチック液晶、46,47…偏光フィルム、60…光
源、61…液晶パネル、62…測光器。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Anti-reflective material, 11 ... Transparent base, 12 ... Roughened layer, 20 ... Polarized film with a roughened layer, 21 ... Transparent base,
22: roughening layer, 23: antireflection material, 24: polarizing substrate, 25: protective material, 30: liquid crystal display, 31: liquid crystal panel, 32: back light source, 33, 34: glass substrate, 33
', 34': transparent electrode surface, 35: nematic liquid crystal, 36
... Polarizing film, 40 ... Liquid crystal display, 41 ... Liquid crystal panel, 42 ... Back light source, 43,44 ... Glass substrate, 45 ...
Nematic liquid crystal, 46, 47 polarizing film, 60 light source, 61 liquid crystal panel, 62 photometer.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI C09D 5/00 C09D 5/00 C C09J 133/00 C09J 133/00 169/00 169/00 G02B 1/11 G02B 5/02 B 5/02 5/30 5/30 G02F 1/1335 G02F 1/1335 G09F 9/30 312Z G09F 9/30 312 314A 314 317 317 G02B 1/10 A ──────────────────────────────────────────────────の Continuation of front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI C09D 5/00 C09D 5/00 C C09J 133/00 C09J 133/00 169/00 169/00 G02B 1/11 G02B 5/02 B 5/02 5/30 5/30 G02F 1/1335 G02F 1/1335 G09F 9/30 312Z G09F 9/30 312 314A 314 317 317 317 G02B 1/10 A

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 トリアセチルセルロース系、ポリカーボ
ネート系またはアクリル系の樹脂で構成された透明基体
に塗工する塗料が、少なくともメチルイソブチルケトン
を含有していることを特徴とするフィルム塗工用塗料。
1. A film coating paint characterized in that a paint applied to a transparent substrate composed of a triacetyl cellulose, polycarbonate or acrylic resin contains at least methyl isobutyl ketone.
【請求項2】 トリアセチルセルロース系、ポリカーボ
ネート系またはアクリル系の樹脂で構成された透明基体
に塗工する塗工方法において、少なくともメチルイソブ
チルケトンを含有する塗料を用いることを特徴とするフ
ィルムへの塗工方法。
2. A coating method for coating a transparent substrate composed of a triacetylcellulose, polycarbonate or acrylic resin, wherein a coating containing at least methyl isobutyl ketone is used. Coating method.
【請求項3】 透明基体の片面もしくは両面に少なくと
も粗面化層を設けた反射防止材料において、前記透明基
体は、トリアセチルセルロース系、ポリカーボネート系
またはアクリル系の樹脂で構成され、前記粗面化層は、
少なくともメチルイソブチルケトンを含有する塗料で塗
工されていることを特徴とする反射防止材料。
3. An antireflection material having at least one surface roughening layer on one or both sides of a transparent substrate, wherein the transparent substrate is made of a triacetylcellulose-based, polycarbonate-based or acrylic-based resin. The layers are
An anti-reflection material, which is coated with a paint containing at least methyl isobutyl ketone.
【請求項4】 前記透明基体は、けん化処理されたトリ
アセチルセルロースからなり、前記粗面化層はエポキシ
化合物と光カチオン重合開始剤を含有する紫外線硬化型
樹脂を含むことを特徴とする請求項3に記載の反射防止
材料。
4. The transparent substrate is made of saponified triacetyl cellulose, and the surface roughening layer contains an ultraviolet curing resin containing an epoxy compound and a cationic photopolymerization initiator. 4. The anti-reflection material according to 3.
【請求項5】 前記粗面化層は、前記紫外線硬化型樹脂
と球状フィラーからなることを特徴とする請求項3また
は4に記載の反射防止材料。
5. The anti-reflection material according to claim 3, wherein the surface roughening layer comprises the ultraviolet curable resin and a spherical filler.
【請求項6】 前記球状フィラーの粒子径Dは、0.5
μm≦D≦6.0μmの範囲の粒子が60重量%以上、
6.0μm<D≦10.0μmの範囲の粒子が20重量
%未満、10.0μm<D≦15.0μmの範囲の粒子
が5重量%以下、さらに、15μm<Dである粒子が
1.0重量%以下である粒度分布を有することを特徴と
する請求項5記載の反射防止材料。
6. The particle diameter D of the spherical filler is 0.5
60% by weight or more of particles in the range of μm ≦ D ≦ 6.0 μm;
Less than 20% by weight of particles in the range of 6.0 μm <D ≦ 10.0 μm, less than 5% by weight of particles in the range of 10.0 μm <D ≦ 15.0 μm, and 1.0% The anti-reflective material according to claim 5, having a particle size distribution of not more than% by weight.
【請求項7】 請求項3〜6のいずれかに記載の反射防
止材料の前記透明基体の前記粗面化層が設けられていな
い他方の面に、偏光基体を介して保護材を積層したこと
を特徴とする偏光フィルム。
7. A protective material is laminated via a polarizing substrate on the other surface of the anti-reflection material according to claim 3 on which the roughening layer is not provided. The polarizing film characterized by the above-mentioned.
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