JP3352921B2 - Antireflection material and polarizing film using the same - Google Patents

Antireflection material and polarizing film using the same

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JP3352921B2
JP3352921B2 JP26928697A JP26928697A JP3352921B2 JP 3352921 B2 JP3352921 B2 JP 3352921B2 JP 26928697 A JP26928697 A JP 26928697A JP 26928697 A JP26928697 A JP 26928697A JP 3352921 B2 JP3352921 B2 JP 3352921B2
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力 村田
和也 大石
康弘 松永
和弘 山崎
征則 作本
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は液晶ディスプレイ(LC
D)、プラズマディスプレイ(PDP)、CRT,EL
等の画像表示体等に好適に用いられ、特に、画像部の防
汚性、反射防止、耐薬品性、耐磨耗性に優れた反射防止
材料及びそれを使用した偏光フィルムに関するものであ
る。
The present invention relates to a liquid crystal display (LC).
D), plasma display (PDP), CRT, EL
The present invention relates to an antireflection material having excellent antifouling properties, antireflection properties, chemical resistance, and abrasion resistance in an image area, and a polarizing film using the same.

【0002】[0002]

【従来技術】LCD、PDP、CRT、ELに代表され
る画像表示装置(以下、これを「ディスプレイ」とい
う。)は、テレビやコンピューターを始めとして、様々
な分野で繁用されており、目覚ましい発展を遂げてい
る。このディスプレイの開発は、当初においてはカラー
化が開発のキーワードであったが、最近はハイビジョン
がキーワードのひとつになり、画像の高精細化、高画質
化、さらには低消費電力化等へ努力が傾注されている。
マン−マシンインターフェイスの重要な役割を担うこれ
らディスプレイは今後、マルチメディア時代の到来と共
に一層の普及が予想され、特に、携帯電話、PHS、そ
の他各種携帯端末用としての普及が著しく拡大するもの
と予測される。
2. Description of the Related Art Image display devices represented by LCDs, PDPs, CRTs, and ELs (hereinafter referred to as "displays") are widely used in various fields including televisions and computers, and have remarkable developments. Has achieved. At the beginning of the development of this display, colorization was a keyword of development, but recently Hi-Vision has become one of the keywords, and efforts have been made to improve image definition, image quality, and power consumption. Has been devoted.
These displays, which play an important role in the man-machine interface, are expected to become more widespread with the arrival of the multimedia age, and in particular, the use of mobile phones, PHS, and other various types of mobile terminals is expected to significantly expand. Is done.

【0003】携帯端末用ディスプレイとしては、軽量、
コンパクト、汎用性等の特徴を有するLCDが市場を独
占するものと考えられているが、これらの携帯端末には
タッチパネルを搭載し、プラスチックのペンや指で直接
触れて操作するものが主流になってきている。そのた
め、ディスプレイ表面への耐磨耗性、耐薬品性、汚れ防
止に対する要求が高まっている。また、これらの機器を
屋外での使用も含めた比較的明るいところで使用する場
合の太陽光や蛍光等の外部光のディスプレイへの映り込
みを防止すること、すなわち反射防止に対する要求も強
くなっている。これらの要求は、現在、携帯端末機器に
限らず、小型から大型に至る様々なディスプレイに波及
している。
As a display for a portable terminal, a lightweight,
LCDs with features such as compactness and versatility are considered to dominate the market, but these mobile terminals are equipped with a touch panel and can be operated directly with a plastic pen or finger. Is coming. Therefore, demands for abrasion resistance, chemical resistance, and prevention of dirt on the display surface are increasing. In addition, when these devices are used in relatively bright places including outdoor use, there is an increasing demand for preventing reflection of external light such as sunlight or fluorescent light on a display, that is, antireflection. . At present, these demands are spreading not only to portable terminal devices but also to various displays ranging from small to large.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】反射防止に関しては、
従来、磨りガラスのように、光を散乱もしくは拡散させ
て像をボカス手法が一般的に行われている。光を散乱も
しくは拡散させるためには、光の入射面を粗面化するこ
とが基本となっており、この粗面化処理には、サンドブ
ラスト法やエンボス法等により基材表面を直接粗面化す
る方法、基材表面にフィラーを含有させた塗工層を設け
る方法及び基材表面に海島構造による多孔質膜を形成す
る方法等が採用されている。
With respect to antireflection,
2. Description of the Related Art Conventionally, an image is scattered or diffused like a frosted glass, and an image is blurred. In order to scatter or diffuse light, it is basic to roughen the light incident surface, and this roughening treatment is performed by directly roughening the substrate surface by sandblasting, embossing, etc. And a method of providing a coating layer containing a filler on the surface of the substrate, and a method of forming a porous film having a sea-island structure on the surface of the substrate.

【0005】基材表面にフィラーを含有させた塗工層を
設ける方法は、フィラーの粒径により粗面化面の凹凸の
大きさを比較的容易にコントロールでき、かつ製造が容
易である等の利点から現在、好んで用いられている。塗
工剤に使用する樹脂としては、透過性、耐熱性、耐磨耗
性、耐薬品性等に優れたものが望ましいが、基材が耐熱
性に乏しい高透明なプラスチックフィルムである場合が
多いことから、UV硬化型樹脂が好んで使用されてい
る。その例として、UV硬化型樹脂とシリカ顔料を構成
要素とする特開平1−105738や特開平5−162
261などが報告されている。
A method of providing a coating layer containing a filler on the surface of a base material can relatively easily control the size of the irregularities on the roughened surface by the particle size of the filler, and is easy to manufacture. Currently favored for its advantages. As the resin used for the coating agent, those having excellent permeability, heat resistance, abrasion resistance, chemical resistance, etc. are desirable, but the base material is often a highly transparent plastic film having poor heat resistance. For this reason, UV curable resins are preferably used. Examples thereof include JP-A-1-1055738 and JP-A-5-162, in which a UV-curable resin and a silica pigment are constituent elements.
261 have been reported.

【0006】ところが、上記提案によるシリカ顔料は、
吸油性が高いために、粗面化層とした場合は、指紋等の
油分を吸収し易くなるため、汚れやすいという欠点を有
していた。さらに、この汚れはアルコールなどの溶媒を
染み込ませた布で拭いても取れにくい上に、シリカが粗
面化層表面に鋭利に突き出た構成を呈しているため、突
き出たシリカの先端部に拭き取った布の繊維が付着し、
白くなってディスプレイの画像コントラストが低下する
という問題があった。
[0006] However, the silica pigment proposed above is
When a roughened layer is used because of high oil absorbency, oils such as fingerprints are easily absorbed, so that it has a disadvantage that it is easily stained. In addition, this dirt is difficult to remove with a cloth impregnated with a solvent such as alcohol, and the silica has a sharply protruding structure on the surface of the roughened layer. Fibers of the cloth
There is a problem that the image becomes white and the image contrast of the display decreases.

【0007】反射を防止する他の方法としては、屈折率
の高い材料と低い材料を交互に積層し、多層化(マルチ
コート)することで、表面の反射が抑えられ、良好な反
射防止効果を得ることが知られている。通常、SiO2
に代表される低屈折率材料と、TiO2、ZrO2等の高
屈折率材料を交互に蒸着等により成膜する気相法や、ゾ
ルゲル法等により形成される。これらの層をシリカを含
有する上記粗面化層上に設ける提案もなされているが、
このような技術においても汚れが拭き取りにくいという
上記と同様の問題を抱えていた。その原因は、シリカが
粗面化層の表面から鋭利に突き出ているため、その形状
に倣ってマルチコート層の表面層の凹凸もシャープとな
るために上述したと同じ問題が生じるとともに、シリカ
の粒子の一部が表面層を突き抜けて指紋等の油分を吸収
し易くなるためである。
As another method for preventing reflection, a material having a high refractive index and a material having a low refractive index are alternately laminated to form a multilayer (multi-coat), whereby the reflection on the surface is suppressed, and a good antireflection effect is obtained. It is known to gain. Usually SiO 2
, And a high refractive index material such as TiO 2 and ZrO 2 are alternately formed by vapor deposition or a sol-gel method. Proposals have been made to provide these layers on the roughened layer containing silica,
Even such a technique has the same problem that the dirt is difficult to wipe off. The cause is that the silica protrudes sharply from the surface of the roughened layer, so that the unevenness of the surface layer of the multi-coat layer becomes sharp according to the shape, and the same problem as described above occurs, and the silica This is because a part of the particles can easily penetrate through the surface layer and absorb oil such as fingerprints.

【0008】しかも、上述のマルチコートは、蒸着等の
気相法による場合には、大面積の加工に不向きで、加工
装置が高いこと、ゾルゲル法による場合は、塗布、焼成
を繰り返すこと等の理由から製造コストがかかり経済性
に問題がある上、表面が紫や緑系統の色を呈しているた
め、マルチコートがないものより汚れが目立つことが大
きな問題となっていた。一方、このような汚れの発生を
防止するために、上記粗面化層上にフッ素系材料をコー
ティング等により設ける提案もなされているが、粗面化
層の影響が大きく問題を解決するには至っていない。
In addition, the above-mentioned multi-coating is not suitable for processing large areas when a vapor phase method such as vapor deposition is used, and requires a high processing apparatus. In the case of a sol-gel method, coating and firing are repeated. For this reason, the production cost is high and there is a problem in economics, and since the surface has a purple or green color, stains are more conspicuous than those without a multicoat. On the other hand, in order to prevent the occurrence of such stains, it has been proposed to provide a fluorine-based material on the surface-roughened layer by coating or the like. However, in order to solve the problem, the influence of the surface-roughened layer is large. Not reached.

【0009】また、ディスプレイの解像度が向上するに
伴い、上記粗面化層の凹凸の高さや間隔にも緻密化が要
求されるようになってきた。画像の高精細化は、主に画
像ドットの高密度化によるが、凹凸の間隔がこの画像ド
ットのピッチより小さい場合は良いが、大きい場合は干
渉によるギラツキが発生する。反射防止性が良好で、ギ
ラツキがない鮮明な画像を得るためには、まず、この凹
凸の高さ及び間隔を、小さくかつバラツキがないようコ
ントロールしなければならない。
[0009] Further, as the resolution of the display has been improved, the height and spacing of the irregularities of the roughened layer have also been required to be fine. The high definition of an image is mainly based on an increase in the density of image dots. It is good if the interval between the concavities and convexities is smaller than the pitch of the image dots, but if it is large, glare occurs due to interference. In order to obtain a clear image with good anti-reflection properties and no glare, first, the height and spacing of the irregularities must be controlled so as to be small and have no variation.

【0010】しかしながら、UV硬化型樹脂とシリカ顔
料からなる粗面化層の分散性は必ずしも十分とはいえな
い上に、UV硬化を行うまでの粗面化層は、低粘度の液
状態を呈しているため、塗料を基材に塗布してからUV
を照射するまでの間に、粗面化層中のフィラーどうしが
互いに付着し、凝集(オレンジピール)するという問題
を有していた。特に、粗面化層表面の凹凸を緻密化する
目的でフィラーの含有量を増加させたり、粗面化層の厚
さをコントロールするために粗面化層の塗料を溶剤等で
希釈する場合は特に顕著であった。
[0010] However, the dispersibility of the roughened layer composed of the UV-curable resin and the silica pigment is not always sufficient, and the roughened layer before UV curing exhibits a low-viscosity liquid state. Because the paint is applied to the substrate,
Before irradiation, the fillers in the roughened layer adhere to each other and aggregate (orange peel). In particular, when increasing the content of the filler for the purpose of densifying the unevenness of the surface of the roughened layer, or when diluting the paint of the roughened layer with a solvent or the like in order to control the thickness of the roughened layer. Especially remarkable.

【0011】本発明は、従来技術における上記した実情
に鑑みてなされたもので、ディスプレイへの太陽光及び
蛍光灯等の外部光の映り込みを防止することにより、優
れた反射防止性を発揮し、かつ、画像コントラストを低
下させることなく、ギラツキ等のない鮮明な画像を得る
ことができ、光学的に安定で優れた耐磨耗性、耐薬品性
を示すことは勿論のこと、優れた耐汚染性を示す反射防
止材料を提供することを目的としている。また、本発明
は、上記反射防止材料を使用した偏光フィルムを提供す
ることも目的としており、これにより、特に、フルカラ
ー液晶ディスプレイ等の性能を大幅に向上させることを
目的としている。
The present invention has been made in view of the above-mentioned circumstances in the prior art, and exhibits excellent anti-reflection properties by preventing reflection of external light such as sunlight and fluorescent lights on a display. And, without deteriorating the image contrast, it is possible to obtain a clear image without glare and the like, and it is of course excellent in optical stability and excellent abrasion resistance, chemical resistance, It is an object of the present invention to provide an anti-reflective material exhibiting contamination. Another object of the present invention is to provide a polarizing film using the above-described antireflection material, and in particular, to significantly improve the performance of a full-color liquid crystal display or the like.

【0012】(1)反射防止材料の内容 本発明者は、LCD等の表面の耐汚染性を向上させるた
めに反射防止材料の表面層の特性について検討を重ねた
結果、表面層の臨界表面張力との間に相関関係が存在す
ることを見出した。そして、その相関関係について定量
的に解析した結果、LCD等の表面の臨界表面張力が2
0dyne/cm以下であると、例えば指先の油分によ
る汚れが付着し難く、しかも、付着しても容易に拭き取
れることが判った。よって、本発明は上記知見に基づい
てなされたもので、透明基体の片面もしくは両面に、直
接或は他の層を介して、粗面化層、表面層を順次設けた
反射防止材料において、表面層の臨界表面張力20d
yne/cm以下であり、前記粗面化層が少なくとも放
射線、熱の何れか、もしくは組み合わせにより硬化する
樹脂および球状フィラーからなることを特徴としてい
る。以下、本発明のより好適な実施の形態について詳細
に説明する。
(1) Contents of Antireflective Material The present inventors have repeatedly studied the characteristics of the surface layer of the antireflective material in order to improve the contamination resistance of the surface of an LCD or the like. And found that there is a correlation between them. Then, as a result of quantitative analysis of the correlation, the critical surface tension of the surface of an LCD or the like is 2
When it is 0 dyne / cm or less, it has been found that, for example, dirt due to oil on the fingertip does not easily adhere, and even if it adheres, it can be easily wiped off. Therefore, the present invention has been made based on the above-described findings, and an antireflection material having a roughened layer and a surface layer sequentially provided on one or both surfaces of a transparent substrate, directly or via another layer, has a surface. The critical surface tension of the layer is 20d
yne / cm or less , and the roughened layer
Cured by either radiation or heat or a combination
It is characterized by comprising a resin and a spherical filler . Hereinafter, more preferred embodiments of the present invention will be described in detail.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】A.透明基体 本発明の反射防止材料に使用する透明基体としては、公
知の透明なフィルム、ガラス等を使用することができ
る。その具体例としては、ポリエチレンテレフタレート
(PET)、トリアセチルセルロース(TAC)、ポリ
アリレート、ポリイミド、ポリエーテル、ポリカーボネ
ート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、セロファ
ン、芳香族ポリアミド、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリビニルアルコール等の各種樹脂フィルム及び石
英ガラス、ソーダガラス等のガラス基材等を好適に使用
することができる。PDP、LCDに用いる場合は、P
ET、TACが好ましい。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION A. Transparent substrate As the transparent substrate used in the antireflection material of the present invention, a known transparent film, glass, or the like can be used. Specific examples thereof include polyethylene terephthalate (PET), triacetyl cellulose (TAC), polyarylate, polyimide, polyether, polycarbonate, polysulfone, polyethersulfone, cellophane, aromatic polyamide, polyethylene, polypropylene, and polyvinyl alcohol. A resin film and a glass substrate such as quartz glass and soda glass can be suitably used. When used for PDP and LCD, P
ET and TAC are preferred.

【0014】これら透明基体の透明性は高いもの程良好
であるが、光線透過率(JIS C−6714)として
は80%以上、より好ましくは90%以上が良い。ま
た、その透明基体を小型軽量の液晶ディスプレイに用い
る場合には、透明基体はフィルムであることがより好ま
しい。透明基体の厚さは、軽量化の観点から薄いほうが
望ましいが、その生産性を考慮すると、1μ〜5μm
の範囲のものを使用することが好適である。
The higher the transparency of these transparent substrates, the better, but the light transmittance (JIS C-6714) is preferably 80% or more, more preferably 90% or more. When the transparent substrate is used for a small and lightweight liquid crystal display, the transparent substrate is more preferably a film. The thickness of the transparent substrate is more thin from the viewpoint of weight reduction is desirable, in view of its productivity, 1 [mu] m 5 .mu.m
It is preferable to use those in the range of

【0015】また、透明基体に、アルカリ処理、コロナ
処理、プラズマ処理、フッ素処理、スパッタ処理等の表
面処理や、界面活性剤、シランカップリング剤等の塗
布、あるいはSi蒸着などの表面改質処理を行うことに
より、粗面化層と透明基体との密着性を向上させること
ができる。また、透明基体の表面には、ディスプレイ表
面に静電的に付着するホコリ等の汚れを防止するために
帯電防止層を設けても良い。帯電防止層は、アルミ、錫
等の金属、ITO等の金属酸化膜を蒸着、スパッタ等で
極めて薄く設ける方法、アルミ、錫等の金属微粒子やウ
イスカー、酸化錫等の金属酸化物にアンチモン等をドー
プした微粒子やウィスカー、7,7,8,8−テトラシ
アノキノジメタンと金属イオンや有機カチオンなどの電
子供与体(ドナー)との間でできた電荷移動錯体をフィ
ラー化したもの等をポリエステル樹脂、アクリル樹脂、
エポキシ樹脂等に分散し、ソルベントコーティング等に
より設ける方法、ポリピロール、ポリアニリン等にカン
ファースルホン酸等をドープしたものをソルベントコー
ティング等により設ける方法等により設けることができ
る。帯電防止層の透過率は光学用途の場合、80%以上
が好ましい。
Further, the transparent substrate is subjected to a surface treatment such as an alkali treatment, a corona treatment, a plasma treatment, a fluorine treatment, a sputtering treatment, a surfactant, a silane coupling agent or the like, or a surface modification treatment such as a Si deposition. By doing so, the adhesion between the roughened layer and the transparent substrate can be improved. Further, an antistatic layer may be provided on the surface of the transparent substrate in order to prevent dirt such as dust electrostatically adhering to the display surface. The antistatic layer is formed by depositing a metal such as aluminum or tin, or a metal oxide film such as ITO by vapor deposition, sputtering, etc., and applying antimony or the like to fine metal particles such as aluminum or tin or whisker or metal oxide such as tin oxide. Doped fine particles and whiskers, and those obtained by converting a charge transfer complex formed between 7,7,8,8-tetracyanoquinodimethane and electron donors (donors) such as metal ions and organic cations into polyester are used as polyester. Resin, acrylic resin,
It can be provided by a method of dispersing in an epoxy resin or the like and providing by solvent coating or the like, a method of providing polypyrrole, polyaniline or the like doped with camphorsulfonic acid or the like by solvent coating or the like. The transmittance of the antistatic layer is preferably 80% or more for optical applications.

【0016】B.粗面化層 次に本発明における粗面化層について説明する。本発明
の粗面化層を構成する樹脂としては、放射線、熱の何れ
かもしくは組み合わせにより硬化する樹脂を用いること
ができる。放射線硬化型樹脂としては、アクリロイル
基、メタアクリロイル基、アクリロロイルオキシ基、メ
タアクリロイルオキシ基等重合性不飽和結合を有するモ
ノマー、オリゴマー、プレポリマーを適宜混合した組成
物が用いられる。モノマーの例としては、スチレン、ア
クリル酸メチル、メチルメタクリレート、メトキシポリ
エチレンメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレー
ト、フェノキシエチルメタクリレート、エチレングリコ
ールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ
アクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート等を挙げることができる。オリゴマー、プレポリマ
ーとしては、ポリエステルアクリレート、ポリウレタン
アクリレート、エポキシアクリレート、ポリエーテルア
クリレート、アルキットアクリレート、メラミンアクリ
レート、シリコンアクリレート等のアクリレート、不飽
和ポリエステル、エポキシ系化合物等を挙げることがで
きる。これらは単独、もしくは複数混合して使用しても
良い。モノマーは硬化膜の可撓性が要求される場合は少
な目にし、さらに架橋密度を低くするためには、1官
能、2官能のアクリレート系モノマーを使用することが
好ましく、逆に、硬化膜に耐熱性、耐摩耗性、耐溶剤性
等過酷な耐久性を要求される場合は、モノマーの量を増
やし、3官能以上のアクリレート系モノマーを使用する
ことが好ましい。
B. Next, the roughened layer in the present invention will be described. As the resin constituting the roughened layer of the present invention, a resin that is cured by any one or combination of radiation and heat can be used. As the radiation-curable resin, a composition obtained by appropriately mixing monomers, oligomers, and prepolymers having a polymerizable unsaturated bond such as an acryloyl group, a methacryloyl group, an acryloyloxy group, and a methacryloyloxy group is used. Examples of the monomer include styrene, methyl acrylate, methyl methacrylate, methoxy polyethylene methacrylate, cyclohexyl methacrylate, phenoxyethyl methacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, and the like. Examples of the oligomer and prepolymer include acrylates such as polyester acrylate, polyurethane acrylate, epoxy acrylate, polyether acrylate, alkite acrylate, melamine acrylate, and silicone acrylate, unsaturated polyester, and epoxy compounds. These may be used alone or in combination. Monomers are preferred if the flexibility of the cured film is required. In order to further reduce the crosslinking density, it is preferable to use monofunctional or bifunctional acrylate monomers. When severe durability such as resistance, abrasion resistance and solvent resistance is required, it is preferable to increase the amount of the monomer and use a trifunctional or higher functional acrylate monomer.

【0017】上記のような放射線硬化型樹脂を硬化する
には、例えば紫外線、電子線、X線などの放射線を照射
すれば良いが、必要に応じて適宜重合開始剤を添加する
ことができる。なお、紫外線により硬化させる場合は、
光重合開始剤を添加する必要がある。光重合開始剤とし
ては、ジエトキシアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2
−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、ベンジル
ジメチルケタール、1−ヒドロキシシクロヘキシル−フ
ェニルケトン、2−メチル−2−モルホリノ(4−チオ
メチルフェニル)プロパン−1−オン等のアセトフェノ
ン類、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエ
ーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン
イソブチルエーテル等のベンゾインエーテル類、ベンゾ
フェノン、o−ベンゾイル安息香酸メチル、4−フェニ
ルベンゾフェノン、4−ベンゾイル4’−メチル−ジフ
ェニルサルファイド、4−ベンゾイル−N,N−ジメチ
ル−N−[2−(1−オキソ−2−プロペニルオキシ)
エチル]ベンゼンメタナミニウムプロミド、(4−ベン
ゾイルベンジル)トリメチルアンモニウムクロリド等の
ベンゾフェノン類、2,4ジエチルチオキサントン、1
−クロロ−4−ジクロロチオキサントン等のチオキサン
トン類、2,4,6トリメチルベンゾイルジフェニルベ
ンゾイルオキサイド等を挙げることができる。これらは
単独もしくは複数、混合して使用することができる。ま
た、促進剤(増感剤)として、N,N−ジメチルパラト
ルイジン、4,4’−ジエチルアミノベンゼンフェノン
等アミン系化合物を混合し、使用することもできる。光
重合開始剤の含有量としては、放射線硬化型樹脂に対
し、0.1〜10重量%の範囲が良い。この範囲より多
くても少なくても効果が悪くなる。
In order to cure the radiation-curable resin as described above, radiation such as, for example, ultraviolet rays, electron beams, or X-rays may be applied. If necessary, a polymerization initiator can be appropriately added. When curing with ultraviolet light,
It is necessary to add a photopolymerization initiator. As a photopolymerization initiator, diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2
Acetophenones such as -methyl-1-phenylpropan-1-one, benzyldimethylketal, 1-hydroxycyclohexyl-phenylketone, 2-methyl-2-morpholino (4-thiomethylphenyl) propan-1-one, benzoinmethyl Benzoin ethers such as ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether and benzoin isobutyl ether, benzophenone, methyl o-benzoyl benzoate, 4-phenylbenzophenone, 4-benzoyl 4'-methyl-diphenyl sulfide, 4-benzoyl-N, N-dimethyl-N- [2- (1-oxo-2-propenyloxy)
Benzophenones such as ethyl] benzenemethanaminium bromide, (4-benzoylbenzyl) trimethylammonium chloride, 2,4 diethylthioxanthone,
Thioxanthones such as -chloro-4-dichlorothioxanthone; and 2,4,6 trimethylbenzoyldiphenylbenzoyl oxide. These can be used alone or in combination of two or more. Further, as an accelerator (sensitizer), an amine compound such as N, N-dimethylparatoluidine and 4,4′-diethylaminobenzenephenone can be mixed and used. The content of the photopolymerization initiator is preferably in the range of 0.1 to 10% by weight based on the radiation-curable resin. More or less than this range will degrade the effect.

【0018】本発明においては、放射線硬化型樹脂とし
て紫外線により硬化するエポキシ系化合物を用い、か
つ、光重合開始剤として、カチオン重合開始剤を少なく
とも含有していることが以下の理由により特に好まし
い。 酸素阻害が少ない。 硬化収縮が非常に少ない。 透明基体への密着性に優れている。特に、透明基体
の中では、偏光フィルムに使用される密着性がほとんど
ないTACフィルムにも良好な密着性を示し、特に、け
ん化処理を施したTACとの優れた密着性が達成され、
けん化処理による防眩性の低下もかかる密着性により改
善されるという効果が達成される。
In the present invention, it is particularly preferable to use an epoxy compound which can be cured by ultraviolet rays as the radiation-curable resin and to contain at least a cationic polymerization initiator as a photopolymerization initiator for the following reasons. Less oxygen inhibition. Very little cure shrinkage. Excellent adhesion to transparent substrates. In particular, among the transparent substrates, the TAC film used for the polarizing film, which has little adhesion, shows good adhesion, and particularly, excellent adhesion with the saponified TAC is achieved.
The effect that the decrease in the antiglare property due to the saponification treatment is also improved by such adhesion is achieved.

【0019】前記エポキシ系化合物としては、テトラメ
チレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレング
リコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコー
ルジグリシジルエーテル、ビスフェノールAジグリシジ
ルエーテル等のグリシジルエーテル、2−ヒドロキシ−
3−フェノキシプロピルアクリレート、ビスフェノール
A−ジエポキシ−アクリル酸付加物等のエポキシエステ
ルや、以下の化学式からなる脂環式エポキシ等のモノマ
ー及びオリゴマーをあげることができる。
Examples of the epoxy compound include glycidyl ethers such as tetramethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether and bisphenol A diglycidyl ether;
Examples include monomers and oligomers such as epoxy esters such as 3-phenoxypropyl acrylate and bisphenol A-diepoxy-acrylic acid adducts, and alicyclic epoxies represented by the following chemical formula.

【0020】[0020]

【化2】 Embedded image

【0021】光カチオン重合開始剤としては、以下の化
学式からなる化合物をあげることができる。なお、これ
ら化合物は各単体で用いても良く、複数混合で使用して
も良い。
Examples of the cationic photopolymerization initiator include compounds represented by the following chemical formula. These compounds may be used alone or as a mixture of two or more.

【0022】[0022]

【化3】 Embedded image

【0023】光カチオン重合開始剤の配合量は、主剤に
対し、0.1〜5.0重量%の範囲が望ましい。この配
合量は0.1重量%より少なくても、5.0重量%より
多くても紫外線硬化は不十分である。
The amount of the cationic photopolymerization initiator is desirably in the range of 0.1 to 5.0% by weight based on the main component. If the amount is less than 0.1 % by weight or more than 5.0 % by weight, ultraviolet curing is insufficient.

【0024】本発明においては、上記のように放射線硬
化型樹脂として紫外線で硬化可能なエポキシ系化合物を
用い、重合開始剤として光カチオン重合開始剤を用いる
ことが好ましいが、この場合、粘度、架橋密度、耐熱
性、耐薬品性など塗料及び塗工膜の特性をコントロール
するためには、紫外線で硬化可能なアクリル系化合物を
混合することが好ましい。このようなアクリル系化合物
としては、ラウリルアクリレート、エトキシジエチレン
グリコールアクリレート、メトキシトリエチレングリコ
ールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、テ
トラヒドロフルフリルアクリレート、イソボルニルアク
リレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒ
ドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシ−3−
フェノキシアクリレート等の単官能アクリレート、ネオ
ペンチルグリコールジアクリレート、1,6−ヘキサン
ジオールジアクリレート、トリメチロールプロパントリ
アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレー
ト、ペンタエリスリトールアクリレート、ジペンタエリ
スリトールヘキサアクリレート、トリメチロールプロパ
ンアクリル酸安息香酸エステル、トリメチロールプロパ
ン安息香酸エステル等の多官能アクリレート等のアクリ
ル酸誘導体、2−エチルヘキシルメタクリレート、n−
ステアリルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレ
ート、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、2−ヒ
ドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシブチルア
クリレート等の単官能メタクリレート、1,6−ヘキサ
ンジオールジメタクリレート、トリメチロールプロパン
トリメタクリレート、グリセリンジメタクリレート等の
多官能メタクリレート等のメタクリル酸誘導体、グリセ
リンジメタクリレートヘキサメチレンジイソシアネー
ト、ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチ
レンジイソシアネート等のウレタンアクリレート等のモ
ノマー及びオリゴマーをあげることができる。
In the present invention, it is preferable to use an epoxy compound curable by ultraviolet rays as the radiation-curable resin and to use a cationic photopolymerization initiator as a polymerization initiator as described above. In order to control the properties of the paint and the coating film such as density, heat resistance and chemical resistance, it is preferable to mix an acrylic compound which can be cured by ultraviolet rays. Examples of such an acrylic compound include lauryl acrylate, ethoxydiethylene glycol acrylate, methoxytriethylene glycol acrylate, phenoxyethyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, isobornyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, and 2-hydroxypropyl acrylate. Hydroxy-3-
Monofunctional acrylates such as phenoxy acrylate, neopentyl glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol acrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, trimethylolpropane acrylate benzoate Acid esters, acrylic acid derivatives such as polyfunctional acrylates such as trimethylolpropane benzoate, 2-ethylhexyl methacrylate, n-
Monofunctional methacrylates such as stearyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, and 2-hydroxybutyl acrylate; polyfunctional such as 1,6-hexanediol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, and glycerin dimethacrylate Examples include monomers and oligomers such as methacrylic acid derivatives such as methacrylate, and urethane acrylates such as glycerin dimethacrylate hexamethylene diisocyanate and pentaerythritol triacrylate hexamethylene diisocyanate.

【0025】前記放射線硬化型樹脂を使用した粗面化層
の硬化に伴う体積収縮率(下記方法より算出)は、20
%以下が望ましい。体積収縮率が20%より大きくなる
と、透明基体がフィルムの場合はカールが著しくなり、
また基材がガラス等リジットな材料系の場合は粗面化層
の密着性が低下する。
The volume shrinkage rate (calculated by the following method) accompanying the curing of the roughened layer using the radiation-curable resin is 20
% Is desirable. If the volume shrinkage is more than 20%, the curl becomes remarkable when the transparent substrate is a film,
When the substrate is made of a rigid material such as glass, the adhesion of the roughened layer is reduced.

【0026】[0026]

【数1】体積収縮率:D=(S−S')/S×100 S:硬化前の比重 S':硬化後の比重 (比重はJIS K−7112のB法ピクノメーター法
により測定)
## EQU1 ## Volume shrinkage: D = (S−S ′) / S × 100 S: specific gravity before curing S ′: specific gravity after curing (specific gravity is measured by the B method pycnometer method of JIS K-7112)

【0027】なお、本発明における粗面化層には、放射
線硬化型樹脂に対し、ハイドロキノン、p−ベンゾキノ
ン、t−ブチルハイドロキノン等の安定化剤(熱重合禁
止剤)を添加しても良い。添加量は、放射線硬化型樹脂
に対し、0.1〜5.0重量%の範囲が好ましい。
In the present invention, a stabilizer (thermal polymerization inhibitor) such as hydroquinone, p-benzoquinone, or t-butylhydroquinone may be added to the radiation-curable resin. The amount of addition is preferably in the range of 0.1 to 5.0% by weight based on the radiation-curable resin.

【0028】粗面化層に使用することのできる熱硬化型
樹脂としては、フェノール樹脂、フラン樹脂、キシレン
・ホルムアルデヒド樹脂、ケトン・ホルムアルデヒド樹
脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、アニリン樹脂、アルキ
ド樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂等を挙
げることができる。これらは単独もしくは複数混合して
使用しても良い。透明基体がプラスチックフィルムであ
る場合は、熱硬化温度を高く設定することができない。
特に、PET、TACを使用する場合には、使用する熱
硬化樹脂は、100℃以下で硬化できることが望まし
い。
Examples of the thermosetting resin that can be used for the surface roughening layer include phenol resins, furan resins, xylene / formaldehyde resins, ketone / formaldehyde resins, urea resins, melamine resins, aniline resins, alkyd resins, and unsaturated resins. Examples thereof include a polyester resin and an epoxy resin. These may be used alone or in combination. When the transparent substrate is a plastic film, the thermosetting temperature cannot be set high.
In particular, when using PET or TAC, it is desirable that the thermosetting resin used can be cured at 100 ° C. or lower.

【0029】粗面化層に用いられる硬化型樹脂の透明性
は高いほど良く、光線透過率(JIS C−6714)
としては、透明基体同様、80%以上、好ましくは90
%以上が好ましい。反射防止材料の透明性は該硬化型樹
脂の屈折率によって影響を受けるが、屈折率は、1.4
5〜1.70の範囲、特に、1.5〜1.65の範囲が
好ましく、この範囲を越えると反射防止効果が損なわれ
る。
The higher the transparency of the curable resin used for the surface roughening layer, the better, and the light transmittance (JIS C-6714).
Is 80% or more, preferably 90%, as in the transparent substrate.
% Or more is preferable. The transparency of the antireflection material is affected by the refractive index of the curable resin, but the refractive index is 1.4.
It is preferably in the range of 5 to 1.70, particularly 1.5 to 1.65, and if it exceeds this range, the antireflection effect will be impaired.

【0030】粗面化層にはフィラーを含有させ、粗面化
層表面を粗面化することで、反射防止効果を向上させる
ことができる。フィラーとしてはシリカ、炭酸カルシウ
ム、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、クレ
ー、タルク、二酸化チタン等の無機系白色顔料、アクリ
ル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリエチレン樹脂、エポキ
シ樹脂、シリコン樹脂、ビーズ等有機系の透明または白
色顔料等をあげることができる。特に、球状で給油性を
示さない有機フィラーが好ましく、球状のフィラーを用
いることによって、粗面化層の表面から突出する部分が
なだらかになり、油分等の汚れが付着し難くなるととも
に付着した汚れを拭い易くなる。
By adding a filler to the roughened layer and roughening the surface of the roughened layer, the antireflection effect can be improved. Fillers include inorganic white pigments such as silica, calcium carbonate, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, clay, talc, and titanium dioxide, acrylic resins, polystyrene resins, polyethylene resins, epoxy resins, silicone resins, and organic transparent materials such as beads. Alternatively, white pigments and the like can be given. In particular, organic fillers that are spherical and do not exhibit lubricating properties are preferable.By using spherical fillers, the portions that protrude from the surface of the roughened layer become gentle, so that dirt such as oil becomes less likely to adhere and dirt that adheres. Easier to wipe.

【0031】このようなフィラーの粒子径D(JIS
B9921)は、0.5μm≦D≦6.0μmの範囲の
ものが60重量%以上、6.0μm<D≦10.0μm
の範囲のものが20重量%未満、10μm<D≦15.
0μmの範囲のものが5重量%以下、15.0μmより
大きいものが1重量%以下であることが望ましい。さら
に、15.0μmより大きい粒子は、できれば含有され
ない(0%)ことが好ましく、特に、0.5μm≦D≦
6.0μmの範囲のものが80重量%以上、6.0μm
<D≦10.0μmの範囲のものが10重量%未満、1
0μm<D≦15.0μmの範囲のものは全く含まない
ことが好ましい。0.5μm≦D≦6.0μmの範囲に
あるフィラーの重量%と、6.0μm<D≦10.0μ
mの範囲にあるフィラーの重量%、さらに、10μm<
D≦15.0μmの範囲にあるフィラーの重量%が、そ
れぞれ60%未満、20%未満、5%未満の場合は、デ
ィスプレイの反射防止効果が悪くなり、6.0μm<D
≦10.0μmの範囲にあるフィラーが20重量%以上
もしくは、10μm<D≦15.0μmの範囲にあるフ
ィラーが5重量%の場合は、ディスプレイの画像にギラ
ツキが発生する。フィラーの配合量については、粗面化
層の全固形分比で、0.5〜30%の範囲が良い。特
に、1〜15%の範囲が好ましい。配合量が0.5%以
下では、反射防止効果が不充分となり、30%以上で
は、透明性、画像のコントラストが劣るばかりでなく、
耐摩耗性や耐環境性等の耐久性が悪くなる。また、フィ
ラーの屈折率(JIS K−7142によるB法)は、
硬化型樹脂と同等であることが好ましい。フィラーの屈
折率が硬化型樹脂の屈折率と異なる場合は、フィラーと
樹脂界面で光が拡散し、透明性が損なわれる。硬化型樹
脂と同等の屈折率を有するフィラーの例としては、有機
系のフィラー、特に、架橋アクリルビーズが好適であ
る。
The particle diameter D of such a filler (JIS
B9921) is 60% by weight or more in the range of 0.5 μm ≦ D ≦ 6.0 μm, and 6.0 μm <D ≦ 10.0 μm.
Is less than 20% by weight, 10 μm <D ≦ 15.
It is desirable that those in the range of 0 μm are 5% by weight or less, and those of more than 15.0 μm are 1% by weight or less. Furthermore, particles larger than 15.0 μm are preferably not contained (0%) if possible, and in particular, 0.5 μm ≦ D ≦
80% by weight or more in the range of 6.0 μm, 6.0 μm
<D ≦ 10.0 μm is less than 10% by weight,
It is preferable not to include those in the range of 0 μm <D ≦ 15.0 μm at all. 0.5% by weight of the filler in the range of 0.5 μm ≦ D ≦ 6.0 μm, and 6.0 μm <D ≦ 10.0 μm
weight% of fillers in the range of m, further 10 μm <
When the weight% of the filler in the range of D ≦ 15.0 μm is less than 60%, less than 20%, and less than 5%, respectively, the antireflection effect of the display is deteriorated and 6.0 μm <D
When the filler in the range of ≦ 10.0 μm is 20% by weight or more, or the filler in the range of 10 μm <D ≦ 15.0 μm is 5% by weight, glare is generated on the display image. The amount of the filler is preferably in the range of 0.5 to 30% in terms of the total solid content of the roughened layer. In particular, a range of 1 to 15% is preferable. When the amount is 0.5% or less, the antireflection effect becomes insufficient. When the amount is 30% or more, not only transparency and image contrast are deteriorated, but also
The durability such as wear resistance and environmental resistance is deteriorated. The refractive index of the filler (B method according to JIS K-7142)
It is preferably equivalent to a curable resin. When the refractive index of the filler is different from that of the curable resin, light diffuses at the interface between the filler and the resin, and the transparency is impaired. As an example of the filler having the same refractive index as the curable resin, an organic filler, particularly, a crosslinked acrylic bead is suitable.

【0032】架橋アクリルビーズとしては、アクリル酸
及びそのエステル、メタクリル酸及びそのエステル、ア
クリルアミド、アクリルニトリル等のアクリル系モノマ
ーと過硫酸等の重合開始剤、エチレングリコールジメタ
クリレート等の架橋剤を用い、懸濁重合法等により重合
して得られる重合体及び共重合体からなる架橋アクリル
系ビーズが好適に使用できる。特にアクリル系のモノマ
ーとして、メチルメタクリレートを使用した構成が好ま
しい。この様にして得られた架橋アクリルビーズは球状
で吸油性を示さないことから、粗面化層に使用した場
合、優れた耐汚染性を発現できる。また、架橋アクリル
ビーズには、塗料の分散性を向上させるために油脂類、
シランカップリング剤、金属酸化物等の有機・無機材料
による表面改質を行っても良い。
As the crosslinked acrylic beads, an acrylic monomer such as acrylic acid and its ester, methacrylic acid and its ester, acrylamide, acrylonitrile and the like, a polymerization initiator such as persulfuric acid, and a crosslinker such as ethylene glycol dimethacrylate are used. Crosslinked acrylic beads comprising a polymer and a copolymer obtained by polymerization by a suspension polymerization method or the like can be suitably used. In particular, a configuration using methyl methacrylate as the acrylic monomer is preferable. Since the crosslinked acrylic beads thus obtained are spherical and do not exhibit oil absorption, when used in a roughened layer, excellent stain resistance can be exhibited. Also, the crosslinked acrylic beads include oils and fats to improve the dispersibility of the paint,
Surface modification with an organic or inorganic material such as a silane coupling agent or a metal oxide may be performed.

【0033】本発明において、透明基体の片面または両
面に、直接或は他の層を介して粗面化層を設ける方法と
しては、上記で述べたUV硬化型樹脂中に架橋アクリ
ルビーズ等の球状フィラーや必要に応じて水或は有機溶
剤を混合し、これをペイントシェーカー、サンドミル、
パールミル、ボールミル、アトライター、ロールミル、
高速インペラー分散機、ジェットミル、高速衝撃ミル、
超音波分散機等によって分散して塗料またはインキと
し、これをエアドクターコーティング、ブレードコーテ
ィング、ナイフコーティング、リバースコーティング、
トランスファロールコーティング、グラビアロールコー
ティング、キスコーティング、キャストコーティング、
スプレーコーティング、スロットオリフィスコーティン
グ、カレンダーコーティング、電着コーティング、ディ
ップコーティング、ダイコーティング等のコーティング
やフレキソ印刷等の凸版印刷、ダイレクトグラビア印
刷、オフセットグラビア印刷等の凹版印刷、オフセット
印刷等の平板印刷、スクリーン印刷等の孔版印刷等の印
刷手法により透明基体の片面もしくは両面上に単層もし
くは多層に分けて設け、溶媒を含んでいる場合は、熱乾
燥工程を経て、放射線(紫外線の場合、光重合開始剤が
必要)照射等により塗工層もしくは印刷層を硬化させる
ことによって得る方法が挙げられる。なお、放射線が電
子線による場合は、コックロフトワルトン型、バンデグ
ラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイ
ナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出
される50〜1000KeVのエネルギーを有する電子
線等が使用され、紫外線の場合は、超高圧水銀灯、高圧
水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアー
ク、メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線等
が利用できる。
In the present invention, as a method of providing a roughened layer on one or both sides of a transparent substrate directly or via another layer, the above-mentioned UV-curable resin is prepared by adding crosslinked acrylic beads or the like to the resin. Mix spherical filler and water or organic solvent as needed, paint it with paint shaker, sand mill,
Pearl mill, ball mill, attritor, roll mill,
High-speed impeller disperser, jet mill, high-speed impact mill,
It is dispersed by ultrasonic dispersing machine etc. to make paint or ink, which is air doctor coating, blade coating, knife coating, reverse coating,
Transfer roll coating, gravure roll coating, kiss coating, cast coating,
Coating such as spray coating, slot orifice coating, calendar coating, electrodeposition coating, dip coating, die coating, letterpress printing such as flexo printing, intaglio printing such as direct gravure printing, offset gravure printing, plate printing such as offset printing, screen It is provided in a single layer or multiple layers on one or both sides of the transparent substrate by a printing technique such as stencil printing such as printing, and when a solvent is contained, it is subjected to a heat drying step and then to radiation (in the case of ultraviolet rays, photopolymerization is started. A method is required in which the coating layer or the printed layer is cured by irradiation or the like. When the radiation is an electron beam, 50 to 1000 KeV emitted from various electron beam accelerators such as Cockloft-Walton type, Bande graph type, Resonant transformation type, Insulating core transformer type, Linear type, Dynamitron type and High frequency type. In the case of ultraviolet rays, ultraviolet rays emitted from light rays such as an ultrahigh-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, a low-pressure mercury lamp, a carbon arc, a xenon arc, and a metal halide lamp can be used.

【0034】塗料、インクの塗工適性または印刷適性を
向上させるために、必要に応じ、シリコーンオイル等の
レベリング剤、ポリエチレンワックス、カルナバワック
ス、高級アルコール、ビスアマイド、高級脂肪酸等の油
脂、イソシアネート等の硬化剤、炭酸カルシウムやシリ
カゾル、合成雲母等0.1μm以下の超微粒子等の添加
剤を適宜使用することができる。また、ディスプレイ表
面に静電的に付着するホコリ等の汚れを防止するために
帯電防止剤を添加しても良い。帯電防止剤は、上述の帯
電防止層で説明した材料がそのまま適用できる。
In order to improve the coating suitability or printability of paints and inks, if necessary, a leveling agent such as silicone oil, polyethylene wax, carnauba wax, higher alcohols, bisamides, oils and fats such as higher fatty acids, isocyanates, etc. Additives such as hardening agents, ultrafine particles of 0.1 μm or less, such as calcium carbonate, silica sol, and synthetic mica, can be used as appropriate. Further, an antistatic agent may be added to prevent dirt such as dust electrostatically adhering to the display surface. As the antistatic agent, the materials described for the above antistatic layer can be applied as they are.

【0035】粗面化層の厚さは0.5〜10μmの範囲
が、好ましくは1〜5μmの範囲が良い。粗面化層が
0.5μmより薄い場合は、粗面化層の耐磨耗性が劣化
したり、紫外線硬化型樹脂を使用した場合など、酸素阻
害により硬化不良を起こす。10μmより厚い場合は、
樹脂の硬化収縮によりカールが発生したり、粗面化層に
マイクロクラックが発生したり、さらに、透明基体との
密着性が低下したりする。
The thickness of the roughened layer is in the range of 0.5 to 10 μm, preferably 1 to 5 μm. When the roughened layer is thinner than 0.5 μm, the abrasion resistance of the roughened layer is deteriorated, and poor curing is caused by oxygen inhibition such as when an ultraviolet curable resin is used. If it is thicker than 10 μm,
Curling occurs due to curing shrinkage of the resin, microcracks occur in the roughened layer, and adhesion to the transparent substrate is reduced.

【0036】C.表面層 次に本発明の表面層は、臨界表面張力が20dyne/
cm以下であることを特徴とする。臨界表面張力が20
dyne/cmより大きい場合は、表面層に付着した汚
れが取れにくくなる。また、反射防止効果を向上させる
ためには、表面層の屈折率が粗面化層の屈折率より低
く、かつ、1.45以下であることが好ましい。これら
の特徴を有する材料としては、例えばLiF(屈折率n
=1.4)、MgF2(n=1.4)、3NaF・Al
3(n=1.4)、AlF3(n=1.4)Na3Al
6(n=1.33)等の無機材料を微粒子化し、アク
リル系樹脂やエポキシ系樹脂等に含有させた無機系低反
射材料、フッ素系、シリコーン系の有機化合物、熱可塑
性樹脂、熱硬化型樹脂、放射線硬化型樹脂等の有機低反
射材料を挙げることができる。その中で、特に、含フッ
素系のフッ素材料が汚れ防止の点において好ましい。
C. Surface Layer Next, the surface layer of the present invention has a critical surface tension of 20 dyne /
cm or less. Critical surface tension is 20
When it is larger than dyne / cm, it becomes difficult to remove the dirt attached to the surface layer. Further, in order to improve the antireflection effect, it is preferable that the refractive index of the surface layer is lower than the refractive index of the roughened layer and is 1.45 or less. As a material having these characteristics, for example, LiF (refractive index n
= 1.4), MgF 2 (n = 1.4), 3NaF · Al
F 3 (n = 1.4), AlF 3 (n = 1.4) Na 3 Al
Inorganic materials such as F 6 (n = 1.33) are made into fine particles, and inorganic low-reflection materials, fluorine-based or silicone-based organic compounds, thermoplastic resins, and thermosetting are contained in acrylic resins, epoxy resins, and the like. Organic low-reflection materials such as a mold resin and a radiation-curable resin. Among them, a fluorine-containing fluorine material is particularly preferable in terms of preventing contamination.

【0037】前記含フッ素材料としては、有機溶剤に溶
解し、その取り扱いが容易であるフッ化ビニリデン系共
重合体や、フルオロオレフィン/炭化水素オレフィン共
重合体、含フッ素エポキシ樹脂、含フッ素エポキシアク
リレート、含フッ素シリコーン、含フッ素アルコキシシ
ラン、さらに、TEFRON AF1600(デュポン
社製、n=1.30)、CYTOP(旭硝子(株)社
製、n=1.34)、17FM(三菱レーヨン(株)社
製、屈折率n=1.35)、オプスターJN−7212
(日本合成ゴム(株)社製、n=1.40)、LR20
1(日産化学工業(株)社製、n=1.38)等を挙げ
ることができる。これらは単独でも複数組み合わせて使
用することも可能である。
As the above-mentioned fluorine-containing material, a vinylidene fluoride copolymer, a fluoroolefin / hydrocarbon olefin copolymer, a fluorine-containing epoxy resin, a fluorine-containing epoxy acrylate which is dissolved in an organic solvent and is easy to handle. , Fluorinated silicone, fluorinated alkoxysilane, TFRON AF1600 (manufactured by DuPont, n = 1.30), CYTOP (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd., n = 1.34), 17FM (Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) Refractive index n = 1.35), Opstar JN-7212
(Manufactured by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd., n = 1.40), LR20
1 (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., n = 1.38). These can be used alone or in combination of two or more.

【0038】また、2−(パーフルオロデシル)エチル
メタクリレート、2−(パーフロロ−7−メチルオクチ
ル)エチルメタクリレート、3−(パーフロロ−7−メ
チルオクチル)−2−ヒドロキシプロピルメタクリレー
ト、2−(パーフロロ−9−メチルデシル)エチルメタ
クリレート、3−(パーフロロ−8−メチルデシル)2
−ヒドロキシプロピルメタクリレート等の含フッ素メタ
クリレート、3−パフロロオクチル−2−ヒドロキシプ
ロピルアクリレート、2−(パーフルオロデシル)エチ
ルアクリレート、2−(パーフルオロ−9−メチルデシ
ル)エチルアクリレート等の含フッ素アクリレート、3
−パーフルオロデシル1,2−エポキシプロパン、3−
(パーフロロ−9−メチルデシル)−1,2−エポキシ
プロパン等のエポキサイド、エポキシアクリレート等の
放射線硬化型の含フッ素モノマー、オリゴマー、プレポ
リマー等を挙げることができる。これらは単独もしくは
複数種類混合して使用することも可能である。
Further, 2- (perfluorodecyl) ethyl methacrylate, 2- (perfluoro-7-methyloctyl) ethyl methacrylate, 3- (perfluoro-7-methyloctyl) -2-hydroxypropyl methacrylate, 2- (perfluoro- 9-methyldecyl) ethyl methacrylate, 3- (perfluoro-8-methyldecyl) 2
A fluorine-containing methacrylate such as -hydroxypropyl methacrylate, a fluorine-containing acrylate such as 3-pafluorooctyl-2-hydroxypropyl acrylate, 2- (perfluorodecyl) ethyl acrylate, or 2- (perfluoro-9-methyldecyl) ethyl acrylate; 3
-Perfluorodecyl 1,2-epoxypropane, 3-
Examples thereof include epoxides such as (perfluoro-9-methyldecyl) -1,2-epoxypropane, radiation-curable fluorine-containing monomers such as epoxy acrylate, oligomers, and prepolymers. These can be used alone or in combination of two or more.

【0039】さらに、5〜30nmのシリカ超微粒子を
水もしくは有機溶剤に分散したゾルとフッ素系の皮膜形
成剤を混合した低反射材料を使用することもできる。5
〜30nmのシリカ超微粒子を水もしくは有機溶剤に分
散したゾルは、ケイ酸アルカリ塩中のアルカリ金属イオ
ンをイオン交換等で脱アルカリする方法や、ケイ酸アル
カリ塩を鉱酸で中和する方法等で知られた活性ケイ酸を
縮合して得られる公知のシリカゾル、アルコキシシラン
を有機溶媒中で塩基性触媒の存在下に加水分解と縮合す
ることにより得られる公知のシリカゾル、さらには上記
の水性シリカゾル中の水を蒸留法等により有機溶剤に置
換することにより得られる有機溶剤系のシリカゾル(オ
ルガノシリカゾル)が用いられる。これらのシリカゾル
は水系及び有機溶剤系のどちらでも使用することができ
る。有機溶剤系シリカゾルの製造に際し、完全に水を有
機溶剤に置換する必要はない。前記シリカゾルはSiO
2として0.5〜50重量%濃度の固形分を含有する。
シリカゾル中のシリカ超微粒子の構造は球状、針状、板
状等様々なものが使用可能である。
Further, a low-reflection material in which a sol in which ultrafine silica particles of 5 to 30 nm are dispersed in water or an organic solvent and a fluorine-based film-forming agent are mixed may be used. 5
A sol in which ultrafine silica particles of about 30 nm are dispersed in water or an organic solvent can be obtained by, for example, dealkalizing alkali metal ions in alkali silicate by ion exchange or neutralizing alkali silicate with a mineral acid. A known silica sol obtained by condensing active silicic acid known in the above, a known silica sol obtained by condensing an alkoxysilane with hydrolysis in the presence of a basic catalyst in an organic solvent, and further the above aqueous silica sol An organic solvent-based silica sol (organo-silica sol) obtained by substituting the water therein with an organic solvent by a distillation method or the like is used. These silica sols can be used in both aqueous and organic solvent systems. It is not necessary to completely replace water with an organic solvent when producing an organic solvent-based silica sol. The silica sol is SiO
As 2, it contains a solid content of 0.5 to 50% by weight.
Various structures such as spherical, needle-like, and plate-like structures can be used for the ultrafine silica particles in the silica sol.

【0040】また、皮膜形成剤としては、アルコキシシ
ラン、金属アルコキシドや金属塩の加水分解物や、ポリ
シロキサンをフッ素変性したものなどを用いることがで
きる。特に、表面層の臨界表面張力を確実に20dyn
e/cm以下にするためには、上記のような皮膜形成剤
を用いると好適であり、特に、フッ素化合物が好適であ
る。本発明の表面層は、上記で述べた材料を例えば溶剤
で希釈し、スピンコーター、ロールコーター、印刷等の
方法で粗面化層に設けて乾燥後、熱や放射線(紫外線の
場合は上述の光重合開始剤を使用する)等により硬化さ
せることによって得ることができる。放射線硬化型の含
フッ素モノマー、オリゴマー、プレポリマーは耐汚染性
には優れているが、濡れ性が悪いため、組成によっては
粗面化層上で表面層をはじくという問題や、表面層が粗
面化層から剥がれるという問題が生じるおそれがあるた
め、粗面化層に使用する前述の放射線硬化型樹脂として
説明した、アクリロイル系、メタアクリロイル系、アク
リロイルオキシ基、メタアクリロイルオキシ基等重合性
不飽和結合を有するモノマー、オリゴマー、プレポリマ
ーを適宜混合し、使用することが望ましい。なお、透明
基体が熱によるダメージを受けやすいPET、TAC等
のプラスチックフィルムを使用する場合は、これら表面
層の材料としては、放射線硬化型樹脂を選択することが
好ましい。
As the film forming agent, alkoxysilane, hydrolyzate of metal alkoxide or metal salt, and fluorine-modified polysiloxane can be used. In particular, the critical surface tension of the surface layer is reliably set to 20 dyn.
In order to make e / cm or less, it is preferable to use the film- forming agent as described above, and in particular, a fluorine compound is preferable. The surface layer of the present invention is prepared by diluting the above-mentioned material with, for example, a solvent, providing the surface-roughened layer with a method such as a spin coater, a roll coater, or printing, and then drying. (Using a photopolymerization initiator) and the like. Radiation-curable fluorine-containing monomers, oligomers, and prepolymers have excellent stain resistance, but have poor wettability, and depending on the composition, may cause problems such as repelling the surface layer on the roughened layer, or the surface layer may be rough. Since the problem of peeling from the surface roughening layer may occur, polymerizable non-polymerizable resins such as acryloyl, methacryloyl, acryloyloxy, and methacryloyloxy groups described above as the radiation-curable resin used for the roughened layer. It is desirable to appropriately mix and use monomers, oligomers and prepolymers having a saturated bond. When a transparent substrate is made of a plastic film such as PET or TAC which is easily damaged by heat, it is preferable to select a radiation-curable resin as a material for these surface layers.

【0041】表面層の塗料、インクの塗工適性または印
刷適性を向上させるために、必要に応じ、粗面化層同
様、シリコーンオイル等のレベリング剤、ポリエチレン
ワックス、カルナバワックス、高級アルコール、ビスア
マイド、高級脂肪酸等の油脂、イソシアネート等の硬化
剤、炭酸カルシウムやシリカゾル、合成雲母等0.05
μm以下の超微粒子等の添加剤を適宜使用することがで
きる。また、ディスプレイ表面に静電的に付着するホコ
リ等の汚れを防止するために帯電防止剤を表面層に添加
したり、もしくは表面層上に静電防止層を設けても良
い。帯電防止剤は、前述の帯電防止層で説明した材料が
そのまま適用できる。
In order to improve the coating suitability or printing suitability of the paint or ink of the surface layer, if necessary, as in the case of the roughened layer, a leveling agent such as silicone oil, polyethylene wax, carnauba wax, higher alcohol, bisamide, Fats such as higher fatty acids, curing agents such as isocyanate, calcium carbonate and silica sol, synthetic mica 0.05
Additives such as ultrafine particles having a size of not more than μm can be appropriately used. Further, an antistatic agent may be added to the surface layer to prevent contamination such as dust that electrostatically adheres to the display surface, or an antistatic layer may be provided on the surface layer. As the antistatic agent, the materials described for the above antistatic layer can be applied as they are.

【0042】表面層の厚さについては、公知の計算式で
算出することができる。公知の文献(サイエンスライブ
ラリ、物理学9「光学」70〜72頁)によれば、入射
光が表面層に垂直に入射する場合に、表面層が光を反射
せず、かつ100%透過するための条件は次の関係式を
満たせば良いとされている。なお、式中N0は表面層の
屈折率、Nsは粗面化層の屈折率、hは表面層の厚さ、
λ0は光の波長を示す。
The thickness of the surface layer can be calculated by a known calculation formula. According to a known document (Science Library, Physics 9 "Optics", pp. 70-72), when incident light is perpendicularly incident on the surface layer, the surface layer does not reflect light and transmits 100%. It is said that the condition of satisfies the following relational expression. In the formula, N 0 is the refractive index of the surface layer, N s is the refractive index of the roughened layer, h is the thickness of the surface layer,
λ 0 indicates the wavelength of light.

【0043】[0043]

【数2】N0=Ns 1/2 式(1) N0h=λ0/4 式(2)[Number 2] N 0 = N s 1/2 Equation (1) N 0 h = λ 0/4 formula (2)

【0044】前記(1)式によれば、光の反射を100
%防止するためには、表面層の屈折率が下層(粗面化
層)の屈折率の平方根になるような材料を選択すればよ
いことが分かる。ただし、実際は、この数式を完全に満
たす材料は見出し難く、限りなく近い材料を選択するこ
とになる。前記(2)式では(1)式で選択した表面層
の屈折率と、光の波長から表面層の反射防止膜としての
最適な厚さが計算される。たとえば、粗面化層、表面層
の屈折率をそれぞれ1.50、1.38、光の波長を5
50nm(視感度の基準)とし、これらの値を前記
(2)式に代入すると、表面層の厚さは0.1μm前後
の光学膜厚、好ましくは0.1±0.01μmの範囲が
最適であると計算される。
According to the above equation (1), the reflection of light is 100
It can be seen that a material having a refractive index of the surface layer to be the square root of the refractive index of the lower layer (roughened layer) should be selected in order to prevent the percentage. However, in practice, it is difficult to find a material that completely satisfies this equation, and a material as close as possible is selected. In the above equation (2), the optimum thickness of the surface layer as an antireflection film is calculated from the refractive index of the surface layer selected in the equation (1) and the wavelength of light. For example, the refractive index of the roughened layer and the refractive index of the surface layer are 1.50 and 1.38, respectively, and the light wavelength is 5
When these values are substituted into the above equation (2), the thickness of the surface layer is optimally around 0.1 μm, preferably within the range of 0.1 ± 0.01 μm. Is calculated as

【0045】このようにして作製した本発明の反射防止
材料のJIS K7105によるHAZE値は、3〜3
0の範囲、特に好ましくは5〜15の範囲であることが
好ましい。この場合、この値が3未満では、光拡散の効
果が少なくそれ程大きな反射防止効果を得ることができ
ない。一方、HAZE値が30を超えると、画像コント
ラストが悪く視認性不良となり、ディスプレイとしての
機能低下を招くことから好ましくない。なお、HAZE
値とは、曇価を意味するものであり、積分球式光線透過
率測定装置を用いて、拡散透過率(Hd%)と全光線透
過率(Ht%)を測定し、下記式にて算出する。
The anti-reflection material of the present invention thus produced has a HAZE value of 3 to 3 according to JIS K7105.
It is preferably in the range of 0, particularly preferably in the range of 5 to 15. In this case, if this value is less than 3, the effect of light diffusion is small, and a so large antireflection effect cannot be obtained. On the other hand, when the HAZE value exceeds 30, the image contrast is poor and the visibility is poor, and the function as a display is undesirably reduced. In addition, HAZE
The value means the haze value. The diffuse transmittance (Hd%) and the total light transmittance (Ht%) are measured using an integrating sphere light transmittance measuring device, and calculated by the following formula. I do.

【0046】[0046]

【数3】HAZE値=Hd/Ht×100Haze value = Hd / Ht × 100

【0047】(2)偏光フィルムの内容A.偏光フィルム−1 上記構成の反射防止材料をフィルム状の偏光基体の片面
に設けることにより、偏光フィルムを構成することがで
きる。ここで、偏光基体は、透明フィルムを形成できる
材料で構成され、具体的には、ポリビニルアルコール、
ポリビニレン等が使用できる。そして、このような材料
を延伸させてフィルム化することにより偏光基体を得る
ことができる。例えば、2色性素子として沃素または染
料を吸着させたポリビニルアルコールを一軸延伸して得
られたポリビニルアルコール(PVA)フィルムを用い
ることが好ましい。偏光基体は10〜80μmの厚みを
有するものが使用される。
[0047] (2) the contents of the polarizing film A. Polarizing Film-1 A polarizing film can be formed by providing the antireflection material having the above structure on one surface of a film-like polarizing substrate. Here, the polarizing substrate is composed of a material capable of forming a transparent film, and specifically, polyvinyl alcohol,
Polyvinylene or the like can be used. Then, a polarizing substrate can be obtained by stretching such a material to form a film. For example, it is preferable to use a polyvinyl alcohol (PVA) film obtained by uniaxially stretching polyvinyl alcohol adsorbing iodine or a dye as the dichroic element. A polarizing substrate having a thickness of 10 to 80 μm is used.

【0048】B.偏光フィルム−2 本発明の他の偏光フィルムは、上記フィルム状の偏光基
体の片面に、反射防止機能を有する粗面化層、表面層を
順次設けた透明基体からなる第1の保護材(前記(1)
の反射防止材料に相当)を設け、他面に第2の保護材を
設けた積層構成を有する。具体的には、PVAフィルム
を一軸方向に3〜4倍程度延伸し、高次の沃素イオン中
に延伸したPVAフィルムを含浸させることにより得ら
れた偏光基体の両側にポリエステル系接着剤、ポリアク
リル系接着剤、ポリウレタン系接着剤、ポリ酢酸ビニル
系接着剤等により、第1及び第2の保護材をラミネート
した構造を有するものが好ましい。上記で得られるPV
Aフィルムは、強度等が不足していることから、裂け易
く、湿度変化に対して収縮率が大きいという欠点を有し
ていることから、偏光基体の両側に保護材がラミネート
される。この第1の保護材に用いられる透明基体及び第
2の保護材としては、透明な高分子化合物のフィルム、
例えば、トリアセチルセルロース等のセルロース系フィ
ルム、ポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィル
ム等が使用される。その中でも特にトリアセチルセルロ
ースが好ましい。該フィルムの厚さは10〜2000μ
mが好ましい。また、これらのフィルムには特にほう酸
等のゲル化剤を使用したり、熱処理やホルマール化を行
うことによって、フィルムの耐水性を向上させることが
好ましい。また、偏光基体との密着性を向上させるため
に、偏光基体との接着面の表面エネルギーが50dyn
e/cm以上になるように、けん化処理やコロナ処理等
の表面処理を行うことが好ましい。
B. Polarizing Film-2 Another polarizing film of the present invention is a first protective material comprising a transparent substrate having a surface roughening layer having an anti-reflection function and a surface layer sequentially provided on one surface of the above-mentioned film-like polarizing substrate (the above-mentioned polarizing material). (1)
Is provided, and a second protective material is provided on the other surface. Specifically, a PVA film is stretched about 3 to 4 times in a uniaxial direction, and a polyester-based adhesive and a polyacrylic resin are applied to both sides of a polarizing substrate obtained by impregnating a stretched PVA film in higher-order iodine ions. It is preferable that the first and second protective materials are laminated with a system-based adhesive, a polyurethane-based adhesive, a polyvinyl acetate-based adhesive, or the like. PV obtained above
The A film has a defect that it is apt to be torn due to lack of strength and the like and has a large shrinkage ratio with respect to a change in humidity. Therefore, protective materials are laminated on both sides of the polarizing substrate. As the transparent substrate and the second protective material used for the first protective material, a transparent polymer compound film,
For example, a cellulosic film such as triacetyl cellulose, a polyester film, a polycarbonate film and the like are used. Among them, triacetyl cellulose is particularly preferred. The thickness of the film is 10 to 2000 μ
m is preferred. Further, it is preferable to improve the water resistance of the films by using a gelling agent such as boric acid, or by performing a heat treatment or formalization on these films. Further, in order to improve the adhesiveness with the polarizing substrate, the surface energy of the bonding surface with the polarizing substrate is 50 dyn.
It is preferable to perform a surface treatment such as a saponification treatment or a corona treatment so as to have e / cm or more.

【0049】以下図面を用いて、本発明の反射防止材料
と偏光フィルムをさらに詳細に説明する。図1は、本発
明の反射防止材料の構成を示す概略断面図であり、反射
防止材料10は、透明基体11の片面上に粗面化層12
を有する構成である。なお、粗面化層12の表面には表
面層が形成されているが、表面層は極めて薄いために図
示を省略している(以下においても同じ)。図2は、本
発明の偏光フィルム20の構成を示す概略断面図であ
り、偏光基体24の片面に、透明基体21上に粗面化層
22を有する第1の保護材23、すなわち反射防止材料
が、一方、他の面に第2の保護材25が形成されている
ことを示している。
Hereinafter, the antireflection material and the polarizing film of the present invention will be described in more detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing the structure of an antireflection material of the present invention. An antireflection material 10 has a roughened layer 12 on one surface of a transparent substrate 11.
It is a structure which has. Although a surface layer is formed on the surface of the roughened layer 12, the surface layer is not shown because it is extremely thin (the same applies to the following description). FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing the configuration of the polarizing film 20 of the present invention. The first protective material 23 having a roughened layer 22 on a transparent substrate 21 on one side of a polarizing substrate 24, that is, an anti-reflection material Indicates that the second protective material 25 is formed on the other surface.

【0050】図3は本発明の反射防止材料により防眩性
を改善した液晶表示体30の構成を示すものである。こ
の液晶表示体30は、上面の液晶パネル31と下面の導
光板装置(EL)やランプ等の背面光源32とを積層し
て形成されている。液晶パネル31には、例えば、ツイ
ステッドネマチック(TN)液晶セルなどが使用可能で
ある。
FIG. 3 shows the structure of a liquid crystal display 30 in which the anti-glare property is improved by the anti-reflection material of the present invention. The liquid crystal display 30 is formed by laminating a liquid crystal panel 31 on the upper surface and a back light source 32 such as a light guide plate (EL) or a lamp on the lower surface. As the liquid crystal panel 31, for example, a twisted nematic (TN) liquid crystal cell or the like can be used.

【0051】TN液晶セルは、所望のパターンからなる
透明電極付きの2枚のガラス基盤33、34の透明電極
面33'、及び34'上に、ポリイミドの溶液を塗布して
配向膜を形成し、これをラビング操作により配向させ、
その後、この基板間にネマチック液晶35を注入し、ガ
ラス基盤周辺部をエポキシ樹脂等で封着することにより
形成される。このネマチック液晶は、配向膜の作用によ
り90゜捻れ配向する。このTN液晶セルの2枚のガラ
ス基板の背面光源とは反対側には、表面層(図示略)お
よび粗面化層22を有する第1の保護材と第2の保護材
(図示略)とで両面を保護された偏光フィルム36(2
2と36で前記した偏光フィルム−2に相当)を、ま
た、その背面光源側には、粗面化層のない偏光フィルム
37を、偏光角度が互いに90゜捻れるように貼ること
で液晶パネル31が形成される。
In the TN liquid crystal cell, an alignment film is formed by applying a polyimide solution on the transparent electrode surfaces 33 'and 34' of two glass substrates 33 and 34 having transparent electrodes having a desired pattern. , This is orientated by a rubbing operation,
Thereafter, a nematic liquid crystal 35 is injected between the substrates, and the periphery of the glass substrate is sealed with an epoxy resin or the like. The nematic liquid crystal is twist-aligned by 90 ° by the action of the alignment film. On the opposite sides of the two glass substrates of the TN liquid crystal cell from the rear light source, a first protective material and a second protective material (not shown) each having a surface layer (not shown) and a roughened layer 22 are provided. Polarizing film 36 (2
2 and 36, and a polarizing film 37 without a roughening layer on the back light source side, so that the polarizing angles are twisted by 90 ° with respect to each other. 31 are formed.

【0052】上記TN液晶パネル31の透明電極に駆動
信号を印加すると信号が印加された電極間には電界が発
生する。その際、液晶分子の持つ電子的異方性により、
液晶分子の長軸が電界方向と平行になるため、液晶分子
による光の旋光性が失われることとなり、その結果、液
晶パネルには光が透過しない状態となる。画像の表示は
この時の光透過の差に基づくコントラストにより視覚情
報として認識される。上記液晶表示体30においては、
液晶パネル31に透過させ、液晶パネル31の光の透過
する部分と透過しない部分にコントラストを持たせるこ
とにより画像表示を可能とするものである。
When a drive signal is applied to the transparent electrodes of the TN liquid crystal panel 31, an electric field is generated between the electrodes to which the signals are applied. At that time, due to the electronic anisotropy of the liquid crystal molecules,
Since the major axis of the liquid crystal molecules is parallel to the direction of the electric field, the optical rotatory power of the liquid crystal molecules is lost, and as a result, the light does not pass through the liquid crystal panel. The display of the image is recognized as visual information by contrast based on the difference in light transmission at this time. In the above liquid crystal display 30,
An image can be displayed by transmitting the light through the liquid crystal panel 31 and giving a contrast to a portion of the liquid crystal panel 31 where light is transmitted and a portion where light is not transmitted.

【0053】図4は、本発明の反射防止材料10を使用
した他の液晶表示体の構成を示す断面図である。図4に
おいて、液晶パネル41は、2枚のガラス基盤43、4
4及びその間に介在するネマチック液晶45と、ガラス
基盤の外側に位置する粗面化層を有しない上部の偏光フ
ィルム46、粗面化層を有しない下部の偏光フィルム4
7及び該上部の偏光フィルムの上に積層された反射防止
材料10(10と46とで前記した偏光フィルム−1に
相当)より構成されている。また、液晶表示体40は、
液晶パネル41とその下面に位置する背面光源32を積
層して形成されている。
FIG. 4 is a sectional view showing the structure of another liquid crystal display using the antireflection material 10 of the present invention. In FIG. 4, the liquid crystal panel 41 has two glass substrates 43, 4
4, a nematic liquid crystal 45 interposed therebetween, an upper polarizing film 46 having no roughening layer, and a lower polarizing film 4 having no roughening layer located outside the glass substrate.
7 and an anti-reflection material 10 (10 and 46 corresponding to the above-mentioned polarizing film-1) laminated on the polarizing film on the upper side. The liquid crystal display 40 is
It is formed by laminating a liquid crystal panel 41 and a back light source 32 located on the lower surface thereof.

【0054】[0054]

【実施例】本発明を実施例によってさらに詳細に説明す
る。なお、以下の説明において「部」は「重量部」を意
味するものとする。 <実施例1> まず、架橋アクリルビーズとトルエンの混合物をサンド
ミルにて30分間分散することによって得られた下記分
散液と、下記ベース塗料をディスパーにて15分間撹
拌、混合した塗料を、膜厚80μm、透過率92%から
なる透明基体であるトリアセチルセルロース(商品名:
富士タックUVD80、富士写真フィルム社製、屈折率
1.49)の片面上に、リバースコーティング方式にて
塗布し、100℃で2分間乾燥後、出力120w/cm
の集光型高圧水銀灯1灯を用いて、照射距離(ランプ中
心から塗工面までの距離)10cm、処理速度(塗工基
体側の水銀灯に対する速度)5m/分で紫外線照射を行
い、塗工膜を硬化させた。このようにして、厚さ1.7
μm、屈折率1.53の粗面化層を形成した。その後
フッ素シリカゾル(日産化学工業(株)社製LR20
1(全固形分濃度;4%、溶媒;エタノール/ブチルセ
ロソルブ=50/50、日産化学工業(株)社製))を
前記粗面化層上にスピンコーティングにより塗布し、1
00℃で1分感乾燥後、120℃で6時間熱キュアー
し、厚さ0.1μm、屈折率1.38、臨界表面張力1
1dyne/cmの表面層を形成し、HAZE値10.
5、反射率1.4%の本発明の反射防止材料を得た。
The present invention will be described in more detail by way of examples. In the following description, “parts” means “parts by weight”. <Example 1> First, the following dispersion obtained by dispersing a mixture of crosslinked acrylic beads and toluene in a sand mill for 30 minutes, and the following base paint were stirred for 15 minutes with a disper, and the mixed paint was mixed with a film having a thickness of Triacetyl cellulose (trade name: 80 μm, transparent substrate having a transmittance of 92%)
Fuji Tack UVD80, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., coated on one side with a refractive index of 1.49) by a reverse coating method, dried at 100 ° C. for 2 minutes, and output 120 w / cm.
UV light irradiation at a irradiation distance (distance from the center of the lamp to the coating surface) of 10 cm and a processing speed (speed with respect to the mercury lamp on the coating substrate side) of 5 m / min. Was cured. Thus, a thickness of 1.7
A roughened layer having a thickness of 1.5 μm and a refractive index of 1.53 was formed. After that,
Fluorine- containing silica sol (LR20 manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.)
1 (total solid content: 4%, solvent: ethanol / butyl cellosolve = 50/50, manufactured by Nissan Chemical Industry Co., Ltd.) was applied on the roughened layer by spin coating.
After drying at 00 ° C. for 1 minute, heat cure at 120 ° C. for 6 hours, thickness 0.1 μm, refractive index 1.38, critical surface tension 1
A surface layer of 1 dyne / cm was formed, and a HAZE value of 10.
5. An antireflection material of the present invention having a reflectance of 1.4% was obtained.

【0055】 [分散液の配合] ・架橋アクリルビーズ 9部 (商品名:MX150、粒径1.5±0.5μm、綜研化学社製) ・トルエン 210部[Blending of dispersion] 9 parts of cross-linked acrylic beads (trade name: MX150, particle size 1.5 ± 0.5 μm, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) 210 parts of toluene

【0056】 [ベース塗料の配合] ・アクリル系化合物 ジペンタエリスリトールトリアクリレート 45部 ・エポキシ系化合物 45部 (商品名:セロキサイト2021、ダイセル化学工業) ・下記化学式の光カチオン重合開始剤 2部[Blending of base paint]-Acrylic compound 45 parts of dipentaerythritol triacrylate-Epoxy compound 45 parts (trade name: Celloxite 2021, Daicel Chemical Industries)-2 parts of photocationic polymerization initiator of the following chemical formula

【0057】[0057]

【化4】 Embedded image

【0058】 ・イソプロピルアルコール 5部 ・ Isopropyl alcohol 5 parts

【0059】<実施例2>粗面化層の組成を下記に変更
した以外は実施例1と同様にして、本発明の反射防止材
料を得た。粗面化層の厚さ及び屈折率はそれぞれ3.8
μm、1.52、表面層の臨界表面張力は11.0dy
ne/cm、反射防止材料のHAZE値、反射率はそれ
ぞれ22.0、1.3%であった。
<Example 2> An antireflection material of the present invention was obtained in the same manner as in Example 1 except that the composition of the roughened layer was changed as follows. The thickness and the refractive index of the roughened layer are 3.8 respectively.
μm, 1.52, critical surface tension of surface layer is 11.0 dy
ne / cm, the HAZE value of the antireflection material, and the reflectance were 22.0 and 1.3%, respectively.

【0060】 [分散液の配合] ・架橋アクリルビーズ 4部 (商品名:MX300、粒径3.0±0.5μm、屈折率1.50、 綜研化学社製) ・架橋アクリルビーズ 4部 (商品名:MX500、粒径5.0±0.5μm、屈折率1.50、 綜研化学社製) ・トルエン 200部[Blending of dispersion liquid] 4 parts of crosslinked acrylic beads (trade name: MX300, particle size 3.0 ± 0.5 μm, refractive index 1.50, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) 4 parts of crosslinked acrylic beads (product Name: MX500, particle size 5.0 ± 0.5 μm, refractive index 1.50, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) ・ Toluene 200 parts

【0061】 [ベース塗料の配合] ・アクリル系化合物 45部 トリペンタエリスリトールポリアクリレート ・エポキシ系化合物 45部 (商品名:サイラキュアUVR−6110、ユニオンカーバイド(株)社製) ・光カチオン重合開始剤 2部 (商品名:サイラキュアUVI−6990、ユニオンカーバイド(株)社製) ・イソプロピルアルコール 5部 [Blending of base paint]-Acrylic compound 45 parts Tripentaerythritol polyacrylate-Epoxy compound 45 parts (trade name: Cyracure UVR-6110, manufactured by Union Carbide Co., Ltd.)-Photocationic polymerization initiator 2 (Product name: Cyracure UVI-6990, manufactured by Union Carbide Co., Ltd.) ・ Isopropyl alcohol 5 parts

【0062】<実施例3>粗面化層の分散液とベース塗
料を下記に変更した以外は実施例1と同様にして、本発
明の反射防止材料を得た。粗面化層の厚さ及び屈折率は
それぞれ2.8μm、1.55、表面層の臨界表面張力
は11.0dyne/cm、反射防止材料のHAZE
値、反射率はそれぞれ22.0、1.3%であった。
<Example 3> An antireflection material of the present invention was obtained in the same manner as in Example 1 except that the dispersion of the roughened layer and the base paint were changed as follows. The thickness and refractive index of the roughened layer are 2.8 μm and 1.55 respectively, the critical surface tension of the surface layer is 11.0 dyne / cm, and the anti-reflective material HAZE
The value and the reflectance were 22.0 and 1.3%, respectively.

【0063】 [分散液の配合] ・球状シリカ (商品名:ハイプレシカ FQ 粒径1.0±0.1μm、屈折率1.45、 宇部日東化成(株)社製) 3部 (商品名:ハイプレシカ UF 粒径2.5±0.1μm、屈折率1.43、 宇部日東化成(株)社製) 4部 ・架橋アクリルビーズ 2部 (商品名:MX300、粒径3.0±0.5μm、屈折率1.50、 綜研化学社製) ・トルエン 210部[Blending of Dispersion] Spherical silica (trade name: Hypressica FQ particle size: 1.0 ± 0.1 μm, refractive index: 1.45, manufactured by Ube-Nitto Kasei Co., Ltd.) 3 parts (trade name: Hypressika) UF Particle size 2.5 ± 0.1 μm, refractive index 1.43, Ube Nitto Kasei Co., Ltd. 4 parts ・ Cross-linked acrylic beads 2 parts (trade name: MX300, particle size 3.0 ± 0.5 μm, (Refractive index 1.50, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) ・ Toluene 210 parts

【0064】 [ベース塗料の配合] ・アクリル系化合物 テトラペンタエリスリトールポリアクリレート 15部 ネオペンチルグリコールジアクリレート 30部 ・エポキシ系化合物 45部 (商品名:エピコート828 油化シェルエポキシ社製) ・光カチオン重合開始剤 2部 (商品名:サイラキュアUVI−6990、ユニオンカーバイド(株)社製) ・イソプロピルアルコール 5部 [Blending of base paint] Acrylic compound tetrapentaerythritol polyacrylate 15 parts Neopentyl glycol diacrylate 30 parts Epoxy compound 45 parts (trade name: Epicoat 828 manufactured by Yuka Shell Epoxy Co.) Photo cationic polymerization Initiator 2 parts (trade name: Cyracure UVI-6990, manufactured by Union Carbide Co., Ltd.)-Isopropyl alcohol 5 parts

【0065】<実施例4>実施例1と同様にして設けた
粗面化層上に、含フッ素熱硬化型樹脂オプスターJN−
7212(全固形分濃度5%、溶媒MIBK、日本合成
ゴム(株)社製)をスピンコーティングにより塗布し、
100℃で1分間乾燥後、100℃で2時間熱キュアー
し、厚さ0.1μm、屈折率1.40、臨界表面張力1
8dyne/cmの表面層を形成し、HAZE値11.
0、反射率1.6%の本発明の反射防止材料を得た。
<Example 4> On a roughened layer provided in the same manner as in Example 1, a fluorine-containing thermosetting resin Opstar JN-
7212 (total solid concentration 5%, solvent MIBK, manufactured by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd.) by spin coating,
After drying at 100 ° C. for 1 minute, heat curing at 100 ° C. for 2 hours, thickness 0.1 μm, refractive index 1.40, critical surface tension 1
A surface layer of 8 dyne / cm was formed and a HAZE value of 11.
0, an antireflection material of the present invention having a reflectivity of 1.6% was obtained.

【0066】<実施例5>分散液、ベース塗料を下記に
変更した以外は実施例1と同様にして粗面化層を形成
し、その上に、含フッ素紫外線硬化型樹脂オプスターT
M007(全固形分濃度5%、溶媒MIBK、日本合成
ゴム(株)社製)を塗布し、100℃で1分間乾燥後、
UVランプ出力120w/cmの集光型高圧水銀灯1灯
を用いて、照射距離(ランプ中心から塗工面までの距
離)10cm、処理速度(塗工基体側のUVランプに対
する速度)5m/分で紫外線照射を行い、塗工膜を硬化
させ、厚さ0.1μm、屈折率1.41、臨界表面張力
15dyne/cmの表面層を形成し、本発明の反射防
止材料を得た。粗面化層の厚さ及び屈折率はそれぞれ
5.6μm、1.51、反射防止材料のHAZE値、反
射率はそれぞれ28.0、1.0%であった。
Example 5 A roughened layer was formed in the same manner as in Example 1 except that the dispersion and the base paint were changed as described below, and a fluorine-containing ultraviolet-curable resin OPSTAR T was formed thereon.
M007 (total solid content 5%, solvent MIBK, manufactured by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd.) was applied and dried at 100 ° C. for 1 minute.
Using one condensing high-pressure mercury lamp with a UV lamp output of 120 w / cm, UV irradiation at an irradiation distance (distance from the lamp center to the coating surface) of 10 cm and a processing speed (speed of the coating substrate side relative to the UV lamp) of 5 m / min. Irradiation was performed to cure the coating film to form a surface layer having a thickness of 0.1 μm, a refractive index of 1.41, and a critical surface tension of 15 dyne / cm, thereby obtaining an antireflection material of the present invention. The thickness and the refractive index of the roughened layer were 5.6 μm and 1.51, respectively, and the HAZE value and the reflectance of the antireflection material were 28.0 and 1.0%, respectively.

【0067】 [分散液の配合] ・架橋アクリルビーズ (商品名:MX150、粒径1.5±0.5μm、屈折率1.50、 綜研化学社製) 10部 (商品名:MX300、粒径3.0±0.5μm、屈折率1.50、 綜研化学社製) 4部 (商品名:MX500、粒径5.0±0.5μm、屈折率1.50、 綜研化学社製) 2部 ・球状シリカ (商品名:ハイプレシカ UF 粒径6.5±0.1μm、屈折率1.43、 宇部日東化成(株)社製) 1部 ・トルエン 200部[Blending of dispersion] Crosslinked acrylic beads (trade name: MX150, particle size 1.5 ± 0.5 μm, refractive index 1.50, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) 10 parts (trade name: MX300, particle size 3.0 ± 0.5 μm, refractive index 1.50, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) 4 parts (trade name: MX500, particle size 5.0 ± 0.5 μm, refractive index 1.50, manufactured by Soken Chemical Company) 2 parts・ Spherical silica (trade name: High Pressica UF, particle size 6.5 ± 0.1 μm, refractive index 1.43, Ube Nitto Kasei Co., Ltd.) 1 part ・ Toluene 200 parts

【0068】 [ベース塗料の配合] ・アクリル系化合物 1,6ヘキサンジオールジメタクリレート 45部 ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネート 45部 ・光重合開始剤 5部 (商品名:イルガキュア 184 チバガイギー社製) ・イソプロピルアルコール 10部 [Blending of base paint]-Acrylic compound 1,6 hexanediol dimethacrylate 45 parts Pentaerythritol triacrylate hexamethylene diisocyanate 45 parts-Photopolymerization initiator 5 parts (trade name: Irgacure 184, manufactured by Ciba Geigy)-Isopropyl Alcohol 10 parts

【0069】<実施例6>下記の分散液とベース塗料を
実施例1と同様にして混合した塗料を、膜厚75μm、
透過率89%からなる透明基体のポリエチレンテレフタ
レートフィルムの片面上に、リバースコーティング方式
にて塗布し、その後は実施例1と同様にして本発明の反
射防止材料を得た。粗面化層の厚さ及び屈折率はそれぞ
れ2.5μm、1.51、表面層の臨界表面張力は1
1.0dyne/cm、反射防止材料のHAZE値、反
射率はそれぞれ9.0、1.4%であった。
<Example 6> A paint obtained by mixing the following dispersion liquid and a base paint in the same manner as in Example 1 was applied to a film having a thickness of 75 μm.
One side of a transparent substrate polyethylene terephthalate film having a transmittance of 89% was applied by a reverse coating method, and thereafter the same procedure as in Example 1 was performed to obtain an antireflection material of the present invention. The thickness and refractive index of the roughened layer are 2.5 μm and 1.51, respectively, and the critical surface tension of the surface layer is 1
1.0 dyne / cm, the HAZE value and the reflectance of the antireflection material were 9.0 and 1.4%, respectively.

【0070】 [分散液の配合] ・架橋アクリルビーズ 3部 (商品名:MX300 粒径3.0μm±0.5、綜研化学社製) ・トルエン 210部[Blending of Dispersion] 3 parts of crosslinked acrylic beads (trade name: MX300, particle size 3.0 μm ± 0.5, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) 210 parts of toluene

【0071】 [ベース塗料の配合] ・アクリル系化合物 1,6ヘキサンジオールジメタクリレート 20部 ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネート 30部 ・エポキシ系化合物 45部 (商品名:エポライト40E 共栄化学社製 ) ・光カチオン重合開始剤 2部 (商品名:MPI03、みどり化学社製) ・イソプロピルアルコール 5部 [Blending of base paint] Acrylic compound 1,6 hexanediol dimethacrylate 20 parts Pentaerythritol triacrylate hexamethylene diisocyanate 30 parts Epoxy compound 45 parts (trade name: Epolite 40E manufactured by Kyoei Chemical Co., Ltd.) 2 parts of cationic polymerization initiator (trade name: MPI03, manufactured by Midori Kagaku) ・ 5 parts of isopropyl alcohol

【0072】(比較例1)分散液とベース塗料を下記に
変更した以外は実施例1と同様にし、厚さ3.2μm、
屈折率1.52の粗面化層を形成し、表面層は設けず、
HAZE値13.2、反射率2.6%である比較用の反
射防止材料を得た。
Comparative Example 1 The procedure of Example 1 was repeated except that the dispersion and the base paint were changed as follows.
Forming a roughened layer with a refractive index of 1.52, without providing a surface layer,
A comparative antireflection material having a HAZE value of 13.2 and a reflectance of 2.6% was obtained.

【0073】 [分散液の配合] ・架橋アクリルビーズ 5部 (商品名:MX300 粒径1.5μm±0.5、綜研化学社製) ・トルエン 200部[Blending of dispersion] 5 parts of crosslinked acrylic beads (trade name: MX300, particle size 1.5 μm ± 0.5, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) 200 parts of toluene

【0074】 [ベース塗料の配合] ・アクリル系化合物 1,6ヘキサンジオールジメタクリレート 45部 ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネート 45部 ・光重合開始剤 5部 (商品名:イルガキュア 184 チバガイギー社製) ・イソプロピルアルコール 10部 [Blending of base paint] ・ Acrylic compound 1,6 hexanediol dimethacrylate 45 parts Pentaerythritol triacrylate hexamethylene diisocyanate 45 parts ・ Photopolymerization initiator 5 parts (trade name: Irgacure 184, Ciba-Geigy) ・ Isopropyl Alcohol 10 parts

【0075】(比較例2)粗面化層の架橋アクリルビー
ズの種類及び配合量を以下にした以外は実施例1と同様
にして、厚さ3.0μ、HAZE値35.0、反射率
2.0%の比較用の反射防止材料を得た。なお、表面層
の臨界表面張力は22dyne/cmであった。 ・架橋アクリルビーズ 20部 (商品名:MX300 粒径3.0μm±0.5、綜研化学社製)
(Comparative Example 2) A thickness of 3.0 μm, a HAZE value of 35.0, and a reflectance of 2 were obtained in the same manner as in Example 1 except that the kind and the amount of the crosslinked acrylic beads of the roughened layer were changed as follows. A 0.0% comparative anti-reflective material was obtained. The critical surface tension of the surface layer was 22 dyne / cm.・ 20 parts of crosslinked acrylic beads (trade name: MX300, particle size 3.0 μm ± 0.5, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.)

【0076】(比較例3)粗面化層のアクリルビーズを
以下の顔料に変更した以外は実施例3と同様にして、厚
さ3.0μ、HAZE値29.0、反射率1.1%の比
較用の反射防止材料を得た。なお、表面層の臨界表面張
力は23dyne/cmであった。 ・シリカ顔料 (商品名 サイリシア#456 富士シリシア化学社製 粒径:0.5〜6.0μmの範囲のもの 50% 粒径:6.0μmを越えるもの 40%)
Comparative Example 3 The procedure of Example 3 was repeated, except that the following pigments were used for the acrylic beads in the roughened layer, the thickness was 3.0 μm, the HAZE value was 29.0, and the reflectance was 1.1%. Comparative antireflection material was obtained. The critical surface tension of the surface layer was 23 dyne / cm. -Silica pigment (trade name: Sylysia # 456, manufactured by Fuji Silysia Chemical Ltd., particle size: 0.5 to 6.0 [mu] m, 50% Particle size: over 6.0 [mu] m, 40%)

【0077】(比較例4)厚さ80μm、透過率92%
のトリアセチルセルロースをそのまま比較用の反射防止
材料とした。なお、表面の臨界両面張力は36dyne
/cmであった。
(Comparative Example 4) Thickness 80 μm, transmittance 92%
Was used as an anti-reflection material for comparison. The critical double-sided tension of the surface is 36 dyne
/ Cm.

【0078】(比較例5) 下記配合の表面層塗料を用いた以外は、実施例1と同様
にして、表面層の臨界表面張力が42dyne/cmで
ある比較用の反射防止材料を得た。反射防止材料のHA
ZE値は11.3、反射率は1.3%であった。 [表面層塗料の配合] ・シリカゾル (粒子径15nmでSiO として30重量%の シリカ超微粒子を含有するエタノール分散液) 10部 ・皮膜形成剤 (テトラエトキシシランの加水分解物SiOとして計算して固形分濃度6% ) 15部 ・溶剤 エタノール 53部
Comparative Example 5 A comparative antireflection material having a critical surface tension of 42 dyne / cm was obtained in the same manner as in Example 1 except that the surface layer paint having the following composition was used. HA of anti-reflective material
The ZE value was 11.3 and the reflectance was 1.3%. [Blending of surface layer paint] ・ Silica sol (Ethanol dispersion containing 30% by weight of ultrafine silica particles as SiO 2 with a particle diameter of 15 nm) 10 parts ・ Film forming agent (Calculated as hydrolyzate SiO 2 of tetraethoxysilane) 15% solid solvent 53 parts

【0079】(比較例6)分散液とベース塗料を下記に
変更した以外は実施例1と同様にして、表面層の臨界表
面張力が25dyne/cmである比較用の反射防止材
料を得た。粗面化層の厚さは3.0μm、屈折率は1.
53であり、反射防止材料のHAZE値は2.3、反射
率は1.9%であった。 [分散液の配合] ・架橋アクリルビーズ 2部 (商品名:MX300 粒径3.0μm±0.5、綜研化学社製) ・トルエン 100部 [ベース塗料の配合] ・ポリエステル系熱化塑性樹脂 40部 (商品名:バイロン200、東洋紡社製) ・トルエン 70部 ・MEK 100部
Comparative Example 6 A comparative antireflection material having a critical surface tension of the surface layer of 25 dyne / cm was obtained in the same manner as in Example 1 except that the dispersion and the base paint were changed as follows. The thickness of the roughened layer is 3.0 μm, and the refractive index is 1.
The anti-reflection material had a HAZE value of 2.3 and a reflectance of 1.9%. [Blending of dispersion]-2 parts of crosslinked acrylic beads (trade name: MX300, particle size: 3.0 [mu] m ± 0.5, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.)-100 parts of toluene [Blending of base paint]-Polyester-based thermoplastic resin 40 (Product name: Byron 200, manufactured by Toyobo) 70 parts of toluene 100 parts of MEK

【0080】実施例1〜6、比較例1〜6で得られた反
射防止材料10を用い、防眩性、画像ギラツキ、反射
率、耐磨耗性、耐薬品性、臨界表面張力、耐汚染性を下
記方法により測定、評価した。
Using the anti-reflection materials 10 obtained in Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 6, anti-glare properties, image glare, reflectance, abrasion resistance, chemical resistance, critical surface tension, contamination resistance The properties were measured and evaluated by the following methods.

【0081】前記反射防止材料10を用い、図2に示さ
れる構成の偏光フィルム20を作製した。次いで、前記
偏光フィルム20を図3に示されるようにガラス基盤3
3に貼り付け、液晶表示体30を得た。また、実施例6
で得られた反射防止材料10に関しても、粗面化処理を
していない偏光フィルムにPET面側が貼り合わせ面に
なるように粘着剤を介して貼り合わせた積層体を作製
し、この積層体を図4に示されるように偏光フィルム4
6に貼り付け、液晶表示体40を得た。なお、これらの
各液晶表示体30の画像サイズは例えば10.4インチ
とし、解像度は例えば800×600ドットとして、下
記方法によって、画像コントラストの評価を行った。
Using the antireflection material 10, a polarizing film 20 having the structure shown in FIG. 2 was produced. Next, as shown in FIG.
3 to obtain a liquid crystal display 30. Example 6
With respect to the antireflection material 10 obtained in the above, a laminate was prepared by laminating a polarizing film that had not been subjected to a surface roughening treatment with an adhesive so that the PET surface side was the lamination surface. As shown in FIG.
6 to obtain a liquid crystal display 40. The image size of each liquid crystal display 30 was, for example, 10.4 inches and the resolution was, for example, 800 × 600 dots, and the image contrast was evaluated by the following method.

【0082】防眩性はスガ試験機社製の写像性測定器I
CM−1DP(JIS K7105)を使用、透過モー
ドで、光学くし幅2mmで測定した。測定値が小さいほ
ど防眩性が高い。ここでは、50%未満を○、50%以
上、70%未満を△、70%以上を×として評価した。
画像ギラツキは防眩性の評価と同じ測定器を使用し、透
過モードで、光学くし幅0.125mmで測定した。測
定値が大きいほど画像ギラツキが少ない。ここでは、1
0%以上を○、5%以上、10%未満を△、5%未満を
×とした。反射率は分光光度計UV3100(島津製作
所社製)を使用し、波長領域400〜700nmの範囲
の5゜の正反射を測定、JIS Z8701に従い、視
感度補正したY値で表した。なお、測定は非測定面を黒
マジックで完全に黒塗りし、行った。
The anti-glare property was measured by an image clarity measuring device I manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.
The measurement was performed using a CM-1DP (JIS K7105) in a transmission mode with an optical comb width of 2 mm. The smaller the measured value, the higher the anti-glare property. Here, less than 50% was evaluated as ○, more than 50%, less than 70% as Δ, and more than 70% as X.
Image glare was measured in the transmission mode with an optical comb width of 0.125 mm using the same measuring device as used for the evaluation of the antiglare property. The larger the measured value, the less the image glare. Here, 1
0% or more was evaluated as ○, 5% or more and less than 10% as Δ, and less than 5% as X. The reflectance was measured using a spectrophotometer UV3100 (manufactured by Shimadzu Corp.), measuring 5 ° regular reflection in a wavelength range of 400 to 700 nm, and expressed as a Y value corrected for visibility according to JIS Z8701. The measurement was performed by completely painting the non-measurement surface with black magic.

【0083】耐摩耗性は日本スチールウール社製のスチ
ールウール#0000を板紙耐摩耗試験機(熊谷理機工
業社製)に取り付け、反射防止材料の表面層面を荷重2
00gにて50回往復させる。その後、その部分のHA
ZE値の変化δH(下記計算に基づく)を東洋精機社製
HAZEメーターで測定した。測定値が大きいほど耐摩
耗性が悪い。なお、HAZE値の測定は反射防止材料単
体で行った。 HAZE値変化δH=試験後のHAZE値−試験前のH
AZE値
The abrasion resistance was determined by attaching steel wool # 0000 manufactured by Nippon Steel Wool Co. to a paperboard abrasion tester (manufactured by Kumagaya Riki Kogyo Co., Ltd.) and applying a load of 2 to the surface layer of the anti-reflective material.
Reciprocate 50 times at 00g. Then, HA of that part
The change δH of the ZE value (based on the following calculation) was measured by a HAZE meter manufactured by Toyo Seiki. The larger the measured value, the worse the wear resistance. The measurement of the HAZE value was performed using the antireflection material alone. HAZE value change δH = HAZE value after test-H before test
AZE value

【0084】耐薬品性は、表面層面をイソプロピルアル
コールを含ませた綿棒(ジョンソン社製)で、50往復
擦った後に、粗面化層に剥がれ等著しい変化があった場
合を×、変化がない場合を○、その中間を△として評価
した。臨界表面張力はウィル・ヘルミー法により反射防
止材料の表面層の水とヨウ化メチレンに対する接触角を
測定し、コーティングの基礎科学(原崎 勇次著 槇書
店発行)p170〜171記載の次式に代入、Zism
amプロットから、COSθ−1に外挿したγLV゜の値
から求めた。 COSθ=1+b(γc−γLV゜)ただし、γLV゜≧γc θ:固/液の接触角、γLV゜:液体の表面張力、γc:臨
界表面張力、b:定数
The chemical resistance was evaluated as x when there was a remarkable change such as peeling of the roughened layer after rubbing the surface layer surface with a cotton swab (manufactured by Johnson) containing isopropyl alcohol for 50 reciprocations. The case was evaluated as ○, and the middle was evaluated as Δ. The critical surface tension is determined by measuring the contact angle of the surface layer of the anti-reflective material with water and methylene iodide by the Wilhelmy method, and substituting into the following equation described in Basic Science of Coating (published by Yuji Harasaki, published by Maki Shoten) pp. 170-171. Zism
from am plot, it was determined from the value of γ LV ° extrapolated to COSθ-1. COS θ = 1 + b (γ c −γ LV ゜ ) where γ LV ゜ ≧ γ c θ: contact angle of solid / liquid, γ LV ゜ : surface tension of liquid, γ c : critical surface tension, b: constant

【0085】耐汚染性は、表面層面に菜種油をスポイト
で1滴、滴下した後、滴下した菜種油をリグロインを含
ませた旭化成社製のベンコットで20往復ラビングす
る。さらにその後、拭き取った面のSEM写真を撮影、
面の傷やベンコットの繊維の付着の有無を確認した。粗
面化層に傷やベンコットの繊維の付着が顕著に認められ
る場合を×、全く変化がない場合を○、その中間を△と
した。画面コントラストはJIS C7072 1988
に於ける液晶表示パネルのコントラスト比(CR)測定
方法に準拠し、評価した。画像コントラストの評価にお
ける光源101−液晶パネル−測光器104の位置関係
を図4に示す。この場合、光源101と液晶パネル2と
の間は例えば1cm、液晶パネル2と測光器との間は例
えば50cm、測光器の開口角は例えば5゜に設定し
た。なお、光源には5WのELを使用し、測光器にはミ
ノルタカメラ社製のLS−100を使用した。CRが4
以上の場合を◎、同、3以上、4未満の場合を○、同、
2以上〜3未満の場合を△、同、2未満を×とした。以
上の評価結果を表1に示す。
As for the stain resistance, one drop of rapeseed oil was dropped on the surface of the surface layer with a dropper, and the dropped rapeseed oil was rubbed 20 times with a Bencott made by Asahi Kasei Corporation containing ligroin. After that, take a SEM photograph of the wiped surface,
The presence or absence of scratches on the surface and adhesion of Bencott fibers were checked. The case where scratches and fibers of Bencott fibers were remarkably observed on the roughened layer was evaluated as x, the case where there was no change was evaluated as ○, and the middle was evaluated as Δ. Screen contrast is JIS C7072 1988
The evaluation was made in accordance with the method for measuring the contrast ratio (CR) of the liquid crystal display panel in the above. FIG. 4 shows a positional relationship between the light source 101, the liquid crystal panel, and the photometer 104 in the evaluation of the image contrast. In this case, the distance between the light source 101 and the liquid crystal panel 2 was set to, for example, 1 cm, the distance between the liquid crystal panel 2 and the photometer was set to, for example, 50 cm, and the aperture angle of the photometer was set to, for example, 5 °. The light source used was 5 W EL, and the photometer used was LS-100 manufactured by Minolta Camera. CR is 4
The above cases are indicated by ◎, the cases of 3 or more and less than 4 are indicated by ○, the same,
A case of 2 or more and less than 3 was evaluated as Δ, and a case of less than 2 was evaluated as ×. Table 1 shows the evaluation results.

【0086】[0086]

【表1】 [Table 1]

【0087】表1の結果から明らかなように、本発明の
反射防止材料はいずれも良好な特性が得られているのに
対し、比較例の反射防止材料はすべて臨界表面張力が2
0dyne/cmより大きいために、耐汚染性に問題を
有する。加えて、比較例2はフィラーの含有量が多いの
で、透明性、画像コントラストが劣るものであり、比較
例3はフィラーの粒径が大きいために画像コントラスト
が劣り、ギラツキの問題を有する。また、比較例4は粗
面化層及び表面層が設けられていないので防眩性、耐摩
耗性の問題を有し、さらに、比較例6は粗面化層に硬化
性樹脂に代えて熱化塑性樹脂が使用されているために耐
摩耗性、耐薬品性に劣るものである。
As is clear from the results shown in Table 1, all the antireflection materials of the present invention obtained good characteristics, whereas all of the antireflection materials of Comparative Examples had a critical surface tension of 2%.
Since it is larger than 0 dyne / cm, there is a problem with stain resistance.
Have. In addition, Comparative Example 2 is inferior in transparency and image contrast due to the large content of filler, and Comparative Example 3 is inferior in image contrast due to large filler particle size and has a glare problem. Comparative Example 4 had problems of antiglare property and abrasion resistance because the roughened layer and the surface layer were not provided. Further, Comparative Example 6 had heat-resistant resin instead of curable resin in the roughened layer. Since the plasticized resin is used, it has poor wear resistance and chemical resistance.

【0088】[0088]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、デ
ィスプレイへの太陽光及び蛍光灯等の外部光の映り込み
を防止することにより優れた反射防止性を発揮し、画像
コントラストを低下させることなく、ギラツキ等のない
鮮明な画像を得ることができるとともに、光学的に安定
で優れた耐磨耗性、耐薬品性を示し、かつ、優れた耐汚
染性を示す反射防止材料と偏光フィルムを得ることがで
きる。
As described above, according to the present invention, excellent antireflection properties are exhibited by preventing the reflection of external light such as sunlight and fluorescent lights on the display, and the image contrast is reduced. Anti-reflective materials and polarizing films that can provide clear images without glare without optical glare, exhibit optically stable, excellent wear and chemical resistance, and have excellent stain resistance. Can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の反射防止材料の構成を示す概略断面
図である。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view illustrating a configuration of an antireflection material of the present invention.

【図2】 本発明の反射防止材料を使用した偏光フィル
ムの構成を示す概略断面図である。
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing a configuration of a polarizing film using the antireflection material of the present invention.

【図3】 反射防止材料を使用した偏光フィルムを具備
する液晶表示体の構成を示す概略断面図である。
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view illustrating a configuration of a liquid crystal display including a polarizing film using an antireflection material.

【図4】 反射防止材料を使用した偏光フィルムを具備
する他の液晶表示体の構成を示す概略断面図である。
FIG. 4 is a schematic sectional view showing the configuration of another liquid crystal display including a polarizing film using an antireflection material.

【図5】 画像コントラストの測定装置の配置図を示す
概略図である。
FIG. 5 is a schematic view showing a layout of an image contrast measuring device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…反射防止材料、11…透明基体、12…粗面化
層、20…粗面化層付偏光フィルム、21…透明基体、
22…粗面化層、23…第1の保護材、24…偏光基
体、25…第2の保護材、30…液晶表示体、31…液
晶パネル、32…背面光源、33,34…ガラス基盤、
33´,34´…透明電極面、35…ネマチック液晶、
36…偏光フィルム、40…液晶表示体、41…液晶パ
ネル、42…背面光源、43,44…ガラス基盤、45
…ネマチック液晶、46,47…偏光フィルム、60…
光源、61…液晶パネル、62…測光器。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Anti-reflective material, 11 ... Transparent base, 12 ... Roughened layer, 20 ... Polarized film with a roughened layer, 21 ... Transparent base,
22: roughened layer, 23: first protective material, 24: polarizing substrate, 25: second protective material, 30: liquid crystal display, 31: liquid crystal panel, 32: back light source, 33, 34: glass substrate ,
33 ', 34': transparent electrode surface, 35: nematic liquid crystal,
36: polarizing film, 40: liquid crystal display, 41: liquid crystal panel, 42: back light source, 43, 44: glass substrate, 45
… Nematic liquid crystal, 46, 47… Polarized film, 60…
Light source, 61: liquid crystal panel, 62: photometer.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI G02B 5/30 G02F 1/1335 G02F 1/1335 G09F 9/00 318A G09F 9/00 318 H01J 5/16 H01J 5/16 G02B 1/10 A (72)発明者 山崎 和弘 静岡県静岡市用宗巴町3番1号 株式会 社 巴川製紙所 情報メディア事業部内 (72)発明者 作本 征則 静岡県静岡市用宗巴町3番1号 株式会 社 巴川製紙所 情報メディア事業部内 (56)参考文献 特開 平6−273740(JP,A) 特開 平9−236702(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G02B 5/02 G02B 1/11 G02B 5/30 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI G02B 5/30 G02F 1/1335 G02F 1/1335 G09F 9/00 318A G09F 9/00 318 H01J 5/16 H01J 5/16 G02B 1 / 10 A (72) Inventor Kazuhiro Yamazaki 3-1 Yosoba-cho, Shizuoka-shi, Shizuoka Pref. In the Information Media Division of Hamikawa Paper Mill Co., Ltd. (72) Inventor Masanori Sakumoto No. 3 at Yomune-cho, Shizuoka-shi, Shizuoka No. 1 In the Information Media Division of Hamakawa Paper Mill, Ltd. (56) References JP-A-6-273740 (JP, A) JP-A-9-236702 (JP, A) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7, DB name) G02B 5/02 G02B 1/11 G02B 5/30

Claims (6)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 透明基体の片面もしくは両面に、直接或
いは他の層を介して、粗面化層、表面層を順次設けた反
射防止材料において、前記表面層の臨界表面張力が20
dyne/cm以下であり、前記粗面化層が少なくとも
放射線、熱の何れか、もしくは組み合わせにより硬化す
る樹脂および球状フィラーからなることを特徴とする反
射防止材料。
1. An anti-reflective material having a roughened layer and a surface layer sequentially provided on one or both surfaces of a transparent substrate, directly or via another layer, has a critical surface tension of 20%.
dyne / cm or less, wherein the roughened layer comprises a resin and a spherical filler that are cured by at least one of radiation and heat or a combination thereof, and is an antireflective material.
【請求項2】 前記球状フィラーは、架橋アクリルビー
ズであることを特徴とする請求項1に記載の反射防止材
料。
2. The anti-reflection material according to claim 1, wherein the spherical filler is a crosslinked acrylic bead.
【請求項3】 前記樹脂が少なくともアクリル系化合
物、エポキシ化合物および光カチオン重合開始剤を含む
紫外線硬化型樹脂であることを特徴とする請求項に記
載の反射防止材料。
3. The method according to claim 1, wherein the resin is at least an acrylic compound.
2. The anti-reflection material according to claim 1 , wherein the anti-reflection material is an ultraviolet curable resin containing a substance, an epoxy compound and a cationic photopolymerization initiator.
【請求項4】 前記樹脂が少なくともエポキシ化合物と
下記化学式に示される光カチオン重合開始剤を含む紫外
線硬化型樹脂であることを特徴とする請求項1に記載の
反射防止材料。 【化1】
4. The method according to claim 1, wherein the resin is at least an epoxy compound.
UV containing a cationic photopolymerization initiator represented by the following chemical formula
The resin according to claim 1, wherein the resin is a line-curable resin.
Anti-reflective material. Embedded image
【請求項5】 前記球状フィラーの粒径Dは、0.5μ
m≦D≦6.0μmの範囲の粒子が60重量%以上、
6.0μm<D≦10.0μm、の範囲の粒子が20重
量%未満、10.0μm<D≦15.0μmの範囲の粒
子が5重量%以下、さらに、15.0μmより大きい粒
子が1.0重量%以下である粒度分布を有すことを特徴
とする請求項1に記載の反射防止材料。
5. The particle diameter D of the spherical filler is 0.5 μm.
60% by weight or more of particles in the range of m ≦ D ≦ 6.0 μm;
Less than 20% by weight of particles in the range of 6.0 μm <D ≦ 10.0 μm, 5% by weight or less of particles in the range of 10.0 μm <D ≦ 15.0 μm, and more than 1% of particles larger than 15.0 μm. The anti-reflection material according to claim 1, wherein the anti-reflection material has a particle size distribution of 0% by weight or less.
【請求項6】 透明基体の片面に、直接或いは他の層を
介して、粗面化層、表面層を順次設けてなる第1の保護
材の透明基体側の面に、偏光基体を介して第2の保護材
を積層した偏光フィルムにおいて、前記表面層の臨界表
面張力が20dyne/cm以下であり、前記粗面化層
が少なくとも放射線、熱の何れか、もしくは組み合わせ
により硬化する樹脂および球状フィラーからなることを
特徴とする偏光フィルム。
6. A transparent substrate-side surface of a first protective material having a roughened layer and a surface layer sequentially provided on one surface of a transparent substrate directly or through another layer. In a polarizing film on which a second protective material is laminated, a critical surface tension of the surface layer is 20 dyne / cm or less, and a resin and a spherical filler in which the roughened layer is cured by at least one of radiation and heat or a combination thereof. A polarizing film, comprising:
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