JP6016009B2 - Transfer film, laminate and production method thereof - Google Patents

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Description

本発明は転写フィルム、積層体及びそれらの製造方法に関する。  The present invention relates to a transfer film, a laminate, and a method for producing them.

アクリル樹脂やポリカーボネート樹脂等の透明樹脂は工業用資材、建築用資材等の各種資材として広く使用されている。特に近年では、その透明性と耐衝撃性の観点から、CRT、液晶テレビ、プラズマディスプレイ等の各種ディスプレイの前面板等として使用されている。   Transparent resins such as acrylic resins and polycarbonate resins are widely used as various materials such as industrial materials and building materials. Particularly in recent years, it has been used as a front plate for various displays such as CRT, liquid crystal television and plasma display from the viewpoint of transparency and impact resistance.

近年、前面板においては各種機能付与が求められている。その要求機能の一つとして反射防止機能が挙げられる。   In recent years, various functions have been required for the front plate. One of the required functions is an antireflection function.

反射防止機能は、前面板に写る室内の蛍光灯等の反射光を低減し、画像をより鮮明に表示するための機能である。   The antireflection function is a function for reducing the reflected light of an indoor fluorescent lamp or the like reflected on the front plate and displaying the image more clearly.

反射防止機能の付与方法としては、例えば、特許文献1には、工程紙上に低屈折率層、高屈折率層及び接着層を順次積層した転写フィルムを、接着層の面が接するように透明基材フィルムの表面に積層した後に工程紙を剥離することにより、表面に反射防止機能を有する層を積層させた光学機能性フィルムを得る方法が提案されている。   As a method for imparting an antireflection function, for example, Patent Document 1 discloses a transfer film in which a low refractive index layer, a high refractive index layer, and an adhesive layer are sequentially laminated on a process paper so that the surface of the adhesive layer is in contact. There has been proposed a method of obtaining an optical functional film in which a layer having an antireflection function is laminated on the surface by peeling off the process paper after being laminated on the surface of the material film.

しかしながら、反射防止層の表面に汚れが付着するとその箇所の変色が際立ってしまい、画像表示部材の視認性低下につながることから、最近では、反射防止層の表面には汚れ防止(防汚)機能を付与することが求められるようになっている。   However, if dirt adheres to the surface of the antireflection layer, the discoloration of the portion becomes conspicuous, leading to a decrease in the visibility of the image display member. Is required to be granted.

このような状況において、例えば、特許文献2には、プラスチックフィルムの片面に離型層、防汚性を有する機能性層、反射防止層及び接着層が順次積層された反射防止用転写フィルムが提案されており、この転写フィルムを基材等の被転写物に積層した後に離型層とプラスチックフィルムを剥離して、被転写物の表面に反射防止層と防汚層が順次積層された積層体が得られている。しかしながら、離型層が形成された剥離用フィルムを用いていたため転写後の表面の撥水性が十分でなかった。   Under such circumstances, for example, Patent Document 2 proposes an antireflection transfer film in which a release layer, an antifouling functional layer, an antireflection layer, and an adhesive layer are sequentially laminated on one surface of a plastic film. A laminate in which the transfer film is laminated on a transfer object such as a substrate, and then the release layer and the plastic film are peeled off, and an antireflection layer and an antifouling layer are sequentially laminated on the surface of the transfer object. Is obtained. However, since the release film on which the release layer was formed was used, the water repellency of the surface after transfer was not sufficient.

特開2004−310,135号公報JP 2004-310,135 A 特開2003−103,680号公報JP 2003-103,680 A

本発明の目的とするところは、外観、反射防止性及び透明性に優れ、且つ優れた防汚性を有する積層体及びその製造方法並びに前記積層体を得ることが可能な転写フィルム及びその製造方法を提供することである。   The object of the present invention is to provide a laminate having excellent appearance, antireflection properties and transparency, and having excellent antifouling properties, a method for producing the same, a transfer film capable of obtaining the laminate, and a method for producing the same. Is to provide.

本発明の要旨とするところは、剥離用フィルムの表面を、親水化処理及び沸点が200℃以下である有機溶媒を塗布し乾燥温度80〜130℃で乾燥する処理から選ばれる少なくとも1種の表面処理を行った後に、剥離用フィルムの表面処理を行った面に防汚層を形成する転写フィルム(以下、「本転写フィルム1」という)の製造方法を第1の発明とする。 The gist of the present invention is that the surface of the peeling film is at least one surface selected from a hydrophilic treatment and a treatment in which an organic solvent having a boiling point of 200 ° C. or less is applied and dried at a drying temperature of 80 to 130 ° C. A method for producing a transfer film (hereinafter referred to as “the present transfer film 1”) in which an antifouling layer is formed on the surface subjected to the surface treatment of the peeling film after the treatment is defined as a first invention.

また、本発明の要旨とするところは、剥離用フィルムの表面を、親水化処理及び沸点が200℃以下である有機溶媒を塗布し乾燥温度80〜130℃で乾燥する処理から選ばれる少なくとも1種の表面処理を行った後に、剥離用フィルムの表面処理を行った面に防汚層及び高屈折率層をこの順に形成する転写フィルム(以下、「本転写フィルム2」という)の製造方法であって、前記高屈折率層の屈折率(n KK )が1.6以上である転写フィルムの製造方法を第2の発明とする。 Further, the gist of the present invention is that at least one selected from a hydrophilization treatment and an organic solvent having a boiling point of 200 ° C. or less and drying at a drying temperature of 80 to 130 ° C. is applied to the surface of the peeling film. Is a method for producing a transfer film (hereinafter referred to as “this transfer film 2”) in which an antifouling layer and a high refractive index layer are formed in this order on the surface of the release film that has been subjected to the surface treatment. A method for producing a transfer film in which the refractive index (n KK ) of the high refractive index layer is 1.6 or more is defined as a second invention.

更に、本発明の要旨とするところは、剥離用フィルムの表面を、親水化処理及び沸点が200℃以下である有機溶媒を塗布し乾燥温度80〜130℃で乾燥する処理から選ばれる少なくとも1種の表面処理を行った後に、剥離用フィルムの表面処理を行った面に防汚層、高屈折率層及び中屈折率層をこの順に形成する転写フィルム(以下、「本転写フィルム3」という)の製造方法であって、記高屈折率層の屈折率(n KK )が1.6以上であり、前記中屈折率層の屈折率(n CHK )が1.5〜1.65である転写フィルムの製造方法を第3の発明とする。 Further, the gist of the present invention is that at least one selected from a hydrophilic treatment and an organic solvent having a boiling point of 200 ° C. or less and drying at a drying temperature of 80 to 130 ° C. is applied to the surface of the peeling film. After performing the surface treatment, a transfer film in which an antifouling layer, a high refractive index layer and a medium refractive index layer are formed in this order on the surface of the peeling film (hereinafter referred to as “the present transfer film 3”). The refractive index (n KK ) of the high refractive index layer is 1.6 or more, and the refractive index (n CHK ) of the medium refractive index layer is 1.5 to 1.65. A method for producing a film is a third invention.

更に、本発明の要旨とするところは、本転写フィルム1の防汚層が形成された側の面を、接着層を形成するための塗膜を直接又は他の層を介して基材と貼り合わせて転写フィルムラミネート物1を形成し、次いで接着層を形成するための塗膜から接着層を得て転写フィルム積層体1を形成し、この後転写フィルム積層体1から剥離用フィルムを剥離する積層体(以下、「本積層体1」という)の製造方法を第の発明とする。 Further, the gist of the present invention is that the surface of the transfer film 1 on which the antifouling layer is formed is attached to the substrate directly or through another layer with a coating film for forming an adhesive layer. Together, the transfer film laminate 1 is formed, and then the adhesive layer is obtained from the coating film for forming the adhesive layer to form the transfer film laminate 1, and then the release film is peeled from the transfer film laminate 1. A method for manufacturing a laminate (hereinafter referred to as “the present laminate 1”) is a fourth invention.

また、本発明の要旨とするところは、本転写フィルム2の高屈折率層が形成された側の面を、接着層を形成するための塗膜を直接又は他の層を介して基材と貼り合わせて転写フィルムラミネート物2を形成し、次いで接着層を形成するための塗膜から接着層を得て転写フィルム積層体2を形成し、この後転写フィルム積層体2から剥離用フィルムを剥離する積層体(以下、「本積層体2」という)の製造方法を第の発明とする。 Further, the gist of the present invention is that the surface of the transfer film 2 on which the high refractive index layer is formed is coated with a base material directly or through another layer with a coating film for forming an adhesive layer. The transfer film laminate 2 is formed by bonding, then the adhesive layer is obtained from the coating film for forming the adhesive layer, the transfer film laminate 2 is formed, and then the release film is peeled from the transfer film laminate 2 The manufacturing method of the laminated body (henceforth "this laminated body 2") to make is made into 5th invention.

更に、本発明の要旨とするところは、本転写フィルム3の中屈折率層が形成された側の面を、接着層を形成するための塗膜を直接又は他の層を介して基材と貼り合わせて転写フィルムラミネート物3を形成し、次いで接着層を形成するための塗膜から接着層を得て転写フィルム積層体3を形成し、この後転写フィルム積層体3から剥離用フィルムを剥離する積層体(以下、「本積層体3」という)の製造方法を第の発明とする。 Further, the gist of the present invention is that the surface on which the intermediate refractive index layer of the transfer film 3 is formed is coated with a base material directly or through another layer with a coating film for forming an adhesive layer. The transfer film laminate 3 is formed by bonding, then the adhesive layer is obtained from the coating film for forming the adhesive layer, and the transfer film laminate 3 is formed, and then the release film is peeled from the transfer film laminate 3 A manufacturing method of a laminated body (hereinafter referred to as “the present laminated body 3”) is referred to as a sixth invention.

本発明により外観、反射防止性及び透明性に優れ、且つ優れた防汚性を有する積層体が得られることから、本積層体1〜3は、屋外で使用される画像表示部材や、指紋、皮脂、ファンデーション等が付着し易い、携帯電話、携帯情報端末、ノートブック型パソコン等の前面板として好適である。   Since a laminate having excellent appearance, antireflection properties and transparency and having excellent antifouling properties can be obtained according to the present invention, the laminates 1 to 3 are image display members used outdoors, fingerprints, It is suitable as a front plate for cellular phones, portable information terminals, notebook personal computers, etc. to which sebum, foundations and the like easily adhere.

本発明の一実施形態を示す、中屈折率層が金属酸化物微粒子含有層であるときの中屈折率層の厚み方向断面図1 is a sectional view in the thickness direction of a medium refractive index layer when the medium refractive index layer is a metal oxide fine particle-containing layer, showing an embodiment of the present invention.


剥離用フィルム
本発明で使用される剥離用フィルムは、本転写フィルム1、2又は3を後述する基材の表面に積層した後に剥離して除去されるもので、従来転写用剥離フィルムとして使用されているもの、例えば、活性エネルギー線透過性フィルムを使用することができる。

Peeling film The peeling film used in the present invention is a film to be peeled off after laminating the transfer film 1, 2 or 3 on the surface of a substrate described later, and is conventionally used as a peeling film for transfer. For example, an active energy ray transparent film can be used.

剥離用フィルムとしては、剥離用フィルムの表面に有機溶媒を塗布する際にハジキ欠陥(塗膜の一部に下地が露出する現象)等がない良好な製膜性を得る点で、臨界表面張力が40mN/m以上の表面を有する活性エネルギー線透過性フィルムが好ましい。   The release film has a critical surface tension in that it has good film-forming properties without repelling defects (a phenomenon in which the substrate is exposed to a part of the coating film) when an organic solvent is applied to the surface of the release film. Is preferably an active energy ray-permeable film having a surface of 40 mN / m or more.

尚、本発明において、臨界表面張力はZismanプロットにより算出することができる。即ち、表面張力が異なる数種の標準液を調整し、これらの標準液をフィルムの表面に滴下して標準液とフィルム表面との接触角(θ)を測定する。得られた接触角(θ)からcosθ値を算出し、cosθ値と表面張力をXY座標とするグラフ上に、このcosθ値と標準液の表面張力の値とをプロットし、得られたプロット(Zismanプロット)を結ぶ直線とcosθ=1で示される直線との交点における表面張力の値を臨界表面張力とする。   In the present invention, the critical surface tension can be calculated from a Zisman plot. That is, several types of standard solutions having different surface tensions are prepared, and these standard solutions are dropped on the surface of the film, and the contact angle (θ) between the standard solution and the film surface is measured. The cos θ value is calculated from the obtained contact angle (θ), and the cos θ value and the surface tension value of the standard solution are plotted on a graph having the cos θ value and the surface tension as XY coordinates. The value of the surface tension at the intersection of the straight line connecting the Zisman plot) and the straight line indicated by cos θ = 1 is defined as the critical surface tension.

剥離用フィルムの具体例としては、ポリエチレンテレタレートフィルム(以下、「PETフィルム」という。)、ポリカーボネートフィルム、ポリアミドフィルム、ポリアミドイミドフィルム等の合成樹脂フィルム、これらの複合フィルム状物又は複合シート状物及びそれらに剥離層を積層したものが挙げられる。   Specific examples of the peeling film include a polyethylene terephthalate film (hereinafter referred to as “PET film”), a synthetic resin film such as a polycarbonate film, a polyamide film, and a polyamideimide film, and a composite film or a composite sheet thereof. And those obtained by laminating a release layer thereon.

これらの中で、PETフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム(以下、「PENフィルム」という。)、ポリブチレンテレフタレートフィルム、ポリブチレンナフタレート、ポリトリメチレンテレフタレート等で代表される芳香族ポリエステルフィルムが好ましく、PETフィルム及びPENフィルムがより好ましい。   Among these, an aromatic polyester film represented by PET film, polyethylene naphthalate film (hereinafter referred to as “PEN film”), polybutylene terephthalate film, polybutylene naphthalate, polytrimethylene terephthalate, etc. is preferable. More preferred are films and PEN films.

本発明においては、剥離用フィルムとして芳香族ポリエステルフィルムを使用することにより、後述する防汚層形成用組成物としてパーフルオロポリエーテル基と窒素原子を含有するモノマー(A)(以下、「モノマー(A)」という。)の含有量が少ない、屈折率が低い防汚層形成用組成物を使用しても、得られる本積層体1、2又は3の防汚層の表面の水接触角やトリオレイン接触角を高くすることが可能となり、その結果、防汚層形成用組成物中に耐擦傷性を向上させる成分を多量に添加でき、本積層体1、2又は3の防汚層の表面の耐擦傷性を良好とすることができる点で好ましい。   In the present invention, by using an aromatic polyester film as a release film, the monomer (A) containing a perfluoropolyether group and a nitrogen atom (hereinafter referred to as “monomer”) A) ").) Even if the antifouling layer-forming composition having a low content and a low refractive index is used, the water contact angle on the surface of the antifouling layer of the obtained laminate 1, 2, or 3 is It becomes possible to increase the triolein contact angle, and as a result, a large amount of the component for improving the scratch resistance can be added to the antifouling layer forming composition, and the antifouling layer of the present laminate 1, 2 or 3 can be added. It is preferable at the point which can make surface abrasion resistance favorable.

剥離用フィルムの厚みとしては、しわ、亀裂等のない本転写フィルム1、2又は3の製造の容易性の点で4μm以上が好ましく、12μm以上がより好ましく、30μm以上が更に好ましい。また、剥離用フィルムの厚さとしては、本転写フィルム1、2又は3の製造コストや紫外線透過率の点で500μm以下が好ましく、150μm以下がより好ましく、120μm以下が更に好ましい。   The thickness of the peeling film is preferably 4 μm or more, more preferably 12 μm or more, and even more preferably 30 μm or more from the viewpoint of ease of production of the present transfer film 1, 2 or 3 free from wrinkles, cracks and the like. Further, the thickness of the peeling film is preferably 500 μm or less, more preferably 150 μm or less, and further preferably 120 μm or less in view of the production cost and ultraviolet transmittance of the transfer film 1, 2 or 3.

本発明においては、本発明の目的を逸脱しない範囲で剥離用フィルムの表面に剥離層を設けても良い。   In this invention, you may provide a peeling layer in the surface of the film for peeling in the range which does not deviate from the objective of this invention.

剥離用フィルムの表面に剥離層を形成させる場合の剥離層形成材としては、公知の剥離層を形成するポリマーやワックス等を適宜選択使用できる。   As a release layer forming material for forming a release layer on the surface of the release film, a polymer or wax that forms a known release layer can be appropriately selected and used.

剥離層の形成方法としては、例えば、メラミン系、尿素系、尿素−メラミン系、ベンゾグアナミン系等の樹脂及び界面活性剤を有機希釈溶媒又は水に溶解させた塗料を、グラビア印刷法、スクリ−ン印刷法、オフセット印刷法等の公知の印刷法で剥離用フィルムの表面に塗布、乾燥又は硬化させて形成する方法が挙げられる。   As a method for forming the release layer, for example, a melamine-based, urea-based, urea-melamine-based, benzoguanamine-based resin, and a paint in which a surfactant is dissolved in an organic diluent solvent or water, gravure printing method, screen Examples thereof include a method in which the film is applied, dried or cured on the surface of the peeling film by a known printing method such as a printing method or an offset printing method.

剥離層の厚さは、通常0.1〜3μm程度である。剥離層が適度の厚みを有すると低屈折率膜から剥離し易くなる傾向にある。逆に剥離層が厚すぎなければ、転写前に剥離用フィルムから低屈折率膜が脱離しにくい傾向にある。

表面処理
本発明においては、剥離用フィルムの表面には表面処理が施される。
The thickness of the release layer is usually about 0.1 to 3 μm. When the release layer has an appropriate thickness, it tends to be easily peeled off from the low refractive index film. Conversely, if the release layer is not too thick, the low refractive index film tends not to be detached from the release film before transfer.

Surface Treatment In the present invention, the surface of the release film is subjected to a surface treatment.

表面処理としては、親水化処理及び有機溶媒を塗布・乾燥する処理から選ばれる少なくとも1種の処理が挙げられる。   Examples of the surface treatment include at least one treatment selected from a hydrophilic treatment and a treatment of applying and drying an organic solvent.

後述の防汚層形成用組成物を塗布する前に剥離用フィルムの防汚層形成用組成物が塗付される面を表面処理することで、得られる本積層体1、2又は3の外観を良好とすることができる。   Appearance of this laminate 1, 2 or 3 obtained by surface-treating the surface of the release film to which the antifouling layer-forming composition is applied before applying the antifouling layer-forming composition described later Can be good.

親水化処理としては、例えば、コロナ処理、プラズマ処理、紫外線照射処理、電子線照射処理、加熱処理及び酸化材塗布処理が挙げられる。また、これら処理を組み合わせてもよい。これらの中で、親水化処理としては、本積層体1、2又は3の耐擦傷性が良好となる観点から、コロナ処理及び紫外線照射処理が好ましい。   Examples of the hydrophilic treatment include corona treatment, plasma treatment, ultraviolet irradiation treatment, electron beam irradiation treatment, heat treatment, and oxidizing material coating treatment. Further, these processes may be combined. Among these, as the hydrophilization treatment, corona treatment and ultraviolet irradiation treatment are preferable from the viewpoint of improving the scratch resistance of the present laminate 1, 2 or 3.

コロナ処理の方法としては、例えば、通常のコロナ処理装置を使用して処理する方法が挙げられる。コロナ処理の一例を以下に示す。   Examples of the corona treatment method include a treatment method using an ordinary corona treatment apparatus. An example of corona treatment is shown below.

電気絶縁されたベルトとベルト上方に近接させて配置した電極を有するコロナ処理装置を用いて、電極に高エネルギーを作用させてコロナ放電させ、ベルト上に剥離用フィルムを電極下に通すことにより剥離用フィルムの表面にコロナ処理を施す。   Using a corona treatment device with an electrically insulated belt and an electrode placed close to the top of the belt, high energy is applied to the electrode to cause corona discharge, and peeling is performed by passing a peeling film under the electrode on the belt. Corona treatment is applied to the film surface.

この時の剥離用フィルムに対する照射エネルギーは10〜200W・分/mが好ましい。照射エネルギーを10W・分/m以上とすることにより剥離用フィルムと防汚層との接着性を良好とすることができる傾向にある。また、照射エネルギーを200W・分/m以下とすることにより防汚層の外観を良好とすることができる傾向にある。また、剥離用フィルムと電極とのクリアランスはコロナ放電を安定に発生させるために5mm以下が好ましい。   The irradiation energy for the peeling film at this time is preferably 10 to 200 W · min / m. By setting the irradiation energy to 10 W · min / m or more, the adhesion between the peeling film and the antifouling layer tends to be good. Moreover, it exists in the tendency which can make the external appearance of a pollution protection layer favorable by making irradiation energy into 200 W * min / m or less. The clearance between the peeling film and the electrode is preferably 5 mm or less in order to stably generate corona discharge.

プラズマ処理の方法としては、例えば、通常のプラズマ処理装置を使用して処理する方法が挙げられるが、大気圧プラズマ処理装置を使用して処理する方法が操作上、簡便であることから好ましい。   Examples of the plasma treatment method include a treatment method using a normal plasma treatment apparatus, and a treatment method using an atmospheric pressure plasma treatment apparatus is preferable because it is easy in terms of operation.

プラズマ処理法としては、例えば、リモート法及びダイレクト法が挙げられるが、均一な処理が得られる点でダイレクト法が好ましい。   Examples of the plasma treatment method include a remote method and a direct method, but the direct method is preferable in that uniform treatment can be obtained.

大気圧プラズマ処理装置の一例としては、チャンバー内に上部電極と下部電極を有する一対の対向電極を備え、少なくとも一方の電極の対向面が誘電体で被覆されたものが挙げられる。   As an example of the atmospheric pressure plasma processing apparatus, a chamber is provided that includes a pair of counter electrodes each having an upper electrode and a lower electrode, and at least one electrode facing surface is covered with a dielectric.

上記の装置において、プラズマが発生する部位は対向電極のいずれか一方のみに誘電体が被覆された場合には誘電体と電極の間であり、対向電極のいずれにも誘電体が被覆された場合には誘電体間である。このようなプラズマ処理装置の対向電極間に剥離用フィルムを配置し、電源部に高周波電力を印加して対向電極間にプラズマを発生させ、剥離用フィルムの表面をプラズマ処理する。   In the above apparatus, when the dielectric is coated on only one of the counter electrodes, the part where the plasma is generated is between the dielectric and the electrode, and the dielectric is coated on both of the counter electrodes Between the dielectrics. A peeling film is disposed between the counter electrodes of such a plasma processing apparatus, high frequency power is applied to the power supply unit to generate plasma between the counter electrodes, and the surface of the peeling film is plasma processed.

対向電極の対向面間の距離(最短距離)としては、剥離用フィルムの厚み、被覆された誘電体の厚さ、印加される電圧の大きさ等を考慮して決定されるが、対向電極の一方のみに誘電体が被覆された場合又は対向電極の両方に誘電体が被覆された場合のいずれにおいても、50mm以下であることが好ましい。最短距離が50mm以下であると、均一な放電プラズマを発生させることができる傾向にある。   The distance between the opposing surfaces of the counter electrode (shortest distance) is determined in consideration of the thickness of the peeling film, the thickness of the coated dielectric, the magnitude of the applied voltage, etc. In either case where only one side is covered with a dielectric or both sides of the counter electrode are covered with a dielectric, it is preferably 50 mm or less. When the shortest distance is 50 mm or less, uniform discharge plasma tends to be generated.

対向電極間に印加する高周波電力の周波数としては1kHz以上が好ましい。また対向電極間に印加する高周波電力の周波数としては10MHz以下が好ましく、500kHz以下がより好ましい。   The frequency of the high frequency power applied between the counter electrodes is preferably 1 kHz or more. Further, the frequency of the high frequency power applied between the counter electrodes is preferably 10 MHz or less, and more preferably 500 kHz or less.

電力面密度としては2〜30W/cmが好ましい。周波数としては、1〜500kHzで剥離用フィルムの処理時の変形や劣化が抑制される傾向にある。 The power surface density is preferably 2 to 30 W / cm 2 . As a frequency, it exists in the tendency for the deformation | transformation and deterioration at the time of the process of a peeling film to be suppressed at 1-500 kHz.

また、電力面密度が30W/cm以下でプラズマ照射熱による剥離用フィルムの変形を抑制することができる傾向にある。 Moreover, it exists in the tendency which can suppress a deformation | transformation of the film for peeling by a plasma irradiation heat at a power surface density of 30 W / cm < 2 > or less.

尚、本発明において、電力面密度とは一対の対向電極間に投入する電力をプラズマと接している一方の電極の表面積で割った値をいう。   In the present invention, the power surface density is a value obtained by dividing the power input between a pair of opposed electrodes by the surface area of one electrode in contact with plasma.

紫外線照射処理の方法としては、例えば、以下に示す方法が挙げられる。   Examples of the ultraviolet irradiation treatment method include the following methods.

使用される光源としては、例えば、高圧水銀灯、メタルハライドランプ及び蛍光紫外線ランプが挙げられる。   Examples of the light source used include a high-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, and a fluorescent ultraviolet lamp.

紫外線照射処理の環境としては、例えば、窒素やアルゴン等の不活性ガス雰囲気下が挙げられる。   Examples of the environment for the ultraviolet irradiation treatment include an atmosphere of an inert gas such as nitrogen or argon.

紫外線照射処理における酸素濃度としては1,000ppm以下が好ましく、500ppm以下がより好ましく、300ppm以下が更に好ましい。   The oxygen concentration in the ultraviolet irradiation treatment is preferably 1,000 ppm or less, more preferably 500 ppm or less, and still more preferably 300 ppm or less.

また、紫外線の照射条件としては、例えば、ピーク照度100〜1,200mW/cm及び積算光量100〜1,200mJ/cmの照射条件が挙げられる。 Moreover, as irradiation conditions of an ultraviolet-ray, the irradiation conditions of the peak illumination intensity of 100-1,200 mW / cm < 2 > and the integrated light quantity 100-1,200 mJ / cm < 2 > are mentioned, for example.

有機溶媒を塗布・乾燥する処理の方法としては、例えば、剥離用フィルムの表面に沸点が200℃以下の有機溶媒を塗布した後に有機溶媒を乾燥させる方法が挙げられる。   Examples of the treatment method for applying and drying the organic solvent include a method of drying the organic solvent after applying an organic solvent having a boiling point of 200 ° C. or less to the surface of the peeling film.

沸点が200℃以下の有機溶媒としては、例えば、1−メトキシ−2−プロパノール、トルエン、キシレン、酢酸ブチル、クロロフォルム、メチルイソブチルケトン、イソプロパノール及びエタノールが挙げられる。これらの中で、剥離用フィルムへの濡れ性が良好である観点から、1−メトキシ−2−プロパノール、トルエン及びキシレンが好ましい。   Examples of the organic solvent having a boiling point of 200 ° C. or lower include 1-methoxy-2-propanol, toluene, xylene, butyl acetate, chloroform, methyl isobutyl ketone, isopropanol, and ethanol. Among these, 1-methoxy-2-propanol, toluene, and xylene are preferable from the viewpoint of good wettability to the release film.

剥離用フィルムの表面に有機溶媒を塗布する方法としては、例えば、流延法、グラビアコート法、リバースグラビアコート法、バキュームスロットダイコート法、ローラーコート法、バーコート法、噴霧コート法、エアーナイフコート法、スピンコート法、フローコート法、カーテンコート法、フィルムカバー法及びディッピング法が挙げられる。   Examples of the method for applying an organic solvent to the surface of the release film include a casting method, a gravure coating method, a reverse gravure coating method, a vacuum slot die coating method, a roller coating method, a bar coating method, a spray coating method, and an air knife coating. Method, spin coating method, flow coating method, curtain coating method, film cover method and dipping method.

沸点が200℃以下の有機溶媒の乾燥温度としては80〜130℃が好ましい。乾燥温度をこの温度領域とすることにより十分な乾燥が行われ、且つ乾燥に伴うフィルム皺の発生も少ない傾向にある。   The drying temperature of the organic solvent having a boiling point of 200 ° C. or lower is preferably 80 to 130 ° C. By setting the drying temperature within this temperature range, sufficient drying is performed, and the generation of film wrinkles due to drying tends to be small.

本発明においては、親水化処理と有機溶媒を塗布・乾燥する処理とを組み合わせても良い。この場合、どちらの処理を先に実施してもよい。即ち、親水化処理の後に有機溶媒を塗布・乾燥させる処理を実施しても良いし、有機溶媒を塗布・乾燥する処理の後に親水化処理を実施しても良い。

防汚層
本発明において防汚層は本転写フィルム1、2若しくは3の表面処理された剥離用フィルムの表面又は本積層体1、2若しくは3の表面に形成されている層である。
In the present invention, a hydrophilic treatment and a treatment for applying and drying an organic solvent may be combined. In this case, either process may be performed first. That is, a treatment for applying and drying an organic solvent may be performed after the hydrophilic treatment, or a hydrophilic treatment may be performed after the treatment for applying and drying the organic solvent.

Antifouling layer In the present invention, the antifouling layer is a layer formed on the surface of the release film on which the surface of the transfer film 1, 2 or 3 has been treated or on the surface of the laminate 1, 2 or 3.

防汚層の厚みとしては、本積層体1、2又は3の表面の防汚性、耐擦傷性の観点から、10nm以上が好ましく、60nm以上がより好ましい。また、光学特性の観点から、1.3μm以下が好ましく、300nm以下がより好ましく、110nm以下が更に好ましい。   The thickness of the antifouling layer is preferably 10 nm or more, and more preferably 60 nm or more, from the viewpoint of the antifouling property and scratch resistance of the surface of the laminate 1, 2 or 3. Further, from the viewpoint of optical characteristics, 1.3 μm or less is preferable, 300 nm or less is more preferable, and 110 nm or less is still more preferable.

防汚層を形成するための防汚層用組成物(以下、「防汚層形成用組成物」という。)としては、熱硬化性及び活性エネルギー線硬化性から選ばれる少なくとも1種の硬化性を有するものが挙げられる。   The antifouling layer composition for forming the antifouling layer (hereinafter referred to as “antifouling layer forming composition”) is at least one curable selected from thermosetting and active energy ray curable. The thing which has is mentioned.

防汚層形成用組成物の成分としては、例えば、以下に示すモノマー(A)が挙げられる。尚、モノマー(A)はパーフルオロポリエーテル基と窒素原子とを、同一化合物内にそれぞれ独立に有する。   As a component of the composition for antifouling layer formation, the monomer (A) shown below is mentioned, for example. The monomer (A) has a perfluoropolyether group and a nitrogen atom independently in the same compound.

モノマー(A)の具体例としては、例えば、ジイソシアネートを3量体化させたトリイソシアネート(C)(以下、「トリイソシアネート(C)」という。)と活性水素含有化合物(D)とを反応させることにより得られるモノマー(A−1)(以下、「モノマー(A−1)」という。)が挙げられる。   As a specific example of the monomer (A), for example, a triisocyanate (C) obtained by trimerizing diisocyanate (hereinafter referred to as “triisocyanate (C)”) and an active hydrogen-containing compound (D) are reacted. Monomer (A-1) obtained by this (hereinafter referred to as “monomer (A-1)”).

トリイソシアネート(C)を得るために使用されるジイソシアネートとしては、例えば、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート等の、イソシアネート基が脂肪族骨格に結合したジイソシアネート及びトリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート等の、イソシアネート基が芳香族骨格に結合したジイソシアネートが挙げられる。   Examples of the diisocyanate used to obtain the triisocyanate (C) include an isocyanate group bonded to an aliphatic skeleton, such as hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, xylylene diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate, and dicyclohexylmethane diisocyanate. Examples thereof include diisocyanates in which an isocyanate group is bonded to an aromatic skeleton, such as diisocyanate and tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, and naphthalene diisocyanate.

活性水素含有化合物(D)としては、例えば、水酸基等の活性水素を含む化合物が挙げられる。   Examples of the active hydrogen-containing compound (D) include compounds containing active hydrogen such as a hydroxyl group.

活性水素含有化合物(D)の具体例としては、1つの活性水素を有するパーフルオロポリエーテル(D−1)(以下、「ポリエーテル(D−1)」という。)及び活性水素と炭素−炭素二重結合とを有するモノマー(D−2)(以下、「モノマー(D−2)」という。)が挙げられる。   Specific examples of the active hydrogen-containing compound (D) include perfluoropolyether (D-1) having one active hydrogen (hereinafter referred to as “polyether (D-1)”), active hydrogen and carbon-carbon. And a monomer (D-2) having a double bond (hereinafter referred to as “monomer (D-2)”).

ポリエーテル(D−1)としては、例えば、パーフルオロポリエーテル基及び1つの分子末端に1つの水酸基を有する化合物が挙げられる。   Examples of the polyether (D-1) include compounds having a perfluoropolyether group and one hydroxyl group at one molecular end.

ポリエーテル(D−1)の具体例としては、下式(1)に示される化合物が挙げられる。   Specific examples of the polyether (D-1) include compounds represented by the following formula (1).

Figure 0006016009
(式中、Xはフッ素原子、Y及びZはそれぞれフッ素原子又はトリフルオロメチル基を示す。aは1〜16の整数、cは0〜5の整数、b、d、e、f及びgは0〜200の整数、並びにhは0〜16の整数である。)。
Figure 0006016009
(In the formula, X represents a fluorine atom, Y and Z each represents a fluorine atom or a trifluoromethyl group. A represents an integer of 1 to 16, c represents an integer of 0 to 5, b, d, e, f and g represent An integer of 0-200, and h is an integer of 0-16.)

式(1)において、a〜hの数値が大きすぎなければ分子量が大きくなり過ぎず、希釈溶媒への溶解性が良好となる傾向がある。一方、a〜hの数値が小さすぎなければ本積層体1又は2の防汚性が良好となる傾向がある。   In the formula (1), if the numerical values a to h are not too large, the molecular weight does not become too large, and the solubility in a diluting solvent tends to be good. On the other hand, if the numerical values of a to h are not too small, the antifouling property of the laminate 1 or 2 tends to be good.

モノマー(D−2)としては、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート及び2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレートが挙げられる。   Examples of the monomer (D-2) include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, and 2-hydroxybutyl (meth) acrylate.

尚、本発明において、「(メタ)アクリル」は「アクリル」又は「メタクリル」を意味する。   In the present invention, “(meth) acryl” means “acryl” or “methacryl”.

モノマー(A−1)の合成法としては、例えば、トリイソシアネート(C)の一つのイソシアネート基にポリエーテル(D−1)を反応させ、残りの二つのイソシアネート基にモノマー(D−2)を反応させることにより得ることができる。この反応はトリイソシアネート(C)にポリエーテル(D−1)及びモノマー(D−2)を同時に反応させてもよいし、順次反応させてもよい。   As a method for synthesizing the monomer (A-1), for example, the polyether (D-1) is reacted with one isocyanate group of the triisocyanate (C), and the monomer (D-2) is reacted with the remaining two isocyanate groups. It can be obtained by reacting. In this reaction, the triisocyanate (C) may be reacted with the polyether (D-1) and the monomer (D-2) simultaneously or sequentially.

モノマー(A−1)の具体例としては下式(2)に示される化合物が挙げられる。   Specific examples of the monomer (A-1) include compounds represented by the following formula (2).

Figure 0006016009
(式中、Wはパーフルオロポリエーテル基を表す。)
本発明においては、モノマー(A)としては、本積層体1、2又は3の防汚性が良好である観点から、式(2)で示される化合物が好ましい。
Figure 0006016009
(In the formula, W represents a perfluoropolyether group.)
In the present invention, the monomer (A) is preferably a compound represented by the formula (2) from the viewpoint of good antifouling properties of the present laminate 1, 2 or 3.

モノマー(A)の他の例としては、イソシアネート基と、1個又は2個の(メタ)アクリロイルオキシ基とを同一化合物内に有する化合物(E)(以下、「化合物(E)」という。)と、分子末端に少なくとも一つの活性水素を有するパーフルオロポリエーテル(F)(以下、「パーフルオロポリエーテル(F)」という。)を反応させて得られるモノマー(A−2)(以下、「モノマー(A−2)」という。)が挙げられる。   As another example of the monomer (A), a compound (E) having an isocyanate group and one or two (meth) acryloyloxy groups in the same compound (hereinafter referred to as “compound (E)”). And a monomer (A-2) obtained by reacting perfluoropolyether (F) having at least one active hydrogen at the molecular terminal (hereinafter referred to as “perfluoropolyether (F)”) (hereinafter referred to as “perfluoropolyether (F)”). Monomer (A-2) ").

パーフルオロポリエーテル(F)としては市販品を用いることができ、例えば、パーフルオロポリエーテルジオールとしてソルベイソレクシス社製のFLUOROLINK D10H、FLUOROLINK D及びFLUOROLINK D4000(いずれも商品名)が挙げられる。   A commercially available product can be used as the perfluoropolyether (F). Examples of the perfluoropolyether diol include FLUOROLINK D10H, FLUOROLINK D and FLUOROLINK D4000 (all trade names) manufactured by Solvay Solexis.

化合物(E)としては市販品を用いることができ、例えば、昭和電工(株)製のカレンズBEI(1,1−ビス(アクリロイルオキシメチル)エチルイソシアネート)、カレンズAOI(2−アクリロイルオキシエチルイソシアネート)及びカレンズM01(2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート)(いずれも商品名)が挙げられる。   As the compound (E), a commercially available product can be used. For example, Karenz BEI (1,1-bis (acryloyloxymethyl) ethyl isocyanate), Karenz AOI (2-acryloyloxyethyl isocyanate) manufactured by Showa Denko KK And Karenz M01 (2-methacryloyloxyethyl isocyanate) (both are trade names).

モノマー(A−2)としては、例えば、化合物(E)のイソシアネート基とパーフルオロポリエーテル(F)の水酸基とが結合した化合物として、一分子内に一つのパーフルオロポリエーテル基と一つ又は二つのビニル基(又は(メタ)アクリロイルオキシ基)とを独立に有する化合物、好ましくは二つのビニル基(又は(メタ)アクリロイルオキシ基)とを独立に有する化合物が挙げられる。   As the monomer (A-2), for example, as a compound in which the isocyanate group of the compound (E) and the hydroxyl group of the perfluoropolyether (F) are bonded, one perfluoropolyether group and one or A compound having two vinyl groups (or (meth) acryloyloxy groups) independently, preferably a compound having two vinyl groups (or (meth) acryloyloxy groups) independently.

ここで「独立に」とは、パーフルオロポリエーテル基と(メタ)アクリロイルオキシ基とが直接結合していないことを意味する。   Here, “independently” means that the perfluoropolyether group and the (meth) acryloyloxy group are not directly bonded.

防汚層形成用組成物中に含まれるモノマー(A)の含有量としては、防汚層形成用組成物中の固形分100質量部中に10質量部以上が好ましく、12質量部以上がより好ましい。また、モノマー(A)の含有量としては、50質量部以下が好ましく、30質量部以下がより好ましい。上記の範囲内であれば、本積層体1、2又は3の表面の防汚性及び硬度が良好となる傾向にある。即ち、本積層体1、2又は3の防汚層の表面の水接触角が90度以上でトリオレイン接触角が55度以上となる傾向にある。   The content of the monomer (A) contained in the antifouling layer forming composition is preferably 10 parts by mass or more, more preferably 12 parts by mass or more in 100 parts by mass of the solid content in the antifouling layer forming composition. preferable. Moreover, as content of a monomer (A), 50 mass parts or less are preferable, and 30 mass parts or less are more preferable. If it is in said range, it exists in the tendency for the antifouling property and hardness of the surface of this laminated body 1, 2, or 3 to become favorable. That is, the water contact angle of the antifouling layer of the present laminate 1, 2 or 3 tends to be 90 degrees or more and the triolein contact angle is 55 degrees or more.

ここで防汚層形成用組成物中の固形分とは後述する防汚層形成用組成物中の防汚層用希釈溶媒を除く成分のことをいう。   Here, the solid content in the antifouling layer-forming composition refers to a component excluding the antifouling layer dilution solvent in the antifouling layer-forming composition described below.

本発明においては、防汚層形成用組成物中には、目的に応じて、無機微粒子(B)を含有することができる。   In the present invention, the composition for forming an antifouling layer may contain inorganic fine particles (B) depending on the purpose.

防汚層形成用組成物中の無機微粒子(B)の含有量としては、本積層体1、2又は3の硬度の点で、25質量部以上、90質量部以下が好ましい。   The content of the inorganic fine particles (B) in the composition for forming an antifouling layer is preferably 25 parts by mass or more and 90 parts by mass or less in terms of the hardness of the present laminate 1, 2 or 3.

尚、無機微粒子(B)の「微粒子」とは、平均粒子径が1〜200nm程度の粒子を示す。また、平均粒子径は粒度分布測定装置SALD−7100(島津製作所(株)製)で測定した値である。   The “fine particles” of the inorganic fine particles (B) indicate particles having an average particle diameter of about 1 to 200 nm. Moreover, an average particle diameter is the value measured with the particle size distribution analyzer SALD-7100 (made by Shimadzu Corp.).

無機微粒子(B)の具体例としては、コロイダルシリカ、多孔質シリカ、中空シリカ、フッ化マグネシウム及び氷晶石が挙げられる。これらは1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   Specific examples of the inorganic fine particles (B) include colloidal silica, porous silica, hollow silica, magnesium fluoride and cryolite. These may use only 1 type and may use 2 or more types together.

本発明においては、得られる積層体の機能として、防汚性だけでなく反射防止性能を併せ持たせる場合には、防汚層を低屈折率機能層として機能させることができる。   In the present invention, the anti-smudge layer can function as a low-refractive-index functional layer when the laminated body obtained has not only anti-stain properties but also anti-reflection performance.

低屈折率機能層としたときの防汚層の屈折率は、本積層体1、2若しくは3における防汚層の下方に接する層より低い屈折率であればよい。   The refractive index of the antifouling layer in the case of the low refractive index functional layer may be lower than that of the layer in contact with the lower part of the antifouling layer in the present laminate 1, 2 or 3.

低屈折率機能層としたときの防汚層の屈折率としては、反射防止性能の観点から1.5以下が好ましく、1.45以下がより好ましく、1.4以下が更に好ましい。   The refractive index of the antifouling layer when it is a low refractive index functional layer is preferably 1.5 or less, more preferably 1.45 or less, and still more preferably 1.4 or less from the viewpoint of antireflection performance.

前記の積層体を得る場合、防汚層形成用組成物中に低屈折率成分を配合することができる。また、防汚層形成用組成物としては、低屈折率機能層の屈折率を1.5以下とするために、フッ素原子含有硬化性モノマーを含有することが好ましい。   When obtaining the said laminated body, a low-refractive-index component can be mix | blended in the composition for antifouling layer formation. The antifouling layer-forming composition preferably contains a fluorine atom-containing curable monomer so that the refractive index of the low refractive index functional layer is 1.5 or less.

低屈折率成分としては、例えば、無機微粒子(B)のうち、屈折率1.5以下の低屈折率微粒子を用いることが好ましい。また、後述するように、無機微粒子(B)の表面の加水分解処理が容易に行える観点から、シリカ微粒子が好ましく、屈折率が低く、反射率を低下させやすい点で中空シリカがより好ましい。   As the low refractive index component, for example, among the inorganic fine particles (B), it is preferable to use low refractive index fine particles having a refractive index of 1.5 or less. Further, as will be described later, silica fine particles are preferable from the viewpoint that the surface of the inorganic fine particles (B) can be easily hydrolyzed, and hollow silica is more preferable in that the refractive index is low and the reflectance is easily reduced.

中空シリカの屈折率は1.20〜1.40であり、通常のシリカの屈折率1.45〜1.47に比較して低い。従って、本発明において防汚層の屈折率を低下させるためには、中空シリカを使用することが好ましい。   The refractive index of hollow silica is 1.20 to 1.40, which is lower than that of ordinary silica 1.45 to 1.47. Therefore, in order to reduce the refractive index of the antifouling layer in the present invention, it is preferable to use hollow silica.

尚、本発明において、屈折率とはプリズムカプラー(メトリコン(株)製モデル2010)を用いて波長594nmのレーザーにより測定した値である。   In the present invention, the refractive index is a value measured with a laser having a wavelength of 594 nm using a prism coupler (Model 2010 manufactured by Metricon Corporation).

本発明においては、無機微粒子(B)としては、本積層体1、2又は3の表面の防汚性が良好となる点、及び防汚層の強度が向上する点で、粒子表面を加水分解性シラン化合物等の表面処理剤で個別に処理したものが好ましい。個別に処理とは、無機微粒子(B)の表面を加水分解性シラン化合物等の表面処理剤のみで反応させることを意味し、酸、塩基等の加水分解、縮合反応に寄与する触媒以外の化合物を含んでいない状態で無機微粒子(B)の表面を処理することを意味する。   In the present invention, as the inorganic fine particles (B), the particle surface is hydrolyzed because the antifouling property of the surface of the present laminate 1, 2 or 3 is improved and the strength of the antifouling layer is improved. Those treated individually with a surface treatment agent such as a functional silane compound are preferred. Individual treatment means that the surface of the inorganic fine particles (B) is reacted only with a surface treatment agent such as a hydrolyzable silane compound, and compounds other than catalysts that contribute to hydrolysis and condensation reactions of acids and bases. This means that the surface of the inorganic fine particles (B) is treated in a state that does not contain.

無機微粒子(B)の表面に加水分解性シラン化合物を反応させる際の混合比率としては、本積層体1、2又は3の表面の防汚性、耐擦傷性又は耐汗性の観点から、加水分解性シラン化合物と無機微粒子(B)との合計量に対し無機微粒子(B)が30質量%以上であることが好ましく、40質量%以上であることがより好ましい。また、無機微粒子(B)が80質量%以下であることが好ましく、70質量%以下であることがより好ましい。   As the mixing ratio when the hydrolyzable silane compound is reacted with the surface of the inorganic fine particles (B), from the viewpoint of the antifouling property, scratch resistance or sweat resistance of the surface of the present laminate 1, 2 or 3, The amount of the inorganic fine particles (B) is preferably 30% by mass or more, and more preferably 40% by mass or more with respect to the total amount of the decomposable silane compound and the inorganic fine particles (B). Moreover, it is preferable that inorganic fine particles (B) are 80 mass% or less, and it is more preferable that it is 70 mass% or less.

加水分解性シラン化合物としては、例えば、3−(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、p−スチリルトリメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン及び3−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシランが挙げられる。これらは1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   Examples of the hydrolyzable silane compound include 3- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane, 3- (meth) acryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3- (meth) acryloxypropylmethyldiethoxysilane, 3- ( (Meth) acryloxypropyltriethoxysilane, p-styryltrimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane and 3-glycidoxypropylmethyldiethoxy Examples include silane. These may use only 1 type and may use 2 or more types together.

表面処理剤としては、加水分解性シラン化合物以外の化合物も併用添加できる。   As the surface treating agent, a compound other than the hydrolyzable silane compound can be added in combination.

加水分解性シラン化合物以外の化合物としては、例えば、アニオン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤等の公知の界面活性剤が挙げられる。   Examples of the compound other than the hydrolyzable silane compound include known surfactants such as an anionic surfactant, nonionic surfactant, and cationic surfactant.

粒子表面を加水分解性シラン化合物等の表面処理剤で処理する方法としては、例えば、加水分解性シラン化合物を予め加水分解しておき、その後、微粒子表面に縮合させていく方法及び粒子表面への加水分解性シラン化合物等の表面処理剤の加水分解と縮合反応を同時に行う方法が挙げられる。上記反応を行う際、必要に応じて酸、アルカリ、金属触媒等を添加しても良い。   As a method of treating the particle surface with a surface treatment agent such as a hydrolyzable silane compound, for example, a method of hydrolyzing a hydrolyzable silane compound in advance and then condensing the particle surface to a particle surface A method of simultaneously performing hydrolysis and condensation reaction of a surface treatment agent such as a hydrolyzable silane compound. When performing the above reaction, an acid, an alkali, a metal catalyst, or the like may be added as necessary.

防汚層形成用組成物としてモノマー(A)を含有するものである場合、モノマー(A)が不飽和結合を有していることから、加水分解性シラン化合物としては、本積層体1、2又は3の表面の防汚層の防汚性が良好となる点で、不飽和結合を有しているものが好ましい。   When the monomer (A) is contained as a composition for forming an antifouling layer, the monomer (A) has an unsaturated bond. Or the thing which has an unsaturated bond is a point from which the antifouling property of the antifouling layer of the surface of 3 becomes favorable.

本発明においては、防汚層形成用組成物中に、必要に応じて分子中に少なくとも2個の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する化合物(以下、「防汚層用架橋成分」という)を添加してもよい。   In the present invention, if necessary, a compound having at least two (meth) acryloyloxy groups in the molecule (hereinafter referred to as “crosslinking component for antifouling layer”) is added to the antifouling layer forming composition. May be.

防汚層形成用組成物中の防汚層用架橋成分の含有量としては、本積層体1、2又は3の表面の耐擦傷性の点で、防汚層形成用組成物の固形分100質量部中に0〜30質量部が好ましい。   The content of the crosslinking component for the antifouling layer in the antifouling layer forming composition is preferably a solid content 100 of the antifouling layer forming composition in terms of scratch resistance on the surface of the laminate 1, 2 or 3. 0-30 mass parts is preferable in a mass part.

防汚層用架橋成分としては、例えば、1モルの多価アルコールと2モル以上の(メタ)アクリル酸又はその誘導体とから得られるエステル化物及び多価カルボン酸又はその無水物と多価アルコールと(メタ)アクリル酸又はその誘導体とから得られるエステル化物が挙げられる。   Examples of the antifouling layer crosslinking component include esterified products obtained from 1 mol of polyhydric alcohol and 2 mol or more of (meth) acrylic acid or a derivative thereof, polycarboxylic acid or anhydride thereof, and polyhydric alcohol. Examples include esterified products obtained from (meth) acrylic acid or its derivatives.

1モルの多価アルコールと2モル以上の(メタ)アクリル酸又はその誘導体とから得られるエステル化物の具体例としては、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート等のポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート;1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレート等のアルキルジオールジ(メタ)アクリレート;及びトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、グリセリントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタ(メタ)アクリレート等の3官能以上のポリオールポリ(メタ)アクリレートが挙げられる。   Specific examples of the esterified product obtained from 1 mol of polyhydric alcohol and 2 mol or more of (meth) acrylic acid or a derivative thereof include diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, and tetraethylene glycol. Polyethylene glycol di (meth) acrylate such as di (meth) acrylate; 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol di (meth) acrylate Alkyl diol di (meth) acrylate such as trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate Glycerin tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, tripentaerythritol tetra ( Examples include tri- or higher functional polyol poly (meth) acrylates such as (meth) acrylate, tripentaerythritol penta (meth) acrylate, tripentaerythritol hexa (meth) acrylate, and tripentaerythritol hepta (meth) acrylate.

多価カルボン酸又はその無水物と多価アルコールと(メタ)アクリル酸又はその誘導体とから得られるエステル化物において、多価カルボン酸又はその無水物と多価アルコールと(メタ)アクリル酸の組合せ(多価カルボン酸又はその無水物/多価アルコール/(メタ)アクリル酸)としては、例えば、マロン酸/トリメチロールエタン/(メタ)アクリル酸、マロン酸/トリメチロールプロパン/(メタ)アクリル酸、マロン酸/グリセリン/(メタ)アクリル酸、マロン酸/ペンタエリスリトール/(メタ)アクリル酸、コハク酸/トリメチロールエタン/(メタ)アクリル酸、コハク酸/トリメチロールプロパン/(メタ)アクリル酸、コハク酸/グリセリン/(メタ)アクリル酸、コハク酸/ペンタエリスリトール/(メタ)アクリル酸、アジピン酸/トリメチロールエタン/(メタ)アクリル酸、アジピン酸/トリメチロールプロパン/(メタ)アクリル酸、アジピン酸/グリセリン/(メタ)アクリル酸、アジピン酸/ペンタエリスリトール/(メタ)アクリル酸、グルタル酸/トリメチロールエタン/(メタ)アクリル酸、グルタル酸/トリメチロールプロパン/(メタ)アクリル酸、グルタル酸/グリセリン/(メタ)アクリル酸、グルタル酸/ペンタエリスリトール/(メタ)アクリル酸、セバシン酸/トリメチロールエタン/(メタ)アクリル酸、セバシン酸/トリメチロールプロパン/(メタ)アクリル酸、セバシン酸/グリセリン/(メタ)アクリル酸、セバシン酸/ペンタエリスリトール/(メタ)アクリル酸、フマル酸/トリメチロールエタン/(メタ)アクリル酸、フマル酸/トリメチロールプロパン/(メタ)アクリル酸、フマル酸/グリセリン/(メタ)アクリル酸、フマル酸/ペンタエリスリトール/(メタ)アクリル酸、イタコン酸/トリメチロールエタン/(メタ)アクリル酸、イタコン酸/トリメチロールプロパン/(メタ)アクリル酸、イタコン酸/グリセリン/(メタ)アクリル酸、イタコン酸/ペンタエリスリトール/(メタ)アクリル酸、無水マレイン酸/トリメチロールエタン/(メタ)アクリル酸、無水マレイン酸/トリメチロールプロパン/(メタ)アクリル酸、無水マレイン酸/グリセリン/(メタ)アクリル酸及び無水マレイン酸/ペンタエリスリトール/(メタ)アクリル酸が挙げられる。   In an esterified product obtained from a polyvalent carboxylic acid or its anhydride, a polyhydric alcohol, and (meth) acrylic acid or a derivative thereof, a combination of a polyvalent carboxylic acid or its anhydride, a polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid ( Examples of polycarboxylic acid or anhydride / polyhydric alcohol / (meth) acrylic acid) include, for example, malonic acid / trimethylolethane / (meth) acrylic acid, malonic acid / trimethylolpropane / (meth) acrylic acid, Malonic acid / glycerin / (meth) acrylic acid, malonic acid / pentaerythritol / (meth) acrylic acid, succinic acid / trimethylolethane / (meth) acrylic acid, succinic acid / trimethylolpropane / (meth) acrylic acid, succinic acid Acid / glycerin / (meth) acrylic acid, succinic acid / pentaerythritol / (meth) acrylic Acid, adipic acid / trimethylolethane / (meth) acrylic acid, adipic acid / trimethylolpropane / (meth) acrylic acid, adipic acid / glycerin / (meth) acrylic acid, adipic acid / pentaerythritol / (meth) acrylic acid Glutaric acid / trimethylolethane / (meth) acrylic acid, glutaric acid / trimethylolpropane / (meth) acrylic acid, glutaric acid / glycerin / (meth) acrylic acid, glutaric acid / pentaerythritol / (meth) acrylic acid, Sebacic acid / trimethylolethane / (meth) acrylic acid, sebacic acid / trimethylolpropane / (meth) acrylic acid, sebacic acid / glycerin / (meth) acrylic acid, sebacic acid / pentaerythritol / (meth) acrylic acid, fumar Acid / Trimethylolethane / (Me ) Acrylic acid, fumaric acid / trimethylolpropane / (meth) acrylic acid, fumaric acid / glycerin / (meth) acrylic acid, fumaric acid / pentaerythritol / (meth) acrylic acid, itaconic acid / trimethylolethane / (meth) Acrylic acid, itaconic acid / trimethylolpropane / (meth) acrylic acid, itaconic acid / glycerin / (meth) acrylic acid, itaconic acid / pentaerythritol / (meth) acrylic acid, maleic anhydride / trimethylolethane / (meth) Acrylic acid, maleic anhydride / trimethylolpropane / (meth) acrylic acid, maleic anhydride / glycerin / (meth) acrylic acid and maleic anhydride / pentaerythritol / (meth) acrylic acid.

防汚層用架橋成分のその他の例としては、トリメチロールプロパントルイレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、4,4’−メチレンビス(シクロヘキシルイソシアネート)、イソホロンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等のジイソシアネートの3量化により得られるポリイソシアネート1モルに対して2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−メトキシプロピル(メタ)アクリレート、N−メチロール(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシ(メタ)アクリルアミド、1,5,3−プロパントリオール−1,3−ジ(メタ)アクリレート、3−アクリロイルオキシ−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート等の活性水素を有するアクリル系モノマー3モル以上を反応させて得られるウレタン(メタ)アクリレート;トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌル酸のジ(メタ)アクリレート又はトリ(メタ)アクリレート等のポリ[(メタ)アクリロイルオキシエチレン]イソシアヌレート;エポキシポリ(メタ)アクリレート;及びウレタンポリ(メタ)アクリレートが挙げられる。   Other examples of cross-linking components for the antifouling layer include trimethylolpropane toluylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, xylene diisocyanate, 4,4'-methylenebis (cyclohexyl isocyanate), isophorone diisocyanate, trimethylhexa 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-methoxypropyl (meth) acrylate, N per mole of polyisocyanate obtained by trimerization of diisocyanate such as methylene diisocyanate -Methylol (meth) acrylamide, N-hydroxy (meth) acrylamide, 1,5,3-propanetriol-1,3-di Urethane (meth) acrylate obtained by reacting 3 mol or more of an acrylic monomer having active hydrogen such as meth) acrylate and 3-acryloyloxy-2-hydroxypropyl (meth) acrylate; tris (2-hydroxyethyl) isocyanuric acid And poly [(meth) acryloyloxyethylene] isocyanurates such as di (meth) acrylate or tri (meth) acrylate; epoxy poly (meth) acrylate; and urethane poly (meth) acrylate.

防汚層用架橋成分は1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   Only 1 type may be used for the crosslinking component for antifouling layers, and 2 or more types may be used together.

防汚層形成用組成物が活性エネルギー線硬化性防汚層形成用組成物である場合、防汚層形成用組成物中には防汚層用光開始剤を配合することができる。   When the composition for forming an antifouling layer is an active energy ray-curable composition for forming an antifouling layer, a photoinitiator for the antifouling layer can be blended in the composition for forming an antifouling layer.

防汚層用光開始剤としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、アセトイン、ブチロイン、トルオイン、ベンジル、ベンゾフェノン、p−メトキシベンゾフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、α,α−ジメトキシ−α−フェニルアセトフェノン、メチルフェニルグリオキシレート、エチルフェニルグリオキシレート、4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン等のカルボニル化合物;テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド等の硫黄化合物;及び2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイド、ベンゾイルジエトキシフォスフィンオキサイド等のリン化合物が挙げられる。   Examples of the photoinitiator for the antifouling layer include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, acetoin, butyroin, toluoin, benzyl, benzophenone, p-methoxybenzophenone, 2,2-di Ethoxyacetophenone, α, α-dimethoxy-α-phenylacetophenone, methylphenylglyoxylate, ethylphenylglyoxylate, 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, 2- Carbonyl compounds such as hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one; sulfur compounds such as tetramethylthiuram monosulfide, tetramethylthiuram disulfide; and 2,4 6- trimethyl benzoyl diphenyl phosphine oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) - phenyl phosphine oxide, phosphorus compounds such as benzo dichloride ethoxy phosphine oxide.

防汚層用光開始剤の添加量としては、防汚層形成用組成物の紫外線照射による硬化性の点で、防汚層形成用組成物の全固形分100質量部に対して0.1質量部以上が好ましく、0.5質量部以上がより好ましく、1質量部以上が更に好ましい。また、防汚層用光開始剤の添加量としては、防汚層の色調を良好とする点で、10質量部以下が好ましく、7質量部以下がより好ましい。   The addition amount of the antifouling layer photoinitiator is 0.1 with respect to 100 parts by mass of the total solid content of the antifouling layer forming composition in terms of curability by ultraviolet irradiation of the antifouling layer forming composition. More than mass part is preferable, 0.5 mass part or more is more preferable, and 1 mass part or more is still more preferable. In addition, the amount of the photoinitiator for the antifouling layer is preferably 10 parts by mass or less, and more preferably 7 parts by mass or less from the viewpoint of improving the color tone of the antifouling layer.

防汚層形成用組成物が熱硬化性防汚層形成用組成物である場合、防汚層形成用組成物中には防汚層用熱硬化剤を配合することができる。   When the antifouling layer forming composition is a thermosetting antifouling layer forming composition, an antifouling layer thermosetting agent can be blended in the antifouling layer forming composition.

防汚層用熱硬化剤としては、例えば、2,2’−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾビス−(2,4−ジメチルバレロニトリル)等のアゾ系重合開始剤;及びラウロイルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ベンゾイルパーオキサイド、ビス(4−t−ブチルシクロヘキシル)パーオキシジカーボネート、t−ブチルパーオキシネオデカノエート、t−ヘキシルパーオキシピバレート等の有機過酸化物系重合開始剤が挙げられる。これらは1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   Examples of the antifouling layer thermosetting agent include 2,2′-azobis (4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2′-azobisisobutyronitrile, and 2,2′-azobis. Azo polymerization initiators such as-(2,4-dimethylvaleronitrile); and lauroyl peroxide, diisopropyl peroxydicarbonate, benzoyl peroxide, bis (4-t-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate, t-butyl Examples thereof include organic peroxide polymerization initiators such as peroxyneodecanoate and t-hexyl peroxypivalate. These may use only 1 type and may use 2 or more types together.

本発明においては、防汚層形成用組成物には、必要に応じて、スリップ性向上剤、レベリング剤、紫外線吸収剤、HALS等の光安定剤等の各種添加剤を配合することができる。   In the present invention, the antifouling layer-forming composition may contain various additives such as a slip property improver, a leveling agent, an ultraviolet absorber, and a light stabilizer such as HALS, if necessary.

添加剤の配合量としては、防汚層の透明性の点で、防汚層形成用組成物の固形分100質量部に対して10質量部以下が好ましい。   As a compounding quantity of an additive, 10 mass parts or less are preferable with respect to 100 mass parts of solid content of the composition for antifouling layer formation at the transparency point of an antifouling layer.

本発明においては、防汚層形成用組成物の固形分濃度を調整するために、防汚層形成用組成物中に防汚層用希釈溶媒を添加することができる。   In the present invention, in order to adjust the solid content concentration of the antifouling layer forming composition, a diluting solvent for the antifouling layer can be added to the antifouling layer forming composition.

防汚層用希釈溶媒としては、例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソプロパノール、エタノール、1−メトキシ−2−プロパノール及び2,2,3,3−テトラフルオロ−1−プロパノールが挙げられる。   Examples of the antifouling layer dilution solvent include methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, isopropanol, ethanol, 1-methoxy-2-propanol, and 2,2,3,3-tetrafluoro-1-propanol.

防汚層形成用組成物の固形分濃度としては0.1〜20質量%が好ましい。防汚層形成用組成物の固形分濃度を前記範囲とすることにより、防汚層形成用組成物の貯蔵安定性を良好とすることができ、所望の膜厚にコントロールし易くなる傾向にある。   The solid content concentration of the antifouling layer forming composition is preferably 0.1 to 20% by mass. By setting the solid content concentration of the antifouling layer forming composition in the above range, the storage stability of the antifouling layer forming composition can be improved, and it tends to be easily controlled to a desired film thickness. .

本転写フィルム1、2又は3を得る際の防汚層の形成方法としては、例えば以下の方法が挙げられる。   Examples of the method for forming the antifouling layer when obtaining the present transfer film 1, 2 or 3 include the following methods.

まず、防汚層形成用組成物を前述の表面処理を行った剥離用フィルムの表面に塗布した後に乾燥して防汚層形成用組成物の塗膜を形成する。   First, the antifouling layer-forming composition is applied to the surface of the release film that has been subjected to the above-described surface treatment, and then dried to form a coating film of the antifouling layer-forming composition.

次いで、得られた防汚層形成用組成物の塗膜を硬化させて防汚層を得る。   Subsequently, the coating film of the obtained antifouling layer forming composition is cured to obtain an antifouling layer.

防汚層形成用組成物を、表面処理された剥離用フィルムの表面に塗布する方法としては、例えば、剥離用フィルムの表面に有機溶媒を塗布する方法と同様の方法が挙げられる。   Examples of the method for applying the antifouling layer forming composition to the surface of the surface-treated release film include the same method as the method for applying an organic solvent to the surface of the release film.

防汚層形成用組成物の塗膜を硬化させる方法としては、例えば、防汚層形成用組成物が熱硬化性防汚層形成用組成物の場合には加熱硬化法が挙げられ、防汚層形成用組成物が活性エネルギー線硬化性防汚層形成用組成物の場合には活性エネルギー線硬化法が挙げられる。   As a method of curing the coating film of the antifouling layer forming composition, for example, when the antifouling layer forming composition is a thermosetting antifouling layer forming composition, a heat curing method may be mentioned. When the layer forming composition is an active energy ray-curable antifouling layer forming composition, an active energy ray curing method may be mentioned.

防汚層形成用組成物が活性エネルギー線硬化性防汚層形成用組成物である場合、防汚層形成用組成物を硬化するために使用される活性エネルギー線としては、例えば、電子線、放射線及び紫外線が挙げられる。   When the composition for forming an antifouling layer is an active energy ray-curable composition for forming an antifouling layer, the active energy ray used for curing the composition for forming an antifouling layer includes, for example, an electron beam, Examples include radiation and ultraviolet rays.

活性エネルギー線として紫外線を照射する場合の光源としては、例えば、高圧水銀灯、メタルハライドランプ及び蛍光紫外線ランプが挙げられる。窒素やアルゴン等の不活性ガス雰囲気下で紫外線照射することが、防汚層形成用組成物の表面硬化性が向上し工程通過性が向上することから、好ましい。酸素濃度としては1,000ppm以下が好ましく、500ppm以下がより好ましく、300ppm以下が更に好ましい。   Examples of the light source when irradiating ultraviolet rays as active energy rays include a high-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, and a fluorescent ultraviolet lamp. Irradiation with ultraviolet rays under an inert gas atmosphere such as nitrogen or argon is preferable because the surface curability of the composition for forming an antifouling layer is improved and the process passability is improved. The oxygen concentration is preferably 1,000 ppm or less, more preferably 500 ppm or less, and even more preferably 300 ppm or less.

また、活性エネルギー線硬化性防汚層形成用組成物を硬化するための活性エネルギー線硬化条件としては、例えば、ピーク照度100〜1,200mW/cm及び積算光量100〜1,200mJ/cmの硬化条件が挙げられる。この範囲であれば、防汚性能と耐擦傷性のバランスが良好となる傾向にある。 Moreover, as active energy ray hardening conditions for hardening the active energy ray-curable antifouling layer forming composition, for example, peak illuminance of 100 to 1,200 mW / cm 2 and integrated light quantity of 100 to 1,200 mJ / cm 2 are used. The curing conditions are as follows. If it is this range, it exists in the tendency for the balance of antifouling performance and abrasion resistance to become favorable.

本発明においては、表面処理された剥離用フィルムの表面に防汚層を形成した後に後述する高屈折率層を形成することができるが、高屈折率層が形成される前の防汚層は防汚層形成用組成物を完全硬化させたものだけでなく、必要に応じて防汚層形成用組成物の一部を硬化させた部分硬化物であってもよい。

高屈折率層
本発明においては、本積層体1の反射防止機能を良好とするために、本転写フィルム1の防汚層の表面に防汚層よりも屈折率の高い高屈折率層を形成させた本転写フィルム2とすることができる。
In the present invention, a high refractive index layer described later can be formed after the antifouling layer is formed on the surface of the surface-treated release film, but the antifouling layer before the high refractive index layer is formed is It may be a partially cured product obtained by curing a part of the composition for forming an antifouling layer as necessary, as well as a composition obtained by completely curing the composition for forming an antifouling layer.

High Refractive Index Layer In the present invention, a high refractive index layer having a higher refractive index than the antifouling layer is formed on the surface of the antifouling layer of the transfer film 1 in order to improve the antireflection function of the laminate 1. The transferred transfer film 2 can be obtained.

また、本転写フィルム2を使用して良好な反射防止機能を有する本積層体2を得ることができる。   Further, the present laminate 2 having a good antireflection function can be obtained by using the present transfer film 2.

本発明においては、本積層体2で発生し易い干渉模様の抑制のために、本転写フィルム2の高屈折率層の表面に高屈折率層よりも屈折率の低い中屈折率層を形成させた本転写フィルム3とすることができる。   In the present invention, an intermediate refractive index layer having a lower refractive index than the high refractive index layer is formed on the surface of the high refractive index layer of the transfer film 2 in order to suppress interference patterns that are likely to occur in the laminate 2. This transfer film 3 can be obtained.

また、本転写フィルム3を使用して干渉模様の発生が抑制された本積層体3を得ることができる。   Further, the present laminate 3 in which the occurrence of interference patterns is suppressed can be obtained by using the present transfer film 3.

高屈折率層の膜厚(dKK)としては、本積層体2の表面の耐擦傷性及び反射防止性能の観点から、0.5〜10μmが好ましい。 The film thickness (d KK ) of the high refractive index layer is preferably 0.5 to 10 μm from the viewpoint of the scratch resistance and antireflection performance of the surface of the laminate 2.

高屈折率層の屈折率(nKK)としては、本積層体2における防汚層及び接着層より高いことが干渉模様を抑制する観点から好ましい。 The refractive index (n KK ) of the high refractive index layer is preferably higher than the antifouling layer and the adhesive layer in the laminate 2 from the viewpoint of suppressing the interference pattern.

高屈折率層の屈折率(nKK)としては、1.6以上が好ましく、1.7以上がより好ましい。 The refractive index (n KK ) of the high refractive index layer is preferably 1.6 or more, and more preferably 1.7 or more.

また、高屈折率層の屈折率(nKK)は下式(3)を満たすことが、本積層体3の表面の干渉模様を抑制する点で好ましい。
(nHC×nKK1/2−(nKK−nHC)/8≦nCHK≦(nHC×nKK1/2+(nKK−nHC)/8・・・(3)
(上式(3)において、nHCは後述する接着層の屈折率を、nKKは高屈折率層の屈折率を、nCHKは後述する中屈折率層の屈折率をそれぞれ表す。)
高屈折率層の形成方法としては、例えば、以下の方法が挙げられる。
Moreover, it is preferable that the refractive index (n KK ) of the high refractive index layer satisfies the following formula (3) from the viewpoint of suppressing the interference pattern on the surface of the laminate 3.
(N HC × n KK) 1/2 - (n KK -n HC) / 8 ≦ n CHK ≦ (n HC × n KK) 1/2 + (n KK -n HC) / 8 ··· (3)
(In the above formula (3), n HC represents the refractive index of the adhesive layer described later, n KK represents the refractive index of the high refractive index layer, and n CHK represents the refractive index of the medium refractive index layer described later.)
Examples of the method for forming the high refractive index layer include the following methods.

まず、高屈折率層を形成するための高屈折率層用組成物(以下、「高屈折率層形成用組成物」という。)を、表面処理された剥離用フィルムの表面に積層された防汚層の表面に塗布して高屈折率層形成用組成物の塗膜を形成する。   First, a high refractive index layer composition for forming a high refractive index layer (hereinafter referred to as “high refractive index layer forming composition”) is laminated on the surface of the surface-treated release film. It coats on the surface of the dirty layer to form a coating film of the composition for forming a high refractive index layer.

また、高屈折率層形成用組成物中に後述する高屈折率層用希釈溶媒が含有されている場合には高屈折率層用希釈溶媒を揮発させて高屈折率層形成用組成物の塗膜を形成することができる。   When the high refractive index layer-forming composition described later is contained in the high refractive index layer-forming composition, the high refractive index layer-diluting solvent is volatilized to coat the high refractive index layer-forming composition. A film can be formed.

次いで、得られた高屈折率層形成用組成物の塗膜を硬化させて高屈折率層を得る。   Next, the coating film of the obtained composition for forming a high refractive index layer is cured to obtain a high refractive index layer.

高屈折率層形成用組成物としては、例えば、熱硬化性高屈折率層形成用組成物及び活性エネルギー線硬化性高屈折率層形成用組成物から選ばれる少なくとも1種が挙げられる。   Examples of the high refractive index layer forming composition include at least one selected from a thermosetting high refractive index layer forming composition and an active energy ray curable high refractive index layer forming composition.

高屈折率層形成用組成物の具体例としては、少なくとも2個の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する化合物(以下、「高屈折率層用架橋成分」という。)を含有する組成物が挙げられる。   Specific examples of the composition for forming a high refractive index layer include a composition containing a compound having at least two (meth) acryloyloxy groups (hereinafter referred to as “crosslinking component for high refractive index layer”). .

高屈折率層用架橋成分としては防汚層用架橋成分と同様のものが挙げられる。   Examples of the crosslinking component for the high refractive index layer include the same as the crosslinking component for the antifouling layer.

高屈折率層形成用組成物中には、耐擦傷性に優れた本積層体2又は3を得るために、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン等のアミノシランを含有することが好ましい。   In the composition for forming a high refractive index layer, in order to obtain the present laminate 2 or 3 having excellent scratch resistance, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-2- It is preferable to contain aminosilanes such as (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane and N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltriethoxysilane.

高屈折率層形成用組成物中の上記のアミノシランの含有量としては、本積層体2又は3の良好な耐擦傷性を得るために、高屈折率層形成用組成物中の固形分100質量部に対して1質量部以上が好ましく、良好な反射防止機能を得るために30質量部以下が好ましい。   As content of said aminosilane in the composition for high refractive index layer formation, in order to obtain the favorable abrasion resistance of this laminated body 2 or 3, solid content in the composition for high refractive index layer formation 100 masses The amount is preferably 1 part by mass or more based on the part, and preferably 30 parts by mass or less in order to obtain a good antireflection function.

高屈折率層形成用組成物中には、高屈折率層の強度を向上させるため及び高屈折率層の屈折率を高めるために高屈折率金属酸化物微粒子を添加することができる。   In the composition for forming a high refractive index layer, high refractive index metal oxide fine particles can be added in order to improve the strength of the high refractive index layer and to increase the refractive index of the high refractive index layer.

高屈折率金属酸化物微粒子としては、屈折率が1.55〜2.0程度のものが好ましい。   The high refractive index metal oxide fine particles preferably have a refractive index of about 1.55 to 2.0.

高屈折率金属酸化物微粒子の具体例としては、酸化錫、アンチモンをドープした酸化錫(ATO)、酸化インジウム、スズをドープした酸化インジウム(ITO)、酸化亜鉛、アルミニウムをドープした酸化亜鉛、アンチモン酸亜鉛及び五酸化アンチモンが好ましく、屈折率が高く透明性が良好な観点から、酸化ジルコニウムがより好ましい。   Specific examples of the high refractive index metal oxide fine particles include tin oxide, antimony-doped tin oxide (ATO), indium oxide, tin-doped indium oxide (ITO), zinc oxide, aluminum-doped zinc oxide, and antimony. Zinc acid and antimony pentoxide are preferred, and zirconium oxide is more preferred from the viewpoint of high refractive index and good transparency.

高屈折率層形成用組成物中の高屈折率金属酸化物微粒子の含有量としては、本積層体2又は3が良好な耐擦傷性や反射防止機能を有する点で、高屈折率層形成用組成物中の固形分100質量部に対して20質量部以上が好ましく、本積層体2又は3が良好な反射防止機能を有する点で80質量部以下が好ましい。   The content of the high refractive index metal oxide fine particles in the high refractive index layer forming composition is such that the laminate 2 or 3 has good scratch resistance and antireflection function, so that the high refractive index layer forming composition can be used. 20 mass parts or more are preferable with respect to 100 mass parts of solid content in a composition, and 80 mass parts or less are preferable at the point which this laminated body 2 or 3 has a favorable antireflection function.

また、高屈折率金属酸化物微粒子については、無機微粒子(B)の表面を処理する場合に使用される表面処理剤と同様の処理剤で表面処理することが好ましい。   Moreover, about high refractive index metal oxide fine particles, it is preferable to surface-treat with the same processing agent as the surface treating agent used when processing the surface of inorganic fine particles (B).

高屈折率金属酸化物微粒子の表面に、表面処理剤として加水分解性シラン化合物を反応させる際の高屈折率金属酸化物微粒子と加水分解性シラン化合物の混合比率としては、本積層体2又は3の表面の耐擦傷性や反射防止性能の点で、加水分解性シラン化合物と高屈折率金属酸化物微粒子の合計量中に高屈折率金属酸化物微粒子20〜80質量%を含有することが好ましい。   As the mixing ratio of the high refractive index metal oxide fine particles and the hydrolyzable silane compound when the hydrolyzable silane compound is reacted as a surface treatment agent on the surface of the high refractive index metal oxide fine particles, the laminate 2 or 3 is used. From the viewpoint of scratch resistance and antireflection performance of the surface, it is preferable to contain 20 to 80% by mass of the high refractive index metal oxide fine particles in the total amount of the hydrolyzable silane compound and the high refractive index metal oxide fine particles. .

高屈折率層の屈折率を調整する手法としては、例えば、高屈折率層用架橋成分と高屈折率金属酸化物微粒子の配合比率を変化させる方法が挙げられる。即ち、高屈折率金属酸化物微粒子の含有量が多くなれば、高屈折率層の屈折率が上昇し、一方で、高屈折率金属酸化物微粒子の含有量が少なくなれば、高屈折率層の屈折率が低下する。   Examples of the method for adjusting the refractive index of the high refractive index layer include a method of changing the blending ratio of the high refractive index layer crosslinking component and the high refractive index metal oxide fine particles. That is, if the content of the high refractive index metal oxide fine particles increases, the refractive index of the high refractive index layer increases. On the other hand, if the content of the high refractive index metal oxide fine particles decreases, the high refractive index layer The refractive index of the lowers.

また、高屈折率金属酸化物微粒子の代わりに、高屈折率有機化合物を添加して高屈折率層の屈折率を所望の値に調節しても良い。   Further, instead of the high refractive index metal oxide fine particles, a high refractive index organic compound may be added to adjust the refractive index of the high refractive index layer to a desired value.

高屈折率有機化合物としては、例えば、分子中に硫黄原子、臭素原子、芳香族骨格又はフルオレン骨格を有する化合物が挙げられる。   Examples of the high refractive index organic compound include compounds having a sulfur atom, a bromine atom, an aromatic skeleton, or a fluorene skeleton in the molecule.

芳香族骨格を有する化合物としては、例えば、新中村化学工業(株)製のNKエステルA−LEN−10及びNKエステルABE−300(いずれも商品名)が挙げられる。   Examples of the compound having an aromatic skeleton include NK ester A-LEN-10 and NK ester ABE-300 (both trade names) manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.

フルオレン骨格等を有する化合物としては、例えば、大阪ガスケミカル(株)製のオグソールEA200、EA1000、EA−F5003、EA−F5503及びEA−F5510(いずれも商品名)が挙げられる。   Examples of the compound having a fluorene skeleton include Ogsol EA200, EA1000, EA-F5003, EA-F5503 and EA-F5510 (all trade names) manufactured by Osaka Gas Chemical Co., Ltd.

本発明においては、必要に応じて高屈折率層形成用組成物に帯電防止成分を添加して高屈折率層に帯電防止機能を付与することができる。   In the present invention, if necessary, an antistatic component can be added to the composition for forming a high refractive index layer to impart an antistatic function to the high refractive index layer.

高屈折率層に帯電防止機能を付与する場合、本積層体2又は3の表層の表面抵抗値は1010Ω/□以下が好ましく、10Ω/□以下がより好ましい。 If imparting an antistatic function to the high refractive index layer, the surface resistivity of the surface layer of the laminate 2 or 3 is preferably 10 10 Ω / □ or less, more preferably 10 8 Ω / □ or less.

高屈折率層形成用組成物が活性エネルギー線硬化性高屈折率層形成用組成物である場合、高屈折率層形成用組成物中には高屈折率層用光開始剤を配合することができる。   When the composition for forming a high refractive index layer is an active energy ray-curable composition for forming a high refractive index layer, a photoinitiator for the high refractive index layer may be blended in the composition for forming a high refractive index layer. it can.

高屈折率層用光開始剤の種類及び添加量については防汚層用光開始剤と同様の化合物及び添加量とすることができる。   About the kind and addition amount of the photoinitiator for high refractive index layers, it can be set as the compound and addition amount similar to the photoinitiator for antifouling layers.

また、高屈折率層形成用組成物が熱硬化性高屈折率層形成用組成物である場合、高屈折率層形成用組成物中には高屈折率層用熱硬化剤を配合することができる。   Further, when the high refractive index layer forming composition is a thermosetting high refractive index layer forming composition, a high refractive index layer thermosetting agent may be blended in the high refractive index layer forming composition. it can.

高屈折率層用熱硬化剤の種類及び添加量については防汚層用熱硬化剤と同様の化合物及び添加量とすることができる。   About the kind and addition amount of the thermosetting agent for high refractive index layers, it can be set as the compound and addition amount similar to the thermosetting agent for antifouling layers.

本発明においては、高屈折率層形成用組成物には、必要に応じて、スリップ性向上剤、レベリング剤、紫外線吸収剤、HALS等の光安定剤等の各種添加剤を配合することができる。   In the present invention, the high refractive index layer-forming composition may contain various additives such as a slip improver, a leveling agent, an ultraviolet absorber, and a light stabilizer such as HALS, if necessary. .

添加剤の配合量としては、高屈折率層の透明性の点で、高屈折率層形成用組成物中の固形分100質量部に対して10質量部以下が好ましい。   As a compounding quantity of an additive, 10 mass parts or less are preferable with respect to 100 mass parts of solid content in the composition for high refractive index layer formation at the point of transparency of a high refractive index layer.

本発明においては、高屈折率層形成用組成物の固形分濃度を調整するために、高屈折率層用希釈溶媒を添加することができる。   In the present invention, in order to adjust the solid content concentration of the composition for forming a high refractive index layer, a diluting solvent for the high refractive index layer can be added.

高屈折率層用希釈溶媒は単独でも良いし、複数組み合わせても良い。   The dilution solvent for the high refractive index layer may be used alone or in combination.

高屈折率層用希釈溶媒としては、25℃における誘電率が10.0以下であることが高屈折率層形成用組成物の貯蔵安定性が良好である点で好ましい。誘電率を10.0以下とすることで、室温で長時間放置(例えば24時間以上)した高屈折率層形成用組成物を用いても、耐擦傷性に優れた本積層体2又は3を得ることが可能となる傾向にある。   The diluting solvent for the high refractive index layer preferably has a dielectric constant at 25 ° C. of 10.0 or less from the viewpoint of good storage stability of the composition for forming the high refractive index layer. By using the composition for forming a high refractive index layer that has been allowed to stand at room temperature for a long time (for example, 24 hours or longer), the laminate 2 or 3 having excellent scratch resistance can be obtained by setting the dielectric constant to 10.0 or less. It tends to be possible to obtain.

高屈折率層用希釈溶媒の誘電率を10.0以下とするためには、単独の希釈溶媒で誘電率10.0以下としても良いし、複数の希釈溶媒を混合して誘電率10.0以下としても良い。単独で誘電率が10.0以下の希釈溶媒としては、例えば、トルエン(2.38)、キシレン(2.41)、酢酸ブチル(5.02)及びクロロフォルム(4.9)が挙げられる。   In order to set the dielectric constant of the diluting solvent for the high refractive index layer to 10.0 or less, the dielectric constant may be 10.0 or less with a single diluting solvent, or by mixing a plurality of diluting solvents, the dielectric constant is 10.0. The following may be used. Examples of the diluent solvent having a dielectric constant of 10.0 or less alone include toluene (2.38), xylene (2.41), butyl acetate (5.02), and chloroform (4.9).

また、誘電率が10.0以下の希釈溶媒と10.0以上の希釈溶媒を組み合わせて混合希釈溶媒としたときの高屈折率層用希釈溶媒の誘電率を10.0以下とする例として、トルエンとi−プロパノールの合計量中にトルエンを45質量%以上添加したものが挙げられる。   In addition, as an example in which the dielectric constant of the high refractive index layer dilution solvent is 10.0 or less when a diluent solvent having a dielectric constant of 10.0 or less and a dilution solvent of 10.0 or more are combined to form a mixed dilution solvent, What added 45 mass% or more of toluene in the total amount of toluene and i-propanol is mentioned.

高屈折率層形成用組成物の固形分濃度としては5〜50質量%が好ましい。高屈折率層形成用組成物の固形分濃度をこの範囲とすることにより、高屈折率層形成用組成物の貯蔵安定性を良好とすることができ、所望の膜厚にコントロールし易くなる傾向にある。   As solid content concentration of the composition for high refractive index layer formation, 5-50 mass% is preferable. By setting the solid content concentration of the composition for forming a high refractive index layer within this range, the storage stability of the composition for forming a high refractive index layer can be improved, and the film thickness tends to be easily controlled. It is in.

高屈折率層形成用組成物を防汚層の表面に塗布する方法としては、表面処理された剥離用フィルムの表面に防汚層形成用組成物を塗布する方法と同様の方法が挙げられる。   Examples of the method for applying the composition for forming a high refractive index layer on the surface of the antifouling layer include the same methods as the method for applying the composition for forming an antifouling layer on the surface of the surface-treated release film.

高屈折率層形成用組成物の塗膜を硬化させる方法としては、例えば、高屈折率層形成用組成物が熱硬化性高屈折率層形成用組成物の場合には加熱硬化法が挙げられ、高屈折率層形成用組成物が活性エネルギー線硬化性高屈折率層形成用組成物の場合には活性エネルギー線硬化法が挙げられる。   Examples of the method for curing the coating film of the composition for forming a high refractive index layer include a heat curing method when the composition for forming a high refractive index layer is a composition for forming a high refractive index layer. In the case where the composition for forming a high refractive index layer is an active energy ray-curable composition for forming a high refractive index layer, an active energy ray curing method may be mentioned.

高屈折率層形成用組成物が活性エネルギー線硬化性高屈折率層形成用組成物の場合、活性エネルギー線として紫外線を照射する場合の光源としては、例えば、高圧水銀灯、メタルハライドランプ及び蛍光紫外線ランプが挙げられる。   When the composition for forming a high refractive index layer is an active energy ray-curable composition for forming a high refractive index layer, examples of the light source when irradiating ultraviolet rays as active energy rays include high pressure mercury lamps, metal halide lamps and fluorescent ultraviolet lamps. Is mentioned.

また、高屈折率層形成用組成物を硬化するための活性エネルギー線での硬化条件としては、例えば、空気存在下で、ピーク照度200〜1,000mW/cm及び積算光量400〜1,200mJ/cmの硬化条件が挙げられる。この範囲であれば、本積層体2又は3における防汚層との密着性並びに本積層体2又は3の耐擦傷性及び耐湿試験後の外観のバランスが良好となる傾向にある。 The curing conditions with active energy rays for curing the composition for forming a high refractive index layer include, for example, a peak illuminance of 200 to 1,000 mW / cm 2 and an integrated light amount of 400 to 1,200 mJ in the presence of air. A curing condition of / cm 2 is mentioned. If it is this range, it exists in the tendency for the adhesiveness with the antifouling layer in this laminated body 2 or 3 and the balance of the external appearance after the abrasion resistance of this laminated body 2 or 3 and a moisture resistance test to become favorable.

高屈折率層形成用組成物を硬化する際の活性エネルギー線のエネルギーが低すぎると、高温多湿な環境、例えば、80℃及び85%の環境下で24時間以上放置するような耐湿試験を実施すると、本積層体2又は3の表面に粉噴きのような白いブリード物が発生し、外観が悪化することがある。   If the energy of the active energy ray at the time of curing the composition for forming a high refractive index layer is too low, a moisture resistance test is performed such that it is allowed to stand for 24 hours or more in a high-temperature and high-humidity environment such as 80 ° C. and 85%. Then, a white bleed material such as powder spray is generated on the surface of the laminate 2 or 3, and the appearance may be deteriorated.

本発明においては、耐擦傷性に優れた本積層体2又は3を得るため、高屈折率層形成用組成物として、分子中に少なくとも2個の(メタ)アクリロイルオキシ基を有するモノマー、アミノシラン、高屈折率金属酸化物微粒子、高屈折率層用光開始剤及び高屈折率層用希釈溶媒を含有する組成物が好ましい。   In the present invention, in order to obtain the present laminate 2 or 3 having excellent scratch resistance, as a composition for forming a high refractive index layer, a monomer having at least two (meth) acryloyloxy groups in the molecule, aminosilane, A composition containing high refractive index metal oxide fine particles, a photoinitiator for a high refractive index layer and a diluent solvent for a high refractive index layer is preferred.

本発明においては、高屈折率層形成用組成物の塗膜を硬化させる際には、必要に応じて、防汚層形成用組成物の部分硬化物を併せて硬化させることができる。   In this invention, when hardening the coating film of the composition for high refractive index layer formation, the partially hardened | cured material of the composition for antifouling layer formation can be hardened together as needed.

本発明においては、防汚層の表面に高屈折率層を形成した後に後述する中屈折率層を形成することができるが、中屈折率層が形成される前の高屈折率層は高屈折率層形成用組成物を完全硬化させたものだけでなく、必要に応じて高屈折率層形成用組成物の一部が反応して硬化した部分硬化物であってもよい。   In the present invention, the intermediate refractive index layer described later can be formed after the high refractive index layer is formed on the surface of the antifouling layer. However, the high refractive index layer before the formation of the intermediate refractive index layer is highly refractive. Not only a composition obtained by completely curing the composition for forming a refractive index layer but also a partially cured product obtained by reacting and curing a part of the composition for forming a high refractive index layer as necessary.

本発明においては、防汚層の表面に高屈折率層形成用組成物の塗膜を形成する際に、防汚層と高屈折率層との界面強度を向上させ、本積層体2又は3の耐擦傷性を良好とするために、防汚層の表面を紫外線照射、電子線照射、加熱処理、酸化材塗布、コロナ処理、プラズマ処理等の親水化処理を行ってから高屈折率層形成用組成物を塗布した後に高屈折率層を得ることが好ましい。親水化処理としては、本積層体2又は3の耐擦傷性が良好となる観点から、コロナ処理及びプラズマ処理が好ましい。   In the present invention, when the coating film of the composition for forming a high refractive index layer is formed on the surface of the antifouling layer, the interface strength between the antifouling layer and the high refractive index layer is improved, and this laminate 2 or 3 In order to improve the scratch resistance of the anti-smudge layer, the surface of the antifouling layer is subjected to hydrophilic treatment such as ultraviolet irradiation, electron beam irradiation, heat treatment, oxidant coating, corona treatment, and plasma treatment, and then a high refractive index layer is formed. It is preferable to obtain a high refractive index layer after applying the composition for use. As the hydrophilization treatment, corona treatment and plasma treatment are preferable from the viewpoint of improving the scratch resistance of the laminate 2 or 3.

上記の親水化処理の具体的な方法及び条件としては、例えば、剥離用フィルムの表面を親水化処理する場合と同様の方法及び条件が挙げられる。

中屈折率層
本発明においては、本積層体2で発生し易い干渉模様の抑制のために、本転写フィルム2の高屈折率層の表面に高屈折率層よりも屈折率の低い中屈折率層を形成させた本転写フィルム3とすることができる。
Specific methods and conditions for the above-described hydrophilic treatment include, for example, the same methods and conditions as in the case of hydrophilizing the surface of the peeling film.

Medium Refractive Index Layer In the present invention, a medium refractive index having a lower refractive index than the high refractive index layer is formed on the surface of the high refractive index layer of the transfer film 2 in order to suppress interference patterns that are likely to occur in the laminate 2. It can be set as this transfer film 3 in which the layer was formed.

また、本転写フィルム3を使用して干渉模様の発生が抑制された本積層体3を得ることができる。   Further, the present laminate 3 in which the occurrence of interference patterns is suppressed can be obtained by using the present transfer film 3.

本発明において、中屈折率層は、例えば、本転写フィルム3おける高屈折率層の表面若しくは高屈折率層と後述する接着層との間又は本積層体3における基材と高屈折率層との間又は接着層等の他の層を有する基材の他の層と高屈折率層との間に形成されている層である。   In the present invention, the medium refractive index layer is, for example, the surface of the high refractive index layer in the transfer film 3 or between the high refractive index layer and the adhesive layer described later, or the base material and the high refractive index layer in the laminate 3. Or a layer formed between another layer of the substrate having another layer such as an adhesive layer and the high refractive index layer.

中屈折率層の膜厚(dCHK)としては、本積層体3の表面の干渉模様を抑制する点で、30nm以上が好ましく、40nm以上がより好ましい。また、中屈折率層の膜厚(dCHK)としては90nm以下が好ましく、80nm以下がより好ましい。 The film thickness (d CHK ) of the medium refractive index layer is preferably 30 nm or more, and more preferably 40 nm or more in terms of suppressing the interference pattern on the surface of the laminate 3. In addition, the film thickness (d CHK ) of the medium refractive index layer is preferably 90 nm or less, and more preferably 80 nm or less.

中屈折率層の屈折率(nCHK)は前式(3)を満たすことが、本積層体3の表面の干渉模様を抑制する点で好ましい。 The refractive index (n CHK ) of the medium refractive index layer preferably satisfies the above formula (3) from the viewpoint of suppressing the interference pattern on the surface of the laminate 3.

中屈折率層の屈折率(nCHK)としては、好ましくは1.5〜1.65である。 The refractive index (n CHK ) of the medium refractive index layer is preferably 1.5 to 1.65.

本積層体3における中屈折率層としては、例えば、中屈折率層用金属酸化物微粒子を含有する中屈折率層用金属酸化物微粒子含有層が挙げられる。   Examples of the medium refractive index layer in the laminate 3 include a metal oxide fine particle-containing layer for a medium refractive index layer containing metal oxide fine particles for a medium refractive index layer.

中屈折率層形成用組成物中に中屈折率層用金属酸化物微粒子を添加することにより中屈折率層の屈折率を調整することができ、また、中屈折率層の強度を向上させることができる傾向にある。   The refractive index of the middle refractive index layer can be adjusted by adding metal oxide fine particles for the middle refractive index layer to the composition for forming the middle refractive index layer, and the strength of the middle refractive index layer can be improved. There is a tendency to be able to.

中屈折率層用金属酸化物微粒子含有層を中屈折率層とする場合には、中屈折率層用金属酸化物微粒子含有層の屈折率としては1.5〜1.65が好ましい。   When the metal oxide fine particle-containing layer for the medium refractive index layer is used as the medium refractive index layer, the refractive index of the metal oxide fine particle-containing layer for the medium refractive index layer is preferably 1.5 to 1.65.

中屈折率層用金属酸化物微粒子としては、高屈折率層形成用組成物中に配合される金属酸化物微粒子と同様のものが挙げられる。   Examples of the metal oxide fine particles for the medium refractive index layer include the same metal oxide fine particles blended in the composition for forming a high refractive index layer.

中屈折率層用金属酸化物微粒子含有層としては、例えば、中屈折率層用金属酸化物微粒子が存在しない膜中央領域と、膜中央領域の片側に中屈折率層用金属酸化物微粒子が存在する膜表層領域(a1)が形成され、膜中央領域の他方側に中屈折率層用金属酸化物微粒子が存在する膜表層領域(a2)が形成されている膜中央領域・膜表層領域含有層が挙げられる。   Examples of the layer containing the metal oxide fine particles for the medium refractive index layer include, for example, a film central region where the metal oxide fine particles for the medium refractive index layer do not exist, and metal oxide fine particles for the medium refractive index layer on one side of the film central region. Film surface layer region (a1) is formed, and the film surface layer region (a2) in which the metal oxide fine particles for the medium refractive index layer are present on the other side of the film center region is formed. Is mentioned.

膜中央領域・膜表層領域含有層は、図1に示すように、膜中央領域の厚み(Tbi及びTci)並びに膜表層領域(a1)の厚み(Tai)及び膜表層領域(a2)の厚み(Tdi)が下式(4)〜(7)を満足し、且つ、中屈折率層用金属酸化物微粒子含有層の厚み方向断面において、厚み方向断面内で中屈折率層用金属酸化物微粒子含有層の膜厚に対して、垂直方向の1,200nmの長さにおける膜中央領域の長さ(Li)の合計の長さ(L)が240nm以上、好ましくは480nm以上であるものが好ましい。   As shown in FIG. 1, the film center region / membrane surface layer-containing layer includes a film center region thickness (Tbi and Tci), a film surface layer region (a1) thickness (Tai), and a film surface layer region (a2) thickness ( Tdi) satisfies the following formulas (4) to (7), and the metal oxide fine particles for medium refractive index layer are contained in the cross section in the thickness direction of the metal oxide fine particle content layer for medium refractive index layer. It is preferable that the total length (L) of the length (Li) of the central region of the film in the length of 1,200 nm in the vertical direction is 240 nm or more, preferably 480 nm or more with respect to the film thickness of the layer.

0.1T≦Tbi≦0.4T・・・(4)
Tai=0.5T−Tbi・・・(5)
0.1T≦Tci≦0.4T・・・(6)
Tdi=0.5T−Tci・・・(7)
中屈折率層用金属酸化物微粒子としては、例えば、酸化錫、アンチモンをドープした酸化錫(ATO)、酸化インジウム、スズをドープした酸化インジウム(ITO)、酸化亜鉛、アルミニウムをドープした酸化亜鉛、アンチモン酸亜鉛及び五酸化アンチモンが挙げられる。
0.1T ≦ Tbi ≦ 0.4T (4)
Tai = 0.5T−Tbi (5)
0.1T ≦ Tci ≦ 0.4T (6)
Tdi = 0.5T-Tci (7)
As the metal oxide fine particles for the medium refractive index layer, for example, tin oxide, tin oxide doped with antimony (ATO), indium oxide, indium oxide doped with tin (ITO), zinc oxide, zinc oxide doped with aluminum, Examples include zinc antimonate and antimony pentoxide.

また、中屈折率層用金属酸化物微粒子については、目的に応じて粒子表面を加水分解性シラン化合物等の表面処理剤で個別に処理したものを使用することができる。個別に処理とは、中屈折率層用金属酸化物微粒子を加水分解性シラン化合物等の表面処理剤のみで反応させることを意味し、酸、塩基等の加水分解、縮合反応に寄与する触媒以外の化合物を含んでいない状態で中屈折率層用金属酸化物微粒子の表面を処理することを意味する。   As the metal oxide fine particles for the medium refractive index layer, those obtained by individually treating the particle surface with a surface treating agent such as a hydrolyzable silane compound according to the purpose can be used. Individual treatment means that the metal oxide fine particles for the medium refractive index layer are reacted only with a surface treatment agent such as a hydrolyzable silane compound, and other than catalysts that contribute to hydrolysis and condensation reactions of acids, bases, etc. This means that the surface of the metal oxide fine particles for the medium refractive index layer is treated in a state in which the above compound is not included.

中屈折率層用金属酸化物微粒子の表面に、加水分解性シラン化合物を反応させる際のこれらの混合比率としては、本積層体3の表面の耐擦傷性や反射防止性能の点で、加水分解性シラン化合物と中屈折率層用金属酸化物微粒子の合計量中に中屈折率層用金属酸化物微粒子20〜80質量%を含有することが好ましい。   The mixing ratio when the hydrolyzable silane compound is reacted with the surface of the metal oxide fine particles for the medium refractive index layer is hydrolyzed in terms of scratch resistance and antireflection performance of the surface of the laminate 3. It is preferable that 20-80 mass% of metal oxide fine particles for medium refractive index layers are contained in the total amount of the conductive silane compound and the metal oxide fine particles for medium refractive index layer.

前述した膜中央領域は、図1に示すように、膜中央領域・膜表層領域含有層の中央領域であるTb1とTc1を併せた領域、Tb2とTc2を併せた領域及びTbiとTciを併せた領域で、中屈折率層用金属酸化物微粒子が存在しない領域である。   As shown in FIG. 1, the above-described film central region includes a region combining Tb1 and Tc1, which is a central region of the film central region / film surface layer region-containing layer, a region combining Tb2 and Tc2, and Tbi and Tci. This is a region where the metal oxide fine particles for the medium refractive index layer do not exist.

尚、Tb1、Tb2、Tbi、Tc1、Tc2及びTciは、膜中央領域・膜表層領域含有層の中心から膜表層領域と膜中央領域との界面までの膜中央領域の厚みを示す。また、Tbi及びTciはそれぞれi番目の膜中央領域を構成する一領域を示す。   Tb1, Tb2, Tbi, Tc1, Tc2, and Tci indicate the thickness of the film center region from the center of the film center region / film surface layer region-containing layer to the interface between the film surface layer region and the film center region. Tbi and Tci each represent one region constituting the i-th film central region.

前述した膜表層領域(a1)及び膜表層領域(a2)は膜中央領域のそれぞれの面に形成されている領域で、中屈折率層用金属酸化物微粒子が存在する領域である。   The film surface layer region (a1) and the film surface layer region (a2) described above are regions formed on the respective surfaces of the film center region, and are regions where metal oxide fine particles for the medium refractive index layer are present.

膜表層領域(a1)又は膜表層領域(a2)においては、中屈折率層用金属酸化物微粒子の充填状態としては、図1におけるTa2、Td1又はTdiの領域のように粒子が密に充填されている状態及び図1におけるTai又はTd2の領域のように膜表層領域(a1)又は膜表層領域(a2)中に粒子が充填されていない空間を有する状態が挙げられる。   In the film surface layer region (a1) or the film surface layer region (a2), as the filling state of the metal oxide fine particles for the medium refractive index layer, the particles are densely packed as in the region of Ta2, Td1 or Tdi in FIG. And a state having a space not filled with particles in the film surface layer region (a1) or the film surface layer region (a2) like the region of Tai or Td2 in FIG.

尚、Ta1、Ta2、Tai、Td1、Td2及びTdiは膜表層領域(a1)及び膜表層領域(a2)の厚みを示す。また、Tai及びTdiはそれぞれi番目の膜表層領域(a1)及び膜表層領域(a2)を構成する一領域を示す。   Ta1, Ta2, Tai, Td1, Td2, and Tdi indicate the thicknesses of the film surface layer region (a1) and the film surface layer region (a2). Tai and Tdi represent one region constituting the i-th film surface layer region (a1) and the film surface layer region (a2), respectively.

また、中屈折率層用金属酸化物微粒子含有層の厚み方向断面の構造は本積層体3の厚み方向断面を無作為に切り出して得られる断面について透過型電子顕微鏡を用いて観察することができる。   Moreover, the structure of the cross section in the thickness direction of the metal oxide fine particle-containing layer for the medium refractive index layer can be observed using a transmission electron microscope for the cross section obtained by randomly cutting the cross section in the thickness direction of the laminate 3. .

本発明においては、本積層体3の厚み方向断面を無作為に切り出して得られる断面の透過型電子顕微鏡写真に写っている中屈折率層の部位において、厚み方向断面内で中屈折率層用金属酸化物微粒子含有層の膜厚に対して、任意の垂直方向の長さ1,200nmの箇所における中屈折率層用金属酸化物微粒子が存在しない膜中央領域の合計の長さを算出することができる。また、中屈折率層用金属酸化物微粒子含有層の中心から膜表層領域(a1)及び膜表層領域(a2)と膜中央領域との界面までの膜中央領域の厚み(Tbi及びTci)並びに膜表層領域(a1)の厚み(Tai)及び膜表層領域(a2)の厚み(Tdi)の範囲を測定することができる。   In the present invention, the intermediate refractive index layer within the cross section in the thickness direction at the site of the intermediate refractive index layer shown in the transmission electron micrograph of the cross section obtained by randomly cutting the cross section in the thickness direction of the laminate 3. Calculate the total length of the central region of the film where the metal oxide fine particles for the medium refractive index layer are not present at any arbitrary vertical length of 1,200 nm with respect to the thickness of the metal oxide fine particle-containing layer. Can do. Further, the thickness (Tbi and Tci) of the film center region from the center of the metal oxide fine particle-containing layer for the medium refractive index layer to the interface between the film surface layer region (a1) and the film surface layer region (a2) and the film center region, and the film The range of the thickness (Tai) of the surface layer region (a1) and the thickness (Tdi) of the film surface layer region (a2) can be measured.

中屈折率層を形成するための中屈折率層用組成物(以下、「中屈折率層形成用組成物」という。)としては、例えば、熱硬化性中屈折率層形成用組成物及び活性エネルギー線硬化性中屈折率層形成用組成物から選ばれる少なくとも1種が挙げられる。   Examples of the medium refractive index layer composition for forming the middle refractive index layer (hereinafter referred to as “medium refractive index layer forming composition”) include, for example, a thermosetting medium refractive index layer forming composition and activity. Examples include at least one selected from the energy ray-curable composition for forming a medium refractive index layer.

中屈折率層形成用組成物の具体例としては、少なくとも2個の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する化合物(以下、「中屈折率層用架橋成分」という。)を含有する組成物が挙げられる。   Specific examples of the composition for forming a medium refractive index layer include a composition containing a compound having at least two (meth) acryloyloxy groups (hereinafter referred to as “crosslinking component for medium refractive index layer”). .

中屈折率層用架橋成分としては防汚層用架橋成分と同様のものが挙げられる。   Examples of the cross-linking component for the medium refractive index layer include the same as the cross-linking component for the antifouling layer.

中屈折率層形成用組成物中の中屈折率層用金属酸化物微粒子の含有量としては、中屈折率層の屈折率が前式(3)を満たす範囲において、中屈折率層形成用組成物中の固形分100質量部に対して15質量部以上が好ましく、20質量部以上がより好ましい。また、中屈折率層形成用組成物中の中屈折率層用金属酸化物微粒子の含有量としては、良好な透明性を有する本積層体3を得る点で、60質量部以下が好ましく、50質量部以下がより好ましい。   The content of the metal oxide fine particles for the medium refractive index layer in the composition for forming the middle refractive index layer is such that the refractive index of the medium refractive index layer satisfies the formula (3) as long as the refractive index of the medium refractive index layer satisfies the above formula (3). 15 mass parts or more are preferable with respect to 100 mass parts of solid content in a thing, and 20 mass parts or more are more preferable. In addition, the content of the metal oxide fine particles for the medium refractive index layer in the composition for forming the medium refractive index layer is preferably 60 parts by mass or less from the viewpoint of obtaining the present laminate 3 having good transparency. Less than the mass part is more preferable.

また、中屈折率層用金属酸化物微粒子については、無機微粒子(B)の表面を処理する場合に使用される加水分解性シラン化合物と同様の化合物で表面処理することが好ましい。   The metal oxide fine particles for the medium refractive index layer are preferably surface-treated with the same compound as the hydrolyzable silane compound used when the surface of the inorganic fine particles (B) is treated.

中屈折率層用金属酸化物微粒子の表面に、加水分解性シラン化合物を反応させる際の表面処理用の化合物の混合比率としては、本積層体3の表面の耐擦傷性や反射防止性能の点で、更には、中屈折率層中に膜表層領域(a1)、膜中央領域及び膜表層領域(a2)を有する偏在層構造を形成する点で、加水分解性シラン化合物と中屈折率層用金属酸化物微粒子の合計量中の中屈折率層用金属酸化物微粒子の含有量としては50質量%以上を含有することが好ましく、60質量%以上を含有することがより好ましい。また、加水分解性シラン化合物と中屈折率層用金属酸化物微粒子の合計量中の中屈折率層用金属酸化物微粒子の含有量としては、良好な透明性を有する本積層体を得る点で、80質量%以下が好ましく、70質量%以下がより好ましい。   The mixing ratio of the surface treatment compound when the hydrolyzable silane compound is reacted with the surface of the metal oxide fine particles for the medium refractive index layer is the scratch resistance and antireflection performance of the surface of the laminate 3. Furthermore, the hydrolyzable silane compound and the medium refractive index layer are formed in that an unevenly distributed layer structure having a film surface layer region (a1), a film center region and a film surface layer region (a2) is formed in the medium refractive index layer. The content of the metal oxide fine particles for the medium refractive index layer in the total amount of the metal oxide fine particles is preferably 50% by mass or more, and more preferably 60% by mass or more. Further, the content of the metal oxide fine particles for the medium refractive index layer in the total amount of the hydrolyzable silane compound and the metal oxide fine particles for the medium refractive index layer is the point of obtaining this laminate having good transparency. 80 mass% or less is preferable, and 70 mass% or less is more preferable.

中屈折率層の屈折率を調整する手法としては、前述の高屈折率層の屈折率を調整する手法と同様の方法が挙げられる。   Examples of the method for adjusting the refractive index of the medium refractive index layer include the same method as the method for adjusting the refractive index of the high refractive index layer described above.

本発明においては、必要に応じて中屈折率層形成用組成物中に中屈折率有機化合物を添加して中屈折率層の屈折率を所望の値に調節することができる。   In the present invention, the refractive index of the middle refractive index layer can be adjusted to a desired value by adding a middle refractive index organic compound to the composition for forming the middle refractive index layer as necessary.

中屈折率有機化合物としては、例えば、分子中に硫黄原子、臭素原子、芳香族骨格又はフルオレン骨格を有する化合物が挙げられ、中屈折率層形成用組成物の製膜性が良好である観点から好ましい。   Examples of the medium refractive index organic compound include compounds having a sulfur atom, a bromine atom, an aromatic skeleton or a fluorene skeleton in the molecule, and from the viewpoint of good film forming properties of the medium refractive index layer forming composition. preferable.

芳香族骨格を有する化合物としては、例えば、新中村化学工業(株)製のNKエステルA−LEN−10及びNKエステルABE−300(いずれも商品名)が挙げられる。   Examples of the compound having an aromatic skeleton include NK ester A-LEN-10 and NK ester ABE-300 (both trade names) manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.

フルオレン骨格等を有する化合物としては、例えば、大阪ガスケミカル(株)製のオグソールEA200、EA1000、EA−F5003、EA−F5503及びEA−F5510(いずれも商品名)が挙げられる。   Examples of the compound having a fluorene skeleton include Ogsol EA200, EA1000, EA-F5003, EA-F5503 and EA-F5510 (all trade names) manufactured by Osaka Gas Chemical Co., Ltd.

中屈折率層形成用組成物中の中屈折率有機化合物の含有量としては、中屈折率層の屈折率が前式(3)を満たす範囲において、中屈折率層形成用組成物中の固形分100質量部に対して30質量部以上が好ましく、40質量部以上がより好ましい。また、中屈折率層形成用組成物中の中屈折率有機化合物の含有量としては、良好な透明性を有する本積層体3を得る点で、80質量部以下が好ましく、70質量部以下がより好ましい。   The content of the medium refractive index organic compound in the medium refractive index layer forming composition is a solid content in the medium refractive index layer forming composition as long as the refractive index of the medium refractive index layer satisfies the above formula (3). 30 mass parts or more are preferable with respect to 100 mass parts per minute, and 40 mass parts or more are more preferable. Further, the content of the medium refractive index organic compound in the composition for forming a medium refractive index layer is preferably 80 parts by mass or less, and preferably 70 parts by mass or less from the viewpoint of obtaining the laminate 3 having good transparency. More preferred.

中屈折率層形成用組成物として、中屈折率有機化合物を用いて屈折率を調整する場合、ハジキ欠陥を抑制する観点から、レベリング剤を添加することが好ましい。   When adjusting the refractive index using a medium refractive index organic compound as the medium refractive index layer forming composition, it is preferable to add a leveling agent from the viewpoint of suppressing repellency defects.

レベリング剤としては、例えば、シリコーン系、フッ素系及びアクリル系のレベリング剤が挙げられるが、接着層をハジキなく製膜できる観点から、アクリル系のレベリング剤が好ましい。   Examples of the leveling agent include silicone-based, fluorine-based, and acrylic leveling agents, and an acrylic leveling agent is preferable from the viewpoint that the adhesive layer can be formed without repellency.

アクリル系のレベリング剤としては、例えば、BYK(株)製のBYK361N、BYK350、BYK352、BYK354、BYK355、BYK356、BYK358N、BYK380N、BYK381、BYK392及びBYK394が挙げられる。   Examples of the acrylic leveling agent include BYK361N, BYK350, BYK352, BYK354, BYK355, BYK356, BYK358N, BYK380N, BYK381, BYK392, and BYK394 manufactured by BYK Corporation.

本発明においては、必要に応じて中屈折率層形成用組成物に帯電防止成分を添加して中屈折率層に帯電防止機能を付与することができる。   In the present invention, if necessary, an antistatic component can be added to the medium refractive index layer forming composition to impart an antistatic function to the medium refractive index layer.

中屈折率層に帯電防止機能を付与する場合、本積層体3の表層の表面抵抗値は1010Ω/□以下が好ましく、10Ω/□以下がより好ましい。 If imparting an antistatic function to the intermediate refractive index layer, the surface resistivity of the surface layer of the laminate 3 is preferably 10 10 Ω / □ or less, more preferably 10 8 Ω / □ or less.

中屈折率層形成用組成物が活性エネルギー線硬化性中屈折率層形成用組成物である場合、中屈折率層形成用組成物中には中屈折率層用光開始剤を配合することができる。   When the composition for forming a medium refractive index layer is an active energy ray-curable composition for forming a medium refractive index layer, the composition for forming a medium refractive index layer may contain a photoinitiator for the medium refractive index layer. it can.

中屈折率層用光開始剤の種類及び添加量については防汚層用光開始剤と同様の化合物及び添加量とすることができる。   About the kind and addition amount of the photoinitiator for middle refractive index layers, it can be set as the compound and addition amount similar to the photoinitiator for antifouling layers.

また、中屈折率層形成用組成物が熱硬化性中屈折率層形成用組成物である場合、中屈折率層形成用組成物中には中屈折率層用熱硬化剤を配合することができる。   When the composition for forming a medium refractive index layer is a thermosetting composition for forming a medium refractive index layer, a composition for forming a medium refractive index layer may contain a thermosetting agent for the medium refractive index layer. it can.

中屈折率層用熱硬化剤の種類及び添加量については防汚層形成用熱硬化剤と同様の化合物及び添加量とすることができる。   About the kind and addition amount of the thermosetting agent for medium refractive index layers, it can be set as the compound and addition amount similar to the thermosetting agent for antifouling layer formation.

本発明においては、中屈折率層形成用組成物には、必要に応じて、スリップ性向上剤、レベリング剤、紫外線吸収剤、HALS等の光安定剤等の各種添加剤を配合することができる。   In the present invention, the intermediate refractive index layer forming composition can be blended with various additives such as slip improvers, leveling agents, ultraviolet absorbers, and light stabilizers such as HALS, if necessary. .

添加剤の配合量としては、中屈折率層の透明性の点で、中屈折率層形成組成物中の固形分100質量部に対して10質量部以下が好ましい。   As a compounding quantity of an additive, 10 mass parts or less are preferable with respect to 100 mass parts of solid content in a middle refractive index layer formation composition at the transparency point of a middle refractive index layer.

本発明においては、中屈折率層形成用組成物には、耐擦傷性に優れた本積層体3を得る点で、必要に応じて高屈折率層形成用組成物に添加することができるアミノシランと同様の化合物を添加しても良い。   In the present invention, an aminosilane that can be added to the composition for forming a high refractive index layer as necessary in terms of obtaining the laminate 3 having excellent scratch resistance in the medium refractive index layer forming composition. You may add the same compound.

本発明においては、中屈折率層形成用組成物の固形分濃度を調整するために、中屈折率層形成用組成物中に中屈折率層用希釈溶媒を添加することができる。   In the present invention, in order to adjust the solid content concentration of the medium refractive index layer forming composition, a medium refractive index layer dilution solvent can be added to the medium refractive index layer forming composition.

中屈折率層用希釈溶媒としては、中屈折率層形成用組成物に中屈折率層用金属酸化物微粒子を用いた場合、例えば、トルエン(揮発速度:240)、酢酸ブチル(揮発速度:100)、メチルイソブチルケトン(揮発速度:165)、1−メトキシ−2−プロパノール(揮発速度:66)及びイソプロパノール(揮発速度:150)が挙げられる。   As the diluting solvent for the medium refractive index layer, when metal oxide fine particles for the medium refractive index layer are used in the medium refractive index layer forming composition, for example, toluene (volatilization rate: 240), butyl acetate (volatilization rate: 100) ), Methyl isobutyl ketone (volatilization rate: 165), 1-methoxy-2-propanol (volatilization rate: 66) and isopropanol (volatilization rate: 150).

本発明においては、中屈折率層用希釈溶媒としては、中屈折率層中に膜表層領域(a1)、膜中央領域及び膜表層領域(a2)を有する偏在層構造を形成する点で、揮発速度100以下の希釈溶媒を含有するものが好ましい。   In the present invention, the diluting solvent for the medium refractive index layer is volatilized in that it forms an unevenly distributed layer structure having a film surface layer region (a1), a film center region, and a film surface layer region (a2) in the medium refractive index layer. Those containing a diluting solvent with a speed of 100 or less are preferred.

揮発速度100以下の希釈溶媒の含有量としては、中屈折率層用希釈溶媒中に20質量%以上が好ましく、30質量%以上がより好ましい。また、揮発速度100以下の希釈溶媒の含有量としては、短時間で乾燥するために、即ち生産効率を上げる点で、90質量%以下が好ましく、80質量%以下がより好ましい。   The content of the diluting solvent having a volatilization rate of 100 or less is preferably 20% by mass or more, and more preferably 30% by mass or more in the diluting solvent for the medium refractive index layer. Further, the content of the diluting solvent having a volatilization rate of 100 or less is preferably 90% by mass or less and more preferably 80% by mass or less in order to dry in a short time, that is, in terms of increasing production efficiency.

中屈折率層形成用組成物の固形分濃度としては0.4〜2質量%が好ましい。中屈折率層形成用組成物の固形分濃度を前記範囲とすることにより、中屈折率層形成用組成物の貯蔵安定性を良好とすることができ、所望の膜厚にコントロールし易くなる傾向にある。   The solid content concentration of the medium refractive index layer forming composition is preferably 0.4 to 2% by mass. By setting the solid content concentration of the medium refractive index layer forming composition in the above range, the storage stability of the medium refractive index layer forming composition can be improved, and the film thickness tends to be easily controlled. It is in.

中屈折率層の形成方法としては、例えば、以下の方法が挙げられる。   Examples of the method for forming the middle refractive index layer include the following methods.

まず、中屈折率層形成用組成物を、得られた高屈折率層の表面に塗布して中屈折率層形成用組成物の塗膜を形成する。   First, a medium refractive index layer forming composition is applied to the surface of the obtained high refractive index layer to form a coating film of the medium refractive index layer forming composition.

また、中屈折率層形成用組成物中に中屈折率層用希釈溶媒が含有されている場合には中屈折率層用希釈溶媒を揮発させて中屈折率層形成用組成物の塗膜を形成することができる。中屈折率層用希釈溶媒を乾燥させる温度としては、中屈折率層中に膜表層領域(a1)、膜中央領域及び膜表層領域(a2)を有する偏在層構造を形成させる観点から、50℃以上が好ましく、60℃以上がより好ましい。また、中屈折率層用希釈溶媒を乾燥させる温度としては140℃以下が好ましく、120℃以下がより好ましい。中屈折率層用希釈溶媒を乾燥させる時間としては、中屈折率層中に偏在層構造を形成し、残存中屈折率層用希釈溶媒を除去する観点から、30秒以上が好ましく、1分以上がより好ましく、1分30秒以上が更に好ましい。また、中屈折率層用希釈溶媒を乾燥させる時間としては、本転写フィルム3の生産性の観点から、5分以下が好ましく、3分以下がより好ましい。   When the medium refractive index layer-forming composition contains a medium refractive index layer dilution solvent, the medium refractive index layer dilution solvent is volatilized to form a medium refractive index layer-forming composition coating film. Can be formed. The temperature for drying the diluting solvent for the medium refractive index layer is 50 ° C. from the viewpoint of forming an unevenly distributed layer structure having a film surface layer region (a1), a film center region and a film surface layer region (a2) in the medium refractive index layer. The above is preferable, and 60 ° C. or higher is more preferable. The temperature for drying the medium refractive index layer dilution solvent is preferably 140 ° C. or lower, more preferably 120 ° C. or lower. The time for drying the diluting solvent for the medium refractive index layer is preferably 30 seconds or more from the viewpoint of forming the unevenly distributed layer structure in the medium refractive index layer and removing the diluting solvent for the remaining medium refractive index layer. Is more preferable, and more preferably 1 minute 30 seconds or more. Moreover, as time to dry the dilution solvent for middle refractive index layers, from a viewpoint of productivity of this transfer film 3, 5 minutes or less are preferable and 3 minutes or less are more preferable.

次いで、中屈折率層形成用組成物の塗膜を硬化させて中屈折率層を得る。   Next, the medium refractive index layer is obtained by curing the coating film of the medium refractive index layer forming composition.

中屈折率層形成用組成物を高屈折率層の表面に塗布する方法としては、剥離用フィルムの表面に防汚層形成用組成物を塗布する方法と同様の方法が挙げられる。   Examples of the method for applying the medium refractive index layer forming composition to the surface of the high refractive index layer include the same method as the method for applying the antifouling layer forming composition to the surface of the release film.

中屈折率層形成用組成物の塗膜を硬化させる方法としては、例えば、中屈折率層形成用組成物が熱硬化性中屈折率層形成用組成物の場合には加熱硬化法が挙げられ、中屈折率層形成用組成物が活性エネルギー線硬化性中屈折率層用組成物の場合には活性エネルギー線硬化法が挙げられる。   Examples of the method of curing the coating film of the medium refractive index layer forming composition include a heat curing method when the medium refractive index layer forming composition is a thermosetting medium refractive index layer forming composition. In the case where the medium refractive index layer forming composition is an active energy ray-curable composition for medium refractive index layer, an active energy ray curing method may be mentioned.

中屈折率層形成用組成物が活性エネルギー線硬化性中屈折率層用組成物の場合の活性エネルギー線硬化の方法及び硬化条件としては防汚層形成用組成物の活性エネルギー線による硬化の方法及び硬化条件と同様の方法及び条件が挙げられる。   Method for curing active energy ray and composition for curing antifouling layer forming method using active energy ray when medium refractive index layer forming composition is active energy ray curable medium refractive index layer composition And the same methods and conditions as the curing conditions.

本発明においては、中屈折率層形成用組成物の塗膜を硬化させる際には、必要に応じて、防汚層形成用組成物の部分硬化物及び高屈折率層形成用組成物の部分硬化物から選ばれる少なくとも1種を併せて硬化させることができる。   In the present invention, when the coating film of the medium refractive index layer forming composition is cured, a partially cured product of the antifouling layer forming composition and a portion of the high refractive index layer forming composition, as necessary. At least one selected from cured products can be cured together.

本発明においては、本転写フィルム3の高屈折率層の表面に中屈折率層を形成した後に、必要に応じて、後述する接着層を形成することができるが、中屈折率層の表面に接着層が形成される前の中屈折率層は中屈折率層形成用組成物を完全硬化させたものだけでなく、必要に応じて中屈折率層形成用組成物の一部が反応して硬化した部分硬化物であってもよい。   In the present invention, after forming the middle refractive index layer on the surface of the high refractive index layer of the transfer film 3, an adhesive layer described later can be formed as necessary. The medium refractive index layer before the adhesive layer is formed is not only a completely cured medium refractive index layer forming composition, but also part of the medium refractive index layer forming composition reacts as necessary. A cured partially cured product may be used.

本発明においては、高屈折率層の表面に中屈折率層形成用組成物の塗膜を形成する際に、高屈折率層と中屈折率層との界面強度を向上させ、本積層体3の耐擦傷性を良好とするために、高屈折率層の表面にコロナ処理、プラズマ処理等の放電処理を実施することができる。   In the present invention, when the coating film of the medium refractive index layer forming composition is formed on the surface of the high refractive index layer, the interface strength between the high refractive index layer and the middle refractive index layer is improved, and this laminate 3 In order to improve the scratch resistance, the surface of the high refractive index layer can be subjected to discharge treatment such as corona treatment or plasma treatment.

上記の放電処理の方法及び条件としては高屈折率層形成時の親水化処理の方法及び条件と同様の方法及び条件が挙げられる。

本転写フィルム1〜3
本転写フィルム1は、剥離用フィルムの表面を、親水化処理及び有機溶媒を塗布・乾燥する処理から選ばれる少なくとも1種の表面処理を行った後に、表面処理された剥離用フィルムの表面に防汚層を形成して得られる転写フィルムである。
Examples of the discharge treatment method and conditions include the same methods and conditions as the hydrophilic treatment methods and conditions during the formation of the high refractive index layer.

This transfer film 1-3
In the present transfer film 1, the surface of the release film is subjected to at least one surface treatment selected from a hydrophilic treatment and a treatment of applying and drying an organic solvent, and then the surface of the release film subjected to the surface treatment is prevented. It is a transfer film obtained by forming a dirty layer.

また、本転写フィルム2は、剥離用フィルムの表面を、親水化処理又は有機溶媒を塗布・乾燥する処理のいずれか少なくとも一つの表面処理を行った後に、表面処理された剥離用フィルムの表面に防汚層及び高屈折率層をこの順に形成して得られる転写フィルムである。   In addition, the transfer film 2 is formed on the surface of the release film that has been surface-treated after at least one surface treatment of either a hydrophilic treatment or an organic solvent coating / drying process. This is a transfer film obtained by forming an antifouling layer and a high refractive index layer in this order.

更に、本転写フィルム3は、剥離用フィルムの表面を、親水化処理及び有機溶媒を塗布・乾燥する処理から選ばれる少なくとも1種の表面処理を行った後に、表面処理された剥離用フィルムの表面に防汚層、高屈折率層及び中屈折率層をこの順に形成して得られる転写フィルムである。   Further, the transfer film 3 is obtained by subjecting the surface of the release film to the surface of the release film that has been surface-treated after performing at least one surface treatment selected from a hydrophilic treatment and a treatment of applying and drying an organic solvent. 2 is a transfer film obtained by forming an antifouling layer, a high refractive index layer and a medium refractive index layer in this order.

本発明においては、本転写フィルム1、2又は3の剥離用フィルムと接していない面に、必要に応じて公知の保護フィルムを積層することができる。   In this invention, a well-known protective film can be laminated | stacked on the surface which is not in contact with the film for peeling of this transfer film 1, 2, or 3 as needed.

本転写フィルム3の製造方法としては、例えば、表面処理された剥離用フィルムの少なくとも片面に防汚層、高屈折率層及び中屈折率層として金属酸化物微粒子含有層がこの順で積層された転写フィルムの製造方法が挙げられる。   As a method for producing the present transfer film 3, for example, a metal oxide fine particle-containing layer is laminated in this order as an antifouling layer, a high refractive index layer, and a medium refractive index layer on at least one surface of a surface-treated release film. Examples include a method for producing a transfer film.

即ち、表面処理された剥離用フィルムの少なくとも片面に防汚層を積層した後に高屈折率層を積層し、次いで高屈折率層の表面に、中屈折率層用金属酸化物微粒子及び揮発速度が100以下の溶媒を20質量%以上含む溶媒を含有する、中屈折率層用金属酸化物微粒子含有組成物を塗布した後に140℃以下の温度で溶媒を乾燥させることにより、中屈折率層を積層して転写フィルム3を得る。

基材
本発明で使用される基材の表面には、本転写フィルム1、2又は3における防汚層、防汚層及び高屈折率層又は防汚層、高屈折率層及び中屈折率層が転写法により形成される。
That is, after the antifouling layer is laminated on at least one surface of the surface-treated release film, the high refractive index layer is laminated, and then the metal oxide fine particles for the medium refractive index layer and the volatilization rate are formed on the surface of the high refractive index layer. The medium refractive index layer is laminated by drying the solvent at a temperature of 140 ° C. or lower after applying the metal oxide fine particle-containing composition for the medium refractive index layer, which contains a solvent containing 100% or less of a solvent of 20% by mass or more. Thus, the transfer film 3 is obtained.

Substrate The surface of the substrate used in the present invention has an antifouling layer, an antifouling layer and a high refractive index layer or an antifouling layer, a high refractive index layer and a medium refractive index layer in the transfer film 1, 2 or 3. Is formed by a transfer method.

基材としては、例えば、樹脂基材及び無機基材が挙げられる。   As a base material, a resin base material and an inorganic base material are mentioned, for example.

樹脂基材の具体例としては、ポリメチルメタクリレート、メタクリル酸メチル単位を主構成成分とする共重合体、メタクリル酸アルキル単位を主構成成分とする共重合体等のメタクリル樹脂、ポリスチレン、スチレン−メチルメタクリレート共重合体等の芳香族ビニル単量体単位含有樹脂、環状ポリオレフィン等のオレフィン樹脂、ポリカーボネート等のポリカーボネート樹脂(以下、「PC樹脂」という)及びポリカーボネートと異種材料との複層材が挙げられる。   Specific examples of the resin substrate include polymethyl methacrylate, a copolymer having a methyl methacrylate unit as a main constituent, a methacrylic resin such as a copolymer having an alkyl methacrylate unit as a main constituent, polystyrene, styrene-methyl Examples thereof include aromatic vinyl monomer unit-containing resins such as methacrylate copolymers, olefin resins such as cyclic polyolefins, polycarbonate resins such as polycarbonate (hereinafter referred to as “PC resins”), and multilayer materials of polycarbonate and different materials. .

無機基材の具体例としては、ガラスが挙げられる。   Specific examples of the inorganic substrate include glass.

基材には、必要に応じて着色剤、光拡散剤等の添加剤を含有することができる。また、基材は透明でも不透明でも良いが、基材側から紫外線照射を行える観点で透明なものが好ましい。   The base material may contain additives such as a colorant and a light diffusing agent as necessary. Further, the substrate may be transparent or opaque, but is preferably transparent from the viewpoint of performing ultraviolet irradiation from the substrate side.

本発明においては、基材の厚みとしては特に限定されず、目的に応じた厚みのフィルム状物又はシート状物を選択することができる。

本積層体1〜3
本積層体1は、本転写フィルム1の防汚層が形成された側の面を、接着層を形成するための塗膜を直接又は他の層を介して基材と貼り合わせて転写フィルムラミネート物1を形成し、次いで接着層を形成するための塗膜から接着層を得て転写フィルム積層体1を形成し、この後転写フィルム積層体1から剥離用フィルムを剥離して得られる。
In this invention, it does not specifically limit as thickness of a base material, The film-form thing or sheet-like thing of the thickness according to the objective can be selected.

This laminated body 1-3
The laminate 1 is a transfer film laminate in which the surface of the transfer film 1 on which the antifouling layer is formed is bonded to a substrate directly or through another layer with a coating film for forming an adhesive layer. It is obtained by forming the product 1, then obtaining the adhesive layer from the coating film for forming the adhesive layer to form the transfer film laminate 1, and thereafter peeling the release film from the transfer film laminate 1.

また、本積層体2は、本転写フィルム2の高屈折率層が形成された側の面を、接着層を形成するための塗膜を直接又は他の層を介して基材と貼り合わせて転写フィルムラミネート物2を形成し、次いで接着層を形成するための塗膜から接着層を得て転写フィルム積層体2を形成し、この後転写フィルム積層体2から剥離用フィルムを剥離して得られる。   Moreover, this laminated body 2 bonds the surface by which the high refractive index layer of this transfer film 2 was formed with the base material directly or through another layer for forming the adhesive layer. The transfer film laminate 2 is formed, then the adhesive layer is obtained from the coating film for forming the adhesive layer, the transfer film laminate 2 is formed, and then the release film is peeled off from the transfer film laminate 2 It is done.

更に、本積層体3は、転写フィルムの中屈折率層が形成された側の面を、接着層を形成するための塗膜を直接又は他の層を介して基材と貼り合わせて転写フィルムラミネート物3を形成し、次いで接着層を形成するための塗膜から接着層を得て転写フィルム積層体3を形成し、この後転写フィルム積層体3から剥離用フィルムを剥離して得られる。   Furthermore, this laminated body 3 is a transfer film in which the surface on which the middle refractive index layer of the transfer film is formed is bonded to a substrate directly or via another layer with a coating film for forming an adhesive layer. It is obtained by forming the laminate 3 and then obtaining the adhesive layer from the coating film for forming the adhesive layer to form the transfer film laminate 3, and then peeling the release film from the transfer film laminate 3.

本積層体2又は3において、防汚層の屈折率(Nx)、中屈折率層の屈折率(Nz)及び高屈折率層の屈折率(Ny)は下式(8)を満足する。   In this laminate 2 or 3, the refractive index (Nx) of the antifouling layer, the refractive index (Nz) of the medium refractive index layer, and the refractive index (Ny) of the high refractive index layer satisfy the following formula (8).

Nx<Nz<Ny (8)
本積層体1、2又は3の厚みとしては、本積層体の機械的強度の点で、0.2mm以上が好ましく、本積層体1〜3の生産性の点で、10mm以下が好ましい。
Nx <Nz <Ny (8)
As thickness of this laminated body 1, 2, or 3, 0.2 mm or more is preferable at the point of the mechanical strength of this laminated body, and 10 mm or less is preferable at the point of productivity of this laminated body 1-3.

本積層体3中の高屈折率層の厚み(dKK)、中屈折率層の厚み(dCHK)及び接着層の屈折率(nHC)は前式(3)並びに下式(9)及び(10)を満たすことが好ましい。この条件を満たしていることにより、干渉模様が抑制され、表面が耐擦傷性に優れた本積層体3とすることができる傾向にある。
KK≧500nm・・・(9)
90nm≧dCHK≧30nm・・・(10)
本発明においては、本積層体1、2又は3としては、本積層体1、2又は3の防汚層の表面の水接触角が90度以上で、トリオレイン接触角が55度以上のものが好ましい。上記の防汚層とすることにより、指紋、皮脂、ファンデーション等の汚れが目立たない本積層体1、2又は3を得ることができる傾向にある。
The thickness of the high refractive index layer of the present laminate in 3 (d KK), the thickness of the medium refractive index layer (d CHK) and refractive index of the adhesive layer (n HC) is Equation (3) as well as the following formula (9) and It is preferable to satisfy (10). By satisfying these conditions, the interference pattern is suppressed and the surface of the laminate 3 having excellent scratch resistance tends to be obtained.
d KK ≧ 500 nm (9)
90 nm ≧ d CHK ≧ 30 nm (10)
In the present invention, the present laminate 1, 2 or 3 has a water contact angle of 90 ° or more and a triolein contact angle of 55 ° or more on the surface of the antifouling layer of this laminate 1, 2 or 3. Is preferred. By setting it as said antifouling layer, it exists in the tendency which can obtain this laminated body 1, 2, or 3 in which dirt, such as a fingerprint, sebum, and foundation, is not conspicuous.

また、汚れ付着時の、反射色の際立った変色及び画像表示部材の視認性低下が抑制された本積層体1、2又は3を得る点で、本積層体1、2又は3の防汚層の表面の水接触角が95度以上で、トリオレイン接触角が60度以上のものが好ましい。

接着層を形成するための塗膜
接着層を形成するための塗膜は後述する接着層を形成するための塗膜である。
Further, the antifouling layer of the present laminate 1, 2 or 3 is obtained in that the present laminate 1, 2 or 3 is suppressed in which the discoloration of the reflected color and the visibility reduction of the image display member are suppressed at the time of dirt adhesion. The water contact angle of the surface is preferably 95 degrees or more and the triolein contact angle is 60 degrees or more.

The coating film for forming the adhesive layer for forming the adhesive layer is a coating film for forming the adhesive layer described later.

接着層を形成するための塗膜としては、例えば、熱可塑性樹脂を含有する接着層用熱可塑性樹脂塗膜及び活性エネルギー線硬化性接着層用組成物を含有する接着層用硬化性塗膜が挙げられる。   Examples of the coating film for forming the adhesive layer include a thermoplastic resin coating film for an adhesive layer containing a thermoplastic resin and a curable coating film for an adhesive layer containing an active energy ray-curable adhesive layer composition. Can be mentioned.

接着層を形成するための塗膜が接着層用熱可塑性樹脂塗膜の場合には、使用される接着層形成材料として、例えば、熱可塑性樹脂を熱可塑性樹脂用希釈溶媒に溶解させた熱可塑性樹脂溶液を使用することができる。   When the coating film for forming the adhesive layer is a thermoplastic resin coating film for the adhesive layer, as the adhesive layer forming material used, for example, a thermoplastic resin in which a thermoplastic resin is dissolved in a diluent solvent for the thermoplastic resin Resin solutions can be used.

熱可塑性樹脂用希釈溶媒としては、例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソプロパノール、エタノール、1−メトキシ−2−プロパノール及びトルエンが挙げられる。   Examples of the diluent solvent for the thermoplastic resin include methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, isopropanol, ethanol, 1-methoxy-2-propanol, and toluene.

接着層用熱可塑性樹脂塗膜を形成するための熱可塑性樹脂としては、例えば、アクリル系樹脂、塩素化オレフィン系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体、マレイン酸系樹脂、塩化ゴム系樹脂、環化ゴム系樹脂、ポリアミド系樹脂、クマロンインデン系樹脂、エチレン−酢酸ビニル系共重合体、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、スチレン系樹脂、ブチラール樹脂、ロジン系樹脂及びエポキシ系樹脂が挙げられる。これらは1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   Examples of the thermoplastic resin for forming the thermoplastic resin coating film for the adhesive layer include acrylic resins, chlorinated olefin resins, vinyl chloride-vinyl acetate copolymers, maleic acid resins, and chlorinated rubber resins. Cyclized rubber resin, polyamide resin, coumarone indene resin, ethylene-vinyl acetate copolymer, polyester resin, polyurethane resin, styrene resin, butyral resin, rosin resin and epoxy resin It is done. These may use only 1 type and may use 2 or more types together.

接着層を形成するための塗膜が接着層用硬化性塗膜の場合には、使用される接着層形成材料として、例えば、防汚層用架橋成分と同様の組成物を使用することができる。   When the coating film for forming the adhesive layer is a curable coating film for the adhesive layer, for example, a composition similar to the crosslinking component for the antifouling layer can be used as the adhesive layer forming material to be used. .

活性エネルギー線硬化性接着層用組成物は1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   Only one type of active energy ray-curable adhesive layer composition may be used, or two or more types may be used in combination.

活性エネルギー線硬化性接着層用組成物に添加される光重合開始剤としては、例えば、防汚層形成用組成物中に配合する場合に使用される光開始剤と同様のものが挙げられる。これらは1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   As a photoinitiator added to the composition for active energy ray hardening adhesive layers, the thing similar to the photoinitiator used when mix | blending in the composition for antifouling layer formation is mentioned, for example. These may use only 1 type and may use 2 or more types together.

接着層を形成するための塗膜の形成方法としては、例えば、本転写フィルム1、2又は3における防汚層、高屈折率層若しくは中屈折率層の表面又は本転写フィルム1、2又は3と基材とを積層する際に本転写フィルム1、2又は3における防汚層、高屈折率層若しくは中屈折率層の表面若しくは基材の表面に、上記の熱可塑性樹脂溶液又は活性エネルギー線硬化性接着層用組成物を塗布した後に接着層用希釈溶媒を除去することにより接着層用熱可塑性樹脂塗膜又は接着層用硬化性塗膜を形成する方法が挙げられる。

転写フィルムラミネート物1〜3
転写フィルムラミネート物1、2又は3は、基材の表面に転写フィルム1、2又は3の防汚層、高屈折率層又は中屈折率層が形成された面を、接着層を形成するための塗膜を直接又は他の層を介して貼り合わせて得られる。
As a method for forming a coating film for forming an adhesive layer, for example, the surface of the antifouling layer, the high refractive index layer or the medium refractive index layer in the present transfer film 1, 2 or 3, or the present transfer film 1, 2 or 3 When laminating the substrate and the base material, the thermoplastic resin solution or the active energy ray is applied to the surface of the antifouling layer, the high refractive index layer, the medium refractive index layer or the surface of the base material in the transfer film 1, 2 or 3. The method of forming the thermoplastic resin coating film for contact bonding layers or the curable coating film for contact bonding layers by removing the dilution solvent for contact bonding layers after apply | coating the composition for curable contact bonding layers is mentioned.

Transfer film laminates 1-3
The transfer film laminate 1, 2 or 3 is used to form an adhesive layer on the surface of the transfer film 1, 2 or 3 on which the antifouling layer, high refractive index layer or medium refractive index layer is formed. It is obtained by laminating the coating film directly or through another layer.

本発明においては、接着層を形成するための塗膜として接着層用硬化性塗膜を使用する場合には、本転写フィルム1、2又は3を接着層用硬化性塗膜を介して基材と積層して転写フィルムラミネート物1、2又は3を得る。   In the present invention, when a curable coating film for an adhesive layer is used as a coating film for forming an adhesive layer, the present transfer film 1, 2 or 3 is bonded to the substrate via the curable coating film for the adhesive layer. To obtain a transfer film laminate 1, 2 or 3.

接着層を形成するための塗膜は転写フィルム1、2又は3へあらかじめ設けてもよいし、基材へあらかじめ設けても良い。   The coating film for forming the adhesive layer may be provided in advance on the transfer film 1, 2 or 3, or may be provided in advance on the substrate.

本発明においては、接着層を形成するための塗膜として接着層用硬化性塗膜を使用する場合には、転写フィルムラミネート物1、2又は3への活性エネルギー線の照射は転写フィルム1、2又は3を介して実施することができる。また、基材の形状に応じて、必要に応じて基材側から活性エネルギー線を照射してもよい。   In the present invention, when a curable coating film for an adhesive layer is used as a coating film for forming an adhesive layer, the transfer film laminate 1, 2, or 3 is irradiated with active energy rays to transfer film 1, It can be implemented via 2 or 3. Moreover, according to the shape of a base material, you may irradiate an active energy ray from the base material side as needed.

本発明においては、必要に応じて転写フィルム1、2又は3の防汚層、高屈折率層又は中屈折率層と接着層の間にハードコート層、特定の波長を吸収する層等の他の層を形成することができる。

接着層
本発明において、接着層は本転写フィルム1、2又は3と基材とを接着するためのものである。
In the present invention, if necessary, the antifouling layer of the transfer film 1, 2 or 3, a high refractive index layer or a medium refractive index layer and an adhesive layer between the hard coat layer, a layer that absorbs a specific wavelength, etc. Can be formed.

Adhesive layer In the present invention, the adhesive layer is for adhering the transfer film 1, 2 or 3 and the substrate.

本発明においては、接着層を形成させる時期としては、本転写フィルム1、2又は3として防汚層、高屈折率層又は中屈折率層の表面に積層された状態で組み込まれている場合、及び本転写フィルム1、2又は3と基材とを積層する際に本転写フィルム1、2又は3と基材との間に接着層を形成させる場合のいずれの場合でもよい。   In the present invention, when the adhesive layer is formed, the transfer film 1, 2 or 3 is incorporated in a state of being laminated on the surface of the antifouling layer, the high refractive index layer or the middle refractive index layer, In addition, any of the cases where an adhesive layer is formed between the transfer film 1, 2 or 3 and the substrate when the transfer film 1, 2 or 3 and the substrate are laminated may be used.

上記のいずれの場合においても、接着層の屈折率としては前式(3)を満たすことが本積層体1、2又は3の干渉模様を抑制する観点から好ましい。   In any of the above cases, the refractive index of the adhesive layer preferably satisfies the above formula (3) from the viewpoint of suppressing the interference pattern of the present laminate 1, 2 or 3.

接着層の屈折率(nHC)としては、好ましくは1.45〜1.56である。   The refractive index (nHC) of the adhesive layer is preferably 1.45 to 1.56.

また、基材と接着層との屈折率差が大きくなり、かつ屈折界面が明確に存在すると、基材と接着層との界面で光の反射が発生し、これが新たな干渉模様を引き起こす。従って、基材と接着層の屈折界面を消失させるために、接着層を基材へ十分浸透させるか、基材と接着層との屈折率差を0.03以下に抑制することが好ましい。   Further, when the refractive index difference between the base material and the adhesive layer becomes large and the refractive interface clearly exists, light reflection occurs at the interface between the base material and the adhesive layer, which causes a new interference pattern. Therefore, in order to eliminate the refractive interface between the base material and the adhesive layer, it is preferable to sufficiently penetrate the adhesive layer into the base material or to suppress the refractive index difference between the base material and the adhesive layer to 0.03 or less.

本発明において、接着層の形成方法としては、接着層形成材料として、例えば、熱可塑性樹脂を接着層用希釈溶媒に溶解させた熱可塑性樹脂溶液を使用した場合には、公知の方法により接着層用希釈溶媒を揮発させて接着層を得る方法が挙げられる。また、接着層形成材料として、例えば、接着層用希釈溶媒で希釈した活性エネルギー線硬化性接着層用組成物を使用した場合には、公知の方法により接着層用希釈溶媒を揮発させた後に、高屈折率層形成用組成物を硬化させる際の活性エネルギー線硬化条件と同様の条件で硬化させる方法が挙げられる。   In the present invention, as a method for forming an adhesive layer, for example, when a thermoplastic resin solution in which a thermoplastic resin is dissolved in a diluent solvent for an adhesive layer is used as the adhesive layer forming material, the adhesive layer is formed by a known method. For example, a method for obtaining an adhesive layer by volatilizing a diluting solvent for use. Moreover, as an adhesive layer forming material, for example, when an active energy ray-curable adhesive layer composition diluted with an adhesive layer dilution solvent is used, after volatilizing the adhesive layer dilution solvent by a known method, The method of hardening on the conditions similar to the active energy ray hardening conditions at the time of hardening the composition for high refractive index layer formation is mentioned.

また、本発明においては、活性エネルギー線硬化性組成物を使用して接着層を形成する場合には、必要に応じて、防汚層形成用組成物の部分硬化物、高屈折率層形成用組成物の部分硬化物及び中屈折率層形成用組成物の部分硬化物の少なくとも1種を、接着層を形成するための塗膜の硬化と併せて硬化させることができる。

転写フィルム積層体1〜3
転写フィルム積層体1、2又は3は、本転写フィルム1、2又は3の防汚層、高屈折率層又は中屈折率層の面と基材とが接着層を介して積層された積層体である。
In the present invention, when an adhesive layer is formed using an active energy ray-curable composition, a partially cured product of a composition for forming an antifouling layer, for forming a high refractive index layer, if necessary. At least one of the partially cured product of the composition and the partially cured product of the medium refractive index layer forming composition can be cured together with the curing of the coating film for forming the adhesive layer.

Transfer film laminates 1 to 3
The transfer film laminate 1, 2 or 3 is a laminate in which the surface of the antifouling layer, high refractive index layer or medium refractive index layer of the present transfer film 1, 2 or 3 and the substrate are laminated via an adhesive layer. It is.

転写フィルム積層体1、2又は3の製造方法としては、本転写フィルム1、2又は3の防汚層、高屈折率層又は中屈折率層の表面に接着層を形成するための塗膜を形成したものを、本転写フィルム1、2又は3の接着層を形成するための塗膜を形成した面が基材と接するように基材と積層した後に接着層を得る方法、又は基材の表面に接着層を形成するための塗膜を形成したものを、転写フィルム1、2又は3の防汚層、高屈折率層又は中屈折率層の面と積層する方法のいずれの方法でもよい。   As a method for producing the transfer film laminate 1, 2 or 3, a coating film for forming an adhesive layer on the antifouling layer, high refractive index layer or medium refractive index layer of the present transfer film 1, 2 or 3 is used. A method of obtaining the adhesive layer after laminating the formed film with the base material so that the surface on which the coating film for forming the adhesive layer of the transfer film 1, 2 or 3 is formed is in contact with the base material, or of the base material Any method of laminating the surface of the transfer film 1, 2 or 3 with the antifouling layer, the high refractive index layer or the middle refractive index layer of the transfer film 1, 2 or 3 may be used. .

基材と本転写フィルム1、2又は3とを積層する方法としては、例えば、ゴムロールで圧着する方法が挙げられる。   Examples of the method of laminating the substrate and the present transfer film 1, 2 or 3 include a method of pressure bonding with a rubber roll.

圧着に際しては、例えば、5〜15MPaの条件で圧着することができる。また、積層する基材の表面を40〜125℃に加温しておくことが好ましい。加温条件をこの条件とすることにより、本転写フィルム1、2又は3と基材との密着性を良好とすることができ、基材の過度の溶解による硬度低下を抑制し、接着層の黄変も抑制できる傾向にある。   In the pressure bonding, for example, the pressure bonding can be performed under a condition of 5 to 15 MPa. Moreover, it is preferable to heat the surface of the base material to laminate | stack at 40-125 degreeC. By setting the heating condition to this condition, the adhesion between the transfer film 1, 2 or 3 and the substrate can be improved, the hardness decrease due to excessive dissolution of the substrate is suppressed, and the adhesive layer It tends to suppress yellowing.

基材を加温する際の基材の表面温度は加熱部の設定温度、加熱時間等により調整することができる。また、基材の温度の測定方法としては、例えば、非接触型表面温度計による方法が挙げられる。   The surface temperature of the base material when heating the base material can be adjusted by the set temperature of the heating unit, the heating time, and the like. Moreover, as a measuring method of the temperature of a base material, the method by a non-contact-type surface thermometer is mentioned, for example.

本発明においては、必要に応じて、上記の加温処理の際に防汚層、高屈折率層又は中屈折率層の硬化を促進させて充分に硬化した防汚層、高屈折率層又は中屈折率層を得ることができる。   In the present invention, if necessary, the antifouling layer, the high refractive index layer or the high refractive index layer which has been sufficiently cured by promoting the curing of the antifouling layer, the high refractive index layer or the medium refractive index layer during the above-described heating treatment, or A medium refractive index layer can be obtained.

また、本発明においては、必要に応じて、上記の処理に加えて活性エネルギー線を照射して防汚層、高屈折率層又は中屈折率層の硬化を促進させて充分に硬化して防汚層、高屈折率層又は中屈折率層を得ることができる。   In the present invention, if necessary, in addition to the above treatment, active energy rays are irradiated to promote curing of the antifouling layer, the high refractive index layer or the medium refractive index layer, thereby sufficiently curing and preventing the contamination. A dirty layer, a high refractive index layer, or a medium refractive index layer can be obtained.

本発明においては、基材と本転写フィルム1、2又は3とを積層する際のエアーの巻き込みを防ぐために、過剰量の接着層形成材料を使用して接着層を形成するための塗膜を得ることが好ましい。   In the present invention, in order to prevent air entrainment when laminating the substrate and the present transfer film 1, 2, or 3, a coating film for forming an adhesive layer using an excessive amount of the adhesive layer forming material is provided. It is preferable to obtain.

転写フィルム積層体1、2又は3から剥離用フィルムを剥離するに際しては、例えば、室温にて剥離用フィルムを転写フィルム積層体1、2又は3から公知の方法により剥離することができる。   When peeling the peeling film from the transfer film laminate 1, 2 or 3, for example, the peeling film can be peeled from the transfer film laminate 1, 2 or 3 by a known method at room temperature.

以下、実施例により本発明を説明する。尚、実施例及び比較例で使用した化合物の略称は以下の通りである。また、以下において、「部」及び「%」はそれぞれ「質量部」及び「質量%」を示す。
「スルーリアS」:中空シリカゾルのイソプロピルアルコール(IPA)分散体(固形分濃度20%)(日揮触媒化成(株)製、商品名)
「KBM503」:3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(信越シリコーン(株)製、商品名)
「トルエン」:(和光純薬工業(株)製)
「DAC」:パーフルオロポリエーテル基及び活性エネルギー線反応性基を有するフッ素基含有ポリエーテル化合物の溶液(ダイキン工業(株)製、固形分濃度20%、2,2,3,3−テトラフルオロ−1−プロパノール溶液、商品名;オプツールDAC)
「M400」:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(東亞合成(株)製、商品名;アロニックスM400)
「IRGACURE184」:1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(チバ・ジャパン(株)製、商品名)
「PGM」:1−メトキシ−2−プロパノール(和光純薬工業(株)製、商品名)
「ZRT15WT%−E28」:ジルコニアのトルエン分散体(固形分濃度15%)
KBM503とジルコニア微粒子の合計量中のジルコニア微粒子の割合77%(CIKナノテック(株)製、商品名)
「KBM602」:N−2−(アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン(信越シリコーン(株)製、商品名)
「DAROCUR TPO」:2,4,6−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド(チバ・ジャパン(株)製、商品名)
「ZRT15WT%−E30」:ジルコニアのトルエン分散体(固形分濃度15%)KBM503とジルコニア微粒子の合計量中のジルコニア微粒子の割合67%(CIKナノテック(株)製、商品名)
「IPA」:i−プロパノール(和光純薬工業(株)製)
「U6HA」:ウレタンアクリレート(新中村化学工業(株)製、商品名;NKオリゴU6−HA)
「C6DA」:1,6−ヘキサンジオールジアクリレート(大阪有機化学工業(株)製、商品名;ビスコート#230)
「M305」:ペンタエリスリトールトリアクリレート(東亜合成(株)製、商品名;アロニックスM305)
本発明で実施した評価方法を以下に示す。
(1)基材の温度
非接触型表面温度計((株)チノー製、ハンディ型放射温度計IR−TA(商品名))を使用して基材の表面温度を測定し、基材の温度とした。
(2)全光線透過率及びヘーズ値
日本電色工業(株)製HAZE METER NDH2000(商品名)を用いてJIS K7361−1に示される測定法に準拠して、積層体の全光線透過率を測定し、JIS K7136に示される測定法に準拠してヘーズ値を測定した。
(3)耐擦傷性
#0000のスチールウールを装着した直径25.4mmの円形パッドを積層体の防汚層の表面に置き、2.0kgの荷重下で、20mmの距離を20回往復擦傷し、擦傷前と擦傷後のヘーズ値の差(△ヘーズ)を下式より求め、試験後のサンプル表面の傷の本数を数えて耐擦傷性を評価した。
[△ヘーズ(%)]=[擦傷後のヘーズ値(%)]−[擦傷前のヘーズ値(%)]
(4)反射防止性
積層体の防汚層が積層されていない面をサンドペーパーで粗面化した後に艶消し黒色スプレーで塗ったものを評価用サンプルとし、分光光度計((株)日立製作所製、商品名:U−4000)を用いて、入射角5°及び波長380〜780nmの範囲でJIS R3106に示される測定法に準拠して評価用サンプルの防汚層の表面の反射率を測定し、得られる反射率曲線の最も反射率の低い波長(ボトムの波長)及びボトムの波長における反射率(ボトムの波長反射率)を求めた。
Hereinafter, the present invention will be described by way of examples. In addition, the abbreviations of the compounds used in Examples and Comparative Examples are as follows. In the following, “part” and “%” represent “part by mass” and “% by mass”, respectively.
“Thruria S”: Isopropyl alcohol (IPA) dispersion of hollow silica sol (solid content 20%) (trade name, manufactured by JGC Catalysts & Chemicals Co., Ltd.)
“KBM503”: 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane (trade name, manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.)
"Toluene": (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)
“DAC”: a solution of a fluorine group-containing polyether compound having a perfluoropolyether group and an active energy ray reactive group (manufactured by Daikin Industries, Ltd., solid concentration 20%, 2,2,3,3-tetrafluoro -1-propanol solution, trade name: OPTOOL DAC)
“M400”: Dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Toagosei Co., Ltd., trade name: Aronix M400)
“IRGACURE184”: 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (trade name, manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.)
“PGM”: 1-methoxy-2-propanol (trade name, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)
"ZRT15WT% -E28": zirconia toluene dispersion (solid content 15%)
77% of zirconia fine particles in the total amount of KBM503 and zirconia fine particles (CIK Nanotech Co., Ltd., trade name)
“KBM602”: N-2- (aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane (trade name, manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.)
“DAROCUR TPO”: 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide (trade name, manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.)
“ZRT15WT% -E30”: Toluene dispersion of zirconia (solid content concentration: 15%) KBM503 and the ratio of zirconia fine particles in the total amount of zirconia fine particles 67% (product name, manufactured by CIK Nanotech Co., Ltd.)
“IPA”: i-propanol (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)
“U6HA”: urethane acrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., trade name: NK Oligo U6-HA)
“C6DA”: 1,6-hexanediol diacrylate (manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd., trade name: Biscote # 230)
“M305”: Pentaerythritol triacrylate (manufactured by Toa Gosei Co., Ltd., trade name: Aronix M305)
The evaluation method implemented by this invention is shown below.
(1) Temperature of the substrate The surface temperature of the substrate was measured using a non-contact surface thermometer (manufactured by Chino Co., Ltd., handy type radiation thermometer IR-TA (trade name)), and the temperature of the substrate. It was.
(2) Total light transmittance and haze value Based on the measurement method shown by JIS K7361-1 using the Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. HAZE METER NDH2000 (brand name), the total light transmittance of a laminated body is obtained. It measured and the haze value was measured based on the measuring method shown by JISK7136.
(3) Scratch resistance A circular pad with a diameter of 25.4 mm fitted with # 0000 steel wool was placed on the surface of the antifouling layer of the laminate, and 20 mm distance was scratched twice under a load of 2.0 kg. The difference between haze values before and after scratch (Δhaze) was determined from the following formula, and the number of scratches on the sample surface after the test was counted to evaluate the scratch resistance.
[Δhaze (%)] = [haze value after abrasion (%)] − [haze value before abrasion (%)]
(4) Anti-reflective property The surface of the laminate, on which the antifouling layer is not laminated, is roughened with sandpaper and then applied with a matte black spray as an evaluation sample, and a spectrophotometer (Hitachi, Ltd.) Product, product name: U-4000), and measuring the reflectance of the surface of the antifouling layer of the sample for evaluation in accordance with the measurement method shown in JIS R3106 at an incident angle of 5 ° and a wavelength of 380 to 780 nm. Then, the wavelength with the lowest reflectance (bottom wavelength) and the reflectance at the bottom wavelength (bottom wavelength reflectance) of the obtained reflectance curve were obtained.

また、積層体の防汚層の表面に指紋を付着させたときの反射色の変化の有無を以下の基準で評価した。
◎:反射色の変化は認められなかった。
○:反射色の変化がわずかに認められる。
×:反射色の変化が認められた。
(5)防汚性
積層体の防汚層の防汚性を下記の水接触角、トリオレイン接触角及び油性インキ拭き取り性により評価した。
(a)水接触角
23℃及び相対湿度50%の環境下において、積層体の防汚層の表面にイオン交換水0.2μLの1滴を滴下し、携帯型接触角計(Fibro syetem ab社製、商品名:PG−X)を用いて水と防汚層の接触角を測定し、水接触角を求めた。
(b)トリオレイン接触角
イオン交換水の代わりにトリオレインを使用したこと以外は水接触角の測定の場合と同様にして、トリオレイン接触角を求めた。
(c)油性インキ拭き取り性
積層体の防汚層の表面に、油性インキとして「マイネーム」(黒色)((株)サクラクレパス製、商品名)で線を書き、3分後に「キムタオル」(日本製紙クレシア(株)製、商品名)で拭き取り、その際の油性インキの拭き取れ具合を目視により以下の基準で評価した。
◎:5回の拭き取りで完全に拭き取れる。
○:5回の拭き取りでわずかに線の跡が残る。
×:5回の拭き取りで一部又は全部の油性インキが付着したままである。
(6)密着性
JIS K5600−5−6に準拠して、25マスの碁盤目の剥離評価を4箇所で実施し、100マスの中で剥離せずに残ったマスの数で積層体の防汚層の密着性を評価した。
(7)各層の膜厚
積層体の厚み方向にミクロトームで幅100nmのサンプルを切り出し、透過型電子顕微鏡(日本電子(株)製JEM−1010(商品名))で積層体の断面を観察し、各層の膜厚を測定した。
(8)耐汗性
JIS L0848の汗に対する染色堅ろう度試験のA法に準じて人工汗液を調整した。
Moreover, the presence or absence of a change in reflected color when a fingerprint was attached to the surface of the antifouling layer of the laminate was evaluated according to the following criteria.
(Double-circle): The change of reflected color was not recognized.
○: A slight change in the reflected color is observed.
X: Change in reflected color was observed.
(5) Antifouling property The antifouling property of the antifouling layer of the laminate was evaluated by the following water contact angle, triolein contact angle and oil-based ink wiping property.
(A) Water contact angle In an environment of 23 ° C. and 50% relative humidity, a drop of 0.2 μL of ion-exchanged water was dropped on the surface of the antifouling layer of the laminate, and a portable contact angle meter (Fibro system ab company) The contact angle between water and the antifouling layer was measured using a product, product name: PG-X) to determine the water contact angle.
(B) Triolein contact angle The triolein contact angle was calculated | required like the case of the water contact angle measurement except having used triolein instead of ion-exchange water.
(C) Oil-based ink wiping property Write a line with “My Name” (black) (trade name, manufactured by Sakura Crepas Co., Ltd.) as oil-based ink on the surface of the antifouling layer of the laminate. The product was wiped off with Nippon Paper Crecia Co., Ltd. (trade name), and the wiping of the oil-based ink at that time was visually evaluated according to the following criteria.
A: Completely wiped off by wiping 5 times.
○: A trace of a line remains slightly after wiping 5 times.
X: Part or all of the oil-based ink remains adhered after wiping 5 times.
(6) Adhesiveness In accordance with JIS K5600-5-6, evaluation of peeling of 25 square grids was carried out at four locations, and the number of squares remaining without peeling in 100 squares was used to prevent the laminate. The adhesion of the dirty layer was evaluated.
(7) Film thickness of each layer A sample having a width of 100 nm was cut out with a microtome in the thickness direction of the laminate, and a cross section of the laminate was observed with a transmission electron microscope (JEM-1010 (trade name) manufactured by JEOL Ltd.). The film thickness of each layer was measured.
(8) Sweat resistance An artificial sweat solution was prepared according to Method A of the dyeing fastness test for sweat of JIS L0848.

積層体を50×50mmの大きさにカットして評価用サンプルとした。次いで、脱脂綿を30×30mmの大きさにカットし、評価用サンプルの上に乗せ、注射器を使用し、人工汗液を脱脂綿に垂らして脱脂綿を湿らせた。そのサンプルを温度45℃及び相対湿度95%の恒温恒湿機に96時間放置した後に取り出し、積層体の表面を水洗浄した後に目視評価により以下の基準で耐汗性を評価した。
○:変色は認められなかった。
×:変色が認められた。
(9)屈折率測定
プリズムカプラー(メトリコン社製、モデル2010)を用いて594nmレーザーにおける防汚層、高屈折率層、中屈折率層又は接着層の屈折率を測定した。
(10)干渉模様
積層体の表面を3波長蛍光管((株)東芝製、商品名:メロウ5 40W)の下で5名による目視により干渉模様の有無を下記基準で評価した。
◎:角度を変えても干渉模様は見えない。
○:角度を変えると干渉模様が薄く見える。
△:角度を変えると干渉模様が顕著に見える
×:角度を変えなくとも干渉模様が顕著に見える。
(11)中屈折率層中の膜中央領域厚み(Tbi及びTci)、膜表層領域(a1)の厚み(Tai)、膜表層領域(a2)の厚み(Tdi)並びに膜中央領域の長さ
積層体(厚みTnm)の厚み方向にミクロトームで幅100nmのサンプルを切り出した。
The laminate was cut into a size of 50 × 50 mm to obtain a sample for evaluation. Next, the absorbent cotton was cut into a size of 30 × 30 mm, placed on the sample for evaluation, and using an injector, artificial sweat was dripped onto the absorbent cotton to wet the absorbent cotton. The sample was left in a constant temperature and humidity machine at a temperature of 45 ° C. and a relative humidity of 95% for 96 hours and then taken out. After the surface of the laminate was washed with water, the sweat resistance was evaluated by visual evaluation according to the following criteria.
○: No discoloration was observed.
X: Discoloration was recognized.
(9) Refractive index measurement The refractive index of the antifouling layer, the high refractive index layer, the middle refractive index layer or the adhesive layer in the 594 nm laser was measured using a prism coupler (manufactured by Metricon Corporation, model 2010).
(10) Interference pattern The presence or absence of an interference pattern was evaluated on the surface of the laminate by visual observation by five persons under a three-wavelength fluorescent tube (manufactured by Toshiba Corporation, trade name: Mellow 5 40W) according to the following criteria.
A: The interference pattern is not visible even when the angle is changed.
○: The interference pattern appears thin when the angle is changed.
Δ: The interference pattern looks prominent when the angle is changed. ×: The interference pattern appears prominent without changing the angle.
(11) Film center region thickness (Tbi and Tci) in the middle refractive index layer, film surface layer region (a1) thickness (Tai), film surface layer region (a2) thickness (Tdi), and film center region length A sample having a width of 100 nm was cut out with a microtome in the thickness direction of the body (thickness Tnm).

上記のサンプルの厚み方向断面を透過型電子顕微鏡(日本電子(株)製JEM−1010(商品名))を使用して、中屈折率層中の金属酸化物微粒子の分布の状態を写真撮影した。   Using a transmission electron microscope (JEM-1010 (trade name) manufactured by JEOL Ltd.), the distribution state of the metal oxide fine particles in the medium refractive index layer was photographed with respect to the thickness direction cross section of the above sample. .

得られたサンプルの厚み方向断面の写真の金属酸化物微粒子の分布の状態の模式図を図1に示す。   A schematic diagram of the state of distribution of metal oxide fine particles in the photograph of the cross section in the thickness direction of the obtained sample is shown in FIG.

写真の中で、厚み方向断面内で中屈折率層の膜厚に対して、垂直方向の1200nmの長さにおける金属酸化物微粒子が存在しない膜中央領域の長さ(Li)の合計の長さ(L)を算出した。例えば、図1においては、1,200nmのサンプル断面長さの中で、式(4)及び式(6)を満足する膜中央領域厚み(Tbi及びTci)並びに膜表層領域(a1)の厚み(Tai)及び膜表層領域(a2)の厚み(Tdi)を測定すると共に、それらの測定した場所におけるL1、L2、L3及びL4の長さの合計(本発明の範囲外であるD1、D2、D3及びD4の部分を除外した長さ)を金属酸化物微粒子が存在しない膜中央領域の長さ(Li)の合計の長さ(L)とした。
(12)外観
暗室にて、エッジライトで積層体のエッジから光を照射し外観を観察した。外観不良はエッジライトを照射した際、白黒の濃淡として観察される。
◎:外観不良が認められない。
○:極僅か外観不良が認められる。
△:外観不良がぼんやりと認められる
×:著しい外観不良が認められる。
[製造例1]シリカゾル(1)の製造
撹拌機及び冷却管を備えた4ツ口フラスコ反応容器に中空シリカゾル分散体であるスルーリアSを63g仕込み、次いでKBM503を12g添加した。
In the photograph, the total length of the length (Li) of the central region of the film in which the metal oxide fine particles do not exist at a length of 1200 nm in the vertical direction with respect to the film thickness of the middle refractive index layer in the cross section in the thickness direction. (L) was calculated. For example, in FIG. 1, in the sample cross-sectional length of 1,200 nm, the film center region thickness (Tbi and Tci) satisfying the expressions (4) and (6) and the film surface layer area (a1) thickness ( Tai) and the thickness (Tdi) of the membrane surface layer region (a2), and the total length of L1, L2, L3, and L4 at these measured locations (D1, D2, D3 outside the scope of the present invention) And the length excluding the portion of D4) is the total length (L) of the length (Li) of the central region of the film where the metal oxide fine particles are not present.
(12) Appearance Appearance was observed by irradiating light from the edge of the laminate with an edge light in a dark room. Appearance defects are observed as black and white shading when irradiated with edge light.
A: Appearance defect is not recognized.
○: Slightly poor appearance is recognized.
(Triangle | delta): Appearance defect is recognized dimly. X: A remarkable appearance defect is recognized.
[Production Example 1] Production of silica sol (1) A 4-necked flask reaction vessel equipped with a stirrer and a cooling tube was charged with 63 g of sulria S, which is a hollow silica sol dispersion, and then 12 g of KBM503 was added.

その後、攪拌しながら水4.4g及び0.01mol/l塩酸水溶液0.1gを順次添加し、80℃で2時間加熱を行った。   Thereafter, 4.4 g of water and 0.1 g of a 0.01 mol / l hydrochloric acid aqueous solution were sequentially added while stirring and heated at 80 ° C. for 2 hours.

次いで、反応系を減圧状態にして固形分濃度が40%となるまで揮発分を留出させた後、トルエン38gを添加して80℃で2時間加熱した。   Next, the reaction system was put under reduced pressure to distill volatile components until the solid content concentration reached 40%, and then 38 g of toluene was added and heated at 80 ° C. for 2 hours.

その後、反応系を減圧状態にして固形分濃度が60%となるまで揮発分を留出させ、更に80℃で2時間加熱し、中空シリカ粒子の表面が処理されたシリカゾル(1)を製造した。   Thereafter, the reaction system was reduced in pressure to distill volatile components until the solid concentration reached 60%, and further heated at 80 ° C. for 2 hours to produce silica sol (1) in which the surface of the hollow silica particles was treated. .

シリカゾル(1)は白濁した液体であり、固形分濃度は60%であった。   Silica sol (1) was a cloudy liquid with a solid content of 60%.

尚、固形分濃度は、シリカゾル(1)を3日間80℃の環境にて加熱乾燥し、乾燥前後の質量差から計算により求めた。   In addition, solid content concentration calculated | required by calculation from the mass difference before and behind drying by heating and drying silica sol (1) for 3 days in an 80 degreeC environment.

また、シリカゾル(1)中の無機微粒子の割合(%)は、使用した加水分解性シラン化合物であるKBM503とスルーリアSの固形分との合計100部に対する無機微粒子の質量割合から求めた。
[調合例1]防汚層形成用組成物(1)の調合
防汚層形成用組成物として、表1に示す防汚層形成用組成物(1)を25℃の環境下で調合した。
Moreover, the ratio (%) of the inorganic fine particles in the silica sol (1) was obtained from the mass ratio of the inorganic fine particles to 100 parts in total of KBM503, which is the hydrolyzable silane compound used, and the solid content of the Sururia S.
[Formulation Example 1] Preparation of Antifouling Layer-Forming Composition (1) As the antifouling layer-forming composition, the antifouling layer-forming composition (1) shown in Table 1 was prepared in an environment at 25 ° C.

Figure 0006016009
[調合例2]高屈折率層用組成物(1)の調合
高屈折率層用組成物として、表2に示す高屈折率層用組成物(1)を25℃の環境下で調合した。
Figure 0006016009
[Formulation Example 2] Preparation of High Refractive Index Layer Composition (1) As a high refractive index layer composition, the high refractive index layer composition (1) shown in Table 2 was prepared in an environment of 25 ° C.

Figure 0006016009
[調合例3]中屈折率層用組成物(1)の調合
中屈折率層用組成物として、表3に示す中屈折率層用組成物(1)を25℃の環境下で調合した。
Figure 0006016009
[Formulation Example 3] Preparation of Medium Refractive Index Layer Composition (1) As the medium refractive index layer composition, the medium refractive index layer composition (1) shown in Table 3 was prepared in an environment of 25 ° C.

Figure 0006016009
[実施例1]
厚さ100μmのPETフィルム((株)東洋紡、商品名:A4100)の表面を以下の条件でコロナ処理し、表面処理剥離用フィルムを得た。
Figure 0006016009
[Example 1]
The surface of a PET film having a thickness of 100 μm (Toyobo Co., Ltd., trade name: A4100) was subjected to corona treatment under the following conditions to obtain a film for surface treatment peeling.

コロナ処理装置としてはナビタス(株)製コロナ処理装置POLYDYNE(商品名)を用いた。また、電極としては厚さ1mm及び長さ260mmのSUS製電極を使用した。   As the corona treatment device, a corona treatment device POLYDYNE (trade name) manufactured by Navitas Co., Ltd. was used. Moreover, the electrode made from SUS of thickness 1mm and length 260mm was used as an electrode.

PET面を上面にして搬送ベルト上に配置した剥離用フィルムを、フィルム−電極間ギャップ3mm、印加電圧11.6kV及び剥離用フィルムの搬送速度2.0m/分で電極下部を通すことによりコロナ処理を実施した。剥離用フィルムに対する照射エネルギーは100W・分/mであった。   Corona treatment by passing the peeling film placed on the conveyor belt with the PET side up and passing through the lower part of the electrode at a film-electrode gap of 3 mm, an applied voltage of 11.6 kV and a peeling film conveyance speed of 2.0 m / min. Carried out. The irradiation energy for the peeling film was 100 W · min / m.

上記のPETフィルムのコロナ処理された面に、防汚層形成用組成物(1)を25℃の環境下で30分放置した後に、10号バーコーターを用いて塗布し、100℃で1.5分間及び150℃で1分間乾燥させて防汚層形成用組成物の塗膜を形成した。   The antifouling layer-forming composition (1) was allowed to stand for 30 minutes in an environment at 25 ° C. on the corona-treated surface of the PET film, and then applied using a No. 10 bar coater. It was dried for 5 minutes and at 150 ° C. for 1 minute to form a coating film of the composition for forming an antifouling layer.

次いで、防汚層形成用組成物の塗膜が積層されたPETフィルムを、窒素気流下にて、9.6kWの高圧水銀ランプ(出力設定100%)の下20cmの位置のところを、4.5m/分の速度で通過させて防汚層形成用組成物の塗膜を硬化させて防汚層が積層された転写フィルムを得た。このときの積算光量は400mJ/cmで、ピーク照度は260mW/cmであった。 Next, the PET film on which the coating film for the antifouling layer forming composition was laminated was placed at a position 20 cm below the 9.6 kW high-pressure mercury lamp (output setting 100%) under a nitrogen stream. The coating film of the antifouling layer forming composition was cured by passing at a speed of 5 m / min to obtain a transfer film on which the antifouling layer was laminated. The integrated light quantity at this time was 400 mJ / cm 2 and the peak illuminance was 260 mW / cm 2 .

基材である板厚が2mmのアクリライトEX001(三菱レイヨン(株)製メタクリル樹脂板、商品名)の表面に、接着層形成材料としてU6HA10部、C6DA30部、M305を30部、M400を30部及びDAROCUR TPOを混合して得られる活性エネルギー線硬化性接着層用組成物を使用して形成された接着層を形成するための塗膜を介して、得られた転写フィルムを防汚層の表面が基材と接するようにラミネートした後に60℃に加温して転写フィルムラミネート物を得た。   U6HA 10 parts, C6DA 30 parts, M305 30 parts, and M400 30 parts as the adhesive layer forming material on the surface of acrylite EX001 (Mitsubishi Rayon Co., Ltd. methacrylic resin board, product name) having a thickness of 2 mm as a base material And the surface of the antifouling layer through the coating film for forming the adhesive layer formed using the composition for active energy ray-curable adhesive layer obtained by mixing DAROCUR TPO Was laminated so as to be in contact with the substrate, and then heated to 60 ° C. to obtain a transfer film laminate.

上記の転写フィルムラミネート物を、60℃に加温した状態で60秒間経過させた後に、PETフィルムを介して出力9.6kWのメタルハライドランプの下20cmの位置のところを2.5m/分の速度で通過させて、接着層を形成するための塗膜を硬化させて接着層を形成し、転写フィルム積層体を得た。接着層を形成するための塗膜の硬化条件としては、積算光量は570mJ/cmで、ピーク照度は220mW/cmであった。尚、接着層の屈折率は1.52であった。 The above transfer film laminate was heated at 60 ° C. for 60 seconds and then passed through a PET film at a speed of 2.5 m / min at a position 20 cm below a metal halide lamp with an output of 9.6 kW. The coating film for forming the adhesive layer was cured to form an adhesive layer, and a transfer film laminate was obtained. As the curing conditions of the coating film for forming the adhesive layer, the integrated light amount was 570 mJ / cm 2 and the peak illuminance was 220 mW / cm 2 . The adhesive layer had a refractive index of 1.52.

次いで、転写フィルム積層体からPETフィルムを剥離して積層体を得た。   Next, the PET film was peeled from the transfer film laminate to obtain a laminate.

得られた積層体における接着層の厚みは13μmで、防汚層の厚みは100nmであった。また、積層体の全光線透過率は93.8%、ヘーズ値は0.1%であり、透明性に優れていた。   The thickness of the adhesive layer in the obtained laminate was 13 μm, and the thickness of the antifouling layer was 100 nm. Further, the total light transmittance of the laminate was 93.8%, the haze value was 0.1%, and the transparency was excellent.

積層体の防汚層の表面の擦傷性試験後のΔヘーズは0.24%であり、傷の本数は5本であった。また、積層体の防汚層と基材との密着性は良好であった。   The Δhaze after the scratch test on the surface of the antifouling layer of the laminate was 0.24%, and the number of scratches was 5. Moreover, the adhesiveness of the antifouling layer of a laminated body and a base material was favorable.

積層体の防汚層の表面の耐汗性については、変色は認められなかった。また、積層体の防汚層の表面のボトムの波長は620nmであり、ボトムの波長反射率は2.0%であった。   As for the sweat resistance of the surface of the antifouling layer of the laminate, no discoloration was observed. The bottom wavelength of the antifouling layer of the laminate was 620 nm, and the bottom wavelength reflectance was 2.0%.

更に、積層体の防汚層の表面に指紋を付着しても反射色の変化は見られなかった。また、干渉模様の評価では角度を変えても干渉模様は確認されなかった。   Furthermore, even if a fingerprint was attached to the surface of the antifouling layer of the laminate, no change in the reflected color was observed. In the evaluation of the interference pattern, no interference pattern was confirmed even when the angle was changed.

積層体の防汚層の表面の水接触角は105度であり、トリオレイン接触角は65度であった。また、積層体の防汚層の表面の油性インキ拭き取り性については5回の拭き取りで完全に拭き取れるレベルであった。   The water contact angle on the surface of the antifouling layer of the laminate was 105 degrees, and the triolein contact angle was 65 degrees. Moreover, the oil-based ink wiping property on the surface of the antifouling layer of the laminate was at a level that could be completely wiped by wiping five times.

積層体の外観を観察したところ、極僅か外観不良が認められた。
[実施例2]
厚さ100μmのPETフィルム((株)東洋紡、商品名:A4100)の表面を、空気下で9.6kWの高圧水銀ランプ(出力設定100%)の下20cmの位置のところを4.5m/分の速度で通過させて紫外線照射処理による親水化処理を実施し、表面処理剥離用フィルムを得た。
When the appearance of the laminate was observed, a slight appearance defect was recognized.
[Example 2]
The surface of a 100 μm-thick PET film (Toyobo Co., Ltd., trade name: A4100) is 4.5 m / min at a position 20 cm below a 9.6 kW high-pressure mercury lamp (output setting 100%) under air. The film was made to pass through and subjected to hydrophilic treatment by ultraviolet irradiation treatment to obtain a film for surface treatment peeling.

高圧水銀ランプは2灯点灯させた。このときの積算光量は800mJ/cmで、ピーク照度は260mW/cmであった。 Two high-pressure mercury lamps were lit. The integrated light quantity at this time was 800 mJ / cm 2 and the peak illuminance was 260 mW / cm 2 .

コロナ処理の代わりに上記親水化処理にした以外は実施例1と同様にして転写フィルム及び積層体を作製した。得られた結果を表4に示す。   A transfer film and a laminate were produced in the same manner as in Example 1 except that the above hydrophilization treatment was used instead of the corona treatment. Table 4 shows the obtained results.

Figure 0006016009
[実施例3]
厚さ100μmのPETフィルム((株)東洋紡、商品名:A4100)の表面にPGMを10号バーコーターを用いて塗布し、80℃で1.5分間及び120℃で1分間乾燥させて表面処理剥離用フィルムを得た。
Figure 0006016009
[Example 3]
PGM was applied to the surface of a 100 μm thick PET film (Toyobo Co., Ltd., trade name: A4100) using a No. 10 bar coater, and dried at 80 ° C. for 1.5 minutes and 120 ° C. for 1 minute for surface treatment. A release film was obtained.

コロナ処理の代わりに上記の有機溶媒を塗布・乾燥する処理にした以外は実施例1と同様にして転写フィルム及び積層体を作製した。得られた結果を表4に示す。
[実施例4]
厚さ100μmのPETフィルム((株)東洋紡、商品名:A4100)の表面に実施例1と同様にコロナ処理をした後、実施例3と同様にPGMを塗布・乾燥して表面処理剥離用フィルムを得た。
A transfer film and a laminate were produced in the same manner as in Example 1 except that the above organic solvent was applied and dried instead of the corona treatment. Table 4 shows the obtained results.
[Example 4]
The surface of a 100 μm-thick PET film (Toyobo Co., Ltd., trade name: A4100) was subjected to corona treatment in the same manner as in Example 1, and then coated and dried in the same manner as in Example 3 to remove the surface-treated release film. Got.

上記表面処理剥離用フィルムを使用する以外は実施例1と同様にして転写フィルム及び積層体を作製した。得られた結果を表4に示す。
[実施例5]
厚さ100μmのPETフィルム((株)東洋紡、商品名:A4100)の表面に実施例2と同様の紫外線照射処理を行った後、実施例3と同様にPGMを塗布・乾燥して表面処理剥離用フィルムを得た。
A transfer film and a laminate were produced in the same manner as in Example 1 except that the above surface treatment peeling film was used. Table 4 shows the obtained results.
[Example 5]
The surface of a PET film having a thickness of 100 μm (Toyobo Co., Ltd., trade name: A4100) was subjected to the same ultraviolet irradiation treatment as in Example 2, and then applied and dried in the same manner as in Example 3 to remove the surface treatment. A film was obtained.

上記表面処理剥離用フィルムを使用する以外は実施例1と同様にして転写フィルム及び積層体を作製した。得られた結果を表4に示す。
[実施例6]
厚さ100μmのPETフィルム((株)東洋紡、商品名:A4100)の表面に実施例3と同様にPGMを塗布・乾燥した後、実施例1と同様にコロナ処理をして表面処理剥離用フィルムを得た。
A transfer film and a laminate were produced in the same manner as in Example 1 except that the above surface treatment peeling film was used. Table 4 shows the obtained results.
[Example 6]
After coating and drying PGM on the surface of a PET film having a thickness of 100 μm (Toyobo Co., Ltd., trade name: A4100) in the same manner as in Example 3, it was subjected to corona treatment in the same manner as in Example 1 and subjected to surface treatment peeling film Got.

上記表面処理剥離用フィルムを使用する以外は実施例1と同様にして転写フィルム及び積層体を作製した。得られた結果を表4に示す。
[実施例7]
厚さ100μmのPETフィルム((株)東洋紡、商品名:A4100)の表面に実施例3と同様にPGMを塗布・乾燥した後、実施例2と同様に紫外線照射処理を行って表面処理剥離用フィルムを得た。
A transfer film and a laminate were produced in the same manner as in Example 1 except that the above surface treatment peeling film was used. Table 4 shows the obtained results.
[Example 7]
After PGM was applied to the surface of a 100 μm thick PET film (Toyobo Co., Ltd., trade name: A4100) and dried in the same manner as in Example 3, UV irradiation treatment was performed in the same manner as in Example 2 for surface treatment peeling. A film was obtained.

上記表面処理剥離用フィルムを使用する以外は実施例1と同様にして転写フィルム及び積層体を作製した。得られた結果を表4に示す。
[実施例8]
実施例1と同様にして防汚層が積層された転写フィルムを得た。次いで、転写フィルムの防汚層の表面を実施例1と同様にしてコロナ処理を実施した。
A transfer film and a laminate were produced in the same manner as in Example 1 except that the above surface treatment peeling film was used. Table 4 shows the obtained results.
[Example 8]
In the same manner as in Example 1, a transfer film on which an antifouling layer was laminated was obtained. Subsequently, the surface of the antifouling layer of the transfer film was subjected to corona treatment in the same manner as in Example 1.

更に、コロナ処理された防汚層の表面に高屈折率層形成用組成物(1)を25℃の環境で30分放置した後に10号バーコーターを用いて塗布し、100℃で1.5分間及び150℃で1分間乾燥させて高屈折率層形成用組成物の塗膜を形成した。   Further, the composition for forming a high refractive index layer (1) was left on the surface of the antifouling layer treated with corona for 30 minutes in an environment of 25 ° C., and then applied using a No. 10 bar coater. And dried at 150 ° C. for 1 minute to form a coating film of the composition for forming a high refractive index layer.

次いで、高屈折率層形成用組成物の塗膜が形成された積層物を、空気下で9.6kWの高圧水銀ランプ(出力設定100%)の下20cmの位置のところを4.5m/分の速度で通過させて高屈折率層形成用組成物の塗膜を硬化させて、高屈折率層が積層された積層物を得た。尚、高圧水銀ランプは2灯点灯させた。このときの積算光量は800mJ/cmで、ピーク照度は260mW/cmであった。 Next, the laminate on which the coating film of the composition for forming a high refractive index layer was formed was 4.5 m / min at a position 20 cm below a 9.6 kW high-pressure mercury lamp (output setting 100%) under air. The coating film of the composition for forming a high refractive index layer was cured by passing it at a speed of 1 to obtain a laminate in which the high refractive index layer was laminated. Two high-pressure mercury lamps were lit. The integrated light quantity at this time was 800 mJ / cm 2 and the peak illuminance was 260 mW / cm 2 .

更に、高屈折率層の表面に中屈折率層形成用組成物(1)を25℃の環境で30分間放置した後に10号バーコーターを用いて塗布し、80℃で1.5分間及び120℃で1分間乾燥させて中屈折率層形成用組成物の塗膜を形成した。   Further, the medium refractive index layer-forming composition (1) was left on the surface of the high refractive index layer for 30 minutes in an environment of 25 ° C., and then applied using a No. 10 bar coater, and then applied at 80 ° C. for 1.5 minutes and 120 The coating film of the composition for forming a medium refractive index layer was formed by drying at 0 ° C. for 1 minute.

次いで、中屈折率層形成用組成物の塗膜が形成された積層物を、空気下で9.6kWの高圧水銀ランプ(出力設定100%)の下20cmの位置のところを4.5m/分の速度で通過させて中屈折率層形成用組成物の塗膜を硬化させて、剥離用フィルムの表面に防汚層、高屈折率層及び中屈折率層が順次積層された転写フィルムを得た。このときの積算光量は400mJ/cmで、ピーク照度は260mW/cmであった。 Next, the laminate on which the coating film of the composition for forming a medium refractive index layer was formed was 4.5 m / min at a position 20 cm below a high-pressure mercury lamp (output setting 100%) of 9.6 kW under air. The film of the composition for forming a medium refractive index layer is cured by passing the film at a speed of 2 to obtain a transfer film in which an antifouling layer, a high refractive index layer and a medium refractive index layer are sequentially laminated on the surface of the peeling film. It was. The integrated light quantity at this time was 400 mJ / cm 2 and the peak illuminance was 260 mW / cm 2 .

得られた転写フィルムの中屈折率層の表面に、接着層形成材料としてU6HA10部、C6DA30部、M305を30部、M400を30部及びDAROCUR TPOを混合して得られる活性エネルギー線硬化性接着層用組成物を10号バーコーターを用いて塗布して接着層を形成するための塗膜を積層した。   Active energy ray-curable adhesive layer obtained by mixing U6HA 10 parts, C6DA 30 parts, M305 30 parts, M400 30 parts and DAROCUR TPO as the adhesive layer forming material on the surface of the intermediate refractive index layer of the obtained transfer film The composition for coating was applied using a No. 10 bar coater to form a coating film for forming an adhesive layer.

60℃に加温した、基材である板厚が2mmのアクリライトEX001の表面に上記の転写フィルムを、接着層を形成するための塗膜を介して積層し、転写フィルムラミネート物を得た。   The above transfer film was laminated on the surface of acrylite EX001 having a thickness of 2 mm as a base material heated to 60 ° C. through a coating film for forming an adhesive layer, and a transfer film laminate was obtained. .

上記の転写フィルムラミネート物を、60℃に加温した状態で60秒間経過させた後に、PETフィルムを介して出力9.6kWのメタルハライドランプの下20cmの位置のところを2.5m/分の速度で通過させて、接着層を形成するための塗膜を硬化させて接着層を形成し、転写フィルム積層体を得た。接着層を形成するための塗膜の硬化条件としては、積算光量は570mJ/cmで、ピーク照度は220mW/cmであった。 The above transfer film laminate was heated at 60 ° C. for 60 seconds and then passed through a PET film at a speed of 2.5 m / min at a position 20 cm below a metal halide lamp with an output of 9.6 kW. The coating film for forming the adhesive layer was cured to form an adhesive layer, and a transfer film laminate was obtained. As the curing conditions of the coating film for forming the adhesive layer, the integrated light amount was 570 mJ / cm 2 and the peak illuminance was 220 mW / cm 2 .

次いで、転写フィルム積層体からPETフィルムを剥離して積層体を得た。   Next, the PET film was peeled from the transfer film laminate to obtain a laminate.

得られた積層体における接着層の厚みは13μmであった。得られた結果を表4に示す。
[実施例9]
実施例3と同様の表面処理剥離用フィルムを使用した。それ以外は実施例8と同様にして積層体を得た。得られた結果を表4に示す。
[実施例10]
実施例4と同様の表面処理剥離用フィルムを使用した。それ以外は実施例8と同様にして積層体を得た。得られた結果を表4に示す。
[実施例11]
実施例6と同様の表面処理剥離用フィルムを使用した。それ以外は実施例8と同様にして積層体を得た。得られた結果を表4に示す。
[比較例1]
剥離用フィルムとして厚さ100μmのPETフィルム((株)東洋紡、商品名:A4100)を使用し、表面処理を実施しなかった。それ以外は実施例1と同様にして積層体を得た。得られた結果を表5に示す。
The thickness of the adhesive layer in the obtained laminate was 13 μm. Table 4 shows the obtained results.
[Example 9]
The same surface-treating release film as in Example 3 was used. Other than that was carried out similarly to Example 8, and obtained the laminated body. Table 4 shows the obtained results.
[Example 10]
The same surface treatment release film as that used in Example 4 was used. Other than that was carried out similarly to Example 8, and obtained the laminated body. Table 4 shows the obtained results.
[Example 11]
The same surface-treating release film as that used in Example 6 was used. Other than that was carried out similarly to Example 8, and obtained the laminated body. Table 4 shows the obtained results.
[Comparative Example 1]
A PET film (Toyobo Co., Ltd., trade name: A4100) having a thickness of 100 μm was used as a peeling film, and no surface treatment was performed. Other than that was carried out similarly to Example 1, and obtained the laminated body. The results obtained are shown in Table 5.

剥離用フィルムの表面は親水化処理又は有機溶媒を塗布・乾燥する処理が実施されていないため、得られた積層体において外観不良が認められた。   Since the surface of the peeling film was not subjected to a hydrophilization process or a process of applying / drying an organic solvent, poor appearance was observed in the obtained laminate.

Figure 0006016009
Figure 0006016009

T:厚み
Ta1:1番目の膜表層領域(a1)の厚み
Ta2:2番目の膜表層領域(a1)の厚み
Tai:i番目の膜表層領域(a1)の厚み
Tb1:1番目の膜中央領域の厚み
Tb2:2番目の膜中央領域の厚み
Tbi:i番目の膜中央領域の厚み
Tc1:1番目の膜中央領域の厚み
Tc2:2番目の膜中央領域の厚み
Tci:i番目の膜中央領域の厚み
Td1:1番目の膜表層領域(a2)の厚み
Td2:2番目の膜表層領域(a2)の厚み
Tdi:i番目の膜表層領域(a2)の厚み
L1:1番目の膜中央領域の長さ
L2:2番目の膜中央領域の長さ
L3:3番目の膜中央領域の長さ
L4:4番目の膜中央領域の長さ
Li:i番目の膜中央領域の長さ
T: Thickness Ta1: Thickness Ta2 of first film surface region (a1): Thickness of second film surface layer region (a1) Tai: Thickness of i-th film surface layer region (a1) Tb1: First film center region Thickness Tb2: thickness of second film center region Tbi: thickness of i-th film center region Tc1: thickness of first film center region Tc2: thickness of second film center region Tci: i-th film center region Thickness Td1: thickness of the first film surface area (a2) Td2: thickness of the second film surface area (a2) Tdi: thickness of the i-th film surface area (a2) L1: thickness of the first film center area Length L2: Length of the second film central region L3: Length of the third film central region L4: Length of the fourth film central region Li: Length of the i-th film central region

Claims (7)

剥離用フィルムの表面を、親水化処理及び沸点が200℃以下である有機溶媒を塗布し乾燥温度80〜130℃で乾燥する処理から選ばれる少なくとも1種の表面処理を行った後に、剥離用フィルムの表面処理を行った面に防汚層を形成する転写フィルムの製造方法。 The surface of the release film is subjected to at least one surface treatment selected from a hydrophilic treatment and an organic solvent having a boiling point of 200 ° C. or less and dried at a drying temperature of 80 to 130 ° C., and then the release film. A method for producing a transfer film, wherein an antifouling layer is formed on the surface subjected to the surface treatment. 親水化処理がコロナ処理及び紫外線照射処理から選ばれる少なくとも1種である請求項1に記載の転写フィルムの製造方法。   The method for producing a transfer film according to claim 1, wherein the hydrophilization treatment is at least one selected from a corona treatment and an ultraviolet irradiation treatment. 剥離用フィルムが芳香族ポリエステルフィルムである請求項1又は2に記載の転写フィルムの製造方法。 The method for producing a transfer film according to claim 1 or 2 , wherein the peeling film is an aromatic polyester film. 芳香族ポリエステル系フィルムがポリエチレンテレタレートフィルム又はポリエチレンナフタレートフィルムである請求項に記載の転写フィルムの製造方法。 The method for producing a transfer film according to claim 3 , wherein the aromatic polyester film is a polyethylene terephthalate film or a polyethylene naphthalate film. 剥離用フィルムの表面を、親水化処理又は沸点が200℃以下である有機溶媒を塗布し乾燥温度80〜130℃で乾燥する処理から選ばれる少なくとも1種の表面処理を行った後に、剥離用フィルムの表面処理を行った面に防汚層及び高屈折率層をこの順に形成する転写フィルムの製造方法であって、前記高屈折率層の屈折率(n KK )が1.6以上である転写フィルムの製造方法The surface of the release film is subjected to at least one surface treatment selected from a hydrophilic treatment or an organic solvent having a boiling point of 200 ° C. or less and dried at a drying temperature of 80 to 130 ° C., and then the release film. A transfer film manufacturing method in which an antifouling layer and a high refractive index layer are formed in this order on the surface subjected to the surface treatment , wherein the refractive index (n KK ) of the high refractive index layer is 1.6 or more. A method for producing a film . 剥離用フィルムの表面を、親水化処理又は沸点が200℃以下である有機溶媒を塗布し乾燥温度80〜130℃で乾燥する処理から選ばれる少なくとも1種の表面処理を行った後に、剥離用フィルムの表面処理を行った面に防汚層、高屈折率層及び中屈折率層をこの順に形成する転写フィルムの製造方法であって、前記高屈折率層の屈折率(n KK )が1.6以上であり、前記中屈折率層の屈折率(n CHK )が1.5〜1.65である転写フィルムの製造方法The surface of the release film is subjected to at least one surface treatment selected from a hydrophilic treatment or an organic solvent having a boiling point of 200 ° C. or less and dried at a drying temperature of 80 to 130 ° C., and then the release film. A method for producing a transfer film in which an antifouling layer, a high refractive index layer, and a medium refractive index layer are formed in this order on the surface subjected to the surface treatment , wherein the refractive index (n KK ) of the high refractive index layer is 1. A method for producing a transfer film, which is 6 or more, wherein the refractive index (n CHK ) of the medium refractive index layer is 1.5 to 1.65 . 請求項1〜6の何れかに記載の製造方法で転写フィルムを得たあとに、該転写フィルムの防汚層が形成された側の面を、接着層を形成するための塗膜を直接又は他の層を介して基材と貼り合わせて転写フィルムラミネート物を形成し、次いで接着層を形成するための塗膜から接着層を得て転写フィルム積層体を形成し、この後転写フィルム積層体から剥離用フィルムを剥離する積層体の製造方法。 After obtaining the transfer film in the manufacturing method according to any one of claims 1 to 6, the antifouling layer is formed side surface of the transfer film, a coating for forming an adhesive layer directly or A transfer film laminate is formed by laminating with a base material via another layer, and then an adhesive layer is obtained from a coating film for forming an adhesive layer to form a transfer film laminate, and then the transfer film laminate The manufacturing method of the laminated body which peels the film for peeling from.
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