JP3615171B2 - Anti-reflection transfer film - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、反射防止用転写フイルムに関し、さらに詳細には液晶用フロントパネル、ディスプレイ前面板、フロントライト用導光板、携帯電話の窓、ショーウインドウ等に使用でき、転写により、優れた防汚性、耐擦傷性、及び反射防止性を付与することができる反射防止用転写フイルムに関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、液晶用フロントパネル等に使用して、転写により反射防止性を付与することができる反射防止用転写フイルムが知られている。
例えば、特開平８−２４８４０４号公報には、プラスチックフイルムに直接又は離型層を介して反射防止層、必要によりハードコート層、接着層を順次形成した反射防止用転写箔が記載されており、さらに実施例には反射防止層が二酸化ケイ素、二酸化チタンの２層からなる反射防止用転写箔の記載もある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、特開平８−２４８４０４号公報に記載の従来の反射防止用転写箔には、以下に示す欠点があった。
［１］離型層と反射防止層との間に防汚性を有する層が形成されていないので、反射防止用転写箔を被転写物に転写した場合、転写後の被転写物の最表層には反射防止層が形成されているので、全く防汚性を有するものではなかった。
［２］さらに、転写後の被転写物の最表層には反射防止層が剥き出しになっているので、反射防止層に容易に傷がつき、反射防止性が低下してしまう欠点があった。
［３］仮に、防汚性や耐擦傷性を付与しようとすると、転写後の被転写物の表面に防汚性を有する層や反射防止層を保護する保護層をわざわざ別工程で形成しなければならず、生産性が悪く、コストも高くなるという問題があった。
【０００４】
本発明は、上記すべての欠点を除去したものであり、転写により被転写物の表面に、反射防止性と共に、防汚性や耐擦傷性を同時に付与することが可能な反射防止用転写フイルムを提供するものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
（１）本発明は、プラスチックフイルムの片面に、離型層、機能性層、反射防止層、ハードコート層、接着層が順次形成されている反射防止用転写フイルムにおいて、機能性層が防汚性及び耐擦傷性を有するアルコキシシラン層であること、及び反射防止層が機能性層側からＳｉＯｙ（ｙ＝１．６〜２．０）層、ＳｉＯｘ（ｘ＝０．８〜１．５）層が順次形成されたものであることを特徴とする反射防止用転写フイルムである。
（２）本発明は、離型層がメラミン系樹脂層である上記（１）記載の反射防止用転写フイルムである。
【０００６】
本発明の反射防止用転写フイルムは、プラスチックフイルムの片面に、離型層、機能性層、反射防止層、ハードコート層、接着層が順次形成されている反射防止用転写フイルムにおいて、機能性層が防汚性及び耐擦傷性を有するアルコキシシラン層であること、及び反射防止層が機能性層側からＳｉＯｙ（ｙ＝１．６〜２．０）層、ＳｉＯｘ（ｘ＝０．８〜１．５）層が順次形成されたものであるので、本発明の反射防止用転写フイルムを使用して、被転写物の表面に転写すれば、被転写物に反射防止性と共に、防汚性はもちろん優れた耐擦傷性をも同時に付与することができるので、防汚性はもちろん耐擦傷性が必要な用途にも使用できる。
従って、転写後の被転写物の表面に防汚性を有する層や反射防止層を保護する保護層をわざわざ別工程で形成する必要がなく、生産性が向上しコストも高くならない。
【０００７】
本発明の反射防止用転写フイルムは、反射防止層の機能性層側に最も近い層が、ＳｉＯｙ層（ｙ＝１．６〜２．０）層で形成されているので、アルコキシシラン層との相乗効果により、被転写物に優れた耐擦傷性を付与することができる。
また、本発明の反射防止用転写フイルムは、機能性層がアルコキシシラン層で形成され、かつ反射防止層が機能性層側からＳｉＯｙ（ｙ＝１．６〜２．０）層、ＳｉＯｘ（ｘ＝０．８〜１．５）層が順次形成されたものであるので、耐擦傷性はもちろん、反射防止性も向上するので万全である。
【０００８】
【発明の実施の形態】
本発明の反射防止用転写フイルムに使用するプラスチックフイルムは、その片面に後で述べる、離型層、機能性層、反射防止層、ハードコート層、接着層を順次形成し、このようにした反射防止用転写フイルムを被転写物に転写した後は、離型層と共に剥離されるものである。
【０００９】
プラスチックフイルムの種類は、従来転写フイルムに使用されているプラスチックフイルムであれば特に制限はなく、ポリエチレンテレフタレートフイルム、ポリプロピレンフイルム、ポリカーボネートフイルム、ポリエチレンフイルム、ポリスチレンフイルム、ポリアミドフイルム、ポリブチルアクリレートフイルム等が使用でき、中でも、耐熱性や強度等の点からポリエチレンテレフタレートフイルムが好ましい。
また、プラスチックフイルムの離型層側には、離型層との密着性を向上する目的で、易接着処理やコロナ処理等のプライマー処理を施しても構わない。
【００１０】
プラスチックフイルムの厚さは、６〜１００μｍが好ましく、より好ましくは１２〜５０μｍである。
厚さが６μｍより薄いと、反射防止用転写フイルムの製造時や転写時に、該転写フイルムにしわ、カール、破れ等が発生するので好ましくない。
厚さが１００μｍより厚いと、転写時の熱の伝導が悪くなり、転写適性の悪化や作業性の低下を招くと共に、不経済であるので好ましくない。
従って、プラスチックフイルムの厚さは、しわ、カール、転写適性等の問題から６〜１００μｍが好ましく、１２〜５０μｍであればより万全である。
【００１１】
本発明の反射防止用転写フイルムに形成される離型層は、プラスチックフイルムと機能性層との間にあって、プラスチックフイルムと密着しかつ機能性層との界面で剥離する離型性を有し、転写後にはプラスチックフイルムと共に被転写物から剥離されるものである。
【００１２】
離型層に使用される樹脂は、プラスチックフイルムと密着しかつ機能性層であるアルコキシシラン層との界面で剥離する離型性を有するものであれば特に制限はなく、メラミン系樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂等が使用できるが、離型性の点からメラミン系樹脂がより好ましい。
【００１３】
離型層の厚さは、０．０１〜３μｍが好ましく、より好ましくは０．０５〜１μｍである。
厚さが０．０１μｍより薄いと、離型性が低下するので、反射防止用転写フイルムを転写後、プラスチックフイルムを剥離する際に、機能性層や反射防止層にクラックが発生したり、場合によっては剥離できなくなるので好ましくない。
厚さが３μｍより厚いと、離型性が良すぎていわゆる箔散りが発生するので好ましくない。
従って、離型層の厚さは、離型性の点から０．０１〜３μｍが好ましく、０．０５〜１μｍであればより万全である。
【００１４】
離型層の形成方法は、グラビアコート法、マイクログラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等の従来公知の方法が使用できる。
【００１５】
本発明の反射防止用転写フイルムの機能性層は、離型層上に形成され、防汚性及び耐擦傷性を有するものであって、該転写フイルムを被転写物に転写しプラスチックフイルムを剥離した後は、被転写物の最表層に形成され、反射防止層を汚れと共に擦り傷からも保護する役割を持つ。
ここで、上記防汚性とは機能性層の上に付いた汚れを容易に拭き取ることができる特性を言い、また上記耐擦傷性とは、機能性層に反射防止性を低下させる程度の傷が容易に入らない特性を言う。
さらに、機能性層は、機能性層上に形成される反射防止層の反射防止性に影響を与えないように、機能性層の屈折率、厚さ、透明性を反射防止層の構成により、適宜決定すれば良い。
特に屈折率については、機能性層側に最も近い反射防止層の屈折率と同程度としておけば、反射防止層の反射防止性に影響が少ないので好ましい。
【００１６】
機能性層に使用する樹脂は、アルコキシシランを主成分とした熱硬化タイプのものが、防汚性と耐擦傷性の両方に優れており特に好ましい。
従って、機能性層をアルコキシシラン層としておけば、防汚性はもちろん、耐擦傷性の点からも万全である。
【００１７】
機能性層の厚さは、０．２〜２００ｎｍが好ましく、より好ましくは０．５〜６０ｎｍである。
厚さが０．２ｎｍより薄いと、防汚性及び離型層との離型性や、耐擦傷性も低下するので好ましくない。
厚さが２００ｎｍより厚いと、耐擦傷性や反射防止性が低下したり、成膜不良が発生するので好ましくない。
従って、機能性層の厚さは、防汚性や耐擦傷性等の点から０．２〜２００ｎｍが好ましく、０．５〜６０ｎｍであればより万全である。
【００１８】
また、機能性層は反射防止用転写フイルムの離型性を向上する働きも有する。
すなわち、離型層上に直接反射防止層が形成されている場合には、離型層と反射防止層が密着し易く、反射防止用転写フイルムを転写後、プラスチックフイルムを剥離する際に、反射防止層にクラックが発生したり、場合によっては剥離できなくなる。
特に、反射防止層を真空蒸着法やスパッタリング法等の物理的蒸着法で形成した場合には、蒸着時の蒸着材料の持つ高いエネルギーのため離型層と反射防止層間の密着がより強くなるので、上記現象はより顕著になる。
従って、離型層と反射防止層との間に機能性層を形成することにより、離型層と反射防止層間の密着を防止し、離型層と機能性層間で滑らかに剥離することが可能となるのである。
本発明の反射防止用転写フイルムは、離型層と反射防止層との間に機能性層であるアルコキシシラン層が形成されているので、離型性に優れており、特に離型層をメラミン系樹脂層で形成しておけば、防汚性、耐擦傷性はもちろん、離型性にも優れたものとなるので、より万全である。
【００１９】
機能性層の形成方法は、グラビアコート法、マイクログラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等の従来公知の方法が使用できる。
【００２０】
本発明の反射防止用転写フイルムの反射防止層は、反射防止性を有し、転写後に、被転写物に反射防止性を付与するものであり、機能性層側からＳｉＯｙ（ｙ＝１．６〜２．０）層、ＳｉＯｘ（ｘ＝０．８〜１．５）層で形成される２層構成である。
そして反射防止層が２層構成の場合には、機能性層に近い層から低屈折率層、高屈折率層の順に形成されている必要があり、本発明の反射防止用転写フイルムの反射防止層は、機能性層側から低屈折率層であるＳｉＯｙ（ｙ＝１．６〜２．０）層、高屈折率層であるＳｉＯｘ（ｘ＝０．８〜１．５）層で形成されている。
反射防止用転写フイルムの反射防止層を機能性層に近い層から低屈折率層、高屈折率層の順に形成しておけば、転写後の被転写物の反射防止層が機能性層に近い層から低屈折率層、高屈折率層の順に形成されるので反射防止効果が得られる。
しかし、反射防止用転写フイルムの反射防止層を機能性層に近い層から高屈折率層、低屈折率層の順に形成されていると、転写後の被転写物の反射防止層が機能性層に近い層から高屈折率層、低屈折率層の順に形成されるので反射防止効果が得られず好ましくない。
【００２１】
本発明の反射防止用転写フイルムは、反射防止層の機能性層側に最も近い層が、ＳｉＯｙ層（ｙ＝１．６〜２．０）層で形成されているので、機能性層であるアルコキシシラン層との相乗効果により、被転写物に優れた耐擦傷性を付与することができる。
【００２２】
また、本発明の反射防止用転写フイルムは、機能性層がアルコキシシラン層で形成され、かつ反射防止層が機能性層側からＳｉＯｙ（ｙ＝１．６〜２．０）層、ＳｉＯｘ（ｘ＝０．８〜１．５）層が順次形成されたものであるので、耐擦傷性はもちろん、反射防止性も向上するので万全である。
【００２３】
反射防止層の形成方法は、真空蒸着法、スパッタリング法、電子ビーム蒸着法等、従来公知の方法が使用できる。
【００２４】
本発明の反射防止用転写フイルムは、反射防止層と接着層との間にさらにハードコート層が形成されている。
ハードコート層が形成されていれば、転写後の被転写物にハードコート性をさらに付与することができる。
ハードコート性は、通常鉛筆硬度試験での測定値が２Ｈ以上であれば実用上問題ない。
【００２５】
ハードコート層に使用される樹脂は、実用上問題のない程度のハードコート性があれば特に制限はなく、シリコーン系、メラミン系等の熱硬化型ハードコート樹脂や、シリコーン系、アクリル系等の紫外線硬化型ハードコート樹脂等が使用できる。
【００２６】
ハードコート層の厚さは、１〜１５μｍが好ましく、２〜８μｍがより好ましい。
ハードコート層の厚さが１μｍより薄いと、ハードコート性が得られず耐擦傷性が低下したり、紫外線硬化型ハードコート樹脂の場合には硬化不良を生じ易くなる。
ハードコート層の厚さが１５μｍより厚いと、ハードコート層にクラックが発生したり、反射防止用転写フイルムがカールし易くなるので好ましくない。
従って、ハードコート層の厚さは、１〜１５μｍが好ましく、ハードコート性やカール発生の点等から２〜８μｍであれば、より万全である。
【００２７】
また、ハードコート層には帯電防止や熱線カットの目的でＳｎＯ２、ＩＴＯ、ＡＴＯ等の超微粒子を添加してもよい。
【００２８】
ハードコート層の形成方法は、リバースコート法、ダイコート法、グラビアコート法、マイクログラビアコート法等の従来公知の方法が使用できる。
【００２９】
本発明の反射防止用転写フイルムの接着層は、ハードコート層上に形成され、転写時に、ハードコート層と被転写物とを接着する役割を持つ。
【００３０】
接着層に使用される樹脂は、ハードコート層と被転写物の両方に接着するものであれば特に制限はなく、アクリル系、ポリエステル系、エポキシ系等、従来転写フイルムの接着層に用いられる樹脂が使用できる。
【００３１】
接着層の厚さは、０．２〜１０μｍが好ましい。
接着層の厚さが０．２μｍより薄いと、接着性が得られないので好ましくない。
接着層の厚さが１０μｍより厚いと、接着性は得られるもののコーティング外観不良や非転写部の膜付（バリ）が発生するので好ましくない。
従って、接着層の厚さは、接着性やコーティング外観等の点から、０．２〜１０μｍが好ましい。
【００３２】
接着層の形成方法は、リバースコート法、ダイコート法、グラビアコート法、マイクログラビアコート法等の従来公知の方法が使用できる。
【００３３】
ここで、本発明に係る反射防止用転写フイルムについて、図面を参照しながら説明する。
図１は本発明に係る反射防止用転写フイルムの一例を示す一部拡大断面図であり、プラスチックフイルム１の片面に、離型層２、機能性層３、反射防止層４、ハードコート層５、接着層６が順次形成されている。
【００３４】
【実施例】
厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレートフイルム（三菱化学ポリエステルフィルム社製 ダイアホイルＧ１３０）の片面上にメラミン系樹脂（日立化成社製 メラン２７）をグラビアコート法にてコーティングして、厚さ０．８μｍの離型層を形成し、次にアルコキシシラン（東芝シリコーン社製 トスガード５１０）をマイクログラビアコート法にてコーティングして、離型層上に機能性層として厚さ１０ｎｍのアルコキシシラン層を形成した。
次に反射防止層として、真空蒸着機にて蒸着材料としてＳｉＯを使用して、約４．０ｌ／ｍｉｎの酸素を導入して蒸着真空度を一定に保ちつつ、光線透過率や反射率をモニターしながら蒸着し、機能性層上に反射防止層の低屈折率層である、厚さ９４ｎｍのＳｉＯｙ（ｙ＝２）層を形成し、さらにＳｉＯｙ（ｙ＝２）層上に、約０．５ｌ／ｍｉｎの酸素を導入すること以外はＳｉＯｙ（ｙ＝２）層と同様の方法で、反射防止層の高屈折率層である、厚さ１２０ｎｍのＳｉＯｘ（ｘ＝０．８〜１．５）層を形成した。
次に、ＳｉＯｘ（ｘ＝０．８〜１．５）層上に、紫外線硬化型ハードコート塗料（大日精化社製 精化ビームＥＸＦ−０１Ｂ）をリバースコート法にてコーティングして、厚さ５μｍのハードコート層を形成し、さらにハードコート層上に、熱可塑性アクリル系樹脂（ロームアンドハース社製 パラロイドＢ−６６）をリバースコート法にてコーティングし、厚さ３μｍの接着層を形成して、本発明の反射防止用転写フイルムを得た。
【００３５】
【比較例１】
実施例の高屈折率層であるＳｉＯｘ（ｘ＝０．８〜１．５）層に替えて、高屈折率樹脂（ＪＳＲ社製 ＪＮ−７１０２ 屈折率：１．６７）をマイクログラビアコート法にてコーティングして、厚さ１２０ｎｍの高屈折率樹脂薄膜層を形成したこと以外は実施例と同様にして、反射防止用転写フイルムを得た。
【００３６】
【比較例２】
ＳｉＯｘ（ｘ＝０．８〜１．５）層上にハードコート層を形成しなかったこと以外は実施例と同様にして、反射防止用転写フイルムを得た。
【００３７】
【比較例３】
実施例のアルコキシシラン層に替えて、フッ素系樹脂（ＤＩＣ社製）をマイクログラビアコート法にてコーティングして、厚さ１０ｎｍのフッ素系樹脂からなる機能性層を形成したこと以外は実施例と同様にして、反射防止用転写フイルムを得た。
【００３８】
【比較例４】
比較例２の機能性層であるアルコキシシラン層を形成しなかったこと以外は比較例２と同様にして、機能性層が形成されていない反射防止用転写フイルムを得た。
【００３９】
実施例、及び比較例１〜４で得られた反射防止用転写フイルムについて、以下の試験を行い反射防止用転写フイルムとしての性能を比較した。
【００４０】
１．離型性
（測定試料）実施例、及び比較例１〜４で得られた反射防止用転写フイルムの接着層面とアクリル板が接するようにそれぞれ重ね合わせた後、反射防止用転写フイルムの上から熱ロール転写して両者を接着させた。
次に、ポリエチレンテレフタレートフイルムを離型層と共にアクリル板から剥離して、表面に転写層（反射防止用転写フイルムのうちプラスチックフイルムと離型層を除いた層）が形成された反射防止性アクリル板を各１枚準備し、性能比較のための試料とした。
（測定方法）ポリエチレンテレフタレートフイルムを離型層と共にアクリル板から剥離したときに、離型層と機能性層（比較例４のものは離型層と反射防止層）がきれいに剥離し剥離強度も軽かったものを○、きれいに剥離するが剥離強度がやや重かったものを△、剥離強度が非常に重く一部剥離しなかったものを×とした。
（結果）表１
【００４１】
２．防汚性
（測定試料）剥離性試験と同様にして反射防止性アクリル板を各１枚準備すると共に、反射防止用転写フイルムを転写していない（転写層が形成されていない）アクリル板を１枚準備してそれぞれ性能比較のための試料とした。
（測定方法）反射防止性アクリル板の転写層側表面上（転写層が形成されていないアクリル板についてはその表面上）に油性マジックインキ（ペンテル社製 ペンテルペン）にて筆記し、１時間放置後布で拭き取ったときに、マジックインキが残らず拭き取れたもの（きれいに消去できたもの）を○、一部拭き取れなかったもの（一部消去できなかったもの）を△、全く拭き取れなかったもの（全く消去できなかったもの）を×とした。
但し、比較例４のものについては、きれいに剥離できた部分（転写層が形成されている部分）について測定した。
（結果）表１
【００４２】
３．耐擦傷性
（測定試料）防汚性試験と同様にしてそれぞれ性能比較のための試料とした。
（測定方法）反射防止性アクリル板の転写層側表面上（転写層が形成されていないアクリル板についてはその表面上）をスチールウール＃００００（荷重：２５０ｇ／ｃｍ２）で１０往復した後の転写層表面に発生した傷を目視にて観察し、傷が全く発生しなかったものをＡ、わずかに傷が発生したものをＢ、傷が多数発生したものをＣ、強い傷が激しく発生したものをＤとした。
但し、比較例４のものについては、きれいに剥離できた部分（転写層が形成されている部分）について測定した。
（結果）表１
【００４３】
４．鉛筆硬度
（測定試料）防汚性試験と同様にしてそれぞれ性能比較のための試料とした。
（測定方法）反射防止性アクリル板の転写層側表面上（転写層が形成されていないアクリル板についてはその表面上）の鉛筆硬度を、ＪＩＳ−Ｋ−５４００に準じて測定した。
但し、比較例４のものについては、きれいに剥離できた部分（転写層が形成されている部分）について測定した。
（結果）表１
【００４４】
５．可視光反射率
（測定試料）防汚性試験と同様にして各試料を得た後、反射防止性アクリル板については被転写面（転写層が形成されている面と反対側の面）に黒色塗装を施したものを各１枚準備し、反射防止用転写フイルムを転写していない（転写層が形成されていない）アクリル板についてはその片面に黒色塗装を施したものを１枚準備してそれぞれ性能比較のための試料とした。
（測定方法）分光光度計（日立製作所製 Ｕ−４０００）を使用して、ＪＩＳ−Ｒ−３１０６に準じて、上記試料の転写層側（転写層が形成されていないアクリル板については黒色塗装を施していない面）の５°正反射を測定した。
但し、比較例４のものについては、きれいに剥離できた部分（転写層が形成されている部分）について測定した。
（結果）表１
【００４５】
６．３８０〜７８０ｎｍでの最小反射率
（測定試料）可視光反射率試験と同様にしてそれぞれ性能比較のための試料とした。
（測定方法）分光光度計（日立製作所製 Ｕ−４０００）を使用して、ＪＩＳ−Ｒ−３１０６に準じて、上記試料の転写層側（転写層が形成されていないアクリル板については黒色塗装を施していない面）の５°正反射を測定し、３８０〜７８０ｎｍでの最小の反射率を求めた。
但し、比較例４のものについては、きれいに剥離できた部分（転写層が形成されている部分）について測定した。
（結果）表１
【００４６】
７．全光線透過率
（測定試料）可視光反射率試験と同様にしてそれぞれ性能比較のための試料とした。
（測定方法）ヘーズメーター（日本電色製 ＮＤＨ−３００Ａ）を使用して、ＪＩＳ−Ｋ−７１０５に準じて測定した。
但し、比較例４のものについては、きれいに剥離できた部分（転写層が形成されている部分）について測定した。
（結果）表１
【００４７】
【表１】
表１から明らかなように、実施例の反射防止用転写フイルムと比較例１〜４の反射防止用転写フイルムとでは性能に大きな差異があった。
すなわち、実施例の反射防止用転写フイルムは、機能性層がアルコキシシラン層で、かつ反射防止層が能性層側からＳｉＯｙ（ｙ＝２）層、ＳｉＯｘ（ｘ＝０．８〜１．５）層が順次形成されたものであるので、実施例の反射防止用転写フイルムを転写して得た反射防止性アクリル板は、防汚性、離型性はもちろん、耐擦傷性試験で転写層表面に全く傷が生じず（評価Ａ）、耐擦傷性に非常に優れている。
さらに、実施例の反射防止用転写フイルムは、ハードコート層も形成されているので、該転写フイルムを転写して得た反射防止性アクリル板は、鉛筆硬度が５Ｈを示し、ハードコート性に特に優れたものとなっている。
これは、ハードコート層のハードコート性及びアルコキシシラン層の持つ耐擦傷性とＳｉＯｙ（ｙ＝２）層の持つ高い硬度との相乗効果に加えＳｉＯｘ（ｘ＝０．８〜１．５）層の固さが、耐擦傷性及びハードコート性のさらなる向上に寄与しているものと考えられる。
また、実施例の反射防止用転写フイルムは、反射防止層が機能性層側からＳｉＯｙ（ｙ＝２）層、ＳｉＯｘ（ｘ＝０．８〜１．５）層が順次形成されたものであるので、可視光反射率値が１．２、３８０〜７８０ｎｍでの最小反射率値が０．５であり、反射防止性に非常に優れている。
これに対し、比較例４の反射防止用転写フイルムは機能性層が形成されていないので、比較例４の反射防止用転写フイルムを転写して得た反射防止性アクリル板の防汚性、及び耐擦傷性はアクリル板のそれと比較して何れも差異がなく非常に悪い。また剥離強度も非常に重く一部剥離できず離型性にも劣っている。
また、比較例３の反射防止用転写フイルムは、機能性層が柔らかいフッ素系樹脂で形成されているので、比較例３の反射防止用転写フイルムを転写して得た反射防止性アクリル板は、機能性層がアルコキシシラン層である実施例の反射防止用転写フイルムを転写して得た反射防止性アクリル板と比較して、離型性、耐擦傷性、及びハードコート性に劣ることがわかる。
比較例２の反射防止用転写フイルムは、ハードコート層が形成されていないので、比較例２の反射防止用転写フイルムを転写して得た反射防止性アクリル板は、耐擦傷性試験でわずかに傷が発生し（評価Ｂ）、また鉛筆硬度は３Ｈであり、実施例の反射防止用転写フイルムを転写して得た反射防止性アクリル板と比較して、耐擦傷性、及びハードコート性に劣ることがわかる。
比較例１の反射防止用転写フイルムは、反射防止層が機能性層側からＳｉＯｙ（ｙ＝２）層、樹脂薄膜層が順次形成されたものであるので、比較例１の反射防止用転写フイルムを転写して得た反射防止性アクリル板は、耐擦傷性試験でわずかに傷が発生し（評価Ｂ）、また鉛筆硬度は４Ｈであり、さらに３８０〜７８０ｎｍでの最小反射率値が０．７であり、実施例の反射防止用転写フイルムを転写して得た反射防止性アクリル板と比較して、耐擦傷性、ハードコート性、及び反射防止性に劣ることがわかる。
以上のように、実施例の反射防止用転写フイルムは、反射防止性や透明性を維持したままさらに、優れた防汚性、耐擦傷性、及び離型性を被転写物に付与することができるものである。
【００４９】
【発明の効果】
本発明の反射防止用転写フイルムは、プラスチックフイルムの片面に、離型層、機能性層、反射防止層、ハードコート層、接着層が順次形成されている反射防止用転写フイルムにおいて、機能性層が防汚性及び耐擦傷性を有するアルコキシシラン層であるので、本発明の反射防止用転写フイルムを使用して、被転写物の表面に転写すれば、被転写物に反射防止性と共に、防汚性はもちろん優れた耐擦傷性をも同時に付与することができるので、防汚性はもちろん耐擦傷性が必要な用途にも使用できる。
従って、転写後の被転写物の表面に防汚性を有する層や反射防止層を保護する保護層をわざわざ別工程で形成する必要がなく、生産性が向上しコストも高くならない。
【００５０】
本発明の反射防止用転写フイルムは、反射防止層の機能性層側に最も近い層が、ＳｉＯｙ層（ｙ＝１．６〜２．０）層で形成されているので、機能性層であるアルコキシシラン層との相乗効果により、被転写物に優れた耐擦傷性を付与することができる。
また、本発明の反射防止用転写フイルムは、機能性層がアルコキシシラン層で形成され、かつ反射防止層が機能性層側からＳｉＯｙ（ｙ＝１．６〜２．０）層、ＳｉＯｘ（ｘ＝０．８〜１．５）層が順次形成されたものであるので、耐擦傷性はもちろん、反射防止性も向上するので万全である。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る反射防止用転写フイルムの一例を示す一部拡大断面図である。
【符号の説明】
１プラスチックフイルム
２離型層
３機能性層
４反射防止層
５ハードコート層
６接着層[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to an antireflection transfer film, and more specifically, it can be used for a liquid crystal front panel, a display front plate, a front light guide plate, a mobile phone window, a show window, etc. The present invention relates to an antireflection transfer film capable of imparting scratch resistance and antireflection properties.
[0002]
[Prior art]
2. Description of the Related Art Conventionally, an antireflection transfer film that can be used for a liquid crystal front panel or the like to impart antireflection properties by transfer is known.
For example, JP-A-8-248404 describes an antireflection transfer foil in which an antireflection layer, a hard coat layer and, if necessary, an adhesive layer are sequentially formed on a plastic film directly or via a release layer. Further, the examples also describe an antireflection transfer foil in which the antireflection layer comprises two layers of silicon dioxide and titanium dioxide.
[0003]
[Problems to be solved by the invention]
However, the conventional antireflection transfer foil described in JP-A-8-248404 has the following drawbacks.
[1] Since an antifouling layer is not formed between the release layer and the antireflection layer, when the antireflection transfer foil is transferred to the transfer object, the outermost layer of the transfer object after transfer Since an antireflection layer was formed on the film, it did not have antifouling properties at all.
[2] Furthermore, since the antireflection layer is exposed on the outermost layer of the transferred object after transfer, there is a drawback that the antireflection layer is easily damaged and the antireflection property is lowered.
[3] If antifouling property or scratch resistance is to be imparted, a layer having antifouling property or a protective layer for protecting the antireflection layer must be formed in a separate step on the surface of the transferred material after transfer. There was a problem that productivity was bad and cost also became high.
[0004]
The present invention eliminates all the above-mentioned drawbacks. An antireflection transfer film capable of simultaneously imparting antifouling properties and antifouling properties and scratch resistance to the surface of an object to be transferred by transfer is provided. It is to provide.
[0005]
[Means for Solving the Problems]
(1) The present invention is an antireflection transfer film in which a release layer, a functional layer, an antireflection layer, a hard coat layer, and an adhesive layer are sequentially formed on one side of a plastic film. And an anti-reflection layer from the functional layer side to the SiOy (y = 1.6 to 2.0) layer, SiOx (x = 0.8 to 1.5) An antireflection transfer film, wherein layers are sequentially formed.
(2) The present invention is the antireflection transfer film according to the above (1), wherein the release layer is a melamine resin layer.
[0006]
The antireflection transfer film of the present invention is an antireflection transfer film in which a release layer, a functional layer, an antireflection layer, a hard coat layer, and an adhesive layer are sequentially formed on one side of a plastic film. Is an alkoxysilane layer having antifouling properties and scratch resistance, and the antireflection layer is a SiOy (y = 1.6 to 2.0) layer, SiOx (x = 0.8 to 1) from the functional layer side. .5) Since the layers are sequentially formed, if the antireflection transfer film of the present invention is used to transfer to the surface of the transfer object, the antifouling property as well as the antireflection property on the transfer object is Of course, excellent scratch resistance can be imparted at the same time, so that it can be used for applications that require not only antifouling but also scratch resistance.
Therefore, it is not necessary to form a layer having antifouling property or a protective layer for protecting the antireflection layer on the surface of the transferred material after transfer in a separate step, so that productivity is improved and cost is not increased.
[0007]
In the antireflection transfer film of the present invention, since the layer closest to the functional layer side of the antireflection layer is formed of a SiOy layer (y = 1.6 to 2.0), Due to the synergistic effect, excellent scratch resistance can be imparted to the transfer object.
In the antireflection transfer film of the present invention, the functional layer is formed of an alkoxysilane layer, and the antireflection layer is formed of an SiOy (y = 1.6 to 2.0) layer, SiOx (x = 0.8 to 1.5) Since the layers are sequentially formed, not only scratch resistance but also antireflection properties are improved.
[0008]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
The plastic film used for the antireflection transfer film of the present invention has a release layer, a functional layer, an antireflection layer, a hard coat layer, and an adhesive layer, which will be described later, formed in this order on one side. After the transfer film for prevention is transferred to the transfer object, it is peeled off together with the release layer.
[0009]
The type of plastic film is not particularly limited as long as it is a plastic film conventionally used for transfer film, and polyethylene terephthalate film, polypropylene film, polycarbonate film, polyethylene film, polystyrene film, polyamide film, polybutyl acrylate film, etc. are used. Among them, polyethylene terephthalate film is preferable from the viewpoint of heat resistance and strength.
Further, a primer treatment such as easy adhesion treatment or corona treatment may be applied to the release layer side of the plastic film for the purpose of improving the adhesion to the release layer.
[0010]
The thickness of the plastic film is preferably 6 to 100 μm, more preferably 12 to 50 μm.
When the thickness is less than 6 μm, it is not preferable because wrinkles, curls, tears, etc. occur in the transfer film during the production or transfer of the antireflection film.
If the thickness is greater than 100 μm, the heat conduction during transfer is deteriorated, which deteriorates transfer suitability and workability and is uneconomical.
Accordingly, the thickness of the plastic film is preferably 6 to 100 μm from the viewpoint of wrinkles, curling, transferability, etc., and 12 to 50 μm is more complete.
[0011]
The release layer formed in the antireflection transfer film of the present invention is between the plastic film and the functional layer, has a release property that adheres to the plastic film and peels off at the interface with the functional layer, After transfer, it is peeled off from the transfer object together with the plastic film.
[0012]
The resin used for the release layer is not particularly limited as long as it has a release property that adheres to the plastic film and peels off at the interface with the alkoxysilane layer, which is a functional layer. Melamine-based resin, silicone-based resin Resins, fluorine resins, and the like can be used, but melamine resins are more preferable from the viewpoint of releasability.
[0013]
The thickness of the release layer is preferably 0.01 to 3 μm, more preferably 0.05 to 1 μm.
If the thickness is less than 0.01 μm, the releasability will be reduced, so when the plastic film is peeled off after transferring the antireflection transfer film, cracks may occur in the functional layer or antireflection layer. Depending on the case, it may not be peeled off.
If the thickness is greater than 3 μm, the releasability is too good and so-called foil scattering occurs, which is not preferable.
Accordingly, the thickness of the release layer is preferably 0.01 to 3 μm from the viewpoint of releasability, and is more perfect if it is 0.05 to 1 μm.
[0014]
As a method for forming the release layer, a conventionally known method such as a gravure coating method, a micro gravure coating method, a reverse coating method, or a die coating method can be used.
[0015]
The functional layer of the antireflection transfer film of the present invention is formed on the release layer and has antifouling properties and scratch resistance. The transfer film is transferred to a transfer object and the plastic film is peeled off. After that, it is formed on the outermost layer of the transfer object, and has a role of protecting the antireflection layer from dirt as well as dirt.
Here, the antifouling property means a property that can easily wipe off the dirt on the functional layer, and the scratch resistance is a scratch that reduces the antireflection property of the functional layer. Says a property that does not easily enter.
Furthermore, the functional layer has the refractive index, thickness, and transparency of the functional layer by the configuration of the antireflection layer so as not to affect the antireflection property of the antireflection layer formed on the functional layer. What is necessary is just to determine suitably.
In particular, the refractive index is preferably about the same as the refractive index of the antireflection layer closest to the functional layer because the antireflection properties of the antireflection layer are less affected.
[0016]
As the resin used for the functional layer, a thermosetting type mainly composed of alkoxysilane is particularly preferable because it is excellent in both antifouling property and scratch resistance.
Therefore, if the functional layer is an alkoxysilane layer, not only antifouling property but also scratch resistance is perfect.
[0017]
The thickness of the functional layer is preferably 0.2 to 200 nm, more preferably 0.5 to 60 nm.
If the thickness is less than 0.2 nm, the antifouling property, the release property with the release layer and the scratch resistance are also deteriorated, which is not preferable.
If the thickness is greater than 200 nm, the scratch resistance and antireflection properties are lowered, and film formation defects occur.
Therefore, the thickness of the functional layer is preferably 0.2 to 200 nm from the viewpoint of antifouling property, scratch resistance and the like, and is more perfect if it is 0.5 to 60 nm.
[0018]
The functional layer also has a function of improving the releasability of the antireflection transfer film.
That is, when the antireflection layer is formed directly on the release layer, the release layer and the antireflection layer are easy to adhere to each other, and when the antireflection transfer film is transferred and the plastic film is peeled off, Cracks are generated in the prevention layer, and in some cases, it cannot be peeled off.
In particular, when the antireflection layer is formed by a physical vapor deposition method such as vacuum vapor deposition or sputtering, the adhesion between the release layer and the antireflection layer becomes stronger due to the high energy of the vapor deposition material during vapor deposition. The above phenomenon becomes more remarkable.
Therefore, by forming a functional layer between the release layer and the antireflection layer, it is possible to prevent adhesion between the release layer and the antireflection layer and to smoothly peel off between the release layer and the functional layer. It becomes.
The antireflection transfer film of the present invention is excellent in releasability because an alkoxysilane layer, which is a functional layer, is formed between the release layer and the antireflection layer. If it is formed of a system resin layer, not only the antifouling property and scratch resistance but also the release property will be excellent, so that it is more thorough.
[0019]
As a method for forming the functional layer, conventionally known methods such as a gravure coating method, a micro gravure coating method, a reverse coating method, and a die coating method can be used.
[0020]
The antireflection layer of the antireflection transfer film of the present invention has antireflection properties and imparts antireflection properties to an object to be transferred after transfer. From the functional layer side, SiOy (y = 1.6). -2.0) layer and SiOx (x = 0.8-1.5) layer.
When the antireflection layer has a two-layer structure, the antireflective transfer film of the present invention needs to be formed in order from the layer close to the functional layer to the low refractive index layer and the high refractive index layer. The layers are formed of a SiOy (y = 1.6 to 2.0) layer that is a low refractive index layer and a SiOx (x = 0.8 to 1.5) layer that is a high refractive index layer from the functional layer side. ing.
If the antireflection layer of the antireflection transfer film is formed in the order from the layer close to the functional layer to the low refractive index layer and the high refractive index layer, the antireflection layer of the transferred object after transfer is close to the functional layer. Since the low refractive index layer and the high refractive index layer are formed in this order from the layer, an antireflection effect can be obtained.
However, when the antireflection layer of the antireflection transfer film is formed in the order from the layer close to the functional layer to the high refractive index layer and the low refractive index layer, the antireflection layer of the transferred object after transfer is the functional layer. It is not preferable because the antireflection effect cannot be obtained because the layers are formed in the order of the high refractive index layer and the low refractive index layer.
[0021]
The antireflection transfer film of the present invention is a functional layer because the layer closest to the functional layer side of the antireflection layer is formed of a SiOy layer (y = 1.6 to 2.0). Due to the synergistic effect with the alkoxysilane layer, excellent scratch resistance can be imparted to the transfer object.
[0022]
In the antireflection transfer film of the present invention, the functional layer is formed of an alkoxysilane layer, and the antireflection layer is formed of an SiOy (y = 1.6 to 2.0) layer, SiOx (x = 0.8 to 1.5) Since the layers are sequentially formed, not only scratch resistance but also antireflection properties are improved.
[0023]
As a method for forming the antireflection layer, a conventionally known method such as a vacuum evaporation method, a sputtering method, an electron beam evaporation method or the like can be used.
[0024]
In the antireflection transfer film of the present invention, a hard coat layer is further formed between the antireflection layer and the adhesive layer.
If a hard coat layer is formed, it is possible to further impart hard coat properties to the transferred material after transfer.
The hard coat property has no practical problem as long as the measured value in the pencil hardness test is 2H or more.
[0025]
The resin used for the hard coat layer is not particularly limited as long as it has a hard coat property that does not cause a problem in practice, such as thermosetting hard coat resins such as silicone and melamine, and silicone and acrylic. An ultraviolet curable hard coat resin or the like can be used.
[0026]
1-15 micrometers is preferable and, as for the thickness of a hard-coat layer, 2-8 micrometers is more preferable.
If the thickness of the hard coat layer is less than 1 μm, the hard coat property cannot be obtained and the scratch resistance is lowered, or in the case of an ultraviolet curable hard coat resin, curing failure tends to occur.
When the thickness of the hard coat layer is greater than 15 μm, it is not preferable because cracks are generated in the hard coat layer and the antireflection transfer film is easily curled.
Accordingly, the thickness of the hard coat layer is preferably 1 to 15 μm, and is 2 to 8 μm from the viewpoint of hard coat properties and curling, and is more complete.
[0027]
In addition, the hard coat layer is SnO for the purpose of antistatic and heat ray cutting. 2 Ultrafine particles such as ITO and ATO may be added.
[0028]
As a method for forming the hard coat layer, a conventionally known method such as a reverse coat method, a die coat method, a gravure coat method, or a micro gravure coat method can be used.
[0029]
The adhesive layer of the antireflection transfer film of the present invention is formed on the hard coat layer, and has a role of adhering the hard coat layer and the transferred material during transfer.
[0030]
The resin used for the adhesive layer is not particularly limited as long as it adheres to both the hard coat layer and the transfer object, and is a resin used for the adhesive layer of conventional transfer films such as acrylic, polyester, and epoxy. Can be used.
[0031]
The thickness of the adhesive layer is preferably 0.2 to 10 μm.
If the thickness of the adhesive layer is less than 0.2 μm, it is not preferable because adhesiveness cannot be obtained.
If the thickness of the adhesive layer is greater than 10 μm, although adhesion can be obtained, poor coating appearance and film attachment (burr) at the non-transfer portion are not preferable.
Therefore, the thickness of the adhesive layer is preferably 0.2 to 10 μm from the viewpoint of adhesiveness, coating appearance, and the like.
[0032]
As a method for forming the adhesive layer, a conventionally known method such as a reverse coating method, a die coating method, a gravure coating method, or a micro gravure coating method can be used.
[0033]
Here, the antireflection transfer film according to the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a partially enlarged sectional view showing an example of an antireflection transfer film according to the present invention. On one side of a plastic film 1, a
[0034]
【Example】
A melamine resin (Melan 27, Hitachi Chemical Co., Ltd.) is coated on one side of a 50 μm thick polyethylene terephthalate film (Diafoil G130, manufactured by Mitsubishi Chemical Polyester Film Co., Ltd.) by a gravure coating method. A mold layer was formed, and then alkoxysilane (Tosguard 510 manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd.) was coated by a micro gravure coating method to form an alkoxysilane layer having a thickness of 10 nm as a functional layer on the release layer.
Next, as a reflection preventing layer, SiO is used as a vapor deposition material in a vacuum vapor deposition machine, and oxygen transmittance of about 4.0 l / min is introduced to keep the vapor deposition vacuum constant and monitor light transmittance and reflectance. The SiOy (y = 2) layer having a thickness of 94 nm, which is a low-refractive index layer of the antireflection layer, is formed on the functional layer. 120x thick SiOx (x = 0.8 to 1.5), which is a high-refractive index layer of the antireflection layer, in the same manner as the SiOy (y = 2) layer, except that oxygen of 5 l / min is introduced. ) Layer was formed.
Next, on the SiOx (x = 0.8 to 1.5) layer, an ultraviolet curable hard coat paint (Seisei Beam EXF-01B manufactured by Dainichi Seika Co., Ltd.) is coated by the reverse coat method to obtain a thickness. A 5 μm hard coat layer is formed, and further, a thermoplastic acrylic resin (Paraloid B-66 manufactured by Rohm and Haas) is coated on the hard coat layer by a reverse coat method to form an adhesive layer having a thickness of 3 μm. Thus, an antireflection transfer film of the present invention was obtained.
[0035]
[Comparative Example 1]
In place of the SiOx (x = 0.8 to 1.5) layer, which is the high refractive index layer of the example, a high refractive index resin (JN-7102, refractive index: 1.67, manufactured by JSR) was used as a microgravure coating method. An antireflection transfer film was obtained in the same manner as in Example except that a high refractive index resin thin film layer having a thickness of 120 nm was formed.
[0036]
[Comparative Example 2]
An antireflection transfer film was obtained in the same manner as in Example except that the hard coat layer was not formed on the SiOx (x = 0.8 to 1.5) layer.
[0037]
[Comparative Example 3]
Instead of the alkoxysilane layer of the example, a fluorine resin (manufactured by DIC) was coated by a micro gravure coating method to form a functional layer made of a fluorine resin having a thickness of 10 nm. Similarly, an antireflection transfer film was obtained.
[0038]
[Comparative Example 4]
An antireflection transfer film having no functional layer formed was obtained in the same manner as in Comparative Example 2 except that the alkoxysilane layer, which is the functional layer of Comparative Example 2, was not formed.
[0039]
The antireflection transfer films obtained in Examples and Comparative Examples 1 to 4 were subjected to the following tests to compare the performance as an antireflection transfer film.
[0040]
1. Releasability
(Measurement sample) After superimposing the adhesive layer surface of the antireflection transfer film obtained in Examples and Comparative Examples 1 to 4 so that the acrylic plate is in contact with each other, the film was transferred from the antireflection transfer film to a hot roll. To bond them together.
Next, the polyethylene terephthalate film is peeled off from the acrylic plate together with the release layer, and the transfer layer (the layer excluding the plastic film and the release layer in the antireflection transfer film) is formed on the surface. Each was prepared as a sample for performance comparison.
(Measurement method) When the polyethylene terephthalate film is peeled from the acrylic plate together with the release layer, the release layer and the functional layer (the release layer and the antireflection layer in Comparative Example 4) are peeled cleanly and the peel strength is light. ◯ was peeled off cleanly but the peel strength was slightly heavy, and Δ was peeled off because the peel strength was very heavy and not partly peeled off.
(Results) Table 1
[0041]
2. Antifouling
(Measurement sample) In the same manner as the peelability test, one anti-reflective acrylic plate is prepared, and one anti-reflective transfer film (transfer layer is not formed) is prepared. Each was used as a sample for performance comparison.
(Measurement method) Write on the transfer layer side surface of the antireflective acrylic plate (on the surface of the acrylic plate on which the transfer layer is not formed) with oil-based magic ink (Pentel Pen manufactured by Pentel) and leave for 1 hour. When the cloth was wiped off with the back cloth, the one that did not leave any magic ink (those that could be erased cleanly) was ○, the part that could not be wiped (part that could not be erased) △, the one that could not be wiped at all ( X) which could not be erased at all.
However, in the case of Comparative Example 4, the measurement was performed on the part that was cleanly peeled off (the part where the transfer layer was formed).
(Results) Table 1
[0042]
3. Scratch resistance
(Measurement sample) Each sample was used for performance comparison in the same manner as the antifouling test.
(Measurement method) Steel wool # 0000 (load: 250 g / cm) on the surface of the antireflection acrylic plate on the transfer layer side (on the surface of the acrylic plate on which no transfer layer is formed). 2 ), The scratches generated on the surface of the transfer layer after 10 reciprocations were visually observed, A indicating that no scratches occurred, B indicating slight scratches, and C indicating many scratches occurred. D was a case where a strong flaw was severely generated.
However, in the case of Comparative Example 4, the measurement was performed on the part that was cleanly peeled off (the part where the transfer layer was formed).
(Results) Table 1
[0043]
4). Pencil hardness
(Measurement sample) Each sample was used for performance comparison in the same manner as the antifouling test.
(Measurement method) The pencil hardness on the surface of the antireflection acrylic plate on the transfer layer side (on the surface of an acrylic plate on which no transfer layer is formed) was measured according to JIS-K-5400.
However, in the case of Comparative Example 4, the measurement was performed on the part that was cleanly peeled off (the part where the transfer layer was formed).
(Results) Table 1
[0044]
5. Visible light reflectance
(Measurement sample) After obtaining each sample in the same manner as in the antifouling test, the antireflection acrylic plate was black coated on the transfer surface (the surface opposite to the surface on which the transfer layer was formed). Prepare one sheet for each one, and prepare a sheet of black paint on one side of the acrylic plate that has not been transferred the antireflection transfer film (no transfer layer is formed). It was set as the sample for.
(Measurement method) Using a spectrophotometer (U-4000, manufactured by Hitachi, Ltd.), according to JIS-R-3106, transfer the sample side to the transfer layer side (black coating is applied to the acrylic plate on which no transfer layer is formed). The 5 ° specular reflection of the non-applied surface was measured.
However, in the case of Comparative Example 4, the measurement was performed on the part that was cleanly peeled off (the part where the transfer layer was formed).
(Results) Table 1
[0045]
6.Minimum reflectivity at 380 to 780 nm
(Measurement sample) Each sample was used for performance comparison in the same manner as the visible light reflectance test.
(Measurement method) Using a spectrophotometer (U-4000, manufactured by Hitachi, Ltd.), according to JIS-R-3106, transfer the sample side to the transfer layer side (black coating is applied to the acrylic plate on which no transfer layer is formed). The 5 ° specular reflection of the non-applied surface was measured, and the minimum reflectance at 380 to 780 nm was determined.
However, in the case of Comparative Example 4, the measurement was performed on the part that was cleanly peeled off (the part where the transfer layer was formed).
(Results) Table 1
[0046]
7). Total light transmittance
(Measurement sample) Each sample was used for performance comparison in the same manner as the visible light reflectance test.
(Measurement method) Measured according to JIS-K-7105 using a haze meter (NDH-300A manufactured by Nippon Denshoku).
However, in the case of Comparative Example 4, the measurement was performed on the part that was cleanly peeled off (the part where the transfer layer was formed).
(Results) Table 1
[0047]
[Table 1]
As is clear from Table 1, there was a great difference in performance between the antireflection transfer films of the examples and the antireflection transfer films of Comparative Examples 1 to 4.
That is, in the antireflection transfer film of the example, the functional layer is an alkoxysilane layer, and the antireflection layer is an SiOy (y = 2) layer, SiOx (x = 0.8 to 1.5) from the active layer side. ) Layer is formed sequentially, the anti-reflective acrylic plate obtained by transferring the anti-reflective transfer film of the example is not only antifouling and releasable, but also in the scratch resistance test, the transfer layer No scratches occur on the surface (Evaluation A), and the scratch resistance is very good.
Further, since the antireflection transfer film of the example is also formed with a hard coat layer, the antireflection acrylic plate obtained by transferring the transfer film has a pencil hardness of 5H, and particularly has a hard coat property. It is excellent.
In addition to the synergistic effect of the hard coat property of the hard coat layer and the scratch resistance of the alkoxysilane layer and the high hardness of the SiOy (y = 2) layer, the SiOx (x = 0.8 to 1.5) layer This hardness is considered to contribute to further improvement of scratch resistance and hard coat properties.
In the antireflection transfer film of the example, the antireflection layer is formed by sequentially forming the SiOy (y = 2) layer and the SiOx (x = 0.8 to 1.5) layer from the functional layer side. Therefore, the visible light reflectance value is 1.2, the minimum reflectance value at 380 to 780 nm is 0.5, and the antireflection property is very excellent.
On the other hand, since the functional film is not formed in the antireflection transfer film of Comparative Example 4, the antireflection property of the antireflection acrylic plate obtained by transferring the antireflection transfer film of Comparative Example 4, and The scratch resistance is very bad because there is no difference compared to that of the acrylic plate. In addition, the peel strength is very heavy, and a part of the peel strength cannot be peeled off.
Further, since the antireflection transfer film of Comparative Example 3 has a functional layer formed of a soft fluororesin, the antireflection acrylic plate obtained by transferring the antireflection transfer film of Comparative Example 3 is Compared with the antireflective acrylic plate obtained by transferring the antireflective transfer film of the example in which the functional layer is an alkoxysilane layer, it is found that the releasability, scratch resistance, and hard coat property are inferior. .
Since the antireflection transfer film of Comparative Example 2 is not formed with a hard coat layer, the antireflection acrylic plate obtained by transferring the antireflection transfer film of Comparative Example 2 is slightly damaged in the scratch resistance test. Scratches were generated (Evaluation B), and the pencil hardness was 3H. As compared with the antireflection acrylic plate obtained by transferring the antireflection transfer film of the example, the scratch resistance and the hard coat property were improved. You can see that it is inferior.
In the antireflection transfer film of Comparative Example 1, since the antireflection layer is formed by sequentially forming the SiOy (y = 2) layer and the resin thin film layer from the functional layer side, the antireflection transfer film of Comparative Example 1 is used. The anti-reflective acrylic plate obtained by transferring the film had slight scratches in the scratch resistance test (Evaluation B), the pencil hardness was 4H, and the minimum reflectance value at 380 to 780 nm was 0. 7 and is found to be inferior in scratch resistance, hard coat property, and antireflection property as compared with the antireflection acrylic plate obtained by transferring the antireflection transfer film of Example.
As described above, the antireflection transfer film of the example can impart excellent antifouling properties, scratch resistance, and releasability to the transfer object while maintaining antireflection properties and transparency. It can be done.
[0049]
【The invention's effect】
The antireflection transfer film of the present invention is an antireflection transfer film in which a release layer, a functional layer, an antireflection layer, a hard coat layer, and an adhesive layer are sequentially formed on one side of a plastic film. Since this is an alkoxysilane layer having antifouling properties and scratch resistance, if the antireflection transfer film of the present invention is used to transfer to the surface of the material to be transferred, the antireflection property and antireflection properties are prevented. Of course, excellent scratch resistance can be imparted as well as soiling, so that it can be used for applications requiring scratch resistance as well as antifouling properties.
Therefore, it is not necessary to form a layer having antifouling property or a protective layer for protecting the antireflection layer on the surface of the transferred material after transfer in a separate step, so that productivity is improved and cost is not increased.
[0050]
The antireflection transfer film of the present invention is a functional layer because the layer closest to the functional layer side of the antireflection layer is formed of a SiOy layer (y = 1.6 to 2.0). Due to the synergistic effect with the alkoxysilane layer, excellent scratch resistance can be imparted to the transfer object.
In the antireflection transfer film of the present invention, the functional layer is formed of an alkoxysilane layer, and the antireflection layer is formed of an SiOy (y = 1.6 to 2.0) layer, SiOx (x = 0.8 to 1.5) Since the layers are sequentially formed, not only scratch resistance but also antireflection properties are improved.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a partially enlarged cross-sectional view showing an example of an antireflection transfer film according to the present invention.
[Explanation of symbols]
1 plastic film
2 release layers
3 functional layers
4 Antireflection layer
5 hard coat layers
6 adhesive layers
Claims (2)
Priority Applications (1)
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Publications (2)
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