JP2004258209A

JP2004258209A - Antireflection film

Info

Publication number: JP2004258209A
Application number: JP2003047726A
Authority: JP
Inventors: Yukio Amano; 幸雄天野
Original assignee: Bridgestone Corp
Current assignee: Bridgestone Corp
Priority date: 2003-02-25
Filing date: 2003-02-25
Publication date: 2004-09-16

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an antireflection film which is provided, successively from a lower layer side, with a transparent conductive layer, a high-refractive index hard coating layer and a low-refractive index hard coating layer on a front surface of an organic film, is free of a problem of "whiteness" and can obtain high contrast. <P>SOLUTION: The antireflection film 10 is constituted in such a manner that the surface roughness of the boundary F<SB>2</SB>between the high-refractive index hard coating layer 3 and the low-refractive index hard coating layer 4 is smaller than the surface roughness of the boundary F<SB>1</SB>between the transparent conductive layer 2 and the layer 3. The layer 3 and the layer 4 are composed of an organic/inorganic hybrid hard coating material. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO&NCIPI

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は反射防止フィルムに係り、特に、有機フィルムの表面に、下層側から透明導電層と、高屈折率ハードコート層と、低屈折率ハードコート層とを設けてなる反射防止フィルムであって、「白味」の問題がなく、高いコントラストを得ることができる反射防止フィルムに関する。
【０００２】
【従来の技術】
ＯＡ機器のＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）や液晶板、車輌ないし特殊建築物の窓枠には光の反射を防止して高い光透過性を確保するために反射防止フィルムが適用されている。
【０００３】
従来、この種の用途に用いられる反射防止フィルムとして、有機フィルムの表面にハードコート層を形成し、この上に高屈折率層と低屈折率層とを設けてなるものが提供されている。この反射防止フィルムでは、高屈折率層と低屈折率層との屈折率差を利用して反射防止機能を得ている。高屈折率層及び低屈折率層としては、スパッタや蒸着による無機薄膜もあるが、無機薄膜は成膜コストが高い。
これに対して、合成樹脂系の塗工型の薄膜であれば、低コストに成膜することができる。
【０００４】
このような反射防止フィルムにあっては、静電気によるほこりやゴミの付着を防止して、耐汚染性を高めるために帯電防止機能を付与することが行われており、帯電防止機能を付与するために、更に透明導電層を形成し、有機フィルム／透明導電層／高屈折率ハードコート層／低屈折率層の積層構造としたものが提案されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、有機フィルム／透明導電層／高屈折率ハードコート層／低屈折率層の積層構造を有する従来の反射防止フィルムでは、反射測定における「白味」、即ち、斜入射から目視にてフィルム下部の物体を観察した際に白くぼやける現象が見られ、コントラストのレベルが低いという問題があった。
【０００６】
本発明は上記従来の問題点を解決し、有機フィルムの表面に、下層側から透明導電層と、高屈折率ハードコート層と、低屈折率ハードコート層とを設けてなる反射防止フィルムであって、「白味」の問題がなく、高いコントラストを得ることができる反射防止フィルムを提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明の反射防止フィルムは、有機フィルムの表面に、下層側から透明導電層と、高屈折率ハードコート層と、低屈折率ハードコート層とを設けてなる反射防止フィルムにおいて、該透明導電層と高屈折率ハードコート層との界面の表面粗さよりも、該高屈折率ハードコート層と低屈折率ハードコート層との界面の表面粗さが小さく、かつ、該高屈折率ハードコート層及び／又は低屈折率ハードコート層が有機／無機ハイブリットハードコート材により形成されていることを特徴とする。
【０００８】
即ち、本発明者らは、有機フィルム／透明導電層／高屈折率ハードコート層／低屈折率ハードコート層の積層構造を有する従来の反射防止フィルムにおける「白味」を解消すべく鋭意検討した結果、透明導電層と高屈折率ハードコート層との界面の表面粗さＲ_１よりも、高屈折率ハードコート層と低屈折率ハードコート層との界面の表面粗さＲ_２を小さく、即ちＲ_１＞Ｒ_２とすることにより「白味」を低減することができ、コントラストが向上することを見出し、本発明を完成させた。
【０００９】
また、本発明においては、高屈折率ハードコート層及び／又は低屈折率ハードコート層が有機／無機ハイブリットハードコート材より形成されているため、高硬度であり、耐擦傷性に優れて低収縮性（低カール）であるという効果が奏される。
【００１０】
なお、本発明者らは、本発明に到る研究の過程で、透明導電層と高屈折率ハードコート層との積層順を入れ換え、有機フィルム／高屈折率ハードコート層／透明導電層／低屈折率ハードコート層の積層構造の反射防止フィルムについて検討したが、この反射防止フィルムでは「白味」を低減することはできなかった。
【００１１】
本発明において、このように透明導電層と高屈折率ハードコート層との界面の表面粗さＲ_１＞高屈折率ハードコート層と低屈折率ハードコート層との界面の表面粗さＲ_２とするためには、透明導電層が導電性微粒子を含有する合成樹脂層であり、高屈折率ハードコート層が高屈折率微粒子を含有する層である。反射防止フィルムにおいて、導電性微粒子として平均粒径が高屈折率微粒子の平均粒径よりも大きいものを選定することが考えられる。この場合、導電性微粒子の平均粒径が６０〜９０ｎｍであり、高屈折率微粒子の平均粒径が３０〜６０ｎｍであることが好ましい。
【００１２】
本発明において、透明導電層の厚みは１００〜５００ｎｍ、高屈折率ハードコート層の厚みは２０００〜４０００ｎｍ、低屈折率ハードコート層の厚みは４０〜１００ｎｍであることが好ましい。また、高屈折率ハードコート層の屈折率は１．６５以上であることが好ましい。
【００１３】
本発明の反射防止フィルムの有機フィルムの裏面には粘着剤層が形成され、この粘着剤層に離型フィルムが貼着されていても良い。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下に図面を参照して本発明の反射防止フィルムの実施の形態を詳細に説明する。
【００１５】
図１は本発明の反射防止フィルムの実施の形態を示す断面図である。
【００１６】
この反射防止フィルム１０は、有機フィルム１の表面側に、下層側から透明導電層２と、高屈折率ハードコート層３と、低屈折率ハードコート層４とが設けられ、有機フィルム１の裏面側に粘着剤層４が形成され、更に離型フィルム５が貼着されている。
【００１７】
透明導電層２と高屈折率ハードコート層３との界面Ｆ_１の表面粗さＲ_１は、該高屈折率ハードコート層３と低屈折率ハードコート層４との界面Ｆ_２の表面粗さＲ_２よりも大きく、Ｒ_１＞Ｒ_２である。
【００１８】
透明導電層２と高屈折率ハードコート層３との界面Ｆ_１の表面粗さＲ_１＞高屈折率ハードコート層３と低屈折率ハードコート層４との界面Ｆ_２の表面粗さＲ_２、となる反射防止フィルム１０は、透明導電層２が導電性微粒子を含有する合成樹脂層であり、高屈折率ハードコート層３が高屈折率微粒子を含有する反射防止フィルム１０において、導電性微粒子として平均粒径が高屈折率微粒子の平均粒径よりも大きいものを選定することにより容易に実現することができる。
【００１９】
本発明において、有機フィルム１としては、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリメチルメタアクリレート（ＰＭＭＡ）、アクリル、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリスチレン、セルローストリアセテート（ＴＡＣ）、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリウレタン、セロファン等、好ましくはＰＥＴ、ＰＣ、ＰＭＭＡの透明フィルムが挙げられる。
【００２０】
有機フィルム１の厚さには特に制限はなく、得られる反射防止フィルムの用途による要求特性（例えば、強度、薄膜性）等によって適宜決定されるが、通常の場合、１μｍ〜１０ｍｍの範囲とされる。
【００２１】
有機フィルム１上の各層２，３，４はいずれも合成樹脂系のものであり、特に紫外線硬化型又は電子線硬化型の合成樹脂、とりわけ、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、スチレン系樹脂、最も好ましくはアクリル系樹脂が挙げられるが、このうち、高屈折率ハードコート層３及び／又は低屈折率ハードコート層４、好ましくは高屈折率ハードコート層３及び低屈折率ハードコート層４は有機／無機ハイブリットハードコート材より形成される。例えば、有機／無機ハイブリットハードコート材は、コロイダルシリカとアクリル変性シラン化合物とを縮合させて得られるものである。
【００２２】
透明導電層２に配合される導電性微粒子としては、ＩＴＯ，ＡＴＯ，Ｓｂ_２Ｏ_３，ＳｂＯ_２，Ｉｎ_２Ｏ_３，ＳｎＯ_２，ＺｎＯ等の導電性金属酸化物微粒子の１種又は２種以上が挙げられ、このような導電性金属酸化物微粒子を配合し、その配合量と透明導電層２の厚みを調整することにより、透明導電層２の表面抵抗値が１×１０^６〜９×１０^６Ω／□程度となるようにすることが、得られる反射防止フィルムの帯電防止機能の面で好ましい。
【００２３】
高屈折率ハードコート層３は、ＴｉＯ_２、ＺｒＯ_２、ＣｅＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｙ_２Ｏ_３、Ｌａ_２Ｏ_３、ＬａＯ_２、Ｈｏ_２Ｏ_３、ＺｎＯ等の高屈折率金属酸化物微粒子やＺｒ、Ｔｉ、Ｃｅ等の高屈折率金属微粒子の１種又は２種以上を配合することにより、屈折率を１．６５以上としたものが好適である。
【００２４】
低屈折率ハードコート層４には、屈折率低下、耐傷性向上、耐磨耗性、すべり性向上のためにシリカ、フッ素樹脂等の微粒子を１０〜４０重量％程度配合しても良い。
【００２５】
本発明では、透明導電層２と高屈折率ハードコート層３との界面Ｆ_１の表面粗さＲ_１＞高屈折率ハードコート層３と低屈折率ハードコート層４との界面Ｆ_２の表面粗さＲ_２となる反射防止フィルム１０とするために、透明導電層２に配合される導電性微粒子として、高屈折率ハードコート層３に配合される高屈折率微粒子よりも平均粒径が大きいものを用いる。
【００２６】
具体的には、導電性微粒子として平均粒径１０〜１００ｎｍ、特に６０〜９０ｎｍで、高屈折率微粒子として平均粒径１０〜３００ｎｍ、特に３０〜６０ｎｍで、導電性微粒子の平均粒径が高屈折率微粒子の平均粒径よりも１０〜４０ｎｍ程度大きいものを用いるのが好ましい。
【００２７】
なお、低屈折率ハードコート層４中にシリカ等の微粒子を含む場合、上記表面粗さＲ_１＞Ｒ_２を満たすために、この微粒子の平均粒径は、高屈折率微粒子の平均粒径よりも小さく１０〜５０ｎｍ程度であることが好ましい。
【００２８】
透明導電層２中の導電性微粒子の配合割合は、目標とする表面抵抗値、ヘイズ、透過率等に応じて適宜決定されるが、通常の場合、２０〜４０重量％程度である。
【００２９】
また、高屈折率ハードコート層２中の高屈折率微粒子の配合割合は、目標とする屈折率、硬度等に応じて適宜決定されるが、通常の場合、２０〜４０重量％程度である。
【００３０】
本発明において、透明導電層の厚みは１００〜５００ｎｍ、好ましくは３００〜４００ｎｍ、高屈折率ハードコート層３の厚みは２０００〜４０００ｎｍ、好ましくは２８００〜３２００ｎｍ、低屈折率ハードコート層４の厚みは４０〜１００ｎｍ、６０〜８０ｎｍであることが好ましい。
【００３１】
前述の如く、透明導電層２の表面抵抗値を１×１０^６〜９×１０^６Ω／□程度に調整した場合には、この透明導電層２の上に高屈折率ハードコート層３を３０００ｎｍ程度、低屈折率ハードコート層４を１００ｎｍ程度積層しても反射防止フィルム１０としての表面抵抗値は１×１０^８Ω／□以下となり（印加電圧：１０００Ｖ）、十分な帯電防止効果を得ることができる。
【００３２】
本発明においては、上記構成により、高屈折率ハードコート層３の屈折率を１．６５以上、特に１．６６〜１．８５とすることが好ましく、この場合において、低屈折率ハードコート層４の屈折率を１．３５〜１．５５とすることで、表面反射率の最小反射率１％以下の反射防止性能に優れた反射防止フィルムとすることができる。特に、低屈折率ハードコート層４の屈折率を１．４５以下とした場合には、更に反射防止性能を高め、表面反射率の最小反射率０．５％以下の反射防止フィルムとすることも可能である。
【００３３】
なお、低屈折率ハードコート層４の屈折率が１．３５未満であっても反射防止フィルムの表面反射率の最小反射率を更に下げることは難しく、低屈折率ハードコート層４の屈折率が１．５５を超えると反射防止フィルムとしての十分な機能が得られなくなる。
【００３４】
本発明の反射防止フィルムは、また、十分な帯電防止機能を得る上で、表面抵抗値が５×１０^１２Ω／□以下であることが好ましい。この表面抵抗値が５×１０^１２Ω／□を超えると十分な帯電防止機能を得ることができない。特に好ましい表面抵抗値は１×１０^１０Ω／□以下である。
【００３５】
本発明に係る粘着剤としては、透明性、密着性に優れたものであれば良く、特に制限はない。一般的には、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、エポキシ系粘着剤、フェノール系粘着剤、熱可塑性粘着剤、ゴム系粘着剤等が挙げられる。
【００３６】
このような粘着剤には、必要に応じて可塑剤、老化防止剤、紫外線吸収剤、その他の添加剤を添加することができる。
【００３７】
また、粘着剤層５には着色を付与しても良く、この場合、粘着剤層５を形成する粘着剤に顔料や染料等の着色成分をベースポリマー１００重量部に対して０．１〜１０重量部配合すれば良い。
【００３８】
このような粘着剤で形成される粘着剤層５の厚さは１０〜５０μｍ程度とするのが好ましい。
【００３９】
本発明において、有機フィルム１上に透明導電層２、高屈折率ハードコート層３及び低屈折率ハードコート層４を形成するには、未硬化の合成樹脂（必要に応じ上記の微粒子を配合したもの）を塗工し、次いで紫外線又は電子線を照射するのが好ましい。この場合、各層２〜４を１層ずつ塗工して硬化させる。
【００４０】
塗工の具体的な方法としては、アクリルモノマーをトルエン等の溶媒で溶液化した塗布液をグラビアコータ等によりコーティングし、その後乾燥し、次いで紫外線又は電子線照射によりキュアする方法が例示される。このウェットコーティング法であれば、高速で均一に且つ安価に成膜できるという利点がある。
【００４１】
また、前述の粘着剤により粘着剤層５を形成するには、前記ベースポリマーに炭化水素樹脂や可塑剤等を混合した粘着剤組成物を、トルエン、テトラヒドロフラン、メチルエチルケトン等の溶剤に適当な粘度となるように溶解し、塗工機等で有機フィルム１上に塗工すれば良い。
【００４２】
なお、本発明の反射防止フィルムでは、低屈折率ハードコート層４の上に更にフッ素系有機薄膜等の防汚層を形成しても良く、この場合、防汚層の材料としては、ＦＥＰ（フルオロエチレン−プロピレン共重合体）、ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）、ＥＴＦＥ（エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体）、ＰＶＦ（ポリフッ化ビニル）、ＰＶＤＦ（ポリフッ化ビニリデン）等が挙げられる。
【００４３】
このような本発明の反射防止フィルムは、ＯＡ機器のＰＤＰや液晶板の前面フィルタ、或いは、車輌や特殊建築物の窓材に適用することで、良好な光透過性と防汚性を確保することができる。
【００４４】
【実施例】
実施例１
以下の構成で図１に示す反射防止フィルムを作成し、その特性を調べた。
【００４５】
［反射防止フィルム特性］

【００４６】
［評価方法］
〈光学特性〉
全光線透過率：日立分光光度計「Ｕ−４０００」により測定した。
ヘーズ値：日本電色工業社製「ＯＭＥ２０００」により測定した。
反射率：日立分光光度計「Ｕ−４０００」により測定した。
白味の有無：目視により観察した。
【００４７】
〈物性〉
密着性：ＪＩＳ５４００８５．３項の碁盤目試験により、ＰＥＴフィルムによる密着性を調べた。
表面硬度：鉛筆硬度を調べた。
消しゴム試験：消しゴムにより表面をこすり、そのときのキズの有無を調べた。
表面抵抗値：アドバンテスト社製「Ｒ８３４０Ａ」（印加電圧１０００Ｖ）により測定した。
粘着力：ＪＩＳ２０２３７（剥離角：１８０° 剥離速度：５０ｍｍ／ｍｉｎ）により測定した。
【００４８】
結果を表１に示した。
【００４９】
比較例１
有機フィルム／透明導電層／高屈折率ハードコート層／低屈折率ハードコート層の積層構造を有する市販の反射防止フィルム（大日本印刷社製「ＡＲフィルム」）について、実施例１と同様にして諸特性を調べ、結果を表１に示した。
【００５０】
なお、この反射防止フィルムは、有機フィルム、粘着剤層及び離型フィルムの構成は、実施例１の反射防止フィルムと同様であり、分析の結果、透明導電層、高屈折率ハードコート層及び低屈折率ハードコート層は次のような層構成であると推定された。
透明導電層：厚み４４０ｎｍの微量Ｓｉ含有Ｓｎ層
高屈折率ハードコート層：厚み１８００ｎｍのＺｒ（極微量Ａｌ）含有ハードコート層
低屈折率ハードコート層：厚み６０ｎｍのＳｉ層
【００５１】
なお、実施例１の反射防止フィルムと比較例１の反射防止フィルムについて、各々厚さ方向に切断し、ＴＥＭ（透過電子顕微鏡）観察を行ったところ、実施例１の反射防止フィルムでは、明らかに、透明導電層と高屈折率ハードコート層との界面の表面粗さよりも高屈折率ハードコート層と低屈折率ハードコート層との界面の表面粗さの方が小さく、一方で比較例１の反射防止フィルムでは、透明導電層と高屈折率ハードコート層との界面の表面粗さよりも高屈折率ハードコート層と低屈折率ハードコート層との界面の表面粗さの方が大きいことが認められた。
【００５２】
【表１】

【００５３】
表１及び図２より、本発明の反射防止フィルムであれば、従来の反射防止フィルムと同等の光学特性と物性を維持した上で、「白味」を低減し、コントラストを向上させることができることがわかる。
【００５４】
【発明の効果】
以上詳述した通り、本発明によれば、有機フィルムの表面に、下層側から透明導電層と、高屈折率ハードコート層と、低屈折率ハードコート層とを設けてなる帯電防止性反射防止フィルムにおいて、「白味」を低減して高いコントラストを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の反射防止フィルムの実施の形態を示す断面図である。
【図２】実施例１及び比較例１の反射防止フィルムの全光線透過率と反射率の測定結果を示すグラフである。
【符号の説明】
１有機フィルム
２透明導電層
３高屈折率ハードコート層
４低屈折率ハードコート層
５粘着剤層
６離型フィルム
１０反射防止フィルム[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to an antireflection film, particularly, an antireflection film comprising a transparent conductive layer, a high-refractive-index hard coat layer, and a low-refractive-index hard coat layer provided on the surface of an organic film from the lower side. The present invention relates to an antireflection film capable of obtaining high contrast without the problem of "whiteness".
[0002]
[Prior art]
2. Description of the Related Art An anti-reflection film is applied to a PDP (plasma display panel) of OA equipment, a liquid crystal panel, and a window frame of a vehicle or a special building to prevent reflection of light and secure high light transmittance.
[0003]
Conventionally, as an antireflection film used for this kind of application, a film formed by forming a hard coat layer on the surface of an organic film and providing a high refractive index layer and a low refractive index layer thereon is provided. In this antireflection film, an antireflection function is obtained by utilizing the difference in refractive index between the high refractive index layer and the low refractive index layer. As the high-refractive-index layer and the low-refractive-index layer, there are inorganic thin films formed by sputtering and vapor deposition, but the inorganic thin films are expensive to form.
On the other hand, a synthetic resin-based coating-type thin film can be formed at low cost.
[0004]
In such an anti-reflection film, an antistatic function is provided to prevent dust and dirt from adhering due to static electricity, and to enhance contamination resistance, and to provide an antistatic function. In addition, there has been proposed a structure in which a transparent conductive layer is further formed to have a laminated structure of an organic film / a transparent conductive layer / a high refractive index hard coat layer / a low refractive index layer.
[0005]
[Problems to be solved by the invention]
However, in a conventional antireflection film having a laminated structure of an organic film / a transparent conductive layer / a high refractive index hard coat layer / a low refractive index layer, the whiteness in reflection measurement, that is, the lower part of the film visually from oblique incidence. When the object was observed, a phenomenon of white blurring was observed, and there was a problem that the level of contrast was low.
[0006]
The present invention solves the above-mentioned conventional problems, and is an antireflection film comprising a transparent conductive layer, a high refractive index hard coat layer, and a low refractive index hard coat layer provided on the surface of an organic film from the lower layer side. Therefore, an object of the present invention is to provide an antireflection film which can obtain a high contrast without a problem of “whiteness”.
[0007]
[Means for Solving the Problems]
The antireflection film of the present invention is an antireflection film comprising a transparent conductive layer, a high-refractive-index hard coat layer, and a low-refractive-index hard coat layer provided from the lower side on the surface of the organic film. The surface roughness of the interface between the high refractive index hard coat layer and the low refractive index hard coat layer is smaller than the surface roughness of the interface between the high refractive index hard coat layer and the high refractive index hard coat layer, and And / or the low refractive index hard coat layer is formed of an organic / inorganic hybrid hard coat material.
[0008]
That is, the present inventors have intensively studied to eliminate "whiteness" in a conventional antireflection film having a laminated structure of an organic film / a transparent conductive layer / a high refractive index hard coat layer / a low refractive index hard coat layer. results, than the surface roughness R ₁ of the interface between the transparent conductive layer and the high refractive index hard coat layer, reducing the surface roughness R ₂ of the interface between the high refractive index hard coat layer and the low refractive index hard coat layer, i.e. By satisfying R ₁ > R ₂ , it was found that “whiteness” could be reduced and the contrast was improved, and the present invention was completed.
[0009]
Further, in the present invention, since the high refractive index hard coat layer and / or the low refractive index hard coat layer is formed of an organic / inorganic hybrid hard coat material, it has high hardness, excellent scratch resistance, and low shrinkage. (Curl).
[0010]
In the course of the research leading to the present invention, the present inventors changed the order of lamination of the transparent conductive layer and the high-refractive-index hard coat layer so that the organic film / high-refractive-index hard coat layer / transparent conductive layer / An anti-reflection film having a laminated structure of a refractive index hard coat layer was examined, but this anti-reflection film could not reduce “whiteness”.
[0011]
In the present invention, as described above, the surface roughness R ₁ at the interface between the transparent conductive layer and the high refractive index hard coat layer> the surface roughness R ₂ at the interface between the high refractive index hard coat layer and the low refractive index hard coat layer. For this purpose, the transparent conductive layer is a synthetic resin layer containing conductive fine particles, and the high refractive index hard coat layer is a layer containing high refractive index fine particles. In the antireflection film, it is conceivable to select conductive fine particles having an average particle diameter larger than the average particle diameter of the high refractive index fine particles. In this case, the conductive fine particles preferably have an average particle size of 60 to 90 nm, and the high refractive index fine particles preferably have an average particle size of 30 to 60 nm.
[0012]
In the present invention, the thickness of the transparent conductive layer is preferably 100 to 500 nm, the thickness of the high refractive index hard coat layer is preferably 2000 to 4000 nm, and the thickness of the low refractive index hard coat layer is preferably 40 to 100 nm. The high refractive index hard coat layer preferably has a refractive index of 1.65 or more.
[0013]
An adhesive layer may be formed on the back surface of the organic film of the antireflection film of the present invention, and a release film may be adhered to the adhesive layer.
[0014]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the antireflection film of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
[0015]
FIG. 1 is a sectional view showing an embodiment of the antireflection film of the present invention.
[0016]
This antireflection film 10 is provided with a transparent conductive layer 2, a high refractive index hard coat layer 3 and a low refractive index hard coat layer 4 from the lower side on the front side of the organic film 1. An adhesive layer 4 is formed on the side, and a release film 5 is further adhered.
[0017]
Surface roughness R ₁ of the interface F _1, the surface roughness of the interface F ₂ between the high refractive index hard coat layer 3 and the low refractive index hard coat layer 4 and the transparent conductive layer 2 and the high refractive index hard coat layer 3 It is larger than R ₂ and R ₁ > R ₂ .
[0018]
Surface roughness R ₁ of interface F ₁ between transparent conductive layer 2 and high refractive index hard coat layer 3> Surface roughness R ₂ of interface F ₂ between high refractive index hard coat layer 3 and low refractive index hard coat layer 4 In the antireflection film 10 in which the transparent conductive layer 2 is a synthetic resin layer containing conductive fine particles, and the high refractive index hard coat layer 3 is an antireflection film 10 containing high refractive index fine particles, Can be easily realized by selecting a particle having an average particle diameter larger than the average particle diameter of the high refractive index fine particles.
[0019]
In the present invention, examples of the organic film 1 include polyester, polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate, polymethyl methacrylate (PMMA), acrylic, polycarbonate (PC), polystyrene, cellulose triacetate (TAC), polyvinyl alcohol, and polyvinyl chloride. Transparent films of vinyl, polyvinylidene chloride, polyethylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, polyurethane, cellophane, and the like, preferably PET, PC, and PMMA are mentioned.
[0020]
The thickness of the organic film 1 is not particularly limited, and is appropriately determined according to required characteristics (for example, strength, thinness) depending on the use of the obtained antireflection film, but is usually in the range of 1 μm to 10 mm. You.
[0021]
Each of the layers 2, 3 and 4 on the organic film 1 is made of a synthetic resin, and particularly, an ultraviolet curable or electron beam curable synthetic resin, especially an acrylic resin, an epoxy resin, a styrene resin, Preferably, an acrylic resin is used. Among them, the high refractive index hard coat layer 3 and / or the low refractive index hard coat layer 4, preferably the high refractive index hard coat layer 3 and the low refractive index hard coat layer 4 are organic. / Made from inorganic hybrid hard coat material. For example, an organic / inorganic hybrid hard coat material is obtained by condensing colloidal silica and an acrylic-modified silane compound.
[0022]
Examples of the conductive fine particles blended in the transparent conductive layer 2 include one or more conductive metal oxide fine particles such as ITO, ATO, Sb ₂ O ₃ , SbO ₂ , In ₂ O ₃ , SnO ₂ , and ZnO. By blending such conductive metal oxide fine particles, and adjusting the blending amount and the thickness of the transparent conductive layer 2, the surface resistance of the transparent conductive layer 2 is 1 × 10 ^{6 to} 9 × 10 It is preferable to set the resistance to about ⁶ Ω / □ from the viewpoint of the antistatic function of the obtained antireflection film.
[0023]
The high refractive index hard coat layer 3 is made of a high refractive index metal oxide such as TiO ₂ , ZrO ₂ , CeO ₂ , Al ₂ O ₃ , Y ₂ O ₃ , La ₂ O ₃ , LaO ₂ , Ho ₂ O ₃ , and ZnO. It is preferable that the refractive index is set to 1.65 or more by mixing one or more kinds of fine particles or fine particles of metal having a high refractive index such as Zr, Ti, and Ce.
[0024]
The low-refractive-index hard coat layer 4 may contain about 10 to 40% by weight of fine particles of silica, fluororesin, or the like for reducing the refractive index, improving scratch resistance, abrasion resistance, and improving slip properties.
[0025]
In the present invention, the surface roughness R ₁ of the interface F ₁ between the transparent conductive layer 2 and the high refractive index hard coat layer 3> the surface of the interface F ₂ between the high refractive index hard coat layer 3 and the low refractive index hard coat layer 4. to the antireflection film 10 as a roughness R _2, as the conductive fine particles to be blended in the transparent conductive layer 2, a large average particle size than the high refractive index fine particles to be blended in the high refractive index hard coat layer 3 Use something.
[0026]
Specifically, the conductive fine particles have an average particle size of 10 to 100 nm, particularly 60 to 90 nm, and the high refractive index fine particles have an average particle size of 10 to 300 nm, particularly 30 to 60 nm. It is preferable to use one having a size larger than the average particle size of the fine particles by about 10 to 40 nm.
[0027]
When the low refractive index hard coat layer 4 contains fine particles such as silica, the average particle diameter of the fine particles is larger than that of the high refractive index fine particles in order to satisfy the surface roughness R ₁ > R _2. And preferably about 10 to 50 nm.
[0028]
The mixing ratio of the conductive fine particles in the transparent conductive layer 2 is appropriately determined according to the target surface resistance value, haze, transmittance, and the like, and is usually about 20 to 40% by weight in a normal case.
[0029]
The mixing ratio of the high-refractive-index fine particles in the high-refractive-index hard coat layer 2 is appropriately determined in accordance with the target refractive index, hardness, and the like, but is usually about 20 to 40% by weight.
[0030]
In the present invention, the thickness of the transparent conductive layer is 100 to 500 nm, preferably 300 to 400 nm, the thickness of the high refractive index hard coat layer 3 is 2000 to 4000 nm, preferably 2800 to 3200 nm, and the thickness of the low refractive index hard coat layer 4 is It is preferably 40 to 100 nm and 60 to 80 nm.
[0031]
As described above, when the surface resistance of the transparent conductive layer 2 is adjusted to approximately 1 × 10 ^{6 to} 9 × 10 ⁶ Ω / □, the high refractive index hard coat layer 3 Even if the low-refractive-index hard coat layer 4 is laminated to a thickness of about 100 nm, the surface resistance of the antireflection film 10 is 1 × 10 ⁸ Ω / □ or less (applied voltage: 1000 V), and a sufficient antistatic effect is obtained. Can be.
[0032]
In the present invention, it is preferable that the refractive index of the high refractive index hard coat layer 3 be 1.65 or more, particularly 1.66 to 1.85, and in this case, the low refractive index hard coat layer 4 is used. By setting the refractive index of 1.35 to 1.55, an antireflection film excellent in antireflection performance having a minimum surface reflectance of 1% or less can be obtained. In particular, when the refractive index of the low-refractive-index hard coat layer 4 is set to 1.45 or less, the antireflection performance is further enhanced, and an antireflection film having a minimum surface reflectance of 0.5% or less may be obtained. It is possible.
[0033]
Even if the refractive index of the low refractive index hard coat layer 4 is less than 1.35, it is difficult to further lower the minimum reflectance of the surface reflectance of the antireflection film, and the refractive index of the low refractive index hard coat layer 4 If it exceeds 1.55, a sufficient function as an antireflection film cannot be obtained.
[0034]
In order to obtain a sufficient antistatic function, the antireflection film of the present invention preferably has a surface resistance of 5 × 10 ¹² Ω / □ or less. If the surface resistance exceeds 5 × 10 ¹² Ω / □, a sufficient antistatic function cannot be obtained. Particularly preferred surface resistance is 1 × 10 ¹⁰ Ω / □ or less.
[0035]
The pressure-sensitive adhesive according to the present invention is not particularly limited as long as it is excellent in transparency and adhesion. Generally, acrylic adhesives, silicone adhesives, epoxy adhesives, phenolic adhesives, thermoplastic adhesives, rubber adhesives and the like can be mentioned.
[0036]
If necessary, a plasticizer, an antioxidant, an ultraviolet absorber, and other additives can be added to such an adhesive.
[0037]
The pressure-sensitive adhesive layer 5 may be colored. In this case, the pressure-sensitive adhesive forming the pressure-sensitive adhesive layer 5 may be provided with a coloring component such as a pigment or a dye in an amount of 0.1 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the base polymer. What is necessary is just to mix by weight part.
[0038]
The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer 5 formed of such a pressure-sensitive adhesive is preferably about 10 to 50 μm.
[0039]
In the present invention, in order to form the transparent conductive layer 2, the high-refractive-index hard coat layer 3 and the low-refractive-index hard coat layer 4 on the organic film 1, an uncured synthetic resin (the above-described fine particles are mixed if necessary) Is preferably applied and then irradiated with ultraviolet rays or electron beams. In this case, each of the layers 2 to 4 is applied and cured one by one.
[0040]
Specific examples of the coating method include a method in which a coating solution in which an acrylic monomer is made into a solution with a solvent such as toluene is coated with a gravure coater or the like, dried, and then cured by irradiation with ultraviolet rays or electron beams. According to this wet coating method, there is an advantage that a film can be uniformly formed at high speed at low cost.
[0041]
Further, in order to form the pressure-sensitive adhesive layer 5 with the above-mentioned pressure-sensitive adhesive, a pressure-sensitive adhesive composition obtained by mixing a hydrocarbon resin, a plasticizer, and the like with the base polymer is mixed with a solvent having an appropriate viscosity in a solvent such as toluene, tetrahydrofuran, and methyl ethyl ketone. The organic film 1 may be dissolved in such a manner as to be coated on the organic film 1 with a coating machine or the like.
[0042]
In the antireflection film of the present invention, an antifouling layer such as a fluorine-based organic thin film may be further formed on the low refractive index hard coat layer 4, and in this case, the material of the antifouling layer is FEP ( Fluoroethylene-propylene copolymer), PTFE (polytetrafluoroethylene), ETFE (ethylene-tetrafluoroethylene copolymer), PVF (polyvinyl fluoride), PVDF (polyvinylidene fluoride) and the like.
[0043]
Such an antireflection film of the present invention ensures good light transmission and antifouling properties by being applied to a PDP of an OA device, a front filter of a liquid crystal panel, or a window material of a vehicle or a special building. be able to.
[0044]
【Example】
Example 1
The antireflection film shown in FIG. 1 was prepared with the following configuration, and its characteristics were examined.
[0045]
[Anti-reflective film properties]

[0046]
[Evaluation method]
<optical properties>
Total light transmittance: measured by Hitachi spectrophotometer "U-4000".
Haze value: Measured by "OME2000" manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.
Reflectance: Measured by Hitachi spectrophotometer "U-4000".
Presence or absence of whiteness: Observed visually.
[0047]
<Physical properties>
Adhesion: The adhesion with a PET film was examined by a grid test according to JIS 5400 85.3.
Surface hardness: Pencil hardness was examined.
Eraser test: The surface was rubbed with an eraser, and the presence or absence of scratches at that time was examined.
Surface resistance value: Measured by "R8340A" manufactured by Advantest (applied voltage: 1000 V).
Adhesive strength: Measured according to JIS 20237 (peeling angle: 180 °, peeling speed: 50 mm / min).
[0048]
The results are shown in Table 1.
[0049]
Comparative Example 1
A commercially available antireflection film ("AR film" manufactured by Dai Nippon Printing Co., Ltd.) having a laminated structure of an organic film / a transparent conductive layer / a high refractive index hard coat layer / a low refractive index hard coat layer was prepared in the same manner as in Example 1. Various characteristics were examined, and the results are shown in Table 1.
[0050]
The structure of the organic film, the pressure-sensitive adhesive layer, and the release film of this antireflection film was the same as that of the antireflection film of Example 1. As a result of analysis, the transparent conductive layer, the high refractive index hard coat layer, The refractive index hard coat layer was assumed to have the following layer configuration.
Transparent conductive layer: Sn layer containing trace amount of Si with a thickness of 440 nm High refractive index hard coat layer: Hard coat layer containing Zr (extremely small amount of Al) with a thickness of 1800 nm Low refractive index hard coat layer: Si layer with a thickness of 60 nm
The anti-reflection film of Example 1 and the anti-reflection film of Comparative Example 1 were each cut in the thickness direction and observed with a TEM (transmission electron microscope). The surface roughness of the interface between the high-refractive-index hard coat layer and the low-refractive-index hard coat layer was smaller than the surface roughness of the interface between the transparent conductive layer and the high-refractive-index hard coat layer. In the antireflection film, the surface roughness at the interface between the high refractive index hard coat layer and the low refractive index hard coat layer was larger than the surface roughness at the interface between the transparent conductive layer and the high refractive index hard coat layer. Was done.
[0052]
[Table 1]

[0053]
From Table 1 and FIG. 2, it can be seen that the antireflection film of the present invention can reduce "whiteness" and improve contrast while maintaining the same optical properties and physical properties as the conventional antireflection film. I understand.
[0054]
【The invention's effect】
As described in detail above, according to the present invention, on the surface of the organic film, a transparent conductive layer, a high refractive index hard coat layer, and a low refractive index hard coat layer are provided from the lower layer side. In the film, high contrast can be obtained by reducing “whiteness”.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a sectional view showing an embodiment of an antireflection film of the present invention.
FIG. 2 is a graph showing the measurement results of the total light transmittance and the reflectance of the antireflection films of Example 1 and Comparative Example 1.
[Explanation of symbols]
REFERENCE SIGNS LIST 1 organic film 2 transparent conductive layer 3 high refractive index hard coat layer 4 low refractive index hard coat layer 5 adhesive layer 6 release film 10 antireflection film

Claims

On the surface of the organic film, a transparent conductive layer from the lower layer side, a high refractive index hard coat layer, in the antireflection film provided with a low refractive index hard coat layer,
The surface roughness of the interface between the high refractive index hard coat layer and the low refractive index hard coat layer is smaller than the surface roughness of the interface between the transparent conductive layer and the high refractive index hard coat layer, and the high refractive index An antireflection film, wherein the hard coat layer and / or the low refractive index hard coat layer is formed of an organic / inorganic hybrid hard coat material.

2. The antireflection film according to claim 1, wherein the high refractive index hard coat layer and the low refractive index hard coat layer are formed of an organic / inorganic hybrid hard coat material.

3. The transparent conductive layer according to claim 1, wherein the transparent conductive layer contains conductive fine particles, the high refractive index hard coat layer contains high refractive index fine particles, and the conductive fine particles have an average particle diameter of the high refractive index fine particles. 4. An anti-reflection film characterized by being larger than the average particle size.

The anti-reflection film according to claim 3, wherein the conductive fine particles have an average particle size of 60 to 90 nm, and the high refractive index fine particles have an average particle size of 30 to 60 nm.

5. The transparent conductive layer according to claim 1, wherein the thickness of the transparent conductive layer is 100 to 500 nm, the thickness of the high refractive index hard coat layer is 2000 to 4000 nm, and the thickness of the low refractive index hard coat layer is 40. An antireflection film having a thickness of from 100 to 100 nm.

The antireflection film according to any one of claims 1 to 5, wherein the high refractive index hard coat layer has a refractive index of 1.65 or more.

The antireflection film according to any one of claims 1 to 6, wherein an adhesive layer is formed on a back surface of the organic film.