JP4253862B2 - Antireflection film - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、反射防止フィルムに係り、特に、耐候性、耐久性に優れ、表示板、ディスプレイ、電光掲示板の表面材に貼着する反射防止フィルムとして好適な反射防止フィルムに関する。
【０００２】
【従来の技術】
表示板、ディスプレイ、電光掲示板等の表面材では、外光や照明光、或いは、周囲の明るい風景がその表面で反射して像が写ることにより、視認性が低下する。このため、このような反射を低減するために、表面材（外側のカバー材やフィルタの表面を含む）に、微細な凹凸加工のアンチグレア処理を施したり、薄膜をコーティングしたりすることにより、光の干渉で反射を低減する反射防止処理が施される場合がある。これらの反射防止処理は、表面材に直接施すと、コストアップを招くことから、反射防止処理を施したフィルムを表面材に貼着する方法が、近年多く採用されるようになってきている。
【０００３】
通常の場合、従来の反射防止フィルムは、図２に示す如く、有機フィルムよりなるベースフィルム１上にアクリル樹脂やシロキサン等よりなる硬い保護層としてのハードコート層２が３〜２０μｍ程度の厚さに形成され、更にこの上にアンチグレア、反射防止膜等の反射防止層３が形成された構造とされており、この反射防止フィルム４は、ディスプレイ等の表面材５に接着剤６で接着される。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
従来の反射防止フィルムでは、使用中の熱や湿度、その他の環境条件の影響を受け易く、ベースフィルム１とハードコート層２との界面で剥離が生じる場合がある。この場合には、当然、反射防止層３も脱落してしまうため、反射防止フィルムとしての機能を奏し得なくなる。
【０００５】
また、使用初期において、ベースフィルム１とハードコート層２との密着性が良好な場合であっても、特に、ベースフィルム１がＰＥＴフィルムであるような場合には、周囲環境の影響、特に直射日光やその他の紫外線の影響でフィルムが劣化し、ハードコート層が外力で容易に剥がれ落ちたり、紫外線による劣化でフィルムが黄変し、各種表示板の表面材のカバーフィルムとしては適用し得なくなる。
【０００６】
本発明は上記従来の問題点を解決し、耐候性、耐久性に優れ、膜剥離や黄変等の問題を引き起こすことなく、長期間使用可能な反射防止フィルムを提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明の反射防止フィルムは、有機フィルムの表面に、ハードコート層が設けられ、該ハードコート層上に反射防止層が設けられている反射防止フィルムにおいて、該反射防止層は、４００ｎｍ付近の光の通過性が高く、３５０ｎｍ付近及びそれ以下の光の吸収が多い材料を用いた高屈折率透明薄膜を有する紫外線カット層であり、該反射防止フィルムの３６５ｎｍにおける光線透過率が４０％以下である反射防止フィルムであって、前記反射防止層が、高屈折率透明薄膜／低屈折率透明薄膜／高屈折率透明薄膜／低屈折率透明薄膜の順で１層ずつ、合計４層に積層したものであり、前記高屈折率透明薄膜がＩＴＯ又はＺｎＯよりなり、前記低屈折率透明薄膜がＳｉＯ ２ よりなることを特徴とする。
【０００８】
３６５ｎｍにおける光線透過率が４０％以下の反射防止フィルムであれば、紫外線等の周囲環境に大きな影響を及ぼされることなく、耐候性、耐久性に優れるため、黄変や膜剥離の問題は防止される。
【０００９】
【発明の実施の形態】
以下に図面を参照して、本発明の実施の形態を詳細に説明する。
【００１０】
図１（ａ），（ｂ）は参考例の反射防止フィルムを示す模式的な断面図であり、図１（ｃ）は本発明の反射防止フィルムの実施の形態を示す模式的な断面図である。
【００１１】
本発明の反射防止フィルムは、フィルムの３６５ｎｍの波長の光に対する光線透過率が４０％以下のものであるが、この光線透過率が４０％を超えるものでは、紫外線等による劣化の問題があり、黄変、膜剥離が生じる。
【００１２】
この光線透過率は低い程好ましく、本発明において、３６５ｎｍにおける光線透過率は好ましくは３０％以下であり、３５０ｎｍの波長の光に対する光線透過率が２０％以下、特に１０％以下、とりわけ５％以下であることが望ましい。
【００１３】
このような本発明の反射防止フィルムは、例えば、下記(3)の構成とすることにより実現することができる。
【００１４】
(1) 図１（ａ）に示す如く、ベースフィルム１とハードコート層２との間に紫外線カット層７を介在させた反射防止フィルム４Ａ。
(2) 図１（ｂ）に示す如く、ハードコート層自体を紫外線カットハードコート層２Ａとした反射防止フィルム４Ｂ。
(3) 図１（ｃ）に示す如く、反射防止層自体を紫外線カット反射防止層３Ｂとした反射防止フィルム４Ｃ。
【００１５】
本発明において、ベースフィルム１となる有機フィルムとしては、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリメチルメタアクリレート（ＰＭＭＡ）、アクリル、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリスチレン、トリアセテート、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリウレタン、セロファン等、好ましくはＰＥＴ、ＰＣ、ＰＭＭＡの透明フィルムが挙げられる。
【００１６】
有機フィルムの厚さは得られる反射防止フィルムの用途による要求特性（例えば、強度、薄膜性）等によって適宜決定されるが、通常の場合、１μｍ〜１０ｍｍの範囲とされる。
【００１７】
図１（ａ）に示す如く、紫外線カット層７を形成する場合、この紫外線カット層７としては、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂等の適当なコーティング材に公知の紫外線吸収材を０．０５〜１０重量％程度配合してベースフィルム１上にコーティングすれば良い。このようにして形成される紫外線カット層７の厚さは０．５〜２０μｍ程度とするのが好ましい。
【００１８】
ハードコート層２は、アクリル樹脂、シリコーン樹脂等の通常のハードコート材をコーティングすることにより形成することができる。ハードコート層自体を紫外線カット性とする場合、紫外線カットハードコート層２Ａは、このようなハードコート材に公知の紫外線吸収材を０．０５〜５重量％程度配合してコーティングすることにより形成することができる。ハードコート層２又は紫外線カットハードコート層２Ａの厚さは１〜２０μｍ程度とするのが好ましい。
【００１９】
反射防止層２としては、次のような構成のものを用いることができる。
【００２０】
高屈折率透明薄膜／低屈折率透明薄膜／高屈折率透明薄膜／低屈折率透明薄膜の順で１層ずつ、合計４層に積層したもの
ここで、高屈折率透明薄膜としては、ＩＴＯ（スズインジウム酸化物）又はＺｎＯ、ＡｌをドープしたＺｎＯの屈折率１．８以上の薄膜を採用することができる。
【００２１】
また、低屈折率透明薄膜としては、ＳｉＯ ２ の屈折率が１．６以下の薄膜を採用することができる。
【００２２】
これら高屈折率透明薄膜及び低屈折率透明薄膜の膜厚は、光の干渉で可視光領域での反射率を下げることができるように、膜構成、膜種、中心波長等により適宜決定される。
【００２３】
このような透明薄膜は、蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング、ＣＶＤ、マイクログラビアコーティング、ダイレクトグラビアコーティング、スロットダイコーティング法等により形成することができる。
【００２４】
特に、本発明では、反射防止層自体を紫外線カット性とするために、高屈折率透明薄膜の材料として４００ｎｍ付近の光の通過性が高く、３５０ｎｍ付近及びそれ以下の光の吸収が多い材料を用いる。このような材料としては、ＩＴＯ、ＺｎＯが挙げられる。
【００２５】
なお、本発明の反射防止フィルムでは、紫外線カット反射防止層３Ａの上に更にフッ素系有機薄膜等の防汚層を形成しても良く、この場合、防汚層の材料としては、ＦＥＰ（フルオロエチレン−プロピレン共重合体）、ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）、ＥＴＦＥ（エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体）、ＰＶＦ（ポリフッ化ビニル）、ＰＶＤＦ（ポリフッ化ビリニデン）等が挙げられる。
【００２６】
このような本発明の反射防止フィルムは、ＯＡ機器のＰＤＰや液晶板の前面フィルタ等の各種表示材の前面に貼着する反射防止フィルムとして極めて有用であり、黄変や膜剥離の問題を生じることなく、長期に亘り良好な反射防止機能を示す。
【００２７】
【実施例】
以下に参考例、実施例及び比較例を挙げて本発明をより具体的に説明する。
【００２８】
参考例１
市販のＰＥＴフィルム（東レ社製「ルミラー＃１８８」厚さ１８８μｍ）の表面に、アクリル樹脂に紫外線吸収剤（ムサシノガイギー社製「チタビンＰ」）を２．０重量％混合したコーティング液をコーティングして厚さ２μｍの紫外線カット層を形成し、この上に市販のハードコート材（ＪＳＲ社製「Ｚ７００２」）をコーティングして厚さ６μｍのハードコート層を形成し、更にこの上に下記４層積層構造の反射防止層を反応性スパッタ法により形成して反射防止フィルムを製造した。
【００２９】
［反射防止層構造］
１層目（反射防止層側） ：ＴｉＯ２、厚さ１３ｎｍ
２層目 ：ＳｉＯ２、厚さ２０ｎｍ
３層目 ：ＴｉＯ２、厚さ１１０ｎｍ
４層目 ：ＳｉＯ２、厚さ８５ｎｍ
この反射防止フィルムについて、日立自走式分光光度計を用いて３６５ｎｍ及び３５０ｎｍにおける光線透過率を調べ、結果を表１に示した。
【００３０】
また、この反射防止フィルムについて、スーパーＵＶ耐光試験機（アイグラフィックス社製）で３０時間の耐候劣化試験を行い、この試験前後での黄色度（ＹＩ値：スガ試験機社製カラーコンピュータで測定）と膜の密着度（ＪＩＳ Ｋ−５４００ ゴバン目テ−プ試験（５×５）により測定）を調べ、結果を表１に示した。
【００３１】
参考例２
市販のＰＥＴフィルム「ルミラー＃１８８」の表面に、市販のハードコート材「Ｚ７００２」に紫外線吸収剤「チタビンＰ」を０．５重量％混合したものをコーティングして厚さ８μｍの紫外線カットハードコート層を形成し、この上に、実施例１と同様にして反射防止層を形成して反射防止フィルムを製造した。
【００３２】
この反射防止フィルムについて、参考例１と同様にして光線透過率及び耐候劣化試験前後の黄色度と膜の密着度を調べ、結果を表１に示した。
【００３３】
実施例１
市販のハードコートＰＥＴフィルム（東レ社製「ルミラーＣＯＴＯ」厚さ１８８μｍ）の表面に下記４層積層構造の紫外線カット反射防止層をスパッタ法により形成して本発明の反射防止フィルムを製造した。なお、ＩＴＯの成膜には焼結ターゲット（三菱マテリアル社製）を用い、純アルゴン中、０．２Ｐａの圧力でスパッタ成膜した。
【００３４】
［紫外線カット反射防止層構造］
１層目（反射防止層側） ：ＩＴＯ 、厚さ１５ｎｍ
２層目 ：ＳｉＯ２、厚さ２０ｎｍ
３層目 ：ＩＴＯ 、厚さ１２５ｎｍ
４層目 ：ＳｉＯ２、厚さ８５ｎｍ
この反射防止フィルムについて、参考例１と同様にして光線透過率及び耐候劣化試験前後の黄色度と膜の密着度を調べ、結果を表１に示した。
【００３５】
比較例１
市販のハードコートＰＥＴフィルム「ルミラーＣＯＴＯ」の表面に、参考例１と同様にして反射防止層を形成し、得られた反射防止フィルムについて、参考例１と同様にして光線透過率及び耐候劣化試験前後の黄変度と膜の密着度を調べ、結果を表１に示した。
【００３６】
【表１】
表１より、本発明の反射防止フィルムは、耐候性に優れ、黄変、膜剥離が防止されることがわかる。
【発明の効果】
【００３８】
以上詳述した通り、本発明の反射防止フィルムによれば、膜剥離や黄変等の問題を引き起こすことなく、長期間使用可能な反射防止フィルムを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 図１（ａ），（ｂ）は参考例の反射防止フィルムを示す模式的な断面図であり、図１（ｃ）は本発明の反射防止フィルムの実施の形態を示す断面図である。
【図２】 従来例を示す断面図である。
【符号の説明】
１ ベースフィルム
２ ハードコート層
２Ａ 紫外線カットハードコート層
３ 反射防止層
３Ａ 紫外線カット反射防止層
４，４Ａ，４Ｂ，４Ｃ 反射防止フィルム
５ 表面材
６ 接着剤
７ 紫外線カット層[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to an antireflection film, and more particularly to an antireflection film excellent in weather resistance and durability and suitable as an antireflection film adhered to a surface material of a display board, a display, or an electric bulletin board.
[0002]
[Prior art]
In a surface material such as a display board, a display, or an electric bulletin board, visibility is deteriorated due to reflection of external light, illumination light, or bright surrounding scenery on the surface and an image. For this reason, in order to reduce such reflection, the surface material (including the outer cover material and the surface of the filter) is subjected to anti-glare treatment with fine unevenness or a thin film is coated. In some cases, antireflection treatment is performed to reduce reflection due to interference. When these antireflection treatments are directly applied to the surface material, the cost is increased. Therefore, a method of sticking a film subjected to the antireflection treatment to the surface material has been frequently adopted in recent years.
[0003]
Usually, as shown in FIG. 2, the conventional antireflection film has a
[0004]
[Problems to be solved by the invention]
Conventional antireflection films are easily affected by heat, humidity, and other environmental conditions during use, and peeling may occur at the interface between the base film 1 and the
[0005]
Further, even when the adhesion between the base film 1 and the
[0006]
An object of the present invention is to solve the above-mentioned conventional problems, and to provide an antireflection film that is excellent in weather resistance and durability and can be used for a long time without causing problems such as film peeling and yellowing.
[0007]
[Means for Solving the Problems]
The antireflection film of the present invention, the surface of the organic film, the hard coat layer is provided, the anti-reflection film on which the antireflection layer is provided on the hard coat layer, the antireflection layer, the light in the vicinity of 400nm Is an ultraviolet cut layer having a high refractive index transparent thin film using a material having a high light absorption near 350 nm and below, and the light transmittance at 365 nm of the antireflection film is 40% or less. An antireflection film, wherein the antireflection layer is laminated in a total of four layers, one in the order of high refractive index transparent thin film / low refractive index transparent thin film / high refractive index transparent thin film / low refractive index transparent thin film. , and the the high-refractive-index transparent thin film is made of ITO or ZnO, the low refractive index transparent thin film is characterized by consisting of SiO 2.
[0008]
If it is an antireflection film having a light transmittance at 365 nm of 40% or less, it is excellent in weather resistance and durability without greatly affecting the surrounding environment such as ultraviolet rays, so the problem of yellowing and film peeling is prevented. The
[0009]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
[0010]
1 (a) and 1 (b) are schematic cross-sectional views showing an antireflection film of a reference example, and FIG. 1 (c) is a schematic cross-sectional view showing an embodiment of the antireflection film of the present invention. is there.
[0011]
The antireflection film of the present invention has a light transmittance of 40% or less with respect to light having a wavelength of 365 nm of the film, but when this light transmittance exceeds 40%, there is a problem of deterioration due to ultraviolet rays or the like, Yellowing and film peeling occur.
[0012]
The light transmittance is preferably as low as possible. In the present invention, the light transmittance at 365 nm is preferably 30% or less, and the light transmittance for light having a wavelength of 350 nm is 20% or less, particularly 10% or less, especially 5% or less. It is desirable that
[0013]
Such an antireflection film of the present invention can be realized, for example, by adopting the following configuration (3).
[0014]
(1) An antireflection film 4A in which an ultraviolet cut layer 7 is interposed between a base film 1 and a
(2) An
(3) An antireflection film 4C in which the antireflection layer itself is an ultraviolet cut antireflection layer 3B as shown in FIG.
[0015]
In the present invention, the organic film to be the base film 1 includes polyester, polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate, polymethyl methacrylate (PMMA), acrylic, polycarbonate (PC), polystyrene, triacetate, polyvinyl alcohol, polychlorinated. Vinyl, polyvinylidene chloride, polyethylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, polyurethane, cellophane, etc., preferably PET, PC, PMMA transparent films.
[0016]
Although the thickness of an organic film is suitably determined by the required characteristics (for example, intensity | strength, thin film property) by the use of the antireflection film obtained, it is usually set as the range of 1 micrometer-10 mm.
[0017]
As shown in FIG. 1 (a), when the ultraviolet cut layer 7 is formed, the ultraviolet cut layer 7 is made of an appropriate coating material such as an acrylic resin, a urethane resin, a silicone resin, or an epoxy resin with a known ultraviolet absorbing material. What is necessary is just to mix about 0.05 to 10 weight% and to coat on the base film 1. The thickness of the ultraviolet cut layer 7 thus formed is preferably about 0.5 to 20 μm.
[0018]
The
[0019]
As the
[0020]
High-refractive-index transparent thin film / low refractive index transparent thin film / high refractive index by a transparent thin film / low refractive index first layer in the order of the transparent thin film, also laminated to a total of four layers of
In here, as the high refractive Oriritsu transparent thin film, ITO (indium tin oxide) or ZnO, it is possible to adopt a refractive index of 1.8 or more of a thin film of Zn O doped with Al.
[0021]
As the low refractive Oriritsu transparent thin, the refractive index of SiO 2 to adopt 1.6 or less of the thin film.
[0022]
Thickness of high refractive index transparent thin Maku及 beauty low refractive index transparent thin film, so that it is possible by interference of light lowers the reflectance in the visible light range, appropriately determining film structure, the film type, the center wavelength or the like Is done.
[0023]
Such a transparent thin film can be formed by vapor deposition, sputtering, ion plating, CVD, micro gravure coating, direct gravure coating, slot die coating method and the like.
[0024]
In particular, in the present invention, in order to make the antireflection layer itself UV-cutting, as a material for the high refractive index transparent thin film, a material having a high light transmission property near 400 nm and a light absorption near 350 nm or less is used. Use. Such materials, ITO, Zn O and the like.
[0025]
In the antireflection film of the present invention, an antifouling layer such as a fluorine-based organic thin film may be further formed on the ultraviolet cut antireflection layer 3A. In this case, as the antifouling layer, FEP (fluoro And ethylene-propylene copolymer), PTFE (polytetrafluoroethylene), ETFE (ethylene-tetrafluoroethylene copolymer), PVF (polyvinyl fluoride), PVDF (polyvinylidene fluoride), and the like.
[0026]
Such an antireflection film of the present invention is extremely useful as an antireflection film adhered to the front surface of various display materials such as PDP of OA equipment and a front filter of a liquid crystal plate, and causes problems of yellowing and film peeling. Without showing a good antireflection function for a long time.
[0027]
【Example】
The present invention will be described more specifically with reference to the following reference examples, examples and comparative examples.
[0028]
Reference example 1
The surface of a commercially available PET film ("Lumirror # 188" manufactured by Toray Industries Inc., thickness 188 μm) is coated with a coating solution in which an acrylic resin and a UV absorber ("Titabine P" manufactured by Musashino Geigy) are mixed by 2.0% by weight. An ultraviolet cut layer having a thickness of 2 μm is formed, and a commercially available hard coat material (“Z7002” manufactured by JSR) is coated thereon to form a hard coat layer having a thickness of 6 μm. An antireflection film having a laminated structure was formed by reactive sputtering to produce an antireflection film.
[0029]
[Antireflection layer structure]
First layer (antireflection layer side): TiO 2 , thickness 13 nm
Second layer: SiO 2 , thickness 20 nm
Third layer: TiO 2 , thickness 110 nm
Fourth layer: SiO 2 , thickness 85 nm
The antireflection film was examined for light transmittance at 365 nm and 350 nm using a Hitachi self-propelled spectrophotometer, and the results are shown in Table 1.
[0030]
In addition, the antireflection film was subjected to a 30-hour weathering deterioration test with a super UV light resistance tester (manufactured by Eye Graphics), and the yellowness (YI value before and after this test: measured with a color computer manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.) ) And film adhesion (measured by JIS K-5400 Gobang eye tape test (5 × 5)), and the results are shown in Table 1.
[0031]
Reference example 2
The surface of a commercially available PET film “Lumirror # 188” is coated with a commercially available hard coat material “Z7002” mixed with 0.5% by weight of an ultraviolet absorber “Titabine P”, and an ultraviolet cut hard coat having a thickness of 8 μm. An antireflection film was produced by forming an antireflection layer thereon in the same manner as in Example 1.
[0032]
The antireflection film was examined in the same manner as in Reference Example 1 for the light transmittance and the yellowness before and after the weather resistance test and the adhesion of the film. The results are shown in Table 1.
[0033]
Example 1
The antireflection film of the present invention was produced by forming an ultraviolet cut antireflection layer having the following four-layer structure on the surface of a commercially available hard coat PET film ("Lumirror COTO" manufactured by Toray Industries Inc., thickness 188 μm) by sputtering. The ITO film was formed by sputtering using a sintered target (manufactured by Mitsubishi Materials Corporation) at a pressure of 0.2 Pa in pure argon.
[0034]
[Ultraviolet cut antireflection layer structure]
First layer (antireflection layer side): ITO, thickness 15 nm
Second layer: SiO 2 , thickness 20 nm
3rd layer: ITO, thickness 125nm
Fourth layer: SiO 2 , thickness 85 nm
The antireflection film was examined in the same manner as in Reference Example 1 for the light transmittance and the yellowness before and after the weather resistance test and the adhesion of the film. The results are shown in Table 1.
[0035]
Comparative Example 1
An antireflection layer was formed on the surface of a commercially available hard coat PET film “Lumorator COTO” in the same manner as in Reference Example 1, and the resulting antireflection film was subjected to light transmittance and weather resistance deterioration test in the same manner as in Reference Example 1. The degree of yellowing before and after and the degree of film adhesion were examined, and the results are shown in Table 1.
[0036]
[Table 1]
From Table 1, it can be seen that the antireflection film of the present invention is excellent in weather resistance and prevents yellowing and film peeling.
【The invention's effect】
[0038]
As described above in detail, the antireflection film of the present invention can provide an antireflection film that can be used for a long period of time without causing problems such as film peeling and yellowing.
[Brief description of the drawings]
1 (a) and 1 (b) are schematic cross-sectional views showing an antireflection film of a reference example, and FIG. 1 (c) is a cross-sectional view showing an embodiment of the antireflection film of the present invention. It is.
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a conventional example.
[Explanation of symbols]
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1
Claims (1)
前記反射防止層が、高屈折率透明薄膜／低屈折率透明薄膜／高屈折率透明薄膜／低屈折率透明薄膜の順で１層ずつ、合計４層に積層したものであり、
前記高屈折率透明薄膜がＩＴＯ又はＺｎＯよりなり、
前記低屈折率透明薄膜がＳｉＯ ２ よりなることを特徴とする反射防止フィルム。In the antireflection film in which a hard coat layer is provided on the surface of the organic film, and the antireflection layer is provided on the hard coat layer, the antireflection layer has a high light transmission property around 400 nm and is around 350 nm. And an ultraviolet cut layer having a high-refractive-index transparent thin film using a material that absorbs less light, and the antireflection film has a light transmittance at 365 nm of 40% or less ,
The antireflective layer is laminated in a total of 4 layers, one layer in the order of high refractive index transparent thin film / low refractive index transparent thin film / high refractive index transparent thin film / low refractive index transparent thin film,
The high refractive index transparent thin film is made of ITO or ZnO,
Antireflection film wherein low refractive index transparent thin film is characterized by consisting of SiO 2.
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