JP6681726B2 - Transparent conductive film - Google Patents

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Description

本発明は、透明導電性フィルムに関する。   The present invention relates to a transparent conductive film.

従来、透明高分子基材上に、アンチブロッキング層、色差調整層および透明導電層が順次積層された透明導電性積層体が提案されている(例えば、特許文献1参照。)。   Conventionally, there has been proposed a transparent conductive laminate in which an anti-blocking layer, a color difference adjusting layer and a transparent conductive layer are sequentially laminated on a transparent polymer substrate (for example, refer to Patent Document 1).

特許文献1に記載の透明導電性積層体では、透明導電層を所定形状のパターンに形成している。   In the transparent conductive laminate described in Patent Document 1, the transparent conductive layer is formed in a pattern having a predetermined shape.

特許文献1では、アンチブロッキング層によって、アンチブロッキング性を担保しつつ、色差調整層によって、パターンの視認性の差を抑制して、光学特性を担保している。   In Patent Document 1, while the anti-blocking property is ensured by the anti-blocking layer, the difference in pattern visibility is suppressed by the color difference adjusting layer, and the optical properties are ensured.

特開2012−66477号公報JP2012-66477A

しかるに、特許文献1では、アンチブロッキング層および色差調整層の2層を設ける必要があり、そのため、層構成が複雑となるという不具合がある。また、薄型化が図れないという不具合がある。   However, in Patent Document 1, it is necessary to provide the two layers of the anti-blocking layer and the color difference adjusting layer, which causes a problem that the layer structure becomes complicated. In addition, there is a problem that the device cannot be made thin.

本発明の目的は、層構成を簡単にして、薄型化を図りながら、耐ブロッキング性および光学特性に優れる透明導電性フィルムを提供することにある。   An object of the present invention is to provide a transparent conductive film having excellent blocking resistance and optical characteristics while simplifying the layer structure and achieving a thin structure.

本発明(1)は、透明基材と、中間層と、透明導電層とを順次備え、前記中間層は、30nm以上、70nm未満である平均粒子径を有する第1無機粒子と、70nm以上、140nm以下である平均粒子径を有する第2無機粒子とを含み、前記中間層は、Dμmである厚みを有し、前記中間層における前記第1無機粒子の含有割合が、50質量%以上、85質量%以下であり、前記中間層における前記第2無機粒子の含有割合が、B質量%であり、前記中間層の厚みDおよび前記第2無機粒子の含有割合Bが、下記関係式(1)を満足することを特徴とする、透明導電性フィルムである
(D−82.63)/7.89 < B < (D−55)/6 (1)。
The present invention (1) includes a transparent substrate, an intermediate layer, and a transparent conductive layer in order, the intermediate layer having a first inorganic particle having an average particle diameter of 30 nm or more and less than 70 nm, and 70 nm or more, A second inorganic particle having an average particle diameter of 140 nm or less, the intermediate layer has a thickness of Dμm, the content ratio of the first inorganic particle in the intermediate layer is 50 mass% or more, 85 The content ratio of the second inorganic particles in the intermediate layer is B mass% or less, the thickness D of the intermediate layer and the content ratio B of the second inorganic particles are the following relational expression (1). (D-82.63) /7.89 <B <(D-55) / 6 (1), which is a transparent conductive film.

本発明(2)は、前記中間層における前記第2無機粒子の含有割合Bが、0.5質量%以上、6量%以下である、(1)に記載の透明導電性フィルムを含む。   The present invention (2) includes the transparent conductive film according to (1), in which the content B of the second inorganic particles in the intermediate layer is 0.5% by mass or more and 6% by mass or less.

本発明(3)は、前記第2無機粒子の平均粒子径が、100nm以下である、(1)または(2)に記載の透明導電性フィルムを含む。   The present invention (3) includes the transparent conductive film according to (1) or (2), wherein the second inorganic particles have an average particle diameter of 100 nm or less.

本発明(4)は、前記中間層が、耐ブロッキング光学調整層である、(1)〜(3)のいずれか一項に記載の透明導電性フィルムを含む。   The present invention (4) includes the transparent conductive film according to any one of (1) to (3), wherein the intermediate layer is an anti-blocking optical adjustment layer.

本発明(5)は、前記透明基材と前記中間層との間に介在するハードコート層をさらに備える、(1)〜(4)のいずれか一項に記載の透明導電性フィルムを含む。   The present invention (5) includes the transparent conductive film according to any one of (1) to (4), further including a hard coat layer interposed between the transparent substrate and the intermediate layer.

本発明(6)は、前記ハードコート層は、その表面に複数の突起を有し、前記突起の、前記ハードコート層1cm当たりにおける最大突出長さが200nm以下である、(5)に記載の透明導電性フィルムを含む。 In the present invention (6), the hard coat layer has a plurality of protrusions on its surface, and the maximum protrusion length of the protrusions per cm 2 of the hard coat layer is 200 nm or less. Including a transparent conductive film.

本発明(7)は、前記第1無機粒子が、ジルコニア粒子である、(1)〜(6)のいずれか一項に記載の透明導電性フィルムを含む。   The present invention (7) includes the transparent conductive film according to any one of (1) to (6), wherein the first inorganic particles are zirconia particles.

本発明(8)は、前記第2無機粒子が、シリカ粒子である、(1)〜(7)のいずれか一項に記載の透明導電性フィルムを含む。   The present invention (8) includes the transparent conductive film according to any one of (1) to (7), wherein the second inorganic particles are silica particles.

本発明の透明導電性フィルムは、層構成を簡単にして、薄型化を図りながら、耐ブロッキング性および光学特性に優れる。   INDUSTRIAL APPLICABILITY The transparent conductive film of the present invention is excellent in blocking resistance and optical properties while simplifying the layer structure and making it thinner.

図1は、本発明の透明導電性フィルムの一実施形態(透明基材の上に、ハードコート層、中間層および透明導電層が設けられる態様)の断面図を示す。FIG. 1 shows a cross-sectional view of one embodiment (a mode in which a hard coat layer, an intermediate layer and a transparent conductive layer are provided on a transparent substrate) of the transparent conductive film of the present invention. 図2は、図1に示す透明導電性フィルムの変形例(透明基材の上下に、ハードコート層、中間層および透明導電層が設けられる態様)を示す。FIG. 2 shows a modified example of the transparent conductive film shown in FIG. 1 (a mode in which a hard coat layer, an intermediate layer, and a transparent conductive layer are provided above and below a transparent substrate). 図3は、図1に示す透明導電性フィルム(透明基材の上に、中間層および透明導電層が設けられる態様)の変形例を示す。FIG. 3 shows a modification of the transparent conductive film shown in FIG. 1 (a mode in which an intermediate layer and a transparent conductive layer are provided on a transparent substrate). 図4は、図1に示す透明導電性フィルムの変形例(透明基材の上下に、中間層および透明導電層が設けられる態様)を示す。FIG. 4 shows a modification of the transparent conductive film shown in FIG. 1 (a mode in which an intermediate layer and a transparent conductive layer are provided above and below a transparent substrate). 図5は、各実施例および各比較例の透明導電性フィルムにおける第2無機粒子の中間層における含有割合B(質量%)と、中間層の厚みD(μm)との関係を示すグラフを示す。FIG. 5 is a graph showing the relationship between the content B (% by mass) of the second inorganic particles in the intermediate layer and the thickness D (μm) of the intermediate layer in the transparent conductive films of Examples and Comparative Examples. .

本発明の透明導電性フィルムの一実施形態を、図1および図5を参照して説明する。   One embodiment of the transparent conductive film of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 and 5.

1.透明導電性フィルム
図1に示すように、この透明導電性フィルム1は、所定の厚みを有するフィルム形状(シート形状を含む)をなし、厚み方向と直交する所定方向(面方向)に延び、平坦な上面および平坦な下面(2つの主面)を有する。
1. Transparent Conductive Film As shown in FIG. 1, the transparent conductive film 1 has a film shape (including a sheet shape) having a predetermined thickness, extends in a predetermined direction (plane direction) orthogonal to the thickness direction, and is flat. An upper surface and a flat lower surface (two main surfaces).

具体的には、透明導電性フィルム1は、透明基材2と、ハードコート層3と、中間層4と、透明導電層5とを順次備える。つまり、透明導電性フィルム1は、透明基材2と、透明基材2の上に設けられるハードコート層3と、ハードコート層3の上に設けられる中間層4と、中間層4の上に設けられる透明導電層5とを備える。好ましくは、透明導電性フィルム1は、透明基材2、ハードコート層3、中間層4および透明導電層5のみからなる。以下、各層について詳述する。   Specifically, the transparent conductive film 1 includes a transparent base material 2, a hard coat layer 3, an intermediate layer 4, and a transparent conductive layer 5 in order. That is, the transparent conductive film 1 is formed on the transparent base material 2, the hard coat layer 3 provided on the transparent base material 2, the intermediate layer 4 provided on the hard coat layer 3, and the intermediate layer 4. And a transparent conductive layer 5 provided. Preferably, the transparent conductive film 1 is composed only of the transparent substrate 2, the hard coat layer 3, the intermediate layer 4 and the transparent conductive layer 5. Hereinafter, each layer will be described in detail.

2.透明基材
透明基材2は、透明導電性フィルム1の下層であって、透明導電性フィルム1の機械強度を確保する支持層(支持材)である。また、透明基材2は、面方向に延びるフィルム形状を有しており、平坦な平面および平坦な下面(2つの主面)を有する。
2. Transparent Substrate The transparent substrate 2 is a lower layer of the transparent conductive film 1 and is a support layer (support material) that secures the mechanical strength of the transparent conductive film 1. The transparent substrate 2 has a film shape extending in the surface direction and has a flat plane surface and a flat lower surface (two main surfaces).

透明基材2は、高分子フィルムからなる。高分子フィルムは、透明性を有する。高分子フィルムの材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル樹脂、例えば、ポリメタクリレートなどの(メタ)アクリル樹脂(アクリル樹脂および/またはメタクリル樹脂)、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、シクロオレフィンポリマー(COP)などのオレフィン樹脂、例えば、ポリカーボネート樹脂、例えば、ポリエーテルスルフォン樹脂、例えば、ポリアリレート樹脂、例えば、メラミン樹脂、例えば、ポリアミド樹脂、例えば、ポリイミド樹脂、例えば、セルロース樹脂、例えば、ポリスチレン樹脂、例えば、ノルボルネン樹脂などが挙げられる。これら高分子フィルムは、単独使用または2種以上併用することができる。透明性、機械特性などの観点から、好ましくは、オレフィン樹脂が挙げられ、より好ましくは、COPが挙げられる。   The transparent substrate 2 is made of a polymer film. The polymer film has transparency. Examples of the material for the polymer film include polyester resins such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate, and (meth) acrylic resins (acrylic resin and / or methacrylic resin) such as polymethacrylate, for example, polyethylene, Olefin resin such as polypropylene and cycloolefin polymer (COP), for example, polycarbonate resin, for example, polyether sulfone resin, for example, polyarylate resin, for example, melamine resin, for example, polyamide resin, for example, polyimide resin, for example, cellulose resin Examples include polystyrene resins such as norbornene resins. These polymer films can be used alone or in combination of two or more kinds. From the viewpoint of transparency, mechanical properties, etc., an olefin resin is preferable, and COP is more preferable.

透明基材2の厚みは、例えば、2μm以上、好ましくは、20μm以上であり、また、例えば、300μm以下、好ましくは、200μm以下である。   The thickness of the transparent substrate 2 is, for example, 2 μm or more, preferably 20 μm or more, and for example, 300 μm or less, preferably 200 μm or less.

3.ハードコート層
ハードコート層3は、透明導電性フィルム1の耐擦傷性を高める層であって、透明基材2と次に説明する中間層4との間に介在する層である。ハードコート層3は、面方向に延びるフィルム形状を有しており、実質的に平坦な上面および平坦な下面(2つの主面)を有する。
3. Hard coat layer The hard coat layer 3 is a layer that enhances the scratch resistance of the transparent conductive film 1, and is a layer interposed between the transparent substrate 2 and the intermediate layer 4 described below. The hard coat layer 3 has a film shape extending in the surface direction and has a substantially flat upper surface and a flat lower surface (two main surfaces).

ハードコート層3は、フィルム形状(シート形状を含む)を有しており、透明基材2の上面全面に直接接触している。   The hard coat layer 3 has a film shape (including a sheet shape) and is in direct contact with the entire upper surface of the transparent substrate 2.

ハードコート層3は、例えば、公知の樹脂組成物からなる。また、樹脂組成物は、後述する粒子(有機粒子や無機粒子を含む粒子)を適度の割合で含有することもできる。   The hard coat layer 3 is made of, for example, a known resin composition. Further, the resin composition can also contain particles (particles containing organic particles or inorganic particles) described below in an appropriate ratio.

また、ハードコート層3は、その上面に複数の突起(図示せず)を有してもよく、そのような突起の、ハードコート層3 1cm当たりにおける最大突出長さが、例えば、200nm以下、好ましくは、100nm以下、より好ましくは、10nm以下であり、また、例えば、1nm以上である。突起の最大突出長さが上記した上限以下であれば、ハードコート層3の上面を実質的に平滑にすることができる。そのため、ヘイズを抑えるすることができる。 The hard coat layer 3 may have a plurality of protrusions (not shown) on its upper surface, and the maximum protrusion length of such protrusions per 1 cm 2 of the hard coat layer 3 is, for example, 200 nm or less. It is preferably 100 nm or less, more preferably 10 nm or less, and for example, 1 nm or more. When the maximum protrusion length of the protrusion is equal to or less than the above upper limit, the upper surface of the hard coat layer 3 can be made substantially smooth. Therefore, haze can be suppressed.

また、ハードコート層3の上面の粗さ(表面粗さ)は、例えば、10nm以下、好ましくは、5nm以下であり、また、例えば、0.1nm以上である。ハードコート層3の表面粗さの測定方法は、後の実施例で記載される。   The roughness (surface roughness) of the upper surface of the hard coat layer 3 is, for example, 10 nm or less, preferably 5 nm or less, and for example, 0.1 nm or more. The method for measuring the surface roughness of the hard coat layer 3 will be described in Examples below.

ハードコート層3の厚みは、例えば、0.1μm以上、好ましくは、0.5μm以上であり、また、例えば、10μm以下、好ましくは、5μm以下である。   The hard coat layer 3 has a thickness of, for example, 0.1 μm or more, preferably 0.5 μm or more, and for example, 10 μm or less, preferably 5 μm or less.

4.中間層
中間層4は、ハードコート層3の上面に設けられている。中間層4は、ハードコート層3と次に説明する透明導電層5との間に設けられる層である。また、中間層4は、目的に応じた機能性を付与する機能層である。具体的には、中間層4は、透明導電性フィルム1に耐ブロッキング性を付与しながら、透明導電層5が後の工程でパターンに形成された後に、非パターン部とパターン部との相違が認識されないように(すなわち、パターンの視認を抑制するように)、透明導電層5の光学物性を調整する、耐ブロッキング光学調整層である。
4. Intermediate Layer The intermediate layer 4 is provided on the upper surface of the hard coat layer 3. The intermediate layer 4 is a layer provided between the hard coat layer 3 and the transparent conductive layer 5 described below. The intermediate layer 4 is a functional layer that imparts functionality according to the purpose. Specifically, the intermediate layer 4 imparts blocking resistance to the transparent conductive film 1, and after the transparent conductive layer 5 is formed into a pattern in a later step, the difference between the non-patterned portion and the patterned portion is different. It is an anti-blocking optical adjustment layer that adjusts the optical properties of the transparent conductive layer 5 so as not to be recognized (that is, to suppress the visual recognition of the pattern).

中間層4は、ハードコート層3の上面全面に直接接触している。中間層4は、面方向に延びるフィルム形状を有している。中間層4は、後で説明する第2無機粒子に起因する凹凸状の上面(図1において示されていない)、および、ハードコート層3の上面に対応する実質的に平坦な下面(2つの主面)を有する。   The intermediate layer 4 is in direct contact with the entire upper surface of the hard coat layer 3. The intermediate layer 4 has a film shape extending in the plane direction. The intermediate layer 4 has an uneven upper surface (not shown in FIG. 1) caused by the second inorganic particles, which will be described later, and a substantially flat lower surface corresponding to the upper surface of the hard coat layer 3 (two Main surface).

中間層4は、第1無機粒子と、第2無機粒子とを含有する。   The mid layer 4 contains first inorganic particles and second inorganic particles.

具体的には、中間層4は、第1無機粒子と、第2無機粒子とを含有する粒子組成物からなる。   Specifically, the mid layer 4 is made of a particle composition containing first inorganic particles and second inorganic particles.

粒子組成物は、好ましくは、第1無機粒子と、第2無機粒子と、樹脂とを含有する。より好ましくは、粒子組成物は、第1無機粒子と、第2無機粒子と、樹脂とのみからなる。   The particle composition preferably contains the first inorganic particles, the second inorganic particles, and the resin. More preferably, the particle composition comprises only the first inorganic particles, the second inorganic particles, and the resin.

4−1.第1無機粒子
第1無機粒子は、無機粒子のうち平均粒子径が相対的に小さい小粒子である。第1無機粒子は、透明導電性フィルム1の光学特性を向上させる光学粒子、具体的には、透明導電層5のパターン視認を抑制する光学粒子である。
4-1. First Inorganic Particle The first inorganic particle is a small particle having a relatively small average particle diameter among the inorganic particles. The first inorganic particles are optical particles that improve the optical characteristics of the transparent conductive film 1, specifically, optical particles that suppress pattern visibility of the transparent conductive layer 5.

第1無機粒子としては、例えば、酸化ケイ素(シリカ)粒子、例えば、酸化ジルコニウム(ジルコニア)、酸化チタン(チタニア)、酸化亜鉛、酸化錫などからなる金属酸化物粒子、例えば、炭酸カルシウムなどの炭酸塩粒子などの無機粒子が挙げられる。第1無機粒子は、単独種類を単独使用でき、あるいは、複数種類を併用することもできる。粒子として、好ましくは、金属酸化物粒子、より好ましくは、酸化ジルコニウム粒子が挙げられる。酸化ジルコニウム粒子は、その添加量により容易に膜の屈折率を変化させることができるので、第1無機粒子として好適である。   Examples of the first inorganic particles include silicon oxide (silica) particles such as zirconium oxide (zirconia), titanium oxide (titania), zinc oxide, tin oxide, and other metal oxide particles such as calcium carbonate. Inorganic particles such as salt particles may be mentioned. The first inorganic particles can be used alone or in combination of two or more. The particles are preferably metal oxide particles, more preferably zirconium oxide particles. Zirconium oxide particles are suitable as the first inorganic particles because the refractive index of the film can be easily changed depending on the added amount.

第1無機粒子は、30nm以上、70nm未満の平均粒子径を有する。   The first inorganic particles have an average particle size of 30 nm or more and less than 70 nm.

第1無機粒子は、好ましくは、35nm以上の平均粒子径を有し、また、好ましくは、60nm以下、より好ましくは、50nm以下の平均粒子径を有する。   The first inorganic particles preferably have an average particle size of 35 nm or more, and preferably 60 nm or less, more preferably 50 nm or less.

第1無機粒子の平均粒子径が上記した下限を上回れば、透明導電性フィルム1は透明導電層と中間層の密着に優れたフィルムとなる。第1無機粒子の平均粒子径が上記した上限を下回れば、透明導電性フィルム1が優れた外観を有することができる。   When the average particle diameter of the first inorganic particles exceeds the above lower limit, the transparent conductive film 1 becomes a film having excellent adhesion between the transparent conductive layer and the intermediate layer. When the average particle diameter of the first inorganic particles is below the above upper limit, the transparent conductive film 1 can have an excellent appearance.

なお、第1無機粒子の平均粒子径は、第1無機粒子の1次粒子の平均粒子径である。また、好ましくは、第1無機粒子は、粒子径の分布の標準偏差が10%以内の単分散粒子である。さらに、第1無機粒子の平均粒子径は、BET法で測定される体積平均粒子径である。   The average particle size of the first inorganic particles is the average particle size of the primary particles of the first inorganic particles. Further, preferably, the first inorganic particles are monodisperse particles having a standard deviation of particle size distribution within 10%. Furthermore, the average particle diameter of the first inorganic particles is a volume average particle diameter measured by the BET method.

第1無機粒子の含有割合は、中間層4(つまり、粒子組成物の固形分)に対して、50質量%以上、好ましくは、52質量%以上であり、また、85質量%以下、好ましくは、80質量%以下である。   The content ratio of the first inorganic particles is 50 mass% or more, preferably 52 mass% or more, and 85 mass% or less, preferably 85 mass% or less with respect to the intermediate layer 4 (that is, the solid content of the particle composition). , 80 mass% or less.

また、粒子組成物が樹脂を含有する場合には、第1無機粒子の含有割合は、樹脂100質量部に対して、例えば、100質量部以上、好ましくは、125質量部以上であり、また、例えば、800質量部以下、好ましくは、700質量部以下である。   When the particle composition contains a resin, the content ratio of the first inorganic particles is, for example, 100 parts by mass or more, and preferably 125 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the resin. For example, it is 800 parts by mass or less, preferably 700 parts by mass or less.

第1無機粒子の含有割合が上記した下限に満たない場合には、透明導電層5から形成されるパターンと非パターンとの反射率差(ΔR、後述)を低減することができず、透明導電層5のパターン視認を抑制することができない。   If the content ratio of the first inorganic particles is less than the above lower limit, the difference in reflectance (ΔR, which will be described later) between the pattern and the non-pattern formed from the transparent conductive layer 5 cannot be reduced, and the transparent conductive layer The pattern visibility of the layer 5 cannot be suppressed.

第1無機粒子の含有割合が上記した上限を超える場合には、透明導電層5の反射率R1が過度に高くなり、透明導電層5のパターン視認を抑制することができない。   When the content ratio of the first inorganic particles exceeds the above upper limit, the reflectance R1 of the transparent conductive layer 5 becomes excessively high, and it is not possible to suppress the pattern visibility of the transparent conductive layer 5.

一方、第1無機粒子の含有割合が上記した下限以上であり、また、上記した上限以下であれば、透明導電層5のパターン視認を抑制することができる。   On the other hand, when the content ratio of the first inorganic particles is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, it is possible to suppress the pattern visibility of the transparent conductive layer 5.

4−2.第2無機粒子
第2無機粒子は、無機粒子のうち、第1無機粒子に対して相対的に平均粒子径が大きい大粒子である。第2無機粒子は、透明導電性フィルム1に優れた耐ブロッキング性を付与する耐ブロッキング粒子である。
4-2. Second Inorganic Particle The second inorganic particle is a large particle having a larger average particle diameter than the first inorganic particle among the inorganic particles. The second inorganic particles are blocking resistant particles that impart excellent blocking resistance to the transparent conductive film 1.

第2無機粒子としては、第1無機粒子で例示した無機粒子が挙げられ、好ましくは、酸化ケイ素粒子が挙げられる。酸化ケイ素粒子は、低価格でありながら、機械強度に優れるため、透明導電性フィルム1の製造コストを低減しながら、高品質の透明導電性フィルム1を得ることができる。   Examples of the second inorganic particles include the inorganic particles exemplified as the first inorganic particles, and preferably silicon oxide particles. Since the silicon oxide particles are low in price and excellent in mechanical strength, it is possible to obtain the high quality transparent conductive film 1 while reducing the manufacturing cost of the transparent conductive film 1.

第2無機粒子は、70nm以上、140nm以下の平均粒子径を有する。第2無機粒子は、好ましくは、70nm超過、また、好ましくは、140nm未満、より好ましくは、130nm以下、さらに好ましくは、120nm以下、とりわけ好ましくは、110nm以下、最も好ましくは、100nm以下の平均粒子径を有する。   The second inorganic particles have an average particle diameter of 70 nm or more and 140 nm or less. The second inorganic particles preferably have an average particle size of more than 70 nm, preferably less than 140 nm, more preferably 130 nm or less, still more preferably 120 nm or less, particularly preferably 110 nm or less, most preferably 100 nm or less. Have a diameter.

第2無機粒子の平均粒子径が上記した下限を上回れば、透明導電性フィルム1が優れた耐ブロッキング性を有することができる。第2無機粒子の平均粒子径が上記した上限を下回れば、透明導電性フィルム1が優れた外観を有することができる。   When the average particle diameter of the second inorganic particles exceeds the above lower limit, the transparent conductive film 1 can have excellent blocking resistance. When the average particle diameter of the second inorganic particles is less than the above upper limit, the transparent conductive film 1 can have an excellent appearance.

なお、第2無機粒子の平均粒子径は、第2無機粒子の1次粒子の平均粒子径である。また、好ましくは、第2無機粒子は、粒子径の分布の標準偏差が10%以内の単分散粒子である。さらに、第2無機粒子の平均粒子径は、BET法で測定される体積平均粒子径である。   The average particle size of the second inorganic particles is the average particle size of the primary particles of the second inorganic particles. Also, preferably, the second inorganic particles are monodisperse particles having a standard deviation of particle size distribution within 10%. Further, the average particle diameter of the second inorganic particles is a volume average particle diameter measured by the BET method.

中間層4における第2無機粒子の含有割合Bは、後述する中間層4が有する厚みDと関係式(1)を満足する割合に設定される。   The content ratio B of the second inorganic particles in the intermediate layer 4 is set to a ratio that satisfies the relational expression (1) with the thickness D of the intermediate layer 4 described later.

具体的には、第2無機粒子の中間層4における含有割合B(質量%)と、中間層4の厚みD(μm)とは、下記関係式(1)を満足する。   Specifically, the content ratio B (% by mass) of the second inorganic particles in the intermediate layer 4 and the thickness D (μm) of the intermediate layer 4 satisfy the following relational expression (1).

(D−82.63)/7.89< B < (D−55)/6 (1)
一方、(D−82.63)/7.89≧Bを満足する場合には、透明導電性フィルム1の耐ブロッキング性が低下する。
(D-82.63) /7.89 <B <(D-55) / 6 (1)
On the other hand, when (D-82.63) /7.89≧B is satisfied, the blocking resistance of the transparent conductive film 1 is lowered.

他方、B ≧ (D−55)/6を満足する場合には、透明導電性フィルム1のヘイズが増大する。   On the other hand, when B ≧ (D−55) / 6 is satisfied, the haze of the transparent conductive film 1 increases.

対して、第2無機粒子の中間層4における含有割合B(質量%)と、中間層4の厚みD(μm)とが、上記した関係式(1)を満足すれば、透明導電性フィルム1の耐ブロッキング性を向上させつつ、透明導電性フィルム1のヘイズを低減することができる。   On the other hand, if the content ratio B (% by mass) of the second inorganic particles in the intermediate layer 4 and the thickness D (μm) of the intermediate layer 4 satisfy the above relational expression (1), the transparent conductive film 1 The haze of the transparent conductive film 1 can be reduced while improving the blocking resistance of the.

図5に示すように、透明基材2の含有割合Bは、中間層4の厚みDが厚くなるとともに、高くなる。また、透明基材2の含有割合Bが許容される範囲(B=(D−82.63)/7.89を示す直線と、B=(D−55)/6を示す直線によって囲まれる範囲)は、中間層4の厚みDが厚くなるとともに、広くなる。具体的には、以下の通りである。   As shown in FIG. 5, the content ratio B of the transparent base material 2 increases as the thickness D of the intermediate layer 4 increases. In addition, a range in which the content ratio B of the transparent substrate 2 is allowed (a range surrounded by a straight line showing B = (D-82.63) /7.89 and a line showing B = (D-55) / 6 ) Becomes wider as the thickness D of the intermediate layer 4 increases. Specifically, it is as follows.

(1)中間層4の厚みDが、70μm以上、90μm未満であれば、中間層4における第2無機粒子の含有割合Bは、例えば、0.25質量%以上、好ましくは、0.3質量%以上、より好ましくは、0.5質量%以上、さらに好ましくは、0.75質量%以上であり、また、例えば、4質量%以下、好ましくは、2質量%以下である。 (1) If the thickness D of the intermediate layer 4 is 70 μm or more and less than 90 μm , the content ratio B of the second inorganic particles in the intermediate layer 4 is, for example, 0.25% by mass or more, preferably, It is 0.3 mass% or more, more preferably 0.5 mass% or more, still more preferably 0.75 mass% or more, and for example, 4 mass% or less, preferably 2 mass% or less.

(2)中間層4の厚みDが、90μm以上、110μm未満であれば、中間層4における第2無機粒子の含有割合Bは、例えば、1質量%以上、好ましくは、3質量%以上であり、また、例えば、8質量%以下、好ましくは、6質量%以下である。 (2) If the thickness D of the intermediate layer 4 is 90 μm or more and less than 110 μm , the content ratio B of the second inorganic particles in the intermediate layer 4 is, for example, 1% by mass or more, preferably 3% by mass. % Or more and, for example, 8% by mass or less, preferably 6% by mass or less.

(3)中間層4の厚みDが、110μm以上、140μm以下であれば、中間層4における第2無機粒子の含有割合Bは、例えば、5質量%以上、好ましくは、6質量%以上、より好ましくは、8質量%以上であり、また、例えば、12質量%以下、好ましくは、10質量%以下である。 (3) If the thickness D of the intermediate layer 4 is 110 μm or more and 140 μm or less, the content ratio B of the second inorganic particles in the intermediate layer 4 is, for example, 5% by mass or more, preferably 6% by mass. % Or more, more preferably 8% by mass or more, and for example, 12% by mass or less, preferably 10% by mass or less.

上記した(1)〜(3)における第2無機粒子の含有割合Bが上記した下限以上であり、また、上記した上限以下であれば、透明導電性フィルム1は、光学特性および耐ブロッキング性に優れる。   When the content ratio B of the second inorganic particles in (1) to (3) is equal to or more than the above lower limit and is equal to or less than the above upper limit, the transparent conductive film 1 has excellent optical characteristics and blocking resistance. Excel.

また、第2無機粒子の、第1無機粒子100質量部に対する配合割合(比)は、例えば、0.1質量部以上、好ましくは、1質量部以上、より好ましくは、3質量部以上、さらに好ましくは、6質量部以上であり、また、例えば、15質量部以下、好ましくは、10質量部以下である。   The mixing ratio (ratio) of the second inorganic particles to 100 parts by mass of the first inorganic particles is, for example, 0.1 part by mass or more, preferably 1 part by mass or more, more preferably 3 parts by mass or more, It is preferably 6 parts by mass or more, and for example, 15 parts by mass or less, preferably 10 parts by mass or less.

さらに、粒子組成物が樹脂を含有する場合には、第2無機粒子の含有割合は、樹脂100質量部に対して、例えば、1質量部以上、好ましくは、5質量部以上、より好ましくは、10質量部以上であり、また、例えば、86質量部以下、好ましくは、83質量部以下である。   Furthermore, when the particle composition contains a resin, the content ratio of the second inorganic particles is, for example, 1 part by mass or more, preferably 5 parts by mass or more, and more preferably 100 parts by mass of the resin. It is 10 parts by mass or more, and is, for example, 86 parts by mass or less, preferably 83 parts by mass or less.

さらにまた、粒子組成物が樹脂を含有する場合には、第1無機粒子および第2無機粒子の総量の含有割合(つまり、無機粒子の総含有割合)は、中間層4(つまり、粒子組成物の固形分)に対して、例えば、55質量%以上、好ましくは、57質量%以上、より好ましくは、58質量%以上、さらに好ましくは、59質量%以上、とりわけ好ましくは、60質量%以上であり、また、例えば、70質量%以下、好ましくは、50質量%以下である。   Furthermore, when the particle composition contains a resin, the content ratio of the total amount of the first inorganic particles and the second inorganic particles (that is, the total content ratio of the inorganic particles) is equal to that of the intermediate layer 4 (that is, the particle composition. Solid content), for example, 55% by mass or more, preferably 57% by mass or more, more preferably 58% by mass or more, still more preferably 59% by mass or more, and particularly preferably 60% by mass or more. And is, for example, 70% by mass or less, preferably 50% by mass or less.

4−3.樹脂
樹脂としては、硬化性樹脂、熱可塑性樹脂(例えば、ポリオレフィン樹脂)などが挙げられ、好ましくは、硬化性樹脂が挙げられる。
4-3. Resin As the resin, a curable resin, a thermoplastic resin (for example, a polyolefin resin) and the like can be mentioned, and preferably a curable resin can be mentioned.

硬化性樹脂としては、例えば、活性エネルギー線(具体的には、紫外線、電子線など)の照射により硬化する活性エネルギー線硬化性樹脂、例えば、加熱により硬化する熱硬化性樹脂などが挙げられ、好ましくは、活性エネルギー線硬化性樹脂が挙げられる。   Examples of the curable resin include an active energy ray-curable resin that is cured by irradiation with an active energy ray (specifically, an ultraviolet ray or an electron beam), for example, a thermosetting resin that is cured by heating. Preferably, an active energy ray curable resin is used.

活性エネルギー線硬化性樹脂としては、具体的には、例えば、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレートなどの(メタ)アクリル系紫外線硬化性樹脂、例えば、ウレタン樹脂、例えば、メラミン樹脂、例えば、アルキド樹脂、例えば、シロキサン系ポリマー、例えば、有機シラン縮合物などが挙げられる。好ましくは、(メタ)アクリル系紫外線硬化性樹脂、より好ましくは、ウレタンアクリレートが挙げられる。   As the active energy ray curable resin, specifically, for example, urethane acrylate, (meth) acrylic ultraviolet curable resin such as epoxy acrylate, for example, urethane resin, for example, melamine resin, for example, alkyd resin, for example, Examples thereof include siloxane-based polymers such as organic silane condensates. A (meth) acrylic UV-curable resin is preferable, and a urethane acrylate is more preferable.

これら樹脂は、単独使用または2種以上併用することができる。   These resins can be used alone or in combination of two or more kinds.

樹脂の含有割合は、第1無機粒子および第2無機粒子の含有割合の残部である。具体的には、樹脂の含有割合は、中間層4(つまり、粒子組成物の固形分)に対して、例えば、30質量%以上、好ましくは、50質量%以上であり、また、例えば、45質量%以下、好ましくは、43質量%以下、より好ましくは、42質量%以下、さらに好ましくは、41質量%以下、とりわけ好ましくは、40質量%以下である。   The resin content ratio is the balance of the content ratios of the first inorganic particles and the second inorganic particles. Specifically, the content ratio of the resin is, for example, 30% by mass or more, preferably 50% by mass or more, relative to the intermediate layer 4 (that is, the solid content of the particle composition), and, for example, 45%. The amount is not more than 40% by mass, preferably not more than 43% by mass, more preferably not more than 42% by mass, further preferably not more than 41% by mass, particularly preferably not more than 40% by mass.

4−4.中間層の粗さ
中間層4の上面の粗さ(表面粗さ)は、例えば、10nm以下、好ましくは、6nm以下であり、また、例えば、0.5nm以上、好ましくは、1nm以上である。
4-4. Roughness of Intermediate Layer The roughness (surface roughness) of the upper surface of the intermediate layer 4 is, for example, 10 nm or less, preferably 6 nm or less, and for example, 0.5 nm or more, preferably 1 nm or more.

4−5.中間層の厚みD
中間層4の厚みDは、上記した関係式(1)を、第2無機粒子の含有割合Bとともに満足する厚みに設定されている。
4-5. Thickness of the intermediate layer D
The thickness D of the mid layer 4 is set to a thickness that satisfies the above relational expression (1) together with the content ratio B of the second inorganic particles.

また、中間層4の厚みDは、上記した関係式(1)を満足しつつ、かつ、例えば、55μm以上、好ましくは、80μm以上であり、例えば、140μm以下、好ましくは、120μm以下、より好ましくは、105μm以下でもある。 The thickness D of the intermediate layer 4 is, for example, 55 μm or more, preferably 80 μm or more, and for example, 140 μm or less, preferably while satisfying the above relational expression (1). , 120 μm or less, and more preferably 105 μm or less.

中間層4の厚みDが上記した下限を上回れば、透明導電層5から形成されるパターンと非パターンとの反射率差(ΔR)を低減することができ、透明導電層5のパターン視認を抑制することができる。中間層4の厚みDが上記した上限を下回れば、反射の色味をよりニュートラルに近づけることができる。   When the thickness D of the intermediate layer 4 exceeds the above lower limit, the reflectance difference (ΔR) between the pattern formed from the transparent conductive layer 5 and the non-pattern can be reduced, and the pattern visibility of the transparent conductive layer 5 can be suppressed. can do. When the thickness D of the mid layer 4 is less than the above upper limit, the reflection tint can be made closer to neutral.

中間層4の厚みの測定方法は、後の実施例で記載される。   A method for measuring the thickness of the mid layer 4 will be described in Examples below.

4−6.中間層の物性
中間層4のヘイズは、例えば、0.4未満、好ましくは、0.3以下、より好ましくは、0.25以下、さらに好ましくは、0.2以下、とりわけ好ましくは、0.15以下であり、また、例えば、0超過である
中間層4のヘイズが上記した上限を下回れば、透明導電性フィルム1は光学特性に優れる。
4-6. Physical Properties of Intermediate Layer The haze of the intermediate layer 4 is, for example, less than 0.4, preferably 0.3 or less, more preferably 0.25 or less, still more preferably 0.2 or less, and particularly preferably 0. If the haze of the intermediate layer 4 is less than the above upper limit, the transparent conductive film 1 has excellent optical characteristics.

中間層4のヘイズの測定方法は、後の実施例で記載される。   The method for measuring the haze of the mid layer 4 will be described in Examples below.

4−7.中間層の作製方法
中間層4を作製するには、例えば、まず、上記した粒子組成物を調製する。好ましくは、第1無機粒子、第2無機粒子、樹脂および溶媒を配合して、粒子組成物溶液(塗布液、中間層形成用塗布液)を調製する。
4-7. Method for Producing Intermediate Layer To produce the intermediate layer 4, for example, first, the particle composition described above is prepared. Preferably, the first inorganic particles, the second inorganic particles, the resin and the solvent are mixed to prepare a particle composition solution (coating liquid, intermediate layer forming coating liquid).

溶媒として、有機溶媒が挙げられ、そのような有機溶媒としては、特に限定されず、例えば、メタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、エチレングリコール、エチレングリコール−モノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのアルコール系溶媒、例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン系溶媒、例えば、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系溶媒、例えば、キシレン、トルエンなどの芳香族系溶媒などが挙げられる。   Examples of the solvent include organic solvents, and such organic solvents are not particularly limited, and examples thereof include alcohol solvents such as methanol, isopropyl alcohol, butanol, ethylene glycol, ethylene glycol monopropyl ether, and propylene glycol monomethyl ether. Examples thereof include ketone solvents such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone, ester solvents such as ethyl acetate and butyl acetate, and aromatic solvents such as xylene and toluene.

粒子組成物溶液(塗布液)を調製するには、例えば、樹脂と、第1無機粒子および第2無機粒子のいずれか一方とが予め混合された粒子樹脂混合物を用意し、この粒子樹脂混合物と、他方(の無機粒子)とを混合する。この際、溶媒を、上記したいずれかの原料(樹脂、第1無機粒子、第2無機粒子のいずれか)とともに配合しておくこともできる。   To prepare the particle composition solution (coating solution), for example, a particle resin mixture in which a resin and one of the first inorganic particles and the second inorganic particles are mixed in advance is prepared, and the particle resin mixture is prepared. , And the other (inorganic particles). At this time, the solvent may be blended with any of the above-mentioned raw materials (either the resin, the first inorganic particles, or the second inorganic particles).

あるいは、まず、樹脂と溶媒とを混合して、樹脂溶液を調製し、次いで、樹脂溶液に、第1無機粒子および第2無機粒子を配合する。さらには、樹脂に、第1無機粒子、第2無機粒子および溶媒を配合する。   Alternatively, first, a resin and a solvent are mixed to prepare a resin solution, and then the resin solution is mixed with the first inorganic particles and the second inorganic particles. Further, the resin is blended with the first inorganic particles, the second inorganic particles and the solvent.

好ましくは、樹脂と第1無機粒子と溶媒とが予め混合された粒子樹脂混合物(粒子組成物溶液)を用意し、次いで、粒子樹脂混合物(粒子組成物溶液)と、第2無機粒子とを混合する。   Preferably, a particle resin mixture (particle composition solution) in which a resin, first inorganic particles, and a solvent are mixed in advance is prepared, and then the particle resin mixture (particle composition solution) is mixed with the second inorganic particles. To do.

なお、第1無機粒子が予め配合された粒子樹脂混合物(粒子組成物溶液)は、市販品を用いることができ、具体的には、オプスターシリーズ(JSR社製)などが用いられる。   In addition, as the particle resin mixture (particle composition solution) in which the first inorganic particles are preliminarily blended, a commercially available product can be used, and specifically, OPSTAR series (manufactured by JSR Corporation) or the like is used.

また、粒子組成物溶液には、例えば、本発明の効果阻害しない範囲で、公知の添加剤(架橋アクリル樹脂粒子などの有機粒子を含む)を適宜の割合で配合することができる。   Further, known additives (including organic particles such as crosslinked acrylic resin particles) can be added to the particle composition solution at an appropriate ratio, for example, as long as the effects of the present invention are not impaired.

その後、粒子組成物溶液をハードコート層3の上面全面に塗布する。   Then, the particle composition solution is applied to the entire upper surface of the hard coat layer 3.

その後、溶剤を加熱により除去する。加熱温度は、例えば、50℃以上、好ましくは、55℃以上であり、また、例えば、100℃以下、好ましくは、80℃以下である。加熱時間は、例えば、10秒以上、好ましくは、20秒以上であり、また、例えば、5分以下、好ましくは、3分以下である。   Then, the solvent is removed by heating. The heating temperature is, for example, 50 ° C. or higher, preferably 55 ° C. or higher, and for example, 100 ° C. or lower, preferably 80 ° C. or lower. The heating time is, for example, 10 seconds or more, preferably 20 seconds or more, and is, for example, 5 minutes or less, preferably 3 minutes or less.

これにより、粒子組成物からなる塗膜を形成する。   As a result, a coating film made of the particle composition is formed.

その後、粒子組成物が活性エネルギー線硬化性樹脂を含有する場合には、塗膜に活性エネルギー線を照射する。これによって、樹脂を硬化させる。   Then, when the particle composition contains an active energy ray-curable resin, the coating film is irradiated with active energy rays. This cures the resin.

これによって、中間層4をハードコート層3の上面に形成する。   Thereby, the intermediate layer 4 is formed on the upper surface of the hard coat layer 3.

なお、中間層4に含有される第1無機粒子および第2無機粒子は、例えば、中間層4を燃焼させた後、得られた灰分を元素分析することにより定性分析(同定)される。第1無機粒子および第2無機粒子は、それらをレーザ回折式粒度分布測定装置などで粒径測定することにより、定量分析される。上記した定量分析では、第1無機粒子および第2無機粒子の、2つの平均粒子径(メジアン径)に基づく2つのピークを有する粒度分布曲線が得られ、それらのピークから、第1無機粒子および第2無機粒子の平均粒子径および配合割合がそれぞれ得られる。   The first inorganic particles and the second inorganic particles contained in the mid layer 4 are qualitatively analyzed (identified) by, for example, burning the mid layer 4 and then elementally analyzing the obtained ash. The first inorganic particles and the second inorganic particles are quantitatively analyzed by measuring the particle size of the first inorganic particles and the second inorganic particles with a laser diffraction type particle size distribution measuring device or the like. In the above-mentioned quantitative analysis, a particle size distribution curve having two peaks based on two average particle diameters (median diameters) of the first inorganic particles and the second inorganic particles is obtained, and from the peaks, the first inorganic particles and the second inorganic particles can be obtained. The average particle size and blending ratio of the second inorganic particles are obtained, respectively.

5.透明導電層
透明導電層5は、透明導電性フィルム1の上層であって、後の工程でパターンに形成して、パターン部(図示せず)を形成するための導電層である。透明導電層5は、面方向に延びるフィルム形状(シート形状を含む)を有しており、平坦な下面および平坦な上面を有している。透明導電層5は、中間層4の上面全面に直接接触している。
5. Transparent Conductive Layer The transparent conductive layer 5 is an upper layer of the transparent conductive film 1 and is a conductive layer for forming a pattern portion (not shown) in a pattern in a later step. The transparent conductive layer 5 has a film shape (including a sheet shape) extending in the surface direction, and has a flat lower surface and a flat upper surface. The transparent conductive layer 5 is in direct contact with the entire upper surface of the intermediate layer 4.

透明導電層5を形成する材料としては、例えば、In、Sn、Zn、Ga、Sb、Ti、Si、Zr、Mg、Al、Au、Ag、Cu、Pd、Wからなる群より選択される少なくとも1種の金属を含む金属酸化物が挙げられる。金属酸化物には、必要に応じて、さらに上記群に示された金属原子をドープすることができる。   The material for forming the transparent conductive layer 5 is, for example, at least selected from the group consisting of In, Sn, Zn, Ga, Sb, Ti, Si, Zr, Mg, Al, Au, Ag, Cu, Pd, and W. A metal oxide containing one kind of metal may be mentioned. If necessary, the metal oxide can be further doped with a metal atom shown in the above group.

材料としては、好ましくは、インジウムスズ複合酸化物(ITO)、アンチモンスズ複合酸化物(ATO)などが挙げられ、より好ましくは、ITOが挙げられる。   The material is preferably indium tin composite oxide (ITO), antimony tin composite oxide (ATO), and the like, and more preferably ITO.

透明導電層5の厚みは、例えば、10nm以上、好ましくは、20nm以上であり、また、例えば、35nm以下、好ましくは、30nm以下である。   The transparent conductive layer 5 has a thickness of, for example, 10 nm or more, preferably 20 nm or more, and for example, 35 nm or less, preferably 30 nm or less.

透明導電層5を、中間層4の上面全面に、公知方法により、形成する。   The transparent conductive layer 5 is formed on the entire upper surface of the intermediate layer 4 by a known method.

これにより、透明基材2、ハードコート層3、中間層4および透明導電層5を順に備える透明導電性フィルム1が得られる。   Thereby, the transparent conductive film 1 including the transparent substrate 2, the hard coat layer 3, the intermediate layer 4, and the transparent conductive layer 5 in order is obtained.

6.透明導電性フィルムの製造方法および物性
この透明導電性フィルム1は、透明基材2の上側に、ハードコート層3、中間層4および透明導電層5を順次配置することにより、得られる。なお、透明導電性フィルム1を製造する方法は、ロールトゥロール方式で実施される。また、一部または全部をバッチ方式で実施することもできる。
6. Manufacturing Method and Physical Properties of Transparent Conductive Film This transparent conductive film 1 is obtained by sequentially disposing the hard coat layer 3, the intermediate layer 4 and the transparent conductive layer 5 on the upper side of the transparent substrate 2. The method for producing the transparent conductive film 1 is performed by a roll-to-roll method. Further, a part or the whole can be carried out in a batch system.

透明導電性フィルム1の透明導電層5における反射率R1は、例えば、10%以下、好ましくは、9%以下、より好ましくは、8%以下、さらに好ましくは、7%以下、とりわけ好ましくは、6%以下であり、また、例えば、0%超過である。   The reflectance R1 of the transparent conductive layer 5 of the transparent conductive film 1 is, for example, 10% or less, preferably 9% or less, more preferably 8% or less, further preferably 7% or less, and particularly preferably 6%. % Or less, and for example, exceeds 0%.

透明導電性フィルム1の透明導電層5における反射率R1が上記した上限を下回れば、製品化された際のディスプレイの視認性を向上することができ、透明導電性フィルム1の光学特性が優れる。   When the reflectance R1 in the transparent conductive layer 5 of the transparent conductive film 1 is below the above-mentioned upper limit, the visibility of the display when commercialized can be improved, and the transparent conductive film 1 has excellent optical characteristics.

透明導電性フィルム1の厚みは、例えば、200μm以下、好ましくは、150μm以下であり、また、例えば、20μm以上、好ましくは、30μm以上である。   The thickness of the transparent conductive film 1 is, for example, 200 μm or less, preferably 150 μm or less, and for example, 20 μm or more, preferably 30 μm or more.

5.透明導電性フィルムの使用
このような透明導電性フィルム1は、例えば、画像表示装置に備えられる。
5. Use of transparent conductive film Such a transparent conductive film 1 is provided, for example, in an image display device.

とりわけ、この透明導電性フィルム1は、例えば、タッチパネル用基材として用いられる。タッチパネルの形式としては、光学方式、超音波方式、静電容量方式、抵抗膜方式などの各種方式が挙げられる。透明導電性フィルム1は、特に静電容量方式のタッチパネルに好適に用いられる。   In particular, this transparent conductive film 1 is used, for example, as a base material for a touch panel. As the format of the touch panel, various systems such as an optical system, an ultrasonic system, an electrostatic capacitance system, and a resistive film system can be mentioned. The transparent conductive film 1 is particularly preferably used for a capacitive touch panel.

具体的には、まず、透明導電性フィルム1の透明導電層5を、例えば、エッチングによって除去するなどして、パターン部(図示せず)と、非パターン部(図示せず)とを形成する。   Specifically, first, the transparent conductive layer 5 of the transparent conductive film 1 is removed by, for example, etching to form a pattern portion (not shown) and a non-pattern portion (not shown). .

透明導電性フィルム1におけるパターン部と非パターン部とにおける反射率差ΔRは、その絶対値で、例えば、2以下、好ましくは、1.5以下、より好ましくは、1.0以下、さらに好ましくは、0.5以下である。反射率差ΔRが上記した上限以下であれば、透明導電層5のパターン部における視認を抑制することができる。   The reflectance difference ΔR between the patterned portion and the non-patterned portion of the transparent conductive film 1 is an absolute value thereof, for example, 2 or less, preferably 1.5 or less, more preferably 1.0 or less, and further preferably , 0.5 or less. When the reflectance difference ΔR is equal to or less than the above upper limit, it is possible to suppress visual recognition in the pattern portion of the transparent conductive layer 5.

透明導電性フィルム1における反射率差ΔRは、パターン部の反射率R1から非パターン部の反射率R2を差し引いた値であって、例えば、特開2015−166184号公報などに記載の方法により、求められる。   The reflectance difference ΔR in the transparent conductive film 1 is a value obtained by subtracting the reflectance R2 of the non-patterned portion from the reflectance R1 of the patterned portion, and, for example, by the method described in JP-A-2005-166184 or the like. Desired.

その後、透明導電性フィルム1は、上記した画像表示装置に備えられる。   Then, the transparent conductive film 1 is provided in the image display device described above.

6.作用効果
この透明導電性フィルム1は、第1無機粒子の中間層4における含有割合が、50質量%以上、85質量%以下であり、かつ、中間層4の厚みDおよび第2無機粒子の含有割合Bが、下記関係式(1)を満足する。
6. Function and Effect In this transparent conductive film 1, the content ratio of the first inorganic particles in the intermediate layer 4 is 50% by mass or more and 85% by mass or less, and the thickness D of the intermediate layer 4 and the content of the second inorganic particles are contained. The ratio B satisfies the following relational expression (1).

(D−82.63)/7.89 < B < (D−55)/6 (1)
そのため、耐ブロッキング性および光学特性に優れる。
(D-82.63) /7.89 <B <(D-55) / 6 (1)
Therefore, it has excellent blocking resistance and optical characteristics.

一方、特許文献1では、アンチブロッキング層および色差調整層の2層を設ける必要があり、そのため、層構成が複雑となるという不具合がある。   On the other hand, in Patent Document 1, it is necessary to provide two layers, an anti-blocking layer and a color difference adjusting layer, which causes a problem that the layer structure becomes complicated.

しかし、この透明導電性フィルム1では、中間層4が、耐ブロッキング光学調整層であるので、透明導電性フィルム1に耐ブロッキング性を確実に付与しながら、透明導電層5におけるパターンの視認を確実に抑制することができる。   However, in this transparent conductive film 1, since the intermediate layer 4 is a blocking-resistant optical adjustment layer, while reliably imparting blocking resistance to the transparent conductive film 1, it is possible to ensure visual recognition of the pattern in the transparent conductive layer 5. Can be suppressed.

その結果、層構成を簡単にして、薄型化を図りながら、耐ブロッキング性および光学特性に優れる。   As a result, the layer structure is simplified, the thickness is reduced, and the blocking resistance and the optical characteristics are excellent.

また、この透明導電性フィルム1では、第2無機粒子の含有割合Bが、0.3質量%以上、さらには、0.5質量%以上、3質量%以下であれば、透明導電性フィルム1は、より一層優れた光学特性を有する。   Further, in this transparent conductive film 1, if the content ratio B of the second inorganic particles is 0.3% by mass or more, and further 0.5% by mass or more and 3% by mass or less, the transparent conductive film 1 Has even better optical properties.

さらに、この透明導電性フィルム1では、第2無機粒子の平均粒子径が、100nm以下であれば、透明導電性フィルム1が優れた外観を有することができる。   Further, in this transparent conductive film 1, if the average particle size of the second inorganic particles is 100 nm or less, the transparent conductive film 1 can have an excellent appearance.

また、この透明導電性フィルム1は、ハードコート層3を備えるので、透明導電性フィルム1の耐擦傷性を高めることができる。   Moreover, since the transparent conductive film 1 includes the hard coat layer 3, the scratch resistance of the transparent conductive film 1 can be enhanced.

さらに、この透明導電性フィルム1では、ハードコート層3は、その表面に複数の突起を有し、突起の、ハードコート層3 1cm当たりにおける最大突出長さが200nm以下であれば、ハードコート層3の平滑性を担保することができる。 Further, in this transparent conductive film 1, the hard coat layer 3 has a plurality of protrusions on its surface, and if the maximum protrusion length of the protrusions per 1 cm 2 of the hard coat layer is 200 nm or less, the hard coat layer 3 The smoothness of the layer 3 can be ensured.

一方、その場合には、ハードコート層3の平滑性に起因して、透明導電性フィルム1は、ブロッキングし易くなる。つまり、透明導電性フィルム1の耐ブロッキング性が低下する。   On the other hand, in that case, the transparent conductive film 1 is easily blocked due to the smoothness of the hard coat layer 3. That is, the blocking resistance of the transparent conductive film 1 is reduced.

しかし、この透明導電性フィルム1では、中間層4が、70nm以上、140nm以下である平均粒子径を有する第2無機粒子を、第2無機粒子の含有割合Bおよび中間層4の厚みDの関係式(1)を満たすように、含有するので、耐ブロッキング性を担保することができる。   However, in this transparent conductive film 1, the intermediate layer 4 has the second inorganic particles having an average particle diameter of 70 nm or more and 140 nm or less, the relationship between the content ratio B of the second inorganic particles and the thickness D of the intermediate layer 4. Since it is contained so as to satisfy the formula (1), blocking resistance can be secured.

また、この透明導電性フィルム1では、第1無機粒子が、ジルコニア粒子であれば、容易に光学調整を行うことができる。   In addition, in the transparent conductive film 1, if the first inorganic particles are zirconia particles, optical adjustment can be easily performed.

また、この透明導電性フィルム1では、第2無機粒子が、シリカ粒子であれば、透明導電性フィルム1の製造コストを低減しながら、高品質の透明導電性フィルム1を得ることができる。   Further, in this transparent conductive film 1, if the second inorganic particles are silica particles, it is possible to obtain a high quality transparent conductive film 1 while reducing the manufacturing cost of the transparent conductive film 1.

7.変形例
図1に示す一実施形態では、透明導電性フィルム1は、透明基材2の上側のみに配置されたハードコート層3、中間層4および透明導電層5を備える。しかし、ハードコート層3、中間層4および透明導電層5の配置は上記に限定されず、例えば、図2に示すように、透明基材2の上下両側(両面)にそれぞれ順次配置されたハードコート層3、中間層4および透明導電層5を備えることもできる。
7. Modified Example In the embodiment shown in FIG. 1, the transparent conductive film 1 includes the hard coat layer 3, the intermediate layer 4, and the transparent conductive layer 5 which are arranged only on the upper side of the transparent substrate 2. However, the arrangement of the hard coat layer 3, the intermediate layer 4 and the transparent conductive layer 5 is not limited to the above, and for example, as shown in FIG. The coat layer 3, the intermediate layer 4, and the transparent conductive layer 5 may be provided.

図2に示す変形例によっても、図1に示す一実施形態と同様の作用効果を奏することができる。   The modification shown in FIG. 2 can also achieve the same effects as those of the embodiment shown in FIG.

また、図1に示す一実施形態では、透明導電性フィルム1は、ハードコート層3を備える。しかし、図3に示すように、透明導電性フィルム1は、ハードコート層3を備えず、透明基材2、中間層4および透明導電層5のみを順に備えることもできる。この変形例では、好ましくは、透明導電性フィルム1は、透明基材2、中間層4および透明導電層5のみからなる。中間層4は、透明基材2の上面に配置されている。具体的には、中間層4は、透明基材2の上面全面に直接接触している。   Moreover, in the embodiment shown in FIG. 1, the transparent conductive film 1 includes a hard coat layer 3. However, as shown in FIG. 3, the transparent conductive film 1 may not include the hard coat layer 3 and may include only the transparent substrate 2, the intermediate layer 4, and the transparent conductive layer 5 in order. In this modification, the transparent conductive film 1 is preferably composed of only the transparent substrate 2, the intermediate layer 4 and the transparent conductive layer 5. The intermediate layer 4 is arranged on the upper surface of the transparent substrate 2. Specifically, the intermediate layer 4 is in direct contact with the entire upper surface of the transparent substrate 2.

図3に示す変形例によっても、図1に示す一実施形態と同様の作用効果を奏することができる。   The modified example shown in FIG. 3 can also achieve the same effect as that of the embodiment shown in FIG.

また、図4に示すように、透明導電性フィルム1は、透明基材2の上下両側にそれぞれ順に配置される中間層4および透明導電層5を備えることもできる。   Further, as shown in FIG. 4, the transparent conductive film 1 may include an intermediate layer 4 and a transparent conductive layer 5 which are sequentially arranged on the upper and lower sides of the transparent substrate 2.

図4に示す変形例によっても、図1に示す一実施形態と同様の作用効果を奏することができる。   The modification shown in FIG. 4 can also achieve the same effects as the embodiment shown in FIG.

上記した変形例を適宜組み合わせることもできる。   It is also possible to combine the modifications described above as appropriate.

例えば、図1が参照されるように、透明基材2の上側に、ハードコート層3、中間層4および透明導電層5を設ける一方、図4が参照されるように、透明基材2の下側に、中間層4および透明導電層5のみを設けることもできる。   For example, as shown in FIG. 1, a hard coat layer 3, an intermediate layer 4 and a transparent conductive layer 5 are provided on the upper side of the transparent substrate 2, while as shown in FIG. It is also possible to provide only the intermediate layer 4 and the transparent conductive layer 5 on the lower side.

以下に実施例および比較例を示し、本発明をさらに具体的に説明する。なお、本発明は、何ら実施例および比較例に限定されない。また、以下の記載において用いられる配合割合(含有割合)、物性値、パラメータなどの具体的数値は、上記の「発明を実施するための形態」において記載されている、それらに対応する配合割合(含有割合)、物性値、パラメータなど該当記載の上限値(「以下」、「未満」として定義されている数値)または下限値(「以上」、「超過」として定義されている数値)に代替することができる。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to Examples and Comparative Examples. The present invention is not limited to the examples and comparative examples. Further, specific numerical values such as a mixing ratio (content ratio), a physical property value, and a parameter used in the following description are described in the above-mentioned “Mode for carrying out the invention”, and a corresponding mixing ratio ( Substitute the upper limit (value defined as "below" or "less than") or the lower limit (value defined as "greater than or equal to" or "exceeded") of the corresponding description such as content ratio), physical property value, parameter, etc. be able to.

(塗布液の調製)
調製例1
紫外線硬化性樹脂としてウレタンアクリレートおよび第1無機粒子として平均粒子径が60nmのジルコニア粒子が予め配合された粒子樹脂混合物(JSR社製、品名「オプスターKZ6732」、第1無機粒子の含有割合:57質量%)と、第2無機粒子として平均粒子径が70〜100nmであるシリカ粒子がメチルエチルケトン中に分散したオルガノシリカゾル(日産化学社製、製品名「MEK−ST−ZL」)を、表1の配合割合となるように混合して、塗布液(中間層形成用塗布液)を調製した。
(Preparation of coating liquid)
Preparation example 1
A particle resin mixture in which urethane acrylate as an ultraviolet curable resin and zirconia particles having an average particle diameter of 60 nm as a first inorganic particle are pre-blended (manufactured by JSR, product name "OPSTAR KZ6732", content ratio of first inorganic particle: 57 mass). %) And an organosilica sol (manufactured by Nissan Kagaku Co., Ltd., product name “MEK-ST-ZL”) in which silica particles having an average particle diameter of 70 to 100 nm as second inorganic particles are dispersed in methyl ethyl ketone. The coating solutions (coating solutions for forming the intermediate layer) were prepared by mixing in the proportions.

調製例2〜比較調製例7
配合割合を表1に記載に従って、変更した以外は、調製例1と同様にして、塗布液(中間層形成用塗布液)を調製した。
Preparation Example 2 to Comparative Preparation Example 7
A coating liquid (coating liquid for forming an intermediate layer) was prepared in the same manner as in Preparation Example 1 except that the blending ratio was changed as described in Table 1.

実施例1
透明基材2として100μmの厚さのCOPフィルム(ZEONOR ZF−16、日本ゼオン社製)の上面に、有機無機ハイブリット樹脂(KZ6506 JSR社製)からなる厚み1μmのハードコート層3を設けた。
Example 1
As a transparent substrate 2, a 100 μm-thick COP film (ZEONOR ZF-16, manufactured by Zeon Corporation) was provided with a 1 μm-thick hard coat layer 3 made of an organic-inorganic hybrid resin (KZ6506 JSR) on the upper surface.

次いで、ハードコート層3の上面に、調製例1の塗布液をスピンコーターで2000rpm、10秒で塗布し、乾燥オーブンで60℃の雰囲気下で30秒乾燥させて、溶剤(メチルエチルケトン)を揮発させて、塗膜を形成した。その後、塗膜を、酸素濃度2500ppm雰囲気下で160W/cmの空冷水銀ランプ(アイグラフィックス社製)を用いて、紫外線を、照度60mW/cm、照射量280mJ/cmで照射して、塗膜を硬化させた。 Then, the coating liquid of Preparation Example 1 was applied on the upper surface of the hard coat layer 3 with a spin coater at 2000 rpm for 10 seconds, and dried in a drying oven at 60 ° C. for 30 seconds to volatilize the solvent (methyl ethyl ketone). To form a coating film. Thereafter, a coating film, using an oxygen concentration 2500ppm atmosphere at 160 W / cm 2 of air-cooled mercury lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.), ultraviolet illuminance 60 mW / cm 2, was irradiated with irradiation dose 280 mJ / cm 2 , The coating was cured.

これによって、厚みDが85μmの中間層4を、ハードコート層3の上面に形成した。 Thereby, the intermediate layer 4 having a thickness D of 85 μm was formed on the upper surface of the hard coat layer 3.

その後、中間層4の上面に、厚み25nmのITOからなる透明導電層5を形成した。   Then, a transparent conductive layer 5 made of ITO having a thickness of 25 nm was formed on the upper surface of the intermediate layer 4.

(評価)
以下の項目を測定した。その結果を表1に示す。
(Evaluation)
The following items were measured. Table 1 shows the results.

(中間層の厚み)
中間層4の厚みDは、分光光度計(型番「U4100」、日立ハイテクノロジーズ社製)により得られた反射スペクトルのピーク波長により、求めた。
(Thickness of the intermediate layer)
The thickness D of the intermediate layer 4 was obtained from the peak wavelength of the reflection spectrum obtained by a spectrophotometer (model number “U4100”, manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation).

(耐ブロッキング性)
COPフィルム(ZEONORフィルム ZF−16、日本ゼオン製)を中間層4に対して指で圧着させ、その貼り付きの程度を観察し、下記の基準で、耐ブロッキング性を評価した。
○:COPフィルムの貼り付きが起こらない。
△:COPフィルムの貼り付き一旦生じるが、10秒経過すると、COPフィルムが中間層4から離れる。
×:COPフィルムの貼り付き生じ、そのCOPフィルムは、10秒経過しても、COPフィルムが中間層4から離れなかった。
(Blocking resistance)
A COP film (ZEONOR film ZF-16, manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.) was pressed against the intermediate layer 4 with a finger, the degree of sticking was observed, and the blocking resistance was evaluated according to the following criteria.
◯: No sticking of the COP film occurs.
Δ: COP film sticking occurs once, but after 10 seconds, the COP film separates from the mid layer 4.
X: Sticking of the COP film occurred, and the COP film did not separate from the mid layer 4 even after 10 seconds had elapsed.

(中間層のヘイズ)
中間層4が形成され、透明導電層5が形成される前の透明導電性フィルム1のヘイズをヘイズメータ(HM−150、村上色彩技術研究所社製)により測定した。
(Haze of the middle layer)
The haze of the transparent conductive film 1 before the formation of the intermediate layer 4 and the transparent conductive layer 5 was measured by a haze meter (HM-150, manufactured by Murakami Color Research Laboratory Co., Ltd.).

そして、そのヘイズ値から、透明基材2およびハードコート層3のヘイズ値を引いた値を、中間層のヘイズとして、求めた。   Then, a value obtained by subtracting the haze values of the transparent substrate 2 and the hard coat layer 3 from the haze value was determined as the haze of the intermediate layer.

(ハードコート層および中間層の表面粗さ)
ハードコート層3および中間層4のそれぞれの表面粗さを、AFM(Digital Instruments社製)により、求めた。
(Surface roughness of hard coat layer and intermediate layer)
The surface roughness of each of the hard coat layer 3 and the intermediate layer 4 was determined by AFM (manufactured by Digital Instruments).

(透明導電層の反射率差)
透明導電層5をエッチングして、パターン部と非パターン部とを形成した。
(Difference in reflectance of transparent conductive layer)
The transparent conductive layer 5 was etched to form a pattern portion and a non-pattern portion.

その後、分光光度計(「U−4100」、日立ハイテク社製)の積分球測定モードを用いて、透明導電層5への入射角を2度として、波長380〜780nmの領域におけるパターン部と非パターン部との反射率を5nm間隔で測定した。次いで、パターン部の平均反射率R1と非パターン部の平均反射率R2を算出し、これらの平均反射率の値からパターン部(透明基材2、ハードコート層3、中間層4および透明導電層5)と、非パターン部(透明基材2、ハードコート層3および中間層4)との間の反射率差ΔR(=R1−R2)を算出した。   After that, using an integrating sphere measurement mode of a spectrophotometer (“U-4100”, manufactured by Hitachi High-Tech Co., Ltd.), the incident angle to the transparent conductive layer 5 was set to 2 degrees, and the pattern portion and non-pattern area in the wavelength range of 380 to 780 nm were used. The reflectance with the pattern portion was measured at 5 nm intervals. Next, the average reflectance R1 of the pattern portion and the average reflectance R2 of the non-pattern portion are calculated, and the pattern portion (the transparent base material 2, the hard coat layer 3, the intermediate layer 4 and the transparent conductive layer is calculated from these average reflectance values. 5) and the reflectance difference ΔR (= R1-R2) between the non-patterned portion (the transparent substrate 2, the hard coat layer 3, and the intermediate layer 4) were calculated.

Figure 0006681726
Figure 0006681726

1 透明導電性フィルム
2 透明基材
3 ハードコート層
4 中間層
5 透明導電層
1 Transparent Conductive Film 2 Transparent Substrate 3 Hard Coat Layer 4 Intermediate Layer 5 Transparent Conductive Layer

Claims (8)

透明基材と、中間層と、透明導電層とを順次備え、
前記中間層は、
30nm以上、70nm未満である平均粒子径を有する第1無機粒子と、
70nm以上、140nm以下である平均粒子径を有する第2無機粒子とを含み、
前記中間層は、Dμmである厚みを有し、
前記中間層における前記第1無機粒子の含有割合が、50質量%以上、85質量%以下であり、
前記中間層における前記第2無機粒子の含有割合が、B質量%であり、
前記中間層の厚みDおよび前記第2無機粒子の含有割合Bが、下記関係式(1)を満足することを特徴とする、透明導電性フィルム
(D−82.63)/7.89 < B < (D−55)/6 (1)。
A transparent substrate, an intermediate layer, and a transparent conductive layer are sequentially provided,
The intermediate layer is
First inorganic particles having an average particle diameter of 30 nm or more and less than 70 nm,
Including second inorganic particles having an average particle diameter of 70 nm or more and 140 nm or less,
The intermediate layer has a thickness of D μm,
The content ratio of the first inorganic particles in the intermediate layer is 50% by mass or more and 85% by mass or less,
The content ratio of the second inorganic particles in the intermediate layer is B mass%,
The transparent conductive film (D-82.63) /7.89 <B, wherein the thickness D of the intermediate layer and the content B of the second inorganic particles satisfy the following relational expression (1). <(D-55) / 6 (1).
前記中間層における前記第2無機粒子の含有割合Bが、0.5質量%以上、6質量%以下であることを特徴とする、請求項1に記載の透明導電性フィルム。   Content ratio B of the said 2nd inorganic particle in the said intermediate | middle layer is 0.5 mass% or more and 6 mass% or less, The transparent conductive film of Claim 1 characterized by the above-mentioned. 前記第2無機粒子の平均粒子径が、100nm以下であることを特徴とする、請求項1または2に記載の透明導電性フィルム。   The transparent conductive film according to claim 1 or 2, wherein the average particle diameter of the second inorganic particles is 100 nm or less. 前記中間層が、耐ブロッキング光学調整層であることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一項に記載の透明導電性フィルム。   The transparent conductive film according to any one of claims 1 to 3, wherein the intermediate layer is an anti-blocking optical adjustment layer. 前記透明基材と前記中間層との間に介在するハードコート層をさらに備えることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか一項に記載の透明導電性フィルム。   The transparent conductive film according to any one of claims 1 to 4, further comprising a hard coat layer interposed between the transparent base material and the intermediate layer. 前記ハードコート層は、その表面に複数の突起を有し、
前記突起の、前記ハードコート層1cm当たりにおける最大突出長さが200nm以下であることを特徴とする、請求項5に記載の透明導電性フィルム。
The hard coat layer has a plurality of protrusions on its surface,
The transparent conductive film according to claim 5, wherein the maximum protrusion length of the protrusion per cm 2 of the hard coat layer is 200 nm or less.
前記第1無機粒子が、ジルコニア粒子であることを特徴とする、請求項1〜6のいずれか一項に記載の透明導電性フィルム。   The said 1st inorganic particle is a zirconia particle, The transparent conductive film as described in any one of Claims 1-6 characterized by the above-mentioned. 前記第2無機粒子が、シリカ粒子であることを特徴とする、請求項1〜7のいずれか一項に記載の透明導電性フィルム。   The said 2nd inorganic particle is a silica particle, The transparent conductive film as described in any one of Claims 1-7 characterized by the above-mentioned.
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