JP6505370B2 - Laminate and composition for forming index matching layer - Google Patents
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- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 28
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 137
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 54
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 46
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 29
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 28
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 21
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 21
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 12
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 11
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 11
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 9
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000011254 layer-forming composition Substances 0.000 claims 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 47
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 33
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 25
- 239000010408 film Substances 0.000 description 21
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 17
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000000047 product Substances 0.000 description 14
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 13
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 13
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 description 12
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 description 11
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 9
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 9
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 8
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 7
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 7
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910002012 Aerosil® Inorganic materials 0.000 description 6
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002609 medium Substances 0.000 description 6
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 6
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 5
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 5
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 5
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 5
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 5
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical class COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 5
- KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 1-Octanol Chemical compound CCCCCCCCO KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Chemical compound CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 4
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 4
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 4
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 4
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 4
- 239000012756 surface treatment agent Substances 0.000 description 4
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 4
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 4
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WRQNANDWMGAFTP-UHFFFAOYSA-N Methylacetoacetic acid Chemical compound COC(=O)CC(C)=O WRQNANDWMGAFTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 3
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 3
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 3
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 3
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 3
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 3
- YPEWWOUWRRQBAX-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethyl-3-oxobutanamide Chemical compound CN(C)C(=O)CC(C)=O YPEWWOUWRRQBAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCOCC(C)OC(C)=O LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GJKGAPPUXSSCFI-UHFFFAOYSA-N 2-Hydroxy-4'-(2-hydroxyethoxy)-2-methylpropiophenone Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=C(OCCO)C=C1 GJKGAPPUXSSCFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NJWGQARXZDRHCD-UHFFFAOYSA-N 2-methylanthraquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C)=CC=C3C(=O)C2=C1 NJWGQARXZDRHCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical class CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 2
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 2
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 2
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 2
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- JPUHCPXFQIXLMW-UHFFFAOYSA-N aluminium triethoxide Chemical compound CCO[Al](OCC)OCC JPUHCPXFQIXLMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 2
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- JMVIPXWCEHBYAH-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone;ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O.O=C1CCCCC1 JMVIPXWCEHBYAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940028356 diethylene glycol monobutyl ether Drugs 0.000 description 2
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N oxolane-2,4-dione Chemical compound O=C1COC(=O)C1 JCGNDDUYTRNOFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 2
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 2
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 239000004291 sulphur dioxide Substances 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OBROYCQXICMORW-UHFFFAOYSA-N tripropoxyalumane Chemical compound [Al+3].CCC[O-].CCC[O-].CCC[O-] OBROYCQXICMORW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 2
- DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N (+)-borneol Chemical group C1C[C@@]2(C)[C@@H](O)C[C@@H]1C2(C)C DTGKSKDOIYIVQL-WEDXCCLWSA-N 0.000 description 1
- QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N (1-hydroxycyclohexyl)-phenylmethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1(O)CCCCC1 QNODIIQQMGDSEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenyl-2-propan-2-yloxyethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC(C)C)C(=O)C1=CC=CC=C1 MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTKCEEWUXHVZQI-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)CC1=CC=CC=C1 OTKCEEWUXHVZQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPXVHIRIPLPOPT-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris(2-hydroxyethyl)-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound OCCN1C(=O)N(CCO)C(=O)N(CCO)C1=O BPXVHIRIPLPOPT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOCJQSFSGAZAPQ-UHFFFAOYSA-N 1-chloroanthracene-9,10-dione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2Cl BOCJQSFSGAZAPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SDXHBDVTZNMBEW-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-hydroxyethoxy)ethanol Chemical compound CCOC(O)COCCO SDXHBDVTZNMBEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERJZAHSUZVMCH-UHFFFAOYSA-N 2,2-dichloro-1-phenylethanone Chemical compound ClC(Cl)C(=O)C1=CC=CC=C1 CERJZAHSUZVMCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KWVGIHKZDCUPEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 2,4-diethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC(CC)=C3SC2=C1 BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCHAFMWSFCONOO-UHFFFAOYSA-N 2,4-dimethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C)=CC(C)=C3SC2=C1 LCHAFMWSFCONOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YHYCMHWTYHPIQS-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hydroxyethoxy)-1-methoxyethanol Chemical compound COC(O)COCCO YHYCMHWTYHPIQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNVXWIINBUTFEP-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-phenylphenoxy)methyl]oxirane Chemical compound C1OC1COC1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 DNVXWIINBUTFEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZHCHRKVXJJJZFX-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-hydroxyethoxy)ethoxy]-1-phenoxyethanol Chemical compound OCCOCCOCC(O)OC1=CC=CC=C1 ZHCHRKVXJJJZFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMOYYCNTSLVTOE-SYXWNFKLSA-N 2-[[(e)-3-(carboxymethylimino)prop-1-enyl]amino]acetic acid Chemical compound OC(=O)CN\C=C\C=NCC(O)=O OMOYYCNTSLVTOE-SYXWNFKLSA-N 0.000 description 1
- FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 2-benzyl-2-(dimethylamino)-1-(4-morpholin-4-ylphenyl)butan-1-one Chemical compound C=1C=C(N2CCOCC2)C=CC=1C(=O)C(CC)(N(C)C)CC1=CC=CC=C1 UHFFVFAKEGKNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 2-chlorothioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(Cl)=CC=C3SC2=C1 ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SNZYOYGFWBZAQY-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;2-methyloxirane Chemical compound CC1CO1.CCC(CO)(CO)CO SNZYOYGFWBZAQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSROEZYGRKHVMN-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;oxirane Chemical compound C1CO1.CCC(CO)(CO)CO RSROEZYGRKHVMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 2-ethylanthraquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC=C3C(=O)C2=C1 SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCKZAVNWRLEHIP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1-[4-[[4-(2-hydroxy-2-methylpropanoyl)phenyl]methyl]phenyl]-2-methylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(C(=O)C(C)(O)C)=CC=C1CC1=CC=C(C(=O)C(C)(C)O)C=C1 PCKZAVNWRLEHIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004200 2-methoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-morpholin-4-ylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)N1CCOCC1 LWRBVKNFOYUCNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BBILJUBMQKCJMS-UHFFFAOYSA-N 2-methyloxirane;prop-2-enoic acid Chemical compound CC1CO1.OC(=O)C=C BBILJUBMQKCJMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMWZLYTVXQBTTE-UHFFFAOYSA-N 2-pentylanthracene-9,10-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CCCCC)=CC=C3C(=O)C2=C1 UMWZLYTVXQBTTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCS DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical class CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C=C KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKVYHNPVKUNCJM-UHFFFAOYSA-N 4-propan-2-ylthioxanthen-9-one Chemical compound S1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C(C(C)C)=CC=C2 IKVYHNPVKUNCJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YDTZWEXADJYOBJ-UHFFFAOYSA-N 9-(7-acridin-9-ylheptyl)acridine Chemical compound C1=CC=C2C(CCCCCCCC=3C4=CC=CC=C4N=C4C=CC=CC4=3)=C(C=CC=C3)C3=NC2=C1 YDTZWEXADJYOBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008062 acetophenones Chemical class 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001343 alkyl silanes Chemical class 0.000 description 1
- AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N alumane Chemical class [AlH3] AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQQXUGFEQSCYIA-OAWHIZORSA-M aluminum;(z)-4-ethoxy-4-oxobut-2-en-2-olate;propan-2-olate Chemical compound [Al+3].CC(C)[O-].CC(C)[O-].CCOC(=O)\C=C(\C)[O-] MQQXUGFEQSCYIA-OAWHIZORSA-M 0.000 description 1
- MQPPCKJJFDNPHJ-UHFFFAOYSA-K aluminum;3-oxohexanoate Chemical compound [Al+3].CCCC(=O)CC([O-])=O.CCCC(=O)CC([O-])=O.CCCC(=O)CC([O-])=O MQPPCKJJFDNPHJ-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 1
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 description 1
- 229910000410 antimony oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 229910002113 barium titanate Inorganic materials 0.000 description 1
- JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N barium titanate Chemical compound [Ba+2].[Ba+2].[O-][Ti]([O-])([O-])[O-] JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 210000000988 bone and bone Anatomy 0.000 description 1
- FPCJKVGGYOAWIZ-UHFFFAOYSA-N butan-1-ol;titanium Chemical compound [Ti].CCCCO.CCCCO.CCCCO.CCCCO FPCJKVGGYOAWIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BSDOQSMQCZQLDV-UHFFFAOYSA-N butan-1-olate;zirconium(4+) Chemical compound [Zr+4].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-] BSDOQSMQCZQLDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- CXKCTMHTOKXKQT-UHFFFAOYSA-N cadmium oxide Inorganic materials [Cd]=O CXKCTMHTOKXKQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFEAAQFZALKQPA-UHFFFAOYSA-N cadmium(2+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Cd+2] CFEAAQFZALKQPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000013065 commercial product Substances 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 1
- 150000001925 cycloalkenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 230000005674 electromagnetic induction Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 238000010849 ion bombardment Methods 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000002816 methylsulfanyl group Chemical group [H]C([H])([H])S[*] 0.000 description 1
- 239000003471 mutagenic agent Substances 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000484 niobium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N oxoantimony Chemical compound [Sb]=O VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 1
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920000123 polythiophene Polymers 0.000 description 1
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- JTBKFHQUYVNHSR-UHFFFAOYSA-N propan-2-yloxyalumane Chemical compound CC(C)O[AlH2] JTBKFHQUYVNHSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 1
- 238000010897 surface acoustic wave method Methods 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- WOZZOSDBXABUFO-UHFFFAOYSA-N tri(butan-2-yloxy)alumane Chemical compound [Al+3].CCC(C)[O-].CCC(C)[O-].CCC(C)[O-] WOZZOSDBXABUFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYWQGROTKMBNKN-UHFFFAOYSA-N tributoxyalumane Chemical compound [Al+3].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-] MYWQGROTKMBNKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLGLQAWTXXGVEM-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol monomethyl ether Chemical compound COCCOCCOCCO JLGLQAWTXXGVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LENZDBCJOHFCAS-UHFFFAOYSA-N tris Chemical compound OCC(N)(CO)CO LENZDBCJOHFCAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007964 xanthones Chemical class 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Non-Insulated Conductors (AREA)
Description
本発明は、光学用積層体およびインデックスマッチング層形成用組成物に関するもので
ある。
The present invention relates to an optical laminate and a composition for forming an index matching layer.
タッチパネル等の表示装置には、ガラス基板やポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）
フィルム等の透明樹脂製基板上に、パターン状の透明導電体層が設けられた積層体が用い
られている。
Glass substrates and polyethylene terephthalate (PET) are used for display devices such as touch panels.
A laminated body in which a patterned transparent conductive layer is provided on a transparent resin substrate such as a film is used.
この積層体では、基板上の透明導電体層を有する部分（図１Ａ）と透明導電体層を有さ
ない部分（図１Ｂ）との光学特性の差が大きいため、タッチパネル等の表示装置の前面に
前記積層体を配置すると、表示装置の視認性が低下するという問題があった。
In this laminate, the difference in optical characteristics between the portion having the transparent conductor layer on the substrate (FIG. 1A) and the portion not having the transparent conductor layer (FIG. 1B) is large. There is a problem that the visibility of the display device is reduced if the laminate is disposed on the
この問題を解決するために、基板と透明導電体層の間に屈折率の異なる層を設ける事で
、基板上の透明導電体層を有する部分（図１Ａ）と透明導電体層を有さない部分（図１Ｂ
）との光学特性の差を小さくし、視認性を向上させることが行われている。特許文献１に
は、基板上に少なくとも１層のアンダーコート層を設け、このアンダーコート層の上に透
明導電体層を設けた積層体が開示されており、特許文献２には、基板上に高屈折率層、低
屈折率層および透明導電性薄膜層をこの順に積層した積層体が開示されている。また、特
許文献３は、骨見え抑制するために、透明基板と透明電極層の間に硬化樹脂層を設けた積
層体が開示されている。
In order to solve this problem, by providing layers having different refractive indexes between the substrate and the transparent conductor layer, the portion having the transparent conductor layer on the substrate (FIG. 1A) and the transparent conductor layer are not provided. Part (Figure 1B
It is carried out to reduce the difference of the optical characteristics from the above and improve the visibility. Patent Document 1 discloses a laminate in which at least one undercoat layer is provided on a substrate, and a transparent conductor layer is provided on the undercoat layer, and Patent Document 2 discloses a laminate. There is disclosed a laminate in which a high refractive index layer, a low refractive index layer and a transparent conductive thin film layer are laminated in this order. In addition, Patent Document 3 discloses a laminate in which a cured resin layer is provided between a transparent substrate and a transparent electrode layer in order to suppress bone appearance.
しかしながら、既存の硬化樹脂からなる中〜高屈折率層は、光学特性の調節による視認性
向上効果は得られるものの、硬化樹脂層の硬度が低いため透明導電体層積層後に残留する
内部応力によって変形が発生するという問題があった。これは、透明導電体層を積層する
際に生じる内部応力が、透明導電体層のパターン形成時に、透明導電体層を有する部分（
図１Ａ）ではそのまま応力残留し、一方、透明導電体層を有さない部分（図１Ｂ）では応
力が解放される事で、積層体の面内に応力分布が生じる事による。そしてこの積層体の変
形は、表示装置の視認性低下に繋がっていた。
However, the medium to high refractive index layer made of the existing cured resin is deformed by the internal stress remaining after laminating the transparent conductive layer because the hardness of the cured resin layer is low although the visibility improving effect is obtained by adjusting the optical characteristics. There was a problem that occurs. This is because the internal stress generated when laminating the transparent conductor layer is a portion having the transparent conductor layer when forming the pattern of the transparent conductor layer (
In FIG. 1A), the stress remains as it is, while the stress is released in the portion having no transparent conductor layer (FIG. 1B), which causes stress distribution in the plane of the laminate. And deformation of this layered product has led to the visibility fall of a display.
本発明は、このような問題点に鑑みてなされたもので、光学特性に優れ、透明導電体層
積層後の変形が小さい積層体を形成可能な硬化性組成物および積層体を提供することを目
的とする。
The present invention has been made in view of such problems, and it is an object of the present invention to provide a curable composition and a laminate capable of forming a laminate excellent in optical properties and small in deformation after lamination of a transparent conductor layer. To aim.
本発明者は、前記課題を解決するために鋭意検討した結果、屈折率１．７以上の金属酸
化物粒子と、シリカ粒子を一定割合以上含有する層を、インデックスマッチング層として
用いれば前記課題を解決することができることを見出し、本発明を完成させた。
As a result of intensive studies to solve the above problems, the inventor of the present invention has achieved the above problems by using, as an index matching layer, a layer containing metal oxide particles having a refractive index of 1.7 or more and silica particles at a certain ratio or more. It has been found that it can be solved and the present invention has been completed.
本発明の硬化性組成物によれば、ＰＥＴフィルム等の透明基板との密着性に優れ、高光
透過性であり、ヘイズが小さい中〜高屈折率（例えば、１．５９〜１．８０）の硬化体及
び透明導電体層積層後の変形が小さい積層体を形成することができる。
According to the curable composition of the present invention, medium to high refractive index (e.g., 1.59 to 1.80) which is excellent in adhesiveness with a transparent substrate such as a PET film and the like, high in light transmittance, and small in haze. It is possible to form a laminate having a small deformation after laminating the cured body and the transparent conductor layer.
また、本発明によれば、視認性に優れるタッチパネル等の表示装置を容易に、安価に製
造することができる。
Further, according to the present invention, a display device such as a touch panel having excellent visibility can be easily manufactured at low cost.
本発明は、透明基板、インデックスマッチング層および透明電極層がこの順に積層されて
なり、インデックスマッチング層の屈折率が１．５９〜１．８０であり、かつ（Ａ）屈折
率１．７以上の金属酸化物粒子、（Ｂ）シリカ粒子および（Ｃ）樹脂成分を含んでなり、
前記（ Ａ ）成分 、（ Ｂ ）成分 および（Ｃ）成分の合計量を１００重量％とした場合
、（Ａ）成分３５ 〜７５ 重量％、成分（Ｂ）３〜３５重量％および（Ｃ）成分２２〜３
８重量％を含む組成物からなることを特徴とする積層体、
ならびに、（Ａ）屈折率１．７以上の金属酸化物粒子、（Ｂ）シリカ粒子、（Ｃ）重合性
基を有する硬化性化合物を含んでなり、前記（ Ａ ）成分 、（ Ｂ ）成分および（Ｃ）
成分の合計量を１００重量％とした場合、（Ａ）成分３５ 〜７５ 重量％、成分（Ｂ）３
〜３５重量％および（Ｃ）成分２２〜３８重量％を含み、かつその硬化物の屈折率が１．
５９〜１．８０であることを特徴とするインデックスマッチング層形成用組成物を提供す
るものである。
In the present invention, a transparent substrate, an index matching layer, and a transparent electrode layer are laminated in this order, and the index matching layer has a refractive index of 1.59 to 1.80, and (A) a refractive index of 1.7 or more Comprising metal oxide particles, (B) silica particles and (C) a resin component,
The total amount of the components (A), (B) and (C) is 100% by weight, 35 to 75% by weight of the component (A), 3 to 35% by weight of the component (B) and the component (C) 22-3
A laminate characterized in that it comprises a composition comprising 8% by weight
And (A) metal oxide particles having a refractive index of 1.7 or more, (B) silica particles, and (C) a curable compound having a polymerizable group, wherein the (A) component, the (B) component, and (C)
When the total amount of the components is 100% by weight, 35 to 75% by weight of the component (A), the component (B) 3
To 35 wt% and 22 to 38 wt% of the component (C), and the refractive index of the cured product thereof is 1.
A composition for forming an index matching layer characterized by being 59 to 1.80 is provided.
本発明の積層体は、図２に示すように、基板１と、少なくとも１層のインデックスマッ
チング層３と、透明導電体層２とをこの順に積層してなる。
As shown in FIG. 2, the laminate of the present invention is formed by laminating a substrate 1, at least one index matching layer 3 and a transparent conductor layer 2 in this order.
前記インデックスマッチング層は、中〜高屈折率を有し、高光透過性であり、特定範囲
内の金属酸化物粒子を含有するため、応力による変形が小さい。このため、得られる積層
体は、基板上の透明導電体層を有する部分（図１Ａ）と透明導電体層を有さない部分（図
１Ｂ）との残留応力差によって生じる変形が小さく、光学特性に優れ、表示装置の視認性
に優れる積層体となる。
透明基板
発明で使用される透明基板としては、ＰＥＴフィルム、ＴＡＣフィルム、シクロオレフィ
ン系フィルム、アクリル系フィルム等などが挙げられる。
The index matching layer has a medium to high refractive index, is highly transparent to light, and contains metal oxide particles in a specific range, so deformation due to stress is small. For this reason, the resulting laminate has a small deformation due to the residual stress difference between the portion having the transparent conductor layer on the substrate (FIG. 1A) and the portion not having the transparent conductor layer (FIG. 1B). And a laminate excellent in the visibility of the display device.
Transparent substrate
Examples of the transparent substrate used in the invention include PET film, TAC film, cycloolefin film, acrylic film and the like.
前記基板の厚みは、所望の用途に応じて適宜選択すればよいが、好ましくは２０μｍ〜
３００μｍであり、より好ましくは２０μｍ〜２００μｍである。
The thickness of the substrate may be appropriately selected according to the desired application, but preferably 20 μm to
It is 300 micrometers, More preferably, it is 20 micrometers-200 micrometers.
また、前記基板の屈折率は、前記インデックスマッチング層を設けることが得られる表
示装置の視認性に大きく寄与する点から、好ましくは１．４５〜１．７５であり、より好
ましくは１．４５〜１．７０である。
In addition, the refractive index of the substrate is preferably 1.45 to 1.75, more preferably 1.45 to 1.5, from the viewpoint of greatly contributing to the visibility of the display device in which the index matching layer can be provided. It is 1.70.
また、透明基板には、インデックスマッチング層との密着性向上や傷つき防止のために
、必要に応じて、密着材、ハードコート材を適用してもよい。密着材およびハードコート
材の屈折率は、好ましくは１．４５〜１．７５であり、より好ましくは１．４５〜１．７
０である。
インデックスマッチング層
本発明において、「インデックスマッチング層」とは、タッチパネル等の表示装置に用い
られる積層体を形成する層であって、ＰＥＴフィルム等の透明基板と透明導電体層との間
に、基板上の透明導電体層を有する部分と透明導電体層を有さない部分との光学特性の差
を小さくする事を目的として設けられる層のことをいう。
Further, an adhesive material or a hard coat material may be applied to the transparent substrate, as necessary, to improve adhesion to the index matching layer or to prevent damage. The refractive index of the adhesion material and the hard coating material is preferably 1.45 to 1.75, more preferably 1.45 to 1.7.
It is 0.
Index Matching Layer In the present invention, the “index matching layer” is a layer forming a laminate used in a display device such as a touch panel, which is a substrate between a transparent substrate such as a PET film and a transparent conductor layer. The layer is provided for the purpose of reducing the difference in optical characteristics between the portion having the upper transparent conductor layer and the portion not having the transparent conductor layer.
本発明において、インデックスマッチング層は、（Ａ）屈折率１．７以上の金属酸化物
粒子、（Ｂ）シリカ粒子および（Ｃ）樹脂成分を含んでなり、前記（ Ａ ）成分 、（ Ｂ
）成分 および（Ｃ）成分の合計量を１００重量％とした場合、（Ａ）成分３５ 〜７５
重量％、成分（Ｂ）３〜３５重量％および（Ｃ）成分２２〜３８重量％を含む組成物から
なるものである。
（Ａ）屈折率１．７以上の金属酸化物粒子
本発明に用いられる成分（Ａ）は、特に限定されるものではないが、得られる硬化性組
成物の硬化膜の透明性、屈折率の観点から、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化ニオブ
、チタン酸バリウム及び酸化亜鉛を主成分とする粒子であり、好ましくは酸化チタン、酸
化ジルコニウムである。これらは１種単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることが
できる。
本発明に用いる金属酸化物粒子の形状は、特に限定されるものではないが、例えば、球状
、中空状、多孔質状、棒状、板状、繊維状、又は不定形状であり、好ましくは、球状であ
る。
In the present invention, the index matching layer comprises (A) metal oxide particles having a refractive index of 1.7 or more, (B) silica particles and (C) a resin component, and the above (A) component, (B
Component (A), components 35 to 75, when the total amount of the components and component (C) is 100% by weight.
It consists of a composition containing 3% to 35% by weight of component (B) and 22% to 38% by weight of component (C).
(A) Metal oxide particles having a refractive index of 1.7 or more The component (A) used in the present invention is not particularly limited, but the transparency of the cured film of the curable composition to be obtained, the refractive index From the viewpoint, it is particles mainly composed of titanium oxide, zirconium oxide, niobium oxide, barium titanate and zinc oxide, preferably titanium oxide and zirconium oxide. These can be used singly or in combination of two or more.
The shape of the metal oxide particles used in the present invention is not particularly limited, and it is, for example, spherical, hollow, porous, rod-like, plate-like, fibrous or indeterminate shape, preferably spherical It is.
金属酸化物粒子の一次粒径は、通常、１０ｎｍ〜１００ｎｍのものを使用できる。好ま
しくは１０〜５０ｎｍである。本発明では、特定の１次平均粒子径を有する金属酸化物粒
子を１種単独で用いてもよく、１次平均粒子径の異なる２種以上の金属酸化物粒子を混合
して用いてもよい。
成分（Ａ）として用いられる酸化物粒子は、紛体又は溶媒に分散した状態で用いることが
できるが、均一分散性が得易いことから、溶媒中に分散した粒子分散液の状態で用いるこ
とが好ましい。
前記粒子分散液は、分散溶媒に、金属酸化物粒子を分散させて製造することができ、溶媒
への分散性を向上させるために、各種の分散剤、分散助剤を用いてもよい。
分散溶媒は、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、オクタノール等
のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキ
サノン等のケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、γ−ブチロラクトン、プロ
ピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエー
テルアセテート等のエステル類；エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレング
リコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のエーテル類
；ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素類；ジメチルフォ
ルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド類
を用いることができる。中でも、メタノール、イソプロパノール、ブタノール、メチルエ
チルケトン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコール
モノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、トルエン、
キシレン、エチルベンゼンが好ましく、メチルエチルケトン、ブタノール、プロピレング
リコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、キ
シレン、エチルベンゼン、トルエンがより好ましい。分散媒は一種又は二種以上を混合し
て用いることができる。
分散剤としては、ノニオン型分散剤、カチオン型分散剤、アニオン型分散剤を用いる事が
できる。
The primary particle size of the metal oxide particles can usually be 10 nm to 100 nm. Preferably, it is 10 to 50 nm. In the present invention, one type of metal oxide particle having a specific primary average particle size may be used alone, or two or more types of metal oxide particles having different primary average particle sizes may be mixed and used. .
The oxide particles used as the component (A) can be used in the state of being dispersed in a powder or solvent, but it is preferable to use in the state of a particle dispersion dispersed in a solvent because uniform dispersion is easily obtained. .
The particle dispersion liquid can be produced by dispersing metal oxide particles in a dispersion solvent, and various dispersants and dispersion assistants may be used to improve the dispersibility in the solvent.
Dispersion solvents include alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, butanol and octanol; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone; ethyl acetate, butyl acetate, ethyl lactate, γ-butyrolactone, propylene glycol monomethyl ether acetate Esters such as propylene glycol monoethyl ether acetate; Ethers such as ethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether; Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, etc .; Dimethylformamide, N Amides such as N, N-dimethylacetoacetamide and N-methyl pyrrolidone can be used. Among them, methanol, isopropanol, butanol, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, ethyl acetate, butyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether, toluene,
Xylene and ethylbenzene are preferable, and methyl ethyl ketone, butanol, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether, xylene, ethyl benzene and toluene are more preferable. The dispersion medium can be used alone or in combination of two or more.
As the dispersing agent, nonionic dispersing agents, cationic dispersing agents, and anionic dispersing agents can be used.
ノニオン型分散剤としては、ポリオキシエチレンアルキル構造を有するリン酸エステル
系ノニオン型分散剤が挙げられる。下記式（１）からなる分散剤が好ましく用いられる。
Examples of the nonionic dispersant include phosphate ester nonionic dispersants having a polyoxyethylene alkyl structure. The dispersing agent which consists of following formula (1) is used preferably.
（式中、Ｒは、同一でも異なってもよく、ＣｎＨ２ｎ＋１−ＣＨ２Ｏ−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ
）ｍ−ＣＨ２ＣＨ２Ｏ−を示す。ｍは８〜１０、ｎは１２〜１６、ｘは１〜３である。）
３つのＲは、同一でも異なってもよいが、通常は同一である。
(Wherein R may be the same or different, and CnH2n + 1-CH2O- (CH2CH2O
A) m-CH2CH2O- is shown. m is 8 to 10, n is 12 to 16, and x is 1 to 3. )
The three R's may be the same or different, but are usually the same.
分散助剤としては、アセト酢酸メチル、アセチルアセトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトア
セトアミドから選択される一以上のものを好適に使用できる。アセト酢酸メチルは、変異
原性物質であるので、特にアセチルアセトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアセトアミドが好
ましい。
As the dispersion aid, one or more selected from methyl acetoacetate, acetylacetone, and N, N-dimethylacetoacetamide can be suitably used. Since methyl acetoacetate is a mutagenic substance, acetylacetone and N, N-dimethylacetoacetamide are particularly preferred.
また、その他にも、例えば、アルミニウム化合物を用いることができる。アルミニウム
化合物の例としては、アルミニウムアルコキシド、アルミニウムβ−ジケトナート錯体な
どを挙げることができる。具体的には、トリエトキシアルミニウム、トリ（ｎ−プロポキ
シ）アルミニウム、トリ（ｉ−プロポキシ）アルミニウム、トリ（ｎ−ブトキシ）アルミ
ニウム、トリ（ｓｅｃ−ブトキシ）アルミニウム等のアルコキシド化合物、アルミニウム
トリス（メチルアセトアセテート）、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）、
トリス（アセトアセトナト）アルミニウム、アルミニウムモノアセチルアセトナトビス（
メチルアセテート）、アルミニウムモノアセチルアセトナトビス（エチルアセテート）等
のβ−ジケトナート錯体を挙げることができる。
In addition, for example, an aluminum compound can be used. As an example of an aluminum compound, aluminum alkoxide, an aluminum (beta) -diketonate complex, etc. can be mentioned. Specifically, alkoxide compounds such as triethoxyaluminum, tri (n-propoxy) aluminum, tri (i-propoxy) aluminum, tri (n-butoxy) aluminum, tri (sec-butoxy) aluminum and the like, aluminum tris (methylaceto) Acetate), aluminum tris (ethyl acetoacetate),
Tris (acetoacetonato) aluminum, aluminum monoacetylacetonato bis (
Mention may be made of β-diketonate complexes such as methyl acetate), aluminum monoacetylacetonato bis (ethyl acetate) and the like.
アルミニウム化合物の市販品としては、ＡＩＰＤ、ＰＡＤＭ、ＡＭＤ、ＡＳＢＤ、アル
ミニウムエトキサイド、ＡＬＣＨ、ＡＬＣＨ−５０Ｆ、ＡＬＣＨ−７５、ＡＬＣＨ−ＴＲ
、ＡＬＣＨ−ＴＲ−２０、アルミキレートＭ、アルミキレートＤ、アルミキレートＡ（Ｗ
）、表面処理剤ＯＬ−１０００、アルゴマー、アルゴマー８００ＡＦ、アルゴマー１００
０ＳＦ（以上、川研ファインケミカル社製）等を使用することができる。
分散液における各成分の配合量は、用途に応じて適宜設定できるが、通常、ジルコニア粒
子１〜５０重量％、分散剤０．５〜１０重量％、分散媒５０〜９０重量％であり、好まし
くは、ジルコニア粒子１〜４０重量％、分散剤１〜５重量％、分散媒６０〜９０重量％で
ある。 分散剤の量が少ないと、粒径分布の大粒径側のテーリングが生じる場合がある。
Commercially available aluminum compounds include AIPD, PADM, AMD, ASBD, aluminum ethoxide, ALCH, ALCH-50F, ALCH-75, ALCH-TR.
, ALCH-TR-20, aluminum chelate M, aluminum chelate D, aluminum chelate A (W
), Surface treatment agent OL-1000, Algomer, Algomer 800 AF, Algomer 100
0SF (above, manufactured by Kawaken Fine Chemical Co., Ltd.) can be used.
Although the compounding quantity of each component in a dispersion liquid can be suitably set according to a use, Usually, 1 to 50 weight% of zirconia particles, 0.5 to 10 weight% of dispersing agents, and 50 to 90 weight% of dispersion media are preferable. Is 1 to 40% by weight of zirconia particles, 1 to 5% by weight of dispersant, and 60 to 90% by weight of dispersion medium. If the amount of the dispersant is small, tailing on the large particle size side of the particle size distribution may occur.
分散に先立ち、プレ分散をしてもよい。プレ分散では、分散媒、分散剤、分散助剤を容
器に入れて、ホモジナイザー等を用いて通常８０００〜１００００ｒｐｍで撹拌しながら
、ジルコニア粒子を加える。その後、さらに粒子の塊が目視で見られなくなるまで撹拌す
る。
Prior to the distribution, pre-distribution may be performed. In the pre-dispersion, the dispersion medium, the dispersing agent and the dispersion aid are placed in a container, and the zirconia particles are added while stirring usually at 800 to 10000 rpm using a homogenizer or the like. It is then stirred until no further clumps of particles are visible visually.
分散は、分散媒、分散剤、分散助剤および金属酸化物粒子をＳＣミル、アニュラー型ミ
ル、ピン型ミル等に入れ、通常周速５〜１５ｍ／ｓで、粒径の低下が観察されなくなるま
で継続する。通常数時間である。分散の際に、ガラスビーズ、ジルコニアビーズ等の分散
ビーズを用いることが好ましい。ビーズ径は特に限定されないが、通常０．０５〜１ｍｍ
程度である。ビーズ径は、好ましくは０．０５〜０．５ｍｍ、より好ましくは０．０８〜
０．５ｍｍ、特に好ましくは０．０８〜０．２ｍｍである。
分散に先立ち、プレ分散をしてもよい。プレ分散では、ホモジナイザー等を用いて通常８
０００〜１００００ｒｐｍで粒子の塊が目視で見られなくなるまで撹拌する。
[市販品]
また成分（ Ａ ） として用いられる酸化物粒子を溶媒に分散した市販品としては、例え
ば、日産化学（ 株） 製 商品名： ＯＺ−Ｓ３０Ｋ（ メチルエチルケトン分散の酸化ジ
ルコニウム） 、ＯＺ−Ｓ３０−ＡＣ（ メチルエチルケトン分散の酸化ジルコニウム）
、堺化学（ 株） 製 商品名： ＳＺＲ−Ｋ（メチルエチルケトン分散の酸化ジルコニウム
） 、（ 株）日本触媒 製 商品名： ＡＸ−ＺＰ（メチルエチルケトン分散の酸化ジルコ
ニウム ）等を挙げることができる。
For dispersion, the dispersion medium, the dispersant, the dispersion aid and the metal oxide particles are placed in an SC mill, an annular mill, a pin mill, etc., and usually no decrease in particle size is observed at a peripheral velocity of 5 to 15 m / s. Continue until It is usually several hours. At the time of dispersion, it is preferable to use dispersion beads such as glass beads and zirconia beads. The bead diameter is not particularly limited, but usually 0.05 to 1 mm
It is an extent. The bead diameter is preferably 0.05 to 0.5 mm, more preferably 0.08 to
It is 0.5 mm, particularly preferably 0.08 to 0.2 mm.
Prior to the distribution, pre-distribution may be performed. In pre-dispersion, using a homogenizer etc. is usually 8
Stir at 000-1 000 rpm until clumps of particles are not visible visually.
[Commercial item]
Moreover, as a commercial item which disperse | distributed the oxide particle used as a component (A) in a solvent, Nissan Chemical Co., Ltd. product brand name: OZ-S30K (zirconium oxide of a methyl ethyl ketone dispersion), OZ-S30-AC (methyl ethyl ketone) Dispersion of zirconium oxide)
Suga Chemical Co., Ltd. trade name: SZR-K (zirconium oxide dispersed in methyl ethyl ketone), (Nippon Catalyst Co., Ltd.) trade name: AX-ZP (zirconium oxide dispersed in methyl ethyl ketone), and the like.
これら粒子分散液中の金属酸化物粒子の体積基準の粒度分布における、累積分布５０％
の値（Ｄ５０）は、好ましくは５〜１００ｎｍであり、より好ましくは５〜８０ｎｍであ
る。累積分布９０％の値（Ｄ９０）は、好ましくは２０〜１３０ｎｍであり、より好まし
くは２０〜１００ｎｍである。
50% cumulative distribution in the volume-based particle size distribution of metal oxide particles in these particle dispersions
The value of (D50) is preferably 5 to 100 nm, more preferably 5 to 80 nm. The cumulative distribution 90% value (D90) is preferably 20 to 130 nm, more preferably 20 to 100 nm.
なお、粒度分布は、ＬＢ−５５０、株式会社堀場製作所製を用いて粒度分布測定を行う
ことで得られる。
The particle size distribution can be obtained by measuring the particle size distribution using LB-550 manufactured by HORIBA, Ltd.
前記粒子分散液中の酸化ジルコニウム粒子のＤ５０およびＤ９０が前記範囲にあると、
表面凹凸の少ない、透明性の高い硬化膜が得られるため好ましい。
When D50 and D90 of the zirconium oxide particles in the particle dispersion are in the above range,
It is preferable because a highly transparent cured film with few surface irregularities is obtained.
成分（ Ａ ） として用いられる金属酸化物粒子は、以下の表面変性を加えてもよい。
表面変性を行うことにより、金属酸化物粒子を含有する硬化性組成物の硬化物の光学特性
や保存安定性を改善することができる。
表面変性は、公知の方法で用いることができる（例えば、特開２００３−１０５０３４号
公報参照）。
ここで、表面処理剤としては、例えば、アルコキシシラン化合物、テトラブトキシチタ
ン、テトラブトキシジルコニウム、テトライソプロポキシアルミニウム等を挙げることが
できる。これらは、一種単独で、又は二種以上を組み合わせて用いることができる。
アルコキシシラン化合物の具体例としては、γ − メタクリロキシプロピルトリメトキシ
シラン、γ − アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン等
の分子内に不飽和二重結合を有する化合物群、γ − グリシドキシプロピルトリエトキシ
シラン、γ − グリシドキシプロピルトリメトキシシラン等の分子内にエポキシ基を有す
る化合物群、γ − アミノプロピルトリエトキシシラン、γ − アミノプロピルトリメト
キシシラン等の分子内にアミノ基を有する化合物群、γ − メルカプトプロピルトリメト
キシシラン、γ − メルカプトプロピルトリエトキシシラン、γ − メルカプトプロピル
トリメトキシシラン等の分子内にメルカプト基を有する化合物群、メチルトリメトキシシ
ラン、メチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン等のアルキルシラン類等
を挙げることができる。これらの表面処理剤の中では、γ − メルカプトプロピルトリメ
トキシシラン、γ −グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、メチルトリメトキシシ
ラン、メチルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン等が、表面処理された酸
化物粒子の分散安定性の点で好ましい。
また、表面処理剤としては、有機樹脂と共重合又は架橋反応する官能基を有するもの（反
応性表面処理剤） も好ましい。このような表面処理剤としては、上述した分子内に不飽
和二重結合を有する化合物群や、２ 以上の重合性不飽和基、下記式（ ２ ） に示す基、
及びシラノール基又は加水分解によってシラノール基を生成する基を有する化合物が好ま
しい。
− Ｘ − Ｃ （ ＝ Ｙ ） − Ｎ Ｈ − 式（ ２ ）
［ 式中、Ｘ は、Ｎ Ｈ 、Ｏ （ 酸素原子） 又はＳ （ イオウ原子） を示し、Ｙ は、
Ｏ 又はＳ を示す。］
上記式（ １ ） に示す基は、好ましくは、ウレタン結合［ − Ｏ − Ｃ （ ＝ Ｏ ） −
Ｎ Ｈ − ］ 、− Ｏ − Ｃ （ ＝ Ｓ ） − Ｎ Ｈ − 及びチオウレタン結合［ − Ｓ
− Ｃ （ ＝ Ｏ ） − Ｎ Ｈ − ］ からなる群から選択される少なくとも１ 種類の基で
ある。
このような表面処理剤としては、例えば、分子内にウレタン結合［ − Ｏ − Ｃ （ ＝
Ｏ ） ＮＨ − ］ 及び／ 又はチオウレタン結合［ − Ｓ − Ｃ （ ＝ Ｏ ） Ｎ Ｈ −
］ 並びに２ 以上の重合性不飽和基を有するアルコキシシラン化合物を挙げることができ
る。
成分（Ａ）への粒子変性剤の結合量は、成分（ Ａ ） 及び粒子変性剤の合計を１ ０ ０
重量％ として、好ましくは、０ ．０ １ 〜 ４ ０ 重量％ であり、さらに好ましくは、
０ ． １ 〜 ３ ０ 重量％ 、特に好ましくは、１〜 ２ ０ 重量％ である。成分（ Ａ
） に反応させる粒子変性剤の量を上記範囲とすることで、組成物中における成分（ Ａ
） の分散性を向上させることができ、得られる硬化物の透明性、耐擦傷性を高める効果
が期待できる。
成分（ Ａ ） の配合量は、成分（ Ａ ） 、成分（ Ｂ ） および成分（Ｃ）の合計量１
００ 重量％とした場合、好ましくは３５ 〜７５ 重量％、より好ましくは５０ 〜 ７０
重量％である。成分（ Ａ ） が表面処理されている場合も同じである。配合量が３５ 重
量部未満では、所望の屈折率が得られない場合があり、７５ 重量部を越えると、インデ
ックスマッチング層の透明性や強度が劣る場合がある。
〔Ｂ〕シリカ粒子
シリカ粒子は、粉体状又は溶剤分散ゾルとして用いるのが好ましい。溶剤分散ゾルとして
用いる場合、他の成分との相溶性、分散性の観点から、分散媒は、有機溶剤が好ましい。
このような有機溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブ
タノール、オクタノール等のアルコール類； アセトン、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類； 酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチ
ル、γ− ブチロラクトン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロ
ピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のエステル類； エチレングリコール
モノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のエーテル類； ベン
ゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類； ジメチルホルムアミド、ジメチルア
セトアミド、Ｎ− メチルピロリドン等のアミド類を挙げることができる。中でも、メタ
ノール、イソプロパノール、ブタノール、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン
、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリ
コールモノメチルエーテルアセテートが好ましい。
シリカ粒子の数平均粒子径は、得られる硬化膜の用途に応じて適宜選択すればよいが、１
n ｍ 〜 ２００ｎ ｍ が好ましく、５ｎ ｍ 〜 １５０ ｎ ｍ がさらに好ましく、１０
ｎ ｍ 〜 １００ｎ ｍ が特に好ましい。数平均粒子径が２００ ｎ ｍ を超えると、硬化
物としたときの透明性が低下したり、硬化膜としたときの表面状態が悪化する傾向がある
。シリカ粒子の数平均粒子径は、透過型電子顕微鏡による観察で測定した２ ０ 個の粒子
径の平均値をいう。また、粒子の分散性を改良するために各種の界面活性剤やアミン類を
添加してもよい。
シリカ粒子として市販されている商品としては、例えば、頃いダルシリカとして、日産化
学工業（ 株） 製メタノ− ルシリカゾル、Ｉ Ｐ Ａ − Ｓ Ｔ、Ｍ Ｅ Ｋ − Ｓ Ｔ 、Ｎ
Ｂ Ａ − Ｓ Ｔ 、Ｘ Ｂ Ａ − Ｓ Ｔ 、Ｄ Ｍ Ａ Ｃ − Ｓ Ｔ 、Ｓ Ｔ − Ｕ Ｐ 、Ｓ
Ｔ − ＯＵ Ｐ 、Ｓ Ｔ − ２ ０ 、Ｓ Ｔ − ４ ０ 、Ｓ Ｔ − Ｃ 、Ｓ Ｔ − Ｎ 、
Ｓ Ｔ − Ｏ 、Ｓ Ｔ − ５ ０ 、Ｓ Ｔ − ＯＬ 等を挙げることができる。また粉体シ
リカとしては、日本アエロジル（ 株） 製アエロジル１ ３ ０ 、アエロジル３ ０ ０ 、
アエロジル３ ８ ０ 、アエロジルＴ Ｔ ６ ０ ０ 、アエロジルＯＸ ５ ０ 、旭硝子（
株） 製シルデックスＨ ３ １ 、Ｈ ３ ２ 、Ｈ ５ １ 、Ｈ ５ ２ 、Ｈ １ ２ １ 、Ｈ
１２ ２ 、日本シリカ工業（ 株） 製Ｅ ２ ２ ０ Ａ 、Ｅ ２ ２ ０ 、（ 株） アデカ
製 アデライトＡ Ｔ２ ０、Ａ Ｔ -３ ０ 、Ａ Ｔ − ４ ０ 、富士シリシア（ 株） 製
Ｓ Ｙ Ｌ Ｙ Ｓ Ｉ Ａ ４ ７ ０ 、日本板硝子（株） 製Ｓ Ｇ フレ− ク等を挙げること
ができる。
シリカ粒子の形状は球状、中空状、多孔質状、棒状、板状、繊維状、又は不定形状であり
、好ましくは、球状である。これらシリカ粒子の使用形態は、乾燥状態の粉末、又は水も
しくは有機溶剤で分散した状態で用いることができる。例えば、シリカ粒子の溶剤分散ゾ
ルとして当業界に知られている微粒子状のシリカ粒子の分散液を直接用いることができる
。特に、硬化物に優れた透明性を要求する用途においては酸化物の有機溶剤分散ゾルの利
用が好ましい。
成分（ Ｂ ） として用いられるシリカ粒子は、成分（Ａ）と同様の方法で表面変性を加
えてもよい。表面変性を行うことにより、シリカ粒子を含有する硬化性組成物の硬化物の
光学特性や保存安定性を改善することができる。
成分（ Ｂ ） の配合量は特に制限されないが、成分（ Ａ ） 、成分（ Ｂ ） 、成分（
Ｃ）の合計量１ ０ ０ 重量部中、好ましくは３ 〜 ３５ 重量部、より好ましくは４ 〜
２５重量部である。成分（ Ｂ ） が表面処理されている場合も同じである。配合量が３
重量部未満では、十分な機械強度が得られない場合や積層体とした際に残留応力による変
形を十分に抑制できない場合があり、３５ 重量部を越えると、所望の屈折率が得られな
い場合がある。
〔Ｃ〕樹脂成分
本発明の積層体において、樹脂成分とは、重合性基を有する硬化性化合物の硬化体であ
る。
The metal oxide particles used as component (A) may be subjected to the following surface modification.
By performing surface modification, the optical properties and storage stability of the cured product of the curable composition containing metal oxide particles can be improved.
Surface modification can be used by a well-known method (for example, refer Unexamined-Japanese-Patent No. 2003-105034).
Here, as a surface treatment agent, an alkoxysilane compound, tetrabutoxy titanium, tetra butoxy zirconium, tetra isopropoxy aluminum etc. can be mentioned, for example. These can be used singly or in combination of two or more.
Specific examples of alkoxysilane compounds include a group of compounds having an unsaturated double bond in the molecule, such as γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-acryloxypropyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, etc., γ-glycide Compounds having an epoxy group in the molecule such as xylpropyltriethoxysilane and γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, amino groups in the molecule such as γ-aminopropyltriethoxysilane and γ-aminopropyltrimethoxysilane Compounds having a mercapto group in the molecule such as γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, etc., methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, pheny And the like alkyl silanes such as trimethoxysilane. Among these surface treating agents, oxides treated with γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, etc. are surface-treated. It is preferable in view of the dispersion stability of the particles.
Further, as the surface treating agent, one having a functional group which is copolymerized or crosslinked with an organic resin (reactive surface treating agent) is also preferable. As such a surface treatment agent, a group of compounds having an unsaturated double bond in the above-mentioned molecule, two or more polymerizable unsaturated groups, a group represented by the following formula (2),
And compounds having a silanol group or a group that forms a silanol group by hydrolysis are preferred.
-X-C (= Y)-N H-Formula (2)
[Wherein, X represents NH, O (oxygen atom) or S (sulfur atom), and Y represents
Indicates O or S. ]
The group represented by the above formula (1) is preferably a urethane bond [-O-C (= O)-
NH-], -O-C (= S) -NH- and thiourethane bond [-S
It is at least one kind of group selected from the group consisting of -C (= O) -NH-].
As such a surface treatment agent, for example, a urethane bond [-O-C (=
O) NH-] and / or thiourethane bond [-S-C (= O) N H-
And alkoxysilane compounds having two or more polymerizable unsaturated groups.
The binding amount of the particle modifier to the component (A) is the sum of the component (A) and the particle modifier.
Preferably, 0% as weight percent. It is 0 1 to 40% by weight, and more preferably
0. It is preferably 1 to 30% by weight, particularly preferably 1 to 20% by weight. Ingredient (A
Component (A) in the composition by setting the amount of the particle modifier to be reacted to
The dispersibility of the above can be improved, and the effect of enhancing the transparency and scratch resistance of the resulting cured product can be expected.
The blending amount of the component (A) is the total amount of the component (A), the component (B) and the component (C) 1
When it is referred to as 00% by weight, preferably 35 to 75% by weight, more preferably 50 to 70%.
It is weight%. The same is true when the component (A) is surface-treated. If the amount is less than 35 parts by weight, the desired refractive index may not be obtained, and if it exceeds 75 parts by weight, the transparency and strength of the index matching layer may be poor.
[B] Silica Particles The silica particles are preferably used in the form of a powder or a solvent-dispersed sol. When using as a solvent dispersion sol, the dispersion medium is preferably an organic solvent from the viewpoint of compatibility with other components and dispersibility.
Examples of such an organic solvent include alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, butanol and octanol; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone; ethyl acetate, butyl acetate, ethyl lactate, γ-butyrolactone Esters such as propylene glycol monomethyl ether acetate and propylene glycol monoethyl ether acetate; Ethers such as ethylene glycol monomethyl ether and diethylene glycol monobutyl ether; Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; Dimethylformamide, dimethylacetamide, Amides such as N-methyl pyrrolidone can be mentioned. Among them, methanol, isopropanol, butanol, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, ethyl acetate, butyl acetate, propylene glycol monomethyl ether and propylene glycol monomethyl ether acetate are preferable.
The number average particle diameter of the silica particles may be appropriately selected according to the application of the resulting cured film, but 1
nm to 200 nm is preferable, 5 nm to 150 nm is more preferable, and 10
nm to 100 nm are particularly preferred. When the number average particle diameter exceeds 200 nm, the transparency of the cured product tends to decrease, and the surface state of the cured film tends to deteriorate. The number average particle diameter of the silica particles refers to the average value of 20 particle diameters measured by observation with a transmission electron microscope. In addition, various surfactants and amines may be added to improve the dispersibility of the particles.
As a commercial product commercially available as silica particles, for example, methanol silica sol, IPA-ST, MEK-ST, N, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.
B A-S T, X B A-S T, D M A C-S T, S T-U P, S
T- OU P, S T-20, S T-40, S T-C, S T-N,
ST-O, ST-50, ST-OL etc. can be mentioned. As powder silica, Aerosil 1 3 0, Aerosil 3 0 0, manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.
Aerosil 3 80, Aerosil T T 6 0 0, Aerosil OX 5 0, Asahi Glass (
Ltd. Shildex H 3 1, H 3 2 2, H 5 1, H 5 2, H 1 2 1, H
122, Nippon Silica Industries Co., Ltd. E 220 A, E 220, Adeka Co., Ltd. Adeleite A T 20, A T-30, A T-40, Fuji Silysia Co., Ltd. S Y L Y S I A 470, S G flakes manufactured by Nippon Sheet Glass Co., Ltd., and the like can be mentioned.
The shape of the silica particles is spherical, hollow, porous, rod-like, plate-like, fibrous, or irregularly shaped, preferably spherical. The use form of these silica particles can be used in the form of a dry powder, or dispersed in water or an organic solvent. For example, dispersions of particulate silica particles known in the art as solvent dispersion sols of silica particles can be used directly. In particular, in applications requiring excellent transparency of the cured product, it is preferable to use an oxide organic solvent-dispersed sol.
The silica particles used as component (B) may be surface-modified in the same manner as component (A). By performing surface modification, it is possible to improve the optical properties and storage stability of the cured product of the curable composition containing silica particles.
Although the compounding quantity in particular of a component (B) is not restrict | limited, a component (A), a component (B), a component (A)
In the total amount 100 parts by weight of C), preferably 3 to 35 parts by weight, more preferably 4 to
It is 25 parts by weight. The same is true when the component (B) is surface-treated. Compounding amount is 3
If the amount is less than 1 part by weight, sufficient mechanical strength may not be obtained or deformation due to residual stress may not be sufficiently suppressed when forming a laminate, and if it exceeds 35 parts by weight, the desired refractive index may not be obtained. There is.
[C] Resin Component In the laminate of the present invention, the resin component is a cured product of a curable compound having a polymerizable group.
前記硬化性化合物としては、(メタ)アクリル酸エステル、スチレン系化合物、多官能（
メタ）アクリレート等が挙げられる。これらの中でも、硬化性の点から、多官能（メタ）
アクリレートがより好ましい。
Examples of the curable compound include (meth) acrylic acid esters, styrenic compounds, and polyfunctional (
Meta) acrylate etc. are mentioned. Among these, from the viewpoint of curability, multifunctional (meta)
Acrylate is more preferred.
前記（メタ）アクリル酸エステルとしては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メ
タ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ペン
チル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アク
リレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレ
ート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコ
ール（メタ）アクリレート、イソオクチルオキシジエチレングリコール（メタ）アクリレ
ート、フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、o−フェニルフ
ェノールグリシジルエーテル（メタ）アクリレート、４−（１−メチル−１−フェニルエ
チル）フェノキシエチルアクリレート、フェノキシトリエチレングリコール（メタ）アク
リレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレ
ングリコール（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エ
トキシエチル（メタ）アクリレート、２−フェノキシエチル（メタ）アクリレート、２−
エチルヘキシル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
As said (meth) acrylic acid ester, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) Acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, methoxydiethylene glycol (meth) acrylate, ethoxydiethylene glycol (meth) acrylate, isooctyloxydiethylene glycol (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, benzyl (meth) Acrylate, o-phenylphenol glycidyl ether (meth) acrylate, 4- (1-methyl-1-phenylethyl) phenoxyethyl acrylate , Phenoxy triethylene glycol (meth) acrylate, methoxy triethylene glycol (meth) acrylate, methoxy polyethylene glycol (meth) acrylate, 2-methoxyethyl (meth) acrylate, 2-ethoxyethyl (meth) acrylate, 2-phenoxy Ethyl (meth) acrylate, 2-
Ethyl hexyl (meth) acrylate etc. are mentioned.
なお、本明細書において、「（メタ）アクリレート」は、アクリレートとメタクリレー
トの両者または一方を示す。
In the present specification, “(meth) acrylate” indicates both or one of acrylate and methacrylate.
前記多官能アクリレートとしては、例えば、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレ
ート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メ
タ）アクリレート、１,４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリ
コールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのエチレンオキサイドまたはプロピレ
ンオキサイドの付加体であるジオールのジ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＡ
のエチレンオキサイドまたはプロピレンオキサイドの付加体であるジオールのジ（メタ）
アクリレート、ポリウレタンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メ
タ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリメチロール
プロパンエチレンオキサイド変性トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンプ
ロピレンオキサイド変性トリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メ
タ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アク
リレート、ポリウレタンポリ（メタ）アクリレート等が挙げられる。市販品としては、日
本化薬（株）製の商品名ＤＰＨＡ、ＴＭＰＴＡ、ＰＥＴＡ、東亞合成（株）製の商品名ア
ロニックスＭ４０５、Ｍ３１５、新中村化学工業（株）製の商品名Ｕ−１５ＨＡ、大阪有
機化学工業（株）製のビスコート２９５等が挙げられる。
Examples of the polyfunctional acrylate include diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di Meta) acrylate, di (meth) acrylate of diol which is an adduct of ethylene oxide or propylene oxide of bisphenol A, hydrogenated bisphenol A
Di (meth) of diol which is an adduct of ethylene oxide or propylene oxide
Acrylate, polyurethane di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, trimethylolpropane ethylene oxide modified tri (meth) acrylate, trimethylolpropane propylene oxide modified tri (meth) acrylate, Dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate tri (meth) acrylate, polyurethane poly (meth) acrylate and the like can be mentioned. As commercial products, trade names DPHA, TMPTA, PETA manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., trade names Alonyx M 405, M 315 manufactured by Toagosei Co., Ltd., trade name U-15 HA manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., And Viscote 295 manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd. and the like.
これらの硬化性化合物は、１種単独で用いても、２種以上を混合して用いてもよい。 These curable compounds may be used alone or in combination of two or more.
これらの中でも、硬化性の点から、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレー
ト、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレートが好ましい。
Among these, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate and pentaerythritol tetra (meth) acrylate are preferable from the viewpoint of curability.
（Ｃ）樹脂成分の含有量は、成分（ Ａ ） 、成分（ Ｂ ） および成分（Ｃ）の合計量
１ ０ ０ 重量部中、好ましくは２０〜４０重量％であり、より好ましくは２２〜３８重
量％であり、さらに好ましくは２２〜３５重量％である。
The content of the resin component (C) is preferably 20 to 40% by weight, more preferably 22 to 38% of the total amount of 100 parts by weight of the component (A), the component (B) and the component (C). % By weight, more preferably 22 to 35% by weight.
本発明において、インデックスマッチング層を形成するためには、上記（Ａ）〜（Ｃ）
成分に加えて、（Ｄ）重合開始剤および必要に応じて、さらに、増感剤、溶媒、レベリン
グ剤等を含むインデックスマッチング層形成用組成物を用いる。
In the present invention, in order to form the index matching layer, the above (A) to (C)
In addition to the components, a composition for forming an index matching layer which contains (D) a polymerization initiator and, if necessary, a sensitizer, a solvent, a leveling agent and the like is used.
前記重合開始剤としては、特に制限されず、公知の重合開始剤を用いることができる
。
前記重合開始剤としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエ
ーテル、ベンゾインイソプロピルエーテルなどのベンゾイン・ベンゾインアルキルエーテ
ル類；アセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２，２−ジ
エトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１−[４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェ
ニル]−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、１，１−ジクロロアセ
トフェノン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−プ
ロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニ
ル）−ブタン−１−オンなどのアセトフェノン類；２−メチルアントラキノン、２−エチ
ルアントラキノン、２−ターシャリーブチルアントラキノン、１−クロロアントラキノン
、２−アミルアントラキノンなどのアントラキノン類；２，４−ジメチルチオキサントン
、２，４−ジエチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，４−イソプロピル
チオキサントンなどのチオキサントン類；アセトフェノンジメチルケタール、ベンジルジ
メチルケタールなどのケタール類；ベンゾフェノンなどのベンゾフェノン類；キサントン
類；１，７−ビス（９−アクリジニル）ヘプタン等の光ラジカル重合開始剤が挙げられる
。
The polymerization initiator is not particularly limited, and a known polymerization initiator can be used.
Examples of the polymerization initiator include benzoin / benzoin alkyl ethers such as benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether; acetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxy-2-ether Phenyl acetophenone, 1- [4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one, 1,1-dichloroacetophenone, 2-methyl-1- [4-] Acetophenones such as (methylthio) phenyl] -2-morpholino-propan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butan-1-one; 2-methylanthraquinone, 2-ethyl anthraquinone, 2-tasi Anthraquinones such as lybutyl anthraquinone, 1-chloroanthraquinone, 2-amyl anthraquinone; 2,4-dimethyl thioxanthone, 2,4-diethyl thioxanthone, 2-chloro thioxanthone, thioxanthones such as 2,4-isopropyl thioxanthone; acetophenone dimethyl Ketals such as ketal and benzyl dimethyl ketal; benzophenones such as benzophenone; xanthones; photoradical polymerization initiators such as 1,7-bis (9-acridinyl) heptane.
これらの光ラジカル重合開始剤は、１種単独で用いても、２種以上を混合して用いても
よい。
These photo radical polymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.
前記光ラジカル重合開始剤の市販品としては、商品名イルガキュア１８４、イルガキュ
ア１２７、イルガキュア９０７（いずれも、ＢＡＳＦジャパン（株）製）等が挙げられる
。
As a commercial item of the said radical photopolymerization initiator, brand name Irgacure 184, Irgacure 127, Irgacure 907 (all are BASF Japan KK-made) etc. are mentioned.
前記重合開始剤の使用量は、特に制限されないが、インデックスマッチング層形成用脂
組成物の固形分の全量を１００重量％として、好ましくは０．１〜１０重量％、より好ま
しくは０．２〜７重量％、さらに好ましくは０．５〜５重量％である。上記配合割合が０
．１重量％未満では、硬化が十分に進行せず、十分な信頼性を有する硬化物が得られない
ことがある。また、上記配合割合が１０重量％を超えると、重合開始剤が、硬化物の長期
の特性に悪影響を及ぼす可能性がある。
The amount of the polymerization initiator used is not particularly limited, but is preferably 0.1 to 10% by weight, more preferably 0.2 to 10% by weight, based on 100% by weight of the total solid content of the oil composition for forming an index matching layer. It is 7% by weight, more preferably 0.5 to 5% by weight. The above mixture ratio is 0
. If the amount is less than 1% by weight, curing may not proceed sufficiently, and a cured product having sufficient reliability may not be obtained. In addition, when the blending ratio exceeds 10% by weight, the polymerization initiator may adversely affect the long-term characteristics of the cured product.
インデックスマッチング層形成用組成物に、必要に応じて使用される有機溶剤としては
、（Ａ）成分の金属酸化物粒子の分散に用いられる有機溶媒と同様の溶媒が挙げられる。
As an organic solvent used as needed in the composition for index matching layer formation, the solvent similar to the organic solvent used for dispersion of the metal oxide particle of (A) component is mentioned.
前記溶媒の使用量は、特に制限されず、所望の用途に応じて適宜調整すればよいが、硬
化性樹脂組成物の全量を１００重量％として、前記溶媒と分散媒との総重量が、好ましく
は４０〜９９重量％であり、より好ましくは４５〜９９重量％である。
The amount of the solvent used is not particularly limited and may be appropriately adjusted according to the desired application, but the total weight of the solvent and the dispersion medium is preferably 100% by weight of the total amount of the curable resin composition. Is 40 to 99% by weight, more preferably 45 to 99% by weight.
インデックスマッチング層は、前記インデックスマッチング層形成用組成物を、基板上
に塗工し、乾燥工程により有機溶媒を除去することで塗膜を形成した後、活性エネルギー
線を照射することで塗膜を硬化させることにより、形成することが好ましい。
The index matching layer is formed by applying the composition for forming the index matching layer on a substrate and removing the organic solvent by a drying process to form a coating, and then applying the active energy ray to the coating. It is preferable to form by curing.
本発明において、インデックスマッチング層は、中〜高屈折率を有し、高光透過性であ
り、ヘイズが小さい。
In the present invention, the index matching layer has a medium to high refractive index, is highly transparent to light, and has a small haze.
インデックスマッチング層形成用組成物を基板上に塗工する方法としては、特に制限さ
れないが、ロールコート法、グラビアコート法、スピンコート法およびドクターブレード
を用いる方法等が挙げられる。
The method for applying the composition for forming an index matching layer on a substrate is not particularly limited, and examples thereof include a roll coating method, a gravure coating method, a spin coating method, and a method using a doctor blade.
前記乾燥工程は、有機溶媒を除去できれば特に制限されないが、好ましくは５０〜１５
０℃、より好ましくは６０〜１２０℃で、好ましくは１〜５分、より好ましくは１〜２分
間加熱する方法が挙げられる。また、乾燥工程は、常圧下で行ってもよいし、減圧下で行
ってもよい。
The drying step is not particularly limited as long as the organic solvent can be removed, but preferably 50 to 15
A method of heating at 0 ° C., more preferably at 60 to 120 ° C., preferably for 1 to 5 minutes, more preferably for 1 to 2 minutes can be mentioned. The drying step may be performed under normal pressure or under reduced pressure.
前記活性エネルギー線の照射光源としては、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超
高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプなどが挙げられる。また、レーザー
光線なども露光用活性光源として利用できる。その他、電子線、α線、β線、γ線、Ｘ線
中性子線なども利用可能である。
As the irradiation light source of the active energy ray, a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultra high pressure mercury lamp, a xenon lamp, a metal halide lamp and the like can be mentioned. Moreover, a laser beam etc. can be utilized as an active light source for exposure. In addition, electron beams, alpha rays, beta rays, gamma rays, X-ray neutron rays and the like can also be used.
照射量は、用いるインデックスマッチング層形成用組成物に応じて適宜調節すればよい
が、ＵＶ−３５１、株式会社オーク製作所製で測定した値で、好ましくは１００〜２００
０ｍＪ／ｃｍ2程度であり、より好ましくは１００〜１０００ｍＪ／ｃｍ2程度ある。
The irradiation dose may be appropriately adjusted according to the composition for forming the index matching layer to be used, but it is preferably a value measured by UV-351, manufactured by Oak Manufacturing Co., Ltd., preferably 100 to 200.
Was 0 mJ / cm 2 or so, more preferably the degree 100~1000mJ / cm 2.
照射雰囲気は、窒素等の不活性ガス中が、硬化性の観点から好ましい。 The irradiation atmosphere is preferably in an inert gas such as nitrogen from the viewpoint of curability.
本発明において、インデックスマッチング層の厚みは、所望の用途に応じて適宜選択す
ればよいが、好ましくは０．０１〜５μｍであり、より好ましくは０．０１〜４μｍであ
る。
In the present invention, the thickness of the index matching layer may be appropriately selected depending on the desired application, but is preferably 0.01 to 5 μm, and more preferably 0.01 to 4 μm.
本発明において、インデックスマッチング層は、アッベ屈折率計（（株）アタゴ製）で
測定した屈折率が、１．５９〜１．８０の範囲にあることが好ましく、１．６０〜１．７
５の範囲にあることがより好ましい。
In the present invention, the index matching layer preferably has a refractive index measured by an Abbe refractometer (manufactured by Atago Co., Ltd.) in the range of 1.59 to 1.80, and 1.60 to 1.7.
More preferably, it is in the range of 5.
前記インデックスマッチング層の厚み２μｍにおけるＪＩＳ Ｋ７１０５透明度試験法
における全光線透過率は、８５％以上であることが好ましく、８８％以上であることがよ
り好ましい。全光線透過率は、カラーヘーズメーター（スガ試験機（株）製）を用いて測
定することができる。
The total light transmittance in the JIS K 7105 transparency test method at a thickness of 2 μm of the index matching layer is preferably 85% or more, and more preferably 88% or more. The total light transmittance can be measured using a color haze meter (manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.).
前記インデックスマッチング層の全光線透過率が前記範囲にあることで、インデックス
マッチング層は高光透過性が求められる用途においても好適に使用することができ、高光
透過性の表示装置を得ることができる。
When the total light transmittance of the index matching layer is in the above range, the index matching layer can be suitably used in applications where high light transmittance is required, and a display device with high light transmittance can be obtained.
前記インデックスマッチング層は、カラーヘーズメーター（スガ試験機（株）製）で測
定したヘイズが、１．０％以下であることが好ましく、０．７％以下であることがより好
ましい。
The index matching layer preferably has a haze of 1.0% or less, more preferably 0.7% or less, as measured by a color haze meter (manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.).
前記インデックスマッチング層のヘイズが前記範囲にあることで、透明性が求められる
用途においても好適に使用することができる。
When the haze of the index matching layer is in the above range, it can be suitably used also in applications where transparency is required.
＜透明導電体層＞
前記透明導電体層は、前記インデックスマッチング層上に形成される。
<Transparent conductor layer>
The transparent conductor layer is formed on the index matching layer.
前記透明導電体層としては、透明であって、導電性を示す層であれば特に制限されない
が、酸化スズ、酸化インジウム、酸化アンチモン、酸化亜鉛、酸化カドミウム、酸化イン
ジウムスズ（ＩＴＯ）および酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）などの金属酸化物からなる層
や、これらの金属酸化物を主体とする複合層、金、銀、銅、錫、ニッケル、アルミ
ニウム
およびパラジウムなどの金属からなる層が挙げられる。
The transparent conductive layer is not particularly limited as long as it is a transparent and conductive layer, but tin oxide, indium oxide, antimony oxide, zinc oxide, cadmium oxide, indium tin oxide (ITO) and indium oxide are not particularly limited. A layer made of metal oxide such as zinc (IZO), a composite layer mainly made of these metal oxides, a layer made of metal such as gold, silver, copper, tin, nickel, aluminum and palladium can be mentioned.
前記透明導電体層として、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）からなる層を用いる場合には
、機械強度を高めるため、得られる層を結晶化させるため、層を低抵抗にする等のために
、透明導電体層形成用材料として、好ましくは酸化インジウムおよび２〜１８重量％の酸
化スズを含む材料、より好ましくは８２〜９８重量％の酸化インジウムおよび２〜１８重
量％の酸化スズを含む材料、さらに好ましくは８５〜９６重量％の酸化インジウムおよび
４〜１５重量％の酸化スズを含む材料を用いることが望ましい。但し、透明導電体層形成
用材料全体を１００重量％とする。
When a layer made of indium tin oxide (ITO) is used as the transparent conductor layer, the transparent conductive layer is used to lower the resistance of the layer in order to crystallize the layer to increase mechanical strength. As a material for forming a body layer, preferably a material comprising indium oxide and 2 to 18% by weight of tin oxide, more preferably a material comprising 82 to 98% by weight of indium oxide and 2 to 18% by weight of tin oxide, more preferably Preferably, a material containing 85 to 96% by weight of indium oxide and 4 to 15% by weight of tin oxide is used. However, the total weight of the transparent conductor layer forming material is 100% by weight.
前記透明導電体層の形成方法としては、特に制限されないが真空蒸着法、スパッタリン
グ法、イオンプレーティング法等の物理蒸着法、化学蒸着（ＣＶＤ）法などの公知の方法
を挙げることができるが、得られる層の均一性や前記インデックスマッチング層への薄膜
の密着性の観点から、スパッタリング法で透明導電体層を形成することが好ましい。
The method for forming the transparent conductive layer is not particularly limited, and examples thereof include known methods such as vacuum evaporation, sputtering, physical vapor deposition such as ion plating, chemical vapor deposition (CVD), etc. From the viewpoint of the uniformity of the obtained layer and the adhesion of the thin film to the index matching layer, it is preferable to form the transparent conductor layer by sputtering.
また、ポリチオフェン系やポリアニリン系の導電性ポリマーを前記インデックスマッチ
ング層上に塗布し、成膜することで透明導電体層を形成してもよい。
Alternatively, a transparent conductive layer may be formed by applying a polythiophene-based or polyaniline-based conductive polymer onto the index matching layer and forming a film.
前記透明導電体層は１層でもよいし、多層からなっていてもよい。多層の場合には、合
計膜厚が前記範囲となるように調整することが好ましい。前記透明導電体層が多層からな
る場合には、同一の材料からなる多層であってもよいし、異なる材料からなる多層であっ
てもよい。
The transparent conductive layer may be a single layer or a multilayer. In the case of multiple layers, it is preferable to adjust the total film thickness to be in the above range. When the said transparent conductor layer consists of multilayers, it may be a multilayer which consists of the same material, and may be a multilayer which consists of a different material.
前記透明導電体層を形成する際には、本発明の効果を損なわない限り、予め前記インデ
ックスマッチング層の表面に周知の種々の添加剤や安定剤、例えば紫外線防止剤、可塑剤
、滑剤、易接着剤などを塗布しておいてもよい。また、前記インデックスマッチング層と
透明導電体層との密着性を向上させるため、本発明の効果を損なわない限り、前記インデ
ックスマッチング層表面を予めコロナ処理、プラズマ処理、イオンボンバード処理、薬品
処理などしてもよい。
In forming the transparent conductive layer, various additives and stabilizers well known in advance on the surface of the index matching layer, such as UV inhibitors, plasticizers, lubricants, and the like, as long as the effects of the present invention are not impaired. An adhesive or the like may be applied. Moreover, in order to improve the adhesion between the index matching layer and the transparent conductor layer, the surface of the index matching layer is subjected to corona treatment, plasma treatment, ion bombardment treatment, chemical treatment, etc. in advance as long as the effects of the present invention are not impaired. May be
本発明の積層体を静電容量方式のタッチパネルに用いる場合には、透明導電体層をパタ
ーニングすることができる。
In the case of using the laminate of the present invention for a capacitive touch panel, the transparent conductor layer can be patterned.
パターニングする方法としては、透明導電体層上にレジストを塗布し、パターンを露光
・現像により形成した後に透明導電体層を化学的に溶解させる方法、真空中で化学反応に
より気化させる方法、レーザーにより透明導電体層を昇華させる方法などが挙げられるが
、パターンの形状、精度等により、適宜選択できる。
As a method of patterning, a method of applying a resist on a transparent conductor layer, forming a pattern by exposure and development and then chemically dissolving the transparent conductor layer, a method of vaporizing by a chemical reaction in vacuum, a laser Although the method etc. which sublimate a transparent conductor layer etc. are mentioned, it can select suitably by the shape of a pattern, precision, etc.
透明導電体層の厚みは、好ましくは１〜３００ｎｍであり、より好ましくは１〜２００
ｎｍである。透明導電体層の厚みが、前記範囲にあることで、低抵抗と高い透明性とのバ
ランス等に優れる積層体を得ることができる。
The thickness of the transparent conductor layer is preferably 1 to 300 nm, more preferably 1 to 200
nm. When the thickness of the transparent conductor layer is in the above range, a laminate excellent in the balance between low resistance and high transparency can be obtained.
また、透明導電体層の屈折率は、前記インデックスマッチング層を設けることが得られ
る表示装置の視認性に大きく寄与する点から、好ましくは１．７〜２．５であり、より好
ましくは１．８〜２．２である。
Further, the refractive index of the transparent conductor layer is preferably 1.7 to 2.5, and more preferably 1. from the viewpoint of greatly contributing to the visibility of the display device in which the index matching layer can be provided. 8 to 2.2.
本発明の積層体は、本発明の効果を損なわない範囲において、その少なくとも一方の面
に、偏光板、反射防止膜、ハードコート膜、帯電防止膜、防汚膜などを有していてもよい
。さらに、アンチニュートンリング処理を行ってもよい。
The laminate of the present invention may have a polarizing plate, an antireflective film, a hard coat film, an antistatic film, an antifouling film, etc. on at least one surface within the range that does not impair the effects of the present invention. . Furthermore, an anti-Newton ring process may be performed.
本発明において、インデックスマッチング層と透明導電体層との間に、表示装置の視認
性をより向上させる目的で、低屈折率層を設けてもよい。低屈折率層の屈折率は、好まし
くは１．３３〜１．５２であり、より好ましくは１．３３〜１．５０である。
In the present invention, a low refractive index layer may be provided between the index matching layer and the transparent conductor layer in order to further improve the visibility of the display device. The refractive index of the low refractive index layer is preferably 1.33 to 1.52, and more preferably 1.33 to 1.50.
本発明においてインデックスマッチング層は、中〜高屈折率を有するため、該インデッ
クスマッチング層を基板とパターン状の透明導電体層との間に設けることで、基板上の透
明導電体層を有する部分と、基板上の透明導電体層を有しない部分との光学特性の差を低
減することができる。このため、前記積層体を用いることで、透明導電体層がパターン状
であっても視認性に優れる表示装置を得ることができる。従って、前記インデックスマッ
チング層は、インデックスマッチング層としての役割を果たす。
In the present invention, since the index matching layer has a medium to high refractive index, by providing the index matching layer between the substrate and the transparent conductor layer in a pattern, a portion having the transparent conductor layer on the substrate and It is possible to reduce the difference in optical characteristics with the portion not having the transparent conductor layer on the substrate. For this reason, even if a transparent conductor layer is pattern shape, the display apparatus which is excellent in visibility can be obtained by using the said laminated body. Thus, the index matching layer acts as an index matching layer.
≪表示装置≫
本発明の表示装置は、前記積層体を含む。このため、前記表示装置は、視認性に優れる
。
«Display device»
The display device of the present invention includes the above-mentioned laminate. For this reason, the said display apparatus is excellent in visibility.
前記表示装置としては、タッチパネルが挙げられ、携帯電話、スマートフォン、携帯情
報端末、カーナビ、タブレットＰＣ、販売機器、ＡＴＭ、ＦＡ機器等のタッチパネルを有
する電子機器に制限なく使用することができる。
Examples of the display device include a touch panel, and can be used without limitation to electronic devices having a touch panel such as a mobile phone, a smartphone, a portable information terminal, a car navigation system, a tablet PC, a sales device, an ATM, and a FA device.
本発明によれば、抵抗膜方式、表面弾性波方式、赤外線方式、電磁誘導方式、静電容量
方式等、何れの方式のタッチパネルも製造することができる。
According to the present invention, it is possible to manufacture a touch panel of any type such as a resistive film type, a surface acoustic wave type, an infrared type, an electromagnetic induction type, and a capacitance type.
前記タッチパネルとしては、抵抗膜方式や静電容量方式のタッチパネルが好ましく、静
電容量方式のタッチパネルがより好ましい。
The touch panel is preferably a resistive touch panel or a capacitive touch panel, and more preferably a capacitive touch panel.
以下、本発明を実施例により説明するが、本発明は、この実施例により何ら限定される
ものではない。なお、合成例、製造例、実施例および比較例中の「部」は、「重量部」を
示し、合成例および製造例中の「％」は、「重量％」を示す。
インデックスマッチング層形成用組成物
［成分Ａ］
Ａ−１；堀場製作所株式会社製ＬＢ−５５０を用いて測定した体積基準の粒度分布におけ
る、累積分布５０％の値（Ｄ５０）が３０ｎｍである酸化ジルコニウム粒子を固形分３３
％でメチルエチルケトンに分散した分散液。
［成分Ｂ］
Ｂ−１；透過型電子顕微鏡により測定した平均粒子径が８０ｎｍのシリカ粒子を固形分濃
度７０％でメチルエチルケトンへ分散した分散液。
［成分Ｃ］
Ｃ−１；ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサア
クリレートとの混合物
Ｃ−２；ペンタエリスリトールトリアクリレート
［成分Ｄ］
Ｄ−１；１−[４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル]−２−ヒドロキシ−２−メチ
ル−１−プロパン−１−オン
実施例１〜７
表１に示す配合割合で、上述の成分（Ａ）〜（Ｄ）を混合して、インデックスマッチング
層形成用組成物Ｆ−１〜Ｆ−７を得た。なお、表１において、成分（Ａ）〜成分（Ｃ）の
割合は分散媒を除く成分（Ａ）〜成分（Ｃ）の合計を１００重量％とした場合の成分（Ａ
）〜成分（Ｃ）の含有割合である。
Hereinafter, the present invention will be described by way of examples, but the present invention is not limited at all by these examples. In addition, "part" in a synthesis example, a manufacture example, an Example, and a comparative example shows a "weight part", and "%" in a synthesis example and a manufacture example shows "weight%".
Composition for forming an index matching layer [component A]
A-1; Zirconium oxide particles having a cumulative distribution 50% value (D50) of 30 nm in a volume-based particle size distribution measured using LB-550 manufactured by Horiba, Ltd. 33
% Dispersed in methyl ethyl ketone.
[Component B]
B-1: A dispersion in which silica particles having an average particle diameter of 80 nm measured by a transmission electron microscope are dispersed in methyl ethyl ketone at a solid concentration of 70%.
[Component C]
C-1: mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate C-2; pentaerythritol triacrylate [component D]
D-1; 1- [4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl] -2-hydroxy-2-methyl-1-propan-1-one Examples 1 to 7
The above-mentioned components (A) to (D) were mixed at blending ratios shown in Table 1 to obtain compositions F-1 to F-7 for forming an index matching layer. In Table 1, the proportions of component (A) to component (C) were components (A) when the total of component (A) to component (C) excluding the dispersion medium was 100% by weight.
) To the content ratio of the component (C).
得られた組成物「Ｆ−１」〜「Ｆ−７」の各々について、以下のように評価した。
バーコーターを用いて、易接着層付きＰＥＴフィルム上にインデックスマッチング層形成
用組成物「Ｆ−１」〜「Ｆ−１７」を塗工した。８０℃で２分乾燥した後、高圧水銀灯を
用いて空気下で照射量３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して膜厚２μｍのインデックス
マッチング層を作製した。
Each of the obtained compositions “F-1” to “F-7” was evaluated as follows.
The composition "F-1"-"F-17" for index matching layer formation was coated on the PET film with an easily bonding layer using the bar coater. After drying at 80 ° C. for 2 minutes, an index matching layer having a film thickness of 2 μm was produced by irradiating ultraviolet light with an irradiation amount of 300 mJ / cm 2 under air using a high pressure mercury lamp.
得られたインデックスマッチング層について、下記特性を測定し評価した。結果を表１
および表２に示す。
The following characteristics were measured and evaluated about the obtained index matching layer. Table 1 shows the results
And in Table 2.
（１）ヘイズ 硬化膜のヘイズ（％）を、カラーヘーズメーター（スガ試験機（株）製
）を用いて、ＪＩＳ Ｋ７１０５に準拠して測定した。
(1) Haze The haze (%) of the cured film was measured according to JIS K7105 using a color haze meter (manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.).
（２）全光線透過率 硬化膜の全光線透過率（％）を、カラーヘーズメーター（スガ試
験機（株）製）を用いて、ＪＩＳ Ｋ７１０５に準拠して測定した。
(2) Total Light Transmittance The total light transmittance (%) of the cured film was measured using a color haze meter (manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.) in accordance with JIS K7105.
（３）屈折率
硬化膜の屈折率を、アッベ屈折率計（（株）アタゴ製）を用いて、ＪＩＳ ７１４２に
準拠して測定した。
＜積層体の作成＞
バーコーターを用いて、易接着層付きＰＥＴフィルム上にインデックスマッチング層形成
用組成物「Ｆ−１」〜「Ｆ−１７」を塗工した。８０℃で２分乾燥した後、高圧水銀灯を
用いて空気下で照射量３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して膜厚２μｍのインデックス
マッチング層を作製した。
次いで前記インデックスマッチング層の表面にインジウムスズ酸化物からなる透明導電膜
層をスパッタリング法で２０ｎｍの厚みで形成した。
さらに、透明導電体層上に幅３ｍｍのポリイミド粘着テープを３ｍｍ間隔で平行に５本貼
り付けた後、３０％の塩酸水溶液に室温下で２分浸漬し、透明導電体層のエッチングを行
った。その後、超純水で洗浄し、ポリイミド粘着テープを剥離する事で、幅３ｍｍの透明
導電体層パターンを形成した。
＜積層体の特性評価＞
上記のようにして作製した積層体について、下記特性を測定し評価した。結果を表１お
よび表２に示す。
・積層体の変形
透明導電体層上に幅３ｍｍのポリイミドテープを３ｍｍ間隔で平行に５本貼り付け、ポ
リイミドテープをマスクとして透明導電体層をエッチング処理した後、ポリイミドテープ
を剥がす事で、３ｍｍ幅の透明導電体層ラインパターンを形成した。パターン形成後の積
層体について、目視にて外観を確認し、変形がほぼ見えない場合を「○」、変形がやや見
える場合を「△」、変形が見える場合を「×」とした。
(3) Refractive Index The refractive index of the cured film was measured using an Abbe refractometer (manufactured by Atago Co., Ltd.) in accordance with JIS 7142.
<Creating a laminate>
The composition "F-1"-"F-17" for index matching layer formation was coated on the PET film with an easily bonding layer using the bar coater. After drying at 80 ° C. for 2 minutes, an index matching layer having a film thickness of 2 μm was produced by irradiating ultraviolet light with an irradiation amount of 300 mJ / cm 2 under air using a high pressure mercury lamp.
Next, a transparent conductive film layer made of indium tin oxide was formed to a thickness of 20 nm by sputtering on the surface of the index matching layer.
Furthermore, five polyimide adhesive tapes with a width of 3 mm were attached in parallel at intervals of 3 mm on the transparent conductor layer, and then immersed in a 30% aqueous hydrochloric acid solution for 2 minutes at room temperature to etch the transparent conductor layer. . Thereafter, the resultant was washed with ultrapure water, and the polyimide adhesive tape was peeled off to form a transparent conductor layer pattern having a width of 3 mm.
<Characteristics evaluation of laminate>
The following characteristics were measured and evaluated about the laminated body produced as mentioned above. The results are shown in Tables 1 and 2.
・ Deformation of layered product 5 pieces of polyimide tape of width 3 mm are stuck in parallel on 3 mm intervals on the transparent conductor layer, etching processing of the transparent conductor layer using the polyimide tape as a mask, then peeling off the polyimide tape, 3 mm A transparent conductor layer line pattern of width was formed. The appearance of the layered product after pattern formation was visually confirmed, and the case where the deformation was hardly visible was "○", the case where the deformation was slightly visible was "Δ", and the case where the deformation was visible was "X".
比較例１〜１６
表２、表３に示す配合割合で、上述の成分（Ａ）〜（Ｄ）を混合して、インデックスマッチング層形成用組成物Ｆ−１〜Ｆ−２３を得た。なお、表２、表３において、成分（Ａ）〜成分（Ｃ）の割合は分散媒を除く成分（Ａ）〜成分（Ｃ）の合計を１００重量％とした場合の成分（Ａ）〜成分（Ｃ）の含有割合である。
Comparative Examples 1 to 16
The above-mentioned components (A) to (D) were mixed at compounding ratios shown in Table 2 and Table 3 to obtain compositions F-1 to F-23 for forming an index matching layer. In Tables 2 and 3, the proportions of components (A) to (C) were 100% by weight of the total of components (A) to (C) excluding the dispersion medium. It is a content rate of (C).
得られた組成物「Ｆ−８」〜「Ｆ−２３」の各々について、実施例１と同様にして評価
した。
Each of the obtained compositions "F-8" to "F-23" was evaluated in the same manner as in Example 1.
また、組成物「Ｆ−１」〜「Ｆ−７」の代わりに「Ｆ−８」〜「Ｆ−２３」を用いた以
外は実施例１と同様にして積層体を製造し、評価した。結果を表２、表３に示す。
Moreover, except having used "F-8"-"F-23" instead of composition "F-1"-"F-7", it carried out similarly to Example 1, manufactured and evaluated the laminated body. The results are shown in Tables 2 and 3.
１：基板
２：透明導電体層
３：インデックスマッチング層
Ａ：基板上の導電体層を有する部分
Ｂ：基板上の導電体層を有さない部分
1: Substrate 2: Transparent conductor layer 3: Index matching layer A: Portion with conductor layer on substrate B: Portion without conductor layer on substrate
Claims (3)
前記（Ｃ）成分がジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートおよびペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレートからなる群より選択される少なくとも１種を含み、
前記（Ａ）成分、（Ｂ）成分および（Ｃ）成分の合計量を１００重量％とした場合、（Ａ）成分４０．８重量％超７０重量％以下、成分（Ｂ）５．１重量％超２５重量％以下および（Ｃ）成分２２〜３８重量％を含む組成物からなることを特徴とする積層体。 A transparent substrate, an index matching layer, and a transparent electrode layer are laminated in this order, and the refractive index of the index matching layer is 1.59 to 1.80, and (A) a metal oxide particle having a refractive index of 1.7 or more , (B) silica particles and (C) a resin component,
The component (C) comprises at least one selected from the group consisting of dipentaerythritol hexa (meth) acrylate and pentaerythritol tetra (meth) acrylate;
When the total amount of the (A) component, the (B) component and the (C) component is 100% by weight, the (A) component is more than 40.8% by weight and not more than 70% by weight , the component (B) 5.1% by weight laminate characterized by comprising a composition comprising 22 to 38 wt% ultra 25% by weight Contact and component (C).
前記（Ｃ）成分がジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートおよびペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレートからなる群より選択される少なくとも１種を含み、
前記（Ａ）成分、（Ｂ）成分および（Ｃ）成分の合計量を１００重量％とした場合、（Ａ）成分４０．８重量％超７０重量％以下、成分（Ｂ）５．１重量％超２５重量％以下および（Ｃ）成分２２〜３８重量％を含み、かつその硬化物の屈折率が１．５９〜１．８０であることを特徴とするインデックスマッチング層形成用組成物。
(A) metal oxide particles having a refractive index of 1.7 or more, (B) silica particles, (C) a curable compound having a polymerizable group,
The component (C) comprises at least one selected from the group consisting of dipentaerythritol hexa (meth) acrylate and pentaerythritol tetra (meth) acrylate;
When the total amount of the (A) component, the (B) component and the (C) component is 100% by weight, the (A) component is more than 40.8% by weight and not more than 70% by weight , the component (B) 5.1% by weight ultra 25 wt% Contact and comprises 22 to 38 wt% (C) component, and the index-matching layer forming composition the refractive index of the cured product is characterized by a 1.59 to 1.80.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013065188 | 2013-03-26 | ||
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Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2014209333A JP2014209333A (en) | 2014-11-06 |
| JP6505370B2 true JP6505370B2 (en) | 2019-04-24 |
Family
ID=51903506
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP6505370B2 (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110537231A (en) * | 2017-04-19 | 2019-12-03 | 日东电工株式会社 | Conductive membrane and touch panel |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6683371B2 (en) | 2015-02-04 | 2020-04-22 | Ａｇｃ株式会社 | Substrate with conductive film |
| CN107922589B (en) | 2015-07-27 | 2022-05-03 | 株式会社Adeka | Resin composition and cured product |
| JP6681726B2 (en) * | 2016-02-01 | 2020-04-15 | 日東電工株式会社 | Transparent conductive film |
| JP7102727B2 (en) * | 2017-12-25 | 2022-07-20 | 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 | Active energy ray-curable composition and index matching layer and laminate using it |
| KR20200035350A (en) * | 2018-09-26 | 2020-04-03 | 아라까와 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | Active energy ray-curable resin composition, cured product and laminate |
| JP6750666B2 (en) * | 2018-12-27 | 2020-09-02 | 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 | Laminated body and method for manufacturing laminated body |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3862941B2 (en) * | 2000-07-21 | 2006-12-27 | リンテック株式会社 | High definition antiglare hard coat film |
| US7864425B2 (en) * | 2005-09-16 | 2011-01-04 | Panasonic Corporation | Composite material and optical component using the same |
| JP2009132763A (en) * | 2007-11-29 | 2009-06-18 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | Curable composition |
| US10042481B2 (en) * | 2009-03-31 | 2018-08-07 | Teijin Limited | Transparent electroconductive laminate and transparent touch panel |
| EP2402481A1 (en) * | 2010-06-29 | 2012-01-04 | Applied Materials, Inc. | Method and system for manufacturing a transparent body for use in a touch panel |
| CN102736764B (en) * | 2011-04-04 | 2015-08-12 | 宸鸿科技(厦门)有限公司 | Contact panel and manufacture method thereof |
| KR101313663B1 (en) * | 2011-06-22 | 2013-10-02 | 도레이 필름 카코우 가부시키가이샤 | Transparent conductive film and touch panel |
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2014
- 2014-03-19 JP JP2014056012A patent/JP6505370B2/en active Active
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| CN110537231A (en) * | 2017-04-19 | 2019-12-03 | 日东电工株式会社 | Conductive membrane and touch panel |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2014209333A (en) | 2014-11-06 |
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| A977 | Report on retrieval |
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|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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