JP2017522581A - Low refractive composition, method for producing the same, and transparent conductive film - Google Patents

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Abstract

オルガノポリシロキサン（ｏｒｇａｎｏｐｏｌｙｓｉｌｏｘａｎｅ）及び平均直径が約３０ｎｍ〜約７０ｎｍである無機粒子を含む低屈折組成物、その製造方法及び透明導電性フィルムを提供する。A low-refractive composition comprising an organopolysiloxane and inorganic particles having an average diameter of about 30 nm to about 70 nm, a method for producing the same, and a transparent conductive film are provided.

Description

低屈折組成物、その製造方法、及び透明導電性フィルムに関する。   The present invention relates to a low refractive composition, a method for producing the same, and a transparent conductive film.

タッチスクリーン機能を有するスマートフォン、タブレットＰＣ、現金自動預け払い機、ノートパソコン、ＴＶ等の電子機器は、タッチにより反応して情報を入力または操作できるタッチスクリーンパネルと、ＬＣＤまたはＯＬＥＤ等のようなディスプレイ装置を含む。   Electronic devices such as smartphones, tablet PCs, automatic teller machines, notebook computers, and TVs that have touch screen functions are touch screen panels that can input or operate information in response to touch, and displays such as LCD or OLED Including equipment.

一般に、タッチスクリーンパネルは、透明導電性フィルムを含み、透明性及び電気伝導性を同時に具現してタッチにより反応する性能を発揮することができる。また、例えば、タッチスクリーンパネルは、位置検出の方法によって、光学方式、超音波方式、静電容量方式、抵抗膜方式のタッチパネル等があり、順次に透明導電性フィルム、例えば、ＯＣＡ（ｏｐｔｉｃａｌｌｙ ｃｌｅａｒ ａｄｈｅｓｉｖｅ）、ＯＣＲ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｌｅａｒ Ｒｅｓｉｎ）等のような光学用粘着フィルム、ガラス基板や透明プラスチック基板等を含む多層構造の積層体として形成される。   Generally, a touch screen panel includes a transparent conductive film, and can exhibit the performance of reacting by touch by simultaneously realizing transparency and electrical conductivity. In addition, for example, the touch screen panel includes an optical method, an ultrasonic method, a capacitance method, a resistance film type touch panel, and the like depending on a position detection method, and sequentially includes a transparent conductive film, for example, OCA (Optically Clear Adhesive). ), An optical adhesive film such as OCR (Optically Clear Resin), a glass substrate, a transparent plastic substrate, and the like.

このような透明導電性フィルムは、基材層と導電性物質、例えば、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）で形成された電極を含む導電層等を含んでおり、通常、ロール形態で巻き取られるか、または複数枚のフィルムが積層されて流通されているが、それによって、透明導電性フィルムが互いにくっつくようになり、これをタッチスクリーンパネルに適用するために広げる過程で透明導電性フィルムの性能が低下する問題がある。   Such a transparent conductive film includes a base material layer and a conductive material, for example, a conductive layer including an electrode formed of indium tin oxide (ITO), and is usually wound in a roll form, Or, a plurality of films are laminated and distributed, which causes the transparent conductive films to stick to each other, and the performance of the transparent conductive film deteriorates in the process of spreading for application to a touch screen panel. There is a problem to do.

その上、導電層の電極を形成する素材として、ＩＴＯだけでなく、銀ナノワイヤー等も用いることができるが、このような素材を用いる場合は、電極パターンの幅が相対的に増加してインデックスマッチング性を満たさないことで、製品を用いる消費者の肉眼に電極パターンが見られ、視認性が低下する。   In addition, as a material for forming the electrode of the conductive layer, not only ITO but also silver nanowires can be used. However, when such a material is used, the width of the electrode pattern is relatively increased and the index is increased. By not satisfying the matching property, the electrode pattern is seen on the naked eye of the consumer who uses the product, and the visibility is lowered.

本発明の一具現例において、優れたブロッキング防止性能及び優れた光学物性を具現し、かつ電気伝導性を低下させない低屈折組成物を提供する。   In one embodiment of the present invention, a low-refractive composition that realizes excellent anti-blocking performance and excellent optical physical properties and does not decrease electrical conductivity is provided.

本発明の他の具現例において、前記低屈折組成物の製造方法を提供する。   In another embodiment of the present invention, a method for producing the low refractive composition is provided.

本発明のまた他の具現例において、前記低屈折組成物により形成された低屈折層を含み、優れたブロッキング防止性能、優れた光学物性及び優れた電気伝導性を具現する透明導電性フィルムを提供する。   In another embodiment of the present invention, a transparent conductive film including a low-refractive layer formed of the low-refractive composition and realizing excellent anti-blocking performance, excellent optical properties and excellent electrical conductivity is provided. To do.

本発明の一具現例において、オルガノポリシロキサン（ｏｒｇａｎｏｐｏｌｙｓｉｌｏｘａｎｅ）及び平均直径が約３０ｎｍ〜約７０ｎｍである無機粒子を含む低屈折組成物を提供する。   In one embodiment of the present invention, a low refractive composition comprising an organopolysiloxane and inorganic particles having an average diameter of about 30 nm to about 70 nm is provided.

前記オルガノポリシロキサン約１００重量部に対して、前記無機粒子を約０．５重量部〜約２０重量部で含むことができる。   The inorganic particles may be included in an amount of about 0.5 to about 20 parts by weight with respect to about 100 parts by weight of the organopolysiloxane.

前記オルガノポリシロキサンは、炭素数１個〜１８個のアルキル基、炭素数１個〜１８個のアルコキシ基、炭素数２個〜６個のエステル基、炭素数２個〜１２個のエポキシ基、炭素数２個〜１２個のアルケニル基、炭素数６個〜１２個の芳香族基、炭素数３個〜１８個のアクリル基、グリシジル基、アミン基、チオール基、ハロゲン基、及びこれらの組み合わせからなる群から選択された少なくとも一つの官能基を含むことができる。   The organopolysiloxane is an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 18 carbon atoms, an ester group having 2 to 6 carbon atoms, an epoxy group having 2 to 12 carbon atoms, Alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms, aromatic group having 6 to 12 carbon atoms, acrylic group having 3 to 18 carbon atoms, glycidyl group, amine group, thiol group, halogen group, and combinations thereof At least one functional group selected from the group consisting of:

前記オルガノポリシロキサンは、線形構造、網状構造、またはこれらをいずれも含むことができる。   The organopolysiloxane may include a linear structure, a network structure, or any of these.

前記オルガノポリシロキサンは、下記化学式１のシラン化合物及び下記化学式２のシラン化合物を含む組成物がゾル−ゲル反応を進行して形成される：
［化学式１］
Ｒ1 xＳｉ（ＯＲ2）4-x
［化学式２］
Ｓｉ（ＯＲ3）4 The organopolysiloxane is formed by a sol-gel reaction of a composition containing a silane compound represented by the following chemical formula 1 and a silane compound represented by the following chemical formula 2:
[Chemical Formula 1]
R 1 x Si (OR 2 ) 4-x
[Chemical formula 2]
Si (OR 3 ) 4

前記化学式１において、前記Ｒ1は、炭素数１個〜１８個のアルキル基、炭素数２個〜６個のエステル基、炭素数２個〜１２個のエポキシ基、炭素数２個〜１２個のアルケニル基、炭素数６個〜１２個の芳香族基、炭素数３個〜１８個のアクリル基、グリシジル基、アミン基、チオール基またはハロゲン基であり、前記Ｒ2及び前記Ｒ3は、それぞれ独立して、Ｈ、または炭素数１個〜１８個のアルキル基であり、前記ｘは、１、２、または３である。 In the chemical formula 1, R 1 is an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an ester group having 2 to 6 carbon atoms, an epoxy group having 2 to 12 carbon atoms, or 2 to 12 carbon atoms. An alkenyl group, an aromatic group having 6 to 12 carbon atoms, an acrylic group having 3 to 18 carbon atoms, a glycidyl group, an amine group, a thiol group, or a halogen group, and R 2 and R 3 are Each independently represents H or an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, and x is 1, 2, or 3.

前記ゾル−ゲル反応を進行する前に、前記組成物に前記無機粒子がさらに混合されて含まれる。   Prior to proceeding with the sol-gel reaction, the composition is further mixed with the inorganic particles.

前記オルガノポリシロキサンは、重量平均分子量が約３，０００ｇ／ｍｏｌ〜約５５，０００ｇ／ｍｏｌであってよい。   The organopolysiloxane may have a weight average molecular weight of about 3,000 g / mol to about 55,000 g / mol.

前記無機粒子は、シリカ粒子、アルミナ粒子、酸化ジルコニウム粒子、酸化チタン粒子、酸化アンチモン粒子、及びこれらの組み合わせからなる群から選択された少なくとも一つの粒子を含むことができる。   The inorganic particles may include at least one particle selected from the group consisting of silica particles, alumina particles, zirconium oxide particles, titanium oxide particles, antimony oxide particles, and combinations thereof.

前記低屈折組成物は、置換または非置換された単分子アルコキシシラン化合物を含まないか、またはさらに含むことができる。   The low refractive composition may not include or further include a substituted or unsubstituted monomolecular alkoxysilane compound.

本発明の他の具現例において、前記低屈折組成物により形成された低屈折層を含む透明導電性フィルムを提供する。   In another embodiment of the present invention, a transparent conductive film including a low refractive layer formed of the low refractive composition is provided.

前記低屈折層は、上部面に微細凹凸が形成され、前記微細凹凸が前記無機粒子により形成される。   The low refractive layer has fine irregularities formed on the upper surface, and the fine irregularities are formed by the inorganic particles.

前記低屈折層の厚さは、約１０ｎｍ〜約５０ｎｍであってよい。   The low refractive layer may have a thickness of about 10 nm to about 50 nm.

前記低屈折層は、屈折率が約１．４０〜約１．５０であってよい。   The low refractive layer may have a refractive index of about 1.40 to about 1.50.

前記低屈折層の下部に順次に高屈折層及び基材層をさらに含み、前記低屈折層の上部に導電層をさらに含むことができる。   The lower refractive layer may further include a high refractive layer and a base material layer sequentially, and the low refractive layer may further include a conductive layer.

前記基材層の一面または両面に接するハードコーティング層をさらに含むことができる。   It may further include a hard coating layer in contact with one or both surfaces of the base material layer.

前記透明導電性フィルムの光透過率は、約８５％以上であり、ヘイズは、約０．１％〜約０．８％であってよい。   The transparent conductive film may have a light transmittance of about 85% or more and a haze of about 0.1% to about 0.8%.

本発明のまた他の具現例において、下記化学式１のシラン化合物、下記化学式２のシラン化合物及び、平均直径が約３０ｎｍ〜約７０ｎｍである無機粒子を混合し、これらを含む原料組成物を準備するステップ；及び前記原料組成物に対してゾル−ゲル反応を進行させ、低屈折組成物を製造するステップ；を含む低屈折組成物の製造方法を提供する：
［化学式１］
Ｒ1 xＳｉ（ＯＲ2）4-x
［化学式２］
Ｓｉ（ＯＲ3）4 In another embodiment of the present invention, a silane compound represented by the following chemical formula 1, a silane compound represented by the following chemical formula 2, and inorganic particles having an average diameter of about 30 nm to about 70 nm are mixed to prepare a raw material composition containing them. And a step of producing a low refractive composition by causing a sol-gel reaction to proceed on the raw material composition.
[Chemical Formula 1]
R 1 x Si (OR 2 ) 4-x
[Chemical formula 2]
Si (OR 3 ) 4

前記化学式１において、前記Ｒ1は、炭素数１個〜１８個のアルキル基、炭素数２個〜６個のエステル基、炭素数２個〜１２個のエポキシ基、炭素数２個〜１２個のアルケニル基、炭素数６個〜１２個の芳香族基、炭素数３個〜１８個のアクリル基、グリシジル基、アミン基、チオール基またはハロゲン基であり、前記Ｒ2及び前記Ｒ3は、それぞれ独立して、Ｈ、または炭素数１個〜１８個のアルキル基であり、前記ｘは、１、２、または３である。 In the chemical formula 1, R 1 is an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an ester group having 2 to 6 carbon atoms, an epoxy group having 2 to 12 carbon atoms, or 2 to 12 carbon atoms. An alkenyl group, an aromatic group having 6 to 12 carbon atoms, an acrylic group having 3 to 18 carbon atoms, a glycidyl group, an amine group, a thiol group, or a halogen group, and R 2 and R 3 are Each independently represents H or an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, and x is 1, 2, or 3.

前記化学式１のシラン化合物及び前記化学式２のシラン化合物の総和約１００重量部に対して、前記無機粒子を約０．５重量部〜約２０重量部で混合して前記原料組成物を準備することができる。   Preparing the raw material composition by mixing the inorganic particles in an amount of about 0.5 to about 20 parts by weight with respect to a total of about 100 parts by weight of the silane compound of Formula 1 and the silane compound of Formula 2; Can do.

前記ゾル−ゲル反応を進行させる間、前記シラン化合物の間で互いに化学反応が進行してオルガノポリシロキサンが形成される。   While the sol-gel reaction proceeds, a chemical reaction proceeds between the silane compounds to form an organopolysiloxane.

前記低屈折組成物は、優れたブロッキング防止性能及び優れた光学物性を具現し、かつ電気伝導性を低下させることがない。   The low refractive composition realizes excellent anti-blocking performance and excellent optical properties, and does not lower the electrical conductivity.

本発明の他の具現例に係る透明導電性フィルムの二つの例示、（ａ）及び（ｂ）の各断面を示した概略断面図である。It is the schematic sectional drawing which showed two illustrations of the transparent conductive film which concerns on the other implementation example of this invention, and each cross section of (a) and (b).

以下、添付の図面を参考にして、本発明の具現例について、本発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者が容易に実施できるように詳細に説明する。本発明は、様々な異なる形態で具現され、ここで説明する具現例に限定されない。   Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art can easily carry out the present invention. The present invention may be embodied in various different forms and is not limited to the implementations described herein.

本発明を明確に説明するために、説明と関係ない部分は省略し、明細書全体にわたって同一または類似した構成要素に対しては、同一の参照符号を付する。   In order to clearly describe the present invention, portions not related to the description are omitted, and the same or similar components are denoted by the same reference numerals throughout the specification.

図面において、複数層及び領域を明確に表現するために、厚さを拡大して示した。そして、図面において、説明の便宜のために、一部の層及び領域の厚さを誇張して示した。   In the drawings, in order to clearly express a plurality of layers and regions, the thickness is shown enlarged. In the drawings, the thickness of some layers and regions is exaggerated for convenience of explanation.

以下において、基材の「上部（または下部）」または基材の「上（または下）」に任意の構成が形成されるということは、任意の構成が前記基材の上面（または下面）に接して形成されることを意味するだけでなく、前記基材と基材上に（または下に）形成された任意の構成の間に他の構成を含まないことに限定するものではない。   In the following, an arbitrary configuration is formed on the “upper (or lower)” of the base material or the “up (or lower)” of the base material. It is not limited to being formed in contact, and is not limited to not including other configurations between the substrate and any configuration formed on (or below) the substrate.

低屈折組成物
本発明の一具現例において、オルガノポリシロキサン（ｏｒｇａｎｏｐｏｌｙｓｉｌｏｘａｎｅ）及び平均直径が例えば約３０ｎｍ〜約７０ｎｍである無機粒子を含む低屈折組成物を提供する。具体的に、前記無機粒子の平均直径は、約３５ｎｍ〜約６０ｎｍであってよい。 Low Refractive Composition In one embodiment of the present invention, a low refractive composition is provided comprising an organopolysiloxane and inorganic particles having an average diameter of, for example, about 30 nm to about 70 nm. Specifically, the average diameter of the inorganic particles may be about 35 nm to about 60 nm.

一般に、透明導電性フィルムは、ロール形態に巻き取られるか、または複数枚のフィルムが積層されて流通されているが、それによって透明導電性フィルムが互いにくっつくようになり、これをタッチスクリーンパネル等に適用するために広げるか、または互いに引きはがす過程で透明導電性フィルムの性能が顕著に低下する。そこで、流通過程で透明導電性フィルム間の貼り付きを防止するために、ハードコーティング層に無機粒子を含めて突出部を形成することでこれらが互いに接する面積を減少させて貼り付きの程度を弱くすることができ、それにより、透明導電性フィルムの性能が低下することなく、広げるかまたは互いに引きはがすことができるブロッキング防止性能を発揮している。   Generally, a transparent conductive film is wound in a roll form, or a plurality of films are laminated and distributed, whereby the transparent conductive films are attached to each other, and this is used as a touch screen panel or the like. The performance of the transparent conductive film is remarkably deteriorated in the process of spreading for application to or peeling off from each other. Therefore, in order to prevent sticking between the transparent conductive films in the distribution process, by forming protrusions including inorganic particles in the hard coating layer, the area where they are in contact with each other is reduced and the degree of sticking is weakened. Thereby exhibiting anti-blocking performance that can be spread or peeled apart from each other without degrading the performance of the transparent conductive film.

ただし、バインダー樹脂としてアクリル樹脂等を含むハードコーティング用組成物に無機粒子を含む場合は、アクリル樹脂及び無機粒子間の相溶性が低く、バインダー樹脂の比重、表面エネルギー等の物性及びハードコーティング層の厚さを考慮するとき、ハードコーティング層に突出部を形成するためには、平均直径が大きな無機粒子を含まなければならないので、加工の際、表面外観の不良率が増加し、ヘイズが増加して光学物性及び導電層の電気伝導性をさらに低下させる問題がある。   However, when the hard coating composition containing an acrylic resin or the like as the binder resin contains inorganic particles, the compatibility between the acrylic resin and the inorganic particles is low, the specific gravity of the binder resin, the physical properties such as surface energy, and the hard coating layer When considering the thickness, in order to form protrusions in the hard coating layer, inorganic particles with a large average diameter must be included, so the surface appearance defect rate increases during processing and haze increases. Thus, there is a problem of further reducing the optical properties and the electrical conductivity of the conductive layer.

また、導電層の電極を形成する素材として、ＩＴＯだけでなく、銀ナノワイヤー等も用いることができるが、このような素材を用いる場合は、電極パターンの幅や面積が相対的に増加してインデックスマッチング性を満たさないことで、製品を用いる消費者の肉眼に電極パターンが見られ、インデックスマッチング性または視認性が低下する。   Moreover, as a material for forming the electrode of the conductive layer, not only ITO but also silver nanowires can be used. However, when such a material is used, the width and area of the electrode pattern are relatively increased. By not satisfying the index matching property, an electrode pattern is seen on the naked eye of the consumer who uses the product, and the index matching property or visibility is lowered.

そこで、一具現例においては、オルガノポリシロキサンを含む低屈折組成物に無機粒子を含めて前記低屈折組成物に含まれた成分間の相溶性を向上させながらも、オルガノポリシロキサンの比重、表面エネルギー等の物性及び低屈折層の厚さを考慮するとき、ブロッキング防止性能、即ち、アンチブロッキング性能を具現するのに必要な無機粒子の平均直径を適宜小さい水準に減少させることができる。   Therefore, in one embodiment, the specific gravity and surface of the organopolysiloxane are improved while improving the compatibility between the components contained in the low refractive composition by including inorganic particles in the low refractive composition containing the organopolysiloxane. When physical properties such as energy and the thickness of the low refractive layer are taken into consideration, the average diameter of the inorganic particles necessary for realizing the anti-blocking performance, that is, the anti-blocking performance, can be appropriately reduced to a small level.

それによって、前記低屈折組成物により形成された低屈折層を含む透明導電性フィルムは、優れたブロッキング防止性能を具現しながらも、前記低屈折組成物のコーティング過程において、表面外観の不良率が減少し、屈折率及びヘイズが適切な水準に形成され、優れたインデックスマッチング性、優れた視認性及び優れた光学物性を具現することができる利点がある。また、このように、前記無機粒子の平均粒径を適切な水準に減少させることで、前記低屈折層の上部に導電層を形成する時に伴うアニーリング工程（ａｎｎｅａｌｉｎｇ ｐｒｏｃｅｓｓ）がさらに容易に進行され、導電層の電気抵抗を下げることができるので、優れた電気伝導性を具現することができる。   Accordingly, the transparent conductive film including the low refractive layer formed of the low refractive composition has an excellent anti-blocking performance and has a defect rate of surface appearance in the coating process of the low refractive composition. The refractive index and the haze are reduced to an appropriate level, and an excellent index matching property, an excellent visibility, and an excellent optical property can be realized. In addition, by reducing the average particle size of the inorganic particles to an appropriate level, an annealing process associated with forming a conductive layer on the low refractive layer is further facilitated. Since the electrical resistance of the conductive layer can be lowered, excellent electrical conductivity can be realized.

前記低屈折組成物は、前記オルガノポリシロキサン約１００重量部に対して、前記無機粒子を、例えば、約０．５重量部〜約２０重量部で含むことができ、具体的には、約７重量部〜約１３重量部で含むことができる。前記範囲で含むことにより、優れたブロッキング防止性能及び低い屈折率を具現しながらも、ヘイズを適切な水準に維持して優れた光学物性及び優れた視認性を同時に具現することができる。   The low refractive composition may include, for example, about 0.5 to about 20 parts by weight of the inorganic particles with respect to about 100 parts by weight of the organopolysiloxane, specifically about 7 parts by weight. Parts by weight to about 13 parts by weight. By including in the above range, it is possible to simultaneously realize excellent optical properties and excellent visibility by maintaining haze at an appropriate level while realizing excellent anti-blocking performance and low refractive index.

具体的に、前記無機粒子を約０．５重量部未満で含む場合、アンチブロッキング性能を十分に具現できないことがあり、約２０重量部を超えて含む場合、導電層成膜後に導電層結晶性を妨害して電気的特性を低下させる問題がある。   Specifically, when the inorganic particles are contained in an amount of less than about 0.5 parts by weight, the anti-blocking performance may not be sufficiently realized. There is a problem that the electrical characteristics are deteriorated.

前記無機粒子は、例えば、シリカ粒子、アルミナ粒子、酸化ジルコニウム粒子、酸化チタン粒子、酸化アンチモン粒子、及びこれらの組み合わせからなる群から選択された少なくとも一つの粒子を含むことができる。   The inorganic particles may include, for example, at least one particle selected from the group consisting of silica particles, alumina particles, zirconium oxide particles, titanium oxide particles, antimony oxide particles, and combinations thereof.

従来は、ハードコーティング用組成物に粉末形態の無機粒子を混合しており、それによって、丸まるか、コーティング工程の途中で沈殿し、ブロッキング防止性能及び低屈折率を均一に具現することができなかった。   Conventionally, inorganic particles in powder form are mixed with the hard coating composition, and as a result, the anti-blocking performance and low refractive index cannot be realized uniformly by curling or precipitating during the coating process. It was.

一具現例において、前記低屈折組成物は、ゾル（ｓｏｌ）形態の無機粒子、即ち、無機粒子含有ゾルを含めて分散性を向上させることができ、それによって、ブロッキング防止性能及び低屈折率をいずれも均一な水準で具現することができる。即ち、前記無機粒子は、分散媒に分散されて分散ゾルの形態で含まれる。   In one embodiment, the low refractive composition may include a sol-form inorganic particle, that is, an inorganic particle-containing sol, to improve dispersibility, thereby improving anti-blocking performance and low refractive index. Both can be implemented at a uniform level. That is, the inorganic particles are dispersed in a dispersion medium and included in the form of a dispersion sol.

例えば、前記無機粒子は、例えば、水または有機溶媒等の分散媒に分散された形態であって、前記無機粒子の固形分含量が約５重量％〜約４０重量％であるコロイド状で含まれるが、これに限定されるものではない。前記分散媒に使用可能な有機溶媒としては、メタノール（ｍｅｔｈａｎｏｌ）、イソプロピルアルコール（ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ ａｌｃｏｈｏｌ、ＩＰＡ）、エチレングリコール（ｅｔｈｙｌｅｎｅ ｇｌｙｃｏｌ）、ブタノール（ｂｕｔａｎｏｌ）等のアルコール類；メチルエチルケトン（ｍｅｔｈｙｌ ｅｔｈｙｌ ｋｅｔｏｎｅ）、メチルイソブチルケトン（ｍｅｔｈｙｌ ｉｓｏｂｕｔｙｌ ｋｅｔｏｎｅ、ＭＩＢＫ）等のケトン類；トルエン（ｔｏｌｕｅｎｅ）、キシレン（ｘｙｌｅｎｅ）等の芳香族炭素水素類；ジメチルホルムアミド（ｄｉｍｅｔｈｙｌ ｆｏｒｍａｍｉｄｅ）、ジメチルアセトアミド（ｄｉｍｅｔｈｙｌ ａｃｅｔａｍｉｄｅ）、Ｎ−メチルピロリドン（Ｎ−ｍｅｔｈｙｌ ｐｙｒｒｏｌｉｄｏｎｅ）等のアミド類；酢酸エチル、酢酸ブチル、γ−ブチロラクトン等のエステル（ｅｓｔｅｒ）類；テトラヒドロフラン（ｔｅｔｒａｈｙｄｒｏｆｕｒａｎ）、１，４−ジオキサン等のエーテル（ｅｔｈｅｒ）類；またはこれらの混合物を用いることができる。   For example, the inorganic particles are included in a colloidal form in which the inorganic particles are dispersed in a dispersion medium such as water or an organic solvent, and the solid content of the inorganic particles is about 5 wt% to about 40 wt%. However, the present invention is not limited to this. Examples of the organic solvent that can be used for the dispersion medium include alcohols such as methanol, isopropyl alcohol (IPA), ethylene glycol, butanol, and the like; methyl ethyl ketone, methyl Ketones such as isobutyl ketone (MIBK); aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; dimethylformamide, dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone (N-methylpyrrolidone) Amides such as N-methyl pyrrolidone) Ethyl acetate, butyl acetate, ester (Ester) such as γ- butyrolactone; tetrahydrofuran (Tetrahydrofuran), ether (. Ether) compounds and 1,4-dioxane; or may be a mixture thereof.

前記無機粒子は、平均直径が、例えば、約３０ｎｍ〜約７０ｎｍであってよく、具体的には、約３５ｎｍ〜約６０ｎｍであってよい。   The inorganic particles may have an average diameter of, for example, about 30 nm to about 70 nm, specifically about 35 nm to about 60 nm.

前記平均直径は、それぞれの粒子に対して測定した粒子直径の平均値を意味する。前記範囲内の平均直径を有することにより低屈折層に突出部が十分に形成され、優れたブロッキング防止性能を具現することができ、微細凹凸形状が発生しても、導電層のエッチング時に視認性を低下させず、優れた視認性を具現することができ、低屈折層に電気抵抗性を発生させず、優れた電気伝導性を具現することができるので、導電層の下部でアンダーコーティング層の役割を十分に果たすことができる。   The average diameter means an average value of particle diameters measured for each particle. By having an average diameter within the above range, sufficient protrusions can be formed in the low refractive index layer, and an excellent anti-blocking performance can be realized. Therefore, it is possible to realize an excellent visibility without generating a low refractive index, and to realize an excellent electrical conductivity without generating an electrical resistance in the low refractive layer. Can play a role enough.

具体的には、前記平均直径が約３０ｎｍ未満である場合、粒径が小さすぎてブロッキング防止性能を発揮することができず、約７０ｎｍを超える場合、前記低屈折層の上部に導電層を形成する過程でアニーリング工程を必須適用するようになるが、前記無機粒子の平均直径が大きすぎてアニーリング工程を妨害することとなり、それによって、導電層の電気抵抗性が増加して電気伝導性がさらに低くなることでタッチスクリーンパネル等の誤作動を発生させることがあり、ヘイズが増加して光学物性が低下する問題がある。その上、低屈折層の両面に積層された高屈折層及び導電層に対する接着力もさらに低下する。   Specifically, when the average diameter is less than about 30 nm, the particle size is too small to exhibit anti-blocking performance, and when it exceeds about 70 nm, a conductive layer is formed on the low refractive layer. In this process, an annealing process is essential, but the average diameter of the inorganic particles is too large to disturb the annealing process, thereby increasing the electrical resistance of the conductive layer and further increasing the electrical conductivity. Lowering may cause a malfunction of the touch screen panel and the like, and there is a problem that haze increases and optical properties deteriorate. In addition, the adhesion to the high refractive layer and the conductive layer laminated on both sides of the low refractive layer is further reduced.

一具現例において、前記低屈折組成物は、前記オルガノポリシロキサンを、例えば、約１０重量％〜約８０重量％含むことができる。前記範囲内の含量で含むことにより、屈折率を適宜低い水準で具現することができ、かつ低屈折層を容易に形成することができる。   In one embodiment, the low refractive composition may include about 10 wt% to about 80 wt% of the organopolysiloxane. By including the content within the above range, the refractive index can be realized at a suitably low level, and a low refractive layer can be easily formed.

前記オルガノポリシロキサンは、炭素数１個〜１８個のアルキル基、炭素数１個〜１８個のアルコキシ基、炭素数２個〜６個のエステル基、炭素数２個〜１２個のエポキシ基、炭素数２個〜１２個のアルケニル基、炭素数６個〜１２個の芳香族基、炭素数３個〜１８個のアクリル基、グリシジル基、アミン基、チオール基、ハロゲン基、及びこれらの組み合わせからなる群から選択された少なくとも一つの官能基を含むことができる。前記官能基を含むことにより、様々な種類の有機溶媒内で化学反応が容易に進行され、工程性及び相溶性に優れ、様々な種類の基材に対してコーティングが容易であり、かつ優れた貼付性を具現することができる。   The organopolysiloxane is an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 18 carbon atoms, an ester group having 2 to 6 carbon atoms, an epoxy group having 2 to 12 carbon atoms, Alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms, aromatic group having 6 to 12 carbon atoms, acrylic group having 3 to 18 carbon atoms, glycidyl group, amine group, thiol group, halogen group, and combinations thereof At least one functional group selected from the group consisting of: By containing the functional group, chemical reaction easily proceeds in various types of organic solvents, excellent in processability and compatibility, easy to coat on various types of substrates, and excellent The sticking property can be embodied.

前記芳香族基は、環状の置換基の全ての元素がｐ−オービタルを有しており、これらのｐ−オービタルが共役（ｃｏｎｊｕｇａｔｉｏｎ）を形成している置換基を意味する。具体的な例として、フェニル基、アリール基等がある。また、前記ハロゲン基は、例として、−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ等がある。   The aromatic group means a substituent in which all elements of the cyclic substituent have p-orbital, and these p-orbitals form a conjugation. Specific examples include a phenyl group and an aryl group. Examples of the halogen group include -F, -Cl, -Br, -I and the like.

また、前記オルガノポリシロキサンは、線形構造、網状構造、またはこれらをいずれも含むことができる。即ち、前記オルガノポリシロキサンは、シロキサン結合、即ち、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ結合により鎖構造で結合して線形構造に形成され、立体的な構造で結合して網状構造に形成され、これらを全て含む構造に形成されてもよい。また、前記網状構造は、部分的に前記官能基により開いた構造を含むことができ、具体的には、前記官能基により前記網状構造の結合が部分的に切れて開いた構造が含まれる。   The organopolysiloxane may include a linear structure, a network structure, or any of these. That is, the organopolysiloxane is formed into a linear structure by linking with a siloxane bond, that is, a Si-O-Si bond, and is formed into a network structure by combining with a three-dimensional structure, including all of them. It may be formed into a structure. The network structure may include a structure that is partially opened by the functional group, and specifically includes a structure in which the bond of the network structure is partially broken and opened by the functional group.

前記オルガノポリシロキサンが線形構造を含む場合、固形化の速度が遅く、優れた工程安定性を具現することができ、かつ、基材にコーティングをする場合、平坦性により優れ、導電層の形成時、例えば、酸化インジウムスズ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ、ＩＴＯ）の結晶化を容易にして電気伝導性を向上させることができる。一方、前記オルガノポリシロキサンが網状構造を含む場合は、構造的特性により優れた耐化学性及び優れた耐溶剤性を具現することができ、それによって、導電層の形成に必要な食刻工程または水洗工程で用いられる酸性または塩基性化学物質により影響を受けず、優れた安定性を具現することができる。   When the organopolysiloxane includes a linear structure, the solidification rate is slow, and excellent process stability can be realized. Also, when the substrate is coated, the flatness is excellent, and the conductive layer is formed. For example, crystallization of indium tin oxide (Indium Tin Oxide, ITO) can be facilitated to improve electrical conductivity. On the other hand, when the organopolysiloxane includes a network structure, it can realize excellent chemical resistance and excellent solvent resistance due to structural characteristics, thereby enabling an etching process necessary for forming a conductive layer or Excellent stability can be realized without being affected by acidic or basic chemical substances used in the washing step.

前記オルガノポリシロキサンは、重量平均分子量が約３，０００ｇ／ｍｏｌ〜約５５，０００ｇ／ｍｏｌであってよい。前記範囲内の重量平均分子量を有することにより、低屈折層の形成時、厚さ調節の面で有利であり、表面粗さを均一に維持する効果を容易に具現することができる。   The organopolysiloxane may have a weight average molecular weight of about 3,000 g / mol to about 55,000 g / mol. By having the weight average molecular weight within the above range, it is advantageous in adjusting the thickness when forming the low refractive layer, and the effect of maintaining the uniform surface roughness can be easily realized.

前記オルガノポリシロキサンは、下記化学式１のシラン化合物及び下記化学式２のシラン化合物を含む原料組成物がゾル−ゲル反応を進行して形成される：
［化学式１］
Ｒ1 xＳｉ（ＯＲ2）4-x
［化学式２］
Ｓｉ（ＯＲ3）4 The organopolysiloxane is formed by a sol-gel reaction of a raw material composition including a silane compound represented by the following chemical formula 1 and a silane compound represented by the following chemical formula 2:
[Chemical Formula 1]
R 1 x Si (OR 2 ) 4-x
[Chemical formula 2]
Si (OR 3 ) 4

前記化学式１において、前記Ｒ1は、炭素数１個〜１８個のアルキル基、炭素数２個〜６個のエステル基、炭素数２個〜１２個のエポキシ基、炭素数２個〜１２個のアルケニル基、炭素数６個〜１２個の芳香族基、炭素数３個〜１８個のアクリル基、グリシジル基、アミン基、チオール基またはハロゲン基であり、前記Ｒ2及び前記Ｒ3は、それぞれ独立して、Ｈ、または炭素数１個〜１８個のアルキル基であり、前記ｘは、１、２、または３である。 In the chemical formula 1, R 1 is an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an ester group having 2 to 6 carbon atoms, an epoxy group having 2 to 12 carbon atoms, or 2 to 12 carbon atoms. An alkenyl group, an aromatic group having 6 to 12 carbon atoms, an acrylic group having 3 to 18 carbon atoms, a glycidyl group, an amine group, a thiol group, or a halogen group, and R 2 and R 3 are Each independently represents H or an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, and x is 1, 2, or 3.

前記芳香族基は、環状の置換基の全ての元素がｐ−オービタルを有しており、これらのｐ−オービタルが共役（ｃｏｎｊｕｇａｔｉｏｎ）を形成している置換基を意味する。具体的な例として、フェニル基、アリール基等がある。また、前記ハロゲン基は、例として、−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ等がある。   The aromatic group means a substituent in which all elements of the cyclic substituent have p-orbital, and these p-orbitals form a conjugation. Specific examples include a phenyl group and an aryl group. Examples of the halogen group include -F, -Cl, -Br, -I and the like.

前記ゾル−ゲル反応は、例えば、シラン化合物等のような前駆体分子が加水分解反応、縮合反応、脱水縮合反応、加水分解−重縮合反応等を進行して線形構造、３次元網状構造等で架橋結合を形成する反応を意味する。   In the sol-gel reaction, for example, a precursor molecule such as a silane compound proceeds through a hydrolysis reaction, a condensation reaction, a dehydration condensation reaction, a hydrolysis-polycondensation reaction, etc., to form a linear structure, a three-dimensional network structure, etc. It means a reaction that forms a crosslink.

前記原料組成物がゾル−ゲル反応を進行する間、前記シラン化合物間に互いに化学反応が進行して前記オルガノポリシロキサンが形成される。例えば、前記化学式１のシラン化合物が互いに反応するか、または前記化学式２のシラン化合物が互いに反応するか、または前記化学式１のシラン化合物と前記化学式２のシラン化合物が互いに反応するか、またはこれらの組み合わせ形態で反応して前記オルガノポリシロキサンが形成される。   While the raw material composition undergoes a sol-gel reaction, a chemical reaction proceeds between the silane compounds to form the organopolysiloxane. For example, the silane compound of Formula 1 reacts with each other, the silane compound of Formula 2 reacts with each other, the silane compound with Formula 1 and the silane compound of Formula 2 react with each other, or these The organopolysiloxane is formed by reaction in a combined form.

前記化学反応は、例えば、加水分解反応、縮合反応、脱水縮合反応、加水分解−重縮合反応、及びこれらの組み合わせからなる群から選択された少なくとも一つを含むことができ、前記化学反応を行って前記化学式１のシラン化合物、前記化学式２のシラン化合物、またはこれらの全ての間にシロキサン結合、即ち、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ結合を形成することができ、それによって、前記オルガノポリシロキサンが形成される。   The chemical reaction may include, for example, at least one selected from the group consisting of a hydrolysis reaction, a condensation reaction, a dehydration condensation reaction, a hydrolysis-polycondensation reaction, and a combination thereof. Thus, a siloxane bond, i.e., a Si-O-Si bond, can be formed between the silane compound of Formula 1, the silane compound of Formula 2, or all of them, thereby forming the organopolysiloxane. The

例えば、前記化学式１のシラン化合物は、トリメトキシシラン、トリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、ｎ−プロピルトリメトキシシラン、ｎ−プロピルトリエトキシシラン、イソブチルトリエトキシシラン、シクロヘキシルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、アリルトリメトキシシランアリルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、トリクロロメチルシラン、トリクロロクロロメチルシラン、トリクロロジクロロメチルシラン、テトラクロロシラン、ジメトキシジメチルシラン、トリアセトキシビニルシラン、トリクロロオクタデシルシラントリクロロオクチルシラン、アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、メタクリロキシメチルトリメトキシシラン、メタクリロキシメチルトリエトキシシラン、メタクリロキシメチルメチルジメトキシシラン、メタクリロキシメチルメチルジエトキシシラン、メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、メタクリロキシプロピルジメチルメトキシシラン、メタクリロキシプロピルジメチルエトキシシラン、エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン、グリシジルプロピルトリメトキシシラン、グリシジルプロピルメチルジエトキシシラン、グリシジルプロピルトリエトキシシラン、ステアリルトリメトキシシラン（ｓｔｅａｒｙｌ ｔｒｉｍｅｔｈｏｘｙ ｓｉｌａｎｅ）、アミノエチルトリメトキシシラン、アミノプロピルトリメトキシシラン、アミノエチルトリエトキシシラン、アミノプロピルトリエトキシシラン、トリエトキシシリルジメチルブチリデンプロピルアミン、フェニルアミノプロピルトリメトキシシラン、及びこれらの組み合わせを含む群から選択された少なくとも一つを含むことができる。   For example, the silane compound represented by Formula 1 may be trimethoxysilane, triethoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, n-propyltrimethoxysilane, n-propyltriethoxy. Silane, isobutyltriethoxysilane, cyclohexyltrimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, allyltrimethoxysilane allyltriethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, Diphenyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, trichloromethylsilane, trichlorochloromethylsilane, trichlorodichloromethylsilane, tet Chlorosilane, dimethoxydimethylsilane, triacetoxyvinylsilane, trichlorooctadecylsilane trichlorooctylsilane, acryloxypropyltrimethoxysilane, acryloxypropyltriethoxysilane, methacryloxypropyltrimethoxysilane, methacryloxypropyltriethoxysilane, methacryloxymethyltrimethoxy Silane, methacryloxymethyltriethoxysilane, methacryloxymethylmethyldimethoxysilane, methacryloxymethylmethyldiethoxysilane, methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, methacryloxypropyldimethylmethoxysilane, methacryloxypropyldimethyl Ethoxysilane, epoxy cyclohexyl ethyl Trimethoxysilane, glycidylpropyltrimethoxysilane, glycidylpropylmethyldiethoxysilane, glycidylpropyltriethoxysilane, stearyltrimethoxysilane, aminoethyltrimethoxysilane, aminopropyltrimethoxysilane, aminoethyltriethoxysilane , Aminopropyltriethoxysilane, triethoxysilyldimethylbutylidenepropylamine, phenylaminopropyltrimethoxysilane, and combinations thereof can be included.

前記化学式２のシラン化合物は、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、及びこれらの組み合わせを含む群から選択された少なくとも一つを含むことができる。   The silane compound represented by Formula 2 includes tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane, tetraisopropoxysilane, tetra-n-butoxysilane, tetra-sec-butoxysilane, tetra-tert-butoxysilane, and combinations thereof. At least one selected from the group comprising:

一具現例において、前記原料組成物に含まれた前記化学式１のシラン化合物対前記化学式２のシラン化合物の重量比は、約１：５〜約１：９９であってよい。前記範囲内の重量比で含むことにより、前記オルガノポリシロキサンに含まれた有機性部分及び無機性部分の含量を適宜調節して、優れたインデックスマッチング性、優れた貼付性及び耐酸化性を具現することができる。具体的には、約１：５未満である場合、有機性部分が多すぎて水洗工程時に使用可能な塩基性化学物質によりコーティングが損傷してインデックスマッチング性が変わり、また、約１：９９を超える場合、無機性部分が多すぎてコーティングの柔軟性が低下し、貼付性及び酸化性が減少する。   In one embodiment, the weight ratio of the silane compound of Formula 1 to the silane compound of Formula 2 included in the raw material composition may be about 1: 5 to about 1:99. By including it in a weight ratio within the above range, the content of the organic part and inorganic part contained in the organopolysiloxane is appropriately adjusted to realize excellent index matching property, excellent sticking property and oxidation resistance. can do. Specifically, when the ratio is less than about 1: 5, there is too much organic portion, and the basic chemicals that can be used during the water washing process damage the coating and change the index matching property. When exceeding, there are too many inorganic parts, the softness | flexibility of coating will fall, and sticking property and oxidation property will reduce.

前記原料組成物は、前記化学式１のシラン化合物を、例えば、約１重量％〜約１９重量％で含むことができるが、これに制限されるものではない。   The raw material composition may include, for example, about 1 wt% to about 19 wt% of the silane compound of Formula 1, but is not limited thereto.

一具現例において、前記ゾル−ゲル反応を進行する前に、前記組成物に前記無機粒子がさらに混合されて含まれる。前記オルガノポリシロキサンが既に形成されて含まれた組成物に前記無機粒子をさらに混合する場合、分散性が低下する。そこで、前記低屈折組成物は、前記化学式１のシラン化合物及び前記無機粒子がいずれも含まれた組成物をゾル−ゲル反応を進行させることにより前記化学式１のシラン化合物間の反応結果物である前記オルガノポリシロキサンの間に前記無機粒子が効果的に分散され、それによって、ブロッキング防止性能、低屈折率及び光学物性をさらに均一な水準で具現することができる。   In one embodiment, the inorganic particles are further mixed in the composition before the sol-gel reaction proceeds. When the inorganic particles are further mixed with the composition in which the organopolysiloxane is already formed, the dispersibility is lowered. Accordingly, the low refractive composition is a reaction product between the silane compound of the chemical formula 1 by causing a sol-gel reaction to proceed in the composition containing both the silane compound of the chemical formula 1 and the inorganic particles. The inorganic particles are effectively dispersed between the organopolysiloxanes, whereby the anti-blocking performance, the low refractive index, and the optical properties can be realized at a more uniform level.

一般に、低屈折層の上部に導電層を形成する場合、真空条件下で、例えば、スパッタリング方法により導電層成膜を行う。   In general, when a conductive layer is formed on the low refractive layer, the conductive layer is formed under a vacuum condition, for example, by a sputtering method.

前記真空条件下で、前記低屈折組成物に前記単分子アルコキシシラン化合物が含まれた場合は、これより形成された低屈折層から揮発性有機化合物（ｖｏｌａｔｉｌｅ ｏｒｇａｎｉｃ ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ、ＶＯＣ）である前記単分子アルコキシシラン化合物が排出され、前記導電層の形成時、アニーリング工程（ａｎｎｅａｌｉｎｇ ｐｒｏｃｅｓｓ）を妨害することがあり、それによって、前記導電層の電気抵抗性が増加して電気伝導性が低下する問題がある。その上、高温高湿条件で前記低屈折層内で前記単分子アルコキシシラン化合物の転移（ｍｉｇｒａｔｉｏｎ）現象が発生し、ヘイズが増加しながら表面特性が低下することがあり、それによって、光学物性及び電気伝導性も減少する。   When the monomolecular alkoxysilane compound is contained in the low refractive composition under the vacuum condition, the single molecule that is a volatile organic compound (VOC) from the low refractive layer formed therefrom. The alkoxysilane compound may be discharged and may interfere with an annealing process when the conductive layer is formed, thereby increasing the electrical resistance of the conductive layer and decreasing the electrical conductivity. . In addition, a migration phenomenon of the monomolecular alkoxysilane compound may occur in the low refractive layer under high temperature and high humidity conditions, and surface characteristics may be deteriorated while increasing haze. Electrical conductivity is also reduced.

そこで、一具現例において、前記低屈折組成物が置換または非置換された単分子アルコキシシラン化合物を含まないか、またはさらに含むことができる。具体的には、置換または非置換された単分子アルコキシシラン化合物を含まなくてもよく、それによって、導電層の形成時、揮発性有機化合物である単分子アルコキシシラン化合物が排出されず、アニーリング工程を容易に行うことができて優れた電気伝導性を具現することができ、これと同時に、高温高湿条件で転移現象を防止してヘイズ及び表面特性を維持し、優れた信頼性を具現することができる。   Therefore, in one embodiment, the low refractive composition may not include or further include a substituted or unsubstituted monomolecular alkoxysilane compound. Specifically, a substituted or unsubstituted monomolecular alkoxysilane compound may not be included, and thereby, the monomolecular alkoxysilane compound that is a volatile organic compound is not discharged during the formation of the conductive layer, and the annealing step. Can be easily performed, and can realize excellent electrical conductivity, and at the same time, prevent transition phenomenon under high temperature and high humidity conditions, maintain haze and surface characteristics, and realize excellent reliability be able to.

本明細書において、「置換」とは、別途の定義がない限り、ハロゲン原子（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、またはＩ）、ヒドロキシ基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、カルボキシル基、炭素数１個〜３０個のアルキル基；炭素数３個〜３０個のシクロアルキル基；炭素数６個〜炭素数３０個のアリール基；または炭素数１個〜３０個のアルコキシ基；で置換されたことを意味する。前記アルキル基は、直鎖状または分枝状であってよい。   In this specification, unless otherwise specified, “substituted” is a halogen atom (F, Cl, Br, or I), a hydroxy group, a nitro group, a cyano group, an amino group, a carboxyl group, and one carbon atom. -30 alkyl groups; cycloalkyl groups having 3 to 30 carbon atoms; aryl groups having 6 to 30 carbon atoms; or alkoxy groups having 1 to 30 carbon atoms; means. The alkyl group may be linear or branched.

前記単分子アルコキシシラン化合物は、この技術分野において公知になった種類を全て含む意味であり、例えば、前記化学式１のシラン化合物の種類の中から選択された少なくとも一つを含むことができるが、これに制限されない。   The monomolecular alkoxysilane compound is meant to include all types known in this technical field, and may include, for example, at least one selected from the types of the silane compound represented by Formula 1. This is not a limitation.

前記低屈折組成物は、酸触媒、水、有機溶媒、及びこれらの組み合わせからなる群から選択された少なくとも一つをさらに含むことができる。   The low refractive composition may further include at least one selected from the group consisting of an acid catalyst, water, an organic solvent, and combinations thereof.

前記酸触媒は、例えば、無機酸または有機酸を用いることができ、具体的には、硝酸、塩酸、硫酸または酢酸等が用いられる。   As the acid catalyst, for example, an inorganic acid or an organic acid can be used, and specifically, nitric acid, hydrochloric acid, sulfuric acid, acetic acid, or the like is used.

前記有機溶媒は、例えば、メタノール（ｍｅｔｈａｎｏｌ）、イソプロピルアルコール（ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ ａｌｃｏｈｏｌ、ＩＰＡ）、エチレングリコール（ｅｔｈｙｌｅｎｅ ｇｌｙｃｏｌ）、ブタノール（ｂｕｔａｎｏｌ）等のアルコール類；メチルエチルケトン（ｍｅｔｈｙｌ ｅｔｈｙｌ ｋｅｔｏｎｅ）、メチルイソブチルケトン（ｍｅｔｈｙｌ ｉｓｏ ｂｕｔｙｌ ｋｅｔｏｎｅ、ＭＩＢＫ）等のケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル、γ−ブチロラクトン等のエステル（ｅｓｔｅｒ）類；テトラヒドロフラン（ｔｅｔｒａｈｙｄｒｏｆｕｒａｎ）、１，４−ジオキサン等のエーテル（ｅｔｈｅｒ）類；及びこれらの組み合わせからなる群から選択された少なくとも一つを含むことができる。   Examples of the organic solvent include alcohols such as methanol, isopropyl alcohol (IPA), ethylene glycol, butanol, and the like; methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone (methyl isobutyl ketone) from ketones such as butyl ketone, MIBK; esters such as ethyl acetate, butyl acetate, and γ-butyrolactone; ethers such as tetrahydrofuran, 1,4-dioxane; and combinations thereof At least one selected from the group can be included.

透明導電性フィルム
本発明の他の具現例において、前記低屈折組成物により形成された低屈折層を含む透明導電性フィルムを提供する。前記低屈折組成物は、一具現例において前述したとおりであり、前記低屈折層は、ブロッキング防止性能が付与され、アンチブロッキング低屈折層としての役割を果たすことができる。 Transparent conductive film In another embodiment of the present invention, a transparent conductive film including a low refractive layer formed of the low refractive composition is provided. The low-refractive composition is as described above in one embodiment, and the low-refractive layer has anti-blocking performance and can serve as an anti-blocking low-refractive layer.

それによって、前記低屈折層を含む透明導電性フィルムは、優れたブロッキング防止性能を具現しながらも、前記低屈折組成物のコーティング過程において、表面外観の不良率が減少し、屈折率及びヘイズが適切な水準に形成され、優れたインデックスマッチング性、優れた視認性及び優れた光学物性を具現することができる利点がある。また、このように、前記無機粒子の平均粒径を適切な水準に減少させることにより、前記低屈折層の上部に導電層を形成する時に伴うアニーリング工程（ａｎｎｅａｌｉｎｇ ｐｒｏｃｅｓｓ）がさらに容易に進行され、導電層の電気抵抗を下げることができるので、優れた電気伝導性を具現することができる。   Accordingly, the transparent conductive film including the low refractive layer has an excellent anti-blocking performance, but has a reduced surface appearance defect rate in the coating process of the low refractive composition, and has a refractive index and a haze. There is an advantage that it is formed at an appropriate level and can realize excellent index matching property, excellent visibility, and excellent optical properties. In addition, by reducing the average particle size of the inorganic particles to an appropriate level in this way, an annealing process associated with forming a conductive layer on the low refractive layer is further facilitated, Since the electrical resistance of the conductive layer can be lowered, excellent electrical conductivity can be realized.

例えば、前記低屈折層は、後述のように、下部に含まれる高屈折層の上部に前記低屈折組成物を塗布した後、熱硬化反応を行って形成することができる。前記低屈折組成物の塗布は、例えば、グラビア（ｇｒａｖｕｒｅ）コーティング法、スロットダイ（ｓｌｏｔ ｄｉｅ）コーティング法、スピンコーティング法、スプレーコーティング法、バーコーティング法、沈積コーティング法等の方法を用いることができるが、これに限定されない。   For example, as described later, the low refractive layer can be formed by applying the low refractive composition on the upper part of the high refractive layer included in the lower part and then performing a thermosetting reaction. The low-refractive composition may be applied by using a gravure coating method, a slot die coating method, a spin coating method, a spray coating method, a bar coating method, a deposition coating method, or the like. However, it is not limited to this.

また、前記熱硬化反応は、約１００℃〜約１７０℃の温度で熱処理して行われるが、これに限定されるものではない。   The thermosetting reaction is performed by heat treatment at a temperature of about 100 ° C. to about 170 ° C., but is not limited thereto.

また、前記熱硬化反応を進行した後、熟成工程（ａｇｉｎｇ ｐｒｏｃｅｓｓ）をさらに行うことができ、前記熟成工程は、この技術分野において公知になった条件及び方法によって行うことができる。   In addition, after the thermosetting reaction proceeds, an aging process can be further performed, and the aging process can be performed by conditions and methods known in the art.

前記低屈折層は、上部面に微細凹凸が形成され、前記微細凹凸が前記無機粒子により形成され、例えば、前記無機粒子の一部が前記低屈折層の表面から突出して前記微細凹凸を形成することができ、それによって、前記無機粒子の他の一部は、前記低屈折層に埋没された状態で存在する。また、前記無機粒子の平均直径が前記低屈折層の厚さより大きくてもよく、それによって、前記微細凹凸をさらに容易に形成することができる。   The low refractive layer has fine irregularities formed on the upper surface, and the fine irregularities are formed by the inorganic particles. For example, a part of the inorganic particles protrude from the surface of the low refractive layer to form the fine irregularities. Thereby, the other part of the inorganic particles are present embedded in the low refractive layer. In addition, the average diameter of the inorganic particles may be larger than the thickness of the low refractive layer, whereby the fine irregularities can be more easily formed.

即ち、前記微細凹凸形状は、前記低屈折組成物の塗布時、平均直径が約３０ｎｍ〜約７０ｎｍである無機粒子により形成され、具体的には、前記低屈折組成物を基材層に塗布する場合、前記無機粒子の平均直径が低屈折層の厚さより大きいため突出することで微細凹凸形状がさらに容易に形成され、それによって、前記低屈折層がさらに優れたブロッキング防止性能を具現することができる。   That is, the fine concavo-convex shape is formed by inorganic particles having an average diameter of about 30 nm to about 70 nm when the low refractive composition is applied. Specifically, the low refractive composition is applied to the base material layer. In this case, since the average diameter of the inorganic particles is larger than the thickness of the low-refractive layer, the fine uneven shape can be formed more easily by projecting, whereby the low-refractive layer can realize further excellent anti-blocking performance. it can.

前記低屈折層の厚さは、約１０ｎｍ〜約５０ｎｍであってよい。前記低屈折層の厚さが約１０ｎｍ未満である場合、光学干渉による視認性低下の恐れがあり、約５０ｎｍを超える場合、透過率が低すぎて光学物性が低下することがあり、前記範囲の厚さを有することでインデックスマッチング性を満たし、かつ高い光透過率及び低いヘイズを維持して優れた視認性及び優れた光学物性を具現することができる。   The low refractive layer may have a thickness of about 10 nm to about 50 nm. When the thickness of the low-refractive layer is less than about 10 nm, there is a risk of a decrease in visibility due to optical interference. When the thickness exceeds about 50 nm, the transmittance may be too low and the optical physical properties may be reduced. By having the thickness, the index matching property can be satisfied, and high visibility and excellent optical properties can be realized while maintaining high light transmittance and low haze.

また、前記低屈折層の屈折率は、約１．４０〜約１．５０であってよい。前記範囲内の低い水準の屈折率を有することにより、高屈折層と共に前記透明導電性フィルムの視認性及び光学物性をいずれも優れた水準に調節することができる。   The refractive index of the low refractive layer may be about 1.40 to about 1.50. By having a refractive index at a low level within the above range, both the visibility and optical properties of the transparent conductive film can be adjusted to an excellent level together with the high refractive layer.

図１は、本発明の他の具現例に係る透明導電性フィルムの二つの例示、（ａ）及び（ｂ）の各断面を概略的に示す。   FIG. 1 schematically shows two examples of a transparent conductive film according to another embodiment of the present invention, each cross section of (a) and (b).

前記透明導電性フィルムは、前記低屈折層の下部に順次に高屈折層及び基材層をさらに含み、前記低屈折層の上部に導電層をさらに含むことができる。具体的には、図１（ａ）を参考にすると、前記基材層の一面に高屈折層、前記低屈折層、導電層を順次に含むことができる。   The transparent conductive film may further include a high-refractive layer and a base material layer sequentially below the low-refractive layer, and may further include a conductive layer above the low-refractive layer. Specifically, referring to FIG. 1A, a high refractive layer, the low refractive layer, and a conductive layer may be sequentially included on one surface of the base material layer.

前記高屈折層は、基材層と導電層との間に絶縁特性及び透過率を向上させる役割をする。前記高屈折層は、無機物、有機物またはこれらをいずれも含む材質で形成される。前記無機物としては、例えば、ＳｉＯ2、ＭｇＦ2、Ａｌ2Ｏ3、ＮａＦ、Ｎａ3ＡｌＦ6、ＬｉＦ、ＣａＦ2、ＢａＦ2、ＬａＦ3、ＣｅＦ3等があり、前記有機物としては、例えば、メラミン樹脂、アルキド樹脂、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、シロキサン系ポリマー、有機シラン縮合物等が用いられる。 The high refractive layer plays a role of improving insulating properties and transmittance between the base material layer and the conductive layer. The high refractive layer is formed of an inorganic material, an organic material, or a material including any of these. Examples of the inorganic substance include SiO 2 , MgF 2 , Al 2 O 3 , NaF, Na 3 AlF 6 , LiF, CaF 2 , BaF 2 , LaF 3 , and CeF 3. Examples of the organic substance include melamine. Resins, alkyd resins, urethane resins, acrylic resins, siloxane polymers, organic silane condensates and the like are used.

例えば、前記高屈折層は、前記材質の種類によって、塗布後、熱硬化や光硬化、スプレー法、スパッタリング法等のこの技術分野において公知になったコーティング方法を用いて形成することができる。   For example, the high refractive layer can be formed by a coating method known in this technical field such as thermosetting, photocuring, spraying, sputtering, or the like after coating depending on the type of the material.

また、例えば、前記高屈折層の厚さは、約１５ｎｍ〜約１００ｎｍであってよい。前記高屈折層の厚さを維持することにより、優れた透過率及び視認性が向上でき、応力によるクラック（Ｃｒａｃｋ）及びカール（Ｃｕｒｌ）の発生を低下させることができる。   Further, for example, the thickness of the high refractive layer may be about 15 nm to about 100 nm. By maintaining the thickness of the high refractive layer, excellent transmittance and visibility can be improved, and generation of cracks and curls due to stress can be reduced.

また、例えば、前記高屈折層の屈折率は、約１．６５〜約１．８であってよい。前記範囲内の高い水準の屈折率を有することにより、前記低屈折層と共に前記透明導電性フィルムの視認性及び光学物性をいずれも優れた水準に調節することができる。   In addition, for example, the refractive index of the high refractive layer may be about 1.65 to about 1.8. By having a high refractive index within the above range, both the visibility and optical properties of the transparent conductive film can be adjusted to an excellent level together with the low refractive layer.

前記基材層は、透明基材層であり、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、エチレンビニルアルコール（ＥＶＡ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、及びこれらの組み合わせからなる群から選択された少なくとも一つを含む材質で形成されるが、これに制限されるものではない。   The base material layer is a transparent base material layer, for example, polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polyethersulfone (PES), polycarbonate (PC), polypropylene (PP), polyvinyl chloride (PVC). ), Polyethylene (PE), polymethyl methacrylate (PMMA), ethylene vinyl alcohol (EVA), polyvinyl alcohol (PVA), and a material including at least one selected from the group consisting of these, This is not a limitation.

また、前記基材層は、単一層または多層構造のフィルムであってよく、前記基材層の総厚さは、例えば、約２０μｍ〜約５００μｍであってよい。   In addition, the base layer may be a single layer or multilayer film, and the total thickness of the base layer may be, for example, about 20 μm to about 500 μm.

前記導電層は、例えば、酸化インジウムスズ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ、ＩＴＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、亜鉛酸化スズ（Ｚｉｎｃ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ、ＺＴＯ）、フッ素ドーピング酸化スズ（Ｆｌｕｏｒｉｎｅ−ｄｏｐｅｄ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ、ＦＴＯ）、銀ナノワイヤー（Ａｌ−ｄｏｐｅｄ ＺｎＯ、ＡＺＯ）、及びこれらの組み合わせからなる群から選択された少なくとも一つを含むことができる。   The conductive layer may be, for example, indium tin oxide (ITO), zinc oxide (ZnO), zinc tin oxide (ZTO), fluorine-doped tin oxide (FTO), silver, or the like. At least one selected from the group consisting of nanowires (Al-doped ZnO, AZO) and combinations thereof may be included.

前記導電層の厚さは、約５ｎｍ〜約５０ｎｍであってよく、前記導電層の厚さを前記範囲に維持することにより、前記透明導電性フィルムの総厚さを過度に増加させることなく優れた光学物性を具現することができる。   The thickness of the conductive layer may be about 5 nm to about 50 nm, and is excellent without excessively increasing the total thickness of the transparent conductive film by maintaining the thickness of the conductive layer in the range. The optical properties can be realized.

前記基材層の一面または両面に接するハードコーティング層をさらに含むことができ、それによって、前記低屈折層及び前記高屈折層を十分に支持して保護し、前記透明導電性フィルムの硬度を向上させることができ、かつ屈折率が適宜調節され、光の相殺干渉等の現象が発生して、インデックスマッチング性をさらに容易に満たすことができる。   The hard coating layer may be further in contact with one or both sides of the base material layer, thereby sufficiently supporting and protecting the low refractive layer and the high refractive layer, and improving the hardness of the transparent conductive film. In addition, the refractive index is appropriately adjusted, and a phenomenon such as light canceling interference occurs, so that the index matching property can be more easily satisfied.

前記ハードコーティング層は、例えば、紫外線硬化性樹脂、平均直径が約１ｎｍ〜約３０ｎｍであるナノ無機粒子、光重合開始剤、及びこれらの組み合わせからなる群から選択された少なくとも一つを含むハードコーティング層組成物を光硬化させて形成することができ、前記平均直径が約１ｎｍ〜約３０ｎｍであるナノ無機粒子は、前記ハードコーティング層の内部に埋没されて表面硬度を向上させることができるが、ブロッキング防止性能は、ほとんど具現することができない。具体的には、前記ハードコーティング層にブロッキング防止性能を付与するためには、無機粒子の平均直径が約１μｍ以上にならなければならないが、このように平均直径が大きな無機粒子を含む場合、コーティング時に表面外観不良が発生し、かつヘイズが増加しすぎて光学物性が低下することがあり、また、製造過程で連続して生産する場合、個々の製品毎に均一な物性を有しにくいことがある。   The hard coating layer includes, for example, at least one selected from the group consisting of an ultraviolet curable resin, nano-inorganic particles having an average diameter of about 1 nm to about 30 nm, a photopolymerization initiator, and a combination thereof. The inorganic inorganic particles having an average diameter of about 1 nm to about 30 nm can be embedded in the hard coating layer to improve the surface hardness. Anti-blocking performance can hardly be realized. Specifically, in order to impart anti-blocking performance to the hard coating layer, the average diameter of the inorganic particles must be about 1 μm or more. When inorganic particles having a large average diameter are included as described above, Sometimes surface appearance defects occur, haze increases too much and optical physical properties may decrease, and when producing continuously in the manufacturing process, it is difficult to have uniform physical properties for each individual product is there.

前記ハードコーティング層の厚さは、約９００ｎｍ〜約２０００ｎｍであってよい。前記ハードコーティング層の厚さが約９００ｎｍ未満である場合、前記透明導電性フィルムの表面硬度を十分な水準で具現することができず、耐久性が低いことがあり、約２０００ｎｍを超える場合、前記ハードコーティング層がカーリング（Ｃｕｒｌｉｎｇ）される恐れがあり、前記範囲の厚さを有することで、優れた表面硬度を具現し、かつカーリングを防止することができる。   The hard coating layer may have a thickness of about 900 nm to about 2000 nm. When the thickness of the hard coating layer is less than about 900 nm, the surface hardness of the transparent conductive film may not be realized at a sufficient level, the durability may be low, and when the thickness exceeds about 2000 nm, The hard coating layer may be curled, and by having a thickness in the above range, excellent surface hardness can be realized and curling can be prevented.

前記ハードコーティング層の屈折率は、約１．４５〜約１．７であってよいが、これに制限されるものではない。   The refractive index of the hard coating layer may be about 1.45 to about 1.7, but is not limited thereto.

他の具現例において、前記透明導電性フィルムの光透過率が約８５％以上であり、ヘイズは約０．１％〜約０．８％であってよく、具体的に、前記光透過率は、約８７％〜約９２％であってよい。前記範囲内の光透過率及びヘイズを有することにより、インデックスマッチング性を具現し、かつ優れた光学物性を具現することができる。本明細書において、前記光透過率及び前記ヘイズは、例えば、約１００μｍの厚さの透明導電性フィルムを基準にして測定した値を意味する。   In other embodiments, the transparent conductive film may have a light transmittance of about 85% or more, a haze of about 0.1% to about 0.8%, and specifically, the light transmittance may be About 87% to about 92%. By having the light transmittance and haze within the above range, index matching property can be realized and excellent optical properties can be realized. In this specification, the said light transmittance and the said haze mean the value measured on the basis of the transparent conductive film of thickness of about 100 micrometers, for example.

本発明のまた他の具現例において、下記化学式１のシラン化合物、下記化学式２のシラン化合物及び、平均直径が３０ｎｍ〜７０ｎｍである無機粒子を混合し、これらを含む原料組成物を準備するステップ；及び前記原料組成物に対してゾル−ゲル反応を進行させ、低屈折組成物を製造するステップ；を含む低屈折組成物の製造方法を提供する：
［化学式１］
Ｒ1 xＳｉ（ＯＲ2）4-x
［化学式２］
Ｓｉ（ＯＲ3）4 In another embodiment of the present invention, a step of mixing a silane compound of the following chemical formula 1, a silane compound of the following chemical formula 2, and inorganic particles having an average diameter of 30 nm to 70 nm and preparing a raw material composition containing them; And a step of producing a low refractive composition by causing a sol-gel reaction to proceed with respect to the raw material composition.
[Chemical Formula 1]
R 1 x Si (OR 2 ) 4-x
[Chemical formula 2]
Si (OR 3 ) 4

前記化学式１において、前記Ｒ１は、炭素数１個〜１８個のアルキル基、炭素数２個〜６個のエステル基、炭素数２個〜１２個のエポキシ基、炭素数２個〜１２個のアルケニル基、炭素数６個〜１２個の芳香族基、炭素数３個〜１８個のアクリル基、グリシジル基、アミン基、チオール基またはハロゲン基であり、前記Ｒ２及び前記Ｒ３は、それぞれ独立して、Ｈ、または炭素数１個〜１８個のアルキル基であり、前記ｘは、１、２、または３である。即ち、前記製造方法により一具現例において前述した低屈折組成物を製造することができ、前記化学式１のシラン化合物、前記化学式２のシラン化合物は、一具現例において前述したとおりである。   In the chemical formula 1, R1 is an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an ester group having 2 to 6 carbon atoms, an epoxy group having 2 to 12 carbon atoms, or an epoxy group having 2 to 12 carbon atoms. An alkenyl group, an aromatic group having 6 to 12 carbon atoms, an acrylic group having 3 to 18 carbon atoms, a glycidyl group, an amine group, a thiol group, or a halogen group, and R2 and R3 are independent of each other. H, or an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, and x is 1, 2, or 3. That is, the low refractive composition described above in one embodiment can be manufactured by the manufacturing method, and the silane compound of Formula 1 and the silane compound of Formula 2 are as described in the embodiment.

例えば、前記化学式１のシラン化合物及び前記化学式２のシラン化合物の総和１００重量部に対して、前記無機粒子を約０．５重量部〜約２０重量部で混合して前記原料組成物を準備することができ、具体的には、約７重量部〜約１３重量部で含むことができる。   For example, the raw material composition is prepared by mixing about 0.5 to about 20 parts by weight of the inorganic particles with respect to 100 parts by weight of the total of the silane compound of Formula 1 and the silane compound of Formula 2. Specifically, it may be included at about 7 parts by weight to about 13 parts by weight.

また、前記原料組成物は、酸触媒、水、有機溶媒、及びこれらの組み合わせからなる群から選択された少なくとも一つをさらに混合して準備することができ、前記酸触媒、及び前記有機溶媒は、一具現例において前述したとおりである。   The raw material composition may be prepared by further mixing at least one selected from the group consisting of an acid catalyst, water, an organic solvent, and a combination thereof, and the acid catalyst and the organic solvent are As described above in one embodiment.

前記ゾル−ゲル反応を進行させる間、前記シラン化合物の間に互いに化学反応を進行してオルガノポリシロキサンが形成され、前記オルガノポリシロキサン、及び前記化学反応は、一具現例において前述したとおりである。   While the sol-gel reaction proceeds, a chemical reaction proceeds between the silane compounds to form an organopolysiloxane, and the organopolysiloxane and the chemical reaction are as described above in one embodiment. .

また、前記低屈折組成物が前記オルガノポリシロキサンを約１０重量％〜約８０重量％で含むように、前記原料組成物に含まれる前記化学式１のシラン化合物及び前記化学式２のシラン化合物それぞれの含量を合わせた総含量を調節することができる。   In addition, the content of each of the silane compound of Formula 1 and the silane compound of Formula 2 contained in the raw material composition so that the low refractive composition contains the organopolysiloxane at about 10 wt% to about 80 wt%. The total content can be adjusted.

例えば、前記化学式１のシラン化合物対前記化学式２のシラン化合物の重量比が約１：５〜約１：９９となるように前記原料組成物を準備することができる。前記範囲内の重量比で混合することにより、前記形成されたオルガノポリシロキサンに含まれた有機性部分及び無機性部分の含量を適宜調節して、優れたインデックスマッチング性、優れた貼付性及び耐酸化性を具現することができる。具体的には、約１：５未満である場合、有機性部分が多すぎて水洗工程時に使用可能な塩基性化学物質によりコーティングが損傷してインデックスマッチング性が変わり、また、約１：９９を超える場合、無機性部分が多すぎてコーティングの柔軟性が低下し、貼付性及び酸化性が減少する。   For example, the raw material composition can be prepared so that the weight ratio of the silane compound of Formula 1 to the silane compound of Formula 2 is about 1: 5 to about 1:99. By mixing at a weight ratio within the above range, the content of the organic part and the inorganic part contained in the formed organopolysiloxane is appropriately adjusted, and excellent index matching property, excellent sticking property and acid resistance Can be realized. Specifically, when the ratio is less than about 1: 5, there is too much organic portion, and the basic chemicals that can be used during the water washing process damage the coating and change the index matching property. When exceeding, there are too many inorganic parts, the softness | flexibility of coating will fall, and sticking property and oxidation property will reduce.

前記化学式１のシラン化合物が、例えば、約１重量％〜約１９重量％で含まれるように前記原料組成物を準備することができるが、これに制限されるものではない。   For example, the raw material composition may be prepared such that the silane compound represented by Formula 1 is included at about 1 wt% to about 19 wt%, but the present invention is not limited thereto.

前記製造方法において、前記ゾル−ゲル反応は、例えば、約２０℃〜約６０℃の温度で約８時間〜約４８時間の間撹拌して行われるが、これに制限されるものではない。前記範囲内の温度及び時間条件下で撹拌させることにより、加水分解反応、縮合反応等の化学反応が十分に進行され、前記オルガノポリシロキサンをさらに容易に形成することができる。   In the production method, the sol-gel reaction is performed by stirring at a temperature of about 20 ° C. to about 60 ° C. for about 8 hours to about 48 hours, but is not limited thereto. By stirring under temperature and time conditions within the above ranges, chemical reactions such as hydrolysis reaction and condensation reaction are sufficiently advanced, and the organopolysiloxane can be formed more easily.

また、前記ゾル−ゲル反応を完了した後、本発明の範囲を外れない範囲内で、前記低屈折組成物に発明の目的及び用途によって有機溶媒を適宜混合し、希釈して用いることができる。前記有機溶媒は、一具現例において前述したとおりである。   In addition, after completing the sol-gel reaction, an organic solvent can be appropriately mixed and diluted with the low refractive composition according to the purpose and use of the invention within a range not departing from the scope of the present invention. The organic solvent is as described above in one embodiment.

以下においては、本発明の具体的な実施例を提示する。ただし、下記に記載された実施例は、本発明を具体的に例示または説明するためのものに過ぎず、これによって本発明が制限されてはならない。   In the following, specific examples of the present invention are presented. However, the examples described below are only for specifically illustrating or explaining the present invention, and the present invention should not be limited thereby.

＜製造例＞
製造例１−１．低屈折組成物
トリメトキシ（メチル）シラン１重量％及びテトラ−エトキシオルトシリケート（ＴＥＯＳ）１５重量％、平均直径が５０ｎｍであるシリカ粒子分散ゾル（一信化学、ＭＥＫ−ＳＴ−ｕｐ）、水、エタノール及び１Ｍ硝酸を混合して原料組成物を準備し、前記原料組成物は、前記トリメトキシ（メチル）シラン及び前記テトラ−エトキシオルトシリケート（ＴＥＯＳ）の総和１００重量部に対して前記シリカ粒子１０重量部を含んでいた。 <Production example>
Production Example 1-1. Low Refractive Composition 1% by weight of trimethoxy (methyl) silane and 15% by weight of tetra-ethoxyorthosilicate (TEOS), silica particle-dispersed sol having an average diameter of 50 nm (Ichishin Kagaku, MEK-ST-up), water, ethanol And 1M nitric acid are mixed to prepare a raw material composition, and the raw material composition is 10 parts by weight of the silica particles with respect to 100 parts by weight of the total of the trimethoxy (methyl) silane and the tetra-ethoxyorthosilicate (TEOS). Was included.

次いで、前記原料組成物を４０℃で２４時間の間撹拌してゾル−ゲル反応を進行させて低屈折組成物を製造し、前記低屈折組成物内に前記トリメトキシ（メチル）シラン及び前記テトラ−エトキシオルトシリケート（ＴＥＯＳ）からなるシラン化合物の間に互いに化学反応を進行してオルガノポリシロキサンが形成された。   Next, the raw material composition is stirred at 40 ° C. for 24 hours to advance a sol-gel reaction to produce a low refractive composition. In the low refractive composition, the trimethoxy (methyl) silane and the tetra- An organopolysiloxane was formed by a chemical reaction between silane compounds composed of ethoxyorthosilicate (TEOS).

具体的に、前記低屈折組成物は、前記オルガノポリシロキサン３０重量％を含み、前記オルガノポリシロキサン１００重量部を基準に前記シリカ粒子を１０重量部で含んでいた。   Specifically, the low refractive composition contains 30% by weight of the organopolysiloxane and 10 parts by weight of the silica particles based on 100 parts by weight of the organopolysiloxane.

製造例１−２．低屈折組成物（平均直径が３０ｎｍのシリカ粒子分散ゾルを使用）
平均直径が３０ｎｍのシリカ粒子分散ゾル（一信化学、ＭＥＫ−ＳＴ）を用いたことを除いては、前記製造例１−１と同様の方法で低屈折組成物を製造した。 Production Example 1-2. Low refractive composition (using silica particle dispersed sol with an average diameter of 30 nm)
A low refractive composition was produced in the same manner as in Production Example 1-1 except that silica particle-dispersed sol having an average diameter of 30 nm (Ichishin Chemical Co., Ltd., MEK-ST) was used.

製造例１−３．低屈折組成物（平均直径が７０ｎｍのシリカ粒子分散ゾルを使用）
平均直径が７０ｎｍのシリカ粒子分散ゾル（一信化学、ＩＰＡＳＴ−ｕｐ）を用いたことを除いては、前記製造例１−１と同様の方法で低屈折組成物を製造した。 Production Example 1-3. Low refractive composition (using silica particle dispersed sol with an average diameter of 70 nm)
A low-refractive composition was produced in the same manner as in Production Example 1-1 except that a silica particle-dispersed sol having an average diameter of 70 nm (Ishin Shin Chemical, IPAST-up) was used.

製造例１−４．低屈折組成物（平均直径が２０ｎｍのシリカ粒子分散ゾルを使用）
平均直径が２０ｎｍのシリカ粒子分散ゾル（一信化学、ＩＰＡＳＴ）を用いたことを除いては、前記製造例１−１と同様の方法で低屈折組成物を製造した。 Production Example 1-4. Low refractive composition (using silica particle dispersed sol with an average diameter of 20 nm)
A low refractive composition was produced in the same manner as in Production Example 1-1 except that a silica particle-dispersed sol having an average diameter of 20 nm (Ichishin Chemical, IPAST) was used.

製造例１−５．低屈折組成物（平均直径が２００ｎｍのシリカ粒子分散ゾルを使用）
平均直径が２００ｎｍのシリカ粒子分散ゾル（一信化学、ＭＥＫ２０）を用いたことを除いては、前記製造例１−１と同様の方法で低屈折組成物を製造した。 Production Example 1-5. Low refractive composition (using silica particle dispersed sol with an average diameter of 200 nm)
A low-refractive composition was produced in the same manner as in Production Example 1-1 except that a silica particle-dispersed sol having an average diameter of 200 nm (Ichishin Kagaku, MEK20) was used.

製造例１−６．低屈折組成物（シリカ粒子を混合しない）
シリカ粒子を混合しないことを除いては、前記製造例１−１と同様の方法で低屈折組成物を製造した。 Production Example 1-6. Low refractive composition (silica particles not mixed)
A low refractive composition was produced in the same manner as in Production Example 1-1 except that silica particles were not mixed.

製造例２．高屈折組成物
総固形分１００重量部に対して、紫外線硬化型アクリレート（商品名ＨＸ−９２０ＵＶ、Ｋｙｏｅｉｓｈａ）３６重量部、高屈折ナノ粒子６０重量部（ＺｒＯ２ナノ粒子）、光重合開始剤４重量部（商品名Ｉｒｇａｃｕｒｅ−１８４、ＢＡＳＦ）を混合し、希釈溶媒メチルエチルケトン（ＭＥＫ）で希釈して固形分５％の高屈折組成物（屈折率１．６８）を製造した。 Production Example 2 High-refractive composition: 100 parts by weight of the total solid content, UV-curable acrylate (trade name HX-920UV, Kyoeisha) 36 parts by weight, high-refractive nanoparticles 60 parts by weight (ZrO 2 nanoparticles), photopolymerization initiator 4 parts by weight Parts (trade name Irgacure-184, BASF) were mixed and diluted with a dilution solvent methyl ethyl ketone (MEK) to produce a high refractive composition (refractive index: 1.68) having a solid content of 5%.

製造例３．ハードコーティング用組成物
総固形分１００重量部に対して、ジペンタエリトリトールヘキサアクリレート２０重量部、紫外線硬化型アクリレート（商品名ＨＸ−９２０ＵＶ、Ｋｙｏｅｉｓｈａ）６０重量部、シリカ微粒子１５重量部（商品名ＸＢＡ−ＳＴ、日産化学）、光重合開始剤Ｉｒｇａｃｕｒｅ−１８４ ５重量部（Ｃｉｂａ社）を混合し、希釈溶媒メチルエチルケトン（ＭＥＫ）で希釈して固形分４５％のハードコーティング用組成物（屈折率１．５０）を製造した。 Production Example 3 Hard coating composition 20 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate, 60 parts by weight of ultraviolet curable acrylate (trade name HX-920UV, Kyoeisha), 15 parts by weight of silica fine particles (trade name XBA) -ST, Nissan Chemical Co., Ltd.), 5 parts by weight of photopolymerization initiator Irgacure-184 (Ciba), mixed with a dilution solvent methyl ethyl ketone (MEK), and a hard coating composition having a solid content of 45% (refractive index of 1. 50) was produced.

＜実施例及び比較例＞
実施例１
製造例３のハードコーティング層組成物をＭｅｙｅｒ ｂａｒを利用して５０μｍのＰＥＴフィルム上に、乾燥膜厚が１．５μｍとなるように塗布し、１８０Ｗの高圧水銀灯で３００ｍＪの紫外線を照射して硬化させ、端面にハードコーティング層を含むフィルムを作製した。 <Examples and Comparative Examples>
Example 1
The hard coating layer composition of Production Example 3 was applied to a 50 μm PET film using a Meyer bar so that the dry film thickness was 1.5 μm, and cured by irradiating 300 mJ ultraviolet light with a 180 W high pressure mercury lamp. Thus, a film including a hard coating layer on the end face was produced.

その後、前記ハードコーティング層の上部に製造例２で製造された高屈折組成物を利用して乾燥膜厚が５０ｎｍとなるように塗布し、１８０Ｗの高圧水銀灯で３００ｍＪの紫外線を照射して硬化させ、高屈折層を形成した。   Thereafter, the hard coating layer is coated on the hard coating layer so as to have a dry film thickness of 50 nm using the high refractive composition produced in Production Example 2, and is cured by irradiating 300 mJ ultraviolet light with a 180 W high pressure mercury lamp. A high refractive layer was formed.

次いで、前記高屈折層の上部に製造例１−１で製造された低屈折組成物を利用して乾燥膜厚が２０ｎｍとなるように塗布し、１５０℃のオーブンで１分間硬化させ、低屈折層を形成した。また、次いで、インジウム：スズ＝９５：５のＩＴＯターゲットを利用して低屈折層の上部に酸化インジウムスズを蒸着した後、１５０℃で１時間の間熱処理することにより、アニーリング工程（ａｎｎｅａｌｉｎｇ ｐｒｏｃｅｓｓ）を適用して２０ｎｍの厚さの導電層（ＩＴＯ層）を形成することで、透明導電性フィルムを作製した。   Next, the low refractive composition produced in Production Example 1-1 was applied on the high refractive layer so as to have a dry film thickness of 20 nm, and cured in an oven at 150 ° C. for 1 minute to obtain a low refractive index. A layer was formed. In addition, an indium tin oxide is deposited on the top of the low refractive layer using an ITO target of indium: tin = 95: 5, and then heat treated at 150 ° C. for 1 hour, thereby performing an annealing process. Was applied to form a conductive layer (ITO layer) having a thickness of 20 nm to produce a transparent conductive film.

実施例２
前記製造例１−２の低屈折組成物を用いて低屈折層を形成することを除いては、前記実施例１と同様の方法で透明導電性フィルムを作製した。 Example 2
A transparent conductive film was produced in the same manner as in Example 1 except that the low refractive layer was formed using the low refractive composition of Production Example 1-2.

実施例３
前記製造例１−３の低屈折組成物を用いて低屈折層を形成することを除いては、前記実施例１と同様の方法で透明導電性フィルムを作製した。 Example 3
A transparent conductive film was produced in the same manner as in Example 1 except that the low refractive layer was formed using the low refractive composition of Production Example 1-3.

比較例１
前記製造例１−４の低屈折組成物を用いて低屈折層を形成することを除いては、前記実施例１と同様の方法で透明導電性フィルムを作製した。 Comparative Example 1
A transparent conductive film was produced in the same manner as in Example 1 except that the low refractive layer was formed using the low refractive composition of Production Example 1-4.

比較例２
前記製造例１−５の低屈折組成物を用いて低屈折層を形成することを除いては、前記実施例１と同様の方法で透明導電性フィルムを作製した。 Comparative Example 2
A transparent conductive film was produced in the same manner as in Example 1 except that the low refractive layer was formed using the low refractive composition of Production Example 1-5.

比較例３
前記製造例１−６の低屈折組成物を用いて低屈折層を形成することを除いては、前記実施例１と同様の方法で透明導電性フィルムを作製した。 Comparative Example 3
A transparent conductive film was produced in the same manner as in Example 1 except that the low refractive layer was formed using the low refractive composition of Production Example 1-6.

実験例
実施例１−３及び比較例１−３に係る各透明導電性フィルム及びこれらに含まれた各低屈折層の物性を評価し、下記表１に記載した。 Experimental Example The properties of each transparent conductive film according to Example 1-3 and Comparative Example 1-3 and the respective low refractive layers contained therein were evaluated and are shown in Table 1 below.

（ブロッキング防止性能）
測定方法：前記実施例及び比較例それぞれの透明導電性フィルムを１０ｃｍ×１０ｃｍ（横×縦）の大きさに切断して１０枚の試片をそれぞれ準備した後、前記１０枚の試片をそれぞれ積層し、それによって形成された１０層構造のフィルムを金属板の間に入れ、上部に位置した金属板上に５ｋｇの錘を用いて圧力を加えた状態で５０℃の温度で２４時間の間放置した以後、取り出して前記１０層構造のフィルムを一枚ずつ引きはがしながらブロッキング防止性能を評価した。前記フィルムがよく分離され、前記透明導電性フィルムの物性を維持することでブロッキング防止性能に優れている場合を「○」と表示し、前記フィルムがよく分離されず、前記透明導電性フィルムの物性が低下してブロッキング防止性能が劣っている場合を「Ｘ」と表示した。 (Anti-blocking performance)
Measurement method: After the transparent conductive film of each of the examples and comparative examples was cut into a size of 10 cm × 10 cm (width × length) to prepare 10 specimens, the 10 specimens were respectively prepared. The 10-layer film formed by laminating was placed between the metal plates, and left standing at a temperature of 50 ° C. for 24 hours in a state where pressure was applied using a 5 kg weight on the metal plate positioned on the top. Thereafter, the anti-blocking performance was evaluated while taking out and peeling the 10-layer film one by one. When the film is well separated and the anti-blocking performance is excellent by maintaining the physical properties of the transparent conductive film, “◯” is indicated, and the film is not well separated, and the physical properties of the transparent conductive film The case in which the anti-blocking performance was inferior due to decrease was indicated as “X”.

（インデックスマッチング性）
測定方法：前記実施例及び比較例それぞれの透明導電性フィルムに対して、表面外観を目視で観察し、導電層の内部の導電性物質で形成されたパターンが見られるか否かを評価した。前記導電性物質で形成されたパターンが全く見られず、インデックスマッチング性または視認性に優れている場合を「○」と表示し、曇っているように見られ、普通である場合を「△」と表示し、鮮明に見られ、劣っている場合を「Ｘ」と表示した。 (Index matching)
Measuring method: The surface appearance of each of the transparent conductive films of the examples and comparative examples was visually observed to evaluate whether or not a pattern formed of a conductive substance inside the conductive layer was observed. When the pattern formed of the conductive material is not seen at all and the index matching property or the visibility is excellent, “◯” is displayed, and when it appears cloudy, it is “△”. “X” is displayed when the image is clearly seen and inferior.

（コーティング性）
測定方法：前記実施例１−３及び前記比較例１−３において前述したように、高屈折層に低屈折層をそれぞれ形成した後、各低屈折層の表面外観で白濁、クラックまたは部分的な凝集等の発生の有無を目視で観察し、コーティング性を評価した。具体的には、白濁、クラック、または部分的な凝集が全く発生せず、コーティング性に優れている場合を「○」と表示し、少ない水準で発生し、コーティング性が普通である場合を「△」と表示し、顕著に発生し、コーティング性が劣っている場合を「Ｘ」と表示した。 (Coating property)
Measurement method: As described above in Example 1-3 and Comparative Example 1-3, after forming the low refractive layer in the high refractive layer, the surface appearance of each low refractive layer is clouded, cracked or partially The presence or absence of aggregation or the like was visually observed to evaluate the coating properties. Specifically, white turbidity, cracks, or partial agglomeration does not occur at all, and a case where the coating property is excellent is indicated as `` ○ ''. “Δ” was displayed, and “X” was displayed when the film was remarkably generated and the coating property was inferior.

（電気伝導性）
測定方法：導電層成膜後、硬化工程後に、電気抵抗測定器（ＭＩＴＳＵＢＩＳＨＩ ＣＨＥＭＩＣＡＬ、ＬＯＲＥＳＴＡ−ＧＰ［ＭＣＰ−Ｔ６１０］）を用いて表面抵抗を測定して電気伝導性を評価し、物理法則によって前記表面抵抗が低いほど前記電気伝導性に優れている。前記面抵抗が１５０Ω／□以下と測定され、電気伝導性に優れている場合を「○」と表示し、１５０〜１７０Ω／□と測定され、普通である場合を「△」と表示し、１７０Ω／□以上と測定され、劣っている場合を「Ｘ」と表記した。 (Electrical conductivity)
Measuring method: After the conductive layer is formed and after the curing step, the surface resistance is measured using an electric resistance measuring instrument (MITSUBISHI CHEMICAL, LORESTA-GP [MCP-T610]) to evaluate the electric conductivity, The lower the surface resistance, the better the electrical conductivity. When the sheet resistance is measured to be 150Ω / □ or less and excellent in electrical conductivity, “◯” is indicated, and when it is measured as 150 to 170Ω / □ and normal, “△” is indicated, and 170Ω The case where it was measured as / □ or more and inferior was described as “X”.

（光透過率及びヘイズ）
測定方法：前記それぞれの透明導電性フィルムに対して、ｈａｚｅｍｅｔｅｒ（Ｎｉｐｐｏｎ Ｄｅｎｓｈｏｋｕ社、ＮＤＨ ５０００）を用いて測定した。前記透明導電性フィルムの厚さは、約１００μｍであった。 (Light transmittance and haze)
Measurement method: It measured using hazemeter (Nippon Denshoku, NDH5000) with respect to each said transparent conductive film. The transparent conductive film had a thickness of about 100 μm.

Figure 2017522581
Figure 2017522581

前記表１に示されたように、実施例１〜３に係る透明導電性フィルムは、物性がほとんど優れた水準であると評価され、特に、実施例１の場合、ブロッキング防止性能、インデックスマッチング性及び電気伝導性が同時に優れた水準で具現されたことを明確に確認することができた。   As shown in Table 1, the transparent conductive films according to Examples 1 to 3 are evaluated to have almost excellent physical properties. Particularly, in the case of Example 1, anti-blocking performance and index matching property. In addition, it was clearly confirmed that the electrical conductivity was realized at an excellent level at the same time.

これに対し、比較例１及び３に係る透明導電性フィルムは、シリカ粒子は、導電層の形成時にアニーリング工程を妨害せず、流通過程を適用する前の電気伝導性は良好であるが、特に、ブロッキング防止性能が顕著に低い水準であると評価され、それによって、ロール形態に巻き取られるか、または複数枚のフィルムが積層されて流通される場合、これらが互いにくっついて、これをタッチスクリーンパネル等に適用するために広げるか、または互いに引きはがす過程で損傷することにより、透明導電性フィルムの性能が顕著に低下して透明導電性フィルムとしての役割をきちんと行うことができないことを明確に予想できる。その上、比較例２に係る透明導電性フィルムの場合は、インデックスマッチング性及びコーティング性も比較例１より低いものと評価された。   On the other hand, the transparent conductive films according to Comparative Examples 1 and 3 have good electrical conductivity before applying the distribution process, since the silica particles do not disturb the annealing process when forming the conductive layer, If the anti-blocking performance is evaluated to be a remarkably low level, thereby being wound up in a roll form, or when a plurality of films are laminated and distributed, they stick to each other and this is touch screen Clarify that the performance of the transparent conductive film cannot be performed properly by spreading it for application to panels etc. or damaging it in the process of peeling each other. I can expect. In addition, in the case of the transparent conductive film according to Comparative Example 2, the index matching property and the coating property were evaluated to be lower than those of Comparative Example 1.

また、比較例２に係る透明導電性フィルムは、インデックスマッチング性、コーティング性は、普通の水準であると評価されたが、ヘイズが劣っており、光学物性が低く、かつ、導電層の形成時、シリカ粒子によりアニーリング工程が妨害を受け、導電層の電気抵抗性が増加して電気伝導性が顕著に低いものと評価され、それによって、透明導電性フィルムとしての役割をきちんと行うことができないことを明確に予想できる。   In addition, the transparent conductive film according to Comparative Example 2 was evaluated as having an ordinary level of index matching property and coating property, but had poor haze, low optical properties, and formation of a conductive layer. The annealing process is hindered by the silica particles, and the electrical resistance of the conductive layer is increased, and it is evaluated that the electrical conductivity is remarkably low, so that the role as a transparent conductive film cannot be performed properly. Can be clearly predicted.

Claims (19)

オルガノポリシロキサン（ｏｒｇａｎｏｐｏｌｙｓｉｌｏｘａｎｅ）及び平均直径が３０ｎｍ〜７０ｎｍである無機粒子を含む、
低屈折組成物。 Comprising organopolysiloxane and inorganic particles having an average diameter of 30 nm to 70 nm,
Low refractive composition. 前記オルガノポリシロキサン１００重量部に対して、前記無機粒子を０．５重量部〜２０重量部で含む、
請求項１に記載の低屈折組成物。 The inorganic particles are included at 0.5 to 20 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the organopolysiloxane.
The low refractive composition according to claim 1. 前記オルガノポリシロキサンは、炭素数１個〜１８個のアルキル基、炭素数１個〜１８個のアルコキシ基、炭素数２個〜６個のエステル基、炭素数２個〜１２個のエポキシ基、炭素数２個〜１２個のアルケニル基、炭素数６個〜１２個の芳香族基、炭素数３個〜１８個のアクリル基、グリシジル基、アミン基、チオール基、ハロゲン基、及びこれらの組み合わせからなる群から選択された少なくとも一つの官能基を含む、
請求項１に記載の低屈折組成物。 The organopolysiloxane is an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 18 carbon atoms, an ester group having 2 to 6 carbon atoms, an epoxy group having 2 to 12 carbon atoms, Alkenyl group having 2 to 12 carbon atoms, aromatic group having 6 to 12 carbon atoms, acrylic group having 3 to 18 carbon atoms, glycidyl group, amine group, thiol group, halogen group, and combinations thereof Comprising at least one functional group selected from the group consisting of:
The low refractive composition according to claim 1. 前記オルガノポリシロキサンは、線形構造、網状構造、またはこれらをいずれも含む、
請求項１に記載の低屈折組成物。 The organopolysiloxane includes a linear structure, a network structure, or both of these,
The low refractive composition according to claim 1. 前記オルガノポリシロキサンは、下記化学式１のシラン化合物及び下記化学式２のシラン化合物を含む組成物がゾル−ゲル反応を進行して形成された、
請求項１に記載の低屈折組成物：
［化学式１］
Ｒ1 xＳｉ（ＯＲ2）4-x
［化学式２］
Ｓｉ（ＯＲ3）4
前記化学式１において、前記Ｒ1は、炭素数１個〜１８個のアルキル基、炭素数２個〜６個のエステル基、炭素数２個〜１２個のエポキシ基、炭素数２個〜１２個のアルケニル基、炭素数６個〜１２個の芳香族基、炭素数３個〜１８個のアクリル基、グリシジル基、アミン基、チオール基またはハロゲン基であり、前記Ｒ2及び前記Ｒ3は、それぞれ独立して、Ｈ、または炭素数１個〜１８個のアルキル基であり、前記ｘは、１、２、または３である。 The organopolysiloxane was formed by a sol-gel reaction of a composition containing a silane compound represented by the following chemical formula 1 and a silane compound represented by the following chemical formula 2:
The low refractive composition according to claim 1:
[Chemical Formula 1]
R 1 x Si (OR 2 ) 4-x
[Chemical formula 2]
Si (OR 3 ) 4
In the chemical formula 1, R 1 is an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an ester group having 2 to 6 carbon atoms, an epoxy group having 2 to 12 carbon atoms, or 2 to 12 carbon atoms. An alkenyl group, an aromatic group having 6 to 12 carbon atoms, an acrylic group having 3 to 18 carbon atoms, a glycidyl group, an amine group, a thiol group, or a halogen group, and R 2 and R 3 are Each independently represents H or an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, and x is 1, 2, or 3. 前記ゾル−ゲル反応を進行する前に、前記組成物に前記無機粒子がさらに混合されて含まれた、
請求項５に記載の低屈折組成物。 Before proceeding with the sol-gel reaction, the inorganic particles were further mixed in the composition,
The low refractive composition according to claim 5. 前記オルガノポリシロキサンは、重量平均分子量が３，０００ｇ／ｍｏｌ〜５５，０００ｇ／ｍｏｌである、
請求項１に記載の低屈折組成物。 The organopolysiloxane has a weight average molecular weight of 3,000 g / mol to 55,000 g / mol.
The low refractive composition according to claim 1. 前記無機粒子は、シリカ粒子、アルミナ粒子、酸化ジルコニウム粒子、酸化チタン粒子、酸化アンチモン粒子、及びこれらの組み合わせからなる群から選択された少なくとも一つの粒子を含む、
請求項１に記載の低屈折組成物。 The inorganic particles include at least one particle selected from the group consisting of silica particles, alumina particles, zirconium oxide particles, titanium oxide particles, antimony oxide particles, and combinations thereof.
The low refractive composition according to claim 1. 置換または非置換された単分子アルコキシシラン化合物を含まないか、またはさらに含む、
請求項１に記載の低屈折組成物。 Does not contain or further contains a substituted or unsubstituted monomolecular alkoxysilane compound,
The low refractive composition according to claim 1. 請求項１乃至９のいずれか一項による低屈折組成物により形成された低屈折層を含む、
透明導電性フィルム。 Comprising a low refractive layer formed from the low refractive composition according to any one of claims 1 to 9.
Transparent conductive film. 前記低屈折層は、上部面に微細凹凸が形成され、
前記微細凹凸が前記無機粒子により形成された、
請求項１０に記載の透明導電性フィルム。 The low refractive layer has fine irregularities formed on the upper surface,
The fine irregularities were formed by the inorganic particles;
The transparent conductive film according to claim 10. 前記低屈折層の厚さは、１０ｎｍ〜５０ｎｍである、
請求項１０に記載の透明導電性フィルム。 The thickness of the low refractive layer is 10 nm to 50 nm.
The transparent conductive film according to claim 10. 前記低屈折層は、屈折率が１．４０〜１．５０である、
請求項１０に記載の透明導電性フィルム。 The low refractive layer has a refractive index of 1.40 to 1.50.
The transparent conductive film according to claim 10. 前記低屈折層の下部に順次に高屈折層及び基材層をさらに含み、
前記低屈折層の上部に導電層をさらに含む、
請求項１０に記載の透明導電性フィルム。 Further comprising a high refractive layer and a base material layer sequentially below the low refractive layer,
A conductive layer on the low refractive layer;
The transparent conductive film according to claim 10. 前記基材層の一面または両面に接するハードコーティング層をさらに含む、
請求項１４に記載の透明導電性フィルム。 A hard coating layer in contact with one or both surfaces of the base material layer;
The transparent conductive film according to claim 14. 光透過率が、８５％以上であり、ヘイズが、０．１％〜０．８％である、
請求項１０に記載の透明導電性フィルム。 The light transmittance is 85% or more, and the haze is 0.1% to 0.8%.
The transparent conductive film according to claim 10. 下記化学式１のシラン化合物、下記化学式２のシラン化合物及び、平均直径が３０ｎｍ〜７０ｎｍである無機粒子を混合し、これらを含む原料組成物を準備するステップ；及び
前記原料組成物に対してゾル−ゲル反応を進行させ、低屈折組成物を製造するステップ；
を含む、低屈折組成物の製造方法：
［化学式１］
Ｒ1 xＳｉ（ＯＲ2）4-x
［化学式２］
Ｓｉ（ＯＲ3）4
前記化学式１において、前記Ｒ1は、炭素数１個〜１８個のアルキル基、炭素数２個〜６個のエステル基、炭素数２個〜１２個のエポキシ基、炭素数２個〜１２個のアルケニル基、炭素数６個〜１２個の芳香族基、炭素数３個〜１８個のアクリル基、グリシジル基、アミン基、チオール基またはハロゲン基であり、前記Ｒ2及び前記Ｒ3は、それぞれ独立して、Ｈ、または炭素数１個〜１８個のアルキル基であり、前記ｘは、１、２、または３である。 Mixing a silane compound of the following chemical formula 1, a silane compound of the following chemical formula 2 and inorganic particles having an average diameter of 30 nm to 70 nm, and preparing a raw material composition containing them; Allowing the gel reaction to proceed to produce a low refractive composition;
A method for producing a low refractive composition comprising:
[Chemical Formula 1]
R 1 x Si (OR 2 ) 4-x
[Chemical formula 2]
Si (OR 3 ) 4
In the chemical formula 1, R 1 is an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, an ester group having 2 to 6 carbon atoms, an epoxy group having 2 to 12 carbon atoms, or 2 to 12 carbon atoms. An alkenyl group, an aromatic group having 6 to 12 carbon atoms, an acrylic group having 3 to 18 carbon atoms, a glycidyl group, an amine group, a thiol group, or a halogen group, and R 2 and R 3 are Each independently represents H or an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, and x is 1, 2, or 3. 前記化学式１のシラン化合物及び前記化学式２のシラン化合物の総和１００重量部に対して、前記無機粒子を０．５重量部〜２０重量部で混合して前記原料組成物を準備する、
請求項１７に記載の低屈折組成物の製造方法。 The inorganic particles are mixed at 0.5 to 20 parts by weight with respect to a total of 100 parts by weight of the silane compound of Chemical Formula 1 and the silane compound of Chemical Formula 2 to prepare the raw material composition.
The method for producing a low refractive composition according to claim 17. 前記ゾル−ゲル反応を進行させる間、前記シラン化合物の間に互いに化学反応を進行してオルガノポリシロキサンが形成される、
請求項１７に記載の低屈折組成物の製造方法。 While the sol-gel reaction proceeds, an organopolysiloxane is formed by a chemical reaction between the silane compounds.
The method for producing a low refractive composition according to claim 17.
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