KR20110037881A - Transparent conductive film - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A transparent conductive film is provided to decrease a haze value by suppressing the discoloration of transmission light. CONSTITUTION: A transparent conductive film includes a high refractive layer, a lower refractive layer, and a tin doped indium oxide layer. The high refractive layer, the lower refractive layer, and the tin doped indium oxide layer are successively laminated on a first main surface of a polyester film. The high refractive layer is comprised of metal oxide corpuscles and an ultraviolet curable binder. The refractive index of the high refractive layer is 1.63 to 1.86. The refractive index of the low refractive index is 1.33 to 1.53. The refractive index of the tin doped indium oxide layer is 1.85 to 2.35.

Description

투명 도전성 필름{Transparent conductive film}Transparent conductive film

본 발명은, 예를 들면 터치 패널(touch panel) 등에 이용되는 투과광의 변색을 억제하여, 전광선투과율이 뛰어난 투명 도전성 필름에 관한 것이다.
TECHNICAL FIELD This invention suppresses discoloration of the transmitted light used, for example in a touch panel, and relates to the transparent conductive film excellent in the total light transmittance.

현재, 화상 표시부에 직접 접촉하는 것으로 정보를 입력할 수 있는 장치로서 터치 패널(touch panel)이 이용되고 있다. 이 터치 패널은 빛을 투과하는 입력장치를 액정표시장치, CRT 등의 각종 디스플레이 위에 배치한 것이다. 터치 패널의 대표적인 형식으로서 투명전극기판 2매를 그 투명전극층이 서로 마주 보게 배치한 저항막식 터치 패널이나, 투명 전극층과 손가락 사이에 발생하는 전류 용량의 변화를 이용한 정전 용량식 터치 패널이 있다.Currently, a touch panel is used as a device capable of inputting information by directly contacting an image display unit. In this touch panel, an input device that transmits light is disposed on various displays such as a liquid crystal display device and a CRT. Representative types of touch panels include a resistive touch panel in which two transparent electrode substrates are disposed so that the transparent electrode layers face each other, or a capacitive touch panel using a change in current capacitance generated between the transparent electrode layer and a finger.

저항막식 터치 패널이나 정전 용량식 터치 패널의 투명 전극 기판으로서 유리판, 투명 수지판이나 각종의 열가소성 고분자 필름 등의 기재 위에, 산화 주석을 함유하는 인듐 산화물(주석 도프 산화 인듐, ITO)이나 산화 아연 등의 금속 산화물을 투명 도전층으로 적층한 것이 일반적으로 이용되고 있다. 이와 같이 얻어진 투명 전극 기판에는, 금속 산화물층의 반사 및 흡수에 유래하는 가시광선 단파장 영역의 투과율 저하가 발생하는 경우가 있기 때문에, 투명 전극 기판을 투과한 빛이 황색으로 변색하는 경우가 있다. 그 때문에, 터치 패널 아래에 배치되는 표시장치의 발색을 정확하게 표현하기 어려운 문제가 있었다.Indium oxides (tin-doped indium oxide, ITO), zinc oxide, etc. containing tin oxide on substrates such as glass plates, transparent resin plates, and various thermoplastic polymer films as transparent electrode substrates of resistive touch panels and capacitive touch panels. The metal oxide of which was laminated | stacked by the transparent conductive layer is generally used. Since the transmittance | permeability fall of the visible light short wavelength area | region derived from reflection and absorption of a metal oxide layer may arise in the transparent electrode substrate obtained in this way, the light which permeate | transmitted the transparent electrode substrate may change color to yellow. Therefore, there is a problem that it is difficult to accurately express the color development of the display device disposed below the touch panel.

이 문제를 해결하기 위해서, 투명 도전층을 다층 광학막과 조합한 투명 도전성 적층체가 제안되고 있다(특개 2000-301648호 공보를 참조). 이 투명 도전성 적층체의 다층 광학막은, 다른 굴절률의 층이 적층된 것이다. 다층 광학막의 구성요소로서 금속 알콕시화물(alkoxide)의 가수분해물이 사용되고 있는 것으로부터, 투과색이 황색으로 변색되는 것을 억제하는 효과와 투명 도전성 적층체의 헤이즈 값을 낮추는 것의 양립이 불충분했다.
In order to solve this problem, the transparent conductive laminated body which combined the transparent conductive layer with the multilayer optical film is proposed (refer Unexamined-Japanese-Patent No. 2000-301648). In the multilayer optical film of the transparent conductive laminate, layers of different refractive indices are laminated. Since the hydrolyzate of the metal alkoxide is used as a component of the multilayer optical film, the effect of suppressing the discoloration of the transmissive color into yellow and the lowering of the haze value of the transparent conductive laminate are insufficient.

본 발명의 목적은 투과광의 변색을 억제해 헤이즈 값이 낮고, 전광선투과율이 높은 투명 도전성 필름을 제공하는 것에 있다.
An object of the present invention is to provide a transparent conductive film that suppresses discoloration of transmitted light, has a low haze value, and has a high total light transmittance.

상기의 목적을 달성하기 위해서, 본 발명의 한 형태인 투명 도전성 필름은, 폴리에스테르 필름의 제1의 주면으로부터 순서대로 적층된, 고굴절률층, 저굴절률층 및 주석 도프 산화 인듐층(ITO층)을 갖춘다. 고굴절률층은, 금속 산화물 미립자와 자외선 경화성 바인더로 형성된다. 파장 400 nm에 있어서의 고굴절률층의 굴절률은 1.63~1.86이다. 고굴절률층의 막후는 40~90 nm이다. 파장 400 nm에 있어서의 저굴절률층의 굴절률은 1.33~1.53이다. 저굴절률층의 막후는 10~50 nm이다.In order to achieve the above object, the transparent conductive film of one embodiment of the present invention is a high refractive index layer, a low refractive index layer, and a tin dope indium oxide layer (ITO layer), which are laminated in order from the first main surface of the polyester film. Equipped. The high refractive index layer is formed of metal oxide fine particles and an ultraviolet curable binder. The refractive index of the high refractive index layer in wavelength 400nm is 1.63-1.86. The thickness of the high refractive index layer is 40 to 90 nm. The refractive index of the low refractive index layer in wavelength 400nm is 1.33-1.53. The film thickness of the low refractive index layer is 10 to 50 nm.

일례의 투명 도전성 필름은, 폴리에스테르 필름의 제2의 주면에 형성된 기능층을 한층 더 갖춘다.The transparent conductive film of an example further has a functional layer formed in the 2nd main surface of a polyester film.

일례에서, 기능층은, 하드 코트층, 방현층, 지문 친숙함층 또는 자기 수복층이다.In one example, the functional layer is a hard coat layer, an antiglare layer, a fingerprint familiarity layer, or a self-repair layer.

일례에서, 기능층은 활성 하드 코트층이다. 상기 활성 하드 코트층의 막후는 1.0~10.0 μm이다. 상기 활성 하드 코트층은, 해당 활성 하드 코트층 안에 0.5~30 질량%의 투광성 미립자를 함유한다. 상기 활성 하드 코트층의 막후에 대한 상기 투광성 미립자의 평균 입자 지름의 비율은 10~60%이다.In one example, the functional layer is an active hard coat layer. The thickness of the active hard coat layer is 1.0 to 10.0 μm. The said active hard coat layer contains 0.5-30 mass% translucent microparticles | fine-particles in this active hard coat layer. The ratio of the average particle diameter of the translucent fine particles to the film thickness of the active hard coat layer is 10 to 60%.

일례에서, 기능층은 하드 코트층 또는 방현층이며, 투명 도전성 필름은, 해당 기능층 위에 적층된 반사 방지층을 한층 더 갖춘다.
In one example, the functional layer is a hard coat layer or an antiglare layer, and the transparent conductive film further includes an antireflection layer laminated on the functional layer.

본 발명에 의하면, 다음과 같은 효과를 발휘할 수 있다.According to this invention, the following effects can be exhibited.

한 종류의 투명 도전성 필름에서는, 폴리에스테르 필름의 제1주면에 적층된 고굴절률층, 저굴절률층 및 ITO층의 굴절률을, 빛의 파장 400 nm에 있어서의 굴절률에 근거해 적절히 설정하므로써, 투명 도전성 필름의 투과광이 황색으로 변색되는 현상을 억제할 수 있는 것과 동시에, 투과율을 올릴 수 있다. 따라서, 투과광의 착색을 억제해 헤이즈 값을 저하시켜, 전광선 투과율을 높인 투명 도전성 필름을 얻을 수 있다.In one kind of transparent conductive film, transparent conductivity is set by suitably setting the refractive index of the high refractive index layer, the low refractive index layer, and the ITO layer laminated | stacked on the 1st main surface of a polyester film based on the refractive index in the wavelength of 400 nm of light. The transmitted light of the film turns yellow The phenomenon of discoloration can be suppressed and the transmittance can be increased. Therefore, the coloring of transmitted light is suppressed, haze value can be reduced, and the transparent conductive film which raised the total light transmittance can be obtained.

여기서, 굴절률에는 파장 분산성이 있어, 단파장 영역에서는 굴절률이 높아지는 경향이 있다. 일반적으로, 각층의 굴절률 조정에서는, 나트륨의 D선(589 nm)의 값을 이용하는 것이 대부분이다. 그러나, 본 발명의 중간층 및 ITO층과 같이 금속 산화물 미립자를 포함하는 층에 있어서는, 굴절률의 파장 분산의 영향이 커진다. 파장 589 nm의 굴절률로 각층의 굴절률을 조정했을 경우, 파장 400 nm의 투과율을 충분히 조정할 수 없게 되어, 황색으로 변색되는 현상 저감 효과를 충분히 얻을 수 없다. 본 발명에서는, 파장 400 nm의 굴절률을 사용해 각층을 설계하고, 파장 400 nm에 있어서의 투과율을 제어했기 때문에, 황색으로 변색되는 현상을 억제하는 효과가 최대가 된다.
Here, there is a wavelength dispersion in the refractive index, and the refractive index tends to be high in the short wavelength region. In general, in adjusting the refractive index of each layer, the value of sodium D-line (589 nm) is mostly used. However, in the layer containing metal oxide fine particles, such as the intermediate | middle layer and ITO layer of this invention, the influence of the wavelength dispersion of a refractive index becomes large. When the refractive index of each layer is adjusted by the refractive index of wavelength 589 nm, the transmittance | permeability of wavelength 400 nm cannot fully be adjusted, and it turns yellow. The effect of reducing the phenomenon of discoloration cannot be sufficiently obtained. In the present invention, each layer was designed using a refractive index of wavelength 400 nm, and the transmittance at wavelength 400 nm was controlled. The effect of suppressing the phenomenon of discoloration is maximized.

도 1은 본 발명의 일실시 형태에 따른 투명 도전성 필름의 구조를 나타내는 모식적 단면도이다.
도 2는 폴리에스테르 필름과 고굴절률층 사이에 하드 코트층을 가지는 투명 도전성 필름의 구조를 나타내는 모식적 단면도이다.
도 3은 기능층을 가지는 투명 도전성 필름의 구조를 나타내는 모식적 단면도이다.
1 is a schematic cross sectional view of a structure of a transparent conductive film according to an embodiment of the present invention.
It is typical sectional drawing which shows the structure of the transparent conductive film which has a hard-coat layer between a polyester film and a high refractive index layer.
It is typical sectional drawing which shows the structure of the transparent conductive film which has a functional layer.

이하, 본 발명을 구체화한 실시 형태에 대해 상세하게 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, embodiment which actualized this invention is described in detail.

[투명 도전성 필름][Transparent Conductive Film]

본 실시 형태의 투명 도전성 필름은, 폴리에스테르 필름의 제1의 주면으로부터 순서대로, 고굴절률층, 저굴절률층 및 주석 도프(dope) 산화 인듐층(ITO층)이 적층되어 구성되어 있다(도 1 참조). 고굴절률층은, 금속 산화물 미립자와 자외선(UV) 경화성 바인더로 형성된다. 파장 400 nm에 있어서의 고굴절률층의 굴절률은 1.63~1.86이며, 고굴절률층의 막후는 40~90 nm이다. 파장 400 nm에 있어서의 저굴절률층의 굴절률은 1.33~1.53이며, 저굴절률층의 막후는 10~50 nm이다. 파장 400 nm에 있어서의 ITO층의 굴절률은 1.85~2.35이며, ITO층의 막후는 5~50 nm이다.
The transparent conductive film of this embodiment is comprised by laminating | stacking a high refractive index layer, a low refractive index layer, and a tin dope indium oxide layer (ITO layer) in order from the 1st main surface of a polyester film (FIG. 1). Reference). The high refractive index layer is formed of metal oxide fine particles and an ultraviolet (UV) curable binder. The refractive index of the high refractive index layer at a wavelength of 400 nm is 1.63-1.86, and the film thickness of the high refractive index layer is 40-90 nm. The refractive index of the low refractive index layer at a wavelength of 400 nm is 1.33-1.53, and the film thickness of the low refractive index layer is 10-50 nm. The refractive index of the ITO layer at a wavelength of 400 nm is 1.85 to 2.35, and the film thickness of the ITO layer is 5 to 50 nm.

이하, 상기 투명 도전성 필름의 구성요소에 대해서 순서대로 설명한다.
Hereinafter, the component of the said transparent conductive film is demonstrated in order.

<폴리에스테르 필름><Polyester film>

폴리에스테르 필름은 투명기재이며, 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET) 수지로 대표되는 폴리에스테르계 수지이다. 폴리에스테르 필름의 막후는 통상 25~400 μm, 바람직하게는 35~250 μm이다.
The polyester film is a transparent base material and is a polyester resin represented by polyethylene terephthalate (PET) resin. The film thickness of a polyester film is 25-400 micrometers normally, Preferably it is 35-250 micrometers.

<고굴절률층><High refractive index layer>

고굴절률층은 금속 산화물 미립자와 자외선 경화성 바인더를 혼합한 고굴절률층용 칠액을 자외선 경화시킨 경화물에 의해 형성된다. 금속 산화물 미립자로서는, 산화 티탄 및 산화 지르코늄이 바람직하다. 산화 티탄 및 산화 지르코늄의 파장 400 nm에 있어서의 굴절률은 제법에 따라서 다르지만, 2.0~3.0인 것이 바람직하다. 또, 자외선 경화성 바인더로는, (메타)아크릴로일기를 갖는 다관능 모노머, 올리고머 및 중합체를 들 수 있다. 파장 400 nm에 있어서의 자외선 경화성 바인더의 굴절률은 1.4~1.7인 것이 바람직하다.The high refractive index layer is formed of a cured product obtained by ultraviolet-curing the high refractive index layer liquid in which the metal oxide fine particles and the ultraviolet curable binder are mixed. As the metal oxide fine particles, titanium oxide and zirconium oxide are preferable. Although the refractive index in wavelength 400nm of titanium oxide and zirconium oxide changes with manufacturing methods, it is preferable that it is 2.0-3.0. Moreover, as an ultraviolet curable binder, the polyfunctional monomer, oligomer, and polymer which have a (meth) acryloyl group are mentioned. It is preferable that the refractive index of the ultraviolet curable binder in wavelength 400nm is 1.4-1.7.

고굴절률층의 칠액은, 건조 경화 후의 경화막(즉, 고굴절률층)의 파장 400 nm에 있어서의 굴절률이 1.63~1.86이며, 바람직하게는 1.66~1.86이 되도록 조정한다. 게다가 고굴절률층의 칠액은, 건조 경화 후의 막후가 40~90 nm, 바람직하게는 45~90 nm가 되도록 도포되고, 그 후 경화된다. 고굴절률층의 굴절률 및 막후가 이러한 범위 외에서는, JIS Z 8729에 규정되고 있는 L*a*b 표색계에 있어서의 투과색 b*의 값이 커져 버려, 투명 도전성 필름의 투과색이 황색으로 변색되는 현상이 현저하게 인식되게 된다. 또한, 고굴절률층의 굴절률이 1.86보다 큰 경우에는, 칠막 중의 입자의 비율이 많아져, 헤이즈 값이 상승해 버린다. 고굴절률층의 막후가 상기의 범위 외에서는, 투과색 b*의 값이 커져 버려, 투명 도전성 필름의 투과색이 황색으로 변색되는 현상이 현저하게 인식되게 된다.
The coating liquid of the high refractive index layer is adjusted so that the refractive index in wavelength 400nm of the cured film (namely, high refractive index layer) after dry hardening is 1.63-1.86, Preferably it is 1.66-1.86. Furthermore, the coating liquid of a high refractive index layer is apply | coated so that the film thickness after dry hardening may be 40-90 nm, Preferably it is 45-90 nm, and it hardens after that. When the refractive index and the film thickness of the high refractive index layer are outside these ranges, the value of the transmission color b * in the L * a * b color system prescribed in JIS Z 8729 becomes large, and the transmission color of the transparent conductive film discolors to yellow. The phenomenon becomes noticeable. Moreover, when the refractive index of a high refractive index layer is larger than 1.86, the ratio of the particle | grains in a coating film will increase and haze value will rise. When the film thickness of the high refractive index layer is out of the above range, the value of the transmission color b * becomes large, and the phenomenon that the transmission color of the transparent conductive film discolors to yellow is remarkably recognized.

<저굴절률층><Low refractive index layer>

저굴절률층은, 평균 입자 지름이 10~100 nm의 무기 미립자와 활성 에너지선경화형 수지를, 필요에 따라서 용매를 이용하고, 혼합한 칠액을, 도포, 경화시킨 층이다. 무기 미립자로서는, 콜로이달 실리카나 중공 실리카 미립자를 들 수 있다. 활성 에너지선경화형 수지로서는, 예를 들면 (메타)아크릴로일기를 가지는 다관능 모노머, 올리고머 및 중합체를 들 수 있다.The low refractive index layer is a layer obtained by applying and curing a coating liquid in which inorganic fine particles having an average particle diameter of 10 to 100 nm and an active energy ray-curable resin are mixed with a solvent, if necessary, using a solvent. Examples of the inorganic fine particles include colloidal silica and hollow silica fine particles. As active energy ray hardening type resin, the polyfunctional monomer, oligomer, and polymer which have a (meth) acryloyl group are mentioned, for example.

저굴절률층의 칠액은, 건조 경화 후의 경화막(즉, 저굴절률층)의 파장 400 nm에 있어서의 굴절률이 1.33~1.53이 되도록 조정한다. 이 굴절률이 1.33보다 작은 경우, 저굴절률층의 칠액중에 있어서의 중공실리카 미립자 등의 비율이 증가하기 위해, 칠막이 물러지는 동시에, 저굴절률층을 양호하게 제막 할 수 없게 된다. 그 한편, 저굴절률층의 굴절률이 1.53보다 큰 경우, 투과색 b*의 값이 커져 버려, 투명 도전성 필름의 투과색이 황색으로 변색되는 것이 현저하게 인식되게 된다.The fill solution of the low refractive index layer is adjusted so that the refractive index at a wavelength of 400 nm of the cured film (that is, the low refractive index layer) after dry curing is 1.33 to 1.53. When this refractive index is smaller than 1.33, in order to increase the ratio of the hollow silica fine particles and the like in the coating liquid of the low refractive index layer, the coating film is receded and the low refractive index layer cannot be formed satisfactorily. On the other hand, when the refractive index of the low refractive index layer is larger than 1.53, the value of the transmissive color b * becomes large, and it becomes recognizable that the transmissive color of the transparent conductive film discolors to yellow.

저굴절률층의 칠액은, 건조 경화 후의 막후가 10~50 nm, 바람직하게는 15~45 nm가 되도록 도포된 후 경화된다. 이 막후가 이러한 범위 외에서는 투과색 b*의 값이 커져 버려, 투명 도전성 필름의 투과색이 황색으로 변색되는 현상이 현저하게 인식되게 된다.
The coating liquid of the low refractive index layer is cured after being applied such that the film thickness after dry curing is 10 to 50 nm, preferably 15 to 45 nm. If the film thickness is outside this range, the value of the transmissive color b * becomes large, and the phenomenon that the transmissive color of the transparent conductive film discolors to yellow is remarkably recognized.

<고굴절률층 및 저굴절률층의 형성 방법><Method of forming high refractive index layer and low refractive index layer>

폴리에스테르 필름 상에 설치되는 고굴절률층 및 저굴절률층의 형성 방법은 종래 공지의 방법으로 충분하나, 특히 제한되지 않는다. 예를 들면 드라이 코팅법, 웨트 코팅법 등의 방법을 뽑을 수 있다. 생산성 및 제조 비용의 면에서, 특히 웨트 코팅법이 바람직하다. 웨트 코팅법으로서는 공지의 방법으로 충분한데, 예를 들면 롤 코트법, 스핀 코트법, 딥 코트법 등이 대표적인 방법으로서 들 수 있다. 그 중에 롤 코트법 등, 연속적으로 층을 형성할 수 있는 방법이 생산성의 관점에서 바람직하다.
The formation method of the high refractive index layer and the low refractive index layer provided on a polyester film is sufficient as a conventionally well-known method, but it is not specifically limited. For example, methods, such as a dry coating method and a wet coating method, can be taken out. In view of productivity and manufacturing cost, wet coating is particularly preferred. As a wet coating method, although a well-known method is enough, a roll coating method, a spin coating method, a dip coating method, etc. are mentioned as a typical method, for example. Among them, a method capable of forming a layer continuously, such as a roll coating method, is preferable from the viewpoint of productivity.

<ITO층><ITO layer>

ITO층은 저굴절률층 위에 적층된다. 파장 400 nm에 있어서의 ITO층의 굴절률은 1.85~2.35이며, 바람직하게는 1.90~2.30이다. ITO층의 굴절률이 이 범위를 벗어나면, 투명 도전성 필름의 투과색이 착색을 나타내, 투과율도 저하한다. 또, ITO층의 건조 경화 후의 막후는 550 nm이며, 바람직하게는 20~30 nm이다. 이 막후가 5 nm보다 얇은 경우에는, ITO층을 균일하게 형성하는 것이 어렵고, 안정된 저항을 얻을 수 없게 된다. 그 한편, 막후가 50 nm보다 두꺼운 경우에는, ITO층 자신에 의한 빛의 흡수가 강해져, 황색으로 변색되는 현상의 저감 효과가 약해진다. ITO층의 제막방법은 특히 제한되지 않고, 예를 들면 증착법, 스패터링법, 이온 도금법, CVD법(화학 증착법) 또는 도금법을 사용할 수 있다. 이러한 방법 중에서, ITO층의 두께 제어의 관점에서 증착법 및 스패터링법이 특히 바람직하다. 한편, ITO층을 형성한 후, 필요에 따라서 100~200 ℃의 범위 내에서 아닐(anneal) 처리를 가해 결정화할 수 있다. 구체적으로는, 높은 온도로 결정화하면 ITO층의 굴절률은 작아지는 경향을 나타낸다. 따라서, ITO층의 굴절률의 조정은, 아닐 처리의 온도와 시간을 제어하는 것으로 조정 가능하다.
The ITO layer is laminated on the low refractive index layer. The refractive index of the ITO layer at a wavelength of 400 nm is 1.85 to 2.25, preferably 1.90 to 2.30. When the refractive index of an ITO layer is out of this range, the transmissive color of a transparent conductive film will show coloring and a transmittance | permeability will also fall. Moreover, the film thickness after dry hardening of an ITO layer is 550 nm, Preferably it is 20-30 nm. If the thickness is thinner than 5 nm, it is difficult to form the ITO layer uniformly, and stable resistance cannot be obtained. On the other hand, when the film thickness is thicker than 50 nm, absorption of light by the ITO layer itself becomes strong, and the effect of reducing the phenomenon of discoloration in yellow becomes weak. The film forming method of the ITO layer is not particularly limited, and for example, a vapor deposition method, a sputtering method, an ion plating method, a CVD method (chemical vapor deposition method) or a plating method can be used. Among these methods, the vapor deposition method and the sputtering method are particularly preferable from the viewpoint of controlling the thickness of the ITO layer. On the other hand, after forming an ITO layer, it can crystallize by applying an annealing process in the range of 100-200 degreeC as needed. Specifically, when the crystallization is performed at a high temperature, the refractive index of the ITO layer tends to be small. Therefore, adjustment of the refractive index of an ITO layer can be adjusted by controlling the temperature and time of an annealing process.

<하드 코트층><Hard coat layer>

폴리에스테르 필름과 고굴절률층과의 사이에는, 하드 코트층을 형성할 수 있다(도 2 참조). 하드 코트층으로서는, 예를 들면 테트라에톡시실란(tetraethoxy silane) 등의 반응성 규소 화합물과 활성 에너지선경화형 수지를 혼합한 하드 코트층용 칠액을 자외선 경화시킨 경화물을 들 수 있다. 활성 에너지선경화형 수지로서는, 예를 들면 단관능(메타)아크릴레이트, 다관능(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 이것들 중에서 생산성 및 경도를 양립시키는 관점에서, 연필 경도(평가법:JIS-K5600-5-4)가 H 이상이 되는 활성 에너지선경화형 수지를 포함한 조성물의 중합 경화물인 것이 바람직하다.A hard coat layer can be formed between a polyester film and a high refractive index layer (refer FIG. 2). As a hard coat layer, the hardened | cured material which carried out the ultraviolet curing of the coating liquid for hard coat layers which mixed reactive silicon compounds, such as tetraethoxy silane, and active energy ray-curable resin, is mentioned, for example. As active energy ray hardening type resin, monofunctional (meth) acrylate, polyfunctional (meth) acrylate, etc. are mentioned, for example. It is preferable that it is a polymerization hardened | cured material of the composition containing active energy ray hardening type resin from which a pencil hardness (evaluation method: JIS-K5600-5-4) becomes H or more from a viewpoint which makes productivity and hardness compatible.

그러한 활성 에너지선경화형 수지를 포함한 조성물로서는 특히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들면 공지의 활성 에너지선경화형 수지를 2 종류 이상 혼합한 것, 자외선 경화성 하드 코트 재료로서 시판되고 있는 것, 혹은 이것들 이외에 본 발명의 효과를 해치지 않는 범위에 있어서, 그 외의 성분을 더 첨가한 것을 이용할 수 있다. 건조 경화 후의 하드 코트층의 막후는 1.0~10.0μm가 바람직하고, 굴절률은 1.45~1.60인 것이 바람직하다. 하드 코트층의 막후가 1.0 μm보다 얇은 경우에는, 연필 경도가 H 미만이 되기 때문에 바람직하지 못하다. 한편, 막후가 10 μm보다 두꺼운 경우에는, 경화 수축에 의한 컬(curl)이 강해지는 것과 동시에, 불필요하게 두꺼워져, 생산성이나 작업성이 저하하기 때문에 바람직하지 않다.Although it does not specifically limit as a composition containing such active energy ray-curable resin, For example, what mixes two or more types of well-known active energy ray-curable resin, what is marketed as an ultraviolet curable hard coat material, or this invention other than these In the range which does not impair the effect of, the thing which added other components can be used. 1.0-10.0 micrometers is preferable and, as for the film thickness of the hard-coat layer after dry hardening, it is preferable that refractive index is 1.45-1.60. When the film thickness of a hard coat layer is thinner than 1.0 micrometer, since pencil hardness becomes less than H, it is unpreferable. On the other hand, when the film thickness is thicker than 10 µm, it is not preferable because the curl due to curing shrinkage becomes strong and the thickness is unnecessarily thick, resulting in reduced productivity and workability.

하드 코트층의 형성 방법은 특별히 한정되지 않고, 통상 행해지고 있는 도포 방법, 예를 들면 롤 코트법, 스핀 코트법, 딥 코트법, 바 코트법, 그라비아 코트법 등의 어떠한 방법도 사용된다.
The formation method of a hard coat layer is not specifically limited, Usually, the coating method normally performed, for example, the roll coating method, the spin coating method, the dip coating method, the bar coating method, the gravure coating method, etc. are used.

<기능층><Functional layer>

폴리에스테르 필름의 상기 제1 주면 반대측 제2 주면에는, 기능층을 형성할 수 있다(도 3 참조). 이 기능층은, 투명 도전성 필름에 소정의 기능을 부여할 수 있는 어떠한 기능층도 적용할 수 있다. 기능층은, 예를 들면 하드 코트층, 지문 친숙함층, 방현층, 자기 수복층 등이다. 하드 코트층은 종래 공지된 것을 사용하여도 좋고, 특별히 제한되지 않는다.A functional layer can be formed in the 2nd main surface on the opposite side to the said 1st main surface of a polyester film (refer FIG. 3). This functional layer can apply any functional layer which can provide a predetermined | prescribed function to a transparent conductive film. The functional layer is, for example, a hard coat layer, a fingerprint familiarity layer, an antiglare layer, a self-repair layer, or the like. The hard coat layer may use a conventionally well-known thing, and is not specifically limited.

지문 친숙함층은, 투명 도전성 필름의 표면에 부착한 지문(생체 유래 지방질 성분)에 대해서 친숙성(친화성)을 나타내는 층이다. 예를 들면, 단관능 중합체, 비닐기나 (메타)아크릴로일기를 가지는 올리고머 및 비닐기나 (메타)아크릴로일기를 가지는 중합체 중에서 1종 또는 2종 이상이 선택해서 사용되어, 그것들의 유기용매 용액을 도포, 건조해서 자외선 경화시킨 층이다.A fingerprint familiarity layer is a layer which shows familiarity (affinity) with respect to the fingerprint (living-derived fat component) affixed on the surface of a transparent conductive film. For example, 1 type (s) or 2 or more types are chosen and used out of a monofunctional polymer, the oligomer which has a vinyl group or a (meth) acryloyl group, and the polymer which has a vinyl group or a (meth) acryloyl group, and uses these organic solvent solutions It is a layer apply | coated, dried, and ultraviolet-curing.

방현층은, 형광등 등의 외부 광원으로부터 조사된 광선을 표면 요철에 의해 산란시켜, 빛의 반사를 저감하는 층이다. 이 방현층은, 열강화성 수지, 자외선 경화성 수지 등의 활성 에너지선경화형 수지에 입자 지름이 수 μm의 구형 또는 부정형의 무기 또는 유기 미립자를 분산한 칠액을, 혹은 입자를 이용하지 않고 요철을 형성하는 것이 가능한 폴리머를 함유한 칠액을, 도포, 경화시킨 층이다.An anti-glare layer is a layer which scatters light rays irradiated from an external light source such as a fluorescent lamp by surface irregularities and reduces reflection of light. This anti-glare layer is formed by forming a concave-convex shape without using particles or particles of a dispersion in which spherical or amorphous inorganic or organic fine particles having a particle diameter of several μm are dispersed in active energy ray-curable resins such as thermosetting resins and ultraviolet curable resins. It is a layer which apply | coated and hardened the coating liquid containing the polymer which is possible.

자기 수복층은, 펜 입력시의 투명 도전성 필름 표면에서의 필기감을 향상시켜, 자기 수복성, 즉 한 번 생긴 함몰자국이 경시적으로 사라져 원래의 형상으로 돌아오는 성질을 가지는 층이다. 자기 수복층을 형성하는 수지로서는, 자외선 경화성 또는 열경화성의 불포화 아크릴계 수지, 우레탄 변성 (메타)아크릴레이트 등의 불포화 폴리우레탄계 수지, 불포화 폴리에스테르계 수지 등이 이용된다.The self-repairing layer is a layer having the property of improving the writing feeling on the surface of the transparent conductive film at the time of pen input, that is, the self-repairing property, that is, the depressions that occurred once, disappears over time and returns to its original shape. As the resin for forming the self-repairing layer, unsaturated polyurethane-based resins such as ultraviolet curable or thermosetting unsaturated acrylic resins, urethane-modified (meth) acrylates, unsaturated polyester-based resins, and the like are used.

기능층으로서의 하드 코트층으로서 활성을 가지는 하드 코트층(활성 하드 코트층 또는 역활 하드 코트층이라고 부르는 일이 있다)을 사용할 수 있다. 활성 하드 코트층의 막후는 1.0~10.0 μm이다. 활성 하드 코트층은, 해당 활성 하드 코트층 안에 0.5~30 질량%의 투광성 미립자를 함유한다. 활성 하드 코트층의 막후에 대한 투광성 미립자의 평균 입자 지름의 비율은 10~60%이다. 투광성 미립자에 의해, 활성 하드 코트층의 표면에 섬세한 요철이 형성되어 양호한 말림(curl)성이 발현된다. 활성 하드 코트층의 막후는, 보다 바람직하게는 36 μm이다. 이 막후가 1.0 μm보다 얇으면 하드 코트 성능이 손상될 가능성이 있고, 10.0 μm보다 두꺼우면 말림성이 손상될 가능성이 있다.As a hard coat layer as a functional layer, an active hard coat layer (sometimes called an active hard coat layer or an active hard coat layer) can be used. The thickness of the active hard coat layer is 1.0-10.0 μm. The active hard coat layer contains 0.5 to 30% by mass of light transmitting fine particles in the active hard coat layer. The ratio of the average particle diameter of the translucent fine particles to the film thickness of the active hard coat layer is 10 to 60%. By the light-transmitting fine particles, fine irregularities are formed on the surface of the active hard coat layer, whereby good curl properties are expressed. The thickness of the active hard coat layer is more preferably 36 µm. If the thickness is thinner than 1.0 μm, the hard coat performance may be impaired, and if it is thicker than 10.0 μm, the curlability may be impaired.

활성 하드 코트층은, 자외선 경화성 바인더와 투광성 미립자를 함유하고, 필요에 의해 첨가제를 함유하는 하드 코트층용 칠액에 자외선을 조사해 경화시키는 것으로 형성된다. 자외선 경화성 바인더의 재료는 특히 한정되지 않고, 예를 들면 단관능(메타)아크릴레이트, 다관능(메타)아크릴레이트 및 테트라에톡시실란 등의 반응성 규소 화합물 등의 경화물을 들 수 있다.The active hard coat layer contains an ultraviolet curable binder and light-transmitting fine particles, and is formed by irradiating and curing ultraviolet light to a hard coat layer coating liquid containing an additive as necessary. The material of an ultraviolet curable binder is not specifically limited, For example, hardened | cured material, such as reactive silicon compounds, such as monofunctional (meth) acrylate, polyfunctional (meth) acrylate, and tetraethoxysilane, is mentioned.

투광성 미립자는, 하드 코트층의 표면에 요철을 형성해 말림성을 발현하기 위한 것이다. 해당 투광성 미립자는, 임의의 재료를 이용할 수 있다. 그러한 투광성 미립자로서는, 예를 들면 실리카 이외, 염화 비닐, (메타)아크릴 단량체, 스틸렌 및 에틸렌으로부터 선택되는 적어도 1종의 단량체를 중합해 얻을 수 있는 중합체 등으로부터 형성된다. 투광성 미립자의 평균 입자 지름은, 하드 코트층의 막후에 따라서 결정할 수 있다. 하드 코트층의 막후에 대한 상기 투광성 미립자의 평균 입자 지름의 비율은, 바람직하게는 10~60%이며, 보다 바람직하게는 20~50%이다. 이 평균 입자 지름의 비율이 하드 코트층 막후의 10%보다 작은 경우 및 60% 보다 큰 경우에는, 말림성이 손상될 우려가 있다. 하드 코트층의 막후에 대해서의 투광성 미립자의 평균 입자 지름의 비율(RP/HC)은, 이하의 수학식 1에 의해 구할 수 있다.
Translucent microparticles | fine-particles are for forming an unevenness | corrugation on the surface of a hard-coat layer, and expressing curlability. Arbitrary materials can be used for the said translucent microparticles | fine-particles. As such translucent microparticles | fine-particles, it is formed from the polymer etc. which are obtained by superposing | polymerizing at least 1 sort (s) of monomer chosen from vinyl chloride, a (meth) acryl monomer, styrene, and ethylene other than silica, for example. The average particle diameter of the light transmissive fine particles can be determined depending on the thickness of the hard coat layer. Preferably the ratio of the average particle diameter of the said translucent microparticles | fine-particles to the film thickness of a hard-coat layer is 10 to 60%, More preferably, it is 20 to 50%. When the ratio of this average particle diameter is smaller than 10% of the hard coat layer film thickness, and larger than 60%, there exists a possibility that a curling property may be impaired. The ratio (RP / HC) of the average particle diameter of the translucent microparticles | fine-particles with respect to the film thickness of a hard-coat layer can be calculated | required by following formula (1).

Figure pat00001
Figure pat00001

투광성 미립자의 함유량은, 하드 코트층용 칠액에 대해서 바람직하게는 0.5~20 질량%, 보다 바람직하게는 0.5~10 질량%, 특히 바람직하게는 3~5 질량%이다. 하드 코트층은 첨가제를 포함하고 있어도 괜찮고, 그러한 첨가제로서 실리콘계 첨가제가 사용된다. 해당 실리콘계 첨가제로서는 폴리 에테르 변성 폴리디메틸실록산(polydimethyl siloxane)을 들 수 있고, 구체적으로는 빅크케미·재팬(주) 제의 BYK330, BYK331, BYK346를 들 수 있다. 활성 하드 코트층의 형성 방법은 특히 한정되지 않고, 통상 행해지고 있는 도포 방법, 예를 들면 롤 코트법, 스핀 코트법, 딥 코트법, 바 코트법, 그라비아 코트법 등의 모든 방법이 채용된다.The content of the light-transmitting fine particles is preferably 0.5 to 20% by mass, more preferably 0.5 to 10% by mass, particularly preferably 3 to 5% by mass with respect to the coating liquid for hard coat layer. The hard coat layer may contain an additive, and a silicone type additive is used as such an additive. Examples of the silicone-based additives include polyether modified polydimethyl siloxane, and specifically, BYK330, BYK331, and BYK346 manufactured by BIC Chemi Japan Co., Ltd. may be mentioned. The formation method of an active hard-coat layer is not specifically limited, Usually, all the methods, such as the roll coating method, the spin coating method, the dip coating method, the bar coating method, the gravure coating method, are performed, are employ | adopted.

본 명세서에서는, 기능층에 포함되는 상기 하드 코트층이나 방현층을 지지층이라고 부르는 일이 있다. 지지층 위에는 반사 방지층이나 방현성 반사 방지층을 형성할 수 있다. 그 반사 방지층은, 형광등 등의 외부 광원으로부터 조사된 광선을, 빛의 간섭에 의해 저감하는 층이다. 굴절률 1.5~1.6의 지지층 상에 단층 구성의 반사 방지층을 형성하는 경우에는, 지지층보다 굴절률이 낮은, 예를 들면 굴절률 1.3~1.5의 저굴절률층을 한층 적층해 형성할 수 있다. 굴절률 1.5~1.6의 지지층 상에 2층 구성의 반사 방지층을 형성하는 경우에는, 해당 지지층보다 굴절률이 높은, 예를 들면 굴절률 1.6~1.8의 고굴절률층과 고굴절률층보다 굴절률이 낮은 저굴절률층을 이 순서로 지지층에 적층해 형성할 수 있다.In this specification, the said hard-coat layer and anti-glare layer contained in a functional layer may be called a support layer. An antireflection layer or an antiglare antireflection layer can be formed on the support layer. This antireflection layer is a layer which reduces the light beam irradiated from external light sources, such as a fluorescent lamp, by the interference of light. When forming the antireflection layer of single | mono layer structure on the support layer of refractive index 1.5-1.6, the low refractive index layer which is lower than refractive index, for example, refractive index 1.3-1.5, can be laminated | stacked and formed. When the antireflection layer having a two-layer structure is formed on a support layer having a refractive index of 1.5 to 1.6, a high refractive index layer having a higher refractive index than the supporting layer, for example, a refractive index of 1.6 to 1.8 and a low refractive index layer having a lower refractive index than the high refractive index layer is used. It can be laminated | stacked and formed in a support layer in this order.

반사 방지층에 포함되는 저굴절률층은, 평균 입자 지름이 10~100 nm의 무기 미립자와 활성 에너지선경화형 수지를 혼합한 칠액을, 도포, 경화시킨 층이다. 무기 미립자로서는, 콜로이달 실리카(colloidal silaca)나 중공 실리카 미립자를 들 수 있고, 활성 에너지선경화형 수지로서는, 예를 들면 (메타)아크릴로일기를 가지는 다관능 모노머, 올리고머 및 중합체를 들 수 있다.The low-refractive-index layer contained in an antireflection layer is a layer which apply | coated and hardened the coating liquid which mixed the inorganic fine particle of 10-100 nm of average particle diameter, and active energy ray-curable resin. Examples of the inorganic fine particles include colloidal silica and hollow silica fine particles. Examples of the active energy ray-curable resins include polyfunctional monomers, oligomers, and polymers having a (meth) acryloyl group.

반사 방지층에 포함되는 고굴절률층은, 평균 입자 지름이 10~100 nm의 금속 산화물 미립자와 활성 에너지선경화형 수지를 혼합한 칠액을, 도포, 경화시킨 층이다. 금속 산화물 미립자로서는, 주석 도프 산화 인듐, 산화 티탄, 산화 지르코늄 등을 들 수 있고, 활성 에너지선경화형 수지로서는, 예를 들면 (메타)아크릴로일기를 가지는 다관능 모노머, 올리고머 및 중합체를 들 수 있다.The high refractive index layer contained in an antireflection layer is a layer which apply | coated and hardened the coating liquid which mixed the metal oxide microparticles | fine-particles whose average particle diameter is 10-100 nm, and active energy ray hardening type resin. Examples of the metal oxide fine particles include tin-doped indium oxide, titanium oxide, zirconium oxide, and the like. Examples of active energy ray-curable resins include polyfunctional monomers, oligomers, and polymers having a (meth) acryloyl group. .

방현성 반사 방지층은, 방현성과 반사 방지성의 기능을 겸비한 층이며, 상기 방현층 상에 반사 방지층을 적층하는 것으로써 형성된다.The anti-glare antireflection layer is a layer having both functions of anti-glare and anti-reflection, and is formed by laminating an anti-reflection layer on the anti-glare layer.

이러한 기능층은, 각각 단독으로 이용할 수 있고, 혹은 그것들을 적당히 조합시켜서 이용할 수도 있다.
These functional layers can be used individually, respectively, or can also be used combining them suitably.

이하에, 제조예, 실시예 및 비교예를 들어 상기 실시 형태를 한층 더 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 그 실시예의 범위로 한정되는 것은 아니다. 덧붙여 각층의 굴절률은 이하와 같이 측정했다.
Although the said embodiment is more concretely demonstrated to a manufacture example, an Example, and a comparative example below, this invention is not limited to the range of the Example. In addition, the refractive index of each layer was measured as follows.

<굴절률의 측정 방법><Measurement method of refractive index>

(1) 굴절률 1.63의 PET 필름(상품명: A4100, 토요 방적(주) 제) 상에, 딥 코터(스기야마 하지메 이화학 기기(주) 제)에 의해, 각 층용 칠액을 각각 건조 경화 후 막후가 100~500 nm 정도가 되도록 층의 두께를 조정해서 도포했다.(1) On the PET film (brand name: A4100, Toyo Spinning Co., Ltd.) of refractive index 1.63, the film thickness after each dry hardening of the coating liquid for each layer by a dip coater (made by Sugiyama Hajime Chemical Co., Ltd.) is 100- The thickness of the layer was adjusted and applied so that it might be about 500 nm.

(2) 건조 후, 자외선 조사 장치(이와사키전기(주) 제)를 사용하여 질소 분위기 하에서 120 W 고압 수은등을 이용하여, 400 mJ의 자외선을 조사해 경화했다. 경화 후의 PET 필름 이면을 사포로 문지른 후, 흑색 도료로 전부 칠한 것을 반사 분광 막후계(모델명: FE-3000, 오오츠카 전자(주) 제)를 이용하여, 반사 스펙트럼을 측정했다.(2) After drying, the ultraviolet-ray of 400 mJ was irradiated and hardened | cured using 120 W high pressure mercury lamp under nitrogen atmosphere using the ultraviolet irradiation device (made by Iwasaki Electric Co., Ltd.). After rubbing the back of PET film after hardening with sandpaper, the thing which was fully coated with the black paint was measured for the reflection spectrum using the reflection spectroscopy film-type (model name: FE-3000, Otsuka Electronics Co., Ltd. product).

(3) 반사 스펙트럼으로부터 읽어낸 반사율에서, 아래와 같이 수학식 2에 나타나는 n-Cauchy의 파장 분산식의 정수를 구하고, 파장 400 nm에 있어서의 굴절률을 구했다.
(3) From the reflectance read out from the reflection spectrum, the constant of the wavelength dispersion formula of n-Cauchy shown by following formula (2) was calculated | required, and the refractive index in wavelength 400nm was calculated | required.

Figure pat00002
Figure pat00002

 A, B, C:파장 분산 정수
A, B, C: wavelength dispersion constant

<굴절률의 측정 방법><Measurement method of refractive index>

(1) 굴절률 1.63의 PET 필름(상품명: A4100, 토요 방적(주) 제)을 100 ℃에서 1시간 동안 예비 건조를 실시한 후, PET 필름상에 인듐:주석=10:1(질량비)의 ITO 타겟을 이용해서 스패터링(sputtering)을 하고, 실제로 막후 20 nm의 투명 도전층으로서의 주석 도프 산화 인듐층(ITO층)을 형성하고, 투명 도전성 필름을 제작했다.(1) After pre-drying a PET film (trade name: A4100, manufactured by Toyo Spinning Co., Ltd.) having a refractive index of 1.63 for 1 hour at 100 ° C, an ITO target having indium: tin = 10: 1 (mass ratio) on the PET film. Sputtering was carried out, the tin dope indium oxide layer (ITO layer) was formed as a transparent conductive layer of 20 nm thick actually, and the transparent conductive film was produced.

(2) 이 투명 도전성 필름 이면을 사포로 문지른 후, 흑색 도료로 전부 칠한 것을 반사 분광 막후계(모델명: FE-3000, 오오츠카 전자(주) 제)를 이용하여, 반사 스펙트럼을 측정했다.(2) After the back surface of this transparent conductive film was rubbed with sandpaper, the paint spectrum was completely filled with black paint, and the reflection spectrum was measured using a reflective spectroscopic film thickness meter (model name: FE-3000, manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.).

(3) 반사 스펙트럼보다 읽어낸 반사율로부터, 상기 수학식 2를 이용하여, 파장 400 nm에 있어서의 굴절률을 구했다.
(3) From the reflectance read out from the reflection spectrum, the refractive index in wavelength 400nm was calculated | required using said Formula (2).

덧붙여 실시예 및 비교예에 기재된 각 층의 굴절률은, 상기의 굴절률 측정 방법으로부터 구한 굴절률이다.
In addition, the refractive index of each layer described in the Example and the comparative example is the refractive index calculated | required from said refractive index measuring method.

<전광선 투과율, 헤이즈치의 측정 방법><Measurement of total light transmittance, haze value>

헤이즈 미터(모델명: NDH2000, 일본전색공업(주) 제)를 이용하여 전광선 투과율(%) 및 헤이즈 값(%)을 측정했다.
The total light transmittance (%) and the haze value (%) were measured using the haze meter (model name: NDH2000, Nippon Color Industry Co., Ltd. product).

<투과색 측정 방법><Measurement of translucent color>

색차계(모델명: SQ-2000, 일본전색공업(주) 제)를 이용하여 투과색, b*를 측정했다. 이 b*는, JIS Z 8729에 규정되고 있는 L*a*b 표색계에 있어서의 값이다.
The transmissive color and b * were measured using the color difference meter (model name: SQ-2000, Nippon Denki Kogyo Co., Ltd. product). This b * is a value in the L * a * b color system prescribed | regulated to JISZ 8729.

<말림 성능의 평가방법><Evaluation method of curling performance>

양면 하드 코트(hard coat, HC) 필름을 롤 상에 말아서 빼고, 롤을 눈으로 관찰하는 것에 의해, 필름의 말림 성능을 아래에 나타내는 평가 기준에 의해서 평가했다.The double-sided hard coat (HC) film was rolled off on a roll, and the roll performance was evaluated by the evaluation criteria shown below by visually observing a roll.

◎:말 때 생기는 주름 및 요면 등의 요철 상태 변형이 전혀 없다.(Double-circle): There is no deformation | transformation of the uneven | corrugated state, such as wrinkles and concave-surface which arise at the end of a horse.

○:말 때 생기는 주름 또는 요면 등의 요철 상태 변형이 거의 없다.(Circle): There is almost no uneven | corrugated state deformation | transformation, such as wrinkles or concave-surface which arise at the end.

×:말 때 생기는 주름 또는 요면 등의 요철 상태 변형이 크다.
X: Uneven | corrugated state deformation | transformation, such as wrinkles or uneven surfaces which arise at the end of a horse, is large.

<< 제조예Production Example 1>  1> 하드hard 코트층용Coat layer 칠액(HC-1)의Of seven liquid (HC-1) 조제 pharmacy

디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트(dipentaerythritol hexaacrylate) 80 질량부, 새 아크릴산 테트라 메틸올 메탄 20 질량부, 1,6-비스(3-아크릴로일옥시-2-히드록시프로필옥시)헥산 20 질량부, 광중합 개시제(상품명:IRGACURE184, 치바·스페셜티·케미컬즈(주) 제) 4 질량부 및 이소부틸알코올 100 질량부를 혼합해 하드 코트층용 칠액(HC-1)을 조제했다.
80 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate, 20 parts by mass of fresh tetramethylol methane, 20 parts by mass of 1,6-bis (3-acryloyloxy-2-hydroxypropyloxy) hexane, photopolymerization 4 parts by mass of an initiator (trade name: IRGACURE184, manufactured by Chiba Specialty Chemicals Co., Ltd.) and 100 parts by mass of isobutyl alcohol were mixed to prepare a coating liquid (HC-1) for a hard coat layer.

<< 제조예Production Example 2>  2> 고굴절률층용For high refractive index layer 칠액(H-1)의Of seven liquid (H-1) 조제 pharmacy

평균 입자 지름이 0.02 μm의 산화 지르코늄 미립자를 79 질량부, 1 분자 중에 아크릴로일기를 6개 가지는 우레탄 아크릴레이트(분자량 1400, 일본 합성화학공업(주) 제, 자광UV7600B) 21 질량부 및 광중합 개시제(상품명: IRGACURE 184, 치바·스페셜티·케미컬즈(주) 제) 5 질량부를 혼합하고, 메틸 에틸 케톤으로 상기 고형분이 10 질량%가 되도록 희석하고, 고굴절률층용 칠액(H-1)을 조제했다.79 parts by mass of zirconium oxide fine particles having an average particle diameter of 0.02 μm, 21 parts by mass of a urethane acrylate (molecular weight 1400, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., ultraviolet light UV7600B) having 6 acryloyl groups in 1 molecule, and a photopolymerization initiator (Brand name: IRGACURE 184, Chiba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 5 mass parts was mixed, it diluted with methyl ethyl ketone so that the said solid content might be 10 mass%, and the high refractive index layer liquid (H-1) was prepared. .

 

<< 제조예Production Example 3>  3> 고굴절률층용For high refractive index layer 칠액(H-2)의Of seven liquid (H-2) 조제 pharmacy

 평균 입자 지름이 0.02 μm의 산화 지르코늄 미립자를 72 질량부, 1 분자 중에 아크릴로일기를 6개 가지는 우레탄 아크릴레이트(분자량 1400, 일본 합성화학공업(주) 제, 자광UV7600B) 28 질량부 및 광중합 개시제(상품명: IRGACURE 184, 치바·스페셜티·케미컬즈(주) 제) 5 질량부를 혼합하고, 메틸 에틸 케톤으로 상기 고형분이 10 질량%가 되도록 희석하고, 고굴절률층용 칠액(H-2)을 조제했다.
72 parts by mass of zirconium oxide fine particles having an average particle diameter of 0.02 μm, 28 parts by mass of a urethane acrylate (molecular weight 1400, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., magnetic light UV7600B) having 6 acryloyl groups in 1 molecule, and a photopolymerization initiator (Brand name: IRGACURE 184, Chiba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 5 mass parts was mixed, it diluted with methyl ethyl ketone so that the said solid content might be 10 mass%, and the high refractive index layer liquid (H-2) was prepared. .

<< 제조예Production Example 4>  4> 고굴절률층용For high refractive index layer 칠액(H-3)의Of seven liquid (H-3) 조제 pharmacy

평균 입자 지름이 0.02 μm의 산화 지르코늄 미립자를 86 질량부, 1 분자 중에 아크릴로일기를 6개 가지는 우레탄 아크릴레이트(분자량 1400, 일본 합성화학공업(주) 제, 자광UV7600B) 14 질량부 및 광중합 개시제(상품명: IRGACURE 184, 치바·스페셜티·케미컬즈(주) 제) 5 질량부를 혼합한 후, 메틸 에틸 케톤으로 상기 고형분이 10 질량%가 되도록 희석하고, 고굴절률층용 칠액(H-3)을 조제했다.86 parts by mass of zirconium oxide fine particles having an average particle diameter of 0.02 μm, 14 parts by mass of a urethane acrylate (molecular weight 1400, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., ultraviolet light UV7600B) having 6 acryloyl groups in 1 molecule, and a photopolymerization initiator (Brand name: IRGACURE 184, product made by Chiba Specialty Chemicals Co., Ltd.) After mixing 5 mass parts, it diluted with methyl ethyl ketone so that the said solid content might be 10 mass%, and the high refractive index layer liquid (H-3) was prepared. did.

  

<< 제조예Production Example 5>  5> 고굴절률층용For high refractive index layer 칠액(H-4)의Of seven liquid (H-4) 조제 pharmacy

평균 입자 지름이 0.02 μm의 산화 지르코늄 미립자를 67 질량부, 1 분자 중에 아크릴로일기를 6개 가지는 우레탄 아크릴레이트(분자량 1400, 일본 합성화학공업(주) 제, 자광UV7600B) 33 질량부 및 광중합 개시제(상품명: IRGACURE 184, 치바·스페셜티·케미컬즈(주) 제) 5 질량부를 혼합한 후, 메틸 에틸 케톤으로 상기 고형분이 10 질량%가 되도록 희석하고, 고굴절률층용 칠액(H-4)을 조제했다.
67 parts by mass of zirconium oxide fine particles having an average particle diameter of 0.02 μm, 33 parts by mass of a urethane acrylate (molecular weight 1400, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., magnetic light UV7600B) having 6 acryloyl groups in 1 molecule, and a photopolymerization initiator (Brand name: IRGACURE 184, product made by Chiba Specialty Chemicals Co., Ltd.) After mixing 5 mass parts, it diluted with methyl ethyl ketone so that the said solid content might be 10 mass%, and the high refractive index layer lacquer liquid (H-4) was prepared. did.

<< 제조예Production Example 6>  6> 고굴절률층용For high refractive index layer 칠액(H-5)의Of seven liquid (H-5) 조제 pharmacy

평균 입자 지름이 0.02 μm의 산화 지르코늄 미립자를 58 질량부, 1 분자 중에 아크릴로일기를 6개 가지는 우레탄 아크릴레이트(분자량 1400, 일본 합성화학공업(주) 제, 자광UV7600B) 42 질량부 및 광중합 개시제(상품명: IRGACURE 184, 치바·스페셜티·케미컬즈(주) 제) 5 질량부를 혼합하고, 메틸 에틸 케톤으로 상기 고형분이 10 질량%가 되도록 희석하고, 고굴절률층용 칠액(H-5)을 조제했다.
58 parts by mass of zirconium oxide fine particles having an average particle diameter of 0.02 μm, 42 parts by mass of a urethane acrylate (molecular weight 1400, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., ultraviolet light UV7600B) having 6 acryloyl groups in 1 molecule, and a photopolymerization initiator (Brand name: IRGACURE 184, Chiba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 5 mass parts was mixed, it diluted with methyl ethyl ketone so that the said solid content might be 10 mass%, and the high refractive index layer liquid (H-5) was prepared. .

<제조예 7> 고굴절률층용 칠액(H-6)의 조제 < Preparation Example 7> High refractive index layer Chilaek Preparation of (H-6)

평균 입자 지름이 0.02 μm의 산화 지르코늄 미립자를 94 질량부, 1 분자 중에 아크릴로일기를 6개 가지는 우레탄 아크릴레이트(분자량 1400, 일본 합성화학공업(주) 제, 자광UV7600B) 6 질량부 및 광중합 개시제(상품명: IRGACURE 184, 치바·스페셜티·케미컬즈(주) 제) 5 질량부를 혼합한 후, 메틸 에틸 케톤으로 상기 고형분이 10 질량%가 되도록 희석하고, 고굴절률층용 칠액(H-6)을 조제했다.
94 parts by mass of zirconium oxide fine particles having an average particle diameter of 0.02 μm, 6 parts by mass of a urethane acrylate (molecular weight 1400, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., ultraviolet light UV7600B) and a photopolymerization initiator having six acryloyl groups in one molecule. (Brand name: IRGACURE 184, product made in Chiba Specialty Chemicals Co., Ltd.) After mixing 5 mass parts, it dilutes so that the said solid content may be 10 mass% with methyl ethyl ketone, and prepares the liquid solution for high refractive index layers (H-6). did.

<< 제조예Production Example 8>  8> 저굴절률층용For low refractive index layer 칠액(L-1)의Of lacquer (L-1) 조제 pharmacy

디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트 10 질량부, 실리카 미립자 분산액(상품명: XBAST, 닛산 화학(주) 제) 90 질량부, 이소프로필알코올 900 질량부, 광중합 개시제(상품명: IRGACURE 907, 치바·스페셜티·케미컬즈(주) 제) 5 질량부를 혼합해, 저굴절률층용 칠액(L-1)을 조제했다.
10 mass parts of dipentaerythritol hexaacrylate, silica fine particle dispersion (brand name: XBAST, Nissan Chemical Co., Ltd.) 90 mass parts, isopropyl alcohol 900 mass parts, a photoinitiator (brand name: IRGACURE 907, Chiba Specialty Chemicals) Co., Ltd.) 5 mass parts was mixed, and the coating liquid (L-1) for low refractive index layers was prepared.

<< 제조예Production Example 9> 변성  9> denaturation 중공실리카Hollow Silica 미립자(졸)의 조제 Preparation of fine particles (sol)

중공실리카 졸(쇼오쿠바이 화성공업(주) 제, 상품명:ELECOM NY-1001 S1V, 이소프로필알코올에 의한 중공 실리카 졸의 25 질량% 분산액, 평균 입자 지름 60 nm) 2000 질량부, γ-아크릴로일옥시프로필트리메톡시실란(γ-acryloyloxypropyl trimethoxy sillane, 신에츠 화학공업(주) 제, 상품명: KBM5103) 70 질량부 및 증류수 80 질량부를 혼합해 변성 중공실리카 미립자(졸)(평균입자 지름:60 nm)를 조제했다.
Hollow silica sol (made by Shokubai Chemical Co., Ltd., brand name: ELECOM NY-1001S1V, 25 mass% dispersion of a hollow silica sol by isopropyl alcohol, average particle diameter 60 nm) 2000 mass parts, (gamma) -acryloyl 70 mass parts of oxypropyl trimethoxysilane ((gamma) -acryloyloxypropyl trimethoxy sillane, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. make, brand name: KBM5103), and 80 mass parts of distilled water are mixed, and a modified hollow silica fine particle (sol) (average particle diameter: 60 nm) Prepared.

<< 제조예Production Example 10>  10> 저굴절률층용For low refractive index layer 칠액(L-2)의Of lacquer (L-2) 조제 pharmacy

퍼플루오로-(1,1,9,9-테트라히드로-5,8-비스플루오르메틸-4, 디옥사-1-노넨)-9-올을 104 질량부와 비스(2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7-도데카플루오로헵타노일)퍼옥사이드 8 질량%를 함유하는 퍼플루오로 헥산 용액 11 질량부와의 중합 반응에 의해 히드록실기 함유 불소 아릴 에테르 중합체(수 평균 분자량 72,000, 질량 평균 분자량 118, 000)을 얻었다.104 parts by mass of perfluoro- (1,1,9,9-tetrahydro-5,8-bisfluoromethyl-4, dioxa-1-nonene) -9-ol and bis (2,2,3, Hydroxyl group by polymerization with 11 parts by mass of a perfluorohexane solution containing 8% by mass of 3,4,4,5,5,6,6,7,7-dodecafluoroheptanoyl) peroxide A containing fluorine aryl ether polymer (number average molecular weight 72,000, mass average molecular weight 118, 000) was obtained.

그 다음에, 히드록실기 함유 불소 아릴 에테르 중합체, 메틸 에틸 케톤 43 질량부, 피리딘 1 질량부 및 α-플루오르 아크릴산 플루오라이드 1 질량부에서 중합성 이중 결합을 가지는 함불소 반응성 중합체 용액(고형분 13 질량%, α-플루오르 아크릴로일기에의 수산기의 도입율 40 몰%)을 조제했다. 이 함불소 반응 중합체 용액 40 질량부와, 상기 변성 중공실리카 미립자 60 질량부와, 광중합 개시제(치바스페샤리티케미카르즈(주) 제, 이르가큐아 907) 2 질량부와, 이소프로필알코올 2000 질량부를 혼합해서 저굴절률층용 칠액(L-2)을 조제했다.
Next, a fluorine-containing reactive polymer solution having a polymerizable double bond in a hydroxyl group-containing fluorine aryl ether polymer, 43 parts by mass of methyl ethyl ketone, 1 part by mass of pyridine and 1 part by mass of fluoride α-fluoroacrylic acid (13 parts by mass of solids) %, the introduction rate of the hydroxyl group to the (alpha)-fluoro acryloyl group (40 mol%) was prepared. 40 parts by mass of this fluorine-containing reaction polymer solution, 60 parts by mass of the modified hollow silica fine particles, 2 parts by mass of a photopolymerization initiator (manufactured by Chivas Specialty Chemicals, Irgacua 907), isopropyl alcohol 2000 The mass part was mixed and the low liquid refractive index layer liquid (L-2) was prepared.

<< 제조예Production Example 11>  11> 저굴절률층용For low refractive index layer 칠액(L-3)의Of seven liquid (L-3) 조제 pharmacy

상기 변성 중공실리카 미립자 60 질량부와, 디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트 40 질량부와, 광중합 개시제(치바스페샤리티케미카르즈(주) 제, 이르가큐아 907) 2 질량부와, 이소프로필알코올 2000 질량부를 혼합해서 저굴절률층용 칠액(L-3)을 조제했다.
60 parts by mass of the modified hollow silica fine particles, 40 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate, 2 parts by mass of a photopolymerization initiator (manufactured by Chiba Specialty Chemicals, Irgacua 907), isopropyl alcohol 2000 For low refractive index layer by mixing mass parts A lacquer (L-3) was prepared.

<< 제조예Production Example 12>  12> 저굴절률층용For low refractive index layer 칠액(L-4)의Of lacquer (L-4) 조제 pharmacy

실리카 미립자 분산액(상품명: XBA-ST, 닛산 화학(주) 제) 5 질량부와, 아크릴로일기를 가지는 다관능 바인더(상품명: HIC-GL, 쿄에이샤 화학(주) 제) 95 질량부와, 광중합 개시제(치바스페샤리티케미카르즈(주) 제, 이르가큐아 907) 2 질량부와, 이소프로필알코올 2000 질량부를 혼합해서 저굴절률층용 칠액(L-4)을 조제했다.
95 mass parts of polyfunctional binder (brand name: HIC-GL, Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) 5 mass parts of silica fine particle dispersions (brand name: XBA-ST, Nissan Chemical Co., Ltd. product), and acryloyl group , 2 parts by mass of a photopolymerization initiator (manufactured by Chivas Specialty Chemicals Co., Ltd., Irgacua 907) and 2000 parts by mass of isopropyl alcohol were prepared to prepare a low-refractive-index layer liquid (L-4).

<< 제조예Production Example 13>  13> 하드hard 코트층용Coat layer 칠액(HC-A1)의Of seven liquid (HC-A1) 조제 pharmacy

디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트 95 질량부, 평균 입자 지름 0.5 μm의 아크릴 수지 미립자(굴절률 1.495) 5 질량부, 메틸 에틸 케톤 100 질량부, 광중합 개시제(상품명: IRGACURE184, 치바쟈판(주) 제) 4 질량부를 혼합해서 하드 코트층용 칠액(HC-A1)을 조제했다.
95 mass parts of dipentaerythritol hexaacrylate, 5 mass parts of acrylic resin microparticles (refractive index 1.495) of an average particle diameter of 0.5 micrometer, 100 mass parts of methyl ethyl ketone, a photoinitiator (brand name: IRGACURE184, Chiba Japan Co., Ltd. product) 4 mass The parts were mixed to prepare a coating solution for hard coat layer (HC-A1).

<< 제조예Production Example 14>  14> 하드hard 코트층용Coat layer 칠액(HC-A2)의Of seven liquid (HC-A2) 조제 pharmacy

디펜타에리스리톨헥사아크릴레이트 97 질량부, 평균 입자 지름 1.5 μm의 아크릴 수지 미립자(굴절률 1.495) 3 질량부, 메틸 에틸 케톤 100 질량부, 광중합 개시제(상품명: IRGACURE184, 치바쟈판(주) 제) 4 질량부를 혼합해서 하드 코트층용 칠액(HC-A2)을 조제했다.
97 mass parts of dipentaerythritol hexaacrylate, 3 mass parts of acrylic resin microparticles (refractive index 1.495) of an average particle diameter of 1.5 micrometers, 100 mass parts of methyl ethyl ketone, a photoinitiator (brand name: IRGACURE184, Chiba Japan Co., Ltd. product) 4 mass The parts were mixed to prepare a coating solution for hard coat layer (HC-A2).

<< 실시예Example 1-1> 1-1>

 제조예 1의 하드 코트층용 칠액(HC-1)을 롤코터(Roll coater)에서, 두께 125 μm의 PET 필름 상에, 건조 경화 후의 막후가 4 μm가 되도록 도포하고, 120 W 고압 수은등에서 400 mJ의 자외선을 조사해 경화시키는 것으로, 하드 코트 처리 PET 필름을 제작했다.The coating liquid (HC-1) for the hard coat layer of Preparation Example 1 was applied on a roll coater on a PET film having a thickness of 125 μm such that the film thickness after dry curing was 4 μm, and 400 mJ on a 120 W high pressure mercury lamp. The hard coat process PET film was produced by irradiating and hardening the ultraviolet-ray.

해당 하드 코트 처리 PET 필름 상에, 고굴절률층용 칠액 H-1을 이용하고, 롤코터에서 건조 후의 막후가 60 nm가 되도록 도포 후, 120 W 고압 수은등으로 400 mJ의 자외선을 조사해 경화시키는 것으로, 고굴절률층을 형성했다. 고굴절률층 위에, 저굴절률층용 칠액 L-1을 이용하고, 롤코터에서 건조 후의 막후가 20 nm가 되도록 도포 후, 120 W 고압 수은등으로 400 mJ의 자외선을 조사해 경화시키는 것으로, 저굴절률층을 형성해, 색조 보정 필름을 제작했다.On the said hard-coat treated PET film, using coating liquid H-1 for high refractive index layers, it apply | coated so that the film thickness after drying in a roll coater might be 60 nm, and it irradiated and hardened | cured by ultraviolet-ray 400mJ with 120W high pressure mercury lamp, The refractive index layer was formed. A low refractive index layer is formed on the high refractive index layer by using a coating solution L-1 for low refractive index layer so as to have a film thickness of 20 nm after drying in a roll coater, and curing by irradiating 400 mJ ultraviolet rays with a 120 W high-pressure mercury lamp to cure it. , Tonal correction film was produced.

해당 색조 보정 필름의 이면에 제조예 1의 하드 코트층용 칠액(HC-1)을 롤코터에서, 건조 경화 후의 막후가 4 μm가 되도록 도포하고, 120 W 고압 수은등으로 400 mJ의 자외선을 조사해, 경화시키는 것으로, 양면에 하드 코트층이 적층된 색조 보정 필름을 제작했다.Apply the hard coat layer coating liquid (HC-1) of Production Example 1 on the back of the color tone correction film so that the film thickness after dry curing is 4 μm, and irradiate 400 mJ ultraviolet rays with a 120 W high-pressure mercury lamp to cure it. The color tone correction film in which the hard-coat layer was laminated | stacked on both surfaces was produced.

이 양면에 하드 코트층이 적층된 색조 보정 필름을 100 ℃로 1시간 동안 예비 건조를 실시한 후, 인듐:주석=10:1(질량비)의 ITO 타겟을 이용하여 스패터링을 실시하여, 저굴절률층 상에, 실제로 막후 30 nm의 투명 도전층으로서의 ITO층을 형성하고, 150 ℃로 30분간 아닐 처리를 가해, 투명 도전성 필름을 제작했다. 상기 제작한 투명 도전성 필름에 대해서, 투과색 색조(b*), 전광선 투과율(%) 및 헤이즈 값(%)을 상기 방법으로 측정하였고, 그 결과를 표 1에 나타냈다.
After preliminarily drying the color tone correction film in which the hard coat layer was laminated on both surfaces at 100 ° C. for 1 hour, sputtering was performed using an ITO target of indium: tin = 10: 1 (mass ratio) to give a low refractive index layer. On the surface, an ITO layer was formed as a transparent conductive layer having a thickness of 30 nm, and annealing was applied at 150 ° C. for 30 minutes to produce a transparent conductive film. About the said transparent conductive film produced, the transparent color tone (b *), the total light transmittance (%), and the haze value (%) were measured by the said method, and the result was shown in Table 1.

<< 실시예Example 1-2> 1-2>

고굴절률층용 칠액 H-2를 사용하는 것 이외는, 실시예 1-1과 같은 방법으로 실시하여, 투명 도전성 필름을 제작했다. 상기에서 제작한 투명 도전성 필름에 대해서, 투과색 색조(b*), 전광선 투과율(%) 및 헤이즈 값(%)을 상기 방법으로 측정하였고, 그 결과를 표 1에 나타냈다.
The transparent conductive film was produced in the same manner as in Example 1-1 except that the coating liquid H-2 for high refractive index layer was used. About the transparent conductive film produced above, transmission color hue (b *), total light transmittance (%), and haze value (%) were measured by the said method, and the result is shown in Table 1.

<< 실시예Example 1-3> 1-3>

고굴절률층의 건조 경화 후의 막후를 65 nm로 하고, 저굴절률층의 건조 경화 후의 막후를 25 nm로 하고, ITO층의 막후를 25 nm로 하는 것 이외는, 실시예 1-1과 같게 실시하여 투명 도전성 필름을 제작했다. 상기에서 제작한 투명 도전성 필름에 대해서, 투과색 색조(b*), 전광선 투과율(%) 및 헤이즈 값(%)을 상기 방법으로 측정하였고, 그러한 결과를 표 1에 나타냈다.
It carried out similarly to Example 1-1 except having set the film thickness after dry hardening of a high refractive index layer to 65 nm, the film thickness after dry hardening of a low refractive index layer to 25 nm, and making the film thickness of an ITO layer into 25 nm. A transparent conductive film was produced. About the transparent conductive film produced above, the transmission color hue (b *), the total light transmittance (%), and the haze value (%) were measured by the said method, and the result is shown in Table 1.

<< 실시예Example 1-4> 1-4>

저굴절률층의 건조 경화 후의 막후를 15 nm로 하는 것 이외는, 실시예 1-1과 같게 실시하여 투명 도전성 필름을 제작했다. 상기에서 제작한 투명 도전성 필름에 대해서, 투과색 색조(b*), 전광선 투과율(%) 및 헤이즈 값(%)을 상기 방법으로 측정하였고, 그 결과를 표 1에 나타냈다.
A transparent conductive film was produced in the same manner as in Example 1-1 except that the film thickness after dry curing of the low refractive index layer was 15 nm. About the transparent conductive film produced above, transmission color hue (b *), total light transmittance (%), and haze value (%) were measured by the said method, and the result is shown in Table 1.

<< 실시예Example 1-5> 1-5>

저굴절률층의 건조 경화 후의 막후를 45 nm로 하고, ITO층의 막후를 25 nm로 하는 것 이외는, 실시예 1-1과 같게 실시하여, 투명 도전성 필름을 제작했다. 상기에서 제작한 투명 도전성 필름에 대해서, 투과색 색조(b*), 전광선 투과율(%) 및 헤이즈 값(%)을 상기 방법으로 측정하였고, 그 결과를 표 1에 나타냈다.
A transparent conductive film was produced in the same manner as in Example 1-1 except that the film thickness after dry curing of the low refractive index layer was 45 nm and the film thickness of the ITO layer was 25 nm. About the transparent conductive film produced above, transmission color hue (b *), total light transmittance (%), and haze value (%) were measured by the said method, and the result is shown in Table 1.

<< 실시예Example 1-6> 1-6>

고굴절률층의 건조 경화 후의 막후를 65 nm로 하고, 저굴절률층용 칠액 L-2를 사용하고, 저굴절률층의 건조 경화 후의 막후를 30 nm로 하고, ITO층의 막후를 25 nm로 하는 것 이외는, 실시예 1-1과 같게 실시하여 투명 도전성 필름을 제작했다. 상기에서 제작한 투명 도전성 필름에 대해서, 투과색 색조(b*), 전광선 투과율(%) 및 헤이즈 값(%)을 상기 방법으로 측정하였고, 그 결과를 표 1에 나타냈다.
The film thickness after dry hardening of a high refractive index layer is 65 nm, the film thickness after dry hardening of a low refractive index layer is made 30 nm, and the film thickness of an ITO layer is made 25 nm using the low refractive index layer lacquer L-2. Was carried out similarly to Example 1-1, and produced the transparent conductive film. About the transparent conductive film produced above, transmission color hue (b *), total light transmittance (%), and haze value (%) were measured by the said method, and the result is shown in Table 1.

<< 실시예Example 1-7> 1-7>

고굴절률층의 건조 경화 후의 막후를 65 nm로 하고, 저굴절률층용 칠액 L-3을 사용하고, 저굴절률층의 건조 경화 후의 막후를 30 nm로 하고, ITO층의 막후를 25 nm로 하는 것 이외는, 실시예 1-1과 같게 실시하여 투명 도전성 필름을 제작했다. 상기에서 제작한 투명 도전성 필름에 대해서, 투과색 색조(b*), 전광선 투과율(%) 및 헤이즈 값(%)을 상기 방법으로 측정하였고, 그 결과를 표 2에 나타냈다.
The film thickness after dry hardening of a high refractive index layer is 65 nm, the film thickness after dry hardening of a low refractive index layer is made 30 nm, and the film thickness of an ITO layer is made 25 nm using the low refractive index layer lacquer L-3. Was carried out similarly to Example 1-1, and produced the transparent conductive film. About the transparent conductive film produced above, the transmission color hue (b *), the total light transmittance (%), and the haze value (%) were measured by the said method, and the result is shown in Table 2.

<< 실시예Example 1-8> 1-8>

고굴절률층의 건조 경화 후의 막후를 45 nm로 하고, 저굴절률층용 칠액 L-3을 사용하고, 저굴절률층의 건조 경화 후의 막후를 30 nm로 하고, ITO층의 막후를 25 nm로 하는 것 이외는, 실시예 1-1과 같게 실시하여 투명 도전성 필름을 제작했다. 상기에서 제작한 투명 도전성 필름에 대해서, 투과색 색조(b*), 전광선 투과율(%) 및 헤이즈 값(%)을 상기 방법으로 측정하였고, 그 결과를 표 2에 나타냈다.
The film thickness after dry hardening of a high refractive index layer is set to 45 nm, the film thickness after dry hardening of a low refractive index layer is made into 30 nm, and the film thickness of an ITO layer is made into 25 nm using the low refractive index layer lacquer L-3. Was carried out similarly to Example 1-1, and produced the transparent conductive film. About the transparent conductive film produced above, the transmission color hue (b *), the total light transmittance (%), and the haze value (%) were measured by the said method, and the result is shown in Table 2.

<< 실시예Example 1-9> 1-9>

고굴절률층의 건조 경화 후의 막후를 90 nm로 하고, 저굴절률층용 칠액 L-3을 사용하고, 저굴절률층의 건조 경화 후의 막후를 25 nm로 하고, ITO층의 막후를 20 nm로 하는 것 이외는, 실시예 1-1과 같게 실시하여 투명 도전성 필름을 제작했다. 상기에서 제작한 투명 도전성 필름에 대해서, 투과색 색조(b*), 전광선 투과율(%) 및 헤이즈 값(%)을 상기 방법으로 측정하였고, 그 결과를 표 2에 나타냈다.
The film thickness after dry hardening of a high refractive index layer is 90 nm, the film thickness after dry hardening of a low refractive index layer is 25 nm, and the film thickness of an ITO layer is made 20 nm using the low refractive index layer lacquer L-3. Was carried out similarly to Example 1-1, and produced the transparent conductive film. About the transparent conductive film produced above, the transmission color hue (b *), the total light transmittance (%), and the haze value (%) were measured by the said method, and the result is shown in Table 2.

<< 실시예Example 1-10> 1-10>

고굴절률층용 칠액 H-3을 사용하고, 고굴절률층의 건조 경화 후의 막후를 65 nm로 하고, 저굴절률층용 칠액 L-3을 사용하고, 저굴절률층의 건조 경화 후의 막후를 30 nm로 하고, ITO층의 막후를 25 nm로 하는 것 이외는, 실시예 1-1과 같게 실시하여 투명 도전성 필름을 제작했다. 상기에서 제작한 투명 도전성 필름에 대해서, 투과색 색조(b*), 전광선 투과율(%) 및 헤이즈 값(%)을 상기 방법으로 측정하였고, 그 결과를 표 2에 나타냈다.
The film thickness after dry hardening of the high refractive index layer is 65 nm using the high refractive index layer lacquer H-3, and the film thickness after dry hardening of the low refractive index layer is 30 nm using the low refractive index layer lacquer L-3, A transparent conductive film was produced in the same manner as in Example 1-1 except that the thickness of the ITO layer was 25 nm. About the transparent conductive film produced above, the transmission color hue (b *), the total light transmittance (%), and the haze value (%) were measured by the said method, and the result is shown in Table 2.

<< 실시예Example 1-11> 1-11>

고굴절률층용 칠액 H-4를 사용하고, 고굴절률층의 건조 경화 후의 막후를 65 nm로 하고, 저굴절률층용 칠액 L-3을 사용하고, 저굴절률층의 건조 경화 후의 막후를 30 nm로 하고, ITO층의 막후를 20 nm로 하는 것 이외는, 실시예 1-1과 같게 실시하여 투명 도전성 필름을 제작했다. 상기에서 제작한 투명 도전성 필름에 대해서, 투과색 색조(b*), 전광선 투과율(%) 및 헤이즈 값(%)을 상기 방법으로 측정하였고, 그 결과를 표 2에 나타냈다.
The film thickness after dry hardening of the high refractive index layer is 65 nm using the high refractive index layer lacquer H-4, and the film thickness after dry hardening of the low refractive index layer is 30 nm using the low refractive index layer lacquer L-3, A transparent conductive film was produced in the same manner as in Example 1-1 except that the thickness of the ITO layer was 20 nm. About the transparent conductive film produced above, the transmission color hue (b *), the total light transmittance (%), and the haze value (%) were measured by the said method, and the result is shown in Table 2.

<< 실시예Example 1-12> 1-12>

고굴절률층의 건조 경화 후의 막후를 65 nm로 하고, 저굴절률층용 칠액 L-3을 사용하고, 저굴절률층의 건조 경화 후의 막후를 30 nm로 하고, ITO층의 스패터링 후의 아닐 처리를 150 ℃, 60분간 실시하는 것 이외는, 실시예 1-1과 같게 실시하여 투명 도전성 필름을 제작했다. 상기에서 제작한 투명 도전성 필름에 대해서, 투과색 색조(b*), 전광선 투과율(%) 및 헤이즈 값(%)을 상기 방법으로 측정하였고, 그 결과를 표 2에 나타냈다.
The film thickness after dry hardening of a high refractive index layer is 65 nm, the film thickness after dry hardening of a low refractive index layer is 30 nm, and the annealing process after the sputtering of an ITO layer is 150 degreeC. The transparent conductive film was produced like Example 1-1 except having performed for 60 minutes. About the transparent conductive film produced above, the transmission color hue (b *), the total light transmittance (%), and the haze value (%) were measured by the said method, and the result is shown in Table 2.

<< 실시예Example 1-13> 1-13>

고굴절률층의 건조 경화 후의 막후를 65 nm로 하고, 저굴절률층용 칠액 L-3을 사용하고, 저굴절률층의 건조 경화 후의 막후를 25 nm로 하고, ITO층의 막후를 25 nm로 하고, ITO층의 스패터링 후의 아닐 처리를 100 ℃, 60분간 실시하는 것 이외는, 실시예 1-1과 같게 실시하여 투명 도전성 필름을 제작했다. 상기에서 제작한 투명 도전성 필름에 대해서, 투과색 색조(b*), 전광선 투과율(%) 및 헤이즈 값(%)을 상기 방법으로 측정하였고, 그 결과를 표 2에 나타냈다.
The film thickness after dry hardening of a high refractive index layer is 65 nm, the film thickness after dry hardening of a low refractive index layer is 25 nm, the film thickness of an ITO layer is 25 nm, and ITO is 25 nm, A transparent conductive film was produced in the same manner as in Example 1-1 except that the annealing treatment after the layer spattering was performed at 100 ° C. for 60 minutes. About the transparent conductive film produced above, the transmission color hue (b *), the total light transmittance (%), and the haze value (%) were measured by the said method, and the result is shown in Table 2.

<< 실시예Example 1-14> 1-14>

고굴절률용 칠액 H-4를 사용하고, 고굴절률층의 건조 경화 후의 막후를 55 nm로 하고, 저굴절률층의 건조 경화 후의 막후를 30 nm로 하고, ITO층의 막후를 20 nm로 하는 것 이외는, 실시예 1-1과 같게 실시하여 투명 도전성 필름을 제작했다. 상기에서 제작한 투명 도전성 필름에 대해서, 투과색 색조(b*), 전광선 투과율(%) 및 헤이즈 값(%)을 상기 방법으로 측정하였고, 그 결과를 표 2에 나타냈다.
The film thickness after dry hardening of a high refractive index layer is made into 55 nm using the high refractive index lacquer H-4, and the film thickness after dry hardening of a low refractive index layer is made into 30 nm, and the film thickness of an ITO layer is made into 20 nm. Was carried out similarly to Example 1-1, and produced the transparent conductive film. About the transparent conductive film produced above, the transmission color hue (b *), the total light transmittance (%), and the haze value (%) were measured by the said method, and the result is shown in Table 2.

<< 비교예Comparative example 1-1> 1-1>

고굴절률층용 칠액 H-5를 사용하는 것 이외는, 실시예 1-1과 같게 실시하여 투명 도전성 필름을 제작했다. 상기에서 제작한 투명 도전성 필름에 대해서, 투과색 색조(b*), 전광선 투과율(%) 및 헤이즈 값(%)을 상기 방법으로 측정하였고, 그 결과를 표 3에 나타냈다.
A transparent conductive film was produced in the same manner as in Example 1-1 except that the coating solution H-5 for high refractive index layer was used. About the transparent conductive film produced above, the transmission color hue (b *), the total light transmittance (%), and the haze value (%) were measured by the said method, and the result was shown in Table 3.

<< 비교예Comparative example 1-2> 1-2>

고굴절률층의 건조 경화 후의 막후를 65 nm로 하고, 저굴절률층용 칠액 L-3을 사용하고, 저굴절률층의 건조 경화 후의 막후를 60 nm로 하는 것 이외는, 실시예 1-1과 같게 실시하여 투명 도전성 필름을 제작했다. 상기에서 제작한 투명 도전성 필름에 대해서, 투과색 색조(b*), 전광선 투과율(%) 및 헤이즈 값(%)을 상기 방법으로 측정하였고, 그 결과를 표 3에 나타냈다.
It carried out similarly to Example 1-1 except having set the film thickness after dry hardening of a high refractive index layer to 65 nm, and setting the film thickness after dry hardening of a low refractive index layer to 60 nm using the low-refractive-index layer liquid L-3. To produce a transparent conductive film. About the transparent conductive film produced above, the transmission color hue (b *), the total light transmittance (%), and the haze value (%) were measured by the said method, and the result was shown in Table 3.

<< 비교예Comparative example 1-3> 1-3>

고굴절률층의 건조 경화 후의 막후를 65 nm로 하고, 저굴절률층용 칠액 L-3을 사용하고, 저굴절률층의 건조 경화 후의 막후를 5 nm로 하는 것 이외는, 실시예 1-1과 같게 실시하여 투명 도전성 필름을 제작했다. 상기에서 제작한 투명 도전성 필름에 대해서, 투과색 색조(b*), 전광선 투과율(%) 및 헤이즈 값(%)을 상기 방법으로 측정하였고, 그 결과를 표 3에 나타냈다.
It carried out similarly to Example 1-1 except having set the film thickness after dry hardening of a high refractive index layer to 65 nm, and setting the film thickness after dry hardening of a low refractive index layer to 5 nm using the low-refractive-index layer liquid L-3. To produce a transparent conductive film. About the transparent conductive film produced above, the transmission color hue (b *), the total light transmittance (%), and the haze value (%) were measured by the said method, and the result was shown in Table 3.

<< 비교예Comparative example 1-4> 1-4>

고굴절률층용 칠액 H-6을 사용하고, 고굴절률층의 건조 경화 후의 막후를 65 nm로 하고, 저굴절률층용 칠액 L-3을 사용하고, 저굴절률층의 건조 경화 후의 막후를 30 nm로 하고, ITO층의 막후를 20 nm로 하는 것 이외는, 실시예 1-1과 같게 실시하여 투명 도전성 필름을 제작했다. 상기에서 제작한 투명 도전성 필름에 대해서, 투과색 색조(b*), 전광선 투과율(%) 및 헤이즈 값(%)을 상기 방법으로 측정하였고, 그 결과를 표 3에 나타냈다.
The film thickness after dry hardening of the high refractive index layer is 65 nm using the high refractive index layer lacquer H-6, and the film thickness after dry hardening of the low refractive index layer is 30 nm using the low refractive index layer lacquer L-3, A transparent conductive film was produced in the same manner as in Example 1-1 except that the thickness of the ITO layer was 20 nm. About the transparent conductive film produced above, the transmission color hue (b *), the total light transmittance (%), and the haze value (%) were measured by the said method, and the result was shown in Table 3.

<< 비교예Comparative example 1-5> 1-5>

고굴절률층의 건조 경화 후의 막후를 100 nm로 하고, 저굴절률층용 칠액 L-3을 사용하고, 저굴절률층의 건조 경화 후의 막후를 30 nm로 하는 것 이외는, 실시예 1-1과 같게 실시하여 투명 도전성 필름을 제작했다. 상기에서 제작한 투명 도전성 필름에 대해서, 투과색 색조(b*), 전광선 투과율(%) 및 헤이즈 값(%)을 상기 방법으로 측정하였고, 그 결과를 표 3에 나타냈다.
It carried out similarly to Example 1-1 except having set the film thickness after dry hardening of a high refractive index layer to 100 nm, and setting the film thickness after dry hardening of a low refractive index layer to 30 nm using the low-refractive-index layer liquid L-3. To produce a transparent conductive film. About the transparent conductive film produced above, the transmission color hue (b *), the total light transmittance (%), and the haze value (%) were measured by the said method, and the result was shown in Table 3.

<< 비교예Comparative example 1-6> 1-6>

고굴절률층의 건조 경화 후의 막후를 20 nm로 하고, 저굴절률층용 칠액 L-3을 사용하고, 저굴절률층의 건조 경화 후의 막후를 30 nm로 하는 것 이외는, 실시예 1-1과 같게 실시하여 투명 도전성 필름을 제작했다. 상기에서 제작한 투명 도전성 필름에 대해서, 투과색 색조(b*), 전광선 투과율(%) 및 헤이즈 값(%)을 상기 방법으로 측정하였고, 그 결과를 표 3에 나타냈다.
It carried out similarly to Example 1-1 except having set the film thickness after dry hardening of a high refractive index layer to 20 nm, and setting the film thickness after dry hardening of a low refractive index layer to 30 nm using the low-refractive-index layer liquid L-3. To produce a transparent conductive film. About the transparent conductive film produced above, the transmission color hue (b *), the total light transmittance (%), and the haze value (%) were measured by the said method, and the result was shown in Table 3.

<< 비교예Comparative example 1-7> 1-7>

고굴절률층의 건조 경화 후의 막후를 20 nm로 하고, 저굴절률층용 칠액 L-3을 사용하고, 저굴절률층의 건조 경화 후의 막후를 25 nm로 하고, ITO의 막후를 70 nm로 하는 것 이외는, 실시예 1-1과 같게 실시하여 투명 도전성 필름을 제작했다. 상기에서 제작한 투명 도전성 필름에 대해서, 투과색 색조(b*), 전광선 투과율(%) 및 헤이즈 값(%)을 상기 방법으로 측정하였고, 그 결과를 표 3에 나타냈다.
The film thickness after dry hardening of a high refractive index layer shall be 20 nm, the film thickness after dry hardening of a low refractive index layer shall be 25 nm, and the film thickness of ITO shall be 70 nm, except , It carried out similarly to Example 1-1, and produced the transparent conductive film. About the transparent conductive film produced above, the transmission color hue (b *), the total light transmittance (%), and the haze value (%) were measured by the said method, and the result was shown in Table 3.

<< 비교예Comparative example 1-8> 1-8>

고굴절률층의 건조 경화 후의 막후를 70 nm로 하고, 저굴절률층용 칠액 L-4를 사용하고, 저굴절률층의 건조 경화 후의 막후를 30 nm로 하는 것 이외는, 실시예 1-1과 같게 실시하여 투명 도전성 필름을 제작했다. 상기에서 제작한 투명 도전성 필름에 대해서, 투과색 색조(b*), 전광선 투과율(%) 및 헤이즈 값(%)을 상기 방법으로 측정하였고, 그 결과를 표 3에 나타냈다.
It carried out similarly to Example 1-1 except having set the film thickness after dry hardening of a high refractive index layer to 70 nm, and setting the film thickness after dry hardening of a low refractive index layer to 30 nm using the low-refractive-index layer liquid L-4. To produce a transparent conductive film. About the transparent conductive film produced above, the transmission color hue (b *), the total light transmittance (%), and the haze value (%) were measured by the said method, and the result was shown in Table 3.

실시예1-1Example 1-1 실시예1-2Example 1-2 실시예1-3Example 1-3 실시예1-4Example 1-4 실시예1-5Example 1-5 실시예1-6Example 1-6
하드코트층

Hard coat layer
칠액명Seven liquid name HC-1HC-1 HC-1HC-1 HC-1HC-1 HC-1HC-1 HC-1HC-1 HC-1HC-1
굴절률Refractive index 1.531.53 1.531.53 1.531.53 1.531.53 1.531.53 1.531.53 막후(μm)Film thickness (μm) 44 44 44 44 44 44
고굴절률층

High refractive index layer
칠액명Seven liquid name H-1H-1 H-2H-2 H-1H-1 H-1H-1 H-1H-1 H-1H-1
굴절률Refractive index 1.761.76 1.701.70 1.761.76 1.761.76 1.761.76 1.761.76 막후(nm)Film thickness (nm) 6060 6060 6565 6565 6060 6565
저굴절률층

Low refractive index layer
칠액명Seven liquid name L-1L-1 L-1L-1 L-1L-1 L-1L-1 L-1L-1 L-2L-2
굴절률Refractive index 1.531.53 1.531.53 1.531.53 1.531.53 1.531.53 1.331.33 막후(nm)Film thickness (nm) 2020 2020 2525 1515 4545 3030
ITO층

ITO layer
굴절률Refractive index 2.002.00 2.002.00 2.002.00 2.002.00 2.002.00 2.002.00
막후(nm)Film thickness (nm) 3030 3030 2525 3030 2525 2525 투과색b*Transmission color b * 0.00.0 0.30.3 0.10.1 -0.2-0.2 0.40.4 0.40.4 전광선투과율(%)Total light transmittance (%) 90.390.3 89.189.1 89.489.4 88.288.2 91.291.2 91.391.3 헤이즈 값(%)Haze value (%) 0.30.3 0.30.3 0.30.3 0.30.3 0.40.4 0.30.3

실시예
1-7
Example
1-7
실시예
1-8
Example
1-8
실시예
1-9
Example
1-9
실시예
1-10
Example
1-10
실시예
1-11
Example
1-11
실시예
1-12
Example
1-12
실시예
1-13
Example
1-13
실시예
1-14
Example
1-14

하드코트층

Hard coat layer
칠액명Seven liquid name HC-1HC-1 HC-1HC-1 HC-1HC-1 HC-1HC-1 HC-1HC-1 HC-1HC-1 HC-1HC-1 HC-1HC-1
굴절률Refractive index 1.531.53 1.531.53 1.531.53 1.531.53 1.531.53 1.531.53 1.531.53 1.531.53 막후
(μm)
Behind the scenes
(μm)
44 44 44 44 44 44 44 44

고굴절률층

High refractive index layer
칠액명Seven liquid name H-1H-1 H-1H-1 H-1H-1 H-3H-3 H-4H-4 H-1H-1 H-1H-1 H-4H-4
굴절률Refractive index 1.761.76 1.761.76 1.761.76 1.861.86 1.661.66 1.761.76 1.761.76 1.661.66 막후
(nm)
Behind the scenes
(nm)
6565 4545 9090 6565 6565 6565 6565 5555

저굴절률층

Low refractive index layer
칠액명Seven liquid name L-3L-3 L-3L-3 L-3L-3 L-3L-3 L-3L-3 L-3L-3 L-3L-3 L-1L-1
굴절률Refractive index 1.431.43 1.431.43 1.431.43 1.431.43 1.431.43 1.431.43 1.431.43 1.531.53 막후
(nm)
Behind the scenes
(nm)
3030 3030 2525 3030 3030 3030 2525 3030
ITO층
ITO layer
굴절률Refractive index 2.002.00 2.002.00 2.002.00 2.002.00 2.002.00 1.901.90 2.302.30 2.002.00
막후
(nm)
Behind the scenes
(nm)
2525 2525 2020 2525 2020 3030 2525 2020
투과색b*Transmission color b * 0.30.3 0.00.0 0.30.3 -0.6-0.6 0.40.4 -0.5-0.5 0.40.4 0.50.5 전광선투과율(%)Total light transmittance (%) 90.490.4 88.888.8 91.491.4 91.091.0 90.290.2 90.990.9 87.587.5 88.588.5 헤이즈 값(%)Haze value (%) 0.40.4 0.30.3 0.40.4 0.30.3 0.40.4 0.30.3 0.30.3 0.30.3

비교예
1-1
Comparative example
1-1
비교예
1-2
Comparative example
1-2
비교예
1-3
Comparative example
1-3
비교예
1-4
Comparative example
1-4
비교예
1-5
Comparative example
1-5
비교예
1-6
Comparative example
1-6
비교예
1-7
Comparative example
1-7
비교예
1-8
Comparative example
1-8

하드코트층

Hard coat layer
칠액명Seven liquid name HC-1HC-1 HC-1HC-1 HC-1HC-1 HC-1HC-1 HC-1HC-1 HC-1HC-1 HC-1HC-1 HC-1HC-1
굴절률Refractive index 1.531.53 1.531.53 1.531.53 1.531.53 1.531.53 1.531.53 1.531.53 1.531.53 막후
(μm)
Behind the scenes
(μm)
44 44 44 44 44 44 44 44

고굴절률층

High refractive index layer
칠액명Seven liquid name H-5H-5 H-1H-1 H-1H-1 H-6H-6 H-1H-1 H-1H-1 H-1H-1 H-1H-1
굴절률Refractive index 1.61.6 1.761.76 1.761.76 1.961.96 1.761.76 1.761.76 1.761.76 1.761.76 막후
(nm)
Behind the scenes
(nm)
6060 6565 6565 6565 100100 2020 2020 7070

저굴절률층

Low refractive index layer
칠액명Seven liquid name L-1L-1 L-3L-3 L-3L-3 L-3L-3 L-3L-3 L-3L-3 L-3L-3 L-4L-4
굴절률Refractive index 1.531.53 1.431.43 1.431.43 1.431.43 1.431.43 1.431.43 1.431.43 1.581.58 막후
(nm)
Behind the scenes
(nm)
2020 6060 55 3030 3030 3030 2525 3030
ITO층
ITO layer
굴절률Refractive index 2.002.00 2.002.00 2.002.00 2.002.00 2.002.00 2.002.00 2.002.00 2.002.00
막후
(nm)
Behind the scenes
(nm)
3030 3030 3030 2020 3030 3030 7070 3030
투과색b*Transmission color b * 2.42.4 9.39.3 -2.0-2.0 -2.9-2.9 5.95.9 2.32.3 9.39.3 2.72.7 전광선투과율(%)Total light transmittance (%) 86.386.3 90.290.2 84.584.5 89.789.7 91.191.1 86.686.6 79.879.8 88.788.7 헤이즈 값(%)Haze value (%) 0.40.4 0.30.3 0.30.3 2.12.1 0.30.3 0.30.3 0.50.5 0.30.3

표 1 및 표 2에 나타낸 결과에서, 실시예 1-1 ~ 1-14에서는 고굴절률층이 산화 지르코늄 미립자와 우레탄 아크릴레이트로 형성됨과 동시에, 고굴절률층 및 저굴절률층의 굴절률과 막후, 또한 ITO층의 굴절률과 막후가 본 발명으로 규정되는 범위로 설정되어 있다. 그 때문에, 투과광의 착색을 충분히 억제할 수 있는 것과 동시에, 전광선 투과율을 높이고, 한편 헤이즈 값을 억제할 수 있었다.In the results shown in Tables 1 and 2, in Examples 1-1 to 1-14, the high refractive index layer was formed of zirconium oxide fine particles and urethane acrylate, and the refractive index and film thickness of the high refractive index layer and the low refractive index layer, and also ITO The refractive index and the film thickness of the layer are set in the range defined by the present invention. Therefore, while coloring of transmitted light could be fully suppressed, total light transmittance was raised and the haze value could be suppressed.

한편, 표 3에 나타낸 것처럼, 비교예 1-1에서는, 고굴절률층의 굴절률이 본 발명으로 규정되고 있는 범위보다 작기 때문에, 투과색b*의 값이 커져, 투과광이 착색을 나타내, 한층 더 전광선 투과율이 저하하는 결과를 불렀다. 비교예 1-2에서는, 저굴절률층의 막후가 본 발명으로 규정되고 있는 범위보다 크기 때문에, 투과색b*의 값이 과대가 되어, 투과색이 착색을 나타내는 결과가 되었다. 비교예 1-3에서는, 저굴절률층의 막후가 본 발명으로 규정되고 있는 범위보다 작기 때문에, 투과색b*의 절대치가 커져, 투과광이 착색을 나타내, 한층 더 전광선 투과율이 저하하는 결과를 불렀다.On the other hand, as shown in Table 3, in the comparative example 1-1, since the refractive index of the high refractive index layer is smaller than the range prescribed | regulated by this invention, the value of the transmission color b * becomes large, and the transmitted light shows coloring and the whole light ray further The result which the transmittance | permeability falls was called. In the comparative example 1-2, since the film thickness of the low refractive index layer was larger than the range prescribed | regulated by this invention, the value of the transmissive color b * became excessive, and the transmissive color resulted in coloring. In Comparative Example 1-3, since the film thickness of the low refractive index layer was smaller than the range prescribed by the present invention, the absolute value of the transmission color b * was increased, and the transmitted light showed coloration, which further reduced the total light transmittance.

비교예 1-4에서는, 고굴절률층의 굴절률이 본 발명으로 규정되고 있는 범위보다 크기 때문에, 투과색b*의 절대치가 커져, 투과광이 착색을 나타내는 결과를 나타냈다. 비교예 1-5에서는, 고굴절률층의 막후가 본 발명으로 규정되고 있는 범위보다 크기 때문에, 투과색b*의 값이 커져, 투과색이 착색을 나타내는 결과가 되었다. 비교예 1-6에서는, 고굴절률층의 막후가 본 발명으로 규정되고 있는 범위보다 작기 때문에, 투과색b*의 값이 커져, 투과광이 착색을 나타내, 한층 더 전광선 투과율이 저하하는 결과를 나타냈다. 비교예 1-7에서는, ITO층의 막후가 본 발명으로 규정되고 있는 범위 이외이기 때문에, 투과색b*의 값이 과대가 되고, 투과광이 착색을 나타내며, 또, 전광선 투과율이 저하하는 결과를 불렀다. 비교예 1-8에서는, 저굴절률층의 굴절률이 본 발명으로 규정되고 있는 범위보다 큰 것으로부터, 투과색b*의 값이 과대가 되고, 투과광이 착색을 나타내는 결과가 되었다.
In the comparative example 1-4, since the refractive index of the high refractive index layer was larger than the range prescribed | regulated by this invention, the absolute value of the transmission color b * became large, and the transmitted light showed the result which shows coloring. In Comparative Example 1-5, since the film thickness of the high refractive index layer was larger than the range prescribed | regulated by this invention, the value of the transmission color b * became large and the transmission color came to the result which shows coloring. In Comparative Example 1-6, since the film thickness of the high refractive index layer was smaller than the range prescribed | regulated by this invention, the value of the transmission color b * became large, and the transmitted light showed coloring and the result which the total light transmittance fell further was shown. In Comparative Example 1-7, since the film thickness of the ITO layer was outside the range prescribed | regulated by this invention, the value of the transmission color b * became excessive, the transmitted light showed coloring, and the result that the total light transmittance fell was called. . In the comparative example 1-8, since the refractive index of the low refractive index layer was larger than the range prescribed | regulated by this invention, the value of the transmission color b * became excessive and the result that the transmitted light showed coloring.

<< 실시예Example 2-1> 2-1>

제조예 1의 하드 코트층용 칠액(HC-1)을 롤코터에서, 두께 125 μm의 PET 필름 상에, 건조 경화 후의 막후가 2 μm가 되도록 도포하고, 120 W 고압 수은등으로 400 mJ의 자외선을 조사해 경화시키는 것으로, 하드 코트 처리 PET 필름을 제작했다.The coating liquid (HC-1) for the hard coat layer of Production Example 1 was applied on a PET film having a thickness of 125 μm in a roll coater so as to have a thickness of 2 μm after dry curing, and irradiated with 400 mJ ultraviolet rays using a 120 W high pressure mercury lamp. By hardening, the hard-coat process PET film was produced.

이 하드 코트 처리 PET 필름 이면에 제조예 13의 하드 코트층용 칠액(HC-A1)을 롤코터에서, 건조 경화 후의 막후가 2 μm가 되도록 도포하고, 120 W 고압 수은등으로 400 mJ의 자외선을 조사해, 경화시키는 것으로, 이면에 활성 하드 코트층을 형성했다. 이렇게 하여, 양면 하드 코트 필름을 제작했다. 상기에서 얻은 양면 하드 코트 필름의 말림성을 평가했는데 "◎"이었다. 상기 양면 하드 코트 필름의 한 면의 하드 코트층(HC-1) 상에, 실시예 1-1과 같게, 고굴절률층, 손굴절률층 및 ITO층을 형성하고, 투명 도전성 필름을 얻었다. 상기에서 얻은 투명 도전성 필름에 대해서, 투과색 색조(b*), 전광선 투과율(%) 및 헤이즈 값(%)을 상기 방법으로 측정하였고, 그 결과를 표 4에 나타냈다.
Apply the hard coat layer coating liquid (HC-A1) of Production Example 13 to the backside of this hard coat treated PET film in a roll coater so as to have a thickness of 2 μm after dry curing, and irradiate 400 mJ ultraviolet rays with a 120 W high pressure mercury lamp, By hardening, the active hard coat layer was formed in the back surface. In this way, the double-sided hard coat film was produced. Although the curlability of the double-sided hard coat film obtained above was evaluated, it was "(◎)". On the hard-coat layer (HC-1) of one side of the said double-sided hard-coat film, the high refractive index layer, the hand refractive index layer, and the ITO layer were formed like Example 1-1, and the transparent conductive film was obtained. About the transparent conductive film obtained above, transmission color hue (b *), total light transmittance (%), and haze value (%) were measured by the said method, and the result is shown in Table 4.

<< 실시예Example 2-2> 2-2>

제조예 1의 하드 코트층용 칠액(HC-1)을 롤코터에서, 두께 125 μm의 PET 필름 상에, 건조 경화 후의 막후가 4 μm가 되도록 도포하고, 120 W 고압 수은등으로 400 mJ의 자외선을 조사해 경화시키는 것으로, 하드 코트 처리 PET 필름을 제작했다. 이 하드 코트 처리 PET 필름 이면에 제조예 14의 하드 코트층용 칠액(HC-A2)을 롤코터에서, 건조 경화 후의 막후가 4 μm가 되도록 도포하고, 120 W 고압 수은등으로 400 mJ의 자외선을 조사하고, 경화시키는 것으로, 이면에 활성 하드 코트층을 형성했다. 이렇게 하여, 양면 하드 코트 필름을 제작했다.The coating liquid (HC-1) for the hard coat layer of the manufacturing example 1 was apply | coated so that the film thickness after dry hardening might be set to 4 micrometers on the PET film of thickness 125micrometer in a roll coater, and it irradiated 400mJ ultraviolet-ray with a 120W high pressure mercury lamp, By hardening, the hard-coat process PET film was produced. The hard coat layer coating liquid (HC-A2) of Production Example 14 was applied to the back side of the hard coat treated PET film in a roll coater such that the film thickness after dry curing was 4 μm, and 400 mJ ultraviolet rays were irradiated with a 120 W high pressure mercury lamp. By hardening, the active hard coat layer was formed in the back surface. In this way, the double-sided hard coat film was produced.

상기에서 얻은 양면 하드 코트 필름의 말림성 평가는 "○"이었다. 이 양면 하드 코트 필름의 한 면의 하드 코트층(HC-1) 상에, 실시예 1-1과 같이 실시하고, 고굴절률층, 저굴절률층 및 ITO층을 형성하고, 투명 도전성 필름을 얻었다. 상기에서 얻은 투명 도전성 필름에 대해서, 투과색 색조(b*), 전광선 투과율(%) 및 헤이즈 값(%)을 상기 방법으로 측정하였고, 그 결과를 표 4에 나타냈다.
The curling evaluation of the double-sided hard coat film obtained above was "(circle)". On the hard-coat layer (HC-1) of one side of this double-sided hard-coat film, it carried out like Example 1-1, the high refractive index layer, the low refractive index layer, and the ITO layer were formed, and the transparent conductive film was obtained. About the transparent conductive film obtained above, transmission color hue (b *), total light transmittance (%), and haze value (%) were measured by the said method, and the result is shown in Table 4.

<< 비교예Comparative example 2-1> 2-1>

제조예 1의 하드 코트층용 칠액(HC-1)을 롤코터에서, 두께 125 μm의 PET 필름상에, 건조 경화 후의 막후가 4 μm가 되도록 도포하고, 120 W 고압 수은등으로 400 mJ의 자외선을 조사해 경화시키는 것으로, 하드 코트 처리 PET 필름을 제작했다. 이 하드 코트 처리 PET 필름의 이면에 제조예 1의 하드 코트층용 칠액(HC-1)을 롤코터에서, 건조 경화 후의 막후가 4 μm가 되도록 도포하고, 120 W 고압 수은등으로 400 mJ의 자외선을 조사하고, 경화시키는 것으로, 양면 하드 코트 필름을 제작했다. 상기에서 얻은 양면 하드 코트 필름의 말림성을 평가하였는데 "×"이었다.
The coating liquid (HC-1) for the hard coat layer of Production Example 1 was applied on a PET film having a thickness of 125 μm in a roll coater such that the film thickness after dry curing was 4 μm, and 400 mJ ultraviolet rays were irradiated with a 120 W high pressure mercury lamp. By hardening, the hard-coat process PET film was produced. On the back side of this hard coat treated PET film, the coating liquid (HC-1) for hard coat layer of Production Example 1 was applied in a roll coater so as to have a film thickness of 4 μm after dry curing, and irradiated with 400 mJ ultraviolet rays with a 120 W high pressure mercury lamp. And hardening, the double-sided hard coat film was produced. The curlability of the double-sided hard coat film obtained above was evaluated, but was "x".

실시예 2-1Example 2-1 실시예 2-2Example 2-2 비교예 2-1Comparative Example 2-1
하드코트층

Hard coat layer
칠액명Seven liquid name HC-1HC-1 HC-1HC-1 HC-1HC-1
굴절률Refractive index 1.531.53 1.531.53 1.531.53 막후(μm)Film thickness (μm) 22 44 44
고굴절률층

High refractive index layer
칠액명Seven liquid name H-1H-1 H-1H-1 --
굴절률Refractive index 1.761.76 1.761.76 -- 막후(nm)Film thickness (nm) 6060 6060 --
저굴절률층

Low refractive index layer
칠액명Seven liquid name L-1L-1 L-1L-1 --
굴절률Refractive index 1.531.53 1.531.53 -- 막후(nm)Film thickness (nm) 2020 2020 -- ITO층
ITO layer
굴절률Refractive index 2.002.00 2.002.00 --
막후(nm)Film thickness (nm) 3030 3030 --

기능층



Functional layer

칠액Seven liquid HC-A1HC-A1 HC-A2HC-A2 HC-1HC-1
미립자의 평균입자 지름(μm)Average Particle Diameter of Fine Particles (μm) 0.50.5 1.51.5 1.531.53 미립자의 배합량
(질량부)
Amount of Fine Particles
(Mass part)
55 33 44
막후(nm)Film thickness (nm) 22 44 -- 막후에 대한 평균입자 지름의 비율(%)% Of average particle diameter to film thickness
25

25

38

38

-

-
양면 하드코트의 말림성Curling of double-sided hard coat ×× 투과색b*Transmission color b * 0.00.0 0.30.3 -- 전광선투과율(%)Total light transmittance (%) 90.390.3 89.189.1 -- 헤이즈 값(%)Haze value (%) 0.30.3 0.30.3 --

표 4에 나타낸 결과에서, 실시예 2-1 및 2-2에서는, 하드 코트층에 투광성 미립자가 적절한 양 포함되어, 양면 하드 코트의 말림성이 좋아졌다. 또, 활성 하드 코트층을 이용했을 경우에서도, 투과색b*의 값이나 전광선 투과율은 변화하지 않았다. 한편, 비교예 2-1에서는, 하드 코트층에 투광성 미립자가 적절한 양으로 포함되지 않기 때문에, 양면 하드 코트 필름의 말림성이 나쁘고, 말 때 생기는 주름 및 필름에 요철이 발생하여, 고굴절률층과 저굴절률층을 적층시킬 수 없었다.
In the result shown in Table 4, in Example 2-1 and 2-2, the amount of translucent microparticles | fine-particles was contained in the hard-coat layer, and the curlability of the double-sided hard coat improved. In addition, even when the active hard coat layer was used, the value of the transmission color b * and the total light transmittance did not change. On the other hand, in Comparative Example 2-1, since the light-transmitting microparticles | fine-particles are not contained in a suitable amount in a hard-coat layer, the curling property of a double-sided hard-coat film is bad, irregularities generate | occur | produce in the wrinkles and film which arise, and a high refractive index layer and The low refractive index layer could not be laminated.

Claims (6)

폴리에스테르 필름의 제1의 주면으로부터 순서대로 적층된, 고굴절률층, 저굴절률층 및 주석 도프 산화 인듐층을 갖추는 투명 도전성 필름이며,
상기 고굴절률층은, 금속 산화물 미립자와 자외선 경화성 바인더로 형성되어 파장 400 nm에 있어서의 상기 고굴절률층의 굴절률은 1.63~1.86이며, 상기 고굴절률층의 막후는 40~90 nm이며,
파장 400 nm에 있어서의 상기 저굴절률층의 굴절률은 1.33~1.53이며, 상기 저굴절률층의 막후는 10~50 nm이며,
파장 400 nm에 있어서의 상기 주석 도프 산화 인듐층의 굴절률은 1.85~2.35이며, 상기 주석 도프 산화 인듐층의 막후는 5~50 nm인 것을 특징으로 하는 투명 도전성 필름.
It is a transparent conductive film provided with the high refractive index layer, the low refractive index layer, and the tin dope indium oxide layer laminated | stacked in order from the 1st main surface of a polyester film,
The high refractive index layer is formed of metal oxide fine particles and an ultraviolet curable binder, the refractive index of the high refractive index layer at a wavelength of 400 nm is 1.63 ~ 1.86, the film thickness of the high refractive index layer is 40 ~ 90 nm,
The refractive index of the low refractive index layer at a wavelength of 400 nm is 1.33 to 1.53, and the film thickness of the low refractive index layer is 10 to 50 nm,
The refractive index of the said tin dope indium oxide layer in wavelength 400nm is 1.85-2.35, and the film thickness of the said tin dope indium oxide layer is 5-50 nm, The transparent conductive film characterized by the above-mentioned.
제1항에 있어서, 상기 폴리에스테르 필름과 상기 고굴절률층과의 사이에, 막후 1.0~10.0 μm의 하드 코트층을 더 갖추는 것을 특징으로 하는 투명 도전성 필름.
The transparent conductive film according to claim 1, further comprising a hard coat layer having a thickness of 1.0 to 10.0 μm between the polyester film and the high refractive index layer.
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 폴리에스테르 필름의 제2의 주면에 기능층을 더 갖추는 것을 특징으로 하는 투명 도전성 필름.
The transparent conductive film according to claim 1 or 2, further comprising a functional layer on the second main surface of the polyester film.
제3항에 있어서, 상기 기능층은, 하드 코트층, 방현층, 지문 친숙함층 또는 자기 수복층인 것을 특징으로 하는 투명 도전성 필름.
The transparent conductive film according to claim 3, wherein the functional layer is a hard coat layer, an antiglare layer, a fingerprint familiarity layer, or a self-repair layer.
제4항에 있어서, 상기 기능층은, 활성 하드코트층이며, 상기 활성 하드코트층의 막후는 1.0~10.0 μm이며, 상기 활성 하드코트층은, 해당 활성 하드코트층안에 0.5~30 질량%의 투광성 미립자를 함유하고, 상기 활성 하드코트층의 막후에 대한 상기 투광성 미립자의 평균 입자 지름의 비율은 10~60%인 것을 특징으로 하는 투명 도전성 필름.
The said functional layer is an active hard coat layer, The film thickness of the said active hard coat layer is 1.0-10.0 micrometers, The said active hard coat layer is 0.5-30 mass% in the said active hard coat layer. The transparent conductive film containing translucent microparticles | fine-particles and the ratio of the average particle diameter of the said translucent microparticles | fine-particles to the film thickness of the said active hard coat layer is 10 to 60%.
제4항에 있어서, 상기 기능층은 하드 코트층 또는 방현층이며, 해당 기능층 위에 적층된 반사 방지층을 더 갖추는 것을 특징으로 하는 투명 도전성 필름.The transparent conductive film according to claim 4, wherein the functional layer is a hard coat layer or an antiglare layer, further comprising an antireflection layer laminated on the functional layer.
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