JP2000052492A - Anti-reflective laminate, optically functional laminate, and display device - Google Patents
Anti-reflective laminate, optically functional laminate, and display deviceInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は液晶、プラズマディ
スプレイ、ＣＲＴ等、種々の表示装置の前面に装着さ
れ、光線の反射を低減させることを目的とした反射防止
機能を有する積層体に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a laminate having an antireflection function which is mounted on the front of various display devices such as a liquid crystal display, a plasma display, and a CRT and has an object of reducing reflection of light.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来より、ＣＲＴなどでは、表面の反射
を防止する手段および表示画面が帯電することを防止す
る手段として、多層膜を真空蒸着法などによりコーティ
ングしている。さらに液晶画面においてはそれらの表面
に凹凸を設けることで乱反射をさせている。2. Description of the Related Art Conventionally, in a CRT or the like, a multilayer film is coated by a vacuum deposition method or the like as a means for preventing reflection on the surface and a means for preventing the display screen from being charged. Further, in the liquid crystal screen, irregular reflection is made by providing irregularities on those surfaces.
【０００３】透明であり、かつ導電性を有する層を反射
防止積層体に施した例は特開平５−３２３１０１号公報
にあるような酸化インジウムや酸化スズをベースとした
ものが知られている。また、特開昭６４−８０９０４号
公報にあるように非常に薄い金属膜を利用しているもの
が知られている。An example in which a transparent and conductive layer is applied to an antireflection laminate is disclosed in JP-A-5-323101, which is based on indium oxide or tin oxide. In addition, as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 64-80904, a device using a very thin metal film is known.
【０００４】反射防止膜においては、各セラミック薄膜
層の応力、結晶構造などが重要で、バランスがとれてい
ないと密着性や耐擦傷性などの機械強度特性が乏しくな
る問題があった。In the antireflection film, stress and crystal structure of each ceramic thin film layer are important, and if not balanced, there is a problem that mechanical strength characteristics such as adhesion and scratch resistance become poor.
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】本発明はこのような問
題点を解決するためになされたものであり、その課題と
するところは、日常の使用に耐えられる十分な機械強度
特性を有した反射防止積層体を提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve such a problem, and an object of the present invention is to provide a reflector having sufficient mechanical strength characteristics to withstand daily use. It is to provide a prevention laminate.
【０００６】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明はこの課題を解決
するため、基材上の少なくとも片側に、透明な高屈折率
セラミック薄膜層と低屈折率セラミック薄膜層を交互に
積層させた反射防止膜において、セラミック薄膜層の少
なくとも１層を多孔性の構造にすることにより、日常の
使用に耐えられる十分な機械強度特性を有した反射防止
積層体を提供する。In order to solve this problem, the present invention provides an antireflection method in which transparent high refractive index ceramic thin film layers and low refractive index ceramic thin film layers are alternately laminated on at least one side of a substrate. By forming at least one of the ceramic thin film layers in the film to have a porous structure, an antireflection laminate having sufficient mechanical strength characteristics to withstand daily use is provided.
【０００７】また、前記セラミック薄膜層の少なくとも
１層が導電性を有するセラミック薄膜層であること、前
記導電性を有するセラミック薄膜層が、酸化インジウ
ム、酸化亜鉛、酸化スズのいずれか、または、それらの
２種類もしくは３種類の混合酸化物を主成分としている
こと、基材がプラスチックフィルムであること、基材と
セラミック薄膜層の間にハードコートが形成されている
こと、基材またはハードコートとセラミック薄膜層の間
にプライマー層が形成されていること、基材とは反対側
の面に防汚層が形成されていることを特徴とする反射防
止積層体を提供する。Further, at least one of the ceramic thin film layers is a ceramic thin film layer having conductivity, and the ceramic thin film layer having conductivity is any one of indium oxide, zinc oxide and tin oxide, or That the main component is two or three types of mixed oxides, that the base material is a plastic film, that a hard coat is formed between the base material and the ceramic thin film layer, that the base material or the hard coat Provided is an antireflection laminate characterized in that a primer layer is formed between ceramic thin film layers, and an antifouling layer is formed on a surface opposite to a substrate.
【０００８】[0008]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につき
詳細に説明する。図１に本発明の反射防止積層体の断面
の構造の一例を示す。基材２としては透明性を有し、か
つ表面が平滑なものであれば良く、例えば、ポリメチル
メタクリレート、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポ
リエチレンサルファイド、ポリエーテルスルホン、ポリ
オレフィン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレ
ンナフタレート、トリアセチルセルロース等の高分子フ
ィルムやガラスなどが挙げられ、目的・用途により適宜
選択される。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail. FIG. 1 shows an example of a cross-sectional structure of the antireflection laminate of the present invention. The substrate 2 may have transparency and a smooth surface. For example, polymethyl methacrylate, polycarbonate, polystyrene, polyethylene sulfide, polyether sulfone, polyolefin, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, triacetyl Examples thereof include polymer films such as cellulose and glass, and are appropriately selected depending on the purpose and application.
【０００９】本発明のセラミック薄膜層３に用いるセラ
ミック薄膜層４から７とは無機化合物からなるものであ
り、酸化物、硫化物、フッ化物、窒化物などからなる薄
膜が使用可能である。この無機化合物からなる薄膜はそ
の材料により屈折率が異なり、その屈折率の異なるセラ
ミック薄膜を特定の膜厚で複数層積層することにより、
反射防止膜とすることが可能となる。The ceramic thin film layers 4 to 7 used for the ceramic thin film layer 3 of the present invention are made of an inorganic compound, and a thin film made of an oxide, sulfide, fluoride, nitride or the like can be used. The refractive index of the thin film made of this inorganic compound varies depending on the material, and by stacking a plurality of ceramic thin films having different refractive indices with a specific thickness,
It becomes possible to form an antireflection film.
【００１０】屈折率の低い材料としては、酸化マグネシ
ウム（屈折率＝１．６）、二酸化珪素（１．５）、フッ
化マグネシウム（１．４）、フッ化カルシウム（１．３
〜１．４）、フッ化セリウム（１．６）、フッ化アルミ
ニウム（１．３）などが挙げられる。屈折率の高い材料
としては二酸化チタン（２．４）、二酸化ジルコニウム
（２．０）、硫化亜鉛（２．３）、酸化タンタル（２．
１）、酸化亜鉛（２．１）、酸化インジウム（２．０）
が挙げられる。Materials having a low refractive index include magnesium oxide (refractive index = 1.6), silicon dioxide (1.5), magnesium fluoride (1.4), and calcium fluoride (1.3).
To 1.4), cerium fluoride (1.6), aluminum fluoride (1.3) and the like. Materials having a high refractive index include titanium dioxide (2.4), zirconium dioxide (2.0), zinc sulfide (2.3), and tantalum oxide (2.
1), zinc oxide (2.1), indium oxide (2.0)
Is mentioned.
【００１１】具体的に導電性を有するセラミック薄膜層
の例としては、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズの
いずれか、または、それらの２種類もしくは３種類の混
合酸化物が挙げられるが、目的や用途などにより、いか
なる導電性材料を用いても良い。Specific examples of the ceramic thin film layer having conductivity include any one of indium oxide, zinc oxide, and tin oxide, or a mixed oxide of two or three of them. Depending on the application, any conductive material may be used.
【００１２】本発明のセラミック薄膜層の製造方法とし
ては、膜厚の制御が可能であればいかなる成膜方法でも
良く、なかでも薄膜の生成には乾式法が優れている。こ
れには真空蒸着法等の物理的気相析出法やＣＶＤ法のよ
うな化学的気相析出法を用いることができる。As a method for producing the ceramic thin film layer of the present invention, any film forming method may be used as long as the film thickness can be controlled, and among them, a dry method is excellent for forming a thin film. For this, a physical vapor deposition method such as a vacuum vapor deposition method or a chemical vapor deposition method such as a CVD method can be used.
【００１３】多孔性セラミック薄膜層の製造方法として
は、多孔性セラミック薄膜層自体の強度が実用性に耐え
られるものであればいかなる成膜方法でも良い。真空蒸
着法であれば、基材温度および成膜圧力を調整すること
により、多孔性セラミック薄膜層とすることができる。As a method of manufacturing the porous ceramic thin film layer, any film forming method may be used as long as the strength of the porous ceramic thin film layer itself can withstand practical use. In the case of a vacuum deposition method, a porous ceramic thin film layer can be obtained by adjusting the substrate temperature and the film forming pressure.
【００１４】本発明の反射防止積層体には、場合により
図２にようにハードコート層８、プライマー層９、防汚
層１０のいずれか、または、それらの２層もしくは３層
を設けても良い。The antireflection laminate of the present invention may be provided with any one of the hard coat layer 8, the primer layer 9, and the antifouling layer 10, or two or three of them as shown in FIG. good.
【００１５】ハードコート層８としては全体の透明度を
阻害しない程度に透明なものが使用可能である。例え
ば、紫外線硬化型のアクリル等が挙げられる。膜厚は３
μｍ以上あれば十分な強度となるが、透明性、塗工制度
取り扱いから５〜７μｍの範囲が好ましい。As the hard coat layer 8, a material which is transparent to the extent that the overall transparency is not impaired can be used. For example, ultraviolet curable acrylic or the like may be used. The film thickness is 3
If it is at least μm, the strength will be sufficient, but the range of 5 to 7 μm is preferable from the viewpoint of transparency and handling of the coating system.
【００１６】プライマー層９は、基材２あるいはハード
コート層８とセラミック薄膜層４との密着性を高めるも
のであり、密着性の仕様を満たすものであればいかなる
材料であっても制限されるものではない。代表的な例と
してはクロムやシリコン等の金属の亜酸化物からなるも
のが挙げられる。膜厚は透明度を阻害しないように設定
しなければならず、５〜１５ｎｍの範囲が好ましい。The primer layer 9 enhances the adhesiveness between the substrate 2 or the hard coat layer 8 and the ceramic thin film layer 4, and is limited to any material as long as it meets the adhesiveness specification. Not something. A typical example is a material made of a suboxide of a metal such as chromium and silicon. The film thickness must be set so as not to impair the transparency, and is preferably in the range of 5 to 15 nm.
【００１７】防汚層１０は、撥水性および／または撥油
性であることにより、セラミック薄膜層３の表面を保護
し、さらに防汚性を高めるものであり、要求性能を満た
すものであれば、いかなる材料であっても制限されるも
のではない。代表的な例として有機化合物、好ましくは
フッ素系含有有機化合物が適している。撥水性を示すも
のとして、例えば疎水基を有する化合物がよく、フルオ
ロカーボンやパーフルオロシラン等が、またこれらの高
分子化合物等が適している。指紋ふき取り防汚向上など
には、メチル基の様な撥油性を有する高分子化合物が適
している。The antifouling layer 10 protects the surface of the ceramic thin film layer 3 by being water repellent and / or oil repellent, and further enhances the antifouling property. Any material is not limited. As a typical example, an organic compound, preferably a fluorine-containing organic compound is suitable. As a material exhibiting water repellency, for example, a compound having a hydrophobic group is preferable, and fluorocarbon, perfluorosilane, and the like, and a polymer compound thereof are suitable. For improving fingerprint wiping and antifouling, a polymer compound having oil repellency such as a methyl group is suitable.
【００１８】これらの材料は、材料に応じて真空蒸着
法、プラズマＣＶＤ法などの真空成膜プロセスや、マイ
クログラビア、スクリーン等のウェットプロセスの各種
コーティング方法を用いて、防汚層７を形成することが
できる。膜厚は、反射防止積層体としての機能を損なわ
ないように設定しなければならず、５０ｎｍ以下、さら
には１０ｎｍ以下にすることが好ましい。These materials form the antifouling layer 7 by using a vacuum film forming process such as a vacuum deposition method or a plasma CVD method, or various coating methods such as a wet process such as a microgravure or a screen, depending on the material. be able to. The film thickness must be set so as not to impair the function as an antireflection laminate, and is preferably 50 nm or less, more preferably 10 nm or less.
【００１９】これらの反射防止積層体と他のプラスチッ
クフィルムや偏光フィルムなどの光学機能性プラスチッ
クフィルム等の光学機能性膜を、ラミネートに代表され
る貼り合わせ技術で貼り合わせることにより、反射防止
機能を有する光学機能性積層体となる。An anti-reflection function is obtained by laminating the anti-reflection laminate with an optical functional film such as another plastic film or an optical functional plastic film such as a polarizing film by a lamination technique represented by lamination. It becomes an optical functional laminate having.
【００２０】これらの反射防止防止積層体や反射防止積
層体を貼り合わせた光学機能性フィルムを、粘着剤、接
着剤等を用いて液晶、プラズマディスプレイ、ＣＲＴを
含む表示装置の前面板のガラス板、プラスチック板、偏
光板等と貼り合わせることによって、反射防止性を有
し、キズの付きにくい、画像認識のしやすい表示装置と
なる。The anti-reflection anti-reflection laminate or the optically functional film to which the anti-reflection anti-reflection laminate is laminated is applied to a glass plate of a front plate of a display device including a liquid crystal, a plasma display, and a CRT by using an adhesive or an adhesive. By bonding with a plastic plate, a polarizing plate, or the like, a display device having antireflection properties, being less likely to be scratched, and easy to recognize images can be obtained.
【００２１】以上のように、平滑な基材上の少なくとも
片側に透明な高屈折率セラミック薄膜層と低屈折率セラ
ミック薄膜層を交互に積層させた反射防止膜において、
セラミック薄膜層の少なくとも１層を多孔性の構造にす
ることにより、日常の使用に耐えられる十分な機械強度
特性を有した反射防止積層体を提供できる。As described above, in an antireflection film in which transparent high-refractive-index ceramic thin film layers and low-refractive-index ceramic thin film layers are alternately laminated on at least one side on a smooth substrate,
By forming at least one of the ceramic thin film layers to have a porous structure, it is possible to provide an antireflection laminate having sufficient mechanical strength characteristics that can withstand daily use.
【００２２】前記セラミック薄膜層の少なくとも１層が
導電性を有するセラミック薄膜層であること、前記導電
性を有するセラミック薄膜層が、酸化インジウム、酸化
亜鉛、酸化スズのいずれか、または、それらの２種類も
しくは３種類の混合酸化物を主成分としていることによ
り、静電防止機能を有した反射防止積層体を提供でき
る。At least one of the ceramic thin film layers is a ceramic thin film layer having conductivity, and the ceramic thin film layer having conductivity is any one of indium oxide, zinc oxide and tin oxide, or two of them. By mainly using one or three kinds of mixed oxides, an antireflection laminate having an antistatic function can be provided.
【００２３】基材がプラスチックフィルムであり、基材
とセラミック薄膜層の間にハードコートが、基材とは反
対側の面に防汚層が形成されていることにより、防汚効
果が具備された二次曲面への貼り付けが可能な反射防止
積層体を提供できる。The base material is a plastic film, a hard coat is formed between the base material and the ceramic thin film layer, and an antifouling layer is formed on the surface opposite to the base material, so that an antifouling effect is provided. And an antireflection laminate that can be attached to a secondary curved surface.
【００２４】基材またはハードコートとセラミック薄膜
層の間にプライマー層を形成することにより、密着性を
高めた反射防止積層体を提供できる。By forming a primer layer between a base material or a hard coat and a ceramic thin film layer, an antireflection laminate having improved adhesion can be provided.
【００２５】この反射防止積層体と他のプラスチックフ
ィルムや偏光フィルムなどと貼り合わせることにより得
られた光学機能性積層体にも同様の機能を付与できる。
さらには、表示装置の前面板等に貼り合わせることによ
り、キズが付きにくく、画面認識のしやすい表示装置を
提供できる。A similar function can be imparted to an optically functional laminate obtained by laminating this antireflection laminate with another plastic film or polarizing film.
Further, a display device which is hardly scratched and is easy to recognize a screen can be provided by being attached to a front plate or the like of the display device.
【００２６】[0026]
【実施例】次に本発明を具体的な実施例を挙げて詳細に
説明する。 ＜実施例１＞透明プラスチック基材２のＰＥＴフィルム
１００μｍ上に、紫外線硬化性のアクリル系ハードコー
ト層８を５μｍの膜厚で塗布し、プライマー層９として
ＳｉＯｘ（ｘ＜２）を膜厚１０ｎｍで成膜した後に、反
射防止膜３としてＩＴＯとＳｉＯ2 を積層し、さらに防
汚層１０としてフルオロアルキルシラン７ｎｍを塗布形
成した。なお、セラミック薄膜層の形成にはスパッタリ
ング法を用い、Ａｒガス圧を２Ｐａとして多孔性の柱状
構造とした。セラミック薄膜各層の屈折率ｎおよび光学
膜厚ｎｄは、１層目をＩＴＯ（ｎ＝１．９７、ｎｄ＝５
０ｎｍ）、２層目をＳｉＯ2 （ｎ＝１．４６、ｎｄ＝３
０ｎｍ）、３層目をＩＴＯ（ｎ＝１．９７、ｎｄ＝１３
０ｎｍ）、４層目をＳｉＯ2 （ｎ＝１．４６、ｎｄ＝１
３０ｎｍ）とした。Next, the present invention will be described in detail with reference to specific examples. <Example 1> A UV-curable acrylic hard coat layer 8 having a thickness of 5 μm was applied on a PET film 100 μm of a transparent plastic substrate 2, and SiOx (x <2) having a thickness of 10 nm was used as a primer layer 9. After that, ITO and SiO 2 were laminated as the anti-reflection film 3, and 7 nm of fluoroalkylsilane was applied and formed as the antifouling layer 10. The ceramic thin film layer was formed by a sputtering method using an Ar gas pressure of 2 Pa to form a porous columnar structure. Regarding the refractive index n and the optical film thickness nd of each layer of the ceramic thin film, the first layer was made of ITO (n = 1.97, nd = 5).
0 nm) and the second layer is made of SiO 2 (n = 1.46, nd = 3).
0 nm), and the third layer was made of ITO (n = 1.97, nd = 13).
0 nm) and the fourth layer is made of SiO 2 (n = 1.46, nd = 1).
30 nm).
【００２７】積層体は光線反射率が波長４５０ｎｍ〜６
５０ｎｍの範囲で平均０．５％以下の反射防止機能が得
られた。また、スチールウール（ボンスター＃００００
日本スチールウール株式会社製）により２００ｇ／ｃｍ
2 の荷重で耐擦傷性試験を行った結果、キズは殆ど認め
られず、良好な結果が得られた。さらに、１ｋｇ荷重、
３Ｈで５回の鉛筆硬度試験を行った結果、３回以上でキ
ズが認められず、実用上十分な硬度が得られた。The laminate has a light reflectance of 450 nm to 6 nm.
An antireflection function of 0.5% or less on average was obtained in the range of 50 nm. In addition, steel wool (Bonstar # 0000)
200g / cm by Nippon Steel Wool Co., Ltd.)
As a result of performing a scratch resistance test with a load of 2 , scars were scarcely recognized, and good results were obtained. In addition, 1kg load,
As a result of performing the pencil hardness test five times at 3H, no flaw was recognized at least three times, and a practically sufficient hardness was obtained.
【００２８】＜実施例２＞透明プラスチック基材２のト
リアセチルセルロースフィルム８０μｍ上に、紫外線硬
化性のアクリル系ハードコート層８を５μｍの膜厚で塗
布し、プライマー層９としてＳｉＯｘ（ｘ＜２）を膜厚
１０ｎｍで成膜した後に、反射防止膜３としてＩＴＯと
ＳｉＯ2 を積層し、さらに防汚層１０としてフルオロア
ルキルシラン７ｎｍを塗布形成した。なお、セラミック
薄膜層の形成にはスパッタリング法を用い、Ａｒガス圧
を２Ｐａとして多孔性の柱状構造とした。セラミック薄
膜各層の屈折率ｎおよび光学膜厚ｎｄは、１層目をＩＴ
Ｏ（ｎ＝１．９７、ｎｄ＝４５ｎｍ）、２層目をＳｉＯ
2 （ｎ＝１．４６、ｎｄ＝３５ｎｍ）、３層目をＩＴＯ
（ｎ＝１．９７、ｎｄ＝１４０ｎｍ）、４層目をＳｉＯ
2 （ｎ＝１．４６、ｎｄ＝１４０ｎｍ）とした。Example 2 A UV-curable acrylic hard coat layer 8 was applied to a thickness of 5 μm on a triacetyl cellulose film 80 μm of the transparent plastic substrate 2, and SiOx (x <2 ) Was formed to a thickness of 10 nm, ITO and SiO 2 were laminated as an antireflection film 3, and a 7-nm fluoroalkylsilane was applied as an antifouling layer 10. The ceramic thin film layer was formed by a sputtering method using an Ar gas pressure of 2 Pa to form a porous columnar structure. The refractive index n and the optical thickness nd of each layer of the ceramic thin film were determined by using
O (n = 1.97, nd = 45 nm), the second layer is SiO
2 (n = 1.46, nd = 35 nm) The third layer is made of ITO
(N = 1.97, nd = 140 nm) The fourth layer is made of SiO
2 (n = 1.46, nd = 140 nm).
【００２９】積層体は光線反射率が波長４５０ｎｍ〜６
５０ｎｍの範囲で平均０．４％以下の反射防止機能が得
られた。また、スチールウール（ボンスター＃００００
日本スチールウール株式会社製）により２００ｇ／ｃｍ
2 の荷重で耐擦傷性試験を行った結果、キズは殆ど認め
られず、良好な結果が得られた。さらに、１ｋｇ荷重、
３Ｈで５回の鉛筆硬度試験を行った結果、３回以上でキ
ズが認められず、実用上十分な硬度が得られた。The laminate has a light reflectance of 450 nm to 6 nm.
An antireflection function of 0.4% or less on average was obtained in the range of 50 nm. In addition, steel wool (Bonstar # 0000)
200g / cm by Nippon Steel Wool Co., Ltd.)
As a result of performing a scratch resistance test with a load of 2 , scars were scarcely recognized, and good results were obtained. In addition, 1kg load,
As a result of performing the pencil hardness test five times at 3H, no flaw was recognized at least three times, and a practically sufficient hardness was obtained.
【００３０】＜比較例１＞透明プラスチック基材２のＰ
ＥＴフィルム１００μｍ上に、紫外線硬化性のアクリル
系ハードコート層８を５μｍの膜厚で塗布し、反射防止
膜３としてＩＴＯとＳｉＯ2 を積層し、さらに防汚層１
０としてフルオロアルキルシラン７ｎｍを塗布形成し
た。なお、セラミック薄膜層の形成にはスパッタリング
法を用い、Ａｒガス圧を０．５Ｐａとして緻密な構造と
した。セラミック薄膜各層の屈折率ｎおよび光学膜厚ｎ
ｄは、１層目をＩＴＯ（ｎ＝１．９７、ｎｄ＝５０ｎ
ｍ）、２層目をＳｉＯ2 （ｎ＝１．４６、ｎｄ＝３０ｎ
ｍ）、３層目をＩＴＯ（ｎ＝１．９７、ｎｄ＝１３０ｎ
ｍ）、４層目をＳｉＯ2 （ｎ＝１．４６、ｎｄ＝１３０
ｎｍ）とした。<Comparative Example 1> P of transparent plastic substrate 2
A UV-curable acrylic hard coat layer 8 is applied to a thickness of 5 μm on an ET film 100 μm, and ITO and SiO 2 are laminated as an anti-reflection film 3.
As 0, a fluoroalkylsilane of 7 nm was applied and formed. The ceramic thin film layer was formed by a sputtering method using an Ar gas pressure of 0.5 Pa to form a dense structure. Refractive index n and optical thickness n of each layer of ceramic thin film
As for d, the first layer is made of ITO (n = 1.97, nd = 50n).
m) The second layer is made of SiO 2 (n = 1.46, nd = 30n)
m) The third layer is ITO (n = 1.97, nd = 130n)
m) The fourth layer is made of SiO 2 (n = 1.46, nd = 130)
nm).
【００３１】積層体は、スチールウール（ボンスター＃
００００日本スチールウール株式会社製）により２００
ｇ／ｃｍ2 の荷重で耐擦傷性試験を行った結果、明らか
に分かるキズが数本入り、細かいキズも認められた。さ
らに、１ｋｇ荷重、３Ｈで５回の鉛筆硬度試験を行った
結果、全ての試験において膜にクラックが認められた。The laminate is made of steel wool (Bonstar #
0000 Nippon Steel Wool Co., Ltd.)
As a result of performing a scratch resistance test under a load of g / cm 2 , several flaws were clearly found and fine flaws were also recognized. Further, as a result of performing a pencil hardness test five times under a load of 1 kg and 3H, cracks were observed in the films in all tests.
【００３２】[0032]
【発明の効果】以上のように、基材上の少なくとも片側
に、透明な高屈折率セラミック薄膜層と低屈折率セラミ
ック薄膜層を交互に積層させた反射防止膜において、セ
ラミック薄膜層の少なくとも１層を多孔性の構造にする
ことにより、日常の使用に耐えられる十分な機械強度特
性を有した反射防止積層体が得られる他、前記セラミッ
ク薄膜層の少なくとも１層が導電性を有するセラミック
薄膜層であること、前記導電性を有するセラミック薄膜
層が、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズのいずれ
か、または、それらの２種類もしくは３種類の混合酸化
物を主成分としていることにより静電防止効果が得ら
れ、また、基材がプラスチックフィルムであること、基
材とセラミック薄膜層の間にハードコートが形成されて
いること、基材とは反対側の面に防汚層が形成されてい
ることにより、防汚効果が具備された二次曲面への貼り
付けが可能な反射防止積層体が得られる。さらに、基材
またはハードコートとセラミック薄膜層の間にプライマ
ー層が形成されていることにより、密着性を高めた反射
防止積層体が得られる。As described above, in an antireflection film in which transparent high-refractive-index ceramic thin film layers and low-refractive-index ceramic thin film layers are alternately laminated on at least one side of a substrate, at least one of the ceramic thin film layers is used. By forming the layer into a porous structure, an antireflection laminate having sufficient mechanical strength characteristics that can withstand daily use can be obtained, and at least one of the ceramic thin film layers has conductivity. That the conductive ceramic thin film layer contains any one of indium oxide, zinc oxide and tin oxide, or a mixed oxide of two or three of them as a main component, thereby providing an antistatic effect. And that the substrate is a plastic film, that a hard coat is formed between the substrate and the ceramic thin film layer, By antifouling layer on the surface side is formed, pasting a possible anti-reflection stack to a secondary curved surface antifouling effect is provided is obtained. Further, by forming the primer layer between the base material or the hard coat and the ceramic thin film layer, an antireflection laminate having improved adhesion can be obtained.
【００３３】また、この反射防止積層体と他のプラスチ
ックフィルムや偏光フィルムなどと貼り合わせることに
より得られた光学機能性積層体にも同様の機能を付与で
き、これらの反射防止積層体や光学機能性積層体を表示
装置の前面板等に貼り合わせることにより、十分な機械
強度特性を有し、表示画像をより明確に認識できる表示
装置を提供できる。The same function can also be imparted to an optically functional laminate obtained by laminating this antireflection laminate with another plastic film, polarizing film, or the like. By bonding the flexible laminate to a front plate or the like of the display device, a display device having sufficient mechanical strength characteristics and capable of more clearly recognizing a display image can be provided.
【００３４】[0034]
【図１】本発明の積層体の一例を示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view showing one example of a laminate of the present invention.
【図２】本発明の図１とは別な積層体の一例を示す断面
図である。FIG. 2 is a sectional view showing an example of a laminate different from FIG. 1 of the present invention.
１…反射防止積層体 ２…基材 ３…反射防止膜 ４、
６…高屈折率層 ５、７…低屈折率層 ８…ハードコート層 ９…プライ
マー層 １０…防汚層DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Anti-reflective laminated body 2 ... Substrate 3 ... Anti-reflective film 4,
6 high refractive index layer 5, 7 low refractive index layer 8 hard coat layer 9 primer layer 10 antifouling layer
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2K009 AA03 AA10 BB02 BB13 BB14 BB24 BB28 CC02 CC03 CC06 4F100 AA17C AA20B AD00B AD00C AD03B AD03C AH06A AK01A AK25D AK41A AK52E AR00D AT00A BA03 BA04 BA05 BA07 BA08 BA10A BA10C BA26 DJ00B DJ00C EH66 EJ65E GB41 JB14D JG01B JG01C JK01 JK12D JL06A JM02B JM02C JN01B JN06B JN06C JN18B JN18C 5G435 AA00 AA01 AA08 FF02 HH02 HH03 KK07 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page F term (reference) 2K009 AA03 AA10 BB02 BB13 BB14 BB24 BB28 CC02 CC03 CC06 4F100 AA17C AA20B AD00B AD00C AD03B AD03C AH06A AK01A AK25D AK41A AK52E AR00D AT00 BA03BA04 BA04 BA05 BA00 JB14D JG01B JG01C JK01 JK12D JL06A JM02B JM02C JN01B JN06B JN06C JN18B JN18C 5G435 AA00 AA01 AA08 FF02 HH02 HH03 KK07
Claims (9)
セラミック薄膜層と低屈折率セラミック薄膜層を交互に
積層させた反射防止膜において、セラミック薄膜層の少
なくとも１層が多孔性の構造を有することを特徴とする
反射防止積層体。1. An anti-reflection film comprising a transparent high refractive index ceramic thin film layer and a low refractive index ceramic thin film layer alternately laminated on at least one side of a substrate, wherein at least one of the ceramic thin film layers has a porous structure. An anti-reflection laminate comprising:
導電性を有するセラミック薄膜層であることを特徴とす
る請求項１記載の反射防止積層体。2. The anti-reflection laminate according to claim 1, wherein at least one of said ceramic thin film layers is a ceramic thin film layer having conductivity.
インジウム、酸化亜鉛、酸化スズのいずれか、または、
それらの２種類もしくは３種類の混合酸化物を主成分と
していることを特徴とする請求項１または２記載の反射
防止積層体。3. The method according to claim 1, wherein the conductive ceramic thin film layer is formed of any one of indium oxide, zinc oxide and tin oxide, or
The antireflection laminate according to claim 1, wherein two or three kinds of the mixed oxides are used as main components.
特徴とする請求項１、２または３記載の反射防止積層
体。4. The antireflection laminate according to claim 1, wherein the substrate is a plastic film.
トが形成されていることを特徴とする請求項１から４の
いずれかに記載の反射防止積層体。5. The antireflection laminate according to claim 1, wherein a hard coat is formed between the substrate and the ceramic thin film layer.
層の間にプライマー層が形成されていることを特徴とす
る請求項１から５のいずれかに記載の反射防止積層体。6. The antireflection laminate according to claim 1, wherein a primer layer is formed between the substrate or the hard coat and the ceramic thin film layer.
いることを特徴とする請求項１から６のいずれかに記載
の反射防止積層体。7. The antireflection laminate according to claim 1, wherein an antifouling layer is formed on a surface opposite to the substrate.
止積層体と光学機能性膜が接合されている事を特徴とす
る光学機能性積層体。8. An optical functional laminate, wherein the antireflection laminate according to claim 1 and an optical functional film are joined.
止積層体が接合されている事を特徴とする表示装置。9. A display device comprising the anti-reflection laminate according to claim 1 joined thereto.
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| JP10228106A JP2000052492A (en) | 1998-08-12 | 1998-08-12 | Anti-reflective laminate, optically functional laminate, and display device |
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| JP10228106A JP2000052492A (en) | 1998-08-12 | 1998-08-12 | Anti-reflective laminate, optically functional laminate, and display device |
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