JP2008152118A - Optical film - Google Patents

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Masanori Yoshihara
眞紀 吉原
Yasumasa Yoshitomi
靖真 吉富
Kohei Arakawa
公平 荒川
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Zeon Corp
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Nippon Zeon Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical film which has no interference fringe, has high pencil hardness and excellent weather resistance and is suitable for forming a polarizing plate. <P>SOLUTION: In the optical film, a base material film has a surface where ruggedness is formed by applying pressure at least on one surface thereof and has a functional layer at least on the surface where the ruggedness is formed. The base material film is constituted by laminating k pieces (k is an integer of two or more) of thermoplastic resin layers. A refractive index n<SB>i</SB>(λ) of the i-th thermoplastic resin layer at a wavelength λ within a range between 380 nm and 780 nm and a refractive index n<SB>i+1</SB>(λ) of the i+1-th thermoplastic resin layer at the wavelength λ within a range between 380 nm and 780 nm have a relation of formula [1], ¾n<SB>i</SB>(λ)-n<SB>i+1</SB>(λ)¾≤0.05, and further at least one thermoplastic resin layer has modulus of tensile elasticity A<SB>k</SB>of ≥2.8 GPa and is formed by a co-extrusion molding method. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、偏光板などの液晶表示素子用保護フィルムに適した光学フィルムに関する。   The present invention relates to an optical film suitable for a protective film for a liquid crystal display element such as a polarizing plate.

液晶表示装置等に用いられる偏光板は、偏光子と保護フィルムとからなる積層体である。偏光子としては、ポリビニルアルコールを溶液流延法により製膜したフィルムにヨウ素又は二色性染料を吸着させ、ホウ酸溶液中で延伸させたフィルムが通常使用されている。
一方、保護フィルムとしてトリアセチルセルロースフィルムが広く用いられている。しかし、トリアセチルセルロースフィルムは、防湿性とガスバリア性が悪いので、偏光板の耐久性、耐熱性、機械的強度などが不十分である。
The polarizing plate used for a liquid crystal display device etc. is a laminated body which consists of a polarizer and a protective film. As the polarizer, a film in which iodine or a dichroic dye is adsorbed on a film obtained by film-forming polyvinyl alcohol by a solution casting method and stretched in a boric acid solution is usually used.
On the other hand, a triacetyl cellulose film is widely used as a protective film. However, since the triacetylcellulose film has poor moisture resistance and gas barrier properties, the durability, heat resistance, mechanical strength, etc. of the polarizing plate are insufficient.

偏光板の耐久性や耐熱性を向上させるために、トリアセチルセルロースフィルム以外の保護フィルムを使用することが提案されている。例えば、特許文献1には、ノルボルネン系樹脂層と、ヘイズの値が小さい樹脂層とからなる積層フィルムを保護フィルムとして用いることが提案されている。そして、この保護フィルムを、ポリビニルアルコールを含有してなる偏光子に、ノルボルネン系樹脂層の面を向けて、貼り付けて、偏光板を得ることが開示されている。
特開2005−115085号公報
In order to improve the durability and heat resistance of the polarizing plate, it has been proposed to use a protective film other than the triacetyl cellulose film. For example, Patent Document 1 proposes to use a laminated film including a norbornene-based resin layer and a resin layer having a small haze value as a protective film. And it is disclosed that a polarizing plate is obtained by attaching the protective film to a polarizer containing polyvinyl alcohol with the surface of the norbornene resin layer facing.
JP 2005-115085 A

また特許文献2には、トリアセチルセルロースよりも吸湿性が小さく正の光弾性定数を有する樹脂層と、トリアセチルセルロースよりも吸湿性が小さく負の光弾性定数を有する樹脂層とが積層された、光弾性定数が小さい保護フィルムが提案されている。そして、この保護フィルムをポリビニルアルコールを含有してなる偏光子に貼着してなる偏光板が開示されている。
特開2000−206303号公報
In Patent Document 2, a resin layer having a smaller hygroscopic property than triacetyl cellulose and having a positive photoelastic constant and a resin layer having a smaller hygroscopic property than triacetyl cellulose and having a negative photoelastic constant are laminated. A protective film having a small photoelastic constant has been proposed. And the polarizing plate formed by sticking this protective film on the polarizer containing polyvinyl alcohol is disclosed.
JP 2000-206303 A

また、偏光板用保護フィルムなどの光学フィルムは、基材フィルムに機能層を積層することで製造される。このとき基材フィルムと機能層との間に干渉縞が発生し、フィルムの光学特性を低下させることが問題となっている。特許文献2には、基材フィルムと機能層との界面の表面粗さを制御することで干渉縞の発生を抑制した透明ポリカーボネート樹脂積層体を提案している。しかしながら、ここで提案されている積層体の基材となるポリカーボネート樹脂板は、溶融押出法により形成された厚さが1〜10mmと厚いものであった。   Moreover, optical films, such as a protective film for polarizing plates, are manufactured by laminating | stacking a functional layer on a base film. At this time, interference fringes are generated between the base film and the functional layer, which causes a problem that the optical properties of the film are deteriorated. Patent Document 2 proposes a transparent polycarbonate resin laminate in which the generation of interference fringes is suppressed by controlling the surface roughness of the interface between the base film and the functional layer. However, the polycarbonate resin plate used as the base material of the laminate proposed here has a thickness of 1 to 10 mm formed by a melt extrusion method.

特開2001−080013号公報JP 2001-080013 A

ところで光学フィルムの保護フィルムとなる基材フィルムを工業生産する方法として押出成形を採用する場合、押出速度(製造されたフィルムの巻き取り速度)を上げると干渉縞ができるため、押出速度の制御を慎重に行う必要があり、基材フィルムの製造効率を上げるには限界があった。   By the way, when adopting extrusion as a method for industrial production of a base film that is a protective film for optical films, interference fringes can be created by increasing the extrusion speed (winding speed of the produced film), so the extrusion speed must be controlled. There is a limit to raising the production efficiency of the base film, which must be done carefully.

本発明の目的は、干渉縞がなく、鉛筆硬度が高く、耐候性に優れた、偏光板を形成するのに好適な光学フィルムを提供することにある。   An object of the present invention is to provide an optical film suitable for forming a polarizing plate having no interference fringes, high pencil hardness, and excellent weather resistance.

本発明者らは、前記目的を達成するために検討した結果、熱可塑性樹脂層が基材フィルムの少なくとも一方の面に圧力を印加したことにより、表面に凹凸が形成されたフィルムの、少なくとも当該凹凸が形成された面に機能層を有する光学フィルムであって、
前記基材フィルムが、
熱可塑性樹脂層がk個(kは2以上の整数)積層されてなるフィルムであって、
第i番目(iは1〜k−1の整数)の熱可塑性樹脂層の波長380nm〜780nmの範囲の波長λにおける屈折率ni(λ)と、第i+1番目の熱可塑性樹脂層の380nm〜780nmの範囲の波長λにおける屈折率ni+1(λ)とが、式〔1〕の関係を有し、且つ、
第i番目の熱可塑性樹脂層の引張弾性率をA、第i+1番目の引張弾性率をAi+1としたとき、iのすべての値に対して|Ai+1−A|≧0.5GPaであり、
更に
少なくとも一層の熱可塑性樹脂層の引張弾性率A(jは、1〜kの整数)が2.8GPa以上の
共押出成形法により形成されたものである
光学フィルムの少なくとも一方の面に、圧力を印加したことにより、表面に凹凸が形成されたフィルムの、凹凸の形成された面に機能層を形成すれば、干渉縞がない、表面硬度が硬く、耐候性を有する光学フィルムが得られることを見いだした。
|n(λ)−ni+1(λ)|≦0.05 式〔1〕
しかも、このような表面に凹凸が形成されたフィルムを採用すると、基材フィルムの製造速度(押出成形時の押出速度やフィルムの巻き取り速度と同じ)を上げても干渉縞が発生しないこと、更に、表面に凹凸が形成されたフィルム表面に機能層を形成する際の速度を上げても干渉縞の発生が抑制されることを見いだし、本発明を完成するに至った。
As a result of studying to achieve the above-mentioned object, the inventors have applied at least one surface of the base film to the thermoplastic resin layer, so that at least the film having irregularities formed on the surface thereof. An optical film having a functional layer on the surface on which the irregularities are formed,
The base film is
A film in which k thermoplastic resin layers (k is an integer of 2 or more) are laminated,
The refractive index ni (λ) at a wavelength λ in the wavelength range of 380 nm to 780 nm of the i-th (i is an integer from 1 to k−1) and 380 nm to 780 nm of the i + 1-th thermoplastic resin layer. And a refractive index n i + 1 (λ) at a wavelength λ in the range of
When the tensile elastic modulus of the i-th thermoplastic resin layer is A i and the i + 1-th tensile elastic modulus is A i + 1 , | A i + 1 −A i | ≧ 0.5 GPa for all values of i. Yes,
Furthermore, on at least one surface of the optical film formed by a coextrusion molding method in which the tensile elastic modulus A j (j is an integer of 1 to k) of at least one thermoplastic resin layer is 2.8 GPa or more, If a functional layer is formed on the surface of the film having irregularities formed on the surface by applying pressure, an optical film having no interference fringes, high surface hardness, and weather resistance can be obtained. I found out.
| N i (λ) −n i + 1 (λ) | ≦ 0.05 Formula [1]
In addition, when a film having irregularities formed on such a surface is employed, interference fringes do not occur even if the production speed of the base film (the same as the extrusion speed and film winding speed during extrusion molding) is increased, Furthermore, the present inventors have found that the generation of interference fringes can be suppressed even when the speed at which the functional layer is formed on the film surface having irregularities on the surface is increased, and the present invention has been completed.

本発明は、下記のものを含む。
基材フィルムの少なくとも一方の面に圧力を印加したことにより、表面に凹凸が形成されたフィルムの、少なくとも当該凹凸が形成された面に機能層を有する光学フィルムであって、
前記基材フィルムが、
熱可塑性樹脂層がk個(kは2以上の整数)積層されてなるフィルムであって、
第i番目(iは1〜k−1の整数)の熱可塑性樹脂層の波長380nm〜780nmの範囲の波長λにおける屈折率ni(λ)と、第i+1番目の熱可塑性樹脂層の380nm〜780nmの範囲の波長λにおける屈折率ni+1(λ)とが、式〔1〕の関係を有し、且つ、
第i番目の熱可塑性樹脂層の引張弾性率をA、第i+1番目の引張弾性率をAi+1としたとき、iのすべての値に対して|Ai+1−A|≧0.5GPaであり、
更に
少なくとも一層の熱可塑性樹脂層の引張弾性率A(jは、1〜kの整数)が2.8GPa以上の
共押出成形法により形成されたものである
光学フィルム。
|n(λ)−ni+1(λ)|≦0.05 式〔1〕
The present invention includes the following.
By applying pressure to at least one surface of the base film, an optical film having a functional layer on at least the surface on which the unevenness is formed of the film on which the unevenness is formed on the surface,
The base film is
A film in which k thermoplastic resin layers (k is an integer of 2 or more) are laminated,
The refractive index ni (λ) at a wavelength λ in the wavelength range of 380 nm to 780 nm of the i-th (i is an integer from 1 to k−1) and 380 nm to 780 nm of the i + 1-th thermoplastic resin layer. And a refractive index n i + 1 (λ) at a wavelength λ in the range of
When the tensile elastic modulus of the i-th thermoplastic resin layer is A i and the i + 1-th tensile elastic modulus is A i + 1 , | A i + 1 −A i | ≧ 0.5 GPa for all values of i. Yes,
Further, an optical film formed by a coextrusion method in which at least one thermoplastic resin layer has a tensile elastic modulus A j (j is an integer of 1 to k) of 2.8 GPa or more.
| N i (λ) −n i + 1 (λ) | ≦ 0.05 Formula [1]

本実施例で用いた各樹脂層の屈折率n(λ)を示す図である。It is a figure which shows the refractive index n ((lambda)) of each resin layer used in the present Example. 本実施例で用いた各樹脂層の屈折率n(λ)の差の絶対値の分布を示す図である。It is a figure which shows distribution of the absolute value of the difference of the refractive index n ((lambda)) of each resin layer used in the present Example. 本実施例で用いたポリビニルアルコールの屈折率n(λ)とポリメチルメタクリレート層の屈折率n(λ)との差の絶対値の分布を示す図である。It is a figure which shows distribution of the absolute value of the difference of the refractive index n ((lambda)) of the polyvinyl alcohol used in the present Example, and the refractive index n ((lambda)) of a polymethylmethacrylate layer.

符号の説明Explanation of symbols

COP:脂環式オレフィンポリマー、PC:ポリカーボネート樹脂、PMMA:ポリメチルメタクリレート樹脂、PVA:ポリビニルアルコール   COP: alicyclic olefin polymer, PC: polycarbonate resin, PMMA: polymethyl methacrylate resin, PVA: polyvinyl alcohol

以下、本発明をさらに詳しく説明する。
本発明の光学フィルムは、基材フィルムの少なくとも一方の面に圧力を印加したことにより、表面に凹凸が形成されたフィルムと機能層とからなる。
機能層としては、ハードコート層、反射防止層、防汚層などが挙げられる。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail.
The optical film of the present invention is composed of a film having irregularities formed on the surface and a functional layer by applying pressure to at least one surface of the base film.
Examples of the functional layer include a hard coat layer, an antireflection layer, and an antifouling layer.

<基材フィルム>
基材フィルムは、熱可塑性樹脂層がk個(kは2以上の整数)積層されてなるものである。すなわち、基材フィルムは、第1番目の熱可塑性樹脂層から第k番目の熱可塑性樹脂層までがこの順に積層されてなる。kは、通常2〜7、好ましくは3〜5である。
また、k個の熱可塑性樹脂層のうち1層はアクリル樹脂からなる層であるのが好ましい。
<Base film>
The base film is formed by laminating k thermoplastic resin layers (k is an integer of 2 or more). That is, the base film is formed by laminating the first to the kth thermoplastic resin layers in this order. k is usually 2 to 7, preferably 3 to 5.
In addition, one of the k thermoplastic resin layers is preferably a layer made of an acrylic resin.

熱可塑性樹脂層を構成する熱可塑性樹脂は、アクリル樹脂、例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリイミド樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、および脂環式オレフィンポリマーなどから選択することができる。   The thermoplastic resin constituting the thermoplastic resin layer is an acrylic resin, for example, polycarbonate resin, polyethersulfone resin, polyethylene terephthalate resin, polyimide resin, polymethyl methacrylate resin, polysulfone resin, polystyrene resin, polyarylate resin, polyethylene resin, It can be selected from polyvinyl chloride resin, diacetyl cellulose, triacetyl cellulose, and alicyclic olefin polymers.

アクリル樹脂としては、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチルなどの(メタ)アクリル酸アルキルエステルの単独重合体;アルキル基の水素がOH基、COOH基もしくはNH基などの官能基によって置換された(メタ)アクリル酸アルキルエステルの単独重合体;または(メタ)アクリル酸アルキルエステルと、スチレン、酢酸ビニル、α,β−モノエチレン性不飽和カルボン酸、ビニルトルエン、α−メチルスチレン、無水マレイン酸などの不飽和結合を有するビニル系モノマーとの共重合体を挙げることができる。熱可塑性アクリル樹脂としては、これらのうち1種のみを用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。熱可塑性アクリル樹脂はポリメタクリル酸メチルおよびポリメタクリル酸ブチルが単量体単位として含まれているものがより好ましい。 As the acrylic resin, homopolymers of (meth) acrylic acid alkyl esters such as methyl acrylate, ethyl acrylate, methyl methacrylate, and ethyl methacrylate; the hydrogen of the alkyl group is OH group, COOH group, NH 2 group or the like Homopolymer of (meth) acrylic acid alkyl ester substituted by a functional group; or (meth) acrylic acid alkyl ester and styrene, vinyl acetate, α, β-monoethylenically unsaturated carboxylic acid, vinyl toluene, α- Examples thereof include a copolymer with a vinyl monomer having an unsaturated bond such as methylstyrene and maleic anhydride. As a thermoplastic acrylic resin, only 1 type may be used among these and it may use it in combination of 2 or more type. More preferably, the thermoplastic acrylic resin contains polymethyl methacrylate and polybutyl methacrylate as monomer units.

脂環式オレフィンポリマーとしては、特開平05−310845号公報に記載されている環状オレフィンランダム多元共重合体、特開平05−97978号公報に記載されている水素添加重合体、特開平11−124429号公報に記載されている熱可塑性ジシクロペンタジエン系開環重合体及びその水素添加物等を挙げることができる。なお、例示したすべての熱可塑性樹脂を本発明に適用できるということではなく、同種の熱可塑性樹脂の中には下記の要件を満たすものと満たさないものとがあるため、下記要件を満たすものを適宜選択する。
本発明に用いる熱可塑性樹脂は、顔料および染料等の着色剤、蛍光増白剤、分散剤、熱安定剤、光安定剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、酸化防止剤、滑剤、および溶剤などの配合剤が適宜配合されたものであってもよい。特に滑剤や紫外線防止剤を配合させることで可撓性や耐候性が向上するので好ましい。
Examples of the alicyclic olefin polymer include a cyclic olefin random multiple copolymer described in JP-A No. 05-310845, a hydrogenated polymer described in JP-A No. 05-97978, and JP-A No. 11-124429. And thermoplastic dicyclopentadiene-based ring-opening polymers and hydrogenated products thereof. Note that not all of the illustrated thermoplastic resins can be applied to the present invention, and some of the same kind of thermoplastic resins may or may not satisfy the following requirements. Select as appropriate.
The thermoplastic resin used in the present invention includes colorants such as pigments and dyes, fluorescent brighteners, dispersants, heat stabilizers, light stabilizers, ultraviolet absorbers, antistatic agents, antioxidants, lubricants, and solvents. These compounding agents may be appropriately blended. In particular, the addition of a lubricant or an ultraviolet ray inhibitor is preferable because flexibility and weather resistance are improved.

滑剤としては、二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、硫酸バリウム、および硫酸ストロンチウムなどの無機粒子、ならびに、ポリメチルアクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリロニトリル、ポリスチレン、セルロースアセテート、およびセルロースアセテートプロピオネートなどの有機粒子が挙げられる。滑剤を構成する粒子としては、有機粒子が好ましく、この中でもポリメチルメタクリレート製の粒子が特に好ましい。   Lubricants include inorganic particles such as silicon dioxide, titanium dioxide, magnesium oxide, calcium carbonate, magnesium carbonate, barium sulfate, and strontium sulfate, as well as polymethyl acrylate, polymethyl methacrylate, polyacrylonitrile, polystyrene, cellulose acetate, and cellulose Organic particles such as acetate propionate can be mentioned. As particles constituting the lubricant, organic particles are preferable, and among these, particles made of polymethyl methacrylate are particularly preferable.

滑剤としては、ゴム状弾性体からなる弾性体粒子を用いることができる。ゴム状弾性体としては、アクリル酸エステル系ゴム状重合体、ブタジエンを主成分とするゴム状重合体、およびエチレン−酢酸ビニル共重合体等が挙げられる。アクリル酸エステル系ゴム状重合体としては、ブチルアクリレ−ト、2−エチルヘキシルアクリレ−ト等を主成分とするものがある。これらのうち、ブチルアクリレ−トを主成分としたアクリル酸エステル系重合体およびブタジエンを主成分とするゴム状重合体が好ましい。弾性体粒子は、二種の重合体が層状になったものであってもよく、その代表例としては、ブチルアクリレ−ト等のアルキルアクリレ−トとスチレンのグラフト化ゴム弾性成分と、メチルメタクリレ−ト及び又はメチルメタクリレ−トとアルキルアクリレ−トの共重合体からなる硬質樹脂層とがコア−シェル構造で層を形成している弾性体粒子が挙げられる。   As the lubricant, elastic particles made of a rubber-like elastic body can be used. Examples of the rubber-like elastic body include an acrylate-based rubber-like polymer, a rubber-like polymer containing butadiene as a main component, and an ethylene-vinyl acetate copolymer. Examples of the acrylic ester rubbery polymer include those containing butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, or the like as a main component. Of these, acrylate polymers based on butyl acrylate and rubbery polymers based on butadiene are preferred. The elastic particles may be formed by laminating two kinds of polymers. Typical examples thereof include an alkyl acrylate such as butyl acrylate, a styrene grafted rubber elastic component, and a methyl methacrylate. Examples thereof include elastic particles in which a hard resin layer made of a copolymer of a rate and / or methyl methacrylate and an alkyl acrylate forms a layer with a core-shell structure.

弾性体粒子は、熱可塑性樹脂中に分散した状態における数平均粒径が通常2.0μm以下、好ましくは0.1〜1.0μm、より好ましくは0.1〜0.5μmである。弾性体粒子の一次粒子径が小さくても、凝集などによって形成される二次粒子の数平均粒径が大きいと、保護層はヘイズ(曇り度)が高くなり、光線透過率が低くなるので、表示画面用には適さなくなる。また、数平均粒径が小さくなりすぎると可撓性が低下する傾向にある。
本発明において、弾性体粒子の波長380nm〜780nmにおける屈折率n(λ)は、マトリックスとなる熱可塑性樹脂の波長380nm〜780nmにおける屈折率n(λ)との間に、式〔2〕の関係を満たすことが好ましい。
|n(λ)−n(λ)| ≦ 0.05 式〔2〕
特に、|n(λ)−n(λ)|≦0.045であることがより好ましい。なお、n(λ)及びn(λ)は、波長λにおける主屈折率の平均値である。|n(λ)−n(λ)|の値が上記値を超える場合には、界面での屈折率差によって生じる界面反射により、透明性を損なうおそれがある。
The elastic particles generally have a number average particle size of 2.0 μm or less, preferably 0.1 to 1.0 μm, and more preferably 0.1 to 0.5 μm when dispersed in a thermoplastic resin. Even if the primary particle size of the elastic particles is small, if the number average particle size of the secondary particles formed by aggregation or the like is large, the protective layer has a high haze (cloudiness), and the light transmittance is low. Not suitable for display screens. Moreover, when the number average particle size becomes too small, the flexibility tends to decrease.
In the present invention, the refractive index n p (λ) of the elastic particles at a wavelength of 380 nm to 780 nm is between the refractive index n r (λ) of the thermoplastic resin serving as the matrix at a wavelength of 380 nm to 780 nm. It is preferable to satisfy the relationship.
| N p (λ) −n r (λ) | ≦ 0.05 Formula [2]
In particular, it is more preferable that | n p (λ) −n r (λ) | ≦ 0.045. Note that n p (λ) and n r (λ) are average values of the main refractive indices at the wavelength λ. When the value of | n p (λ) −n r (λ) | exceeds the above value, transparency may be impaired due to interface reflection caused by a difference in refractive index at the interface.

紫外線吸収剤としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、アクリロニトリル系紫外線吸収剤、トリアジン系化合物、ニッケル錯塩系化合物、無機粉体等の公知のものが挙げられる。これらの中でも、2,2’−メチレンビス(4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノール)、2−(2’−ヒドロキシ−3’−tert−ブチル−5’−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2,4−ジ−tert−ブチル−6−(5−クロロベンゾトリアゾール−2−イル)フェノール、2,2’−ジヒドロキシ−4,4’−ジメトキシベンゾフェノン、2,2’,4,4’−テトラヒドロキシベンゾフェノン等が好適である。これらの中でも、特に2,2’−メチレンビス(4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノール)が好ましい。   Examples of ultraviolet absorbers include oxybenzophenone compounds, benzotriazole compounds, salicylic acid ester compounds, benzophenone ultraviolet absorbers, benzotriazole ultraviolet absorbers, acrylonitrile ultraviolet absorbers, triazine compounds, nickel complex compounds. And publicly known materials such as inorganic powders. Among these, 2,2′-methylenebis (4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) -6- (2H-benzotriazol-2-yl) phenol), 2- (2′-hydroxy- 3'-tert-butyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2,4-di-tert-butyl-6- (5-chlorobenzotriazol-2-yl) phenol, 2,2'- Dihydroxy-4,4′-dimethoxybenzophenone, 2,2 ′, 4,4′-tetrahydroxybenzophenone and the like are preferable. Among these, 2,2'-methylenebis (4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) -6- (2H-benzotriazol-2-yl) phenol) is particularly preferable.

本発明に用いる熱可塑性樹脂は、1mm厚における、400〜700nmの可視領域の光の透過率が80%以上のものが好ましく、85%以上のものがより好ましく、90%以上のものがさらに好ましい。熱可塑性樹脂は、透明性の観点から非晶性の樹脂が好ましい。また、熱可塑性樹脂は、ガラス転移温度が60〜200℃であるものが好ましく、100〜180℃であるものがより好ましい。なお、ガラス転移温度は、示差走査熱量分析(DSC)により測定できる。   The thermoplastic resin used in the present invention preferably has a light transmittance in the visible region of 400 to 700 nm at a thickness of 1 mm of 80% or more, more preferably 85% or more, and even more preferably 90% or more. . The thermoplastic resin is preferably an amorphous resin from the viewpoint of transparency. In addition, the thermoplastic resin preferably has a glass transition temperature of 60 to 200 ° C, more preferably 100 to 180 ° C. The glass transition temperature can be measured by differential scanning calorimetry (DSC).

本発明に用いる熱可塑性樹脂は、メルトフローレートの値が10〜100g/10分(280℃、荷重2.16kgf)の範囲に入る物から選択するのが好ましい。また、各層を構成する熱可塑性樹脂のメルトフローレートの値は同程度であることが好ましい。具体的には隣接する層を構成する熱可塑性樹脂のメルトフローレート値の差が、0〜30g/10分(280℃、荷重2.16kgf)であることが好ましい。   The thermoplastic resin used in the present invention is preferably selected from those having a melt flow rate value in the range of 10 to 100 g / 10 min (280 ° C., load 2.16 kgf). Moreover, it is preferable that the value of the melt flow rate of the thermoplastic resin which comprises each layer is comparable. Specifically, it is preferable that the difference in the melt flow rate value of the thermoplastic resin constituting the adjacent layers is 0 to 30 g / 10 minutes (280 ° C., load 2.16 kgf).

また、基材フィルムに含まれる揮発性成分の含有量は少ないことが好ましい。揮発性成分の含有量を減らすための手段としては、(1)透明樹脂自体の揮発性成分量を少なくする;(2)保護層を成形する前に用いる透明樹脂を予備乾燥する;などの手段が挙げられる。予備乾燥は、例えば原料をペレットなどの形態にして、熱風乾燥機などで行われる。乾燥温度は100℃以上が好ましく、乾燥時間は2時間以上が好ましい。予備乾燥を行うことにより、基材フィルム中の揮発成分量を低減させる事ができ、さらに押し出す透明樹脂の発泡を防ぐことができる。   Moreover, it is preferable that there is little content of the volatile component contained in a base film. Means for reducing the content of volatile components include: (1) reducing the amount of volatile components in the transparent resin itself; (2) pre-drying the transparent resin used before forming the protective layer; Is mentioned. The preliminary drying is performed with a hot air dryer or the like, for example, in the form of pellets or the like. The drying temperature is preferably 100 ° C. or more, and the drying time is preferably 2 hours or more. By performing preliminary drying, the amount of volatile components in the base film can be reduced, and foaming of the transparent resin to be extruded can be prevented.

基材フィルムは、第i番目(iは1〜k−1の整数)の熱可塑性樹脂層の380nm〜780nmの範囲の波長λにおける屈折率n(λ)が、第i+1番目の熱可塑性樹脂層の380nm〜780nmの範囲の波長λにおける屈折率ni+1(λ)と、式〔1〕の関係を有する。
|n(λ)−ni+1(λ)|≦0.05 式〔1〕
ただし、iは1〜k−1の整数を表す。特に、保護層は、|n(λ)−ni+1(λ)|≦0.045の関係を満たすことがより好ましい。
なお、n(λ)及びni+1(λ)は、波長λにおける主屈折率の平均値である。|n(λ)−ni+1(λ)|の値が、i=1〜k−1の一部または全部の値に対して上記値を超える場合には、界面での屈折率差によって生じる界面反射により、基材フィルム表面に干渉縞が生じるおそれがある。なお、相互に隣接する第i番目の熱可塑性樹脂層と第i+1番目の熱可塑性樹脂層とは直接に接していてもよいし、後述する接着層を介して接していてもよい。
The base film has a refractive index n i (λ) at a wavelength λ in the range of 380 nm to 780 nm of the i-th (i is an integer of 1 to k−1) thermoplastic resin layer. The refractive index n i + 1 (λ) at the wavelength λ in the range of 380 nm to 780 nm of the layer has the relationship of the formula [1].
| N i (λ) −n i + 1 (λ) | ≦ 0.05 Formula [1]
However, i represents the integer of 1-k-1. In particular, the protective layer more preferably satisfies the relationship | n i (λ) −n i + 1 (λ) | ≦ 0.045.
Note that n i (λ) and n i + 1 (λ) are average values of the main refractive indices at the wavelength λ. When the value of | n i (λ) −n i + 1 (λ) | exceeds the above value with respect to a part or all of i = 1 to k−1, it is caused by a difference in refractive index at the interface. Interference fringes may occur on the surface of the base film due to the interface reflection. Note that the i-th thermoplastic resin layer and the (i + 1) -th thermoplastic resin layer adjacent to each other may be in direct contact with each other or may be in contact with each other through an adhesive layer described later.

基材フィルムは、積層された熱可塑性樹脂層のうち少なくとも1層の吸水率を0.5%以下とすることができ、さらには0.1%以下とすることができる。吸水率が低いものを保護層に用いることにより偏光板の耐久性を高めることができる。熱可塑性樹脂層の吸水率は、JIS K 7209により求めることができる。   The base film can have a water absorption rate of at least one layer of the laminated thermoplastic resin layers of 0.5% or less, and further 0.1% or less. The durability of the polarizing plate can be increased by using a low water absorption rate for the protective layer. The water absorption rate of the thermoplastic resin layer can be determined according to JIS K 7209.

基材フィルムを構成する各熱可塑性樹脂層のそれぞれの厚さは特に制限されないが、第k番目の熱可塑性樹脂層の厚さは、通常5〜100μmであり、好ましくは10μm以上であり、さらに好ましくは10〜50μmである。第1番目の熱可塑性樹脂層の厚さは、通常5〜100μmであり、好ましくは10〜50μmである。この際、第k番目の熱可塑性樹脂層の厚さと、第1番目の熱可塑性樹脂層の厚さとがほぼ等しいことが好ましい。具体的には、第1番目の熱可塑性樹脂層の厚さと第k番目の熱可塑性樹脂層の厚さとの差の絶対値が、20μm以下であることが好ましく、10μm以下であることがより好ましい。   The thickness of each thermoplastic resin layer constituting the base film is not particularly limited, but the thickness of the kth thermoplastic resin layer is usually 5 to 100 μm, preferably 10 μm or more, and Preferably it is 10-50 micrometers. The thickness of the 1st thermoplastic resin layer is 5-100 micrometers normally, Preferably it is 10-50 micrometers. At this time, it is preferable that the thickness of the kth thermoplastic resin layer is substantially equal to the thickness of the first thermoplastic resin layer. Specifically, the absolute value of the difference between the thickness of the first thermoplastic resin layer and the thickness of the kth thermoplastic resin layer is preferably 20 μm or less, and more preferably 10 μm or less. .

また、第1番目の熱可塑性樹脂層と第k番目の熱可塑性樹脂層との間に、必要に応じて設けられる中間の熱可塑性樹脂層の厚さは、通常5〜100μmであり、好ましくは10〜50μmである。中間の熱可塑性樹脂層の厚さと、第k番目の熱可塑性樹脂層の厚さまたは第1番目の熱可塑性樹脂層の厚さとの比(中間の層の厚さ:第1番目の層または第k番目の層の厚さ)は、特に制限されないが、5:1〜1:5であることが好ましい。
このような基材フィルム全体の厚さは、通常20〜200μmであり、好ましくは40〜100μmである。
Moreover, the thickness of the intermediate thermoplastic resin layer provided as needed between the first thermoplastic resin layer and the kth thermoplastic resin layer is usually 5 to 100 μm, preferably 10-50 μm. The ratio of the thickness of the intermediate thermoplastic resin layer to the thickness of the kth thermoplastic resin layer or the thickness of the first thermoplastic resin layer (intermediate layer thickness: first layer or first layer The thickness of the kth layer is not particularly limited, but is preferably 5: 1 to 1: 5.
The thickness of such a base film whole is 20-200 micrometers normally, Preferably it is 40-100 micrometers.

第1番目の熱可塑性樹脂層を形成する熱可塑性樹脂は、前述と同様のアクリル樹脂、脂環式オレフィンポリマー、及びポリカーボネート樹脂から選択したものが好ましく、特にポリメチルメタクリレート樹脂などのアクリル樹脂から選択したものが好ましい。   The thermoplastic resin forming the first thermoplastic resin layer is preferably selected from the same acrylic resin, alicyclic olefin polymer, and polycarbonate resin as described above, particularly selected from acrylic resins such as polymethyl methacrylate resin. Is preferred.

第k番目の熱可塑性樹脂層を形成する熱可塑性樹脂は、硬いものが好ましい。具体的には鉛筆硬度(JIS K 5600−5−4、但し試験荷重は500g)で、Hより硬いものが好ましい。第k番目の熱可塑性樹脂層を形成する熱可塑性樹脂として、アクリル樹脂、スチレン樹脂から選択したものが好ましく、最も好ましいものはポリメチルメタクリレート樹脂などのアクリル樹脂から選択されるものである。   The thermoplastic resin that forms the kth thermoplastic resin layer is preferably hard. Specifically, a pencil hardness (JIS K 5600-5-4, where the test load is 500 g) and harder than H is preferable. The thermoplastic resin that forms the kth thermoplastic resin layer is preferably selected from acrylic resins and styrene resins, and most preferably selected from acrylic resins such as polymethyl methacrylate resin.

また、光学フィルムを偏光子の保護層として用いた場合に、偏光板の反り、湾曲、丸まりなどを防ぐために、第k番目の熱可塑性樹脂層を形成する熱可塑性樹脂と、第1番目の熱可塑性樹脂層を形成する熱可塑性樹脂とは、同じ種類の熱可塑性樹脂から選択することが好ましい。   In addition, when an optical film is used as a protective layer for a polarizer, a thermoplastic resin for forming the kth thermoplastic resin layer and the first heat are used to prevent warping, bending, rounding, etc. of the polarizing plate. The thermoplastic resin forming the plastic resin layer is preferably selected from the same kind of thermoplastic resin.

基材フィルムの透湿度は、好ましくは5g・m−2day−1以上、400g・m−2day−1以下であり、より好ましくは10g・m−2day−1以上、200g・m−2day−1以下である。透湿度は、40℃、92%RHの環境下で、24時間放置する試験条件で、JIS Z 0208に記載のカップ法により測定できる。
基材フィルムの透湿度を上記範囲にすることにより、高温・高湿環境下においても耐久性に優れた偏光板を得ることが可能となる。
The moisture permeability of the base film is preferably 5 g · m −2 day −1 or more and 400 g · m −2 day −1 or less, more preferably 10 g · m −2 day −1 or more, 200 g · m −2. day −1 or less. The moisture permeability can be measured by the cup method described in JIS Z 0208 under the test conditions for 24 hours in an environment of 40 ° C. and 92% RH.
By setting the moisture permeability of the base film to the above range, it is possible to obtain a polarizing plate excellent in durability even in a high temperature and high humidity environment.

また基材フィルムは、第i番目の熱可塑性樹脂層の引張弾性率をA、第i+1番目の熱可塑性樹脂層の引張弾性率をAi+1とした際に、iのすべての値に対して、|Ai+1−A|≧0.5GPaとすることができる。このような構成とすることにより、干渉縞等による光学性能の低下を防止しつつ、強度および可撓性を高めることができる。第j番目(jは1〜kの整数)の熱可塑性樹脂層の引張弾性率Aが2.8GPa以上とすることができる。また、第k番目の熱可塑性樹脂層の引張弾性率Aが3.0GPa以上とすることができる。第k番目の熱可塑性樹脂層の引張弾性率Aは、これに隣接する第k−1番目の熱可塑性樹脂層の引張弾性率Ak−1よりも大きいこととすることができる。また、第1番目の熱可塑性樹脂層の引張弾性率Aが3.0GPa以上とすることができる。 Further, the base film has a tensile modulus of elasticity of the i-th thermoplastic resin layer as A i and a tensile modulus of elasticity of the i + 1-th thermoplastic resin layer as A i + 1 . , | A i + 1 −A i | ≧ 0.5 GPa. With such a configuration, strength and flexibility can be increased while preventing a decrease in optical performance due to interference fringes or the like. The tensile modulus A j of the j-th (j is an integer of 1 to k) thermoplastic resin layer may be 2.8 GPa or more. In addition, the tensile elastic modulus Ak of the kth thermoplastic resin layer can be 3.0 GPa or more. Tensile modulus A k of the k th thermoplastic resin layer may be a larger than the tensile modulus A k-1 of the k-1 th thermoplastic resin layer adjacent thereto. Further, the tensile elastic modulus A1 of the first thermoplastic resin layer can be 3.0 GPa or more.

また、熱可塑性樹脂層の総積層数は、7層以下であることが好ましく、5層以下であることがより好ましい。このような積層数より多い場合には、各層の面状や厚さの制御が困難になるおそれがある。   In addition, the total number of laminated thermoplastic resin layers is preferably 7 layers or less, and more preferably 5 layers or less. When the number is larger than the number of layers, it may be difficult to control the surface shape and thickness of each layer.

また、基材フィルムには、第k番目の熱可塑性樹脂層の表面に線状凹部や線状凸部が形成されず、表面が平らであることが好ましい。仮に、線状凹部や線状凸部が形成されていたとしても、深さが50nm未満、または、幅が500nmより大きい線状凹部や、高さが50nm未満、または、幅が500nmより大きい線状凸部であることが好ましい。より好ましくは、深さが30nm未満、または、幅が700nmの線状凹部であり、高さが30nm未満、または、幅が700nmより大きい線状凸部である。さらに、第1番目の熱可塑性樹脂層の表面にも、第k番目の熱可塑性樹脂と同様に、上述した線状凹部や線状凸部が形成されないことが好ましい。線状凹部や線状凸部が形成されないことにより、光漏れや光干渉などを防ぐことができる。   In the base film, it is preferable that the surface of the kth thermoplastic resin layer is not formed with linear concave portions or linear convex portions, and the surface is flat. Even if linear concave portions or linear convex portions are formed, linear concave portions having a depth of less than 50 nm or a width of more than 500 nm, or lines having a height of less than 50 nm or a width of more than 500 nm. It is preferable that it is a convex part. More preferably, it is a linear concave portion having a depth of less than 30 nm or a width of 700 nm, and a linear convex portion having a height of less than 30 nm or a width of greater than 700 nm. Further, it is preferable that the above-described linear concave portions and linear convex portions are not formed on the surface of the first thermoplastic resin layer as well as the kth thermoplastic resin. By not forming the linear concave portion or the linear convex portion, it is possible to prevent light leakage or optical interference.

このような大きさの線状凸部及び線状凹部を有しない熱可塑性樹脂層は、例えば、Tダイ式の押出成形法において、ダイのリップ部の表面粗さを小さくする、リップ先端部にクロム、ニッケル、チタンなどのメッキを施す、リップ先端部にセラミックスを溶射する、リップの内面にPVD(Phisical Vapor Deposition)法などによりTiN、TiAlN、TiC、CrN、DLC(ダイアモンド状カーボン)などの被膜を形成する、ダイから押し出された直後の溶融樹脂周りの温度分布、空気流れなどを均一に調整する、熱可塑性樹脂層を形成する樹脂としてメルトフローレート値が同程度のものを選択する、などの手段を行うことによって、またキャスト成形法において、表面粗さが小さいキャスト支持フィルムを用いる、塗布機の表面粗さを小さくする、さらに塗布層の乾燥時の温度分布、乾燥温度、乾燥時間を調整する、などの手段を行うことによって、得ることができる。   The thermoplastic resin layer having no linear convex part and linear concave part having such a size is formed, for example, in a lip tip part which reduces the surface roughness of the lip part of the die in a T-die type extrusion molding method. Coating with chromium, nickel, titanium, etc., spraying ceramics on the tip of the lip, coating of TiN, TiAlN, TiC, CrN, DLC (diamond-like carbon) on the inner surface of the lip by the PVD (Physical Vapor Deposition) method, etc. The temperature distribution around the molten resin immediately after being extruded from the die, the air flow, etc. are uniformly adjusted, and the resin that forms the thermoplastic resin layer is selected to have the same melt flow rate value, etc. Cast support film having a small surface roughness in the cast molding method. Can be obtained by reducing the surface roughness of the coating machine, adjusting the temperature distribution during drying of the coating layer, the drying temperature, and the drying time.

線状凹部や線状凸部の大きさを前記の範囲にするためのその他の手段としては、Tダイ式の押出成形法においては、ダイリップに付着しているもの(例えば、ヤケやごみ)を取り除く、ダイリップの離型性をあげる、ダイリップのぬれ性を全面にわたり均一にする、樹脂粉を減らす、樹脂ペレットの溶存酸素量を少なくする、溶融押出し機内にポリマーフィルターを設置するなどの方法が挙げられる。   As another means for setting the size of the linear concave portion or the linear convex portion within the above range, in the T-die type extrusion molding method, the one attached to the die lip (for example, burns or dust) is used. Examples include removing, improving die lip releasability, making die lip wettability uniform over the entire surface, reducing resin powder, reducing the amount of dissolved oxygen in resin pellets, and installing a polymer filter in the melt extruder. It is done.

基材フィルムは、複数の熱可塑性樹脂を共押出成形して得られたものである。共押出成形法によれば、複雑な工程(例えば、乾燥工程や塗工工程)が不要なので、ゴミなどの外部異物の混入が少なく光学特性に優れるフィルムを提供できる。   The base film is obtained by coextrusion molding of a plurality of thermoplastic resins. According to the co-extrusion molding method, a complicated process (for example, a drying process or a coating process) is not required, so that a film with less external foreign matters such as dusts and excellent optical characteristics can be provided.

<表面に凹凸が形成されたフィルム>
上記基材フィルムの少なくとも一方の面に圧力を印加して、表面に凹凸が形成されたフィルムを得る方法としては、基材フィルムに対して、凹凸を有する賦型ロールを用いたニップ成形法や、凹凸を有するフィルムを用いたサンドイッチラミネート法、ブラスト法などを適用する方法が挙げられる。
中でも凹凸を有する賦型ロールを用いたニップ形成法が好ましく、鏡面ロールと凹凸を有する賦型ロールを用いて、基材フィルムを挟圧することが好ましい。それぞれのロールの表面材質は、金属、ゴム、樹脂などが挙げられる。これらは賦型の転写状況から選ばれるが、賦型ロールの硬さは、鏡面ロールの硬さ以上であることが好ましい。また、前記条件を満たすために、例えば、鏡面ロール上に別系統のWEBを導入し、鏡面ロールと同等の表面性を持つ賦型ロールより軟らかい樹脂フィルムなどを介して狭圧させても良い。
<Film with irregularities on the surface>
As a method of applying a pressure to at least one surface of the substrate film to obtain a film having irregularities formed on the surface, a nip molding method using a shaping roll having irregularities on the substrate film, And a method of applying a sandwich lamination method using a film having irregularities, a blasting method, or the like.
Among them, a nip forming method using a shaping roll having irregularities is preferable, and it is preferable to sandwich a substrate film using a mirror roll and a shaping roll having irregularities. Examples of the surface material of each roll include metal, rubber, and resin. These are selected based on the transfer state of the forming, but the hardness of the forming roll is preferably equal to or higher than the hardness of the mirror surface roll. Further, in order to satisfy the above condition, for example, another system of WEB may be introduced on the mirror roll, and the pressure may be narrowed through a resin film that is softer than the shaping roll having the same surface property as the mirror roll.

上記鏡面ロールと凹凸を有する賦型ロールは、それぞれに温度調節ができるものであるのが好ましい。鏡面ロールの温度は、40℃以上150℃以下で、かつ、凹凸を有する賦型ロールの温度は、100℃以上200℃以下となっている。鏡面ロールの温度は、60℃以上110℃以下が好ましく、凹凸を有する賦型ロールの温度は、110℃以上180℃以下が好ましい。   It is preferable that the mirror-shaped roll and the shaping roll having projections and depressions can be adjusted in temperature. The temperature of the mirror roll is 40 ° C. or higher and 150 ° C. or lower, and the temperature of the shaping roll having irregularities is 100 ° C. or higher and 200 ° C. or lower. The temperature of the mirror roll is preferably 60 ° C. or higher and 110 ° C. or lower, and the temperature of the shaping roll having irregularities is preferably 110 ° C. or higher and 180 ° C. or lower.

賦型ロールの表面形状は、ランダムに並んでいることが好ましく、表面の算術平均粗さ(Ra)が0.01μm以上2.0μm以下で、かつ、その凹凸の平均周期(Sm)が10μm以上100μm以下となっている。算術平均粗さは、0.1μm以上1.5μm以下が好ましく、平均周期は30μm以上70μm以下が好ましい。   The surface shape of the shaping roll is preferably arranged at random, the arithmetic average roughness (Ra) of the surface is 0.01 μm or more and 2.0 μm or less, and the average period (Sm) of the irregularities is 10 μm or more. It is 100 μm or less. The arithmetic average roughness is preferably from 0.1 μm to 1.5 μm, and the average period is preferably from 30 μm to 70 μm.

上記凹凸が形成されたフィルムの算術平均表面粗さ(Ra)が0.05μm以上0.5μm以下で、かつ、その凹凸の平均周期(Sm)が10μm以上100μm以下となっている。算術平均粗さは、0.1μm以上0.3μm以下が好ましく、平均周期は30μm以上70μm以下が好ましい。
なお、本発明においてロール及びフィルムの算術平均表面粗さと平均周期は、JIS B 0601:2001の規定に従い測定される値である。
The arithmetic average surface roughness (Ra) of the film on which the unevenness is formed is 0.05 μm or more and 0.5 μm or less, and the average period (Sm) of the unevenness is 10 μm or more and 100 μm or less. The arithmetic average roughness is preferably from 0.1 μm to 0.3 μm, and the average period is preferably from 30 μm to 70 μm.
In addition, in this invention, the arithmetic mean surface roughness and average period of a roll and a film are the values measured according to prescription | regulation of JISB0601: 2001.

表面に凹凸が形成された基材フィルムは、ヘイズが1%以上50%未満となっている。ヘイズは3%以上40%未満が好ましい。   The base film having irregularities formed on the surface has a haze of 1% or more and less than 50%. The haze is preferably 3% or more and less than 40%.

表面に凹凸が形成された基材フィルムには、その片面又は両面に表面改質処理が施してから機能層を積層することができる。表面改質処理を行うことにより、低屈折率層や後述するその他の層との密着性を向上させることができる。表面改質処理としては、エネルギー線照射処理や薬品処理等が挙げられる。   A functional layer can be laminated | stacked, after performing the surface modification process to the single side | surface or both surfaces in the base film in which the unevenness | corrugation was formed in the surface. By performing the surface modification treatment, adhesion to the low refractive index layer and other layers described later can be improved. Examples of the surface modification treatment include energy beam irradiation treatment and chemical treatment.

エネルギー線照射処理としては、コロナ放電処理、プラズマ処理、電子線照射処理、紫外線照射処理等が挙げられ、処理効率の点等から、コロナ放電処理、プラズマ処理が好ましく、コロナ放電処理が特に好ましい。薬品処理としては、重クロム酸カリウム溶液、濃硫酸等の酸化剤水溶液中に浸漬し、その後充分に水で洗浄する方法が挙げられる。薬品処理では、浸漬した状態で振盪すると効果的であるが、長期間処理すると表面が溶解したり、透明性が低下したりするといった問題があり、用いる薬品の反応性、濃度等に応じて、処理時間等を調整する必要がある。   Examples of the energy ray irradiation treatment include corona discharge treatment, plasma treatment, electron beam irradiation treatment, ultraviolet ray irradiation treatment, and the like. From the viewpoint of treatment efficiency, corona discharge treatment and plasma treatment are preferred, and corona discharge treatment is particularly preferred. Examples of the chemical treatment include a method of immersing in an aqueous oxidizing agent solution such as a potassium dichromate solution or concentrated sulfuric acid and then thoroughly washing with water. In chemical treatment, it is effective to shake in an immersed state, but there is a problem that the surface dissolves or transparency decreases when treated for a long time, depending on the reactivity, concentration, etc. of the chemical used, It is necessary to adjust the processing time.

このようにして表面に凹凸を有するフィルムの、凹凸が形成された面上にハードコート層、反射防止層、防汚層などの機能層が形成され、本発明の光学フィルムとなる。   In this way, functional layers such as a hard coat layer, an antireflection layer, and an antifouling layer are formed on the surface of the film having unevenness on the surface where the unevenness is formed, and the optical film of the present invention is obtained.

<機能層>
(ハードコート層)
ハードコート層は、本発明の光学フィルムの表面硬度を高める機能を有する層であり、JIS K5600−5−4で示す鉛筆硬度試験(試験板はガラス板を用いる)でHまたはそれより硬い硬度を示すことが好ましい。このようなハードコート層が設けられた光学フィルムは、その鉛筆硬度が4Hまたはそれより硬い硬度になることが好ましい。ハードコート層を形成する材料(ハードコート材料)としては、熱や光で硬化する材料であることが好ましく、例えば、有機シリコーン系、メラミン系、エポキシ系、アクリル系、ウレタンアクリレート系などの有機ハードコート材料;二酸化ケイ素などの無機ハードコート材料;などを挙げることができる。これらの中でも、接着力が良好であり、生産性に優れる観点から、ウレタンアクリレート系および多官能アクリレート系のハードコート材料が好ましい。
<Functional layer>
(Hard coat layer)
The hard coat layer is a layer having a function of increasing the surface hardness of the optical film of the present invention, and has a hardness of H or higher in a pencil hardness test (test plate uses a glass plate) shown in JIS K5600-5-4. It is preferable to show. The optical film provided with such a hard coat layer preferably has a pencil hardness of 4H or higher. The material for forming the hard coat layer (hard coat material) is preferably a material that is cured by heat or light. For example, organic hard such as organic silicone, melamine, epoxy, acrylic, urethane acrylate, etc. Coating materials; inorganic hard coat materials such as silicon dioxide; and the like. Among these, urethane acrylate-based and polyfunctional acrylate-based hard coat materials are preferable from the viewpoint of good adhesive strength and excellent productivity.

ハードコート層は、所望により、屈折率の調整、曲げ弾性率の向上、体積収縮率の安定化、並びに耐熱性、帯電防止性、および防眩性などの向上を図る目的で、各種フィラーを含有できる。また、ハードコート層は、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、帯電防止剤、レベリング剤、および消泡剤などの添加剤を含有できる。   The hard coat layer contains various fillers for the purpose of adjusting the refractive index, improving the flexural modulus, stabilizing the volume shrinkage, and improving heat resistance, antistatic properties, and antiglare properties, as desired. it can. Further, the hard coat layer can contain additives such as an antioxidant, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, an antistatic agent, a leveling agent, and an antifoaming agent.

(反射防止層)
反射防止層は、外光の移りこみを防止するための層であり、光学フィルムの表面(外部に露出する面)に直接またはハードコート層等の他の層を介して積層される。反射防止層が設けられた光学フィルムは、入射角5°、波長430nm〜700nmにおける反射率が2.0%以下であることが好ましく、波長550nmにおける反射率が1.0%以下であることが好ましい。
(Antireflection layer)
The antireflection layer is a layer for preventing the transfer of external light, and is laminated on the surface of the optical film (a surface exposed to the outside) directly or via another layer such as a hard coat layer. The optical film provided with the antireflection layer preferably has an incident angle of 5 °, a reflectance at a wavelength of 430 nm to 700 nm of 2.0% or less, and a reflectance at a wavelength of 550 nm of 1.0% or less. preferable.

反射防止層の厚さは、0.01μm〜1μmが好ましく、0.02μm〜0.5μmがより好ましい。反射防止層としては、当該反射防止層が積層される層(保護層やハードコート層など)の屈折率よりも小さい屈折率、具体的には1.30〜1.45の屈折率を有する低屈折率層からなるもの;無機化合物からなる薄膜の低屈折率層と無機化合物からなる薄膜の高屈折率層とを交互に複数積層したもの、などを挙げることができる。   The thickness of the antireflection layer is preferably 0.01 μm to 1 μm, more preferably 0.02 μm to 0.5 μm. The antireflection layer has a refractive index smaller than the refractive index of a layer (such as a protective layer or a hard coat layer) on which the antireflection layer is laminated, specifically a low refractive index of 1.30 to 1.45. Examples thereof include those composed of a refractive index layer; those obtained by alternately laminating a plurality of low refractive index layers of a thin film made of an inorganic compound and high refractive index layers of a thin film made of an inorganic compound.

前記低屈折率層を形成する材料は、屈折率の低いものであれば特に制限されない。例えば、紫外線硬化型アクリル樹脂等の樹脂材料、樹脂中にコロイダルシリカ等の無機微粒子を分散させたハイブリッド材料、テトラエトキシシラン等の金属アルコキシドを用いたゾル−ゲル材料等を挙げることができる。これらの低屈折率層を形成する材料は、重合済みのポリマーであってもよいし、前駆体となるモノマーやオリゴマーであってもよい。また、それぞれの材料は、防汚染性を付与するために、フッ素基を含有する化合物を含むことが好ましい。   The material for forming the low refractive index layer is not particularly limited as long as it has a low refractive index. Examples thereof include a resin material such as an ultraviolet curable acrylic resin, a hybrid material in which inorganic fine particles such as colloidal silica are dispersed in the resin, and a sol-gel material using a metal alkoxide such as tetraethoxysilane. The material for forming these low refractive index layers may be a polymerized polymer, or may be a monomer or oligomer serving as a precursor. Moreover, it is preferable that each material contains the compound containing a fluorine group, in order to provide antifouling property.

前記のゾル−ゲル材料としては、フッ素基を含有するゾル−ゲル材料が好適に用いられる。フッ素基を含有するゾル−ゲル材料としては、パーフルオロアルキルアルコキシシランを例示できる。パーフルオロアルキルアルコキシシランは、たとえば、CF(CFCHCHSi(OR)(式中、Rは、炭素数1〜5個のアルキル基を示し、nは0〜12の整数を示す)で表される化合物である。具体的には、パーフルオロアルキルアルコキシシランとしては、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン、トリデカフルロ
オクチルトリエトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン、およびヘプタデカフルオロデシルトリエトキシシラン等を挙げることができる。この中でも、前記nが2〜6の化合物が好ましい。
As the sol-gel material, a sol-gel material containing a fluorine group is preferably used. Examples of the sol-gel material containing a fluorine group include perfluoroalkylalkoxysilane. The perfluoroalkylalkoxysilane is, for example, CF 3 (CF 2 ) n CH 2 CH 2 Si (OR) 3 (wherein R represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and n is 0 to 12 A compound represented by an integer). Specifically, perfluoroalkylalkoxysilanes include trifluoropropyltrimethoxysilane, trifluoropropyltriethoxysilane, tridecafluorooctyltrimethoxysilane, tridecafluorooctyltriethoxysilane, heptadecafluorodecyltrimethoxy. Examples include silane and heptadecafluorodecyltriethoxysilane. Among these, the compound whose said n is 2-6 is preferable.

低屈折率層は、熱硬化性含フッ素化合物または電離放射線硬化型含フッ素化合物の硬化物からなるものとすることができる。前記硬化物は、その動摩擦係数が0.03〜0.15であることが好ましく、水に対する接触角が90〜120度であることが好ましい。硬化性含フッ素化合物としては、パーフルオロアルキル基含有シラン化合物(例えば(ヘプタデカフルオロ−1,1,2,2−テトラデシル)トリエトキシシラン)等の他、架橋性官能基を有する含フッ素重合体を挙げることができる。   The low refractive index layer can be made of a cured product of a thermosetting fluorine-containing compound or an ionizing radiation curable fluorine-containing compound. The cured product preferably has a dynamic friction coefficient of 0.03 to 0.15, and a contact angle with water of 90 to 120 degrees. Examples of the curable fluorine-containing compound include a perfluoroalkyl group-containing silane compound (for example, (heptadecafluoro-1,1,2,2-tetradecyl) triethoxysilane) and the like, and a fluorine-containing polymer having a crosslinkable functional group. Can be mentioned.

架橋性官能基を有する含フッ素重合体はフッ素含有モノマーと架橋性官能基を有するモノマーとを共重合することによって、又はフッ素含有モノマーと官能基を有するモノマーとを共重合し次いで重合体中の官能基に架橋性官能基を有する化合物を付加させることによって得ることができる。   The fluorine-containing polymer having a crosslinkable functional group is obtained by copolymerizing a fluorine-containing monomer and a monomer having a crosslinkable functional group, or by copolymerizing a fluorine-containing monomer and a monomer having a functional group, and then in the polymer. It can be obtained by adding a compound having a crosslinkable functional group to the functional group.

含フッ素モノマーとしては、フルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール等のフルオロオレフィン類;「ビスコート6FM」(大阪有機化学社製)、「M−2020」(ダイキン社製)等の(メタ)アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられる。   Examples of the fluorine-containing monomer include fluoroolefins such as fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoroethylene, hexafluoropropylene, perfluoro-2,2-dimethyl-1,3-dioxole; “Biscoat 6FM” ( (Organic Organic Chemicals Co., Ltd.), “M-2020” (Daikin Co., Ltd.) and other (meth) acrylic acid partial or fully fluorinated alkyl ester derivatives, and fully or partially fluorinated vinyl ethers.

架橋性官能基を有するモノマー又は架橋性官能基を有する化合物としては、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレートなどのグリシジル基を有するモノマー;アクリル酸、メタクリル酸などのカルボキシル基を有するモノマー;ヒドロキシアルキルアクリレート、ヒドロキシアルキルメタクリレートなどのヒドロキシル基を有するモノマー;メチロールアクリレート、メチロールメタクリレート;アリルアクリレート、アリルメタクリレートなどのビニル基を有するモノマー;アミノ基を有するモノマー;スルホン酸基を有するモノマー;等を挙げることができる。   Monomers having a crosslinkable functional group or compounds having a crosslinkable functional group include monomers having a glycidyl group such as glycidyl acrylate and glycidyl methacrylate; monomers having a carboxyl group such as acrylic acid and methacrylic acid; hydroxyalkyl acrylate and hydroxyalkyl Monomers having a hydroxyl group such as methacrylate; methylol acrylate, methylol methacrylate; monomers having a vinyl group such as allyl acrylate and allyl methacrylate; monomers having an amino group; monomers having a sulfonic acid group;

低屈折率層を形成するための材料としては、耐傷性を向上できる点で、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、フッ化マグネシウム等の微粒子をアルコール溶媒に分散したゾルが含まれたものを用いることができる。前記微粒子は、反射防止性の観点から、屈折率が低いものほど好ましい。このような微粒子は、空隙を有するものであってもよく、特にシリカ中空微粒子が好ましい。中空微粒子の平均粒径は、5nm〜2,000nmが好ましく、20nm〜100nmがより好ましい。ここで、平均粒径は、透過型電子顕微鏡観察によって求められる数平均粒径である。   As a material for forming the low refractive index layer, a material containing a sol in which fine particles such as silica, alumina, titania, zirconia, magnesium fluoride and the like are dispersed in an alcohol solvent is used because it can improve scratch resistance. Can do. From the viewpoint of antireflection properties, the fine particles preferably have a lower refractive index. Such fine particles may have voids, and silica hollow fine particles are particularly preferable. The average particle size of the hollow fine particles is preferably 5 nm to 2,000 nm, and more preferably 20 nm to 100 nm. Here, the average particle diameter is a number average particle diameter obtained by observation with a transmission electron microscope.

(防汚層)
防汚層は、撥水性、撥油性、耐汗性、および防汚性などを付与できる層である。防汚層を形成するために用いる材料としては、フッ素含有有機化合物が好適である。フッ素含有有機化合物としては、フルオロカーボン、パーフルオロシラン、又はこれらの高分子化合物などを挙げることができる。また、防汚層の形成方法は、形成する材料に応じて、蒸着、スパッタリング等の物理的気相成長法、化学的気相成長法、湿式コーティング法等を用いることができる。防汚層の平均厚さは、好ましくは1nm〜50nm、より好ましくは3nm〜35nmである。
(Anti-fouling layer)
The antifouling layer is a layer that can impart water repellency, oil repellency, sweat resistance, antifouling properties, and the like. As a material used for forming the antifouling layer, a fluorine-containing organic compound is suitable. Examples of the fluorine-containing organic compound include fluorocarbon, perfluorosilane, and polymer compounds thereof. As a method for forming the antifouling layer, a physical vapor deposition method such as vapor deposition or sputtering, a chemical vapor deposition method, a wet coating method, or the like can be used depending on the material to be formed. The average thickness of the antifouling layer is preferably 1 nm to 50 nm, more preferably 3 nm to 35 nm.

さらに、機能層は、上述した以外に、防眩層、ガスバリア層、透明帯電防止層、プライマー層、電磁波遮蔽層、下塗り層等、光学フィルムに採用される一般的なその他の層であってもよい。   In addition to the above, the functional layer may be other general layers employed in optical films such as an antiglare layer, a gas barrier layer, a transparent antistatic layer, a primer layer, an electromagnetic wave shielding layer, and an undercoat layer. Good.

<光学フィルム>
以上のような機能層を、表面に凹凸が形成されたフィルム上に形成し、本発明の光学フィルムを得る方法に格別な限定はなく、各機能層の形成に一般的な例えば、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法などの方法が挙げられる。
<Optical film>
There is no particular limitation on the method for obtaining the optical film of the present invention by forming the functional layer as described above on a film having irregularities formed on the surface. For example, the dip coating method is generally used for forming each functional layer. , Air knife coating method, curtain coating method, roller coating method, wire bar coating method, gravure coating method and the like.

上記凹凸面に機能層が積層された後のフィルムの算術平均表面粗さ(Ra)は0.1μm以下であることが好ましく、0.06μm以下がより好ましい。   The arithmetic average surface roughness (Ra) of the film after the functional layer is laminated on the irregular surface is preferably 0.1 μm or less, and more preferably 0.06 μm or less.

機能層が積層された後の基材フィルムは、ヘイズが5%以下となっていることが好ましく、3%以下がより好ましい。   The base film after the functional layer is laminated preferably has a haze of 5% or less, more preferably 3% or less.

<光学フィルムの利用>
本発明の光学フィルムは、液晶表示装置(LCD)、プラズマディスプレイパネル(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)、陰極管表示装置(CRT)、フィールドエミッションディスプレイ(FED)、電子ペーパー,タッチパネルなどの表示装置の表面保護フィルムとして、直接に貼合することにより、または偏光板保護フィルム、前面板など表示装置に組み込まれる表面部材と置き換えることにより用いることができる。本発明の光学フィルムは、偏光板保護用途として好適に用いられる。
このようにして得られる本発明の光学フィルムを偏光板保護フィルムとして用いる場合は、本発明の光学フィルムを接着剤を介して偏光子の一面に貼合し、次いで該接着剤を硬化させ、光学フィルムを偏光子に固定することによって偏光板が得られる。
<Use of optical film>
The optical film of the present invention is a liquid crystal display (LCD), plasma display panel (PDP), electroluminescence display (ELD), cathode ray tube display (CRT), field emission display (FED), electronic paper, touch panel, etc. As a surface protective film of the device, it can be used by directly bonding or by replacing it with a surface member incorporated in a display device such as a polarizing plate protective film or a front plate. The optical film of the present invention is suitably used for polarizing plate protection.
When the optical film of the present invention thus obtained is used as a polarizing plate protective film, the optical film of the present invention is bonded to one surface of a polarizer through an adhesive, and then the adhesive is cured to obtain an optical A polarizing plate is obtained by fixing the film to a polarizer.

<光学フィルムの利用>
本発明の光学フィルムは、液晶表示装置(LCD)、プラズマディスプレイパネル(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)、陰極管表示装置(CRT)、フィールドエミッションディスプレイ(FED)、電子ペーパー,タッチパネルなどの表示装置の表面保護フィルムとして、直接に貼合することにより、または偏光板保護フィルム、前面板など表示装置に組み込まれる表面部材と置き換えることにより用いることができる。本発明の光学フィルムは、偏光板保護用途として好適に用いられる。
このようにして得られる本発明の光学フィルムを偏光板保護フィルムとして用いる場合は、本発明の光学フィルムを接着剤を介して偏光子の一面に貼合し、次いで該接着剤を硬化させ、光学フィルムを偏光子に固定することによって偏光板が得られる。
光学フィルムに偏光子を貼合するに先立って、光学フィルム側の貼合面に、ケン化処理、コロナ処理、プライマー処理、アンカーコーティング処理などの易接着処理が施されてもよい。
偏光子としては、ポリビニルアルコールフィルムにヨウ素若しくは二色性染料を吸着させ、次にホウ酸浴中で一軸延伸することによって得られるものや、ポリビニルアルコールフィルムにヨウ素もしくは二色性染料を吸着させ延伸し、さらに分子鎖中のポリビニルアルコール単位の一部をポリビニレン単位に変性することによって得られるものなど、を挙げることができる。また、偏光子として、グリッド偏光子、多層偏光子、コレステリック液晶偏光子などの偏光を反射光と透過光に分離する機能を有する偏光子を用いることもできる。この中でも、ポリビニルアルコールを含んでなる偏光子が好ましい。偏光子の偏光度は、好ましくは98%以上、より好ましくは99%以上である。偏光子の厚さ(平均厚さ)は、好ましくは5μm〜80μmである。
<Use of optical film>
The optical film of the present invention is a liquid crystal display (LCD), plasma display panel (PDP), electroluminescence display (ELD), cathode ray tube display (CRT), field emission display (FED), electronic paper, touch panel, etc. As a surface protective film of the device, it can be used by directly bonding or by replacing it with a surface member incorporated in a display device such as a polarizing plate protective film or a front plate. The optical film of the present invention is suitably used for polarizing plate protection.
When the optical film of the present invention thus obtained is used as a polarizing plate protective film, the optical film of the present invention is bonded to one surface of a polarizer through an adhesive, and then the adhesive is cured to obtain an optical A polarizing plate is obtained by fixing the film to a polarizer.
Prior to bonding the polarizer to the optical film, the bonding surface on the optical film side may be subjected to easy adhesion treatment such as saponification treatment, corona treatment, primer treatment, and anchor coating treatment.
Polarizers can be obtained by adsorbing iodine or dichroic dye on a polyvinyl alcohol film and then uniaxially stretching in a boric acid bath, or by adsorbing iodine or dichroic dye on a polyvinyl alcohol film. In addition, examples include those obtained by modifying a part of the polyvinyl alcohol unit in the molecular chain to a polyvinylene unit. In addition, a polarizer having a function of separating polarized light into reflected light and transmitted light, such as a grid polarizer, a multilayer polarizer, and a cholesteric liquid crystal polarizer, can also be used as the polarizer. Among these, a polarizer comprising polyvinyl alcohol is preferable. The polarization degree of the polarizer is preferably 98% or more, more preferably 99% or more. The thickness (average thickness) of the polarizer is preferably 5 μm to 80 μm.

光学フィルムの一面に偏光子を貼合した後、光学フィルムと接していない側の偏光子に、保護層を積層するのが一般的である。保護層は、本発明の光学フィルムであってもよいし、従来から偏光板に用いられているポリカーボネート樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリイミド樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、セルロースエステル、脂環式オレフィンポリマーなどからなる保護層であってもよい。
偏光子に保護層を積層する方法に格別な制限はなく、例えば、保護層となる保護フィルムを必要に応じて接着剤などを介して偏光子と積層する一般的方法を採用することができる。保護層を偏光子に貼合する際の接着剤としては、前述の光カチオン硬化型接着剤を用いてもよいし、従来公知の接着剤であってもよい。
In general, after a polarizer is bonded to one surface of the optical film, a protective layer is laminated on the polarizer that is not in contact with the optical film. The protective layer may be the optical film of the present invention, or a polycarbonate resin, polyether sulfone resin, polyethylene terephthalate resin, polyimide resin, polymethyl methacrylate resin, polysulfone resin, polyarylate conventionally used for polarizing plates. It may be a protective layer made of resin, polyethylene resin, polystyrene resin, polyvinyl chloride resin, cellulose ester, alicyclic olefin polymer, or the like.
There is no particular limitation on the method of laminating the protective layer on the polarizer, and for example, a general method of laminating a protective film serving as the protective layer with the polarizer through an adhesive or the like can be employed as necessary. As an adhesive for bonding the protective layer to the polarizer, the above-mentioned photocationic curable adhesive may be used, or a conventionally known adhesive may be used.

この偏光板を用いて液晶表示装置を製造することができる。液晶表示装置は、通常、光源と、入射側偏光板と、液晶セルと、出射側偏光板とがこの順に、配置されてなるものである。偏光板は、当該装置の出射側(視認側)および/または入射側(光源側)に備えることができるが、少なくとも出射側に本発明の偏光板を配置することが好ましい。なお、本発明の液晶表示装置には、さらに、位相差板、輝度向上フィルム、導光板、光拡散板、光拡散シート、集光シート、反射板などを備えていてもよい。   A liquid crystal display device can be manufactured using this polarizing plate. In the liquid crystal display device, a light source, an incident side polarizing plate, a liquid crystal cell, and an output side polarizing plate are usually arranged in this order. The polarizing plate can be provided on the emission side (viewing side) and / or the incident side (light source side) of the device, but it is preferable to dispose the polarizing plate of the present invention at least on the emission side. The liquid crystal display device of the present invention may further include a retardation plate, a brightness enhancement film, a light guide plate, a light diffusion plate, a light diffusion sheet, a light collection sheet, a reflection plate, and the like.

本発明について、実施例および比較例により、より詳細に説明する。なお、部及び%は特に断りが無い限り質量基準である。
実施例および比較例で得た保護フィルムを下記の方法により評価した。
The present invention will be described in more detail with reference to examples and comparative examples. Parts and% are based on mass unless otherwise specified.
The protective films obtained in Examples and Comparative Examples were evaluated by the following methods.

<熱可塑性樹脂層の屈折率>
樹脂を単層成形し、プリズムカプラー(Metricon社製、model2010)を用い、温度20℃±2℃、湿度60±5%の条件下で、波長633nm、407nm、532nmにおける屈折率の値から、Caucyの分散式により、380nm及び780nmの屈折率を算出する。図1は各樹脂層の屈折率の波長に対する分布を示している。図2はポリメチルメタクリレート樹脂(PMMA)と脂環式オレフィンポリマー(COP)との屈折率の差の分布、ポリメチルメタクリレート樹脂(PMMA)とポリカーボネート(PC)との屈折率の差の分布を示している。図3はポリメチルメタクリレート樹脂(P
MMA)とポリビニルアルコール(PVA)との屈折率の差の分布を示している。
<Refractive index of thermoplastic resin layer>
A resin is formed into a single layer, and a prism coupler (manufactured by Metricon, model 2010) is used. From the refractive index values at wavelengths of 633 nm, 407 nm, and 532 nm under the conditions of temperature 20 ° C. ± 2 ° C. and humidity 60 ± 5%, Caucy The refractive indexes of 380 nm and 780 nm are calculated according to the dispersion formula. FIG. 1 shows the distribution of the refractive index of each resin layer with respect to wavelength. Figure 2 shows the distribution of refractive index difference between polymethyl methacrylate resin (PMMA) and alicyclic olefin polymer (COP), and the distribution of refractive index difference between polymethyl methacrylate resin (PMMA) and polycarbonate (PC). ing. FIG. 3 shows polymethyl methacrylate resin (P
The distribution of the refractive index difference between MMA) and polyvinyl alcohol (PVA) is shown.

<メルトフローレート>
JIS K 7210に準じ、280℃、2.16kgf(条件S)の条件にて、東洋精
機製作所製、メルトインデクサF−B01により測定した。
<Melt flow rate>
In accordance with JIS K 7210, measurement was performed with a melt indexer F-B01 manufactured by Toyo Seiki Seisakusho under the conditions of 280 ° C. and 2.16 kgf (Condition S).

<引張弾性率>
熱可塑性樹脂を単層成形して、厚み100μmのフィルムを得、1cm×25cmの試験片を切り出し、ASTM D 882に基づき、引張試験機(東洋ボールドウィン社製、テンシロンUTM−10T−PL)を用いて引張速度25mm/minの条件で測定した。同様の測定を5回行い、その算術平均値を引張弾性率の代表値とする。
<Tensile modulus>
A thermoplastic resin is formed into a single layer to obtain a film having a thickness of 100 μm, a 1 cm × 25 cm test piece is cut out, and a tensile tester (manufactured by Toyo Baldwin, Tensilon UTM-10T-PL) is used based on ASTM D882. Then, the measurement was performed under the condition of a tensile speed of 25 mm / min. The same measurement is performed 5 times, and the arithmetic average value is set as the representative value of the tensile elastic modulus.

<各樹脂層の膜厚>
基材フィルムをエポキシ樹脂に包埋し、ミクロトーム(大和工業社製、RUB−2100)を用いてスライスし、走査電子顕微鏡を用いて断面を観察し測定した。
<ヘイズ>
濁度計(日本電色社製、製品名「NDM 2000」)を用いて測定した。
<Ra、Sm>
JIS B 0601:2001の規定に従い、カラー3Dレーザ顕微鏡(キーエンス社製、製品名「VK−9500」)を用いて測定した。
<偏光板の干渉縞観察>
光を通さない黒布に囲われた部屋の天井に6つの三波長蛍光灯(松下電器産業社製、ナショナルFL20SS・ENW/18)を配置し、この蛍光灯より1.5m下の場所で、当該蛍光灯の光を観察者側から光学フィルム表面に当て、干渉縞の状態を観察し、以下の基準で評価した。
○:干渉縞が見えない
△:干渉縞がうっすらと見える
×:干渉縞が目立つ
<鉛筆硬度>
荷重を500gにした以外はJIS K 5600−5−4に従って、4Hの鉛筆で、光学フィルムの表面(反射防止層表面)の5箇所について、5mm程度引っかき、傷の付き具合を確認した。
○:1箇所も傷がつかなかった。
×:1箇所以上傷がついた。
<耐候性>
作製した光学フィルムを、サンシャインウェザーメーター(スガ試験機社製、S−80)を用いて、サンシャインカーボンアーク灯、相対湿度60%の条件にて、200時間露光した。その後、偏光板の色相の変化(ΔYI)を、色差計(スガ試験機社製)を用いて測定し、以下の指標で評価した。
<Thickness of each resin layer>
The base film was embedded in an epoxy resin, sliced using a microtome (RUB-2100, manufactured by Yamato Kogyo Co., Ltd.), and the cross section was observed and measured using a scanning electron microscope.
<Haze>
It was measured using a turbidimeter (Nippon Denshoku Co., Ltd., product name “NDM 2000”).
<Ra, Sm>
Measurement was performed using a color 3D laser microscope (manufactured by Keyence Corporation, product name “VK-9500”) in accordance with JIS B 0601: 2001.
<Observation of interference fringes on polarizing plate>
Six three-wavelength fluorescent lamps (National FL20SS / ENW / 18, manufactured by Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.) are placed on the ceiling of the room surrounded by black cloth that does not allow light to pass. The light from the fluorescent lamp was applied to the optical film surface from the observer side, the state of interference fringes was observed, and evaluation was performed according to the following criteria.
○: Interference fringes are not visible △: Interference fringes are slightly visible ×: Interference fringes are conspicuous <Pencil hardness>
Except for changing the load to 500 g, according to JIS K 5600-5-4, the surface of the optical film (surface of the antireflection layer) was scratched by about 5 mm with a 4H pencil, and the degree of damage was confirmed.
○: No damage was found in any part.
X: Scratched or more in one place.
<Weather resistance>
The produced optical film was exposed for 200 hours under the conditions of a sunshine carbon arc lamp and a relative humidity of 60% using a sunshine weather meter (S-80, manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.). Thereafter, the change in hue of the polarizing plate (ΔYI) was measured using a color difference meter (manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.) and evaluated with the following indices.

(弾性体粒子の作製)
かき混ぜ機とコンデンサーを備えた反応器中に、蒸留水6860mlと乳化剤としてジオクチルスルホコハク酸ソーダ20gとを投入し、攪拌しながら、窒素雰囲気下75℃に昇温し、酸素の影響が無い状態下に、乳化剤入り蒸留水を得た。
この乳化剤入り蒸留水中に、MMA220g、n−ブチルアクリレート33g、アリルメタクリレート(以下、ALMAと記す)0.8g及びジイソプロピルベンゼンヒドロパーオキシド(以下、PBPと記す)0.2gからなる混合液を加え、80℃で15分間保持し、第1層目を重合した。
次にn−ブチルアクリレート1270g、スチレン320g、ジエチレングリコールアクリレート20g、ALMA13.0g及びPBP1.6gからなる混合液を、第1層目の重合を終えた反応液中に、1時間にわたって連続的に滴下し、滴下終了後、更に40分かけて反応を進行させ、第2層目を重合した。
次に3層目の重合として、第2層目の反応を終えた反応液中に、MMA340g、n−ブチルアクリレート2.0g、PBP0.3g及びn−オクチルメルカプタン0.1gからなる混合液を添加し、更にMMA340g、n−ブチルアクリレート2.0g、PBP0.3g及びn−オクチルメルカプタン1.0gからなる混合液を添加した。その後、温度を95℃に上げ30分間保持し、多層構造アクリル系ゴム粒子のラテックスを得た。ラテックスを少量採取し、吸光度法により平均粒径を求めたところ、0.2μmであった。
得られたラテックスを0.5%塩化アルミニウム水溶液中に投入して重合体を凝集させ、温水で5回洗浄後、乾燥して弾性体粒子を得た。
(Production of elastic particles)
Into a reactor equipped with a stirrer and a condenser, 6860 ml of distilled water and 20 g of sodium dioctylsulfosuccinate as an emulsifier were added, and the temperature was raised to 75 ° C. in a nitrogen atmosphere while stirring, so that there was no influence of oxygen. An emulsifier-containing distilled water was obtained.
To this distilled water containing an emulsifier, a mixed solution consisting of MMA 220 g, n-butyl acrylate 33 g, allyl methacrylate (hereinafter referred to as ALMA) 0.8 g and diisopropylbenzene hydroperoxide (hereinafter referred to as PBP) 0.2 g was added, The first layer was polymerized by maintaining at 80 ° C. for 15 minutes.
Next, a mixed liquid consisting of 1270 g of n-butyl acrylate, 320 g of styrene, 20 g of diethylene glycol acrylate, 13.0 g of ALMA and 1.6 g of PBP was continuously dropped over 1 hour into the reaction liquid after the completion of the first layer polymerization. After completion of the dropwise addition, the reaction was further allowed to proceed for 40 minutes to polymerize the second layer.
Next, as a polymerization for the third layer, a mixed solution consisting of MMA 340 g, n-butyl acrylate 2.0 g, PBP 0.3 g and n-octyl mercaptan 0.1 g is added to the reaction solution after the reaction of the second layer. Further, a mixed solution composed of MMA 340 g, n-butyl acrylate 2.0 g, PBP 0.3 g and n-octyl mercaptan 1.0 g was added. Thereafter, the temperature was raised to 95 ° C. and held for 30 minutes to obtain a latex of multilayer structure acrylic rubber particles. A small amount of latex was sampled and the average particle size was determined by the absorbance method and found to be 0.2 μm.
The obtained latex was put into a 0.5% aluminum chloride aqueous solution to agglomerate the polymer, washed 5 times with warm water, and dried to obtain elastic particles.

ポリメチルメタクリレート樹脂80重量部と、弾性体粒子20重量部とを混合した後、2軸押出機を用いて260℃で溶融混錬し弾性体粒子を含むポリメチルメタクリレート樹脂(引張弾性率2.5GPa、メルトフローレート20g/10分(280℃、2.16kgf)、ガラス転移温度102℃、吸水率0.3%:以下「R−PMMA」と記すことがある)を得た。   After mixing 80 parts by weight of a polymethyl methacrylate resin and 20 parts by weight of elastic body particles, a polymethyl methacrylate resin (tensile modulus 2. 5 GPa, a melt flow rate of 20 g / 10 min (280 ° C., 2.16 kgf), a glass transition temperature of 102 ° C., a water absorption rate of 0.3%: hereinafter sometimes referred to as “R-PMMA”).

(基材フィルム1の作製)
弾性体粒子を含むポリメチルメタクリレート樹脂(R−PMMA)を、目開き10μmのリーフディスク形状のポリマーフィルターを設置したダブルフライト型一軸押出機に投入し、押出機出口温度260℃で溶融樹脂をダイスリップの表面粗さRaが0.1μmであるマルチマニホールドダイの一方に供給した。
(Preparation of base film 1)
Polymethyl methacrylate resin (R-PMMA) containing elastic particles is put into a double flight type single screw extruder equipped with a leaf disk-shaped polymer filter with an opening of 10 μm, and the molten resin is die-cast at an extruder outlet temperature of 260 ° C. This was supplied to one of the multi-manifold dies having a slip surface roughness Ra of 0.1 μm.

同時に、ポリメチルメタクリレート樹脂(引張弾性率3.3GPa、メルトフローレート18g/10分(280℃、2.16kgf)、ガラス転移温度Tg=110℃)に紫外線吸収剤を2重量%添加し、この紫外線吸収剤含有ポリメチルメタクリレート樹脂(以下、「PMMA」と記すことがある)を、目開き10μmのリーフディスク形状のポリマーフィルターを設置したダブルフライト型の一軸押出機に導入し、押出機出口温度260℃で溶融樹脂をダイスリップの表面粗さRaが0.1μmであるマルチマニホールドダイの他方に供給した。   At the same time, 2% by weight of an ultraviolet absorber was added to polymethyl methacrylate resin (tensile modulus 3.3 GPa, melt flow rate 18 g / 10 min (280 ° C., 2.16 kgf), glass transition temperature Tg = 110 ° C.) An ultraviolet absorber-containing polymethyl methacrylate resin (hereinafter sometimes referred to as “PMMA”) is introduced into a double flight type single screw extruder having a leaf disk-shaped polymer filter having an opening of 10 μm, and the exit temperature of the extruder At 260 ° C., the molten resin was supplied to the other of the multi-manifold dies having a die slip surface roughness Ra of 0.1 μm.

そして、溶融状態の弾性体粒子を含むポリメチルメタクリレート樹脂(R−PMMA)、紫外線吸収剤入りポリメチルメタクリレート樹脂(PMMA)のそれぞれをマルチマニホールドダイから260℃で吐出させ、130℃に温度調整された冷却ロールにキャストし、その後、50℃に温度調整された冷却ロールに通して、R−PMMA層(10μm)−PMMA層(60μm)−R−PMMA層(10μm)の3層構成からなる、幅600mm、厚さ80μmの保護フィルム1を共押出成形により得た。この基材フィルムの線状凹部の深さまたは線状凸部の高さは、20nm以下であり、かつ幅が800nm以上の範囲であり、透湿度は51g・m−2・day−1であった。基材フィルムのRaは0.15μm未満であり、ヘイズは4.0%であった。 Each of polymethyl methacrylate resin (R-PMMA) containing elastic particles in a molten state and polymethyl methacrylate resin (PMMA) containing an ultraviolet absorber is discharged from the multi-manifold die at 260 ° C., and the temperature is adjusted to 130 ° C. Cast to a cooling roll, and then passed through a cooling roll adjusted to a temperature of 50 ° C., consisting of a three-layer structure of R-PMMA layer (10 μm) -PMMA layer (60 μm) -R-PMMA layer (10 μm), A protective film 1 having a width of 600 mm and a thickness of 80 μm was obtained by coextrusion molding. The depth of the linear concave portion or the height of the linear convex portion of this base film is 20 nm or less, the width is in the range of 800 nm or more, and the moisture permeability is 51 g · m −2 · day −1. It was. Ra of the base film was less than 0.15 μm, and haze was 4.0%.

(エンボスフィルム1の製造)
上記工程で共押出成形により成形機より出てきた基材フィルムを、110℃に加熱したハードクロムめっき100μmを施した金属製の鏡面ロールと、150℃に加熱したセラミック製のRaが1.2μm、Smが50μmの凹凸を有する賦型ロールを用いて、押出されたフィルムを線圧100kN/mにて狭圧した。ロールスピードは10m/minで巻き取り、片方の表面に凹凸が形成されたフィルム(エンボスフィルム1)を得た。
エンボスフィルム1のエンボスが付与された面のRaは0.18μm、ヘイズは17.4%であった。
(Manufacture of embossed film 1)
In the above process, the base film coming out of the molding machine by coextrusion molding is made of a metal mirror surface roll with hard chromium plating 100 μm heated to 110 ° C., and ceramic Ra heated to 150 ° C. is 1.2 μm. The extruded film was narrowed at a linear pressure of 100 kN / m using a forming roll having irregularities with Sm of 50 μm. The film was wound at a roll speed of 10 m / min to obtain a film (embossed film 1) having irregularities formed on one surface.
The surface of the embossed film 1 to which embossing was applied had an Ra of 0.18 μm and a haze of 17.4%.

(エンボスフィルム2の製造)
上記エンボスフィルム1の製造において、エンボス転写の際、110℃に加熱したハードクロムめっき100μmを施した金属製の鏡面ロール上に、別系統のWEBから供給される三井化学社製熱可塑性ポリイミド樹脂フィルム「AURUMフィルム」(品番「PL450C」)を搬送させ、180℃に加熱したセラミック製のRaが1.1μm、Smが50μmの凹凸を有する賦型ロールを用いて、押出されたフィルムを線圧200kN/mにて狭圧した。ロールスピードは20m/minで巻き取る以外は製造例1と同様にして、表面に凹凸が形成されたフィルム(エンボスフィルム2)を得た。
エンボスフィルム2のエンボスが付与された面のRaは0.23μm、ヘイズは21.7%であった。
(Manufacture of embossed film 2)
In the production of the embossed film 1, a thermoplastic polyimide resin film manufactured by Mitsui Chemicals, Inc. is supplied from a separate WEB on a metallic mirror roll having a hard chromium plating of 100 μm heated to 110 ° C. during emboss transfer. “ARUUM film” (Part No. “PL450C”) is conveyed and heated at 180 ° C., and the extruded film is subjected to linear pressure of 200 kN using a forming roll having irregularities with Ra of 1.1 μm and Sm of 50 μm. The pressure was reduced at / m. A film (embossed film 2) having irregularities formed on the surface was obtained in the same manner as in Production Example 1, except that the roll speed was 20 m / min.
Ra of the embossed surface of the embossed film 2 was 0.23 μm, and haze was 21.7%.

(エンボスフィルム3の製造)
上記エンボスフィルム1の製造において、エンボス転写の際、70℃に加熱したハードクロムめっき100μmを施した金属製の鏡面ロール上に、別系統のWEBから供給される三井化学社製熱可塑性ポリイミド樹脂フィルム「AURUMフィルム」(品番「PL450C」)を搬送させ、180℃に加熱したセラミック製のRaが1.3μm、Smが50μmの凹凸を有する賦型ロールを用いて、押出されたフィルムを線圧400kN/mにて狭圧した。ロールスピードは30m/minで巻き取る以外は製造例1と同様にして、表面に凹凸が形成されたフィルム(エンボスフィルム3)を得た。
エンボスフィルム3のエンボスが付与された面のRaは0.26μm、ヘイズは24.1%であった。
(Manufacture of embossed film 3)
In the production of the embossed film 1, a thermoplastic polyimide resin film manufactured by Mitsui Chemicals, Inc., supplied from another web, on a metallic mirror roll having a hard chromium plating of 100 μm heated to 70 ° C. during emboss transfer. “ARUUM film” (product number “PL450C”) is conveyed and heated at 180 ° C., and the extruded film is subjected to a forming roll having irregularities with Ra of 1.3 μm and Sm of 50 μm. The pressure was reduced at / m. A film (embossed film 3) having irregularities formed on the surface was obtained in the same manner as in Production Example 1 except that the roll speed was 30 m / min.
The surface of the embossed film 3 to which embossing was applied had an Ra of 0.26 μm and a haze of 24.1%.

(ハードコート層の形成用材料の調製)
6官能ウレタンアクリレートオリゴマー30部、ブチルアクリレート40部、イソボロニルメタクリレート30部、および2,2−ジフェニルエタン−1−オン10部を、ホモジナイザーで混合し、五酸化アンチモン微粒子(平均粒子径20nm、水酸基がパイロクロア構造の表面に現れているアンチモン原子に1つの割合で結合している。)の40%メチルイソブチルケトン溶液を、五酸化アンチモン微粒子の重量がハードコート層形成用組成物全固形分の50重量%を占める割合で混合して、ハードコート層形成用材料を調製した。
(Preparation of hard coat layer forming material)
30 parts of a hexafunctional urethane acrylate oligomer, 40 parts of butyl acrylate, 30 parts of isobornyl methacrylate, and 10 parts of 2,2-diphenylethane-1-one were mixed with a homogenizer, and antimony pentoxide fine particles (average particle diameter of 20 nm, The hydroxyl group is bonded to the antimony atoms appearing on the surface of the pyrochlore structure at a ratio of 1). A 40% methyl isobutyl ketone solution is used, and the weight of the antimony pentoxide fine particles is the total solid content of the hard coat layer forming composition. The hard coat layer forming material was prepared by mixing at a ratio of 50% by weight.

(低屈折率層形成用材料の調製)
含フッ素モノマーである、フッ化ビニデリン70重量部およびテトラフルオロエチレン30重量部をメチルイソブチルケトンに溶解した。次に、この溶解物に、中空シリカイソプロパノール分散ゾル(触媒化成工業社製、固形分20重量%、平均一次粒子径約35nm、外殻厚み約8nm)を、含フッ素モノマー固形分に対して中空シリカ固形分で30重量%、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(信越化学社製)を前記固形分に対して3重量%、光ラジカル発生剤イルガキュア184(チバ・スペシャリティケミカルズ社製)を前記固形分に対して5重量%添加し、低屈折率層形成用材料を調製した。
(Preparation of low refractive index layer forming material)
70 parts by weight of vinylidene fluoride and 30 parts by weight of tetrafluoroethylene, which are fluorine-containing monomers, were dissolved in methyl isobutyl ketone. Next, hollow silica isopropanol dispersion sol (manufactured by Catalytic Chemical Industry Co., Ltd., solid content: 20% by weight, average primary particle diameter: about 35 nm, outer shell thickness: about 8 nm) is hollowed into this dissolved matter with respect to the fluorine-containing monomer solid content. 30% by weight of silica solid content, 3% by weight of dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) with respect to the solid content, and Irgacure 184 (produced by Ciba Specialty Chemicals) with respect to the solid content 5% by weight was added to prepare a low refractive index layer forming material.

実施例1
エンボスフィルム1の両面に、高周波発信機(出力0.8KW)を用いてコロナ放電処理を行い、表面張力を0.055N/mに調整した。次に、このエンボスフィルム1の、凹凸が形成された面に、温度25℃、湿度60%RHの環境下で、ダイコーターを用いてコーティング速度20m/minでハードコート層形成用材料を塗工し、80℃の乾燥炉の中で乾燥させて被膜を得た。さらに、この皮膜に紫外線を照射(積算照射量300mJ/cm)して、厚さ6μmのハードコート層を形成した。
Example 1
Both surfaces of the embossed film 1 were subjected to corona discharge treatment using a high frequency transmitter (output 0.8 kW), and the surface tension was adjusted to 0.055 N / m. Next, a hard coat layer forming material is applied to the surface of the embossed film 1 on which the unevenness is formed using a die coater at a temperature of 25 ° C. and a humidity of 60% RH at a coating speed of 20 m / min. And dried in an oven at 80 ° C. to obtain a film. Further, the film was irradiated with ultraviolet rays (accumulated dose of 300 mJ / cm 2 ) to form a hard coat layer having a thickness of 6 μm.

次に、ハードコート層付きのエンボスフィルム1のハードコート層側に、温度25℃、湿度60%RHの環境下でワイヤーバーコーターを用いてコーティング速度20m/minで低屈折率層形成用材料を塗工し、室温に放置して乾燥させ、得られた被膜を120℃、酸素雰囲気下で熱処理し、次いで出力160W/cm、照射距離60mmの条件で紫外線を照射して厚さ100nmの低屈折率層(屈折率1.37)を形成し、ハードコート層および反射防止層付きの光学フィルム1を得た。
光学フィルム1について、Ra(反射防止層表面)、ヘイズ、干渉むら、鉛筆硬度、耐候性を評価した。結果を表1に示す。
Next, on the hard coat layer side of the embossed film 1 with a hard coat layer, a material for forming a low refractive index layer at a coating speed of 20 m / min using a wire bar coater in an environment of a temperature of 25 ° C. and a humidity of 60% RH. The film was coated and allowed to dry at room temperature. The resulting film was heat-treated at 120 ° C. in an oxygen atmosphere, and then irradiated with ultraviolet rays under the conditions of an output of 160 W / cm and an irradiation distance of 60 mm. A refractive index layer (refractive index of 1.37) was formed to obtain an optical film 1 with a hard coat layer and an antireflection layer.
The optical film 1 was evaluated for Ra (antireflection layer surface), haze, interference unevenness, pencil hardness, and weather resistance. The results are shown in Table 1.

実施例2
エンボスフィルム2を用いた以外は実施例1と同様にして光学フィルム2を得た。光学フィルム2について、Ra(反射防止層表面)、ヘイズ、干渉むら、鉛筆硬度、耐候性を評価した。結果を表1に示す。
Example 2
An optical film 2 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the embossed film 2 was used. The optical film 2 was evaluated for Ra (antireflection layer surface), haze, interference unevenness, pencil hardness, and weather resistance. The results are shown in Table 1.

実施例3
エンボスフィルム3を用いた以外は実施例1と同様にして光学フィルム3を得た。光学フィルム3について、Ra(反射防止層表面)、ヘイズ、干渉むら、鉛筆硬度、耐候性を評価した。結果を表1に示す。
Example 3
An optical film 3 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the embossed film 3 was used. The optical film 3 was evaluated for Ra (antireflection layer surface), haze, interference unevenness, pencil hardness, and weather resistance. The results are shown in Table 1.

比較例1
エンボスフィルム1の代わりに、凹凸の形成される前の基材フィルムを用いる以外は実施例1と同様にして光学フィルム4を得た。光学フィルム4について、Ra(反射防止層表面)、ヘイズ、干渉むら、鉛筆硬度、耐候性を評価した。結果を表1に示す。
Comparative Example 1
Instead of the embossed film 1, an optical film 4 was obtained in the same manner as in Example 1 except that a base film before unevenness was used. The optical film 4 was evaluated for Ra (antireflection layer surface), haze, interference unevenness, pencil hardness, and weather resistance. The results are shown in Table 1.

比較例2
ハードコート層及び低屈折率層の形成のためのコーティング速度をいずれも10m/minにした以外は比較例1と同様にして光学フィルム5を得た。光学フィルム5について、Ra(反射防止層表面)、ヘイズ、干渉むら、鉛筆硬度、耐候性を評価した。結果を表1に示す。
Comparative Example 2
An optical film 5 was obtained in the same manner as in Comparative Example 1 except that the coating speeds for forming the hard coat layer and the low refractive index layer were both 10 m / min. The optical film 5 was evaluated for Ra (antireflection layer surface), haze, interference unevenness, pencil hardness, and weather resistance. The results are shown in Table 1.

Figure 2008152118
Figure 2008152118

この結果から、熱可塑性樹脂層がk個(kは2以上の整数)積層されてなるフィルムであって、第i番目の熱可塑性樹脂層の波長380nm〜780nmの範囲の波長λにおける屈折率ni(λ)と、第i+1番目の熱可塑性樹脂層の380nm〜780nmの範囲の波長λにおける屈折率ni+1(λ)とが、前式〔1〕の関係を有し、且つ、第i番目の熱可塑性樹脂層の引張弾性率をA、第i+1番目の引張弾性率をAi+1としたとき、iのすべての値に対して|Ai+1−A|≧0.5GPaであり、更に第k番目の熱可塑性樹脂層の引張弾性率Aが2.8GPa以上である共押出成形により形成されたものである基材フィルムを用い、その一方の面に圧力を印加したことにより、表面に凹凸が形成されたフィルムを用いれば、干渉むらのない、鉛筆硬度、可撓性に優れた透明性の高い光学フィルムを得ることができる(実施例1〜3)。
一方、表面に凹凸が形成されたフィルムを用いた場合と同じ条件で機能層を形成すると、鉛筆硬度、可撓性には優れ、基材フィルム自身の干渉縞は抑えられるものの、塗工により干渉むらが生じることが判る(比較例1)。機能層形成の条件として、ハードコート層の形成速度を遅くしても、干渉むらの発生を十分に抑制することができないことが判る(比較例2)。
From this result, it is a film formed by laminating k thermoplastic resin layers (k is an integer of 2 or more), and the refractive index ni of the i-th thermoplastic resin layer at a wavelength λ in the range of 380 nm to 780 nm. (Λ) and the refractive index ni + 1 (λ) at a wavelength λ in the range of 380 nm to 780 nm of the (i + 1) th thermoplastic resin layer have the relationship of the above equation [1], and the i th heat When the tensile elastic modulus of the plastic resin layer is A i and the i + 1th tensile elastic modulus is A i + 1 , | A i + 1 −A i | ≧ 0.5 GPa for all values of i , and kth by th tensile modulus a k of the thermoplastic resin layer with a base film is one formed by coextrusion with the above 2.8 GPa, and applying pressure to one surface thereof, rough surface Used film formed If it is, the highly transparent optical film excellent in pencil hardness and flexibility without an interference nonuniformity can be obtained (Examples 1-3).
On the other hand, when the functional layer is formed under the same conditions as when using a film with irregularities formed on the surface, it is excellent in pencil hardness and flexibility, and interference fringes of the base film itself can be suppressed, but interference is caused by coating. It can be seen that unevenness occurs (Comparative Example 1). It can be seen that even when the formation rate of the hard coat layer is slowed as a condition for forming the functional layer, the occurrence of uneven interference cannot be sufficiently suppressed (Comparative Example 2).

Claims (2)

基材フィルムの少なくとも一方の面に圧力を印加したことにより、表面に凹凸が形成されたフィルムの、少なくとも当該凹凸が形成された面に機能層を有する光学フィルムであって、
前記基材フィルムが、
熱可塑性樹脂層がk個(kは2以上の整数)積層されてなるフィルムであって、
第i番目(iは1〜k−1の整数)の熱可塑性樹脂層の波長380nm〜780nmの範囲の波長λにおける屈折率ni(λ)と、第i+1番目の熱可塑性樹脂層の380nm〜780nmの範囲の波長λにおける屈折率ni+1(λ)とが、式〔1〕の関係を有し、且つ、
第i番目の熱可塑性樹脂層の引張弾性率をA、第i+1番目の引張弾性率をAi+1としたとき、iのすべての値に対して|Ai+1−A|≧0.5GPaであり、
更に
少なくとも一層の熱可塑性樹脂層の引張弾性率A(jは、1〜kの整数)が2.8GPa以上の
共押出成形法により形成されたものである
光学フィルム。
|n(λ)−ni+1(λ)|≦0.05 式〔1〕
By applying pressure to at least one surface of the base film, an optical film having a functional layer on at least the surface on which the unevenness is formed of the film on which the unevenness is formed on the surface,
The base film is
A film in which k thermoplastic resin layers (k is an integer of 2 or more) are laminated,
The refractive index ni (λ) at a wavelength λ in the wavelength range of 380 nm to 780 nm of the i-th (i is an integer from 1 to k−1) and 380 nm to 780 nm of the i + 1-th thermoplastic resin layer. And a refractive index n i + 1 (λ) at a wavelength λ in the range of
When the tensile elastic modulus of the i-th thermoplastic resin layer is A i and the i + 1-th tensile elastic modulus is A i + 1 , | A i + 1 −A i | ≧ 0.5 GPa for all values of i. Yes,
Further, an optical film formed by a coextrusion method in which at least one thermoplastic resin layer has a tensile elastic modulus A j (j is an integer of 1 to k) of 2.8 GPa or more.
| N i (λ) −n i + 1 (λ) | ≦ 0.05 Formula [1]
前記基材フィルムが、紫外線吸収剤を含むものである請求項1記載の光学フィルム。 The optical film according to claim 1, wherein the base film contains an ultraviolet absorber.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011246663A (en) * 2010-05-29 2011-12-08 Mitsubishi Plastics Inc Laminated polyester film
JP2011245808A (en) * 2010-05-29 2011-12-08 Mitsubishi Plastics Inc Laminated polyester film

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0651783A (en) * 1992-07-28 1994-02-25 Asahi Chem Ind Co Ltd Sound insulating plate for road
JP2003207602A (en) * 2002-01-11 2003-07-25 Fuji Photo Film Co Ltd Antireflection film and its manufacturing method, polarizing plate, and liquid crystal display
JP2005070435A (en) * 2003-08-25 2005-03-17 Fuji Photo Film Co Ltd Manufacturing method for antidazzle antireflection coating

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0651783A (en) * 1992-07-28 1994-02-25 Asahi Chem Ind Co Ltd Sound insulating plate for road
JP2003207602A (en) * 2002-01-11 2003-07-25 Fuji Photo Film Co Ltd Antireflection film and its manufacturing method, polarizing plate, and liquid crystal display
JP2005070435A (en) * 2003-08-25 2005-03-17 Fuji Photo Film Co Ltd Manufacturing method for antidazzle antireflection coating

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011246663A (en) * 2010-05-29 2011-12-08 Mitsubishi Plastics Inc Laminated polyester film
JP2011245808A (en) * 2010-05-29 2011-12-08 Mitsubishi Plastics Inc Laminated polyester film

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