JP5010813B2 - Antiglare antireflection film, production method thereof, polarizing plate using antiglare antireflection film, and liquid crystal display device using the polarizing plate - Google Patents

Antiglare antireflection film, production method thereof, polarizing plate using antiglare antireflection film, and liquid crystal display device using the polarizing plate Download PDF

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Description

本発明は、防眩性反射防止フィルム、その製造方法、偏光板および液晶表示装置に関し、更に詳細には防眩層と低屈折率層を有する防眩性反射防止フィルム、その製造方法、該防眩性反射防止フィルムを表面保護フィルムとして用いた偏光板、該偏光板を用いた液晶表示装置に関する。   The present invention relates to an antiglare antireflection film, a production method thereof, a polarizing plate and a liquid crystal display device, and more specifically, an antiglare antireflection film having an antiglare layer and a low refractive index layer, a production method thereof, and the antireflection film. The present invention relates to a polarizing plate using a dazzling antireflection film as a surface protective film, and a liquid crystal display device using the polarizing plate.

防眩性フィルムは、CRT、プラズマディスプレイ(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)や液晶表示装置(LCD)のようなディスプレイ装置において、外光の反射による像の映り込みを防止するために、ディスプレイの最表面に配置される。また、特に近年表示装置の高精細化に伴い、防眩性フィルムによる微小な輝度ムラ(ギラツキと呼称する)の改良手段として、表面散乱に加えて従来以上に高い内部散乱性を有する防眩性フィルムに関する技術が開示されている(特許文献1〜5)。   Anti-glare film is used in display devices such as CRT, plasma display (PDP), electroluminescence display (ELD) and liquid crystal display (LCD) to prevent image reflection due to reflection of external light. It is arranged on the outermost surface. In addition, in recent years, with the increase in the definition of display devices, as a means of improving minute luminance unevenness (called glare) with an anti-glare film, anti-glare property having higher internal scattering than surface scattering in addition to surface scattering. The technique regarding a film is disclosed (patent documents 1-5).

近年、特許文献6〜8等で開示されているように、光散乱性フィルムが表示装置の最表面に用いられる場合には、明室にて外光の表面反射を抑制する効果を有する、反射防止機能を併せ持つフィルムが好ましいことが知られている。特許文献6には、防眩層の上にウエット塗布およびドライ製膜により低屈折率層を設けても、表面ヘイズは防眩層と変化がない、と記載されている。   In recent years, as disclosed in Patent Documents 6 to 8 and the like, when a light scattering film is used on the outermost surface of a display device, the reflection has an effect of suppressing surface reflection of external light in a bright room. It is known that a film having a prevention function is preferable. Patent Document 6 describes that even when a low refractive index layer is provided on the antiglare layer by wet coating and dry film formation, the surface haze does not change from that of the antiglare layer.

しかしながら、蒸着やスパッタのようなドライ製膜よりコスト上有利なウエット塗布法によって反射防止層が形成される場合には、防眩性フィルムの表面凹凸の一部が反射防止層の形成時に埋められてしまうため、防眩層までで表面を最適化してしまうと、反射防止層を形成した後には当初の表面設計からずれてしまうことが分かった。具体的には、防眩層で形成された凹凸の凹部にウエット塗布法によって形成された反射防止層の成分の一部が流れ込むことにより、凸と凸の間の間隔が広がり、目視で凹凸の不均一性が強く観察されるため、表示装置に実装して観察すると、防眩層までではなかった不快感を感じるというものである。また、それに伴い、表面ヘイズも大幅に低下することがわかった。   However, when the antireflection layer is formed by a wet coating method that is more cost-effective than dry film formation such as vapor deposition or sputtering, a part of the surface irregularities of the antiglare film is filled when the antireflection layer is formed. Therefore, it was found that if the surface was optimized up to the antiglare layer, it would deviate from the original surface design after the antireflection layer was formed. Specifically, when a part of the components of the antireflection layer formed by the wet coating method flows into the concave and convex portions formed by the antiglare layer, the interval between the convex and convex portions is widened, and the concave and convex portions are visually observed. Since the non-uniformity is strongly observed, when mounted on a display device and observed, the user feels uncomfortable feeling that is not up to the antiglare layer. In addition, it was found that the surface haze is also greatly reduced.

特開2000−304648号公報JP 2000-304648 A 特許第3507719号公報Japanese Patent No. 3507719 特開平11−3276608号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-3276608 特許第3515401号公報Japanese Patent No. 3515401 特許第3515426号公報Japanese Patent No. 3515426 特許第3507719号公報Japanese Patent No. 3507719 特開2001−100004号公報JP 2001-100004 A 特開2003−270409号公報JP 2003-270409 A

以上要するに、ウエット塗布法による反射防止層の形成後に表面凹凸が最適化された防眩性反射防止フィルムはまだ提案されてないのが現状である。
従って、本発明の目的は、ウエット塗布法による反射防止層の形成後に表面凹凸が最適化された防眩性反射防止フィルムを提供することにある。
また、本発明の別の目的は、上記の防眩性反射防止フィルムを高い生産性で製造可能な製造方法を提供することにある。
さらに本発明の別の目的は、該防眩性反射防止フィルムを用いた偏光板および液晶表示装置を提供することにある。
In short, the present situation is that an antiglare antireflection film whose surface irregularities are optimized after the formation of an antireflection layer by a wet coating method has not yet been proposed.
Accordingly, an object of the present invention is to provide an antiglare antireflection film having an optimized surface irregularity after formation of an antireflection layer by a wet coating method.
Another object of the present invention is to provide a production method capable of producing the above antiglare and antireflection film with high productivity.
Furthermore, another object of the present invention is to provide a polarizing plate and a liquid crystal display device using the antiglare antireflection film.

本発明者らは、上述の課題を解消すべく鋭意検討した結果、下記構成とすることにより、前記課題を解決し目的を達成しうることを知見し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は以下のとおりである。
1.
透明支持体上に少なくとも防眩層と低屈折率層を有する防眩性反射防止フィルムであって、下記条件I)、VI)およびVII)を満たすことを特徴とする、防眩性反射防止フィルム。
I)該防眩性反射防止フィルムの内部散乱に起因するヘイズ値(hi)が、(hi)≦50%である。
VI)該防眩層の表面散乱に起因するヘイズ値(hs、AG)と該低屈折率層を形成した後の該防眩性反射防止フィルムの表面散乱に起因するヘイズ値(hs、AGAR)の比(hs、AGAR)/(hs、AG)が、0.2<(hs、AGAR)/(hs、AG)<0.6である。
VII)該防眩性反射防止フィルムの表面散乱に起因するヘイズ値(hs、AGAR)が、2.0%≦(hs、AGAR)≦7.0%である。
2.
該防眩性反射防止フィルムの内部散乱に起因するヘイズ値(hi)が下記条件III)を満たすことを特徴とする上記1に記載の防眩性反射防止フィルム。
III)該防眩性反射防止フィルムの内部散乱に起因するヘイズ値(hi)が、(hi)≦30%である。
3.
前記防眩性反射防止フィルムの内部散乱に起因するヘイズ値(hi)が18%以上であることを特徴とする上記2に記載の防眩性反射防止フィルム。
4.
前記防眩性反射防止フィルムの中心線平均粗さRaが、0.05〜0.25μmであることを特徴とする上記1〜3のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルム。
5.
JIS K7105に準じた像鮮明性が、光学くし幅0.5mmで測定したときに5%〜50%であることを特徴とする上記1〜3のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルム。
6.
前記防眩層が、少なくとも1種の平均粒子径0.5〜10μmの透光性微粒子を透光性樹脂に分散してなり、該透光性微粒子と該透光性樹脂との屈折率の差の絶対値が0.001〜0.300であり、該透光性微粒子が前記防眩層全固形分中に3〜30質量%含有されてなる層であることを特徴とする上記1〜3のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルム。
7.
前記透光性樹脂が、少なくとも3官能以上の(メタ)アクリレートモノマーを主成分としてなり、前記透光性微粒子がアクリル含率50〜100質量パーセントである架橋ポリ(メタ)アクリレート系重合体であることを特徴とする上記6に記載の防眩性反射防止フィルム。
8.
前記透光性樹脂が、少なくとも3官能以上の(メタ)アクリレートモノマーを主成分としてなり、前記透光性微粒子がスチレン含率1〜100質量パーセントである架橋ポリ(スチレン−アクリル)共重合体または架橋ポリスチレンであることを特徴とする上記6に記載の防眩性反射防止フィルム。
9.
前記防眩層が、前記透光性樹脂、前記透光性微粒子および複数の種類の溶媒を含有する塗布組成物から形成され、該複数の種類の溶媒が、前記透明支持体を溶解しない主溶媒と、水酸基を有する少量溶媒とからなることを特徴とする上記6に記載の防眩性反射防止フィルム。
10.
20〜30℃の範囲内の任意の温度において、前記主溶媒に対して、前記少量溶媒の蒸気圧が低いことを特徴とする上記9に記載の防眩性反射防止フィルム。
11.
前記主溶媒と前記少量溶媒の質量比が、前者:後者として99:1〜50:50の範囲内にあることを特徴とする、上記9に記載の防眩性反射防止フィルム。
12.
前記低屈折率層が、フッ素原子を35〜80質量%の範囲で含み且つ架橋性若しくは重合性の官能基を含む含フッ素ポリマーを主としてなる熱硬化性および/または光硬化性を有する組成物を塗布して形成されたことを特徴とする上記1〜11のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルム。
13.
前記低屈折率層が、(A)前記含フッ素ポリマー、(B)平均粒径が該低屈折率層の厚みの30%以上100%以下である無機微粒子、および(C)下記一般式(1)で表されるオルガノシラン、その加水分解物、その部分縮合物の何れか一つ以上の成分、を含有する硬化性組成物を塗布し硬化して形成される硬化膜であることを特徴とする上記12に記載の防眩性反射防止フィルム。
一般式(1)
(R 10 m Si(X) 4-m
(式中、R 10 は置換もしくは無置換のアルキル基または置換もしくは無置換のアリール基を表す。Xは水酸基または加水分解可能な基を表す。mは1〜3の整数を表す。)
14.
前記低屈折率層が、下記一般式(2)で表されるオルガノシランの加水分解物、およびその部分縮合物から選択された一つ以上の成分を含有する硬化性組成物を塗布し硬化して形成される硬化膜であることを特徴とする上記1〜11のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルム。
一般式(2)
(R 10 l Si(X) 4-l
(式中、R 10 は置換もしくは無置換のアルキル基または置換もしくは無置換のアリール基を表す。Xは水酸基または加水分解可能な基を表す。lは0〜3の整数を表す。)
15.
前記低屈折率層が、(A)平均粒径が該低屈折率層の厚みの30%以上100%以下である無機微粒子、および(B)前記一般式(2)で表されるオルガノシランの加水分解物、およびその部分縮合物から選択された一つ以上の成分を含有する硬化性組成物を塗布し硬化して形成される硬化膜であることを特徴とする上記14に記載の防眩性反射防止フィルム。
16.
前記防眩層および前記低屈折率層の両方が、前記一般式(1)で表されるオルガノシラン、その加水分解物、その部分縮合物の何れか一つ以上の成分を含有する硬化性塗布組成物を塗布し硬化して形成される硬化膜であることを特徴とする、上記13に記載の防眩性反射防止フィルム。
17.
前記無機微粒子が、中空構造からなる屈折率が1.17〜1.40の酸化ケイ素を主成分として含有する無機微粒子であることを特徴とする上記13または15に記載の防眩性反射防止フィルム。
18.
少なくとも1層の導電材料を有する透明帯電防止層を有し、前記防眩性反射防止フィルムの表面抵抗値logSRが12以下であることを特徴とする、上記1〜17のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルム。
19.
上記1〜18のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルムの製造方法であって、透光性微粒子、透光性樹脂および溶媒を含有する防眩層用の塗布組成物および/または低屈折率層用の塗布組成物を、バックアップロールによって支持されて連続走行する前記透明支持体のウェブの表面にスロットダイの先端リップのランドを近接させて該先端リップのスロットから塗布することにより、前記透明支持体上に防眩層および/または低屈折率層を塗工する工程を含むことを特徴とする防眩性反射防止フィルムの製造方法。
20.
偏光膜と、該偏光膜の表側および裏側の両面を保護する2枚の保護フィルムをそれぞれ貼り合わせてなる偏光板において、上記1〜18のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルムを片側の保護フィルムに用いたことを特徴とする偏光板。
21.
前記偏光板を形成するための前記2枚の保護フィルムのうちの防眩性反射防止フィルムを含まないフィルムが、複数の層からなるとともに、前記偏光膜と貼り合せる面とは反対側の面に光学異方性層を含んでなる光学補償フィルムであり、該光学異方性層がディスコティック構造単位を有する化合物からなる層であり、該ディスコティック構造単位の円盤面が該保護フィルム面に対して傾いており、且つ該ディスコティック構造単位の円盤面と該保護フィルム面とのなす角度が、該光学異方性層の深さ方向において変化していることを特徴とする上記20に記載の偏光板。
22.
上記20または21に記載の偏光板を少なくとも1枚有することを特徴とする液晶表示装置。
23.
表示画面の対角が20インチ以上であることを特徴とする上記22に記載の液晶表示装置。
なお、本発明は上記1〜23に記載の事項に関するものであるが、参考のためその他の事項(例えば下記(1)〜(25)に記載の事項など)についても記載した。
As a result of intensive studies to solve the above-described problems, the present inventors have found that the above-described problems can be solved and the object can be achieved, and the present invention has been completed.
That is, the present invention is as follows.
1.
An antiglare antireflection film having at least an antiglare layer and a low refractive index layer on a transparent support, which satisfies the following conditions I), VI) and VII): .
I) The haze value (hi) resulting from internal scattering of the antiglare antireflection film is (hi) ≦ 50%.
VI) Haze value (hs, AGAR) due to surface scattering of the antiglare layer and haze value (hs, AGAR) due to surface scattering of the antiglare antireflection film after forming the low refractive index layer The ratio (hs, AGAR) / (hs, AG) is 0.2 <(hs, AGAR) / (hs, AG) <0.6.
VII) The haze value (hs, AGAR) resulting from surface scattering of the antiglare antireflection film is 2.0% ≦ (hs, AGAR) ≦ 7.0%.
2.
2. The antiglare antireflection film as described in 1 above, wherein the haze value (hi) resulting from internal scattering of the antiglare antireflection film satisfies the following condition III).
III) The haze value (hi) resulting from internal scattering of the antiglare antireflection film is (hi) ≦ 30%.
3.
3. The antiglare antireflection film as described in 2 above, wherein a haze value (hi) resulting from internal scattering of the antiglare antireflection film is 18% or more.
4).
4. The antiglare antireflection film as described in any one of 1 to 3 above, wherein the antiglare antireflection film has a center line average roughness Ra of 0.05 to 0.25 μm.
5.
4. The antiglare antireflection film as described in any one of 1 to 3 above, wherein the image clarity according to JIS K7105 is 5% to 50% when measured at an optical comb width of 0.5 mm.
6).
The antiglare layer is formed by dispersing at least one kind of translucent fine particles having an average particle diameter of 0.5 to 10 μm in a translucent resin, and has a refractive index of the translucent fine particles and the translucent resin. The absolute value of the difference is 0.001 to 0.300, and the translucent fine particles are layers in which 3 to 30% by mass is contained in the total solid content of the antiglare layer. 4. The antiglare antireflection film as described in any one of 3 above.
7).
The translucent resin is a cross-linked poly (meth) acrylate-based polymer having a (meth) acrylate monomer having at least trifunctional or higher functionality as a main component and the translucent fine particles having an acrylic content of 50 to 100 mass percent. 6. The antiglare antireflection film as described in 6 above.
8).
A cross-linked poly (styrene-acrylic) copolymer in which the translucent resin has a (meth) acrylate monomer having at least trifunctional or higher functionality and the translucent fine particles have a styrene content of 1 to 100 mass percent, or 6. The antiglare antireflection film as described in 6 above, which is a crosslinked polystyrene.
9.
The antiglare layer is formed from a coating composition containing the translucent resin, the translucent fine particles and a plurality of types of solvents, and the plurality of types of solvents do not dissolve the transparent support. And an antiglare antireflection film as described in 6 above, which comprises a small amount of a solvent having a hydroxyl group.
10.
10. The antiglare antireflection film as described in 9 above, wherein the vapor pressure of the small amount solvent is lower than that of the main solvent at an arbitrary temperature within a range of 20 to 30 ° C.
11.
10. The antiglare antireflection film as described in 9 above, wherein the mass ratio of the main solvent and the small amount solvent is in the range of 99: 1 to 50:50 as the former: the latter.
12
A composition having a thermosetting property and / or a photocurable property, wherein the low refractive index layer mainly comprises a fluorine-containing polymer containing a fluorine atom in a range of 35 to 80% by mass and containing a crosslinkable or polymerizable functional group; 12. The antiglare antireflection film as described in any one of 1 to 11 above, which is formed by coating.
13.
The low refractive index layer is (A) the fluoropolymer, (B) inorganic fine particles having an average particle diameter of 30% to 100% of the thickness of the low refractive index layer, and (C) the following general formula (1) ), A hydrolyzate thereof, a hydrolyzate thereof, and a partial condensate thereof, and a cured film formed by applying and curing a curable composition containing one or more components. 13. The antiglare antireflection film as described in 12 above.
General formula (1)
(R 10 ) m Si (X) 4-m
(In the formula, R 10 represents a substituted or unsubstituted alkyl group or a substituted or unsubstituted aryl group. X represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group. M represents an integer of 1 to 3.)
14
The low refractive index layer is applied and cured with a curable composition containing one or more components selected from hydrolyzate of organosilane represented by the following general formula (2) and partial condensate thereof. The antiglare antireflection film as described in any one of 1 to 11 above, which is a cured film formed by
General formula (2)
(R 10 ) l Si (X) 4-l
(In the formula, R 10 represents a substituted or unsubstituted alkyl group or a substituted or unsubstituted aryl group. X represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group. L represents an integer of 0 to 3.)
15.
The low refractive index layer is composed of (A) inorganic fine particles having an average particle diameter of 30% to 100% of the thickness of the low refractive index layer, and (B) an organosilane represented by the general formula (2). 15. The antiglare as described in 14 above, which is a cured film formed by applying and curing a curable composition containing one or more components selected from a hydrolyzate and a partial condensate thereof. Antireflection film.
16.
Both the antiglare layer and the low refractive index layer contain a curable coating containing any one or more of the organosilane represented by the general formula (1), a hydrolyzate thereof, and a partial condensate thereof. 14. The antiglare antireflection film as described in 13 above, which is a cured film formed by applying and curing the composition.
17.
16. The antiglare antireflection film as described in 13 or 15 above, wherein the inorganic fine particles are inorganic fine particles containing a silicon oxide having a hollow structure and a refractive index of 1.17 to 1.40 as a main component. .
18.
The antistatic layer according to any one of the above items 1 to 17, further comprising a transparent antistatic layer having at least one conductive material, wherein the antiglare antireflection film has a surface resistance value logSR of 12 or less. Dazzling antireflection film.
19.
19. A method for producing an antiglare antireflection film as described in any one of 1 to 18 above, wherein the coating composition for an antiglare layer and / or low refraction contains translucent fine particles, a translucent resin and a solvent. The coating composition for the rate layer is applied from the slot of the tip lip by bringing the land of the tip lip of the slot die in close proximity to the surface of the web of the transparent support that is continuously supported by a backup roll. A method for producing an antiglare antireflection film, comprising a step of coating an antiglare layer and / or a low refractive index layer on a transparent support.
20.
In the polarizing plate formed by laminating a polarizing film and two protective films for protecting both the front side and the back side of the polarizing film, the antiglare antireflection film according to any one of 1 to 18 above is provided on one side. A polarizing plate characterized by being used for a protective film.
21.
Of the two protective films for forming the polarizing plate, the film not including the antiglare antireflection film is composed of a plurality of layers, and is on the surface opposite to the surface to be bonded to the polarizing film. An optical compensation film comprising an optically anisotropic layer, wherein the optically anisotropic layer is a layer made of a compound having a discotic structural unit, and the disc surface of the discotic structural unit is against the protective film surface The angle formed by the disc surface of the discotic structural unit and the surface of the protective film is changed in the depth direction of the optically anisotropic layer. Polarizer.
22.
A liquid crystal display device comprising at least one polarizing plate as described in 20 or 21 above.
23.
23. The liquid crystal display device as described in 22 above, wherein the diagonal of the display screen is 20 inches or more.
In addition, although this invention is related to the matter as described in said 1-23, the other matter (For example, the matter as described in following (1)-(25) etc.) was described for reference.

(1)透明支持体上に少なくとも防眩層と低屈折率層を有する防眩性反射防止フィルムであって、下記条件I)およびII)を満たすことを特徴とする、防眩性反射防止フィルム。
I)該防眩性反射防止フィルムの内部散乱に起因するヘイズ値(hi)が、(hi)≦50%である。
II)該防眩層の表面散乱に起因するヘイズ値(hs、AG)と該低屈折率層を形成した後の該防眩性反射防止フィルムの表面散乱に起因するヘイズ値(hs、AGAR)の比(hs、AGAR)/(hs、AG)が、0.05<(hs、AGAR)/(hs、AG)<1である。
(2)該防眩性反射防止フィルムの内部散乱に起因するヘイズ値(hi)が下記条件III)を満たすことを特徴とする前記(1)に記載の防眩性反射防止フィルム。
III)該防眩性反射防止フィルムの内部散乱に起因するヘイズ値(hi)が、(hi)≦30%である。
(3)下記条件IV)およびV)を満たすことを特徴とする前記(1)に記載の防眩性反射防止フィルム。
IV)該防眩層の表面散乱に起因するヘイズ値(hs、AG)と該低屈折率層を形成した後の該防眩性反射防止フィルムの表面散乱に起因するヘイズ値(hs、AGAR)の比(hs、AGAR)/(hs、AG)が、0.05<(hs、AGAR)/(hs、AG)≦0.2である。
V)該防眩性反射防止フィルムの表面散乱に起因するヘイズ値(hs、AGAR)が、1.0%≦(hs、AGAR)≦5.0%である。
(4)下記条件VI)およびVII)を満たすことを特徴とする前記(1)に記載の防眩性反射防止フィルム。
VI)該防眩層の表面散乱に起因するヘイズ値(hs、AG)と該低屈折率層を形成した後の該防眩性反射防止フィルムの表面散乱に起因するヘイズ値(hs、AGAR)の比(hs、AGAR)/(hs、AG)が、0.2<(hs、AGAR)/(hs、AG)<0.6である。
VII)該防眩性反射防止フィルムの表面散乱に起因するヘイズ値(hs、AGAR)が、2.0%≦(hs、AGAR)≦7.0%である。
(5)前記防眩性反射防止フィルムの中心線平均粗さRaが、0.05〜0.25μmであることを特徴とする前記(1)〜(4)のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルム。
(6)JIS K7105に準じた像鮮明性が、光学くし幅0.5mmで測定したときに5%〜50%であることを特徴とする前記(1)〜(4)のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルム。
(7)前記防眩層が、少なくとも1種の平均粒子径0.5〜10μmの透光性微粒子を透光性樹脂に分散してなり、該透光性微粒子と該透光性樹脂との屈折率の差の絶対値が0.001〜0.300であり、該透光性微粒子が前記防眩層全固形分中に3〜30質量%含有されてなる層であることを特徴とする前記(1)〜(4)のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルム。
(8)前記透光性樹脂が、少なくとも3官能以上の(メタ)アクリレートモノマーを主成分としてなり、前記透光性微粒子がアクリル含率50〜100質量パーセントである架
橋ポリ(メタ)アクリレート系重合体であることを特徴とする前記(7)に記載の防眩性反射防止フィルム。
(9)前記透光性樹脂が、少なくとも3官能以上の(メタ)アクリレートモノマーを主成分としてなり、前記透光性微粒子がスチレン含率1〜100質量パーセントである架橋ポリ(スチレン−アクリル)共重合体または架橋ポリスチレンであることを特徴とする前記(7)に記載の防眩性反射防止フィルム。
(10)前記防眩層が、前記透光性樹脂、前記透光性微粒子および複数の種類の溶媒を含有する塗布組成物から形成され、該複数の種類の溶媒が、前記透明支持体を溶解しない主溶媒と、水酸基を有する少量溶媒とからなることを特徴とする前記(7)に記載の防眩性反射防止フィルム。
(11)20〜30℃の範囲内の任意の温度において、前記主溶媒に対して、前記少量溶媒の蒸気圧が低いことを特徴とする前記(10)に記載の防眩性反射防止フィルム。
(12)前記主溶媒と前記少量溶媒の質量比が、前者:後者として99:1〜50:50の範囲内にあることを特徴とする、前記(10)に記載の防眩性反射防止フィルム。
(13)前記低屈折率層が、フッ素原子を35〜80質量%の範囲で含み且つ架橋性若しくは重合性の官能基を含む含フッ素ポリマーを主としてなる熱硬化性および/または光硬化性を有する組成物を塗布して形成されたことを特徴とする前記(1)〜(12)のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルム。
(14)前記低屈折率層が、(A)前記含フッ素ポリマー、(B)平均粒径が該低屈折率層の厚みの30%以上100%以下である無機微粒子、および(C)下記一般式(1)で表されるオルガノシラン、その加水分解物、その部分縮合物の何れか一つ以上の成分、を含有する硬化性組成物を塗布し硬化して形成される硬化膜であることを特徴とする前記(13)に記載の防眩性反射防止フィルム。
一般式(1)
(R10mSi(X)4-m
(式中、R10は置換もしくは無置換のアルキル基または置換もしくは無置換のアリール基を表す。Xは水酸基または加水分解可能な基を表す。mは1〜3の整数を表す。)
(15)前記低屈折率層が、下記一般式(2)で表されるオルガノシランの加水分解物、およびその部分縮合物から選択された一つ以上の成分を含有する硬化性組成物を塗布し硬化して形成される硬化膜であることを特徴とする前記(1)〜(12)のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルム。
一般式(2)
(R10lSi(X)4-l
(式中、R10は置換もしくは無置換のアルキル基または置換もしくは無置換のアリール基を表す。Xは水酸基または加水分解可能な基を表す。lは0〜3の整数を表す。)
(16)前記低屈折率層が、(A)平均粒径が該低屈折率層の厚みの30%以上100%以下である無機微粒子、および(B)前記一般式(2)で表されるオルガノシランの加水分解物、およびその部分縮合物から選択された一つ以上の成分を含有する硬化性組成物を塗布し硬化して形成される硬化膜であることを特徴とする前記(15)に記載の防眩性反射防止フィルム。
(17)前記防眩層および前記低屈折率層の両方が、前記一般式(1)で表されるオルガノシラン、その加水分解物、その部分縮合物の何れか一つ以上の成分を含有する硬化性塗布組成物を塗布し硬化して形成される硬化膜であることを特徴とする、前記(13)に記載の防眩性反射防止フィルム。
(18)前記防眩層が、前記一般式(1)および/または前記一般式(2)で表されるオルガノシラン、その加水分解物、その部分縮合物の何れか一つ以上の成分を含有する硬化性塗布組成物を塗布し硬化して形成される硬化膜であることを特徴とする、前記(15)に記載の防眩性反射防止フィルム。
(19)前記無機微粒子が、中空構造からなる屈折率が1.17〜1.40の酸化ケイ素を主成分として含有する無機微粒子であることを特徴とする前記(14)または(16
)に記載の防眩性反射防止フィルム。
(20)少なくとも1層の導電材料を有する透明帯電防止層を有し、前記防眩性反射防止フイルムの表面抵抗値logSRが12以下であることを特徴とする、前記(1)〜(19)のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルム。
(1) An antiglare antireflection film having at least an antiglare layer and a low refractive index layer on a transparent support, which satisfies the following conditions I) and II): .
I) The haze value (hi) resulting from internal scattering of the antiglare antireflection film is (hi) ≦ 50%.
II) Haze value (hs, AGAR) resulting from surface scattering of the antiglare layer and haze value (hs, AGAR) resulting from surface scattering of the antiglare antireflection film after forming the low refractive index layer The ratio (hs, AGAR) / (hs, AG) is 0.05 <(hs, AGAR) / (hs, AG) <1.
(2) The antiglare antireflection film as described in (1) above, wherein the haze value (hi) resulting from internal scattering of the antiglare antireflection film satisfies the following condition III).
III) The haze value (hi) resulting from internal scattering of the antiglare antireflection film is (hi) ≦ 30%.
(3) The antiglare antireflection film as described in (1) above, wherein the following conditions IV) and V) are satisfied.
IV) Haze value (hs, AG) resulting from surface scattering of the antiglare layer and haze value (hs, AGAR) resulting from surface scattering of the antiglare antireflection film after the low refractive index layer is formed Ratio (hs, AGAR) / (hs, AG) is 0.05 <(hs, AGAR) / (hs, AG) ≦ 0.2.
V) The haze value (hs, AGAR) resulting from surface scattering of the antiglare antireflection film is 1.0% ≦ (hs, AGAR) ≦ 5.0%.
(4) The antiglare antireflection film as described in (1) above, which satisfies the following conditions VI) and VII):
VI) Haze value (hs, AGAR) due to surface scattering of the antiglare layer and haze value (hs, AGAR) due to surface scattering of the antiglare antireflection film after forming the low refractive index layer The ratio (hs, AGAR) / (hs, AG) is 0.2 <(hs, AGAR) / (hs, AG) <0.6.
VII) The haze value (hs, AGAR) resulting from surface scattering of the antiglare antireflection film is 2.0% ≦ (hs, AGAR) ≦ 7.0%.
(5) The antiglare property according to any one of (1) to (4) above, wherein the antiglare antireflection film has a center line average roughness Ra of 0.05 to 0.25 μm. Antireflection film.
(6) The image sharpness according to JIS K7105 is 5% to 50% when measured with an optical comb width of 0.5 mm, according to any one of (1) to (4), Antiglare antireflection film.
(7) The antiglare layer comprises at least one kind of translucent fine particles having an average particle diameter of 0.5 to 10 μm dispersed in a translucent resin, and the translucent fine particles and the translucent resin The absolute value of the difference in refractive index is 0.001 to 0.300, and the translucent fine particle is a layer containing 3 to 30% by mass in the total solid content of the antiglare layer. The antiglare antireflection film according to any one of (1) to (4).
(8) The cross-linked poly (meth) acrylate-based heavy polymer in which the translucent resin contains at least a trifunctional or higher (meth) acrylate monomer as a main component and the translucent fine particles have an acrylic content of 50 to 100 mass percent. The antiglare antireflection film as described in (7) above, which is a coalescence.
(9) A crosslinked poly (styrene-acrylic) copolymer in which the translucent resin contains a (meth) acrylate monomer having at least trifunctional or higher functionality and the translucent fine particles have a styrene content of 1 to 100 mass percent. The antiglare antireflection film as described in (7) above, which is a polymer or crosslinked polystyrene.
(10) The antiglare layer is formed from a coating composition containing the translucent resin, the translucent fine particles, and a plurality of types of solvents, and the plurality of types of solvents dissolves the transparent support. The antiglare antireflection film as described in (7) above, which comprises a main solvent which is not used and a small amount of solvent having a hydroxyl group.
(11) The antiglare antireflection film as described in (10) above, wherein the vapor pressure of the small amount solvent is lower than that of the main solvent at an arbitrary temperature within a range of 20 to 30 ° C.
(12) The antiglare antireflection film as described in (10) above, wherein the mass ratio of the main solvent and the small amount solvent is in the range of 99: 1 to 50:50 as the former: the latter. .
(13) The low refractive index layer has thermosetting and / or photocuring properties mainly comprising a fluorine-containing polymer containing fluorine atoms in a range of 35 to 80% by mass and containing a crosslinkable or polymerizable functional group. The antiglare antireflection film according to any one of (1) to (12), which is formed by applying a composition.
(14) The low refractive index layer is (A) the fluoropolymer, (B) inorganic fine particles having an average particle diameter of 30% to 100% of the thickness of the low refractive index layer, and (C) the following general It is a cured film formed by applying and curing a curable composition containing at least one component of organosilane represented by formula (1), a hydrolyzate thereof, and a partial condensate thereof. The antiglare antireflection film as described in (13) above.
General formula (1)
(R 10 ) m Si (X) 4-m
(In the formula, R 10 represents a substituted or unsubstituted alkyl group or a substituted or unsubstituted aryl group. X represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group. M represents an integer of 1 to 3.)
(15) The low refractive index layer is coated with a curable composition containing one or more components selected from a hydrolyzate of organosilane represented by the following general formula (2) and a partial condensate thereof. The antiglare antireflection film as described in any one of (1) to (12) above, which is a cured film formed by curing.
General formula (2)
(R 10 ) l Si (X) 4-l
(In the formula, R 10 represents a substituted or unsubstituted alkyl group or a substituted or unsubstituted aryl group. X represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group. L represents an integer of 0 to 3.)
(16) The low refractive index layer is represented by (A) inorganic fine particles having an average particle diameter of 30% or more and 100% or less of the thickness of the low refractive index layer, and (B) the general formula (2). (15) A cured film formed by applying and curing a curable composition containing one or more components selected from hydrolyzate of organosilane and partial condensate thereof. The antiglare antireflection film described in 1.
(17) Both the antiglare layer and the low refractive index layer contain one or more components of the organosilane represented by the general formula (1), a hydrolyzate thereof, and a partial condensate thereof. The antiglare antireflection film as described in (13) above, which is a cured film formed by applying and curing a curable coating composition.
(18) The antiglare layer contains one or more components of the organosilane represented by the general formula (1) and / or the general formula (2), a hydrolyzate thereof, and a partial condensate thereof. The antiglare antireflection film as described in (15) above, which is a cured film formed by applying and curing a curable coating composition.
(19) The above (14) or (16), wherein the inorganic fine particles are inorganic fine particles containing a silicon oxide having a hollow structure and a refractive index of 1.17 to 1.40 as a main component.
) Antiglare antireflection film described in the above.
(20) The transparent antistatic layer having at least one conductive material, wherein the antiglare antireflection film has a surface resistance value logSR of 12 or less, (1) to (19) The anti-glare antireflection film according to any one of the above.

(21)前記(1)〜(20)のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルムの製造方法であって、透光性微粒子、透光性樹脂および溶媒を含有する防眩層用の塗布組成物および/または低屈折率層用の塗布組成物を、バックアップロールによって支持されて連続走行する前記透明支持体のウェブの表面にスロットダイの先端リップのランドを近接させて該先端リップのスロットから塗布することにより、前記透明支持体上に防眩層および/または低屈折率層を塗工する工程を含むことを特徴とする防眩性反射防止フィルムの製造方法。
(22)偏光膜と、該偏光膜の表側および裏側の両面を保護する2枚の保護フィルムをそれぞれ貼り合わせてなる偏光板において、前記(1)〜(20)のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルムを片側の保護フィルムに用いたことを特徴とする偏光板。
(23)前記偏光板を形成するための前記2枚の保護フィルムのうちの防眩性反射防止フィルムを含まないフィルムが、複数の層からなるとともに、前記偏光膜と貼り合せる面とは反対側の面に光学異方性層を含んでなる光学補償フィルムであり、該光学異方性層がディスコティック構造単位を有する化合物からなる層であり、該ディスコティック構造単位の円盤面が該保護フィルム面に対して傾いており、且つ該ディスコティック構造単位の円盤面と該保護フィルム面とのなす角度が、該光学異方性層の深さ方向において変化していることを特徴とする前記(22)に記載の偏光板。
(24)前記(22)または(23)に記載の偏光板を少なくとも1枚有することを特徴とする液晶表示装置。
(25)表示画面の対角が20インチ以上であることを特徴とする前記(24)に記載の液晶表示装置。
(21) The method for producing an antiglare and antireflection film according to any one of (1) to (20), wherein the coating is for an antiglare layer containing translucent fine particles, a translucent resin and a solvent. A slot of the tip lip of the slot die is brought close to the surface of the web of the transparent support, which is continuously supported by a backup roll, and the coating composition for the low refractive index layer is applied to the surface of the transparent die web. The manufacturing method of the anti-glare antireflection film characterized by including the process of apply | coating an anti-glare layer and / or a low refractive index layer on the said transparent support body by apply | coating.
(22) In the polarizing plate formed by laminating a polarizing film and two protective films for protecting both the front side and the back side of the polarizing film, the antiglare according to any one of (1) to (20) above A polarizing plate characterized by using an antireflection film as a protective film on one side.
(23) Of the two protective films for forming the polarizing plate, the film not including the antiglare antireflection film is composed of a plurality of layers and is opposite to the surface to be bonded to the polarizing film. An optical compensation film comprising an optically anisotropic layer on the surface, the optically anisotropic layer being a layer comprising a compound having a discotic structural unit, and the disc surface of the discotic structural unit being the protective film And the angle formed by the disc surface of the discotic structural unit and the protective film surface is changed in the depth direction of the optically anisotropic layer. The polarizing plate as described in 22).
(24) A liquid crystal display device comprising at least one polarizing plate according to (22) or (23).
(25) The liquid crystal display device according to (24), wherein the diagonal of the display screen is 20 inches or more.

本発明によれば、ウエット塗布法による反射防止層(低屈折層)の形成後に表面凹凸が最適化された防眩性反射防止フィルムが提供される。
また、本発明によれば、上記の防眩性反射防止フィルムを高い生産性で製造可能な製造方法が提供される。
さらに本発明によれば、上記の防眩性反射防止フィルムを用いた偏光板および液晶表示装置が提供される。
ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the anti-glare antireflection film with which the surface unevenness | corrugation was optimized after formation of the antireflection layer (low refractive layer) by the wet application method is provided.
Moreover, according to this invention, the manufacturing method which can manufacture said anti-glare antireflection film with high productivity is provided.
Furthermore, according to this invention, the polarizing plate and liquid crystal display device using said anti-glare antireflection film are provided.

以下、本発明について更に詳細に説明する。なお、本明細書において、数値が物性値、特性値等を表す場合に、「(数値1)〜(数値2)」という記載は「(数値1)以上(数値2)以下」の意味を表す。また、本明細書において、「(メタ)アクリレート」との記載は、「アクリレート及びメタクリレートの少なくともいずれか」の意味を表す。「(メタ)アクリル酸」等も同様である。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail. In the present specification, when a numerical value represents a physical property value, a characteristic value, etc., the description “(numerical value 1) to (numerical value 2)” means “(numerical value 1) or more and (numerical value 2) or less”. . In the present specification, the description “(meth) acrylate” means “at least one of acrylate and methacrylate”. The same applies to “(meth) acrylic acid” and the like.

本発明の防眩性反射防止フィルムについて好適な一実施形態の基本的な構成を図面を参照しながら説明する。
ここで、図1は、本発明の防眩性を有する防眩性反射防止フィルムの好ましい一実施形態を模式的に示す断面図である。
図1に示す本実施形態の防眩性反射防止フィルム1は、透明支持体2と、透明支持体2上に形成された防眩層3と、そして防眩層3上に形成された低屈折率層4とからなる。防眩層の上に低屈折率層を可視光の波長の1/4前後の膜厚で形成することにより、薄膜干渉の原理により表面反射を低減することができる。
防眩層3は、透光性樹脂と透光性樹脂中に分散された透光性微粒子5とからなることが好ましい。
本発明における防眩性反射防止フィルムを構成する各層の屈折率は以下の関係を満たすことが好ましい。
防眩層の屈折率>透明支持体の屈折率>低屈折率層の屈折率
本発明においては、防眩性を有する防眩層は、好ましくは防眩性とハードコート性を兼ね備えており、本実施形態においては、1層で形成されたものを例示しているが、複数層、例えば2層〜4層で構成されていてもよい。また、本実施形態のように透明支持体上に直接設けてもよいが、帯電防止層や防湿層等の他の層を介して設けてもよい。
A basic configuration of a preferred embodiment of the antiglare antireflection film of the present invention will be described with reference to the drawings.
Here, FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a preferred embodiment of the antiglare antireflection film having antiglare properties of the present invention.
An antiglare antireflection film 1 of the present embodiment shown in FIG. 1 includes a transparent support 2, an antiglare layer 3 formed on the transparent support 2, and a low refraction formed on the antiglare layer 3. The rate layer 4. By forming the low refractive index layer on the antiglare layer with a film thickness of about ¼ of the wavelength of visible light, surface reflection can be reduced by the principle of thin film interference.
The antiglare layer 3 is preferably composed of a translucent resin and translucent fine particles 5 dispersed in the translucent resin.
The refractive index of each layer constituting the antiglare antireflection film in the present invention preferably satisfies the following relationship.
The refractive index of the antiglare layer> the refractive index of the transparent support> the refractive index of the low refractive index layer In the present invention, the antiglare layer having antiglare properties preferably has both antiglare properties and hard coat properties, In the present embodiment, a single layer is exemplified, but a plurality of layers, for example, two to four layers may be used. Moreover, although you may provide directly on a transparent support body like this embodiment, you may provide via other layers, such as an antistatic layer and a moisture-proof layer.

本発明の防眩性反射防止フィルムは、その表面凹凸形状として、中心線平均粗さRaが0.01〜0.25μm、好ましくは0.05〜0.25μm、10点平均粗さRzがRaの10倍以下、平均山谷距離Smが1〜150μm、中心線を基準とした平均山谷距離Smの標準偏差が20μm以下、傾斜角0〜5度の面が10%以上となるように設計するのが、十分な防眩性と目視での均一なマット感が達成されるので、好ましい。高い防眩性が必要な場合にはRaが0.08以上とすることで充分な防眩性が得られ、0.25以下であればギラツキ、外光が反射した際の表面の白化等の問題が発生することがなく良好である。一方、TV用途のような観察距離の遠い用途の場合には低い防眩性で充分であり、その場合にはRaが0.05〜0.08の範囲内であることが好ましい。
また、C光源下でのCIE1976L色空間における反射光の色味がa*値−2〜2、b*値−3〜3、380nm〜780nmの範囲内での反射率の最小値と最大値の比0.5〜0.99とするのが、反射光の色味がニュートラルとなるので、好ましい。またC光源下での透過光のb*値を0〜3とすると、表示装置に適用した際の白表示の黄色味が低減され、好ましい。
The anti-glare antireflection film of the present invention has a center line average roughness Ra of 0.01 to 0.25 μm, preferably 0.05 to 0.25 μm, and a 10-point average roughness Rz of Ra as the surface uneven shape. Is designed so that the surface with an average mountain valley distance Sm of 1 to 150 μm, an average mountain valley distance Sm of 20 μm or less, and an inclination angle of 0 to 5 degrees is 10% or more. However, it is preferable because sufficient antiglare property and a visually uniform matte feeling can be achieved. When high anti-glare property is required, sufficient anti-glare property can be obtained by setting Ra to 0.08 or more. If it is 0.25 or less, glare, surface whitening when external light is reflected, etc. Good without any problems. On the other hand, a low anti-glare property is sufficient for applications with a long observation distance such as TV applications, and in that case, Ra is preferably in the range of 0.05 to 0.08.
Further, the minimum reflectance of the reflected light in the CIE 1976 L * a * b * color space under the C light source is in the range of a * value −2 to 2, b * value −3 to 3, 380 nm to 780 nm. A ratio between the value and the maximum value of 0.5 to 0.99 is preferable because the color of the reflected light becomes neutral. Moreover, when the b * value of the transmitted light under the C light source is set to 0 to 3, the yellow color of white display when applied to a display device is reduced, which is preferable.

また、本発明の防眩性反射防止フィルムは、その光学特性を内部散乱に起因するヘイズ(以後、内部ヘイズと呼称する)が50%以下であることが特徴であり、20インチ以上のTV用途のようにギラツキが問題になりにくい用途には30%以下であることが好ましい。また、低屈折率層を形成した後の、防眩性反射防止フィルムと空気との界面での表面散乱に起因するヘイズ(以後、(hs、AGAR)と呼称する)は0.3%〜10%であることが好ましく、高い防眩性が必要な用途には2%〜7%であることがより好ましく、低い防眩性が適当な用途には1%〜5%であることがより好ましい。表面ヘイズが0.3%未満では防眩性が不足し、10%を超えると外光が反射した際の表面の白化等の問題が発生するため好ましくない。
本発明の防眩性反射防止フィルムは、更にJIS K7105に準じた像鮮明性が、光学くし幅0.5mmで測定したときに5%〜50%とするのが、充分な防眩性と画像ボケ、暗室コントラスト低下の改善が両立されるため好ましい。また、鏡面反射率2.5%以下、透過率90%以上とするのが、外光の反射を抑制でき、視認性が向上するため、好ましい。
Further, the antiglare antireflection film of the present invention is characterized in that its optical characteristics have a haze caused by internal scattering (hereinafter referred to as internal haze) of 50% or less, and for TV applications of 20 inches or more. For applications where glare is unlikely to be a problem, it is preferably 30% or less. In addition, haze (hereinafter referred to as (hs, AGAR)) due to surface scattering at the interface between the antiglare antireflection film and air after forming the low refractive index layer is 0.3% to 10%. %, More preferably 2% to 7% for applications requiring high antiglare properties, and more preferably 1% to 5% for applications where low antiglare properties are appropriate. . If the surface haze is less than 0.3%, the antiglare property is insufficient, and if it exceeds 10%, problems such as whitening of the surface when external light is reflected are undesirable.
The antiglare antireflection film of the present invention has a sufficient antiglare property and image that the image clarity according to JIS K7105 is 5% to 50% when measured at an optical comb width of 0.5 mm. This is preferable since both improvement of blur and dark room contrast reduction can be achieved. Moreover, it is preferable that the specular reflectance is 2.5% or less and the transmittance is 90% or more because reflection of external light can be suppressed and visibility is improved.

次に、防眩層について以下に説明する。
〔防眩層〕
<散乱特性>
本発明の防眩層の散乱特性は、その上にウエット塗布法による反射防止層(低屈折率層)を積層した後に、その表面設計が最適化されるように、設計する。本発明では防眩性反射防止フィルムの表面ヘイズ(hs、AGAR)をその表面設計の指標としており、上述した好ましい範囲を実現できるよう、防眩層の表面ヘイズ(hs、AG)を設定するために鋭意検討し、(hs、AGAR)と(hs、AG)の比(hs、AGAR)/(hs、AG)が所定の関係を満たすことで達成されることを見出した。即ち、本発明における(hs、AGAR)/(hs、AG)は、
0.05<(hs、AGAR)/(hs、AG)<1であり、
1)低い防眩性が必要な場合は、(hs、AGAR)/(hs、AG)が、
0.05<(hs、AGAR)/(hs、AG)≦0.2、且つ、
1.0≦(hs、AGAR)≦5.0%
2)高い防眩性が適切な場合は、
0.2<(hs、AGAR)/(hs、AG)<0.6、且つ、
2.0%≦(hs、AGAR)≦7.0%
を満たすことが好ましい。(hs、AGAR)/(hs、AG)は、防眩層の上にウエット塗布法で形成する反射防止層(低屈折率層)の形成過程の要因にも影響を受けるが、米国特許第6502943号明細書、特開2002−148404号公報で公開されているような凹凸表面上に塗布ムラなく反射防止層がウエット塗布法によって形成できる条件では、上記の範囲が好ましい。
Next, the antiglare layer will be described below.
(Anti-glare layer)
<Scattering characteristics>
The scattering characteristics of the antiglare layer of the present invention are designed so that the surface design is optimized after an antireflection layer (low refractive index layer) is deposited thereon by a wet coating method. In the present invention, the surface haze (hs, AGAR) of the antiglare antireflection film is used as an index of the surface design, and the surface haze (hs, AG) of the antiglare layer is set so that the above-described preferable range can be realized. The ratio (hs, AGAR) / (hs, AG) / (hs, AGAR) / (hs, AG) was found to be achieved by satisfying a predetermined relationship. That is, (hs, AGAR) / (hs, AG) in the present invention is
0.05 <(hs, AGAR) / (hs, AG) <1,
1) When low anti-glare property is required, (hs, AGAR) / (hs, AG)
0.05 <(hs, AGAR) / (hs, AG) ≦ 0.2, and
1.0 ≦ (hs, AGAR) ≦ 5.0%
2) When high anti-glare property is appropriate,
0.2 <(hs, AGAR) / (hs, AG) <0.6, and
2.0% ≦ (hs, AGAR) ≦ 7.0%
It is preferable to satisfy. Although (hs, AGAR) / (hs, AG) is also affected by the factors of the formation process of the antireflection layer (low refractive index layer) formed on the antiglare layer by the wet coating method, US Pat. No. 6,502,943. The above-mentioned range is preferable under the condition that the antireflection layer can be formed on the concavo-convex surface without unevenness of coating by the wet coating method as disclosed in Japanese Patent Application No. 2002-148404.

防眩層は、表面散乱による防眩性と、好ましくはフィルムの耐擦傷性を向上するためのハードコート性をフィルムに寄与する目的で形成される。従って、好ましくはハードコート性を付与することのできる透光性樹脂、防眩性を付与するための透光性微粒子、および溶媒を含有する。
<透光性微粒子>
透光性微粒子の平均粒径は0.5〜10μmが好ましく、より好ましくは2.0〜6.0μmである。平均粒径を0.5μm以上とすることで、光の散乱角度分布が良好で、ディスプレイの文字ボケを引き起こす心配もない。また、10μm以下であれば、防眩層の膜厚も厚くならないためカールが大きくならず、素材コストも抑えることができる。
前記透光性微粒子の具体例としては、例えばポリ((メタ)アクリレート)粒子、架橋ポリ((メタ)アクリレート)粒子、ポリスチレン粒子、架橋ポリスチレン粒子、架橋ポリ(アクリル−スチレン)粒子、メラミン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子等の樹脂粒子が好ましく挙げられる。なかでも架橋ポリスチレン粒子、架橋ポリ((メタ)アクリレート)粒子、架橋ポリ(アクリル−スチレン)粒子が好ましく用いられ、これらの粒子の中から選ばれた各透光性微粒子の屈折率にあわせて透光性樹脂の屈折率を調整することにより、本発明の内部ヘイズ、表面ヘイズ、中心線平均粗さを達成することができる。具体的には、後述するような本発明の防眩層に好ましく用いられる3官能以上の(メタ)アクリレートモノマーを主成分とした透光性樹脂(硬化後の屈折率が1.50〜1.53)とアクリル含率50〜100質量パーセントである架橋ポリ(メタ)アクリレート系重合体からなる透光性微粒子の組合せが好ましく、特に前記透光性樹脂とスチレン含率1〜100質量パーセントである架橋ポリ(スチレン−アクリル)共重合体からなる透光性微粒子(屈折率が1.48〜1.54)との組合せが好ましい。
The antiglare layer is formed for the purpose of contributing to the film antiglare properties due to surface scattering and preferably hard coat properties for improving the scratch resistance of the film. Accordingly, it preferably contains a translucent resin capable of imparting hard coat properties, translucent fine particles for imparting antiglare properties, and a solvent.
<Translucent fine particles>
The average particle size of the translucent fine particles is preferably 0.5 to 10 μm, more preferably 2.0 to 6.0 μm. By setting the average particle size to 0.5 μm or more, the light scattering angle distribution is good and there is no fear of causing character blur on the display. Moreover, if it is 10 micrometers or less, since the film thickness of an anti-glare layer does not become thick, curl does not become large and material cost can also be suppressed.
Specific examples of the translucent fine particles include, for example, poly ((meth) acrylate) particles, crosslinked poly ((meth) acrylate) particles, polystyrene particles, crosslinked polystyrene particles, crosslinked poly (acryl-styrene) particles, and melamine resin particles. Preferred examples include resin particles such as benzoguanamine resin particles. Of these, cross-linked polystyrene particles, cross-linked poly ((meth) acrylate) particles, and cross-linked poly (acryl-styrene) particles are preferably used. By adjusting the refractive index of the light-sensitive resin, the internal haze, surface haze, and centerline average roughness of the present invention can be achieved. Specifically, a translucent resin (having a refractive index after curing of 1.50 to 1.1) mainly composed of a tri- or higher functional (meth) acrylate monomer preferably used in the antiglare layer of the present invention as described later. 53) and a combination of translucent fine particles made of a crosslinked poly (meth) acrylate polymer having an acrylic content of 50 to 100 mass percent, and particularly preferably the translucent resin and styrene content of 1 to 100 mass percent. A combination with translucent fine particles (having a refractive index of 1.48 to 1.54) made of a crosslinked poly (styrene-acrylic) copolymer is preferred.

また、粒子径の異なる2種以上の透光性微粒子を併用して用いてもよい。より大きな粒子径の透光性微粒子で防眩性を付与し、より小さな粒子径の透光性微粒子で表面のザラツキ感を低減することが可能である。   Further, two or more kinds of translucent fine particles having different particle diameters may be used in combination. It is possible to impart an antiglare property with the light-transmitting fine particles having a larger particle diameter, and to reduce the roughness of the surface with the light-transmitting fine particles having a smaller particle diameter.

本発明における透光性樹脂と透光性微粒子との屈折率は、1.45〜1.70であることが好ましく、より好ましくは1.48〜1.65である。屈折率を前記範囲とするには、透光性樹脂及び透光性微粒子の種類及び量割合を適宜選択すればよい。どのように選択するかは、予め実験的に容易に知ることができる。
また、本発明においては、透光性樹脂と透光性微粒子との屈折率の差(透光性微粒子の屈折率−透光性樹脂の屈折率)は、絶対値として好ましくは0.001〜0.030であり、より好ましくは0.001〜0.020、更に好ましくは0.001〜0.015である。上記範囲内であれば、フィルム文字ボケ、暗室コントラストの低下、表面の白濁等の問題が生じることもない。
ここで、前記透光性樹脂の屈折率は、アッベ屈折計で直接測定するか、分光反射スペクトルや分光エリプソメトリーを測定するなどして定量評価できる。前記透光性微粒子の屈折率は、屈折率の異なる2種類の溶媒の混合比を変化させて屈折率を変化させた溶媒中に透光性微粒子を等量分散して濁度を測定し、濁度が極小になった時の溶媒の屈折率をアッベ屈折計で測定することで測定される。
In the present invention, the refractive index of the translucent resin and the translucent fine particles is preferably 1.45 to 1.70, more preferably 1.48 to 1.65. In order to set the refractive index within the above range, the kind and amount ratio of the light-transmitting resin and the light-transmitting fine particles may be appropriately selected. How to select can be easily known experimentally in advance.
In the present invention, the difference in refractive index between the translucent resin and the translucent fine particles (the refractive index of the translucent fine particles−the refractive index of the translucent resin) is preferably 0.001 to an absolute value. It is 0.030, More preferably, it is 0.001-0.020, More preferably, it is 0.001-0.015. If it is within the above range, problems such as film character blur, a decrease in dark room contrast, and white turbidity of the surface do not occur.
Here, the refractive index of the translucent resin can be quantitatively evaluated by directly measuring the refractive index with an Abbe refractometer or by measuring a spectral reflection spectrum or a spectral ellipsometry. The refractive index of the light-transmitting fine particles is obtained by measuring the turbidity by dispersing an equal amount of the light-transmitting fine particles in a solvent in which the refractive index is changed by changing the mixing ratio of two types of solvents having different refractive indexes. It is measured by measuring the refractive index of the solvent when the turbidity is minimized with an Abbe refractometer.

前記透光性微粒子は、形成された防眩層中に、防眩層全固形分中に3〜30質量%含有されるように配合される。より好ましくは5〜20質量%である。3質量%以上であれば十分な防眩性が得られ、また30質量%以下とすることで、画像ボケや表面の白濁やギラツキ等の問題が生じることもない。
また、透光性微粒子の密度は、好ましくは10〜1000mg/m2、より好ましくは100〜700mg/m2である。
The translucent fine particles are blended in the formed antiglare layer so as to be contained in an amount of 3 to 30% by mass in the total solid content of the antiglare layer. More preferably, it is 5-20 mass%. When it is 3% by mass or more, sufficient antiglare property is obtained, and when it is 30% by mass or less, problems such as image blurring, surface turbidity and glare do not occur.
Moreover, the density of the translucent fine particles is preferably 10 to 1000 mg / m 2 , more preferably 100 to 700 mg / m 2 .

防眩層の膜厚は、1〜10μmが好ましく、1.2〜8μmがより好ましい。薄すぎるとハード性が不足し、厚すぎるとカールや脆性が悪化して加工適性が低下する場合があるので、前記範囲内とするのが好ましい。   The film thickness of the antiglare layer is preferably 1 to 10 μm, and more preferably 1.2 to 8 μm. If it is too thin, the hard property is insufficient, and if it is too thick, curling and brittleness may be deteriorated and workability may be lowered.

<透光性樹脂>
透光性樹脂は、飽和炭化水素鎖またはポリエーテル鎖を主鎖として有するバインダーポリマーであることが好ましく、飽和炭化水素鎖を主鎖として有するバインダーポリマーであることがさらに好ましい。また、バインダーポリマーは架橋構造を有することが好ましい。
飽和炭化水素鎖を主鎖として有するバインダーポリマーとしては、エチレン性不飽和モノマーの重合体が好ましい。飽和炭化水素鎖を主鎖として有し、かつ架橋構造を有するバインダーポリマーとしては、二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの(共)重合体が好ましい。
バインダーポリマーを高屈折率にするには、このモノマーの構造中に芳香族環や、フッ素以外のハロゲン原子、硫黄原子、リン原子、及び窒素原子から選ばれた少なくとも1種の原子を含む高屈折率モノマーや、フルオレン骨格を分子内に有するモノマー等を選択することもできる。
<Translucent resin>
The translucent resin is preferably a binder polymer having a saturated hydrocarbon chain or a polyether chain as a main chain, and more preferably a binder polymer having a saturated hydrocarbon chain as a main chain. The binder polymer preferably has a crosslinked structure.
As the binder polymer having a saturated hydrocarbon chain as a main chain, a polymer of an ethylenically unsaturated monomer is preferable. As the binder polymer having a saturated hydrocarbon chain as the main chain and having a crosslinked structure, a (co) polymer of monomers having two or more ethylenically unsaturated groups is preferable.
In order to increase the refractive index of the binder polymer, the monomer structure has a high refractive index including at least one atom selected from an aromatic ring, a halogen atom other than fluorine, a sulfur atom, a phosphorus atom, and a nitrogen atom. It is also possible to select a monomer having a ratio, a monomer having a fluorene skeleton in the molecule, and the like.

二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーとしては、多価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステル〔例えば、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,4−シクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,2,3−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート〕、前記のエステルのエチレンオキサイド変性体やカプロラクトン変性体、ビニルベンゼンおよびその誘導体〔例、1,4−ジビニルベンゼン、4−ビニル安息香酸−2−アクリロイルエチルエステル、1,4−ジビニルシクロヘキサノン〕、ビニルスルホン(例、ジビニルスルホン)、アクリルアミド(例、メチレンビスアクリルアミド)およびメタクリルアミドが挙げられる。前記モノマーは2種以上併用してもよい。上記の中でも、前述のように、3官能以上の(メタ)アクリレートモノマーが好ましい。   Examples of the monomer having two or more ethylenically unsaturated groups include esters of polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid [for example, ethylene glycol di (meth) acrylate, butanediol di (meth) acrylate, hexanediol di ( (Meth) acrylate, 1,4-cyclohexanediacrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (Meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, pentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,2,3- Chlorohexane tetramethacrylate, polyurethane polyacrylate, polyester polyacrylate], ethylene oxide-modified products and caprolactone-modified products of the above esters, vinylbenzene and its derivatives [eg, 1,4-divinylbenzene, 4-vinylbenzoic acid-2- Acryloyl ethyl ester, 1,4-divinylcyclohexanone], vinyl sulfone (eg, divinyl sulfone), acrylamide (eg, methylenebisacrylamide) and methacrylamide. Two or more of these monomers may be used in combination. Among the above, as described above, a tri- or higher functional (meth) acrylate monomer is preferable.

高屈折率モノマーの具体例としては、フルオレン骨格を有する(メタ)アクリレート類、ビス(4−メタクリロイルチオフェニル)スルフィド、ビニルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、4−メタクリロキシフェニル−4'−メトキシフェニルチオエーテル等・が挙げられる。これらのモノマーも2種以上併用してもよい。   Specific examples of the high refractive index monomer include (meth) acrylates having a fluorene skeleton, bis (4-methacryloylthiophenyl) sulfide, vinyl naphthalene, vinyl phenyl sulfide, 4-methacryloxyphenyl-4′-methoxyphenyl thioether, etc.・ It is mentioned. Two or more of these monomers may be used in combination.

これらのエチレン性不飽和基を有するモノマーの重合は、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。
従って、前記防眩層は、上述のエチレン性不飽和モノマー等の透光性樹脂形成用のモノマー、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤、透光性微粒子および必要に応じて後述するような無機フィラーを含有する塗液を調製し、該塗液を透明支持体上に塗布後電離放射線または熱による重合反応により硬化させることにより形成することができる。
Polymerization of the monomer having an ethylenically unsaturated group can be performed by irradiation with ionizing radiation or heating in the presence of a photo radical initiator or a thermal radical initiator.
Accordingly, the antiglare layer is composed of a monomer for forming a translucent resin such as the above-mentioned ethylenically unsaturated monomer, a photo radical initiator or a thermal radical initiator, a translucent fine particle, and an inorganic material as described later if necessary. It can be formed by preparing a coating liquid containing a filler and curing the coating liquid on a transparent support by a polymerization reaction by ionizing radiation or heat.

光ラジカル(重合)開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、2,3−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類や芳香族スルホニウム類が挙げられる。アセトフェノン類の例には、2,2−ジエトキシアセトフェノン、p−ジメチルアセトフェノン、1−ヒドロキシジメチルフェニルケトン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−4−メチルチオ−2−モルフォリノプロピオフェノンおよび2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノンが含まれる。ベンゾイン類の例には、ベンゾインベンゼンスルホン酸エステル、ベンゾイントルエンスルホン酸エステル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテルおよびベンゾインイソプロピルエーテルが含まれる。ベンゾフェノン類の例には、ベンゾフェノン、2,4−ジクロロベンゾフェノン、4,4−ジクロロベンゾフェノンおよびp−クロロベンゾフェノンが含まれる。ホスフィンオキシド類の例には、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシドが含まれる。
最新UV硬化技術(p.159,発行人;高薄一弘,発行所;(株)技術情報協会,1991年発行)にも種々の例が記載されており本発明に有用である。
市販の光開裂型の光ラジカル(重合)開始剤としては、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製のイルガキュア(651,184,907)等が好ましい例として挙げられる。
光ラジカル(重合)開始剤は、多官能モノマー100質量部に対して、0.1〜15質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは1〜10質量部の範囲である。
光ラジカル(重合)開始剤に加えて、光増感剤を用いてもよい。光増感剤の具体例として、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルホスフィン、ミヒラーのケトンおよびチオキサントンを挙げることができる。
Photo radical (polymerization) initiators include acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphine oxides, ketals, anthraquinones, thioxanthones, azo compounds, peroxides, 2,3-dialkyldione compounds, disulfides Examples include compounds, fluoroamine compounds and aromatic sulfoniums. Examples of acetophenones include 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, 1-hydroxydimethylphenyl ketone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-4-methylthio-2-morpholinopropiophenone and 2 -Benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone is included. Examples of benzoins include benzoin benzene sulfonate, benzoin toluene sulfonate, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether and benzoin isopropyl ether. Examples of the benzophenones include benzophenone, 2,4-dichlorobenzophenone, 4,4-dichlorobenzophenone and p-chlorobenzophenone. Examples of phosphine oxides include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide.
Various examples are described in the latest UV curing technology (p.159, issuer; Kazuhiro Takashiro, publisher; Technical Information Association, Inc., published in 1991), which is useful for the present invention.
Preferable examples of commercially available photocleavable photoradical (polymerization) initiators include Irgacure (651, 184, 907) manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.
The photo radical (polymerization) initiator is preferably used in the range of 0.1 to 15 parts by mass, more preferably in the range of 1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the polyfunctional monomer.
In addition to the photoradical (polymerization) initiator, a photosensitizer may be used. Specific examples of the photosensitizer include n-butylamine, triethylamine, tri-n-butylphosphine, Michler's ketone and thioxanthone.

熱ラジカル開始剤としては、有機あるいは無機過酸化物、有機アゾ及びジアゾ化合物等を用いることができる。
具体的には、有機過酸化物として過酸化ベンゾイル、過酸化ハロゲンベンゾイル、過酸化ラウロイル、過酸化アセチル、過酸化ジブチル、クメンヒドロぺルオキシド、ブチルヒドロぺルオキシド、無機過酸化物として、過酸化水素、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウム等、アゾ化合物として2−アゾ−ビス−イソブチロニトリル、2−アゾ−ビス−プロピオニトリル、2−アゾ−ビス−シクロヘキサンジニトリル等、ジアゾ化合物としてジアゾアミノベンゼン、p−ニトロベンゼンジアゾニウム等を挙げることができる。
As the thermal radical initiator, organic or inorganic peroxides, organic azo, diazo compounds, and the like can be used.
Specifically, benzoyl peroxide, halogen benzoyl peroxide, lauroyl peroxide, acetyl peroxide, dibutyl peroxide, cumene hydroperoxide, butyl hydroperoxide as organic peroxides, hydrogen peroxide, peroxides as inorganic peroxides. Ammonium sulfate, potassium persulfate, etc., 2-azo-bis-isobutyronitrile, 2-azo-bis-propionitrile, 2-azo-bis-cyclohexanedinitrile, etc. as diazo compounds, diazoaminobenzene, p -Nitrobenzenediazonium etc. can be mentioned.

ポリエーテルを主鎖として有するバインダーポリマーは、多官能エポシキシ化合物の開環重合体が好ましい。多官能エポシキシ化合物の開環重合は、光酸発生剤あるいは熱酸発生剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。
従って、多官能エポキシ化合物、光酸発生剤あるいは熱酸発生剤、透光性微粒子および無機フィラーを含有する塗液を調製し、該塗液を透明支持体上に塗布後電離放射線または熱による重合反応により硬化して防眩層を形成することができる。
The binder polymer having a polyether as the main chain is preferably a ring-opening polymer of a polyfunctional epoxy compound. The ring-opening polymerization of the polyfunctional epoxy compound can be performed by irradiation with ionizing radiation or heating in the presence of a photoacid generator or a thermal acid generator.
Accordingly, a coating liquid containing a polyfunctional epoxy compound, a photoacid generator or a thermal acid generator, translucent fine particles and an inorganic filler is prepared, and the coating liquid is applied onto a transparent support and then polymerized by ionizing radiation or heat. It can be cured by reaction to form an antiglare layer.

二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの代わりにまたはそれに加えて、架橋性官能基を有するモノマーを用いてポリマー中に架橋性官能基を導入し、この架橋性官能基の反応により、架橋構造をバインダーポリマーに導入してもよい。
架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基および活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステルおよびウレタン、テトラメトキシシランのような金属アルコキシドも、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。すなわち、本発明において架橋性官能基は、すぐには反応を示すものではなくとも、分解した結果反応性を示すものであってもよい。
これら架橋性官能基を有するバインダーポリマーは塗布後、加熱することによって架橋構造を形成することができる。
Instead of or in addition to a monomer having two or more ethylenically unsaturated groups, a monomer having a crosslinkable functional group is used to introduce a crosslinkable functional group into the polymer, and by reaction of this crosslinkable functional group, A crosslinked structure may be introduced into the binder polymer.
Examples of the crosslinkable functional group include isocyanate group, epoxy group, aziridine group, oxazoline group, aldehyde group, carbonyl group, hydrazine group, carboxyl group, methylol group and active methylene group. Vinylsulfonic acid, acid anhydride, cyanoacrylate derivative, melamine, etherified methylol, ester and urethane, and metal alkoxide such as tetramethoxysilane can also be used as a monomer for introducing a crosslinked structure. A functional group that exhibits crosslinkability as a result of the decomposition reaction, such as a block isocyanate group, may be used. That is, in the present invention, the crosslinkable functional group may not react immediately but may exhibit reactivity as a result of decomposition.
These binder polymers having a crosslinkable functional group can form a crosslinked structure by heating after coating.

防眩層には、層の屈折率を調整して内部散乱に起因するヘイズ値を低減するために、前記の透光性微粒子に加えて、ケイ素、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なくとも1種の金属の酸化物からなり、平均粒径が0.2μm以下、好ましくは0.1μm以下、より好ましくは0.06μm以下である無機フィラーを含有してもよい。これらの無機フィラーは、一般的に比重が有機物よりも高く、塗布組成物の密度を高くできるため、透光性微粒子の沈降速度を遅くする効果もある。
防眩層に用いられる無機フィラーは表面をシランカップリング処理又はチタンカップリング処理されることも好ましく、フィラー表面にバインダー種と反応できる官能基を有する表面処理剤が好ましく用いられる。
これらの無機フィラーを用いる場合、その添加量は、防眩層の全質量の10〜90%であることが好ましく、より好ましくは20〜80%であり、特に好ましくは30〜75%である。
なお、このような無機フィラーは、粒径が光の波長よりも十分小さいために散乱が生じず、バインダーポリマーに該フィラーが分散した分散体は光学的に均一な物質として振舞う。
また、防眩層にオルガノシラン化合物を用いることができる。オルガノシラン化合物の添加量は、防眩層の全固形分の0.001〜50質量%が好ましく、0.01〜20質量%がより好ましく、0.05〜10質量%が更に好ましく、0.1〜5質量%が特に好ましい。
In addition to the above light-transmitting fine particles, silicon, titanium, zirconium, aluminum, indium, zinc, tin are used for the antiglare layer in order to adjust the refractive index of the layer and reduce the haze value caused by internal scattering. And an inorganic filler comprising an oxide of at least one metal selected from antimony and having an average particle diameter of 0.2 μm or less, preferably 0.1 μm or less, more preferably 0.06 μm or less. Good. Since these inorganic fillers generally have a specific gravity higher than that of organic substances and can increase the density of the coating composition, they also have the effect of slowing the sedimentation rate of the light-transmitting fine particles.
The surface of the inorganic filler used in the antiglare layer is preferably subjected to a silane coupling treatment or a titanium coupling treatment, and a surface treatment agent having a functional group capable of reacting with a binder species on the filler surface is preferably used.
When using these inorganic fillers, the addition amount is preferably 10 to 90% of the total mass of the antiglare layer, more preferably 20 to 80%, and particularly preferably 30 to 75%.
Such an inorganic filler does not scatter because its particle size is sufficiently smaller than the wavelength of light, and a dispersion in which the filler is dispersed in a binder polymer behaves as an optically uniform substance.
An organosilane compound can be used for the antiglare layer. The addition amount of the organosilane compound is preferably 0.001 to 50% by mass, more preferably 0.01 to 20% by mass, still more preferably 0.05 to 10% by mass, based on the total solid content of the antiglare layer. 1-5 mass% is especially preferable.

<防眩層用界面活性剤>
本発明の防眩層は、特に塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状均一性を確保するために、フッ素系、シリコーン系の何れかの界面活性剤、あるいはその両者を防眩層形成用の塗布組成物中に含有することが好ましい。特にフッ素系の界面活性剤は、より少ない添加量において、本発明の防眩性反射防止フィルムの塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状故障を改良する効果が現れるため、好ましく用いられる。
面状均一性を高めつつ、高速塗布適性を持たせることにより生産性を高めることが目的である。
<Surfactant for antiglare layer>
The antiglare layer of the present invention is formed with an antiglare layer formed of either a fluorine-based or silicone-based surfactant, or both, in order to ensure surface uniformity such as coating unevenness, drying unevenness, and point defects. It is preferable to contain it in the coating composition. In particular, a fluorine-based surfactant is preferably used because an effect of improving surface defects such as coating unevenness, drying unevenness, and point defects of the antiglare antireflection film of the present invention appears in a smaller addition amount.
The purpose is to increase productivity by giving high-speed coating suitability while improving surface uniformity.

フッ素系の界面活性剤の好ましい例としては、フルオロ脂肪族基含有共重合体(「フッ素系ポリマー」と略記することもある)が挙げられ、該フッ素系ポリマーは、下記(i)のモノマーに相当する繰り返し単位を含むことを特徴とする、あるいは下記(i)と下記(ii)のモノマーに相当する繰り返し単位を含むことを特徴とするアクリル樹脂、メタアクリル樹脂、及びこれらに共重合可能なビニル系モノマーとの共重合体が有用である。   Preferable examples of the fluorosurfactant include a fluoroaliphatic group-containing copolymer (sometimes abbreviated as “fluorine polymer”), and the fluoropolymer includes the following monomer (i): Acrylic resin, methacrylic resin characterized by containing corresponding repeating units, or containing repeating units corresponding to monomers (i) and (ii) below, and copolymerizable therewith Copolymers with vinyl monomers are useful.

(i)下記一般式(I)で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマー
一般式(I)
(I) Fluoroaliphatic group-containing monomer represented by the following general formula (I) General formula (I)

Figure 0005010813
Figure 0005010813

一般式(I)においてR11は水素原子またはメチル基を表し、Xは酸素原子、イオウ原子または−N(R12)−を表し、mは1以上6以下の整数、nは2〜4の整数を表す。R12は水素原子または炭素数1〜4のアルキル基、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基を表し、好ましくは水素原子またはメチル基である。Xは酸素原子が好ましい。 In the general formula (I), R 11 represents a hydrogen atom or a methyl group, X represents an oxygen atom, a sulfur atom or —N (R 12 ) —, m is an integer of 1 to 6, and n is 2 to 4. Represents an integer. R 12 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, specifically a methyl group, an ethyl group, a propyl group, or a butyl group, preferably a hydrogen atom or a methyl group. X is preferably an oxygen atom.

(ii)前記(i)と共重合可能な下記一般式(II)で示されるモノマー
一般式(II)
(Ii) Monomer general formula (II) represented by the following general formula (II) copolymerizable with the above (i)

Figure 0005010813
Figure 0005010813

一般式(II)において、R13は水素原子またはメチル基を表し、Yは酸素原子、イオウ原子または−N(R15)−を表し、R15は水素原子または炭素数1〜4のアルキル基、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基を表し、好ましくは水素原子またはメチル基である。Yは酸素原子、−N(H)−、および−N(CH3)−が好ましい。
14は置換基を有しても良い炭素数4以上20以下の直鎖、分岐または環状のアルキル基またはポリ(アルキレンオキシ)基を含むアルキル基を表す。
In the general formula (II), R 13 represents a hydrogen atom or a methyl group, Y represents an oxygen atom, a sulfur atom or —N (R 15 ) —, and R 15 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. Specifically, it represents a methyl group, an ethyl group, a propyl group or a butyl group, preferably a hydrogen atom or a methyl group. Y is an oxygen atom, -N (H) -, and -N (CH 3) - are preferred.
R 14 represents an alkyl group including a linear, branched or cyclic alkyl group or poly (alkyleneoxy) group having 4 to 20 carbon atoms which may have a substituent.

14のアルキル基の置換基としては、水酸基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、カルボキシル基、アルキルエーテル基、アリールエーテル基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基等があげられるがこの限りではない。炭素数4以上20以下の直鎖、分岐または環状のアルキル基としては、直鎖及び分岐してもよいブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、オクタデシル基、エイコサニル基等、また、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等の単環シクロアルキル基及びビシクロヘプチル基、ビシクロデシル基、トリシクロウンデシル基、テトラシクロドデシル基、アダマンチル基、ノルボルニル基、テトラシクロデシル基、等の多環シクロアルキル基が好適に用いられる。 Examples of the substituent for the alkyl group of R 14 include a hydroxyl group, an alkylcarbonyl group, an arylcarbonyl group, a carboxyl group, an alkyl ether group, an aryl ether group, a halogen atom such as a fluorine atom, a chlorine atom, and a bromine atom, a nitro group, and a cyano group. , Amino groups and the like, but not limited thereto. Examples of the linear, branched or cyclic alkyl group having 4 to 20 carbon atoms include a butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group and undecyl group which may be linear or branched. , Dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, pentadecyl group, octadecyl group, eicosanyl group, etc., and monocyclic cycloalkyl groups such as cyclohexyl group, cycloheptyl group and bicycloheptyl group, bicyclodecyl group, tricycloundecyl group, A polycyclic cycloalkyl group such as a tetracyclododecyl group, an adamantyl group, a norbornyl group, a tetracyclodecyl group, or the like is preferably used.

本発明の防眩層で用いられるフッ素系ポリマー中に用いられるフルオロ脂肪族基含有モノマーの量は、該フッ素系ポリマーの各単量体に基づいて10モル%以上であり、好ましくは15〜70モル%であり、より好ましくは20〜60モル%の範囲である。   The amount of the fluoroaliphatic group-containing monomer used in the fluoropolymer used in the antiglare layer of the present invention is 10 mol% or more based on each monomer of the fluoropolymer, preferably 15 to 70. It is mol%, More preferably, it is the range of 20-60 mol%.

本発明の防眩層で用いられるフッ素系ポリマーの好ましい質量平均分子量は、3000〜100,000が好ましく、5,000〜80,000がより好ましい。
更に、本発明の防眩層で用いられるフッ素系ポリマーの好ましい添加量は、塗布液に対して0.001〜5質量%の範囲であり、好ましくは0.005〜3質量%の範囲であり、更に好ましくは0.01〜1質量%の範囲である。フッ素系ポリマーの添加量が0.001質量%以上で効果が十分であり、また5質量%以下とすることで、塗膜の乾燥が十分に行われ、塗膜としての良好な性能(例えば反射率、耐擦傷性)が得られる。
The preferred mass average molecular weight of the fluoropolymer used in the antiglare layer of the present invention is preferably 3000 to 100,000, more preferably 5,000 to 80,000.
Furthermore, the preferable addition amount of the fluoropolymer used in the antiglare layer of the present invention is in the range of 0.001 to 5% by mass, preferably in the range of 0.005 to 3% by mass with respect to the coating solution. More preferably, it is the range of 0.01-1 mass%. When the addition amount of the fluorine-based polymer is 0.001% by mass or more, the effect is sufficient, and by setting it to 5% by mass or less, the coating film is sufficiently dried and good performance as a coating film (for example, reflection) Rate, scratch resistance).

以下、一般式(I)で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーに相当する繰り返し単位を含有するフッ素系ポリマーの具体的な構造の例を示すがこの限りではない。なお式中の数字は各モノマー成分のモル比率を示す。Mwは質量平均分子量を表す。   Hereinafter, although the example of the specific structure of the fluorine-type polymer containing the repeating unit corresponding to the fluoro aliphatic group containing monomer represented by general formula (I) is shown, it is not this limitation. In addition, the number in a formula shows the molar ratio of each monomer component. Mw represents a mass average molecular weight.

Figure 0005010813
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Figure 0005010813
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しかしながら、前記のようなフッ素系ポリマーを使用することにより、防眩層表面にF原子を含有する官能基が偏析することにより防眩層の表面エネルギーが低下し、前記防眩層上に低屈折率層をオーバーコートしたときに反射防止性能が悪化する問題が生じる。これは低屈折率層を形成するために用いられる硬化性組成物の濡れ性が悪化するために低屈折率層に目視では検知できない微小なムラが悪化するためと推定される。このような問題を解決するためには、フッ素系ポリマーの構造と添加量を調整することにより、防眩層の表面エネルギーを好ましくは20mN・m-1〜50mN・m-1に、より好ましくは30mN・m-1〜40mN・m-1に制御することが効果的である。前記のような表面エネルギーを実現するためには、X線光電子分光法で測定したフッ素原子由来のピークと炭素原子由来のピークの比であるF/Cが0.1〜1.5であることが必要である。 However, the use of such a fluoropolymer reduces the surface energy of the antiglare layer due to segregation of functional groups containing F atoms on the surface of the antiglare layer, resulting in low refraction on the antiglare layer. When the rate layer is overcoated, there arises a problem that the antireflection performance deteriorates. This is presumably because minute unevenness that cannot be visually detected in the low refractive index layer deteriorates because the wettability of the curable composition used for forming the low refractive index layer deteriorates. To solve such problems, by adjusting the structure and amount of the fluorine-based polymer, the surface energy of the antiglare layer preferably in 20mN · m -1 ~50mN · m -1 , more preferably it is effective to control the 30mN · m -1 ~40mN · m -1 . In order to realize the surface energy as described above, F / C, which is a ratio of a peak derived from a fluorine atom and a peak derived from a carbon atom, measured by X-ray photoelectron spectroscopy is 0.1 to 1.5. is required.

また、上層を塗布する時には上層を形成する溶媒に抽出されるようなフッ素系ポリマーを選択することで、下層表面(=界面)に偏在することがなくなり上層と下層の密着性を持たせることで、高速塗布においても面状の均一性を保ち、かつ耐擦傷性の強い反射防止フィルムを提供できる表面自由エネルギーの低下を防ぐことにより、低屈折率層塗布前の防眩層の表面エネルギーを前記範囲に制御することでも目的を達成することができる。そのような素材の例は下記一般式(III)で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーに相当する繰り返し単位を含むことを特徴とするアクリル樹脂、メタアクリル樹脂、及びこれらに共重合可能なビニル系モノマーとの共重合体である。   In addition, when the upper layer is applied, by selecting a fluorine-based polymer that is extracted by the solvent that forms the upper layer, it is not unevenly distributed on the lower layer surface (= interface), so that adhesion between the upper layer and the lower layer is achieved. The surface energy of the antiglare layer before coating the low refractive index layer can be reduced by maintaining the surface uniformity even at high speed coating and preventing the decrease in surface free energy that can provide an antireflection film with high scratch resistance. The purpose can also be achieved by controlling the range. Examples of such a material include an acrylic resin, a methacrylic resin, and a vinyl copolymerizable therewith, containing a repeating unit corresponding to a fluoroaliphatic group-containing monomer represented by the following general formula (III): It is a copolymer with a monomer.

(iii)下記一般式(III)で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマー
一般式(III)
(Iii) Fluoroaliphatic group-containing monomer represented by the following general formula (III) General formula (III)

Figure 0005010813
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一般式(III)においてR21は水素原子またはハロゲン原子またはメチル基を表し、水素原子、メチル基がより好ましい。X2は酸素原子、イオウ原子または−N(R22)−を表し、酸素原子または−N(R22)−がより好ましく、酸素原子が更に好ましい。mは1以上6以下の整数(1〜3がより好ましく、1であることが更に好ましい。)、nは1以上18以下の整数(4〜12がより好ましく、6〜8が更に好ましい。)を表す。R22は水素原子または置換基を有しても良い炭素数1〜8のアルキル基を表し、水素原子または炭素数1〜4のアルキル基がより好ましく、水素原子またはメチル基が更に好ましい。
またフッ素系ポリマー中に一般式(III)で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーが2種類以上構成成分として含まれていても良い。
In the general formula (III), R 21 represents a hydrogen atom, a halogen atom or a methyl group, more preferably a hydrogen atom or a methyl group. X 2 represents an oxygen atom, a sulfur atom or —N (R 22 ) —, more preferably an oxygen atom or —N (R 22 ) —, and still more preferably an oxygen atom. m is an integer from 1 to 6 (more preferably from 1 to 3, more preferably 1), and n is an integer from 1 to 18 (more preferably from 4 to 12, and even more preferably from 6 to 8). Represents. R 22 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms which may have a substituent, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and further preferably a hydrogen atom or a methyl group.
In addition, two or more kinds of fluoroaliphatic group-containing monomers represented by the general formula (III) may be contained in the fluoropolymer as a constituent component.

(iv)前記(iii)と共重合可能な下記一般式(IV)で示されるモノマーも使用できる。
一般式(IV)
(Iv) A monomer represented by the following general formula (IV) that can be copolymerized with the above (iii) can also be used.
Formula (IV)

Figure 0005010813
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一般式(IV)において、R23は水素原子、ハロゲン原子またはメチル基を表し、水素原子、メチル基がより好ましい。Y2は酸素原子、イオウ原子または−N(R25)−を表し、酸素原子または−N(R25)−がより好ましく、酸素原子が更に好ましい。R25は水素原子または炭素数1〜8のアルキル基を表し、水素原子または炭素数1〜4のアルキル基がより好ましく、水素原子またはメチル基が更に好ましい。
24は置換基を有しても良い炭素数1〜20の直鎖、分岐または環状のアルキル基、ポリ(アルキレンオキシ)基を含むアルキル基、置換基を有していても良い芳香族基(例えば、フェニル基またはナフチル基)を表す。炭素数1〜12の直鎖、分岐、または環状のアルキル基、または総炭素数6〜18の芳香族がより好ましく、炭素数1〜8の直鎖、分岐、または環状のアルキル基が更に好ましい。
In the general formula (IV), R 23 represents a hydrogen atom, a halogen atom or a methyl group, and more preferably a hydrogen atom or a methyl group. Y 2 represents an oxygen atom, a sulfur atom or —N (R 25 ) —, more preferably an oxygen atom or —N (R 25 ) —, and still more preferably an oxygen atom. R 25 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and further preferably a hydrogen atom or a methyl group.
R 24 is an optionally substituted linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkyl group containing a poly (alkyleneoxy) group, and an optionally substituted aromatic group. (For example, a phenyl group or a naphthyl group). A linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or an aromatic group having 6 to 18 carbon atoms is more preferable, and a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 8 carbon atoms is more preferable. .

以下、一般式(III)で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーに相当する繰り返し単位を含むフッ素系ポリマーの具体的な構造の例を示すがこの限りではない。なお、式中の数字は各モノマー成分のモル比率を示す。Mwは質量平均分子量を表す。   Hereinafter, although the example of the specific structure of the fluorine-type polymer containing the repeating unit corresponding to the fluoro aliphatic group containing monomer represented by general formula (III) is shown, it is not this limitation. In addition, the number in a formula shows the molar ratio of each monomer component. Mw represents a mass average molecular weight.

Figure 0005010813
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Figure 0005010813
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また防眩層上に低屈折率層をオーバーコートする時点で表面エネルギーの低下を防げば、反射防止性能の悪化が防げる。防眩層塗布時にはフッ素系ポリマーを用いて塗布液の表面張力を下げて面状均一性を高め、高速塗布による高生産性を維持し、防眩層塗布後にコロナ処理、UV処理、熱処理、鹸化処理、溶剤処理といった表面処理手法を用いて、特に好ましいのはコロナ処理であるが、表面自由エネルギーの低下を防ぐことにより、低屈折率層塗布前の防眩層の表面エネルギーを前記範囲に制御することでも目的を達成することができる。   Further, if the surface energy is prevented from being lowered when the low refractive index layer is overcoated on the antiglare layer, the deterioration of the antireflection performance can be prevented. When applying an anti-glare layer, the surface tension of the coating solution is lowered by using a fluoropolymer to improve surface uniformity and maintain high productivity by high-speed application. After application of the anti-glare layer, corona treatment, UV treatment, heat treatment, saponification Corona treatment is particularly preferred using surface treatment techniques such as treatment and solvent treatment, but the surface energy of the antiglare layer before application of the low refractive index layer is controlled within the above range by preventing the surface free energy from decreasing. You can also achieve your goals.

また、本発明の防眩層を形成する為の塗布組成物中に、チクソトロピー剤を添加しても
良い。チクソトロピー剤としては、0.1μm以下のシリカ、マイカ等があげられる。これら添加剤の含有量は、通常、紫外線硬化型樹脂100質量部に対して、1〜10質量部程度とするのが好適である。
Moreover, you may add a thixotropic agent in the coating composition for forming the glare-proof layer of this invention. Examples of the thixotropic agent include silica and mica of 0.1 μm or less. In general, the content of these additives is preferably about 1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the ultraviolet curable resin.

本発明の防眩層は、直接透明支持体上にウエット塗布されるケースが多いため、特に塗布組成物に用いる溶媒は重要な要因となる。要件としては、上記透光性樹脂等の各種溶質を充分に溶解すること、上記透光性微粒子を溶解しないこと、塗布〜乾燥過程で塗布ムラ、乾燥ムラを発生しにくいこと、支持体を溶解しないこと(平面性悪化、白化等の故障防止に必要)、逆に最低限の程度には支持体を膨潤させること(密着性に必要)、等が挙げられる。
具体例としては、支持体にトリアセチルセルロースを用いる場合には、主溶媒として各種ケトン(メチルエチルケトン、アセトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等)、各種セロソルブ(エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル等)が好ましく用いられる。また、上記の中から選択した主溶媒に対して、水酸基を有する少量溶媒を添加することにより、防眩性が調整でき、特に好ましい。水酸基を有する少量溶媒は、塗布組成物の乾燥工程において主溶媒よりも後まで残留することで防眩性を強くすることができるため、20〜30℃の範囲内の任意の温度において、前記主溶媒に対して、前記少量溶媒の蒸気圧が低いことが好ましい。例えば、主溶媒をメチルイソブチルケトン(21.7℃における蒸気圧:16.5mmHg)に対して水酸基を有する少量溶媒としてプロピレングリコール(20.0℃における蒸気圧:0.08mmHg)の組み合わせが好ましい一例として挙げられる。主溶媒と水酸基を有する少量溶媒の混合比は、前者:後者として質量比で99:1〜50:50が好ましく、95:5〜70:30がより好ましい。上記範囲内において、塗布液の安定性が良好となる。
Since the antiglare layer of the present invention is often wet-coated directly on a transparent support, the solvent used in the coating composition is an important factor. As requirements, it is necessary to sufficiently dissolve various solutes such as the above-mentioned translucent resin, not to dissolve the above-mentioned translucent fine particles, to prevent coating unevenness and drying unevenness from being applied to drying, and to dissolve the support. Not necessary (necessary for failure prevention such as deterioration of flatness and whitening), and conversely, swelling the support to the minimum extent (necessary for adhesion).
As a specific example, when triacetylcellulose is used for the support, various ketones (methyl ethyl ketone, acetone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, etc.) and various cellosolves (ethyl cellosolve, butyl cellosolve, propylene glycol monomethyl ether, etc.) are used as the main solvent. Preferably used. Moreover, antiglare property can be adjusted by adding a small amount of a solvent having a hydroxyl group to the main solvent selected from the above, which is particularly preferable. Since the small amount solvent having a hydroxyl group can strengthen the antiglare property by remaining until after the main solvent in the drying step of the coating composition, the main solvent can be used at any temperature within the range of 20 to 30 ° C. The vapor pressure of the small amount solvent is preferably lower than that of the solvent. For example, a preferable example is a combination of propylene glycol (vapor pressure at 20.0 ° C .: 0.08 mmHg) as a small amount solvent having a hydroxyl group with respect to methyl isobutyl ketone (vapor pressure at 21.7 ° C .: 16.5 mmHg) as the main solvent. As mentioned. The mixing ratio of the main solvent and the small amount solvent having a hydroxyl group is preferably 99: 1 to 50:50, more preferably 95: 5 to 70:30 in terms of mass ratio as the former: the latter. Within the said range, stability of a coating liquid becomes favorable.

次に、前記低屈折率層について以下に説明する。
〔低屈折率層〕
本発明で用いられる低屈折率層は、フッ素原子を35〜80質量%の範囲で含み且つ架橋性若しくは重合性の官能基を含む含フッ素ポリマーを主としてなる熱硬化性および/または光硬化性を有する組成物を塗布して形成されることが好ましい。
本発明の防眩性反射防止フィルムにおける低屈折率層の屈折率は、1.30〜1.55であり、好ましくは1.35〜1.45の範囲である。上記範囲内において、良好な反射防止性能が得られる。
さらに、低屈折率層は下記数式(I)を満たすことが低反射率化の点で好ましい。
数式(I):
(mλ/4)×0.7<n1×d1<(mλ/4)×1.3
式中、mは正の奇数であり、n1は低屈折率層の屈折率であり、そして、d1は低屈折率層の膜厚(nm)である。また、λは波長であり、500〜550nmの範囲の値である。
なお、前記数式(I)を満たすとは、前記波長の範囲において数式(I)を満たすm(正の奇数、通常1である)が存在することを意味している。
Next, the low refractive index layer will be described below.
(Low refractive index layer)
The low refractive index layer used in the present invention has a thermosetting property and / or a photocuring property mainly comprising a fluorine-containing polymer containing fluorine atoms in a range of 35 to 80% by mass and containing a crosslinkable or polymerizable functional group. It is preferably formed by applying a composition having the same.
The refractive index of the low refractive index layer in the antiglare antireflection film of the present invention is 1.30 to 1.55, preferably 1.35 to 1.45. Within the above range, good antireflection performance can be obtained.
Further, the low refractive index layer preferably satisfies the following formula (I) from the viewpoint of reducing the reflectance.
Formula (I):
(Mλ / 4) × 0.7 <n1 × d1 <(mλ / 4) × 1.3
In the formula, m is a positive odd number, n1 is the refractive index of the low refractive index layer, and d1 is the film thickness (nm) of the low refractive index layer. Further, λ is a wavelength, which is a value in the range of 500 to 550 nm.
In addition, satisfy | filling said numerical formula (I) means that m (positive odd number, usually 1) which satisfy | fills numerical formula (I) exists in the said wavelength range.

低屈折率層を形成する際に使用される硬化性組成物は、(A)含フッ素ポリマー、(B)無機微粒子、および(C)オルガノシラン化合物を含有してなるのが好ましい。また、オルガノシラン化合物(C)、オルガノシラン化合物(C)および無機微粒子(B)を含有してなるものが別の好ましい例として挙げられる。
低屈折率層を形成する素材について以下に説明する。
低屈折率層は、例えば含フッ素ポリマーを主成分とする硬化性組成物を塗布、乾燥、硬化して形成される硬化膜である。
<低屈折率層用含フッ素ポリマー>
(A)含フッ素ポリマーは、硬化被膜にした場合の被膜の動摩擦係数が0.03〜0.
20、水に対する接触角が90〜120°、純水の滑落角が70°以下であり、熱または電離放射線により架橋するポリマーであるのが、ロールフィルムをウェブ搬送しながら塗布、硬化する場合などにおいて生産性向上の点で好ましい。
また、本発明の防眩性反射防止フィルムを画像表示装置に装着した時、市販の接着テープとの剥離力が低いほどシールやメモを貼り付けた後に剥がれ易くなるので、剥離力は、500gf(4.9N)以下が好ましく、300gf(2.9N)以下がより好ましく、100gf(0.98N)以下が最も好ましい。また、微小硬度計で測定した表面硬度が高いほど、傷がつき難いので、該表面硬度が、0.3GPa以上が好ましく、0.5GPa以上がより好ましい。
The curable composition used when forming the low refractive index layer preferably contains (A) a fluorine-containing polymer, (B) inorganic fine particles, and (C) an organosilane compound. Another preferred example includes an organosilane compound (C), an organosilane compound (C) and an inorganic fine particle (B).
The material for forming the low refractive index layer is described below.
The low refractive index layer is a cured film formed, for example, by applying, drying and curing a curable composition containing a fluorine-containing polymer as a main component.
<Fluoropolymer for low refractive index layer>
(A) When the fluoropolymer has a cured coating, the dynamic friction coefficient of the coating is 0.03 to 0.00.
20. When the contact angle to water is 90 to 120 °, the sliding angle of pure water is 70 ° or less, and the polymer is crosslinked by heat or ionizing radiation, when the roll film is applied and cured while transporting the web, etc. In view of improving productivity.
Also, when the antiglare antireflection film of the present invention is mounted on an image display device, the lower the peel strength from a commercially available adhesive tape, the easier it is to peel off after sticking a seal or memo, so the peel strength is 500 gf ( 4.9 N) or less, preferably 300 gf (2.9 N) or less, and most preferably 100 gf (0.98 N) or less. Further, the higher the surface hardness measured with a microhardness meter, the harder it is to scratch. Therefore, the surface hardness is preferably 0.3 GPa or more, and more preferably 0.5 GPa or more.

低屈折率層に用いられる含フッ素ポリマーは、フッ素原子を35〜80質量%の範囲で含有し、且つ架橋性もしくは重合性の官能基を含む含フッ素ポリマーであることが好ましく、例えば、パーフルオロアルキル基含有シラン化合物〔例えば(ヘプタデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロデシル)トリエトキシシラン〕の加水分解物や脱水縮合物の他、含フッ素モノマー単位と架橋反応性単位とを構成単位とする含フッ素共重合体が挙げられる。含フッ素共重合体の場合、主鎖は、炭素原子のみからなるのが好ましい。すなわち、主鎖骨格に酸素原子や窒素原子などを有しないのが好ましい。   The fluorine-containing polymer used in the low refractive index layer is preferably a fluorine-containing polymer containing a fluorine atom in a range of 35 to 80% by mass and containing a crosslinkable or polymerizable functional group. In addition to hydrolyzate and dehydration condensate of alkyl group-containing silane compound [for example, (heptadecafluoro-1,1,2,2-tetrahydrodecyl) triethoxysilane], a fluorine-containing monomer unit and a crosslinking reactive unit are constituted. Examples thereof include a fluorine-containing copolymer as a unit. In the case of a fluorinated copolymer, the main chain preferably consists of only carbon atoms. That is, it is preferable that the main chain skeleton does not have an oxygen atom or a nitrogen atom.

前記含フッ素モノマー単位の具体例としては、例えばフルオロオレフィン類(例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、パーフルオロオクチルエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール等)、(メタ)アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類(例えばビスコート6FM(大阪有機化学製)やM−2020(ダイキン製)等)、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられるが、好ましくはパーフルオロオレフィン類であり、屈折率、溶解性、透明性、入手性等の観点から特に好ましくはヘキサフルオロプロピレンである。   Specific examples of the fluorine-containing monomer unit include, for example, fluoroolefins (for example, fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, perfluorooctylethylene, hexafluoropropylene, perfluoro-2,2-dimethyl-1,3- Dioxoles, etc.), (meth) acrylic acid partial or fully fluorinated alkyl ester derivatives (for example, Biscoat 6FM (manufactured by Osaka Organic Chemicals) and M-2020 (manufactured by Daikin)), fully or partially fluorinated vinyl ethers, etc. However, perfluoroolefins are preferable, and hexafluoropropylene is particularly preferable from the viewpoint of refractive index, solubility, transparency, availability, and the like.

前記架橋反応性単位としては、グリシジル(メタ)アクリレート、グリシジルビニルエーテルのように分子内にあらかじめ自己架橋性官能基を有するモノマーの重合によって得られる構成単位;カルボキシル基やヒドロキシ基、アミノ基、スルホ基等を有するモノマー〔例えば(メタ)アクリル酸、メチロール(メタ)アクリレート、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、アリルアクリレート、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、マレイン酸、クロトン酸等〕の重合によって得られる構成単位に高分子反応によって(メタ)アクリルロイル基等の架橋反応性基を導入した構成単位(例えばヒドロキシ基に対してアクリル酸クロリドを作用させる等の手法で導入できる)が挙げられる。   Examples of the crosslinking reactive unit include a structural unit obtained by polymerization of a monomer having a self-crosslinking functional group in the molecule such as glycidyl (meth) acrylate and glycidyl vinyl ether; carboxyl group, hydroxy group, amino group, sulfo group A structural unit obtained by polymerization of a monomer having, for example, (meth) acrylic acid, methylol (meth) acrylate, hydroxyalkyl (meth) acrylate, allyl acrylate, hydroxyethyl vinyl ether, hydroxybutyl vinyl ether, maleic acid, crotonic acid, etc. And a structural unit in which a crosslinkable reactive group such as a (meth) acryloyl group is introduced by a polymer reaction (for example, it can be introduced by a technique such as allowing acrylic acid chloride to act on a hydroxy group).

また、前記含フッ素モノマー単位及び前記架橋反応性単位以外に溶剤への溶解性、皮膜の透明性等の観点から、適宜フッ素原子を含有しないモノマーを共重合させて、他の重合単位を導入することもできる。併用可能なモノマー単位には特に限定はなく、例えばオレフィン類〔エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等〕、アクリル酸エステル類〔アクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸2−エチルヘキシル〕、メタクリル酸エステル類〔メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート等〕、スチレン誘導体〔スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等〕、ビニルエーテル類〔メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル等〕、ビニルエステル類〔酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等〕、アクリルアミド類〔N−tertブチルアクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド等〕、メタクリルアミド類、アクリロ二トリル誘導体等を挙げることができる。   In addition to the fluorine-containing monomer unit and the cross-linking reactive unit, from the viewpoint of solubility in a solvent, film transparency, and the like, a monomer not containing a fluorine atom is appropriately copolymerized to introduce another polymerization unit. You can also There are no particular limitations on the monomer units that can be used in combination, such as olefins [ethylene, propylene, isoprene, vinyl chloride, vinylidene chloride, etc.], acrylic esters [methyl acrylate, methyl acrylate, ethyl acrylate, acrylic acid 2 -Ethylhexyl], methacrylates (methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, etc.), styrene derivatives (styrene, divinylbenzene, vinyl toluene, α-methylstyrene, etc.), vinyl ethers (methyl) Vinyl ether, ethyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, etc.], vinyl esters [vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl cinnamate, etc.], acrylamides [N-tertbutylacrylamide, N-silane] B hexyl acrylamide], methacrylamides, and acrylonitrile derivatives.

前記含フッ素ポリマーに対しては特開平10−25388号および特開平10−147739号各公報に記載のごとく適宜硬化剤を併用しても良い。   As described in JP-A-10-25388 and JP-A-10-147739, a curing agent may be appropriately used in combination with the fluoropolymer.

本発明で特に有用な含フッ素ポリマーは、パーフルオロオレフィンとビニルエーテル類またはビニルエステル類とのランダム共重合体である。特に単独で架橋反応可能な基〔(メタ)アクリロイル基等のラジカル反応性基、エポキシ基、オキセタニル基等の開環重合性基等〕を有していることが好ましい。
これらの架橋反応性基含有重合単位はポリマーの全重合単位の5〜70mol%を占めていることが好ましく、特に好ましくは30〜60mol%を占めていることである。
The fluorine-containing polymer particularly useful in the present invention is a random copolymer of perfluoroolefin and vinyl ethers or vinyl esters. In particular, it preferably has a group capable of undergoing crosslinking reaction alone (radical reactive group such as (meth) acryloyl group, ring-opening polymerizable group such as epoxy group and oxetanyl group).
These cross-linking reactive group-containing polymer units preferably occupy 5 to 70 mol%, particularly preferably 30 to 60 mol% of the total polymer units of the polymer.

本発明に用いられる低屈折率層用含フッ素ポリマーの好ましい形態として一般式1で表される共重合体が挙げられる。   A preferred form of the fluorine-containing polymer for the low refractive index layer used in the present invention is a copolymer represented by the general formula 1.

Figure 0005010813
Figure 0005010813

一般式1中、Lは炭素数1〜10の連結基を表し、より好ましくは炭素数1〜6の連結基であり、特に好ましくは2〜4の連結基であり、直鎖であっても分岐構造を有していてもよく、環構造を有していてもよく、O、N及びSから選ばれるヘテロ原子を有していても良い。
好ましい例としては、*−(CH22−O−**, *−(CH22−NH−**, *−(CH24−O−**, *−(CH26−O−**, *−(CH22−O−(CH22−O−**,
*−CONH−(CH23−O−**, *−CH2CH(OH)CH2−O−**, *−CH2CH2OCONH(CH23−O−**(* はポリマー主鎖側の連結部位を表し、**は(メタ)アクリロイル基側の連結部位を表す。)等が挙げられる。mは0または1を表わす。
In General Formula 1, L represents a linking group having 1 to 10 carbon atoms, more preferably a linking group having 1 to 6 carbon atoms, particularly preferably a linking group having 2 to 4 carbon atoms, It may have a branched structure, may have a ring structure, or may have a heteroatom selected from O, N and S.
Preferred examples include * — (CH 2 ) 2 —O — **, * — (CH 2 ) 2 —NH — **, * — (CH 2 ) 4 —O — **, * — (CH 2 ). 6 -O - **, * - ( CH 2) 2 -O- (CH 2) 2 -O - **,
* -CONH- (CH 2) 3 -O - **, * -CH 2 CH (OH) CH 2 -O - **, * -CH 2 CH 2 OCONH (CH 2) 3 -O - ** (* Represents a linking site on the polymer main chain side, and ** represents a linking site on the (meth) acryloyl group side. m represents 0 or 1;

一般式1中、Xは水素原子またはメチル基を表す。硬化反応性の観点から、より好ましくは水素原子である。   In general formula 1, X represents a hydrogen atom or a methyl group. From the viewpoint of curing reactivity, a hydrogen atom is more preferable.

一般式1中、Aは任意のビニルモノマーから導かれる繰返し単位を表わし、ヘキサフルオロプロピレンと共重合可能な単量体の構成成分であれば特に制限はなく、基材への密着性、ポリマーのTg(皮膜硬度に寄与する)、溶剤への溶解性、透明性、滑り性、防塵・防汚性等種々の観点から適宜選択することができ、目的に応じて単一あるいは複数のビニルモノマーによって構成されていても良い。   In the general formula 1, A represents a repeating unit derived from an arbitrary vinyl monomer, and is not particularly limited as long as it is a constituent component of a monomer copolymerizable with hexafluoropropylene. Tg (contributes to film hardness), solubility in solvents, transparency, slipperiness, dust / antifouling properties, etc., can be selected as appropriate, depending on the purpose, depending on the single or multiple vinyl monomers It may be configured.

好ましい例としては、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、t−ブチルビニルエーテル、シクロへキシルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、グリシジルビニルエーテル、アリルビニルエーテル等のビニルエーテル類、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステル類、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、グリシジルメタアクリレート、アリル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン等の(メタ)アクリレート類、スチレン、p−ヒドロキシメチルスチレン等のスチレン誘導体、クロトン酸、マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸およびその誘導体等を挙げることができるが、より好ましくはビニルエーテル誘導体、ビニルエステル誘導体であり、特に好ましくはビニルエーテル誘導体である。   Preferred examples include methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, t-butyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, isopropyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, hydroxybutyl vinyl ether, glycidyl vinyl ether, vinyl ethers such as allyl vinyl ether, vinyl acetate, vinyl propionate, butyric acid. (Meth) such as vinyl esters such as vinyl, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, hydroxyethyl (meth) acrylate, glycidyl methacrylate, allyl (meth) acrylate, (meth) acryloyloxypropyltrimethoxysilane Acrylates, styrene, styrene derivatives such as p-hydroxymethylstyrene, crotonic acid, maleic acid, itaconic acid Can be mentioned unsaturated carboxylic acids and derivatives thereof, more preferably ether derivatives, vinyl ester derivatives, particularly preferably a vinyl ether derivative.

x、y、zはそれぞれの構成成分のモル%を表わし、30≦x≦60、5≦y≦70、0≦z≦65が好ましく、更に好ましくは、35≦x≦55、30≦y≦60、0≦z≦20の場合であり、特に好ましくは40≦x≦55、40≦y≦55、0≦z≦10の場合である。ただし、x+y+z=100である。
本発明に用いられる共重合体の特に好ましい形態として一般式2が挙げられる。
x, y, and z represent mol% of each constituent component, and 30 ≦ x ≦ 60, 5 ≦ y ≦ 70, and 0 ≦ z ≦ 65 are preferable, and 35 ≦ x ≦ 55, and 30 ≦ y ≦ 65 are more preferable. 60, 0 ≦ z ≦ 20, particularly preferably 40 ≦ x ≦ 55, 40 ≦ y ≦ 55, and 0 ≦ z ≦ 10. However, x + y + z = 100.
A particularly preferred form of the copolymer used in the present invention is General Formula 2.

Figure 0005010813
Figure 0005010813


一般式2においてXは一般式1と同じ意味を表わし、好ましい範囲も同じである。
nは2≦n≦10の整数を表わし、2≦n≦6であることが好ましく、2≦n≦4であることが特に好ましい。
Bは任意のビニルモノマーから導かれる繰返し単位を単位を表わし、単一組成であっても複数の組成によって構成されていても良い。例としては、前記一般式1におけるAの例として説明したものが当てはまる。
x、y、z1およびz2はそれぞれの繰返し単位のmol%を表わし、x及びyは、それぞれ30≦x≦60、5≦y≦70を満たすのが好ましく、更に好ましくは、35≦x≦55、30≦y≦60の場合であり、特に好ましくは40≦x≦55、40≦y≦55の場合である。z1及びz2については、0≦z1≦65、0≦z2≦65を満たすのが好ましく、更に好ましくは0≦z1≦30、0≦z2≦10であることが好ましく、0≦z1≦10、0≦z2≦5であることが特に好ましい。ただし、x+y+z1+z2=100である。
一般式1又は2で表わされる共重合体は、例えば、ヘキサフルオロプロピレン成分とヒドロキシアルキルビニルエーテル成分とを含んでなる共重合体に前記のいずれかの手法により(メタ)アクリロイル基を導入することにより合成できる。この際用いられる再沈殿溶媒としては、イソプロパノール、ヘキサン、メタノール等が好ましい。
一般式1又は2で表わされる共重合体の好ましい具体例としては、特開2004−45462号公報の[0035]〜[0047]に記載されたものを挙げることができ、該公報に記載の方法により合成することができる。
In general formula 2, X represents the same meaning as in general formula 1, and the preferred range is also the same.
n represents an integer of 2 ≦ n ≦ 10, preferably 2 ≦ n ≦ 6, and particularly preferably 2 ≦ n ≦ 4.
B represents a unit of a repeating unit derived from an arbitrary vinyl monomer, and may be composed of a single composition or a plurality of compositions. As an example, what was demonstrated as an example of A in the said General formula 1 is applicable.
x, y, z1 and z2 each represent mol% of each repeating unit, and x and y preferably satisfy 30 ≦ x ≦ 60 and 5 ≦ y ≦ 70, respectively, more preferably 35 ≦ x ≦ 55. 30 ≦ y ≦ 60, particularly preferably 40 ≦ x ≦ 55 and 40 ≦ y ≦ 55. z1 and z2 preferably satisfy 0 ≦ z1 ≦ 65 and 0 ≦ z2 ≦ 65, more preferably 0 ≦ z1 ≦ 30 and 0 ≦ z2 ≦ 10, and 0 ≦ z1 ≦ 10, 0 It is particularly preferable that ≦ z2 ≦ 5. However, x + y + z1 + z2 = 100.
The copolymer represented by the general formula 1 or 2 can be obtained by, for example, introducing a (meth) acryloyl group into a copolymer comprising a hexafluoropropylene component and a hydroxyalkyl vinyl ether component by any of the above-described methods. Can be synthesized. As the reprecipitation solvent used at this time, isopropanol, hexane, methanol and the like are preferable.
Preferable specific examples of the copolymer represented by the general formula 1 or 2 include those described in [0035] to [0047] of JP-A-2004-45462, and the method described in the publication Can be synthesized.

<低屈折率層用無機微粒子>
(B)無機微粒子の配合量は、1mg/m2〜100mg/m2が好ましく、より好ましくは5mg/m2〜80mg/m2、更に好ましくは10mg/m2〜60mg/m2である。少なすぎると、耐擦傷性の改良効果が減り、多すぎると、低屈折率層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりなどの外観や積分反射率が悪化する場合があるので、上述の範囲内とするのが好ましい。
該無機微粒子は、低屈折率層に含有させることから、低屈折率であることが望ましい。例えば、フッ化マグネシウムや酸化珪素(シリカ)の微粒子が挙げられる。特に、屈折率、分散安定性、コストの点で、シリカ微粒子が好ましい。
無機微粒子の平均粒径は、低屈折率層の厚みの30%以上100%以下が好ましく、より好ましくは35%以上80%以下、更に好ましくは40%以上60%以下である。即ち、低屈折率層の厚みが100nmであれば、シリカ微粒子の粒径は30nm以上100nm以下が好ましく、より好ましくは35nm以上80nm以下、更に好ましくは、40nm以上60nm以下である。
前記無機微粒子の粒径が小さすぎると、耐擦傷性の改良効果が少なくなり、大きすぎると低屈折率層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりといった外観、積分反射率が悪化する場合があるので、上述の範囲内とするのが好ましい。無機微粒子は、結晶質でも、アモルファスのいずれでも良く、また単分散粒子でも、所定の粒径を満たすならば凝集粒子でも構わない。形状は、球径が最も好ましいが、不定形であっても問題無い。
ここで、無機微粒子の平均粒径はコールターカウンターにより測定される。
<Inorganic fine particles for low refractive index layer>
(B) The amount of the inorganic fine particles is preferably 1mg / m 2 ~100mg / m 2 , more preferably 5mg / m 2 ~80mg / m 2 , more preferably from 10mg / m 2 ~60mg / m 2 . If the amount is too small, the effect of improving the scratch resistance is reduced. If the amount is too large, fine irregularities are formed on the surface of the low refractive index layer, and the appearance such as black tightening and the integrated reflectance may be deteriorated. It is preferable to be inside.
Since the inorganic fine particles are contained in the low refractive index layer, it is desirable that the inorganic fine particles have a low refractive index. Examples thereof include fine particles of magnesium fluoride and silicon oxide (silica). In particular, silica fine particles are preferable in terms of refractive index, dispersion stability, and cost.
The average particle size of the inorganic fine particles is preferably 30% or more and 100% or less, more preferably 35% or more and 80% or less, and still more preferably 40% or more and 60% or less of the thickness of the low refractive index layer. That is, when the thickness of the low refractive index layer is 100 nm, the particle size of the silica fine particles is preferably 30 nm to 100 nm, more preferably 35 nm to 80 nm, and still more preferably 40 nm to 60 nm.
If the particle size of the inorganic fine particles is too small, the effect of improving the scratch resistance is reduced. Therefore, it is preferable to be within the above range. The inorganic fine particles may be either crystalline or amorphous, and may be monodispersed particles or aggregated particles as long as a predetermined particle size is satisfied. The shape is most preferably a spherical diameter, but there is no problem even if the shape is indefinite.
Here, the average particle diameter of the inorganic fine particles is measured by a Coulter counter.

低屈折率層の屈折率上昇をより一層少なくするために、前記無機微粒子は、中空構造であるのが好ましく、また、無機微粒子の屈折率は1.17〜1.40が好ましく、より好ましくは1.17〜1.35、さらに好ましくは1.17〜1.30である。ここでの屈折率は粒子全体としての屈折率を表し、中空構造の無機微粒子の場合に外殻の無機質のみの屈折率を表すものではない。この時、粒子内の空腔の半径をa、粒子外殻の半径をbとすると、下記数式(II)で表される空隙率xは
(数式II)
x=(4πa3/3)/(4πb3/3)×100
であり、好ましくは10〜60%、さらに好ましくは20〜60%、最も好ましくは30〜60%である。
中空の無機微粒子の屈折率をより低屈折率に、より空隙率を大きくしようとすると、外殻の厚みが薄くなり、粒子の強度としては弱くなるため、耐擦傷性の観点からは屈折率1.17未満の低屈折率の粒子は成り立たない。
なお、無機微粒子の屈折率はアッベ屈折率計(アタゴ(株)製)にて測定を行い測定した。
In order to further reduce the increase in the refractive index of the low refractive index layer, the inorganic fine particles preferably have a hollow structure, and the refractive index of the inorganic fine particles is preferably 1.17 to 1.40, more preferably. 1.17 to 1.35, more preferably 1.17 to 1.30. Here, the refractive index represents the refractive index of the entire particle, and does not represent the refractive index of only the inorganic material of the outer shell in the case of inorganic fine particles having a hollow structure. At this time, when the radius of the cavity in the particle is a and the radius of the particle outer shell is b, the porosity x represented by the following formula (II) is (formula II)
x = (4πa 3/3) / (4πb 3/3) × 100
Preferably, it is 10 to 60%, more preferably 20 to 60%, and most preferably 30 to 60%.
If the refractive index of the hollow inorganic fine particles is made lower and the porosity is increased, the thickness of the outer shell becomes thinner and the strength of the particles becomes weaker. From the viewpoint of scratch resistance, the refractive index is 1 Particles with a low refractive index of less than .17 do not hold.
The refractive index of the inorganic fine particles was measured with an Abbe refractometer (manufactured by Atago Co., Ltd.).

また、平均粒径が低屈折率層の厚みの25%未満である無機微粒子(以下「小サイズ無機微粒子」と称す)の少なくとも1種を前記の好ましい範囲内の粒径の無機微粒子(以下「大サイズ無機微粒子」と称す)と併用してもよい。
小サイズ無機微粒子は、大サイズ無機微粒子同士の隙間に存在することができるため、大サイズ無機微粒子の保持剤として寄与することができる。
小サイズ無機微粒子の平均粒径は、低屈折率層が100nmの場合、1nm以上20nm以下が好ましく、5nm以上15nm以下が更に好ましく、10nm以上15nm以下が特に好ましい。このような無機微粒子を用いると、原料コストおよび保持剤効果の点で好ましい。
上述のように前記無機微粒子としては、平均粒径が上述のように低屈折率層の厚みの30〜100%であり、中空構造からなり、屈折率が上述のように1.17〜1.40であるものが特に好ましく用いられる。
Further, at least one kind of inorganic fine particles (hereinafter referred to as “small-size inorganic fine particles”) having an average particle size of less than 25% of the thickness of the low refractive index layer is referred to as “inorganic fine particles (hereinafter referred to as“ small size inorganic fine particles ”). It may be used in combination with “large-size inorganic fine particles”.
Since the small-sized inorganic fine particles can exist in the gaps between the large-sized inorganic fine particles, they can contribute as a retaining agent for the large-sized inorganic fine particles.
When the low refractive index layer is 100 nm, the average particle size of the small-sized inorganic fine particles is preferably 1 nm to 20 nm, more preferably 5 nm to 15 nm, and particularly preferably 10 nm to 15 nm. Use of such inorganic fine particles is preferable in terms of raw material costs and a retaining agent effect.
As described above, the inorganic fine particles have an average particle diameter of 30 to 100% of the thickness of the low refractive index layer as described above, have a hollow structure, and have a refractive index of 1.17 to 1. What is 40 is used especially preferably.

無機微粒子は、分散液中あるいは塗布液中で、分散安定化を図るために、あるいはバインダー成分との親和性、結合性を高めるために、プラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理、界面活性剤やカップリング剤等による化学的表面処理がなされていても良い。中でもカップリング剤の使用が特に好ましい。カップリング剤としては、アルコキシメタル化合物(例、チタンカップリング剤、シランカップリング剤)が好ましく用いられる。なかでも、シランカップリング処理が特に有効である。
前記カップリング剤は、低屈折率層の無機微粒子の表面処理剤として該層塗布液調製以前にあらかじめ表面処理を施すために用いられるが、該層塗布液調製時にさらに添加剤として添加して該層に含有させることが好ましい。
無機微粒子は、表面処理前に、媒体中に予め分散されていることが、表面処理の負荷軽減のために好ましい。
Inorganic fine particles are treated with physical surface treatment such as plasma discharge treatment or corona discharge treatment in order to stabilize dispersion in the dispersion or coating solution, or to improve the affinity and binding properties with the binder component. Chemical surface treatment with a surfactant, a coupling agent, or the like may be performed. Of these, the use of a coupling agent is particularly preferred. As the coupling agent, an alkoxy metal compound (eg, titanium coupling agent, silane coupling agent) is preferably used. Of these, silane coupling treatment is particularly effective.
The coupling agent is used as a surface treatment agent for the inorganic fine particles of the low refractive index layer in advance for surface treatment prior to the preparation of the layer coating solution, and is further added as an additive during preparation of the layer coating solution. It is preferable to make it contain in a layer.
The inorganic fine particles are preferably dispersed in the medium in advance before the surface treatment in order to reduce the load of the surface treatment.

次に、(C)オルガノシラン化合物について説明する。
<低屈折率層用オルガノシラン化合物>
前記硬化性組成物には、(C)オルガノシラン化合物、その加水分解物および/またはその部分縮合物等(以下、得られた反応溶液を「ゾル成分」とも称する)を含有させることが、耐擦傷性の点で、特に反射防止能と耐擦傷性とを両立させる点で、好ましい。
このゾル成分は、前記硬化性組成物を塗布後、乾燥、加熱工程で縮合して硬化物を形成することにより低屈折率層のバインダーとして機能する。また、本発明においては、(C)オルガノシラン化合物は、前記含フッ素ポリマーとの混合物として、あるいは単独で、熱および/または活性光線の照射により3次元構造を有するバインダーが形成される。
前記オルガノシラン化合物は、下記一般式(1)で表されるものが好ましい。
一般式(1)
(R10m−Si(X)4-m
また、ゾル成分を単独バインダーとして用いる場合には、下記一般式(2)で表されるオルガノシラン化合物が好ましく用いられる。
一般式(2)
(R10Si(X)4-l
前記一般式(1)、(2)において、R10は置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基を表す。アルキル基としてはメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ヘキシル、デシル、ヘキサデシル等が挙げられる。アルキル基として好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜6のものである。アリール基としてはフェニル、ナフチル等が挙げられ、好ましくはフェニル基である。
Xは、水酸基または加水分解可能な基を表し、例えばアルコキシ基(炭素数1〜5のアルコキシ基が好ましい。例えばメトキシ基、エトキシ基等が挙げられる)、ハロゲン原子(例えばCl、Br、I等)、及びR2COO(R2は水素原子または炭素数1〜5のアルキル基が好ましい。例えばCH3COO、C25COO等が挙げられる)で表される基が挙げられ、好ましくはアルコキシ基であり、特に好ましくはメトキシ基またはエトキシ基である。
mは1〜3の整数を表し、好ましくは1または2であり、特に好ましくは1である。lは0〜2の整数を表し、lが0のものとそれ以外のものとの混合物とするのが好ましい。
Next, (C) the organosilane compound will be described.
<Organosilane compound for low refractive index layer>
The curable composition contains (C) an organosilane compound, a hydrolyzate thereof, and / or a partial condensate thereof (hereinafter, the obtained reaction solution is also referred to as “sol component”). From the viewpoint of scratch resistance, it is particularly preferable from the viewpoint of achieving both antireflection ability and scratch resistance.
This sol component functions as a binder for the low refractive index layer by applying the curable composition and then condensing in a drying and heating process to form a cured product. In the present invention, (C) the organosilane compound forms a binder having a three-dimensional structure as a mixture with the fluorine-containing polymer or by irradiation with heat and / or actinic rays alone.
The organosilane compound is preferably represented by the following general formula (1).
General formula (1)
(R 10 ) m -Si (X) 4-m
Moreover, when using a sol component as a single binder, the organosilane compound represented by following General formula (2) is used preferably.
General formula (2)
(R 10 ) l Si (X) 4-l
In the general formulas (1) and (2), R 10 represents a substituted or unsubstituted alkyl group or a substituted or unsubstituted aryl group. Examples of the alkyl group include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, hexyl, decyl, hexadecyl and the like. The alkyl group preferably has 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 6 carbon atoms. Examples of the aryl group include phenyl and naphthyl, and a phenyl group is preferable.
X represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group, for example, an alkoxy group (preferably an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, such as a methoxy group or an ethoxy group), a halogen atom (for example, Cl, Br, I or the like). ), And R 2 COO (R 2 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, such as CH 3 COO, C 2 H 5 COO, etc.), preferably An alkoxy group, particularly preferably a methoxy group or an ethoxy group.
m represents an integer of 1 to 3, preferably 1 or 2, and particularly preferably 1. l represents an integer of 0 to 2, and is preferably a mixture of one having 0 and the other.

10あるいはXが複数存在するとき、複数のR10あるいはXはそれぞれ同じであっても異なっていても良い。
10に含まれる置換基としては特に制限はないが、ハロゲン原子(フッ素、塩素、臭素等)、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基(メチル、エチル、i−プロピル、プロピル、t−ブチル等)、アリール基(フェニル、ナフチル等)、芳香族ヘテロ環基(フリル、ピラゾリル、ピリジル等)、アルコキシ基(メトキシ、エトキシ、i−プロポキシ、ヘキシルオキシ等)、アリールオキシ(フェノキシ等)、アルキ
ルチオ基(メチルチオ、エチルチオ等)、アリールチオ基(フェニルチオ等)、アルケニル基(ビニル、1−プロペニル等)、アシルオキシ基(アセトキシ、アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ等)、アルコキシカルボニル基(メトキシカルボニル、エトキシカルボニル等)、アリールオキシカルボニル基(フェノキシカルボニル等)、カルバモイル基(カルバモイル、N−メチルカルバモイル、N,N−ジメチルカルバモイル、N−メチル−N−オクチルカルバモイル等)、アシルアミノ基(アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ、アクリルアミノ、メタクリルアミノ等)等が挙げられ、これら置換基は更に置換されていても良い。
When R 10 or X there are a plurality, a plurality of R 10 or X groups may be different, even the same, respectively.
The substituent contained in R 10 is not particularly limited, but a halogen atom (fluorine, chlorine, bromine, etc.), hydroxyl group, mercapto group, carboxyl group, epoxy group, alkyl group (methyl, ethyl, i-propyl, propyl, t-butyl etc.), aryl groups (phenyl, naphthyl etc.), aromatic heterocyclic groups (furyl, pyrazolyl, pyridyl etc.), alkoxy groups (methoxy, ethoxy, i-propoxy, hexyloxy etc.), aryloxy (phenoxy etc.) ), Alkylthio groups (methylthio, ethylthio, etc.), arylthio groups (phenylthio, etc.), alkenyl groups (vinyl, 1-propenyl, etc.), acyloxy groups (acetoxy, acryloyloxy, methacryloyloxy, etc.), alkoxycarbonyl groups (methoxycarbonyl, ethoxy) Carbonyl, etc.), aryloxy Carbonyl groups (such as phenoxycarbonyl), carbamoyl groups (such as carbamoyl, N-methylcarbamoyl, N, N-dimethylcarbamoyl, N-methyl-N-octylcarbamoyl), acylamino groups (acetylamino, benzoylamino, acrylicamino, methacrylamino) Etc.), and these substituents may be further substituted.

10が複数ある場合は、少なくとも一つが置換アルキル基もしくは置換アリール基であることが好ましい。
前記一般式(1)で表されるオルガノシラン化合物の中でも、下記一般式(3)で表されるビニル重合性の置換基を有するオルガノシラン化合物が好ましい。
一般式(3)
When there are a plurality of R 10 s , at least one is preferably a substituted alkyl group or a substituted aryl group.
Among the organosilane compounds represented by the general formula (1), an organosilane compound having a vinyl polymerizable substituent represented by the following general formula (3) is preferable.
General formula (3)

Figure 0005010813
Figure 0005010813

前記一般式(3)において、R1は水素原子、メチル基、メトキシ基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、フッ素原子、または塩素原子を表す。アルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる。水素原子、メチル基、メトキシ基、メトキシカルボニル基、シアノ基、フッ素原子、および塩素原子が好ましく、水素原子、メチル基、メトキシカルボニル基、フッ素原子、および塩素原子が更に好ましく、水素原子およびメチル基が特に好ましい。
Yは単結合もしくは *−COO−**, *−CONH−**又は *−O−**を表し、単結合、 *−COO−**および *−CONH−**が好ましく、単結合および *−COO−**が更に好ましく、 *−COO−**が特に好ましい。* は=C(R1)−に結合する位置を、**はLに結合する位置を表す。
In the general formula (3), R 1 represents a hydrogen atom, a methyl group, a methoxy group, an alkoxycarbonyl group, a cyano group, a fluorine atom, or a chlorine atom. Examples of the alkoxycarbonyl group include a methoxycarbonyl group and an ethoxycarbonyl group. A hydrogen atom, a methyl group, a methoxy group, a methoxycarbonyl group, a cyano group, a fluorine atom and a chlorine atom are preferred, a hydrogen atom, a methyl group, a methoxycarbonyl group, a fluorine atom and a chlorine atom are more preferred, and a hydrogen atom and a methyl group Is particularly preferred.
Y represents a single bond or * -COO-**, * -CONH-** or * -O-**, preferably a single bond, * -COO-** or * -CONH-**, * -COO-** is more preferable, and * -COO-** is particularly preferable. * Represents a position bonded to ═C (R 1 ) —, and ** represents a position bonded to L.

Lは2価の連結鎖を表す。具体的には、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアリーレン基、内部に連結基(例えば、エーテル、エステル、アミドなど)を有する置換もしくは無置換のアルキレン基、内部に連結基を有する置換もしくは無置換のアリーレン基が挙げられ、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアリーレン基、内部に連結基を有するアルキレン基が好ましく、無置換のアルキレン基、無置換のアリーレン基、内部にエーテルあるいはエステル連結基を有するアルキレン基が更に好ましく、無置換のアルキレン基、内部にエーテルあるいはエステル連結基を有するアルキレン基が特に好ましい。置換基は、ハロゲン、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アリール基等が挙げられ、これら置換基は更に置換されていても良い。   L represents a divalent linking chain. Specifically, a substituted or unsubstituted alkylene group, a substituted or unsubstituted arylene group, a substituted or unsubstituted alkylene group having a linking group (for example, ether, ester, amide, etc.) inside, and a linking group inside. A substituted or unsubstituted arylene group, a substituted or unsubstituted alkylene group, a substituted or unsubstituted arylene group, an alkylene group having a linking group therein is preferred, an unsubstituted alkylene group, an unsubstituted arylene group Further, an alkylene group having an ether or ester linking group inside is more preferable, an unsubstituted alkylene group, and an alkylene group having an ether or ester linking group inside is particularly preferable. Examples of the substituent include a halogen, a hydroxyl group, a mercapto group, a carboxyl group, an epoxy group, an alkyl group, and an aryl group, and these substituents may be further substituted.

nは0または1を表す。Xが複数存在するとき、複数のXはそれぞれ同じであっても異なっていても良い。nとして好ましくは0である。
10は一般式(1)と同義であり、置換もしくは無置換のアルキル基、無置換のアリール基が好ましく、無置換のアルキル基、無置換のアリール基が更に好ましい。
Xは一般式(1)と同義であり、ハロゲン原子、水酸基、無置換のアルコキシ基が好ましく、塩素原子、水酸基、無置換の炭素数1〜6のアルコキシ基が更に好ましく、水酸基、炭素数1〜3のアルコキシ基が更に好ましく、メトキシ基が特に好ましい。
n represents 0 or 1. When there are a plurality of Xs, the plurality of Xs may be the same or different. n is preferably 0.
R 10 has the same meaning as in formula (1), preferably a substituted or unsubstituted alkyl group or an unsubstituted aryl group, and more preferably an unsubstituted alkyl group or an unsubstituted aryl group.
X has the same meaning as in formula (1), preferably a halogen atom, a hydroxyl group, or an unsubstituted alkoxy group, more preferably a chlorine atom, a hydroxyl group, or an unsubstituted alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, a hydroxyl group, or a carbon number of 1 -3 alkoxy groups are more preferred, and methoxy groups are particularly preferred.

一般式(1)、一般式(2)、一般式(3)の化合物は2種類以上を併用しても良い。以下に一般式(1)、一般式(3)で表される化合物の具体例を示すが、限定されるものではない。   Two or more kinds of the compounds represented by general formula (1), general formula (2), and general formula (3) may be used in combination. Although the specific example of a compound represented by General formula (1) and General formula (3) below is shown, it is not limited.

Figure 0005010813
Figure 0005010813

Figure 0005010813
Figure 0005010813

これらのうち、(M−1)、(M−2)、および(M−5)が特に好ましい。   Of these, (M-1), (M-2), and (M-5) are particularly preferable.

また、一般式(2)の好ましい例としては、lが0〜3の下記(a)〜(d)が挙げられる。
(a)Si(X)
(b)RSi(X)
(c)RSi(X)
(d)RSi(X)
Moreover, as a preferable example of General formula (2), following (a)-(d) whose l is 0-3 is mentioned.
(A) Si (X) 4
(B) RSi (X) 3
(C) R 2 Si (X) 2
(D) R 3 Si (X)

(a)成分について具体的に説明する。具体的化合物としては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−iso−プロポキシシラン、テトラ−n−プロポキシシラン、テトラ−n−ブトキシシラン、テトラ−sec−ブトキシシラン、テトラ−tert−ブトキシシラン等が挙げられる。特にテトラメトキシシラン又はテトラエトキシシランが好ましい。   The component (a) will be specifically described. Specific examples of the compound include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetra-iso-propoxysilane, tetra-n-propoxysilane, tetra-n-butoxysilane, tetra-sec-butoxysilane, and tetra-tert-butoxysilane. Etc. Tetramethoxysilane or tetraethoxysilane is particularly preferable.

次に(b)成分について説明する。(b)成分において、Rは炭素数1〜10の置換もしくは無置換のアルキル基を表す。例えば、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基などのアルキル基、そのほかγ−クロロプロピル基、ビニル基、CF3CH2CH2CH2- 、C2F5CH2CH2CH2-、C3F7CH2CH2CH2-、C2F5CH2CH2- 、CF3OCH2CH2CH2-、C2F5OCH2CH2CH2- 、C3F7OCH2CH2CH2- 、(CF3)2CHOCH2CH2CH2- 、C4F9CH2OCH2CH2CH2-、3−(パーフルオロシクロヘキシルオキシ)プロピル、H(CF2)4CH2OCH2CH2CH2- 、H(CF2)4CH2CH2CH2- 、3−グリシドキシプロピル基、3−アクリルオキシプロピル基、3−メタクリルオキシプロピル基、3−メルカプトプロピル基、フェニル基、3,4−エポキシシクロヘキシルエチル基などが挙げられる。また、オルガノシラン中のXは、−OH、ハロゲン原子、または好ましくは炭素数1〜5のアルコキシ基または炭素数1〜4のアシルオキシ基であり、例えば、塩素原子、メトキシ基、エトキシ基、n−プロピルオキシ基、i−プロピルオキシ基、n−ブチルオキシ基、sec-ブチルオキシ基、tert−ブチルオキシ基、アセチルオキシ基などが挙げられる。 Next, the component (b) will be described. In the component (b), R represents a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. For example, alkyl groups such as methyl group, ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, γ-chloropropyl group, vinyl group, CF 3 CH 2 CH 2 CH 2- , C 2 F 5 CH 2 CH 2 CH 2- , C 3 F 7 CH 2 CH 2 CH 2- , C 2 F 5 CH 2 CH 2- , CF 3 OCH 2 CH 2 CH 2- , C 2 F 5 OCH 2 CH 2 CH 2- , C 3 F 7 OCH 2 CH 2 CH 2- , (CF 3 ) 2 CHOCH 2 CH 2 CH 2- , C 4 F 9 CH 2 OCH 2 CH 2 CH 2- , 3- (perfluorocyclohexyloxy) propyl, H ( CF 2 ) 4 CH 2 OCH 2 CH 2 CH 2- , H (CF 2 ) 4 CH 2 CH 2 CH 2- , 3-glycidoxypropyl group, 3-acryloxypropyl group, 3-methacryloxypropyl group, Examples include 3-mercaptopropyl group, phenyl group, 3,4-epoxycyclohexylethyl group. X in the organosilane is —OH, a halogen atom, or preferably an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms or an acyloxy group having 1 to 4 carbon atoms. For example, chlorine atom, methoxy group, ethoxy group, n -Propyloxy group, i-propyloxy group, n-butyloxy group, sec-butyloxy group, tert-butyloxy group, acetyloxy group and the like can be mentioned.

これらの(b)成分の具体例としては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、n−プロピルトリメトキシシラン、n−プロピルトリエトキシシラン、i−プロピルトリメトキシシラン、i−プロピルトリエトキシシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン、3−クロロプロピルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、3−アクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、3−アクリルオキシプロピルトリエトキシシラン、3−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリルオキシプロピルトリエトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、3,4−エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン、3,4−エポキシシクロヘキシルエチルトリエトキシシラン、CF3CH2CH2CH2Si(OCH3)3 、C2H5CH2CH2CH2Si(OCH3)3、C2F5CH2CH2Si(OCH3)3 、C3F7CH2CH2CH2Si(OCH3)3、C2F5OCH2CH2CH2Si(OCH3)3 、C3F7OCH2CH2CH2Si(OC2H5)3、(CF3)2CHOCH2CH2CH2Si(OCH3)3 、C4F9CH2OCH2CH2CH2Si(OCH3)3、H(CF2)4CH2OCH2CH2CH2Si(OCH33 、3−(パーフルオロシクロヘキシルオキシ)プロピルシラン等を挙げることができる。 Specific examples of these components (b) include methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, n-propyltrimethoxysilane, n-propyltriethoxysilane, i-propyltriethoxysilane. Methoxysilane, i-propyltriethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-chloropropyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycid Xypropyltriethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, 3-acryloxypropyltriethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, 3,4-epoxycyclohexylethyltrimethoxysilane, 3,4-epoxycyclohexylethyltriethoxysilane, CF 3 CH 2 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3 , C 2 H 5 CH 2 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3 , C 2 F 5 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3 , C 3 F 7 CH 2 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3 , C 2 F 5 OCH 2 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3 , C 3 F 7 OCH 2 CH 2 CH 2 Si (OC 2 H 5 ) 3 , (CF 3 ) 2 CHOCH 2 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3 , C 4 F 9 CH 2 OCH 2 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3 , H (CF 2 ) 4 CH 2 OCH 2 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3 , 3- (perfluorocyclohexyloxy) propylsilane and the like can be mentioned.

このうち、フッ素原子を有するオルガノシランが好ましい。また、Rとしてフッ素原子を有さないオルガノシランを用いる場合、メチルトリメトキシシランまたはメチルトリエトキシシランを用いる事が好ましい。上記のオルガノシランは1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用する事もできる。   Among these, organosilane having a fluorine atom is preferable. Moreover, when using organosilane which does not have a fluorine atom as R, it is preferable to use methyltrimethoxysilane or methyltriethoxysilane. Said organosilane may be used individually by 1 type, and can also use 2 or more types together.

次に(c) 成分について説明する。(c) 成分は、一般式RSi(X)(式中Rは前記(b) 成分に使用されるオルガノシランで定義されたRと同じ)で表されるオルガノシランである。ただし、複数あるRはお互いに同じ置換基でなくてもよい。本発明の組成物中では加水分解、縮合して得られる加水分解物および/または部分縮合物となり、組成物中における結合剤としての働きをするとともに、塗膜を柔軟化し耐アルカリ性を向上させるものである。 Next, the component (c) will be described. The component (c) is an organosilane represented by the general formula R 2 Si (X) 2 (wherein R is the same as R defined in the organosilane used in the component (b)). However, the plurality of Rs may not be the same substituent. In the composition of the present invention, a hydrolyzate and / or partial condensate obtained by hydrolysis and condensation serves as a binder in the composition and softens the coating film to improve alkali resistance. It is.

これらのオルガノシランの具体例は、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジ−n−プロピルジメトキシシラン、ジ−n−プピルジエトキシシラン、ジ−i−プロピルジメトキシシラン、ジ−i−プロピルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、(CF3CH2CH2)2Si(OCH3)2 、(CF3CH2CH2CH2)2Si(OCH3)2、(C3F7OCH2CH2CH2)2Si(OCH3)2、〔H(CF2)6CH2OCH2CH2CH22 Si(OCH3)2 、(C2F5CH2CH2)2Si(OCH3)2などを挙げる事ができ、好ましくはフッ素原子を有するオルガノシランである。またRとしてフッ素原子有さないオルガノシランを用いる場合には、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシランが好ましい。また、(c)成分で表されるオルガノシランは、1種単独で用いてもよいし、あるいは2種以上を併用することもできる。 Specific examples of these organosilanes include dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, diethyldimethoxysilane, diethyldiethoxysilane, di-n-propyldimethoxysilane, di-n-propyldiethoxysilane, di-i-propyldimethoxy. silane, di -i- propyl diethoxy silane, diphenyl dimethoxy silane, diphenyl diethoxy silane, (CF 3 CH 2 CH 2 ) 2 Si (OCH 3) 2, (CF 3 CH 2 CH 2 CH 2) 2 Si (OCH 3) 2, (C 3 F 7 OCH 2 CH 2 CH 2) 2 Si (OCH 3) 2, [H (CF 2) 6 CH 2 OCH 2 CH 2 CH 2 ] 2 Si (OCH 3) 2, (C 2 F 5 CH 2 CH 2 ) 2 Si (OCH 3 ) 2 and the like, and an organosilane having a fluorine atom is preferable. Moreover, when using organosilane which does not have a fluorine atom as R, dimethyldimethoxysilane and dimethyldiethoxysilane are preferable. Moreover, the organosilane represented by (c) component may be used individually by 1 type, or 2 or more types can also be used together.

次に(d) 成分について説明する。(d) 成分は、一般式RSi(X)(式中Rは前記(b) 成分に使用されるオルガノシランで定義されたRと同じ)で表されるオルガノシランである。ただし、複数あるRはお互いに同じ置換基でなくてもよい。本発明の組成物中
では膜を疎水的にする働きをするとともに、塗膜の耐アルカリ性を向上させるものである。
これらのトリオルガノシランの具体例は、トリメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリエチルメトキシシラン、トリエチルエトキシシラン、トリ−n−プロピルメトキシシラン、トリ−n−プピルエトキシシラン、トリ−i−プロピルメトキシシラン、トリ−i−プロピルエトキシシラン、トリフェニルメトキシシラン、トリフェニルエトキシシランなどが挙げられる。
Next, the component (d) will be described. The component (d) is an organosilane represented by the general formula R 3 Si (X) (wherein R is the same as R defined for the organosilane used in the component (b)). However, the plurality of Rs may not be the same substituent. In the composition of this invention, while functioning to make a film | membrane hydrophobic, it improves the alkali resistance of a coating film.
Specific examples of these triorganosilanes are trimethylmethoxysilane, trimethylethoxysilane, triethylmethoxysilane, triethylethoxysilane, tri-n-propylmethoxysilane, tri-n-propylethoxysilane, tri-i-propylmethoxysilane. , Tri-i-propylethoxysilane, triphenylmethoxysilane, triphenylethoxysilane and the like.

本発明において(a)〜(d)の各成分の割合は、(a)成分を基準に、(b)成分は0〜150質量%、好ましくは5〜100質量%、さらに好ましくは10〜60質量%である。(b)成分は(a)成分を基準に0〜100質量%、好ましくは1〜60質量%、さらに好ましくは1〜40質量%である。(c)成分は(a)成分を基準に0〜10質量%、好ましくは0.1〜5質量%、さらに好ましくは0.5〜3質量%である。(d)成分は(a)成分を基準に0〜10質量%、好ましくは0.1〜5質量%、さらに好ましくは0.5〜3質量%である。(a)〜(d)の各成分のうち、(a)成分の割合が30質量%を下回ると得られる塗膜の密着性、硬化性が低下する。   In the present invention, the proportion of each component of (a) to (d) is 0 to 150 mass%, preferably 5 to 100 mass%, more preferably 10 to 60 mass% of component (b) based on component (a). % By mass. (B) component is 0-100 mass% on the basis of (a) component, Preferably it is 1-60 mass%, More preferably, it is 1-40 mass%. (C) A component is 0-10 mass% on the basis of (a) component, Preferably it is 0.1-5 mass%, More preferably, it is 0.5-3 mass%. (D) component is 0-10 mass% on the basis of (a) component, Preferably it is 0.1-5 mass%, More preferably, it is 0.5-3 mass%. Among the components (a) to (d), when the proportion of the component (a) is less than 30% by mass, the adhesion and curability of the coating film obtained are lowered.

そして、前記オルガノシラン化合物の加水分解物および/または部分縮合物は、一般に前記オルガノシラン化合物を触媒の存在下で処理して製造されるものである。触媒としては、塩酸、硫酸、硝酸等の無機酸類;シュウ酸、酢酸、ギ酸、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸等の有機酸類;水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア等の無機塩基類;トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基類;トリイソプロポキシアルミニウム、テトラブトキシジルコニウム等の金属アルコキシド類;Zr、Ti又はAlなどの金属を中心金属とする金属キレート化合物等が挙げられる。本発明においては、金属キレート化合物、無機酸類及び有機酸類の酸触媒を用いるのが好ましい。無機酸では塩酸、硫酸が好ましく、有機酸では、水中での酸解離定数(pKa値(25℃))が4.5以下のものが好ましく、更には、塩酸、硫酸、水中での酸解離定数が3.0以下の有機酸が好ましく、特に、塩酸、硫酸、水中での酸解離定数が2.5以下の有機酸が好ましく、水中での酸解離定数が2.5以下の有機酸が更に好ましく、具体的には、メタンスルホン酸、シュウ酸、フタル酸、マロン酸が更に好ましく、シュウ酸が特に好ましい。   The hydrolyzate and / or partial condensate of the organosilane compound is generally produced by treating the organosilane compound in the presence of a catalyst. Catalysts include inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid and nitric acid; organic acids such as oxalic acid, acetic acid, formic acid, methanesulfonic acid and toluenesulfonic acid; inorganic bases such as sodium hydroxide, potassium hydroxide and ammonia; triethylamine, Examples thereof include organic bases such as pyridine; metal alkoxides such as triisopropoxyaluminum and tetrabutoxyzirconium; metal chelate compounds having a metal such as Zr, Ti or Al as a central metal. In the present invention, it is preferable to use a metal chelate compound, an acid catalyst of inorganic acids and organic acids. Inorganic acids are preferably hydrochloric acid and sulfuric acid, and organic acids are preferably those having an acid dissociation constant (pKa value (25 ° C.)) of 4.5 or less in water, and further, acid dissociation constants in hydrochloric acid, sulfuric acid and water. Is preferably an organic acid having an acid dissociation constant of 2.5 or less in hydrochloric acid, sulfuric acid or water, more preferably an organic acid having an acid dissociation constant of 2.5 or less in water. Specifically, methanesulfonic acid, oxalic acid, phthalic acid, and malonic acid are more preferable, and oxalic acid is particularly preferable.

金属キレート化合物としては、一般式R3OH(式中、R3は炭素数1〜10のアルキル基を示す)で表されるアルコールとR4COCH2COR5(式中、R4は炭素数1〜10のアルキル基、R5は炭素数1〜10のアルキル基または炭素数1〜10のアルコキシ基を示す)で表される化合物とを配位子とした、Zr、Ti、Alから選ばれる金属を中心金属とするものであれば特に制限なく好適に用いることができる。この範疇であれば、2種以上の金属キレート化合物を併用しても良い。本発明に用いられる金属キレート化合物は、一般式Zr(OR3p1(R4COCHCOR5p2、Ti(OR3q1(R4COCHCOR5q2、およびAl(OR3r1(R4COCHCOR5r2で表される化合物群から選ばれるものが好ましく、前記オルガノシラン化合物の加水分解物および/または部分縮合物の縮合反応を促進する作用をなす。
金属キレート化合物中のR3およびR4は、同一または異なってもよく炭素数1〜10のアルキル基、具体的にはエチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、フェニル基などである。また、R5は、前記と同様の炭素数1〜10のアルキル基のほか、炭素数1〜10のアルコキシ基、例えばメトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、i−プロポキシ基、n−ブトキシ基、sec−ブトキシ基、t−ブトキシ基などである。また、金属キレート化合物中のp1、p2、q1、q2、r1、およびr2は、それぞれp1+p2=4、q1+q2=4、r1+r2=3となる様に決定される整数を表す。
As the metal chelate compound, (wherein, R 3 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms) Formula R 3 OH alcohol and R 4 COCH 2 COR 5 (formula represented by, R 4 is the number of carbon atoms 1 to 10 alkyl groups, R 5 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or a compound represented by an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms), and is selected from Zr, Ti, and Al. Any metal having a central metal as the metal can be used without any particular limitation. Within this category, two or more metal chelate compounds may be used in combination. The metal chelate compound used in the present invention has the general formula Zr (OR 3 ) p1 (R 4 COCHCOR 5 ) p2 , Ti (OR 3 ) q1 (R 4 COCHCOR 5 ) q2 , and Al (OR 3 ) r1 (R 4 Those selected from the group of compounds represented by COCHCOR 5 ) r2 are preferred and serve to promote the condensation reaction of the hydrolyzate and / or partial condensate of the organosilane compound.
R 3 and R 4 in the metal chelate compound may be the same or different and each is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, specifically, an ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, n-butyl group, sec -Butyl group, t-butyl group, n-pentyl group, phenyl group and the like. R 5 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms as described above, or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms such as a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an i-propoxy group, and n-butoxy. Group, sec-butoxy group, t-butoxy group and the like. Moreover, p1, p2, q1, q2, r1, and r2 in the metal chelate compound represent integers determined so as to be p1 + p2 = 4, q1 + q2 = 4, and r1 + r2 = 3, respectively.

これらの金属キレート化合物の具体例としては、トリ−n−ブトキシエチルアセトアセテートジルコニウム、ジ−n−ブトキシビス(エチルアセトアセテート)ジルコニウム、n−ブトキシトリス(エチルアセトアセテート)ジルコニウム、テトラキス(n−プロピルアセトアセテート)ジルコニウム、テトラキス(アセチルアセトアセテート)ジルコニウム、テトラキス(エチルアセトアセテート)ジルコニウムなどのジルコニウムキレート化合物;ジイソプロポキシ・ビス(エチルアセトアセテート)チタニウム、ジイソプロポキシ・ビス(アセチルアセテート)チタニウム、ジイソプロポキシ・ビス(アセチルアセトン)チタニウムなどのチタニウムキレート化合物;ジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、ジイソプロポキシアセチルアセトナートアルミニウム、イソプロポキシビス(エチルアセトアセテート)アルミニウム、イソプロポキシビス(アセチルアセトナート)アルミニウム、トリス(エチルアセトアセテート)アルミニウム、トリス(アセチルアセトナート)アルミニウム、モノアセチルアセトナート・ビス(エチルアセトアセテート)アルミニウムなどのアルミニウムキレート化合物などが挙げられる。
これらの金属キレート化合物のうち好ましいものは、トリ−n−ブトキシエチルアセトアセテートジルコニウム、ジイソプロポキシビス(アセチルアセトナート)チタニウム、ジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、トリス(エチルアセトアセテート)アルミニウムである。これらの金属キレート化合物は、1種単独であるいは2種以上混合して使用することができる。また、これらの金属キレート化合物の部分加水分解物を使用することもできる。
Specific examples of these metal chelate compounds include tri-n-butoxyethyl acetoacetate zirconium, di-n-butoxybis (ethylacetoacetate) zirconium, n-butoxytris (ethylacetoacetate) zirconium, tetrakis (n-propylacetate). Zirconium chelate compounds such as acetate) zirconium, tetrakis (acetylacetoacetate) zirconium, tetrakis (ethylacetoacetate) zirconium; diisopropoxy bis (ethylacetoacetate) titanium, diisopropoxy bis (acetylacetate) titanium, diiso Titanium chelate compounds such as propoxy bis (acetylacetone) titanium; diisopropoxyethyl acetoacetate aluminum, diisopropyl Poxyacetylacetonate aluminum, isopropoxybis (ethylacetoacetate) aluminum, isopropoxybis (acetylacetonate) aluminum, tris (ethylacetoacetate) aluminum, tris (acetylacetonato) aluminum, monoacetylacetonate bis (ethyl) An aluminum chelate compound such as acetoacetate) aluminum.
Among these metal chelate compounds, tri-n-butoxyethyl acetoacetate zirconium, diisopropoxybis (acetylacetonato) titanium, diisopropoxyethyl acetoacetate aluminum, and tris (ethyl acetoacetate) aluminum are preferable. These metal chelate compounds can be used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types. Moreover, the partial hydrolyzate of these metal chelate compounds can also be used.

また、本発明においては、前記硬化性組成物に、更にβ−ジケトン化合物および/またはβ−ケトエステル化合物が添加されることが好ましい。以下にさらに説明する。   In the present invention, it is preferable that a β-diketone compound and / or a β-ketoester compound is further added to the curable composition. This will be further described below.

本発明で使用されるのは、一般式R4COCH2COR5で表されるβ−ジケトン化合物および/またはβ−ケトエステル化合物であり、本発明に用いられる硬化性組成物の安定性向上剤として作用するものである。ここで、R4は炭素数1〜10のアルキル基、R5は炭素数1〜10のアルキル基または炭素数1〜10のアルコキシ基を表す。すなわち、前記金属キレート化合物(ジルコニウム、チタニウムおよび/またはアルミニウム化合物)中の金属原子に配位することにより、これらの金属キレート化合物によるオルガノシラン化合物の加水分解物および/または部分縮合物の縮合反応を促進する作用を抑制し、得られる組成物の保存安定性を向上させる作用をなすものと考えられる。β−ジケトン化合物および/またはβ−ケトエステル化合物を構成するR4およびR5は、前記金属キレート化合物を構成するR4およびR5と同様である。 The β-diketone compound and / or β-ketoester compound represented by the general formula R 4 COCH 2 COR 5 is used in the present invention, and is used as a stability improver for the curable composition used in the present invention. It works. Here, R 4 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and R 5 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms. That is, by coordinating with a metal atom in the metal chelate compound (zirconium, titanium and / or aluminum compound), the condensation reaction of the hydrolyzate and / or partial condensate of the organosilane compound by these metal chelate compounds is performed. It is considered that the promoting action is suppressed and the storage stability of the resulting composition is improved. R 4 and R 5 constituting the β- diketone compound and / or β- ketoester compound are the same as R 4 and R 5 constituting the metal chelate compound.

このβ−ジケトン化合物および/またはβ−ケトエステル化合物の具体例としては、アセチルアセトン、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸−n−プロピル、アセト酢酸−i−プロピル、アセト酢酸−n−ブチル、アセト酢酸−sec−ブチル、アセト酢酸−t−ブチル、2,4−ヘキサン−ジオン、2,4−ヘプタン−ジオン、3,5−ヘプタン−ジオン、2,4−オクタン−ジオン、2,4−ノナン−ジオン、5−メチル−ヘキサン−ジオンなどを挙げることができる。これらのうち、アセト酢酸エチルおよびアセチルアセトンが好ましく、特にアセチルアセトンが好ましい。これらのβ−ジケトン化合物および/またはβ−ケトエステル化合物は、1種単独でまたは2種以上を混合して使用することもできる。本発明においてβ−ジケトン化合物および/またはβ−ケトエステル化合物は、金属キレート化合物1モルに対し好ましくは2モル以上、より好ましくは3〜20モル用いられる。上記範囲内において、良好な保存安定性が得られる。   Specific examples of the β-diketone compound and / or β-ketoester compound include acetylacetone, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, acetoacetate-n-propyl, acetoacetate-i-propyl, acetoacetate-n-butyl, acetoacetate. Acetic acid-sec-butyl, acetoacetic acid-t-butyl, 2,4-hexane-dione, 2,4-heptane-dione, 3,5-heptane-dione, 2,4-octane-dione, 2,4-nonane -Dione, 5-methyl-hexane-dione and the like can be mentioned. Of these, ethyl acetoacetate and acetylacetone are preferred, and acetylacetone is particularly preferred. These β-diketone compounds and / or β-ketoester compounds may be used alone or in combination of two or more. In the present invention, the β-diketone compound and / or β-ketoester compound is preferably used in an amount of 2 mol or more, more preferably 3 to 20 mol, per 1 mol of the metal chelate compound. Within the above range, good storage stability can be obtained.

前記オルガノシラン化合物の配合量は、低屈折率層の全固形分の0.1〜50質量%が好ましく、0.5〜20質量%がより好ましく、1〜10質量%が最も好ましい。
前記オルガノシラン化合物は硬化性組成物(防眩層用、低屈折率層用等の塗布液)に直接添加してもよいが、前記オルガノシラン化合物をあらかじめ触媒の存在下に処理して前
記オルガノシラン化合物の加水分解物および/または部分縮合物を調製し、得られた反応溶液(ゾル液)を用いて前記硬化性組成物を調整するのが好ましく、本発明においてはまず前記オルガノシラン化合物の加水分解物および/または部分縮合物および金属キレート化合物を含有する組成物を調製し、これにβ−ジケトン化合物および/またはβ−ケトエステル化合物を添加した液を防眩層もしくは低屈折率層の少なくとも1層の塗布液に含有せしめて塗設することが好ましい。
本発明においては、前記防眩層および前記低屈折率層の両方が、前記一般式(1)で表されるオルガノシランの加水分解物および/またはその部分縮合物を含有する硬化性塗布組成物を塗布し硬化して形成される硬化膜であることが好ましい。
The compounding amount of the organosilane compound is preferably 0.1 to 50% by mass, more preferably 0.5 to 20% by mass, and most preferably 1 to 10% by mass based on the total solid content of the low refractive index layer.
The organosilane compound may be added directly to the curable composition (coating liquid for antiglare layer, low refractive index layer, etc.), but the organosilane compound is treated in the presence of a catalyst in advance to prepare the organosilane compound. It is preferable to prepare a hydrolyzate and / or partial condensate of a silane compound and prepare the curable composition using the obtained reaction solution (sol solution). In the present invention, first, the organosilane compound A composition containing a hydrolyzate and / or a partial condensate and a metal chelate compound is prepared, and a liquid obtained by adding a β-diketone compound and / or a β-ketoester compound thereto is added to at least an antiglare layer or a low refractive index layer. It is preferable to coat it in a single layer coating solution.
In the present invention, both the antiglare layer and the low refractive index layer contain a hydrolyzate of organosilane and / or a partial condensate thereof represented by the general formula (1). A cured film formed by applying and curing is preferred.

低屈折率層における、含フッ素ポリマーに対するオルガノシランのゾル成分の使用量は、5〜100質量%が好ましく、5〜40質量%がより好ましく、8〜35質量%が更に好ましく、10〜30質量%が特に好ましい。使用量が少ないと本発明の効果が得にくく、使用量が多すぎると屈折率が増加したり、膜の形状・面状が悪化したりするので好ましくない。また、ゾル成分単独でバインダーを形成する場合は、含フッ素ポリマーは含まない。   5-100 mass% is preferable, the usage-amount of the sol component of the organosilane with respect to a fluorine-containing polymer in a low refractive index layer has more preferable 5-40 mass%, 8-35 mass% is still more preferable, 10-30 mass % Is particularly preferred. If the amount used is small, it is difficult to obtain the effect of the present invention, and if the amount used is too large, the refractive index increases or the shape / surface shape of the film deteriorates. Further, when the binder is formed by the sol component alone, the fluorine-containing polymer is not included.

前記硬化性組成物には、上述した無機微粒子以外の無機フィラーを本発明の所望の効果を損なわない範囲の添加量で添加することもできる。無機フィラーとしては、防眩層における無機フィラーが好ましく、特にインジウムや錫、アンチモンのような導電性を付与できるものを屈折率に大きく影響しない範囲内で添加するのが好ましい。   An inorganic filler other than the above-described inorganic fine particles can be added to the curable composition in an addition amount within a range that does not impair the desired effect of the present invention. As the inorganic filler, an inorganic filler in the antiglare layer is preferable, and it is particularly preferable to add a material that can impart conductivity, such as indium, tin, and antimony, within a range that does not greatly affect the refractive index.

[低屈折率層用硬化性組成物に含有するその他の物質]
前記硬化性組成物は、前述の(A)含フッ素ポリマー、(B)無機微粒子及び(C)オルガノシラン化合物に、必要に応じて各種添加剤およびラジカル重合開始剤、カチオン重合開始剤を添加し、更にこれらを適当な溶剤に溶解して作製される。この際固形分の濃度は、用途に応じて適宜選択されるが一般的には0.01〜60質量%程度であり、好ましくは0.5〜50質量%、特に好ましくは1%〜20質量%程度である。
[Other substances contained in curable composition for low refractive index layer]
The curable composition is prepared by adding various additives, a radical polymerization initiator, and a cationic polymerization initiator to the (A) fluorine-containing polymer, (B) inorganic fine particles, and (C) the organosilane compound as necessary. Further, they are prepared by dissolving them in a suitable solvent. At this time, the concentration of the solid content is appropriately selected according to the use, but is generally about 0.01 to 60% by mass, preferably 0.5 to 50% by mass, particularly preferably 1% to 20% by mass. %.

低屈折率層と直接接する下層との界面密着性等の観点からは、多官能(メタ)アクリレート化合物、多官能エポキシ化合物、ポリイソシアネート化合物、アミノプラスト、多塩基酸またはその無水物等の硬化剤を少量添加することもできる。これらを添加する場合には低屈折率層皮膜の全固形分に対して30質量%以下の範囲とすることが好ましく、20質量%以下の範囲とすることがより好ましく、10質量%以下の範囲とすることが特に好ましい。   Curing agents such as polyfunctional (meth) acrylate compounds, polyfunctional epoxy compounds, polyisocyanate compounds, aminoplasts, polybasic acids or anhydrides thereof from the viewpoint of interfacial adhesion with the lower layer directly in contact with the low refractive index layer Can also be added in small amounts. When adding these, it is preferable to set it as the range of 30 mass% or less with respect to the total solid of a low-refractive-index layer film, It is more preferable to set it as the range of 20 mass% or less, The range of 10 mass% or less It is particularly preferable that

また、防汚性、耐水性、耐薬品性、滑り性等の特性を付与する目的で、公知のシリコーン系化合物あるいはフッ素系化合物の防汚剤、滑り剤等を適宜添加することもできる。これらの添加剤を添加する場合には低屈折率層全固形分の0.01〜20質量%の範囲で添加されることが好ましく、より好ましくは0.05〜10質量%の範囲で添加される場合であり、特に好ましくは0.1〜5質量%の場合である。   In addition, for the purpose of imparting properties such as antifouling properties, water resistance, chemical resistance, and slipping properties, a known silicone compound or fluorine compound antifouling agent, slipping agent, and the like may be appropriately added. When these additives are added, it is preferably added in the range of 0.01 to 20% by mass of the total solid content of the low refractive index layer, more preferably in the range of 0.05 to 10% by mass. Particularly preferred is 0.1 to 5% by mass.

シリコーン系化合物の好ましい例としてはジメチルシリルオキシ単位を繰り返し単位として複数個含む化合物鎖の末端および/または側鎖に置換基を有するものが挙げられる。ジメチルシリルオキシを繰り返し単位として含む化合物鎖中にはジメチルシリルオキシ以外の構造単位を含んでもよい。置換基は同一であっても異なっていても良く、複数個あることが好ましい。好ましい置換基の例としてはアクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリール基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、フルオロアルキル基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基などを含む基が挙げられる。分子量に特に制限はないが、10万以下であることが好ましく、5万以下であること
が特に好ましく、3000〜30000であることが最も好ましい。シリコーン系化合物のシリコーン原子含有量には特に制限はないが18.0質量%以上であることが好ましく、25.0〜37.8質量%であることが特に好ましく、30.0〜37.0質量%であることが最も好ましい。好ましいシリコーン系化合物の例としては信越化学(株)製、X−22−174DX、X−22−2426、X−22−164B、X22−164C、X−22−170DX、X−22−176D、X−22−1821(以上商品名)やチッソ(株)製、FM−0725、FM−7725、FM−4421、FM−5521、FM6621、FM−1121やGelest製DMS−U22、RMS−033、RMS−083、UMS−182、DMS−H21、DMS−H31、HMS−301、FMS121、FMS123、FMS131、FMS141、FMS221(以上商品名)などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。
Preferable examples of the silicone compound include those having a substituent at the terminal and / or side chain of a compound chain containing a plurality of dimethylsilyloxy units as repeating units. The compound chain containing dimethylsilyloxy as a repeating unit may contain a structural unit other than dimethylsilyloxy. The substituents may be the same or different, and a plurality of substituents are preferable. Examples of preferred substituents include acryloyl group, methacryloyl group, vinyl group, aryl group, cinnamoyl group, epoxy group, oxetanyl group, hydroxyl group, fluoroalkyl group, polyoxyalkylene group, carboxyl group, amino group and the like. It is done. Although there is no restriction | limiting in particular in molecular weight, It is preferable that it is 100,000 or less, It is especially preferable that it is 50,000 or less, It is most preferable that it is 3000-30000. Although there is no restriction | limiting in particular in silicone atom content of a silicone type compound, it is preferable that it is 18.0 mass% or more, it is especially preferable that it is 25.0-37.8 mass%, and 30.0-37.0. Most preferably, it is mass%. Examples of preferred silicone compounds are X-22-174DX, X-22-2426, X-22-164B, X22-164C, X-22-170DX, X-22-176D, X, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. -22-1821 (named above), manufactured by Chisso Corporation, FM-0725, FM-7725, FM-4421, FM-5521, FM6621, FM-1121, Gelest DMS-U22, RMS-033, RMS- 083, UMS-182, DMS-H21, DMS-H31, HMS-301, FMS121, FMS123, FMS131, FMS141, FMS221 (named above) but not limited thereto.

フッ素系化合物としては、フルオロアルキル基を有する化合物が好ましい。該フルオロアルキル基は炭素数1〜20であることが好ましく、より好ましくは1〜10であり、直鎖(例えば−CF2CF3,−CH2(CF24H,−CH2(CF28CF3,−CH2CH2(CF24H等)であっても、分岐構造(例えば−CH(CF32,−CH2CF(CF32,−CH(CH3)CF2CF3,−CH(CH3)(CF25CF2H等)であっても、脂環式構造(好ましくは5員環または6員環、例えばパーフルオロシクロへキシル基、パーフルオロシクロペンチル基またはこれらで置換されたアルキル基等)であっても良く、エーテル結合を有していても良い(例えば−CH2OCH2CF2CF3,−CH2CH2OCH248H,−CH2CH2OCH2CH2817,−CH2CH2OCF2CF2OCF2CF2H等)。該フルオロアルキル基は同一分子中に複数含まれていてもよい。
フッ素系化合物は、さらに低屈折率層皮膜との結合形成あるいは相溶性に寄与する置換基を有していることが好ましい。該置換基は同一であっても異なっていても良く、複数個あることが好ましい。好ましい置換基の例としてはアクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリール基、シンナモイル基、エポキシ基、オキセタニル基、水酸基、ポリオキシアルキレン基、カルボキシル基、アミノ基などが挙げられる。フッ素系化合物はフッ素原子を含まない化合物とのポリマーであってもオリゴマーであってもよく、分子量に特に制限はない。フッ素系化合物のフッ素原子含有量には特に制限は無いが20質量%以上であることが好ましく、30〜70質量%であることが特に好ましく、40〜70質量%であることが最も好ましい。好ましいフッ素系化合物の例としてはダイキン化学工業(株)製、R−2020、M−2020、R−3833、M−3833(以上商品名)、大日本インキ(株)製、メガファックF−171、F−172、F−179A、ディフェンサMCF−300(以上商品名)などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。
As the fluorine compound, a compound having a fluoroalkyl group is preferable. The fluoroalkyl group preferably has 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 10 carbon atoms, and a straight chain (for example, —CF 2 CF 3 , —CH 2 (CF 2 ) 4 H, —CH 2 (CF 2 ) 8 CF 3 , —CH 2 CH 2 (CF 2 ) 4 H, etc.), even branched structures (eg, —CH (CF 3 ) 2 , —CH 2 CF (CF 3 ) 2 , —CH (CH 3 ) CF 2 CF 3 , —CH (CH 3 ) (CF 2 ) 5 CF 2 H, etc.), but alicyclic structures (preferably 5-membered or 6-membered rings such as perfluorocyclohexyl groups) , A perfluorocyclopentyl group or an alkyl group substituted with these, and may have an ether bond (for example, —CH 2 OCH 2 CF 2 CF 3 , —CH 2 CH 2 OCH 2 C). 4 F 8 H, —CH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 C 8 F 17 , —CH 2 C H 2 OCF 2 CF 2 OCF 2 CF 2 H, etc.). A plurality of the fluoroalkyl groups may be contained in the same molecule.
It is preferable that the fluorine-based compound further has a substituent that contributes to bond formation or compatibility with the low refractive index layer film. The substituents may be the same or different, and a plurality of substituents are preferable. Examples of preferred substituents include acryloyl group, methacryloyl group, vinyl group, aryl group, cinnamoyl group, epoxy group, oxetanyl group, hydroxyl group, polyoxyalkylene group, carboxyl group, amino group and the like. The fluorine-based compound may be a polymer or an oligomer with a compound not containing a fluorine atom, and the molecular weight is not particularly limited. Although there is no restriction | limiting in particular in fluorine atom content of a fluorine-type compound, It is preferable that it is 20 mass% or more, It is especially preferable that it is 30-70 mass%, It is most preferable that it is 40-70 mass%. Examples of preferred fluorine-based compounds include Daikin Chemical Industries, R-2020, M-2020, R-3833, M-3833 (named above), Dainippon Ink, Megafac F-171. , F-172, F-179A, defender MCF-300 (trade name), etc., but are not limited thereto.

防塵性、帯電防止等の特性を付与する目的で、公知のカチオン系界面活性剤あるいはポリオキシアルキレン系化合物のような防塵剤、帯電防止剤等を適宜添加することもできる。これら防塵剤、帯電防止剤は前述したシリコーン系化合物やフッ素系化合物にその構造単位が機能の一部として含まれていてもよい。これらを添加剤として添加する場合には低屈折率層全固形分の0.01〜20質量%の範囲で添加されることが好ましく、より好ましくは0.05〜10質量%の範囲で添加される場合であり、特に好ましくは0.1〜5質量%の場合である。好ましい化合物の例としては大日本インキ(株)製、メガファックF−150(商品名)、東レダウコーニング(株)製、SH−3748(商品名)などが挙げられるが、これらに限定されるわけではない。   For the purpose of imparting properties such as dust resistance and antistatic properties, a known cationic surfactant or a dustproof agent such as a polyoxyalkylene compound, an antistatic agent, or the like can be appropriately added. These dustproofing agent and antistatic agent may contain the structural unit as a part of the function in the above-mentioned silicone compound or fluorine compound. When these are added as additives, it is preferably added in the range of 0.01 to 20% by mass of the total solid content of the low refractive index layer, more preferably in the range of 0.05 to 10% by mass. Particularly preferred is 0.1 to 5% by mass. Examples of preferred compounds include, but are not limited to, Dainippon Ink Co., Ltd., Megafac F-150 (trade name), Toray Dow Corning Co., Ltd., SH-3748 (trade name), and the like. Do not mean.

[低屈折率層用の溶剤]
本発明の低屈折率層を形成するための硬化性組成物に用いられる溶剤としては、各成分を溶解または分散可能であること、塗布工程、乾燥工程において均一な面状となり易いこと、液保存性が確保できること、適度な飽和蒸気圧を有すること、等の観点で選ばれる各種の溶剤が使用できる。乾燥負荷の観点からは、常圧、室温における沸点が100℃以下
の溶剤を主成分とし、乾燥速度の調整のために沸点が100℃以上の溶剤を少量含有することが好ましい。
沸点が100℃以下の溶剤としては、例えば、ヘキサン(沸点68.7℃)、ヘプタン(98.4℃)、シクロヘキサン(80.7℃)、ベンゼン(80.1℃)などの炭化水素類、ジクロロメタン(39.8℃)、クロロホルム(61.2℃)、四塩化炭素(76.8℃)、1,2−ジクロロエタン(83.5℃)、トリクロロエチレン(87.2℃)などのハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル(34.6℃)、ジイソプロピルエーテル(68.5℃)、ジプロピルエーテル (90.5℃)、テトラヒドロフラン(66℃)などのエーテル類、ギ酸エチル(54.2℃)、酢酸メチル(57.8℃)、酢酸エチル(77.1℃)、酢酸イソプロピル(89℃)などのエステル類、アセトン(56.1℃)、2−ブタノン(メチルエチルケトンと同じ、79.6℃)などのケトン類、メタノール(64.5℃)、エタノール(78.3℃)、2−プロパノール(82.4℃)、1−プロパノール(97.2℃)などのアルコール類、アセトニトリル(81.6℃)、プロピオニトリル(97.4℃)などのシアノ化合物類、二硫化炭素(46.2℃)などがある。このうちケトン類、エステル類が好ましく、特に好ましくはケトン類である。ケトン類の中では2−ブタノンが特に好ましい。
沸点が100℃を以上の溶剤としては、例えば、オクタン(125.7℃)、トルエン(110.6℃)、キシレン(138℃)、テトラクロロエチレン(121.2℃)、クロロベンゼン(131.7℃)、ジオキサン(101.3℃)、ジブチルエーテル(142.4℃)、酢酸イソブチル(118℃)、シクロヘキサノン(155.7℃)、2−メチル−4−ペンタノン(MIBKと同じ、115.9℃)、1−ブタノール(117.7℃)、N,N−ジメチルホルムアミド(153℃)、N,N−ジメチルアセトアミド(166℃)、ジメチルスルホキシド(189℃)などがある。好ましくは、シクロヘキサノン、2−メチル−4−ペンタノンである。
[Solvent for low refractive index layer]
As a solvent used in the curable composition for forming the low refractive index layer of the present invention, it is possible to dissolve or disperse each component, it is easy to form a uniform surface in the coating process and the drying process, and liquid storage Various solvents selected from the viewpoints of ensuring the property and having an appropriate saturated vapor pressure can be used. From the viewpoint of the drying load, it is preferable that a solvent having a boiling point of 100 ° C. or lower at normal pressure and room temperature as a main component and a small amount of a solvent having a boiling point of 100 ° C. or higher for adjusting the drying speed.
Examples of the solvent having a boiling point of 100 ° C. or lower include hydrocarbons such as hexane (boiling point 68.7 ° C.), heptane (98.4 ° C.), cyclohexane (80.7 ° C.), benzene (80.1 ° C.), Halogenated carbonization such as dichloromethane (39.8 ° C), chloroform (61.2 ° C), carbon tetrachloride (76.8 ° C), 1,2-dichloroethane (83.5 ° C), trichloroethylene (87.2 ° C) Hydrogens, diethyl ether (34.6 ° C), diisopropyl ether (68.5 ° C), dipropyl ether (90.5 ° C), ethers such as tetrahydrofuran (66 ° C), ethyl formate (54.2 ° C), Esters such as methyl acetate (57.8 ° C.), ethyl acetate (77.1 ° C.), isopropyl acetate (89 ° C.), acetone (56.1 ° C.), 2-butanone (methyl ethyl) Ketones such as Luketone, 79.6 ° C, methanol (64.5 ° C), ethanol (78.3 ° C), 2-propanol (82.4 ° C), 1-propanol (97.2 ° C), etc. Alcohols, cyano compounds such as acetonitrile (81.6 ° C.), propionitrile (97.4 ° C.), carbon disulfide (46.2 ° C.), and the like. Of these, ketones and esters are preferable, and ketones are particularly preferable. Among the ketones, 2-butanone is particularly preferable.
Examples of the solvent having a boiling point of 100 ° C. or more include, for example, octane (125.7 ° C.), toluene (110.6 ° C.), xylene (138 ° C.), tetrachloroethylene (121.2 ° C.), and chlorobenzene (131.7 ° C.). , Dioxane (101.3 ° C), dibutyl ether (142.4 ° C), isobutyl acetate (118 ° C), cyclohexanone (155.7 ° C), 2-methyl-4-pentanone (same as MIBK, 115.9 ° C) 1-butanol (117.7 ° C.), N, N-dimethylformamide (153 ° C.), N, N-dimethylacetamide (166 ° C.), dimethyl sulfoxide (189 ° C.) and the like. Cyclohexanone and 2-methyl-4-pentanone are preferable.

<透明支持体>
本発明の防眩性反射防止フィルムの透明支持体としては、プラスチックフィルムを用いることが好ましい。プラスチックフィルムを形成するポリマーとしては、セルロースアシレート(例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、代表的には富士写真フイルム社製TAC−TD80U,TD80ULなど)、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル(例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート)、ポリスチレン、ポリオレフィン、ノルボルネン系樹脂(アートン:商品名、JSR社製)、非晶質ポリオレフィン(ゼオネックス:商品名、日本ゼオン社製)、などが挙げられる。このうちトリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、ノルボルネン系樹脂、非晶質ポリオレフィンが好ましく、特にトリアセチルセルロースが好ましい。
セルロースアシレートは、単層または複数の層からなる。単層のセルロースアシレートは、特開平7−11055号等で開示されているドラム流延、あるいはバンド流延等により作成され、後者の複数の層からなるセルロースアシレートは、公開特許公報の特開昭61−94725号、特公昭62−43846号等で開示されている、いわゆる共流延法により作成される。すなわち、原料フレークをハロゲン化炭化水素類(ジクロロメタン等、アルコール類(メタノール、エタノール、ブタノール等)、エステル類(蟻酸メチル、酢酸メチル等)、エーテル類(ジオキサン、ジオキソラン、ジエチルエーテル等)等の溶剤にて溶解し、これに必要に応じて可塑剤、紫外線吸収剤、劣化防止剤、滑り剤、剥離促進剤等の各種の添加剤を加えた溶液(ドープと称する)を、水平式のエンドレスの金属ベルトまたは回転するドラムからなる支持体の上に、ドープ供給手段(ダイと称する)により流延する際、単層ならば単一のドープを単層流延し、複数の層ならば高濃度のセルロースエステルドープの両側に低濃度ドープを共流延し、支持体上である程度乾燥して剛性が付与されたフィルムを支持体から剥離し、次いで各種の搬送手段により乾燥部を通過させて溶剤を除去することからなる方法である。
<Transparent support>
As the transparent support of the antiglare antireflection film of the present invention, it is preferable to use a plastic film. As the polymer forming the plastic film, cellulose acylate (eg, triacetyl cellulose, diacetyl cellulose, cellulose acetate propionate, cellulose acetate butyrate, typically TAC-TD80U, TD80UL, etc. manufactured by Fuji Photo Film), Polyamide, polycarbonate, polyester (eg, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate), polystyrene, polyolefin, norbornene resin (Arton: trade name, manufactured by JSR), amorphous polyolefin (ZEONEX: trade name, manufactured by Nippon Zeon), Etc. Among these, triacetyl cellulose, polyethylene terephthalate, norbornene resin, and amorphous polyolefin are preferable, and triacetyl cellulose is particularly preferable.
Cellulose acylate consists of a single layer or a plurality of layers. A single-layer cellulose acylate is prepared by drum casting or band casting disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-11055, and the latter cellulose acylate is a feature of the published patent publication. It is prepared by the so-called co-casting method disclosed in Japanese Utility Model Publication Nos. 61-94725 and 62-43846. That is, the raw material flakes are solvents such as halogenated hydrocarbons (dichloromethane, alcohols (methanol, ethanol, butanol, etc.), esters (methyl formate, methyl acetate, etc.), ethers (dioxane, dioxolane, diethyl ether, etc.), etc. A solution (called a dope) with various additives such as a plasticizer, an ultraviolet absorber, an anti-degradation agent, a slipping agent, and a peeling accelerator is added to the horizontal endless as necessary. When casting by a dope supply means (called a die) on a support composed of a metal belt or a rotating drum, a single dope is cast in a single layer if it is a single layer, and a high concentration in the case of multiple layers. A low-concentration dope is co-cast on both sides of the cellulose ester dope, and the film is dried to some extent on the support to release the rigid film, and then peeled off from the support. A process comprising passed through a drying section by species of the conveying means to remove the solvent.

前記のような、セルロースアシレートを溶解するための溶剤としては、ジクロロメタンが代表的である。しかし地球環境や作業環境の観点から、溶剤はジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素を実質的に含まないことが好ましい。「実質的に含まない」とは、有機溶剤中のハロゲン化炭化水素の割合が5質量%未満(好ましくは2質量%未満)であることを意味する。   A typical solvent for dissolving cellulose acylate as described above is dichloromethane. However, from the viewpoint of the global environment and working environment, the solvent preferably does not substantially contain a halogenated hydrocarbon such as dichloromethane. “Substantially free” means that the proportion of halogenated hydrocarbon in the organic solvent is less than 5% by mass (preferably less than 2% by mass).

前記のような種々のセルロースアシレートフィルム(トリアセチルセルロースなどからなるフィルム)およびその製造法については発明協会公開技報公技番号2001−1745号(2001年3月15日発行)に記載されている。   Various cellulose acylate films as described above (films made of triacetyl cellulose and the like) and production methods thereof are described in JIII Journal of Technical Disclosure No. 2001-1745 (issued on March 15, 2001). Yes.

セルロースアシレートフィルムの厚みとしては40μm〜120μmが好ましい。ハンドリング適性、塗布適性等を考慮すると80μm前後が好ましいが、近年の表示装置の薄手化の傾向から、偏光板の薄手化のニーズが大きく、偏光板薄手化の観点では40μm〜60μm前後が好ましい。このような薄手のセルロースアシレートフィルムを本発明の防眩性反射防止フィルムの透明支持体として用いる場合には、セルロースアシレートフィルムに直接塗布する層の溶媒、膜厚、架橋収縮率等を最適化することにより前記のハンドリング、塗布適性等の問題を回避することが好ましい。
<他の層について>
透明支持体と本発明の防眩層の間に設けても良い他の層として、透明帯電防止層(ディスプレイ側からの表面抵抗値を下げる等の要求がある場合、表面等へのゴミつきが問題となる場合)、ハードコート層(防眩層だけで硬度が不足する場合)、防湿層、密着改良層、虹ムラ(干渉ムラ)防止層等が挙げられる。
これらの層は、公知の方法にて形成することができる。
The thickness of the cellulose acylate film is preferably 40 μm to 120 μm. In consideration of handling suitability, coating suitability, etc., about 80 μm is preferable. However, due to the recent trend of thinning display devices, there is a great need for thinning of the polarizing plate. When such a thin cellulose acylate film is used as a transparent support for the antiglare antireflection film of the present invention, the solvent, film thickness, crosslinking shrinkage ratio, etc. of the layer directly applied to the cellulose acylate film are optimal. It is preferable to avoid the problems such as handling and application suitability by making it easier.
<About other layers>
As another layer that may be provided between the transparent support and the antiglare layer of the present invention, a transparent antistatic layer (when there is a request such as lowering the surface resistance value from the display side, there is dust on the surface etc. A hard coat layer (when the antiglare layer alone is insufficient in hardness), a moisture proof layer, an adhesion improving layer, a rainbow unevenness (interference unevenness) preventing layer, and the like.
These layers can be formed by a known method.

中でも透明帯電防止層を形成し、本発明の防眩性反射防止フィルムの表面抵抗値LogSRを12以下、好ましくは11以下にするのがよい。透明帯電防止層に仕様される導電材料としては、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛および窒化チタン等の金属酸化物の超微粒子が挙げられ、酸化錫および酸化インジウムが特に好ましい。このような導電性材料に、硬化性モノマー、カップリング剤などを適当な有機溶剤に分散させ、トリアセチルセルロースフィルムのような基材に塗布し硬化させることにより、透明帯電防止層が得られる。なお、表面抵抗値LogSRは、JIS−K−7194に準ずる方法によって測定される。   Among them, a transparent antistatic layer is formed, and the surface resistance value LogSR of the antiglare antireflection film of the present invention is 12 or less, preferably 11 or less. Examples of the conductive material specified for the transparent antistatic layer include ultrafine particles of metal oxides such as tin oxide, indium oxide, zinc oxide and titanium nitride, and tin oxide and indium oxide are particularly preferable. A transparent antistatic layer can be obtained by dispersing a curable monomer, a coupling agent, and the like in such a conductive material in a suitable organic solvent, and applying and curing the substrate on a substrate such as a triacetyl cellulose film. The surface resistance value LogSR is measured by a method according to JIS-K-7194.

本発明の防眩性反射防止フィルムは以下の方法で形成することができるが、この方法に制限されない。   The antiglare antireflection film of the present invention can be formed by the following method, but is not limited to this method.

[塗布液の調製]
まず、各層を形成するための成分を含有した塗布液(塗布組成物)が調製される。その際、溶剤の揮発量を最小限に抑制することにより、塗布液中の含水率の上昇を抑制できる。塗布液中の含水率は5%以下が好ましく、2%以下がより好ましい。溶剤の揮発量の抑制は、各素材をタンクに投入後の攪拌時の密閉性を向上すること、移液作業時の塗布液の空気接触面積を最小化すること等で達成される。また、塗布中、或いはその前後に塗布液中の含水率を低減する手段を設けてもよい。
[Preparation of coating solution]
First, a coating liquid (coating composition) containing components for forming each layer is prepared. In that case, the raise of the moisture content in a coating liquid can be suppressed by suppressing the volatilization amount of a solvent to the minimum. The moisture content in the coating solution is preferably 5% or less, more preferably 2% or less. The suppression of the volatilization amount of the solvent is achieved by improving the sealing property at the time of stirring after putting each material into the tank, minimizing the air contact area of the coating liquid at the time of liquid transfer operation, and the like. Moreover, you may provide the means to reduce the moisture content in a coating liquid during application | coating, or before and behind that.

防眩層を形成する塗布液中には、直接その上に形成される低屈折率層の乾燥膜厚(50nm〜120nm程度)に相当する異物を概ね全て(90%以上を指す)除去できるろ過をすることが好ましい。光拡散性を付与する為の透光性微粒子が低屈折率層の膜厚と同等以上であるため、前記ろ過は、透光性微粒子以外の全ての素材を添加した中間液に対して行うことが好ましい。また、前記のような粒径の小さな異物を除去可能なフィルターが入
手できない場合には、少なくとも直接その上に形成される層のウエット膜厚(1〜10μm程度)に相当する異物を概ね全て除去できるろ過をすることが好ましい。このような手段により、直接その上に形成される層の点欠陥を減少することができる。
Filtration capable of removing almost all foreign substances (pointing to 90% or more) corresponding to the dry film thickness (about 50 nm to 120 nm) of the low refractive index layer directly formed on the coating solution for forming the antiglare layer It is preferable to Since the light-transmitting fine particles for imparting light diffusivity are equal to or greater than the film thickness of the low refractive index layer, the filtration is performed on the intermediate liquid to which all materials other than the light-transmitting fine particles are added. Is preferred. In addition, when a filter capable of removing foreign substances having a small particle diameter as described above is not available, almost all foreign substances corresponding to the wet film thickness (about 1 to 10 μm) of the layer directly formed thereon are removed. It is preferable to perform filtration. By such means, the point defects of the layer formed directly thereon can be reduced.

[塗布]
次に、防眩層、および必要に応じて低屈折率層を形成するための塗布液をエクストルージョン法(ダイコート法)、マイクログラビア法等の塗布方法により透明支持体上に塗布し、加熱・乾燥する。その後、光照射および/または加熱して、防眩層ないし低屈折率層を形成するためのモノマーや硬化性樹脂を硬化する。これにより防眩層、低屈折率層が形成される。
[Application]
Next, a coating solution for forming an antiglare layer and, if necessary, a low refractive index layer is applied onto a transparent support by a coating method such as an extrusion method (die coating method) or a micro gravure method, dry. Thereafter, the monomer and curable resin for forming the antiglare layer or the low refractive index layer are cured by light irradiation and / or heating. Thereby, an anti-glare layer and a low refractive index layer are formed.

本発明の防眩性反射防止フィルムを高い生産性で供給するために、エクストルージョン法(ダイコート法)が好ましく用いられる。特に、本発明の防眩層や反射防止層のような、ウエット塗布量の少ない領域(20cc/m2以下)で好ましく用いることができるダイコーターについて、以下に説明する。 In order to supply the antiglare antireflection film of the present invention with high productivity, an extrusion method (die coating method) is preferably used. In particular, a die coater that can be preferably used in a region with a small amount of wet coating (20 cc / m 2 or less), such as the antiglare layer or the antireflection layer of the present invention, will be described below.

<ダイコーターの構成>
図2は本発明を実施したスロットダイを用いたコーターの断面図である。コーター10はバックアップロール11に支持されて連続走行するウェブWに対して、スロットダイ13から塗布液14をビード14aにして塗布することにより、ウェブW上に塗膜14bを形成する。
<Die coater configuration>
FIG. 2 is a sectional view of a coater using a slot die embodying the present invention. The coater 10 is applied to the web W supported by the backup roll 11 and continuously applied from the slot die 13 as a bead 14a to form a coating film 14b on the web W.

スロットダイ13の内部にはポケット15、スロット16が形成されている。ポケット15は、その断面が曲線及び直線で構成されており、例えば図2に示すような略円形でもよいし、あるいは半円形でもよい。ポケット15は、スロットダイ13の幅方向にその断面形状をもって延長された塗布液の液溜め空間で、その有効延長の長さは、塗布幅と同等か若干長めにするのが一般的である。ポケット15への塗布液14の供給は、スロットダイ13の側面から、あるいはスロット開口部16aとは反対側の面中央から行う。また、ポケット15には塗布液14が漏れ出ることを防止する栓が設けられている。   Inside the slot die 13, a pocket 15 and a slot 16 are formed. The cross section of the pocket 15 is configured by a curve and a straight line. For example, the pocket 15 may be substantially circular as shown in FIG. 2 or may be semicircular. The pocket 15 is a liquid storage space for the coating liquid extended in the width direction of the slot die 13 with its cross-sectional shape, and the length of the effective extension is generally equal to or slightly longer than the coating width. The supply of the coating liquid 14 to the pocket 15 is performed from the side surface of the slot die 13 or from the center of the surface opposite to the slot opening 16a. The pocket 15 is provided with a stopper that prevents the coating liquid 14 from leaking out.

スロット16は、ポケット15からウェブWへの塗布液14の流路であり、ポケット15と同様にスロットダイ13の幅方向にその断面形状をもち、ウェブ側に位置する開口部16aは、一般に、図示しない幅規制板のようなものを用いて、概ね塗布幅と同じ長さの幅になるように調整する。このスロット16のスロット先端における、バックアップロール11のウェブ走行方向の接線とのなす角は、30°以上90°以下が好ましい。   The slot 16 is a flow path of the coating liquid 14 from the pocket 15 to the web W, and has a cross-sectional shape in the width direction of the slot die 13 like the pocket 15, and the opening 16a located on the web side is generally Using a width regulating plate (not shown), the width is adjusted to be approximately the same as the coating width. The angle between the slot tip of the slot 16 and the tangent in the web running direction of the backup roll 11 is preferably 30 ° or more and 90 ° or less.

スロット16の開口部16aが位置するスロットダイ13の先端リップ17は先細り状に形成されており、その先端はランドと呼ばれる平坦部18とされている。このランド18であって、スロット16に対してウェブWの進行方向の上流側を上流側リップランド18a、下流側を下流側リップランド18bと称する。   The tip lip 17 of the slot die 13 where the opening 16a of the slot 16 is located is tapered, and the tip is a flat part 18 called a land. In the land 18, the upstream side in the traveling direction of the web W with respect to the slot 16 is referred to as an upstream lip land 18 a and the downstream side is referred to as a downstream lip land 18 b.

図3は、スロットダイ13の断面形状を従来のものと比較して示すもので、(A)は本発明のスロットダイ13を示し、(B)は従来のスロットダイ30を示している。従来のスロットダイ30では、上流側リップランド31aと下流側リップランド31bのウェブとの距離は等しい。なお、符号32はポケット、33はスロットを示している。これに対して、本発明のスロットダイ13では、下流側リップランド長さILOが短くされており、これによって、湿潤膜厚が20μm以下の塗布を精度良くおこなうことができる。 FIG. 3 shows a cross-sectional shape of the slot die 13 in comparison with a conventional one, (A) shows the slot die 13 of the present invention, and (B) shows a conventional slot die 30. In the conventional slot die 30, the distance between the upstream lip land 31a and the web of the downstream lip land 31b is equal. Reference numeral 32 denotes a pocket, and 33 denotes a slot. On the other hand, in the slot die 13 of the present invention, the downstream side lip land length I LO is shortened, whereby the wet film thickness of 20 μm or less can be applied with high accuracy.

上流側リップランド18aのランド長さIUPは特に限定はされないが、500μm〜1mmの範囲で好ましく用いられる。下流側リップランド18bのランド長さILOは30μ
m以上100μm以下であり、好ましくは30μm以上80μm以下、さらに好ましくは30μm以上60μm以下である。下流側リップのランド長さILOが30μmよりも短い場合は、先端リップのエッジあるいはランドが欠けやすく、塗膜にスジが発生しやすくなり、結果的には塗布が不可能になる。また、下流側の濡れ線位置の設定が困難になり、塗布液が下流側で広がりやすくなるという問題も発生する。この下流側での塗布液の濡れ広がりは、濡れ線の不均一化を意味し、塗布面上にスジなどの不良形状を招くという問題につながることが従来より知られている。一方、下流側リップのランド長さILOが100μmよりも長い場合は、ビードそのものを形成することができないために、薄層塗布を行うことは不可能である。
The land length I UP of the upstream lip land 18a is not particularly limited, but is preferably used in the range of 500 μm to 1 mm. The land length I LO of the downstream lip land 18b is 30 μm.
m to 100 μm, preferably 30 μm to 80 μm, and more preferably 30 μm to 60 μm. If the land length I LO of the downstream lip is shorter than 30 μm, the edge or land of the tip lip is likely to be chipped, streaks are likely to occur in the coating film, and consequently application is impossible. In addition, it becomes difficult to set the position of the wetting line on the downstream side, and there is a problem that the coating liquid tends to spread on the downstream side. It has been conventionally known that this spreading of the coating liquid on the downstream side means non-uniform wetting lines and leads to a problem of causing a defective shape such as a streak on the coating surface. On the other hand, when the land length I LO of the downstream lip is longer than 100 μm, the bead itself cannot be formed, so that it is impossible to apply the thin layer.

さらに、下流側リップランド18bは、上流側リップランド18aよりもウェブWに近接したオーバーバイト形状であり、このため減圧度を下げることができて薄膜塗布に適したビード形成が可能となる。下流側リップランド18bと上流側リップランド18aのウェブWとの距離の差(以下、オーバーバイト長さLOと称する)は30μm以上120μm以下が好ましく、さらに好ましくは30μm以上100μm以下、もっとも好ましくは30μm以上80μm以下である。スロットダイ13がオーバーバイト形状のとき、先端リップ17とウェブWの隙間GL とは、下流側リップランド18bとウェブWの隙間を示す。 Further, the downstream lip land 18b has an overbite shape closer to the web W than the upstream lip land 18a. Therefore, the degree of decompression can be lowered, and a bead suitable for thin film coating can be formed. The difference in distance between the downstream side lip land 18b and the web W of the upstream side lip land 18a (hereinafter referred to as overbit length LO) is preferably 30 μm or more and 120 μm or less, more preferably 30 μm or more and 100 μm or less, and most preferably 30 μm. It is 80 μm or less. When the slot die 13 has an overbite shape, the gap GL between the tip lip 17 and the web W indicates the gap between the downstream lip land 18b and the web W.

図4は、本発明を実施した塗布工程のスロットダイ及びその周辺を示す斜視図である。ウェブWの進行方向側とは反対側に、ビード14aに対して十分な減圧調整を行えるよう、接触しない位置に減圧チャンバー40を設置する。減圧チャンバー40は、その作動効率を保持するためのバックプレート40aとサイドプレート40bを備えており、バックプレート40aとウェブWの間、サイドプレート40bとウェブWの間にはそれぞれ隙間GB 、GS が存在する。図5及び図6は、近接している減圧チャンバー40とウェブWを示す断面図である。サイドプレートとバックプレートは図5のようにチャンバー本体と一体のものであってもよいし、図6のように適宜隙間を変えられるようにチャンバーにネジ40cなどで留められている構造でもよい。いかなる構造でも、バックプレート40aとウェブWの間、サイドプレート40bとウェブWの間に実際にあいている部分を、それぞれ隙間GB 、GS と定義する。減圧チャンバー40のバックプレート40aとウェブWとの隙間GB とは、減圧チャンバー40を図4のようにウェブW及びスロットダイ13の下方に設置した場合、バックプレート40aの最上端からウェブWまでの隙間を示す。 FIG. 4 is a perspective view showing a slot die and its periphery in a coating process in which the present invention is implemented. On the opposite side of the web W in the direction of travel, a decompression chamber 40 is installed at a position where it does not come into contact with the bead 14a so that sufficient decompression can be adjusted. The decompression chamber 40 includes a back plate 40a and a side plate 40b for maintaining its operating efficiency, and there are gaps G B and G between the back plate 40a and the web W and between the side plate 40b and the web W, respectively. S exists. 5 and 6 are cross-sectional views showing the decompression chamber 40 and the web W that are close to each other. The side plate and the back plate may be integrated with the chamber main body as shown in FIG. 5, or may have a structure fastened to the chamber with screws 40c or the like so that the gap can be appropriately changed as shown in FIG. In any structure, portions that are actually opened between the back plate 40a and the web W and between the side plate 40b and the web W are defined as gaps G B and G S , respectively. The gap G B between the back plate 40a and the web W of the decompression chamber 40, when the vacuum chamber 40 is placed under the web W and the slot die 13 as shown in FIG. 4, from the uppermost end of the back plate 40a to the web W Indicates the gap.

バックプレート40aとウェブWとの隙間GB をスロットダイ13の先端リップ17とウェブWとの隙間GL よりも大きくして設置するのが好ましく、これによりバックアップロール11の偏心に起因するビード近傍の減圧度変化を抑制することができる。例えば、スロットダイ13の先端リップ17とウェブWとの隙間GL が30μm以上100μm以下のとき、バックプレート40aとウェブWの間の隙間GB は100μm以上500μm以下が好ましい。 Is preferably placed in the gap G B between the back plate 40a and the web W is larger than the gap G L between the end lip 17 and the web W of the slot die 13, beads vicinity due to the eccentricity of the backup roll 11 thereby The change in the degree of decompression can be suppressed. For example, when the gap G L between the end lip 17 and the web W of the slot die 13 is 30μm or more 100μm or less, the gap G B between the back plate 40a and the web W is preferably 100μm or 500μm or less.

<材質、精度>
前記ウェブの進行方向側の先端リップのウェブ走行方向における長さは、長いほどビード形成に不利であり、この長さがスロットダイ幅方向における任意の個所間でばらつくと、かすかな外乱によりビードが不安定になる。したがって、この長さをスロットダイ幅方向における変動幅が20μm以内とすることが好ましい。
また、スロットダイの先端リップの材質については、ステンレス鋼などのような材質を用いるとダイ加工の段階でだれてしまい、前記のようにスロットダイ先端リップのウェブ走行方向における長さを30〜100μmの範囲にしても、先端リップの精度を満足できない。したがって、高い加工精度を維持するためには、特許第2817053号公報に記載されているような超硬材質のものを用いることが重要である。具体的には、スロットダ
イの少なくとも先端リップを、平均粒径5μm以下の炭化物結晶を結合してなる超硬合金にすることが好ましい。超硬合金としては、タングステンカーバイド(以下、WCと称す)などの炭化物結晶粒子をコバルトなどの結合金属によって結合したものなどがあり、結合金属としては他にチタン、タンタル、ニオブ及びこれらの混合金属を用いることも出来る。WC結晶の平均粒径としては、粒径3μm以下がさらに好ましい。
高精度な塗布を実現するためには、先端リップのウェブ進行方向側のランドの前記長さ及びウェブとの隙間のスロットダイ幅方向のばらつきも重要な因子となる。この二つの因子の組み合わせ、つまり隙間の変動幅をある程度抑えられる範囲内の真直度を達成することが望ましい。好ましくは、前記隙間のスロットダイ幅方向における変動幅が5μm以下になるように先端リップとバックアップロールの真直度を出す。
<Material and accuracy>
The longer the length of the tip lip on the traveling direction side of the web in the web running direction, the more disadvantageous it is for bead formation.If this length varies between arbitrary locations in the slot die width direction, It becomes unstable. Therefore, it is preferable that the fluctuation width in the slot die width direction is within 20 μm.
Further, when the material of the tip lip of the slot die is made of a material such as stainless steel, the length of the slot die tip lip in the web running direction is set to 30 to 100 μm as described above. Even within this range, the accuracy of the tip lip cannot be satisfied. Therefore, in order to maintain high processing accuracy, it is important to use a cemented carbide material as described in Japanese Patent No. 2817053. Specifically, at least the tip lip of the slot die is preferably made of a cemented carbide formed by bonding carbide crystals having an average particle size of 5 μm or less. Cemented carbides include carbide carbide particles such as tungsten carbide (hereinafter referred to as WC) bonded by a bonding metal such as cobalt, and other bonding metals include titanium, tantalum, niobium, and mixed metals thereof. Can also be used. The average particle size of the WC crystal is more preferably 3 μm or less.
In order to realize high-precision coating, the length of the land on the web traveling direction side of the tip lip and the variation in the slot die width direction of the gap with the web are also important factors. It is desirable to achieve a combination of these two factors, that is, straightness within a range in which the fluctuation range of the gap can be suppressed to some extent. Preferably, the straightness of the tip lip and the backup roll is set so that the fluctuation width of the gap in the slot die width direction is 5 μm or less.

<塗布速度>
上記の様なバックアップロール及び先端リップの精度を達成することにより、本発明で好ましく用いられる塗布方式は高速塗布時における膜厚の安定性が高い。さらに、本発明の塗布方式は前計量方式であるために高速塗布時でも安定した膜厚の確保が容易である。本発明の防眩性反射防止フィルムの様な低塗布量の塗布液に対して、本発明の塗布方式は高速で膜厚安定性良く塗布が可能である。他の塗布方式でも塗布は可能であるが、ディップコート法は液受け槽中の塗布液振動が不可避であり、段状のムラが発生しやすい。リバースロールコート法では、塗布に関連するロールの偏芯やたわみにより段状のムラが発生しやすい。また、これらの塗布方式は後計量方式であるため、安定した膜厚の確保が困難である。本発明の製造方法を用いることで25m/分以上で塗布することが生産性の面から好ましい。
<Application speed>
By achieving the accuracy of the backup roll and the tip lip as described above, the coating method preferably used in the present invention has high film thickness stability during high-speed coating. Furthermore, since the coating method of the present invention is a pre-measuring method, it is easy to ensure a stable film thickness even during high-speed coating. The coating method of the present invention can be applied at high speed and with good film thickness stability to a coating solution having a low coating amount such as the antiglare antireflection film of the present invention. Although application is possible by other application methods, the dip coating method inevitably causes vibration of the application liquid in the liquid receiving tank, and stepped unevenness is likely to occur. In the reverse roll coating method, stepped unevenness is likely to occur due to eccentricity and deflection of the roll related to coating. Moreover, since these coating methods are post-measuring methods, it is difficult to ensure a stable film thickness. From the viewpoint of productivity, it is preferable to apply at a rate of 25 m / min or more by using the production method of the present invention.

<ウエット塗布量>
防眩層を形成する際には、基材フィルム上に直接又は他の層を介してウエット塗布膜厚として6〜30μmの範囲で前記塗液を塗布するのが好ましく、乾燥ムラ防止の観点からさらに3〜20μmの範囲がより好ましい。また、低屈折率層を形成する際には、防眩層上に直接、或いは他の層を介してウエット塗布膜厚として1〜10μmの範囲で塗布組成物を塗布するのが好ましく、2〜5μmの範囲で塗布されるのがより好ましい。
<Wet application amount>
When forming the antiglare layer, it is preferable to apply the coating liquid in a range of 6 to 30 μm as a wet coating thickness directly or via another layer on the base film, from the viewpoint of preventing drying unevenness. Furthermore, the range of 3-20 micrometers is more preferable. Moreover, when forming a low refractive index layer, it is preferable to apply | coat a coating composition in the range of 1-10 micrometers as wet coating film thickness directly or via another layer on an anti-glare layer, More preferably, it is applied in the range of 5 μm.

[乾燥]
防眩層および低屈折率層は、基材フィルム上に直接又は他の層を介して塗布された後、溶剤を乾燥するために加熱されたゾーンにウェブで搬送される。その際の乾燥ゾーンの温度は25℃〜140℃が好ましく、乾燥ゾーンの前半は比較的低温であり、後半は比較的高温であることが好ましい。但し、各層の塗布組成物に含有される溶剤以外の成分の揮発が始まる温度以下であることが好ましい。例えば、紫外線硬化樹脂と併用される市販の光ラジカル発生剤のなかには120℃の温風中で数分以内にその数10%前後が揮発してしまうものもあり、また、単官能、2官能のアクリレートモノマー等は100℃の温風中で揮発が進行するものもある。そのような場合には、前記のように各層の塗布組成物に含有される溶剤以外の成分の揮発が始まる温度以下であることが好ましい。
[Dry]
The antiglare layer and the low refractive index layer are applied directly on the base film or via other layers, and then conveyed by a web to a heated zone to dry the solvent. In this case, the temperature of the drying zone is preferably 25 ° C. to 140 ° C., the first half of the drying zone is relatively low temperature, and the second half is preferably relatively high temperature. However, it is preferably below the temperature at which components other than the solvent contained in the coating composition of each layer start to volatilize. For example, some commercially available photo radical generators used in combination with ultraviolet curable resins may volatilize around several tens of percent within a few minutes in warm air at 120 ° C. Some acrylate monomers and the like undergo volatilization in warm air at 100 ° C. In such a case, it is preferable that it is below the temperature at which components other than the solvent contained in the coating composition of each layer start to volatilize as described above.

また、各層の塗布組成物を基材フィルム上に塗布した後の乾燥風は、前記塗布組成物の固形分濃度が1〜50%の間は塗膜表面の風速が0.1〜2m/秒の範囲にあることが、乾燥ムラを防止するために好ましい。
また、各層の塗布組成物を基材フィルム上に塗布した後、乾燥ゾーン内で基材フィルムの塗布面とは反対の面に接触する搬送ロールと基材フィルムとの温度差が0℃〜20℃以内とすると、搬送ロール上での伝熱ムラによる乾燥ムラが防止でき、好ましい。
Moreover, the dry wind after apply | coating the coating composition of each layer on a base film is 0.1-2 m / sec on the surface of a coating film, when the solid content concentration of the said coating composition is 1 to 50%. It is preferable to be in the range in order to prevent drying unevenness.
Moreover, after apply | coating the coating composition of each layer on a base film, the temperature difference of the conveyance roll and base film which contacts the surface opposite to the coating surface of a base film in a drying zone is 0 degreeC-20. Within the range of ° C., drying unevenness due to heat transfer unevenness on the transport roll can be prevented, which is preferable.

[硬化]
溶剤の乾燥ゾーンの後に、ウェブで電離放射線および/または熱により各塗膜を硬化さ
せるゾーンを通過させ、塗膜を硬化する。例えば塗膜が紫外線硬化性であれば、紫外線ランプにより10mJ/cm2〜1000mJ/cm2の照射量の紫外線を照射して各層を硬化するのが好ましい。その際、ウェブの幅方向の照射量分布は中央の最大照射量に対して両端まで含めて50〜100%の分布が好ましく、80〜100%の分布がより好ましい。更に表面硬化を促進する為に窒素ガス等をパージして酸素濃度を低下する必要がある際には、酸素濃度0.01%〜5%が好ましく、幅方向の分布は酸素濃度で2%以下が好ましい。
[Curing]
After the solvent drying zone, the coating is cured by passing through a zone where the coating is cured by ionizing radiation and / or heat on the web. For example, if the coating film is UV curable, it is to cure each layer by irradiating an irradiation amount of ultraviolet rays of 10mJ / cm 2 ~1000mJ / cm 2 by an ultraviolet lamp preferred. At that time, the irradiation distribution in the width direction of the web is preferably 50 to 100%, more preferably 80 to 100%, including both ends with respect to the central maximum irradiation. Further, when it is necessary to purge nitrogen gas or the like to lower the oxygen concentration in order to promote surface hardening, the oxygen concentration is preferably 0.01% to 5%, and the distribution in the width direction is 2% or less in terms of oxygen concentration Is preferred.

また、防眩層の硬化率(100−残存官能基含率)が100%未満のある値となった場合、その上に本発明の低屈折率層を設けて電離放射線および/または熱により低屈折率層を硬化した際に下層の防眩層の硬化率が低屈折率層を設ける前よりも高くなると、防眩層と低屈折率層との間の密着性が改良され、好ましい。   Further, when the curing rate (100-residual functional group content) of the antiglare layer becomes a certain value of less than 100%, the low refractive index layer of the present invention is provided on the antiglare layer to reduce the amount by ionizing radiation and / or heat. When the refractive index layer is cured, if the curing rate of the lower antiglare layer is higher than before the low refractive index layer is provided, the adhesion between the antiglare layer and the low refractive index layer is improved, which is preferable.

前記のようにして製造された本発明の防眩性反射防止フィルムは、これを用いて偏光板を作成することにより液晶表示装置に用いることができる。この場合、片面に粘着層を設ける等してディスプレイの最表面に配置する。本発明の防眩性反射防止フィルムは、偏光板における偏光膜を両面から挟む2枚の保護フィルムのうち少なくとも1枚に用いることが好ましい。
本発明の反射防止フィルムが保護フィルムを兼ねることで、偏光板の製造コストを低減できる。また、本発明の反射防止フィルムを最表層に使用することにより、外光の映り込み等が防止され、耐擦傷性、防汚性等も優れた偏光板とすることができる。
The antiglare antireflection film of the present invention produced as described above can be used for a liquid crystal display device by using this to produce a polarizing plate. In this case, it arrange | positions on the outermost surface of a display by providing an adhesive layer on one side. The antiglare antireflection film of the present invention is preferably used for at least one of the two protective films sandwiching the polarizing film in the polarizing plate from both sides.
Since the antireflection film of the present invention also serves as a protective film, the production cost of the polarizing plate can be reduced. Further, by using the antireflection film of the present invention as the outermost layer, reflection of external light and the like can be prevented, and a polarizing plate having excellent scratch resistance, antifouling property and the like can be obtained.

本発明の防眩性反射防止フィルムを2枚の偏光膜の表面保護フィルムの内の一方として用いて偏光板を作成する際には、前記の防眩性反射防止フィルムを、反射防止構造を有する側とは反対側の透明支持体の表面、すなわち偏光膜と貼り合わせる側の表面を親水化することで、接着面における接着性を改良することが好ましい。   When creating a polarizing plate using the antiglare antireflection film of the present invention as one of the surface protective films of two polarizing films, the antiglare antireflection film has an antireflection structure. It is preferable to improve the adhesion on the adhesive surface by hydrophilizing the surface of the transparent support opposite to the side, that is, the surface to be bonded to the polarizing film.

[鹸化処理]
(1)アルカリ液に浸漬する法
アルカリ液の中に光散乱フィルムや反射防止フィルムを適切な条件で浸漬して、フィルム全表面のアルカリと反応性を有する全ての面を鹸化処理する手法であり、特別な設備を必要としないため、コストの観点で好ましい。アルカリ液は、水酸化ナトリウム水溶液であることが好ましい。好ましい濃度は0.5〜3mol/Lであり、特に好ましくは1〜2mol/Lである。好ましいアルカリ液の液温は30〜75℃、特に好ましくは40〜60℃である。
前記の鹸化条件の組合せは比較的穏和な条件同士の組合せであることが好ましいが、光散乱フィルムや反射防止フィルムの素材や構成、目標とする接触角によって設定することができる。
アルカリ液に浸漬した後は、フィルムの中にアルカリ成分が残留しないように、水で十分に水洗したり、希薄な酸に浸漬してアルカリ成分を中和することが好ましい。
[Saponification]
(1) Method of immersing in an alkali solution This is a technique in which a light scattering film or an antireflection film is immersed in an alkali solution under appropriate conditions to saponify all surfaces that are reactive with alkali on the entire surface of the film. Since no special equipment is required, it is preferable from the viewpoint of cost. The alkaline liquid is preferably a sodium hydroxide aqueous solution. A preferred concentration is 0.5 to 3 mol / L, particularly preferably 1 to 2 mol / L. The liquid temperature of a preferable alkali liquid is 30-75 degreeC, Most preferably, it is 40-60 degreeC.
The combination of the saponification conditions is preferably a combination of relatively mild conditions, but can be set according to the material and configuration of the light scattering film and the antireflection film, and the target contact angle.
After being immersed in the alkaline solution, it is preferable to sufficiently wash with water or neutralize the alkaline component by immersing in a dilute acid so that the alkaline component does not remain in the film.

鹸化処理することにより、透明支持体の防眩層や低屈折率層を有する表面と反対の表面が親水化される。偏光板用保護フィルムは、透明支持体の親水化された表面を偏光膜と接着させて使用する。
親水化された表面は、ポリビニルアルコールを主成分とする接着層との接着性を改良するのに有効である。
鹸化処理は、防眩層や低屈折率層を有する側とは反対側の透明支持体の表面の水に対する接触角が低いほど、偏光膜との接着性の観点では好ましいが、一方、浸漬法では同時に防眩層や低屈折率層を有する表面から内部までアルカリによるダメージを受ける為、必要最小限の反応条件とすることが重要となる。アルカリによる各層の受けるダメージの指標
として、反対側の表面の透明支持体の水に対する接触角を用いた場合、特に透明支持体がトリアセチルセルロースであれば、好ましくは10度〜50度、より好ましくは30度〜50度、さらに好ましくは40度〜50度となる。50度以上では、偏光膜との接着性に問題が生じる為、好ましくない。一方、10度未満では、該ダメージが大きすぎる為、物理強度を損ない、好ましくない。
By saponification treatment, the surface of the transparent support opposite to the surface having the antiglare layer and the low refractive index layer is hydrophilized. The protective film for polarizing plate is used by adhering the hydrophilic surface of the transparent support to the polarizing film.
The hydrophilized surface is effective for improving the adhesiveness with the adhesive layer mainly composed of polyvinyl alcohol.
In the saponification treatment, the lower the contact angle with water on the surface of the transparent support opposite to the side having the antiglare layer or the low refractive index layer, the better from the viewpoint of adhesiveness to the polarizing film. At the same time, since it is damaged by alkali from the surface having the antiglare layer and the low refractive index layer to the inside, it is important to set the reaction conditions to the minimum necessary. When the contact angle to water of the transparent support on the opposite surface is used as an index of damage to each layer due to alkali, particularly when the transparent support is triacetylcellulose, preferably 10 to 50 degrees, more preferably Is 30 to 50 degrees, more preferably 40 to 50 degrees. If it is 50 degrees or more, there is a problem in the adhesion to the polarizing film, which is not preferable. On the other hand, if it is less than 10 degrees, the damage is too great, and physical strength is impaired.

(2)アルカリ液を塗布する方法
上述の浸漬法における各膜へのダメージを回避する手段として、適切な条件でアルカリ液を防眩層や低屈折率層を有する表面と反対側の表面のみに塗布、加熱、水洗、乾燥するアルカリ液塗布法が好ましく用いられる。なお、この場合の塗布とは、鹸化を行う面に対してのみアルカリ液などを接触させることを意味し、塗布以外にも噴霧、液を含んだベルト等に接触させる、などによって行われることも含む。これらの方法を採ることにより、別途、アルカリ液を塗布する設備、工程が必要となるため、コストの観点では(1)の浸漬法に劣る。一方で、鹸化処理を施す面にのみアルカリ液が接触するため、反対側の面にはアルカリ液に弱い素材を用いた層を有することができる。例えば、蒸着膜やゾル−ゲル膜では、アルカリ液によって、腐食、溶解、剥離など様々な影響が起こるため、浸漬法では設けることが望ましくないが、この塗布法では液と接触しないため問題なく使用することが可能である。
(2) Method of applying alkaline solution As a means for avoiding damage to each film in the above-mentioned immersion method, the alkaline solution is applied only to the surface opposite to the surface having the antiglare layer or the low refractive index layer under appropriate conditions. An alkaline solution coating method of coating, heating, washing with water and drying is preferably used. The application in this case means that an alkaline solution or the like is brought into contact only with the surface to be saponified, and in addition to the application, it may be carried out by spraying or contacting a belt containing the solution. Including. By adopting these methods, a separate facility and process for applying an alkaline solution are required, which is inferior to the immersion method (1) from the viewpoint of cost. On the other hand, since the alkali solution contacts only the surface to be saponified, the opposite surface can have a layer using a material that is weak against the alkali solution. For example, vapor deposition films and sol-gel films have various effects such as corrosion, dissolution, and peeling due to alkali solution, so it is not desirable to use the immersion method. Is possible.

前記(1)、(2)のどちらの鹸化方法においても、ロール状の支持体から巻き出して各層を形成後に行うことができるため、前述の防眩性反射防止フィルム製造工程の後に加えて一連の操作で行っても良い。さらに、同様に巻き出した支持体からなる偏光板との張り合わせ工程もあわせて連続で行うことにより、枚葉で同様の操作をするよりもより効率良く偏光板を作成することができる。   In any of the saponification methods (1) and (2), since each layer can be formed after being unwound from a roll-shaped support, a series of steps are added in addition to the above-described antiglare antireflection film production process. You may carry out by operation. Furthermore, the polarizing plate can be produced more efficiently than the same operation with a single wafer by continuously performing the pasting step with the polarizing plate made of the unwound support.

(3)防眩層や低屈折率層をラミネートフィルムで保護して鹸化する方法
前記(2)と同様に、防眩層および/または低屈折率層がアルカリ液に対する耐性が不足している場合に、最終層まで形成した後に該最終層を形成した面にラミネートフィルムを貼り合せてからアルカリ液に浸漬することで最終層を形成した面とは反対側のトリアセチルセルロース面だけを親水化し、然る後にラミネートフィルムを剥離することができる。この方法でも、防眩層、低屈折率層へのダメージなしに偏光板保護フィルムとして必要なだけの親水化処理をトリアセチルセルロースフィルムの最終層を形成した面とは反対の面だけに施すことができる。前記(2)の方法と比較して、ラミネートフィルムが廃棄物として発生する半面、特別なアルカリ液を塗布する装置が不要である利点がある。
(3) Method for protecting and saponifying an antiglare layer and a low refractive index layer with a laminate film When the antiglare layer and / or the low refractive index layer is insufficient in resistance to an alkaline solution as in the above (2) In addition, after forming the final layer, after laminating the laminate film on the surface on which the final layer has been formed and then immersing it in an alkali solution, only the surface of the triacetyl cellulose opposite to the surface on which the final layer has been formed is hydrophilized, Thereafter, the laminate film can be peeled off. Even in this method, only the surface opposite to the surface on which the final layer of the triacetyl cellulose film is formed is subjected to the hydrophilization treatment necessary for the polarizing plate protective film without damage to the antiglare layer and the low refractive index layer. Can do. Compared with the method (2), there is an advantage that a laminate film is generated as waste, but a device for applying a special alkaline solution is unnecessary.

(4)防眩層まで形成後にアルカリ液に浸漬する方法
防眩層まではアルカリ液に対する耐性があるが、低屈折率層がアルカリ液に対する耐性不足である場合には、防眩層まで形成後にアルカリ液に浸漬して両面を親水化処理し、然る後に防眩層上に低屈折率層を形成することもできる。製造工程が煩雑になるが、特に低屈折率層がフッ素含有ゾル−ゲル膜等、親水基を有する場合には防眩層と低屈折率層との層間密着性が向上する利点がある。
(4) Method of immersing in alkaline solution after forming up to antiglare layer Up to antiglare layer is resistant to alkaline solution, but when low refractive index layer is insufficiently resistant to alkaline solution, after forming up to antiglare layer It is also possible to soak both surfaces in an alkali solution to hydrophilize both surfaces, and then form a low refractive index layer on the antiglare layer. Although the manufacturing process becomes complicated, there is an advantage that the interlayer adhesion between the antiglare layer and the low refractive index layer is improved particularly when the low refractive index layer has a hydrophilic group such as a fluorine-containing sol-gel film.

(5)予め鹸化済のトリアセチルセルロースフィルムに防眩層や低屈折率層を形成する方法
トリアセチルセルロースフィルムを予めアルカリ液に浸漬するなどして鹸化し、何れか一方の面に直接または他の層を介して防眩層、低屈折率層を形成してもよい。アルカリ液に浸漬して鹸化する場合には、防眩層または他の層と鹸化により親水化されたトリアセチルセルロース面との層間密着性が悪化することがある。そのような場合には、鹸化後、防眩層または他の層を形成する面だけにコロナ放電、グロー放電等の処理をすることで親水化面を除去してから防眩層または他の層を形成することで対処できる。また、防眩層また
は他の層が親水性基を有する場合には層間密着が良好なこともある。
(5) Method for forming an antiglare layer or a low refractive index layer on a previously saponified triacetyl cellulose film Saponified by, for example, pre-immersing a triacetyl cellulose film in an alkali solution, either directly or on the other side An antiglare layer and a low refractive index layer may be formed through these layers. In the case of saponification by dipping in an alkaline solution, interlayer adhesion between the antiglare layer or other layers and the triacetyl cellulose surface hydrophilized by saponification may deteriorate. In such a case, after saponification, only the surface on which the antiglare layer or other layer is formed is treated with corona discharge, glow discharge, etc. to remove the hydrophilic surface, and then the antiglare layer or other layer. Can be dealt with by forming Further, when the antiglare layer or other layer has a hydrophilic group, the interlayer adhesion may be good.

以下に、本発明の光散乱フィルムまたは反射防止フィルムを用いた偏光板及び該偏光板を用いた液晶表示装置について説明する。
[偏光板]
本発明の好ましい偏光板は、偏光膜の保護フィルム(偏光板用保護フィルム)の少なくとも一方として、本発明の防眩性反射防止フィルムを有する。偏光板用保護フィルムは、前記のように、防眩層や低屈折率層を有する側とは反対側の透明支持体の表面、すなわち偏光膜と貼り合わせる側の表面の水に対する接触角が10度〜50度の範囲にあることが好ましい。
本発明の防眩性反射防止フィルムを偏光板用保護フィルムとして用いることにより、物理強度、耐光性に優れた光散乱機能、あるいは反射防止機能を有する偏光板が作製でき、大幅なコスト削減、表示装置の薄手化が可能となる。
また、本発明の防眩性反射防止フィルムを偏光板用保護フィルムの一方に、後述する光学異方性のある光学補償フィルムを偏光膜の保護フィルムのもう一方に用いた偏光板を作製することにより、さらに、液晶表示装置の明室での視認性やコントラストを改良し、上下左右の視野角が非常に広げることができる偏光板を作製できる。
Below, the polarizing plate using the light-scattering film or antireflection film of this invention and the liquid crystal display device using this polarizing plate are demonstrated.
[Polarizer]
The preferable polarizing plate of this invention has the anti-glare antireflection film of this invention as at least one of the protective film (protective film for polarizing plates) of a polarizing film. As described above, the polarizing plate protective film has a water contact angle of 10 on the surface of the transparent support opposite to the side having the antiglare layer or the low refractive index layer, that is, the surface to be bonded to the polarizing film. It is preferable to be in the range of degrees to 50 degrees.
By using the antiglare antireflection film of the present invention as a protective film for a polarizing plate, a light scattering function having excellent physical strength and light resistance, or a polarizing plate having an antireflection function can be produced, and the cost can be greatly reduced. The apparatus can be thinned.
Also, a polarizing plate using the antiglare antireflection film of the present invention as one of the protective films for a polarizing plate and an optical compensation film having optical anisotropy described later as the other protective film of the polarizing film is prepared. This further improves the visibility and contrast in the bright room of the liquid crystal display device, and makes it possible to produce a polarizing plate that can greatly widen the vertical and horizontal viewing angles.

[光学補償層]
偏光板には光学補償層(光学異方性層)を設けることにより、液晶表示画面の視野角特性を改良することができる。
光学補償層としては、公知のものを用いることができるが、視野角を広げるという点では、ディスコティック構造単位を有する化合物からなる光学異方性を有する層を有し、該ディスコティック化合物の円盤面は、保護フィルム面に対して傾いており、該ディスコティック化合物の円盤面と保護フィルム面とのなす角度が保護フィルム面からの距離に伴って変化している(光学異方性層の深さ方向において変化している)ことを特徴とする光学補償層が好ましい。
該角度は該ディスコティック化合物からなる光学異方性層の保護フィルム面側からの距離の増加とともに増加していることが好ましい。
光学補償層を偏光膜の保護フィルムとして用いる場合、この保護フィルムは複数の層からなり、偏光膜と貼り合せる面とは反対側の面に光学異方性層を含んでなり、偏光膜と貼り合わせる側の表面が鹸化処理されていることが好ましく、前記の鹸化処理に従って実施することが好ましい。
[Optical compensation layer]
By providing the polarizing plate with an optical compensation layer (optically anisotropic layer), the viewing angle characteristics of the liquid crystal display screen can be improved.
A known layer can be used as the optical compensation layer. However, in terms of widening the viewing angle, the optical compensation layer has a layer having optical anisotropy made of a compound having a discotic structural unit, and the discotic compound has a circular shape. The disc surface is inclined with respect to the protective film surface, and the angle formed by the disc surface of the discotic compound and the protective film surface changes with the distance from the protective film surface (the depth of the optically anisotropic layer). An optical compensation layer characterized in that it varies in the vertical direction) is preferred.
The angle preferably increases as the distance from the protective film surface side of the optically anisotropic layer made of the discotic compound increases.
When the optical compensation layer is used as a protective film for the polarizing film, the protective film is composed of a plurality of layers, and includes an optically anisotropic layer on the surface opposite to the surface to be bonded to the polarizing film. The surfaces on the mating side are preferably saponified, and it is preferable to carry out the saponification.

[偏光膜]
偏光膜としては公知の偏光膜や、偏光膜の吸収軸が長手方向に平行でも垂直でもない長尺の偏光膜から切り出された偏光膜を用いてもよい。偏光膜の吸収軸が長手方向に平行でも垂直でもない長尺の偏光膜は以下の方法により作成される。
即ち、連続的に供給されるポリマーフィルムの両端を保持手段により保持しつつ張力を付与して延伸した偏光膜で、少なくともフィルム幅方向に1.1〜20.0倍に延伸し、フィルム両端の保持装置の長手方向進行速度差が3%以内であり、フィルム両端を保持する工程の出口におけるフィルムの進行方向と、フィルムの実質延伸方向のなす角が、20〜70゜傾斜するようにフィルム進行方向を、フィルム両端を保持させた状態で屈曲させてなる延伸方法によって製造することができる。特に45°傾斜させたものが生産性の観点から好ましく用いられる。
[Polarizing film]
As the polarizing film, a known polarizing film or a polarizing film cut out from a long polarizing film whose absorption axis is neither parallel nor perpendicular to the longitudinal direction may be used. A long polarizing film whose absorption axis is neither parallel nor perpendicular to the longitudinal direction is produced by the following method.
That is, a polarizing film stretched by applying tension while holding both ends of a continuously supplied polymer film by a holding means, stretched at least 1.1 to 20.0 times in the film width direction, The progress of the film is such that the difference between the moving speeds in the longitudinal direction of the holding device is within 3%, and the angle formed by the film moving direction at the exit of the step of holding both ends of the film and the substantial stretching direction of the film is inclined by 20 to 70 °. The film can be produced by a stretching method in which the direction is bent while holding both ends of the film. In particular, those inclined by 45 ° are preferably used from the viewpoint of productivity.

ポリマーフィルムの延伸方法については、特開2002−86554号公報の段落0020〜0030に詳しい記載がある。   The method for stretching the polymer film is described in detail in paragraphs 0020 to 0030 of JP-A-2002-86554.

<液晶表示装置>
本発明の防眩性反射防止フィルムを用いた偏光板は、液晶表示装置(LCD)、プラズマディスプレイパネル(PDP)、エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)や陰極管表示装置(CRT)のような画像表示装置に適用することができる。本発明の防眩性反射防止フィルムは透明支持体を有しているので、透明支持体側を画像表示装置の画像表示面に接着して用いられる。
<Liquid crystal display device>
The polarizing plate using the antiglare antireflection film of the present invention is an image display device such as a liquid crystal display device (LCD), a plasma display panel (PDP), an electroluminescence display (ELD), or a cathode ray tube display device (CRT). Can be applied to. Since the anti-glare antireflection film of the present invention has a transparent support, the transparent support is bonded to the image display surface of the image display device.

本発明の防眩性反射防止フィルムは、偏光膜の表面保護フィルムの片側として用いた場合、ツイステットネマチック(TN)、スーパーツイステットネマチック(STN)、バーティカルアライメント(VA)、インプレインスイッチング(IPS)、オプティカリーコンペンセイテットベンドセル(OCB)等のモードの透過型、反射型、または半透過型の液晶表示装置に好ましく用いることができる。特に、大型液晶テレビ等の用途として、VA、IPS、OCB等で好ましく用いることができ、中小の精細度の低い表示装置用途であれば、TN、STN等にも好ましく用いることができる。大型液晶テレビ等の用途としては、表示画面の対角が20インチ以上であり、精細度がXGA以下(縦横比3:4の表示装置において1024×768以下)であるものに対して、特に好ましく用いることができる。本発明の防眩性反射防止フィルムは、実質的に内部ヘイズがないため、20インチで精細度がXGA(縦横比3:4の表示装置において1024×768)を超えるものに対してはギラツキが許容レベルを超える為、ギラツキを重視する場合には好ましくない。また、ギラツキの程度は画素の大きさと表面の防眩フィルムの表面凹凸形状との関係で発生するものであるため、表示装置の大きさが30インチになれば精細度がUXGA(縦横比3:4の表示装置において1600×1200)以下、40インチならば精細度がQXGA(縦横比3:4の表示装置において2048×1536)以下まで好ましくもちいることができる。   The antiglare antireflection film of the present invention is twisted nematic (TN), super twisted nematic (STN), vertical alignment (VA), in-plane switching (IPS) when used as one side of a surface protective film of a polarizing film. ), Transmissive, reflective, or transflective liquid crystal display devices such as an optically compensate bend cell (OCB). In particular, it can be preferably used for VA, IPS, OCB, etc., for applications such as large liquid crystal televisions, and can also be preferably used for TN, STN, etc., if it is used for display devices with small and medium definition. For applications such as large liquid crystal televisions, it is particularly preferable for a display screen having a diagonal of 20 inches or more and a definition of XGA or less (1024 × 768 or less in a display device having an aspect ratio of 3: 4). Can be used. Since the antiglare antireflection film of the present invention has substantially no internal haze, it has a glare for a 20-inch screen with a definition exceeding XGA (1024 × 768 in a display device having an aspect ratio of 3: 4). Since it exceeds the permissible level, it is not preferred when emphasizing glare. Further, since the degree of glare occurs due to the relationship between the size of the pixel and the surface unevenness of the antiglare film on the surface, the definition becomes UXGA (aspect ratio 3 :) when the size of the display device is 30 inches. If it is 40 inches, the definition can be preferably used up to QXGA (2048 × 1536 in a display device with an aspect ratio of 3: 4) or less.

VAモードの液晶セルには、(1)棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のVAモードの液晶セル(特開平2−176625号公報記載)に加えて、(2)視野角拡大のため、VAモードをマルチドメイン化した(MVAモードの)液晶セル(SID97、Digest of tech.Papers(予稿集)28(1997)845記載)、(3)棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード(n−ASMモード)の液晶セル(日本液晶討論会の予稿集58〜59(1998)記載)および(4)SURVAIVALモードの液晶セル(LCDインターナショナル98で発表)が含まれる。   The VA mode liquid crystal cell includes (1) a narrowly defined VA mode liquid crystal cell in which rod-like liquid crystalline molecules are aligned substantially vertically when no voltage is applied, and substantially horizontally when a voltage is applied (Japanese Patent Laid-Open No. Hei 2-). 176625) (2) Liquid crystal cell (SID97, Digest of tech. Papers (Preliminary Proceed) 28 (1997) 845 in which the VA mode is converted into a multi-domain (MVA mode) for widening the viewing angle. ), (3) A liquid crystal cell in a mode (n-ASM mode) in which rod-like liquid crystalline molecules are substantially vertically aligned when no voltage is applied and twisted multi-domain alignment is applied when a voltage is applied (Preliminary collections 58-59 of the Japan Liquid Crystal Society) (1998)) and (4) SURVAVAL mode liquid crystal cells (announced at LCD International 98).

OCBモードの液晶セルは、棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に(対称的に)配向させるベンド配向モードの液晶セルを用いた液晶表示装置であり、米国特許4583825号、同5410422号の各明細書に開示されている。棒状液晶性分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、OCB(Optically Compensatory Bend) 液晶モードとも呼ばれる。ベンド配向モードの液晶表示装置は、応答速度が速いとの利点がある。   The OCB mode liquid crystal cell is a liquid crystal display device using a bend alignment mode liquid crystal cell in which rod-like liquid crystalline molecules are aligned in a substantially opposite direction (symmetrically) between the upper part and the lower part of the liquid crystal cell. It is disclosed in the specifications of Japanese Patent Nos. 45882525 and 5410422. Since the rod-like liquid crystal molecules are symmetrically aligned at the upper and lower portions of the liquid crystal cell, the bend alignment mode liquid crystal cell has a self-optical compensation function. Therefore, this liquid crystal mode is also called an OCB (Optically Compensatory Bend) liquid crystal mode. The bend alignment mode liquid crystal display device has an advantage of high response speed.

ECBモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向しており、カラーTFT液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。例えば「EL、PDP、LCDディスプレイ」東レリサーチセンター発行(2001)などに記載されている。   In an ECB mode liquid crystal cell, rod-like liquid crystal molecules are substantially horizontally aligned when no voltage is applied, and is most frequently used as a color TFT liquid crystal display device, and is described in many documents. For example, it is described in “EL, PDP, LCD display” published by Toray Research Center (2001).

本発明を詳細に説明するために、以下に実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、特別の断りの無い限り、「部」及び「%」は質量基準である。
また、実施例1−3、2−3および3−3については、「実施例」とあるのを「参考例」と読み替えるものとする。
In order to describe the present invention in detail, examples will be described below, but the present invention is not limited thereto. Unless otherwise specified, “part” and “%” are based on mass.
In addition, regarding Examples 1-3, 2-3, and 3-3, “Example” should be read as “Reference Example”.

[実施例1]
(パーフルオロオレフィン共重合体(1)の合成)
[Example 1]
(Synthesis of perfluoroolefin copolymer (1))

Figure 0005010813
Figure 0005010813

内容量100mlのステンレス製撹拌機付オートクレーブに酢酸エチル40ml、ヒドロキシエチルビニルエーテル14.7gおよび過酸化ジラウロイル0.55gを仕込み、系内を脱気して窒素ガスで置換した。さらにヘキサフルオロプロピレン(HFP)25gをオートクレーブ中に導入して65℃まで昇温した。オートクレーブ内の温度が65℃に達した時点の圧力は0.53Mpa(5.4kg/cm2)であった。該温度を保持し8時間反応を続け、圧力が0.31MPa(3.2kg/cm2)に達した時点で加熱をやめ放冷した。室温まで内温が下がった時点で未反応のモノマーを追い出し、オートクレーブを開放して反応液を取り出した。得られた反応液を大過剰のヘキサンに投入し、デカンテーションにより溶剤を除去することにより沈殿したポリマーを取り出した。さらにこのポリマーを少量の酢酸エチルに溶解してヘキサンから2回再沈殿を行うことによって残存モノマーを完全に除去した。乾燥後ポリマー28gを得た。次に該ポリマーの20gをN,N−ジメチルアセトアミド100mlに溶解、氷冷下アクリル酸クロライド11.4gを滴下した後、室温で10時間攪拌した。反応液に酢酸エチルを加え水洗、有機層を抽出後濃縮し、得られたポリマーをヘキサンで再沈殿させることによりパーフルオロオレフィン共重合体(1)を19g得た。得られたポリマーの屈折率は1.421であった。 Into a stainless steel autoclave with a stirrer of 100 ml, 40 ml of ethyl acetate, 14.7 g of hydroxyethyl vinyl ether and 0.55 g of dilauroyl peroxide were charged, and the inside of the system was deaerated and replaced with nitrogen gas. Furthermore, 25 g of hexafluoropropylene (HFP) was introduced into the autoclave and the temperature was raised to 65 ° C. The pressure when the temperature in the autoclave reached 65 ° C. was 0.53 Mpa (5.4 kg / cm 2 ). The reaction was continued for 8 hours while maintaining the temperature, and when the pressure reached 0.31 MPa (3.2 kg / cm 2 ), the heating was stopped and the mixture was allowed to cool. When the internal temperature dropped to room temperature, unreacted monomers were driven out, the autoclave was opened, and the reaction solution was taken out. The obtained reaction solution was poured into a large excess of hexane, and the polymer was precipitated by removing the solvent by decantation. Further, this polymer was dissolved in a small amount of ethyl acetate and reprecipitated twice from hexane to completely remove the residual monomer. After drying, 28 g of polymer was obtained. Next, 20 g of the polymer was dissolved in 100 ml of N, N-dimethylacetamide, and 11.4 g of acrylic acid chloride was added dropwise under ice cooling, followed by stirring at room temperature for 10 hours. Ethyl acetate was added to the reaction solution, washed with water, the organic layer was extracted and concentrated, and the resulting polymer was reprecipitated with hexane to obtain 19 g of perfluoroolefin copolymer (1). The resulting polymer had a refractive index of 1.421.

(ゾル液aの調製)
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器、メチルエチルケトン120部、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン(KBM−5103、信越化学工業(株)製)100部、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート3部を加え混合したのち、イオン交換水30部を加え、60℃で4時間反応させたのち、室温まで冷却し、ゾル液aを得た。質量平均分子量は1600であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が1000〜20000の成分は100%であった。また、ガスクロマトグラフィー分析から、原料のアクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランは全く残存していなかった。
(Preparation of sol solution a)
A stirrer, a reactor equipped with a reflux condenser, 120 parts of methyl ethyl ketone, 100 parts of acryloyloxypropyltrimethoxysilane (KBM-5103, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), 3 parts of diisopropoxyaluminum ethyl acetoacetate were added and mixed. Thereafter, 30 parts of ion-exchanged water was added and reacted at 60 ° C. for 4 hours, and then cooled to room temperature to obtain sol solution a. The mass average molecular weight was 1600, and among the components higher than the oligomer component, the component having a molecular weight of 1000 to 20000 was 100%. Further, from the gas chromatography analysis, the raw material acryloyloxypropyltrimethoxysilane did not remain at all.

(防眩層用塗布液Aの調製)
ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA、日本化薬(株)製)25.4gをメチルイソブチルケトン46.3gで希釈した。更に、重合開始剤(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)を1.3g添加し、混合攪拌した。続いてフッ素系表面改質剤(FP−149)0.04g、シランカップリング剤(KBM−5103、信越化学工業(株)製)を5.2g、分子量40,000のセルロースアセテートブチレート(CAB−531−1、イーストマンケミカル(株)製)0.50gを加えてエアーディスパーにて120分間攪拌して溶質を完全に溶解した。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は1.520であった。
最後に、この溶液にポリトロン分散機にて10000rpmで20分間分散した平均粒径3.5μmの架橋ポリ(アクリル−スチレン)粒子(共重合組成比=50/50、屈折率1.536)の30%メチルイソブチルケトン分散液を25.2g加えた後にエアーディスパーにて10分間攪拌した。
前記混合液を孔径30μmのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩層用塗布液Aを調製した。
(Preparation of coating solution A for antiglare layer)
25.4 g of a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) was diluted with 46.3 g of methyl isobutyl ketone. Furthermore, 1.3 g of a polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) was added and mixed and stirred. Next, 0.04 g of fluorine-based surface modifier (FP-149), 5.2 g of silane coupling agent (KBM-5103, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), cellulose acetate butyrate (CAB) having a molecular weight of 40,000 -531-1, Eastman Chemical Co., Ltd.) 0.50 g was added and stirred with an air disper for 120 minutes to completely dissolve the solute. The refractive index of the coating film obtained by applying this solution and curing with ultraviolet rays was 1.520.
Finally, 30 of crosslinked poly (acryl-styrene) particles having an average particle diameter of 3.5 μm (copolymerization composition ratio = 50/50, refractive index 1.536) dispersed in this solution for 20 minutes at 10,000 rpm with a Polytron disperser. After adding 25.2 g of% methyl isobutyl ketone dispersion, the mixture was stirred with an air disperser for 10 minutes.
The mixed solution was filtered through a polypropylene filter having a pore diameter of 30 μm to prepare a coating solution A for an antiglare layer.

(防眩層用塗布液Bの調製)
主溶媒として用いるメチルイソブチルケトン(21.7℃における蒸気圧:16.5mmHg)46.3gを40.0gに変更し、更に水酸基を有する少量溶媒としてプロピレングリコール(20.0℃における蒸気圧:0.08mmHg)を6.3g添加した以外は防眩層用塗布液Aと同様にして、防眩層用塗布液Bを調製した。
(Preparation of coating solution B for antiglare layer)
46.3 g of methyl isobutyl ketone (vapor pressure at 21.7 ° C .: 16.5 mmHg) used as the main solvent was changed to 40.0 g, and propylene glycol (vapor pressure at 20.0 ° C .: 0 as a small amount solvent having a hydroxyl group). 0.08 mmHg) was added in the same manner as antiglare layer coating solution A, except that 6.3 g was added.

(防眩層用塗布液Cの調製)
ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA、日本化薬(株)製)12.7gをメチルイソブチルケトン16.7gで希釈し、コロイダルシリカ分散液MiBK−ST(商品名、平均粒径15nm、固形分濃度30%、日産化学(株)製)42.3gを添加した。更に、重合開始剤(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)を1.3g添加し、混合攪拌した。続いてフッ素系表面改質剤(FP−149)0.04g、シランカップリング剤(KBM−5103、信越化学工業(株)製)を5.2g、分子量40,000のセルロースアセテートブチレート(CAB−531−1、イーストマンケミカル(株)製)0.50gを加えてエアーディスパーにて120分間攪拌して溶質を完全に溶解した。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は1.500であった。
最後に、この溶液にポリトロン分散機にて10000rpmで20分間分散した平均粒径3.0μmの架橋ポリ(メチルメタクリレート)粒子(架橋剤=エチレングリコールジメタクリレートを10%含有、屈折率1.492)の30%メチルイソブチルケトン分散液を21.0g加えた後にエアーディスパーにて10分間攪拌した。
前記混合液を孔径30μmのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩層用塗布液Cを調製した。
(Preparation of coating solution C for antiglare layer)
12.7 g of a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, Nippon Kayaku Co., Ltd.) was diluted with 16.7 g of methyl isobutyl ketone, and colloidal silica dispersion MiBK-ST (trade name, average) 42.3 g of a particle size of 15 nm, a solid content concentration of 30%, manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.) was added. Furthermore, 1.3 g of a polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) was added and mixed and stirred. Next, 0.04 g of fluorine-based surface modifier (FP-149), 5.2 g of silane coupling agent (KBM-5103, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), cellulose acetate butyrate (CAB) having a molecular weight of 40,000 -531-1, Eastman Chemical Co., Ltd.) 0.50 g was added and stirred with an air disper for 120 minutes to completely dissolve the solute. The refractive index of the coating film obtained by applying this solution and curing with ultraviolet rays was 1.500.
Finally, crosslinked poly (methyl methacrylate) particles having an average particle size of 3.0 μm dispersed in this solution for 20 minutes at 10,000 rpm with a Polytron disperser (crosslinking agent = containing 10% ethylene glycol dimethacrylate, refractive index 1.492) 21.0 g of 30% methyl isobutyl ketone dispersion was added and stirred with an air disperser for 10 minutes.
The mixed solution was filtered through a polypropylene filter having a pore diameter of 30 μm to prepare an antiglare layer coating solution C.

(防眩層用塗布液Dの調製)
前記平均粒径3.5μmの架橋ポリ(アクリル−スチレン)粒子(共重合組成比=50/50、屈折率1.530)の5質量パーセントを導電材料ブライトGNR4,6−EH(金−ニッケルコート樹脂ビーズ:日本化学工業製)に置き換えた以外は防眩層用塗布液Aと同様にして、防眩層用塗布液Dを調整した。
(Preparation of coating solution D for antiglare layer)
5% by mass of the crosslinked poly (acryl-styrene) particles having an average particle size of 3.5 μm (copolymerization composition ratio = 50/50, refractive index 1.530) was used as the conductive material Bright GNR4,6-EH (gold-nickel coat) A coating solution D for an antiglare layer was prepared in the same manner as the coating solution A for an antiglare layer, except that the resin beads were replaced with resin beads (manufactured by Nippon Chemical Industry Co., Ltd.).

(透明帯電防止層用塗布液の調製)
日本ペルノックス(株)製のペルトロンC−4456−S7(固形分45% ATO分散ハードコート剤、商品名)の100gにシクロヘキサノン30g、メチルエチルケトン10g、シランカップリング剤(3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン(KBM−5103、信越化学工業(株)製))1.5gを添加し、攪拌の後、孔径10μmのポリプロピレン製フィルターでろ過して、透明帯電防止層用塗布液を調製した。
透明帯電防止層用塗布液をトリアセチルセルロース(TAC)基材上に膜厚2μm/m2となるようにコーティングし、70℃で1分間乾燥後、窒素パージ下でUV(紫外)光54mJを照射してハーフキュアした。得られた透明帯電防止層の表面抵抗値logSRは、11Ω/□であった。
(Preparation of coating solution for transparent antistatic layer)
100 g of Pertron C-4456-S7 (45% solid content ATO-dispersed hard coat agent, trade name) manufactured by Nippon Pernox Co., Ltd., 30 g of cyclohexanone, 10 g of methyl ethyl ketone, silane coupling agent (3-acryloxypropyltrimethoxysilane ( KBM-5103 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)) 1.5) was added, and after stirring, the mixture was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 10 μm to prepare a coating solution for a transparent antistatic layer.
The coating solution for transparent antistatic layer is coated on a triacetyl cellulose (TAC) substrate so as to have a film thickness of 2 μm / m 2 , dried at 70 ° C. for 1 minute, and then subjected to UV (ultraviolet) light of 54 mJ under a nitrogen purge. Irradiated and half cured. The surface resistance value logSR of the obtained transparent antistatic layer was 11Ω / □.

(低屈折率層用塗布液Aの調整)
ポリシロキサンおよび水酸基を含有する屈折率1.44の熱架橋性含フッ素ポリマー(
JTA113、固形分濃度6%、JSR(株)製)13g、コロイダルシリカ分散液MEK−ST−L(商品名、平均粒径45nm、固形分濃度30%、日産化学(株)製)1.3g、前記ゾル液a0.6g、およびメチルエチルケトン5g、シクロヘキサノン0.6gを添加、攪拌の後、孔径1μmのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層塗布液Aを調製した。この塗布液により形成される層の屈折率は、1.45であった。
(Adjustment of coating solution A for low refractive index layer)
Thermally crosslinkable fluorine-containing polymer having a refractive index of 1.44 containing polysiloxane and hydroxyl group (
JTA113, solid content concentration 6%, manufactured by JSR Co., Ltd. 13 g, colloidal silica dispersion MEK-ST-L (trade name, average particle size 45 nm, solid content concentration 30%, manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.) 1.3 g Then, 0.6 g of the sol solution a, 5 g of methyl ethyl ketone and 0.6 g of cyclohexanone were added, stirred, and then filtered through a polypropylene filter having a pore size of 1 μm to prepare a low refractive index layer coating solution A. The refractive index of the layer formed with this coating solution was 1.45.

(低屈折率層用塗布液Bの調整)
(分散液Aの調製)
中空シリカ微粒子ゾル(イソプロピルアルコールシリカゾル、平均粒子径60nm、シェル厚み10nm、シリカ濃度20質量%、シリカ粒子の屈折率1.31、特開2002−79616号公報の調製例4に準じサイズを変更して作成)500gに、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製)30g、およびジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート1.5g加え混合した後に、イオン交換水を9gを加えた。60℃で8時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン1.8gを添加した。この分散液500gにほぼシリカの含量一定となるようにシクロヘキサノンを添加しながら、圧力20kPaで減圧蒸留による溶媒置換を行った。分散液に異物の発生はなく、固形分濃度をシクロヘキサノンで調整し20質量%にしたときの粘度は25℃で5mPa・sであった。得られた分散液Aのイソプロピルアルコールの残存量をガスクロマトグラフィーで分析したところ、1.5%であった。
(Adjustment of coating liquid B for low refractive index layer)
(Preparation of dispersion A)
Hollow silica fine particle sol (Isopropyl alcohol silica sol, average particle diameter 60 nm, shell thickness 10 nm, silica concentration 20 mass%, silica particle refractive index 1.31, change size according to Preparation Example 4 of JP-A-2002-79616. Prepared) 30 g of acryloyloxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and 1.5 g of diisopropoxyaluminum ethyl acetate were added to and mixed with 9 g of ion-exchanged water. After reacting at 60 ° C. for 8 hours, the mixture was cooled to room temperature, and 1.8 g of acetylacetone was added. While adding cyclohexanone to 500 g of this dispersion so that the silica content was almost constant, solvent substitution was performed by distillation under reduced pressure at a pressure of 20 kPa. There was no generation of foreign matter in the dispersion, and the viscosity when the solid content concentration was adjusted to 20% by mass with cyclohexanone was 5 mPa · s at 25 ° C. When the residual amount of isopropyl alcohol in the obtained dispersion A was analyzed by gas chromatography, it was 1.5%.

(塗布液Bの調製)
オプスターJTA113 (熱架橋性含フッ素含シリコーンポリマー組成液(固形分6%):JSR(株)製)783.3質量部(固形分として47.0質量部)に対して、分散液Aを195質量部(シリカ+表面処理剤固形分として39.0質量部)、コロイダルシリカ分散物(シリカ、MEK−STの粒子径違い品、平均粒径45nm、固形分濃度30%、日産化学(株)製)30.0質量部(固形分として9.0質量部)、ゾル液a17.2質量部(固形分として5.0質量部)を添加した。塗布液全体の固形分濃度が6質量%になり、シクロヘキサンとメチルエチルケトンの比率が10対90になるようにシクロヘキサン、メチルエチルケトンで希釈して低屈折率用塗布液Bを調製した。この塗布液により形成される層の屈折率は、1.39であった。
(Preparation of coating solution B)
The dispersion A was 195 with respect to 783.3 parts by mass (47.0 parts by mass as the solid content) of OPSTAR JTA113 (thermally crosslinkable fluorine-containing silicone polymer composition liquid (solid content: 6%): manufactured by JSR Corporation). Parts by mass (silica + 39.0 parts by mass as surface treatment agent solids), colloidal silica dispersion (silica, MEK-ST particle size difference, average particle size 45 nm, solids concentration 30%, Nissan Chemical Co., Ltd.) 30.0 parts by mass (9.0 parts by mass as solid content) and 17.2 parts by mass of sol liquid a (5.0 parts by mass as solids) were added. The coating liquid B for low refractive index was prepared by diluting with cyclohexane and methyl ethyl ketone so that the solid content concentration of the entire coating liquid was 6% by mass and the ratio of cyclohexane and methyl ethyl ketone was 10:90. The refractive index of the layer formed with this coating solution was 1.39.

(低屈折率層用塗布液Cの調製)
パーフルオロオレフィン共重合体(1)15.2g、中空シリカゾル(屈折率1.31、平均粒径60nm、固形分濃度20%)2.1g、反応性シリコーンX−22−164B(商品名;信越化学工業社製)0.3g、ゾル液a7.3g、光重合開始剤(イルガキュア907(商品名)、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)0.76g、メチルエチルケトン301g、シクロヘキサノン9.0gを添加、攪拌の後、孔径5μmのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布液Cを調製した。この塗布液により形成される層の屈折率は、1.40であった。
(Preparation of coating solution C for low refractive index layer)
Perfluoroolefin copolymer (1) 15.2 g, hollow silica sol (refractive index 1.31, average particle size 60 nm, solid content 20%) 2.1 g, reactive silicone X-22-164B (trade name; Shin-Etsu) Chemical Industry Co., Ltd.) 0.3 g, sol solution a 7.3 g, photopolymerization initiator (Irgacure 907 (trade name), Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 0.76 g, methyl ethyl ketone 301 g, cyclohexanone 9.0 g were added. After stirring, the mixture was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 5 μm to prepare a coating solution C for a low refractive index layer. The refractive index of the layer formed with this coating solution was 1.40.

(低屈折率層用塗布液Dの調整)
3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン100g、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン1000g、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン400g、テトラエトキシシラン500g、イソブタノール200gをフラスコに仕込み、撹拌した。次に0.25Nの酢酸水419gを少量ずつ滴下した。滴下終了後、室温で3時間撹拌した。次にアルミニウムアセチルアセトナート6gを加え、更に撹拌を3時間行った。その後、イソプロピルアルコール600gを添加して、孔径1μmのポリプロピレン製フィルターでろ過して得られた液100gに対して、更に、中空シリカ(粒子サイズ60nm、シエル厚10nm、固形分濃度20%、主溶剤イソプロピルアルコール、(商品名:CS60−IPA 触媒化成工業(株)製))を97g添加し、攪拌の後、孔径30μm、10μm、1μmのポリプロピレン製フィルターで多段ろ過して、低屈折率層用塗布液Dを調製した。
(Adjustment of coating liquid D for low refractive index layer)
A flask was charged with 100 g of 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 1000 g of trifluoropropyltrimethoxysilane, 400 g of heptadecafluorodecyltrimethoxysilane, 500 g of tetraethoxysilane, and 200 g of isobutanol. Next, 419 g of 0.25 N aqueous acetic acid was added dropwise little by little. After completion of dropping, the mixture was stirred at room temperature for 3 hours. Next, 6 g of aluminum acetylacetonate was added, and stirring was further performed for 3 hours. Thereafter, 600 g of isopropyl alcohol was added and 100 g of the liquid obtained by filtration through a polypropylene filter having a pore size of 1 μm was further used for hollow silica (particle size 60 nm, shell thickness 10 nm, solid content concentration 20%, main solvent 97 g of isopropyl alcohol (trade name: manufactured by CS60-IPA Catalyst Kasei Kogyo Co., Ltd.) is added, stirred, and then subjected to multi-stage filtration with a polypropylene filter having a pore size of 30 μm, 10 μm, and 1 μm to apply for a low refractive index layer. Liquid D was prepared.

[実施例1]
(1)防眩層の塗設
透明支持体として、80μmの厚さのトリアセチルセルロースフィルム(TAC−TD80U、富士写真フイルム(株)製)をロール形態で巻き出して、下記の装置構成および塗布条件で示されるダイコート法によって防眩層用塗布液Aを塗布し、30℃で15秒間、100℃で20秒間乾燥の後、さらに窒素パージ下で160W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照射量90mJ/cm2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ6μmの防眩性を有する防眩層を形成し、巻き取った。
[Example 1]
(1) Coating of antiglare layer As a transparent support, a 80 μm-thick triacetyl cellulose film (TAC-TD80U, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) is unwound in a roll form, and the following apparatus configuration and coating are applied. The coating solution A for the antiglare layer is applied by the die coating method indicated by the conditions, dried at 30 ° C. for 15 seconds and at 100 ° C. for 20 seconds, and further air-cooled metal halide lamp (eye graphics (160 The coating layer was cured by irradiating ultraviolet rays with an irradiation amount of 90 mJ / cm 2 to form an antiglare layer having an antiglare property having a thickness of 6 μm and wound up.

基本条件:スロットダイ13は、上流側リップランド長IUPが0.5mm、下流側リップランド長ILOが50μmで,スロット16の開口部のウェブ走行方向における長さが150μm、スロット16の長さが50mmのものを使用した。上流側リップランド18aとウェブWの隙間を、下流側リップランド18bとウェブWの隙間よりも50μm長くし(以下、オーバーバイト長さ50μmと称する)、下流側リップランド18bとウェブWとの隙間GL を50μmに設定した。また、減圧チャンバー40のサイドプレート40bとウェブWとの隙間GS 、及びバックプレート40aとウェブWとの隙間GB はともに200μmとした。それぞれの塗布液の液物性に合わせて、防眩層:防眩層用塗布液A、C、Dの場合:塗布速度=20m/分、ウエット塗布量=17.5ml/m2で、防眩層用塗布液Bの場合:塗布速度=40m/分、ウエット塗布量=17.5ml/m2で、低屈折率層:塗布速度=40m/分、ウエット塗布量=5.0ml/m2で塗布を行った。なお、塗布幅:1300mm、有効幅:1280mmとした。 Basic conditions: The slot die 13 has an upstream lip land length I UP of 0.5 mm, a downstream lip land length I LO of 50 μm, a length of the opening of the slot 16 in the web running direction of 150 μm, and the length of the slot 16 The one with a length of 50 mm was used. The gap between the upstream lip land 18a and the web W is 50 μm longer than the gap between the downstream lip land 18b and the web W (hereinafter referred to as an overbite length of 50 μm), and the gap between the downstream lip land 18b and the web W GL was set to 50 μm. Further, the gap G B between the gap G S, and the back plate 40a and the web W between the side plate 40b and the web W in the vacuum chamber 40 were both 200 [mu] m. In accordance with the liquid physical properties of each coating solution, in the case of anti-glare layer: coating solutions A, C and D for anti-glare layer: coating speed = 20 m / min, wet coating amount = 17.5 ml / m 2 , anti-glare In the case of layer coating solution B: coating speed = 40 m / min, wet coating amount = 17.5 ml / m 2 , low refractive index layer: coating speed = 40 m / min, wet coating amount = 5.0 ml / m 2 Application was performed. The application width was 1300 mm and the effective width was 1280 mm.

(2)低屈折率層の塗設
上記防眩層用塗布液Aを塗布して防眩層を塗設したトリアセチルセルロースフィルムを再び巻き出して、前記低屈折率層用塗布液Aを上記の基本条件で塗布し、120℃で150秒乾燥の後、更に140℃で8分乾燥させてから窒素パージにより酸素濃度0.1%の雰囲気下で240W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照射量300mJ/cm2の紫外線を照射し、厚さ100nmの低屈折率層を形成し、巻き取った。
(3)防眩性反射防止フィルムの鹸化処理
前記低屈折率層の製膜後、前記試料について、以下の処理を行った。
1.5mol/lの水酸化ナトリウム水溶液を調製し、55℃に保温した。0.01mol/lの希硫酸水溶液を調製し、35℃に保温した。作製した防眩性反射防止フィルムを前記の水酸化ナトリウム水溶液に2分間浸漬した後、水に浸漬し水酸化ナトリウム水溶液を十分に洗い流した。次いで、前記の希硫酸水溶液に1分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。最後に試料を120℃で十分に乾燥させた。
このようにして、鹸化処理済みの防眩性反射防止フィルムを作製した。これを実施例1−1とする。
(2) Coating of low refractive index layer The triacetyl cellulose film coated with the antiglare layer coating liquid A and coated with the antiglare layer is unwound again, and the low refractive index layer coating liquid A is used as described above. After being dried at 120 ° C. for 150 seconds and further dried at 140 ° C. for 8 minutes, a 240 W / cm air-cooled metal halide lamp (eye graphics) under an atmosphere with an oxygen concentration of 0.1% by nitrogen purge. Ltd.) was used to an irradiation dose of 300 mJ / cm 2, to form a low refractive index layer having a thickness of 100 nm, it was wound.
(3) Saponification treatment of antiglare antireflection film After the formation of the low refractive index layer, the sample was subjected to the following treatment.
A 1.5 mol / l aqueous sodium hydroxide solution was prepared and kept at 55 ° C. A 0.01 mol / l dilute sulfuric acid aqueous solution was prepared and kept at 35 ° C. The produced antiglare antireflection film was immersed in the aqueous sodium hydroxide solution for 2 minutes, and then immersed in water to sufficiently wash away the aqueous sodium hydroxide solution. Subsequently, after being immersed in the dilute sulfuric acid aqueous solution for 1 minute, it was immersed in water to sufficiently wash away the dilute sulfuric acid aqueous solution. Finally, the sample was thoroughly dried at 120 ° C.
In this manner, a saponified antiglare antireflection film was produced. This is Example 1-1.

防眩層用塗布液Aを防眩層用塗布液B、C、Dに変更し、塗布液Bについては塗布速度40m/分とした以外は実施例1−1と同様にして防眩層を形成し、更に実施例1−1と同様にして低屈折率層の塗設、鹸化処理した。防眩層用塗布液Bを塗布したものを実施例1−2とし、防眩層用塗布液Cを塗布したものを実施例1−3とし、防眩層用塗布液Dを塗布したものを実施例1−4とする。   The antiglare layer was applied in the same manner as in Example 1-1 except that the antiglare layer coating liquid A was changed to the antiglare layer coating liquids B, C, and D, and the coating liquid B was applied at a coating speed of 40 m / min. Then, a low refractive index layer was applied and saponified in the same manner as in Example 1-1. What applied the coating liquid B for glare-proof layers was set to Example 1-2, what applied the coating liquid C for glare-proof layers was set to Example 1-3, and what applied the coating liquid D for glare-proof layers was applied. This is Example 1-4.

[比較例1]
また、実施例1−1と同様にして形成した防眩層上に、低屈折率層としてSiOの蒸着層を、真空度4×10−5Toor、電圧8KV、電流20〜40mAの条件にて膜厚100nmとなるように形成した。さらに、防汚層としてKP−801M(信越化学製)をPF5080(住友3M製)で0.007%に希釈した組成物を塗布し、80℃で1分間乾燥して、約5nmの膜厚の防汚層を形成した。このようにして得られた防眩性反射防止フィルムを、本明細書記載の方法で支持体の低屈折率層を形成していない側の面だけをアルカリ液の塗布によって片面鹸化処理したものを比較例1−1とする。
また、実施例1−1の防眩層を塗布速度50m/分で形成した以外は実施例1−1と同様にして、比較例1−2の防眩性反射防止フィルムを作製した。
[Comparative Example 1]
In addition, on the antiglare layer formed in the same manner as in Example 1-1, a SiO 2 vapor-deposited layer as a low refractive index layer was subjected to a vacuum degree of 4 × 10 −5 Toor, a voltage of 8 KV, and a current of 20 to 40 mA. The film thickness was 100 nm. Further, a composition obtained by diluting KP-801M (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) to 0.007% with PF5080 (manufactured by Sumitomo 3M) as an antifouling layer was applied and dried at 80 ° C. for 1 minute to obtain a film thickness of about 5 nm. An antifouling layer was formed. The antiglare antireflection film thus obtained was saponified on one side only by applying an alkali solution on the side of the support on which the low refractive index layer was not formed by the method described in this specification. This is referred to as Comparative Example 1-1.
Further, an antiglare antireflection film of Comparative Example 1-2 was produced in the same manner as Example 1-1 except that the antiglare layer of Example 1-1 was formed at a coating speed of 50 m / min.

(防眩性フィルム/防眩性反射防止フィルムの評価)
得られたフィルムについて、防眩層形成後(防眩性フィルムという)、および低屈折率層形成後(防眩性反射防止フィルムという)にそれぞれ以下の項目の評価を行った。結果を表1に示す。
(Evaluation of antiglare film / antiglare antireflection film)
The obtained film was evaluated for the following items after the antiglare layer was formed (referred to as an antiglare film) and after the low refractive index layer was formed (referred to as an antiglare antireflection film). The results are shown in Table 1.

(1)ヘイズ
以下の測定により、得られたフィルムの全ヘイズ(h)、内部ヘイズ(hi)、表面ヘイズ(hs、AG)または(hs、AGAR)を測定した。
1.JIS−K7136に準じて得られたフィルムの全ヘイズ値(h)を測定する。
2.得られたフィルムの低屈折率層側の表面および裏面にシリコーンオイルを数滴添加し、厚さ1mmのガラス板(ミクロスライドガラス品番S 9111、MATSUNAMI製)を2枚用いて裏表より挟んで、完全に2枚のガラス板と得られたフィルムを光学的に密着し、表面ヘイズを除去した状態でヘイズを測定し、別途測定したガラス板2枚の間にシリコーンオイルのみを挟みこんで測定したヘイズを引いた値をフィルムの内部ヘイズ(hi)として算出した。
3.上記1で測定した全ヘイズ(h)から上記2で算出した内部ヘイズ(hi)を引いた値をフィルムの表面ヘイズ(hs、AGAR)として算出した。
なお、(hs、AG)は、低屈折率層を設けていない防眩性フィルムについて、前記2と同様に(hi)を算出し、全ヘイズ(h)から当該(hi)を引いた値である。
以上より、防眩性反射防止フィルムと防眩フィルムの表面ヘイズhs比(hs、AGAR)/(hs、AG)を算出した。
(2)防眩性
得られたフィルムにルーバーなしのむき出し蛍光灯(8000cd/m)を45度の角度から映し、−45度の方向から観察した際の反射像のボケの程度を以下の基準で評価した。
蛍光灯の輪郭が全くわからないが、防眩性が強すぎて白濁する :●
蛍光灯の輪郭が全くわからない(防眩性が適度) :◎
蛍光灯の輪郭がわずかにわかる(防眩性が適度) :○
蛍光灯はぼけているが、輪郭は識別できる :△
蛍光灯がほとんどぼけない :×
(1) Haze Total haze (h), internal haze (hi), surface haze (hs, AG) or (hs, AGAR) of the obtained film was measured by the following measurement.
1. The total haze value (h) of the film obtained according to JIS-K7136 is measured.
2. A few drops of silicone oil were added to the surface and the back surface of the low refractive index layer side of the obtained film, and sandwiched from the front and back using two 1 mm thick glass plates (micro slide glass product number S 9111, manufactured by MATSANAMI), Two glass plates and the obtained film were optically adhered to each other, and the haze was measured in a state where surface haze was removed, and measurement was performed by sandwiching only silicone oil between two separately measured glass plates. The value obtained by subtracting haze was calculated as the internal haze (hi) of the film.
3. The value obtained by subtracting the internal haze (hi) calculated in 2 above from the total haze (h) measured in 1 above was calculated as the surface haze (hs, AGAR) of the film.
In addition, (hs, AG) is a value obtained by calculating (hi) in the same manner as 2 above for an antiglare film not provided with a low refractive index layer, and subtracting (hi) from the total haze (h). is there.
From the above, the surface haze hs ratio (hs, AGAR) / (hs, AG) between the antiglare antireflection film and the antiglare film was calculated.
(2) Anti-glare property The obtained film is projected from a 45 degree angle with a louvered bare fluorescent lamp (8000 cd / m 2 ), and the degree of blur of the reflected image when observed from the -45 degree direction is as follows. Evaluated by criteria.
I do not know the outline of the fluorescent lamp at all, but it is too anti-glare and clouded.
I don't know the outline of the fluorescent light (moderate anti-glare): ◎
Slightly understand the outline of the fluorescent lamp (moderate antiglare): ○
The fluorescent lamp is blurred, but the outline can be identified: △
Fluorescent lamp is hardly blurred: ×

Figure 0005010813
Figure 0005010813

(4)平均反射率
低屈折率層を形成し、鹸化処理を施した後の防眩性反射防止フィルムの裏面をサンドペーパーで祖面化した後に黒色インクで処理し、裏面反射をなくした状態で、表面側を、分光光度計(日本分光(株)製)を用いて、380〜780nmの波長領域において、入射角5°における積分分光反射率を測定した。結果には450〜650nmの積分反射率の算術平均値を用いた。
(5)中心線平均粗さ(Ra)
JIS−B0601に準じて、低屈折率層を形成し、鹸化処理を施した後のフィルムの中心線平均粗さRaを測定した。
(6)透過画像鮮明性
JIS K7105に準じて透過画像鮮明性を光学くし幅0.5mmで測定した。結果を表2に示す。
(4) Average reflectance After forming the low refractive index layer and applying the saponification treatment, the back surface of the antiglare antireflection film is sandpaper and then treated with black ink to eliminate back surface reflection. Then, the integrated spectral reflectance at an incident angle of 5 ° was measured on the surface side using a spectrophotometer (manufactured by JASCO Corporation) in a wavelength region of 380 to 780 nm. The arithmetic average value of the integrated reflectance of 450 to 650 nm was used for the result.
(5) Centerline average roughness (Ra)
According to JIS-B0601, the low refractive index layer was formed, and the centerline average roughness Ra of the film after saponification treatment was measured.
(6) Transmission image clarity The transmission image clarity was measured with an optical comb width of 0.5 mm according to JIS K7105. The results are shown in Table 2.

Figure 0005010813
Figure 0005010813

表1より、本例の防眩性反射防止フィルムは低屈折率層をウエット塗布で形成するため
、防眩性フィルムの段階までで防眩層を最適化した比較例では低屈折率層の形成後に防眩性が最適領域からはずれてしまうのに対して、本発明の防眩性反射防止フィルムは、防眩性フィルムの表面ヘイズ値と低屈折率層形成後の表面ヘイズの比を所定の範囲内になるように設計したために、最終形態である低屈折率層形成後の防眩性が最適領域となることがわかる。
表2より、本発明の防眩性反射防止フィルムの防眩性が最適領域となっていることが特性値からもわかる。
From Table 1, since the anti-glare antireflection film of this example forms the low refractive index layer by wet coating, in the comparative example in which the anti-glare layer is optimized up to the stage of the anti-glare film, the formation of the low refractive index layer is performed. The anti-glare antireflection film of the present invention has a predetermined ratio between the surface haze value of the anti-glare film and the surface haze after the formation of the low refractive index layer, whereas the anti-glare property deviates from the optimum region later. Since it was designed to be within the range, it can be seen that the antiglare property after the formation of the low refractive index layer as the final form is an optimum region.
From Table 2, it can be seen from the characteristic values that the antiglare property of the antiglare and antireflection film of the present invention is in the optimum region.

また、実施例1−1の低屈折率層用塗布液Aを低屈折率層用塗布液Bに置き換えた以外は同様にして防眩性反射防止フィルムを作製したところ、平均反射率が1.2%に改良された。
また、実施例1−1の低屈折率層用塗布液Aを低屈折率層用塗布液Cに置き換え、塗布後の紫外線を照射量900mJ/cm2に変更した以外は同様にして防眩性反射防止フィルムを作製したところ、平均反射率が1.5%に改良された。また、低屈折率層用塗布液Cは熱硬化と併用であるため、耐擦傷性を向上することができた。
また、実施例1−1の低屈折率層用塗布液Aを低屈折率層用塗布液Dに置き換えて同様に防眩層上に塗布し、80℃で5分間乾燥の後、更に120℃で20分硬化させて、厚さ100nmの低屈折率層を形成させ巻き取り、比較例1−1と同様にして支持体の低屈折率層を形成していない側の面だけをアルカリ液の塗布によって片面鹸化処理した。このようにして形成した防眩性反射防止フィルムは、平均反射率が1.0%に改良された。
Further, when an antiglare antireflection film was produced in the same manner except that the coating liquid A for low refractive index layer in Example 1-1 was replaced with the coating liquid B for low refractive index layer, the average reflectance was 1. Improved to 2%.
Further, the antiglare property was similarly changed except that the coating liquid A for the low refractive index layer in Example 1-1 was replaced with the coating liquid C for the low refractive index layer, and the ultraviolet light after coating was changed to an irradiation amount of 900 mJ / cm 2 . When an antireflection film was produced, the average reflectance was improved to 1.5%. Further, since the coating liquid C for the low refractive index layer is used in combination with thermosetting, the scratch resistance can be improved.
Further, the coating solution A for the low refractive index layer of Example 1-1 was replaced with the coating solution D for the low refractive index layer, and similarly coated on the antiglare layer, dried at 80 ° C. for 5 minutes, and further 120 ° C. And a low refractive index layer having a thickness of 100 nm is formed and wound, and only the surface of the support on which the low refractive index layer is not formed is made of an alkaline solution in the same manner as in Comparative Example 1-1. One-side saponification treatment was performed by coating. The antiglare antireflection film thus formed has an average reflectance improved to 1.0%.

[実施例2]
(偏光板の作製)
1.5mol/L、55℃のNaOH水溶液中に2分間浸漬したあと中和、水洗した、80μmの厚さのトリアセチルセルロースフィルム(TAC−TD80U、富士写真フイルム(株)製、以下、TACフィルムという)と、実施例1で作製した防眩性反射防止フィルム(鹸化処理済み:実施例1−1〜実施例1−4、比較例1−1、1−2)を、ポリビニルアルコールにヨウ素を吸着させ、延伸して作製した偏光膜の両面に接着、保護して偏光板を作製した。なお実施例1で作製した防眩性反射防止フィルムの透明支持体面を、偏光膜と接着させた。これらを、それぞれ実施例2−1〜実施例2−4、比較例2−1、2−2とした。
また、上記の鹸化処理済みのトリアセチルセルロースフィルムを両面の保護フィルムに用いて偏光板を作製し、比較例2−3とした。
[Example 2]
(Preparation of polarizing plate)
An 80 μm-thick triacetyl cellulose film (TAC-TD80U, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., hereinafter referred to as TAC film) was immersed in a 1.5 mol / L, 55 ° C. NaOH aqueous solution for 2 minutes and then neutralized and washed with water. And an antiglare antireflection film (saponified: Example 1-1 to Example 1-4, Comparative Example 1-1, 1-2) prepared in Example 1, and iodine to polyvinyl alcohol. A polarizing plate was prepared by adhering and protecting both sides of a polarizing film prepared by adsorption and stretching. The transparent support surface of the antiglare antireflection film prepared in Example 1 was adhered to the polarizing film. These were designated as Example 2-1 to Example 2-4 and Comparative Examples 2-1 and 2-2, respectively.
In addition, a polarizing plate was produced using the saponified triacetyl cellulose film as a protective film on both sides, and it was set as Comparative Example 2-3.

[実施例3]
(偏光板の評価)
実施例2で作製した実施例2−1〜実施例2−4、比較例2−1、比較例2−2、比較例2−3の偏光板を、表3のような組合せで、各液晶テレビの視認側の偏光板の一部を剥がして上記偏光板に貼り換えたものを作製した(それぞれ実施例3−1〜実施例3−4、比較例3−1、比較例3−2、比較例3−3とする)。得られた表示装置について、以下の項目の評価を行った。結果を表3に示す。
[Example 3]
(Evaluation of polarizing plate)
The polarizing plates of Example 2-1 to Example 2-4, Comparative Example 2-1, Comparative Example 2-2, and Comparative Example 2-3 produced in Example 2 were combined in the combinations shown in Table 3, and each liquid crystal A part of the polarizing plate on the viewer side of the television was peeled off and replaced with the polarizing plate (Example 3-1 to Example 3-4, Comparative Example 3-1, Comparative Example 3-2, respectively). Comparative example 3-3). About the obtained display apparatus, the following items were evaluated. The results are shown in Table 3.

(1)映り込み
得られた液晶テレビにルーバーなしのむき出し蛍光灯(8000cd/m)を45度の角度から映し、−45度の方向から観察した際の蛍光灯の映り込みの程度を以下の基準で評価した。
蛍光灯の存在が認識できず、全面が白い面に見える :●
蛍光灯の輪郭が全くわからないが、蛍光灯の存在は認識できる:◎
蛍光灯の輪郭がわずかにわかるが、殆ど映り込まない :○
蛍光灯はぼけているが、若干写り込む :△
蛍光灯が完全に写り込む :×
(1) Reflection Reflected fluorescent lamp (8000 cd / m 2 ) without a louver is projected on the obtained LCD TV from an angle of 45 degrees, and the degree of reflection of the fluorescent lamp when observed from the direction of −45 degrees is as follows. Evaluation based on the criteria.
The presence of a fluorescent light cannot be recognized, and the entire surface appears white: ●
I do not know the outline of the fluorescent lamp at all, but I can recognize the existence of the fluorescent lamp:
The outline of the fluorescent lamp is slightly understood, but it is hardly reflected: ○
Fluorescent light is blurred but slightly reflected: △
Fluorescent light is completely reflected: ×

(2)白化
得られた液晶テレビにルーバーなしのむき出し蛍光灯(8000cd/m)を45度の角度から映し、−45度の方向から同一面内で視角を上下させて観察した際の蛍光灯の鏡面反射近辺のオフアクシス方向への散乱の程度(=白化)を以下の基準で目視評価した。
オフアクシス方向への散乱が全くない :◎
オフアクシス方向への散乱が殆ど気にならない :○
オフアクシス方向への散乱が、若干気になる :△
オフアクシス方向への散乱がひどく気になる :×
(2) Whitening Fluorescence when louvered exposed fluorescent lamp (8000 cd / m 2 ) is projected from an angle of 45 degrees on the obtained liquid crystal television and viewed from the −45 degree direction with the viewing angle raised and lowered in the same plane. The degree of scattering (= whitening) in the off-axis direction near the specular reflection of the lamp was visually evaluated according to the following criteria.
No scattering in the off-axis direction: ◎
Scattering in the off-axis direction is hardly noticed: ○
Scattering in the off-axis direction is slightly worrisome: △
Scattering in the off-axis direction is anxious: ×

Figure 0005010813
Figure 0005010813

表3に示された結果より、本発明の防眩性反射防止フィルムを表面側の保護フィルムに用いた偏光板は、液晶表示装置に適用した場合に映り込み防止性と白化の改善とを両立することができることがわかる。
また、実施例1の防眩層と透明支持体の間に、上述の透明帯電防止層を形成した以外は実施例1と同様にして防眩性反射防止フィルムを作製し、実施例2と同様に偏光板とし、実施例3と同様にして液晶テレビに適用したところ、表面へのゴミつきが改善された。
From the results shown in Table 3, the polarizing plate using the antiglare antireflection film of the present invention for the protective film on the surface side achieves both antireflection and improvement of whitening when applied to a liquid crystal display device. You can see that you can.
Further, an antiglare antireflection film was prepared in the same manner as in Example 1 except that the above-described transparent antistatic layer was formed between the antiglare layer and the transparent support in Example 1, and the same as in Example 2. When applied to a liquid crystal television in the same manner as in Example 3 with the polarizing plate, dust on the surface was improved.

[実施例4]
透過型TN液晶セルの視認側の偏光板の視認側の保護フィルムに実施例1−1〜1−4の防眩性反射防止フィルムを用い、バックライト側の偏光板の液晶セル側の保護フィルムとして、視野角拡大フィルム(ワイドビューフィルムSA 12B、富士写真フイルム(株)製)を用いたところ、上下左右の視野角が非常に広く、極めて視認性に優れ、表示品位の高い液晶表示装置が得られた。
[Example 4]
The antiglare antireflection film of Examples 1-1 to 1-4 was used for the protective film on the viewing side of the polarizing plate on the viewing side of the transmission type TN liquid crystal cell, and the protective film on the liquid crystal cell side of the polarizing plate on the backlight side. As a wide viewing angle film (Wide View Film SA 12B, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.), a liquid crystal display device having a very wide viewing angle in the vertical and horizontal directions, excellent visibility, and high display quality. Obtained.

防眩性を有する防眩性反射防止フィルムの好ましい一実施形態を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically one preferable embodiment of the anti-glare antireflection film which has anti-glare property. 本発明を実施したスロットダイを用いたコーターの断面図である。It is sectional drawing of the coater using the slot die which implemented this invention. (A)は本発明のスロットダイの断面形状を示し、(B)は従来のスロットダイの断面形状を示す図である。(A) shows the cross-sectional shape of the slot die of this invention, (B) is a figure which shows the cross-sectional shape of the conventional slot die. 本発明を実施した塗布工程のスロットダイ及びその周辺を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the slot die of the application | coating process which implemented this invention, and its periphery. 近接している減圧チャンバーとウェブWを示す断面図である(バックプレート40aはチャンバー40本体と一体)。It is sectional drawing which shows the pressure reduction chamber and web W which adjoin (back plate 40a is integral with the chamber 40 main body). 近接している減圧チャンバーとウェブWを示す断面図である(バックプレート40aがチャンバー40にネジ40c留め)。It is sectional drawing which shows the pressure reduction chamber and web W which are adjoining (back plate 40a is fastened to chamber 40 with screw 40c).

符号の説明Explanation of symbols

1 防眩性フィルム(反射防止フィルム)
2 透明支持体
3 防眩層
4 低屈折率層
5 透光性微粒子
10 コーター
11 バックアップロール
W ウェブ
13 スロットダイ
14 塗布液
14a ビード
14b 塗膜
15 ポケット
16 スロット
16a スロット開口部
17 先端リップ
18 ランド
18a 上流側リップランド
18b 下流側リップランド
UP 上流側リップランド18aのランド長さ
LO 下流側リップランド18bのランド長さ
LO オーバーバイト長さ(下流側リップランド18bと上流側リップランド18aのウェブWとの距離の差)
L 先端リップ17とウェブWの隙間(下流側リップランド18bとウェブWの隙間)
30 従来のスロットダイ
31a 上流側リップランド
31b 下流側リップランド
32 ポケット
33 スロット
40 減圧チャンバー
40a バックプレート
40b サイドプレート
40c ネジ
B バックプレート40aとウェブWの間の隙間
S サイドプレート40bとウェブWの間の隙間
1 Antiglare film (Antireflection film)
2 Transparent Support 3 Antiglare Layer 4 Low Refractive Index Layer 5 Translucent Fine Particle 10 Coater 11 Backup Roll W Web 13 Slot Die 14 Coating Solution 14a Bead 14b Coating 15 Pocket 16 Slot 16a Slot Opening 17 Tip Lip 18 Land 18a Upstream lip land 18b Downstream lip land I UP Land length I of upstream lip land 18a LO Land length of downstream lip land 18b LO Over bit length (web of downstream lip land 18b and upstream lip land 18a Difference in distance from W)
G L End lip 17 and web W gap (downstream lip land 18b and web W gap)
30 the gap G S side plate 40b and the web W between the conventional slot-die 31a upstream lip land 31b downstream lip land 32 pocket 33 slot 40 vacuum chamber 40a back plate 40b side plate 40c screws G B back plate 40a and the web W Gap between

Claims (23)

透明支持体上に少なくとも防眩層と低屈折率層を有する防眩性反射防止フィルムであって、下記条件I)、VI)およびVII)を満たすことを特徴とする、防眩性反射防止フィルム。
I)該防眩性反射防止フィルムの内部散乱に起因するヘイズ値(hi)が、(hi)≦50%である。
VI)該防眩層の表面散乱に起因するヘイズ値(hs、AG)と該低屈折率層を形成した後の該防眩性反射防止フィルムの表面散乱に起因するヘイズ値(hs、AGAR)の比(hs、AGAR)/(hs、AG)が、0.2<(hs、AGAR)/(hs、AG)<0.6である。
VII)該防眩性反射防止フィルムの表面散乱に起因するヘイズ値(hs、AGAR)が、2.0%≦(hs、AGAR)≦7.0%である。
An antiglare antireflection film having at least an antiglare layer and a low refractive index layer on a transparent support, which satisfies the following conditions I), VI) and VII): .
I) The haze value (hi) resulting from internal scattering of the antiglare antireflection film is (hi) ≦ 50%.
VI) Haze value (hs, AGAR) due to surface scattering of the antiglare layer and haze value (hs, AGAR) due to surface scattering of the antiglare antireflection film after forming the low refractive index layer The ratio (hs, AGAR) / (hs, AG) is 0.2 <(hs, AGAR) / (hs, AG) <0.6.
VII) The haze value (hs, AGAR) resulting from surface scattering of the antiglare antireflection film is 2.0% ≦ (hs, AGAR) ≦ 7.0%.
該防眩性反射防止フィルムの内部散乱に起因するヘイズ値(hi)が下記条件III)を満たすことを特徴とする請求項1に記載の防眩性反射防止フィルム。
III)該防眩性反射防止フィルムの内部散乱に起因するヘイズ値(hi)が、(hi)≦30%である。
The antiglare antireflection film according to claim 1, wherein the haze value (hi) resulting from internal scattering of the antiglare antireflection film satisfies the following condition III).
III) The haze value (hi) resulting from internal scattering of the antiglare antireflection film is (hi) ≦ 30%.
前記防眩性反射防止フィルムの内部散乱に起因するヘイズ値(hi)が18%以上であることを特徴とする請求項2に記載の防眩性反射防止フィルム。The antiglare antireflection film according to claim 2, wherein the antiglare antireflection film has a haze value (hi) due to internal scattering of 18% or more. 前記防眩性反射防止フィルムの中心線平均粗さRaが、0.05〜0.25μmであることを特徴とする請求項1〜のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルム。 The center line average roughness Ra of the antiglare and antireflection film, anti-glare and anti-reflection film according to any one of claims 1 to 3, characterized in that a 0.05~0.25Myuemu. JIS K7105に準じた像鮮明性が、光学くし幅0.5mmで測定したときに5%〜50%であることを特徴とする請求項1〜のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルム。 The antiglare antireflection film according to any one of claims 1 to 3 , wherein the image clarity according to JIS K7105 is 5% to 50% when measured at an optical comb width of 0.5 mm. . 前記防眩層が、少なくとも1種の平均粒子径0.5〜10μmの透光性微粒子を透光性樹脂に分散してなり、該透光性微粒子と該透光性樹脂との屈折率の差の絶対値が0.001〜0.300であり、該透光性微粒子が前記防眩層全固形分中に3〜30質量%含有されてなる層であることを特徴とする請求項1〜のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルム。 The antiglare layer is formed by dispersing at least one kind of translucent fine particles having an average particle diameter of 0.5 to 10 μm in a translucent resin, and has a refractive index of the translucent fine particles and the translucent resin. The absolute value of the difference is 0.001 to 0.300, and the translucent fine particles are a layer formed by containing 3 to 30% by mass in the total solid content of the antiglare layer. The antiglare antireflection film according to any one of to 3 . 前記透光性樹脂が、少なくとも3官能以上の(メタ)アクリレートモノマーを主成分としてなり、前記透光性微粒子がアクリル含率50〜100質量パーセントである架橋ポリ(メタ)アクリレート系重合体であることを特徴とする請求項に記載の防眩性反射防止フィルム。 The translucent resin is a cross-linked poly (meth) acrylate-based polymer having a (meth) acrylate monomer having at least trifunctional or higher functionality as a main component and the translucent fine particles having an acrylic content of 50 to 100 mass percent. The anti-glare antireflection film according to claim 6 . 前記透光性樹脂が、少なくとも3官能以上の(メタ)アクリレートモノマーを主成分としてなり、前記透光性微粒子がスチレン含率1〜100質量パーセントである架橋ポリ(スチレン−アクリル)共重合体または架橋ポリスチレンであることを特徴とする請求項に記載の防眩性反射防止フィルム。 A cross-linked poly (styrene-acrylic) copolymer in which the translucent resin has a (meth) acrylate monomer having at least trifunctional or higher functionality and the translucent fine particles have a styrene content of 1 to 100 mass percent, or The antiglare antireflection film according to claim 6 , which is a crosslinked polystyrene. 前記防眩層が、前記透光性樹脂、前記透光性微粒子および複数の種類の溶媒を含有する塗布組成物から形成され、該複数の種類の溶媒が、前記透明支持体を溶解しない主溶媒と、水酸基を有する少量溶媒とからなることを特徴とする請求項に記載の防眩性反射防止フィルム。 The antiglare layer is formed from a coating composition containing the translucent resin, the translucent fine particles and a plurality of types of solvents, and the plurality of types of solvents do not dissolve the transparent support. And an antiglare antireflection film according to claim 6 , which comprises a small amount of a solvent having a hydroxyl group. 20〜30℃の範囲内の任意の温度において、前記主溶媒に対して、前記少量溶媒の蒸気圧が低いことを特徴とする請求項に記載の防眩性反射防止フィルム。 The antiglare antireflection film according to claim 9 , wherein the vapor pressure of the small amount solvent is lower than that of the main solvent at an arbitrary temperature within a range of 20 to 30 ° C. 前記主溶媒と前記少量溶媒の質量比が、前者:後者として99:1〜50:50の範囲内にあることを特徴とする、請求項に記載の防眩性反射防止フィルム。 The antiglare antireflection film according to claim 9 , wherein a mass ratio of the main solvent and the small amount solvent is in a range of 99: 1 to 50:50 as the former: the latter. 前記低屈折率層が、フッ素原子を35〜80質量%の範囲で含み且つ架橋性若しくは重合性の官能基を含む含フッ素ポリマーを主としてなる熱硬化性および/または光硬化性を有する組成物を塗布して形成されたことを特徴とする請求項1〜11のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルム。 A composition having a thermosetting property and / or a photocurable property, wherein the low refractive index layer mainly comprises a fluorine-containing polymer containing a fluorine atom in a range of 35 to 80% by mass and containing a crosslinkable or polymerizable functional group; anti-glare and anti-reflection film according to any one of claims 1 to 11, characterized by being formed coated. 前記低屈折率層が、(A)前記含フッ素ポリマー、(B)平均粒径が該低屈折率層の厚みの30%以上100%以下である無機微粒子、および(C)下記一般式(1)で表されるオルガノシラン、その加水分解物、その部分縮合物の何れか一つ以上の成分、を含有する硬化性組成物を塗布し硬化して形成される硬化膜であることを特徴とする請求項12に記載の防眩性反射防止フィルム。
一般式(1)
(R10mSi(X)4-m
(式中、R10は置換もしくは無置換のアルキル基または置換もしくは無置換のアリール基を表す。Xは水酸基または加水分解可能な基を表す。mは1〜3の整数を表す。)
The low refractive index layer is (A) the fluoropolymer, (B) inorganic fine particles having an average particle diameter of 30% to 100% of the thickness of the low refractive index layer, and (C) the following general formula (1) ), A hydrolyzate thereof, a hydrolyzate thereof, and a partial condensate thereof, and a cured film formed by applying and curing a curable composition containing one or more components. The antiglare antireflection film according to claim 12 .
General formula (1)
(R 10 ) m Si (X) 4-m
(In the formula, R 10 represents a substituted or unsubstituted alkyl group or a substituted or unsubstituted aryl group. X represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group. M represents an integer of 1 to 3.)
前記低屈折率層が、下記一般式(2)で表されるオルガノシランの加水分解物、およびその部分縮合物から選択された一つ以上の成分を含有する硬化性組成物を塗布し硬化して形成される硬化膜であることを特徴とする請求項1〜11のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルム。
一般式(2)
(R10lSi(X)4-l
(式中、R10は置換もしくは無置換のアルキル基または置換もしくは無置換のアリール基を表す。Xは水酸基または加水分解可能な基を表す。lは0〜3の整数を表す。)
The low refractive index layer is applied and cured with a curable composition containing one or more components selected from hydrolyzate of organosilane represented by the following general formula (2) and partial condensate thereof. anti-glare and anti-reflection film according to any one of claims 1 to 11, characterized in that a cured film formed Te.
General formula (2)
(R 10 ) l Si (X) 4-l
(In the formula, R 10 represents a substituted or unsubstituted alkyl group or a substituted or unsubstituted aryl group. X represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group. L represents an integer of 0 to 3.)
前記低屈折率層が、(A)平均粒径が該低屈折率層の厚みの30%以上100%以下である無機微粒子、および(B)前記一般式(2)で表されるオルガノシランの加水分解物、およびその部分縮合物から選択された一つ以上の成分を含有する硬化性組成物を塗布し硬化して形成される硬化膜であることを特徴とする請求項14に記載の防眩性反射防止フィルム。 The low refractive index layer is composed of (A) inorganic fine particles having an average particle diameter of 30% to 100% of the thickness of the low refractive index layer, and (B) an organosilane represented by the general formula (2). The protective film according to claim 14 , which is a cured film formed by applying and curing a curable composition containing at least one component selected from a hydrolyzate and a partial condensate thereof. Dazzling antireflection film. 前記防眩層および前記低屈折率層の両方が、前記一般式(1)で表されるオルガノシラン、その加水分解物、その部分縮合物の何れか一つ以上の成分を含有する硬化性塗布組成物を塗布し硬化して形成される硬化膜であることを特徴とする、請求項13に記載の防眩性反射防止フィルム Both the antiglare layer and the low refractive index layer contain a curable coating containing any one or more of the organosilane represented by the general formula (1), a hydrolyzate thereof, and a partial condensate thereof. The antiglare antireflection film according to claim 13 , which is a cured film formed by applying and curing the composition . 前記無機微粒子が、中空構造からなる屈折率が1.17〜1.40の酸化ケイ素を主成分として含有する無機微粒子であることを特徴とする請求項13または15に記載の防眩性反射防止フィルム。 The anti-glare antireflection according to claim 13 or 15 , wherein the inorganic fine particles are inorganic fine particles containing a silicon oxide having a hollow structure and a refractive index of 1.17 to 1.40 as a main component. the film. 少なくとも1層の導電材料を有する透明帯電防止層を有し、前記防眩性反射防止フィルムの表面抵抗値logSRが12以下であることを特徴とする、請求項1〜17のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルム。 A transparent antistatic layer having a conductive material at least one layer, wherein a surface resistance value logSR of the anti-glare and anti-reflection film is 12 or less, according to any one of claims 1 to 17 Antiglare antireflection film. 請求項1〜18のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルムの製造方法であって、透光性微粒子、透光性樹脂および溶媒を含有する防眩層用の塗布組成物および/または低屈折率層用の塗布組成物を、バックアップロールによって支持されて連続走行する前記透明支持体のウェブの表面にスロットダイの先端リップのランドを近接させて該先端リップのスロットから塗布することにより、前記透明支持体上に防眩層および/または低屈折率層を塗工する工程を含むことを特徴とする防眩性反射防止フィルムの製造方法。 A method for producing an antiglare antireflection film according to any one of claims 1 to 18 , wherein the coating composition for an antiglare layer contains translucent fine particles, a translucent resin, and a solvent, and / or low. The coating composition for the refractive index layer is applied from the slot of the tip lip by bringing the land of the tip lip of the slot die close to the surface of the web of the transparent support that is continuously supported by a backup roll, and A method for producing an antiglare antireflection film, comprising a step of coating an antiglare layer and / or a low refractive index layer on the transparent support. 偏光膜と、該偏光膜の表側および裏側の両面を保護する2枚の保護フィルムをそれぞれ貼り合わせてなる偏光板において、請求項1〜18のいずれかに記載の防眩性反射防止フィルムを片側の保護フィルムに用いたことを特徴とする偏光板。 The polarizing plate formed by laminating a polarizing film and two protective films for protecting both the front side and the back side of the polarizing film, respectively, the antiglare antireflection film according to any one of claims 1 to 18 on one side A polarizing plate characterized by being used for a protective film. 前記偏光板を形成するための前記2枚の保護フィルムのうちの防眩性反射防止フィルムを含まないフィルムが、複数の層からなるとともに、前記偏光膜と貼り合せる面とは反対側の面に光学異方性層を含んでなる光学補償フィルムであり、該光学異方性層がディスコティック構造単位を有する化合物からなる層であり、該ディスコティック構造単位の円盤面が該保護フィルム面に対して傾いており、且つ該ディスコティック構造単位の円盤面と該保護フィルム面とのなす角度が、該光学異方性層の深さ方向において変化していることを特徴とする請求項20に記載の偏光板。 Of the two protective films for forming the polarizing plate, the film not including the antiglare antireflection film is composed of a plurality of layers, and is on the surface opposite to the surface to be bonded to the polarizing film. An optical compensation film comprising an optically anisotropic layer, wherein the optically anisotropic layer is a layer made of a compound having a discotic structural unit, and the disc surface of the discotic structural unit is against the protective film surface are inclined Te, and the angle between the disc plane and the protective film surface of the discotic structural unit, according to claim 20, characterized in that it is changed in the depth direction of the optically anisotropic layer Polarizing plate. 請求項20または21に記載の偏光板を少なくとも1枚有することを特徴とする液晶表示装置。 A liquid crystal display device comprising at least one polarizing plate according to claim 20 or 21 . 表示画面の対角が20インチ以上であることを特徴とする請求項22に記載の液晶表示装置。 The liquid crystal display device according to claim 22 , wherein the diagonal of the display screen is 20 inches or more.
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