JP5601496B2 - Method for producing silica sol for coating, coating composition, coating, resin laminate having coating on surface, and method for producing the same - Google Patents

Method for producing silica sol for coating, coating composition, coating, resin laminate having coating on surface, and method for producing the same Download PDF

Info

Publication number
JP5601496B2
JP5601496B2 JP2010037157A JP2010037157A JP5601496B2 JP 5601496 B2 JP5601496 B2 JP 5601496B2 JP 2010037157 A JP2010037157 A JP 2010037157A JP 2010037157 A JP2010037157 A JP 2010037157A JP 5601496 B2 JP5601496 B2 JP 5601496B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
coating
film
laminate
resin
layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2010037157A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2011173945A (en
Inventor
宏 岡藤
英人 山澤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Chemical Corp
Mitsubishi Rayon Co Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Chemical Corp
Mitsubishi Rayon Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Chemical Corp, Mitsubishi Rayon Co Ltd filed Critical Mitsubishi Chemical Corp
Priority to JP2010037157A priority Critical patent/JP5601496B2/en
Publication of JP2011173945A publication Critical patent/JP2011173945A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5601496B2 publication Critical patent/JP5601496B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Description

本発明は被膜用シリカゾルの製造方法、被膜用組成物、被膜、被膜を表層に有する樹脂積層体、及びその製造方法に関する。   The present invention relates to a method for producing a silica sol for coating, a composition for coating, a coating, a resin laminate having a coating on the surface, and a method for producing the same.

アクリル樹脂やポリカーボネート樹脂等の透明樹脂は工業用資材、建築用資材等の各種資材として広く使用されている。特に近年では、アクリル樹脂やポリカーボネート樹脂は、その透明性と耐衝撃性の点から、CRT、液晶テレビ、プラズマディスプレイ等の各種ディスプレイの前面板等として使用されている。   Transparent resins such as acrylic resins and polycarbonate resins are widely used as various materials such as industrial materials and building materials. Particularly in recent years, acrylic resins and polycarbonate resins have been used as front plates for various displays such as CRTs, liquid crystal televisions, plasma displays and the like from the viewpoint of transparency and impact resistance.

近年、前面板においては各種機能付与が求められている。その要求機能の一つとして反射防止機能が挙げられる。   In recent years, various functions have been required for the front plate. One of the required functions is an antireflection function.

反射防止機能は、前面板に写る室内の蛍光灯等の反射光を低減し、画像をより鮮明に表示するための機能である。反射防止機能の付与方法としては、例えば、前面板の表面に反射防止層を形成する方法が挙げられる。   The antireflection function is a function for reducing the reflected light of an indoor fluorescent lamp or the like reflected on the front plate and displaying the image more clearly. Examples of the method for imparting the antireflection function include a method of forming an antireflection layer on the surface of the front plate.

反射防止層は、表示面上に低屈折率層を設けた単層構成のものや、または、反射防止性能を向上させるために表示面の上に中〜高屈折率層を一層ないし複数層設け、その上に低屈折率層を設けた多層構成のものがある。   The antireflection layer has a single layer structure in which a low refractive index layer is provided on the display surface, or one or more intermediate to high refractive index layers are provided on the display surface in order to improve the antireflection performance. There is a multilayer structure in which a low refractive index layer is provided thereon.

低屈折率機能を有する化合物としては、フッ素原子を含む化合物が挙げられるが屈折率を低下させるために、多量に添加すると、塗膜の硬度や強度が低下するという問題がある。   Examples of the compound having a low refractive index function include a compound containing a fluorine atom. However, in order to reduce the refractive index, there is a problem that when added in a large amount, the hardness and strength of the coating film are lowered.

屈折率を低下させる他の方法として、屈折率が1である空気を、可視光線の波長以下の大きさにして、塗膜内部に含有させることによって、塗膜全体の屈折率を低下させることが知られている。例えば、内部に空洞を有する中空シリカ等の微粒子と、電離放射線低屈折率基を有する化合物とからなる組成物を硬化させてなる低屈折率層が開示されている(特許文献1)。さらに、微粒子表面をシランカップリング剤で処理することにより、塗膜の機械強度がアップすることが開示されている。しかしながら、そこに記載されている方法にて表面処理を行って得られた微粒子を用いた場合、機械強度が未処理のものと比較して改善はするものの、その性能は不十分であった。さらに、耐薬品性も不足していた。   As another method for reducing the refractive index, reducing the refractive index of the entire coating film by making air having a refractive index of 1 smaller than the wavelength of visible light and including it in the coating film. Are known. For example, a low refractive index layer obtained by curing a composition comprising fine particles such as hollow silica having a cavity inside and a compound having an ionizing radiation low refractive index group is disclosed (Patent Document 1). Furthermore, it is disclosed that the mechanical strength of the coating film is improved by treating the surface of the fine particles with a silane coupling agent. However, when the fine particles obtained by performing the surface treatment by the method described therein were used, the mechanical strength was improved as compared with the untreated one, but the performance was insufficient. Furthermore, chemical resistance was insufficient.

また、非極性溶媒中でシラン化合物の加水分解物とシリカ微粒子とを反応させることで被膜の耐摩耗性や耐久性、さらには耐候性においても優れた塗膜が得られることが開示されている(特許文献2)。しかしながら、開示されている方法で中空シリカの表面を修飾しようとすると、非極性溶媒を追加添加した際に局所的な凝集(ゲル化)が発生し、被膜の形成が困難となる。   Further, it is disclosed that a coating film excellent in abrasion resistance and durability, and also in weather resistance can be obtained by reacting a hydrolyzate of a silane compound with silica fine particles in a nonpolar solvent. (Patent Document 2). However, if an attempt is made to modify the surface of the hollow silica by the disclosed method, local aggregation (gelation) occurs when a nonpolar solvent is additionally added, making it difficult to form a coating.

特開2005−99778号公報JP 2005-99778 A 特開平07−109355号公報JP 07-109355 A

本発明の目的とするところは、局所的な凝集(ゲル化)が発生しない、分散安定性に優れた被膜用シリカゾルの製造方法を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a method for producing a silica sol for coating that does not cause local aggregation (gelation) and has excellent dispersion stability.

また表面硬度(耐擦傷性)、耐薬品性が良好な低屈折率(硬化)被膜を形成し得る組成物を提供することにある。   Another object of the present invention is to provide a composition capable of forming a low refractive index (cured) film having good surface hardness (abrasion resistance) and chemical resistance.

さらに、前記組成物を硬化させて形成する被膜、及び樹脂積層体、及びその製造方法を提供することにある。   Furthermore, it is providing the coating film formed by hardening | curing the said composition, the resin laminated body, and its manufacturing method.

本発明は、(a−1)中空シリカ微粒子40〜90質量%と、(a−2)下記の一般式(1)   The present invention includes (a-1) 40 to 90% by mass of hollow silica fine particles, (a-2) the following general formula (1)


(式中、XはCH2 =CH−COO−基、CH2 =C(CH3 )−COO−基、又はCH2 =CH−基、R1 は炭素数〜8のアルキレン基、R2 ,R3 は炭素数1〜8のアルキル基または水素、aは1〜3の正の整数、bは0〜2の正の整数、a+bは1〜3の整数を表わす。)で示される化合物60〜10質量%と極性溶媒とを含む混合物を加熱する第1の工程、前記混合物の固形分濃度が35質量%以下にある前記混合物に前記極性溶媒の沸点より高い沸点を有する非極性溶媒を添加する第2の工程、加熱を行い極性溶媒を揮発させ、前記固形分濃度を30質量%〜80質量%とする第3の工程、及び前記混合物中、縮合反応させる第4の工程を有する被膜用シリカゾルの製造方法である。

(In the formula, X is CH 2 ═CH—COO— group, CH 2 ═C (CH 3 ) —COO— group, or CH 2 ═CH— group, R 1 is an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms, R 2 , R 3 is an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms or hydrogen, a is a positive integer of 1 to 3, b is a positive integer of 0 to 2, and a + b is an integer of 1 to 3. A first step of heating a mixture containing 60 to 10% by mass and a polar solvent, a nonpolar solvent having a boiling point higher than the boiling point of the polar solvent in the mixture in which the solid content concentration of the mixture is 35% by mass or less A second step of adding, a third step of heating to volatilize the polar solvent and setting the solid content concentration to 30% by mass to 80% by mass, and a fourth step of performing a condensation reaction in the mixture This is a method for producing a silica sol.

また本発明は、前記の方法で得られたシリカゾル及び分子中に少なくとも2個の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する化合物を含有する被膜用組成物である。   The present invention also provides a coating composition containing the silica sol obtained by the above method and a compound having at least two (meth) acryloyloxy groups in the molecule.

また本発明は、前記組成物を硬化させて形成する被膜である。   Moreover, this invention is a film formed by hardening | curing the said composition.

また本発明は、前記被膜を表層に有する樹脂積層体である。   Moreover, this invention is a resin laminated body which has the said film in a surface layer.

また本発明は、以下の(1)〜(5)に記載の工程を有する樹脂積層体の製造方法である。
(1)透明基材フィルムの表面に、前記組成物を塗布し塗布膜を形成する塗布膜形成工程
(2)前記塗布膜を硬化させ硬化被膜を形成する硬化被膜形成工程
(3)前記硬化被膜の表面に熱可塑性樹脂塗膜層を介して樹脂基材を積層して樹脂基材ラミネート物を形成する樹脂基材ラミネート物形成工程
(4)前記樹脂基材ラミネート物を加圧処理及び加温処理から選ばれる少なくとも1種の処理により樹脂基材ラミネート物を一体化して熱可塑性樹脂塗膜層含有転写フィルム積層体を形成する熱可塑性樹脂塗膜層含有転写フィルム積層体形成工程
(5)前記熱可塑性樹脂塗膜層含有転写フィルム積層体から透明基材フィルムを剥離して樹脂積層体を得る樹脂積層体形成工程
Moreover, this invention is a manufacturing method of the resin laminated body which has the process as described in the following (1)-(5).
(1) Coating film forming step of coating the composition on the surface of the transparent substrate film to form a coating film (2) Cured coating film forming step of curing the coating film to form a cured coating film (3) The cured coating film A resin base laminate forming step of forming a resin base laminate by laminating a resin base via a thermoplastic resin coating layer on the surface of the resin (4) Pressurizing and heating the resin base laminate Thermoplastic resin coating layer-containing transfer film laminate forming step of forming a thermoplastic resin coating layer-containing transfer film laminate by integrating the resin substrate laminate by at least one treatment selected from the treatments (5) Resin laminate forming process for obtaining a resin laminate by peeling a transparent substrate film from a thermoplastic resin coating layer-containing transfer film laminate

さらに本発明は、以下の(1)〜(5)に記載の工程を有する樹脂積層体の製造方法である。
(1)透明基材フィルムの表面に、前記組成物を塗布し塗布膜を形成する塗布膜形成工程
(2)前記塗布膜を硬化させ硬化被膜を形成する硬化被膜形成工程
(3)前記硬化被膜の表面に活性エネルギー線硬化性組成物を含有する硬化性塗膜の層を介して樹脂基材を積層して活性エネルギー線硬化性樹脂基材ラミネート物を形成する活性エネルギー線硬化性樹脂基材ラミネート物形成工程
(4)前記活性エネルギー線硬化性樹脂基材ラミネート物に活性エネルギー線を照射して硬化性塗膜の硬化層を形成する硬化性塗膜硬化層含有転写フィルム積層体形成工程
(5)前記硬化性塗膜硬化層含有転写フィルム積層体から透明基材フィルムを剥離して樹脂積層体を得る樹脂積層体形成工程
Furthermore, this invention is a manufacturing method of the resin laminated body which has the process as described in the following (1)-(5).
(1) Coating film forming step of coating the composition on the surface of the transparent substrate film to form a coating film (2) Cured coating film forming step of curing the coating film to form a cured coating film (3) The cured coating film An active energy ray-curable resin substrate in which an active energy ray-curable resin substrate laminate is formed by laminating a resin substrate via a layer of a curable coating film containing the active energy ray-curable composition on the surface of Laminate Forming Step (4) Curable Coating Cured Layer-Containing Transfer Film Laminate Forming Step (Forming a Cured Layer of a Curable Coating Film by Irradiating the Active Energy Ray Curable Resin Base Laminate with Active Energy Rays ( 5) A resin laminate forming step of obtaining a resin laminate by peeling the transparent substrate film from the curable coating film cured layer-containing transfer film laminate.

本発明によれば、無機微粒子の表面処理工程において局所的な凝集(ゲル化)が発生しない分散安定性に優れた被膜用シリカゾルを得ることができる。また表面硬度(耐擦傷性)、耐薬品性が良好な低屈折率(硬化)被膜を形成し得る、組成物を得ることができる。さらに前記組成物からなる被膜、及び前記被膜を表層に有する樹脂積層体を得ることができる。   According to the present invention, it is possible to obtain a silica sol for coating excellent in dispersion stability in which local aggregation (gelation) does not occur in the surface treatment process of inorganic fine particles. Further, a composition capable of forming a low refractive index (cured) film having good surface hardness (abrasion resistance) and chemical resistance can be obtained. Furthermore, the coating film which consists of the said composition, and the resin laminated body which has the said coating film in a surface layer can be obtained.

本発明の被膜用シリカゾルは、以下の第1〜第4の工程により、すなわち中空シリカ微粒子の表面処理により製造することができる。   The silica sol for coating of the present invention can be produced by the following first to fourth steps, that is, by surface treatment of hollow silica fine particles.

(a−1)中空シリカ微粒子40〜90質量%と、(a−2)下記の一般式(1)   (A-1) 40 to 90% by mass of hollow silica fine particles, and (a-2) the following general formula (1)


(式中、XはCH2 =CH−COO−基、CH2 =C(CH3 )−COO−基、又はCH2 =CH−基、R1 は炭素数〜8のアルキレン基、R2 ,R3 は炭素数1〜8のアルキル基または水素、aは1〜3の正の整数、bは0〜2の正の整数、a+bは1〜3の整数を表わす。)で示される化合物60〜10質量%と極性溶媒とを含む混合物を加熱する第1の工程。

(In the formula, X is CH 2 ═CH—COO— group, CH 2 ═C (CH 3 ) —COO— group, or CH 2 ═CH— group, R 1 is an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms, R 2 , R 3 is an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms or hydrogen, a is a positive integer of 1 to 3, b is a positive integer of 0 to 2, and a + b is an integer of 1 to 3. The 1st process of heating the mixture containing 60-10 mass% and a polar solvent.

前記混合物の固形分濃度が35質量%以下にある前記混合物に前記極性溶媒の沸点より高い沸点を有する非極性溶媒を添加する第2の工程。   A second step of adding a nonpolar solvent having a boiling point higher than that of the polar solvent to the mixture having a solid content concentration of 35% by mass or less.

加熱を行い極性溶媒を揮発させ、前記固形分濃度を30質量%〜80質量%とする第3の工程。   A third step of heating to volatilize the polar solvent and adjusting the solid content concentration to 30% by mass to 80% by mass.

前記混合物中、縮合反応させる第4の工程。   A fourth step of performing a condensation reaction in the mixture;

まず最初に、中空シリカ微粒子の表面処理に用いる各成分について説明する。   First, each component used for the surface treatment of the hollow silica fine particles will be described.

本発明において用いられる中空シリカ微粒子(a−1)は、通常、分散媒中にあり、その平均粒子径は、5nm以上であることが好ましく、30nm以上であることがより好ましい。また100nm以下であることが好ましく、60nm以下であることがより好ましい。前記シリカ微粒子の平均粒子径は、形成される被膜の厚さに応じて適宜選択され、被膜の厚みの2/3〜1/10の範囲であることが好ましい。   The hollow silica fine particles (a-1) used in the present invention are usually in a dispersion medium, and the average particle diameter is preferably 5 nm or more, and more preferably 30 nm or more. Moreover, it is preferable that it is 100 nm or less, and it is more preferable that it is 60 nm or less. The average particle diameter of the silica fine particles is appropriately selected according to the thickness of the coating film to be formed, and is preferably in the range of 2/3 to 1/10 of the thickness of the coating film.

中空シリカ微粒子の外殻層の厚みは1〜30nm、好ましくは2〜20nmの範囲にあることが好ましい。外殻層の厚さが小さすぎると、粒子を完全に被覆することができないことがあり、バインダー成分などが微粒子内部に侵入して内部の空洞や多孔質構造が減少し、低屈折率の効果が充分得られないことがある。また、外殻層の厚さが大きすぎると、微粒子の多孔性が低下し低屈折率の効果が充分得られなくなることがある。   The thickness of the outer shell layer of the hollow silica fine particles is preferably in the range of 1 to 30 nm, preferably 2 to 20 nm. If the thickness of the outer shell layer is too small, the particles may not be completely coated, and binder components and the like will enter the fine particles, reducing the internal cavities and porous structure, resulting in a low refractive index effect. May not be sufficiently obtained. On the other hand, if the thickness of the outer shell layer is too large, the porosity of the fine particles may be reduced, and the low refractive index effect may not be sufficiently obtained.

本発明における中空シリカ微粒子は、シリカの硬い外殻層の内部に空洞や多孔質構造を持つため、バインダー成分と組合せた時の膜強度も向上し、例えば反射防止機能を有する被膜とする場合、該被膜(低屈折率層)として必要な屈折率1.45以下を容易に達成できる。   The hollow silica fine particles in the present invention have a cavity and a porous structure inside the hard outer shell layer of silica, so that the film strength when combined with a binder component is improved, for example, when a coating having an antireflection function is used. A refractive index of 1.45 or less required for the coating (low refractive index layer) can be easily achieved.

中空シリカ微粒子に使用される分散媒である極性溶媒としては、水の他に、メタノール、エタノール、イソプロパノール、n−プロパノール、イソブタノール、n−ブタノールなどの1価アルコール系溶剤、エチレングリコールなどの多価アルコール系溶剤、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブなどの多価アルコール誘導体、メチルエチルケトン、メチル−イソブチルケトン、ジアセトンアルコールなどのケトン系溶剤、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレートなどのモノマー類があるが、中でも炭素数3以下のアルコール系溶剤が化合物(a−2)との反応工程上特に好ましい。これらの中空シリカ微粒子は、コロイダルシリカとして公知の方法で製造され、市販をされている。   The polar solvent, which is a dispersion medium used for the hollow silica fine particles, includes, in addition to water, monohydric alcohol solvents such as methanol, ethanol, isopropanol, n-propanol, isobutanol and n-butanol, and many solvents such as ethylene glycol. Polyhydric alcohol derivatives such as monohydric alcohol solvents, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, ketone solvents such as methyl ethyl ketone, methyl-isobutyl ketone, diacetone alcohol, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, etc. Although there are monomers, an alcohol solvent having 3 or less carbon atoms is particularly preferable in the reaction step with the compound (a-2). These hollow silica fine particles are produced by a known method as colloidal silica and are commercially available.

中空シリカ微粒子は、屈折率1の空気などの気体が内包されているので、それ自身の屈折率が相対的に低いという特徴を有しており、被膜の屈折率を低下させることが可能となり、反射防止性能が良好となる。さらに、(a−2)のような化合物(シランカップリング剤)で表面を処理することにより、バインダー樹脂との結合力が強固となり、被膜(低屈折率層)の強度が向上する。   The hollow silica fine particles contain a gas such as air having a refractive index of 1, so that the refractive index of the coating itself is relatively low, and the refractive index of the coating can be lowered. Good antireflection performance. Furthermore, by treating the surface with a compound (silane coupling agent) such as (a-2), the bonding strength with the binder resin is strengthened, and the strength of the coating (low refractive index layer) is improved.

一般式(1)で示される化合物(a−2)の加水分解物は、中空シリカ微粒子(a−1)と、後述する被膜用組成物の成分(B)である、分子中に少なくとも2個の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する化合物との相溶性を向上させる成分である。紫外線照射により重合活性を示す(a−2)、すなわちアクリロイル基、メタクリロイル基又はビニル基を有するシラン化合物を用いることで、成分(B)の多官能(メタ)アクリレートとの化学結合形成が可能であり、低屈折率被膜に強靱性を付与することができる。さらに、前記中空シリカ微粒子と併用することで低屈折率被膜の耐摩耗性をさらに向上でき、特に、スチールウール等の金属繊維に対する耐摩耗性の改善効果が大きい。   The hydrolyzate of the compound (a-2) represented by the general formula (1) is at least two in the molecule, which are the hollow silica fine particles (a-1) and the component (B) of the coating composition described later. It is a component which improves compatibility with the compound which has a (meth) acryloyloxy group. Chemical bond formation with the polyfunctional (meth) acrylate of the component (B) is possible by using a silane compound having a polymerization activity by ultraviolet irradiation (a-2), that is, an acryloyl group, a methacryloyl group or a vinyl group. Yes, toughness can be imparted to the low refractive index coating. Furthermore, by using together with the hollow silica fine particles, the wear resistance of the low refractive index coating can be further improved, and in particular, the effect of improving the wear resistance against metal fibers such as steel wool is great.

(a−2)の具体例としては、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、2−メタクリロキシエチルトリメトキシシラン、2−アクリロキシエチルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、2−メタクリロキシエチルトリエトキシシラン、2−アクリロキシエチルトリエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシランが挙げられる。これらの1種を単独で使用してもよく、また2種以上を併用してもよい。   Specific examples of (a-2) include 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, 2-methacryloxyethyltrimethoxysilane, 2-acryloxyethyltrimethoxysilane, 3-methacrylic. Roxypropyltriethoxysilane, 3-acryloxypropyltriethoxysilane, 2-methacryloxyethyltriethoxysilane, 2-acryloxyethyltriethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-acryloxypropylmethyldimethoxysilane Vinyltrimethoxysilane and vinyltriethoxysilane. One of these may be used alone, or two or more may be used in combination.

次に、中空シリカ微粒子の表面処理により、被膜用シリカゾルを得る方法について説明する。   Next, a method for obtaining a silica sol for coating by surface treatment of hollow silica fine particles will be described.

第1の工程において、(a−1)中空シリカ微粒子(固形分)40〜90質量%と、(a−2)一般式(1)で示される化合物(固形分)60〜10質量%と極性溶媒とを含む混合物を加熱する。
前記極性溶媒の含有量は適宜選択できる。この工程は、シラン化合物(a−2)を加水分解する工程である。この工程におけるシラン化合物の加水分解は、
(1)シラン化合物1モルに対してアルコール溶媒等の有機溶媒の存在下又は非存在下において、0.5〜6モルの0.001〜0.1規定塩酸又は酢酸水溶液等の加水分解触媒を加え、常温又は加熱下で攪拌し加水分解した後中空シリカ微粒子を加える方法。
In the first step, (a-1) hollow silica fine particles (solid content) of 40 to 90% by mass, (a-2) compound (solid content) represented by the general formula (1) 60 to 10% by mass and polarity The mixture containing the solvent is heated.
The content of the polar solvent can be appropriately selected. This step is a step of hydrolyzing the silane compound (a-2). The hydrolysis of the silane compound in this step is
(1) A hydrolysis catalyst such as 0.5 to 6 moles of 0.001 to 0.1 N hydrochloric acid or an aqueous acetic acid solution in the presence or absence of an organic solvent such as an alcohol solvent with respect to 1 mole of a silane compound. In addition, a method of adding hollow silica fine particles after hydrolysis by stirring at room temperature or under heating.

(2)中空シリカ微粒子(a−1)及びシラン化合物(a−2)に、加水分解触媒を加え常温又は還流下で攪拌するなどの公知の方法によって得ることができる。加熱温度は、希釈溶媒にも因るが、60℃以上が好ましく、75℃以上がより好ましい。加熱時間は、2時間以上加熱することが好ましい。この反応条件により十分加水分解が進行する。   (2) It can be obtained by a known method such as adding a hydrolysis catalyst to the hollow silica fine particles (a-1) and the silane compound (a-2) and stirring at normal temperature or under reflux. The heating temperature is preferably 60 ° C. or higher, more preferably 75 ° C. or higher, although it depends on the dilution solvent. The heating time is preferably 2 hours or more. Hydrolysis proceeds sufficiently under these reaction conditions.

化合物(a−2)の割合が60〜10質量%であることにより、被膜の硬度が良好となり、耐薬品性も良好となる。さらに、バインダーに対する親和性が良好となり分散安定性に優れる。   When the ratio of the compound (a-2) is 60 to 10% by mass, the hardness of the film is improved and the chemical resistance is also improved. Furthermore, the affinity for the binder is good and the dispersion stability is excellent.

次いで、第2の工程で前記混合物の固形分濃度が35質量%以下にある前記混合物に前記極性溶媒より高い沸点を有する非極性溶媒を添加する。前記固形分濃度が35質量%を超える場合、極性溶媒で希釈し、35質量%以下とすることができる。前記固形分濃度が35質量%よりも高い混合物に非極性溶媒を添加すると、局所的な凝集(ゲル化)が発生する。   Next, in the second step, a nonpolar solvent having a boiling point higher than that of the polar solvent is added to the mixture having a solid content concentration of 35% by mass or less. When the solid content concentration exceeds 35% by mass, it can be diluted with a polar solvent to 35% by mass or less. When a nonpolar solvent is added to the mixture having a solid content concentration higher than 35% by mass, local aggregation (gelation) occurs.

本発明に用いられる非極性溶媒とは、誘電率、双極子能率あるいは水素結合パラメータを基準として選ばれるものであり、広義には、中程度の極性を有する溶媒も本発明に含まれるものである。例えば、20℃の誘電率が2〜10の範囲の非極性溶媒が本発明においては特に好ましい溶媒である。   The nonpolar solvent used in the present invention is selected on the basis of dielectric constant, dipole efficiency or hydrogen bonding parameter, and in a broad sense, a solvent having medium polarity is also included in the present invention. . For example, a nonpolar solvent having a dielectric constant of 2 to 10 at 20 ° C. is a particularly preferable solvent in the present invention.

非極性溶媒の具体例としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素類、シクロヘキサン等の飽和炭化水素類;トリクロルエチレン、テトラクロルエチレン等のハロゲン化炭化水素類を挙げることができる。これらの非極性溶媒の中でも芳香族炭化水素類が好ましく、特に好ましい非極性溶媒としてトルエンを挙げることができる。   Specific examples of the nonpolar solvent include aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, xylene, and ethylbenzene, saturated hydrocarbons such as cyclohexane, and halogenated hydrocarbons such as trichloroethylene and tetrachloroethylene. . Among these nonpolar solvents, aromatic hydrocarbons are preferable, and toluene can be mentioned as a particularly preferable nonpolar solvent.

次いで、第3の工程で加熱を行い、極性溶媒を揮発させ、前記固形分濃度を30質量%〜80質量%とする。本工程では溶媒全体量のうち、非極性溶媒の割合を80質量%以上とすることが好ましい。   Next, heating is performed in the third step to volatilize the polar solvent, so that the solid content concentration is 30% by mass to 80% by mass. In this step, the proportion of the nonpolar solvent in the total amount of the solvent is preferably 80% by mass or more.

前記混合物から極性溶媒を揮発させるために、極性溶媒の沸点は、非極性溶媒の沸点よりも低い。前記極性溶媒をメタノール、イソプロパノール、前記非極性溶媒をトルエン、キシレンとする溶媒の組み合わせが好ましい。また、極性溶媒を揮発させる際、減圧して溶媒を揮発させても良い。   In order to volatilize the polar solvent from the mixture, the boiling point of the polar solvent is lower than the boiling point of the nonpolar solvent. A combination of solvents in which the polar solvent is methanol and isopropanol and the nonpolar solvent is toluene and xylene is preferable. Further, when the polar solvent is volatilized, the solvent may be volatilized by reducing the pressure.

極性溶媒を揮発させる際に、前記中空シリカ微粒子の分散に用いられていたアルコールなどの極性溶媒、シラン化合物(a−2)の加水分解により生成したメタノール、エタノールなどのアルコール、縮合反応により生成した水などを揮発させて(a−1)と(a−2)の反応を促進させる。さらに、非極性溶媒の割合が多い反応系となり、より反応が進行しやすい環境となる。非極性溶媒中で縮合反応を進行させることで、表面硬度(耐擦傷性)、耐薬品性が良好な被膜を形成し得る、被膜用シリカゾルを得ることができる。   When volatilizing the polar solvent, polar solvent such as alcohol used for dispersion of the hollow silica fine particles, alcohol generated by hydrolysis of silane compound (a-2), alcohol such as ethanol, etc., produced by condensation reaction The reaction of (a-1) and (a-2) is promoted by volatilizing water or the like. Furthermore, it becomes a reaction system with a large proportion of nonpolar solvents, and an environment in which the reaction proceeds more easily. By allowing the condensation reaction to proceed in a nonpolar solvent, a silica sol for coating that can form a coating with good surface hardness (abrasion resistance) and chemical resistance can be obtained.

固形分濃度を30質量%〜80質量%に濃縮することにより、局所的な凝集(ゲル化)が発生せず分散安定性に優れ、かつ縮合反応が十分進行し、被膜の硬度が良好となり、耐薬品性も良好となる。   By concentrating the solid content concentration to 30% by mass to 80% by mass, local aggregation (gelation) does not occur, the dispersion stability is excellent, the condensation reaction proceeds sufficiently, and the hardness of the coating becomes good. Good chemical resistance.

最後に第4の工程として、前記混合物中、縮合反応させる。例えば60℃〜150℃、好ましくは80℃〜130℃の温度で3〜10時間攪拌して縮合反応させることができる。   Finally, as a fourth step, a condensation reaction is performed in the mixture. For example, the condensation reaction can be carried out by stirring at a temperature of 60 ° C. to 150 ° C., preferably 80 ° C. to 130 ° C. for 3 to 10 hours.

ここで非極性溶媒の割合が第3工程から引き続き80質量%以上であることが好ましい。   Here, the proportion of the nonpolar solvent is preferably 80% by mass or more continuously from the third step.

なお、この縮合反応においては、必要により反応を促進させる目的で酸、塩基、塩等の触媒を添加してもよい。   In this condensation reaction, a catalyst such as an acid, a base or a salt may be added for the purpose of accelerating the reaction, if necessary.

さらに、この縮合反応においては、必要によりさらなる縮合反応が進行させない目的で、(a−2)の加水分解で生成する残存シラノール基と反応し得る化合物を添加してもよい。この化合物として、例えば、エポキシ基含有化合物、オキセタン骨格含有化合物、イソシアネート基含有化合物、ヘキサメチルジシロキサン、トリメチルシリルクロライドなどが挙げられる。   Furthermore, in this condensation reaction, a compound capable of reacting with the residual silanol group generated by hydrolysis of (a-2) may be added for the purpose of preventing further condensation reaction from proceeding as necessary. Examples of this compound include an epoxy group-containing compound, an oxetane skeleton-containing compound, an isocyanate group-containing compound, hexamethyldisiloxane, and trimethylsilyl chloride.

上記の縮合反応の条件下で反応させることにより、局所的な凝集(ゲル化)が発生せず分散安定性に優れ、かつ縮合反応が十分進行し、被膜の硬度が良好となり、耐薬品性も良好となる。   By performing the reaction under the above condensation reaction conditions, local aggregation (gelation) does not occur, the dispersion stability is excellent, the condensation reaction proceeds sufficiently, the film hardness is improved, and the chemical resistance is also improved. It becomes good.

さらに、上記製法により作製された被膜用シリカゾルを用いることにより、後述する転写法で作製した積層体表層の防汚性(撥水性、撥油性)が良好となる。   Furthermore, by using the silica sol for coating produced by the above production method, the antifouling property (water repellency and oil repellency) of the laminate surface layer produced by the transfer method described later is improved.

次に本発明の被膜用組成物について説明する。   Next, the coating composition of the present invention will be described.

被膜用組成物は、前記被膜用シリカゾル(以下、「成分(A)」という。)、及び以下に述べる分子中に少なくとも2個の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する化合物(以下、「成分(B)」という。)を含有する。また必要に応じて後述する防汚性化合物(以下、「成分(C)」という。)を含有してもよい。   The coating composition includes the above-described silica sol for coating (hereinafter referred to as “component (A)”) and a compound having at least two (meth) acryloyloxy groups in the molecule described below (hereinafter referred to as “component (B)”. ) ”)). Moreover, you may contain the antifouling compound (henceforth "component (C)") mentioned later as needed.

まず、成分(A)について説明する。   First, the component (A) will be described.

成分(A)は、前記工程を経て得られる被膜用シリカゾルであり、成分(A)は、被膜の硬度、耐薬品性を良好とし、さらに、屈折率を低下させ反射率を下げる効果がある。   Component (A) is a silica sol for coating obtained through the above steps, and component (A) has the effect of improving the hardness and chemical resistance of the coating, and lowering the refractive index and reducing the reflectance.

前記工程において、化合物(a−2)(シランカップリング剤)の一部がシリカ微粒子表面に導入されず、単独あるいは縮合体として被膜用シリカゾル液中に存在してもよい。シリカゾルである成分(A)としては、中空シリカ微粒子、微粒子表面に導入されたシランカップリング剤、及び微粒子表面に導入されていない単独で、あるいは縮合体として被膜用シリカゾル液中に存在するシランカップリング剤全てを統合したものを意味する。   In the step, a part of the compound (a-2) (silane coupling agent) may not be introduced on the surface of the silica fine particles but may be present alone or as a condensate in the silica sol solution for coating. The component (A) which is a silica sol includes hollow silica fine particles, a silane coupling agent introduced on the surface of the fine particles, and a silane cup which is not introduced on the surface of the fine particles alone or as a condensate in the silica sol solution for coating. This means that all ring agents are integrated.

被膜用組成物中の成分(A)の含有量としては、被膜用組成物の全固形成分中に30質量%以上が好ましく、40質量%以上がより好ましい。また80質量%以下が好ましく、75質量%以下がより好ましい。   The content of the component (A) in the coating composition is preferably 30% by mass or more, and more preferably 40% by mass or more in the total solid components of the coating composition. Moreover, 80 mass% or less is preferable, and 75 mass% or less is more preferable.

次いで成分(B)について説明する。   Next, the component (B) will be described.

成分(B)は、分子中に少なくとも2個の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する化合物である。   Component (B) is a compound having at least two (meth) acryloyloxy groups in the molecule.

成分(B)の含有量としては、被膜用組成物の全固形成分中に5質量%以上が好ましく、10質量%以上がより好ましい。また30質量%以下が好ましく、20質量%以下がより好ましい。   As content of a component (B), 5 mass% or more is preferable in all the solid components of the composition for a film, and 10 mass% or more is more preferable. Moreover, 30 mass% or less is preferable, and 20 mass% or less is more preferable.

成分(B)としては、例えば、1モルの多価アルコールと2モル以上の(メタ)アクリル酸又はその誘導体とから得られるエステル化物及び多価カルボン酸又はその無水物と多価アルコールと(メタ)アクリル酸又はその誘導体とから得られるエステル化物等が挙げられる。   Examples of the component (B) include esterified products obtained from 1 mol of polyhydric alcohol and 2 mol or more of (meth) acrylic acid or a derivative thereof, polycarboxylic acid or anhydride thereof, polyhydric alcohol (meta) ) An esterified product obtained from acrylic acid or a derivative thereof.

1モルの多価アルコールと2モル以上の(メタ)アクリル酸又はその誘導体とから得られるエステル化物の具体例としては、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレート等のポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート;1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレート等のアルキルジオールジ(メタ)アクリレート;及びトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ペンタグリセロールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、グリセリントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタ(メタ)アクリレート等の3官能以上のポリオールポリ(メタ)アクリレートが挙げられる。   Specific examples of the esterified product obtained from 1 mol of polyhydric alcohol and 2 mol or more of (meth) acrylic acid or a derivative thereof include diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, and tetraethylene glycol. Polyethylene glycol di (meth) acrylate such as di (meth) acrylate; 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol di (meth) acrylate Alkyl diol di (meth) acrylates such as; and trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, pentaglycerol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate Pentaerythritol tetra (meth) acrylate, glycerin tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate , Tripentaerythritol tetra (meth) acrylate, tripentaerythritol penta (meth) acrylate, tripentaerythritol hexa (meth) acrylate, tripentaerythritol hepta (meth) acrylate and other trifunctional or higher functional polyol poly (meth) acrylates It is done.

多価カルボン酸又はその無水物と多価アルコールと(メタ)アクリル酸又はその誘導体とから得られるエステル化物において、多価カルボン酸又はその無水物と多価アルコールと(メタ)アクリル酸の組合せ(多価カルボン酸又はその無水物/多価アルコール/(メタ)アクリル酸)としては、例えば、マロン酸/トリメチロールエタン/(メタ)アクリル酸、マロン酸/トリメチロールプロパン/(メタ)アクリル酸、マロン酸/グリセリン/(メタ)アクリル酸、マロン酸/ペンタエリスリトール/(メタ)アクリル酸、コハク酸/トリメチロールエタン/(メタ)アクリル酸、コハク酸/トリメチロールプロパン/(メタ)アクリル酸、コハク酸/グリセリン/(メタ)アクリル酸、コハク酸/ペンタエリスリトール/(メタ)アクリル酸、アジピン酸/トリメチロールエタン/(メタ)アクリル酸、アジピン酸/トリメチロールプロパン/(メタ)アクリル酸、アジピン酸/グリセリン/(メタ)アクリル酸、アジピン酸/ペンタエリスリトール/(メタ)アクリル酸、グルタル酸/トリメチロールエタン/(メタ)アクリル酸、グルタル酸/トリメチロールプロパン/(メタ)アクリル酸、グルタル酸/グリセリン/(メタ)アクリル酸、グルタル酸/ペンタエリスリトール/(メタ)アクリル酸、セバシン酸/トリメチロールエタン/(メタ)アクリル酸、セバシン酸/トリメチロールプロパン/(メタ)アクリル酸、セバシン酸/グリセリン/(メタ)アクリル酸、セバシン酸/ペンタエリスリトール/(メタ)アクリル酸、フマル酸/トリメチロールエタン/(メタ)アクリル酸、フマル酸/トリメチロールプロパン/(メタ)アクリル酸、フマル酸/グリセリン/(メタ)アクリル酸、フマル酸/ペンタエリスリトール/(メタ)アクリル酸、イタコン酸/トリメチロールエタン/(メタ)アクリル酸、イタコン酸/トリメチロールプロパン/(メタ)アクリル酸、イタコン酸/グリセリン/(メタ)アクリル酸、イタコン酸/ペンタエリスリトール/(メタ)アクリル酸、無水マレイン酸/トリメチロールエタン/(メタ)アクリル酸、無水マレイン酸/トリメチロールプロパン/(メタ)アクリル酸、無水マレイン酸/グリセリン/(メタ)アクリル酸及び無水マレイン酸/ペンタエリスリトール/(メタ)アクリル酸が挙げられる。   In an esterified product obtained from a polyvalent carboxylic acid or its anhydride, a polyhydric alcohol, and (meth) acrylic acid or a derivative thereof, a combination of a polyvalent carboxylic acid or its anhydride, a polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid ( Examples of polycarboxylic acid or anhydride / polyhydric alcohol / (meth) acrylic acid) include, for example, malonic acid / trimethylolethane / (meth) acrylic acid, malonic acid / trimethylolpropane / (meth) acrylic acid, Malonic acid / glycerin / (meth) acrylic acid, malonic acid / pentaerythritol / (meth) acrylic acid, succinic acid / trimethylolethane / (meth) acrylic acid, succinic acid / trimethylolpropane / (meth) acrylic acid, succinic acid Acid / glycerin / (meth) acrylic acid, succinic acid / pentaerythritol / (meth) acrylic Acid, adipic acid / trimethylolethane / (meth) acrylic acid, adipic acid / trimethylolpropane / (meth) acrylic acid, adipic acid / glycerin / (meth) acrylic acid, adipic acid / pentaerythritol / (meth) acrylic acid Glutaric acid / trimethylolethane / (meth) acrylic acid, glutaric acid / trimethylolpropane / (meth) acrylic acid, glutaric acid / glycerin / (meth) acrylic acid, glutaric acid / pentaerythritol / (meth) acrylic acid, Sebacic acid / trimethylolethane / (meth) acrylic acid, sebacic acid / trimethylolpropane / (meth) acrylic acid, sebacic acid / glycerin / (meth) acrylic acid, sebacic acid / pentaerythritol / (meth) acrylic acid, fumar Acid / Trimethylolethane / (Me ) Acrylic acid, fumaric acid / trimethylolpropane / (meth) acrylic acid, fumaric acid / glycerin / (meth) acrylic acid, fumaric acid / pentaerythritol / (meth) acrylic acid, itaconic acid / trimethylolethane / (meth) Acrylic acid, itaconic acid / trimethylolpropane / (meth) acrylic acid, itaconic acid / glycerin / (meth) acrylic acid, itaconic acid / pentaerythritol / (meth) acrylic acid, maleic anhydride / trimethylolethane / (meth) Acrylic acid, maleic anhydride / trimethylolpropane / (meth) acrylic acid, maleic anhydride / glycerin / (meth) acrylic acid and maleic anhydride / pentaerythritol / (meth) acrylic acid.

分子中に少なくとも2個の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する化合物のその他の例としては、トリメチロールプロパントルイレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、4,4’−メチレンビス(シクロヘキシルイソシアネート)、イソホロンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等のジイソシアネートの3量化により得られるポリイソシアネート1モルに対して2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−メトキシプロピル(メタ)アクリレート、N−メチロール(メタ)アクリルアミド、N−ヒドロキシ(メタ)アクリルアミド、15,3−プロパントリオール−1,3−ジ(メタ)アクリレート、3−アクリロイルオキシ−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート等の活性水素を有するアクリル系単量体3モル以上を反応させて得られるウレタン(メタ)アクリレート;トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌル酸のジ(メタ)アクリレート又はトリ(メタ)アクリレート等のポリ[(メタ)アクリロイルオキシエチレン]イソシアヌレート;エポキシポリ(メタ)アクリレート;及びウレタンポリ(メタ)アクリレートが挙げられる。   Other examples of compounds having at least two (meth) acryloyloxy groups in the molecule include trimethylolpropane toluylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, xylene diisocyanate, 4,4'-methylenebis. (Cyclohexyl isocyanate), isophorone diisocyanate, trimethylhexamethylene diisocyanate and other diisocyanates trimerized to give 1 mol of polyisocyanate 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxy- 3-methoxypropyl (meth) acrylate, N-methylol (meth) acrylamide, N-hydroxy (meth) acrylic 3 or more moles of an acrylic monomer having active hydrogen such as imide, 15,3-propanetriol-1,3-di (meth) acrylate, 3-acryloyloxy-2-hydroxypropyl (meth) acrylate Urethane (meth) acrylate obtained; poly [(meth) acryloyloxyethylene] isocyanurate such as di (meth) acrylate or tri (meth) acrylate of tris (2-hydroxyethyl) isocyanuric acid; epoxy poly (meth) acrylate; And urethane poly (meth) acrylate.

成分(B)は単独で、又は2種以上を組み合わせて使用することができる。   A component (B) can be used individually or in combination of 2 or more types.

被膜用組成物が活性エネルギー線硬化性組成物である場合、被膜用組成物中には後述する光開始剤を配合することができる。   When the coating composition is an active energy ray curable composition, a photoinitiator described later can be blended in the coating composition.

次いで成分(C)について説明する。成分(C)は防汚性化合物であり、被膜へ防汚性(撥水性、撥油性)を付与するために添加することができる。   Next, the component (C) will be described. Component (C) is an antifouling compound and can be added to impart antifouling properties (water repellency and oil repellency) to the coating.

成分(C)の具体例としては、まず、ジイソシアネートを3量体化させたトリイソシアネート(I)(以下、「トリイソシアネート(I)」という)と活性水素含有化合物(II)とを反応させることにより得られるフッ素基含有ポリエーテル化合物(III)(以下、「化合物(III)」という)が挙げられる。   As a specific example of component (C), first, triisocyanate (I) obtained by trimerizing diisocyanate (hereinafter referred to as “triisocyanate (I)”) and active hydrogen-containing compound (II) are reacted. And fluorine group-containing polyether compound (III) (hereinafter referred to as “compound (III)”).

トリイソシアネート(I)を得るために使用されるジイソシアネートとしては、例えば、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート等の、イソシアネート基が脂肪族骨格に結合したジイソシアネート及びトリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート等の、イソシアネート基が芳香族骨格に結合したジイソシアネートが挙げられる。   Examples of the diisocyanate used to obtain the triisocyanate (I) include an isocyanate group bonded to an aliphatic skeleton, such as hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, xylylene diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate, and dicyclohexylmethane diisocyanate. Examples thereof include diisocyanates in which an isocyanate group is bonded to an aromatic skeleton, such as diisocyanate and tolylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, and naphthalene diisocyanate.

活性水素含有化合物(II)としては水酸基等の活性水素を含む化合物が挙げられる。   Examples of the active hydrogen-containing compound (II) include compounds containing active hydrogen such as hydroxyl groups.

活性水素含有化合物(II)の具体例としては、1つの活性水素を有するパーフルオロポリエーテル(II−1)(以下、「ポリエーテル(II−1)」という)及び活性水素と炭素−炭素二重結合を有する単量体(II−2)(以下、「単量体(II−2)」という)が挙げられる。   Specific examples of the active hydrogen-containing compound (II) include perfluoropolyether (II-1) having one active hydrogen (hereinafter referred to as “polyether (II-1)”) and active hydrogen and carbon-carbon two. And a monomer (II-2) having a heavy bond (hereinafter referred to as “monomer (II-2)”).

ポリエーテル(II−1)としては、例えば、パーフルオロポリエーテル基及び1つの分子末端に1つの水酸基を有する化合物が挙げられる。   Examples of the polyether (II-1) include compounds having a perfluoropolyether group and one hydroxyl group at one molecular end.

ポリエーテル(II−1)の具体例としては、下式(2)に示される化合物が挙げられる。   Specific examples of the polyether (II-1) include a compound represented by the following formula (2).

(2)
(式中、Xはフッ素原子、Y及びZはそれぞれフッ素原子又はトリフルオロメチル基、aは1〜16の整数、cは0〜5の整数、b、d、e、f及びgは0〜200の整数、並びにhは0〜16の整数である。)
(2)
Wherein X is a fluorine atom, Y and Z are each a fluorine atom or a trifluoromethyl group, a is an integer of 1 to 16, c is an integer of 0 to 5, b, d, e, f and g are 0 to 0. 200 is an integer, and h is an integer of 0 to 16.)

式(2)において、a〜hの数値が大きすぎなければ分子量が大きくなり過ぎず、溶解性が良好となる傾向がある。一方、前記数値が小さすぎなければ撥水性及び撥油性が良好となる傾向がある。   In the formula (2), if the numerical values of a to h are not too large, the molecular weight does not become too large and the solubility tends to be good. On the other hand, if the numerical value is not too small, water repellency and oil repellency tend to be good.

単量体(II−2)としては、例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート及び2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレートが挙げられる。   Examples of the monomer (II-2) include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, and 2-hydroxybutyl (meth) acrylate.

尚、本発明において、「(メタ)アクリ」は「アクリ」又は「メタクリ」を意味する。   In the present invention, “(meth) acryl” means “acryl” or “methacryl”.

成分(C)の合成法としては、例えば、トリイソシアネート(I)の一つのイソシアネート基にポリエーテル(II−1)を反応させ、残りの二つのイソシアネート基に単量体(II−2)を反応させることにより得ることができる。   As a synthesis method of component (C), for example, polyether (II-1) is reacted with one isocyanate group of triisocyanate (I), and monomer (II-2) is reacted with the remaining two isocyanate groups. It can be obtained by reacting.

前記の反応はトリイソシアネート(I)にポリエーテル(II−1)及び単量体(II−2)を同時に反応させてもよいし、順次反応させてもよい。   In the above reaction, triisocyanate (I) may be reacted with polyether (II-1) and monomer (II-2) at the same time or sequentially.

成分(C)の具体例としては、下式(3)に示される化合物(III)が挙げられる。   Specific examples of component (C) include compound (III) represented by the following formula (3).

(3)

(式中、Wはパーフルオロポリエーテル基を表す。)
(3)

(In the formula, W represents a perfluoropolyether group.)

成分(C)の他の例としては、1個のイソシアネート基と、1個または2個の(メタ)アクリロイルオキシ基を同一化合物内に有する化合物と、分子末端に少なくとも一つの活性水素を有するパーフルオロポリエーテルとを反応させて得られる化合物などが挙げられる。前記1個のイソシアネート基と、1個または2個の(メタ)アクリロイルオキシ基を同一化合物内に有する化合物としては、例えば(株)昭和電工製、製品名:カレンズBEI、カレンズAOI,カレンズMOIなどが挙げられる。また前記の分子末端に少なくとも一つの活性水素を有するパーフルオロポリエーテルとしては、例えば(株)ソルベイソレクシス製、製品名:FLUOROLINK D10H、FLUOROLINK D、FLUOROLINK D4000などが挙げられる。   Other examples of the component (C) include a compound having one isocyanate group, one or two (meth) acryloyloxy groups in the same compound, and a component having at least one active hydrogen at the molecular end. Examples thereof include compounds obtained by reacting with fluoropolyether. Examples of the compound having one isocyanate group and one or two (meth) acryloyloxy groups in the same compound include, for example, Showa Denko Co., Ltd., product names: Karenz BEI, Karenz AOI, Karenz MOI, etc. Is mentioned. Examples of the perfluoropolyether having at least one active hydrogen at the molecular end include product names: FLUOROLINK D10H, FLUOROLINK D, and FLUOROLINK D4000 manufactured by Solvay Solexis.

本被膜用組成物に含まれる成分(C)の含有量としては、被膜用組成物の固形分中に10質量%が好ましく、12質量%がより好ましい。また50質量%以下が好ましく、30質量%がより好ましい。成分(C)の含有量を前記範囲とすることにより、本発明で得られる積層体の表面の撥水性、撥油性及び耐擦傷性を良好とすることができる傾向にある。成分(C)は、1種を単独で、または2種以上を組み合わせて使用することができる。なおここで、「固形分」とは、溶剤を除く成分のことをいう。   As content of the component (C) contained in this film composition, 10 mass% is preferable in solid content of a film composition, and 12 mass% is more preferable. Moreover, 50 mass% or less is preferable, and 30 mass% is more preferable. By making content of a component (C) into the said range, it exists in the tendency which can make favorable the water repellency, oil repellency, and abrasion resistance of the surface of the laminated body obtained by this invention. A component (C) can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types. Here, the “solid content” means a component excluding the solvent.

本被膜用組成物は、重合反応させることにより硬化する。重合は特に限定されず、活性エネルギー線重合でも、熱重合でもよい。   The coating composition is cured by a polymerization reaction. The polymerization is not particularly limited, and may be active energy ray polymerization or thermal polymerization.

本被膜用組成物が活性エネルギー線(以下、便宜的に「光」ともいう。)硬化性の場合、前記組成物へ添加する光開始剤としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、アセトイン、ブチロイン、トルオイン、ベンジル、ベンゾフェノン、p−メトキシベンゾフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、α,α−ジメトキシ−α−フェニルアセトフェノン、メチルフェニルグリオキシレート、エチルフェニルグリオキシレート、4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン等のカルボニル化合物;テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド等の硫黄化合物;及び2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイド、ベンゾイルジエトキシフォスフィンオキサイド等のリン化合物が挙げられる。   When the coating composition is curable with active energy rays (hereinafter also referred to as “light” for convenience), examples of the photoinitiator added to the composition include benzoin, benzoin methyl ether, and benzoin ethyl ether. , Benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, acetoin, butyroin, toluoin, benzyl, benzophenone, p-methoxybenzophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, α, α-dimethoxy-α-phenylacetophenone, methylphenylglyoxylate, ethyl Carbonyl compounds such as phenylglyoxylate, 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one; Sulfur compounds such as lamethylthiuram monosulfide and tetramethylthiuram disulfide; and 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide, benzoyldiethoxyphos Phosphorus compounds such as fin oxide are listed.

光開始剤の添加量としては、低屈折率硬化被膜の紫外線照射による低屈折率の点で、本低屈折率組成物の固形分100質量部に対して0.1質量部以上が好ましく、0.5質量部以上がより好ましく、1質量部以上が更に好ましい。また、光開始剤の添加量としては、低屈折率硬化被膜の色調を良好とし、防汚性を良好とする点で、10質量部以下が好ましく、7質量部以下がより好ましい。   The addition amount of the photoinitiator is preferably 0.1 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the solid content of the low refractive index composition in terms of low refractive index due to ultraviolet irradiation of the low refractive index cured coating, More preferably 5 parts by mass or more, and still more preferably 1 part by mass or more. Further, the addition amount of the photoinitiator is preferably 10 parts by mass or less, and more preferably 7 parts by mass or less from the viewpoint of improving the color tone of the low refractive index cured film and improving the antifouling property.

本被膜用組成物が熱硬化性組成物である場合、本組成物中には熱硬化剤を配合することができる。   When this film composition is a thermosetting composition, a thermosetting agent can be mix | blended in this composition.

熱硬化剤としては、例えば、2,2’−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾビス−(2,4−ジメチルバレロニトリル)等のアゾ系重合開始剤;及びラウロイルパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ベンゾイルパーオキサイド、ビス(4−t−ブチルシクロヘキシル)パーオキシジカーボネート、t−ブチルパーオキシネオデカノエート、t−ヘキシルパーオキシピバレート等の有機過酸化物系重合開始剤が挙げられる。これらは単独で、又は2種以上を組み合わせて使用することができる。   Examples of the thermosetting agent include 2,2′-azobis (4-methoxy-2,4-dimethylvaleronitrile), 2,2′-azobisisobutyronitrile, 2,2′-azobis- (2, Azo polymerization initiators such as 4-dimethylvaleronitrile); and lauroyl peroxide, diisopropyl peroxydicarbonate, benzoyl peroxide, bis (4-t-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate, t-butylperoxyneodeca And organic peroxide polymerization initiators such as noate and t-hexylperoxypivalate. These can be used alone or in combination of two or more.

本組成物には、必要に応じて、スリップ性向上剤、レベリング剤、紫外線吸収剤、HALS等の光安定剤等の各種添加剤を配合することができる。   If necessary, various additives such as a slip improver, a leveling agent, a UV absorber, and a light stabilizer such as HALS can be blended in the present composition.

添加剤の配合量としては、被膜の透明性の点で、本組成物の固形分100質量部に対して10質量部以下が好ましい。   As a compounding quantity of an additive, 10 mass parts or less are preferable with respect to 100 mass parts of solid content of this composition at the transparency point of a film.

本発明においては、本組成物の固形分濃度を調整するために、本組成物に希釈溶剤を含有させることができる。   In this invention, in order to adjust the solid content density | concentration of this composition, a dilution solvent can be contained in this composition.

希釈溶剤としては、例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソプロパノール、エタノール、1−メトキシ−2−プロパノール及び2,2,3,3−テトラフルオロ−1−プロパノールが挙げられる。   Examples of the dilution solvent include methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, isopropanol, ethanol, 1-methoxy-2-propanol, and 2,2,3,3-tetrafluoro-1-propanol.

本組成物の固形分濃度としては0.1〜20質量%が好ましい。本組成物の固形分濃度を前記範囲とすることにより、本組成物の貯蔵安定性を良好とすることができ、所望の膜厚にコントロールし易くなる傾向にある。   As solid content concentration of this composition, 0.1-20 mass% is preferable. By setting the solid content concentration of the present composition within the above range, the storage stability of the present composition can be improved, and the desired film thickness tends to be easily controlled.

本発明の被膜の基材への積層方法は特に限定されないが、例えば、前記組成物を基材へ直接塗布し硬化させる方法、透明基材フィルム上に被膜を形成し、一旦転写フィルムを作製し、その後、接着層を介して基材側へ前記被膜を転写させる方法が挙げられるが、生産性向上、異物欠陥抑制の観点から後者の方法(以下、「転写方式」ともいう)が好ましい。   The method of laminating the coating of the present invention on the substrate is not particularly limited. For example, a method of directly applying the composition to the substrate and curing it, forming a coating on a transparent substrate film, and once producing a transfer film Thereafter, a method of transferring the coating film to the substrate side through an adhesive layer can be mentioned, but the latter method (hereinafter also referred to as “transfer system”) is preferable from the viewpoint of improving productivity and suppressing foreign matter defects.

以下に、転写方式により積層体を形成する方法について詳細に述べるが、本発明はこれに限定されるものではない。   Hereinafter, a method for forming a laminate by a transfer method will be described in detail, but the present invention is not limited thereto.

透明基材フィルム
本発明で使用される透明基材フィルムは、後述する転写フィルムを樹脂基材の表面に積層した後に剥離して除去されるもので、例えば、活性エネルギー線透過性フィルムを使用することができる。
Transparent substrate film The transparent substrate film used in the present invention is removed by laminating a transfer film, which will be described later, on the surface of the resin substrate and then removed, for example, using an active energy ray transmissive film. be able to.

透明基材フィルムの具体例としては、ポリエチレンテレタレートフィルム(以下、「PETフィルム」という。)、ポリカーボネートフィルム、ポリアミドフィルム、ポリアミドイミドフィルム等の合成樹脂フィルム、これらの複合フィルム状物又は複合シート状物及びそれらに剥離層を積層したものが挙げられる。   Specific examples of the transparent substrate film include a polyethylene terephthalate film (hereinafter referred to as “PET film”), a synthetic resin film such as a polycarbonate film, a polyamide film, and a polyamideimide film, and a composite film or a composite sheet thereof. And those having a release layer laminated thereon.

透明基材フィルムの厚さとしては特に制限はないが、しわ、亀裂等のない転写フィルムの製造の容易性の点で4μm以上が好ましく、12μm以上がより好ましく、30μm以上が更に好ましい。また、透明基材フィルムの厚さとしては500μm以下が好ましく、150μm以下がより好ましく、120μm以下が更に好ましい。   Although there is no restriction | limiting in particular as thickness of a transparent base film, 4 micrometers or more are preferable at the point of the ease of manufacture of a transfer film without a wrinkle, a crack, etc., 12 micrometers or more are more preferable, and 30 micrometers or more are still more preferable. Moreover, as thickness of a transparent base film, 500 micrometers or less are preferable, 150 micrometers or less are more preferable, and 120 micrometers or less are still more preferable.

透明基材フィルムの表面に剥離層を形成させる場合の剥離層形成材としては、公知の剥離層を形成するポリマーやワックス等を適宜選択使用できる。   As a release layer forming material for forming a release layer on the surface of the transparent substrate film, a polymer, wax, or the like that forms a known release layer can be appropriately selected and used.

塗布膜
本塗布膜は、前記被膜用組成物を基材に塗布して形成した膜である。
Coating Film The main coating film is a film formed by applying the coating composition to a substrate.

塗布膜形成工程
塗布膜形成工程は、塗布膜を形成する工程である。前記塗布膜を形成する方法としては、例えば、以下の方法が挙げられる。
Coating film forming step The coating film forming step is a step of forming a coating film. Examples of the method for forming the coating film include the following methods.

前記被膜用組成物を透明基材フィルムの表面に塗布する。希釈溶剤を含有する場合には希釈溶剤を乾燥等により除去することが好ましい。   The coating composition is applied to the surface of the transparent substrate film. When the diluent solvent is contained, it is preferable to remove the diluent solvent by drying or the like.

前記組成物を透明基材フィルムの表面に塗布する方法としては、例えば、流延法、ローラーコート法、バーコート法、噴霧コート法、エアーナイフコート法、スピンコート法、フローコート法、カーテンコート法、フィルムカバー法及びディッピング法が挙げられる。   Examples of the method for applying the composition to the surface of the transparent substrate film include casting, roller coating, bar coating, spray coating, air knife coating, spin coating, flow coating, and curtain coating. Method, film cover method and dipping method.

揮発性化合物
本揮発性化合物は、前記塗布膜の表面に塗布した揮発性化合物を揮発させることによって本転写方式で良好な撥水性及び撥油性を示す積層体を得ることができ、前記組成物中の成分(C)の含有量を減らすことができる。
Volatile compound The present volatile compound can obtain a laminate exhibiting good water repellency and oil repellency by the present transfer method by volatilizing the volatile compound applied to the surface of the coating film. The content of component (C) can be reduced.

揮発性化合物としては、アルコール系化合物、ケトン系化合物及びエーテル系化合物及びエステル系化合物から選ばれる少なくとも1種の溶剤が挙げられる。   Examples of the volatile compound include at least one solvent selected from alcohol compounds, ketone compounds, ether compounds, and ester compounds.

アルコール系化合物としては、例えば、メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、イソブタノール、sec−ブタノール、t−ブタノール、n−ペンタノール、イソペンタノール、2−メチルブタノール、sec−ペンタノール、t−ペンタノール、3−メトキシブタノール、n−ヘキサノール、2−メチルペンタノール、sec−ヘキサノール、2−エチルブタノール、sec−ヘプタノール、n−オクタノール、2−エチルヘキサノール、sec−オクタノール、n−ノニルアルコール、n−デカノール、sec−ウンデシルアルコール、トリメチルノニルアルコール、sec−テトラデシルアルコール、sec−ヘプタデシルアルコール、フェノール、シクロヘキサノール、メチルシクロヘキサノール、ベンジルアルコール、エチレングリコール、1,2−プロピレングリコール、1,3−ブチレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリエチレングリコール、トリプロピレングリコール及び1−メトキシ−2−プロパノールが挙げられる。これらの中で、得られる積層体の表面の撥水性及び撥油性の点で、エタノール、イソプロパノール及び1−メトキシ−2−プロパノールが好ましく、中でもイソプロパノールがより好ましい。   Examples of alcohol compounds include methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, isobutanol, sec-butanol, t-butanol, n-pentanol, isopentanol, 2-methylbutanol, sec-pen. Tanol, t-pentanol, 3-methoxybutanol, n-hexanol, 2-methylpentanol, sec-hexanol, 2-ethylbutanol, sec-heptanol, n-octanol, 2-ethylhexanol, sec-octanol, n- Nonyl alcohol, n-decanol, sec-undecyl alcohol, trimethylnonyl alcohol, sec-tetradecyl alcohol, sec-heptadecyl alcohol, phenol, cyclohexanol, methylcyclohex Nord, benzyl alcohol, ethylene glycol, 1,2-propylene glycol, 1,3-butylene glycol, diethylene glycol, dipropylene glycol, triethylene glycol, tripropylene glycol and 1-methoxy-2-propanol. Among these, ethanol, isopropanol, and 1-methoxy-2-propanol are preferable, and isopropanol is more preferable among them in terms of water repellency and oil repellency on the surface of the obtained laminate.

ケトン系化合物としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチル−n−プロピルケトン、メチル−n−ブチルケトン、メチル−イソブチルケトン、メチル−n−ペンチルケトン、メチル−n−ヘキシルケトン、ジエチルケトン、ジ−イソブチルケトン、トリメチルノナノン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、メチルシクロヘキサノン、2,4−ペンタンジオン、アセトニルアセトン、ジアセトンアルコール、アセトフェノン及びγ−ブチロラクトンが挙げられる。これらの中で、得られる積層体の表面の撥水性及び撥油性の点で、メチル−イソブチルケトンが好ましい。   Examples of ketone compounds include acetone, methyl ethyl ketone, methyl-n-propyl ketone, methyl-n-butyl ketone, methyl-isobutyl ketone, methyl-n-pentyl ketone, methyl-n-hexyl ketone, diethyl ketone, and di-isobutyl. Examples include ketone, trimethylnonanone, cyclohexanone, cyclopentanone, methylcyclohexanone, 2,4-pentanedione, acetonylacetone, diacetone alcohol, acetophenone, and γ-butyrolactone. Among these, methyl-isobutyl ketone is preferable in terms of water repellency and oil repellency on the surface of the obtained laminate.

エーテル系化合物としては、例えば、エチルエーテル、イソプロピルエーテル、n−ブチルエーテル、n−ヘキシルエーテル、2−エチルヘキシルエーテル、エチレンオキシド、1,2−プロピレンオキシド、ジオキソラン、4−メチルジオキソラン、ジオキサン、ジメチルジオキサン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールモノ−n−ヘキシルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、ジエチレングリコールジ−n−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−n−ヘキシルエーテル、エトキシトリグリコール、テトラエチレングリコールジ−n−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、テトラヒドロフラン及び2−メチルテトラヒドロフランが挙げられる。これらの中では、得られる積層体の表面の撥水性及び撥油性の点で、エチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル(以下、「ブチセロ」ともいう。)が好ましい。   Examples of ether compounds include ethyl ether, isopropyl ether, n-butyl ether, n-hexyl ether, 2-ethylhexyl ether, ethylene oxide, 1,2-propylene oxide, dioxolane, 4-methyldioxolane, dioxane, dimethyldioxane, and ethylene. Glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol mono-n-butyl ether, ethylene glycol diethyl ether, ethylene glycol mono-n-hexyl ether, ethylene glycol monophenyl ether, ethylene glycol dibutyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol diethyl Ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol Mono-n-butyl ether, diethylene glycol di-n-butyl ether, diethylene glycol mono-n-hexyl ether, ethoxytriglycol, tetraethylene glycol di-n-butyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monopropyl ether , Dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, tetrahydrofuran and 2-methyltetrahydrofuran. Among these, ethylene glycol mono-n-butyl ether (hereinafter also referred to as “buticello”) is preferable in terms of water repellency and oil repellency on the surface of the obtained laminate.

エステル系化合物としては、例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n−プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸n−ブチル、酢酸イソブチル、酢酸sec−ブチル、酢酸n−ペンチル、酢酸sec−ペンチル、酢酸3−メトキシブチル、酢酸メチルペンチル、酢酸2−エチルブチル、酢酸2−エチルヘキシル、酢酸ベンジル、酢酸シクロヘキシル、酢酸メチルシクロヘキシル、酢酸ノニル、γ−ブチロラクトン、γ−バレロラクトン、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、酢酸エチレングリコールモノメチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテル、酢酸ジエチレングリコールモノメチルエーテル、酢酸ジエチレングリコールモノエチルエーテル、酢酸ジエチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、酢酸プロピレングリコールモノメチルエーテル、酢酸プロピレングリコールモノエチルエーテル、酢酸プロピレングリコールモノプロピルエーテル、酢酸ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、酢酸ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジ酢酸グリコール、酢酸メトキシトリグリコール、プロピオン酸エチル、プロピオン酸n−ブチル、プロピオン酸イソアミル、シュウ酸ジエチル、シュウ酸ジ−n−ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸n−ブチル、乳酸n−アミル、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)、アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸n−プロピル、(メタ)アクリル酸イソプロピル、(メタ)アクリル酸n−ブチル、(メタ)アクリル酸イソブチル及び(メタ)アクリル酸t−ブチルが挙げられる。これらの中で、得られる積層体の表面の撥水性及び撥油性の点で、メタクリル酸メチルが好ましい。
これらの揮発性化合物は単独で、又は2種以上を組み合わせて使用することができる。
Examples of ester compounds include methyl acetate, ethyl acetate, n-propyl acetate, isopropyl acetate, n-butyl acetate, isobutyl acetate, sec-butyl acetate, n-pentyl acetate, sec-pentyl acetate, and 3-methoxybutyl acetate. , Methylpentyl acetate, 2-ethylbutyl acetate, 2-ethylhexyl acetate, benzyl acetate, cyclohexyl acetate, methyl cyclohexyl acetate, nonyl acetate, γ-butyrolactone, γ-valerolactone, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, ethylene glycol monomethyl ether , Ethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol mono-n-butyl ether acetate, propylene glycol acetate Monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monopropyl ether acetate, dipropylene glycol monomethyl ether acetate, dipropylene glycol monoethyl ether acetate, glycol diacetate, methoxytriglycol acetate, ethyl propionate, n-propionate Butyl, isoamyl propionate, diethyl oxalate, di-n-butyl oxalate, methyl lactate, ethyl lactate, n-butyl lactate, n-amyl lactate, methyl (meth) acrylate, (meth), ethyl acrylate, ( Examples include n-propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, and t-butyl (meth) acrylate. Among these, methyl methacrylate is preferable from the viewpoint of water repellency and oil repellency on the surface of the obtained laminate.
These volatile compounds can be used alone or in combination of two or more.

本発明においては、揮発性化合物の沸点は200℃以下が好ましい。   In the present invention, the boiling point of the volatile compound is preferably 200 ° C. or less.

揮発性化合物中に、必要に応じて、スリップ性向上剤、レベリング剤、紫外線吸収剤、HALS等の光安定剤、光開始剤、熱開始剤、アミン類、無機微粒子、有機微粒子、バインダー等の各種添加剤を添加することができる。   In volatile compounds, slip stabilizers, leveling agents, UV absorbers, light stabilizers such as HALS, photoinitiators, thermal initiators, amines, inorganic fine particles, organic fine particles, binders, etc. Various additives can be added.

揮発性化合物塗布工程
揮発性化合物塗布工程において、透明基材フィルムに形成された前記塗布膜の表面に揮発性化合物を塗布して揮発性化合物の塗膜を形成させる。
Volatile compound coating step In the volatile compound coating step, a volatile compound is coated on the surface of the coating film formed on the transparent substrate film to form a coating film of the volatile compound.

塗布膜の表面に揮発性化合物を塗布する方法としては、例えば、流延法、ローラーコート法、バーコート法、噴霧コート法、エアーナイフコート法、スピンコート法、フローコート法、カーテンコート法、フィルムカバー法及びディッピング法が挙げられる。これらの中で、塗布膜へのダメージを抑制する点でバキュームスロットダイコート法、噴霧コート法、エアーナイフコート法、スピンコート法、フローコート法、カーテンコート法及びディッピング法が好ましい。   As a method for applying a volatile compound to the surface of the coating film, for example, casting method, roller coating method, bar coating method, spray coating method, air knife coating method, spin coating method, flow coating method, curtain coating method, Examples thereof include a film cover method and a dipping method. Among these, the vacuum slot die coating method, the spray coating method, the air knife coating method, the spin coating method, the flow coating method, the curtain coating method, and the dipping method are preferable in terms of suppressing damage to the coating film.

揮発工程
揮発工程で、透明基材フィルムに形成された前記塗布膜の表面に塗布した揮発化合物を揮発させる。
Volatilization step In the volatilization step, the volatile compound applied to the surface of the coating film formed on the transparent substrate film is volatilized.

揮発化合物を揮発させる方法としては、例えば、室温以上の温度で、常圧又は減圧下で揮発させる方法が挙げられる。   Examples of the method for volatilizing a volatile compound include a method of volatilizing at a temperature equal to or higher than room temperature under normal pressure or reduced pressure.

被膜
本発明における被膜は、前記被膜用組成物を硬化させて形成される膜である。該被膜が、その下層(該被膜に接する層)の屈折率より低い屈折率を有する「低屈折率層」であると、反射防止性能が得られる。
Film The film in the present invention is a film formed by curing the film composition. When the coating is a “low refractive index layer” having a refractive index lower than that of the lower layer (a layer in contact with the coating), antireflection performance is obtained.

被膜の膜厚としては、本発明で得られる積層体の表面の撥水性、撥油性、耐擦傷性及び光学特性の点で、10nm以上が好ましく、60nm以上がより好ましい。また1.3μm以下が好ましく、300nm以下がより好ましく、110nm以下が更に好ましい。   The film thickness of the coating is preferably 10 nm or more, more preferably 60 nm or more, from the viewpoint of the water repellency, oil repellency, scratch resistance and optical properties of the surface of the laminate obtained in the present invention. Moreover, 1.3 micrometers or less are preferable, 300 nm or less are more preferable, and 110 nm or less are still more preferable.

被膜形成工程
被膜形成工程は、上記の揮発工程で揮発化合物を揮発させた後、塗布膜を構成する前記被膜用組成物を硬化させる工程である。
Film Forming Process The film forming process is a process of curing the film composition constituting the coating film after volatilizing the volatile compound in the volatilization process.

前記組成物を硬化させる方法としては、例えば、熱硬化法及び活性エネルギー線硬化法が挙げられる。   Examples of the method for curing the composition include a thermal curing method and an active energy ray curing method.

活性エネルギー線硬化法で使用される活性エネルギー線としては、例えば、紫外線が挙げられる。紫外線を照射する場合の光源としては、例えば、高圧水銀灯、メタルハライドランプ及び蛍光紫外線ランプが挙げられる。   Examples of the active energy ray used in the active energy ray curing method include ultraviolet rays. Examples of the light source for irradiating with ultraviolet rays include a high-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, and a fluorescent ultraviolet lamp.

活性エネルギー線の照射条件としては、例えば、ピーク照度が1〜500mW/cmで積算光量が1〜2000mJ/cmの照射条件が挙げられる。 Examples of the irradiation condition of the active energy ray include irradiation conditions of a peak illuminance of 1 to 500 mW / cm 2 and an integrated light amount of 1 to 2000 mJ / cm 2 .

活性エネルギー線の照射は塗布膜の面及び透明基材フィルムの面から選ばれる少なくとも1面に照射することができる。   The active energy ray can be irradiated to at least one surface selected from the surface of the coating film and the surface of the transparent substrate film.

転写フィルム
本発明に用いる転写フィルムは透明基材フィルムの表面に、該透明基材フィルムと剥離可能な被膜が積層されたものである。
Transfer Film The transfer film used in the present invention is obtained by laminating a film that can be peeled off from the transparent substrate film on the surface of the transparent substrate film.

前記転写フィルムは、必要に応じて被膜の表面に後述する接着層を積層させたものとすることができる。   The transfer film may be obtained by laminating an adhesive layer described later on the surface of the coating as necessary.

また、前記転写フィルムは、必要に応じて被膜の表面に後述する高屈折率層を積層させたものとすることができる。   Moreover, the said transfer film shall be what laminated | stacked the high refractive index layer mentioned later on the surface of a film as needed.

更に、前記転写フィルムは、必要に応じて前記高屈折率層の面に接着層を積層させたものとすることができる。   Furthermore, the transfer film may be obtained by laminating an adhesive layer on the surface of the high refractive index layer as necessary.

上記の転写フィルムの接着層又は高屈折率層の面に、必要に応じて公知の保護フィルムを積層することができる。   A known protective film can be laminated on the surface of the adhesive layer or the high refractive index layer of the transfer film as necessary.

接着層
本発明において、接着層は本発明で得られる転写フィルムと、後述する樹脂基材とを接着するためのものである。
Adhesive layer In the present invention, the adhesive layer is for adhering the transfer film obtained in the present invention to a resin substrate described later.

接着層は前記転写フィルムの被膜面に積層される場合及び樹脂基材の前記転写フィルムが積層される側の面に積層される場合のいずれでもよい。   The adhesive layer may be either laminated on the coating surface of the transfer film or laminated on the surface of the resin substrate on which the transfer film is laminated.

接着層としては、例えば、熱可塑性樹脂を含有する熱可塑性樹脂塗膜層、及び活性エネルギー線硬化性組成物を含有する硬化性塗膜の層が挙げられる。   Examples of the adhesive layer include a thermoplastic resin coating layer containing a thermoplastic resin and a curable coating layer containing an active energy ray curable composition.

熱可塑性樹脂塗膜層
熱可塑性樹脂塗膜層を形成する熱可塑性樹脂としては、例えば、アクリル系樹脂、塩素化オレフィン系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体、マレイン酸系樹脂、塩化ゴム系樹脂、環化ゴム系樹脂、ポリアミド系樹脂、クマロンインデン系樹脂、エチレン−酢酸ビニル系共重合体、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、スチレン系樹脂、ブチラール樹脂、ロジン系樹脂及びエポキシ系樹脂が挙げられる。
Thermoplastic resin coating layer The thermoplastic resin for forming the thermoplastic resin coating layer is, for example, an acrylic resin, a chlorinated olefin resin, a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, a maleic acid resin, or a chlorinated rubber. Resin, cyclized rubber resin, polyamide resin, coumarone indene resin, ethylene-vinyl acetate copolymer, polyester resin, polyurethane resin, styrene resin, butyral resin, rosin resin, and epoxy resin Is mentioned.

硬化性塗膜の層
硬化性塗膜の層を形成するために使用される活性エネルギー線硬化性組成物としては、例えば、前記被膜用組成物に使用される成分(B)と同様のものが挙げられる。

接着層形成工程
本発明における接着層形成工程で、転写フィルムの被膜、又は高屈折率層を有する場合には高屈折率層、の面に接着層である熱可塑性樹脂塗膜層あるいは硬化性塗膜の層を形成することができる。
Examples of the active energy ray-curable composition used for forming the layer of the curable coating film include those similar to the component (B) used in the coating composition. Can be mentioned.

Adhesive layer forming step In the adhesive layer forming step of the present invention, a thermoplastic film coating layer or a curable coating that is an adhesive layer on the surface of the transfer film or a high refractive index layer if it has a high refractive index layer. Membrane layers can be formed.

熱可塑性樹脂塗膜層を形成するために使用される接着層形成材料として、例えば、熱可塑性樹脂を溶剤に溶解させた熱可塑性樹脂溶液を使用することができる。   As an adhesive layer forming material used for forming the thermoplastic resin coating layer, for example, a thermoplastic resin solution in which a thermoplastic resin is dissolved in a solvent can be used.

熱可塑性樹脂を溶解する溶剤としては、例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソプロパノール、エタノール、1−メトキシ−2−プロパノール及びトルエンが挙げられる。   Examples of the solvent that dissolves the thermoplastic resin include methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, isopropanol, ethanol, 1-methoxy-2-propanol, and toluene.

熱可塑性樹脂塗膜層の形成方法としては、例えば、転写フィルムの被膜、又は高屈折率層を有する場合には高屈折率層、の面に上記の熱可塑性樹脂溶液を塗布した後に溶剤を除去することにより熱可塑性樹脂塗膜層を形成する方法が挙げられる。   As a method for forming the thermoplastic resin coating layer, for example, the above-mentioned thermoplastic resin solution is applied to the surface of the transfer film coating or the high refractive index layer if it has a high refractive index layer, and then the solvent is removed. The method of forming a thermoplastic resin coating layer by doing is mentioned.

上記の熱可塑性樹脂塗膜層を形成する方法としては、例えば、ロールコート法、バーコート法及びスリットダイ使用法が挙げられる。   Examples of the method for forming the thermoplastic resin coating layer include a roll coating method, a bar coating method, and a slit die usage method.

本発明においては、熱可塑性樹脂塗膜層を樹脂基材の表面に形成させることができる。この場合、樹脂基材の表面に上記の熱可塑性樹脂溶液を塗布した後に溶剤を除去することにより接着層を形成することができる。   In the present invention, the thermoplastic resin coating layer can be formed on the surface of the resin substrate. In this case, the adhesive layer can be formed by applying the thermoplastic resin solution to the surface of the resin substrate and then removing the solvent.

また樹脂基材を得る際に予め熱可塑性樹脂層を積層させることができる。   Moreover, when obtaining a resin base material, a thermoplastic resin layer can be laminated previously.

接着層を形成するために活性エネルギー線硬化性組成物を使用する場合の、活性エネルギー線硬化性組成物を含有する硬化性塗膜の層を形成する方法としては、例えば、転写フィルムの被膜、又は高屈折率層を有する場合には高屈折率層、の面に上記の活性エネルギー線硬化性組成物を塗布して硬化性塗膜の層を積層する方法が挙げられる。   When using an active energy ray-curable composition to form an adhesive layer, as a method of forming a layer of a curable coating film containing an active energy ray-curable composition, for example, a transfer film coating, Or when it has a high refractive index layer, the method of apply | coating said active energy ray curable composition on the surface of a high refractive index layer, and laminating | stacking the layer of a curable coating film is mentioned.

上記の硬化性塗膜の層を形成する方法としては、前述の熱可塑性樹脂塗膜層を形成する方法と同様の方法が挙げられる。   Examples of the method for forming the curable coating film layer include the same method as the method for forming the thermoplastic resin coating layer described above.

本発明においては、上記の硬化性塗膜の層を樹脂基材の表面に形成させることができる。この場合、樹脂基材の表面に上記の活性エネルギー線硬化性組成物を塗布して硬化性塗膜の層を積層することにより接着層を形成することができる。   In the present invention, the curable coating layer can be formed on the surface of the resin substrate. In this case, the adhesive layer can be formed by applying the active energy ray-curable composition on the surface of the resin base material and laminating the curable coating layer.

高屈折率層
高屈折率層を形成する成分としては屈折率が1.6〜2.0程度のものが好ましい。ここで高屈折率層は、前記被膜(低屈折率層)の下層(前記被膜と接する層)の層であり、前記被膜の屈折率より高い屈折率を有する層である。
High Refractive Index Layer The component forming the high refractive index layer preferably has a refractive index of about 1.6 to 2.0. Here, the high refractive index layer is a layer below the coating film (low refractive index layer) (a layer in contact with the coating film) and has a higher refractive index than the refractive index of the coating film.

本発明においては、高屈折率層を形成する成分としては、前記被膜用組成物中の成分(B)へ、それよりも屈折率の高い金属酸化物微粒子を添加したものが挙げられる。金属酸化物微粒子としては、酸化錫及びアンチモンをドープした酸化錫(ATO)、酸化インジウム及びスズをドープした酸化インジウム(ITO)、酸化亜鉛及びアルミニウムをドープした酸化亜鉛、アンチモン酸亜鉛、五酸化アンチモン等の金属酸化物微粒子などが挙げられる。   In the present invention, examples of the component for forming the high refractive index layer include those obtained by adding metal oxide fine particles having a higher refractive index to the component (B) in the coating composition. As metal oxide fine particles, tin oxide and antimony doped tin oxide (ATO), indium oxide and tin doped indium oxide (ITO), zinc oxide and aluminum doped zinc oxide, zinc antimonate, antimony pentoxide And metal oxide fine particles.

これらの金属酸化物微粒子の中で、高屈折率層の屈折率をより高くできる点で、前記金属酸化物微粒子の少なくとも1種を高屈折率層形成用化合物(例えば前記成分(B))に配合することが好ましい。また、これらの金属酸化物微粒子は帯電防止性能を有しているため、本発明で得られる積層体に帯電防止機能を付与することができる。   Among these metal oxide fine particles, at least one of the metal oxide fine particles is used as a compound for forming a high refractive index layer (for example, the component (B)) in that the refractive index of the high refractive index layer can be further increased. It is preferable to mix. Moreover, since these metal oxide fine particles have antistatic properties, the antistatic function can be imparted to the laminate obtained by the present invention.

高屈折率層形成用化合物として活性エネルギー線硬化性組成物を含有するものを使用する場合は公知の硬化法により硬化させることができる。   When a compound containing an active energy ray-curable composition is used as the compound for forming a high refractive index layer, it can be cured by a known curing method.

この場合、高屈折率の金属酸化物微粒子として、シランカップリング剤で表面処理された高屈折率の金属酸化物微粒子を用いることが好ましい。   In this case, as the high refractive index metal oxide fine particles, it is preferable to use high refractive index metal oxide fine particles that have been surface-treated with a silane coupling agent.

高屈折率層の膜厚としては0.1〜10μmが好ましい。この範囲の膜厚にすると本発明で得られる積層体の表面が良好な表面硬度を有し、積層体の透明性を良好なものとすることができる傾向にある。また、この範囲の膜厚にすると、積層体中に帯電防止層を設けて帯電防止機能を付与する場合においても良好な帯電防止性能を付与することができる傾向にある。   The film thickness of the high refractive index layer is preferably from 0.1 to 10 μm. When the film thickness is in this range, the surface of the laminate obtained in the present invention has a good surface hardness and the transparency of the laminate tends to be good. When the film thickness is within this range, even when an antistatic layer is provided in the laminate to provide an antistatic function, good antistatic performance tends to be provided.

樹脂基材
本発明で使用される樹脂基材としては、例えば、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、メタクリル酸メチル単位を主構成成分とする共重合体、ポリスチレン及びスチレン−メチルメタクリレート共重合体の成形品が挙げられる。前記成形品としては、積層のし易さの観点から、板状物が好ましい。
Resin base material The resin base material used in the present invention includes, for example, polymethyl methacrylate, polycarbonate, a copolymer having a methyl methacrylate unit as a main component, a molded product of polystyrene and a styrene-methyl methacrylate copolymer. Can be mentioned. The molded product is preferably a plate-like product from the viewpoint of easy lamination.

積層体の厚みとしては、機械的強度の点で、0.2mm以上が好ましく、生産性の点で、10mm以下が好ましい。樹脂基材には、必要に応じて着色剤、光拡散剤等の添加剤を含有することができる。   The thickness of the laminate is preferably 0.2 mm or more in terms of mechanical strength, and is preferably 10 mm or less in terms of productivity. The resin base material can contain additives such as a colorant and a light diffusing agent as necessary.

樹脂基材ラミネート物
本発明において、樹脂基材ラミネート物は樹脂基材の表面に熱可塑性樹脂塗膜層(接着層)、被膜(低屈折率層)及び透明基材フィルムが順次積層されたもの、又は樹脂基材の表面に熱可塑性樹脂塗膜層(接着層)、高屈折率層、被膜(低屈折率層)及び透明基材フィルムが順次積層されたものである。
Resin Base Laminate In the present invention, a resin base laminate is obtained by sequentially laminating a thermoplastic resin coating layer (adhesive layer), a coating (low refractive index layer) and a transparent base film on the surface of a resin base. Alternatively, a thermoplastic resin coating layer (adhesive layer), a high refractive index layer, a coating (low refractive index layer), and a transparent substrate film are sequentially laminated on the surface of the resin substrate.

樹脂基材ラミネート物形成工程
本発明においては、接着層として熱可塑性樹脂塗膜層を使用する場合には、樹脂基材ラミネート物形成工程で転写フィルムを熱可塑性樹脂塗膜層の面を介して樹脂基材と積層して樹脂基材ラミネート物を得る。
In the present invention, when a thermoplastic resin coating layer is used as the adhesive layer, the transfer film is passed through the surface of the thermoplastic resin coating layer in the resin substrate laminate forming step. A resin base laminate is obtained by laminating with a resin base.

樹脂基材と転写フィルムとを積層する方法としては、例えば、ゴムロールで圧着する方法が挙げられる。   Examples of the method of laminating the resin base material and the transfer film include a method of pressure bonding with a rubber roll.

圧着に際しては、例えば、5〜15MPaの条件で圧着することができる。また、転写フィルムとの密着性の点で、積層する樹脂基材の表面を40〜125℃に加温しておくことが好ましい。   In the pressure bonding, for example, the pressure bonding can be performed under a condition of 5 to 15 MPa. Moreover, it is preferable to heat the surface of the resin base material to laminate | stack at 40-125 degreeC at the point of adhesiveness with a transfer film.

活性エネルギー線硬化性樹脂基材ラミネート物
本発明において、活性エネルギー線硬化性樹脂基材ラミネート物は樹脂基材の表面に、活性エネルギー線硬化性組成物を含有する硬化性塗膜の層(接着層)、被膜(低屈折率層)及び透明基材フィルムが順次積層されたもの、又は樹脂基材の表面に、活性エネルギー線硬化性組成物を含有する硬化性塗膜の層(接着層)、高屈折率層、被膜(低屈折率層)及び透明基材フィルムが順次積層されたものである。
Active energy ray-curable resin substrate laminate In the present invention, the active energy ray-curable resin substrate laminate is a layer of a curable coating film containing an active energy ray-curable composition (adhesion) on the surface of the resin substrate. Layer), a film (low refractive index layer) and a transparent substrate film sequentially laminated, or a layer of a curable coating film containing an active energy ray-curable composition (adhesion layer) on the surface of a resin substrate A high refractive index layer, a coating (low refractive index layer) and a transparent substrate film are sequentially laminated.

活性エネルギー線硬化性樹脂基材ラミネート物形成工程
本発明においては、接着層として活性エネルギー線硬化性組成物を含有する硬化性塗膜の層を使用する場合には、活性エネルギー線硬化性樹脂基材ラミネート物形成工程で、転写フィルムを硬化性塗膜の層の面を介して樹脂基材と積層して活性エネルギー線硬化性樹脂基材ラミネート物を得る。
Active energy ray-curable resin substrate laminate formation process In the present invention, when using a layer of a curable coating film containing an active energy ray-curable composition as an adhesive layer, an active energy ray-curable resin group is used. In the material laminate forming step, the transfer film is laminated with the resin substrate through the surface of the curable coating layer to obtain an active energy ray-curable resin substrate laminate.

樹脂基材と転写フィルムとを積層する際のエアーの巻き込みを防ぐためには、過剰量の硬化性塗膜の層を形成するための原料を使用して硬化性塗膜の層を形成することが好ましい。   In order to prevent air entrainment when laminating the resin base material and the transfer film, it is possible to form a curable coating layer using raw materials for forming an excessive amount of the curable coating layer. preferable.

樹脂基材と転写フィルムとを積層する方法としては、接着層として前記熱可塑性樹脂塗膜層を使用する場合と同様の方法が挙げられる。   Examples of the method for laminating the resin base material and the transfer film include the same method as in the case of using the thermoplastic resin coating layer as the adhesive layer.

熱可塑性樹脂塗膜層含有転写フィルム積層体
本発明においては、熱可塑性樹脂塗膜層含有転写フィルム積層体は前記樹脂基材ラミネート物を下記処理により一体化されたものである。
Thermoplastic resin coating layer-containing transfer film laminate In the present invention, the thermoplastic resin coating layer-containing transfer film laminate is obtained by integrating the resin base laminate by the following treatment.

熱可塑性樹脂塗膜層含有転写フィルム積層体形成工程
本発明においては、熱可塑性樹脂塗膜層含有転写フィルム積層体形成工程において、加圧処理及び加温処理から選ばれる少なくとも1種の処理により樹脂基材ラミネート物形成工程で得られた樹脂基材ラミネート物を構成する樹脂基材、熱可塑性樹脂塗膜層(接着層)及び被膜(低屈折率層)、又は樹脂基材、熱可塑性樹脂塗膜層(接着層)、高屈折率層及び被膜(低屈折率層)を一体化させることができる。加圧方法としては、例えば、ゴムロールで圧着する方法が挙げられる。加圧条件としては、例えば、5〜15MPaが挙げられる。
Thermoplastic resin coating layer-containing transfer film laminate forming step In the present invention, in the thermoplastic resin coating layer-containing transfer film laminate forming step, the resin is formed by at least one treatment selected from pressure treatment and heating treatment. Resin base material, thermoplastic resin coating layer (adhesive layer) and coating film (low refractive index layer) constituting the resin base material laminate obtained in the base material laminate forming step, or resin base material, thermoplastic resin coating The film layer (adhesive layer), the high refractive index layer, and the coating (low refractive index layer) can be integrated. Examples of the pressing method include a method of pressure bonding with a rubber roll. Examples of the pressurizing condition include 5 to 15 MPa.

加温処理方法としては、例えば、樹脂基材を加温する方法が挙げられる。加温条件としては、例えば、40〜125℃が挙げられる。加温条件を前記の条件とすることにより、転写フィルムと樹脂基材との密着性を良好とすることができ、樹脂基材の過度の溶解による硬度低下もなく、熱可塑性樹脂塗膜層の黄変も少ない傾向にある。   Examples of the heating treatment method include a method of heating a resin base material. As heating conditions, 40-125 degreeC is mentioned, for example. By making the heating conditions as described above, the adhesion between the transfer film and the resin base material can be improved, and there is no decrease in hardness due to excessive dissolution of the resin base material. There is also a tendency for less yellowing.

樹脂基材を加温する際の樹脂基材の表面温度は加熱部の設定温度、加熱時間等により調整することができる。また、樹脂基材の温度の測定方法としては、例えば、非接触型表面温度計による方法が挙げられる。   The surface temperature of the resin base material when heating the resin base material can be adjusted by the set temperature of the heating unit, the heating time, and the like. Moreover, as a measuring method of the temperature of a resin base material, the method by a non-contact type surface thermometer is mentioned, for example.

尚、本発明においては、熱可塑性樹脂塗膜層含有転写フィルム積層体の形成を樹脂基材ラミネート物の形成と同時に実施してもよい。   In the present invention, the thermoplastic resin coating layer-containing transfer film laminate may be formed simultaneously with the formation of the resin base laminate.

本発明においては、必要に応じて、上記の加温処理の際に低屈折率硬化被膜の硬化を促進させて充分に硬化した低屈折率硬化被膜を得ることができる。   In the present invention, if necessary, a cured low refractive index film can be obtained by promoting the curing of the low refractive index cured film during the heating treatment.

また、本発明においては、必要に応じて、上記の処理に加えて活性エネルギー線を照射して前記被膜の硬化を促進させて充分に硬化した被膜を得ることができる。   In the present invention, if necessary, in addition to the above treatment, active energy rays may be irradiated to accelerate the curing of the coating, thereby obtaining a sufficiently cured coating.

硬化性塗膜硬化層含有転写フィルム積層体
本発明において、硬化性塗膜硬化層含有転写フィルム積層体は樹脂基材の表面に、接着層の硬化膜として硬化性塗膜の硬化層、被膜(低屈折率層)及び透明基材フィルムが順次積層されたもの、又は樹脂基材の表面に、接着層の硬化膜として硬化性塗膜の硬化層、高屈折率層、被膜(低屈折率層)及び透明基材フィルムが順次積層されたものである。
Curable coating film cured layer containing transfer film laminate In the present invention, the curable coating film cured layer containing transfer film laminate is a cured layer of a curable coating film as a cured film of an adhesive layer on the surface of a resin base material. Low refractive index layer) and transparent substrate film laminated in sequence or on the surface of the resin substrate, as a cured film of the adhesive layer, a cured layer of a curable coating film, a high refractive index layer, a coating (low refractive index layer) ) And a transparent substrate film are sequentially laminated.

硬化性塗膜の硬化層
硬化性塗膜の硬化層は、接着層として使用される活性エネルギー線硬化性組成物を含有する硬化性塗膜の層を硬化させたものである。
Cured layer of curable coating film The cured layer of the curable coating film is obtained by curing a layer of a curable coating film containing an active energy ray-curable composition used as an adhesive layer.

硬化性塗膜硬化層含有転写フィルム積層体形成工程
本発明においては、硬化性塗膜硬化層含有転写フィルム積層体形成工程において、活性エネルギー線硬化性樹脂基材ラミネート物形成工程で得られた活性エネルギー線硬化性樹脂基材ラミネート物に活性エネルギー線を照射して硬化性塗膜の硬化層を形成することができる。
In the present invention, in the present invention, the activity obtained in the active energy ray-curable resin substrate laminate forming step in the curable coating film cured layer-containing transfer film laminate forming step. An energy ray curable resin substrate laminate can be irradiated with active energy rays to form a cured layer of a curable coating film.

活性エネルギー線硬化性樹脂基材ラミネート物への活性エネルギー線の照射は転写フィルムを介して実施することができる。また、樹脂基材の形状に応じて、必要に応じて樹脂基材側から活性エネルギー線を照射してもよい。   Irradiation of active energy rays to the active energy ray-curable resin substrate laminate can be carried out via a transfer film. Moreover, you may irradiate an active energy ray from the resin base material side as needed according to the shape of the resin base material.

硬化性塗膜の硬化層を形成するための活性エネルギー線としては、例えば、紫外線が挙げられる。紫外線を照射する場合の光源としては、例えば、高圧水銀灯、メタルハライドランプ及び蛍光紫外線ランプが挙げられる。   Examples of the active energy ray for forming the cured layer of the curable coating film include ultraviolet rays. Examples of the light source for irradiating with ultraviolet rays include a high-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, and a fluorescent ultraviolet lamp.

硬化性塗膜の硬化層を形成するための活性エネルギー線照射条件としては、例えば、ピーク照度100mW/cm以上及び積算光量10mJ/cm以上の条件が挙げられる。 Examples of the active energy ray irradiation conditions for forming a cured layer of the curable coating film include conditions with a peak illuminance of 100 mW / cm 2 or more and an integrated light amount of 10 mJ / cm 2 or more.

本発明においては、硬化性塗膜の硬化層を形成する際に、必要に応じて、前記被膜の硬化を促進させて充分に硬化した被膜を得ることができる。   In the present invention, when the cured layer of the curable coating film is formed, it is possible to obtain a sufficiently cured film by accelerating the curing of the film, if necessary.

樹脂積層体
本発明で得られる樹脂積層体は、樹脂基材の表面に、接着層として使用される熱可塑性樹脂塗膜層又は接着層の硬化膜である硬化性塗膜の硬化層及び被膜(低屈折率層)が順次積層された積層体である。さらに前記以外のものを積層してもよいが、本樹脂積層体は前記被膜を表層に有することが好ましい。
Resin Laminate The resin laminate obtained in the present invention is a thermoplastic resin coating layer used as an adhesive layer or a cured layer of a curable coating film that is a cured film of an adhesive layer on the surface of a resin substrate ( A low-refractive index layer) is sequentially laminated. Further, other than the above may be laminated, but the resin laminate preferably has the coating film on the surface layer.

また、本発明においては、必要に応じて接着層として使用される熱可塑性樹脂塗膜層又は接着層の硬化膜である硬化性塗膜の硬化層と被膜(低屈折率層)との間に高屈折率層を形成することができる。   In the present invention, a thermoplastic resin coating layer used as an adhesive layer or a cured film of a curable coating that is a cured film of the adhesive layer and a coating (low refractive index layer) as necessary. A high refractive index layer can be formed.

樹脂積層体形成工程
本発明で得られる樹脂積層体は、積層体形成工程において、熱可塑性樹脂塗膜層含有転写フィルム積層体又は硬化性塗膜硬化層含有転写フィルム積層体から透明基材フィルムを剥離することにより得られる。
Resin Laminate Forming Process The resin laminate obtained in the present invention is obtained from the thermoplastic resin coating layer-containing transfer film laminate or the curable coating film cured layer-containing transfer film laminate in the laminate forming step. Obtained by peeling.

熱可塑性樹脂塗膜層含有転写フィルム積層体又は硬化性塗膜硬化層含有転写フィルム積層体から透明基材フィルムを剥離するに際しては、例えば、室温にて透明基材フィルムを熱可塑性樹脂塗膜層含有転写フィルム積層体から公知の方法により剥離することができる。   When the transparent substrate film is peeled from the thermoplastic resin coating layer-containing transfer film laminate or the curable coating film cured layer-containing transfer film laminate, for example, the transparent substrate film is removed from the thermoplastic resin coating layer at room temperature. It can peel from a containing transfer film laminated body by a well-known method.

本発明の方法により得られる樹脂積層体は各種前面板に好適である。   The resin laminate obtained by the method of the present invention is suitable for various front plates.

以下、実施例により本発明を説明する。尚、実施例及び比較例で使用した化合物の略称は以下の通りである。また、以下において、「部」及び「%」はそれぞれ「質量部」及び「質量%」を示す。
「TAS」:コハク酸/トリメチロールエタン/アクリル酸(モル比1/2/4)縮合混合物(大阪有機化学工業(株)製)
「C6DA」:1,6−ヘキサンジオールジアクリレート(大阪有機化学工業(株)製、商品名)
「M305」:ペンタエリスリトールトリアクリレート(東亞合成(株)製、商品名)
「M400」:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(東亞合成(株)製、商品名)
「オプツールDAC」:パーフルオロポリエーテル基及び活性エネルギー線反応性基を有するフッ素基含有ポリエーテル化合物の溶液(ダイキン工業(株)製、固形分濃度20%、2,2,3,3−テトラフルオロ−1−プロパノール溶液、商品名)
「DAROCUR TPO」:2,4,6-トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド(チバ・ジャパン(株)製、商品名)
「IRGACURE819」:ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイド(チバ・ジャパン(株)製、商品名)
「KBM503」:3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(信越シリコーン(株)製、商品名)
「スルーリアS」:中空シリカゾルのイソプロピルアルコール(IPA)分散体(固形分濃度20%)(日揮触媒化成(株)製、商品名)
「PGM」:1−メトキシ−2−プロパノール(和光純薬(株)製、商品名)
「IPA」:イソプロパノール(和光純薬(株)製)
「アクリライトEX001」:メタクリル樹脂板(三菱レイヨン(株)製、商品名)
Hereinafter, the present invention will be described by way of examples. In addition, the abbreviations of the compounds used in Examples and Comparative Examples are as follows. In the following, “part” and “%” represent “part by mass” and “% by mass”, respectively.
"TAS": Succinic acid / trimethylolethane / acrylic acid (molar ratio 1/2/4) condensation mixture (manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.)
“C6DA”: 1,6-hexanediol diacrylate (trade name, manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.)
“M305”: Pentaerythritol triacrylate (trade name, manufactured by Toagosei Co., Ltd.)
“M400”: Dipentaerythritol hexaacrylate (trade name, manufactured by Toagosei Co., Ltd.)
“OPTOOL DAC”: a solution of a fluorine group-containing polyether compound having a perfluoropolyether group and an active energy ray reactive group (produced by Daikin Industries, Ltd., solid concentration 20%, 2,2,3,3-tetra Fluoro-1-propanol solution, trade name)
“DAROCUR TPO”: 2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide (trade name, manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.)
“IRGACURE819”: bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide (trade name, manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.)
“KBM503”: 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane (trade name, manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd.)
“Thruria S”: Isopropyl alcohol (IPA) dispersion of hollow silica sol (solid content 20%) (trade name, manufactured by JGC Catalysts & Chemicals Co., Ltd.)
“PGM”: 1-methoxy-2-propanol (trade name, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)
“IPA”: Isopropanol (Wako Pure Chemical Industries, Ltd.)
"Acrylite EX001": Methacrylic resin plate (trade name, manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.)

本発明で実施した評価方法を以下に示す。
(1)樹脂基材の温度
樹脂基材の表面温度の測定には、非接触型表面温度計((株)チノー製、ハンディ型放射温度計IR−TA(商品名))を使用した。
The evaluation method implemented by this invention is shown below.
(1) Temperature of resin base material The surface temperature of the resin base material was measured using a non-contact type surface thermometer (manufactured by Chino Co., Ltd., handheld type radiation thermometer IR-TA (trade name)).

(2)全光線透過率及びヘーズ値
日本電色工業(株)製HAZE METER NDH2000(商品名)を用いてJIS K7361−1に示される測定法に準拠して、樹脂積層体の全光線透過率を測定し、JIS K7136に示される測定法に準拠してヘーズ値を測定した。
(2) Total light transmittance and haze value Based on the measurement method shown in JIS K7361-1, using Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. HAZE METER NDH2000 (trade name), the total light transmittance of the resin laminate. The haze value was measured based on the measurement method shown in JIS K7136.

(3)耐擦傷性
#000のスチールウールを装着した直径25.4mmの円形パッドを樹脂積層体の低屈折率硬化被膜の表面に置き、1kgの荷重下で、20mmの距離を30回往復擦傷し、擦傷前と擦傷後のヘーズ値の差(△ヘーズ)を下式より求め、試験後のサンプル表面の傷の本数を数えて耐擦傷性を評価した。
[△ヘーズ(%)]=[擦傷後のヘーズ値(%)]−[擦傷前のヘーズ値(%)]
(3) Scratch resistance A circular pad with a diameter of 25.4 mm equipped with # 000 steel wool is placed on the surface of the low refractive index cured coating of the resin laminate, and a 20 mm distance is scratched 30 times under a load of 1 kg. Then, the haze value difference (Δhaze) before and after the scratch was determined from the following formula, and the number of scratches on the sample surface after the test was counted to evaluate the scratch resistance.
[Δhaze (%)] = [haze value after abrasion (%)] − [haze value before abrasion (%)]

(4)反射防止性
樹脂積層体の被膜(低屈折率層)が積層されていない面をサンドペーパーで粗面化した後に艶消し黒色スプレーで塗ったものを評価用サンプルとし、分光光度計((株)日立製作所製、商品名:U−4000)を用いて、入射角5°及び波長380〜780nmの範囲でJIS R3106に示される測定法に準拠してサンプルの被膜の表面の反射率を測定し、得られる反射率曲線の最も反射率の低い波長(ボトムの波長)及びボトムの波長における反射率(ボトムの波長反射率)を求めた。
(4) Anti-reflective property The surface on which the resin laminate film (low refractive index layer) is not laminated is roughened with sandpaper and then applied with a matte black spray. (Trade name: U-4000, manufactured by Hitachi, Ltd.), the reflectance of the surface of the coating film of the sample is measured according to the measurement method shown in JIS R3106 at an incident angle of 5 ° and a wavelength of 380 to 780 nm. Measurements were made to determine the lowest reflectance wavelength (bottom wavelength) and the reflectance at the bottom wavelength (bottom wavelength reflectance) of the resulting reflectance curve.

また、樹脂積層体の被膜(低屈折率層)の表面に指紋を付着したときの反射色の変化の有無を以下の基準で評価した。
○:反射色の変化は認められなかった。
×:反射色の変化が認められた。
In addition, the presence or absence of a change in reflected color when fingerprints were attached to the surface of the resin laminate film (low refractive index layer) was evaluated according to the following criteria.
○: No change in reflected color was observed.
X: Change in reflected color was observed.

(5)防汚性
低屈折率硬化被膜の防汚性を下記の水接触角、トリオレインの接触角及び油性インキ拭き取り性により評価した。
(a)水接触角
23℃及び相対湿度50%の環境下において、被膜(低屈折率層)の表面にイオン交換水0.2μLの1滴を滴下し、携帯型接触角計(Fibro system ab社製、商品名:PG−X)を用いて水と前記被膜の接触角を測定し、水接触角を求めた。
(b)トリオレインの接触角
イオン交換水の代わりにトリオレインを使用したこと以外は水接触角の測定の場合と同様にして、トリオレインの接触角を求めた。
(c)油性インキ拭き取り性
被膜(低屈折率層)の表面に、油性インキ(黒色)として「マイネーム」((株)サクラクレパス製、商品名)で線を書き、3分後に「キムタオル」(日本製紙クレシア(株)製、商品名)で拭き取り、その際の油性インキの拭き取れ具合を目視により以下の基準で評価した。
◎:5回の拭き取りで完全に拭き取れる。
○:5回の拭き取りでわずかに線の跡が残る。
×:5回の拭き取りで一部又は全部の油性インキが付着したままである。
(5) Antifouling property The antifouling property of the low refractive index cured film was evaluated by the following water contact angle, triolein contact angle and oil-based ink wiping property.
(A) In an environment where the water contact angle is 23 ° C. and the relative humidity is 50%, one drop of 0.2 μL of ion-exchanged water is dropped on the surface of the coating (low refractive index layer), and a portable contact angle meter (Fibro system ab The contact angle between water and the coating film was measured using a product name (trade name: PG-X), and the water contact angle was determined.
(B) Contact angle of triolein The contact angle of triolein was determined in the same manner as in the measurement of the water contact angle except that triolein was used instead of ion-exchanged water.
(C) Oil-based ink wiping property On the surface of the coating (low refractive index layer), write a line with “My Name” (trade name, manufactured by Sakura Crepas Co., Ltd.) as oil-based ink (black), and “Kim towel” after 3 minutes. (Nippon Paper Crecia Co., Ltd., trade name) was wiped off, and the wiping of the oil-based ink at that time was visually evaluated according to the following criteria.
A: Completely wiped off by wiping 5 times.
○: A trace of a line remains slightly after wiping 5 times.
X: Part or all of the oil-based ink remains adhered after wiping 5 times.

(6)密着性
JIS K5600−5−6に準拠して、25マスの碁盤目の剥離評価を4箇所で実施し、100マスの中で剥離せずに残ったマスの数で樹脂積層体の低屈折率硬化被膜の密着性を評価した。
(6) Adhesiveness In accordance with JIS K5600-5-6, evaluation of peeling of 25 square grids was carried out at 4 locations, and the number of squares left without peeling in 100 squares was determined. The adhesion of the low refractive index cured film was evaluated.

(7)硬化性塗膜の膜厚
硬化性塗膜の厚み方向にミクロトームで幅100nmのサンプルを切り出し、透過型電子顕微鏡(日本電子(株)製JEM−1010(商品名))で樹脂積層体の断面を観察し、硬化性塗膜の膜厚を測定した。
(7) Film thickness of curable coating film A sample having a width of 100 nm was cut out with a microtome in the thickness direction of the curable coating film, and a resin laminate was obtained with a transmission electron microscope (JEM-1010 (trade name) manufactured by JEOL Ltd.). The film thickness of the curable coating film was measured.

(8)耐薬品性試験
樹脂積層体を50×50mmの大きさにカットして評価用サンプルとした。次いで、脱脂綿を30×30mmの大きさにカットし、評価用サンプルの上に乗せ、注射器を使用し、漂白剤(花王(株)製、キッチンハイター(商品名))を脱脂綿に垂らして脱脂綿を湿らせた。そのサンプルを温度20℃及び相対湿度30%の恒温恒湿機に30分放置した後に取り出し、樹脂積層体の表面を水洗浄した後に目視評価により以下の基準で耐薬品性を評価した。
○:変色は認められなかった。
×:変色が認められた。
(8) Chemical resistance test The resin laminate was cut to a size of 50 x 50 mm to obtain a sample for evaluation. Next, the absorbent cotton is cut into a size of 30 × 30 mm, placed on the sample for evaluation, using a syringe, and bleaching agent (Kao Co., Ltd., Kitchen Hiter (trade name)) is hung on the absorbent cotton to remove the absorbent cotton. Moistened. The sample was allowed to stand for 30 minutes in a constant temperature and humidity machine at a temperature of 20 ° C. and a relative humidity of 30%, taken out, the surface of the resin laminate was washed with water, and then the chemical resistance was evaluated by visual evaluation based on the following criteria.
○: No discoloration was observed.
X: Discoloration was recognized.

[実施例1]加水分解処理及び縮合反応処理されたシリカゾル(1)の製造
撹拌機及び冷却管を備えた4ツ口フラスコ反応容器に(a−1)の分散体としてスルーリアSを400g仕込み、次いで(a−2)としてKBM503を51g添加した。その後、攪拌しながら、0.1Nの塩酸水溶液28gを5分間かけて滴下して添加した。その後、オイルバスの温度を80℃設定とし2時間加熱還流した。次いで、トルエン240gを10分間かけて滴下して添加した。トルエンを添加する前の固形分濃度は、27質量%であった。トルエン添加によるゲル化は発生しなかった(表1)。
[Example 1] Manufacture of silica sol (1) subjected to hydrolysis treatment and condensation reaction treatment Into a four-necked flask reaction vessel equipped with a stirrer and a condenser tube, 400 g of sulria S as a dispersion of (a-1) was charged. Next, 51 g of KBM503 was added as (a-2). Thereafter, 28 g of 0.1N hydrochloric acid aqueous solution was added dropwise over 5 minutes with stirring. Thereafter, the temperature of the oil bath was set to 80 ° C. and heated to reflux for 2 hours. Next, 240 g of toluene was added dropwise over 10 minutes. The solid concentration before adding toluene was 27% by mass. Gelation due to the addition of toluene did not occur (Table 1).

トルエンを添加した後、オイルバスの温度を120℃設定とし、冷却管をディーンスターク管へ取替えた。その後、該ディーンスターク管より溶媒を、固形分濃度が60質量%となるまで、3時間かけて溜去し濃縮した。   After adding toluene, the temperature of the oil bath was set to 120 ° C., and the cooling pipe was replaced with a Dean-Stark pipe. Thereafter, the solvent was distilled off from the Dean-Stark tube for 3 hours until the solid content was 60% by mass and concentrated.

反応系内の全溶媒中のトルエン濃度をガスクロマトグラフィーにより定量分析した結果、非極性溶媒であるトルエンの含有率は90質量%であった。   As a result of quantitative analysis of the toluene concentration in all the solvents in the reaction system by gas chromatography, the content of toluene as a nonpolar solvent was 90% by mass.

その後、ディーンスターク管を冷却管へ取替え、固形分濃度が60質量%の状態で、オイルバスの温度を120℃設定のまま5時間加熱還流した。   Thereafter, the Dean-Stark tube was replaced with a cooling tube, and the oil bath was heated to reflux for 5 hours with the oil bath temperature set at 120 ° C. in a state where the solid content concentration was 60% by mass.

得られたシリカゾル(1)は白濁した液体であり、固形分濃度は65質量%であった。尚、固形分濃度は、シリカゾル(1)を3日間80℃の環境にて加熱乾燥し、乾燥前後の重量差から計算により求めた。   The obtained silica sol (1) was a cloudy liquid, and the solid content concentration was 65% by mass. In addition, solid content concentration calculated | required by calculation from the weight difference before and behind drying by heating and drying silica sol (1) in an 80 degreeC environment for 3 days.

[実施例2]加水分解処理及び縮合反応処理されたシリカゾル(2)の製造
撹拌機及びディーンスターク管を備えた4ツ口フラスコ反応容器にスルーリアSを400g仕込み、次いでKBM503を51g添加した。その後、攪拌しながら、0.1Nの塩酸水溶液28gを5分間かけて滴下して添加した。その後、オイルバスの温度を80℃設定とし、ディーンスターク管より溶媒を、固形分濃度が33質量%となるまで、2時間かけて溜去し濃縮した。
[Example 2] Production of silica sol (2) subjected to hydrolysis treatment and condensation reaction treatment 400 g of sulria S was charged into a four-necked flask reaction vessel equipped with a stirrer and a Dean-Stark tube, and then 51 g of KBM503 was added. Thereafter, 28 g of 0.1N hydrochloric acid aqueous solution was added dropwise over 5 minutes with stirring. Thereafter, the temperature of the oil bath was set to 80 ° C., and the solvent was distilled off from the Dean-Stark tube over 2 hours until the solid content concentration became 33% by mass and concentrated.

次いで、トルエン240gを10分間かけて滴下して添加した。トルエンを添加する前の固形分濃度は、33質量%であった。トルエン添加によるゲル化は発生しなかった(表1)。   Next, 240 g of toluene was added dropwise over 10 minutes. The solid concentration before adding toluene was 33% by mass. Gelation due to the addition of toluene did not occur (Table 1).

トルエンを添加した後、オイルバスの温度を120℃設定とし、ディーンスターク管より溶媒を、固形分濃度が60質量%となるまで、3時間かけて溜去し濃縮した。   After adding toluene, the temperature of the oil bath was set to 120 ° C., and the solvent was distilled off from the Dean Stark tube over 3 hours until the solid content concentration became 60% by mass, and concentrated.

反応系内の全溶媒中のトルエン濃度をガスクロマトグラフィーにより定量分析した結果、非極性溶媒であるトルエンの含有率は93質量%であった。   As a result of quantitative analysis of the toluene concentration in all the solvents in the reaction system by gas chromatography, the content of toluene as a nonpolar solvent was 93% by mass.

その後、ディーンスターク管を冷却管へ取替え、固形分濃度が60質量%の状態で、オイルバスの温度を120℃設定のまま5時間加熱還流した。   Thereafter, the Dean-Stark tube was replaced with a cooling tube, and the oil bath was heated to reflux for 5 hours with the oil bath temperature set at 120 ° C. in a state where the solid content concentration was 60% by mass.

得られたシリカゾル(2)は白濁した液体であり、固形分濃度は66質量%であった。尚、固形分濃度は、シリカゾル(2)を3日間80℃の環境にて加熱乾燥し、乾燥前後の重量差から計算により求めた。   The obtained silica sol (2) was a cloudy liquid, and the solid content concentration was 66% by mass. In addition, solid content concentration calculated | required by calculation from the weight difference before and behind drying by heating and drying silica sol (2) in an 80 degreeC environment for 3 days.

[実施例3]加水分解処理及び縮合反応処理されたシリカゾル(5)の製造
実施例1において、KBM503の添加量を表1に記載しているように変更したこと以外は、実施例1と同様にシリカゾル(5)を調整した(表1)。シリカゾル(5)の固形分濃度は、65質量%であった。
[Example 3] Production of silica sol (5) subjected to hydrolysis treatment and condensation reaction treatment Example 1 was the same as Example 1 except that the amount of KBM503 added was changed as described in Table 1. A silica sol (5) was prepared (Table 1). The solid content concentration of the silica sol (5) was 65% by mass.

[実施例4]加水分解処理及び縮合反応処理されたシリカゾル(6)の製造
実施例1において、KBM503の添加量を表1に記載しているように変更したこと以外は、実施例1と同様にシリカゾル(6)を調整した(表1)。シリカゾル(6)の固形分濃度は、64質量%であった。
[Example 4] Production of silica sol (6) subjected to hydrolysis treatment and condensation reaction treatment Example 1 was the same as Example 1 except that the amount of KBM503 added was changed as described in Table 1. A silica sol (6) was prepared (Table 1). The solid content concentration of the silica sol (6) was 64% by mass.

[比較例1]加水分解処理及び縮合反応処理されたシリカゾル(3)の製造
実施例2において、トルエンを添加する前の固形分濃度を、38質量%としたこと以外は、実施例2と同様に表面処理を行った。固形分濃度が35質量%以上であったため、トルエン添加によるゲル化が発生した(表1)。
[Comparative Example 1] Production of silica sol (3) subjected to hydrolysis treatment and condensation reaction treatment Example 2 is the same as Example 2 except that the solid content concentration before adding toluene was 38% by mass. Surface treatment was performed. Since the solid content concentration was 35% by mass or more, gelation occurred due to the addition of toluene (Table 1).

[比較例2]加水分解処理及び縮合反応処理されたシリカゾル(4)の製造
実施例2において、トルエンを添加する前の固形分濃度を、45質量%としたこと以外は、実施例2と同様に表面処理を行った。固形分濃度が35質量%以上であったため、トルエン添加によるゲル化が発生した(表1)。
Comparative Example 2 Production of Silica Sol (4) Treated with Hydrolysis and Condensation Reaction In Example 2, except that the solid content concentration before adding toluene was 45% by mass, it was the same as Example 2. Surface treatment was performed. Since the solid content concentration was 35% by mass or more, gelation occurred due to the addition of toluene (Table 1).

[比較例3]加水分解処理及び縮合反応処理されたシリカゾル(7)の製造
撹拌機及び冷却管を備えた4ツ口フラスコ反応容器にスルーリアSを400g仕込み、次いでKBM503を51g添加した。その後、攪拌しながら、0.1Nの塩酸水溶液28gを5分間かけて滴下して添加した。その後、オイルバスの温度を80℃設定とし2時間加熱還流した。
[Comparative Example 3] Production of silica sol (7) subjected to hydrolysis treatment and condensation reaction treatment 400 g of sulria S was charged into a four-necked flask reaction vessel equipped with a stirrer and a cooling tube, and then 51 g of KBM503 was added. Thereafter, 28 g of 0.1N hydrochloric acid aqueous solution was added dropwise over 5 minutes with stirring. Thereafter, the temperature of the oil bath was set to 80 ° C. and heated to reflux for 2 hours.

次いで、オイルバスの温度を100℃設定とし、冷却管をディーンスターク管へ取替えた。その後、該ディーンスターク管より溶媒を、固形分濃度が60質量%となるまで、3時間かけて溜去し濃縮した。トルエン添加は実施しなかった(表1)。   Subsequently, the temperature of the oil bath was set to 100 ° C., and the cooling pipe was replaced with a Dean-Stark pipe. Thereafter, the solvent was distilled off from the Dean-Stark tube for 3 hours until the solid content was 60% by mass and concentrated. Toluene addition was not performed (Table 1).

その後、ディーンスターク管を冷却管へ取替え、固形分濃度が60質量%の状態で、オイルバスの温度を100℃設定のまま5時間加熱還流した。   Thereafter, the Dean Stark tube was replaced with a cooling tube, and the oil bath was heated to reflux for 5 hours while the oil bath temperature was set at 100 ° C. in a state where the solid content concentration was 60% by mass.

得られたシリカゾル(7)は白濁した液体であり、固形分濃度は63質量%であった。尚、固形分濃度は、シリカゾル(7)を3日間80℃の環境にて加熱乾燥し、乾燥前後の重量差から計算により求めた。   The obtained silica sol (7) was a cloudy liquid, and the solid content concentration was 63% by mass. In addition, solid content concentration calculated | required by calculation from the weight difference before and behind drying by heat-drying silica sol (7) for 3 days in an 80 degreeC environment.

また、シリカゾル中の無機微粒子の割合(%)を、使用した加水分解性シラン化合物と無機微粒子の合計100部に対する無機微粒子の質量割合で求めた。   Further, the ratio (%) of the inorganic fine particles in the silica sol was determined by the mass ratio of the inorganic fine particles to 100 parts in total of the hydrolyzable silane compound and the inorganic fine particles used.

[製造例1]防汚性化合物Fの製造
冷却管を備えたナスフラスコに、イソシナネート基含有アクリレート化合物((株)昭和電工製、製品名:カレンズBEI)2.6gと、ポリエーテル(II−1)であるパーフルオロポリエーテル化合物((株)ソルベイソレクシス、製品名:FLUOROLINK D 10/H)8gと、ジブチル錫ジラウリレートを0.005g添加し、50℃で6時間攪拌した。
得られた白濁粘性液体へ、メチルエチルケトンを添加し固形分濃度が20質量%となるように希釈し防汚性化合物Fを得た。
[Production Example 1] Production of antifouling compound F In an eggplant flask equipped with a cooling pipe, 2.6 g of an isocyanate group-containing acrylate compound (manufactured by Showa Denko, product name: Karenz BEI) and polyether (II- 1) 8 g of perfluoropolyether compound (Solbe isorexis, product name: FLUOROLINK D 10 / H) and 0.005 g of dibutyltin dilaurate were added and stirred at 50 ° C. for 6 hours.
Methyl ethyl ketone was added to the resulting cloudy viscous liquid to dilute the solid content concentration to 20% by mass to obtain an antifouling compound F.

この防汚性化合物Fを前記成分(C)として用いて、低屈折率の被膜用組成物(5)を調合した(表2)。   Using this antifouling compound F as the component (C), a coating composition (5) having a low refractive index was prepared (Table 2).

[実施例5]
厚さ100μmの易接着層付きPETフィルム((株)東洋紡績製、商品名:A4100)の易接着層が形成されていないPETの表面に、低屈折率被膜用組成物(1)を、4号バーコーターを用いて塗布し、80℃で15分間乾燥させて塗布膜を形成した。
[Example 5]
A low refractive index coating composition (1) is applied to the surface of a PET film having a thickness of 100 μm with an easy-adhesion layer (trade name: A4100, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) on which the easy-adhesion layer is not formed. The coated film was formed by coating using a No. bar coater and drying at 80 ° C. for 15 minutes.

上記の前記塗布膜の膜厚は、前記塗布膜の低屈折率組成物(1)の固形分濃度、塗布量及び塗布面積から計算して93nmであった。   The film thickness of the coating film was 93 nm as calculated from the solid content concentration, coating amount and coating area of the low refractive index composition (1) of the coating film.

上記の前記塗布膜の上にアプリケーター(クリアランス;メモリ5)を用いて揮発性化合物としてIPAを塗布して揮発性化合物の塗膜を形成した後に、80℃で15分加熱し、IPAを揮発させた。   After applying IPA as a volatile compound on the coating film using the applicator (clearance; memory 5) to form a coating film of the volatile compound, it is heated at 80 ° C. for 15 minutes to volatilize the IPA. It was.

次いで、前記塗布膜が積層されたPETフィルムを、9.6kWの高圧水銀ランプ(出力設定50%)の下20cmの位置のところを、9m/分の速度で通過させて前記塗布膜を硬化させて被膜(低屈折率)が形成された積層フィルムを得た。このときの積算光量は100mJ/cmで、ピーク照度は130mW/cmであった。 Next, the PET film on which the coating film is laminated is passed at a speed of 9 m / min under a 9.6 kW high-pressure mercury lamp (output setting 50%) at a position of 20 cm to cure the coating film. Thus, a laminated film having a coating (low refractive index) formed was obtained. The integrated light quantity at this time was 100 mJ / cm 2 and the peak illuminance was 130 mW / cm 2 .

次いで、接着層としてTASを35部、C6DAを30部、M305を10部、M400を25部及びDAROCUR TPOを2部混合して得られる活性エネルギー線硬化性組成物を、10号バーコーターを用いて上記の積層フィルムの被膜の表面に塗布して硬化性塗膜の層を形成し、転写フィルムを得た。尚、前記被膜の表面に接着層を形成する際にハジキ欠陥は発生しなかった。   Next, an active energy ray-curable composition obtained by mixing 35 parts of TAS, 30 parts of C6DA, 10 parts of M305, 25 parts of M400 and 2 parts of DAROCUR TPO as an adhesive layer using a No. 10 bar coater Then, it was applied to the surface of the above-mentioned laminated film coating to form a curable coating layer to obtain a transfer film. In addition, when forming an adhesive layer on the surface of the coating, no repellency defects occurred.

樹脂基材として板厚が2mmのアクリライトEX001を使用し、60℃に加温した樹脂基材の表面に上記転写フィルムを、接着層を介して重ね合わせた。   Acrylite EX001 having a plate thickness of 2 mm was used as the resin substrate, and the transfer film was superimposed on the surface of the resin substrate heated to 60 ° C. via an adhesive layer.

次いで、接着層の厚みが15μmとなるように、JIS硬度40°のゴムロールを用いて接着層を構成する活性エネルギー線硬化性組成物をしごき出しながら気泡を含まないように圧着させ、活性エネルギー線硬化性樹脂基材ラミネート物を得た。尚、接着層の厚みは活性エネルギー線硬化性組成物の供給量及び展開面積から算出した。   Next, the active energy ray-curable composition constituting the adhesive layer is squeezed out using a rubber roll having a JIS hardness of 40 ° so that the adhesive layer has a thickness of 15 μm, and is compressed so as not to contain bubbles. A curable resin substrate laminate was obtained. The thickness of the adhesive layer was calculated from the supply amount and development area of the active energy ray-curable composition.

上記の活性エネルギー線硬化性樹脂基材ラミネート物を、60℃に加温した状態で60秒間経過させた後に、PETフィルムを介して出力9.6kWのメタルハライドランプの下20cmの位置のところを2.5m/分の速度で通過させて、接着層を硬化させて硬化性塗膜の硬化層を形成し、硬化性塗膜硬化層含有転写フィルム積層体を得た。硬化性塗膜硬化層含有転写フィルム積層体を得るための硬化条件としては、積算光量は570mJ/cmで、ピーク照度は220mW/cmであった。その後、硬化性塗膜硬化層含有転写フィルム積層体からPETフィルムを剥離して樹脂積層体を得た。得られた樹脂積層体中の硬化性塗膜の硬化層の膜厚は13μmであった。
上記の樹脂積層体の評価結果を表2に示す。
The above active energy ray-curable resin substrate laminate was allowed to pass through a PET film for 60 seconds while being heated to 60 ° C., and then the position 2 cm below the metal halide lamp with an output of 9.6 kW was passed through 2 points. Then, the adhesive layer was cured to form a cured layer of a curable coating film, and a curable coating film cured layer-containing transfer film laminate was obtained. As curing conditions for obtaining a curable coating film-cured layer-containing transfer film laminate, the integrated light amount was 570 mJ / cm 2 and the peak illuminance was 220 mW / cm 2 . Then, the PET film was peeled from the curable coating film cured layer-containing transfer film laminate to obtain a resin laminate. The film thickness of the cured layer of the curable coating film in the obtained resin laminate was 13 μm.
Table 2 shows the evaluation results of the resin laminate.

[実施例6〜9]
実施例5において、被膜用組成物を表2に示すように変えたこと以外は実施例5と同様にして積層体を得た。結果を表2に示す。
[Examples 6 to 9]
A laminate was obtained in the same manner as in Example 5 except that the coating composition was changed as shown in Table 2 in Example 5. The results are shown in Table 2.

[比較例4]
実施例5において、被膜用組成物を表2に示すように変えたこと以外は実施例5と同様にして積層体を得た。結果を表2に示す。極性溶媒中で中空シリカ微粒子の表面処理を行ったため、耐薬品性が不足していた。さらに、耐擦傷性が不足していた。また、転写方式で積層体表面に、撥水性、撥油性を付与できなかった。
[Comparative Example 4]
A laminate was obtained in the same manner as in Example 5 except that the coating composition was changed as shown in Table 2 in Example 5. The results are shown in Table 2. Since the surface treatment of the hollow silica fine particles was performed in a polar solvent, the chemical resistance was insufficient. Furthermore, the scratch resistance was insufficient. Moreover, water repellency and oil repellency could not be imparted to the surface of the laminate by the transfer method.

[比較例5]
実施例5において、被膜用組成物を表2に示すように変えたこと以外は実施例5と同様にして積層体を得た。結果を表2に示す。中空シリカ微粒子の表面処理を行っていないため、耐薬品性が不足していた。さらに、耐擦傷性が著しく不足していた。また、転写方式で積層体表面に、撥水性、撥油性を付与できなかった。
[Comparative Example 5]
A laminate was obtained in the same manner as in Example 5 except that the coating composition was changed as shown in Table 2 in Example 5. The results are shown in Table 2. Since the surface treatment of the hollow silica fine particles was not performed, the chemical resistance was insufficient. Furthermore, the scratch resistance was remarkably insufficient. Moreover, water repellency and oil repellency could not be imparted to the surface of the laminate by the transfer method.

本発明によれば、樹脂基材上に耐擦傷性、反射防止性、防汚性等の種々の機能を持つ被膜を有する積層体を得ることができ、各種ディスプレイの前面板等に広く適用できる。   According to the present invention, it is possible to obtain a laminate having a coating having various functions such as scratch resistance, antireflection, and antifouling properties on a resin substrate, and can be widely applied to front plates of various displays. .

Claims (7)

(a−1)中空シリカ微粒子40〜90質量%と、(a−2)下記の一般式(1)

(式中、XはCH2 =CH−COO−基、CH2 =C(CH3 )−COO−基、又はCH2 =CH−基、R1 は炭素数〜8のアルキレン基、R2 ,R3 は炭素数1〜8のアルキル基または水素、aは1〜3の正の整数、bは0〜2の正の整数、a+bは1〜3の整数を表わす。)で示される化合物60〜10質量%と極性溶媒とを含む混合物を加熱する第1の工程、前記混合物の固形分濃度が35質量%以下にある前記混合物に前記極性溶媒の沸点より高い沸点を有する非極性溶媒を添加する第2の工程、加熱を行い極性溶媒を揮発させ、前記固形分濃度を30質量%〜80質量%とする第3の工程、及び前記混合物中、縮合反応させる第4の工程を有する被膜用シリカゾルの製造方法。
(A-1) 40 to 90% by mass of hollow silica fine particles, and (a-2) the following general formula (1)

(In the formula, X is CH 2 ═CH—COO— group, CH 2 ═C (CH 3 ) —COO— group, or CH 2 ═CH— group, R 1 is an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms, R 2 , R 3 is an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms or hydrogen, a is a positive integer of 1 to 3, b is a positive integer of 0 to 2, and a + b is an integer of 1 to 3. A first step of heating a mixture containing 60 to 10% by mass and a polar solvent, a nonpolar solvent having a boiling point higher than the boiling point of the polar solvent in the mixture in which the solid content concentration of the mixture is 35% by mass or less A second step of adding, a third step of heating to volatilize the polar solvent and setting the solid content concentration to 30% by mass to 80% by mass, and a fourth step of performing a condensation reaction in the mixture For producing silica sol for use.
請求項1に記載の方法で得られたシリカゾル及び分子中に少なくとも2個の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する化合物を含有する被膜用組成物。   A coating composition comprising a silica sol obtained by the method according to claim 1 and a compound having at least two (meth) acryloyloxy groups in the molecule. さらに防汚性化合物を含有する請求項2に記載の被膜用組成物。   The coating composition according to claim 2, further comprising an antifouling compound. 請求項2または3に記載の組成物を硬化させて形成する被膜。   A film formed by curing the composition according to claim 2. 請求項4に記載の被膜を表層に有する樹脂積層体。   The resin laminated body which has the film of Claim 4 in a surface layer. 以下の(1)〜(5)に記載の工程を有する樹脂積層体の製造方法。
(1)透明基材フィルムの表面に、請求項2に記載の組成物を塗布し塗布膜を形成する塗布膜形成工程
(2)前記塗布膜を硬化させ硬化被膜を形成する硬化被膜形成工程
(3)前記硬化被膜の表面に熱可塑性樹脂塗膜層を介して樹脂基材を積層して樹脂基材ラミネート物を形成する樹脂基材ラミネート物形成工程
(4)前記樹脂基材ラミネート物を加圧処理及び加温処理から選ばれる少なくとも1種の処理により樹脂基材ラミネート物を一体化して熱可塑性樹脂塗膜層含有転写フィルム積層体を形成する熱可塑性樹脂塗膜層含有転写フィルム積層体形成工程
(5)前記熱可塑性樹脂塗膜層含有転写フィルム積層体から透明基材フィルムを剥離して樹脂積層体を得る樹脂積層体形成工程
The manufacturing method of the resin laminated body which has the process as described in the following (1)-(5).
(1) A coating film forming step of forming a coating film by applying the composition according to claim 2 on the surface of the transparent substrate film (2) A cured film forming step of curing the coating film to form a cured film ( 3) Resin substrate laminate forming step of forming a resin substrate laminate by laminating a resin substrate on the surface of the cured coating through a thermoplastic resin coating layer (4) Adding the resin substrate laminate Forming a thermoplastic resin coating layer-containing transfer film laminate by forming a thermoplastic resin coating layer-containing transfer film laminate by integrating the resin base laminate by at least one treatment selected from pressure treatment and heating treatment Step (5) A resin laminate forming step of obtaining a resin laminate by peeling a transparent substrate film from the thermoplastic resin coating layer-containing transfer film laminate
以下の(1)〜(5)に記載の工程を有する樹脂積層体の製造方法。
(1)透明基材フィルムの表面に、請求項2に記載の組成物を塗布し塗布膜を形成する塗布膜形成工程
(2)前記塗布膜を硬化させ硬化被膜を形成する硬化被膜形成工程
(3)前記硬化被膜の表面に活性エネルギー線硬化性組成物を含有する硬化性塗膜の層を介して樹脂基材を積層して活性エネルギー線硬化性樹脂基材ラミネート物を形成する活性エネルギー線硬化性樹脂基材ラミネート物形成工程
(4)前記活性エネルギー線硬化性樹脂基材ラミネート物に活性エネルギー線を照射して硬化性塗膜の硬化層を形成する硬化性塗膜硬化層含有転写フィルム積層体形成工程
(5)前記硬化性塗膜硬化層含有転写フィルム積層体から透明基材フィルムを剥離して樹脂積層体を得る樹脂積層体形成工程
The manufacturing method of the resin laminated body which has the process as described in the following (1)-(5).
(1) A coating film forming step of forming a coating film by applying the composition according to claim 2 on the surface of the transparent substrate film (2) A cured film forming step of curing the coating film to form a cured film ( 3) An active energy ray that forms an active energy ray-curable resin substrate laminate by laminating a resin substrate on the surface of the cured film via a layer of a curable coating film containing an active energy ray-curable composition. Curable Resin Base Laminate Formation Step (4) Curable Coating Cured Layer Containing Transfer Film Forming the Cured Layer of the Curable Coating Film by Irradiating the Active Energy Ray Curable Resin Base Laminate with Active Energy Rays Laminate formation step (5) Resin laminate formation step of obtaining a resin laminate by peeling the transparent substrate film from the curable coating film cured layer-containing transfer film laminate
JP2010037157A 2010-02-23 2010-02-23 Method for producing silica sol for coating, coating composition, coating, resin laminate having coating on surface, and method for producing the same Active JP5601496B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010037157A JP5601496B2 (en) 2010-02-23 2010-02-23 Method for producing silica sol for coating, coating composition, coating, resin laminate having coating on surface, and method for producing the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010037157A JP5601496B2 (en) 2010-02-23 2010-02-23 Method for producing silica sol for coating, coating composition, coating, resin laminate having coating on surface, and method for producing the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2011173945A JP2011173945A (en) 2011-09-08
JP5601496B2 true JP5601496B2 (en) 2014-10-08

Family

ID=44687116

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010037157A Active JP5601496B2 (en) 2010-02-23 2010-02-23 Method for producing silica sol for coating, coating composition, coating, resin laminate having coating on surface, and method for producing the same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5601496B2 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102644010B1 (en) * 2021-09-03 2024-03-07 주식회사 케이씨텍 Surface-modified hollow silica particle adn surface-modified hollow silica particle liquid dispersion

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3545439B2 (en) * 1993-10-13 2004-07-21 三菱レイヨン株式会社 Method for producing ultraviolet-curable coating material and abrasion-resistant coating material composition using the same
JP5046482B2 (en) * 2003-12-26 2012-10-10 富士フイルム株式会社 Method for producing inorganic oxide fine particle dispersion, inorganic oxide fine particle dispersion, coating composition, optical film, antireflection film, polarizing plate, and liquid crystal display device
JP2008115329A (en) * 2006-11-07 2008-05-22 Nof Corp Fluorine-containing curable coating fluid and reflection-reducing material using the same

Also Published As

Publication number Publication date
JP2011173945A (en) 2011-09-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5728945B2 (en) Antifouling composition, antifouling film, antifouling laminate film, transfer film and resin laminate, and method for producing resin laminate
JP5810528B2 (en) Transfer film, resin laminate, and production method thereof
JP5747439B2 (en) Method for continuously producing acrylic resin sheet
JP5470957B2 (en) Active energy ray-curable resin composition for film protective layer
JP6142531B2 (en) Transfer film and method for producing the same, and laminate and method for producing the same
TWI404629B (en) Manufacturing method of resin layered body
JP5092744B2 (en) Anti-reflection laminate
KR101268700B1 (en) Liquid curable composition, cured film, and antistatic layered product
JP2006306008A (en) Antistatic layered product
JP6079234B2 (en) Metal oxide fine particle-containing film, transfer film, manufacturing method thereof, and laminate and manufacturing method thereof
JP2011149010A (en) Antifouling cured film, transfer film, method for producing transfer film, resin laminate, and method for producing resin laminate
JP5601496B2 (en) Method for producing silica sol for coating, coating composition, coating, resin laminate having coating on surface, and method for producing the same
JP6016009B2 (en) Transfer film, laminate and production method thereof
JP2007314594A (en) Composition for forming hard coat layer and laminate
JP2007022071A (en) Antistatic laminate
JP2007245622A (en) Composition for hard coat layer, and laminated body
JP2020203383A (en) Production method of film and laminate
JP6035871B2 (en) Antireflection laminate, manufacturing method thereof, and image display device
WO2006134834A1 (en) Liquid hardenable composition, hardened film and antistatic laminate
JP2021143215A (en) Film and laminate
JP2015090482A (en) Laminate and manufacturing method therefor

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20121119

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20130729

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130808

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20140626

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20140707

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20140724

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20140806

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 5601496

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250